KR20230040971A - Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof - Google Patents
Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230040971A KR20230040971A KR1020230033394A KR20230033394A KR20230040971A KR 20230040971 A KR20230040971 A KR 20230040971A KR 1020230033394 A KR1020230033394 A KR 1020230033394A KR 20230033394 A KR20230033394 A KR 20230033394A KR 20230040971 A KR20230040971 A KR 20230040971A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- frame
- mask
- sheet portion
- mask cell
- cell sheet
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 15
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 9
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
- G03F7/2063—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam for the production of exposure masks or reticles
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 프레임 일체형 마스크 제조용 프레임 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 프레임 일체형 마스크를 제조할 때, 마스크 셀 시트부가 급격하게 들뜨거나 처지는 것을 방지한 프레임 일체형 마스크 제조용 프레임 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a frame for manufacturing a frame-integrated mask and a manufacturing method thereof. More specifically, it relates to a frame for manufacturing a frame-integrated mask and a method for manufacturing the frame-integrated mask, which prevents the mask cell sheet portion from suddenly lifting or sagging when the frame-integrated mask is manufactured.
OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.As a technology for forming pixels in the OLED manufacturing process, the FMM (Fine Metal Mask) method, which deposits organic materials on a desired location by attaching a thin metal shadow mask to the substrate, is mainly used.
기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the existing OLED manufacturing process, a mask is manufactured in a stick shape, plate shape, etc., and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. A plurality of cells corresponding to one display may be provided in one mask. In addition, several masks can be fixed to the OLED pixel deposition frame for manufacturing large-area OLEDs. In the process of fixing to the frame, each mask is tensioned so that it is flat. It is a very difficult task to adjust the tension so that the entire part of the mask is flat. In particular, in order to flatten each cell and align a mask pattern that is only a few to several tens of μm in size, a high level of work is required to check the alignment in real time while finely adjusting the tensile force applied to each side of the mask. do.
그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점, 용접 과정에서 용접 부분에 발생하는 주름, 번짐(burr) 등에 의해 마스크 셀의 정렬이 엇갈리게 되는 문제점 등이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing a plurality of masks to one frame, there is a problem in that alignment between masks and between mask cells is not good. In addition, in the process of fixing the mask to the frame by welding, the thickness of the mask film is too thin and has a large area, so the mask is sagging or distorted by the load, and wrinkles and burrs generated at the welded part during the welding process cause the mask cell to deteriorate. There was a problem with the alignment being staggered.
초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD picture quality is 500 to 600 PPI (pixel per inch), with a pixel size of about 30 to 50 μm, and 4K UHD and 8K UHD high-definition are higher than this, such as ~860 PPI and ~1600 PPI. has a resolution of In this way, considering the pixel size of ultra-high-definition OLED, the alignment error between each cell must be reduced to about several micrometers, and an error that deviate from this can lead to failure of the product, so the yield can be very low. Therefore, there is a need to develop a technology capable of preventing deformation such as drooping or twisting of the mask and clarifying the alignment, a technology of fixing the mask to the frame, and the like.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 프레임 일체형 마스크를 제조할 때, 마스크 셀 시트부가 급격하게 들뜨거나 처지는 것을 방지할 수 있는 프레임 일체형 마스크 제조용 프레임 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve various problems of the prior art as described above, and when manufacturing a frame-integrated mask, a frame for manufacturing a frame-integrated mask capable of preventing a mask cell sheet from suddenly lifting or sagging, and a frame for manufacturing a frame-integrated mask and the same It aims at providing a manufacturing method.
또한, 본 발명은, 프레임에서 마스크 셀 시트부의 정렬을 명확하게 하여 마스크를 프레임에 부착할 때 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있는 프레임 일체형 마스크 제조용 프레임 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a frame for manufacturing a frame-integrated mask and a method for manufacturing the same, which can prevent deformation when attaching a mask to the frame by clarifying the alignment of the mask cell sheet portion in the frame. .
본 발명의 상기의 목적은, OLED 화소 형성용 마스크를 부착하여 프레임 일체형 마스크를 제조하는데 사용하는 프레임으로서, 프레임은, 테두리 프레임부; 및 마스크 셀 시트부를 포함하고, 마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 포함하고, 마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며, 마스크 셀 시트부의 상단면 기준으로 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량은 +50㎛ 내지 -200㎛인, 프레임에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a frame used to manufacture a frame-integrated mask by attaching a mask for forming an OLED pixel, wherein the frame includes: an edge frame portion; and a mask cell sheet portion, wherein the mask cell sheet portion includes: an edge sheet portion; at least one first grid sheet portion extending in a first direction and having both ends connected to the edge sheet portion; and at least one second grid sheet portion that extends in a second direction perpendicular to the first direction, intersects the first grid sheet portion, and has both ends connected to the edge sheet portion, wherein the mask cell sheet portion comprises: , A plurality of mask cell regions are provided along at least one of the second directions perpendicular to the first direction, and the Z-axis displacement of the mask cell sheet portion relative to the top surface of the mask cell sheet portion is +50 μm to -200 μm. , which is achieved by frames.
마스크 셀 영역 내에서 마스크 셀 시트부의 X축 또는 Y축 방향의 단위 길이당 Z축 변위량은 ±20㎛/10mm이하일 수 있다.A Z-axis displacement per unit length in the X-axis or Y-axis direction of the mask cell sheet portion within the mask cell region may be ±20 μm/10 mm or less.
테두리 시트부의 적어도 일부에 더미 패턴이 형성될 수 있다.A dummy pattern may be formed on at least a portion of the edge sheet portion.
더미 패턴은, 마스크 셀 영역의 주변의 적어도 일부에 형성되거나, 테두리 시트부의 외측 테두리의 적어도 일부에 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed on at least a portion of the periphery of the mask cell region or on at least a portion of an outer edge of the rim sheet portion.
더미 패턴은, 마스크 셀 영역의 주변의 적어도 일부에 형성되는, 제1 더미 패턴; 및 제1 더미 패턴이 형성된 부분의 적어도 외측에 형성되는 제2 더미 패턴을 포함할 수 있다.The dummy pattern may include a first dummy pattern formed on at least a part of the periphery of the mask cell region; and a second dummy pattern formed at least outside a portion where the first dummy pattern is formed.
더미 패턴은, 마스크 셀 시트부의 적어도 일측에 인장력이 가해질 때 해당 인장력보다 적은 인장력이 마스크 셀 시트에 전달되도록 인장력을 상쇄할 수 있다.The dummy pattern may offset the tensile force so that when a tensile force is applied to at least one side of the mask cell sheet portion, a tensile force smaller than the corresponding tensile force is transmitted to the mask cell sheet.
더미 패턴의 폭은 적어도 0.1mm 보다 클 수 있다.A width of the dummy pattern may be greater than at least 0.1 mm.
더미 패턴은 마스크 셀 시트부의 두께 방향을 따라 관통된 형태이거나, 일부만 식각된 형태일 수 있다.The dummy pattern may be penetrating along the thickness direction of the mask cell sheet portion or partially etched.
제1 더미 패턴보다 제2 더미 패턴이 더 크게 형성될 수 있다.The second dummy pattern may be formed to be larger than the first dummy pattern.
마스크 셀 시트부는 부착 대상인 테두리 프레임부보다 큰 면적으로 형성되며, 제2 더미 패턴의 적어도 일부는 테두리 프레임부의 바깥 영역에 형성될 수 있다.The mask cell sheet portion may be formed to have a larger area than the rim frame portion to be attached, and at least a portion of the second dummy pattern may be formed in an outer region of the rim frame portion.
마스크 셀 시트부가 테두리 프레임부에 부착된 후, 제2 더미 패턴이 형성된 테두리 시트부의 적어도 일부는 트리밍(trimming)하여 제거할 수 있다.After the mask cell sheet unit is attached to the edge frame unit, at least a portion of the edge sheet unit on which the second dummy pattern is formed may be removed by trimming.
그리고, 본 발명의 상기의 목적은, OLED 화소 형성용 마스크를 부착하여 프레임 일체형 마스크를 제조하는데 사용하는 프레임의 제조 방법으로서, (a) 테두리 프레임부를 준비하는 단계; 및 (b) 마스크 셀 시트부의 적어도 일측을 인장하여 테두리 프레임부에 부착하는 단계;를 포함하고, 마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 포함하고, 마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며, 마스크 셀 시트부의 상단면 기준으로 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량은 +50㎛ 내지 -200㎛인, 프레임의 제조 방법에 의해 달성된다.And, the above object of the present invention is a method for manufacturing a frame used to manufacture a frame-integrated mask by attaching a mask for forming an OLED pixel, comprising: (a) preparing an edge frame; and (b) stretching at least one side of the mask cell sheet unit and attaching it to the edge frame unit, wherein the mask cell sheet unit comprises: an edge sheet unit; at least one first grid sheet portion extending in a first direction and having both ends connected to the edge sheet portion; and at least one second grid sheet portion that extends in a second direction perpendicular to the first direction, intersects the first grid sheet portion, and has both ends connected to the edge sheet portion, wherein the mask cell sheet portion comprises: , A plurality of mask cell regions are provided along at least one of the second directions perpendicular to the first direction, and the Z-axis displacement of the mask cell sheet portion relative to the top surface of the mask cell sheet portion is +50 μm to -200 μm. , achieved by the manufacturing method of the frame.
마스크 셀 영역 내에서 마스크 셀 시트부의 X축 또는 Y축 방향의 단위 길이당 Z축 변위량은 ±20㎛/10mm이하일 수 있다.A Z-axis displacement per unit length in the X-axis or Y-axis direction of the mask cell sheet portion within the mask cell region may be ±20 μm/10 mm or less.
테두리 시트부의 적어도 일부에 더미 패턴이 형성되고, (b) 단계에서, 더미 패턴은, 마스크 셀 시트부에 직접 인가하는 인장력보다 적은 인장력이 마스크 셀 시트에 전달되도록 인장력을 상쇄할 수 있다.A dummy pattern is formed on at least a portion of the edge sheet portion, and in step (b), the dummy pattern may offset the tensile force so that a tensile force smaller than that directly applied to the mask cell sheet portion is transmitted to the mask cell sheet.
상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 프레임 일체형 마스크를 제조할 때, 마스크 셀 시트부가 급격하게 들뜨거나 처지는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, when manufacturing a frame-integrated mask, there is an effect of preventing the mask cell sheet portion from suddenly lifting or sagging.
또한, 본 발명에 따르면, 프레임에서 마스크 셀 시트부의 정렬을 명확하게 하여 마스크를 프레임에 부착할 때 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to prevent deformation when attaching the mask to the frame by clarifying the alignment of the mask cell sheet portion in the frame.
도 1은 종래의 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 셀 시트부를 나타내는 정면도이다.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 제조하는 과정을 나타내는 정면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량을 나타내는 개략 측단면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 상의 마스크 셀 시트부에 대한 X축 및 Y축 방향의 측정 부분을 나타낸다.
도 11은 도 10 (a)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량을 나타낸다.
도 12는 도 10 (b)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량을 나타낸다.
도 13은 도 10 (a)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 단위길이 당 Z축 변위량을 나타낸다.
도 14는 도 10 (b)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 단위길이 당 Z축 변위량을 나타낸다.1 is a schematic diagram showing a conventional process of attaching a mask to a frame.
2 is a front view and a side cross-sectional view illustrating a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
3 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame according to an embodiment of the present invention.
4 is a front view showing a mask cell sheet part according to an embodiment of the present invention.
5 to 7 are front views illustrating a process of manufacturing a frame according to an embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram showing an OLED pixel deposition apparatus using a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
9 is a schematic cross-sectional side view illustrating a Z-axis displacement of a mask cell sheet part according to an embodiment of the present invention.
10 shows measurement portions in the X-axis and Y-axis directions of a mask cell sheet portion on a frame according to an embodiment of the present invention.
FIG. 11 shows the Z-axis displacement of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (a).
FIG. 12 shows the Z-axis displacement of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (b).
FIG. 13 shows the Z-axis displacement per unit length of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (a).
FIG. 14 shows the Z-axis displacement per unit length of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (b).
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The detailed description of the present invention which follows refers to the accompanying drawings which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable one skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in one embodiment in another embodiment without departing from the spirit and scope of the invention. Additionally, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all equivalents as claimed by those claims. Similar reference numerals in the drawings indicate the same or similar functions in various aspects, and the length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily practice the present invention.
도 1은 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a process of attaching a
종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)이며, 도 1의 스틱형 마스크(10)는 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다.The
도 1의 (a)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 편 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다.Referring to (a) of FIG. 1 , the
도 1의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 1의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to (b) of FIG. 1, after aligning while finely adjusting the tensile forces (F1 to F2) applied to each side of the
스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C6)들의 패턴 간에 거리가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다. 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Although the tensile forces F1 to F2 applied to each side of the
이에 더하여, 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.In addition to this, while connecting the plurality of stick masks 10 to one
한편, 스틱 마스크(10)를 프레임(20)에 연결 고정시킨 후에는, 스틱 마스크(10)에 가해졌던 인장력(F1~F2)이 프레임(20)에 역으로 장력(tension)을 작용할 수 있다. 이러한 장력이 프레임(20)을 미세하게 변형시킬 수 있고, 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태가 틀어지는 문제가 발생할 수 있다.Meanwhile, after the
이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다.Accordingly, the present invention proposes a
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 2의 (a)] 및 측단면도[도 2의 (b)]이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임(200)을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.2 is a front view (FIG. 2 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 2 (b)) showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention. 3 is a front view and a side cross-sectional view showing a
본 명세서에서는 아래에서 프레임 일체형 마스크의 구성을 간단히 설명하나, 프레임 일체형 마스크의 구조, 제조 과정은 한국특허출원 제2018-0016186호의 내용이 전체로서 산입된 것으로 이해될 수 있다.In this specification, the configuration of the frame-integrated mask is briefly described below, but it can be understood that the structure and manufacturing process of the frame-integrated mask are incorporated in the Korean Patent Application No. 2018-0016186 as a whole.
도 2 및 도 3을 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 부착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 부착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있으며, 프레임(200)에 부착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 3 , the frame-integrated mask may include a plurality of
각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다.A plurality of mask patterns P may be formed on each
마스크(100)는 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크(100)는 압연(rolling) 공정 또는 전주 도금(electroforming)으로 생성한 금속 시트(sheet)를 사용할 수 있다.The
프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 부착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 재질로 구성되는 것이 바람직하다. 프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다.The
이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)로 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.In addition, the
테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼운 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 두께일 수 있다. 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.The
평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다. In the flat sheet, a plurality of mask cell regions CR (CR11 to CR56) may be provided except for regions occupied by the
프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 부착될 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 셀 시트부(220)를 나타내는 정면도이다.4 is a front view showing the mask
마스크 셀 시트부(220)는 전주도금 또는 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 평면의 시트를 제조한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분을 제거함에 따라 제조할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)가 존재할 수 있다.The mask
전술한 바와 같이, 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)에 연결될 수 있다. 하지만, 마스크 셀 시트부(220)를 인장하여 테두리 프레임부(210)에 부착하는 과정에서 마스크 셀 시트부(220)가 들뜨거나 처지는 문제점이 나타난다.As described above, the mask
마스크 셀 시트부(220)는 마스크(100)의 테두리가 직접 부착되는 부분이기 때문에 팽팽한 상태를 유지하여야 한다. 특히, OLED 화소 공정의 온도 영역에서 팽팽한 상태를 유지하여야 하며, 하중에 의해 처지거나 특정 부분에 인장력이 몰려 주름이 생기지 않도록 해야할 필요가 있다. 마스크 셀 시트부(220)의 전체 테두리 부분에 적절한 세기의 인장력을 가하여 팽팽한 상태를 만든 후 테두리 프레임부(210)에 부착하는 것이 매우 중요하게 고려된다.Since the mask
하지만, 마스크 셀 시트부(220)가 매우 얇고 넓은 면적을 가지며, 인바 등의 재질인 금속 시트로 구성되므로, 미세한 인장력의 차이에도 쉽게 들뜨고 처지는 문제점이 나타난다. 인장을 조금만 강하게 해도 마스크 셀 시트부(220)가 너무 팽팽하게 당겨져서 들뜨게 되고, 조금만 약하게 해도 마스크 셀 시트부(220)의 하중에 의해 처짐이 발생하게 된다. 직접적으로 미세하게 인장력을 제어하는 수단 외에 마스크 셀 시트부(220)의 구조적인 부분에서 인장력을 제어하여 플랫(flat)한 상태를 만드는 것이 필요하다.However, since the mask
따라서, 본 발명은 마스크 셀 시트부(220)에 인장력을 상쇄할 수 있는 더미 패턴(230: 231, 233, 235, 237)을 더 형성하는 것을 특징으로 한다. 더미 패턴(230: 231, 233, 235, 237))은 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 시트부(221: 221a, 221b)에 형성되는 것이 바람직하다.Therefore, the present invention is characterized by further forming dummy patterns (230: 231, 233, 235, 237) capable of offsetting the tensile force on the mask
마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)보다 적어도 동일하거나 크게 형성될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 부분[테두리 시트부 외측(221b)]을 소정의 클램퍼(미도시) 등으로 클램핑한 상태에서 마스크 셀 시트부(220)에 인장력을 가하여 팽팽하게 펼 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)보다 크게 형성되어야, 클램퍼로 마스크 셀 시트부(220)를 클램핑한 상태에서 테두리 프레임부(210)에 간섭됨이 없이 정렬/부착 과정을 수행할 수 있다[도 6 참조]. 이때, 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 시트부(221) 중에서, 테두리 프레임부(210)에 대응하는 부분을 221a, 테두리 프레임부(210)의 외측에 대응하는 부분을 221b로 도시한다.The mask
제1 더미 패턴(231)은 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 대응될때 테두리 프레임부(210)의 내측에서 마스크 셀 영역(CR) 주변의 적어도 일부, 또는 테두리 시트부 내측(221a)에 형성될 수 있다.When the mask
그리고, 제2 더미 패턴(235)은 테두리 프레임부(210)의 외측에 대응하는 마스크 셀 시트부(220) 상에, 또는 테두리 시트부 외측(221b)에 형성될 수 있다. 또한, 제2 더미 패턴(233)이 마스크 셀 시트부(220)의 외측에 형성됨에 따라, 제1 더미 패턴(231)과 동일하거나 더 크게 형성될 수도 있다. 제2 더미 패턴(233)은 제1 더미 패턴(231)보다 더 넓은 영역에 대한 인장력 상쇄/분산에 기여할 수 있다.Also, the
테두리 프레임부(210)의 외측에 대응하는 테두리 시트부(221b)는, 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 용접 등으로 부착된 후에, 트리밍(trimming)에 의해 제거될 수 있다. 다시 말해, 제2 더미 패턴(235)이 형성된 테두리 시트부 외측 부분(221b)[용접(W) 된 부분의 바깥쪽]은 제거되고, 제1 더미 패턴(233)이 형성된 테두리 시트부 내측 부분(221a)만 테두리 프레임부(210)에 부착될 수 있다.The
더미 패턴(230: 231, 233, 235, 237)들은 마스크 셀 시트부(220)에 인가되는 인장력을 매크로하게 상쇄/분산시킬 수 있도록 수mm 내지 수cm의 크기로 형성될 수 있고, 바람직하게는 폭이 0.1mm보다는 크게 형성될 수 있다. 제1, 2 더미 패턴(231, 233)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)의 간격에 대응하는 간격으로 형성될 수 있다.The dummy patterns 230 (231, 233, 235, 237) may be formed in a size of several mm to several cm to macroscopically cancel/disperse the tensile force applied to the mask
또한, 더미 패턴(230)은 사각형 형태로 도시되었지만, 인장력을 상쇄/분산시킬 수 있는 범위 내에서라면, 그 형태, 간격, 크기에 대한 제한이 없음은 물론이다.In addition, although the dummy pattern 230 is shown in a rectangular shape, there are, of course, no limitations on its shape, spacing, and size as long as it is within a range capable of canceling/dispersing the tensile force.
제1, 2 더미 패턴(231, 233)이 형성된 마스크 셀 시트부(220)의 측을 인장(F1~F4)할 때, 제1, 2 더미 패턴(231, 233)의 형태 변화에 의해 인장력이 너무 강하거나 약하게 되는 것을 상쇄할 수 있다. 제1, 2 더미 패턴(231, 233)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)의 간격에 대응하는 간격으로 형성되어, 각각의 마스크 셀 영역(CR)이 형성된 행과 열에 대응하여 인장력을 상쇄할 수 있다. 인장력을 상쇄/분산하는 구체적인 내용에 대해서는 도 6에서 후술한다.When the side of the mask
또한, 제1, 2 더미 패턴(231, 233) 외에, 제1, 2 더미 패턴(231, 233)이 형성된 단부 모서리 부분에 제3 더미 패턴(235, 237)이 더 형성될 수 있다. 제3 더미 패턴(235, 237)은 마스크 셀 시트부(220) 변에서의 인장력 상쇄/분산 외에 모서리에서의 인장력 상쇄/분산에 더 기여할 수 있다.In addition to the first and
제1, 2 더미 패턴(231, 233)은 마스크 셀 시트부(220)의 두께 방향을 따라 관통된 형태로 형성될 수 있지만, 완전 관통되지 않고 일부 깊이만 식각된 형태일 수도 있다.The first and
이하에서는, 더미 패턴(230: 231, 233, 235, 237)이 형성된 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 부착되어 프레임(200)을 제조하는 과정 및 인장력 상쇄/분산하는 과정에 대해 설명한다.Hereinafter, a process of manufacturing the
도 5 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임(200)을 제조하는 과정을 나타내는 정면도이다.5 to 7 are front views illustrating a process of manufacturing the
먼저, 도 5의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)를 준비한다. 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함한 사각 틀 형상일 수 있다.First, referring to (a) of FIG. 5 , the
다음으로, 도 5의 (b)를 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)를 준비한다. 마스크 셀 시트부(220)는 압연, 전주도금 또는 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 평면의 시트를 제조한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분을 제거하고, 더미 패턴(230: 231, 233, 235, 237)을 형성함에 따라 제조할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)보다 큰 면적을 가지므로, 도 5의 (b)에서 테두리 프레임부(210)의 위치에 대응하는 부분은 점선으로 도시한다.Next, referring to (b) of FIG. 5 , a mask
다음으로, 도 6을 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220)의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220)를 평평하게 편 상태로 테두리 시트부(221)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 6의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220)를 클램핑하고 인장할 수 있다. 이때, 한 측의 여러 포인트마다 인장의 세기를 다르게 할 수도 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220)를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, referring to FIG. 6 , the mask
마스크 셀 시트부(220)를 클램핑한 클램퍼(미도시)가 인장이 조금만 강하게 해도 마스크 셀 시트부(220)가 너무 팽팽하게 당겨져서 들뜨게 되고, 조금만 약하게 해도 마스크 셀 시트부(220)의 하중에 의해 처짐이 발생할 수 있다. 하지만, 본 발명의 마스크 셀 시트부(220)는 더미 패턴(230, 231, 233, 235, 237)들이 인장력을 상쇄/분산할 수 있다.Even if the tension of the clamper (not shown) clamping the mask
확대된 부분을 참조하면, F1의 인장력으로 마스크 셀 시트부(220)[테두리 시트부(220)의 외측(221b)]을 인장하더라도, 제2 더미 패턴(233)이 인장력을 F1'로 상쇄할 수 있다. 제2 더미 패턴(233)은 시트로 채워진 부분이 아니고 관통되거나 일부 깊이로 식각된 부분이기 때문에 들뜨거나 하중이 발생하지 않고 미세하게 변형되면서 인장력을 F1에서 F1'로 상쇄하여 내측에 전달할 수 있다. 동시에, 제2 더미 패턴(233)보다 내측에 형성된 제1 더미 패턴(231)이 인장력을 F1"으로 더 상쇄하고, 내측의 테두리 시트부(221a), 또는 용접(W)이 수행될 부분에 인장력을 전달할 수 있다. 이 과정에서, 강한 F1의 인장력이 F1"로 적절하게 제어될 수 있다. 물론, 제1 더미 패턴(231), 제2 더미 패턴(233) 중 하나만 형성되어 있더라도 인장력을 상쇄하여 마스크 셀 시트부(220)의 내측에 전달할 수 있다.Referring to the enlarged portion, even if the mask cell sheet portion 220 (
동시에, F1의 인장력은 제1 더미 패턴(231)과 제2 더미 패턴(233)이 형성된 방향을 따라 테두리 시트부(221)의 전반에 분산될 수 있다. 그리하여, 마스크 셀 시트부(220) 전체에 걸쳐 인장력의 상쇄 및 분산이 균일하게 이루어질 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)의 모서리 부분에는 제3 더미 패턴(235, 237)이 더 형성되어 모서리 부분에 인장력이 집중되는 것을 상쇄 및 분산할 수 있다.At the same time, the tensile force of F1 may be distributed throughout the
이에 따라, 클램퍼(미도시)를 통해 직접적으로 마스크 셀 시트부(220)에 가하는 인장력(F1~F4)을 세밀하게 제어할 필요 없이, 마스크 셀 시트부(220)를 구조적인 개선을 통해 인장력을 균일하고 적절하게 제어할 수 있게 된다.Accordingly, without the need to precisely control the tensile forces (F1 to F4) directly applied to the mask
다음으로, 도 6을 더 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응한 후, 테두리 시트부(221)의 내측 부분(221a)을 용접(W)할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 견고하게 부착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하나, 두 측을 용접(W)할 수도 있다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220)와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220)를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, further referring to FIG. 6 , after the mask
다음으로, 도 7을 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 부착된 후, 제2 더미 패턴(233)이 형성된 테두리 시트부(221)의 외측 부분(221b)을 제거할 수 있다. 테두리 시트부(221)의 내측 부분(221a)이 테두리 프레임(210)에 용접(W)으로 부착된 상태이기 때문에, 외측 부분(221b)을 트리밍(trimming)한 상태에서 분리하는 것으로 외측 부분(221b)만을 제거할 수 있다. 이에 따라, 프레임(200)의 제조를 완료할 수 있다.Next, referring to FIG. 7 , after the mask
후속 공정으로, 복수의 마스크(100)를 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응, 부착하는 공정을 완료하면, 본 발명의 프레임 일체형 마스크의 제조가 완료된다. As a subsequent process, when a process of attaching the plurality of
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 이용한 OLED 화소 증착 장치(1000)를 나타내는 개략도이다.8 is a schematic diagram showing an OLED
도 8을 참조하면, OLED 화소 증착 장치(1000)는, 마그넷(310)이 수용되고, 냉각수 라인(350)이 배설된 마그넷 플레이트(300)와, 마그넷 플레이트(300)의 하부로부터 유기물 소스(600)를 공급하는 증착 소스 공급부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 8 , the OLED
마그넷 플레이트(300)와 소스 증착부(500) 사이에는 유기물 소스(600)가 증착되는 유리 등의 대상 기판(900)이 개재될 수 있다. 대상 기판(900)에는 유기물 소스(600)가 화소별로 증착되게 하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)[또는, FMM]이 밀착되거나 매우 근접하도록 배치될 수 있다. 마그넷(310)이 자기장을 발생시키고 자기장에 의해 대상 기판(900)에 밀착될 수 있다.A
증착 소스 공급부(500)는 좌우 경로를 왕복하며 유기물 소스(600)를 공급할 수 있고, 증착 소스 공급부(500)에서 공급되는 유기물 소스(600)들은 프레임 일체형 마스크(100, 200)에 형성된 패턴(P)을 통과하여 대상 기판(900)의 일측에 증착될 수 있다. 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴(P)을 통과한 증착된 유기물 소스(600)는 OLED의 화소(700)로서 작용할 수 있다.The deposition
새도우 이펙트(Shadow Effect)에 의한 화소(700)의 불균일 증착을 방지하기 위해, 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴은 경사지게 형성(S)[또는, 테이퍼 형상(S)으로 형성]될 수 있다. 경사진 면을 따라서 대각선 방향으로 패턴을 통과하는 유기물 소스(600)들도 화소(700)의 형성에 기여할 수 있으므로, 화소(700)는 전체적으로 두께가 균일하게 증착될 수 있다.In order to prevent non-uniform deposition of the
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량을 나타내는 개략 측단면도이다.9 is a schematic cross-sectional side view illustrating a Z-axis displacement of a mask cell sheet part according to an embodiment of the present invention.
도 8에서 살펴본 바와 같이, 프레임 일체형 마스크(100, 200)가 대상 기판(900)에 밀착되거나 매우 근접하게 배치되는 것이 요구된다. 마스크(100)를 통과한 유기물 소스(600)가 OLED 화소(700)를 형성할때, 마스크(100)와 대상 기판(900)의 간격이 멀어질수록 명확한 품질의 OLED 화소(700)를 형성하기 어렵게 된다.As seen in FIG. 8 , it is required that the frame-integrated
따라서, 도 9의 (a)처럼, 대상 기판(900)과의 밀착성이 향상되도록, 마스크 셀 시트부(220)는 플랫(flat)한 상태, 또는 적어도 처짐이 없거나 상부로 볼록한 상태로 테두리 프레임부(210)에 부착되는 것이 가장 바람직하다. 하지만, 마스크 셀 시트부(220)가 대면적화 되면서 하중에 의해 완벽하게 플랫한 상태를 유지하기는 쉽지 않다. 이에 따라, 도 9의 (b)처럼 처짐, 즉, Z축에서 - 방향으로 변위(H)가 발생할 수 있다.Therefore, as shown in (a) of FIG. 9 , in order to improve adhesion to the
본 발명은 도 4에서 상술한 바와 같이 제1, 2 더미 패턴(227, 229)을 형성하여 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 부착될 때의 인장력을 제어함에 따라 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 방향의 변위량을 설정한다. QHD, UHD, 8K UHD 등의 고화질의 OLED 화소(700)를 구현하기 위해, 대상 기판(600)과의 밀착도가 높아야 하며, 이를 위해 마스크 셀 시트부(220)의 상단면 기준으로 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량은 +50㎛ 내지 -200㎛인 것을 특징으로 한다. As described above with reference to FIG. 4 , the present invention forms the first and second dummy patterns 227 and 229 to control the tensile force when the mask
마스크(100)의 두께가 약 5~50㎛ 사이인 점을 고려하면, 마스크 셀 시트부(220)의 상단면은 마스크(100)에 두께에 대응하는 만큼 Z축으로 - 변위가 발생하여도 실질적으로 마스크(100)가 대상 기판(600)과 완전 밀착될 수 있다. 여기에 더하여 OLED 화소(700)가 마스크 패턴(P)의 폭과 설정된 오차범위 내에서 형성되는데 영향이 없는 정도의 간격을 고려하면, 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량은 +50㎛ 내지 -200㎛로 설정할 수 있다. 이 구간에서 프레임 일체형 마스크를 형성하면 고해상도의 OLED를 증착하기에 적합할 수 있다.Considering that the thickness of the
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 상의 마스크 셀 시트부에 대한 X축 및 Y축 방향의 측정 부분을 나타낸다.10 shows measurement portions in the X-axis and Y-axis directions of a mask cell sheet portion on a frame according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예에서는, 도 10에 도시된 바와 같은 약 450mm X 350mm의 크기를 가지고, 5 X 2 개의 마스크 셀 영역(CR)을 가지는 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 부착하였다. 도 10 (a)와 같이 X1~X12 방향(장축 방향)을 따라 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량을 측정하고, 도 10 (b)와 같이 Y1~Y6, Y10~Y16 방향(단축 방향)을 따라 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량을 측정하였다.In one embodiment of the present invention, the mask
도 11은 도 10 (a)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량을 나타낸다.FIG. 11 shows the Z-axis displacement of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (a).
도 11 (a)를 참조하면, X1 방향과 X4 방향에서는 대체로 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량이 0 이상인 것을 확인할 수 있다. 특히, 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 X축 약 80 이하, 약 470 이상 부분)에서는 부착을 위한 용접점의 높이로 인해 들뜸 수치가 높은 것이 확인된다. 마스크 셀 영역(CR) 내측(그래프에서 X축 약 80~470 부분)에서도 마스크 셀 시트부(220)의 처짐이 나타나지 않고, 오히려 상부로 돌출되는 것을 확인할 수 있다. X1, X4 방향은 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 부분으로서 테두리 프레임부(210)에 부착된 부분과 근접하여 팽팽한 상태이므로 하부로 처짐이 확인되지 않는다.Referring to FIG. 11 (a) , it can be confirmed that the Z-axis displacement of the mask
X2 방향과 X3 방향은 마스크 셀 시트부(220)의 중앙 부분으로서 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 부분이다. 따라서, 하부에 지지되는 부분이 없으므로, 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량이 0 이하인 것을 확인할 수 있다. 즉, 마스크 셀 시트부(220)가 하부로 처지기 때문에 -Z축으로 변위됨을 확인할 수 있다.The X2 direction and the X3 direction are central portions of the mask
도 11 (b)를 참조하면, X8 방향과 X9 방향에서는 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 X축 약 80 이하, 약 470 이상 부분)에서는 Z축 변위량이 0 이상인 반면, 마스크 셀 영역(CR) 내측에서는 Z축 변위량이 0 이하의 값을 가지며 처짐이 발생함을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 11 (b), in the X8 and X9 directions, the Z-axis displacement is 0 or more outside the mask cell region CR (the X-axis area below about 80 and above about 470 degrees in the graph), whereas the mask cell area CR ), it can be confirmed that the Z-axis displacement has a value of 0 or less on the inside and deflection occurs.
도 11 (c)를 참조하면, X5~X7 방향과 X10~X12 방향에서는 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량이 0 이상인 것을 확인할 수 있다. 이 부분은 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 지지된 부분이므로 하부로 처짐이 확인되지 않는다.Referring to FIG. 11 (c) , it can be confirmed that the Z-axis displacement of the mask
도 12는 도 10 (b)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 Z축 변위량을 나타낸다.FIG. 12 shows the Z-axis displacement of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (b).
도 12 (a)를 참조하면, Y1 방향과 Y6 방향에서는 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 Y축 약 70 이하, 약 350 이상 부분)에서는 부착을 위한 용접점의 높이로 인해 들뜸 수치가 높은 것이 확인된다. 마스크 셀 영역(CR) 내측(그래프에서 Y축 약 70~350 부분)에서는 하나의 그리드 셀 시트부(223, 225)만이 걸리므로, 이 부분에서만 Z축 변위가 상승하고 나머지 부분에서는 Z축 변위가 대체로 낮게 나타남을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 12 (a), in the Y1 and Y6 directions, the lift value is high due to the height of the welding point for attachment in the outer mask cell region (CR) (the Y-axis of about 70 or less, about 350 or more in the graph). that is confirmed Since only one grid cell sheet part (223, 225) is caught inside the mask cell region (CR) (approximately 70 to 350 on the Y axis in the graph), the Z-axis displacement increases only in this area and the Z-axis displacement increases in the other areas. It can be seen that it is generally low.
Y2~Y5 방향은 마스크 셀 시트부(220)의 중앙 부분으로서 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 부분이다. 따라서, 하부에 지지되는 부분이 없으므로, 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량이 0 이하인 것을 확인할 수 있다. 즉, 마스크 셀 시트부(220)가 하부로 처지기 때문에 -Z축으로 변위됨을 확인할 수 있다.The Y2 to Y5 directions correspond to the central portion of the mask
Y10 방향과 Y16 방향에서는 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량이 0 이상인 것을 확인할 수 있다. 이 부분은 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(210)에 지지된 부분이므로 하부로 처짐이 확인되지 않는다.In the Y10 and Y16 directions, it can be confirmed that the Z-axis displacement of the mask
도 12 (b)를 참조하면, Y11~Y15 방향에서는 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 Y축 약 70 이하, 약 350 이상 부분)에서는 Z축 변위량이 0 이상인 반면, 마스크 셀 영역(CR) 내측에서는 Z축 변위량이 0 이하의 값을 가지며 처짐이 발생함을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 12 (b), in the Y11 to Y15 directions, the Z-axis displacement is 0 or more outside the mask cell region CR (the Y-axis of about 70 or less and about 350 or more in the graph), whereas the mask cell region CR On the inside, it can be seen that the Z-axis displacement has a value of 0 or less and deflection occurs.
도 13은 도 10 (a)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 단위길이 당 Z축 변위량을 나타낸다. FIG. 13 shows the Z-axis displacement per unit length of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (a).
도 13을 참조하면, X1~X4 방향은 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 X축 약 80 이하, 약 470 이상 부분)에서는 부착을 위한 용접점의 높이로 인해 들뜸이 강하게 나타나므로, X축 단위길이 당 Z축 변위량이 ±20㎛/10mm 보다 크게 나타나는 것을 확인할 수 있다. 반면, 마스크 셀 영역(CR) 내측(그래프에서 X축 약 80~470 부분)에서는 급격하게 처짐이 발생하지 않고 리니어하게 처짐이 발생하도록 X축 단위길이 당 Z축 변위량이 ±20㎛/10mm 이하가 되도록 인장력을 제어하여 처짐량을 설정할 수 있다.Referring to FIG. 13, in the X1 to X4 directions, the lifting is strong due to the height of the welding point for attachment in the outside of the mask cell region (CR) (the X axis of about 80 or less, about 470 or more in the graph), so the X axis It can be seen that the Z-axis displacement per unit length is larger than ±20㎛/10mm. On the other hand, in the inside of the mask cell region (CR) (approximately 80 to 470 on the X axis in the graph), the Z-axis displacement per unit length in the X-axis must be less than ±20㎛/10mm so that sagging does not occur rapidly and sags occur linearly. The amount of deflection can be set by controlling the tensile force as much as possible.
도 14는 도 10 (b)의 각 방향에서의 마스크 셀 시트부의 단위길이 당 Z축 변위량을 나타낸다. Y축 단위길이 당 Z축 변위량의 절대값을 나타낸다.FIG. 14 shows the Z-axis displacement per unit length of the mask cell sheet portion in each direction of FIG. 10 (b). Indicates the absolute value of the Z-axis displacement per Y-axis unit length.
도 14를 참조하면, Y1, Y6 방향은 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 Y축 약 70 이하, 약 350 이상 부분)에서는 부착을 위한 용접점의 높이로 인해 들뜸이 강하게 나타나므로, Y축 단위길이 당 Z축 변위량이 ±20㎛/10mm 보다 크게 나타나는 것을 확인할 수 있다. 마스크 셀 영역(CR) 내측(그래프에서 Y축 약 70~350 부분)에서는 하나의 그리드 셀 시트부(223, 225)만이 걸리므로, 이 부분에서만 Z축 변위가 상승하여 단위길이 당 Z축 변위량이 크게 나타남을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 14, in the Y1 and Y6 directions, lifting appears strong due to the height of the welding point for attachment at the outer edge of the mask cell region CR (the Y axis of about 70 or less, about 350 or more in the graph), so the Y axis It can be seen that the Z-axis displacement per unit length is larger than ±20㎛/10mm. Since only one grid
Y2~Y5 방향은 마스크 셀 영역(CR) 외곽(그래프에서 Y축 약 70 이하, 약 350 이상 부분)에서는 부착을 위한 용접점의 높이로 인해 들뜸이 강하게 나타나므로, Y축 단위길이 당 Z축 변위량이 ±20㎛/10mm 보다 크게 나타나는 것을 확인할 수 있다. 반면, 마스크 셀 영역(CR) 내측(그래프에서 Y축 약 80~470 부분)에서는 급격하게 처짐이 발생하지 않고 리니어하게 처짐이 발생하도록 Y축 단위길이 당 Z축 변위량이 ±20㎛/10mm 이하가 되도록 인장력을 제어하여 처짐량을 설정할 수 있다.In the Y2 to Y5 directions, the lifting is strong due to the height of the welding point for attachment in the outside of the mask cell area (CR) (the Y-axis of about 70 or less, about 350 or more in the graph), so the Z-axis displacement per Y-axis unit length It can be seen that this appears larger than ±20 μm/10 mm. On the other hand, in the inside of the mask cell region (CR) (approximately 80 to 470 on the Y axis in the graph), the Z-axis displacement per unit length of the Y-axis must be less than ±20㎛/10mm so that sagging does not occur rapidly and sags occur linearly. The amount of deflection can be set by controlling the tensile force as much as possible.
위와 같이, 본 발명은, 마스크 셀 시트부(220)의 Z축 변위량[들뜸량/처짐량(H)]은 +50 ~ -200㎛이 바람직하고, X축/Y축 단위길이당 변화량은 ±20㎛/10mm 이하가 되도록 마스크 셀 시트부(220)의 인장력을 제어하여 프레임(200)을 구성할 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)과 대상 기판(900)의 밀착성을 향상시켜, 명확한 품질의 OLED 화소(700)를 형성할 수 있는 효과가 있다.As described above, in the present invention, the amount of Z-axis displacement (amount of lift/amount of deflection (H)) of the mask
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments, and various variations can be made by those skilled in the art within the scope of not departing from the spirit of the present invention. Transformation and change are possible. Such modifications and variations are to be regarded as falling within the scope of this invention and the appended claims.
100: 마스크
110: 마스크 막, 마스크 금속막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
227: 제1 더미 패턴
229: 제2 더미 패턴
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
P: 마스크 패턴100: mask
110: mask film, mask metal film
200: frame
210: border frame part
220: mask cell sheet portion
221: border seat portion
223: first grid sheet portion
225: second grid sheet portion
227: first dummy pattern
229: second dummy pattern
C: cell, mask cell
CR: mask cell area
P: mask pattern
Claims (10)
프레임은, 테두리 프레임부; 및 마스크 셀 시트부를 포함하고,
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 포함하고,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며,
마스크 셀 영역 내에서 마스크 셀 시트부의 X축 또는 Y축 방향의 단위 길이당 Z축 변위량은 ±20㎛/10mm 이하인, 프레임.A frame used to manufacture a frame-integrated mask by attaching a mask for forming an OLED pixel,
The frame may include a border frame portion; And a mask cell sheet portion,
The mask cell sheet part,
border sheet portion; at least one first grid sheet portion extending in a first direction and having both ends connected to the edge sheet portion; and at least one second grid sheet portion extending in a second direction perpendicular to the first direction, crossing the first grid sheet portion, and having both ends connected to the edge sheet portion;
The mask cell sheet portion includes a plurality of mask cell regions along at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction;
The Z-axis displacement amount per unit length in the X-axis or Y-axis direction of the mask cell sheet portion within the mask cell area is ±20 μm / 10 mm or less, the frame.
테두리 시트부의 적어도 일부에 더미 패턴이 형성되는, 프레임.According to claim 1,
A frame in which a dummy pattern is formed on at least a part of the edge sheet portion.
더미 패턴은,
마스크 셀 영역의 주변의 적어도 일부에 형성되는 제1 더미 패턴; 및
제1 더미 패턴이 형성된 부분의 적어도 외측에 형성되는 제2 더미 패턴;
을 포함하는, 프레임.According to claim 2,
The dummy pattern is
a first dummy pattern formed on at least a part of the periphery of the mask cell region; and
a second dummy pattern formed at least outside a portion where the first dummy pattern is formed;
Including, frame.
더미 패턴은, 마스크 셀 시트부의 적어도 일측에 인장력이 가해질 때 해당 인장력보다 적은 인장력이 마스크 셀 시트에 전달되도록 인장력을 상쇄하는, 프레임.According to claim 2,
The dummy pattern offsets the tensile force so that when a tensile force is applied to at least one side of the mask cell sheet portion, a tensile force smaller than the corresponding tensile force is transmitted to the mask cell sheet.
더미 패턴의 폭은 적어도 0.1mm 보다 큰, 프레임.According to claim 2,
The width of the dummy pattern is at least greater than 0.1mm, frame.
제1 더미 패턴보다 제2 더미 패턴이 더 크게 형성되는, 프레임.According to claim 3,
A frame in which the second dummy pattern is formed to be larger than the first dummy pattern.
마스크 셀 시트부는 부착 대상인 테두리 프레임부보다 큰 면적으로 형성되며, 제2 더미 패턴의 적어도 일부는 테두리 프레임부의 바깥 영역에 형성되는, 프레임.According to claim 3,
The frame of claim 1 , wherein the mask cell sheet portion is formed to have a larger area than the frame portion to be attached, and at least a part of the second dummy pattern is formed in an area outside the frame portion.
마스크 셀 시트부가 테두리 프레임부에 부착된 후, 제2 더미 패턴이 형성된 테두리 시트부의 적어도 일부는 트리밍(trimming)하여 제거하는, 프레임.According to claim 7,
After the mask cell sheet unit is attached to the edge frame unit, at least a portion of the edge sheet unit on which the second dummy pattern is formed is removed by trimming.
(a) 테두리 프레임부를 준비하는 단계; 및
(b) 마스크 셀 시트부의 적어도 일측을 인장하여 테두리 프레임부에 부착하는 단계;
를 포함하고,
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 포함하고,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며,
마스크 셀 영역 내에서 마스크 셀 시트부의 X축 또는 Y축 방향의 단위 길이당 Z축 변위량은 ±20㎛/10mm 이하인, 프레임의 제조 방법.A method for manufacturing a frame used to manufacture a frame-integrated mask by attaching a mask for forming an OLED pixel,
(a) preparing a border frame unit; and
(b) attaching at least one side of the mask cell sheet part to the edge frame part;
including,
The mask cell sheet part,
border sheet portion; at least one first grid sheet portion extending in a first direction and having both ends connected to the edge sheet portion; and at least one second grid sheet portion extending in a second direction perpendicular to the first direction, crossing the first grid sheet portion, and having both ends connected to the edge sheet portion;
The mask cell sheet portion includes a plurality of mask cell regions along at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction;
The Z-axis displacement amount per unit length in the X-axis or Y-axis direction of the mask cell sheet portion within the mask cell region is ±20 μm / 10 mm or less.
테두리 시트부의 적어도 일부에 더미 패턴이 형성되고,
(b) 단계에서, 더미 패턴은, 마스크 셀 시트부에 직접 인가하는 인장력보다 적은 인장력이 마스크 셀 시트에 전달되도록 인장력을 상쇄하는, 프레임의 제조 방법.According to claim 9,
A dummy pattern is formed on at least a part of the edge sheet portion,
In step (b), the dummy pattern offsets the tensile force so that a tensile force smaller than that directly applied to the mask cell sheet portion is transmitted to the mask cell sheet.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20190153526 | 2019-11-26 | ||
KR1020190153526 | 2019-11-26 | ||
KR1020200156966A KR102511834B1 (en) | 2019-11-26 | 2020-11-20 | Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200156966A Division KR102511834B1 (en) | 2019-11-26 | 2020-11-20 | Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230040971A true KR20230040971A (en) | 2023-03-23 |
KR102666397B1 KR102666397B1 (en) | 2024-05-17 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102511834B1 (en) | 2023-03-21 |
KR20210065047A (en) | 2021-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102358268B1 (en) | Method for reducing amount of deformation of mask-cell-sheet, mask integrated frame and producing method thereof | |
KR101986525B1 (en) | Producing method of mask | |
KR102010002B1 (en) | Producing method of mask integrated frame | |
KR102511834B1 (en) | Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof | |
KR20190096577A (en) | Mask integrated frame and producing method of mask integrated frame | |
KR20200006349A (en) | Producing method of mask integrated frame | |
TWI821376B (en) | Producing method of mask, mask and mask integrated frame | |
KR102666397B1 (en) | Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof | |
KR20210064996A (en) | Mask cell sheet for producing mask integrated frame | |
KR20190105977A (en) | Producing method of mask integrated frame | |
KR102138800B1 (en) | Mask and mask integrated frame | |
KR102071487B1 (en) | Producing method of mask and mask | |
KR20210064997A (en) | Frame integrated mask and frame | |
KR102010815B1 (en) | Frame and mask integrated frame | |
KR20200044747A (en) | Producing method of mask and producing method of mask integrated frame | |
KR102313965B1 (en) | Producing method of mask and mask and mask integrated frame including the same | |
KR20190095237A (en) | Frame and mask integrated frame | |
KR102357802B1 (en) | Mask integrated frame and producing method of mask integrated frame | |
KR102152688B1 (en) | Producing method of mask integrated frame | |
KR20200006351A (en) | Producing method of mask | |
KR102501249B1 (en) | Stick mask, frame-integrated mask and producing method thereof | |
KR20190141965A (en) | Producing method of mask | |
KR102142435B1 (en) | Mask integrated frame and producing method of mask integrated frame | |
KR102202528B1 (en) | Producing method of mask integrated frame | |
KR20210154492A (en) | Mask cell sheet for producing mask integrated frame and mask integrated frame |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |