KR20230059186A - 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치 - Google Patents

포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 필요한 공정에 따라 레지스트막 코팅, 반사막 코팅, 현상 등의 공정을 처리할 수 있도록 구성되어 상하방향으로 여러 개 적층된 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치에 관한 것으로서 보다 상세하게는 하나의 처리 블록 내에 코팅 유닛과 현상 유닛을 배치함으로써 처리 블록 내에서 발생할 수 있는 좌우 편차를 최소화하고 보다 효율적으로 공정을 진행할 수 있도록 구조가 개선된 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치에 관한 것이다.
본 발명은, 한쪽은 캐리어 블록과 연결되어 캐리어 블록에서 웨이퍼를 이송받아 코팅 작업을 하고, 코팅 처리한 웨이퍼는 상기 캐리어 블록의 반대쪽에 연결된 인터페이스 블록을 거쳐 노광 블록으로 이송하여 노광 처리한 후 노광 처리된 웨이퍼를 다시 이송받아 현상 처리하며, 상하 방향으로 여러 개가 적층된 형태로 배치되는 처리 블록을 포함하는 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 처리 블록은, 상기 캐리어 블록 측에 위치하여 캐리어 블록과의 사이에서 웨이퍼를 주고받을 때 임시 보관하는 제1선반 유닛; 상기 인터페이스 블록 측에 위치하여 노광 처리를 위하여 인터페이스 블록으로 웨이퍼를 이송할 때나 노광처리 후 인터페이스 블록에서 이송된 웨이퍼를 임시 보관하는 제2선반 유닛; 상기 웨이퍼의 표면에 막을 형성하기 위한 코팅 유닛; 상기 웨이퍼를 현상하기 위한 현상 유닛; 상기 웨이퍼를 가열 또는 냉각하는 열처리 유닛; 상기 코팅 유닛, 현상 유닛, 열처리 유닛, 제1선반 유닛 및 제2선반 유닛 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 메인이송 로봇; 상기 제1선반 유닛 및 상기 제2선반 유닛에 각각 설치되어 상기 웨이퍼의 온도를 조정하는 온조 유닛; 상기 캐리어 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 제1보조이송 로봇; 상기 인터페이스 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 제2보조이송 로봇;을 포함하며, 상기 열처리 유닛은 상기 캐리어 블록, 처리 블록 및 인터페이스 블록을 연결하는 가상의 선을 기준으로 상기 코팅 유닛과 현상 유닛의 반대쪽에 배치되고, 상기 코팅 유닛과 현상 유닛은 상기 가상의 선을 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치를 제공한다.

Description

포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치{Process Block for Photolithography Instruments and Photolithography Instruments using therof}
본 발명은 필요한 공정에 따라 레지스트막 코팅, 반사막 코팅, 현상 등의 공정을 처리할 수 있도록 구성되어 상하방향으로 여러 개 적층된 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치에 관한 것으로서 보다 상세하게는 하나의 처리 블록 내에 코팅 유닛과 현상 유닛을 배치함으로써 처리 블록 내에서 발생할 수 있는 좌우 편차를 최소화하고 보다 효율적으로 공정을 진행할 수 있도록 구조가 개선된 포포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치에 관한 것이다.
포토리소그래피(Photolithography) 공정은 반도체나 디스플레이 공정에서 많이 사용되는 공정으로서 포토 공정이라고도 불리며 사진 인쇄 기술과 비슷하게 빛을 이용하여 복잡한 회로 패턴을 제조하는 방법이다.
포토리소그래피 공정은 웨이퍼에 레지스트리막을 도포(코팅)하고, 포토마스크를 이용하여 레지스트리막을 노광한 후 현상 처리를 통해 원하는 패턴을 얻는 공정을 포함한다.
이때, 코팅, 노광, 현상 등은 각각 개별적인 장치 유닛에 의해 이루어지며, 웨이퍼를 가열 또는 냉각하기 위한 열처리 유닛, 냉각 유닛, 온도 조절을 위한 온조 유닛 등이 더 포함된 상태로 운영된다. 또한, 공정의 순서에 따라 어느 하나의 장치 유닛에서 다른 장치 유닛으로 이송하는 이송 로봇(로봇)도 포토리소그래피 공정에 필수적인 장치이다.
이러한 포토리소그래피 공정을 위한 장치가 대한민국 공개특허 제10-2011-0128766호에 개시되어 있다.
상기 특허에 개시된 장치는 도포막 형성용 단위 블럭과 현상 처리용 단위 블럭이 상하방향으로 적층되는 형태로 설치되는데, 각각의 단위 블럭은 액처리 유니트, 가열 유닛트, 반송 수단(이송용 로봇) 등의 구성을 포함하고 있다.
단위 블럭을 상하방향으로 적층하면, 공정에 따라 처리 블럭을 선택적으로 활용함으로써 제품 생산 효율을 높일 수 있고, 상대적으로 적은 면적에 장치를 설치할 수 있어 공간 활용도가 높은 장점이 있다.
한편, 상기 특허에 개시된 발명은 도포 처리 단위 블록과 현상 처리 단위 블록 모두에 가열 처리 유니트(웨이퍼를 가열하거나 냉각하는 공정을 수행하는 유니트)가 포함되어 있는 특징과 액처리 유닛이나 현상 유닛은 가열 처리 유닛과 서로 마주보도록 배치되어 있는 특징이 있고, 수수 수단(transfer robot)은 가열 처리 유닛트에 인접하도록 배치되는 특징도 포함하고 있다.
그런데 전술한 선행발명에서는 도포 처리 단위 블록과 현상 처리 단위 블록을 구분하여 제작함으로써 이를 적층 할 때 좌/우 편차가 발생할 수 있고, 하부 메인 배관에서 각각의 적층된 처리 블록으로 개별적인 배관이 연결되어야 하는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허 제10-2011-0128766호
본 발명은 전술한 배경 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 각각의 하나의 처리 블록에 코팅 유닛과 현상 유닛을 함께 배치함으로써 효율적인 공정의 운용이 가능하도록 구조가 개선된 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치를 제공하는 것이다.
전술한 과제의 해결 수단으로서 본 발명은,
한쪽은 캐리어 블록과 연결되어 캐리어 블록에서 웨이퍼를 이송받아 코팅 작업을 하고, 코팅 처리한 웨이퍼는 상기 캐리어 블록의 반대쪽에 연결된 인터페이스 블록을 거쳐 노광 블록으로 이송하여 노광 처리한 후 노광 처리된 웨이퍼를 다시 이송받아 현상 처리하며, 상하 방향으로 여러 개가 적층된 형태로 배치되는 처리 블록을 포함하는 포토리소그래피 장치에 있어서,
상기 처리 블록은,
상기 캐리어 블록 측에 위치하여 캐리어 블록과의 사이에서 웨이퍼를 주고받을 때 임시 보관하는 제1선반 유닛;
상기 인터페이스 블록 측에 위치하여 노광 처리를 위하여 인터페이스 블록으로 웨이퍼를 이송할 때나 노광처리 후 인터페이스 블록에서 이송된 웨이퍼를 임시 보관하는 제2선반 유닛;
상기 웨이퍼의 표면에 막을 형성하기 위한 코팅 유닛;
상기 웨이퍼를 현상하기 위한 현상 유닛;
상기 웨이퍼를 가열 또는 냉각하는 열처리 유닛;
상기 코팅 유닛, 현상 유닛, 열처리 유닛, 제1선반 유닛 및 제2선반 유닛 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 메인이송 로봇;
상기 제1선반 유닛 및 상기 제2선반 유닛에 각각 설치되어 상기 웨이퍼의 온도를 조정하는 온조 유닛;
상기 캐리어 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 제1보조이송 로봇;
상기 인터페이스 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 제2보조이송 로봇;을 포함하며,
상기 열처리 유닛은 상기 캐리어 블록, 처리 블록 및 인터페이스 블록을 연결하는 가상의 선을 기준으로 상기 코팅 유닛과 현상 유닛의 반대쪽에 배치되고,
상기 코팅 유닛과 현상 유닛은 상기 가상의 선을 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치를 제공한다.
상기 포토리소그래피 장치는 상기 처리 블록과 함께 적층되어 운용되는 제2처리 블록을 더 포함하되,
상기 제2처리 블록은,
상기 캐리어 블록 측에 위치하여 캐리어 블록과의 사이에서 웨이퍼를 주고받을 때 임시 보관하는 제1선반 유닛;
상기 인터페이스 블록 측에 위치하여 노광 처리를 위하여 인터페이스 블록으로 웨이퍼를 이송할 때나 노광처리 후 인터페이스 블록에서 이송된 웨이퍼를 임시 보관하는 제2선반 유닛;
상기 웨이퍼의 표면에 막을 형성하기 위한 코팅 유닛과 웨이퍼를 현상하기 위한 현상 유닛 중 어느 하나인 공정 유닛;
상기 웨이퍼를 가열 또는 냉각하는 열처리 유닛;
상기 공정 유닛, 열처리 유닛, 제1선반 유닛 및 제2선반 유닛 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 메인이송 로봇;
상기 제1선반 유닛 및 상기 제2선반 유닛에 각각 설치되어 상기 웨이퍼의 온도를 조정하는 온조 유닛;
상기 캐리어 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 제1보조이송 로봇;
상기 인터페이스 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록과 제2처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 제2보조이송 로봇;을 포함하며,
상기 열처리 유닛은 상기 캐리어 블록, 제2처리 블록 및 인터페이스 블록을 연결하는 가상의 선을 기준으로 상기 공정 유닛의 반대쪽에 배치되는 것이 바람직하다.
상기 코팅 유닛은,
상기 웨이퍼에 레지트스막을 형성하기 위한 제1코팅 유닛,
상기 웨이퍼에 반사 방지용 막을 형성하기 위한 제2코팅 유닛,
중 적어도 하나를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 열처리 유닛, 제1코팅 유닛, 현상 유닛 및 제2코팅 유닛은 각각 여러 개의 단위 유닛으로 구성되어 여러 개의 단위 유닛 중 어느 하나 또는 둘 이상의 단위 유닛에서 선택적으로 처리 공정이 이루어질 수 있다.
본 발명은 두 번째 형태로서 전술한 포토리소그래피용 처리 블록을 제공한다.
본 발명에 의하면 하나의 처리 블록에 코팅 유닛과 현상 유닛을 모두 배치함으로써 더욱 효율적으로 공정의 운영이 가능한 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 포토리소그래피 장치에 포함된 처리 블록을 설명하기 위한 도면.
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 포토리소그래피 장치에 포함된 제2처리 블록을 설명하기 위한 도면.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 첫 번째 실시예에 따른 포토리소그래피 장치의 처리 블록의 배치를 설명하기 위한 도면.
도 6 및 도 7은 본 발명의 두 번째 실시예에 따른 포토리소그래피 장치의 처리 블록의 배치를 설명하기 위한 도면.
이하에서는 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명함으로써 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 제공하기로 한다.
우선 본 발명의 첫 번째 형태인 포토리소그래피 장치의 일 실시예에 대하여 설명한다. 본 실시예에 따른 포토리소그래피 장치는 상기 처리 블록(P)만 포함하고 제2처리 블록(P2)은 포함하지 않은 실시예이다.
본 실시예에 따른 포토리소그래피 장치는 캐리어 블록(C)과 연결되어 캐리어 블록(C)에서 웨이퍼를 이송받아 코팅 작업을 하고, 코팅 처리한 웨이퍼는 상기 캐리어 블록(C)의 반대쪽에 연결된 인터페이스 블록(I)을 거쳐 노광 블록(E)으로 이송하여 노광 처리한 후 노광 처리된 웨이퍼를 다시 이송받아 현상 처리하며, 상하 방향으로 여러 개가 적층된 형태로 배치되는 처리 블록(P)을 포함하여 구성된다. 상기 캐리어 블록(C)과 처리 블록(P) 사이와 처리 블록(P)과 인터페이스 블록(I) 사이의 웨이퍼의 이송은 도시되지 않은 이송용 로봇에 의해 이루어진다.
도 1에 도시된 바와 같이 상기 처리 블록(P)은 제1선반 유닛(10), 제2선반 유닛(20), 코팅 유닛(30), 현상 유닛(40), 열처리 유닛(50), 메인이송 로봇(60), 온조 유닛(70), 제1보조이송 로봇(80), 제2보조이송 로봇(90)을 포함하여 구성된다.
상기 제1선반 유닛(10)은 상기 캐리어 블록(C) 측에 마련되어 캐리어 블록(C)과 처리 블록(P) 사이에서 웨이퍼를 주고받을 때 임시 보관한다. 다시 말해 캐리어 블록(C)에서 이송된 웨이퍼를 임시 보관하거나, 코팅, 노광, 현상 등의 처리가 완료된 웨이퍼를 캐리어 블록(C)으로 이송하기 전에 임시 보관을 하기도 한다.
상기 제2선반 유닛(20)은 상기 인터페이스 블록(I) 측에 마련되어 인터페이스 블록(I)과 웨이퍼를 주고받는 과정에서 임시보관하는 역할을 한다. 다시 말해 노광 처리를 위해 코팅 처리가 완료된 웨이퍼를 인터페이스 블록(I)에 전달하거나, 노광이 완료된 웨이퍼를 다시 처리 블록(P)으로 이송할 때 웨이퍼를 임시보관 하는 역할을 수행하는 것이다.
상기 코팅 유닛(30)은 웨이퍼의 표면에 막을 형성하기 위한 유닛으로서 웨이퍼에 레지스트막을 형성하기 위한 제1코팅유닛, 상기 웨이퍼에 반사 방지용 막을 형성하기 위한 제2코팅 유닛 등을 포함할 수 있다.
상기 코팅 유닛(30)은 여러 개의 단위 유닛으로 구성되어 공정의 효율을 높일 수 있도록 구성된다.
상기 현상 유닛(40)은 노광이 완료된 웨이퍼를 현상하기 위한 구성이다. 상기 현상 유닛(40) 역시 여러 개의 단위 유닛을 포함하고 있어서, 동시에 여러 개의 웨이퍼를 현상할 수 있도록 구성된다.
상기 열처리 유닛(50)은 웨이퍼를 가열 또는 냉각하는 기능을 수행하는 구성이다. 상기 열처리 유닛(50) 역시 여러 개의 단위 유닛을 포함하고 있어서, 동시에 여러 개의 웨이퍼를 열처리할 수 있도록 구성되어 있다.
상기 코팅 유닛(30), 현상 유닛(40), 열처리 유닛(50)이 단위 유닛으로 구성된 것은 도면에 하나의 유닛이 여러 개의 구획으로 나누어진 것으로 표현하였다.
상기 메인이송 로봇(60)은 상기 코팅 유닛(30), 현상 유닛(40), 열처리 유닛(50), 제1선반 유닛(10) 및 제2선반 유닛(20) 사이에서 웨이퍼를 주고받는 기능을 수행한다. 이를 위해 웨이퍼를 파지하기 위한 파지부를 포함하고 있는데 이송 로봇과 관련된 구성은 본 기술이 속하는 기술 분야에서 평균 정도의 지식을 지닌 자라면 충분히 알 수 있는 구성이므로 도면에 도시하지는 않았다.
상기 온조 유닛(70)은 웨이퍼의 온도를 조정하는 구성으로서 가열과 냉각이 모두 가능하도록 구성되는데 본 실시예에서는 한 쌍의 온조 유닛(70)이 상기 제1선반 유닛(10)과 제2선반 유닛(20)에 각각 설치된다. 웨이퍼가 제1선반 유닛(10)이나 제2선반 유닛(20)에 임시 보관된 상태에서 다음 공정에 필요한 최적의 온도가 될 수 있도록 가열 또는 냉각을 함으로써 공정의 효율을 높일 수 있도록 하는 것이다.
상기 제1보조이송 로봇(80)은 상기 캐리어 블록(C) 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록(P) 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 로봇이다. 제1보조이송 로봇(80)은 상하 방향으로 적층된 처리 블록(P)들 사이에서 웨이퍼를 이송할 수 있어야 하므로, 상하방향에 이동에 대해서는 메인이송 로봇(60)에 비하여 훨씬 넓은 가동범위가 될 수 있도록 구성된다.
상기 제2보조이송 로봇(90)은 상기 인터페이스 블록(I) 쪽에 설치되며, 상기 제1보조이송 로봇(80)과 마찬가지로 상하로 적층된 처리 블록(P) 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 로봇이다.
본 발명의 중요한 특징 중 하나는 상기 코팅 유닛(30), 현상 유닛(40) 및 열처리 유닛(50)의 배치와 관련된다. 도 1에 도시된 바와 같이 본 실시예에서 열처리 유닛(50)은 캐리어 블록(C), 처리 블록(P), 인터페이스 블록(I)을 관통하는 가상의 직선(l)을 기준으로 코팅 유닛(30)이나 현상 유닛(40)과 반대편에 배치되고, 상기 코팅 유닛(30)과 현상 유닛(40)은 상기 가상선(l)을 따라 순차적으로 배치된다.
도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이 상기 코팅 유닛(30)과 현상 유닛(40)은 다양한 형태로 배치될 수 있다.
이하에서는 전술한 처리 블록(P)과 함께 제2처리 블록(P2)을 포함한 두 번째 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
상기 처리 블록(P)에 대한 앞선 실시예에서 설명하였으므로 설명을 생략하고 제2처리 블록(P2)에 대해서만 설명하는데, 제2처리 블록(P2)에 포함된 구성 중 대부분은 앞서 설명한 처리 블록(P)의 구성과 동일하므로 제2처리 블록(P2) 특유의 구성 위주로 설명하기로 한다.
상기 제2처리 블록(P2)은 제1선반 유닛(10), 제2선반 유닛(20), 열처리 유닛(50), 메인이송 로봇(60), 온조 유닛(50), 제1보조이송 로봇(80), 제2보조이송 로봇(90)을 포함하여 구성되는데 이러한 구성들은 처리 블록에서 설명된 구성과 동일하므로 추가적인 설명은 생략한다.
또한, 상기 제2처리 블록(P2)은 전술한 구성 외에 코팅 유닛(30) 또는 현상 유닛(40) 중 어느 하나의 유닛을 포함한다.
이때 상기 열처리 유닛(50)과 코팅 유닛(30) 또는 현상 유닛(40) 중 하나의 유닛은 도 2에 도시된 바와 같이 캐리어 블록(C), 처리 블록(P), 인터페이스 블록(I)을 연결하는 가상의 선(l)을 기준으로 서로 반대편에 배치된다.
제2처리 블록(P2)과 처리 블록(P)의 차이점은 전술한 바와 같이 처리 블록(P)에는 코팅 유닛(30)과 현상 유닛(40)이 모두 설치되는 데 비하여, 제2처리 블록(P2)에는 코팅 유닛(30) 또는 현상 유닛(40) 중 하나의 유닛만이 설치된다는 점이다.
도 6 및 도 7에는 전술한 두 번째 실시예에 따른 처리 블록과 제2처리 블록의 적층예가 도시되어 있다.
전술한 구성으로 처리 블록(P)을 제작하는 경우 몇 가지 효과를 기대할 수 있다.
우선 종래에는 하나의 처리 블록에는 코팅 유닛 또는 현상 유닛 하나만 있었으므로 공정에 필요한 공정액을 주입하기 위한 배관이 각각의 처리 블록으로 연결되어야 하지만, 본 발명과 같이 처리 블록을 제작하는 경우 처리 블록의 도면상 왼쪽과 오른쪽에 각각 코팅 유닛이나 현상 유닛을 배치하므로 각 층에 이는 코팅 유닛이나 현상 유닛으로 분기되는 형태의 배관을 제작하여 공정액을 주입할 수 있어 좌/우 편차 발생을 완화할 수 있는 효과가 있다.
또한, 캐리어 블록 쪽에는 코팅 유닛을 배치하고, 인터페이스 블록 쪽에는 현상 유닛을 배치함으로써 효율적으로 웨이퍼를 이동시킬 수 있는 효과도 기대할 수 있다.
또한, 경우에 따라서는 코팅 공정만 운영하는 등 일부의 공정만 운영할 수도 있는데 코팅 공정이 캐리어 블록 쪽에 배치된 경우 코팅 공정만 운영할 때 웨이퍼의 이동거리를 줄일 수 있는 효과도 발생한다.
또한, 상하방향으로 하나의 공정액만 사용하는 배관을 연결해서 사용할 수 있게 되어 폐공정액의 수거가 용이하고, 배기가스의 포집과 처리에도 유리한 효과도 있다.
본 발명의 두 번째 형태는 전술한 포토리소그래피 장치의 두 실시예에 모두 포함된 처리 블록에 관한 것이다. 처리 블록에 관한 설명은 앞서 모두 이루어졌으므로 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명함으로써 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 제공하였으나, 본 발명의 기술적 사상이 설명된 실시예에 한정되는 것은 아니며 본 발명의 기술적 사상의 범위 안에서 다양한 형태의 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치로 구체화될 수 있다.
10 : 제1선반 유닛 20 : 제2선반 유닛
30 : 코팅 유닛 40 : 현상 유닛
50 : 열처리 유닛 60 : 메인이송 로봇
70 : 온조 유닛 80 : 제1보조이송 로봇
90 : 제2보조이송 로봇

Claims (7)

  1. 한쪽은 캐리어 블록과 연결되어 캐리어 블록에서 웨이퍼를 이송받아 코팅 작업을 하고, 코팅 처리한 웨이퍼는 상기 캐리어 블록의 반대쪽에 연결된 인터페이스 블록을 거쳐 노광 블록으로 이송하여 노광 처리한 후 노광 처리된 웨이퍼를 다시 이송받아 현상 처리하며, 상하 방향으로 여러 개가 적층된 형태로 배치되는 처리 블록을 포함하는 포토리소그래피 장치에 있어서,
    상기 처리 블록은,
    상기 캐리어 블록 측에 위치하여 캐리어 블록과의 사이에서 웨이퍼를 주고받을 때 임시 보관하는 제1선반 유닛;
    상기 인터페이스 블록 측에 위치하여 노광 처리를 위하여 인터페이스 블록으로 웨이퍼를 이송할 때나 노광처리 후 인터페이스 블록에서 이송된 웨이퍼를 임시 보관하는 제2선반 유닛;
    상기 웨이퍼의 표면에 막을 형성하기 위한 코팅 유닛;
    상기 웨이퍼를 현상하기 위한 현상 유닛;
    상기 웨이퍼를 가열 또는 냉각하는 열처리 유닛;
    상기 코팅 유닛, 현상 유닛, 열처리 유닛, 제1선반 유닛 및 제2선반 유닛 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 메인이송 로봇;
    상기 제1선반 유닛 및 상기 제2선반 유닛에 각각 설치되어 상기 웨이퍼의 온도를 조정하는 온조 유닛;
    상기 캐리어 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 제1보조이송 로봇;
    상기 인터페이스 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 제2보조이송 로봇;을 포함하며,
    상기 열처리 유닛은 상기 캐리어 블록, 처리 블록 및 인터페이스 블록을 연결하는 가상의 선을 기준으로 상기 코팅 유닛과 현상 유닛의 반대쪽에 배치되고,
    상기 코팅 유닛과 현상 유닛은 상기 가상의 선을 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 포토리소그래피 장치는 상기 처리 블록과 함께 적층되어 운용되는 제2처리 블록을 더 포함하되,
    상기 제2처리 블록은,
    상기 캐리어 블록 측에 위치하여 캐리어 블록과의 사이에서 웨이퍼를 주고받을 때 임시 보관하는 제1선반 유닛;
    상기 인터페이스 블록 측에 위치하여 노광 처리를 위하여 인터페이스 블록으로 웨이퍼를 이송할 때나 노광처리 후 인터페이스 블록에서 이송된 웨이퍼를 임시 보관하는 제2선반 유닛;
    상기 웨이퍼의 표면에 막을 형성하기 위한 코팅 유닛과 웨이퍼를 현상하기 위한 현상 유닛 중 어느 하나인 공정 유닛;
    상기 웨이퍼를 가열 또는 냉각하는 열처리 유닛;
    상기 공정 유닛, 열처리 유닛, 제1선반 유닛 및 제2선반 유닛 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 메인이송 로봇;
    상기 제1선반 유닛 및 상기 제2선반 유닛에 각각 설치되어 상기 웨이퍼의 온도를 조정하는 온조 유닛;
    상기 캐리어 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고 받기 위한 제1보조이송 로봇;
    상기 인터페이스 블록 쪽에 설치되며 상하로 적층된 처리 블록과 제2처리 블록 사이에서 웨이퍼를 주고받기 위한 제2보조이송 로봇;을 포함하며,
    상기 열처리 유닛은 상기 캐리어 블록, 제2처리 블록 및 인터페이스 블록을 연결하는 가상의 선을 기준으로 상기 공정 유닛의 반대쪽에 배치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피용 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 코팅 유닛은,
    상기 웨이퍼에 레지트스막을 형성하기 위한 제1코팅 유닛,
    상기 웨이퍼에 반사 방지용 막을 형성하기 위한 제2코팅 유닛,
    중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 열처리 유닛, 제1코팅 유닛, 현상 유닛 및 제2코팅 유닛은 각각 여러 개의 단위 유닛으로 구성되어 여러 개의 단위 유닛 중 어느 하나 또는 둘 이상의 단위 유닛에서 선택적으로 처리 공정이 이루어질 수 있는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
  5. 청구항 제1항에 포함된 포토리소그래피 장치에 포함된 처리 블록.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 코팅 유닛은,
    상기 웨이퍼에 레지트스막을 형성하기 위한 제1코팅 유닛,
    상기 웨이퍼에 반사 방지용 막을 형성하기 위한 제2코팅 유닛,
    중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 열처리 유닛, 제1코팅 유닛, 현상 유닛 및 제2코팅 유닛은 각각 여러 개의 단위 유닛으로 구성되어 여러 개의 단위 유닛 중 어느 하나 또는 둘 이상의 단위 유닛에서 선택적으로 처리 공정이 이루어질 수 있는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.


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