KR20220161281A - Curable compositions, cured products and electronic components - Google Patents

Curable compositions, cured products and electronic components Download PDF

Info

Publication number
KR20220161281A
KR20220161281A KR1020227030300A KR20227030300A KR20220161281A KR 20220161281 A KR20220161281 A KR 20220161281A KR 1020227030300 A KR1020227030300 A KR 1020227030300A KR 20227030300 A KR20227030300 A KR 20227030300A KR 20220161281 A KR20220161281 A KR 20220161281A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
curable composition
group
compound
meth
mass
Prior art date
Application number
KR1020227030300A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유토 오다기리
히데유키 이토
가즈요시 요네다
Original Assignee
다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 filed Critical 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
Publication of KR20220161281A publication Critical patent/KR20220161281A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477Six-membered rings
    • C08K5/3492Triazines
    • C08K5/34922Melamine; Derivatives thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

[과제] AMA 에스테르를 갖는 경화성 조성물에 있어서, 경화물의 도체 회로와의 밀착성, 저휨성 및 유연성을 겸비하는 경화성 조성물, 그의 경화물 및 이 경화물을 포함하는 전자 부품을 제공하는 것.
[해결 수단] (A) 식 (1)(식 (1) 중, R1은 직쇄상, 분지쇄상 및 환상 중 어느 것이어도 되고, 에테르 결합을 포함하고 있어도 되는 탄소수 1개 이상 4개 이하의 탄화수소기를 나타낸다(단, 상기 탄화수소기 중에 치환기를 가져도 된다))로 표시되는 중합성 모노머와, (B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물과, (C) 광중합 개시제와, (D) 열경화 성분을 함유하는 경화성 조성물이다. 이에 의해, 얻어진 경화물은 높은 경화물의 도체 회로와의 밀착성, 저휨성 및 유연성을 겸비한 것이 된다.

Figure pct00012
[Problem] To provide a curable composition having AMA ester, which has both adhesion to a conductor circuit, low warpage and flexibility, a cured product thereof, and an electronic component containing the cured product.
[Solution] (A) Formula (1) (in Formula (1), R 1 may be straight-chain, branched-chain, or cyclic, and is a hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms which may contain an ether bond) A polymerizable monomer represented by a group (provided that the hydrocarbon group may have a substituent), (B) a compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof, (C) a photopolymerization initiator, and (D) It is a curable composition containing a thermosetting component. As a result, the obtained cured product has high adhesion to the conductor circuit of the cured product, low warpage and flexibility.
Figure pct00012

Figure pct00013
Figure pct00013

Description

경화성 조성물, 경화물 및 전자 부품Curable compositions, cured products and electronic components

본 발명은 경화성 조성물, 그의 경화물 및 경화물을 포함하는 전자 부품에 관한 것으로, 특히 프린트 배선판용 절연 재료에 적합한 경화성 조성물, 그의 경화물 및 경화물을 포함하는 전자 부품에 관한 것이다.The present invention relates to a curable composition, a cured product thereof, and an electronic component including the cured product, and more particularly, to a curable composition suitable for an insulating material for a printed wiring board, a cured product thereof, and an electronic component including the cured product.

α-알릴옥시메틸아크릴로일기 함유 에스테르(이하, AMA 에스테르라고도 함)는, 환화하면서 중합하여, 양옆에 메틸렌기를 배치한 5원환 에테르 구조를 반복 단위로서 갖는 주쇄 골격을 형성하는 점에서, 이 중합물을 갖는 경화물은 내열분해성, 수지 기재에 대한 밀착성, 강인한 기계적 성질이 우수하다고 하는 특성을 갖는다.α-allyloxymethylacryloyl group-containing esters (hereinafter also referred to as AMA esters) are polymerized while cyclizing to form a main chain skeleton having as a repeating unit a 5-membered ring ether structure in which methylene groups are disposed on both sides. A cured product having has characteristics such as excellent thermal decomposition resistance, adhesion to a resin substrate, and tough mechanical properties.

특허문헌 1은, 이 AMA 에스테르를 포함하는 경화성 조성물을 개시한다. 구체적으로는, 특허문헌 1은, 소정의 AMA 에스테르와, 2관능 이상의 광중합성 모노머와, 라디칼 중합제를 갖는 경화성 조성물을 개시한다. 이 경화성 조성물은 경화성이 우수하여, 잉크젯 방식의 프린트 배선판용 절연 재료로서 유용하다.Patent Literature 1 discloses a curable composition containing this AMA ester. Specifically, Patent Literature 1 discloses a curable composition comprising a predetermined AMA ester, a bifunctional or higher functional photopolymerizable monomer, and a radical polymerization agent. This curable composition is excellent in curability and is useful as an insulating material for inkjet printed wiring boards.

일본 특허 공개 제2014-040585호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-040585

프린트 배선판용 절연 재료로서는, 회로 기판 상에 도포하는 경화성 조성물이 알려져 있으며, 이러한 경화성 조성물은, 도포 방식에 따라 여러 가지의 점도로 조정된다. As an insulating material for printed wiring boards, curable compositions applied on circuit boards are known, and these curable compositions are adjusted to various viscosities depending on the coating method.

그러나, 프린트 배선판 용도의 경화성 조성물에는, 도체 회로와의 견고한 밀착성이나, 저휨성, 유연성이 요구되는바, 특허문헌 1에는 이들 특성에 대해서는 전혀 개시되어 있지 않다.However, a curable composition for use in printed wiring boards requires firm adhesion to conductor circuits, low warpage, and flexibility, and Patent Document 1 does not disclose these characteristics at all.

본 발명자들은, 특허문헌 1에 기재된 경화물이, 프린트 배선판용 절연 재료에 사용하기 위해 필요한 도체 회로와의 밀착성, 저휨성, 유연성이라고 하는 특성을 충분히 갖고 있지 않은 것을 발견하였다.The inventors of the present invention found that the cured product described in Patent Literature 1 did not sufficiently have characteristics such as adhesion to a conductor circuit, low warpage, and flexibility required for use in an insulating material for a printed wiring board.

상기 과제를 감안한 본 발명의 목적은, AMA 에스테르를 갖는 경화성 조성물에 있어서, 경화물의 도체 회로와의 밀착성, 저휨성 및 유연성을 겸비하는 경화성 조성물, 그의 경화물 및 이 경화물을 포함하는 전자 부품을 제공하는 데 있다.In view of the above problems, an object of the present invention is to provide, in a curable composition having AMA ester, a curable composition having both adhesion to a conductor circuit, low warpage and flexibility, a cured product thereof, and an electronic component containing the cured product. is to provide

본 발명자들은 상기 목적 달성을 목표로 예의 검토를 행하였다. 그 결과, α-알릴옥시메틸아크릴산에스테르 화합물 및 광중합 개시제에 추가하여, 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물과 열경화 성분을 경화성 조성물 중에 배합시킴으로써, 얻어진 경화물의 도체 회로에 대한 높은 밀착성, 저휨성 및 유연성을 실현할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors of the present invention conducted intensive studies with the aim of achieving the above object. As a result, in addition to the α-allyloxymethyl acrylate ester compound and the photopolymerization initiator, a compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof and a thermosetting component are blended into the curable composition, resulting in high adhesion to the conductor circuit of the obtained cured product; It was discovered that low warpage and flexibility could be realized, and the present invention was completed.

즉, 본 발명의 상기 목적은,That is, the above object of the present invention is,

(A) 식 (1)(A) Equation (1)

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 (1) 중, R1은 직쇄상, 분지쇄상 및 환상 중 어느 것이어도 되고, 에테르 결합을 포함하고 있어도 되는 탄소수 1개 이상 4개 이하의 탄화수소기를 나타낸다(단, 상기 탄화수소기 중에 치환기를 가져도 된다))(In Formula (1), R 1 may be straight-chain, branched-chain, or cyclic, and represents a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms which may contain an ether bond (provided that a substituent is selected from the hydrocarbon group) may have))

로 표시되는 중합성 모노머와,A polymerizable monomer represented by

(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물과,(B) a compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof;

(C) 광중합 개시제와,(C) a photopolymerization initiator;

(D) 열경화 성분(D) heat curing component

을 함유하는 경화성 조성물에 의해 달성되는 것이 발견되었다.It has been found that this is achieved by a curable composition containing

여기서, 본 발명의 경화성 조성물이, 50℃에 있어서 50mPaㆍs 이하의 점도를 갖는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the curable composition of the present invention has a viscosity of 50 mPa·s or less at 50°C.

또한, 본 발명의 경화성 조성물이, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 함유하는 것이 바람직하고, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물이, (E1) 방향환을 갖고, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 포함하는 것이 더욱 바람직하다.Further, the curable composition of the present invention preferably contains (E) a compound having two or more (meth)acryloyl groups, (E) a compound having two or more (meth)acryloyl groups, (E1 ) It is more preferable to include a compound having an aromatic ring and two or more (meth)acryloyl groups.

또한, (D) 열경화 성분이 잠재성 열경화 성분을 포함하는 것이 바람직하고, 잠재성 열경화 성분이 블록 이소시아네이트 화합물인 것이 더욱 바람직하다.Moreover, (D) It is preferable that the thermosetting component contains a latent thermosetting component, and it is more preferable that the latent thermosetting component is a block isocyanate compound.

게다가, 본 발명의 경화성 조성물이, (F) 인계 난연제를 더 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the curable composition of this invention further contains (F) phosphorus flame retardant.

또한, 본 발명의 경화성 조성물이, (G) 이온 포착제를 더 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the curable composition of this invention further contains (G) an ion trapping agent.

또한, 본 발명의 상기 목적은, 본 발명의 경화성 조성물로부터 얻어지는 경화물, 및 이 경화물을 갖는 전자 부품에 의해서도 달성할 수 있다.Moreover, the said object of this invention can be achieved also by the hardened|cured material obtained from the curable composition of this invention, and the electronic component which has this hardened|cured material.

본 발명의 경화성 조성물에 따르면, 얻어진 경화물은 도체 회로와의 높은 밀착성, 저휨성 및 유연성을 겸비한 것이 된다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 얻어지는 경화물, 이 경화물을 갖는 전자 부품에 대해서도, 각각 마찬가지로 경화물의 도체 회로와의 높은 밀착성, 저휨성 및 유연성을 겸비한 것이 된다.According to the curable composition of the present invention, the obtained cured product has both high adhesion to the conductor circuit, low warpage and flexibility. Also, the cured product obtained from the curable resin composition of the present invention and the electronic component having the cured product each have similarly high adhesion to the conductor circuit, low warpage, and flexibility.

도 1은 경화성 조성물로부터 얻어지는 경화막에 대하여 행한 MIT 시험의 설명도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of the MIT test performed with respect to the cured film obtained from a curable composition.

<경화성 조성물><Curable composition>

본 발명의 경화성 조성물은,The curable composition of the present invention,

(A) 식 (1)(A) Equation (1)

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (1) 중, R1은 직쇄상, 분지쇄상 및 환상 중 어느 것이어도 되고, 에테르 결합을 포함하고 있어도 되는 탄소수 1개 이상 4개 이하의 탄화수소기를 나타낸다(단, 상기 탄화수소기 중에 치환기를 가져도 된다))(In Formula (1), R 1 may be straight-chain, branched-chain, or cyclic, and represents a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms which may contain an ether bond (provided that a substituent is selected from the hydrocarbon group) may have))

로 표시되는 중합성 모노머(이하, (A) 식 (1)의 중합성 모노머라고도 함)와,A polymerizable monomer represented by (hereinafter also referred to as a polymerizable monomer of formula (1) in (A));

(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물과,(B) a compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof;

(C) 광중합 개시제와,(C) a photopolymerization initiator;

(D) 열경화 성분(D) heat curing component

을 갖는다.have

[(A) 식 (1)의 중합성 모노머][(A) polymerizable monomer of formula (1)]

본 발명의 경화성 조성물에 포함되는 (A) 식 (1)의 중합성 모노머는, 특히 유연성을 갖는 플렉시블 프린트 배선판 상에 있어서, 노광 후의 경화물의 휨을 억제할 수 있다. 경화물의 휨이 커지면, 플렉시블 프린트 배선판 전체가 통 형상으로 되어 버려, 겁쳐 도포할 때 적절한 위치에 경화성 조성물을 도포할 수 없다고 하는 문제가 생겨 버린다. 또한, 잉크젯 인쇄 용도의 경우에는 플렉시블 프린트 배선판이 휘면 잉크젯 헤드와 접촉해 버린다고 하는 문제가 생겨 버린다. 그리고, 열경화 시에 더 휨이 커진다고 하는 문제도 있었다. 그러나, 본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, (A) 식 (1)의 중합성 모노머를 함유하기 때문에, 노광 후의 경화물의 휨을 억제하고, 나아가 열경화 후의 휨도 억제할 수 있다.The polymerizable monomer of (A) formula (1) contained in the curable composition of the present invention can suppress warpage of the cured product after exposure, particularly on a flexible printed wiring board having flexibility. When the curvature of the cured product becomes large, the entire flexible printed wiring board becomes cylindrical, and a problem arises in that the curable composition cannot be applied to an appropriate position when applying by sweeping. Moreover, in the case of inkjet printing use, the problem of coming into contact with an inkjet head arises when a flexible printed wiring board is bent. And there also existed a problem that warpage became larger at the time of thermosetting. However, in the curable composition of the present invention, since the polymerizable monomer of (A) Formula (1) is contained, warpage of the cured product after exposure can be suppressed, and furthermore, warpage after thermal curing can also be suppressed.

본 발명의 경화성 조성물에 포함되는 (A) 식 (1)의 중합성 모노머는, 예를 들어 이하의 식 a):The polymerizable monomer of (A) formula (1) contained in the curable composition of the present invention is, for example, the following formula a):

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 a) 중, R1은 식 (1) 중의 R1과 동일하고, Xㆍ은 개시 라디칼 또는 생장 라디칼을 나타낸다)로 표시되는 바와 같이, 환화하면서 중합 반응이 진행되므로, 양옆에 메틸렌기를 배치한 5원환 에테르 구조를 반복 단위로 하는 주쇄 골격을 형성한다고 생각된다.(In formula (a), R 1 is the same as R 1 in formula (1), and X· represents an initiation radical or a growth radical.) Since the polymerization reaction proceeds while cyclization, methylene groups are placed on both sides It is thought to form a main chain skeleton having one 5-membered ring ether structure as a repeating unit.

상기 탄소수 1개 이상 4개 이하의 탄화수소기로서는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 비닐기, 알릴기, 메탈릴기, 크로틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 에톡시메틸기, 에톡시에틸기, 비닐옥시에틸기 등을 들 수 있다. As said hydrocarbon group of 1 or more and 4 or less carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, vinyl group, allyl group, A methallyl group, a crotyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxymethyl group, an ethoxyethyl group, a vinyloxyethyl group, etc. are mentioned.

상기 치환기로서는, 예를 들어 비닐기, 알릴기, 메탈릴기, 크로틸기 등의 쇄상 불포화 탄화수소기; 메톡시기, 에톡시기, 메톡시에톡시기 등의 알콕시기; 메틸티오기, 에틸티오기 등의 알킬티오기; 아세틸기, 프로피오닐기 등의 아실기; 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기 등의 아실옥시기; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐기; 메틸티오카르보닐기, 에틸티오카르보닐기 등의 알킬티오카르보닐기; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자; 우레이도기; 아미드기; 시아노기; 트리메틸실릴기 등을 들 수 있다.As said substituent, For example, chain|strand-shaped unsaturated hydrocarbon groups, such as a vinyl group, an allyl group, a methallyl group, and a crotyl group; Alkoxy groups, such as a methoxy group, an ethoxy group, and a methoxy ethoxy group; Alkylthio groups, such as a methylthio group and an ethylthio group; Acyl groups, such as an acetyl group and a propionyl group; Acyloxy groups, such as an acetyloxy group and a propionyloxy group; Alkoxycarbonyl groups, such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; Alkylthiocarbonyl groups, such as a methylthiocarbonyl group and an ethylthiocarbonyl group; Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom; Urei Dogi; amide group; cyano group; A trimethylsilyl group etc. are mentioned.

R1은, (A) 식 (1)의 중합성 모노머의 공업적인 제작 용이성과, (A) 식 (1)의 중합성 모노머를 저점도화하여, 경화성 조성물의 점도를 저하시키는 관점에서, 탄소수 1개 이상 4개 이하의 쇄상 포화 탄화수소기, 탄소수 1개 이상 4개 이하의 쇄상 불포화 탄화수소기 및 탄소수 1개 이상 4개 이하의 에테르 결합을 갖는 탄화수소기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 알릴기, 메탈릴기, 크로틸기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기 및 비닐옥시에틸기가 보다 바람직하다.R 1 is (A) 1 carbon number from the viewpoint of industrial production ease of the polymerizable monomer of the formula (1) and (A) lowering the viscosity of the polymerizable monomer of the formula (1) to reduce the viscosity of the curable composition A chain saturated hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, a chain unsaturated hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms and a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms and an ether bond are preferred, and methyl, ethyl, n-propyl, An isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, allyl group, methallyl group, crotyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group and vinyloxyethyl group are more preferred.

(A) 식 (1)의 중합성 모노머로서는, 예를 들어 α-알릴옥시메틸아크릴산메틸, α-알릴옥시메틸아크릴산에틸, α-알릴옥시메틸아크릴산n-프로필, α-알릴옥시메틸아크릴산이소프로필, α-알릴옥시메틸아크릴산n-부틸, α-알릴옥시메틸아크릴산sec-부틸, α-알릴옥시메틸아크릴산tert-부틸, α-알릴옥시메틸아크릴산비닐, α-알릴옥시메틸아크릴산알릴, α-알릴옥시메틸아크릴산메탈릴, α-알릴옥시메틸아크릴산크로틸, α-알릴옥시메틸아크릴산메톡시메틸, α-알릴옥시메틸아크릴산메톡시에틸, α-알릴옥시메틸아크릴산메톡시프로필, α-알릴옥시메틸아크릴산메톡시부틸, α-알릴옥시메틸아크릴산에톡시메틸, α-알릴옥시메틸아크릴산에톡시에틸, α-알릴옥시메틸아크릴산비닐옥시에틸 등을 들 수 있다. 이것들은 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.(A) As a polymerizable monomer of Formula (1), for example, α-allyloxymethyl methyl acrylate, α-allyloxymethyl ethyl acrylate, α-allyloxymethyl n-propyl acrylate, α-allyloxymethyl acrylate isopropyl , α-allyloxymethyl n-butyl acrylate, α-allyloxymethyl sec-butyl acrylate, α-allyloxymethyl tert-butyl acrylate, α-allyloxymethyl vinyl acrylate, α-allyloxymethyl allyl acrylate, α-allyl methyl oxymethyl acrylate, α-allyloxymethyl crotyl acrylate, α-allyloxymethyl methoxymethyl acrylate, α-allyloxymethyl methoxyethyl acrylate, α-allyloxymethyl methoxypropyl acrylate, α-allyloxymethyl methoxybutyl acrylate, α-allyloxymethyl ethoxymethyl acrylate, α-allyloxymethyl ethoxyethyl acrylate, α-allyloxymethyl vinyloxyethyl acrylate, and the like. These may be used independently, respectively, and may use two or more types together.

(A) 식 (1)의 중합성 모노머는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2014-040585호 공보, 일본 특허 공개 제2011-137123호 공보 등에 기재된 방법에 준하여 조정할 수 있다.(A) The polymerizable monomer of formula (1) can be adjusted according to the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-040585, Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-137123 etc., for example.

(A) 식 (1)의 중합성 모노머의 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1질량부 이상 80질량부 이하, 보다 바람직하게는 5질량부 이상 60질량부 이하, 특히 바람직하게는 5질량부 이상 50질량부 이하이다.(A) The compounding amount of the polymerizable monomer of formula (1) is preferably 1 part by mass or more and 80 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or more and 60 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. , Particularly preferably, they are 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less.

[(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물][(B) a compound selected from the group consisting of melamine and its derivatives]

본 발명의 경화성 조성물은, (B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 포함한다. 멜라민 및 그의 유도체는, 경화물의 도체 회로와의 밀착성의 향상에 추가하여, 내열성 등의 특성을 한층 더 향상시키기 위해 사용된다.The curable composition of the present invention contains (B) a compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof. Melamine and its derivatives are used to further improve properties such as heat resistance in addition to improving the adhesion of cured products to conductor circuits.

(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물로서는, 예를 들어 아세토구아나민, 벤조구아나민 등의 구아나민류; 멜라민; 에틸디아미노-S-트리아진, 2,4-디아미노-S-트리아진, 2,4-디아미노-6-크실릴-S-트리아진 등의 트리아진 유도체류를 들 수 있으며, 그 중에서도 멜라민인 것이 바람직하다.(B) Examples of the compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof include guanamines such as acetoguanamine and benzoguanamine; melamine; and triazine derivatives such as ethyldiamino-S-triazine, 2,4-diamino-S-triazine, and 2,4-diamino-6-xylyl-S-triazine. It is preferably melamine.

(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물은, 1종을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. (B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물이 본 발명의 경화성 조성물에 배합되는 경우, 그 배합량은, 후술하는 (D) 열경화 성분의 합계량을 100질량%로 한 경우, 바람직하게는 0.1질량% 이상 20질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상 20질량% 이하, 특히 바람직하게는 1질량% 이상 15질량% 이하이다.(B) The compound selected from the group which consists of melamine and its derivative(s) can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. (B) When a compound selected from the group consisting of melamine and its derivatives is blended into the curable composition of the present invention, the blending amount is, when the total amount of the thermosetting component (D) described later is 100% by mass, preferably It is 0.1 mass % or more and 20 mass % or less, More preferably, it is 0.5 mass % or more and 20 mass % or less, Especially preferably, it is 1 mass % or more and 15 mass % or less.

(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물의 배합량을 (D) 열경화 성분의 합계량을 100질량%로 한 경우에 0.1질량% 이상 20질량% 이하로 함으로써, 경화성 조성물의 저장 안정성을 높이면서 양호한 열경화를 실현할 수 있다.(B) The storage stability of the curable composition is improved by setting the compounding amount of the compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof to 0.1% by mass or more and 20% by mass or less when the total amount of the (D) thermosetting component is 100% by mass. Favorable thermal curing can be realized while increasing.

[(C) 광중합 개시제][(C) Photopolymerization Initiator]

(C) 광중합 개시제로서는, 광, 레이저, 전자선 등에 의해 라디칼을 발생시켜, 라디칼 중합 반응을 개시하는 화합물이면 모두 사용할 수 있다. 당해 (C) 광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인과 벤조인알킬에테르류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논 등의 아세토페논류; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, N,N-디메틸아미노아세토페논 등의 아미노아세토페논류; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체; 리보플라빈테트라부티레이트; 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸 등의 티올 화합물; 2,4,6-트리스-s-트리아진, 2,2,2-트리브로모에탄올, 트리브로모메틸페닐술폰 등의 유기 할로겐 화합물; 벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류 또는 크산톤류; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀류; 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일옥심)], 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심) 등의 옥심에스테르류 등을 들 수 있다.(C) As the photopolymerization initiator, any compound can be used as long as it generates radicals by light, laser, electron beam or the like and initiates a radical polymerization reaction. Examples of the (C) photopolymerization initiator include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenones such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, and 1,1-dichloroacetophenone; 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1 aminoacetophenones such as -one and N,N-dimethylaminoacetophenone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, and 1-chloroanthraquinone; thioxanthone such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; 2,4,5-triarylimidazole dimer; riboflavin tetrabutyrate; thiol compounds such as 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2-mercaptobenzothiazole; organic halogen compounds such as 2,4,6-tris-s-triazine, 2,2,2-tribromoethanol, and tribromomethylphenylsulfone; benzophenones or xanthones such as benzophenone and 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone; acyl phosphines such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carb oxime esters such as bazol-3-yl]- and 1-(O-acetyl oxime); and the like.

상기 (C) 광중합 개시제는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 이들에 추가하여, N,N-디메틸아미노벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 3급 아민류 등의 광개시 보조제를 사용할 수 있다. 또한, 가시광 영역에 흡수가 있는 Omnirad 784 등(IGM Resins B. V.사제)의 티타노센 화합물 등도, 광반응을 촉진하기 위해 (C) 광중합 개시제에 첨가할 수도 있다. 또한, 광중합 개시제에 첨가하는 성분은 이것들에 한정되는 것은 아니며, 자외광 혹은 가시광 영역에서 광을 흡수하고, (메타)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화기를 라디칼 중합시키는 것이면, 광중합 개시제, 광개시 보조제에 한하지 않고, 단독으로 혹은 복수 병용하여 사용할 수 있다.Said (C) photoinitiator can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. In addition to these, tertiary amines such as N,N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N,N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine, etc. of photoinitiation aids can be used. In addition, a titanocene compound such as Omnirad 784 (manufactured by IGM Resins B.V.), which has absorption in the visible light region, may also be added to (C) the photopolymerization initiator in order to promote the photoreaction. In addition, the component added to the photopolymerization initiator is not limited to these, and absorbs light in the ultraviolet or visible light region and radically polymerizes an ethylenically unsaturated group such as a (meth)acryloyl group. It is not limited to, It can use individually or in combination of multiple.

(C) 광중합 개시제로 시판되고 있는 것의 제품명으로서는, 예를 들어 Omnirad 907, Omnirad 127, Omnirad 379EG(모두 IGM Resins B. V.사제) 등을 들 수 있다.(C) As a product name of what is marketed as a photoinitiator, Omnirad 907, Omnirad 127, Omnirad 379EG (all are made by IGM Resins B.V.) etc. are mentioned, for example.

또한, (C) 광중합 개시제는, 양이온 중합 반응을 개시하는 화합물이어도 된다. 이러한 (C) 광중합 개시제로서는, 예를 들어 디페닐요오도늄테트라플루오로보로에이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 2,4,6-트리페닐티오피릴륨헥사플루오로포스페이트, 시판품으로서, (주)ADEKA제 옵토마-SP-170이나 SP-152, 산-아프로사제 CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K, CPI-210S 등의 술포늄염계 광 양이온 중합 개시제나, BASF사제 이르가큐어(등록 상표) 261 등을 들 수 있다.Further, (C) the photopolymerization initiator may be a compound that initiates a cationic polymerization reaction. Examples of such (C) photopolymerization initiator include diphenyliodonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 2,4,6-triphenylthiopyrylium hexafluorophosphate, and commercially available products. As such, sulfonium salt-based photocationic polymerization initiators such as Optoma-SP-170 and SP-152 manufactured by ADEKA Co., Ltd., CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K, and CPI-210S manufactured by San-Apro Co., Ltd., and IR manufactured by BASF Co., Ltd. Gacure (registered trademark) 261 etc. are mentioned.

(C) 광중합 개시제의 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.2 내지 25질량부이고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 20질량부이다.(C) The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.2 to 25 parts by mass, more preferably 0.5 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the curable composition of the present invention.

[(D) 열경화 성분][(D) Heat Curing Component]

또한, 본 발명의 경화성 조성물은, (D) 열경화 성분을 포함한다. (D) 열경화 성분은, (A) 식 (1)의 중합성 모노머와 다른 것이며, (D) 열경화 성분을 포함함으로써, 경화막의 도체 회로와의 밀착성의 향상에 추가하여, 내열성, 도금 내성, 유연성, 내용제성, 난연성 등의 기능성을 더 향상시킬 수 있다.Moreover, the curable composition of this invention contains (D) thermosetting component. (D) The thermosetting component is different from the polymerizable monomer of (A) Formula (1), and (D) by including the thermosetting component, in addition to improving the adhesion of the cured film to the conductor circuit, heat resistance and plating resistance , flexibility, solvent resistance, flame retardancy, etc. can be further improved.

(D) 열경화 성분으로서는, 예를 들어 블록 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등의 공지된 화합물을 사용할 수 있다.(D) As a thermosetting component, well-known compounds, such as a block isocyanate compound, an epoxy compound, and an oxetane compound, can be used, for example.

그 중에서도 본 발명에 있어서는 특히, 구조 중의 관능기가 보호기에 의해 보호된 잠재성의 열경화 성분을 바람직하게 사용할 수 있다. 그러한 잠재성의 열경화 성분을 사용함으로써, 뜻하지 않은 조건에 따른 경화성 조성물 내의 의도하지 않은 반응을 억제하여, 경화성 조성물의 저장 안정성을 높일 수 있다. 또한, 이러한 경화성 조성물은 50℃에서의 잉크젯 인쇄성도 우수하고, 경화할 때에는 가열 등에 의해 용이하게 탈보호하는 것이 가능하여, 잠재성의 열경화 성분을 활성화할 수 있다. 본 발명에 있어서, 잠재성이란, 상온이나 약간의 가온 조건에서는 활성을 나타내지 않지만, 80℃ 이상의 고온에서의 가열에 의해 활성화하여 열경화성을 나타내는 성질을 의미하는 것으로 한다.Among them, in the present invention, a latent thermosetting component in which a functional group in the structure is protected by a protecting group can be preferably used. By using such a latent thermosetting component, unintended reactions in the curable composition under unexpected conditions can be suppressed, and storage stability of the curable composition can be improved. In addition, such a curable composition is excellent in inkjet printability at 50°C, and when cured, it can be easily deprotected by heating or the like, so that latent thermosetting components can be activated. In the present invention, latent means a property that exhibits thermosetting properties by being activated by heating at a high temperature of 80 ° C. or higher, although it does not show activity at room temperature or slightly warmed conditions.

이러한 잠재성의 열경화 성분은, 블록 이소시아네이트 화합물인 것이 바람직하다. 블록 이소시아네이트 화합물은, 1분자 내에 바람직하게는 복수의 블록화 이소시아네이트기를 갖는 화합물이다. 블록화 이소시아네이트기란, 이소시아네이트기가 블록제와의 반응에 의해 보호되어 일시적으로 불활성화된 기이며, 소정 온도로 가열되었을 때 그 블록제가 해리하여 이소시아네이트기가 생성된다.It is preferable that this latent thermosetting component is a block isocyanate compound. A block isocyanate compound is a compound which preferably has a plurality of blocked isocyanate groups in one molecule. A blocked isocyanate group is a group in which an isocyanate group is protected and temporarily inactivated by a reaction with a blocking agent, and when heated to a predetermined temperature, the blocking agent dissociates to generate an isocyanate group.

복수의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 방향족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트 또는 지환식 폴리이소시아네이트가 사용된다.As a polyisocyanate compound which has a some isocyanate group, aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, or alicyclic polyisocyanate is used, for example.

방향족 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 예를 들어 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, o-크실릴렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트 및 2,4-톨릴렌 다이머 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic polyisocyanate include 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, and o-xylyl. Rendiisocyanate, m-xylylenediisocyanate, 2,4-tolylene dimer, etc. are mentioned.

지방족 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트) 및 이소포론디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the aliphatic polyisocyanate include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4-methylenebis(cyclohexyl isocyanate), and isophorone diisocyanate.

지환식 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 비시클로헵탄트리이소시아네이트를 들 수 있다. 그리고 앞서 예시된 이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 뷰렛체 및 이소시아누레이트체 등을 들 수 있다.As a specific example of alicyclic polyisocyanate, bicycloheptane triisocyanate is mentioned. And the adduct form of the isocyanate compound exemplified above, the biuret form, the isocyanurate form, etc. are mentioned.

이소시아네이트 블록제로서는, 예를 들어 페놀, 크레졸, 크실레놀, 클로로페놀 및 에틸페놀 등의 페놀계 블록제; ε-카프로락탐, δ-팔레로락탐, γ-부티로락탐 및 β-프로피오락탐 등의 락탐계 블록제; 아세토아세트산에틸 및 아세틸아세톤 등의 활성 메틸렌계 블록제; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 아밀알코올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 벤질에테르, 글리콜산메틸, 글리콜산부틸, 디아세톤알코올, 락트산메틸 및 락트산에틸 등의 알코올계 블록제; 포름알데히독심, 아세트알독심, 아세톡심, 메틸에틸케톡심, 디아세틸모노옥심, 시클로헥산옥심 등의 옥심계 블록제; 부틸메르캅탄, 헥실메르캅탄, t-부틸메르캅탄, 티오페놀, 메틸티오페놀, 에틸티오페놀 등의 메르캅탄계 블록제; 아세트산아미드, 벤즈아미드 등의 산아미드계 블록제; 숙신산이미드 및 말레산이미드 등의 이미드계 블록제; 크실리딘, 아닐린, 부틸아민, 디부틸아민 등의 아민계 블록제; 이미다졸, 2-에틸이미다졸 등의 이미다졸계 블록제; 메틸렌이민 및 프로필렌이민 등의 이민계 블록제; 디메틸피라졸 등의 피라졸계 블록제 등을 들 수 있다.Examples of the isocyanate blocking agent include phenolic blocking agents such as phenol, cresol, xylenol, chlorophenol, and ethylphenol; lactam-based blocking agents such as ε-caprolactam, δ-palerolactam, γ-butyrolactam and β-propiolactam; active methylene-based blocking agents such as ethyl acetoacetate and acetylacetone; Methanol, ethanol, propanol, butanol, amyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, benzyl ether, methyl glycolate, glycol alcohol-based blocking agents such as butyl acid, diacetone alcohol, methyl lactate and ethyl lactate; oxime-based blocking agents such as formaldehyde, acetaldoxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, diacetyl monooxime, and cyclohexane oxime; mercaptan-based blocking agents such as butyl mercaptan, hexyl mercaptan, t-butyl mercaptan, thiophenol, methylthiophenol, and ethylthiophenol; acid amide blocking agents such as acetic acid amide and benzamide; imide-based blocking agents such as succinic acid imide and maleic acid imide; amine blocking agents such as xylidine, aniline, butylamine, and dibutylamine; imidazole-based blocking agents such as imidazole and 2-ethylimidazole; imine blocking agents such as methyleneimine and propyleneimine; Pyrazole type blocking agents, such as dimethyl pyrazole, etc. are mentioned.

블록 이소시아네이트 화합물은 시판 중인 것이어도 되며, 예를 들어 듀라네이트 TPA-B80E, 17B-60PX, E402-B80T(모두 아사히 가세이사제), TrixeneBI7982: 블록 이소시아네이트(헥사메틸렌이소시아네이트(HDM) 3량체, 블록제: 디메틸피라졸(DMP), Baxenden Chemicals사제) 등을 들 수 있다.The block isocyanate compound may be a commercially available one, for example, duranate TPA-B80E, 17B-60PX, E402-B80T (all manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), TrixeneBI7982: block isocyanate (hexamethylene isocyanate (HDM) trimer, blocking agent : Dimethylpyrazole (DMP), manufactured by Baxenden Chemicals), etc. are mentioned.

또한, 잠재성의 열경화 성분으로서는, 이미다졸이나 디시안디아미드 등의 아민 화합물과, 수산기 함유 화합물, 환상 에테르기 함유 화합물이나 카르복실기 함유 화합물 등을 반응시킨 반응물이어도 된다.Moreover, as a latent thermosetting component, a reaction product obtained by reacting an amine compound such as imidazole or dicyandiamide with a hydroxyl group-containing compound, a cyclic ether group-containing compound, or a carboxyl group-containing compound may be used.

(D) 열경화 성분의 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부당 바람직하게는 1질량부 이상 30질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 5질량부 이상 25질량부 이하이다. (D) 열경화 성분의 배합량이, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부당 1질량부 이상 30질량부 이하임으로써, 본 발명의 경화성 조성물의 저장 안정성을 유지하면서, 경화막의 내열성, 도금 내성 등의 기능성을 더 향상시킬 수 있다.(D) The blending amount of the thermosetting component is preferably 1 part by mass or more and 30 parts by mass or less, and more preferably 5 parts by mass or more and 25 parts by mass or less per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. (D) Functionalities such as heat resistance and plating resistance of a cured film while maintaining storage stability of the curable composition of the present invention by the compounding amount of the thermosetting component being 1 part by mass or more and 30 parts by mass or less per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. can be further improved.

[(E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물][(E) A compound having two or more (meth)acryloyl groups]

본 발명의 경화성 조성물은, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물은, 광중합 반응에 의해 경화되어, 경화물을 형성하기 위해 배합되는 성분이다. 또한, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물은, (A) 식 (1)의 중합성 모노머와 다른 것이다.It is preferable that the curable composition of this invention contains the compound which has 2 or more (E) (meth)acryloyl groups. (E) A compound having two or more (meth)acryloyl groups is a component blended in order to be cured by a photopolymerization reaction and to form a cured product. In addition, the compound which has two or more (E) (meth)acryloyl groups is different from the polymerizable monomer of (A) Formula (1).

(메타)아크릴로일기를 2개 이상 가짐으로써, 광중합 반응에 의한 양호한 경화성을 얻을 수 있다. 여기서, (메타)아크릴로일기란, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 총칭하는 용어이다.By having 2 or more (meth)acryloyl groups, favorable sclerosis|hardenability by a photopolymerization reaction can be obtained. Here, a (meth)acryloyl group is a general term for an acryloyl group and a methacryloyl group.

또한, 열이력 후, 즉 땜납 처리 후에 있어서도 경화막(경화물)의 양호한 도체 회로에 대한 밀착성 및 막 경도 등의 솔더 레지스트로서의 기능성을 부여하기 위해, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물이, (E1) 방향환을 갖고, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 포함하는 것이 더욱 바람직하다.In addition, in order to impart functionality as a solder resist such as good adhesion to the conductor circuit and film hardness of the cured film (cured product) even after thermal history, that is, after soldering, (E) two (meth)acryloyl groups It is more preferable that the compound having the above includes a compound having an aromatic ring (E1) and having two or more (meth)acryloyl groups.

(E1) 방향환을 갖고, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물은, 예를 들어 다가 페놀의 (메타)아크릴레이트나, 그의 알킬렌옥사이드 부가물을 들 수 있다.(E1) Examples of the compound having an aromatic ring and two or more (meth)acryloyl groups include (meth)acrylates of polyhydric phenols and alkylene oxide adducts thereof.

다가 페놀로서는, 비스페놀 A, 비스페놀 AP, 비스페놀 B, 비스페놀 BP, 비스페놀 E, 비스페놀 F, 비스페놀 M, 비스페놀 P, 비스페놀 PH, 비스페놀 Z 등의 비스페놀류, 비페놀 등을 들 수 있다.Examples of the polyhydric phenol include bisphenols such as bisphenol A, bisphenol AP, bisphenol B, bisphenol BP, bisphenol E, bisphenol F, bisphenol M, bisphenol P, bisphenol PH, and bisphenol Z, and biphenol.

알킬렌옥사이드로서는, 예를 들어 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 부틸렌옥사이드를 들 수 있다. 알킬렌옥사이드의 부가수는 6 이하인 것이 바람직하다.As an alkylene oxide, ethylene oxide, a propylene oxide, and a butylene oxide are mentioned, for example. It is preferable that the addition number of alkylene oxide is 6 or less.

(E1) 방향환을 갖고, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물의 시판품으로서는, ABE-300(신나카무라 가가쿠 고교사제), BPE-80N(신나카무라 가가쿠 고교사제), BPE-100(신나카무라 가가쿠 고교사제), A-BPE-4(신나카무라 가가쿠 고교사제), BPE-4(다이이치 고교 세야쿠 가부시키가이샤제), BPE-10(다이이치 고교 세야쿠 가부시키가이샤제), BPE-200(신나카무라 가가쿠 고교사제), EBECRYL 150(다이셀 올넥스 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다.(E1) As a commercial item of the compound which has an aromatic ring and has two or more (meth)acryloyl groups, ABE-300 (made by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), BPE-80N (made by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), BPE- 100 (made by Shin-Nakamura Gagaku High School), A-BPE-4 (made by Shin-Nakamura Gagaku High School), BPE-4 (made by Daiichi High School Seiyaku Co., Ltd.), BPE-10 (made by Daiichi High School Seiyaku Co., Ltd.) Kaisha), BPE-200 (made by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), EBECRYL 150 (made by Daicel Allnex Co., Ltd.), etc. are mentioned.

또한, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물은, 경화성 조성물의 점도를 저하시키면서 양호한 경화성을 얻는 관점에서, 저점도의 (메타)아크릴로일기를 2개 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물에 있어서, 저점도란, 50℃에 있어서의 점도가 50mPaㆍs 이하, 특히 50℃에 있어서의 점도가 20mPaㆍs 이하인 것을 말한다.Further, (E) The compound having two or more (meth)acryloyl groups includes a compound having two or more low-viscosity (meth)acryloyl groups from the viewpoint of obtaining good curability while reducing the viscosity of the curable composition. it is desirable Here, (E) The compound which has two or more (meth)acryloyl groups WHEREIN: Low viscosity means that the viscosity in 50 degreeC is 50 mPa*s or less, especially the viscosity in 50 degreeC is 20 mPa*s or less.

저점도의 (메타)아크릴로일기를 2개 갖는 화합물로서는, 알킬렌글리콜과 (메타)아크릴산의 에스테르인 2관능 (메타)아크릴로일기 함유 모노머를 들 수 있다.Examples of the compound having two low-viscosity (meth)acryloyl groups include bifunctional (meth)acryloyl group-containing monomers that are esters of alkylene glycol and (meth)acrylic acid.

알킬렌글리콜은, 모노알킬렌글리콜이어도 되고, 2 이상의 알킬렌글리콜의 반복 구조를 갖는 것이어도 된다. 모노알킬렌글리콜로서는, 탄소수 3 내지 16개, 바람직하게는 탄소수 6 내지 9개의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌디올을 들 수 있다.Alkylene glycol may be monoalkylene glycol or may have a repeating structure of two or more alkylene glycols. Examples of the monoalkylene glycol include linear or branched alkylene diols having 3 to 16 carbon atoms, preferably 6 to 9 carbon atoms.

2 이상의 알킬렌글리콜의 반복 구조를 갖는 것으로서는, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 트리부틸렌글리콜 등을 들 수 있다.Diethylene glycol, dipropylene glycol, dibutylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol, tributylene glycol, etc. are mentioned as what has a repeating structure of 2 or more alkylene glycol.

구체적으로는, 저점도의 (메타)아크릴로일기를 2개 갖는 화합물로서는, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올아크릴레이트, 1,10-데칸디올디아크릴레이트, 1,16-헥사데칸디올디아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specifically, examples of the compound having two low-viscosity (meth)acryloyl groups include diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, and dibutylene glycol di(meth)acrylate. , triethylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tributylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4- Butanedioldi(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, 1,9-nonanediol acrylate, 1,10-decanedioldiacrylate, 1,16-hexadecanedioldiacrylate etc. can be mentioned.

저점도의 (메타)아크릴로일기를 2개 갖는 화합물의 시판품으로서는, 2G(신나카무라 가가쿠 고교사제), 3G(신나카무라 가가쿠 고교사제), DPGDA(다이셀 올넥스사제), T0948(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제), T2389(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제), 비스코트 #310HP(오사카 유키 가가쿠 고교 가부시키가이샤제), PE-200(다이이치 고교 세야쿠 가부시키가이샤제), PE-300(다이이치 고교 세야쿠 가부시키가이샤제), HDDA(다이셀 올넥스사제), L-C9A(다이이치 고교 세야쿠 가부시키가이샤제), A-NOD-N(신나카무라 가가쿠 고교사제), B1065(도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제), 1,9-NDA(다이이치 고교 세야쿠사제) 등을 들 수 있다.Commercially available compounds having two low-viscosity (meth)acryloyl groups include 2G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), 3G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), DPGDA (manufactured by Daicel Allnex Co.), and T0948 (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), T2389 (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), Biscott #310HP (Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), PE-200 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), PE-300 (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), HDDA (manufactured by Daicell Allnex), L-C9A (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), A-NOD-N (Shin Nakamura Kagaku Kogyo) manufactured), B1065 (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), 1,9-NDA (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), and the like.

또한, 광중합 반응에 의한 경화성을 더 향상시키기 위해, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물이, (메타)아크릴로일기를 3개 이상 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, in order to further improve the curability by photopolymerization reaction, it is preferable that (E) the compound which has 2 or more (meth)acryloyl groups contains the compound which has 3 or more (meth)acryloyl groups.

(메타)아크릴로일기를 3개 이상 갖는 화합물로서는, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올메탄트리아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산트리아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 인산트리아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 글리세롤트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트, 혹은 이들의 실세스퀴옥산 변성물 등으로 대표되는 다관능 아크릴레이트, 혹은 이것들에 대응하는 메타아크릴레이트 모노머, ε카프로락톤 변성 트리스아크릴옥시에틸이소시아누레이트를 들 수 있다.Examples of the compound having three or more (meth)acryloyl groups include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolmethane triacrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, and epichloro. Hydrin-modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid triacrylate, propylene oxide-modified phosphoric acid triacrylate, epichlorohydrin-modified glycerol triacrylate , dipentaerythritol hexaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, or polyfunctional acrylates represented by silsesquioxane-modified products thereof, or methacrylate monomers corresponding to these, ε caprolactone-modified tris An acryloxyethyl isocyanurate is mentioned.

또한, (메타)아크릴로일기를 3개 이상 갖는 화합물은, 다분지상의 올리고머 또는 폴리머여도 된다.In addition, a multi-branched oligomer or polymer may be sufficient as the compound which has 3 or more (meth)acryloyl groups.

(E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부당 바람직하게는 10질량부 이상 90질량부 이하이며, 바람직하게는 10질량부 이상 80질량부 이하이고, 특히 바람직하게는 15질량부 이상 75질량부 이하이다.(E) The compound having two or more (meth)acryloyl groups is preferably 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. , Particularly preferably, they are 15 parts by mass or more and 75 parts by mass or less.

(E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물이, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부당 10질량부 이상인 경우, 상용성이 향상되어, 균일하게 분산되어, 양호한 도막 특성이 얻어지고, 90질량부 이하임으로써, 내열성 향상의 효과가 얻어진다.(E) When the compound having two or more (meth)acryloyl groups is 10 parts by mass or more per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention, the compatibility is improved, it is uniformly dispersed, and good coating properties are obtained. When it is below parts by mass, the effect of improving heat resistance is obtained.

[(F) 인계 난연제][(F) phosphorus flame retardant]

본 발명의 경화성 조성물은, 얻어지는 경화물의 난연성 향상을 목적으로 하여, 공지 관용의 (F) 인계 난연제를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the curable composition of this invention contains the well-known and usual (F) phosphorus flame retardant for the purpose of improving the flame retardance of the hardened|cured material obtained.

(F) 인계 난연제로서는, 예를 들어 인산에스테르 및 축합 인산에스테르, 페놀성 수산기를 갖는 인 함유 화합물, 포스파젠 화합물, 포스핀산 금속염 및 하기 일반식 (2)(F) Examples of the phosphorus-based flame retardant include phosphoric acid esters and condensed phosphoric acid esters, phosphorus-containing compounds having phenolic hydroxyl groups, phosphazene compounds, phosphinic acid metal salts, and the following general formula (2)

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 (2) 중, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 할로겐 원자 이외의 치환기를 나타낸다.)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.(In Formula (2), R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a substituent other than a halogen atom.).

상기 일반식 (2) 중, R2, R3은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1개 이상 4개 이하의 알킬기인 것이 바람직하고, R4는 수소 원자, 시아노기로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1개 이상 4개 이하의 알킬기, 2,5-디히드록시페닐기, 또는 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐기인 것이 바람직하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.In the above general formula (2), R 2 and R 3 are preferably hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 is a hydrogen atom or 1 carbon atom which may be substituted with a cyano group. It is preferably an alkyl group of at least four but not more than four, a 2,5-dihydroxyphenyl group, or a 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl group, but is not limited thereto.

상기 일반식 (2)로 표시되는 화합물의 시판품으로서는, HCA, SANKO-220, M-ESTER, HCA-HQ(모두 산코사의 상품명) 등이 있다.Commercially available products of the compound represented by the general formula (2) include HCA, SANKO-220, M-ESTER, and HCA-HQ (all are trade names of Sanko Corporation).

페놀성 수산기를 갖는 인 함유 화합물로서는, 상기 일반식 (2) 중, R4가 수산기로 치환된 페닐기인 것을 들 수 있다. 시판품으로서는, 산코사제 HCA-HQ 등이 있다.Examples of the phosphorus-containing compound having a phenolic hydroxyl group include those in which R 4 is a phenyl group substituted with a hydroxyl group in the general formula (2). As a commercial item, there exist HCA-HQ by Sanko Corporation etc.

포스핀산 금속염으로서는, 예를 들어 하기 구조식 (3)As a phosphinic acid metal salt, for example, the following structural formula (3)

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 (3) 중,(In formula (3),

R1, R2는, 각각 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기 또는 탄소 원자수 12 이하의 아릴기를 나타내고,R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 12 or less carbon atoms;

M은, 칼슘, 알루미늄 또는 아연을 나타내고, M이 알루미늄을 나타내는 경우에는 m=3이고, 그 이외의 금속을 나타내는 경우에는 m=2이다)M represents calcium, aluminum or zinc, when M represents aluminum, m = 3, and when representing other metals, m = 2)

으로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable to have a structure represented by

보다 바람직하게는, 식 (3) 중, M이 알루미늄을 나타내는 구조를 갖는 화합물이다.More preferably, it is a compound which has a structure in which M represents aluminum in Formula (3).

포스핀산 금속염을 사용함으로써, 경화막의 유연성을 손상시키지 않고 난연성을 향상시킬 수 있다.By using a phosphinic acid metal salt, flame retardancy can be improved without impairing the flexibility of a cured film.

포스핀산 금속염을 구성하는 포스핀산의 구체예로서는, 포스핀산, 디메틸포스핀산, 에틸메틸포스핀산, 디에틸포스핀산, 메틸-n-프로필포스핀산, 메탄디(메틸포스핀산), 벤젠-1,4-(디메틸포스핀산), 메틸페닐포스핀산, 페닐포스핀산, 디페닐포스핀산 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.Specific examples of the phosphinic acid constituting the phosphinic acid metal salt include phosphinic acid, dimethylphosphinic acid, ethylmethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, methyl-n-propylphosphinic acid, methanedi(methylphosphinic acid), benzene-1,4 -(dimethylphosphinic acid), methylphenylphosphinic acid, phenylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, and mixtures thereof.

시판품으로서는, 예를 들어 Exolit OP 1240, 1240, 1312, 1400, 930, 945TP, OP-935를 들 수 있다.As a commercial item, Exolit OP 1240, 1240, 1312, 1400, 930, 945TP, and OP-935 are mentioned, for example.

포스파젠 화합물은, 시아노기(-CN), 수산기(-OH) 및 메틸기 중 어느 1종에 의해 치환되어 있는 페녹시기와 포스파젠 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 특히, 기본 골격으로서 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조를 갖고, 당해 구조 중의 6개의 페녹시기 중, 적어도 2개가 시아노기(-CN) 또는 수산기(-OH)에 의해 치환되어 있는 것이 바람직하다.The phosphazene compound is preferably a compound having a phosphazene structure and a phenoxy group substituted with any one of a cyano group (-CN), a hydroxyl group (-OH), and a methyl group. In particular, it is preferable to have a hexaphenoxycyclotriphosphazene structure as a basic skeleton, and at least two of the six phenoxy groups in the structure are substituted with cyano groups (-CN) or hydroxyl groups (-OH).

바람직한 양태로서는, 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조 중의 인 원자에 결합하는 2개의 페녹시기 중 어느 한쪽만이 1개의 시아노기(-CN)에 의해 치환되고, 또한 이와 같이 치환된 페녹시기를, 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조 전체로서 2개 갖는 구조이다.In a preferred embodiment, only one of the two phenoxy groups bonded to the phosphorus atom in the hexaphenoxycyclotriphosphazene structure is substituted with one cyano group (-CN), and the phenoxy group thus substituted is It is a structure having two as the whole structure of phenoxycyclotriphosphazene.

또한 다른 바람직한 양태로서는, 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조 중의 인 원자에 결합하는 2개의 페녹시기가 모두 1개의 시아노기(-CN)에 의해 치환되고, 또한 이와 같이 치환된 페녹시기를, 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조 전체로서 6개 모두 갖는 구조이다.In another preferred embodiment, both phenoxy groups bonded to the phosphorus atom in the hexaphenoxycyclotriphosphazene structure are substituted with one cyano group (-CN), and the phenoxy group thus substituted is hexaphenoxy It is a structure having all six cyclotriphosphazene structures as a whole.

또한 다른 바람직한 양태로서는, 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조 중의 인 원자에 결합하는 2개의 페녹시기 중 어느 한쪽만이 1개의 수산기(-OH)에 의해 치환되고, 또한 이와 같이 치환된 페녹시기를, 헥사페녹시시클로트리포스파젠 구조 전체로서 3개 갖는 구조이다.As another preferred aspect, only one of the two phenoxy groups bonded to the phosphorus atom in the hexaphenoxycyclotriphosphazene structure is substituted with one hydroxyl group (-OH), and the phenoxy group thus substituted is It is a structure having three as the whole structure of hexaphenoxycyclotriphosphazene.

보다 바람직하게는, 환상 포스파젠 화합물은, 하기 구조:More preferably, the cyclic phosphazene compound has the following structure:

Figure pct00006
Figure pct00006

또는or

Figure pct00007
Figure pct00007

또는or

Figure pct00008
Figure pct00008

중 어느 것의 구조를 갖는 것이다.It has the structure of any of them.

바람직한 포스파젠 화합물의 시판품으로서는, 예를 들어 FP-300B, FP-300, SPH-100(모두 후시미 세야쿠사제)을 들 수 있다.As a commercial item of a preferable phosphazene compound, FP-300B, FP-300, and SPH-100 (all are made by Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.) are mentioned, for example.

(F) 인계 난연제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. (F) 인계 난연제가 배합되는 경우, 그 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부에 대하여 1질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 5질량부 이상 40질량부 이하이다. 특히, (F) 인계 난연제의 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 중의 인 함유율로서 0.1 내지 10%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1 내지 5%이다. (F) 인계 난연제가 상기 범위 내에서 배합되는 경우, 내열성, 저휨성을 유지한 채 난연성을 효과적으로 부여할 수 있다. 또한, 본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, 난연제로서 Firebrake ZB 등의 붕산 금속염(붕산아연 화합물(2ZnOㆍ3B2O3ㆍ3.5H2O))을 사용해도 된다.(F) Phosphorus flame retardant may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. (F) When a phosphorus-based flame retardant is blended, the blending amount is preferably 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. In particular, the compounding amount of the phosphorus-based flame retardant (F) is preferably 0.1 to 10%, more preferably 1 to 5%, in terms of the phosphorus content in the curable composition of the present invention. (F) When the phosphorus-based flame retardant is blended within the above range, flame retardancy can be effectively imparted while maintaining heat resistance and low warpage. In addition, in the curable composition of the present invention, you may use borate metal salts (zinc borate compound (2ZnO*3B 2 O 3 *3.5H 2 O)), such as Firebrake ZB, as a flame retardant.

[(G) 이온 포착제][(G) ion trapping agent]

본 발명의 경화성 조성물은, 이온 마이그레이션 내성 등의 절연 신뢰성을 향상시키기 위해, 공지 관용의 (G) 이온 포착제를 포함하는 것이 바람직하다.The curable composition of the present invention preferably contains a known and commonly used (G) ion trapping agent in order to improve insulation reliability such as ion migration resistance.

(G) 이온 포착제로서는, 이온 교환에 의해 양이온을 포착하는 무기 양이온 포착제, 이온 교환에 의해 음이온을 포착하는 무기 음이온 포착제, 및 이온 교환에 의해 양이온과 음이온의 양쪽을 포착하는 무기 양쪽이온 포착제를 들 수 있으며, 무기 양쪽이온 포착제가 바람직하다.(G) As the ion trapping agent, an inorganic cation trapping agent that captures cations by ion exchange, an inorganic anion trapping agent that captures anions by ion exchange, and an inorganic zwitterion that captures both cations and anions by ion exchange A trapping agent can be mentioned, and an inorganic zwitterion trapping agent is preferable.

(G) 이온 포착제는, 지르코늄, 알루미늄, 아연, 마그네슘 및 비스무트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 성분을 포함하는 것이다. 특히, 이들 성분의 2종 이상의 산화 수화물 또는 수산화물이 바람직하고, 지르코늄, 마그네슘 및 알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 2종 이상의 산화 수화물 또는 수산화물이 보다 바람직하다. 그 중에서도 마그네슘, 알루미늄 및 지르코늄의 3성분계 산화 수화물, 비스무트 및 지르코늄의 2성분계 산화 수화물 및 마그네슘 및 알루미늄을 포함하는 수산화물인 하이드로탈사이트가 바람직하다. 이온 포착제는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.(G) The ion trapping agent contains at least one component selected from the group consisting of zirconium, aluminum, zinc, magnesium, and bismuth. In particular, two or more types of oxidized hydrates or hydroxides of these components are preferable, and two or more types of oxidized hydrates or hydroxides selected from the group consisting of zirconium, magnesium, and aluminum are more preferable. Among them, hydrotalcite, which is a three-component oxide hydrate of magnesium, aluminum and zirconium, a two-component oxide hydrate of bismuth and zirconium, and a hydroxide containing magnesium and aluminum, is preferable. An ion trapping agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.

하이드로탈사이트는 하기 식 (1)로 표시된다.Hydrotalcite is represented by the following formula (1).

MgaAlb(OH)c(CO3)dㆍnH2O … (1)Mg a Al b (OH) c (CO 3 ) d ㆍnH 2 O . (One)

(식 (1) 중, a, b, c 및 d는 양수이며, 2a+3b-c-2d=0을 충족한다. 또한, n은 수화의 수를 나타내며, 0 또는 양수이고, 바람직하게는 1 내지 5이다.)(In formula (1), a, b, c, and d are positive numbers and satisfy 2a+3b-c-2d=0. In addition, n represents the number of hydration numbers and is 0 or a positive number, preferably 1 to 5.)

식 (1) 중, Mg의 일부를 다른 2가 금속 이온으로 치환한 것도 마찬가지로 바람직하게 사용할 수 있다. 다른 2가 금속 이온 중에서 특히 바람직한 것은 Zn이다.In Formula (1), those in which a part of Mg is substituted with other divalent metal ions can also be preferably used in the same way. Among other divalent metal ions, Zn is particularly preferred.

하이드로탈사이트의 구체예로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 Mg4.5Al2(OH)13CO3ㆍnH2O, Mg5Al1.5(OH)12.5CO3ㆍnH2O, Mg6Al2(OH)16CO3ㆍnH2O, Mg4.2Al2(OH)12.4CO3ㆍnH2O, Mg4.3Al2(OH)12.6CO3ㆍnH2O, Mg2.5Zn2Al2(OH)13CO3ㆍnH2O, Mg4.2Al2(OH)12.4CO3ㆍnH2O, Mg4.2Al2(OH)12.4CO3ㆍnH2O, Mg4Al2(OH)12CO3ㆍnH2O 등(이상, n은 수화의 수를 나타내며, 0 또는 양수이고, 바람직하게는 1 내지 5이다.)을 들 수 있으며, 그 중에서도 Mg4.3Al2(OH)12.6CO3ㆍnH2O가 바람직하다.Specific examples of the hydrotalcite are not particularly limited, but, for example, Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3 nH 2 O, Mg 5 Al 1.5 (OH) 12.5 CO 3 nH 2 O, Mg 6 Al 2 (OH) ) 16 CO 3 ㆍnH 2 O, Mg 4.2 Al 2 (OH) 12.4 CO 3 ㆍnH 2 O, Mg 4.3 Al 2 (OH) 12.6 CO 3 ㆍnH 2 O, Mg 2.5 Zn 2 Al 2 (OH) 13 CO 3 ㆍnH 2 O, Mg 4.2 Al 2 (OH) 12.4 CO 3 ㆍnH 2 O, Mg 4.2 Al 2 (OH) 12.4 CO 3 ㆍnH 2 O, Mg 4 Al 2 (OH) 12 CO 3 ㆍnH 2 O (above, n represents the number of hydration and is 0 or a positive number, preferably 1 to 5.), among which Mg 4.3 Al 2 (OH) 12.6 CO 3 nH 2 O is preferable. .

식 (1)로 표시되는 하이드로탈사이트로서는, a/b가 1.5 이상 5 이하인 것이 바람직하고, 1.7 이상 3 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.8 이상 2.5 이하인 것이 더욱 바람직하다.As the hydrotalcite represented by formula (1), a/b is preferably 1.5 or more and 5 or less, more preferably 1.7 or more and 3 or less, and still more preferably 1.8 or more and 2.5 or less.

(G) 이온 포착제의 평균 입자경은, 통상 5㎛ 이하, 바람직하게는 1㎛ 이하이다. 해당 평균 입자경의 하한은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 0.3㎛ 이상이다.(G) The average particle size of the ion trapping agent is usually 5 μm or less, preferably 1 μm or less. The lower limit of the average particle diameter is not particularly limited, but is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and still more preferably 0.3 μm or more.

또한, 이온 포착제의 평균 입자경은, 동적 광산란법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는 동적 광산란식 입도 분포 측정 장치에 의해, 이온 포착제의 입도 분포를 체적 기준으로 작성하고, 그 메디안 직경(D50)을 평균 입자경으로 함으로써 측정할 수 있다. 측정 샘플은, 이온 포착제를 초음파에 의해 수중에 분산시킨 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 동적 광산란식 입도 분포 측정 장치로서는, 마이크로트랙 벨사제의 Nanotrac Wave II UT151 등을 사용할 수 있다.In addition, the average particle diameter of the ion trapping agent can be measured by a dynamic light scattering method. Specifically, it can be measured by creating a particle size distribution of the ion trapping agent on a volume basis with a dynamic light scattering type particle size distribution analyzer and taking the median diameter (D50) as the average particle diameter. As the measurement sample, a sample obtained by dispersing an ion trapping agent in water by ultrasonic waves can be preferably used. As a dynamic light scattering type particle size distribution measuring device, Nanotrac Wave II UT151 manufactured by Microtrac Bell, etc. can be used.

(G) 이온 포착제는 시판품을 사용해도 되며, 예를 들어 도아 고세 가부시키가이샤제 IXEPLAS-A1, IXEPLAS-A2, IXEPLAS-A3, IXEPLAS-B1 등, 교와 가가쿠 고교 가부시키가이샤제 DHT-4A, DHT-4A-2, DHT-4C 등을 들 수 있다.(G) Commercially available products may be used as the ion trapping agent, for example, DHT- by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. 4A, DHT-4A-2, DHT-4C, etc. are mentioned.

(G) 이온 포착제가 배합되는 경우에는, 그 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01질량부 이상 10질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.02질량부 이상 5질량부 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.03질량부 이상 3질량부 이하이다. 이온 포착제의 배합량이 상기 수치 범위 내이면, 유연성, 저휨성, 난연성을 저하시키지 않고 절연 신뢰성 및 고온 고습 후 밀착성을 향상시킬 수 있다.(G) When an ion trapping agent is blended, the blending amount is preferably 0.01 part by mass or more and 10 parts by mass or less, more preferably 0.02 part by mass or more and 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. or less, more preferably 0.03 parts by mass or more and 3 parts by mass or less. When the compounding amount of the ion trapping agent is within the above numerical range, it is possible to improve insulation reliability and adhesion after high temperature and high humidity without deteriorating flexibility, low warpage, and flame retardancy.

[(메타)아크릴로일기와 수산기를 갖는 화합물((E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 제외함)][Compounds having (meth)acryloyl groups and hydroxyl groups ((E) excluding compounds having two or more (meth)acryloyl groups)]

또한, 본 발명의 경화성 조성물은, (메타)아크릴로일기와 수산기를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. (메타)아크릴로일기와 수산기를 갖는 화합물을 포함함으로써, 얻어진 경화막과 도체 및 기판의 밀착성이 향상된다.Moreover, it is preferable that the curable composition of this invention contains the compound which has a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group. By including the compound having a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group, the adhesiveness between the obtained cured film, conductor and substrate is improved.

(메타)아크릴로일기와 수산기를 갖는 화합물로서는, 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 시판품으로서는 아로닉스 M-5700(도아 고세사제의 상품명), 4HBA, 2HEA, CHDMMA(이상, 교에샤 가가쿠사제의 상품명), BHEA, HPA, HEMA, HPMA(이상, 닛폰 쇼쿠바이사제의 상품명), 라이트에스테르 HO, 라이트에스테르 HOP, 라이트에스테르 HOA(이상, 교에샤 가가쿠사제의 상품명) 등이 있다. (메타)아크릴로일기와 수산기를 갖는 화합물은 1종류 또는 복수 종류를 조합하여 사용할 수 있다.As a compound having a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyethyl (meth)acrylate, 1,4 -Cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, 2-hydroxypropyl(meth)acrylate, 4-hydroxybutyl(meth)acrylate, pentaerythritol tri( meth)acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and the like. As commercially available products, Aronix M-5700 (trade name manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 4HBA, 2HEA, CHDMMA (above, trade name manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), BHEA, HPA, HEMA, HPMA (above, trade name manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) ), light ester HO, light ester HOP, light ester HOA (above, the trade name of Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like. The compound which has a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group can be used combining 1 type or multiple types.

이 중, 특히 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 또한, 점도 조정의 용이성의 관점에서, (메타)아크릴로일기가 1개인 화합물이 바람직하게 사용된다.Among these, especially 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4- Hydroxybutyl acrylate and 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate are preferably used. Moreover, from a viewpoint of the ease of viscosity adjustment, the compound with one (meth)acryloyl group is used preferably.

(메타)아크릴로일기와 수산기를 갖는 화합물의 배합량은, 본 발명의 경화성 조성물 100질량부당, 바람직하게는 1 내지 15질량부이고, 보다 바람직하게는 1 내지 10질량부이고, 특히 바람직하게는 2 내지 8질량부이다.The compounding amount of the compound having a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group is preferably 1 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and particularly preferably 2 parts by mass per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. to 8 parts by mass.

본 발명의 경화성 조성물에는, 필요에 따라 산화 방지제, 소포ㆍ레벨링제, 틱소트로피 부여제ㆍ증점제, 커플링제, 분산제, 중합 지연제, 착색제 등의 첨가제를 함유시킬 수 있다.The curable composition of the present invention may contain additives such as antioxidants, antifoaming/leveling agents, thixotropy imparting agents/thickeners, coupling agents, dispersing agents, polymerization retardants, and colorants as needed.

또한, 본 발명의 경화성 조성물에는, 점도 조정을 위해 용제를 사용해도 되지만, 경화 후의 막 두께 저하를 방지하기 위해, 첨가량은 적은 것이 바람직하다. 또한, 점도 조정을 위한 용제는 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다.In addition, although a solvent may be used for viscosity adjustment in the curable composition of the present invention, in order to prevent a decrease in film thickness after curing, a small addition amount is preferable. Moreover, it is more preferable not to contain the solvent for viscosity adjustment.

본 발명의 경화성 조성물은, 바람직하게는 잉크젯법에 의한 인쇄에 적용된다. 잉크젯법에 의한 인쇄에 적용 가능하게 하기 위해서는, 잉크젯 프린터에 의해 분사 가능한 점도인 것이 바람직하다.The curable composition of the present invention is preferably applied to printing by an inkjet method. In order to make it applicable to printing by the inkjet method, it is preferable that it has a viscosity which can be jetted by an inkjet printer.

또한, 본 발명의 경화성 조성물의 점도는, 50℃에서 50mPaㆍs 이하인 것이 바람직하고, 50℃에서 20mPaㆍs 이하인 것이 보다 바람직하고, 50℃에서 15mPaㆍs 이하인 것이 특히 바람직하다. 점도는, JIS Z8803:2011의 10 원뿔-평판형 회전 점도계에 의한 점도 측정 방법에 준하여, 50℃, 100rpm, 30초값으로 하고, 콘 로터로서 1°34'×R24를 사용한 콘플레이트형 점도계(TVE-33H, 도키 산교사제)로 측정한 값이다.The viscosity of the curable composition of the present invention is preferably 50 mPa·s or less at 50°C, more preferably 20 mPa·s or less at 50°C, and particularly preferably 15 mPa·s or less at 50°C. Viscosity was measured at 50°C, 100 rpm, and 30 seconds according to the viscosity measurement method using a 10-cone-flat rotational viscometer of JIS Z8803:2011, and a cone plate viscometer (TVE) using 1°34'×R24 as a cone rotor. -33H, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

따라서, 본 발명의 경화성 조성물에 의해 프린트 배선판용 기판 등에, 잉크젯 인쇄법에 의해 직접 패턴을 인쇄할 수 있다.Therefore, the curable composition of the present invention can directly print a pattern on a substrate for a printed wiring board or the like by an inkjet printing method.

또한, 본 발명의 경화성 조성물은, 상온에서는 중합 반응이 생기지 않기 때문에, 1액형의 경화성 조성물로서 안정적으로 보존 가능하다.In addition, since the curable composition of the present invention does not undergo a polymerization reaction at room temperature, it can be stably stored as a one-component curable composition.

본 발명의 경화성 조성물의 점도를 50℃에서 50mPaㆍs 이하로 한 경우에는, 잉크젯 프린터에 잉크로서 공급할 수 있어, 기판 상으로의 인쇄에 사용할 수 있다.When the viscosity of the curable composition of the present invention is 50 mPa·s or less at 50°C, it can be supplied as ink to an inkjet printer and used for printing onto a substrate.

<경화성 조성물에 의해 얻어지는 경화물><Cured product obtained from curable composition>

본 발명의 경화성 조성물에 의해 얻어지는 경화물은, 예를 들어 상기 인쇄 직후의 조성물층에 50mJ/㎠ 내지 1000mJ/㎠의 활성 에너지선을 조사함으로써 조성물층을 광경화시킴으로써 얻어진다. 활성 에너지선 조사는, 자외선, 전자선, 화학선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해, 바람직하게는 자외선 조사에 의해 행해진다.The hardened|cured material obtained by the curable composition of this invention is obtained by photocuring the composition layer, for example by irradiating an active energy ray of 50 mJ/cm<2> - 1000 mJ/cm<2> to the composition layer immediately after the said printing. Active energy ray irradiation is performed by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, and actinic rays, preferably by ultraviolet rays.

잉크젯 프린터에 있어서의 자외선 조사는, 예를 들어 프린트 헤드의 측면에 고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 자외선 LED 등의 광원을 설치하고, 프린트 헤드 혹은 기판을 움직임에 따른 주사를 행함으로써 행할 수 있다. 이 경우에는, 인쇄와, 자외선 조사를 거의 동시에 행할 수 있다.UV irradiation in an inkjet printer can be performed, for example, by installing a light source such as a high pressure mercury vapor lamp, a metal halide lamp, or an ultraviolet LED on the side surface of the print head, and performing scanning by moving the print head or substrate. In this case, printing and ultraviolet irradiation can be performed almost simultaneously.

광경화 후의 경화물은, 공지된 가열 수단, 예를 들어 열풍로, 전기로, 적외선 유도 가열로 등의 가열로를 사용함으로써 열경화한다. 가열 조건으로서는, 130℃ 내지 170℃에서 5분 내지 90분 가열하는 것이 바람직하다.The cured product after photocuring is thermally cured by using a known heating means, for example, a heating furnace such as a hot air furnace, an electric furnace, or an infrared induction heating furnace. As heating conditions, it is preferable to heat at 130°C to 170°C for 5 minutes to 90 minutes.

본 발명의 경화성 조성물에 의해 얻어진 경화물은, 유연성도 우수하기 때문에, 특히 플렉시블 프린트 배선판에 대한 솔더 레지스트로서도 적합하다.Since the hardened|cured material obtained by the curable composition of this invention is also excellent in a softness|flexibility, it is especially suitable also as a soldering resist with respect to a flexible printed wiring board.

플렉시블 프린트 배선판의 기판으로서는, 예를 들어 유리 폴리이미드, 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 액정 폴리머, 폴리카보네이트 등을 포함하는 필름 등을 들 수 있다.As a board|substrate of a flexible printed wiring board, the film etc. which consist of glass polyimide, a polyimide, a polyethylene terephthalate, a liquid crystal polymer, polycarbonate etc. are mentioned, for example.

<경화성 조성물의 경화물을 갖는 전자 부품><Electronic component having cured product of curable composition>

이와 같이 기판 상에 패턴 인쇄한 경화성 조성물을 포함하는 경화막이 솔더 레지스트로서 사용되는 경우, 부품의 실장을 위한 납땜 공정에서 가열된다. 납땜은 손납땜, 플로우 납땜, 리플로우 납땜 등 중 어느 것으로 행해져도 되지만, 예를 들어 리플로우 납땜의 경우에는, 100℃ 내지 140℃에서 1 내지 4시간의 예열과, 그 후 240 내지 280℃에서 5 내지 20초 정도의 가열을 복수회(예를 들어, 2 내지 4회) 반복하여 땜납을 가열ㆍ용융시키는 리플로우 공정에 제공되며, 냉각 후, 필요에 따라 부품이 실장된 전자 부품이 완성된다.In this way, when a cured film containing a curable composition pattern-printed on a substrate is used as a solder resist, it is heated in a soldering process for mounting components. Soldering may be performed by hand soldering, flow soldering, reflow soldering, and the like, but in the case of reflow soldering, for example, preheating at 100°C to 140°C for 1 to 4 hours, followed by 240°C to 280°C Heating for about 5 to 20 seconds is repeated a plurality of times (for example, 2 to 4 times) to provide a reflow process in which the solder is heated and melted, and after cooling, an electronic component with components mounted as necessary is completed. .

또한, 본 발명에 있어서 전자 부품이란, 전자 회로에 사용하는 부품을 의미하고, 프린트 배선판, 트랜지스터, 발광 다이오드, 레이저 다이오드 등의 능동 부품의 타저항, 콘덴서, 인덕터, 커넥터 등의 수동 부품도 포함되며, 본 발명의 경화성 조성물의 경화물이 이들의 절연성 경화막으로서, 본 발명의 효과를 발휘하는 것이다.Further, in the present invention, electronic components refer to components used in electronic circuits, and other active components such as printed wiring boards, transistors, light emitting diodes, laser diodes, resistors, capacitors, inductors, and passive components such as connectors are also included. , The cured products of the curable composition of the present invention exhibit the effect of the present invention as these insulating cured films.

본 발명의 경화성 조성물은, 저점도화가 용이하고, 도포성이 우수하고, 광경화 후의 휨도 적다. 또한, 경화 후에도 유연하고, 기판에 대한 밀착성, 난연성, 땜납 내열성, 도금 내성, 내용제성이 우수한 점에서 여러 가지의 용도에 적용 가능하며, 적용 대상에 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 잉크젯법을 사용한 프린트 배선판의 에칭 레지스트, 솔더 레지스트, 마킹 잉크의 제작 등에 사용할 수 있으며, 그 중에서 높은 내열성 및 유연성이 요구되는 플렉시블 프린트 배선판의 솔더 레지스트로서 적합하게 사용할 수 있다.The curable composition of the present invention can be easily reduced in viscosity, has excellent applicability, and has little warpage after photocuring. In addition, since it is flexible even after curing and has excellent adhesion to substrates, flame retardancy, solder heat resistance, plating resistance, and solvent resistance, it can be applied to various applications, and the application target is not particularly limited. For example, it can be used for the production of etching resists, solder resists, and marking inks for printed wiring boards using an inkjet method, and among them, it can be suitably used as a solder resist for flexible printed wiring boards requiring high heat resistance and flexibility.

또한, UV 성형품 재료, 광 조형용 재료, 3D 잉크젯용 재료 등의 용도에도 이용 가능하다.In addition, it can be used for applications such as materials for UV molded articles, materials for stereolithography, and materials for 3D inkjet.

또한, 본 발명은 상기 실시 형태의 구성 및 실시예에 한정되는 것은 아니며, 발명의 요지의 범위 내에서 여러 가지 변형이 가능하다.In addition, the present invention is not limited to the configurations and examples of the above embodiments, and various modifications are possible within the scope of the gist of the invention.

실시예Example

이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로만 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서 특별히 언급하지 않는 한, 「부」는 질량부를 의미하는 것으로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing examples, but the present invention is not limited only to these examples. In addition, unless otherwise indicated below, "part" shall mean a mass part.

<1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제><1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3>

하기 표 1에 나타내는 비율(단위: 질량부)로 각 성분을 배합하고, 이것을 디졸버로 교반하였다. 그 후, 비즈 밀을 사용하여 지르코니아 비즈에서 분산을 2시간 행하여, 본 발명의 경화성 조성물(실시예 1 내지 8) 및 비교예의 경화성 조성물(비교예 1 내지 3)을 얻었다. 비즈 밀로서는, 코니컬형 K-8(뷸러사제)을 사용하여, 회전수 1200rpm, 토출량 20%, 비즈 입경 0.65mm, 충전율 88%의 조건에서 혼련하였다.Each component was blended in the ratio (unit: parts by mass) shown in Table 1 below, and this was stirred with a dissolver. Thereafter, dispersion was performed with zirconia beads for 2 hours using a bead mill to obtain curable compositions of the present invention (Examples 1 to 8) and curable compositions of comparative examples (Comparative Examples 1 to 3). As a bead mill, conical type K-8 (manufactured by Buehler) was used and kneaded under the conditions of rotation speed of 1200 rpm, discharge amount of 20%, bead particle size of 0.65 mm, and filling rate of 88%.

Figure pct00009
Figure pct00009

*1: α-(알릴옥시메틸)아크릴산메틸(FX-AOMA: 닛폰 쇼쿠바이사제)*1: α-(allyloxymethyl)methyl acrylate (FX-AOMA: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)

*2: 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(A-TMPT: 신나카무라 가가쿠 고교사제)*2: Trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT: manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)

*3: 1,9-노난디올디아크릴레이트(1,9-NDA: 다이이치 고교 세야쿠사제)*3: 1,9-nonanediol diacrylate (1,9-NDA: manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)

*4: 디프로필렌글리콜디아크릴레이트(DPGDA: 도요 케미컬즈사제)*4: Dipropylene glycol diacrylate (DPGDA: manufactured by Toyo Chemicals)

*5: 에톡시화 비스페놀 A 디아크릴레이트(A-BPE-10: 신나카무라 가가쿠 고교사제)*5: Ethoxylated bisphenol A diacrylate (A-BPE-10: manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)

*6: 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA: 교에샤 가가쿠사제)*6: 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

*7: 3관능 블록 이소시아네이트(BI7982: Baxenden chemmical사제)*7: Trifunctional block isocyanate (BI7982: manufactured by Baxenden chemmical)

*8: 멜라민(닛산 가가쿠사제)*8: Melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)

*9: 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논(Omnirad 379: IGM Resins사제)*9: 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone (Omnirad 379: manufactured by IGM Resins)

*10: 포스파젠 화합물(인 함유율 12.5%)(FP-300B: (주)후시미 세야쿠쇼제)*10: Phosphazene compound (phosphorus content 12.5%) (FP-300B: manufactured by Fushimi Seiyakusho Co., Ltd.)

*11: 포스핀산 금속염(인 함유율 23%)(OP935: 클라리언트 케미컬즈사제)*11: Phosphinic acid metal salt (phosphorus content: 23%) (OP935: manufactured by Clariant Chemicals)

*12: 페놀성 수산기를 갖는 인 함유 화합물(인 함유율 9.6%)(HCA-HQ: 산코사제)*12: Phosphorus-containing compound having a phenolic hydroxyl group (phosphorus content: 9.6%) (HCA-HQ: manufactured by Sanko Co., Ltd.)

*13: Mg계 화합물, Al계 화합물 및 Zr계 화합물을 함유하는 이온 포착제(IXEPLAS-A1: 도아 고세사제)*13: Ion trapping agent containing Mg-based compound, Al-based compound and Zr-based compound (IXEPLAS-A1: manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

*14: 프탈로시아닌계 청색 안료(Pigment Blue 15:3)*14: Phthalocyanine-based blue pigment (Pigment Blue 15:3)

*15: 안트라퀴논계 황색 안료(Pigment Yellow 147)*15: anthraquinone-based yellow pigment (Pigment Yellow 147)

<2. 평가><2. evaluation>

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에서 얻어진 각 경화성 조성물에 대하여 이하와 같이 점도를 평가하였다. 또한, 이하에 나타내는 바와 같이 시험용 시료를 작성하여, 도포성, 노광 후 휨성, 유연성(MIT 시험), 땜납 내열성, 내용제성, 무전해 금 도금 내성, 난연성 및 고온 고습 후 밀착성의 평가를 행하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> The viscosity of each curable composition obtained was evaluated as follows. In addition, test samples were prepared as shown below, and applicability, post-exposure warpage, flexibility (MIT test), solder heat resistance, solvent resistance, electroless gold plating resistance, flame retardancy, and adhesion after high temperature and high humidity were evaluated. The results are shown in Table 2.

(1) 점도(1) Viscosity

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에서 얻어진 각 경화성 조성물에 대하여, 50℃, 100rpm, 30초값으로 하고, 콘 로터로서 1°34'×R24를 사용한 콘플레이트형 점도계(TVE-33H, 도키 산교사제)로 측정하여, 이하의 기준으로 평가하였다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> For each curable composition obtained, a value of 50 ° C., 100 rpm, 30 seconds, and a cone plate type viscometer using 1 ° 34 'x R24 as a cone rotor (TVE-33H, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.), and evaluated according to the following criteria.

◎: 10mPaㆍs 이하◎: 10 mPa·s or less

○: 10mPaㆍs 초과 20mPaㆍs 이하○: More than 10 mPa·s and 20 mPa·s or less

×: 20mPaㆍs 초과×: Exceeding 20 mPa·s

(2) 경화막의 형성 조건(2) Conditions for forming a cured film

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에서 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여 도포하였다. 어레이는 KM1024iSHE(코니카 미놀타사제, 도포 액적량 6pL, 노즐수 1024개, 헤드 온도 50℃)를 사용하였다. 광경화는 SGHUV-UN-L042-B(마이크로 크래프트사제, LED 광원, 파장 365nm)를 광원으로서 사용하여, 300mJ/㎠에서 행하였다. 그 후, 가열 장치는 열풍 순환식 건조로 DF610(야마토 가가쿠 가부시키가이샤제)을 사용하여, 150℃ 60분에서 본경화를 행하였다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each of the curable compositions obtained was applied using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft). As the array, KM1024iSHE (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd., coating droplet amount 6pL, number of nozzles 1024, head temperature 50°C) was used. Photocuring was performed at 300 mJ/cm 2 using SGHUV-UN-L042-B (manufactured by Microcraft, LED light source, wavelength 365 nm) as a light source. Thereafter, the heating device performed main curing at 150°C for 60 minutes using a hot air circulation drying furnace DF610 (manufactured by Yamato Chemical Co., Ltd.).

(3) 도포성(3) Applicability

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, 황산 처리를 끝낸 에스파넥스(등록 상표) M(닛테츠 케미컬 & 머티리얼사제)의 구리 표면 상에 도포 두께 20㎛로 도포하였다. 경화막 표면을 눈으로 보고 관찰하여, 이하의 기준으로 평가를 행하였다.Above <1. [Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3] Spanex (registered trademark) M (Nippon) after sulfuric acid treatment of each curable composition obtained by using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft) Tetsu Chemical & Materials Co., Ltd.) was coated on a copper surface with a coating thickness of 20 μm. The surface of the cured film was visually observed and evaluated according to the following criteria.

○: 균일하게 도포가 되어 있으며, 표면이 매끄러운 것○: uniformly applied and smooth surface

△: 전체면 도포는 되어 있지만, 헤드 조작 방향에 대하여 줄무늬가 발생한 것△: The entire surface is coated, but streaks are generated in the direction of head operation

×: 경화막의 일부에 누락이 발생한 것x: What omission occurred in a part of the cured film

(4) 노광 후 휨성(4) Flexibility after exposure

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, 광경화 조건 800mJ/㎠에서, 황산 처리를 끝낸 캡톤(등록 상표) 200H(도레이ㆍ듀퐁사제)에 대하여 편면 도포를 행하였다. 얻어진 노광 후 경화막의 적층체를 5㎝×5㎝(세로×가로)로 잘라내어 샘플(막 두께: 15㎛)로 하였다. 각 샘플을, 노광 후 경화막면을 상면으로 하여 30분간 수평 작업대 위에 정치하고, 작업대로부터 상승한 샘플의 4단의 높이를 정규로 측정하여, 4단의 높이의 평균값을 구하였다. 마찬가지의 시험을 샘플마다 3회 행하고, 3회의 시험의 평균값을 구하여, 이하의 기준으로 평가하였다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each curable composition obtained by using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft) was subjected to sulfuric acid treatment under photocuring conditions of 800 mJ/cm 2 Kapton (Registered trademark) 200H (manufactured by DuPont Toray) was applied on one side. The obtained laminated body of the post-exposure cured film was cut into 5 cm x 5 cm (length x width) to make a sample (film thickness: 15 µm). Each sample was allowed to stand on a horizontal workbench for 30 minutes with the cured film surface as the upper surface after exposure, and the height of the four steps of the sample raised from the workbench was regularly measured, and the average value of the four steps was obtained. The same test was performed three times for each sample, the average value of the three tests was obtained, and the following criteria were evaluated.

◎: 4단의 합계 높이의 평균값이 5mm 이하◎: The average value of the total height of the 4 stages is 5 mm or less

○: 4단의 합계 높이의 평균값이 5mm 초과 10mm 미만○: The average value of the total height of the 4 stages is more than 5 mm and less than 10 mm

×: 4단의 합계 높이의 평균값이 10mm 이상×: The average value of the total height of the 4 stages is 10 mm or more

(5) 유연성(MIT 시험)(5) Flexibility (MIT test)

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 마이크로 크래프트사제 CP56151로, 황산 처리를 끝낸 구리 두께 12㎛로 회로 패턴이 형성되어 있는 폴리이미드 25㎛의 기판 상에 도포하였다. 그 후, 상기 「(2) 경화막의 형성 조건」에 따라, 두께 20㎛의 경화막을 형성하였다. 얻어진 경화막에 대하여, JIS P8115에 기초하는 MIT 시험(R=0.38mm)을 실시하여, 굴곡성을 평가하였다.Above <1. Preparation of curable compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each curable composition obtained by Microcraft CP56151 was prepared by sulfuric acid-treated copper with a thickness of 12 μm and a circuit pattern formed of 25 μm of polyimide. applied on a substrate. Thereafter, a cured film having a thickness of 20 μm was formed according to the above “(2) conditions for forming a cured film”. The obtained cured film was subjected to an MIT test (R = 0.38 mm) based on JIS P8115 to evaluate flexibility.

구체적으로는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 시험편(1)을 장치에 장착하고, 하중 F(0.5kgf)를 부하한 상태에서, 클램프(2)에 시험편(1)을 수직으로 설치하여, 절곡 각도 α가 135도, 속도가 175cpm에서 절곡을 행하여, 파단될 때까지의 왕복 절곡 횟수(회)를 측정하였다. 또한, 시험 환경은 25℃이고, 곡률 반경은 R=0.38mm로 하였다. 평가 기준은 이하와 같다.Specifically, as shown in FIG. 1, the test piece 1 is attached to the apparatus, and in a state where a load F (0.5 kgf) is applied, the test piece 1 is vertically installed on the clamp 2 and bent. The bending was performed at an angle α of 135 degrees and a speed of 175 cpm, and the number of reciprocal bending until breakage (times) was measured. In addition, the test environment was 25 degreeC, and the radius of curvature was set to R=0.38 mm. The evaluation criteria are as follows.

◎: 150회 이상◎: 150 times or more

○: 100 내지 149회○: 100 to 149 times

△: 50 내지 99회△: 50 to 99 times

×: 49회 이하×: 49 times or less

(6) 땜납 내열성(6) Solder heat resistance

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, 광경화 조건 800mJ/㎠에서, 황산 처리를 끝낸 구리 두께 12㎛, 폴리이미드 50㎛의 회로 패턴 기판 상에 도포를 행하였다. 그 후, 상기 「(2) 경화막의 형성 조건」에 따라, 두께 20㎛의 경화막을 형성하였다. 얻어진 평가 기판에 대하여 로진계 플럭스를 도포하고, 미리 260℃로 설정한 땜납조에 5초간 침지를 1회 혹은 2회 행하여, 변성 알코올로 플럭스를 세정한 후, 크로스컷 테이프 필링 시험을 행하여, 경화막의 팽창ㆍ박리에 대하여 평가하였다. 판정 기준은 이하와 같다.Above <1. Preparation of the Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each curable composition obtained by using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft) was subjected to sulfuric acid treatment under photocuring conditions of 800 mJ / cm 2 Copper Coating was performed on a circuit pattern substrate having a thickness of 12 μm and a polyimide of 50 μm. Thereafter, a cured film having a thickness of 20 μm was formed according to the above “(2) conditions for forming a cured film”. A rosin-based flux was applied to the obtained evaluation substrate, and immersion was performed once or twice for 5 seconds in a soldering bath set at 260° C. in advance, and the flux was washed with denatured alcohol, followed by a cross-cut tape peeling test. Expansion and peeling were evaluated. The criterion for judgment is as follows.

◎: 5초×2회 침지를 행하고, 셀로판테이프(등록 상표)로 필 시험을 행해도 경화막에 박리가 확인되지 않는다.(double-circle): Peeling is not recognized by a cured film even if it is immersed for 5 seconds x 2 times and a peel test is performed with cellophane tape (registered trademark).

○: 5초×1회 침지를 행하고, 셀로판테이프(등록 상표)로 필 시험을 행해도 경화막에 박리가 확인되지 않는다.O: Peeling is not recognized by a cured film even if it is immersed for 5 seconds x 1 time and a peel test is performed with cellophane tape (registered trademark).

×: 5초×1회 침지를 행하면 경화막에 팽창, 박리가 있다.x: When dipping for 5 seconds x 1 time, the cured film has swelling and peeling.

(7) 내용제성(7) Solvent resistance

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, 광경화 조건 800mJ/㎠에서, 황산 처리를 끝낸 에스파넥스(등록 상표) M(닛테츠 케미컬 & 머티리얼사제)의 구리 표면 상에 도포를 행하고, 열풍 순환식 건조로에서 150℃, 60분 가열하여 두께 20㎛의 경화막을 얻었다. 경화막을, 프로필렌글리콜모노메틸아세테이트에 30분간 침지한 후의 경화막 상태를 평가하였다. 평가 기준은 이하와 같다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each curable composition obtained by using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft) was subjected to sulfuric acid treatment under photocuring conditions of 800 mJ / cm 2 Espa The coating was applied on the copper surface of Nex (registered trademark) M (manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd.) and heated at 150°C for 60 minutes in a hot air circulation type drying furnace to obtain a cured film having a thickness of 20 µm. The state of the cured film after immersing the cured film in propylene glycol monomethyl acetate for 30 minutes was evaluated. The evaluation criteria are as follows.

○: 전혀 변화가 확인되지 않는 것○: No change was observed at all

△: 아주 조금 변화되어 있는 것△: Very slightly changed

×: 현저하게 변화되어 있는 것×: What is remarkably changed

(8) 무전해 금 도금 내성(8) Resistance to electroless gold plating

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, 황산 처리를 끝낸 구리 두께 12㎛, 폴리이미드 50㎛의 회로 패턴 기판 상에 도포를 행하였다. 그 후, 상기 「(2) 경화막의 형성 조건」에 따라, 두께 20㎛의 경화막을 형성하였다. 얻어진 평가 기판에 대하여 시판 중인 무전해 니켈 도금욕 및 무전해 금 도금욕을 사용하여, 니켈 5㎛, 금 0.03㎛의 조건에서 금 도금을 행하고, 경화막 표면 상태의 관찰을 행하였다. 평가 기준은 이하와 같다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each curable composition obtained by using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft) was subjected to sulfuric acid treatment, copper thickness 12 μm, polyimide 50 μm was applied on a circuit pattern substrate of Thereafter, a cured film having a thickness of 20 μm was formed according to the above “(2) conditions for forming a cured film”. About the obtained evaluation board|substrate, gold plating was performed on conditions of 5 micrometers of nickel and 0.03 micrometer of gold using a commercially available electroless nickel plating bath and electroless gold plating bath, and the surface state of the cured film was observed. The evaluation criteria are as follows.

○: 전혀 변화가 확인되지 않는 것○: No change was observed at all

×: 현저하게 백화 혹은 흐림이 생긴 것×: Significantly whitened or clouded

(9) 난연성(9) Flame retardancy

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, FR-4(0.8mmt) 기판 상에 양면 도포를 행하였다. 그 후, 그 후 상기 「(2) 경화막의 형성 조건」에 따라 경화막을 형성하였다(각 면의 도막 두께는 20㎛이다). 얻어진 경화막에 대하여 UL94 규격에 준거한 박재 수직 연소 시험을 행하였다. 평가 기준은 이하와 같다.Above <1. Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3> Each curable composition obtained by> was coated on both sides on a FR-4 (0.8 mmt) substrate using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft). did Thereafter, a cured film was formed according to the above "(2) Conditions for forming a cured film" (the coating film thickness of each surface is 20 µm). The obtained cured film was subjected to a foil vertical burning test in accordance with the UL94 standard. The evaluation criteria are as follows.

◎: V-0 합격하고, 각 샘플의 연소 시간이 3초 미만인 것◎: Passed V-0, and the burning time of each sample was less than 3 seconds

○: V-0 합격하고, 각 샘플의 연소 시간이 3초 초과 7초 미만인 것○: Passed V-0, and the burning time of each sample was more than 3 seconds and less than 7 seconds

V-0: V-0 합격하고, 각 샘플의 연소 시간이 7초 초과 10초 이내인 것V-0: Passing V-0, and the burning time of each sample exceeding 7 seconds and less than 10 seconds

Not: V-0 불합격Not: V-0 disqualified

(10) 고온 고습 후 밀착성(10) Adhesion after high temperature and high humidity

상기 <1. 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경화성 조성물의 조제>에 의해 얻어진 각 경화성 조성물을 잉크젯 인쇄 장치 CPS6151(마이크로 크래프트사제)을 사용하여, 황산 처리를 끝낸 에스파넥스(등록 상표) M(닛테츠 케미컬 & 머티리얼사제)의 구리 표면 상에 도포를 행하였다. 그 후, 상기 「(2) 경화막의 형성 조건」에 따라 두께 20㎛의 경화막을 형성하였다. 다음에, 얻어진 경화막에 대하여, 온도 85℃, 습도 85%의 조건 하에서 500시간 노출시킨 후, 실온 조건에 24시간 방치한 후, 제작한 각 시험 기판을 사용하여 크로스컷 테이프 필링 시험을 실시하고, 바둑판 눈의 잔존수가 100개 중 몇 개 있는지를 세어, 이하의 기준에 기초하여 평가하였다.Above <1. [Preparation of Curable Compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3] Spanex (registered trademark) M (Nippon) after sulfuric acid treatment of each curable composition obtained by using an inkjet printing device CPS6151 (manufactured by Microcraft) Coating was performed on the copper surface of Tetsu Chemical & Materials Co., Ltd.). Thereafter, a cured film having a thickness of 20 μm was formed according to the above “(2) conditions for forming a cured film”. Next, the obtained cured film was exposed for 500 hours under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, and then left at room temperature for 24 hours. Then, a cross-cut tape peeling test was conducted using each test board produced. , How many of the remaining number of checkerboard eyes were counted out of 100, and evaluated based on the following criteria.

◎: 100개◎: 100 pieces

○: 80개 이상 99개 이하○: 80 or more and 99 or less

×: 79개 이하×: 79 or less

Figure pct00010
Figure pct00010

표 2에 나타내는 바와 같이, 본 발명에 관한 실시예 1 내지 8은, 경화막(경화물)과 도체 회로의 밀착성, 저휨성, 유연성을 겸비하고 있었다. 또한, (E1) 방향환을 갖고, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 포함시키거나, 인계 난연제를 포함시키거나 함으로써, 난연성을 향상시킬 수 있었다(실시예 1 내지 8 참조). 또한, 이온 포착제를 포함시킴으로써, 경화막(경화물)과 도체 회로의 밀착성이 더 향상되었다(실시예 6, 7 참조).As shown in Table 2, Examples 1 to 8 according to the present invention had adhesiveness between a cured film (cured product) and a conductor circuit, low warpage, and flexibility. Further, (E1) flame retardancy could be improved by including a compound having an aromatic ring and having two or more (meth)acryloyl groups or including a phosphorus-based flame retardant (see Examples 1 to 8). In addition, by including an ion trapping agent, the adhesion between the cured film (cured product) and the conductor circuit was further improved (see Examples 6 and 7).

Claims (10)

(A) 식 (1)
Figure pct00011

(식 (1) 중, R1은 직쇄상, 분지쇄상 및 환상 중 어느 것이어도 되고, 에테르 결합을 포함하고 있어도 되는 탄소수 1개 이상 4개 이하의 탄화수소기를 나타낸다(단, 상기 탄화수소기 중에 치환기를 가져도 된다))
로 표시되는 중합성 모노머와,
(B) 멜라민 및 그의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물과,
(C) 광중합 개시제와,
(D) 열경화 성분
을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
(A) Equation (1)
Figure pct00011

(In formula (1), R 1 may be straight-chain, branched-chain, or cyclic, and represents a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms which may contain an ether bond (provided that a substituent in the hydrocarbon group is may have))
A polymerizable monomer represented by
(B) a compound selected from the group consisting of melamine and derivatives thereof;
(C) a photopolymerization initiator;
(D) heat curing component
A curable composition characterized in that it contains.
제1항에 있어서, 50℃에 있어서 50mPaㆍs 이하의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to claim 1, which has a viscosity of 50 mPa·s or less at 50°C. 제1항 또는 제2항에 있어서, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to claim 1 or 2, comprising (E) a compound having two or more (meth)acryloyl groups. 제3항에 있어서, (E) (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물이, (E1) 방향환을 갖고, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The method according to claim 3, wherein (E) the compound having two or more (meth)acryloyl groups includes (E1) a compound having an aromatic ring and two or more (meth)acryloyl groups. curable composition. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, (D) 열경화 성분이 잠재성 열경화 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein (D) the heat-curing component comprises a latent heat-curing component. 제5항에 있어서, 상기 잠재성 열경화 성분이 블록 이소시아네이트 화합물인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to claim 5, wherein the latent thermosetting component is a block isocyanate compound. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, (F) 인계 난연제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising (F) a phosphorus-based flame retardant. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, (G) 이온 포착제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising (G) an ion trapping agent. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물로부터 얻어지는 경화물.A cured product obtained from the curable composition according to any one of claims 1 to 8. 제9항에 기재된 경화물을 갖는 전자 부품.An electronic component comprising the cured product according to claim 9.
KR1020227030300A 2020-03-31 2021-03-19 Curable compositions, cured products and electronic components KR20220161281A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020063196 2020-03-31
JPJP-P-2020-063196 2020-03-31
PCT/JP2021/011346 WO2021200268A1 (en) 2020-03-31 2021-03-19 Curable composition, cured product, and electronic component

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220161281A true KR20220161281A (en) 2022-12-06

Family

ID=77927852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227030300A KR20220161281A (en) 2020-03-31 2021-03-19 Curable compositions, cured products and electronic components

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2021200268A1 (en)
KR (1) KR20220161281A (en)
TW (1) TW202142577A (en)
WO (1) WO2021200268A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024128086A1 (en) * 2022-12-12 2024-06-20 富士フイルム株式会社 Curable composition, laminate, and method for producing laminate

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014040585A (en) 2012-07-25 2014-03-06 Nippon Shokubai Co Ltd Photocurable composition

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101422327B1 (en) * 2008-12-26 2014-07-22 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 α-ALLYLOXYMETHYLACRYLIC ACID-BASED COPOLYMER, RESIN COMPOSITION, AND USE THEREOF
JP2013091789A (en) * 2012-10-10 2013-05-16 Nippon Shokubai Co Ltd Curable composition for forming peelable resist
JP6752677B2 (en) * 2016-10-14 2020-09-09 東京インキ株式会社 Ink and a method for manufacturing printed matter using the inkjet ink
JP6878080B2 (en) * 2017-03-27 2021-05-26 セーレン株式会社 Inkjet ink and printed matter manufacturing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014040585A (en) 2012-07-25 2014-03-06 Nippon Shokubai Co Ltd Photocurable composition

Also Published As

Publication number Publication date
TW202142577A (en) 2021-11-16
CN115362184A (en) 2022-11-18
WO2021200268A1 (en) 2021-10-07
JPWO2021200268A1 (en) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8206832B2 (en) Photosensitive thermosetting resin composition and flexible printed circuit board
KR101361753B1 (en) Photo-curable and thermo-curable resin composition, and dry film solder resist
TWI798395B (en) Curable composition for inkjet printing, cured product thereof, and electronic parts having the cured product
JP5319132B2 (en) Photocurable / thermosetting resin composition and cured product thereof
JP5727623B2 (en) Curable composition for inkjet and method for producing electronic component
JPWO2008087812A1 (en) Phosphorus-containing flame retardant and curable flame retardant resin composition containing the same
KR101587397B1 (en) Alkali developable transparent resin composition
KR20120060938A (en) Photo-sensitive resin composition, dry film solder resist, and circuit board
US9265156B2 (en) Curable composition, cured coating film prepared from curable composition, and printed wiring board including the cured film
JP5734722B2 (en) Flame retardant thermosetting resin composition, cured product thereof and printed wiring board using the same
KR102053322B1 (en) Photosensitive resin composition and photoimageable dielectric film
JP7112170B2 (en) Curable composition for inkjet printing, cured product thereof, and electronic component having cured product thereof
TWI673332B (en) Curable resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board
KR20220161281A (en) Curable compositions, cured products and electronic components
WO2022114133A1 (en) Curable composition, cured product, and electronic component
WO2023190456A1 (en) Cured product, photosensitive resin composition, dry film, and printed wiring board
TWI819431B (en) Solder resist composition, dry film, printed wiring board and method for producing them
KR101360968B1 (en) Photo-curable and thermo-curable resin composition, and dry film solder resist
JP2020152772A (en) Curable composition for inkjet printing, and cured product thereof and electronic component having cured product
CN115362184B (en) Curable composition, cured product, and electronic component
JP7446890B2 (en) Curable composition and cured product thereof
KR20150139284A (en) Photo-curable and thermo-curable resin composition and dry film solder resist
JP5332143B2 (en) Flame-retardant photosensitive resin, composition thereof, cured product thereof, and photo solder resist composition
KR101296851B1 (en) Photo-curable and thermo-curable resin composition, and dry film solder resist
JP2003277470A (en) Flame-retardant photocurable and heat-curable resin composition