KR20230159711A - release film - Google Patents

release film Download PDF

Info

Publication number
KR20230159711A
KR20230159711A KR1020237036808A KR20237036808A KR20230159711A KR 20230159711 A KR20230159711 A KR 20230159711A KR 1020237036808 A KR1020237036808 A KR 1020237036808A KR 20237036808 A KR20237036808 A KR 20237036808A KR 20230159711 A KR20230159711 A KR 20230159711A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
release
release layer
film
mass
peeling force
Prior art date
Application number
KR1020237036808A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유지 오노
미츠하루 나카타니
Original Assignee
도요보 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도요보 가부시키가이샤 filed Critical 도요보 가부시키가이샤
Publication of KR20230159711A publication Critical patent/KR20230159711A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/40Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
    • C09J7/401Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners characterised by the release coating composition
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/63Additives non-macromolecular organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/40Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00Presence of (meth)acrylic polymer
    • C09J2433/005Presence of (meth)acrylic polymer in the release coating

Abstract

[과제] 가열 전후의 어느 쪽에 있어서도 가벼운 박리력을 갖고, 또한, 고속으로 박리한 경우라도 가벼운 박리력을 가질 수 있으며, 실리콘을 실질적으로 포함하지 않는 이형 필름을 제공한다.
[해결 수단] 기재(基材) 필름과 이형층을 포함하는 이형 필름으로서, 이형층은 아크릴 수지(A) 및 가교제(B), 이형제(C)를 적어도 포함하고, 아크릴 수지(A)는 특정의 화학식 (화학식 1)로 표시되는 A-1 성분 및 (화학식 2)로 표시되는 A-2 성분을 적어도 포함하며, 이형층은 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않고, 이형층이 기재 필름에 적층되어 있는 이형 필름이며, 이형층에 포함되는 아크릴 수지(A)의 질량(a)과 가교제(B)의 질량(b)의 비율 a/b가 식 (Ⅰ)을 만족시키는 이형 필름:
(Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0.
명세서에 있어서의 식 (1) 중, R1은 (CnH2n+1)(n=8 이상 20 이하의 정수), R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.
명세서에 있어서의 식 (2) 중, R2는 (CmH2mOH)(m=1 이상 10 이하의 정수) 또는 H, R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.
[Problem] To provide a release film that has light peeling force both before and after heating, can also have light peeling force even when peeled at high speed, and does not substantially contain silicone.
[Solution] A release film comprising a base film and a release layer, wherein the release layer includes at least an acrylic resin (A), a crosslinking agent (B), and a release agent (C), and the acrylic resin (A) is a specific It includes at least an A-1 component represented by the formula (Formula 1) and an A-2 component represented by the formula (Formula 2), the release layer does not substantially contain a silicone component, and the release layer is laminated on the base film. It is a release film in which the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin (A) contained in the release layer and the mass (b) of the crosslinking agent (B) satisfies the formula (Ⅰ):
(Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0.
In formula (1) in the specification, R 1 represents (C n H 2n+1 ) (n = an integer of 8 or more and 20 or less), and R 4 represents H or CH 3 .
In formula (2) in the specification, R 2 represents (C m H 2m OH) (m = an integer of 1 to 10) or H, and R 4 represents H or CH 3 .

Description

이형 필름release film

본 발명은 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to release films.

폴리에틸렌 필름 등의 기재(基材)에 이형층을 적층하여 구성되는 이형 필름은, 전지용 구성 부재, 점착제층 보호(OCA(Optical Clear Adhesive)용 보호, 점착 테이프용 보호 등), 의료 분야의 경피 흡수형 첩부(貼付)약용 세퍼레이터, 세라믹 콘덴서 등의 전자 부품의 제조 공정에 이용하는 공정지(工程紙), 화상 표시용 부재의 보호 등, 다방면에 걸친 용도로 사용되고 있다. 구체적인 일례를 들면, 점착 시트는 기재와 점착제층으로 구성되어 있고, 전자 부품 등의 제조 공정용 필름으로서 이용되고 있다. 점착 시트는 공정용 필름으로서 사용되기 전에는, 이형 필름에 첩부되어 있다. 이 이형 필름의 표면(점착제층과의 접촉면)에는, 이형성의 향상을 목적으로, 이형제층이 설치되어 있다. 이 이형제층의 구성 재료로는, 실리콘계 이형제, 불소계 이형제나 장쇄 알킬계 이형제를 들 수 있다.Release films, which are made by laminating a release layer on a base material such as a polyethylene film, are structural members for batteries, adhesive layer protection (protection for OCA (Optical Clear Adhesive), protection for adhesive tapes, etc.), and transdermal absorption in the medical field. It is used for a wide range of purposes, such as process paper used in the manufacturing process of electronic components such as mold and adhesive separators and ceramic capacitors, and protection of image display members. To give a specific example, an adhesive sheet is composed of a base material and an adhesive layer, and is used as a film for the manufacturing process of electronic components and the like. Before the adhesive sheet is used as a process film, it is affixed to a release film. A release agent layer is provided on the surface of this release film (contact surface with the adhesive layer) for the purpose of improving release properties. Constituent materials of this mold release agent layer include silicone-based mold release agents, fluorine-based mold release agents, and long-chain alkyl-type mold release agents.

실리콘계 이형제는 뛰어난 이형성을 갖는다. 그러나, 실리콘 성분이 피(被)이형체로 전사되기 쉬워, 실리콘에 의한 오염으로 전자기기가 오작동하는 등의 문제가 있어, 전자 부품에의 사용은 곤란하다. 불소계 이형제는, 뛰어난 이형성과 내열성을 갖는다. 그러나, 고가이며, 젖음성이 나쁘다는 문제가 있다. 장쇄 알킬계 이형제는, 젖음성이 실리콘계 이형제 및 불소계 이형제보다도 뛰어나다. 그러나, 반드시 충분한 이형성을 갖는 것은 아니다.Silicone-based mold release agents have excellent release properties. However, the silicon component is easily transferred to the release object, and there are problems such as malfunction of electronic devices due to contamination by silicon, making use in electronic components difficult. Fluorine-based mold release agents have excellent release properties and heat resistance. However, it has the problem of being expensive and having poor wettability. Long-chain alkyl-based mold release agents have superior wettability than silicone-based mold release agents and fluorine-based mold release agents. However, it does not necessarily have sufficient release properties.

특허문헌 1(일본국 특개2010-144046호 공보)에는, 접착 수지를 이형제에 도포할 때의 씨씽(cissing)을 방지하고, 또한 접착 수지 필름으로부터의 박리 성능을 양호하게 유지할 수 있는 이형제로서, (A) 알킬기 또는 아릴기 말단 모노 또는 폴리알킬렌 글리콜 (메타)아크릴레이트 단위와, (B) 알킬기의 탄소수가 1∼30인 알킬 (메타)아크릴레이트 단위를 함유하는 폴리(메타)아크릴레이트를 주제(主劑)로서 포함하는 이형제가 개시되어 있다.Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-144046) discloses a release agent that prevents cissing when applying an adhesive resin to a release agent and can maintain good peeling performance from the adhesive resin film, ( A) a poly(meth)acrylate containing an alkyl group or aryl group terminal mono or polyalkylene glycol (meth)acrylate unit, and (B) an alkyl (meth)acrylate unit having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. A release agent including (as the main agent) is disclosed.

특허문헌 2(일본국 특개2007-002092호 공보)에는, 실리콘 수지제 이형제보다 도 가벼운 박리성을 갖고, 이행성이 없는 이형제로서, 적어도 알킬 (메타)아크릴레이트와 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트가 공중합한 프리폴리머를, 이소시아네이트기 함유 화합물로 가교시킨 유효 성분이 포함되어 있는 이형제가 개시되어 있다.Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-002092) discloses at least alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate as release agents that have lighter peelability than silicone resin release agents and do not transfer. A release agent containing an active ingredient obtained by crosslinking a tentatively copolymerized prepolymer with an isocyanate group-containing compound is disclosed.

특허문헌 3(일본국 특개2014-151481호 공보)에는, 가공 시의 열에 의한 이형성의 악화가 적은 이형 폴리에스테르 필름으로서, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 이형제 및 활성 메틸렌 블록 이소시아네이트 화합물을 함유하는 도포액으로 형성된 도포층을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다.Patent Document 3 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-151481) discloses a release polyester film with little deterioration of release property due to heat during processing, which contains a release agent and an activated methylene block isocyanate compound applied to at least one side of the polyester film. A laminated polyester film characterized by having an application layer formed from a liquid is disclosed.

일본국 특개2010-144046호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2010-144046 일본국 특개2007-002092호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2007-002092 일본국 특개2014-151481호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2014-151481

그러나, 특허문헌 1의 기술에서는, 박리력이 커서, 박리력이 보다 가벼운 이형제가 요구되고 있다.However, in the technology of Patent Document 1, the peeling force is large, and a release agent with a lighter peeling force is required.

또, 특허문헌 2의 기술에서는, 이형제의 젖음성이 불충분하다는 문제가 있다. 특허문헌 3의 기술에서는, 가열 후 박리력이 무거워, 가열에 의한 박리력의 증가의 억제가 불충분하다는 문제가 있다.Additionally, in the technology of Patent Document 2, there is a problem that the wettability of the mold release agent is insufficient. In the technology of Patent Document 3, there is a problem in that the peeling force after heating is heavy and suppression of an increase in the peeling force by heating is insufficient.

또, 전자 부품 등의 제조 공정에 있어서는, 이형 필름에 열이나 압력이 가해지는 경우가 있고, 그 경우, 장쇄 알킬계 이형제는, 가열 후에 박리력이 증가하는 경향이 있다. 또한, 요구되는 제품의 제조 공정에 있어서, 보다 생산성을 높이기 위해, 고속으로 박리하는 것이 요구되고 있다. 그러나, 고속으로의 박리, 특히 가열 후에 고속으로 박리하는 경우, 박리력이 증가하는 경향이 있다. 게다가, 박리할 수 있었다고 해도 이형층에서 응집 파괴가 발생하여, 이형층 성분이 피이형체로 전사되어 버릴 우려가 있다.Additionally, in the manufacturing process of electronic components and the like, heat or pressure may be applied to the release film, and in that case, the long-chain alkyl-based release agent tends to have an increased peeling force after heating. Additionally, in the manufacturing process of required products, high-speed peeling is required to increase productivity. However, when peeling at high speed, especially when peeling at high speed after heating, the peeling force tends to increase. Furthermore, even if peeling is possible, there is a risk that cohesive failure may occur in the release layer and the release layer components may be transferred to the release object.

이와 같이, 장쇄 알킬계 이형제는, 이형제로서의 성능을 충분히 발휘할 수 없다는 문제가 있어, 그 개선이 요구되고 있다.In this way, long-chain alkyl-based mold release agents have a problem in that they cannot sufficiently exhibit performance as mold release agents, and their improvement is required.

본 발명은, 상기 과제를 해결하는 것이며, 예를 들면, 가열 전후의 어느 쪽에 있어서도 가벼운 박리력을 갖고, 또한, 고속으로 박리한 경우라도 가벼운 박리력을 가질 수 있으며, 실리콘을 실질적으로 포함하지 않는 이형 필름을 제공한다.The present invention solves the above problems and, for example, has a light peeling force both before and after heating, can also have a light peeling force even when peeled at high speed, and has a material that does not substantially contain silicon. A release film is provided.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 하기 구성을 갖는 이형 필름에 의해 상기 목적을 달성 할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성시켰다.As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by a release film having the following structure, and have completed the present invention.

즉, 본 발명은 이하의 구성으로 이루어진다.That is, the present invention consists of the following configuration.

[1] 기재 필름과 이형층을 이 순서로 갖는 이형 필름으로서,[1] A release film having a base film and a release layer in this order,

상기 이형층은 아크릴 수지(A) 및 가교제(B), 이형제(C)를 적어도 포함하고,The release layer includes at least an acrylic resin (A), a crosslinking agent (B), and a release agent (C),

상기 아크릴 수지(A)는 하기 화학식 (1)로 표시되는 A-1 성분 및 (2)로 표시되는 A-2 성분을 적어도 포함하며,The acrylic resin (A) contains at least an A-1 component represented by the following formula (1) and an A-2 component represented by (2),

상기 이형층은 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않고, 이형층이 기재 필름에 적층되어 있는 이형 필름이며,The release layer does not substantially contain a silicone component and is a release film in which the release layer is laminated on a base film,

상기 이형층에 포함되는 아크릴 수지(A)의 질량(a)과 가교제(B)의 질량(b)의 비율 a/b가 식 (Ⅰ)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 이형 필름A release film characterized in that the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin (A) contained in the release layer and the mass (b) of the crosslinking agent (B) satisfies the formula (Ⅰ)

(Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0 (Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0

식 (1) 중, R1은 (CnH2n+1)(n=8 이상 20 이하의 정수), R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (1), R 1 represents (C n H 2n+1 ) (n = an integer from 8 to 20), and R 4 represents H or CH 3 .

식 (2) 중, R2는 (CmH2mOH)(m=1 이상 10 이하의 정수) 또는 H, R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (2), R 2 represents (C m H 2m OH) (m = integer from 1 to 10) or H, and R 4 represents H or CH 3 .

[2] 일 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름에 있어서의 이형층은, 추가로 이형제(C)를 포함하고, 상기 이형층에 포함되는 가교제의 질량(b)과 이형제의 질량(c)의 비율 c/b가 식 (Ⅱ)를 만족시킨다.[2] In one aspect, the release layer in the release film of the present invention further contains a release agent (C), and the mass (b) of the crosslinking agent contained in the release layer and the mass (c) of the release agent are The ratio c/b satisfies equation (II).

(Ⅱ) 0.1≤c/b≤12.0(Ⅱ) 0.1≤c/b≤12.0

[3] 일 양태에 있어서, 상기 이형층에 있어서의 아크릴 수지(A)의 A-1 성분과 A-2 성분의 질량의 합계를 100 질량부라고 했을 때 A-1의 질량이 50 질량부를 넘는다.[3] In one embodiment, when the total mass of the A-1 component and the A-2 component of the acrylic resin (A) in the release layer is 100 parts by mass, the mass of A-1 exceeds 50 parts by mass. .

[4] 일 양태에 있어서, 상기 이형제(C)는, 아크릴기를 포함하지 않고, 또한, 실리콘을 포함하지 않는 장쇄 알킬기 및 반응성 관능기를 적어도 포함한다.[4] In one aspect, the release agent (C) does not contain an acrylic group and also contains at least a long-chain alkyl group and a reactive functional group that does not contain silicone.

[5] 일 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름은, 박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 상태(常態) 박리력(PF1)이 500mN/50mm 이하이다.[5] In one aspect, the release film of the present invention has a normal peel force (PF1) of 500 mN/50 mm or less at a peel speed of 0.3 m/min.

[6] 일 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름은, 박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 가열 후(70℃, 20h) 박리력(PF2)이, 상기 상태 박리력(PF1)의 2배 이하이다.[6] In one aspect, the release film of the present invention has a peeling force (PF2) after heating (70°C, 20h) at a peeling speed of 0.3 m/min that is twice the above-mentioned peeling force (PF1). It is as follows.

[7] 일 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름은, 박리 속도 30m/min.에 있어서의 가열 후(70℃, 20h) 박리력(PF3)이, 상기 상태 박리력(PF1)의 30배 이하이다.[7] In one aspect, the release film of the present invention has a peel force (PF3) after heating (70°C, 20 h) at a peel speed of 30 m/min that is 30 times or less than the above-mentioned as-state peel force (PF1). am.

[8] 본 발명의 다른 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름의 적어도 한쪽의 면 상에, 점착층을 적층한 적층 필름이 제공된다.[8] In another aspect of the present invention, a laminated film is provided in which an adhesive layer is laminated on at least one side of the release film of the present invention.

본 발명에 의하면, 가열 전후의 어느 쪽에 있어서도 가벼운 박리성을 갖고, 또한 고속으로 박리해도 가벼운 이형성을 유지하는 이형층 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a release layer film that has light peelability both before and after heating and maintains light release property even when peeled at high speed.

발명자들은 예의 검토한 결과, 본 발명은, 기재 필름과 이형층을 포함하는 이형 필름으로서,As a result of intensive study, the inventors have found that the present invention is a release film comprising a base film and a release layer,

상기 이형층은 아크릴 수지(A) 및 가교제(B), 이형제(C)를 적어도 포함하고, The release layer includes at least an acrylic resin (A), a crosslinking agent (B), and a release agent (C),

상기 아크릴 수지(A)는 하기 화학식 (1)로 표시되는 A-1 성분 및 (2)로 표시되는 A-2 성분을 적어도 포함하며,The acrylic resin (A) contains at least an A-1 component represented by the following formula (1) and an A-2 component represented by (2),

상기 이형층은 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않고, 이형층이 기재 필름에 적층되어 있는 이형 필름이며,The release layer does not substantially contain a silicone component and is a release film in which the release layer is laminated on a base film,

상기 이형층에 포함되는 아크릴 수지(A)의 질량(a)과 가교제(B)의 질량(b)의 비율 a/b가 식 (Ⅰ)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 이형 필름에 관한 것이다.It relates to a release film wherein the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin (A) and the mass (b) of the crosslinking agent (B) contained in the release layer satisfies the formula (I).

(Ⅰ) 0.1 ≤a/b≤8.0 (Ⅰ) 0.1 ≤a/b≤8.0

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (1) 중, R1은 (CnH2n+1)(n=8 이상 20 이하의 정수), R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (1), R 1 represents (C n H 2n+1) (n=8 to 20 integer), and R 4 represents H or CH 3 .

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (2) 중, R2는 (CmH2mOH)(m=1 이상 10 이하의 정수) 또는 H, R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (2), R 2 represents (C m H 2m OH) (m = integer from 1 to 10) or H, and R 4 represents H or CH 3 .

(기재 필름)(Base film)

본 발명에 있어서의 이형 필름은, 기재와, 상기 기재의 표면에 배치된 이형층을 구비한다. 상기 이형 필름의 이형층 상에 피이형체를 배치하면, 피이형체를 기재와 마찬가지의 형상으로 성형할 수 있다. 또, 이형층과 피이형체는 용이하게 박리되기 때문에, 피이형체의 형상을 원하는 형상으로 변형, 유지할 수도 있다. 이형층은, 기재의 표면의 일면에 배치되어 있어도 되고, 양면에 배치되어 있어도 된다.The release film in the present invention includes a base material and a release layer disposed on the surface of the base material. When the mold release object is placed on the release layer of the release film, the mold release object can be molded into the same shape as the base material. Additionally, since the release layer and the mold release body are easily separated, the shape of the mold release body can be transformed and maintained into a desired shape. The release layer may be disposed on one side of the surface of the substrate, or may be disposed on both sides.

기재로는, 공지의 기재를 이용할 수 있다. 예를 들면, 기재로서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 폴리이미드 등에 의해 형성된 수지 필름을 이용할 수 있다. 특히 코스트나 생산성의 관점에서 폴리에스테르 필름이 바람직하고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이 더욱 바람직하다.As the base material, a known base material can be used. For example, as a base material, a resin film formed of polyester such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefin such as polypropylene, polyimide, etc. can be used. In particular, from the viewpoint of cost and productivity, polyester film is preferable, and polyethylene terephthalate film is more preferable.

기재의 두께는, 10㎛ 이상 188㎛ 이하가 바람직하고, 25㎛ 이상 100㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 기재의 두께가 10㎛ 이상인 것에 의해, 기재 생산 시, 가공 공정, 성형 시에, 열에 의한 변형을 억제할 수 있다. 한편, 기재의 두께가 188㎛ 이하이면, 기재에 요구되는 물성을 만족시키면서도, 사용 후에 폐기하는 기재의 양을 억제할 수 있어, 환경 부하에 대한 부담을 줄일 수 있다.The thickness of the base material is preferably 10 μm or more and 188 μm or less, and more preferably 25 μm or more and 100 μm or less. By having a thickness of the base material of 10 μm or more, deformation due to heat can be suppressed during base material production, processing, and molding. On the other hand, if the thickness of the substrate is 188 μm or less, the physical properties required for the substrate can be satisfied while the amount of substrate discarded after use can be suppressed, thereby reducing the burden on the environment.

기재와 이형층의 사이에는, 접착성을 향상시키기 위한 이접착(易接着) 코트가 배치되어 있어도 된다. 또, 기재의 이형층을 배치하는 면과 반대의 면에는, 이활성(易滑性)이나 내열성, 대전 방지성 등을 부여하기 위한 코트가 배치되어 있어도 된다.An easily adhesive coat may be disposed between the base material and the release layer to improve adhesiveness. Additionally, a coat for imparting release activity, heat resistance, antistatic properties, etc. may be disposed on the surface opposite to the surface of the substrate on which the release layer is disposed.

본 발명에 이용하는 기재 필름의 이형층을 적층하는 면의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 1∼50nm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2∼30nm이다. 본 발명에 이용하는 기재 필름의 이형층을 적층하는 면의 최대 돌기 높이(P)는, 2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5㎛ 이하이다. Sa가 50nm 이하이고, P가 2㎛ 이하이면, 이형층의 두께 불균일의 억제 및 이형층 표면의 평활성을 일정하게 유지할 수 있고, 더 나아가서는, 피이형체의 두께 불균일을 저감할 수 있어, 피이형체를 이형 필름으로부터 박리했을 때에 두께가 얇은 부분을 기점으로 찢어질 가능성을 억제할 수 있다.The area average surface roughness (Sa) of the surface on which the release layer of the base film used in the present invention is laminated is preferably in the range of 1 to 50 nm, more preferably 2 to 30 nm. The maximum protrusion height (P) of the surface on which the release layer of the base film used in the present invention is laminated is preferably 2 μm or less, and more preferably 1.5 μm or less. When Sa is 50 nm or less and P is 2 ㎛ or less, the thickness unevenness of the release layer can be suppressed and the smoothness of the surface of the mold release layer can be kept constant, and further, the thickness unevenness of the mold release body can be reduced, When peeled from the release film, the possibility of tearing starting from the thin part can be suppressed.

본 발명에 이용하는 기재 필름의 이형층을 적층하는 면과는 반대의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 10∼100nm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2∼30nm이다. 본 발명에 이용하는 기재 필름의 이형층을 적층하는 면과는 반대의 최대 돌기 높이(P)는, 2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5㎛ 이하이다. Sa가 10nm 이상이면, 이형면과 반(反)이형면의 미끄러짐성이 향상되고, 권취성이 뛰어나다. 또, P가 2㎛ 이하이면 권취(卷取)했을 때에, 이형층 표면에 대미지를 주는 일이 없어, 이형층이 일부 벗겨질 가능성이 저감된다. 또한, 피이형체를 이형 필름으로부터 박리했을 때에 이형층이 벗겨진 부분을 기점으로 찢어질 가능성을 억제할 수 있다.The surface average roughness (Sa) of the area opposite to the surface on which the release layer of the base film used in the present invention is laminated is preferably in the range of 10 to 100 nm, more preferably 2 to 30 nm. The maximum protrusion height (P) opposite to the surface on which the release layer of the base film used in the present invention is laminated is preferably 2 μm or less, and more preferably 1.5 μm or less. When Sa is 10 nm or more, the slipperiness of the release surface and anti-release surface improves, and the winding property is excellent. Moreover, if P is 2 micrometers or less, when winding up, no damage will be done to the surface of the release layer, and the possibility that a part of the release layer will peel off will be reduced. Additionally, when the release object is peeled from the release film, the possibility of tearing starting from the part where the release layer was peeled off can be suppressed.

본 발명에 이용하는 기재 필름의 헤이즈는 10% 이하인 것이 바람직하고, 5% 이하인 것이 더욱 바람직하며, 3% 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 헤이즈가 10% 이하이면, 이형 필름이나 이형 필름 상에 점착층 등을 가공했을 때에 외관 검사가 용이하다.The haze of the base film used in the present invention is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and even more preferably 3% or less. If the haze is 10% or less, external appearance inspection is easy when a release film or an adhesive layer, etc. are processed on the release film.

본 발명에 있어서의 기재 필름은, 폴리에스테르 필름 스크랩, 페트병의 재생 원료를 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 이와 같은 필름 스크랩, 페트병의 재생 원료를 사용할 수 있기 때문에, 환경 부하를 크게 저감할 수 있다. 게다가, 필름 스크랩, 페트병의 재생 원료를 포함하는 양태에 있어서도, 필름의 미끄러짐성의 향상, 공기의 제거 용이성을 유지할 수 있다. 본 발명의 이형층은, 다양한 용도에 있어서 사용된 폴리에스테르 필름을, 적절히 회수, 처리하여, 재이용할 수 있다.The base film in the present invention can use recycled raw materials from polyester film scraps and PET bottles. In the present invention, since recycled raw materials such as film scraps and PET bottles can be used, the environmental load can be greatly reduced. Moreover, even in an embodiment containing recycled raw materials from film scraps and PET bottles, improvement in the slipperiness of the film and ease of removal of air can be maintained. The release layer of the present invention can appropriately recover, process, and reuse polyester films used in various applications.

이와 같은 재생 원료(재료)를 포함하는 경우, 기재 필름의 이형층을 적층하는 면의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 1∼50nm의 범위 내가 되는 사이즈의 미립자를 포함하고 있어도 되며, 또, 기재 필름의 이형층을 적층하는 면의 최대 돌기 높이(P)가 2㎛ 이하가 되는 사이즈의 미립자를 포함해도 된다.When containing such recycled raw materials (materials), the surface average roughness (Sa) of the surface on which the release layer of the base film is laminated may contain fine particles of a size within the range of 1 to 50 nm, and the base film may also contain fine particles. It may contain fine particles of a size such that the maximum protrusion height (P) of the surface on which the release layer is laminated is 2 μm or less.

예를 들면, 본 발명의 기재는, 상기 미립자의 사이즈는 (0.001㎛ 이상 10㎛)의 범위여도 좋다. 이와 같은 범위의 크기를 갖는 미립자이면, 서술한 기재 필름의 이형층을 적층하는 면의 영역 표면 평균 거칠기(Sa), 최대 돌기 높이(P)를 만족시킬 수 있다.For example, in the base material of the present invention, the size of the fine particles may be in the range of (0.001 μm or more to 10 μm). If the fine particles have a size within this range, the area average surface roughness (Sa) and maximum protrusion height (P) of the surface on which the release layer of the base film is laminated can be satisfied.

일 양태에 있어서, 기재는, 실질적으로 무기 입자를 포함하지 않는 표면층을 갖고, 이 표면층 위에 이형층이 적층되어도 된다.In one aspect, the substrate may have a surface layer substantially free of inorganic particles, and a release layer may be laminated on this surface layer.

(이형층)(Heterogeneous layer)

본 발명에 있어서의 이형층은, 아크릴 수지(A) 및 가교제(B), 이형제(C)를 적어도 포함하고, 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않는 이형층이다. 예를 들면, 아크릴 수지(A) 및 가교제(B), 이형제(C)를 포함하는 이형층 형성 조성물을 경화시킴으로써, 이형층을 형성할 수 있다.The release layer in the present invention is a release layer that contains at least an acrylic resin (A), a crosslinking agent (B), and a release agent (C), and does not substantially contain a silicone component. For example, a release layer can be formed by curing a release layer forming composition containing an acrylic resin (A), a crosslinking agent (B), and a release agent (C).

(아크릴 수지)(acrylic resin)

본 발명의 이형층에는 아크릴 수지(A)가 포함된다.The release layer of the present invention contains acrylic resin (A).

또, 본 발명의 이형층에 포함되는 아크릴 수지(A)는, 장쇄 알킬기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이론적으로 해석할 수 있는 것은 아니지만, 실험을 거듭한 결과, 아크릴 수지(A)가 장쇄 알킬기를 가짐으로써, 후술의 이형제를 이형층 표면에 효율 좋게 배향시킬 수 있다고 생각된다. 특히, 본 발명에 관한 아크릴 수지(A)는, 예를 들면, 점착제를 형성하는 점착제 조성물에 대해, 양호한 젖음성을 나타낼 수 있다. 또한, 본 발명에 관한 아크릴 수지(A)는, 이형층 위에 형성된 점착제 등의 피이형체에 대해, 가열 전후의 어느 쪽에 있어서도 가벼운 박리성을 갖고, 또한 고속으로 박리해도 가벼운 이형성을 유지하는 이형층 필름을 제공할 수 있다.Moreover, it is preferable that the acrylic resin (A) contained in the release layer of this invention has a long-chain alkyl group. Although it cannot be analyzed theoretically, as a result of repeated experiments, it is thought that the acrylic resin (A) has a long-chain alkyl group, so that the release agent described later can be efficiently oriented on the surface of the release layer. In particular, the acrylic resin (A) according to the present invention can exhibit good wettability for, for example, an adhesive composition that forms an adhesive. In addition, the acrylic resin (A) according to the present invention has light peelability against a release material such as an adhesive formed on the release layer both before and after heating, and also maintains light release property even when peeled at high speed. can be provided.

이와 같이, 아크릴 수지(A)는, 이형층에 있어서의 바인더로서의 기능에 더하여, 이형성에도 기여할 수 있다. 예를 들면, 아크릴 수지(A)의 분자량은, 500을 넘는 것이 바람직하다.In this way, the acrylic resin (A) can contribute to release properties in addition to its function as a binder in the release layer. For example, the molecular weight of the acrylic resin (A) is preferably over 500.

본 발명의 아크릴 수지는, 또한, 메타크릴 수지, 예를 들면, 메타크릴산 메틸(메틸 메타크릴레이트=MMA)의 폴리머, 또는 아크릴산 에스테르(아크릴레이트)와의 코폴리머를 포함해도 된다.The acrylic resin of the present invention may further include a methacrylic resin, for example, a polymer of methyl methacrylate (methyl methacrylate = MMA), or a copolymer with acrylic acid ester (acrylate).

또한, 본 발명에 있어서, 가열 전(前)이란, 온도 22℃, 습도 60%의 조건을 의미하고, 가열 후란, 온도 70℃의 조건에서 20시간 가열한 후의 상태를 의미한다. 또, 본 발명에 있어서, 가열 후란, 가열 직후뿐만 아니라, 주변 온도 이하(예를 들면, 40℃ 이하)로 냉각한 상태여도 된다.In addition, in the present invention, before heating means conditions of a temperature of 22°C and 60% humidity, and after heating means a state after heating for 20 hours under conditions of a temperature of 70°C. In addition, in the present invention, after heating may be not only immediately after heating, but may also be in a state of cooling to ambient temperature or lower (for example, 40°C or lower).

또, 본 발명에 관한 이형층은, 아크릴 수지(A)를 포함하고, 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않는다. 이 때문에, 실리콘 성분이 피이형체로 전사되는 것을 억제할 수 있으므로, 예를 들면, 피이형체가 실리콘에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있고, 예를 들면, 피이형체에 기인하는 전자기기의 오작동을 회피할 수 있다. 본 명세서에 있어서 「실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않는다」란, 이형층을 형성하는 성분 중에, 의도적으로 실리콘 성분을 첨가하지 않는 것을 의미한다. 예를 들면, 이형층의 제조 공정 등에 있어서, 예기치 않게 존재할 수 있는 실리콘 조성 등이 극히 조금 포함될 가능성은 있다. 이와 같은 실태를 고려하여, 이형층에 포함되는 실리콘 성분의 양은, 이형층 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 미만인 것이 바람직하다.Moreover, the release layer according to the present invention contains an acrylic resin (A) and does not substantially contain a silicone component. For this reason, it is possible to suppress the transfer of the silicone component to the release body, so for example, it is possible to prevent the release body from being contaminated by silicone, and for example, malfunction of electronic devices due to the release body can be avoided. can do. In this specification, “substantially does not contain a silicone component” means that a silicone component is not intentionally added among the components that form the release layer. For example, in the manufacturing process of the release layer, etc., there is a possibility that very little silicone composition, etc. that may be unexpectedly present may be included. In consideration of such actual conditions, it is preferable that the amount of the silicone component contained in the release layer is less than 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the release layer.

아크릴 수지(A)는, 예를 들면, 장쇄 알킬 아크릴레이트를 공중합한 아크릴 폴리머여도 되고, 장쇄 알킬을 그래프트한 그래프트 폴리머, 장쇄 알킬을 말단에 부가시킨 블록 폴리머 등이어도 된다.The acrylic resin (A) may be, for example, an acrylic polymer copolymerized with a long-chain alkyl acrylate, a graft polymer grafted with a long-chain alkyl, a block polymer with a long-chain alkyl added to the terminal, etc.

아크릴 수지(A)로서, 하기 식 (1)로 표시되는 A-1 성분과, 하기 식 (2)로 표시되는 A-2 성분을 적어도 포함하는 폴리머가 가교되어 형성되는 것이 바람직하다.The acrylic resin (A) is preferably formed by crosslinking a polymer containing at least the A-1 component represented by the following formula (1) and the A-2 component represented by the following formula (2).

Figure pct00005
Figure pct00005

식 (1) 중, R1은 (CnH2n+1)(n=8 이상 20 이하의 정수), R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (1), R 1 represents (C n H 2n+1 ) (n = an integer from 8 to 20), and R 4 represents H or CH 3 .

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (2) 중, R2는 (CmH2mOH)(m=1 이상 10 이하의 정수) 또는 H, R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (2), R 2 represents (C m H 2m OH) (m = integer from 1 to 10) or H, and R 4 represents H or CH 3 .

상기 이형층에 있어서의 아크릴 수지(A)의 A-1 성분과 A-2 성분의 질량의 합계를 100 질량부라고 했을 때 A-1의 질량이 50 질량부를 넘는 것이 바람직하다. A-1의 질량이 50 질량부를 넘는 것에 의해 이형층의 박리성이 가벼워지는 경향이 있으므로 바람직하다. A-1의 질량은 70 질량부를 넘는 것이 바람직하고, 80 질량부를 넘는 것이 더욱 바람직하며, 90 질량부를 넘는 것이 가장 바람직하다.When the total mass of the A-1 component and the A-2 component of the acrylic resin (A) in the release layer is 100 parts by mass, it is preferable that the mass of A-1 exceeds 50 parts by mass. It is preferable that the mass of A-1 exceeds 50 parts by mass because the peelability of the mold release layer tends to become lighter. The mass of A-1 is preferably over 70 parts by mass, more preferably over 80 parts by mass, and most preferably over 90 parts by mass.

예를 들면, A-1의 질량은 99 질량부 이하이며, 96 질량부 이하여도 좋고, 92 질량부 이하여도 좋다. 일 양태에 있어서, A-1의 질량은, 85 질량부 이하여도 좋다.For example, the mass of A-1 may be 99 parts by mass or less, may be 96 parts by mass or less, and may be 92 parts by mass or less. In one aspect, the mass of A-1 may be 85 parts by mass or less.

A-1 성분의 양이 상기 범위 내인 것에 의해, 가열 전후에 있어서도, 이형층의 제(諸) 물성을 유지할 수 있다.When the amount of component A-1 is within the above range, the physical properties of the release layer can be maintained even before and after heating.

이 때문에, 본 발명에 관한 이형층이 갖는 효과, 예를 들면, 가열 전후의 어느 쪽에 있어서도 가벼운 박리성을 갖고, 게다가 고속으로 박리해도 가벼운 이형성을 유지할 수 있는 특징을, 보다 효율적으로 발휘할 수 있다.For this reason, the effect of the release layer according to the present invention, for example, the feature of having light peelability both before and after heating and maintaining light release property even when peeled at high speed, can be exhibited more efficiently.

또, 본 발명에 있어서는, A-1 성분의 양이 상기 범위 내인 것에 의해, 본 발명의 이형 필름을 가열 후, 예를 들면, 수일에서 수개월의 범위에서 저장한 경우에 있어서도, 가열 전의 아크릴 수지(A)가 갖는 물성을 크게 저하시키는 일 없이, 이형 필름을 저장할 수 있다.In addition, in the present invention, since the amount of component A-1 is within the above range, even when the release film of the present invention is stored for, for example, several days to several months after heating, the acrylic resin before heating ( The release film can be stored without significantly deteriorating the physical properties of A).

A-1 성분을 나타내는 식 (1) 중, R1은 탄소수 n이 8 이상 20 이하인 알킬기이다. 탄소수 n이 8 이상인 것에 의해, A-1 성분이 양호한 이형성을 나타낼 수 있어, 탄소수가 적은 알킬기에 기인할 수 있는, 이형층이 점착성을 나타내는 것을 억제할 수 있다. 한편, 탄소수 n이 20 이하이면, A-1 성분의 유연성을 유지할 수 있어, 이형층의 피막 표면의 젖음성을 충분히 확보할 수 있게 된다. 탄소수 n은 10 이상 18 이하가 바람직하고, 12 이상 16 이하가 더욱 바람직하다. 또, R1은 직쇄상 및 분기상 중 어느 쪽이어 된다. R1이 직쇄상이면, 이형층의 박리성이 가벼워지는 경향이 있으므로 바람직하다.In formula (1) representing the A-1 component, R 1 is an alkyl group having n of 8 to 20 carbon atoms. When the carbon number n is 8 or more, the A-1 component can exhibit good release properties and can suppress the adhesiveness of the release layer, which may be caused by an alkyl group with a small number of carbon atoms. On the other hand, if the carbon number n is 20 or less, the flexibility of component A-1 can be maintained, and the wettability of the film surface of the release layer can be sufficiently secured. Carbon number n is preferably 10 to 18, and more preferably 12 to 16. Additionally, R 1 may be either linear or branched. If R 1 is linear, it is preferable because the peelability of the release layer tends to become lighter.

A-1 성분을 나타내는 식 (1) 중, R4는 H 또는 CH3이며, 어느 쪽도 적합하다. A-1 성분의 원료로는, 하기 식 (7)로 표시되는 모노머를 이용할 수 있다.In formula (1) representing the A-1 component, R 4 is H or CH 3 , either of which is suitable. As a raw material for component A-1, a monomer represented by the following formula (7) can be used.

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (7) 중, R1은 (CnH2n+1)(n=8 이상 20 이하의 정수), R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (7), R 1 represents (C n H 2n+1 ) (n = an integer of 8 or more and 20 or less), and R 4 represents H or CH 3 .

A-1 성분의 원료로서, 구체적으로는, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트 등을 이용할 수 있다.As a raw material for component A-1, specifically, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, etc. can be used.

A-2 성분을 나타내는 식 (2)의 R2 중, 탄소수 m은 1 이상 10 이하이다. 탄소수 m이 10 이하이면, 본 발명의 이형층의 가교 밀도가 성기게 되는 것을 회피할 수 있어, 이형층 자체의 응집력이 약해지는 것을 억제할 수 있고, 또한, 박리력이 무거워지는 것을 억제할 수 있다. 탄소수 m은, 2 이상 8 이하가 바람직하고, 2 이상 4 이하가 더욱 바람직하다.In R 2 of formula (2) representing the A-2 component, the number of carbon atoms m is 1 or more and 10 or less. If the carbon number m is 10 or less, it is possible to avoid the crosslinking density of the release layer of the present invention from becoming coarse, the cohesive force of the release layer itself can be suppressed from weakening, and the peeling force from becoming heavy can be suppressed. there is. The number of carbon atoms m is preferably 2 to 8, and more preferably 2 to 4.

A-2 성분을 나타내는 식 (2) 중, R4는 H 또는 CH3이며, 어느 쪽도 적합하다. A-2 성분의 원료로는, 하기 식 (8)로 표시되는 모노머를 이용할 수 있다.In formula (2) representing the A-2 component, R 4 is H or CH 3 , and either is suitable. As a raw material for component A-2, a monomer represented by the following formula (8) can be used.

Figure pct00008
Figure pct00008

식 (8) 중, R2는 (CmH2mOH)(m=1 이상 10 이하의 정수) 또는 H, R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.In formula (8), R 2 represents (C m H 2m OH) (m = integer from 1 to 10) or H, and R 4 represents H or CH 3 .

A-2 성분의 원료로서, 구체적으로는, 히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 히드록시부틸 (메타)아크릴레이트 등을 이용할 수 있다.As raw materials for component A-2, specifically, hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, etc. can be used.

(가교제)(Cross-linking agent)

본 발명의 이형층의 형성에 이용하는 가교제(B)로는, 폴리이소시아네이트, 멜라민, 에폭시, 알루미늄 킬레이트, 티탄 킬레이트, 자외선 경화형 수지, 또는 이들의 2종류 이상의 혼합물을 이용할 수 있다. 그중에서도, 멜라민을 이용함으로써 경화막이 강직하고, 내약품성, 내후성(耐候性)이 뛰어나므로 바람직하다. 알루미늄 킬레이트, 티탄 킬레이트로의 가교는, 용도에 따라서는 금속 성분의 함유를 꺼리는 경우가 있다.As the crosslinking agent (B) used in forming the release layer of the present invention, polyisocyanate, melamine, epoxy, aluminum chelate, titanium chelate, ultraviolet curable resin, or a mixture of two or more types thereof can be used. Among them, the use of melamine is preferable because the cured film is rigid and has excellent chemical resistance and weather resistance. Crosslinking with aluminum chelate or titanium chelate may not contain metal components depending on the application.

본 발명에 있어서, 이형층에 포함되는 아크릴 수지의 질량(a)과 가교제의 질량(b)의 비율 a/b가 식 (Ⅰ)을 만족시킨다.In the present invention, the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin contained in the release layer and the mass (b) of the crosslinking agent satisfies the formula (I).

(Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0 (Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0

일 양태에 있어서, 아크릴 수지의 질량(a)과 가교제의 질량(b)의 비율 a/b는, 0.2 이상 5.0 이하이며, 예를 들면, 0.2 이상 4.0 이하이고, 0.2 이상 2.5 이하여도 좋다. 아크릴 수지의 질량(a)과 가교제의 질량(b)의 비율 a/b가 상기 범위 내가 됨으로써, 아크릴 수지(A), 필요에 따라 추가로 첨가되는 아크릴 수지(A)가 가교제에 의해 가교되어, 이형층의 탄성률이 향상되기 때문에, 더욱 박리력을 가볍게 할 수 있다. 또, 가열 후에도 가교제에 의해 이형층 표면에 배향된 아크릴 수지(A)의 이형 성분이 고정되어 있기 때문에, 가열 후 박리력의 상승이 억제된다. 아크릴 수지의 질량(a)과 가교제의 질량(b)의 비율 a/b의 비율이 0.1 이하이면, 이형층 표면에 존재하는 아크릴 수지(A)의 이형 성분이 적어지기 때문에, 예를 들면, 피이형체에 점착제를 이용하는 양태에서는, 박리력이 무거워질 가능성이 있다.In one aspect, the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin and the mass (b) of the crosslinking agent is 0.2 or more and 5.0 or less, for example, 0.2 or more and 4.0 or less, and may be 0.2 or more and 2.5 or less. When the ratio a/b of the mass of the acrylic resin (a) and the mass of the crosslinking agent (b) is within the above range, the acrylic resin (A) and the acrylic resin (A) additionally added as needed are crosslinked by the crosslinking agent, Since the elastic modulus of the release layer is improved, the peeling force can be further lightened. Moreover, since the release component of the acrylic resin (A) oriented on the surface of the release layer is fixed by the crosslinking agent even after heating, the increase in peeling force after heating is suppressed. If the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin and the mass (b) of the crosslinking agent is 0.1 or less, the release component of the acrylic resin (A) present on the surface of the release layer decreases, for example, In an embodiment where an adhesive is used for the mold, the peeling force may become heavy.

또, 아크릴 수지의 질량(a)과 가교제의 질량(b)의 비율 a/b가 8.0 이상이면 가교제가 적어지기 때문에, 아크릴 수지(A)가 충분히 가교되어 있지 않아, 이형층 강도가 충분해지지 않을 우려가 있어, 박리력이 증가할 가능성이 있다. 또, 본 문제는, 고속으로 박리했을 때에 보다 현저해지는 경향이 있다.Moreover, if the ratio a/b of the mass of the acrylic resin (a) and the mass of the crosslinking agent (b) is 8.0 or more, the crosslinking agent will be less, so the acrylic resin (A) will not be sufficiently crosslinked, and the release layer strength will not be sufficient. There is concern that the peeling force may increase. Additionally, this problem tends to become more noticeable when peeling occurs at high speed.

본 발명에 있어서의 이형층에 이용하는 멜라민계 화합물로는, 일반적인 것을 사용할 수 있고 특별히 한정되지 않지만, 멜라민과 포름알데히드를 축합하여 얻어지며, 1 분자 중에 트리아진환, 및 메틸올기 및/또는 알콕시메틸기를 각각 하나 이상 갖고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 멜라민과 포름알데히드를 축합하여 얻어지는 메틸올 멜라민 유도체에, 저급 알코올로서 메틸 알코올, 에틸 알코올, 이소프로필 알코올, 부틸 알코올 등을 탈수 축합 반응시켜 에테르화한 화합물 등이 바람직하다. 메틸올화 멜라민 유도체로는, 예를 들면 모노메틸올 멜라민, 디메틸올 멜라민, 트리메틸올 멜라민, 테트라메틸올 멜라민, 펜타메틸올 멜라민, 헥사메틸올 멜라민을 들 수 있다. 1종류를 이용해도 2종류 이상도 이용해도 관계없다.The melamine-based compound used in the release layer in the present invention can be any general compound and is not particularly limited, but is obtained by condensing melamine and formaldehyde, and contains a triazine ring, a methylol group, and/or an alkoxymethyl group in one molecule. It is desirable to have at least one of each. Specifically, a methylol melamine derivative obtained by condensing melamine and formaldehyde is preferably etherified by dehydration condensation reaction of methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, etc. as lower alcohols. Examples of methylolated melamine derivatives include monomethylol melamine, dimethylol melamine, trimethylol melamine, tetramethylol melamine, pentamethylol melamine, and hexamethylol melamine. It does not matter whether you use one type or two or more types.

본 발명에 있어서 사용하는 멜라민은 시판되고 있는 것을 이용할 수도 있다. 예를 들면, 사이멜 300, 사이멜 301, 사이멜 303LF, 사이멜 350, 사이멜 370N, 사이멜 771, 사이멜 325, 사이멜 327, 사이멜 703, 사이멜 712, 사이멜 701, 사이멜 266, 사이멜 267, 사이멜 285, 사이멜 232, 사이멜 235, 사이멜 236, 사이멜 238, 사이멜 272, 사이멜 212, 사이멜 253, 사이멜 254, 사이멜 202, 사이멜 207(올넥스 재팬(주) 제조), 니카락 MW-30M, 니카락 MW-30, 니카락 MW-30HM, 니카락 MW-390, 니카락 MW-100LM, 니카락 MA-1-750LM, 니카락 MW-22, 니카락 MS-21, 니카락 MS-11, 니카락 MW-24A-1, 니카락 MS-001, 니카락 MA-1-002, 니카락 MA-1-730, 니카락 MA-1-750, 니카락 MA-1-708, 니카락 MA-1-706, 니카락 MA-1-042, 니카락 MA-1-035, 니카락 MA-1-45, 니카락 MA-1-43, 니카락 MA-1-417, 니카락 MA-1-410(닛폰 카바이드(주) 제조) 등을 들 수 있다. 이들 중에서는, 풀 에테르형의 메틸화 멜라민 수지가 저온·단시간에서의 경화성, 및 폴리에스테르 필름에의 밀착성의 점에서 바람직하다. 시판품으로는 사이멜 303LF, 니카락 MW-30 등을 들 수 있다.The melamine used in the present invention can also be commercially available. For example, Cymel 300, Cymel 301, Cymel 303LF, Cymel 350, Cymel 370N, Cymel 771, Cymel 325, Cymel 327, Cymel 703, Cymel 712, Cymel 701, Cymel 266, Cymel 267, Cymel 285, Cymel 232, Cymel 235, Cymel 236, Cymel 238, Cymel 272, Cymel 212, Cymel 253, Cymel 254, Cymel 202, Cymel 207( (manufactured by Allnex Japan Co., Ltd.), Nikalak MW-30M, Nikalak MW-30, Nikalak MW-30HM, Nikalak MW-390, Nikalak MW-100LM, Nikalok MA-1-750LM, Nikalok MW -22, Nikalak MS-21, Nikalak MS-11, Nikalak MW-24A-1, Nikalak MS-001, Nikalak MA-1-002, Nikalak MA-1-730, Nikalak MA-1 -750, Nikalac MA-1-708, Nikalac MA-1-706, Nikalac MA-1-042, Nikalac MA-1-035, Nikalac MA-1-45, Nikalac MA-1-43 , Nikalak MA-1-417, Nikalak MA-1-410 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.), etc. Among these, full ether type methylated melamine resin is preferable in terms of curability at low temperature and short time and adhesion to the polyester film. Commercially available products include Cymel 303LF and Nikalak MW-30.

본 발명에 있어서의 이형층에는, 멜라민계 화합물의 가교 반응을 촉진하기 위해 산 촉매를 첨가하는 것이 바람직하고, 이형층 형성용 조성물에 산 촉매를 첨가하고 도포하여, 경화시키는 것이 바람직하다. 이용하는 산 촉매로는, 특별히 한정되지 않고 기존의 산 촉매를 사용할 수 있지만, 술폰산계 촉매를 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable to add an acid catalyst to the release layer in the present invention in order to promote the crosslinking reaction of the melamine-based compound, and it is preferable to add an acid catalyst to the composition for forming a release layer, apply it, and cure it. The acid catalyst used is not particularly limited and existing acid catalysts can be used, but it is preferable to use a sulfonic acid-based catalyst.

술폰산계 촉매로는, 예를 들면, p-톨루엔술폰산, 크실렌술폰산, 쿠멘술폰산, 도데실벤젠술폰산, 디노닐나프탈렌술폰산, 트리플루오로메탄술폰산 등을 적합하게 사용할 수 있지만, 반응성의 관점에서 p-톨루엔술폰산을 특히 적합하게 사용할 수 있다.As the sulfonic acid-based catalyst, for example, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, cumenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, etc. can be suitably used. However, from the viewpoint of reactivity, p- Toluenesulfonic acid can be used particularly suitably.

술폰산계 촉매는, 카르복시산계 등의 다른 산 촉매와 비교하여 산성도가 높아 반응성이 뛰어나기 때문에, 보다 저온에서 이형층을 가공할 수 있다. 그 때문에, 가공 시의 열에 의한 필름의 평면성의 저하, 감김 외관의 악화를 억제할 수 있으므로 바람직하다.Sulfonic acid-based catalysts have high acidity and excellent reactivity compared to other acid catalysts such as carboxylic acid-based catalysts, so the release layer can be processed at a lower temperature. Therefore, it is preferable because it can suppress the deterioration of the flatness of the film and the deterioration of the rolled appearance due to heat during processing.

본 발명에 있어서 사용하는 술폰산계 촉매는 시판되고 있는 것을 이용할 수도 있다. 시판품의 예로는, 드라이어(등록상표) 900(p-톨루엔술폰산, 히타치 가세이사 제조), NACURE(등록상표) DNNDSA 시리즈(디노닐나프탈렌 디술폰산, 쿠스모토 가세이사 제조), 동 DNNSA 시리즈(디노닐나프탈렌 (모노)술폰산, 쿠스모토 가세이사 제조), 동 DDBSA 시리즈(도데실벤젠술폰산, 쿠스모토 가세이(주) 제조), 동 p-TSA 시리즈(p-톨루엔술폰산, 쿠스모토 가세이(주) 제조) 등을 들 수 있다.The sulfonic acid-based catalyst used in the present invention may be a commercially available catalyst. Examples of commercial products include Dryer (registered trademark) 900 (p-toluenesulfonic acid, manufactured by Hitachi Chemical Industries, Ltd.), NACURE (registered trademark) DNNDSA series (dinonylnaphthalene disulfonic acid, manufactured by Kusumoto Chemical Industries, Ltd.), and DNNSA series (Dinonyl). Naphthalene (mono)sulfonic acid, manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.), DDBSA series (dodecylbenzenesulfonic acid, manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.), p-TSA series (p-toluenesulfonic acid, manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.) etc. can be mentioned.

(이형제)(Lee Hyeong-je)

일 양태에 있어서, 이형층은, 추가로 이형제(C)를 포함한다. 이형제(C)는, 반응성의 관능기를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 이론적으로 해석할 수 있는 것은 아니지만, 실험을 거듭한 결과, 첨가한 이형제(C)가 이형층 표면 부근에 존재하는 아크릴 수지(A)와 가교해, 이형층 표면 부근에 장쇄 알킬 성분이, 아크릴 수지(A)만의 경우와 비교하여, 조밀하게 존재함으로써 박리력을 작게 하는 것이 가능하다고 생각하고 있다. 또, 가열 후에도 이형제(C)가 가교되어 있음으로써 이형층 표면에 머물게 할 수 있기 때문에, 가열 후에도 박리력의 상승을 억제할 수 있다고 생각하고 있다.In one aspect, the release layer further contains a release agent (C). The mold release agent (C) preferably contains a reactive functional group. Although it cannot be interpreted theoretically, repeated experiments have shown that the added release agent (C) crosslinks with the acrylic resin (A) present near the surface of the release layer, and the long-chain alkyl component near the surface of the release layer forms a bond with the acrylic resin. Compared to the case of (A) alone, it is thought that it is possible to reduce the peeling force by being dense. In addition, since the release agent (C) is crosslinked even after heating, it can remain on the surface of the release layer, so it is thought that an increase in peeling force can be suppressed even after heating.

본 발명에서 이용하는 이형제는, 아크릴기를 포함하지 않고, 또한, 실리콘을 포함하지 않는 장쇄 알킬기 및 반응성 관능기를 포함한 화합물이 바람직하고, 저분자량 폴리올레핀 왁스, 장쇄 알킬계 첨가제, 고급 알코올 등이 바람직하다. 이들의 구조는, 직쇄상 또는 분쇄상(分鎖狀)이어도 관계없다. 이들 중, 2종류 이상의 재료를 혼합하여 이용할 수도 있다.The mold release agent used in the present invention is preferably a compound containing a long-chain alkyl group and a reactive functional group that does not contain an acrylic group and does not contain silicone, and a low-molecular-weight polyolefin wax, a long-chain alkyl-based additive, a higher alcohol, etc. are preferable. These structures may be linear or crushed. Among these, two or more types of materials may be mixed and used.

본 발명에서 이용하는 이형제는 저분자량인 것이 바람직하고, 분자량은 100 이상 500 이하인 것이 바람직하다. 이형제의 분자량을 상기 범위 내로 함으로써, 이형층 표면으로 배향하기 쉽게 할 수 있어, 박리력을 작게 하는 것이 가능하다. 한편, 분자량이 100 이상이면, 이형제의 이형성을 발휘할 수 있어, 점착성을 나타낼 우려를 억제할 수 있다. 또, 분자량이 500 이하이면, 이형제의 용해성이 저하되는 것을 억제할 수 있고, 이형 필름 표면의 평면성의 저하를 억제할 수 있어, 얻어지는 피이형체의 외관이 손상될 우려를 저감할 수 있다.The mold release agent used in the present invention preferably has a low molecular weight, and the molecular weight is preferably 100 to 500. By keeping the molecular weight of the release agent within the above range, it can be easily oriented on the surface of the release layer, making it possible to reduce the peeling force. On the other hand, if the molecular weight is 100 or more, the release property of the mold release agent can be exhibited, and the risk of exhibiting stickiness can be suppressed. In addition, if the molecular weight is 500 or less, the solubility of the release agent can be suppressed from decreasing, the flatness of the surface of the release film can be suppressed, and the risk of the appearance of the obtained mold release being damaged can be reduced.

(저분자량 폴리올레핀 왁스)(Low molecular weight polyolefin wax)

저분자량 폴리올레핀 왁스로는, 예를 들면, 폴리에틸렌 왁스, 폴리프로필렌 왁스 등의 저분자량의 것을 사용할 수 있다.As the low molecular weight polyolefin wax, for example, low molecular weight ones such as polyethylene wax and polypropylene wax can be used.

(장쇄 알킬계 첨가제)(Long-chain alkyl additive)

장쇄 알킬계 첨가제로는, 아크릴 수지(A) 이외의 것을 첨가할 수 있다. 예를 들면, 피로일 1010이나 피로일 1010S(이상, 모두 잇포샤 유시 고교사 제조) 등의 알킬쇄를 갖는 저분자량 첨가물 등을 적시(適時) 사용할 수 있다. 상기의 이형용 첨가제는 소정의 이형성을 발현할 수 있는 첨가량을 적시 첨가한다.As the long-chain alkyl-based additive, one other than the acrylic resin (A) can be added. For example, low molecular weight additives having an alkyl chain, such as Pyroyl 1010 or Pyroyl 1010S (both manufactured by Ipposha Yushi Kogyo Co., Ltd.), can be used as appropriate. The above-mentioned mold release additive is added in a timely manner in an amount capable of producing a predetermined mold release property.

(고급 알코올)(higher alcohol)

고급 알코올로는, 직쇄상의 고급 알코올로서, 옥탄올, 노난올, 데칸올, 운데칸올, 도데칸올, 트리데칸올, 테트라데칸올, 펜타데칸올, 세탄올, 헵타데칸올, 스테아릴 알코올, 에이코산올, 도코산올 등을 들 수 있다.Higher alcohols include linear higher alcohols such as octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, cetanol, heptadecanol, stearyl alcohol, Eicosanol, docosanol, etc. can be mentioned.

고급 알코올의 탄소수는 8 이상 24 이하인 것이 바람직하다. 탄소수가 8 이상인 것에 의해, 이형층이 양호한 이형성을 나타낸다. 탄소수가 24 이하이면 용매에 대한 용해성이 양호하기 때문에, 도막의 외관을 손상시킬 가능성이 낮으므로 바람직하다.The carbon number of the higher alcohol is preferably 8 to 24. When the number of carbon atoms is 8 or more, the release layer exhibits good release properties. A carbon number of 24 or less is preferable because it has good solubility in solvents and is unlikely to damage the appearance of the coating film.

일 양태에 있어서, 이형층에 포함되는 가교제의 질량(b)과 이형제의 질량(c)의 비율 c/b가 식 (Ⅱ)를 만족시킨다.In one aspect, the ratio c/b of the mass (b) of the crosslinking agent contained in the release layer and the mass (c) of the release agent satisfies the formula (II).

(Ⅱ) 0.1≤c/b≤12.0(Ⅱ) 0.1≤c/b≤12.0

예를 들면, 본 발명에 있어서의 이형제의 첨가량으로는, 가교제의 질량(b)과 이형제의 질량(c)의 비율 c/b가 7.0 이하인 것이 바람직하고, 예를 들면, 5.0 이하이다. 또, 비율 c/b는, 0.15 이상이어도 좋다.For example, the amount of the release agent added in the present invention is preferably such that the ratio c/b of the mass (b) of the crosslinking agent and the mass (c) of the release agent is 7.0 or less, for example, 5.0 or less. Additionally, the ratio c/b may be 0.15 or more.

본 범위로 이형제/가교제의 비율(c/b)을 조정함으로써, 이형제 성분이 이형층 표면으로 편석(偏析)하는 것에 의해 상태 박리력을 가볍게 할 수 있다. 또한, 가열 후에도 이형층 표면에 배향된 이형제 성분이 가교제에 의해 고정되어 있기 때문에, 가열 후 박리력 및 가열 후 고속 박리력의 상승이 억제된다.By adjusting the ratio (c/b) of the release agent/crosslinking agent to this range, the release agent component segregates to the surface of the release layer, thereby lightening the peeling force. In addition, since the release agent component oriented on the surface of the release layer is fixed by the crosslinking agent even after heating, the increase in peeling force after heating and high-speed peeling force after heating is suppressed.

한편, 이형제/가교제의 비율이 12.0 이상이면 가교제가 적기 때문에, 가열했을 때에, 이형 성분을 이형층 표층에 머물게 할 수 없게 될 가능성이 있어, 가열 후 박리력이 무거워질 우려가 있다.On the other hand, if the ratio of release agent/crosslinking agent is 12.0 or more, since there is little crosslinking agent, there is a possibility that the release component may not be able to remain on the surface layer of the release layer when heated, and the peeling force after heating may become heavy.

특정 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 이형제(C)는, 본 발명에 관한 아크릴 수지(A)와 병용함으로써, 이형제(C)가 이형층의 표면으로부터 벗겨지지 않을 정도로 유지할 수 있어, 충분한 막 강도와 이형성을 구비할 수 있다.Although the interpretation should not be limited to a specific theory, by using the release agent (C) in combination with the acrylic resin (A) according to the present invention, it is possible to maintain sufficient film strength so that the release agent (C) does not peel off from the surface of the release layer. It can have release properties.

일 양태에 있어서, 이형층에 포함되는 아크릴 수지의 질량(a)과 이형제의 질량(c)의 비율 a/c가 식 (Ⅲ)을 만족시킨다.In one aspect, the ratio a/c of the mass (a) of the acrylic resin contained in the release layer and the mass (c) of the release agent satisfies the formula (III).

(Ⅲ) 0.1≤a/c≤7.0 (Ⅲ) 0.1≤a/c≤7.0

예를 들면, 본 발명에 있어서의 이형제의 첨가량으로는, 아크릴 수지의 질량(a)과 이형제의 질량(c)의 비율 a/c가 5.0 이하인 것이 바람직하고, 3.0 이하인 것이 보다 바람직하며, 2.0 이하인 것이 가장 바람직하다. 또, 비율 a/c는, 0.3 이상인 것이 바람직하고, 0.5 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.7 이상인 것이 가장 바람직하다.For example, as the amount of the release agent added in the present invention, the ratio a/c of the mass (a) of the acrylic resin and the mass (c) of the release agent is preferably 5.0 or less, more preferably 3.0 or less, and 2.0 or less. It is most desirable. Moreover, the ratio a/c is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and most preferably 0.7 or more.

본 범위로 아크릴 수지/이형제(a/c)를 조정함으로써, 이형제 성분이 이형층 표면으로 편석하는 것에 의해 상태 박리력을 가볍게 할 수 있다. 또한, 가열 후에도 이형층 표면에 배향된 이형제 성분이 가교제에 의해 고정되어 있기 때문에, 가열 후 박리력 및 가열 후 고속 박리력의 상승이 억제된다.By adjusting the acrylic resin/mold release agent (a/c) to this range, the release agent component segregates to the surface of the release layer, thereby lightening the peeling force. In addition, since the release agent component oriented on the surface of the release layer is fixed by the crosslinking agent even after heating, the increase in peeling force after heating and high-speed peeling force after heating is suppressed.

아크릴 수지/이형제(a/c)의 비율이 0.1 이하이면 이형제가 너무 많기 때문에, 이형층 표면에 이형제가 과잉으로 편석하여, 충분한 경도의 막이 얻어지지 않기 때문에 바람직하지 않다.If the ratio of acrylic resin/mold release agent (a/c) is 0.1 or less, it is not preferable because there is too much release agent, excessive segregation of the release agent occurs on the surface of the release layer, and a film of sufficient hardness cannot be obtained.

특정 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 이형제(C)는, 본 발명에 관한 아크릴 수지(A)와 병용함으로써, 이형제(C)가 이형층의 표면으로부터 벗겨지지 않을 정도로 유지할 수 있어, 충분한 막 강도와 이형성을 구비할 수 있다.Although the interpretation should not be limited to a specific theory, by using the release agent (C) in combination with the acrylic resin (A) according to the present invention, it is possible to maintain sufficient film strength so that the release agent (C) does not peel off from the surface of the release layer. It can be provided with release properties.

본 발명의 이형층에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위이면, 밀착 향상제나, 대전 방지제 등의 첨가제 등을 첨가해도 된다. 또, 기재와의 밀착성을 향상시키기 위해, 이형 도포층을 설치하기 전에 폴리에스테르 필름 표면에, 앵커 코트, 코로나 처리, 플라스마 처리, 대기압 플라스마 처리 등의 전처리를 하는 것도 바람직하다.Additives such as adhesion improvers and antistatic agents may be added to the release layer of the present invention as long as they do not impair the effects of the present invention. Additionally, in order to improve adhesion to the substrate, it is also desirable to pre-treat the surface of the polyester film, such as anchor coat, corona treatment, plasma treatment, or atmospheric pressure plasma treatment, before installing the release coating layer.

이형층의 두께는, 0.01㎛ 이상 10㎛ 이하가 바람직하고, 0.05㎛ 이상 1㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 이형층의 두께가 0.01㎛ 미만인 경우, 이형층을 균일하게 성형하는 것이 곤란하여, 박리력이 불안정해질 우려가 있다. 한편, 이형층의 두께가 10㎛를 넘으면, 재생 원료의 사용 비율이 낮아져, 경제적이지 않기 때문에 바람직하지 않다.The thickness of the release layer is preferably 0.01 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.05 μm or more and 1 μm or less. When the thickness of the release layer is less than 0.01 μm, it is difficult to uniformly mold the release layer, and there is a risk that the peeling force may become unstable. On the other hand, if the thickness of the release layer exceeds 10 μm, it is not preferable because the use ratio of recycled raw materials is lowered and it is not economical.

이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 1∼50nm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2∼30nm이다. 본 발명에 이용하는 기재 필름의 이형층을 적층하는 면의 최대 돌기 높이(P)는, 2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5㎛ 이하이다. Sa가 50nm 이하이고, P가 2㎛ 이하이면, 피이형층의 두께 불균일의 억제 및 피이형층 표면의 평활성을 일정하게 유지할 수 있어, 피이형체를 이형 필름으로부터 박리했을 때에 두께가 얇은 부분을 기점으로 찢어질 가능성을 억제할 수 있다.The regional surface average roughness (Sa) of the release layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, more preferably 2 to 30 nm. The maximum protrusion height (P) of the surface on which the release layer of the base film used in the present invention is laminated is preferably 2 μm or less, and more preferably 1.5 μm or less. When Sa is 50 nm or less and P is 2 ㎛ or less, uneven thickness of the release layer can be suppressed and the smoothness of the surface of the release layer can be kept constant, so that when the release body is peeled from the release film, the thinner part starts. This can reduce the possibility of tearing.

또, 본 영역 표면 평균 거칠기(Sa)나 최대 돌기 높이(P)는, 가열 전후에서의 변화율이 20% 이내인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10% 이내, 더욱 바람직하게는 5% 이내이다. 영역 표면 평균 거칠기(Sa)나 최대 돌기 높이(P)의 가열 전후에서의 변화율이 20% 이내이면, 가열 후에 이형층과 피이형체의 접착 면적이 증대하여, 앵커 효과에 의해 이형층으로부터 피이형체를 박리할 때에 중(重)박리가 될 가능성이 낮아 바람직하다.In addition, the change rate of the surface average roughness (Sa) and maximum protrusion height (P) of this area before and after heating is preferably within 20%, more preferably within 10%, and even more preferably within 5%. If the change rate of the area surface average roughness (Sa) or maximum protrusion height (P) before and after heating is within 20%, the adhesive area between the mold release layer and the mold release object increases after heating, and the mold release object is separated from the mold release layer by the anchor effect. This is preferable because the possibility of heavy peeling during peeling is low.

본 발명에 있어서, 이형 도포층의 형성 방법은, 특별히 한정되지 않고, 이형성의 수지를 용해 또는 분산시킨 도액(塗液)을, 기재인 폴리에스테르 필름의 한쪽의 면에 도포 등에 의해 전개하고, 용매 등을 건조에 의해 제거 후, 가열 건조, 열경화 또는 자외선 경화시키는 방법이 이용된다. 이때, 용매 건조, 열경화 시의 건조 온도는, 180℃ 이하인 것이 바람직하고, 160℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 140℃ 이하인 것이 가장 바람직하다. 그 가열 시간은, 30초 이하가 바람직하고, 20초 이하가 보다 바람직하며, 10초 이하가 더욱 바람직하다. 180℃ 이하인 경우, 필름의 평면성이 유지되어, 이형층의 두께 불균일을 일으킬 우려가 작아 바람직하다. 140℃ 이하이면 필름의 평면성을 손상시키는 일 없이 가공할 수 있어, 이형층의 두께 불균일을 일으킬 우려가 더욱 저하되므로 특히 바람직하다.In the present invention, the method of forming the release coating layer is not particularly limited, and a coating liquid in which a release resin is dissolved or dispersed is spread by applying it to one side of a polyester film as a substrate, and then dissolving in a solvent. After removing the material by drying, heat drying, heat curing, or ultraviolet curing is used. At this time, the drying temperature during solvent drying and heat curing is preferably 180°C or lower, more preferably 160°C or lower, and most preferably 140°C or lower. The heating time is preferably 30 seconds or less, more preferably 20 seconds or less, and even more preferably 10 seconds or less. When it is 180°C or lower, the flatness of the film is maintained and there is little risk of uneven thickness of the release layer, so it is preferable. If it is 140°C or lower, processing can be done without damaging the flatness of the film, and the risk of uneven thickness of the release layer is further reduced, so it is particularly preferable.

본 발명에 있어서, 이형 도포층을 도포할 때의 도액에는, 특별히 한정되지 않지만, 비점이 70℃ 이상인 용제를 첨가하는 것이 바람직하다. 비점이 70℃ 이상인 용제를 첨가함으로써, 건조 시의 돌비(突沸)를 방지하여 도막을 레벨링시킬 수 있어, 건조 후의 도막 표면의 평면성을 향상시킬 수 있다. 그 첨가량으로는, 도액 전체에 대해, 50∼99 질량% 정도 첨가하는 것이 바람직하다.In the present invention, the coating liquid for applying the release coating layer is not particularly limited, but it is preferable to add a solvent having a boiling point of 70°C or higher. By adding a solvent with a boiling point of 70°C or higher, the coating film can be leveled by preventing boiling during drying, and the flatness of the coating film surface after drying can be improved. The addition amount is preferably about 50 to 99% by mass relative to the entire coating liquid.

상기 도액의 도포법으로는, 공지의 임의의 도포법을 적용할 수 있고, 예를 들면 그라비아 코팅법이나 리버스 코팅법 등의 롤 코팅법, 와이어 바 등의 바 코팅법, 다이 코팅법, 스프레이 코팅법, 에어 나이프 코팅법 등의 종래부터 알려져 있는 방법을 이용할 수 있다.As the application method of the coating liquid, any known application method can be applied, for example, roll coating methods such as gravure coating or reverse coating, bar coating methods such as wire bars, die coating, or spray coating. Conventionally known methods such as method and air knife coating method can be used.

본 발명에서 얻어진 이형 필름은, 상태 박리력, 가열 후 박리력, 가열 후 고속 박리 시의 박리력에 대해서 이하에 나타내는 범위가 되는 것이 바람직하다.The release film obtained in the present invention preferably falls within the ranges shown below with respect to the peeling force as-is, the peeling force after heating, and the peeling force during high-speed peeling after heating.

본 발명에서 얻어진 이형 필름은, 박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 상태 박리력(PF1)이 1000mN/50mm 이하여도 좋고, 예를 들면, 600mN/50mm 이하이며, 500mN/50mm 이하여도 좋다. 특정 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 본 발명에 있어서는, 이형층이 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않는다는 특징에 더하여, 특히, 이형층에 있어서의 아크릴 수지(A)의 A-1 성분과 A-2 성분의 질량의 합계를 100 질량부라고 했을 때, A-1의 질량이 50 질량부를 넘는 것에 의해, 이와 같은 경(輕)박리성을 유도할 수 있다.The release film obtained in the present invention may have a normal peeling force (PF1) of 1000 mN/50 mm or less at a peeling speed of 0.3 m/min, for example, 600 mN/50 mm or less, and may be 500 mN/50 mm or less. Although the interpretation should not be limited to a specific theory, in the present invention, in addition to the feature that the release layer does not substantially contain a silicone component, in particular, the A-1 component and A- of the acrylic resin (A) in the release layer When the total mass of the two components is 100 parts by mass, such light peelability can be induced by the mass of A-1 exceeding 50 parts by mass.

일 양태에 있어서, 발명에서 얻어진 이형 필름은, 박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 상태 박리력(PF1)이 50mN/50mm 이상이며, 예를 들면 80mN/50mm 이상이다.In one aspect, the release film obtained in the invention has a normal peeling force (PF1) of 50 mN/50 mm or more at a peeling speed of 0.3 m/min, for example, 80 mN/50 mm or more.

상기 범위 내이면, 상태 박리력이 가벼우므로 바람직하다. 특히, 상태 박리력이 50mN/50mm 이상 1000mN/50mm 이하이면, 피이형체가 반송 공정에 있어서 벗겨질 가능성이 낮아 바람직하다. 가열 전의 박리력이 1000mN/50mm 이하, 특히, 500mN/50mm 이하이면, 피이형체를 박리했을 때에, 피이형체가 변형될 가능성이 낮아 바람직하다.If it is within the above range, it is preferable because the peeling force is light. In particular, it is preferable that the normal peeling force is 50 mN/50 mm or more and 1000 mN/50 mm or less because the possibility of the mold release material being peeled off during the conveyance process is low. It is preferable that the peeling force before heating is 1000 mN/50 mm or less, especially 500 mN/50 mm or less, because there is a low possibility that the mold release object will be deformed when the mold release object is peeled.

상태 박리력은, 박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 상태 박리력을 의미하고, 본 발명에 관한 이형층 상에 배치한 피이형체, 예를 들면, 점착제(일례로서, 아크릴계 점착 테이프(닛토 덴코사 제조, No.31B) 등)를 박리할 때의 박리력에 대해서 평가할 수 있다. 또, 상태 박리력의 측정은, 상온(25℃)의 조건하에서 행할 수 있다. 이하의 가열 후 박리력에 있어서도, 마찬가지의 피이형체를 적용할 수 있다.The normal peeling force means the normal peeling force at a peeling speed of 0.3 m/min. The release material disposed on the release layer according to the present invention, for example, an adhesive (as an example, an acrylic adhesive tape (Nitto Den) The peeling force can be evaluated when peeling off No. 31B), manufactured by Kosa, etc.). In addition, the measurement of the normal peeling force can be performed under conditions of room temperature (25°C). The same release body can be applied for the peeling force after heating below.

일 양태에 있어서, 박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 가열 후(70℃, 20h) 박리력(PF2)이, 상태 박리력(PF1)의 2배 이하이다. 가열 후 박리력(PF2)이 상태 박리력의 2배 이하이면 가열 후 박리력이 낮아 바람직하다. 가열 후 박리력(PF2)은, 상태 박리력(PF1)의 1.9배 이하가 더욱 바람직하고, 1.8배 이하가 가장 바람직하다. 가열 후 박리력이 상태 박리력의 2배 이하이면 가열 후에 피이형체를 박리했을 때에, 피이형체가 변형되지 않으므로 바람직하다.In one aspect, the peeling force (PF2) after heating (70°C, 20h) at a peeling speed of 0.3 m/min. is two times or less than the normal peeling force (PF1). It is preferable that the peel force after heating (PF2) is 2 times or less than the normal peel force because the peel force after heating is low. The peeling force after heating (PF2) is more preferably 1.9 times or less, and most preferably 1.8 times or less, than the normal peeling force (PF1). It is preferable that the peeling force after heating is two times or less than the normal peeling force because the mold release object is not deformed when the mold release object is peeled off after heating.

특정 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 본 발명에 있어서는, 이형층이 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않는다는 특징에 더하여, 특히, 이형층에 있어서의 아크릴 수지(A)의 A-1 성분과 A-2 성분의 질량의 합계를 100 질량부라고 했을 때, A-1의 질량이 50 질량부를 넘는 것에 의해, 가열 전후의 경박리성을 유지할 수 있다.Although the interpretation should not be limited to a specific theory, in the present invention, in addition to the feature that the release layer does not substantially contain a silicone component, in particular, the A-1 component and A- of the acrylic resin (A) in the release layer When the total mass of the two components is 100 parts by mass, the mass of A-1 exceeds 50 parts by mass, so that light peelability before and after heating can be maintained.

일 양태에 있어서, 박리 속도 30m/min.에 있어서의 가열 후(70℃, 20h) 박리력(PF3)이, 상태 박리력(PF1)의 30배 이하이다. 이와 같은 관계를 가짐으로써, 가열 후 고속 박리력이 낮아 바람직하다. 박리력(PF3)이, 상태 박리력(PF1)의 25배 이하인 것이 더욱 바람직하고, 20배 이하가 가장 바람직하다. 박리력(PF3)이, 상태 박리력(PF1)의 30배 이하이면, 가열 후에 고속으로 피이형체를 박리했을 때에, 피이형체가 변형될 가능성이 낮아 바람직하다.In one aspect, the peeling force (PF3) after heating (70°C, 20h) at a peeling speed of 30 m/min is 30 times or less than the normal peeling force (PF1). By having this relationship, the high-speed peeling force after heating is low, which is preferable. It is more preferable that the peeling force (PF3) is 25 times or less, and most preferably 20 times or less, the normal peeling force (PF1). It is preferable that the peeling force (PF3) is 30 times or less of the normal peeling force (PF1) because there is a low possibility that the molded release object will be deformed when the molded release object is peeled off at high speed after heating.

본 발명에 있어서는, 이형 필름의 적어도 편면에, 점착층을 설치함으로써, 적층 필름을 얻을 수 있다. 적층 필름은, 예를 들면, 본 발명의 이형 필름의 적어도 편면측의 표면에 점착제 조성물 도포하고, 필요에 따라 건조시켜, 기재의 적어도 편면측에 점착층을 형성함으로써 얻어진다. 예를 들면, 이형층에 있어서의 기재와는 반대측의 면에, 점착층을 가질 수도 있다.In the present invention, a laminated film can be obtained by providing an adhesive layer on at least one side of the release film. The laminated film is obtained, for example, by applying an adhesive composition to the surface of at least one side of the release film of the present invention, drying it as necessary, and forming an adhesive layer on at least one side of the base material. For example, the release layer may have an adhesive layer on the side opposite to the base material.

본 발명은, 점착 시트로 한정되지 않고, 전지용 구성 부재, 점착제층 보호(OCA(Optical Clear Adhesive)용 보호, 점착 테이프용 보호 등), 의료 분야의 경피 흡수형 첩부약용 세퍼레이터, 세라믹 콘덴서 등의 전자 부품의 제조 공정에 이용하는 공정지, 화상 표시용 부재의 보호 등, 그 외의 용도에도 적용할 수 있다. 효과에 대해서도 마찬가지의 효과가 기대된다.The present invention is not limited to adhesive sheets, but is used in electronic applications such as structural members for batteries, adhesive layer protection (protection for OCA (Optical Clear Adhesive), protection for adhesive tapes, etc.), separators for transdermal absorbable patches in the medical field, and ceramic condensers. It can also be applied to other uses, such as process paper used in the manufacturing process of parts and protection of image display members. The same effect is expected regarding the effect.

실시예Example

이하에, 실시예를 이용하여 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 조금도 한정되는 것은 아니다. 본 발명에서 이용한 특성치는 하기의 방법을 이용하여 평가했다.Below, the present invention will be described in more detail using examples, but the present invention is not limited to these examples in any way. The characteristic values used in the present invention were evaluated using the following method.

<평가><Evaluation>

(상태 박리력(PF1))(State peel force (PF1))

이형 필름 표면에 점착 테이프(닛토 덴코(주)사 제조 「31B」)를 첩부하고, 선압(線壓) 5kgf/mm의 압착 롤러로 압착 후, 온도 22℃, 습도 60%의 조건하에서 20시간 방치했다. 점착 테이프를 첩부한 이형 필름을 폭 25mm, 길이 150mm의 단책상(短冊狀)으로 재단했다. 점착 테이프의 일단을 고정하고, 이형 필름의 일단을 파지하여, 이형 필름측을 300mm/min.의 속도로 인장해, T자 박리 강도를 측정했다.측정에는, 인장 시험기((주)시마즈 세이사쿠쇼 제조의 「AUTOGRAPHAG-A-1」)를 이용했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Attach an adhesive tape (“31B” manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) to the surface of the release film, press it with a pressure roller with a linear pressure of 5 kgf/mm, and leave it for 20 hours under conditions of a temperature of 22°C and a humidity of 60%. did. The release film to which the adhesive tape was attached was cut into strips with a width of 25 mm and a length of 150 mm. One end of the adhesive tape was fixed, one end of the release film was held, and the release film side was pulled at a speed of 300 mm/min. to measure the T-shaped peel strength. For the measurement, a tensile tester (Shimadzu Seisaku Co., Ltd.) was used. “AUTOGRAPHAG-A-1” manufactured by Shaw was used. The results are shown in Table 1.

(가열 후 박리력(PF2))(Peel force after heating (PF2))

이형 필름 표면에 점착 테이프(닛토 덴코(주) 제조, 상품명 「31B」)를 첩부하고, 선압 5kgf/mm의 압착 롤러로 압착 후, 점착 테이프를 첩부한 이형 필름을 폭 25mm, 길이 150mm의 단책상으로 재단하여, 온도 70℃의 오븐에서 20시간 가열했다. 그 후, 점착 테이프의 일단을 고정하고, 이형 필름의 일단을 파지하여, 이형 필름측을 300mm/min.의 속도로 인장해 박리하고, T자 박리 강도를 측정했다. T자 박리 강도의 측정에는, 인장 시험기((주)시마즈 세이사쿠쇼 제조의 「AUTOGRAPHAG-A-1」)를 이용했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., product name “31B”) is attached to the surface of the release film, and after pressing with a pressure roller with a linear pressure of 5 kgf/mm, the release film with the adhesive tape attached is rolled into a single sheet with a width of 25 mm and a length of 150 mm. It was cut and heated in an oven at a temperature of 70°C for 20 hours. After that, one end of the adhesive tape was fixed, one end of the release film was held, the release film side was pulled and peeled at a speed of 300 mm/min., and the T-shaped peel strength was measured. To measure the T-shaped peel strength, a tensile tester (“AUTOGRAPHAG-A-1” manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd.) was used. The results are shown in Table 1.

(가열 후 고속 박리력(PF3))(High-speed peel force after heating (PF3))

이형 필름 표면에 점착 테이프(닛토 덴코(주) 제조, 상품명 「31B」)를 첩부하고, 선압 5kgf/mm의 압착 롤러로 압착 후, 점착 테이프를 첩부한 이형 필름을 폭 25mm, 길이 150mm의 단책상으로 재단하여, 온도 70℃의 오븐에서 20시간 가열한다. 그 후, 이형 필름측을 양면 테이프로 금속판에 고정하고, 점착 테이프의 일단을 파지하여, 점착 테이프측을 30m/min.의 속도로 인장해 박리하고, 180° 박리 강도를 측정한다. 180° 박리 강도의 측정에는, 인장 시험기(테스터 산교 가부시키가이샤의 「고속 박리 시험기 TE-701」)를 이용했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., product name “31B”) is attached to the surface of the release film, and after pressing with a pressure roller with a linear pressure of 5 kgf/mm, the release film with the adhesive tape attached is rolled into a single sheet with a width of 25 mm and a length of 150 mm. Cut it into pieces and heat it in an oven at 70°C for 20 hours. After that, the release film side is fixed to a metal plate with double-sided tape, one end of the adhesive tape is held, the adhesive tape side is pulled at a speed of 30 m/min to peel, and the 180° peel strength is measured. To measure the 180° peel strength, a tensile tester (“High-Speed Peel Tester TE-701” manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) was used. The results are shown in Table 1.

(실리콘 이행성)(Silicon transferability)

이형 필름 표면에 점착 테이프(닛토 덴코(주) 제조, 상품명 「31B」)를 첩부하고, 선압 5kgf/mm의 압착 롤러로 압착 후, 점착 테이프를 첩부한 이형 필름을 폭 25mm, 길이 150mm의 단책상으로 재단하여, 온도 70℃의 오븐에서 20시간 가열했다. 그 후, 점착 테이프의 일단을 고정하고, 이형 필름의 일단을 파지하여, 이형 필름측을 300mm/min.의 속도로 인장해 박리하고, 박리한 점착 테이프의 Si 강도(Ⅰ1)를 측정했다. 또, 이형 필름 표면에 첩부하고 있지 않은 점착 테이프의 Si 강도(Ⅰ0)를 블랭크로서 측정하여, Ⅰ1-Ⅰ0를 산출했다. Ⅰ1-Ⅰ0>0인 경우, 실리콘의 이행이 보인다고 하여 이행성: ×, Ⅰ1-Ⅰ0=0인 경우, 실리콘의 이행이 보이지 않는다고 하여 이행성: ○로 했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., product name “31B”) is attached to the surface of the release film, and after pressing with a pressure roller with a linear pressure of 5 kgf/mm, the release film with the adhesive tape attached is rolled into a single sheet with a width of 25 mm and a length of 150 mm. It was cut and heated in an oven at a temperature of 70°C for 20 hours. After that, one end of the adhesive tape was fixed, one end of the release film was held, the release film side was pulled and peeled at a speed of 300 mm/min., and the Si strength (Ⅰ 1 ) of the peeled adhesive tape was measured. Moreover, the Si strength (Ⅰ 0 ) of the adhesive tape not affixed to the surface of the release film was measured as a blank, and Ⅰ 1 - Ⅰ 0 was calculated. In the case of I 1 - I 0 > 0, the transition of silicon was observed, so the transition property was set as The results are shown in Table 1.

(실시예 1)(Example 1)

(아크릴 수지(A1) 및 이형층 도공액의 준비)(Preparation of acrylic resin (A 1 ) and release layer coating solution)

스테아릴 아크릴레이트(CH2=C(H)COOC15H25), 히드록시에틸 아크릴레이트(CH2=C(H)COOC2H4OH)를 99:1의 비율로 혼합하고, 고형분 농도가 40 질량%가 되도록 톨루엔을 첨가하여, 질소 기류하, 아조비스이소부티로니트릴(AIBN)을 0.5 몰% 첨가해 공중합시켜, 아크릴 수지(A1)를 얻었다.Stearyl acrylate (CH 2 = C(H)COOC 15 H 25 ) and hydroxyethyl acrylate (CH 2 = C(H)COOC 2 H 4 OH) were mixed in a ratio of 99:1, and the solid concentration was Toluene was added to 40% by mass, and 0.5 mol% of azobisisobutyronitrile (AIBN) was added and copolymerized under a nitrogen stream to obtain an acrylic resin (A 1 ).

표 1에 기재된 배합량으로 아크릴 수지(A1), 가교제(B)로서 멜라민 수지(닛폰 카바이드 가부시키가이샤 제조, 니카락 MW-30), 이형제(C)로서 고급 알코올(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤 제조, 펜타데칸올), 경화 촉매로서 파라톨루엔술폰산(히타치 가세이 폴리머 가부시키가이샤 제조, 드라이어 #900)을 첨가하고, 추가로 용제(톨루엔/MEK=50/50: 질량비)를 첨가해, 고형분 농도를 6.0 질량%로 하여, 이형층 도공액을 얻었다.Acrylic resin (A 1 ) in the mixing ratio shown in Table 1, melamine resin (Nikalac MW-30, manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) as the crosslinking agent (B), and higher alcohol (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as the mold release agent (C). , pentadecanol), paratoluenesulfonic acid (Hitachi Kasei Polymer Co., Ltd., dryer #900) was added as a curing catalyst, and a solvent (toluene/MEK = 50/50: mass ratio) was added to adjust the solid content concentration. The release layer coating liquid was obtained at 6.0% by mass.

(이형층의 형성)(Formation of release layer)

얻어진 이형층 도공액을, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(도요보사 제조, E5100, 두께: 38㎛, 표면 거칠기(Sa): 0.0365nm(코로나 처리면), 표면 최대 단면 높이(St): 3.72, 헤이즈: 3.7%)의 코로나 처리면에, 그라비아 코터를 이용하여 도포한 후, 130℃, 30초의 조건으로 건조를 행하여, 두께 0.2㎛의 이형층을 형성했다. 얻어진 이형 필름에 대해서, 상태 박리력, 가열 후 박리력, 가열 후 고속 박리력의 평가를 행하였다. 각종 조성, 평가 결과를The obtained release layer coating solution was coated with a polyethylene terephthalate film (E5100 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 38 μm, surface roughness (Sa): 0.0365 nm (corona-treated surface), surface maximum cross-sectional height (St): 3.72, haze: 3.7. %) was applied to the corona-treated surface using a gravure coater, and then dried at 130°C for 30 seconds to form a release layer with a thickness of 0.2 μm. The obtained release film was evaluated for its normal peeling force, peeling force after heating, and high-speed peeling force after heating. Various composition and evaluation results

(실시예 2∼5, 비교예 1∼3)(Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 3)

조성을 표 1의 것으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 순서로 이형층을 형성했다. 얻어진 이형 필름에 대해서, 상태 박리력, 가열 후 박리력, 가열 후 고속 박리력, 실리콘 이행성의 평가를 행하였다.A release layer was formed in the same manner as in Example 1, except that the composition was changed to that shown in Table 1. The obtained release film was evaluated for its normal peeling force, peeling force after heating, high-speed peeling force after heating, and silicone transferability.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

(아크릴 수지(A4) 및 이형층 도공액의 준비)(Preparation of acrylic resin (A 4 ) and release layer coating solution)

메틸 아크릴레이트(CH2=C(H)COOCH3)를 고형분 농도가 40 질량%가 되도록 톨루엔을 첨가하고, 질소 기류하, 아조비스이소부티로니트릴(AIBN)을 0.5 몰% 첨가해 공중합시켜, 아크릴 수지(A4)를 얻었다.Methyl acrylate (CH 2 = C(H)COOCH 3 ) was copolymerized by adding toluene so that the solid concentration was 40% by mass, and adding 0.5 mol% of azobisisobutyronitrile (AIBN) under a nitrogen stream. Acrylic resin (A 4 ) was obtained.

아크릴 수지를 A4로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 순서로 이형층을 형성했다. 얻어진 이형 필름에 대해서, 상태 박리력, 가열 후 박리력, 가열 후 고속 박리력, 실리콘 이행성의 평가를 행하였다.A release layer was formed in the same manner as in Example 1, except that the acrylic resin was changed to A4 . The obtained release film was evaluated for its normal peeling force, peeling force after heating, high-speed peeling force after heating, and silicone transferability.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

이형제로서 열경화형 실리콘계 이형제를 백금 촉매와 함께 사용한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지의 순서로 이형층을 형성했다. 얻어진 이형 필름에 대해서, 상태 박리력, 가열 후 박리력, 가열 후 고속 박리력의 평가를 행하였다.A release layer was formed in the same manner as in Example 3, except that a thermosetting silicone-based release agent was used together with a platinum catalyst as the release agent. The obtained release film was evaluated for its normal peeling force, peeling force after heating, and high-speed peeling force after heating.

<평가 결과><Evaluation results>

본 발명에 의하면, 가열 전후의 어느 쪽에 있어서도 가벼운 박리성을 갖고, 또한 고속으로 박리해도 가벼운 이형성을 유지하는 이형층 필름을 제공할 수 있다. 한편, 비교예 1에서는, 아크릴 수지(A)의 A-1 성분과 A-2 성분의 질량의 합계를 100 질량부라고 했을 때, A-1의 질량이 50 질량부를 넘지 않기 때문에, PF1이 크게 증가하고, PF2에서는 박리력이 크게 증가했기 때문에, 이형층과 점착 테이프를 박리할 수 없었다. 비교예 2에서는, 가교제의 양이 너무 적었기 때문에, 충분한 막 강도를 얻지 못하여, PF1 및 PF2가 크게 증가하고, PF3는 너무 커서 이형층과 점착 테이프를 박리할 수 없었다. 비교예 3에서는, 이형제를 포함하지 않기 때문에, PF2가 크게 증가하고, 이형층과 점착 테이프를 박리할 수 없었다. 또, 비교예 4는, A-1 성분과 A-2 성분을 포함하지 않는 아크릴 수지로 이형층을 구성했기 때문에, 상온에 있어서도, 이형층과 점착 테이프를 박리할 수 없었다. 비교예 5에서는 실리콘계 이형제를 사용하고 있기 때문에, 실리콘이 이행하고 있는 것을 확인했다.According to the present invention, it is possible to provide a release layer film that has light peelability both before and after heating and maintains light release property even when peeled at high speed. On the other hand, in Comparative Example 1, when the total mass of the A-1 component and the A-2 component of the acrylic resin (A) is 100 parts by mass, the mass of A-1 does not exceed 50 parts by mass, so PF1 is large. Because the peeling force increased significantly in PF2, the release layer and the adhesive tape could not be peeled off. In Comparative Example 2, because the amount of the crosslinking agent was too small, sufficient film strength was not obtained, so PF1 and PF2 increased significantly, and PF3 was too large, making it impossible to peel the release layer and the adhesive tape. In Comparative Example 3, since the release agent was not included, PF2 increased significantly, and the release layer and the adhesive tape could not be peeled. In addition, in Comparative Example 4, since the release layer was composed of an acrylic resin not containing components A-1 and A-2, the release layer and the adhesive tape could not be peeled even at room temperature. In Comparative Example 5, since a silicone-based mold release agent was used, it was confirmed that silicone was migrating.

이번에 개시된 실시형태 및 실시예는 모든 점에서 예시이며, 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 상기한 실시형태가 아니라 청구범위에 의해 나타나며, 청구범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.The embodiments and examples disclosed this time should be considered illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the claims rather than the above-described embodiments, and is intended to include all changes within the scope and meaning equivalent to the claims.

본 발명의 이형 필름은, 실리콘 이형 필름을 이용하는 것이 곤란한 전자 부품 제조 공정 등의 용도에서 적합하게 이용할 수 있다.The release film of the present invention can be suitably used in applications such as electronic component manufacturing processes where it is difficult to use a silicone release film.

Claims (8)

기재(基材) 필름과 이형층을 이 순서로 갖는 이형 필름으로서,
상기 이형층은 아크릴 수지(A) 및 가교제(B), 이형제(C)를 적어도 포함하고,
상기 아크릴 수지(A)는 하기 화학식 (1)로 표시되는 A-1 성분 및 (2)로 표시되는 A-2 성분을 적어도 포함하며,
상기 이형층은 실질적으로 실리콘 성분을 포함하지 않고,
상기 이형층에 포함되는 아크릴 수지(A)의 질량(a)과 가교제(B)의 질량(b)의 비율 a/b가 식 (Ⅰ)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 이형 필름:
(Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0
[화학식 1]
Figure pct00010

식 (1) 중, R1은 (CnH2n+1)(n=8 이상 20 이하의 정수), R4는 H 또는 CH3를 나타낸다,
[화학식 2]
Figure pct00011

식 (2) 중, R2는 (CmH2mOH)(m=1 이상 10 이하의 정수) 또는 H, R4는 H 또는 CH3를 나타낸다.
A release film having a base film and a release layer in this order,
The release layer includes at least an acrylic resin (A), a crosslinking agent (B), and a release agent (C),
The acrylic resin (A) contains at least an A-1 component represented by the following formula (1) and an A-2 component represented by (2),
The release layer does not substantially contain a silicone component,
A release film, characterized in that the ratio a/b of the mass (a) of the acrylic resin (A) contained in the release layer and the mass (b) of the crosslinking agent (B) satisfies the formula (I):
(Ⅰ) 0.1≤a/b≤8.0
[Formula 1]
Figure pct00010

In formula (1), R 1 represents (C n H 2n+1 ) (n = an integer from 8 to 20), R 4 represents H or CH 3 ,
[Formula 2]
Figure pct00011

In formula (2), R 2 represents (C m H 2m OH) (m = integer from 1 to 10) or H, and R 4 represents H or CH 3 .
제 1 항에 있어서,
상기 이형층에 포함되는 가교제(B)의 질량(b)과 이형제의 질량(c)의 비율 c/b가 식 (Ⅱ)를 만족시키는, 이형 필름:
(Ⅱ) 0.1≤c/b≤12.0.
According to claim 1,
A release film in which the ratio c/b of the mass (b) of the crosslinking agent (B) contained in the release layer and the mass (c) of the release agent satisfies the formula (II):
(Ⅱ) 0.1≤c/b≤12.0.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 이형층에 있어서의 아크릴 수지(A)의 A-1 성분과 A-2 성분의 질량의 합계를 100 질량부라고 했을 때 A-1의 질량이 50 질량부를 넘는 것을 특징으로 하는 이형 필름.
The method of claim 1 or 2,
A release film characterized in that when the total mass of the A-1 component and the A-2 component of the acrylic resin (A) in the release layer is 100 parts by mass, the mass of A-1 exceeds 50 parts by mass.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이형제(C)는, 아크릴기를 포함하지 않고, 또한, 실리콘을 포함하지 않는 장쇄 알킬기 및 반응성 관능기를 적어도 포함하는, 이형 필름.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A release film in which the release agent (C) does not contain an acrylic group and contains at least a long-chain alkyl group and a reactive functional group that does not contain silicone.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 상태(常態) 박리력(PF1)이 500mN/50mm 이하인 이형 필름.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A release film having a normal peeling force (PF1) of 500mN/50mm or less at a peeling speed of 0.3m/min.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
박리 속도 0.3m/min.에 있어서의 가열 후(70℃, 20h) 박리력(PF2)이, 상기 상태 박리력(PF1)의 2배 이하인, 이형 필름.
The method according to any one of claims 1 to 5,
A release film whose peeling force (PF2) after heating (70°C, 20h) at a peeling speed of 0.3 m/min is twice or less than the above-mentioned normal peeling force (PF1).
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
박리 속도 30m/min.에 있어서의 가열 후(70℃, 20h) 박리력(PF3)이, 상기 상태 박리력(PF1)의 30배 이하인, 이형 필름.
The method according to any one of claims 1 to 6,
A release film whose peeling force (PF3) after heating (70°C, 20h) at a peeling speed of 30 m/min is 30 times or less than the above-mentioned normal peeling force (PF1).
상기 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재한 이형 필름의 적어도 한쪽의 면 상에, 점착층을 적층한 적층 필름.A laminated film in which an adhesive layer is laminated on at least one side of the release film according to any one of claims 1 to 7.
KR1020237036808A 2021-05-24 2022-05-13 release film KR20230159711A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2021-087022 2021-05-24
JP2021087022 2021-05-24
PCT/JP2022/020199 WO2022249899A1 (en) 2021-05-24 2022-05-13 Mold release film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230159711A true KR20230159711A (en) 2023-11-21

Family

ID=84229960

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237036808A KR20230159711A (en) 2021-05-24 2022-05-13 release film

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2022249899A1 (en)
KR (1) KR20230159711A (en)
CN (1) CN117355585A (en)
TW (1) TW202302365A (en)
WO (1) WO2022249899A1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007002092A (en) 2005-06-23 2007-01-11 Kyoeisha Chem Co Ltd Mold release agent comprising cross-linked copolymerized prepolymer
JP2010144046A (en) 2008-12-18 2010-07-01 Lintec Corp Release agent and release sheet
JP2014151481A (en) 2013-02-06 2014-08-25 Mitsubishi Plastics Inc Laminated polyester film

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6402061B2 (en) * 2015-03-30 2018-10-10 リンテック株式会社 Release sheet and adhesive sheet
JP6930110B2 (en) * 2017-01-16 2021-09-01 荒川化学工業株式会社 Thermosetting release coating agent, release film and its manufacturing method
TW202033350A (en) * 2018-12-20 2020-09-16 日商東洋紡股份有限公司 Release film
JP7038184B2 (en) * 2019-12-20 2022-03-17 日本化工塗料株式会社 Thermosetting mold release coating agent and laminate, and method for manufacturing the laminate

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007002092A (en) 2005-06-23 2007-01-11 Kyoeisha Chem Co Ltd Mold release agent comprising cross-linked copolymerized prepolymer
JP2010144046A (en) 2008-12-18 2010-07-01 Lintec Corp Release agent and release sheet
JP2014151481A (en) 2013-02-06 2014-08-25 Mitsubishi Plastics Inc Laminated polyester film

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2022249899A1 (en) 2022-12-01
WO2022249899A1 (en) 2022-12-01
TW202302365A (en) 2023-01-16
CN117355585A (en) 2024-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW450889B (en) Release liner and pressure-sensitive adhesive sheet
TWI646147B (en) Release agent composition, release sheet, single-faced pressure-sensitive adhesive sheet, and double-faced pressure-sensitive adhesive sheet
JP3268784B2 (en) Release film
WO2017078026A1 (en) Release agent composition, release sheet, and adhesive body
US7312293B2 (en) Release agent composition and release liner
WO2011122209A1 (en) Laminated film
JP2012218392A (en) Molding release polyester film
JP2023544238A (en) Release coating composition {RELEASE COATING COMPOSITION}
JP2023093485A (en) Releasable film
JP2004174725A (en) Surface protecting film for optical member
KR20230159711A (en) release film
JP6693412B2 (en) Release layer, molded article having release layer and release agent
TWI808552B (en) Release film and laminated film
JP2008020698A (en) Protect film for polarizing plate
JP2004082370A (en) Release film
JP6139123B2 (en) Mold release polyester film
WO2019004209A1 (en) Releasable film
WO2023189634A1 (en) Mold release film
JP2000025163A (en) Mold release film
JP6967432B2 (en) Release film for ceramic green sheet manufacturing process and its manufacturing method
JP2006008981A (en) Release agent composition and release liner
JPH11348187A (en) Release film
TWI837331B (en) Peel-off sheet
JP7192265B2 (en) peelable film
JP2023038936A (en) Release film