KR20230099428A - 유체 토출 노즐 세정 장치 및 유체 토출 노즐 세정 방법 - Google Patents

유체 토출 노즐 세정 장치 및 유체 토출 노즐 세정 방법 Download PDF

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Abstract

기판 처리를 위한 유체를 토출하는 유체 토출 노즐을 세정하는 유체 토출 노즐 세정 장치와, 이를 이용한 유체 토출 노즐 세정 방법이 개시된다. 개시된 유체 토출 노즐 세정 장치는, 내부 공간, 유체 토출 노즐이 내부 공간으로 진입하도록 개방된 상측 개구, 및 세정액이 내부 공간에서 외부로 배출되는 하측 개구가 형성된 컵; 컵의 내부 공간에 유체 토출 노즐이 위치한 때 유체 토출 노즐로 세정액을 토출하는 세정액 토출부; 및, 세정액 토출이 종료된 후에 유체 토출 노즐을 건조하기 위한 건조가스를 토출하는 건조가스 토출부;를 구비한다.

Description

유체 토출 노즐 세정 장치 및 유체 토출 노즐 세정 방법{APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING FLUID DISCHARGING NOZZLE}
본 발명은 기판의 표면 처리를 위한 유체를 토출하는 유체 토출 장치의 유체 토출 노즐을 세정하는 장치와, 상기 유체 토출 노즐을 세정하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 공정은 기판, 즉 웨이퍼(wafer)를 식각하는 식각 공정과, 웨이퍼를 복수의 다이로 절단하는 싱귤레이션 공정과, 웨이퍼를 세정하는 세정 공정 등을 포함한다. 웨이퍼 식각 공정 또는 세정 공정에서 사용되는 기판 처리 장치는 웨이퍼를 회전 가능하게 지지하는 회전 척(chuck)과, 회전하는 웨이퍼에 처리 유체를 토출하는 유체 토출 장치를 구비한다.
상기 유체 토출 장치는 말단부에 처리 유체가 토출되는 유체 토출 노즐(nozzle)을 구비한다. 그런데, 처리 유체를 토출하는 도중에 또는 처리 유체의 토출이 정지된 동안에 상기 유체 토출 노즐에서 공정 챔버(chamber)나 웨이퍼를 오염시키는 흄(fume)이 방출될 수 있다. 또한, 상기 유체 토출 노즐에는 웨이퍼로 낙하하지 못하고 잔류한 처리 유체가 물방울처럼 맺히거나, 웨이퍼에서 비산된 오염 물질이 부착될 수 있다. 이처럼 유체 토출 노즐에 잔류하거나 부착된 처리 유체 또는 오염 물질은 응집되고 건조 경화되어서 웨이퍼 상에 낙하하여 웨이퍼의 품질 불량을 초래하거나, 유체 토출 노즐의 개구를 막아 처리 유체의 토출을 방해할 수 있다.
본 발명의 배경기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2005-0097380호(2005.10.07. 공개, 발명의 명칭: 노즐 세정 장치)에 개시되어 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 창출된 것으로, 기판에 처리 유체를 토출하는 유체 토출 장치의 유체 토출 노즐에서 오염 물질이 제거되도록 유체 토출 노즐을 세정하고 건조하는 장치 및 방법을 제공한다.
본 발명은, 기판 처리를 위한 유체를 토출하는 유체 토출 노즐을 세정하는 장치로서, 내부 공간, 상기 유체 토출 노즐이 상기 내부 공간으로 진입하도록 개방된 상측 개구, 및 세정액이 상기 내부 공간에서 외부로 배출되는 하측 개구가 형성된 컵(cup); 상기 컵의 내부 공간에 상기 유체 토출 노즐이 위치한 때 상기 유체 토출 노즐로 세정액을 토출하는 세정액 토출부; 및, 상기 세정액 토출이 종료된 후에 유체 토출 노즐을 건조하기 위한 건조가스(gas)를 토출하는 건조가스 토출부;를 구비한 유체 토출 노즐 세정 장치를 제공한다.
상기 세정액 토출부는 상기 컵의 상측 개구와 하측 개구 사이의 측벽에서 내측으로 상기 세정액을 토출하고, 상기 건조가스 토출부는 상기 컵의 측벽에서 상기 세정액이 토출되는 지점보다 높은 지점에서 내측으로 상기 건조가스를 토출할 수 있다.
상기 건조가스 토출부는 복수 개가 구비되고, 상기 복수의 건조가스 토출부 중에서 상대적으로 높은 지점에 위치하는 건조가스 토출부에 의해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이는, 상대적으로 낮은 지점에 위치하는 건조가스 토출부에 의해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이보다 높을 수 있다.
상기 유체 토출 노즐은 복수 개가 구비되고, 상기 복수의 유체 토출 노즐은 서로 인접 배치되어 함께 수평 및 수직 방향으로 이동하며, 상기 세정액 토출부는 상기 컵의 내부 공간에 위치한 복수의 유체 토출 노즐에 동시에 상기 세정액을 토출하고, 상기 건조가스 토출부는 상기 세정액 토출이 종료된 후에 상기 복수의 유체 토출 노즐에 동시에 상기 건조가스를 토출할 수 있다.
상기 세정액은 0.3 내지 3.0 l/min(liter/minute)의 유량으로 상기 컵의 내부 공간으로 토출되고, 상기 세정액의 토출 시간은 10초 내지 2분일 수 있다.
상기 건조가스는 30 내지 100 l/min(liter/minute)의 유량으로 상기 컵의 내부 공간으로 토출되고, 상기 건조가스의 토출 시간은 30초 내지 5분일 수 있다.
상기 세정액은 탈이온수(deionized water)이고, 상기 건조가스는 질소가스(N2)일 수 있다.
본 발명의 유체 토출 노즐 세정 장치는, 상기 세정액 토출부 및 상기 건조가스 토출부의 작동 중에 상기 컵의 내부 공간에 축적되는 가스가 상기 상측 개구를 통해 배출되지 않도록, 상기 가스를 상기 컵의 내부 공간에서 흡입하여 상기 컵의 외부로 배출하는 배기부;를 더 구비할 수 있다.
본 발명은, 상기한 유체 토출 노즐 세정 장치를 이용하여 상기 유체 토출 노즐을 세정하는 방법으로서, 상기 유체 토출 노즐이 상기 컵의 내부 공간에 위치하도록 상기 유체 토출 노즐을 상기 상측 개구를 통해 상기 컵의 내부 공간으로 진입시키는 노즐 포지셔닝(nozzle positioning) 단계; 상기 세정액을 토출하여 상기 유체 토출 노즐을 세정하는 세정액 토출 단계; 및, 상기 세정액 토출 단계의 종료 후에, 상기 건조가스를 토출하여 상기 유체 토출 노즐의 표면을 건조하는 건조 단계;를 포함하는 유체 토출 노즐 세정 방법을 제공한다.
상기 컵은 상기 유체 토출 노즐이 상기 기판에 유체를 토출하여 상기 기판을 처리하는 작업이 종료된 후에 복귀하는 지점에 위치하고, 상기 노즐 포지셔닝 단계의 시작 시점과 상기 건조 단계의 종료 시점 사이에 상기 유체가 토출되어 처리된 기판은 상기 유체가 토출되지 않은 기판으로 교체될 수 있다.
본 발명에 의하면, 처리 유체의 토출후 유체 토출 노즐이 세정되므로 유체 토출 노즐의 끝에서 흄(fume)이 방출되지 않으며, 유체 토출 노즐에 잔류한 처리 유체 또는 오염 물질로 인한 공정 챔버 또는 기판의 오염이 방지된다.
본 발명에 의하면, 유체 토출 노즐의 주변 복수의 지점에서 동시에 유체 토출 노즐로 세정액을 토출하여 오염 물질을 세정하도록 설계할 수 있어, 유체 토출 노즐의 부분적인 세정 미흡이 방지되고, 유체 토출 노즐이 복수 개가 구비된 경우에도 미흡한 부분없이 깨끗하게 세정할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 세정액은 노즐 튜브의 말단을 향해 토출되고, 건조가스는 유체 토출 노즐 주변에서 아래를 향해 경사지게 토출되면서 세정액의 토출 목표 지점보다 높은 지점을 향해 토출된다. 이로 인해, 유체 토출 노즐의 표면에서 세정액이 완전히 건조 제거되는데 필요한 건조가스의 유량과 토출 시간이 감소되어서, 유체 토출 노즐 세정 작업의 시간 및 비용이 절감된다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치를 구비한 기판 처리 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 유체 토출 노즐 세정 장치의 종단면도로서, 유체 토출 노즐이 컵(cup)에 삽입된 상태를 도시한 도면이다.
도 3은 도 2를 III-III에 따라 절개 도시한 종단면도이다.
도 4는 도 2의 유체 토출 노즐 세정 장치의 컵의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치의 종단면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 유체 토출 노즐 세정 장치의 효과를 검증하기 위한 비교 사진으로, 도 6은 세척 전의 유체 토출 노즐의 사진이고, 도 7은 세척 후의 유체 토출 노즐의 사진이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치 및 유체 토출 노즐 세정 방법을 상세하게 설명한다. 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치를 구비한 기판 처리 장치를 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1의 유체 토출 노즐 세정 장치의 종단면도로서, 유체 토출 노즐이 컵(cup)에 삽입된 상태를 도시한 도면이고, 도 3은 도 2를 III-III에 따라 절개 도시한 종단면도이며, 도 4는 도 2의 유체 토출 노즐 세정 장치의 컵의 평면도이다. 도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(40)는 기판(1)의 상측면에 처리 유체를 토출하여 기판(1)을 처리하는 기판 처리 장치(10)에 구비된다. 도 1에 도시된 기판(1)은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼(wafer)이지만, 본 발명의 대상이 되는 기판은 웨이퍼에 한정되는 것은 아니며, 예컨대, 평판 디스플레이용 기판, 태양전지판용 기판 등일 수도 있다.
상기 기판 처리 장치(10)는 테이블(11), 비산 방지 커버(15), 유체 토출 장치(20), 및 유체 토출 노즐 세정 장치(40)를 구비한다. 테이블(11)은 예컨대, 기판(1) 식각 과정과 같은, 처리 유체를 토출하여 기판(1)을 처리하는 과정 중에 기판(1)을 고정 지지하고 회전한다. 상기 테이블(11)은 기판(1)을 고정하는 척(chuck)을 구비하여 기판(1)을 고정하고 회전하는 척 테이블일 수 있다. 비산 방지 커버(15)는 테이블(11)을 에워싸며 기판(1)에서 튀어 오른 처리 유체 및 오염 물질을 가로막아 멀리 비산되는 것을 방지한다.
유체 토출 장치(20)는 회동 암(swing arm)(23), 회동 암 지지 기둥(21), 한 쌍의 연결 튜브(tube)(25), 및 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 구비한다. 회동 암 지지 기둥(21)은 테이블(11)에서 이격된 지점에서 상향 연장된다. 회동 암(23)은 일측 단부가 회동 암 지지 기둥(21)에 회전 가능하게 결합되고, 타측 단부는 한 쌍의 연결 튜브(25)를 고정 지지한다. 회동 암(23)은 회동 암 지지 기둥(21)의 길이 방향을 따라 연장된 암 축선(AS)을 중심으로 시계 및 반시계 방향으로 피봇(pivot) 회전한다. 도 1에서 상기 회동 암(23)을 암 축선(AS)을 중심으로 회전 구동시키는 회동 암 회전 구동부는 생략되어 있다.
한 쌍의 연결 튜브(25)는 일측 단부가 회동 암(23)의 타측 단부에 고정 지지되고, 타측 단부가 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 고정 지지한다. 회동 암(23)이 암 축선(AS)을 중심으로 회동하여 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 기판(1) 위에 위치할 때, 회동 암 지지 기둥(21)과 회동 암(23)의 내부에서 연장된 내부 유로를 통해 이송된 처리 유체가 한 쌍의 연결 튜브(25)를 통과하여 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 통해 기판(1)으로 낙하 토출된다.
한 쌍의 유체 토출 노즐(30)은 한 쌍의 연결 튜브(25)에 일대일로 연결되며, 같은 높이에 인접하게 배치된다. 회동 암(23)이 암 축선(AS)을 중심으로 회동하면 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)은 함께 원 궤도를 따라 수평 방향으로 이동한다. 또한, 회동 암 지지 기둥(21)이 암 축선(AS)을 따라 승강하면 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)은 함께 수직 방향으로 이동한다.
각각의 유체 토출 노즐(30)은 연결 튜브(25)의 타측 말단에 체결 고정되는 노즐 캡(cap)(35), 하단이 노즐 캡(35)을 관통하여 아래로 돌출된 노즐 튜브(31), 및 노즐 캡(35)의 내측면과 노즐 튜브(31)의 외측면 사이에 설치되는 밀봉재(33)를 구비한다. 노즐 튜브(31)의 내경(inner diameter)의 크기는 연결 튜브(25)의 내경의 크기보다 작으며, 연결 튜브(25)의 타측 말단에 배치된다. 밀봉재(33)는 노즐 튜브(31)가 관통하도록 형성된 하단 개구를 통해 처리 유체가 누출되지 않도록 노즐 캡(35) 내부를 밀봉한다. 도 1 및 도 2에는 한 쌍의 연결 튜브(25)와 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 구비한 기판 처리 장치(10)가 개시되어 있으나, 연결 튜브(25)와 유체 토출 노즐(30)은 단수로 구비될 수도 있고, 한 쌍보다 더 많은 개수로 구비될 수도 있다.
유체 토출 노즐 세정 장치(40)는 유체 토출 장치(20)의 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 세정하는 장치로서, 컵(cup)(41), 세정액 토출부(50), 건조가스 토출부(70), 배기부(85)를 구비한다. 컵(41)은 내부 공간(44)이 형성된 호퍼(hopper) 형상의 부재이다. 컵(41)은 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 기판(1)에 처리 유체를 토출하여 기판(1)을 처리하는 작업이 종료된 후에 상기 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 복귀하는 지점, 즉 홈 포지션(home position)에 위치한다.
컵(41)의 상측에는 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 내부 공간(44)으로 진입하도록 개방된 상측 개구(45)가 형성되고, 컵(41)의 하측에는 세정액이 내부 공간(44)에서 외부로 배출되는 하측 개구(48)가 형성된다. 하측 개구(48)를 통해 배출된 세정액과 오염 물질은 정화 과정을 거친 후 배수될 수 있다.
세정액 토출부(50)는 컵(41)의 내부 공간(44)에 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 위치한 때 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)로 세정액을 토출한다. 세정액은 예컨대, 탈이온수(deionized water)일 수 있다. 세정액 토출부(50)는 환형 유로부(51), 연결 유로부(55), 연결구(57), 세정액 공급 튜브(60), 세정액 탱크(63), 세정액 공급 펌프(61), 및 밸브(62)를 구비한다.
환형 유로부(51)는 컵(41)의 측벽(42)을 에워싸며 측벽(42)에 결합된다. 환형 유로부(51)의 내부에는 세정액이 유동(流動)하는 환형 유로(52)가 형성된다. 측벽(42)에는 환형 유로(52)로 유입된 세정액을 내부 공간(44)에 위치한 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 향해 토출하는 복수의 세정액 노즐부(54)가 마련된다. 각각의 세정액 노즐부(54)는 측벽(42)을 관통하는 토출 통공을 포함하여 구성되거나, 세정액이 측벽(42)을 관통하여 토출되도록 측벽(42)에 설치된 노즐을 포함하여 구성될 수 있다. 세정액 노즐부(54)에서 세정액이 토출되는 말단의 내경(inner diameter)의 크기는 예컨대, 1mm 일 수 있다.
연결 유로부(55)는 환형 유로부(51)의 일 측에서 방사 방향으로 돌출되며 내부에 상기 환형 유로(52)와 유체 유동 가능하게 연결되는 연결 유로(56)가 형성된다. 세정액 탱크(63)는 세정액이 수용되는 탱크로서, 컵(41)의 외부에 마련된다. 세정액 공급 튜브(60)는 세정액 탱크(63)에서 연결 유로(56)로 세정액이 공급되도록 세정액을 안내한다.
세정액 공급 튜브(60)의 일측 단부는 세정액 탱크(63)에 유체 유동 가능하게 연결되고, 세정액 공급 튜브(60)의 타측 단부는 연결구(57)을 매개로 하여 연결 유로(56)에 유체 유동 가능하게 연결된다. 세정액 공급 펌프(61)는 세정액이 세정액 탱크(63)에서 세정액 공급 튜브(60), 연결 유로(56), 및 환형 유로(52)를 거쳐 복수의 세정액 노즐부(54)를 통해 상측 개구(45)와 하측 개구(48) 사이의 측벽(42)에서 내측으로 토출되도록 세정액을 가압한다. 밸브(62)는 선택적으로 상기 세정액을 유동시키거나 정지시킨다.
한 쌍의 유체 토출 노즐(30)은 처리 유체를 토출하여 기판(1)을 처리한 후에 컵(41)의 상측 개구(45)와 정렬되도록 홈 포지션으로 수평 이동하여 복귀하고, 상측 개구(45)를 통해 내부 공간(44)으로 진입하도록 하강한다. 이후에, 세정액 토출부(50)는 복수의 세정액 노즐부(54)를 통하여 내부 공간(44)에 위치한 복수의 유체 토출 노즐(30)에 동시에 세정액을 토출한다.
복수의 세정액 노즐부(54)는 한 쌍의 노즐 튜브(31)의 하단을 향하여 수평 방향으로 세정액을 토출한다. 구체적으로, 복수의 세정액 노즐부(54)는 8개가 구비된다. 8개의 세정액 노즐부(54) 중 4개는 컵(41)의 중심에 대해 90° 간격으로 배치된다. 상기 4개의 세정액 노즐부(54) 중 180° 간격으로 이격된 한 쌍의 세정액 노즐부(54)는 한 쌍의 노즐 튜브(31)의 하단의 서로 등지고 있는 측면에 세정액을 토출하여 상기 서로 등지고 있는 측면을 세정한다. 상기 4개의 세정액 노즐부(54) 중 180° 간격으로 이격된 다른 한 쌍의 세정액 노즐부(54)에서 토출된 세정액은 한 쌍의 유체 토출 노즐(30) 사이에서 충돌하여 비산되면서 한 쌍의 노즐 튜브(31)의 하단의 서로 마주보고 있는 측면을 세정한다.
복수의 세정액 노즐부(54) 중 나머지 4개는 한 쌍의 노즐 튜브(31)의 하단의 좌측면과 우측면에 세정액을 토출하여 한 쌍의 노즐 튜브(31)의 하단의 좌측면과 우측면을 세정한다. 이에 따라 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 외측면이 세정액에 의해 빈틈없이 세정된다. 바람직하게는 세정액은 복수의 세정액 노즐부(54)를 통해 0.3 내지 3.0 l/min(liter/minute)의 유량으로 상기 컵(41)의 내부 공간(44)으로 토출된다. 세정액의 유량이 0.3 l/min 보다 작으면, 세정액의 토출 압력이 너무 낮아서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)까지 세정액이 도달하지 않거나 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 표면에 부착된 오염 물질을 제거할 수 없다. 반대로, 세정액의 유량이 3.0 l/min 보다 크면, 세정액의 토출 압력이 너무 커서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 손상되거나, 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 표면에 충돌한 세정액이 컵(41)의 상측 개구(45)를 통해 컵(41)의 외부까지 비산될 수 있다.
또한, 바람직하게는 세정액의 토출 시간은 10초 내지 2분일 수 있다. 세정액의 토출 시간이 10초보다 짧으면 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 깨끗하게 세정되지 않을 수 있다. 반대로, 세정액의 토출 시간이 2분을 초과하면 복수의 기판(1)에 처리 유체를 토출하여 복수의 기판(1)을 처리하는 작업의 총 소요 시간이 너무 지연될 수 있다. 하나의 기판(1)을 테이블(11)에 탑재하고 처리할 때마다 유체 토출 노즐(30)의 세정 작업이 수행되기 때문이다.
건조가스 토출부(70)는 세정액 토출부(50)에 의한 세정액 토출이 종료된 후에 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 건조하기 위한 건조가스(gas)를 토출한다. 건조가스는 예컨대, 습기가 제거된 순수 질소가스(N2)일 수 있다. 건조가스 토출부(70)는 환형 유로부(71), 연결 유로부(75), 연결구(77), 건조가스 공급 튜브(80), 건조가스 탱크(83), 건조가스 공급 펌프(81), 및 밸브(82)를 구비한다.
건조가스 토출부(70)의 환형 유로부(71)는 세정액 토출부(50)의 환형 유로부(51)와 마찬가지로 컵(41)의 측벽(42)을 에워싸며 측벽(42)에 결합된다. 환형 유로부(71)의 내부에는 건조가스가 유동(流動)하는 환형 유로(72)가 형성된다. 측벽(42)에는 환형 유로(72)로 유입된 건조가스를 내부 공간(44)에 위치한 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)을 향해 토출하는 복수의 건조가스 노즐부(74)가 마련된다. 각각의 건조가스 노즐부(74)는 측벽(42)을 관통하는 토출 통공을 포함하여 구성되거나, 건조가스가 측벽(42)을 관통하여 토출되도록 측벽(42)에 설치된 노즐을 포함하여 구성될 수 있다. 건조가스 노즐부(74)에서 건조가스가 토출되는 말단의 내경의 크기는 예컨대, 1mm 일 수 있다.
연결 유로부(75)는 환형 유로부(71)의 일 측에서 방사 방향으로 돌출되며 내부에 상기 환형 유로(72)와 유체 유동 가능하게 연결되는 연결 유로(미도시)가 형성된다. 건조가스 탱크(83)는 건조가스가 수용되는 탱크로서, 컵(41)의 외부에 마련된다. 건조가스 공급 튜브(80)는 건조가스 탱크(83)에서 연결 유로부(75)의 연결 유로로 건조가스가 공급되도록 건조가스를 안내한다.
건조가스 공급 튜브(80)의 일측 단부는 건조가스 탱크(83)에 유체 유동 가능하게 연결되고, 건조가스 공급 튜브(80)의 타측 단부는 연결구(77)을 매개로 하여 연결 유로부(75)의 연결 유로에 유체 유동 가능하게 연결된다. 건조가스 공급 펌프(81)는 건조가스가 건조가스 탱크(83)에서 건조가스 공급 튜브(80), 연결 유로부(75)의 연결 유로, 및 환형 유로(72)를 거쳐 복수의 건조가스 노즐부(74)를 통해 상측 개구(45)와 하측 개구(48) 사이의 측벽(42)에서 내측으로 토출되도록 건조가스를 가압한다. 밸브(82)는 선택적으로 상기 건조가스를 유동시키거나 정지시킨다.
세정액 토출부(50)에 의한 세정액의 토출이 종료된 후에 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)에 동시에 건조가스가 토출된다. 건조가스 토출부(70)는 컵(41)의 측벽(42)에서 세정액이 토출되는 지점보다 높은 지점에서 컵(41)의 내측으로 건조가스를 토출한다. 부연하면, 건조가스 토출부(70)의 환형 유로부(71)는 세정액 토출부(50)의 환형 유로부(51)보다 높게 위치하고, 복수의 건조가스 노즐부(74)는 복수의 세정액 노즐부(54)보다 높은 지점에 마련된다.
건조가스 토출부(70)에 의해서 복수의 건조가스 노즐부(74)를 통해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이는, 세정액 토출부(50)에 의해서 복수의 세정액 노즐부(54)를 통해 토출되는 세정액이 향하는 지점의 높이보다 높다. 부연하면, 복수의 건조가스 노즐부(74)는 한 쌍의 노즐 튜브(31)의 하단보다 높고 한 쌍의 노즐 캡(35)의 상단보다 낮은 유체 토출 노즐(30) 표면의 지점을 향하여 아래로 경사진 방향으로 건조가스를 토출한다.
구체적으로, 복수의 건조가스 노즐부(74)는 8개가 구비된다. 8개의 세정액 노즐부(54)의 경우와 마찬가지로, 8개의 건조가스 노즐부(74) 중 4개는 컵(41)의 중심에 대해 90° 간격으로 배치된다. 상기 4개의 건조가스 노즐부(74) 중 180° 간격으로 이격된 한 쌍의 건조가스 노즐부(74)는 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 서로 등지고 있는 측면에 건조가스를 토출하여 상기 서로 등지고 있는 측면에 잔존하는 세정액을 제거하고 상기 측면을 건조시킨다. 상기 4개의 건조가스 노즐부(74) 중 180° 간격으로 이격된 다른 한 쌍의 건조가스 노즐부(74)에서 토출된 건조가스는 한 쌍의 유체 토출 노즐(30) 사이에서 충돌하여 주위로 확산되면서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 서로 마주보고 있는 측면에 잔존하는 세정액을 제거하고 상기 측면을 건조시킨다.
복수의 건조가스 노즐부(74) 중 나머지 4개는 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 좌측면과 우측면에 건조가스를 토출하여 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 좌측면과 우측면에 잔존하는 세정액을 제거하고 상기 측면을 건조시킨다. 복수의 건조가스 노즐부(74)에서 아래로 경사진 방향으로 건조가스가 토출되므로, 복수의 건조가스 노즐부(74)에서 멀어질수록 토출된 건조가스의 단면적이 확대되면서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 외측면에 닿게 되어서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 외측면이 위아래로 폭넓게 건조된다. 결과적으로, 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 외측면이 건조가스에 의해 빈틈없이 건조된다.
각각의 건조가스 노즐부(74)에서 토출되는 건조가스의 토출 각도는 수평면과 상기 건조가스의 토출 방향을 따라 연장된 가상의 경사선 사이의 각도로 정의된다. 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 서로 등지고 있는 측면을 향하여 토출되는 건조가스의 토출 각도(A1)는, 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 좌측면과 우측면을 향하여 토출되는 건조가스의 토출 각도(A2)보다 크다. 예컨대, 상기 토출 각도 A1은 45 내지 55°이고, 상기 토출 각도 A2는 30 내지 40°일 수 있다.
바람직하게는 건조가스는 복수의 건조가스 노즐부(74)를 통해 30 내지 100 l/min(liter/minute)의 유량으로 상기 컵(41)의 내부 공간(44)으로 토출될 수 있다. 건조가스의 유량이 30 l/min 보다 작으면, 건조가스의 토출 압력이 너무 낮아서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)까지 건조가스가 도달하지 않거나 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 표면을 건조할 수 없다. 반대로, 건조가스의 유량이 100 l/min 보다 크면, 건조가스의 토출 압력이 너무 커서 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)이 손상되거나, 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 표면에 충돌한 건조가스가 컵(41)의 상측 개구(45)를 통해 컵(41)의 외부까지 확산될 수 있다.
또한, 바람직하게는 건조가스의 토출 시간은 30초 내지 5분일 수 있다. 건조가스의 토출 시간이 30초보다 짧으면 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 표면이 깨끗하게 건조되지 않을 수 있다. 반대로, 건조가스의 토출 시간이 5분을 초과하면 복수의 기판(1)에 처리 유체를 토출하여 복수의 기판(1)을 처리하는 작업의 총 소요 시간이 너무 지연될 수 있다.
배기부(85)는 세정액 토출부(50) 및 건조가스 토출부(70)의 작동 중에 컵(41)의 내부 공간(44)에 축적되는 가스가 상측 개구(45)를 통해 컵(41)의 외부로 배출되지 않도록, 상기 가스를 컵(41)의 내부 공간(44)에서 흡입하여 컵(41)의 외부로 배출한다. 상기 가스는 세정액이 증발하여 형성된 수증기, 및 건조가스를 포함한다. 배기부(85)는 세정액 토출부(50)가 작동하여 세정액 토출을 시작할 때 또는 그보다 수 초 전에 작동을 시작하여, 건조가스 토출부(70)에 의한 건조가스 토출이 종료될 때 또는 그보다 수 초 이후에 작동을 종료할 수 있다.
배기부(85)는 환형 유로부(86), 연결 유로부(90), 연결구(92), 배기 튜브(94), 정화 필터(96), 및 배기 펌프(95)를 구비한다. 배기부(85)의 환형 유로부(86)는 세정액 토출부(50) 및 건조가스 토출부(70)의 환형 유로부(51, 71)와 마찬가지로 컵(41)의 측벽(42)을 에워싸며 측벽(42)에 결합된다. 환형 유로부(86)의 내부에는 흡입된 가스가 유동(流動)하는 환형 유로(87)가 형성된다. 배기부(85)의 환형 유로부(86)는 건조가스 토출부(70)의 환형 유로부(71)보다 위에 배치된다.
환형 유로부(86)에는 컵(41)의 내부에서 환형 유로(87)로 가스가 흡입 이동하도록 흡기구(88)가 형성된다. 또한, 환형 유로부(86)는 컵(41)의 상측 개구(45)를 폐쇄하여 한 쌍의 유체 토출 노즐(30)의 출입을 막지 않도록 개방된 노즐 출입 통공(89)이 형성된다.
연결 유로부(90)는 환형 유로부(86)의 일 측에서 방사 방향으로 돌출되며 내부에 상기 환형 유로(87)와 유체 유동 가능하게 연결되는 연결 유로(미도시)가 형성된다. 배기 펌프(95)는 흡기구(88)를 통해 가스가 흡기되도록 환형 유로(87)에 부압(負壓)을 형성하는 것으로 컵(41)의 외부에 마련된다. 배기 튜브(94)의 일측 단부는 배기 펌프(95)에 유체 유동 가능하게 연결되고, 배기 튜브(94)의 타측 단부는 연결구(92)를 매개로 하여 연결 유로부(90)의 연결 유로에 유체 유동 가능하게 연결된다. 정화 필터(96)는 흡기구(88)로 유입되어 배기 튜브(94)를 통해 배기 펌프(95)를 향해 이동하는 가스에서 오염 물질을 걸러낸다. 정화 필터(96)를 통해 오염 물질이 걸러진 가스는 배기 펌프(95)를 통해 외부로 배출된다.
유체 토출 노즐 세정 장치(40)를 이용하여 유체 토출 노즐(30)을 세정하는 방법은, 노즐 포지셔닝(nozzle positioning) 단계, 세정액 토출 단계, 및 건조 단계를 포함한다. 노즐 포지셔닝 단계는, 유체 토출 노즐(30)이 컵(41)의 내부 공간(44)에 위치하도록 유체 토출 노즐(30)을 상측 개구(45)를 통해 컵(41)의 내부 공간(44)으로 진입시키는 단계이다. 노즐 포지셔닝 단계 이전에 유체 토출 노즐(30)을 통해 기판(1)에 처리 유체를 토출하여 기판(1)을 처리하는 처리 유체 토출 단계가 선행된다. 또한, 노즐 포지셔닝 단계는 처리 유체 토출 단계가 종료된 후에, 유체 토출 노즐(30)을 상측 개구(45)와 위아래로 정렬되는 지점, 즉 홈 포지션으로 복귀시키는 단계를 포함한다.
세정액 토출 단계는 세정액을 토출하여 유체 토출 노즐(30)을 세정하는 단계이다. 세정액 토출 단계는 세정액 토출부(50)에 의해 수행되며, 도 1 내지 도 4를 참조하여 세정액 토출부(50)를 설명하면서 상세하게 설명한 바 있으므로, 중복되는 설명은 생략한다. 건조 단계는 세정액 토출 단계의 종료 후에, 건조가스를 토출하여 유체 토출 노즐(30)의 표면을 건조하는 단계이다. 건조 단계는 건조가스 토출부(70)에 의해 수행되며, 도 1 내지 도 4를 참조하여 건조가스 토출부(70)를 설명하면서 상세하게 설명한 바 있으므로, 중복되는 설명은 생략한다.
유체 토출 노즐(30)을 세정하는 방법은, 세정액 토출 단계 및 건조 단계 도중에 컵(41)의 내부 공간(44)에 축적되는 가스가 상측 개구(45)를 통해 컵(41)의 외부로 배출되지 않도록, 상기 가스를 컵(41)의 내부 공간(44)에서 흡입하여 컵(41)의 외부로 배출하는 배기 단계를 더 포함할 수 있다. 배기 단계는 배기부(85)에 의해 수행되며, 도 1 내지 도 4를 참조하여 배기부(85)를 설명하면서 상세하게 설명한 바 있으므로, 중복되는 설명은 생략한다.
노즐 포지셔닝 단계의 시작 시점과 건조 단계의 종료 시점 사이에, 처리 유체가 토출되어 처리된 기판(1)이 처리 유체가 토출되지 않은 새로운 기판(1)으로 교체되는 기판 교체 단계가 수행된다. 부연하면, 유체 토출 노즐(30)이 홈 포지션으로 복귀한 후에 기판 처리가 완료된 기판(1)은 테이블(11)에서 언로딩(unloading)되고, 기판 처리가 수행되지 않은 새로운 기판(1)이 테이블(11)에 로딩(loading)된다. 이 경우에, 유체 토출 노즐(30)을 세정하는 방법은, 기판 처리된 기판(1)이 테이블(11)에서 제거된 것이 감지되기 전까지는 세정액 토출 단계를 시작하지 않을 수 있다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치의 종단면도이다. 도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(100)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(40)를 대체하여 도 1의 기판 처리 장치(10)에 구비될 수 있다. 도 5에서 참조번호로 지정된 구성요소들 중에 도 1 내지 도 4에 도시된 유체 토출 노즐 세정 장치(40)에 구비된 구성요소와 동일한 참조번호로 지정된 구성요소는 서로 같은 구성요소로서, 이하에서 중복되는 설명은 생략될 수 있다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(100)는 유체 토출 노즐(30)을 세정하는 장치로서, 컵(41), 세정액 토출부(50), 제1 건조가스 토출부(110), 제2 건조가스 토출부(130), 및 배기부(85)를 구비한다. 연결 튜브(25)의 타측 말단에 고정 지지되는 유체 토출 노즐(30)은, 한 쌍이 구비되지 않고 단수로 구비되는 점만 차이가 있을 뿐 도 1 내지 도 4에 도시된 유체 토출 노즐(30)과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다. 컵(41) 및 배기부(85) 또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(40)에 구비된 컵(41) 및 배기부(85)와 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
유체 토출 노즐(30)이 단수로 구비되어 세정액 노즐부(54)의 개수가 도 1 내지 도 4에 도시된 세정액 노즐부(54)의 개수와 다를 수 있다는 점 이외에는, 도 5에 도시된 세정액 토출부(50)의 구성도 본 발명의 제1 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(40)에 구비된 세정액 토출부(50)의 구성과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
제1 건조가스 토출부(110) 및 제2 건조가스 토출부(130)는 세정액 토출부(50)에 의한 세정액 토출이 종료된 후에 유체 토출 노즐(30)을 건조하기 위한 건조가스를 토출한다. 제1 건조가스 토출부(110) 및 제2 건조가스 토출부(130)는 각각, 환형 유로부(111, 131), 연결 유로부(미도시), 건조가스 공급 튜브(미도시), 건조가스 탱크(미도시), 건조가스 공급 펌프(미도시), 및 밸브(미도시)를 구비한다.
건조가스 토출부(110, 130)의 환형 유로부(111, 131)는 세정액 토출부(50)의 환형 유로부(51)와 마찬가지로 컵(41)의 측벽(42)을 에워싸며 측벽(42)에 결합된다. 환형 유로부(111, 131)의 내부에는 건조가스가 유동(流動)하는 환형 유로(112, 132)가 형성된다. 측벽(42)에는 환형 유로(111, 131)로 유입된 건조가스를 내부 공간(44)에 위치한 유체 토출 노즐(30)을 향해 토출하는 복수의 건조가스 노즐부(114, 134)가 마련된다. 각각의 건조가스 노즐부(114, 134)는 측벽(42)을 관통하는 토출 통공을 포함하여 구성되거나, 건조가스가 측벽(42)을 관통하여 토출되도록 측벽(42)에 설치된 노즐을 포함하여 구성될 수 있다.
제1 건조가스 토출부(110)의 연결 유로부 및 제2 건조가스 토출부(130)의 연결 유로부의 내부에는 환형 유로(111, 131)와 각각 유체 유동 가능하게 연결되는 연결 유로가 형성된다. 건조가스 탱크는 건조가스가 수용되는 탱크로서, 컵(41)의 외부에 마련된다. 건조가스 공급 튜브는 건조가스 탱크에서 연결 유로부의 연결 유로로 건조가스가 공급되도록 건조가스를 안내한다.
건조가스 공급 튜브의 일측 단부는 건조가스 탱크에 유체 유동 가능하게 연결되고, 건조가스 공급 튜브의 타측 단부는 연결 유로부의 연결 유로에 유체 유동 가능하게 연결된다. 건조가스 공급 펌프는 건조가스가 건조가스 탱크에서 건조가스 공급 튜브, 연결 유로부의 연결 유로, 및 환형 유로(112, 132)를 거쳐 복수의 건조가스 노즐부(114, 134)를 통해 상측 개구(45)와 하측 개구(48) 사이의 측벽(42)에서 내측으로 토출되도록 건조가스를 가압한다. 밸브는 선택적으로 상기 건조가스를 유동시키거나 정지시킨다.
세정액 토출부(50)에 의한 세정액의 토출이 종료된 후에 제1 건조가스 토출부(110) 및 제2 건조가스 토출부(130)에 의해 복수의 건조가스 노즐부(114, 134)를 통해 동시에 유체 토출 노즐(30)에 건조가스가 토출된다. 제1 건조가스 토출부(110) 및 제2 건조가스 토출부(130)가 동시에 작동을 개시하고 동시에 작동을 종료하게 되므로, 제1 건조가스 토출부(110) 및 제2 건조가스 토출부(130)는 건조가스 탱크(미도시), 건조가스 공급 펌프(미도시), 및 밸브(미도시)를 각각 구비할 수도 있으나, 공유하도록 하나씩만 구비할 수도 있다. 이 경우에 건조가스 공급 튜브는 하나의 유입 유로와 상기 하나의 유입 유로에서 분기된 한 쌍의 방출 유로를 구비하고, 상기 하나의 유입 유로는 건조가스 탱크에 연결되고, 한 쌍의 방출 유로는 제1 건조가스 토출부(110) 및 제2 건조가스 토출부(130)의 연결 유로에 하나씩 연결될 수 있다.
제1 건조가스 토출부(110)는 컵(41)의 측벽(42)에서 세정액이 토출되는 지점보다 높은 지점에서 컵(41)의 내측으로 건조가스를 토출한다. 또한, 제2 건조가스 토출부(130)는 제1 건조가스 토출부(110)에 의해 건조가스가 토출되는 지점보다 높은 지점에서 컵(41)의 내측으로 건조가스를 토출한다. 부연하면, 제1 건조가스 토출부(110)의 환형 유로부(111)는 세정액 토출부(50)의 환형 유로부(51)보다 높게 위치하고, 제1 건조가스 토출부(110)의 복수의 건조가스 노즐부(114)는 복수의 세정액 노즐부(54)보다 높은 지점에 마련된다. 또한, 제2 건조가스 토출부(130)의 환형 유로부(131)는 제1 건조가스 토출부(110)의 환형 유로부(111)보다 높게 위치하고, 제2 건조가스 토출부(130)의 복수의 건조가스 노즐부(134)는 제1 건조가스 토출부(110)의 복수의 건조가스 노즐부(114)보다 높은 지점에 마련된다.
한 쌍의 건조가스 토출부(110, 130) 중에서 상대적으로 높은 지점에 위치하는 제2 건조가스 토출부(130)에 의해서 복수의 건조가스 노즐부(134)를 통해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이는, 상대적으로 낮은 지점에 위치하는 제1 건조가스 토출부(110)에 의해서 복수의 건조가스 노즐부(114)를 통해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이보다 높다. 부연하면, 제1 건조가스 토출부(110)의 복수의 건조가스 노즐부(114)는 노즐 캡(35)의 하단을 향하여 아래로 경사진 방향으로 건조가스를 토출하고, 제2 건조가스 토출부(130)의 복수의 건조가스 노즐부(134)는 노즐 캡(35)의 하단보다 높은 중간 지점을 향하여 아래로 경사진 방향으로 건조가스를 토출한다. 이러한 구성으로 유체 토출 노즐(30)의 외측면이 건조가스에 의해 빈틈없이 건조되며, 특히 노즐 캡(35)의 상단부와 이에 결합된 연결 튜브(25)의 단부까지 깨끗하게 건조된다.
건조가스 노즐부(114, 134)에서 토출되는 건조가스의 토출 각도는 수평면과 상기 건조가스의 토출 방향을 따라 연장된 가상의 경사선 사이의 각도로 정의된다. 예를 들어, 제1 건조가스 토출부(110)의 건조가스 노즐부(114)를 통해 토출되는 건조가스의 토출 각도(A3)와, 제2 건조가스 토출부(130)의 건조가스 노즐부(134)를 통해 토출되는 건조가스의 토출 각도(A4)는 서로 같고, 20 내지 30°일 수 있다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 유체 토출 노즐 세정 장치의 효과를 검증하기 위한 비교 사진으로, 도 6은 세척 전의 유체 토출 노즐의 사진이고, 도 7은 세척 후의 유체 토출 노즐의 사진이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 노즐 캡(35)의 표면에 예컨대, 크레파스 등으로 칠하여 오염 물질(DR)을 묻힌 유체 토출 노즐(30)을 준비한다. 오염 물질이 묻은 유체 토출 노즐(30)은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유체 토출 노즐 세정 장치(100)의 컵(41)과 위아래로 정렬되는 위치로 이동된다.
유체 토출 노즐(30)은 상측 개구(45)를 통해 컵(41)의 내부 공간(44)으로 진입하고, 세정액 토출부(50)에 의해 세정액이 토출되고, 제1 건조가스 토출부(110)와 제2 건조가스 토출부(130)에 의해 건조가스가 토출되어서 유체 토출 노즐(30)의 세정이 종료된다. 세정이 종료되고 컵(41)의 내부 공간(44)에서 빠져나오도록 들어올려진 유체 토출 노즐(30)은 도 7에 도시된 바와 같이 노즐 캡(35)의 표면에 오염 물질(DR)이 잔존하지 않으며, 세정액의 흔적도 남지 않게 깨끗하게 된다. 도시된 사진의 실험예에서, 세정액은 탈이온수이고, 건조가스는 습기 제거된 질소가스이고, 세정액의 토출 유량 및 토출 시간은 1 l/min(liter/minute) 및 1분이고, 건조가스의 토출 유량 및 토출 시간은 50 l/min 및 3분이다.
본 발명은 도면에 도시되는 일 실시예를 참고로 하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
1: 기판 10: 기판 처리 장치
20: 유체 토출 장치 30: 유체 토출 노즐
40: 유체 토출 노즐 세정 장치 41: 컵
45: 상측 개구 50: 세정액 토출부
70: 건조가스 토출부 85: 배기부

Claims (10)

  1. 기판 처리를 위한 유체를 토출하는 유체 토출 노즐을 세정하는 장치로서,
    내부 공간, 상기 유체 토출 노즐이 상기 내부 공간으로 진입하도록 개방된 상측 개구, 및 세정액이 상기 내부 공간에서 외부로 배출되는 하측 개구가 형성된 컵(cup);
    상기 컵의 내부 공간에 상기 유체 토출 노즐이 위치한 때 상기 유체 토출 노즐로 세정액을 토출하는 세정액 토출부; 및,
    상기 세정액 토출이 종료된 후에 유체 토출 노즐을 건조하기 위한 건조가스(gas)를 토출하는 건조가스 토출부;를 구비한 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 세정액 토출부는 상기 컵의 상측 개구와 하측 개구 사이의 측벽에서 내측으로 상기 세정액을 토출하고,
    상기 건조가스 토출부는 상기 컵의 측벽에서 상기 세정액이 토출되는 지점보다 높은 지점에서 내측으로 상기 건조가스를 토출하는 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 건조가스 토출부는 복수 개가 구비되고,
    상기 복수의 건조가스 토출부 중에서 상대적으로 높은 지점에 위치하는 건조가스 토출부에 의해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이는, 상대적으로 낮은 지점에 위치하는 건조가스 토출부에 의해 토출되는 건조가스가 향하는 지점의 높이보다 높은 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 유체 토출 노즐은 복수 개가 구비되고,
    상기 복수의 유체 토출 노즐은 서로 인접 배치되어 함께 수평 및 수직 방향으로 이동하며,
    상기 세정액 토출부는 상기 컵의 내부 공간에 위치한 복수의 유체 토출 노즐에 동시에 상기 세정액을 토출하고,
    상기 건조가스 토출부는 상기 세정액 토출이 종료된 후에 상기 복수의 유체 토출 노즐에 동시에 상기 건조가스를 토출하는 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 세정액은 0.3 내지 3.0 l/min(liter/minute)의 유량으로 상기 컵의 내부 공간으로 토출되고,
    상기 세정액의 토출 시간은 10초 내지 2분인 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 건조가스는 30 내지 100 l/min(liter/minute)의 유량으로 상기 컵의 내부 공간으로 토출되고,
    상기 건조가스의 토출 시간은 30초 내지 5분인 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 세정액은 탈이온수(deionized water)이고,
    상기 건조가스는 질소가스(N2)인 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 세정액 토출부 및 상기 건조가스 토출부의 작동 중에 상기 컵의 내부 공간에 축적되는 가스가 상기 상측 개구를 통해 배출되지 않도록, 상기 가스를 상기 컵의 내부 공간에서 흡입하여 상기 컵의 외부로 배출하는 배기부;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 장치.
  9. 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항의 유체 토출 노즐 세정 장치를 이용하여 상기 유체 토출 노즐을 세정하는 방법으로서,
    상기 유체 토출 노즐이 상기 컵의 내부 공간에 위치하도록 상기 유체 토출 노즐을 상기 상측 개구를 통해 상기 컵의 내부 공간으로 진입시키는 노즐 포지셔닝(nozzle positioning) 단계;
    상기 세정액을 토출하여 상기 유체 토출 노즐을 세정하는 세정액 토출 단계; 및,
    상기 세정액 토출 단계의 종료 후에, 상기 건조가스를 토출하여 상기 유체 토출 노즐의 표면을 건조하는 건조 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 방법.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 컵은 상기 유체 토출 노즐이 상기 기판에 유체를 토출하여 상기 기판을 처리하는 작업이 종료된 후에 복귀하는 지점에 위치하고,
    상기 노즐 포지셔닝 단계의 시작 시점과 상기 건조 단계의 종료 시점 사이에 상기 유체가 토출되어 처리된 기판은 상기 유체가 토출되지 않은 기판으로 교체되는 것을 특징으로 하는 유체 토출 노즐 세정 방법.
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