KR20230089429A - Detection device with colimation unit - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판의 검사 장치로서, 기판의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트, 검사에 대한 기준값을 검사하는 콜리메이션(colimation) 유니트를 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 상기 프로브 유니트와 함께 가상의 수직선에 관통되며 서로 평행하게 마련될 수 있다. The present invention is an inspection device for a substrate, and may include a probe unit for inspecting the energization state of the substrate and a collimation unit for inspecting a reference value for inspection, and the collimation unit is a virtual vertical line along with the probe unit. It penetrates and may be provided parallel to each other.
Description
본 발명은 기판의 콜리메이션(colimation) 검사를 위한 검사 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an inspection apparatus for inspecting the collimation of a substrate.
회로가 인쇄되기 전의 기판(Bare Board)은 제조 과정을 마친 후에는 통전 검사를 마쳐야하고, 이를 통한 전기적 신호가 모두 이상없어야 출하가 가능할 수 있다. 통전 검사를 통하여 기판이 특정한 저항을 가지는 정상, 쇼트(short) 또는 오픈(open)을 판별하고 이를 통해 정상 기판(200)과 오류가 난 기판을 분류하는 것은 중요할 수 있다. The board (Bare Board) before the circuit is printed must complete the energization test after completing the manufacturing process, and all electrical signals through this may be shipped without abnormalities. It may be important to determine whether a board has a specific resistance, whether it is normal, short, or open through a conduction test, and classify a
또한 통전 검사 자체에 의한 오류를 보정하는 것 외에도 통전 검사를 위한 초기 기준값(R) 자체도 설비 환경에 따라 변할 수 있고, 이러한 기준값(R) 자체의 미세한 변동을 주기적인 콜리메이션 검사를 통해서 조절하는 것은 중요할 수 있다. In addition, in addition to correcting the error caused by the continuity test itself, the initial reference value (R) itself for the energization test may change depending on the facility environment, and the fine fluctuations in this reference value (R) itself can be adjusted through periodic collimation inspection. thing can be important.
본 발명은 기판의 정렬 검사, 통전 검사, 찍힘 검사 등의 다양한 검사를 위한 초기 셋팅에 해당하는 기준값의 변동을 검사하기 위한 장치로서, 주기적인 기준값 보정을 위한 콜리메이션 검사를 시행하여 양질의 기판을 생산하기 위한 검사 장치를 제공하는 것이다.The present invention is a device for inspecting the fluctuation of a reference value corresponding to the initial setting for various inspections such as alignment inspection, energization inspection, and puncture inspection of a board, by performing a collimation inspection for periodic reference value correction to obtain a high-quality board. It is to provide an inspection device for production.
본 발명은 기판의 검사 장치로서, 기판의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트, 검사에 대한 기준값을 검사하는 콜리메이션(colimation) 유니트를 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 상기 프로브 유니트와 함께 가상의 수직선에 관통되며 서로 평행하게 마련될 수 있다. The present invention is an inspection device for a substrate, and may include a probe unit for inspecting the energization state of the substrate and a collimation unit for inspecting a reference value for inspection, and the collimation unit is a virtual vertical line along with the probe unit. It penetrates and may be provided parallel to each other.
프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치할 수 있다. The probe unit may include an inspection unit in which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated, and a collimation unit may be positioned between the inspection unit and the inspection table.
콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하며, 콜리메이션 유니트의 상부에는 제1 카메라가, 하부에는 제2 카메라가 구비될 수 있고, 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하고, 상기 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영할 수 있다. 콜리메이션 유니트의 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하며, 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영하며, 제어부는 상기 기판의 얼라인 마크를 기준으로, 상기 제1 카메라에 의해 촬영된 제1 화면 및 상기 제2 카메라에 의해 촬영된 제2 화면을 목표 기준값과 비교하여 오차를 수정할 수 있다. The collimation unit is located between the inspection unit and the inspection table, and may include a first camera at an upper part of the collimation unit and a second camera at a lower part of the collimation unit, the first camera photographs a probe of the probe unit, The second camera may photograph the circuit pattern of the substrate. The first camera of the collimation unit photographs the probe of the probe unit, the second camera photographs the circuit pattern of the substrate, and the controller captures the photographic image by the first camera based on the alignment mark of the substrate. An error may be corrected by comparing the first screen and the second screen photographed by the second camera with a target reference value.
콜리메이션 검사가 진행되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치로 진입할 수 있고, 콜리메이션 검사가 완료되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치에서 후퇴할 수 있다. When the collimation test is in progress, the collimation unit may enter a position between the inspection unit and the inspection table, and when the collimation inspection is completed, the collimation unit is positioned between the inspection unit and the inspection table. can retreat from
기판의 정렬 상태를 검사하는 정렬 유니트가 마련되고, 정렬 유니트의 공정상 위치를 제1 위치, 상기 콜리메이션 유니트 및 상기 프로브 유니트의 공정상 위치를 제2 위치라 하는 경우, 콜리메이션 검사는 상기 제1 위치에서 상기 제2 위치로 이동하며 진행될 수 있다. When an alignment unit inspecting the alignment state of the substrate is provided, the process position of the alignment unit is referred to as a first position, and the process positions of the collimation unit and the probe unit are referred to as a second position, the collimation inspection is performed as the first position. It may proceed while moving from the first position to the second position.
제어부는 상기 검사 테이블의 x 방향, y 방향, θ 각도를 조절하며, x 방향 및 y 방향은 상기 기판이 놓이는 평면을 이루는 두 축이고, 상기 θ 각도는 상기 x 방향 및 y 방향이 이루는 평면에 수직한 방향에 대한 회전 정도를 나타낼 수 있다. The control unit adjusts the x-direction, the y-direction, and the θ angle of the examination table, the x-direction and the y-direction are two axes forming a plane on which the substrate is placed, and the θ angle is perpendicular to the plane formed by the x-direction and the y-direction It can indicate the degree of rotation with respect to the direction.
기판에는 복수의 회로 패턴이 마련될 수 있고, 제어부는 상기 프로브 유니트의 프로브 및 상기 회로 패턴을 목표 기준값과 비교하기 위해, 공정의 정밀도 요구치가 높아짐에 따라 상기 회로 패턴의 밀집도가 높은 지역에서 낮은 지역의 순서로 비교할 지역을 선택할 수 있다. A plurality of circuit patterns may be provided on the substrate, and the control unit compares the probe of the probe unit and the circuit pattern with a target reference value. You can select the regions to compare in the order of .
검사부에는 기판의 상부에 위치하는 제1 검사부, 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 검사부가 마련될 수 있고, 제1 검사부와 상기 기판사이에는 제1 콜리메이션 유니트가, 상기 제2 검사부와 상기 기판사이에는 제2 콜리메이션 유니트가 구비될 수 있다. The inspection unit may include a first inspection unit located above the substrate and a second inspection unit located below the substrate, and a first collimation unit between the first inspection unit and the substrate, the second inspection unit and the substrate. A second collimation unit may be provided between them.
초기 셋팅 기준값의 오차를 보정하는 콜리메이션 유니트는 검사 공정상 프로브 유니트의 공정 위치에 위치할 수 있고, 구조상 프로브 유니트와 콜리메이션 유티는 가상의 수직선상에서 서로 이격된 평행한 평면을 이룰 수 있다. 즉, 프로브 유니트는 기판의 상하로 제1 검사부 및 제2 검사부, 기판이 안착될 수 있는 검사 테이블을 포함할 수 있고, 콜리메이션 유니트는 각 검사부와 검사 테이블 사이에 위치할 수 있기에 상부 제1 카메라는 프로브를 촬영할 수 있고, 하부 제2 카메라는 기판 또는 회로 패턴을 촬영할 수 있다.The collimation unit correcting the error of the initial setting reference value may be located at the process position of the probe unit in the inspection process, and structurally, the probe unit and the collimation unit may form a parallel plane spaced apart from each other on a virtual vertical line. That is, the probe unit may include a first inspection unit and a second inspection unit above and below the substrate, and an inspection table on which the substrate can be seated, and the collimation unit may be located between each inspection unit and the inspection table, so that the upper first camera may photograph the probe, and the lower second camera may photograph the substrate or circuit pattern.
제어부는 제1 카메라를 통해 촬영한 제1 화면과 제2 카메라를 통해 촬영한 제2 화면을 목표 기준값과 비교하여 오차를 보정할 수 있다. 이는 사람이 수동으로 패드 등을 기판에 안착하여 통전 검사 등을 수행한 후 그 패드의 파인 자국과 목표 기준값을 현미경 레벨의 카메라 등을 이용하여 육안으로 식별하여 콜리메이션하거나, 기판에 안착된 패드의 파인 자국을 기판과 함께 콜리메이션 카메라 등을 이용하여 검사하여 콜리메이션 하는 수동 콜리메이션 방법에 비해 공정 속도를 현격히 올릴 수 있다. 또한, 정렬 검사, 통전 검사 등의 통상의 본 기판 검사 공정을 잠시 멈춘후 시행하는 수동 콜리메이션에 비해, 상기와 같은 자동 콜리메이션은 상기의 본 검사 공정을 멈추지 않고, 중간에 주기적으로 콜리메이션 유니트를 프로브 유니트에 삽입하여 서로 수직으로 평행하게 배열시킬 수 있다. 따라서, 작업자의 작업 환경 특성에 맞게, 콜리메이션 검사를 본 검사 공정의 사이에 배치하거나 본 검사 공정의 일부로 배치할 수 있어 결과적으로 전체 공정 과정을 유연하게 배치할 수 있다. The controller may correct an error by comparing the first screen captured through the first camera and the second screen captured through the second camera with a target reference value. This is done by a person manually placing a pad on a substrate to perform an electrical power test, etc., and then visually identifying and collimating the dent in the pad and the target reference value using a microscope-level camera, or The process speed can be significantly increased compared to the manual collimation method in which the dents are inspected and collimated using a collimation camera along with the board. In addition, compared to manual collimation performed after temporarily stopping the main board inspection process such as alignment inspection and power inspection, the automatic collimation as described above does not stop the main inspection process, and the collimation unit periodically in the middle can be inserted into the probe unit and arranged vertically and parallel to each other. Therefore, according to the characteristics of the operator's working environment, the collimation inspection can be arranged between the main inspection process or as part of the main inspection process, and as a result, the entire process can be flexibly arranged.
도 1은 본 발명의 검사 장치의 정렬 유니트와 프로브 유니트를 설명한 설명도이다.
도 2는 본 발명의 검사 장치의 콜리메이션 유니트와 프로브 유니트간의 위치를 설명한 설명도이다.
도 3은 본 발명의 콜리메이션 유니트에 프로브 위치와 회로 패턴의 위치를 설명한 설명도이다.
도 4는 본 발명의 콜리메이션 유니트에 의해 목표 기준값으로 프로브 위치와 회로 패턴의 위치가 오차 보정된 것을 설명한 설명도이다.1 is an explanatory diagram illustrating an alignment unit and a probe unit of an inspection device according to the present invention.
2 is an explanatory view explaining the position between the collimation unit and the probe unit of the inspection apparatus of the present invention.
3 is an explanatory diagram explaining the position of the probe and the position of the circuit pattern in the collimation unit of the present invention.
FIG. 4 is an explanatory diagram explaining that the probe position and the position of the circuit pattern are corrected with a target reference value by the collimation unit of the present invention.
본 발명의 검사 장치는 기판(200)을 정렬시키는 정렬 유니트(170), 기판(200)의 통전 상태를 검사하는 프로브 유니트(190), 기판(200) 및 프로브(193)의 콜리메이션(colimation) 상태를 검사하는 콜리메이션 유니트(400)를 포함할 수 있다. The inspection apparatus of the present invention includes an
회로가 인쇄되기 전의 기판(200)(Bare Board)은 제조 과정을 마친 후, 정상적으로 제조되었는지를 검사하는 통전 검사를 할 수 있고, 정확한 통전 검사를 위해 정렬 유니트(170)에서 기판(200)의 틀어짐을 검사할 수 있다.The board 200 (Bare Board) before the circuit is printed can be subjected to a continuity test to check whether or not it has been normally manufactured after the manufacturing process is completed. can be inspected.
프로브 유니트(190)는 기판(200)의 상하로 제1 검사부(192) 및 제2 검사부(194), 기판이 안착될 수 있는 검사 테이블(196)을 포함할 수 있다. 콜리메이션 유니트(400)는 각 검사부(192,194)와 검사 테이블(196)사이에 위치할 수 있고, 상부 제1 카메라는 프로브(193)를 촬영할 수 있고, 하부 제2 카메라는 기판(200) 또는 회로 패턴(210)을 촬영할 수 있으며, 도면에는 제1 카메라에 의한 프로브(193)를 P로 도시하고, 제2 카메라에 의한 기판(200) 또는 회로 패턴(210)을 C로 도시할 수 있다. 또한, 양질의 정상 기판(200)이 생산될 수 있는 기준이 되는 기준값을 목표 기준값(R)이라고 할 수 있다. 따라서, 콜리메이션 검사의 경우, 기판(200)은 정렬 유니트(170)에서 프로브 유니트(190)으로 이동될 수 있고, 콜리메이션 검사가 완료된 후 콜리메이션 유니트(400)는 뒤로 후퇴할 수 있으며, 프로브 유니트(190)는 통전 검사를 시행할 수 있다. The probe unit 190 may include a
제1 검사부(192) 와 제2 검사부(194)는 동일한 방식으로 작동하기에 도면에서는 간단히 제1 검사부(192)에 마련된 콜리메이션 유니트(400)를 설명한 것일 수 있다. 이하 설명하는 제1 검사부(192)의 콜리메이션 검사 방법은 그대로 제2 검사부의 콜리메이션 검사에 사용될 수 있다. Since the
즉, 검사부에는 기판(200)의 상부에 위치하는 제1 검사부(192), 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 검사부(194)가 마련될 수 있고, 제1 검사부(192)와 상기 기판사이에는 제1 콜리메이션 유니트가, 상기 제2 검사부와 상기 기판사이에는 제2 콜리메이션 유니트가 구비될 수 있다. 이 경우, 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 제1 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제1 화면, 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판의 회로 패턴을 촬영한 화면을 제2 화면, 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 제2 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제3 화면, 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판을 촬영한 화면을 제4 화면이라고 할 수 있다. That is, the inspection unit may include a
제어부는 기판의 얼라인 마크(230)을 기준으로 정상 기판 생산을 위한 목표 기준값(R)을 설정할 수 있고, 제1 카메라에 의한 제1 화면의 프로브 위치(P)와 제2 카메라에 의한 제2 화면의 회로 패턴(210) 위치(C)를 상기 목표 기준값(R)과 비교함으로서, 제어부는 프로브 위치(P) 또는 회로 패턴의 위치(C)를 목표 기준값(R)으로 조절할 수 있다. 이 경우, 제어부는 프로브 유니트(190)의 검사 테이블(196)을 이동 또는 회전 시켜 기판의 위치를 조절할 수 있다. 즉, 콜리메이션 유니트(400)에서는 제1 화면과 제2 화면이 목표 기준값(R)이 표시된 화면과 비교될 수 있고, 제어부는 각 화면과 목표 기준값(R)의 오차를 보정할 수 있다. The control unit may set a target reference value (R) for normal board production based on the
정렬 검사, 통전 검사 또는 찍힘 검사중 적어도 어느 하나의 검사가 수행되기 전에 영점 조절에 해당하는 콜리메이션 검사를 먼저 수행되어 기준값을 보정할 수 있다. 따라서, 정렬 검사, 통전 검사 또는 찍힘 검사시에는 콜리메이션 유니트(400)는 후퇴하여 각 검사부(192,194)와 검사 테이블(196)의 사이에서 위치하지 않을 수 있고, 상기 각 검사의 전에 기준값의 오차를 보정하는 콜리메이션 검사시에는 콜리메이션 유니트(400)는 진입하여 각 검사부(192,194)와 검사 테이블(196)의 사이에서 위치할 수 있다. Before at least one of the alignment test, the energization test, and the stamping test is performed, a collimation test corresponding to zero point control may be performed first to correct the reference value. Therefore, during alignment inspection, energization inspection, or puncture inspection, the
정렬 검사, 통전 검사 또는 찍힘 검사는 기준값에 대한 비교를 통해서 정상과 불량을 판단할 수 있다. 즉, 사용자가 검사 장치를 기판(200)을 넣어 동작시키기 전에, 처음에 기준으로 셋팅하는 기준값이 설정될 수 있고, 정렬 유니트(170)는 기준값보다 기판(200)의 틀어짐을 판단하며, 프로프 유니트는 제어부가 산출한 정렬 유니트(170)의 틀어짐에 대한 보정을 한 후 통전 검사를 진행할 수 있다.Alignment inspection, energization inspection, or puncture inspection can determine whether it is normal or defective through comparison with a reference value. That is, before the user puts the
따라서, 각 검사의 정상 또는 불량의 판단은 초기에 셋팅된 기준값에 대한 비교를 통해서 이루어지기에 기준값 자체에 오차가 발생하는 경우에는 잘못된 기준에 대한 비교 판단을 한 것으로서, 공정 전체 물품을 폐기해야 될 수 있다. Therefore, since the determination of whether each inspection is normal or defective is made through comparison with the initially set standard value, if an error occurs in the standard value itself, it is a comparison judgment based on the wrong standard, and the entire product in the process must be discarded. can
초기 기준값이 제대로 설정되었는지 검사하는 것을 콜리메이션(colimation) 검사라 할 수 있다. 즉, 콜리메이션 검사는 영절 조절 또는 켈리브레이션(calibration)과 같은 의미일 수 있다. 이론상으로는 이러란 초기 셋팅의 기준값은 공정상 변화없이 진행될 수 있으나, 실제로는 설비 장치의 진동 등의 미세한 변화가 누적되어 반복되는 공정에 의해서 결국 기준값이 초기와 달라질 수 있다. 따라서, 공정상 기준값과 검사 결과를 비교하는 것 외에, 기준값 자체에 대한 보정인 콜리메이션 검사를 함으로서 더욱 불량률이 낮은 기판(200)이 생산될 수 있다. Inspecting whether the initial reference value is properly set may be referred to as a collimation inspection. That is, the collimation test may be synonymous with nodal control or calibration. Theoretically, the reference value of this initial setting can be performed without any change in the process, but in practice, the reference value may eventually differ from the initial value due to repeated processes in which minute changes such as vibration of equipment are accumulated. Therefore, the
제1 검사부(192)의 프로브(193)는 승강하며 기판(200)의 접촉하고, 정확한 통전 검사를 위해서는, 프로브(193)가 측정하고자 하는 기판(200)의 정확한 측정위치에 접촉하여야 하며, 이를 위해서는 정렬 유니트(170)에서 기판(200)의 틀어짐을 검사한 후 그 틀어짐에 대한 보정을 하고 제1 검사부(192)에 의한 통전 검사가 시행될 수 있다. The
통전 검사후 통전 검사 자체에 의한 찍힘이 발생할 수 있다. 통전 검사시 제1 검사부(192)의 프로브(193)가 승강하며 목표 지점에 접촉할 수 있다. 프로브(193)와 기판(200)의 접촉시 근방에서만 프로브(193)의 승강 속도를 느리게 조절하여 기판(200)의 충격을 완화할 수 있다. After the energization test, dents may occur due to the energization test itself. During the power test, the
제어부는 정렬 유니트(170)에 위치한 카메라를 통하여 정렬 유니트(170)의 기판(200) 위치 오차를 산출할 수 있다. 제어부에 기억된 기판(200) 위치 오차는 제1 검사부(192)에서 기판(200)을 안착시킬 수 있는 검사 테이블(196)이 반대 방향으로 이동 또는 회전함으로써 보정될 수 있고, 제어부는 정렬 유니트(170)에서 산출된 기판(200) 위치 오차를 보정하는 위치 및 각도로 기판(200)을 이동시킨 다음 프로브(193)가 기판(200)의 정확한 측정점에 접촉할 수 있도록 제1 검사부(192)의 검사 테이블(196)을 제어할 수 있으며, 제어부를 이용하여 찍힘 검사를 하는 경우, 제어부는 프로브(193)에 의한 기판(200)의 찍힘을 기준값과 비교하고, 카메라에 의하여 촬영한 영상의 찍힘이 기준값 이상인 경우 찍힘 불량으로 판단할 수 있다.The controller may calculate a positional error of the
기판(200)과 복수의 프로브(193)가 마련된 지그는 x,y,θ의 3개의 값을 조정함으로서 특정될 수 있다. 즉, 3개의 자유도를 조절하여 콜리메이션 상태를 보정할 수 있다. 공간상의 물체는 x,y,z축의 3개의 자유도와 각 축에 대한 회전 자유도 3개를 더하여 총 6개의 자유도를 가질 수 있다. 제1 검사부(192)는 프로브(193)의 승강에 의해서 기판(200)에 접촉하여 통전 검사가 실시될 수 있고, 복수의 프로브(193)가 마련된 지그와 기판(200)의 z 방향 평행을 유지시킨채로 지그가 승강 운동하는 경우, x,y축의 자유도와 z축에 대한 회전 자유도 θ만 특정되면, 기준값은 특정될 수 있다. 또한, 기판(200) 및 프로브(193)의 상대적인 위치는 하나를 고정시킨고 다른 하나에 자유도를 모두 줄 수 있기에, 상대적으로 중량이 적은 기판(200)의 자유도를 보정함으로서 콜리메이션을 할 수 있다. 따라서, 검사 장치의 콜리메이션 문제는 기판(200)의 x 방향, y 방향, θ각도의 틀어짐을 보정하는 문제일 수 있다. The jig provided with the
통전 검사가 시행되는 제1 검사부(192)는 기판(200)에 탐침을 하는 프로브(193), 프로브(193)가 지지되는 베이스판(195)을 포함할 수 있다. 프로브(193)는 승강하며 기판(200)에 접촉할 수 있고, 접촉시 강도와 프로브(193)의 승강속도 등은 제어부에 의해서 조절될 수 있다. 제1 검사부(192)와 제2 검사부(194)는 검사 테이블(196)의 수직 방향의 상,하로 위치할 수 있고, 이는 기판(200)의 상측과 하측에 각각 승강 접촉할 수 있다. The
정렬 유니트(170)는 카메라 등을 이용해서 기판(200)의 정렬 상태를 기준값과 비교할 수 있고, 제어부는 정렬 유니트(170)에 의해서 측정된 기준값과의 차이만큼 베이스판(195)을 조절함으로서 차이를 보정해줄 수 있다. 이러한 보정은 설비에 따라서 정렬 유니트(170) 자체에서 시행될 수 있고, 기판(200)을 각 유니트간 이동시킬 수 있는 셔틀 유니트에서 시행될 수 있으며, 정렬 유니트(170)에서 받은 정보를 바탕으로 제1 검사부(192)의 베이스판(195)이 움직여 보정된후 통전 검사가 시행될 수 있다. 베이스판(195)은 x 방향, y 방향으로 움직일 수 있고, z 방향에 대한 회전 각도인 θ만큼 회전될 수 있다. The
검사 대상인 회로내의 소자간의 거리 및 탐침 프로브(193)의 두께는 수 미크론(micron)정도일 수 있다. 따라서, 콜리메이션 유니트(400)의 카메라는 미크론 레벨의 포인트간에 식별을 할 수 있어야 한다. The distance between elements in the circuit to be inspected and the thickness of the
찍힘 유니트가 정렬 유니트(170)에 인접한 위치에 마련될 수 있다. 불량 기판(200)을 판별하는 필수적인 통전 검사시에, 프로브(193) 등을 통한 뾰족한 끝을 가진 프로브(193) 등으로 검사를 시행하게 되고, 이로 인해 통전 검사 자체로 인한 기판(200)의 찍힘이 발생할 수 있다. 이러한 찍힘을 방치하고, 설비를 수시간 또는 몇일을 가동하여 기판(200)에 회로가 실장되는 경우에는, 기판(200)에 비해 몇배나 비싼 회로 자체를 폐기하는 문제가 발생할 수 있기에 사용자는 찍힘을 한 시간 단위등으로 주기적으로 자주 관리 해야할 수 있다. The stamping unit may be provided at a position adjacent to the
찍힘에는 구조상 통전 검사 자체로 인한 오류도 있지만, 탐침을 하는 프로브(193) 자체에 마모나 벤딩등으로 인한 불량이 발생할 수 있고, 프로브(193)에 이물질이 끼여 불량을 발생할 수 있다. 따라서, 찍힘으로 인한 불량 발생에는 프로브(193)와 기판(200) 사이의 예정된 검사 거리를 변경시키는 주변적 요인외에도 프로브(193) 자체의 불량이나 이물질 등으로 인한 불량이 있을 수 있다. 즉, 찍힘의 요인은 다양하기에 현미경 수준의 수 미크론을 판별할 수 있는 카메라 등을 이용하여 찍힘의 정확한 형태를 인식하고, 원인별로 찍힘을 분류함으로서 찍힘 유니트에 의해서 판별된 찍힘의 원인을 빠르게 찾아 대처할 수 있다. 제1 검사부(192)에 마련된 프로브(193)에 의한 기판(200)의 찍힘량이 상기 찍힘 유니트의 카메라에서 촬영될 수 있다. There is also an error due to the energization test itself in terms of structure, but defects may occur due to abrasion or bending in the
기판(200)의 불량률을 판별하는 필수적인 통전 검사 자체로 인해 오히려 기판(200)에 불량률이 발생할수 있기에 이 또한 불량률의 하나로 간주하여 검사를 통해 분류할 필요가 있다. 즉, 기판(200)이 로딩되어 검사를 마치고 다시 언로딩되는 일련의 과정중에, 기판(200)의 통전을 검사하는 제1 검사부(192)는 통전으로 인한 찍힘을 검사하는 찍힘 유니트의 전단계일 수 있다. Since a defective rate may occur in the
찍힘 검사는 통전 검사에 의한 찍힘을 확인하는 것일 수 있다. 통전 검사시 모든 회로의 연결을 다 확인하는 것은 너무 오랜 시간이 걸리기에, 사용자는 특정 기판(200)에 따른 패튼에 따라 더 밀집되고 복잡하여 불량이 발생하기 쉬운 기판(200)의 위치를 셋팅시에 확인하고, 선별적인 검사를 시행할 수 있다. 이 경우, 시간별로 구간을 나누어 각 구간에 따른 다른 위치를 셋팅함으로서, 어느 구간에서 불량률이 높은지 데이터를 취합하여 분석에 이용할 수 있다. 따라서, 사용자에 의해서 각 구간에 셋팅된 샘플링 위치만 통전 검사를 행할 수 있기에, 찍힘 유니트는 전체 회로를 다 검사하기보다는 통전 검사의 위치 데이터를 참고하여 찍힘 검사를 신속히 행할 수 있다.The puncture test may be to check dents by an energization test. Since it takes too long to check all circuit connections during the power test, the user sets the position of the
제어부를 이용하여 찍힘 검사를 하는 경우, 제어부는 프로브(193)에 의한 기판(200)의 찍힘을 기준값과 비교하고, 카메라에 의하여 촬영한 영상의 찍힘이 기준값 이상인 경우 찍힘 불량으로 판단할 수 있다.When the stamping test is performed using the control unit, the control unit compares the stamping of the
찍힘 유니트의 검사대상인 회로내의 소자의 거리 및 탐침 프로브(193)의 두께는 수 미크론(micron)정도의 크기일 수 있다. The thickness of the
통전 검사 공정시 하나의 기판(200)만 검사하며 순서대로 진행하기보다는 복수의 기판(200)을 하나의 판으로 배열하여 진행될 수 있다. 복수의 기판(200)이 배열된 판을 로트(lot)라고 할 수 있고, 개별 기판(200) 또는 회로를 스텝(step)이라고 할 수 있다. 즉, 로트는 기판(200)이라 부를 수 있고, 각 스텝은 회로 패턴이라 할 수 있다. 기판(200)은 복수의 회로 패턴과 각 회로 패턴별로 형성된 얼라인 마크(230)가 마련될 수 있다. 각 회로 패턴은 제품에 탑재되는 단위일 수 있다. 예를 들어 6개의 회로 패턴이 도시되는데 각 회로 패턴은 이동 통신 단말기의 기판(200)을 형성할 수 있다. 즉, 기판(200)은 검사 장치의 하류에서 이루어지는 후 공정에서 6개의 회로 패턴으로 분리되어 각 이동 통신 단말기에 설치될 수 있다. 이와 같이 복수의 회로 패턴이 하나의 기판(200)에 포함되는 경우 후 공정의 편의를 도모하기 위해 각 회로 패턴 별로 얼라인 마크(230)가 형성될 수 있다.During the conduction inspection process, only one
정렬 유니트(170) 또는 콜리메이션 유니트(400)는 각 회로 패턴 별로 마련된 각 얼라인 마크(230)를 이용하여 각 회로 패턴의 정렬 상태 또는 콜리메이션 상태를 확인할 수 있다. 즉, 정렬 유니트(170)는 프로브 유니트(190)의 검사 단위와 상관없이 모든 얼라인 마크(230)의 정렬 상태를 확인할 수 있다.The
프로브 유니트(190)가 하나의 회로 패턴을 검사 단위로 할 때 각 회로 패턴에 정렬 오차가 있을 수 있다. 이때, 기판(200)을 이동시킬 수 있는 셔틀 유니트는 프로브 유니트(190)가 하나의 회로 패턴을 검사하고 z축 방향으로 기판(200)으로부터 멀어졌을 때, 다음 검사 대상이 되는 회로 패턴을 프로브 유니트(190)에 대해 매칭 또는 정렬시킬 수 있다. 이러한 모습은 검사 단위가 기판(200)에 포함된 회로 패턴의 개수보다 작을 때도 유사하게 이루어진다. 기판(200)에 대해 검사 단위가 6개의 회로 패턴일 때, 셔틀 유니트는 6개의 회로 패턴을 포함하는 영역의 정렬 상태를 나타내는 얼라인 마크(230)에 대한 위치 보정을 수행할 수 있다. 예를 들어 아래 6개의 회로 패턴이 검사 단위일 때, 셔틀 유니트는 정렬 유니트(170)의 확인 결과를 이용하여 맨 좌측 아래로부터 위로 두번째 얼라인 마크(230)와 맨 우측 첫번째 마크를 이용하여 기판(200)을 정렬할 수 있다.When the probe unit 190 uses one circuit pattern as an inspection unit, there may be an alignment error in each circuit pattern. At this time, when the probe unit 190 inspects one circuit pattern and moves away from the
정리하면, 정렬 유니트(170)는 프로브 유니트(190)의 검사 단위와 무관하게 모든 회로 패턴의 정렬 상태를 확인할 수 있다. 이를 통해 프로브 유니트(190)의 검사 단위는 다양하게 설정될 수 있다. 검사 단위는 프로브 유니트(190)의 프로브에 의해 결정될 수 있으며, 프로브는 초기 세팅시 결정된다. 따라서, 본 실시예에 따르면 검사 단위는 초기 세팅시 변경될 수 있고, 다양한 검사 단위에 대해 기판(200)을 정렬시킬 수 있다. In summary, the
따라서, 통상적인 일련의 통전 검사 중의 한 단계인 정렬 검사 또는 찍힘 검사는 초기에 셋팅된 기준값에 대한 비교를 통해 보정이 이루어질 수 있고, 콜리메이션 검사는 상기의 정렬 검사 또는 찍힘 검사의 기준이 되는 기준값에 대한 보정을 하는 것일 수 있다. 이러한 기준이 되는 초기 셋팅인 기준값의 보정과, 통전 검사 공정중 이 기준값에 대한 비교를 통한 보정의 두 단계 보정을 통해 오차 또는 에러가 발생하는 기판(200)이 줄어들어 결과적으로 공정 수율이 크게 높아질 수 있다. Therefore, an alignment test or a puncture test, which is one step of a series of typical energization tests, can be corrected through comparison with an initially set reference value, and a collimation test is a reference value that is a standard for the alignment test or dent test. may be corrected for Through the two-step correction of the correction of the reference value, which is the initial setting that becomes the standard, and the correction through comparison with this reference value during the energization inspection process, the error or error-producing
콜리메이션 과정을 살펴보면, 얼라인 마크(230)를 기준으로 기판(200)과 각 회로 패턴은 좌표가 부여될 수 있다. 특정한 회로 패턴의 한점은 (x,y)로 표현될 수 있고, 이는 기판(200)을 평면도처럼 상측에서 바라보았을때의 각 기판(200)의 위치를 나타낼 수 있다. x축 방향은 검사 공정의 진행 방향일 수 있고, y축 방향은 x축 방향에 수직하고, 수직으로 평행한 평면의 한 방향일 수 있다. 예를 들어, 특정 회로 패턴의 한점은 (10,20)으로 설정될 수 있고, 이에 대한 콜리메이션 검사 결과는 (7,18), (7,16)일 수 있다. 즉, 이는 (10,20)은 목표 기준값일 수 있고, (7,18)은 제1 검사부(192)의 제1 카메라로 측정된 제1 화면일 수 있으며, (7,16)은 제2 검사부(194)의 제2 카메라로 측정된 제2 화면일 수 있다. Looking at the collimation process, coordinates may be assigned to the
또한, 검사 단위를 각 스테별 즉 각 회로 패턴별로 할 수 있고, 각 회로 패턴별로 오차가 발생할 수 있으나 설명 편의를 위해서 모든 회로 패턴이 동시에 상기 예로든 좌표만큼의 차이가 발생했다고 할 수 있고, 이 차이는 θ에 대해서는 차이가 없고, x축 및 y축에 대해서는 차이가 발생한 경우일 수 있다. 이러한 경우, 제1 화면의 프로브의 위치(P)는 x축 방향으로 -3, y축 방향으로 -2만큼 차이가 발생한 것일 수 있고, 제2 화면의 회로 패턴(C)은 x축 방향으로 -3, y축 방향으로 -4만큼 차이가 발생한 것일 수 있다. In addition, the inspection unit can be performed for each stage, that is, for each circuit pattern, and errors may occur for each circuit pattern. The difference may be a case where there is no difference in θ and a difference occurs in the x-axis and the y-axis. In this case, the position (P) of the probe on the first screen may be a difference by -3 in the x-axis direction and -2 in the y-axis direction, and the circuit pattern (C) on the second screen is -3 in the x-axis direction. 3, a difference of -4 in the y-axis direction may have occurred.
따라서, 예를 들어, 프로브의 위치(P)은 초기에 셋팅한 기준값이 x축으로 -3만큼, y축 방향으로 -2만큼 이동된 것이므로, 기준값을 x축 방향으로 +3만큼, y축 방향으로 +2만큼 이동시킴으로서 기준값을 보정할 수 있다. 또한, 회로 패턴(C)는 초기에 셋팅한 기준값이 x축으로 -3만큼, y축 방향으로 -4만큼 이동된 것이므로, 기준값을 x축으로 +3만큼, y축 방향으로 +4만큼 이동시킴으로서 목표 기준값으로 보정할 수 있다. 마찬가지 방법으로, z축 방향의 회전에 해당하는 θ만큼 초기에 셋팅한 값에 대한 회전이 발생한 경우에는, x,y축 방향 이동과 마찬가지로 반대로 회전시킴으로서 기준값을 보정할 수 있다. Therefore, for example, since the initially set reference value is moved by -3 in the x-axis and -2 in the y-axis direction, the position (P) of the probe is set by +3 in the x-axis direction and +3 in the y-axis direction. By moving it by +2, the reference value can be corrected. In addition, since the initially set reference value in the circuit pattern (C) is moved by -3 in the x-axis and -4 in the y-axis direction, the reference value is moved by +3 in the x-axis and +4 in the y-axis direction. It can be calibrated to the target reference value. In the same way, when the rotation for the value initially set by θ corresponding to the rotation in the z-axis direction occurs, the reference value can be corrected by rotating in the opposite direction similar to the movement in the x-axis and y-axis directions.
즉, 제어부는 목표 기준값(R), 제1 화면의 프로브의 위치(P) 및 제2 화면의 회로 패턴(C)의 위치를 서로 비교하여 P,C 점의 오차를 R이 될 수 있게 조절할 수 있다. That is, the control unit can adjust the error of points P and C to be R by comparing the target reference value (R), the position (P) of the probe on the first screen, and the position of the circuit pattern (C) on the second screen. there is.
전체적인 콜리메이션 검사를 정리하면, 콜리메이션의 목적은 검사 장치의 기준값에 대한 보정을 하는 것이고, 이를 위해 x,y,θ의 세 개의 자유도를 측정하여 보정함으로서 정확한 보정이 될 수 있다. Summarizing the entire collimation test, the purpose of collimation is to correct the reference value of the test device, and for this purpose, accurate correction can be achieved by measuring and correcting three degrees of freedom of x, y, and θ.
콜리메이션의 방법은 기본적으로, 기판(200)의 두 점을 식별하여 기판(200) 얼라인을 할 수 있고, 국소적으로 수축, 팽창이 다를 수 있기에 전체적인 기판(200) 얼라인만으로는 틀어짐이 발생할 수 있다. 이러한 틀어짐은 기판(200) 전체의 오차 또는 회로 패턴의 오차로부터 기인할 수 있다.Basically, the method of collimation can align the
사용자가 처음 제품을 공장에 설치하는 경우, 기준값에 대한 초기 셋팅이 필요할 수 있고, 이는 수미크론의 레벨이기에 현미경 수준의 카메라 등을 이용해 좌표를 인식함으로서 정밀하게 행해질 수 있다. 이러한 초기 기준값 설정을 콜리메이션이라고 할 수 있고, 이론상으로는 초기 한번의 기준값 설정으로 충분해야하나, 실제로는 기계 자체의 에러나 공장 지대의 흔들림이나 기울어짐 등의 여러가지 요인에 의해서 기준값이 변동될 수 있고, 이는 출하되는 기판(200)의 불량으로 이어질 수 있다. 따라서, 주기적인 콜리메이션 검사를 하지 않는 경우, 통전 검사 등의 검사 중에 기준값에 대한 보정이 계속 이루어짐에도 기판(200) 전량이 폐기될 수 있다. 따라서, 사용자는 주기적인 콜리메이션 검사를 해주어야할 수 있다. When a user installs a product for the first time in a factory, initial setting for a reference value may be required, and since this is a level of several microns, it can be precisely performed by recognizing coordinates using a microscope-level camera. This initial reference value setting can be called collimation, and in theory, one initial reference value setting should be sufficient. This may lead to defects of the
기판(200)이 얼라인 마크(230)를 기준점으로 잡고 기판(200)의 틀어짐을 검사할 수 있고, 통상적으로 기판(200)의 대각선 두 점을 잡아 확인할 수 있다. 검사의 정확도를 위해서는 세 점 이상을 잡아 시행할 수 있으나 공정의 성능외에도 공정 속도도 생산에 중요한 요소이기에 사용자는 두 점을 기준으로 할지 세 점 이상을 기준으로할지 기판(200)의 복잡도와 상황을 고려하여 결정할 수 있다. 따라서 반대로, 특정 공정상 정밀도보다는 빠른 공정 속도를 요하는 작업에서는 한 점만 기준값과 비교하는 검사가 시행될 수도 있다. The
본 발명의 검사 장치에 의한 검사는 콜리메이션 검사와 공정 검사를 포함할 수 있고, 콜리메이션 검사는 공정 검사 전에 행해지는 기준값 설정을 위한 것일 수 있으며, 공정 검사를 정렬 검사, 통전 검사, 찍힘 검사를 포함할 수 있다. 정렬 유니트(170)는 정렬 검사를, 프로브 유니트(190)는 통전 검사를, 찍힘 유니트는 찍힘 검사를 할 수 있다. 콜리메이션 유니트(400)는 정렬 유니트(170) 또는 찍힘 유니트와는 별도의 유니트로 마련될 수 있고, 특히 프로브 유니트(190)의 각 검사부와 검사 테이블(196)사이에 위치할 수 있다. The inspection by the inspection device of the present invention may include a collimation inspection and a process inspection, the collimation inspection may be for setting a reference value performed before the process inspection, and the process inspection may include an alignment inspection, a energization inspection, and a puncture inspection. can include The
다시말해, 제어부는 제1 카메라를 통해 촬영한 제1 화면과 제2 카메라를 통해 촬영한 제2 화면을 목표 기준값(R)과 비교하여 오차를 보정할 수 있다. 이는 사람이 수동으로 패드 등을 기판에 안착하여 통전 검사 등을 수행한 후 그 패드의 파인 자국과 목표 기준값을 현미경 레벨의 카메라 등을 이용하여 육안으로 식별하여 콜리메이션하거나, 기판에 안착된 패드의 파인 자국을 기판과 함께 콜리메이션 카메라 등을 이용하여 검사하여 콜리메이션 하는 수동 콜리메이션 방법에 비해 공정 속도를 현격히 올릴 수 있다. 또한, 정렬 검사, 통전 검사 등의 통상의 본 기판 검사 공정을 잠시 멈춘후 시행하는 수동 콜리메이션에 비해, 상기와 같은 자동 콜리메이션은 상기의 본 검사 공정을 멈추지 않고, 중간에 주기적으로 콜리메이션 유니트를 프로브 유니트에 삽입하여 서로 수직으로 평행하게 배열시킬 수 있다. 따라서, 작업자의 작업 환경 특성에 맞게, 콜리메이션 검사를 본 검사 공정의 사이에 배치하거나 본 검사 공정의 일부로 배치할 수 있어 결과적으로 전체 공정 과정을 유연하게 배치할 수 있다. In other words, the controller may correct an error by comparing the first screen captured through the first camera and the second screen captured through the second camera with the target reference value R. This is done by a person manually placing a pad on a substrate to perform an electrical power test, etc., and then visually identifying and collimating the dent in the pad and the target reference value using a microscope-level camera, or The process speed can be significantly increased compared to the manual collimation method in which the dents are inspected and collimated using a collimation camera along with the board. In addition, compared to manual collimation performed after temporarily stopping the main board inspection process such as alignment inspection and power inspection, the automatic collimation as described above does not stop the main inspection process, and the collimation unit periodically in the middle can be arranged vertically and parallel to each other by inserting them into the probe unit. Therefore, according to the characteristics of the operator's working environment, the collimation inspection can be arranged between the main inspection process or as part of the main inspection process, and as a result, the entire process can be flexibly arranged.
콜리메이션 과정에서 예를 들어, 카메라를 이동시켜 FOV(Field Of View)를 통해 기판(200) 또는 회로 패턴의 틀어짐을 확인하고, 마우스 클릭이나 수치 입력 등을 통해 기준값의 오차를 수정할 수 있다. During the collimation process, for example, a camera may be moved to confirm distortion of the
인적, 물적, 환경적 등의 여러가지 요인에 의해서 기준값은 변화될 수 있고, 이는 각 로트(lot), 각 회로 패턴별로 차이가 발생할 수 있다. 또한, 사용자의 목적에 따라 매일의 생산량이 다를 수 있기에, 그 수량에 맞추어 콜리메이션 검사 주기를 조절할 수 있다. The reference value may be changed by various factors such as human, material, and environmental factors, which may cause differences for each lot and each circuit pattern. In addition, since the daily production quantity may vary according to the user's purpose, the collimation inspection cycle can be adjusted according to the quantity.
콜리메이션은 기판(200)을 일괄적으로 얼라인한 후 검사할 수 있고, 회로 패턴 개별로 얼라인 후 검사하는 것을 반복적으로 수행할 수 있다. 이는 특정 공정의 정밀도 요구에 따라 달라질 수 있다. 정밀도에 비해 생산 속도가 더 중요한 경우에는, 복수의 라트(lot)를 한번에 얼라인하여 검사할 수 있다. For collimation, inspection may be performed after aligning the
복수의 회로 패턴이 배열된 기판(200)은 다수의 프로브의 위치(P)와 회로 패턴 위치(C)가 발생하기에 목표한 공정 속도나 정밀도에 따라, 콜리메이션 검사를 위한 프로브의 위치(P)와 회로 패턴 위치(C)은 선별적으로 이루어질 수 있다. 즉, 회로 패턴의 종류에 따라 상대적으로 밀집된 지역이 존재할 수 있고, 이는 프로브의 위치(P)와 회로 패턴 위치(C) 선택시에 상대적으로 더 작거나 밀집된 영역을 위주로 콜리메이션 검사를 행할 수 있다. The
170... 정렬 유니트
190... 프로브 유니트
192... 제1 검사부
193... 프로브
194... 제2 검사부
195... 베이스판
196... 검사 테이블
200... 기판
210... 회로 패턴
230... 얼라인 마크
400... 콜리메이션 유니트
R... 목표 기준값(R)
P... 프로브 촬영 위치
C... 회로 패턴 촬영 위치170 ... alignment unit 190 ... probe unit
192...
194 ...
196... Examination table
200... substrate 210... circuit pattern
230...
R... target reference value (R) P... probe shooting position
C... circuit pattern shooting position
Claims (9)
상기 검사에 대한 기준값을 검사하는 콜리메이션(colimation) 유니트;
를 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 프로브 유니트와 함께 가상의 수직선에 관통되며 서로 평행하게 마련되는 검사 장치.
a probe unit for inspecting the energization state of the board;
a collimation unit inspecting a reference value for the inspection;
including,
The collimation unit penetrates a virtual vertical line together with the probe unit and is provided parallel to each other.
상기 프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit includes an inspection unit on which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated;
The collimation unit is positioned between the inspection unit and the inspection table.
상기 프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하며,
상기 콜리메이션 유니트의 상부에는 제1 카메라가, 하부에는 제2 카메라가 구비되고,
상기 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하고, 상기 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영하는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit includes an inspection unit on which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated;
The collimation unit is located between the inspection unit and the inspection table,
A first camera is provided on the upper part of the collimation unit and a second camera is provided on the lower part,
The first camera photographs the probe of the probe unit, and the second camera photographs the circuit pattern of the substrate.
상기 콜리메이션 유니트의 제1 카메라는 상기 프로브 유니트의 프로브를 촬영하며, 제2 카메라는 상기 기판의 회로 패턴을 촬영하며,
제어부는 상기 기판의 얼라인 마크를 기준으로, 상기 제1 카메라에 의해 촬영된 제1 화면 및 상기 제2 카메라에 의해 촬영된 제2 화면을 목표 기준값과 비교하여 오차를 수정하는 검사 장치.
According to claim 1,
A first camera of the collimation unit photographs a probe of the probe unit, and a second camera photographs a circuit pattern of the substrate;
The control unit corrects an error by comparing a first screen photographed by the first camera and a second screen photographed by the second camera with a target reference value based on the alignment mark of the substrate.
상기 프로브 유니트는 프로브가 마련되는 검사부, 기판이 안착되는 검사 테이블을 포함하고,
상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이에 위치하며,
콜리메이션 검사가 진행되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치로 진입하고,
상기 콜리메이션 검사가 완료되는 경우, 상기 콜리메이션 유니트는 상기 검사부와 상기 검사 테이블 사이의 위치에서 후퇴하는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit includes an inspection unit on which a probe is provided and an inspection table on which a substrate is seated;
The collimation unit is located between the inspection unit and the inspection table,
When the collimation inspection is in progress, the collimation unit enters a position between the inspection unit and the inspection table,
When the collimation test is completed, the collimation unit retreats from a position between the test unit and the test table.
기판의 정렬 상태를 검사하는 정렬 유니트가 마련되고,
상기 정렬 유니트의 공정상 위치가 제1 위치, 상기 프로브 유니트의 공정상 위치가 제2 위치인 경우,
상기 콜리메이션 유니트에 의한 콜리메이션 검사는 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치에서 진행되는 검사 장치.
According to claim 1,
An alignment unit for inspecting the alignment of the substrate is provided,
When the process position of the alignment unit is the first position and the process position of the probe unit is the second position,
The collimation test by the collimation unit is performed at the first position or the second position.
상기 프로브 유니트에는 상기 기판이 안착되는 검사 테이블이 마련되고,
제어부는 상기 검사 테이블의 x 방향, y 방향, θ 각도를 조절하며,
상기 x 방향 및 y 방향은 상기 기판이 놓이는 평면을 이루는 두 축이고, 상기 θ 각도는 상기 x 방향 및 y 방향이 이루는 평면에 수직한 방향에 대한 회전 정도를 나타내는 검사 장치.
According to claim 1,
The probe unit is provided with an inspection table on which the substrate is seated,
The control unit adjusts the x direction, y direction, and θ angle of the examination table,
The x-direction and the y-direction are two axes forming a plane on which the substrate is placed, and the θ angle indicates a degree of rotation with respect to a direction perpendicular to the plane formed by the x-direction and the y-direction.
상기 기판에는 복수의 회로 패턴이 마련되고,
제어부는 상기 프로브 유니트의 프로브 및 상기 회로 패턴을 목표 기준값과 비교하기 위해, 공정의 정밀도 요구치가 높아짐에 따라 상기 회로 패턴의 밀집도가 높은 지역에서 낮은 지역의 순서로 비교할 지역을 선택하는 검사 장치.
According to claim 1,
A plurality of circuit patterns are provided on the substrate,
In order to compare the probe of the probe unit and the circuit pattern with a target reference value, the control unit selects regions to be compared in order from regions with a high density of circuit patterns to regions with a low density as a process accuracy requirement increases.
상기 검사부에는,
상기 기판의 상부에 위치하는 제1 검사부, 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 검사부가 마련되고,
상기 제1 검사부와 상기 기판사이에는 제1 콜리메이션 유니트가, 상기 제2 검사부와 상기 기판사이에는 제2 콜리메이션 유니트가 구비되며,
상기 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 상기 제1 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제1 화면, 상기 제1 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판의 회로 패턴을 촬영한 화면을 제2 화면, 상기 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 상기 제2 검사부의 프로브를 촬영한 화면을 제3 화면, 상기 제2 콜리메이션 유니트의 카메라가 기판을 촬영한 화면은 제4 화면이고,
제어부는 상기 제1 화면 내지 제4 화면중 적어도 어느 하나를 목표 기준값과 비교하여 오차를 보정하는 검사 장치.
According to claim 1,
In the inspection unit,
A first inspection unit positioned above the substrate and a second inspection unit located below the substrate are provided;
A first collimation unit is provided between the first inspection unit and the substrate, and a second collimation unit is provided between the second inspection unit and the substrate,
The first screen captures the probe of the first inspection unit by the camera of the first collimation unit, and the second screen captures the circuit pattern of the circuit board by the camera of the first collimation unit. The third screen is a screen shot of the probe of the second inspection unit by the camera of the migration unit, and the fourth screen is a screen shot of the substrate by the camera of the second collimation unit.
The control unit compares at least one of the first to fourth screens with a target reference value to correct an error.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210178047A KR20230089429A (en) | 2021-12-13 | 2021-12-13 | Detection device with colimation unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210178047A KR20230089429A (en) | 2021-12-13 | 2021-12-13 | Detection device with colimation unit |
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2021
- 2021-12-13 KR KR1020210178047A patent/KR20230089429A/en not_active Application Discontinuation
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