KR102202528B1 - Producing method of mask integrated frame - Google Patents

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KR102202528B1 KR1020180120429A KR20180120429A KR102202528B1 KR 102202528 B1 KR102202528 B1 KR 102202528B1 KR 1020180120429 A KR1020180120429 A KR 1020180120429A KR 20180120429 A KR20180120429 A KR 20180120429A KR 102202528 B1 KR102202528 B1 KR 102202528B1
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Abstract

본 발명은 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 프레임 일체형 마스크의 제조 방법은, 적어도 하나의 마스크(100)와 마스크(100)를 지지하는 프레임(200)이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역(CR)을 구비한 프레임(200)을 제공하는 단계, (b) 마스크(100)를 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 단계, 및 (c) 마스크(100)의 용접부(WP)에 레이저(L)를 조사하여 마스크(100)를 프레임(200)에 접착하는 단계를 포함하고, (c) 단계에서 용접부(WP)를 타겟으로 불활성 가스를 분사(IG)하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask. A method of manufacturing a frame-integrated mask according to the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask 100 and a frame 200 supporting the mask 100 are integrally formed, comprising: (a) at least one mask Providing a frame 200 having a cell area CR, (b) matching the mask 100 to the mask cell area CR of the frame 200, and (c) the mask 100 Including the step of attaching the mask 100 to the frame 200 by irradiating a laser (L) on the welding part (WP), and injecting (IG) an inert gas to the target of the welding part (WP) in step (c). It is characterized.

Description

프레임 일체형 마스크의 제조 방법 {PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}Manufacturing method of a frame-integrated mask {PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}

본 발명은 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마스크를 프레임과 일체를 이루도록 할 수 있고, 각 마스크 간의 얼라인(align)을 명확하게 할 수 있으며, 마스크를 프레임에 용접 시 용접 돌기(burr)에 의한 단차를 방지할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask. In more detail, the mask can be integrated with the frame, alignment between each mask can be made clear, and when welding the mask to the frame, a step due to welding burrs can be prevented. It relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask.

최근에 박판 제조에 있어서 전주 도금(Electroforming) 방법에 대한 연구가 진행되고 있다. 전주 도금 방법은 전해액에 양극체, 음극체를 침지하고, 전원을 인가하여 음극체의 표면상에 금속박판을 전착시키므로, 극박판을 제조할 수 있으며, 대량 생산을 기대할 수 있는 방법이다.In recent years, research on an electroforming method in manufacturing a thin plate is in progress. The electroplating method is a method of immersing an anode body and a cathode body in an electrolyte solution, and applying power to deposit a metal thin plate on the surface of the cathode body, so that an ultra-thin plate can be manufactured and mass production can be expected.

한편, OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.Meanwhile, as a technology for forming pixels in the OLED manufacturing process, a Fine Metal Mask (FMM) method is mainly used in which an organic material is deposited at a desired location by attaching a thin metal mask to a substrate.

기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the existing OLED manufacturing process, the mask is manufactured in the form of a stick or plate, and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. One mask may include several cells corresponding to one display. In addition, in order to manufacture a large area OLED, several masks can be fixed to the OLED pixel deposition frame. In the process of fixing to the frame, each mask is stretched so that it is flat. It is a very difficult task to adjust the tension so that the entire part of the mask is flat. In particular, in order to align a mask pattern with a size of only a few to tens of μm while making all the cells flat, a high level of work is required to check the alignment in real time while finely adjusting the tension applied to each side of the mask. do.

그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing several masks to one frame, there is a problem in that the alignment between the masks and the mask cells is not good. In addition, in the process of welding and fixing the mask to the frame, since the thickness of the mask film is too thin and has a large area, there is a problem that the mask is struck or distorted by the load.

초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD quality is 500-600 PPI (pixel per inch), and the pixel size reaches about 30-50㎛, and 4K UHD, 8K UHD high-definition is higher than this, ~860 PPI, ~1600 PPI, etc. Will have a resolution of. In this way, in consideration of the pixel size of the ultra-high-definition OLED, the alignment error between cells should be reduced to about several µm, and the error beyond this leads to product failure, so the yield may be very low. Therefore, there is a need to develop a technique for preventing deformation such as a mask being struck or distorted, a technique for clarifying alignment, a technique for fixing a mask to a frame, and the like.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이룰 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been devised to solve the problems of the prior art as described above, and an object thereof is to provide a method of manufacturing a frame-integrated mask in which a mask and a frame can be integrated.

또한, 본 발명은 마스크를 프레임에 용접 시 용접 돌기에 의한 단차 발생을 방지하여, 화소 증착 공정에서 유리(backplane)와의 접촉에 따른 유리의 마모를 억제하고, 스크래치 발생에 따른 이물 발생을 억제하며, 위치정밀도(PPA) 틀어짐을 방지할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, the present invention prevents the occurrence of steps due to welding protrusions when welding the mask to the frame, suppresses abrasion of the glass due to contact with the backplane in the pixel deposition process, suppresses the occurrence of foreign matter due to the occurrence of scratches, It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of preventing distortion of positional accuracy (PPA).

또한, 본 발명은 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of preventing deformation such as being struck or distorted and clarifying alignment.

또한, 본 발명은 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킨 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask in which the manufacturing time is remarkably reduced and the yield is significantly increased.

본 발명의 상기의 목적은, 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 제공하는 단계; (b) 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및 (c) 마스크의 용접부에 레이저를 조사하여 마스크를 프레임에 부착하는 단계를 포함하고, (c) 단계에서 용접부를 타겟으로 불활성 가스를 분사하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, comprising the steps of: (a) providing a frame having at least one mask cell region; (b) mapping the mask to the mask cell area of the frame; And (c) attaching the mask to the frame by irradiating a laser to the welding portion of the mask, and in step (c) injecting an inert gas to the target of the welding portion, the method of manufacturing a frame-integrated mask is achieved.

(a) 단계는, (a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계; (a2) 평면의 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하는 단계; 및 (a3) 마스크 셀 시트부에 복수의 마스크 셀 영역을 형성하여 프레임을 제조하는 단계를 포함할 수 있다.The step (a) may include: (a1) providing a frame unit including a hollow area; (a2) connecting the planar mask cell sheet portion to the frame frame portion; And (a3) manufacturing a frame by forming a plurality of mask cell regions on the mask cell sheet portion.

(a) 단계는, (a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계; 및 (a2) 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하여 프레임을 제조하는 단계를 포함할 수 있다.The step (a) may include: (a1) providing a frame unit including a hollow area; And (a2) connecting a mask cell sheet portion having a plurality of mask cell regions to an edge frame portion to manufacture a frame.

마스크를 트레이 상에 부착하고, 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응할 수 있다.The mask may be attached to the tray and the tray may be loaded on the frame to correspond the mask to the mask cell area of the frame.

트레이는 평판 형상이고, 레이저 광이 투과하는 재질을 포함할 수 있다.The tray has a flat plate shape and may include a material through which laser light is transmitted.

트레이는 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz), 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나의 재질을 포함할 수 있다.The tray may include any one of glass, silica, heat-resistant glass, quartz, and alumina (Al 2 O 3 ).

마스크의 용접부에 대응하는 트레이의 부분에 레이저 통과공이 형성될 수 있다.A laser through hole may be formed in a portion of the tray corresponding to the welding portion of the mask.

레이저가 조사된 마스크의 부분에 용접 비드(bead)가 형성되고, 용접 비드는 마스크와 프레임이 일체로 연결되도록 매개할 수 있다.A welding bead is formed on a portion of the mask irradiated with the laser, and the welding bead may be mediated so that the mask and the frame are integrally connected.

불활성 가스(inert gas)의 분사로 용접 비드의 산화를 억제할 수 있다.Oxidation of the weld bead can be suppressed by injection of an inert gas.

불활성 가스를 분사하지 않는 경우보다, 불활성 가스를 분사할 경우에 용접 비드의 높이가 7.5㎛ 내지 15㎛가 낮게 형성될 수 있다.When the inert gas is injected, the height of the weld bead may be formed to be 7.5 μm to 15 μm lower than when the inert gas is not injected.

마스크는, 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고, 더미의 적어도 일부가 마스크 셀 시트부에 부착될 수 있다.The mask may include a mask cell on which a plurality of mask patterns are formed, and a dummy around the mask cell, and at least a part of the dummy may be attached to the mask cell sheet.

마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비할 수 있다.The mask cell sheet portion may include a plurality of mask cell regions along at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction.

마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 및 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부를 포함할 수 있다.The mask cell sheet portion, the frame sheet portion; And at least one first grid sheet portion extending in the first direction and having both ends connected to the edge sheet portion.

마스크 셀 시트부는, 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 더 포함할 수 있다.The mask cell sheet portion may further include at least one second grid sheet portion extending in a second direction perpendicular to the first direction, crossing the first grid sheet portion, and having both ends connected to the edge sheet portion.

마스크 및 프레임은 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈, 니켈-코발트 중 어느 하나의 재질일 수 있다.The mask and frame may be made of any one of invar, super invar, nickel, and nickel-cobalt.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이룰 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, there is an effect that the mask and the frame can form an integral structure.

또한, 본 발명에 따르면, 마스크를 프레임에 용접 시 용접부 돌기에 의한 단차 발생을 방지하여, 화소 증착 공정에서 유리(backplane)와의 접촉에 따른 유리의 마모를 억제하고, 스크래치 발생에 따른 이물발생을 억제하며, 위치정밀도(PPA) 틀어짐을 방지할 수 있는 효과가 있다 In addition, according to the present invention, when the mask is welded to the frame, the occurrence of a step due to the protrusion of the weld is prevented, thereby suppressing abrasion of the glass due to contact with the backplane in the pixel deposition process, and suppressing the occurrence of foreign substances due to the occurrence of scratches. And, it has the effect of preventing distortion of the location accuracy (PPA).

또한, 본 발명에 따르면, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of preventing deformation, such as being struck or distorted, of the mask, and enabling clear alignment.

또한, 본 발명에 따르면, 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 효과가 있다.Further, according to the present invention, there is an effect of remarkably reducing the manufacturing time and increasing the yield remarkably.

도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 2는 종래의 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 3은 종래의 마스크를 인장하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 형태 및 마스크를 트레이 상에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 10 및 도 11은 종래의 마스크를 프레임에 용접한 후의 상태를 나타내는 개략도이다.
도 12는 종래의 마스크를 프레임에 용접한 상태를 나타내는 사진이다.
도 13은 종래의 마스크를 프레임에 용접한 용접 비드의 표면 EDS(Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy) 분석 결과이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 용접한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 순차적으로 셀 영역에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착한 후 공정 영역의 온도를 하강시키는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional OLED pixel deposition mask.
2 is a schematic diagram showing a process of attaching a conventional mask to a frame.
3 is a schematic diagram showing that an alignment error between cells occurs in a process of tensioning a conventional mask.
4 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
5 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a frame according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a frame according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram showing a shape of a mask and a state in which the mask is attached on a tray according to an embodiment of the present invention.
9 is a schematic diagram illustrating a state in which a tray according to an embodiment of the present invention is loaded onto a frame and a mask is associated with a cell area of the frame.
10 and 11 are schematic diagrams showing a state after welding a conventional mask to the frame.
12 is a photograph showing a state in which a conventional mask is welded to a frame.
13 is an EDS (Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy) analysis result of a surface of a weld bead in which a conventional mask is welded to a frame.
14 is a schematic diagram showing a state in which a mask according to an embodiment of the present invention is welded to a frame.
15 is a schematic diagram illustrating a process of sequentially attaching a mask to a cell area according to an embodiment of the present invention.
16 is a schematic diagram illustrating a process of lowering a temperature of a process area after attaching a mask to a cell area of a frame according to an embodiment of the present invention.
17 is a schematic diagram showing an OLED pixel deposition apparatus using a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The detailed description of the present invention to be described later refers to the accompanying drawings, which illustrate specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in detail sufficient to enable a person skilled in the art to practice the present invention. It is to be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other, but need not be mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the present invention in relation to one embodiment. In addition, it is to be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Accordingly, the detailed description to be described below is not intended to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all scopes equivalent to those claimed by the claims. In the drawings, similar reference numerals refer to the same or similar functions over several aspects, and the length, area, thickness, and the like may be exaggerated and expressed for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to enable those of ordinary skill in the art to easily implement the present invention.

도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크(10)를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional OLED pixel deposition mask 10.

도 1을 참조하면, 종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)으로 제조될 수 있다. 도 1의 (a)에 도시된 마스크(10)는 스틱형 마스크로서, 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 도 1의 (b)에 도시된 마스크(100)는 판형(Plate-Type) 마스크로서, 넓은 면적의 화소 형성 공정에서 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, a conventional mask 10 may be manufactured in a stick-type or plate-type. The mask 10 shown in (a) of FIG. 1 is a stick-type mask, and both sides of the stick can be welded and fixed to an OLED pixel deposition frame. The mask 100 shown in (b) of FIG. 1 is a plate-type mask and may be used in a process of forming a pixel having a large area.

마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 셀(C)을 확대하면 R, G, B에 대응하는 복수의 화소 패턴(P)이 나타난다. 일 예로, 셀(C)에는 70 X 140의 해상도를 가지도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 즉, 수많은 화소 패턴(P)들은 군집을 이루어 셀(C) 하나를 구성하며, 복수의 셀(C)들이 마스크(10)에 형성될 수 있다.A plurality of display cells C are provided on the body of the mask 10 (or the mask layer 11). One cell C corresponds to one display such as a smartphone. A pixel pattern P is formed in the cell C to correspond to each pixel of the display. When the cell C is enlarged, a plurality of pixel patterns P corresponding to R, G, and B appear. For example, a pixel pattern P is formed in the cell C to have a resolution of 70 X 140. That is, a number of pixel patterns P are clustered to form one cell C, and a plurality of cells C may be formed on the mask 10.

도 2는 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 3은 종래의 마스크(10)를 인장(F1~F2)하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다. 도 1의 (a)에 도시된 6개의 셀(C: C1~C6)을 구비하는 스틱 마스크(10)를 예로 들어 설명한다.2 is a schematic diagram showing a process of attaching the conventional mask 10 to the frame 20. 3 is a schematic diagram showing that an alignment error occurs between cells in a process of stretching the conventional mask 10 (F1 to F2). A stick mask 10 including six cells C: C1 to C6 shown in FIG. 1A will be described as an example.

도 2의 (a)를 참조하면, 먼저, 스틱 마스크(10)를 평평하게 펴야한다. 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 당김에 따라 스틱 마스크(10)가 펴지게 된다. 그 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다. 프레임(20)은 하나의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수 있고, 복수의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수도 있다.Referring to FIG. 2A, first, the stick mask 10 must be flattened. The stick mask 10 is unfolded as it is pulled by applying a tensile force F1 to F2 in the long axis direction of the stick mask 10. In that state, the stick mask 10 is loaded on the frame 20 in the form of a square frame. Cells C1 to C6 of the stick mask 10 are located in a blank area inside the frame of the frame 20. The frame 20 may have a size such that cells C1 to C6 of one stick mask 10 are located in an empty area inside the frame, and cells C1 to C6 of a plurality of stick masks 10 are It may be large enough to be located in an internal empty area.

도 2의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 2의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to FIG. 2(b), after aligning while finely adjusting the tensile forces (F1 to F2) applied to each side of the stick mask 10, a part of the side of the stick mask 10 is welded (W). Accordingly, the stick mask 10 and the frame 20 are interconnected. 2C shows a cross-sectional side view of the frame and the stick mask 10 connected to each other.

도 3을 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C3)들의 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수(일 예로, 6개)의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다.Referring to FIG. 3, although the tensile forces F1 to F2 applied to each side of the stick mask 10 are finely adjusted, there is a problem in that the mask cells C1 to C3 are not well aligned with each other. For example, the distances D1 to D1" and D2 to D2" between the patterns P of the cells C1 to C3 are different from each other, or the patterns P are skewed. Since the stick mask 10 has a large area including a plurality (for example, 6) of cells C1 to C6 and has a very thin thickness of several tens of µm, it is easily struck or distorted by a load. In addition, it is a very difficult task to check the alignment between each cell (C1 to C6) in real time through a microscope while adjusting the tensile force (F1 to F2) to flatten all of the cells (C1 to C6).

따라서, 인장력(F1~F2)의 미세한 오차는 스틱 마스크(10) 각 셀(C1~C3)들이 늘어나거나, 펴지는 정도에 오차를 발생시킬 수 있고, 그에 따라 마스크 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상이해지게 되는 문제점을 발생시킨다. 물론, 완벽하게 오차가 0이 되도록 정렬하는 것은 어려운 것이지만, 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Therefore, a minute error in the tensile force (F1 to F2) may cause an error in the extent to which each of the cells (C1 to C3) of the stick mask 10 is stretched or unfolded, and accordingly, the distance D1 between the mask patterns (P) ~D1", D2 ~ D2") causes a problem that becomes different. Of course, it is difficult to completely align the error to be 0, but in order to prevent the mask pattern (P) having a size of several to tens of µm from adversely affecting the pixel process of an ultra-high-definition OLED, the alignment error should not exceed 3 µm. It is desirable not to. This alignment error between adjacent cells is referred to as PPA (pixel position accuracy).

이에 더하여, 대략 6~20개 정도의 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.In addition, a plurality of stick masks 10 of about 6 to 20 are connected to one frame 20, respectively, between a plurality of stick masks 10, and a plurality of cells C of the stick mask 10 It is also a very difficult task to clarify the alignment state between ~C6), and the process time according to the alignment is inevitably increased, which is a significant reason for reducing productivity.

한편, 스틱 마스크(10)를 프레임(20)에 연결 고정시킨 후에는, 스틱 마스크(10)에 가해졌던 인장력(F1~F2)이 프레임(20)에 역으로 작용할 수 있다. 즉, 인장력(F1~F2)에 의해 팽팽히 늘어났던 스틱 마스크(10)가 프레임(20)에 연결된 후에 프레임(20)에 장력(tension)을 작용할 수 있다. 보통 이 장력이 크지 않아서 프레임(20)에 큰 영향을 미치지 않을 수 있으나, 프레임(20)의 크기가 소형화되고 강성이 낮아지는 경우에는 이러한 장력이 프레임(20)을 미세하게 변형시킬 수 있다. 그리하면 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태가 틀어지는 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, after the stick mask 10 is connected and fixed to the frame 20, the tensile forces F1 to F2 applied to the stick mask 10 may act in reverse to the frame 20. That is, after the stick mask 10, which was stretched by the tensile force F1 to F2, is connected to the frame 20, a tension may be applied to the frame 20. Usually, this tension is not large and may not have a large effect on the frame 20, but when the size of the frame 20 is reduced in size and the rigidity is lowered, this tension may finely deform the frame 20. As a result, there may be a problem of misalignment between the plurality of cells C to C6.

이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다. 마스크(100)가 프레임(200)에 연결될 때 마스크(100)에 어떠한 인장력도 가하지 않으므로, 마스크(100)가 프레임(200)에 연결된 후 프레임(200)이 변형될 정도의 장력을 가하지 않을 수 있다. 그리고, 마스크(100)를 프레임(200)에 일체로 연결하는 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 이점을 가진다.Accordingly, the present invention proposes a frame 200 and a frame-integrated mask that enables the mask 100 to form an integral structure with the frame 200. The mask 100 integrally formed in the frame 200 is prevented from being struck or warped, and may be clearly aligned with the frame 200. Since no tensile force is applied to the mask 100 when the mask 100 is connected to the frame 200, the frame 200 may not be deformed after the mask 100 is connected to the frame 200. . In addition, the manufacturing time for integrally connecting the mask 100 to the frame 200 can be significantly reduced, and the yield can be remarkably increased.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 4의 (a)] 및 측단면도[도 4의 (b)]이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도[도 5의 (a)] 및 측단면도[도 5의 (b)]이다.Figure 4 is a front view [Fig. 4 (a)] and a side cross-sectional view [Fig. 4 (b)] showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is according to an embodiment of the present invention It is a front view [FIG. 5(a)] and a side cross-sectional view [FIG. 5(b)] showing the frame.

도 4 및 도 5를 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 부착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 부착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있으며, 프레임(200)에 부착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.4 and 5, the frame-integrated mask may include a plurality of masks 100 and one frame 200. In other words, a plurality of masks 100 are attached to the frame 200, one by one. Hereinafter, for convenience of explanation, a square-shaped mask 100 will be described as an example, but the mask 100 may be in the form of a stick mask having protrusions clamped on both sides before being attached to the frame 200, and the frame 200 ), the protrusion can be removed after being attached.

각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다. 얇은 두께로 형성할 수 있도록, 마스크(100)는 전주도금(electroforming)으로 형성될 수 있다. 마스크(100)는 열팽창계수가 약 1.0 X 10-6/℃인 인바(invar), 약 1.0 X 10-7/℃ 인 슈퍼 인바(super invar) 재질일 수 있다. 이 재질의 마스크(100)는 열팽창계수가 매우 낮기 때문에 열에너지에 의해 마스크의 패턴 형상이 변형될 우려가 적어 고해상도 OLED 제조에서 있어서 FMM(Fine Metal Mask), 새도우 마스크(Shadow Mask)로 사용될 수 있다. 이 외에, 최근에 온도 변화값이 크지 않은 범위에서 화소 증착 공정을 수행하는 기술들이 개발되는 것을 고려하면, 마스크(100)는 이보다 열팽창계수가 약간 큰 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크의 두께는 약 2㎛ 내지 50㎛ 정도로 형성될 수 있다.A plurality of mask patterns P may be formed on each mask 100, and one cell C may be formed on one mask 100. One mask cell C may correspond to one display such as a smartphone. In order to form a thin thickness, the mask 100 may be formed by electroforming. Mask 100 may be a coefficient of thermal expansion of about 1.0 X 10 -6 / ℃ of invar (invar), about 1.0 X 10 -7 / ℃ Super Invar (super invar) material. Since the mask 100 made of this material has a very low coefficient of thermal expansion, it is less likely that the pattern shape of the mask may be deformed by thermal energy, so it can be used as a Fine Metal Mask (FMM) or a shadow mask in high-resolution OLED manufacturing. In addition, considering the recent development of technologies for performing a pixel deposition process in a range where the temperature change value is not large, the mask 100 is made of nickel (Ni) and nickel-cobalt (Ni-Co) having a slightly larger coefficient of thermal expansion than this. ), etc. The mask may have a thickness of about 2 μm to 50 μm.

프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 부착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 최외곽 테두리를 포함해 제1 방향(예를 들어, 가로 방향), 제2 방향(예를 들어, 세로 방향)으로 형성되는 여러 모서리를 포함할 수 있다. 이러한 여러 모서리들은 프레임(200) 상에 마스크(100)가 부착될 구역을 구획할 수 있다.The frame 200 is formed to attach a plurality of masks 100. The frame 200 may include several corners formed in a first direction (eg, horizontal direction) and a second direction (eg, vertical direction) including an outermost edge. These various corners may partition a region on the frame 200 to which the mask 100 is to be attached.

프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다. 즉, 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함할 수 있다. 프레임(200)은 인바, 슈퍼인바, 알루미늄, 티타늄 등의 금속 재질로 구성될 수 있으며, 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 열팽창계수를 가지는 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질로 구성되는 것이 바람직하고, 이 재질들은 프레임(200)의 구성요소인 테두리 프레임부(210), 마스크 셀 시트부(220)에 모두 적용될 수 있다.The frame 200 may include a frame portion 210 having a substantially square shape or a square frame shape. The inside of the frame frame 210 may have a hollow shape. That is, the frame frame unit 210 may include a hollow region R. The frame 200 may be made of metal materials such as Invar, Super Invar, aluminum, titanium, etc., and in consideration of thermal deformation, it is composed of materials such as Invar, Super Invar, nickel, nickel-cobalt, etc., which have the same coefficient of thermal expansion as the mask. Preferably, these materials may be applied to both the frame part 210 and the mask cell sheet part 220 which are components of the frame 200.

이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 마스크(100)와 마찬가지로 전주도금으로 형성되거나, 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 또한, 마스크 셀 시트부(220)는 평면의 시트(sheet)에 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성한 후, 테두리 프레임부(210)에 연결할 수 있다. 또는, 마스크 셀 시트부(220)는 평면의 시트를 테두리 프레임부(210)에 연결한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성할 수 있다. 본 명세서에서는 마스크 셀 시트부(220)에 먼저 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성한 후, 테두리 프레임부(210)에 연결한 것을 주로 상정하여 설명한다.In addition, the frame 200 may include a plurality of mask cell regions CR, and may include a mask cell sheet part 220 connected to the frame frame part 210. Like the mask 100, the mask cell sheet part 220 may be formed by electroplating, or may be formed using another film forming process. In addition, the mask cell sheet part 220 may form a plurality of mask cell regions CR on a planar sheet through laser scribing, etching, or the like, and then connect to the frame frame part 210. Alternatively, the mask cell sheet part 220 may form a plurality of mask cell regions CR through laser scribing, etching, or the like after connecting the planar sheet to the frame frame part 210. In the present specification, it is assumed that a plurality of mask cell regions CR are first formed in the mask cell sheet part 220 and then connected to the frame frame part 210.

마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225) 중 적어도 하나를 포함하여 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.The mask cell sheet part 220 may be configured to include at least one of an edge sheet part 221 and first and second grid sheet parts 223 and 225. The frame sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 refer to respective portions partitioned in the same sheet, and they are integrally formed with each other.

테두리 시트부(221)가 실질적으로 테두리 프레임부(210)에 연결될 수 있다. 따라서, 테두리 시트부(221)는 테두리 프레임부(210)와 대응하는 대략 사각 형상, 사각틀 형상을 가질 수 있다.The frame sheet part 221 may be substantially connected to the frame frame part 210. Accordingly, the frame sheet part 221 may have a substantially square shape and a square frame shape corresponding to the frame frame part 210.

또한, 제1 그리드 시트부(223)는 제1 방향(가로 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제1 그리드 시트부(223)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 시트부(221)에 연결될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 복수의 제1 그리드 시트부(223)를 포함하는 경우, 각각의 제1 그리드 시트부(223)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.In addition, the first grid sheet portion 223 may be formed to extend in a first direction (horizontal direction). The first grid sheet portion 223 may be formed in a linear shape so that both ends may be connected to the edge sheet portion 221. When the mask cell sheet portion 220 includes a plurality of first grid sheet portions 223, it is preferable that each of the first grid sheet portions 223 form equal intervals.

또한, 이에 더하여, 제2 그리드 시트부(225)가 제2 방향(세로 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제2 그리드 시트부(225)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 시트부(221)에 연결될 수 있다. 제1 그리드 시트부(223)와 제2 그리드 시트부(225)는 서로 수직 교차될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 복수의 제2 그리드 시트부(225)를 포함하는 경우, 각각의 제2 그리드 시트부(225)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.Further, in addition to this, the second grid sheet portion 225 may be formed to extend in a second direction (vertical direction). The second grid sheet portion 225 may be formed in a linear shape so that both ends may be connected to the edge sheet portion 221. The first grid sheet portion 223 and the second grid sheet portion 225 may vertically cross each other. When the mask cell sheet portion 220 includes a plurality of second grid sheet portions 225, each of the second grid sheet portions 225 is preferably formed at an equal interval.

한편, 제1 그리드 시트부(223)들 간의 간격과, 제2 그리드 시트부(225)들 간의 간격은 마스크 셀(C)의 크기에 따라서 동일하거나 상이할 수 있다.Meanwhile, the spacing between the first grid sheet parts 223 and the spacing between the second grid sheet parts 225 may be the same or different according to the size of the mask cell C.

제1 그리드 시트부(223) 및 제2 그리드 시트부(225)는 박막 형태의 얇은 두께를 가지지만, 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 직사각형, 사다리꼴과 같은 사각형 형상, 삼각형 형상 등일 수 있고, 변, 모서리 부분이 일부 라운딩 될 수도 있다. 단면 형상은 레이저 스크라이빙, 에칭 등의 과정에서 조절 가능하다.The first grid sheet portion 223 and the second grid sheet portion 225 have a thin thickness in the form of a thin film, but the shape of a cross-section perpendicular to the length direction may be a rectangle, a square shape such as a trapezoid, a triangle shape, etc., Some of the sides and corners may be rounded. The cross-sectional shape can be adjusted in the process of laser scribing and etching.

테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 테두리 프레임부(210)는 프레임(200)의 전체 강성을 담당하기 때문에 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다.The thickness of the frame frame part 210 may be thicker than the thickness of the mask cell sheet part 220. Since the frame frame portion 210 is responsible for the overall rigidity of the frame 200, it may be formed to a thickness of several mm to several cm.

마스크 셀 시트부(220)의 경우는, 실질적으로 두꺼운 시트를 제조하는 공정이 어렵고, 너무 두꺼우면 OLED 화소 증착 공정에서 유기물 소스(600)[도 17 참조]가 마스크(100)를 통과하는 경로를 막는 문제를 발생시킬 수 있다. 반대로, 두께가 너무 얇아지면 마스크(100)를 지지할 정도의 강성 확보가 어려울 수 있다. 이에 따라, 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 것이 바람직하다. 마스크 셀 시트부(220)의 두께는, 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 형성될 수 있다. 그리고, 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.In the case of the mask cell sheet part 220, the process of manufacturing a substantially thick sheet is difficult, and if it is too thick, the organic material source 600 (see FIG. 17) passes through the mask 100 in the OLED pixel deposition process. It can cause clogging problems. Conversely, if the thickness is too thin, it may be difficult to secure enough rigidity to support the mask 100. Accordingly, the mask cell sheet portion 220 is thinner than the thickness of the frame frame portion 210, but is preferably thicker than the mask 100. The thickness of the mask cell sheet part 220 may be about 0.1 mm to 1 mm. In addition, the first and second grid sheet portions 223 and 225 may have a width of about 1 to 5 mm.

평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다. 다른 관점에서, 마스크 셀 영역(CR)이라 함은, 테두리 프레임부(210)의 중공 영역(R)에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외한, 빈 영역을 의미할 수 있다.A plurality of mask cell areas CR (CR11 to CR56) may be provided except for the area occupied by the edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 in a flat sheet. In another aspect, the mask cell area CR is an area occupied by the frame sheet part 221 and the first and second grid sheet parts 223 and 225 in the hollow area R of the frame frame part 210. Except for, it may mean an empty area.

이 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)의 셀(C)이 대응됨에 따라, 실질적으로 마스크 패턴(P)을 통해 OLED의 화소가 증착되는 통로로 이용될 수 있게 된다. 전술하였듯이 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)을 구성하는 마스크 패턴(P)들이 형성될 수 있다. 또는, 하나의 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있으나, 마스크(100)의 명확한 정렬을 위해서는 대면적 마스크(100)를 지양할 필요가 있고, 하나의 셀(C)을 구비하는 소면적 마스크(100)가 바람직하다. 또는, 프레임(200)의 하나의 셀 영역(CR)에 복수의 셀(C)을 가지는 하나의 마스크(100)가 대응할 수도 있다. 이 경우, 명확한 정렬을 위해서는 2-3개 정도의 소수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)를 대응하는 것을 고려할 수 있다.As the cell C of the mask 100 corresponds to the mask cell region CR, it can be used as a passage through which the pixel of the OLED is deposited substantially through the mask pattern P. As described above, one mask cell C corresponds to one display such as a smartphone. Mask patterns P constituting one cell C may be formed on one mask 100. Alternatively, one mask 100 may include a plurality of cells C, and each cell C may correspond to each cell area CR of the frame 200, but clear alignment of the mask 100 is achieved. In order to do so, it is necessary to avoid the large-area mask 100, and a small-area mask 100 having one cell C is preferable. Alternatively, one mask 100 having a plurality of cells C may correspond to one cell area CR of the frame 200. In this case, for clear alignment, it may be considered to correspond to the mask 100 having a small number of cells C of about 2-3.

프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 부착될 수 있다. 각각의 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미[DM; 셀(C)을 제외한 마스크 막(110) 부분에 대응, 도 8 참조]를 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The frame 200 includes a plurality of mask cell areas CR, and each mask 100 may be attached such that one mask cell C corresponds to the mask cell area CR. Each mask 100 may include a mask cell C having a plurality of mask patterns P formed thereon, and a dummy DM around the mask cell C; Corresponding to portions of the mask layer 110 excluding the cell C, see FIG. 8] may be included. The dummy DM may include only the mask layer 110 or may include a mask layer 110 in which a predetermined dummy pattern similar to the mask pattern P is formed. The mask cell C corresponds to the mask cell area CR of the frame 200, and some or all of the dummy DM may be attached to the frame 200 (mask cell sheet part 220 ). Accordingly, the mask 100 and the frame 200 can form an integral structure.

한편, 다른 실시예에 따르면, 프레임은 테두리 프레임부(210)에 마스크 셀 시트부(220)를 부착하여 제조하지 않고, 테두리 프레임부(210)의 중공 영역(R) 부분에 테두리 프레임부(210)와 일체인 그리드 프레임[그리드 시트부(223, 225)에 대응]을 곧바로 형성한 프레임을 사용할 수도 있다. 이러한 형태의 프레임도 적어도 하나의 마스크 셀 영역(CR)을 포함하며, 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)를 대응시켜 프레임 일체형 마스크를 제조할 수 있게 된다.Meanwhile, according to another embodiment, the frame is not manufactured by attaching the mask cell sheet part 220 to the frame frame part 210, but the frame frame part 210 is formed in the hollow region R part of the frame frame part 210. ) And an integral grid frame (corresponding to the grid seat portions 223 and 225) may be directly formed. This type of frame also includes at least one mask cell area CR, and a frame-integrated mask can be manufactured by matching the mask 100 to the mask cell area CR.

이하에서는, 프레임 일체형 마스크를 제조하는 과정에 대해 설명한다.Hereinafter, a process of manufacturing a frame-integrated mask will be described.

먼저, 도 4 및 도 5에서 상술한 프레임(200)을 제공할 수 있다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임(200)의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.First, the frame 200 described above in FIGS. 4 and 5 may be provided. 6 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the frame 200 according to an embodiment of the present invention.

도 6의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)를 제공한다. 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함한 사각 틀 형상일 수 있다.Referring to FIG. 6A, a frame frame part 210 is provided. The frame frame part 210 may have a rectangular frame shape including a hollow region R.

다음으로, 도 6의 (b)를 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)를 제조한다. 마스크 셀 시트부(220)는 전주도금 또는 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 평면의 시트를 제조한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분을 제거함에 따라 제조할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)가 존재할 수 있다.Next, referring to FIG. 6B, a mask cell sheet part 220 is manufactured. The mask cell sheet part 220 can be manufactured by manufacturing a flat sheet using electroplating or other film forming processes, and then removing a portion of the mask cell area (CR) through laser scribing or etching. have. In this specification, an example in which a 6 X 5 mask cell region (CR: CR11 to CR56) is formed will be described. Five first grid sheet portions 223 and four second grid sheet portions 225 may be present.

다음으로, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220)의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220)를 평평하게 편 상태로 테두리 시트부(221)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 6의 (b)의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220)를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220)를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, the mask cell sheet part 220 may correspond to the frame frame part 210. In the process of correspondence, all sides of the mask cell sheet part 220 are stretched (F1 to F4) to flatten the mask cell sheet part 220 and the frame sheet part 221 is attached to the frame frame part 210. Can respond. In one side, it is possible to hold the mask cell sheet portion 220 at several points (for example, 1 to 3 points in FIG. 6 (b)) and stretch it. On the other hand, the mask cell sheet portion 220 may be stretched (F1, F2) along some side directions instead of all sides.

다음으로, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응하면, 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 시트부(221)를 용접(W)하여 부착할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(220)에 견고하게 부착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220)와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220)를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, when the mask cell sheet part 220 corresponds to the frame frame part 210, the frame sheet part 221 of the mask cell sheet part 220 may be attached by welding (W). It is preferable to weld (W) all sides so that the mask cell sheet part 220 can be firmly attached to the frame part 220. Welding (W) should be performed as close as possible to the edge of the frame frame part 210 to reduce the excitement space between the frame part 210 and the mask cell sheet part 220 and increase adhesion. The welding (W) part may be created in a line or spot shape, and the frame frame part 210 and the mask cell sheet part 220 are integrally made of the same material as the mask cell sheet part 220. It can be a medium to connect with.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다. 도 6의 실시예는 마스크 셀 영역(CR)을 구비한 마스크 셀 시트부(220)를 먼저 제조하고 테두리 프레임부(210)에 부착하였으나, 도 7의 실시예는 평면의 시트를 테두리 프레임부(210)에 부착한 후에, 마스크 셀 영역(CR) 부분을 형성한다.7 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a frame according to another embodiment of the present invention. In the embodiment of FIG. 6, the mask cell sheet part 220 having the mask cell area CR is first manufactured and attached to the frame frame part 210. However, in the embodiment of FIG. 210), a mask cell region CR is formed.

먼저, 도 6의 (a)처럼, 중공 영역(R)을 포함한 테두리 프레임부(210)를 제공한다.First, as shown in (a) of FIG. 6, a frame part 210 including a hollow region R is provided.

다음으로, 도 7의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)에 평면의 시트[평면의 마스크 셀 시트부(220')]를 대응할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220')는 아직 마스크 셀 영역(CR)이 형성되지 않은 평면 상태이다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220')의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220')를 평평하게 편 상태로 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 7의 (a)의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220')를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220')를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, referring to FIG. 7A, a flat sheet (a flat mask cell sheet 220 ′) may correspond to the frame frame 210. The mask cell sheet part 220 ′ is in a planar state in which the mask cell area CR has not yet been formed. In the matching process, all sides of the mask cell sheet part 220 ′ are stretched (F1 to F4) to correspond to the frame frame part 210 with the mask cell sheet part 220 ′ flattened. One side can also hold the mask cell sheet portion 220 ′ at several points (eg, 1 to 3 points in FIG. 7 (a)) and tension. On the other hand, the mask cell sheet portion 220 ′ may be stretched (F1, F2) along some side directions instead of all sides.

다음으로, 마스크 셀 시트부(220')를 테두리 프레임부(210)에 대응하면, 마스크 셀 시트부(220')의 테두리 부분을 용접(W)하여 부착할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220')가 테두리 프레임부(220)에 견고하게 부착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220') 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220')와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220')를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, when the mask cell sheet part 220 ′ corresponds to the frame frame part 210, the rim part of the mask cell sheet part 220 ′ may be attached by welding (W). It is preferable to weld (W) all sides so that the mask cell sheet part 220 ′ can be firmly attached to the frame frame part 220. Welding (W) should be performed as close as possible to the edge of the frame frame part 210 to reduce the excitement space between the frame part 210 and the mask cell sheet part 220 ′ and increase adhesion. The welding (W) portion may be generated in a line or spot shape, and has the same material as the mask cell sheet portion 220 ′, and the frame frame portion 210 and the mask cell sheet portion 220 ′ It can be a medium that connects all together.

다음으로, 도 7의 (b)를 참조하면, 평면의 시트[평면의 마스크 셀 시트부(220')]에 마스크 셀 영역(CR)을 형성한다. 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분의 시트를 제거함에 따라 마스크 셀 영역(CR)을 형성할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 마스크 셀 영역(CR)을 형성하게 되면, 테두리 프레임부(210)와 용접(W)된 부분이 테두리 시트부(221)가 되고, 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)를 구비하는 마스크 셀 시트부(220)가 구성될 수 있다.Next, referring to FIG. 7B, a mask cell region CR is formed on a planar sheet (a planar mask cell sheet portion 220'). The mask cell area CR may be formed by removing the sheet in the mask cell area CR through laser scribing or etching. In this specification, an example in which a 6 X 5 mask cell region (CR: CR11 to CR56) is formed will be described. When the mask cell area CR is formed, the edge frame portion 210 and the welded (W) portion become the edge sheet portion 221, and the five first grid sheet portions 223 and the four second grids A mask cell sheet portion 220 having a sheet portion 225 may be configured.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)의 형태를 나타내는 평면도 [도 8의 (a)]와 측단면도[도 8의 (b)] 및 마스크(100)를 트레이(50) 상에 부착한 상태의 평면도[도 8의 (c)]를 나타낸다. 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이(50)를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태의 평면도[도 9의 (a)] 및 측단면도[도 9의 (b)]를 나타낸다. 이하에서는, 본 발명의 실시예에 따라, 제조된 프레임(200)에 마스크(100)를 부착하는 일련의 과정에 대해서 설명한다.8 is a plan view showing the shape of a mask 100 according to an embodiment of the present invention [Fig. 8(a)] and a side cross-sectional view [Fig. 8(b)] and the mask 100 on the tray 50 It shows a plan view [FIG. 8(c)] in a state attached to it. 9 is a plan view of a state in which the tray 50 according to an embodiment of the present invention is loaded onto the frame 200 and the mask 100 corresponds to the cell area CR of the frame 200 (Fig. a)] and a side cross-sectional view [Fig. 9(b)] are shown. Hereinafter, a series of processes of attaching the mask 100 to the manufactured frame 200 according to an embodiment of the present invention will be described.

다음으로, 도 8의 (a) 및 (b)를 참조하면, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 제공할 수 있다. 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미(DM)를 포함할 수 있다. 더미(DM)는 셀(C)을 제외한 마스크 막(110) 부분에 대응하고, 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크(100)의 테두리에 대응하여 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 전주도금 방식으로 인바, 슈퍼 인바 재질의 마스크(100)를 제조할 수 있다.Next, referring to FIGS. 8A and 8B, a mask 100 in which a plurality of mask patterns P is formed may be provided. The mask 100 may include a mask cell C on which a plurality of mask patterns P are formed and a dummy DM surrounding the mask cell C. The dummy DM corresponds to a portion of the mask layer 110 excluding the cell C, and includes only the mask layer 110, or the mask layer 110 in which a predetermined dummy pattern similar to the mask pattern P is formed. It may include. In the dummy DM, part or all of the dummy DM may be attached to the frame 200 (mask cell sheet part 220) corresponding to the edge of the mask 100. The mask 100 made of Invar and Super Invar may be manufactured by electroplating.

전주도금에서 음극체(cathode)로 사용하는 모판(mother plate)은 전도성 재질을 사용한다. 전도성 재질로서, 메탈의 경우에는 표면에 메탈 옥사이드들이 생성되어 있을 수 있고, 메탈 제조 과정에서 불순물이 유입될 수 있으며, 다결정 실리콘 기재의 경우에는 개재물 또는 결정립계(Grain Boundary)가 존재할 수 있으며, 전도성 고분자 기재의 경우에는 불순물이 함유될 가능성이 높고, 강도. 내산성 등이 취약할 수 있다. 메탈 옥사이드, 불순물, 개재물, 결정립계 등과 같이 모판(또는, 음극체)의 표면에 전기장이 균일하게 형성되는 것을 방해하는 요소를 "결함"(Defect)으로 지칭한다. 결함(Defect)에 의해, 상술한 재질의 음극체에는 균일한 전기장이 인가되지 못하여 도금막[마스크(100)]의 일부가 불균일하게 형성될 수 있다.The mother plate used as a cathode in electroplating is made of a conductive material. As a conductive material, in the case of metal, metal oxides may be generated on the surface, impurities may be introduced during the metal manufacturing process, in the case of a polycrystalline silicon substrate, inclusions or grain boundaries may exist, and conductive polymers In the case of the base material, the possibility of containing impurities is high and strength. Acid resistance may be weak. An element that prevents uniform formation of an electric field on the surface of the mother plate (or cathode) such as metal oxide, impurities, inclusions, grain boundaries, etc. is referred to as “defect”. Due to defects, a uniform electric field may not be applied to the cathode body made of the above-described material, so that a part of the plating film (mask 100) may be formed unevenly.

UHD 급 이상의 초고화질 화소를 구현하는데 있어서 도금막 및 도금막 패턴[마스크 패턴(P)]의 불균일은 화소의 형성에 악영향을 미칠 수 있다. FMM, 새도우 마스크의 패턴 폭은 수 내지 수십㎛의 크기, 바람직하게는 30㎛보다 작은 크기로 형성될 수 있으므로, 수㎛ 크기의 결함조차 마스크의 패턴 사이즈에서 큰 비중을 차지할 정도의 크기이다.In implementing ultra-high definition pixels of the UHD level or higher, non-uniformity of the plating film and the plating film pattern [mask pattern P] may adversely affect the formation of pixels. Since the pattern width of the FMM and the shadow mask may be several to several tens of µm, preferably smaller than 30 µm, even defects of several µm are large enough to occupy a large proportion of the pattern size of the mask.

또한, 상술한 재질의 음극체에서의 결함을 제거하기 위해서는 메탈 옥사이드, 불순물 등을 제거하기 위한 추가적인 공정이 수행될 수 있으며, 이 과정에서 음극체 재료가 식각되는 등의 또 다른 결함이 유발될 수도 있다.In addition, in order to remove defects in the cathode material of the above-described material, an additional process for removing metal oxides and impurities may be performed, and in this process, another defect such as etching of the cathode material may be caused. have.

따라서, 본 발명은 단결정 실리콘 재질의 모판(또는, 음극체)를 사용할 수 있다. 전도성을 가지도록, 단결정 실리콘 재질의 모판에는 1019/cm3이상의 고농도 도핑이 수행될 수 있다. 도핑은 모판의 전체에 수행될 수도 있으며, 모판의 표면 부분에만 수행될 수도 있다.Accordingly, in the present invention, a mother plate (or a cathode body) made of single crystal silicon may be used. In order to have conductivity, a high concentration doping of 10 19 /cm 3 or more may be performed on the mother plate made of single crystal silicon. Doping may be performed on the entire parent plate, or may be performed only on the surface portion of the parent plate.

도핑된 단결정 실리콘의 경우는 결함이 없기 때문에, 전주 도금 시에 표면 전부에서 균일한 전기장 형성으로 인한 균일한 도금막[마스크(100)]이 생성될 수 있는 이점이 있다. 균일한 도금막을 통해 제조하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)는 OLED 화소의 화질 수준을 더욱 개선할 수 있다. 그리고, 결함을 제거, 해소하는 추가 공정이 수행될 필요가 없으므로, 공정비용이 감축되고, 생산성이 향상되는 이점이 있다.In the case of doped single crystal silicon, since there are no defects, there is an advantage that a uniform plating film (mask 100) can be generated due to the formation of a uniform electric field on the entire surface during electroplating. The frame-integrated masks 100 and 200 manufactured through a uniform plating film can further improve the quality level of OLED pixels. In addition, since there is no need to perform an additional process for removing and eliminating defects, there is an advantage in that process cost is reduced and productivity is improved.

또한, 실리콘 재질의 모판을 사용함에 따라서, 필요에 따라 모판의 표면을 산화(Oxidation), 질화(Nitridation)하는 과정만으로 절연부를 형성할 수 있는 이점이 있다. 절연부는 포토레지스트를 사용하여 형성할 수도 있다. 절연부가 형성된 부분에서는 도금막[마스크(100)]의 전착이 방지되어, 도금막에 패턴[마스크 패턴(P)]을 형성하게 된다.In addition, as the base plate made of silicon is used, there is an advantage in that the insulating portion can be formed only by oxidizing and nitriding the surface of the base plate if necessary. The insulating portion may also be formed using a photoresist. Electrodeposition of the plated film (mask 100) is prevented in the portion where the insulating portion is formed, and a pattern (mask pattern P) is formed on the plated film.

마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 2~50㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.The width of the mask pattern P may be less than 40 μm, and the thickness of the mask 100 may be about 2 to 50 μm. Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions CR: CR11 to CR56, the mask 100 having mask cells C: C11 to C56 corresponding to respective mask cell regions CR: CR11 to CR56 ) May also be provided.

한편, 마스크(100)는 레이저(L)가 조사되는 타겟 영역인 용접부(WP)를 포함할 수 있다. 다시 말해, 용접부(WP)는 레이저(L)의 조사에 의해 용접 비드(WB)를 형성할 수 있는 타겟 영역을 의미할 수 있다. 용접부(WP)는 마스크(100)의 테두리 또는 더미(DM) 부분에서 적어도 일부 영역에 해당할 수 있다. 이하에서는 복수의 용접부(WP)가 마스크(100)의 더미(DM) 영역에 일정한 간격을 가지고 배치되고, 용접부(WP)의 형태는 대략 원 형상, 스팟 형상인 것을 상정하여 설명하지만, 반드시 이에 제한되지는 않음을 밝혀둔다Meanwhile, the mask 100 may include a welding part WP that is a target area to which the laser L is irradiated. In other words, the welding part WP may refer to a target area capable of forming the welding bead WB by irradiation of the laser L. The welding part WP may correspond to at least a partial area of the edge of the mask 100 or a portion of the dummy DM. Hereinafter, it is assumed that a plurality of welded portions WP are arranged at regular intervals in the dummy DM region of the mask 100, and the shape of the welded portion WP is approximately a circular shape and a spot shape, but it is always limited thereto. It will not work

다음으로, 도 8의 (c)를 참조하면, 마스크(100)를 트레이(tray; 50) 상에 부착할 수 있다. 모판 상에서 전착된 마스크(100)를 떼어내어 트레이(50) 상에 부착할 수 있다. 트레이(50)는 마스크(100)를 평평하게 부착할 수 있도록, 평판 형상인 것이 바람직하다. 마스크(100)가 전체적으로 평평하게 부착될 수 있도록 트레이(50)의 크기는 마스크(100)보다 큰 평판 형상일 수 있다.Next, referring to FIG. 8C, the mask 100 may be attached on a tray 50. The mask 100 electrodeposited on the parent plate may be removed and attached to the tray 50. The tray 50 is preferably in the shape of a flat plate so that the mask 100 can be attached flat. The size of the tray 50 may be a flat plate shape larger than that of the mask 100 so that the mask 100 can be attached flatly.

트레이(50)의 일면 상에서 마스크(100)가 구김, 주름없이 평평하게 펼쳐져 부착되도록 정전기력, 자기력, 진공 등을 이용할 수 있다. 정전기력을 이용하는 방법은 대전체를 트레이(50) 일면에 문질러서 정전기를 유도하는 방법이다. 또한, 정전기력을 이용하는 방법은 트레이(50)의 상부면 또는 하부면 상에 배치한 투명전극에 전압을 인가하고, 마스크(100)에도 전압을 인가하면 정전기가 유도되어 마스크(100)가 평평하게 펼쳐지면서 소정의 부착력을 가지고 트레이(50)의 일면에 부착되는 방법이다. 자기력을 이용하는 방법은 마스크(100)가 배치된 트레이(50) 면의 반대면에서 복수의 자석을 이용하여 자기력으로 마스크(100)를 잡아 이동하면서 펼치는 방법이다. 진공을 이용하는 방법은 트레이(50)에 배치된 마스크(100)의 일단에서 타단까지 진공 장치를 이용하여 마스크(100)를 잡아 이동하면서 펼치는 방법이다. Electrostatic force, magnetic force, vacuum, etc. may be used so that the mask 100 is spread and attached flatly without wrinkles or wrinkles on one surface of the tray 50. The method of using the electrostatic force is a method of inducing static electricity by rubbing an electric charge onto one surface of the tray 50. In addition, the method of using electrostatic force is to apply a voltage to the transparent electrode disposed on the upper or lower surface of the tray 50, and applying a voltage to the mask 100 also induces static electricity and spreads the mask 100 flat. It is a method of being attached to one surface of the tray 50 while having a predetermined adhesive force. A method of using magnetic force is a method of holding the mask 100 with magnetic force and spreading it while moving by using a plurality of magnets on the opposite surface of the tray 50 on which the mask 100 is disposed. A method of using a vacuum is a method of unfolding while moving the mask 100 by using a vacuum device from one end to the other end of the mask 100 disposed on the tray 50.

트레이(50)는 레이저 광(L)이 투과할 수 있는 재질일 수 있다. 트레이(50)는 글래스(glass), 석영(quartz), 사파이어(sapphire), 알루미나(Al2O3) 등의 레이저 광이 투과하는 재질을 포함하여, 트레이(50) 상부에서 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접(LW) 방식으로 마스크(100)를 프레임(200)에 부착시킬 수 있게 된다.The tray 50 may be a material through which the laser light L can be transmitted. The tray 50 includes a material through which laser light passes, such as glass, quartz, sapphire, and alumina (Al 2 O 3 ), and transmits the laser L from the top of the tray 50. It is possible to attach the mask 100 to the frame 200 by irradiation and laser welding (LW) method.

다음으로, 도 9의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 마스크(100)가 상부에 부착된 트레이(50)를 뒤집고, 트레이(50)를 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 트레이(50)의 위치를 제어하면서, 현미경을 통해 마스크(100)가 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는지 살펴볼 수 있다. 트레이(50)가 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩되면, 마스크(100)는 트레이(50)와 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 사이에 배치되면서, 트레이(50)에 의해 압착될 수 있다.Next, referring to FIGS. 9A and 9B, the mask 100 may correspond to one mask cell area CR of the frame 200. By turning over the tray 50 on which the mask 100 is attached, and loading the tray 50 onto the frame 200 (or the mask cell sheet part 220), the mask 100 is transferred to the mask cell area ( CR). While controlling the position of the tray 50, it is possible to check whether the mask 100 corresponds to the mask cell area CR through a microscope. When the tray 50 is loaded onto the frame 200 (or the mask cell sheet part 220), the mask 100 includes the tray 50 and the frame 200 (or the mask cell sheet part 220). While disposed between, it can be pressed by the tray 50.

한편, 하부 지지체(70)를 프레임(200) 하부에 더 배치할 수도 있다. 하부 지지체(70)는 프레임 테두리부(210)의 중공 영역(R) 내에 들어갈 정도의 크기를 가지고 평판 형상일 수 있다. 또한, 하부 지지체(70)의 상부면에는 마스크 셀 시트부(220)의 형상에 대응하는 소정의 지지홈(미도시)이 형성될 수도 있다. 이 경우 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 지지홈에 끼워지게 되어, 마스크 셀 시트부(220)가 더욱 잘 고정될 수 있다.Meanwhile, the lower support 70 may be further disposed under the frame 200. The lower support 70 may have a size such that it fits into the hollow region R of the frame rim 210 and may have a flat plate shape. Further, a predetermined support groove (not shown) corresponding to the shape of the mask cell sheet portion 220 may be formed on the upper surface of the lower support body 70. In this case, the edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 are fitted into the support grooves, so that the mask cell sheet portion 220 may be better fixed.

하부 지지체(70)는 마스크(100)가 접촉하는 마스크 셀 영역(CR)의 반대면을 압착할 수 있다. 즉, 하부 지지체(70)는 마스크 셀 시트부(220)를 상부 방향으로 지지하여 마스크(100)의 부착과정에서 마스크 셀 시트부(220)가 하부 방향으로 처지는 것을 방지할 수 있다. 이와 동시에, 하부 지지체(70)와 트레이(50)가 상호 반대되는 방향으로 마스크(100)의 테두리 및 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]를 압착하게 되므로, 마스크(100)의 정렬 상태가 흐트러지지 않고 유지될 수 있게 된다.The lower support 70 may press the opposite surface of the mask cell area CR to which the mask 100 contacts. That is, the lower support 70 may support the mask cell sheet part 220 in an upward direction to prevent the mask cell sheet part 220 from sagging downward during the attaching process of the mask 100. At the same time, since the lower support 70 and the tray 50 press the frame 200 (or the mask cell sheet part 220) of the mask 100 in opposite directions to each other, the mask 100 Can be maintained without being disturbed.

본 발명은 트레이(50) 상에 마스크(100)를 부착하고, 트레이(50)를 프레임(200) 상에 로딩하는 것만으로 마스크(100)를 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 과정이 완료되므로, 이 과정에서 마스크(100)에 어떠한 인장력도 가하지 않을 수 있다.In the present invention, by attaching the mask 100 on the tray 50 and loading the tray 50 onto the frame 200, the mask 100 corresponds to the mask cell area CR of the frame 200. Since the process is completed, no tensile force may be applied to the mask 100 during this process.

프레임(200)의 마스크 셀 시트부(220)는 얇은 두께를 가지기 때문에, 마스크(100)에 인장력이 가해진 채로 마스크 셀 시트부(220)에 부착이 되면, 마스크(100)에 잔존하는 인장력이 마스크 셀 시트부(220) 및 마스크 셀 영역(CR)에 작용하게 되어 이들을 변형시킬 수도 있다. 따라서, 마스크(100)에 인장력을 가하지 않은 채로 마스크 셀 시트부(220)에 마스크(100)의 부착을 수행해야 한다. 그리하여, 마스크(100)에 가해진 인장력이 반대로 프레임(200)에 장력(tension)으로 작용하여 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]을 변형시키는 것을 방지할 수 있게 된다.Since the mask cell sheet portion 220 of the frame 200 has a thin thickness, when a tensile force is applied to the mask 100 and attached to the mask cell sheet portion 220, the tensile force remaining in the mask 100 is masked. It acts on the cell sheet part 220 and the mask cell area CR, and thus, they may be deformed. Therefore, it is necessary to attach the mask 100 to the mask cell sheet part 220 without applying a tensile force to the mask 100. Thus, it is possible to prevent deformation of the frame 200 (or the mask cell sheet part 220) by acting as a tension on the frame 200 as opposed to the tensile force applied to the mask 100.

다만, 마스크(100)에 인장력을 가하지 않고 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에 부착시켜 프레임 일체형 마스크를 제조하고, 이 프레임 일체형 마스크를 화소 증착 공정에 사용할 때 한가지 문제가 발생할 수 있다. 약 25~45℃ 정도에서 수행되는 화소 증착 공정에서 마스크(100)가 소정 길이만큼 열팽창 하는 것이다. 인바 재질의 마스크(100)라고 하더라도, 화소 증착 공정 분위기를 형성하기 위한 10℃ 정도의 온도 상승에 따라 약 1~3 ppm 만큼의 길이가 변할 수 있다. 예를 들어, 마스크(100)의 총 길이가 500 mm 경우, 약 5~15㎛만큼의 길이가 늘어날 수 있다. 그러면, 마스크(100)가 자중에 의해 쳐지거나, 프레임(200)에서 고정된 상태에서 늘어나 뒤틀리는 등의 변형을 일으키면서 패턴(P)들의 정렬 오차가 커지는 문제점이 발생하게 된다.However, one problem arises when a frame-integrated mask is manufactured by attaching it to the frame 200 (or mask cell sheet part 220) without applying a tensile force to the mask 100, and the frame-integrated mask is used in the pixel deposition process. Can occur. In the pixel deposition process performed at about 25 to 45° C., the mask 100 thermally expands by a predetermined length. Even in the case of the mask 100 made of an Invar material, the length of about 1 to 3 ppm may change according to a temperature increase of about 10° C. to form an atmosphere of the pixel deposition process. For example, when the total length of the mask 100 is 500 mm, the length may increase by about 5 to 15 μm. Then, there is a problem that the alignment error of the patterns P increases while causing deformation such as the mask 100 being struck by its own weight or being stretched and distorted while being fixed in the frame 200.

따라서, 본 발명은 상온이 아닌 이보다 높은 온도 상에서, 마스크(100)에 인장력을 가하지 않은 채로, 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고 부착할 수 있다. 본 명세서에서는 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킨 후에 마스크(100)를 프레임(200)에 대응하고 부착한다고 표현한다.Accordingly, the present invention may correspond to and attach to the mask cell area CR of the frame 200 without applying a tensile force to the mask 100 at a temperature higher than that of room temperature. In this specification, after raising (ET) the temperature of the process region to the first temperature, it is expressed that the mask 100 is attached to the frame 200.

"공정 영역"이라 함은 마스크(100), 프레임(200) 등의 구성 요소들이 위치하고, 마스크(100)의 부착 공정 등이 수행되는 공간을 의미할 수 있다. 공정 영역은 폐쇄된 챔버 내에 공간일 수도 있고, 개방된 공간일 수도 있다. 또한, "제1 온도"라 함은 프레임 일체형 마스크를 OLED 화소 증착 공정에 사용할 때, 화소 증착 공정 온도보다는 높거나 같은 온도를 의미할 수 있다. 화소 증착 공정 온도가 약 25~45℃인 것을 고려하면, 제1 온도는 약 25℃ 내지 60℃일 수 있다. 공정 영역의 온도 상승은, 챔버에 가열 수단을 설치하거나, 공정 영역 주변에 가열 수단을 설치하는 방법 등으로 수행할 수 있다.The term "process area" may mean a space in which constituent elements such as the mask 100 and the frame 200 are located, and a process of attaching the mask 100 is performed. The process area may be a space within a closed chamber or an open space. Further, the term “first temperature” may mean a temperature higher than or equal to the pixel deposition process temperature when the frame-integrated mask is used in the OLED pixel deposition process. Considering that the pixel deposition process temperature is about 25 to 45°C, the first temperature may be about 25 to 60°C. The temperature increase in the process area may be performed by installing a heating means in the chamber or by installing a heating means around the process area.

다시, 도 9를 참조하면, 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응한 후에, 프레임(200)이 포함된 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킬 수 있다. 또는, 프레임(200)이 포함된 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킨 후에, 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수도 있다. 도면에는 하나의 마스크(100)만을 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킨 것이 도시되어 있지만, 마스크 셀 영역(CR)마다 마스크(100)들을 대응시킨 후에 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킬 수도 있다.Referring again to FIG. 9, after the mask 100 corresponds to the mask cell region CR, the temperature of the process region including the frame 200 may be increased (ET) to the first temperature. Alternatively, after raising (ET) the temperature of the process region including the frame 200 to the first temperature, the mask 100 may correspond to the mask cell region CR. In the drawing, only one mask 100 is mapped to one mask cell area CR, but after matching the masks 100 for each mask cell area CR, the temperature of the process area is increased to the first temperature. You can also (ET).

종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 예를 들어, 복수의 셀(C1~C6, ...)들을 포함하는 마스크(10)의 길이가 1m이고, 1m 전체에서 10㎛의 PPA 오차가 발생한다고 가정하면, 본 발명의 마스크(100)는 상대적인 길이의 감축[셀(C) 개수 감축에 대응]에 따라 위 오차 범위를 1/n 할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 마스크(100)의 길이가 100mm라면, 종래 마스크(10)의 1m에서 1/10로 감축된 길이를 가지므로, 100mm 길이의 전체에서 1㎛의 PPA 오차가 발생하게 되며, 정렬 오차가 현저히 감소하게 되는 효과가 있다.The conventional mask 10 of FIG. 1 has a long length because it includes 6 cells (C1 to C6), whereas the mask 100 of the present invention has a short length including one cell (C). The degree of distortion of the pixel position accuracy (PPA) can be reduced. For example, assuming that the length of the mask 10 including a plurality of cells (C1 to C6, ...) is 1 m and a PPA error of 10 μm occurs in the entire 1 m, the mask 100 of the present invention The above error range can be 1/n according to the reduction in the relative length (corresponding to the reduction in the number of cells C). For example, if the length of the mask 100 of the present invention is 100 mm, since it has a length reduced from 1 m to 1/10 of the conventional mask 10, a PPA error of 1 μm occurs in the entire 100 mm length. , There is an effect that the alignment error is significantly reduced.

한편, 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고, 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응하여도 정렬 오차가 최소화되는 범위 내에서라면, 마스크(100)는 프레임(200)의 복수의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 또는, 복수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)가 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 이 경우에도, 정렬에 따른 공정 시간과 생산성을 고려하여, 마스크(100)는 가급적 적은 수의 셀(C)을 구비하는 것이 바람직하다.On the other hand, if the mask 100 includes a plurality of cells C, and each cell C corresponds to each cell area CR of the frame 200 within a range in which the alignment error is minimized, The mask 100 may correspond to a plurality of mask cell regions CR of the frame 200. Alternatively, the mask 100 having a plurality of cells C may correspond to one mask cell area CR. Even in this case, in consideration of the process time and productivity according to the alignment, the mask 100 is preferably provided with as few cells (C) as possible.

본 발명의 경우는, 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 2 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.In the case of the present invention, it is only necessary to match one cell (C) of the mask 100 and check the alignment state, so that a plurality of cells (C: C1 to C6) must be matched at the same time and check all alignment states. Compared to the conventional method [see Fig. 2], the manufacturing time can be significantly reduced.

즉, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 6개의 마스크(100)에 포함되는 각각의 셀(C11~C16)을 각각 하나의 셀 영역(CR11~CR16)에 대응시키고 각각 정렬 상태를 확인하는 6번의 과정을 통해, 6개의 셀(C1~C6)을 동시에 대응시키고 6개 셀(C1~C6)의 정렬 상태를 동시에 모두 확인해야 하는 종래의 방법보다 훨씬 시간이 단축될 수 있다.That is, in the method of manufacturing a frame-integrated mask of the present invention, each of the cells C11 to C16 included in the six masks 100 correspond to each of the cell regions CR11 to CR16 and check the alignment state. Through a single process, the time can be much shorter than that of a conventional method in which the six cells C1 to C6 are simultaneously matched and the alignment state of the six cells C1 to C6 is checked at the same time.

또한, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 30개의 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 30개의 마스크(100)를 각각 대응시키고 정렬하는 30번의 과정에서의 제품 수득률이, 6개의 셀(C1~C6)을 각각 포함하는 5개의 마스크(10)[도 2의 (a) 참조]를 프레임(20)에 대응시키고 정렬하는 5번의 과정에서의 종래의 제품 수득률보다 훨씬 높게 나타날 수 있다. 한번에 6개씩의 셀(C)이 대응하는 영역에 6개의 셀(C1~C6)을 정렬하는 종래의 방법이 훨씬 번거롭고 어려운 작업이므로 제품 수율이 낮게 나타나는 것이다.In addition, in the method of manufacturing a frame-integrated mask of the present invention, the product yield in the process of 30 times of matching and aligning 30 masks 100 to 30 cell regions (CR: CR11 to CR56), respectively, is 6 cells (C1 The five masks 10 each including ~C6) (see Fig. 2 (a)) may appear much higher than the conventional product yield in the five processes of matching and aligning the frame 20. Since the conventional method of arranging six cells (C1 to C6) in a region corresponding to six cells (C) at a time is much cumbersome and difficult operation, the product yield is low.

한편, 마스크(100)를 프레임(200)에 대응한 후, 프레임(200)에 소정의 접착제를 개재하여 마스크(100)를 임시로 고정할 수도 있다. 이후에, 마스크(100)의 부착 단계를 진행할 수 있다.Meanwhile, after attaching the mask 100 to the frame 200, the mask 100 may be temporarily fixed to the frame 200 by interposing a predetermined adhesive. Thereafter, the attaching step of the mask 100 may be performed.

도 10 및 도 11은 종래의 마스크(100')를 프레임(200)에 용접한 후의 상태를 나타내는 개략도이다. 도 12는 종래의 마스크(100')를 프레임(200)에 용접한 상태를 나타내는 사진이다. 도 13은 종래의 마스크(100')를 프레임(200)에 용접한 용접 비드(WB')의 표면 EDS(Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy) 분석 결과이다.10 and 11 are schematic views showing a state after welding the conventional mask 100 ′ to the frame 200. 12 is a photograph showing a state in which a conventional mask 100 ′ is welded to the frame 200. 13 is a result of an EDS (Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy) analysis of the surface of a welding bead WB' in which a conventional mask 100' is welded to the frame 200.

마스크(100, 100')의 테두리의 일부 또는 전부를 프레임(200)에 부착할 수 있다. 부착은 용접으로 수행될 수 있고, 바람직하게는 레이저 용접으로 수행될 수 있다. 트레이(50)의 상부에서 레이저(L)를 마스크(100, 100')의 테두리 부분[또는, 더미(DM)]의 타겟 영역인 용접부(WP)에 조사하면, 레이저(L)가 마스크(100), 100')의 일부를 용융시킬 수 있다. 레이저 용접은 프레임(200)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 마스크(100)와 프레임(200) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 레이저 용접된 부분은 마스크(100, 100')/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다. 다시 말해, 레이저 용접 시에 마스크(100, 100')의 일부가 용융되어 용접 비드(bead; WB, WB')를 형성하고 용접 비드(WB, WB')가 마스크(100, 100') 및 프레임(200)을 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Part or all of the edges of the masks 100 and 100 ′ may be attached to the frame 200. Attachment can be carried out by welding, preferably laser welding. When the laser L is irradiated from the upper portion of the tray 50 to the welding portion WP, which is the target area of the edge portion (or dummy DM) of the masks 100 and 100', the laser L ), 100') may be partially melted. Laser welding should be performed as close as possible to the edge of the frame 200 so as to reduce the excitement space between the mask 100 and the frame 200 as much as possible and increase adhesion. The laser-welded portion may have the same material as the masks 100 and 100'/frame 200 and may be integrally connected. In other words, during laser welding, a part of the masks 100 and 100' is melted to form a welding bead (WB, WB'), and the welding beads WB, WB' are applied to the masks 100, 100' and the frame. It can be a medium that connects 200 integrally.

도 10을 참조하면, 종래의 레이저 용접은 레이저(L)가 조사된 부분에서 형성된 용접 비드(WB')가 마스크(100') 상에서 버(burr), 구김, 주름 등의 형태로 일부 돌출될 수 있다. 이 돌출된 부분은 마스크(100')의 상부면(101')보다 높을 수 있다. 일 예로, 용접 비드(WB')의 돌출된 높이(H1)는 수 ㎛ 정도일 수 있다. 완성된 마스크(100')[및 프레임(200)]은 대상 기판(900)[도 17 참조]에 밀착된 후에 유기물 소스(600)를 증착하여 화소(700)를 형성하게 되는데, 용접 비드(WB')의 돌출된 부분은 마스크(100')가 대상 기판(900)에 밀착될 때 마스크 패턴(P)들의 정렬 상태에 악영향을 줄 수 있다. 용접 비드(WB')의 돌출된 부분에 의해서 마스크(100')가 완벽히 밀착되지 않고 들뜬 부분을 발생시킴에 따라, 결국 마스크 패턴(P) 및 셀(C)들간의 정렬 상태가 틀어질 수 있게 된다.Referring to FIG. 10, in the conventional laser welding, a welding bead (WB') formed at a portion to which the laser (L) is irradiated may partially protrude from the mask 100' in the form of burrs, wrinkles, wrinkles, etc. have. This protruding portion may be higher than the upper surface 101 ′ of the mask 100 ′. For example, the protruding height H1 of the welding bead WB' may be about several μm. After the completed mask 100 ′ (and frame 200) is in close contact with the target substrate 900 (see FIG. 17), the organic material source 600 is deposited to form the pixel 700. The welding bead WB The protruding part of') may adversely affect the alignment of the mask patterns P when the mask 100 ′ is in close contact with the target substrate 900. As the mask 100 ′ does not completely adhere to the protruding part of the welding bead WB ′ and generates an excitation part, the alignment state between the mask pattern P and the cells C may be changed. do.

도 11은 용접 비드(WB')의 돌출 형태를 보다 구체적으로 나타낸다. 도 11의 (a)는 도 10의 (b)를 더 확대한 평면도를 나타내고, 도 11의 (b)는 도 11의 (a)의 I-I' 단면을 나타낸다.11 shows in more detail the protruding shape of the welding bead WB'. FIG. 11(a) is a plan view in which FIG. 10(b) is further enlarged, and FIG. 11(b) is an I-I' cross-section of FIG. 11(a).

도 11의 (a)를 참조하면, 용접부(WP)에 레이저(L)가 조사되어 용접 비드(WB')가 형성되는 과정에서 용접부(WP)의 주변이 뒤틀리거나, 수축되는 등으로 변형될 수 있다. 레이저(L)가 조사된 용접부(WP) 및 그 주변이 용융된 후 응고되는 과정에서 용접 비드(WB')의 주변이 수축될 수 있다. 이러한 수축에 의한 텐션(T)으로 용접 비드(WB') 주변에는 주름, 뒤틀림, 번짐 등과 같은 변형이 발생할 수 있고, 용접 비드(WB')와 마스크 셀(C) 사이 공간에서의 주름, 뒤틀림 등의 변형이 발생할 수 있다. 이러한 변형에 의해, 결국 마스크 패턴(P) 및 셀(C)들간의 정렬 상태가 틀어지게 되는 문제가 발생할 수 있다.Referring to (a) of FIG. 11, in the process of forming a welding bead WB' by irradiating a laser L on the welding portion WP, the periphery of the welding portion WP may be distorted or contracted. have. The periphery of the weld bead WB' may shrink in the process of solidifying after the weld WP irradiated with the laser L and its periphery are melted. Due to the tension (T) caused by such contraction, deformation such as wrinkles, warping, and bleeding may occur around the welding bead (WB'), and wrinkles, distortion, etc. in the space between the welding bead (WB') and the mask cell (C). May cause deformation. Due to this deformation, a problem may occur in that the alignment state between the mask pattern P and the cells C is eventually misaligned.

도 11의 (b)를 참조하면, 용접 비드(WB')는 마스크(100')가 용융된 후 응고된 부분(102)뿐만 아니라, 그 상부에 산화된 막(103) 부분을 포함할 수 있다. 용접 비드(WB')는 레이저(L)가 조사된 용접부(WP) 중심부에서 오히려 두께가 얇게 파진 형태를 나타내고, 중심부에서 외곽으로 가면서 두께가 더 두꺼워져 마스크(100')의 상부면(101')보다 돌출된 부분이 나타날 수 있다. 이러한 돌출된 부분의 대부분이 산화된 막(103)으로부터 유발된 것이다.Referring to FIG. 11B, the welding bead WB' may include a portion 102 that is solidified after the mask 100' is melted, as well as a portion of the oxidized film 103 thereon. . The welding bead (WB') is rather thinly cut in the center of the welding portion (WP) irradiated with the laser (L), and becomes thicker as it goes from the center to the outside, and the upper surface 101' of the mask 100' ), there may be a protruding part. Most of these protruding portions are caused by the oxidized film 103.

도 12의 (a)를 참조하면, 레이저(L) 에너지가 인가되어 변형이 생긴 용접부(WP)의 부분은 약 482㎛의 직경을 나타내고, 그 중 용접 비드(WB')가 형성된 부분은 약 104.3㎛의 직경을 나타냄을 확인할 수 있다. 그리고, 도 12의 (b), (b)를 부분 확대한 (c) 및 용접 비드(WB')의 일부 단면을 나타내는 (d)를 참조하면, 마스크(100')가 용융된 후 응고된 인바 막의 부분(102)의 두께는 약 15㎛이고, 그 상부에 산화된 막(103)의 두께는 약 7.5~15㎛임을 확인할 수 있다.Referring to (a) of FIG. 12, the portion of the welded portion WP that is deformed due to the application of the laser L energy has a diameter of about 482 μm, and the portion of which the welding bead WB' is formed is about 104.3. It can be seen that it represents a diameter of μm. And, referring to (c) partially enlarged (c) of FIGS. 12(b) and (b) and (d) showing a partial cross section of the welding bead (WB'), the invar solidified after the mask 100' is melted. It can be seen that the thickness of the portion 102 of the film is about 15 μm, and the thickness of the oxidized layer 103 thereon is about 7.5 to 15 μm.

그리고, 도 13을 참조하면, 용접부(WP) 중심부에는 오히려 마스크(100')의 성분인 Ni보다 산소 성분의 비중이 크고, 용접부(WP) 외곽으로 가면서 산소 성분 비중이 적어지므로, 용접 비드(WB')에는 산화된 막(103)이 포함됨을 확인할 수 있다.And, referring to FIG. 13, the oxygen component has a greater specific gravity than Ni, which is a component of the mask 100', rather than the Ni, which is a component of the mask 100 ′, in the center of the welding part WP, and the oxygen component specific gravity decreases as it goes to the outside of the welding part WP. It can be seen that the oxidized film 103 is included in').

따라서, 본 발명에서는 용접 비드(WB')의 산화된 부분(103)을 최소화하거나 없애기 위해서, 용접부(WP)에 레이저(L)를 조사할 때, 용접부(WP)를 타겟으로 불활성 가스(inert gas)를 분사하는 것을 특징으로 한다. 불활성 가스는 일반적으로 18족의 He, Ar 등을 의미할 수 있다. 프레임 일체형 마스크의 제조 장치는 레이저(L)를 조사하는 레이저부(미도시) 외에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부(미도시)를 포함할 수 있다. 불활성 가스 공급부(미도시)는 외부로부터 불활성 가스를 공급받아 마스크 부착 공정이 수행되는 스테이지(미도시) 상에 불활성 가스를 공급할 수 있다.Therefore, in the present invention, in order to minimize or eliminate the oxidized part 103 of the welding bead WB', when irradiating the laser L to the welding part WP, the welding part WP is targeted as an inert gas. ) Is characterized by spraying. The inert gas may generally mean Group 18 He, Ar, and the like. The apparatus for manufacturing a frame-integrated mask may include a laser unit (not shown) for irradiating the laser L and an inert gas supply unit (not shown) for supplying an inert gas. The inert gas supply unit (not shown) may receive an inert gas from the outside and supply the inert gas onto a stage (not shown) in which the mask attaching process is performed.

도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 용접한 상태를 나타내는 개략도이다.14 is a schematic diagram showing a state in which a mask according to an embodiment of the present invention is welded to a frame.

도 14의 (a) 및 (b)를 참조하면, 레이저 용접 시에 레이저(L)를 조사하면서 동시에 불활성 가스(IG)를 공급할 수 있다. 불활성 가스(IG)는 용접 비드(WB)가 생성될 때 용접 비드(WB)의 산화를 억제할 수 있다. 산화가 억제된 상태에서 레이저(L)가 조사된 용접부(WP)의 부분은 용융 후 응고되면서 용접 비드(WB)가 산화되지 않고 생성될 수 있다.Referring to FIGS. 14A and 14B, the inert gas IG can be supplied while irradiating the laser L during laser welding. The inert gas IG may suppress oxidation of the welding bead WB when the welding bead WB is generated. In a state in which oxidation is suppressed, the portion of the weld WP irradiated with the laser L may be melted and then solidified, thereby generating the weld bead WB without being oxidized.

용접 비드(WB)는 마스크(100)의 상부면(101)과 동등하거나 낮은 정도로 생성되는 것이 바람직하다. 물론, 레이저 조사에 의한 용융에 의해 용접 비드(WB)가 마스크(100)의 상부면(101)보다 높을 수도 있으나, 이 돌출된 높이(H2)는 산화된 막(103)[도 11 참조]의 높이(H1)보다는 현저히 낮은 값을 가질 수 있고, 돌출된 높이(H2)에 의해 마스크(100)가 대상 기판(900)[도 17 참조]에 밀착될 때 마스크 패턴(P)들의 정렬 상태에 악영향을 줄 정도는 아니다. 일 예로, 도 12에서 살펴본 바와 같이, 산화된 막(103)의 높이(H1)보다 용접 비드(WB)의 돌출된 높이(H2)는 약 7.5㎛ 내지 15㎛ 낮게 형성될 수 있다. 따라서, 마스크(100)가 대상 기판(900)에 밀착되고 들뜬 부분을 발생시키지 않으므로, 마스크 패턴(P) 및 셀(C)들간의 정렬 상태에 악영향을 미치지 않는다.It is preferable that the welding bead (WB) is produced to an extent equal to or lower than the upper surface 101 of the mask 100. Of course, the welding bead WB may be higher than the upper surface 101 of the mask 100 by melting by laser irradiation, but the protruding height H2 is of the oxidized film 103 (see FIG. 11). It may have a significantly lower value than the height H1, and the protruding height H2 adversely affects the alignment of the mask patterns P when the mask 100 is in close contact with the target substrate 900 (see FIG. 17). Not enough to give. For example, as illustrated in FIG. 12, the protruding height H2 of the welding bead WB may be formed to be about 7.5 μm to 15 μm lower than the height H1 of the oxidized layer 103. Accordingly, since the mask 100 is in close contact with the target substrate 900 and does not generate an excited portion, the alignment between the mask pattern P and the cells C is not adversely affected.

도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 순차적으로 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 부착하는 과정을 나타내는 평면도[도 15의 (a)] 및 측단면도[도 15의 (b)] 이다.FIG. 15 is a plan view (FIG. 15A) and a side cross-sectional view (FIG. 15A) illustrating a process of sequentially attaching the mask 100 according to an embodiment of the present invention to the cell regions CR11 to CR56. b)].

도 15를 참조하면, 마스크 셀 영역(CR11)에 마스크(100)를 대응하여 부착한 후, 이에 이웃하는 마스크 셀 영역(CR12)에 마스크(100)를 대응하여 부착할 수 있다. 도 15에는 2개의 마스크(100)만 부착한 것이 도시되어 있으나, 모든 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)를 대응하여 부착할 수 있다.Referring to FIG. 15, after attaching the mask 100 to the mask cell area CR11 correspondingly, the mask 100 may be attached to the mask cell area CR12 adjacent thereto. Although only two masks 100 are attached to each other in FIG. 15, the mask 100 may be attached to all of the mask cell areas CR in correspondence with each other.

제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]의 상면에 두 개의 이웃하는 마스크(100)의 일 테두리가 각각 부착(LW)된 형태가 나타난다. 제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]의 폭, 두께는 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있고, 제품 생산성 향상을 위해, 제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]와 마스크(100)의 테두리가 겹치는 폭을 약 0.1~2.5mm 정도로 최대한 감축시킬 필요가 있다.One edge of two adjacent masks 100 is attached (LW) to the upper surface of the first grid sheet part 223 (or the second grid sheet part 225), respectively. The width and thickness of the first grid sheet portion 223 (or the second grid sheet portion 225) may be formed to be about 1 to 5 mm, and to improve product productivity, the first grid sheet portion 223 [ Alternatively, it is necessary to reduce the width of the second grid sheet portion 225] and the overlapping edge of the mask 100 to about 0.1 to 2.5 mm as much as possible.

마스크(100)에 인장력을 가하지 않은 채로 마스크 셀 시트부(220) 상에 용접(LW)을 수행하므로, 마스크 셀 시트부(220)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]에는 장력이 가해지지 않는다.Since welding (LW) is performed on the mask cell sheet part 220 without applying a tensile force to the mask 100, the mask cell sheet part 220 (or the frame sheet part 221, the first and second grid sheets) No tension is applied to the parts (223, 225)].

하나의 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후, 나머지 마스크(100)들을 나머지 마스크 셀(C)에 순차적으로 대응시키고, 프레임(200)에 부착하는 과정을 반복할 수 있다. 이미 프레임(200)에 부착된 마스크(100)가 기준 위치를 제시할 수 있으므로, 나머지 마스크(100)들을 셀 영역(CR)에 순차적으로 대응시키고 정렬 상태를 확인하는 과정에서의 시간이 현저하게 감축될 수 있는 이점이 있다. 그리고, 하나의 마스크 셀 영역에 부착된 마스크(100)와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 부착된 마스크(100) 사이의 PPA(pixel position accuracy)가 3㎛를 초과하지 않게 되어, 정렬이 명확한 초고화질 OLED 화소 형성용 마스크를 제공할 수 있는 이점이 있다.After attaching one mask 100 to the frame 200, the remaining masks 100 are sequentially corresponded to the remaining mask cells C, and a process of attaching to the frame 200 may be repeated. Since the mask 100 already attached to the frame 200 can present the reference position, the time in the process of sequentially matching the remaining masks 100 to the cell area CR and checking the alignment status is significantly reduced. There is an advantage that can be. In addition, since the PPA (pixel position accuracy) between the mask 100 attached to one mask cell area and the mask 100 attached to the neighboring mask cell area does not exceed 3 μm, the alignment is clear, ultra-high quality. There is an advantage of being able to provide a mask for forming an OLED pixel.

도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착한 후 공정 영역의 온도를 하강(LT)시키는 과정을 나타내는 개략도이다.16 is a schematic diagram illustrating a process of lowering (LT) a temperature of a process region after attaching the mask 100 according to an embodiment of the present invention to the cell region CR of the frame 200.

다음으로, 도 16을 참조하면, 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강(LT)시킬 수 있다. "제2 온도"라 함은 제1 온도보다 낮은 온도를 의미할 수 있다. 제1 온도가 약 25℃ 내지 60℃인 것을 고려하면, 제2 온도는 제1 온도보다 낮은 것을 전제로 약 20℃ 내지 30℃일 수 있고, 바람직하게, 제2 온도는 상온일 수 있다. 공정 영역의 온도 하강은, 챔버에 냉각 수단을 설치하거나, 공정 영역 주변에 냉각 수단을 설치하는 방법, 상온으로 자연 냉각하는 방법 등으로 수행할 수 있다.Next, referring to FIG. 16, the temperature of the process region may be lowered (LT) to the second temperature. The term "second temperature" may mean a temperature lower than the first temperature. Considering that the first temperature is about 25° C. to 60° C., the second temperature may be about 20° C. to 30° C. on the assumption that the first temperature is lower than the first temperature, and preferably, the second temperature may be room temperature. Lowering the temperature of the process region may be performed by installing a cooling means in the chamber, a method of installing a cooling means around the process region, and a method of naturally cooling to room temperature.

공정 영역의 온도가 제2 온도로 하강(LT)되면, 마스크(100)는 소정 길이만큼 열수축 할 수 있다. 마스크(100)는 모든 측면 방향을 따라 등방성으로 열수축 할 수 있다. 다만, 마스크(100)는 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에 용접(LW)으로 고정 연결되어 있으므로, 마스크(100)의 열수축은 주변의 마스크 셀 시트부(220)에 자체적으로 장력(TS)을 인가하게 된다. 마스크(100)의 자체적인 장력(TS) 인가에 의해 마스크(100)는 더욱 팽팽하게 프레임(200) 상에 부착될 수 있다.When the temperature of the process region is lowered (LT) to the second temperature, the mask 100 may heat-shrink by a predetermined length. The mask 100 may be isotropically heat-shrinkable along all side directions. However, since the mask 100 is fixedly connected to the frame 200 (or the mask cell sheet part 220) by welding (LW), the heat contraction of the mask 100 is applied to the surrounding mask cell sheet part 220 The tension (TS) is applied by itself. The mask 100 may be attached on the frame 200 more tightly by the application of the self-tension TS of the mask 100.

또한, 각각의 마스크(100)들이 모두 대응되는 마스크 셀 영역(CR) 상에 부착된 후에 공정 영역의 온도가 제2 온도로 하강(LT)되므로, 모든 마스크(100)들이 동시에 열수축을 일으키게 되어 프레임(200)이 변형되거나 패턴(P)들이 정렬 오차가 커지는 문제가 방지될 수 있다. 더 설명하면, 장력(TS)이 마스크 셀 시트부(220)에 인가된다고 해도, 복수의 마스크(100)들이 상호 반대방향으로 장력(TS)을 인가하기 때문에, 그 힘이 상쇄되어 마스크 셀 시트부(220)에는 변형이 일어나지 않게 된다. 예를 들어, CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)와 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100) 사이의 제1 그리드 시트부(223)는 CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 우측 방향으로 작용하는 장력(TS)과 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 좌측 방향으로 작용하는 장력(TS)이 상쇄될 수 있다. 그리하여, 장력(TS)에 의한 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에는 변형이 최소화되어 마스크(100)[또는, 마스크 패턴(P)]의 정렬 오차가 최소화 될 수 있는 이점이 있다.In addition, since the temperature of the process area is lowered (LT) to the second temperature after each of the masks 100 are attached to the corresponding mask cell area CR, all of the masks 100 simultaneously cause heat contraction and A problem that the 200 is deformed or the alignment error of the patterns P increases may be prevented. More specifically, even if the tension TS is applied to the mask cell sheet part 220, since the plurality of masks 100 apply tension TS in opposite directions to each other, the force is canceled and the mask cell sheet part No deformation occurs in 220. For example, the first grid sheet portion 223 between the mask 100 attached to the CR11 cell area and the mask 100 attached to the CR12 cell area is in the right direction of the mask 100 attached to the CR11 cell area. The applied tension TS and the tension TS acting in the left direction of the mask 100 attached to the CR12 cell region may be canceled. Thus, the deformation of the frame 200 (or the mask cell sheet part 220) due to the tension TS is minimized so that the alignment error of the mask 100 (or the mask pattern P) can be minimized. There is this.

도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 이용한 OLED 화소 증착 장치(1000)를 나타내는 개략도이다.17 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus 1000 using the frame-integrated masks 100 and 200 according to an embodiment of the present invention.

도 17을 참조하면, OLED 화소 증착 장치(1000)는, 마그넷(310)이 수용되고, 냉각수 라인(350)이 배설된 마그넷 플레이트(300)와, 마그넷 플레이트(300)의 하부로부터 유기물 소스(600)를 공급하는 증착 소스 공급부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 17, the OLED pixel deposition apparatus 1000 includes a magnet plate 300 in which a magnet 310 is accommodated and a cooling water line 350 is disposed, and an organic material source 600 from a lower portion of the magnet plate 300. ) And a deposition source supply unit 500 to supply.

마그넷 플레이트(300)와 소스 증착부(500) 사이에는 유기물 소스(600)가 증착되는 유리 등의 대상 기판(900)이 개재될 수 있다. 대상 기판(900)에는 유기물 소스(600)가 화소별로 증착되게 하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)[또는, FMM]이 밀착하도록 배치될 수 있다. 마그넷(310)이 자기장을 발생시키고 자기장에 의해 대상 기판(900)에 밀착될 수 있다. 마스크(100)에는 단차(115)가 형성되어, 용접 비드(WB)가 돌출되더라도, 마스크(100)의 상부면(101)보다 높게 돌출되지 않으므로, 마스크(100)가 대상 기판(900)에 밀착되는 것에는 악영향이 없게 된다.A target substrate 900 such as glass on which the organic material source 600 is deposited may be interposed between the magnet plate 300 and the source deposition unit 500. The frame-integrated masks 100 and 200 (or FMM) for allowing the organic material source 600 to be deposited for each pixel may be disposed on the target substrate 900 so as to be in close contact with each other. The magnet 310 generates a magnetic field and may be in close contact with the target substrate 900 by the magnetic field. A step 115 is formed in the mask 100 so that even if the welding bead WB protrudes, the mask 100 does not protrude higher than the upper surface 101 of the mask 100, so that the mask 100 is in close contact with the target substrate 900 There will be no adverse effect on being.

증착 소스 공급부(500)는 좌우 경로를 왕복하며 유기물 소스(600)를 공급할 수 있고, 증착 소스 공급부(500)에서 공급되는 유기물 소스(600)들은 프레임 일체형 마스크(100, 200)에 형성된 패턴(P)을 통과하여 대상 기판(900)의 일측에 증착될 수 있다. 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴(P)을 통과한 증착된 유기물 소스(600)는 OLED의 화소(700)로서 작용할 수 있다.The deposition source supply unit 500 may reciprocate the left and right path to supply the organic material source 600, and the organic material sources 600 supplied from the deposition source supply unit 500 are pattern P formed on the frame-integrated masks 100 and 200. ) May be deposited on one side of the target substrate 900. The deposited organic material source 600 passing through the pattern P of the frame-integrated masks 100 and 200 may function as the pixel 700 of the OLED.

새도우 이펙트(Shadow Effect)에 의한 화소(700)의 불균일 증착을 방지하기 위해, 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴은 경사지게 형성(S)[또는, 테이퍼 형상(S)으로 형성]될 수 있다. 경사진 면을 따라서 대각선 방향으로 패턴을 통과하는 유기물 소스(600)들도 화소(700)의 형성에 기여할 수 있으므로, 화소(700)는 전체적으로 두께가 균일하게 증착될 수 있다.In order to prevent non-uniform deposition of the pixel 700 due to a shadow effect, the pattern of the frame-integrated masks 100 and 200 may be formed to be inclined (S) (or formed in a tapered shape (S)). . Since the organic material sources 600 passing through the pattern in a diagonal direction along the inclined surface may also contribute to the formation of the pixel 700, the overall thickness of the pixel 700 may be uniformly deposited.

마스크(100)는 화소 증착 공정 온도보다 높은 제1 온도 상에서 프레임(200)에 부착 고정되므로, 화소 증착을 위한 공정 온도로 상승시킨다고 하더라도, 마스크 패턴(P)의 위치에는 영향이 거의 없게 되며, 마스크(100)와 이에 이웃하는 마스크(100) 사이의 PPA는 3㎛를 초과하지 않도록 유지될 수 있다.Since the mask 100 is attached and fixed to the frame 200 at a first temperature higher than the pixel deposition process temperature, even if it is raised to the process temperature for pixel deposition, the position of the mask pattern P is hardly affected. The PPA between 100 and the mask 100 adjacent thereto may be maintained not to exceed 3 μm.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with reference to a preferred embodiment as described above, it is not limited to the above embodiment, and within the scope not departing from the spirit of the present invention, various It can be transformed and changed. Such modifications and variations should be viewed as falling within the scope of the present invention and the appended claims.

50: 트레이(tray)
70: 하부 지지체
100: 마스크
110: 마스크 막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
1000: OLED 화소 증착 장치
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
ET: 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승
IG: 불활성 가스 공급
L: 레이저
LT: 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강
LW: 레이저 용접
R: 테두리 프레임부의 중공 영역
P: 마스크 패턴
TS: 장력
W: 용접
WB: 용접 비드50: tray
70: lower support
100: mask
110: mask film
200: frame
210: frame frame portion
220: mask cell sheet portion
221: border sheet portion
223: first grid seat portion
225: second grid seat portion
1000: OLED pixel deposition device
C: cell, mask cell
CR: Mask cell area
DM: dummy, mask dummy
ET: Raise the temperature of the process area to the first temperature
IG: inert gas supply
L: laser
LT: Lower the temperature of the process area to the second temperature
LW: laser welding
R: hollow area of the frame part
P: mask pattern
TS: tension
W: welding
WB: welding bead

Claims (15)

적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 준비하는 단계;
(b) 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(c) 마스크의 용접부에 레이저를 조사하여 마스크를 프레임에 부착하는 단계
를 포함하고,
(c) 단계에서 용접부를 타겟으로 불활성 가스를 분사하며, 레이저가 조사된 마스크의 부분에 용접 비드(bead)가 형성되고, 용접 비드는 마스크와 프레임이 일체로 연결되도록 매개하고,
불활성 가스(inert gas)의 분사로 용접 비드의 산화를 억제하여, 불활성 가스를 분사하지 않는 경우보다 불활성 가스를 분사할 경우에 용접 비드의 높이가 낮게 형성되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed,
(a) preparing a frame having at least one mask cell area;
(b) mapping the mask to the mask cell area of the frame; And
(c) attaching the mask to the frame by irradiating a laser to the welding portion of the mask
Including,
In step (c), an inert gas is injected to the target of the welding part, a welding bead is formed in the portion of the mask irradiated with the laser, and the welding bead mediates so that the mask and the frame are integrally connected,
A method of manufacturing a frame-integrated mask wherein oxidation of the weld bead is suppressed by injection of an inert gas, and the height of the weld bead is formed lower when the inert gas is injected than when the inert gas is not injected. 제1항에 있어서,
(a) 단계는,
(a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 준비하는 단계;
(a2) 평면의 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하는 단계; 및
(a3) 마스크 셀 시트부에 복수의 마스크 셀 영역을 형성하여 프레임을 제조하는 단계
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 1,
Step (a),
(a1) preparing a frame part including a hollow area;
(a2) connecting the planar mask cell sheet portion to the frame frame portion; And
(a3) manufacturing a frame by forming a plurality of mask cell regions on the mask cell sheet portion
Containing, the manufacturing method of the frame-integrated mask. 제1항에 있어서,
(a) 단계는,
(a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 준비하는 단계; 및
(a2) 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하여 프레임을 제조하는 단계
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 1,
Step (a),
(a1) preparing a frame part including a hollow area; And
(a2) manufacturing a frame by connecting a mask cell sheet portion having a plurality of mask cell regions to an edge frame portion
Containing, the manufacturing method of the frame-integrated mask. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
마스크를 트레이 상에 부착하고, 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method according to any one of claims 1 to 3,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein a mask is attached on a tray, and the tray is loaded on the frame to correspond the mask to the mask cell area of the frame. 제4항에 있어서,
트레이는 평판 형상이고, 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz), 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나의 재질을 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 4,
The tray is in the shape of a flat plate, and includes any one of glass, silica, heat-resistant glass, quartz, and alumina (Al 2 O 3 ). 삭제delete 제4항에 있어서,
마스크의 용접부에 대응하는 트레이의 부분에 레이저 통과공이 형성되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 4,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein a laser through hole is formed in a portion of a tray corresponding to a welding portion of the mask. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
불활성 가스를 분사하지 않는 경우보다, 불활성 가스를 분사할 경우에 용접 비드의 높이가 7.5㎛ 내지 15㎛가 낮게 형성되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 1,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein the height of the weld bead is formed to be 7.5 µm to 15 µm lower when inert gas is injected than when inert gas is not injected. 삭제delete 제2항 또는 제3항에 있어서,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고,
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부;
제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및
제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method according to claim 2 or 3,
The mask cell sheet portion includes a plurality of mask cell regions along at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction,
The mask cell sheet part,
Border sheet portion;
At least one first grid sheet portion extending in a first direction and having both ends connected to the frame sheet portion; And
A method of manufacturing a frame-integrated mask comprising at least one second grid sheet portion extending in a second direction perpendicular to the first direction, crossing the first grid sheet portion, and having both ends connected to the frame sheet portion. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
마스크 및 프레임은 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈, 니켈-코발트 중 어느 하나의 재질인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 1,
The mask and the frame are made of any one of invar, super invar, nickel, and nickel-cobalt, a method of manufacturing a frame-integrated mask.
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