KR20230134344A - 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치 - Google Patents

기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20230134344A
KR20230134344A KR1020220031570A KR20220031570A KR20230134344A KR 20230134344 A KR20230134344 A KR 20230134344A KR 1020220031570 A KR1020220031570 A KR 1020220031570A KR 20220031570 A KR20220031570 A KR 20220031570A KR 20230134344 A KR20230134344 A KR 20230134344A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roller
substrate
groove pattern
pitch interval
etching
Prior art date
Application number
KR1020220031570A
Other languages
English (en)
Inventor
김정환
정승규
김득한
장인혁
홍민기
신재호
Original Assignee
주식회사 에스이에이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에스이에이 filed Critical 주식회사 에스이에이
Priority to KR1020220031570A priority Critical patent/KR20230134344A/ko
Publication of KR20230134344A publication Critical patent/KR20230134344A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/20Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof such devices or parts thereof comprising amorphous semiconductor materials
    • H01L31/206Particular processes or apparatus for continuous treatment of the devices, e.g. roll-to roll processes, multi-chamber deposition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/20Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof such devices or parts thereof comprising amorphous semiconductor materials
    • H01L31/208Particular post-treatment of the devices, e.g. annealing, short-circuit elimination

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예는, 기판을 이송하기 위한 롤러로서, 롤러 중심축; 및 상기 롤러 중심축을 감싸도록 구비되는 롤러 본체를 포함하고, 상기 롤러 본체의 바깥면에는 서로가 제1 피치 간격을 갖는 복수의 제1 그루브를 포함하는 제1 그루브 패턴 및 서로가 제2 피치 간격을 갖는 복수의 제2 그루브를 포함하는 제2 그루브 패턴이 형성되는, 롤러이다.

Description

기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치{GROOVE ROLLER FOR REMOVING WRAP AROUND OF SUBSTRATE AND ETCHING DEVICE INCLUDING THE SAME}
본 발명은 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치에 관한 것이다.
n-TOPCon(Tunnel Oxide Passivated Contact) 태양 전지는 태양 전지의 후면에 매우 얇은 실리콘 산화막과 도핑된 폴리실리콘 박막(n+ poly-Si)를 증착하는 구조이다. 이러한 후면 구조는 다수 캐리어와 소수 캐리어의 선택성을 향상시켜 후면에서 일어나는 재결합을 현저하게 낮춰 개방 전압을 높일 수 있다.
이때, 태양 전지의 후면에 증착되는 폴리실리콘 박막은 CVD(Chemical Vapor Deposition)으로 증착되는데, 도 1a 및 도 1b와 같이 폴리실리콘 박막이 기판의 후면(R)뿐만 아니라 원치 않는 전면(F) 및 테두리에도 증착되는 현상이 발생한다. 이와 같이 폴리실리콘 박막의 CVD 증착 시 기판의 전면 테두리에 박막이 증착되는 현상은 랩 어라운드(wrap around, 11)라고 불린다. 이러한 랩 어라운드(11)는 태양 전지에 누설 전류를 일으켜 개방 회로 전압, 단락 전류 밀도 및 FF(fill factor)와 같은 태양 전지의 광학 및 전기적 성능을 저하시킨다. 따라서, 폴리실리콘 박막 증착 과정에서 생성되는 랩 어라운드(11)를 선택적으로 제거할 수 있는 장비의 개발이 필요한 실정이다.
랩 어라운드(11)는 화학적 식각(chemical etching) 공정으로 제거될 수 있는데, 화학적 식각 공정 시 불가피하게 기판 전면에 형성된 PSG(phosphosilicate glass) 또는 BSG(borosilicate glass)와 같은 보호층(protection layer, 12)이 불가피하게 제거될 수 있으나, 보호층(12) 하부에 형성된 에미터층(emitter layer, 13)은 데미지를 입으면 안되므로 선택적 식각이 필요하다.
이와 같이 랩 어라운드(11)를 선택적으로 식각하면서도 보호층(12) 하부의 에미터층(13)을 보호하여야 함에도 불구하고, 기존의 식각 장치나 식각 장치에 포함되는 롤러는 랩 어라운드(11)의 선택적 식각의 필요성을 전혀 고려하지 않는 문제가 있다.
대한민국 공개특허 제10-2008-0059834호 대한민국 공개특허 제10-2021-0050584호
본 발명의 다양한 실시예들은 기판의 이송 위치에 따라 롤러의 그루브를 상이하게 형성함으로써 기판의 랩 어라운드 영역의 식각 속도를 상대적으로 상승시켜 랩 어라운드를 선택적으로 제거하고, 나머지 영역의 식각 속도를 상대적으로 하락시켜 에미터층을 보호할 수 있는 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치를 제공하기 위함이다.
본 발명의 다양한 실시예들에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 사항들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 이하 설명할 본 발명의 다양한 실시예들로부터 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 고려될 수 있다.
본 발명의 일 실시예로, 기판을 이송하기 위한 롤러로서, 롤러 중심축; 및 상기 롤러 중심축을 감싸도록 구비되는 롤러 본체를 포함하고, 상기 롤러 본체의 바깥면에는 서로가 제1 피치 간격을 갖는 복수의 제1 그루브를 포함하는 제1 그루브 패턴 및 서로가 제2 피치 간격을 갖는 복수의 제2 그루브를 포함하는 제2 그루브 패턴이 형성되는, 롤러이다.
예를 들어, 상기 제1 피치 간격은 상기 제2 피치 간격 보다 넓을 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 그루브 패턴 및 상기 제2 그루브 패턴은 상기 롤러 본체의 길이 방향을 따라 상기 바깥면에 교대로 형성되고, 여기서 상기 롤러 본체의 길이 방향은 상기 기판의 이송 방향과 직교할 수 있다.
예를 들어, 상기 기판의 규격에 따라 상기 제1 그루브 패턴의 길이와 상기 제2 그루브 패턴의 길이가 조절될 수 있다.
예를 들어, 상기 롤러의 일부는 상기 기판을 식각하기 위한 약액에 침지되도록 구비될 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 피치 간격이 상기 제2 피치 간격 보다 넓은 것에 기초하여, 상기 제1 그루브 패턴에 접촉하는 약액의 양은 상기 제2 그루브 패턴에 접촉하는 약액의 양 보다 많을 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 그루브 패턴은 상기 기판의 가장자리 영역 중 일측 및 상기 일측과 상기 기판의 이송 방향을 기준으로 대향되는 타측에만 대응되도록 구비될 수 있다.
예를 들어, 상기 일측 및 상기 타측에 대한 약액의 식각 속도는 상기 기판의 가장자리 영역을 제외한 나머지 영역에 대한 약액의 식각 속도 보다 빠를 수 있다.
예를 들어, 상기 기판의 가장자리 영역이 완전히 식각될 때까지 상기 나머지 영역이 완전히 식각되지 않을 수 있다.
본 개시의 다른 일 실시예로서, 수조; 및 상기 수조에 결합되어 회전하면서 기판을 이송하는 롤러를 포함하고, 상기 롤러는: 롤러 중심축; 및 상기 롤러 중심축을 감싸도록 구비되는 롤러 본체를 포함하고, 상기 롤러 본체의 바깥면에는 서로가 제1 피치 간격을 갖는 복수의 제1 그루브를 포함하는 제1 그루브 패턴 및 서로가 제2 피치 간격을 갖는 복수의 제2 그루브를 포함하는 제2 그루브 패턴이 형성되는, 식각 장치이다.
예를 들어, 상기 제1 피치 간격은 상기 제2 피치 간격 보다 넓을 수 있다. 
상술한 본 발명의 다양한 실시예들은 본 발명의 바람직한 예들 중 일부에 불과하며, 본 발명의 다양한 실시예들의 기술적 특징들이 반영된 여러 가지 예들이 당해 기술분야의 통상적인 지식을 가진 자에 의해 이하 상술할 상세한 설명을 기반으로 도출되고 이해될 수 있다.
본 발명의 다양한 실시예들에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 다양한 실시예들에 따르면, 본 발명의 다양한 실시예들은 기판의 이송 위치에 따라 롤러의 그루브를 상이하게 형성함으로써 기판의 랩 어라운드 영역의 식각 속도를 상대적으로 상승시켜 랩 어라운드를 선택적으로 제거하고, 나머지 영역의 식각 속도를 상대적으로 하락시켜 에미터층을 보호할 수 있는 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치가 제공될 수 있다.
이하에 첨부되는 도면들은 본 발명의 다양한 실시예들에 관한 이해를 돕기 위한 것으로, 상세한 설명과 함께 본 발명의 다양한 실시예들을 제공한다. 다만, 본 발명의 다양한 실시예들의 기술적 특징이 특정 도면에 한정되는 것은 아니며, 각 도면에서 발명하는 특징들은 서로 조합되어 새로운 실시예로 구성될 수 있다. 각 도면에서의 참조 번호(reference numerals)들은 구조적 구성요소(structural elements)를 의미한다.
도 1a 및 도 1b는 기판에 형성된 랩 어라운드를 설명하기 위한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 식각 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤러의 사시도이다.
도 4는 도 3의 A 영역의 부분 확대도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 식각 장치가 기판을 이송 및 식각하는 것을 설명하기 위한 평면도이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다른 일 실시예들에 따른 식각 장치를 도시한 것이다.
도 7은 수조, 롤러 및 하우징의 체결 방식을 설명하기 위한 것이다.
이하, 본 발명에 따른 구현들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부된 도면과 함께 이하에 발명될 상세한 설명은 본 발명의 예시적인 구현을 설명하고자 하는 것이며, 본 발명이 실시될 수 있는 유일한 구현 형태를 나타내고자 하는 것이 아니다. 이하의 상세한 설명은 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해서 구체적 세부사항을 포함한다. 그러나 당업자는 본 발명이 이러한 구체적 세부사항 없이도 실시될 수 있음을 안다.
제1 또는 제2 등의 용어를 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만, 예를 들어 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.
본 발명의 다양한 실시예에서, “/” 및 “,”는 “및/또는”을 나타내는 것으로 해석되어야 한다. 예를 들어, “A/B”는 “A 및/또는 B”를 의미할 수 있다. 나아가, “A, B”는 “A 및/또는 B”를 의미할 수 있다. 나아가, “A/B/C”는 “A, B 및/또는 C 중 적어도 어느 하나”를 의미할 수 있다. 나아가, “A, B, C”는 “A, B 및/또는 C 중 적어도 어느 하나”를 의미할 수 있다.
이하, 본 발명에서는 기판(S)의 랩 어라운드(11)(wrap around, 11)를 제거하기 위한 롤러(120) 및 이를 포함하는 식각 장치(10)의 다양한 실시예들에 대하여 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 식각 장치의 단면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 식각 장치(10)는 폴리실리콘 박막을 증착하는 과정에서 기판(S)의 전면(F)과 주변부에 발생하는 랩 어라운드(11)를 식각 처리하기 위한 장치이다. 식각 장치(10)는 기판(S)의 전면(F)을 단면 식각(single-side etching)한다. 편의상 기판(S)의 전면(F)은 기판(S)의 일면으로 칭해질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 식각 장치(10)는 수조(110) 및 롤러(120)를 포함한다.
수조(110)는 약액(L)을 수용할 수 있는 다양한 형상을 가질 수 있다. 수조(110)는 예를 들어 공급 파이프와 같은 다양한 약액(L) 공급 수단과 연결되어 약액(L)을 공급받아 수조(110) 내부에 수용한다. 편의상 도 2에서는 수조(110) 내부에 약액(L)이 직접적으로 공급 및 수용되는 것으로 도시되었으나, 후술할 본 발명의 다양한 실시예들에서는 수조(110) 내부에 약액(L)이 직접적으로 공급 및 수용되는 형태가 아닐 수도 있으므로 롤러(120)가 적용되는 수조(110)가 도 2에 한정되는 것은 아니라고 할 것이다.
예를 들어, 수조(110)의 밑면은 길이 방향을 따라 소정 각도 경사지게 형성될 수 있다. 따라서, 수조(110)에 수용된 약액(L)은 수조(110)의 경사진 부분으로 흘러 모여서 다시 약액(L) 공급 수단으로 순환될 수 있다.
롤러(120)는 수조(110)에 결합되어 회전하면서 기판(S)을 이송한다. 롤러(120)는 기판(S)의 이송 방향(Md)을 따라 복수 개가 구비된다. 롤러(120)의 일부는 기판(S)을 식각하기 위한 약액(L)에 침지되도록 구비될 수 있다.
본 발명의 다양한 실시예들에서, 롤러(120)는 롤러(120)의 바깥면(외주면)에 그루브(groove)가 형성된 그루브 롤러(120)일 수 있다. 이하에서는, 롤러(120)에 대하여 보다 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤러의 사시도이고, 도 4는 도 3의 A 영역의 부분 확대도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 롤러(120)는 롤러 중심축(121) 및 롤러 본체(122)를 포함한다.
롤러 중심축(121)의 일부 영역은 롤러 본체(122)에 의해 감싸지며, 이에 따라 롤러 본체(122)에 의해 감싸지는 제1 영역과 감싸지지 않는 제2 영역을 포함할 수 있다. 제2 영역에 해당하는 롤러 중심축(121)의 일 측은 수조(110)에 결합되며, 타 측은 회전 기어(미도시)에 맞물려 구동 장치로부터 회전력을 전달 받아 롤러(120)를 회전시킨다.
롤러 본체(122)는 롤러 중심축(121)을 감싸도록 구비된다.
롤러 본체(122)의 바깥면에는 서로가 제1 피치 간격을 갖는 복수의 제1 그루브를 포함하는 제1 그루브 패턴(123) 및 서로가 제2 피치 간격을 갖는 복수의 제2 그루브를 포함하는 제2 그루브 패턴(124)이 형성된다.
제1 그루브 패턴(123) 및 제2 그루브 패턴(124)은 롤러 본체(122)의 길이 방향(Ld)을 따라 바깥면에 교대로 형성된다. 롤러 본체(122)의 길이 방향(Ld)은 기판(S)의 이송 방향(Md)과 직교한다. 이때, 롤러 중심축(121)이 돌출되는 롤러 본체(122)의 양 단에는 제1 그루브 패턴(123)이 형성될 수 있다.
제1 그루브 패턴(123) 및 제2 그루브 패턴(124)의 개수는 롤러(120)가 이송하는 기판(S)의 개수에 따라 설정될 수 있음은 당연하며, 도 3에 도시된 개수에 한정되지 않는다.
도 4를 참조하면, 제1 그루브 패턴(123)의 제1 피치 간격(p1)은 제2 그루브 패턴(124)의 제2 피치 간격(p2) 보다 넓게 형성될 수 있다. 따라서, 동일한 크기의 범위 내라고 하더라도 제1 그루브 패턴(123)에 포함되는 제1 그루브의 개수가 제2 그루브 패턴(124)에 포함되는 제2 그루브의 개수보다 더 적을 수 있다.
제1 그루브 패턴(123)의 길이(l1) 및 제2 그루브 패턴(124)의 길이(l2)는 기판의 규격에 따라 조절될 수 있다.
예를 들어, 기판의 규격에 따라 제1 그루브 패턴(123)의 길이(l1)는 제2 그루브 패턴(124)의 길이(l2)보다 짧게 형성되거나, 제1 그루브 패턴(123)의 길이(l1)와 제2 그루브 패턴(124)의 길이(l2)가 동일하게 형성되거나, 제1 그루브 패턴(123)의 길이(l1)가 제2 그루브 패턴(124)의 길이(l2)보다 길게 형성될 수도 있다.
롤러(120)는 상술한 제1 그루브 패턴(123) 및 제2 그루브 패턴(124)이 형성됨에 따라, 기판(S)이 이송될 때 기판(S)에 형성된 랩 어라운드(11)를 보다 선택적으로 식각할 수 있다. 롤러(120)에 기초한 기판(S)의 선택적 식각에 대하여 도 5를 통해 보다 구체적으로 설명한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 식각 장치가 기판을 이송 및 식각하는 것을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5를 참조하면, 복수의 기판(S)은 식각 장치(10)의 롤러(120)를 통해 이송되며, 수조(110)에 담긴 약액(L)을 통해 식각된다. 도 5와 같은 평면도에서 기판(S)을 바라볼 때, 기판(S)은 가장자리 영역과 가장자리 영역을 제외한 나머지 영역으로 구분될 수 있다. 여기서, 기판(S)의 가장자리 영역은 일측(EA1)과 기판(S)의 이송 방향(Md)을 기준으로 대향되는 타측(EA2)을 포함할 수 있다.
롤러(120)는 상술한 바와 같이 제1 그루브 패턴(123) 및 제2 그루브 패턴(124)이 롤러 본체(122)의 길이 방향(Ld)을 따라 교대로 형성되며, 제1 그루브 패턴(123)은 기판(S)의 가장자리 영역은 일측(EA1)과 타측(EA2)을 이송하도록 구비될 수 있고, 제2 그루브 패턴(124)은 기판(S)의 나머지 영역을 이송하도록 구비될 수 있다. 다시 말해서, 제1 그루브 패턴(123)은 기판(S)의 가장자리 영역 중 일측(EA1) 및 타측(EA2)에만 대응되도록 구비될 수 있다.
제1 그루브 패턴(123)의 제1 피치 간격(p1)이 제2 피치 간격(p2) 보다 넓은 것에 기초하여, 제1 그루브 패턴(123)에 접촉하는 약액(L)의 양은 제2 그루브 패턴(124)에 접촉하는 약액(L)의 양 보다 상대적으로 많다. 따라서, 특히 기판(S)에서 랩 어라운드(11)가 형성된 가장자리 영역 중 일측(EA1) 및 타측(EA2)에 대한 약액(L)의 식각 속도는 기판(S)의 가장자리 영역을 제외한 나머지 영역에 대한 약액(L)의 식각 속도 보다 빠르다. 또한, 기판의 가장자리 영역이 완전히 식각될 때까지 나머지 영역이 완전히 식각되지 않을 수 있다.
또한, 제2 그루브 패턴(124)에 접촉하는 약액(L)의 양이 상대적으로 적으므로, 기판(S)의 나머지 영역에 대응되는 PSG(phosphosilicate glass) 또는 BSG(borosilicate glass)와 같은 보호층(protection layer, 12)과 보호층(12) 하부에 형성된 에미터층(emitter layer, 13)에 대한 식각률을 상대적으로 저하시켜 랩 어라운드(11)를 선택적으로 식각하면서도 보호층(12)은 보전될 수 있다.
이하에서는, 상술한 본 발명의 롤러(120)가 적용될 수 있는 식각 장치(10)에 대한 다양한 실시예들에 대하여 발명한다. 다만, 이러한 실시예들은 예시적인 것에 불과하며 본 발명의 롤러(120)는 본 명세서에 발명된 실시예들 뿐만 아니라, 기판(S) 식각을 위한 다양한 식각 장치(10)와 관련된 실시예들에 적용될 수 있을 것이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다른 일 실시예들에 따른 식각 장치를 도시한 것이다.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 식각 장치(10)는 수조(110) 및 롤러(120)에 더하여 하우징(130)을 추가로 포함할 수 있다.
이 경우, 수조(110)가 수용하게 되는 약액(L)은 하우징(130)에 공급된 약액(L)이 기판(S)을 단면 식각하는 과정에서 하우징(130)으로부터 넘쳐 흐르는 것일 수 있다. 즉, 수조(110)는 약액(L) 공급 수단으로부터 약액(L)을 직접적으로 공급받아 수용하는 것이 아니라 하우징(130)으로부터 넘쳐 흐르는 약액(L)을 수용한다.
하우징(130)은 롤러(120)의 바깥 면에 구비되며, 복수의 롤러(120) 각각에 대응되도록 복수의 하우징(130)이 구비된다. 하우징(130)의 일 단과 타 단은 수조(110)에 결합될 수 있다.
하우징(130)은 롤러(120)의 바깥 면의 일부를 감싸도록 구비된다. 하우징(130)에는 롤러(120)의 바깥 면의 일부를 감쌀 수 있도록 개구부가 형성될 수 있다. 이때, 하우징(130)의 하단으로부터의 최대 높이(H)는 기판(S) 및 롤러(120)의 중심을 지나는 수평축 사이에 위치한다. 따라서, 하우징(130)에 수용될 수 있는 약액(L)의 레벨이 기판(S)과 최대한 근접할 수 있고, 이에 따라 랩 어라운드(11) 제거를 위한 약액(L)의 기판(S)에 대한 접촉 면적이 증가할 수 있다.
이때, 하우징(130)의 하단으로부터의 최대 높이가 기판(S) 및 롤러(120)의 수평축 사이에 위치함은 하우징(130)의 개구부에 접하는 하우징(130)의 단부가 기판(S) 및 롤러(120)의 수평축 사이에 위치하는 것뿐만 아니라, 지면을 기준으로 하우징(130)에서 가장 높은 부분이 기판(S) 및 롤러(120)의 수평축 사이에 위치하는 모든 예들을 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다.
하우징(130)은 상술한 바와 같이 롤러(120)를 감싸면서 하단으로부터의 최대 높이가 기판(S) 및 롤러(120)의 수평축 사이에 위치하는 다양한 형상을 가질 수 있다.
예를 들어, 하우징(130)은 도 6a와 같이 원통 형상을 횡 방향으로 커팅한 형상이거나, 도 6b와 같이 사각통 형상을 횡 방향으로 커팅한 형상일 수 있으며, 이에 제한되지 않는다.
하우징(130)에는 기판(S)을 습식 처리하기 위한 약액(L)이 포함된다. 예를 들어, 약액(L)은 수산화칼륨(KOH) 등과 같은 알칼리 용액일 수 있다. 약액(L)은 별도의 가열 수단을 통해 약 65도 내지 85도의 고온 상태일 수 있다.
상술한 도 6a 및 도 6b에 따른 식각 장치(10)는 고온 상태의 알칼리 약액(L)이 랩 어라운드(11) 식각을 위해 사용되더라도 식각 장치(10)에 포함된 수조(110), 롤러(120) 및 하우징(130)의 열 팽창이 방지될 수 있다. 기존의 식각 장치(10)는 수조(110) 내부 전체에 약액(L)을 공급시켜 단면 식각을 수행하였으나, 본 발명에 따른 식각 장치(10)의 경우 수조(110)는 하우징(130)으로부터 넘쳐 흐르는 일부 약액(L)만 수용 및 순환시키도록 구비되며, 롤러(120)를 감싸도록 구비된 하우징(130)에 공급된 약액(L)으로 식각을 수행하므로 전체 식각 공정에 사용되는 약액(L)의 량이 줄어듦과 동시에 식각 장치(10)의 열 팽창이 방지될 수 있다. 또한, 식각 장치(10)는 상술한 롤러(120)에 형성된 제1 그루브 패턴(123) 및 제2 그루브 패턴(124)에 기초한 랩 어라운드(11)의 선택적 식각 및 보호층의 보전도 가능하다.
이하에서는, 상술한 식각 장치(10)에 포함되는 다양한 구성들의 체결 방식에 대하여 설명한다.
도 7은 수조, 롤러 및 하우징의 체결 방식을 설명하기 위한 것이다.
도 7을 참조하면, 일부 실시예에서는 수조(110)에 형성된 제1 체결 홈(111)에 하우징(130), 하부 체결 부재(141), 롤러(120) 및 상부 체결 부재(142) 순서로 체결될 수 있다.
또는, 일부 실시예에서는 하부 체결 부재(141)에는 제2 체결 홈(미도시)이 형성될 수 있다. 제2 체결 홈(미도시)이 형성된 경우, 제2 체결 홈(미도시)에 하우징(130)이 삽입된 상태로 제1 체결 홈(111)에 하부 체결 부재(141), 롤러(120) 및 상부 체결 부재(142) 순서로 체결될 수 있다.
또는, 일부 실시예에서는 수조(110)에 제3 체결 홈(미도시)이 형성될 수 있다. 제3 체결 홈(미도시)이 형성된 경우, 하우징(130)은 제3 체결 홈(미도시)에 체결될 수 있다.
상술한 설명에서 제안 방식에 대한 일례들 또한 본 발명의 구현 방법들 중 하나로 포함될 수 있으므로, 일종의 제안 방식들로 간주될 수 있음은 명백한 사실이다. 또한, 상기 설명한 제안 방식들은 독립적으로 구현될 수도 있지만, 일부 제안 방식들의 조합 (혹은 병합) 형태로 구현될 수도 있다.
10: 식각 장치
110: 수조 120: 롤러
130: 하우징
121: 롤러 중심축 122: 롤러 본체
123: 제1 그루브 패턴 124: 제2 그루브 패턴

Claims (11)

  1. 기판을 이송하기 위한 롤러로서,
    롤러 중심축; 및
    상기 롤러 중심축을 감싸도록 구비되는 롤러 본체를 포함하고,
    상기 롤러 본체의 바깥면에는 서로가 제1 피치 간격을 갖는 복수의 제1 그루브를 포함하는 제1 그루브 패턴 및 서로가 제2 피치 간격을 갖는 복수의 제2 그루브를 포함하는 제2 그루브 패턴이 형성되는,
    롤러.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 피치 간격은 상기 제2 피치 간격 보다 넓은,
    롤러.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 그루브 패턴 및 상기 제2 그루브 패턴은 상기 롤러 본체의 길이 방향을 따라 상기 바깥면에 교대로 형성되고, 여기서 상기 롤러 본체의 길이 방향은 상기 기판의 이송 방향과 직교하는,
    롤러.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기판의 규격에 따라 상기 제1 그루브 패턴의 길이와 상기 제2 그루브 패턴의 길이가 조절되는,
    롤러.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 롤러의 일부는 상기 기판을 식각하기 위한 약액에 침지되도록 구비되는,
    롤러.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 피치 간격이 상기 제2 피치 간격 보다 넓은 것에 기초하여, 상기 제1 그루브 패턴에 접촉하는 약액의 양은 상기 제2 그루브 패턴에 접촉하는 약액의 양 보다 많은,
    롤러.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제1 그루브 패턴은 상기 기판의 가장자리 영역 중 일측 및 상기 일측과 상기 기판의 이송 방향을 기준으로 대향되는 타측에만 대응되도록 구비되는,
    롤러.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 일측 및 상기 타측에 대한 약액의 식각 속도는 상기 기판의 가장자리 영역을 제외한 나머지 영역에 대한 약액의 식각 속도 보다 빠른,
    롤러.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 기판의 가장자리 영역이 완전히 식각될 때까지 상기 나머지 영역이 완전히 식각되지 않는,
    롤러.
  10. 수조; 및
    상기 수조에 결합되어 회전하면서 기판을 이송하는 롤러를 포함하고,
    상기 롤러는:
    롤러 중심축; 및
    상기 롤러 중심축을 감싸도록 구비되는 롤러 본체를 포함하고,
    상기 롤러 본체의 바깥면에는 서로가 제1 피치 간격을 갖는 복수의 제1 그루브를 포함하는 제1 그루브 패턴 및 서로가 제2 피치 간격을 갖는 복수의 제2 그루브를 포함하는 제2 그루브 패턴이 형성되는,
    식각 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 피치 간격은 상기 제2 피치 간격 보다 넓은,
    식각 장치.
KR1020220031570A 2022-03-14 2022-03-14 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치 KR20230134344A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220031570A KR20230134344A (ko) 2022-03-14 2022-03-14 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220031570A KR20230134344A (ko) 2022-03-14 2022-03-14 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230134344A true KR20230134344A (ko) 2023-09-21

Family

ID=88189384

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220031570A KR20230134344A (ko) 2022-03-14 2022-03-14 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20230134344A (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080059834A (ko) 2006-12-26 2008-07-01 엘지디스플레이 주식회사 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙
KR20210050584A (ko) 2018-09-27 2021-05-07 코닝 인코포레이티드 기판 처리 장치 및 방법들

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080059834A (ko) 2006-12-26 2008-07-01 엘지디스플레이 주식회사 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙
KR20210050584A (ko) 2018-09-27 2021-05-07 코닝 인코포레이티드 기판 처리 장치 및 방법들

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10483409B2 (en) Solar cell and method for manufacturing the same
CN102859709B (zh) 背面接触光伏电池的制造方法以及由该方法制造的背面接触光伏电池
KR102482564B1 (ko) 이온 주입을 사용한 태양 전지 이미터 영역 제조
EP2296182A2 (en) Solar cell and method for manufacturing the same
WO2007059577A1 (en) Metallisation method for thin-film semiconductor structures
US7446051B2 (en) Method of etching silicon
US20100024864A1 (en) Solar cell, method of manufacturing the same, and solar cell module
KR20080091104A (ko) 저면적의 스크린 프린트 금속 접촉구조물 및 방법
KR20110063546A (ko) 직접 패턴식 핀 홀 없는 마스킹 층을 사용하여 태양 전지를 제조하기 위한 방법
US11824135B2 (en) Method of manufacturing solar cell
US9559228B2 (en) Solar cell with doped groove regions separated by ridges
JP2012049424A (ja) 太陽電池及びその製造方法
KR20230134344A (ko) 기판의 랩 어라운드를 제거하기 위한 롤러 및 이를 포함하는 식각 장치
CN100435358C (zh) 通过回流调节掩模
KR101153377B1 (ko) 개선된 후면구조를 구비한 후면접합 태양전지 및 그 제조방법
JP2011233656A (ja) 半導体装置の製造方法
KR102646593B1 (ko) 롤러에 하우징이 구비되는 식각 장치 및 식각 공정
JP5874675B2 (ja) テクスチャ形成方法及び太陽電池の製造方法
RU2469439C1 (ru) Способ изготовления солнечного элемента с двухсторонней чувствительностью
KR102660300B1 (ko) 태양 전지 제조 방법
CN103403874A (zh) 多重太阳能电池及其制造方法
CN112599618A (zh) 一种太阳能电池及其制作方法
CN107134456B (zh) 一种半导体存储器件及其制备方法
JP2007088289A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR100291190B1 (ko) 반도체 기억소자 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal