KR20230049993A - 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 - Google Patents
유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230049993A KR20230049993A KR1020210133175A KR20210133175A KR20230049993A KR 20230049993 A KR20230049993 A KR 20230049993A KR 1020210133175 A KR1020210133175 A KR 1020210133175A KR 20210133175 A KR20210133175 A KR 20210133175A KR 20230049993 A KR20230049993 A KR 20230049993A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- ceramic powder
- temperature flame
- surface treatment
- fluidity
- improving fluidity
- Prior art date
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 152
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 151
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 18
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 9
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 claims description 6
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 5
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CHBIYWIUHAZZNR-UHFFFAOYSA-N [Y].FOF Chemical compound [Y].FOF CHBIYWIUHAZZNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 3
- 229940105963 yttrium fluoride Drugs 0.000 claims description 3
- RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K yttrium(iii) fluoride Chemical compound F[Y](F)F RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/0072—Heat treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/463—Organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/49—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes
- C04B41/4905—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon
- C04B41/4922—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon applied to the substrate as monomers, i.e. as organosilanes RnSiX4-n, e.g. alkyltrialkoxysilane, dialkyldialkoxysilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
- C04B2235/3225—Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/781—Nanograined materials, i.e. having grain sizes below 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
본 발명은 유동성 향상을 위한 고온 화염을 이용한 세라믹 과립 분말의 표면 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법은 표면처리를 위한 준비된 세라믹 분말을 일정량으로 공급하는 단계; 공급된 상기 세라믹 분말의 표면을 고온 화염을 이용하여 용융시켜 표면처리하는 단계; 표면처리된 상기 세라믹 분말을 포집하는 단계; 포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계; 및 표면개질된 상기 세라믹 분말을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 용사 코팅용 세라믹 분말을 고온화염을 이용하여 표면처리함으로써, 유동성을 향상시킬 수 있는 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법에 관한 것이다.
마이크로 사이즈 또는 나노 사이즈의 세라믹 분말은 다양한 분야에 사용되고 있다.
세라믹 분말은 절연체의 특성 및 유전체의 특성을 가지므로, 열 차단, 전하 이동 차단 및 내화학성의 확보 등의 분야에 사용된다.
또한, 분말 상은 코팅을 통해 박막의 형태로 제공될 수 있으며, 그린 쉬트 등을 통해 특정의 형상을 구현할 수 있다.
이외 세라믹 분말이 높은 비유전율을 가지는 경우, 커패시터에서 유전체로 활용되기도 한다.
예컨대, 세라믹 분말은 용사 코팅 등에 활용되고, 이외 세라믹 분말은 다양한 분야에 사용되는 바, 세라믹 분말이 다양한 응용에 적용되기 위해서는 응용처마다 요구되는 다양한 특성을 만족하여야 하며, 예컨대, 입도의 균일성이 보장되어야 하며, 유동성이 담보될 필요가 있다.
이때, 입도의 균일성은 세라믹 분말들이 상호간에 사이즈의 편차가 최소화됨을 의미하며, 입도가 균일한 경우, 전기적 특성의 균일성을 확보할 수 있고, 복수개의 막질을 형성하는 경우에도 균일한 막질의 특성을 얻을 수 있는 장점이 있다.
또한, 코팅시 분산매에 균일한 분산도를 확보하는데 유리하다.
한편, 유동성은 세라믹 입자들이 서로 응집하는 현상이 최소화된 소재적 특성을 지칭한다.
특히, 유동성은 세라믹 입자들을 이용하는 가공 공정에서 매우 중요한 지표가 된다.
세라믹 입자들의 응집은 반데르발스 힘 또는 정전기적 인력에 기인한다.
예컨대, 세라믹 입자들이 응집되는 경우, 용사 코팅 공정에서 화염 속에서 응집된 세라믹 입자들은 형성되는 박막의 균일성을 저해하는 요인이 된다.
또한, 충분히 분산되지 못한 상태에서 용사 코팅 공정이 수행되는 경우, 입자 상이 박막 상에 나타나고 충분한 물성을 제공하지 못하는 문제가 발생된다.
이외 세라믹 제품의 성형 공정 등에서도 응집된 세라믹 입자들은 형상을 제어하는 공정에서 품질을 저해시키는 일 요인이 된다.
따라서, 세라믹 입자들의 유동성을 확보하거나, 약한 유동성을 제조공정에서 극복하기 위한 다양한 시도들이 수행되고 있다.
미국등록특허 제7,771,788호에서는 초음파를 이용한 구형 입자들의 제작 방법을 개시한다.
상기 특허에서는 분쇄 공정없이 구형의 미세분말을 제작하고 있으며, 초음파를 이용하여 액적 크기를 조절하고, 하전으로 재결합을 방지하는 기술을 개시하며, 형성되는 분말의 사이즈는 50μm 미만이다.
다만, 상기 특허는 높은 유동도를 얻기에 일정한 한계를 가지며, 초음파를 이용하여 액적의 사이즈를 조절하고 액적을 하전시키는 경우, 액적의 하전 시간이 짧고 용융 상태에서 진행되는 액적은 충분한 유동도를 확보하는데 어려움이 있다.
이에 세라믹 입자들의 유동성을 향상시키기 위한 유동화 처리 기술이 요구되고 있는 실정이다.
이러한 시대적 요구에 따라 특정 조건의 마이크로파 플라즈마를 사용하여 세라믹 입자들의 표면을 처리함으로써 세라믹 입자들의 유동성을 향상시키는 기술이 개발되었으나, 이러한 기술은 장비가 고가이고 이에 대한 유지, 보수 비용이 높은 문제점을 야기하였다.
본 발명은 상술한 문제점들을 해결하기 위해 창안된 것으로, 구성이 복잡하지 않고, 표면처리 방법이 용이하며, 유지, 보수비용이 저렴한 장치를 이용하면서도 유동성을 극대화시킬 수 있는 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 제공을 목적으로 한다.
한편, 본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 상술한 목적을 달성하기 위하여, 준비된 세라믹 분말을 일정량의 고압으로 공급하기 위한 세라믹 분말 공급부, 공급되는 상기 세라믹 분말에 고온 화염을 가하기 위한 적어도 하나 이상의 버너, 상기 세라믹 분말과 상기 버너를 통해 발생한 고온 화염을 인입시켜 상기 고온 화염을 통해 상기 세라믹 분말의 표면을 용융시키기 위한 챔버, 용융된 표면을 갖는 상기 세라믹 분말을 포집하는 포집장치를 포함하되, 상기 포집기는 싸이클론 방식으로 포집하는 제 1포집기 및 에어펌프의 펌핑에 의한 방식으로 포집하는 제 2포집기로 이루어질 수 있다.
바람직하게 상기 세라믹 분말 공급부는, 상기 챔버의 내부로 고압의 상기 세라믹 분말을 분사하기 위한 노즐, 일단이 상기 노즐과 연결되어 준비된 상기 세라믹 분말이 이동되는 일정직경의 이송관 및 상기 이송관의 타단과 연결되어 상기 노즐쪽으로 준비된 세라믹 분말을 공급하기 위한 스크류 컨베이어를 포함할 수 있다.
바람직하게 상기 이송관의 직경은 5~20mm일 수 있으며, 상기 버너의 점화온도는 1,600℃이상이고, 상기 버너를 통해 발생한 고온 화염의 온도는 1,000~2,500℃일 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법은 상술한 목적을 달성하기 위하여, 표면처리를 위한 준비된 세라믹 분말을 일정량으로 공급하는 단계, 공급된 상기 세라믹 분말의 표면을 고온 화염을 이용하여 용융시켜 표면처리하는 단계, 표면처리된 상기 세라믹 분말을 포집하는 단계, 포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계 및 표면개질된 상기 세라믹 분말을 건조하는 단계를 포함할 수 있다.
바람직하게 상기 세라믹 분말은 20㎛ 이하의 입경을 갖는 구형과립일 수 있으며, 상기 세라믹 분말은 알루미늄 산화물, 이트륨 알루미늄 산화물, 이트륨 산화물을 포함한 희토류 산화물, 이트륨의 플루오르화물을 포함하는 이트륨의 옥시플루오르화물로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나 이상일 수 있다.
바람직하게 상기 세라믹 분말은 30~70g/min으로 공급될 수 있으며, 상기 고온 화염의 온도는 1,000~2,500℃일 수 있다.
바람직하게 포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계는 알코올계 용매에 표면개질제를 첨가하여 표면개질될 수 있다.
바람직하게 상기 알코올계 용매는 에탄올, 프로판올 및 이소프로판올로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상일 수 있다.
바람직하게 상기 표면개질제는 트리메톡시프로필실란(TMPS), 메틸트리아세톡시실란(MTAS), 트리에톡시페닐실란(TEPS), 이소부틸트리메톡시실란(IBTMS), 에틸트리메톡시실란(ETMS), 3-아미노프로필트리메톡시실란(3-APTMS), 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-APTES) 및 테트라에틸오소실리케이트(TEOS)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상일 수 있다.
바람직하게 상기 표면개질제는 포집된 상기 세라믹 분말의 전체 중량 대비 1~5중량%가 첨가될 수 있으며, 표면개질된 상기 세라믹 분말을 건조하는 단계는 75℃에서 24시간 동안 건조될 수 있다.
바람직하게 건조된 상기 세라믹 분말의 유동도는 3~5g/sec일 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법은 용이하고, 간단하면서도 경제적으로 세라믹 분말의 유동성을 극대화할 수 있는 우수한 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치에 대한 구성도다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법에 대한 공정도다.
도 3은 유동화 처리 전, 세라믹 분말의 주사전자현미경(SEM; Scanning Electron Microscope) 이미지다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따라 유동화 처리된 세라믹 분말의 주사전자현미경 (SEM; Scanning Electron Microscope) 이미지다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법에 대한 공정도다.
도 3은 유동화 처리 전, 세라믹 분말의 주사전자현미경(SEM; Scanning Electron Microscope) 이미지다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따라 유동화 처리된 세라믹 분말의 주사전자현미경 (SEM; Scanning Electron Microscope) 이미지다.
본 발명에서 사용되는 용어는 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어를 선택하였으나, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있는데 이 경우에는 단순한 용어의 명칭이 아닌 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 기재되거나 사용된 의미를 고려하여 그 의미가 파악되어야 할 것이다.
이하, 첨부한 도면에 도시된 바람직한 실시 예들을 참조하여 본 발명의 기술적 구성을 상세하게 설명한다.
이와 관련하여, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치에 대한 구성도인 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 준비된 세라믹 분말을 일정량의 고압으로 공급하기 위한 세라믹 분말 공급부를 포함한다.
이때, 상기 세라믹 분말에 대해서는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법에서 상세히 설명할 예정이므로, 이에 대한 상세한 설명은 후술토록 한다.
한편, 상기 도 1을 참조하면 상기 세라믹 분말 공급부는 상기 챔버의 내부로 고압의 상기 세라믹 분말을 분사하기 위한 노즐, 일단이 상기 노즐과 연결되어 준비된 상기 세라믹 분말이 이동되는 일정직경의 이송관 및 상기 이송관의 타단과 연결되어 상기 노즐쪽으로 준비된 세라믹 분말을 공급하기 위한 스크류 컨베이어를 포함한다.
이때, 준비된 상기 세라믹 분말은 스크류 컨베이어를 통해 이송관을 따라 노즐쪽으로 이동된다.
보다 상세하게 스크류 컨베이어에 의해 준비된 세라믹 분말은 이송되며, 이송관를 타고 이송된 분말은 노즐 안쪽에 벤츄리 효과에 의해 음압이 형성된 상태에서 분말이 노즐쪽으로 이송이 된다.
이때, 노즐은 원형분사형 노즐이며 노즐에는 세라믹 분말을 이송시키기 위한 고압의 캐리어 가스(공기)가 주입되며, 주입된 캐리어 가스와 함께 이송된 세라믹 분말은 후술한 챔버의 내부로 인입된다.
이때, 본 발명의 실시 예에 따른 캐리어 가스의 양은 50ml/min이다.
한편, 상기 스크류 컨베이어와 노즐 사이에 구비되는 이송관은 다양한 형태 및 직경을 갖는 이송관을 이용할 수 있으나, 본 발명의 실시 예에 있어서 상기 이송관은 5~20mm의 직경을 갖는 이송관을 이용한다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 공급되는 상기 세라믹 분말에 고온 화염을 가하기 위한 적어도 하나 이상의 버너를 포함한다.
이때, 상기 버너는 도 1에 도시된 바와 같이 산소와 LPG의 혼합가스를 연료로 이용하여 연소되며 일정온도의 화염 발생한다.
아울러, 버너는 3종으로 이루어져 있으며, 산소와 LPG의 혼합가스를 후술할챔버 내부로 분사한다.
이때, 버너는 준비된 세라믹 분말이 분사되기 전에 미리 점화됨으로써 챔버 내부가 산소가 연소할 수 있는 온도 이상을 유지하며, 챔버 내부로 공급되는 LPG 공급량을 조절할 수 있고 산소는 LPG 가스 공급량의 5배로 공급할 수 있다.
이때, 점화 온도는 약 1600℃ 이상이며, 본 발명의 실시 예에 따른 화염의 온도는 1,000~2,500℃이다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 상기 세라믹 분말과 상기 버너를 통해 발생한 고온 화염을 인입시켜 상기 고온 화염을 통해 상기 세라믹 분말의 표면을 용융시키기 위한 챔버를 포함한다.
즉, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 버너를 통해 발생한 고온의 화염이 상기 챔버내부로 유입된 상태에서 상기 노즐을 통해 공급되는 세라믹 분말이 순간적으로 챔버 내부에 존재하는 화염을 지나면서 용융되어 표면처리된다.
이때, 상기 세라믹 분말은 고온 화염의 챔버 내부로 30~100g/min의 속도로 이동된다.
한편 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온 화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 용융된 표면을 갖는 상기 세라믹 분말을 포집하는 포집기를 포함한다. 이때, 상기 제 1포집기는 싸이클론 방식의 포집기로 포집되고, 제 2포집기는 에어펌프의 펌핑 방식의 포집기로 포집된다. 제 1포집기 및 제 2포집기에 포집된 세라믹 분말을 수거하여 표면개질을 한다.
이때, 상술한 표면개질방법에 대해서는 후에 상세히 설명하도록 한다.
결과적으로, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치는 그 구성이 간단하고 특히, 장치를 이루는 구성들이 모두 외부로 노출되어 있어 유지, 보수가 용이하고 경제적인 효과가 있다.
이하에서는 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법에 대한 공정도인 도 2, 유동화 처리 전, 세라믹 분말의 주사전자현미경(SEM; Scanning Electron Microscope) 이미지인 도 3 및 본 발명의 실시 예에 따라 유동화 처리된 세라믹 분말의 주사전자현미경 (SEM; Scanning Electron Microscope) 이미지인 도 4를 참조하여 표면처리 방법에 대해 상세히 설명하도록 한다.
먼저, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법은 표면처리를 위한 준비된 세라믹 분말을 일정량으로 공급하는 단계(S100)를 포함한다.
이때, 준비된 세라믹 분말은 필요에 따라 선택된 다양한 세라믹 분말을 이용할 수 있으나, 본 발명의 실시 예에 있어서 상기 세라믹 분말은 알루미늄 산화물, 이트륨 알루미늄 산화물, 이트륨 산화물을 포함한 희토류 산화물, 이트륨의 플루오르화물을 포함하는 이트륨의 옥시플루오르화물로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 이용한다.
한편, 희토류 산화물은 이트륨을 포함한 3B족 원소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.
아울러, 이트륨의 플루오르화물을 포함하는 이트륨의 옥시플루오르화물은 YF3, Y5O4F7, Y6O5F8,Y7O6F9 으로부터 YF3를 포함하여 구성되는 2종 이상의 화학식을 갖는 것을 특징으로 한다.
한편, 준비된 세라믹 분말은 다양한 입경 및 형상을 갖는 세라믹 분말을 이용할 수 있으나, 본 발명의 실시 예에 있어서는 20㎛ 이하의 입경을 갖는 구형의 세라믹 분말을 이용한다.
한편, 상술한 표면처리를 위한 준비된 세라믹 분말을 일정량으로 공급하는 단계에서 세라믹 분말의 공급량은 필요에 따라 선택된 양이 공급될 수 있으나, 본 발명의 실시 예에 있어서는 30~70g/min의 양으로 공급된다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법은 공급된 상기 세라믹 분말의 표면을 고온 화염을 이용하여 용융시켜 표면처리하는 단계(S200)를 포함한다.
이때, 상기 고온화염은 상술한 버너를 통해 발생되는 1,000~2,500℃의 화염을 이용하며, 상술한 바와 같이 세라믹 분말과 고온 화염을 챔버의 내부로 인입시켜 세라믹 분말의 표면을 용융시킴으로써 세라믹 분말이 표면처리된다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법은 표면처리된 상기 세라믹 분말을 포집하는 단계(S300) 및 포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계(S400)를 포함한다.
이하에서는 상기 포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계(S400)에 대해 상세히 설명한다.
먼저, 상기 포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계(S400)는 포집된 알코올계 용매에 표면개질제를 첨가하여 표면개질된다.
이때, 본 발명의 실시 예에 있어서 상기 알코올계 용매는 에탄올, 프로판올 및 이소프로판올로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 이용한다.
한편, 첨가되는 상기 표면개질제는 동일한 목적 및 효과를 발휘할 수 있는 다양한 표면개질제를 이용할 수 있으나, 본 발명의 실시 예에 있어서 상기 표면개질제는 트리메톡시프로필실란(TMPS), 메틸트리아세톡시실란(MTAS), 트리에톡시페닐실란(TEPS), 이소부틸트리메톡시실란(IBTMS), 에틸트리메톡시실란(ETMS), 3-아미노프로필트리메톡시실란(3-APTMS), 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-APTES) 및 테트라에틸오소실리케이트(TEOS)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 이용한다.
이때, 본 발명의 실시 예에 있어서 첨가되는 표면개질제는 포집된 상기 세라믹 분말의 전체 중량 대비 1~5중량%가 첨가된다.
아울러, 본 발명의 실시 예에 따른 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법은 표면개질된 상기 세라믹 분말을 건조하는 단계(S500)를 포함하며, 이 단계는 75℃에서 24시간 동안 건조되며 이때 사용되는 건조기는 다양한 방식의 건조기를 이용할 수 있으므로 이에 대한 특별한 한정은 두지 아니한다.
결과적으로, 본 발명의 실시 예를 통해 표면 처리된 세라믹 분말은 3~5g/sec의 향상된 유동도를 갖는다 할 것이며, 준비된 세라믹 분말(원료분말)의 종류, 분말 공급량, 첨가되는 표면개질제의 중량%의 실시 예들에 따라 표면 처리된 세라믹 분말의 유동도는 하기 표와 같다.
| 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | |
| 원료분말 | YOF 화염 분말 | ||||
| 분말공급량 (g/min) |
50 | 30 | 70 | 50 |
|
| 표면개질제첨가량(%/solid) | 3 | 3 | 3 | 1 | 5 |
| 유동도(g/sec) | 3.5 | 3.2 | 3.1 | 3.1 | 3.3 |
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다 할 것이다.
Claims (15)
- 준비된 세라믹 분말을 일정량의 고압으로 공급하기 위한 세라믹 분말 공급부;
공급되는 상기 세라믹 분말에 고온 화염을 가하기 위한 적어도 하나 이상의 버너;
상기 세라믹 분말과 상기 버너를 통해 발생한 고온 화염을 인입시켜 상기 고온 화염을 통해 상기 세라믹 분말의 표면을 용융시키기 위한 챔버; 및
용융된 표면을 갖는 상기 세라믹 분말을 포집하는 포집장치를 포함하되,
상기 포집기는 싸이클론 방식으로 포집하는 제 1포집기 및 에어펌프의 펌핑에 의한 방식으로 포집하는 제 2포집기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 세라믹 분말 공급부:는
상기 챔버의 내부로 고압의 상기 세라믹 분말을 분사하기 위한 노즐;
일단이 상기 노즐과 연결되어 준비된 상기 세라믹 분말이 이동되는 일정직경의 이송관; 및
상기 이송관의 타단과 연결되어 상기 노즐쪽으로 준비된 세라믹 분말을 공급하기 위한 스크류 컨베이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치.
- 제 2 항에 있어서,
상기 이송관의 직경은 5~20mm인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,
상기 버너의 점화온도는 1,600℃이상이며, 상기 버너를 통해 발생한 고온 화염의 온도는 1,000~2,500℃인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치.
- 표면처리를 위한 준비된 세라믹 분말을 일정량으로 공급하는 단계;
공급된 상기 세라믹 분말의 표면을 고온 화염을 이용하여 용융시켜 표면처리하는 단계;
표면처리된 상기 세라믹 분말을 포집하는 단계;
포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계; 및
표면개질된 상기 세라믹 분말을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 5 항에 있어서,
상기 세라믹 분말은 20㎛ 이하의 입경을 갖는 구형과립인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 6 항에 있어서,
상기 세라믹 분말은 알루미늄 산화물, 이트륨 알루미늄 산화물, 이트륨 산화물을 포함한 희토류 산화물, 이트륨의 플루오르화물을 포함하는 이트륨의 옥시플루오르화물로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 7 항에 있어서,
상기 세라믹 분말은 30~70g/min으로 공급되는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 8 항에 있어서,
상기 고온 화염의 온도는 1,000~2,500℃인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 9 항에 있어서,
포집된 상기 세라믹 분말을 표면개질하는 단계는 알코올계 용매에 표면개질제를 첨가하여 표면개질되는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 10 항에 있어서,
상기 알코올계 용매는 에탄올, 프로판올 및 이소프로판올로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 11 항에 있어서,
상기 표면개질제는 트리메톡시프로필실란(TMPS), 메틸트리아세톡시실란(MTAS), 트리에톡시페닐실란(TEPS), 이소부틸트리메톡시실란(IBTMS), 에틸트리메톡시실란(ETMS), 3-아미노프로필트리메톡시실란(3-APTMS), 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-APTES) 및 테트라에틸오소실리케이트(TEOS)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 12 항에 있어서,
상기 표면개질제는 포집된 상기 세라믹 분말의 전체 중량 대비 1~5중량%가 첨가되는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 13 항에 있어서,
표면개질된 상기 세라믹 분말을 건조하는 단계는 75℃에서 24시간 동안 건조되는 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
- 제 14 항에 있어서,
건조된 상기 세라믹 분말의 유동도는 3~5g/sec인 것을 특징으로 하는 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210133175A KR20230049993A (ko) | 2021-10-07 | 2021-10-07 | 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210133175A KR20230049993A (ko) | 2021-10-07 | 2021-10-07 | 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230049993A true KR20230049993A (ko) | 2023-04-14 |
Family
ID=85946555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210133175A KR20230049993A (ko) | 2021-10-07 | 2021-10-07 | 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20230049993A (ko) |
-
2021
- 2021-10-07 KR KR1020210133175A patent/KR20230049993A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102085420B1 (ko) | 유동성 향상을 위한 마이크로파 플라즈마를 이용한 세라믹 분말의 표면 처리 방법 | |
| KR102027128B1 (ko) | Yof계 분말의 제조방법 | |
| US8349450B2 (en) | Thermal spray powder, method for forming thermal spray coating, and plasma resistant member | |
| TWI642626B (zh) | 氧化亞銅微粒子之製造方法及導體膜的製造方法 | |
| US7837967B2 (en) | Thermal spray powder and method for forming thermal spray coating | |
| Zhou et al. | Performance improvement by alumina coatings on Y 3 Al 5 O 12: Ce 3+ phosphor powder deposited using atomic layer deposition in a fluidized bed reactor | |
| US20230256509A1 (en) | Silver fine particle production method and silver fine particles | |
| KR20230049993A (ko) | 유동성 향상을 위한 고온화염을 이용한 세라믹 분말의 표면처리 장치 및 방법 | |
| KR20180100580A (ko) | 부정비 산화티탄 미립자의 제조 방법 | |
| WO2010011116A2 (ko) | 내 플라즈마 세라믹 코팅막 형성 방법 | |
| CN113845119A (zh) | 硅烷处理镁橄榄石微粒及其有机溶剂分散液、以及它们的制造方法 | |
| CN108408754A (zh) | 一种有利于控制喷涂后颜色的耐等离子腐蚀热喷涂用造粒氧化钇的制备方法 | |
| CN111018552A (zh) | 一种高度均一性纳米微孔隔热板及其制备方法 | |
| KR20200110741A (ko) | 구리 미립자 | |
| KR20110100053A (ko) | 플라즈마 합성을 이용한 나노 니켈 파우더 제조 방법 | |
| KR100669819B1 (ko) | 플라즈마 용사용 세라믹 분말의 제조방법 및 그에 따라제조된 세라믹 분말 | |
| TWI807892B (zh) | 球狀氟氧化釔基粉末、其製備方法及氟氧化釔基塗層 | |
| CN116060612B (zh) | 球状氟氧化钇基粉末及其制备方法、氟氧化钇基涂层 | |
| KR101585446B1 (ko) | 슬러리 조성물 및 이를 이용한 용사코팅용 분말제조방법 | |
| KR102421398B1 (ko) | Hvof에 의한 고밀도 yf3 코팅층의 제조방법 및 이를 통해 제조된 고밀도 yf3 hvof 코팅층 | |
| WO2023050467A1 (zh) | 一种合成球形石英粉的装置和方法 | |
| WO2023101198A1 (ko) | 산화마그네슘 제조 장치 | |
| WO2015045700A1 (ja) | 炭素被覆黒鉛材料の製造方法 | |
| KR20220089240A (ko) | 구형 조립 금속 분말 및 이의 제조 방법 | |
| TW202212608A (zh) | 用於處理腔室元件的原子層沉積被覆粉末覆層 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| E902 | Notification of reason for refusal |