KR20230013968A - 섀도우 마스크의 제조 방법 - Google Patents

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KR20230013968A
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황인호
이찬종
이윤경
양동주
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Abstract

본 발명은, 베이스 기판을 준비하는 단계와; 증착 공정시 증착 대상 기판과의 얼라인을 위한 얼라인 마크를 상기 베이스 기판 상에 형성하는 단계와; 증착 공정시 증착물질을 선별적으로 통과시키기 위한 마스크 패턴을 갖는 마스크 시트를 상기 베이스 기판에 부착하는 단계; 및 상기 베이스 기판의 상기 마스크 패턴이 구비된 영역을 에칭하여 상기 마스크 패턴을 노출시키는 단계;를 포함하는, 섀도우 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

섀도우 마스크의 제조 방법 {Method for manufacturing shadow mask}
본 발명은 마이크로 단위의 초소형 마스크 패턴을 갖는 유기 발광 소자를 제조하기 위해 사용되는 섀도우 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광 현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.
유기 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공 증착법 등에 의해 기판 상에 형성될 수 있다.
진공 증착법은 진공 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 섀도우 마스크(shadow mask)를 기판에 정렬시킨 후, 증착 재료가 담겨 있는 증발원에 열을 가하여 증발원에서 증발되는 증착 재료를 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.
진공 증착법을 이용하여 유기 박막을 증착하는 증착 장치는, 진공 챔버의 상측에 피처리 기판을 장착하고, 진공 챔버의 하부에 증착 물질이 수용된 증발원이 설치한 구조로서, 진공챔버의 내부를 일정한 진공을 유지시킨 후, 진공챔버의 하부에 배치된 하나 이상의 증발원으로부터 증착 물질을 증발시키도록 구성되어 있다.
최근 유기발광소자(OLED)를 이용한 디스플레이가 고해상도로 발전하면서, 이를 구현하기 위한 섀도우 마스크의 마스크 패턴도 마이크로미터 단위의 초소형으로 가공해야 하는 경우가 있다. 최근에는 실리콘 웨이퍼에 대해 반도체 공정을 통해 미세 패턴을 형성하여 실리콘으로 이루어진 섀도우 마스크를 제조하는 연구가 진행되고 있다.
공개특허공보 제10-2004-0070526호 (2004.08.11)
본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로서, 마이크로 단위의 초소형 마스크 패턴을 갖는 유기 발광 소자 제조용 섀도우 마스크를 단순하고 간소화된 방법을 통해 제조함으로써 제조 효율성이 향상된 섀도우 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 베이스 기판을 준비하는 단계와; 증착 공정시 증착 대상 기판과의 얼라인을 위한 얼라인 마크를 상기 베이스 기판 상에 형성하는 단계와; 증착 공정시 증착물질을 선별적으로 통과시키기 위한 마스크 패턴을 갖는 마스크 시트를 상기 베이스 기판에 부착하는 단계; 및 상기 베이스 기판의 상기 마스크 패턴이 구비된 영역을 에칭하여 상기 마스크 패턴을 노출시키는 단계;를 포함하는, 섀도우 마스크의 제조 방법이 개시된다.
상기 얼라인 마크는 비투광성 재질로 형성되고, 상기 베이스 기판의 상면에 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 베이스 기판을 준비하는 단계와; 증착 공정시 증착 물질을 선별적으로 통과시키기 위한 마스크 패턴과, 증착 공정시 증착 대상 기판과의 얼라인을 위한 얼라인 마크를 구비한 마스크 시트를 준비하는 단계와; 상기 마스크 시트를 상기 베이스 기판에 부착하는 단계; 및 상기 베이스 기판의 상기 마스크 시트가 부착된 영역을 에칭하여 상기 마스크 시트를 노출시키는 단계;를 포함하는, 섀도우 마스크의 제조 방법이 개시된다.
또한, 상기 얼라인 마크는 비투광성 재질로 형성되고, 상기 마스크 시트의 하면에 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 시트의 상기 얼라인 마크가 형성된 부분을 제거하여 상기 얼라인 마크를 노출시키는 단계;가 추가로 수행될 수 있다.
또한, 상기 얼라인 마크는 상기 마스크 시트를 관통하는 키홀의 형태를 가지고, 상기 베이스 기판의 상기 키홀에 대응되는 위치에 상기 키홀보다 큰 크기의 관통홀이 형성하는 단계;가 추가로 수행될 수 있다.
또한, 상기 키홀은 상기 마스크 시트의 마스크 패턴 형성시 함께 형성될 수 있다.
또한, 상기 얼라인 마크는 포토리소그래피 공정을 통해 형성될 수 있다.
또한, 상기 베이스 기판은 투광성 재질로 형성되고, 상기 얼라인 마크는 비투광성 재질로 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 시트는 인바, 금속, 폴리머 중 어느 하나의 재질로 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 시트는, 상기 얼라인 마크를 덮는 마크 보호부;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 마이크로 단위의 초소형 마스크 패턴을 갖는 유기 발광 소자 제조용 섀도우 마스크를 단순하고 간소화된 방법을 통해 제조함으로써 섀도우 마스크의 제조 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 나타낸 순서도.
도 2는 도 1의 섀도우 마스크의 제조 방법을 도식적으로 나타낸 제조 공정도.
도 3은 도 2에 도시된 마스크 시트의 변형 실시예를 나타낸 도면.
도 4는 도 1의 섀도우 마스크의 제조 방법을 통해 제조된 섀도우 마스크의 일 예를 나타낸 평면도.
도 5는 도 4의 A-A' 라인을 따르는 단면도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 나타낸 순서도.
도 7은 도 6의 섀도우 마스크의 제조 방법을 도식적으로 나타낸 제조 공정도.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 도식적으로 나타낸 제조 공정도.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 의한 섀도우 마스크의 제조 방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 나타낸 순서도이고, 도 2는 도 1의 섀도우 마스크의 제조 방법을 도식적으로 나타낸 제조 공정도이다.
도 1 및 2를 참조하여, 본 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 설명하면, 먼저 도 2의 (a)와 같이 베이스 기판(10)을 준비한다(S11). 베이스 기판(10)은 반도체 공정을 통해 패터닝이 가능하고, 얼라인 장치의 광원에서 나온 빛이 투과할 수 있는 투광성 재질로 형성될 수 있다. 이와 같은 베이스 기판(10)의 재질로서, 예를 들어, 실리콘(Silicon), 유리, 석영(Quartz) 등을 들 수 있으며, 특히 실리콘 기판을 사용하는 경우 적외선 광원이 사용될 수 있다.
다음으로, 도 2의 (b)와 같이 베이스 기판(10) 상에 얼라인 마크(20)를 형성한다(S12). 얼라인 마크(20)는 유기 발광 소자(OLED)의 제조를 위한 증착 공정시 증착 대상 기판과 섀도우 마스크 사이의 얼라인을 위해 사용된다. 베이스 기판(10)이 투광성 재질로 형성된 경우, 얼라인 마크(20)는 빛이 투과하지 않는 비투광성 재질로서 베이스 기판(10)의 상면에 형성될 수 있다. 본 실시예의 경우 얼라인 마크(20)로서 알루미늄(Al) 재질을 사용한 것을 예시하고 있고, 얼라인 마크(20)는 베이스 기판(10)의 가장자리 부분에 위치할 수 있다.
이와 같은 얼라인 마크(20)는 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 통해 베이스 기판(10) 상에 형성될 수 있으며, 그 밖에 증착 공정이나 인쇄 공정 등을 통해서도 형성 가능하다 할 것이다.
다음으로, 도 2의 (c) 및 (d)와 같이 마스크 패턴(31)을 구비한 마스크 시트(30)를 베이스 기판(10)에 부착한다(S13). 마스크 패턴(31)은 유기 발광 소자(OLED)의 제조를 위한 증착 공정시 증착 물질을 선별적으로 통과시키는 기능을 하며, 이를 통해 마스크 패턴(31)에 대응되는 패턴이 증착 대상 기판에 증착되게 된다. 마스크 시트(30)는 도전성 시트 상에 마스크로 사용될 물질을 마스크 패턴(31)에 대응되는 형태로 도금하여 제작될 수 있다. 마스크 시트(30)로 사용되는 물질은 투광성 물질, 비투광성 물질 모두 사용될 수 있다. 마스크 시트(30)의 재질로서 인바(invar), 금속(metal), 폴리머(polymer) 등을 사용할 수 있다. 단, 마스크 시트(30)의 재질로 비투광성 물질로 사용될 경우, 마스크 시트(30)는 얼라인 마크(20)를 덮지 않도록 형성된다.
마스크 시트(30)는 접착제를 이용한 접착 공정을 통해 베이스 기판(10) 상에 부착될 수 있으며, 마스크 시트(30) 의 얼라인 공정을 거친 후 부착 공정이 수행될 수 있다.
마지막으로, 도 2의 (e)와 같이 베이스 기판(10)의 마스크 패턴(31)이 구비된 영역을 에칭하여 마스크 패턴(31)을 노출시킨다. 다시 말해, 베이스 기판(10)의 마스크 패턴(31)을 덮고 있는 부분을 제거하여 마스크 패턴(31)이 상하 방향으로 노출될 수 있게 한다. 이를 통해 유기 발광 소자(OLED)의 제조를 위한 증착 공정시 마스크 패턴(31)의 패턴홀을 증착 물질이 통과할 수 있게 된다.
베이스 기판(10)의 에칭 방법으로 에칭액(예를 들어, KOH 에칭액)을 이용한 습식 식각(Wet etching) 방법이 사용될 수 있으며, 이 때 에칭액은 마스크 시트(30)의 재질 대비 베이스 기판(10)의 선택비가 높은 물질을 사용하는 것이 바람직하다. 베이스 기판(10)의 에칭 방법은 그 외에도 다양한 방법이 사용될 수 있다.
이상에서 설명한 에칭 공정에 따라, 베이스 기판(10)의 중앙 부위에는 상하 방향으로 관통된 관통 영역(12)이 형성되고, 가장자리 부위에는 마스크 시트(30)를 지지하는 마스크 프레임(11)이 형성된다. 이로써 마스크 프레임(11) 상에 마스크 시트(30)가 지지된 형태의 섀도우 마스크(40)가 완성되게 된다.
증착 공정시 섀도우 마스크(40)의 일측에 위치한 얼라인 장치의 발광부에서 나온 빛은 섀도우 마스크(40)의 얼라인 마크(30)에서 반사되어 수광부로 수광되며, 증착 대상 기판의 얼라인 마크에서 반사된 빛을 함께 이용하여 증착 대상 기판과 섀도우 마스크(40)의 얼라인 과정이 이루어지게 된다.
도 3은 도 2에 도시된 마스크 시트의 변형 실시예를 나타낸 도면이다.
도 3과 같이 마스크 시트(30)에는 마크 보호부(32)가 추가로 형성될 수 있다. 마크 보호부(32)는 마스크 패턴(31)의 가장자리로부터 연장되는 형태를 가지며, 얼라인 마크(20)를 덮어 얼라인 마크(20)를 보호한다. 여기서 마스크 시트(30)는 빛이 통과할 수 있는 투광성 재질로 형성되며, 이를 통해 얼라인 장치의 빛이 마크 보호부(32)를 투과하여 얼라인 마크(20)까지 도달할 수 있게 된다.
도 4는 도 1의 섀도우 마스크의 제조 방법을 통해 제조된 섀도우 마스크의 일 예를 나타낸 평면도이고, 도 5는 도 4의 A-A’라인을 따르는 단면도이다.
본 실시예의 경우, 한 판의 베이스 기판(10, 예를 들어, 웨이퍼)을 이용하여 다수개의 마스크 패턴(31)를 제작한 형태로서, 도 4를 참조하면, 총 9개의 마스크 패턴(31)이 더미 영역(35, dummy area)에 의해 서로 분할된 구조가 예시되어 있다. 더미 영역(35)은, 각 마스크 패턴(31) 사이를 구획하기 위한 것으로서, 각 마스크 패턴(31) 사이에 격자상으로 형성될 수 있다.
그리고 베이스 기판(10)의 외주를 따라 얼라인 마크(20)가 형성되는데, 본 실시예의 경우 4개의 개소에 서로 90도 간격으로 얼라인 마크(20)가 형성된 구조를 예시하고 있다. 다만, 마스크 패턴(31)의 개수 및 크기, 얼라인 마크(20)의 개수 및 형성 위치 등은 본 실시예에서 예시한 것 이외에도 다양하게 형성 가능하다.
한편, 본 실시예에서는, 마스크 시트(30) 하면의 더미 영역(35)에도 마스크 프레임(11)을 형성하여 마스크 시트(30)의 처짐을 방지하도록 하였다. 이러한 구조는 에칭 공정시 해당 부분을 남기고 에칭함으로써 제작 가능하다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 나타낸 순서도이고, 도 7은 도 6의 섀도우 마스크의 제조 방법을 도식적으로 나타낸 제조 공정도이다.
도 6 및 7을 참조하여, 본 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 설명하면, 먼저 도 7의 (a)와 같이 베이스 기판(10)을 준비한다(S21). 베이스 기판(10)의 재질은 앞선 실시예와 동일하게 반도체 공정을 통해 패터닝이 가능한 투광성 재질로 형성될 수 있다.
다음으로, 도 7의 (b)와 같이 마스크 패턴(31)과 얼라인 마크(20)를 구비한 마스크 시트(30)를 준비한다(S22).
마스크 패턴(31)은 증착 공정시 증착 물질을 선별적으로 통과시키기 위한 것이고, 마스크 패턴(31)은 유기 발광 소자(OLED)의 제조를 위한 증착 공정시 증착 물질을 선별적으로 통과시키기 위한 것으로서, 이들에 대한 설명은 앞선 실시예에 의 설명에 갈음하기로 한다.
본 실시예의 경우 얼라인 마크(20)를 마스크 시트(30)의 하면 상에 형성한 구조를 예시하고 있으나, 마스크 시트(30)의 상면에 형성하는 것도 가능하다. 얼라인 마크(20)는 마스크 패턴(31)이 형성된 부분의 외곽 영역에 형성될 수 있으며, 앞선 실시예에서 설명한 바와 같이, 포토리소그래피(Photolithography) 공정, 증착 공정, 인쇄 공정 등을 통해 형성 가능하다. 얼라인 마크(20)는 앞서 설명한 것처럼 알루미늄과 같은 비투광성 재질이 사용될 수 있다.
다음으로, 도 7의 (c)와 같이 마스크 시트(30)를 베이스 기판(10)에 부착한다(S23). 마스크 시트(30)는 접착제를 이용한 접착 공정을 통해 베이스 기판(10) 상에 부착될 수 있으며, 이와 같은 부착 공정에 따라 얼라인 마크(20)가 베이스 기판(10)의 가장자리에 위치한 형태가 만들어지게 된다.
다음으로, 도 7의 (d)와 같이 베이스 기판(10)의 마스크 패턴(31)이 구비된 영역을 에칭하여 마스크 패턴(31)을 노출시키며(S24), 이는 앞선 실시예와 동일한 방법으로 이루어질 수 있다. 이에 따라 베이스 기판(10)의 남은 가장자리 부분은 마스크 시트(30)를 지지하는 마스크 프레임(11)을 형성하게 된다.
마지막으로, 도 7의 (e)와 같이 마스크 시트(30)의 얼라인 마크(20)가 형성된 부분을 제거하여 얼라인 마크(20)를 노출시키는 공정이 추가로 수행될 수 있다. 이는 비투광성 재질의 마스크 시트(30)를 사용할 경우에 한해 선택적으로 수행될 수 있으며, 투광성 재질의 마스크 시트(30)를 사용할 경우 수행되지 않을 수 있다. 본 공정을 수행하지 않는 경우 마스크 시트(30)의 가장자리는 도 3의 마크 보호부(32)로서의 기능을 하게 된다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조 방법을 도식적으로 나타낸 제조 공정도이다.
도 8은 앞선 실시예들과 달리 얼라인 마크(20)가 마스크 시트(30)를 관통하는 키홀의 형태를 갖는 경우를 예시하고 있다. 이와 같은 경우 얼라인 마크(20)는 마스크 시트(30)의 마스크 패턴(31)의 제작시 함께 형성될 수 있다(도 8의 (a) 참조).
다음으로, 도 8의 (b)와 같이 얼라인 마크(20)와 마스크 패턴(31)이 구비된 마스크 시트(30)를 베이스 기판(10)에 부착한다. 본 실시예의 경우 베이스 기판(10)과 마스크 시트(30)는 투광성 재질과 비투광성 재질을 모두 사용할 수 있다.
마지막으로, 도 8의 (c)와 같이 베이스 기판(10)의 마스크 패턴(31)이 구비된 영역을 에칭하여 마스크 패턴(31)을 노출시키며, 이와 함께 키홀(얼라인 마크, 20)이 구비된 영역도 함께 에칭하여 관통홀(15)을 형성한다. 본 실시예의 경우에도 베이스 기판(10)의 에칭 방법으로 습식 식각(Wet etching) 방법이 사용될 수 있으며, 이 때 에칭액은 마스크 시트(30)의 재질 대비 베이스 기판(10)의 선택비가 높은 물질을 사용하는 것이 바람직하다.키홀(20) 형성 공정과 마스크 패턴(31)이 구비된 부분의 에칭 공정을 별도로 수행하는 것도 가능하며, 관통홀(15)의 경우 에칭 이외에 다른 방식으로 형성하는 것도 가능하다. 관통홀(15)은 키홀(얼라인 마크, 20)보다 큰 크기를 갖는 것이 바람직하다.
본 실시예의 경우, 마스크 시트(30)를 부착한 후, 관통홀(15)을 형성하는 것으로 예시하였으나, 베이스 기판(10)에 관통홀(15)을 미리 형성한 후 마스크 시트(30)를 부착하는 것도 가능하다 할 것이다.
본 실시예에 따른 섀도우 마스크(40)의 경우, 얼라인 장치의 광원에서 나온 빛이 키홀은 통과하고 키홀 주변부에서는 반사되어 수광부에 수광됨으로써, 섀도우 마스크(40)와 증착 대상 기판의 얼라인이 이루어지게 된다.
상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10: 베이스 기판 11: 마스크 프레임
20: 얼라인 마크 30: 마스크 시트
31: 마스크 패턴 32: 마크 보호부
35: 더미 영역 40: 섀도우 마스크

Claims (11)

  1. 베이스 기판을 준비하는 단계;
    증착 공정시 증착 대상 기판과의 얼라인을 위한 얼라인 마크를 상기 베이스 기판 상에 형성하는 단계;
    증착 공정시 증착물질을 선별적으로 통과시키기 위한 마스크 패턴을 갖는 마스크 시트를 상기 베이스 기판에 부착하는 단계; 및
    상기 베이스 기판의 상기 마스크 패턴이 구비된 영역을 에칭하여 상기 마스크 패턴을 노출시키는 단계;를 포함하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 얼라인 마크는 비투광성 재질로 형성되고, 상기 베이스 기판의 상면에 형성되는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  3. 베이스 기판을 준비하는 단계;
    증착 공정시 증착 물질을 선별적으로 통과시키기 위한 마스크 패턴과, 증착 공정시 증착 대상 기판과의 얼라인을 위한 얼라인 마크를 구비한 마스크 시트를 준비하는 단계;
    상기 마스크 시트를 상기 베이스 기판에 부착하는 단계; 및
    상기 베이스 기판의 상기 마스크 시트가 부착된 영역을 에칭하여 상기 마스크 시트를 노출시키는 단계;를 포함하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 얼라인 마크는 비투광성 재질로 형성되고, 상기 마스크 시트의 하면에 형성되는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 마스크 시트의 상기 얼라인 마크가 형성된 부분을 제거하여 상기 얼라인 마크를 노출시키는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 얼라인 마크는 상기 마스크 시트를 관통하는 키홀의 형태를 가지고,
    상기 베이스 기판의 상기 키홀에 대응되는 위치에 상기 키홀보다 큰 크기의 관통홀이 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 키홀은 상기 마스크 시트의 마스크 패턴 형성시 함께 형성되는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  8. 제1항 또는 제3항에 있어서,
    상기 얼라인 마크는 포토리소그래피 공정을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  9. 제1항 또는 제3항에 있어서,
    상기 베이스 기판은 투광성 재질로 형성되고,
    상기 얼라인 마크는 비투광성 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  10. 제1항 또는 제3항에 있어서,
    상기 마스크 시트는 인바, 금속, 폴리머 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.
  11. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 마스크 시트는,
    상기 얼라인 마크를 덮는 마크 보호부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크의 제조 방법.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040070526A (ko) 2003-02-04 2004-08-11 주식회사 엘리아테크 웨이퍼를 이용한 새도우 마스크, 그 제조방법 및 그를이용한 풀칼라 유기ｅｌ 소자의 제조방법

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