JPH07297242A - Probe method and the device - Google Patents

Probe method and the device

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JPH07297242A
JPH07297242A JP6104615A JP10461594A JPH07297242A JP H07297242 A JPH07297242 A JP H07297242A JP 6104615 A JP6104615 A JP 6104615A JP 10461594 A JP10461594 A JP 10461594A JP H07297242 A JPH07297242 A JP H07297242A
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probe
chip
marking
inspected
defective
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晴彦 吉岡
Shigeaki Takahashi
茂昭 高橋
Shinji Akaike
伸二 赤池
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Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To perform accurate marking on an IC chip decided detective in a probe device for bridging a probe into contact with an electrode pad of a chip to be examined on an object to be examined and electrically measuring the chip. CONSTITUTION:A probe card 51 with a probe needle 5 is provided opposing a transfer region of a wafer place pedestal 31 on a Z transfer part 3 movable in X, Y, Z directions. First imaging means 4 is provided in the Z transfer part 3, while second imaging means 42 is movably provided in an X direction between the wafer place pedestal 31 and the probe needle 5, and both imaging means 4, 42 are focused with respect to each other and a specific point on a wafer W is recognized by the second imaging means 42 and the probe needle 5 and marking means 7 are recognized by the first imaging means, respectively. Thus, as a relative position of each part can be grasped, the place pedestal 31 is transferred so that an IC chip decided defective comes to the marking position to perform marking for the defective IC chip.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はプローブ装置及びプロー
ブ方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe device and a probe method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程ではウエハ製
造プロセスが終了してウエハ内にICチップが完成した
後、電極パターンのショート、オープンやICチップの
入出力特性などを調べるためにプローブ装置によるプロ
ーブテストと呼ばれる電気的測定が行われ、ウエハの状
態でICチップの良否が判定される。その後ウエハはI
Cチップに分断され、良品のICチップについてパッケ
ージングされてから例えば所定のプローブテストを行っ
て最終製品の良否が判定される。
2. Description of the Related Art In a semiconductor device manufacturing process, after a wafer manufacturing process is completed and an IC chip is completed in a wafer, a probe by a probe device is used to check a short circuit, an open pattern of an electrode pattern and an input / output characteristic of the IC chip. Electrical measurement called a test is performed, and the quality of the IC chip is determined based on the state of the wafer. Then the wafer is I
After the chip is divided into C chips and a good IC chip is packaged, a predetermined probe test is performed to judge the quality of the final product.

【0003】従来のプローブ装置は、図6に示すように
X、Y、Z、θ方向に移動可能なウエハ載置台1の上方
側に、ウエハW内のICチップの電極パッド配列に対応
して配列されたプローブ針11を備えたプローブカード
12が配置されている。そして載置台1をステッピング
移動させてウエハW内のICチップの電極パッドとプロ
ーブ針11とを順次接触させ、コンタクトリング13を
通してテストヘッド14により電気的測定が行われる。
As shown in FIG. 6, the conventional probe apparatus is arranged above the wafer mounting table 1 which is movable in the X, Y, Z, and θ directions, corresponding to the electrode pad arrangement of the IC chips in the wafer W. A probe card 12 having arranged probe needles 11 is arranged. Then, the mounting table 1 is moved by stepping so that the electrode pads of the IC chip in the wafer W and the probe needle 11 are brought into contact with each other in sequence, and the test head 14 makes an electrical measurement through the contact ring 13.

【0004】ここであるICチップについて不良と判定
された場合には、後でこの不良チップを他の正常なチッ
プと区別するために例えば不良チップの表面にマーキン
グする必要があり、このため例えばチップの表面にイン
クを滴下するインカーがマーキング手段として設けられ
ている。プローブ針の配列密度が小さい場合にはインカ
ーをプローブ針群の間に設け、チップが不良と判定され
れば、チップの測定位置にて、即ち電極パッドがプロー
ブ針と接触している状態でインカーを作動させてインク
をチップに滴下すればよいが、デバイスの高集積化、微
細化に伴い電極パッドが微細化し、その数が増えかつ配
列間隔が狭くなってくると、プローブ針の密集度が高く
なり、インカーをプローブ針の配列領域に設けることが
困難になってくる。
When it is determined that the IC chip is defective, it is necessary to mark the defective chip on the surface of the defective chip in order to distinguish it from other normal chips later. An inker for dropping ink on the surface of the is provided as a marking means. If the array density of probe needles is low, an inker is provided between the probe needle groups, and if the chip is determined to be defective, the inker is placed at the measurement position of the chip, that is, with the electrode pad in contact with the probe needle. It is only necessary to activate the ink to drop the ink on the chip, but as the device pads become finer and finer, and the electrode pads become finer, the number of them increases and the arrangement interval becomes narrower, the density of probe needles becomes smaller. It becomes high, and it becomes difficult to provide the inker in the array region of the probe needles.

【0005】そこでインカーをプローブ針11の配列領
域に設けることができない場合には、図6に示すように
インカー15はプローブ針11から離れた領域に配置
し、不良チップが見つかる毎にあるいはウエハW上の全
チップの検査終了後に、オペレータがカメラ16を見な
がらマニュアルで載置台1を移動させて不良チップをイ
ンカー15の下方位置まで持って行き、当該不良チップ
に対してマーキングを行っていた。このマニュアル操作
としては種々の方法があるが、例えばウエハにターゲッ
トを形成し、図示しないカメラの下にターゲットが位置
するように載置台1を移動させ、いわばこの基準位置か
ら、不良チップのアドレスに応じた移動量だけ載置台1
を移動させるなどの方法が知られている。
Therefore, if the inker cannot be provided in the array region of the probe needles 11, the inker 15 is placed in a region away from the probe needles 11 as shown in FIG. After the inspection of all the chips above, the operator manually moves the mounting table 1 while looking at the camera 16 to bring the defective chip to a position below the inker 15, and marks the defective chip. There are various methods for this manual operation. For example, a target is formed on a wafer, and the mounting table 1 is moved so that the target is positioned under a camera (not shown). Placement table 1 according to the amount of movement
There are known methods such as moving.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながらウエハW
上には同一形状のICチップが多数同じ繰り返しパター
ンで縦横に配列されているため、不良チップをインカー
の下に相対的に位置させる作業が非常に煩わしいし、ま
た誤って不良チップ以外のチップをインカーの下に位置
させるおそれがある。不良チップ以外のチップにマーキ
ングしてしまうと不良チップについてはマーキングされ
ていないので、正常チップとして次工程に流れてしま
う。この場合例えばウエハを各ICチップに分断した後
パッケージングされてしまい、更にパッケージングされ
たチップの検査やその検査結果の原因究明といった、本
来無用な作業が行われてしまう。
However, the wafer W is
Since many IC chips of the same shape are arranged vertically and horizontally in the same repeating pattern on the top, the work of relatively positioning the defective chip under the inker is very troublesome, and a chip other than the defective chip is mistakenly erroneously placed. May be located under the inker. If a chip other than the defective chip is marked, the defective chip is not marked, so that the defective chip is passed to the next step. In this case, for example, the wafer is divided into individual IC chips and then packaged, and an originally unnecessary work such as inspection of the packaged chips and investigation of the cause of the inspection result is performed.

【0007】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、不良と判定された被検査チ
ップに対して確実にマーキングすることのできるプロー
ブ装置を提供することにある。
The present invention has been made under such circumstances, and an object thereof is to provide a probe device capable of reliably marking a chip to be inspected, which is determined to be defective. is there.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、被検
査チップが複数配列された被検査体が載置される、X、
Y、Z方向に移動可能な載置台と、前記各被検査チップ
の電極パッドにプローブを接触させて検査し、プローブ
を備えたプローブカードと、不良な被検査チップに対し
てマーキングするマーキング手段とを有するプローブ装
置において、前記載置台と一体になって移動する撮像手
段によりプローブ及びマーキング手段を撮像し、プロー
ブ及びマーキング手段のX、Y方向の位置を認識する工
程と、前記載置台を移動させて被検査体の電極パッド及
びプローブを電気的に接触させ、被検査チップの電気的
測定を行い良否を判定する工程と、前記撮像手段により
認識したプローブ及びマーキング手段のX、Y方向の位
置に基づき載置台を制御して、不良と判定された被検査
チップをマーキング手段のマーキング位置まで移動させ
る工程と、を含むことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, an object to be inspected in which a plurality of chips to be inspected are arrayed is mounted, X,
A mounting table movable in the Y and Z directions, a probe card provided with a probe for contacting and inspecting the electrode pad of each of the chips to be inspected, and marking means for marking a defective chip to be inspected. In the probe apparatus having the above-mentioned, the step of imaging the probe and the marking means by the imaging means that moves integrally with the mounting table and recognizing the positions of the probe and the marking means in the X and Y directions, and moving the mounting table. To electrically contact the electrode pad of the object to be inspected with the probe to electrically measure the chip to be inspected to determine pass / fail, and to position the probe and the marking means in the X and Y directions recognized by the imaging means. Controlling the mounting table based on this, and moving the chip to be inspected, which has been determined to be defective, to the marking position of the marking means. And wherein the door.

【0009】請求項2の発明は、X、Y、Z方向に移動
することができるXYZテーブルに載置台を設け、被検
査チップが複数配列された被検査体を前記載置台上に載
せ、被検査チップの電極パッド及びプローブを接触させ
て被検査チップの電気的測定を行うためのプローブ装置
において、不良と判定された被検査チップにマーキング
するためのマーキング手段と、前記XYZテーブルに設
けられ、前記プローブとマーキング手段とを撮像するた
めの撮像手段と、この撮像手段によりプローブを撮像し
たときの前記XYZテーブルのX、Y方向の位置、及び
マーキング手段を撮像したときの前記XYZテーブルの
X、Y方向の位置を記憶する記憶部と、被検査チップが
不良と判定されたときに、前記記憶部に記憶されている
データに基づきXYZテーブルを制御して、不良チップ
を前記マーキング手段のマーキング位置まで移動させる
制御部と、を備えてなることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, a mounting table is provided on an XYZ table which can be moved in the X, Y and Z directions, and an object to be inspected on which a plurality of chips to be inspected are arranged is placed on the table. In a probe device for electrically measuring an inspected chip by contacting an electrode pad and a probe of the inspected chip, a marking means for marking the inspected chip determined to be defective, and provided on the XYZ table, An image pickup means for picking up the image of the probe and the marking means, a position in the X and Y directions of the XYZ table when the image of the probe is picked up by the image pickup means, and an X of the XYZ table when the marking means is picked up, When a chip to be inspected is determined to be defective, a storage unit that stores the position in the Y direction and X based on the data stored in the storage unit. It controls the Z table, and characterized in that it comprises a control unit for moving the defective chip to the marking position of the marking means.

【0010】[0010]

【作用】被検査体が載置される載置台と一体になって移
動する撮像手段例えばX、Y、Z方向に移動可能なXY
Zテーブルに設けられた撮像手段によりプローブとマー
キング手段とを夫々撮像し、XYZテーブルの制御系で
管理しているX、Y座標においてプローブとマーキング
手段との夫々の位置を求め、プローブに対するマーキン
グ手段の相対位置を求める。そして被検査体の各被検査
チップの電極パッドをプローブに接触させて電気的測定
を行い、不良と判定された場合には、その後直ちにある
いは1枚の被検査体の全チップの検査が終了した後、前
記相対位置に基づいて不良と判定された被検査チップを
マーキング手段のマーキング位置まで移動させる。従っ
て不良チップに対して確実にマーキングすることができ
る。
Operation: Image pickup means that moves integrally with a mounting table on which an object to be inspected is mounted, for example, XY that can move in the X, Y, and Z directions.
The probe and the marking means are respectively imaged by the image pickup means provided on the Z table, the respective positions of the probe and the marking means are obtained at the X and Y coordinates managed by the control system of the XYZ table, and the marking means for the probe is obtained. Find the relative position of. Then, the electrode pads of each chip to be inspected of the object to be inspected are brought into contact with the probe to perform an electrical measurement, and when it is determined to be defective, the inspection of all the chips of one object to be inspected is finished immediately thereafter. After that, the chip to be inspected, which is determined to be defective based on the relative position, is moved to the marking position of the marking means. Therefore, the defective chip can be surely marked.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本発明の実施例の全体の概略を示す斜
視図、図2は本発明の実施例の構造及びブロック回路を
組み合わせて示す構成図である。図1中21はYステー
ジであり、ベース22上のYガイドレール23に沿って
Y方向に移動でき、また24はXステージであり、Yス
テージ21上のXガイドレール25に沿ってX方向に移
動できるよう構成されている。26、27は夫々ボール
ネジであり、X、Y方向夫々モータM2(X方向のモー
タは図では見えない)例えばステップモータにより前記
各ボ−ルネジを回動してX、Yステージ21、24を夫
々高精度に駆動する。なお図2ではこれらX、Y方向の
各部をまとめてX、Yアセンブリ20として示してあ
る。
1 is a perspective view showing an outline of the whole embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing a combination of the structure and the block circuit of the embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 21 is a Y stage, which can be moved in the Y direction along the Y guide rail 23 on the base 22, and 24 is an X stage, which is moved in the X direction along the X guide rail 25 on the Y stage 21. It is configured to be mobile. Reference numerals 26 and 27 denote ball screws, respectively, which rotate the respective ball screws by a motor M2 in the X and Y directions (motors in the X direction are not visible in the figure), for example, step motors to move the X and Y stages 21 and 24, respectively. Drive with high precision. In FIG. 2, these parts in the X and Y directions are collectively shown as an X and Y assembly 20.

【0012】前記Xステージ24の上には載置即ちZ方
向に移動するZ移動部3が設けられている。即ちこのZ
移動部3は、X、Y、Z方向に移動できることになる。
このZ移動部3には、検査手段、操作手段を撮像するた
めの撮像手段例えば後述のプローブ及びマーキング手段
を拡大して撮像し内部にCCDカメラを備えた高倍率の
第1撮像手段4と、プローブ及びマーキング手段を広い
領域で撮像する低倍率のカメラ41とが設けられてい
る。なお一の撮像手段で切換操作して目的の画像を取り
入れてもよい。
On the X stage 24, there is provided a Z moving section 3 which is placed or moved in the Z direction. That is, this Z
The moving unit 3 can move in the X, Y, and Z directions.
The Z moving unit 3 includes a high-magnification first image pickup unit 4 having an image pickup unit for picking up an image of the inspection unit and the operation unit, for example, a probe and a marking unit, which will be described later, which are enlarged and equipped with a CCD camera. A low-magnification camera 41 for picking up an image of the probe and the marking means in a wide area is provided. It should be noted that the desired image may be taken in by performing a switching operation with one image pickup means.

【0013】前記Z移動部3の上には、θ方向に移動自
在な(周方向に回転自在な)ウエハ載置台31が設けら
れている。この載置台31の移動領域の上方には、検査
手段としてインサートリング50に取り付けられたプロ
ーブカード51が配置され、前記インサートリング50
は装置本体の天板に相当するヘッドプレート52に着脱
自在に設けられている。前記プローブカード51は、被
検査体であるウエハW上の電極パッドの配列に対応し
て、プローブであるプローブ針5が配列されている。プ
ローブカード51の上にはコンタクトリング53を介し
てテストヘッド6が設けられ、このテストヘッド6は、
プローブカード5から伝送される電気信号に基づいて測
定データを記憶するデータ記憶部61や測定データに基
づいて測定対象となっているICチップの良否を測定す
る判定部62などを備えている。
A wafer mounting table 31 is provided on the Z moving section 3 so as to be movable in the θ direction (rotatably in the circumferential direction). A probe card 51 attached to the insert ring 50 is arranged as an inspection means above the moving area of the mounting table 31.
Is detachably provided on a head plate 52 corresponding to a top plate of the apparatus body. In the probe card 51, probe needles 5 which are probes are arranged corresponding to the arrangement of the electrode pads on the wafer W which is the object to be inspected. A test head 6 is provided on the probe card 51 via a contact ring 53.
A data storage unit 61 that stores measurement data based on an electric signal transmitted from the probe card 5, a determination unit 62 that measures the quality of the IC chip that is the measurement target based on the measurement data, and the like are provided.

【0014】前記プローブカード51と載置台31との
間には、被検査体例えばウエハWを撮像するための例え
ばCCDカメラよりなる第2撮像手段42が移動体43
に保持されてX方向に移動自在に設けられている。また
プローブカード51の側方には、操作手段として不良チ
ップに対してマーキングを行うマーキング手段例えばノ
ズル71を通じてインクを滴下するマーキング手段7が
配設されている。そして実施例に係るプローブ装置の制
御系に関して述べると、この制御系には、中央処理部
8、画像処理部81、メモリ82、エンコーダ83及び
モータ制御部84などが含まれる。前記画像処理部81
は、前記第1、第2撮像手段4、42よりの画像信号を
処理し、予め記憶されている画像と比較するなどの機能
を有している。前記メモリ82は制御系で管理されてい
る座標上におけるプローブ針5、電極パッド及びマーキ
ング手段7の各位置などのデータを記憶するためのもの
である。前記エンコーダ83は、載置台31を予め定め
られたプログラムによりX、Y、Z方向に夫々駆動する
各モータに設けられ、実際には、X、Y、Z方向の夫々
におけるパルス数(ボールネジの回転角)を出力する。
前記モータ制御部84は、X、Y、Z方向の夫々のモー
タを制御するためのものである。
Between the probe card 51 and the mounting table 31, there is provided a moving body 43 with a second image pickup means 42 for picking up an image of an object to be inspected, for example, a wafer W, which is, for example, a CCD camera.
And is movably provided in the X direction. Further, on the side of the probe card 51, a marking means for marking a defective chip, for example, a marking means 7 for dropping ink through a nozzle 71 is provided as an operating means. The control system of the probe apparatus according to the embodiment will be described below. The control system includes a central processing unit 8, an image processing unit 81, a memory 82, an encoder 83, a motor control unit 84, and the like. Image processing unit 81
Has a function of processing the image signals from the first and second image pickup means 4 and 42 and comparing them with the images stored in advance. The memory 82 is for storing data such as each position of the probe needle 5, the electrode pad, and the marking means 7 on the coordinates managed by the control system. The encoder 83 is provided in each motor that drives the mounting table 31 in the X, Y, and Z directions according to a predetermined program, and actually, the number of pulses in each of the X, Y, and Z directions (rotation of the ball screw). Output).
The motor control unit 84 is for controlling each motor in the X, Y, and Z directions.

【0015】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず被検査体であるウエハWを載置台31上に載せた後、
図3(a)に示すように第2撮像手段42をプローブ針
5の近傍に位置させると共に、第1撮像手段4と第2撮
像手段42との焦点が一致するようにZ移動部3を制御
する。この焦点合わせは、例えば第2撮像手段42の焦
点位置に対して進退自在であり、透明な薄いガラス板に
金属膜を蒸着してなるターゲットTをZ移動部3側に設
けておくことにより行うことができる。
Next, the operation of the above embodiment will be described. First, after mounting the wafer W to be inspected on the mounting table 31,
As shown in FIG. 3A, the second image pickup means 42 is positioned near the probe needle 5, and the Z moving section 3 is controlled so that the first image pickup means 4 and the second image pickup means 42 have the same focal point. To do. This focusing is performed by, for example, providing a target T formed by depositing a metal film on a transparent thin glass plate on the Z moving unit 3 side, which is movable back and forth with respect to the focal position of the second image pickup means 42. be able to.

【0016】次いで図3(b)に示すようにX・Yステ
−ジ21、24を移動させて第2撮像手段42によりウ
エハW上の予め定められた特定部例えば複数の特定点を
撮像し、更に図3(c)(d)に示すように第1撮像手
段4によりプローブ針5及びマーキング手段7を撮像す
る。これらの撮像工程は、例えば図4(a)に示すよう
はじめ低倍率モードで広い領域を撮像し(第2撮像手段
4の場合カメラ41を用いる)、次いで図4(b)に示
すように高倍率モードで狭い領域を撮像し、画面の中心
に目標点が位置するようにX・Yステ−ジ21、24を
制御することによって行われる。
Next, as shown in FIG. 3 (b), the X and Y stages 21 and 24 are moved so that the second imaging means 42 images a predetermined specific portion on the wafer W, for example, a plurality of specific points. Then, as shown in FIGS. 3C and 3D, the probe needle 5 and the marking means 7 are imaged by the first imaging means 4. In these imaging steps, for example, as shown in FIG. 4A, a wide area is first imaged in the low magnification mode (the camera 41 is used in the case of the second imaging unit 4), and then as shown in FIG. This is performed by imaging a narrow area in the magnification mode and controlling the XY stages 21 and 24 so that the target point is located at the center of the screen.

【0017】以上の工程において、撮像手段4、42の
焦点が合ったとき及び各部を撮像したときのZ移動部3
のX、Y、Z方向の座標(制御系で管理されている座
標)上の位置がエンコーダ83よりのパルス信号に基づ
いて中央処理部83によりメモリ82内に記憶される。
In the above steps, the Z moving unit 3 when the image pickup means 4 and 42 are in focus and when each part is imaged
The positions on the coordinates in the X, Y, and Z directions (coordinates managed by the control system) are stored in the memory 82 by the central processing unit 83 based on the pulse signal from the encoder 83.

【0018】このように第1、第2撮像手段4、42の
互いの焦点を合わせておき第1撮像手段4によりプロー
ブ針5及びマーキング位置を撮像し、第2撮像手段42
によりウエハWを撮像すれば、いわば共通の撮像手段に
より各部を撮像したのと同等であるから、各部の相対位
置が求まる。そして各部の相対位置に基づいてX、Y、
Z方向の位置合わせが行われるのであるが、その前にプ
ローブ針5の並びとウエハWの電極パッドの並びの方向
とが揃うように載置台31のθ方向の位置合わせが行わ
れる。
In this way, the first and second imaging means 4 and 42 are focused on each other, and the first imaging means 4 images the probe needle 5 and the marking position, and the second imaging means 42.
When the image of the wafer W is picked up by, it is equivalent to the image pickup of each part by a common image pickup means, and the relative position of each part can be obtained. Then, based on the relative position of each part, X, Y,
Although the alignment in the Z direction is performed, before that, the alignment of the mounting table 31 in the θ direction is performed so that the alignment of the probe needles 5 and the alignment of the electrode pads of the wafer W are aligned.

【0019】プローブ針5の位置を例にとってみると、
第1、第2撮像手段4、42の互いの焦点が合ったとき
(図3(a))、ウエハW上の特定点を撮像したとき
(図3(b))、プローブ針5を撮像したとき(図3
(c))の夫々のZ移動部3のX方向の位置をXa 、X
b 、Xc とすれば、ウエハWの特定点をプローブ針5に
接触させるためにZ移動部3を座標原点から移動させる
量は、X=Xb +Xc −Xa である。ただしY、Z方向
についても同様に演算すればよい。
Taking the position of the probe needle 5 as an example,
When the first and second imaging means 4 and 42 are in focus with each other (FIG. 3A) and when a specific point on the wafer W is imaged (FIG. 3B), the probe needle 5 is imaged. When (Fig. 3
The positions of the respective Z moving portions 3 in (c)) in the X direction are set to X a , X
Assuming b and X c , the amount of movement of the Z moving unit 3 from the coordinate origin in order to bring the specific point of the wafer W into contact with the probe needle 5 is X = X b + X c −X a . However, similar calculations may be performed in the Y and Z directions.

【0020】このような位置合わせをすれば、例えばウ
エハW上の特定点として複数設定し、各特定点の位置デ
ータから電極パッドの位置を割り出すことによりボール
ネジの伸縮や歪みなどの誤差をある程度吸収できるので
電極パッドとプローブ針との位置合わせを正確に行うこ
とができ、しかも電極パッドとプローブ針5との接触及
び不良チップのマーキング時のZ移動部3のZ方向の移
動量も予め自動的に正確に把握できるので好ましい方法
ではあるが、本発明ではこのようなプローブ装置に限定
されるものではない。
If such alignment is performed, for example, a plurality of specific points on the wafer W are set, and the position of the electrode pad is determined from the position data of each specific point to absorb errors such as expansion and contraction and distortion of the ball screw to some extent. Since it is possible to accurately align the electrode pad and the probe needle, the amount of movement of the Z moving portion 3 in the Z direction at the time of contact between the electrode pad and the probe needle 5 and marking of a defective chip is also automatically performed in advance. However, the present invention is not limited to such a probe device.

【0021】こうして各部の位置及び移動量を求めた
後、図5(a)に示すようにZ移動部3をX、Y、Z方
向に移動制御して、ウエハW上の各ICチップの電極パ
ッド及びプローブ針5を相対的に接触させ、この操作を
各チップ順次行い、テストヘッド6により各ICチップ
の電気的測定を行い、その測定結果をデータ記憶部61
内に格納する。そして判定部62により不良と判定され
たICチップに対してマーキング手段7によりマーキン
グを行う。このマーキングは、例えばICチップが不良
と判定された後次のICチップの測定を行う前に、ある
いは1枚のウエハWの全ICチップの測定を終了した後
行われる。中央処理部8では、テストヘッド6から不良
のICチップのアドレス情報が送られ、ウエハW上のど
のチップが不良であるかを認識するため、現在のZ移動
部3の位置と、既にメモリ82内に記憶されているマー
キング位置及びプローブ針5の位置とに基づいて、モー
タ制御部84を介してZ移動部3の位置を制御し、図5
(b)に示すように不良のICチップをマーキング手段
7のノズル71の直下に位置させる。その後マーキング
手段7のノズル71からインクが前記ICチップに表示
例えば滴下され、図5(c)に示すように不良のICチ
ップに対してマーク例えばMが付される。
After the position and the amount of movement of each part are obtained in this manner, the Z moving part 3 is controlled to move in the X, Y and Z directions as shown in FIG. The pad and the probe needle 5 are relatively brought into contact with each other, and this operation is sequentially performed on each chip, and the test head 6 electrically measures each IC chip, and the measurement result is stored in the data storage unit 61.
Store in. Then, the marking unit 7 marks the IC chip judged to be defective by the judgment unit 62. This marking is performed, for example, after the IC chip is determined to be defective and before the measurement of the next IC chip is performed, or after the measurement of all the IC chips of one wafer W is completed. In the central processing unit 8, the address information of the defective IC chip is sent from the test head 6, and in order to recognize which chip on the wafer W is defective, the current position of the Z moving unit 3 and the memory 82 already exist. The position of the Z moving unit 3 is controlled via the motor control unit 84 based on the marking position and the position of the probe needle 5 stored in FIG.
As shown in (b), the defective IC chip is positioned directly below the nozzle 71 of the marking means 7. Then, the ink, for example, is dropped on the IC chip from the nozzle 71 of the marking means 7, and a mark, for example, M is attached to the defective IC chip as shown in FIG. 5C.

【0022】上述実施例によれば、既述したようにいわ
ば共通の撮像手段によりウエハW、プローブ針5及びマ
ーキング手段7のノズル71の先端部を認識しているた
め、ウエハW上の各チップとプローブ針5とノズル71
の先端部との相対位置を正確に把握することができ、従
って不良と判定されたICチップに対して自動でかつ確
実にマーキングすることができる。この結果従来行って
いたオペレータによる煩わしいマーキング操作を行わな
くて済むし、正常なICチップに対して誤ってマーキン
グをしこれにより不良なICチップが正常なものとして
次工程に送られるおそれもない。
According to the above-described embodiment, the tip of the wafer W, the probe needle 5 and the nozzle 71 of the marking means 7 are recognized by the common image pickup means, as described above, so that each chip on the wafer W is recognized. And probe needle 5 and nozzle 71
The relative position to the tip of the IC chip can be accurately grasped, and therefore, the IC chip determined to be defective can be automatically and surely marked. As a result, it is not necessary to perform a troublesome marking operation by the operator, which is conventionally performed, and there is no possibility that a normal IC chip is erroneously marked and a defective IC chip is sent to the next process as a normal one.

【0023】以上において本発明では、ウエハWを撮像
する第2撮像手段が固定されていて、その固定位置とプ
ローブ針との相対位置を予め把握しておくと共に、第
1、第2撮像手段の焦点合わせを行うことなく第2撮像
手段により例えばウエハW上の1点を撮像して各電極パ
ッドとプローブ針との位置合わせを行うプローブ装置に
対しても適用してもよい。またプローブとしては上述実
施例のようにプローブカードのプリント基板から斜め下
方に伸び出しているプローブ針に限らず、ガイド板から
垂直に伸び出しているいわゆる垂直針などと呼ばれてい
るプローブ針であってもよいし、あるいはフレキシブル
なフィルムに形成された金バンプなどであってもよい。
なお被検査チップとしては、ICチップに限らず液晶デ
ィスプレイであってもよい。
As described above, in the present invention, the second image pickup means for picking up the image of the wafer W is fixed, the relative position between the fixed position and the probe needle is grasped in advance, and the first and second image pickup means are The present invention may also be applied to a probe device in which, for example, one point on the wafer W is imaged by the second imaging means without performing focusing, and each electrode pad is aligned with the probe needle. The probe is not limited to the probe needle extending obliquely downward from the printed circuit board of the probe card as in the above-described embodiment, but a so-called vertical needle extending vertically from the guide plate may be used. It may be a gold bump or the like formed on a flexible film.
The chip to be inspected is not limited to the IC chip and may be a liquid crystal display.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、不良と判
定された被検査チップに対して確実にマーキングするこ
とができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to reliably mark a chip to be inspected, which is determined to be defective.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に係るプローブ装置の概略を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an outline of a probe device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例に係るプローブ装置の構造及び
ブロック回路を示す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a structure and a block circuit of a probe device according to an embodiment of the present invention.

【図3】第1撮像手段、第2撮像手段の互いの焦点合わ
せ、ウエハWの撮像及びプローブ針の撮像を示す説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing mutual focusing of a first imaging unit and a second imaging unit, imaging of a wafer W, and imaging of a probe needle.

【図4】プローブ針の撮像工程における画面を示す説明
図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a screen in an imaging process of a probe needle.

【図5】プローブ針とウエハとの接触、及び不良のIC
チップのマーキングの様子を示す説明図である。
FIG. 5: Contact between probe needle and wafer and defective IC
It is explanatory drawing which shows the mode of marking of a chip.

【図6】従来のプローブ装置を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing a conventional probe device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 Yステージ 24 Xステージ 3 Z移動部 31 載置台 W 半導体ウエハ 4 第1撮像手段 42 第2撮像手段 5 プローブ針 51 プローブカード 7 マーキング手段 71 ノズル 21 Y stage 24 X stage 3 Z moving part 31 Mounting table W Semiconductor wafer 4 First imaging means 42 Second imaging means 5 Probe needle 51 Probe card 7 Marking means 71 Nozzle

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成6年6月17日[Submission date] June 17, 1994

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】全図[Correction target item name] All drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図4】 [Figure 4]

【図1】 [Figure 1]

【図2】 [Fig. 2]

【図3】 [Figure 3]

【図5】 [Figure 5]

【図6】 [Figure 6]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01R 31/28 (72)発明者 赤池 伸二 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の1 東京エレクトロン山梨株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location G01R 31/28 (72) Inventor Shinji Akaike 1238, Kitashitajo, Fujii-cho, Nirasaki-shi, Yamanashi 1 Tokyo Electron Yamanashi Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査チップが複数配列された被検査体
が載置される、X、Y、Z方向に移動可能な載置台と、
前記各被検査チップの電極パッドにプローブを接触させ
て検査し、プローブを備えたプローブカードと、不良な
被検査チップに対してマーキングするマーキング手段と
を有するプローブ装置において、 前記載置台と一体になって移動する撮像手段によりプロ
ーブ及びマーキング手段を撮像し、プローブ及びマーキ
ング手段のX、Y方向の位置を認識する工程と、 前記載置台を移動させて被検査体の電極パッド及びプロ
ーブを電気的に接触させ、被検査チップの電気的測定を
行い良否を判定する工程と、 前記撮像手段により認識したプローブ及びマーキング手
段のX、Y方向の位置に基づき載置台を制御して、不良
と判定された被検査チップをマーキング手段のマーキン
グ位置まで移動させる工程と、を含むことを特徴とする
プローブ方法。
1. A mounting table on which an object to be inspected, in which a plurality of chips to be inspected are arranged, is movable, and which is movable in X, Y, and Z directions.
In a probe device having a probe card provided with a probe for contacting an electrode pad of each of the chips to be inspected and inspecting, and a marking means for marking a defective chip to be inspected, integrated with the mounting table. Image of the probe and the marking means by the moving image pickup means to recognize the position of the probe and the marking means in the X and Y directions, and the mounting table is moved to electrically connect the electrode pad and the probe of the DUT. To determine whether the chip to be inspected is good or bad, and the mounting table is controlled based on the positions of the probe and the marking means in the X and Y directions recognized by the image pickup means, and it is determined to be defective. And a step of moving the inspected chip to the marking position of the marking means.
【請求項2】 X、Y、Z方向に移動することができる
XYZテーブルに載置台を設け、被検査チップが複数配
列された被検査体を前記載置台上に載せ、被検査チップ
の電極パッド及びプローブを接触させて被検査チップの
電気的測定を行うためのプローブ装置において、 不良と判定された被検査チップにマーキングするための
マーキング手段と、 前記XYZテーブルに設けられ、前記プローブとマーキ
ング手段とを撮像するための撮像手段と、 この撮像手段によりプローブを撮像したときの前記XY
ZテーブルのX、Y方向の位置、及びマーキング手段を
撮像したときの前記XYZテーブルのX、Y方向の位置
を記憶する記憶部と、 被検査チップが不良と判定されたときに、前記記憶部に
記憶されているデータに基づきXYZテーブルを制御し
て、不良チップを前記マーキング手段のマーキング位置
まで移動させる制御部と、を備えてなることを特徴とす
るプローブ装置。
2. An XYZ table capable of moving in X, Y, and Z directions is provided with a mounting table, and an object to be inspected in which a plurality of chips to be inspected are arranged is placed on the mounting table, and an electrode pad of the chip to be inspected. And a probe device for contacting the probe to electrically measure the chip to be inspected, a marking means for marking the chip to be inspected that is determined to be defective, the probe and the marking means provided on the XYZ table. And an XY image when the probe is imaged by the imaging means.
A storage section for storing the X and Y direction positions of the Z table and the X and Y direction positions of the XYZ table when the marking means is imaged; and the storage section when the chip to be inspected is determined to be defective. And a control unit that controls the XYZ table based on the data stored in the table to move the defective chip to the marking position of the marking unit.
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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100301060B1 (en) * 1999-07-22 2001-11-01 윤종용 Wafer Probing System and Wafer Probing Needle Calibrating Method Using Those
KR100786463B1 (en) * 2000-11-09 2007-12-17 동경 엘렉트론 주식회사 Method for aligning two objects, method for detecting superimposing state of two objects, and apparatus for aligning two objects
KR100878213B1 (en) * 2007-06-27 2009-01-13 세크론 주식회사 Probe location perception device for probe card
JP2014154711A (en) * 2013-02-08 2014-08-25 Denso Corp Marking device
WO2014157123A1 (en) 2013-03-25 2014-10-02 東京エレクトロン株式会社 Substrate testing apparatus and substrate temperature adjustment method
WO2015015921A1 (en) 2013-08-01 2015-02-05 東京エレクトロン株式会社 Prober
EP2851697A1 (en) 2013-09-17 2015-03-25 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus
EP2899555A1 (en) 2014-01-22 2015-07-29 Tokyo Electron Limited Prober and needle-tip polishing device for probe card
KR20150112819A (en) 2014-03-27 2015-10-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate inspection apparatus
KR20170061135A (en) 2014-09-30 2017-06-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Positional precision inspection method, positional precision inspection device, and position inspection unit
US9684014B2 (en) 2014-02-13 2017-06-20 Tokyo Electron Limited Prober for inspecting semiconductor devices formed on semiconductor wafer
US9891274B2 (en) 2013-08-28 2018-02-13 Tokyo Electron Limited Device test method
JP2018031711A (en) * 2016-08-26 2018-03-01 日置電機株式会社 Substrate inspection device
US10074192B2 (en) 2014-10-07 2018-09-11 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus and control method thereof
KR20180121558A (en) 2016-03-28 2018-11-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate inspection device
KR20190035815A (en) 2016-08-12 2019-04-03 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Device inspection circuit, device inspection device, and probe card
KR20190069539A (en) 2016-11-29 2019-06-19 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Loading stand and electronic device inspection device
KR20200089714A (en) 2017-12-01 2020-07-27 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Prover
US11221358B2 (en) 2017-03-21 2022-01-11 Tokyo Electron Limited Placement stand and electronic device inspecting apparatus

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100301060B1 (en) * 1999-07-22 2001-11-01 윤종용 Wafer Probing System and Wafer Probing Needle Calibrating Method Using Those
KR100786463B1 (en) * 2000-11-09 2007-12-17 동경 엘렉트론 주식회사 Method for aligning two objects, method for detecting superimposing state of two objects, and apparatus for aligning two objects
US7382914B2 (en) 2000-11-09 2008-06-03 Tokyo Electron Limited Method for aligning two objects, method for detecting superimposing state of two objects, and apparatus for aligning two objects
KR100878213B1 (en) * 2007-06-27 2009-01-13 세크론 주식회사 Probe location perception device for probe card
JP2014154711A (en) * 2013-02-08 2014-08-25 Denso Corp Marking device
US9885747B2 (en) 2013-03-25 2018-02-06 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus and substrate temperature control method
WO2014157123A1 (en) 2013-03-25 2014-10-02 東京エレクトロン株式会社 Substrate testing apparatus and substrate temperature adjustment method
WO2015015921A1 (en) 2013-08-01 2015-02-05 東京エレクトロン株式会社 Prober
US10082524B2 (en) 2013-08-01 2018-09-25 Tokyo Electron Limited Prober in which probe head of probe card is replaced automatically
US9891274B2 (en) 2013-08-28 2018-02-13 Tokyo Electron Limited Device test method
US10114070B2 (en) 2013-09-17 2018-10-30 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus
EP2851697A1 (en) 2013-09-17 2015-03-25 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus
EP2899555A1 (en) 2014-01-22 2015-07-29 Tokyo Electron Limited Prober and needle-tip polishing device for probe card
KR20150087808A (en) 2014-01-22 2015-07-30 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Prober and needle-tip polishing device for probe card
US9383389B2 (en) 2014-01-22 2016-07-05 Tokyo Electron Limited Prober and needle-tip polishing device for probe card
US9684014B2 (en) 2014-02-13 2017-06-20 Tokyo Electron Limited Prober for inspecting semiconductor devices formed on semiconductor wafer
US9678107B2 (en) 2014-03-27 2017-06-13 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus
KR20150112819A (en) 2014-03-27 2015-10-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate inspection apparatus
KR20170061135A (en) 2014-09-30 2017-06-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Positional precision inspection method, positional precision inspection device, and position inspection unit
US10006941B2 (en) 2014-09-30 2018-06-26 Tokyo Electron Limited Position accuracy inspecting method, position accuracy inspecting apparatus, and position inspecting unit
US10074192B2 (en) 2014-10-07 2018-09-11 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus and control method thereof
KR20180121558A (en) 2016-03-28 2018-11-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate inspection device
US10962565B2 (en) 2016-03-28 2021-03-30 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus
KR20190035815A (en) 2016-08-12 2019-04-03 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Device inspection circuit, device inspection device, and probe card
US10859601B2 (en) 2016-08-12 2020-12-08 Tokyo Electron Limited Device inspection circuit, device inspection device, and probe card
JP2018031711A (en) * 2016-08-26 2018-03-01 日置電機株式会社 Substrate inspection device
KR20190069539A (en) 2016-11-29 2019-06-19 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Loading stand and electronic device inspection device
US11221358B2 (en) 2017-03-21 2022-01-11 Tokyo Electron Limited Placement stand and electronic device inspecting apparatus
KR20200089714A (en) 2017-12-01 2020-07-27 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Prover
US11125813B2 (en) 2017-12-01 2021-09-21 Tokyo Electron Limited Prober

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