KR20230099601A - photo mask stage unit and photo mask stocker - Google Patents

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Abstract

A photo mask stage unit is disclosed. The photo mask stage unit according to an embodiment of the present invention includes: an alignment member that aligns a photo mask to place the photo mask in a correct position; and guide members that support the edge of the photo mask and guide the photo mask to the correct position. The alignment member may push the photo mask in a diagonal direction. Therefore, it is possible to accurately align the photo mask.

Description

포토 마스크 스테이지 유닛 및 이를 갖는 포토 마스크 스토커{photo mask stage unit and photo mask stocker} Photo mask stage unit and photo mask stocker having the same {photo mask stage unit and photo mask stocker}

본 발명은 포토 마스크 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask processing device.

포토 마스크(또는, 리소그라피 마스크(lithography mask), 레티클(reticle))은 감광막 패턴을 전사하기 위해 사용된다. 이러한 포토 마스크가 리소그라피 스테이션, 공정 스테이션, 저장 스테이션 사이를 이동할 때, 포토 마스크는 컨테이너(container)(또는, 캐리어(carrier), 카세트(cassette))에 보관되어 이동된다.A photo mask (or lithography mask or reticle) is used to transfer the photoresist film pattern. When such a photo mask is moved between lithography stations, processing stations, and storage stations, the photo mask is stored in a container (or carrier or cassette) and moved.

한편, 포토 마스크와 관련된 정보(즉, 식별 정보(identification information))는 포토 마스크 자체에 기계 가독 형태(machine readable type)로 표시된다. 여기서, 기계 가독 형태는 바코드, OCR 등일 수 있다. 따라서, 포토 마스크를 식별하기 위해서, 포토 마스크에 대한 비젼 검사(vision inspection)를 해야 한다. 마스크 소터 시스템(mask sorter system)은 컨테이너를 오픈하여 포토 마스크를 꺼내고, 포토 마스크를 스테이지에 안착한 상태에서 비젼 검사를 수행한다.Meanwhile, information related to the photo mask (ie, identification information) is displayed on the photo mask itself in a machine readable type. Here, the machine-readable form may be a barcode or OCR. Therefore, in order to identify the photomask, vision inspection of the photomask must be performed. A mask sorter system opens a container, takes out a photomask, and performs vision inspection while the photomask is seated on a stage.

그러나, 비젼 검사가 이루어지는 스테이지에서 포토 마스크가 정위치되지 않으면 비젼 검사가 정확하게 이루어지지 않는 문제점이 있다.However, there is a problem in that the vision inspection is not performed accurately if the photo mask is not properly positioned on the stage where the vision inspection is performed.

본 발명의 일 과제는, 포토 마스크의 정확한 얼라인이 가능한 포토 마스크 스테이지 유닛 및 이를 갖는 포토 마스크 스토커를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a photomask stage unit capable of accurately aligning a photomask and a photomask stocker having the same.

본 발명의 일 과제는, 포토 마스크와의 접촉면을 최소화할 수 있는 포토 마스크 스테이지 유닛 및 이를 갖는 포토 마스크 스토커를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a photomask stage unit capable of minimizing a contact surface with a photomask and a photomask stocker having the same.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The object of the present invention is not limited thereto, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일측면에 따르면, 포토 마스크가 정위치에 위치되도록 상기 포토 마스크에 대해 얼라인을 수행하는 얼라인 부재; 및 상기 포토 마스크의 가장자리를 지지하고 상기 정위치로 상기 포토 마스크를 안내하는 가이드 부재들을 포함하되; 상기 얼라인 부재는 상기 포토 마스크를 대각선 방향으로 푸싱하는 포토 마스크 스테이지 유닛이 제공될 수 있다.According to one aspect of the present invention, an align member for aligning the photo mask so that the photo mask is positioned in a proper position; and guide members supporting an edge of the photomask and guiding the photomask to the proper position; The align member may include a photo mask stage unit that pushes the photo mask in a diagonal direction.

또한, 상기 가이드 부재들은 상기 포토 마스크의 제1측면과 제2측면이 만나는 제1모서리 부위를 지지하는 제1가이드 부재; 및 상기 제1모서리 부위와는 대각선에 위치되고, 상기 포토 마스크의 제3측면과 제4측면이 만나는 제2모서리 부위를 지지하는 제2가이드 부재를 포함하며, 상기 얼라인 부재는 상기 포토 마스크를 상기 제2모서리에서 상기 제1모서리를 향하는 대각선 방향으로 상기 포토 마스크를 푸싱하는 푸시 부재를 포함할 수 있다.The guide members may include a first guide member supporting a first edge portion where the first and second sides of the photomask meet; and a second guide member positioned diagonally from the first corner and supporting a second corner where third and fourth sides of the photomask meet, the aligning member aligning the photomask. A pushing member pushing the photo mask in a diagonal direction from the second edge toward the first edge may be included.

또한, 상기 제1가이드 부재는 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제1측면이 만나는 제1밑면 모서리를 지지하는 제1위치 결정블록; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제2측면이 만나는 제2밑면 모서리를 지지하는 제2위치 결정블록을 포함할 수 있다.The first guide member may include a first positioning block supporting a corner of a first bottom surface where the bottom surface of the photomask and the first side surface meet; and a second positioning block supporting an edge of a second bottom surface where the bottom surface of the photomask and the second side surface meet.

또한, 상기 제1위치 결정블록은 상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제1측면과 접하는 제1수직면과, 상기 제1수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제1경사면을 포함하고, 상기 제2위치 결정블록은 상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제2측면과 접하는 제2수직면과, 상기 제2수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제2경사면을 포함할 수 있다.In addition, the first positioning block includes a first vertical surface contacting the first side surface when the photomask is aligned in the proper position, and a first inclined surface inclined downward from a lower end of the first vertical surface in an inward direction; , The second positioning block may include a second vertical surface contacting the second side surface when the photomask is aligned in the normal position, and a second inclined surface inclined downward from a lower end of the second vertical surface in an inward direction. there is.

또한, 상기 푸시 부재는 액추에이터; 및 상기 엑추에이터에 의해 상기 대각선 방향으로 이동되고, 상기 포토 마스크의 상기 제2모서리 부위와 접촉되는 푸시 핑거를 포함할 수 있다.In addition, the push member is an actuator; and a push finger moved in the diagonal direction by the actuator and brought into contact with the second corner of the photomask.

또한, 상기 푸시 핑거는 상기 제3측면 및 상기 제4측면과 각각 접촉하는 제1핑거와 제2핑거를 포함하고, 상기 제1핑거와 상기 제2핑거는 상기 포토 마스크와의 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재를 포함할 수 있다.In addition, the push finger includes a first finger and a second finger contacting the third side and the fourth side, respectively, and the first finger and the second finger reduce impact upon contact with the photo mask. It may include an elastic member for

또한, 상기 푸시 부재는 상기 제3측면과 대향되게 제공되고 상기 제3측면을 향해 에어를 분사하는 제1에어 시프트 노즐; 및 상기 제4측면과 대향되게 제공되고 상기 제4측면을 향해 에어를 분사하는 제2에어 시프트 노즐을 포함할 수 있다.In addition, the pushing member may include a first air shift nozzle provided to face the third side surface and spraying air toward the third side surface; and a second air shift nozzle provided to face the fourth side surface and spraying air toward the fourth side surface.

또한, 상기 제1에어 시프트 노즐과 상기 제2에어 시프트 노즐은 수평 방향을 따라 제공되는 분사홀들을 포함하되; 상기 분사홀들은 상기 제2모서리로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공되며, 상기 에어는 청정건조공기(CDA;Clean Dried Air)를 포함할 수 있다.In addition, the first air shift nozzle and the second air shift nozzle include injection holes provided along a horizontal direction; The spray holes are provided to have a larger diameter as they move away from the second edge, and the air may include clean dried air (CDA).

또한, 상기 제2가이드 부재는 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제3측면이 만나는 제3밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제1역이동 방지면; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제4측면이 만나는 제4밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제2역이동 방지면을 포함할 수 있다.In addition, the second guide member may include a first reverse movement prevention surface supporting an edge of a third bottom surface where the bottom surface of the photomask and the third side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask; and a second reverse movement prevention surface supporting a fourth bottom edge where the bottom surface of the photomask and the fourth side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask.

또한, 상기 포토 마스크의 상기 제1측면과 상기 제3측면이 만나는 제3모서리 부위를 지지하는 제3가이드 부재; 및 상기 포토 마스크의 상기 제2측면과 상기 제4측면이 만나는 그리고 상기 제3모서리와 대각선에 위치하는 제4모서리 부위를 지지하는 제4가이드 부재를 더 포함하고, 상기 제3가이드 부재는 상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제1측면과 접하는 제3수직면과, 상기 제3수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제3경사면을 포함하고, 상기 제4가이드 부재는 상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제2측면과 접하는 제4수직면과, 상기 제4수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제4경사면을 포함할 수 있다.In addition, a third guide member supporting a third corner portion where the first and third sides of the photomask meet; and a fourth guide member supporting a fourth corner portion of the photomask where the second side surface and the fourth side surface meet and located diagonally from the third corner, wherein the third guide member supports the photo mask. a third vertical surface in contact with the first side surface when the mask is aligned in the correct position, and a third inclined surface inclined downward from a lower end of the third vertical surface in an inward direction, and the fourth guide member is configured to support the photomask It may include a fourth vertical surface contacting the second side surface when aligned in the normal position, and a fourth inclined surface inclined downward from a lower end of the fourth vertical surface in an inward direction.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 포토 마스크가 내부에 보관된 컨테이너를 제공받고, 상기 컨테이너를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출시키는 로딩부; 및 상기 로딩부와 연결되고, 상기 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 상기 포토 마스크의 정보를 획득하는 검사부를 포함하되; 상기 검사부는 상기 포토 마스크가 안착되는 스테이지; 상기 포토 마스크가 상기 스테이지에 안착된 상태에서 상기 포토 마스크를 일방향으로 푸싱하여 정렬하는 얼라인 모듈을 포함하는 포토 마스크 스토커가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, a loading unit receiving a container in which a photo mask is stored and exposing the photo mask by opening the container; and an inspecting unit connected to the loading unit and reading information related to the photomask to acquire information on the photomask; The inspection unit includes a stage on which the photo mask is seated; A photomask stocker including an align module configured to push and align the photomask in one direction while the photomask is seated on the stage may be provided.

또한, 상기 스테이지는 상기 포토 마스크의 제1측면과 제2측면이 만나는 제1모서리 부위를 지지하는 제1가이드 부재; 및 상기 포토 마스크의 제3측면과 제4측면이 만나는 그리고 상기 제1모서리와 대각선에 위치하는 제2모서리 부위를 지지하는 제2가이드 부재를 포함하고, 상기 얼라인 모듈은 상기 제2모서리에서 상기 제1모서리를 향하는 대각선 방향으로 상기 포토 마스크를 푸싱하는 푸시 부재를 포함할 수 있다.The stage may include a first guide member supporting a first edge portion where the first and second sides of the photomask meet; and a second guide member supporting a second corner portion where the third side and the fourth side of the photomask meet and located diagonally from the first corner, wherein the align module is configured to perform the alignment at the second corner. A pushing member pushing the photo mask in a diagonal direction toward the first edge may be included.

또한, 상기 푸시 부재는 액추에이터; 및 상기 엑추에이터에 의해 상기 대각선 방향으로 이동되고, 상기 포토 마스크의 상기 제2모서리 부위와 접촉되는 푸시 핑거를 포함할 수 있다.In addition, the push member is an actuator; and a push finger moved in the diagonal direction by the actuator and brought into contact with the second corner of the photomask.

또한, 상기 푸시 핑거는 상기 제3측면 및 상기 제4측면과 각각 접촉하는 핑거들; 및 상기 핑거들이 상기 포토 마스크와 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재를 포함할 수 있다.In addition, the push finger may include fingers contacting the third side surface and the fourth side surface, respectively; and an elastic member for mitigating shock when the fingers contact the photo mask.

또한, 상기 푸시 부재는 청정건조공기(CDA;Clean Dried Air)를 상기 제3측면과 상기 제4측면으로 분사하는 비접촉 방식으로 상기 포토 마스크를 시프트시킬 수 있다.In addition, the push member may shift the photomask in a non-contact manner by spraying clean dry air (CDA) to the third and fourth sides.

또한, 상기 푸시 부재는 상기 제3측면과 대향되게 제공되고 상기 제3측면을 향해 에어를 분사하는 제1에어 시프트 노즐; 및 상기 제4측면과 대향되게 제공되고 상기 제4측면을 향해 에어를 분사하는 제2에어 시프트 노즐을 포함하고, 상기 제1에어 시프트 노즐과 상기 제2에어 시프트 노즐은 수평 방향을 따라 제공되는 분사홀들을 포함하며, 상기 분사홀들은 상기 제2모서리로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공될 수 있다.In addition, the pushing member may include a first air shift nozzle provided to face the third side surface and spraying air toward the third side surface; and a second air shift nozzle provided to face the fourth side surface and ejecting air toward the fourth side surface, wherein the first air shift nozzle and the second air shift nozzle are provided along a horizontal direction. It may include holes, and the spray holes may have a diameter that increases as the distance from the second edge increases.

또한, 상기 제1가이드 부재는 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제1측면이 만나는 제1밑면 모서리를 지지하는 제1위치 결정블록; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제2측면이 만나는 제2밑면 모서리를 지지하는 제2위치 결정블록을 포함하되; 상기 제1위치 결정블록과 상기 제2위치 결정 블록 각각은 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측방향으로 상향 경사진 제1단; 상기 제1단의 외측 단부로부터 수직 방향으로 연장된 수직면; 및 상기 수직면의 상단부로부터 외측방향으로 상향 경사진 제2단을 포함할 수 있다.The first guide member may include a first positioning block supporting a corner of a first bottom surface where the bottom surface of the photomask and the first side surface meet; and a second positioning block supporting an edge of a second bottom surface where the bottom surface of the photomask and the second side surface meet; Each of the first positioning block and the second positioning block has a first end inclined upward in an outward direction away from the photo mask; a vertical surface extending in a vertical direction from an outer end of the first end; and a second end inclined upward in an outward direction from an upper end of the vertical surface.

또한, 상기 제2가이드 부재는 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제3측면이 만나는 제3밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제1역이동 방지면; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제4측면이 만나는 제4밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제2역이동 방지면을 포함할 수 있다.In addition, the second guide member may include a first reverse movement prevention surface supporting an edge of a third bottom surface where the bottom surface of the photomask and the third side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask; and a second reverse movement prevention surface supporting a fourth bottom edge where the bottom surface of the photomask and the fourth side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask.

또한, 상기 포토 마스크의 상기 제1측면과 상기 제3측면이 만나는 제3모서리 부위를 지지하는 제3가이드 부재; 및 상기 포토 마스크의 상기 제2측면과 상기 제4측면이 만나는 그리고 상기 제3모서리와 대각선에 위치하는 제4모서리 부위를 지지하는 제4가이드 부재를 더 포함하되; 상기 제3가이드 부재 및 상기 제4가이드 부재 각각은 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측방향으로 상향 경사지는 제1단; 상기 제1단의 외측 단부로부터 수직 방향으로 연장되고 상기 제1측면과 마주하도록 제공되는 수직면을 포함할 수 있다.In addition, a third guide member supporting a third corner portion where the first and third sides of the photomask meet; and a fourth guide member supporting a fourth corner portion where the second side surface and the fourth side surface of the photomask meet and located at a diagonal line with the third corner; Each of the third guide member and the fourth guide member has a first end inclined upward in an outward direction away from the photo mask; It may include a vertical surface extending in a vertical direction from an outer end of the first end and provided to face the first side surface.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 포토 마스크가 내부에 보관된 컨테이너를 제공받고, 상기 컨테이너를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출시키는 로딩부; 상기 로딩부와 연결되고, 상기 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 포토 마스크를 검사하는 검사부; 및 상기 검사부에서 검사를 마친 상기 포토 마스크를 보관하는 저장부를 포함하되; 상기 검사부는 상기 포토 마스크의 제1측면과 제2측면이 만나는 제1모서리 부위를 지지하는 제1가이드 부재; 및 상기 제1모서리 부위와는 대각선에 위치되고, 상기 포토 마스크의 제3측면과 제4측면이 만나는 제2모서리 부위를 지지하는 제2가이드 부재를 포함하는 스테이지; 상기 포토 마스크가 상기 제1가이드 부재와 상기 제2가이드 부재에 안착된 상태에서 상기 포토 마스크를 상기 제2모서리에서 상기 제1모서리를 향하는 대각선 방향으로 상기 포토 마스크를 푸싱하여 정렬하는 푸시 부재; 및 상기 푸시 부재에 의해 상기 스테이지에 정위치된 상기 포토 마스크로부터 정보를 획득하거나, 검사하기 위한 비전 모듈을 포함하는 포토 마스크 스토커가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, a loading unit receiving a container in which a photo mask is stored and exposing the photo mask by opening the container; an inspection unit connected to the loading unit, reading information related to the photo mask, and inspecting the photo mask; and a storage unit storing the photomask that has been inspected by the inspection unit; The inspecting unit may include a first guide member supporting a first edge portion where the first and second sides of the photomask meet; and a second guide member positioned diagonally from the first corner and supporting a second corner where the third and fourth sides of the photomask meet. a pushing member configured to align the photomask by pushing the photomask in a diagonal direction from the second edge toward the first edge in a state where the photomask is seated on the first guide member and the second guide member; and a vision module configured to acquire or inspect information from the photomask positioned on the stage by the push member.

또한, 상기 푸시 부재는 액추에이터; 및 상기 엑추에이터에 의해 상기 대각선 방향으로 이동되고, 상기 포토 마스크의 상기 제2모서리 부위와 접촉되는 푸시 핑거를 포함하고, 상기 푸시 핑거는 상기 제3측면 및 상기 제4측면과 각각 접촉하는 핑거들; 및 상기 핑거들이 상기 포토 마스크와 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재를 포함할 수 있다.In addition, the push member is an actuator; and a push finger moved in the diagonal direction by the actuator and brought into contact with the second corner of the photomask, wherein the push finger contacts the third and fourth side surfaces, respectively; and an elastic member for mitigating shock when the fingers contact the photo mask.

또한, 상기 푸시 부재는 상기 제3측면과 대향되게 제공되고 상기 제3측면을 향해 청정건조공기를 분사하는 제1에어 시프트 노즐; 및 상기 제4측면과 대향되게 제공되고 상기 제4측면을 향해 청정건조공기를 분사하는 제2에어 시프트 노즐을 포함하고, 상기 제1에어 시프트 노즐과 상기 제2에어 시프트 노즐은 수평 방향을 따라 제공되는 분사홀들을 포함하며, 상기 분사홀들은 상기 제2모서리로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공될 수 있다.In addition, the pushing member may include a first air shift nozzle provided to face the third side surface and spraying clean dry air toward the third side surface; and a second air shift nozzle provided facing the fourth side surface and spraying clean dry air toward the fourth side surface, wherein the first air shift nozzle and the second air shift nozzle are provided along a horizontal direction. and spray holes, and the spray holes may be provided such that a diameter increases as the distance from the second edge increases.

또한, 상기 제1가이드 부재는 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제1측면이 만나는 제1밑면 모서리를 지지하는 제1위치 결정블록; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제2측면이 만나는 제2밑면 모서리를 지지하는 제2위치 결정블록을 포함하되; 상기 제1위치 결정블록과 상기 제2위치 결정 블록 각각은 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측방향으로 상향 경사진 제1단; 상기 제1단의 외측 단부로부터 수직 방향으로 연장된 수직면; 및 상기 수직면의 상단부로부터 외측방향으로 상향 경사진 제2단을 포함할 수 있다.The first guide member may include a first positioning block supporting a corner of a first bottom surface where the bottom surface of the photomask and the first side surface meet; and a second positioning block supporting an edge of a second bottom surface where the bottom surface of the photomask and the second side surface meet; Each of the first positioning block and the second positioning block has a first end inclined upward in an outward direction away from the photo mask; a vertical surface extending in a vertical direction from an outer end of the first end; and a second end inclined upward in an outward direction from an upper end of the vertical surface.

또한, 상기 제2가이드 부재는 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제3측면이 만나는 제3밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제1역이동 방지면; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제4측면이 만나는 제4밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제2역이동 방지면을 포함할 수 있다.In addition, the second guide member may include a first reverse movement prevention surface supporting an edge of a third bottom surface where the bottom surface of the photomask and the third side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask; and a second reverse movement prevention surface supporting a fourth bottom edge where the bottom surface of the photomask and the fourth side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask.

본 발명에 의하면, 포토 마스크의 정확한 얼라인이 가능하다. According to the present invention, accurate alignment of the photomask is possible.

본 발명에 의하면, 포토 마스크의 정렬 과정에서 포토 마스크와의 접촉면을 최소화함으로써 포토 마스크의 오염 및 손상을 방지할 수 있다. According to the present invention, contamination and damage to the photo mask can be prevented by minimizing the contact surface with the photo mask during the process of aligning the photo mask.

본 발명의 효과는 상술한 효과들로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects described above. Effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from this specification and the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크 스토커의 예시적인 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크 스토커의 예시적인 평면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크 스토커의 예시적인 블록도이다.
도 4a는 포토 마스크를 보여주는 사시도이다.
도 4b는 스테이지 유닛을 보여주는 사시도이다.
도 5는 도 4b에 도시된 스테이지 유닛의 평면도이다.
도 6은 도 4b에 도시된 스테이지 유닛의 측면도이다.
도 7a는 제1가이드 부재를 보여주는 사시도이다.
도 7b는 도 7a에 표시된 A1 방향에서 제1가이드 부재를 바라본 측면도이다.
도 7c는 도 7a에 표시된 A2 방향에서 제1가이드 부재를 바라본 측면도이다.
도 8은 제2가이드 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 제3가이드 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 제4가이드 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 얼라인 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 12는 푸시 핑거를 설명하기 위한 요부 확대도이다.
도 13 및 도 14는 얼라인 부재의 다른 예를 보여주는 도면들이다.1 is an exemplary perspective view of a photo mask stocker according to an embodiment of the present invention.
2 is an exemplary plan view of a photo mask stocker according to an embodiment of the present invention.
3 is an exemplary block diagram of a photo mask stocker according to an embodiment of the present invention.
4A is a perspective view showing a photo mask.
4B is a perspective view showing a stage unit.
Fig. 5 is a plan view of the stage unit shown in Fig. 4b;
Fig. 6 is a side view of the stage unit shown in Fig. 4b;
7A is a perspective view showing a first guide member.
FIG. 7B is a side view of the first guide member viewed from the direction A1 shown in FIG. 7A.
FIG. 7C is a side view of the first guide member viewed from the direction A2 shown in FIG. 7A.
8 is a view for explaining a second guide member.
9 is a view for explaining a third guide member.
10 is a view for explaining a fourth guide member.
11 is a diagram for explaining an aligning member.
12 is an enlarged view of a main part for explaining the push finger.
13 and 14 are views showing another example of an aligning member.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In addition, in describing preferred embodiments of the present invention in detail, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, the same reference numerals are used throughout the drawings for parts having similar functions and actions.

어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.'Including' a certain component means that other components may be further included, rather than excluding other components unless otherwise stated. Specifically, terms such as "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features or It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In addition, shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer description.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms may be used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, a first element may be termed a second element, and similarly, the second element may also be termed a first element, without departing from the scope of the present invention.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, but other elements may exist in the middle. It should be. On the other hand, when a component is referred to as “directly connected” or “directly connected” to another component, it should be understood that no other component exists in the middle. Other expressions describing the relationship between components, such as "between" and "directly between" or "adjacent to" and "directly adjacent to", etc., should be interpreted similarly.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and unless explicitly defined in this application, they are not interpreted in an ideal or excessively formal meaning. .

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and describe preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications are possible within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope equivalent to the written disclosure and / or within the scope of skill or knowledge in the art. The written embodiment describes the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in the specific application field and use of the present invention are also possible. Therefore, the above detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to cover other embodiments as well.

본 발명의 실시예에서는 플라즈마를 이용하여 기판을 식각하는 기판 처리 장치에 대해 설명한다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않고, 챔버 내에 플라즈마를 공급하여 공정을 수행하는 다양한 종류의 장치에 적용 가능하다. In an embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus for etching a substrate using plasma will be described. However, the present invention is not limited thereto and can be applied to various types of devices that perform a process by supplying plasma into a chamber.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크 스토커의 예시적인 사시도, 평면도 및 블록도이다. 1 to 3 are exemplary perspective views, plan views, and block diagrams of a photomask stocker according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 포토 마스크 스토커는 로딩 영역(10), 검사 영역(20), 저장 영역(30) 및 제어 모듈(900) 등을 포함한다.1 to 3 , a photomask stocker according to some embodiments of the present invention includes a loading area 10, an inspection area 20, a storage area 30, a control module 900, and the like.

로딩 영역(10)은 예를 들어, 제1 방향(X)으로 길게 연장되도록 형성된다. 도시된 것과 같이, 로딩 영역(10) 내에는 다수의 로드 포트(100, 101)(예를 들어, 2개의 로드 포트)가 예를 들어, 제1 방향(X)으로 배치될 수 있다. The loading area 10 is formed to elongate in the first direction (X), for example. As shown, a plurality of load ports 100 and 101 (eg, two load ports) may be disposed in the first direction (X) in the loading area 10 .

로딩 영역(10)은 다수의 로드 포트(100, 101)를 통해서, 포토 마스크(40)가 내부에 보관된 컨테이너(container) (또는, 캐리어(carrier), 카세트(cassette))(1001)를 제공받는다. 이어서, 로딩 영역(10)은 컨테이너(1001)에 포함된 정보를 인식하여, 컨테이너(1001) 및/또는 포토 마스크(40)와 관련된 정보를 리드(read)한다. 예를 들어, 로딩 영역(10)에서 컨테이너(1001)가 제1 종류에 해당하는지 제2 종류에 해당하는지를 체크할 수 있다. 컨테이너(1001)의 종류가 다르면, 컨테이너(1001) 내의 포토 마스크(40)의 종류도 서로 다를 수 있다. 여기에서, 로딩 영역(10)은 서로 다른 종류의 다수의 컨테이너(1001)로부터 정보를 인식할 수 있도록, 다양한 종류의 리드 방법을 사용할 수 있다. 또는, 한 종류의 리드 방법을 다수회에 걸쳐서 사용할 수도 있다. The loading area 10 provides a container (or carrier, cassette) 1001 in which the photo mask 40 is stored through a plurality of load ports 100 and 101. receive Subsequently, the loading area 10 recognizes information included in the container 1001 and reads information related to the container 1001 and/or the photo mask 40 . For example, it may be checked whether the container 1001 corresponds to the first type or the second type in the loading area 10 . If the type of container 1001 is different, the type of photomask 40 in the container 1001 may also be different. Here, the loading area 10 may use various types of reading methods so as to recognize information from a plurality of containers 1001 of different types. Alternatively, one type of read method may be used multiple times.

사용될 수 있는 컨테이너(1001)는 예를 들어, RSP(Reticle Standard mechanical interface Pod), EUV 레티클 포드(EUV reticle pod) 등일 수 있다. RSP 에 보관되는 포토 마스크(즉, RSP 포토 마스크)와 EUV 레티클 포드에 보관되는 포토 마스크(즉, EUV 포토 마스크)는 서로 다를 수 있다. The container 1001 that can be used may be, for example, a reticle standard mechanical interface pod (RSP), an EUV reticle pod, or the like. A photomask stored in the RSP (ie RSP photomask) and a photomask stored in the EUV reticle pod (ie EUV photomask) may be different.

전술한 리드 동작을 통해서 컨테이너(1001) 및/또는 포토 마스크(40)와 관련된 정보를 인식한 후에, 로딩 영역(10)은 인식된 정보에 따라서 서로 다른 순서로 컨테이너(1001)를 오픈할 수 있다. 컨테이너(1001)는 승강 유닛(110, 111)에 의해서 제3 방향(Z)으로(즉, 상하 방향으로) 이동할 수 있다. 컨테이너(1001)는 승강 유닛(110,111)에 의해서 아래로 이동되면서, 컨테이너(1001)의 오픈 과정이 진행될 수 있다. 컨테이너(1001)가 오픈되면, 내부의 포토 마스크(40)가 노출된다. 예를 들어, 컨테이너(1001) 가 제1 종류인 경우, 제1 순서에 따라 오픈하고, 컨테이너(1001)가 제2 종류인 경우 제1 순서와 다른 제2 순서에 따라 오픈할 수 있다. After recognizing information related to the container 1001 and/or the photomask 40 through the above-described read operation, the loading area 10 may open the containers 1001 in a different order according to the recognized information. . The container 1001 may move in the third direction Z (ie, up and down) by the lifting units 110 and 111 . While the container 1001 is moved downward by the lifting units 110 and 111, an opening process of the container 1001 may be performed. When the container 1001 is opened, the photo mask 40 inside is exposed. For example, if the container 1001 is of the first type, it may be opened according to the first order, and if the container 1001 is of the second kind, it may be opened according to a second order different from the first order.

로딩 영역(10)과 검사 영역(20) 그리고 저장 영역(30)은 제2 방향(Y)으로 접하도록 배치될 수 있다. 검사 영역(20)은, 예를 들어, 제1방향(X)으로 길게 연장되도록 형성될 수 있다. The loading area 10, the inspection area 20, and the storage area 30 may be disposed to be in contact with each other in the second direction (Y). The inspection area 20 may be formed to elongate in the first direction X, for example.

검사 영역(20)에는 제1이송 로봇(210), 얼라이너(aligner)(또는 로테이터(rotator))(400), 반전 모듈(240) 및 비전 모듈(250)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1이송 로봇(210), 스테이지 유닛(400), 반전 모듈(240) 및 비전 모듈(250) 등은 포토 마스크(40)의 종류에 관계없이 사용될 수 있다.The inspection area 20 may include a first transfer robot 210 , an aligner (or rotator) 400 , an inversion module 240 and a vision module 250 . Here, the first transfer robot 210, the stage unit 400, the inversion module 240 and the vision module 250 may be used regardless of the type of photo mask 40.

제1이송 로봇(210)은 포토 마스크(40)를 그립(grip)하여, 포토 마스크(40)를 로딩 영역(10)에서 검사 영역(20) 내부로 이송하거나, 반대로 포토 마스크(40)를 검사 영역(20)에서 로딩 영역(10)으로 이송할 수 있다. 또는, 제1이송 로봇(210)은 검사 영역(20) 내에서 포토 마스크(40)를 이송하는 데 사용할 수 있다. 제1 이송 로봇(210)은 다수의 링크를 포함하여, 각 링크마다 개별 회전이 가능하다. 따라서 허용된 리치(reach) 범위 내에서는, 제1이송 로봇(210)은 전 방향으로 움직일 수 있고 다각도 제어가 가능하다. The first transfer robot 210 grips the photo mask 40 and transfers the photo mask 40 from the loading area 10 to the inside of the inspection area 20 or, conversely, inspects the photo mask 40. It is possible to transfer from area 20 to loading area 10 . Alternatively, the first transfer robot 210 may be used to transfer the photo mask 40 within the inspection area 20 . The first transfer robot 210 includes a plurality of links, and individual rotation is possible for each link. Therefore, within the allowed reach range, the first transfer robot 210 can move in all directions and multi-angle control is possible.

스테이지 유닛(400)는 제1이송 로봇(210)으로부터 포토 마스크(40)를 이송받고, 포토 마스크를 정위치로 정렬한다. The stage unit 400 receives the photo mask 40 from the first transfer robot 210 and aligns the photo mask in place.

예를 들어, 컨테이너(1001)에 포토 마스크(40)가 정위치로 보관되어 있지 않았기 때문에 스테이지 유닛(400)이 정렬이 틀어진 상태로 포토 마스크(40)를 전달받을 수 있다. 이러한 경우, 스테이지 유닛(400)는 포토 마스크(40)가 정위치되도록 정렬 작업을 수행한다. 스테이지 유닛(400)에 대해서는 도 4a 내지도 12에서 상세히 설명하기로 한다. For example, since the photo mask 40 is not properly stored in the container 1001, the stage unit 400 may receive the photo mask 40 in a misaligned state. In this case, the stage unit 400 performs an alignment operation so that the photo mask 40 is properly positioned. The stage unit 400 will be described in detail with reference to FIGS. 4A to 12 .

반전 모듈(240)은 포토 마스크(40)를 반전시킨다. 즉, 반전 모듈(240)은 뒷면이 위로 향하는 포토 마스크(40)를 반전시켜, 앞면이 위로 향하도록 할 수 있다. 반전 모듈(240)은 포토 마스크(40)를 에어 척 방식으로 홀드할 수 있다. The inversion module 240 inverts the photo mask 40 . That is, the inversion module 240 may invert the photomask 40 so that the front side faces up. The inversion module 240 may hold the photo mask 40 using an air chuck method.

비전 모듈(250)은 포토 마스크(40)를 촬영하여, 포토 마스크(40)로부터 정보를 획득하거나 검사를 한다. 예를 들어, 포토 마스크(40)의 종류를 확인하거나 포토 마스크(40)의 위치(방향)을 검사한다. The vision module 250 photographs the photomask 40 to acquire information from the photomask 40 or perform inspection. For example, the type of photomask 40 is checked or the position (direction) of the photomask 40 is inspected.

구체적으로, 스테이지 유닛(400)에 포토 마스크(40)가 안착되면, 비전 모듈(250)은 포토 마스크(40)를 촬영하고 제어 모듈(900)은 촬영된 이미지(정지사진 및 동영상 포함)로부터 포토 마스크와 관련된 정보(즉, 식별 정보(identification information))를 얻을 수 있다. 식별 정보는 예를 들어, 트래킹 번호(tracking number), 유형 분류(type classification), 리소그라피 툴 분류(lithography tool classification) 일 수 있다. 이러한 식별 정보는 포토 마스크(40) 자체에 기계 가독 형태(machine readable type)으로 표시된다. 여기서, 기계 가독 형태는 바코드, OCR 등일 수 있다. 예를 들어, 제어 모듈(900)은 RSP 포토 마스크를 촬영한 이미지로부터 RSP 포토 마스크의 바코드, 얼라인 마크(align mark) 등을 인식한다. 또한, 제어 모듈(900)은 EUV 포토 마스크를 촬영한 이미지로부터, EUV 포토 마스크의 공통 쉐이딩(shading) 등을 인식할 수 있다. Specifically, when the photo mask 40 is seated on the stage unit 400, the vision module 250 photographs the photo mask 40 and the control module 900 takes pictures from the photographed images (including still pictures and moving pictures). Information related to the mask (ie, identification information) may be obtained. The identification information may be, for example, a tracking number, type classification, and lithography tool classification. This identification information is displayed on the photo mask 40 itself in a machine readable form. Here, the machine-readable form may be a barcode or OCR. For example, the control module 900 recognizes a barcode, an align mark, and the like of the RSP photomask from an image of the RSP photomask. Also, the control module 900 may recognize common shading of the EUV photomask from an image obtained by capturing the EUV photomask.

제어 모듈(900)의 내부 또는 제어 모듈(900)과 연결된 메모리에는, 포토 마스크(40)와 관련된 정보가 저장되어 있다. 메모리에는, 예를 들어, 포토 마스크(40)를 36종류로 구분해 두고, 각 종류마다의 특징이 저장되어 있다. 따라서, 제어 모듈(900)은 포토 마스크를 촬영한 이미지로부터 정보를 취득하고, 취득된 정보와 메모리에 저장된 정보와 비교하여, 포토 마스크의 종류를 확정할 수 있다. 이와 같이 확정된 포토 마스크(40)의 종류에는, 펠리클 프레임(pellicle frame)이 설치된 포토 마스크일 수도 있다. Information related to the photomask 40 is stored in the control module 900 or in a memory connected to the control module 900 . In the memory, for example, the photomask 40 is divided into 36 types, and characteristics for each type are stored. Accordingly, the control module 900 may obtain information from a photographed image of the photomask and compare the obtained information with information stored in a memory to determine the type of photomask. The type of photomask 40 determined in this way may be a photomask equipped with a pellicle frame.

또한, 제어 모듈(900)은 로딩 영역(10)과 검사 영역(20) 그리고 저장 영역(30)을 제어한다. 이러한 제어 모듈(900)은 검사 영역(20) 내부에 설치될 수도 있다. 또한, 제어 서버와 무선 또는 유선으로 연결될 수 있다. 제어 서버는 설비 자동화를 위해서 공정 전체에 대한 정보를 가지는 상위 시스템이다. 따라서, 제어 서버는 이러한 정보를 기초로 제어 모듈(900)에 동작 명령을 내릴 수 있다.Also, the control module 900 controls the loading area 10 , the inspection area 20 and the storage area 30 . This control module 900 may be installed inside the inspection area 20 . In addition, it may be connected to the control server wirelessly or wired. The control server is a higher level system that has information about the entire process for facility automation. Accordingly, the control server may issue an operation command to the control module 900 based on this information.

포토 마스크 스토커는 다양한 동작 모드로 동작할 수 있다. 예를 들어, 오토 모드(auto mode), 세미 오토 모드, 매뉴얼 모드 등이 있을 수 있다. 예를 들어, 오토 모드에서, 제어 모듈(900)은 제어 서버로부터 지시를 받고, 그 지시에 따라 로딩 영역(10)과 검사 영역(20) 그리고 저장 영역(30)을 제어할 수 있다. 또한, 매뉴얼 모드에서, 제어 모듈(900)은 작업자에 의해 직접 지시를 받을 수 있다. 즉, 작업자는 제어판을 통해서 구체적인 지시를 할 수 있다. 제어판(160)의 형태는 도시된 것과 같이, 포토 마스크 스토커(1)의 일측에 설치된 디스플레이 패널 형태일 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 제어판(160)은 포토 마스크 처리 장치와 분리 가능하고, 유선 또는 무선의 통신을 통해서 제어 모듈(600)과 연결될 수도 있다.The photomask stocker can operate in various modes of operation. For example, there may be an auto mode, a semi-auto mode, and a manual mode. For example, in the auto mode, the control module 900 may receive instructions from the control server and control the loading area 10 , the inspection area 20 and the storage area 30 according to the instructions. Also, in the manual mode, the control module 900 may receive instructions directly from an operator. That is, the operator can give specific instructions through the control panel. As shown, the shape of the control panel 160 may be a display panel installed on one side of the photo mask stocker 1, but is not limited thereto. For example, the control panel 160 may be separable from the photomask processing device and may be connected to the control module 600 through wired or wireless communication.

저장 영역(30)은 검사 영역(20)에서 처리된 포토 마스크(40)를 보관하기 위한 선반(320)들과, 포토 마스크(40)를 반송하기 위한 제2이송 로봇(310)을 포함할 수 있다. 제2이송 로봇(310)은 스테이지 유닛(400)과 선반(320)들 사이에서 포토 마스크(40)를 반송한다. 제2이송 로봇(310)은 제1이송로봇(210)과 동일한 구조를 가지며, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. The storage area 30 may include shelves 320 for storing the photomask 40 processed in the inspection area 20 and a second transfer robot 310 for transporting the photomask 40 . there is. The second transfer robot 310 transfers the photo mask 40 between the stage unit 400 and the shelves 320 . The second transfer robot 310 has the same structure as the first transfer robot 210, and a detailed description thereof will be omitted.

도 4a는 포토 마스크를 보여주는 사시도이고, 도 4b는 스테이지 유닛을 보여주는 사시도이다. 도 5는 도 4b에 도시된 스테이지 유닛의 평면도이고, 도 6은 도 4b에 도시된 스테이지 유닛의 측면도이다. 도 7a 내지 도 7c는 제1가이드 부재를 설명하기 위한 도면들이고, 도 8은 제2가이드 부재를 설명하기 위한 도면이며, 도 9 및 도 10은 제3가이드 부재와 제4가이드 부재를 설명하기 위한 도면들이다. 4A is a perspective view showing a photo mask, and FIG. 4B is a perspective view showing a stage unit. 5 is a plan view of the stage unit shown in FIG. 4B, and FIG. 6 is a side view of the stage unit shown in FIG. 4B. 7A to 7C are views for explaining a first guide member, FIG. 8 is a view for explaining a second guide member, and FIGS. 9 and 10 are views for explaining a third guide member and a fourth guide member. they are drawings

도 4a에서 참조부호 S1은 제1측면(41)과 제2측면(42)이 만나는 제1모서리이고, 참조부호 S2은 제3측면(43)과 제4측면(44)이 만나는 제2모서리이며, 참조부호 S3은 제1측면(41)과 제3측면(43)이 만나는 제3모서리이고, 참조부호 S4는 제2측면(42)과 제4측면(44)이 만나는 제4모서리이다. 그리고 S5는 제1측면(41)과 저면(49)이 만나는 제1밑면 모서리이고, S6은 제2측면(42)과 저면(49)이 만나는 제2밑면 모서리이고, S7은 제3측면(43)과 저면(49)이 만나는 제3밑면 모서리이고, S8은 제4측면(44)과 저면(49)이 만나는 제4밑면 모서리이다. In FIG. 4A, reference numeral S1 denotes a first corner where the first side 41 and the second side 42 meet, and reference numeral S2 denotes a second corner where the third side 43 and the fourth side 44 meet. , Reference sign S3 is a third corner where the first side surface 41 and the third side surface 43 meet, and reference sign S4 is a fourth corner where the second side surface 42 and the fourth side surface 44 meet. And S5 is the first bottom edge where the first side surface 41 and the bottom surface 49 meet, S6 is the second bottom edge where the second side surface 42 and the bottom surface 49 meet, S7 is the third side surface 43 ) and the bottom surface 49 meet, and S8 is the fourth bottom edge where the fourth side surface 44 and the bottom surface 49 meet.

도 4a 내지 도 6을 참조하면, 스테이지 유닛(400)은 스테이지(410)와 얼라인 부재(500)를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 4A to 6 , a stage unit 400 may include a stage 410 and an align member 500 .

예컨대, 포토 마스크(40)는 제1이송 로봇(210)에 의해 스테이지(410) 상의 정위치(C1)에서 일정 간격 이격된 제1위치(C1)로 로딩될 수 있다. 제1위치(C1)는 정위치(C1)로부터 제2가이드 부재(430)가 위치하는 대각선 방향일 수 있다. 한편, 스테이지 유닛에서 비젼 검사가 완료된 포토 마스크는 제2이송 로봇(310)에 의해 언로딩된다. For example, the photomask 40 may be loaded by the first transfer robot 210 from a regular position C1 on the stage 410 to a first position C1 spaced apart by a predetermined interval. The first position C1 may be a diagonal direction in which the second guide member 430 is located from the normal position C1. Meanwhile, the photomask for which vision inspection has been completed in the stage unit is unloaded by the second transfer robot 310 .

스테이지(410)는 베이스 플레이트(412)와, 제1내지 제4가이드 부재(420~450)를 포함할 수 있다. The stage 410 may include a base plate 412 and first to fourth guide members 420 to 450 .

베이스 플레이트(412)는 포토 마스크(40)보다 큰 직경을 갖는다. 베이스 플레이트(412)의 모퉁이에는 제1내지 제4가이드 부재(420~450)가 위치된다. 베이스 플레이트(412)에는 복수의 센서들이 설치된다. 센서들은 스테이지(410)에 안착된 포토 마스크(40)의 유무 및 정렬 상태를 감지하는 센서들일 수 있다. The base plate 412 has a larger diameter than the photo mask 40 . First to fourth guide members 420 to 450 are positioned at corners of the base plate 412 . A plurality of sensors are installed on the base plate 412 . The sensors may be sensors that detect the existence and alignment of the photomask 40 seated on the stage 410 .

제1가이드 부재(420)는 포토 마스크(40)의 제1측면(41)과 제2측면(42)이 만나는 제1모서리(S1) 부위를 지지하도록 베이스 플레이트(412)에 설치될 수 있다. The first guide member 420 may be installed on the base plate 412 to support a portion of the first edge S1 where the first side surface 41 and the second side surface 42 of the photo mask 40 meet.

도 7a는 제1가이드 부재를 보여주는 사시도이고, 도 7b는 도 7a에 표시된 A1 방향에서 제1가이드 부재를 바라본 측면도이고, 도 7c는 도 7a에 표시된 A2 방향에서 제1가이드 부재를 바라본 측면도이다 7A is a perspective view showing a first guide member, FIG. 7B is a side view of the first guide member viewed from the direction A1 shown in FIG. 7A, and FIG. 7C is a side view viewed from the direction A2 shown in FIG. 7A.

도 7a 내지 도 7c를 참조하면, 제1가이드 부재(420)는 제1위치 결정블록(420a)과 제2위치 결정블록(420b)을 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 7A to 7C , the first guide member 420 may include a first positioning block 420a and a second positioning block 420b.

제1위치 결정 블록(420a)은 포토 마스크(40)의 저면(49)과 제1측면(41)이 만나는 제1밑면 모서리(S5)를 지지한다. 제1위치 결정 블록(420a)은 포토 마스크(40)가 정위치로 정렬되었을 때 제1측면(41)과 접하는 제1수직면(423a)과, 제1수직면(423a)의 하단부로부터 내측 방향으로 하향경사진 제1경사면(422a) 그리고 제1수직면의 상단부로부터 외측 방향으로 상향경사진 경사면(424a)을 포함할 수 있다. The first positioning block 420a supports a first bottom edge S5 where the bottom surface 49 of the photomask 40 and the first side surface 41 meet. The first positioning block 420a includes a first vertical surface 423a contacting the first side surface 41 when the photomask 40 is aligned in place, and downward from the lower end of the first vertical surface 423a in an inward direction. It may include an inclined first inclined surface 422a and an upwardly inclined inclined surface 424a in an outward direction from an upper end of the first vertical surface.

제2위치 결정 블록(420b)은 포토 마스크(40)의 저면(49)과 제2측면(42)이 만나는 제2밑면 모서리(S6)를 지지한다. 제2위치 결정 블록(420b)은 포토 마스크(40)가 정위치로 정렬되었을 때 제2측면(42)과 접하는 제1수직면(423b)과, 제1수직면(423b)의 하단부로부터 내측 방향으로 하향경사진 제1경사면(422b) 그리고 제1수직면의 상단부로부터 외측 방향으로 상향경사진 경사면(424b)을 포함할 수 있다. The second positioning block 420b supports a second bottom edge S6 where the bottom surface 49 of the photomask 40 and the second side surface 42 meet. The second positioning block 420b includes a first vertical surface 423b contacting the second side surface 42 when the photomask 40 is aligned in place, and downward from the lower end of the first vertical surface 423b in an inward direction. It may include an inclined first inclined surface 422b and an upwardly inclined inclined surface 424b in an outward direction from an upper end of the first vertical surface.

포토 마스크(40)가 스테이지(410)에 로딩되면 제1밑면 모서리(S5)는 제1경사면(422a)에 지지되고, 제2밑면 모서리(S6)는 제2경사면(422b)에 지지된다. 이후, 포토 마스크(40)가 얼라인 부재(500)에 의해 정렬되면, 제1측면(41)은 제1수직면(423a)과 접하고, 제2측면(42)은 제2수직면(423b)에 접하게 된다. 도면에서 점선은 정렬전 포토 마스크를 표시한 것이다. When the photomask 40 is loaded on the stage 410, the first bottom edge S5 is supported on the first inclined surface 422a, and the second bottom edge S6 is supported on the second inclined surface 422b. Then, when the photomask 40 is aligned by the aligning member 500, the first side surface 41 comes into contact with the first vertical surface 423a and the second side surface 42 comes into contact with the second vertical surface 423b. do. The dotted line in the drawing indicates the photomask before alignment.

도 8은 제2가이드 부재를 보여주는 사시도이다. 8 is a perspective view showing a second guide member.

도 4a 내지 도 8을 참조하면, 제2가이드 부재(430)는 포토 마스크(40)의 제3측면(43)과 제4측면(44)이 만나는 제2모서리(S2) 부위를 지지하도록 베이스 플레이트(412)에 설치될 수 있다. Referring to FIGS. 4A to 8 , the second guide member 430 is a base plate to support the second edge S2 where the third side surface 43 and the fourth side surface 44 of the photo mask 40 meet. (412).

제2가이드 부재(430)는 제1역이동 방지면(432)과 제2역이동 방지면(434)을 포함할 수 있다. 제1역이동 방지면(432)은 포토 마스크(40)의 제3밑면 모서리(S7)를 지지하도록 경사지게 제공된다. 일 예로, 제1역이동 방지면(432)은 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사지게 제공된다. 제2역이동 방지면(434)은 포토 마스크(40)의 제4밑면 모서리(S8)를 지지하도록 경사지게 제공된다. 제2역이동 방지면(434)은 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사지게 제공된다. The second guide member 430 may include a first reverse movement prevention surface 432 and a second reverse movement prevention surface 434 . The first reverse movement prevention surface 432 is inclined to support the third bottom edge S7 of the photo mask 40 . For example, the first reverse movement prevention surface 432 is provided with an upward slope in an outward direction away from the photo mask. The second reverse movement prevention surface 434 is inclined to support the fourth bottom edge S8 of the photo mask 40 . The second reverse movement prevention surface 434 is provided with an upward slope in an outward direction away from the photo mask.

제1역이동 방지면(432)과 제2역이동 방지면(434)은 포토 마스크(40)가 얼라인 부재(500)에 의해 정위치로 정렬된 후 다시 리턴되는 것을 방지하기위해 역방향(오르막) 형상의 경사면을 갖는다. The first reverse movement prevention surface 432 and the second reverse movement prevention surface 434 are configured in the reverse direction (uphill direction) to prevent the photomask 40 from returning after being aligned to the original position by the aligning member 500. ) has an inclined surface.

도 9는 제3가이드 부재를 보여주는 사시도이다.9 is a perspective view showing a third guide member.

제3가이드 부재(440)는 포토 마스크(40)의 제1측면(41)과 제3측면(43)이 만나는 제3모서리(S3) 부위를 지지하도록 베이스 플레이트(412)에 설치될 수 있다. The third guide member 440 may be installed on the base plate 412 to support a portion of the third edge S3 where the first side surface 41 and the third side surface 43 of the photo mask 40 meet.

제3가이드 부재(440)는 포토 마스크가 정위치로 정렬되었을 때 제1측면과 접하는 제3수직면(443)과, 제3수직면(443)의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제3경사면(442)을 포함한다.The third guide member 440 includes a third vertical surface 443 contacting the first side surface when the photo mask is aligned in place, and a third inclined surface 442 inclined downward from the lower end of the third vertical surface 443 in an inward direction. ).

포토 마스크(40)가 스테이지(410)에 로딩되면 제3밑면 모서리(S5)는 제3경사면(442a)에 지지된다. 이후, 포토 마스크(40)가 얼라인 부재(500)에 의해 정렬되면, 제1측면(41)은 제3수직면(443)과 접하게 된다. When the photo mask 40 is loaded on the stage 410, the third bottom edge S5 is supported on the third inclined surface 442a. Then, when the photo mask 40 is aligned by the aligning member 500, the first side surface 41 comes into contact with the third vertical surface 443.

도 10은 제4가이드 부재를 보여주는 사시도이다.10 is a perspective view showing a fourth guide member.

제4가이드 부재(450)는 포토 마스크(40)의 제2측면(41)과 제4측면(44)이 만나는 제4모서리(S4) 부위를 지지하도록 베이스 플레이트(412)에 설치될 수 있다. The fourth guide member 450 may be installed on the base plate 412 to support a portion of the fourth edge S4 where the second side surface 41 and the fourth side surface 44 of the photo mask 40 meet.

제4가이드 부재(450)는 포토 마스크가 정위치로 정렬되었을 때 제2측면(42)과 접하는 제4수직면(453)과, 제4수직면(453)의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제4경사면(452)을 포함한다.The fourth guide member 450 includes a fourth vertical surface 453 in contact with the second side surface 42 when the photo mask is aligned in place, and a fourth downwardly inclined inwardly from the lower end of the fourth vertical surface 453. It includes an inclined surface 452 .

포토 마스크(40)가 스테이지(410)에 로딩되면 제2밑면 모서리(S6)는 제4경사면(452)에 지지된다. 이후, 포토 마스크(40)가 얼라인 부재(500)에 의해 정렬되면, 제2측면(42)은 제4수직면(453)과 접하게 된다. When the photo mask 40 is loaded on the stage 410 , the second bottom edge S6 is supported on the fourth inclined surface 452 . Then, when the photo mask 40 is aligned by the aligning member 500, the second side surface 42 comes into contact with the fourth vertical surface 453.

상술한 바와 같이, 제1~4가이드 부재(420~450)에 안착되는 포토 마스크(40)는 면대면 접촉이 아닌 선접촉으로 접촉 면적을 최소화하였고, 제1~4가이드 부재(420~450)에 포토 마스크(40)의 저면이 미접촉됨으로써 포토 마스크 저면의 오염 및 손상을 방지할 수 있다. As described above, the photomask 40 seated on the first to fourth guide members 420 to 450 minimizes the contact area by line contact rather than face-to-face contact, and the first to fourth guide members 420 to 450 Since the lower surface of the photo mask 40 does not contact, contamination and damage to the lower surface of the photo mask can be prevented.

도 11은 얼라인 부재를 설명하기 위한 도면이고, 도 12는 푸시 핑거를 설명하기 위한 요부 확대도이다.11 is a view for explaining an aligning member, and FIG. 12 is an enlarged view for explaining a push finger.

도 11 및 도 12를 참조하면, 얼라인 부재(500; 이하 푸시 부재)는 제2모서리(S2)에서 제1모서리(S1)를 향하는 대각선 방향(정렬 방향)으로 포토 마스크(40)를 푸싱한다. 푸시 부재(500)는 액추에이터(510)와 푸시 핑거(520)를 포함할 수 있다. 푸시 핑거(520)는 엑추에이터(510)에 의해 대각선 방향으로 가이드(512)를 따라 이동될 수 있다. 푸시 핑거(520)는 포토 마스크(40)의 제2모서리(S2) 부위와 접촉된다. 푸시 핑거(520)는 제1핑거(522)와 제2핑거(524)를 포함할 수 있다. 엑추에이터(510)에 의해 푸시 핑거(520)가 정렬 방향으로 전진 이동시 제1핑거(522)는 제3측면(43)과 접촉되며, 제2핑거(524)는 제4측면(44)과 접촉된다. 제1핑거(522)와 제2핑거(524)는 포토 마스크(40)와의 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재(530)를 포함한다. 스테이지(410)에 놓여진 포토 마스크(40)는 푸시 부재(500)에 의해 정렬 방향으로 이동될 수 있다. Referring to FIGS. 11 and 12 , the align member 500 (hereinafter referred to as a push member) pushes the photo mask 40 in a diagonal direction (alignment direction) from the second edge S2 toward the first edge S1. . The push member 500 may include an actuator 510 and a push finger 520 . The push finger 520 may be moved along the guide 512 in a diagonal direction by the actuator 510 . The push finger 520 contacts the second edge S2 of the photo mask 40 . The push finger 520 may include a first finger 522 and a second finger 524 . When the push finger 520 is moved forward in the alignment direction by the actuator 510, the first finger 522 is in contact with the third side surface 43, and the second finger 524 is in contact with the fourth side surface 44. . The first finger 522 and the second finger 524 include an elastic member 530 for shock mitigation upon contact with the photo mask 40 . The photo mask 40 placed on the stage 410 may be moved in an alignment direction by the push member 500 .

도 13 및 도 14는 얼라인 부재의 다른 예를 보여주는 도면들이다.13 and 14 are views showing another example of an aligning member.

도 13 및 도 14를 참조하면, 푸시 부재(500a)는 청정건조공기(CDA;Clean Dried Air)를 제3측면과 제4측면으로 분사하는 비접촉 방식으로 포토 마스크(40)를 정렬 방향으로 정렬시킨다. 푸시 부재로부터 공급되는 청전건조공기에 의해 포토 마스크의 제전처리 효과를 기대할 수 있다. 13 and 14, the push member 500a aligns the photomask 40 in the alignment direction in a non-contact manner by spraying Clean Dried Air (CDA) to the third and fourth sides. . The antistatic treatment effect of the photo mask can be expected by the clean dry air supplied from the push member.

일 예로, 푸시 부재(500a)는 제1에어 시프트 노즐(540a)과 제2에어 시프트 노즐(540b) 그리고 제1에어 시프트 노즐(540a)과 제2에어 시프트 노즐(540b)에 고압의 청정건조공기를 공급하는 에어 공급부(548)를 포함할 수 있다. 제1에어 시프트 노즐(540a)은 제3측면(43)과 대향되게 제공되고 제3측면(43)을 향해 에어를 분사하는 분사홀(542)들을 갖는다. 분사홀(542)들은 제3측면(43)의 길이방향을 따라 복수개가 제공될 수 있다. For example, the push member 500a supplies high-pressure clean dry air to the first air shift nozzle 540a, the second air shift nozzle 540b, and the first air shift nozzle 540a and the second air shift nozzle 540b. It may include an air supply unit 548 for supplying. The first air shift nozzle 540a is provided opposite to the third side surface 43 and has spray holes 542 for spraying air toward the third side surface 43 . A plurality of spray holes 542 may be provided along the longitudinal direction of the third side surface 43 .

제2에어 시프트 노즐(540b)은 제4측면(44)과 대향되게 제공되고 제4측면(44)을 향해 에어를 분사하는 분사홀(544)들을 갖는다. 분사홀(544)들은 제4측면(44)의 길이방향을 따라 복수개가 제공될 수 있다. The second air shift nozzle 540b is provided opposite to the fourth side surface 44 and has spray holes 544 for spraying air toward the fourth side surface 44 . A plurality of spray holes 544 may be provided along the longitudinal direction of the fourth side surface 44 .

제1에어 시프트 노즐(540a)의 분사홀(542)들과 제2에어 시프트 노즐(540b)의 분사홀(544)들은 제2모서리(S2)로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공될 수 있다. 이러한 확장식 분사홀 구조는 포토 마스크의 대각선 방향으로의 원활한 이동을 제공할 수 있다. The spray holes 542 of the first air shift nozzle 540a and the spray holes 544 of the second air shift nozzle 540b may have diameters that increase as the distance from the second edge S2 increases. Such an expanded spray hole structure may provide smooth movement of the photo mask in a diagonal direction.

본 명세서에서 설명한 실시예에서 그 구성요소나 구성단계가 모두 필수적인 것은 아니므로, 본 발명은 그 구성요소나 구성단계의 일부를 선택적으로 포함할 수 있다. 또한, 구성단계들은 반드시 설명된 순서로 수행되어야만 하는 것은 아니므로, 나중에 설명된 단계가 먼저 설명된 단계에 앞서 수행되는 것도 가능하다.Since not all of the components or steps are essential in the embodiments described in this specification, the present invention may selectively include some of the components or steps. Also, the construction steps do not necessarily have to be performed in the order described, so it is possible for later described steps to be performed prior to earlier described steps.

나아가, 상술한 실시예들은 반드시 독립적으로만 수행되어야 하는 것은 아니며, 개별적으로 또는 서로 조합되어 이용될 수 있다.Furthermore, the above-described embodiments are not necessarily performed independently, and may be used individually or in combination with each other.

400 : 스테이지 유닛 410 : 스테이지
412 : 베이스 플레이트 420 : 제1가이드 부재
430 : 제2가이드 부재 440 : 제3가이드 부재
450 : 제4가이드 부재 500 : 얼라인 부재400: stage unit 410: stage
412: base plate 420: first guide member
430: second guide member 440: third guide member
450: fourth guide member 500: align member

Claims (24)

포토 마스크에 대해 얼라인을 수행하는 스테이지 유닛에 있어서:
상기 포토 마스크가 정위치에 위치되도록 상기 포토 마스크에 대해 얼라인을 수행하는 얼라인 부재; 및
상기 포토 마스크의 가장자리를 지지하고 상기 정위치로 상기 포토 마스크를 안내하는 가이드 부재들을 포함하되;
상기 얼라인 부재는
상기 포토 마스크를 대각선 방향으로 푸싱하는 포토 마스크 스테이지 유닛.In a stage unit that performs alignment for a photo mask:
an align member that aligns the photo mask so that the photo mask is positioned in a proper position; and
including guide members supporting edges of the photomask and guiding the photomask to the proper position;
The alignment member is
A photomask stage unit for pushing the photomask in a diagonal direction. 제 1 항에 있어서,
상기 가이드 부재들은
상기 포토 마스크의 제1측면과 제2측면이 만나는 제1모서리 부위를 지지하는 제1가이드 부재; 및
상기 제1모서리 부위와는 대각선에 위치되고, 상기 포토 마스크의 제3측면과 제4측면이 만나는 제2모서리 부위를 지지하는 제2가이드 부재를 포함하며,
상기 얼라인 부재는
상기 포토 마스크를 상기 제2모서리에서 상기 제1모서리를 향하는 대각선 방향으로 상기 포토 마스크를 푸싱하는 푸시 부재를 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛.According to claim 1,
The guide members are
a first guide member supporting a first corner portion where the first and second sides of the photomask meet; and
A second guide member positioned diagonally from the first corner and supporting a second corner where third and fourth sides of the photomask meet,
The alignment member is
and a pushing member pushing the photomask in a diagonal direction from the second edge toward the first edge. 제 2 항에 있어서,
상기 제1가이드 부재는
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제1측면이 만나는 제1밑면 모서리를 지지하는 제1위치 결정블록; 및
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제2측면이 만나는 제2밑면 모서리를 지지하는 제2위치 결정블록을 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 2,
The first guide member is
a first positioning block supporting an edge of a first bottom surface where the bottom surface of the photomask and the first side surface meet; and
and a second positioning block supporting an edge of a second bottom surface where the bottom surface of the photomask and the second side surface meet. 제 3 항에 있어서,
상기 제1위치 결정블록은
상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제1측면과 접하는 제1수직면과, 상기 제1수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제1경사면을 포함하고,
상기 제2위치 결정블록은
상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제2측면과 접하는 제2수직면과, 상기 제2수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제2경사면을 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 3,
The first positioning block is
A first vertical surface in contact with the first side surface when the photomask is aligned in the normal position, and a first inclined surface inclined downward from a lower end of the first vertical surface in an inward direction,
The second positioning block is
A photomask stage unit including a second vertical surface contacting the second side surface when the photo mask is aligned in the proper position, and a second inclined surface inclined downward from a lower end of the second vertical surface in an inward direction. 제 2 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
액추에이터; 및
상기 엑추에이터에 의해 상기 대각선 방향으로 이동되고, 상기 포토 마스크의 상기 제2모서리 부위와 접촉되는 푸시 핑거를 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 2,
The push member
actuator; and
and a push finger moved in the diagonal direction by the actuator and brought into contact with the second corner of the photomask. 제 5 항에 있어서,
상기 푸시 핑거는
상기 제3측면 및 상기 제4측면과 각각 접촉하는 제1핑거와 제2핑거를 포함하고,
상기 제1핑거와 상기 제2핑거는 상기 포토 마스크와의 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재를 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 5,
The push finger
A first finger and a second finger contacting the third side and the fourth side, respectively;
The photomask stage unit of claim 1 , wherein the first finger and the second finger include an elastic member for mitigating an impact upon contact with the photomask. 제 2 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
상기 제3측면과 대향되게 제공되고 상기 제3측면을 향해 에어를 분사하는 제1에어 시프트 노즐; 및
상기 제4측면과 대향되게 제공되고 상기 제4측면을 향해 에어를 분사하는 제2에어 시프트 노즐을 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 2,
The push member
a first air shift nozzle that faces the third side surface and blows air toward the third side surface; and
and a second air shift nozzle provided to face the fourth side surface and blowing air toward the fourth side surface. 제 7 항에 있어서,
상기 제1에어 시프트 노즐과 상기 제2에어 시프트 노즐은
수평 방향을 따라 제공되는 분사홀들을 포함하되;
상기 분사홀들은 상기 제2모서리로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공되며,
상기 에어는
청정건조공기(CDA;Clean Dried Air)를 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 7,
The first air shift nozzle and the second air shift nozzle
Including injection holes provided along the horizontal direction;
The injection holes are provided so that the diameter increases as the distance from the second edge increases,
the air
A photomask stage unit containing Clean Dried Air (CDA). 제 2 항에 있어서,
상기 제2가이드 부재는
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제3측면이 만나는 제3밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제1역이동 방지면; 및
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제4측면이 만나는 제4밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제2역이동 방지면을 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 2,
The second guide member is
a first reverse movement prevention surface supporting an edge of a third bottom surface where a bottom surface of the photomask and the third side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask; and
and a second reverse movement prevention surface supporting a fourth bottom edge where the bottom surface of the photomask and the fourth side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask. 제 2 항에 있어서,
상기 포토 마스크의 상기 제1측면과 상기 제3측면이 만나는 제3모서리 부위를 지지하는 제3가이드 부재; 및
상기 포토 마스크의 상기 제2측면과 상기 제4측면이 만나는 그리고 상기 제3모서리와 대각선에 위치하는 제4모서리 부위를 지지하는 제4가이드 부재를 더 포함하고,
상기 제3가이드 부재는
상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제1측면과 접하는 제3수직면과, 상기 제3수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제3경사면을 포함하고,
상기 제4가이드 부재는
상기 포토 마스크가 상기 정위치로 정렬되었을 때 상기 제2측면과 접하는 제4수직면과, 상기 제4수직면의 하단부로부터 내측방향으로 하향경사진 제4경사면을 포함하는 포토 마스크 스테이지 유닛. According to claim 2,
a third guide member supporting a third corner of the photomask where the first side and the third side meet; and
Further comprising a fourth guide member supporting a fourth corner portion where the second side surface and the fourth side surface of the photomask meet and located at a diagonal line with the third corner;
The third guide member is
A third vertical surface contacting the first side surface when the photo mask is aligned in the normal position, and a third inclined surface inclined downward from a lower end of the third vertical surface in an inward direction,
The fourth guide member is
A photomask stage unit including a fourth vertical surface contacting the second side surface when the photomask is aligned in the proper position, and a fourth inclined surface inclined downward from a lower end of the fourth vertical surface in an inward direction. 포토 마스크가 내부에 보관된 컨테이너를 제공받고, 상기 컨테이너를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출시키는 로딩부; 및
상기 로딩부와 연결되고, 상기 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 상기 포토 마스크의 정보를 획득하는 검사부를 포함하되;
상기 검사부는
상기 포토 마스크가 안착되는 스테이지;
상기 포토 마스크가 상기 스테이지에 안착된 상태에서 상기 포토 마스크를 일방향으로 푸싱하여 정렬하는 얼라인 모듈을 포함하는 포토 마스크 스토커.a loading unit receiving a container in which a photo mask is stored and opening the container to expose the photo mask; and
an inspection unit connected to the loading unit and reading information related to the photomask to obtain information on the photomask;
The inspection department
a stage on which the photo mask is seated;
and an align module configured to push and align the photomask in one direction while the photomask is seated on the stage. 제 11 항에 있어서,
상기 스테이지는
상기 포토 마스크의 제1측면과 제2측면이 만나는 제1모서리 부위를 지지하는 제1가이드 부재; 및
상기 포토 마스크의 제3측면과 제4측면이 만나는 그리고 상기 제1모서리와 대각선에 위치하는 제2모서리 부위를 지지하는 제2가이드 부재를 포함하고,
상기 얼라인 모듈은
상기 제2모서리에서 상기 제1모서리를 향하는 대각선 방향으로 상기 포토 마스크를 푸싱하는 푸시 부재를 포함하는 포토 마스크 스토커.According to claim 11,
The stage
a first guide member supporting a first corner portion where the first and second sides of the photomask meet; and
A second guide member supporting a second corner portion where the third side and the fourth side of the photomask meet and located diagonally from the first corner,
The align module
and a pushing member pushing the photo mask in a diagonal direction from the second edge toward the first edge. 제 12 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
액추에이터; 및
상기 엑추에이터에 의해 상기 대각선 방향으로 이동되고, 상기 포토 마스크의 상기 제2모서리 부위와 접촉되는 푸시 핑거를 포함하는 포토 마스크 스토커.According to claim 12,
The push member
actuator; and
and a push finger moved in the diagonal direction by the actuator and brought into contact with the second corner of the photomask. 제 13 항에 있어서,
상기 푸시 핑거는
상기 제3측면 및 상기 제4측면과 각각 접촉하는 핑거들; 및
상기 핑거들이 상기 포토 마스크와 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재를 포함하는 포토 마스크 스토커.According to claim 13,
The push finger
fingers contacting the third side surface and the fourth side surface, respectively; and
A photomask stocker comprising an elastic member for mitigating shock when the fingers contact the photomask. 제 12 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
청정건조공기(CDA;Clean Dried Air)를 상기 제3측면과 상기 제4측면으로 분사하는 비접촉 방식으로 상기 포토 마스크를 시프트시키는 포토 마스크 스토커.According to claim 12,
The push member
A photomask stocker for shifting the photomask in a non-contact manner injecting clean dry air (CDA) to the third and fourth sides. 제 12 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
상기 제3측면과 대향되게 제공되고 상기 제3측면을 향해 에어를 분사하는 제1에어 시프트 노즐; 및
상기 제4측면과 대향되게 제공되고 상기 제4측면을 향해 에어를 분사하는 제2에어 시프트 노즐을 포함하고,
상기 제1에어 시프트 노즐과 상기 제2에어 시프트 노즐은 수평 방향을 따라 제공되는 분사홀들을 포함하며,
상기 분사홀들은 상기 제2모서리로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공되는 포토 마스크 스토커.According to claim 12,
The push member
a first air shift nozzle that faces the third side surface and blows air toward the third side surface; and
a second air shift nozzle provided opposite to the fourth side surface and spraying air toward the fourth side surface;
The first air shift nozzle and the second air shift nozzle include injection holes provided along a horizontal direction,
The spray holes are provided to increase in diameter as the distance from the second edge increases. 제 12 항에 있어서,
상기 제1가이드 부재는
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제1측면이 만나는 제1밑면 모서리를 지지하는 제1위치 결정블록; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제2측면이 만나는 제2밑면 모서리를 지지하는 제2위치 결정블록을 포함하되;
상기 제1위치 결정블록과 상기 제2위치 결정 블록 각각은
상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측방향으로 상향 경사진 제1단;
상기 제1단의 외측 단부로부터 수직 방향으로 연장된 수직면; 및
상기 수직면의 상단부로부터 외측방향으로 상향 경사진 제2단을 포함하는 포토 마스크 스토커.According to claim 12,
The first guide member is
a first positioning block supporting an edge of a first bottom surface where the bottom surface of the photomask and the first side surface meet; and a second positioning block supporting an edge of a second bottom surface where the bottom surface of the photomask and the second side surface meet;
Each of the first positioning block and the second positioning block is
a first end inclined upward in an outward direction away from the photo mask;
a vertical surface extending in a vertical direction from an outer end of the first end; and
A photomask stocker comprising a second end inclined upward in an outward direction from an upper end of the vertical plane. 제 12 항에 있어서,
상기 제2가이드 부재는
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제3측면이 만나는 제3밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제1역이동 방지면; 및
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제4측면이 만나는 제4밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제2역이동 방지면을 포함하는 포토 마스크 스토커.According to claim 12,
The second guide member is
a first reverse movement prevention surface supporting an edge of a third bottom surface where a bottom surface of the photomask and the third side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask; and
and a second reverse movement prevention surface supporting a fourth bottom edge where the bottom surface of the photomask and the fourth side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask. 제 12 항에 있어서,
상기 포토 마스크의 상기 제1측면과 상기 제3측면이 만나는 제3모서리 부위를 지지하는 제3가이드 부재; 및
상기 포토 마스크의 상기 제2측면과 상기 제4측면이 만나는 그리고 상기 제3모서리와 대각선에 위치하는 제4모서리 부위를 지지하는 제4가이드 부재를 더 포함하되;
상기 제3가이드 부재 및 상기 제4가이드 부재 각각은
상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측방향으로 상향 경사지는 제1단;
상기 제1단의 외측 단부로부터 수직 방향으로 연장되고 상기 제1측면과 마주하도록 제공되는 수직면을 포함하는 포토 마스크 스토커.According to claim 12,
a third guide member supporting a third corner of the photomask where the first side and the third side meet; and
a fourth guide member supporting a fourth corner portion where the second side surface and the fourth side surface of the photomask meet and located diagonally from the third corner;
Each of the third guide member and the fourth guide member
a first end inclined upward in an outward direction away from the photo mask;
and a vertical surface extending in a vertical direction from an outer end of the first end and provided to face the first side surface. 포토 마스크가 내부에 보관된 컨테이너를 제공받고, 상기 컨테이너를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출시키는 로딩부;
상기 로딩부와 연결되고, 상기 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 포토 마스크를 검사하는 검사부; 및
상기 검사부에서 검사를 마친 상기 포토 마스크를 보관하는 저장부를 포함하되;
상기 검사부는
상기 포토 마스크의 제1측면과 제2측면이 만나는 제1모서리 부위를 지지하는 제1가이드 부재; 및 상기 제1모서리 부위와는 대각선에 위치되고, 상기 포토 마스크의 제3측면과 제4측면이 만나는 제2모서리 부위를 지지하는 제2가이드 부재를 포함하는 스테이지;
상기 포토 마스크가 상기 제1가이드 부재와 상기 제2가이드 부재에 안착된 상태에서 상기 포토 마스크를 상기 제2모서리에서 상기 제1모서리를 향하는 대각선 방향으로 상기 포토 마스크를 푸싱하여 정렬하는 푸시 부재; 및
상기 푸시 부재에 의해 상기 스테이지에 정위치된 상기 포토 마스크로부터 정보를 획득하거나, 검사하기 위한 비전 모듈을 포함하는 포토 마스크 스토커.a loading unit receiving a container in which a photo mask is stored and opening the container to expose the photo mask;
an inspection unit connected to the loading unit, reading information related to the photo mask, and inspecting the photo mask; and
a storage unit for storing the photomask that has been inspected by the inspection unit;
The inspection department
a first guide member supporting a first corner portion where the first and second sides of the photomask meet; and a second guide member positioned diagonally from the first corner and supporting a second corner where the third and fourth sides of the photomask meet.
a pushing member configured to align the photomask by pushing the photomask in a diagonal direction from the second edge toward the first edge in a state where the photomask is seated on the first guide member and the second guide member; and
A photomask stocker comprising a vision module for obtaining or inspecting information from the photomask positioned on the stage by the push member. 제 20 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
액추에이터; 및
상기 엑추에이터에 의해 상기 대각선 방향으로 이동되고, 상기 포토 마스크의 상기 제2모서리 부위와 접촉되는 푸시 핑거를 포함하고,
상기 푸시 핑거는
상기 제3측면 및 상기 제4측면과 각각 접촉하는 핑거들; 및
상기 핑거들이 상기 포토 마스크와 접촉시 충격 완화를 위한 탄성 부재를 포함하는 포토 마스크 스토커.21. The method of claim 20,
The push member
actuator; and
a push finger moved in the diagonal direction by the actuator and brought into contact with the second corner of the photomask;
The push finger
fingers contacting the third side surface and the fourth side surface, respectively; and
A photomask stocker comprising an elastic member for mitigating shock when the fingers contact the photomask. 제 20 항에 있어서,
상기 푸시 부재는
상기 제3측면과 대향되게 제공되고 상기 제3측면을 향해 청정건조공기를 분사하는 제1에어 시프트 노즐; 및
상기 제4측면과 대향되게 제공되고 상기 제4측면을 향해 청정건조공기를 분사하는 제2에어 시프트 노즐을 포함하고,
상기 제1에어 시프트 노즐과 상기 제2에어 시프트 노즐은 수평 방향을 따라 제공되는 분사홀들을 포함하며,
상기 분사홀들은 상기 제2모서리로부터 멀어질수록 직경이 커지도록 제공되는 포토 마스크 스토커.21. The method of claim 20,
The push member
a first air shift nozzle provided to face the third side surface and spraying clean dry air toward the third side surface; and
a second air shift nozzle provided facing the fourth side surface and spraying clean dry air toward the fourth side surface;
The first air shift nozzle and the second air shift nozzle include injection holes provided along a horizontal direction,
The spray holes are provided to increase in diameter as the distance from the second edge increases. 제 20 항에 있어서,
상기 제1가이드 부재는
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제1측면이 만나는 제1밑면 모서리를 지지하는 제1위치 결정블록; 및 상기 포토 마스크의 저면과 상기 제2측면이 만나는 제2밑면 모서리를 지지하는 제2위치 결정블록을 포함하되;
상기 제1위치 결정블록과 상기 제2위치 결정 블록 각각은
상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측방향으로 상향 경사진 제1단;
상기 제1단의 외측 단부로부터 수직 방향으로 연장된 수직면; 및
상기 수직면의 상단부로부터 외측방향으로 상향 경사진 제2단을 포함하는 포토 마스크 스토커.21. The method of claim 20,
The first guide member is
a first positioning block supporting an edge of a first bottom surface where the bottom surface of the photomask and the first side surface meet; and a second positioning block supporting an edge of a second bottom surface where the bottom surface of the photomask and the second side surface meet;
Each of the first positioning block and the second positioning block is
a first end inclined upward in an outward direction away from the photo mask;
a vertical surface extending in a vertical direction from an outer end of the first end; and
A photomask stocker comprising a second end inclined upward in an outward direction from an upper end of the vertical plane. 제 20 항에 있어서,
상기 제2가이드 부재는
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제3측면이 만나는 제3밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제1역이동 방지면; 및
상기 포토 마스크의 저면과 상기 제4측면이 만나는 제4밑면 모서리를 지지하는 그리고 상기 포토 마스크로부터 멀어지는 외측 방향으로 상향 경사진 제2역이동 방지면을 포함하는 포토 마스크 스토커. 21. The method of claim 20,
The second guide member is
a first reverse movement prevention surface supporting an edge of a third bottom surface where a bottom surface of the photomask and the third side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask; and
and a second reverse movement prevention surface supporting a fourth bottom edge where the bottom surface of the photomask and the fourth side surface meet, and inclined upward in an outward direction away from the photomask.
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