JP6808204B2 - Mask sheet, partial plating material manufacturing method and partial plating method - Google Patents

Mask sheet, partial plating material manufacturing method and partial plating method Download PDF

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Description

本発明は、マスクシート、部分めっき材の製造方法及び部分めっき方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a mask sheet and a partial plating material and a method for partial plating.

半導体装置のリードフレーム等の電子機器用部品の製造においては、被めっき材の表面の所望の位置にめっき膜を形成する方法として、めっき膜を形成する位置が長手方向にストライプ状となるように帯状の被めっき材の表面にマスクシート(マスキングテープ)を貼付し、これにめっきを施す方法が広く用いられている。この方法により作成された部分めっき材は、パンチング加工等で不要部分が除去され、所望の形状に加工された電子機器用部品となる。
このような所謂ストライプめっき法においては、部分めっき材の表面のうち、パンチング加工等で除去される部分にもめっき膜が形成される。そのため、形成されためっき膜のうち一部は無駄なものとなってしまう。特にめっき膜の形成に高価な貴金属を使用する場合、本来必要な部分以外にもめっき膜を形成することとなるため、コストが嵩む虞がある。
またこの除去された部分をリサイクルする場合であっても、被めっき材とめっき膜とは異なる金属(元素)が使用されることが多く、そのため上記除去部分は「合金」として取り扱われ、市場的価値は大幅に低下する。
In the manufacture of electronic device parts such as lead frames of semiconductor devices, as a method of forming a plating film at a desired position on the surface of the material to be plated, the position where the plating film is formed is striped in the longitudinal direction. A method in which a mask sheet (masking tape) is attached to the surface of a strip-shaped material to be plated and plating is applied to the mask sheet is widely used. The partially plated material produced by this method has unnecessary parts removed by punching or the like, and becomes a part for an electronic device processed into a desired shape.
In such a so-called stripe plating method, a plating film is also formed on a portion of the surface of the partial plating material that is removed by punching or the like. Therefore, a part of the formed plating film is wasted. In particular, when an expensive precious metal is used for forming the plating film, the plating film is formed in a portion other than the originally required portion, which may increase the cost.
Even when the removed part is recycled, a metal (element) different from the material to be plated and the plating film is often used. Therefore, the removed part is treated as an "alloy" and is commercially available. The value drops significantly.

被めっき材の表面の必要な部分にのみめっき膜を形成するその他の方法としては、例えばブラシめっき法やスパージャーめっき法が挙げられる。しかし、これらの方法は位置合わせが難しく、被めっき材の表面のうち、所望の位置からずれた場所にめっき膜を形成してしまう虞がある。またこれらの方法では、特に形状が微細なめっき膜や、密度の高い(めっき膜同士の間隔が狭い)めっき膜の形成は難しい。 Other methods for forming the plating film only on the required portion of the surface of the material to be plated include, for example, a brush plating method and a spudger plating method. However, these methods are difficult to align, and there is a risk that a plating film may be formed on the surface of the material to be plated at a position deviated from a desired position. Further, with these methods, it is difficult to form a plating film having a particularly fine shape or a plating film having a high density (the distance between the plating films is narrow).

上記問題を解決する方法として、例えば長手方向に基準孔を形成した長尺金属条体の表面に、基準孔に対応して所定間隔で形成されたマスキングテ−プ基準孔とめっきすべき形状のパターンめっき孔を有するマスキングテ−プを密着させめっきを行う方法であって、両者の基準孔をそれぞれセンサで検出して両の基準孔が一致するように長尺金属条体とマスキングテ−プとの相対的送り速度を調節する方法(特許文献1参照)や、めっき膜を形成しない部分に無端環状マスクベルトを密着させてマスクする方法(特許文献2及び3参照)が開示されている。 As a method for solving the above problem, for example, on the surface of a long metal strip having reference holes formed in the longitudinal direction, a masking tape reference hole formed at a predetermined interval corresponding to the reference hole and a shape to be plated should be plated. This is a method in which masking tapes with pattern plating holes are brought into close contact with each other for plating. Both reference holes are detected by sensors, and the long metal strip and masking tape are aligned so that the two reference holes match. A method of adjusting the relative feed rate with and (see Patent Document 1) and a method of applying an endless annular mask belt in close contact with a portion where a plating film is not formed to mask (see Patent Documents 2 and 3) are disclosed.

特開平10−183390号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-183390 特開2008−056958号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-056958 特開2011−026654号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-026654

特許文献1に開示の方法は、ドラムめっき方式を前提としており、長尺金属条体とマスキングテープの基準孔を検出するセンサ及び両者の相対的送り速度を調節するセンサを取り付けなければならない。そのため、既に使用者が保有しているめっき装置を利用することができず、経済的ではない。
また特許文献2及び3に開示の方法では、形成するめっき膜の大きさ、形状及び間隔等が異なる度にマスクベルトを変更しなければならず、手間と費用がかかる。
The method disclosed in Patent Document 1 is premised on a drum plating method, and a sensor for detecting a reference hole of a long metal strip and a masking tape and a sensor for adjusting the relative feed rate of both must be attached. Therefore, it is not economical because the plating equipment already owned by the user cannot be used.
Further, in the methods disclosed in Patent Documents 2 and 3, the mask belt must be changed every time the size, shape, spacing, etc. of the plating film to be formed are different, which is troublesome and costly.

本発明は上記課題を解決するものであり、既に使用者が保有するめっき装置を利用することができ、また位置合わせの精度が高く、容易に大きさ、形状及び間隔等が異なるめっき膜を形成できるマスクシート、部分めっき材の製造方法及び部分めっき方法を提供することをその目的とする。 The present invention solves the above problems, and a plating apparatus already owned by the user can be used, and a plating film having high alignment accuracy and easily different sizes, shapes, intervals, etc. is formed. It is an object of the present invention to provide a mask sheet, a method for producing a partial plating material, and a method for partial plating.

本発明のマスクシートは、マスク層と当該マスク層上に形成される保護層とを有し、前記マスク層は帯状の被めっき材にめっき膜を形成する位置に対応する複数の開口部を有し、前記複数の開口部は同一形状及び異なる形状のいずれであってもよく、前記保護層は前記帯状の被めっき材に前記マスク層を貼付すると同時若しくはその後に前記マスク層から剥離される。 The mask sheet of the present invention has a mask layer and a protective layer formed on the mask layer, and the mask layer has a plurality of openings corresponding to positions where a plating film is formed on a strip-shaped material to be plated. The plurality of openings may have the same shape or different shapes, and the protective layer is peeled off from the mask layer at the same time or after the mask layer is attached to the strip-shaped material to be plated.

また本発明のマスクシートは、マスク層と当該マスク層上に形成される第1の保護層と前記マスク層の前記保護層が形成される面と反対の面に形成される第2の保護層を有し、前記マスク層は帯状の被めっき材にめっき膜を形成する位置に対応する複数の開口部を有し、前記複数の開口部は同一形状及び異なる形状のいずれであってもよく、前記第2の保護層は前記帯状の被めっき材に前記マスク層を貼付すると同時若しくはその前に前記マスク層から剥離され、前記第1の保護層は前記帯状の被めっき材に前記マスク層を貼付すると同時若しくはその後に前記マスク層から剥離される。 Further, the mask sheet of the present invention has a mask layer, a first protective layer formed on the mask layer, and a second protective layer formed on a surface of the mask layer opposite to the surface on which the protective layer is formed. The mask layer has a plurality of openings corresponding to positions where a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated, and the plurality of openings may have the same shape or different shapes. The second protective layer is peeled off from the mask layer at the same time or before the mask layer is attached to the strip-shaped material to be plated, and the first protective layer is formed by applying the mask layer to the strip-shaped material to be plated. Upon application, it is peeled off from the mask layer at the same time or thereafter.

本発明の部分めっき材の製造方法は、前記帯状の被めっき材の少なくとも一方の面の任意の位置に前記マスクシートのマスク層を貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記マスク層を貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記マスク層を剥離する工程とを有し、前記マスク層の複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は1層以上であり、前記めっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成する。 The method for producing a partially plated material of the present invention includes a step of attaching the mask layer of the mask sheet to an arbitrary position on at least one surface of the strip-shaped plated material, and at least the mask layer of the strip-shaped plated material. The plating film is formed at a position corresponding to a plurality of openings of the mask layer, and has a step of forming a plating film on the surface to which the plating film is attached and a step of peeling off the mask layer. In the step of forming the plating film, the strip-shaped material to be plated is continuously fed in the longitudinal direction to continuously form the plating film on the strip-shaped material to be plated.

前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜を構成する金属は、同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい。 The metal constituting the plating film formed at positions corresponding to the plurality of openings may be the same metal or different metals.

前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は2層以上であり、前記めっき膜の各層を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい。 The plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings has two or more layers, and the metal constituting each layer of the plating film may be the same metal or a different metal.

本発明の部分めっき材の製造方法は、更に前記マスク層の複数の開口部のうち任意の開口部上に第2のマスクシートを貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記第2のマスクシートを剥離する工程とを有し、前記第2のマスクシートを貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記第2のマスクシートを剥離する工程とを各々1回以上行うようにしてもよい。 The method for producing a partially plated material of the present invention further comprises a step of attaching a second mask sheet onto an arbitrary opening among the plurality of openings of the mask layer, and at least the second of the strip-shaped material to be plated. It has a step of forming a plating film on the surface to which the mask sheet of No. 1 is attached and a step of peeling off the second mask sheet, and a step of attaching the second mask sheet and the strip-shaped material to be plated. The step of forming the plating film on the surface to which the second mask sheet is attached and the step of peeling off the second mask sheet may be performed at least once each.

前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成するようにしてもよい。 In the step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the second mask sheet is attached, the strip-shaped plating is continuously fed in the longitudinal direction to continuously feed the strip-shaped plating. The plating film may be formed on the material.

本発明の部分めっき方法は、帯状の被めっき材の少なくとも一方の面の任意の位置に前記マスク層を貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記マスク層を貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記マスク層を剥離する工程とを有し、前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は1層以上であり、前記めっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成する。 The partial plating method of the present invention includes a step of attaching the mask layer to an arbitrary position on at least one surface of the strip-shaped material to be plated, and a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer is attached. The plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings has one or more layers, and has a step of forming the plating film and a step of peeling off the mask layer. By continuously feeding the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction, the plating film is continuously formed on the strip-shaped material to be plated.

前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい。 The metal constituting the plating film formed at positions corresponding to the plurality of openings may be the same metal or different metals.

前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は2層以上であり、前記めっき膜の各層を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい。 The plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings has two or more layers, and the metal constituting each layer of the plating film may be the same metal or a different metal.

本発明の部分めっき方法は、更に前記マスクシートの複数の開口部のうち任意の開口部上に第2のマスクシートを貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記第2のマスクシートを剥離する工程とを有し、前記第2のマスクシートを貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記第2のマスクシートを剥離する工程とを各々1回以上行うようにしてもよい。 The partial plating method of the present invention further includes a step of attaching a second mask sheet onto an arbitrary opening among a plurality of openings of the mask sheet, and at least the second mask sheet of the strip-shaped material to be plated. It has a step of forming a plating film on the surface to which the plating film is attached and a step of peeling off the second mask sheet, and a step of attaching the second mask sheet and at least the first of the strip-shaped materials to be plated. The step of forming the plating film on the surface to which the second mask sheet is attached and the step of peeling off the second mask sheet may be performed once or more.

前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成するようにしてもよい。 In the step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the second mask sheet is attached, the strip-shaped plating is continuously fed in the longitudinal direction to continuously feed the strip-shaped plating. The plating film may be formed on the material.

本発明のマスクシート、部分めっき材の製造方法及び部分めっき方法は、既に使用者が保有するめっき装置を利用することができ、また位置合わせの精度が高く、容易に大きさ、形状及び間隔等が異なるめっき膜を形成することができる。 In the mask sheet, partial plating material manufacturing method and partial plating method of the present invention, the plating apparatus already owned by the user can be used, the alignment accuracy is high, and the size, shape, spacing, etc. can be easily obtained. Can form different plating films.

本発明の一実施形態(第1の実施形態)に係るマスクシートの一部を表す模式図(断面図)である。It is a schematic diagram (cross-sectional view) which shows a part of the mask sheet which concerns on one Embodiment (1st Embodiment) of this invention. 本発明の一実施形態(第1の実施形態)に係るマスクシートの一部を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows a part of the mask sheet which concerns on one Embodiment (1st Embodiment) of this invention. 本発明の一実施形態(第1の実施形態)に係るマスクシートの一部を表す模式図(斜視図)である。It is a schematic diagram (perspective view) which shows a part of the mask sheet which concerns on one Embodiment (1st Embodiment) of this invention. 本発明の一実施形態(第1の実施形態)の変形例に係るマスクシートの一部を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows a part of the mask sheet which concerns on the modification of one Embodiment (1st Embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係るマスクシートの一部を表す模式図(断面図)である。It is a schematic diagram (cross-sectional view) which shows a part of the mask sheet which concerns on other embodiment (second embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係るマスクシートの一部を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows a part of the mask sheet which concerns on other embodiment (second embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係るマスクシートの一部を表す模式図(斜視図)である。It is a schematic diagram (perspective view) which shows a part of the mask sheet which concerns on other embodiment (second embodiment) of this invention. 本発明の一実施形態(第1の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法に関し、帯状の被めっき材にマスク層を貼付した状態の一部を表す模式図(斜視図)である。It is a schematic diagram (perspective view) which shows a part of the state which the mask layer is attached to the strip-shaped material to be plated with respect to the manufacturing method of the partial plating material which concerns on one Embodiment (1st Embodiment) of this invention. 本発明の一実施形態(第1の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法により製造された部分めっき材の一部を表す模式図(斜視図)である。It is a schematic diagram (perspective view) which shows a part of the partial plating material manufactured by the manufacturing method of the partial plating material which concerns on one Embodiment (1st Embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法に関し、マスク層及び第2のマスクシートを貼付された帯状の被めっき材を表す模式図(平面図)である。Regarding the method for producing a partial plating material according to another embodiment (second embodiment) of the present invention, a schematic view (plan view) showing a strip-shaped material to be plated to which a mask layer and a second mask sheet are attached. is there. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係る部分めっき材の製造方造により製造された部分めっき材の一部を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows a part of the partial plating material manufactured by the manufacturing method of the partial plating material which concerns on another embodiment (second embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法の変形例に関し、マスク層及び第2のマスクシートを貼付された帯状の被めっき材を表す模式図(平面図)である。Regarding a modified example of the method for producing a partial plating material according to another embodiment (second embodiment) of the present invention, a schematic view (planar plan) showing a strip-shaped material to be plated to which a mask layer and a second mask sheet are attached. Figure). 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法の変形例に関し、第1回目のめっき膜の形成後の帯状の被めっき材を表す模式図(平面図)である。Regarding a modified example of the method for producing a partial plating material according to another embodiment (second embodiment) of the present invention, a schematic view (plan view) showing a strip-shaped material to be plated after the first formation of a plating film. Is. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法の変形例に関し、第2回目のめっき膜の形成後の帯状の被めっき材を表す模式図(平面図)である。Regarding a modified example of the method for producing a partial plating material according to another embodiment (second embodiment) of the present invention, a schematic view (plan view) showing a strip-shaped material to be plated after the formation of the second plating film. Is. 本発明の他の実施形態(第2の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法の変形例により製造された部分めっき材を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows the partial plating material manufactured by the modification of the manufacturing method of the partial plating material which concerns on another embodiment (second embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第3の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法に関し、マスク層1010を貼付された帯状の被めっき材を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows the strip-shaped plated material to which the mask layer 1010 is attached, with respect to the manufacturing method of the partial plating material which concerns on another embodiment (third embodiment) of this invention. 本発明の他の実施形態(第3の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法に関し、めっき膜1210(ニッケル及び金の2)を形成し、マスク層1110を貼付した帯状の被めっき材を表す模式図(平面図)である。Regarding the method for producing a partial plating material according to another embodiment (third embodiment) of the present invention, a strip-shaped material to be plated is formed by forming a plating film 1210 (nickel and gold 2) and attaching a mask layer 1110. It is a schematic diagram (plan view) to represent. 本発明の他の実施形態(第3の実施形態)に係る部分めっき材の製造方法により製造された部分めっき材を表す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows the partial plating material manufactured by the manufacturing method of the partial plating material which concerns on another embodiment (third embodiment) of this invention.

以下、本発明のマスクシート、部分めっき材の製造方法及び部分めっき方法の一実施形態について詳細に説明する。なお、本発明が以下の実施形態に限定されるものではないことはもとよりである。 Hereinafter, an embodiment of the mask sheet, the method for producing the partial plating material, and the partial plating method of the present invention will be described in detail. It goes without saying that the present invention is not limited to the following embodiments.

1.マスクシート
<第1の実施形態>
本実施形態に係るマスクシートの構成について、図1から図3を用いて説明する。
1. 1. Mask sheet <first embodiment>
The configuration of the mask sheet according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

図1に表すように、本実施形態に係るマスクシート100は、マスク層110とマスク層110上に形成される保護層120とを有する。 As shown in FIG. 1, the mask sheet 100 according to the present embodiment has a mask layer 110 and a protective layer 120 formed on the mask layer 110.

マスク層110は、例えば樹脂等の可撓性を有する材料からなり、フィルム状の樹脂であることが好ましい。当該樹脂としては、例えばポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂及びこれらの変性樹脂等が挙げられる。これらは単独でまたは複数を組み合わせて使用することができる。 The mask layer 110 is made of a flexible material such as a resin, and is preferably a film-like resin. Examples of the resin include polyethylene resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polypropylene resin, polyethylene resin, polyimide resin, acrylic resin, and modified resins thereof. These can be used alone or in combination of two or more.

マスク層110の厚みは適宜調整し得るが、例えば30μm以上150μm以下であることが好ましい。より好ましいその厚みは、例えば30μm以上100μm以下であり、40μm以上80μm以下が特に好ましい。
なお、マスク層110の大きさ(幅及び長さ)は、後述する帯状の被めっき材の大きさ(幅及び長さ)に合わせて調整することができる。
The thickness of the mask layer 110 can be adjusted as appropriate, but is preferably 30 μm or more and 150 μm or less, for example. More preferably, the thickness is, for example, 30 μm or more and 100 μm or less, and 40 μm or more and 80 μm or less is particularly preferable.
The size (width and length) of the mask layer 110 can be adjusted according to the size (width and length) of the strip-shaped material to be plated, which will be described later.

また図2及び図3に表すように、マスク層110は、帯状の被めっき材にめっき膜を形成する位置に対応する複数の開口部130を有する。
本実施形態においては、マスク層110に形成される開口部130の形状は同一形状(丸状)であるが、形成するめっき膜の形状に合わせてそれぞれを異なる形状にしてもよく、一部を同一形状にしてもよい。
また開口部130は、図4に表すように、各々異なる形状を有する開口部130a,130b,130c,130dを1単位とし、これを繰り返すように形成されてもよい。
このように、開口部130の形状、大きさ、数及び間隔等は用途に応じて適宜変更可能である。
Further, as shown in FIGS. 2 and 3, the mask layer 110 has a plurality of openings 130 corresponding to positions where a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated.
In the present embodiment, the shape of the opening 130 formed in the mask layer 110 is the same shape (round shape), but each may be different in shape according to the shape of the plating film to be formed, and a part thereof may be formed. It may have the same shape.
Further, as shown in FIG. 4, the opening 130 may be formed so as to have openings 130a, 130b, 130c, 130d having different shapes as one unit and repeating the same.
As described above, the shape, size, number, spacing, etc. of the openings 130 can be appropriately changed depending on the application.

なお、本実施形態においてはマスク層110に位置決め孔140を形成したが、位置決め孔の形成は任意であって、本発明には図4のようにマスク層110に位置決め孔を形成していないマスクシートも当然含まれる。 In the present embodiment, the positioning hole 140 is formed in the mask layer 110, but the formation of the positioning hole is arbitrary, and in the present invention, the mask in which the positioning hole is not formed in the mask layer 110 as shown in FIG. Of course, the sheet is also included.

保護層120は、例えば樹脂等の可撓性を有する材料からなり、フィルム状の樹脂であることが好ましい。当該樹脂としては、例えばポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂及びこれらの変性樹脂等が挙げられる。これらは単独でまたは複数を組み合わせて使用することができる。 The protective layer 120 is made of a flexible material such as a resin, and is preferably a film-like resin. Examples of the resin include polyethylene resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polypropylene resin, polyethylene resin, polyimide resin, acrylic resin, and modified resins thereof. These can be used alone or in combination of two or more.

保護層120の厚みは適宜調整し得るが、例えば30μm以上150μm以下であることが好ましい。より好ましいその厚みは、例えば30μm以上100μm以下であり、40μm以上80μm以下が特に好ましい。
なお、保護層120の大きさ(幅及び長さ)は、マスク層110の大きさ(幅及び長さ)に合わせて調整することができる。
The thickness of the protective layer 120 can be adjusted as appropriate, but is preferably 30 μm or more and 150 μm or less, for example. More preferably, the thickness is, for example, 30 μm or more and 100 μm or less, and 40 μm or more and 80 μm or less is particularly preferable.
The size (width and length) of the protective layer 120 can be adjusted according to the size (width and length) of the mask layer 110.

なお、図2及び図3に表すようにマスクシート100には、保護層120にも開口部を形成したが、保護層120への開口部の形成は任意であって、本発明には保護層120に開口部を形成していないマスクシートも当然含まれる。 As shown in FIGS. 2 and 3, the mask sheet 100 also has an opening formed in the protective layer 120, but the formation of the opening in the protective layer 120 is optional, and the protective layer in the present invention. Of course, a mask sheet having no opening formed in 120 is also included.

更に本実施形態においては保護層120にも位置決め孔を形成したが、当該位置決め孔の形成は任意であって、本発明には保護層120に位置決め孔を形成していないマスクシートも当然含まれる。 Further, in the present embodiment, positioning holes are also formed in the protective layer 120, but the formation of the positioning holes is arbitrary, and the present invention naturally includes a mask sheet in which the protective layer 120 does not have positioning holes. ..

本実施形態のマスクシートは、例えば、以下の方法により作製される。 The mask sheet of the present embodiment is produced, for example, by the following method.

まず、樹脂フィルムからなり、一方の面に粘着剤からなる第1の粘着層を有する保護層120を、マスク層110の片面に、第1の粘着層がマスク層110の表面に接するよう、これを貼り合わせる。
なお、マスク層110の他の面(保護層120と接していない面)には粘着剤からなる第2の粘着層を形成してもよい。後述するように、帯状の被めっき材にマスク層110を貼付する際には、当該帯状の被めっき材の少なくとも一方の面に第2の粘着層が接するようにマスク層110を貼付し得る。
First, a protective layer 120 made of a resin film and having a first adhesive layer made of an adhesive on one side thereof is placed on one side of the mask layer 110 so that the first adhesive layer is in contact with the surface of the mask layer 110. Paste together.
A second adhesive layer made of an adhesive may be formed on the other surface of the mask layer 110 (the surface that is not in contact with the protective layer 120). As will be described later, when the mask layer 110 is attached to the strip-shaped material to be plated, the mask layer 110 can be attached so that the second adhesive layer is in contact with at least one surface of the strip-shaped material to be plated.

マスク層110への開口部130の形成は、例えばマスク層110にフィルムカッター等を用いて開口部130を形成し、その後、開口部130が形成されたマスク層110と保護層120を貼り合わせてもよい。
またマスク層110と保護層120とを貼り合わせた後に、フィルムカッターを用いてマスク層110に開口部130を形成してもよい。この場合、保護層120も貫通するようにマスク層110に開口部130を形成してもよく、またマスク層110にのみ開口部130が形成されるよう、保護層120の形成されていない面側から加工を行ってもよい。
工程や作業の簡素化の面から、マスク層110と保護層120とを貼り合わせた後、保護層120も貫通するようにマスク層110に開口部130を形成する方法が好ましく用いられる。
To form the opening 130 in the mask layer 110, for example, the opening 130 is formed in the mask layer 110 using a film cutter or the like, and then the mask layer 110 in which the opening 130 is formed and the protective layer 120 are bonded together. May be good.
Further, after the mask layer 110 and the protective layer 120 are bonded together, the opening 130 may be formed in the mask layer 110 by using a film cutter. In this case, the opening 130 may be formed in the mask layer 110 so as to penetrate the protective layer 120, and the surface side on which the protective layer 120 is not formed so that the opening 130 is formed only in the mask layer 110. It may be processed from.
From the viewpoint of simplifying the process and work, a method is preferably used in which the mask layer 110 and the protective layer 120 are bonded together, and then the opening 130 is formed in the mask layer 110 so as to penetrate the protective layer 120 as well.

マスクシート100においては、保護層120は帯状の被めっき材にマスク層110を貼付するのと同時若しくはその後にマスク層110から剥離される。このようにすることで、マスクシート100はマスク層110の開口部130の形状を保持しつつ、マスク層110を帯状の被めっき材に貼付することができる。 In the mask sheet 100, the protective layer 120 is peeled off from the mask layer 110 at the same time as or after the mask layer 110 is attached to the strip-shaped material to be plated. By doing so, the mask sheet 100 can attach the mask layer 110 to the strip-shaped material to be plated while maintaining the shape of the opening 130 of the mask layer 110.

即ち、帯状の被めっき材にマスク層110を貼付する際、マスク層110には特に長手方向への引張応力が発生し易い。そしてマスク層110は開口部130を有しているため延伸し易く、更にこの引張応力によりマスク層110が延伸してしまうと開口部130の形状が変形してしまい、帯状の被めっき材に所望の形状のめっき膜を形成できなくなったり、所望の位置にめっき膜を形成できなくなってしまう虞がある。 That is, when the mask layer 110 is attached to the strip-shaped material to be plated, tensile stress in the longitudinal direction is particularly likely to occur in the mask layer 110. Since the mask layer 110 has an opening 130, it is easy to stretch, and if the mask layer 110 is stretched by this tensile stress, the shape of the opening 130 is deformed, which is desirable for a strip-shaped material to be plated. There is a risk that the plating film having the same shape cannot be formed or the plating film cannot be formed at a desired position.

特にマスク層110を連続して帯状の被めっき材へ貼付する装置を使用する場合、マスク層110には大きな力(張力)がかかり得る。
また帯状の被めっき材へのめっき膜の形成には、当該帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続してめっき膜を形成する装置(連続めっき装置)を使用することが一般的である。そしてマスク層110は、例えば帯状の被めっき材を連続めっき装置にて長手方向に連続する過程で当該帯状の被めっき材に貼付することもできる。しかしこの場合もマスク層110には大きな力(張力)がかかり得る。
In particular, when a device for continuously attaching the mask layer 110 to the strip-shaped material to be plated is used, a large force (tension) may be applied to the mask layer 110.
Further, in order to form a plating film on a strip-shaped material to be plated, it is common to use a device (continuous plating device) for continuously forming a plating film by continuously feeding the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction. Is the target. Then, the mask layer 110 can be attached to the strip-shaped material to be plated, for example, in the process of continuously attaching the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction by a continuous plating apparatus. However, even in this case, a large force (tension) can be applied to the mask layer 110.

しかしながらマスクシート100は、上述の通り、マスク層110を帯状の被めっき材に貼付する際または貼付した後に保護層120をマスク層110から剥離するため、保護層120がマスク層110における引張応力による延伸を抑制することができ、開口部130の変形を抑制することができる。 However, as described above, in the mask sheet 100, the protective layer 120 is peeled off from the mask layer 110 when the mask layer 110 is attached to or after the strip-shaped material to be plated, so that the protective layer 120 is affected by the tensile stress in the mask layer 110. Stretching can be suppressed, and deformation of the opening 130 can be suppressed.

このように、マスクシート100はマスク層110の延伸や開口部130の変形を抑制し得ることから、帯状の被めっき材に形成するめっき膜の形状、位置の精度を向上することができる。 As described above, since the mask sheet 100 can suppress the stretching of the mask layer 110 and the deformation of the opening 130, the accuracy of the shape and position of the plating film formed on the strip-shaped material to be plated can be improved.

なお、マスクシート100は、帯状であることが好ましい。またその短手方向の幅は帯状の被めっき材と同じ、若しくはそれよりも短いことが好ましい。 The mask sheet 100 is preferably strip-shaped. Further, the width in the lateral direction is preferably the same as or shorter than that of the strip-shaped material to be plated.

<第2の実施形態>
本実施形態に係るマスクシートの構成について、図5から図7を用いて説明する。
<Second embodiment>
The configuration of the mask sheet according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 7.

図5に表すように、本実施形態に係るマスクシート200は、マスク層210と、マスク層210上に形成される第1の保護層220と、マスク層210の保護層220が形成される面と反対の面に形成される第2の保護層230を有する。 As shown in FIG. 5, the mask sheet 200 according to the present embodiment has a mask layer 210, a first protective layer 220 formed on the mask layer 210, and a surface on which the protective layer 220 of the mask layer 210 is formed. It has a second protective layer 230 formed on the opposite surface to the surface.

マスク層210は、マスク層110と同様の構成とすることができる。 The mask layer 210 can have the same configuration as the mask layer 110.

マスク層210の厚みは適宜調整し得るが、例えば30μm以上150μm以下であることが好ましい。より好ましいその厚みは、例えば30μm以上100μm以下であり、40μm以上80μm以下が特に好ましい。
なお、マスク層210の大きさ(幅及び長さ)は、後述する帯状の被めっき材の大きさ(幅及び長さ)に合わせて調整することができる。
The thickness of the mask layer 210 can be adjusted as appropriate, but is preferably 30 μm or more and 150 μm or less, for example. More preferably, the thickness is, for example, 30 μm or more and 100 μm or less, and 40 μm or more and 80 μm or less is particularly preferable.
The size (width and length) of the mask layer 210 can be adjusted according to the size (width and length) of the strip-shaped material to be plated, which will be described later.

また図6及び図7に表すように、マスク層210は、帯状の被めっき材にめっき膜を形成する位置に対応する複数の開口部240を有する。
本実施形態においては、マスク層210に形成される開口部240の形状は同一形状(丸状)であるが、形成するめっき膜の形状に合わせてそれぞれを異なる形状にしてもよく、一部を同一形状にしてもよい。
また開口部240は、第1の実施形態の変形例における開口部130と同様に、各々異なる形状を有する開口部を1単位とし、これを繰り返すように形成されてもよい。
このように、開口部240の形状、大きさ、数及び間隔等は用途に応じて適宜変更可能である。
Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the mask layer 210 has a plurality of openings 240 corresponding to positions where a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated.
In the present embodiment, the shape of the opening 240 formed in the mask layer 210 is the same shape (round shape), but each may be different in shape according to the shape of the plating film to be formed, and a part thereof may be formed. It may have the same shape.
Further, the opening 240 may be formed so as to have an opening having a different shape as one unit and repeating the same as the opening 130 in the modified example of the first embodiment.
As described above, the shape, size, number, spacing, etc. of the openings 240 can be appropriately changed depending on the application.

なお、本実施形態においてはマスク層210に位置決め孔250を形成したが、位置決め孔の形成は任意であって、本発明にはマスク層210に位置決め孔を形成していないマスクシートも当然含まれる。 In the present embodiment, the positioning holes 250 are formed in the mask layer 210, but the formation of the positioning holes is arbitrary, and the present invention naturally includes a mask sheet in which the positioning holes are not formed in the mask layer 210. ..

第1の保護層220は、保護層120と同様の構成とすることができる。 The first protective layer 220 can have the same configuration as the protective layer 120.

第1の保護層220の厚みは適宜調整し得るが、例えば30μm以上150μm以下であることが好ましい。より好ましいその厚みは、例えば30μm以上100μm以下であり、40μm以上80μm以下が特に好ましい。
なお、第1の保護層220の大きさ(幅及び長さ)は、マスク層210の大きさ(幅及び長さ)に合わせて調整することができる。
The thickness of the first protective layer 220 can be adjusted as appropriate, but is preferably 30 μm or more and 150 μm or less, for example. More preferably, the thickness is, for example, 30 μm or more and 100 μm or less, and 40 μm or more and 80 μm or less is particularly preferable.
The size (width and length) of the first protective layer 220 can be adjusted according to the size (width and length) of the mask layer 210.

なお、図6及び図7にも表すようにマスクシート200は、第1の保護層220にも開口部を形成したが、第1の保護層220への開口部の形成は任意であって、本発明には第1の保護層220に開口部を形成していないマスクシートも当然含まれる。 As shown in FIGS. 6 and 7, the mask sheet 200 also formed an opening in the first protective layer 220, but the formation of the opening in the first protective layer 220 is optional. The present invention naturally includes a mask sheet in which an opening is not formed in the first protective layer 220.

更に本実施形態においては第1の保護層220にも位置決め孔を形成したが、当該位置決め孔の形成は任意であって、本発明には第1の保護層220に位置決め孔を形成していないマスクシートも当然含まれる。 Further, in the present embodiment, the positioning hole is also formed in the first protective layer 220, but the formation of the positioning hole is arbitrary, and the positioning hole is not formed in the first protective layer 220 in the present invention. Of course, a mask sheet is also included.

第2の保護層230は、保護層120及び第1の保護層210と同様の構成とすることができる。 The second protective layer 230 can have the same configuration as the protective layer 120 and the first protective layer 210.

第2の保護層230の厚みは適宜調整し得るが、例えば30μm以上150μm以下であることが好ましい。より好ましいその厚みは、例えば30μm以上100μm以下であり、40μm以上80μm以下が特に好ましい。
なお、第2の保護層230の大きさ(幅及び長さ)は、マスク層210の大きさ(幅及び長さ)に合わせて調整することができる。
The thickness of the second protective layer 230 can be adjusted as appropriate, but is preferably 30 μm or more and 150 μm or less, for example. More preferably, the thickness is, for example, 30 μm or more and 100 μm or less, and 40 μm or more and 80 μm or less is particularly preferable.
The size (width and length) of the second protective layer 230 can be adjusted according to the size (width and length) of the mask layer 210.

なお、図6及び図7にも表すようにマスクシート200は、第2の保護層230にも開口部を形成したが、第2の保護層230への開口部の形成は任意であって、本発明には第2の保護層230に開口部を形成していないマスクシートも当然含まれる。 As shown in FIGS. 6 and 7, the mask sheet 200 also formed an opening in the second protective layer 230, but the formation of the opening in the second protective layer 230 is optional. The present invention naturally includes a mask sheet in which an opening is not formed in the second protective layer 230.

更に本実施形態においては第2の保護層230にも位置決め孔を形成したが、当該位置決め孔の形成は任意であって、本発明には第2の保護層230に位置決め孔を形成していないマスクシートも当然含まれる。 Further, in the present embodiment, the positioning hole is also formed in the second protective layer 230, but the formation of the positioning hole is arbitrary, and the positioning hole is not formed in the second protective layer 230 in the present invention. Of course, a mask sheet is also included.

本実施形態のマスクシートは、例えば、以下の方法により作製される。 The mask sheet of the present embodiment is produced, for example, by the following method.

まず、樹脂フィルムからなり、一方の面に粘着剤からなる第1の粘着層を有する保護層220を、マスク層210の片面に、第1の粘着層がマスク層210の表面に接するよう、これを貼り合わせる。 First, a protective layer 220 made of a resin film and having a first adhesive layer made of an adhesive on one side thereof is placed on one side of the mask layer 210 so that the first adhesive layer is in contact with the surface of the mask layer 210. Paste together.

またマスク層210の他の面(第1の保護層220と接していない面)には粘着剤からなる第2の粘着層が形成されており、第2の接着層が第2の保護層230の一方の面に接するように、これにマスク層210を貼り合わせる。
そして帯状の被めっき材にマスク層210を貼付する際には、当該帯状の被めっき材の少なくとも一方の面に第2の粘着層が接するようにマスク層210を貼付し得る。
A second adhesive layer made of an adhesive is formed on the other surface of the mask layer 210 (the surface that is not in contact with the first protective layer 220), and the second adhesive layer is the second protective layer 230. The mask layer 210 is attached to this so that it touches one surface.
When the mask layer 210 is attached to the strip-shaped material to be plated, the mask layer 210 can be attached so that the second adhesive layer is in contact with at least one surface of the strip-shaped material to be plated.

なお、第1の保護層220と第2の保護層230をそれぞれマスク層210い貼り合わせるタイミングは適宜変更でき、両方を同時に、若しくはいずれかを先にマスク層210に貼り合わせることができる。 The timing of attaching the first protective layer 220 and the second protective layer 230 to the mask layer 210 can be changed as appropriate, and both can be attached to the mask layer 210 at the same time or either of them can be attached to the mask layer 210 first.

マスク層210への開口部240の形成は、例えばマスク層210にフィルムカッター等を用いて開口部240を形成し、その後、開口部240が形成されたマスク層210と第1の保護層220と第2の保護層230とを貼り合わせてもよい。
またマスク層210と、第1の保護層220及び第2の保護層230の少なくとも一方を貼り合わせた後に、フィルムカッターを用いてマスク層210に開口部240を形成してもよい。この場合、少なくとも第1の保護層220も貫通するようにマスク層210に開口部240を形成してもよい。
工程や作業の簡素化の面から、マスク層210と第1の保護層220及び第2の保護層230とを貼り合わせた後、少なくとも第1の保護層220も貫通するようにマスク層210に開口部240を形成する方法が好ましく用いられる。このようにすることで、開口部240を形成する際のマスク層210の切り損じ(ミスカット)を抑制することができ、精度の高い開口部240を形成することができる。
To form the opening 240 in the mask layer 210, for example, the opening 240 is formed in the mask layer 210 using a film cutter or the like, and then the mask layer 210 in which the opening 240 is formed and the first protective layer 220 are formed. The second protective layer 230 may be attached.
Further, after the mask layer 210 and at least one of the first protective layer 220 and the second protective layer 230 are bonded together, an opening 240 may be formed in the mask layer 210 by using a film cutter. In this case, the opening 240 may be formed in the mask layer 210 so as to penetrate at least the first protective layer 220.
From the viewpoint of simplifying the process and work, after the mask layer 210, the first protective layer 220 and the second protective layer 230 are bonded to each other, the mask layer 210 is formed so as to penetrate at least the first protective layer 220. A method of forming the opening 240 is preferably used. By doing so, it is possible to suppress cutting damage (miscut) of the mask layer 210 when forming the opening 240, and it is possible to form the opening 240 with high accuracy.

本実施形態のマスクシートにおいては、第2の保護層230は帯状の被めっき材にマスク層210を貼付するのと同時若しくはその前にマスク層210から剥離される。 In the mask sheet of the present embodiment, the second protective layer 230 is peeled off from the mask layer 210 at the same time as or before the mask layer 210 is attached to the strip-shaped material to be plated.

また第1の保護層220は帯状の被めっき材にマスク層210を貼付するのと同時若しくはその後にマスク層210から剥離される。このようにすることで、マスク層210は、開口部240の形状を保持しつつ、マスク層210を帯状の被めっき材に貼付することができる。 Further, the first protective layer 220 is peeled off from the mask layer 210 at the same time as or after the mask layer 210 is attached to the strip-shaped material to be plated. By doing so, the mask layer 210 can attach the mask layer 210 to the strip-shaped material to be plated while maintaining the shape of the opening 240.

即ち、帯状の被めっき材にマスク層210を貼付する際、マスク層210には、特に長手方向への引張応力が発生し易い。そしてマスク層210は開口部240を有しているため延伸し易く、更にこの引っ張応力によりマスク層210が延伸してしまうと開口部240の形状が変形してしまい、帯状の被めっき材に所望の形状のめっき膜を形成できなくなったり、所望の位置にめっき膜を形成できなくなってしまう虞がある。 That is, when the mask layer 210 is attached to the strip-shaped material to be plated, tensile stress is likely to be generated in the mask layer 210 particularly in the longitudinal direction. Since the mask layer 210 has an opening 240, it is easy to stretch, and if the mask layer 210 is stretched due to this tensile stress, the shape of the opening 240 is deformed, which is desirable for a strip-shaped material to be plated. There is a risk that the plating film having the same shape cannot be formed or the plating film cannot be formed at a desired position.

特にマスク層210を連続して帯状の被めっき材へ貼付する装置を使用する場合、マスク層210には大きな力(張力)がかかり得る。
また帯状の被めっき材へのめっき膜の形成には、当該帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続してめっき膜を形成する装置(連続めっき装置)を使用することが一般的である。そしてマスク層210は、例えば帯状の被めっき材を連続めっき装置にて長手方向に連続する過程で当該帯状の被めっき材に貼付することもできる。しかしこの場合もマスク層210には大きな力(張力)がかかり得る。
In particular, when a device for continuously attaching the mask layer 210 to the strip-shaped material to be plated is used, a large force (tension) may be applied to the mask layer 210.
Further, in order to form a plating film on a strip-shaped material to be plated, it is common to use a device (continuous plating device) for continuously forming a plating film by continuously feeding the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction. Is the target. The mask layer 210 can also be attached to the strip-shaped material to be plated, for example, in a process in which the strip-shaped material to be plated is continuously formed in the longitudinal direction by a continuous plating apparatus. However, even in this case, a large force (tension) can be applied to the mask layer 210.

しかしながらマスクシート200は、上述の通り、マスク層210を帯状の被めっき材に貼付する際または貼付した後に第1の保護層220をマスク層210から剥離するため、第1の保護層220がマスク層210における引張応力による延伸を抑制することができ、開口部240の変形を抑制することができる。 However, as described above, in the mask sheet 200, when the mask layer 210 is attached to the strip-shaped material to be plated, or after the application, the first protective layer 220 is peeled off from the mask layer 210, so that the first protective layer 220 masks. Stretching due to tensile stress in the layer 210 can be suppressed, and deformation of the opening 240 can be suppressed.

このように、マスクシート200はマスク層210の延伸や開口部240の変形を抑制し得ることから、帯状の被めっき材に形成するめっき膜の形状、位置の精度を向上することができる。 As described above, since the mask sheet 200 can suppress the stretching of the mask layer 210 and the deformation of the opening 240, the accuracy of the shape and position of the plating film formed on the strip-shaped material to be plated can be improved.

なお、マスクシート200は、帯状であることが好ましい。またその短手方向の幅は帯状の被めっき材と同じ、若しくはそれよりも短いことが好ましい。 The mask sheet 200 is preferably strip-shaped. Further, the width in the lateral direction is preferably the same as or shorter than that of the strip-shaped material to be plated.

2.部分めっき材の製造方法
<第1の実施形態>
本実施形態に係る部分めっき材の製造方法で使用する被めっき材は、帯状のものが好ましく用いられる。当該帯状の被めっき材の材質は特に限定はされず、銅、鉄及びステンレス等を適宜使用することができる。
なお、前記帯状の被めっき材には、予め下地めっきを施しておいてもよく、マスクシートのマスク層と位置合わせをするための位置決め孔を形成しておいてもよい。
2. 2. Manufacturing Method of Partial Plating Material <First Embodiment>
As the material to be plated used in the method for producing a partial plating material according to the present embodiment, a strip-shaped material is preferably used. The material of the strip-shaped material to be plated is not particularly limited, and copper, iron, stainless steel, or the like can be appropriately used.
The strip-shaped material to be plated may be subjected to base plating in advance, or positioning holes for alignment with the mask layer of the mask sheet may be formed.

なお本実施形態においては、マスク層を前記帯状の被めっき材の任意の位置に貼付することができる。即ち、マスク層は前記帯状の被めっき材の全体を覆うように貼付してもよく、前記帯状の被めっき材の一部分を覆うように貼付してもよい。 In the present embodiment, the mask layer can be attached to an arbitrary position of the strip-shaped material to be plated. That is, the mask layer may be attached so as to cover the entire strip-shaped material to be plated, or may be attached so as to cover a part of the strip-shaped material to be plated.

本実施形態の部分めっき材の製造方法においては、先ず、前記帯状の被めっき材の少なくとも一方の面にマスク層を貼付する。当該マスク層を貼付する前記帯状の被めっき材の面は任意に選択され、片面であっても両面であってもいずれでもよい。
また、前記帯状の被めっき材と前記マスク層とは、前記帯状の被めっき材に形成された位置決め孔と、前記マスク層に形成された位置決め孔とが合致するように貼付することができる。なお両者に位置決め孔を形成しない場合、例えば前記帯状の被めっき材と前記マスク層の初端と、当該マスク層の初端から最も近い位置にある前記開口部の位置とを、形成するめっき膜が所望の間隔及び位置等となるように位置決めし、これに合わせて前記マスク層を前記帯状の被めっき材の表面に貼付するようにしてもよい。
In the method for producing a partial plating material of the present embodiment, first, a mask layer is attached to at least one surface of the strip-shaped material to be plated. The surface of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer is attached is arbitrarily selected, and may be either single-sided or double-sided.
Further, the strip-shaped material to be plated and the mask layer can be attached so that the positioning holes formed in the strip-shaped material to be plated and the positioning holes formed in the mask layer match. When no positioning holes are formed in both, for example, a plating film that forms the strip-shaped material to be plated, the initial end of the mask layer, and the position of the opening closest to the initial end of the mask layer. May be positioned so as to have a desired interval and position, and the mask layer may be attached to the surface of the strip-shaped material to be plated accordingly.

なお、本実施形態においては、前記マスク層の前記帯状の被めっき材への貼付位置調整を画像センサを使用した寸法検査により行うことができる。
このような位置調整は、パイロットを用いて行うことが多いが、パイロットを使用すると工程が複雑であり、またパイロットを引き上げる際にパイロットがパイロット穴にひっかかるというリスクもある。しかし上述のような画像センサを使用した寸法検査を用いた位置調整であれば、複雑な工程を省略でき、部分めっき材の製造に要する時間及びコスト等を低減することができる。
In the present embodiment, the position of the mask layer to be attached to the strip-shaped material to be plated can be adjusted by a dimensional inspection using an image sensor.
Such position adjustment is often performed by using a pilot, but using a pilot complicates the process, and there is a risk that the pilot may get caught in the pilot hole when pulling up the pilot. However, if the position adjustment is performed by using the dimensional inspection using the image sensor as described above, a complicated process can be omitted, and the time and cost required for manufacturing the partial plating material can be reduced.

以下、前記マスク層を貼付された前記帯状の被めっき材の一実施形態を図8を用いて説明する。
図8に表すように、帯状の被めっき材300の上面にマスク層110が貼付されている。マスク層110は複数の開口部130を有しているため、帯状の被めっき材300のうち、開口部130に対応する部分にのみ、めっき膜を形成することができる。
なお、本実施形態においては、マスク層110に形成される開口部130の形状は同一形状(丸状)であるが、形成するめっき膜の形状に合わせてそれぞれを異なる形状にしてもよく、一部を同一形状にしてもよい。
Hereinafter, an embodiment of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer is attached will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 8, the mask layer 110 is attached to the upper surface of the strip-shaped material to be plated 300. Since the mask layer 110 has a plurality of openings 130, the plating film can be formed only on the portion of the strip-shaped material to be plated 300 corresponding to the openings 130.
In the present embodiment, the shape of the opening 130 formed in the mask layer 110 is the same shape (round shape), but each may be different in shape according to the shape of the plating film to be formed. The portions may have the same shape.

そして、マスク層110が貼付された帯状の被めっき材300にめっき膜を形成する。当該めっき膜の形成に使用する装置としては、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続してめっき膜を形成し得るものであればいずれも好適に使用することができる。まためっき方法としても、めっき層に浸漬する方法、スプレーを噴射する方法、無電解めっきを施す方法のいずれも好適に用いることができる。
このように、本実施形態の部分めっき材の製造方法は、めっき膜の形成方法を選ぶことなく、被めっき材の必要な位置にめっき膜を形成することができるため、既に使用者が保有するめっき装置を利用することができ、非常に経済的である。
Then, a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 110 is attached. As the apparatus used for forming the plating film, any device that can continuously form the plating film by continuously feeding the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction can be preferably used. Further, as the plating method, any of a method of immersing in a plating layer, a method of spraying, and a method of performing electroless plating can be preferably used.
As described above, the method for producing the partial plating material of the present embodiment is already possessed by the user because the plating film can be formed at a required position of the material to be plated without selecting the method for forming the plating film. Plating equipment can be used and it is very economical.

またマスク層110の開口部130の大きさ、形状及び間隔等を変更すれば、形成するめっき膜の大きさ、形状及び間隔等を容易に変更することができる。即ち、例えば図4に開示されるように異なる形状の開口部130a,130b,130c,130dを有するマスク層110を有するマスクシート100のように、それぞれ異なった形状、大きさ及び間隔の各開口部を有するマスク層110を有するマスクシート100を使用することにより、この各開口部に対応するそれぞれ異なった形状、大きさ及び間隔のめっき膜を部分的に前記被めっき材の表面に形成することができる。
このように、本実施形態の部分めっき材の製造方法は、マスク層の開口部の形状等を変更するだけで、めっき膜の形状等を適宜変更でき、また例えばマスク層に形成される開口部の形状等を途中から変更する、その一部のみを変更することが容易に行えるため、試作品や小ロットの部品生産に好適に使用することができる。
Further, by changing the size, shape, spacing, etc. of the openings 130 of the mask layer 110, the size, shape, spacing, etc. of the plating film to be formed can be easily changed. That is, for example, as disclosed in FIG. 4, each opening having a different shape, size, and spacing, such as a mask sheet 100 having a mask layer 110 having openings 130a, 130b, 130c, and 130d having different shapes. By using the mask sheet 100 having the mask layer 110 having the above-mentioned, plating films having different shapes, sizes and intervals corresponding to the respective openings can be partially formed on the surface of the material to be plated. it can.
As described above, in the method for producing the partial plating material of the present embodiment, the shape of the plating film and the like can be appropriately changed only by changing the shape of the opening of the mask layer, and the opening formed in the mask layer, for example. Since it is possible to easily change the shape and the like of the above, and only a part of the shape, it can be suitably used for the production of prototypes and small lot parts.

また本実施形態においては、前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜を1層以上とすることができる。
前記めっき膜を複数層(多層めっき)とする方法としては、例えばマスク層110を貼付した帯状の被めっき材300へのめっき膜の形成工程を複数回行う方法が挙げられる。この際、各層を形成するめっき膜を構成する金属は、同じであってもよく、また異なるものであってもよい。即ち、例えば第1層目のめっき膜をニッケルを用いて形成し、第2層目のめっき膜を金を用いて形成し得る。なお、第1層目のめっき膜と第2層目のめっき膜は、連続して形成することができる。
このように、本実施形態の部分めっき材の製造方法は、複数層のめっき膜を容易に且つ連続的に精度高く形成することができる。
Further, in the present embodiment, the plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings may be one or more layers.
Examples of the method of forming the plating film into a plurality of layers (multilayer plating) include a method of forming a plating film on a strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 110 is attached a plurality of times. At this time, the metals forming the plating film forming each layer may be the same or different. That is, for example, the plating film of the first layer can be formed using nickel, and the plating film of the second layer can be formed using gold. The plating film of the first layer and the plating film of the second layer can be continuously formed.
As described above, the method for producing a partial plating material of the present embodiment can easily and continuously form a plurality of layers of plating films with high accuracy.

更には上述の通り、本実施形態においては、マスク層110を帯状の被めっき材300の任意の位置に貼付することができる。そのため、例えば帯状の被めっき材300の一部にマスク層110を貼付し、それ以外の部分に開口部を有さないマスクシートを貼付してニッケルからなるめっき膜を形成し、その後、前記開口部を有さないマスクシートを剥離し、その部分に別の開口部を有するマスク層(図示せず)を貼付して更に銀からなるめっき膜を形成する工程を行うことができる。このようにして製造された部分めっき材は、一部のめっき膜を第1層目がニッケルめっき膜で第2層目が銀めっき膜の多層めっき膜とし、他の一部のめっき層を銀めっき膜の単層めっき膜とすることができる。
このように、帯状の被めっき材300の表面に貼付するマスク層110は、帯状の被めっき材300の全てを覆う必要はなく、また連続的に貼付されていなくともよく、更には複数のマスク層(を有するマスクシート)を使用することもできる。
Further, as described above, in the present embodiment, the mask layer 110 can be attached to an arbitrary position of the strip-shaped material to be plated 300. Therefore, for example, the mask layer 110 is attached to a part of the strip-shaped material to be plated 300, and a mask sheet having no opening is attached to the other part to form a plating film made of nickel, and then the opening. A step of peeling off a mask sheet having no portion and attaching a mask layer (not shown) having another opening to the portion to further form a plating film made of silver can be performed. In the partial plating material produced in this manner, a part of the plating film is a multi-layer plating film in which the first layer is a nickel plating film and the second layer is a silver plating film, and some other plating layers are silver. It can be a single-layer plating film of a plating film.
As described above, the mask layer 110 to be attached to the surface of the strip-shaped material to be plated 300 does not have to cover all of the strip-shaped material to be plated 300, does not have to be continuously attached, and further, a plurality of masks. Layers (mask sheets with) can also be used.

そして所望のめっき膜を形成し、帯状の被めっき材300からマスク層110(または他のマスクシート、他のマスク層)を剥離する。 Then, a desired plating film is formed, and the mask layer 110 (or another mask sheet or other mask layer) is peeled off from the strip-shaped material to be plated 300.

なお、本実施形態においては、マスク層110に位置決め孔140を形成したが、これを形成していないマスク層110を用いてもよい。 In the present embodiment, the mask layer 110 is formed with the positioning hole 140, but the mask layer 110 without the positioning hole 140 may be used.

図8に表したマスク層110を貼付された帯状の被めっき材300に前記めっき膜を形成することにより製造された部分めっき材400を図9を用いて説明する。 A partial plating material 400 manufactured by forming the plating film on a strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 110 shown in FIG. 8 is attached will be described with reference to FIG.

図9に表すように、部分めっき材400の上面には、マスク層110の複数の開口部130に対応する部分にのみ、めっき膜410が形成されている。
なお、このめっき膜410は、それぞれ同一の金属から形成されてもよく、異なる金属から形成されていてもよい。
また、めっき膜410は、それぞれ1層であっても複数層であってもよく、更にはめっき膜410のうち、複数層であるものの各層を構成する金属は同一であってもよく、異なる金属であってもよい。
As shown in FIG. 9, a plating film 410 is formed on the upper surface of the partial plating material 400 only at a portion corresponding to the plurality of openings 130 of the mask layer 110.
The plating film 410 may be formed of the same metal or may be formed of different metals.
Further, the plating film 410 may be one layer or a plurality of layers, and further, among the plating films 410, although the plating film 410 is a plurality of layers, the metal constituting each layer may be the same, or different metals. It may be.

本実施形態においては、帯状の被めっき材300(部分めっき材400)の片面にめっき膜410を形成したが、その両面に同様のめっき膜を形成してもよいことはもちろんである。 In the present embodiment, the plating film 410 is formed on one side of the strip-shaped material to be plated 300 (partial plating material 400), but it goes without saying that the same plating film may be formed on both sides thereof.

また上述と同様の手順にて、本実施形態に係る部分めっき方法を行うことができる。 Further, the partial plating method according to the present embodiment can be performed by the same procedure as described above.

<第2の実施形態>
本実施形態に係る部分めっき材の製造方法で使用する帯状の被めっき材及びマスク層は、第1の実施形態に使用するものと同様のものであっても、異なるものであっても、いずれをも使用することができる。
<Second embodiment>
The strip-shaped material to be plated and the mask layer used in the method for producing the partial plating material according to the present embodiment may be the same as or different from those used in the first embodiment. Can also be used.

本実施形態の部分めっき材の製造方法においては、先ず、前記帯状の被めっき材の少なくとも一方の面にマスク層を貼付する。当該マスク層を貼付する前記帯状の被めっき材の面は任意に選択され、片面であっても両面であってもいずれでもよい。
なお、前記帯状の被めっき材とマスク層の貼付及び位置決め等は、第1の実施形態と同様の方法にて行うことができる。
In the method for producing a partial plating material of the present embodiment, first, a mask layer is attached to at least one surface of the strip-shaped material to be plated. The surface of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer is attached is arbitrarily selected, and may be either single-sided or double-sided.
The strip-shaped material to be plated and the mask layer can be attached and positioned in the same manner as in the first embodiment.

そして、本実施形態においては、前記マスク層の複数の開口部のうち、任意の開口部上に第2のマスクシートを貼付する。
前記第2のマスクシートは、帯状のものが好ましく用いられる。当該第2のマスクシートは、マスク層110,210、保護層120、第1の保護層220及び第2の保護層230と同様の構成とすることができる。
また前記第2のマスクシートは粘着剤からなる粘着層を有している。なお、前記第2のマスクシートの厚みは適宜変更し得る。
更には前記粘着層を形成する材質も特に限定されず、前記第2のマスクシートと前記マスク層とを密着でき、且つめっき膜を形成した後は剥離し得るものであれば適宜使用することができる。
前記第2のマスクシートの短手方向の幅は、前記マスク層の任意の開口部を覆うことができればよく、適宜調整し得る。
Then, in the present embodiment, the second mask sheet is attached on an arbitrary opening among the plurality of openings of the mask layer.
As the second mask sheet, a strip-shaped one is preferably used. The second mask sheet may have the same configuration as the mask layers 110 and 210, the protective layer 120, the first protective layer 220, and the second protective layer 230.
Further, the second mask sheet has an adhesive layer made of an adhesive. The thickness of the second mask sheet can be changed as appropriate.
Further, the material for forming the adhesive layer is not particularly limited, and any material can be appropriately used as long as the second mask sheet and the mask layer can be brought into close contact with each other and can be peeled off after the plating film is formed. it can.
The width of the second mask sheet in the lateral direction can be adjusted as appropriate as long as it can cover any opening of the mask layer.

また前記第2のマスクシートは、前記マスク層の複数の開口部のうち、任意の開口部上を覆うことができれば、前記開口部を有していても有していなくてもいずれでもよい。更には、前記マスク層の任意の開口部は、任意の位置を覆われていればよく、全体が覆われていなくともよい。
なお、前記第2のマスクシートに開口部を形成する場合、前記帯状の被めっき材、前記マスク層と位置合わせをするための位置決め孔を形成しておいてもよい。
Further, the second mask sheet may or may not have the opening as long as it can cover an arbitrary opening among the plurality of openings of the mask layer. Further, any opening of the mask layer may be covered at an arbitrary position, and may not be entirely covered.
When an opening is formed in the second mask sheet, a positioning hole for aligning with the strip-shaped material to be plated and the mask layer may be formed.

前記マスク層及び前記第2のマスクシートを貼付された前記帯状の被めっき材の一実施形態を図10を用いて説明する。
図10に表すように、帯状の被めっき材300の上面にマスク層110が貼付されている。マスク層110は複数の開口部130a,130b,130c,130dを有している。そしてマスク層110の開口部130a,130d上に第2のマスクシート500が貼付されている。
An embodiment of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer and the second mask sheet are attached will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 10, the mask layer 110 is attached to the upper surface of the strip-shaped material to be plated 300. The mask layer 110 has a plurality of openings 130a, 130b, 130c, 130d. A second mask sheet 500 is attached on the openings 130a and 130d of the mask layer 110.

そして、マスク層110及び第2のマスクシート500が貼付された帯状の被めっき材300にめっき膜を形成する。当該めっき膜の形成に使用する装置やめっき方法は、第1の実施形態と同様の装置及び方法を使用することができる。 Then, a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 110 and the second mask sheet 500 are attached. As the apparatus and plating method used for forming the plating film, the same apparatus and method as in the first embodiment can be used.

次に第2のマスクシート500を剥離し、第2のマスクシート500を剥離した帯状の被めっき材300に再度めっき膜を形成する。このめっき膜の形成には、上述のめっき装置及びめっき方法を使用することができる。なお、当該めっき膜の形成においては、先に形成されためっき膜を構成する金属とは別の金属を用いることが好ましい。即ち、例えば第1回目のめっき膜の形成においてはニッケルを使用し、第2回目のめっき膜の形成においては金を使用することができる。 Next, the second mask sheet 500 is peeled off, and a plating film is formed again on the strip-shaped material to be plated 300 from which the second mask sheet 500 has been peeled off. The above-mentioned plating apparatus and plating method can be used for forming this plating film. In forming the plating film, it is preferable to use a metal different from the metal constituting the previously formed plating film. That is, for example, nickel can be used in the formation of the first plating film, and gold can be used in the formation of the second plating film.

次いで、マスク層110を剥離する。 Next, the mask layer 110 is peeled off.

このようにして製造された部分めっき材600は、図11に表すように、例えば一部のめっき膜を第1層目がニッケルめっき膜で第2層目が金めっき膜の多層めっき膜とし、他の一部のめっき層を金めっき膜の単層めっき膜とすることができる。
即ち、図11のめっき膜610a,610dを第1層目がニッケルめっき膜で第2層目が金めっき膜の多層めっき膜とし、めっき膜610b,610cを金めっき膜の単層めっき膜とすることができる。
In the partial plating material 600 produced in this manner, as shown in FIG. 11, for example, a part of the plating film has a nickel plating film as the first layer and a gold plating film as the second layer. A part of the other plating layer can be a single-layer plating film of a gold plating film.
That is, the plating films 610a and 610d of FIG. 11 have a nickel plating film as the first layer and a gold plating film as the second layer, and the plating films 610b and 610c are single layer plating films of the gold plating film. be able to.

なお第2回目のめっき膜形成工程後、マスク層110を剥離する前に更に別の金属を用いて第3回目のめっき膜形成工程を行ってもよい。 After the second plating film forming step, the third plating film forming step may be performed using yet another metal before the mask layer 110 is peeled off.

また本実施形態においては、第2のマスクシート500を貼付する工程と、帯状の被めっき材300の第2のマスクシート500を貼付する面にめっき膜を形成する工程と、第2のマスクシート500を剥離する工程とを各々複数回行うようにしてもよい。
即ち、例えばマスク層110の複数の開口部130a,130b,130c,130dのうち、任意の開口部上に第2のマスクシート500を貼付し、マスク層110及び第2のマスクシート500が貼付された帯状の被めっき材300にめっき膜を形成し、第2のマスクシート500を剥離した後、更に別の第2のマスクシート(図示せず)をマスク層110の複数の開口部のうち、任意の開口部上に貼付する。そして帯状の被めっき材300に再度めっき膜を形成する。
なお、その後別の第2のマスクシートを剥離し、更に帯状の被めっき材300にめっき膜を形成するようにしてもよい。
このように、本実施形態の部分めっき材の製造方法は、第2のマスクシート500及び他の第2のマスクシートを使用することにより、容易に且つ従来のめっき装置及びめっき方法を用いて、帯状の被めっき材300の任意の位置に、任意の金属で、且つ任意の層数のめっき膜を形成することができる。
Further, in the present embodiment, a step of attaching the second mask sheet 500, a step of forming a plating film on the surface of the strip-shaped material to be plated 300 to which the second mask sheet 500 is attached, and a second mask sheet. The step of peeling off the 500 may be performed a plurality of times.
That is, for example, the second mask sheet 500 is attached to an arbitrary opening among the plurality of openings 130a, 130b, 130c, 130d of the mask layer 110, and the mask layer 110 and the second mask sheet 500 are attached. A plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300, the second mask sheet 500 is peeled off, and then another second mask sheet (not shown) is applied to the plurality of openings of the mask layer 110. Stick on any opening. Then, a plating film is formed again on the strip-shaped material to be plated 300.
After that, another second mask sheet may be peeled off to further form a plating film on the strip-shaped material to be plated 300.
As described above, the method for producing the partial plating material of the present embodiment can be easily performed by using the second mask sheet 500 and the other second mask sheet, and easily by using the conventional plating apparatus and plating method. A plating film of any metal and any number of layers can be formed at an arbitrary position of the strip-shaped material to be plated 300.

また上述の通り、第2のマスクシート500にも開口部を形成することができるため、例えば第1層目のめっき膜上にこれよりもやや小さい形状若しくは異なる形状の第2層目のめっき膜を形成することも可能である。
この場合、マスク層110及び第2のマスクシート500の開口部の形状等を変更するだけで、めっき膜の形状等を適宜変更でき、また例えばマスク層110及び/または第2のマスクシート500に形成される開口部の形状等を途中から変更する、その一部のみを変更することが容易に行えるため、試作品や小ロットの部品生産に好適に使用することができる。
Further, as described above, since the opening can be formed in the second mask sheet 500, for example, the second layer plating film having a slightly smaller shape or a different shape is formed on the first layer plating film. It is also possible to form.
In this case, the shape of the plating film and the like can be appropriately changed only by changing the shapes of the openings of the mask layer 110 and the second mask sheet 500, and for example, the mask layer 110 and / or the second mask sheet 500 can be changed. Since the shape of the formed opening and the like can be easily changed from the middle, and only a part thereof can be easily changed, it can be suitably used for the production of prototypes and small lot parts.

本実施形態においては、帯状の被めっき材300(部分めっき材600)の片面にめっき膜610a,610b,610c,610dを形成したが、その両面に同様のめっき膜を形成してもよいことはもちろんである。 In the present embodiment, the plating films 610a, 610b, 610c, and 610d are formed on one side of the strip-shaped material to be plated 300 (partial plating material 600), but similar plating films may be formed on both sides thereof. Of course.

また上述と同様の手順にて、本実施形態に係る部分めっき方法を行うことができる。 Further, the partial plating method according to the present embodiment can be performed by the same procedure as described above.

<第2の実施形態の変形例>
第2の実施形態に係る部分めっき材の製造方法の変形例を図12から図15を用いて説明する。本変形例では、複数の第2のマスクシートをマスク層の複数の開口部のうち、任意の開口部上に貼付することができる。
<Modified example of the second embodiment>
A modified example of the method for producing the partial plating material according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 12 to 15. In this modification, the plurality of second mask sheets can be attached on any of the plurality of openings of the mask layer.

まず、図12に表すように、複数の開口部730a,730b,730c,730d,730eを有しているマスク層710を帯状の被めっき材300の上面に貼付し、マスク層710の開口部730a,730d上に第2のマスクシート500を、且つ、マスク層710の開口部730b,730e上に第2のマスクシート800を貼付する。
なお、マスク層710は、マスク層110,210と同様の構成とすることができる。また第2のマスクシート800は、第2のマスクシート500と同様の構成とすることができる。
また、本実施形態においては、マスク層710に位置決め孔を形成していないが、適宜位置決め孔を形成しているマスク層710を用いてもよい。第2のマスクシート500,800も同様である。
First, as shown in FIG. 12, a mask layer 710 having a plurality of openings 730a, 730b, 730c, 730d, and 730e is attached to the upper surface of the strip-shaped material to be plated 300, and the openings 730a of the mask layer 710 are attached. The second mask sheet 500 is attached on the 730d, and the second mask sheet 800 is attached on the openings 730b and 730e of the mask layer 710.
The mask layer 710 can have the same configuration as the mask layers 110 and 210. Further, the second mask sheet 800 can have the same configuration as the second mask sheet 500.
Further, in the present embodiment, although the mask layer 710 does not have the positioning holes, the mask layer 710 in which the positioning holes are appropriately formed may be used. The same applies to the second mask sheets 500 and 800.

そして、帯状の被めっき材300上にマスク層710が、またマスク層710上に第2のマスクシート500,800が貼付された状態で、帯状の被めっき材300に例えば銅を用いてめっき膜を形成する。
この時点で、図13に表すように、帯状の被めっき材300のうち、開口部730cに対応する位置には、めっき膜910c(銅の単層)が形成されることとなる。なお、第2のマスクシート500,800に付着しているめっきについては図示していない。
Then, in a state where the mask layer 710 is attached on the strip-shaped material to be plated 300 and the second mask sheets 500 and 800 are attached on the mask layer 710, a plating film using, for example, copper is used on the strip-shaped material to be plated 300. To form.
At this point, as shown in FIG. 13, a plating film 910c (single layer of copper) is formed at a position corresponding to the opening 730c in the strip-shaped material to be plated 300. The plating adhering to the second mask sheets 500 and 800 is not shown.

次に第2のマスクシート500を剥離し、第2のマスクシート500を剥離した帯状の被めっき材300に例えばニッケルを用いてめっき膜を形成する。
この時点で、図14に表すように、帯状の被めっき材300のうち開口部730cに対応する位置に形成されためっき膜910cは銅とニッケルの2層のめっき膜となり、また開口部730a,730dに対応する位置にはめっき膜910a,910d(ニッケルの単層)が形成されることとなる。なお、第2のマスクシート800に付着しているめっきについては図示していない。
Next, the second mask sheet 500 is peeled off, and a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300 from which the second mask sheet 500 has been peeled off, for example, using nickel.
At this point, as shown in FIG. 14, the plating film 910c formed at a position corresponding to the opening 730c in the strip-shaped material to be plated 300 becomes a two-layer plating film of copper and nickel, and the opening 730a, Plating films 910a and 910d (single layer of nickel) are formed at positions corresponding to 730d. The plating adhering to the second mask sheet 800 is not shown.

そして第2のマスクシート800を剥離し、第2のマスクシート800を剥離した帯状の被めっき材300に例えば金を用いてめっき膜を形成する。 Then, the second mask sheet 800 is peeled off, and a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300 from which the second mask sheet 800 has been peeled off, for example, using gold.

次いで、マスク層710を剥離する。 Next, the mask layer 710 is peeled off.

本変形例にて製造された部分めっき材900においては、図15に表すように、めっき膜910cは銅、ニッケル及び金の3層となり、めっき膜910a、910dはニッケル及び金の2層となり、更に開口部730b,730eに対応する位置にはめっき膜910b,910e(金の単層)が形成されることとなる。 In the partial plating material 900 manufactured in this modification, as shown in FIG. 15, the plating film 910c has three layers of copper, nickel and gold, and the plating films 910a and 910d have two layers of nickel and gold. Further, plating films 910b and 910e (single layer of gold) are formed at positions corresponding to the openings 730b and 730e.

このように、本変形例では、第1回目、第2回目及び第3回目のめっき膜形成工程において、それぞれ異なる金属を用いたが、3回とも同じ金属、または少なくともいずれかを違う金属とすることもできる。
このように、本変形例においては、容易に部分めっき材のめっき膜の構成金属を変更することができる。
As described above, in this modification, different metals were used in the first, second, and third plating film forming steps, but the same metal, or at least one of them, was used as a different metal in all three times. You can also do it.
As described above, in this modification, the constituent metal of the plating film of the partial plating material can be easily changed.

また上述と同様の手順にて、本変形例に係る部分めっき方法を行うことができる。 Further, the partial plating method according to this modification can be performed by the same procedure as described above.

<第3の実施形態>
本実施形態に係る部分めっき材の製造方法で使用する帯状の被めっき材及びマスク層は、第1の実施形態及び第2の実施形態に使用するものと同様のものであっても、異なるものであっても、いずれをも使用することができる。
<Third embodiment>
The strip-shaped material to be plated and the mask layer used in the method for producing the partial plating material according to the present embodiment are different even if they are the same as those used in the first embodiment and the second embodiment. However, any of them can be used.

本実施形態に係る部分めっき材の製造方法を図16から図18を用いて説明する。 The method for producing the partial plating material according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 16 to 18.

まず図16に表すように、帯状の被めっき材300の少なくとも一方の面に複数の開口部1030を有するマスク層1010を貼付する。マスク層1010を貼付する帯状の被めっき材300の面は任意に選択され、片面であっても両面であってもいずれでもよい。
なお、帯状の被めっき材300とマスク層1010の貼付及び位置決め等は、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の方法にて行うことができる。本実施形態においては、帯状の被めっき材300の面全体を覆うように貼付される。
またマスク層1010は、マスク層110,210,710と同様の構成とすることができる。
なお本実施形態においては、マスク層1010に位置決め孔を形成していないが、適宜位置決め孔を形成しているマスク層1010を用いてもよい。
First, as shown in FIG. 16, a mask layer 1010 having a plurality of openings 1030 is attached to at least one surface of the strip-shaped material to be plated 300. The surface of the strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 1010 is attached is arbitrarily selected, and may be either single-sided or double-sided.
The strip-shaped material to be plated 300 and the mask layer 1010 can be attached and positioned in the same manner as in the first embodiment and the second embodiment. In the present embodiment, the strip-shaped material to be plated 300 is attached so as to cover the entire surface.
Further, the mask layer 1010 can have the same configuration as the mask layers 110, 210, 710.
In the present embodiment, the mask layer 1010 does not have a positioning hole, but the mask layer 1010 which has a positioning hole may be used as appropriate.

そして、マスク層1010が貼付された帯状の被めっき材300にめっき膜を形成する。当該めっき膜の形成に使用する装置やめっき方法は、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の装置及び方法を使用することができる。本実施形態においては、例えばニッケルを用いてめっき膜を形成する。
また更に、帯状の被めっき材300にめっき膜を形成する。本実施形態においては、例えば金を用いてめっき膜を形成する。
Then, a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 1010 is attached. As the apparatus and plating method used for forming the plating film, the same apparatus and method as those of the first embodiment and the second embodiment can be used. In this embodiment, for example, nickel is used to form a plating film.
Furthermore, a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300. In this embodiment, for example, gold is used to form a plating film.

そしてマスク層1010を剥離する。 Then, the mask layer 1010 is peeled off.

この時点で、図17に表すように、帯状の被めっき材300のうち、開口部1030に対応する位置には、めっき膜1210(ニッケルと金めっきの2層)が形成されることとなる。 At this point, as shown in FIG. 17, a plating film 1210 (two layers of nickel and gold plating) is formed at a position corresponding to the opening 1030 in the strip-shaped material to be plated 300.

次いで、帯状の被めっき材300に開口部1130を有するマスク層1110を貼付する。
なお、帯状の被めっき材300とマスク層1110の貼付及び位置決め等は、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の方法にて行うことができる。本実施形態においては、帯状の被めっき材300の面全体を覆うように貼付される。
またマスク層1110は、マスク層110,210,710,1010と同様の構成とすることができる。
なお本実施形態においては、マスク層1110に位置決め孔を形成していないが、適宜位置決め孔を形成しているマスク層1110を用いてもよい。
Next, the mask layer 1110 having the opening 1130 is attached to the strip-shaped material to be plated 300.
The strip-shaped material to be plated 300 and the mask layer 1110 can be attached and positioned in the same manner as in the first embodiment and the second embodiment. In the present embodiment, the strip-shaped material to be plated 300 is attached so as to cover the entire surface.
Further, the mask layer 1110 can have the same configuration as the mask layers 110, 210, 710, 1010.
In the present embodiment, the mask layer 1110 does not have a positioning hole, but a mask layer 1110 having a positioning hole may be used as appropriate.

そして、マスク層1110を貼付した帯状の被めっき材300に再度めっき膜を形成する。このめっき膜の形成には、上述のめっき装置及びめっき方法を使用することができる。本実施形態においては、例えば銅を用いてめっき膜を形成する。
また更に、帯状の被めっき材300にめっき膜を形成する。本実施形態においては、例えば錫を用いてめっき膜を形成する。
Then, the plating film is formed again on the strip-shaped material to be plated 300 to which the mask layer 1110 is attached. The above-mentioned plating apparatus and plating method can be used for forming this plating film. In this embodiment, for example, copper is used to form a plating film.
Furthermore, a plating film is formed on the strip-shaped material to be plated 300. In this embodiment, for example, tin is used to form a plating film.

次いでマスク層1110を剥離する。 Next, the mask layer 1110 is peeled off.

本実施形態にて製造された部分めっき材1200においては、図18に表すように、めっき膜1210はニッケル及び金の2層であり、開口部1130に対応する位置にはめっき膜1220(銅と錫の2層)が形成されることとなる。 In the partial plating material 1200 manufactured in the present embodiment, as shown in FIG. 18, the plating film 1210 has two layers of nickel and gold, and the plating film 1220 (copper and copper) is located at a position corresponding to the opening 1130. Two layers of tin) will be formed.

このように、本実施形態の部分めっき材の製造方法は、マスク層1010,1110を使用することにより、容易に且つ従来のめっき装置及びめっき方法を用いて、帯状の被めっき材300の任意の位置に、任意の金属で、且つ任意の層数のめっき膜を形成することができる。 As described above, the method for producing the partial plating material of the present embodiment is an arbitrary method of strip-shaped material to be plated 300 by using the mask layers 1010 and 1110, easily and by using the conventional plating apparatus and plating method. A plating film of any metal and any number of layers can be formed at the position.

また上述の通り、第2のマスクシート500にも開口部を形成することができるため、例えば第1層目のめっき膜上にこれよりもやや小さい形状若しくは異なる形状の第2層目のめっき膜を形成することも可能である。
この場合、マスク層1010,1110の開口部の形状等を変更するだけで、めっき膜の形状等を適宜変更でき、また例えばマスク層1010,1110に形成される開口部の形状等を途中から変更する、その一部のみを変更することが容易に行えるため、試作品や小ロットの部品生産に好適に使用することができる。
Further, as described above, since the opening can be formed in the second mask sheet 500, for example, the second layer plating film having a slightly smaller shape or a different shape is formed on the first layer plating film. It is also possible to form.
In this case, the shape of the plating film can be appropriately changed by simply changing the shape of the openings of the mask layers 1010 and 1110, and for example, the shape of the openings formed in the mask layers 1010 and 1110 can be changed from the middle. Since it is possible to easily change only a part of the parts, it can be suitably used for the production of prototypes and small lot parts.

本実施形態においては、帯状の被めっき材300(部分めっき材1200)の片面にめっき膜1210,1220を形成したが、その両面に同様のめっき膜を形成してもよいことはもちろんである。 In the present embodiment, the plating films 1210 and 1220 are formed on one side of the strip-shaped material to be plated 300 (partial plating material 1200), but it goes without saying that similar plating films may be formed on both sides thereof.

また上述と同様の手順にて、本実施形態に係る部分めっき方法を行うことができる。 Further, the partial plating method according to the present embodiment can be performed by the same procedure as described above.

マスクシート … 100,200
マスク層 … 110,210,710,1010,1110
保護層 … 120
第1の保護層 … 220
第2の保護層 … 230
開口部 … 130,130a,130b,130c,130d,240,730a,730b,730c,730d,730e,1030,1130
位置決め孔 … 140,250
帯状の被めっき材 … 300
部分めっき材 … 400,600,900,1200
めっき膜 … 410,610a,610b,610c,610d,910a,910b,910c,910d,910e,1210,1220
第2のマスクシート … 500,800

Mask sheet ... 100,200
Mask layer ... 110, 210, 710, 1010, 1110
Protective layer ... 120
First protective layer ... 220
Second protective layer ... 230
Openings: 130, 130a, 130b, 130c, 130d, 240, 730a, 730b, 730c, 730d, 730e, 1030, 1130
Positioning holes ... 140, 250
Strip-shaped material to be plated ... 300
Partial plating material: 400, 600, 900, 1200
Plating film: 410, 610a, 610b, 610c, 610d, 910a, 910b, 910c, 910d, 910e, 1210, 1220
Second mask sheet ... 500,800

Claims (12)

マスク層と当該マスク層上に形成される保護層とを有するマスクシートの製造方法であって、
前記マスク層と前記保護層とを貼り合わせた後に前記マスク層及び前記保護層に帯状の被めっき材にめっき膜を形成する位置に対応する複数の開口部を形成する製造方法であり、
前記複数の開口部は同一形状及び異なる形状のいずれであってもよく、
前記保護層は前記帯状の被めっき材に前記マスク層を貼付すると同時若しくはその後に前記マスク層から剥離されるマスクシートの製造方法。
A method for producing a mask sheet having a mask layer and a protective layer formed on the mask layer.
A manufacturing method for forming a plurality of openings corresponding to positions where a plating film is formed on a strip-shaped material to be plated on the mask layer and the protective layer after the mask layer and the protective layer are bonded together.
The plurality of openings may have the same shape or different shapes.
A method for producing a mask sheet, wherein the protective layer is peeled off from the mask layer at the same time or after the mask layer is attached to the strip-shaped material to be plated.
マスク層と当該マスク層上に形成される第1の保護層と前記マスク層の前記保護層が形成される面と反対の面に形成される第2の保護層を有するマスクシートの製造方法であって、
前記マスク層と前記第1の保護層とを貼り合わせた後に前記マスク層及び前記第1の保護層に帯状の被めっき材にめっき膜を形成する位置に対応する複数の開口部を形成する製造方法であり、
前記複数の開口部は同一形状及び異なる形状のいずれであってもよく、
前記第2の保護層は前記帯状の被めっき材に前記マスク層を貼付すると同時若しくはその前に前記マスク層から剥離され、前記第1の保護層は前記帯状の被めっき材に前記マスク層を貼付すると同時若しくはその後に前記マスク層から剥離されるマスクシートの製造方法。
A method for producing a mask sheet having a mask layer, a first protective layer formed on the mask layer, and a second protective layer formed on the surface of the mask layer opposite to the surface on which the protective layer is formed. There,
Manufacture of forming a plurality of openings corresponding to positions where a plating film is formed on a strip-shaped material to be plated on the mask layer and the first protective layer after the mask layer and the first protective layer are bonded together. Is the way
The plurality of openings may have the same shape or different shapes.
The second protective layer is peeled off from the mask layer at the same time or before the mask layer is attached to the strip-shaped material to be plated, and the first protective layer is formed by applying the mask layer to the strip-shaped material to be plated. A method for producing a mask sheet that is peeled off from the mask layer at the same time or after the application.
前記帯状の被めっき材の少なくとも一方の面の任意の位置に請求項1または請求項2に記載された製造方法により製造されたマスクシートのマスク層を貼付する工程と、
前記帯状の被めっき材の少なくとも前記マスク層を貼付する面にめっき膜を形成する工程と、
前記マスク層を剥離する工程とを有する部分めっき材の製造方法であって、
前記マスク層の複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は1層以上であり、
前記めっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成する部分めっき材の製造方法。
A step of attaching a mask layer of a mask sheet manufactured by the manufacturing method according to claim 1 or 2 to an arbitrary position on at least one surface of the strip-shaped material to be plated.
A step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer is attached, and
A method for producing a partial plating material, which comprises a step of peeling off the mask layer.
The plating film formed at a position corresponding to a plurality of openings of the mask layer is one or more layers.
A method for producing a partial plating material for continuously forming the plating film on the strip-shaped material to be plated by continuously feeding the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction in the step of forming the plating film.
前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい請求項3に記載の部分めっき材の製造方法。 The method for producing a partial plating material according to claim 3, wherein the metal constituting the plating film formed at positions corresponding to the plurality of openings may be the same metal or a different metal. 前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は2層以上であり、
前記めっき膜の各層を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい請求項3または請求項4に記載の部分めっき材の製造方法。
The plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings has two or more layers.
The method for producing a partial plating material according to claim 3 or 4, wherein the metal constituting each layer of the plating film may be the same metal or a different metal.
更に前記マスク層の複数の開口部のうち任意の開口部上に第2のマスクシートを貼付する工程と、
前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、
前記第2のマスクシートを剥離する工程とを有し、
前記第2のマスクシートを貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記第2のマスクシートを剥離する工程とを各々1回以上行う請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の部分めっき材の製造方法。
Further, a step of attaching a second mask sheet onto an arbitrary opening among the plurality of openings of the mask layer, and
A step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the second mask sheet is attached, and
It has a step of peeling off the second mask sheet.
A step of attaching the second mask sheet, a step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the second mask sheet is attached, and a step of peeling off the second mask sheet. The method for producing a partial plating material according to any one of claims 3 to 5, wherein each of the above is performed once or more.
前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成する請求項6に記載の部分めっき材の製造方法。 In the step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped plating material to which the second mask sheet is attached, the strip-shaped plating is continuously fed in the longitudinal direction to continuously feed the strip-shaped plating. The method for producing a partially plated material according to claim 6, wherein the plating film is formed on the material. 帯状の被めっき材の少なくとも一方の面の任意の位置に請求項1または請求項2に記載された製造方法により製造されたマスクシートのマスク層を貼付する工程と、
前記帯状の被めっき材の少なくとも前記マスク層を貼付する面にめっき膜を形成する工程と、
前記マスク層を剥離する工程とを有する部分めっき方法であって、
前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は1層以上であり、
前記めっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成する部分めっき方法。
A step of attaching the mask layer of the mask sheet manufactured by the manufacturing method according to claim 1 or 2 to an arbitrary position on at least one surface of the strip-shaped material to be plated.
A step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the mask layer is attached, and
A partial plating method including a step of peeling off the mask layer.
The plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings has one or more layers.
A partial plating method for continuously forming the plating film on the strip-shaped material to be plated by continuously feeding the strip-shaped material to be plated in the longitudinal direction in the step of forming the plating film.
前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい請求項8に記載の部分めっき方法。 The partial plating method according to claim 8, wherein the metal constituting the plating film formed at positions corresponding to the plurality of openings may be the same metal or different metals. 前記複数の開口部に対応する位置に形成される前記めっき膜は2層以上であり、
前記めっき膜の各層を構成する金属は同一の金属及び異なる金属のいずれであってもよい請求項8または請求項9に記載の部分めっき方法。
The plating film formed at a position corresponding to the plurality of openings has two or more layers.
The partial plating method according to claim 8 or 9, wherein the metal constituting each layer of the plating film may be the same metal or a different metal.
更に前記マスク層の複数の開口部のうち任意の開口部上に第2のマスクシートを貼付する工程と、
前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、
前記第2のマスクシートを剥離する工程とを有し、
前記第2のマスクシートを貼付する工程と、前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程と、前記第2のマスクシートを剥離する工程とを各々1回以上行う請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の部分めっき方法。
Further, a step of attaching a second mask sheet onto an arbitrary opening among the plurality of openings of the mask layer, and
A step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the second mask sheet is attached, and
It has a step of peeling off the second mask sheet.
A step of attaching the second mask sheet, a step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped material to be plated to which the second mask sheet is attached, and a step of peeling off the second mask sheet. The partial plating method according to any one of claims 8 to 10, wherein each of the above is performed once or more.
前記帯状の被めっき材の少なくとも前記第2のマスクシートを貼付する面にめっき膜を形成する工程において、前記帯状の被めっき材を長手方向に連続送りすることにより連続して前記帯状の被めっき材に前記めっき膜を形成する請求項11に記載の部分めっき方法。 In the step of forming a plating film on at least the surface of the strip-shaped plating material to which the second mask sheet is attached, the strip-shaped plating is continuously fed in the longitudinal direction to continuously feed the strip-shaped plating. The partial plating method according to claim 11, wherein the plating film is formed on the material.
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