KR20230116054A - Laminated film and manufacturing method of the laminated film - Google Patents

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KR20230116054A
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미츠하루 나카타니
유카 스기모토
유지 오노
겐이치 모리
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도요보 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 본 발명은 고평활이고, 양호한 미끄러짐성을 겸비하는 수지 시트를 제공할 수 있는 적층 필름을 제공하는 것이다.
[해결 수단] 폴리에스테르계의 기재(基材) 필름과, 상기 기재 필름의 적어도 편면(片面)에 배치된 이형층과, 상기 이형층에 있어서의 기재와는 반대측의 면에 배치된 수지 시트를 갖고, 이하의 조건을 만족시키는 적층 필름: 수지 시트는, 적어도 수지 성분 (A)와 가교제 (B)를 포함하는 수지 시트 형성 조성물을 경화시킨 것이며, 수지 시트는, 실질적으로 입자를 함유하지 않고, 수지 시트의 막 두께(t1)가, 1㎛ 이상 20㎛ 이하이며, 수지 시트의 표면 (1)의 산술 평균 높이(Sa)가 2nm 이상 30nm 이하이고, 수지 시트의 표면 (1)의 최대 단면 높이(St)가 80nm 이상 1000nm 이하이며, 수지 시트에 있어서의 상기 이형층면과는 반대측의 표면 (1)과, 수지 시트에 있어서의 상기 이형층측의 표면 (2)를 겹쳐 측정한 정(靜)마찰 계수가, 1.5 이하이다.
[Problem] The present invention is to provide a laminated film capable of providing a resin sheet that is highly smooth and has good slipperiness.
[Solution] A polyester base film, a release layer disposed on at least one surface of the base film, and a resin sheet disposed on the surface opposite to the substrate in the release layer A laminated film having a laminated film and satisfying the following conditions: The resin sheet is obtained by curing a resin sheet forming composition containing at least a resin component (A) and a crosslinking agent (B), and the resin sheet is substantially free of particles, The film thickness (t1) of the resin sheet is 1 μm or more and 20 μm or less, the arithmetic mean height Sa of the surface 1 of the resin sheet is 2 nm or more and 30 nm or less, and the maximum cross-sectional height of the surface 1 of the resin sheet (St) is 80 nm or more and 1000 nm or less, the static friction measured by overlapping the surface (1) on the side opposite to the surface of the release layer in the resin sheet and the surface (2) on the side of the release layer in the resin sheet. A coefficient is 1.5 or less.

Description

적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법Laminated film and manufacturing method of the laminated film

본 발명은, 수지 시트를 적층한 적층 필름에 관한 것이다. 특히 전자 부품, 광학 용도에 이용되는 수지 시트를 적층한 적층 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated film in which resin sheets are laminated. In particular, it relates to a laminated film in which resin sheets used for electronic components and optical applications are laminated.

종래, 폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 한 이형 필름은, 내열성이나 기계 특성이 높으며, 점착 시트나 커버 필름, 고분자 전해질막, 유전체 수지 시트 등의 수지 시트의 용액 제막(製膜) 시에 사용하는 공정 필름으로서 사용되어 왔다. 근래, 특히 필름 콘덴서에 사용되는 유전체 수지 시트 등의 전자 부품이나 광학 용도에 이용되는 수지 시트에는, 높은 평활성이나 투명성이 요구되기 때문에, 공정 필름으로서 사용하는 이형 필름의 표면에도 높은 평활성이 요구되어 왔다. 그 때문에, 특허문헌 1∼3에 기재되는 바와 같은 기술이 개시되어 있고, 이형층 표면의 표면 거칠기를 낮게 한 것이 제안되어 있다.Conventionally, a release film using a polyester film as a base material has high heat resistance and mechanical properties, and is used in solution film formation of resin sheets such as adhesive sheets, cover films, polymer electrolyte membranes, and dielectric resin sheets. It has been used as a process film to be used. In recent years, since high smoothness and transparency are required for electronic components such as dielectric resin sheets used in film capacitors and resin sheets used for optical applications, high smoothness has also been required for the surface of release films used as process films. . Therefore, techniques as described in Patent Literatures 1 to 3 are disclosed, and what made the surface roughness of the surface of a mold release layer low is proposed.

그러나, 예를 들면 광학 용도에서는 투명성 등을 높이기 위해 높은 평활성이 요구되는 한편, 평활성이 높으면 미끄러짐성이 악화되고, 반송(搬送) 공정 등에서 흠집이 생겨 수율이 저하될 우려가 있었다. 또, 필름 콘덴서 용도 등에서의 전자 부품 용도에서는, 절연 파괴 전압 등의 전기 특성을 향상시키기 위해 평활성이 요구되는 한편, 평활성이 너무 높으면 미끄러짐성이 나쁘고, 유전체 수지 시트를 롤상으로 권취(卷取)할 때에 감김 어긋남, 주름의 혼입 등이 발생하여, 잘 감을 수 없어 필름 콘덴서의 성능이 떨어질 우려가 있었다.However, for example, in optical applications, while high smoothness is required in order to increase transparency, etc., high smoothness deteriorates slipperiness, and there is a risk that a yield may be reduced due to scratches in a conveyance step or the like. In addition, in electronic component applications such as film capacitor applications, smoothness is required to improve electrical characteristics such as dielectric breakdown voltage, while excessively high smoothness results in poor slipperiness, and it is difficult to wind a dielectric resin sheet in a roll shape. At times, misalignment of the winding, incorporation of wrinkles, etc. may occur, and the performance of the film capacitor may deteriorate due to poor winding.

이들을 개선하기 위해, 특허문헌 4에는 편광판 등 광학용으로 이용되는 수지 시트 내에 특정의 입자를 첨가하여, 미끄러짐성을 갖게 하는 것이 제안되어 있다. 또, 특허문헌 5에서는, 필름 콘덴서용 필름 등에 이용되는 수지 시트에 대해, 기재 필름 상의 입자를 전사시키는 방법이 제안되어 있다.In order to improve these, Patent Document 4 proposes adding specific particles to a resin sheet used for optics, such as a polarizing plate, to give slipperiness. Further, Patent Literature 5 proposes a method of transferring particles on a base film to a resin sheet used for a film for a film capacitor or the like.

일본국 특개 2012-144021호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2012-144021 일본국 특개 2014-154273호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2014-154273 일본국 특개 2015-182261호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2015-182261 일본국 특개 2019-95661호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2019-95661 국제 공개 2020/039638호 공보International Publication No. 2020/039638

그러나, 특허문헌 4의 방법에서는, 수지 시트 내에 입자를 포함하기 때문에, 내부 헤이즈가 오르는 등 투명성이 불충분해질 우려가 있다. 또, 특허문헌 5의 방법에서는, 수지 시트에 전사하는 입자의 양이 불균일하게 될 우려가 있어, 미끄러짐성이 불안정해질 우려가 있다.However, in the method of Patent Literature 4, since particles are included in the resin sheet, there is a possibility that the internal haze rises and the transparency becomes insufficient. Further, in the method of Patent Literature 5, there is a fear that the amount of particles transferred to the resin sheet may become non-uniform, resulting in unstable slipperiness.

본 발명은, 상기 과제를 해결하는 것이며, 수지 시트 내부에 실질적으로 입자를 첨가하는 일 없이 고평활이고 또한 양호한 미끄러짐성을 겸비하는 수지 시트를 제공할 수 있는 적층 필름을 제안한다.The present invention solves the above problems and proposes a laminated film capable of providing a resin sheet that is highly smooth and has good slipperiness without substantially adding particles to the inside of the resin sheet.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 평활한 기재 필름 상에, 특정의 수지와 가교제를 적어도 포함하는 도액(塗液)을 특정의 조건에서 도공(塗工)하여 건조·경화시킴으로써 적층 필름 표면에 상(相) 분리 구조에 기인한 요철을 성형하는 것을 찾아내어, 입자 등을 함유하는 일 없이 양호한 미끄러짐성을 갖게 하는 것에 성공했다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention applied a coating solution containing at least a specific resin and a crosslinking agent on a smooth base film under specific conditions, dried and cured, so that the surface of the laminated film was damaged ( Phase) found to form unevenness due to the separable structure, and succeeded in imparting good slipperiness without containing particles or the like.

즉, 본 발명은 이하의 구성으로 이루어진다.That is, the present invention consists of the following configurations.

[1] 폴리에스테르계의 기재 필름과, 상기 기재 필름의 적어도 편면(片面)에 배치된 이형층과, 상기 이형층에 있어서의 기재와는 반대측의 면에 배치된 수지 시트를 갖고,[1] a polyester base film, a release layer disposed on at least one side of the base film, and a resin sheet disposed on the surface opposite to the substrate in the release layer,

이하의 (1)∼(6)을 만족시키는 적층 필름:A laminated film satisfying the following (1) to (6):

(1) 수지 시트는, 적어도 수지 성분 (A)와 가교제 (B)를 포함하는 수지 시트 형성 조성물을 경화시킨 것이며,(1) The resin sheet is obtained by curing a resin sheet forming composition containing at least a resin component (A) and a crosslinking agent (B),

(2) 수지 시트는, 실질적으로 입자를 함유하지 않고,(2) The resin sheet contains substantially no particles,

(3) 수지 시트의 막 두께(t1)가, 1㎛ 이상 20㎛ 이하이며,(3) The film thickness (t1) of the resin sheet is 1 μm or more and 20 μm or less,

(4) 수지 시트의 표면 (1)의 산술 평균 높이(Sa)가 2nm 이상 30nm 이하이고,(4) the arithmetic mean height (Sa) of the surface (1) of the resin sheet is 2 nm or more and 30 nm or less;

(5) 수지 시트의 표면 (1)의 최대 단면 높이(St)가 80nm 이상 1000nm 이하이며,(5) The maximum cross-sectional height (St) of the surface (1) of the resin sheet is 80 nm or more and 1000 nm or less,

(6) 수지 시트에 있어서의 상기 이형층면과는 반대측의 표면 (1)과, 수지 시트에 있어서의 상기 이형층측의 표면 (2)를 겹쳐 측정한 정(靜)마찰 계수가, 1.5 이하이다.(6) The static friction coefficient measured by overlapping the surface 1 on the side opposite to the surface of the release layer in the resin sheet and the surface 2 on the side of the release layer in the resin sheet is 1.5 or less.

[2] 일양태에 있어서, 수지 시트 형성 조성물에 포함되는 가교제 (B)가, 30℃에서 액체이다.[2] In one aspect, the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet forming composition is a liquid at 30°C.

[3] 일양태에 있어서, 수지 시트에 포함되는 가교제 (B)의 수지 시트 전체에서 차지하는 비율이, 10 질량% 이상이다.[3] In one aspect, the ratio of the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet to the entire resin sheet is 10% by mass or more.

[4] 일양태에 있어서, 수지 시트에 포함되는 수지 성분 (A)의 중량 평균 분자량이 10000 이상이다.[4] In one aspect, the weight average molecular weight of the resin component (A) contained in the resin sheet is 10000 or more.

[5] 일양태에 있어서, 이형층 표면의 표면 자유 에너지가 40mJ/㎡ 이하이고, 또한 부착 에너지가 3.5mJ/㎡ 이상이다.[5] In one aspect, the surface free energy of the surface of the release layer is 40 mJ/m 2 or less, and the adhesion energy is 3.5 mJ/m 2 or more.

[6] 일양태에 있어서, 기재 필름의 이형층측 표면의 산술 평균 높이(Sa)가 20nm 이하이고, 또한 최대 돌기 높이(P)가 500nm 이하이다.[6] In one aspect, the arithmetic mean height (Sa) of the release layer side surface of the base film is 20 nm or less, and the maximum protrusion height (P) is 500 nm or less.

[7] 다른 실시양태에 있어서, 본 발명은, 상기 어느 것에 기재한 적층 필름의 제조 방법을 제공하고, 해당 제조 방법은, 기재 필름 상에 용액 제막법에 의해 수지 시트를 도포 성형하는 것을 포함한다.[7] In another embodiment, the present invention provides a method for producing a laminated film according to any of the above, and the production method includes coating and molding a resin sheet on a base film by a solution film forming method. .

본 발명의 적층 필름을 이용함으로써, 고평활이고 또한 양호한 미끄러짐성을 겸비하는 수지 시트를 제공할 수 있으며, 본 발명에서 성형한 수지 시트를 이용함으로써, 각종 용도에서 양호한 제품을 제공할 수 있다.By using the laminated film of the present invention, a resin sheet having both high smoothness and good slipperiness can be provided, and by using the resin sheet molded in the present invention, good products can be provided for various uses.

도 1은 본 발명의 구성을 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 일양태에 있어서의, 본 발명의 구성을 설명하는 개략 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the present invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the present invention in one embodiment.

본 발명의 적층 필름은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 폴리에스테르계의 기재 필름(10)과, 기재 필름(10)의 적어도 편면에 배치된 이형층(11)과, 이형층(11)에 있어서의 기재 필름(10)과는 반대측의 면에 배치된 수지 시트(12)를 갖는 적층 필름이다.As shown in FIG. 1, the laminated|multilayer film of this invention consists of the polyester base film 10, the release layer 11 arrange|positioned on at least one surface of the base film 10, and the release layer 11 It is a laminated film having a resin sheet 12 arranged on the surface on the opposite side to the base film 10 of .

본 발명은, 예를 들면, 광학 용도에서는, 투명성 등을 높이는 것이 가능한 수지 시트이며, 게다가, 높은 평활성을 나타내는 수지 시트를 제공할 수 있다. 게다가, 종래는 곤란했던, 높은 평활성과 높은 미끄러짐성을 양립할 수 있고, 예를 들면, 반송 공정 등에서 흠집이 생기는 것을 억제할 수 있어, 수율의 저하를 회피할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is a resin sheet capable of enhancing transparency and the like in optical applications, for example, and can provide a resin sheet exhibiting high smoothness. Furthermore, it is possible to achieve both high smoothness and high slipperiness, which have been difficult in the past, and, for example, it is possible to suppress the occurrence of scratches in the conveyance step and the like, and the decrease in yield can be avoided.

또, 예를 들면, 필름 콘덴서 용도 등에서의 전자 부품 용도에서는, 높은 평활성을 나타내는 수지 시트를 제공할 수 있고, 수지 시트는, 절연 파괴 전압 등의 전기 특성을 향상시킬 수 있다. 게다가, 종래는 곤란했던, 높은 평활성과 높은 미끄러짐성을 양립할 수 있고, 예를 들면, 유전체 수지 시트를 롤상으로 권취할 때에 감김 어긋남, 주름의 혼입 등을 억제할 수 있어, 양호한 권취성을 나타낼 수 있다. 이 때문에, 뛰어난 콘덴서 성능을 보유한 상태에서, 반송 등이 가능하다.In addition, for example, in electronic component applications such as film capacitor applications, a resin sheet exhibiting high smoothness can be provided, and the resin sheet can improve electrical properties such as dielectric breakdown voltage. In addition, it is possible to achieve both high smoothness and high slipperiness, which have been difficult in the past, and, for example, when winding a dielectric resin sheet into a roll shape, it is possible to suppress misalignment of the winding and mixing of wrinkles, etc., and exhibit good winding properties. can For this reason, conveyance or the like is possible while maintaining excellent capacitor performance.

또한, 본 발명은, 수지 시트는, 실질적으로 입자를 함유하지 않아, 내부 헤이즈가 오르는 등 투명성이 불충분해지는 것을 회피할 수 있다. 또, 수지 시트에 전사하는 입자의 양이 불균일하게 되는 문제를 회피할 수 있어, 양호한 미끄러짐성을 나타낼 수 있다.Further, in the present invention, the resin sheet does not substantially contain particles, and it is possible to avoid insufficient transparency such as an increase in internal haze. In addition, the problem of non-uniformity in the amount of particles transferred to the resin sheet can be avoided, and good slipperiness can be exhibited.

(기재 필름)(substrate film)

본 발명은, 폴리에스테르계의 기재 필름을 갖는다. 본 발명의 기재로서 이용하는 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르는, 특별히 한정되지 않고, 기재 필름으로서 통상 일반적으로 사용되고 있는 폴리에스테르를 필름 형성한 것을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 방향족 이염기산 성분과 디올 성분으로 이루어지는 결정성의 선상(線狀) 포화 폴리에스테르인 것이 좋고, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌 테레프탈레이트 또는 이들 수지의 구성 성분을 주성분으로 하는 공중합체가 더욱 적합하다. 특히, 폴리에틸렌 테레프탈레이트로부터 형성된 폴리에스테르 필름이 특히 적합하다.The present invention has a polyester-based base film. The polyester constituting the polyester film used as the base material of the present invention is not particularly limited, and a film formed of polyester commonly used as a base film can be used. Preferably, it is a crystalline linear saturated polyester composed of an aromatic dibasic acid component and a diol component, and examples thereof include polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate, Polytrimethylene terephthalate or a copolymer mainly composed of constituents of these resins is more suitable. In particular, polyester films formed from polyethylene terephthalate are particularly suitable.

폴리에틸렌 테레프탈레이트는, 에틸렌 테레프탈레이트의 반복 단위가 바람직하게는 90 몰% 이상, 보다 바람직하게는 95 몰% 이상이며, 다른 디카르복시산 성분, 디올 성분이 소량 공중합되어 있어도 된다. 코스트의 점에서, 테레프탈산과 에틸렌 글리콜만으로 제조된 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 필름의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서, 공지의 첨가제, 예를 들면, 산화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 결정화제 등을 첨가해도 된다. 폴리에스테르 필름은 쌍방향의 탄성률이 높음 등의 이유에서 2축 배향 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하다.In polyethylene terephthalate, the repeating unit of ethylene terephthalate is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and other dicarboxylic acid components and diol components may be copolymerized in small amounts. In terms of cost, it is preferable to use only terephthalic acid and ethylene glycol. In addition, known additives such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, and crystallizers may be added within a range that does not impair the effect of the film of the present invention. The polyester film is preferably a biaxially oriented polyester film for reasons such as a high elastic modulus in both directions.

상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 고유 점도는 0.50∼0.70dl/g이 바람직하고, 0.52∼0.62dl/g이 보다 바람직하다. 고유 점도가 0.50dl/g 이상인 경우, 연신 공정에서 파단이 많이 발생하는 일이 없어 바람직하다. 반대로, 0.70dl/g 이하인 경우, 소정의 제품 폭으로 재단할 때의 재단성이 좋아, 치수 불량이 발생하지 않으므로 바람직하다. 또, 원료 펠릿은 충분히 진공 건조하는 것이 바람직하다.The intrinsic viscosity of the polyethylene terephthalate film is preferably 0.50 to 0.70 dl/g, and more preferably 0.52 to 0.62 dl/g. When the intrinsic viscosity is 0.50 dl/g or more, breakage does not occur much in the stretching step, which is preferable. Conversely, when it is 0.70 dl/g or less, the cutting property at the time of cutting to a predetermined product width is good, and dimensional defects do not occur, which is preferable. Moreover, it is preferable to fully vacuum dry raw material pellets.

본 발명에 있어서의 폴리에스테르 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 일반적으로 이용되고 있는 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 상기 폴리에스테르를 압출기(押出機)로 용융하여, 필름상으로 압출하고, 회전 냉각 드럼으로 냉각함으로써 미연신 필름을 얻고, 해당 미연신 필름을 연신함으로써 얻을 수 있다. 연신은, 2축 연신인 것이 역학적 특성 등에서 바람직하다. 2축 연신 필름은, 세로 방향 또는 가로 방향의 1축 연신 필름을 가로 방향 또는 세로 방향으로 축차 2축 연신하는 방법, 또는 미연신 필름을 세로 방향과 가로 방향으로 동시 2축 연신하는 방법으로 얻을 수 있다.The manufacturing method of the polyester film in this invention is not specifically limited, Conventionally, the method generally used can be used. For example, it can be obtained by melting the polyester with an extruder, extruding it into a film form, cooling it with a rotating cooling drum to obtain an unstretched film, and stretching the unstretched film. As for the stretching, it is preferable that it is biaxial stretching in terms of mechanical properties and the like. The biaxially stretched film can be obtained by sequentially biaxially stretching a vertically or horizontally uniaxially stretched film in the horizontal or vertical direction, or by simultaneously biaxially stretching an unstretched film in the vertical and horizontal directions. there is.

본 발명에 있어서, 폴리에스테르 필름 연신 시의 연신 온도는 폴리에스테르의 2차 전이점(Tg) 이상으로 하는 것이 바람직하다. 세로, 가로 각각의 방향으로 1∼8배, 특히 2∼6배의 연신을 하는 것이 바람직하다.In the present invention, the stretching temperature at the time of stretching the polyester film is preferably equal to or higher than the secondary transition point (Tg) of polyester. It is preferable to perform stretching 1 to 8 times, particularly 2 to 6 times in each of the vertical and horizontal directions.

상기 폴리에스테르 필름은, 두께가 6㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 8㎛ 이상 31㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상 28㎛ 이하이다. 필름의 두께가 6㎛ 이상이면, 필름 생산 시, 이형층의 가공 공정, 수지 시트의 성형 시 등에, 열에 의해 변형될 우려가 없어 바람직하다. 한편, 필름의 두께가 50㎛ 이하이면, 롤상으로 권취했을 때의 롤 지름(卷徑)이 작고, 성형하는 수지 시트의 롤 길이(卷長)를 길게 할 수 있으므로 바람직하다.The polyester film preferably has a thickness of 6 μm or more and 50 μm or less, more preferably 8 μm or more and 31 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 28 μm or less. When the thickness of the film is 6 μm or more, there is no fear of deformation due to heat during production of the film, processing of the release layer, molding of the resin sheet, etc., which is preferable. On the other hand, when the thickness of the film is 50 μm or less, the roll diameter when wound into a roll shape is small and the roll length of the resin sheet to be molded can be increased, so it is preferable.

기재 필름으로서의 폴리에스테르 필름이, 후술의 다층 구조를 갖는 경우, 기재 필름 전체로서의 막 두께가 상기 범위 내에 들어간다.When the polyester film as a base film has a multilayer structure described later, the film thickness of the entire base film falls within the above range.

상기 폴리에스테르 필름은, 단층이어도 2층 이상의 다층이어도 상관없다. 적어도 편면에는 실질적으로 입자를 포함하지 않는 표면층 A를 갖는 것이 바람직하다. 일양태에 있어서, 기재 필름인 폴리에스테르 필름은, 수지 시트측의 면에 표면층 A를 갖는다. 기재 필름이, 2층 이상의 다층 구성으로 이루어지는 적층 폴리에스테르 필름인 경우, 실질적으로 입자를 함유하지 않는 표면층 A의 반대면에는, 입자 등을 함유할 수 있는 표면층 B를 갖는 것이 바람직하다. 적층 구성으로는, 수지 시트를 배치하는 측의 층을 표면층 A, 그 반대면의 층을 표면층 B, 이들 이외의 심층(芯層)을 층 C로 하면, 두께 방향의 층 구성은 A/B, 또는 A/C/B 등의 적층 구조를 들 수 있다.The polyester film may be a single layer or a multilayer of two or more layers. It is preferable to have a surface layer A substantially free of particles on at least one side. 1 aspect WHEREIN: The polyester film which is a base film has the surface layer A on the surface on the resin sheet side. When the base film is a laminated polyester film having a multilayer structure of two or more layers, it is preferable to have a surface layer B that can contain particles or the like on the opposite side of the surface layer A that does not substantially contain particles. As for the laminate configuration, if the surface layer A is the layer on which the resin sheet is placed, the surface layer B is the layer on the opposite side, and the layer C is the core layer other than these, the layer configuration in the thickness direction is A/B, or a laminated structure such as A/C/B.

층 C는 복수의 층 구성이어도 상관없다. 또, 표면층 B에는 입자를 포함하지 않을 수도 있다. 그 경우, 필름을 롤상으로 권취하기 위한 미끄러짐성을 부여하기 위해, 표면층 B 상에는 입자와 바인더를 포함한 코트층을 설치하는 것이 바람직하다.Layer C may have a plurality of layers. Also, the surface layer B may not contain particles. In that case, it is preferable to provide a coating layer containing particles and a binder on the surface layer B in order to impart sliding properties for winding the film into a roll shape.

본 발명에서의 폴리에스테르 필름에 있어서, 수지 시트를 성형하는 표면에 위치하고 있는 표면층 A는, 실질적으로 입자를 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또, 폴리에스테르 필름의 표면층 A의 산술 평균 높이(Sa), 즉, 기재 필름의 이형층측 표면의 산술 평균 높이(Sa)는, 20nm 이하인 것이 바람직하다. 또한 산술 평균 높이(Sa)는, 10nm 이하인 것이 특히 바람직하다. Sa가 20nm 이하이면, 수지 시트의 성형 시에 핀 홀 및 국소적인 두께 불균일 등의 발생이 일어나기 어려워 바람직하다. 표면층 A의 산술 평균 높이(Sa)는 작을수록 바람직하다고 할 수 있지만, 0.1nm 이상이어도 상관없다. 여기에서, 표면층 A 상에 후술의 이형층 등을 설치하는 경우는, 이형층에 실질적으로 입자를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 이형층 적층 후의 산술 평균 높이(Sa)가 상기 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, 「입자를 실질적으로 함유하지 않는다」란, 예를 들면 무기 입자의 경우, 형광 X선 분석으로 무기 원소를 정량한 경우에 50ppm 이하, 바람직하게는 10ppm 이하, 가장 바람직하게는 검출 한계 이하가 되는 함유량을 의미한다. 이것은 적극적으로 입자를 필름 중에 첨가시키지 않아도, 외래 이물 유래의 오염 성분이나, 원료 수지 또는 필름의 제조 공정에 있어서의 라인이나 장치에 부착된 오염이 박리되어, 필름 중에 혼입하는 경우가 있기 때문이다.In the polyester film of the present invention, it is preferable that the surface layer A located on the surface on which the resin sheet is formed contains substantially no particles. Moreover, it is preferable that the arithmetic mean height (Sa) of the surface layer A of a polyester film, ie, the arithmetic mean height (Sa) of the mold release layer side surface of a base film, is 20 nm or less. Moreover, as for arithmetic mean height Sa, it is especially preferable that it is 10 nm or less. If Sa is 20 nm or less, occurrence of pinholes, local thickness unevenness, etc., hardly occurs during molding of the resin sheet, which is preferable. Although it can be said that the arithmetic mean height (Sa) of the surface layer A is so preferable that it is small, it does not matter even if it is 0.1 nm or more. Here, when a release layer or the like described below is provided on the surface layer A, the release layer preferably contains substantially no particles, and the arithmetic mean height Sa after lamination of the release layer preferably falls within the above range. . In the present invention, "substantially contains no particles" means, for example, in the case of inorganic particles, when inorganic elements are quantified by fluorescence X-ray analysis, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, most preferably detection It means the content below the limit. This is because even if particles are not actively added to the film, foreign matter-derived contaminants and raw material resins or contaminants adhering to lines and equipment in the film manufacturing process may be exfoliated and mixed into the film.

폴리에스테르 필름의 표면층 A의 최대 돌기 높이(P), 즉, 기재 필름의 이형층측 표면의 최대 돌기 높이(P)는, 예를 들면 500nm 이하이고, 200nm 이하인 것이 바람직하며, 150nm 이하가 보다 바람직하고, 100nm 이하가 더욱 바람직하며, 예를 들면 85nm 이하이고, 50nm 이하가 특히 바람직하다. 최대 돌기 높이(P)가 500nm 이하이면, 수지 시트 형성 시에, 핀 홀 및 국소적인 박막화 등의 결점의 발생이 없어, 수율이 양호하여 바람직하다.The maximum projection height (P) of the surface layer A of the polyester film, that is, the maximum projection height (P) of the release layer side surface of the base film is, for example, 500 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, , 100 nm or less is more preferable, for example, 85 nm or less, and 50 nm or less is particularly preferable. When the maximum protrusion height P is 500 nm or less, defects such as pinholes and local thinning do not occur during formation of the resin sheet, and the yield is good, which is preferable.

폴리에스테르 필름의 표면층 A의 P는, 작을수록 바람직하다고 할 수 있지만, 1nm 이상이어도 상관없고, 3nm 이상이어도 상관없다. 여기에서, 표면층 A 상에 후술의 이형층 등을 설치하는 경우는, 이형층 적층 후의 최대 돌기 높이(P)가 상기 범위에 들어가는 것이 바람직하다.It can be said that P of the surface layer A of the polyester film is so preferable that it is small, but it does not matter even if it is 1 nm or more, and it does not matter even if it is 3 nm or more. Here, when a release layer or the like described later is provided on the surface layer A, it is preferable that the maximum projection height P after the release layer is laminated falls within the above range.

본 발명에서의 폴리에스테르 필름에 있어서, 표면층 A의 반대면을 형성하는 표면층 B는, 필름의 미끄러짐성이나 공기의 제거 용이성의 관점에서, 입자를 함유하는 것이 바람직하고, 특히 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자를 이용하는 것이 바람직하다. 함유되는 입자 함유량은, 표면층 B 중에 입자의 합계로 5000∼15000ppm 함유하는 것이 바람직하다. 이때, 표면층 B의 필름의 산술 평균 높이(Sa)는, 1∼40nm의 범위인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 5∼35nm의 범위이다. 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자의 합계가 5000ppm 이상, Sa가 1nm 이상인 경우에는, 필름을 롤상으로 감아올릴(卷上) 때에, 공기를 균일하게 빠지게 할 수 있어, 감은 모습이 양호하고 평면성 양호에 의해, 수지 시트의 제조에 적합한 것이 된다. 또, 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자의 합계가 15000ppm 이하, Sa가 40nm 이하인 경우에는, 활제(滑劑)의 응집이 발생하기 어려워, 조대(粗大) 돌기가 생기지 않기 때문에, 수지 시트 성형 시에 품질이 안정되어 바람직하다.In the polyester film of the present invention, the surface layer B forming the opposite side of the surface layer A preferably contains particles, particularly silica particles and/or carbonic acid, from the viewpoints of slipperiness of the film and ease of air removal. It is preferable to use calcium particles. It is preferable to contain 5000-15000 ppm with the total particle|grains as for content of the particle|grains contained in surface layer B. At this time, it is preferable that the arithmetic mean height (Sa) of the film of the surface layer B is in the range of 1 to 40 nm. More preferably, it is the range of 5-35 nm. When the total amount of silica particles and/or calcium carbonate particles is 5000 ppm or more and Sa is 1 nm or more, air can be uniformly released when the film is wound up into a roll shape, and the winding appearance is good and the flatness is good. This makes it suitable for production of resin sheets. In addition, when the total amount of silica particles and/or calcium carbonate particles is 15000 ppm or less and Sa is 40 nm or less, aggregation of the lubricant is less likely to occur and coarse protrusions are not generated. The quality is stable and desirable.

상기 표면층 B에 함유하는 입자로는, 실리카 및/또는 탄산칼슘 이외에 불활성인 무기 입자 및/또는 내열성 유기 입자 등을 이용할 수 있다. 투명성이나 코스트의 관점에서 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자를 이용하는 것이 보다 바람직하지만, 그 외에 사용할 수 있는 무기 입자로는, 알루미나-실리카 복합 산화물 입자, 히드록시아파타이트 입자 등을 들 수 있다. 또, 내열성 유기 입자로는, 가교 폴리 아크릴계 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 벤조구아나민계 입자 등을 들 수 있다. 또 실리카 입자를 이용하는 경우, 다공질의 콜로이달 실리카가 바람직하고, 탄산칼슘 입자를 이용하는 경우는, 폴리아크릴산계의 고분자 화합물로 표면 처리를 실시한 경질 탄산칼슘이, 활제의 탈락 방지의 관점에서 바람직하다.As the particles contained in the surface layer B, inactive inorganic particles and/or heat-resistant organic particles other than silica and/or calcium carbonate can be used. Although it is more preferable to use silica particles and/or calcium carbonate particles from the viewpoint of transparency and cost, examples of other inorganic particles that can be used include alumina-silica composite oxide particles, hydroxyapatite particles, and the like. Moreover, as heat-resistant organic particle|grains, crosslinked polyacrylic particle|grains, crosslinked polystyrene particle|grains, benzoguanamine type particle|grains, etc. are mentioned. In the case of using silica particles, porous colloidal silica is preferable, and in the case of using calcium carbonate particles, light calcium carbonate subjected to surface treatment with a polyacrylic acid-based polymer compound is preferable from the viewpoint of preventing the slipping of the lubricant.

상기 표면층 B에 첨가하는 입자의 평균 입자 지름은, 0.1㎛ 이상 2.0㎛ 이하가 바람직하고, 0.5㎛ 이상 1.0㎛ 이하가 특히 바람직하다. 입자의 평균 입자 지름이 0.1㎛ 이상이면, 기재 필름의 미끄러짐성이 양호하여 바람직하다. 또, 평균 입자 지름이 2.0㎛ 이하이면, 표면층 B의 조대 입자에 의한 수지 시트에 핀 홀이 발생할 우려가 없어 바람직하다.The average particle diameter of the particles added to the surface layer B is preferably 0.1 μm or more and 2.0 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or more and 1.0 μm or less. When the average particle diameter of the particles is 0.1 μm or more, the slipperiness of the base film is good and is preferable. Moreover, when the average particle diameter is 2.0 μm or less, there is no possibility of pinholes occurring in the resin sheet due to the coarse particles of the surface layer B, which is preferable.

상기 표면층 B에는 소재가 다른 입자를 2종류 이상 함유시켜도 된다. 또, 동종의 입자이고 평균 입경이 다른 것을 함유시켜도 된다.The surface layer B may contain two or more types of particles of different materials. Moreover, you may contain the same kind of particle|grains but different average particle diameters.

표면층 B에 입자를 포함하지 않는 경우는, 표면층 B 상에 입자를 포함한 코트층으로 이활성(易滑性)을 갖게 하는 것이 바람직하다. 본 코트층은, 특별히 한정되지 않지만, 폴리에스테르 필름의 제막 중에 도공하는 인라인 코트로 설치하는 것이 바람직하다. 표면층 B에 입자를 포함하지 않고, 표면층 B 상에 입자를 포함하는 코트층을 갖는 경우, 코트층의 표면은, 상술의 표면층 B의 산술 평균 높이(Sa)와 마찬가지의 이유에 의해, 산술 평균 높이(Sa)가 1∼40nm의 범위인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 5∼35nm의 범위이다.In the case where the surface layer B does not contain particles, it is preferable to provide lubricity with a coating layer containing particles on the surface layer B. Although this coating layer is not specifically limited, It is preferable to provide in-line coating applied during film formation of a polyester film. When the surface layer B does not contain particles and has a coating layer containing particles on the surface layer B, the surface of the coating layer has an arithmetic mean height for the same reason as the arithmetic mean height Sa of the surface layer B described above. (Sa) is preferably in the range of 1 to 40 nm. More preferably, it is the range of 5-35 nm.

상기 수지 시트를 설치하는 측의 층인 표면층 A에는, 핀 홀 저감의 관점에서, 활제 등의 입자의 혼입을 막기 위해, 재생 원료 등을 사용하지 않는 것이 바람직하다.From the viewpoint of reducing pinholes, it is preferable not to use recycled raw materials or the like in the surface layer A, which is a layer on the side where the resin sheet is provided, in order to prevent mixing of particles such as a lubricant.

상기 수지 시트를 설치하는 측의 층인 표면층 A의 두께 비율은, 기재 필름의 전층(全層) 두께의 20% 이상 50% 이하인 것이 바람직하다. 20% 이상이면, 표면층 B 등에 포함되는 입자의 영향을 필름 내부로부터 받기 어려워, 산술 평균 높이(Sa)가 상기의 범위를 만족하는 것이 용이하여 바람직하다. 기재 필름의 전층의 두께의 50% 이하이면, 표면층 B에 있어서의 재생 원료의 사용 비율을 늘릴 수 있어, 환경 부하가 작아져 바람직하다.It is preferable that the thickness ratio of the surface layer A, which is the layer on which the resin sheet is provided, is 20% or more and 50% or less of the total layer thickness of the base film. When it is 20% or more, it is difficult to receive the influence of particles included in the surface layer B or the like from the inside of the film, and it is easy for the arithmetic mean height Sa to satisfy the above range, which is preferable. When it is 50% or less of the thickness of the entire layer of the base film, the use ratio of the recycled raw material in the surface layer B can be increased, and the environmental load is reduced, which is preferable.

또, 경제성의 관점에서 상기 표면층 A 이외의 층(표면층 B 또는 전술한 중간층 C)에는, 50∼90 질량%의 필름 스크랩이나 페트병의 재생 원료를 사용할 수 있다. 이 경우라도, 표면층 B에 포함되는 활제의 종류나 양, 입경 그리고 산술 평균 높이(Sa)는, 상기의 범위를 만족하는 것이 바람직하다. Further, from the viewpoint of economy, 50 to 90% by mass of film scraps or recycling raw materials for PET bottles can be used for layers other than the surface layer A (surface layer B or the above-mentioned intermediate layer C). Even in this case, it is preferable that the type and amount of the lubricant contained in the surface layer B, the particle size, and the arithmetic mean height (Sa) satisfy the above ranges.

또, 후에 도포하는 이형층 등의 밀착성을 향상시키거나, 대전을 방지하는 등을 위해 표면층 A 및/또는 표면층 B의 표면에 제막 공정 내의 연신 전 또는 1축 연신 후의 필름에 코트층을 설치해도 되고, 코로나 처리 등을 실시할 수도 있다. 표면층 A 상에 코트층을 설치하는 경우, 당해 코트층은, 실질적으로 입자를 함유하지 않는 것이 바람직하다.In addition, a coat layer may be provided on the surface of the surface layer A and/or the surface layer B on the film before stretching or after uniaxial stretching in the film forming step to improve the adhesion of a release layer or the like applied later or to prevent charging. , corona treatment, etc. may be performed. When providing a coating layer on the surface layer A, it is preferable that the said coating layer does not contain particle|grains substantially.

(이형층)(release layer)

본 발명은, 기재 필름의 적어도 편면에 배치된 이형층을 갖고, 예를 들면, 기재 필름과 수지 시트의 사이에, 이형층을 갖는다. 이형층을 구성하는 수지에는 특별히 한정은 없고, 실리콘 수지, 불소 수지, 알키드 수지, 각종 왁스, 지방족 올레핀 등을 이용할 수 있고, 각 수지를 단독 또는, 2종류 이상 병용할 수도 있다. 후술하는 수지 시트에 가교제를 포함하는 경우는, 실리콘 수지를 포함함으로써 이형성이 좋아지기 때문에 바람직하다.This invention has a release layer arrange|positioned on at least one surface of a base film, and has a release layer between a base film and a resin sheet, for example. The resin constituting the release layer is not particularly limited, and silicone resins, fluororesins, alkyd resins, various waxes, aliphatic olefins, and the like can be used, and each resin can be used alone or in combination of two or more. In the case where a crosslinking agent is included in the resin sheet described later, releasability is improved by including a silicone resin, so it is preferable.

또한, 본 명세서에 있어서, 기재와 이형층 적층체를, 단지 이형 필름이라고 칭하는 경우가 있다.In addition, in this specification, the base material and the release layer laminate may be simply referred to as a release film.

이형층은, 예를 들면 실리콘 수지를 포함할 수 있다. 실리콘 수지는, 분자 내에 실리콘 구조를 갖는 수지를 말하고, 경화형 실리콘, 실리콘 그라프트 수지, 알킬 변성 등의 변성 실리콘 수지 등을 들 수 있지만, 이행성 등의 관점에서 반응성의 경화 실리콘 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 반응성의 경화 실리콘 수지로는, 부가 반응계인 것, 축합 반응계인 것, 자외선 또는 전자선 경화계인 것 등을 이용할 수 있다. 보다 바람직하게는, 저온에서 가공할 수 있는 저온 경화성의 부가 반응계인 것, 및 자외선 또는, 전자선 경화계인 것이 좋다. 이러한 것을 이용함으로써, 폴리에스테르 필름에의 도공 가공 시에, 저온에서 가공할 수 있다. 그 때문에, 가공 시에 있어서의 폴리에스테르 필름에의 열 대미지가 적고, 평면성이 높은 폴리에스테르 필름이 얻어지며, 박막의 수지 시트 제조 시에도 핀 홀 등의 결점을 줄일 수 있다.The release layer may contain, for example, a silicone resin. Silicone resin refers to a resin having a silicone structure in the molecule, and includes curable silicone, silicone graft resin, modified silicone resin such as alkyl modification, etc. From the viewpoint of transferability, etc., it is preferable to use a reactive cured silicone resin do. As the reactive cured silicone resin, an addition reaction system, a condensation reaction system, an ultraviolet ray or electron beam curing system, or the like can be used. More preferably, it is a low-temperature curable addition reaction system that can be processed at a low temperature, and an ultraviolet ray or electron beam curing system. By using such a thing, it can process at low temperature at the time of the coating process to a polyester film. Therefore, heat damage to the polyester film at the time of processing is small, a polyester film with high flatness is obtained, and defects such as pinholes can be reduced even at the time of producing a thin resin sheet.

부가 반응계의 실리콘 수지로는, 예를 들면 말단 또는 측쇄에 비닐기를 도입한 폴리디메틸실록산과 하이드로젠실록산을, 백금 촉매를 이용해 반응시켜 경화시키는 것을 들 수 있다. 이때, 120℃에서 30초 이내에 경화할 수 있는 수지를 이용하는 쪽이, 저온에서의 가공이 가능하여, 보다 바람직하다. 예로는, 다우·도레이사 제조의 저온 부가 경화형(LTC1006L, LTC1056L, LTC300B, LTC303E, LTC310, LTC314, LTC350G, LTC450A, LTC371G, LTC750A, LTC755, LTC760A 등) 및 열 UV 경화형(LTC851, BY24-510, BY24-561, BY24-562 등), 신에쓰 가가쿠사 제조의 용제 부가 +UV 경화형(X62-5040, X62-5065, X62-5072T, KS5508 등), 듀얼 큐어 경화형(X62-2835, X62-2834, X62-1980 등) 등을 들 수 있다.As an addition reaction system silicone resin, what is made to react and harden the polydimethylsiloxane and hydrogensiloxane which introduced the vinyl group at the terminal or side chain using a platinum catalyst, for example is mentioned. At this time, it is more preferable to use a resin that can be cured at 120°C within 30 seconds because processing at low temperatures is possible. Examples include low-temperature addition curing types (LTC1006L, LTC1056L, LTC300B, LTC303E, LTC310, LTC314, LTC350G, LTC450A, LTC371G, LTC750A, LTC755, LTC760A, etc.) and thermal UV curing types (LTC851, BY24-510, BY24 -561, BY24-562, etc.), solvent-added + UV curing type manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (X62-5040, X62-5065, X62-5072T, KS5508, etc.), dual cure curing type (X62-2835, X62-2834, X62- 1980, etc.) and the like.

축합 반응계의 실리콘 수지로는, 예를 들면, 말단에 OH기를 갖는 폴리디메틸실록산과 말단에 H기를 갖는 폴리디메틸실록산을, 유기 주석 촉매를 이용하여 축합 반응시켜, 3차원 가교 구조를 만드는 것을 들 수 있다.Examples of the condensation-reacting silicone resin include a condensation reaction between polydimethylsiloxane having an OH group at the terminal and polydimethylsiloxane having an H group at the terminal using an organic tin catalyst to form a three-dimensional crosslinked structure. there is.

자외선 경화계의 실리콘 수지로는, 예를 들면 가장 기본적인 타입으로서 통상의 실리콘 고무 가교와 같은 라디칼 반응을 이용하는 것, 불포화기를 도입하여 광 경화시키는 것, 자외선으로 오늄염을 분해하여 강산(强酸)을 발생시키고, 이것으로 에폭시기를 개열(開裂)시켜 가교시키는 것, 비닐실록산에의 티올의 부가 반응으로 가교하는 것 등을 들 수 있다. 또, 상기 자외선 대신 전자선을 이용할 수도 있다. 전자선은 자외선보다도 에너지가 강하고, 자외선 경화의 경우와 같이 개시제를 이용하지 않아도, 라디칼에 의한 가교 반응을 행하는 것이 가능하다. 사용하는 수지의 예로는, 신에쓰 가가쿠사 제조의 UV 경화계 실리콘(X62-7028A/B, X62-7052, X62-7205, X62-7622, X62-7629, X62-7660 등), 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈사 제조의 UV 경화계 실리콘(TPR6502, TPR6501, TPR6500, UV9300, UV9315, XS56-A2982, UV9430 등), 아라카와 가가쿠사 제조의 UV 경화계 실리콘(실리코리스 UV POLY200, POLY215, POLY201, KF-UV265AM 등)을 들 수 있다.As the ultraviolet curable silicone resin, for example, as the most basic type, one using a radical reaction such as normal silicone rubber crosslinking, one that is photocured by introducing an unsaturated group, and one that decomposes an onium salt with ultraviolet rays to release a strong acid. crosslinking by cleavage of an epoxy group and crosslinking by addition reaction of thiol to vinylsiloxane. In addition, electron beams may be used instead of the ultraviolet rays. Electron beams have higher energy than ultraviolet rays, and it is possible to carry out a crosslinking reaction by radicals without using an initiator as in the case of ultraviolet curing. Examples of the resin used include UV curable silicones (X62-7028A/B, X62-7052, X62-7205, X62-7622, X62-7629, X62-7660, etc.) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Momentive Performance Material UV-curable silicones (TPR6502, TPR6501, TPR6500, UV9300, UV9315, XS56-A2982, UV9430, etc.) manufactured by Zusa, UV-curable silicones (silicolith UV POLY200, POLY215, POLY201, KF-UV265AM, etc.) manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. can be heard

상기, 자외선 경화계의 실리콘 수지로는, 아크릴레이트 변성이나, 글리시독시 변성된 폴리디메틸실록산 등을 이용할 수도 있다. 이들 변성된 폴리디메틸실록산을, 다관능의 아크릴레이트 수지나 에폭시 수지 등과 혼합하여, 개시제 존재하에서 사용하는 것이어도 양호한 이형 성능을 낼 수 있다.As the ultraviolet curable silicone resin, acrylate-modified or glycidoxy-modified polydimethylsiloxane or the like can also be used. Even when these modified polydimethylsiloxanes are mixed with a polyfunctional acrylate resin or an epoxy resin and used in the presence of an initiator, good release performance can be obtained.

그 외 이용되는 수지의 예로는, 스테아릴 변성, 라우릴 변성 등을 한 알키드 수지나 아크릴 수지, 또는 메틸화 멜라민의 반응 등으로 얻어지는 알키드계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀계 수지 등도 적합하다.Examples of other resins used include alkyd resins and acrylic resins subjected to stearyl modification, lauryl modification, or the like, or alkyd resins, acrylic resins, and olefin resins obtained by reaction of methylated melamine or the like.

상기, 메틸화 멜라민의 반응 등으로 얻어지는 아미노 알키드 수지로는, 히타치 가세이사 제조의 테스파인 303, 테스파인 305, 테스파인 314 등을 들 수 있다. 메틸화 멜라민의 반응 등으로 얻어지는 아미노아크릴 수지로는, 히타치 가세이사 제조의 테스파인 322 등을 들 수 있다.As amino alkyd resin obtained by the reaction of the said methylated melamine, etc., Tespine 303 by Hitachi Chemical Co., Ltd., Tespine 305, Tespine 314, etc. are mentioned. As an aminoacrylic resin obtained by reaction of methylation melamine, etc., Tespine 322 by Hitachi Chemical Co., Ltd., etc. are mentioned.

본 발명의 이형층에 상기 수지를 이용하는 경우는, 1종류로 사용해도 되고, 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 또, 박리력을 조정하기 위해, 경(輕)박리 첨가제, 중(重)박리 첨가제와 같은 첨가제를 혼합하는 것도 가능하다.When using the said resin for the release layer of this invention, you may use it by 1 type, and you may mix and use two or more types. Moreover, it is also possible to mix additives, such as a light peeling additive and a heavy peeling additive, in order to adjust peeling force.

본 발명의 이형층에는, 밀착 향상제나, 대전 방지제 등의 첨가제 등을 첨가해도 된다. 또, 기재와의 밀착성을 향상시키기 위해, 이형층을 설치하기 전에 폴리에스테르 필름 표면에, 앵커 코트, 코로나 처리, 플라스마 처리, 대기압 플라스마 처리 등의 전(前)처리를 하는 것도 바람직하다.You may add additives, such as an adhesion improver and an antistatic agent, etc. to the release layer of this invention. In addition, in order to improve adhesion to the substrate, it is also preferable to pre-treat the surface of the polyester film before providing the release layer with anchor coat, corona treatment, plasma treatment, or atmospheric plasma treatment.

본 발명에 있어서, 이형층의 두께는, 그 사용 목적에 따라 설정하면 좋고, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는, 경화 후의 이형층의 두께가 0.005∼2.0㎛가 되는 범위가 좋다. 이형층의 두께가 0.005㎛ 이상이면, 박리 성능이 유지되어 바람직하다. 또, 이형층의 두께가 2.0㎛ 이하이면, 경화 시간이 너무 길어지지 않으며, 이형 필름의 평면성의 저하에 의한 수지 시트의 두께 불균일을 발생시킬 우려가 없어 바람직하다. 또, 경화 시간이 너무 길어지지 않으므로, 이형 도포층을 구성하는 수지가 응집할 우려가 없고, 돌기를 형성할 우려가 없기 때문에, 수지 시트의 핀 홀 결점이 생기기 어려워 바람직하다.In the present invention, the thickness of the release layer may be set according to the purpose of use, and is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.005 to 2.0 µm in thickness of the release layer after curing. When the thickness of the release layer is 0.005 μm or more, the peeling performance is maintained, which is preferable. Moreover, when the thickness of the release layer is 2.0 μm or less, the curing time does not become too long, and there is no fear of causing unevenness in the thickness of the resin sheet due to a decrease in the flatness of the release film, which is preferable. In addition, since the curing time does not become too long, there is no fear of aggregation of the resin constituting the release coating layer, and there is no fear of forming protrusions, so pinhole defects in the resin sheet are less likely to occur, which is preferable.

본 발명의 기재 필름에 설치한 이형층의 표면 자유 에너지는 12mJ/㎡ 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 18mJ/㎡ 이상이고, 20mJ/㎡ 이상이 더욱 바람직하다. 12mJ/㎡ 이상이면 수지 시트의 용해액을 도포했을 때에 씨씽(cissing) 등이 발생하기 어렵기 때문에 바람직하다.It is preferable that the surface free energy of the release layer provided on the base film of this invention is 12 mJ/m<2> or more. More preferably, it is 18 mJ/m<2> or more, and 20 mJ/m<2> or more is still more preferable. If it is 12 mJ/m 2 or more, it is preferable because cissing or the like hardly occurs when the solution of the resin sheet is applied.

본 발명의 기재 필름에 설치한 이형층의 표면 자유 에너지는 40mJ/㎡ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 35mJ/㎡ 이하이고, 30mJ/㎡ 이하가 더욱 바람직하다. 40mJ/㎡ 이하이면 성형한 수지 시트의 박리성이 양호하기 때문에 바람직하다.It is preferable that the surface free energy of the release layer provided on the base film of the present invention is 40 mJ/m 2 or less. More preferably, it is 35 mJ/m<2> or less, and 30 mJ/m<2> or less is still more preferable. If it is 40 mJ/m<2> or less, since the peelability of the molded resin sheet is good, it is preferable.

본 발명에 있어서, 상기 표면 자유 에너지는, 적어도 이형층의 수지 시트와 접하는 면의 표면 자유 에너지를 의미한다.In the present invention, the surface free energy means the surface free energy of at least the surface of the release layer in contact with the resin sheet.

본 발명의 이형층의 수지 시트에 접하는 면의 물 부착 에너지는, 예를 들면, 3.0mJ/㎡ 이상이고, 3.5mJ/㎡ 이상이 바람직하다. 보다 바람직하게는 4.0mJ/㎡ 이상이고, 5.5mJ/㎡ 이상이 더욱 바람직하다. 3.0mJ/㎡ 이상이면, 수지 시트의 용해액을 도공할 때에 도공 단부(端部)의 솟아오름이 억제되기 때문에 바람직하다. 도공 시의 도공 단부의 솟아오름이 억제되면 적층 필름을 롤상으로 권취할 때의 단부 부풀어오름(耳立)이 억제되어, 감은 모습이 양호해지기 때문에, 적층 필름의 평면성이 양호하게 되므로 바람직하다.The water attachment energy of the surface of the release layer of the present invention in contact with the resin sheet is, for example, 3.0 mJ/m 2 or more, and preferably 3.5 mJ/m 2 or more. More preferably, it is 4.0 mJ/m<2> or more, and 5.5 mJ/m<2> or more is still more preferable. When it is 3.0 mJ/m<2> or more, when coating the solution of a resin sheet, since the rising of the coating end part is suppressed, it is preferable. When the swelling of the coated edge during coating is suppressed, the edge bulge at the time of winding the laminated film into a roll is suppressed, and the winding state becomes good, so the flatness of the laminated film becomes good, so it is preferable.

이형층 표면의 물 부착 에너지를 향상시키기 위해서는, 이형층에 첨가제를 첨가하거나, 폴리머 조성을 조정함으로써 달성할 수 있다. 예를 들면, 실리콘 수지이면, 폴리디메틸실록산 골격 중에, 페닐기를 측쇄에 갖는 실록산 유닛을 도입하거나, T 단위(3 관능)나 Q 단위(4 관능)의 실리콘 레진 등을 첨가함으로써 향상시킬 수 있다.In order to improve the water attachment energy on the surface of the release layer, it can be achieved by adding an additive to the release layer or adjusting the polymer composition. For example, in the case of a silicone resin, it can be improved by introducing a siloxane unit having a phenyl group in the side chain into the polydimethylsiloxane skeleton, or adding a T unit (trifunctional) or Q unit (tetrafunctional) silicone resin or the like.

이형층 표면의 물 부착 에너지를 향상시키기 위해서는, 상술 이외의 방법으로서, 실리콘 수지의 조성을 변경하는 것이어도 달성할 수 있다. 예를 들면, 부가 반응계의 실리콘 수지는, 말단 또는 측쇄에 비닐기를 도입한 폴리디메틸실록산과 하이드로젠실록산을, 백금 촉매 하에서 가열함으로써 경화할 수 있고, 말단의 비닐기(Si-Vy)의 몰량에 대해, 하이드로젠실록산의 Si-H기의 몰량을 변화시키는 것이어도 물 부착 에너지를 변화시킬 수 있다. 예를 들면, Si-Vy에 대해, Si-H 쪽이 많은 쪽이 물 부착 에너지가 높아지기 쉽고, Si-H/Si-Vi의 비가 1.0 이상이 바람직하며, 1.5 이상이 더욱 바람직하고, 2.0 이상이 보다 바람직하다.In order to improve the water attachment energy on the surface of the release layer, it is also possible to change the composition of the silicone resin as a method other than the above. For example, an addition reaction system silicone resin can be cured by heating polydimethylsiloxane and hydrogensiloxane in which a vinyl group is introduced into the terminal or side chain under a platinum catalyst, and the molar amount of the vinyl group (Si-Vy) at the terminal On the other hand, the water attachment energy can be changed by changing the molar amount of the Si-H groups of the hydrogensiloxane. For example, with respect to Si-Vy, the more Si-H tends to increase the water attachment energy, and the Si-H/Si-Vi ratio is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, and 2.0 or more. more preferable

본 발명의 이형층은, 상기 폴리에스테르 기재뿐만 아니라, 이형층에 있어서의 산술 평균 높이(Sa)는, 20nm 이하인 것이 바람직하다. 또한 산술 평균 높이(Sa)는, 10nm 이하인 것이 특히 바람직하다. Sa가 20nm 이하이면, 수지 시트의 성형 시에 핀 홀 및 국소적인 두께 불균일 등의 발생이 일어나기 어려워 바람직하다. 이형층의 산술 평균 높이(Sa)는 작을수록 바람직하다고 할 수 있지만, 0.1nm 이상이어도 상관없다.It is preferable that the release layer of the present invention has an arithmetic mean height (Sa) of not only the polyester base material but also the release layer of 20 nm or less. Moreover, as for arithmetic mean height Sa, it is especially preferable that it is 10 nm or less. If Sa is 20 nm or less, occurrence of pinholes, local thickness unevenness, etc., hardly occurs during molding of the resin sheet, which is preferable. Although it can be said that the arithmetic mean height Sa of the release layer is preferably smaller, it may be 0.1 nm or more.

또, 이형층의 최대 돌기 높이(P), 예를 들면, 500nm 이하이고, 200nm 이하인 것이 바람직하며, 150nm 이하가 보다 바람직하고, 100nm 이하가 더욱 바람직하며, 예를 들면 85nm 이하이고, 50nm 이하가 특히 바람직하다. 최대 돌기 높이(P)가 500nm 이하이면, 수지 시트 형성 시에, 핀 홀 및 국소적인 박막화 등의 결점의 발생이 없어, 수율이 양호하여 바람직하다.Further, the maximum protrusion height (P) of the release layer is, for example, 500 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, still more preferably 100 nm or less, for example, 85 nm or less, and 50 nm or less. particularly preferred. When the maximum protrusion height P is 500 nm or less, defects such as pinholes and local thinning do not occur during formation of the resin sheet, and the yield is good, which is preferable.

본 발명에 있어서, 이형층의 형성 방법은, 특별히 한정되지 않고, 이형성의 수지를 용해 또는 분산시킨 도액을, 기재의 폴리에스테르 필름의 한쪽의 면에 도포 등에 의해 전개하고, 용매 등을 건조에 의해 제거 후, 가열 건조, 열 경화 또는 자외선 경화시키는 방법이 이용된다.In the present invention, the method for forming the release layer is not particularly limited, and a coating solution obtained by dissolving or dispersing a resin having release properties is spread on one side of a polyester film as a base material by application or the like, and a solvent or the like is dried. After removal, a method of heat drying, heat curing or ultraviolet curing is used.

상기 이형층의 도포법으로는, 공지의 임의의 도포법을 적용할 수 있고, 예를 들면 그라비아 코트법이나 리버스 코트법 등의 롤 코트법, 와이어 바 등의 바 코트법, 다이 코트법, 스프레이 코트법, 에어 나이프 코트법, 등의 종래부터 알려져 있는 방법을 이용할 수 있다.As the coating method of the release layer, any known coating method can be applied. For example, a roll coating method such as a gravure coating method or a reverse coating method, a bar coating method such as a wire bar, a die coating method, and a spray Conventionally known methods such as a coating method and an air knife coating method can be used.

이형층에 열 경화성의 재료를 이용하는 경우는, 용매 건조, 열 경화 시의 건조 온도는, 180℃ 이하인 것이 바람직하고, 160℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 140℃ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 120℃ 이하인 것이 가장 바람직하다. 그 가열 시간은, 30초 이하가 바람직하고, 20초 이하가 보다 바람직하며, 10초 이하가 가장 바람직하다. 180℃ 이하의 경우, 필름의 평면성이 유지되어, 수지 시트의 두께 불균일을 일으킬 우려가 작아 바람직하다. 120℃ 이하이면 필름의 평면성을 해치는 일 없이 가공할 수 있으며, 수지 시트의 두께 불균일을 일으킬 우려가 더욱 저하되므로 특히 바람직하다.When a thermosetting material is used for the release layer, the drying temperature during solvent drying and thermal curing is preferably 180°C or less, more preferably 160°C or less, still more preferably 140°C or less, and 120°C or less. most desirable The heating time is preferably 30 seconds or less, more preferably 20 seconds or less, and most preferably 10 seconds or less. In the case of 180°C or less, the planarity of the film is maintained, and there is little possibility of causing unevenness in the thickness of the resin sheet, which is preferable. If it is 120 degrees C or less, it can process without impairing the planarity of a film, and since the possibility of causing thickness nonuniformity of a resin sheet further reduces, it is especially preferable.

건조 온도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 60℃ 이상인 것이 바람직하다. 60℃ 이상인 이형층 중에 용매가 잔존하는 일 없이 이형 필름이 얻어질 수 있기 때문에 바람직하다.The lower limit of the drying temperature is not particularly limited, but is preferably 60°C or higher. It is preferable because a release film can be obtained without the solvent remaining in the release layer at 60°C or higher.

이형층에 자외선 경화성의 재료를 이용하는 경우는, 용매 건조, 열 경화 시의 건조 온도는, 120℃ 이하인 것이 바람직하고, 100℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 90℃ 이하인 것이 가장 바람직하다. 그 가열 시간은, 30초 이하가 바람직하고, 20초 이하가 보다 바람직하며, 10초 이하가 가장 바람직하다. 120℃ 이하의 경우, 필름의 평면성이 유지되어, 수지 시트의 두께 불균일을 일으킬 우려가 작아 바람직하다. 90℃ 이하이면 필름의 평면성을 해치는 일 없이 가공할 수 있으며, 수지 시트의 두께 불균일을 일으킬 우려가 더욱 저하되므로 특히 바람직하다.When an ultraviolet curable material is used for the release layer, the drying temperature during solvent drying and heat curing is preferably 120°C or less, more preferably 100°C or less, and most preferably 90°C or less. The heating time is preferably 30 seconds or less, more preferably 20 seconds or less, and most preferably 10 seconds or less. In the case of 120°C or less, the planarity of the film is maintained, and there is little possibility of causing unevenness in the thickness of the resin sheet, which is preferable. If it is 90 degrees C or less, it can process without impairing the planarity of a film, and since the possibility of causing thickness nonuniformity of a resin sheet further reduces, it is especially preferable.

건조 온도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 60℃ 이상인 것이 바람직하다. 60℃ 이상인 이형층 중에 용매가 잔존하는 일 없이 이형 필름이 얻어질 수 있기 때문에 바람직하다.The lower limit of the drying temperature is not particularly limited, but is preferably 60°C or higher. It is preferable because a release film can be obtained without the solvent remaining in the release layer at 60°C or higher.

이형층에 자외선 경화성의 재료를 이용하는 경우는, 전술의 용매 건조 후에, 활성 에너지선을 조사하여 경화 반응을 시키는 것이 바람직하다. 사용하는 활성 에너지선으로는, 자외선, 전자선 등 이미 알려진 기술을 사용할 수 있고, 자외선을 이용하는 것이 바람직하다. 자외선을 이용했을 때의 적산광량은, 조도와 조사 시간의 곱으로 나타낼 수 있다. 예를 들면, 10∼500mJ/㎠인 것이 바람직하다. 상기 하한 이상으로 함으로써, 이형층을 충분히 경화시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 상기 상한 이하로 함으로써 조사 시의 열에 의한 필름에의 열 대미지를 억제할 수 있어 이형층 표면의 평활성을 유지할 수 있기 때문에 바람직하다.When using an ultraviolet-curable material for a release layer, it is preferable to irradiate an active energy ray and make a hardening reaction after drying the above-mentioned solvent. As active energy rays to be used, known techniques such as ultraviolet rays and electron beams can be used, and it is preferable to use ultraviolet rays. The cumulative amount of light when ultraviolet rays are used can be expressed as the product of the illuminance and the irradiation time. For example, it is preferable that it is 10-500 mJ/cm<2>. By setting it as more than the said lower limit, since a release layer can fully be hardened, it is preferable. By using below the said upper limit, since the thermal damage to the film by the heat|fever at the time of irradiation can be suppressed and the smoothness of the surface of a release layer can be maintained, it is preferable.

(수지 시트)(resin sheet)

본 발명의 적층 필름은, 이형층에 있어서의 기재와는 반대측의 면에 배치된 수지 시트를 갖는다.The laminated film of this invention has a resin sheet arrange|positioned on the surface on the opposite side to the base material in a release layer.

예를 들면, 본 발명의 이형 필름에 적층하는 수지 시트는, 수지 성분 (A)와 가교제 (B)를 적어도 포함하는, 수지 시트 형성 조성물을 경화시킨 것이다.For example, the resin sheet laminated on the release film of the present invention is obtained by curing a resin sheet forming composition containing at least a resin component (A) and a crosslinking agent (B).

본 발명의 수지 시트는, 예의 검토한 결과, 후술하는 특정의 조건, 예를 들면 본 발명에 관한 수지 시트 형성 조성물로부터 작성함으로써, 수지 성분 (A)와 가교제 (B)가 상 분리된 상태로 경화하는 것을 가능하게 하고, 수지 시트 표면에 적당한 요철을 형성하여, 수지 시트에 입자 등을 포함하는 일 없이 수지 시트의 미끄러짐성을 발현할 수 있다.As a result of intensive studies, the resin sheet of the present invention is cured in a state in which the resin component (A) and the crosslinking agent (B) are phase separated by preparing under the specific conditions described later, for example, from the resin sheet forming composition according to the present invention. It is possible to do this, and appropriate unevenness can be formed on the surface of the resin sheet, so that the resin sheet can exhibit slipperiness without containing particles or the like.

수지 성분 (A)와 가교제 (B)를 합친 질량 비율은, 수지 시트 전체의 고형분의 80 질량% 이상을 차지하는 것이 바람직하고, 90 질량% 이상이 보다 바람직하며, 95 질량% 이상이 더욱 바람직하다. 80 질량% 이상 포함되면 수지 시트의 강도, 내열성 등의 물성치가 향상되기 때문에 바람직하다.The combined mass ratio of the resin component (A) and the crosslinking agent (B) is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and still more preferably 95% by mass or more of the total solid content of the resin sheet. When 80% by mass or more is contained, physical properties such as strength and heat resistance of the resin sheet are improved, so it is preferable.

수지 성분 (A)와 가교제 (B)의 질량 비율은, (A)/(B)=90/10∼50/50이 바람직하다. 가교제 (B)의 배합 비율이 10 질량% 이상이면, 상 분리 후의 요철이 증가하기 쉬워, 미끄러짐성이 향상되기 때문에 바람직하다. 가교제 (B)의 배합 비율이 50 질량% 이하이면, 수지 시트의 막 강도가 저하되지 않아, 시트로서 취급성이 뛰어나기 때문에 바람직하고, 권취했을 때에 미반응의 가교제가 적층 필름의 이면과 블로킹하는 것도 막을 수 있다. 예를 들면, 수지 시트에 포함되는 가교제 (B)의 수지 시트 전체에서 차지하는 비율이, 10 질량% 이상 50 질량% 이하인 것이 바람직하다. 일양태에 있어서, 수지 시트에 포함되는 가교제 (B)의 수지 시트 전체에서 차지하는 비율이, 10 질량% 이상 50 질량% 미만이고, 예를 들면, 15 질량% 이상 45 질량% 이하이다. 이와 같은 조건으로 가교제 (B)를 포함함으로써, 상기 효과를 보다 양호하게 이룰 수 있다.As for the mass ratio of a resin component (A) and a crosslinking agent (B), (A)/(B)=90/10 - 50/50 are preferable. When the blending ratio of the crosslinking agent (B) is 10% by mass or more, unevenness after phase separation tends to increase and slipperiness improves, so it is preferable. When the blending ratio of the crosslinking agent (B) is 50% by mass or less, it is preferable because the film strength of the resin sheet does not decrease and the handling property as a sheet is excellent. can also be prevented. For example, it is preferable that the ratio of the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet to the entire resin sheet is 10% by mass or more and 50% by mass or less. In one aspect, the ratio of the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet to the entire resin sheet is 10% by mass or more and less than 50% by mass, for example, 15% by mass or more and 45% by mass or less. By including the crosslinking agent (B) under such conditions, the above effect can be achieved more satisfactorily.

수지 성분 (A)로는, 특별히 한정되지 않으며, 이미 알려진 수지를 사용할 수 있다. 예를 들면, 에폭시계 수지, 페녹시계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 불소계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀계 수지, 이미드계 수지, 술폰계 수지 등을 이용할 수 있고, 1종류로 이용해도 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 본 발명에 사용하는 수지 성분 (A)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 10000 이상이고, 10000 이상 200000 이하인 것이 바람직하며, 30000 이상 100000 이하가 보다 바람직하다. 10000 이상이면 수지 시트의 강도가 강해 취급성이 양호하기 때문에 바람직하다. 200000 이하이면 용액 제막하는 경우에 용액의 점도가 낮아져 생산성이 양호하기 때문에 바람직하다. 중량 평균 분자량(Mw)의 측정 방법은, 특별히 한정되지 않지만, GPC 등 이용하여 측정할 수 있다.The resin component (A) is not particularly limited, and known resins can be used. For example, epoxy-based resins, phenoxy-based resins, polyester-based resins, urethane-based resins, fluorine-based resins, acrylic resins, olefin-based resins, imide-based resins, sulfone-based resins, etc. can be used. You may mix and use the above. The weight average molecular weight (Mw) of the resin component (A) used in the present invention is 10000 or more, preferably 10000 or more and 200000 or less, more preferably 30000 or more and 100000 or less. When it is 10000 or more, the strength of the resin sheet is strong and the handleability is good, so it is preferable. If it is 200000 or less, since the viscosity of a solution will become low and productivity will be favorable when forming a solution into a film, it is preferable. Although the method of measuring the weight average molecular weight (Mw) is not particularly limited, it can be measured using GPC or the like.

가교제 (B)로는, 특별히 한정되지 않으며, 이미 알려진 가교제를 사용할 수 있다. 예를 들면, 이소시아네이트, 멜라민, 카르보디이미드, 옥사졸린 등의 가교제를 이용할 수 있고, 1종류로 이용해도 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 수지 성분 (A)에 포함되는 관능기와 반응하는 것인 것이 바람직하다. 수지 시트 형성 조성물에 포함되는 가교제 (B)는, 30℃ 조건하에서 액체인 것이 바람직하다. 본 발명에서 액체란, 유동성이 있으면 좋고, 예를 들면, 점도가 10000mPa·s 이하이면 좋다. 30℃에서 액체임으로써, 수지 시트의 용액 제막의 건조 시에 수지 성분 (A)와의 상 분리를 효과적으로 촉진할 수 있으며, 수지 시트의 표면 요철이 생기기 쉬워지기 때문에 바람직하다.The crosslinking agent (B) is not particularly limited, and a known crosslinking agent can be used. For example, crosslinking agents such as isocyanate, melamine, carbodiimide, and oxazoline can be used, and either one type or a mixture of two or more types may be used. It is preferable that it reacts with the functional group contained in the resin component (A). It is preferable that the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet forming composition is a liquid under the condition of 30 degreeC. In the present invention, the liquid may have fluidity, and may have, for example, a viscosity of 10000 mPa·s or less. By being a liquid at 30°C, phase separation from the resin component (A) can be effectively promoted during drying of the solution film formation of the resin sheet, and irregularities on the surface of the resin sheet tend to occur, which is preferable.

수지 시트에는, 상기 범위를 만족시키면, 수지 성분 (A)와 가교제 (B) 이외에 첨가제 등을 포함해도 상관없다. 그러나, 수지 시트는, 입자를 실질적으로 포함하지 않는다. 본 발명에 관한 수지 시트는, 입자를 실질적으로 포함하지 않음으로써, 예를 들면 광학 용도이면, 성형한 수지 시트의 투명성이 높아지는 효과, 필름 콘덴서에 사용되는 유전체 시트와 같은 전자 부품에서는 전기 특성이 좋아지는 등의 효과가 얻어지기 쉽기 때문에 바람직하다. 예를 들면, 광학 용도이면, 수지 시트는, 헤이즈가 2% 이하일 수 있다. 또, 헤이즈가 1% 이하여도 좋다. 일양태에 있어서, 수지 시트의 헤이즈는 0.1% 이상이다. 또, 예를 들면 필름 콘덴서 등의 전자 부품이면, 수지 시트는, 절연 파괴 전압이 200V/㎛ 이상일 수 있다. 또, 절연 파괴 전압이 300V/㎛ 이상이어도 좋다. 일양태에 있어서, 절연 파괴 전압은 500V/㎛ 이하이다.The resin sheet may contain additives other than the resin component (A) and the crosslinking agent (B) as long as the above ranges are satisfied. However, the resin sheet does not contain particles substantially. Since the resin sheet according to the present invention does not substantially contain particles, for example, in the case of optical applications, the transparency of the molded resin sheet is increased, and the electrical properties are improved in electronic parts such as dielectric sheets used for film capacitors. It is preferable because such effects are easy to be obtained. For example, if it is an optical use, the resin sheet may have a haze of 2% or less. Moreover, the haze may be 1% or less. 1 aspect WHEREIN: The haze of a resin sheet is 0.1 % or more. Moreover, for example, if it is an electronic component, such as a film capacitor, the resin sheet may have a dielectric breakdown voltage of 200 V/micrometer or more. Further, the dielectric breakdown voltage may be 300 V/μm or more. In one aspect, the dielectric breakdown voltage is 500V/μm or less.

본 발명의 수지 시트는, 입자를 실질적으로 함유하지 않아도, 표면에 수지 성분 (A)와 가교제 (B)의 상 분리에 기인하는 미소(微小)한 요철이 존재하기 때문에, 양호한 미끄러짐성을 가질 수 있다. 기재 필름으로부터 박리한 수지 시트의 정마찰 계수로는, 1.5 이하인 것이 바람직하고, 1.0 이하가 보다 바람직하며, 0.8 이하가 더욱 바람직하다. 정마찰 계수가 1.5 이하인 것인 수지 시트로서, 광학 용도나 전자 부품 용도로서 이용한 경우에 권취성이나 주행성(走行性) 등이 좋아 취급이 용이하게 되기 때문에 바람직하다. 수지 시트의 정마찰 계수는 0.1 이상이어도 좋다.Even if the resin sheet of the present invention does not substantially contain particles, it can have good slipperiness because the surface has minute irregularities resulting from the phase separation of the resin component (A) and the crosslinking agent (B). there is. The static friction coefficient of the resin sheet peeled from the base film is preferably 1.5 or less, more preferably 1.0 or less, and still more preferably 0.8 or less. As a resin sheet having a static friction coefficient of 1.5 or less, when used for optical applications or electronic parts applications, it is preferable because it has good winding properties, running properties, and the like and facilitates handling. The static friction coefficient of the resin sheet may be 0.1 or more.

일양태에 있어서, 도 2에 있어서, 부호 13으로 나타내어지는 수지 시트의 이형층과는 반대측의 표면 (1)과, 부호 14로 나타내어지는 수지 시트의 표면 (2)를 겹쳐 측정한 정마찰 계수가, 1.5 이하이다. 상기 조건으로 측정한 정마찰 계수는, 1.0 이하가 보다 바람직하고, 0.8 이하가 더욱 바람직하다. 또, 정마찰 계수는 0.1 이상이어도 좋다.In one embodiment, the coefficient of static friction measured by overlapping the surface 1 of the resin sheet on the opposite side to the release layer of the resin sheet indicated by reference numeral 13 in FIG. 2 and the surface 2 of the resin sheet indicated by reference numeral 14 is , less than 1.5. The static friction coefficient measured under the above conditions is more preferably 1.0 or less, and more preferably 0.8 or less. Moreover, the static friction coefficient may be 0.1 or more.

이와 같이, 수지 시트의 양면을 겹쳐 측정한 정마찰 계수가 상기 범위 내인 것에 의해, 본 발명의 수지 시트는, 높은 평활성과, 뛰어난 권취성 및 주행성을 양립할 수 있다.Thus, when the coefficient of static friction measured by overlapping both surfaces of the resin sheet is within the above range, the resin sheet of the present invention can achieve both high smoothness, excellent windability and runability.

본 발명의 적층 필름의 수지 시트의 표면 (1)(이형층에 접하는 면과는 반대의 면)의 산술 평균 거칠기(Sa)가 2nm 이상 30nm 이하이고, 2nm 이상, 20nm 이하가 보다 바람직하며, 2.5nm 이상 15nm 이하가 더욱 바람직하다. 2nm 이상이면 수지 시트의 미끄러짐성이 양호해져 바람직하다. 30nm 이하이면 적층 필름으로부터 수지 시트를 박리하여 수지 시트만을 롤상으로 권취한 경우라도, 핀 홀 등의 결점이 발생할 우려가 저하되어 바람직하다.The arithmetic mean roughness (Sa) of the surface (1) of the resin sheet of the laminated film of the present invention (surface opposite to the surface in contact with the release layer) is 2 nm or more and 30 nm or less, more preferably 2 nm or more and 20 nm or less, and 2.5 nm or more and 15 nm or less are more preferable. When it is 2 nm or more, the slipperiness of the resin sheet becomes good, which is preferable. If it is 30 nm or less, even when the resin sheet is peeled from the laminated film and only the resin sheet is wound up in a roll shape, the risk of occurrence of defects such as pinholes is reduced, which is preferable.

본 발명의 적층 필름의 수지 시트의 표면 (1)(이형층에 접하는 면과는 반대의 면)의 최대 단면 높이(St)가 80nm 이상 1000nm 이하이고, 100nm 이상, 600nm 이하가 보다 바람직하며, 150nm 이상 500nm 이하가 더욱 바람직하다. 80nm 이상이면 수지 시트의 미끄러짐성이 양호해져 바람직하다. 1000nm 이하이면 적층 필름으로부터 수지 시트를 박리하여 수지 시트만을 롤상으로 권취한 경우라도, 핀 홀 등의 결점이 발생할 우려가 저하되어 바람직하다.The maximum cross-sectional height (St) of the surface (1) of the resin sheet of the laminated film of the present invention (surface opposite to the surface in contact with the release layer) is 80 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 100 nm or more and 600 nm or less, and 150 nm More than 500 nm or less is more preferable. When it is 80 nm or more, the slipperiness of the resin sheet becomes good, which is preferable. If it is 1000 nm or less, even when the resin sheet is peeled from the laminated film and only the resin sheet is wound in a roll shape, the risk of occurrence of defects such as pinholes is reduced, which is preferable.

또한, 최대 단면 높이(St)는, 최대 돌기 높이(P)와 최대 골짜기 깊이(V)의 절대치를 더한 값이다.Further, the maximum cross-sectional height (St) is a value obtained by adding the absolute values of the maximum projection height (P) and the maximum valley depth (V).

본 발명의 적층 필름의 수지 시트의 표면 (1)(이형층에 접하는 면과는 반대의 면)의 최대 돌기 높이(P)가 500nm 이하인 것이 바람직하고, 250nm 이하가 보다 바람직하며, 200nm 이하가 더욱 바람직하고, 185nm 이하이면 좋고, 예를 들면 150nm 이하이고, 135nm 이하가 특히 바람직하다. 예를 들면, 100nm 이하여도 좋다.The maximum projection height (P) of the surface (1) of the resin sheet of the laminated film of the present invention (surface opposite to the surface in contact with the release layer) is preferably 500 nm or less, more preferably 250 nm or less, and even more preferably 200 nm or less. It is preferably 185 nm or less, for example, 150 nm or less, and particularly preferably 135 nm or less. For example, 100 nm or less may be sufficient.

최대 돌기 높이(P)가 500nm 이하이면, 적층 필름으로부터 수지 시트를 박리하여 수지 시트만을 롤상으로 권취한 경우라도, 핀 홀 등의 결점의 발생이 없어 바람직하다. 최대 돌기 높이(P)는, 작을수록 바람직하다고 할 수 있지만, 1nm 이상이어도 상관없고, 3nm 이상이어도 좋으며, 예를 들면, 35nm 이상이어도 상관없다.If the maximum protrusion height P is 500 nm or less, even when the resin sheet is peeled from the laminated film and only the resin sheet is wound up in a roll shape, there is no generation of defects such as pinholes, which is preferable. The maximum protrusion height P can be said to be as preferable as it is smaller, but may be 1 nm or more, may be 3 nm or more, and may be, for example, 35 nm or more.

본 발명의 적층 필름의 수지 시트의 표면 (1)의 산술 평균 거칠기(Sa), 최대 단면 높이(St)를 전술의 범위로 함으로써, 평활성이 높은 표면이라도 양호한 미끄러짐성을 얻을 수 있다. 특히 최대 단면 높이(St)를 상술의 범위로 제어하는 것이 바람직하다.By making the arithmetic mean roughness (Sa) and the maximum section height (St) of the surface (1) of the resin sheet of the laminated film of the present invention within the above ranges, even a surface with high smoothness can obtain good slipperiness. In particular, it is preferable to control the maximum sectional height St within the above range.

일양태에 있어서, 적층 필름의 수지 시트의 표면 (1)의 최대 골짜기 깊이(V)는, 45nm 이상 350nm 이하가 바람직하고, 예를 들면, 45nm 이상 300nm 이하이며, 45nm 이상 250nm 이하인 것이 바람직하다. 최대 골짜기 깊이(V)가 이와 같은 범위 내인 것에 의해, 최대 돌기 높이(P)가, 250nm 이하의 범위여도 최대 단면 높이(St)를 전술의 범위로 제어하기 쉬워져, 수지 시트의 미끄러짐성을 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다.In one aspect, the maximum valley depth (V) of the surface 1 of the resin sheet of the laminated film is preferably 45 nm or more and 350 nm or less, for example, 45 nm or more and 300 nm or less, and preferably 45 nm or more and 250 nm or less. When the maximum valley depth V is within this range, even if the maximum protrusion height P is in the range of 250 nm or less, it becomes easy to control the maximum cross-sectional height St within the above range, and the slipperiness of the resin sheet is improved. It is desirable because it can be done.

본 발명의 적층 필름의 수지 시트의 표면 (2)(이형층에 접하는 면)의 산술 평균 거칠기(Sa)가 10nm 이하인 것이 바람직하고, 8nm 이하가 보다 바람직하며, 5nm 이하가 더욱 바람직하다. 10nm 이하이면 적층 필름으로부터 수지 시트를 박리해 수지 시트만을 롤상으로 권취한 경우라도, 핀 홀 등의 결점이 발생할 우려가 저하되어 바람직하다.The arithmetic average roughness (Sa) of the surface (2) (surface in contact with the release layer) of the resin sheet of the laminated film of the present invention is preferably 10 nm or less, more preferably 8 nm or less, and still more preferably 5 nm or less. If it is 10 nm or less, even when the resin sheet is peeled from the laminated film and only the resin sheet is wound up in a roll shape, the risk of occurrence of defects such as pinholes is reduced, which is preferable.

본 발명의 수지 시트의 막 두께(t1)는, 1㎛ 이상 20㎛ 이하이다. 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 10㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 2㎛ 이상 8㎛ 이하이다. 수지 시트의 막 두께(t1)가 1㎛ 이상이면 기재 필름으로부터 박리한 후에도 찢어지기 어려워 용이하게 취급할 수 있기 때문에 바람직하다. 수지 시트의 막 두께(t1)가 20㎛ 이하이면 용액 제막 시에 wet 도포막 두께가 너무 두꺼워지지 않아 성형이 용이하기 때문에 바람직하다.The film thickness (t1) of the resin sheet of this invention is 1 micrometer or more and 20 micrometers or less. More preferably, they are 1 μm or more and 10 μm or less, and still more preferably 2 μm or more and 8 μm or less. If the film thickness (t1) of a resin sheet is 1 micrometer or more, it is hard to tear even after peeling from a base film, and since it can handle easily, it is preferable. When the film thickness (t1) of the resin sheet is 20 μm or less, it is preferable because the thickness of the wet coating film does not become too thick during solution film formation and molding is easy.

수지 시트의 막 두께(t1)는, 특별히 한정되지 않고 공지의 방법으로 측정할 수 있다. 예를 들면, 접촉식의 막 두께계, 광학 간섭 방식의 막 두께계나 단면을 주사형 전자현미경이나 투과형 전자현미경 등으로 관찰 측정할 수 있다.The film thickness (t1) of the resin sheet is not particularly limited and can be measured by a known method. For example, a contact type film thickness meter, an optical interference type film thickness meter, or a cross section can be observed and measured with a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

본 발명의 수지 시트를 기재 필름에 적층하는 방법으로는, 상술의 수지 성분 (A)와 가교제 (B)를 적어도 포함하고, 유기용제나 물 등에 용해 또는 분산한 도액을 용액 제막법으로 이형층 상에 성형하는 것이 바람직하며, 이형층의 도포 방법과 마찬가지로 공지의 방법으로 도포할 수 있다. 예를 들면, 그라비아 코트법이나 리버스 코트법 등의 롤 코트법, 와이어 바 등의 바 코트법, 다이 코트법, 스프레이 코트법, 에어 나이프 코트법, 등의 종래부터 알려져 있는 방법을 이용할 수 있다.As a method of laminating the resin sheet of the present invention on a base film, a coating solution containing at least the above-described resin component (A) and crosslinking agent (B) and dissolved or dispersed in an organic solvent or water is applied to the release layer by a solution film forming method. It is preferable to mold in, and it can be applied by a known method similar to the application method of the release layer. For example, a conventionally known method such as a roll coating method such as a gravure coating method or a reverse coating method, a bar coating method such as a wire bar, a die coating method, a spray coating method, or an air knife coating method can be used.

이형층에 상기 도액을 도포한 후 용매의 건조, 경화시키기 위해 가열 공정을 갖는 것이 바람직하다. 가열 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 열풍이나 적외선 등을 이용하여 도포 후의 적층 필름을 가열할 수 있다. 본 발명의 적층 필름은, 롤 to 롤로 도포, 건조하는 것이 바람직하고, 건조로(乾燥爐)는 플로팅 방식이나 롤 서포트 방식 등을 이용해 열풍을 이용하여 건조하는 것이 특히 바람직하다.It is preferable to have a heating process to dry and harden the solvent after applying the coating solution to the release layer. Although the heating method is not specifically limited, The laminated film after application|coating can be heated using hot air, infrared rays, etc. It is preferable to apply and dry the laminated film of the present invention by roll to roll, and it is particularly preferable to dry using hot air in a drying furnace using a floating method or a roll support method.

건조 시의 온도는, 건조로의 최대 온도가 60℃ 이상 160℃ 이하인 것이 바람직하고, 70℃ 이상 140℃ 이하가 보다 바람직하며, 70℃ 이상 130℃ 이하가 더욱 바람직하다. 60℃ 이상이면, 건조 후의 수지 시트 내의 잔류 용제가 적고, 수지 시트의 성능(예를 들면, 유전체층의 용도이면 전기적 특성)이 저하될 우려가 없어 바람직하다. 160℃ 이하이면, 열에 의해 적층 필름에 주름이 발생할 우려가 없기 때문에 바람직하다. 또, 160℃보다도 높게 하면, 수지 시트 내의 수지 성분과 가교제의 상 분리가 너무 진행되어 수지 시트의 가교 밀도가 저하될 우려가 있기 때문에 160℃ 이하로 하는 것이 바람직하다.The temperature during drying is preferably 60°C or more and 160°C or less, more preferably 70°C or more and 140°C or less, and still more preferably 70°C or more and 130°C or less. A temperature of 60° C. or higher is preferable because there is little residual solvent in the resin sheet after drying and there is no risk of deterioration in the performance of the resin sheet (for example, electrical properties in the case of a dielectric layer application). If it is 160 degrees C or less, since there is no possibility that wrinkles will arise in a laminated|multilayer film by heat, it is preferable. If the temperature is higher than 160°C, phase separation between the resin component and the crosslinking agent in the resin sheet may excessively proceed and the crosslinking density of the resin sheet may decrease. Therefore, the temperature is preferably 160°C or lower.

기재 필름에 상기 도액을 도포한 후, 건조로에 들어가기까지의 시간이, 5초 이내인 것이 바람직하고, 3초 이내가 보다 바람직하며, 2초 이내가 더욱 바람직하다. 5초 이내이면 도액 중의 수지 성분과 가교제의 상 분리가 너무 진행되지 않아, 수지 시트의 가교 밀도가 저하될 우려가 없어 바람직하다.It is preferable that the time from applying the said coating liquid to a base film, and entering a drying oven is within 5 seconds, more preferably within 3 seconds, and still more preferably within 2 seconds. Within 5 seconds, the phase separation of the resin component and the crosslinking agent in the coating liquid does not proceed too much, and there is no fear that the crosslinking density of the resin sheet is reduced, which is preferable.

기재 필름에 상기 도액을 도포한 후, 건조로에서 최대 온도로 가열하는 시간은, 1초 이상인 것이 바람직하고, 2초 이상인 것이 바람직하다. 1초 이상이면 가교제의 반응이 진행되기 때문에 바람직하다. 가열 시간의 상한은, 60초 이내가 바람직하고, 40초 이내가 보다 바람직하며, 20초 이내가 더욱 바람직하다. 60초 이내이면, 수지 시트 표면에의 가교제의 편석(偏析)이 극단적으로 진행되는 것을 억제할 수 있어, 수지 시트의 성능을 저하시키는 일이 없기 때문에 바람직하다.It is preferable that it is 1 second or more, and, as for the time to heat to the maximum temperature in a drying furnace after apply|coating the said coating liquid to a base film, it is preferable that it is 2 seconds or more. If it is 1 second or longer, the reaction of the crosslinking agent proceeds, which is preferable. The upper limit of the heating time is preferably within 60 seconds, more preferably within 40 seconds, and even more preferably within 20 seconds. If it is within 60 seconds, it is possible to suppress the excessive segregation of the crosslinking agent on the surface of the resin sheet and to prevent deterioration in the performance of the resin sheet, which is preferable.

본 발명의 수지 시트를 상술의 건조 조건으로 함으로써, 수지 성분 (A)와 가교제 (B)의 상 분리를 적당히 진행시키고, 수지 시트 표면 (1)의 산술 평균 거칠기(Sa)와 최대 단면 높이(St)를 전술의 범위로 제어할 수 있으며, 수지 시트에 입자를 첨가하는 일 없이, 수지 시트의 양호한 미끄러짐성을 발현할 수 있다.By subjecting the resin sheet of the present invention to the above-described drying conditions, the phase separation of the resin component (A) and the crosslinking agent (B) is appropriately advanced, and the arithmetic average roughness (Sa) and maximum cross-sectional height (St ) can be controlled within the above range, and good slipperiness of the resin sheet can be expressed without adding particles to the resin sheet.

(적층 필름)(laminated film)

본 발명의 적층 필름은, 다음 공정 이후에 기재 필름으로부터 수지 시트가 박리되어 사용된다. 그 때문에, 기재 필름으로부터의 박리력이 800mN/25mm 폭 이하이면 수지 시트가 파단 등을 하지 않고 박리될 수 있기 때문에 바람직하다. 보다 바람직하게는 500mN/25mm 폭 이하이고, 300mN/25mm 폭 이하가 더욱 바람직하며, 더욱더 바람직하게는 200mN/25mm 폭 이하이다. 박리력은, 적층하는 수지 시트에 따라 다르기 때문에, 기재 필름의 이형층의 종류에 따라 조정할 수 있다.In the laminated film of the present invention, the resin sheet is separated from the base film after the next step and used. Therefore, when the peeling force from the base film is 800 mN/25 mm width or less, the resin sheet can be peeled without breaking or the like, which is preferable. More preferably, it is 500 mN/25 mm width or less, still more preferably 300 mN/25 mm width or less, still more preferably 200 mN/25 mm width or less. Since the peeling force varies depending on the resin sheet to be laminated, it can be adjusted according to the type of the mold release layer of the base film.

실시예Example

다음으로, 실시예, 비교예를 이용하여 본 발명을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 당연히 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또, 본 발명에서 이용한 평가 방법은 이하와 같다.Next, the present invention will be described in detail using examples and comparative examples, but the present invention is not necessarily limited to the following examples. In addition, the evaluation method used in this invention is as follows.

(산술 평균 높이(Sa), 최대 돌기 높이(P), 최대 골짜기 깊이(V), 최대 단면 높이(St))(arithmetic mean height (Sa), maximum asperity height (P), maximum valley depth (V), maximum section height (St))

비접촉 표면 형상 계측 시스템(료카 시스템사 제조, VertScan R550H-M100)을 이용하여, 하기의 조건으로 측정한 값이다. 산술 평균 높이(Sa)는, 5회 측정의 평균치를 채용하고, 최대 돌기 높이(P), 최대 골짜기 깊이(V)는 7회 측정하여 최대치와 최소치를 제외한 5회의 최대치를 사용했다. 최대 단면 높이(St)는, 최대 돌기 높이(P)와 최대 골짜기 깊이(V)의 절대치를 더한 값을 채용했다.It is a value measured under the following conditions using a non-contact surface shape measuring system (VertScan R550H-M100, manufactured by Ryoka Systems Co., Ltd.). The arithmetic mean height (Sa) adopted the average value of 5 measurements, and the maximum protrusion height (P) and maximum valley depth (V) were measured 7 times, and the maximum value of 5 times excluding the maximum and minimum values was used. As the maximum cross-sectional height (St), a value obtained by adding the absolute values of the maximum protrusion height (P) and the maximum valley depth (V) was adopted.

(측정 조건)(Measuring conditions)

·측정 모드: WAVE 모드・Measurement mode: WAVE mode

·대물렌즈: 10배・Objective lens: 10x

·0.5×Tube 렌즈・0.5×Tube lens

·측정 면적 936㎛×702㎛・Measurement area 936㎛×702㎛

(해석 조건)(analysis condition)

·면 보정: 4차 보정Face correction: 4th correction

·보간 처리: 완전 보간・Interpolation processing: complete interpolation

·필터 처리: 가우시안 컷오프치 50㎛・Filter treatment: Gaussian cutoff value 50㎛

(표면 자유 에너지)(surface free energy)

25℃, 50%RH의 조건하에서 접촉각계(교와 가이멘 가가쿠 가부시키가이샤 제조: 전자동 접촉각계 DM-701)를 이용하여 이형 필름의 이형면에 물(액적량 1.8μL), 디요오드메탄(액적량 0.9μL)의 액적을 작성하고 그 접촉각을 측정했다. 접촉각은, 각 액을 이형 필름에 적하 후 10초 후의 접촉각을 채용했다. 상기 방법으로 얻어진, 물, 디요오드메탄의 접촉각 데이터를 「Owens and Wendt」 이론으로 계산하여 이형 필름의 표면 자유 에너지의 분산 성분 γd, 수소 결합과 쌍극자·쌍극자 상호 작용에 의거하여 성분 γh를 구하고, 각 성분을 합계한 것을 표면 자유 에너지 γs로 했다. 본 계산에는, 본 접촉각계 소프트웨어(FAMAS) 내의 해석 소프트웨어를 이용하여 행하였다.Water (droplet amount: 1.8 μL) and diiodomethane were applied to the release surface of the release film using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Science and Technology Co., Ltd.: Fully automatic contact angle meter DM-701) under conditions of 25°C and 50% RH. (droplet amount: 0.9 μL) was created and the contact angle was measured. As the contact angle, the contact angle after 10 seconds after dropping each liquid onto the release film was employed. Calculate the contact angle data of water and diiodomethane obtained by the above method according to the "Owens and Wendt" theory to determine the dispersion component γd of the surface free energy of the release film and the component γh based on hydrogen bonding and dipole-dipole interaction, The total sum of each component was taken as the surface free energy γs. This calculation was performed using analysis software in this contact angle meter software (FAMAS).

(물 부착 에너지) (water attachment energy)

25℃, 50%RH의 조건하에서 접촉각계(교와 가이멘 가가쿠 가부시키가이샤 제조: 전자동 접촉각계 DM-701)를 이용하여 이형 필름의 이형면에 물(액적량 10μL)을 적하하고, 적하 후 2초 후부터 연속적으로 스테이지를 기울여 1°마다의 접촉각을 측정했다. 또, 0°의 액적 위치에서부터, 5dot 이동했을 때의 경사각을 활락각(滑落角)으로 판정하고, 거기에서 부착 에너지를 산출했다. 본 계산에는, 본 접촉각계 소프트웨어(FAMAS) 내의 해석 소프트웨어를 이용하여 행하였다.Under conditions of 25°C and 50% RH, water (droplet amount: 10 µL) was dropped onto the release surface of the release film using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Science and Technology Co., Ltd.: DM-701 fully automatic contact angle meter), and the dropwise addition After 2 seconds, the stage was tilted continuously and the contact angle was measured at every 1°. In addition, the inclination angle when moving 5 dots from the droplet position of 0° was determined as the sliding angle, and adhesion energy was calculated therefrom. This calculation was performed using analysis software in this contact angle meter software (FAMAS).

(막 두께)(film thickness)

잘라낸 적층 필름을 수지 포매(包埋)하고, 울트라마이크로톰을 이용하여 초박 절편화했다. 그 후, 니혼 덴시 제조 JEM2100 투과 전자현미경을 이용하여, 직접 배율 20,000배로 관찰을 행하고, 관찰한 TEM 화상으로부터 적층 필름 각층의 막 두께를 측정했다.The cut laminated film was resin-embedded and ultra-thin sectioned using an ultramicrotome. Thereafter, using a JEM2100 transmission electron microscope manufactured by JEOL Corporation, direct observation was performed at a magnification of 20,000, and the film thickness of each layer of the laminated film was measured from the observed TEM image.

(박리력)(peel force)

적층 필름을 폭 25mm, 길이 150mm의 단책상(短冊狀)으로 재단하고, 기재 필름의 일단을 고정하고, 수지 시트의 일단을 담지하고, 수지 시트측을 300mm/min의 속도로 인장하여, T자 박리 강도를 측정했다. 측정에는, 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼 제조의 「AUTOGRAPH AG-X」)를 이용했다. 측정치는, 5회 측정의 평균치를 채용했다.The laminated film is cut into a strip shape with a width of 25 mm and a length of 150 mm, one end of the base film is fixed, one end of the resin sheet is supported, and the resin sheet side is pulled at a speed of 300 mm/min to form a T shape. Peel strength was measured. For the measurement, a tensile tester (“AUTOGRAPH AG-X” manufactured by Shimadzu Corporation) was used. As the measured value, the average value of 5 measurements was adopted.

측정한 박리력으로부터 이하의 기준으로 박리성을 평가했다.Peelability was evaluated based on the following criteria from the measured peeling force.

○: 100mN/25mm 폭 이하의 저박리력으로 박리할 수 있고, 박막 필름이어도 찢어지는 일 없이 박리할 수 있었다.○: Peeling was possible with a low peeling force of 100 mN/25 mm width or less, and peeling was possible without tearing even if it was a thin film.

○△: 300mN/25mm 폭 이하, 100mN/25mm 폭보다 큰 박리력으로 박리할 수 있었다.○Δ: Peeling was possible with a peel force greater than 300 mN/25 mm width or less and 100 mN/25 mm width.

△: 박리력이 300mN/25mm 폭보다 크고, 800mN/25mm 폭 이하로 박리할 수 있었다. 막 두께가 극히 얇은 부분에서는, 일부 찢어지는 경우도 있었다.(triangle|delta): The peel force was greater than 300 mN/25 mm width, and it was able to peel at 800 mN/25 mm width or less. In areas where the film thickness is extremely thin, some tearing occurred.

×: 박리할 수 없었다.x: It was not possible to peel.

(정마찰 계수와 미끄러짐성 평가)(Static friction coefficient and slippery evaluation)

수지 시트의 정마찰 계수는, 이하와 같이 측정하여, 미끄러짐성을 평가했다.The static friction coefficient of the resin sheet was measured as follows, and slipperiness was evaluated.

적층 필름으로부터 수지 시트를 박리하고, 무게 1.4Kg의 금속제 직방체의 저면(底面)에 수지 시트의 표면 (2)가 바깥이 되도록 고정했다. 이어서, 수지 시트의 표면 (1)이 바깥이 되도록 평평한 금속판 상에 점착 테이프로 고정했다. 표면 (1)과 표면 (2)가 접하도록 금속성 직방체를 두고, 23℃ 65%RH 조건하에서 인장 속도 200mm/분으로 정마찰 계수를 측정했다.The resin sheet was peeled off from the laminated film and fixed to the bottom of a metal rectangular parallelepiped weighing 1.4 kg so that the surface 2 of the resin sheet was facing the outside. Next, it was fixed with an adhesive tape on a flat metal plate so that the surface 1 of the resin sheet was turned outside. The metallic cuboid was placed so that the surface (1) and the surface (2) were in contact, and the static friction coefficient was measured at a tensile speed of 200 mm/min under the conditions of 23°C and 65% RH.

미끄러짐성에 대해, 이하의 기준으로 판단했다.Slipperiness was judged according to the following criteria.

○: 0.1<μs≤0.8○: 0.1<μs≤0.8

△: 0.8 <μs≤1.5△: 0.8 < μs ≤ 1.5

×: 1.5 초과 또는, 마찰 계수가 너무 높아서 측정 불가×: Exceeding 1.5 or measurement impossible because the friction coefficient is too high

(전기 특성)(electrical characteristics)

기재 필름으로부터 박리한 수지 시트의 양면에 박막의 알루미늄 증착층을 설치하고, 실온하에서 절연 파괴 전압(V/㎛)을 측정했다. 10점 측정했을 때의 평균치를 이용하고, 이하의 기준으로 평가했다.A thin aluminum vapor deposition layer was provided on both sides of the resin sheet peeled from the base film, and the dielectric breakdown voltage (V/μm) was measured at room temperature. The average value at the time of 10-point measurement was used and evaluated according to the following criteria.

○: 절연 파괴 전압(BDV치)가 300V/㎛ 이상○: Dielectric breakdown voltage (BDV value) of 300 V/μm or more

△: 절연 파괴 전압이 200V/㎛ 이상△: dielectric breakdown voltage of 200 V/μm or more

×: 절연 파괴 전압이 200V/㎛ 미만×: Dielectric breakdown voltage is less than 200 V/μm

(폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿(PET(I))의 조제)(Preparation of polyethylene terephthalate pellets (PET(I)))

에스테르화 반응 장치로서, 교반 장치, 분축기(分縮器), 원료 주입구 및 생성물 취출구를 갖는 3단의 완전 혼합조로 이루어지는 연속 에스테르화 반응 장치를 이용했다. TPA(테레프탈산)를 2톤/시(時)로 하고, EG(에틸렌 글리콜)를 TPA 1 몰에 대해 2 몰로 하고, 삼산화안티몬을 생성 PET에 대해 Sb 원자가 160ppm이 되는 양으로 하고, 이들의 슬러리를 에스테르화 반응 장치의 제 1 에스테르화 반응관에 연속 공급하고, 상압(常壓)에서 평균 체류 시간 4시간, 255℃에서 반응시켰다. 이어서, 제 1 에스테르화 반응관 내의 반응 생성물을 연속적으로 계외(系外)로 취출하여 제 2 에스테르화 반응관에 공급하고, 제 2 에스테르화 반응관 내에 제 1 에스테르화 반응관으로부터 증류 제거(留去)되는 EG를 생성 PET에 대해 8 질량% 공급하고, 추가로, 생성 PET에 대해 Mg 원자가 65ppm이 되는 양의 초산(酢酸) 마그네슘 사수염(四水鹽)을 포함하는 EG 용액과, 생성 PET에 대해 P 원자가 40ppm이 되는 양의 TMPA(인산 트리메틸)를 포함하는 EG 용액을 첨가하고, 상압에서 평균 체류 시간 1시간, 260℃에서 반응시켰다. 이어서, 제 2 에스테르화 반응관의 반응 생성물을 연속적으로 계외로 취출하여 제 3 에스테르화 반응관에 공급하고, 고압 분산기(닛폰 세이키사 제조)를 이용하여 39MPa(400kg/㎠)의 압력으로 평균 처리 횟수 5 패스의 분산 처리를 한 평균 입경이 0.9㎛인 다공질 콜로이달 실리카 0.2 질량%와, 폴리아크릴산의 암모늄염을 탄산칼슘당 1 질량% 부착시킨 평균 입경이 0.6㎛인 합성 탄산칼슘 0.4 질량%를, 각각 10%의 EG 슬러리로 하여 첨가하면서, 상압에서 평균 체류 시간 0.5시간, 260℃에서 반응시켰다. 제 3 에스테르화 반응관 내에서 생성한 에스테르화 반응 생성물을 3단의 연속 중축합 반응 장치에 연속적으로 공급하여 중축합을 행하고, 95% 컷 지름이 20㎛인 스테인레스 스틸 섬유를 소결한 필터로 여과를 행하고 나서, 한외여과를 행하여 수중(水中)으로 압출하고, 냉각 후에 칩상으로 컷하여, 고유 점도 0.60dl/g의 PET 칩을 얻었다(이후, PET(I)이라고 약기한다). PET 칩 중의 활제 함유량은 0.6 질량%였다.As the esterification reaction apparatus, a continuous esterification reaction apparatus consisting of a three-stage complete mixing tank having a stirrer, a condenser, a raw material inlet, and a product outlet was used. TPA (terephthalic acid) was 2 tons/hour, EG (ethylene glycol) was 2 moles per 1 mole of TPA, and antimony trioxide was used in an amount such that the Sb atom was 160 ppm with respect to the resulting PET, and these slurries were prepared It was continuously supplied to the first esterification reaction tube of the esterification reaction device and reacted at 255°C with an average residence time of 4 hours under normal pressure. Then, the reaction product in the first esterification reaction tube is continuously taken out of the system, supplied to the second esterification reaction tube, and distilled off from the first esterification reaction tube in the second esterification reaction tube. An EG solution containing magnesium acetate tetrahydrate in an amount such that 8% by mass of EG to be produced is supplied to product PET, and an amount of Mg atoms is 65 ppm with respect to product PET, and product PET EG solution containing TMPA (trimethyl phosphate) in an amount such that the number of P atoms is 40 ppm was added, and the mixture was reacted at 260° C. with an average residence time of 1 hour under normal pressure. Then, the reaction product in the second esterification reaction tube was continuously taken out of the system, supplied to the third esterification reaction tube, and averaged at a pressure of 39 MPa (400 kg/cm 2 ) using a high-pressure disperser (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) 0.2 mass% of porous colloidal silica having an average particle size of 0.9 μm subjected to dispersion treatment for 5 passes, and 0.4 mass% of synthetic calcium carbonate having an average particle size of 0.6 μm in which 1 mass% of an ammonium salt of polyacrylic acid is adhered per calcium carbonate, Each was added as a 10% EG slurry and reacted at 260°C with an average residence time of 0.5 hours at normal pressure. The esterification reaction product generated in the third esterification reaction tube is continuously supplied to a three-stage continuous polycondensation reactor to perform polycondensation, and 95% is filtered through a filter made of sintered stainless steel fibers with a cut diameter of 20 μm. After performing, ultrafiltration was performed, extruded in water, and after cooling, cut into chips to obtain PET chips having an intrinsic viscosity of 0.60 dl/g (hereinafter abbreviated as PET(I)). The lubricant content in the PET chip was 0.6% by mass.

(폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿(PET(II))의 조제)(Preparation of polyethylene terephthalate pellets (PET(II)))

한편, 상기 PET 칩의 제조에 있어서, 탄산칼슘, 실리카 등의 입자를 전혀 함유하지 않는 고유 점도 0.62dl/g의 PET 칩을 얻었다(이후, PET(II)라고 약기한다.).On the other hand, in the manufacture of the above PET chip, a PET chip having an intrinsic viscosity of 0.62 dl/g containing no particles such as calcium carbonate and silica was obtained (hereinafter abbreviated as PET (II)).

(폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿(PET(III))의 조제)(Preparation of polyethylene terephthalate pellets (PET(III)))

PET(I)의 입자의 종류, 함유량을 폴리아크릴산의 암모늄염을 탄산칼슘당 1 질량% 부착시킨 평균 입경이 0.9㎛인 합성 탄산칼슘 0.75 질량%로 변경한 것 이외에는, PET(I)과 마찬가지로 하여 PET 칩을 얻었다(이후, PET(III)이라고 약기한다). PET 칩 중의 활제 함유량은 0.75 질량%였다.PET (I) was carried out in the same manner as in PET (I), except that the type and content of the particles of PET (I) were changed to 0.75 mass% of synthetic calcium carbonate having an average particle diameter of 0.9 µm in which 1 mass% of the ammonium salt of polyacrylic acid was adhered per calcium carbonate. A chip was obtained (hereinafter abbreviated as PET(III)). The lubricant content in the PET chip was 0.75% by mass.

(기재 필름 X1의 제조)(Manufacture of base film X1)

이들 PET 칩을 건조 후, 285℃에서 용융하고, 별개의 용융 압출기에 의해 290℃에서 용융하고, 95% 컷 지름이 15㎛인 스테인레스 스틸 섬유를 소결한 필터와, 95% 컷 지름이 15㎛인 스테인레스 스틸 입자를 소결한 필터의 2단 여과를 행하고, 피드 블록 내에서 합류하고, PET(I)을 표면층 B, PET(II)를 표면층 A가 되도록 적층하고, 시트상으로 45m/분의 스피드로 압출(캐스팅)하고, 정전 밀착법에 의해 30℃의 캐스팅 드럼 상에 정전 밀착·냉각시켜, 고유 점도가 0.59dl/g인 미연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 시트를 얻었다. 층 비율은 각 압출기의 토출량 계산으로 PET(I)/PET(II)=60%/40%가 되도록 조정했다. 이어서, 이 미연신 시트를 적외선 히터로 가열한 후, 롤 온도 80℃에서 롤간의 스피드 차에 의해 세로 방향으로 3.5배 연신했다. 그 후, 텐터로 유도되고, 140℃에서 가로 방향으로 4.2배의 연신을 행했다. 이어서, 열 고정 존에서, 210℃에서 열처리했다. 그 후, 가로 방향으로 170℃에서 2.3%의 완화 처리를 하여, 두께 25㎛인 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 기재 필름 X1을 얻었다. 얻어진 기재 필름 X1의 표면층 A의 Sa는 2nm, 표면층 B의 Sa는 29nm였다.After drying, these PET chips were melted at 285°C, melted at 290°C by a separate melting extruder, and a filter obtained by sintering stainless steel fibers having a 95% cut diameter of 15 µm and a filter having a 95% cut diameter of 15 µm Filters in which stainless steel particles are sintered are subjected to two-stage filtration, joined in a feed block, and PET (I) is laminated to form surface layer B and PET (II) to form surface layer A, in a sheet form at a speed of 45 m/min. After extrusion (casting), electrostatic contact and cooling were carried out on a casting drum at 30° C. by an electrostatic contact method, to obtain an unstretched polyethylene terephthalate sheet having an intrinsic viscosity of 0.59 dl/g. The layer ratio was adjusted so that PET(I)/PET(II) = 60%/40% by calculating the discharge amount of each extruder. Next, after heating this unstretched sheet with an infrared heater, it was stretched 3.5 times in the machine direction at a roll temperature of 80°C by a difference in speed between the rolls. After that, it was guided to a tenter and stretched 4.2 times in the transverse direction at 140°C. Subsequently, heat treatment was performed at 210°C in a heat setting zone. Thereafter, a 2.3% relaxation treatment was performed at 170°C in the transverse direction to obtain a base film X1 of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 µm. Sa of the surface layer A of the obtained base film X1 was 2 nm, and Sa of the surface layer B was 29 nm.

(이형층을 갖는 기재 필름 X2의 제조)(Manufacture of base film X2 having release layer)

상기에서 얻어진 기재 필름 X1의 표면층 A 상에, 하기 이형 도포액 Y1을 리버스 그라비아 코트법으로 wet막 두께가 5㎛가 되도록 도공하고 열풍 건조로에서 120℃ 30초 건조·경화시켜 이형층 부착 기재 필름 X2를 얻었다. 이형층 표면의 Sa는 2nm였다.On the surface layer A of the base film X1 obtained above, the following release coating liquid Y1 is coated by the reverse gravure coating method so that the wet film thickness is 5 μm, and dried and cured at 120 ° C. for 30 seconds in a hot air drying furnace Base film with release layer X2 got Sa on the surface of the release layer was 2 nm.

(이형 도포액 Y1)(release coating liquid Y1)

톨루엔 48 질량부toluene 48 mass parts

메틸 에틸 케톤 48 질량부methyl ethyl ketone 48 mass parts

실리콘 수지 조성물 (1)Silicone Resin Composition (1)

(열 경화형 실리콘 도재(塗材), Si-H/Si-Vy=3.0, 고형분 30 질량%)(Heat curing type silicone porcelain, Si-H/Si-Vy = 3.0, solid content 30% by mass)

3 질량부 3 parts by mass

SRX212P Catalyst(다우·도레이사 제조 Pt계 경화 촉매)SRX212P Catalyst (Pt curing catalyst manufactured by Dow-Toray)

0.1 질량부 0.1 parts by mass

(이형층을 갖는 기재 필름 X3의 제조)(Manufacture of base film X3 having release layer)

기재 필름 X1과 마찬가지의 층 구성, 연신 조건은 변경하지 않고, 캐스팅 시의 속도를 변경함으로써 두께를 조정하여, 12㎛ 두께의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 작성하고, X2와 마찬가지의 이형층을 설치함으로써 기재 필름 X3을 얻었다. 얻어진 필름 X3의 표면층 A의 Sa는 3nm, 표면층 B의 Sa는 29nm였다.Without changing the layer configuration and stretching conditions similar to those of the base film X1, the thickness was adjusted by changing the casting speed to create a biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 µm, and a release layer similar to that of X2. By installing, base film X3 was obtained. Sa of the surface layer A of the obtained film X3 was 3 nm, and Sa of the surface layer B was 29 nm.

(이형층을 갖는 기재 필름 X4의 제조 방법)(Method for producing base film X4 having release layer)

기재 필름 X4로는, 두께 25㎛의 A4100(코스모샤인(등록상표), 도요보사 제조)의 표면층 A 상에 X2와 마찬가지의 이형층을 설치한 것을 사용했다. A4100은, 필름 중에 입자를 실질적으로 함유하지 않고, 표면층 B측에만 인라인 코트로 입자를 포함한 코트층을 설치한 구성을 하고 있다. 기재 필름 X4의 표면층 A의 Sa는 1nm, 표면층 B의 Sa는 2nm였다.As base film X4, what provided the release layer similar to X2 on the surface layer A of 25 micrometer-thick A4100 (Cosmo Shine (registered trademark), product made by Toyobo) was used. A4100 has a configuration in which particles are not substantially contained in the film, and a coating layer containing particles is provided by in-line coating only on the surface layer B side. Sa of the surface layer A of the base film X4 was 1 nm, and Sa of the surface layer B was 2 nm.

(이형층을 갖는 기재 필름 X5의 제조 방법)(Method for producing base film X5 having release layer)

기재 필름 X5로는, 두께 25㎛의 E5101(도요보 에스테르(등록상표) 필름, 도요보사 제조)의 표면층 A 상에 X2와 마찬가지의 이형층을 설치한 것을 사용했다. E5101은, 필름의 표면층 A 및 B 중에 입자를 함유한 구성으로 되어 있다. 기재 필름 X5의 표면층 A의 Sa는 25nm, 표면층 B의 Sa는 25nm였다.As base film X5, what provided the release layer similar to X2 on surface layer A of 25 micrometer-thick E5101 (Toyobo ester (registered trademark) film, Toyobo company make) was used. E5101 has a structure in which particles are contained in the surface layers A and B of the film. Sa of the surface layer A of the base film X5 was 25 nm, and Sa of the surface layer B was 25 nm.

(이형층을 갖는 기재 필름 X6의 제조 방법)(Manufacturing method of base film X6 having release layer)

기재 필름 X1의 표면층 A 상에, 하기 이형 도포액 Y2를 리버스 그라비아 코트법으로 wet막 두께가 5㎛가 되도록 도공하고 열풍 건조로에서 120℃ 30초 건조·경화시켜 이형층 부착 기재 필름 X6을 얻었다. 이형층 표면의 Sa는 2nm였다.On the surface layer A of the base film X1, the release coating liquid Y2 described below was applied to a wet film thickness of 5 μm by the reverse gravure coating method, and dried and cured in a hot air drying furnace at 120° C. for 30 seconds to obtain a base film X6 with a release layer. Sa on the surface of the release layer was 2 nm.

(이형 도포액 Y2)(release coating liquid Y2)

톨루엔 48 질량부toluene 48 mass parts

메틸 에틸 케톤 48 질량부methyl ethyl ketone 48 mass parts

실리콘 수지 조성물 (2)Silicone Resin Composition (2)

(열 경화형 실리콘 도재, Si-H/Si-Vy=1.0, 고형분 30 질량%)(Heat-curable silicone porcelain, Si-H/Si-Vy = 1.0, solid content 30% by mass)

3 질량부 3 parts by mass

SRX212P Catalyst(다우·도레이사 제조 Pt계 경화 촉매)SRX212P Catalyst (Pt curing catalyst manufactured by Dow-Toray)

0.1 질량부 0.1 parts by mass

(이형층을 갖는 기재 필름 X7의 제조 방법)(Manufacturing method of base film X7 having release layer)

기재 필름 X1의 표면층 A 상에, 하기 이형 도포액 Y3을 리버스 그라비아 코트법으로 wet막 두께가 5㎛가 되도록 도공하고 열풍 건조로에서 120℃ 30초 건조·경화시켜 이형층 부착 기재 필름 X7을 얻었다. 이형층 표면의 Sa는 2nm였다.On the surface layer A of the base film X1, the release coating liquid Y3 described below was applied to a wet film thickness of 5 μm by the reverse gravure coating method, and dried and cured in a hot air drying furnace at 120° C. for 30 seconds to obtain a base film with a release layer X7. Sa on the surface of the release layer was 2 nm.

(이형 도포액 Y3)(release coating liquid Y3)

톨루엔 48 질량부toluene 48 mass parts

메틸 에틸 케톤 48 질량부methyl ethyl ketone 48 mass parts

실리콘 수지 조성물 (3)Silicone Resin Composition (3)

(열 경화형 실리콘 도재, Si-H/Si-Vy=2.2, 고형분 30 질량%)(Heat-curable silicone porcelain, Si-H/Si-Vy = 2.2, solid content 30% by mass)

3 질량부 3 parts by mass

SRX212P Catalyst(다우·도레이사 제조 Pt계 경화 촉매)SRX212P Catalyst (Pt curing catalyst manufactured by Dow-Toray)

0.1 질량부 0.1 parts by mass

(실시예 1)(Example 1)

기재 필름 X2의 표면층 A 상에 리버스 그라비아 코트법을 이용하여 수지 용액 Z1을 건조 후의 수지 시트의 막 두께가 3㎛가 되도록 도공하고, 열풍 건조로에서 120℃ 10초 건조함으로써 수지 시트를 성형하여 적층 필름을 작성했다.(이때 도공 후, 건조로에 들어가기까지는 2초였다). 상세를 표 1 및 표 2에 나타낸다.On the surface layer A of the base film X2, the reverse gravure coating method is used to coat the resin solution Z1 so that the film thickness of the resin sheet after drying is 3 μm, and dried at 120 ° C. for 10 seconds in a hot air drying furnace to form a resin sheet and form a laminated film (At this time, after coating, it took 2 seconds to enter the drying furnace). Details are shown in Table 1 and Table 2.

(수지 용액 Z1)(Resin Solution Z1)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 22.5 질량부tetrahydrofuran 22.5 parts by mass

PKHB 용해액(고형분 40 질량%) 30.6 질량부PKHB solution (solid content 40% by mass) 30.6 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw32000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw32000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

밀리오네이트 MR-200 5.3 질량부Milionate MR-200 5.3 parts by mass

(도소사 제조, 이소시아네이트 가교제, 점도 200mPa·s, 고형분 99 질량%)(Tosoh Corporation make, isocyanate crosslinking agent, viscosity 200 mPa·s, solid content 99% by mass)

BYK-370 0.4 질량부BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(실시예 2∼3)(Examples 2 to 3)

기재 필름을 표 1에 기재한 것으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.Except having changed the base film to what was described in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and created the laminated|multilayer film.

(실시예 4)(Example 4)

수지 성분 (A)를 중량 평균 분자량(Mw)이 다른 것으로 변경한 수지 용액 Z6으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.A laminated film was created in the same manner as in Example 1, except that the resin component (A) was changed to resin solution Z6 in which the weight average molecular weight (Mw) was changed to another one.

(수지 용액 Z6)(Resin Solution Z6)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 22.5 질량부tetrahydrofuran 22.5 parts by mass

PKHJ 용해액(고형분 40 질량%) 30.6 질량부PKHJ solution (solid content 40% by mass) 30.6 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw57000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw57000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

밀리오네이트 MR-200 5.3 질량부Milionate MR-200 5.3 parts by mass

(도소사 제조, 이소시아네이트 가교제, 점도 200mPa·s, 고형분 99 질량%)(Tosoh Corporation make, isocyanate crosslinking agent, viscosity 200 mPa·s, solid content 99% by mass)

BYK-370 0.4 질량부BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(실시예 5)(Example 5)

가교제의 종류를 변경하기 위해 수지 용액 Z2로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.A laminated film was created in the same manner as in Example 1, except that the type of crosslinking agent was changed to Resin Solution Z2.

(수지 용액 Z2)(Resin Solution Z2)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 22.5 질량부tetrahydrofuran 22.5 parts by mass

PKHB 용해액(고형분 40 질량%) 30.6 질량부PKHB solution (solid content 40% by mass) 30.6 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw32000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw32000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

밀리오네이트 MR-400 5.3 질량부 Milionate MR-400 5.3 parts by mass

(도소사 제조, 이소시아네이트 가교제, 점도 600mPa·s, 고형분 99 질량%)(Tosoh Corporation make, isocyanate crosslinking agent, viscosity 600 mPa·s, solid content 99% by mass)

BYK-370 0.4 질량부BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(실시예 6)(Example 6)

가교제의 종류를 변경하기 위해, 수지 용액 Z3으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.In order to change the kind of crosslinking agent, except having changed to resin solution Z3, it carried out similarly to Example 1, and created the laminated|multilayer film.

(수지 용액 Z3)(Resin Solution Z3)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 22.5 질량부tetrahydrofuran 22.5 parts by mass

PKHB 용해액(고형분 40 질량%) 30.6 질량부PKHB solution (solid content 40% by mass) 30.6 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw32000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw32000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

밀리오네이트 MTL 5.3 질량부Milionate MTL 5.3 parts by mass

(도소사 제조, 이소시아네이트 가교제, 점도 50mPa·s, 고형분 99 질량%)(Tosoh Corporation make, isocyanate crosslinking agent, viscosity 50 mPa·s, solid content 99% by mass)

BYK-370 0.4 질량부BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(실시예 7)(Example 7)

수지와 가교제의 비율을 변경하기 위해, 수지 용액 Z4로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.In order to change the ratio of resin and crosslinking agent, except having changed to resin solution Z4, it carried out similarly to Example 1, and created the laminated|multilayer film.

(수지 용액 Z4)(Resin Solution Z4)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 19.9 질량부tetrahydrofuran 19.9 parts by mass

PKHB 용해액(고형분 40 질량%) 35.0 질량부PKHB solution (solid content 40% by mass) 35.0 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw32000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw32000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

밀리오네이트 MR-200 3.5 질량부Milionate MR-200 3.5 parts by mass

(도소사 제조, 이소시아네이트 가교제, 점도 200mPa·s, 고형분 99 질량%)(Tosoh Corporation make, isocyanate crosslinking agent, viscosity 200 mPa·s, solid content 99% by mass)

BYK-370 0.4 질량부BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(실시예 8)(Example 8)

수지와 가교제의 비율을 변경하기 위해, 수지 용액 Z5로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.In order to change the ratio of resin and crosslinking agent, except having changed to resin solution Z5, it carried out similarly to Example 1, and created the laminated film.

(수지 용액 Z5)(Resin Solution Z5)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 17.3 질량부tetrahydrofuran 17.3 parts by mass

PKHB 용해액(고형분 40 질량%) 39.4 질량부PKHB solution (solid content 40% by mass) 39.4 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw32000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw32000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

밀리오네이트 MR-200 1.8 질량부Milionate MR-200 1.8 parts by mass

(도소사 제조, 이소시아네이트 가교제, 점도 200mPa·s, 고형분 99 질량%)(Tosoh Corporation make, isocyanate crosslinking agent, viscosity 200 mPa·s, solid content 99% by mass)

BYK-370 0.4 질량부BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(실시예 9∼11)(Examples 9 to 11)

표 1에 기재한 기재 필름으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.Except having changed to the base film described in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and created the laminated|multilayer film.

(실시예 12∼13)(Examples 12 to 13)

수지 시트의 건조 온도를 표 1에 기재한 온도로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.Except having changed the drying temperature of the resin sheet to the temperature described in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and created the laminated film.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

기재 필름을 이형층이 없는 X1로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.A laminated film was created in the same manner as in Example 1, except that the base film was changed to X1 without a release layer.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

수지 용액을, 가교제를 포함하지 않는 수지 용액 Z6으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.A laminated film was created in the same manner as in Example 1 except that the resin solution was changed to resin solution Z6 containing no crosslinking agent.

(수지 용액 Z6)(Resin Solution Z6)

메틸 에틸 케톤 41.3 질량부methyl ethyl ketone 41.3 parts by mass

테트라히드로푸란 14.7 질량부tetrahydrofuran 14.7 Parts by mass

PKHB 용해액(고형분 40 질량%) 43.8 질량부PKHB solution (solid content 40% by mass) 43.8 parts by mass

(Gabriel Phenoxies사 제조 페녹시 수지, Mw32000)(Phenoxy resin manufactured by Gabriel Phenoxies, Mw32000)

*용해액은 페녹시 수지를 테트라히드로푸란에 용해시켜 작성했다 *The solution was prepared by dissolving phenoxy resin in tetrahydrofuran.

BYK-370 0.4 질량부 BYK-370 0.4 parts by mass

(빅케미·재팬사 제조, 실리콘계 계면활성제)(manufactured by Big Chemie Japan, silicone surfactant)

(비교예 3) (Comparative Example 3)

수지 시트의 표면 (1)의 최대 단면 높이(St)를, 75nm가 되도록 수지 시트를 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 적층 필름을 작성했다.A laminated film was created in the same manner as in Example 1, except that the resin sheet was formed such that the maximum cross-sectional height (St) of the surface 1 of the resin sheet was 75 nm.

각 실시예에 사용하는 기재 필름은, 이형층을 가공 후, 40℃에서 3일간 에이징 후에 사용했다. 또, 얻어진 적층 필름도 40℃에서 3일간 에이징 후에 평가를 행하였다.The base film used in each Example was used after aging at 40°C for 3 days after processing the release layer. Moreover, the obtained laminated|multilayer film was also evaluated after aging at 40 degreeC for 3 days.

실시예에서 얻어진 본 발명의 적층 시트는, 예를 들면, 광학 용도에서는, 투명성 등을 높이는 것이 가능한 수지 시트이고, 게다가, 높은 평활성을 나타내는 수지 시트를 제공할 수 있다. 게다가, 높은 평활성과 높은 미끄러짐성을 양립할 수 있으며, 예를 들면, 반송 공정 등에서 흠집이 생기는 것을 억제할 수 있어, 수율의 저하를 회피할 수 있다.The laminated sheet of the present invention obtained in the examples is a resin sheet capable of enhancing transparency and the like in optical applications, for example, and can provide a resin sheet exhibiting high smoothness. In addition, it is possible to achieve both high smoothness and high slipperiness, and, for example, it is possible to suppress the occurrence of scratches in a conveyance step or the like, and a decrease in yield can be avoided.

또, 예를 들면, 필름 콘덴서 용도 등에서의 전자 부품 용도에서는, 높은 평활성을 나타내는 수지 시트를 제공할 수 있고, 수지 시트는, 절연 파괴 전압 등의 전기 특성을 향상시킬 수 있다. 게다가, 높은 평활성과 높은 미끄러짐성을 양립할 수 있고, 예를 들면, 유전체 수지 시트를 롤상으로 권취할 때에 감김 어긋남, 주름의 혼입 등을 억제할 수 있어, 양호한 권취성을 나타낼 수 있다. 이 때문에, 뛰어난 콘덴서 성능을 보유한 상태에서, 반송 등이 가능하다.In addition, for example, in electronic component applications such as film capacitor applications, a resin sheet exhibiting high smoothness can be provided, and the resin sheet can improve electrical properties such as dielectric breakdown voltage. In addition, it is possible to achieve both high smoothness and high slipperiness, and, for example, when winding the dielectric resin sheet into a roll, misalignment of the winding, mixing of wrinkles, etc. can be suppressed, and good winding properties can be exhibited. For this reason, conveyance or the like is possible while maintaining excellent capacitor performance.

또한, 본 발명에서 얻어지는 수지 시트는, 실질적으로 입자를 함유하지 않아, 내부 헤이즈가 오르는 등 투명성이 불충분해지는 것을 회피할 수 있다. 또, 수지 시트에 전사하는 입자의 양이 불균일하게 되는 문제를 회피할 수 있어, 양호한 미끄러짐성을 나타낼 수 있다.In addition, the resin sheet obtained in the present invention does not contain substantially particles, and it is possible to avoid insufficient transparency such as an increase in internal haze. In addition, the problem of non-uniformity in the amount of particles transferred to the resin sheet can be avoided, and good slipperiness can be exhibited.

이것에 대해, 비교예 1은, 본 발명에 관한 이형층을 갖지 않기 때문에, 수지 시트의 박리성이 극히 나빠서, 수지 시트의 평가를 행할 수 없었다. 비교예 2는, 수지 시트 형성 조성물이 가교제를 포함하지 않기 때문에, 특히, 수지 시트의 미끄러짐성이 나빠지는 결과를 나타냈다.On the other hand, since Comparative Example 1 did not have the mold release layer concerning this invention, the peelability of the resin sheet was extremely bad, and the resin sheet could not be evaluated. In Comparative Example 2, since the resin sheet forming composition did not contain a crosslinking agent, the slipperiness of the resin sheet was particularly poor.

비교예 3은, 수지 시트의 표면 (1)의 최대 단면 높이(St)가 본 발명의 범위외이기 때문에, 특히, 수지 시트의 미끄러짐성이 나빠지는 결과를 나타냈다.In Comparative Example 3, since the maximum cross-sectional height (St) of the surface 1 of the resin sheet was out of the range of the present invention, the slipperiness of the resin sheet was particularly poor.

본 발명은, 수지 시트를 적층한 적층 필름에 관한 것이다. 특히 전자 부품, 광학 용도에 이용되는 수지 시트를 적층한 적층 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated film in which resin sheets are laminated. In particular, it relates to a laminated film in which resin sheets used for electronic parts and optical applications are laminated.

10: 기재 필름 11: 이형층
12: 수지 시트 13: 수지 시트의 표면 (1)
14: 수지 시트의 표면 (2)
10: base film 11: release layer
12 Resin sheet 13 Resin sheet surface (1)
14: surface of resin sheet (2)

Claims (7)

폴리에스테르계의 기재(基材) 필름과, 상기 기재 필름의 적어도 편면(片面)에 배치된 이형층과, 상기 이형층에 있어서의 기재와는 반대측의 면에 배치된 수지 시트를 갖고,
이하의 (1)∼(6)을 만족시키는 적층 필름:
(1) 수지 시트는, 적어도 수지 성분 (A)와 가교제 (B)를 포함하는 수지 시트 형성 조성물을 경화시킨 것이며,
(2) 수지 시트는, 실질적으로 입자를 함유하지 않고,
(3) 수지 시트의 막 두께(t1)가, 1㎛ 이상 20㎛ 이하이며,
(4) 수지 시트의 표면 (1)의 산술 평균 높이(Sa)가 2nm 이상 30nm 이하이고,
(5) 수지 시트의 표면 (1)의 최대 단면 높이(St)가 80nm 이상 1000nm 이하이며,
(6) 수지 시트에 있어서의 상기 이형층면과는 반대측의 표면 (1)과, 수지 시트에 있어서의 상기 이형층측의 표면 (2)를 겹쳐 측정한 정(靜)마찰 계수가, 1.5 이하이다.
A polyester base film, a release layer disposed on at least one side of the base film, and a resin sheet disposed on a surface opposite to the substrate in the release layer,
A laminated film satisfying the following (1) to (6):
(1) The resin sheet is obtained by curing a resin sheet forming composition containing at least a resin component (A) and a crosslinking agent (B),
(2) The resin sheet contains substantially no particles,
(3) The film thickness (t1) of the resin sheet is 1 μm or more and 20 μm or less,
(4) the arithmetic mean height (Sa) of the surface (1) of the resin sheet is 2 nm or more and 30 nm or less;
(5) The maximum cross-sectional height (St) of the surface (1) of the resin sheet is 80 nm or more and 1000 nm or less,
(6) The static friction coefficient measured by overlapping the surface 1 on the side opposite to the surface of the release layer in the resin sheet and the surface 2 on the side of the release layer in the resin sheet is 1.5 or less.
제 1 항에 있어서,
수지 시트 형성 조성물에 포함되는 가교제 (B)가, 30℃에서 액체인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
According to claim 1,
A laminated film characterized in that the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet forming composition is liquid at 30°C.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
수지 시트에 포함되는 가교제 (B)의 수지 시트 전체에서 차지하는 비율이, 10 질량% 이상인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
According to claim 1 or 2,
A laminated film characterized in that the ratio of the crosslinking agent (B) contained in the resin sheet to the entire resin sheet is 10% by mass or more.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
수지 시트에 포함되는 수지 성분 (A)의 중량 평균 분자량이 10000 이상인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
According to any one of claims 1 to 3,
A laminated film characterized in that the weight average molecular weight of the resin component (A) contained in the resin sheet is 10000 or more.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
이형층 표면의 표면 자유 에너지가 40mJ/㎡ 이하이고, 또한 부착 에너지가, 3.5mJ/㎡ 이상인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
According to any one of claims 1 to 4,
A laminated film characterized in that the surface free energy of the surface of the release layer is 40 mJ/m 2 or less, and the adhesion energy is 3.5 mJ/m 2 or more.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
기재 필름의 이형층측 표면의 산술 평균 높이(Sa)가 20nm 이하이고, 또한 최대 돌기 높이(P)가 500nm 이하인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
According to any one of claims 1 to 5,
The arithmetic mean height (Sa) of the release layer side surface of the base film is 20 nm or less, and the maximum protrusion height (P) is 500 nm or less, the laminated film characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재한 적층 필름의 제조 방법으로서, 기재 필름 상에 용액 제막법에 의해 수지 시트를 도포 성형하는 것을 특징으로 하는 적층 필름의 제조 방법.A method for producing a laminated film according to any one of claims 1 to 6, characterized in that a resin sheet is coated and molded on a base film by a solution film forming method.
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