KR20220166277A - 열상 시스템 및 장치, 및 열상을 위한 방법 - Google Patents

열상 시스템 및 장치, 및 열상을 위한 방법 Download PDF

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KR20220166277A
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에두아르도 모리야마
가레스 다비스
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Abstract

의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치는 근위 단부를 한정하는 근위 부분 및 원위 단부를 한정하는 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트를 포함한다. 천공 전극이 원위 단부에 있고, 제1 전기 커넥터가 전원에의 연결을 위해 천공 전극으로부터 근위방향으로 연장된다. 외향 연장 미늘이 원위 단부의 근위에 위치된다. 미늘은 샤프트에 근접한 내측 단부 및 내측 단부의 반대편에 있는 외측 단부를 갖는다. 열상 전극이 미늘의 내측 단부의 근위에 있고 내측 단부에 인접하며, 제2 전기 커넥터가 전원에의 연결을 위해 열상 전극으로부터 근위방향으로 연장된다.

Description

열상 시스템 및 장치, 및 열상을 위한 방법
본 문헌은 해부학적 구조물의 열상(laceration)을 수반하는 의료 시술에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 문헌은 열상을 위한 장치, 및 관련 시스템 및 방법에 관한 것이다.
하기 발명의 내용은 독자에게 상세한 설명의 다양한 태양을 소개하는 것이지만, 본 발명을 정의하거나 한정하는 것으로 의도되지 않는다.
의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치들이 개시된다. 일부 태양에 따르면, 의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치는 근위 단부를 한정하는 근위 부분 및 원위 단부를 한정하는 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트를 포함한다. 천공 팁(tip)이 원위 단부에 있다. 외향 연장 미늘(barb)이 원위 단부의 근위에 위치된다. 미늘은 샤프트에 근접한 내측 단부 및 내측 단부의 반대편에 있는 외측 단부를 갖는다. 열상 전극이 미늘의 내측 단부의 근위에 있고 내측 단부에 인접하며, 전기 커넥터가 전원에의 연결을 위해 열상 전극으로부터 근위방향으로 연장된다.
일부 예에서, 열상 장치는 샤프트의 근위 단부에 연결되는 손잡이를 더 포함한다. 손잡이는 미늘을 조작하기 위한 제어부를 포함할 수 있다.
일부 예에서, 미늘은 샤프트와 일체형이다. 샤프트 및 미늘은 전기 절연성 재료로 형성될 수 있다.
일부 예에서, 천공 팁은 천공 전극을 포함하고, 장치는 전원에의 연결을 위해 천공 전극으로부터 근위방향으로 연장되는 다른 전기 커넥터를 포함한다. 전기 커넥터들은 샤프트의 전기 절연성 재료 내에 매립되는 와이어들의 형태일 수 있다.
일부 예에서, 미늘은 외측 단부가 샤프트로부터 반경방향 외향으로 이동된 전개 위치(deployed position)와, 외측 단부가 샤프트를 향해 반경방향으로 이동된 붕괴 위치(collapsed position) 사이에서 이동가능하다. 미늘은 전개 위치를 향해 편의될(biased) 수 있다. 장치는 미늘을 붕괴 위치에서 보유하기 위한 리테이너(retainer)를 더 포함할 수 있다.
일부 예에서, 열상 장치는 샤프트를 형성하는 제1 절연형 와이어(insulated wire) 및 제2 절연형 와이어를 포함한다. 제2 절연형 와이어는 제1 절연형 와이어를 따라 연장되는 제1 섹션, 및 제1 부분으로부터 반경방향 외향으로 연장되고 미늘을 형성하는 제2 섹션을 한정하도록 크림핑될(crimped) 수 있다. 열상 전극은 크림프(crimp)에 위치될 수 있다. 리테이너는 제1 절연형 와이어의 적어도 일부분과 제2 절연형 와이어의 제1 섹션의 적어도 일부분을 수용하는 시스(sheath)를 포함할 수 있다. 붕괴 위치에 있을 때 제2 절연형 와이어의 제2 섹션은 시스 내에 수용될 수 있고, 전개 위치에 있을 때 제2 절연형 와이어의 제2 섹션은 시스의 외부에 있을 수 있다. 미늘은 제2 절연형 와이어를 시스에 대해 근위방향으로 활주시킴으로써 붕괴 위치로부터 전개 위치로 이동가능할 수 있다.
열상을 생성하기 위한 방법이 또한 개시된다. 일부 태양에 따르면, 열상을 생성하기 위한 방법은 a. 열상 장치의 천공 팁을 표적 해부학적 구조물의 근위 표면을 향해 전진시키는 단계; b. 천공 팁을 전진시켜 표적 해부학적 구조물을 천공하는 단계; c. 열상 장치를 전진시켜 천공 팁을 표적 해부학적 구조물의 원위 표면을 지나 위치시키고 천공부를 통해 열상 장치의 미늘을 통과시키는 단계; d. 열상 장치를 후퇴시켜 미늘을 표적 해부학적 구조물의 원위 표면과 맞닿게 하고 열상 장치의 열상 전극을 표적 해부학적 구조물과 접촉하게 위치시키는 단계; 및
e. 미늘이 표적 해부학적 구조물의 원위 표면에 맞닿은 상태에서, 열상 장치의 열상 전극을 활성화하여 열상 장치에 힘을 인가하여 표적 해부학적 구조물에 열상을 만드는 단계를 포함한다.
일부 예에서, 천공 팁은 천공 전극을 포함하고, 단계 b는 천공 전극에 RF 에너지를 공급하는 단계를 포함하고, 단계 e는 열상 전극에 RF 에너지를 공급하는 단계를 포함한다.
일부 예에서, 단계 c와 단계 d 사이에서, 방법은 미늘을 붕괴 위치로부터 전개 위치로 이동시키는 단계를 더 포함한다. 미늘을 붕괴 위치로부터 전개 위치로 이동시키는 단계는 미늘을 열상 전극으로부터 반경방향 외향으로 이동시키는 단계를 포함할 수 있다. 미늘을 붕괴 위치로부터 전개 위치로 이동시키는 단계는 미늘을 천공 팁에 대해 근위방향으로 활주시키는 단계를 포함할 수 있다. 미늘은 전개 위치를 향해 편의될 수 있고, 단계 a 내지 단계 c 동안, 미늘은 붕괴 위치에서 유지될 수 있다. 미늘을 붕괴 위치로부터 전개 위치로 이동시키는 단계는 미늘의 유지를 해제시키는 단계를 포함할 수 있다.
일부 예에서, 표적 해부학적 구조물은 판막 판엽(valve leaflet)이다.
의료 시술들에 사용하기 위한 열상 시스템들이 또한 개시된다. 일부 태양에 따르면, 열상 시스템은 RF 발생기 및 열상 장치를 포함한다. 열상 장치는 샤프트를 포함한다. 샤프트는 근위 단부를 한정하는 근위 부분 및 원위 단부를 한정하는 반대편의 원위 부분을 갖는다. 천공 팁이 원위 단부에 있다. 외향 연장 미늘이 원위 단부의 근위에 위치된다. 미늘은 샤프트에 근접한 내측 단부 및 내측 단부의 반대편에 있는 외측 단부를 갖는다. 열상 전극은 미늘의 내측 단부의 근위에 있고 내측 단부에 인접한다. 열상 전극은 RF 발생기에 전기적으로 연결가능하다.
첨부 도면은 본 발명의 물품, 방법 및 기기의 예들을 예시하기 위한 것이며 제한하려는 의도는 아니다. 도면에서:
도 1은 예시적인 열상 시스템의 사시도이다.
도 2는 도 1의 열상 장치의 사시도이다.
도 3은 도 1의 열상 장치의 일부분의 확대 정면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 열상 장치의 부분을 통해 취해진 단면이다.
도 5는 열상을 생성하기 위한 방법의 제1 단계를 도시하는 개략도이다.
도 6은 도 5의 방법의 제2 단계를 도시하는 개략도이다.
도 7은 도 5 및 도 6의 방법의 제3 단계를 도시하는 개략도이다.
도 8은 도 5 내지 도 7의 방법의 제4 단계를 도시하는 개략도이다.
도 9는 도 5 내지 도 8의 방법의 제5 단계를 도시하는 개략도이다.
도 10은 도 5 내지 도 9의 방법의 제6 단계를 도시하는 개략도이다.
도 11은 미늘이 붕괴 위치에 있는, 다른 예시적인 열상 장치의 일부분의 정면도이다.
도 12는 미늘이 전개 위치에 있는, 도 11의 열상 장치의 부분의 정면도이다.
도 13은 도 11에 도시된 바와 같은 열상 장치를 통해 취해진 단면이다.
도 14는 도 12에 도시된 바와 같은 열상 장치를 통해 취해진 단면이다.
청구된 주제의 일 실시예의 일례를 제공하기 위해 다양한 기기 또는 공정 또는 조성물이 후술될 것이다. 후술되는 예는 어떠한 청구항도 제한하지 않으며, 임의의 청구항은 후술되는 것과는 상이한 공정 또는 기기 또는 조성물을 커버할 수 있다. 청구범위는 후술되는 임의의 하나의 기기 또는 공정 또는 조성물의 모든 특징부 또는 후술되는 다수의 기기 또는 공정 또는 조성물 또는 이들 모두에 공통인 특징부를 갖는 기기 또는 공정 또는 조성물로 제한되지 않는다. 후술되는 기기 또는 공정 또는 조성물은 본 특허출원의 허여에 의해 부여된 임의의 배타적인 권리의 일 실시예가 아니라는 것이 가능하다. 후술되는 그리고 본 특허출원의 허여에 의해 배타적인 권리가 부여되지 않는 임의의 주제는 또 다른 보호 수단, 예를 들어, 계속 특허출원의 주제일 수 있고, 본 출원인, 발명자 또는 소유권자는 본 문헌에서의 그의 개시내용에 의해 임의의 그러한 주제를 포기하거나 부인하거나 대중에게 제공할 의도가 없다.
표적 해부학적 구조물에 열상이 만들어지는 의료 시술에 사용될 수 있는 장치, 및 관련 시스템 및 방법이 본 명세서에 전반적으로 개시된다. 그러한 의료 시술은 연조직의 열상을 수반할 수 있는 경정맥(transvenous) 구조적 심장 시술을 포함할 수 있다. 그러한 연조직은 예를 들어 판막 판엽 또는 심방 중격(atrial septum)을 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 장치는 표적 해부학적 구조물(예컨대, 판막 판엽)을 천공하고, 표적 해부학적 구조물에 정착하며, 이어서 표적 해부학적 구조물에 열상을 만들 수 있는 "올인원(all-in-one)" 장치일 수 있다. 이는 그러한 시술의 복잡성을 감소시키고, 그러한 시술에 필요한 장치들의 개수를 감소시킬 수 있다.
이제 도 1을 참조하면, 예시적인 열상 시스템(100)이 도시되어 있다. 시스템(100)은 고주파(RF) 발생기(102)의 형태의 전원뿐만 아니라 열상 장치(104)를 포함한다. 열상 장치(104)는 열상 장치(104)의 (후술되는) 전극들에 RF 에너지를 공급하기 위해 RF 발생기(102)에 전기적으로 연결가능하다. 시스템은 또한 단극 모드(monopolar mode)에서의 작동을 위해 RF 발생기(102)에 연결되는 하나 이상의 접지 패드(도시되지 않음)를 포함할 수 있다(양극 모드(bipolar mode)에서 작동이 있는 경우, 접지 패드는 생략될 수 있고 복귀 전극(return electrode)이 추가될 수 있음). 시스템(100)은 해부학적 구조물(202)의 근위 표면을 향한 열상 장치의 천공 팁의 전진을 모니터링하고 표적 해부학적 구조물(200)의 천공을 확인하기 위해 열상 장치(104)에 전기적으로 연결가능한 전기-해부학적 매핑(electro-anatomical mapping, EAM) 모니터링 시스템(도시되지 않음)을 더 포함할 수 있다. 천공 팁의 위치는 EAM 시스템을 사용하여 확인될 수 있다.
도 2를 참조하면, 도시된 예에서, 열상 장치(104)는 근위 단부(110)를 한정하는 근위 부분(108) 및 원위 단부(114)를 한정하는 원위 부분(112)을 갖는 샤프트(106)를 포함한다. 샤프트(106)의 근위 단부(110)에 손잡이(116)가 연결된다. 손잡이는 선택적으로, 예를 들어 발생기로부터의 RF 에너지의 전달을 제어하기 위한 또는 (후술되는) 장치의 미늘을 조작하기 위한, 다양한 제어부(도시되지 않음)를 포함할 수 있다. 샤프트는 다양한 구성의 것일 수 있다. 예를 들어, 샤프트는 후술되는 바와 같이 절연된 와이어의 형태일 수 있거나, 장치의 다양한 다른 구성요소를 수용하는 플라스틱 튜브일 수 있다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 열상 장치(104)는 천공 팁을 포함한다. 도시된 예에서, 천공 팁은 샤프트(106)의 원위 단부(114)에 위치된 천공 전극(118)의 형태이다. RF 발생기(102)에의 연결을 위해 제1 전기 커넥터(120)가 천공 전극(118)으로부터 근위방향으로 연장된다. 대안적인 예에서, 천공 팁은 다른 구성의 것일 수 있는데, 예를 들어 기계적 천공을 위해 구성될 수 있다.
여전히 도 3 및 도 4를 참조하면, 도시된 예에서, 열상 장치(104)는 샤프트(106)로부터 외향으로 연장되고 샤프트(106)의 원위 단부(114)의 근위에 위치되는 외향 연장 미늘(122)을 더 포함한다. 미늘(122)은 샤프트(106)에 근접한 내측 단부(124), 및 내측 단부(124)의 반대편에 있는 외측 단부(126)를 갖는다. 도시된 예에서, 내측 단부(124)는 샤프트(106)에 접합되고 이와 일체형이지만, 대안적인 예에서, 내측 단부는 샤프트(106)에 근접하지만 이로부터 분리되어 있을 수 있거나, 비-일체형 방식으로 샤프트에 접합될 수 있다.
도시된 예에서, 미늘(122)은 외측 단부(126)가 샤프트(106)로부터 반경방향으로 이격되는 "전개 위치"로 지칭되는, 도 5, 도 6 및 도 8에 도시된 위치를 향해 편의되고, 미늘(122)은 외측 단부(126)가 내측 단부(124)의 근위에 위치되도록 샤프트(106)에 대해 경사진다. 도 7에 도시된 바와 같이, (예컨대, 판막 판엽과 같은 해부학적 구조물(200)에 의한) 힘의 인가 시, 미늘(122)은 샤프트(106)를 향해 "붕괴 위치"로 붕괴될 수 있다. (예컨대, 해부학적 구조물(200)에 의한) 반대 방향으로의 힘의 인가 시, 미늘(122)은 구부러져 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이 외측 단부(126)를 "맞물림 위치"까지 추가로 반경방향 외향으로 이동시킬 수 있지만, 미늘(122)은 맞물림 위치를 넘는 외측 단부(126)의 이동에 저항하도록 구성되어, 도 9 및 도 10에 도시된 구성에 있을 때 미늘(122)이 열상 장치(104)의 근위 이동을 방지하거나 이에 저항하도록 한다.
대안적인 예에서, 미늘은 맞물림 위치까지 구부러지지 않을 수 있다. 대신에, 미늘은 전개 위치와 붕괴 위치 사이에서만 이동할 수 있고, 추가 이동에 저항하기에 충분히 강성일 수 있다. 그러한 예는 장치가 판막 판엽과 같은 상대적으로 이동가능한 조직에 열상을 만들기 위해 사용되는 예에서 특히 유용할 수 있는데, 그 이유는 장치에 대한 힘의 인가가 조직이 이동하게 할 수 있으므로 힘의 인가가 바람직하지 않을 수 있기 때문이다.
다시 도 3 및 도 4를 참조하면, 열상 장치(104)는 열상 전극(128)을 더 포함한다. 열상 전극(128)은 미늘(122)의 내측 단부(124)의 근위에 그리고 내측 단부에 인접하게 위치된다. 미늘(122)이 도 9에 도시된 위치에 있고 해부학적 구조물(200)의 표면에 맞닿아 있을 때, 열상 전극(128)은 해부학적 구조물(200)과 접촉한다. RF 발생기(102)에의 연결을 위해 제2 전기 커넥터(130)가 열상 전극(128)으로부터 근위방향으로 연장된다.
위에서 언급된 바와 같이, 열상 전극(128)은 미늘(122)의 내측 단부(124)의 근위에 그리고 내측 단부에 인접하게 위치된다. 미늘이 맞물림 위치까지 구부러지도록 구성된 도시된 예에서, 열상 전극(128)은 미늘(122)의 굴곡부(crook)에 위치되어, 미늘(122)이 맞물림 위치에 있고 해부학적 구조물(200)의 표면에 맞닿을 때 열상 전극이 해부학적 구조물(200)과 접촉하도록 위치된다. 미늘이 맞물림 위치까지 구부러지지 않는 대안적인 예에서, 열상 전극은 미늘의 내측 단부의 근위에 그리고 내측 단부에 인접하게 위치될 수 있지만, 도 3 및 도 4에 도시된 위치의 약간 근위에 있을 수 있어, 미늘의 외측 단부가 해부학적 구조물의 표면과 접촉할 때, 열상 전극이 해부학적 구조물과 접촉하도록 한다.
여전히 도 3 및 도 4를 참조하면, 도시된 예에서, 미늘(122)은 샤프트(106)와 일체형이다. 즉, 도시된 예에서, 샤프트(106) 및 미늘(122) 둘 모두는 전기 절연성 재료로 형성된다. 제1 전기 커넥터(120)는 샤프트(106)의 전기 절연성 재료 내에 매립된 제1 와이어의 형태이고, 제2 전기 커넥터(130)는 샤프트(106)의 전기 절연성 재료 내에 매립된 제2 와이어의 형태이다. 천공 전극(118) 및 열상 전극(128)은 제1 및 제2 와이어들의 노출된 단부에 의해 각각 형성될 수 있거나, 도시된 바와 같이 제1 및 제2 와이어들에 각각 고정된 별개의 금속편들일 수 있다.
도시된 예에서 미늘(122)은 단일의 세장형 재료편을 포함하지만, 대안적인 예에서 미늘은 미늘이 해부학적 구조물(200)을 통과한 다음 해부학적 구조물(200)에 정착하여 열상 장치의 근위 이동을 방지하는 다른 구성의 것일 수 있다. 예를 들어, 미늘은 샤프트 주위에서 원주방향으로 이격된 2개의 세장형 재료편들을 포함할 수 있거나, 개방 및 폐쇄될 수 있는 우산과 유사하게 구성될 수 있다.
일부 예(도시되지 않음)에서, 미늘은 형광투시 시각화를 허용하기 위해 방사선 불투과성일 수 있거나 방사선 불투과성 마커(marker)를 포함할 수 있다. 유사하게, 미늘은 초음파 시각화를 허용하기 위해 반향성(echogenic)일 수 있거나 반향성 마커를 포함할 수 있다.
이제 도 5 내지 도 10을 참조하면, 사용 시, 열상 장치(104)는 표적 해부학적 구조물(200)에 열상을 만들기 위해 사용될 수 있다. 특히, 먼저 도 5를 참조하면, 열상 장치(104)는 표적 해부학적 구조물(200)의 근위 표면(202)을 향해 전진될 수 있다. 도 6을 참조하면, 천공 전극(118)이 이어서 (예컨대, RF 발생기(102)로부터 천공 전극(118)으로 RF 에너지를 공급함으로써) 활성화되어 표적 해부학적 구조물(200)을 천공할 수 있다. 도 7 및 도 8을 참조하면, 열상 장치(104)가 이어서 전진되어 천공 전극(118)을 표적 해부학적 구조물(200)의 원위 표면(204)을 지나 위치시키고 천공부를 통해 미늘(122)을 통과시킨다. 미늘(122)이 천공부를 통과함에 따라, 도 7에 도시된 바와 같이, 미늘은 전개 위치로부터 붕괴 위치로 붕괴된다. 미늘(122)이 표적 해부학적 구조물(122)을 통과한 때, 미늘은 도 8에 도시된 바와 같이 전개 위치로 다시 이동한다. 열상 장치(104)가 이어서 도 9에 도시된 바와 같이 후퇴되어, 미늘(122)을 표적 해부학적 구조물(200)의 원위 표면(204)과 맞닿도록 하고 미늘(122)이 맞물림 위치를 향해 구부러지게 할 수 있다. 미늘(122)이 맞물림 위치로 구부러지기보다는 미늘(122)이 상대적으로 강성인 대안적인 예에서, 미늘은 표적 해부학적 구조물(200)의 원위 표면과 단순히 접촉하고 전개 위치에서 유지될 수 있다.
미늘(122)이 도 9에 도시된 위치에 있는 상태에서, 열상 전극(128)은 표적 해부학적 구조물(200)과 접촉하고, 열상 전극(128)은 (예컨대, RF 발생기(102)로부터 열상 전극(128)으로 RF 에너지를 공급함으로써) 활성화될 수 있다. 도 10을 참조하면, 열상 전극(128)이 활성화된 상태에서, 열상 장치(104)에 힘이 인가되어 열상 전극(128)을 측방향으로 당기고 표적 해부학적 구조물(200)에 열상을 만든다. 열상이 완료된 때, 미늘(122) 및 천공 전극(118)을 열상을 통해 후퇴시킴으로써 열상 장치(104)가 표적 구조물(200)로부터 인출될 수 있다.
일부 예에서, 천공 전극(118) 및 열상 전극(128) 주위의 영역들은 절연체로서 작용하도록 비이온성 유체(예컨대, 덱스트로오스 용액, 식염수, 또는 조영 용액)로 플러싱될 수 있다. 장치에는 유체 전달을 용이하게 하기 위해 다양한 유체 루멘(lumen) 및 유체 포트(도시되지 않음)가 제공될 수 있다.
이제 도 11 내지 도 14를 참조하면, 열상 장치의 다른 예가 도시되어 있다. 도 11 내지 도 14에서, 도 1 내지 도 10의 것들과 유사한 특징부들은 1000만큼 증분된, 유사한 도면 부호들로 언급될 것이다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 열상 장치(1104)는 사용자가 미늘(1122)을 붕괴 위치(도 11에 도시됨, 여기서 미늘(1122)이 보이지 않음)로부터 전개 위치(도 12에 도시됨)로 그리고 그 역으로 이동시키기 위해 해부학적 구조물과의 접촉에 의존함이 없이 그렇게 하도록 구성된다. 즉, 사용자는 미늘(1122)의 위치를 더 쉽게 제어할 수 있다. 특히, 도 13 및 도 14를 참조하면, 열상 장치(1104)는 열상 장치(1104)의 샤프트(1106)를 형성하는 제1 절연형 와이어(1132)를 포함한다. 절연형 와이어(1132)의 노출된 팁이 천공 전극(1118)을 제공한다. 열상 장치(1104)는 미늘(1122)을 제공하는 제2 절연형 와이어(1134)를 더 포함한다. 즉, 제2 절연형 와이어(1134)는 제1 절연형 와이어(1132)를 따라 연장되는 제1 섹션(1136), 및 제1 섹션(1136)으로부터 반경방향 외향으로 연장되고 미늘(1122)을 형성하는 제2 섹션(1138)을 한정하도록 크림핑된다. 도 1 내지 도 10의 장치와 유사하게, 미늘(1122)은 도 14에 도시된 전개 위치를 향해 편의되고, 힘의 인가에 의해 도 13에 도시된 붕괴 위치로 이동될 수 있다. 미늘(1122)은 도 9의 맞물림 위치와 유사한 맞물림 위치(도시되지 않음)로 추가로 이동될 수 있다. 제2 절연형 와이어(1134)의 노출된 섹션이 열상 전극(1128)을 제공한다. 도 1 내지 도 10의 장치와 유사하게, 열상 전극(1128)은 미늘(1122)의 내측 단부의 근위에 그리고 내측 단부에 인접하여, 대체로 크림프의 위치에 그리고 크림프의 굴곡부에 위치된다.
여전히 도 13 및 도 14를 참조하면, 도시된 예에서, 열상 장치는 미늘(1122)을 붕괴 위치에서 보유하고 미늘(1122)을 전개 위치로 선택적으로 해제시키기 위한 리테이너(1140)를 더 포함한다. 도시된 예에서, 리테이너(1140)는 일반적으로 루멘(1142)을 갖는 시스의 형태이다. 시스는 천공부를 통과하기 위해 낮은 프로파일일 수 있다. 리테이너는 제1 절연형 와이어(1132)의 일부분을 수용하지만, 제1 절연형 와이어(1132)는 천공 전극(1188)이 루멘(1142)의 외부에 있도록 리테이너(1140)를 통과한다. 리테이너(1140)는 제2 절연형 와이어(1134)의 제1 섹션(1136)을 또한 수용한다. 또한, 붕괴 위치에 있을 때, 미늘(1122)(즉, 제2 절연형 와이어(1134)의 제2 섹션(1138))이 또한 루멘(1142) 내에 보유된다. 루멘(1142)은 그의 근위 단부에서 개구(1146)를 갖는다. 리테이너(1140)의 위치는 제1 절연형 와이어(1132)에 대해 고정된다. 예를 들어, 리테이너(1140) 및 제1 절연형 와이어(1132) 둘 모두는 열상 장치(1104)의 손잡이(도시되지 않음)에 고정될 수 있다. 그러나, 제2 절연형 와이어(1134)는 리테이너(1140)에 대해 원위방향으로 그리고 근위방향으로 이동가능하다. 도 13에 도시된 위치에 있을 때, 미늘(1122)은 리테이너(1140)의 루멘(1142) 내에 수용되고 리테이너(1140)에 의해 붕괴 위치에서 유지된다. 도 14에 도시된 바와 같이, 제2 절연형 와이어(1134)는 (예컨대, 도시되지 않은 손잡이를 통해 제2 절연형 와이어의 근위 단부를 잡아당기는 것에 의해) 리테이너(1140)에 대해 근위방향으로 활주되어, 미늘(1122)을 개구(1146)를 통해 리테이너(1140) 밖으로 이동시키고, 이에 의해 미늘(1122)을 전개 위치로 해제시킬 수 있다. 미늘(1122)을 붕괴 위치로 다시 이동시키기 위해, 제2 절연형 와이어(1134)는 (예컨대, 도시되지 않은 손잡이를 통해 제2 절연형 와이어의 근위 단부를 미는 것에 의해) 도 13에 도시된 위치로 다시 원위방향으로 활주될 수 있다. 제2 절연형 와이어(1134)의 활주는 선택적으로, 예를 들어 손잡이 상에 제공될 수 있는 활주 스위치와 같은 제어부를 사용하여 행해질 수 있다.
도 11 내지 도 14의 열상 장치는 도 1 내지 도 10의 열상 장치와 유사한 방식으로 사용될 수 있지만, 미늘의 위치가 사용자에 의해 수동으로 제어될 수 있다.
상기 예들 중 임의의 예에서, 장치는 RF 에너지의 전달이 미늘의 위치에 의해 결정되도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 장치는, 미늘이 전개 위치에 있고 RF 에너지가 전달될 때 RF 에너지가 자동으로 열상 전극으로 지향되지만, 미늘이 붕괴 위치에 있을 때 RF 에너지가 천공 전극으로 자동으로 지향되도록 구성될 수 있다.
상기 설명은 하나 이상의 공정 또는 기기 또는 조성물의 예를 제공하지만, 다른 공정 또는 기기 또는 조성물이 첨부된 청구범위의 범주 내에 있을 수 있음을 이해할 것이다.
이전이든 아니든, 임의의 기술과 관련하여 (본 특허출원에서, 또는 임의의 모특허출원 또는 모특허, 자매특허출원 또는 자매특허, 또는 자특허출원 또는 자특허를 포함한 임의의 관련 특허출원 또는 특허에서) 이전에 이루어진 임의의 보정, 특성화, 또는 기타 주장이 본 출원의 본 개시내용에 의해 지지되는 임의의 주제의 부인(disclaimer)으로서 해석될 수 있는 범위 내에서, 본 출원인은 이로써 그러한 부인을 폐기하고 철회한다. 본 출원인은 또한, 임의의 모특허출원 또는 모특허, 자매특허출원 또는 자매특허, 또는 자특허출원 또는 자특허를 포함한 임의의 관련 특허출원 또는 특허에서 이전에 고려된 임의의 종래 기술이 재논의될 필요가 있을 수 있음을 정중하게 제출한다.

Claims (20)

  1. 의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치(laceration device)로서,
    근위 단부를 한정하는 근위 부분 및 원위 단부를 한정하는 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트;
    상기 원위 단부에 있는 천공 팁(tip);
    상기 원위 단부의 근위에 위치된 외향 연장 미늘(barb)로서, 상기 샤프트에 근접한 내측 단부 및 상기 내측 단부의 반대편에 있는 외측 단부를 갖는, 상기 외향 연장 미늘;
    상기 미늘의 상기 내측 단부의 근위에 있고 상기 내측 단부에 인접한 열상 전극, 및
    전원에의 연결을 위해 상기 열상 전극으로부터 근위방향으로 연장되는 전기 커넥터
    를 포함하는, 열상 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 샤프트의 상기 근위 단부에 연결된 손잡이를 더 포함하고, 상기 손잡이는 상기 미늘을 조작하기 위한 제어부를 포함하는, 열상 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 미늘은 상기 샤프트와 일체형인, 열상 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 천공 팁은 천공 전극을 포함하고, 상기 장치는 상기 전원에의 연결을 위해 상기 천공 전극으로부터 근위방향으로 연장되는 다른 전기 커넥터를 더 포함하는, 열상 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 샤프트 및 상기 미늘은 전기 절연성 재료로 형성되고,
    상기 전기 커넥터들은 상기 샤프트의 상기 전기 절연성 재료 내에 매립되는 와이어들의 형태인, 열상 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 미늘은 상기 외측 단부가 상기 샤프트로부터 반경방향 외향으로 이동된 전개 위치(deployed position)와, 상기 외측 단부가 상기 샤프트를 향해 반경방향으로 이동된 붕괴 위치(collapsed position) 사이에서 이동가능한, 열상 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 미늘은 상기 전개 위치를 향해 편의되는(biased), 열상 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 미늘을 상기 붕괴 위치에서 보유하기 위한 리테이너(retainer)를 더 포함하는, 열상 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 열상 장치는 상기 샤프트를 형성하는 제1 절연형 와이어(insulated wire), 및 제2 절연형 와이어를 포함하고,
    상기 제2 절연형 와이어는 상기 제1 절연형 와이어를 따라 연장되는 제1 섹션, 및 상기 제1 부분으로부터 반경방향 외향으로 연장되고 상기 미늘을 형성하는 제2 섹션을 한정하도록 크림핑되는(crimped), 열상 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 열상 전극은 상기 크림프(crimp)에 위치되는, 열상 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 리테이너는 상기 제1 절연형 와이어의 적어도 일부분과 상기 제2 절연형 와이어의 상기 제1 섹션의 적어도 일부분을 수용하는 시스(sheath)를 포함하고, 상기 붕괴 위치에 있을 때 상기 제2 절연형 와이어의 상기 제2 섹션은 상기 시스 내에 수용되며, 상기 전개 위치에 있을 때 상기 제2 절연형 와이어의 상기 제2 섹션은 상기 시스의 외부에 있는, 열상 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 미늘은 상기 제2 절연형 와이어를 상기 시스에 대해 근위방향으로 활주시킴으로써 상기 붕괴 위치로부터 상기 전개 위치로 이동가능한, 열상 장치.
  13. 열상을 생성하기 위한 방법으로서,
    a. 열상 장치의 천공 팁을 표적 해부학적 구조물의 근위 표면을 향해 전진시키는 단계;
    b. 상기 천공 팁을 전진시켜 상기 표적 해부학적 구조물을 천공하는 단계;
    c. 상기 열상 장치를 전진시켜 상기 천공 팁을 상기 표적 해부학적 구조물의 원위 표면을 지나 위치시키고 천공부를 통해 상기 열상 장치의 미늘을 통과시키는 단계;
    d. 상기 열상 장치를 후퇴시켜 상기 미늘을 상기 표적 해부학적 구조물의 상기 원위 표면과 맞닿게 하고 상기 열상 장치의 열상 전극을 상기 표적 해부학적 구조물과 접촉하게 위치시키는 단계; 및
    e. 상기 미늘이 상기 표적 해부학적 구조물의 상기 원위 표면에 맞닿은 상태에서, 상기 열상 장치의 상기 열상 전극을 활성화하여 상기 열상 장치에 힘을 인가하여 상기 표적 해부학적 구조물에 열상을 만드는 단계
    를 포함하는, 방법.
  14. 제13항에 있어서, 단계 b는 상기 천공 팁의 천공 전극에 RF 에너지를 공급하는 단계를 포함하고, 단계 e는 상기 열상 전극에 RF 에너지를 공급하는 단계를 포함하는, 방법.
  15. 제13항에 있어서, 단계 c와 단계 d 사이에서, 상기 방법은 상기 미늘을 붕괴 위치로부터 전개 위치로 이동시키는 단계를 더 포함하는, 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 미늘을 상기 붕괴 위치로부터 상기 전개 위치로 이동시키는 단계는 상기 미늘을 상기 열상 전극으로부터 반경방향 외향으로 이동시키는 단계를 포함하는, 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 미늘을 상기 붕괴 위치로부터 상기 전개 위치로 이동시키는 단계는 상기 미늘을 상기 천공 전극에 대해 근위방향으로 활주시키는 단계를 포함하는, 방법.
  18. 제15항에 있어서,
    상기 미늘은 상기 전개 위치를 향해 편의되고,
    단계 a 내지 단계 c 동안, 상기 미늘은 상기 붕괴 위치에서 유지되며,
    상기 미늘을 상기 붕괴 위치로부터 상기 전개 위치로 이동시키는 단계는 상기 미늘의 상기 유지를 해제시키는 단계를 포함하는, 방법.
  19. 제13항에 있어서, 상기 표적 해부학적 구조물은 판막 판엽(valve leaflet)인, 방법.
  20. 의료 시술들에 사용하기 위한 열상 시스템으로서,
    RF 발생기; 및
    열상 장치
    를 포함하고,
    상기 열상 장치는 i) 근위 단부를 한정하는 근위 부분 및 원위 단부를 한정하는 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트; ii) 상기 원위 단부에 있는 천공 팁; iii) 상기 원위 단부의 근위에 위치된 외향 연장 미늘로서, 상기 샤프트에 근접한 내측 단부 및 상기 내측 단부의 반대편에 있는 외측 단부를 갖는, 상기 외향 연장 미늘; 및 iv) 상기 미늘의 상기 내측 단부의 근위에 있고 상기 내측 단부에 인접하며 상기 RF 발생기에 전기적으로 연결가능한 열상 전극
    을 포함하는, 열상 시스템.
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