KR20220165793A - The deposition mask intermediate, and the manufacturing method of the deposition mask and deposition mask - Google Patents
The deposition mask intermediate, and the manufacturing method of the deposition mask and deposition mask Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220165793A KR20220165793A KR1020227041353A KR20227041353A KR20220165793A KR 20220165793 A KR20220165793 A KR 20220165793A KR 1020227041353 A KR1020227041353 A KR 1020227041353A KR 20227041353 A KR20227041353 A KR 20227041353A KR 20220165793 A KR20220165793 A KR 20220165793A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- deposition mask
- band
- mask
- edge
- shaped portion
- Prior art date
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 200
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 23
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 85
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 65
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 46
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
Abstract
띠상부와, 띠상부를 둘러싸는 프레임상부를 구비한다. 띠상부는, 복수의 마스크공이 형성된 마스크부와, 마스크부를 둘러싸는 주변부를 구비한다. 주변부, 및 프레임상부는, 제 1 판두께를 갖는다. 띠상부의 가장자리가, 제 1 가장자리와 제 2 가장자리를 포함한다. 제 1 가장자리는, 띠상부의 폭 방향에 있어서 마스크부에 대향하는 부분을 포함한다. 제 1 가장자리와 프레임상부 사이에는, 제 1 가장자리를 프레임상부로부터 분리하는 분리부가 위치한다. 제 2 가장자리와 프레임상부 사이에는, 제 1 판두께보다 얇은 제 2 판두께를 가진 선상의 하프 에칭부가 위치하고 있다.It has a belt top portion and a frame top portion surrounding the strip top portion. The band-shaped portion includes a mask portion in which a plurality of mask holes are formed, and a peripheral portion surrounding the mask portion. The peripheral portion and the frame top portion have a first plate thickness. The edge of the band top includes a first edge and a second edge. The first edge includes a portion facing the mask portion in the width direction of the band-shaped portion. Between the first edge and the frame top, there is a separator separating the first edge from the frame top. Between the second edge and the top of the frame, a linear half-etched portion having a second plate thickness smaller than the first plate thickness is positioned.
Description
본 발명은, 증착 마스크 중간체, 증착 마스크, 및 증착 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition mask intermediate, a deposition mask, and a method for manufacturing the deposition mask.
롤 투 롤 방식을 사용한 증착 마스크의 제조에서는, 권출 롤에서 권취 롤을 향하여 금속 시트가 반송되고 있는 동안에, 금속 시트에 대하여 에칭 등의 각종 처리가 실시된다. 증착 마스크의 제조 과정에 있어서, 금속 시트로 증착 마스크 중간체가 형성된다. 증착 마스크 중간체는, 예를 들어, 증착 마스크를 형성하기 위한 띠상부와, 띠상부를 둘러싸는 프레임상부를 구비하고 있다. 띠상부의 가장자리는, 금속 시트의 반송 방향을 따라 연장되는 장변과, 금속 시트의 폭 방향을 따라 연장되는 단변을 포함한다. 장변이 프레임상부로부터 절단되어 있고, 즉 분리되어 있는 한편으로, 단변은 프레임상부에 대하여 절취선에 의해 접속되어 있다. 절취선의 절단에 의해 띠상부가 프레임상부로부터 절단됨으로써, 띠상부로 증착 마스크가 형성된다 (예를 들어, 특허문헌 1 을 참조).In manufacture of a vapor deposition mask using a roll-to-roll method, while the metal sheet is conveyed from the unwinding roll toward the winding roll, various treatments such as etching are performed on the metal sheet. In the process of manufacturing a deposition mask, a deposition mask intermediate is formed from a metal sheet. The deposition mask intermediate body includes, for example, a band-shaped portion for forming the deposition mask and a frame upper portion surrounding the band-shaped portion. The edge of the band-shaped portion includes a long side extending along the conveying direction of the metal sheet and a short side extending along the width direction of the metal sheet. The long side is cut off from the frame top, that is, separate, while the short side is connected to the frame top by a perforated line. By cutting the band-shaped portion from the frame upper portion by cutting the perforated line, a deposition mask is formed with the band-shaped portion (see
그런데, 띠상부를 프레임상부로부터 절단하는 공정에 있어서, 증착 마스크 중간체에는, 띠상부와 프레임상부의 경계에, 절단용의 외력이 부여된다. 띠상부가 변형되는 것을 억제하는 관점에서는, 띠상부와 프레임상부의 경계에 부여되는 외력은 충분히 작은 것이 바람직하다. 한편으로, 띠상부로부터 프레임상부를 절단하기 위해 필요한 외력이 지나치게 작으면, 증착 마스크 중간체의 반송시에 띠상부에 작용한 외력에 의해, 띠상부가 프레임상부로부터 절단되어 버린다. 그래서, 증착 마스크 중간체에는, 증착 마스크 중간체의 반송시에는, 띠상부와 프레임상부의 접속을 확보하고, 또한 띠상부로부터 증착 마스크를 얻을 때에는, 띠상부의 절단, 즉 프레임상부로부터 띠상부를 잘라버리는 것이 용이할 것이 요구되고 있다.Incidentally, in the step of cutting the band-shaped portion from the frame top, an external force for cutting is applied to the intermediate body of the deposition mask at the boundary between the band-shaped portion and the frame top. From the viewpoint of suppressing deformation of the band-shaped portion, it is preferable that the external force applied to the boundary between the band-shaped portion and the frame upper portion is sufficiently small. On the other hand, if the external force required for cutting the frame upper portion from the band portion is too small, the strip portion is cut from the frame upper portion by the external force acting on the band portion during transport of the deposition mask intermediate body. Therefore, in the deposition mask intermediate, when the deposition mask intermediate is transported, the connection between the band-shaped portion and the frame top is ensured, and when the deposition mask is obtained from the band-shaped portion, the band-shaped portion is cut, that is, the band-shaped portion is cut off from the frame top. It is requested that it be easy.
본 발명은, 증착 마스크 중간체의 반송시에 있어서, 띠상부와 프레임상부의 접속을 확보하고, 또한 증착 마스크의 제조시에 있어서, 띠상부의 절단이 용이한 것을 가능하게 한 증착 마스크 중간체, 증착 마스크, 및 증착 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is a deposition mask intermediate and a deposition mask which ensure the connection between the band-shaped portion and the frame top during transport of the deposition mask intermediate, and enable easy cutting of the band-shaped portion during production of the deposition mask. , and a method for manufacturing a deposition mask.
상기 과제를 해결하기 위한 증착 마스크 중간체는, 띠상부와, 상기 띠상부를 둘러싸는 프레임상부를 구비한다. 상기 띠상부는, 복수의 마스크공이 형성된 마스크부와, 상기 마스크부를 둘러싸는 주변부를 구비한다. 상기 주변부, 및 상기 프레임상부는, 제 1 판두께를 갖는다. 상기 띠상부의 가장자리가, 제 1 가장자리와 제 2 가장자리를 포함하고, 상기 제 1 가장자리는, 상기 띠상부의 폭 방향에 있어서 상기 마스크부에 대향하는 부분을 포함하고, 상기 제 1 가장자리와 상기 프레임상부 사이에는, 상기 제 1 가장자리를 상기 프레임상부로부터 분리하는 분리부가 위치하고, 상기 제 2 가장자리와 상기 프레임상부 사이에는, 상기 제 1 판두께보다 얇은 제 2 판두께를 가진 선상의 하프 에칭부가 위치하고 있다.A deposition mask intermediate body for solving the above problems includes a band-shaped portion and a frame upper portion surrounding the band-shaped portion. The band-shaped portion includes a mask portion in which a plurality of mask holes are formed, and a peripheral portion surrounding the mask portion. The peripheral portion and the frame upper portion have a first plate thickness. An edge of the band-shaped portion includes a first edge and a second edge, the first edge includes a portion facing the mask portion in a width direction of the band-shaped portion, and the first edge and the frame Between the upper portion, a separating portion separating the first edge from the upper frame is located, and between the second edge and the upper frame, a linear half-etched portion having a second plate thickness thinner than the first plate thickness is located. .
상기 과제를 해결하기 위한 증착 마스크는, 복수의 마스크공이 형성된 마스크부와, 상기 마스크부를 둘러싸는 주변부와, 띠상을 가진 가장자리를 구비하는 증착 마스크이다. 상기 가장자리가, 제 1 가장자리와 제 2 가장자리를 포함하고, 상기 제 1 가장자리는, 상기 증착 마스크의 폭 방향에 있어서 상기 마스크부에 대향하는 부분을 포함한다. 증착 마스크는, 상기 제 2 가장자리에 위치하는 절단흔을 추가로 구비한다.A deposition mask for solving the above problems is a deposition mask having a mask portion in which a plurality of mask holes are formed, a peripheral portion surrounding the mask portion, and an edge having a band shape. The edge includes a first edge and a second edge, and the first edge includes a portion facing the mask portion in a width direction of the deposition mask. The deposition mask further includes a cut mark positioned at the second edge.
상기 과제를 해결하기 위한 증착 마스크의 제조 방법은, 금속 시트를 포함하는 마스크 기재에 띠상부와 프레임상부를 형성하는 것과, 상기 프레임상부로부터 상기 띠상부를 절단하여, 상기 띠상부로 증착 마스크를 형성하는 것을 포함한다. 상기 띠상부와 상기 프레임상부를 형성하는 것은, 상기 띠상부와, 상기 띠상부를 둘러싸는 프레임상부를 구비하고, 상기 띠상부는, 복수의 마스크공이 형성된 마스크부와, 상기 마스크부를 둘러싸는 주변부를 구비하고, 상기 주변부, 및 상기 프레임상부는, 제 1 판두께를 갖고, 상기 띠상부의 가장자리가, 제 1 가장자리와 제 2 가장자리를 포함하고, 상기 제 1 가장자리는, 상기 띠상부의 폭 방향에 있어서 상기 마스크부에 대향하는 부분을 포함하고, 상기 제 1 가장자리와 상기 프레임상부 사이에, 상기 제 1 가장자리를 상기 프레임상부로부터 분리하는 분리부가 위치하고, 상기 제 2 가장자리와 상기 프레임상부 사이에, 상기 제 1 판두께보다 얇은 제 2 판두께를 가진 선상의 하프 에칭부가 위치하도록, 상기 띠상부와 상기 프레임상부를 형성한다.A method for manufacturing a deposition mask to solve the above problems includes forming a band-shaped portion and an upper frame portion on a mask substrate including a metal sheet, cutting the band-shaped portion from the upper frame portion, and forming a deposition mask with the band-shaped portion. includes doing Forming the band-shaped portion and the frame upper portion includes the band-shaped portion and a frame upper portion surrounding the band-shaped portion, wherein the band-shaped portion includes a mask portion in which a plurality of mask holes are formed, and a peripheral portion surrounding the mask portion. The peripheral portion and the frame upper portion have a first plate thickness, an edge of the band-shaped portion includes a first edge and a second edge, and the first edge is in a width direction of the band-shaped portion. includes a portion facing the mask portion, a separation portion separating the first edge from the upper frame is located between the first edge and the upper frame, and between the second edge and the upper frame, The band-shaped portion and the frame upper portion are formed so that the linear half-etched portions having a second thickness smaller than the first thickness are located.
상기 증착 마스크 중간체, 증착 마스크, 및 증착 마스크의 제조 방법에 의하면, 띠상부가 프레임상부에 대하여 절취선에 의해 접속되는 경우에 비해, 띠상부와 프레임상부의 접속 부분의 전체에 있어서, 당해 접속 부분의 두께를 얇게 하는 것이 가능하다. 그 때문에, 절취선에 있어서의 관통부 사이를 절단하는 경우에 비해, 띠상부와 프레임상부의 접속 부분을 보다 작은 힘으로 절단하는 것이 가능하다. 그러므로, 증착 마스크의 제조시에 있어서, 프레임상부로부터 띠상부를 잘라버리는 것이 용이하다. 한편으로, 증착 마스크 중간체의 반송시에 있어서, 띠상부와 프레임상부의 접속은, 띠상부의 가장자리에 있어서의 제 2 가장자리를 프레임상부로부터 구분하는 선상의 하프 에칭부에 의해 확보된다.According to the deposition mask intermediate body, the deposition mask, and the method for manufacturing the deposition mask, compared to the case where the band-shaped portion is connected to the frame upper portion by a perforated line, in the entire connection portion between the strip-shaped portion and the frame top, the connection portion It is possible to make the thickness thinner. Therefore, it is possible to cut the connecting portion between the band-shaped portion and the frame upper portion with a smaller force than in the case of cutting between the penetrating portions in the perforated line. Therefore, in manufacturing the deposition mask, it is easy to cut the band-shaped portion from the frame upper portion. On the other hand, when conveying the deposition mask intermediate body, the connection between the band-shaped portion and the frame top is ensured by a linear half-etched portion separating the second edge at the edge of the band-shaped portion from the frame upper portion.
상기 증착 마스크 중간체에 있어서, 상기 선상의 하프 에칭부는, 상기 선상 하프 에칭부가 연장되는 방향을 따라 나열되는 1 개 이상의 관통부를 갖고, 상기 관통부는, 상기 증착 마스크 중간체의 두께 방향에 있어서 상기 증착 마스크 중간체를 관통해도 된다. 이 증착 마스크 중간체에 의하면, 선상의 하프 에칭부가 관통부를 갖는 분 (分) 만큼, 선상의 하프 에칭부가 연장되는 방향을 따라 당해 하프 에칭부가 절단되기 쉬워진다.In the deposition mask intermediate body, the linear half-etched portion has one or more penetrating portions arranged along a direction in which the linear half-etched portion extends, and the penetrating portion comprises the deposition mask intermediate body in a thickness direction of the deposition mask intermediate body. can penetrate According to this deposition mask intermediate body, the linear half-etched portion is easily cut along the extending direction of the linear half-etched portion as much as the linear half-etched portion has the penetrating portion.
상기 증착 마스크 중간체에 있어서, 상기 띠상부의 상기 가장자리는, 상기 띠상부의 상기 폭 방향을 따라 연장되는 1 쌍의 단변을 포함하고, 각 단변은, 타방의 상기 단변을 향하여 패이는 절결을 갖고, 상기 띠상부의 상기 가장자리 중, 상기 제 1 가장자리 및 상기 절결 이외의 부분의 적어도 일부가 상기 제 2 가장자리이고, 상기 하프 에칭선은, 상기 제 2 가장자리를 따른 형상을 갖고, 상기 절결은, 상기 분리부에 의해 상기 프레임상부로부터 분리되어 있어도 된다.In the deposition mask intermediate body, the edge of the band-shaped portion includes a pair of short sides extending along the width direction of the band-shaped portion, each short side having a cutout extending toward the other short side, Of the edges of the band-shaped portion, at least a part of a portion other than the first edge and the notch is the second edge, the half etching line has a shape along the second edge, and the notch is the separation It may be separated from the upper part of the frame by a portion.
띠상부가 프레임상부로부터 절단됨으로써 띠상부로 형성된 증착 마스크는, 증착 마스크의 사용시에 있어서, 증착 마스크를 지지하는 프레임에 장착된다. 이 때에, 증착 마스크에 주름이 발생하는 것을 억제하기 위해, 증착 마스크의 가장자리에 있어서의 1 쌍의 단변을, 타방의 단변으로부터 떨어지는 방향을 향하여 잡아당기면서, 증착 마스크를 프레임에 장착한다. 띠상부의 가장자리에 있어서의 단변이 갖는 절결에 하프 에칭부의 절단흔이 위치하는 경우에는, 절단흔에서 기인하는 주름이 증착 마스크에 발생해 버린다. 이 점에서, 상기 증착 마스크 중간체에 의하면, 하프 에칭부의 절단흔이 절결에는 위치하지 않기 때문에, 증착 마스크의 사용시에 있어서, 증착 마스크에 주름이 발생하는 것이 억제된다.A deposition mask formed into a band-shaped portion by cutting the band-shaped portion from the upper frame portion is mounted on a frame supporting the deposition mask when the deposition mask is in use. At this time, in order to suppress the occurrence of wrinkles in the deposition mask, the deposition mask is attached to the frame while pulling a pair of short sides at the edge of the deposition mask in a direction away from the other short side. In the case where the cut marks of the half-etched portion are located in the notch of the short side at the edge of the band top, wrinkles resulting from the cut mark are generated in the deposition mask. In this regard, according to the deposition mask intermediate body, since the cut marks of the half-etched portion are not located in the notches, generation of wrinkles in the deposition mask is suppressed when the deposition mask is used.
상기 증착 마스크 중간체에 있어서, 상기 띠상부의 상기 가장자리는, 상기 1 쌍의 단변과 1 쌍의 장변에 의해 구획된 직사각형상을 갖고, 상기 제 2 가장자리는, 상기 단변과 상기 장변에 의해 형성되는 모서리부를 포함하고, 상기 하프 에칭선은, 상기 모서리부를 따른 L 자상을 가진 부분을 포함해도 된다.In the deposition mask intermediate body, the edge of the band-shaped portion has a rectangular shape partitioned by the pair of short sides and the pair of long sides, and the second edge is a corner formed by the short sides and the long sides. portion, and the half etching line may include an L-shaped portion along the corner portion.
상기 증착 마스크 중간체에 의하면, 띠상부의 가장자리에 포함되는 모서리부가 하프 에칭부에 의해 프레임상부에 접속되기 때문에, 증착 마스크 중간체의 반송시에 있어서, 띠상부의 가장자리에 있어서의 모서리부가, 띠상부에 있어서의 다른 부분보다 프레임상부로부터 들뜨는 것이 억제된다. 이로써, 증착 마스크 중간체의 반송시에 있어서, 모서리부가 증착 마스크 중간체의 주위에 설치된 설비 등에 걸림으로써, 띠상부가 변형되는 것이 억제된다.According to the deposition mask intermediate body, since the corner portion included in the edge of the band-shaped portion is connected to the frame upper portion by the half-etching portion, during transport of the deposition mask intermediate body, the corner portion at the edge of the band-shaped portion is attached to the band-shaped portion. Lifting from the top of the frame is suppressed more than other parts of the frame. Thus, when the deposition mask intermediate is transported, deformation of the band-shaped portion due to the corner portion being caught on equipment or the like installed around the deposition mask intermediate is suppressed.
상기 증착 마스크 중간체에 있어서, 상기 프레임상부는, 상기 분리부로부터 상기 프레임상부의 외측 가장자리를 향하여 연장되는 선상을 가진 취약부를 구비하고, 상기 취약부의 기계적인 강도는, 상기 프레임상부에 있어서의 상기 취약부 이외의 부분에 있어서의 기계적인 강도보다 낮아도 된다.In the deposition mask intermediate body, the upper frame portion includes a weak portion having a line shape extending from the separating portion toward an outer edge of the upper frame portion, and the mechanical strength of the weak portion is the weak portion in the upper frame portion. It may be lower than the mechanical strength in other parts.
상기 증착 마스크 중간체에 의하면, 취약부의 기계적인 강도가, 프레임상부에 있어서의 취약부 이외의 부분에 있어서의 기계적인 강도보다 낮기 때문에, 프레임상부가 취약부를 따라 절단되기 쉽다. 게다가, 취약부에 있어서의 일방의 단부가 분리부에 연속되기 때문에, 프레임상부로부터 띠상부를 떼어낼 때에 프레임상부가 형성하는 고리를 절단할 수 있다. 이로써, 하프 에칭부의 절단이 실시하기 쉬워진다.According to the deposition mask intermediate body, since the mechanical strength of the weakened portion is lower than the mechanical strength of portions other than the weak portion in the frame upper portion, the frame upper portion is easily cut along the weakened portion. In addition, since one end of the weakened portion continues to the separating portion, the loop formed by the frame top can be cut when the strip top is removed from the frame top. This makes it easy to cut the half-etched portion.
본 발명에 의하면, 증착 마스크 중간체의 반송시에 있어서, 띠상부와 프레임상부의 접속을 확보하고, 또한 증착 마스크의 제조시에 있어서, 띠상부의 절단이 용이하다.According to the present invention, the connection between the band-shaped portion and the frame top is ensured during transport of the deposition mask intermediate body, and the strip-shaped portion is easily cut during production of the deposition mask.
도 1 은, 일 실시형태에 있어서의 증착 마스크 중간체의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 2 는, 도 1 이 나타내는 증착 마스크 중간체의 구조에 있어서의 제 1 예를 나타내는 부분 평면도이다.
도 3 은, 도 1 이 나타내는 증착 마스크 중간체의 구조에 있어서의 제 2 예를 나타내는 부분 평면도이다.
도 4 는, 도 1 의 IV-IV 선을 따른 구조를 나타내는 단면도이다.
도 5 는, 도 1 의 V-V 선을 따른 구조를 나타내는 단면도이다.
도 6 은, 도 1 이 나타내는 띠상부가 구비하는 마스크공의 구조에 있어서의 제 1 예를 나타내는 단면도이다.
도 7 은, 도 1 이 나타내는 띠상부가 구비하는 마스크공의 구조에 있어서의 제 2 예를 나타내는 단면도이다.
도 8 은, 도 1 이 나타내는 증착 마스크 중간체로 형성된 증착 마스크를 구비하는 마스크 장치의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 9 는, 도 8 의 영역 A 에 있어서의 구조의 제 1 예를 나타내는 평면도이다.
도 10 은, 도 8 의 영역 A 에 있어서의 구조의 제 2 예를 나타내는 평면도이다.
도 11 은, 도 8 이 나타내는 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 플로 차트이다.
도 12 는, 증착 마스크 중간체의 제 1 변경예에 있어서의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 13 은, 상류측 취약부에 있어서의 상류 단부의 구조를 확대하여 나타내는 평면도이다.
도 14 는, 하류측 취약부에 있어서의 하류 단부의 구조를 확대하여 나타내는 평면도이다.
도 15 는, 도 12 가 나타내는 절단선의 제 1 예에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다.
도 16 은, 도 12 가 나타내는 절단선의 제 2 예에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다.
도 17 은, 도 12 가 나타내는 절단선의 제 3 예에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다.
도 18 은, 증착 마스크 중간체의 제 2 변경예에 있어서의 구조를 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing the structure of a deposition mask intermediate body in one embodiment.
FIG. 2 is a partial plan view showing a first example of the structure of the deposition mask intermediate body shown in FIG. 1 .
FIG. 3 is a partial plan view showing a second example of the structure of the deposition mask intermediate body shown in FIG. 1 .
Fig. 4 is a cross-sectional view showing the structure taken along line IV-IV in Fig. 1;
Fig. 5 is a cross-sectional view showing a structure taken along line VV in Fig. 1;
Fig. 6 is a cross-sectional view showing a first example of the structure of a mask hole provided in the band-shaped portion shown in Fig. 1;
Fig. 7 is a cross-sectional view showing a second example of the structure of a mask hole provided in the band-shaped portion shown in Fig. 1;
Fig. 8 is a plan view showing the structure of a mask device having a deposition mask formed of the deposition mask intermediate shown in Fig. 1;
Fig. 9 is a plan view showing a first example of a structure in region A of Fig. 8;
FIG. 10 is a plan view showing a second example of a structure in region A of FIG. 8 .
FIG. 11 is a flow chart for explaining the manufacturing method of the deposition mask shown in FIG. 8 .
Fig. 12 is a plan view showing the structure of the first modified example of the deposition mask intermediate body.
Fig. 13 is an enlarged plan view showing the structure of an upstream end portion in an upstream weakened portion.
Fig. 14 is an enlarged plan view showing the structure of the downstream end of the downstream weakening section.
Fig. 15 is an enlarged plan view of a part of the first example of the cutting line shown in Fig. 12 .
Fig. 16 is an enlarged plan view of a part of the second example of the cutting line shown in Fig. 12 .
Fig. 17 is an enlarged plan view of a part of the third example of the cutting line shown in Fig. 12;
Fig. 18 is a plan view showing the structure of the second modified example of the deposition mask intermediate body.
도 1 내지 도 11 을 참조하여, 증착 마스크 중간체, 증착 마스크, 및 증착 마스크의 제조 방법의 일 실시형태를 설명한다. 이하에서는, 증착 마스크 중간체, 증착 마스크, 및 증착 마스크의 제조 방법을 순서대로 설명한다.1 to 11, an embodiment of a deposition mask intermediate, a deposition mask, and a method for manufacturing the deposition mask will be described. Hereinafter, a deposition mask intermediate, a deposition mask, and a method for manufacturing the deposition mask will be sequentially described.
[증착 마스크 중간체][Deposition mask intermediate]
도 1 내지 도 7 을 참조하여, 증착 마스크 중간체를 설명한다.Referring to Figs. 1 to 7, the deposition mask intermediate body will be described.
도 1 은, 증착 마스크 중간체의 평면 구조의 일부를 나타내고 있다. 도 1 에서는, 도시의 편의상, 절단선이 굵은 선에 의해 도시되고, 하프 에칭선이 도트 (망점) 에 의해 도시되어 있다.1 shows a part of the planar structure of the deposition mask intermediate body. In Fig. 1, for convenience of illustration, cutting lines are shown by thick lines, and half-etched lines are shown by dots (dots).
도 1 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 중간체 (10) 는, 띠상부 (11) 와, 띠상부 (11) 를 둘러싸는 프레임상부 (12) 를 구비하고 있다. 띠상부 (11) 는, 복수의 마스크공 (11H) 이 형성된 마스크부 (11a) 와, 마스크부 (11a) 를 둘러싸는 주변부 (11b) 를 구비하고 있다. 주변부 (11b), 및 프레임상부 (12) 가, 제 1 판두께를 갖는다. 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 는, 제 1 가장자리 (11E1) 와 제 2 가장자리 (11E2) 로 구성된다. 제 1 가장자리 (11E1) 는, 마스크부 (11a) 에 대한 띠상부 (11) 의 폭 방향 (DW) 에 위치하는 부분을 포함한다. 즉, 제 1 가장자리 (11E1) 는, 띠상부 (11) 의 폭 방향 (DW) 에 있어서 마스크부 (11a) 에 대향하는 부분을 포함한다. 제 1 가장자리 (11E1) 와 프레임상부 (12) 는, 절단선 (13) 에 의해 분리되어 있다. 절단선 (13) 은, 분리부의 일례이다. 절단선 (13) 은, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향에 있어서 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통하고 있다. 제 1 가장자리 (11E1) 와 프레임상부 (12) 는, 절단선 (13) 을 개재함으로써 서로 불연속이다. 제 2 가장자리 (11E2) 와 프레임상부 (12) 는, 제 1 판두께보다 얇은 제 2 판두께를 가진 선상의 하프 에칭부 (이하, 하프 에칭선 (14)) 에 의해 구분되어 있다. 하프 에칭선 (14) 은, 띠상부 (11) 의 제 2 가장자리 (11E2) 를 프레임상부 (12) 의 일부에 접속시키고 있다.As shown in FIG. 1 , the deposition mask
또한, 하프 에칭선 (14) 은, 하프 에칭 가공, 즉, 증착 마스크 중간체 (10) 를 형성하기 위한 금속 시트를, 금속 시트의 표면에서 이면을 향하는 도중까지 에칭하는 가공에 의해 형성된 부분을 포함한다. 즉, 하프 에칭선 (14) 은, 제 2 판두께를 가진 부분을 포함하고, 또한 제 2 판두께 이하의 두께를 가진 부분만에 의해 형성된다. 또, 하프 에칭선 (14) 은, 이하에 설명하는 바와 같이, 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향에 있어서, 하프 에칭선 (14) 상에 위치하는 1 개 이상의 관통부를 포함해도 된다. 관통부는, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향에 있어서, 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통한다.Further, the
한편으로, 절단선 (13) 은, 선상을 가진 절단부이다. 절단선 (13) 은, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향에 있어서, 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통하고 있다. 상기 서술한 하프 에칭선 (14) 은, 띠상부 (11) 와 프레임상부 (12) 를 서로 접속시키는 부분을 포함하는 한편으로, 절단선 (13) 은, 띠상부 (11) 와 프레임상부 (12) 를 서로 접속시키는 부분을 포함하고 있지 않다.On the other hand, the cutting
띠상부 (11) 가 프레임상부 (12) 에 대하여 절취선에 의해 접속되는 경우에 비해, 띠상부 (11) 와 프레임상부 (12) 의 접속 부분의 전체에 있어서, 당해 접속 부분의 두께를 얇게 하는 것이 가능하다. 그 때문에, 절취선에 있어서의 관통부 사이를 절단하는 경우에 비해, 띠상부 (11) 와 프레임상부 (12) 의 접속 부분을 보다 작은 힘으로 절단하는 것이 가능하다. 그러므로, 증착 마스크의 제조시에 있어서, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 잘라버리는 것이 용이하다. 한편으로, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송시에 있어서, 띠상부 (11) 에 대한 프레임상부 (12) 의 접속은, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 2 가장자리 (11E2) 를 프레임상부 (12) 로부터 구분하는 하프 에칭선 (14) 에 의해 확보된다. 또한, 절취선은, 제 1 판두께를 갖는 부분과 관통공이 교대로 나열되는 구조를 갖는다.Compared to the case where the band-shaped
또한, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 1 가장자리 (11E1) 와 프레임상부 (12) 사이에는, 하프 에칭선 (14) 이 위치하고 있지 않다. 그 때문에, 하프 에칭선 (14) 이 제 1 가장자리 (11E1) 를 프레임상부 (12) 에 접속시키는 경우에 비해, 하프 에칭선 (14) 과 마스크부 (11a) 사이의 최단 거리를 크게 할 수 있다. 그러므로, 하프 에칭선 (14) 을 절단할 때에, 하프 에칭선 (14) 에 대하여 부여된 외력이 마스크부 (11a) 에까지 미치기 어렵다. 이로써, 하프 에칭선 (14) 의 절단에서 기인하여, 마스크부 (11a) 가 변형되는 것이 억제되고, 나아가서는, 마스크부 (11a) 에 형성된 마스크공 (11H) 이 변형되는 것이 억제된다.Further, between the first edge 11E1 of the
절단선 (13) 의 폭은, 예를 들어 1 ㎜ 이상 2 ㎜ 이하여도 되고, 1.5 ㎜ 정도여도 된다. 증착 마스크는, 롤 투 롤 방식을 사용하여 제조된다. 그 때문에, 절단선 (13) 의 폭이 2 ㎜ 이하임으로써, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송시에, 프레임상부 (12) 가, 절단선 (13) 의 폭 이상으로 띠상부 (11) 로부터 떨어지는 것이 억제된다. 또, 절단선 (13) 의 폭이 1 ㎜ 이상임으로써, 웨트 에칭에 의해 절단선 (13) 을 형성할 때에, 레지스트 마스크에 형성된 관통부에 에칭액이 공급되기 쉬워진다. 이로써, 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통하는 절단선 (13) 이 형성되기 쉽다.The width of the cutting
띠상부 (11) 의 폭 방향 (DW) 에 직교하는 방향이, 띠상부 (11) 의 길이 방향 (DL) 이다. 도 1 이 나타내는 예에서는, 띠상부 (11) 는, 3 개의 마스크부 (11a) 를 구비하고 있다. 3 개의 마스크부 (11a) 는, 길이 방향 (DL) 을 따라 간격을 두고 나열되어 있다. 3 개의 마스크부 (11a) 는, 1 개의 마스크부군을 형성하고 있다. 또, 주변부 (11b) 는, 3 개의 마스크부 (11a) 를 둘러싸는 사다리상을 갖고 있다. 길이 방향 (DL) 에 있어서, 2 개의 마스크부 (11a) 의 사이에, 주변부 (11b) 의 일부가 위치하고 있다. 또한, 띠상부 (11) 는, 2 개 이하의 마스크부 (11a) 를 구비해도 되고, 4 개 이상의 마스크부 (11a) 를 구비해도 된다.A direction orthogonal to the width direction DW of the band-shaped
띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 는, 1 쌍의 단변 (11ES) 과 1 쌍의 장변 (11EL) 에 의해 구획된 직사각형상을 갖고 있다. 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 는, 띠상부 (11) 의 폭 방향 (DW) 을 따라 연장되는 1 쌍의 단변 (11ES) 을 포함하고 있다. 각 단변 (11ES) 은, 타방의 단변 (11ES) 을 향하여 패이는 절결 (11EC) 을 갖고 있다. 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서, 각 장변 (11EL) 은 길이 방향 (DL) 을 따라 연장되어 있다.
증착 마스크를 형성하기 위한 금속 시트가 에칭됨으로써, 띠상부 (11), 프레임상부 (12), 절단선 (13), 및 하프 에칭선 (14) 을 구비하는 증착 마스크 중간체 (10) 가 형성된다. 금속 시트는, 예를 들어 철니켈 합금제이다. 금속 시트를 형성하는 철니켈 합금은, 예를 들어 인바여도 된다.A metal sheet for forming a deposition mask is etched, thereby forming a deposition mask
도 2 는, 절결 (11EC) 의 형상에 있어서의 제 1 예를 나타내고, 도 3 은, 절결 (11EC) 의 형상에 있어서의 제 2 예를 나타내고 있다. 또한, 도 2 및 도 3 에 있어서도, 도 1 과 동일하게, 절단선 (13) 이 굵은 선에 의해 도시되고, 하프 에칭선 (14) 이 도트에 의해 도시되어 있다.Fig. 2 shows a first example of the shape of the notch 11EC, and Fig. 3 shows a second example of the shape of the notch 11EC. Also in FIGS. 2 and 3, as in FIG. 1, the cutting lines 13 are shown with thick lines, and the
도 2 가 나타내는 바와 같이, 절결 (11EC) 의 제 1 예에서는, 절결 (11EC) 이, 만곡부 (EC1) 와, 만곡부 (EC1) 로부터 길이 방향 (DL) 으로 연장되는 1 쌍의 직선부 (EC2) 에 의해 형성되어 있다. 1 쌍의 직선부 (EC2) 는, 폭 방향 (DW) 에 있어서 간격을 두고 나열되어 있다. 1 쌍의 직선부 (EC2) 는, 만곡부 (EC1) 에 있어서의 각 단부에 1 개씩 연속되어 있다. 만곡부 (EC1) 는, 당해 만곡부 (EC1) 를 포함하는 절결 (11EC) 로부터 타방의 절결 (11EC) 을 향하는 방향으로 오목해지는 원호상을 갖고 있다.2 shows, in the first example of the notch 11EC, the notch 11EC includes a curved portion EC1 and a pair of straight portions EC2 extending from the curved portion EC1 in the longitudinal direction DL. is formed by A pair of straight line parts EC2 are arranged at intervals in the width direction DW. A pair of straight part EC2 continues one by one at each end part in curved part EC1. The curved portion EC1 has an arc shape that is concave in a direction from the notch 11EC including the curved portion EC1 to the other notch 11EC.
띠상부 (11) 의 제 1 가장자리 (11E1) 가, 절결 (11EC) 을 포함하고 있다. 본 예에서는, 길이 방향 (DL) 에 있어서, 각 장변 (11EL) 중에서, 마스크부군의 각 단부로부터 떨어진 부위에서 장변 (11EL) 의 단부까지의 부분이, 제 2 가장자리 (11E2) 에 포함된다. 또, 각 단변 (11ES) 중에서, 절결 (11EC) 을 제외한 부분이, 제 2 가장자리 (11E2) 에 포함된다. 하프 에칭선 (14) 은, 제 2 가장자리 (11E2) 를 따른 형상을 갖고 있다.The first edge 11E1 of the band-shaped
즉 본 예에서는, 제 2 가장자리 (11E2) 는, 단변 (11ES) 과 장변 (11EL) 에 의해 형성되는 모서리부 (ECN) 를 포함하고 있다. 하프 에칭선 (14) 은, 모서리부 (ECN) 를 따른 L 자상을 가진 부분을 포함하고 있다. 하프 에칭선 (14) 은, 각 모서리부 (ECN) 에 대응하는 위치에 1 개씩 위치하고 있다.That is, in this example, the second edge 11E2 includes a corner ECN formed by the short side 11ES and the long side 11EL. The
도 3 이 나타내는 바와 같이, 절결 (11EC) 의 제 2 예는, 대략 포물선상을 갖고 있다. 절결 (11EC) 의 제 2 예는, 1 쌍의 곡선부 (EC3) 로 형성되어 있다. 1 쌍의 곡선부 (EC3) 는, 절결 (11EC) 의 바닥부를 통과하고, 또한 길이 방향 (DL) 으로 연장되는 직선에 대하여 서로 대칭인 형상을 갖고 있다. 각 곡선부 (EC3) 는, 길이 방향 (DL) 에 대하여 교차하는 방향을 따라 연장되어 있다. 절결 (11EC) 의 제 2 예에서는, 절결 (11EC) 의 전체가 만곡부이다.As Fig. 3 shows, the second example of the notch 11EC has a substantially parabolic shape. A second example of the notch 11EC is formed of a pair of curved portions EC3. The pair of curved portions EC3 have shapes symmetrical to each other with respect to a straight line that passes through the bottom of the notch 11EC and extends in the longitudinal direction DL. Each curved portion EC3 extends along a direction crossing the longitudinal direction DL. In the second example of the cutout 11EC, the entirety of the cutout 11EC is a curved portion.
띠상부 (11) 의 제 1 가장자리 (11E1) 가, 절결 (11EC) 을 포함하고 있다. 본 예에서는, 제 1 예와 동일하게, 길이 방향 (DL) 에 있어서, 각 장변 (11EL) 중에서, 마스크부군의 각 단부로부터 떨어진 부위에서 장변 (11EL) 의 단부까지의 부분이, 제 2 가장자리 (11E2) 에 포함된다. 하프 에칭선 (14) 은, 제 2 가장자리 (11E2) 를 따른 형상을 갖고 있다. 또, 절결 (11EC) 은, 절단선 (13) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 분리되어 있다.The first edge 11E1 of the band-shaped
즉 본 예에서는, 제 2 가장자리 (11E2) 는, 단변 (11ES) 과 장변 (11EL) 에 의해 형성되는 모서리부 (ECN) 를 포함하고 있다. 하프 에칭선 (14) 은, 모서리부 (ECN) 를 따른 L 자상을 가진 부분을 포함하고 있다. 하프 에칭선 (14) 은, 각 모서리부 (ECN) 에 대응하는 위치에 1 개씩 위치하고 있다.That is, in this example, the second edge 11E2 includes a corner ECN formed by the short side 11ES and the long side 11EL. The
띠상부 (11) 가 프레임상부 (12) 로부터 절단됨으로써 띠상부 (11) 로 형성된 증착 마스크는, 증착 마스크의 사용시에 있어서, 증착 마스크를 지지하는 프레임에 장착된다. 이 때에, 증착 마스크에 주름이 발생하는 것을 억제하기 위해, 증착 마스크의 가장자리에 있어서의 각 단변을, 타방의 단변으로부터 떨어지는 방향을 향하여 잡아당기면서, 증착 마스크를 프레임에 장착한다. 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 단변 (11ES) 이 갖는 절결 (11EC) 에, 하프 에칭선 (14) 의 절단흔이 위치하는 경우에는, 절단흔에서 기인하는 주름이 증착 마스크에 발생하기 쉽다. 이 점에서, 상기 서술한 증착 마스크 중간체 (10) 에 의하면, 하프 에칭선 (14) 의 절단흔이 절결 (11EC) 에는 위치하지 않기 때문에, 증착 마스크의 사용시에 있어서, 증착 마스크에 주름이 발생하는 것이 억제된다.A deposition mask formed of the band-shaped
또, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 포함되는 모서리부 (ECN) 가 하프 에칭선 (14) 에 의해 프레임상부 (12) 에 접속되기 때문에, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송시에 있어서, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 모서리부 (ECN) 가, 띠상부 (11) 에 있어서의 다른 부분보다 프레임상부 (12) 로부터 들뜨는 것이 억제된다. 이로써, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송시에 있어서, 모서리부 (ECN) 가 증착 마스크 중간체 (10) 의 주위에 설치된 설비 등이 구비하는 부품에 걸리는 것이 억제된다. 결과적으로, 띠상부 (11) 의 변형이 억제된다.In addition, since the corner portion ECN included in the
도 4 는, 도 1 에 있어서의 IV-IV 선을 따른 단면 구조를 나타내고, 도 5 는, 도 1 에 있어서의 V-V 선을 따른 단면 구조를 나타내고 있다. 즉, 도 4 및 도 5 는, 증착 마스크 중간체 (10) 가 펼쳐지는 평면에 직교하고, 또한 폭 방향 (DW) 을 따른 증착 마스크 중간체 (10) 의 단면 구조를 나타내고 있다. 또한, 도 4 는, 하프 에칭선 (14) 에 있어서, 하프 에칭 가공이 연속하여 실시되어 있는 경우에 있어서의 단면 구조를 나타내고 있다. 하프 에칭 가공이 연속하여 실시된 하프 에칭선 (14) 은, 하프 에칭선 (14) 에 있어서의 제 1 예이다.FIG. 4 shows a cross-sectional structure along line IV-IV in FIG. 1, and FIG. 5 shows a cross-sectional structure along line V-V in FIG. That is, FIG. 4 and FIG. 5 show the cross-sectional structure of the deposition mask
도 4 가 나타내는 바와 같이, 하프 에칭선 (14) 은, 프레임상부 (12) 의 일부와 띠상부 (11) 에 있어서의 주변부 (11b) 의 일부를 서로 접속시키고 있다. 프레임상부 (12) 및 띠상부 (11) 는, 제 1 판두께 (T1) 를 갖는다. 한편으로, 하프 에칭선 (14) 은, 제 2 판두께 (T2) 를 갖고, 제 2 판두께 (T2) 는 제 1 판두께 (T1) 보다 얇다. 제 1 판두께 (T1) 는, 예를 들어 10 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이다. 제 2 판두께 (T2) 는, 예를 들어 3 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하이다.As FIG. 4 shows, the
하프 에칭선 (14) 에 있어서, 증착 마스크 중간체 (10) 가 펼쳐지는 평면과 대향하는 방향에서 보아, 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향과 직교하는 방향이, 하프 에칭선 (14) 의 폭 방향이다. 하프 에칭선 (14) 의 폭 (W) 은, 예를 들어 40 ㎛ 이상 120 ㎛ 이하이다. 하프 에칭선 (14) 의 단면은, 직사각형상을 갖고 있다. 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향에 있어서, 직사각형상을 가진 단면이 연속되어 있다.In the
하프 에칭선 (14) 은, 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향을 따라 나열되는 1 개 이상의 관통부를 가져도 된다. 관통부는, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향에 있어서, 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통한다. 이 경우에는, 하프 에칭선 (14) 이 관통부를 갖는 분만큼, 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향을 따라 하프 에칭선 (14) 이 절단되기 쉬워진다.The
복수의 관통부를 갖는 하프 에칭선 (14) 은, 하프 에칭선 (14) 에 있어서의 제 2 예이다. 도 5 는, 하프 에칭선 (14) 이 복수의 관통부를 갖는 경우의 단면 구조를 나타내고 있다.The
도 5 가 나타내는 바와 같이, 하프 에칭선 (14) 은, 하프 에칭선 (14) 내에 위치하는 복수의 관통부 (14H) 를 갖고 있다. 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향을 따라, 복수의 관통부 (14H) 는 간격을 두고 나열되어 있다. 복수의 관통부 (14H) 는, 등간격으로 나열되어도 되고, 관통부 (14H) 간의 간격에는, 복수의 길이가 포함되어도 된다.As shown in FIG. 5 , the
또한, 증착 마스크 중간체 (10) 가 펼쳐지는 평면과 대향하는 방향에서 보아, 관통부 (14H) 의 가장자리는 원상이어도 된다. 이 경우에는, 관통부 (14H) 의 직경은, 예를 들어 20 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하여도 된다. 또, 복수의 관통부 (14H) 가 등간격으로 나열되는 경우에는, 관통부 (14H) 간의 간격은, 예를 들어 200 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하여도 된다.In addition, when viewed from the direction opposite to the plane on which the deposition mask
도 6 및 도 7 은, 증착 마스크 중간체 (10) 가 펼쳐지는 평면에 직교하는 평면으로서, 또한 길이 방향 (DL) 을 따라 연장되는 평면을 따른 마스크부 (11a) 의 단면 구조를 나타내고 있다. 도 6 은, 마스크부 (11a) 의 제 1 예에 있어서의 단면 구조를 나타내고 있다. 한편으로, 도 7 은, 마스크부 (11a) 의 제 2 예에 있어서의 단면 구조를 나타내고 있다.6 and 7 show the cross-sectional structure of the
도 6 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 중간체 (10) 는, 표면 (10F) 과, 표면 (10F) 과는 반대측의 면인 이면 (10R) 을 구비하고 있다. 표면 (10F) 은, 증착 마스크가 증착 장치에 장착된 상태에서, 증착 장치의 증착원과 대향한다. 이면 (10R) 은, 증착 마스크가 증착 장치에 장착된 상태에서, 유리 기판 등의 증착 대상과 대향한다. 마스크부 (11a) 는, 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통하는 복수의 마스크공 (11H) 을 갖는다. 마스크공 (11H) 의 벽면은, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향에 대하여, 단면에서 봤을 때에 있어서 기울기를 갖는다. 마스크공 (11H) 의 벽면에 있어서의 형상은, 단면에서 봤을 때에 있어서, 마스크공 (11H) 의 외측을 향하여 돌출되는 반원호상이다. 바꿔 말하면, 단면에서 봤을 때에 있어서, 마스크공 (11H) 은, 표면 (10F) 에서 이면 (10R) 을 향하여 볼록해지는 반원호상을 갖고 있다. 또한, 마스크공 (11H) 의 벽면의 형상은, 단면에서 봤을 때에 있어서, 복수의 굴곡점을 갖는 복잡한 곡선상이어도 된다.As FIG. 6 shows, the vapor deposition mask
마스크부 (11a) 의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ 이하여도 된다. 이러한 얇은 마스크부 (11a) 이면, 마스크공 (11H) 이 갖는 벽면의 면적 그 자체를 작게 하는 것이 가능하고, 또, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께가 얇기 때문에 증착 물질이 마스크공 (11H) 내를 나는 거리가 짧다. 이로써, 마스크공 (11H) 의 벽면에 부착되는 증착 물질의 양을 줄이는 것이 가능하다. 또한, 증착 마스크 중간체 (10) 에 있어서, 마스크부 (11a) 이외의 부분에 있어서의 두께는, 예를 들어 25 ㎛ 이하이다. 증착 마스크 중간체 (10) 에 있어서, 마스크부 (11a) 이외의 부분에 있어서의 두께는, 가공 전의 금속 시트, 즉, 띠상부 (11), 프레임상부 (12), 절단선 (13), 및 하프 에칭선 (14) 이 형성되기 전의 금속 시트의 두께와 동등하다.The thickness of the
표면 (10F) 은, 마스크공 (11H) 의 개구인 제 1 개구 (H1) 를 포함하고 있다. 이면 (10R) 은, 마스크공 (11H) 의 개구인 제 2 개구 (H2) 를 포함하고 있다. 제 1 개구 (H1) 는, 표면 (10F) 과 대향하는 평면에서 봤을 때에 있어서, 제 2 개구 (H2) 보다 크다. 각 마스크공 (11H) 은, 증착원으로부터 승화된 증착 물질이 통과하는 통로이다. 증착원으로부터 승화된 증착 물질은, 제 1 개구 (H1) 에서 제 2 개구 (H2) 를 향하여 나아간다. 마스크공 (11H) 에 있어서, 제 1 개구 (H1) 가 제 2 개구 (H2) 보다 크기 때문에, 제 1 개구 (H1) 로부터 마스크공 (11H) 에 들어가는 증착 물질의 양을 증가시키는 것이 가능하다. 또한, 표면 (10F) 을 따른 단면에서의 마스크공 (11H) 의 면적은, 제 2 개구 (H2) 에서 제 1 개구 (H1) 를 향하여, 제 2 개구 (H2) 에서 제 1 개구 (H1) 까지 단조롭게 증대되어도 되고, 제 2 개구 (H2) 에서 제 1 개구 (H1) 까지의 도중에 대략 일정해지는 부위를 구비해도 된다.The
도 7 이 나타내는 바와 같이, 마스크공 (11H) 은, 제 1 개구 (H1) 를 갖는 대공 (11LH) 과, 제 2 개구 (H2) 를 갖는 소공 (11SH) 으로 형성된다. 제 1 개구 (H1) 는, 표면 (10F) 과 대향하는 평면에서 봤을 때에 있어서, 제 2 개구 (H2) 보다 크다. 대공 (11LH) 의 단면적은, 제 1 개구 (H1) 에서 이면 (10R) 을 향하여, 단조롭게 감소한다. 소공 (11SH) 의 단면적은, 제 2 개구 (H2) 에서 표면 (10F) 을 향하여, 단조롭게 감소한다. 마스크공 (11H) 의 벽면은, 단면에서 봤을 때에 있어서, 대공 (11LH) 이 소공 (11SH) 에 접속되는 부위, 즉, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향의 중간에 있어서, 마스크공 (11H) 의 내측을 향하여 돌출된 형상을 갖는다. 마스크공 (11H) 의 벽면에서 돌출된 부위와 이면 (10R) 사이의 거리는, 스텝 하이트 (SH) 이다.As Fig. 7 shows, the
또한, 마스크부 (11a) 의 제 1 예에서는, 스텝 하이트 (SH) 가 제로이다. 제 2 개구 (H2) 에 도달하는 증착 물질의 양을 확보하는 관점에서는, 스텝 하이트 (SH) 가 제로인 것이 바람직하다. 띠상부 (11) 가 마스크부 (11a) 의 제 1 예를 구비하는 경우에는, 가공 전의 금속 시트에 있어서의 두께는, 금속 시트를 편면으로부터 웨트 에칭함으로써 마스크공 (11H) 이 형성될 정도로 얇다. 가공 전의 금속 시트에 있어서의 두께는, 상기 서술한 바와 같이, 예를 들어 25 ㎛ 이하이다. 또한, 띠상부 (11) 가 마스크부 (11a) 의 제 2 예를 구비하는 경우에는, 마스크부 (11a) 의 두께는, 예를 들어 25 ㎛ 이하이다. 또, 이 경우에는, 가공 전의 금속 시트의 두께는, 예를 들어 50 ㎛ 이하이다.Also, in the first example of the
[증착 마스크의 구성][Configuration of deposition mask]
도 8 내지 도 10 을 참조하여, 증착 마스크의 구성을 설명한다.Referring to Figs. 8 to 10, the configuration of the deposition mask will be described.
도 8 이 나타내는 바와 같이, 마스크 장치 (20) 는, 프레임 (21) 과, 복수의 증착 마스크 (31) 를 구비하고 있다. 도 8 이 나타내는 예에서는, 마스크 장치 (20) 는, 2 개의 증착 마스크 (31) 를 구비하고 있지만, 마스크 장치 (20) 는, 1 개의 증착 마스크 (31) 를 구비해도 되고, 3 개 이상의 증착 마스크 (31) 를 구비해도 된다. 프레임 (21) 은, 복수의 증착 마스크 (31) 를 지지하는 것이 가능한 직사각형 프레임상을 갖고 있다. 프레임 (21) 은, 증착을 실시하기 위한 증착 장치에 장착된다. 프레임 (21) 은, 각 증착 마스크 (31) 가 위치하는 범위의 대략 전체에 걸쳐서, 프레임 (21) 을 관통하는 프레임공 (21H) 을 갖는다.As FIG. 8 shows, the
각 증착 마스크 (31) 는, 마스크부 (31a), 주변부 (31b), 및 가장자리 (31E) 를 구비하고 있다. 마스크부 (31a) 에는, 복수의 마스크공 (31H) 이 형성되어 있다. 주변부 (31b) 는, 마스크부 (31a) 를 둘러싸고 있다. 가장자리 (31E) 는, 직사각형상을 갖고 있다. 본 실시형태에서는, 증착 마스크 (31) 는, 3 개의 마스크부 (31a) 를 구비하고 있다. 3 개의 마스크부 (31a) 는, 증착 마스크 (31) 의 길이 방향에 있어서 간격을 두고 나열되어 있다. 증착 마스크 (31) 는, 2 개 이하의 마스크부 (31a) 를 구비해도 되고, 4 개 이상의 마스크부 (31a) 를 구비해도 된다. 증착 마스크 (31) 에 있어서, 마스크부 (31a) 가, 띠상부 (11) 가 갖는 마스크부 (11a) 에 대응하고, 주변부 (31b) 가, 띠상부 (11) 가 갖는 주변부 (11b) 에 대응하고, 가장자리 (31E) 가, 띠상부 (11) 가 갖는 가장자리 (11E) 에 대응한다. 마스크부 (31a) 가 구비하는 마스크공 (31H) 이, 마스크부 (11a) 가 구비하는 마스크공 (11H) 에 대응한다.Each
증착 마스크 (31) 의 가장자리 (31E) 는, 제 1 가장자리 (31E1) 와 제 2 가장자리 (31E2) 로 구성된다. 제 1 가장자리 (31E1) 는, 마스크부 (31a) 에 대한 증착 마스크 (31) 의 폭 방향에 위치하는 부분을 포함하고 있다. 증착 마스크 (31) 는, 제 2 가장자리 (31E2) 에 위치하는 절단흔을 추가로 구비하고 있다. 가장자리 (31E) 의 제 1 가장자리 (31E1) 는, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 가 갖는 제 1 가장자리 (11E1) 에 대응하고, 가장자리 (31E) 의 제 2 가장자리 (31E2) 는, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 가 갖는 제 2 가장자리 (11E2) 에 대응한다.The
각 증착 마스크 (31) 는, 1 개의 방향을 따라 연장되는 띠상을 갖고 있다. 각 증착 마스크 (31) 에 있어서의 주변부 (31b) 중에서, 증착 마스크 (31) 가 연장되는 방향에 있어서 복수의 마스크부 (31a) 를 사이에 두는 1 쌍의 부분이, 각각 프레임 (21) 에 고정된다. 증착 마스크 (31) 는, 접착 또는 용착 등에 의해 프레임 (21) 에 고정된다.Each
도 9 및 도 10 은, 도 8 에 나타내는 영역 A 를 확대하여 나타내고 있다. 영역 A 에는, 증착 마스크 (31) 가 구비하는 절단흔의 일부가 포함된다. 또한, 도 9 는, 증착 마스크 중간체 (10) 가 하프 에칭선 (14) 의 제 1 예를 갖는 경우에 있어서의 절단흔을 나타내고 있다. 한편으로, 도 10 은, 증착 마스크 중간체 (10) 가 하프 에칭선 (14) 의 제 2 예를 갖는 경우에 있어서의 절단흔을 나타내고 있다.9 and 10 show an enlarged area A shown in FIG. 8 . A part of the cut mark of the
도 9 가 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (31) 가 구비하는 가장자리 (31E) 의 제 2 가장자리 (31E2) 에는, 절단흔 (E21) 이 위치하고 있다. 절단흔 (E21) 은, 상기 서술한 하프 에칭선 (14) 에 대응하고 있다. 절단흔 (E21) 은, 하프 에칭선 (14) 의 일부가, 증착 마스크 (31) 의 표면을 향하여 굴곡된 굴곡부이다. 굴곡부는, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 절단할 때에, 하프 에칭선 (14) 이, 띠상부 (11) 의 표면을 향하여 말려올라감으로써 형성된다.As FIG. 9 shows, the cutting mark E21 is located in the 2nd edge 31E2 of the
도 10 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 중간체 (10) 가 하프 에칭선 (14) 의 제 2 예를 갖는 경우에도, 증착 마스크 (31) 가 구비하는 가장자리 (31E) 의 제 2 가장자리 (31E2) 에는, 절단흔 (E22) 이 위치하고 있다. 절단흔 (E22) 은, 복수의 원호상을 가진 패임부 (E22a) 와, 복수의 굴곡부 (E22b) 에 의해 형성되어 있다. 각 절단흔 (E22) 에 있어서, 패임부 (E22a) 와 굴곡부 (E22b) 가 교대로 나열되어 있다. 굴곡부 (E22b) 는, 하프 에칭선 (14) 에 있어서의 관통부 (14H) 이외의 부분이, 증착 마스크 (31) 의 표면을 향하여 굴곡된 부위이다. 굴곡부 (E22b) 는, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 절단할 때에, 하프 에칭선 (14) 의 일부가, 띠상부 (11) 의 표면을 향하여 말려올라감으로써 형성된다. 절단흔 (E22) 이 포함하는 패임부 (E22a) 가, 하프 에칭선 (14) 이 갖는 관통부 (14H) 에 대응하고 있다. 이에 대하여, 절단흔 (E22) 이 포함하는 굴곡부 (E22b) 가, 하프 에칭선 (14) 에 있어서의 관통부 (14H) 이외의 부위에 대응하고 있다.As shown in FIG. 10 , even when the deposition mask
또한, 상기 서술한 절단흔 (E21, E22) 과 같이, 절단흔 (E21, E22) 이 굴곡부를 갖는 경우에는, 굴곡부는, 증착 마스크 (31) 에 있어서, 제 1 개구 (H1) 를 포함하는 표면을 향하여 굴곡되는 것이 바람직하다. 이로써, 절단흔 (E21, E22) 이 굴곡부를 가져도, 증착 마스크 (31) 가, 굴곡부의 분만큼 프레임 (21) 으로부터 들뜨는 것이 억제된다.In addition, like the above-mentioned cut marks E21 and E22, when the cut marks E21 and E22 have a bent part, the bent part is the surface containing the 1st opening H1 in the
[증착 마스크의 제조 방법][Method of manufacturing vapor deposition mask]
도 11 을 참조하여, 증착 마스크의 제조 방법을 설명한다.Referring to Fig. 11, a method of manufacturing a deposition mask will be described.
증착 마스크 (31) 의 제조 방법은, 금속 시트에 띠상부 (11) 와 프레임상부 (12) 를 형성하는 것과, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 절단하여, 띠상부 (11) 로 증착 마스크 (31) 를 형성하는 것을 포함하고 있다. 이하, 도 11 을 참조하여, 증착 마스크 (31) 의 제조 방법을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 이하에서는, 띠상부 (11) 가 마스크부 (11a) 의 제 1 예를 구비하는 경우에 있어서의 증착 마스크 (31) 의 제조 방법을 증착 마스크 (31) 의 제조 방법에 있어서의 일례로서 설명한다.A method of manufacturing the
도 11 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (31) 의 제조 방법에서는, 먼저, 금속 시트를 준비한다 (스텝 S11). 금속 시트를 준비하는 공정에서는, 전해를 사용하여 금속 시트를 준비해도 되고, 압연 및 연마 등을 사용하여 금속 시트를 준비해도 된다. 또한, 금속 시트를 준비하는 공정에 있어서 준비되는 금속 시트는, 띠상을 가진 금속 시트가 권취된 롤상을 갖고 있다. 이어서, 금속 시트가 갖는 대상면의 1 개에 레지스트층을 형성한다 (스텝 S12). 그 후, 레지스트층에 대한 노광 및 현상을 실시한다 (스텝 S13). 이로써, 금속 시트의 대상면에 레지스트 마스크를 형성한다.As FIG. 11 shows, in the manufacturing method of the
다음으로, 레지스트 마스크를 사용한 대상면의 웨트 에칭에 의해, 금속 시트에 복수의 마스크공 (11H) 을 형성한다 (스텝 S14). 이 때에, 복수의 마스크공 (11H) 을 형성함과 동시에, 띠상부 (11), 프레임상부 (12), 절단선 (13), 및 하프 에칭선 (14) 을 형성한다. 증착 마스크 중간체 (10) 에는, 복수의 띠상부 (11) 가, 간격을 두고 나열되도록 형성된다.Next, a plurality of
이어서, 레지스트 마스크를 대상면으로부터 제거함으로써, 상기 서술한 마스크부 (11a) 가 형성된다 (스텝 S15). 다음으로, 롤상의 증착 마스크 중간체 (10) 를 폭 방향 (DW) 을 따라 절단한다. 이로써, 복수의 띠상부 (11) 를 가진 중간체 시트를 얻는다 (스텝 S16). 그리고, 하프 에칭선 (14) 을 절단함으로써, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 절단함으로써, 증착 마스크 (31) 를 얻을 수 있다 (스텝 S17).Then, the
또한, 띠상부 (11) 가 마스크부 (11a) 의 제 2 예를 구비하는 경우에는, 상기 서술한 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이, 이면 (10R) 에 실시되고, 이로써, 소공 (11SH) 이 형성된다. 이어서, 소공 (11SH) 을 보호하기 위한 보호층이 소공 (11SH) 에 충전된다. 계속해서, 상기 서술한 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이, 표면 (10F) 에 실시되고, 이로써, 대공 (11LH) 이 형성된다. 이로써, 마스크부 (11a) 의 제 2 예를 얻을 수 있다. 또한, 소공 (11SH) 의 형성에 사용한 레지스트 마스크와, 소공 (11SH) 을 보호하기 위한 보호층은, 대공 (11LH) 의 형성에 사용한 레지스트 마스크와 동시에 제거되어도 된다.In addition, when the band-shaped
또한, 띠상부 (11) 가 마스크부 (11a) 의 제 2 예를 구비하고, 또한 하프 에칭선 (14) 의 제 1 예를 구비하는 경우에는, 하프 에칭선 (14) 은, 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이 이면 (10R) 에 실시될 때에 형성되어도 된다. 혹은, 하프 에칭선 (14) 은, 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이 표면 (10F) 에 실시될 때에 형성되어도 된다.In addition, when the band-shaped
또, 띠상부 (11) 가 마스크부 (11a) 의 제 2 예를 구비하고, 또한 하프 에칭선 (14) 의 제 2 예를 구비하는 경우에는, 하프 에칭선 (14) 이 구비하는 관통부 (14H) 는, 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이 이면 (10R) 에 실시되고, 또한 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이 표면 (10F) 에 실시됨으로써 형성된다. 한편으로, 하프 에칭선 (14) 에 있어서의 관통부 (14H) 이외의 부분은, 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이 이면 (10R) 에 실시될 때에 형성되어도 되고, 스텝 S12 에서 스텝 S15 까지의 공정이 표면 (10F) 에 실시될 때에 형성되어도 된다.Further, when the band-shaped
이상 설명한 바와 같이, 증착 마스크 중간체, 증착 마스크, 및 증착 마스크의 제조 방법의 일 실시형태에 의하면, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to one embodiment of the deposition mask intermediate, the deposition mask, and the method for manufacturing the deposition mask, the effects described below can be obtained.
(1) 띠상부 (11) 에 대한 프레임상부 (12) 의 접속 부분을 보다 작은 힘으로 절단하는 것이 가능하기 때문에, 증착 마스크 (31) 의 제조시에 있어서, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 잘라버리는 것이 용이하다. 한편으로, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송시에 있어서, 띠상부 (11) 와 프레임상부 (12) 의 접속은, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 2 가장자리 (11E2) 를 프레임상부 (12) 로부터 구분하는 하프 에칭선 (14) 에 의해 확보된다.(1) Since it is possible to cut the connecting portion of the
(2) 하프 에칭선 (14) 이 관통부 (14H) 를 갖는 경우에는, 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향을 따라 하프 에칭선 (14) 이 절단되기 쉬워진다.(2) When the
(3) 하프 에칭선 (14) 의 절단흔 (E21, E22) 이 절결 (11EC) 에는 위치하지 않음으로써, 증착 마스크 (31) 의 사용시에 있어서, 증착 마스크 (31) 에 주름이 발생하는 것이 억제된다.(3) Since the cut marks E21 and E22 of the
(4) 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 모서리부 (ECN) 가, 띠상부 (11) 에 있어서의 다른 부분보다 프레임상부 (12) 로부터 들뜨는 것이 억제된다. 이로써, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송시에 있어서, 모서리부 (ECN) 가 증착 마스크 중간체 (10) 의 주위에 설치된 설비 등이 구비하는 부품에 걸리는 것이 억제된다. 결과적으로, 띠상부 (11) 의 변형이 억제된다.(4) Lifting of the corner portion ECN at the
또한, 상기 서술한 실시형태는, 이하와 같이 변경하여 실시할 수 있다.In addition, embodiment mentioned above can be implemented by changing as follows.
[선상 취약부][Vulnerable parts on board]
· 프레임상부 (12) 는, 도 12 내지 도 16 을 참조하여 이하에 설명하는 선상 취약부를 구비해도 된다.· The
도 12 가 나타내는 바와 같이, 프레임상부 (12) 는, 절단선 (13) 으로부터 프레임상부 (12) 의 외측 가장자리 (12D) 를 향하는 방향을 따라 연장되는 선상 취약부 (12A) 를 구비할 수 있다. 도 12 가 나타내는 예에서는, 선상 취약부 (12A) 는, 길이 방향 (DL) 에 교차하는 방향을 따라 연장되어 있다. 또, 선상 취약부 (12A) 의 일단부는, 절단선 (13) 에 위치하고, 선상 취약부 (12A) 의 타단부는, 프레임상부 (12) 의 내부에 위치하고 있다.As Fig. 12 shows, the
증착 마스크 중간체 (10) 는, 복수의 선상 취약부 (12A) 를 구비하고 있다. 복수의 선상 취약부 (12A) 는, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송 방향에 있어서, 마스크부 (11a) 보다 상류에 위치하는 상류측 취약부 (12AU) 와, 마스크부 (11a) 보다 하류에 위치하는 하류측 취약부 (12AD) 를 포함하고 있다. 또한, 마스크부 (11a) 보다 상류란, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송 방향에 있어서 마스크부 (11a) 보다 전방인 것을 의미하고 있다. 또, 마스크부 (11a) 보다 하류란, 증착 마스크 중간체 (10) 의 반송 방향에 있어서 마스크부 (11a) 보다 후방인 것을 의미하고 있다.The deposition mask
상류측 취약부 (12AU) 에 있어서, 상류측 취약부 (12AU) 의 일단부는, 절단선 (13) 중에서, 마스크부군보다 상류에 위치하는 부분에 연결되어 있다. 한편으로, 하류측 취약부 (12AD) 에 있어서, 하류측 취약부 (12AD) 의 일단부는, 절단선 (13) 중에서, 마스크부군보다 하류에 위치하는 부분에 연결되어 있다.In the upstream-side fragile portion 12AU, one end of the upstream-side fragile portion 12AU is connected to a portion of the cutting
증착 마스크 중간체 (10) 는, 폭 방향 (DW) 에 있어서의 2 개의 띠상부 (11) 의 사이에, 2 개의 상류측 취약부 (12AU) 와 2 개의 하류측 취약부 (12AD) 를 갖고 있다. 2 개의 상류측 취약부 (12AU) 는, 폭 방향 (DW) 에 있어서 나열되고, 프레임상부 (12) 로부터, 절단선 (13) 중에서 서로 상이한 띠상부 (11) 를 따른 부분을 향하여 연장되어 있다. 2 개의 하류측 취약부 (12AD) 는, 폭 방향 (DW) 에 있어서 나열되고, 프레임상부 (12) 로부터, 절단선 (13) 중에서 서로 상이한 띠상부 (11) 를 따른 부분을 향하여 연장되어 있다.The deposition mask
또, 증착 마스크 중간체 (10) 는, 폭 방향 (DW) 에 있어서 2 개의 띠상부 (11) 를 사이에 두는 1 쌍의 상류측 취약부 (12AU) 와, 폭 방향 (DW) 에 있어서 2 개의 띠상부 (11) 를 사이에 두는 1 쌍의 하류측 취약부 (12AD) 를 갖고 있다. 또한, 증착 마스크 중간체 (10) 는, 이들 선상 취약부 (12A) 중 적어도 1 개를 구비하고 있으면 된다.Further, the deposition mask
선상 취약부 (12A) 의 기계적인 강도는, 프레임상부 (12) 에 있어서의 선상 취약부 (12A) 이외의 부분에 있어서의 기계적인 강도보다 낮다. 그 때문에, 프레임상부 (12) 가 선상 취약부 (12A) 를 따라 절단되기 쉽다. 게다가, 선상 취약부 (12A) 에 있어서의 일방의 단부가 절단선 (13) 에 위치하기 때문에, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 떼어낼 때에 프레임상부 (12) 가 형성하는 고리를 절단할 수 있다. 이로써, 하프 에칭선 (14) 의 절단이 실시하기 쉬워진다.The mechanical strength of the fragrant
띠상부 (11) 로 증착 마스크를 형성할 때에는, 먼저, 길이 방향 (DL) 에 있어서의 소정의 위치에 있어서, 증착 마스크 중간체 (10) 를 폭 방향 (DW) 을 따라 절단한다. 이로써, 폭 방향 (DW) 을 따라 나열되는 2 개의 띠상부 (11) 만을 가진 증착 마스크 중간체 (10) 를 얻는다. 이어서, 선상 취약부 (12A) 를 따라 프레임상부 (12) 를 절단함으로써, 띠상부 (11) 를 둘러싸는 프레임상부 (12) 의 고리를 절단한다. 그리고, 하프 에칭선 (14) 을 절단함으로써 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 절단한다. 이로써, 띠상부 (11) 로 증착 마스크를 형성할 수 있다.When forming a deposition mask with the band-shaped
도 13 은, 도 12 에 나타내는 영역 B 를 확대하여 나타내고, 또, 도 14 는, 도 12 에 나타내는 영역 C 를 확대하여 나타내고 있다. 또한, 영역 B 는, 2 개의 상류측 취약부 (12AU) 에 있어서의 상류 단부를 포함하고, 또, 영역 C 는, 2 개의 하류측 취약부 (12AD) 에 있어서의 하류 단부를 포함하고 있다. 도 15 및 도 16 은, 도 12 에 나타내는 영역 D 를 확대하여 나타내고 있다.FIG. 13 is an enlarged view of area B shown in FIG. 12 , and FIG. 14 is an enlarged view of area C shown in FIG. 12 . Further, region B includes the upstream ends of the two upstream weak portions 12AU, and region C includes the downstream ends of the two downstream weak portions 12AD. 15 and 16 show an enlarged area D shown in FIG. 12 .
도 13 이 나타내는 바와 같이, 각 상류측 취약부 (12AU) 의 상류 단부는, 프레임상부 (12) 를 관통하는 상류측 관통부 (12BU) 에 접속되어 있다. 2 개의 상류측 관통부 (12BU) 는, 폭 방향 (DW) 에 있어서, 소정의 간격을 두고 나열되어 있다. 띠상부 (11) 로 증착 마스크 (31) 를 형성할 때에는, 예를 들어, 프레임상부 (12) 를 절단 가능한 기구에 의해, 프레임상부 (12) 중에서, 폭 방향 (DW) 에 있어서 2 개의 상류측 관통부 (12BU) 에 의해 사이에 놓이는 부분을 절단하고, 이로써, 절단편을 형성한다. 이어서, 증착 마스크 중간체 (10) 가 펼쳐지는 평면과는 교차하는 방향을 향하여 절단편을 끌어올림으로써, 2 개의 상류측 취약부 (12AU) 를 절단하는 힘을, 2 개의 상류측 취약부 (12AU) 에 대하여 동시에 작용시키는 것이 가능하다.As FIG. 13 shows, the upstream end of each upstream weak portion 12AU is connected to an upstream penetrating portion 12BU penetrating the
또한, 폭 방향 (DW) 에 있어서 2 개의 띠상부 (11) 를 사이에 두는 1 쌍의 상류측 취약부 (12AU) 의 각각에 있어서도, 상류 단부가 상류측 관통부 (12BU) 에 접속되어 있다. 또, 당해 상류측 관통부 (12BU) 와 쌍이 되는 다른 상류측 관통부 (12BU) 가 형성되어 있다.Further, also in each of the pair of upstream fragile portions 12AU sandwiching the two band-shaped
도 14 가 나타내는 바와 같이, 프레임상부 (12) 는, 2 개의 하류측 취약부 (12AD) 의 하류 단부에 연속되는 피파지편 (12C) 과, 피파지편 (12C) 을 둘러싸는 하류측 관통부 (12BD) 를 구비하고 있다. 이로써, 하류측 취약부 (12AD) 의 하류 단부에 연속되는 피파지편 (12C) 을 기구에 의해 파지하거나, 사람의 손가락에 의해 파지하거나 하는 것이 가능하기 때문에, 하류측 취약부 (12AD) 를 절단하는 힘을 하류측 취약부 (12AD) 에 작용시키기 쉽다. 증착 마스크 중간체 (10) 가 펼쳐지는 평면과는 교차하는 방향을 향하여 피파지편 (12C) 을 끌어올림으로써, 2 개의 하류측 취약부 (12AD) 를 절단하는 힘을, 2 개의 하류측 취약부 (12AD) 에 대하여 동시에 작용시키는 것이 가능하다.As shown in Fig. 14, the
또한, 폭 방향 (DW) 에 있어서 2 개의 띠상부 (11) 를 사이에 두는 1 쌍의 하류측 취약부 (12AD) 의 각각에 있어서도, 하류 단부가 피파지편 (12C) 에 접속되고, 또한 피파지편 (12C) 이 하류측 관통부 (12BD) 에 둘러싸여져 있다. 피파지편 (12C) 에는, 1 개의 하류측 취약부 (12AD) 에 있어서의 하류 단부가 접속되어 있다.Further, also in each of the pair of downstream fragile portions 12AD sandwiching the two band-
또, 도 15 가 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 중간체 (10) 의 표면 (10F) 과 대향하는 방향에서 보아, 절단선 (13) 은, 당해 절단선 (13) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 분리된 띠상부 (11) 로부터 떨어지는 방향을 향하여 돌출된 돌출부 (13A) 를 구비해도 된다. 돌출부 (13A) 는, 증착 마스크 중간체 (10) 의 표면 (10F) 과 대향하는 방향에서 보아, 직사각형상을 갖고 있다. 돌출부 (13A) 는, 길이 방향 (DL) 에 있어서, 절단선 (13) 과 하프 에칭선 (14) 의 경계보다 상류측에 위치하고 있다. 하류측 취약부 (12AD) 의 상류 단부는, 절단선 (13) 에 있어서의 돌출부 (13A) 에 접속되어 있다. 또한, 하류측 취약부 (12AD) 의 상류 단부는, 돌출부 (13A) 중에서도, 가장 하류측에 위치하는 변에 있어서 일단에서 타단을 향하는 도중에 접속시키는 것이 가능하다. 또한, 하류측 취약부 (12AD) 의 상류 단부는, 돌출부 (13A) 중, 가장 하류측에 위치하는 변에 있어서, 띠상부 (11) 로부터의 거리가 가장 큰 단부에 접속시키는 것도 가능하다.In addition, as shown in Fig. 15, when viewed from the direction facing the
절단선 (13) 이 돌출부 (13A) 를 갖고, 또한 하류측 취약부 (12AD) 가 돌출부 (13A) 에 접속됨으로써, 하류측 취약부 (12AD) 를 따라 프레임상부 (12) 가 절단될 때에, 프레임상부 (12) 를 절단하기 위한 외력이 띠상부 (11) 에 작용하는 것이 억제된다. 이로써, 띠상부 (11) 가 갖는 마스크부 (11a) 에 외력이 작용하는 것이 억제된다. 또, 상류 단부가, 돌출부 (13A) 중에서, 가장 하류측에 위치하는 변에 있어서의 일단과 타단 이외의 부분에 위치함으로써, 하류측 취약부 (12AD) 가 절단되기 쉬워진다.When the
또한, 절단선 (13) 은, 각 하류측 취약부 (12AD) 가 접속되는 지점에 한정되지 않고, 각 상류측 취약부 (12AU) 가 접속되는 지점에도 돌출부 (13A) 를 갖는 것이 가능하며, 이로써, 상기 서술한 돌출부 (13A) 에 의한 효과에 준한 효과를 얻는 것이 가능하다.Further, the cutting
또, 도 16 이 나타내는 바와 같이, 돌출부 (13A) 는, 증착 마스크 중간체 (10) 의 표면 (10F) 과 대향하는 방향에서 보아, 절단선 (13) 과 하프 에칭선 (14) 의 경계로부터, 당해 절단선 (13) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 분리된 띠상부 (11) 로부터 떨어지는 방향을 향하여 돌출되어 있어도 된다. 이 경우에도, 하류측 취약부 (12AD) 의 상류 단부는, 돌출부 (13A) 중에서도, 가장 하류측에 위치하는 변에 있어서 일단에서 타단을 향하는 도중에 접속시키는 것이 가능하다. 또한, 하류측 취약부 (12AD) 의 상류 단부는, 돌출부 (13A) 중, 가장 하류측에 위치하는 변에 있어서, 띠상부 (11) 로부터의 거리가 가장 큰 단부에 접속시키는 것도 가능하다. 그 때문에, 돌출부 (13A) 에 의하면, 도 15 를 참조하여 앞서 설명한 돌출부 (13A) 에 준한 효과를 얻을 수 있다.Moreover, as FIG. 16 shows, the protruding
또한, 절단선 (13) 은, 각 하류측 취약부 (12AD) 가 접속되는 지점에 한정되지 않고, 각 상류측 취약부 (12AU) 가 접속되는 지점에도 돌출부 (13A) 를 갖는 것이 가능하며, 이로써, 도 15 를 참조하여 앞서 설명한 돌출부 (13A) 에 의한 효과에 준한 효과를 얻는 것이 가능하다.Further, the cutting
도 13 내지 도 16 이 나타내는 예에서는, 선상 취약부 (12A) 가, 간격을 두고 나열되는 복수의 관통부 (12A1) 를 갖고 있다. 관통부 (12A1) 는, 증착 마스크 중간체 (10) 의 두께 방향에 있어서, 증착 마스크 중간체 (10) 를 관통하고 있다. 이 대신에, 선상 취약부 (12A) 는, 1 개의 선상을 가진 하프 에칭부에 의해 형성되어도 되고, 선상 취약부 (12A) 가 연장되는 방향에 있어서 간격을 두고 나열되는 복수의 하프 에칭부를 가져도 된다. 또는, 선상 취약부 (12A) 에 있어서, 선상의 하프 에칭부가, 하프 에칭부가 연장되는 방향에 있어서 간격을 두고 나열되는 복수의 관통부를 포함해도 된다.In the examples shown in FIGS. 13 to 16 , the linear
또, 상류측 취약부 (12AU) 의 상류 단부가 접속되는 상류측 관통부 (12BU) 는, 하류측 취약부 (12AD) 가 접속되는 피파지편 (12C), 및 피파지편 (12C) 을 둘러싸는 하류측 관통부 (12BD) 로 변경되어도 된다. 혹은, 하류측 취약부 (12AD) 의 하류 단부가 접속되는 피파지편 (12C), 및 피파지편 (12C) 을 둘러싸는 하류측 관통부 (12BD) 는, 상류측 취약부 (12AU) 의 상류 단부가 접속되는 상류측 관통부 (12BU) 로 변경되어도 된다.Further, the upstream penetrating portion 12BU to which the upstream end of the upstream fragile portion 12AU is connected includes the gripped
선상 취약부 (12A) 를 구비하는 증착 마스크 중간체 (10) 에 의하면, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.According to the vapor deposition mask
(5) 선상 취약부 (12A) 에 있어서의 일방의 단부가 절단선 (13) 에 연속되기 때문에, 프레임상부 (12) 로부터 띠상부 (11) 를 떼어낼 때에 프레임상부 (12) 가 형성하는 고리를 절단할 수 있고, 이로써, 하프 에칭선 (14) 의 절단이 실시하기 쉬워진다.(5) Since one end of the linearly weakened
[절단선][cut line]
· 도 17 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 중간체 (10) 의 표면 (10F) 과 대향하는 방향에서 보아, 돌출부 (13A) 의 외형은, 사다리꼴상을 가져도 된다. 하류측 취약부 (12AD) 의 상류 단부는, 돌출부 (13A) 중, 가장 하류측에 위치하는 변에 있어서, 띠상부 (11) 로부터의 거리가 가장 큰 단부에 접속되어 있다.· As FIG. 17 shows, the external shape of 13 A of protrusions may have a trapezoidal shape when seen from the direction facing the
[하프 에칭선][Half etching line]
· 하프 에칭선 (14) 은, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 가 갖는 모서리부 (ECN) 를 따른 L 자상을 갖는 부분을 포함하지 않아도 된다. 하프 에칭선 (14) 은, 예를 들어, 폭 방향 (DW) 을 따라 연장되는 직선상을 가져도 되고, 길이 방향 (DL) 을 따라 연장되는 직선상을 가져도 된다. 또, 하프 에칭선 (14) 은, 폭 방향 (DW) 을 따라 연장되는 직선상을 갖는 부분과, 길이 방향 (DL) 을 따라 연장되는 직선상을 갖는 부분의 양방을 가져도 된다. 이 경우에도, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 2 가장자리 (11E2) 가 하프 에칭선 (14) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 구분됨으로써, 상기 서술한 (1) 에 준한 효과를 얻을 수는 있다.· The half-etched
· 하프 에칭선 (14) 은, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 절결 (11EC) 과 프레임상부 (12) 사이에 위치해도 된다. 즉, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 중에서, 절결 (11EC) 이 제 2 가장자리 (11E2) 에 포함되어도 된다. 이 경우에도, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 2 가장자리 (11E2) 가 하프 에칭선 (14) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 구분됨으로써, 상기 서술한 (1) 에 준한 효과를 얻을 수는 있다.• The
· 하프 에칭선 (14) 에 있어서, 제 2 판두께를 가진 복수의 하프 에칭부가, 하프 에칭선 (14) 이 연장되는 방향을 따라 간격을 두고 나열되어 있어도 된다. 이 경우에는, 서로 이웃하는 2 개의 하프 에칭부 사이에, 제 1 판두께를 가진 비에칭부가 위치하고 있다.• In the half-etched
[띠상부][belt top]
· 도 18 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 중간체 (10) 에 있어서, 띠상부 (11) 가 구비하는 절결 (11EC) 에 의해 둘러싸이는 영역이 관통부 (13H) 여도 된다. 이 경우에는, 프레임상부 (12) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 1 가장자리 (11E1) 는, 절단선 (13) 과 관통부 (13H) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 분리되어 있다. 본 변경예에서는, 절단선 (13) 과 관통부 (13H) 가, 제 1 가장자리 (11E1) 와 프레임상부 (12) 로부터 분리되는 분리부이다.· As FIG. 18 shows, in the vapor deposition mask
· 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 단변 (11ES) 은 절결 (11EC) 을 갖지 않아도 된다. 이 경우에는, 하프 에칭선 (14) 은, 단변 (11ES) 과 프레임상부 (12) 사이에 있어서의 임의의 부위에 위치하는 것이 가능하다. 또 이 경우에도, 띠상부 (11) 의 가장자리 (11E) 에 있어서의 제 2 가장자리 (11E2) 가 하프 에칭선 (14) 에 의해 프레임상부 (12) 로부터 구분됨으로써, 상기 서술한 (1) 에 준한 효과를 얻을 수는 있다.· The short side 11ES in the
[증착 마스크 중간체][Deposition mask intermediate]
· 증착 마스크 중간체는, 금속 시트와, 금속 시트에 적층된 수지층을 구비하는 마스크 기재로 형성되어도 된다. 이 경우에는, 증착 마스크 중간체로 형성된 증착 마스크도, 금속 시트와 수지층으로 형성된다. 혹은, 증착 마스크 중간체는, 2 장의 금속 시트와, 증착 마스크 중간체의 두께 방향에 있어서, 2 장의 금속 시트 사이에 놓인 수지층을 구비하는 마스크 기재로 형성되어도 된다. 이 경우에는, 증착 마스크 중간체로 형성된 증착 마스크도, 2 장의 금속 시트, 및 2 장의 금속 시트 사이에 놓인 수지층으로 형성된다. 이들 어느 경우에도, 수지층을 형성하는 합성 수지는, 예를 들어, 폴리이미드 수지여도 된다. 또한, 수지층에 대한 레이저 광선의 조사에 의해, 이들 증착 마스크 중간체가 구비하는 관통부나 하프 에칭부를 형성하는 것이 가능하다.• The vapor deposition mask intermediate body may be formed of a mask substrate provided with a metal sheet and a resin layer laminated on the metal sheet. In this case, the deposition mask formed of the deposition mask intermediate is also formed of the metal sheet and the resin layer. Alternatively, the deposition mask intermediate body may be formed of a mask substrate including two metal sheets and a resin layer interposed between the two metal sheets in the thickness direction of the deposition mask intermediate body. In this case, the deposition mask formed of the deposition mask intermediate is also formed of two metal sheets and a resin layer interposed between the two metal sheets. In any of these cases, the synthetic resin forming the resin layer may be, for example, a polyimide resin. Further, by irradiation of a laser beam onto the resin layer, it is possible to form a penetrating portion and a half-etched portion of these deposition mask intermediate bodies.
상기 실시형태, 및 변경예로부터 도출되는 기술적 사상을 이하에 부기한다.The technical idea derived from the above embodiment and the modified example is added below.
[부기 1][Note 1]
띠상부와,with the top of the belt,
상기 띠상부를 둘러싸는 프레임상부를 구비하고,A frame upper part surrounding the band upper part,
상기 띠상부는,The upper band,
복수의 마스크공이 형성된 마스크부와,A mask portion in which a plurality of mask holes are formed;
상기 마스크부를 둘러싸는 주변부를 구비하고,A peripheral portion surrounding the mask portion is provided;
상기 주변부, 및 상기 프레임상부는, 제 1 판두께를 갖고,The peripheral portion and the frame upper portion have a first plate thickness,
상기 제 1 판두께는, 10 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고,The first plate thickness is 10 μm or more and 30 μm or less,
상기 띠상부의 가장자리가, 제 1 가장자리와 제 2 가장자리를 포함하고,The edge of the band top includes a first edge and a second edge,
상기 제 1 가장자리는, 상기 띠상부의 폭 방향에 있어서 상기 마스크부와 대향하는 부분을 포함하고,The first edge includes a portion facing the mask portion in the width direction of the band-shaped portion,
상기 제 1 가장자리와 상기 프레임상부는, 분리부에 의해 분리되고,The first edge and the upper frame are separated by a separator,
상기 제 2 가장자리와 상기 프레임상부는, 제 2 판두께를 가진 복수의 하프 에칭 요소가 간격을 두고 나열되는 선상의 하프 에칭부에 의해 구분되고, 상기 선상의 하프 에칭부에 있어서, 서로 이웃하는 2 개의 상기 하프 에칭 요소 사이에, 상기 제 1 판두께를 가진 비에칭부가 위치하는 증착 마스크 중간체.The second edge and the upper frame are divided by half-etched portions on a line in which a plurality of half-etching elements having a second plate thickness are arranged at intervals, and in the half-etched portion on the line, adjacent two A deposition mask intermediate body in which a non-etching portion having the first plate thickness is positioned between the two half-etched elements.
상기 부기에 의하면, 선상의 하프 에칭부에 의해 서로 접속되는 주변부 및 프레임상부의 제 1 판두께가, 10 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이기 때문에, 선상의 하프 에칭부에 있어서 간격을 두고 나열되는 복수의 하프 에칭 요소에 의해, 띠상부의 절단성이 충분히 높아진다. 또, 주변부와 프레임상부가 하프 에칭부와 비에칭부에 의해 접속되기 때문에, 주변부와 프레임상부가 매우 얇아도, 증착 마스크 중간체의 반송시에 있어서, 주변부와 프레임상부의 접속이 확보된다.According to the above appendix, since the first plate thickness of the peripheral portion and the frame upper portion connected to each other by the linear half-etched portion is 10 μm or more and 30 μm or less, a plurality of halves arranged at intervals in the linear half-etched portion By means of the etching element, the cutability of the strip top is sufficiently increased. Further, since the peripheral portion and the upper frame portion are connected by the half-etched portion and the non-etched portion, even if the peripheral portion and the upper frame portion are very thin, the connection between the peripheral portion and the upper frame portion is ensured during transport of the deposition mask intermediate body.
10 : 증착 마스크 중간체
11 : 띠상부
12 : 프레임상부
13 : 절단선
14 : 하프 에칭선
20 : 마스크 장치
21 : 프레임
31 : 증착 마스크10: Deposition mask intermediate
11: upper band
12: upper frame
13: cutting line
14: half etching line
20: mask device
21: frame
31: deposition mask
Claims (1)
상기 마스크부를 둘러싸는 주변부와,
띠상을 가진 가장자리를 구비하는 증착 마스크로서,
상기 가장자리가, 1 쌍의 단변과 1 쌍의 장변에 의해 구획된 직사각형상을 갖고,
상기 증착 마스크는, 상기 가장자리에 위치하는 절단흔으로서, 상기 단변과 상기 장변에 의해 형성되는 모서리부에 위치하는 L 자상을 가진 절단흔만을 구비하는, 증착 마스크.A mask portion in which a plurality of mask holes are formed;
A peripheral portion surrounding the mask portion;
A deposition mask having a band-shaped edge,
The edge has a rectangular shape partitioned by a pair of short sides and a pair of long sides,
The deposition mask includes only cut marks located at the edge and having an L shape located at a corner portion formed by the short side and the long side.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019162808 | 2019-09-06 | ||
JPJP-P-2019-162808 | 2019-09-06 | ||
KR1020227010862A KR102504437B1 (en) | 2019-09-06 | 2020-09-03 | Deposition mask intermediate, deposition mask, and method for manufacturing the deposition mask |
PCT/JP2020/033374 WO2021045137A1 (en) | 2019-09-06 | 2020-09-03 | Vapor deposition mask intermediate, vapor deposition mask, and method for manufacturing vapor deposition mask |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227010862A Division KR102504437B1 (en) | 2019-09-06 | 2020-09-03 | Deposition mask intermediate, deposition mask, and method for manufacturing the deposition mask |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220165793A true KR20220165793A (en) | 2022-12-15 |
Family
ID=74853233
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227010862A KR102504437B1 (en) | 2019-09-06 | 2020-09-03 | Deposition mask intermediate, deposition mask, and method for manufacturing the deposition mask |
KR1020227041353A KR20220165793A (en) | 2019-09-06 | 2020-09-03 | The deposition mask intermediate, and the manufacturing method of the deposition mask and deposition mask |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227010862A KR102504437B1 (en) | 2019-09-06 | 2020-09-03 | Deposition mask intermediate, deposition mask, and method for manufacturing the deposition mask |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7010410B2 (en) |
KR (2) | KR102504437B1 (en) |
CN (2) | CN213266672U (en) |
TW (1) | TWI819236B (en) |
WO (1) | WO2021045137A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7151745B2 (en) * | 2020-07-16 | 2022-10-12 | 凸版印刷株式会社 | Evaporation mask intermediate, evaporation mask, and evaporation mask manufacturing method |
WO2022092846A1 (en) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 에이피에스홀딩스 주식회사 | Deposition mask stick intermediate |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015055007A (en) | 2013-09-13 | 2015-03-23 | 大日本印刷株式会社 | Metal plate, manufacturing method of metal plate, and manufacturing method of mask using metal plate |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003011098A (en) * | 2001-06-13 | 2003-01-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Trimming device and method |
JP4540305B2 (en) * | 2003-06-11 | 2010-09-08 | 大日本印刷株式会社 | Metal mask and its mounting method |
KR20120111912A (en) * | 2009-06-23 | 2012-10-11 | 후지 덴키 가부시키가이샤 | Flat panel display, manufacturing intermediate therefor, and method of manufacturing same |
KR102072679B1 (en) * | 2013-02-27 | 2020-02-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | Method of manufacturing mask assembly for thin film deposition |
JP6670469B2 (en) | 2016-03-16 | 2020-03-25 | 大日本印刷株式会社 | Deposition mask and deposition mask intermediate |
KR102568780B1 (en) * | 2016-05-26 | 2023-08-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | Mask frame assembly for thin film deposition |
CN106148892B (en) * | 2016-07-25 | 2019-04-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | Throw the net method and mask plate, substrate, the display device of one seed mask plate |
KR20220104846A (en) * | 2016-10-07 | 2022-07-26 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | Vapor deposition mask manufacturing method, vapor deposition mask-allocated intermediate product, and vapor deposition mask |
JP6428903B2 (en) | 2017-01-17 | 2018-11-28 | 大日本印刷株式会社 | Vapor deposition mask and vapor deposition mask manufacturing method |
CN108796433B (en) * | 2017-04-27 | 2024-01-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask sheet, mask sheet and method of assembling the same |
CN107085350B (en) * | 2017-05-11 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask plate or display mother plate and method for manufacturing cutting mark on display mother plate |
-
2020
- 2020-09-02 TW TW109130001A patent/TWI819236B/en active
- 2020-09-02 CN CN202021882786.1U patent/CN213266672U/en active Active
- 2020-09-03 JP JP2021514447A patent/JP7010410B2/en active Active
- 2020-09-03 CN CN202080061555.0A patent/CN114341393A/en active Pending
- 2020-09-03 KR KR1020227010862A patent/KR102504437B1/en active IP Right Grant
- 2020-09-03 KR KR1020227041353A patent/KR20220165793A/en not_active Application Discontinuation
- 2020-09-03 WO PCT/JP2020/033374 patent/WO2021045137A1/en active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015055007A (en) | 2013-09-13 | 2015-03-23 | 大日本印刷株式会社 | Metal plate, manufacturing method of metal plate, and manufacturing method of mask using metal plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220045254A (en) | 2022-04-12 |
CN213266672U (en) | 2021-05-25 |
JP7010410B2 (en) | 2022-01-26 |
TW202122607A (en) | 2021-06-16 |
KR102504437B1 (en) | 2023-02-27 |
WO2021045137A1 (en) | 2021-03-11 |
TWI819236B (en) | 2023-10-21 |
JPWO2021045137A1 (en) | 2021-03-11 |
CN114341393A (en) | 2022-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102504437B1 (en) | Deposition mask intermediate, deposition mask, and method for manufacturing the deposition mask | |
KR102424309B1 (en) | A method for manufacturing a deposition mask, an intermediate product on which the deposition mask is disposed, and a deposition mask | |
JP7485116B2 (en) | Metal mask substrate and method for manufacturing metal mask | |
CN112639157B (en) | Vapor deposition mask intermediate, vapor deposition mask, and method for producing vapor deposition mask | |
KR102371486B1 (en) | Fine metal mask | |
KR102580986B1 (en) | Deposition mask intermediate, deposition mask, mask device, and method of manufacturing the deposition mask | |
JP6084091B2 (en) | Manufacturing method of chip resistor | |
JP7099512B2 (en) | A vapor deposition mask intermediate, a vapor deposition mask, a mask device, and a method for manufacturing a vapor deposition mask. | |
JP6808204B2 (en) | Mask sheet, partial plating material manufacturing method and partial plating method | |
CN216107159U (en) | Intermediate for vapor deposition mask and vapor deposition mask | |
TWI835831B (en) | Wired circuit board assembly sheet and manufacturing method thereof | |
JP2024043397A (en) | DEPOSITION MASK INTERMEDIATE, DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
E902 | Notification of reason for refusal |