KR20230089429A - Detection device with colimation unit - Google Patents

Detection device with colimation unit Download PDF

Info

Publication number
KR20230089429A
KR20230089429A KR1020210178047A KR20210178047A KR20230089429A KR 20230089429 A KR20230089429 A KR 20230089429A KR 1020210178047 A KR1020210178047 A KR 1020210178047A KR 20210178047 A KR20210178047 A KR 20210178047A KR 20230089429 A KR20230089429 A KR 20230089429A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
inspection
collimation
probe
substrate
Prior art date
Application number
KR1020210178047A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정상헌
김완수
Original Assignee
바이옵트로 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 바이옵트로 주식회사 filed Critical 바이옵트로 주식회사
Priority to KR1020210178047A priority Critical patent/KR20230089429A/en
Publication of KR20230089429A publication Critical patent/KR20230089429A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2891Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/9501Semiconductor wafers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/07314Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/145Indicating the presence of current or voltage
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2853Electrical testing of internal connections or -isolation, e.g. latch-up or chip-to-lead connections
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/286External aspects, e.g. related to chambers, contacting devices or handlers
    • G01R31/2865Holding devices, e.g. chucks; Handlers or transport devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/2872Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation
    • G01R31/2879Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to electrical aspects, e.g. to voltage or current supply or stimuli or to electrical loads
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2889Interfaces, e.g. between probe and tester
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R35/00Testing or calibrating of apparatus covered by the other groups of this subclass
    • G01R35/005Calibrating; Standards or reference devices, e.g. voltage or resistance standards, "golden" references
    • G01R35/007Standards or reference devices, e.g. voltage or resistance standards, "golden references"

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)

Abstract

본 발명은 기판의 검사 장치로서, 기판의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트, 검사에 대한 기준값을 검사하는 콜리메이션(colimation) 유니트를 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 상기 프로브 유니트와 함께 가상의 수직선에 관통되며 서로 평행하게 마련될 수 있다. The present invention is an inspection device for a substrate, and may include a probe unit for inspecting the energization state of the substrate and a collimation unit for inspecting a reference value for inspection, and the collimation unit is a virtual vertical line along with the probe unit. It penetrates and may be provided parallel to each other.

Description

콜리메이션 유니트를 구비한 검사 장치{Detection device with colimation unit}Inspection device with collimation unit {Detection device with collimation unit}

본 발명은 기판의 콜리메이션(colimation) 검사를 위한 검사 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an inspection apparatus for inspecting the collimation of a substrate.

회로가 인쇄되기 전의 기판(Bare Board)은 제조 과정을 마친 후에는 통전 검사를 마쳐야하고, 이를 통한 전기적 신호가 모두 이상없어야 출하가 가능할 수 있다. 통전 검사를 통하여 기판이 특정한 저항을 가지는 정상, 쇼트(short) 또는 오픈(open)을 판별하고 이를 통해 정상 기판(200)과 오류가 난 기판을 분류하는 것은 중요할 수 있다. The board (Bare Board) before the circuit is printed must complete the energization test after completing the manufacturing process, and all electrical signals through this may be shipped without abnormalities. It may be important to determine whether a board has a specific resistance, whether it is normal, short, or open through a conduction test, and classify a normal board 200 and a faulty board through this.

또한 통전 검사 자체에 의한 오류를 보정하는 것 외에도 통전 검사를 위한 초기 기준값(R) 자체도 설비 환경에 따라 변할 수 있고, 이러한 기준값(R) 자체의 미세한 변동을 주기적인 콜리메이션 검사를 통해서 조절하는 것은 중요할 수 있다. In addition, in addition to correcting the error caused by the continuity test itself, the initial reference value (R) itself for the energization test may change depending on the facility environment, and the fine fluctuations in this reference value (R) itself can be adjusted through periodic collimation inspection. thing can be important.

본 발명은 기판의 정렬 검사, 통전 검사, 찍힘 검사 등의 다양한 검사를 위한 초기 셋팅에 해당하는 기준값의 변동을 검사하기 위한 장치로서, 주기적인 기준값 보정을 위한 콜리메이션 검사를 시행하여 양질의 기판을 생산하기 위한 검사 장치를 제공하는 것이다.The present invention is a device for inspecting the fluctuation of a reference value corresponding to the initial setting for various inspections such as alignment inspection, energization inspection, and puncture inspection of a board, by performing a collimation inspection for periodic reference value correction to obtain a high-quality board. It is to provide an inspection device for production.

본 발명은 기판의 검사 장치로서, 기판의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트, 검사에 대한 기준값을 검사하는 콜리메이션(colimation) 유니트를 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 상기 프로브 유니트와 함께 가상의 수직선에 관통되며 서로 평행하게 마련될 수 있다. The present invention is an inspection device for a substrate, and may include a probe unit for inspecting the energization state of the substrate and a collimation unit for inspecting a reference value for inspection, and the collimation unit is a virtual vertical line along with the probe unit. It penetrates and may be provided parallel to each other.

프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치할 수 있다. The probe unit may include an inspection unit in which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated, and a collimation unit may be positioned between the inspection unit and the inspection table.

콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하며, 콜리메이션 유니트의 상부에는 제1 카메라가, 하부에는 제2 카메라가 구비될 수 있고, 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하고, 상기 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영할 수 있다. 콜리메이션 유니트의 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하며, 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영하며, 제어부는 상기 기판의 얼라인 마크를 기준으로, 상기 제1 카메라에 의해 촬영된 제1 화면 및 상기 제2 카메라에 의해 촬영된 제2 화면을 목표 기준값과 비교하여 오차를 수정할 수 있다. The collimation unit is located between the inspection unit and the inspection table, and may include a first camera at an upper part of the collimation unit and a second camera at a lower part of the collimation unit, the first camera photographs a probe of the probe unit, The second camera may photograph the circuit pattern of the substrate. The first camera of the collimation unit photographs the probe of the probe unit, the second camera photographs the circuit pattern of the substrate, and the controller captures the photographic image by the first camera based on the alignment mark of the substrate. An error may be corrected by comparing the first screen and the second screen photographed by the second camera with a target reference value.

콜리메이션 검사가 진행되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치로 진입할 수 있고, 콜리메이션 검사가 완료되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치에서 후퇴할 수 있다. When the collimation test is in progress, the collimation unit may enter a position between the inspection unit and the inspection table, and when the collimation inspection is completed, the collimation unit is positioned between the inspection unit and the inspection table. can retreat from

기판의 정렬 상태를 검사하는 정렬 유니트가 마련되고, 정렬 유니트의 공정상 위치를 제1 위치, 상기 콜리메이션 유니트 및 상기 프로브 유니트의 공정상 위치를 제2 위치라 하는 경우, 콜리메이션 검사는 상기 제1 위치에서 상기 제2 위치로 이동하며 진행될 수 있다. When an alignment unit inspecting the alignment state of the substrate is provided, the process position of the alignment unit is referred to as a first position, and the process positions of the collimation unit and the probe unit are referred to as a second position, the collimation inspection is performed as the first position. It may proceed while moving from the first position to the second position.

제어부는 상기 검사 테이블의 x 방향, y 방향, θ 각도를 조절하며, x 방향 및 y 방향은 상기 기판이 놓이는 평면을 이루는 두 축이고, 상기 θ 각도는 상기 x 방향 및 y 방향이 이루는 평면에 수직한 방향에 대한 회전 정도를 나타낼 수 있다. The control unit adjusts the x-direction, the y-direction, and the θ angle of the examination table, the x-direction and the y-direction are two axes forming a plane on which the substrate is placed, and the θ angle is perpendicular to the plane formed by the x-direction and the y-direction It can indicate the degree of rotation with respect to the direction.

기판에는 복수의 회로 패턴이 마련될 수 있고, 제어부는 상기 프로브 유니트의 프로브 및 상기 회로 패턴을 목표 기준값과 비교하기 위해, 공정의 정밀도 요구치가 높아짐에 따라 상기 회로 패턴의 밀집도가 높은 지역에서 낮은 지역의 순서로 비교할 지역을 선택할 수 있다. A plurality of circuit patterns may be provided on the substrate, and the control unit compares the probe of the probe unit and the circuit pattern with a target reference value. You can select the regions to compare in the order of .

검사부에는 기판의 상부에 위치하는 제1 검사부, 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 검사부가 마련될 수 있고, 제1 검사부와 상기 기판사이에는 제1 콜리메이션 유니트가, 상기 제2 검사부와 상기 기판사이에는 제2 콜리메이션 유니트가 구비될 수 있다. The inspection unit may include a first inspection unit located above the substrate and a second inspection unit located below the substrate, and a first collimation unit between the first inspection unit and the substrate, the second inspection unit and the substrate. A second collimation unit may be provided between them.

초기 셋팅 기준값의 오차를 보정하는 콜리메이션 유니트는 검사 공정상 프로브 유니트의 공정 위치에 위치할 수 있고, 구조상 프로브 유니트와 콜리메이션 유티는 가상의 수직선상에서 서로 이격된 평행한 평면을 이룰 수 있다. 즉, 프로브 유니트는 기판의 상하로 제1 검사부 및 제2 검사부, 기판이 안착될 수 있는 검사 테이블을 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 각 검사부와 검사 테이블 사이에 위치할 수 있기에 상부 제1 카메라는 프로브를 촬영할 수 있고, 하부 제2 카메라는 기판 또는 회로 패턴을 촬영할 수 있다.The collimation unit correcting the error of the initial setting reference value may be located at the process position of the probe unit in the inspection process, and structurally, the probe unit and the collimation unit may form a parallel plane spaced apart from each other on a virtual vertical line. That is, the probe unit may include a first inspection unit and a second inspection unit above and below the substrate, and an inspection table on which the substrate can be seated, and the collimation unit may be located between each inspection unit and the inspection table, so that the upper first camera may photograph the probe, and the lower second camera may photograph the substrate or circuit pattern.

제어부는 제1 카메라를 통해 촬영한 제1 화면과 제2 카메라를 통해 촬영한 제2 화면을 목표 기준값과 비교하여 오차를 보정할 수 있다. 이는 사람이 수동으로 패드 등을 기판에 안착하여 통전 검사 등을 수행한 후 그 패드의 파인 자국과 목표 기준값을 현미경 레벨의 카메라 등을 이용하여 육안으로 식별하여 콜리메이션하거나, 기판에 안착된 패드의 파인 자국을 기판과 함께 콜리메이션 카메라 등을 이용하여 검사하여 콜리메이션 하는 수동 콜리메이션 방법에 비해 공정 속도를 현격히 올릴 수 있다. 또한, 정렬 검사, 통전 검사 등의 통상의 본 기판 검사 공정을 잠시 멈춘후 시행하는 수동 콜리메이션에 비해, 상기와 같은 자동 콜리메이션은 상기의 본 검사 공정을 멈추지 않고, 중간에 주기적으로 콜리메이션 유니트를 프로브 유니트에 삽입하여 서로 수직으로 평행하게 배열시킬 수 있다. 따라서, 작업자의 작업 환경 특성에 맞게, 콜리메이션 검사를 본 검사 공정의 사이에 배치하거나 본 검사 공정의 일부로 배치할 수 있어 결과적으로 전체 공정 과정을 유연하게 배치할 수 있다. The controller may correct an error by comparing the first screen captured through the first camera and the second screen captured through the second camera with a target reference value. This is done by a person manually placing a pad on a substrate to perform an electrical power test, etc., and then visually identifying and collimating the dent in the pad and the target reference value using a microscope-level camera, or The process speed can be significantly increased compared to the manual collimation method in which the dents are inspected and collimated using a collimation camera along with the board. In addition, compared to manual collimation performed after temporarily stopping the main board inspection process such as alignment inspection and power inspection, the automatic collimation as described above does not stop the main inspection process, and the collimation unit periodically in the middle can be inserted into the probe unit and arranged vertically and parallel to each other. Therefore, according to the characteristics of the operator's working environment, the collimation inspection can be arranged between the main inspection process or as part of the main inspection process, and as a result, the entire process can be flexibly arranged.

도 1은 본 발명의 검사 장치의 정렬 유니트와 프로브 유니트를 설명한 설명도이다.
도 2는 본 발명의 검사 장치의 콜리메이션 유니트와 프로브 유니트간의 위치를 설명한 설명도이다.
도 3은 본 발명의 콜리메이션 유니트에 프로브 위치와 회로 패턴의 위치를 설명한 설명도이다.
도 4는 본 발명의 콜리메이션 유니트에 의해 목표 기준값으로 프로브 위치와 회로 패턴의 위치가 오차 보정된 것을 설명한 설명도이다.
1 is an explanatory diagram illustrating an alignment unit and a probe unit of an inspection device according to the present invention.
2 is an explanatory view explaining the position between the collimation unit and the probe unit of the inspection apparatus of the present invention.
3 is an explanatory diagram explaining the position of the probe and the position of the circuit pattern in the collimation unit of the present invention.
FIG. 4 is an explanatory diagram explaining that the probe position and the position of the circuit pattern are corrected with a target reference value by the collimation unit of the present invention.

본 발명의 검사 장치는 기판(200)을 정렬시키는 정렬 유니트(170), 기판(200)의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트(190), 기판(200) 및 프로브(193)의 콜리메이션(colimation) 상태를 검사하는 콜리메이션 유니트(400)를 포함할 수 있다. The inspection apparatus of the present invention includes an alignment unit 170 for aligning the substrate 200, a probe unit 190 for inspecting the energized state of the substrate 200, and collimation of the substrate 200 and the probe 193. A collimation unit 400 for inspecting the state may be included.

회로가 인쇄되기 전의 기판(200)(Bare Board)은 제조 과정을 마친 후, 정상적으로 제조되었는지를 검사하는 통전 검사를 할 수 있고, 정확한 통전 검사를 위해 정렬 유니트(170)에서 기판(200)의 틀어짐을 검사할 수 있다.The board 200 (Bare Board) before the circuit is printed can be subjected to a continuity test to check whether or not it has been normally manufactured after the manufacturing process is completed. can be inspected.

프로브 유니트(190)는 기판(200)의 상하로 제1 검사부(192) 및 제2 검사부(194), 기판이 안착될 수 있는 검사 테이블(196)을 포함할 수 있다. 콜리메이션 유니트(400)는 각 검사부(192,194)와 검사 테이블(196)사이에 위치할 수 있고, 상부 제1 카메라는 프로브(193)를 촬영할 수 있고, 하부 제2 카메라는 기판(200) 또는 회로 패턴(210)을 촬영할 수 있으며, 도면에는 제1 카메라에 의한 프로브(193)를 P로 도시하고, 제2 카메라에 의한 기판(200) 또는 회로 패턴(210)을 C로 도시할 수 있다. 또한, 양질의 정상 기판(200)이 생산될 수 있는 기준이 되는 기준값을 목표 기준값(R)이라고 할 수 있다. 따라서, 콜리메이션 검사의 경우, 기판(200)은 정렬 유니트(170)에서 프로브 유니트(190)으로 이동될 수 있고, 콜리메이션 검사가 완료된 후 콜리메이션 유니트(400)는 뒤로 후퇴할 수 있으며, 프로브 유니트(190)는 통전 검사를 시행할 수 있다. The probe unit 190 may include a first inspection unit 192 and a second inspection unit 194 above and below the substrate 200 and an inspection table 196 on which the substrate may be placed. The collimation unit 400 may be located between each of the inspection units 192 and 194 and the inspection table 196, the first upper camera may take a picture of the probe 193, and the second lower camera may capture the substrate 200 or circuit The pattern 210 may be photographed, and the probe 193 by the first camera may be shown as P in the drawing, and the substrate 200 or the circuit pattern 210 by the second camera may be shown as C. In addition, a reference value serving as a criterion by which a good quality normal substrate 200 can be produced may be referred to as a target reference value R. Therefore, in the case of the collimation test, the substrate 200 can be moved from the alignment unit 170 to the probe unit 190, and after the collimation test is completed, the collimation unit 400 can be retracted, and the probe unit 400 can be retracted. The unit 190 may perform an energization test.

제1 검사부(192) 와 제2 검사부(194)는 동일한 방식으로 작동하기에 도면에서는 간단히 제1 검사부(192)에 마련된 콜리메이션 유니트(400)를 설명한 것일 수 있다. 이하 설명하는 제1 검사부(192)의 콜리메이션 검사 방법은 그대로 제2 검사부의 콜리메이션 검사에 사용될 수 있다. Since the first inspection unit 192 and the second inspection unit 194 operate in the same way, the drawing may simply describe the collimation unit 400 provided in the first inspection unit 192 . The collimation inspection method of the first inspection unit 192 described below may be used for the collimation inspection of the second inspection unit as it is.

즉, 검사부에는 기판(200)의 상부에 위치하는 제1 검사부(192), 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 검사부(194)가 마련될 수 있고, 제1 검사부(192)와 상기 기판사이에는 제1 콜리메이션 유니트가, 상기 제2 검사부와 상기 기판사이에는 제2 콜리메이션 유니트가 구비될 수 있다. 이 경우, 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 제1 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제1 화면, 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판의 회로 패턴을 촬영한 화면을 제2 화면, 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 제2 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제3 화면, 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판을 촬영한 화면을 제4 화면이라고 할 수 있다. That is, the inspection unit may include a first inspection unit 192 located above the substrate 200 and a second inspection unit 194 located below the substrate, and between the first inspection unit 192 and the substrate A first collimation unit and a second collimation unit may be provided between the second inspection unit and the substrate. In this case, the screen of the first collimation unit photographing the probe of the first inspection unit is the first screen, and the screen of the first collimation unit photographing the circuit pattern of the board is the second screen, the second collimation. A screen in which the probe of the second inspection unit is photographed by the camera of the unit may be referred to as a third screen, and a screen in which the camera of the second collimation unit photographs the substrate may be referred to as a fourth screen.

제어부는 기판의 얼라인 마크(230)을 기준으로 정상 기판 생산을 위한 목표 기준값(R)을 설정할 수 있고, 제1 카메라에 의한 제1 화면의 프로브 위치(P)와 제2 카메라에 의한 제2 화면의 회로 패턴(210) 위치(C)를 상기 목표 기준값(R)과 비교함으로서, 제어부는 프로브 위치(P) 또는 회로 패턴의 위치(C)를 목표 기준값(R)으로 조절할 수 있다. 이 경우, 제어부는 프로브 유니트(190)의 검사 테이블(196)을 이동 또는 회전 시켜 기판의 위치를 조절할 수 있다. 즉, 콜리메이션 유니트(400)에서는 제1 화면과 제2 화면이 목표 기준값(R)이 표시된 화면과 비교될 수 있고, 제어부는 각 화면과 목표 기준값(R)의 오차를 보정할 수 있다. The control unit may set a target reference value (R) for normal board production based on the alignment mark 230 of the board, and the probe position (P) of the first screen by the first camera and the second screen by the second camera By comparing the position (C) of the circuit pattern 210 on the screen with the target reference value (R), the controller can adjust the probe position (P) or the position (C) of the circuit pattern to the target reference value (R). In this case, the controller may move or rotate the inspection table 196 of the probe unit 190 to adjust the position of the substrate. That is, in the collimation unit 400, the first screen and the second screen can be compared with the screen on which the target reference value R is displayed, and the controller can correct the error between each screen and the target reference value R.

정렬 검사, 통전 검사 또는 찍힘 검사중 적어도 어느 하나의 검사가 수행되기 전에 영점 조절에 해당하는 콜리메이션 검사를 먼저 수행되어 기준값을 보정할 수 있다. 따라서, 정렬 검사, 통전 검사 또는 찍힘 검사시에는 콜리메이션 유니트(400)는 후퇴하여 각 검사부(192,194)와 검사 테이블(196)의 사이에서 위치하지 않을 수 있고, 상기 각 검사의 전에 기준값의 오차를 보정하는 콜리메이션 검사시에는 콜리메이션 유니트(400)는 진입하여 각 검사부(192,194)와 검사 테이블(196)의 사이에서 위치할 수 있다. Before at least one of the alignment test, the energization test, and the stamping test is performed, a collimation test corresponding to zero point control may be performed first to correct the reference value. Therefore, during alignment inspection, energization inspection, or puncture inspection, the collimation unit 400 may retreat and not be positioned between the inspection units 192 and 194 and the inspection table 196, and the error of the reference value before each inspection may be checked. During the collimation inspection to correct, the collimation unit 400 may enter and be positioned between the inspection units 192 and 194 and the inspection table 196 .

정렬 검사, 통전 검사 또는 찍힘 검사는 기준값에 대한 비교를 통해서 정상과 불량을 판단할 수 있다. 즉, 사용자가 검사 장치를 기판(200)을 넣어 동작시키기 전에, 처음에 기준으로 셋팅하는 기준값이 설정될 수 있고, 정렬 유니트(170)는 기준값보다 기판(200)의 틀어짐을 판단하며, 프로프 유니트는 제어부가 산출한 정렬 유니트(170)의 틀어짐에 대한 보정을 한 후 통전 검사를 진행할 수 있다.Alignment inspection, energization inspection, or puncture inspection can determine whether it is normal or defective through comparison with a reference value. That is, before the user puts the board 200 in the inspection device and operates it, a reference value initially set as a standard may be set, and the alignment unit 170 determines that the board 200 is distorted more than the reference value, and the probe The unit may perform a power-on test after correcting the distortion of the alignment unit 170 calculated by the control unit.

따라서, 각 검사의 정상 또는 불량의 판단은 초기에 셋팅된 기준값에 대한 비교를 통해서 이루어지기에 기준값 자체에 오차가 발생하는 경우에는 잘못된 기준에 대한 비교 판단을 한 것으로서, 공정 전체 물품을 폐기해야 될 수 있다. Therefore, since the determination of whether each inspection is normal or defective is made through comparison with the initially set standard value, if an error occurs in the standard value itself, it is a comparison judgment based on the wrong standard, and the entire product in the process must be discarded. can

초기 기준값이 제대로 설정되었는지 검사하는 것을 콜리메이션(colimation) 검사라 할 수 있다. 즉, 콜리메이션 검사는 영절 조절 또는 켈리브레이션(calibration)과 같은 의미일 수 있다. 이론상으로는 이러란 초기 셋팅의 기준값은 공정상 변화없이 진행될 수 있으나, 실제로는 설비 장치의 진동 등의 미세한 변화가 누적되어 반복되는 공정에 의해서 결국 기준값이 초기와 달라질 수 있다. 따라서, 공정상 기준값과 검사 결과를 비교하는 것 외에, 기준값 자체에 대한 보정인 콜리메이션 검사를 함으로서 더욱 불량률이 낮은 기판(200)이 생산될 수 있다. Inspecting whether the initial reference value is properly set may be referred to as a collimation inspection. That is, the collimation test may be synonymous with nodal control or calibration. Theoretically, the reference value of this initial setting can be performed without any change in the process, but in practice, the reference value may eventually differ from the initial value due to repeated processes in which minute changes such as vibration of equipment are accumulated. Therefore, the substrate 200 with a lower defect rate can be produced by performing a collimation test, which is a correction of the reference value itself, in addition to comparing the test result with the reference value in the process.

제1 검사부(192)의 프로브(193)는 승강하며 기판(200)의 접촉하고, 정확한 통전 검사를 위해서는, 프로브(193)가 측정하고자 하는 기판(200)의 정확한 측정위치에 접촉하여야 하며, 이를 위해서는 정렬 유니트(170)에서 기판(200)의 틀어짐을 검사한 후 그 틀어짐에 대한 보정을 하고 제1 검사부(192)에 의한 통전 검사가 시행될 수 있다. The probe 193 of the first inspection unit 192 ascends and descends to contact the substrate 200, and for accurate energization inspection, the probe 193 must contact the exact measurement position of the substrate 200 to be measured. To do this, after the alignment unit 170 inspects the distortion of the substrate 200, the distortion is corrected, and then the first inspection unit 192 conducts a continuity test.

통전 검사후 통전 검사 자체에 의한 찍힘이 발생할 수 있다. 통전 검사시 제1 검사부(192)의 프로브(193)가 승강하며 목표 지점에 접촉할 수 있다. 프로브(193)와 기판(200)의 접촉시 근방에서만 프로브(193)의 승강 속도를 느리게 조절하여 기판(200)의 충격을 완화할 수 있다. After the energization test, dents may occur due to the energization test itself. During the power test, the probe 193 of the first inspection unit 192 ascends and descends and may contact the target point. When the probe 193 and the substrate 200 come into contact, the impact of the substrate 200 may be alleviated by adjusting the elevation speed of the probe 193 slowly only in the vicinity.

제어부는 정렬 유니트(170)에 위치한 카메라를 통하여 정렬 유니트(170)의 기판(200) 위치 오차를 산출할 수 있다. 제어부에 기억된 기판(200) 위치 오차는 제1 검사부(192)에서 기판(200)을 안착시킬 수 있는 검사 테이블(196)이 반대 방향으로 이동 또는 회전함으로써 보정될 수 있고, 제어부는 정렬 유니트(170)에서 산출된 기판(200) 위치 오차를 보정하는 위치 및 각도로 기판(200)을 이동시킨 다음 프로브(193)가 기판(200)의 정확한 측정점에 접촉할 수 있도록 제1 검사부(192)의 검사 테이블(196)을 제어할 수 있으며, 제어부를 이용하여 찍힘 검사를 하는 경우, 제어부는 프로브(193)에 의한 기판(200)의 찍힘을 기준값과 비교하고, 카메라에 의하여 촬영한 영상의 찍힘이 기준값 이상인 경우 찍힘 불량으로 판단할 수 있다.The controller may calculate a positional error of the substrate 200 of the alignment unit 170 through a camera located in the alignment unit 170 . The positional error of the substrate 200 stored in the control unit can be corrected by moving or rotating the inspection table 196 on which the substrate 200 can be seated in the first inspection unit 192 in the opposite direction, and the control unit includes an alignment unit ( After moving the substrate 200 to a position and angle that corrects the positional error of the substrate 200 calculated in 170), the probe 193 of the first inspection unit 192 can contact the exact measurement point of the substrate 200. It is possible to control the inspection table 196, and when performing the stamping test using the control unit, the controller compares the stamping of the substrate 200 by the probe 193 with a reference value, and the stamping of the image taken by the camera is confirmed. If it is more than the standard value, it can be judged as a bad impression.

기판(200)과 복수의 프로브(193)가 마련된 지그는 x,y,θ의 3개의 값을 조정함으로서 특정될 수 있다. 즉, 3개의 자유도를 조절하여 콜리메이션 상태를 보정할 수 있다. 공간상의 물체는 x,y,z축의 3개의 자유도와 각 축에 대한 회전 자유도 3개를 더하여 총 6개의 자유도를 가질 수 있다. 제1 검사부(192)는 프로브(193)의 승강에 의해서 기판(200)에 접촉하여 통전 검사가 실시될 수 있고, 복수의 프로브(193)가 마련된 지그와 기판(200)의 z 방향 평행을 유지시킨채로 지그가 승강 운동하는 경우, x,y축의 자유도와 z축에 대한 회전 자유도 θ만 특정되면, 기준값은 특정될 수 있다. 또한, 기판(200) 및 프로브(193)의 상대적인 위치는 하나를 고정시킨고 다른 하나에 자유도를 모두 줄 수 있기에, 상대적으로 중량이 적은 기판(200)의 자유도를 보정함으로서 콜리메이션을 할 수 있다. 따라서, 검사 장치의 콜리메이션 문제는 기판(200)의 x 방향, y 방향, θ각도의 틀어짐을 보정하는 문제일 수 있다. The jig provided with the substrate 200 and the plurality of probes 193 can be specified by adjusting three values of x, y, and θ. That is, the collimation state can be corrected by adjusting the three degrees of freedom. An object in space can have a total of six degrees of freedom, including three degrees of freedom along the x, y, and z axes and three rotational degrees of freedom along each axis. The first inspection unit 192 can contact the substrate 200 by lifting the probe 193 to conduct an electrical current test, and maintain the z-direction parallel to the jig provided with the plurality of probes 193 and the substrate 200. When the jig moves up and down while being moved, the reference value can be specified if only the degrees of freedom of the x and y axes and the degree of freedom of rotation about the z axis θ are specified. In addition, since the relative positions of the substrate 200 and the probe 193 can fix one and give all degrees of freedom to the other, collimation can be performed by correcting the degree of freedom of the substrate 200 having a relatively small weight. . Accordingly, the collimation problem of the inspection device may be a problem of correcting distortion of the substrate 200 in the x-direction, the y-direction, and the θ angle.

통전 검사가 시행되는 제1 검사부(192)는 기판(200)에 탐침을 하는 프로브(193), 프로브(193)가 지지되는 베이스판(195)을 포함할 수 있다. 프로브(193)는 승강하며 기판(200)에 접촉할 수 있고, 접촉시 강도와 프로브(193)의 승강속도 등은 제어부에 의해서 조절될 수 있다. 제1 검사부(192)와 제2 검사부(194)는 검사 테이블(196)의 수직 방향의 상,하로 위치할 수 있고, 이는 기판(200)의 상측과 하측에 각각 승강 접촉할 수 있다. The first inspection unit 192 where the continuity test is performed may include a probe 193 that probes the substrate 200 and a base plate 195 on which the probe 193 is supported. The probe 193 may come into contact with the substrate 200 while moving up and down, and the contact strength and the lifting speed of the probe 193 may be controlled by the control unit. The first inspection unit 192 and the second inspection unit 194 may be positioned above and below the inspection table 196 in a vertical direction, and may come into contact with the upper and lower sides of the substrate 200, respectively.

정렬 유니트(170)는 카메라 등을 이용해서 기판(200)의 정렬 상태를 기준값과 비교할 수 있고, 제어부는 정렬 유니트(170)에 의해서 측정된 기준값과의 차이만큼 베이스판(195)을 조절함으로서 차이를 보정해줄 수 있다. 이러한 보정은 설비에 따라서 정렬 유니트(170) 자체에서 시행될 수 있고, 기판(200)을 각 유니트간 이동시킬 수 있는 셔틀 유니트에서 시행될 수 있으며, 정렬 유니트(170)에서 받은 정보를 바탕으로 제1 검사부(192)의 베이스판(195)이 움직여 보정된후 통전 검사가 시행될 수 있다. 베이스판(195)은 x 방향, y 방향으로 움직일 수 있고, z 방향에 대한 회전 각도인 θ만큼 회전될 수 있다. The alignment unit 170 may compare the alignment state of the substrate 200 with a reference value using a camera or the like, and the control unit adjusts the base plate 195 as much as the difference from the reference value measured by the alignment unit 170 to make a difference. can correct it. Such correction may be performed in the alignment unit 170 itself, depending on the equipment, or in a shuttle unit capable of moving the substrate 200 between units, and based on the information received from the alignment unit 170, correction may be performed. 1 After the base plate 195 of the inspection unit 192 is moved and corrected, the energization test can be performed. The base plate 195 can move in the x-direction and the y-direction, and can be rotated by θ, which is a rotation angle with respect to the z-direction.

검사 대상인 회로내의 소자간의 거리 및 탐침 프로브(193)의 두께는 수 미크론(micron)정도일 수 있다. 따라서, 콜리메이션 유니트(400)의 카메라는 미크론 레벨의 포인트간에 식별을 할 수 있어야 한다. The distance between elements in the circuit to be inspected and the thickness of the probe 193 may be on the order of several microns. Therefore, the camera of the collimation unit 400 should be able to discriminate between micron-level points.

찍힘 유니트가 정렬 유니트(170)에 인접한 위치에 마련될 수 있다. 불량 기판(200)을 판별하는 필수적인 통전 검사시에, 프로브(193) 등을 통한 뾰족한 끝을 가진 프로브(193) 등으로 검사를 시행하게 되고, 이로 인해 통전 검사 자체로 인한 기판(200)의 찍힘이 발생할 수 있다. 이러한 찍힘을 방치하고, 설비를 수시간 또는 몇일을 가동하여 기판(200)에 회로가 실장되는 경우에는, 기판(200)에 비해 몇배나 비싼 회로 자체를 폐기하는 문제가 발생할 수 있기에 사용자는 찍힘을 한 시간 단위등으로 주기적으로 자주 관리 해야할 수 있다. The stamping unit may be provided at a position adjacent to the alignment unit 170 . During the essential energization test to determine the defective board 200, the test is performed with a probe 193 having a pointed end through the probe 193, etc., and as a result, the board 200 is punctured due to the energization test itself. this can happen If the circuit is mounted on the board 200 by neglecting these nicks and operating the facility for several hours or days, the problem of discarding the circuit itself, which is several times more expensive than the board 200, may occur, so the user must avoid the nicking. You may need to manage it periodically, such as on an hourly basis.

찍힘에는 구조상 통전 검사 자체로 인한 오류도 있지만, 탐침을 하는 프로브(193) 자체에 마모나 벤딩등으로 인한 불량이 발생할 수 있고, 프로브(193)에 이물질이 끼여 불량을 발생할 수 있다. 따라서, 찍힘으로 인한 불량 발생에는 프로브(193)와 기판(200) 사이의 예정된 검사 거리를 변경시키는 주변적 요인외에도 프로브(193) 자체의 불량이나 이물질 등으로 인한 불량이 있을 수 있다. 즉, 찍힘의 요인은 다양하기에 현미경 수준의 수 미크론을 판별할 수 있는 카메라 등을 이용하여 찍힘의 정확한 형태를 인식하고, 원인별로 찍힘을 분류함으로서 찍힘 유니트에 의해서 판별된 찍힘의 원인을 빠르게 찾아 대처할 수 있다. 제1 검사부(192)에 마련된 프로브(193)에 의한 기판(200)의 찍힘량이 상기 찍힘 유니트의 카메라에서 촬영될 수 있다. There is also an error due to the energization test itself in terms of structure, but defects may occur due to abrasion or bending in the probe 193 itself, and foreign substances may be caught in the probe 193 to cause defects. Therefore, defects due to puncture may include defects due to defects in the probe 193 itself or foreign substances in addition to peripheral factors that change a predetermined inspection distance between the probe 193 and the substrate 200 . That is, since the factors of dents are diverse, the exact form of dents is recognized using a camera capable of discriminating several microns at the level of a microscope, and the cause of dents identified by the dent unit is quickly found by classifying dents by cause. can cope The amount of stamping of the board 200 by the probe 193 provided in the first inspection unit 192 may be captured by the camera of the stamping unit.

기판(200)의 불량률을 판별하는 필수적인 통전 검사 자체로 인해 오히려 기판(200)에 불량률이 발생할수 있기에 이 또한 불량률의 하나로 간주하여 검사를 통해 분류할 필요가 있다. 즉, 기판(200)이 로딩되어 검사를 마치고 다시 언로딩되는 일련의 과정중에, 기판(200)의 통전을 검사하는 제1 검사부(192)는 통전으로 인한 찍힘을 검사하는 찍힘 유니트의 전단계일 수 있다. Since a defective rate may occur in the substrate 200 due to the essential energization test itself for determining the defective rate of the substrate 200, this also needs to be regarded as one of the defective rates and classified through inspection. That is, during a series of processes in which the substrate 200 is loaded, inspected, and unloaded again, the first inspection unit 192 that inspects energization of the substrate 200 may be the previous step of the nick unit that inspects nicks caused by energization. there is.

찍힘 검사는 통전 검사에 의한 찍힘을 확인하는 것일 수 있다. 통전 검사시 모든 회로의 연결을 다 확인하는 것은 너무 오랜 시간이 걸리기에, 사용자는 특정 기판(200)에 따른 패튼에 따라 더 밀집되고 복잡하여 불량이 발생하기 쉬운 기판(200)의 위치를 셋팅시에 확인하고, 선별적인 검사를 시행할 수 있다. 이 경우, 시간별로 구간을 나누어 각 구간에 따른 다른 위치를 셋팅함으로서, 어느 구간에서 불량률이 높은지 데이터를 취합하여 분석에 이용할 수 있다. 따라서, 사용자에 의해서 각 구간에 셋팅된 샘플링 위치만 통전 검사를 행할 수 있기에, 찍힘 유니트는 전체 회로를 다 검사하기보다는 통전 검사의 위치 데이터를 참고하여 찍힘 검사를 신속히 행할 수 있다.The puncture test may be to check dents by an energization test. Since it takes too long to check all circuit connections during the power test, the user sets the position of the board 200, which is more dense and complicated according to the pattern of the specific board 200, where defects are likely to occur. , and selective testing can be performed. In this case, by dividing sections by time and setting different positions according to each section, data on which section has a high defect rate can be collected and used for analysis. Therefore, since the energization test can be performed only at the sampling position set by the user in each section, the puncture unit can quickly perform the puncture test by referring to the positional data of the energization test rather than inspecting the entire circuit.

제어부를 이용하여 찍힘 검사를 하는 경우, 제어부는 프로브(193)에 의한 기판(200)의 찍힘을 기준값과 비교하고, 카메라에 의하여 촬영한 영상의 찍힘이 기준값 이상인 경우 찍힘 불량으로 판단할 수 있다.When the stamping test is performed using the control unit, the control unit compares the stamping of the substrate 200 by the probe 193 with a reference value, and determines that the photographing is defective when the photographing of the image taken by the camera is equal to or greater than the reference value.

찍힘 유니트의 검사대상인 회로내의 소자의 거리 및 탐침 프로브(193)의 두께는 수 미크론(micron)정도의 크기일 수 있다. The thickness of the probe 193 and the distance of the elements in the circuit to be inspected by the stamping unit may be on the order of several microns.

통전 검사 공정시 하나의 기판(200)만 검사하며 순서대로 진행하기보다는 복수의 기판(200)을 하나의 판으로 배열하여 진행될 수 있다. 복수의 기판(200)이 배열된 판을 로트(lot)라고 할 수 있고, 개별 기판(200) 또는 회로를 스텝(step)이라고 할 수 있다. 즉, 로트는 기판(200)이라 부를 수 있고, 각 스텝은 회로 패턴이라 할 수 있다. 기판(200)은 복수의 회로 패턴과 각 회로 패턴별로 형성된 얼라인 마크(230)가 마련될 수 있다. 각 회로 패턴은 제품에 탑재되는 단위일 수 있다. 예를 들어 6개의 회로 패턴이 도시되는데 각 회로 패턴은 이동 통신 단말기의 기판(200)을 형성할 수 있다. 즉, 기판(200)은 검사 장치의 하류에서 이루어지는 후 공정에서 6개의 회로 패턴으로 분리되어 각 이동 통신 단말기에 설치될 수 있다. 이와 같이 복수의 회로 패턴이 하나의 기판(200)에 포함되는 경우 후 공정의 편의를 도모하기 위해 각 회로 패턴 별로 얼라인 마크(230)가 형성될 수 있다.During the conduction inspection process, only one substrate 200 is inspected, and rather than sequentially, a plurality of substrates 200 may be arranged as one plate. A plate on which a plurality of substrates 200 are arranged may be referred to as a lot, and an individual substrate 200 or circuit may be referred to as a step. That is, the lot may be referred to as a substrate 200, and each step may be referred to as a circuit pattern. The substrate 200 may be provided with a plurality of circuit patterns and alignment marks 230 formed for each circuit pattern. Each circuit pattern may be a unit mounted on a product. For example, six circuit patterns are shown, and each circuit pattern may form a substrate 200 of a mobile communication terminal. That is, the board 200 may be separated into six circuit patterns and installed in each mobile communication terminal in a post-process performed downstream of the inspection device. In this way, when a plurality of circuit patterns are included in one substrate 200 , alignment marks 230 may be formed for each circuit pattern to promote convenience in subsequent processes.

정렬 유니트(170) 또는 콜리메이션 유니트(400)는 각 회로 패턴 별로 마련된 각 얼라인 마크(230)를 이용하여 각 회로 패턴의 정렬 상태 또는 콜리메이션 상태를 확인할 수 있다. 즉, 정렬 유니트(170)는 프로브 유니트(190)의 검사 단위와 상관없이 모든 얼라인 마크(230)의 정렬 상태를 확인할 수 있다.The alignment unit 170 or the collimation unit 400 may check the alignment or collimation state of each circuit pattern using each alignment mark 230 provided for each circuit pattern. That is, the alignment unit 170 can check the alignment state of all alignment marks 230 regardless of the inspection unit of the probe unit 190 .

프로브 유니트(190)가 하나의 회로 패턴을 검사 단위로 할 때 각 회로 패턴에 정렬 오차가 있을 수 있다. 이때, 기판(200)을 이동시킬 수 있는 셔틀 유니트는 프로브 유니트(190)가 하나의 회로 패턴을 검사하고 z축 방향으로 기판(200)으로부터 멀어졌을 때, 다음 검사 대상이 되는 회로 패턴을 프로브 유니트(190)에 대해 매칭 또는 정렬시킬 수 있다. 이러한 모습은 검사 단위가 기판(200)에 포함된 회로 패턴의 개수보다 작을 때도 유사하게 이루어진다. 기판(200)에 대해 검사 단위가 6개의 회로 패턴일 때, 셔틀 유니트는 6개의 회로 패턴을 포함하는 영역의 정렬 상태를 나타내는 얼라인 마크(230)에 대한 위치 보정을 수행할 수 있다. 예를 들어 아래 6개의 회로 패턴이 검사 단위일 때, 셔틀 유니트는 정렬 유니트(170)의 확인 결과를 이용하여 맨 좌측 아래로부터 위로 두번째 얼라인 마크(230)와 맨 우측 첫번째 마크를 이용하여 기판(200)을 정렬할 수 있다.When the probe unit 190 uses one circuit pattern as an inspection unit, there may be an alignment error in each circuit pattern. At this time, when the probe unit 190 inspects one circuit pattern and moves away from the substrate 200 in the z-axis direction, the shuttle unit capable of moving the substrate 200 probes the next circuit pattern to be inspected. (190) can be matched or aligned. This appearance is similarly made even when the number of inspection units is smaller than the number of circuit patterns included in the board 200 . When the inspection unit is 6 circuit patterns with respect to the board 200, the shuttle unit may perform position correction on the alignment mark 230 representing the alignment state of the area including the 6 circuit patterns. For example, when the six circuit patterns below are inspection units, the shuttle unit uses the check result of the alignment unit 170 to use the second alignment mark 230 from the bottom to the top on the left and the first mark on the right to the substrate ( 200) can be sorted.

정리하면, 정렬 유니트(170)는 프로브 유니트(190)의 검사 단위와 무관하게 모든 회로 패턴의 정렬 상태를 확인할 수 있다. 이를 통해 프로브 유니트(190)의 검사 단위는 다양하게 설정될 수 있다. 검사 단위는 프로브 유니트(190)의 프로브에 의해 결정될 수 있으며, 프로브는 초기 세팅시 결정된다. 따라서, 본 실시예에 따르면 검사 단위는 초기 세팅시 변경될 수 있고, 다양한 검사 단위에 대해 기판(200)을 정렬시킬 수 있다. In summary, the alignment unit 170 can check the alignment of all circuit patterns regardless of the inspection unit of the probe unit 190 . Through this, the inspection unit of the probe unit 190 can be set in various ways. The inspection unit may be determined by the probe of the probe unit 190, and the probe is determined during initial setting. Accordingly, according to the present embodiment, inspection units may be changed upon initial setting, and the substrate 200 may be aligned with respect to various inspection units.

따라서, 통상적인 일련의 통전 검사 중의 한 단계인 정렬 검사 또는 찍힘 검사는 초기에 셋팅된 기준값에 대한 비교를 통해 보정이 이루어질 수 있고, 콜리메이션 검사는 상기의 정렬 검사 또는 찍힘 검사의 기준이 되는 기준값에 대한 보정을 하는 것일 수 있다. 이러한 기준이 되는 초기 셋팅인 기준값의 보정과, 통전 검사 공정중 이 기준값에 대한 비교를 통한 보정의 두 단계 보정을 통해 오차 또는 에러가 발생하는 기판(200)이 줄어들어 결과적으로 공정 수율이 크게 높아질 수 있다. Therefore, an alignment test or a puncture test, which is one step of a series of typical energization tests, can be corrected through comparison with an initially set reference value, and a collimation test is a reference value that is a standard for the alignment test or dent test. may be corrected for Through the two-step correction of the correction of the reference value, which is the initial setting that becomes the standard, and the correction through comparison with this reference value during the energization inspection process, the error or error-producing substrate 200 is reduced, and as a result, the process yield can be greatly increased. there is.

콜리메이션 과정을 살펴보면, 얼라인 마크(230)를 기준으로 기판(200)과 각 회로 패턴은 좌표가 부여될 수 있다. 특정한 회로 패턴의 한점은 (x,y)로 표현될 수 있고, 이는 기판(200)을 평면도처럼 상측에서 바라보았을때의 각 기판(200)의 위치를 나타낼 수 있다. x축 방향은 검사 공정의 진행 방향일 수 있고, y축 방향은 x축 방향에 수직하고, 수직으로 평행한 평면의 한 방향일 수 있다. 예를 들어, 특정 회로 패턴의 한점은 (10,20)으로 설정될 수 있고, 이에 대한 콜리메이션 검사 결과는 (7,18), (7,16)일 수 있다. 즉, 이는 (10,20)은 목표 기준값일 수 있고, (7,18)은 제1 검사부(192)의 제1 카메라로 측정된 제1 화면일 수 있으며, (7,16)은 제2 검사부(194)의 제2 카메라로 측정된 제2 화면일 수 있다. Looking at the collimation process, coordinates may be assigned to the substrate 200 and each circuit pattern based on the alignment mark 230 . One point of a specific circuit pattern may be expressed as (x, y), which may indicate a position of each substrate 200 when the substrate 200 is viewed from the top like a plan view. The x-axis direction may be a direction of the inspection process, and the y-axis direction may be one direction of a plane perpendicular to and parallel to the x-axis direction. For example, one point of a specific circuit pattern may be set to (10, 20), and the results of the collimation check for this may be (7, 18) and (7, 16). That is, (10,20) may be the target reference value, (7,18) may be the first screen measured by the first camera of the first inspection unit 192, and (7,16) may be the second inspection unit. It may be the second screen measured by the second camera of (194).

또한, 검사 단위를 각 스테별 즉 각 회로 패턴별로 할 수 있고, 각 회로 패턴별로 오차가 발생할 수 있으나 설명 편의를 위해서 모든 회로 패턴이 동시에 상기 예로든 좌표만큼의 차이가 발생했다고 할 수 있고, 이 차이는 θ에 대해서는 차이가 없고, x축 및 y축에 대해서는 차이가 발생한 경우일 수 있다. 이러한 경우, 제1 화면의 프로브의 위치(P)는 x축 방향으로 -3, y축 방향으로 -2만큼 차이가 발생한 것일 수 있고, 제2 화면의 회로 패턴(C)은 x축 방향으로 -3, y축 방향으로 -4만큼 차이가 발생한 것일 수 있다. In addition, the inspection unit can be performed for each stage, that is, for each circuit pattern, and errors may occur for each circuit pattern. The difference may be a case where there is no difference in θ and a difference occurs in the x-axis and the y-axis. In this case, the position (P) of the probe on the first screen may be a difference by -3 in the x-axis direction and -2 in the y-axis direction, and the circuit pattern (C) on the second screen is -3 in the x-axis direction. 3, a difference of -4 in the y-axis direction may have occurred.

따라서, 예를 들어, 프로브의 위치(P)은 초기에 셋팅한 기준값이 x축으로 -3만큼, y축 방향으로 -2만큼 이동된 것이므로, 기준값을 x축 방향으로 +3만큼, y축 방향으로 +2만큼 이동시킴으로서 기준값을 보정할 수 있다. 또한, 회로 패턴(C)는 초기에 셋팅한 기준값이 x축으로 -3만큼, y축 방향으로 -4만큼 이동된 것이므로, 기준값을 x축으로 +3만큼, y축 방향으로 +4만큼 이동시킴으로서 목표 기준값으로 보정할 수 있다. 마찬가지 방법으로, z축 방향의 회전에 해당하는 θ만큼 초기에 셋팅한 값에 대한 회전이 발생한 경우에는, x,y축 방향 이동과 마찬가지로 반대로 회전시킴으로서 기준값을 보정할 수 있다. Therefore, for example, since the initially set reference value is moved by -3 in the x-axis and -2 in the y-axis direction, the position (P) of the probe is set by +3 in the x-axis direction and +3 in the y-axis direction. By moving it by +2, the reference value can be corrected. In addition, since the initially set reference value in the circuit pattern (C) is moved by -3 in the x-axis and -4 in the y-axis direction, the reference value is moved by +3 in the x-axis and +4 in the y-axis direction. It can be calibrated to the target reference value. In the same way, when the rotation for the value initially set by θ corresponding to the rotation in the z-axis direction occurs, the reference value can be corrected by rotating in the opposite direction similar to the movement in the x-axis and y-axis directions.

즉, 제어부는 목표 기준값(R), 제1 화면의 프로브의 위치(P) 및 제2 화면의 회로 패턴(C)의 위치를 서로 비교하여 P,C 점의 오차를 R이 될 수 있게 조절할 수 있다. That is, the control unit can adjust the error of points P and C to be R by comparing the target reference value (R), the position (P) of the probe on the first screen, and the position of the circuit pattern (C) on the second screen. there is.

전체적인 콜리메이션 검사를 정리하면, 콜리메이션의 목적은 검사 장치의 기준값에 대한 보정을 하는 것이고, 이를 위해 x,y,θ의 세 개의 자유도를 측정하여 보정함으로서 정확한 보정이 될 수 있다. Summarizing the entire collimation test, the purpose of collimation is to correct the reference value of the test device, and for this purpose, accurate correction can be achieved by measuring and correcting three degrees of freedom of x, y, and θ.

콜리메이션의 방법은 기본적으로, 기판(200)의 두 점을 식별하여 기판(200) 얼라인을 할 수 있고, 국소적으로 수축, 팽창이 다를 수 있기에 전체적인 기판(200) 얼라인만으로는 틀어짐이 발생할 수 있다. 이러한 틀어짐은 기판(200) 전체의 오차 또는 회로 패턴의 오차로부터 기인할 수 있다.Basically, the method of collimation can align the substrate 200 by identifying two points of the substrate 200, and since the contraction and expansion can be different locally, misalignment may occur only by aligning the entire substrate 200. can This distortion may be caused by an error of the entire substrate 200 or an error of the circuit pattern.

사용자가 처음 제품을 공장에 설치하는 경우, 기준값에 대한 초기 셋팅이 필요할 수 있고, 이는 수미크론의 레벨이기에 현미경 수준의 카메라 등을 이용해 좌표를 인식함으로서 정밀하게 행해질 수 있다. 이러한 초기 기준값 설정을 콜리메이션이라고 할 수 있고, 이론상으로는 초기 한번의 기준값 설정으로 충분해야하나, 실제로는 기계 자체의 에러나 공장 지대의 흔들림이나 기울어짐 등의 여러가지 요인에 의해서 기준값이 변동될 수 있고, 이는 출하되는 기판(200)의 불량으로 이어질 수 있다. 따라서, 주기적인 콜리메이션 검사를 하지 않는 경우, 통전 검사 등의 검사 중에 기준값에 대한 보정이 계속 이루어짐에도 기판(200) 전량이 폐기될 수 있다. 따라서, 사용자는 주기적인 콜리메이션 검사를 해주어야할 수 있다. When a user installs a product for the first time in a factory, initial setting for a reference value may be required, and since this is a level of several microns, it can be precisely performed by recognizing coordinates using a microscope-level camera. This initial reference value setting can be called collimation, and in theory, one initial reference value setting should be sufficient. This may lead to defects of the substrate 200 to be shipped. Therefore, when the periodic collimation test is not performed, the entire amount of the substrate 200 may be discarded even though the reference value is continuously corrected during the test such as the energization test. Therefore, the user may need to perform a periodic collimation test.

기판(200)이 얼라인 마크(230)를 기준점으로 잡고 기판(200)의 틀어짐을 검사할 수 있고, 통상적으로 기판(200)의 대각선 두 점을 잡아 확인할 수 있다. 검사의 정확도를 위해서는 세 점 이상을 잡아 시행할 수 있으나 공정의 성능외에도 공정 속도도 생산에 중요한 요소이기에 사용자는 두 점을 기준으로 할지 세 점 이상을 기준으로할지 기판(200)의 복잡도와 상황을 고려하여 결정할 수 있다. 따라서 반대로, 특정 공정상 정밀도보다는 빠른 공정 속도를 요하는 작업에서는 한 점만 기준값과 비교하는 검사가 시행될 수도 있다. The board 200 can inspect the distortion of the board 200 by holding the alignment mark 230 as a reference point, and can usually be checked by holding two diagonal points of the board 200 . For the accuracy of the inspection, three or more points can be captured and performed. However, in addition to the performance of the process, the process speed is also an important factor in production, so the user can determine the complexity and situation of the board 200 whether based on two points or more than three points. can be taken into consideration. Therefore, conversely, in a process requiring faster process speed than precision in a specific process, an inspection that compares only one point with the reference value may be performed.

본 발명의 검사 장치에 의한 검사는 콜리메이션 검사와 공정 검사를 포함할 수 있고, 콜리메이션 검사는 공정 검사 전에 행해지는 기준값 설정을 위한 것일 수 있으며, 공정 검사를 정렬 검사, 통전 검사, 찍힘 검사를 포함할 수 있다. 정렬 유니트(170)는 정렬 검사를, 프로브 유니트(190)는 통전 검사를, 찍힘 유니트는 찍힘 검사를 할 수 있다. 콜리메이션 유니트(400)는 정렬 유니트(170) 또는 찍힘 유니트와는 별도의 유니트로 마련될 수 있고, 특히 프로브 유니트(190)의 각 검사부와 검사 테이블(196)사이에 위치할 수 있다. The inspection by the inspection device of the present invention may include a collimation inspection and a process inspection, the collimation inspection may be for setting a reference value performed before the process inspection, and the process inspection may include an alignment inspection, a energization inspection, and a puncture inspection. can include The alignment unit 170 may perform an alignment test, the probe unit 190 may perform a energization test, and the stamping unit may perform a stamping test. The collimation unit 400 may be provided as a separate unit from the alignment unit 170 or the stamping unit, and may be particularly located between each inspection unit of the probe unit 190 and the inspection table 196 .

다시말해, 제어부는 제1 카메라를 통해 촬영한 제1 화면과 제2 카메라를 통해 촬영한 제2 화면을 목표 기준값(R)과 비교하여 오차를 보정할 수 있다. 이는 사람이 수동으로 패드 등을 기판에 안착하여 통전 검사 등을 수행한 후 그 패드의 파인 자국과 목표 기준값을 현미경 레벨의 카메라 등을 이용하여 육안으로 식별하여 콜리메이션하거나, 기판에 안착된 패드의 파인 자국을 기판과 함께 콜리메이션 카메라 등을 이용하여 검사하여 콜리메이션 하는 수동 콜리메이션 방법에 비해 공정 속도를 현격히 올릴 수 있다. 또한, 정렬 검사, 통전 검사 등의 통상의 본 기판 검사 공정을 잠시 멈춘후 시행하는 수동 콜리메이션에 비해, 상기와 같은 자동 콜리메이션은 상기의 본 검사 공정을 멈추지 않고, 중간에 주기적으로 콜리메이션 유니트를 프로브 유니트에 삽입하여 서로 수직으로 평행하게 배열시킬 수 있다. 따라서, 작업자의 작업 환경 특성에 맞게, 콜리메이션 검사를 본 검사 공정의 사이에 배치하거나 본 검사 공정의 일부로 배치할 수 있어 결과적으로 전체 공정 과정을 유연하게 배치할 수 있다. In other words, the controller may correct an error by comparing the first screen captured through the first camera and the second screen captured through the second camera with the target reference value R. This is done by a person manually placing a pad on a substrate to perform an electrical power test, etc., and then visually identifying and collimating the dent in the pad and the target reference value using a microscope-level camera, or The process speed can be significantly increased compared to the manual collimation method in which the dents are inspected and collimated using a collimation camera along with the board. In addition, compared to manual collimation performed after temporarily stopping the main board inspection process such as alignment inspection and power inspection, the automatic collimation as described above does not stop the main inspection process, and the collimation unit periodically in the middle can be arranged vertically and parallel to each other by inserting them into the probe unit. Therefore, according to the characteristics of the operator's working environment, the collimation inspection can be arranged between the main inspection process or as part of the main inspection process, and as a result, the entire process can be flexibly arranged.

콜리메이션 과정에서 예를 들어, 카메라를 이동시켜 FOV(Field Of View)를 통해 기판(200) 또는 회로 패턴의 틀어짐을 확인하고, 마우스 클릭이나 수치 입력 등을 통해 기준값의 오차를 수정할 수 있다. During the collimation process, for example, a camera may be moved to confirm distortion of the substrate 200 or a circuit pattern through a field of view (FOV), and an error in the reference value may be corrected through a mouse click or numerical input.

인적, 물적, 환경적 등의 여러가지 요인에 의해서 기준값은 변화될 수 있고, 이는 각 로트(lot), 각 회로 패턴별로 차이가 발생할 수 있다. 또한, 사용자의 목적에 따라 매일의 생산량이 다를 수 있기에, 그 수량에 맞추어 콜리메이션 검사 주기를 조절할 수 있다. The reference value may be changed by various factors such as human, material, and environmental factors, which may cause differences for each lot and each circuit pattern. In addition, since the daily production quantity may vary according to the user's purpose, the collimation inspection cycle can be adjusted according to the quantity.

콜리메이션은 기판(200)을 일괄적으로 얼라인한 후 검사할 수 있고, 회로 패턴 개별로 얼라인 후 검사하는 것을 반복적으로 수행할 수 있다. 이는 특정 공정의 정밀도 요구에 따라 달라질 수 있다. 정밀도에 비해 생산 속도가 더 중요한 경우에는, 복수의 라트(lot)를 한번에 얼라인하여 검사할 수 있다. For collimation, inspection may be performed after aligning the substrate 200 collectively, and inspection after aligning circuit patterns individually may be repeatedly performed. This may vary depending on the precision requirements of the particular process. In cases where production speed is more important than precision, multiple lots can be aligned and inspected at once.

복수의 회로 패턴이 배열된 기판(200)은 다수의 프로브의 위치(P)와 회로 패턴 위치(C)가 발생하기에 목표한 공정 속도나 정밀도에 따라, 콜리메이션 검사를 위한 프로브의 위치(P)와 회로 패턴 위치(C)은 선별적으로 이루어질 수 있다. 즉, 회로 패턴의 종류에 따라 상대적으로 밀집된 지역이 존재할 수 있고, 이는 프로브의 위치(P)와 회로 패턴 위치(C) 선택시에 상대적으로 더 작거나 밀집된 영역을 위주로 콜리메이션 검사를 행할 수 있다. The substrate 200 on which a plurality of circuit patterns are arranged has a plurality of probe positions (P) and circuit pattern positions (C), so according to the target process speed or precision, the probe position (P) for collimation inspection ) and the circuit pattern position (C) can be selectively made. That is, a relatively dense area may exist depending on the type of circuit pattern, and when selecting the position (P) of the probe and the position (C) of the circuit pattern, the collimation test can be performed mainly on a relatively smaller or denser area. .

170... 정렬 유니트 190... 프로브 유니트
192... 제1 검사부 193... 프로브
194... 제2 검사부 195... 베이스판
196... 검사 테이블
200... 기판 210... 회로 패턴
230... 얼라인 마크 400... 콜리메이션 유니트
R... 목표 기준값(R) P... 프로브 촬영 위치
C... 회로 패턴 촬영 위치
170 ... alignment unit 190 ... probe unit
192... first inspection unit 193... probe
194 ... second inspection unit 195 ... base plate
196... Examination table
200... substrate 210... circuit pattern
230... Align Mark 400... Collimation Unit
R... target reference value (R) P... probe shooting position
C... circuit pattern shooting position

Claims (9)

기판의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트;
상기 검사에 대한 기준값을 검사하는 콜리메이션(colimation) 유니트;
를 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 프로브 유니트와 함께 가상의 수직선에 관통되며 서로 평행하게 마련되는 검사 장치.
a probe unit for inspecting the energization state of the board;
a collimation unit inspecting a reference value for the inspection;
including,
The collimation unit penetrates a virtual vertical line together with the probe unit and is provided parallel to each other.
제1 항에 있어서,
상기 프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit includes an inspection unit on which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated;
The collimation unit is positioned between the inspection unit and the inspection table.
제1 항에 있어서,
상기 프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하며,
상기 콜리메이션 유니트의 상부에는 제1 카메라가, 하부에는 제2 카메라가 구비되고,
상기 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하고, 상기 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영하는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit includes an inspection unit on which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated;
The collimation unit is located between the inspection unit and the inspection table,
A first camera is provided on the upper part of the collimation unit and a second camera is provided on the lower part,
The first camera photographs the probe of the probe unit, and the second camera photographs the circuit pattern of the substrate.
제1 항에 있어서,
상기 콜리메이션 유니트의 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하며, 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영하며,
제어부는 상기 기판의 얼라인 마크를 기준으로, 상기 제1 카메라에 의해 촬영된 제1 화면 및 상기 제2 카메라에 의해 촬영된 제2 화면을 목표 기준값과 비교하여 오차를 수정하는 검사 장치.
According to claim 1,
A first camera of the collimation unit photographs a probe of the probe unit, and a second camera photographs a circuit pattern of the substrate;
The control unit corrects an error by comparing a first screen photographed by the first camera and a second screen photographed by the second camera with a target reference value based on the alignment mark of the substrate.
제1 항에 있어서,
상기 프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하며,
콜리메이션 검사가 진행되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치로 진입하고,
상기 콜리메이션 검사가 완료되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치에서 후퇴하는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit includes an inspection unit on which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated;
The collimation unit is located between the inspection unit and the inspection table,
When the collimation inspection is in progress, the collimation unit enters a position between the inspection unit and the inspection table,
When the collimation test is completed, the collimation unit retreats from a position between the test unit and the test table.
제1 항에 있어서,
기판의 정렬 상태를 검사하는 정렬 유니트가 마련되고,
상기 정렬 유니트의 공정상 위치가 제1 위치, 상기 프로브 유니트의 공정상 위치가 제2 위치인 경우,
상기 콜리메이션 유니트에 의한 콜리메이션 검사는 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치에서 진행되는 검사 장치.
According to claim 1,
An alignment unit for inspecting the alignment of the substrate is provided,
When the process position of the alignment unit is the first position and the process position of the probe unit is the second position,
The collimation test by the collimation unit is performed at the first position or the second position.
제1 항에 있어서,
상기 프로브 유니트에는 상기 기판이 안착되는 검사 테이블이 마련되고,
제어부는 상기 검사 테이블의 x 방향, y 방향, θ 각도를 조절하며,
상기 x 방향 및 y 방향은 상기 기판이 놓이는 평면을 이루는 두 축이고, 상기 θ 각도는 상기 x 방향 및 y 방향이 이루는 평면에 수직한 방향에 대한 회전 정도를 나타내는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit is provided with an inspection table on which the substrate is seated,
The control unit adjusts the x direction, y direction, and θ angle of the examination table,
The x-direction and the y-direction are two axes forming a plane on which the substrate is placed, and the θ angle indicates a degree of rotation with respect to a direction perpendicular to the plane formed by the x-direction and the y-direction.
제1 항에 있어서,
상기 기판에는 복수의 회로 패턴이 마련되고,
제어부는 상기 프로브 유니트의 프로브 및 상기 회로 패턴을 목표 기준값과 비교하기 위해, 공정의 정밀도 요구치가 높아짐에 따라 상기 회로 패턴의 밀집도가 높은 지역에서 낮은 지역의 순서로 비교할 지역을 선택하는 검사 장치.
According to claim 1,
A plurality of circuit patterns are provided on the substrate,
In order to compare the probe of the probe unit and the circuit pattern with a target reference value, the control unit selects regions to be compared in order from regions with a high density of circuit patterns to regions with a low density as a process accuracy requirement increases.
제1 항에 있어서,
상기 검사부에는,
상기 기판의 상부에 위치하는 제1 검사부, 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 검사부가 마련되고,
상기 제1 검사부와 상기 기판사이에는 제1 콜리메이션 유니트가, 상기 제2 검사부와 상기 기판사이에는 제2 콜리메이션 유니트가 구비되며,
상기 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 상기 제1 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제1 화면, 상기 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판의 회로 패턴을 촬영한 화면을 제2 화면, 상기 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 상기 제2 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제3 화면, 상기 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판을 촬영한 화면은 제4 화면이고,
제어부는 상기 제1 화면 내지 제4 화면중 적어도 어느 하나를 목표 기준값과 비교하여 오차를 보정하는 검사 장치.
According to claim 1,
In the inspection unit,
A first inspection unit positioned above the substrate and a second inspection unit located below the substrate are provided;
A first collimation unit is provided between the first inspection unit and the substrate, and a second collimation unit is provided between the second inspection unit and the substrate,
The first screen captures the probe of the first inspection unit by the camera of the first collimation unit, and the second screen captures the circuit pattern of the circuit board by the camera of the first collimation unit. The third screen is a screen shot of the probe of the second inspection unit by the camera of the migration unit, and the fourth screen is a screen shot of the substrate by the camera of the second collimation unit.
The control unit compares at least one of the first to fourth screens with a target reference value to correct an error.
KR1020210178047A 2021-12-13 2021-12-13 Detection device with colimation unit KR20230089429A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210178047A KR20230089429A (en) 2021-12-13 2021-12-13 Detection device with colimation unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210178047A KR20230089429A (en) 2021-12-13 2021-12-13 Detection device with colimation unit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230089429A true KR20230089429A (en) 2023-06-20

Family

ID=86995468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210178047A KR20230089429A (en) 2021-12-13 2021-12-13 Detection device with colimation unit

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20230089429A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111386595A (en) Method for adjusting position of probe tip and inspection device
JPH07297242A (en) Probe method and the device
CN114441942A (en) Flying probe testing method, system, equipment and storage medium for PCB
US9743527B2 (en) Stencil programming and inspection using solder paste inspection system
JP2007010671A (en) Method and system for electrically inspecting test subject, and manufacturing method of contactor used in inspection
KR20220128206A (en) Method for Chips Test using Flying Probe Tester
CN113740571A (en) Array testing device capable of realizing automatic precise control of single probe block
CN111146103A (en) Wafer detection method and detection equipment
CN111583222B (en) Automatic positioning method for test point, automatic copper thickness detection method and system
KR101209556B1 (en) Automated contact alignment tool
KR20230089429A (en) Detection device with colimation unit
JP2984541B2 (en) Probing method and probe device
US9234853B2 (en) Probe apparatus
KR20230089430A (en) Detection device with colimation unit
JP4867219B2 (en) Inspection device and positioning method of inspection device
US9134342B2 (en) Intergrated apparatus and method for testing of semiconductor components using a turret machine
KR100820752B1 (en) Probe test apparatus of flat pannel display and probe test method using it
KR20220129403A (en) Sawing setting method of semiconductor materials sawing apparatus
CN208860307U (en) A kind of PCB drilling Quick overhaul equipment
JP3088146B2 (en) Substrate inspection method and substrate used in the method
JP2006318965A (en) Method and apparatus for inspecting semiconductor device
RU2813478C1 (en) Method of checking or adjusting tester of very large integrated circuits, manipulator and board for implementing method
KR20240011487A (en) Probe Mark Inspection Method and Wafer Inspection Apparatus
CN111435068B (en) Method and system for checking integral step-by-step positioning precision of IC carrier plate testing machine
KR102148751B1 (en) Apparatus Having I Improved Efficiency in X-Ray Inspection and Method For the Same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal