KR20230172600A - 수질 분석 장치 - Google Patents
수질 분석 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230172600A KR20230172600A KR1020237040602A KR20237040602A KR20230172600A KR 20230172600 A KR20230172600 A KR 20230172600A KR 1020237040602 A KR1020237040602 A KR 1020237040602A KR 20237040602 A KR20237040602 A KR 20237040602A KR 20230172600 A KR20230172600 A KR 20230172600A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light
- amount
- contamination
- cleaning
- flow cell
- Prior art date
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 138
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims abstract description 66
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims abstract description 144
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 106
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 118
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 70
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 238000001917 fluorescence detection Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/05—Flow-through cuvettes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
- G01N21/53—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid within a flowing fluid, e.g. smoke
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
- G01N2021/155—Monitoring cleanness of window, lens, or other parts
- G01N2021/157—Monitoring by optical means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
시료수에 포함되는 측정 대상 물질의 농도를 측정하는 수질 분석 장치로서, 광을 투과시키는 벽부와, 상기 벽부에 둘러싸인 내부 공간을 가지며, 상기 시료수가 상기 내부 공간을 통과하는 플로우 셀(flow cell)과, 상기 플로우 셀을 향해 광을 조사(照射)하는 광원과, 상기 광원이 조사한 상기 광의 광량인 광원광량을 검출하는 광원 모니터와, 상기 플로우 셀을 투과한 투과광의 광량인 투과광량을 검출하는 투과광 검출부와, 상기 광원광량과 상기 투과광량에 근거하여, 상기 플로우 셀의 벽부의 오염을 검출하는 오염 검출부를 구비하는 수질 분석 장치를 제공한다.
Description
[0001] 본 발명은, 수질 분석 장치에 관한 것이다.
[0002] 종래, 시료수(試料水)의 수질을 분석하는 수질 분석 장치가 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 및 2 참조).
[0003] 수질 분석 장치에 있어서는, 시료수를 흐르게 하는 플로우 셀의 오염을 양호한 정밀도로 검출할 수 있는 것이 바람직하다.
[0004] 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 제1 양태에 있어서는, 시료수에 포함되는 측정 대상 물질의 농도를 측정하는 수질 분석 장치를 제공한다. 상기 수질 분석 장치는, 광을 투과시키는 벽부와, 상기 벽부에 둘러싸인 내부 공간을 가지며, 상기 시료수가 상기 내부 공간을 통과하는 플로우 셀(flow cell)을 구비해도 된다. 상기 수질 분석 장치는, 상기 플로우 셀을 향해 광을 조사(照射)하는 광원을 구비해도 된다. 상기 어느 하나의 수질 분석 장치는, 상기 광원이 조사한 상기 광의 광량인 광원광량을 검출하는 광원 모니터를 구비해도 된다. 상기 어느 하나의 수질 분석 장치는, 상기 플로우 셀을 투과한 투과광의 광량인 투과광량을 검출하는 투과광 검출부를 구비해도 된다. 상기 어느 하나의 수질 분석 장치는, 상기 광원광량과 상기 투과광량에 근거하여, 상기 플로우 셀의 벽부의 오염을 검출하는 오염 검출부를 구비해도 된다.
[0005] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 광원광량과 상기 투과광량의 비(比)에 근거하여, 상기 벽부의 오염을 검출해도 된다.
[0006] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치는, 상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 세정하는 세정부를 구비해도 된다. 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀의 세정 후에 검출한 상기 광원광량과 상기 투과광량에 근거하여, 상기 플로우 셀의 세정이 종료되었는지의 여부를 판정해도 된다.
[0007] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀의 세정 개시로부터 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않는 경우에, 세정이 종료되지 않았다는 취지를 나타내는 통지를 출력해도 된다.
[0008] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀의 세정 개시로부터 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않는 경우에, 상기 세정부에 있어서의 세정 방법을 변경시켜도 된다.
[0009] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 세정부는, 상기 광원광량 및 상기 투과광량 중 적어도 한쪽(一方)에 근거하여, 상기 플로우 셀의 세정 방법을 선택해도 된다.
[0010] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 세정부는, 상기 광원광량과 상기 투과광량의 비에 근거하여, 상기 플로우 셀에 흐르게 하는 세정액의 pH를 조정해도 된다.
[0011] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 세정부는, 과거에 상기 플로우 셀에 흐르게 한 상기 시료수의 이력에 근거하여, 상기 플로우 셀의 세정 방법을 선택해도 된다.
[0012] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀에 상기 시료수를 흐르게 하지 않는 상태에서의 상기 투과광량을 이용하여, 상기 벽부의 오염을 검출해도 된다.
[0013] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀에 상기 시료수를 흐르게 한 상태에서의 상기 투과광량을 이용하여, 상기 벽부의 오염을 검출해도 된다.
[0014] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치는, 상기 시료수로부터의 산란광의 광량인 산란광량을 검출하는 산란광 검출부를 구비해도 된다. 상기 어느 하나의 수질 분석 장치에 있어서, 상기 오염 검출부는, 상기 산란광량에 더 근거하여, 상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 검출해도 된다.
[0015] 상기 어느 하나의 수질 분석 장치는, 상기 산란광 검출부가 검출한 상기 산란광량, 및, 상기 투과광 검출부가 검출한 상기 투과광량 중 적어도 한쪽에 근거하여, 상기 시료수의 탁도를 측정하는 탁도 측정부를 구비해도 된다.
[0016] 상기의 발명의 개요는, 본 발명의 특징의 전부를 열거한 것은 아니다. 또한, 이들 특징군(群)의 서브 콤비네이션도 또한, 발명이 될 수 있다.
[0017] 도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 수질 분석 장치(100)의 일례를 나타낸 도면이다.
도 2는, 광원광량, 투과광량 및 광량비(투과광량/광원광량)의 일례를 나타낸 도면이다.
도 3은, 수질 분석 장치(100)의 동작예를 나타낸 플로차트이다.
도 4는, 수질 분석 장치(100)의 다른 동작예를 나타낸 플로우차트이다.
도 5는, 수질 분석 장치(100)의 다른 동작예를 나타낸 플로우차트이다.
도 6은, 측정광 검출부(30) 및 농도 측정부(32)의 구성예를 나타낸 도면이다.
도 2는, 광원광량, 투과광량 및 광량비(투과광량/광원광량)의 일례를 나타낸 도면이다.
도 3은, 수질 분석 장치(100)의 동작예를 나타낸 플로차트이다.
도 4는, 수질 분석 장치(100)의 다른 동작예를 나타낸 플로우차트이다.
도 5는, 수질 분석 장치(100)의 다른 동작예를 나타낸 플로우차트이다.
도 6은, 측정광 검출부(30) 및 농도 측정부(32)의 구성예를 나타낸 도면이다.
[0018] 이하에서는, 발명의 실시형태를 통해 본 발명을 설명하겠지만, 이하의 실시형태는 청구범위에 따른 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 실시형태 내에서 설명되고 있는 특징의 조합의 전부가 발명의 해결 수단에 필수적이라고는 할 수 없다.
[0019] 도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 수질 분석 장치(100)의 일례를 나타낸 도면이다. 수질 분석 장치(100)는, 시료수에 포함되는 측정 대상 물질의 농도를 측정한다. 본 예의 수질 분석 장치(100)는, 광원(10), 플로우 셀(20), 광원 모니터(50), 측정광 검출부(30), 농도 측정부(32), 투과광 검출부(70), 오염 검출부(40) 및 세정부(60)를 구비한다. 광원 모니터(50), 측정광 검출부(30) 및 투과광 검출부(70)는, CCD 또는 포토다이오드 등의 수광(受光) 소자를 이용하여, 수광한 광의 광량을 검출하는 장치이다. 본 명세서에 있어서 광량이란, 소정의 면을 소정의 단위 시간 내에 통과하는 광속(光束: 광선 다발)의 총량(lm/S)인데, 광의 강도(cd)를 광량으로서 이용해도 된다. 광원 모니터(50), 측정광 검출부(30) 및 투과광 검출부(70)는, 검출한 광량에 따른 전기신호를 출력한다. 광원 모니터(50), 측정광 검출부(30) 및 투과광 검출부(70)는, 전기신호에 대해 증폭 또는 노이즈 제거 등의 신호 처리를 행해도 된다.
[0020] 광원(10)은, 플로우 셀(20)을 향해 광(91)을 조사한다. 플로우 셀(20)은, 벽부(22) 및 내부 공간(24)을 가진다. 벽부(22)의 적어도 일부는, 광원(10)이 조사하는 광(91)의 성분 중, 적어도 일부를 투과시키는 재료로 형성되어 있다. 벽부(22)의 적어도 일부는, 예컨대 유리로 형성되어 있다. 벽부(22)는, 광이 입사 또는 출사되는 윈도우부(窓部)와, 윈도우부를 지지하는 지지부를 가져도 된다. 본 명세서에서는, 광이 입사 또는 출사되는 윈도우부를, 벽부(22)로서 설명하는 경우가 있다. 내부 공간(24)은, 벽부(22)에 둘러싸여 있다. 내부 공간(24)을 시료수가 통과한다. 일례로서 벽부(22)는 통(筒) 형상을 갖는다. 도 1에서는, 벽부(22) 및 내부 공간(24)의 단면(斷面)을 모식적으로 나타내고 있다.
[0021] 측정광 검출부(30)는, 플로우 셀(20)로부터의 측정광(92)을 검출한다. 측정광 검출부(30)는, 측정광(92)의 적어도 하나의 파장에 있어서의 광량을 측정한다. 측정광(92)은, 플로우 셀(20)에 시료수가 존재하는 상태에서 광원(10)으로부터 광(91)을 조사하였을 경우에, 플로우 셀(20)로부터 사출(射出)되는 광이다. 측정광(92)은, 시료수에 포함되는 측정 대상 물질에 광(91)이 조사됨으로써, 측정 대상 물질로부터 사출되는 형광(螢光)을 포함해도 된다. 이 경우, 측정광 검출부(30)는, 광(91)과는 다른 파장에 있어서의 측정광(92)의 광량을 측정해도 된다.
[0022] 농도 측정부(32)는, 측정광 검출부(30)에 있어서의 측정 결과에 근거하여, 시료수에 포함되는 측정 대상 물질의 농도를 측정한다. 시료수는, 예컨대 상수도수, 하수도수, 해수(海水), 공장 등의 배수(排水)인데, 이에 한정되지 않는다. 시료수에 다환 방향족 탄화수소(Polycyclic Aromatic Hydrocarbons：이하, PAH) 등의 형광 물질이 포함되어 있는 경우, 시료수에 자외선의 광(91)을 조사하면, 물질 고유의 파장의 형광(측정광(92))이 발생된다. 형광 강도는, 포함되어 있는 형광 물질의 농도에 비례하고 있기 때문에, 해당 파장에 있어서의 측정광(92)의 광량을 측정함으로써, 측정 대상 물질인 형광 물질의 농도를 양호한 정밀도로 측정할 수 있다.
[0023] 플로우 셀(20)의 벽부(22)에 오염이 발생되면, 해당 오염으로 인해 광(91) 또는 측정광(92)의 강도가 감쇠된다. 벽부(22)에 상술한 윈도우부가 설치되어 있는 경우, 벽부(22)의 오염이란, 윈도우부의 오염을 가리킨다. 벽부(22)의 오염이란, 예컨대 벽부(22)의 내면 또는 외면에 부착된 이물질(異物)이다. 광(91) 또는 측정광(92)의 강도가 감쇠되면, 측정 대상 물질의 농도의 측정 결과에 오차가 생겨 버린다. 이 때문에, 플로우 셀(20)의 벽부(22)에 오염이 발생되어 있는지의 여부를, 양호한 정밀도로 검출할 수 있는 것이 바람직하다.
[0024] 오염 검출부(40)는, 벽부(22)에 있어서의 오염을 검출한다. 오염 검출부(40)는, 수질 분석 장치(100)에 있어서의 소정의 동작을 트리거로 하여 벽부(22)의 오염을 검출해도 된다. 예컨대 오염 검출부(40)는, 세정부(60)가 플로우 셀(20)의 벽부(22)를 세정하였을 경우에, 세정 후의 벽부(22)의 오염을 검출한다. 세정부(60)는, 세정액을 플로우 셀(20)의 내부 공간(24)에 흐르게 함으로써 벽부(22)의 내면을 세정해도 되고, 브러시 등을 벽부(22)의 내면 또는 외면에 접촉시킴으로써 벽부(22)를 세정해도 된다. 세정부(60)는, 설정되는 세정 기간이 경과할 때마다 벽부(22)를 세정해도 된다. 오염 검출부(40)는, 벽부(22)의 오염 정도가 허용 범위에서 벗어났을 경우에, 세정부(60)에 세정이 종료되어 있지 않다는 취지를 통지해도 된다. 세정부(60)는, 해당 통지를 받았을 경우에, 플로우 셀(20)의 벽부(22)를 다시 세정해도 된다.
[0025] 오염 검출부(40)는, 설정된 검지(檢知) 기간이 경과할 때마다 벽부(22)의 오염을 검출해도 된다. 오염 검출부(40)는, 소정의 검지 기간마다 벽부(22)의 오염을 검출하고, 벽부(22)의 오염 정도가 허용 범위에서 벗어났을 경우에, 세정부(60)로 하여금 벽부(22)를 세정하게 해도 된다. 오염 검출부(40)는, 사용자 등의 지시에 따라 벽부(22)의 오염을 검출해도 된다. 이 경우에 있어서도, 오염 검출부(40)는, 벽부(22)의 오염 정도가 허용 범위에서 벗어났을 경우에, 세정부(60)로 하여금 벽부(22)를 세정하게 해도 된다.
[0026] 오염 검출부(40)가 벽부(22)의 오염을 검출하는 경우, 광원(10)은, 소정의 파장 성분을 가지는 광(91)을 플로우 셀(20)을 향해 조사한다. 오염을 검출하는 경우의 광(91)의 파장은, 측정 대상 물질의 형광을 측정하는 경우의 광(91)의 파장과는 달라도 된다. 광원(10)은, 오염을 검출하기 위한 광(91)을 조사하는 광원 유닛과, 형광을 검출하기 위한 광(91)을 조사하는 광원 유닛을 가져도 된다.
[0027] 투과광 검출부(70)는, 광(91)이 플로우 셀(20)에 입사하여, 플로우 셀(20)을 투과한 투과광(94)을 검출한다. 예컨대 투과광 검출부(70)는, 광(91)이 플로우 셀(20)의 내부를 직진하여 사출된 광을, 투과광(94)으로서 검출해도 된다. 벽부(22)에는, 광(91)이 입사하는 윈도우부, 측정광(92)이 출사되는 윈도우부, 및, 투과광이 출사되는 윈도우부가 설치되어도 된다. 투과광 검출부(70)는, 투과광(94)의 광량인 투과광량을 검출한다. 투과광 검출부(70)는, 설정된 파장의 투과광량을 검출해도 된다. 투과광 검출부(70)는, 투과광량을 나타내는 전기신호를 오염 검출부(40)에 출력한다.
[0028] 벽부(22)에 오염이 부착되면, 해당 오염으로 인해 광의 강도가 감쇠되므로, 투과광(94)의 투과광량은 작아진다. 이 때문에, 광원(10)이 출사된 광(91)의 광량에 대해, 투과광(94)의 투과광량이 어느 정도 감쇠되어 있는지를 검출함으로써, 벽부(22)의 오염 정도를 추정할 수 있다. 한편으로, 광원(10)의 열화(劣化) 등의 요인으로, 광원(10)에 대한 설정치가 동일하더라도, 광원(10)으로부터 출사되는 광(91)의 광량은 경시적(經時的)으로 변화되는 경우가 있다. 광(91)의 광량이 변화되면, 투과광(94)의 광량도 변화되어 버린다. 이 때문에, 투과광(94)에 의해서만 벽부(22)의 오염을 양호한 정밀도로 검출하는 것은 곤란하다.
[0029] 본 예의 수질 분석 장치(100)는, 광원 모니터(50)에 의해, 광원(10)이 조사한 광(91)의 광량인 광원광량을 검출한다. 광원 모니터(50)는, 플로우 셀(20)에 입사되기 전의 광(91)의 광원광량을 검출한다. 광원 모니터(50)는, 광(91)의 일부를 분기시킨 분기광(93)을 수광해도 된다.
[0030] 오염 검출부(40)는, 광원광량 및 투과광량에 근거하여, 플로우 셀(20)의 벽부(22)의 오염을 검출한다. 오염 검출부(40)는, 광원광량으로 투과광량을 보정하고, 보정 결과에 근거하여 벽부(22)의 오염을 검출한다. 예컨대 오염 검출부(40)는, 광원광량이 작을수록 투과광량이 커지도록 보정하고, 보정된 투과광량이 작을수록 벽부(22)의 오염 정도가 크다고 판정한다. 일례로서 오염 검출부(40)는, 광원광량과 투과광량의 광량비(투과광량/광원광량)에 근거하여, 벽부(22)의 오염을 검출한다. 오염 검출부(40)는, 해당 광량비가 작을수록 오염의 정도가 크다고 판정한다. 이와 같이, 광원광량 및 투과광량을 이용하여 벽부(22)의 오염을 검출함으로써, 광원(10)의 열화 등의 영향을 저감하여, 양호한 정밀도로 벽부(22)의 오염을 검지할 수 있다. 광원광량 및 투과광량은, 플로우 셀(20)에 시료수를 흐르게 하지 않는 상태로 측정해도 된다.
[0031] 도 2는, 광원광량, 투과광량 및 광량비(투과광량/광원광량)의 일례를 나타낸 도면이다. 도 2에 있어서의 세로축은, 광량 또는 광량비를 나타내고 있다. 또한 도 2에서는, 복수의 상태 A, B, C, D에 있어서의 광원광량, 투과광량 및 광량비를 나타내고 있다. 일례로서 상태 A는 공장 출하 시의 상태로서, 벽부(22)의 오염이 없고, 광원(10)의 열화도 없는 상태이다. 상태 B는, 벽부(22)에 오염이 있고, 광원(10)은 열화되어 있지 않은 상태이다. 상태 C는, 벽부(22)에 오염이 없고, 광원(10)이 열화되어 있는 상태이다. 상태 D는, 벽부(22)에 오염이 있고, 광원(10)이 열화되어 있는 상태이다. 상태 B, D에 있어서의 벽부(22)의 오염 정도는 동일한 정도이며, 상태 C, D에 있어서의 광원(10)의 열화 정도는 동일한 정도이다.
[0032] 도 2에는, 투과광량에만 근거하여 벽부(22)의 오염 유무를 검출하는 경우의 판정 기준과, 광량비(투과광량/광원광량)에 근거하여 벽부(22)의 오염 유무를 검출하는 경우의 판정 기준을 파선(破線)으로 나타내고 있다. 판정 기준은, 사용자 등에 의해 미리 설정된다. 예컨대, 광량 또는 광량비가 판정 기준보다 큰 경우에는 「오염 없음」으로 판정하고, 광량 또는 광량비가 판정 기준 미만인 경우에는 「오염 있음」으로 판정한다.
[0033] 투과광량에만 근거하여 벽부(22)의 오염을 검출하였을 경우, 상태 B, D의 오염은 검출할 수 있지만, 벽부(22)에 오염이 없는 상태 C에 대해서도 「오염 있음」으로 오검출하게 되어 버리는 경우가 있다. 투과광량만을 이용하면, 광원(10)의 열화로 인해 투과광량이 감쇠되어 있는 경우와, 벽부(22)의 오염으로 인해 투과광량이 감쇠되어 있는 경우를 구별할 수 없기 때문에, 광원(10)이 열화되었을 경우에 벽부(22)의 오염을 오검출하게 되어 버린다. 또한, 상태 B, D와 같이, 벽부(22)의 오염 정도가 본래는 동일한 정도임에도 불구하고, 광원(10)의 열화로 인해, 오염의 정도가 다르게 검출되어 버린다.
[0034] 한편으로, 광량비(투과광량/광원광량)를 이용함으로써, 광원(10)의 열화의 영향을 저감할 수 있다. 예컨대 상태 C와 같이, 광원(10)의 열화의 영향을 보정하여, 벽부(22)의 오염을 양호한 정밀도로 검출할 수 있다. 오염 검출부(40)는, 광량비와 오염 판정 기준을 비교함으로써, 벽부(22)의 오염 유무를 검출해도 된다. 오염 검출부(40)는, 광량비와 오염 판정 기준 간의 괴리의 크기에 근거하여, 오염의 정도를 판정해도 된다.
[0035] 도 3은, 수질 분석 장치(100)의 동작예를 나타낸 플로우차트이다. 수질 분석 장치(100)는, 소정의 트리거 신호에 따라, 시료수에 있어서의 측정 대상 물질의 농도 측정을 개시한다. 해당 트리거 신호는, 사용자 등의 조작에 의해 입력되어도 되고, 주위 환경의 변화에 따라 자동적으로 입력되어도 되고, 소정의 기간이 경과할 때마다 자동적으로 입력되어도 되고, 다른 요인에 따라 입력되어도 된다.
[0036] 측정 단계(S202)에 있어서, 농도 측정부(32)는, 시료수를 측정한다. 농도 측정부(32)는, 측정광 검출부(30)가 측정한 측정광(92)에 근거하여, 측정 대상 물질의 농도를 측정한다. 상술한 바와 같이, 측정광(92)은, 시료수로부터 사출되는 형광이어도 된다. 이 경우, 농도 측정부(32)는, 측정광(92)의 광량에 근거하여, 형광 물질의 농도를 측정할 수 있다.
[0037] 연속 사용 단계(S204)에 있어서, 수질 분석 장치(100)는, 미리 설정된 연속 사용 기간 동안, 계속적으로 또는 단속(斷續)적으로 시료수에 있어서의 측정 대상 물질의 농도를 측정한다. 연속 사용 기간이 경과되면, 세정 단계(S206)에 있어서, 세정부(60)가 플로우 셀(20) 내의 세정을 행한다. 세정부(60)는, 맑은 물, 또는, 약품 등이 포함되는 세정액을 플로우 셀(20)의 내부 공간(24)에 흐르게 하여 플로우 셀(20)을 세정해도 되고, 브러시 등의 부재로 내부 공간(24)을 쓸어서 플로우 셀(20)을 세정해도 되고, 이들을 조합하여 플로우 셀(20)을 세정해도 된다.
[0038] 세정부(60)가 미리 정해진 세정 공정을 실시한 후에, 세정 완료 판정 단계(S208)에 있어서, 오염 검출부(40)가, 플로우 셀(20)의 세정이 완료되었는지의 여부를 판정한다. 오염 검출부(40)는, 플로우 셀(20)의 벽부(22)에 있어서의 오염 유무를 검출하여, 오염이 없다고 판정되었을 경우에, 세정이 완료되었다고 판정해도 된다. 오염 검출부(40)는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 광량비(투과광량/광원광량)와 소정의 오염 판정 기준을 비교함으로써, 오염 유무의 판정을 행해도 된다. 세정 완료 판정 단계(S208)에 있어서는, 플로우 셀(20)의 내부 공간(24)에 맑은 물이 충전(充塡)된 상태에서 투과광량 및 광원광량을 측정해도 되고, 내부 공간(24)에 액체가 충전되어 있지 않은 상태에서 투과광량 및 광원광량을 측정해도 된다.
[0039] 세정 완료 판정 단계(S208)에 있어서 세정이 완료되었다고 판정된 경우, 수질 분석 장치(100)는, 측정 단계(S202)부터의 처리를 반복해도 되고, 동작을 종료해도 된다. 세정 완료 판정 단계(S208)에 있어서 세정이 완료되지 않았다고 판정된 경우, 세정부(60)는, 세정 단계(S206)의 처리를 반복한다. 오염 검출부(40)는, 플로우 셀(20)의 세정 개시로부터 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않는 경우에, 세정이 종료되지 않았다는 취지를 나타내는 통지를 출력해도 된다. 이 경우, 수질 분석 장치(100)는, 측정 단계(S202)부터의 처리를 반복해도 되고, 동작을 종료해도 된다.
[0040] 세정 단계(S206)에 있어서, 세정부(60)는, 광원광량 및 투과광량 중 적어도 한쪽에 근거하여, 플로우 셀(20)의 세정 방법을 선택해도 된다. 세정 방법의 선택이란, 세정에 이용할 세정액의 특성의 선택이어도 되고, 세정에 이용할 도구의 선택(브러시를 이용할지, 세정액을 이용할지 등)이어도 된다. 세정부(60)는, 광량비(광원광량 및 투과광량)로부터 정해지는 오염의 정도에 따라, 세정 방법을 선택해도 된다. 이 경우, 세정 단계(S206)에 있어서, 광량비를 측정해도 된다. 세정부(60)는, 해당 오염의 정도에 따라, 플로우 셀(20)에 흐르게 하는 세정액의 pH를 조정해도 된다. 오염의 정도가 클수록, 세정액의 pH를 중성치로부터 크게 괴리시켜도 된다. 오염의 정도에 따라 pH를 어느 정도 변화시킬지는, 미리 실험적으로 결정하여, 세정부(60)에 설정해도 된다.
[0041] 세정부(60)는, 과거에 플로우 셀(20)에 흐르게 한 시료수의 이력에 근거하여, 세정 방법을 선택해도 된다. 본 예에서는, 연속 사용 단계(S204)에서 흐르게 한 시료수의 종류에 따라, 세정부(60)가 세정 방법을 선택해도 된다. 시료수의 종류란, 시료수에 포함되는 물질의 종류여도 된다. 예컨대 산성 또는 알칼리성 중 어느 세정액을 이용할지를, 시료수의 종류에 따라 선택해도 된다. 시료수의 종류에 따라, 플로우 셀(20)에 부착되는 오염 물질을 추정할 수 있으므로, 세정부(60)는, 시료수의 종류에 따른 세정액을 선택해도 된다. 각 물질에 대해 어떠한 세정액을 선택해야 할지는, 세정부(60)에 대해 미리 설정되어도 된다. 본 예의 수질 분석 장치(100)는, 세정액이 흐르는 부위는, 산성 또는 알칼리성의 세정액이 흘러도 변질되지 않는 재료로 형성되는 것이 바람직하다.
[0042] 세정부(60)는, 복수 파장에 있어서의 광량비(광원광량 및 투과광량)에 근거하여, 벽부(22)에 부착된 물질의 종류를 추정하고, 추정 결과에 따라 세정 방법을 선택해도 된다. 세정부(60)는, 광량비의 스펙트럼의 형상과, 각 물질의 종류에 따라 정해지는 투과 스펙트럼을 비교함으로써, 벽부(22)에 부착된 물질의 종류를 추정해도 된다. 광원(10)의 열화를 보정한 광량비를 이용함으로써, 벽부(22)에 부착된 물질의 종류를 양호한 정밀도로 추정할 수 있다.
[0043] 도 4는, 수질 분석 장치(100)의 다른 동작예를 나타낸 플로우차트이다. 본 예의 동작은, 기간 경과 판정 단계(S210) 및 세정 방법 변경 단계(S212)를 더 구비한다는 점에서, 도 3의 동작예와 상이하다. 다른 단계는, 도 3의 예와 동일하다.
[0044] 본 예에서는, 세정 완료 판정 단계(S208)에 있어서 세정이 완료되지 않았다고 판정된 경우, 기간 경과 판정 단계(S210)를 행한다. 기간 경과 판정 단계(S210)에 있어서 오염 검출부(40)는, 플로우 셀(20)의 세정 개시로부터 설정 기간이 경과하였는지의 여부를 판정한다. 오염 검출부(40)는, 설정 기간이 아직 경과되지 않은 경우, 세정부(60)로 하여금 세정 단계(S206)의 처리를 반복하게 한다. 설정 기간 내에 세정이 종료되어 있지 않은 경우, 세정 방법 변경 단계(S212)에 있어서 오염 검출부(40)는, 세정부(60)의 세정 방법을 변경시킨다. 세정부(60)는, 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않는 경우, 보다 강력한 세정 방법을 선택해도 된다. 예컨대 맑은 물을 이용하여 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않았을 경우에, 세정부(60)는, 약품 또는 계면활성제를 포함하는 세정액을 이용하여 다시 세정을 행해도 된다. 또한 세정부(60)는, 세정액을 이용하여 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않았을 경우에, 세정액의 pH를 조정해도 된다.
[0045] 도 5는, 수질 분석 장치(100)의 다른 동작예를 나타낸 플로우차트이다. 본 예의 동작은, 오염 검출 단계(S205)를 더 구비한다는 점에서, 도 3 또는 도 4의 동작예와 상이하다. 다른 단계는, 도 3 또는 도 4의 예와 동일하다. 도 5에서는, 도 3의 동작예에 오염 검출 단계(S205)를 추가한 예를 나타내고 있지만, 도 4의 동작예에 오염 검출 단계(S205)를 추가해도 된다.
[0046] 본 예의 오염 검출부(40)는, 플로우 셀(20)에 시료수를 흐르게 한 상태에서의 투과광량을 이용하여, 벽부(22)의 오염을 검출한다. 구체적으로는, 연속 사용 단계(S204)에 있어서의 연속 사용 기간 내에 측정한 광원광량 및 투과광량을 이용하여, 벽부(22)의 오염을 검출한다. 오염 검출부(40)는, 연속 사용 기간 내에 있어서, 미리 정해진 주기로 벽부(22)의 오염을 검출해도 된다. 도 5의 예에서는, 연속 사용 기간 내의 오염 검출 단계(S205)에 있어서, 벽부(22)의 오염을 검출한다. 오염 검출 단계(S205)에서 벽부(22)에 오염이 없다고 판정하였을 경우, 수질 분석 장치(100)는, 연속 사용 단계(S204)의 처리를 계속한다. 오염 검출 단계(S205)에서 벽부(22)에 오염이 있다고 판정하였을 경우, 수질 분석 장치(100)는, 세정 단계(S206) 이후의 처리를 행한다. 세정 단계(S206) 이후의 처리는, 도 3 또는 도 4의 예와 동일하다.
[0047] 도 6은, 측정광 검출부(30) 및 농도 측정부(32)의 구성예를 나타낸 도면이다. 본 예의 측정광 검출부(30)는, 형광 검출부(33) 및 산란광 검출부(31)를 가진다. 농도 측정부(32)는, 신호 처리부(35) 및 탁도 측정부(34)를 가진다. 또한 본 예의 수질 분석 장치(100)는, 광원(10-1) 및 광원(10-2)을 가진다. 광원(10-1)은, 산란광(측정광(92-1))을 측정하기 위한 광(91-1)을 조사하는 광원이며, 광원(10-2)은, 형광(측정광(92-2))을 측정하기 위한 광(91-2)을 조사하는 광원이다. 광(91-1) 및 광(91-2)은 상이한 파장 성분을 가져도 된다. 광원(10-1)으로부터의 광(91-1)은, 투과광(94)의 측정에도 이용된다. 즉, 광(91-1)의 일부는 산란광으로서 사출되고, 다른 일부는 투과광으로서 사출된다.
[0048] 본 예의 수질 분석 장치(100)는, 형광(측정광(92-2))의 광량에 근거하여, 시료수에 포함되는 형광 물질의 농도를 측정한다. 한편으로 시료수에 현탁 물질이 포함되어 있는 경우, 현탁 물질(입자)로부터의 광산란이나 흡수의 영향으로 인해, 광(91-2) 또는 측정광(92-2)의 광량이 감쇠되는 경우가 있다. 이러한 현상은 이너 필터 효과라 불린다. 이너 필터 효과에 의해, 현탁 물질의 농도(이하, 탁도)가 높은 환경에서는 형광 강도의 측정 정밀도가 악화될 우려가 있다.
[0049] 본 예의 수질 분석 장치(100)는, 형광 강도의 측정 정밀도를 향상시키기 위해, 측정한 측정광(92-2)의 광량을, 시료수의 탁도에 의해 보정한다. 수질 분석 장치(100)는, 형광 강도와 함께, 시료수의 탁도를 측정한다. 수질 분석 장치(100)는, 시료수로부터의 산란광 또는 투과광의 광량으로부터, 시료수의 탁도를 측정한다. 시료수의 산란광의 광량은, 산란광 검출부(31)가 검출한다. 시료수의 투과광의 광량은, 도 1에 나타낸 투과광 검출부(70)가 검출해도 된다.
[0050] 우선, 시료수의 탁도 측정에 대해 설명한다. 광원(10-1)은, 적외광인 광(91-1)을 플로우 셀(20)의 내부의 시료수에 조사한다. 광원(10-1)은, 일례로서, LED(Light Emitting Diode) 또는 레이저 조사 장치이다.
[0051] 광(91-1)을 플로우 셀(20)의 내부의 시료수에 조사함으로써, 산란광(측정광(92-1)) 또는 투과광(94)(도 1 참조)이 생긴다. 산란광은, 시료수에 포함되는 현탁 물질에서의 광산란에 의해 발생한다. 현탁 물질의 농도가 높을수록, 산란광의 광량은 증가한다. 투과광(94)은, 시료수의 현탁 물질에 흡수 또는 산란되지 않은 광이다. 현탁 물질의 농도가 높을수록, 투과광(94)의 광량은 감쇠된다.
[0052] 탁도 측정부(34)는, 산란광 검출부(31)가 검출한 측정광(92-1)의 광량, 및, 투과광 검출부(70)가 검출한 투과광(94)의 광량 중 적어도 한쪽에 근거하여, 시료수의 탁도를 측정해도 된다. 탁도 측정부(34)는, 측정광(92-1) 및 투과광(94) 중 한쪽의 광량으로부터 탁도를 측정해도 된다. 상술한 바와 같이, 탁도에 따라 측정광(92-1) 및 투과광(94)의 광량이 변화하므로, 이들 광량으로부터 탁도를 추정할 수 있다. 탁도 측정부(34)는, 측정광(92-1) 및 투과광(94)의 광량의 비(측정광(92-1)의 광량/투과광(94)의 광량)를 이용하여, 탁도를 산출해도 된다. 탁도가 높을수록, 해당 광량의 비는 증대된다.
[0053] 다음으로, 시료수의 형광 물질의 농도 측정에 대해 설명한다. 광원(10-2)은, 광(91-2)을 플로우 셀(20)의 내부의 시료수에 조사한다. 광(91-2)은, 일례로서 자외선이다. 광원(10-2)은, 일례로서 제논(xenon) 플래시 램프, LED 또는 레이저 조사 장치이다.
[0054] 광원(10-2)은, 내부에 광학 필터를 포함해도 된다. 광학 필터를 포함하기 때문에, 광원(10-2)은, 광(91-2)의 소정 파장 범위의 광을 플로우 셀(20)에 조사할 수 있다. 본 예에 있어서 측정 대상 물질은 PAH이다. PAH는, 여기광의 파장이 250nm 근방인 경우에 가장 효율적으로 형광이 발광(發光)된다. 따라서, 광원(10-2)의 광학 필터의 투과 파장을, 일례로서 200nm 이상, 300nm 이하로 설정한다.
[0055] 광(91-2)을 플로우 셀(20)의 내부의 시료수에 조사함으로써, 형광(측정광(92-2))이 발생한다. 형광 검출부(33)는, 측정광(92-2)의 광량을 검출한다. 형광 검출부(33)는, 내부에 광학 필터를 포함해도 된다. 광학 필터를 포함하기 때문에, 형광 검출부(33)는, 측정광(92-2)의 소정 파장 범위의 광을 수광할 수 있다. 본 예에 있어서 측정 대상 물질은 PAH이다. PAH는 여기광의 파장이 250nm 근방인 경우, 형광 파장은 350nm 근방이 된다. 따라서, 형광 검출부(33)의 내부의 광학 필터의 투과 파장을, 일례로서 300nm 이상, 400nm 이하로 설정한다.
[0056] 신호 처리부(35)는, 형광 검출부(33)가 검출한 측정광(92-2)의 광량으로부터, 시료수에 포함되는 형광 물질의 농도를 산출한다. 상술한 바와 같이, 측정광(92-2)의 광량은, 시료수의 탁도에 의해 감쇠된다. 신호 처리부(35)는, 탁도 측정부(34)가 측정한 탁도에 근거하여, 측정광(92-2)의 광량을 보정하여, 형광 물질의 농도를 산출한다. 탁도와 보정량 간의 관계는, 미리 실험적으로 결정되어, 신호 처리부(35)에 설정되어도 된다. 이러한 처리에 의해, 수질 분석 장치(100)는, 시료수의 형광 물질의 농도를 양호한 정밀도로 측정할 수 있다.
[0057] 도 5에서 설명한 바와 같이, 플로우 셀(20)에 시료수를 흐르게 한 상태에서의 투과광량을 이용하여, 벽부(22)의 오염을 검출하는 경우, 시료수의 탁도에 따라 투과광량이 감쇠되는 경우가 있다. 이 경우, 벽부(22)의 오염의 검출 정밀도가 열화되는 경우가 있다.
[0058] 오염 검출부(40)는, 투과광량 및 광원광량에 더하여, 산란광 검출부(31)가 검출한 산란광의 광량(산란광량)을 이용하여, 플로우 셀(20)의 벽부(22)의 오염을 검출해도 된다. 오염 검출부(40)는, 탁도 측정과 공통의 투과광량을 이용해도 된다. 오염 검출부(40)는, 산란광량 대신에, 탁도 측정부(34)가 산출한 탁도를 이용해도 된다. 오염 검출부(40)는, 산란광량을 이용하여, 투과광량을 보정해도 된다. 즉 산란광량이 큰 경우에는, 현탁 물질로 인해 투과광량이 크게 감쇠되고 있다고 생각되므로, 산란광량이 증대될수록, 투과광량을 큰 값으로 보정해도 된다. 이에 의해, 시료수의 탁도의 영향을 저감시켜, 벽부(22)의 오염을 양호한 정밀도로 검출할 수 있다.
[0059] 다른 예에서는, 오염 검출부(40)는, 산란광량 또는 탁도가 기준치 이하일 것을 조건으로 하여, 벽부(22)의 오염 판정을 행해도 된다. 즉 오염 검출부(40)는, 시료수에 의한 투과광량의 감쇠가 작을 것을 조건으로 하여, 벽부(22)의 오염 판정을 행해도 된다. 이에 의해 시료수의 탁도의 영향을 저감하여, 벽부(22)의 오염을 양호한 정밀도로 검출할 수 있다.
[0060] 도 6의 예에서는, 탁도의 측정에 이용하는 투과광량과, 오염의 측정에 이용하는 투과광량을, 공통의 투과광 검출부(70)에서 검출할 수 있다. 또한, 탁도의 측정에 이용하는 광원(10)과, 오염의 측정에 이용하는 광원(10)을 공통화할 수 있다. 이 때문에, 수질 분석 장치(100)의 구성 부재를 줄일 수 있다.
[0061] 이상, 본 발명을 실시형태를 이용하여 설명하였지만, 본 발명의 기술적 범위는 상기 실시형태에 기재된 범위로 한정되지는 않는다. 상기 실시형태에, 다양한 변경 또는 개량을 가하는 것이 가능함은 당업자에게 자명하다. 이와 같은 변경 또는 개량을 가한 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함될 수 있음이, 청구범위의 기재로부터 명백하다.
[0062] 청구범위, 명세서, 및 도면 중에 있어서 나타낸 장치, 시스템, 프로그램, 및 방법에 있어서의 동작, 순서, 스텝, 및 단계 등의 각 처리의 실행 순서는, 특별히 「보다 전에」, 「앞서」 등으로 명시하고 있지 않고, 또한, 앞의 처리의 출력을 뒤의 처리에서 이용하는 것이 아닌 한, 임의의 순서로 실현할 수 있음에 유의해야 한다. 청구범위, 명세서, 및 도면 중의 동작 플로우에 관해, 편의상 「우선,」, 「다음으로,」 등을 사용하여 설명하였다 하더라도, 이 순서로 실시하는 것이 필수임을 의미하는 것은 아니다.
[0063] 10: 광원, 20: 플로우 셀, 22: 벽부, 24: 내부 공간, 30: 측정광 검출부, 31: 산란광 검출부, 32: 농도 측정부, 33: 형광 검출부, 34: 탁도 측정부, 35: 신호 처리부, 40: 오염 검출부, 50: 광원 모니터, 60: 세정부, 70: 투과광 검출부, 91: 광, 92: 측정광, 93: 분기광, 94: 투과광, 100: 수질 분석 장치
Claims (14)
- 시료수에 포함되는 측정 대상 물질의 농도를 측정하는 수질 분석 장치로서,
광을 투과시키는 벽부와, 상기 벽부에 둘러싸인 내부 공간을 가지며, 상기 시료수가 상기 내부 공간을 통과하는 플로우 셀(flow cell)과,
상기 플로우 셀을 향해 광을 조사(照射)하는 광원과,
상기 광원이 조사한 상기 광의 광량인 광원광량을 검출하는 광원 모니터와,
상기 플로우 셀을 투과한 투과광의 광량인 투과광량을 검출하는 투과광 검출부와,
상기 광원광량과 상기 투과광량에 근거하여, 상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 검출하는 오염 검출부
를 구비하는 수질 분석 장치. - 제1항에 있어서,
상기 오염 검출부는, 상기 광원광량과 상기 투과광량의 비(比)에 근거하여, 상기 벽부의 오염을 검출하는
수질 분석 장치. - 제1항에 있어서,
상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 세정하는 세정부를 더 구비하며,
상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀의 세정 후에 검출한 상기 광원광량과 상기 투과광량에 근거하여, 상기 플로우 셀의 세정이 종료되었는지의 여부를 판정하는
수질 분석 장치. - 제3항에 있어서,
상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀의 세정 개시로부터 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않는 경우에, 세정이 종료되지 않았다는 취지를 나타내는 통지를 출력하는
수질 분석 장치. - 제3항에 있어서,
상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀의 세정 개시로부터 설정 기간 내에 세정이 종료되지 않는 경우에, 상기 세정부에 있어서의 세정 방법을 변경시키는
수질 분석 장치. - 제3항에 있어서,
상기 세정부는, 상기 광원광량 및 상기 투과광량 중 적어도 한쪽(一方)에 근거하여, 상기 플로우 셀의 세정 방법을 선택하는
수질 분석 장치. - 제6항에 있어서,
상기 세정부는, 상기 광원광량과 상기 투과광량의 비에 근거하여, 상기 플로우 셀에 흐르게 하는 세정액의 pH를 조정하는
수질 분석 장치. - 제3항에 있어서,
상기 세정부는, 과거에 상기 플로우 셀에 흐르게 한 상기 시료수의 이력에 근거하여, 상기 플로우 셀의 세정 방법을 선택하는
수질 분석 장치. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀에 상기 시료수를 흐르게 하지 않는 상태에서의 상기 투과광량을 이용하여, 상기 벽부의 오염을 검출하는
수질 분석 장치. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀에 상기 시료수를 흐르게 한 상태에서의 상기 투과광량을 이용하여, 상기 벽부의 오염을 검출하는
수질 분석 장치. - 제10항에 있어서,
상기 시료수로부터의 산란광의 광량인 산란광량을 검출하는 산란광 검출부를 더 구비하며,
상기 오염 검출부는, 상기 산란광량에 더 근거하여, 상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 검출하는
수질 분석 장치. - 제11항에 있어서,
상기 산란광 검출부가 검출한 상기 산란광량, 및, 상기 투과광 검출부가 검출한 상기 투과광량 중 적어도 한쪽에 근거하여, 상기 시료수의 탁도를 측정하는 탁도 측정부를 더 구비하는
수질 분석 장치. - 제1항에 있어서,
상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 세정하는 세정부를 더 구비하며,
상기 오염 검출부는, 상기 플로우 셀에 상기 시료수를 흐르게 한 상태에서의 상기 투과광량을 이용하여, 상기 벽부의 오염을 검출하고,
상기 세정부는, 상기 벽부의 오염이 있는 경우에, 상기 플로우 셀의 세정을 개시하는
수질 분석 장치. - 제13항에 있어서,
상기 오염 검출부는, 상기 시료수로부터의 산란광의 광량인 산란광량을 검출하는 산란광 검출부를 더 구비하며, 상기 산란광 검출부가 검출한 상기 산란광량 또는, 상기 산란광 검출부가 검출한 상기 산란광량, 및, 상기 투과광 검출부가 검출한 상기 투과광량 중 적어도 한쪽에 근거하여 측정되는 상기 시료수의 탁도가 기준치 이하일 것을 조건으로 하여, 상기 플로우 셀의 상기 벽부의 오염을 검출하는
수질 분석 장치.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2022/020296 WO2023218672A1 (ja) | 2022-05-13 | 2022-05-13 | 水質分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230172600A true KR20230172600A (ko) | 2023-12-22 |
Family
ID=88729913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237040602A KR20230172600A (ko) | 2022-05-13 | 2022-05-13 | 수질 분석 장치 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2023218672A1 (ko) |
| KR (1) | KR20230172600A (ko) |
| CN (1) | CN117413169A (ko) |
| WO (1) | WO2023218672A1 (ko) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6436266B2 (ja) | 2016-05-19 | 2018-12-12 | 富士電機株式会社 | 水質分析計 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04125446A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-24 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
| JP2786767B2 (ja) * | 1991-12-17 | 1998-08-13 | 株式会社日立製作所 | 自動分析装置および容器の汚染判定方法 |
| JP2015184018A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 東レ株式会社 | 赤外吸収スペクトル作成方法、検量線作成方法、ならびにこれらを用いた溶液濃度定量方法および溶液濃度測定装置 |
| JP6828621B2 (ja) * | 2017-07-03 | 2021-02-10 | 株式会社島津製作所 | 検出装置 |
| WO2020079800A1 (ja) * | 2018-10-18 | 2020-04-23 | 株式会社島津製作所 | 検出装置 |
-
2022
- 2022-05-13 KR KR1020237040602A patent/KR20230172600A/ko unknown
- 2022-05-13 CN CN202280036948.5A patent/CN117413169A/zh active Pending
- 2022-05-13 WO PCT/JP2022/020296 patent/WO2023218672A1/ja active Application Filing
- 2022-05-13 JP JP2023574542A patent/JPWO2023218672A1/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6436266B2 (ja) | 2016-05-19 | 2018-12-12 | 富士電機株式会社 | 水質分析計 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2023218672A1 (ko) | 2023-11-16 |
| CN117413169A (zh) | 2024-01-16 |
| WO2023218672A1 (ja) | 2023-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2972235B1 (en) | Fluorometer with multiple detection channels | |
| JP5119985B2 (ja) | コーティング装置の洗浄状態確認方法及び洗浄状態確認装置 | |
| KR20160077047A (ko) | 네펠로메트릭 탁도계 및 네펠로메트릭 탁도계의 시료 큐벳의 오염을 탐지하기 위한 방법 | |
| DE4336520C2 (de) | Optischer Sensor und seine Verwendung | |
| JP2019533172A (ja) | 水質検出 | |
| US9366662B2 (en) | Serum sample quality determination | |
| KR20020022876A (ko) | 고효율 광섬유 프로브를 이용한 수질오염 측정장치 | |
| KR20230172600A (ko) | 수질 분석 장치 | |
| JP2006339598A (ja) | 半導体基板の洗浄装置 | |
| JP4359769B2 (ja) | センサの汚れ検出方法 | |
| JP2018526644A (ja) | 液体培地中の物質濃度または物質を判断するための方法および装置 | |
| CN111742078B (zh) | 无荧光的经涂黑光学组件 | |
| JP2007113987A (ja) | 直角散乱型濁度計の校正方法およびこれに使用する校正容器 | |
| JP2013506839A (ja) | 全有機炭素（ｔｏｃ）流体センサー | |
| JP2024502795A (ja) | 自動化学分析装置におけるキュベットの較正および検証 | |
| JP2022059278A (ja) | 液体試料の濁度または色度を測定する測定装置および測定方法 | |
| KR20240020180A (ko) | 수질 분석 장치 | |
| KR20070079695A (ko) | 반도체 웨이퍼의 세정 설비 | |
| JP5563957B2 (ja) | 分析装置 | |
| US20060160239A1 (en) | Method of measuring a level of contamination in a chemical solution and systems thereof | |
| JP4409489B2 (ja) | 薬液濃度モニタ | |
| JPH08271519A (ja) | 自動化学分析装置における測光系の精度確認方法 | |
| JP7505513B2 (ja) | 光放射誘起ルミネセンスを用いた溶存酸素の測定 | |
| KR102124010B1 (ko) | 탁도 측정장치 | |
| JP2022153125A (ja) | 処理判断装置 |