KR102314856B1 - Producing method of mask integrated frame - Google Patents

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Abstract

본 발명은 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 프레임 일체형 마스크의 제조 방법은, 적어도 하나의 마스크(100)와 마스크(100)를 지지하는 프레임(200)이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역(CR)을 구비한 프레임(200)을 제공하는 단계, (b) 마스크(100)를 트레이(50) 상에 부착하는 단계. (c) 프레임(200) 상에 트레이(50)를 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 단계, (d) 트레이(50) 상에 자력 인가부(80)를 로딩하는 단계, 및 (e) 마스크(100)의 용접부에 레이저(L)를 조사하여 마스크(100)를 프레임(200)에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask. A method of manufacturing a frame-integrated mask according to the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask 100 and a frame 200 supporting the mask 100 are integrally formed, (a) at least one mask Providing the frame 200 having the cell region CR, (b) attaching the mask 100 on the tray 50. (c) loading the tray 50 on the frame 200 so that the mask 100 corresponds to the mask cell region CR of the frame 200, (d) a magnetic force applying unit ( 80), and (e) attaching the mask 100 to the frame 200 by irradiating a laser (L) to the welding portion of the mask 100 .

Description

프레임 일체형 마스크의 제조 방법 {PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}Manufacturing method of frame-integrated mask {PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}

본 발명은 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마스크를 프레임과 일체를 이루도록 할 수 있고, 각 마스크 간의 얼라인(align)을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask. More particularly, it relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of forming a mask integrally with a frame, and clearly aligning each mask.

최근에 박판 제조에 있어서 전주 도금(Electroforming) 방법에 대한 연구가 진행되고 있다. 전주 도금 방법은 전해액에 양극체, 음극체를 침지하고, 전원을 인가하여 음극체의 표면상에 금속박판을 전착시키므로, 극박판을 제조할 수 있으며, 대량 생산을 기대할 수 있는 방법이다.Recently, in the manufacture of thin plates, research on an electroforming method has been conducted. The electroplating method immerses the anode body and the cathode body in an electrolyte, and applies power to electrodeposit a thin metal plate on the surface of the cathode body, so that an ultra-thin plate can be manufactured and mass production can be expected.

한편, OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.On the other hand, as a technology for forming a pixel in the OLED manufacturing process, the FMM (Fine Metal Mask) method is mainly used to deposit an organic material at a desired position by attaching a thin metal mask to the substrate.

기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the existing OLED manufacturing process, the mask is manufactured in the form of a stick or plate, and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. A plurality of cells corresponding to one display may be provided in one mask. In addition, for large-area OLED manufacturing, multiple masks can be fixed to the OLED pixel deposition frame, and in the process of fixing to the frame, each mask is stretched so that it is flat. Adjusting the tension so that the entire part of the mask is flat is a very difficult task. In particular, in order to align a mask pattern with a size of only a few to several tens of μm while flattening each cell, it is necessary to finely control the tensile force applied to each side of the mask and check the alignment state in real time. do.

그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점, 용접 과정에서 용접 부분에 발생하는 주름, 번짐(burr) 등에 의해 마스크 셀의 정렬이 엇갈리게 되는 문제점 등이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing a plurality of masks to one frame, there is a problem in that the masks are not well aligned with each other and between the mask cells. In addition, in the process of welding and fixing the mask to the frame, since the thickness of the mask film is too thin and large, the mask is sagged or distorted by load There were problems such as misalignment of the alignment.

초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD image quality is 500-600 PPI (pixel per inch), with a pixel size of about 30-50 μm. has a resolution of As such, it is necessary to reduce the alignment error between cells by several μm in consideration of the pixel size of the ultra-high-definition OLED, and an error outside of this may lead to product failure, and thus the yield may be very low. Therefore, there is a need to develop a technology capable of preventing deformation such as sagging or twisting of the mask, and clarifying alignment, and a technology of fixing the mask to a frame.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이룰 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been devised to solve the problems of the prior art as described above, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a frame-integrated mask in which a mask and a frame can form an integrated structure.

또한, 본 발명은 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of preventing deformation such as sagging or warping of the mask and clarifying alignment.

또한, 본 발명은 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킨 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask that significantly reduces manufacturing time and significantly increases yield.

또한, 본 발명은 마스크를 프레임에 부착할 때, 마스크에 변형이 생기는 것을 방지하는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 그 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask that prevents deformation of the mask when the mask is attached to a frame.

본 발명의 상기의 목적은, 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 제공하는 단계; (b) 마스크를 트레이 상에 부착하는 단계; (c) 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; (d) 트레이 상에 자력 인가부를 로딩하는 단계; 및 (e) 마스크의 용접부에 레이저를 조사하여 마스크를 프레임에 부착하는 단계를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, comprising the steps of: (a) providing a frame having at least one mask cell region; (b) attaching the mask onto the tray; (c) loading the tray on the frame so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame; (d) loading the magnetic force applying unit on the tray; and (e) attaching the mask to the frame by irradiating a laser to the welded portion of the mask.

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 제공하는 단계; (b) 일면 상에 자력 인가부가 부착된 트레이의 타면 상에 마스크를 부착하는 단계; (c) 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및 (d) 마스크의 용접부에 레이저를 조사하여 마스크를 프레임에 부착하는 단계를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.In addition, the above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, comprising the steps of: (a) providing a frame having at least one mask cell region; (b) attaching a mask on the other surface of the tray to which a magnetic force applying unit is attached on one surface; (c) loading the tray on the frame so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame; and (d) attaching the mask to the frame by irradiating a laser to the welded portion of the mask.

(a) 단계는, (a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계; (a2) 평면의 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하는 단계; 및 (a3) 마스크 셀 시트부에 복수의 마스크 셀 영역을 형성하여 프레임을 제조하는 단계를 포함할 수 있다.Step (a) comprises the steps of: (a1) providing an edge frame portion including a hollow region; (a2) connecting the flat mask cell sheet portion to the edge frame portion; and (a3) forming a plurality of mask cell regions in the mask cell sheet portion to manufacture a frame.

(a) 단계는, (a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계; 및 (a2) 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하여 프레임을 제조하는 단계를 포함할 수 있다.Step (a) comprises the steps of: (a1) providing an edge frame portion including a hollow region; and (a2) manufacturing a frame by connecting a mask cell sheet portion having a plurality of mask cell regions to an edge frame portion.

자력 인가부에서 마스크 및 프레임에 자력을 인가하여 마스크 및 프레임을 트레이의 일면으로 밀착시킬 수 있다.The magnetic force applying unit may apply a magnetic force to the mask and the frame to adhere the mask and the frame to one surface of the tray.

트레이와 마스크 사이가 접촉하는 계면에 에어갭(air gap) 형성이 방지될 수 있다.Formation of an air gap at the interface between the tray and the mask can be prevented.

자력 인가부는 전자석을 포함할 수 있다.The magnetic force applying unit may include an electromagnet.

트레이는 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz), 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나의 재질을 포함할 수 있다.The tray may include any one material of glass, silica, heat-resistant glass, quartz, and alumina (Al 2 O 3 ).

트레이 상부에서 조사된 레이저는 트레이를 투과하여 마스크의 용접부에 조사될 수 있다.The laser irradiated from the upper part of the tray may pass through the tray and be irradiated to the welding part of the mask.

마스크의 용접부에 대응하는 트레이의 부분에 레이저 통과공이 형성될 수 있다.A laser passage hole may be formed in a portion of the tray corresponding to the welding portion of the mask.

트레이는 평판 형상이고, 마스크와 접촉하는 일면의 표면 조도(Ra)가 50nm 이하(0초과)인 재질을 포함할 수 있다.The tray has a flat plate shape and may include a material having a surface roughness (Ra) of 50 nm or less (greater than 0) of one surface in contact with the mask.

트레이는 웨이퍼(wafer), 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz), 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나의 재질을 포함할 수 있다.The tray may include any one of a wafer (wafer), glass (glass), silica (silica), heat-resistant glass, quartz (quartz), alumina (Al 2 O 3 ).

트레이 상부에서 조사된 레이저는 레이저 통과공을 통과하여 마스크의 용접부에 조사될 수 있다.The laser irradiated from the top of the tray may pass through the laser passing hole and may be irradiated to the welding part of the mask.

레이저가 조사된 용접부의 부분에 용접 비드(bead)가 형성되고, 용접 비드는 마스크와 프레임이 일체로 연결되도록 매개할 수 있다.A welding bead is formed in a portion of the welding portion irradiated with a laser, and the welding bead may mediate so that the mask and the frame are integrally connected.

하부 지지체가 프레임 하부에 배치되어, 트레이가 로딩되는 마스크 셀 영역의 반대면을 압착할 수 있다.A lower support may be disposed under the frame to compress the opposite surface of the mask cell region on which the tray is loaded.

마스크를 마스크 셀 영역에 대응하기 전, 또는, 대응한 후에 프레임이 포함된 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승시키고, 마스크를 프레임에 부착한 후에 프레임이 포함된 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강시킬 수 있다.Before or after the mask corresponds to the mask cell region, the temperature of the process region including the frame is raised to a first temperature, and after attaching the mask to the frame, the temperature of the process region including the frame is increased to a second temperature can be lowered to

제1 온도는 OLED 화소 증착 공정 온도보다 같거나 높은 온도이고, 제2 온도는 적어도 제1 온도보다 낮은 온도일 수 있다.The first temperature may be equal to or higher than the OLED pixel deposition process temperature, and the second temperature may be at least lower than the first temperature.

제1 온도는 25℃ 내지 60℃ 중 어느 하나의 온도이고, 제2 온도는 제1 온도보다 낮은 20℃ 내지 30℃ 중 어느 하나의 온도이며, OLED 화소 증착 공정 온도는 25℃ 내지 45℃ 중 어느 하나의 온도일 수 있다.The first temperature is any one of 25°C to 60°C, the second temperature is any one of 20°C to 30°C lower than the first temperature, and the OLED pixel deposition process temperature is any one of 25°C to 45°C It can be one temperature.

마스크를 마스크 셀 영역에 대응할 때, 마스크에 인장을 가하지 않을 수 있다.When the mask corresponds to the mask cell region, tension may not be applied to the mask.

공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강시키면, 프레임에 부착된 마스크가 수축되어 장력(tension)을 인가받을 수 있다.When the temperature of the process region is lowered to the second temperature, the mask attached to the frame may be contracted and tension may be applied.

마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비할 수 있다.The mask cell sheet unit may include a plurality of mask cell regions along at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction.

마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 및 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부를 포함할 수 있다.The mask cell sheet unit includes: an edge sheet unit; and at least one first grid sheet part extending in the first direction and having both ends connected to the edge sheet part.

마스크 셀 시트부는, 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 더 포함할 수 있다.The mask cell sheet unit may further include at least one second grid sheet unit extending in a second direction perpendicular to the first direction, intersecting the first grid sheet unit, and having both ends connected to the edge sheet unit.

마스크 및 프레임은 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈, 니켈-코발트 중 어느 하나의 재질일 수 있다.The mask and the frame may be made of any one of invar, super invar, nickel, and nickel-cobalt.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이룰 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, there is an effect that the mask and the frame can form an integrated structure.

또한, 본 발명에 따르면, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of preventing deformation such as sagging or twisting of the mask and clarifying alignment.

또한, 본 발명에 따르면, 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect that can significantly reduce the manufacturing time and significantly increase the yield.

또한, 본 발명에 따르면, 마스크를 프레임에 부착할 때, 마스크에 변형이 생기는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, when the mask is attached to the frame, there is an effect that can prevent deformation of the mask.

도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 2는 종래의 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 3은 종래의 마스크를 인장하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 비교예에 따른 마스크를 트레이 상에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 9는 비교예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 10은 비교예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착하는 과정 및 마스크와 트레이의 계면 상태를 나타내는 개략도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착하는 과정 및 마스크와 트레이의 계면 상태를 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착하는 과정 및 마스크와 트레이의 계면 상태를 나타내는 개략도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 트레이를 나타내는 개략도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 순차적으로 셀 영역에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 17는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착한 후 공정 영역의 온도를 하강시키는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional mask for OLED pixel deposition.
2 is a schematic diagram illustrating a process of attaching a conventional mask to a frame.
3 is a schematic diagram illustrating that an alignment error occurs between cells in a process of tensioning a conventional mask.
4 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
5 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram illustrating a manufacturing process of a frame according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a frame according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic view showing a state in which a mask according to a comparative example is attached on a tray.
9 is a schematic diagram illustrating a state in which a tray according to a comparative example is loaded onto a frame and a mask corresponds to a cell region of the frame.
10 is a schematic diagram illustrating a process of loading a tray on a frame and attaching a mask to a cell region of the frame and an interface state between the mask and the tray according to a comparative example.
11 is a schematic diagram illustrating a process of loading a tray on a frame and attaching a mask to a cell region of the frame and an interface state between the mask and the tray according to an embodiment of the present invention.
12 is a schematic diagram illustrating a state in which a tray is loaded onto a frame and a mask corresponds to a cell region of the frame according to an embodiment of the present invention.
13 is a schematic diagram illustrating a process of loading a tray on a frame and attaching a mask to a cell region of the frame and an interface state between the mask and the tray according to another embodiment of the present invention.
14 is a schematic diagram showing a tray according to another embodiment of the present invention.
15 is a schematic diagram illustrating a state in which a tray is loaded on a frame and a mask corresponds to a cell region of the frame according to an embodiment of the present invention.
16 is a schematic diagram illustrating a process of sequentially attaching a mask to a cell region according to an embodiment of the present invention.
17 is a schematic diagram illustrating a process of lowering the temperature of a process region after attaching a mask to a cell region of a frame according to an embodiment of the present invention.
18 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus using a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0010] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0010] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0023] Reference is made to the accompanying drawings, which show by way of illustration specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and characteristics described herein with respect to one embodiment may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention. In addition, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not intended to be taken in a limiting sense, and the scope of the invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all scope equivalents to those claimed. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions in various aspects, and the length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to enable those of ordinary skill in the art to easily practice the present invention.

도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크(10)를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional mask 10 for OLED pixel deposition.

도 1을 참조하면, 종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)으로 제조될 수 있다. 도 1의 (a)에 도시된 마스크(10)는 스틱형 마스크로서, 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 도 1의 (b)에 도시된 마스크(100)는 판형(Plate-Type) 마스크로서, 넓은 면적의 화소 형성 공정에서 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1 , the conventional mask 10 may be manufactured in a stick-type or plate-type shape. The mask 10 shown in FIG. 1A is a stick-type mask, and can be used by welding and fixing both sides of the stick to the OLED pixel deposition frame. The mask 100 illustrated in FIG. 1B is a plate-type mask and may be used in a process of forming a large area pixel.

마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 셀(C)을 확대하면 R, G, B에 대응하는 복수의 화소 패턴(P)이 나타난다. 일 예로, 셀(C)에는 70 X 140의 해상도를 가지도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 즉, 수많은 화소 패턴(P)들은 군집을 이루어 셀(C) 하나를 구성하며, 복수의 셀(C)들이 마스크(10)에 형성될 수 있다.A plurality of display cells C are provided in the body of the mask 10 (or the mask film 11 ). One cell C corresponds to one display such as a smart phone. A pixel pattern P is formed in the cell C to correspond to each pixel of the display. When the cell C is enlarged, a plurality of pixel patterns P corresponding to R, G, and B appear. For example, a pixel pattern P is formed in the cell C to have a resolution of 70×140. That is, numerous pixel patterns P form a group to constitute one cell C, and a plurality of cells C may be formed on the mask 10 .

도 2는 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 3은 종래의 마스크(10)를 인장(F1~F2)하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다. 도 1의 (a)에 도시된 6개의 셀(C: C1~C6)을 구비하는 스틱 마스크(10)를 예로 들어 설명한다.2 is a schematic diagram illustrating a process of attaching the conventional mask 10 to the frame 20 . 3 is a schematic diagram illustrating that an alignment error occurs between cells in the process of stretching (F1 to F2) the conventional mask 10 . The stick mask 10 including six cells (C: C1 to C6) shown in FIG. 1A will be described as an example.

도 2의 (a)를 참조하면, 먼저, 스틱 마스크(10)를 평평하게 펴야한다. 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 당김에 따라 스틱 마스크(10)가 펴지게 된다. 그 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다. 프레임(20)은 하나의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수 있고, 복수의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수도 있다.Referring to FIG. 2A , first, the stick mask 10 should be flattened. The stick mask 10 is unfolded as it is pulled by applying tensile forces F1 to F2 in the long axis direction of the stick mask 10 . In this state, the stick mask 10 is loaded on the frame 20 in the form of a square frame. The cells C1 to C6 of the stick mask 10 are located in the blank area inside the frame 20 of the frame 20 . The frame 20 may have a size such that the cells C1 to C6 of one stick mask 10 are located in an empty area inside the frame, and the cells C1 to C6 of the plurality of stick masks 10 are placed in the frame. It may be large enough to be located in the inner blank area.

도 2의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 2의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to Figure 2 (b), after aligning while finely adjusting the tensile force (F1 ~ F2) applied to each side of the stick mask 10, a part of the side of the stick mask 10 is welded (W) Accordingly, the stick mask 10 and the frame 20 are interconnected. FIG. 2(c) shows a cross-section of the stick mask 10 and the frame connected to each other.

도 3을 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C3)들의 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수(일 예로, 6개)의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다.Referring to FIG. 3 , in spite of finely adjusting the tensile forces F1 to F2 applied to each side of the stick mask 10 , there is a problem in that the mask cells C1 to C3 are not well aligned with each other. For example, the distances D1 to D1″ and D2 to D2″ between the patterns P of the cells C1 to C3 are different from each other, or the patterns P are skewed. Since the stick mask 10 has a large area including a plurality of (eg, six) cells C1 to C6 and has a very thin thickness of several tens of μm, it is easily sagged or twisted by a load. In addition, it is very difficult to check the alignment state between the cells C1 to C6 in real time through a microscope while adjusting the tensile force F1 to F2 to flatten all the cells C1 to C6.

따라서, 인장력(F1~F2)의 미세한 오차는 스틱 마스크(10) 각 셀(C1~C3)들이 늘어나거나, 펴지는 정도에 오차를 발생시킬 수 있고, 그에 따라 마스크 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상이해지게 되는 문제점을 발생시킨다. 물론, 완벽하게 오차가 0이 되도록 정렬하는 것은 어려운 것이지만, 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Accordingly, a minute error in the tensile force F1 to F2 may cause an error in the extent to which each cell C1 to C3 of the stick mask 10 is stretched or unfolded, and accordingly, the distance D1 between the mask patterns P ~D1", D2~D2") causes a problem that becomes different. Of course, it is difficult to align perfectly so that the error is 0, but in order to prevent the mask pattern P having a size of several to several tens of μm from adversely affecting the pixel process of the ultra-high-definition OLED, the alignment error should not exceed 3 μm. It is preferable not to This alignment error between adjacent cells is referred to as pixel position accuracy (PPA).

이에 더하여, 대략 6~20개 정도의 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.In addition, approximately 6 to 20 of a plurality of stick masks 10 are connected to one frame 20 , respectively, between the plurality of stick masks 10 and a plurality of cells C of the stick mask 10 . It is also very difficult to clarify the alignment state between ~C6), and the processing time according to alignment is inevitably increased, which is a significant reason for reducing productivity.

한편, 스틱 마스크(10)를 프레임(20)에 연결 고정시킨 후에는, 스틱 마스크(10)에 가해졌던 인장력(F1~F2)이 프레임(20)에 역으로 작용할 수 있다. 즉, 인장력(F1~F2)에 의해 팽팽히 늘어났던 스틱 마스크(10)가 프레임(20)에 연결된 후에 프레임(20)에 장력(tension)을 작용할 수 있다. 보통 이 장력이 크지 않아서 프레임(20)에 큰 영향을 미치지 않을 수 있으나, 프레임(20)의 크기가 소형화되고 강성이 낮아지는 경우에는 이러한 장력이 프레임(20)을 미세하게 변형시킬 수 있다. 그리하면 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태가 틀어지는 문제가 발생할 수 있다.Meanwhile, after the stick mask 10 is connected and fixed to the frame 20 , the tensile forces F1 to F2 applied to the stick mask 10 may reversely act on the frame 20 . That is, after the stick mask 10 , which has been stretched taut by the tensile forces F1 to F2 , is connected to the frame 20 , a tension may be applied to the frame 20 . Usually, this tension is not large, so it may not have a significant effect on the frame 20 , but when the size of the frame 20 is reduced in size and rigidity is lowered, this tension may slightly deform the frame 20 . In this way, a problem in which the alignment state is misaligned among the plurality of cells C to C6 may occur.

이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다. 마스크(100)가 프레임(200)에 연결될 때 마스크(100)에 어떠한 인장력도 가하지 않으므로, 마스크(100)가 프레임(200)에 연결된 후 프레임(200)이 변형될 정도의 장력을 가하지 않을 수 있다. 그리고, 마스크(100)를 프레임(200)에 일체로 연결하는 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 이점을 가진다.Accordingly, the present invention proposes a frame 200 and a frame-integrated mask that allows the mask 100 to form an integrated structure with the frame 200 . The mask 100 integrally formed with the frame 200 is prevented from being deformed such as sagging or twisting, and can be clearly aligned with the frame 200 . Since no tensile force is applied to the mask 100 when the mask 100 is connected to the frame 200, a tension sufficient to deform the frame 200 after the mask 100 is connected to the frame 200 may not be applied. . And, it has the advantage of significantly reducing the manufacturing time for integrally connecting the mask 100 to the frame 200 and significantly increasing the yield.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 4의 (a)] 및 측단면도[도 4의 (b)]이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도[도 5의 (a)] 및 측단면도[도 5의 (b)]이다.4 is a front view [FIG. 4 (a)] and a side cross-sectional view [FIG. 4 (b)] showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention. It is a front view [FIG. 5(a)] and a side cross-sectional view [FIG. 5(b)] which show a frame.

도 4 및 도 5를 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 부착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 부착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있으며, 프레임(200)에 부착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.4 and 5 , the frame-integrated mask may include a plurality of masks 100 and one frame 200 . In other words, a plurality of masks 100 are attached to the frame 200 one by one. Hereinafter, for convenience of explanation, the mask 100 having a rectangular shape will be described as an example, but the masks 100 may be in the form of a stick mask having protrusions clamped on both sides before being attached to the frame 200 , and the frame 200 . ) after being attached to the protrusion can be removed.

각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다. 얇은 두께로 형성할 수 있도록, 마스크(100)는 전주도금(electroforming)으로 형성될 수 있다. 마스크(100)는 열팽창계수가 약 1.0 X 10-6/℃인 인바(invar), 약 1.0 X 10-7/℃ 인 슈퍼 인바(super invar) 재질일 수 있다. 이 재질의 마스크(100)는 열팽창계수가 매우 낮기 때문에 열에너지에 의해 마스크의 패턴 형상이 변형될 우려가 적어 고해상도 OLED 제조에서 있어서 FMM(Fine Metal Mask), 새도우 마스크(Shadow Mask)로 사용될 수 있다. 이 외에, 최근에 온도 변화값이 크지 않은 범위에서 화소 증착 공정을 수행하는 기술들이 개발되는 것을 고려하면, 마스크(100)는 이보다 열팽창계수가 약간 큰 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크의 두께는 약 2㎛ 내지 50㎛ 정도로 형성될 수 있다.A plurality of mask patterns P may be formed on each mask 100 , and one cell C may be formed on one mask 100 . One mask cell C may correspond to one display such as a smart phone. To form a thin film, the mask 100 may be formed by electroforming. Mask 100 may be a coefficient of thermal expansion of about 1.0 X 10 -6 / ℃ of invar (invar), about 1.0 X 10 -7 / ℃ Super Invar (super invar) material. Since the mask 100 made of this material has a very low coefficient of thermal expansion, there is little fear that the pattern shape of the mask is deformed by thermal energy, so it can be used as a fine metal mask (FMM) or a shadow mask in high-resolution OLED manufacturing. In addition, considering that technologies for performing a pixel deposition process in a range where a temperature change value is not large recently, the mask 100 may be formed of nickel (Ni) or nickel-cobalt (Ni-Co) having a slightly larger coefficient of thermal expansion than this. ) may be a material such as The thickness of the mask may be about 2 μm to 50 μm.

프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 부착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 최외곽 테두리를 포함해 제1 방향(예를 들어, 가로 방향), 제2 방향(예를 들어, 세로 방향)으로 형성되는 여러 모서리를 포함할 수 있다. 이러한 여러 모서리들은 프레임(200) 상에 마스크(100)가 부착될 구역을 구획할 수 있다.The frame 200 is formed so that a plurality of masks 100 can be attached thereto. The frame 200 may include several corners formed in a first direction (eg, a horizontal direction) and a second direction (eg, a vertical direction) including an outermost edge. These various corners may define a region on the frame 200 to which the mask 100 is to be attached.

프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다. 즉, 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함할 수 있다. 프레임(200)은 인바, 슈퍼인바, 알루미늄, 티타늄 등의 금속 재질로 구성될 수 있으며, 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 열팽창계수를 가지는 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질로 구성되는 것이 바람직하고, 이 재질들은 프레임(200)의 구성요소인 테두리 프레임부(210), 마스크 셀 시트부(220)에 모두 적용될 수 있다.The frame 200 may include an edge frame portion 210 having a substantially rectangular shape or a rectangular frame shape. The inside of the edge frame part 210 may have a hollow shape. That is, the edge frame portion 210 may include the hollow region (R). The frame 200 may be made of a metal material such as Invar, Super Invar, aluminum, or titanium, and is made of Invar, Super Invar, Nickel, Nickel-Cobalt, etc., having the same coefficient of thermal expansion as the mask in consideration of thermal deformation. Preferably, these materials may be applied to both the edge frame part 210 and the mask cell sheet part 220 that are components of the frame 200 .

이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 마스크(100)와 마찬가지로 전주도금으로 형성되거나, 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 또한, 마스크 셀 시트부(220)는 평면의 시트(sheet)에 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성한 후, 테두리 프레임부(210)에 연결할 수 있다. 또는, 마스크 셀 시트부(220)는 평면의 시트를 테두리 프레임부(210)에 연결한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성할 수 있다. 본 명세서에서는 마스크 셀 시트부(220)에 먼저 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성한 후, 테두리 프레임부(210)에 연결한 것을 주로 상정하여 설명한다.In addition, the frame 200 may include a plurality of mask cell regions CR, and may include a mask cell sheet unit 220 connected to the edge frame unit 210 . Like the mask 100 , the mask cell sheet unit 220 may be formed by electroplating, or may be formed using other film forming processes. In addition, the mask cell sheet unit 220 may be connected to the edge frame unit 210 after forming a plurality of mask cell regions CR on a flat sheet through laser scribing, etching, or the like. Alternatively, the mask cell sheet unit 220 may form a plurality of mask cell regions CR through laser scribing, etching, or the like after connecting a flat sheet to the edge frame unit 210 . In the present specification, it is mainly assumed that a plurality of mask cell regions CR are first formed on the mask cell sheet part 220 and then connected to the edge frame part 210 .

마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225) 중 적어도 하나를 포함하여 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.The mask cell sheet part 220 may include at least one of the edge sheet part 221 and the first and second grid sheet parts 223 and 225 . The edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 refer to partitioned portions of the same sheet, and they are integrally formed with each other.

테두리 시트부(221)가 실질적으로 테두리 프레임부(210)에 연결될 수 있다. 따라서, 테두리 시트부(221)는 테두리 프레임부(210)와 대응하는 대략 사각 형상, 사각틀 형상을 가질 수 있다.The edge sheet part 221 may be substantially connected to the edge frame part 210 . Accordingly, the edge sheet part 221 may have a substantially rectangular shape or a rectangular frame shape corresponding to the edge frame part 210 .

또한, 제1 그리드 시트부(223)는 제1 방향(가로 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제1 그리드 시트부(223)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 시트부(221)에 연결될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 복수의 제1 그리드 시트부(223)를 포함하는 경우, 각각의 제1 그리드 시트부(223)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.Also, the first grid sheet part 223 may be formed to extend in a first direction (horizontal direction). The first grid sheet part 223 may be formed in a straight shape so that both ends thereof may be connected to the edge sheet part 221 . When the mask cell sheet part 220 includes a plurality of first grid sheet parts 223 , it is preferable that each of the first grid sheet parts 223 form equal intervals.

또한, 이에 더하여, 제2 그리드 시트부(225)가 제2 방향(세로 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제2 그리드 시트부(225)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 시트부(221)에 연결될 수 있다. 제1 그리드 시트부(223)와 제2 그리드 시트부(225)는 서로 수직 교차될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 복수의 제2 그리드 시트부(225)를 포함하는 경우, 각각의 제2 그리드 시트부(225)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.In addition, the second grid sheet part 225 may be formed to extend in the second direction (vertical direction). The second grid sheet part 225 may be formed in a straight shape so that both ends thereof may be connected to the edge sheet part 221 . The first grid sheet part 223 and the second grid sheet part 225 may vertically cross each other. When the mask cell sheet part 220 includes a plurality of second grid sheet parts 225 , it is preferable that the respective second grid sheet parts 225 form equal intervals.

한편, 제1 그리드 시트부(223)들 간의 간격과, 제2 그리드 시트부(225)들 간의 간격은 마스크 셀(C)의 크기에 따라서 동일하거나 상이할 수 있다.Meanwhile, the distance between the first grid sheet parts 223 and the distance between the second grid sheet parts 225 may be the same or different depending on the size of the mask cell C. As shown in FIG.

제1 그리드 시트부(223) 및 제2 그리드 시트부(225)는 박막 형태의 얇은 두께를 가지지만, 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 직사각형, 사다리꼴과 같은 사각형 형상, 삼각형 형상 등일 수 있고, 변, 모서리 부분이 일부 라운딩 될 수도 있다. 단면 형상은 레이저 스크라이빙, 에칭 등의 과정에서 조절 가능하다.Although the first grid sheet part 223 and the second grid sheet part 225 have a thin thickness in the form of a thin film, the shape of the cross-section perpendicular to the longitudinal direction may be a rectangle, a rectangular shape such as a trapezoid, a triangular shape, etc., The sides and corners may be partially rounded. The cross-sectional shape can be adjusted in the process of laser scribing, etching, etc.

테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 테두리 프레임부(210)는 프레임(200)의 전체 강성을 담당하기 때문에 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다.The thickness of the edge frame part 210 may be thicker than the thickness of the mask cell sheet part 220 . The edge frame portion 210 may be formed to a thickness of several mm to several cm because it is responsible for the overall rigidity of the frame (200).

마스크 셀 시트부(220)의 경우는, 실질적으로 두꺼운 시트를 제조하는 공정이 어렵고, 너무 두꺼우면 OLED 화소 증착 공정에서 유기물 소스(600)[도 18 참조]가 마스크(100)를 통과하는 경로를 막는 문제를 발생시킬 수 있다. 반대로, 두께가 너무 얇아지면 마스크(100)를 지지할 정도의 강성 확보가 어려울 수 있다. 이에 따라, 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 것이 바람직하다. 마스크 셀 시트부(220)의 두께는, 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 형성될 수 있다. 그리고, 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.In the case of the mask cell sheet unit 220, the process of manufacturing a substantially thick sheet is difficult, and if it is too thick, the organic material source 600 (see FIG. 18) passes through the mask 100 in the OLED pixel deposition process. It may cause clogging problems. Conversely, if the thickness is too thin, it may be difficult to secure enough rigidity to support the mask 100 . Accordingly, the mask cell sheet portion 220 is thinner than the thickness of the edge frame portion 210 , but preferably thicker than the mask 100 . The thickness of the mask cell sheet part 220 may be about 0.1 mm to about 1 mm. In addition, the width of the first and second grid sheet parts 223 and 225 may be about 1 to 5 mm.

평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다. 다른 관점에서, 마스크 셀 영역(CR)이라 함은, 테두리 프레임부(210)의 중공 영역(R)에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외한, 빈 영역을 의미할 수 있다.In the flat sheet, a plurality of mask cell regions CR: CR11 to CR56 may be provided except for regions occupied by the edge sheet part 221 and the first and second grid sheet parts 223 and 225 . From another point of view, the mask cell region CR refers to an area occupied by the edge sheet part 221 and the first and second grid sheet parts 223 and 225 in the hollow region R of the edge frame part 210 . , but may mean an empty area.

이 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)의 셀(C)이 대응됨에 따라, 실질적으로 마스크 패턴(P)을 통해 OLED의 화소가 증착되는 통로로 이용될 수 있게 된다. 전술하였듯이 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)을 구성하는 마스크 패턴(P)들이 형성될 수 있다. 또는, 하나의 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있으나, 마스크(100)의 명확한 정렬을 위해서는 대면적 마스크(100)를 지양할 필요가 있고, 하나의 셀(C)을 구비하는 소면적 마스크(100)가 바람직하다. 또는, 프레임(200)의 하나의 셀 영역(CR)에 복수의 셀(C)을 가지는 하나의 마스크(100)가 대응할 수도 있다. 이 경우, 명확한 정렬을 위해서는 2-3개 정도의 소수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)를 대응하는 것을 고려할 수 있다.As the cell C of the mask 100 corresponds to the mask cell region CR, it can be used as a path through which the pixels of the OLED are deposited substantially through the mask pattern P. As described above, one mask cell C corresponds to one display such as a smart phone. Mask patterns P constituting one cell C may be formed on one mask 100 . Alternatively, one mask 100 may include a plurality of cells C, and each cell C may correspond to each cell region CR of the frame 200, but the mask 100 may be clearly aligned. For this, it is necessary to avoid the large-area mask 100 , and the small-area mask 100 including one cell C is preferable. Alternatively, one mask 100 having a plurality of cells C may correspond to one cell region CR of the frame 200 . In this case, it may be considered to correspond to the mask 100 having a small number of cells C of about 2-3 for clear alignment.

프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 부착될 수 있다. 각각의 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미(DM)[셀(C)을 제외한 마스크 막(110) 부분에 대응]를 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The frame 200 includes a plurality of mask cell regions CR, and each mask 100 may be attached such that one mask cell C corresponds to the mask cell region CR. Each mask 100 includes a mask cell C on which a plurality of mask patterns P are formed and a dummy DM around the mask cell C (corresponding to the portion of the mask film 110 except for the cell C). may include The dummy DM may include only the mask layer 110 or the mask layer 110 on which a predetermined dummy pattern similar to the mask pattern P is formed. The mask cell C corresponds to the mask cell region CR of the frame 200 , and a part or all of the dummy DM may be attached to the frame 200 (the mask cell sheet unit 220 ). Accordingly, the mask 100 and the frame 200 can form an integrated structure.

한편, 다른 실시예에 따르면, 프레임은 테두리 프레임부(210)에 마스크 셀 시트부(220)를 부착하여 제조하지 않고, 테두리 프레임부(210)의 중공 영역(R) 부분에 테두리 프레임부(210)와 일체인 그리드 프레임[그리드 시트부(223, 225)에 대응]을 곧바로 형성한 프레임을 사용할 수도 있다. 이러한 형태의 프레임도 적어도 하나의 마스크 셀 영역(CR)을 포함하며, 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)를 대응시켜 프레임 일체형 마스크를 제조할 수 있게 된다.Meanwhile, according to another embodiment, the frame is not manufactured by attaching the mask cell sheet unit 220 to the frame frame unit 210 , but the frame frame unit 210 is formed in the hollow region R of the frame frame unit 210 . ) and a grid frame (corresponding to the grid sheet portions 223 and 225) integrally formed thereon may be used. This type of frame also includes at least one mask cell region CR, and by matching the mask 100 to the mask cell region CR, a frame-integrated mask can be manufactured.

이하에서는, 프레임 일체형 마스크를 제조하는 과정에 대해 설명한다.Hereinafter, a process for manufacturing the frame-integrated mask will be described.

먼저, 도 4 및 도 5에서 상술한 프레임(200)을 제공할 수 있다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임(200)의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.First, the frame 200 described above with reference to FIGS. 4 and 5 may be provided. 6 is a schematic diagram illustrating a manufacturing process of the frame 200 according to an embodiment of the present invention.

도 6의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)를 제공한다. 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함한 사각 틀 형상일 수 있다.Referring to (a) of FIG. 6 , an edge frame part 210 is provided. The edge frame part 210 may have a rectangular frame shape including the hollow region R.

다음으로, 도 6의 (b)를 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)를 제조한다. 마스크 셀 시트부(220)는 전주도금 또는 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 평면의 시트를 제조한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분을 제거함에 따라 제조할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)가 존재할 수 있다.Next, referring to FIG. 6B , the mask cell sheet part 220 is manufactured. The mask cell sheet part 220 can be manufactured by manufacturing a flat sheet using electroplating or other film forming process, and then removing the mask cell region CR part through laser scribing, etching, etc. have. In the present specification, a case in which 6 X 5 mask cell regions CR: CR11 to CR56 are formed will be described as an example. Five first grid sheet parts 223 and four second grid sheet parts 225 may exist.

다음으로, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220)의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220)를 평평하게 편 상태로 테두리 시트부(221)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 6의 (b)의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220)를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220)를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, the mask cell sheet part 220 may correspond to the edge frame part 210 . In the process of matching, all sides of the mask cell sheet part 220 are stretched (F1 to F4), and the edge sheet part 221 is attached to the edge frame part 210 in a state where the mask cell sheet part 220 is flattened. can respond. One side may also hold the mask cell sheet 220 at several points (eg, 1 to 3 points in FIG. 6(b) ) and tension it. Meanwhile, the mask cell sheet unit 220 may be stretched (F1, F2) along some lateral directions instead of all sides.

다음으로, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응하면, 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 시트부(221)를 용접(W)하여 부착할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 프레임부(220)에 견고하게 부착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220)와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220)를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, when the mask cell sheet part 220 corresponds to the edge frame part 210 , the edge sheet part 221 of the mask cell sheet part 220 may be attached by welding (W). It is preferable to weld (W) all sides so that the mask cell sheet part 220 can be firmly attached to the edge frame part 220 . Welding (W) should be performed as close to the edge of the edge frame part 210 as possible to reduce the floating space between the edge frame part 210 and the mask cell sheet part 220 as much as possible and increase adhesion. The weld (W) portion may be generated in the form of a line or a spot, and has the same material as the mask cell sheet 220 and integrates the edge frame 210 and the mask cell sheet 220 together. It can be a medium that connects

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다. 도 6의 실시예는 마스크 셀 영역(CR)을 구비한 마스크 셀 시트부(220)를 먼저 제조하고 테두리 프레임부(210)에 부착하였으나, 도 7의 실시예는 평면의 시트를 테두리 프레임부(210)에 부착한 후에, 마스크 셀 영역(CR) 부분을 형성한다.7 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a frame according to another embodiment of the present invention. In the embodiment of FIG. 6 , the mask cell sheet part 220 having the mask cell region CR is first manufactured and attached to the edge frame part 210 , but in the embodiment of FIG. 7 , a flat sheet is used as the edge frame part ( After attaching to 210 , a mask cell region CR portion is formed.

먼저, 도 6의 (a)처럼, 중공 영역(R)을 포함한 테두리 프레임부(210)를 제공한다.First, as shown in (a) of Figure 6, the frame portion 210 including the hollow region (R) is provided.

다음으로, 도 7의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)에 평면의 시트[평면의 마스크 셀 시트부(220')]를 대응할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220')는 아직 마스크 셀 영역(CR)이 형성되지 않은 평면 상태이다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220')의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220')를 평평하게 편 상태로 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 7의 (a)의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220')를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220')를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, referring to FIG. 7A , a flat sheet (planar mask cell sheet portion 220 ′) may correspond to the edge frame portion 210 . The mask cell sheet part 220 ′ is in a planar state in which the mask cell region CR is not yet formed. In the process of matching, all sides of the mask cell sheet part 220' may be stretched (F1 to F4) to correspond to the edge frame part 210 in a state in which the mask cell sheet part 220' is flattened. On one side, the mask cell sheet unit 220 ′ may be held and tensioned at several points (eg, 1 to 3 points in FIG. 7A ). Meanwhile, the mask cell sheet unit 220 ′ may be stretched (F1, F2) along some lateral directions instead of all sides.

다음으로, 마스크 셀 시트부(220')를 테두리 프레임부(210)에 대응하면, 마스크 셀 시트부(220')의 테두리 부분을 용접(W)하여 부착할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220')가 테두리 프레임부(220)에 견고하게 부착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220') 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220')와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220')를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, when the mask cell sheet portion 220 ′ corresponds to the edge frame portion 210 , the edge portion of the mask cell sheet portion 220 ′ may be attached by welding (W). It is preferable to weld (W) all sides so that the mask cell sheet part 220 ′ can be firmly attached to the edge frame part 220 . Welding (W) should be performed as close as possible to the edge of the edge frame part 210, so that the floating space between the edge frame part 210 and the mask cell sheet part 220' can be reduced as much as possible and adhesion can be increased. The weld (W) portion may be formed in the form of a line or a spot, and has the same material as the mask cell sheet portion 220 ′, and includes the edge frame portion 210 and the mask cell sheet portion 220 ′. It can be a medium that connects them together.

다음으로, 도 7의 (b)를 참조하면, 평면의 시트[평면의 마스크 셀 시트부(220')]에 마스크 셀 영역(CR)을 형성한다. 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분의 시트를 제거함에 따라 마스크 셀 영역(CR)을 형성할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 마스크 셀 영역(CR)을 형성하게 되면, 테두리 프레임부(210)와 용접(W)된 부분이 테두리 시트부(221)가 되고, 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)를 구비하는 마스크 셀 시트부(220)가 구성될 수 있다.Next, referring to FIG. 7B , a mask cell region CR is formed on a flat sheet (planar mask cell sheet portion 220 ′). The mask cell region CR may be formed by removing the sheet of the mask cell region CR through laser scribing, etching, or the like. In the present specification, a case in which 6 X 5 mask cell regions CR: CR11 to CR56 are formed will be described as an example. When the mask cell region CR is formed, the edge frame portion 210 and the welded portion W become the edge sheet portion 221 , and five first grid sheet portions 223 and four second grids are formed. The mask cell sheet unit 220 including the sheet unit 225 may be configured.

도 8은 마스크(100)의 형태[도 8의 (a)] 및 비교예에 따른 마스크(100)를 트레이(50') 상에 부착한 상태의 평면도[도 8의 (b)]와 측단면도[도 8의 (c)]를 나타낸다. 도 9는 비교예에 따른 트레이(50')를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태의 평면도[도 9의 (a)] 및 측단면도[도 9의 (b)]를 나타낸다. 도 10은 비교예에 따른 트레이(50')를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착하는 과정 및 마스크(100)와 트레이(50')의 계면 상태를 나타내는 측단면도 및 부분 확대 측단면도를 나타낸다.8 is a plan view (FIG. 8(b)) and a side cross-sectional view of the shape of the mask 100 (FIG. 8(a)) and a state in which the mask 100 according to the comparative example is attached on the tray 50' [Fig. 8(c)] is shown. 9 is a plan view of a state in which a tray 50 ′ according to a comparative example is loaded onto the frame 200 and the mask 100 corresponds to the cell region CR of the frame 200 [FIG. 9 (a)] and a side cross-sectional view [FIG. 9(b)]. 10 shows a process of loading the tray 50 ′ according to a comparative example onto the frame 200 and attaching the mask 100 to the cell region CR of the frame 200 and the mask 100 and the tray 50 ′. ) shows a side cross-sectional view and a partially enlarged side cross-sectional view showing the interface state.

도 8의 (a)를 참조하면, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 제공할 수 있다. 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미(DM)를 포함할 수 있다. 더미(DM)는 셀(C)을 제외한 마스크 막(110) 부분에 대응하고, 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크(100)의 테두리에 대응하여 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 전주도금 방식으로 인바, 슈퍼 인바 재질의 마스크(100)를 제조할 수 있다.Referring to FIG. 8A , a mask 100 having a plurality of mask patterns P formed thereon may be provided. The mask 100 may include a mask cell C on which a plurality of mask patterns P are formed and a dummy DM around the mask cell C. The dummy DM corresponds to a portion of the mask layer 110 excluding the cell C, and includes only the mask layer 110 or the mask layer 110 in which a predetermined dummy pattern similar to the mask pattern P is formed. may include. A part or all of the dummy DM may be attached to the frame 200 (the mask cell sheet unit 220 ) corresponding to the edge of the mask 100 . The mask 100 made of Invar or Super Invar material can be manufactured by electroplating.

전주도금에서 음극체(cathode)로 사용하는 모판(mother plate)은 전도성 재질을 사용한다. 전도성 재질로서, 메탈의 경우에는 표면에 메탈 옥사이드들이 생성되어 있을 수 있고, 메탈 제조 과정에서 불순물이 유입될 수 있으며, 다결정 실리콘 기재의 경우에는 개재물 또는 결정립계(Grain Boundary)가 존재할 수 있으며, 전도성 고분자 기재의 경우에는 불순물이 함유될 가능성이 높고, 강도. 내산성 등이 취약할 수 있다. 메탈 옥사이드, 불순물, 개재물, 결정립계 등과 같이 모판(또는, 음극체)의 표면에 전기장이 균일하게 형성되는 것을 방해하는 요소를 "결함"(Defect)으로 지칭한다. 결함(Defect)에 의해, 상술한 재질의 음극체에는 균일한 전기장이 인가되지 못하여 도금막[마스크(100)]의 일부가 불균일하게 형성될 수 있다.The mother plate used as a cathode in electroplating uses a conductive material. As a conductive material, in the case of a metal, metal oxides may be generated on the surface, impurities may be introduced during the metal manufacturing process, and in the case of a polycrystalline silicon substrate, inclusions or grain boundaries may exist, and a conductive polymer In the case of a base material, it is highly likely to contain impurities, and strength. Acid resistance, etc. may be weak. Elements that prevent the uniform formation of an electric field on the surface of the mother plate (or cathode body), such as metal oxides, impurities, inclusions, and grain boundaries, are referred to as “defects”. Due to the defect, a uniform electric field may not be applied to the cathode body made of the above material, so that a portion of the plating film (mask 100 ) may be non-uniformly formed.

UHD 급 이상의 초고화질 화소를 구현하는데 있어서 도금막 및 도금막 패턴[마스크 패턴(P)]의 불균일은 화소의 형성에 악영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 현재 QHD 화질의 경우는 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질의 경우는 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. VR 기기에 직접 적용되는 마이크로 디스플레이, 또는 VR 기기에 끼워서 사용되는 마이크로 디스플레이는 약 2,000 PPI 이상급의 초고화질을 목표로 하고 있고, 화소의 크기는 약 5~10㎛ 정도에 이르게 된다. 이에 적용되는 FMM, 새도우 마스크의 패턴 폭은 수~수십㎛의 크기, 바람직하게는 30㎛보다 작은 크기로 형성될 수 있으므로, 수㎛ 크기의 결함조차 마스크의 패턴 사이즈에서 큰 비중을 차지할 정도의 크기이다. 또한, 상술한 재질의 음극체에서의 결함을 제거하기 위해서는 메탈 옥사이드, 불순물 등을 제거하기 위한 추가적인 공정이 수행될 수 있으며, 이 과정에서 음극체 재료가 식각되는 등의 또 다른 결함이 유발될 수도 있다.In realizing ultra-high-definition pixels of UHD level or higher, the non-uniformity of the plating film and the plating film pattern (mask pattern P) may adversely affect the formation of the pixel. For example, in the case of the current QHD image quality, the pixel size reaches about 30-50㎛ with 500-600 PPI (pixel per inch), and in the case of 4K UHD and 8K UHD high-definition, higher ~860 PPI, ~1600 PPI resolution, etc. A micro display applied directly to a VR device or a micro display used by inserting a VR device aims for an ultra-high resolution of about 2,000 PPI or higher, and the size of the pixel reaches about 5 to 10 μm. The pattern width of the FMM and shadow mask applied thereto can be formed in a size of several to several tens of μm, preferably smaller than 30 μm, so that even defects with a size of several μm occupy a large proportion in the pattern size of the mask. am. In addition, in order to remove defects in the anode body made of the above material, an additional process for removing metal oxides, impurities, etc. may be performed, and in this process, other defects such as etching of the cathode body material may be induced. have.

따라서, 본 발명은 단결정 재질의 모판(또는, 음극체)를 사용할 수 있다. 특히, 단결정 실리콘 재질인 것이 바람직하다. 전도성을 가지도록, 단결정 실리콘 재질의 모판에는 1019/cm3이상의 고농도 도핑이 수행될 수 있다. 도핑은 모판의 전체에 수행될 수도 있으며, 모판의 표면 부분에만 수행될 수도 있다.Accordingly, in the present invention, a single crystal material mother plate (or negative electrode body) may be used. In particular, it is preferable that the material is single-crystal silicon. In order to have conductivity, a high-concentration doping of 10 19 /cm 3 or more may be performed on the mother plate made of single-crystal silicon. The doping may be performed on the entire mother plate or only on the surface portion of the mother plate.

한편, 단결정 재질로는, Ti, Cu, Ag 등의 금속, GaN, SiC, GaAs, GaP, AlN, InN, InP, Ge 등의 반도체, 흑연(graphite), 그래핀(graphene) 등의 탄소계 재질, CH3NH3PbCl3, CH3NH3PbBr3, CH3NH3PbI3, SrTiO3 등을 포함하는 페로브스카이트(perovskite) 구조 등의 초전도체용 단결정 세라믹, 항공기 부품용 단결정 초내열합금 등이 사용될 수 있다. 금속, 탄소계 재질의 경우는 기본적으로 전도성 재질이다. 반도체 재질의 경우에는, 전도성을 가지도록 1019 이상의 고농도 도핑이 수행될 수 있다. 기타 재질의 경우에는 도핑을 수행하거나 산소 공공(oxygen vacancy) 등을 형성하여 전도성을 형성할 수 있다. 도핑은 모판의 전체에 수행될 수도 있으며, 모판의 표면 부분에만 수행될 수도 있다.On the other hand, as a single crystal material, metals such as Ti, Cu, Ag, semiconductors such as GaN, SiC, GaAs, GaP, AlN, InN, InP, Ge, and carbon-based materials such as graphite and graphene , CH 3 NH 3 PbCl 3, CH 3 NH 3 PbBr 3, CH 3 NH 3 PbI 3, SrTiO 3 , etc. page containing the perovskite (perovskite) superconductor single crystalline ceramic, aircraft single crystal second heat-resistant alloy for components for such structures etc. may be used. Metals and carbon-based materials are basically conductive materials. In the case of a semiconductor material, high-concentration doping of 10 19 or more may be performed to have conductivity. In the case of other materials, conductivity may be formed by doping or forming oxygen vacancies. The doping may be performed on the entire mother plate or only on the surface portion of the mother plate.

단결정 재질의 경우는 결함이 없기 때문에, 전주 도금 시에 표면 전부에서 균일한 전기장 형성으로 인한 균일한 도금막[마스크(100)]이 생성될 수 있는 이점이 있다. 균일한 도금막을 통해 제조하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)는 OLED 화소의 화질 수준을 더욱 개선할 수 있다. 그리고, 결함을 제거, 해소하는 추가 공정이 수행될 필요가 없으므로, 공정비용이 감축되고, 생산성이 향상되는 이점이 있다.In the case of a single crystal material, since there is no defect, there is an advantage that a uniform plating film (mask 100 ) can be generated due to the formation of a uniform electric field on the entire surface during electroplating. The frame-integrated masks 100 and 200 manufactured through a uniform plating film can further improve the quality of OLED pixels. And, since there is no need to perform an additional process for removing and resolving defects, there is an advantage in that process costs are reduced and productivity is improved.

또한, 실리콘 재질, 또는 산화(Oxidation), 질화(Nitridation)에 의해 표면에 절연막을 형성할 수 있는 단결정 재질이라면, 필요에 따라 모판의 표면을 산화, 질화하는 과정만으로 절연부를 형성할 수 있는 이점이 있다. 절연부는 포토레지스트를 사용하여 형성할 수도 있다. 절연부가 형성된 부분에서는 도금막[마스크(100)]의 전착이 방지되어, 도금막에 패턴[마스크 패턴(P)]을 형성하게 된다.In addition, if it is a silicon material or a single crystal material capable of forming an insulating film on the surface by oxidation or nitridation, the advantage of being able to form an insulating part only by oxidizing and nitriding the surface of the mother plate if necessary. have. The insulating portion may be formed using a photoresist. Electrodeposition of the plating film (mask 100) is prevented in the portion where the insulating portion is formed, and a pattern (mask pattern P) is formed on the plating film.

한편, 본 발명의 모판의 재질은 음극체의 결함을 감축하는 범위 내에서라면 반드시 상술한 단결정 재질에 제한되지는 않음을 밝혀둔다.On the other hand, it should be noted that the material of the mother plate of the present invention is not necessarily limited to the above-described single crystal material as long as it is within the range of reducing defects in the cathode body.

마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 2~50㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.The width of the mask pattern P may be formed to be smaller than 40 μm, and the thickness of the mask 100 may be formed to be about 2 to 50 μm. Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions CR: CR11 to CR56, the mask 100 having mask cells C: C11 to C56 corresponding to each of the mask cell regions CR: CR11 to CR56. ) may also be provided in plurality.

다음으로, 도 8의 (b) 및 (c)를 참조하면, 마스크(100)를 트레이(tray; 50') 상에 부착할 수 있다. 모판 상에서 전착된 마스크(100)를 떼어내어 트레이(50') 상에 부착할 수 있다. 트레이(50')의 일면 상에서 마스크(100)가 구김, 주름없이 평평하게 펼쳐져 부착되도록 정전기력, 자기력, 진공 등을 이용할 수 있다. 트레이(50')는 레이저 광(L)이 투과할 수 있는 글래스 재질일 수 있다.Next, referring to FIGS. 8B and 8C , the mask 100 may be attached on a tray 50 ′. The mask 100 electrodeposited on the mother plate may be removed and attached to the tray 50'. Electrostatic force, magnetic force, vacuum, etc. may be used so that the mask 100 is spread and attached flatly without wrinkling or wrinkles on one surface of the tray 50'. The tray 50 ′ may be made of a glass material through which the laser light L can pass.

다음으로, 도 9의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 마스크(100)가 상부에 부착된 트레이(50')를 뒤집고, 트레이(50')를 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 트레이(50')가 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩되면, 마스크(100)는 트레이(50')와 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 사이에 배치되면서, 트레이(50')에 의해 압착될 수 있다.Next, referring to FIGS. 9A and 9B , the mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200 . The mask 100 is converted into a mask cell by turning over the tray 50' to which the mask 100 is attached, and loading the tray 50' onto the frame 200 (or the mask cell sheet unit 220). It can correspond to the region CR. When the tray 50 ′ is loaded onto the frame 200 (or the mask cell sheet unit 220 ), the mask 100 is loaded onto the tray 50 ′ and the frame 200 (or the mask cell sheet unit 220 ). )], and can be compressed by the tray 50'.

도 10을 참조하면, 마스크(100)에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접에 의해 마스크(100)를 프레임(200)에 부착할 수 있다. 레이저 용접된 마스크의 용접부 부분에는 용접 비드(WB)가 생성되고, 용접 비드(WB)는 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 10 , the mask 100 may be attached to the frame 200 by laser welding by irradiating the laser L on the mask 100 . A welding bead WB is generated in the welding portion of the laser-welded mask, and the welding bead WB may have the same material as that of the mask 100/frame 200 and may be integrally connected.

한편, 트레이(50')에 의해 마스크(100)를 압착하는 것 외에도, 마스크(100)와 프레임(200)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]이 더욱 긴밀하게 맞닿도록, 트레이(50')의 상부에서 압착체(M)에 압착을 더 할 수 있다. 압착체(M)의 무게에 의한 하중 외에도 압착체(M)를 누르는 수단을 더 구비할 수 있다. 압착체(M)에는 레이저(L)가 통과하는 투과공(MH)이 형성될 수 있고, 레이저(L)는 투과공(MH)을 지난 후 투명한 트레이(50')를 통과하여 마스크(100)의 용접부(용접을 수행할 영역)에 조사될 수 있다.On the other hand, in addition to pressing the mask 100 by the tray 50 ′, the mask 100 and the frame 200 (or the edge sheet portion 221 , the first and second grid sheet portions 223 and 225 ) ], it is possible to add compression to the compression body (M) from the top of the tray (50') so that it more closely abuts. In addition to the load by the weight of the compression body (M) may further include means for pressing the compression body (M). A through hole MH through which the laser L passes may be formed in the compression body M, and the laser L passes through the through hole MH and then passes through the transparent tray 50 ′ to the mask 100 . It can be irradiated to the welding part (the area to be welded) of

하지만, 위와 같은 트레이(50') 및 압착체(M)의 하중에도 불구하고, 트레이(50')와 마스크(100)의 계면 상에는 미세한 에어갭(air gap; AG)이 존재할 수 있다. 글래스 재질의 트레이(50')는 표면 조도(Ra)가 약 20~30㎛이기 때문에 마이크로미터 스케일에서 트레이(50')의 표면을 살펴보면 미세한 굴곡이 있기 마련이다. 이에 따라, 마스크(100)를 압착해도 트레이(50')와 마스크(100)가 긴밀히 맞닿지 않는 부분이 있을 수 있고, 이 부분에서는 압착 하중이 잘 전달되지 않아 마스크(100)와 프레임(200)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]도 긴밀히 맞닿지 않게 될 수 있다.However, despite the load of the tray 50 ′ and the compression body M as described above, a fine air gap (AG) may exist on the interface between the tray 50 ′ and the mask 100 . Since the glass tray 50 ′ has a surface roughness Ra of about 20 to 30 μm, when looking at the surface of the tray 50 ′ on a micrometer scale, there is usually a slight curve. Accordingly, even when the mask 100 is compressed, there may be a portion where the tray 50 ′ and the mask 100 do not come into close contact with each other. [Also, the edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225] may not come into close contact with each other.

트레이(50')와 마스크(100)가 에어갭(AG)이 없이 긴밀히 맞닿는 부분에서는, 레이저(L1) 조사에 의해 마스크(100)와 프레임(200) 사이에서 용접 비드(WB)가 잘 생성되고, 마스크(100)와 프레임(200)을 일체로 연결하여, 결과적으로 용접이 잘 수행될 수 있다. 하지만, 트레이(50')와 마스크(100) 사이에 에어갭(AG)이 존재하여 긴밀히 맞닿지 않는 부분에서는, 레이저(L2) 조사에 의해 마스크(100)와 프레임(200) 사이에서 용접 비드(WB)가 잘 생성되지 않게 되고, 결과적으로 용접이 잘 수행되지 않는 문제점이 나타난다.In a portion where the tray 50' and the mask 100 are in close contact without an air gap AG, the welding bead WB is well generated between the mask 100 and the frame 200 by the laser L1 irradiation, and , by integrally connecting the mask 100 and the frame 200, as a result, welding can be performed well. However, in the portion that does not come into close contact with the air gap AG between the tray 50 ′ and the mask 100, the welding bead ( WB) is not well generated, and as a result, there is a problem that welding is not performed well.

따라서, 본 발명은 마스크(100)와 프레임(200)이 긴밀히 맞닿을 수 있도록 자력 인가부(80)를 사용하는 것을 특징으로 한다.Accordingly, the present invention is characterized in that the mask 100 and the frame 200 are in close contact with the magnetic force applying unit 80 is used.

도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이(50')를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착하는 과정 및 마스크(100)와 트레이(50')의 계면 상태를 나타내는 측단면도 및 부분 확대 측단면도이다. 도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이(50')를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태의 평면도[도 12의 (a)] 및 측단면도[도 12의 (b)]를 나타낸다.11 is a process of loading the tray 50 ′ on the frame 200 and attaching the mask 100 to the cell region CR of the frame 200 and the mask 100 according to an embodiment of the present invention. It is a side cross-sectional view and a partially enlarged side cross-sectional view showing the interface state of the tray 50'. 12 is a plan view of a state in which the mask 100 corresponds to the cell region CR of the frame 200 by loading the tray 50 ′ on the frame 200 according to an embodiment of the present invention [Fig. (a)] and a side cross-sectional view [FIG. 12(b)] are shown.

도 12의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 마스크(100)가 상부에 부착된 트레이(50')를 뒤집고, 트레이(50')를 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 트레이(50')가 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩되면, 마스크(100)는 트레이(50')와 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 사이에 배치되면서, 트레이(50')에 의해 압착될 수 있다.Referring to FIGS. 12A and 12B , the mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200 . The mask 100 is converted into a mask cell by turning over the tray 50' to which the mask 100 is attached, and loading the tray 50' onto the frame 200 (or the mask cell sheet unit 220). It can correspond to the region CR. When the tray 50 ′ is loaded onto the frame 200 (or the mask cell sheet unit 220 ), the mask 100 is loaded onto the tray 50 ′ and the frame 200 (or the mask cell sheet unit 220 ). )], and can be compressed by the tray 50'.

도 11을 참조하면, 마스크(100)에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접에 의해 마스크(100)를 프레임(200)에 부착할 수 있다. 트레이(50')는 글래스(glass), 석영(quartz), 사파이어(sapphire), 알루미나(Al2O3) 등의 레이저 광이 투과하는 재질을 포함하여, 트레이(50') 상부에서 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접 방식으로 마스크(100)를 프레임(200)에 부착시킬 수 있게 된다. 레이저 용접된 마스크의 용접부 부분에는 용접 비드(WB)가 생성되고, 용접 비드(WB)는 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다. 여기서, 마스크(100)의 용접부는 레이저(L)를 조사하여 용접 비드(WB)를 형성할 타겟 영역을 의미할 수 있다. 용접부는 마스크(100)의 테두리 또는 더미(DM) 부분에서 적어도 일부 영역에 해당할 수 있다. 레이저 용접은 프레임(200)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 마스크(100)와 프레임(200) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다.Referring to FIG. 11 , the mask 100 may be attached to the frame 200 by laser welding by irradiating the laser L on the mask 100 . The tray 50' includes a material through which laser light such as glass, quartz, sapphire, alumina (Al 2 O 3 ) passes, and the laser (L) on the tray 50' ) to attach the mask 100 to the frame 200 by laser welding. A welding bead WB is generated in the welding portion of the laser-welded mask, and the welding bead WB may have the same material as that of the mask 100/frame 200 and may be integrally connected. Here, the welding part of the mask 100 may refer to a target area in which the welding bead WB is to be formed by irradiating the laser L. The welding portion may correspond to at least a partial region of the rim or the dummy DM portion of the mask 100 . Laser welding should be performed as close to the edge of the frame 200 as possible to reduce the floating space between the mask 100 and the frame 200 as much as possible and increase adhesion.

한편, 본 발명은 트레이(50')에 의해 마스크(100)를 압착하는 것 외에도, 마스크(100)와 프레임(200)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]이 더욱 긴밀하게 맞닿도록, 트레이(50') 상에 자력 인가부(80)를 로딩하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, in the present invention, in addition to pressing the mask 100 by the tray 50 ′, the mask 100 and the frame 200 (or the edge sheet portion 221 , the first and second grid sheet portions 223 ) , 225)], characterized in that the magnetic force applying unit 80 is loaded on the tray 50 ′ so that it abuts more closely.

또한, 다른 실시예에 따르면, 자력 인가부(80)를 트레이(50') 상에 로딩하지 않고, 트레이(50')에 마스크(100)를 부착하기 전에 미리 자력 인가부(80)를 트레이(50')에 부착할 수도 있다. 이 경우, 트레이(50')의 일면에는 자력 인가부(80)를 부착하고, 트레이(50')의 타면에 마스크(100)를 부착할 수 있다.In addition, according to another embodiment, without loading the magnetic force applying unit 80 on the tray 50 ′, before attaching the mask 100 to the tray 50 ′, the magnetic force applying unit 80 is applied to the tray ( 50') can also be attached. In this case, the magnetic force applying unit 80 may be attached to one surface of the tray 50 ′, and the mask 100 may be attached to the other surface of the tray 50 ′.

자력 인가부(80)는 자력을 발생시켜, 마스크(100)와 프레임(200)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]에 자력(ME)을 인가할 수 있다. 마스크(100)와 프레임(200)은 금속 재질이므로, 자력 인가부(80)의 자력(ME) 인가에 따라 자력 인가부(80)측(상부측)으로 당겨질 수 있다.The magnetic force applying unit 80 generates a magnetic force to apply a magnetic force ME to the mask 100 and the frame 200 (or the edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 ). can be authorized Since the mask 100 and the frame 200 are made of a metal material, they may be pulled toward the magnetic force applying unit 80 (upper side) according to the application of the magnetic force ME of the magnetic force applying unit 80 .

자력 인가부(80)는 전자석, 영구자석 등을 포함할 수 있으나, 자력(ME)의 세기를 조절하여 마스크(100)와 프레임(200)을 당기는 힘을 제어할 수 있는 전자석을 사용하는 것이 바람직하다.The magnetic force applying unit 80 may include an electromagnet, a permanent magnet, etc., but it is preferable to use an electromagnet capable of controlling the pulling force of the mask 100 and the frame 200 by adjusting the strength of the magnetic force ME. do.

또한, 자력 인가부(80)는 레이저(L)가 투과하지 못하는 재질을 포함할 수 있으므로, 레이저(L)가 조사되는 용접부의 수직 상부까지는 커버하지 않는 것이 바람직하다. 도 12에서는 용접부[용접 비드(WB)가 형성될 영역]가 마스크 양측에 소정 간격을 가지는 것이 예시되어 있다. 자력 인가부(80)는 용접부가 위치한 마스크(100) 양측의 수직 상부는 커버하지 않도록 트레이(50') 상에 로딩될 수 있다. 즉, 마스크(100)의 용접부의 양측 상에 한 쌍의 자력 인가부(80)가 빈 공간(81)을 형성하도록 상호 이격 배치될 수 있다.In addition, since the magnetic force applying unit 80 may include a material that does not transmit the laser L, it is preferable not to cover the vertical upper portion of the welding portion to which the laser L is irradiated. In FIG. 12, it is exemplified that the welding portion (region where the welding bead WB is to be formed) has a predetermined interval on both sides of the mask. The magnetic force applying unit 80 may be loaded on the tray 50 ′ so as not to cover the vertical upper portions of both sides of the mask 100 where the welding unit is located. That is, a pair of magnetic force applying units 80 may be disposed to be spaced apart from each other to form an empty space 81 on both sides of the welding portion of the mask 100 .

자력 인가부(80)가 마스크(100)와 프레임(200)을 강하게 당기기 때문에, 글래스 재질의 트레이(50')의 표면 조도(Ra)가 크더라도, 트레이(50')와 마스크(100)의 계면 상에는 미세한 에어갭(air gap; AG)이 존재하지 않게 된다. 다시 말해, 마스크(100)가 자력 인가부(80)에 의해 강하게 당겨지므로 트레이(50')와의 계면에서 긴밀하게 밀착된다. 또한, 프레임(200)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]도 마스크(100)에 긴밀하게 밀착된다.Since the magnetic force applying unit 80 strongly pulls the mask 100 and the frame 200 , even if the surface roughness Ra of the glass tray 50 ′ is large, the A minute air gap (AG) does not exist on the interface. In other words, since the mask 100 is strongly pulled by the magnetic force applying unit 80 , it is closely adhered to the interface with the tray 50 ′. In addition, the frame 200 (or the edge sheet portion 221 , and the first and second grid sheet portions 223 and 225 ) also closely adheres to the mask 100 .

결국, 트레이(50')와 마스크(100) 사이에 에어갭(AG)이 존재하지 않고, 마스크(100)와 프레임(200)[도 11의 확대 도면에서, 테두리 시트부(221)]이 밀착되므로, 트레이(50')의 표면 어디에나 레이저(L1, L2)를 조사한다고 하더라도 마스크(100)와 프레임(200) 사이에서 용접 비드(WB)가 잘 생성될 수 있다. 용접 비드(WB)는 마스크(100)와 프레임(200)을 일체로 연결하여, 결과적으로 용접이 잘 수행될 수 있는 이점이 있다.As a result, there is no air gap AG between the tray 50 ′ and the mask 100 , and the mask 100 and the frame 200 (in the enlarged view of FIG. 11 , the edge sheet portion 221 ) are in close contact. Therefore, even if the lasers L1 and L2 are irradiated anywhere on the surface of the tray 50 ′, the weld bead WB can be well generated between the mask 100 and the frame 200 . The welding bead WB integrally connects the mask 100 and the frame 200, and as a result, there is an advantage that welding can be performed well.

한편, 자력 인가부(80)는 자력(ME)을 인가하는 것 외에도 그 자체의 무게에 의한 하중으로 트레이(50')의 상부를 압착할 수 있다. 자력 인가부(80)의 무게에 의한 하중 외에도 자력 인가부(80)를 누르는 수단을 더 구비할 수도 있다. 자력 인가부(80)가 하중으로 트레이(50'), 마스크(100) 및 프레임(200)을 압착하는 힘과, 자력(ME)으로 마스크(100) 및 프레임(200)을 당기는 힘이 더해져서 마스크(100)와 프레임(200)이 더욱 밀착될 수 있게 된다.Meanwhile, the magnetic force applying unit 80 may press the upper portion of the tray 50 ′ with a load based on its own weight in addition to applying the magnetic force ME. In addition to the load due to the weight of the magnetic force applying unit 80, a means for pressing the magnetic force applying unit 80 may be further provided. The force that the magnetic force applying unit 80 presses the tray 50 ′, the mask 100 and the frame 200 with the load, and the force that pulls the mask 100 and the frame 200 with the magnetic force ME are added. The mask 100 and the frame 200 can be more closely attached.

도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 트레이(50)를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착하는 과정 및 마스크(100)와 트레이(50)의 계면 상태를 나타내는 측단면도 및 부분 확대 측단면도이다. 도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 트레이(50)를 나타내는 평면도[도 14의 (a)] 및 배면도[도 14의 (b)]이다. 13 is a process for loading the tray 50 on the frame 200 and attaching the mask 100 to the cell region CR of the frame 200 and the mask 100 and the tray according to another embodiment of the present invention. It is a side cross-sectional view and a partially enlarged side cross-sectional view showing the interface state of (50). 14 is a plan view (FIG. 14 (a)) and a rear view (FIG. 14 (b)) showing the tray 50 according to another embodiment of the present invention.

도 13 및 도 14를 참조하면, 트레이(50) 상에 마스크(100)가 부착될 수 있다. 모판 상에서 전착된 마스크(100)를 떼어내어 트레이(50) 상에 부착할 수 있다. 트레이(50)는 마스크(100)를 평평하게 부착할 수 있도록, 평판 형상인 것이 바람직하다. 마스크(100)가 전체적으로 평평하게 부착될 수 있도록 트레이(50)의 크기는 마스크(100)보다 큰 평판 형상일 수 있다.13 and 14 , the mask 100 may be attached on the tray 50 . The mask 100 electrodeposited on the mother plate may be removed and attached to the tray 50 . The tray 50 is preferably in the shape of a flat plate so that the mask 100 can be attached flatly. The size of the tray 50 may be a flat plate shape larger than that of the mask 100 so that the mask 100 can be attached flat as a whole.

트레이(50)의 일면 상에서 마스크(100)가 구김, 주름없이 평평하게 펼쳐져 부착되도록 정전기력, 자기력, 진공 등을 이용할 수 있다. 정전기력을 이용하는 방법은 대전체를 트레이(50) 일면에 문질러서 정전기를 유도하는 방법이다. 또한, 정전기력을 이용하는 방법은 트레이(50)의 상부면 또는 하부면 상에 배치한 투명전극에 전압을 인가하고, 마스크(100)에도 전압을 인가하면 정전기가 유도되어 마스크(100)가 평평하게 펼쳐지면서 소정의 부착력을 가지고 트레이(50)의 일면에 부착되는 방법이다. 자기력을 이용하는 방법은 마스크(100)가 배치된 트레이(50) 면의 반대면에서 복수의 자석을 이용하여 자기력으로 마스크(100)를 잡아 이동하면서 펼치는 방법이다. 진공을 이용하는 방법은 트레이(50)에 배치된 마스크(100)의 일단에서 타단까지 진공 장치를 이용하여 마스크(100)를 잡아 이동하면서 펼치는 방법이다.Electrostatic force, magnetic force, vacuum, etc. may be used so that the mask 100 is spread and attached flatly without wrinkling or wrinkles on one surface of the tray 50 . The method of using electrostatic force is a method of inducing static electricity by rubbing an electrified body on one surface of the tray 50 . In addition, in the method using electrostatic force, a voltage is applied to the transparent electrode disposed on the upper or lower surface of the tray 50 , and when a voltage is also applied to the mask 100 , static electricity is induced and the mask 100 is spread flat. It is a method of being attached to one surface of the tray 50 with a predetermined adhesive force while being removed. The method of using the magnetic force is a method of holding the mask 100 by magnetic force using a plurality of magnets on the opposite surface of the tray 50 on which the mask 100 is disposed and spreading the mask 100 while moving. The method of using a vacuum is a method of holding and moving the mask 100 by using a vacuum device from one end to the other end of the mask 100 disposed on the tray 50 .

특히, 일 실시예에 따른 트레이(50)는 마스크(100)와의 계면 사이에서 에어갭(AG)이 발생하지 않도록, 마스크(100)와 접촉하는 일면이 경면일 수 있다. 구체적으로, 트레이(50)의 일면의 표면 조도(Ra)가 50nm 이하일 수 있다. 도 8에서 상술한 일반적인 글래스 재질의 트레이(50')는 표면 조도(Ra)가 약 20~30㎛이기 때문에, 에어갭(AG)의 존재가 ㎛ 스케일인 마스크 패턴(P)의 정렬 오차에 영향을 줄 정도이다. 하지만, 본 발명의 트레이(50)는 표면 조도(Ra)가 nm 스케일이기 때문에 에어갭(AG)이 없거나, 거의 없는 수준으로 마스크 패턴(P)의 정렬 오차에 영향을 주지 않게 된다.In particular, in the tray 50 according to an embodiment, one surface in contact with the mask 100 may be a mirror surface so that an air gap AG does not occur between the interface with the mask 100 . Specifically, the surface roughness Ra of one surface of the tray 50 may be 50 nm or less. Since the general glass tray 50 ′ described above in FIG. 8 has a surface roughness Ra of about 20 to 30 μm, the presence of the air gap AG affects the alignment error of the mask pattern P having a μm scale. enough to give However, since the surface roughness Ra of the tray 50 of the present invention is in the nm scale, the alignment error of the mask pattern P is not affected to a level with no or almost no air gap AG.

표면 조도(Ra)가 50nm 이하인 트레이(50)를 구현하기 위해, 트레이(50)는 웨이퍼(wafer)를 사용할 수 있다. 웨이퍼(wafer)는 표면 조도(Ra)가 약 10nm 정도이고, 시중의 제품이 많고 표면처리 공정들이 많이 알려져 있으므로, 트레이(50)로 사용하기 적절하다. 이 외에도, 표면을 미세 경면 가공하여 표면 조도(Ra)가 50nm 이하를 만족할 수 있다면, 트레이(50)는 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz), 알루미나(Al2O3) 등의 재질을 사용할 수도 있다. 이하에서는 웨이퍼를 트레이(50)로 사용하는 것을 상정하여 설명한다.In order to implement the tray 50 having a surface roughness Ra of 50 nm or less, the tray 50 may use a wafer. A wafer has a surface roughness (Ra) of about 10 nm and is suitable for use as the tray 50 because there are many commercially available products and many surface treatment processes are known. In addition, if the surface roughness (Ra) can satisfy 50 nm or less by micro-mirror processing the surface, the tray 50 is glass, silica, heat-resistant glass, quartz, alumina (Al 2 O) 3 ) can also be used. Hereinafter, it is assumed that the wafer is used as the tray 50 .

도 13의 확대 부분을 참조하면, 표면 조도(Ra)가 50nm 이하인 트레이(50)와 마스크(100)의 계면 사이에는 에어갭(AG) 없이 긴밀하게 접촉된 것을 확인할 수 있다. 표면 조도(Ra)가 50nm 이하인 트레이(50)가 마스크(100)에 긴밀하게 접촉된 것에 더하여, 상술한 자력 인가부(80)가 마스크(100)와 프레임(200)을 자력(ME)에 의해 강하게 당기기 때문에, 트레이(50), 마스크(100), 프레임(200)의 각 계면은 더욱 밀착될 수 있다.Referring to the enlarged portion of FIG. 13 , it can be seen that the interface between the tray 50 and the mask 100 having a surface roughness Ra of 50 nm or less is in close contact without an air gap AG. In addition to the tray 50 having a surface roughness Ra of 50 nm or less in close contact with the mask 100, the above-described magnetic force applying unit 80 applies a magnetic force to the mask 100 and the frame 200 by a magnetic force (ME). Because of the strong pulling, each interface of the tray 50 , the mask 100 , and the frame 200 can be more closely adhered.

트레이(50), 마스크(100), 프레임(200)이 밀착된 상태에서 마스크(100)의 용접부에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접을 수행할 수 있다. 한편, 웨이퍼 재질의 트레이(50)는 레이저(L) 광에 불투명할 수 있다. 이에 따라, 트레이(50)의 상부에서 조사하는 레이저(L)가 마스크(100)의 용접부에까지 도달할 수 있도록, 트레이(50)에는 레이저 통과공(51)이 형성될 수 있다. 도 14의 (a), (b)를 참조하면, 레이저 통과공(51)은 용접부의 위치 및 개수에 대응하도록 트레이(50)에 형성될 수 있다. 용접부는 마스크(100)의 테두리 또는 더미(DM) 부분에서 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 이에 대응하도록 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다. 일 예로, 용접부는 마스크(100)의 양측(좌측/우측) 더미(DM) 부분에 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 트레이(50)이 양측(좌측/우측)에 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다. 도 11 및 도 12에서 상술한 바와 같이, 만약, 트레이(50)의 재질이 레이저(L) 광에 투명하다면 레이저 통과공(51)을 형성하지 않을 수도 있다.In a state in which the tray 50 , the mask 100 , and the frame 200 are in close contact, laser welding may be performed by irradiating the laser L to the welding portion of the mask 100 . On the other hand, the tray 50 made of a wafer material may be opaque to the laser (L) light. Accordingly, a laser passing hole 51 may be formed in the tray 50 so that the laser L irradiated from the upper portion of the tray 50 can reach the welding portion of the mask 100 . Referring to (a) and (b) of Figure 14, the laser passing hole 51 may be formed in the tray 50 to correspond to the position and number of welds. Since a plurality of welding portions are disposed along a predetermined interval in the edge or dummy DM portion of the mask 100 , a plurality of laser passage holes 51 may be formed along a predetermined interval to correspond thereto. For example, since a plurality of welding portions are disposed along a predetermined interval on both sides (left/right) dummy DM portions of the mask 100 , the tray 50 is also located on both sides (left/right) of the laser passing hole 51 . A plurality may be formed along a predetermined interval. As described above in FIGS. 11 and 12 , if the material of the tray 50 is transparent to the laser (L) light, the laser passing hole 51 may not be formed.

위와 같이, 본 발명은, 자력 인가부(80)가 마스크(100) 및 프레임(200)을 강하게 당겨 밀착성을 높이므로 용접이 잘 수행되는 이점이 있다. 또한, 자력 인가부(80)가 마스크(100)를 자력(ME)으로 당기고 있으므로, 마스크(100)에 인장력을 가할 필요없이 마스크(100)가 팽팽함을 유지하는데 도움을 줄 수 있다. 게다가, 경면의 트레이(50)를 사용하여 트레이와 마스크(100)의 계면 사이에 에어갭(AG)이 발생하는 것을 더욱 감축할 수 있으므로, 용접 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 하중을 가하는 압착체(M) 및 압착체(M)를 누르는 별도의 장치를 구비할 필요가 없으므로, 장치의 구성이 간단해지는 이점이 있다.As described above, in the present invention, since the magnetic force applying unit 80 strongly pulls the mask 100 and the frame 200 to increase adhesion, there is an advantage that welding is performed well. In addition, since the magnetic force applying unit 80 pulls the mask 100 with the magnetic force ME, it is possible to help maintain the tension of the mask 100 without applying a tensile force to the mask 100 . In addition, since the occurrence of an air gap AG between the interface between the tray and the mask 100 can be further reduced by using the mirror-shaped tray 50 , welding efficiency can be improved. In addition, since there is no need to provide a separate device for pressing the crimping body M and the crimping body M for applying a load, there is an advantage in that the configuration of the device is simplified.

도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이(50)를 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다. 이하에서는, 경면의 트레이(50)를 사용하는 것을 상정하여 설명하나, 자력 인가부(80)를 사용하는 전제하에 글래스 재질의 트레이(50')를 사용할 수도 있다. 또한, 도 15의 (a), 도 16의 (a)에서는 설명의 편의상 자력 인가부(80)의 도시를 생략하나, 도 12의 (a)와 같은 형태로 자력 인가부(80)가 배치됨을 밝혀둔다.15 is a schematic diagram illustrating a state in which the tray 50 is loaded onto the frame 200 and the mask 100 corresponds to the cell region CR of the frame 200 according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, it will be described on the assumption that the tray 50 of the mirror surface is used, but a tray 50 ′ made of glass may be used on the premise that the magnetic force applying unit 80 is used. In addition, in FIGS. 15 (a) and 16 (a), the illustration of the magnetic force applying unit 80 is omitted for convenience of explanation, but the magnetic force applying unit 80 is disposed in the same manner as in FIG. 12 (a). make it clear

다음으로, 도 15의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 마스크(100)가 상부에 부착된 트레이(50)를 뒤집고, 트레이(50)를 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 트레이(50)의 위치를 제어하면서, 현미경을 통해 마스크(100)가 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는지 살펴볼 수 있다. 트레이(50)가 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩되면, 마스크(100)는 트레이(50)와 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 사이에 배치되면서, 트레이(50)에 의해 압착될 수 있다.Next, referring to FIGS. 15A and 15B , the mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200 . The mask 100 is placed in the mask cell region ( CR) can be matched. While controlling the position of the tray 50 , it is possible to check whether the mask 100 corresponds to the mask cell region CR through a microscope. When the tray 50 is loaded on the frame 200 (or the mask cell sheet part 220 ), the mask 100 is the tray 50 and the frame 200 (or the mask cell sheet part 220 ). It may be pressed by the tray 50 while being disposed therebetween.

한편, 하부 지지체(70)를 프레임(200) 하부에 더 배치할 수도 있다. 하부 지지체(70)는 프레임 테두리부(210)의 중공 영역(R) 내에 들어갈 정도의 크기를 가지고 평판 형상일 수 있다. 또한, 하부 지지체(70)의 상부면에는 마스크 셀 시트부(220)의 형상에 대응하는 소정의 지지홈(미도시)이 형성될 수도 있다. 이 경우 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 지지홈에 끼워지게 되어, 마스크 셀 시트부(220)가 더욱 잘 고정될 수 있다.Meanwhile, the lower support 70 may be further disposed under the frame 200 . The lower support 70 may have a size sufficient to fit into the hollow region R of the frame edge portion 210 and may have a flat plate shape. In addition, a predetermined support groove (not shown) corresponding to the shape of the mask cell sheet part 220 may be formed on the upper surface of the lower support body 70 . In this case, the edge sheet part 221 and the first and second grid sheet parts 223 and 225 are fitted into the support grooves, so that the mask cell sheet part 220 can be better fixed.

하부 지지체(70)는 마스크(100)가 접촉하는 마스크 셀 영역(CR)의 반대면을 압착할 수 있다. 즉, 하부 지지체(70)는 마스크 셀 시트부(220)를 상부 방향으로 지지하여 마스크(100)의 부착과정에서 마스크 셀 시트부(220)가 하부 방향으로 처지는 것을 방지할 수 있다. 이와 동시에, 하부 지지체(70)와 트레이(50)가 상호 반대되는 방향으로 마스크(100)의 테두리 및 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]를 압착하게 되므로, 마스크(100)의 정렬 상태가 흐트러지지 않고 유지될 수 있게 된다.The lower support 70 may press the opposite surface of the mask cell region CR to which the mask 100 contacts. That is, the lower support 70 may support the mask cell sheet 220 in an upward direction to prevent the mask cell sheet 220 from sagging in the downward direction during the process of attaching the mask 100 . At the same time, since the lower support 70 and the tray 50 press the edge and the frame 200 (or the mask cell sheet part 220) of the mask 100 in opposite directions, the mask 100 can be maintained without being disturbed.

본 발명은 트레이(50) 상에 마스크(100)를 부착하고, 트레이(50)를 프레임(200) 상에 로딩하는 것만으로 마스크(100)를 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 과정이 완료되므로, 이 과정에서 마스크(100)에 어떠한 인장력도 가하지 않는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the mask 100 corresponds to the mask cell region CR of the frame 200 only by attaching the mask 100 on the tray 50 and loading the tray 50 on the frame 200 . Since the process is completed, it is characterized in that no tensile force is applied to the mask 100 in this process.

프레임(200)의 마스크 셀 시트부(220)는 얇은 두께를 가지기 때문에, 마스크(100)에 인장력이 가해진 채로 마스크 셀 시트부(220)에 부착이 되면, 마스크(100)에 잔존하는 인장력이 마스크 셀 시트부(220) 및 마스크 셀 영역(CR)에 작용하게 되어 이들을 변형시킬 수도 있다. 따라서, 마스크(100)에 인장력을 가하지 않은 채로 마스크 셀 시트부(220)에 마스크(100)의 부착을 수행해야 한다. 그리하여, 마스크(100)에 가해진 인장력이 반대로 프레임(200)에 장력(tension)으로 작용하여 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]을 변형시키는 것을 방지할 수 있게 된다.Since the mask cell sheet portion 220 of the frame 200 has a thin thickness, when it is attached to the mask cell sheet portion 220 while a tensile force is applied to the mask 100 , the tensile force remaining in the mask 100 is applied to the mask. It acts on the cell sheet part 220 and the mask cell region CR, and may deform them. Therefore, it is necessary to attach the mask 100 to the mask cell sheet 220 without applying a tensile force to the mask 100 . Thus, it is possible to prevent the frame 200 (or the mask cell sheet part 220 ) from being deformed by the tensile force applied to the mask 100 acting as tension on the frame 200 .

다만, 마스크(100)에 인장력을 가하지 않고 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에 부착시켜 프레임 일체형 마스크를 제조하고, 이 프레임 일체형 마스크를 화소 증착 공정에 사용할 때 한가지 문제가 발생할 수 있다. 약 25~45℃ 정도에서 수행되는 화소 증착 공정에서 마스크(100)가 소정 길이만큼 열팽창 하는 것이다. 인바 재질의 마스크(100)라고 하더라도, 화소 증착 공정 분위기를 형성하기 위한 10℃ 정도의 온도 상승에 따라 약 1~3 ppm 만큼의 길이가 변할 수 있다. 예를 들어, 마스크(100)의 총 길이가 500 mm 경우, 약 5~15㎛만큼의 길이가 늘어날 수 있다. 그러면, 마스크(100)가 자중에 의해 쳐지거나, 프레임(200)에서 고정된 상태에서 늘어나 뒤틀리는 등의 변형을 일으키면서 패턴(P)들의 정렬 오차가 커지는 문제점이 발생하게 된다.However, one problem arises when a frame-integrated mask is manufactured by attaching it to the frame 200 (or the mask cell sheet 220) without applying a tensile force to the mask 100, and the frame-integrated mask is used in a pixel deposition process. can occur In the pixel deposition process performed at about 25 to 45° C., the mask 100 is thermally expanded by a predetermined length. Even with the mask 100 made of Invar material, the length may vary by about 1 to 3 ppm according to a temperature increase of about 10° C. to form an atmosphere for the pixel deposition process. For example, when the total length of the mask 100 is 500 mm, the length may be increased by about 5 to 15 μm. Then, the mask 100 is hit by its own weight or is deformed, such as stretched and twisted in a fixed state in the frame 200 , and an alignment error of the patterns P increases.

따라서, 본 발명은 상온이 아닌 이보다 높은 온도 상에서, 마스크(100)에 인장력을 가하지 않은 채로, 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고 부착할 수 있다. 본 명세서에서는 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킨 후에 마스크(100)를 프레임(200)에 대응하고 부착한다고 표현한다.Accordingly, according to the present invention, at a temperature higher than room temperature, without applying a tensile force to the mask 100 , it can correspond to and attach to the mask cell region CR of the frame 200 . In the present specification, it is expressed that the mask 100 is attached to the frame 200 after the temperature of the process region is raised (ET) to the first temperature.

"공정 영역"이라 함은 마스크(100), 프레임(200) 등의 구성 요소들이 위치하고, 마스크(100)의 부착 공정 등이 수행되는 공간을 의미할 수 있다. 공정 영역은 폐쇄된 챔버 내에 공간일 수도 있고, 개방된 공간일 수도 있다. 또한, "제1 온도"라 함은 프레임 일체형 마스크를 OLED 화소 증착 공정에 사용할 때, 화소 증착 공정 온도보다는 높거나 같은 온도를 의미할 수 있다. 화소 증착 공정 온도가 약 25~45℃인 것을 고려하면, 제1 온도는 약 25℃ 내지 60℃일 수 있다. 공정 영역의 온도 상승은, 챔버에 가열 수단을 설치하거나, 공정 영역 주변에 가열 수단을 설치하는 방법 등으로 수행할 수 있다.The “process region” may mean a space in which components such as the mask 100 and the frame 200 are located, and an attachment process of the mask 100 is performed. The process region may be a space within a closed chamber or an open space. Also, when the frame-integrated mask is used in the OLED pixel deposition process, the “first temperature” may mean a temperature that is higher than or equal to the pixel deposition process temperature. Considering that the pixel deposition process temperature is about 25 to 45°C, the first temperature may be about 25 to 60°C. The temperature increase of the process region may be performed by installing a heating means in the chamber, or by installing a heating means around the process region.

다시, 도 15를 참조하면, 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응한 후에, 프레임(200)이 포함된 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킬 수 있다. 또는, 프레임(200)이 포함된 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킨 후에, 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수도 있다. 도면에는 하나의 마스크(100)만을 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킨 것이 도시되어 있지만, 마스크 셀 영역(CR)마다 마스크(100)들을 대응시킨 후에 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승(ET)시킬 수도 있다.Again, referring to FIG. 15 , after the mask 100 corresponds to the mask cell region CR, the temperature of the process region including the frame 200 may be increased (ET) to the first temperature. Alternatively, after the temperature of the process region including the frame 200 is increased (ET) to the first temperature, the mask 100 may correspond to the mask cell region CR. Although the drawing shows that only one mask 100 corresponds to one mask cell region CR, the temperature of the process region is increased to the first temperature after matching the masks 100 for each mask cell region CR. (ET) can also be done.

종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 예를 들어, 복수의 셀(C1~C6, ...)들을 포함하는 마스크(10)의 길이가 1m이고, 1m 전체에서 10㎛의 PPA 오차가 발생한다고 가정하면, 본 발명의 마스크(100)는 상대적인 길이의 감축[셀(C) 개수 감축에 대응]에 따라 위 오차 범위를 1/n 할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 마스크(100)의 길이가 100mm라면, 종래 마스크(10)의 1m에서 1/10로 감축된 길이를 가지므로, 100mm 길이의 전체에서 1㎛의 PPA 오차가 발생하게 되며, 정렬 오차가 현저히 감소하게 되는 효과가 있다.Since the conventional mask 10 of FIG. 1 includes six cells (C1 to C6), it has a long length, whereas the mask 100 of the present invention has a short length including one cell (C). The degree of distortion of pixel position accuracy (PPA) may be reduced. For example, assuming that the length of the mask 10 including the plurality of cells C1 to C6, ... is 1 m, and a PPA error of 10 μm occurs in the entire 1 m, the mask 100 of the present invention can make the above error range 1/n according to the relative length reduction [corresponding to the reduction in the number of cells (C)]. For example, if the length of the mask 100 of the present invention is 100 mm, since it has a length reduced from 1 m to 1/10 of the conventional mask 10, a PPA error of 1 μm occurs over the entire length of 100 mm. , there is an effect that the alignment error is significantly reduced.

한편, 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고, 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응하여도 정렬 오차가 최소화되는 범위 내에서라면, 마스크(100)는 프레임(200)의 복수의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 또는, 복수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)가 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 이 경우에도, 정렬에 따른 공정 시간과 생산성을 고려하여, 마스크(100)는 가급적 적은 수의 셀(C)을 구비하는 것이 바람직하다.On the other hand, if the mask 100 includes a plurality of cells C, and each cell C corresponds to each cell region CR of the frame 200, within a range in which an alignment error is minimized, The mask 100 may correspond to a plurality of mask cell regions CR of the frame 200 . Alternatively, the mask 100 having a plurality of cells C may correspond to one mask cell region CR. Even in this case, in consideration of the process time and productivity according to the alignment, it is preferable that the mask 100 includes as few cells C as possible.

본 발명의 경우는, 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 2 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.In the case of the present invention, since it is only necessary to match one cell (C) of the mask 100 and check the alignment state, it is necessary to simultaneously correspond a plurality of cells (C: C1 to C6) and check the alignment state. Compared to the conventional method (see Fig. 2), the manufacturing time can be significantly reduced.

즉, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 6개의 마스크(100)에 포함되는 각각의 셀(C11~C16)을 각각 하나의 셀 영역(CR11~CR16)에 대응시키고 각각 정렬 상태를 확인하는 6번의 과정을 통해, 6개의 셀(C1~C6)을 동시에 대응시키고 6개 셀(C1~C6)의 정렬 상태를 동시에 모두 확인해야 하는 종래의 방법보다 훨씬 시간이 단축될 수 있다.That is, the frame-integrated mask manufacturing method of the present invention corresponds to each of the cells C11 to C16 included in the six masks 100 to one cell region CR11 to CR16 and checks the alignment state, respectively. Through this process, the time can be significantly reduced compared to the conventional method of simultaneously matching the six cells C1 to C6 and checking the alignment status of the six cells C1 to C6 at the same time.

또한, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 30개의 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 30개의 마스크(100)를 각각 대응시키고 정렬하는 30번의 과정에서의 제품 수득률이, 6개의 셀(C1~C6)을 각각 포함하는 5개의 마스크(10)[도 2의 (a) 참조]를 프레임(20)에 대응시키고 정렬하는 5번의 과정에서의 종래의 제품 수득률보다 훨씬 높게 나타날 수 있다. 한번에 6개씩의 셀(C)이 대응하는 영역에 6개의 셀(C1~C6)을 정렬하는 종래의 방법이 훨씬 번거롭고 어려운 작업이므로 제품 수율이 낮게 나타나는 것이다.In addition, in the frame-integrated mask manufacturing method of the present invention, the product yield in the 30-step process of matching and aligning 30 masks 100 to 30 cell regions (CR: CR11 to CR56) is 6 cells (C1). ~C6) each containing 5 masks 10 (see Fig. 2 (a)) can be shown to be much higher than the conventional product yield in the process of 5 times to correspond and align with the frame 20. Since the conventional method of aligning six cells C1 to C6 in an area corresponding to six cells C at a time is much more cumbersome and difficult, the product yield appears low.

한편, 마스크(100)를 프레임(200)에 대응한 후, 프레임(200)에 소정의 접착제를 개재하여 마스크(100)를 임시로 고정할 수도 있다. 이후에, 마스크(100)의 부착 단계를 진행할 수 있다.Meanwhile, after the mask 100 corresponds to the frame 200 , the mask 100 may be temporarily fixed to the frame 200 with a predetermined adhesive interposed therebetween. Thereafter, an attaching step of the mask 100 may be performed.

도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 순차적으로 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 부착하는 과정을 나타내는 평면도[도 16의 (a)] 및 측단면도[도 16의 (b)] 이다.16 is a plan view [Fig. 16(a)] and a side cross-sectional view [Fig. b)].

도 16을 참조하면, 마스크 셀 영역(CR11)에 마스크(100)를 대응하여 부착한 후, 이에 이웃하는 마스크 셀 영역(CR12)에 마스크(100)를 대응하여 부착할 수 있다. 도 16에는 2개의 마스크(100)만 부착한 것이 도시되어 있으나, 모든 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)를 대응하여 부착할 수 있다.Referring to FIG. 16 , after the mask 100 is attached to the mask cell area CR11 correspondingly, the mask 100 may be attached to the mask cell area CR12 adjacent thereto. Although only two masks 100 are attached in FIG. 16 , the masks 100 may be attached to all the mask cell regions CR correspondingly.

제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]의 상면에 두 개의 이웃하는 마스크(100)의 일 테두리가 각각 부착[용접 비드(WB) 형성]된 형태가 나타난다. 제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]의 폭, 두께는 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있고, 제품 생산성 향상을 위해, 제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]와 마스크(100)의 테두리가 겹치는 폭을 약 0.1~2.5mm 정도로 최대한 감축시킬 필요가 있다.A form in which one edge of two adjacent masks 100 is attached (formed to form a welding bead WB) appears on the upper surface of the first grid sheet part 223 (or the second grid sheet part 225 ). The width and thickness of the first grid sheet portion 223 (or the second grid sheet portion 225 ) may be formed to be about 1 to 5 mm, and in order to improve product productivity, the first grid sheet portion 223 [ Alternatively, it is necessary to reduce the overlapping width of the second grid sheet portion 225] and the edge of the mask 100 as much as possible by about 0.1 to 2.5 mm.

마스크(100)에 인장력을 가하지 않은 채로 마스크 셀 시트부(220) 상에 용접(LW)을 수행하므로, 마스크 셀 시트부(220)[또는, 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)]에는 장력이 가해지지 않는다.Since welding LW is performed on the mask cell sheet 220 without applying a tensile force to the mask 100 , the mask cell sheet 220 (or the edge sheet 221 , the first and second grid sheets) No tension is applied to the portions 223 and 225].

하나의 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후, 나머지 마스크(100)들을 나머지 마스크 셀(C)에 순차적으로 대응시키고, 프레임(200)에 부착하는 과정을 반복할 수 있다. 이미 프레임(200)에 부착된 마스크(100)가 기준 위치를 제시할 수 있으므로, 나머지 마스크(100)들을 셀 영역(CR)에 순차적으로 대응시키고 정렬 상태를 확인하는 과정에서의 시간이 현저하게 감축될 수 있는 이점이 있다. 그리고, 하나의 마스크 셀 영역에 부착된 마스크(100)와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 부착된 마스크(100) 사이의 PPA(pixel position accuracy)가 3㎛를 초과하지 않게 되어, 정렬이 명확한 초고화질 OLED 화소 형성용 마스크를 제공할 수 있는 이점이 있다.After attaching one mask 100 to the frame 200 , the process of sequentially matching the remaining masks 100 to the remaining mask cells C and attaching them to the frame 200 may be repeated. Since the mask 100 already attached to the frame 200 can present the reference position, the time required for sequentially matching the remaining masks 100 to the cell region CR and checking the alignment state is significantly reduced. There are advantages to being In addition, the pixel position accuracy (PPA) between the mask 100 attached to one mask cell area and the mask 100 attached to the neighboring mask cell area does not exceed 3 μm, so that the alignment is clear. There is an advantage in that a mask for forming an OLED pixel can be provided.

도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착한 후 공정 영역의 온도를 하강(LT)시키는 과정을 나타내는 개략도이다.17 is a schematic diagram illustrating a process of lowering (LT) the temperature of the process region after attaching the mask 100 to the cell region CR of the frame 200 according to an embodiment of the present invention.

다음으로, 도 17을 참조하면, 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강(LT)시킬 수 있다. "제2 온도"라 함은 제1 온도보다 낮은 온도를 의미할 수 있다. 제1 온도가 약 25℃ 내지 60℃인 것을 고려하면, 제2 온도는 제1 온도보다 낮은 것을 전제로 약 20℃ 내지 30℃일 수 있고, 바람직하게, 제2 온도는 상온일 수 있다. 공정 영역의 온도 하강은, 챔버에 냉각 수단을 설치하거나, 공정 영역 주변에 냉각 수단을 설치하는 방법, 상온으로 자연 냉각하는 방법 등으로 수행할 수 있다.Next, referring to FIG. 17 , the temperature of the process region may be lowered (LT) to a second temperature. The “second temperature” may mean a temperature lower than the first temperature. Considering that the first temperature is about 25°C to 60°C, the second temperature may be about 20°C to 30°C on the assumption that it is lower than the first temperature, and preferably, the second temperature may be room temperature. The temperature drop of the process region may be performed by installing a cooling means in the chamber, installing a cooling means around the process zone, naturally cooling to room temperature, or the like.

공정 영역의 온도가 제2 온도로 하강(LT)되면, 마스크(100)는 소정 길이만큼 열수축 할 수 있다. 마스크(100)는 모든 측면 방향을 따라 등방성으로 열수축 할 수 있다. 다만, 마스크(100)는 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에 용접으로 고정 연결되어 있으므로, 마스크(100)의 열수축은 주변의 마스크 셀 시트부(220)에 자체적으로 장력(TS)을 인가하게 된다. 마스크(100)의 자체적인 장력(TS) 인가에 의해 마스크(100)는 더욱 팽팽하게 프레임(200) 상에 부착될 수 있다.When the temperature of the process region is lowered (LT) to the second temperature, the mask 100 may be thermally contracted by a predetermined length. The mask 100 may be isotropically heat-shrinkable along all lateral directions. However, since the mask 100 is fixedly connected to the frame 200 (or, the mask cell sheet unit 220 ) by welding, the heat shrinkage of the mask 100 is self-tensive to the surrounding mask cell sheet unit 220 . (TS) will be approved. The mask 100 may be attached on the frame 200 more taut by the application of the self-tensile TS of the mask 100 .

또한, 각각의 마스크(100)들이 모두 대응되는 마스크 셀 영역(CR) 상에 부착된 후에 공정 영역의 온도가 제2 온도로 하강(LT)되므로, 모든 마스크(100)들이 동시에 열수축을 일으키게 되어 프레임(200)이 변형되거나 패턴(P)들이 정렬 오차가 커지는 문제가 방지될 수 있다. 더 설명하면, 장력(TS)이 마스크 셀 시트부(220)에 인가된다고 해도, 복수의 마스크(100)들이 상호 반대방향으로 장력(TS)을 인가하기 때문에, 그 힘이 상쇄되어 마스크 셀 시트부(220)에는 변형이 일어나지 않게 된다. 예를 들어, CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)와 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100) 사이의 제1 그리드 시트부(223)는 CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 우측 방향으로 작용하는 장력(TS)과 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 좌측 방향으로 작용하는 장력(TS)이 상쇄될 수 있다. 그리하여, 장력(TS)에 의한 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에는 변형이 최소화되어 마스크(100)[또는, 마스크 패턴(P)]의 정렬 오차가 최소화 될 수 있는 이점이 있다.In addition, since the temperature of the process region is lowered (LT) to the second temperature after each mask 100 is attached to the corresponding mask cell region CR, all the masks 100 undergo thermal contraction at the same time to cause the frame The problem that 200 is deformed or that the alignment error of the patterns P increases can be prevented. More specifically, even if the tension TS is applied to the mask cell sheet part 220 , since the plurality of masks 100 apply the tension TS in opposite directions to each other, the force is canceled and the mask cell sheet part At 220, no deformation occurs. For example, the first grid sheet part 223 between the mask 100 attached to the CR11 cell area and the mask 100 attached to the CR12 cell area moves to the right of the mask 100 attached to the CR11 cell area. The applied tension TS and the tension TS acting in the left direction of the mask 100 attached to the CR12 cell region may be offset. Thus, the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220 ) due to the tension TS is deformed to be minimized, so that the alignment error of the mask 100 (or the mask pattern P) can be minimized. there is this

도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 이용한 OLED 화소 증착 장치(1000)를 나타내는 개략도이다.18 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus 1000 using the frame-integrated masks 100 and 200 according to an embodiment of the present invention.

도 18을 참조하면, OLED 화소 증착 장치(1000)는, 마그넷(310)이 수용되고, 냉각수 라인(350)이 배설된 마그넷 플레이트(300)와, 마그넷 플레이트(300)의 하부로부터 유기물 소스(600)를 공급하는 증착 소스 공급부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 18 , the OLED pixel deposition apparatus 1000 includes a magnet plate 300 in which a magnet 310 is accommodated and a coolant line 350 is disposed, and an organic material source 600 from a lower portion of the magnet plate 300 . ) includes a deposition source supply unit 500 for supplying the .

마그넷 플레이트(300)와 소스 증착부(500) 사이에는 유기물 소스(600)가 증착되는 유리 등의 대상 기판(900)이 개재될 수 있다. 대상 기판(900)에는 유기물 소스(600)가 화소별로 증착되게 하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)[또는, FMM]이 밀착되거나 매우 근접하도록 배치될 수 있다. 마그넷(310)이 자기장을 발생시키고 자기장에 의해 대상 기판(900)에 밀착될 수 있다.A target substrate 900 such as glass on which the organic source 600 is deposited may be interposed between the magnet plate 300 and the source deposition unit 500 . The frame-integrated masks 100 and 200 [or FMMs] that allow the organic material source 600 to be deposited for each pixel may be disposed in close contact with or very close to each other on the target substrate 900 . The magnet 310 may generate a magnetic field and may be in close contact with the target substrate 900 by the magnetic field.

증착 소스 공급부(500)는 좌우 경로를 왕복하며 유기물 소스(600)를 공급할 수 있고, 증착 소스 공급부(500)에서 공급되는 유기물 소스(600)들은 프레임 일체형 마스크(100, 200)에 형성된 패턴(P)을 통과하여 대상 기판(900)의 일측에 증착될 수 있다. 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴(P)을 통과한 증착된 유기물 소스(600)는 OLED의 화소(700)로서 작용할 수 있다.The deposition source supply unit 500 may supply the organic material source 600 while reciprocating left and right paths, and the organic material sources 600 supplied from the deposition source supply unit 500 may include patterns P formed on the frame-integrated masks 100 and 200 . ) and may be deposited on one side of the target substrate 900 . The deposited organic material source 600 passing through the pattern P of the frame-integrated masks 100 and 200 may act as the pixel 700 of the OLED.

새도우 이펙트(Shadow Effect)에 의한 화소(700)의 불균일 증착을 방지하기 위해, 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴은 경사지게 형성(S)[또는, 테이퍼 형상(S)으로 형성]될 수 있다. 경사진 면을 따라서 대각선 방향으로 패턴을 통과하는 유기물 소스(600)들도 화소(700)의 형성에 기여할 수 있으므로, 화소(700)는 전체적으로 두께가 균일하게 증착될 수 있다.In order to prevent non-uniform deposition of the pixel 700 due to the shadow effect, the pattern of the frame-integrated masks 100 and 200 may be inclined (S) (or formed in a tapered shape (S)). . Since the organic material sources 600 passing through the pattern diagonally along the inclined surface may also contribute to the formation of the pixel 700 , the pixel 700 may be deposited to have a uniform thickness as a whole.

마스크(100)는 화소 증착 공정 온도보다 높은 제1 온도 상에서 프레임(200)에 부착 고정되므로, 화소 증착을 위한 공정 온도로 상승시킨다고 하더라도, 마스크 패턴(P)의 위치에는 영향이 거의 없게 되며, 마스크(100)와 이에 이웃하는 마스크(100) 사이의 PPA는 3㎛를 초과하지 않도록 유지될 수 있다.Since the mask 100 is attached and fixed to the frame 200 at a first temperature higher than the pixel deposition process temperature, even if the process temperature for pixel deposition is increased, the position of the mask pattern P has little effect, and the mask The PPA between 100 and the neighboring mask 100 may be maintained to not exceed 3 μm.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been illustrated and described with reference to preferred embodiments as described above, it is not limited to the above-described embodiments and is not limited to the above-described embodiments, and various methods can be obtained by those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains within the scope of the present invention. Transformation and change are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the present invention and the appended claims.

50: 트레이(tray)
51: 레이저 통과공
70: 하부 지지체
80: 자력 인가부
100: 마스크
110: 마스크 막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
1000: OLED 화소 증착 장치
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
ET: 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승
L: 레이저
LT: 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강
M: 상부 압착체
ME: 자력(magnetic energy)
R: 테두리 프레임부의 중공 영역
P: 마스크 패턴
TS: 장력
W: 용접
WB: 용접 비드50: tray
51: laser passing hole
70: lower support
80: magnetic force authorization unit
100: mask
110: mask film
200: frame
210: border frame portion
220: mask cell sheet portion
221: border sheet portion
223: first grid sheet portion
225: second grid sheet portion
1000: OLED pixel deposition device
C: cell, mask cell
CR: mask cell area
DM: dummy, mask dummy
ET: Raise the temperature of the process region to the first temperature
L: laser
LT: lowering the temperature of the process zone to the second temperature
M: upper pressing body
ME: magnetic energy
R: Hollow area of the border frame part
P: mask pattern
TS: tension
W: Weld
WB: Weld Bead

Claims (24)

적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 준비하는 단계;
(b) 마스크를 트레이 상에 부착하는 단계;
(c) 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계;
(d) 트레이 상에 자력 인가부를 로딩하는 단계; 및
(e) 마스크의 용접부에 레이저를 조사하여 마스크를 프레임에 부착하는 단계
를 포함하고,
(e) 단계에서, 트레이 상부에 배치된 자력 인가부에서 트레이 하부에 배치되는 마스크 및 프레임에 자력을 인가하여 마스크 및 프레임을 트레이의 하부면으로 밀착시켜, 트레이와 마스크 사이가 접촉하는 계면에 에어갭(air gap) 형성을 방지하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, the method comprising:
(a) preparing a frame having at least one mask cell region;
(b) attaching the mask onto the tray;
(c) loading the tray on the frame so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame;
(d) loading the magnetic force applying unit on the tray; and
(e) attaching the mask to the frame by irradiating a laser to the welding part of the mask
including,
In step (e), the mask and the frame are brought into close contact with the lower surface of the tray by applying a magnetic force to the mask and the frame disposed under the tray in the magnetic force applying unit disposed on the top of the tray, so that the air at the interface between the tray and the mask is in contact A method of manufacturing a frame-integrated mask that prevents formation of an air gap. 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 준비하는 단계;
(b) 일면 상에 자력 인가부가 부착된 트레이의 타면 상에 마스크를 부착하는 단계;
(c) 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(d) 마스크의 용접부에 레이저를 조사하여 마스크를 프레임에 부착하는 단계
를 포함하고,
(d) 단계에서, 트레이 상부에 배치된 자력 인가부에서 트레이 하부에 배치되는 마스크 및 프레임에 자력을 인가하여 마스크 및 프레임을 트레이의 하부면으로 밀착시켜, 트레이와 마스크 사이가 접촉하는 계면에 에어갭(air gap) 형성을 방지하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, the method comprising:
(a) preparing a frame having at least one mask cell region;
(b) attaching a mask on the other surface of the tray to which a magnetic force applying unit is attached on one surface;
(c) loading the tray on the frame so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame; and
(d) attaching the mask to the frame by irradiating a laser to the welding part of the mask
including,
In step (d), the mask and the frame are brought into close contact with the lower surface of the tray by applying a magnetic force to the mask and the frame disposed under the tray in the magnetic force applying unit disposed on the upper part of the tray, so that the air at the interface between the tray and the mask is in contact A method of manufacturing a frame-integrated mask that prevents formation of an air gap. 제1항에 있어서,
(a) 단계는,
(a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계;
(a2) 평면의 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하는 단계; 및
(a3) 마스크 셀 시트부에 복수의 마스크 셀 영역을 형성하여 프레임을 제조하는 단계
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.According to claim 1,
(a) step,
(a1) providing an edge frame portion including a hollow region;
(a2) connecting the flat mask cell sheet portion to the edge frame portion; and
(a3) manufacturing a frame by forming a plurality of mask cell regions in the mask cell sheet portion
Including, a method of manufacturing a frame-integrated mask. 제1항에 있어서,
(a) 단계는,
(a1) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계; 및
(a2) 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하여 프레임을 제조하는 단계
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.According to claim 1,
(a) step,
(a1) providing an edge frame portion including a hollow region; and
(a2) manufacturing a frame by connecting a mask cell sheet portion having a plurality of mask cell regions to an edge frame portion
Including, a method of manufacturing a frame-integrated mask. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
트레이는 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz), 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나의 재질을 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.3. The method of claim 1 or 2,
The tray is glass, silica (silica), heat-resistant glass, quartz (quartz), alumina (Al 2 O 3 ) A method of manufacturing a frame-integrated mask comprising any one material. 제8항에 있어서,
트레이 상부에서 조사된 레이저는 트레이를 투과하여 마스크의 용접부에 조사되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.9. The method of claim 8,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein the laser irradiated from the upper part of the tray is irradiated to the welding part of the mask by passing through the tray. 제1항 또는 제2항에 있어서,
마스크의 용접부에 대응하는 트레이의 부분에 레이저 통과공이 형성되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.3. The method of claim 1 or 2,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein a laser passage hole is formed in a portion of the tray corresponding to the welding portion of the mask. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
레이저가 조사된 용접부의 부분에 용접 비드(bead)가 형성되고, 용접 비드는 마스크와 프레임이 일체로 연결되도록 매개하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.3. The method of claim 1 or 2,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein a welding bead is formed in a portion of the welding portion irradiated with a laser, and the welding bead mediates so that the mask and the frame are integrally connected. 제1항 또는 제2항에 있어서,
하부 지지체가 프레임 하부에 배치되어, 트레이가 로딩되는 마스크 셀 영역의 반대면을 압착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.3. The method of claim 1 or 2,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, wherein a lower support is disposed under the frame to press the opposite surface of the mask cell region in which the tray is loaded. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제3항 또는 제4항에 있어서,
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부; 및
제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.5. The method of claim 3 or 4,
The mask cell sheet part,
edge sheet portion; and
A method of manufacturing a frame-integrated mask comprising at least one first grid sheet portion extending in a first direction and having both ends connected to the edge sheet portion. 제22항에 있어서,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 더 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.23. The method of claim 22,
The mask cell sheet unit further includes at least one second grid sheet unit extending in a second direction perpendicular to the first direction, intersecting the first grid sheet unit, and having both ends connected to the edge sheet unit. manufacturing method. 삭제delete
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