KR20230106723A - Mold release film for molding of resin sheet - Google Patents

Mold release film for molding of resin sheet Download PDF

Info

Publication number
KR20230106723A
KR20230106723A KR1020237022274A KR20237022274A KR20230106723A KR 20230106723 A KR20230106723 A KR 20230106723A KR 1020237022274 A KR1020237022274 A KR 1020237022274A KR 20237022274 A KR20237022274 A KR 20237022274A KR 20230106723 A KR20230106723 A KR 20230106723A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
release layer
release
film
less
layer
Prior art date
Application number
KR1020237022274A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
겐토 시게노
유스케 시바타
히로아키 구스바
미츠하루 나카타니
Original Assignee
도요보 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도요보 가부시키가이샤 filed Critical 도요보 가부시키가이샤
Publication of KR20230106723A publication Critical patent/KR20230106723A/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B1/00Producing shaped prefabricated articles from the material
    • B28B1/30Producing shaped prefabricated articles from the material by applying the material on to a core or other moulding surface to form a layer thereon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/09Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/283Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/38Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/06Interconnection of layers permitting easy separation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/005Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/022 layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/24All layers being polymeric
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/538Roughness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2367/00Polyesters, e.g. PET, i.e. polyethylene terephthalate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2383/00Polysiloxanes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2386/00Specific polymers obtained by polycondensation or polyaddition not provided for in a single one of index codes B32B2363/00 - B32B2383/00

Abstract

본 발명은, 평활성과 박리성이 특히 뛰어난 이형층을 갖는 이형 필름으로 함으로써, 초박층의 수지 시트, 특히 초박층의 세라믹 그린시트를 결함 없이 성형할 수 있는 이형 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
기재(基材)로서의 폴리에스테르 필름과, 이형층을 갖는 수지 시트 성형용 이형 필름으로서, 폴리에스테르 필름은, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 갖고, 표면층 A 상에 상기 이형층을 가지며, 이형층은, 이형층 형성 조성물이 경화된 층이고, 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 적어도 포함하며, 이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 2nm 이하이고, 이형층 표면에 존재하는 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟ 이하인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
An object of the present invention is to provide a release film capable of forming an ultra-thin resin sheet, particularly an ultra-thin ceramic green sheet, without defects by using a release film having a release layer having particularly excellent smoothness and peelability.
A release film for molding a resin sheet having a polyester film as a base material and a release layer, wherein the polyester film has a surface layer A substantially free of inorganic particles, and the release layer is formed on the surface layer A. The release layer is a layer in which the release layer forming composition is cured, the release layer forming composition contains at least cationically cured polydimethylsiloxane (a), and the area surface average roughness (Sa) of the release layer is 2 nm or less, A release film for resin sheet molding, wherein the number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 200 pieces/mm 2 or less.

Description

수지 시트 성형용 이형 필름{MOLD RELEASE FILM FOR MOLDING OF RESIN SHEET}Release film for resin sheet molding {MOLD RELEASE FILM FOR MOLDING OF RESIN SHEET}

본 발명은, 수지 시트 성형용 이형 필름에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 초박층의 수지 시트를 성형할 때에 이용하는 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film for molding a resin sheet, and more particularly, to a release film used when molding an ultra-thin resin sheet.

종래, 폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 하고, 그 위에 이형층을 적층한 이형 필름은, 점착 시트, 커버 필름, 고분자막, 광학 렌즈 등의 수지 시트를 성형하기 위한 공정 필름으로서 사용되고 있다.Conventionally, a release film in which a release layer is laminated on a polyester film as a base material is used as a process film for forming resin sheets such as adhesive sheets, cover films, polymer films, and optical lenses.

상기 이형 필름은, 적층 세라믹 콘덴서, 세라믹 기판 등의 높은 평활성이 요구되는 세라믹 그린시트 성형용의 공정 필름으로서도 사용되고 있다. 근래, 적층 세라믹 콘덴서의 소형화·대용량화에 수반하여, 세라믹 그린시트의 두께도 박막화하는 경향이 있다. 세라믹 그린시트는, 티탄산바륨 등의 세라믹 성분과 바인더 수지를 함유한 슬러리를 이형 필름 상에 도공(塗工)하고 건조함으로써 성형된다. 성형한 세라믹 그린시트에 전극을 인쇄하고 이형 필름으로부터 박리함으로써 얻어진 세라믹 그린시트를, 적층, 프레스, 소성, 외부 전극 도포함으로써 적층 세라믹 콘덴서가 제조된다.The release film is also used as a process film for molding ceramic green sheets requiring high smoothness, such as multilayer ceramic capacitors and ceramic substrates. In recent years, the thickness of the ceramic green sheet tends to be reduced with the miniaturization and increase in capacity of multilayer ceramic capacitors. The ceramic green sheet is formed by coating a slurry containing a ceramic component such as barium titanate and a binder resin onto a release film and drying it. A multilayer ceramic capacitor is manufactured by printing an electrode on a molded ceramic green sheet and peeling it from a release film, and then laminating, pressing, firing, or applying an external electrode to the obtained ceramic green sheet.

폴리에스테르 필름 기재의 이형층 표면에 세라믹 그린시트를 성형하는 경우, 이형층 표면의 미소한 돌기가 성형한 세라믹 그린시트에 영향을 주어, 씨씽(cissing)이나 핀 홀 등의 결점이 발생하기 쉬워진다는 문제점이 있었다. 근래는, 한층 더 세라믹 그린시트의 박막화가 진행되어, 1.0㎛ 이하, 보다 상세하게는 0.2㎛∼1.0㎛의 두께의 세라믹 그린시트가 요구되게 되고 있다. 그 때문에 이형층 표면의 평활성에 관한 요구는 더욱 높아지고 있다. 또, 이형층 상의 극미소(極微小)한 돌기, 이물이, 성형하는 세라믹 그린시트의 변형으로 이어져, 핀 홀의 발생, 박리 시의 시트 균열 등이 발생하기 쉬워진다는 과제가 있었다.When a ceramic green sheet is molded on the surface of the release layer of a polyester film base material, minute protrusions on the surface of the release layer affect the molded ceramic green sheet, and defects such as cissing and pinholes tend to occur. had a problem. In recent years, further thinning of ceramic green sheets has progressed, and ceramic green sheets having a thickness of 1.0 μm or less, more specifically, 0.2 μm to 1.0 μm are required. Therefore, the demand regarding the smoothness of the surface of a mold release layer is getting higher. In addition, there has been a problem that minute protrusions and foreign matter on the release layer lead to deformation of the ceramic green sheet to be molded, making it easy to generate pinholes and sheet cracks during peeling.

또, 세라믹 그린시트의 박막화가 진행되면, 이형 필름으로부터 세라믹 그린시트를 박리할 때의 박리성이 보다 중요해지게 된다. 박리력이 크고, 불균일하면 박리 공정에 있어서 세라믹 그린시트에 대미지가 가해져, 시트 결함, 두께 불균일 등이 발생하여, 핀 홀의 발생, 시트 균열 등의 문제가 발생하는 문제가 있다. 그 때문에, 세라믹 그린시트를 보다 낮고 균일한 힘으로 박리하는 것도 요구되고 있다. 즉, 초박층의 수지 시트, 특히 세라믹 그린시트를 결함 없이 제조하기 위해서는, 극히 높은 평활성과, 뛰어난 박리성을 갖는 이형 필름이 필요하게 되고 있다.In addition, as the thinning of the ceramic green sheet proceeds, the releasability of peeling the ceramic green sheet from the release film becomes more important. If the peeling force is large and non-uniform, damage is applied to the ceramic green sheet in the peeling process, resulting in sheet defects, non-uniform thickness, etc., resulting in problems such as pinholes and sheet cracks. Therefore, it is also required to peel the ceramic green sheet with a lower and uniform force. That is, in order to manufacture an ultra-thin resin sheet, especially a ceramic green sheet, without defects, a release film having extremely high smoothness and excellent peelability is required.

평활성과 박리성이 뛰어난 이형 필름으로는, 이하에 기재한 특허문헌의 것을 들 수 있다. 예를 들면 특허문헌 1에서는, 라디칼 경화형의 수지를 주성분으로 이용한 이형층을 갖는 이형 필름이 제안되어 있다. 특허문헌 2에서는, 평활화층과 이형층이 적층된 구성의 이형 필름이 제안되어 있다. 특허문헌 3에서는, 양이온 경화형 에폭시 수지를 주성분으로 이용한 이형층을 갖는 이형 필름이 제안되어 있다. 특허문헌 4에서는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산을 주성분으로 이용한 이형층을 갖는 이형 필름이 제안되어 있다.As a release film excellent in smoothness and peelability, the thing of patent literature described below is mentioned. For example, in Patent Document 1, a release film having a release layer using a radical curable resin as a main component is proposed. In patent document 2, the release film of the structure in which the smoothing layer and the release layer were laminated|stacked is proposed. In Patent Document 3, a release film having a release layer using a cation-curable epoxy resin as a main component is proposed. In Patent Document 4, a release film having a release layer using a cation-curable polydimethylsiloxane as a main component is proposed.

일본국 특허 제5492352호 공보Japanese Patent No. 5492352 일본국 특개2015-164762호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2015-164762 국제공개 제2018/079337호 공보International Publication No. 2018/079337 일본국 특개2016-079349호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2016-079349

그러나 특허문헌 1의 이형 필름에서는, 평활성이 불충분한 기재 필름에 대하여 이형층을 설치하고 있기 때문에, 이형층의 평활성이 불충분하다는 과제가 있다. 또한, 본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 라디칼 경화형의 수지는 산소 저해에 의한 경화 불량이 발생하기 때문에, 이형층 표면의 내용제성이 나쁘고, 세라믹 그린시트의 성형 시나 내부 전극의 인쇄 시에 사용하는 유기 용매에 의해 이형층이 침식되어, 박리성이 나빠진다는 문제가 있는 것이 발견되었다.However, in the release film of Patent Literature 1, since the release layer is provided with respect to the base film with insufficient smoothness, there is a problem that the smoothness of the release layer is insufficient. In addition, as a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that radical curing type resins suffer from poor curing due to oxygen inhibition, so that the surface of the release layer has poor solvent resistance, and is used during molding of ceramic green sheets or printing of internal electrodes. It was found that there is a problem that the release layer is eroded by the organic solvent and the peelability is deteriorated.

특허문헌 2의 발명에서는, 평활화 도포층과 이형 도포층에 열경화성의 멜라민 수지가 사용되고 있어, 경화 반응을 촉진시키기 위해 높은 열을 필요로 한다. 그 때문에, 가공 시의 열에 의해 이형 필름의 평면성이 손상될 우려가 있다. 또, 평활화 도포층과 이형 도포층의 복수의 가공이 필요하기 때문에, 이형 필름으로의 이물의 혼입뿐만 아니라, 이형층에 흠집이 발생할 우려가 있어, 이형층 상에 성형하는 세라믹 그린시트에 이물이나 흠집이 전사되어, 문제가 발생할 우려가 있다.In the invention of Patent Literature 2, a thermosetting melamine resin is used for the smoothing coating layer and the release coating layer, and high heat is required to promote the curing reaction. Therefore, there exists a possibility that the planarity of a release film may be damaged by the heat at the time of processing. In addition, since a plurality of processes of the smoothing coating layer and the release coating layer are required, not only contamination of the release film with foreign substances may occur, but there is a risk that the release layer may be scratched, and the ceramic green sheet formed on the release layer may have foreign substances or There is a possibility that a flaw may be transferred and a problem may occur.

특허문헌 3, 4에서는 산소 저해 기인의 경화 불량, 가공 열에 의한 평면 불량을 개선하기 위해, 양이온 경화형의 수지를 이용한 이형층이 각각 제안되어 있다. 그러나, 특허문헌 3의 이형 필름에서는, 기재 필름의 평활성이 부족하기 때문에, 이형층 표면의 평활성이 나쁘다는 문제가 있다. 또, 특허문헌 3에 있어서 개시되어 있는 이형제 성분에서는, 반응성이 부족하고, 내용제성이 나빠 박리성도 문제가 있었다.In Patent Literatures 3 and 4, in order to improve curing defects due to oxygen inhibition and planar defects due to processing heat, release layers using cation-curable resins are proposed, respectively. However, in the release film of Patent Literature 3, since the smoothness of the base film is insufficient, there is a problem that the smoothness of the surface of the release layer is poor. Moreover, in the release agent component disclosed in Patent Document 3, the reactivity was insufficient, the solvent resistance was poor, and the release property also had a problem.

특허문헌 4의 이형 필름에서는, 액상의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산 수지를 주성분으로 이용한 이형층을 갖고 있기 때문에, 기재 필름의 요철, 기재 필름 표면에 존재하는 올리고머 등의 돌기에 수지가 응집하여, 평면성에 문제가 발생할 우려가 있었다. 또, 이형층의 가교 밀도가 낮고, 박리성에도 문제가 있었다.In the release film of Patent Document 4, since it has a release layer using a liquid cation-curable polydimethylsiloxane resin as a main component, the resin aggregates on projections such as oligomers present on the surface of the base film and unevenness of the base film, resulting in flatness. There was a risk of problems. Moreover, the crosslinking density of the release layer was low, and there was a problem also in peelability.

본 발명은, 이러한 종래 기술의 과제를 배경으로 이루어진 것이다. 즉, 평활성과 박리성이 특히 뛰어난 이형층을 갖는 이형 필름을 제공할 수 있고, 또한, 초박층의 수지 시트, 특히 초박층의 세라믹 그린시트를 결함 없이 성형할 수 있는 이형 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is made against the background of these prior art problems. That is, it is possible to provide a release film having a release layer having particularly excellent smoothness and peelability, and also capable of forming an ultra-thin resin sheet, particularly an ultra-thin ceramic green sheet, without defects. to be

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 하기 구성을 갖는 이형 필름에 의해 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성시켰다.As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors found that the said objective could be achieved with the release film which has the following structure, and completed this invention.

즉, 본 발명은 이하의 구성으로 이루어진다.That is, the present invention consists of the following configurations.

[1] 기재로서의 폴리에스테르 필름과, 이형층을 갖는 수지 시트 성형용 이형 필름으로서,[1] A release film for molding a resin sheet having a polyester film as a base material and a release layer,

상기 폴리에스테르 필름은, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 갖고,The polyester film has a surface layer A that does not substantially contain inorganic particles,

상기 표면층 A 상에 상기 이형층을 가지며,having the release layer on the surface layer A,

상기 이형층은, 이형층 형성 조성물이 경화된 층이고,The release layer is a layer in which the release layer forming composition is cured,

상기 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함하며, The release layer forming composition includes a cation-curable polydimethylsiloxane (a),

상기 이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 2nm 이하이고,The area surface average roughness (Sa) of the release layer is 2 nm or less,

상기 이형층 표면에 존재하는 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟ 이하인, 수지 시트 성형용 이형 필름.The release film for resin sheet molding, wherein the number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 200/mm 2 or less.

[2] 일 실시형태에 있어서, 상기 이형층의 최대 돌기 높이(Sp)가 20nm 이하이고, 이형층 표면에 존재하는 높이 5nm 이상 10nm 미만의 돌기수와, 상기 10nm 이상의 돌기수의 합계가 1500개/㎟ 이하이다.[2] In one embodiment, the maximum projection height (Sp) of the release layer is 20 nm or less, and the sum of the number of projections having a height of 5 nm or more and less than 10 nm existing on the surface of the release layer and the number of projections with a height of 10 nm or more is 1500. /mm2 or less.

[3] 일 실시형태에 있어서, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이, 비닐 에테르기, 옥세타닐기, 에폭시기, 지환식 에폭시기로부터 선택되는 관능기를 적어도 하나 갖는다.[3] In one embodiment, the cation-curable polydimethylsiloxane (a) has at least one functional group selected from a vinyl ether group, an oxetanyl group, an epoxy group, and an alicyclic epoxy group.

[4] 일 실시형태에 있어서, 이형층에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량이 90㎎/㎡ 이하이다.[4] In one embodiment, the content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) contained in the release layer is 90 mg/m 2 or less.

[5] 일 실시형태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, 추가로, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)을 함유하고,[5] In one embodiment, the release layer forming composition further contains a cation-curable compound (b-1) having no silicone skeleton,

양이온 경화형 화합물(b-1)은, 분자 내에 2개 이상의 지환식 에폭시기를 가지며, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1)의 합계 100 질량부에 대해, 양이온 경화형 화합물(b-1)의 함유량이 80 질량% 이상이다.The cation-curable compound (b-1) has two or more alicyclic epoxy groups in the molecule, and the cation-curable compound ( The content of b-1) is 80% by mass or more.

[6] 일 실시형태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, 추가로 지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)을 함유하고,[6] In one embodiment, the release layer forming composition further contains a cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group,

환상 실록산 화합물(b-2)은, 분자 내에 2개 이상의 지환식 에폭시기를 가지며, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 환상 실록산 화합물(b-2)의 합계 100 질량부에 대해, 환상 실록산 화합물(b-2)의 함유량이 80 질량% 이상이다.The cyclic siloxane compound (b-2) has two or more alicyclic epoxy groups in the molecule, and the cyclic siloxane compound ( The content of b-2) is 80% by mass or more.

[7] 일 실시형태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 유기 용매를 포함하고, 이형층 형성 조성물은, SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 상기 유기 용매를, 이형층 형성 조성물의 전체 중량 100 질량부에 대해 10 질량% 이상의 양으로 함유한다.[7] In one embodiment, the release layer forming composition includes an organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less, and the release layer forming composition includes the organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less. is contained in an amount of 10% by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total weight of the release layer forming composition.

[8] 일 실시형태에 있어서, 무기 화합물을 포함하는 수지 시트를 제조하기 위한 이형 필름이 제공된다.[8] In one embodiment, a release film for producing a resin sheet containing an inorganic compound is provided.

[9] 일 실시형태에 있어서, 무기 화합물을 포함하는 수지 시트가, 세라믹 그린시트이다.[9] In one embodiment, the resin sheet containing the inorganic compound is a ceramic green sheet.

[10] 일 실시형태에 있어서, 두께가 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하인 수지 시트를 성형하기 위한 이형 필름이 제공된다.[10] In one embodiment, a release film for molding a resin sheet having a thickness of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less is provided.

본 발명의 수지 시트 성형용 이형 필름은, 이형층의 평활성과 박리성을 높일 수 있고, 또한, 초박층의 수지 시트, 특히 세라믹 그린시트의 결함의 발생을 억제할 수 있다.The release film for resin sheet molding of the present invention can improve the smoothness and peelability of the release layer, and can also suppress the generation of defects in ultra-thin resin sheets, particularly ceramic green sheets.

이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은, 기재로서의 폴리에스테르 필름과, 이형층을 갖는 수지 시트 성형용 이형 필름으로서,The present invention is a release film for resin sheet molding having a polyester film as a base material and a release layer,

폴리에스테르 필름은, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 갖고,The polyester film has a surface layer A that does not substantially contain inorganic particles,

표면층 A 상에 이형층을 가지며,having a release layer on the surface layer A,

이형층은, 이형층 형성 조성물이 경화된 층이고,The release layer is a layer in which the release layer forming composition is cured,

이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함하며,The release layer forming composition includes a cation-curable polydimethylsiloxane (a),

이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 2nm 이하이고,The area surface average roughness (Sa) of the release layer is 2 nm or less,

이형층 표면에 존재하는 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟ 이하인, 수지 시트 성형용 이형 필름이다.A release film for molding a resin sheet, wherein the number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 200 pieces/mm 2 or less.

이와 같은 구성을 갖는 본원발명은, 이형층의 평활성과 박리성이 뛰어나기 때문에, 예를 들면, 두께가 0.2㎛∼1.0㎛ 이하인 수지 시트에 대하여, 결함 없이 균일한 두께를 제공할 수 있어, 핀 홀 등의 결점을 억제할 수 있다.Since the present invention having such a configuration has excellent smoothness and peelability of the mold release layer, it is possible to provide a uniform thickness without defects with respect to a resin sheet having a thickness of, for example, 0.2 μm to 1.0 μm or less, and pin Defects such as holes can be suppressed.

또, 본원발명은, 이하의 효과를 발휘할 수 있다. 본 발명에서는, 평활성이 충분한 기재 필름에 대하여 이형층을 설치하고 있기 때문에, 이형층의 평활성도 확보할 수 있다. 또한, 본 발명은, 이형층에 있어서, 산소 저해에 의한 경화 불량을 억제할 수 있어, 이형층의 높은 가교를 발휘할 수 있다. 이와 같은 효과를 발휘하는 본 발명은, 예를 들면, 이형층 표면의 내용제성을 향상시킬 수 있다. 이형층 표면의 내용제성이 향상됨으로써, 세라믹 그린시트의 성형 시, 내부 전극의 인쇄 시에 사용하는 유기 용매에 의해 이형층이 침식되는 것을 억제할 수 있어, 높은 박리성을 가질 수 있다.In addition, the present invention can exhibit the following effects. In this invention, since the release layer is provided with respect to the base film with sufficient smoothness, the smoothness of a release layer is also securable. Furthermore, in the present invention, in the release layer, curing failure due to oxygen inhibition can be suppressed, and high crosslinking of the release layer can be exhibited. This invention exhibiting such an effect can improve the solvent resistance of the surface of a release layer, for example. By improving the solvent resistance of the surface of the release layer, it is possible to suppress the release layer from being eroded by the organic solvent used during molding of the ceramic green sheet or printing of the internal electrode, and thus it can have high peelability.

또, 본 발명이면, 예를 들면, 열경화성의 멜라민 수지를 갖는 이형층에 비하여, 경화 반응을 촉진시키기 위해 높은 열을 필요로 하지 않는다. 그 때문에, 가공 시의 열에 의해 이형 필름의 평면성이 손상되는 것을 억제할 수 있다. 또, 본 발명의 제조 방법이면, 본 발명에 관한 도포 공정, 건조 공정을 거침으로써, 이형층 형성 조성물이 응집하는 것을 억제할 수 있어, 극히 높은 평활성을 갖는 이형층을 구비하는 이형 필름을 얻을 수 있다.Moreover, if it is this invention, compared with the release layer which has a thermosetting melamine resin, for example, in order to accelerate a hardening reaction, high heat|fever is not required. Therefore, it can suppress that the planarity of a release film is damaged by the heat|fever at the time of processing. Further, in the production method of the present invention, by passing through the application step and the drying step according to the present invention, the aggregation of the release layer-forming composition can be suppressed, and a release film having a release layer having extremely high smoothness can be obtained. there is.

보다 상세하게는, 기재 필름의 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A에 대하여, 소정량의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 함유하는 이형층 형성용 조성물을 도포하고, 경화시킴으로써, 극히 높은 평활성을 갖는 이형층을 얻을 수 있다.More specifically, a composition for forming a release layer containing a predetermined amount of cation-curable polydimethylsiloxane (a) is applied to the surface layer A of the base film that does not substantially contain inorganic particles, and cured to achieve an extremely high quality. A release layer having smoothness can be obtained.

또한, 이형층에 있어서의, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량을 소정의 양 이하로 제어함으로써, 이형층의 가공 시에 기재 필름에 존재하는 극미소한 이물, 올리고머 유래의 미소 돌기에 대하여, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 응집하는 것을 억제할 수 있다. 특정의 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 제 1 건조 온도를 높임으로써(건조를 강하게 함으로써) 원반(原反)에 기인하는 미세한 돌기에 대하여, 성분 (a)가 응집하는 것을 방지할 수 있다.In addition, by controlling the content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) in the release layer to a predetermined amount or less, against minute foreign matter and oligomer-derived microprotrusions present in the base film during processing of the release layer , It is possible to suppress aggregation of the cation-curable polydimethylsiloxane (a). Although it should not be construed as being limited to a specific theory, it is possible to prevent the component (a) from aggregating with respect to fine protrusions caused by disks by increasing the first drying temperature (by intensifying drying).

또, 산소 저해에 의한 경화 불량, 이형층 표면의 내용제성의 향상, 이형층으로의 이물의 혼입 억제 및 이형층의 흠집을 억제함으로써, 세라믹 그린시트 등의 피이형체에 대하여, 박리 시의 대미지나, 흠집, 이물 등의 전사에 의한 시트 변형을 방지할 수 있다. 그 결과, 평활성과 경도와, 박리성과, 피이형층에 대한 오염 방지성이 뛰어난 이형층을 얻을 수 있다.In addition, by inhibiting curing failure due to oxygen inhibition, improving the solvent resistance of the surface of the release layer, suppressing contamination of the release layer, and suppressing damage to the release layer, damage to the release target such as ceramic green sheet and the like during peeling , sheet deformation due to transfer of scratches, foreign matter, etc. can be prevented. As a result, it is possible to obtain a release layer having excellent smoothness, hardness, peelability, and antifouling properties with respect to the release layer.

또, 이형층 형성 조성물 중에 포함되는 유기 용매의 건조 중에 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 응집하기 어려워져, 평활성이 뛰어난 이형층으로 할 수 있다. 상세에 대해서는 후술한다.In addition, during drying of the organic solvent contained in the release layer-forming composition, the cation-curable polydimethylsiloxane (a) becomes difficult to aggregate, resulting in a release layer having excellent smoothness. Details will be described later.

또, 본 발명은, 다른 양태에 있어서, 이하의 공정을 갖는 수지 시트 성형용 이형 필름의 제조 방법을 제공한다.Moreover, this invention provides the manufacturing method of the release film for resin sheet molding which has the following process in another aspect.

표면층 A를 갖는 폴리에스테르 필름의 상기 표면층 A 상에, 이형층 형성 조성물을 도포하는 도포 공정으로서,An application step of applying a release layer forming composition on the surface layer A of a polyester film having a surface layer A,

표면층 A는, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 층이고,The surface layer A is a layer that does not substantially contain inorganic particles,

이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함하는, 도포 공정;An application step in which the release layer forming composition includes a cation-curable polydimethylsiloxane (a);

이형층 형성 조성물을 도포한 폴리에스테르 필름을, 가열 건조하는 건조 공정으로서,As a drying step of heating and drying the polyester film coated with the release layer forming composition,

상기 가열 건조는, 제 1 건조 공정과, 이어서, 제 2 건조 공정을 갖고,The heat drying has a 1st drying process and then a 2nd drying process,

상기 제 1 건조 공정에서의 건조 온도 T1은, 상기 제 2 건조 공정에서의 건조 온도 T2보다도 높은, 건조 공정;a drying step in which the drying temperature T1 in the first drying step is higher than the drying temperature T2 in the second drying step;

상기 건조 공정 후에, 활성 에너지선을 조사하여, 이형층 형성 조성물을 경화시키는 광경화 공정.A photocuring step of curing the release layer-forming composition by irradiating active energy rays after the drying step.

본 발명에 관한 제조 방법에 있어서, 특히, 이형층을 가공할 때의 제조 조건을 소정의 방법으로 함으로써, 높은 평활을 갖는 이형층을 형성할 수 있는, 예를 들면, 이형층 형성용 조성물의 도포량, 유기 용매 조성, 건조 시간, 건조 온도 등을 제어하는 것을 들 수 있다. 본원발명의 조건으로 이형 필름을 제조함으로써, 이형층 형성용 조성물에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 응집을 억제할 수 있어, 평활성이 뛰어난 이형층을 얻을 수 있다. 상세에 대해서는 후술한다.In the production method according to the present invention, in particular, by setting the production conditions at the time of processing the release layer to a predetermined method, a release layer having high smoothness can be formed, for example, the amount of application of the composition for forming a release layer , controlling the organic solvent composition, drying time, drying temperature, and the like. By producing a release film under the conditions of the present invention, aggregation of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) contained in the composition for forming a release layer can be suppressed, and a release layer with excellent smoothness can be obtained. Details will be described later.

(폴리에스테르 필름)(polyester film)

본 발명의 기재로서 이용하는 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르는, 특별히 한정되지 않고, 이형 필름용 기재로서 통상 일반적으로 사용되고 있는 폴리에스테르를 필름 성형한 것을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 방향족 이염기산 성분과 디올 성분으로 이루어지는 결정성의 선상(線狀) 포화 폴리에스테르인 것이 좋고, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌 테레프탈레이트 또는 이들 수지의 구성 성분을 주성분으로 하는 공중합체가 더욱 적합하며, 그중에서도 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 형성된 폴리에스테르 필름이 특히 적합하다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트는, 에틸렌 테레프탈레이트의 반복 단위가 바람직하게는 90 몰% 이상, 보다 바람직하게는 95 몰% 이상이며, 다른 디카르복시산 성분, 디올 성분이 소량 공중합되어 있어도 되지만, 코스트의 점에서, 테레프탈산과 에틸렌 글리콜만으로 제조된 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 필름의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서, 공지의 첨가제, 예를 들면, 산화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 결정화제 등을 첨가해도 된다. 폴리에스테르 필름은 쌍방향의 탄성률의 높음 등의 이유에서 2축 배향 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하다.The polyester constituting the polyester film used as the substrate of the present invention is not particularly limited, and a film-molded polyester commonly used as a substrate for a release film can be used. Preferably, it is a crystalline linear saturated polyester composed of an aromatic dibasic acid component and a diol component, and examples thereof include polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate, Polytrimethylene terephthalate or a copolymer mainly composed of constituents of these resins is more suitable, and among them, a polyester film formed of polyethylene terephthalate is particularly suitable. In polyethylene terephthalate, the repeating unit of ethylene terephthalate is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and other dicarboxylic acid components and diol components may be copolymerized in small amounts, but in terms of cost, terephthalic acid and ethylene glycol alone. In addition, known additives such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, and crystallizers may be added within a range that does not impair the effect of the film of the present invention. The polyester film is preferably a biaxially oriented polyester film for reasons such as high elastic modulus in both directions.

상기 폴리에스테르 필름의 고유 점도는 0.50∼0.70dl/g이 바람직하고, 0.52∼0.62dl/g이 보다 바람직하다. 고유 점도가 0.50dl/g 이상인 경우, 연신 공정에서 파단이 많이 발생하는 일이 없어 바람직하다. 반대로, 0.70dl/g 이하인 경우, 소정의 제품 폭으로 재단할 때의 재단성이 좋아, 치수 불량이 발생하지 않으므로 바람직하다. 또, 원료 펠릿은 충분히 진공 건조하는 것이 바람직하다.0.50-0.70 dl/g is preferable and, as for the intrinsic viscosity of the said polyester film, 0.52-0.62 dl/g is more preferable. When the intrinsic viscosity is 0.50 dl/g or more, breakage does not occur much in the stretching step, which is preferable. Conversely, when it is 0.70 dl/g or less, the cutting property at the time of cutting to a predetermined product width is good, and dimensional defects do not occur, which is preferable. Moreover, it is preferable to fully vacuum dry raw material pellets.

또한, 본 명세서에 있어서, 단지 「폴리에스테르 필름」이라고 기재하는 경우, 표면층 A를 갖는(적층한) 폴리에스테르 필름을 의미한다. 또, 본 발명에 있어서, 폴리에스테르 필름은, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 갖고, 표면층 A 상에 상기 이형층을 갖는다.In addition, in this specification, when describing only as "polyester film", it means the polyester film which has (laminated) the surface layer A. Moreover, in this invention, the polyester film has the surface layer A which does not contain inorganic particles substantially, and has the said release layer on the surface layer A.

또한, 명세서에 있어서 언급이 있는 경우, 추가로 표면층 B를 갖는(적층한) 폴리에스테르 필름을, 단지 「폴리에스테르 필름」이라고 칭하는 경우가 있다.In addition, when there is mention in a specification, the polyester film which further has (laminated) the surface layer B may be simply called a "polyester film."

본 발명에서의 폴리에스테르 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 일반적으로 이용되고 있는 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 상기 폴리에스테르를 압출기(押出機)에서 용융하여, 필름상(狀)으로 압출하고, 회전 냉각 드럼에서 냉각함으로써 미연신 필름을 얻고, 해당 미연신 필름을 연신함으로써 얻을 수 있다. 연신은, 2축 연신인 것이 역학적 특성 등에서 바람직하다. 2축 연신 필름은, 세로 방향 또는 가로 방향의 1축 연신 필름을 가로 방향 또는 세로 방향으로 순차 2축 연신하는 방법, 또는 미연신 필름을 세로 방향과 가로 방향으로 동시 2축 연신하는 방법으로 얻을 수 있다.The manufacturing method of the polyester film in this invention is not specifically limited, A conventionally generally used method can be used. For example, it can be obtained by melting the polyester in an extruder, extruding it into a film form, cooling it with a rotating cooling drum to obtain an unstretched film, and stretching the unstretched film. As for the stretching, it is preferable that it is biaxial stretching in terms of mechanical properties and the like. The biaxially stretched film can be obtained by sequentially biaxially stretching a longitudinally or transversely uniaxially oriented film in the transverse or longitudinal direction, or by simultaneously biaxially stretching an unstretched film in the longitudinal and transverse directions. there is.

본 발명에 있어서, 폴리에스테르 필름 연신 시의 연신 온도는 폴리에스테르의 2차 전이점(Tg) 이상으로 하는 것이 바람직하다. 세로, 가로 각각의 방향으로 1∼8배, 특히 2∼6배의 연신을 하는 것이 바람직하다.In the present invention, the stretching temperature at the time of stretching the polyester film is preferably equal to or higher than the secondary transition point (Tg) of polyester. It is preferable to perform stretching 1 to 8 times, particularly 2 to 6 times in each of the vertical and horizontal directions.

상기 폴리에스테르 필름은, 두께가 12∼50㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 15∼38㎛이며, 보다 바람직하게는 19㎛∼33㎛이다. 필름의 두께가 12㎛ 이상이면, 필름 생산 시나 이형층의 가공 공정, 세라믹 그린시트 등의 성형 시에, 열에 의해 변형될 우려가 없어 바람직하다. 한편, 필름의 두께가 50㎛ 이하이면, 사용 후에 폐기하는 필름의 양이 극도로 많아지지 않아, 환경 부하를 작게 하는 데 있어서 바람직하다.The polyester film preferably has a thickness of 12 to 50 µm, more preferably 15 to 38 µm, and more preferably 19 µm to 33 µm. When the thickness of the film is 12 μm or more, there is no risk of deformation due to heat during production of the film, processing of the release layer, or molding of a ceramic green sheet, which is preferable. On the other hand, when the thickness of the film is 50 μm or less, the amount of the film discarded after use does not become extremely large, which is preferable in reducing the environmental load.

상기 폴리에스테르 필름은, 단층이어도 2층 이상의 다층이어도 상관없다. 폴리에스테르 필름은, 실질적으로 무기 입자를 포함하지 않는 표면층 A를 갖는다. 예를 들면, 표면층 A의 단층이어도, 표면층 A와 다른 층, 예를 들면 후술하는 표면층 B를 갖는 다층 구조여도 된다.The polyester film may be a single layer or a multilayer of two or more layers. The polyester film has a surface layer A substantially free of inorganic particles. For example, a single layer of the surface layer A may be used, or a multilayer structure including the surface layer A and another layer, for example, a surface layer B described later may be used.

2층 이상의 다층 구성으로 이루어지는 적층 폴리에스테르 필름인 경우는, 실질적으로 무기 입자를 함유하지 않는 표면층 A의 반대면에는, 입자 등을 함유할 수 있는 표면층 B를 갖는 것이 바람직하다. 적층 구성으로는, 이형층을 도포하는 측의 층을 표면층 A, 그 반대면의 층을 표면층 B, 이들 이외의 심층(芯層)을 층 C라고 하면, 두께 방향의 층 구성은 이형층/A/B, 또는 이형층/A/C/B 등의 적층 구조를 들 수 있다. 당연히 층 C는 복수의 층 구성이어도 상관없다. 또, 표면층 B에는 입자를 포함하지 않을 수도 있다. 그 경우, 필름을 롤상으로 권취(卷取)하기 위한 미끄러짐성을 부여하기 위해, 표면층 B 상에는 입자와 바인더를 포함한 코트층을 설치하는 것이 바람직하다.In the case of a laminated polyester film composed of two or more layers, it is preferable to have a surface layer B capable of containing particles or the like on the opposite side of the surface layer A that does not substantially contain inorganic particles. As for the layered configuration, if the layer on the side where the release layer is applied is called the surface layer A, the layer on the opposite side is called the surface layer B, and the layer other than these is called the layer C, the layer configuration in the thickness direction is release layer/A /B, or a laminated structure such as release layer /A/C/B is exemplified. Naturally, the layer C may have a plurality of layer configurations. Also, the surface layer B may not contain particles. In that case, it is preferable to provide a coating layer containing particles and a binder on the surface layer B in order to impart sliding properties for winding the film into a roll shape.

본 발명에서의 폴리에스테르 필름에 있어서, 이형층을 도포하는 표면에 위치하고 있는 표면층 A는, 실질적으로 무기 입자를 함유하지 않는다. 본 발명에 있어서는, 표면층 A는, 실질적으로 무기 입자를 함유하지 않으므로, 이하와 같은 영역 표면 평균 거칠기를 나타낼 수 있다.In the polyester film of the present invention, the surface layer A located on the surface to which the release layer is applied contains substantially no inorganic particles. In the present invention, since the surface layer A does not substantially contain inorganic particles, it can exhibit the following area surface average roughness.

본 발명에 있어서, 표면층 A의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 이형층을 배치하는 면에 있어서의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)를 말하고, 이형층을 배치하는 면에 있어서의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 7nm 이하이다. Sa가 7nm 이하이면, 표면층 A 상에 적층되는 이형층도 높은 평활성을 나타낼 수 있어, 이형층 위에 적층하는 초박층 세라믹 그린시트의 성형 시에, 핀 홀 등의 발생이 일어나기 어렵다. 더 나아가서는, 이형층을 형성할 때에, 표면층 A 상의 돌기에 이형층 성분이 응집하는 것을 억제할 수 있어, 이형층 표면의 평활성의 악화를 방지할 수 있다.In the present invention, the area surface average roughness (Sa) of the surface layer A refers to the area surface average roughness (Sa) on the surface on which the release layer is disposed, and the area surface average roughness (Sa) on the surface on which the release layer is disposed ( Sa) is 7 nm or less. When Sa is 7 nm or less, the release layer laminated on the surface layer A can also exhibit high smoothness, so that pinholes and the like are less likely to occur during molding of the ultra-thin ceramic green sheet laminated on the release layer. Furthermore, when forming a release layer, it can suppress aggregation of the release layer component to the protrusion on surface layer A, and it can prevent deterioration of the smoothness of the surface of a release layer.

표면층 A의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는 작을수록 바람직하고, 0.1nm 이상이어도 상관없다. 일 양태에 있어서, 표면층 A의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는 0.1nm 이상 7nm 이하이고, 예를 들면, 0.5nm 이상 5nm 이하이며, 0.5nm 이상 4nm 이하이다. 이와 같은 범위 내인 것에 의해, 이형층의 평활성을 높일 수 있어, 적층하는 초박층 세라믹 그린시트의 성형 시에 핀 홀 등의 발생을 억제할 수 있다. 더 나아가서는, 이형층을 형성할 때에, 표면층 A 상의 돌기에 이형층 성분이 응집하는 것을 억제할 수 있어, 이형층 표면의 평활성의 악화를 방지할 수 있다.The area surface average roughness (Sa) of the surface layer A is preferably as small as possible, and may be 0.1 nm or more. In one aspect, the area surface average roughness Sa of the surface layer A is 0.1 nm or more and 7 nm or less, for example, 0.5 nm or more and 5 nm or less, or 0.5 nm or more and 4 nm or less. By being within this range, the smoothness of the release layer can be increased, and generation of pinholes and the like can be suppressed during molding of the ultra-thin layer ceramic green sheets to be laminated. Furthermore, when forming a release layer, it can suppress aggregation of the release layer component to the protrusion on surface layer A, and it can prevent deterioration of the smoothness of the surface of a release layer.

본 발명에 있어서, 「무기 입자를 실질적으로 함유하지 않는다」란, 형광 X선 분석으로 무기 원소를 정량한 경우에 50ppm 이하, 바람직하게는 10ppm 이하, 가장 바람직하게는 검출 한계 이하가 되는 함유량을 의미한다. 이것은 적극적으로 무기 입자를 필름 중에 첨가시키지 않아도, 외래 이물 유래의 오염 성분이나, 원료 수지 또는 필름의 제조 공정에 있어서의 라인이나 장치에 부착된 오염물이 필름 중에 혼입되는 경우가 있기 때문이다.In the present invention, "substantially free of inorganic particles" means a content that is 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and most preferably below the detection limit when inorganic elements are quantified by fluorescence X-ray analysis. do. This is because even if inorganic particles are not actively added to the film, contaminants derived from foreign substances and contaminants adhering to lines or equipment in the raw resin or film manufacturing process may be mixed in the film.

본 발명에서의 폴리에스테르 필름 기재에 있어서, 이형층을 배치하는 면의 반대면에 표면층 B를 가져도 된다. 표면층 B는, 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 입자를 포함함으로써, 필름의 미끄러짐성 및 공기의 제거 용이성이 뛰어나, 뛰어난 반송성과 권취성을 가질 수 있다. 특히, 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자를 포함하는 것이 바람직하다.In the polyester film substrate in the present invention, the surface layer B may be provided on the surface opposite to the surface on which the release layer is disposed. The surface layer B preferably contains particles. By including the particles, the film is excellent in slipperiness and easy removal of air, and can have excellent conveyance and winding properties. In particular, it is preferable to include silica particles and/or calcium carbonate particles.

표면층 B 중에 포함되는 입자의 양은, 합계로 1000∼15000ppm이다. 이때, 표면층 B의 필름의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 예를 들면, 1nm 이상 40nm 이하이다. 보다 바람직하게는, 5nm 이상 35nm 이하이다. 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자의 합계가 1000ppm 이상이며, Sa가 1nm 이상인 경우, 필름을 롤상으로 감아올릴(卷上) 때에, 공기를 균일하게 빠지게 할 수 있어, 감은 모습이 양호하고 평면성을 양호하게 할 수 있다. 이와 같은 특징에 의해, 예를 들면, 두께 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하의 초박층의 수지 시트, 예를 들면, 세라믹 그린시트를 제조하는 경우, 권취된 세라믹 그린시트의 주름, 위치 어긋남을 방지할 수 있어, 반송성, 권취, 보관성이 뛰어난 이형 필름을 제공할 수 있다.The amount of particles contained in the surface layer B is 1000 to 15000 ppm in total. At this time, the area surface average roughness Sa of the film of the surface layer B is, for example, 1 nm or more and 40 nm or less. More preferably, they are 5 nm or more and 35 nm or less. When the total amount of silica particles and/or calcium carbonate particles is 1000 ppm or more and Sa is 1 nm or more, when the film is rolled up into a roll, air can be uniformly released, the winding appearance is good, and the flatness is good. can do Due to this feature, when manufacturing an ultra-thin resin sheet, for example, a ceramic green sheet having a thickness of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less, for example, wrinkles and misalignment of the wound ceramic green sheet can be prevented. Therefore, it is possible to provide a release film having excellent transportability, winding and storage properties.

또, 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자의 합계가 15000ppm 이하, Sa가 40nm 이하인 경우에는, 활제(滑劑)로서도 기능하는 입자의 응집이 발생하기 어려워, 조대(粗大) 돌기(예를 들면, 높이 1㎛ 이상의 돌기)가 생기지 않기 때문에, 초박층의 수지 시트, 예를 들면, 세라믹 그린시트 제조 시에, 예를 들면, 권취에 의한 핀 홀의 발생을 억제할 수 있어, 품질이 안정된 수지 시트를 제공할 수 있다.In addition, when the total amount of silica particles and/or calcium carbonate particles is 15000 ppm or less and Sa is 40 nm or less, aggregation of particles that also function as a lubricant is unlikely to occur, and coarse protrusions (e.g., height Protrusions of 1 μm or more) do not occur, therefore, when manufacturing an ultra-thin layer resin sheet, such as a ceramic green sheet, generation of pinholes due to winding, for example, can be suppressed, and a resin sheet with stable quality can be provided. can do.

표면층 B에 함유하는 입자로는, 실리카 및/또는 탄산칼슘 이외에 불활성인 무기 입자 및/또는 내열성 유기 입자 등을 이용할 수 있다. 투명성, 코스트의 관점에서 실리카 입자 및/또는 탄산칼슘 입자를 이용하는 것이 보다 바람직하다. 그 밖에 사용할 수 있는 무기 입자로는, 알루미나-실리카 복합 산화물 입자, 히드록시아파타이트 입자 등을 들 수 있다. 또, 내열성 유기 입자로는, 가교 폴리아크릴계 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 벤조구아나민계 입자 등을 들 수 있다. 또 실리카 입자를 이용하는 경우, 다공질의 콜로이달 실리카가 바람직하다. 탄산칼슘 입자를 이용하는 경우는, 폴리아크릴산계의 고분자 화합물로 표면 처리를 실시한 경질 탄산칼슘이, 입자의 탈락 방지의 관점에서 바람직하다.As the particles contained in the surface layer B, inactive inorganic particles and/or heat-resistant organic particles other than silica and/or calcium carbonate can be used. It is more preferable to use silica particles and/or calcium carbonate particles from the viewpoints of transparency and cost. Other inorganic particles that can be used include alumina-silica composite oxide particles, hydroxyapatite particles, and the like. Moreover, as heat-resistant organic particle|grains, crosslinked polyacryl type particle|grains, crosslinked polystyrene particle|grains, benzoguanamine type particle|grains, etc. are mentioned. Moreover, when using silica particles, porous colloidal silica is preferable. When using calcium carbonate particles, precipitated calcium carbonate subjected to surface treatment with a polyacrylic acid-based high molecular compound is preferable from the viewpoint of preventing the particles from falling off.

상기 표면층 B에 첨가하는 입자의 평균 입자 지름은, 0.1㎛ 이상 2.0㎛ 이하가 바람직하고, 0.5㎛ 이상 1.0㎛ 이하가 특히 바람직하다. 입자의 평균 입자 지름이 0.1㎛ 이상이면, 이형 필름의 미끄러짐성이 양호하여 바람직하다. 또, 평균 입자 지름이 2.0㎛ 이하이면, 표면층 A의 변형이 억제되어, 세라믹 그린시트의 두께 불균일 및 핀 홀의 발생을 억제할 수 있다.The average particle diameter of the particles added to the surface layer B is preferably 0.1 μm or more and 2.0 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or more and 1.0 μm or less. When the average particle diameter of the particles is 0.1 μm or more, the slipperiness of the release film is good and is preferable. In addition, when the average particle diameter is 2.0 μm or less, deformation of the surface layer A is suppressed, and uneven thickness of the ceramic green sheet and generation of pinholes can be suppressed.

상기 표면층 B에는 소재가 다른 입자를 2종류 이상 함유시켜도 된다. 또, 동종의 입자이며 평균 입경이 다른 것을 함유시켜도 된다. 또, 2종류 이상의 다른 입자는, 상기 범위 내에서 다른 평균 입자 지름을 가져도 된다. 다른 2종류의 입자를 포함함으로써, 표면층 B에 형성되는 요철을 고도로 제어할 수 있어, 미끄러짐성과 평활성을 양립을 할 수 있으므로 바람직하다.The surface layer B may contain two or more types of particles of different materials. Moreover, you may contain the particle|grains of the same kind but different average particle diameters. Moreover, two or more types of different particle|grains may have different average particle diameters within the said range. By including two different types of particles, the irregularities formed in the surface layer B can be highly controlled, and both slipperiness and smoothness can be achieved, which is preferable.

이형층을 설치하는 측의 층인 표면층 A에는, 핀 홀 저감의 관점에서, 입자 또는 불순물의 혼입을 방지하기 위해, 재생 원료 등을 사용하지 않는 것이 바람직하다.From the viewpoint of reducing pinholes, it is preferable not to use recycled raw materials or the like in order to prevent mixing of particles or impurities in the surface layer A, which is the layer on the side where the release layer is provided.

이형층을 설치하는 측의 층인 표면층 A의 두께 비율은, 기재 필름의 전층 두께의 20% 이상 50% 이하인 것이 바람직하다. 20% 이상이면, 표면층 B 등에 포함되는 입자의 영향을 필름 내부로부터 받기 어려워, 영역 표면 평균 거칠기 Sa가 상기의 범위를 만족시킬 수 있어 바람직하다. 기재 필름의 전층의 두께의 50% 이하이면, 공압출에 의한 표면층 B, 상술의 중간층 C에 있어서의 재생 원료의 사용 비율을 늘릴 수 있어, 환경 부하가 작아져 바람직하다.It is preferable that the thickness ratio of the surface layer A which is a layer on the side where the release layer is provided is 20% or more and 50% or less of the total layer thickness of the base film. When it is 20% or more, it is difficult to receive the influence of particles included in the surface layer B or the like from the inside of the film, and the area surface average roughness Sa can satisfy the above range, which is preferable. When it is 50% or less of the thickness of all layers of the base film, the use ratio of the recycled raw material in the surface layer B by co-extrusion and the above-mentioned intermediate layer C can be increased, and the environmental load is reduced, which is preferable.

또, 경제성의 관점에서 상기 표면층 A 이외의 층(표면층 B 또는 전술의 중간층 C)에는, 50∼90 질량%의 필름 스크랩이나 페트병의 재생 원료를 사용할 수 있다. 이 경우에도, 표면층 B에 포함되는 활제의 종류나 양, 입경 그리고 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 상기의 범위를 만족하는 것이 바람직하다.Further, from the viewpoint of economy, 50 to 90% by mass of film scraps or recycling raw materials for PET bottles can be used for layers other than the surface layer A (surface layer B or the aforementioned intermediate layer C). Also in this case, it is preferable that the type and amount of the lubricant contained in the surface layer B, the particle size, and the area average surface roughness (Sa) satisfy the above ranges.

또, 나중에 도포하는 이형층 등의 밀착성의 향상이나, 대전을 방지하는 등을 위해 표면층 A 및/또는 표면층 B의 표면에 제막 공정 내의 연신 전 또는 1축 연신 후의 필름에 코트층을 설치해도 되고, 코로나 처리 등을 실시할 수도 있다. 표면층 A 상에 코트층을 설치하는 경우, 당해 코트층은, 실질적으로 입자를 함유하지 않는 것이 바람직하다.In addition, a coating layer may be provided on the film before stretching or after uniaxial stretching in the film forming step on the surface of the surface layer A and/or the surface layer B to improve the adhesion of a release layer or the like applied later or to prevent charging, etc. Corona treatment etc. can also be performed. When providing a coating layer on the surface layer A, it is preferable that the said coating layer does not contain particle|grains substantially.

(이형층)(release layer)

본 발명에 있어서, 이형층은 표면층 A 상에 적층된다. 본 발명에 있어서, 이형층은, 이형층 형성 조성물이 경화된 층이며, 이형층 및 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 적어도 포함하고, 이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 2nm 이하이며,In the present invention, the release layer is laminated on the surface layer A. In the present invention, the release layer is a layer in which the release layer-forming composition is cured, and the release layer and the release layer-forming composition contain at least cation-curable polydimethylsiloxane (a), and the area surface average roughness of the release layer (Sa ) is less than 2 nm,

이형층 표면에 존재하는 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟ 이하이다.The number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 200 pieces/mm 2 or less.

이형층이 이와 같은 특징을 가짐으로써, 높은 평활성이 요구되는 초박막의 수지 시트, 예를 들면, 세라믹 그린시트에 대한 핀 홀의 발생을 억제할 수 있어, 균일한 막 두께의 수지 시트를 형성할 수 있다.By having such characteristics of the release layer, it is possible to suppress occurrence of pinholes in an ultra-thin resin sheet requiring high smoothness, for example, a ceramic green sheet, and a resin sheet having a uniform film thickness can be formed. .

보다 상세하게는, 본 발명은, 이형층에 있어서, 산소 저해에 의한 경화 불량을 억제할 수 있어, 이형층의 높은 가교를 발휘할 수 있다. 이와 같은 효과를 발휘하는 본 발명은, 예를 들면, 이형층 표면의 내용제성을 향상시킬 수 있다. 이형층 표면의 내용제성이 향상됨으로써, 세라믹 그린시트의 성형 시, 내부 전극의 인쇄 시에 사용하는 유기 용매에 의해 이형층이 침식되는 것을 억제할 수 있어, 높은 박리성을 가질 수 있다.More specifically, in the release layer, in the present invention, curing failure due to oxygen inhibition can be suppressed, and high crosslinking of the release layer can be exhibited. This invention exhibiting such an effect can improve the solvent resistance of the surface of a release layer, for example. By improving the solvent resistance of the surface of the release layer, it is possible to suppress the release layer from being eroded by the organic solvent used during molding of the ceramic green sheet or printing of the internal electrode, and thus it can have high peelability.

또, 본 발명이면, 경화 반응을 촉진시키기 위해 130℃ 이상의 높은 열을 필요로 하지 않는다. 그 때문에, 가공 시의 열에 의해 이형 필름의 평면성이 손상되는 것을 억제할 수 있다. 또, 수지 시트 성형용 이형 필름으로의 이물의 혼입이나 이형층의 흠집의 발생을 억제할 수 있어, 세라믹 그린시트 등의 피이형체에 대하여, 이물, 흠집의 전사에 의한 시트 대미지의 발생을 억제할 수 있다.Further, according to the present invention, high heat of 130°C or higher is not required to promote the curing reaction. Therefore, it can suppress that the planarity of a release film is damaged by the heat|fever at the time of processing. In addition, the incorporation of foreign substances into the release film for resin sheet molding and the occurrence of scratches on the release layer can be suppressed, and the occurrence of sheet damage due to transfer of foreign substances and scratches to the release object such as ceramic green sheet can be suppressed. can

이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 2nm 이하이다. 또, 이형층 표면에 존재하는 높이 10nm 이상의 돌기수는 200개/㎟ 이하이다. 이형 필름의 이형층 표면은, 그 위에서 도포·성형하는 세라믹 그린시트에 결함을 발생시키지 않기 위해, 상기 영역 표면 평균 거칠기(Sa)와 10nm 이상의 돌기수가 소정의 조건을 갖는다.The area surface average roughness (Sa) of the release layer is 2 nm or less. Moreover, the number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 200 pieces/mm 2 or less. The surface of the release layer of the release film has predetermined conditions such as the area surface average roughness (Sa) and the number of protrusions of 10 nm or more in order not to cause defects in the ceramic green sheet applied and formed thereon.

영역 표면 평균 거칠기(Sa) 2nm 이하, 또한, 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟ 이하이면, 세라믹 그린시트 성형 시에, 세라믹 그린시트에 핀 홀 등의 결점의 발생이 없어, 수율이 양호하여 바람직하다.When the area surface average roughness (Sa) is 2 nm or less and the number of protrusions having a height of 10 nm or more is 200/mm2 or less, defects such as pinholes do not occur in the ceramic green sheet during molding, and the yield is good, which is preferable. do.

보다 바람직하게는, 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는 1.7nm 이하이고, 예를 들면, 1.6nm 이하이며, 1.5nm 이하여도 좋다. 일 양태에 있어서, 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는 1.3nm 이하이다. 또, 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 0.1nm 이상이어도 좋고, 0.2nm 이상이어도 좋다.More preferably, the area surface average roughness (Sa) is 1.7 nm or less, for example, 1.6 nm or less, and may be 1.5 nm or less. In one aspect, the area surface average roughness (Sa) is 1.3 nm or less. Further, the area surface average roughness Sa may be 0.1 nm or more, or 0.2 nm or more.

한편, 일 양태에 있어서, 높이 10nm 이상의 돌기수는 180개/㎟ 이하이고, 예를 들면 170개/㎟ 이하이며, 160개/㎟ 이하여도 좋다. 일 양태에 있어서는, 높이 10nm 이상의 돌기수는 120개/㎟ 이하여도 좋고, 100개/㎟ 이하여도 좋다. 또, 높이 10nm 이상의 돌기수는, 1개/㎟ 이상이어도 좋고, 예를 들면, 10개/㎟ 이상이어도 좋다.On the other hand, in one aspect, the number of protrusions having a height of 10 nm or more is 180/mm 2 or less, for example, 170/mm 2 or less, and may be 160/mm 2 or less. In one aspect, the number of projections having a height of 10 nm or more may be 120/mm 2 or less, or 100/mm 2 or less. Moreover, the number of protrusions having a height of 10 nm or more may be 1/mm 2 or more, for example, 10/mm 2 or more.

높이 10nm 이상의 돌기수가 상기 범위 내인 것에 의해, 세라믹 그린시트에 핀 홀 등의 결점의 발생이 없고, 뛰어난 이형성도 밸런스 좋게 가질 수 있다.When the number of protrusions having a height of 10 nm or more is within the above range, defects such as pinholes do not occur in the ceramic green sheet, and excellent releasability can be obtained in a well-balanced manner.

더욱 바람직하게는 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 1.0nm 이하, 또한, 높이 10nm 이상의 돌기수가 100개/㎟ 이하이다.More preferably, the area surface average roughness (Sa) is 1.0 nm or less, and the number of protrusions having a height of 10 nm or more is 100 pieces/mm 2 or less.

본 발명에 관한 영역 표면 평균 거칠기(Sa)와 돌기수를 갖는 이형층은, 극히 뛰어난 평활성을 나타낼 수 있다.The release layer having the area surface average roughness (Sa) and the number of protrusions according to the present invention can exhibit extremely excellent smoothness.

일 양태에 있어서, 이형층의 최대 돌기 높이(Sp)는, 20nm 이하이다. 최대 돌기 높이가 이와 같은 범위인 것에 의해, 세라믹 그린시트의 결함을 더욱 억제할 수 있다. 보다 바람직하게는, 최대 돌기 높이(Sp)는 15nm 이하이며, 더욱 바람직하게는 10nm 이하이다.In one aspect, the maximum projection height (Sp) of the release layer is 20 nm or less. When the maximum protrusion height is within this range, defects of the ceramic green sheet can be further suppressed. More preferably, the maximum protrusion height (Sp) is 15 nm or less, and still more preferably 10 nm or less.

일 양태에 있어서, 이형층 표면에 존재하는 높이 5nm 이상 10nm 미만의 돌기수와, 상기 10nm 이상의 돌기수의 합계가 1500개/㎟ 이하이다. 이형층 상에 존재하는 높이 5nm 이상 10nm 미만의 돌기수와, 상기 10nm 이상의 돌기수의 합계가 1500개/㎟ 이하인 것에 의해, 세라믹 그린시트의 결함을 더욱 억제할 수 있어, 높은 평활성을 갖는 이형층을 얻을 수 있어 바람직하다.In one aspect, the sum of the number of protrusions having a height of 5 nm or more and less than 10 nm and the number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 1500 pieces/mm 2 or less. When the sum of the number of projections with a height of 5 nm or more and less than 10 nm existing on the release layer and the number of projections with a height of 10 nm or more is 1500/mm2 or less, defects in the ceramic green sheet can be further suppressed, and the release layer has high smoothness. It is desirable to be able to obtain

보다 바람직하게는, 높이 5nm 이상 10nm 미만의 돌기수와, 상기 10nm 이상의 돌기수의 합계 1000개/㎟ 이하이며, 예를 들면, 500개/㎟ 이하인 것이 더욱 바람직하다.More preferably, the total number of protrusions having a height of 5 nm or more and less than 10 nm and the number of protrusions having a height of 10 nm or more is 1000 pieces/mm 2 or less, for example, 500 pieces/mm 2 or less is still more preferable.

본 발명의 수지 시트 성형용 이형 필름에 관한 이형층은, 이형층 형성 조성물이 경화된 층이며, 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 적어도 포함한다. 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)은, 양이온 경화 반응에 의해 가교 반응이 진행되기 때문에, 산소 저해에 의한 경화 불량이 발생하지 않고, 내용제성이 뛰어난 이형층이 된다. 그 때문에, 세라믹 그린시트 성형 시, 내부 전극 인쇄 시 등에 사용되는 유기 용매에 의해 이형층이 침식될 우려가 없어, 박리성이 뛰어난 이형층을 얻을 수 있다.The release layer according to the release film for resin sheet molding of the present invention is a layer obtained by curing the release layer-forming composition, and the release layer-forming composition contains at least a cation-curable polydimethylsiloxane (a). Cation-curable polydimethylsiloxane (a), since a crosslinking reaction proceeds by a cation curing reaction, does not cause curing failure due to oxygen inhibition, and becomes a release layer excellent in solvent resistance. Therefore, there is no fear that the release layer will be eroded by organic solvents used during molding of the ceramic green sheet, printing of internal electrodes, etc., and a release layer with excellent release properties can be obtained.

또한, 본 발명자들은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함하는 이형층에 있어서, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 양이, 높은 평활성을 갖는 이형층을 실현하기 위해 중요한 것을 찾아냈다.Further, the inventors of the present invention found that, in a release layer containing cation-curable polydimethylsiloxane (a), the amount of cation-curable polydimethylsiloxane (a) is important for realizing a release layer having high smoothness.

양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)은, 이형층 중에, 90㎎/㎡ 이하, 예를 들면 60㎎/㎡ 이하, 50㎎/㎡ 이하로 포함되어 있는 것이 바람직하고, 40㎎/㎡ 이하인 것이 보다 바람직하며, 30㎎/㎡ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또, 예를 들면, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)은, 20㎎/㎡ 이하여도 좋다.The cation-curable polydimethylsiloxane (a) is preferably contained in the release layer at 90 mg/m2 or less, for example, 60 mg/m2 or less, 50 mg/m2 or less, and more preferably 40 mg/m2 or less. And, it is more preferable that it is 30 mg / m 2 or less. Further, for example, the amount of cation-curable polydimethylsiloxane (a) may be 20 mg/m 2 or less.

이형층 중의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량이 50㎎/㎡ 이하이면, 이형층을 형성하는 공정, 예를 들면, 건조 공정 중에 폴리디메틸실록산(a)이 응집하는 것을 억제할 수 있고, 본 발명의 범위 외가 되는 돌기가 다수 발생할 우려가 없어, 본원발명의 효과를 발휘할 수 있다.When the content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) in the release layer is 50 mg/m or less, it is possible to suppress aggregation of the polydimethylsiloxane (a) during the step of forming the release layer, for example, the drying step, There is no possibility of generating a large number of protrusions outside the scope of the present invention, and the effect of the present invention can be exhibited.

일 양태에 있어서, 이형층, 이형층 형성 조성물 중에, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a) 이외의 성분을 함유할 수도 있다. 이 경우에 있어서도, 특정의 이론에 의거하여 판단해서는 안 되지만, 본 발명에 있어서는, 이형층의 가공 시에 폴리디메틸실록산(a)이 이형층 표면에 편석(偏析)되는 것이 가능하며, 함유량이 50㎎/㎡ 이하이면 응집하기 어려워, 높은 평활성을 갖는 이형층을 형성할 수 있다.In one aspect, components other than the cation-curable polydimethylsiloxane (a) may be contained in the release layer and the release layer-forming composition. In this case as well, although it should not be judged based on a specific theory, in the present invention, it is possible for the polydimethylsiloxane (a) to segregate on the surface of the release layer during processing of the release layer, and the content is 50 If it is mg/m 2 or less, aggregation is difficult and a release layer having high smoothness can be formed.

본 발명에 관한 폴리디메틸실록산(a)의 함유량은, 적을수록 응집하기 어렵지만, 이형층에 있어서 0.1㎎/㎡ 이상이면, 이형층의 레벨링성이 유지되어, 코트 외관이 우수하며, 높은 평활성의 이형층을 얻을 수 있다. 또, 0.1㎎/㎡ 이상이면 박리성도 뛰어나므로 바람직하다. 예를 들면, 폴리디메틸실록산(a)의 함유량은, 0.5㎎/㎡ 이상이어도 된다.The smaller the content of the polydimethylsiloxane (a) according to the present invention, the more difficult it is to aggregate. When the content of the polydimethylsiloxane (a) in the release layer is 0.1 mg/m 2 or more, the leveling property of the release layer is maintained, the coat appearance is excellent, and the release layer has high smoothness. layers can be obtained. Moreover, since peelability is also excellent when it is 0.1 mg/m<2> or more, it is preferable. For example, the content of polydimethylsiloxane (a) may be 0.5 mg/m 2 or more.

본 발명에 있어서는, 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함한다. 또, 이형층 형성 조성물이 경화된 이형층에 있어서는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a) 유래의 화합물(경화물)이 존재하고 있다. 본 명세서에서는, 이형층 중에 존재하는 (a) 유래의 화합물에 대해서도, 단지 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이라고 기재하는 경우가 있다.In the present invention, the release layer forming composition contains a cation-curable polydimethylsiloxane (a). Moreover, in the release layer in which the release layer forming composition was cured, a compound (cured product) derived from cation-curable polydimethylsiloxane (a) is present. In this specification, the compound derived from (a) present in the release layer may also be simply described as cation-curable polydimethylsiloxane (a).

본원발명에 있어서, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이란, 양이온 경화성 관능기를 갖는 폴리디메틸실록산을 가리킨다. 양이온 경화성 관능기란, 양이온 경화성을 나타내는 반응성 관능기이며, 구체적으로는, 비닐 에테르기, 옥세타닐기, 에폭시기, 지환식 에폭시기를 예로서 들 수 있다. 그중에서도, 옥세타닐기, 에폭시기, 지환식 에폭시기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기를 갖고 있는 것이 반응성의 관점에서 바람직하고, 지환식 에폭시기인 것이 가장 바람직하다. 이와 같은 관능기를 가짐으로써, 양이온 경화 반응에 의해 가교 구조가 형성되어, 내용제성이 뛰어나, 뛰어난 박리성을 갖는 이형층이 되므로 바람직하다.In the present invention, the cation-curable polydimethylsiloxane (a) refers to polydimethylsiloxane having a cation-curable functional group. A cation-curable functional group is a reactive functional group which shows cation-curable property, and specifically, a vinyl ether group, an oxetanyl group, an epoxy group, and an alicyclic epoxy group are mentioned. Among them, those having at least one functional group selected from an oxetanyl group, an epoxy group, and an alicyclic epoxy group are preferred from the viewpoint of reactivity, and an alicyclic epoxy group is most preferred. By having such a functional group, a crosslinked structure is formed by a cation curing reaction, and since it becomes a release layer having excellent solvent resistance and excellent peelability, it is preferable.

양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 갖는 양이온 경화성 관능기의 수는, 1개 이상이면 된다. 예를 들면, 양이온 경화성 관능기를 2개 이상으로 가짐으로써, 양이온 경화 반응이 보다 진행되기 쉬워져, 가교 밀도가 높은 이형층이 되므로 바람직하다. 양이온 경화성 관능기의 도입 위치는 특별히 제한되지 않으며, 폴리디메틸실록산의 측쇄나 말단에 갖고 있는 것이 일반적이다. 폴리디메틸실록산의 구조는, 직쇄 구조여도 분기 구조여도 되고, 양이온 경화성 관능기 이외의 관능기를 갖고 있어도 문제없이 사용할 수 있다.The number of cation-curable functional groups that the cation-curable polydimethylsiloxane (a) has may be one or more. For example, by having two or more cation-curable functional groups, the cation-curing reaction proceeds more easily, and since it becomes a release layer with a high crosslinking density, it is preferable. The introduction position of the cation-curable functional group is not particularly limited, and it is common to have it on the side chain or terminal of polydimethylsiloxane. The structure of polydimethylsiloxane may be a linear structure or a branched structure, and even if it has a functional group other than a cation-curable functional group, it can be used without problems.

양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)은, 시판의 것을 적합하게 사용할 수 있다. 예로는, 아라카와 가가쿠 고교사 제조의 실리코리스(등록상표) UV POLY200, UV POLY201, UV POLY215, UV RCA200, UV RCA251, 신에쓰 가가쿠 고교사 제조의 X-62-7622, X-62-7629, X-62-7660, KF-101, KF-105, X-22-343, X-22-169AS, X-22-169B, X-22-163, X-22-173BX, X-22-173DX, X-22-9002, 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈사 제조의 UV9440E, UV9430 등을 들 수 있다.As the cation-curable polydimethylsiloxane (a), a commercially available one can be suitably used. Examples include Silicolith (registered trademark) UV POLY200, UV POLY201, UV POLY215, UV RCA200, UV RCA251 manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., X-62-7622, X-62-7629 manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. , X-62-7660, KF-101, KF-105, X-22-343, X-22-169AS, X-22-169B, X-22-163, X-22-173BX, X-22-173DX , X-22-9002, Momentive Performance Materials, UV9440E, UV9430, etc. are mentioned.

양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 중량 평균 분자량은 1000∼500000인 것이 바람직하고, 5000∼100000인 것이 보다 바람직하다. 중량 평균 분자량이 1000 이상이면, 양이온 경화 반응이 진행되기 쉬워 박리성이 뛰어나므로 바람직하다. 500000 이하이면, 점도가 너무 높아지지 않아 도공성이 뛰어나, 높은 평면성을 갖는 이형층이 되므로 바람직하다.It is preferable that it is 1000-500000, and, as for the weight average molecular weight of cation-curable polydimethylsiloxane (a), it is more preferable that it is 5000-100000. When the weight average molecular weight is 1000 or more, the cationic curing reaction proceeds easily and the peelability is excellent, so it is preferable. If it is 500000 or less, the viscosity does not become too high, the coatability is excellent, and since it becomes a mold release layer having high planarity, it is preferable.

본 발명의 이형층 형성 조성물에는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)에 더하여, 다른 수지를 함유시킬 수도 있다. 이 경우, 이형층의 막 두께를 얇게 할 수 있다. 본 발명에서는 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 기재 필름의 표면층 A 상에 이형층을 설치하기 때문에, 이형층의 막 두께가 얇아도, 극히 높은 평활을 갖는 이형층으로 할 수 있다. 또, 이형층의 막 두께가 얇기 때문에, 경화 반응이 진행되기 쉬워, 보다 고속으로 가공할 수 있어, 경제적으로 이형층을 얻을 수 있다.In addition to the cation-curable polydimethylsiloxane (a), other resins may be contained in the release layer-forming composition of the present invention. In this case, the film thickness of the release layer can be made thin. In the present invention, since the release layer is provided on the surface layer A of the base film that does not substantially contain inorganic particles, even if the thickness of the release layer is thin, it can be set as a release layer having extremely high smoothness. Moreover, since the film thickness of a release layer is thin, hardening reaction advances easily, it can process at a higher speed, and a release layer can be economically obtained.

또한 막 두께가 얇으면, 기재 필름, 이형 가공 공정 등에 존재하는 극미소한 이물 등이 이형층에 도입될 우려가 없다. 그 때문에, 이형층 표면에 이물 기인의 돌기가 발생할 우려가 없어, 전술한 바와 같은 평활한 표면을 갖는 이형층을 얻을 수 있다.In addition, when the film thickness is thin, there is no fear that minute foreign substances present in the base film, the release processing step, etc. are introduced into the release layer. Therefore, there is no possibility that projections caused by foreign substances will occur on the surface of the release layer, and a release layer having a smooth surface as described above can be obtained.

양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 주성분으로 하는 조성물을 경화시킨 이형층인 경우, 이형층의 막 두께는 0.001㎛ 이상, 0.050㎛ 미만인 것이 바람직하다. 0.001㎛ 이상이면, 이형성이 뛰어나므로 바람직하다. 0.050㎛ 미만이면, 이형층 형성 조성물의 응집을 방지할 수 있어, 평활한 이형층이 되어 바람직하다.In the case of a release layer obtained by curing a composition containing cation-curable polydimethylsiloxane (a) as a main component, the thickness of the release layer is preferably 0.001 μm or more and less than 0.050 μm. If it is 0.001 micrometer or more, it is excellent in releasability, so it is preferable. If it is less than 0.050 μm, aggregation of the release layer-forming composition can be prevented, and a smooth release layer is obtained, which is preferable.

또한, 본 발명에 있어서, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 주성분으로 하는 경우, 이형층의 수지 고형분 100 질량부에 대해, 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 50 질량부 이상, 예를 들면 50 질량부 초과, 바람직하게는 70 질량부 이상, 예를 들면, 80 질량부 이상 포함하고, 일 양태에 있어서는, 90 질량부 이상 포함한다. 또, 실질적으로, 이형층의 수지 고형분의 전체에, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 포함되는 양태여도 된다.Further, in the present invention, when the cation-curable polydimethylsiloxane (a) is the main component, the composition is 50 parts by mass or more of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) with respect to 100 parts by mass of the resin solid content of the release layer. For example, more than 50 parts by mass, preferably 70 parts by mass or more, for example, 80 parts by mass or more, and in one aspect, 90 parts by mass or more. Moreover, the aspect in which the cation-curable polydimethylsiloxane (a) is contained in the whole resin solid content of a mold release layer may be sufficient substantially.

본 발명의 이형층 형성 조성물에는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)에 더하여, 양이온 경화형 수지(b)를 함유할 수도 있다. 이때 (b)는 (a)와는 다른 수지이며, 수지 (b)는, 폴리디메틸실록산 구조를 갖지 않는 것이다. 구체적으로는, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)과, 지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)의 2종류로 대별된다.The release layer forming composition of the present invention may contain a cation-curable resin (b) in addition to the cation-curable polydimethylsiloxane (a). At this time, (b) is a resin different from (a), and resin (b) does not have a polydimethylsiloxane structure. Specifically, it is roughly divided into two types: a cation-curable compound (b-1) having no silicone backbone and a cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group.

일 양태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)에 더하여, 추가로, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)을 함유한다. 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)의 예로는, 양이온 경화성 관능기를 분자 내에 2개 이상 갖고, 실리콘 골격을 갖지 않는 폴리머, 모노머를 들 수 있다. 그중에서도 2개 이상의 에폭시기 또는 지환식 에폭시기를 갖는 수지가 바람직하고, 2개 이상의 지환식 에폭시기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 예를 들면, 지환식 에폭시기의 수는 6개 이하여도 된다.In one aspect, the release layer forming composition contains, in addition to the cation-curable polydimethylsiloxane (a), a cation-curable compound (b-1) that does not have a silicone backbone. Examples of the cation-curable compound (b-1) having no silicone skeleton include polymers and monomers having two or more cation-curable functional groups in the molecule and having no silicone skeleton. Among them, resins having two or more epoxy groups or alicyclic epoxy groups are preferable, and those having two or more alicyclic epoxy groups are more preferable. For example, the number of alicyclic epoxy groups may be 6 or less.

지환식 에폭시기를 2개 이상 가짐으로써, 양이온 경화 반응에 의해 가교 반응이 진행되어, 내용제성이 뛰어난 이형층이 된다. 또, 동시에 이형층에 포함되는 폴리디메틸실록산(a)과도 가교 반응이 진행되기 때문에, 박리성이 뛰어나고, 또한 폴리디메틸실록산(a)의 세라믹 그린시트로의 이행도 억제되므로 바람직하다.By having two or more alicyclic epoxy groups, a crosslinking reaction proceeds by a cationic curing reaction, and it becomes a mold release layer excellent in solvent resistance. In addition, since a crosslinking reaction also proceeds with the polydimethylsiloxane (a) contained in the release layer at the same time, it is preferable because it has excellent peelability and suppresses the transfer of the polydimethylsiloxane (a) to the ceramic green sheet.

일 양태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화성 수지(b-1)와, 폴리디메틸실록산(a)을 함께 포함하므로, 높은 평활성을 갖는 이형층을 실현할 수 있다. 화합물 (b-1)을 함유하는 이형층으로 함으로써, 기재 필름에 존재하는 미세한 요철이나 극미소한 이물, 올리고머 유래의 돌기 등을 묻을 수 있어, 초평활(超平滑)한 이형층이 된다. 또, 자외선에 의해 경화 반응이 진행되기 때문에, 높은 평활성을 갖는 이형층이 된다. 특정의 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 이형층 가공 시의 이형층 형성 조성물 중의 건조 공정에 있어서, 균일하게 (b-1) 및 (a)가 레벨링되어, 평면성이 높아진 후에 경화가 진행되는 것으로 추측할 수 있어, 높은 평활성을 갖는 이형층을 얻을 수 있다. 또, 동시에 포함되는 폴리디메틸실록산(a)은, 본 발명에 있어서는, 건조 공정에 있어서 이형층 표면에 편석되기 때문에, 박리성도 뛰어난 이형층을 얻을 수 있다.In one aspect, since the release layer forming composition contains both the cation-curable resin (b-1) having no silicone backbone and the polydimethylsiloxane (a), a release layer having high smoothness can be realized. By using the release layer containing the compound (b-1), it is possible to bury fine irregularities, extremely minute foreign matter, projections derived from oligomers, and the like existing in the base film, resulting in an ultra-smooth release layer. Moreover, since a hardening reaction advances by an ultraviolet-ray, it becomes a mold release layer with high smoothness. Although it should not be interpreted as being limited to a specific theory, in the drying step of the release layer forming composition at the time of release layer processing, it is believed that (b-1) and (a) are leveled uniformly and curing proceeds after flatness is increased. It can be guessed that a release layer having high smoothness can be obtained. In addition, since the polydimethylsiloxane (a) contained simultaneously is segregated on the surface of the release layer in the drying step in the present invention, a release layer excellent in peelability can be obtained.

실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)은 저분자량의 모노머인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 수 평균 분자량이 200 이상, 5000 미만인 것이 바람직하고, 200 이상, 2500 미만인 것이 보다 바람직하며, 200 이상, 1000 미만인 것이 더욱 바람직하다. 수 평균 분자량이 200 이상이면, 비점이 낮아지지 않아, 이형층 가공 시의 이형층 형성 조성물의 건조 공정에서, 양이온 경화형 화합물(b-1)이 휘발할 우려가 없어 바람직하다. 5000 미만이면, 이형층의 가교 밀도가 높아져, 내용제성이 뛰어나므로 바람직하다. 또, 건조 공정 중에 유동성이 있는 액상의 상태로 존재할 수 있기 때문에, 레벨링성이 뛰어나, 초평활한 이형층이 되므로 바람직하다.The cation-curable compound (b-1) having no silicone backbone is preferably a low-molecular-weight monomer. Specifically, the number average molecular weight is preferably 200 or more and less than 5000, more preferably 200 or more and less than 2500, and still more preferably 200 or more and less than 1000. When the number average molecular weight is 200 or more, the boiling point is not lowered, and there is no risk of volatilization of the cation-curable compound (b-1) in the drying step of the release layer forming composition during release layer processing, which is preferable. If it is less than 5000, the crosslinking density of the release layer increases and the solvent resistance is excellent, so it is preferable. In addition, since it can exist in a liquid state with fluidity during the drying process, it has excellent leveling properties and becomes an ultra-smooth release layer, which is preferable.

실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)은 시판의 것을 적합하게 사용할 수 있다. 지환식 에폭시기를 갖는 화합물의 예로는, 다이셀사 제조의 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081, 에포리드 GT401, EHPE3150, 시코쿠 가세이사 제조의 HiREM-1, ENEOS사 제조의 THI-DE, DE-102, DE-103 등을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 수지의 예로는, DIC사의 EPICLON(등록상표) 830, 840, 850, 1051-75M, N-665, N-670, N-690, N-673-80M, N-690-75M, 나가세 켐텍크사 제조의 데나콜(등록상표) EX-611, EX-313, EX-321 등을 들 수 있다.As the cation-curable compound (b-1) having no silicone backbone, a commercially available one can be suitably used. Examples of the compound having an alicyclic epoxy group include Celoxide 2021P, Celloxide 2081, Eporide GT401, EHPE3150 manufactured by Daicel Co., Ltd., HiREM-1 manufactured by Shikoku Kasei, THI-DE, DE-102, and DE manufactured by ENEOS. -103 and the like. Examples of the resin having an epoxy group include DIC's EPICLON (registered trademark) 830, 840, 850, 1051-75M, N-665, N-670, N-690, N-673-80M, N-690-75M, Nagase Denacol (registered trademark) EX-611, EX-313, EX-321 by Chemtech Co., Ltd., etc. are mentioned.

이형층에 있어서의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1)의 합계 100 질량부에 대해, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)의 함유량이 80 질량% 이상인 것이 바람직하고, 85 질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다.The content of the cation-curable compound (b-1) not having a silicone skeleton is 80% by mass or more with respect to 100 parts by mass in total of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) and the cation-curable compound (b-1) in the release layer. It is preferable, it is more preferable that it is 85 mass % or more, and it is still more preferable that it is 90 mass % or more.

양이온 경화형 화합물(b-1)의 함유량을 80 질량% 이상으로 하여, 이형층 중의 주성분으로 함으로써, 가교 밀도가 높고 박리성이 뛰어난 이형층이 되므로 바람직하다. 또, 이형층 중에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량을 줄일 수 있어, 건조 공정에서 이형층 표면에 폴리디메틸실록산(a) 유래의 조성이 응집하는 것을 억제할 수 있어, 평면성이 악화될 우려가 없어 바람직하다. 양이온 경화형 화합물(b-1)의 함유량이 많을수록 평활성이 뛰어난 이형층이 되지만, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 함유하여 박리성을 확보하기 위해서는, 양이온 경화형 화합물(b-1)은, 99.9 질량% 이하인 것이 바람직하다.It is preferable to make the content of the cation-curable compound (b-1) 80% by mass or more as a main component in the release layer, since a release layer having a high crosslinking density and excellent peelability is obtained. In addition, the content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) contained in the release layer can be reduced, and the aggregation of the composition derived from the polydimethylsiloxane (a) on the surface of the release layer in the drying step can be suppressed, resulting in deterioration in planarity. It is desirable that there is no risk of becoming The higher the content of the cation-curable compound (b-1), the higher the smoothness of the release layer. However, in order to contain the cation-curable polydimethylsiloxane (a) and ensure release properties, the cation-curable compound (b-1) is 99.9 mass. It is preferable that it is % or less.

본 발명에 있어서, 이형층 형성 조성물이 경화된 이형층에 있어서는, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1) 유래의 화합물(경화물)이 존재하고 있다. 본 명세서에서는, 이형층 중에 존재하는 (b-1) 유래의 화합물에 대해서도, 단지, 실리콘 골격을 갖지 않는 양이온 경화형 화합물(b-1)이라고 기재하는 경우가 있다.In the present invention, in the release layer obtained by curing the release layer-forming composition, a compound (cured product) derived from the cation-curable compound (b-1) having no silicone skeleton is present. In this specification, the compound derived from (b-1) present in the release layer may also be simply described as a cation-curable compound (b-1) having no silicone backbone.

이형층 형성 조성물이 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1)을 포함하는 경우, 이형층의 가교 밀도가 높고, 내용제성이 뛰어나, 뛰어난 박리력을 갖는 이형층이 되므로 바람직하다. 또, 양이온 경화형 화합물(b-1)을 함유하고 있으면, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량을 소정의 범위로 하면서, 이형층의 막 두께를 두껍게 할 수 있으므로 바람직하다. 이형층의 막 두께를 두껍게 함으로써, 기재 필름에 존재하는 흠집, 극미소한 요철을 묻을 수 있어, 전술한 바와 같이 평활한 이형층이 얻어지므로 바람직하다.When the release layer forming composition contains the cation-curable polydimethylsiloxane (a) and the cation-curable compound (b-1), the release layer has a high crosslinking density, excellent solvent resistance, and a release layer having excellent peeling force, so it is preferable. do. Moreover, when the cation-curable compound (b-1) is contained, the film thickness of the release layer can be increased while keeping the content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) within a predetermined range, which is preferable. By increasing the film thickness of the release layer, scratches existing in the base film and minute irregularities can be buried, and a smooth release layer is obtained as described above, which is preferable.

이형층 형성 조성물이 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1)을 포함하는 경우, 이형층의 막 두께는 0.05㎛ 이상, 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.1㎛ 이상, 0.5㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 0.05㎛ 이상이면, 평활한 이형층이 되므로 바람직하다. 1.0㎛ 이하이면, 컬이 발생하지 않고 평면성이 뛰어난 이형 필름이 얻어지므로 바람직하다.When the release layer forming composition contains cation-curable polydimethylsiloxane (a) and cation-curable compound (b-1), the film thickness of the release layer is preferably 0.05 μm or more and 1.0 μm or less, and is 0.1 μm or more and 0.5 μm. It is more preferable that it is below. Since it becomes a smooth release layer as it is 0.05 micrometer or more, it is preferable. If it is 1.0 μm or less, curl does not occur and a release film excellent in planarity is obtained, so it is preferable.

일 양태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, 추가로 지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)을 가져도 된다. 지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)의 예로는, 하기 구조식(화학식 1)으로 표시되는 것 등을 들 수 있다(화 학식 1 중, R2는 탄소수 1∼4의 알킬기). 또, 환상 실록산 골격을 갖는 양이온 경화형 화합물(b-2)은 적어도 지환식 에폭시기를 2개 이상 갖고 있는 것이 바람직하다. 지환식 에폭시기가 2개 이상 있으면, 양이온 경화 반응이 진행되어, 가교 밀도가 높은 이형층이 되므로 바람직하다.In one aspect, the release layer forming composition may further have a cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group. Examples of the cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group include those represented by the following structural formula (Formula 1) (in Formula 1, R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). Further, the cation-curable compound (b-2) having a cyclic siloxane skeleton preferably has at least two or more alicyclic epoxy groups. When there are two or more alicyclic epoxy groups, the cationic curing reaction proceeds to form a release layer having a high crosslinking density, which is preferable.

Figure pat00001
Figure pat00001

지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)을 이용함으로써, 상기 양이온 경화형 화합물(b-1)을 이용했을 때와 마찬가지의 이유로 초평활한 이형층이 되므로 바람직하다. 즉, 기재 필름에 존재하는 미세한 요철이나 극미소한 이물, 올리고머 유래의 돌기 등을 묻을 수 있다. 또, 자외선에 의해 경화 반응이 진행되기 때문에, 이형층 가공 시의 이형층 형성 조성물의 건조 공정에서 균일하게 화합물(b-2) 및 폴리디메틸실록산(a)이 레벨링되어, 평면성이 높아진 후에 경화가 진행되기 때문에, 초평활한 이형층을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서는, 동시에 포함되는 폴리디메틸실록산(a)은 건조 공정에 있어서 이형층 표면에 편석되기 때문에, 박리성도 뛰어난 이형층을 얻을 수 있다.The use of the cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group is preferable because it results in an ultra-smooth mold release layer for the same reasons as the case of using the cation-curable compound (b-1). That is, it is possible to bury minute irregularities, extremely minute foreign matter, projections derived from oligomers, and the like existing in the base film. In addition, since the curing reaction proceeds by ultraviolet rays, the compound (b-2) and the polydimethylsiloxane (a) are uniformly leveled in the drying step of the release layer forming composition at the time of release layer processing, and the flatness is increased, and then curing begins. Since it progresses, an ultra-smooth release layer can be obtained. Further, in the present invention, since the polydimethylsiloxane (a) contained simultaneously is segregated on the surface of the release layer in the drying step, a release layer having excellent releasability can be obtained.

지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 상용성이 좋기 때문에, 이형층 중에 적당히 서로 섞여, 서로 가교 반응이 진행된다. 그 때문에, 내용제성이 뛰어나, 뛰어난 박리성을 나타내는 이형층이 되므로 바람직하다. 또, 환상 실록산 화합물(b-2)은 환상 실록산 구조를 갖고 있는 점에서 강직한 분자 골격을 갖고 있어, 경화되었을 때의 막 경도가 높아지므로 바람직하다. 막 경도가 높아짐으로써, 수지 시트, 예를 들면 세라믹 그린시트를 박리할 때에, 이형층이 변형되기 어려워져, 양호한 박리성을 나타낼 수 있다. 더 나아가서는, 이형층에 흠집이 발생하기 어려워져, 이형층의 흠집이 수지 시트, 예를 들면 세라믹 그린시트에 전사되어 문제가 발생할 우려가 없어 바람직하다.Since the cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group has good compatibility with the cation-curable polydimethylsiloxane (a), it is properly mixed in the mold release layer, and a crosslinking reaction proceeds with each other. Therefore, since it becomes a release layer which is excellent in solvent resistance and shows excellent peelability, it is preferable. Further, the cyclic siloxane compound (b-2) is preferable because it has a rigid molecular skeleton in view of having a cyclic siloxane structure and increases film hardness when cured. When the film hardness is increased, the mold release layer is less likely to be deformed when peeling the resin sheet, for example, a ceramic green sheet, and good peelability can be exhibited. Furthermore, it is preferable that the release layer is less likely to be scratched, and there is no risk of problems occurring due to the flaws of the release layer being transferred to a resin sheet, for example, a ceramic green sheet.

이형층 형성 조성물에 환상 실록산 화합물(b-2)이 포함되어 있으면, 기재 필름에 대한 이형층의 밀착성이 향상하므로 바람직하다. 이형층의 밀착성이 향상하면, 반송 공정에서의 흠집의 발생을 억제할 수 있고, 또 수지 시트 박리 시에 이형층이 전사될 우려가 없어 바람직하다.When the release layer forming composition contains the cyclic siloxane compound (b-2), the adhesion of the release layer to the base film is improved, so it is preferable. When the adhesiveness of the release layer is improved, occurrence of scratches in the conveyance step can be suppressed, and there is no fear that the release layer will be transferred during peeling of the resin sheet, which is preferable.

일 양태에 있어서, 환상 실록산 화합물(b-2)은, 분자 내에 2개 이상의 지환식 에폭시기를 갖는다. 분자 내에 2개 이상의 지환식 에폭시기를 가짐으로써, 양이온 경화 반응에 의해 가교 반응이 진행되어, 내용제성이 뛰어난 이형층이 된다. 또, 동시에 이형층에 포함되는 폴리디메틸실록산(a)과도 가교 반응이 진행되기 때문에, 박리성이 뛰어나고, 또한 폴리디메틸실록산(a)의 세라믹 그린시트로의 이행도 억제되므로 바람직하다.In one aspect, the cyclic siloxane compound (b-2) has two or more alicyclic epoxy groups in a molecule. By having two or more alicyclic epoxy groups in the molecule, a crosslinking reaction proceeds by a cationic curing reaction, resulting in a release layer having excellent solvent resistance. In addition, since a crosslinking reaction also proceeds with the polydimethylsiloxane (a) contained in the release layer at the same time, it is preferable because it has excellent peelability and suppresses the transfer of the polydimethylsiloxane (a) to the ceramic green sheet.

예를 들면, 환상 실록산 화합물(b-2)은, 분자 내에 6개 이하의 지환식 에폭시기를 갖는다.For example, the cyclic siloxane compound (b-2) has 6 or less alicyclic epoxy groups in its molecule.

지환식 에폭시기를 갖는 환상 실록산 화합물(b-2)은, 시판의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 신에쓰 가가쿠 고교사 제조의 X-40-2670, X-40-2678 등을 들 수 있다.As the cyclic siloxane compound (b-2) having an alicyclic epoxy group, a commercially available one can be used. For example, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. X-40-2670, X-40-2678, etc. are mentioned.

이형층에 있어서의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 환상 실록산 화합물(b-2)의 합계 100 질량부에 대해, 환상 실록산 화합물(b-2)의 함유량은 80 질량% 이상인 것이 바람직하고, 85 질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 환상 실록산 화합물(b-2)의 함유량을 80 질량% 이상으로 하여, 이형층 중의 주성분으로 함으로써, 가교 밀도가 높고 박리성이 뛰어난 이형층이 되므로 바람직하다. 또, 이형층 중에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량을 줄일 수 있어, 본 발명에 있어서는, 건조 공정에서, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 이형층 표면에 응집하는 것을 억제할 수 있어, 평면성이 악화될 우려가 없어 바람직하다. 환상 실록산 화합물(b-2)의 함유량이 많을수록 평활성이 뛰어난 이형층이 되고, 예를 들면, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 함유하여 박리성을 확보하기 위해서는, 환상 실록산 화합물(b-2)은, 99.9 질량% 이하인 것이 바람직하다.The content of the cyclic siloxane compound (b-2) is preferably 80% by mass or more with respect to the total of 100 parts by mass of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) and the cyclic siloxane compound (b-2) in the mold release layer. It is more preferable that it is mass % or more, and it is still more preferable that it is 90 mass % or more. It is preferable to make the content of the cyclic siloxane compound (b-2) 80% by mass or more as a main component in the release layer, since a release layer having a high crosslinking density and excellent peelability is obtained. In addition, the content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) contained in the release layer can be reduced, and in the present invention, the aggregation of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) on the surface of the release layer can be suppressed in the drying step. There is no fear of deterioration of planarity, which is preferable. The higher the content of the cyclic siloxane compound (b-2), the higher the smoothness of the release layer. It is preferable that silver is 99.9 mass % or less.

본 발명에 있어서, 이형층 형성 조성물이 경화된 이형층에 있어서는, 환상 실록산 화합물(b-2) 유래의 화합물(경화물)이 존재하고 있다. 본 명세서에서는, 이형층 중에 존재하는 환상 실록산 화합물(b-2) 유래의 화합물에 대해서도, 단지, 환상 실록산 화합물(b-2)이라고 기재하는 경우가 있다.In the present invention, a compound (cured product) derived from the cyclic siloxane compound (b-2) is present in the release layer obtained by curing the release layer-forming composition. In this specification, also about the compound derived from the cyclic siloxane compound (b-2) which exists in a mold release layer, it may only describe as a cyclic siloxane compound (b-2).

이형층 형성 조성물이 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 환상 실록산 화합물(b-2)을 포함하는 경우, 이형층의 막 두께는 0.05㎛ 이상, 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.1㎛ 이상, 0.5㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 0.05㎛ 이상이면, 평활한 이형층이 되므로 바람직하다. 1.0㎛ 이하이면, 컬이 발생하지 않고 평면성이 뛰어난 이형 필름이 얻어지므로 바람직하다.When the release layer forming composition contains the cation-curable polydimethylsiloxane (a) and the cyclic siloxane compound (b-2), the thickness of the release layer is preferably 0.05 μm or more and 1.0 μm or less, and is 0.1 μm or more and 0.5 μm. It is more preferable that it is below. Since it becomes a smooth release layer as it is 0.05 micrometer or more, it is preferable. If it is 1.0 μm or less, curl does not occur and a release film excellent in planarity is obtained, so it is preferable.

일 양태에 있어서, 이형층은, 양이온 경화형 수지(b-1)와 환상 실록산 화합물(b-2)을 함께 포함해도 되며, 이들 양이온 경화형 수지(b-1)와 환상 실록산 화합물(b-2)의 합계량은, 이형층에 있어서의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1) 및 환상 실록산 화합물(b-2)의 합계 100 질량부에 대해, 80 질량% 이상 99.9 질량% 이하일 수 있다.In one aspect, the release layer may contain both a cation-curable resin (b-1) and a cyclic siloxane compound (b-2), and these cation-curable resin (b-1) and a cyclic siloxane compound (b-2) The total amount of is 80% by mass or more and 99.9% by mass relative to 100 parts by mass in total of the cation-curable polydimethylsiloxane (a), the cation-curable compound (b-1), and the cyclic siloxane compound (b-2) in the release layer. may be below.

본 발명에 있어서, 이형층을 형성하기 위해 양이온 경화 반응을 진행시킬 필요가 있다. 그 때문에, 이형층 형성 조성물은, 산 발생제(c)를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 이형층에는, 산 발생제(c) 유래의 화합물이 존재할 수 있다. 여기에서, 이형층 중에 존재하는 산 발생제(c) 유래의 화합물에 대해서도, 단지, 산 발생제(c)라고 기재하는 경우가 있다.In the present invention, it is necessary to proceed with a cationic curing reaction to form the release layer. Therefore, it is preferable that the release layer forming composition contains an acid generator (c). Moreover, a compound derived from the acid generator (c) may exist in the release layer. Here, the compound derived from the acid generator (c) present in the release layer may also be simply referred to as the acid generator (c).

산 발생제로는, 특별히 한정되지 않고 일반적인 것이 사용되지만, 자외선 조사하에서 산이 발생하는 광산 발생제를 이용함으로써, 가공 시의 열량을 억제할 수 있어, 평면성이 뛰어난 이형층이 되므로 바람직하다.The acid generator is not particularly limited, and a general one is used. However, using a photoacid generator that generates an acid under ultraviolet irradiation is preferable because the amount of heat during processing can be suppressed and a mold release layer with excellent flatness can be obtained.

광산 발생제로는, 오늄 이온과 비친핵성(非求核性) 음이온으로 이루어지는 염을 사용하는 것이 반응성의 관점에서 적합하다. 또, 철 아렌 착체로 대표되는 유기 금속 착체나, 트로필륨으로 대표되는 카르보 양이온염을 이용해도 되고, 안트라센 유도체나 전자 흡인기로 치환된 페놀류, 예를 들면 펜타플루오로페놀을 이용해도 된다.As the photoacid generator, it is preferable to use a salt composed of an onium ion and a non-nucleophilic anion from the viewpoint of reactivity. In addition, organometallic complexes represented by iron arene complexes, carbocation salts represented by tropylium, or anthracene derivatives or phenols substituted with electron withdrawing groups, such as pentafluorophenols, may be used.

상기 오늄 이온과 비친핵성 음이온으로 이루어지는 염을 광산 발생제로서 이용하는 경우에는, 오늄 이온으로는, 예를 들면, 요오도늄, 술포늄, 암모늄을 사용할 수 있다. 오늄 이온의 유기기로는, 트리아릴, 디아릴(모노알킬), 모노아릴(디알킬), 트리알킬을 이용해도 되고, 벤조페논이나 9-플루오렌을 도입해도, 그 이외의 유기기를 이용해도 된다. 비친핵성 음이온으로는, 헥사플루오로포스포레이트, 헥사플루오로안티모네이트, 헥사플루오로보레이트, 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트를 이용하는 것이 적합하다. 또, 테트라(펜타플루오로페닐)갈륨 이온이나, 불소 음이온의 몇 개를 퍼플루오로알킬기나 유기기로 치환한 음이온을 이용해도 되고, 그 이외의 음이온 성분을 이용해도 된다.In the case of using a salt composed of the onium ion and a non-nucleophilic anion as a photoacid generator, examples of the onium ion include iodonium, sulfonium, and ammonium. As the organic group of the onium ion, triaryl, diaryl (monoalkyl), monoaryl (dialkyl), or trialkyl may be used, or benzophenone or 9-fluorene may be introduced, or other organic groups may be used. . As the non-nucleophilic anion, it is preferable to use hexafluorophosphorate, hexafluoroantimonate, hexafluoroborate, and tetra(pentafluorophenyl)borate. Further, tetra(pentafluorophenyl)gallium ions or anions obtained by substituting some of the fluorine anions with perfluoroalkyl groups or organic groups may be used, or other anion components may be used.

광산 발생제의 첨가량은, 이형층에 있어서의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1) 및/또는 환상 실록산 화합물(b-2)의 합계 100 질량부에 대해 0.1∼10 질량%이고, 보다 바람직하게는, 0.5∼8 질량%이다. 더욱 바람직하게는 1∼5 질량%이다. 0.1 질량% 이상으로 함으로써, 발생하는 산의 양이 불충분해져 경화 부족이 될 우려가 없어 바람직하다. 또, 10 질량% 이하로 함으로써, 발생하는 산의 양이 적당량이 되어, 성형하는 세라믹 그린시트로의 산의 이행량을 억제할 수 있으므로 바람직하다.The addition amount of the photoacid generator is from 0.1 to 10 with respect to 100 parts by mass in total of the cation-curable polydimethylsiloxane (a), the cation-curable compound (b-1) and/or the cyclic siloxane compound (b-2) in the release layer. It is mass %, More preferably, it is 0.5-8 mass %. More preferably, it is 1-5 mass %. By setting it as 0.1 mass % or more, there is no possibility that the quantity of the acid to generate|occur|produces becomes insufficient and hardening becomes insufficient, and it is preferable. Moreover, setting it to 10% by mass or less is preferable because the amount of acid generated is appropriate and the amount of acid migrating to the ceramic green sheet to be molded can be suppressed.

본 명세서에 있어서, 이형층에 있어서의 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)과 양이온 경화형 화합물(b-1) 및/또는 환상 실록산 화합물(b-2)의 합계 100 질량부란, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 고형분, 양이온 경화형 수지(b)의 고형분의 합계치를 의미한다. 또한, 이형층이 양이온 경화형 수지(b)를 포함하지 않는 양태에 있어서는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 중량이 이형층에 있어서의 수지 고형분 100 질량부에 상당한다.In the present specification, the total of 100 parts by mass of the cation-curable polydimethylsiloxane (a), the cation-curable compound (b-1) and/or the cyclic siloxane compound (b-2) in the release layer is the cation-curable polydimethylsiloxane ( It means the total value of the solid content of a) and the solid content of cation-curable resin (b). In the aspect in which the release layer does not contain the cation-curable resin (b), the weight of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) corresponds to 100 parts by mass of the resin solid content in the release layer.

일 양태에 있어서, 이형층 형성 조성물은, SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 유기 용매를 포함하고, 이형층 형성 조성물은, SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 상기 유기 용매를, 이형층 형성 조성물의 전체 중량 100 질량부에 대해 10 질량% 이상의 양으로 함유한다.In one aspect, the release layer-forming composition includes an organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less, and the release layer-forming composition includes the organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less as a release layer. It is contained in an amount of 10% by mass or more based on 100 parts by mass of the total weight of the forming composition.

SP값(δ)이 14∼17인 유기 용매는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)에 대하여 뛰어난 용해성을 나타낸다. 그 때문에, 도포 공정 후의 건조 공정에 있어서, 유기 용매가 건조되어 이형층 형성 조성물 중의 (a)의 농도가 높아져도 균일하게 용해된 상태를 유지할 수 있어, 응집하지 않고 깨끗하게 레벨링되어, 평활한 이형층을 얻을 수 있다.Organic solvents having an SP value (?) of 14 to 17 exhibit excellent solubility in the cation-curable polydimethylsiloxane (a). Therefore, in the drying step after the application step, even if the concentration of (a) in the release layer forming composition increases due to the drying of the organic solvent, the uniformly dissolved state can be maintained, and the release layer is cleanly leveled without aggregation, and the release layer is smooth. can be obtained.

또, 함유량이 10 질량% 이상이면, 건조 중에 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 긴 시간 용해된 상태를 유지할 수 있기 때문에, 건조 중에 응집하여 평활성이 악화될 우려가 없어 바람직하다.In addition, when the content is 10% by mass or more, the cation-curable polydimethylsiloxane (a) can remain dissolved for a long time during drying, so there is no fear of aggregation during drying and deterioration in smoothness, which is preferable.

SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 상기 유기 용매의 상세는 후술한다.Details of the organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less are described later.

본 발명에 있어서, 이형층에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위이면, 밀착 향상제나, 대전 방지제 등의 첨가제 등을 첨가해도 된다. 또, 기재와의 밀착성을 향상시키기 위해, 이형 도포층을 설치하기 전에 폴리에스테르 필름 표면에, 앵커 코트, 코로나 처리, 플라스마 처리, 대기압 플라스마 처리 등의 전처리를 하는 것도 바람직하다.In this invention, you may add additives, such as an adhesion improving agent and an antistatic agent, etc. to a release layer, as long as it does not impair the effect of this invention. In addition, in order to improve adhesion to the substrate, it is also preferable to pre-treat the surface of the polyester film prior to providing the release coating layer, such as anchor coat, corona treatment, plasma treatment, or atmospheric plasma treatment.

본 발명에 의해 얻어지는 이형 필름은, 세라믹 그린시트를 박리할 때의 박리력이 0.01mN/mm 이상, 2.0mN/mm 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 0.05mN/mm 이상, 1.0mN/mm 이하이다. 박리력이 0.01mN/mm 이상이면, 반송 시에 세라믹 그린시트가 부상(浮上)할 우려가 없어 바람직하다. 박리력이 2.0mN/mm 이하이면 박리 시에 세라믹 그린시트가 대미지를 받을 우려가 없어 바람직하다,The release film obtained by the present invention preferably has a peeling force of 0.01 mN/mm or more and 2.0 mN/mm or less when peeling the ceramic green sheet. More preferably, it is 0.05 mN/mm or more and 1.0 mN/mm or less. When the peeling force is 0.01 mN/mm or more, there is no fear of floating the ceramic green sheet during transport, which is preferable. If the peeling force is 2.0 mN/mm or less, it is preferable because there is no risk of damage to the ceramic green sheet during peeling.

본 발명에 의해 얻어지는 이형 필름은, 고도로 평탄화된 기재 필름을 이용하고 있기 때문에, 이형층의 두께가 1.0㎛ 이하, 더 나아가서는 0.5㎛ 이하, 더 나아가서는 0.3㎛ 이하여도 이형층 표면을 평활하게 할 수 있다. 그 때문에, 사용하는 용제량이나 수지량을 줄일 수 있어 친환경적이고, 염가로 초박층 세라믹 그린시트 성형용의 이형 필름을 작성할 수 있다.Since the release film obtained by the present invention uses a highly flattened base film, the surface of the release layer can be smoothed even if the thickness of the release layer is 1.0 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, or even 0.3 μm or less. can Therefore, the amount of solvent or resin used can be reduced, and an environmentally friendly and inexpensive release film for forming an ultra-thin layer ceramic green sheet can be created.

(이형 필름의 제조 방법)(Method of manufacturing release film)

본 발명은, 다른 실시형태에 있어서, 이하의 공정을 갖는 수지 시트 성형용 이형 필름의 제조 방법을 제공한다.In another embodiment, the present invention provides a method for manufacturing a release film for resin sheet molding comprising the following steps.

표면층 A를 갖는 폴리에스테르 필름의 상기 표면층 A 상에, 이형층 형성 조성물을 도포하는 도포 공정으로서,An application step of applying a release layer forming composition on the surface layer A of a polyester film having a surface layer A,

상기 표면층 A는, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 층이고,The surface layer A is a layer that does not substantially contain inorganic particles,

이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함하는, 도포 공정;An application step in which the release layer forming composition includes a cation-curable polydimethylsiloxane (a);

이형층 형성 조성물을 도포한 상기 폴리에스테르 필름을, 가열 건조하는 건조 공정으로서,As a drying step of heating and drying the polyester film coated with the release layer forming composition,

상기 가열 건조는, 제 1 건조 공정과, 이어서, 제 2 건조 공정을 갖고,The heat drying has a 1st drying process and then a 2nd drying process,

상기 제 1 건조 공정에서의 건조 온도 T1은, 상기 제 2 건조 공정에서의 건조 온도 T2보다도 높은, 건조 공정;a drying step in which the drying temperature T1 in the first drying step is higher than the drying temperature T2 in the second drying step;

상기 건조 공정 후에, 활성 에너지선을 조사하여, 이형층 형성 조성물을 경화시키는 광경화 공정.A photocuring step of curing the release layer-forming composition by irradiating active energy rays after the drying step.

본 발명의 제조 방법이면, 제 1 건조 조건을 강하게 함으로써(건조를 강하게 함으로써) 이형층을 구성하는 수지의 응집을 방지하여, 높은 평활성을 갖는 이형층을 얻을 수 있다.If it is the manufacturing method of this invention, the aggregation of the resin which comprises a release layer can be prevented by strengthening 1st drying conditions (by strengthening drying), and a release layer with high smoothness can be obtained.

또한, 이형층 형성 조성물 중의 용매의 SP값을 소정의 값으로 함으로써, 이형층을 구성하는 수지의 응집을 방지하여, 높은 평활성을 갖는 이형층을 얻을 수 있다.In addition, by setting the SP value of the solvent in the release layer-forming composition to a predetermined value, aggregation of the resin constituting the release layer can be prevented, and a release layer having high smoothness can be obtained.

이와 같이, 본 발명은, 제 1 건조 공정이 소정의 조건을 갖고, 일 양태에 있어서, 특정의 용제를 이용함으로써, 높은 평활성을 갖는 이형층을 얻을 수 있다.Thus, in this invention, the mold release layer which has high smoothness can be obtained by the 1st drying process having predetermined conditions, and using a specific solvent in one aspect.

본 발명의 이형 필름의 제조 방법은, 적어도 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 함유하는 이형층 형성 조성물을, 폴리에스테르 필름의 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A 상에 도포하는 도포 공정, 도포 후에 필름을, 예를 들면, 건조로(乾燥爐)를 이용하여 가열 건조하는 건조 공정, 및 가열 건조 후에 활성 에너지선을 이용하여 경화하는 광경화 공정을 순서대로 갖고 있다. 특히, 도포 공정, 건조 공정, 광경화 공정의 순으로 행하는 방법을 채용하는 것이 바람직하다.The method for producing a release film of the present invention includes a coating step of applying a release layer forming composition containing at least cation-curable polydimethylsiloxane (a) onto a surface layer A of a polyester film that does not substantially contain inorganic particles; It has a drying step of heat-drying the film after application, for example, using a drying furnace, and a photocuring step of curing using active energy rays after heating and drying in this order. In particular, it is preferable to employ a method in which the application step, the drying step, and the photocuring step are performed in this order.

본 발명의 제조 방법에 의하면, 도포 공정에 있어서의 제조 조건을 고안함으로써, 높은 평활성을 갖는 이형층을 실현 할 수 있는 것이 발견되었다. 구체적으로는, 이형층 형성 조성물 중에 SP값(δ)이 14∼17인 유기 용매를 함유함으로써, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 응집을 억제할 수 있어, 뛰어난 이형층을 얻을 수 있다. SP값(δ)은 물질의 용해성의 예측에 이용할 수 있고, SP값(δ)이 14∼17인 유기 용매는, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)에 대하여 뛰어난 용해성을 나타낸다. 그 때문에, 도포 공정 후의 건조 공정에 있어서, 유기 용매가 건조되어 이형층 형성 조성물 중의 (a)의 농도가 높아져도 균일하게 용해된 상태를 유지할 수 있어, 응집하지 않고 깨끗하게 레벨링되어, 평활한 이형층을 얻을 수 있다.According to the production method of the present invention, it was found that a release layer having high smoothness can be realized by devising the production conditions in the coating step. Specifically, by containing an organic solvent having an SP value (δ) of 14 to 17 in the release layer forming composition, aggregation of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) can be suppressed, and an excellent release layer can be obtained. The SP value (δ) can be used to predict the solubility of a substance, and an organic solvent having an SP value (δ) of 14 to 17 exhibits excellent solubility in cation-curable polydimethylsiloxane (a). Therefore, in the drying step after the application step, even if the concentration of (a) in the release layer forming composition increases due to the drying of the organic solvent, the uniformly dissolved state can be maintained, and the release layer is cleanly leveled without aggregation, and the release layer is smooth. can be obtained.

이형층 형성 조성물 중에 포함되는 SP값(δ) 14∼17의 유기 용매의 함유량은, 이형층 형성 조성물의 100 질량부에 대해, 10 질량% 이상인 것이 바람직하고, 15 질량% 이상인 것이 바람직하다. 10 질량% 이상이면, 건조 중에 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이 긴 시간 용해된 상태를 유지할 수 있기 때문에, 건조 중에 응집하여 평활성이 악화될 우려가 없어 바람직하다. 예를 들면, SP값(δ) 14∼17의 유기 용매의 함유량은, 이형층 형성 조성물의 100 질량부에 대해, 80 질량% 이하, 예를 들면, 65 질량% 이하이며, 50 질량% 미만이어도 된다.The content of the organic solvent having an SP value (δ) of 14 to 17 contained in the release layer forming composition is preferably 10 mass% or more, and preferably 15 mass% or more with respect to 100 mass parts of the release layer forming composition. When it is 10% by mass or more, the cation-curable polydimethylsiloxane (a) can maintain a dissolved state for a long time during drying, so there is no fear of deterioration in smoothness due to aggregation during drying, which is preferable. For example, the content of the organic solvent having an SP value (δ) of 14 to 17 is 80% by mass or less, for example, 65% by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the release layer forming composition, even if it is less than 50% by mass. do.

본 명세서 중의 SP값(δ)은, 힐데브란트 용해도 파라미터를 채용하고 있다. 힐데브란트 용해도 파라미터는 실험적으로는 한센 용해도 파라미터(Hansen Solubility Parameters, HSP값)로부터 식 1과 같이 하여 산출할 수 있다.The SP value (δ) in this specification employs the Hildebrand solubility parameter. Hildebrand solubility parameters can be experimentally calculated as in Equation 1 from Hansen Solubility Parameters (HSP values).

SP값(δ)=((δd)2+(δp)2+(δh)2)1/2 …… (식 1)SP value (δ) = ((δ d ) 2 + (δ p ) 2 + (δ h ) 2 ) 1/2 . … (Equation 1)

여기에서 (δD)는 분산력항, (δP)는 극성항, (δH)는 수소 결합력항이며, 힐데브란트 용해도 파라미터를 3 성분으로 분해한 개념이 한센 용해도 파라미터이다.Here, (δ D ) is the dispersion force term, (δ P ) is the polar term, (δ H ) is the hydrogen bonding force term, and the concept of decomposing the Hildebrand solubility parameter into three components is the Hansen solubility parameter.

또, 컴퓨터 소프트웨어인 HSPiP(Hansen Solubility Parameters in Practice) 등을 이용하여 산출할 수도 있고, 본 명세서에서 기술하는 값은, HSPiP ver4.0 내의 데이터베이스에 기재된 HSP값을 이용하여, 식 1과 같이 산출한 값을 채용하고 있다.In addition, it can be calculated using computer software HSPiP (Hansen Solubility Parameters in Practice) or the like, and the values described in this specification are calculated as in Equation 1 using the HSP values described in the database in HSPiP ver4.0 value is being adopted.

SP값(δ)이 14∼17인 유기 용매로는, 예를 들면, 노멀 헥산(δ: 14.9), 노멀 헵탄(δ: 15.3), 노멀 옥탄(δ: 15.5), 이소프로필 에테르(δ: 15.8), 1,1-디에톡시에탄(δ: 15.9), 메틸시클로헥산(δ: 16.0), 시클로펜탄(δ: 16.5), 시클로헥산(δ: 16.8) 등을 예로서 들 수 있다.Examples of organic solvents having an SP value (δ) of 14 to 17 include normal hexane (δ: 14.9), normal heptane (δ: 15.3), normal octane (δ: 15.5), and isopropyl ether (δ: 15.8). ), 1,1-diethoxyethane (δ: 15.9), methylcyclohexane (δ: 16.0), cyclopentane (δ: 16.5), and cyclohexane (δ: 16.8).

이형층 형성 조성물의 도포량은 10g/㎡ 이하인 것이 바람직하고, 8g/㎡ 이하인 것이 보다 바람직하다. 도포량이 10g/㎡ 이하이면, 예를 들면 그라비아 도공 방식으로 도포했을 때에, 필름과 그라비아 롤 사이의 키스부에서 액 흐트러짐이 발생하기 어려워져, 평활성이 뛰어난 이형층이 얻어지므로 바람직하다.It is preferable that it is 10 g/m<2> or less, and, as for the application amount of a release layer formation composition, it is more preferable that it is 8 g/m<2> or less. When the application amount is 10 g/m or less, for example, when applied by the gravure coating method, liquid disturbance is less likely to occur in the kissing portion between the film and the gravure roll, and a release layer with excellent smoothness is obtained, so it is preferable.

본 발명에 있어서, 이형층 형성물 조성물에 포함되는 용매는, 2종류 이상인 것이 바람직하고, 그중 적어도 하나는 상술한 바와 같이 SP값(δ) 14∼17의 용매이며, 또 적어도 하나는 비점이 100℃ 이상인 것이 바람직하다. 비점이 100℃ 이상인 용제를 첨가함으로써, 건조 시의 돌비(突沸)를 방지하여, 도막을 레벨링시킬 수 있어, 건조 후의 도막 표면의 평활성을 향상시킬 수 있다.In the present invention, the number of solvents contained in the composition for forming a release layer is preferably two or more, at least one of which is a solvent having an SP value (δ) of 14 to 17 as described above, and at least one having a boiling point of 100 It is preferable that it is more than °C. By adding a solvent having a boiling point of 100°C or higher, bumping during drying can be prevented, the coating can be leveled, and smoothness of the surface of the coating after drying can be improved.

그 첨가량으로는, 이형층 형성 조성물 전체에 대해, 10∼70 질량% 정도 첨가하는 것이 바람직하다. 비점 100℃ 이상의 용제의 예로는, 톨루엔, 크실렌, 노멀 옥탄, 시클로헥사논, 메틸 이소부틸 케톤, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르, 초산(酢酸) 이소부틸, 노멀 부탄올 등을 들 수 있다.It is preferable to add about 10-70 mass % with respect to the whole release layer formation composition as the addition amount. Examples of the solvent having a boiling point of 100° C. or higher include toluene, xylene, normal octane, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, isobutyl acetate, normal butanol, and the like. there is.

본 발명에 있어서, 이형층 형성 조성물의 도액(塗液)은 도포 전에 여과하는 것이 바람직하다. 여과 방법에 대해서는, 특별히 한정되지 않고 기존의 방법을 사용할 수 있지만, 서피스(surface) 타입이나 뎁스(depth) 타입, 흡착 타입의 카트리지 필터를 이용하는 것이 바람직하다. 카트리지 타입의 필터를 사용함으로써 도액을 탱크로부터 도공부에 연속적으로 송액할 때에 사용할 수 있기 때문에, 생산성이 좋고 효율적으로 여과할 수 있으므로 바람직하다. 필터의 여과 정밀도로는, 1㎛의 크기의 것을 99% 이상 제거하는 것을 이용하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.5㎛의 크기의 것을 99% 이상 여과할 수 있는 것이 바람직하다. 상기 여과 정밀도의 것을 이용함으로써, 이형층을 형성하는 도액 중에 혼입되는 이물을 제거할 수 있어, 본 발명의 이형 필름에 부착되는 이물을 감소할 수 있어, 평활성이 뛰어난 이형층이 얻어지므로 바람직하다.In this invention, it is preferable to filter the coating liquid of a release layer formation composition before application. The filtration method is not particularly limited, and an existing method can be used, but it is preferable to use a surface type, depth type, or suction type cartridge filter. By using a cartridge-type filter, since it can be used when the coating liquid is continuously fed from the tank to the coating part, productivity is good and it can be filtered efficiently, so it is preferable. As for the filtration accuracy of the filter, it is preferable to use one that removes 99% or more of the filter having a size of 1 μm, more preferably one capable of filtering 99% or more of the filter having a size of 0.5 μm. By using the above filtering precision, foreign substances mixed in the coating solution forming the release layer can be removed, foreign substances adhering to the release film of the present invention can be reduced, and a release layer with excellent smoothness can be obtained, so it is preferable.

상기 도액의 도포법으로는, 공지의 임의의 도포법을 적용할 수 있고, 예를 들면 그라비아 코팅법이나 리버스 코팅법 등의 롤 코팅법, 와이어 바 등의 바 코팅법, 다이 코팅법, 스프레이 코팅법, 에어 나이프 코팅법 등의 종래부터 알려져 있는 방법을 이용할 수 있다.As the coating method of the coating liquid, any known coating method can be applied, for example, a roll coating method such as a gravure coating method or a reverse coating method, a bar coating method such as a wire bar, a die coating method, or a spray coating method. Conventionally known methods, such as a method and an air knife coating method, can be used.

이형층 형성 조성물을 기재 필름 상에 도포하고, 건조하는 방법으로는, 공지의 열풍 건조, 적외선 히터 등을 들 수 있지만, 건조 속도가 빠른 열풍 건조가 바람직하다. 건조로 내에서 건조하는 것이 바람직하며, 특별히 한정되지 않고 기존의 건조로를 이용할 수 있다. 건조로의 방식에 대해서는, 롤 서포트 방식이어도 플로팅 방식이어도 어느 쪽이도 상관없지만, 롤 서포트 방식 쪽이 건조 시의 풍량을 조정할 수 있는 범위가 넓기 때문에, 이형층의 종류에 맞추어 풍량 등을 조정할 수 있으므로 바람직하다.As a method of applying the release layer forming composition on a base film and drying it, well-known hot air drying, infrared heaters, etc. are mentioned, but hot air drying with a high drying speed is preferable. It is preferable to dry in a drying furnace, and an existing drying furnace may be used without particular limitation. Regarding the method of the drying furnace, it does not matter whether it is a roll support method or a floating method, but since the range in which the air volume during drying can be adjusted is wider in the roll support method, the air volume etc. can be adjusted according to the type of release layer. desirable.

건조 공정은, 건조 초기의 항률(恒率) 건조 공정(이하, 제 1 건조 공정이라고 부른다)과, 감율(減率) 건조 공정(이하, 제 2 건조 공정이라고 부른다)의 2개의 건조 공정으로 나눌 수 있다. 2개의 공정은 제 1 건조 공정, 제 2 건조 공정의 순으로 연속하고 있는 것이 바람직하고, 건조로 내에서 존 나눔을 함으로써 구별할 수 있으며, 제 1 (초기) 건조 공정은 제 1 건조로, 제 2 (후기) 건조 공정은 제 2 건조로를 이용하여 건조 시킬 수 있다.The drying process is divided into two drying processes: a constant rate drying process (hereinafter referred to as a first drying process) and a reduced rate drying process (hereinafter referred to as a second drying process) at the initial stage of drying. can The two processes are preferably continuous in the order of the first drying process and the second drying process, and can be distinguished by zone division within the drying furnace, and the first (initial) drying process is the first drying process. 2 (late) drying process can be dried using the second drying furnace.

본 발명자들은, 이형층의 평활성을 높이기 위해서는, 제 1 건조 공정에서의 건조 온도 T1은, 상기 제 2 건조 공정에서의 건조 온도 T2보다도 높은 것이 중요한 것을 찾아냈다. 제 1 건조로 온도와 제 2 건조로 온도는 후술의 범위로 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 조건으로 제조함으로써, 제 1 건조 공정에서의 항률 건조 시간은 짧고, 제 2 건조 공정에서의 감율 건조 시간은 길게 할 수 있어, 평면성이 뛰어난 이형층이 얻어지므로 바람직하다.The present inventors found that it is important that the drying temperature T1 in the first drying step is higher than the drying temperature T2 in the second drying step, in order to improve the smoothness of the mold release layer. The temperature of the first drying furnace and the temperature of the second drying furnace are preferably within the ranges described later. By manufacturing under such conditions, the constant rate drying time in the first drying step is short, and the decreasing rate drying time in the second drying step can be lengthened, which is preferable because a mold release layer with excellent planarity can be obtained.

또한, 본 발명자들은, 제 1 건조로 내 온도를 높여, 항률 건조 시간을 짧게 하는 것이 중요한 것을 찾아냈다.Further, the present inventors have found that it is important to increase the internal temperature of the first drying furnace and shorten the constant rate drying time.

보다 구체적으로는, 건조 온도 T1은, 90℃ 이상, 180℃ 이하인 것이 바람직하고, 100℃ 이상, 150℃ 이하인 것이 바람직하다. 제 1 건조로 내의 온도를 높여, 항률 건조 시간을 짧게 함으로써, 이형층 형성 조성물 중에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 응집을 방지할 수 있으므로 바람직하다. 제 1 건조로의 온도가 높을수록, 항률 건조 시간이 짧아져 바람직하지만, 너무 높으면 열에 의한 필름의 평면성의 악화가 발생하기 때문에, 180℃ 이하인 것이 바람직하다. 90℃ 이상이면, 건조 능력이 충분해져 바람직하다.More specifically, the drying temperature T1 is preferably 90°C or higher and 180°C or lower, and is preferably 100°C or higher and 150°C or lower. By raising the temperature in the first drying furnace and shortening the constant rate drying time, since aggregation of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) contained in the release layer forming composition can be prevented, it is preferable. The higher the temperature of the first drying furnace, the shorter the constant-modulus drying time is, which is preferable. However, if it is too high, deterioration of flatness of the film due to heat occurs, so it is preferably 180°C or less. If it is 90 degreeC or more, drying ability becomes sufficient and it is preferable.

제 2 건조로 내 온도는 60℃ 이상 140℃ 이하인 것이 바람직하고, 80℃ 이상, 120℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 제 2 건조 공정에 있어서는, 건조 시간을 느리게 함으로써 광경화하기 전의 이형층 표면을 거칠어지게 하는 일 없이 건조할 수 있어, 이형층의 평활성이 높아지므로 바람직하다.The temperature in the second drying furnace is preferably 60°C or higher and 140°C or lower, more preferably 80°C or higher and 120°C or lower. In the 2nd drying process, since it can dry without roughening the surface of the release layer before photocuring by making drying time slow, and the smoothness of a release layer increases, it is preferable.

예를 들면, 제 1 건조 공정에서의 항률 건조 시간은, 제 2 건조 공정에서의 감율 건조 시간보다도 단시간인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 필름의 평면성의 악화를 방지하고, 게다가, 광경화하기 전의 이형층 표면을 거칠어지게 하는 일 없이 건조할 수 있어, 이형층의 평활성을 높일 수 있다.For example, it is preferable that the constant rate drying time in the first drying step is shorter than the decreasing rate drying time in the second drying step. Thereby, deterioration of the flatness of a film is prevented, and it can dry without roughening the surface of the release layer before photocuring, and the smoothness of a release layer can be improved.

도포 후, 제 1 건조로 내에 들어가기까지의 시간은 0.1초 이상, 2.5초 이내인 것이 바람직하고, 0.1초 이상, 2.0초 이내인 것이 바람직하며, 짧을수록 바람직하다. 제 1 건조로 내에 들어가기까지의 시간을 빠르게 함으로써, 제 1 건조 공정에서의 건조 시간을 짧게 할 수 있어, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 응집이 억제되어, 평활성이 뛰어난 이형층이 얻어지므로 바람직하다. 건조로 내에 들어가기까지의 시간은, 가공 속도와 가공기 대(臺)의 구조로부터 산출할 수 있다.The time from application to entry into the first drying furnace is preferably 0.1 second or more and 2.5 seconds or less, preferably 0.1 second or more and 2.0 seconds or less, and shorter is preferable. By accelerating the time until entering the first drying furnace, the drying time in the first drying step can be shortened, suppressing aggregation of the cation-curable polydimethylsiloxane (a), and obtaining a release layer with excellent smoothness, which is preferable. do. The time required to enter the drying furnace can be calculated from the processing speed and the structure of the processing machine stand.

본 발명의 제조 방법은, 건조 공정 후에, 활성 에너지선을 조사하여, 이형층 형성 조성물을 경화시키는 광경화 공정을 포함한다.The production method of the present invention includes a photocuring step of curing the release layer forming composition by irradiating active energy rays after the drying step.

광경화 공정에 있어서, 활성 에너지선을 조사함으로써 건조 후의 이형층 형성 조성물의 양이온 경화 반응이 진행된다. 사용하는 활성 에너지선으로는, 자외선, 전자선 등 기존의 기술을 사용할 수 있고, 자외선을 이용하는 것이 바람직하다. 자외선을 이용했을 때의 적산 광량은, 조도와 조사 시간의 곱으로 나타낼 수 있다. 예를 들면, 10∼500mJ/c㎡인 것이 바람직하다. 상기 하한 이상으로 함으로써, 이형층을 충분히 경화시킬 수 있으므로 바람직하다. 상기 상한 이하로 함으로써 조사 시의 열에 의한 필름에의 열 대미지를 억제할 수 있어 이형층 표면의 평활성을 유지할 수 있으므로 바람직하다.Photocuring step WHEREIN: The cation curing reaction of the release layer forming composition after drying advances by irradiating an active energy ray. As active energy rays to be used, existing techniques such as ultraviolet rays and electron beams can be used, and it is preferable to use ultraviolet rays. The cumulative amount of light when ultraviolet rays are used can be expressed as the product of the illuminance and the irradiation time. For example, it is preferable that it is 10-500 mJ/cm<2>. By setting it as more than the said lower limit, since a mold release layer can fully be hardened, it is preferable. Since heat damage to the film by the heat|fever at the time of irradiation can be suppressed and smoothness of the surface of a release layer can be maintained by carrying out below the said upper limit, it is preferable.

활성 에너지선을 조사할 때는, 필름의 이면을 백업 롤로 홀딩하는 것이 바람직하다. 백업 롤을 설치함으로써 활성 에너지선원(源)과의 거리를 일정하게 유지할 수 있기 때문에 균일하게 조사할 수 있어 바람직하다. 또, 백업 롤 표면을 냉각하여 필름을 냉각하면서 활성 에너지선을 조사하는 것이 바람직하다. 냉각함으로써 활성 에너지선을 조사한 경우라도 필름이 열에 의한 대미지를 받기 어려워 이형층 표면의 평활성을 유지할 수 있으므로 바람직하다.When irradiating active energy rays, it is preferable to hold the back side of the film with a backup roll. Since the distance with an active energy source can be kept constant by providing a back-up roll, it can irradiate uniformly, and it is preferable. Moreover, it is preferable to irradiate an active energy ray, cooling the back-up roll surface and cooling a film. Cooling is preferable because even when active energy rays are irradiated, the film is hardly damaged by heat and the smoothness of the surface of the release layer can be maintained.

일 양태에 있어서, 본 발명의 제조 방법은, 무기 화합물을 포함하는 수지 시트를 제조하기 위한, 이형 필름을 제조하는 방법을 제공한다.In one aspect, the manufacturing method of the present invention provides a method for manufacturing a release film for manufacturing a resin sheet containing an inorganic compound.

(수지 시트)(resin sheet)

본 발명에 있어서의 수지 시트는, 수지를 포함하는 시트이면 특별히 한정되지 않는다. 일 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름은, 무기 화합물을 포함하는 수지 시트를 성형하기 위한 이형 필름이다. 무기 화합물로는, 금속 입자, 금속 산화물, 광물 등을 예시할 수 있고, 예를 들면, 탄산칼슘, 실리카 입자, 알루미늄 입자, 티탄산바륨 입자 등을 예시할 수 있다. 본 발명은, 평활성이 높은 이형층을 갖기 때문에, 이들 무기 화합물을 수지 시트에 포함하는 양태여도, 무기 화합물에 기인할 수 있는 결점, 예를 들면, 수지 시트의 파손, 이형층으로부터 수지 시트의 박리가 곤란해지는 문제를 억제할 수 있다.The resin sheet in the present invention is not particularly limited as long as it is a sheet containing resin. In one aspect, the release film of the present invention is a release film for molding a resin sheet containing an inorganic compound. Examples of the inorganic compound include metal particles, metal oxides, minerals, and the like, and examples thereof include calcium carbonate, silica particles, aluminum particles, and barium titanate particles. Since the present invention has a release layer having high smoothness, even in an embodiment in which these inorganic compounds are included in the resin sheet, defects that can be attributed to the inorganic compound, such as breakage of the resin sheet and peeling of the resin sheet from the release layer problems can be suppressed.

수지 시트를 형성하는 수지 성분은, 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다. 일 양태에 있어서, 무기 화합물을 포함하는 수지 시트는, 세라믹 그린시트이다. 예를 들면, 세라믹 그린시트는, 무기 화합물로서, 티탄산바륨을 포함할 수 있다. 또, 수지 성분으로서, 예를 들면, 폴리비닐 부티랄계 수지를 포함할 수 있다.The resin component forming the resin sheet can be appropriately selected according to the use. In one aspect, the resin sheet containing the inorganic compound is a ceramic green sheet. For example, the ceramic green sheet may contain barium titanate as an inorganic compound. Moreover, as a resin component, a polyvinyl butyral-type resin can be included, for example.

일 양태에 있어서, 수지 시트는 두께가 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하이다.In one aspect, the resin sheet has a thickness of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less.

예를 들면, 본 발명은, 이와 같은 무기 화합물을 포함하는 수지 시트를 제조하기 위한 이형 필름을 제조하는 방법을 제공할 수 있다. 또, 본 발명에서의, 수지 시트 성형용 이형 필름의 제조 방법은, 두께가 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하인 수지 시트를 성형하는 공정을 포함해도 된다.For example, the present invention can provide a method for manufacturing a release film for manufacturing a resin sheet containing such an inorganic compound. Moreover, the manufacturing method of the release film for resin sheet molding in this invention may also include the process of shape|molding the resin sheet whose thickness is 0.2 micrometer or more and 1.0 micrometer or less.

(세라믹 그린시트와 세라믹 콘덴서)(Ceramic Green Sheet and Ceramic Condenser)

일반적으로, 적층 세라믹 콘덴서는, 직방체상의 세라믹 소체를 갖는다. 세라믹 소체의 내부에는, 제 1 내부 전극과 제 2 내부 전극이 두께 방향을 따라 교대로 설치되어 있다. 제 1 내부 전극은, 세라믹 소체의 제 1 단면에 노출되어 있다. 제 1 단면 위에는 제 1 외부 전극이 설치되어 있다. 제 1 내부 전극은, 제 1 단면에 있어서 제 1 외부 전극과 전기적으로 접속되어 있다. 제 2 내부 전극은, 세라믹 소체의 제 2 단면에 노출되어 있다. 제 2 단면 위에는 제 2 외부 전극이 설치되어 있다. 제 2 내부 전극은, 제 2 단면에 있어서 제 2 외부 전극과 전기적으로 접속되어 있다.In general, a multilayer ceramic capacitor has a rectangular parallelepiped ceramic body. Inside the ceramic body, first internal electrodes and second internal electrodes are alternately provided along the thickness direction. The first internal electrode is exposed on the first end face of the ceramic body. A first external electrode is provided on the first end surface. The first internal electrode is electrically connected to the first external electrode in the first cross section. The second internal electrode is exposed on the second end face of the ceramic body. A second external electrode is provided on the second end surface. The second internal electrode is electrically connected to the second external electrode in the second cross section.

일 양태에 있어서, 본 발명의 이형 필름은, 세라믹 그린시트 제조용 이형 필름이며, 이와 같은 적층 세라믹 콘덴서를 제조하기 위해 이용된다.In one aspect, the release film of the present invention is a release film for manufacturing a ceramic green sheet, and is used to manufacture such a multilayer ceramic capacitor.

예를 들면, 본 발명의 세라믹 그린시트 제조용 이형 필름을 이용하여 세라믹 그린시트를 성형하는 세라믹 그린시트의 제조 방법은, 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하의 두께를 갖는 세라믹 그린시트를 성형할 수 있다.For example, in the method of manufacturing a ceramic green sheet in which the ceramic green sheet is molded using the release film for manufacturing a ceramic green sheet of the present invention, a ceramic green sheet having a thickness of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less can be formed.

보다 상세하게는, 예를 들면, 이하와 같이 하여 세라믹 그린시트는 제조된다. 우선, 본 발명의 이형 필름을 캐리어 필름으로서 이용하고, 세라믹 소체를 구성하기 위한 세라믹 슬러리를 도포, 건조시킨다. 세라믹 그린시트의 두께는, 0.2∼1.0㎛의 극박품(極薄品)이 요구되고 있다. 도포, 건조한 세라믹 그린시트 위에, 제 1 또는 제 2 내부 전극을 구성하기 위한 도전층을 인쇄한다. 세라믹 그린시트, 제 1 내부 전극을 구성하기 위한 도전층이 인쇄된 세라믹 그린시트 및 제 2 내부 전극을 구성하기 위한 도전층이 인쇄된 세라믹 그린시트를 적절히 적층하고, 프레스함으로써, 마더 적층체를 얻는다. 마더 적층체를 복수로 분단하여, 생(生; raw)세라믹 소체를 제작한다. 생세라믹 소체를 소성함으로써 세라믹 소체를 얻는다. 그 후, 제 1 및 제 2 외부 전극을 형성함으로써 적층 세라믹 콘덴서를 완성시킬 수 있다.More specifically, for example, a ceramic green sheet is manufactured as follows. First, the release film of the present invention is used as a carrier film, and a ceramic slurry for constituting a ceramic body is applied and dried. The ceramic green sheet has a thickness of 0.2 to 1.0 µm and is required to be ultra-thin. A conductive layer for constituting the first or second internal electrode is printed on the applied and dried ceramic green sheet. A mother laminate is obtained by appropriately stacking ceramic green sheets, ceramic green sheets printed with conductive layers for constituting first internal electrodes, and printed ceramic green sheets with conductive layers for constituting second internal electrodes, and pressing them. . The mother laminate is divided into a plurality of parts to produce a raw ceramic body. A ceramic body is obtained by firing the bioceramic body. After that, the multilayer ceramic capacitor can be completed by forming first and second external electrodes.

실시예Example

이하에, 실시예를 이용하여 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 조금도 한정되는 것은 아니다. 본 발명에서 이용한 특성치는 하기의 방법을 이용하여 평가했다.The present invention will be explained in more detail below using examples, but the present invention is not limited in any way by these examples. The characteristic values used in the present invention were evaluated using the following method.

(이형층 두께)(release layer thickness)

잘라낸 이형 필름을 수지 포매(包埋)하고, 울트라마이크로톰을 이용하여 초박절편화했다. 그 후, 니혼덴시 제조 JEM2100 투과 전자현미경을 이용하여, 단면 관찰을 행하고, 관찰한 TEM 화상으로부터 이형층의 막 두께를 측정했다. 두께가 너무 얇아서 단면 관찰로 정확하게 평가할 수 없는 경우는, 반사 분광 막두께계(오쓰카 덴시사 제조, FE-3000)를 이용하여 측정했다.The cut release film was resin-embedded and ultra-thin sectioned using an ultramicrotome. Then, cross-sectional observation was performed using JEM2100 transmission electron microscope made by JEOL, and the film thickness of the mold release layer was measured from the observed TEM image. When the thickness was too thin and could not be accurately evaluated by cross-sectional observation, it was measured using a reflection spectrophotometer (FE-3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

(이형층의 중량)(weight of release layer)

본 명세서 중에 있어서, 이형층 두께 1㎛당의 중량을 1g/㎡로 하여 산출된 중량의 값을 채용했다. 예를 들면, 전술의 방법으로 측정한 이형층 두께가 0.2㎛인 경우, 이형층의 총중량은 0.2g/㎡이다. 또, 이형층 중에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 중량, 양이온 경화형 수지(b)의 중량, 산 발생제(c)의 중량은, 이형층 형성 조성물 중에 포함되는 각 성분의 배합 비율과 이형층의 총중량으로부터 계산한 값을 채용했다. 예를 들면, 이형층 두께가 0.2㎛, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 이형층 중량 비율이 5 질량부인 경우, 이형층 중에 포함되는 (a)의 중량은 0.01g/㎡이다. 또한, 이형층 중량 비율(질량%)은, 성분 (a)와 성분 (b)의 합계를 100 질량부로 하여 계산했다.In this specification, the value of the weight calculated assuming that the weight per 1 μm of the release layer thickness is 1 g/m 2 is employed. For example, when the thickness of the release layer measured by the above method is 0.2 μm, the total weight of the release layer is 0.2 g/m 2 . In addition, the weight of the cation-curable polydimethylsiloxane (a), the weight of the cation-curable resin (b), and the weight of the acid generator (c) contained in the release layer are the blending ratio of each component contained in the release layer forming composition. A value calculated from the total weight of the release layer was employed. For example, when the release layer thickness is 0.2 µm and the weight ratio of the release layer of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) is 5 parts by mass, the weight of (a) contained in the release layer is 0.01 g/m 2 . In addition, the weight ratio (mass %) of the release layer was calculated by taking the total of the component (a) and the component (b) as 100 parts by mass.

(이형층 형성 조성물의 도포량)(Application Amount of Release Layer Forming Composition)

도포 공정에서 사용한 이형층 형성 조성물의 액 소비 중량과 가공 면적으로부터 산출한 값을 채용했다.The value calculated from the liquid consumption weight and processing area of the release layer forming composition used in the application step was adopted.

(도포 후부터 제 1 건조로까지의 시간)(Time from application to first drying furnace)

도포부에서 제 1 건조로까지의 필름 주행거리와, 가공 속도로부터 산출한 값을 채용했다.The value calculated from the travel distance of the film from the application part to the first drying furnace and the processing speed was employed.

(영역 표면 평균 거칠기 Sa, 최대 돌기 높이 Sp)(area surface average roughness Sa, maximum protrusion height Sp)

비접촉 표면 형상 계측 시스템(VertScan R550H-M100)을 이용하여, 하기의 조건으로 측정했다. 영역 표면 평균 거칠기(Sa)는, 5회 측정의 평균치를 채용하고, 최대 돌기 높이(Sp)는 7회 측정하여 최대치와 최소치를 제외한 5회의 측정 결과에서의, 최대의 값의 것을 채용했다.It was measured under the following conditions using a non-contact surface shape measurement system (VertScan R550H-M100). The area average surface roughness (Sa) was the average value of 5 measurements, and the maximum protrusion height (Sp) was measured 7 times and the largest value in the 5 measurement results excluding the maximum and minimum values was adopted.

(측정 조건) (Measuring conditions)

·측정 모드: WAVE 모드 ・Measurement mode: WAVE mode

·대물렌즈: 50배 Objective lens: 50x

·0.5×Tube 렌즈 ・0.5×Tube lens

·측정 면적 187㎛×139㎛ ・Measurement area 187㎛×139㎛

(해석 조건) (analysis condition)

·면 보정: 4차 보정 Face correction: 4th correction

·보간(補間) 처리: 완전 보간 ・Interpolation processing: complete interpolation

(높이 10nm 이상의 돌기수, 높이 5nm 이상의 돌기수)(Number of protrusions with a height of 10 nm or more, number of protrusions with a height of 5 nm or more)

상기 최대 돌기 높이를 측정한 전 7회의 측정치 중에서, 중심의 값을 나타낸 측정 데이터를 이용하여, 입자 해석을 행하였다. 입자 해석은, Vertscan R550H-M100의 해석 소프트를 이용하여 하기 조건으로 구했다. 상기 영역 표면 평균 거칠기, 최대 돌기 높이 측정과 동 면적의 측정 면적에서 입자 해석을 행하여, 최고도가 10nm 이상인 돌기수, 또는 5nm 이상인 돌기수를 산출했다. 돌기수는 1㎟ 환산으로 변환한 값을 채용했다.Particle analysis was performed using measurement data representing the central value among the seven measurements of the maximum protrusion height. Particle analysis was obtained under the following conditions using analysis software of Vertscan R550H-M100. Particle analysis was performed on the same area as the area surface average roughness and maximum protrusion height measurement, and the number of protrusions having the highest peak of 10 nm or more or 5 nm or more was calculated. The number of protrusions adopted the value converted in terms of 1 mm 2 .

(입자 해석 조건) (Particle analysis conditions)

·면 보정: 4차 보정Face correction: 4th correction

·보간 처리: 완전 보간Interpolation processing: full interpolation

·돌기 해석・Protrusion analysis

·기준 높이: 제로면Reference height: zero plane

(세라믹 그린시트 박리력)(Ceramic Green Sheet Peeling Force)

하기, 재료로 이루어지는 슬러리 조성물 I을 10분간 교반 혼합하고, 비즈밀을 이용해 직경 0.5mm의 지르코니아 비즈로 10분간 분산하여 1차 분산체를 얻었다. 그 후 하기 재료로 이루어지는 슬러리 조성물 Ⅱ를 (슬러리 조성물 I):(슬러리 조성물 Ⅱ)=3.4:1.0의 비율이 되도록 1차 분산체에 첨가하고, 비즈밀을 이용해 직경 0.5mm의 지르코니아 비즈로 10분간 2차 분산하여, 세라믹 슬러리를 얻었다.Slurry composition I consisting of the following materials was stirred and mixed for 10 minutes, and dispersed for 10 minutes with zirconia beads having a diameter of 0.5 mm using a bead mill to obtain a primary dispersion. Thereafter, slurry composition II composed of the following materials was added to the primary dispersion in a ratio of (slurry composition I): (slurry composition II) = 3.4: 1.0, and the mixture was mixed with zirconia beads having a diameter of 0.5 mm using a bead mill for 10 minutes. Secondary dispersion was performed to obtain a ceramic slurry.

(슬러리 조성물 I)(Slurry composition I)

톨루엔 22.3 질량부toluene 22.3 parts by mass

에탄올 18.3 질량부ethanol 18.3 parts by mass

티탄산바륨(평균 입경 100nm) 57.5 질량부Barium titanate (average particle diameter 100 nm) 57.5 parts by mass

호모게놀 L-18(가오사 제조) 1.9 질량부Homogenol L-18 (manufactured by Gao) 1.9 parts by mass

(슬러리 조성물 Ⅱ)(Slurry Composition II)

톨루엔 39.6 질량부toluene 39.6 parts by mass

에탄올 39.6 질량부ethanol 39.6 parts by mass

프탈산 디옥틸 3.3 질량부Dioctyl phthalate 3.3 parts by mass

폴리비닐 부티랄(세키스이 가가쿠사 제조 에스렉 BM-S) 16.3 질량부Polyvinyl butyral (S-REC BM-S manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 16.3 parts by mass

1-에틸-3-메틸이미다졸륨에틸술페이트 0.5 질량부1-Ethyl-3-methylimidazolium ethyl sulfate 0.5 parts by mass

이어서 얻어진 이형 필름 샘플의 이형면에 어플리케이터를 이용해 건조 후의 슬러리가 1.0㎛가 되도록 도공하고 60℃에서 1분 건조하여, 세라믹 그린시트 부착 이형 필름을 얻었다. 얻어진 세라믹 그린시트 부착 이형 필름을 제전기(키엔스사 제조, SJ-F020)를 이용하여 제전한 후에 박리 시험기(교와 가이멘 가가쿠사 제조, VPA-3, 로드 셀 하중 0.1N)를 이용해, 박리 각도 90도, 박리 온도 25℃, 박리 속도 10m/min으로 박리했다. 박리하는 방향으로는, 박리 시험기 부속의 SUS판 상에 양면 접착 테이프(닛토 덴코사 제조, No.535A)를 첩부(貼付)하고, 그 위에 세라믹 그린시트측을 양면 테이프와 접착하는 형태로 이형 필름을 고정하고, 이형 필름측을 인장(引張)하는 형태로 박리했다. 얻어진 측정치 중, 박리 거리 20mm∼70mm의 박리력의 평균치를 산출하고, 그 값을 박리력으로 했다. 측정은 합계 5회 실시하고, 그 박리력의 평균치의 값을 채용하여, 평가를 행하였다. 얻어진 박리력의 수치로부터 하기의 기준으로 판정했다.Subsequently, the resulting slurry was applied to the release surface of the obtained release film sample using an applicator to a thickness of 1.0 μm, and dried at 60° C. for 1 minute to obtain a release film with ceramic green sheet. The resulting release film with ceramic green sheet was static neutralized using a static charge eliminator (SJ-F020, manufactured by Keyence Corporation), and then peeled off using a peel tester (VPA-3, manufactured by Kyowa Science and Technology Co., Ltd., load cell load: 0.1 N). It peeled at an angle of 90 degrees, a peeling temperature of 25°C, and a peeling speed of 10 m/min. In the peeling direction, a double-sided adhesive tape (No.535A manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) is affixed on the SUS plate attached to the peel tester, and the ceramic green sheet side is adhered to the double-sided tape on top of the release film. was fixed, and it peeled in the form which pulled the release film side. Among the measured values obtained, an average value of the peeling force at a peeling distance of 20 mm to 70 mm was calculated, and the value was used as the peeling force. The measurement was performed 5 times in total, and evaluation was performed using the value of the average value of the peel force. From the numerical value of the obtained peeling force, it was determined according to the following criteria.

○: 0.1mN/mm 이상, 1.0mN/mm 미만○: 0.1 mN/mm or more, less than 1.0 mN/mm

×: 1.0mN/mm 이상×: 1.0 mN/mm or more

(세라믹 그린시트의 핀 홀 평가)(Pin hole evaluation of ceramic green sheet)

상기 세라믹 슬러리의 박리성 평가와 마찬가지로 하여 이형 필름의 이형면에 두께 1㎛의 세라믹 그린시트를 성형했다. 이어서, 성형한 세라믹 그린시트 부착 이형 필름으로부터 이형 필름을 박리하여, 세라믹 그린시트를 얻었다. 얻어진 세라믹 그린시트의 필름 폭 방향의 중앙 영역에 있어서 25c㎡의 범위에서 세라믹 슬러리의 도포면의 반대면으로부터 빛을 쬐어, 빛이 투과하여 보이는 핀 홀의 발생 상황을 관찰하고, 하기 기준으로 육안 판정했다.A ceramic green sheet having a thickness of 1 μm was molded on the release surface of the release film in the same manner as the evaluation of the release property of the ceramic slurry. Then, the release film was peeled from the molded release film with ceramic green sheet to obtain a ceramic green sheet. The obtained ceramic green sheet was exposed to light from the opposite side of the ceramic slurry coated surface in the range of 25 cm 2 in the central region in the film width direction, and the occurrence of pinholes through which light was transmitted was observed, and visually determined according to the following criteria.

○: 핀 홀의 발생 없음○: No occurrence of pinholes

×: 핀 홀의 발생이 1개 이상×: One or more occurrences of pinholes

(폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿(PET (Ⅰ))의 조제)(Preparation of polyethylene terephthalate pellets (PET (I)))

에스테르화 반응 장치로서, 교반 장치, 분축기(分縮器), 원료 투입구 및 생성물 취출구를 갖는 3단의 완전 혼합조로 이루어지는 연속 에스테르화 반응 장치를 이용했다. TPA(테레프탈산)를 2톤/시로 하고, EG(에틸렌 글리콜)를 TPA 1몰에 대해 2몰로 하고, 삼산화 안티몬을 생성 PET에 대해 Sb 원자가 160ppm이 되는 양으로 하고, 이들의 슬러리를 에스테르화 반응 장치의 제 1 에스테르화 반응관에 연속 공급하여, 상압(常壓)에서 평균 체류 시간 4시간, 255℃에서 반응시켰다. 이어서, 제 1 에스테르화 반응관 내의 반응 생성물을 연속적으로 계외(系外)로 취출하여 제 2 에스테르화 반응관에 공급하고, 제 2 에스테르화 반응관 내에 제 1 에스테르화 반응관으로부터 증류 제거(留去)되는 EG를 생성 PET에 대해 8 질량% 공급하고, 추가로, 생성 PET에 대해 Mg 원자가 65ppm이 되는 양의 초산 마그네슘 사수염을 포함하는 EG 용액과, 생성 PET에 대해 P 원자가 40ppm이 되는 양의 TMPA(인산 트리메틸)를 포함하는 EG 용액을 첨가하여, 상압에서 평균 체류 시간 1시간, 260℃에서 반응시켰다. 이어서, 제 2 에스테르화 반응관의 반응 생성물을 연속적으로 계외로 취출하여 제 3 에스테르화 반응관에 공급하고, 고압 분산기(닛폰 세이키사 제조)를 이용하여 39MPa(400kg/c㎡)의 압력으로 평균 처리 횟수 5 패스의 분산 처리를 한 평균 입경이 0.9㎛인 다공질 콜로이달 실리카 0.2 질량%와, 폴리아크릴산의 암모늄염을 탄산칼슘당 1 질량% 부착시킨 평균 입경이 0.6㎛인 합성 탄산칼슘 0.4 질량%를, 각각 10%의 EG 슬러리로 하여 첨가하면서, 상압에서 평균 체류 시간 0.5시간, 260℃에서 반응시켰다. 제 3 에스테르화 반응관 내에서 생성한 에스테르화 반응 생성물을 3단의 연속 중축합 반응 장치에 연속적으로 공급하여 중축합을 행하고, 95% 커트 지름이 20㎛인 스테인리스 스틸 섬유를 소결한 필터로 여과를 행하고 나서, 한외 여과를 행하여 수중으로 압출하고, 냉각 후에 칩상으로 커트하여, 고유 점도 0.60dl/g의 PET 칩을 얻었다(이후, PET (Ⅰ)로 약기한다). PET 칩 중의 활제 함유량은 0.6 질량%였다.As the esterification reaction apparatus, a continuous esterification reaction apparatus consisting of a three-stage complete mixing tank having a stirrer, a condenser, a raw material inlet, and a product outlet was used. TPA (terephthalic acid) is 2 tons/hour, EG (ethylene glycol) is 2 moles per 1 mole of TPA, antimony trioxide is used in an amount such that the Sb atom is 160 ppm with respect to the produced PET, and these slurries are prepared in an esterification reactor was continuously supplied to the first esterification reaction tube, and reacted at 255°C with an average residence time of 4 hours under normal pressure. Then, the reaction product in the first esterification reaction tube is continuously taken out of the system, supplied to the second esterification reaction tube, and distilled off from the first esterification reaction tube in the second esterification reaction tube. 8% by mass of EG to be produced is supplied to the product PET, and further, an EG solution containing magnesium acetate tetrahydrate in an amount such that the Mg atom is 65 ppm with respect to the product PET, and the amount of P atom is 40 ppm with respect to the product PET An EG solution containing TMPA (trimethyl phosphate) was added and reacted at 260° C. with an average residence time of 1 hour under normal pressure. Then, the reaction product in the second esterification reaction tube was continuously taken out of the system and supplied to the third esterification reaction tube, and was averaged at a pressure of 39 MPa (400 kg/cm 2 ) using a high-pressure disperser (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.). 0.2% by mass of porous colloidal silica having an average particle size of 0.9 μm subjected to dispersion treatment for 5 passes of treatment, and 0.4% by mass of synthetic calcium carbonate having an average particle size of 0.6 μm in which 1 mass% of ammonium salt of polyacrylic acid is adhered per calcium carbonate. , each was added as a 10% EG slurry, and reacted at 260°C with an average residence time of 0.5 hours at normal pressure. The esterification reaction product generated in the third esterification reaction tube is continuously supplied to a three-stage continuous polycondensation reactor to undergo polycondensation, and 95% of the esterification reaction product is filtered through a filter made of sintered stainless steel fibers having a cut diameter of 20 μm. After performing, ultrafiltration was performed, extruded in water, cooled, and then cut into chips to obtain PET chips having an intrinsic viscosity of 0.60 dl/g (hereinafter abbreviated as PET (I)). The lubricant content in the PET chip was 0.6% by mass.

(폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿(PET (Ⅱ))의 조제)(Preparation of polyethylene terephthalate pellets (PET (II)))

한편, 상기 PET (Ⅰ) 칩의 제조에 있어서, 탄산칼슘, 실리카 등의 입자를 전혀 함유하지 않는 고유 점도 0.62dl/g의 PET 칩을 얻었다(이후, PET (Ⅱ)로 약기한다.).Meanwhile, in the production of the PET (I) chip, a PET chip having an intrinsic viscosity of 0.62 dl/g and containing no particles such as calcium carbonate and silica was obtained (hereinafter abbreviated as PET (II)).

(적층 필름 X1의 제조)(Preparation of laminated film X1)

이들 PET 칩을 건조 후, 285℃에서 용융하고, 별개의 용융 압출기에 의해 290℃에서 용융하고, 95% 커트 지름이 15㎛인 스테인리스 스틸 섬유를 소결한 필터와, 95% 커트 지름이 15㎛인 스테인리스 스틸 입자를 소결한 필터의 2단의 여과를 행하고, 피드 블록 내에서 합류하여, PET (Ⅰ)을 표면층 B(반(反)이형면측 층), PET (Ⅱ)를 표면층 A(이형면측 층)가 되도록 적층하고, 시트상으로 45m/분의 스피드로 압출(캐스팅)하고, 정전 밀착법에 의해 30℃의 캐스팅 드럼 상에 정전 밀착·냉각시켜, 고유 점도가 0.59dl/g인 미연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 시트를 얻었다. 층 비율은 각 압출기의 토출량 계산으로 PET (Ⅰ)/(Ⅱ)=60 질량%/40 질량%가 되도록 조정했다. 이어서, 이 미연신 시트를 적외선 히터로 가열한 후, 롤 온도 80℃에서 롤 사이의 스피드 차에 의해 세로 방향으로 3.5배 연신했다. 그 후, 텐터로 유도하고, 140℃에서 가로 방향으로 4.2배의 연신을 행하였다. 이어서, 열 고정 존에서, 210℃로 열처리했다. 그 후, 가로 방향으로 170℃에서 2.3%의 완화 처리를 하여, 두께 31㎛의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 X1을 얻었다. 얻어진 필름 X1의 표면층 A의 Sa는 1nm, 표면층 B의 Sa는 28nm였다.After drying, these PET chips were melted at 285°C, melted at 290°C by a separate melting extruder, and a filter obtained by sintering stainless steel fibers having a 95% cut diameter of 15 µm and a filter having a 95% cut diameter of 15 µm Filters made of sintered stainless steel particles are filtered in two stages, joined in a feed block, and PET (I) is used as the surface layer B (anti-release surface side layer) and PET (II) is used as surface layer A (release surface side layer). ), extruded (casting) at a speed of 45 m/min into a sheet form, electrostatically adhered and cooled on a casting drum at 30° C. by an electrostatic adhesion method, and unstretched polyethylene having an intrinsic viscosity of 0.59 dl/g. A terephthalate sheet was obtained. The layer ratio was adjusted so that PET (I) / (II) = 60% by mass / 40% by mass by calculating the discharge amount of each extruder. Next, after heating this unstretched sheet with an infrared heater, it was stretched 3.5 times in the machine direction by a speed difference between rolls at a roll temperature of 80°C. After that, it was guided by a tenter and stretched 4.2 times in the transverse direction at 140°C. Subsequently, heat treatment was performed at 210°C in a heat setting zone. Thereafter, a 2.3% relaxation treatment was performed at 170°C in the transverse direction to obtain a biaxially stretched polyethylene terephthalate film X1 having a thickness of 31 µm. Sa of the surface layer A of the obtained film X1 was 1 nm, and Sa of the surface layer B was 28 nm.

(적층 필름 X2의 제조)(Preparation of laminated film X2)

적층 필름 X2로는, 두께 25㎛의 E5101(도요보 에스테르(등록상표) 필름, 도요보사 제조)을 사용했다. E5101은, 표면층 A 및 표면층 B에 입자를 함유한 구성으로 되어 있다. 적층 필름 X2의 표면층 A의 Sa는 24nm, 표면층 B의 Sa는 24nm였다.As the laminated film X2, E5101 (Toyobo Ester (registered trademark) film, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm was used. E5101 has a structure in which particles are contained in the surface layer A and the surface layer B. Sa of the surface layer A of the laminated film X2 was 24 nm, and Sa of the surface layer B was 24 nm.

(양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a))(Cation-curable polydimethylsiloxane (a))

(a)-1: UV POLY215(아라카와 가가쿠 고교 제조, 고형분 100%)(a)-1: UV POLY215 (manufactured by Arakawa Chemical Industry, 100% solid content)

(양이온 경화형 수지(b))(cationic curable resin (b))

(b)-1: 셀록사이드 2021P(다이셀사 제조, 고형분 100%)(b)-1: Celloxide 2021P (manufactured by Daicel Co., Ltd., 100% solid content)

(b)-2: X-40-2670(신에쓰 가가쿠 고교 제조, 고형분 100%)(b)-2: X-40-2670 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry, 100% solid content)

(산 발생제(c))(Acid generator (c))

(c)-1: CPI-101A(산아프로사 제조, 고형분 50%)(c)-1: CPI-101A (manufactured by San-Apro, 50% solid content)

(실시예 1)(Example 1)

적층 필름 X1의 표면층 A 상에 하기 조성의 이형층 형성 조성물 1을, 0.5㎛ 이상의 이물을 99% 이상 제거할 수 있는 필터를 통과시킨 후, 리버스 그라비아를 이용하여 도포량이 5.0g/㎡가 되도록 도공했다. 그 후, 0.5초 후에 제 1 건조로에 들어가도록 가공 속도를 조정하여, 제 1 건조로 온도 120℃, 제 2 건조로 온도 90℃에서 연속적으로 가열 건조했다. 건조 공정 후, 냉각 롤 상에서 자외선 조사기(헤레우스사 제조, H 밸브)를 이용해 적산 광량 100mJ/c㎡의 자외선을 조사하여, 이형층을 경화시킴으로써 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다. 또, 얻어진 이형 필름의 평활성, 박리성 및 핀 홀 평가를 행한 결과, 표 1에 나타내는 바와 같이 양호한 결과가 얻어졌다.After passing the release layer forming composition 1 of the following composition on the surface layer A of the laminated film X1 through a filter capable of removing 99% or more of foreign matter of 0.5 μm or more, it is coated using reverse gravure so that the coating amount is 5.0 g / m 2 did. Then, the processing speed was adjusted so that it might enter the 1st drying furnace after 0.5 second, and it heat-dried continuously at the temperature of 120 degreeC of the 1st drying furnace, and 90 degreeC of the 2nd drying furnace. After the drying step, a release film for resin sheet molding was obtained by curing the release layer by irradiating ultraviolet light with a cumulative light amount of 100 mJ/cm 2 on a cooling roll using an ultraviolet irradiator (H valve manufactured by Heraeus). Moreover, as a result of performing smoothness, peelability, and pinhole evaluation of the obtained release film, as shown in Table 1, favorable results were obtained.

이와 같이, 얻어진 수지 시트 성형용 이형 필름은, 예를 들면, 두께가 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하인 수지 시트의 제조가 가능한 이형 필름이었다.Thus, the obtained release film for resin sheet molding was a release film capable of producing a resin sheet having a thickness of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less, for example.

또한, 표에 기재한 각 성분 (a), (b), (c)의 중량(㎎/㎡)은, 고형분 당의 함유 비율(이형층 총중량에 대한 각 성분의 중량)을 나타내고 있다.In addition, the weight (mg/m 2 ) of each component (a), (b), and (c) described in the table indicates the content ratio per solid content (weight of each component relative to the total weight of the release layer).

(이형층 형성 조성물 1)(Release Layer Forming Composition 1)

메틸 에틸 케톤 24.000 질량부methyl ethyl ketone 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 24.000 질량부toluene 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0) (SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 48.000 질량부normal heptane 48.000 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 0.039 질량부(a)-1 0.039 parts by mass

(b)-1 3.883 질량부(b)-1 3.883 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(실시예 2∼4)(Examples 2 to 4)

표 1에 기재한 이형층의 조성, 제조 방법으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition and production method of the release layer described in Table 1 were changed.

(실시예 5)(Example 5)

하기의 조성의 이형층 형성 조성물 2를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 1 except that the release layer forming composition 2 having the following composition was used.

(이형층 형성 조성물 2)(Release layer forming composition 2)

메틸 에틸 케톤 38.400 질량부methyl ethyl ketone 38.400 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 38.400 질량부toluene 38.400 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0) (SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 19.200 질량부normal heptane 19.200 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 0.196 질량부(a)-1 0.196 parts by mass

(b)-1 3.726 질량부(b)-1 3.726 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(실시예 6)(Example 6)

이형층 형성 조성물 중의 노멀 헵탄을 시클로헥산(SP값(δ): 16.8, (δD): 16.8, (δP): 0.0, (δH): 0.2)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.Normal heptane in the release layer forming composition was changed to cyclohexane (SP value (δ): 16.8, (δ D ): 16.8, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.2), and Example 2 and A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner.

(실시예 7, 8)(Examples 7 and 8)

표 1에 기재한 도포량과 고형분 비율로 변경한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다. 이때, 유기 용매 비율은 이형층 형성 조성물 1과 마찬가지가 되도록 조제했다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 2, except that the coating amount and solid content ratio described in Table 1 were changed. At this time, the ratio of the organic solvent was prepared to be the same as that of the release layer forming composition 1.

(실시예 9)(Example 9)

이하의 조성의 이형층 형성용 조성물 3으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 1, except that the following composition was changed to composition 3 for forming a release layer.

(이형층 형성용 조성물 3)(Composition 3 for Forming Release Layer)

메틸 에틸 케톤 24.000 질량부methyl ethyl ketone 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 24.000 질량부toluene 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0)(SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 48.000 질량부normal heptane 48.000 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 0.039 질량부(a)-1 0.039 parts by mass

(b)-2 3.883 질량부(b)-2 3.883 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(실시예 10∼12)(Examples 10 to 12)

표 1에 기재한 이형층의 조성, 제조 방법으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition and production method of the release layer described in Table 1 were changed.

(실시예 13)(Example 13)

하기 조성의 이형층 형성 조성물 4를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 1 except that the release layer forming composition 4 having the following composition was used.

(이형층 형성 조성물 4)(Release layer forming composition 4)

메틸 에틸 케톤 38.400 질량부methyl ethyl ketone 38.400 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 38.400 질량부toluene 38.400 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0) (SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 19.200 질량부normal heptane 19.200 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 0.196 질량부(a)-1 0.196 parts by mass

(b)-2 3.726 질량부(b)-2 3.726 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(실시예 14)(Example 14)

이형층 형성 조성물 중의 노멀 헵탄을 시클로헥산(SP값(δ): 16.8, (δD): 16.8, (δP): 0.0, (δH): 0.2)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.Normal heptane in the release layer forming composition was changed to cyclohexane (SP value (δ): 16.8, (δ D ): 16.8, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.2), and Example 2 and A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner.

(실시예 15, 16)(Examples 15 and 16)

표 1에 기재한 도포량과 고형분 비율로 변경한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다. 이때, 유기 용매 비율은 이형층 형성 조성물 3과 마찬가지가 되도록 조제했다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 2, except that the coating amount and solid content ratio described in Table 1 were changed. At this time, the ratio of the organic solvent was prepared to be the same as that of the release layer forming composition 3.

(실시예 17)(Example 17)

하기 조성의 이형층 형성용 조성물 5를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 초박층 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for molding an ultra-thin layer resin sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that Composition 5 for Forming a Release Layer having the following composition was used.

(이형층 형성용 조성물 5)(Composition 5 for Forming a Release Layer)

메틸 에틸 케톤 24.950 질량부methyl ethyl ketone 24.950 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 24.950 질량부toluene 24.950 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0) (SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 49.900 질량부normal heptane 49.900 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 0.196 질량부(a)-1 0.196 parts by mass

(c)-1 0.004 질량부(c)-1 0.004 parts by mass

(실시예 18)(Example 18)

표 1에 기재한 고형분 농도로 변경하고, 또한, 유기 용매 비율은 이형층 형성 조성물 5와 마찬가지가 되도록 조제한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 1, except that the solid content concentration shown in Table 1 was changed and the ratio of the organic solvent was adjusted to be the same as that of the release layer forming composition 5.

(실시예 19)(Example 19)

표 1에 기재한 제조 방법으로 변경한 것 이외에는, 실시예 17과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 17, except for changing to the manufacturing method shown in Table 1.

(실시예 20)(Example 20)

이형층 형성 조성물 6으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 초박층 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for forming an ultra-thin layer resin sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except for changing to the release layer-forming composition 6.

(이형층 형성용 조성물 6)(Composition 6 for Forming Release Layer)

메틸 에틸 케톤 39.920 질량부methyl ethyl ketone 39.920 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 39.920 질량부toluene 39.920 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1) (SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

노멀 헵탄 19.960 질량부normal heptane 19.960 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 0.196 질량부(a)-1 0.196 parts by mass

(c)-1 0.004 질량부(c)-1 0.004 parts by mass

(실시예 21)(Example 21)

이형층 형성 조성물 5 중의 노멀 헵탄을 시클로헥산(SP값(δ): 16.8, (δD): 16.8, (δP): 0.0, (δH): 0.2)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.Example 1 except that normal heptane in release layer forming composition 5 was changed to cyclohexane (SP value (δ): 16.8, (δ D ): 16.8, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.2) A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as described above.

(실시예 22, 23)(Example 22, 23)

표 1에 기재한 도포량, 고형분 농도로 변경한 것 이외에는, 실시예 17과 마찬가지의 방법으로 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다. 이때, 유기 용매 비율은 이형층 형성 조성물 5와 마찬가지가 되도록 조제했다.A release film for resin sheet molding was obtained in the same manner as in Example 17, except that the coating amount and solid content concentration described in Table 1 were changed. At this time, the ratio of the organic solvent was prepared to be the same as that of the release layer forming composition 5.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

하기 조성의 이형층 형성 조성물 7로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 초박층 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for forming an ultra-thin layer resin sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following composition was changed to the release layer forming composition 7.

(이형층 형성 조성물 7)(Release Layer Forming Composition 7)

메틸 에틸 케톤 24.000 질량부methyl ethyl ketone 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 24.000 질량부toluene 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0)(SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 48.000 질량부normal heptane 48.000 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(b)-1 3.922 질량부(b)-1 3.922 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(비교예 2)(Comparative Example 2)

하기 조성의 이형층 형성 조성물 8로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 초박층 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for forming an ultra-thin layer resin sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following composition was changed to the release layer forming composition 8.

(이형층 형성 조성물 8)(Release layer forming composition 8)

메틸 에틸 케톤 24.000 질량부methyl ethyl ketone 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 24.000 질량부toluene 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0) (SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 48.000 질량부normal heptane 48.000 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 2.941 질량부(a)-1 2.941 parts by mass

(b)-2 0.981 질량부(b)-2 0.981 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(비교예 3)(Comparative Example 3)

하기 조성의 이형층 형성 조성물 9로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 초박층 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for forming an ultra-thin layer resin sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that the following composition was changed to the release layer-forming composition 9.

(이형층 형성 조성물 9)(Release layer forming composition 9)

메틸 에틸 케톤 24.000 질량부methyl ethyl ketone 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 19.1, (δD): 16.0, (δP): 9.0, (δH): 5.1)(SP value (δ): 19.1, (δ D ): 16.0, (δ P ): 9.0, (δ H ): 5.1)

톨루엔 24.000 질량부toluene 24.000 parts by mass

(SP값(δ): 18.2, (δD): 18.0, (δP): 1.4, (δH): 2.0) (SP value (δ): 18.2, (δ D ): 18.0, (δ P ): 1.4, (δ H ): 2.0)

노멀 헵탄 48.000 질량부normal heptane 48.000 parts by mass

(SP값(δ): 15.3, (δD): 15.3, (δP): 0.0, (δH): 0.0)(SP value (δ): 15.3, (δ D ): 15.3, (δ P ): 0.0, (δ H ): 0.0)

(a)-1 3.922 질량부(a)-1 3.922 parts by mass

(c)-1 0.078 질량부(c)-1 0.078 parts by mass

(비교예 4)(Comparative Example 4)

적층 필름 X2에 도포한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지의 방법으로 초박층 수지 시트 성형용 이형 필름을 얻었다.A release film for forming an ultra-thin layer resin sheet was obtained in the same manner as in Example 10 except that the laminated film X2 was applied.

[표 1A][Table 1A]

Figure pat00002
Figure pat00002

[표 1B][Table 1B]

Figure pat00003
Figure pat00003

[표 1C][Table 1C]

Figure pat00004
Figure pat00004

[표 2A][Table 2A]

Figure pat00005
Figure pat00005

[표 2B][Table 2B]

Figure pat00006
Figure pat00006

[표 2C][Table 2C]

Figure pat00007
Figure pat00007

비교예 1은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 함유하고 있지 않기 때문에, 세라믹 그린시트의 박리력이 커서, 박리하는 것이 불가능했다. 비교예 2∼4는, 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟를 초과하고 있어, 피이형물인 그린시트에 핀 홀이 발생했다. 또한, 비교예 4는, 기재 전체에 무기 입자가 존재하여, 이형 필름의 평활성이 현저하게 나쁘고, 그린시트의 파손, 핀 홀 등이 발생했다.In Comparative Example 1, since the cation-curable polydimethylsiloxane (a) was not contained, the peeling force of the ceramic green sheet was high, and peeling was impossible. In Comparative Examples 2 to 4, the number of protrusions having a height of 10 nm or more exceeded 200/mm 2 , and pinholes occurred in the green sheet as the release object. Further, in Comparative Example 4, inorganic particles were present throughout the substrate, and the smoothness of the release film was remarkably poor, resulting in breakage of the green sheet, pinholes, and the like.

산업상 이용가능성industrial applicability

본 발명에 의하면, 이형층의 평활성과 박리성을 높임으로써, 두께가 1㎛ 이하인 초박층품에서도 결함이 적은 수지 시트를 성형할 수 있는 이형 필름을 제공함으로써, 수지 시트를 불량이 발생할 우려 없이 제조할 수 있다.According to the present invention, by improving the smoothness and peelability of the release layer, a release film capable of molding a resin sheet with fewer defects even in an ultra-thin layer product having a thickness of 1 μm or less is provided, thereby manufacturing a resin sheet without fear of occurrence of defects. can do.

Claims (8)

기재(基材)로서의 폴리에스테르 필름과, 이형층을 갖는 수지 시트 성형용 이형 필름으로서,
상기 폴리에스테르 필름은, 무기 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 갖고,
상기 표면층 A 상에 상기 이형층을 가지며,
상기 이형층은, 이형층 형성 조성물이 경화된 층이고,
상기 이형층 형성 조성물은, 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 포함하며,
상기 이형층의 두께가 0.050㎛ 미만이고,
상기 이형층의 수지 고형분 100 질량부에 대해, 상기 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)을 90 질량부 이상 포함하고,
상기 이형층의 영역 표면 평균 거칠기(Sa)가 2nm 이하이며,
상기 이형층 표면에 존재하는 높이 10nm 이상의 돌기수가 200개/㎟ 이하인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
A release film for molding a resin sheet having a polyester film as a base material and a release layer,
The polyester film has a surface layer A that does not substantially contain inorganic particles,
having the release layer on the surface layer A,
The release layer is a layer in which the release layer forming composition is cured,
The release layer forming composition includes a cation-curable polydimethylsiloxane (a),
The thickness of the release layer is less than 0.050 μm,
Containing 90 parts by mass or more of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) based on 100 parts by mass of the resin solid content of the release layer,
The area surface average roughness (Sa) of the release layer is 2 nm or less,
The release film for resin sheet molding, wherein the number of protrusions having a height of 10 nm or more existing on the surface of the release layer is 200/mm 2 or less.
제 1 항에 있어서,
상기 이형층의 최대 돌기 높이(Sp)가 20nm 이하이고, 이형층 표면에 존재하는 높이 5nm 이상 10nm 미만의 돌기수와 상기 10nm 이상의 돌기수의 합계가 1500개/㎟ 이하인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 1,
The release film for resin sheet molding, wherein the maximum protrusion height (Sp) of the release layer is 20 nm or less, and the sum of the number of protrusions having a height of 5 nm or more and less than 10 nm existing on the surface of the release layer and the number of protrusions of 10 nm or more is 1500/mm2 or less. .
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)이, 비닐 에테르기, 옥세타닐기, 에폭시기, 지환식 에폭시기로부터 선택되는 관능기를 적어도 하나 갖는, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 1 or 2,
The release film for resin sheet molding, wherein the cation-curable polydimethylsiloxane (a) has at least one functional group selected from a vinyl ether group, an oxetanyl group, an epoxy group, and an alicyclic epoxy group.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이형층에 포함되는 양이온 경화형 폴리디메틸실록산(a)의 함유량이 90㎎/㎡ 이하인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 1 or 2,
The release film for resin sheet molding whose content of the cation-curable polydimethylsiloxane (a) contained in a release layer is 90 mg/m<2> or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 이형층 형성 조성물은, SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 유기 용매를 포함하고,
이형층 형성 조성물은, SP값(δ)이 14 이상 17 이하인 상기 유기 용매를, 이형층 형성 조성물의 전체 중량 100 질량부에 대해 10 질량% 이상의 양으로 함유하는, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 1 or 2,
The release layer forming composition contains an organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less,
The release layer forming composition contains the organic solvent having an SP value (δ) of 14 or more and 17 or less in an amount of 10% by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total weight of the release layer forming composition.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
무기 화합물을 포함하는 수지 시트를 제조하기 위한 이형 필름인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 1 or 2,
A release film for molding a resin sheet, which is a release film for producing a resin sheet containing an inorganic compound.
제 6 항에 있어서,
무기 화합물을 포함하는 수지 시트가, 세라믹 그린시트인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 6,
A release film for forming a resin sheet, wherein the resin sheet containing an inorganic compound is a ceramic green sheet.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
두께가 0.2㎛ 이상 1.0㎛ 이하인 수지 시트를 성형하기 위한 이형 필름인, 수지 시트 성형용 이형 필름.
According to claim 1 or 2,
A release film for molding a resin sheet, which is a release film for molding a resin sheet having a thickness of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less.
KR1020237022274A 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet KR20230106723A (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020213850 2020-12-23
JPJP-P-2020-213850 2020-12-23
KR1020237019187A KR20230098660A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Release film for resin sheet molding
PCT/JP2021/046720 WO2022138484A1 (en) 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237019187A Division KR20230098660A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Release film for resin sheet molding

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230106723A true KR20230106723A (en) 2023-07-13

Family

ID=82157738

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237022274A KR20230106723A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet
KR1020237019187A KR20230098660A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Release film for resin sheet molding
KR1020237022275A KR20230104774A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet
KR1020237022273A KR20230107392A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237019187A KR20230098660A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Release film for resin sheet molding
KR1020237022275A KR20230104774A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet
KR1020237022273A KR20230107392A (en) 2020-12-23 2021-12-17 Mold release film for molding of resin sheet

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2022138484A1 (en)
KR (4) KR20230106723A (en)
CN (4) CN117087290A (en)
TW (6) TW202327838A (en)
WO (1) WO2022138484A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024018190A (en) * 2022-07-29 2024-02-08 東洋紡株式会社 Gas barrier films, laminates, and packaging containers
JP2024018217A (en) * 2022-07-29 2024-02-08 東洋紡株式会社 Gas barrier films, laminates, and packaging containers
JP2024018260A (en) * 2022-07-29 2024-02-08 東洋紡株式会社 Biaxially oriented polyester films, laminates, and packaging containers
JP2024018165A (en) * 2022-07-29 2024-02-08 東洋紡株式会社 Biaxially oriented polyester films, laminates, and packaging containers

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5492352B2 (en) 2012-03-28 2014-05-14 リンテック株式会社 Release film for ceramic green sheet manufacturing process
JP2015164762A (en) 2014-02-28 2015-09-17 リンテック株式会社 Release film for manufacturing green sheet, production method of release film for manufacturing green sheet, method for manufacturing green sheet, and green sheet
JP2016079349A (en) 2014-10-21 2016-05-16 リンテック株式会社 Curable composition for silicone coating layer and silicone coated sheet
WO2018079337A1 (en) 2016-10-27 2018-05-03 リンテック株式会社 Release sheet

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3948333B2 (en) * 2002-04-17 2007-07-25 東洋紡績株式会社 Ceramic release polyester film
JP4313614B2 (en) * 2003-05-27 2009-08-12 帝人デュポンフィルム株式会社 Release film
JP2016030343A (en) * 2014-07-26 2016-03-07 三菱樹脂株式会社 Releasable polyester film
JP6926616B2 (en) * 2016-04-28 2021-08-25 東レ株式会社 Biaxially oriented laminated polyester film and magnetic recording medium
CN111201119B (en) * 2017-10-12 2022-03-22 东洋纺株式会社 Release film for producing ceramic green sheet

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5492352B2 (en) 2012-03-28 2014-05-14 リンテック株式会社 Release film for ceramic green sheet manufacturing process
JP2015164762A (en) 2014-02-28 2015-09-17 リンテック株式会社 Release film for manufacturing green sheet, production method of release film for manufacturing green sheet, method for manufacturing green sheet, and green sheet
JP2016079349A (en) 2014-10-21 2016-05-16 リンテック株式会社 Curable composition for silicone coating layer and silicone coated sheet
WO2018079337A1 (en) 2016-10-27 2018-05-03 リンテック株式会社 Release sheet

Also Published As

Publication number Publication date
WO2022138484A1 (en) 2022-06-30
TW202231433A (en) 2022-08-16
CN117087289A (en) 2023-11-21
KR20230107392A (en) 2023-07-14
KR20230098660A (en) 2023-07-04
TW202325511A (en) 2023-07-01
CN117087290A (en) 2023-11-21
TW202330223A (en) 2023-08-01
CN116635234A (en) 2023-08-22
TW202327839A (en) 2023-07-16
KR20230104774A (en) 2023-07-10
TW202325512A (en) 2023-07-01
TW202327838A (en) 2023-07-16
CN117087288A (en) 2023-11-21
TWI811907B (en) 2023-08-11
JPWO2022138484A1 (en) 2022-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20230106723A (en) Mold release film for molding of resin sheet
CN111527136B (en) Release film for producing ceramic green sheet
JP6852720B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP2019116086A (en) Release film for manufacturing ceramic green sheet
KR102453649B1 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheet
JP7106912B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
KR20230101888A (en) Manufacturing method of release film for resin sheet molding
JP7306515B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP7306514B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP7306516B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP7327554B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
TWI827104B (en) Release film for resin sheet molding and method for manufacturing ceramic green embryo
JP7188537B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP7188535B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP7188536B2 (en) Release film for manufacturing ceramic green sheets
JP2019116013A (en) Release film for manufacturing ceramic green sheet
TW202231489A (en) Mold release film for resin sheet molding

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent