KR20230163480A - 표시장치용 점착제 및 그것을 이용한 점착 시트 - Google Patents

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KR20230163480A
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아츠후미 야마이
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가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼
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Abstract

405 nm 정도까지의 것보다 장파장측까지의 전자파 흡수력을 가지는 표시장치용 점착제 및 당해 표시장치용 점착제를 이용한 점착제 시트를 제공한다. 본 발명의 어느 태양의 표시장치용 점착제는, 아크릴 공중합체와, 자외선 흡수제(A)와, 자외선 흡수제(B)를 포함한다. 자외선 흡수제(A)는, 티오 아릴환기를 가지는 2-페닐벤조트리아졸 유도체이며, 자외선 흡수제(B)는, 상온에서 액체이며, 자외선 흡수제(B)의 함유량(질량부)이, 상기 자외선 흡수제(A)의 함유량(질량부)의 1~10배이다.

Description

표시장치용 점착제 및 그것을 이용한 점착 시트
본 발명은, 표시장치용 점착제와 그것을 이용한 점착 시트에 관한 것이다.
액정 디스플레이나 유기 EL디스플레이 등의 표시장치는, 여러가지 기능성 필름 등이 적층되어 구성되어 있다. 근래, 그러한 표시장치는, 여러가지 용도로 이용되고, 그 용도에 맞추어, 액정 셀의 표면 상이나 유기 EL 패널의 표면 상, 또는 표시 화면의 최표면에 여러가지 기능을 가지는 필름이 첩부하여 이용되고 있다.
예를 들면, 액정 디스플레이에서는 액정 디스플레이의 표면 상의 위상차판이나, 유기 EL디스플레이에서는 유기 EL 패널 표면 상의 편광판 등 여러가지 기능성 필름이 적층되어서 이용되고 있다.
이들 필름은, 점착제를 이용하여 적층, 첩부되어 이용되고 있고, 옥외에서 이용되는 경우, 고온 또는 고온 고습 환경 하에서 사용되기 때문에, 당해 환경 하에서의 내구성 및 외광(특히 자외선)에 대한 내광성이 요구되고 있다.
특허문헌 1에는, 350~390 nm의 파장 영역의 광을 효율적으로 흡수하는 자외선 흡수제를 이용한 수지 부재가 개시되어 있다.
특허문헌 1: 국제 공개 제2016/021664호
근래, 표시장치의 고기능화에 수반하여, 표시장치용의 점착제에는 장파장측까지(405 nm 정도까지)의 전자파 흡수력이 요구되고 있다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 수지 부재는, 고온 환경 하, 혹은 고온 고습 환경 하에 있어서, 수지 부재에 자외선 흡수제 석출 및 벗겨짐이 생길 우려가 있어, 당해 수지 부재를 장파장측의 흡수에 활용하는 것은 곤란했다.
본 발명은 상술과 같은 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 405 nm 정도의 것보다 장파장측의 전자파 흡수력을 가지는 것에 의해, 전자파에 의한 표시장치 열화를 억제할 수 있는 표시장치용 점착제 및 당해 표시장치용 점착제를 이용한 점착 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명이 있는 태양은, 표시장치용 점착제이다. 당해 표시장치용 점착제는 아크릴 공중합체와, 자외선 흡수제(A)와, 자외선 흡수제(B)를 포함하고, 상기 자외선 흡수제(A)는, 티오 아릴환기를 가지는 2-페닐벤조트리아졸 유도체이며, 상기 자외선 흡수제(B)는 상온에서 액체이며, 상기 자외선 흡수제(B)의 함유량(질량부)이, 상기 자외선 흡수제(A)의 함유량(질량부)의 1~10 배이다.
또한, 상술한 태양의 표시장치용 점착제는, 이하의 조건으로 측정되는 405 nm 투과율이 1% 이하이어도 된다.
(1) 상술한 어느 하나의 태양의 표시장치용 점착제를 이용하여, 두께 100μm의 점착제층을 제작한다.
(2) 상기 점착제층에 대하여, 분광 광도계를 이용하여 405 nm의 투과율을 측정한다.
또한, 상술한 태양의 표시장치용 점착제는, 이하의 조건으로 산출되는 헤이즈 상승치(△H)가 3% 이하이어도 된다.
(1) 상술한 어느 하나의 태양의 표시장치용 점착제를 이용하여, 두께 100μm의 점착제층을 제작한다.
(2) 상기 점착제층의 한쪽의 주표면에 두께 100μm의 PET 필름을 적층하고, 상기 점착제층의 다른 쪽의 주표면에 두께 1.8 mm의 소다 유리를 적층하여, 상기 점착제층을 포함하는 적층체를 제작한다.
(3) 상기 적층체를 제작한 직후에 있어서의 상기 적층체의 헤이즈값(H0)(%)를 측정한다.
(4) 85℃, 85% RH에서 1000시간 경과 후의 상기 적층체의 헤이즈값(H1)(%)를 측정한다.
(5) 헤이즈 상승치(△H)(%)를 이하의 식을 이용하여 산출한다.
△H = H1 - H0
본 발명의 다른 태양은, 점착 시트이다. 당해 점착 시트는, 기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽의 주표면에 적층된 상술한 어느 하나의 태양의 표시장치용 점착제를, 포함한다.
본 발명에 의하면, 405 nm 정도까지의 것보다 장파장측까지의 전자파 흡수력을 가지는 것에 의해, 전자파에 의한 표시장치 열화를 억제할 수 있는 표시장치용 점착제 및 당해 표시장치용 점착제를 이용한 점착제 시트에 관한 기술을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 상세하게 설명한다. 덧붙여, 본 명세서 중, 수치 범위의 설명에 있어서의 「a~b」라는 표기는, 특별히 거절하지 않는 한, a 이상 b 이하인 것을 나타낸다.
또한, 본 명세서에 있어서 아무 언급도 없이, 「아크릴」이라고 기재했을 경우는, 「메타크릴」을 포함하는 것으로 하고, 「아크릴레이트」라고 했을 경우에는, 「메타크릴레이트」를 포함하는 것으로 한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 조성물이 있는 성분을 포함하지 않는다란, 조성물 중에 있어서의 있는 성분의 함유량이 불가피적으로 존재하는 양 이하인 것을 의미한다.
이하, 본 실시 형태의 표시장치용 점착제와, 상기 표시장치용 점착제를 이용한 점착 시트에 대해 설명한다.
(표시장치용 점착제)
본 실시 형태에 따른 표시장치용 점착제는, 아크릴 공중합체, 자외선 흡수제(A) 및 자외선 흡수제(B)를 포함한다. 이하, 본 실시 형태에 따른 표시장치용 점착제의 각 성분에 대하여 설명한다.
(아크릴 공중합체)
아크릴 공중합체는, 아크릴 모노머를 포함하는, 모노머 조성물을 공중합 시켜 얻을 수 있다.
본 실시 형태에 따른 모노머 조성물은, 특별히 한정하지 않지만, 에틸 아크릴레이트와, 2-에틸 헥실 아크릴레이트를 포함하는 것이 보다 적합하다.
모노머 조성물에 포함되는 그 외의 아크릴 모노머로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않고, 공지의 모노머를 포함할 수 있다. 모노머로서는, 예를 들면, 메틸 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, i-부틸 아크릴레이트, n-옥틸 아크릴레이트, i-옥틸 아크릴레이트, n-노닐 아크릴레이트, i-노닐 아크릴레이트, n-데실 아크릴레이트, n-도데실 아크릴레이트, 스테아릴 아크릴레이트 등의 아크릴산의 직쇄 혹은 분지 알킬 에스테르;
메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, n-도데실 메타크릴레이트, 스테아릴 메타크릴레이트 등의 메타크릴산의 직쇄 혹은 분지 알킬 아크릴 모노머;
2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 3-히드록시프로필 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 3-메틸-3-히드록시부틸 아크릴레이트, 1,1-디메틸-3-부틸 아크릴레이트, 1,3-디메틸-3-히드록시부틸 아크릴레이트, 2,2,4-트리메틸-3-히드록시펜틸 아크릴레이트, 2-에틸-3-히드록시헥실 아크릴레이트, 글리세린 모노아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜-프로필렌글리콜) 모노아크릴레이트, N-메틸올 아크릴 아미드, 알릴 알코올, 메타알릴 알코올 등의 수산기 함유 아크릴 모노머;
숙신산 모노히드록시에틸 아크릴레이트, 말레인산 모노히드록시에틸 아크릴레이트, 푸말산 모노히드록시에틸 아크릴레이트, 프탈산 모노히드록시에틸 아크릴레이트, 1,2-디카르복시 시클로헥산 모노히드록시에틸 아크릴레이트, 아크릴산 다이머, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노아크릴레이트 등의 카르복실기 함유 아크릴 모노머;
글리시딜 아크릴레이트, 3,4-에폭시 시클로헥실 메틸 아크릴레이트, 글리시딜 비닐에테르, 3,4-에폭시 시클로헥실 비닐 에테르, 글리시딜 아릴에테르, 3,4-에폭시 시클로헥실 알릴 에테르 등의 글리시딜기 함유 아크릴 모노머;
아크릴 아미드, 메타크릴 아미드, N-메틸 아크릴 아미드, N-에틸 아크릴 아미드, N-메톡시 메틸 아크릴 아미드, N-에톡시 메틸 아크릴 아미드, N-프로폭시 메틸 아크릴 아미드, N-부톡시 메틸 아크릴 아미드, N-tert-부틸 아크릴 아미드, N-옥틸 아크릴 아미드, N,N-디메틸 아크릴 아미드, 디아세톤 아크릴 아미드 등의 아미드기, N-치환 아미드기 함유 아크릴 모노머;
디메틸 아미노 에틸 아크릴레이트, 디에틸 아미노 에틸 아크릴레이트, 디메틸 아미노 프로필 아크릴 아미드 등의 3급 아미노기 함유 아크릴 모노머; 등을 들 수 있고, 추가로, 이들의 각종 유도체를 포함할 수 있다. 이들은, 단독으로, 또는, 복수를 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 이들 아크릴 모노머 외에, 아크릴 모노머와 공중합 가능한 아크릴 모노머 이외의 모노머를 포함할 수 있다. 아크릴 모노머 이외의 모노머로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카프로락탐, N-비닐 아세트아미드, 아크릴로니트릴, 스티렌, 아세트산 비닐 등이 들 수 있다. 이들은 단독으로, 또는, 복수를 조합하여 이용할 수 있다.
아크릴 공중합체는, 모노머 조성물을 중합 개시제의 존재 하에서 라디칼 반응시켜 얻을 수 있다. 라디칼 반응의 방식은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 리빙 라디칼 중합, 프리 라디칼 중합 등을 들 수 있다. 리빙 라디칼 중합에 의하면, 프리 라디칼 중합과 비교하여 보다 균일한 분자량 및 조성을 가지는 공중합체를 얻을 수 있고, 저분자량 성분 등의 생성을 억제할 수 있고, 상기 점착제층의 응집력을 높게 할 수 있다. 또한, 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 용액 중합(비점 중합 또는 정온(定溫) 중합), 에멀젼 중합, 현탁 중합, 괴상(塊狀) 중합 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 합성이 간편한 것으로부터, 용액 중합이 바람직하다.
중합 방법으로서 용액 중합을 이용하는 경우, 반응 용제로서, 예를 들면, 아세트산 에틸, 톨루엔, 메틸 에틸 케톤, 메틸 설폭시드, 에탄올, 아세톤, 디에틸 에테르 등을 이용할 수 있다. 이들은, 단독으로, 또는, 복수를 조합하여 이용할 수 있다.
중합 개시제는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 유기 과산화물, 아조 화합물 등을 이용할 수 있다. 유기 과산화물로서는, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, t-헥실퍼옥시 피발레이트, t-부틸퍼옥시 피발레이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시) 헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시 이소부틸레이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트 등을 들 수 있다.
아조 화합물로서는, 아조 비스이소부티로니트릴, 아조 비스시클로헥산 카르보니트릴 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로, 또는, 복수를 조합하여 이용할 수 있다.
리빙 라디칼 중합의 경우에는, 중합 개시제로서, 예를 들면, 유기 텔루륨 중합 개시제를 들 수 있다. 유기 텔루륨 중합 개시제로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않고, 리빙 라디칼 중합에 일반적으로 이용되는 것을 이용할 수 있고, 예를 들면, 유기 텔루륨 화합물, 유기 텔루라이드 화합물 등을 들 수 있다. 덧붙여, 리빙 라디칼 중합에 있어서도, 유기 텔루륨 중합 개시제에 더하여, 중합 속도의 촉진을 목적으로 하여 중합 개시제로서 아조 화합물을 이용할 수 있다.
아크릴 공중합체는, 겔분율을 적당히 조절하는 목적으로, 추가로, 가교제를 이용하여 가교할 수 있다. 가교제는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 이소시아네이트계 가교제, 아지리딘계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속 킬레이트형 가교제 등을 이용할 수 있다. 이들은, 단독으로, 또는, 복수를 조합하여 이용할 수 있다. 이들 가운데, 이소시아네이트계 가교제가 적당한 반응성을 가지고 있어, 생산성의 관점에서 바람직하다.
이소시아네이트계 가교제로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 톨루엔 디이소시아네이트(TDI), 메틸렌디페닐 디이소시아네이트(MDI), 나프탈렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 폴리머릭 폴리이소시아네이트(크루드 MDI) 등의 방향족 폴리이소시아네이트; 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 디시클로헥사메탄 디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트; 시클로헥산 1,4-디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트(IPDI), 수첨 크실렌 디이소시아네이트, 수첨 비스(이소시아네이트페닐) 메탄, 비시클로헵탄 트리이소시아네이트 등의 지환족 폴리이소시아네이트; 이소시아누레이트 화합물; 뷰렛형 화합물; 등, 및 이들의 변성체 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로, 또는, 복수를 조합하여 이용할 수 있다. 점착제를 보다 고경도로 하고, 추가로 뛰어난 내열성 및 내열습성을 부여하는 점에서, 이소시아누레이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 부풀음이나 벗겨짐이 생기기 어려운 점착제를 얻을 수 있다.
아크릴 공중합체의 중량 평균 분자량은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 30만~200만이며, 40만~150만이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 이러한 범위에 있으면, 점착제의 경도나 내열성, 내열습성이 양호하다. 이에 의해, 부풀음이나 벗겨짐이 생기기 어려운 점착제를 얻을 수 있다. 중량 평균 분자량의 측정 방법은, 공지의 측정 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면, JIS K7252-1: 2008 「플라스틱-사이즈 배제 크로마토그래피에 의한 고분자의 평균 분자량 및 분자량 분포의 구하는 방법」에 준거하는 방법에 의해 측정할 수 있다.
아크릴 공중합체의 유리 전이 온도(이하, Tg로 한다)는, -50℃~-10℃로 할 수 있고, -40℃~-15℃가 바람직하고, -35℃~-20℃이 보다 바람직하다. Tg가 이러한 범위에 있으면, 점착제를 보다 고경도로 할 수 있고, 또한, 표시장치의 최표면에의 점착성을 높게 할 수 있다. 이에 의해, 부풀음이나 벗겨짐이 생기기 어려운 점착제를 얻을 수 있다. Tg의 측정 방법은, 공지의 측정 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면, JIS K7121-1987 「플라스틱의 전이 온도 측정 방법」에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.
(아크릴 공중합체의 제조 방법)
에틸 아크릴레이트 및 2-에틸 헥실 아크릴레이트를 포함하는 모노머 조성물을 사용하는 경우를 예를 들어, 적합예인, 용액 중합법에 의한 아크릴 공중합체의 제작 방법에 대하여 설명한다. 원료가 되는 모노머, 톨루엔이나 아세트산 에틸 등의 유기 용매를 혼합하여, 모노머 용액을 조제한다. 모노머 용액이 밀폐된 용기에 넣고, 질소 퍼지 및 교반을 하면서, 소정의 온도(예를 들면, 40℃~90℃)로 가열한다. 소정의 모노머 용액에, 소정의 중합 개시제를 적하하고, 반응이 종료할 때까지, 가열, 교반을 계속하여, 아크릴 공중합체(용액)를 얻는다. 이 때, 용매의 종류, 가열 온도 등을 조정하는 것에 의해 중량 평균 분자량을 조정할 수 있다.
원료의 모노머 조성 중 에틸 아크릴레이트의 배합량으로서는, 모노머 용액 중의 전(全)모노머 성분을 100 질량%로 했을 경우에, 25 질량%~60 질량%로 할 수 있다.
원료의 모노머 조성 중 2-에틸 헥실 아크릴레이트의 배합량으로서는, 모노머 용액 중의 전모노머 성분을 100 질량%로 했을 경우에, 10 질량%~40 질량%로 할 수 있다.
원료의 모노머 조성 중 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸 헥실 아크릴레이트 이외의 모노머의 배합량으로서는, 모노머 용액 중의 전모노머 성분을 100 질량%로 했을 경우에, 40 질량%~90 질량%로 할 수 있다. 배합하는 모노머의 배합량은, 소망하는 경(硬) 아크릴 공중합체(또는, 점착제)의 유리 전이 온도나 경도 등에 의해서, 자유롭게 조정할 수 있다.
(자외선 흡수제(A))
본 실시 형태의 표시장치용 점착제에 포함되는 자외선 흡수제(A)는, 티오 아릴환기를 가지는 2-페닐벤조트리아졸 유도체(이하에서는, 간단하게 「2-페닐벤조트리아졸 유도체」라고 부른다)이며, 하기 식(1)로 나타낸다. 덧붙여, 2-페닐벤조트리아졸 유도체는, 상온(25℃)에서 분말상의 고체이다.
식(1)에 있어서, R1~R9는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 방향족기, 불포화기, 산소 원자 함유기, 인 원자 함유기 및 황 원자 함유기로부터 선택되는 적어도 1개에 해당하는 원자 또는 기이며, R1~R9의 적어도 1개는 티오 아릴환기이다.
할로겐 원자의 예로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.
탄화수소기는, 탄소 원자 및 수소 원자로부터 구성되는 기이다. 탄화수소기는, 지방족기이어도 방향족기이어도 되고, 탄소-탄소 이중 결합과 같은 불포화기를 가지고 있어도 된다. 탄화수소기인 방향족 기에 대하여는 후술하기 때문에, 여기에서는 지방족 기에 대하여 설명한다. 지방족기는, 비환식이어도 환식이어도 되고, 예를 들면 직쇄의 혹은 분기를 가지는 알킬기, 알케닐기 또는 알키닐기이며, 또한 예를 들면 수소 원자가 알킬기로 치환되어 있어도 되는 시클로알킬기 또는 시클로알케닐기이다. 시클로알킬기의 예에는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 및 시클로옥틸기가 포함된다. 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 1~20, 보다 바람직하게는 1~18, 더욱 바람직하게는 1~10, 특히 바람직하게는 4~9이다. 탄화수소기의 바람직한 예로는, 탄소수 1~20, 1~9, 추가로는 4~9또는 1~3인 직쇄의 또는 분기를 가지는 알킬기, 특히 탄소수 4~9의 분기를 가지는 알킬기와, 탄소수 3~10, 추가로는 3~8의 환식의 알킬기가 포함된다.
직쇄의 또는 분기를 가지는 알킬기는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 메틸기, 벤질기, α,α-디메틸 벤질기, 에탄-1-일기, 프로판-1-일기, 1-메틸 에탄-1-일기, 부탄-1-일기, 부탄-2-일기, 2-메틸 프로판-1-일기, 2-메틸 프로판-2-일기, 펜탄-1-일기, 펜탄-2-일기, 헥산-1-일기, 헵탄-1-일기, 옥탄-1-일기, 1,1,3,3-테트라메틸 부탄-1-일기, 노난-1-일기, 데칸-1-일기, 운데칸-1-일기, 도데칸-1-일기, 트리데칸-1-일기, 테트라데칸-1-일기, 펜타데칸-1-일기, 헥사데칸-1-일기, 헵타데칸-1-일기, 옥타데칸-1-일기이다. 직쇄 또는 분기의 알케닐기로서는, 예를 들면, 비닐기, 프로파-1-엔-1-일기, 알릴기, 이소프로페닐기, 부타-1-엔-1-일기, 부타-2-엔-1-일기, 부타-3-엔-1-일기, 2-메틸 프로파-2-엔-1-일기, 1-메틸 프로파-2-엔-1-일기, 펜타-1-엔-1-일기, 펜타-2-엔-1-일기, 펜타-3-엔-1-일기, 펜타-4-엔-1-일기, 3-메틸 부타-2-엔-1-일기, 3-메틸 부타-3-엔-1-일기, 헥사-1-엔-1-일기, 헥사-2-엔-1-일기, 헥사-3-엔-1-일기, 헥사-4-엔-1-일기, 헥사-5-엔-1-일기, 4-메틸펜타-3-엔-1-일기, 4-메틸펜타-3-엔-1-일기, 헵타-1-엔-1-일기, 헵타-6-엔-1-일기, 옥타-1-엔-1-일기, 옥타-7-엔-1-일기, 노나1-엔-1-일기, 노나-8-엔-1-일기, 데카-1-엔-1-일기, 데카-9-엔-1-일기, 운데카-1-엔-1-일기, 운데카-10-엔-1-일기, 도데카-1-엔-1-일기, 도데카-11-엔-1-일기, 트리데카-1-엔-1-일기, 트리데카-12-엔-1-일기, 테트라데카-1-엔-1-일기, 테트라데카-13-엔-1-일기, 펜타데카-1-엔-1-일기, 펜타데카-14-엔-1-일기, 헥사데카-1-엔-1-일기, 헥사데카-15-엔-1-일기, 헵타데카-1-엔-1-일기, 헵타데카-16-엔-1-일기, 옥타데카-1-엔-1-일기, 옥타데카-9-엔-1-일기, 옥타데카-17-엔-1-일기를 들 수 있다. 직쇄 또는 분기의 알키닐기로서는, 예를 들면, 에틴일, 프로파-1-인-1-일기, 프로파-2-인-1-일기, 부타-1-인-1-일기, 부타-3-인-1-일기, 1-메틸 프로파-2-인-1-일기, 펜타-1-인-1-일기, 펜타-4-인-1-일기, 헥사-1-인-1-일기, 헥사-5-인-1-일기, 헵타-1-인-1-일기, 헵타-6-인-1-일기, 옥타-1-인-1-일기, 옥타-7-인-1-일기, 노나-1-인-1-일기, 노나-8-인-1-일기, 데카-1-인-1-일기, 데카-9-인-1-일기, 운데카-1-인-1-일기, 운데카-10-인-1-일기, 도데카-1-인-1-일기, 도데카-11-인-1-일기, 트리데카-1-인-1-일기, 트리데카-12-인-1-일기, 테트라데카-1-인-1-일기, 테트라데카-13-인-1-일기, 펜타데카-1-인-1-일기, 펜타데카-14-인-1-일기, 헥사데카-1-인-1-일기, 헥사데카-15-인-1-일기, 헵타데카-1-인-1-일기, 헵타데카-16-인-1-일기, 옥타데카-1-인-1-일기, 옥타데카-17-인-1-일기를 들 수 있다.
바람직한 환식의 알킬기의 예로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기가 포함된다.
방향족기는, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 등의 방향환을 포함하는 단환 방향족기 또는 다환 방향족기이다. 당해 방향족기는, 헤테로 원자를 포함해도 되고, 치환기를 가져도 된다. 방향족기의 탄소수는, 바람직하게는 6~18, 보다 바람직하게는 6~14이다. 방향족기의 예로는, 페닐기, 2-메틸 페닐기, 3-메틸 페닐기, 4-메틸 페닐기, 2,4-디메틸 페닐기, 2,5-디메틸 페닐기, 3,4-디메틸 페닐기, 3,5-디메틸 페닐기, 2,4,5-트리메틸 페닐기, 2,4,6-트리메틸 페닐기, 4-비페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 1-안트라세닐기, 2-안트라세닐기, 9-안트라세닐기, 2-메톡시 페닐기, 3-메톡시 페닐기, 4-메톡시 페닐기, 2-에톡시 페닐기, 3-에톡시 페닐기, 4-에톡시 페닐기, 2-클로로 페닐기, 2-플루오로 페닐기 및 4-플루오로 페닐기가 포함된다.
불포화기는, 불포화 결합을 포함하는 기이다. 불포화 결합은, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합, 탄소-산소 이중 결합, 탄소-질소 이중 결합, 탄소-질소 삼중 결합 등의 탄소-탄소 불포화 결합 또는 탄소-헤테로 원자 불포화 결합이다. 탄소-산소 이중 결합은, 카르보닐기, 알데히드기, 카르복실기 등에 포함되는 것이어도 되고, 탄소-질소 이중 결합은 이소시아네이트기 등에 포함되는 것이어도 되고, 탄소-질소 삼중 결합은 시아노기, 시아네이트기 등에 포함되는 것이어도 된다. 불포화 기에 포함되는 탄소 원자와 헤테로 원자와의 합계수는, 바람직하게는 1~10, 보다 바람직하게는 1~8이다. 불포화기의 예로는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 말레인산 모노에스테르기, 스티릴기, 알릴기, 비닐기, 아미드기, 카르바모일기, 시아노기 및 이소시아네이트기가 포함된다.
산소 원자 함유기는, 산소 원자를 포함하는 기이다. 산소 원자 함유기는, 통상, 산소 원자와 함께, 탄소 원자 및/또는 수소 원자를 포함한다. 산소 원자 함유 기에 포함되는 탄소 원자수는, 방향환기 및/또는 지환식기를 포함하는 경우에는 6~20, 특히 6~12, 방향환기 및 지환식기를 포함하지 않는 경우에는 0~20, 추가로는 0~12, 특히 0~6이 바람직하다. 산소 원자 함유기의 예로는, 히드록시기, 알콕시기, 아세토옥시기, 아세틸기, 알데히드기, 카르복시기, 카르바모일기, 우레탄기, 아미드기, 이미드기, 우레아기, 에테르기, 카르보닐기, 에스테르기, 옥사졸기 및 모르폴린기가 포함된다. 알콕시기의 예로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 페녹시기, 메틸 페녹시기, 디메틸 페녹시기, 나프톡시기, 페닐 메톡시기 및 페닐 에톡시기가 포함된다. 바람직한 산소 원자 함유기의 예로는, 히드록시기, 탄소수 1~18의 알콕시기, 탄소수 1~18의 에테르기, 탄소수 1~18의 에스테르기, 탄소수 1~20의 폴리옥시 에틸렌기가 포함된다.
인 원자 함유기는, 인 원자를 포함하는 기이다. 인 원자 함유기는, 통상, 인 원자와 함께, 탄소 원자 및/또는 수소 원자를 포함한다. 인 원자 함유 기에 포함되는 탄소 원자수는, 방향환기 및/또는 지환식기를 포함하는 경우에는 6~20, 특히 6~12, 방향환기 및 지환식기를 포함하지 않는 경우에는 0~20, 추가로는 0~12, 특히 0~6이 바람직하다. 인 원자 함유기의 예로는, 포스핀기, 포스페이트기, 포스폰산기, 포스핀산기, 트리메틸 포스핀기, 트리부틸 포스핀기, 트리시클로헥실 포스핀기, 트리페닐 포스핀기, 트리톨일 포스핀기, 메틸포스페이트기, 에틸포스페이트기, 페닐포스페이트기, 포스폰산기, 포스핀산기, 인산기 및 인산 에스테르기가 포함된다.
황 원자 함유기는, 황 원자를 포함하는 기이다. 황 원자 함유기는, 통상, 황 원자와 함께, 탄소 원자 및/또는 수소 원자를 포함한다. 황 원자 함유 기에 포함되는 탄소 원자수는, 방향환기 및/또는 지환식기를 포함하는 경우에는 6~20, 추가로 6~12, 특히 6~10, 방향환기 및/또는 지환식기를 포함하지 않는 경우에는 0~20, 추가로 0~12, 특히 0~10, 특히 0~6이 바람직하고, 황 원자 함유기의 예로는, 티롤기, 설피드기, 디설피드기, 설포닐기, 설포기, 티오카르보닐기, 티오카르바모일기, 티오우레아기, 티오알콕시기, 티오카르복시기, 티오펜기 및 티아졸기가 포함된다.
티오 아릴환기는, 수소 원자의 치환기를 가지고 있어도 되고, 당해 치환기로서 탄소수 4~9의 알킬기를 들 수 있다. 당해 알킬기는, 직쇄 알킬기이어도 되고, 분기를 가지는 쇄상 알킬기이어도 된다. 티오 아릴환기에 포함되는 아릴환으로서는, 벤젠환 및/또는 나프탈렌환을 들 수 있다.
구체적으로는, 자외선 흡수제(A)로서, 이하의 화학식으로 나타내는 2-페닐벤조트리아졸 유도체 등을 들 수 있다.
이들 2-페닐벤조트리아졸 유도체 가운데, 장파장(405 nm)의 전자파 흡수 효과를 높이는데, 이하의 화학식으로 나타내는 2-페닐벤조트리아졸 유도체 등이 바람직하다.
자외선 흡수제(A)의 함유량의 하한치는, 아크릴 공중합체 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.5 질량부 이상이며, 보다 바람직하게는 1 질량부 이상이며, 더욱 바람직하게는 2 질량부 이상이다. 또한, 자외선 흡수제(A)의 함유량의 상한치는, 아크릴 공중합체 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 10 질량부 이하이며, 보다 바람직하게는 8 질량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 5 질량부 이하이다.
자외선 흡수제(A)의 함유량의 하한치를 상기의 값으로 하는 것에 의해, 자외선 흡수제(B)와의 혼합에 의해, 장파장(405 nm)의 전자파 흡수력을 충분한 것으로 할 수 있다. 또한, 자외선 흡수제(A)의 함유량의 상한치를 상기 값으로 하는 것에 의해, 자외선 흡수제(B)와의 혼합에 의한 자외선 흡수제(A)의 석출을 억제하면서, 장파장(405 nm)의 전자파 흡수력을 충분한 것으로 할 수 있다.
(자외선 흡수제(B))
본 실시 형태의 표시장치용 점착제에 포함되는 자외선 흡수제(B)는, 상온(25℃)에서 액체이며, 상술한 자외선 흡수제(A)(티오 아릴환기를 가지는 2-페닐벤조트리아졸 유도체)와는 다르다. 당해 자외선 흡수제(B)로서는, 벤조트리아졸 유도체, 및/또는, 트리아진 유도체가 바람직하다.
벤조트리아졸 유도체로서는 2-(5-메틸-2-히드록시페닐) 벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 옥틸-3[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일) 페닐]프로피오네이트와 2-에틸헥실-3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일) 페닐]프로피오네이트의 혼합물, 2-[2-히드록시-3,5-비스(α,α-디메틸 벤질) 페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-아밀-2-히드록시페닐) 벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐) 벤조트리아졸, 5%의 2-메톡시-1-메틸에틸 아세테이트와 95%의 벤젠 프로판산, 3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-(1,1-디메틸 에틸)-4-히드록시, C7-9 측쇄 및 직쇄 알킬 에스테르의 화합물, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐 에틸) 페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐 에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸 부틸) 페놀, 등을 들 수 있다.
구체적으로는, BASF사 제 「TINUVIN P」, 「TINUVIN PS」, 「TINUVIN 109」, 「TINUVIN 234」, 「TINUVIN 326」, 「TINUVIN 328」, 「TINUVIN 329」, 「TINUVIN 360」, 「TINUVIN 384-2」, 「TINUVIN 900」, 「TINUVIN 928」, 「TINUVIN 99-2」, 「TINUVIN 1130」, ADEKA사 제 「아데카 스타브 LA-29」, 오오츠카 카가쿠사 제 「RUNA-93」 등을 들 수 있다.
트리아진 유도체로서는, 2-[4,6-디(2,4-크시릴)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-옥틸옥시페놀, 2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-[3-(도데실옥시)-2-히드록시프로폭시]페놀, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진과 (2-에틸헥실-)글리시드산 에스테르의 반응 생성물, 2,4-비스 「2-히드록시-4-부톡시페닐」-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3-5-트리아진 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 케미프로 카세이사 제 「KEMISORB 102」, BASF사 제 「TINUVIN 400」, 「TINUVIN 405」, 「TINUVIN 460」, 「TINUVIN 477」, 「TINUVIN 479」, 「TINUVIN 1577」, ADEKA사 제 「아데카 스타브 LA-46」, 「아데카 스타브 LA-F70」, 썬 케미컬사 제 「CYASORBUV-1164」 등을 들 수 있다.
자외선 흡수제(B)로서 이용되는 벤조트리아졸 유도체 및 이들의 유도체 가운데, 장파장(405 nm)의 전자파 흡수 효과를 높이는데, Tinuvin 109, Tinuvin 477가 바람직하다. 본 실시 형태의 표시장치용 점착제는, 자외선 흡수제(A)와 자외선 흡수제(B)를 병용하는 것에 의해, 아크릴 공중합체에 대한 상용성을 높일 수 있다. 이 결과, 자외선 흡수제의 석출을 막아, 고온 환경 하, 혹은 고온 고습 환경 하에 있어서의 내구성 및 내광성을 높이면서, 장파장(405 nm)의 전자파 흡수력을 발휘할 수 있다.
자외선 흡수제(B)의 함유량의 하한치는, 자외선 흡수제(A)의 함유량에 대해서, 1배 이상이며, 2배 이상이 바람직하고, 3배 이상이 보다 바람직하고, 4배 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 자외선 흡수제(B)의 상한치는, 자외선 흡수제(A)의 함유량에 대해서, 10배 이하이며, 8배 이하가 바람직하고, 6배 이하가 보다 바람직하다. 자외선 흡수제(A)의 함유량에 대한 자외선 흡수제(B)의 함유량의 비를 상기 범위로 하는 것에 의해, 아크릴 공중합체에 대한 호환성을 보다 한층 높일 수 있다.
(가교제)
얻어진 아크릴 공중합체로부터 점착제를 제작할 때, 필요에 따라서, 가교제를 첨가하는 것이 점착제 형성을 위해 바람직하다. 가교제의 종류는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 것을 상법에 의해 사용할 수 있다.
가교제의 첨가량으로서는, 아크릴 공중합체를 100 질량부로 했을 경우에, 0.1 질량부~10 질량부가 바람직하고, 0.3 질량부~5 질량부가 보다 바람직하고, 0.5 질량부~3 질량부가 더욱 바람직하다.
추가로, 본 실시 형태의 표시장치용 점착제는, 그 외의 성분을 포함할 수 있다. 그 외의 성분으로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 커플링제, 레벨링제, 가교조제, 가소제, 연화제, 충전제, 대전 방지제, 노화 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 광 안정제, 계면활성제 등의, 점착제 조성물의 분야에 있어서 일반적인 각종의 첨가제를 함유해도 된다. 이러한 각종 첨가제에 대해서는, 종래 공지의 것을 상법에 의해 사용할 수 있고, 특별히 본 발명을 특징 지우는 것은 아니기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.
본 실시 형태의 표시장치용 점착제는, 이하의 조건으로 측정되는 405 nm 투과율이 1% 이하인 것이 바람직하다.
(1) 본 실시 형태의 표시장치용 점착제를 이용하여, 두께 100μm의 점착제층을 제작한다.
(2) 상기 점착제층에 대하여, 분광 광도계를 이용하여 405 nm의 투과율을 측정한다.
405 nm 투과율이 1% 이하인 것에 의해, 장파장(405 nm)의 전자파 흡수력을 보다 한층 충분한 것으로 할 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 표시장치용 점착제는, 이하의 조건으로 산출되는 헤이즈 상승치(△H)가 3% 이하인 것이 바람직하다.
(1) 본 실시 형태의 표시장치용 점착제를 이용하여, 두께 100μm의 점착제층을 제작한다.
(2) 본 실시 형태의 표시장치용 점착제의 한쪽의 주표면에 두께 100μm의 PET 필름을 적층하고, 상기 점착제층을 다른 쪽의 주표면에 두께 1.8 mm의 소다 유리를 적층하고, 상기 점착제층을 포함하는 적층체를 제작한다.
(3) 상기 적층체를 제작한 직후에 있어서의 상기 적층체의 헤이즈값(H0)를 측정한다.
(4) 85℃, 85% RH에서 1000시간 경과 후의 상기 적층체의 헤이즈값(H1)를 측정한다.
(5) 헤이즈 상승치(△H)를 이하의 식을 이용하여 산출한다.
△H = H1 - H0
당해 헤이즈 상승치(△H)가 3% 이하인 것에 의해, 고온 고습 하에 있어서의 내구성 및 내광성을 충분한 것으로 할 수 있다.
(표시장치용 점착제의 용도)
표시장치용 점착제는, 액정 디스플레이에서는 액정 셀의 표면 상의 편광판이나 위상차판, 유기 EL디스플레이에서는 유기 EL 패널 표면 상의 편광판 등의 적층에 이용할 수 있다.
또한, 표시장치의 표시 화면의 최표면에 이용되는 비산 방지 필름이나 반사 방지 필름의 점착제로서도 이용할 수 있다.
(점착 시트)
본 실시 형태의 점착 시트는, 기재와, 당해 기재의 적어도 한쪽의 주표면에 적층된 상술한 표시장치용 점착제를 포함한다. 보다 구체적으로는, 본 실시 형태의 점착 시트는, 기재의 한쪽의 주표면에 표시장치용 점착제를 적층한 한 면 점착 시트, 기재의 양 주표(兩主表)에 표시장치용 점착제를 적층한 양면 점착 시트 및 기재의 한쪽의 주표면에 표시장치용 점착제를 적층하고, 기재의 다른 쪽의 주표면에 주지의 점착제(예를 들어 아크릴계 점착제)를 적층한 양면 점착 시트를 포함한다. 덧붙여, 본 실시 형태의 점착 시트는, 스트립(短冊) 모양의 점착 테이프의 형태이어도 된다.
표시장치용 점착제를 점착 시트로 하는 경우에는, 표시장치용 점착제를 기재 상에 도공하여, 적층할 수 있다. 이 적층 시트를 가열하여 유기 용매를 증발시킴으로써, 점착 시트를 형성할 수 있다. 가교제를 첨가하는 경우에는, 도공 전에 아크릴 공중합체에 가교제를 혼합한 것을 도공하고, 가열하여 가교 반응을 완료하면 된다. 가열 조건은, 가교제의 종류와, 이용한 유기 용매의 종류 및 농도에 의해서 자유롭게 선택할 수 있다.
점착제를 시트상으로 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 콤마 코터, 블레이드 코터, 립 코터, 로드 코터, 스퀴즈 코터, 리버스 코터, 트랜스퍼 롤 코터, 그라비아 코터, 스프레이 코터, 스크린 인쇄법, 커텐 코트법, 스프레이 코트법, 롤 코트법 등을 들 수 있고, 적층하고 싶은 층의 표면에 직접 도공해도 되고, 박리 시트 등의 표면에 시트상으로 도공한 후, 적층하고 싶은 층의 표면에 전사하여 적층하는 방법을 들 수 있다.
기재로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 편광판, 하드 코드층을 포함하는 필름(비산 방지 필름), 반사 방지 필름 등을 이용할 수 있다.
기재의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 10μm~200μm로 할 수 있고, 25μm~100μm가 보다 바람직하다.
표시장치용 점착제의 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 1μm~250μm로 할 수 있고, 20μm~200μm가 바람직하고, 50μm~150μm가 보다 바람직하다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대하여 말했지만, 이들은 본 발명의 예시이며, 상기 이외의 여러가지 구성을 채용할 수도 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
<아크릴 공중합체 1의 제조>
온도계, 교반기, 환류 냉각관, 질소 도입관을 구비한 플라스크 중에, 2-에틸 헥실 아크릴레이트(2EHA)를 37 질량부, 에틸 아크릴레이트(EA)를 50 질량부, N,N-디메틸 아크릴 아미드(DMAA)를 10 질량부, 2-히드록시에틸 아크릴레이트(2 HEA) 3 질량부, 아조 비스이소부티로니트릴을 0.1 질량부, 아세트산 에틸을 100 질량부 투입하고, 질소 도입관으로부터 질소를 도입하여 플라스크 내를 질소 분위기로 한 후, 65℃로 가온하면서 8시간 중합 반응을 수행하여, 아크릴 공중합체 용액을 얻었다. 이 아크릴 공중합체 용액에, 고형분이 30%가 되도록 아세트산 에틸을 가하여, 유리 전이 온도 -33.2℃, 중량 평균 분자량(Mw) 95만의 아크릴 공중합체 1(용액)을 얻었다. 구체적인 배합을 표 1에 나타내다.
<아크릴 공중합체 2의 제조>
2-에틸 헥실 아크릴레이트(2EHA)를 22 질량부, 에틸 아크릴레이트(EA)를 65 질량부 투입한 것 외에는, 아크릴 공중합체 1의 제조와 같게 하여, 유리 전이 온도 -24.5℃, 중량 평균 분자량(Mw) 105만의 아크릴 공중합체 2(용액)를 얻었다. 구체적인 배합을 표 1에 나타내다.
(실시예 1)
100 질량부의 아크릴 공중합체 1에 대해서, 자외선 흡수제(A)로서,
상기 화학식으로 나타내는 2-페닐벤조트리아졸 유도체(25℃에서 분말상)를 3 질량부, 자외선 흡수제(B)로서, BASF사 제, Tinuvin 109(25℃에서 액체)를 15 질량부, 그리고, 토소사 제, 콜로네이트 HX를 2 질량부 배합하여, 도료 1을 제작했다. 이어서 당해 도료 1을, 건조 후의 막 두께가 100μm가 되도록, 박리 PET의 박리면측에 도공하고 나서, 80℃에서 5분 건조하여 조성물 1로 한 후, 당해 조성물 1을, 상온(약 25℃)에서 1주간 양생하여, 박리 PET 상에 점착제 1의 층을 가지는, 점착 시트 1을 얻었다.
(실시예 2~7, 비교예 1~4)
표 2에 기재된 배합량에 따른 외는, 실시예 1과 같게 하여, 박리 PET 상에 점착제 2~7의 층을 가지는, 실시예 2~7의 점착 시트 2~7과, 박리 PET 상에 점착제 a~e의 층을 가지는, 비교예 1~5의 점착 시트 a~e를 얻었다.
덧붙여, 표 2에 기재된 Tinuvin 477(25℃에서 액체)는, BASF사 제의 자외선 흡수제이다.
실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트에 대하여, 405 nm 투과율 측정, 초기 석출 평가, 내광성 시험 및 헤이즈 상승 측정의 평가를 수행하고, 표 3에 정리했다. 구체적인 평가방법을 이하에 나타내다.
(405 nm 투과율 측정)
실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트의 박리 PET를 벗긴 후, 각 점착제의 층에 대하여, 분광 광도계(시마즈 세이사쿠쇼사 제, UV-2550)를 이용하여 405 nm의 투과율을 측정했다.
(초기 석출 평가)
실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트의 각 점착제층에 대하여, 육안으로 자외선 흡수제의 석출 상태를 평가했다. 석출 상태의 평가는 이하의 기준에 따랐다.
○: 시험편 전체에 걸쳐, 석출을 확인할 수 없다.
Х: 시험편의 일부 또는 전체에서, 석출을 확인할 수 있다.
(내광성 시험)
실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트의 점착제층의 한쪽의 주표면(노출면)에, 100μm의 두께의 PET 필름(토요보사 제, A4360)을 적층하고, 당해 점착제층의 PET 필름과는 반대측의 면에 있는, 박리 PET를 벗긴 후, 그 노출면에, 두께 1.8 mm의 소다 유리를 적층하여, 점착제층을 포함하는 적층체를 제작했다.
이어서, 당해 적층체를, 내광성 시험기(스가시켄키사 제, 자외선 페이드 미터 U48, 광원: 카본 아크 램프) 내에 투입하고, PET 필름측으로부터 자외선(조도: 500W/m2, BP 온도 63℃±3℃)을 500시간 조사했다. 시험 종료 후에 육안으로 자외선 흡수제의 석출 상태를 평가했다. 석출 상태의 평가는 이하의 기준에 따랐다.
○: 시험편 전체에 걸쳐, 외관을 저해하는 정도의 석출을 확인할 수 없다.
Х: 시험편의 일부 또는 전체에서, 외관을 저해하는 정도의 석출을 확인할 수 있다.
(헤이즈 상승치 측정)
상기 내광성 시험과 같게, 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트로부터, 점착제층을 포함하는 적층체를 제작했다.
이어서, JIS K7136: 2000에 준하여, 헤이즈 미터(닛폰덴쇼쿠 코교사 제, 제품명 「NDH-7000」)를 이용하여, 제작 직후에 있어서의 당해 적층체의 헤이즈값(H0)(%)와, 85℃, 85% RH에서 1000시간 경과 후의 당해 적층체의 헤이즈값(H1)(%)를 측정하고, 헤이즈 상승치(△H)(%)를 이하의 식을 이용하여 산출했다.
△H = H1 - H0
이상으로부터, 본 실시예 1~7의 점착제 1~7과, 당해 점착제의 층에 의한 점착 시트 1~7은, 고온 고습 하에서의 내구성이 뛰어나기 때문에, 고온 고습에 의한 헤이즈 값 상승이 낮다. 또한, 내광성이 양호함과 동시에, 405 nm의 파장에 있어서의 전자파 흡수력이 뛰어난 것이 확인되었다. 또한, 초기에 있어서의 자외선 흡수제의 석출을 억제할 수 있었다. 이에 비하여, 비교예 1~5의 점착제 a~e와, 당해 점착제의 층에 의한 점착 시트 a~e는, 실시예와는 상이하게, 이들 모든 평가 항목을 만족시킬 수 없었다.
비교예 1은, 자외선 흡수제(B)를 이용하지 않기 때문에, 아크릴 공중합체에 대한 상용성이 저하하여, 초기 석출이 발생해 버린 것이라고 생각할 수 있다.
비교예 2 및 3은, 자외선 흡수제(A)를 이용하지 않기 때문에, 자외선 흡수제(B)의 초기 석출이 발생해 버린 것이라고 생각할 수 있다.
비교예 4는, 자외선 흡수제(A)의 함유량이 최적이지 않기 때문에, 405 nm의 파장에 있어서의 전자파 흡수력이 나빠져 버린 것이라고 생각할 수 있다.
비교예 5도, 자외선 흡수제(A)의 함유량이 최적이지 않기 때문에, 초기 석출이 발생해 버린 것이라고 생각할 수 있다.
이상, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상술한 형태로 한정되지 않는다. 즉, 특허 청구의 범위에 기재된 발명의 범위 내에서 당업자가 상도할 수 있는 다른 형태 또는 각종의 변경예에 대해서도 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것이라고 이해된다.

Claims (5)

  1. 아크릴 공중합체와,
    자외선 흡수제(A)와,
    자외선 흡수제(B)
    를 포함하고,
    상기 자외선 흡수제(A)는, 티오 아릴환기를 가지는 2-페닐벤조트리아졸 유도체이며,
    상기 자외선 흡수제(B)는, 상온에서 액체이며,
    상기 자외선 흡수제(B)의 함유량(질량부)이, 상기 자외선 흡수제(A)의 함유량(질량부)의 1~10배인, 표시장치용 점착제.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선 흡수제(B)가 벤조트리아졸 유도체인, 표시장치용 점착제.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    이하의 조건으로 측정되는 자외선 투과율이 1% 이하인, 표시장치용 점착제.
    (1) 청구항 1 또는 2의 표시장치용 점착제를 이용하여, 두께 100μm의 점착제층을 제작한다.
    (2) 상기 점착제층에 대하여, 분광 광도계를 이용하여 405 nm의 자외선 투과율을 측정한다.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    이하의 조건으로 산출되는 헤이즈 상승치(△H)가 3% 이하인, 표시장치용 점착제.
    (1) 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항의 표시장치용 점착제를 이용하여, 두께 100μm의 점착제층을 제작한다.
    (2) 상기 점착제층의 한쪽의 주표면에 두께 100μm의 PET 필름을 적층하고, 상기 점착제층의 다른 쪽의 주표면에 두께 1.8 mm의 소다 유리를 적층하여, 상기 점착제층을 포함하는 적층체를 제작한다.
    (3) 상기 적층체를 제작한 직후에 있어서의 상기 적층체의 헤이즈값(H0)(%)을 측정한다.
    (4) 85℃, 85% RH에서 1000시간 경과 후의 상기 적층체의 헤이즈값(H1)(%)을 측정한다.
    (5) 헤이즈 상승치(△H)(%)를 이하의 식을 이용하여 산출한다.
    △H = H1 - H0
  5. 기재와,
    상기 기재의 적어도 한쪽의 주표면에 적층된 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항의 표시장치용 점착제
    를 포함하는 점착 시트.
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