KR20230002807A - 열상 시스템 및 장치, 및 열상을 위한 방법 - Google Patents

열상 시스템 및 장치, 및 열상을 위한 방법 Download PDF

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제클 레웅
에듀라도 모리야마
가레스 데이비스
카일리 라우
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Abstract

의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치는 반대편의 근위 및 원위 부분들을 갖는 샤프트를 포함한다. 클램프가 원위 부분으로부터 연장된다. 클램프는 제1 및 제2 클램프 아암들을 갖는다. 클램프는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동가능하다. 개방 위치에서, 제1 클램프 아암은 제2 클램프 아암으로부터 이격된다. 폐쇄 위치에서, 제1 클램프 아암은 제2 클램프 아암을 향해 이동된다. 클램프 액추에이터가 샤프트를 통해 클램프에 연결되고, 클램프를 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동시키도록 조작가능하다. 고주파 전극(RF)이 제1 클램프 아암과 연관된다. RF 전극은 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때 제2 클램프 아암에 대면하도록 위치되는 제1 천공 표면을 갖는다. 전기 커넥터가 전원에의 연결을 위해 RF 전극으로부터 근위방향으로 연장된다.

Description

열상 시스템 및 장치, 및 열상을 위한 방법
본 문서는 해부학적 구조물의 열상(laceration)을 수반하는 의료 시술에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 문서는 열상용 장치, 및 관련 시스템 및 방법에 관한 것이다.
하기 발명의 내용은 독자에게 상세한 설명의 다양한 태양들을 소개하는 것이지만, 본 발명을 정의하거나 한정하는 것으로 의도되지 않는다.
의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치들이 개시된다. 일부 태양에 따르면, 열상 장치는 근위 부분 및 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트를 포함한다. 클램프(clamp)가 샤프트의 원위 부분으로부터 연장된다. 클램프는 적어도 제1 클램프 아암(arm) 및 제2 클램프 아암을 갖는다. 클램프는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동가능하다. 개방 위치에서, 제1 클램프 아암은 제2 클램프 아암으로부터 이격된다. 폐쇄 위치에서, 제1 클램프 아암은 개방 위치에 대해 제2 클램프 아암을 향해 이동된다. 클램프 액추에이터는 샤프트를 통해 클램프에 연결되고, 클램프를 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동시키도록 조작가능하다. 적어도 제1 고주파 전극이 제1 클램프 아암과 연관된다. 제1 고주파 전극은 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때 제2 클램프 아암에 대면하도록 위치되는 제1 천공 표면을 갖는다. 전원에의 연결을 위해 전기 커넥터가 제1 고주파 전극으로부터 근위방향으로 연장된다.
일부 예에서, 제1 천공 표면은 클램프 아암으로부터 이격되고, 제1 고주파 전극은 제1 천공 표면의 근위에 있고 그에 대해 횡방향이며 제1 천공 표면으로부터 제1 클램프 아암을 향해 연장되는 제1 열상 표면을 더 포함한다.
일부 예에서, 열상 장치는 제2 클램프 아암과 연관된 제2 고주파 전극을 더 포함한다. 제2 고주파 전극은 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때 제1 천공 표면에 대면하도록 위치되는 제2 천공 표면을 가질 수 있다.
일부 예에서, 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때, 제1 천공 표면 및 제2 천공 표면은 접촉한다.
일부 예에서, 제1 클램프 아암 및 제2 클램프 아암 각각은 샤프트에 고정되는 내측 단부 부분 및 내측 단부 부분의 반대편에 있는 외측 단부 부분을 각각 갖는다. 제1 열상 전극은 제1 클램프 아암의 외측 단부 부분과 연관될 수 있다. 대안적으로, 제1 열상 전극은 제1 클램프 아암의 내측 단부 부분 및 외측 단부 부분을 따라 연장될 수 있다.
일부 예에서, 클램프의 적어도 일부분은 방사선 불투과성이다.
열상을 생성하기 위한 방법들이 또한 개시된다. 일부 태양에 따르면, 열상을 생성하기 위한 방법은 a) 열상 장치의 클램프를 표적 해부학적 구조물을 향해 전진시키는 단계; b) 단계 a) 후에, 클램프를 표적 해부학적 구조물에 고정시키고 클램프의 제1 고주파 전극을 표적 해부학적 구조물의 제1 표면에 맞닿게 위치시키도록 클램프를 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하는 단계; 및 c) 표적 해부학적 구조물에 열상을 만들기 위해 제1 고주파 전극을 활성화시키는 단계를 포함한다.
일부 예에서, 클램프를 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하는 단계는 또한 클램프의 제2 열상 전극을 표적 해부학적 구조물의 제2 표면에 맞닿게 위치시킨다. 제2 표면은 제1 표면의 반대편에 있을 수 있다.
일부 실시예에서, 단계 c)는 제2 열상 전극을 활성화시키는 단계를 더 포함한다.
일부 실시예에서, 단계 c)는 제1 고주파 전극이 활성화된 상태에서 제1 고주파 전극을 표적 해부학적 구조물을 따라 이동시키도록 힘을 인가하는 단계를 더 포함한다.
일부 예에서, 단계 b)는 클램프를 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하도록 클램프 액추에이터를 조작하는 단계를 포함한다.
의료 시술들에 사용하기 위한 열상 시스템들이 또한 개시된다. 일부 태양에 따르면, 의료 시술들에 사용하기 위한 열상 시스템은 고주파 발생기 및 열상 장치를 포함한다. 열상 장치는 근위 부분 및 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트를 포함한다. 클램프가 샤프트의 원위 부분으로부터 연장된다. 클램프는 적어도 제1 클램프 아암 및 제2 클램프 아암을 갖는다. 클램프는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동가능하다. 개방 위치에서, 제1 클램프 아암은 제2 클램프 아암으로부터 이격된다. 폐쇄 위치에서, 제1 클램프 아암은 개방 위치에 대해 제2 클램프 아암을 향해 이동된다. 클램프 액추에이터는 샤프트를 통해 클램프에 연결되고, 클램프를 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동시키도록 조작가능하다. 적어도 제1 고주파 전극이 제1 클램프 아암과 연관된다. 제1 고주파 전극은 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때 제2 클램프 아암에 대면하도록 위치되는 제1 천공 표면을 갖는다. 전기 커넥터가 제1 고주파 전극을 고주파 발생기에 연결한다.
일부 예에서, 제1 천공 표면은 제1 클램프 아암으로부터 이격되고, 제1 고주파 전극은 제1 천공 표면의 근위에 있고 그에 대해 횡방향이며 제1 천공 표면으로부터 제1 클램프 아암을 향해 연장되는 제1 열상 표면을 더 포함한다.
일부 예에서, 열상 시스템은 제2 클램프 아암과 연관되고 고주파 발생기에 전기적으로 연결되는 제2 고주파 전극을 더 포함한다. 제2 고주파 전극은 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때 제1 천공 표면에 대면하도록 위치되는 제2 천공 표면을 가질 수 있다.
일부 예에서, 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때, 제1 천공 표면 및 제2 천공 표면은 접촉한다.
일부 예에서, 제1 클램프 아암 및 제2 클램프 아암 각각은 샤프트에 고정되는 내측 단부 부분 및 내측 단부 부분의 반대편에 있는 외측 단부 부분을 각각 갖는다. 제1 열상 전극은 제1 클램프 아암의 외측 단부 부분과 연관될 수 있다. 대안적으로, 제1 열상 전극은 제1 클램프 아암의 내측 단부 부분 및 외측 단부 부분을 따라 연장될 수 있다.
일부 예에서, 클램프의 적어도 일부분은 방사선 불투과성이다.
첨부 도면은 본 발명의 물품들, 방법들 및 기기들의 예들을 예시하기 위한 것이며 제한하려는 의도는 아니다. 도면에서:
도 1은 예시적인 열상 시스템의 사시도이다.
도 2a는 개방 위치에 있는 클램프를 도시하는, 도 1의 열상 시스템의 열상 장치의 측면도이다.
도 2b는 도 2a의 원으로 둘러싸인 영역의 확대 단면도이다.
도 3은 폐쇄 위치에 있는 클램프를 도시하는, 도 1의 열상 시스템의 열상 장치의 측면도이다.
도 4는 폐쇄 위치에 있는 클램프를 도시하는, 도 2a 내지 도 3의 열상 장치의 클램프 아암들의 부분 측면도이다.
도 5는 도 4의 클램프 아암들을 통해 취해진 단면도이다.
도 6은 열상을 생성하기 위한 방법의 제1 단계를 도시하는 개략도이다.
도 7은 도 6의 방법의 후속 단계를 도시하는 개략도이다.
도 8은 도 7의 방법의 후속 단계를 도시하는 개략도이다.
도 9는 도 8의 방법의 후속 단계를 도시하는 개략도이다.
청구된 주제의 일 실시예의 일례를 제공하기 위해 다양한 기기들 또는 공정들 또는 조성물들이 후술될 것이다. 후술되는 예는 어떠한 청구항도 제한하지 않으며, 임의의 청구항은 후술되는 것과는 상이한 공정들 또는 기기들 또는 조성물들을 커버할 수 있다. 청구범위는 후술되는 임의의 하나의 기기 또는 공정 또는 조성물의 모든 특징부들 또는 후술되는 다수의 기기들 또는 공정들 또는 조성물들 또는 이들 모두에 공통인 특징부들을 갖는 기기들 또는 공정들 또는 조성물들로 제한되지 않는다. 후술되는 기기들 또는 공정들 또는 조성물들은 본 특허 출원의 발행에 의해 부여된 임의의 배타적인 권리의 일 실시예가 아니라는 것이 가능하다. 후술되는 그리고 본 특허 출원의 발행에 의해 배타적인 권리가 부여되지 않는 임의의 주제는 또 다른 보호 수단, 예를 들어, 계속 특허 출원의 주제일 수 있고, 본 출원인들, 발명자들 또는 소유권자들은 본 명세서에서의 그의 개시내용에 의한 임의의 그러한 주제를 대중에게 버리거나, 포기하거나, 또는 제공할 의도가 없다.
표적 해부학적 구조물에 열상이 만들어지는 의료 시술에 사용될 수 있는 장치, 및 관련 시스템 및 방법이 본 명세서에 전반적으로 개시된다. 그러한 의료 시술은 연조직의 열상을 수반할 수 있는 경정맥(transvenous) 구조적 심장 시술을 포함할 수 있다. 그러한 연조직은 예를 들어 판막 판엽(valve leaflet) 또는 심방 중격(atrial septum)을 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 장치는 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하고, 표적 해부학적 구조물을 천공하며, 표적 해부학적 구조물에 열상을 만들 수 있다.
이제 도 1을 참조하면, 예시적인 열상 시스템(100)이 도시되어 있다. 시스템(100)은 고주파(RF) 발생기(102)의 형태의 전원뿐만 아니라 열상 장치(104)를 포함한다. 열상 장치(104)는 열상 장치(104)의 (후술되는) 전극들에 RF 에너지를 공급하기 위해 RF 발생기(102)에 전기적으로 연결가능하다. 도 1에 도시된 바와 같은 시스템(100)은 단극 모드(monopolar mode)에서의 작동을 위해 설계되지만, 대안적인 예들에서, 시스템은 양극 모드(bipolar mode)에서 작동할 수 있다. 시스템이 단극 모드에서 작동하는 예들에서, 시스템은 또한 RF 발생기에 연결되는 하나 이상의 접지 패드(도시되지 않음)를 포함할 수 있다.
여전히 도 1을 참조하면, 도시된 예에서, 열상 장치(104)는 근위 단부(110)를 한정하는 근위 부분(108) 및 원위 단부(114)를 한정하는 원위 부분(112)을 갖는 세장형 샤프트(106)를 포함한다. 샤프트는 선택적으로 고정되거나 조향가능할 수 있다. 손잡이(116)가 샤프트(106)의 근위 단부(110)에 연결된다. 손잡이(116)는 선택적으로, 예컨대 발생기로부터의 RF 에너지의 전달을 제어하기 위한 또는 (후술되는) 장치의 클램프를 조작하기 위한, 다양한 제어부를 포함할 수 있다. 샤프트(106)는 다양한 구성의 것일 수 있다. 예를 들어, 샤프트(106)는 다양한 다른 구성요소(예컨대, 장치의 전기 와이어 및 기계적 구성요소)를 수용하는 플라스틱 튜브의 형태일 수 있다.
이제 도 2a, 도 2b, 및 도 3을 참조하면, 클램프(118)가 샤프트(106)의 원위 부분(112)으로부터 연장된다. 클램프(118)는 제1 클램프 아암(120) 및 제2 클램프 아암(122)을 갖는다. 제1 클램프 아암(120)은 샤프트(106)에 고정되는 내측 단부 부분(124) 및 내측 단부 부분(124)의 반대편에 있는 외측 단부 부분(126)을 갖는다. 유사하게, 제2 클램프 아암(122)은 샤프트(106)에 고정되는 내측 단부 부분(128) 및 내측 단부 부분(128)의 반대편에 있는 외측 단부 부분(130)을 갖는다. 클램프(118)는 도 2a 및 도 2b에 도시된 개방 위치와 도 3에 도시된 폐쇄 위치 사이에서 이동가능하다. 개방 위치에서, 제1 클램프 아암(120)은 제2 클램프 아암(122)으로부터 이격된다. 개방 위치에 대해 폐쇄 위치에서, 제1 클램프 아암(120)은 제2 클램프 아암(122)을 향해 이동된다. 보다 구체적으로, 개방 위치에서, 클램프 아암(120, 122)들의 외측 단부 부분(126, 130)들은 이격되고, 폐쇄 위치에서, 클램프 아암(120, 122)들의 외측 단부 부분(126, 130)들은 서로를 향해 이동된다.
개방 위치는 도 2a 및 도 2b에 도시된 것 이외의 각도들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 클램프가 개방 위치에 있을 때, 클램프 아암들은 180도만큼 이격될 수 있다.
여전히 도 2a, 도 2b 및 도 3을 참조하면, 도시된 예에서, 열상 장치(104)는 손잡이(116) 상에 있고 샤프트(106)를 통해 클램프(118)에 연결되는 클램프 액추에이터를 포함한다. 클램프 액추에이터는 클램프(118)를 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동시키도록 조작될 수 있다. 보다 구체적으로, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 도시된 예에서, 클램프 액추에이터는 슬라이드(132)의 형태이고, 슬라이드는 제1 클램프 아암(120)과 슬라이드(132) 사이에서 샤프트(106)를 통해 연장되는 풀 와이어(pull wire)(134)를 경유해 제1 클램프 아암(120)의 내측 단부 부분(124)에 연결된다. 제1 클램프 아암은 피벗 핀(136)을 중심으로 피벗가능하고, 제2 클램프 아암(122)은 정지되어 있다. 슬라이드(132)를 근위방향으로 활주시킴으로써, 제1 클램프 아암(120)의 내측 단부 부분(124)은 근위방향으로 당겨져서, 제1 클램프 아암(120)이 피벗 핀(136)을 중심으로 폐쇄 위치로 피벗하게 한다. 슬라이드(132)를 원위방향으로 활주시킴으로써, 제1 클램프 아암(120)의 내측 단부 부분(124)은 원위방향으로 밀리게 되어서, 제1 클램프 아암(120)이 피벗 핀(136)을 중심으로 개방 위치로 다시 피벗하게 한다. 선택적으로, 폐쇄 위치 또는 개방 위치에서 클램프(118)를 편의시키기 위해 스프링 또는 다른 편의 부재(biasing member)(도시되지 않음)가 제공될 수 있다.
대안적인 예에서, 제1 클램프 아암 및 제2 클램프 아암 둘 모두가 이동가능할 수 있거나, 제2 클램프 아암은 이동가능할 수 있으면서 제1 클램프 아암은 정지되어 있을 수 있다.
이제 도 4 및 도 5를 참조하면, 도시된 예에서, 각각의 클램프 아암(120, 122)에는 고주파 전극이 제공된다 - 즉, 제1 고주파 전극(138)이 제1 클램프 아암(120)의 외측 단부 부분(126)과 연관되고, 제2 고주파 전극(140)은 제2 클램프 아암(122)의 외측 단부 부분(130)과 연관된다 -. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "~와 연관된"은 제1 참조 부품(즉, 이 경우에, 각각 고주파 전극(138, 140)들) 및 제2 참조 부품(즉, 이 경우에, 각각 클램프 아암(120, 122)들)이 제1 참조 부품이 제2 참조 부품과 함께 이동하도록 구성된다는 것을 의미한다. 예를 들어, 제1 참조 부품은 제2 참조 부품에 장착되고/되거나, 그로부터 연장되고/되거나, 그에 부착되고/되거나, 그 내부에 내장되고/되거나, 그의 일부이고/이거나, 그에 의해 형성되고/되거나, 그와 일체형일 수 있다. 제1 전기 커넥터(142)(예컨대, 제1 절연 와이어)가 손잡이(116)(도 4 및 도 5에 도시되지 않음)를 통한 RF 발생기(120)(도 4 및 도 5에 도시되지 않음)에의 연결을 위해 제1 고주파 전극(138)으로부터 제1 클램프 아암(120) 및 샤프트(106)(도 4 및 도 5에 도시되지 않음)를 통해 근위방향으로 연장되고, 제2 전기 커넥터(144)(예컨대, 제2 절연 와이어)가 손잡이(116)를 통한 RF 발생기(102)에의 연결을 위해 제2 고주파 전극(140)으로부터 제2 클램프 아암(122) 및 샤프트(106)를 통해 근위방향으로 연장된다. RF 발생기(102)로부터 RF 전극(138, 140)들로의 RF 에너지의 공급은 RF 전극(138, 140)들이 조직을 절단하게 한다(즉, 이하에서 설명되는 바와 같이 천공하게 하거나 그에 열상을 만들게 한다).
대안적인 예에서, 제1 및 제2 고주파 전극들은 배선을 공유할 수 있고 동시에 활성화될 수 있다.
도 4 및 도 5를 여전히 참조하면, 도시된 예에서, 각각의 고주파 전극(138, 140)은 한 쌍의 절단 표면을 갖는다. 즉, 제1 고주파 전극(138)은 천공 표면(146)(본 명세서에서 '제1 천공 표면'으로도 지칭됨) 및 열상 표면(148)(본 명세서에서 '제1 열상 표면'으로도 지칭됨)을 갖는다. 제1 천공 표면(146)은 클램프(118)가 폐쇄 위치에 있을 때 제2 클램프 아암(122)과 대면하도록 위치되고, 제1 클램프 아암(120)으로부터 이격된다. 제1 열상 표면(148)은 제1 천공 표면(146)의 근위에 있고 그에 대해 횡방향이며, 제1 천공 표면(146)으로부터 제1 클램프 아암(120)을 향해 뒤로 연장된다. 제2 고주파 전극(140)은 또한, 제1 천공 표면(146) 및 제1 열상 표면(148)과 유사하게 구성된, 천공 표면(150)(본 명세서에서 '제2 천공 표면'으로도 지칭됨) 및 열상 표면(152)(본 명세서에서 '제2 열상 표면'으로도 지칭됨)을 갖는다. 도시된 예에서, 클램프(118)가 폐쇄 위치에 있을 때, 제1 천공 표면(146) 및 제2 천공 표면(150)은 서로 대면하고 접촉한다.
도시된 예에서, 고주파 전극(138, 140)들은 클램프 아암(120, 122)들에 비해 길이가 상대적으로 짧고, 클램프 아암(120, 122)들의 외측 단부 부분(126, 130)들과 연관된다. 대안적인 예(도시되지 않음)에서, 고주파 전극들은 상대적으로 길어서, 이들은 각각 제1 및 제2 클램프 아암들의 내측 단부 부분 및 외측 단부 부분 둘 모두를 따라 연장된다.
선택적으로, 클램프의 적어도 일부분은 방사선 불투과성일 수 있다. 예를 들어, 클램프 아암은 고주파 전극들에 근접한 방사선 불투과성 마커(도시되지 않음)를 포함할 수 있거나, 클램프 아암은 형광투시법 하에 클램프 아암을 관찰하기 위해 방사선 불투과성 재료로 구성될 수 있다.
도시된 예에서, 클램프 아암은 대체로 직선형이다. 대안적인 예(도시되지 않음)에서, 클램프 아암은 곡선형이거나 굴곡될 수 있다.
열상 장치의 대안적인 예(도시되지 않음)에서, 클램프는 단일 고주파 전극만을 포함할 수 있다. 즉, 제1 클램프 아암은 고주파 전극을 포함할 수 있고, 제2 클램프 아암은 전기적으로 중성일 수 있다.
선택적으로, 클램프 및/또는 카테터는 유체(예컨대, 주변으로부터 전극을 전기적으로 절연시키기 위한 덱스트로스 또는 다른 비이온성 유체)를 주입하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 클램프 및/또는 카테터는 유체의 주입을 허용하기 위해 손잡이까지 연장되는 루멘(lumen)을 포함할 수 있다.
이제 도 6 내지 도 9를 참조하면, 사용 시, 열상 장치(104)는 표적 해부학적 구조물(600)에 열상을 만들기 위해 사용될 수 있다. 간결성을 위해, 천공 표면(146, 148)들 및 열상 표면(150, 152)들은 도 6에서만 라벨링되어 있고 도 7 내지 도 9에서는 라벨링되어 있지 않다. 먼저 도 6을 참조하면, 열상 장치(104)는 표적 해부학적 구조물(600)을 향해 전진될(예컨대, 시스(sheath)를 통해 정맥 내로 전진될) 수 있고, 클램프(118)가 개방 위치에 있는 상태에서, 클램프(118)는 표적 해부학적 구조물(600)이 클램프 아암(120, 122)들 사이에 있도록 위치될 수 있다. 도 7을 참조하면, 클램프(118)는 슬라이드(132)(도 6 내지 도 9에 도시되지 않음)를 조작함으로써 폐쇄 위치를 향해 이동되어, 클램프(118)는 표적 해부학적 구조물(600) 상으로 클램핑될 수 있다. 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하는 것은 고주파 전극(138, 140)들, 보다 구체적으로는, 각자의 천공 표면(146, 150)들을 표적 해부학적 구조물(600)의 반대편의 제1 표면(602) 및 제2 표면(604)에 맞닿아 위치시킨다. 도 8을 참조하면, 고주파 전극(138, 140)들이 이어서 (즉, 도 6 내지 도 9에 도시되지 않은 RF 발생기(102)로부터의 RF 에너지를 공급함으로써) 활성화될 수 있는데, 이는 고주파 전극(138, 140)들의 각자의 천공 표면(146, 150)들이 표적 해부학적 구조물(600)을 절단하고 천공하게 한다. 고주파 전극(138, 140)들이 표적 해부학적 구조물(600)을 천공하였을 때 - 즉, 천공 표면(146, 150)들이 서로 접촉한 때 -, 고주파 전극(138, 140)들이 여전히 활성화된 상태에서, 표적 해부학적 구조물(600)을 따라 열상 장치(104)를 이동시키도록 힘이 인가될 수 있다. 예를 들어, 열상 장치(104)는 손잡이(116)(도 6 내지 도 9에 도시되지 않음)를 사용하여 당겨질 수 있다. 도 9를 참조하면, 힘의 인가는 열상 표면(148, 152)들이 표적 해부학적 구조물(600)을 절단하고 이에 열상을 만들게 한다.
열상이 완성된 후, 고주파 전극(138, 140)들은 (예컨대, RF 발생기(102)를 끄는 것에 의해) 비활성화될 수 있다. 표적 해부학적 구조물(600)에 열상이 만들어져 표적 해부학적 구조물(600)이 2개의 섹션(도시되지 않음)으로 벌어지는 경우, 클램프(118)는 폐쇄 위치에서 유지될 수 있고 열상 장치(104)는 환자의 신체로부터 인출될 수 있다. 대안적으로, 표적 해부학적 구조물(600)이 2개의 섹션으로 벌어지지 않는 경우, 클램프(118)는 클램프를 표적 해부학적 구조물(600)로부터 해제시키기 위해 개방 위치로 이동되고, 이어서 표적 해부학적 구조물(600)로부터 멀리 이동되며, 이어서 폐쇄 위치로 다시 이동되어서, 열상 장치(104)가 이어서 환자의 신체로부터 인출될 수 있도록 한다. 대안적으로, 클램프가 클램프 아암들이 180도만큼 또는 180도에 가깝게 이격되는 개방 위치로 이동될 수 있는 경우, 열상 장치는 클램프가 개방 위치에 있는 동안 인출될 수 있다.
상기 설명은 하나 이상의 공정 또는 기기 또는 조성물의 예들을 제공하지만, 다른 공정들 또는 기기들 또는 조성물들이 첨부된 청구범위의 범주 내에 있을 수 있음을 이해할 것이다.
이전이든 아니든, 임의의 기술과 관련하여 (임의의 부모, 형제자매, 또는 자식을 포함한, 본 특허 출원 또는 임의의 관련 특허 출원들 또는 특허들에서) 이전에 이루어진 임의의 보정들, 특성화들, 또는 기타 주장들이 본 출원의 본 개시내용에 의해 지원되는 임의의 주제의 포기로서 해석될 수 있는 한, 본 출원인은 이로써 그러한 포기를 폐지하고 철회한다. 본 출원인은 또한, 임의의 부모, 형제자매, 또는 자식을 포함한, 임의의 관련 특허 출원들 또는 특허들에서 이전에 고려된 임의의 종래 기술이 재방문될 필요가 있을 수 있다는 것을 정중하게 제출한다.

Claims (19)

  1. 의료 시술들에 사용하기 위한 열상 장치(laceration device)로서,
    근위 부분 및 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트;
    상기 샤프트의 상기 원위 부분으로부터 연장되는 클램프(clamp)로서, 상기 클램프는 적어도 제1 클램프 아암(arm) 및 제2 클램프 아암을 갖고, 상기 클램프는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동가능하며, 상기 개방 위치에서 상기 제1 클램프 아암은 상기 제2 클램프 아암으로부터 이격되고, 상기 폐쇄 위치에서 상기 제1 클램프 아암은 상기 개방 위치에 대해 상기 제2 클램프 아암을 향해 이동되는, 상기 클램프;
    상기 샤프트를 통해 상기 클램프에 연결되고, 상기 클램프를 상기 개방 위치와 상기 폐쇄 위치 사이에서 이동시키도록 조작가능한 클램프 액추에이터;
    상기 제1 클램프 아암과 연관된 적어도 제1 고주파 전극으로서, 상기 클램프가 상기 폐쇄 위치에 있을 때 상기 제2 클램프 아암에 대면하도록 위치되는 제1 천공 표면을 갖는, 상기 제1 고주파 전극; 및
    전원에의 연결을 위해 상기 제1 고주파 전극으로부터 근위방향으로 연장되는 전기 커넥터
    를 포함하는, 열상 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 천공 표면은 상기 클램프 아암으로부터 이격되고, 상기 제1 고주파 전극은 상기 제1 천공 표면의 근위에 있고 그에 대해 횡방향이며 상기 제1 천공 표면으로부터 상기 제1 클램프 아암을 향해 연장되는 제1 열상 표면을 더 포함하는, 열상 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2 클램프 아암과 연관된 제2 고주파 전극을 더 포함하고, 상기 제2 고주파 전극은 상기 클램프가 상기 폐쇄 위치에 있을 때 상기 제1 천공 표면에 대면하도록 위치되는 제2 천공 표면을 갖는, 열상 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 클램프가 상기 폐쇄 위치에 있을 때, 상기 제1 천공 표면 및 상기 제2 천공 표면은 접촉하는, 열상 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 클램프 아암 및 상기 제2 클램프 아암 각각은 상기 샤프트에 고정되는 내측 단부 부분 및 상기 내측 단부 부분의 반대편에 있는 외측 단부 부분을 각각 갖고,
    상기 제1 열상 전극은 상기 제1 클램프 아암의 상기 외측 단부 부분과 연관되는, 열상 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 클램프 아암 및 상기 제2 클램프 아암 각각은 상기 샤프트에 고정되는 내측 단부 부분 및 상기 내측 단부 부분의 반대편에 있는 외측 단부 부분을 각각 갖고,
    상기 제1 열상 전극은 상기 제1 클램프 아암의 상기 내측 단부 부분 및 상기 외측 단부 부분을 따라 연장되는, 열상 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 클램프의 적어도 일부분은 방사선 불투과성인, 열상 장치.
  8. 열상을 생성하기 위한 방법으로서,
    a. 열상 장치의 클램프를 표적 해부학적 구조물을 향해 전진시키는 단계;
    b. 단계 a 후에, 상기 클램프를 상기 표적 해부학적 구조물에 고정시키고 상기 클램프의 제1 고주파 전극을 상기 표적 해부학적 구조물의 제1 표면에 맞닿게 위치시키도록 상기 클램프를 상기 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하는 단계; 및
    c. 상기 표적 해부학적 구조물에 열상을 만들기 위해 상기 제1 고주파 전극을 활성화시키는 단계
    를 포함하는, 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 클램프를 상기 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하는 단계는 또한 상기 클램프의 제2 열상 전극을 상기 표적 해부학적 구조물의 제2 표면에 맞닿게 위치시키고, 상기 제2 표면은 상기 제1 표면의 반대편에 있는, 방법.
  10. 제9항에 있어서, 단계 c는 상기 제2 열상 전극을 활성화시키는 단계를 더 포함하는, 방법.
  11. 제9항에 있어서, 단계 c는 상기 제1 고주파 전극이 활성화된 상태에서 상기 제1 고주파 전극을 상기 표적 해부학적 구조물을 따라 이동시키도록 힘을 인가하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  12. 제9항에 있어서, 단계 b는 상기 클램프를 상기 표적 해부학적 구조물 상으로 클램핑하도록 클램프 액추에이터를 조작하는 단계를 포함하는, 방법.
  13. 의료 시술들에 사용하기 위한 열상 시스템으로서,
    고주파 발생기; 및
    열상 장치
    를 포함하고,
    상기 열상 장치는,
    (i) 근위 부분 및 반대편의 원위 부분을 갖는 샤프트; (ii) 상기 샤프트의 상기 원위 부분으로부터 연장되는 클램프로서, 상기 클램프는 적어도 제1 클램프 아암 및 제2 클램프 아암을 갖고, 상기 클램프는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동가능하며, 상기 개방 위치에서 상기 제1 클램프 아암은 상기 제2 클램프 아암으로부터 이격되고, 상기 폐쇄 위치에서 상기 제1 클램프 아암은 상기 개방 위치에 대해 상기 제2 클램프 아암을 향해 이동되는, 상기 클램프; (iii) 상기 샤프트를 통해 상기 클램프에 연결되고, 상기 클램프를 상기 개방 위치와 상기 폐쇄 위치 사이에서 이동시키도록 조작가능한 클램프 액추에이터; (iv) 상기 제1 클램프 아암과 연관된 적어도 제1 고주파 전극으로서, 상기 클램프가 상기 폐쇄 위치에 있을 때 상기 제2 클램프 아암에 대면하도록 위치되는 제1 천공 표면을 갖는, 상기 제1 고주파 전극; (v) 상기 제1 고주파 전극을 상기 고주파 발생기에 연결하는 전기 커넥터
    를 포함하는, 열상 시스템.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제1 천공 표면은 상기 제1 클램프 아암으로부터 이격되고, 상기 제1 고주파 전극은 상기 제1 천공 표면의 근위에 있고 그에 대해 횡방향이며 상기 제1 천공 표면으로부터 상기 제1 클램프 아암을 향해 연장되는 제1 열상 표면을 더 포함하는, 열상 시스템.
  15. 제13항에 있어서, 상기 제2 클램프 아암과 연관되고 상기 고주파 발생기에 전기적으로 연결되는 제2 고주파 전극을 더 포함하고, 상기 제2 고주파 전극은 상기 클램프가 상기 폐쇄 위치에 있을 때 상기 제1 천공 표면에 대면하도록 위치되는 제2 천공 표면을 갖는, 열상 시스템.
  16. 제13항에 있어서, 상기 클램프가 상기 폐쇄 위치에 있을 때, 상기 제1 천공 표면 및 상기 제2 천공 표면은 접촉하는, 열상 시스템.
  17. 제13항에 있어서,
    상기 제1 클램프 아암 및 상기 제2 클램프 아암 각각은 상기 샤프트에 고정되는 내측 단부 부분 및 상기 내측 단부 부분의 반대편에 있는 외측 단부 부분을 각각 갖고,
    상기 제1 열상 전극은 상기 제1 클램프 아암의 상기 외측 단부 부분과 연관되는, 열상 시스템.
  18. 제13항에 있어서,
    상기 제1 클램프 아암 및 상기 제2 클램프 아암 각각은 상기 샤프트에 고정되는 내측 단부 부분 및 상기 내측 단부 부분의 반대편에 있는 외측 단부 부분을 각각 갖고,
    상기 제1 열상 전극은 상기 제1 클램프 아암의 상기 내측 단부 부분 및 상기 외측 단부 부분을 따라 연장되는, 열상 시스템.
  19. 제13항에 있어서, 상기 클램프의 적어도 일부분은 방사선 불투과성인, 열상 시스템.
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