JP7112170B2 - Curable composition for inkjet printing, cured product thereof, and electronic component having cured product thereof - Google Patents

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本発明は、硬化性組成物に関し、特に、インクジェット法による印刷に適用可能な硬化性組成物に関する。また、本発明は、その硬化性組成物の硬化物およびその硬化物を有する電子部品に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a curable composition, and more particularly to a curable composition applicable to printing by an inkjet method. The present invention also relates to a cured product of the curable composition and an electronic component having the cured product.

従来知られている熱硬化型、紫外線硬化型、アルカリ現像型のソルダーレジストに使用される硬化性組成物は、耐熱性などの要求に合わせ、高分子量のポリマーを組成物中に含有している。しかしながら、インクジェット印刷に適用するために、当該硬化性組成物を低粘度化する場合、これらの高分子量のポリマーは粘度が高く、使用する事が出来なかった。 Conventionally known curable compositions used for heat-curable, ultraviolet-curable, and alkali-developable solder resists contain high-molecular-weight polymers in order to meet requirements such as heat resistance. . However, when the viscosity of the curable composition is reduced for application to inkjet printing, these high-molecular-weight polymers cannot be used due to their high viscosity.

そのため、近年、インクジェット印刷用のソルダーレジストに用いられる硬化性組成物は、低粘度のモノマーを中心に組成が設計されている。例えば、特許文献1は、インクジェット法による印刷に使用可能な硬化性組成物を開示する。 Therefore, in recent years, the composition of curable compositions used in solder resists for inkjet printing has been designed around low-viscosity monomers. For example, Patent Literature 1 discloses a curable composition that can be used for printing by an inkjet method.

特許文献1の硬化性組成物はモノマー主体の組成を有することから粘度が低く、インクジェットプリンターのインクとして適用可能であり、プリント配線板用の基板上に直接パターンを印刷することができることから、従来の写真現像法のような露光および現像によりレジストパターンを形成する手間が省けるとともに、レジストパターンを形成するために用いる感光性樹脂材料、現像液、洗浄溶剤等の材料の使用量を削減することができる。 Since the curable composition of Patent Document 1 has a monomer-based composition, it has a low viscosity, can be applied as an ink for an inkjet printer, and can print a pattern directly on a substrate for a printed wiring board. It is possible to save the trouble of forming a resist pattern by exposure and development as in the photodeveloping method, and to reduce the amount of materials used for forming the resist pattern, such as the photosensitive resin material, developer, and cleaning solvent. can.

同じく、スクリーン印刷法によるレジストパターンの形成のように製版を行う必要が無く手間が省けるとともに、乳剤等の材料の使用量を削減することができる。 Similarly, unlike the formation of a resist pattern by screen printing, there is no need to make a plate, thus saving time and effort, and reducing the amount of materials used such as emulsion.

特許文献2は、特許文献1同様、光硬化性インクジェットインクであって、ラジカル重合性のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ラジカル重合性の少なくとも1種のモノマー、光ラジカル重合開始剤、およびグリコールエーテル類である非反応性希釈剤を含む光硬化性インクジェットインクを開示する。 Like Patent Document 1, Patent Document 2 discloses a photocurable inkjet ink comprising a radically polymerizable urethane (meth)acrylate oligomer, at least one radically polymerizable monomer, a photoradical polymerization initiator, and glycol ethers. Disclosed is a photocurable inkjet ink comprising a non-reactive diluent that is

特許文献3は、インクジェット用の樹脂組成物ではないものの、フレキシブルプリント配線用ソルダーレジストの形成に使用可能な光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物を開示する。この光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物は、具体的には、ウレタン多官能(メタ)アクリレートオリゴマー(A)、芳香環を含まない二官能のポリオキシアルキレンポリオール(メタ)アクリレート(B)、(A)~(D)の成分の合計量に基づいて10~40重量%ウレタン基を含まない3~6官能の(メタ)アクリレート(C)、単官能(メタ)アクリレート(D)、並びに光重合開始剤(E)を含有する。 Patent Document 3 discloses an active energy ray-curable composition for optical parts that can be used for forming a solder resist for flexible printed wiring, although it is not a resin composition for inkjet. Specifically, this active energy ray-curable composition for optical parts comprises a urethane polyfunctional (meth)acrylate oligomer (A), a bifunctional polyoxyalkylene polyol (meth)acrylate (B) containing no aromatic ring, Tri- to hexa-functional (meth)acrylate (C) containing no urethane group, monofunctional (meth)acrylate (D), and light It contains a polymerization initiator (E).

国際公開第2013/146706号公報International Publication No. 2013/146706 特開2016-124907号公報JP 2016-124907 A 特開2017-083668号公報JP 2017-083668 A

しかし、特許文献1の硬化性組成物のような、従来のインクジェット印刷法に用いる硬化性組成物はモノマー主体の構成を有するため、低粘度で分子量が低く、ポリマーを主として使用した組成物と比較して、硬化後の硬化物は低分子量となっていると推測される。 However, since the curable composition used in the conventional inkjet printing method, such as the curable composition of Patent Document 1, has a monomer-based configuration, it has a low viscosity and a low molecular weight, compared with a composition mainly using a polymer. Therefore, it is presumed that the cured product after curing has a low molecular weight.

そのため、インクジェット印刷用のソルダーレジストの作製に用いられた場合にはポリマー使用時と同等の耐熱性を得る事が難しく、リフローなどの熱履歴により塗膜にクラック等の不具合が生じることが発明者らの検討によりわかった。 Therefore, when used for making solder resists for inkjet printing, it is difficult to obtain the same heat resistance as when using polymers, and problems such as cracks may occur in the coating film due to heat history such as reflow. It was found by the investigation of et al.

具体的には、基板の両面に配線がプリントされた両面板や基板を積層させてなる多層板に部品が実装される際に、繰り返される加熱によって部品の実装部位であるランドにおいて導体からソルダーレジスト被膜が剥離したり、ソルダーレジスト自体にクラックが生じる、という不具合が生じ得ることが判ってきた。 Specifically, when components are mounted on a double-sided board with wiring printed on both sides of the board or a multi-layer board made by stacking the boards, repeated heating causes the conductors to become solder resist on the lands where the components are mounted. It has been found that problems such as peeling of the film and cracking of the solder resist itself may occur.

特許文献2の光硬化性インクジェットインクによれば、グリコールエーテル類である非反応性希釈剤によって光硬化性インクジェットインクの貯蔵安定性が向上するものの、当該インクから形成された被膜の耐熱性向上のための方策については何ら触れられていない。 According to the photocurable inkjet ink of Patent Document 2, although the storage stability of the photocurable inkjet ink is improved by the non-reactive diluent that is a glycol ether, the heat resistance of the film formed from the ink is not improved. No mention is made of measures for this.

特許文献3の光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物は特許文献1同様アクリレートモノマー主体の組成物であることから、得られた硬化物も繰り返しの加熱には弱いものと考えられ、その用途としては比較的熱履歴の小さいフレキシブルプリント配線用のソルダーレジストが挙げられている。なお、特許文献3の光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物はインクジェット印刷用組成物でもない。 Since the active energy ray-curable composition for optical components of Patent Document 3 is a composition mainly composed of acrylate monomers as in Patent Document 1, the obtained cured product is also considered to be weak against repeated heating. describes a solder resist for flexible printed wiring with a relatively small thermal history. In addition, the active energy ray-curable composition for optical parts of Patent Document 3 is not a composition for inkjet printing.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、得られた被膜の耐熱性が従来よりも向上したインクジェット印刷用の硬化性組成物、その硬化物及び硬化物を用いた電子部品を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to use a curable composition for inkjet printing in which the heat resistance of the obtained film is improved than before, the cured product thereof, and the cured product. It is to provide electronic parts.

インクジェット印刷法に用いるアクリレートモノマー主体の硬化性組成物の硬化後の被膜の耐熱性を高めるため、配合されるアクリレートモノマーについて検討したところ、粘度を低下させるために添加される希釈用アクリレートモノマーの中でも繰り返し加熱後に被膜にクラックを発生させやすくしてしまうが他の機械的特性(導体との密着性、被膜硬度、耐薬品性、以下、はんだ耐熱性ともいう)に優れるものや、加熱後のクラックの発生は抑制するがはんだ耐熱性に劣るものが存在することが発明者らの検討により明らかになってきた。 In order to increase the heat resistance of the film after curing of the curable composition mainly composed of acrylate monomers used in the inkjet printing method, we investigated the acrylate monomers to be blended. Cracks tend to occur in the film after repeated heating, but other mechanical properties (adhesion to conductors, film hardness, chemical resistance, hereinafter also referred to as solder heat resistance) are excellent, and cracks after heating It has become clear from the studies of the inventors that there is a material that suppresses the occurrence of soldering but is inferior in soldering heat resistance.

本願発明は、上記検討結果を踏まえ、被膜の耐熱性、すなわち、加熱後のクラックの発生抑制を含む被膜の耐熱性向上を目的としてなされたものである。すなわち、本発明の上記目的は、インクジェット印刷用の硬化性組成物において、
(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、
(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーと、
(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーと、
(C)光重合開始剤と、を含むことにより達成されることが見出された。
The invention of the present application has been made based on the results of the above study, with the object of improving the heat resistance of the coating, that is, improving the heat resistance of the coating, including suppressing the occurrence of cracks after heating. That is, the above object of the present invention is a curable composition for inkjet printing,
(A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less;
(B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures;
(B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure;
(C) a photoinitiator.

本発明のインクジェット印刷用の硬化性組成物において、硬化性組成物の100質量部あたりの(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーの量が、5質量部以上40質量部以下であることが好ましい。 In the curable composition for inkjet printing of the present invention, the amount of (A) a cyclic skeleton per 100 parts by mass of the curable composition and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less (meth) acrylate monomer. is preferably 5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less.

さらに、(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーおよび(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーの総量に対する(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーの質量比((A)/(B1)+(B2))が、0.10以上0.70以下であることが好ましい。 Furthermore, (B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures and (B2) a bifunctional (meth)acrylate having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure The mass ratio ((A)/(B1)+(B2)) of (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less to the total amount of rate monomers is 0. It is preferably 10 or more and 0.70 or less.

そのうえ、(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーに対する(B1)環状骨格を有さず、アルキレングリコール構造を2つ以上有する二官能(メタ)アクリレートモノマーの質量比((B1)/(B2))が1.0以上3.0以下であることが好ましい。 In addition, (B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure (B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures The mass ratio ((B1)/(B2)) of the acrylate monomers is preferably 1.0 or more and 3.0 or less.

また、本発明の上記目的は、本発明の硬化性組成物の硬化物およびその硬化物を有する電子部品によっても達成される。 The above objects of the present invention are also achieved by a cured product of the curable composition of the present invention and an electronic component having the cured product.

本発明によれば、インクジェット印刷用の硬化性組成物により形成された被膜(硬化物)は、リフローはんだ付けを想定した繰り返し加熱後においてもクラックの発生が無く、且つはんだ処理後やめっき処理後においても十分な基板との密着性(はんだ耐熱性、めっき耐性)および被膜硬度を維持しており、ソルダーレジストとして期待される良好な機械的特性を有する。 According to the present invention, the film (cured product) formed from the curable composition for inkjet printing does not generate cracks even after repeated heating assuming reflow soldering, and after soldering or plating. It maintains sufficient adhesion to the substrate (solder heat resistance, plating resistance) and film hardness even in , and has good mechanical properties expected as a solder resist.

図1は、本発明の実施例に係る硬化性組成物の硬化物(試験基板)へのリフロー処理の条件を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the conditions of reflow treatment of a cured product (test substrate) of a curable composition according to an example of the present invention.

<インクジェット印刷用の硬化性組成物>
本発明のインクジェット印刷用の硬化性組成物(以下、「硬化性組成物」と略記する場合がある。)は、
(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、
(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーと、
(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーと、
(C)光重合開始剤と、を含む。
<Curable composition for inkjet printing>
The curable composition for inkjet printing of the present invention (hereinafter sometimes abbreviated as "curable composition") is
(A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less;
(B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures;
(B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure;
(C) a photopolymerization initiator.

[(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマー]
(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーは、比較的高粘度であるものの、添加されることにより得られた被膜の繰り返しリフロー後のクラック耐性およびはんだ耐熱性を向上させるモノマーである。
[(A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less]
(A) A (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less has a relatively high viscosity, but the film obtained by adding it cracks after repeated reflow. A monomer that improves durability and solder heat resistance.

環状骨格には、環構造が炭素のみにより形成される環状炭素骨格及び環構造中に酸素原子、窒素原子、硫黄原子等の炭素原子以外の原子を含む複素環骨格を含む。さらに、環構造は芳香環であっても、飽和又は不飽和の環構造であってもよい。 The cyclic skeleton includes a cyclic carbon skeleton in which the ring structure is composed only of carbon, and a heterocyclic skeleton containing atoms other than carbon atoms such as oxygen, nitrogen and sulfur atoms in the ring structure. Furthermore, the ring structure may be an aromatic ring or a saturated or unsaturated ring structure.

芳香環を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーとしては、多価フェノールのアクリレートのEO付加物やPO付加物が挙げられる。 Examples of (meth)acrylate monomers having an aromatic ring and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less include EO adducts and PO adducts of acrylates of polyhydric phenols.

多価フェノールとしては、ビスフェノールA、ビスフェノールAP、ビスフェノールB、ビスフェノールBP、ビスフェノールE、ビスフェノールF、ビスフェノールM、ビスフェノールP、ビスフェノールPH、ビスフェノールZなどのビスフェノール類、ビフェノールなどが挙げられる。 Examples of polyhydric phenols include bisphenols such as bisphenol A, bisphenol AP, bisphenol B, bisphenol BP, bisphenol E, bisphenol F, bisphenol M, bisphenol P, bisphenol PH and bisphenol Z, and biphenols.

また、飽和または不飽和の環構造を有する、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーとしては、上記多価フェノールのアクリレートの水素添加物や、トリシクロデカンジメタノールのジアクリレート、シクロヘキシルジアクリレート等の炭素環を有するジオールのジアクリレートのアルキレンオキサイド付加物が挙げられる。 In addition, as the (meth)acrylate monomer having a saturated or unsaturated ring structure and an alkylene oxide modification number of 1 to 6, hydrogenated acrylates of the above polyhydric phenols and dicyclodecanedimethanol Examples include alkylene oxide adducts of diacrylates of diols having a carbon ring such as acrylates and cyclohexyl diacrylates.

アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドであり、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドの少なくとも1種によって変性されていることが好ましく、エチレンオキサイドが変性されていることが最も好ましい。 Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide, preferably modified with at least one of ethylene oxide and propylene oxide, and most preferably modified with ethylene oxide.

アルキレンオキサイドの変性数が1以上6以下であることで、得られた被膜のクラック耐性およびはんだ耐熱性が良好なものとなる。なお、アルキレンオキサイドの変性数とは、モノマー1分子内におけるアルキレンオキサイドの変性数であり、具体的には、モノマー1分子内における、-R-O-(Rはアルキレン基)の総数nである。 When the modification number of the alkylene oxide is 1 or more and 6 or less, the crack resistance and solder heat resistance of the obtained film become good. The number of modifications of alkylene oxide is the number of modifications of alkylene oxide in one molecule of a monomer, specifically, in one molecule of a monomer, the total number of -R-O- (R is an alkylene group) n. .

アルキレンオキサイドの変性数は、1以上4以下であることが好ましい。 The modification number of the alkylene oxide is preferably 1 or more and 4 or less.

(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーは、多官能(メタ)アクリロイル基含有モノマー(多官能(メタ)アクリレート)であっても、単官能(メタ)アクリロイル基含有モノマー(単官能(メタ)アクリレート)であってもよいが、組成物としての低粘性を維持する観点、および硬化後の被膜の耐熱性の観点から、二官能(メタ)アクリロイル基含有モノマー(二官能(メタ)アクリレート)であることが好ましい。なお、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタアクリロイル基を総称する用語である。 (A) A (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less is a polyfunctional (meth)acryloyl group-containing monomer (polyfunctional (meth)acrylate), It may be a functional (meth)acryloyl group-containing monomer (monofunctional (meth)acrylate), but from the viewpoint of maintaining a low viscosity as a composition and the heat resistance of the cured film, a bifunctional (meth) ) is preferably an acryloyl group-containing monomer (bifunctional (meth)acrylate). In addition, a (meth)acryloyl group is a general term for an acryloyl group and a methacryloyl group.

(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーは、硬化性組成物100質量部あたり5質量部以上40質量部以下の量で配合することが好ましい。この濃度範囲となることで、硬化性組成物の粘性をインクジェット法に使用可能な範囲とすることを容易としつつ、得られた被膜のリフロークラック耐性およびはんだ耐熱性の向上が促される。なお、硬化性組成物100質量部あたり5質量部以上30質量部以下の量で配合することが好ましく、より好ましくは10質量部以上30質量部以下の量である。 (A) A (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less is blended in an amount of 5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less per 100 parts by mass of the curable composition. preferable. This concentration range facilitates making the viscosity of the curable composition within a range usable for the inkjet method, and promotes improvement in reflow crack resistance and solder heat resistance of the obtained coating. In addition, it is preferably added in an amount of 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or more and 30 parts by mass or less per 100 parts by mass of the curable composition.

市販されているものとしては、ABE-300(新中村化学工業社製)、BPE―80N(新中村化学工業社製)、BPE―100(新中村化学工業社製)、BPE-4(第一工業製薬株式会社製)、BPE―200(新中村化学工業社製)、HBPE-4(第一工業製薬株式会社製)、アロニックスM-208(東亜合成株式会社製)などが挙げられる。 Commercially available products include ABE-300 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), BPE-80N (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), BPE-100 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), BPE-4 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), BPE-200 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), HBPE-4 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), and Aronix M-208 (Toagosei Co., Ltd.).

[(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマー]
(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーは、硬化性組成物の粘度を低下させるために添加される希釈剤のうち、添加されることにより得られた被膜のリフロー時クラック耐性を向上させるものである。すなわち、この二官能(メタ)アクリレートモノマーは、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、後述する(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーとの組み合わせにより、インクジェット法に使用可能な液性を維持しつつ、得られた被膜のリフロー時クラック耐性およびはんだ耐熱性を向上させる。
[(B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and two or more alkylene glycol structures]
(B1) A bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures is added among the diluents added to reduce the viscosity of the curable composition. It improves the crack resistance during reflow of the film obtained by. That is, the bifunctional (meth)acrylate monomer includes (A) a cyclic skeleton and a (meth)acrylate monomer having an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less, and (B2) having no cyclic skeleton, which will be described later. , By combining with a bifunctional (meth)acrylate monomer having a monoalkylene glycol structure, the obtained film improves the crack resistance and solder heat resistance during reflow while maintaining the liquid properties that can be used in the inkjet method.

本発明においては、(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、ジまたはトリアルキレングリコールと(メタ)アクリル酸とのエステルである二官能(メタ)アクリロイル基含有モノマー(二官能(メタ)アクリレート)である。 In the present invention, the (B1) bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures is, for example, an ester of di- or trialkylene glycol and (meth)acrylic acid. It is a bifunctional (meth)acryloyl group-containing monomer (bifunctional (meth)acrylate).

ジアルキレングリコールとしては、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ジブチレングリコールが挙げられ、トリアルキレングリコールとしては、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、トリブチレングリコールが挙げられる。 Dialkylene glycol includes diethylene glycol, dipropylene glycol and dibutylene glycol, and trialkylene glycol includes triethylene glycol, tripropylene glycol and tributylene glycol.

なお、粘度をインクジェット法に好適な粘度で抑える観点から、ジアルキレングリコールと(メタ)アクリル酸とのエステルであることが好ましい。 From the viewpoint of suppressing the viscosity to a viscosity suitable for the inkjet method, an ester of dialkylene glycol and (meth)acrylic acid is preferable.

具体的には、(B1)芳香環および飽和または不飽和の炭素環の双方を有さず、ジまたはトリアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリブチレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。 Specifically, (B1) the bifunctional (meth)acrylate monomer having a di- or trialkylene glycol structure without having both an aromatic ring and a saturated or unsaturated carbocyclic ring includes diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, dibutylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tributylene glycol di(meth)acrylate.

市販されているものとしては、2G(新中村化学工業社製)、3G(新中村化学工業社製)、DPGDA(東洋ケミカルズ株式会社製)、T0948(東京化成工業株式会社製)、T2389(東京化成工業株式会社製)、ビスコート#310HP(大阪有機化学工業株式会社製)などが挙げられる。 Commercially available products include 2G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 3G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPGDA (manufactured by Toyo Chemicals Co., Ltd.), T0948 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), T2389 (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), Viscoat #310HP (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーは、硬化性組成物100質量部あたり20質量部以上50質量部以下の量で配合されることが好ましい。 (B1) A bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures is blended in an amount of 20 parts by mass or more and 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of the curable composition. is preferred.

[(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマー]
(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーは、硬化性組成物の粘度を低下させるために添加される希釈剤のうち、添加されることにより得られた被膜のはんだ耐熱性を向上させるものである。すなわち、この二官能(メタ)アクリレートモノマーは、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、上記(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーとの組み合わせにより、インクジェット法に使用可能な液性を維持しつつ、得られた被膜のリフロー時クラック耐性およびはんだ耐熱性を向上させる。
[(B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having a monoalkylene glycol structure and having no cyclic skeleton]
(B2) A bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and a monoalkylene glycol structure is obtained by adding a diluent added to reduce the viscosity of the curable composition. It improves the solder heat resistance of the coated film. That is, the bifunctional (meth)acrylate monomer includes (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less, and (B1) the above (B1) having no cyclic skeleton, By combining with a bifunctional (meth)acrylate monomer having two or more alkylene glycol structures, the reflow crack resistance and solder heat resistance of the obtained film are improved while maintaining the liquid properties that can be used in the inkjet method.

本発明においては、(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーは、例えば、モノアルキレングリコールと(メタ)アクリル酸とのエステルである二官能(メタ)アクリレートモノマーである。 In the present invention, (B2) the bifunctional (meth)acrylate monomer having a monoalkylene glycol structure without a cyclic skeleton is, for example, a bifunctional (meth)acrylate ester of monoalkylene glycol and (meth)acrylic acid. meth)acrylate monomer.

上記モノアルキレングリコール構造部分は、1分子中に炭素原子3~16個を有する直鎖または分岐鎖のアルキレン鎖であることが好ましく、特に、炭素原子6~9個を有する直鎖のアルキレン鎖であることが好ましい。 The monoalkylene glycol structure moiety is preferably a linear or branched alkylene chain having 3 to 16 carbon atoms in one molecule, and is particularly a linear alkylene chain having 6 to 9 carbon atoms. Preferably.

具体的には、(B2)芳香環および飽和または不飽和の炭素環の双方を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールアクリレート、1,10-デカンジオールジアクリレート、1,16-ヘキサデカンジオールジアクリレートなどが挙げられる。 Specifically, (B2) the bifunctional (meth)acrylate monomer having a monoalkylene glycol structure without having both an aromatic ring and a saturated or unsaturated carbocyclic ring includes 1,3-butylene glycol di(meth) ) acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol acrylate, 1,10-decanediol diacrylate, 1,16-hexadecanediol and diacrylate.

市販されているものとしては、HDDA(第一工業製薬株式会社製)、A-NOD-N(新中村化学工業社製)、B1065(東京化成工業株式会社製)、ビスコート#195(大阪有機化学工業株式会社製)、A-DOD―N(新中村化学工業社製)などが挙げられる。 Commercially available products include HDDA (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), A-NOD-N (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), B1065 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), Viscoat #195 (Osaka Organic Chemical Kogyo Co., Ltd.), A-DOD-N (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーは、硬化性組成物100質量部あたり10質量部以上30質量部以下の量で配合されることが好ましい。 (B2) The bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure is preferably blended in an amount of 10 parts by mass or more and 30 parts by mass or less per 100 parts by mass of the curable composition. .

また、(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーに対する(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーの質量比が1.0以上3.0以下であることが好ましい。 Further, (B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure (B1) a bifunctional (meth)acrylate having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures It is preferable that the mass ratio of the monomers is 1.0 or more and 3.0 or less.

両者の質量比が上記範囲となることで、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーとの組み合わせで、得られた被膜のリフロークラック耐性およびはんだ耐熱性の向上をより高いレベルで実現可能となる。 When the mass ratio of the two is within the above range, (A) in combination with a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less, the reflow crack resistance of the resulting film is improved. And the improvement of solder heat resistance can be realized at a higher level.

さらに、(B1)環状骨格を有さず、アルキレングリコール構造を2つ以上有する二官能(メタ)アクリレートモノマーおよび(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーの総量に対する(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーの質量比が、0.10以上0.70以下であることが好ましい。 Furthermore, (B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures and (B2) a bifunctional (meth)acrylate having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure The mass ratio of (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less to the total amount of the monomers is preferably 0.10 or more and 0.70 or less.

3者の質量比が上記範囲となることで、得られた被膜のリフロークラック耐性およびはんだ耐熱性をさらに高いレベルで実現可能となる。 By setting the mass ratio of the three components within the above range, it is possible to achieve a higher level of reflow crack resistance and solder heat resistance of the obtained film.

さらに、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマー、(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマー、及び(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーは、分子中に水酸基を含んでいても良く、含んでいなくても良い。 Furthermore, (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less, (B1) a bifunctional (meth) acrylate monomer having no cyclic skeleton and having an alkylene glycol structure of 2 or more ) acrylate monomers and (B2) bifunctional (meth)acrylate monomers having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure may or may not contain hydroxyl groups in their molecules.

また、本発明で使用される硬化性組成物は、更に以下の光重合開始剤を含む。 Moreover, the curable composition used in the present invention further contains the following photopolymerization initiator.

[(C)光重合開始剤]
光重合開始剤としては、エネルギー線の照射により、(メタ)アクリレートを重合させることが可能なものであれば、特に制限はなく、ラジカル重合開始剤が使用できる。
[(C) Photoinitiator]
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can polymerize (meth)acrylate by irradiation with energy rays, and a radical polymerization initiator can be used.

光ラジカル重合開始剤としては、光、レーザー、電子線等によりラジカルを発生し、ラジカル重合反応を開始する化合物であれば全て用いることができる。当該光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、N,N-ジメチルアミノアセトフェノン等のアミノアセトフェノン類;2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体;リボフラビンテトラブチレート;2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物;2,4,6-トリス-s-トリアジン、2,2,2-トリブロモエタノール、トリブロモメチルフェニルスルホン等の有機ハロゲン化合物;ベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類またはキサントン類;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。 As the radical photopolymerization initiator, any compound can be used as long as it generates radicals by light, laser, electron beam or the like and initiates a radical polymerization reaction. Examples of the photoradical polymerization initiator include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether; Acetophenones such as diethoxy-2-phenylacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino -Aminoacetophenones such as 1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one and N,N-dimethylaminoacetophenone; 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone Anthraquinones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and the like; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; ,5-triarylimidazole dimer; riboflavin tetrabutyrate; thiol compounds such as 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole; 2,4,6-tris-s-triazine, 2 , 2,2-tribromoethanol, tribromomethylphenylsulfone and other organic halogen compounds; benzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone and other benzophenones or xanthones; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, etc. is mentioned.

上記光ラジカル重合開始剤は、単独でまたは複数種を混合して使用することができる。また更に、これらに加え、N,N-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類などの光開始助剤を使用することができる。また、可視光領域に吸収のあるCGI-784等(BASFジャパン社製)のチタノセン化合物等も、光反応を促進するために光ラジカル重合開始剤に添加することもできる。尚、光ラジカル重合開始剤に添加する成分はこれらに限られるものではなく、紫外光もしくは可視光領域で光を吸収し、(メタ)アクリロイル基等の不飽和基をラジカル重合させるものであれば、光重合開始剤、光開始助剤に限らず、単独であるいは複数併用して使用できる。 The radical photopolymerization initiators may be used alone or in combination. Furthermore, in addition to these, tertiary amines such as N,N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N,N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine, etc. Co-photoinitiators can be used. In addition, a titanocene compound such as CGI-784 (manufactured by BASF Japan Ltd.) having absorption in the visible light region can also be added to the radical photopolymerization initiator in order to promote the photoreaction. The components to be added to the photoradical polymerization initiator are not limited to these, as long as they absorb light in the ultraviolet or visible light region and radically polymerize unsaturated groups such as (meth)acryloyl groups. , a photopolymerization initiator, and a photoinitiation aid, they can be used singly or in combination.

光重合開始剤の配合量は、硬化性組成物100質量部に対して0.5~15質量部、より好ましくは0.5~10質量部、さらに好ましくは1~10質量部である。 The amount of the photopolymerization initiator compounded is 0.5 to 15 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, and still more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable composition.

光重合開始剤で市販されているものの製品名としては、例えば、Omnirad907、Omnirad127、Omnirad379(何れもIGM Resins社製)、2-イソプロピルチオキサントン(日本化薬社製)等が挙げられる。 Examples of product names of commercially available photopolymerization initiators include Omnirad 907, Omnirad 127, Omnirad 379 (all manufactured by IGM Resins), 2-isopropylthioxanthone (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.

また、本発明の硬化性組成物は、熱硬化成分を含むことが好ましい。熱硬化成分を含むことで、得られた被膜のはんだ処理やめっき処理後の密着性(はんだ耐熱性やめっき耐性)や加熱後のクラック抑制などの耐熱性を向上させることが期待できる。 Moreover, the curable composition of the present invention preferably contains a thermosetting component. By including a thermosetting component, it can be expected that the heat resistance of the obtained film, such as adhesion after soldering or plating (solder heat resistance and plating resistance) and crack suppression after heating, will be improved.

熱硬化成分としては、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体等のアミノ樹脂、ブロックイソシアネート化合物、シクロカーボネート化合物、環状(チオ)エーテル基を有する熱硬化成分、ビスマレイミド、カルボジイミド樹脂等の公知の熱硬化性樹脂が挙げられる。中でも、保存安定性に優れることから、ブロックイソシアネート化合物を用いることが好ましい。 As thermosetting components, known amino resins such as melamine resins, benzoguanamine resins, melamine derivatives and benzoguanamine derivatives, blocked isocyanate compounds, cyclocarbonate compounds, thermosetting components having a cyclic (thio)ether group, bismaleimide, carbodiimide resins, etc. thermosetting resin. Among them, it is preferable to use a blocked isocyanate compound because of its excellent storage stability.

分子中に複数の環状(チオ)エーテル基を有する熱硬化成分は、分子中に3、4または5員環の環状(チオ)エーテル基のいずれか一方または2種類の基を複数有する化合物であり、例えば、分子内に複数のエポキシ基を有する化合物、すなわち多官能エポキシ化合物、分子内に複数のオキセタニル基を有する化合物、すなわち多官能オキセタン化合物、分子内に複数のチオエーテル基を有する化合物、すなわちエピスルフィド樹脂等が挙げられる。 A thermosetting component having a plurality of cyclic (thio)ether groups in the molecule is a compound having a plurality of 3-, 4-, or 5-membered cyclic (thio)ether groups or two groups in the molecule. , for example, compounds having multiple epoxy groups in the molecule, i.e. polyfunctional epoxy compounds, compounds having multiple oxetanyl groups in the molecule, i.e. polyfunctional oxetane compounds, compounds having multiple thioether groups in the molecule, i.e. episulfide Resin etc. are mentioned.

多官能エポキシ化合物としては、ADEKA社製のアデカサイザーO-130P、アデカサイザーO-180A等のエポキシ化植物油;三菱化学社製のjER828、ダイセル化学工業社製のEHPE3150、DIC社製のエピクロン840、東都化成社製のエポトートYD-011、ダウケミカル社製のD.E.R.317、住友化学工業社製のスミ-エポキシESA-011、旭化成工業社製のA.E.R.330等(何れも商品名)のビスフェノールA型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂、新日鉄住金化学株式会社製のYSLV-80XY等のビスフェノールF型エポキシ樹脂、新日鉄住金化学株式会社製のYSLV-120TEのチオエーテル型エポキシ樹脂;三菱化学社製のjERYL903、DIC社製のエピクロン152、東都化成社製のエポトートYDB-400、ダウケミカル社製のD.E.R.542、住友化学工業社製のスミ-エポキシESB-400、旭化成工業社製のA.E.R.711等(何れも商品名)のブロム化エポキシ樹脂;三菱化学社製のjER152、ダウケミカル社製のD.E.N.431DIC社製のエピクロンN-730、東都化成社製のエポトートYDCN-701、日本化薬社製のEPPN-201、住友化学工業社製のスミ-エポキシESCN-195X、旭化成工業社製のA.E.R.ECN-235等(何れも商品名)のノボラック型エポキシ樹脂;日本化薬社製NC-3000等のビフェノールノボラック型エポキシ樹脂;DIC社製のエピクロン830、三菱化学社製jER807、東都化成社製のエポトートYDF-170、YDF-175、YDF-2004等(何れも商品名)のビスフェノールF型エポキシ樹脂;東都化成社製のエポトートST-2004(商品名)等の水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂;三菱化学社製のjER604、東都化成社製のエポトートYH-434、住友化学工業社製のスミ-エポキシELM-120等(何れも商品名)のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ヒダントイン型エポキシ樹脂;ダイセル化学工業社製のセロキサイド2021等(何れも商品名)の脂環式エポキシ樹脂;日本化薬社製のEPPN-501等(何れも商品名)のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂;三菱化学社製のYL-6056、YX-4000、YL-6121(何れも商品名)等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物;日本化薬社製EBPS-200、ADEKA社製EPX-30、DIC社製のEXA-1514(商品名)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;三菱化学社製のjER157S(商品名)等のビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂;三菱化学社製のjERYL-931等(何れも商品名)のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂;日産化学工業社製のTEPIC等(何れも商品名)の複素環式エポキシ樹脂;日本油脂社製ブレンマーDGT等のジグリシジルフタレート樹脂;東都化成社製ZX-1063等のテトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂;新日鐵化学社製ESN-190、DIC社製HP-4032等のナフタレン基含有エポキシ樹脂;DIC社製HP-7200等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂;日本油脂社製CP-50S、CP-50M等のグリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂;さらにシクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートの共重合エポキシ樹脂;エポキシ変性のポリブタジエンゴム誘導体(例えばダイセル化学工業製PB-3600等)、CTBN変性エポキシ樹脂(例えば東都化成社製のYR-102、YR-450等)等が挙げられるが、これらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも特にノボラック型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ビフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂またはそれらの混合物が好ましい。 Examples of polyfunctional epoxy compounds include epoxidized vegetable oils such as Adekasizer O-130P and Adekasizer O-180A manufactured by ADEKA; jER828 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; EHPE3150 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.; Epotato YD-011 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., D.O. manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.; E. R. 317, Sumie-Epoxy ESA-011 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., A.M. E. R. Bisphenol A type epoxy resin such as 330 (both trade names); hydroquinone type epoxy resin; bisphenol F type epoxy resin such as YSLV-80XY manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.; type epoxy resin; jERYL903 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Epiclon 152 manufactured by DIC Corporation, Epotato YDB-400 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., D.I. E. R. 542, Sumie-Epoxy ESB-400 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., A.M.D. manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd. E. R. Brominated epoxy resins such as 711 (both trade names); jER152 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; E. N. Epiclon N-730 manufactured by 431DIC, Epotote YDCN-701 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., EPPN-201 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Sumie-Epoxy ESCN-195X manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., A.P. manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd. E. R. ECN-235 and the like (both trade names) novolac epoxy resins; Nippon Kayaku NC-3000 and other biphenol novolak epoxy resins; DIC Epiclon 830, Mitsubishi Chemical jER807, Toto Kasei Co. Bisphenol F type epoxy resins such as Epotoot YDF-170, YDF-175, YDF-2004 (all trade names); Hydrogenated bisphenol A epoxy resins such as Epotoot ST-2004 (trade name) manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.; Mitsubishi Glycidylamine type epoxy resins such as jER604 manufactured by Kagaku Co., Ltd., Epotote YH-434 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., and Sumi-Epoxy ELM-120 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (all trade names); Hydantoin type epoxy resin; Daicel Chemical Industries Alicyclic epoxy resins such as Celoxide 2021 (both trade names) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.; trihydroxyphenylmethane type epoxy resins such as EPPN-501 (both trade names) manufactured by Nippon Kayaku; -6056, YX-4000, YL-6121 (all trade names) bixylenol type or biphenol type epoxy resins or mixtures thereof; EBPS-200 manufactured by Nippon Kayaku, EPX-30 manufactured by ADEKA, manufactured by DIC bisphenol S type epoxy resin such as EXA-1514 (trade name); bisphenol A novolac type epoxy resin such as jER157S (trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical; Heterocyclic epoxy resins such as TEPIC (both trade names) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.; Diglycidyl phthalate resins such as BLEMMER DGT manufactured by NOF Corporation; ZX-1063 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. Tetraglycidyl xylenoyl ethane resin such as; ESN-190 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., epoxy resin containing naphthalene group such as HP-4032 manufactured by DIC; Epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton such as HP-7200 manufactured by DIC ; glycidyl methacrylate copolymer epoxy resins such as CP-50S and CP-50M manufactured by NOF Corporation; further copolymer epoxy resins of cyclohexylmaleimide and glycidyl methacrylate; epoxy-modified polybutadiene rubber derivatives (for example, Daicel Chemical Industries PB- 3600, etc.), CTBN-modified epoxy resins (eg, YR-102, YR-450, etc. manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), etc., but are not limited to these. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. Among these, novolak-type epoxy resins, bixylenol-type epoxy resins, biphenol-type epoxy resins, biphenol-novolac-type epoxy resins, naphthalene-type epoxy resins, and mixtures thereof are particularly preferable.

多官能オキセタン化合物としては、例えば、ビス[(3-メチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]エーテル、ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]エーテル、1,4-ビス[(3-メチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、(3-メチル-3-オキセタニル)メチルアクリレート、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルアクリレート、(3-メチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレート、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレートやそれらのオリゴマーまたは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタンアルコールとノボラック樹脂、ポリ(p-ヒドロキシスチレン)、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、またはシルセスキオキサン等の水酸基を有する樹脂とのエーテル化物等が挙げられる。その他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体等も挙げられる。 Examples of polyfunctional oxetane compounds include bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, 1,4-bis[(3- methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, (3-methyl-3-oxetanyl)methyl acrylate, (3-ethyl-3- Oxetanyl)methyl acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl)methyl methacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl)methyl methacrylate, and polyfunctional oxetanes such as their oligomers or copolymers, as well as oxetane alcohols and novolak resins , poly(p-hydroxystyrene), cardo-type bisphenols, calixarenes, calixresorcinarenes, and etherified products with resins having a hydroxyl group such as silsesquioxane. Other examples include copolymers of unsaturated monomers having an oxetane ring and alkyl (meth)acrylates.

なお、(3-メチル-3-オキセタニル)メチルアクリレート、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルアクリレート、(3-メチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレート、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレート等、分子中にラジカル重合部位(メタクリル基)とカチオン重合部位(オキセタニル部位)を併せ持つモノマーは、光硬化成分でもあり、熱硬化成分でもあることから、光硬化及び熱硬化の2段階硬化を行う場合に組成物中に含まれることが好ましい。 Incidentally, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, etc. , A monomer that has both a radical polymerization site (methacrylic group) and a cationic polymerization site (oxetanyl site) in the molecule is both a photocurable component and a thermosetting component, so when performing two-step curing of photocuring and thermosetting is preferably included in the composition.

このような成分としては、多官能オキセタン化合物以外に、例えば、(メタ)アクリロイル基含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂(製品名、EA-1010LC、新中村化学工業社製)、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル(製品名、4HBAGE、日本化成株式会社製)、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート(製品名、サイクロマーM100、株式会社ダイセル製)などが挙げられる。 Examples of such components include, in addition to polyfunctional oxetane compounds, (meth)acryloyl group-containing bisphenol A type epoxy resin (product name: EA-1010LC, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether. (product name, 4HBAGE, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (product name, CYCLOMER M100, manufactured by Daicel Corporation), and the like.

分子中に複数の環状チオエーテル基を有する化合物としては、例えば、三菱化学社製のビスフェノールA型エピスルフィド樹脂 YL7000等が挙げられる。また、同様の合成方法を用いて、ノボラック型エポキシ樹脂のエポキシ基の酸素原子を硫黄原子に置き換えたエピスルフィド樹脂なども用いることができる。 Examples of compounds having a plurality of cyclic thioether groups in the molecule include bisphenol A episulfide resin YL7000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Also, an episulfide resin obtained by replacing the oxygen atom of the epoxy group of the novolac type epoxy resin with a sulfur atom by using a similar synthesis method can be used.

メラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体等のアミノ樹脂としては、例えばメチロールメラミン化合物、メチロールベンゾグアナミン化合物、メチロールグリコールウリル化合物およびメチロール尿素化合物等がある。さらに、アルコキシメチル化メラミン化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウリル化合物およびアルコキシメチル化尿素化合物は、それぞれのメチロールメラミン化合物、メチロールベンゾグアナミン化合物、メチロールグリコールウリル化合物およびメチロール尿素化合物のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等とすることができる。特に人体や環境に優しいホルマリン濃度が0.2%以下のメラミン誘導体が好ましい。 Amino resins such as melamine derivatives and benzoguanamine derivatives include, for example, methylolmelamine compounds, methylolbenzoguanamine compounds, methylolglycoluril compounds and methylolurea compounds. In addition, the alkoxymethylated melamine compounds, alkoxymethylated benzoguanamine compounds, alkoxymethylated glycoluril compounds and alkoxymethylated urea compounds can replace the methylol groups of the respective methylol melamine compounds, methylol benzoguanamine compounds, methylol glycol uril compounds and methylol urea compounds. It is obtained by converting to an alkoxymethyl group. The type of this alkoxymethyl group is not particularly limited, and may be, for example, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, a butoxymethyl group, or the like. In particular, melamine derivatives having a formalin concentration of 0.2% or less, which are friendly to the human body and the environment, are preferred.

これらの市販品としては、例えば、サイメル300、同301、同303、同370、同325、同327、同701、同266(いずれも三井サイアナミッド社製)、ニカラックMx-750、同Mx-032、同Mx-270、同Mx-280、同Mx-290、同Mx-706(いずれも三和ケミカル社製)等を挙げることができる。このような熱硬化成分は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of these commercially available products include Cymel 300, Cymel 301, Cymel 303, Cymel 370, Cymel 325, Cymel 327, Cymel 701, and Cymel 266 (all manufactured by Mitsui Cyanamid), Nikalac Mx-750, and Cymel Mx-032. , Mx-270, Mx-280, Mx-290, and Mx-706 (all manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.). Such thermosetting components may be used singly or in combination of two or more.

イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物は、1分子内に複数のイソシアネート基またはブロック化イソシアネート基を有する化合物である。このような1分子内に複数のイソシアネート基またはブロック化イソシアネート基を有する化合物としては、ポリイソシアネート化合物、またはブロックイソシアネート化合物等が挙げられる。なお、ブロック化イソシアネート基とは、イソシアネート基がブロック剤との反応により保護されて一時的に不活性化された基であり、所定温度に加熱されたときにそのブロック剤が解離してイソシアネート基が生成する。上記ポリイソシアネート化合物、またはブロックイソシアネート化合物を加えることにより硬化性および得られる硬化物の強靭性を向上させることができる。 Isocyanate compounds and blocked isocyanate compounds are compounds having a plurality of isocyanate groups or blocked isocyanate groups in one molecule. Examples of such compounds having a plurality of isocyanate groups or blocked isocyanate groups in one molecule include polyisocyanate compounds and blocked isocyanate compounds. The blocked isocyanate group is a group in which the isocyanate group is protected by a reaction with a blocking agent and is temporarily inactivated. is generated. By adding the polyisocyanate compound or blocked isocyanate compound, the curability and the toughness of the resulting cured product can be improved.

このようなポリイソシアネート化合物としては、例えば、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネートまたは脂環式ポリイソシアネートが用いられる。 Examples of such polyisocyanate compounds include aromatic polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates and alicyclic polyisocyanates.

芳香族ポリイソシアネートの具体例としては、例えば、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、ナフタレン-1,5-ジイソシアネート、o-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネートおよび2,4-トリレンダイマー等が挙げられる。 Specific examples of aromatic polyisocyanates include 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-xylylene diisocyanate, Examples include m-xylylene diisocyanate and 2,4-tolylene dimer.

脂肪族ポリイソシアネートの具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)およびイソホロンジイソシアネート等が挙げられる。 Specific examples of aliphatic polyisocyanates include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4-methylenebis(cyclohexyl isocyanate) and isophorone diisocyanate.

脂環式ポリイソシアネートの具体例としてはビシクロヘプタントリイソシアネートが挙げられる。並びに先に挙げられたイソシアネート化合物のアダクト体、ビューレット体およびイソシアヌレート体等が挙げられる。 A specific example of the alicyclic polyisocyanate is bicycloheptane triisocyanate. and adducts, biurets and isocyanurates of the above-mentioned isocyanate compounds.

ブロックイソシアネート化合物としては、イソシアネート化合物とイソシアネートブロック剤との付加反応生成物が用いられる。ブロック剤と反応し得るイソシアネート化合物としては、例えば、上述のポリイソシアネート化合物等が挙げられる。 As the blocked isocyanate compound, an addition reaction product of an isocyanate compound and an isocyanate blocking agent is used. Examples of the isocyanate compound that can react with the blocking agent include the polyisocyanate compounds described above.

イソシアネートブロック剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、クロロフェノールおよびエチルフェノール等のフェノール系ブロック剤;ε-カプロラクタム、δ-パレロラクタム、γ-ブチロラクタムおよびβ-プロピオラクタム等のラクタム系ブロック剤;アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトン等の活性メチレン系ブロック剤;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ベンジルエーテル、グリコール酸メチル、グリコール酸ブチル、ジアセトンアルコール、乳酸メチルおよび乳酸エチル等のアルコール系ブロック剤;ホルムアルデヒドキシム、アセトアルドキシム、アセトキシム、メチルエチルケトキシム、ジアセチルモノオキシム、シクロヘキサンオキシム等のオキシム系ブロック剤;ブチルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、t-ブチルメルカプタン、チオフェノール、メチルチオフェノール、エチルチオフェノール等のメルカプタン系ブロック剤;酢酸アミド、ベンズアミド等の酸アミド系ブロック剤;コハク酸イミドおよびマレイン酸イミド等のイミド系ブロック剤;キシリジン、アニリン、ブチルアミン、ジブチルアミン等のアミン系ブロック剤;イミダゾール、2-エチルイミダゾール等のイミダゾール系ブロック剤;メチレンイミンおよびプロピレンイミン等のイミン系ブロック剤、ピラゾール系ブロック剤等が挙げられる。 Examples of isocyanate blocking agents include phenolic blocking agents such as phenol, cresol, xylenol, chlorophenol and ethylphenol; lactam blocking agents such as ε-caprolactam, δ-parellolactam, γ-butyrolactam and β-propiolactam; Active methylene blocking agents such as ethyl acetoacetate and acetylacetone; methanol, ethanol, propanol, butanol, amyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, benzyl alcohol-based blocking agents such as ether, methyl glycolate, butyl glycolate, diacetone alcohol, methyl lactate and ethyl lactate; mercaptan blocking agents such as butyl mercaptan, hexyl mercaptan, t-butyl mercaptan, thiophenol, methylthiophenol and ethylthiophenol; acid amide blocking agents such as acetic amide and benzamide; imides such as succinimide and maleic imide system blocking agents; amine blocking agents such as xylidine, aniline, butylamine and dibutylamine; imidazole blocking agents such as imidazole and 2-ethylimidazole; imine blocking agents such as methyleneimine and propyleneimine; mentioned.

ブロックイソシアネート化合物は市販のものであってもよく、例えば、スミジュールBL-3175、BL-4165、BL-1100、BL-1265、デスモジュールTPLS-2957、TPLS-2062、TPLS-2078、TPLS-2117、デスモサーム2170、デスモサーム2265(いずれも住友バイエルウレタン社製)、コロネート2512、コロネート2513、コロネート2520(いずれも日本ポリウレタン工業社製)、B-830、B-815、B-846、B-870、B-874、B-882(いずれも三井武田ケミカル社製)、TPA-B80E、17B-60PX、E402-B80T(いずれも旭化成ケミカルズ社製)、7950、7951、7960、7961、7982、7990、7991、7992(いずれもBaxenden chemicals社製)等が挙げられる。なお、スミジュールBL-3175、BL-4265はブロック剤としてメチルエチルオキシムを用いて得られるものである。このような1分子内に複数のイソシアネート基、またはブロック化イソシアネート基を有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Blocked isocyanate compounds may be commercially available, such as Sumidur BL-3175, BL-4165, BL-1100, BL-1265, Desmodur TPLS-2957, TPLS-2062, TPLS-2078, TPLS-2117. , Desmotherm 2170, Desmotherm 2265 (both manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Coronate 2512, Coronate 2513, Coronate 2520 (both manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), B-830, B-815, B-846, B-870, B-874, B-882 (all manufactured by Mitsui Takeda Chemicals), TPA-B80E, 17B-60PX, E402-B80T (all manufactured by Asahi Kasei Chemicals), 7950, 7951, 7960, 7961, 7982, 7990, 7991 , 7992 (both manufactured by Baxenden chemicals). Sumidur BL-3175 and BL-4265 are obtained by using methylethyloxime as a blocking agent. Such compounds having a plurality of isocyanate groups or blocked isocyanate groups in one molecule may be used singly or in combination of two or more.

熱硬化成分の配合量は、本発明の硬化性組成物100質量部あたり、1~30質量部が好ましい。配合量が1質量部以上であれば、塗膜の強靭性、耐熱性がさらに向上する。一方、30質量部以下であれば、保存安定性が低下することを抑制できる。 A blending amount of the thermosetting component is preferably 1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention. If the blending amount is 1 part by mass or more, the toughness and heat resistance of the coating film are further improved. On the other hand, if it is 30 parts by mass or less, deterioration of storage stability can be suppressed.

さらに、本発明の硬化性組成物は、水酸基を有する(メタ)アクリレートを含んでいても良い。水酸基を有する(メタ)アクリレートを含むことで、得られた被膜の導体回路金属やプラスチック基板との密着性が向上する。 Furthermore, the curable composition of the present invention may contain a (meth)acrylate having a hydroxyl group. By containing a (meth)acrylate having a hydroxyl group, the adhesion of the obtained film to a conductor circuit metal or a plastic substrate is improved.

水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシ-3-アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシエチル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。市販品としてはアロニックスM-5700(東亞合成社製の商品名)、4HBA、2HEA、CHDMMA(以上、日本化成社製の商品名)、BHEA、HPA、HEMA、HPMA(以上、日本触媒社製の商品名)、ライトエステルHO、ライトエステルHOP、ライトエステルHOA(以上、共栄社化学社製の商品名)等がある。(B)水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物は1種類または複数種類を組み合わせて用いることができる。 Examples of (meth)acrylates having a hydroxyl group include 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyethyl (meth)acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta(meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (Meth)acrylate and the like. Commercially available products include Aronix M-5700 (trade name manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 4HBA, 2HEA, CHDMMA (trade names manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.), BHEA, HPA, HEMA, HPMA (trade names manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.). (trade name), Light Ester HO, Light Ester HOP, Light Ester HOA (all trade names manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the like. (B) A (meth)acrylate compound having a hydroxyl group can be used singly or in combination.

このうち、特に2-ヒドロキシ-3-アクリロイルオキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましく用いられる。また、粘度調整の容易さの観点から、単官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。 Among these, in particular 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol Monoacrylates are preferably used. Moreover, a monofunctional (meth)acrylate compound is preferably used from the viewpoint of ease of viscosity adjustment.

水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の配合量は、本発明の硬化性組成物100質量部あたり、好ましくは1~10質量部、より好ましくは1~5質量部である。 The amount of the (meth)acrylate compound having a hydroxyl group is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention.

さらに、本発明の硬化性組成物は、多分岐状オリゴマーまたは多分岐状ポリマーを含んでいてもよい。本発明において、エチレン性不飽和基を有する多分岐状のオリゴマー又はポリマーは、多分岐状のオリゴマー又はポリマー(1分子中に複数の分岐鎖を有するオリゴマー又はポリマーのことをいう)骨格にエチレン性不飽和基を少なくとも1つ有する化合物である。エチレン性不飽和基は、(メタ)アクリロイル基などの官能基に由来するものであり、1分子内に複数種のエチレン性不飽和基を有していてもよい。なお、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基とメタクリロイル基の両方を含む概念である。 Additionally, the curable composition of the present invention may comprise a hyperbranched oligomer or hyperbranched polymer. In the present invention, a multibranched oligomer or polymer having an ethylenically unsaturated group is a multibranched oligomer or polymer (referring to an oligomer or polymer having a plurality of branched chains in one molecule) having an ethylenic structure in its skeleton. It is a compound having at least one unsaturated group. The ethylenically unsaturated group is derived from a functional group such as a (meth)acryloyl group, and may have multiple types of ethylenically unsaturated groups in one molecule. In addition, a (meth)acryloyl group is a concept including both an acryloyl group and a methacryloyl group.

エチレン性不飽和基を有する多分岐状のオリゴマー及び/又はポリマー(以下、単に「多分岐状のオリゴマー又はポリマー」とも称する)としては、デンドリマー構造(樹状構造)を有する化合物(以下、単にデンドリマーともいう)、ハイパーブランチ(超分岐)構造を有する化合物(以下、単にハイパーブランチ(オリゴマー、ポリマー)ともいう)、スター構造を有する化合物(オリゴマー、ポリマ―)、及びグラフト構造を有する化合物(オリゴマー、ポリマ―)であって、エチレン性不飽和結合を有する官能基、例えば(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。 As a multibranched oligomer and/or polymer having an ethylenically unsaturated group (hereinafter also simply referred to as a "multibranched oligomer or polymer"), a compound having a dendrimer structure (dendritic structure) (hereinafter simply dendrimer ), compounds having a hyperbranched (hyperbranched) structure (hereinafter also simply referred to as hyperbranched (oligomers, polymers)), compounds having a star structure (oligomers, polymers), and compounds having a graft structure (oligomers, It is preferably a compound that is a polymer) and has a functional group having an ethylenically unsaturated bond, such as a (meth)acryloyl group.

なお、本発明でデンドリマーは、枝分岐鎖が放射状に広がった構造を有する化合物を広く称する。デンドリマーの具体的種類は特に限定されず、アミドアミン系デンドリマー、フェニルエーテル系デンドリマー、ハイパーブランチポリエチレングリコールなど公知のものから1種以上を選択することができる。 In the present invention, the dendrimer broadly refers to a compound having a structure in which branched chains spread radially. Specific types of dendrimers are not particularly limited, and one or more types can be selected from known dendrimers such as amidoamine-based dendrimers, phenyl ether-based dendrimers, and hyperbranched polyethylene glycol.

多分岐状のオリゴマー又はポリマーは、重量平均分子量(Mw)が、一般に1000~20000、好ましくは1000~8000である。重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフ測定に基づく分子量分布曲線に基づくポリスチレン換算の分子量である。 The multi-branched oligomer or polymer generally has a weight average molecular weight (Mw) of 1000-20000, preferably 1000-8000. The weight average molecular weight (Mw) is the polystyrene-equivalent molecular weight based on the molecular weight distribution curve based on gel permeation chromatography.

本発明の多分岐状のオリゴマー又はポリマーの一分子中のエチレン性不飽和結合を有する官能基数、特に(メタ)アクリロイル基の数は、好ましくは3以上、特に4~30の範囲であることが好ましく、本発明の組成物の所望の効果が損なわれない範囲で選択される。特に、本発明の光硬化性組成物はインクジェット用に用いられるため粘度が室温(25℃)で150mPa・s以下となる30以下の官能基数のものが用いられる。 The number of functional groups having an ethylenically unsaturated bond, particularly the number of (meth)acryloyl groups, in one molecule of the multibranched oligomer or polymer of the present invention is preferably 3 or more, particularly in the range of 4 to 30. It is preferably selected within a range that does not impair the desired effect of the composition of the present invention. In particular, since the photocurable composition of the present invention is used for inkjet, one having a number of functional groups of 30 or less and having a viscosity of 150 mPa·s or less at room temperature (25° C.) is used.

デンドリマーの製造方法は特に限定されず、中心コア分子に世代ごとに分子を結合させて分岐を形成するダイバージェント法、予め合成した枝部分をコア分子に結合させるコンバージェント法、2以上の反応点Bを有する分岐部分と別の反応点Aを有するつなぎ部分とを1分子内に持つモノマーABxを用いて1段階で合成する方法など公知の製造方法を採用することができる。 The method for producing a dendrimer is not particularly limited, and includes a divergent method in which molecules are attached to a central core molecule for each generation to form branches, a convergent method in which pre-synthesized branch moieties are attached to a core molecule, and two or more reaction points. A known production method such as a method of synthesizing in one step using a monomer ABx having a branched portion having B and a linking portion having another reaction point A in one molecule can be employed.

デンドリマーは市販品を用いることも可能であり、例えば、Etercure 6361-100 (Eternal Materials社製)、Doublermer(DM)2015(Double Bond Chamical社製)、SP1106(Miwon Specialty Chemical社製)、ビスコート#1000(大阪有機化学工業株式会社製)を挙げることができる。 A commercially available dendrimer can also be used, for example, Etercure 6361-100 (manufactured by Eternal Materials), Doublermer (DM) 2015 (manufactured by Double Bond Chemical), SP1106 (manufactured by Miwon Specialty Chemical), Viscoat #1000. (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.).

このほか、デンドリマーはIris Biotech社、関東化学社、Merk Millipore社、QIAGEN社、Sigma-Aldrich社、テクノケミカル社、Double Bond Chamical社、大阪有機化学工業社、伯東社などから入手可能である。 In addition, dendrimers are available from Iris Biotech, Kanto Kagaku, Merk Millipore, QIAGEN, Sigma-Aldrich, Techno Chemical, Double Bond Chemical, Osaka Organic Chemical Industry, Hakuto, and others.

本発明では、エチレン性不飽和基を有する多分岐状のオリゴマーまたはポリマーを用いることにより、硬化性組成物と基板との密着性を向上させ、その上、硬化物に高い硬度を与えることができる。また、処理条件の厳しいめっき耐性を向上させることができる。
さらに、エチレン性不飽和基を有する多分岐状のオリゴマーまたはポリマーは官能基数または使用量を増加させても比較的低粘度であることから、硬化性得組成物を高硬度とするために有意である。
In the present invention, by using a multi-branched oligomer or polymer having an ethylenically unsaturated group, adhesion between the curable composition and the substrate can be improved, and high hardness can be imparted to the cured product. . In addition, it is possible to improve plating resistance under severe treatment conditions.
Furthermore, since the polybranched oligomer or polymer having an ethylenically unsaturated group has a relatively low viscosity even if the number of functional groups or the amount used is increased, it is significant for increasing the hardness of the curable composition. be.

エチレン性不飽和基を有する多分岐状のオリゴマーまたはポリマーの配合量は、硬化性組成物の総質量に対して0.1~40質量%であると好ましい。0.1以上とすることにより、塗膜の硬度が向上し、40質量%以下とすることにより硬化組成物の粘度上昇を抑制することができる。 The blending amount of the polybranched oligomer or polymer having ethylenically unsaturated groups is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total mass of the curable composition. By making it 0.1 or more, the hardness of the coating film is improved, and by making it 40% by mass or less, it is possible to suppress an increase in the viscosity of the cured composition.

また、本発明の硬化性組成物は、3官能以上6官能以下の(メタ)アクリレート化合物を含んでいてもよい。3官能以上6官能以下の(メタ)アクリレート化合物を含むことで、組成物の光硬化後のタック性(指触乾燥性)の向上が期待される。 Moreover, the curable composition of the present invention may contain a tri- or more and hexa- or less (meth)acrylate compound. By containing a (meth)acrylate compound having a functionality of 3 or more and 6 or less, an improvement in the tackiness (dryness to the touch) of the composition after photocuring is expected.

3官能以上6官能以下の(メタ)アクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールメタントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸トリアクリレート、プロピレンオキサイド変性リン酸トリアクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、あるいはこれらのシルセスキオキサン変性物等に代表される多官能アクリレート、あるいはこれらに対応するメタアクリレートモノマー、εカプロラクトン変性トリスアクリロキシエチルイソシアヌレートが挙げられる。当該3官能以上6官能以下の(メタ)アクリレート化合物の配合量は本発明の硬化性組成物100質量部あたり、例えば、1~20質量部であり、好ましくは、1~10質量部である。 Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolmethane triacrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, epichlorohydrin-modified trimethylolpropane. Triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid triacrylate, propylene oxide-modified phosphoric acid triacrylate, epichlorohydrin-modified glycerol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, or these polyfunctional acrylates represented by silsesquioxane-modified products of , methacrylate monomers corresponding to these, and ε-caprolactone-modified trisacryloxyethyl isocyanurate. The amount of the tri- to hexa-functional (meth)acrylate compound is, for example, 1 to 20 parts by mass, preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the curable composition of the present invention.

本発明の硬化性組成物には、必要に応じて消泡・レベリング剤、チクソトロピー付与剤・増粘剤、カップリング剤、分散剤、難燃剤等の添加剤を含有させることができる。 The curable composition of the present invention may optionally contain additives such as antifoaming/leveling agents, thixotropy-imparting agents/thickening agents, coupling agents, dispersants, and flame retardants.

消泡剤・レベリング剤としてはシリコーン、変性シリコーン、鉱物油、植物油、脂肪族アルコール、脂肪酸、金属石鹸、脂肪酸アミド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル等の化合物等が使用できる。 Compounds such as silicones, modified silicones, mineral oils, vegetable oils, fatty alcohols, fatty acids, metallic soaps, fatty acid amides, polyoxyalkylene glycols, polyoxyalkylene alkyl ethers, polyoxyalkylene fatty acid esters, etc. as antifoaming agents and leveling agents can be used.

チクソトロピー付与剤・増粘剤としては、カオリナイト、スメクタイト、モンモリロナイト、ベントナイト、タルク、マイカ、ゼオライト等の粘度鉱物や微粒子シリカ、シリカゲル、不定形無機粒子、ポリアミド系添加剤、変性ウレア系添加剤、ワックス系添加剤などが使用できる。 Thixotropy-imparting agents and thickeners include clay minerals such as kaolinite, smectite, montmorillonite, bentonite, talc, mica, and zeolite, fine silica particles, silica gel, amorphous inorganic particles, polyamide additives, modified urea additives, A wax-based additive or the like can be used.

消泡・レベリング剤、チクソトロピー付与剤・増粘剤を添加することにより、硬化物の表面特性および組成物の性状の調整を行うことができる。 By adding an antifoaming/leveling agent, a thixotropy imparting agent/thickening agent, the surface properties of the cured product and the properties of the composition can be adjusted.

カップリング剤としては、アルコキシ基としてメトキシ基、エトキシ基、アセチル等であり、反応性官能基としてビニル、メタクリル、アクリル、エポキシ、環状エポキシ、メルカプト、アミノ、ジアミノ、酸無水物、ウレイド、スルフィド、イソシアネート等である例えば、ビニルエトキシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル・トリス(β―メトキシエトキシ)シラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシラン等のビニル系シラン化合物、γ-アミノプロピルトリメトキシラン、Ν―β―(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-ユレイドプロピルトリエトキシシラン等のアミノ系シラン化合物、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β―(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のエポキシ系シラン化合物、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト系シラン化合物、Ν―フェニル―γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等のフェニルアミノ系シラン化合物等のシランカップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイル化チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラ(1,1-ジアリルオキシメチルー1-ブチル)ビス-(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート等のチタネート系カップリング剤、エチレン性不飽和ジルコネート含有化合物、ネオアルコキシジルコネート含有化合物、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ドデシル)ベンゼンスルホニルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ジオクチル)ホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス(ジオクチル)ピロホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス(エチレンジアミノ)エチルジルコネート、ネオアルコキシトリス(m-アミノ)フェニルジルコネート、テトラ(2,2-ジアリルオキシメチル)ブチル,ジ(ジトリデシル)ホスフィトジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリネオデカノイルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(ドデシル)ベンゼン-スルホニルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(ジオクチル)ホスファトジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(ジオクチル)ピロ-ホスファトジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(N-エチレンジアミノ)エチルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(m-アミノ)フェニルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリメタクリルジルコネート(、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリアクリルジルコネート、ジネオペンチル(ジアリル)オキシ,ジパラアミノベンゾイルジルコネート、ジネオペンチル(ジアリル)オキシ,ジ(3-メルカプト)プロピオニックジルコネート、ジルコニウム(IV)2,2-ビス(2-プロペノラトメチル)ブタノラト,シクロジ[2,2-(ビス2-プロペノラトメチル)ブタノラト]ピロホスファト-O,O等のジルコネート系カップリング剤、ジイソブチル(オレイル)アセトアセチルアルミネート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤等が使用できる。 Coupling agents include alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, and acetyl, and reactive functional groups such as vinyl, methacryl, acryl, epoxy, cyclic epoxy, mercapto, amino, diamino, acid anhydride, ureide, sulfide, vinyl silane compounds such as vinylethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyl-tris(β-methoxyethoxy)silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, Ν -β-(aminoethyl)γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane and other amino-based silane compounds, γ-glycides Epoxy silane compounds such as xypropyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and mercapto silanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane compounds, silane coupling agents such as phenylamino silane compounds such as Ν-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, isopropyl triisostearoylated titanate, tetraoctylbis(ditridecylphosphite) titanate, bis(dioctylpyrophosphate ) oxyacetate titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyltitanate, isopropyltris(dioctylpyrophosphate)titanate, tetraisopropylbis(dioctylphosphite)titanate, tetra(1,1-diallyloxymethyl-1-butyl)bis-(ditridecyl) Phosphite titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate, isopropyl tristearoyl diacryl titanate, isopropyl tri(dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, dicumylphenyl Titanate coupling agents such as oxyacetate titanate and diisostearoylethylene titanate, ethylenically unsaturated zirconate-containing compounds, neoalkoxyzirconate-containing compounds, neoalkoxytrisneodecanoylzirconate, neoalkoxytris(dodecyl) base benzenesulfonyl zirconate, neoalkoxytris(dioctyl)phosphate zirconate, neoalkoxytris(dioctyl)pyrophosphate zirconate, neoalkoxytris(ethylenediamino)ethylzirconate, neoalkoxytris(m-amino)phenylzirconate, tetra (2,2-diallyloxymethyl)butyl, di(ditridecyl)phosphitozirconate, neopentyl(diallyl)oxy, trineodecanoylzirconate, neopentyl(diallyl)oxy, tri(dodecyl)benzene-sulfonylzirconate, neopentyl (diallyl)oxy, tri(dioctyl)phosphatozirconate, neopentyl(diallyl)oxy, tri(dioctyl)pyro-phosphatozirconate, neopentyl(diallyl)oxy, tri(N-ethylenediamino)ethylzirconate, neopentyl ( diallyl)oxy, tri(m-amino)phenylzirconate, neopentyl(diallyl)oxy, trimethacrylzirconate (, neopentyl(diallyl)oxy, triacrylzirconate, dineopentyl(diallyl)oxy, di-para-aminobenzoylzirconate, dineopentyl (diallyl)oxy, di(3-mercapto)propionic zirconate, zirconium (IV) 2,2-bis(2-propenolatomethyl)butanolate, cyclodi[2,2-(bis2-propenolatomethyl) ) Zirconate coupling agents such as butanolate]pyrophosphato-O, O, and aluminate coupling agents such as diisobutyl(oleyl)acetoacetylaluminate and alkylacetoacetate aluminum diisopropylate can be used.

分散剤としては、ポリカルボン酸系、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合系、ポリエチレングリコール、ポリカルボン酸部分アルキルエステル系、ポリエーテル系、ポリアルキレンポリアミン系等の高分子型分散剤、アルキルスルホン酸系、四級アンモニウム系、高級アルコールアルキレンオキサイド系、多価アルコールエステル系、アルキルポリアミン系等の低分子型分散剤等が使用できる。 Dispersants include polycarboxylic acid, naphthalenesulfonic acid formalin condensation, polyethylene glycol, polycarboxylic acid partial alkyl ester, polyether, polyalkylenepolyamine, and other polymeric dispersants; alkylsulfonic acid; Low-molecular-weight dispersants such as ammonium-based, higher alcohol alkylene oxide-based, polyhydric alcohol ester-based, and alkylpolyamine-based dispersants can be used.

難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の水和金属系、赤燐、燐酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、モリブデン化合物系、臭素化合物系、塩素化合物系、燐酸エステル、含燐ポリオール、含燐アミン、メラミンシアヌレート、メラミン化合物、トリアジン化合物、グアニジン化合物、シリコンポリマー等が使用できる。 Flame retardants include hydrated metals such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, red phosphorus, ammonium phosphate, ammonium carbonate, zinc borate, zinc stannate, molybdenum compounds, bromine compounds, chlorine compounds, and phosphate esters. , phosphorus-containing polyols, phosphorus-containing amines, melamine cyanurate, melamine compounds, triazine compounds, guanidine compounds, silicone polymers and the like.

重合速度や重合度を調整するためには、更に、重合禁止剤、重合遅延剤を添加することも可能である。 In order to adjust the polymerization rate and degree of polymerization, it is also possible to add a polymerization inhibitor and a polymerization retarder.

更に、本発明の硬化性組成物には、粘度調整のため溶剤を用いてもよいが、硬化後の膜厚低下を防ぐために、添加量は少ないことが好ましい。また、粘度調整のための溶剤は含まないことがより好ましい。 Further, a solvent may be used in the curable composition of the present invention for viscosity adjustment, but the amount added is preferably small in order to prevent film thickness reduction after curing. Moreover, it is more preferable not to contain the solvent for viscosity adjustment.

本発明の硬化性組成物には、着色を目的として、着色顔料や染料等を添加しても良い。着色顔料や染料等としては、カラ-インデックスで表される公知慣用のものが使用可能である。例えば、Pigment Blue 15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、60、Solvent Blue 35、63、68、70、83、87、94、97、122、136、67、70、PigmentGreen 7、 36、3、5、20、28、Solvent Yellow 163、Pigment Yellow 24、108、193、147、199、202、110、109、139 179 185 93、94、95、128、155、166、180、120、151、154、156、175、181、1、2、3、4、5、6、9、10、12、61、62、62:1、65、73、74、75、97、100、104、105、111、116、167、168、169、182、183、12、13、14、16、17、55、63、81、83、87、126、127、152、170、172、174、176、188、 198、Pigment Orange 1、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、61、63、64、71、73、Pigment Red 1、2、3、4、5、6、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、112、114、146、147、151、170、184、187、188、193、210、245、253、258、266、267、268、269、37、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、52:2、53:1、53:2、57:1、58:4、63:1、63:2、64:1、68、171、175、176、185、208、123、149、166、178、179、190、194、224、254、255、264、270、272、220、144、166、214、220、221、242、168、177、216、122、202、206、207、209、Solvent Red 135、179、149、150、52、207、Pigment Violet 19、23、29、32、36、38、42、Solvent Violet 13、36、Pigment Brown 23、25、PigmentBlack 1、7等が挙げられる。これら着色顔料・染料等は、硬化性組成物100質量部に対して、0.01~5質量部添加することが好ましい。 A coloring pigment, dye, or the like may be added to the curable composition of the present invention for the purpose of coloring. As the coloring pigments, dyes, and the like, known and commonly used ones represented by a color index can be used. Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60, Solvent Blue 35, 63, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136, 67, 70, Pigment Green 7, 36, 3, 5, 20, 28, Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202, 110, 109, 139 179 185 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180, 120, 151, 154, 156, 175, 181, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183, 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198, Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73, Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269, 37, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48: 4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53:1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68, 171, 175, 176, 185, 208, 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224, 254, 255, 264, 270, 272, 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242, 168, 177, 216, 122, 202, 206, 207, 209, Solvent Red 135, 179, 149, 150, 52, 207, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, Pigment Brown 23, 25, Pigment Black 1, 7 and the like. These coloring pigments and dyes are preferably added in an amount of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable composition.

本発明の硬化性組成物は、インクジェット法による印刷に適用可能である。インクジェット法による印刷に適用可能であることには、インクジェットプリンターにより噴射可能な粘度であることが好ましい。 The curable composition of the present invention is applicable to printing by an inkjet method. In order to be applicable to printing by an inkjet method, it is preferable that the viscosity is such that it can be jetted by an inkjet printer.

粘度とはJIS K2283に従って測定した粘度を指す。また、上記のインクジェット用硬化性組成物の粘度は常温(25℃)で150mPa・s以下であることが好ましい。上述のように、インクジェットプリンターに使用するインクの粘度は塗布時の温度において約20mPa・s以下であることが好ましい。しかし、常温で150mPa・s以下の粘度であれば、塗布前、若しくは塗布時の加温によって上記条件を充足することができる。 Viscosity refers to viscosity measured according to JIS K2283. Further, the viscosity of the curable composition for inkjet described above is preferably 150 mPa·s or less at room temperature (25° C.). As described above, the viscosity of the ink used in the ink jet printer is preferably about 20 mPa·s or less at the temperature during application. However, if the viscosity is 150 mPa·s or less at room temperature, the above conditions can be satisfied by heating before or during application.

従って、本発明の硬化性組成物によりプリント配線板用の基板等に、直接パターンを印刷することができる。 Therefore, the curable composition of the present invention can be used to directly print a pattern on a printed wiring board substrate or the like.

更に、本発明の硬化性組成物は、常温では重合反応が生じないため、一液型の硬化性組成物として安定に保存可能である。 Furthermore, since the curable composition of the present invention does not undergo a polymerization reaction at room temperature, it can be stably stored as a one-component curable composition.

本発明の硬化性組成物はインクジェットプリンターにインクとして供給され、基板上への印刷に使用される。本発明の組成物はインク粘度が非常に低いため、インクジェット法による印刷・塗布は、基材に印刷・塗布したパターンや文字は長時間が経過すると濡れ広がり、滲みを生ずる。 The curable composition of the present invention is supplied as ink to an inkjet printer and used for printing on a substrate. Since the ink viscosity of the composition of the present invention is very low, when printed or applied by an inkjet method, the pattern or characters printed or applied to the base material wet and spread over a long period of time, causing bleeding.

<硬化性組成物の硬化物>
本発明の硬化性組成物の硬化物は、例えば、上記印刷直後の組成物層に50mJ/cm~1000mJ/cm光照射を行うことにより組成物層を光硬化させることで得られる。光照射は、紫外線、電子線、化学線等の活性エネルギー線の照射により、好ましくは紫外線照射により行われる。
<Cured product of curable composition>
A cured product of the curable composition of the present invention can be obtained, for example, by irradiating the composition layer immediately after printing with light of 50 mJ/cm 2 to 1000 mJ/cm 2 to photocure the composition layer. Light irradiation is carried out by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams and actinic rays, preferably ultraviolet irradiation.

インクジェットプリンターにおける紫外線照射は、例えばプリントヘッドの側面に高圧水銀灯、メタルハライドランプ、紫外線LEDなどの光源を取り付け、プリントヘッドもしくは基材を動かすことによる走査を行うことにより行うことができる。この場合は、印刷と、紫外線照射とをほぼ同時に行なえる。 Ultraviolet irradiation in an inkjet printer can be carried out by, for example, attaching a light source such as a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an ultraviolet LED to the side of the print head and scanning by moving the print head or substrate. In this case, printing and ultraviolet irradiation can be performed almost simultaneously.

光硬化後の硬化物は、熱硬化成分が含まれる場合には、公知の加熱手段、例えば、熱風炉、電気炉、赤外線誘導加熱炉等の加熱炉を用いることにより熱硬化する。加熱条件としては、130℃~170℃にて5分~90分加熱することが好ましい。 When the cured product after photocuring contains a thermosetting component, it is thermoset by using a known heating means such as a hot air furnace, an electric furnace, an infrared induction heating furnace, or the like. As for the heating conditions, it is preferable to heat at 130° C. to 170° C. for 5 minutes to 90 minutes.

<硬化性組成物の硬化物を絶縁性硬化被膜として用いた電子部品>
このように基板等の基材上にパターン印刷した硬化性組成物からなる被膜(硬化物)がソルダーレジストとして用いられる場合、部品の実装のためのはんだ付け工程で加熱される。はんだ付けは、手はんだ付け、フローはんだ付け、リフローはんだ付け等のいずれで行われてもよいが、例えば、リフローはんだ付けの場合には、100℃~140℃で1~4時間の予熱と、その後、240~280℃で5~20秒程度の加熱を複数回(例えば、2~4回)繰り返してはんだを加熱・溶融させるリフロー工程に供され、冷却後、必要により部品が実装されて電子部品が完成する。
<Electronic component using cured product of curable composition as insulating cured film>
When a film (cured product) made of a curable composition pattern-printed on a substrate such as a substrate is used as a solder resist, it is heated in a soldering process for mounting components. Soldering may be performed by hand soldering, flow soldering, reflow soldering, etc. For example, in the case of reflow soldering, preheating at 100° C. to 140° C. for 1 to 4 hours After that, it is subjected to a reflow process in which the solder is heated and melted by repeating heating at 240 to 280° C. for about 5 to 20 seconds several times (for example, 2 to 4 times). the part is completed.

なお、本発明において電子部品とは、電子回路に使用する部品を意味し、プリント配線板、トランジスタ、発光ダイオード、レーザーダイオード等の能動部品の他抵抗、コンデンサ、インダクタ、コネクタ等の受動部品も含まれ、本発明の硬化性組成物の硬化物がこれらの絶縁性硬化塗膜として、本発明の効果を奏するものである。 In the present invention, electronic components refer to components used in electronic circuits, including active components such as printed wiring boards, transistors, light-emitting diodes, and laser diodes, as well as passive components such as resistors, capacitors, inductors, and connectors. Thus, the cured product of the curable composition of the present invention exhibits the effects of the present invention as these insulating cured coating films.

また、基板が、いわゆるリジッド基板、すなわち、両面に配線がプリントされた両面板や基板を積層させてなる多層板である場合には、上記硬化性組成物からなる被膜を有する基板が複数回上記はんだ付け工程に供され、繰り返し加熱されることとなる。 Further, when the substrate is a so-called rigid substrate, i.e., a double-sided board having wiring printed on both sides or a multilayer board formed by laminating substrates, the substrate having a coating made of the above curable composition is applied several times. It is subjected to a soldering process and repeatedly heated.

本発明の硬化性組成物によれば、得られた被膜(硬化物)は、複数回のはんだ付けを想定した熱履歴を受けた後においても被膜上のクラックの発生が無く、且つ十分な基板との密着性及び被膜硬度を維持しており、リジッド基板上に施されるソルダーレジストとして期待される良好な機械的特性を有する。 According to the curable composition of the present invention, the obtained coating (cured product) does not generate cracks on the coating even after being subjected to heat history assuming multiple times of soldering, and sufficient substrate It maintains the adhesion and hardness of the film, and has good mechanical properties expected as a solder resist applied on a rigid substrate.

本発明の硬化性組成物は、可塑性、耐衝撃性、密着性、耐薬品性、耐熱性(加熱後の耐クラック性、密着性及び硬度の維持特性を含む)、および絶縁性等に優れることから種々の用途に適用可能であり、適用対象に特に制限はない。例えば、インクジェット法を用いたプリント配線板のエッチングレジスト、ソルダーレジスト、マーキングレジストの作製等の用いることができ、中でも高い耐熱性が要求されるソルダーレジストとして好適に用いることができる。 The curable composition of the present invention should be excellent in plasticity, impact resistance, adhesion, chemical resistance, heat resistance (including crack resistance after heating, adhesion and hardness maintenance properties), and insulation properties. It can be applied to various uses from the above, and there is no particular limitation on the application target. For example, it can be used for the production of etching resists, solder resists, marking resists, etc. for printed wiring boards using an inkjet method, and it can be suitably used as a solder resist that requires high heat resistance.

また、UV成形品材料、光造形用材料、3Dインクジェット用材料などの用途にも利用可能である。 It can also be used for applications such as UV molded product materials, stereolithography materials, and 3D inkjet materials.

なお、本発明は上記の実施の形態の構成および実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。 The present invention is not limited to the configurations and examples of the above embodiments, and various modifications are possible within the scope of the gist of the invention.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下において特に断りのない限り、「部」は質量部を意味するものとする。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited only to these Examples. In addition, "part" shall mean a mass part unless there is particular notice below.

[実施例1~8および比較例1~2]
1.組成物の調製
表1に示す割合(単位:質量部)で各成分を配合し、これをディゾルバーで撹拌した。
その後ビーズミルを用いて1mmのジルコニアビーズにて分散を2時間行い、本発明の組成物(実施例1~8)および比較組成物(比較例1および2)を得た。
[Examples 1-8 and Comparative Examples 1-2]
1. Preparation of Composition Each component was blended in proportions (unit: parts by mass) shown in Table 1, and stirred with a dissolver.
After that, dispersion was carried out with 1 mm zirconia beads using a bead mill for 2 hours to obtain compositions of the present invention (Examples 1 to 8) and comparative compositions (Comparative Examples 1 and 2).

Figure 0007112170000001
Figure 0007112170000001

表1中の製品名および略号は以下の通りである。 Product names and abbreviations in Table 1 are as follows.

ABE-300: EO変性ビスフェノールAジアクリレート(EO3モル付加物)、新中村化学工業社製
BPE-4:EO変性ビスフェノールAジアクリレート(EO4モル付加物)、第一工業製薬株式会社製
HBPE-4:EO変性水添ビスフェノールAジアクリレート(EO4モル付加物)、第一工業製薬株式会社製
BPE-10:EO変性ビスフェノールAジアクリレート(EO10モル付加物)、第一工業製薬株式会社製
DPGDA:ジプロピレングリコールジアクリレート、東洋ケミカルズ株式会社製
A-NOD-N:1,9-ノナンジオールジアクリレート、新中村化学工業社製
HDDA:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、第一工業製薬株式会社製
Laromer LR8863:EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート(EO6モル付加物)
Omnirad 379:2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン、IGM社 Resins製
ITX:2-イソプロピルチオキサントン、日本化薬社製
TPO:2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、IGM Resins社製
ビスコート#1000:デンドリマーポリエステルアクリレートオリゴマー(末端にアクリレート基を有する多分岐(デンドリマー型)ポリエステルアクリレートを主成分とするデンドリマー)、大阪有機化学工業社製
EA-1010LC:(メタ)アクリロイル基含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂(単官能)、新中村化学工業社製
BI7982:3官能ブロックイソシアネート、Baxenden chemmical社製
4HBA:4-ヒドロキシブチルアクリレート、日本化成社製
メラミン:日産化学社製
フタロシアニンブルー:フタロシアニン系青色顔料、
クロモフタルエローAGR:アントラキノン系黄色顔料、
BYK-315N:シリコン系表面調整剤、ビックケミー・ジャパン社製
組成物粘度:ビーズミルでの分散直後の、JIS K2283に準拠して測定された50℃における粘度を下記基準により判定した。
ABE-300: EO-modified bisphenol A diacrylate (3 moles of EO adduct), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
BPE-4: EO-modified bisphenol A diacrylate (EO4 mol adduct), manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
HBPE-4: EO-modified hydrogenated bisphenol A diacrylate (EO4 mole adduct), manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
BPE-10: EO-modified bisphenol A diacrylate (EO 10 mol adduct), manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
DPGDA: Dipropylene glycol diacrylate, manufactured by Toyo Chemicals Co., Ltd.
A-NOD-N: 1,9-nonanediol diacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
HDDA: 1,6-hexanediol diacrylate, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
Laromer LR8863: EO modified trimethylolpropane triacrylate (EO 6 mole adduct)
Omnirad 379: 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone from IGM Resins
ITX: 2-isopropylthioxanthone, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
TPO: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, manufactured by IGM Resins Viscoat #1000: Dendrimer polyester acrylate oligomer (a dendrimer composed mainly of multi-branched (dendrimer-type) polyester acrylate having acrylate groups at the ends), Osaka Made by Organic Chemical Industry Co., Ltd.
EA-1010LC: (meth)acryloyl group-containing bisphenol A type epoxy resin (monofunctional), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
BI7982: trifunctional blocked isocyanate, manufactured by Baxenden chemical
4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. Melamine: manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Phthalocyanine blue: phthalocyanine blue pigment,
Chromophthal Yellow AGR: Anthraquinone-based yellow pigment,
BYK-315N: Silicon-based surface conditioner, manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd. Composition viscosity: The viscosity at 50° C. measured according to JIS K2283 immediately after dispersion in a bead mill was evaluated according to the following criteria.

◎ 15mPa・s未満
○ 15mPa・s以上150mPa・s未満
× 150mPa・sを超過粘度
◎ Less than 15mPa・s ○ 15mPa・s or more and less than 150mPa・s × Viscosity exceeding 150mPa・s

2.試験基板の作製および評価
2-1.高温処理後のクラック耐性の評価
得られた各実施例および比較例の硬化性組成物を用いて以下の条件
2. Production and Evaluation of Test Substrate 2-1. Evaluation of crack resistance after high-temperature treatment

<試験基板の作成条件>
基材:銅張積層板
研磨:バフ研磨(Scotch brite SF(#600相当)とUEF(#1000相当)の2連)
塗布:アプリケーター(ERICHSEN社製)、塗布時の膜厚30μm
仮硬化条件:300mJ/cm、高圧水銀灯(ORC社製HMW-713)を光源として使用
熱硬化条件:150℃60分、加熱装置はDF610(ヤマト科学株式会社製)を使用
UV bump:1000mJ/cm、高圧水銀灯(ORC社製HMW-713)を光源として使用
に従ってそれぞれ試験基板を作製した。
<Conditions for creating test substrate>
Base material: Copper clad laminate
Polishing: Buff polishing (Scotch brite SF (#600 equivalent) and UEF (#1000 equivalent))
Application: Applicator (manufactured by ERICHSEN), film thickness at application: 30 μm
Temporary curing conditions: 300 mJ/cm 2 , high-pressure mercury lamp (HMW-713 manufactured by ORC) is used as the light source Thermal curing conditions: 150° C. for 60 minutes, heating device uses DF610 (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) UV bump: 1000 mJ/ cm 2 , and a high-pressure mercury lamp (HMW-713 manufactured by ORC) was used as the light source.

エイテックテクトロン社製NIS-20-82Cを用いて、下記のコンベア速度および熱源設定温度に従って、事前にリフロー条件と同じ条件で、リフロー炉内の温度を5回測定し(図1参照)、大きな差異が無いことを確認した。その後、同じ条件で、上記で得た試験基板を、エアーリフローでリフロー処理を行った。 Using NIS-20-82C manufactured by Eitec Tectron, the temperature in the reflow furnace was measured 5 times under the same conditions as the reflow conditions in advance according to the following conveyor speed and heat source setting temperature (see FIG. 1), and a large difference confirmed that there was no After that, under the same conditions, the test substrate obtained above was subjected to reflow treatment by air reflow.

コンベア速度:1.0m/min≒1ゾーン(約35cm)を約20秒で通過
熱源設定温度:A.210℃、B.190℃、C.~F.185℃、G.265℃、H.285℃、I.~J.ファンによる冷却工程
Conveyor speed: 1.0 m/min ≈ 1 zone (about 35 cm) in about 20 seconds
Heat source setting temperature: A. 210°C, B.I. 190°C, C.I. ~F. 185°C, G.I. 265°C, H.I. 285°C, I.P. ~J. Cooling process by fan

リフロー処理は最大で5回まで行い、2回目以降、リフロー処理を行うごとに試験基板上の硬化被膜におけるクラックの有無を確認した。結果を表2に示す。 The reflow treatment was performed up to 5 times, and the presence or absence of cracks in the cured film on the test substrate was checked each time the reflow treatment was performed after the second time. Table 2 shows the results.

Figure 0007112170000002
Figure 0007112170000002

表2に示すように、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーと、(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーとの組み合わせで用いた場合、リフロー5回の熱履歴後においても得られた被膜はクラックを生じず、十分なクラック耐性を有していた。一方、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーを有さない比較例(比較例1、2)は、リフロー後にクラックが生じており、加熱後のクラック耐性が満足できないものとなっていた。 As shown in Table 2, (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide variable of 1 to 6, and (B1) no cyclic skeleton and two or more alkylene glycol structures. When used in combination with a bifunctional (meth) acrylate monomer having a (B2) cyclic skeleton and a bifunctional (meth) acrylate monomer having a monoalkylene glycol structure, after 5 reflow heat cycles The resulting film did not crack and had sufficient crack resistance. On the other hand, in Comparative Examples (Comparative Examples 1 and 2) having (A) a cyclic skeleton and no (meth)acrylate monomer having an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less, cracks occurred after reflow, The crack resistance after heating was unsatisfactory.

2-2.高温処理後の被膜の特性の評価
「1.組成物の調製」で得られた各実施例および比較例の硬化性組成物を用い、
「2-1.高温処理後のクラック耐性の評価」の条件と同じ条件で各試験基板を作製した。
2-2. Evaluation of coating properties after high-temperature treatment Using the curable compositions of each example and comparative example obtained in “1.
Each test substrate was produced under the same conditions as in “2-1. Evaluation of crack resistance after high temperature treatment”.

作製したサンプルに対しJIS C-5012の方法に準拠し、260℃のはんだ槽に10秒間浸漬を実施した。 The prepared sample was immersed in a solder bath at 260° C. for 10 seconds according to the method of JIS C-5012.

その後、はんだ浸漬処理後の各試験基板に対して、下記「2-2-1.銅張積層板との密着性」および「2-2-2.鉛筆硬度」に従って被膜特性を評価した。 After that, each test substrate after the solder immersion treatment was evaluated for coating properties according to the following “2-2-1. Adhesion to copper-clad laminate” and “2-2-2. Pencil hardness”.

2-2-1.銅張積層板との密着性
作製した各試験基板を用いてクロスカットテープピール試験(JIS K 5600)を実施した。表3に、試験後にも残存する塗膜の割合を百分率で示す。
2-2-1. Adhesion to Copper-clad Laminate A cross-cut tape peel test (JIS K 5600) was carried out using each of the prepared test substrates. Table 3 shows the percentage of the coating film remaining after the test.

2-2-2.鉛筆硬度
作成した各試験基板の表面における鉛筆硬度をJIS K 5600-5-4に準拠して測定を行った。表3に、塗膜表面の鉛筆硬度を示す。
2-2-2. Pencil Hardness Pencil hardness on the surface of each prepared test substrate was measured according to JIS K 5600-5-4. Table 3 shows the pencil hardness of the coating film surface.

Figure 0007112170000003
Figure 0007112170000003

表3に示すように、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーと、(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーとの組み合わせで用いた場合、リフロー3回の熱履歴後においても得られた被膜は基板上の導体と良好な密着性を有し、且つ十分な被膜硬度を有していた。一方、比較例1および比較例2は、はんだ工程後は被膜硬度が低下し、さらに被膜の基板上の導体との密着性が低下しており、はんだ工程後は被膜が軟質化し、さらに導体からの被膜剥がれが生じるおそれがある。よって、比較例の被膜ははんだ耐熱性が低下していると判断される。 As shown in Table 3, (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less, and (B1) an alkylene glycol structure having no cyclic skeleton and having 2 or more When used in combination with a bifunctional (meth) acrylate monomer having a (B2) cyclic skeleton and a bifunctional (meth) acrylate monomer having a monoalkylene glycol structure, after three reflow heat cycles The film obtained in the above also had good adhesion to the conductor on the substrate and sufficient film hardness. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the hardness of the coating decreased after the soldering process, and the adhesion of the coating to the conductor on the substrate decreased. There is a risk that peeling of the coating may occur. Therefore, it is judged that the soldering heat resistance of the film of the comparative example is lowered.

2-3.無電解めっき処理後の被膜の特性の評価
さらに、「2-1.高温処理後のクラック耐性の評価」において作製した各試験基板に対して、市販の無電解ニッケルめっきおよび無電解金めっき浴を用いて、ニッケル0.5μm、金0.03μmの条件で硬化被膜上にめっきを行った。
2-3. Evaluation of film properties after electroless plating treatment Furthermore, commercial electroless nickel plating and electroless gold plating baths were applied to each test substrate prepared in "2-1. Evaluation of crack resistance after high temperature treatment". was used to plate the hard coating under the conditions of 0.5 μm nickel and 0.03 μm gold.

その後、上記「2-2-1.銅張積層板との密着性」および「2-2-2.鉛筆硬度」に従って被膜特性を評価した。結果を表4に示す。 After that, the coating properties were evaluated according to the above "2-2-1. Adhesion to copper clad laminate" and "2-2-2. Pencil hardness". Table 4 shows the results.

Figure 0007112170000004
Figure 0007112170000004

表4に示すように、実施例1~8は、形成された被膜の導体への良好な密着性及び十分な硬度を示す一方、比較例1~2は形成された被膜の導体への密着性が低下していた。すなわち、(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーを有さない比較例(比較例1)及び(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーとはアルキレンオキサイド変性数のみが異なる(=変性数10)比較例2は、耐薬品性が小さいことがわかった。 As shown in Table 4, Examples 1-8 show good adhesion of the formed coating to the conductor and sufficient hardness, while Comparative Examples 1-2 show adhesion of the formed coating to the conductor. was declining. That is, (A) a comparative example having a cyclic skeleton and not having a (meth)acrylate monomer having an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less (Comparative Example 1) and (A) having a cyclic skeleton and 1 or more It was found that Comparative Example 2, which differs from the (meth)acrylate monomer having an alkylene oxide modification number of 6 or less only in the alkylene oxide modification number (=modification number 10), has low chemical resistance.

Claims (5)

(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーと、
(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーと、
(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーと、
(C)光重合開始剤と、
を含むインクジェット印刷用の硬化性組成物であって、
(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーに対する(B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーの質量比が1.0以上3.0以下であるインクジェット印刷用の硬化性組成物。
(A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less;
(B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures;
(B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure;
(C) a photoinitiator;
A curable composition for inkjet printing comprising
(B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure (B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures A curable composition for inkjet printing, wherein the mass ratio of is 1.0 or more and 3.0 or less .
硬化性組成物の100質量部あたりの(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーの量が、5質量部以上40質量部以下である請求項1に記載のインクジェット印刷用の硬化性組成物。 The amount of (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less per 100 parts by mass of the curable composition is 5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less. Item 2. The curable composition for inkjet printing according to item 1. (B1)環状骨格を有さず、2以上のアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)アクリレートモノマーおよび(B2)環状骨格を有さず、モノアルキレングリコール構造を有する二官能(メタ)クリレートモノマーの総量に対する(A)環状骨格を有し、1以上6以下のアルキレンオキサイド変性数を有する(メタ)アクリレートモノマーの質量比が、0.10以上0.70以下である請求項1または2に記載のインクジェット印刷用の硬化性組成物。 (B1) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having two or more alkylene glycol structures and (B2) a bifunctional (meth)acrylate monomer having no cyclic skeleton and having a monoalkylene glycol structure 3. The mass ratio of (A) a (meth)acrylate monomer having a cyclic skeleton and an alkylene oxide modification number of 1 or more and 6 or less to the total amount of is 0.10 or more and 0.70 or less. curable composition for inkjet printing of. 請求項1~の何れか一項に記載のインクジェット印刷用の硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the curable composition for inkjet printing according to any one of claims 1 to 3 . 請求項に記載の硬化物を有する電子部品。 An electronic component comprising the cured product according to claim 4 .
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