KR20230133907A - 표면 처리제 - Google Patents

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KR20230133907A
KR20230133907A KR1020237029018A KR20237029018A KR20230133907A KR 20230133907 A KR20230133907 A KR 20230133907A KR 1020237029018 A KR1020237029018 A KR 1020237029018A KR 20237029018 A KR20237029018 A KR 20237029018A KR 20230133907 A KR20230133907 A KR 20230133907A
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쇼타 시부타니
신고 오쿠노
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다이킨 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, (A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 (B) 실록산 폴리머를 포함하는 표면 처리제이며, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 하기 식 (1) 또는 (2)

로 표시되는 공중합체이고, 상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량은, 350 초과 10,000 미만인, 표면 처리제를 제공한다.

Description

표면 처리제
본 개시는, 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 실록산 폴리머를 포함하는 표면 처리제에 관한 것이다.
어느 종류의 불소 함유 화합물은, 기재의 표면 처리에 사용하면, 우수한 발수성, 발유성, 방오성 등을 제공할 수 있는 것이 알려져 있다. 특허문헌 1에는, 마찰 내구성이 우수한 표면 처리층을 부여할 수 있는 불소 함유 폴리머 및 규소 함유 폴리머를 포함하는 조성물이 개시되어 있다.
일본 특허 공개 제2014-198850호 공보
상기한 특허문헌 1에 기재된 조성물은, 기재에 발수 발유성 등의 기능을 부여할 수 있지만, 점차 높아지는 표면 미끄럼성에 대한 요구에 응하기에는 충분하지 않은 경우가 있다.
본 개시는, 기재에, 발수 발유성에 더하여, 높은 표면 미끄럼성을 부여하고, 또한 우수한 용제에 대한 용해성을 갖는 불소 함유 폴리머 및 규소 함유 폴리머를 포함하는 표면 처리제를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시는, 이하의 양태를 포함한다.
[1] (A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 (B) 실록산 폴리머를 포함하는 조성물이며,
상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 하기 식 (1) 또는 (2):
[식 중:
RF1은, Rf1-RF-Oq-이고;
RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이고;
Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이고;
Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고;
RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는, 0 또는 1이고;
q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;
R4는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, R4a 또는 R4b이고;
R4a는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖는 2가의 유기기이고;
R4b는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖지 않는 2가의 유기기이고;
상기 가교성기는, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합, 환상 에테르기, 수산기, 티올기, 아미노기, 아지드기, 질소 함유 복소환기, 이소시아네이트기, 할로겐 원자, 인산 함유기, 또는 실란 커플링기를 포함하는 기, 혹은 이들의 전구체기이고;
n은 1 내지 100의 정수이고;
Xa는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고;
Xb는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고;
Ra는, 각각 독립적으로, 알킬, 페닐, -SRa1, -ORa2, -NRa3 2,
이고;
Ra1, Ra2, Ra3, Ra4, Ra5 및 Ra6은, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 페닐기이고;
Ra7은, 수소 또는 할로겐 원자이다.]
으로 표시되는 공중합체이고,
상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량은, 350 초과 10,000 미만인, 조성물.
[2] RF는, 각각 독립적으로, 식:
[식 중, RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
으로 표시되는 기인, 상기 [1]에 기재된 조성물.
[3] RFa는, 불소 원자인, 상기 [2]에 기재된 조성물.
[4] RF는, 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4) 또는 (f5):
[식 중, d는 1 내지 200의 정수이고, e는, 0 또는 1이다.],
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이고;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고;
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
g는, 2 내지 100의 정수이다.],
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
으로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[5] R4는, R4a인, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[6] R4a는, 하기 식:
[식 중:
R31은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 알킬기이고;
R32는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 염소 원자, 불소 원자, 또는 불소에 의해 치환되어 있어도 되는 알킬기이고;
R33은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기이고;
Y1은, 단결합, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -OC(=O)-, -NHC(=O)-, -O-, -N(Rc)-, 방향환, 치환기를 갖는 방향환 또는 카르바졸릴렌이고;
Rc는, 유기기이고,
Y2는, 단결합 또는 주쇄의 원자수가 1 내지 16인 링커이다.]
으로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[7] 상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 비닐기, 알릴기, 치환되어 있어도 되는 아크릴로일기, 신나모일기, 2,4-헥사디에노일기, 비닐에테르기, 수산기, 옥세타닐기, 이소시아네이트기, 카테콜기, 티올기, 아미노기, 알킬아미노기, 디알킬아미노기, 아지드기, 인산 함유기, 카르복실기, 이미다졸릴기, 트리아졸릴기, 벤조트리아졸릴기, 테트라졸릴기, 할로겐 원자, 또는 실란 커플링기, 혹은 이들의 전구체기인, 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[8] 상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기인, 상기 [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[9] n은, 2 내지 50의 정수인, 상기 [1] 내지 [8] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[10] 상기 실록산 폴리머는, 하기 식:
[식 중:
R21은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R22는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R23은, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R24는, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R25는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
R26은, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
p는, 임의의 정수이다.]
으로 표시되는 실록산 폴리머인, 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[11] R25 및 R26은, C1-6 알킬기인, 상기 [10]에 기재된 조성물.
[12] R25는 C1-6 알킬기이고,
R26은, -R27-R28이고,
R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이고,
R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기인,
상기 [10]에 기재된 조성물.
[13] R25 및 R26은, -R27-R28이고,
R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이고,
R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기인,
상기 [10]에 기재된 조성물.
[14] 상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량은, 800 내지 8,000인, 상기 [1] 내지 [13] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[15] 상기 실록산 폴리머의 함유량은, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 100질량부에 대하여 1 내지 300질량부인, 상기 [1] 내지 [14] 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
[16] 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 포함하는 표면 처리제.
[17] 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 조성물, 상기 [16]에 기재된 표면 처리제; 및
매트릭스를 형성하는 조성물
을 포함하는, 경화성 조성물.
[18] 상기 매트릭스를 형성하는 조성물은, 아크릴 수지, 또는 에폭시 수지인, 상기 [17]에 기재된 경화성 조성물.
[19] 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 조성물, 상기 [16]에 기재된 표면 처리제, 및／또는 상기 [17] 또는 [18]에 기재된 경화성 조성물에 의해 형성된 막.
[20] 기재와, 해당 기재의 표면에 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 조성물, 상기 [16]에 기재된 표면 처리제, 및／또는 상기 [17] 또는 [18]에 기재된 경화성 조성물에 의해 형성된 층을 포함하는 물품.
[21] 상기 물품이 광학 부재인, 상기 [20]에 기재된 물품.
[22] LiDAR 커버 부재인, 상기 [20]에 기재된 물품.
[23] 센서 부재인, 상기 [20]에 기재된 물품.
[24] 인스트루먼트 패널 커버 부재인, 상기 [20]에 기재된 물품.
[25] 자동차 내장 부재인, 상기 [20]에 기재된 물품.
본 개시의 표면 처리제는, 기제에 발수 발유성에 더하여, 높은 표면 미끄럼성을 부여하고, 또한 우수한 용제에 대한 용해성을 갖는다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「1가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 1가의 기를 의미한다. 1가의 유기기로서는, 특별히 기재가 없는 한, 탄화수소기 또는 그의 유도체일 수 있다. 탄화수소기의 유도체란, 탄화수소기의 말단 또는 분자쇄 중에, 1개 또는 그 이상의 N, O, S, Si, 아미드, 술포닐, 실록산, 카르보닐, 카르보닐옥시 등을 갖고 있는 기를 의미한다. 또한, 단순히 「유기기」라고 나타내는 경우, 1가의 유기기를 의미한다. 또한, 「2가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 2가의 기를 의미한다. 이러한 2가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 유기기로부터 또한 1개의 수소 원자를 탈리시킨 2가의 기를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」란, 탄소 및 수소를 포함하는 기이며, 탄화수소로부터 1개의 수소 원자를 탈리시킨 기를 의미한다. 이러한 탄화수소기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-20 탄화수소기, 예를 들어 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 등을 들 수 있다. 상기 「지방족 탄화수소기」는, 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상 중 어느 것이어도 되고, 포화 또는 불포화 중 어느 것이어도 된다. 또한, 탄화수소기는, 1개 또는 그 이상의 환 구조를 포함하고 있어도 된다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」의 치환기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 할로겐 원자, 1개 또는 그 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, C2-6 알키닐기, C3-10 시클로알킬기, C3-10 불포화 시클로알킬기, 5 내지 10원의 헤테로시클릴기, 5 내지 10원의 불포화 헤테로시클릴기, C6-10 아릴기 및 5 내지 10원의 헤테로아릴기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 기를 들 수 있다.
[조성물]
이하, 본 개시의 조성물에 대해서 설명한다.
본 개시의 조성물은, (A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 (B) 실록산 폴리머를 포함한다.
[(A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머]
상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 하기 식 (1) 또는 (2):
[식 중:
RF1은, Rf1-RF-Oq-이고;
RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이고;
Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이고;
Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고;
RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는, 0 또는 1이고;
q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;
R4는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, R4a 또는 R4b이고;
R4a는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖는 2가의 유기기이고;
R4b는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖지 않는 2가의 유기기이고;
상기 가교성기는, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합, 환상 에테르기, 수산기, 티올기, 아미노기, 아지드기, 질소 함유 복소환기, 이소시아네이트기, 할로겐 원자, 인산 함유기, 또는 실란 커플링기를 포함하는 기, 혹은 이들의 전구체기이고;
n은 1 내지 100의 정수이고;
Xa는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고;
Xb는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고;
Ra는, 각각 독립적으로, 알킬, 페닐, -SRa1, -ORa2, -NRa3 2,
이고;
Ra1, Ra2, Ra3, Ra4, Ra5 및 Ra6은, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 페닐기이고;
Ra7은, 수소 또는 할로겐 원자이다.]
으로 표시되는 공중합체이다.
상기 식 (1)에 있어서, RF1은, Rf1-RF-Oq-이다.
상기 식 (2)에 있어서, RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이다.
상기 식에 있어서, Rf1은, 각각 독립적으로, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이다.
상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기에 있어서의 「C1-16 알킬기」는 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6 알킬기, 특히 C1-3 알킬기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-6 알킬기, 특히 직쇄의 C1-3 알킬기이다.
상기 Rf1은, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C1-16 알킬기이고, 보다 바람직하게는 CF2H-C1-15 퍼플루오로알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 C1-16 퍼플루오로알킬기이다.
상기 C1-16 퍼플루오로알킬기는 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-3 퍼플루오로알킬기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF3, -CF2CF3, 또는 -CF2CF2CF3이다.
상기 식에 있어서, Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이다.
상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기에 있어서의 「C1-6 알킬렌기」는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-3 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-3 알킬렌기이다.
상기 Rf2는, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C1-6 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 C1-6 퍼플루오로알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 C1-3 퍼플루오로알킬렌기이다.
상기 C1-6 퍼플루오로알킬렌기는 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-3 퍼플루오로알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF2-, -CF2CF2-, 또는 -CF2CF2CF2-이다.
상기 식에 있어서, p는, 0 또는 1이다. 하나의 양태에 있어서, p는 0이다. 다른 양태에 있어서 p는 1이다.
상기 식에 있어서, q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다. 하나의 양태에 있어서, q는 0이다. 다른 양태에 있어서 q는 1이다.
상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이다.
RF는, 바람직하게는 식:
[식 중:
RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이다. a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
으로 표시되는 기이다.
RFa는, 바람직하게는 수소 원자 또는 불소 원자이고, 보다 바람직하게는, 불소 원자이다.
a, b, c, d, e 및 f는, 바람직하게는, 각각 독립적으로, 0 내지 100의 정수여도 된다.
a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 60 이하이고, 예를 들어 50 이하 또는 30 이하여도 된다.
이들 반복 단위는, 직쇄상이어도, 분지쇄상이어도 된다. 예를 들어, 상기 반복 단위는, -(OC6F12)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC5F10)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 -(OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC3F6)-(즉, 상기 식 중, RFa는 불소 원자임)는, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 -(OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 -(OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다.
하나의 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 직쇄상이다. 상기 반복 단위를 직쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 표면 미끄럼성, 마찰 내구성 등을 향상시킬 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 분지쇄상이다. 상기 반복 단위를 분지쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 운동 마찰 계수를 크게 할 수 있다.
하나의 양태에 있어서, RF는, 각각 독립적으로, 하기 식 (f1) 내지 (f5) 중 어느 것으로 표시되는 기이다.
[식 중, d는, 1 내지 200의 정수이고, e는, 0 또는 1이다.];
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, e 및 f는, 각각 독립적으로 1 이상 200 이하의 정수이고,
c, d, e 및 f의 합은 2 이상이고,
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.];
[식 중, R6은 OCF2 또는 OC2F4이고,
R7은 OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
g는, 2 내지 100의 정수이다.];
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
상기 식 (f1)에 있어서, d는, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 100, 더욱 바람직하게는 15 내지 50, 예를 들어 25 내지 35의 정수이다. 하나의 양태에 있어서, e는 0이다. 다른 양태에 있어서, e는 1이다. 상기 식 (f1)은, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e- 또는 -(OCF(CF3)CF2)d-(OCF(CF3))e-로 표시되는 기이고, 보다 바람직하게는, -(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-로 표시되는 기이다.
상기 식 (f2)에 있어서, e 및 f는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 5 이상 200 이하, 보다 바람직하게는 10 내지 200의 정수이다. 또한, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. 하나의 양태에 있어서, 상기 식 (f2)는, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-로 표시되는 기이다. 다른 양태에 있어서, 식 (f2)는 -(OC2F4)e-(OCF2)f-로 표시되는 기여도 된다.
상기 식 (f3)에 있어서, R6은, 바람직하게는 OC2F4이다. 상기 (f3)에 있어서, R7은, 바람직하게는 OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고, 보다 바람직하게는, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이다. OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 -OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC4F8-, -OC3F6OC2F4-, -OC3F6OC3F6-, -OC3F6OC4F8-, -OC4F8OC4F8-, -OC4F8OC3F6-, -OC4F8OC2F4-, -OC2F4OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC2F4OC4F8-, -OC2F4OC3F6OC2F4-, -OC2F4OC3F6OC3F6-, -OC2F4OC4F8OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC3F6-, -OC3F6OC3F6OC2F4- 및 -OC4F8OC2F4OC2F4- 등을 들 수 있다. 상기 식 (f3)에 있어서, g는, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 5 이상의 정수이다. 상기 g는, 바람직하게는 50 이하의 정수이다. 상기 식 (f3)에 있어서, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12는, 직쇄 또는 분지쇄 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 직쇄이다. 이 양태에 있어서, 상기 식 (f3)은, 바람직하게는 -(OC2F4-OC3F6)g- 또는 -(OC2F4-OC4F8)g-이다.
상기 식 (f4)에 있어서, e는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.
상기 식 (f5)에 있어서, f는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f1)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f2)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f3)으로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f4)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f5)로 표시되는 기이다.
상기 RF에 있어서, f에 대한 e의 비(이하, 「e/f비」라고 함)는 0.1 내지 10이고, 바람직하게는 0.2 내지 5이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 2이고, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1.5이고, 보다 더 바람직하게는 0.2 내지 0.85이다. e/f비를 10 이하로 함으로써, 이 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 미끄럼성, 마찰 내구성 및 내케미컬성(예를 들어, 인공 땀에 대한 내구성)이 보다 향상된다. e/f비가 보다 작을수록, 표면 처리층의 미끄럼성 및 마찰 내구성은 보다 향상된다. 한편, e/f비를 0.1 이상으로 함으로써, 화합물의 안정성을 보다 높일 수 있다. e/f비가 보다 클수록, 화합물의 안정성은 보다 향상된다.
하나의 양태에 있어서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 0.2 내지 0.95이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.9이다.
하나의 양태에 있어서, 내열성의 관점에서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 1.0 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 내지 2.0이다.
상기 플루오로폴리에테르기 함유 화합물에 있어서, RF1 및 RF2 부분의 수 평균 분자량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,500 내지 30,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000이다. 본 명세서에 있어서, RF1 및 RF2의 수 평균 분자량은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.
다른 양태에 있어서, RF1 및 RF2 부분의 수 평균 분자량은, 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,000 내지 20,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 15,000, 보다 더 바람직하게는 2,000 내지 10,000, 예를 들어 3,000 내지 6,000일 수 있다.
다른 양태에 있어서, RF1 및 RF2 부분의 수 평균 분자량은, 4,000 내지 30,000, 바람직하게는 5,000 내지 10,000, 보다 바람직하게는 6,000 내지 10,000일 수 있다.
상기 식에 있어서, R4는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, R4a 또는 R4b이다.
상기 R4a는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖는 2가의 유기기이다.
상기 가교성기란, 소정의 조건하에서 반응을 일으켜, 가교 구조를 형성하는 것이 가능한 기를 의미한다.
상기 가교성기는, 바람직하게는 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합, 환상 에테르기, 수산기, 티올기, 아미노기, 아지드기, 질소 함유 복소환기, 이소시아네이트기, 할로겐 원자, 인산 함유기, 또는 실란 커플링기를 포함하는 기, 혹은 이들의 전구체기를 포함하는 기이다.
상기 가교성기로서는, 예를 들어 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 비닐기, 알릴기, 치환되어 있어도 되는 아크릴로일기, 신나모일기, 2,4-헥사디에노일기, 비닐에테르(비닐옥시)기, 수산기, 옥세타닐기, 이소시아네이트기, 카테콜기, 티올기, 아미노기, 알킬아미노기, 디알킬아미노기, 아지드기, 인산 함유기, 카르복실기, 이미다졸릴기, 트리아졸릴기, 벤조트리아졸릴기, 테트라졸릴기, 할로겐 원자, 또는 실란 커플링기, 혹은 이들의 전구체기를 들 수 있다.
상기 지환식 에폭시기는, 바람직하게는 하기 식:
(식 중, n은, 1 내지 5의 정수이다.)
으로 표시되는 기이다.
상기 지환식 에폭시기는, 보다 바람직하게는
이다.
상기 치환되어 있어도 되는 아크릴로일기란, CH2=CX1-C(O)-로 표시되는 기이다.
상기 X1은, 수소 원자, 염소 원자, 불소 원자, 또는 불소에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 보다 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 예를 들어 메틸기이다.
상기 치환되어 있어도 되는 아크릴로일기는, 바람직하게는 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기이다. 이하, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 아울러, 「(메트)아크릴로일기」라고도 한다.
상기 인산 함유기는, 인산기를 함유하고 있는 기이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 C1-6 알킬렌-OP(O)(OH)(OR)(식 중, R은 수소 원자 또는 C1-3 알킬이다.)일 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 비닐기, 알릴기, (메트)아크릴로일기, 신나모일기, 2,4-헥사디에노일기, 또는 비닐에테르(비닐옥시)기일 수 있다.
바람직한 양태에 있어서, 상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기 또는 CH2=CX1'-C(O)-(식 중, X1'는, 수소 원자, 염소 원자, 불소 원자 또는 불소에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타냄)이고, 바람직하게는 에폭시기, 글리시딜기, 또는 (메트)아크릴로일기일 수 있다.
다른 바람직한 양태에 있어서, 상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 또는 (메트)아크릴로일기, 바람직하게는 에폭시기, 글리시딜기, 또는 지환식 에폭시기, 보다 바람직하게는 에폭시기 또는 글리시딜기일 수 있다.
바람직한 양태에 있어서, R4a는, 하기 식:
[식 중:
R31은, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 알킬기이고;
R32는, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 수소 원자, 염소 원자, 불소 원자, 또는 불소에 의해 치환되어 있어도 되는 알킬기이고;
R33은, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 가교성기이고;
Y1은, 단결합, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -OC(=O)-, -NHC(=O)-, -O-, -N(Rc)-, 방향환, 치환기를 갖는 방향환 또는 카르바졸릴렌이고;
Rc는, 유기기이고,
Y2는, 단결합 또는 주쇄의 원자수가 1 내지 16인 링커이다.]
으로 표시되는 기이다.
상기 식 중, R31은, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 알킬기를 나타낸다. 상기 알킬기는, 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다. R31은, 바람직하게는 수소 원자이다.
상기 식 중, R32는, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 수소 원자, 염소 원자, 불소 원자, 또는 불소에 의해 치환되어 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. 상기 알킬기는, 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다. R32는, 바람직하게는 메틸기 또는 수소 원자이고, 보다 바람직하게는 수소 원자이다.
상기 R33은, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 가교성기이다. 당해 가교성기는, 상기와 동일한 의미이다.
바람직한 양태에 있어서, R33은, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 비닐기, 알릴기, 치환되어 있어도 되는 아크릴로일기, 신나모일기, 2,4-헥사디에노일기, 비닐에테르(비닐옥시)기, 수산기, 옥세타닐기, 이소시아네이트기, 카테콜기, 티올기, 아미노기, 알킬아미노기, 디알킬아미노기, 아지드기, 인산 함유기, 카르복실기, 이미다졸릴기, 트리아졸릴기, 벤조트리아졸릴기, 테트라졸릴기, 할로겐 원자, 또는 실란 커플링기, 혹은 이들의 전구체기일 수 있다.
보다 바람직한 양태에 있어서, R33은, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 비닐기, 알릴기, (메트)아크릴로일기, 신나모일기, 2,4-헥사디에노일기, 또는 비닐에테르(비닐옥시)기일 수 있다.
더욱 바람직한 양태에 있어서, 상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 또는 (메트)아크릴로일기, 바람직하게는 에폭시기, 글리시딜기, 또는 (메트)아크릴로일기일 수 있다.
상기 식 중, Y1은, 단결합, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -OC(=O)-, -NHC(=O)-, -O-, -N(Rc)-, 페닐렌 또는 카르바졸릴렌이다. 여기서 Rc는 유기기를 나타내고, 바람직하게는 알킬기이다. 상기 알킬기는, 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다. Y1에 관한 이들 기는, 좌측이 식 중의 C에 결합하고, 우측이 Y2에 결합한다.
하나의 양태에 있어서, Y1은, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -OC(=O)-, -NHC(=O)-, -O-, -N(Rc)-, 페닐렌 또는 카르바졸릴렌이다. 여기서 Rc는 유기기를 나타내고, 바람직하게는 알킬기이다.
Y1은, 바람직하게는 -C(=O)O-, -O-, 또는 카르바졸릴렌이고, 보다 바람직하게는 -C(=O)O- 또는 -O-이고, 더욱 바람직하게는 -C(=O)O-이다.
상기 식 중, Y2는, 단결합 또는 주쇄의 원자수가 1 내지 16, 바람직하게는 2 내지 12, 보다 바람직하게는 2 내지 10인 링커를 나타낸다. 여기에, 상기 주쇄란, Y2 중, Y1과 R33을 최소 원자수로 연결하는 부분을 의미한다.
당해 Y2로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어,
-(CH2-CH2-O)p1-(p1은, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수를 나타냄),
-(CHRd)p2-O-(p2는, 1 내지 40의 정수, 바람직하게는 1 내지 10의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 4의 정수, 더욱 바람직하게는 2 내지 4의 정수이고, Rd는, 수소, 또는 메틸기를 나타냄),
-(CH2)p3-O-(CH2)p4-(p3은, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수이고, p4는, 0 내지 10의 정수, 바람직하게는 0 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 0 내지 4의 정수이고, 하나의 양태에 있어서, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수를 나타냄),
-(CH2-CH2-O)p5-CO-NH-CH2-CH2-O-(p5는, 1 내지 10의 정수를 나타냄),
-(CH2)p6-(p6은 1 내지 6의 정수를 나타냄),
-(CH2)p7-O-CONH-(CH2)p8-(p7은 1 내지 8의 정수, 바람직하게는 2 또는 4를 나타내고, p8은 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 3을 나타냄),
-(CH2)p9-NHC(=O)O-(CH2)p10-(p9는 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 3을 나타내고, p10은 1 내지 8의 정수, 바람직하게는 2 또는 4를 나타냄), 또는
-O-(단, Y1은 -O-이 아님)를 들 수 있다.
바람직한 Y2로서는, -(CH2-CH2-O)p1-(p1은, 1 내지 10의 정수를 나타냄), -(CHRd)p2-O-(p2는, 1 내지 40의 정수이고, Rd는, 수소, 또는 메틸기를 나타냄)는 -(CH2)p3-O-(CH2)p4-(p3은, 1 내지 10의 정수이고, p4는, 1 내지 10의 정수를 나타냄) 또는 -(CH2)p7-O-CONH-(CH2)p8-(p7은 1 내지 8의 정수, 바람직하게는 2 또는 4를 나타내고, p8은 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 3을 나타냄)를 들 수 있다. 또한, 이들 기는, 좌측 단이 분자 주쇄측(Y1측)에 결합하고, 우측 단이 치환기군 A에서 선택되는 관능기측(R33측)에 결합한다.
R4a는, 더욱 바람직하게는, 하기 식:
(식 중, R33은, 상기와 동일한 의미이며, q2는, 1 내지 10의 정수이고, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수, 더욱 바람직하게는 2 내지 4의 정수이고, q3은, 1 내지 10의 정수이고, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 2의 정수이다.)
으로 표시되는 기이다.
상기 R4b는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖지 않는 2가의 유기기이다.
R4b는, 바람직하게는 -CHR4c-CR4dR4e-이다. 여기에, R4c 및 R4d는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 알킬기를 나타내고, R4e기는, -Y3-R4f이다. 여기에, Y3은 상기 Y1과 동일한 의미이며, R4f는, 가교성기를 갖지 않는 유기기이고, 후기하는 기 R4g가 링커를 통해, 또는 직접 Y3에 결합하는 기이다. 즉, R4f는, -링커-R4g, 또는 -R4g이다.
당해 링커는, 바람직하게는,
(a) -(CH2-CH2-O)s1-(s1은, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수를 나타낸다.),
(b) -(CHR4h)s2-O-(s2는, 1 내지 40의 정수, 바람직하게는 1 내지 10의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 4의 정수, 더욱 바람직하게는 2 내지 4의 정수인 반복수를 나타낸다. R4h는, 수소 또는 메틸기를 나타낸다.),
(c) -(CH2)s3-O-(CH2)s4-(s3은, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수이고, s4는, 0 내지 10의 정수, 바람직하게는 0 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 0 내지 4의 정수이고, 하나의 양태에 있어서, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수를 나타낸다.),
(d) -(CH2-CH2-O)s1-CO-NH-CH2-CH2-O-(s1은, 상기와 동일한 의미이다.),
(e) -(CH2)s5-(s5는 1 내지 6의 정수를 나타낸다.), 또는
(f) -(CH2)s6-O-CONH-(CH2)s7-(s6은 1 내지 8의 정수, 바람직하게는 2 또는 4를 나타낸다. s7은 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 3을 나타낸다.), 또는
(g) -O-(단, Y3은 -O-이 아님)
이다.
R4g는, 바람직하게는 이하의 기이다.
(i) 알킬기
예: 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 도데실, 옥타데실
(ii) 불소로 치환된 알킬기를 함유하는 쇄상기
예:
(iii) 단환식 탄소환, 2환식 탄소환, 3환식 탄소환, 및 4환식 탄소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 1개 이상의 환상부를 함유하는 기
예:
(iv) 수소(단, 해당 수소 원자는, 링커의 산소 원자와는 결합하지 않음)
(v) 이미다졸륨염을 함유하는 기
예:
(vi) 규소를 함유하는 기
상기 식 중, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.
상기 알킬기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, 구체적으로는, R11에 관해서는 탄소수 n-부틸기이고, R12 내지 R17에 관해서는 메틸기이다.
상기 아릴기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 들 수 있다. 당해 아릴기는, 2개 또는 그 이상의 환을 포함하고 있어도 된다. 바람직한 아릴기는, 페닐기이다.
상기 알킬기 및 아릴기는, 소망에 따라, 그 분자쇄 또는 환 중에, 헤테로 원자, 예를 들어 질소 원자, 산소 원자, 황 원자를 함유하고 있어도 된다.
또한, 상기 알킬기 및 아릴기는, 소망에 따라, 할로겐; 1개 또는 그 이상의 할로겐에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, C2-6 알키닐기, C3-10 시클로알킬기, C3-10 불포화 시클로알킬기, 5 내지 10원의 헤테로시클릴기, 5 내지 10원의 불포화 헤테로시클릴기, C6-10 아릴기, 5 내지 10원의 헤테로아릴기에서 선택되는, 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
상기 식 중, R18은, 2가의 유기기를 나타낸다.
상기 R18은, 바람직하게는 -(CH2)r"-(식 중, r"는 1 이상 20 이하의 정수, 바람직하게는 1 이상 10 이하의 정수임)이고, 보다 바람직하게는, -(CH2)r"-(식 중, r"는 1 이상 10 이하의 정수임)이다.
상기 식 중, n4는, 각각 독립적으로, 1 이상 500 이하의 정수이다. 당해 n4는, 바람직하게는 1 이상 200 이하, 보다 바람직하게는 10 이상 200 이하이다.
R4g는, 보다 바람직하게는, 수소 원자(단, O에 결합하여 수산기를 형성하는 것을 제외함), 또는 불소화되어 있어도 되고, 또한 에틸렌쇄 또는 옥시에틸렌쇄를 통해 결합해도 되는 알킬기이고, 보다 바람직하게는, 수소 원자, 메톡시에틸기, 이소부틸기, 또는 R4i-CF2-(CF2)s6-(CH2)s7-O-(CH2)2-(R4i는 불소 원자 또는 수소 원자이고, s6은 0 내지 6의 정수이고, s7은 1 내지 6의 정수임)이고, 더욱 바람직하게는, 3-(퍼플루오로에틸)프로폭시에틸기[시성식: CF3-(CF2)-(CH2)3-O-(CH2)2-]이다.
상기 R4 중, 구성 단위 R4a와 구성 단위 R4b는, 각각이 블록을 형성하고 있어도 되고, 랜덤하게 결합하고 있어도 된다.
하나의 양태에 있어서, R4 중, 구성 단위 R4a와 구성 단위 R4b는, 각각이 블록을 형성한다.
하나의 양태에 있어서, R4 중, 구성 단위 R4a와 구성 단위 R4b는, 랜덤하게 결합한다.
하나의 양태에 있어서, R4는, R4a이다. 즉, R4는, 가교성기를 갖는 구성 단위 R4a로 이루어진다.
바람직한 양태에 있어서, R4a의 수(중합도)는 1 내지 100이고, 바람직하게는 2 내지 70, 보다 바람직하게는 2 내지 50, 더욱 바람직하게는 3 내지 30, 보다 더 바람직하게는 3 내지 20, 특히 바람직하게는 5 내지 10이다.
하나의 양태에 있어서, R4는, R4b이다. 즉, R4는, 가교성기를 갖지 않는 구성 단위 R4b로 이루어진다.
바람직한 양태에 있어서, R4b의 수(중합도)는, 1 내지 100이고, 바람직하게는 2 내지 70, 보다 바람직하게는 2 내지 50, 더욱 바람직하게는 3 내지 30, 보다 더 바람직하게는 3 내지 20, 특히 바람직하게는 5 내지 10이다.
상기 식에 있어서, n은 1 내지 100의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 70의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 50의 정수, 더욱 바람직하게는 3 내지 30의 정수, 보다 더 바람직하게는 3 내지 20의 정수, 특히 바람직하게는 5 내지 10의 정수이다.
상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, Xa는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다.
상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, Xb는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다.
상기 식 중, -Xa-Xb-는, 식 (1) 및 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머에 있어서, RF1 또는 RF2와, R4를 연결하는 링커의 일부로 해석된다. 따라서, Xa 및 Xb는, 식 (1) 및 (2)로 표시되는 화합물이 안정적으로 존재할 수 있는 것이면, 어느 2가의 유기기여도 된다.
하나의 양태에 있어서, Xa는, 각각 독립적으로, 하기 식:
으로 표시되는 기이다. 식 중, e, f 및 g는, 각각 독립적으로, 0 내지 10의 정수이고, e, f 및 g의 합은 1 이상이고, 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다. 또한, 상기 기는, 좌측이 RF1 또는 RF2에, 우측이 Xb에 결합한다.
상기 식 중, Q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 산소 원자, 페닐렌, 카르바졸릴렌, -NRq-(식 중, Rq1은, 수소 원자 또는 유기기를 나타냄) 또는 2가의 극성기이다. 바람직하게는, Q는, 산소 원자 또는 2가의 극성기이다.
상기 Q에 있어서의 「2가의 극성기」로서는, 특별히 한정되지는 않지만, -C(O)-, -C(=NRb)-, 및 -C(O)NRq2-(이들 식 중, Rq2는, 수소 원자 또는 저급 알킬기를 나타냄)를 들 수 있다. 당해 「저급 알킬기」는, 예를 들어 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필이고, 이것들은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 된다.
상기 식 중, Z는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 저급 플루오로알킬기이고, 바람직하게는 불소 원자이다. 당해 「저급 플루오로알킬기」는, 예를 들어 탄소수 1 내지 6, 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 플루오로알킬기, 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 퍼플루오로알킬기, 보다 바람직하게는 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 더욱 바람직하게는 트리플루오로메틸기이다.
Xa는, 바람직하게는 하기 식:
[식 중, e, f 및 g는, 상기와 동일한 의미이며, 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
으로 표시되는 기이다. 또한, 이들 기는 좌측 단이 RF1 또는 RF2에, 우측이 Xb에 결합한다.
하나의 양태에 있어서, Xa는,
[식 중,
e1은 0 또는 1이고,
f2, g2 및 g3은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이고,
g4는, 0 또는 1이다.]
으로 표시되는 기일 수 있다. 이들 기는 좌측 단이 RF1 또는 RF2에, 우측이 Xb에 결합한다.
바람직한 양태에 있어서, Xa는,
[식 중, g2는, 1 내지 10의 정수이다.]
으로 표시되는 기일 수 있다. 이들 기는 좌측 단이 RF1 또는 RF2에, 우측이 Xb에 결합한다.
상기 식 중, Xb는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다.
하나의 양태에 있어서, Xb는, 하기 식:
[식 중:
Rb1 및 Rb2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-3 알킬기, 페닐기 또는 -CN이고,
Rb3은, 단결합 또는 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이다.]
으로 표시되는 기일 수 있다. 또한, 이러한 기는 좌측 단이 Xa에, 우측 단이 R4에 결합한다.
상기 Rb1 및 Rb2는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 C1-3 알킬기, 페닐기 또는 -CN이고, 보다 바람직하게는, C1-3 알킬기 또는 -CN이다. C1-3 알킬기는, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이고, 보다 바람직하게는 메틸기이다.
하나의 양태에 있어서, Rb1은, C1-3 알킬기, 바람직하게는 메틸기이고, Rb2는, 수소 원자 또는 -CN이다.
상기 Rb3에 있어서의 「치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기」에 있어서의 치환기는, 바람직하게는 C1-3 알킬기 또는 페닐기이고, 바람직하게는 C1-3 알킬기이다. C1-3 알킬기는, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이고, 보다 바람직하게는 메틸기이다. 해당 치환기는, 1개여도 되고, 또는 2개 이상이어도 된다.
상기 Rb3에 있어서의 C1-6 알킬렌기는, 바람직하게는 C1-3 알킬렌기, 보다 바람직하게는 C2-3 알킬렌기, 예를 들어 디메틸렌기일 수 있다.
하나의 양태에 있어서, Rb3은, 단결합이다.
다른 양태에 있어서, Rb3은, 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고, 바람직하게는 C1-6 알킬렌기이다.
상기 식 중, Ra는, 알킬, 페닐, -SRa1, -ORa2, -NRa3 2,
이다. Ra는, 소위 RAFT제의 일부일 수 있다.
상기 식 중, Ra1, Ra2, Ra3, Ra4, Ra5 및 Ra6은, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 페닐기이다.
상기 Ra1은, 바람직하게는 C1-20 알킬기, 보다 바람직하게는 C3-18 알킬기, 더욱 바람직하게는 C4-12 알킬기이다.
상기 Ra2는, 바람직하게는 페닐기 또는 C1-20 알킬기이다. 해당 C1-20 알킬기는, 바람직하게는 C1-10 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬기이다.
상기 Ra3은, 바람직하게는 C1-20 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-10 알킬기, 더욱 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 더 바람직하게는 C1-3 알킬기이다.
상기 Ra4는, 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.
상기 Ra5는, 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.
상기 Ra6은, 바람직하게는 C1-6 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.
상기 Ra7은, 수소 또는 할로겐 원자(예를 들어, 불소, 염소, 브롬 또는 요오드, 바람직하게는 염소)이다.
하나의 양태에 있어서, Ra는, -SRa1 또는 -ORa2이다.
하나의 양태에 있어서, (A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 식 (1)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머일 수 있다.
하나의 양태에 있어서, (A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 식 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머일 수 있다.
상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머의 수 평균 분자량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 2×102 내지 1×105, 바람직하게는 1×103 내지 5×104, 보다 바람직하게는 3×103 내지 2×104일 수 있다. 이러한 범위의 수 평균 분자량을 가짐으로써, 용제에 대한 용해성 및 표면 처리층의 접촉각을 보다 크게 할 수 있다. 당해 수 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 구할 수 있다.
상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머의 다분산도(중량 평균 분자량(Mw)/수 평균 분자량(Mn))은, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2.0 이하, 보다 더 바람직하게는 1.5 이하일 수 있다. 다분산도를 작게 함으로써, 보다 균질한 표면 처리층을 형성할 수 있고, 표면 처리층의 내구성을 향상시킬 수 있다.
상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 예를 들어 소위 RAFT(Reversible addition-fragmentation chain transfer)형의 라디칼 중합을 이용하여 합성할 수 있다.
먼저, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 RAFT제를 조제한다. 예를 들어, 퍼플루오로폴리에테르를 갖는 화합물 (A)와 RAFT 골격(-SC(=S)-)을 갖는 화합물 (B1) 또는 (B2):
[식 중, Ra, RF1, RF2, Xa 및 Xb는, 상기와 동일한 의미이고;
L1 및 L2는, 각각, 탈리 부분이다.]
을 반응시켜, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 연쇄 이동제 (1a) 또는 (2a):
[식 중, Ra, RF1, RF2, Xa 및 Xb는, 상기와 동일한 의미이다.]
을 얻을 수 있다.
상기에서 얻어진 연쇄 이동제 (1a) 또는 (2a)와, 불포화 결합을 갖는 단량체를 반응시킴으로써, 상기 식 (1) 또는 (2)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 이러한 반응은, 소위 RAFT 중합이고, 반응 조건은 RAFT 중합에서 일반적으로 사용되는 조건을 사용할 수 있다.
[(B) 실록산 폴리머]
상기 실록산 폴리머는, 하기 식:
[식 중:
R21은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R22는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R23은, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R24는, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
R25는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
R26은, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
p는, 임의의 정수이다.]
으로 표시되는 실록산 폴리머이다.
상기 식 중, R21 및 R22는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기, 또는 아릴기이다.
상기 식 중, R23 및 R24는, 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기, 또는 아릴기이다.
R21, R22, R23 및 R24는, 동일한 기여도 되고, 다른 기여도 된다. 바람직한 양태에 있어서, R21, R22, R23 및 R24는, 동일한 기이다.
상기 C1-6 알킬기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 된다. 또한, 상기 C1-6 알킬기는, 환상 구조를 포함하고 있어도 된다. 하나의 양태에 있어서, 당해 C1-6 알킬기는, 직쇄이다. 다른 양태에 있어서, 당해 C1-6 알킬기는, 분지쇄이다. 다른 양태에 있어서, 당해 C1-6 알킬기는, C3-6 환상 알킬기이다.
상기 C1-6 알킬기는, 바람직하게는 C1-4 알킬기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기, 특히 바람직하게는 메틸기이다.
상기 아릴기는, 단환이어도, 다환이어도 된다.
상기 아릴기는, 바람직하게는 C5-20 아릴기, 보다 바람직하게는 C6-16 아릴기, 더욱 바람직하게는 C6-12 아릴기, 보다 더 바람직하게는 C6-10 아릴기이다.
하나의 양태에 있어서, R21, R22, R23 및 R24는, 수소 원자이다.
다른 양태에 있어서, R21, R22, R23 및 R24는, C1-6 알킬기, 또는 아릴기, 바람직하게는 C1-6 알킬기이다.
상기 R25 및 R26은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다.
상기 1가의 유기기는, 바람직하게는 -R27-R28이다.
상기 R27은, 상기 실록산 폴리머의 실록산 골격과, 말단 관능기인 R28을 연결하는 링커의 일부로 해석된다. 따라서, R27은, 상기 실록산 폴리머가 안정적으로 존재할 수 있는 것이면, 어느 2가의 유기기여도 된다.
상기 R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 2가의 유기기는,
[식 중:
R51 및 R53은, 각각 독립적으로, -(CH2)r1- 또는 o-, m- 혹은 p-페닐렌기이고, 바람직하게는 -(CH2)r1-이고,
r1은, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고,
R52는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -O-, -S-, o-, m- 혹은 p-페닐렌기, -C(O)O-, -CONR54-, -O-CONR54-, -NR54- 및 -(CH2)r2-로 이루어지는 군에서 선택되는 기이고,
R54는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 페닐기, C1-6 알킬기(바람직하게는 메틸기) 또는 탄소수 1 내지 10의 옥시알킬렌 함유기이고,
r2는, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고,
q5는, 0 또는 1이고,
q6은, 0 내지 10의 정수, 바람직하게는 0 내지 5의 정수, 보다 바람직하게는 0 내지 3의 정수이고,
q7은, 0 또는 1이고,
단, q5, q6 및 q7 중 적어도 하나는 1이다.]
으로 표시되는 2가의 유기기를 들 수 있다.
상기 R27은, 바람직하게는 단결합, 산소 결합, 식:
[식 중:
R51 및 R53은, 각각 독립적으로, -(CH2)r1- 또는 o-, m- 혹은 p-페닐렌기를 나타내고, 바람직하게는 -(CH2)r1-이고,
r1은, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고,
R61은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -O-, -S-, -C(O)O-, -CONR54-, -O-CONR54- 및 -NR54-로 이루어지는 군에서 선택되는 기, 바람직하게는 -O-이고,
q5는, 0 또는 1이고,
q6은, 0 내지 10의 정수, 바람직하게는 0 내지 5의 정수, 보다 바람직하게는 0 내지 3의 정수이고,
q7은, 0 또는 1이고,
단, q5, q6 및 q7 중 적어도 하나는 1이다.]
으로 표시되는 기이다.
상기 R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기이다.
바람직한 양태에 있어서, 상기 R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, 또는 -CO-C(CH3)=CH2이다.
하나의 양태에 있어서, R25 및 R26은, C1-6 알킬기, 바람직하게는 C1-3 알킬기이다.
바람직한 양태에 있어서,
R25는 C1-6 알킬기이고,
R26은, -R27-R28이고,
R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이고,
R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기이다.
다른 바람직한 양태에 있어서,
R25 및 R26은, -R27-R28이고,
R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이고,
R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기이다.
상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량은, 350 초과 10,000 미만, 바람직하게는 800 내지 8,000, 보다 바람직하게는 900 내지 7,000이다. 상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량을, 상기의 범위로 함으로써, 본 개시의 조성물에 의해 얻어지는 표면 처리층의 표면 미끄럼성 및 외관이 향상된다.
상기 실록산 폴리머의 함유량은, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 100질량부에 대하여 0.1 내지 300질량부, 바람직하게는 1 내지 300질량부, 보다 바람직하게는 1 내지 250질량부, 보다 더 바람직하게는 1 내지 200질량부, 특히 바람직하게는 1 내지 150질량부이다.
[다른 성분]
본 개시의 조성물은, 또한 불소 함유 오일로서 이해될 수 있는(비반응성의) 플루오로폴리에테르 화합물, 바람직하게는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물(이하, 통합하여 「불소 함유 오일」이라고 함)을 함유하고 있어도 된다. 또한, 본 개시의 조성물은, 용매, 활성 에너지선 라디칼 경화 개시제, 열산 발생제, 활성 에너지선 양이온 경화 개시제 등의 다른 성분을 포함할 수 있다.
상기 불소 함유 오일로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 이하의 일반식 (3)으로 표시되는 화합물(퍼플루오로(폴리)에테르 화합물)을 들 수 있다.
식 중, Rf5는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16의 퍼플루오로알킬기)를 나타내고, Rf6은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16 퍼플루오로알킬기), 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, Rf5 및 Rf6은, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로, C1-3 퍼플루오로알킬기이다.
a', b', c' 및 d'는, 폴리머의 주골격을 구성하는 퍼플루오로(폴리)에테르의 4종의 반복 단위수를 각각 나타내고, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이며, a', b', c' 및 d'의 합은 적어도 1, 바람직하게는 1 내지 300, 보다 바람직하게는 20 내지 300이다. 첨자 a', b', c' 또는 d'를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다. 이들 반복 단위 중, -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 (OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)-이다. -(OC3F6)-는, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 (OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)-이다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 (OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2)-이다.
상기 일반식 (3)으로 표시되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물의 예로서, 이하의 일반식 (3a) 및 (3b) 중 어느 것으로 표시되는 화합물(1종 또는 2종 이상의 혼합물이어도 됨)을 들 수 있다.
이들 식 중, Rf5 및 Rf6은 상기한 바와 같고; 식 (3a)에 있어서, b"는 1 이상 100 이하의 정수이고; 식 (3b)에 있어서, a" 및 b"는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, c" 및 d"는 각각 독립적으로 1 이상 300 이하의 정수이다. 첨자 a", b", c", d"를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.
또한, 다른 관점에서, 불소 함유 오일은, 일반식 Rf3-F(식 중, Rf3은 C5-16 퍼플루오로알킬기이다.)로 표시되는 화합물이어도 된다. 또한, 클로로트리플루오로에틸렌 올리고머여도 된다.
상기 불소 함유 오일은, 500 내지 10000의 평균 분자량을 갖고 있어도 된다. 불소 함유 오일의 분자량은, GPC를 사용하여 측정할 수 있다.
불소 함유 오일은, 본 개시의 조성물에 대하여, 예를 들어 0 내지 50질량％, 바람직하게는 0 내지 30질량％, 보다 바람직하게는 0 내지 5질량％ 포함될 수 있다. 하나의 양태에 있어서, 본 개시의 조성물은, 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다. 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다는 것은, 불소 함유 오일을 전혀 포함하지 않거나, 또는 극미량의 불소 함유 오일을 포함하고 있어도 되는 것을 의미한다.
하나의 양태에 있어서, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물의 평균 분자량보다도, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 크게 해도 된다. 이러한 평균 분자량으로 함으로써, 특히 진공 증착법에 의해 표면 처리층을 형성하는 경우에 있어서, 보다 우수한 마모 내구성과 표면 미끄럼성을 얻을 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물의 평균 분자량보다도, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 작게 해도 된다. 이러한 평균 분자량으로 함으로써, 이러한 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 투명성의 저하를 억제하면서, 높은 마모 내구성 및 높은 표면 미끄럼성을 갖는 경화물을 형성할 수 있다.
불소 함유 오일은, 본 개시의 조성물에 의해 형성된 층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.
상기 용매로서는, 불소 함유 유기 용매 및 불소 비함유 유기 용매를 사용할 수 있다.
상기 불소 함유 유기 용매로서는, 예를 들어 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로옥탄, 퍼플루오로디메틸시클로헥산, 퍼플루오로데칼린, 퍼플루오로알킬에탄올, 퍼플루오로벤젠, 퍼플루오로톨루엔, 퍼플루오로알킬아민(플루오리너트(상품명) 등), 퍼플루오로알킬에테르, 퍼플루오로부틸테트라히드로푸란, 폴리플루오로 지방족 탄화수소(아사히클린 AC6000(상품명)), 하이드로클로로플루오로카본(아사히클린 AK-225(상품명) 등), 하이드로플루오로에테르(노벡(상품명), HFE-7100(상품명) 등), 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄, 불소 함유 알코올, 퍼플루오로알킬브로마이드, 퍼플루오로알킬요오다이드, 퍼플루오로폴리에테르(크라이톡스(상품명), 뎀넘(상품명), 폼블린(상품명) 등), 1,3-비스트리플루오로메틸벤젠, 메타크릴산2-(퍼플루오로알킬)에틸, 아크릴산2-(퍼플루오로알킬)에틸, 퍼플루오로알킬에틸렌, 프레온(134a) 및 헥사플루오로프로펜 올리고머를 들 수 있다.
또한, 상기 불소 비함유 유기 용매로서는, 예를 들어 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 디클로로에탄, 이황화탄소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 니트로벤젠, 디에틸에테르, 디메톡시에탄, 다이글라임, 트리글라임, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 2-부타논, 아세토니트릴, 벤조니트릴, 부탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 에탄올, 메탄올 및 디아세톤 알코올을 들 수 있다.
상기 용매는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
상기 용매는, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 실록산 폴리머, 그리고 존재하는 경우, 하기하는 불소 함유 오일(C)의 합계 100질량부에 대하여, 5 내지 100,000질량부, 바람직하게는 5 내지 50,000질량부로 포함된다.
상기 활성 에너지선 라디칼 경화 개시제로서는, 예를 들어 350㎚ 이하의 파장 영역의 전자파, 즉 자외 광선, 전자선, X선, γ선 등이 조사됨으로써 처음으로 라디칼을 발생시키고, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머의 경화성 부위(예를 들어, 탄소-탄소 이중 결합)의 경화(가교 반응)를 개시시키는 촉매로서 작용하는 것이며, 통상 자외 광선으로 라디칼을 발생시키는 것을 사용한다.
상기 활성 에너지선 라디칼 경화 개시제는, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 중의 경화성 부위의 종류, 사용하는 활성 에너지선의 종류(파장 영역 등)와 조사 강도 등에 따라 적절히 선택되지만, 일반적으로 자외선 영역의 활성 에너지선을 사용하여 라디칼 반응성의 경화성 부위(탄소-탄소 이중 결합)를 갖는 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머를 경화시키는 개시제로서는, 예를 들어 이하의 것을 예시할 수 있다.
ㆍ아세토페논계
아세토페논, 클로로아세토페논, 디에톡시아세토페논, 히드록시아세토페논, α-아미노아세토페논, 히드록시프로피오페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판―1-온 등
ㆍ벤조인계
벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈 등
ㆍ벤조페논계
벤조페논, 벤조일벤조산, 벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 히드록시-프로필벤조페논, 아크릴화벤조페논, 미힐러케톤 등
ㆍ티오크산톤류
티오크산톤, 클로로티오크산톤, 메틸티오크산톤, 디에틸티오크산톤, 디메틸티오크산톤 등
ㆍ기타
벤질, α-아실옥심에스테르, 아실포스핀옥사이드, 글리옥시에스테르, 3-케토쿠마린, 2-에틸안트라퀴논, 캄포퀴논, 안트라퀴논 등
이들 활성 에너지선 경화 개시제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
상기 활성 에너지선 경화 개시제는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 실록산 폴리머, 그리고 존재하는 경우, 불소 함유 오일의 합계 100질량부에 대하여, 0.01 내지 1,000질량부, 바람직하게는 0.1 내지 500질량부로 포함된다.
상기 열산 발생제를 사용함으로써, 열에 의해 양이온종을 포함하는 화합물의 분해 반응이 일어나, 경화성 부위를 갖는 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머의 경화성 부위(예를 들어, 환상 에테르)의 경화(가교 반응)를 개시시킨다.
상기 열산 발생제로서는, 예를 들어 하기 일반식 (a):
(식 중, Z는, S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, N 및 할로겐 원소로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 원소를 나타낸다. R1, R2, R3 및 R4는, 동일하거나 또는 다르며, 유기기를 나타낸다. a, b, c 및 d는, 0 또는 양수이고, a, b, c 및 d의 합계는 Z의 가수와 동등하다. 양이온(R1 aR2 bR3 cR4 dZ)+m은 오늄염을 나타낸다. A는, 할로겐화물 착체의 중심 원자인 금속 원소 또는 반금속 원소(metalloid)를 나타내고, B, P, As, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나이다. X는, 할로겐 원소를 나타낸다. m은, 할로겐화물 착체 이온의 순 전하이다. n은, 할로겐화물 착체 이온 중의 할로겐 원소의 수이다.)으로 표시되는 화합물이 적합하다.
상기 일반식 (a)의 음이온(AXn)-m의 구체예로서는, 테트라플루오로보레이트(BF4 -), 헥사플루오로포스페이트(PF6 -), 헥사플루오로안티모네이트(SbF6 -), 헥사플루오로아르세네이트(AsF6 -), 헥사클로로안티모네이트(SbCl6 -) 등을 들 수 있다. 또한 일반식 AXn(OH)-로 표시되는 음이온도 사용할 수 있다. 또한, 그 밖의 음이온으로서는, 과염소산 이온(ClO4 -), 트리플루오로메틸아황산 이온(CF3SO3 -), 플루오로술폰산 이온(FSO3 -), 톨루엔술폰산 이온, 트리니트로벤젠술폰산 이온 등을 들 수 있다.
상기 열산 발생제의 구체적인 상품으로서는, 예를 들어 AMERICURE 시리즈(아메리칸ㆍ캔사제), ULTRASET 시리즈(아데카사제), WPAG 시리즈(와코 준야쿠사제) 등의 디아조늄염 타입; UVE 시리즈(제너럴ㆍ일렉트릭사제), FC 시리즈(3M사제), UV9310C(GE 도시바 실리콘사제), Photoinitiator 2074(롱프랑사제), WPI 시리즈(와코 준야쿠사제) 등의 요오도늄염 타입; CYRACURE 시리즈(유니온 카바이드사제), UVI 시리즈(제너럴ㆍ일렉트릭사제), FC 시리즈(3M사제), CD 시리즈(사토머사제), 옵토마 SP 시리즈ㆍ옵토마 CP 시리즈(아데카사제), 산에이드 SI 시리즈(산신 가가쿠 고교사제), CI 시리즈(닛폰 소다사제), WPAG 시리즈(와코 준야쿠사제), CPI 시리즈(산아프로사제) 등의 술포늄염 타입 등을 들 수 있다.
이들 열산 발생제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
상기 열산 발생제는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 및 실록산 폴리머, 그리고 존재하는 경우, 불소 함유 오일의 합계 100질량부에 대하여, 0.01 내지 1,000질량부, 바람직하게는 0.1 내지 500질량부로 포함된다.
상기 활성 에너지선 양이온 경화 개시제를 사용함으로써, 광에 의해 양이온종을 포함하는 화합물이 여기되어 광분해 반응이 일어나, 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머의 경화성 부위(예를 들어, 환상 에테르)의 경화(가교 반응)를 개시시킨다.
상기 활성 에너지선 양이온 경화 개시제로서는, 예를 들어 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄포스페이트, p-(페닐티오)페닐디페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, p-(페닐티오)페닐디페닐술포늄헥사플루오로포스페이트, 4-클로로페닐디페닐술포늄헥사플루오로포스페이트, 4-클로로페닐디페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 비스[4-(디페닐술포니오)페닐]술피드비스헥사플루오로포스페이트, 비스[4-(디페닐술포니오)페닐]술피드비스헥사플루오로안티모네이트, (2,4-시클로펜타디엔-1-일)[(1-메틸에틸)벤젠]-Fe-헥사플루오로포스페이트, 디알릴요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등이 적합하다.
상기 활성 에너지선 양이온 경화 개시제의 구체적인 상품으로서는, 예를 들어 UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990(유니온 카바이드사제); 아데카 옵토마 SP-150, SP-151, SP-170, SP-172(ADEKA사제); Irgacure250(시바 재팬사제); CI-2481, CI-2624, CI-2639, CI-2064(닛폰 소다사제); CD-1010, CD-1011, CD-1012(사토머사제); DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103, MDS-103, MPI-103, BBI-103(미도리 가가쿠사제); PCI-061T, PCl-062T, PCl-020T, PCl-022T(닛폰 가야쿠사제); CPl-100P, CPT-101A, CPI-200K(산아프로사제); 산에이드 SI-60L, 산에이드 SI-80L, 산에이드 SI-100L, 산에이드 ST-110L, 산에이드 SI-145, 산에이드 SI-150, 산에이드 SI-160, 산에이드 SI-180L(산신 가가쿠 고교사제); WPAG 시리즈(와코 준야쿠사제) 등의 디아조늄염 타입, 요오도늄염 타입, 술포늄염 타입이 바람직하다.
이들 활성 에너지선 양이온 경화 개시제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
상기 활성 에너지선 라디칼 경화 개시제는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 및 실록산 폴리머, 그리고 존재하는 경우, 불소 함유 오일의 합계 100질량부에 대하여, 0.01 내지 1,000질량부, 바람직하게는 0.1 내지 500질량부로 포함된다.
[표면 처리제]
본 개시의 조성물은, 표면 처리제로서 유용하다. 따라서, 본 개시는, 본 개시의 조성물을 포함하는 표면 처리제를 제공한다.
바람직한 양태에 있어서, 본 개시의 조성물은, 표면 처리제이다.
[경화성 조성물]
본 개시는, 상기한 본 개시의 조성물, 표면 처리제, 및／또는 매트릭스를 형성하는 조성물을 포함하는 경화성 조성물을 제공한다.
[매트릭스를 형성하는 조성물]
상기 매트릭스를 형성하는 조성물이란, 적어도 하나의 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물, 예를 들어 특별히 한정되는 것은 아니지만, 단관능 및／또는 다관능 아크릴레이트 및 메타크릴레이트(이하, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 아울러, 「(메트)아크릴레이트」라고도 함), 단관능 및／또는 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트, 단관능 및／또는 다관능 에폭시(메트)아크릴레이트인 화합물을 함유하는 조성물을 의미한다. 당해 매트릭스를 형성하는 조성물로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반적으로 하드 코팅제 또는 반사 방지제로 되는 조성물이고, 예를 들어 다관능성 (메트)아크릴레이트를 포함하는 하드 코팅제 또는 불소 함유 (메트)아크릴레이트를 포함하는 반사 방지제를 들 수 있다. 당해 하드 코팅제는, 예를 들어 빔 세트 502H, 504H, 505A-6, 550B, 575CB, 577, 1402(상품명)로서 아라카와 가가쿠 고교 가부시키가이샤로부터, EBECRYL40(상품명)으로서 다이셀 사이텍으로부터, HR300계(상품명)로서 요코하마 고무로부터 시판되고 있다. 상기 반사 방지제는, 예를 들어 옵툴 AR-110(상품명)으로서 다이킨 고교 가부시키가이샤로부터 시판되고 있다.
상기 매트릭스를 형성하는 조성물로서 단관능 및／또는 다관능 에폭시인 화합물을 함유하는 조성물도 바람직하다. 예를 들어 비스페놀A디글리시딜에테르, 2,2'-비스(4-글리시딜옥시시클로헥실)프로판, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트, 비닐시클로헥센디옥사이드, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)-5,5-스피로-(3,4-에폭시시클로헥산)-1,3-디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실)아디페이트, 1,2-시클로프로판디카르복실산비스글리시딜에스테르, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 전술한 바와 겹치지만, 수소 첨가형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 또는 이소시아누레이트환을 함유하는 에폭시 수지 또는, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지, 상기 각종 에폭시 수지의 방향환을 수소 첨가한 수소 첨가형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 사용할 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 경화성 조성물은, 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머와 실록산 폴리머를, 매트릭스 형성 조성물의 고형분에 대하여, 0.01 내지 20질량％, 바람직하게는 0.01 내지 10질량％, 보다 바람직하게는 0.1 내지 10질량％ 함유한다.
본 개시의 경화성 조성물은, 또한 산화 방지제, 증점제, 레벨링제, 소포제, 대전 방지제, 방담제, 자외선 흡수제, 안료, 염료, 실리카 등의 무기 미립자, 알루미늄 페이스트, 탈크, 유리 프릿, 금속 분말 등의 충전제, 부틸화히드록시톨루엔(BHT), 페노티아진(PTZ) 등의 중합 금지제 등을 포함하고 있어도 된다.
[물품]
다음으로, 본 개시의 물품에 대해서 설명한다.
본 개시는, 기재와, 해당 기재의 표면에 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물에 의해 형성된 층(표면 처리층)을 포함하는 물품을 제공한다. 이 물품은, 예를 들어 이하와 같이 하여 제조할 수 있다.
먼저, 기재를 준비한다. 본 개시에 사용 가능한 기재는, 예를 들어 유리, 수지(천연 또는 합성 수지, 예를 들어 일반적인 플라스틱 재료, 바람직하게는 폴리카르보네이트 수지, 폴리(메트)아크릴레이트 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지, 폴리이미드 수지, 모디파이드(투명)폴리이미드 수지, 폴리시클로올레핀 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지여도 되고, 판상, 필름, 그 밖의 형태여도 됨), 금속(알루미늄, 구리, 은, 철 등의 금속 단체 또는 합금 등의 복합체여도 됨), 세라믹스, 반도체(실리콘, 게르마늄 등), 섬유(직물, 부직포 등), 모피, 피혁, 목재, 도자기, 석재, 건축 부재 등, 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다.
예를 들어, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면을 구성하는 재료는, 광학 부재용 재료, 예를 들어 유리 또는 투명 플라스틱 등이어도 된다. 또한, 기재는, 그 구체적 사양 등에 따라서, 절연층, 점착층, 보호층, 장식 프레임층(I-CON), 안개화 막층, 하드 코팅막층, 편광 필름, 위상차 필름, 유기 EL 표시 모듈 및 액정 표시 모듈 등을 갖고 있어도 된다.
기재의 형상은 특별히 한정되지는 않는다. 또한, 표면 처리층을 형성해야 할 기재의 표면 영역은, 기재 표면의 적어도 일부이면 되고, 제조해야 할 물품의 용도 및 구체적 사양 등에 따라서 적절히 결정될 수 있다.
다음으로, 이러한 기재의 표면에, 상기의 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물의 막을 형성하고, 이 막을 필요에 따라서 후처리하고, 이에 의해, 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물로 표면 처리층을 형성한다.
본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물의 막 형성은, 상기의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물을 기재의 표면에 대하여, 해당 표면을 피복하도록 적용함으로써 실시할 수 있다. 피복 방법은, 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 습윤 피복법을 사용할 수 있다.
습윤 피복법의 예로서는, 침지 코팅, 스핀 코팅, 플로 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 마이크로 그라비아 코팅, 바 코팅, 다이 코팅, 스크린 인쇄 및 유사한 방법을 들 수 있다.
습윤 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물은, 용매로 희석되고 나서 기재 표면에 적용될 수 있다. 당해 용매로서는, 상기한 불소 함유 유기 용매 및 불소 비함유 유기 용매를 사용할 수 있다. 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물의 안정성 및 용매의 휘발성의 관점에서, 다음의 용매가 바람직하게 사용된다: 탄소수 5 내지 12의 퍼플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산); 폴리플루오로 방향족 탄화수소(예를 들어, 비스(트리플루오로메틸)벤젠); 폴리플루오로 지방족 탄화수소; 히드로플루오로에테르(HFE)(예를 들어, 퍼플루오로프로필메틸에테르(C3F7OCH3), 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3), 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5), 퍼플루오로헥실메틸에테르(C2F5CF(OCH3)C3F7) 등의 알킬퍼플루오로알킬에테르(퍼플루오로알킬기 및 알킬기는 직쇄 또는 분지상이어도 됨)), 하이드로클로로플루오로카본(아사히클린 AK-225(상품명) 등), 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브계 용제; 디에틸옥살레이트, 피루브산에틸, 에틸-2-히드록시부티레이트, 에틸아세토아세테이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산아밀, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-히드록시이소부티르산메틸, 2-히드록시이소부티르산에틸 등의 에스테르계 용제; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 프로필렌글리콜계 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헥사논, 시클로헥사논, 메틸아미노케톤, 2-헵타논 등의 케톤계 용제; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 디아세톤 알코올 등의 알코올계 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류 등. 이들 용매는, 단독으로, 또는, 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 그 중에서도, 히드로플루오로에테르, 글리콜계 용제, 에스테르계 용제, 케톤계 용제, 알코올계 용제가 바람직하고, 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3) 및／또는 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5), 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 이소프로판올, 부탄올, 디아세톤 알코올이 특히 바람직하다.
다음으로, 막을 후처리한다. 이 후처리는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 활성 에너지선, 예를 들어 350㎚ 이하의 파장 영역의 전자파, 즉 자외 광선, 전자선, X선, γ선 등을 조사함으로써 행해진다. 혹은 소정 시간 가열함으로써 행해진다. 이러한 후처리를 실시함으로써, 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머의 경화성 부위, 그리고 존재하는 경우에는 매트릭스를 형성하는 조성물의 경화성 부위의 경화를 개시시키고, 이들 화합물 사이, 또한 이들 화합물과 기재 사이에 결합이 형성된다.
상기와 같이 하여, 기재의 표면에, 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물에서 유래되는 표면 처리층이 형성되고, 본 개시의 물품이 제조된다. 이것에 의해 얻어지는 표면 처리층은, 높은 표면 미끄럼성(또는 윤활성, 예를 들어 지문 등의 오염의 닦아 내기성이나, 손가락에 대한 우수한 촉감)과 높은 마찰 내구성의 양쪽을 갖는다. 또한, 이 표면 처리층은, 높은 마찰 내구성 및 표면 미끄럼성에 더하여, 사용하는 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물의 조성에 따라 다르지만, 발수성, 발유성, 방오성(예를 들어 지문 등의 오염의 부착을 방지함) 등을 가질 수 있어, 기능성 박막으로서 적합하게 이용될 수 있다.
본 발명의 표면 처리 조성물로 형성되는 막의 운동 마찰 계수는, 바람직하게는 0.85 이하이고, 보다 바람직하게는 0.80 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.77 이하이다. 운동 마찰 계수를 낮게 함으로써, 보다 양호한 촉감을 갖는 도막으로 할 수 있다.
상기 운동 마찰 계수는, 마찰 측정기(「트라이보마스터 TL201Ts, 가부시키가이샤 트리니티라보제) 등을 사용하여, 마찰자로서 촉각 접촉자를 사용하고, 하중 20gf, 주사 속도 10㎜/sec로 측정할 수 있다.
본 발명의 표면 처리 조성물로 형성되는 막의 물 정적 접촉각의 범위는, 바람직하게는 111도 이상, 보다 바람직하게는 112도 이상, 더욱 바람직하게는 113도 이상이다. 접촉각을 높게 함으로써, 보다 방오성이 우수한 도막으로 할 수 있다.
상기 접촉각은, 접촉각계(교와 가이멘 가가쿠사제, 「DropMaster」) 등을 사용하여, 착적량 2μL로 측정할 수 있다.
본 개시는 또한, 상기 표면 처리층을 최외층에 갖는 광학 재료에도 관한 것이다.
광학 재료로서는, 후기에 예시하는 바와 같은 디스플레이 등에 관한 광학 재료 외에, 다종 다양한 광학 재료를 바람직하게 들 수 있다: 예를 들어, 음극선관(CRT; 예, TV, 퍼스컴 모니터), 액정 디스플레이, 플라스마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 박막 EL 도트 매트릭스 디스플레이, 배면 투사형 디스플레이, 형광 표시관(VFD), 전계 방출 디스플레이(FED; Field Emission Display) 등의 디스플레이 또는 그러한 디스플레이들의 보호판, 필름 또는 그것들의 표면에 반사 방지막 처리를 실시한 것.
하나의 양태에 있어서, 본 개시에 의해 얻어지는 표면 처리층을 갖는 물품은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광학 부재일 수 있다. 광학 부재의 예로는, 다음의 것을 들 수 있다: 안경 등의 렌즈; PDP, LCD 등의 디스플레이의 전방면 보호판, 비산 방지 필름, 반사 방지판, 편광판, 안티글레어판; 휴대 전화, 휴대 정보 단말기 등의 기기의 터치 패널 시트; 블루레이(Blu-ray(등록 상표)) 디스크, DVD 디스크, CD-R, MO 등의 광 디스크의 디스크면; 광 파이버 등.
하나의 양태에 있어서, 본 개시에 의해 얻어지는 표면 처리층을 갖는 물품으로서는, 예를 들어 LiDAR(Light Detection and Ranging) 커버 부재, 센서 부재, 인스트루먼트 패널 커버 부재, 자동차 내장 부재 등, 특히 자동차용의 이들의 부재를 들 수 있다.
표면 처리층의 두께는, 특별히 한정되지는 않는다. 광학 부재의 경우, 표면 처리층의 두께는 0.1 내지 30㎛, 바람직하게는 0.5 내지 20㎛의 범위인 것이, 광학 성능, 표면 미끄럼성, 마찰 내구성 및 방오성의 점에서 바람직하다.
이상, 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물을 사용하여 얻어지는 물품에 대해서 상세하게 설명하였다. 또한, 본 개시의 조성물, 표면 처리제 또는 경화성 조성물의 용도, 사용 방법 내지 물품의 제조 방법 등은, 상기에서 예시한 것에 한정되지는 않는다.
실시예
이하, 본 개시에 대해서, 실시예에 있어서 설명하지만, 본 개시는 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서, 이하에 나타내어지는 화학식은 모두 평균 조성을 나타내고, 퍼플루오로폴리에테르를 구성하는 반복 단위((OCF2CF2CF2), (OCF2CF2), (OCF2) 등)의 존재 순서는 임의이다.
1. 퍼플루오로폴리에테르 함유 연쇄 이동제의 합성
합성예 1
연쇄 이동제 (A-1)의 합성
플라스크에 2-[(도데실설파닐티오카르보닐)설파닐]프로판산(후지 필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤제) 0.505g, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP)(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 0.019g, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 염산염(EDCI)(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 0.293g, 및 CF3CF2CF2(OCF2CF2CF2)nOCF2CF2CH2OH(n의 평균값≒25)로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르를 함유하는 알코올(다이킨 고교 가부시키가이샤제) 5.0g을 취하고, 아사히클린 AK-225(AGC 가부시키가이샤제) 13mL를 첨가하여 실온에서 교반하고, 반응을 행하였다. 밤새 교반 후, 반응액을, 포화 중조수 및 식염수로 세정하였다. 유기층을 분리하여 농축하고, 메탄올 중에 적하하여, 황색 유상의 목적물(A-1) 4.56g을 얻었다.
2. 에폭시기를 갖는 PFPE 블록 폴리머의 합성
합성예 2
(1) 에폭시기를 갖는 PFPE 블록 폴리머 (P-1)의 합성
반응 용기 내에 연쇄 이동제 (A-1) 1.0g, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(4HBAGE)(미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤제) 0.23g, 및 N,N'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN)(후지 필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤제) 12mg을 첨가하고, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 2.9mL에 용해하였다. 75℃에서 17시간 가열하고, 반응액을 헥산에 적하하여 블록 폴리머 (P-1)을 침전시켜서 회수하였다. NMR 측정으로부터 4HBAGE의 중합도는 5로 산출되었다.
합성예 3
(2) 에폭시기를 갖는 PFPE 블록 폴리머 (P-2)의 합성
합성예 2와 마찬가지로 하고, 4HBAGE의 투입량을 0.46g으로 변경함으로써, 4HBAGE의 중합도 10의 블록 폴리머 (P-2)를 합성하였다.
3. (메트)아크릴기를 갖는 PFPE 블록 폴리머의 합성
합성예 4
(1) 수산기를 갖는 PFPE 블록 폴리머 (P-3)의 합성
반응 용기 내에 (A-1) 1.3g, 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 0.18g, 및 AIBN 15.5mg을 첨가하고, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 2.1mL에 용해하였다. 70℃에서 22.5시간 가열하여 중합시켜, 블록 폴리머 (P-3)의 용액을 얻었다. NMR 측정으로부터 HEA의 중합도는 5로 산출되었다.
합성예 5
(2) 아크릴기를 갖는 PFPE 블록 폴리머 (P-4)의 합성
(1)의 반응 용액에, 폴리머 (P-3) 중 HEA 유닛에 대하여 1.1당량의 카렌즈AOI(쇼와 덴코 가부시키가이샤제), 및 0.01당량의 디부틸주석디라우레이트(DBTDL)(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제)를 첨가하고, 40℃에서 2시간 교반하였다. NMR 측정에 의해, 수산기가 100％ 반응하고 있는 것을 확인한 후 반응액을 메탄올에 적하하여 아크릴기를 갖는 블록 폴리머 (P-4)를 침전시켜 회수하였다.
합성예 6
(3) 메타크릴기를 갖는 PFPE 블록 폴리머 (P-5)의 합성
카렌즈 AOI를 카렌즈 MOI(쇼와 덴코사제)로 변경한 것 이외에는, 합성예 5의 (2)와 마찬가지로 하여, 메타크릴기를 갖는 블록 폴리머 (P-5)를 합성하였다.
비교 합성예 1
4. 아크릴기를 갖는 PFPE 화합물 (P-6)의 합성
적하 깔때기, 콘덴서, 온도계, 교반 장치를 장착한 1L의 4구 플라스크에 스미두르(등록 상표) N3300(스미카 바이엘 우레탄 가부시키가이샤제, NCO기 함유율 21.8％, 36.6g)을 아사히클린 AK-225(219.4g)에 용해시키고, 디부틸주석디라우레이트(후지 필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤제, 0.30g)를 첨가하고, 질소 기류하, 40℃에서 교반하면서, 평균 조성: CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)14CF2CF2CH2OH로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르를 함유하는 알코올(60.0g)을 아사히클린 AK-225(60.0g)에 용해한 용액을 적하하여 교반하였다. HEA(19.6g)를 적하하여 교반하였다. IR에서 NCO의 흡수가 완전히 소실된 것을 확인하였다. 디부틸히드록시톨루엔 0.05g을 첨가하여, 용제를 완전히 제거하고, 아크릴기를 갖는 PFPE 화합물 (P-6)을 합성하였다.
합성예 7
5. 에폭시기를 갖는 PFPE 블록 폴리머 (P-7)의 합성
반응 용기 내에 연쇄 이동제 (A-1) 1.0g, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(4HBAGE)(미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤제) 0.20g, n-부틸아크릴레이트(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 0.10g 및 N,N'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN)(후지 필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤제) 12mg을 첨가하고, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 3.1mL에 용해하였다. 75℃에서 20시간 가열하고, 반응액을 헥산에 적하하여 블록 폴리머 (P-7)을 침전시켜서 회수하였다. NMR 측정으로부터 블록 폴리머 1분자 중에 4HBAGE 단위가 4개, n-부틸아크릴레이트 단위가 3개 도입되어 있는 것을 확인하였다.
5. 도액 조제ㆍ도막 제작
(1) 에폭시계 코팅
매트릭스를 형성하는 에폭시 화합물로서 셀록사이드 2021P(가부시키가이샤 다이셀제)를 MIBK에 용해하고, 그 용액에 합성예 2, 및 3에서 합성한 PFPE 블록 폴리머 (P-1), (P-2) 및 (P-7)을 에폭시 화합물 고형분에 대하여, 각각 고형분 농도 환산으로 1％가 되도록, 또한 실리콘 화합물 (S-1) 내지 (S-9)를 에폭시 화합물 고형분에 대하여, 각각 고형분 농도 환산으로 하기 표 1에 나타내는 조합 및 첨가량(대 매트릭스 형성 화합물)으로 첨가하여, 50질량％의 에폭시 화합물 용액을 조제하였다(실시예 1 내지 9, 18 내지 21, 비교예 4 내지 7). 또한, PFPE 블록 폴리머를 첨가하지 않고 실리콘 화합물 (S-2)만 첨가한 용액(비교예 1), 실리콘 화합물을 첨가하지 않고 PFPE 블록 폴리머 (P-1) 또는 (P-2)만 첨가한 용액(비교예 2 및 3)도 조제하였다. 또한 열산 발생제인 산 에이드 SI-60L(산신 가가쿠 고교 가부시키가이샤제)을 에폭시 화합물 고형분에 대하여, 3질량％ 첨가하여 코팅제를 얻었다. PET 기판에 코팅제를 바 코터로 도장하고, 90℃, 2시간의 조건에서 가열하여, 경화 피막을 얻었다.
(2) 아크릴계 코팅
매트릭스를 형성하는 아크릴 화합물을 포함하는 조성물로서 빔 세트 575CB(아라카와 가가쿠 고교사제)를 MIBK에 용해하고, 그 용액에 합성예 5, 및 6에서 합성한 PFPE 블록 폴리머 (P-4) 및 (P-5)를, 빔 세트 575CB의 수지 고형분에 대하여, 각각 고형분 농도 환산으로 1％가 되도록, 또한 실리콘 화합물 (S-1), (S-4) 및 (S-6)을 빔 세트 575CB의 수지 고형분에 대하여, 각각 고형분 농도 환산으로 하기 표 2에 나타내는 조합 및 첨가량(대 매트릭스 형성 화합물)으로 첨가하여, 50질량％의 코팅 조성물을 얻었다(실시예 10 내지 17, 비교예 10, 11, 13, 및 14). 또한, PFPE 블록 폴리머를 첨가하지 않고 실리콘 화합물 (S-4)만 첨가한 코팅제(비교예 8), 실리콘 화합물을 첨가하지 않고 PFPE 블록 폴리머 (P-4) 또는 (P-5)만 첨가한 코팅제(비교예 9 및 12), 및 PFPE 블록 폴리머 대신에 비교 합성예 1에서 합성한 아크릴기를 갖는 PFPE 화합물 (P-6)을 첨가한 코팅제(비교예 15 및 16)도 조제하였다. PET 기판에 상기한 코팅 조성물을 바 코터로 도장하고, 70℃, 10분간의 조건에서 건조 후, 자외선 조사하여 경화 피막을 얻었다. 자외선 조사는 벨트 컨베이어식의 자외선 조사 장치를 사용하고, 조사량은 600mJ/㎠로 하였다.
실리콘 화합물
S-1: FM-0411(JNC 가부시키가이샤제, 편말단 OH 폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 1,000)
S-2: FM-0421(JNC 가부시키가이샤제, 편말단 OH 폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 5,000)
S-3: FM-0425(JNC 가부시키가이샤제, 편말단 OH 폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 10,000)
S-4: KF-2012(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤제, 편말단 메타크릴레이트폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 4,600)
S-5: KF-96-2cs(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤제, 말단 무변성 폴리디메틸실록산 수 평균 분자량 350)
S-6: KF-96-100cs(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤제, 말단 무변성 폴리디메틸실록산 수 평균 분자량 6,000)
S-7: X-22-173DX(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤제, 편말단 에폭시 폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 4,600)
S-8: X-22-163B(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤제, 양말단 에폭시 폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 3,600)
S-9: DMS-A15(Gelest사제, 양말단 아민 폴리디메틸실록산, 수 평균 분자량 3,000)
Figure pct00041
Figure pct00042
<평가>
상기의 실시예 및 비교예에 대해서, 하기와 같이, 상용성, 도막 외관, 접촉각, 및 표면 미끄럼성을 평가하였다. 결과를 하기 표 3(에폭시계 코팅) 및 표 4(아크릴계 코팅)에 나타낸다.
6. 상용성 평가
상기 5에서 조제한 도액에 대해서, 용액 상태를 육안으로 확인하였다. 평가 기준은 이하와 같이 하였다.
G: 투명하고 또한 균일하게 용해되었다.
NG: 탁도 또는 유적의 분리가 확인된다.
7. 도막 외관
상기 5에서 제작한 경화 피막에 대해서 육안 관찰하였다. 평가 기준은 이하와 같이 하였다.
G: 불균일이 없이 평활하다.
NG: 불균일, 크레이터링이 확인된다.
8. 접촉각 평가
상기 5에서 제작한 경화 피막에 대해서, 물의 정적 접촉각을 접촉각계(교와 가이멘 가가쿠사제, 「DropMaster」)를 사용하여, 2μL의 액량으로 측정하였다. 도막 외관 NG의 것에 관해서는 측정을 행하지 않았다.
9. 표면 미끄럼성 평가
상기 5에서 제작한 경화 피막에 대하여 마찰 측정기(「트라이보마스터 TL201Ts, 가부시키가이샤 트리니티라보제)를 사용하여, 마찰자로서 촉각 접촉자를 사용하여, 하중 20gf, 주사 속도 10㎜/sec로 정지 마찰 계수 및 운동 마찰 계수를 측정하였다. 도막 외관 NG의 것에 관해서는 측정을 행하지 않았다.
Figure pct00043
Figure pct00044
이상과 같이, 본 발명의 범위에 포함되는 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 (P-1 내지 P-5, P-7)과 실록산 폴리머 (S-1, S-2, S-4, S-6 내지 S-9)를 포함하는 조성물은, 상용성이 높고, 도막 외관이 양호하고, 113도 이상의 큰 대수 접촉각과 높은 미끄럼성을 양립하는 것이 확인되었다.
본 개시의 표면 처리제는, 여러 가지 다양한 기재, 특히 투과성이 요구되는 광학 부재의 표면에, 표면 처리층을 형성하기 위해 적합하게 이용될 수 있다.

Claims (25)

  1. (A) 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 및 (B) 실록산 폴리머를 포함하는 조성물이며,
    상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머는, 하기 식 (1) 또는 (2):

    [식 중:
    RF1은, Rf1-RF-Oq-이고;
    RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이고;
    Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이고;
    Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고;
    RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
    p는, 0 또는 1이고;
    q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;
    R4는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, R4a 또는 R4b이고;
    R4a는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖는 2가의 유기기이고;
    R4b는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기를 갖지 않는 2가의 유기기이고;
    상기 가교성기는, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합, 환상 에테르기, 수산기, 티올기, 아미노기, 아지드기, 질소 함유 복소환기, 이소시아네이트기, 할로겐 원자, 인산 함유기, 또는 실란 커플링기를 포함하는 기, 혹은 이들의 전구체기이고;
    n은 1 내지 100의 정수이고;
    Xa는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고;
    Xb는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고;
    Ra는, 각각 독립적으로, 알킬, 페닐, -SRa1, -ORa2, -NRa3 2,

    이고;
    Ra1, Ra2, Ra3, Ra4, Ra5 및 Ra6은, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 페닐기이고;
    Ra7은, 수소 또는 할로겐 원자이다.]
    으로 표시되는 공중합체이고,
    상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량은, 350 초과 10,000 미만인, 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    RF는, 각각 독립적으로, 식:

    [식 중, RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
    a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
    으로 표시되는 기인, 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    RFa는, 불소 원자인, 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    RF는, 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4) 또는 (f5):

    [식 중, d는 1 내지 200의 정수이고, e는, 0 또는 1이다.],

    [식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
    e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
    c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이고;
    첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],

    [식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고;
    R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
    g는, 2 내지 100의 정수이다.],

    [식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

    [식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
    으로 표시되는 기인, 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    R4는, R4a인, 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    R4a는, 하기 식:

    [식 중:
    R31은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 알킬기이고;
    R32는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 염소 원자, 불소 원자, 또는 불소에 의해 치환되어 있어도 되는 알킬기이고;
    R33은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가교성기이고;
    Y1은, 단결합, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -OC(=O)-, -NHC(=O)-, -O-, -N(Rc)-, 방향환, 치환기를 갖는 방향환 또는 카르바졸릴렌이고;
    Rc는, 유기기이고,
    Y2는, 단결합 또는 주쇄의 원자수가 1 내지 16인 링커이다.]
    으로 표시되는 기인, 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 비닐기, 알릴기, 치환되어 있어도 되는 아크릴로일기, 신나모일기, 2,4-헥사디에노일기, 비닐에테르기, 수산기, 옥세타닐기, 이소시아네이트기, 카테콜기, 티올기, 아미노기, 알킬아미노기, 디알킬아미노기, 아지드기, 인산 함유기, 카르복실기, 이미다졸릴기, 트리아졸릴기, 벤조트리아졸릴기, 테트라졸릴기, 할로겐 원자, 또는 실란 커플링기, 혹은 이들의 전구체기인, 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가교성기는, 에폭시기, 글리시딜기, 지환식 에폭시기, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기인, 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    n은, 2 내지 50의 정수인, 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 실록산 폴리머는, 하기 식:

    [식 중:
    R21은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
    R22는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
    R23은, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
    R24는, 수소 원자, C1-6 알킬기 또는 아릴기이고,
    R25는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
    R26은, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
    p는, 임의의 정수이다.]
    으로 표시되는 실록산 폴리머인, 조성물.
  11. 제10항에 있어서,
    R25 및 R26은, C1-6 알킬기인, 조성물.
  12. 제10항에 있어서,
    R25는 C1-6 알킬기이고,
    R26은, -R27-R28이고,
    R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이고,
    R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기인, 조성물.
  13. 제10항에 있어서,
    R25 및 R26은, -R27-R28이고,
    R27은, 2가의 유기기, 산소 원자 또는 단결합이고,
    R28은, 수소 원자, -OH, -CO-CH=CH2, -CO-C(CH3)=CH2, 에폭시기, 지환식 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 비닐기, 알콕시기, 또는 티올기인, 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 실록산 폴리머의 수 평균 분자량은, 800 내지 8,000인, 조성물.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 실록산 폴리머의 함유량은, 상기 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머 100질량부에 대하여 1 내지 300질량부인, 조성물.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 포함하는 표면 처리제.
  17. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 조성물, 제16항에 기재된 표면 처리제; 및
    매트릭스를 형성하는 조성물
    을 포함하는, 경화성 조성물.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 매트릭스를 형성하는 조성물은, 단관능 및／또는 다관능 아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 단관능 및／또는 다관능 우레탄아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 단관능 및／또는 다관능 에폭시아크릴레이트 및 메타크릴레이트인 화합물을 함유하는 조성물, 또는 단관능 및／또는 다관능 에폭시인 화합물을 함유하는 조성물인, 경화성 조성물.
  19. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 조성물, 제16항에 기재된 표면 처리제, 및／또는 제17항 또는 제18항에 기재된 경화성 조성물에 의해 형성된 막.
  20. 기재와, 해당 기재의 표면에 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 조성물, 제16항에 기재된 표면 처리제, 및／또는 제17항 또는 제18항에 기재된 경화성 조성물에 의해 형성된 층을 포함하는 물품.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 물품이 광학 부재인, 물품.
  22. 제20항에 있어서,
    LiDAR 커버 부재인, 물품.
  23. 제20항에 있어서,
    센서 부재인, 물품.
  24. 제20항에 있어서,
    인스트루먼트 패널 커버 부재인, 물품.
  25. 제20항에 있어서,
    자동차 내장 부재인, 물품.
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