KR20220154157A - 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트의 용도 및 피부 반응을 방지하는 방법에 사용하기 위한, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 바디-관리 조성물에 관한 것이다.

Description

퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물

본 발명은 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트의 용도에 관한 것이다.

UV 방사선은 인간 피부에 유해한 효과를 유발한다. 피부의 일광화상이라는 급성 효과 외에도, UV 방사선은 또한 피부암의 위험을 증가시키는 것으로 알려져 있다. 게다가, UV-A 및 UV-B 광에 장기간 노출되면 피부에 광독성 및 광알레르기성 반응을 유발할 수 있고, 피부 노화를 가속화할 수 있다. 그러므로, UV 필터는 항노화 관리 조성물에 적합한 성분이다.

UV 방사선으로부터 인간 피부를 보호하기 위해, UV-A 필터, UV-B 필터, 및 광대역 필터를 포함한 다양한 일광 차단 UV 필터 (UV 흡수제라고도 지칭됨)가 존재한다. 이들 필터는 예를 들어 선스크린 또는 화장품 조성물에 첨가된다. UV 필터는 유기 또는 무기, 미립자 또는 비-미립자 화합물이며, 이들 모두는 UV-광 범위에서 높은 흡수 효능을 갖는다. 일반적으로, UV 광은 UV-A 방사선 (320 - 400 nm) 및 UV-B 방사선 (280 - 320 nm)으로 나뉠 수 있다. UV 필터는, 최대 흡수 위치에 따라, UV-A 및 UV-B 필터로 나뉜다. UV 필터가 UV-A 및 UV-B 광 둘 다를 흡수하는 경우에, 이는 광대역 흡수제라 지칭된다.

2006년 이후로, EU 집행위원회는 모든 선스크린 또는 화장품 조성물이, 주로 UV-B 차단에 대한 것을 나타내는 표시된 일광 차단 지수 (SPF)의 적어도 1/3인 UV-A 차단 지수를 가져야 한다고 권고한 바 있다.

2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 또는 DHHB로도 지칭됨)는 효과적인 UV-A 필터로서, UV 방사선으로부터 피부를 보호하는데 (예를 들어 선스크린에) 사용된다. 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르가 하기에 도시되어 있으며, 이하에서 화학식 (I)의 화합물이라고도 지칭될 것이다.

EP2276452 및 EP2276449는 향의 안정성을 조사하기 위한 DHHB 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 화장품 제제에 관한 것이다.

항노화 관리 조성물은 종종 기분 좋은 향을 내는 퍼퓸을 추가적으로 포함한다. 그러나, 퍼퓸은 UV 방사선에 노출될 때 자유 라디칼에 반응하는 경향이 있다. 이는 제형 자체의 탈안정화로 이어지는 라디칼 연쇄 반응을 촉발할 수 있다. 따라서, 이러한 탈안정화된 제형에서의 UV 필터의 효능 역시 UV 조사에 대한 차단의 관점에서 감소된다. 게다가, 히드로퍼옥시드 및 다른 퍼옥시드 자유 라디칼의 존재는 접촉성 피부병 및 극심한 알레르기 반응을 유도하는 것으로 알려져 있다 (Bjoerkman et al., Contact Dermatitis, 70, 2014, 129-138).

항노화 관리 조성물은 종종 UV 방사선에 직접 노출되는 신체 부위에 도포되기 때문에, UV 방사선에 노출되는 신체 부위에 안전하게 도포될 수 있는, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물의 제공에 대한 요구가 계속되고 있다. 이와 관련하여, 본 발명의 목적은 자유 라디칼의 감소된 형성을 갖는, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물을 제공하는 것이었다. 추가로, 본 발명의 목적은 감소된 지질 과산화를 갖는, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물을 제공하는 것이었다. 마지막으로, 본 발명의 목적은 퍼퓸에 의해 유발되는 피부 반응을 방지하는 방법에 사용하기 위한 바디-관리 조성물을 제공하는 것이었다.

놀랍게도, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 바디-관리 조성물에 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트를 사용하는 것에 의해 상기 목적 중 적어도 하나가 달성될 수 있다는 것이 밝혀졌다.

특히, 본 발명의 발명자들은 DHHB가 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에 사용될 때, 산화성 분해가 감소된다는 것을 밝혀내었다.

따라서, 본 발명은 제1 측면에서 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트의 용도에 관한 것이다.

하기에, 용도의 바람직한 실시양태가 더욱 상세히 기재된다. 각각의 바람직한 실시양태는 그 자체로, 뿐만 아니라 다른 바람직한 실시양태와의 조합으로도 유의미하다는 것이 이해되어야 한다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A1에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 산화성 분해를 감소시키기 위해 사용된다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A2에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 지질 과산화를 감소시키기 위해 사용된다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A3에서, 항노화 관리 조성물은 부틸 메톡시디벤조일메탄을 추가로 포함한다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A4에서, 항노화 관리 조성물은 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 추가로 포함한다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A5에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 리모넨, 시트랄, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 게라니올, 시트로넬롤, 2-이소부틸-4-히드록시-4-메틸테트라히드로피란, 2-tert.-펜틸시클로헥실아세테이트, 3-메틸-5-페닐-1-펜탄올, 7-아세틸-1,1,3,4,4,6-헥사메틸테트랄린, 아디핀 산 디에스테르, 알파-아밀신남알데히드, 알파-메틸이오논, 아밀 C 부틸페닐메틸프로피온알신남알, 아밀살리실레이트, 아밀신나밀알콜, 아니스알콜, 벤조인, 벤질 알콜, 벤질 벤조에이트, 벤질신나메이트, 벤질 살리실레이트, 베르가모트 오일, 오렌지 오일, 비터 오렌지 오일, 부틸페닐메틸프로피온알, 카르다몸 오일, 세드롤, 신남알데히드, 신나밀알콜, 시트로넬릴메틸크로토네이트, 레몬 오일, 쿠마린, 디에틸숙시네이트, 에틸리나로올, 유게놀, 에베르니아 푸르푸라세아(evernia furfuracea) 추출물, 에베르니아 프루나스트리(evernia prunastri) 추출물, 파르네솔, 유창목 오일, 헥실 신남알, 헥실살리실레이트, 히드록시시트로넬랄, 라벤더 오일, 레몬 오일, 리날아세테이트, 만다린 오일, 멘틸 PCA, 메틸헵테논, 넛멕 오일, 로즈마리 오일, 스위트 오렌지 오일, 테르피네올, 통카 빈 오일, 트리에틸시트레이트, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A6에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 리나로올, 히드록시시트로넬랄, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 리모넨, 시트로넬롤, 벤질 벤조에이트, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 유게놀, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 유게놀, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A7에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 보다 바람직하게는 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 신남알데히드, 비터 오렌지 오일, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 헥실 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A8에서, 항노화 관리 조성물은 헥실 신남알데히드, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 임의적으로 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A9에서, 항노화 관리 조성물은 적어도 1종의 퍼퓸, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A10에서, 항노화 관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.00001 내지 1 wt.-%, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄; 및

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A11에서, 항노화 관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A12에서, 항노화 관리 조성물은 피부과용으로 허용되는 유화제, 증점제, 및/또는 피부연화제를 추가로 포함한다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A13에서, 항노화 관리 조성물은 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜을 함유하지 않는다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A14에서, 항노화 관리 조성물은 에틸헥실 메톡시신나메이트 및 옥토크릴렌을 함유하지 않는다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A15에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 UV 방사선에 의해 촉발되는 지질 과산화를 감소시키기 위해 사용된다.

제1 측면의 바람직한 실시양태 A16에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 UV 방사선에 의해 촉발되는 알데히드 형성을 감소시키기 위해, 특히 말론디알데히드의 형성을 감소시키기 위해 사용된다.

본 발명은 제2 측면에서 퍼퓸에 의해 유발되는 피부병 및/또는 알레르기 반응을 방지하는 방법에 사용하기 위한, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 바디-관리 조성물에 관한 것이다.

본 발명의 예시적 실시양태를 상세히 기재하기 전에, 본 발명을 이해하는데 중요한 정의들이 제공된다.

본 명세서 및 첨부된 청구범위에 사용된 바와 같이, 단수 형태는, 문맥이 달리 명백하게 지시하지 않는 한, 각각의 복수형을 또한 포함한다. 본 발명의 문맥에서, 용어 "약" 및 "대략"은 관련 기술분야의 통상의 기술자가 해당 특색의 기술적 효과를 여전히 보장하는 것으로 이해할 정확도의 구간을 나타낸다. 상기 용어는 전형적으로 지시된 수치 값으로부터 ±20%, 바람직하게는 ±15%, 보다 바람직하게는 ±10%, 보다 더 바람직하게는 ±5%의 편차를 지시한다. 용어 "포함하는"은 비제한적인 것으로 이해되어야 한다. 본 발명의 목적상 용어 "이루어진"은 용어 "포함하는"의 바람직한 실시양태인 것으로 간주된다. 하기에서 어떠한 군이 적어도 특정 수의 실시양태를 포함하는 것으로 정의된다면, 이는 바람직하게는 이들 실시양태만으로 이루어진 군을 또한 포괄하는 것으로 의도된다. 게다가, 상세한 설명 및 청구범위에서 용어 "제1", "제2", "제3" 또는 "(a)", "(b)", "(c)", "(d)" 등은 유사한 요소들을 구분하기 위해 사용된 것으로, 반드시 순차적 또는 시간적 순서를 기술하기 위한 것은 아니다. 이와 같이 사용된 용어가 적절한 상황 하에 상호교환가능하며, 본원에 기재된 본 발명의 실시양태가 본원에 기재되거나 또는 예시된 것과 다른 순서로 실시가능하다는 것이 이해되어야 한다. 용어 "제1", "제2", "제3" 또는 "(a)", "(b)", "(c)", "(d)", "i", "ii" 등이 방법 또는 사용 또는 검정의 단계와 관련된 경우에, 본원의 상기에서 또는 하기에서 제시된 바와 같은 적용에서 달리 지시되지 않는 한, 단계들 사이에 시간이 존재하지 않거나 또는 시간 간격의 일관성이 존재하지 않으며, 즉, 단계들이 동시에 수행될 수 있거나 또는 이러한 단계들 사이에 수초, 수분, 수시간, 수일, 수주, 수개월 또는 심지어 수년의 시간 간격이 있을 수 있다. 본원에 기재된 특정한 방법론, 프로토콜, 시약 등은 달라질 수 있으므로, 본 발명이 이들로 제한되지 않는다는 것이 이해되어야 한다. 또한, 본원에 사용된 용어가 단지 특정한 실시양태를 기재하려는 목적을 위한 것이며, 첨부된 청구범위에 의해서만이 제한될 본 발명의 범주를 제한하도록 의도되지는 않는다는 것이 이해되어야 한다. 달리 정의되지 않는 한, 본원에 사용된 모든 기술 과학 용어는 관련 기술분야의 통상의 기술자에 의해 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다.

용어 "화학식 (I)의 화합물"은 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 또는 DHHB로도 공지됨)를 지칭한다.

용어 "바디-관리 조성물"은 인체에 도포하기에 적합한 임의의 제품, 예를 들어 항노화 관리 조성물, 선스크린 조성물, 배스 및 샤워 제품, 향료 및 방향성 물질을 함유하는 제제, 모발-관리 제품, 세치제, 미용 제제, 및 활성 성분을 함유하는 화장품 제형을 지칭한다. 선스크린 조성물이 바람직하다.

용어 "선스크린 조성물" 또는 "선스크린"은 UV 방사선의 특정 부분을 반사 및/또는 흡수하는 임의의 국소 제품을 지칭한다. 따라서, 용어 "선스크린 조성물"은 선스크린 조성물, 뿐만 아니라 UV 차단을 제공하는 임의의 화장품 조성물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 용어 "국소 제품"은 피부에 도포되는 제품을 지칭하며, 예를 들어, 스프레이, 로션, 크림, 오일, 폼, 파우더, 또는 겔을 지칭하는 것일 수 있다. 본 발명에 따르면, 선스크린 조성물은 1종 이상의 활성 작용제, 예를 들어, 유기 UV 필터, 뿐만 아니라 다른 성분 또는 첨가제, 예를 들어, 유화제, 피부연화제, 점도 조절제, 안정화제, 보존제, 또는 퍼퓸 (향료)을 포함할 수 있다.

용어 "항노화 관리 조성물"은 UV 방사선의 특정 부분을 흡수하고, 추가로 반사 및 산란시킬 수 있으며, 인체, 예를 들어, 얼굴, 신체 또는 모발을 위한 일상적인 관리 제품으로서 사용되는 임의의 국소 제품을 지칭한다. 항노화 관리 조성물은 1종 이상의 활성 작용제, 예를 들어, 유기 또는 무기 UV 필터, 뿐만 아니라 다른 성분 또는 첨가제, 예를 들어, 유화제, 피부연화제, 점도 조절제, 안정화제, 보존제, 또는 퍼퓸 (향료)을 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 항노화 관리 조성물은 산화성 변성의 감소를 제공하며, 자유 라디칼에 의해 유도되는 피부 노화 과정을 제한하는 것으로 이해되어야 한다.

적합한 배스 및 샤워 첨가제는, 예를 들어, 샤워 겔, 배스-솔트, 버블 배스 및 비누이다.

향료 및 방향성 물질을 함유하는 적합한 제제는 특히 향수, 퍼퓸, 화장수 및 쉐이빙 로션 (애프터쉐이브 제제)이다.

적합한 모발-관리 제품은, 예를 들어, 인간 및 동물, 특히 개를 위한 샴푸, 모발 컨디셔너, 모발 스타일링 및 트리트먼트 제품, 펌제, 모발 스프레이 및 래커, 모발 겔, 모발 고정제 및 모발 염색제 또는 탈색제이다.

적합한 세치제는, 예를 들어, 치아 크림, 치약, 구강-세척제, 구강 헹굼제, 항치태 제제 및 의치용 세정제이다.

적합한 미용 제제는, 예를 들어, 립스틱, 네일 바니시, 아이섀도우, 마스카라, 드라이 및 모이스트 메이크업, 루즈, 파우더, 제모제 및 선탠 로션이다.

활성 성분을 함유하는 적합한 화장품 제형은, 예를 들어, 호르몬 제제, 비타민 제제, 식물성 추출물 제제 및 항박테리아 제제이다.

언급된 바디-관리 조성물은 크림, 연고, 페이스트, 폼, 겔, 로션, 파우더, 메이크업, 스프레이, 스틱 또는 에어로졸의 형태일 수 있다. 이들은 바람직하게는 화학식 (I)의 화합물을 친지성 상에 함유한다.

용어 "피부연화제"는 피부를 보호, 보습 및 윤활하기 위해 사용되는 화장품 제제를 나타낸다. 피부연화제라는 단어는 부드럽게 하다를 의미하는 라틴어 mollire로부터 유래된 것이다. 일반적으로, 피부연화제는 폐쇄성 코팅을 형성함으로써 피부로부터의 물의 증발을 방지한다. 이들은 그의 극성 지수에 따라 상이한 군으로 나뉠 수 있다.

용어 "광안정성"은 일광에 노출된 UV 필터 또는 임의의 다른 분자가 조사 시에 안정하게 남아있는 능력을 지칭한다. 특히, 이는 화합물이 UV 방사선에 분해 과정을 겪지 않다는 것을 의미한다.

용어 "임계 파장"은 UV 차단 곡선 (% 차단 대 파장) 아래 면적이 UV 영역 (280-400 nm)에서의 곡선 아래 총 면적의 90%를 나타내는 파장으로서 정의된다. 예를 들어, 370 nm의 임계 파장은 선스크린 조성물의 차단이 UV-B의 파장, 즉, 280-320 nm의 파장으로 제한되는 것이 아니라, UV 영역에서의 차단 곡선 아래 총 면적의 90%가 370 nm에서 도달되는 방식으로 370 nm로 확장된다는 것을 지시한다.

본원에 사용된 용어 "자외선 필터" 또는 "UV 필터"는 일광에 의해 초래되는 UV 방사선을 흡수 및/또는 반사할 수 있는 유기 또는 무기 화합물을 지칭한다. UV 필터는 그의 UV 차단 곡선에 기반하여 UV-A, UV-B 또는 광대역 필터로서 분류될 수 있다. 본 출원과 관련하여, 광대역 필터는 이들이 또한 UV-A 차단을 제공하기 때문에, UV-A 필터로서 열거될 수 있다. 다시 말해서, 바람직한 UV-A 필터는 또한 광대역 필터를 포함한다.

"광대역" 차단 (광범위-스펙트럼 또는 광범위 차단이라고도 지칭됨)의 정의는 "임계 파장"에 기반한다. 광대역을 포괄하기 위해서는, UV-B 및 UV-A 차단이 제공되어야 한다. 미국의 규정에 따르면, 광범위 스펙트럼 차단의 달성을 위해서는 적어도 370 nm의 임계 파장이 요구된다. 게다가, 유럽연합 집행위원회는 모든 선스크린 또는 화장품 조성물이 표시된 일광 차단 지수 (SPF)의 적어도 1/3인 UVA 차단 지수를 가져야 한다고 권고하고 있으며, 예를 들어 선스크린 조성물이 30의 SPF를 갖는다면, UVA 차단 지수는 적어도 10이어야 한다.

본 발명에 따른 용도에 관한 바람직한 실시양태가 하기에 기재된다. 본 발명의 바람직한 실시양태는 단독으로 또는 서로와의 조합으로 바람직하다는 것이 이해되어야 한다.

상기 지시된 바와 같이, 본 발명은 한 실시양태에서 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트의 용도에 관한 것이다.

용도에 관한 바람직한 실시양태가 하기에 정의된다.

본 발명에 따라 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에 사용되는 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 9 wt.-%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%, 보다 더 바람직하게는 0.1 내지 7 wt.-% 또는 0.1 내지 6 wt.-% 또는 0.1 내지 5 wt.-%, 특히 0.1 내지 4 wt.-%의 양으로 항노화 관리 조성물에 포함될 수 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 산화성 분해를 감소시키기 위해 사용된다. UV 조사에 이은 민감성 성분의 산화 (즉, 산화성 분해)는 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물 또는 도포된 필름에서 발생할 수 있다. 이와 관련하여, 발생된 자유 라디칼이 예를 들어 제형에 또는 피부 상에 존재하는 화합물 예컨대 피지로부터의 성분과 또는 민감성 피부 분자와 추가로 반응하고, 퍼퓸에 의해 유발되는 바람직하지 않은 피부 반응을 초래할 수 있는 것으로 이해되어야 한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 제형에서의 또는 피부 상에서의 산화성 분해를 감소시키기 위해 사용된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 지질 과산화를 감소시키기 위해 사용된다. 이와 관련하여, 과산화지질 또는 지질 산화 생성물 (LOP)의 형성이 감소되는 것으로 이해되어야 한다. 추가로, 본 발명의 한 실시양태에 따르면, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 세포 막에 대한 손상을 감소시키기 위해 사용된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 부틸 메톡시디벤조일메탄을 추가로 포함한다. 부틸 메톡시디벤조일메탄 (4-(tert.-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄 또는 BMDBM으로도 공지됨)은, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5 wt.-%, 바람직하게는 0.2 내지 4.5 wt.-%, 보다 바람직하게는 0.3 내지 3 wt.-%, 특히 0.5 내지 2 wt.-%의 양으로 항노화 관리 조성물에 포함될 수 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 추가로 포함한다. 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.2 내지 9 wt.-%, 보다 바람직하게는 0.3 내지 8 wt.-%, 보다 더 바람직하게는 0.4 내지 7 wt.-% 또는 0.4 내지 6 wt.-%, 특히 0.5 내지 5 wt.-%의 양으로 항노화 관리 조성물에 포함될 수 있다.

적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 UV-A 필터, UV-B 필터, 광대역 필터, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 적합한 UV 필터는 유기 또는 무기, 미립자 또는 비-미립자 화합물일 수 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 유기 UV 필터이다.

본 발명의 또 다른 실시양태에서, 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 무기 UV 필터이다. 적합한 무기 UV 필터는 예시적으로 산화아연 및 이산화티타늄일 수 있다.

본 발명의 또 다른 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 적어도 1종의 유기 UV 필터 및 적어도 1종의 무기 UV 필터를 포함한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 트리아진 유도체, 디벤조일메탄 유도체, 벤조트리아졸 유도체, 벤즈이미다졸 유도체 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.

바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가의 UV 필터는 UV-A 필터, 바람직하게는 2,4-비스-{[4-(2-에틸-헥실옥시)-2-히드록시]-페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5 트리아진 (INCI 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-[2-메틸-3-[1,3,3,3-테트라메틸-1-[(트리메틸실릴)옥시]-1-디실록사닐]프로필]페놀 (INCI 드로메트리졸 트리실록산), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(2-에틸헥실옥시메틸)-4-메틸-페놀, 메틸렌 비스-벤조트리아졸릴 테트라메틸부틸페놀, 테레프탈릴리덴 디캄포르 술폰산, 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것이다.

또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가의 UV 필터는 UV-B 필터, 바람직하게는 4,4',4"-(1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일트리이미노)트리스-벤조산-트리스(2-에틸헥실)에스테르 (INCI 에틸헥실 트리아존), 말로네이트 유도체 예컨대 디메티콘 디에틸 벤잘말로네이트, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 페닐벤즈이미다졸 술폰산, 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것이다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 2,4-비스-{[4-(2-에틸-헥실옥시)-2-히드록시]-페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5 트리아진 (INCI 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-[2-메틸-3-[1,3,3,3-테트라메틸-1-[(트리메틸실릴)옥시]-1-디실록사닐]프로필]페놀 (INCI 드로메트리졸 트리실록산), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(2-에틸헥실옥시메틸)-4-메틸-페놀, 4,4',4"-(1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일트리이미노)트리스-벤조산-트리스(2-에틸헥실)에스테르 (INCI 에틸헥실 트리아존), 말로네이트 유도체 예컨대 디메티콘 디에틸 벤잘말로네이트, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 4,4'-[[6-[[4-[[(1,1-디메틸에틸)아미노]카르보닐]페닐]아미노]-1,3,5-트리아진-2,4-디일]디이미노]비스-벤조산-비스(2-에틸헥실)에스테르, [(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-디메틸-2-옥소-1-(술포메틸)-3-비시클로[2.2.1]헵타닐리덴]메틸]페닐]메틸리덴]-7,7-디메틸-2-옥소-1-비시클로[2.2.1]헵타닐]메탄술폰산 (INCI 테레프탈릴리덴 디캄포르 술폰산), 이나트륨 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트, 페닐벤즈이미다졸 술폰산, 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 2,4-비스-{[4-(2-에틸-헥실옥시)-2-히드록시]-페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5 트리아진 (INCI 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진), 4,4',4"-(1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일트리이미노)트리스-벤조산-트리스(2-에틸헥실)에스테르 (INCI 에틸헥실 트리아존), 4,4'-[[6-[[4-[[(1,1-디메틸에틸)아미노]카르보닐]페닐]아미노]-1,3,5-트리아진-2,4-디일]디이미노]비스-벤조산-비스(2-에틸헥실)에스테르 (INCI 디에틸헥실-부타미도트리아존), 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 추가적인 UV 필터는 [(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-디메틸-2-옥소-1-(술포메틸)-3-비시클로[2.2.1]헵타닐리덴]메틸]페닐]메틸리덴]-7,7-디메틸-2-옥소-1-비시클로[2.2.1]헵타닐]메탄술폰산 (INCI 테레프탈릴리덴 디캄포르 술폰산), 이나트륨 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트, 페닐벤즈이미다졸 술폰산, 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.

임의의 적합한 퍼퓸이 본 발명에 따른 적어도 1종의 퍼퓸으로서 사용될 수 있다. 적어도 1종의 퍼퓸은, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.00001 내지 1 wt.-%, 바람직하게는 0.0001 내지 0.9 wt.-%, 보다 바람직하게는 0.001 내지 0.8 wt.-% 또는 0.001 내지 0.7 wt.-%, 특히 0.01 내지 0.6 wt.-%의 양으로 항노화 관리 조성물에 포함될 수 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 리모넨 (1-메틸-4-(프로프-1-엔-2-일)시클로헥스-1-엔으로도 공지됨), 시트랄 (3,7-디메틸옥타-2,6-디엔알로도 공지됨), 리나로올 (3,7-디메틸-1,6-옥타디엔-3-올로도 공지됨), 알파 이소메틸 이오논 (알파 세톤으로도 공지됨), 게라니올 ((2E)-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔-1-올로도 공지됨), 시트로넬롤 (3,7-디메틸옥트-6-엔-1-올로도 공지됨), 2-이소부틸-4-히드록시-4-메틸테트라히드로피란, 2-tert.-펜틸시클로헥실아세테이트, 3-메틸-5-페닐-1-펜탄올, 7-아세틸-1,1,3,4,4,6-헥사메틸테트랄린, 아디핀 산 디에스테르, 알파-아밀신남알데히드, 알파-메틸이오논, 아밀 C 부틸페닐메틸프로피온알신남알, 아밀살리실레이트, 아밀신나밀알콜, 아니스알콜, 벤조인, 벤질 알콜, 벤질 벤조에이트, 벤질신나메이트, 벤질 살리실레이트 (벤질 2-히드록시벤조에이트로도 공지됨), 베르가모트 오일, 오렌지 오일, 비터 오렌지 오일, 부틸페닐메틸프로피온알, 카르다몸 오일, 세드롤, 신남알데히드 ((2E)-3-페닐프로프-2-엔알로도 공지됨), 신나밀알콜, 시트로넬릴메틸크로토네이트, 레몬 오일, 쿠마린 (2H-크로멘-2-온으로도 공지됨), 디에틸숙시네이트, 에틸리나로올, 유게놀 (2-메톡시-4-(프로프-2-엔-1-일)페놀로도 공지됨), 에베르니아 푸르푸라세아 추출물, 에베르니아 프루나스트리 추출물, 파르네솔, 유창목 오일, 헥실 신남알 (헥실 신남알데히드 또는 2-벤질리덴옥탄알로도 공지됨), 헥실살리실레이트, 히드록시시트로넬랄, 라벤더 오일, 레몬 오일, 리날아세테이트, 만다린 오일, 멘틸 PCA, 메틸헵테논, 넛멕 오일, 로즈마리 오일, 스위트 오렌지 오일, 테르피네올, 통카 빈 오일, 트리에틸시트레이트, 바닐린 (4-히드록시-3-메톡시벤즈알데히드로도 공지됨), 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 민감성 퍼퓸이다. 이와 관련하여, 용어 "민감성 퍼퓸"은 산화성 분해에 민감한, 특히 UV 방사선에 의해 촉발되는 산화성 분해에 민감한 퍼퓸을 나타내는 것으로 이해되어야 한다. 민감도는 하기 시험을 사용하여 결정될 수 있다:

UV 조사 후 제형 중에서의 자유 라디칼 발생을 측정하기 위해, 시험되는 샘플에 첨가된 광안정성 스핀 마커의 농도를 시험되는 샘플의 UV 조사 전후에 전자 스핀 공명 (ESR) 분광분석법에 의해 추적한다. 광안정성 스핀 마커는 UV 조사 후에 제형에서 발생된 자유 라디칼과 신속히 반응할 것이다.

0.1% (w/w)의 시험하려는 퍼퓸을 제형에 혼입하고, 이어서 제형을 증류수로 희석하고 (1:10의 희석 배율), 스핀 마커 PCA (2,2,5,5-테트라메틸 피롤리딘 N-옥실)의 수용액을 0.01 mM의 스핀 마커 농도를 획득하도록 첨가한다. 제형 내의 스핀 트랩 PCA의 농도를 알고 있으면, 감소된 PCA의 양을 계산할 수 있다 (Herrling et al., SOFW-Journal, 5-2014, 140, 10-16). 샘플을 석영 모세관에 삽입하여 20분의 UV 조사 전후에 ESR 측정을 수행한다. 태양광 시뮬레이터의 스펙트럼 범위에 대한 적분 값으로서 조도는 예시적으로 UVB에 대해 E=23.5W/m², UVA에 대해 180W/m²일 수 있다.

시험하려는 퍼퓸을 함유하는 제형 중에서의 UV-유도된 자유 라디칼의 백분율이 상기 퍼퓸의 민감도에 대한 지표로서 사용된다. 상기 기재된 시험에 따르면, 민감성 퍼퓸을 포함하는 제형은 20분의 UV 조사 후에 적어도 1%, 바람직하게는 적어도 2%, 보다 바람직하게는 적어도 3%, 보다 더 바람직하게는 적어도 4%, 보다 더 바람직하게는 적어도 5%, 보다 더 바람직하게는 적어도 10%, 보다 더 바람직하게는 적어도 15%, 보다 더 바람직하게는 적어도 20%, 특히 적어도 50%의 UV-유도된 자유 라디칼을 함유한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 리나로올, 히드록시시트로넬랄, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 리모넨, 시트로넬롤, 벤질 벤조에이트, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 유게놀, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 신남알데히드, 비터 오렌지 오일, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 헥실 신남알데히드, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 유게놀, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 헥실 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 헥실 신남알데히드이다. 본 발명의 또 다른 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논이다. 본 발명의 또 다른 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 시트랄이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 쿠마린이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 벤질 살리실레이트이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 유게놀이다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 리나로올, 헥실 신남알, 벤질 살리실레이트, 및 시트로넬롤로 이루어진 군으로부터 선택되지 않는다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 헥실 신남알데히드, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 임의적으로 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

본 발명의 또 다른 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 알파 이소메틸 이오논, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 임의적으로 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

본 발명의 또 다른 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 시트랄, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 임의적으로 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 헥실 신남알데히드, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 적어도 1종의 퍼퓸, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.00001 내지 1 wt.-%, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄; 및

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.0001 내지 1 wt.-%, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 7 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 4 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 3 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄; 및

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 6 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 0.4 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 3 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 적어도 1종의 추가적인 항노화 성분을 추가로 포함한다. 이와 관련하여, 알파-리포산, 세라미드, 콜라겐, 조효소 Q10, 이나트륨 우리딘 포스페이트, 에틸 페룰레이트, 엽산, 글리콜산, 헬리안투스 안누스(helianthus annuus) 종자 오일, 히알루론산, 호호바 오일, 락트산, 니아신아미드, 폴리글리세릴-5 트리올레에이트, 레티놀, 로스마리누스 오피시날리스(rosmarinus officinalis), 로스마리누스 오피시날리스 추출물, 및 비타민 C가 언급될 수 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 피부과용으로 허용되는 유화제, 증점제, 및/또는 피부연화제를 추가로 포함한다.

바람직한 유화제는 하기를 포함한다:

- 글루코스 유도체 예컨대 세테아릴 글루코시드, 아라키딜 글루코시드, 라우릴 글루코시드, 폴리글리세릴-3 메틸글루코스 디스테아레이트, 메틸 글루코스 세스퀴스테아레이트;

- 수크로스 유도체 예컨대 수크로스 폴리스테아레이트, 수크로스 팔미테이트;

- 소르비톨 유도체;

- 지방산의 글리세리드 예컨대 글리세릴 스테아레이트, 글리세릴 올레에이트;

- 글루탐산 유도체 예컨대 나트륨 스테아로일 글루타메이트;

- 술포숙신산 유도체 예컨대 이나트륨 세테아릴 술포숙시네이트;

- 인산 유도체 예컨대 칼륨 세틸 포스페이트;

- 폴리글리세릴의 지방산 에스테르 예컨대 폴리글리세릴-3-디이소스테아레이트, 폴리글리세릴-2-디폴리히드록시스테아레이트;

- 옥시알케닐화 유기개질된 실리콘 / 폴리실록산 / 폴리알킬 / 폴리에테르 공중합체 및 유도체.

바람직한 피부연화제는 하기를 포함한다:

- 선형 또는 분지형 지방산의 선형 또는 분지형 지방 알콜과의 에스테르 예컨대 프로필헵틸 카프릴레이트, 코코 카프릴레이트, 이소프로필 미리스테이트, 에틸헥실 팔미테이트;

- 방향족 카르복실산의 선형 또는 분지형 지방 알콜과의 에스테르 예컨대 C₁₂-C₁₅-알킬 벤조에이트, 에틸헥실 벤조에이트, 페네틸 벤조에이트;

- 선형 또는 분지형 알콜과의 디카르복실산 에스테르 예컨대 디부틸 아디페이트, 디카프릴릴 카르보네이트, 디이소프로필 세바케이트;

- 히드록시카르복실산의 선형 또는 분지형 지방 알콜과의 에스테르;

- 선형 또는 분지형 지방산의 다가 알콜과의 에스테르 예컨대 부틸렌 글리콜 디카프릴레이트/디카프레이트;

- C₆-C₁₈ 지방산 기재의 모노-, 디-, 트리-글리세리드 예컨대 카프릴산 / 카프르산 트리글리세리드, 코코 글리세리드;

- 게르베 알콜 예컨대 옥틸도데칸올;

- 탄화수소 예컨대 수소화된 폴리이소부텐, 미네랄 오일, 스쿠알렌, 이소헥사데칸;

- 에테르 예컨대 디카프릴릴 에테르;

- 실리콘 유도체 (유기개질된 폴리실록산) 예컨대 디메틸폴리실록산, 시클릭 실리콘.

바람직한 증점제 (점도 조절제라고도 지칭됨)는 하기를 포함한다:

- 지방 알콜 예컨대 세틸 알콜, 세테아릴 알콜, 스테아릴 알콜;

- 지방산 예컨대 스테아르산;

- 지방산 에스테르 예컨대 미리스틸 스테아레이트;

- 왁스 예컨대 밀랍, 카르나우바 왁스, 미세결정질 왁스, 세레신, 오조세라이트;

- 폴리사카라이드 또는 유도체 예컨대 크산탄 검, 구아 검, 아가 검, 알기네이트, 겔란 검, 카라기난;

- 폴리아크릴레이트 또는 망상 아크릴산의 단독중합체 또는 폴리아크릴아미드 예컨대 카르보머, 아크릴레이트 공중합체, 아크릴레이트 / C₁₀-C₃₀-알킬 아크릴레이트 가교중합체, 아크릴레이트 / 베헤네트-25 메타크릴레이트 공중합체;

- 실리케이트 유도체 예컨대 마그네슘 실리케이트;

- 셀룰로스 유도체 예컨대 히드록시프로필 셀룰로스.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 관능성 향상제, 아주반트, 보존제, 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 첨가제를 추가로 포함한다.

바람직한 관능성 향상제는 하기를 포함한다:

- 폴리아미드 유도체 예컨대 나일론-12;

- 폴리메틸 메타크릴레이트;

- 실리카;

- 운모;

- 폴리메틸실세스퀴옥산;

- 폴리에틸렌;

- 전분 유도체 예컨대 알루미늄 전분 옥테닐숙시네이트;

- 디메티콘 유도체;

- 질화붕소;

- HDI / 트리메틸올 헥실락톤 가교중합체.

바람직한 아주반트는 하기를 포함한다:

- 토코페롤 유도체;

- 레티놀 유도체;

- 아스코르브산 유도체;

- 비사볼롤;

- 알란토인;

- 판테놀;

- 킬레이트화제 (EDTA, EDDS, EGTA, 피트산, 피록톤 올라민);

- 에틸헥실 글리세린;

- 카프릴릴 글리콜;

- 히드록시아세토페논;

- 카프릴히드록삼산;

- 추진제 예컨대 프로판, 부탄, 이소부텐, 디메틸 에테르;

- 스티렌 / PVP 또는 스티렌 아크릴아미드 공중합체;

- 곤충 기피제 예컨대 부틸아세틸아미노프로피오네이트.

바람직한 보존제는 하기를 포함한다:

- 벤질 알콜;

- 진저론.

상기 실시양태와 관련하여, 바디-관리 조성물 (예를 들어 항노화 관리 조성물)이 2종 이상의 첨가제를 포함한다면, 상기 정의된 바와 같은 첨가제의 조합이 또한 본 발명의 일부인 것으로 이해되어야 한다.

상기 실시양태와 관련하여, 바디-관리 조성물 (예를 들어 항노화 관리 조성물)은, 그의 최종 제형이, 하기를 포함하는 매우 다양한 제시 형태로 존재할 수 있는 것으로 이해되어야 한다:

- W/O, O/W, O/W/O, W/O/W 또는 PIT 에멀젼 및 모든 종류의 마이크로 에멀젼으로서의 액체 제제;

- 겔;

- 오일, 크림, 밀크 또는 로션;

- 파우더, 래커, 정제 또는 메이크업;

- 스틱;

- 스프레이 (추진 가스를 사용하는 스프레이 또는 펌프-작동 스프레이) 또는 에어로졸;

- 폼;

- 페이스트.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜을 함유하지 않는다.

항노화 관리 조성물에 관한, 특히 UV 필터 DHHB 및 BMDBM에 관한 상기 바람직한 실시양태와 관련하여, 놀랍게도, BMDBM이 조성물에서 안정하게 유지된다는 것이 본 발명의 발명자들에 의해 밝혀졌다. 통상의 기술자라면, BMDBM이 빈번하게 사용되는 UV 흡수제이며, 이는 방사선 하에 이성질체화되어 삼중항 상태의 디케톤을 형성하는 경향이 있다는 것을 알고 있다. 이러한 디케톤은 BMDBM의 분해로 이어지는 광분해를 겪을 가능성이 매우 크다. 따라서, BMDBM을 포함하는 조성물에는 안정화제가 첨가될 필요가 있으며, 예를 들어 에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐-아크릴레이트 (INCI 옥토크릴렌)와 같은 광 안정성 UV 흡수제가 통상적으로 사용된다. 따라서, BMDBM이 UV 필터 DHHB를 사용함으로써 옥토크릴렌 무함유 선스크린 조성물에서, 심지어 적어도 1종의 퍼퓸의 존재 하에서도 안정화될 수 있다는 것은 본 발명의 발명자들에 의한 놀라운 발견이었다.

본 발명의 한 실시양태에서, 항노화 관리 조성물은 에틸헥실 메톡시신나메이트 및 옥토크릴렌을 함유하지 않는다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 UV 방사선에 의해 촉발되는 지질 과산화를 감소시키기 위해 사용된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 상기 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 UV 방사선에 의해 촉발되는 알데히드 형성을 감소시키기 위해, 바람직하게는 말론디알데히드의 형성을 감소시키기 위해 사용된다.

또 다른 실시양태에서, 본 발명은 피부 반응, 바람직하게는 피부병 및/또는 알레르기 반응을 방지하는 방법에 사용하기 위한, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 바디-관리 조성물에 관한 것이다. 바람직하게는, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 바디-관리 조성물은 퍼퓸에 의해 유발되는 피부병 및/또는 알레르기 반응을 방지하는 방법에 사용하기 위한 것이다.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 선스크린이다.

본 발명의 또 다른 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 항노화 관리 조성물이다.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 부틸 메톡시디벤조일메탄을 추가로 포함한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 추가로 포함한다. 이와 관련하여, 적합한 추가적인 UV 필터는 상기에 언급되어 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 리모넨, 시트랄, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 게라니올, 시트로넬롤, 2-이소부틸-4-히드록시-4-메틸테트라히드로피란, 2-tert.-펜틸시클로헥실아세테이트, 3-메틸-5-페닐-1-펜탄올, 7-아세틸-1,1,3,4,4,6-헥사메틸테트랄린, 아디핀 산 디에스테르, 알파-아밀신남알데히드, 알파-메틸이오논, 아밀 C 부틸페닐메틸프로피온알신남알, 아밀살리실레이트, 아밀신나밀알콜, 아니스알콜, 벤조인, 벤질 알콜, 벤질 벤조에이트, 벤질신나메이트, 벤질 살리실레이트, 베르가모트 오일, 오렌지 오일, 비터 오렌지 오일, 부틸페닐메틸프로피온알, 카르다몸 오일, 세드롤, 신남알데히드, 신나밀알콜, 시트로넬릴메틸크로토네이트, 레몬 오일, 쿠마린, 디에틸숙시네이트, 에틸리나로올, 유게놀, 에베르니아 푸르푸라세아 추출물, 에베르니아 프루나스트리 추출물, 파르네솔, 유창목 오일, 헥실 신남알, 헥실살리실레이트, 히드록시시트로넬랄, 라벤더 오일, 레몬 오일, 리날아세테이트, 만다린 오일, 멘틸 PCA, 메틸헵테논, 넛멕 오일, 로즈마리 오일, 스위트 오렌지 오일, 테르피네올, 통카 빈 오일, 트리에틸시트레이트, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 리나로올, 히드록시시트로넬랄, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 리모넨, 시트로넬롤, 벤질 벤조에이트, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 유게놀, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 게라니올, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 보다 바람직하게는 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 보다 더 바람직하게는 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 헥실 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 헥실 신남알데히드이다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 신남알데히드, 비터 오렌지 오일, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 헥실 신남알데히드, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 유게놀, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 유게놀, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 퍼퓸은 알파 이소메틸 이오논이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 시트랄이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 헥실 신남알데히드이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 게라니올이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 쿠마린이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 벤질 살리실레이트이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 적어도 1종의 퍼퓸은 유게놀이다.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.00001 내지 1 wt.-%, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄; 및

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 하기를 포함한다:

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;

항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄;

임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 피부과용으로 허용되는 유화제, 증점제, 및/또는 피부연화제를 추가로 포함한다.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜을 함유하지 않는다.

본 발명의 한 실시양태에서, 바디-관리 조성물은 에틸헥실 메톡시신나메이트 및 옥토크릴렌을 함유하지 않는다.

본 발명의 한 실시양태에서, 피부 반응 예컨대 피부병 및/또는 알레르기 반응이 산화성 분해의 감소에 의해, 바람직하게는 지질 과산화의 감소에 의해 방지된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 피부 반응 예컨대 피부병 및/또는 알레르기 반응이 UV 방사선에 의해 촉발되는 지질 과산화의 감소에 의해 방지된다. 본 발명의 한 실시양태에서, 피부 반응 예컨대 피부병 및/또는 알레르기 반응이 UV 방사선에 의해 촉발되는 알데히드 형성의 감소에 의해 방지되고, 바람직하게는 말론디알데히드의 형성이 감소된다.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 피부병 및/또는 알레르기 반응이 산화성 분해의 감소에 의해, 바람직하게는 지질 과산화의 감소에 의해 방지되며, 여기서 피부병 및/또는 알레르기 반응은 퍼퓸에 의해 유발되는 것이다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 피부병 및/또는 알레르기 반응이 UV 방사선에 의해 촉발되는 지질 과산화의 감소에 의해 방지되며, 여기서 피부병 및/또는 알레르기 반응은 퍼퓸에 의해 유발되는 것이다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 피부병 및/또는 알레르기 반응이 UV 방사선에 의해 촉발되는 알데히드 형성의 감소에 의해 방지되고, 바람직하게는 말론디알데히드의 형성이 감소되며, 여기서 피부병 및/또는 알레르기 반응은 퍼퓸에 의해 유발되는 것이다.

또 다른 실시양태에서, 본 발명은 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 광안정성 바디-관리 조성물에 관한 것이다. 광안정성 바디-관리 조성물은 UV 조사 시에 안정하게 남아있는 것으로, 특히 그 중에 포함된 화합물이 UV 방사선에 분해 과정을 겪지 않는 것으로 이해되어야 한다.

본 발명은 하기 실시예에 의해 추가로 예시된다.

실시예

방법

전자 스핀 공명 (ESR) 측정은 독일 베를린 소재의 마그넷테크 게엠베하(Magnettech GmbH)로부터 공급된 고감도 X-대역 벤치탑 전자 스핀 공명 분광계 미니스코프(MiniScope) MS300으로 수행되었다.

샘플의 UV 조사는 300 W 크세논 램프가 장착된 뉴포트-ORIEL 제품 라인 81260 (미국, 뉴포트(Newport) 태양광 시뮬레이터 - 제품규격서)의 크세논 아크 램프 태양광 시뮬레이터로 수행되었다.

2,2,5,5-테트라메틸 피롤리딘 N-옥실은 머크(Merck)로부터 구입되었다.

인공 피지는 베에프카 테스트게베버 게엠베하 (wfk Testgewebe GmbH; 독일 브뤼겐 소재)로부터 구입되었다.

실시예 1: 퍼퓸을 함유하는 제형 중에서 발생된 자유 라디칼의 결정

UV 조사 후 제형 중에서의 자유 라디칼 발생을 측정하기 위해, 시험되는 샘플에 첨가된 광안정성 스핀 마커의 농도를 시험되는 샘플의 UV 조사 전후에 전자 스핀 공명 (ESR) 분광분석법에 의해 추적하였다. 광안정성 스핀 마커는 UV 조사 후에 제형에서 발생된 자유 라디칼과 신속히 반응하였다.

0.1% (w/w)의 시험하려는 퍼퓸 (표 1 참조)을 제형에 혼입하였다. 이어서, 제형을 증류수로 희석하고 (1:10의 희석 배율), 스핀 마커 PCA (2,2,5,5-테트라메틸 피롤리딘 N-옥실)의 수용액을 0.01 mM의 스핀 마커 농도를 획득하도록 첨가하였다. 제형 내의 스핀 트랩 PCA의 농도를 알고 있으면, 감소된 PCA의 양이 계산되었다. 샘플을 석영 모세관에 삽입하여 20분의 UV 조사 전후에 ESR 측정을 수행하였다. 태양광 시뮬레이터의 스펙트럼 범위에 대한 적분 값으로서 조도는 UVB에 대해 E=23.5W/m², UVA에 대해 180W/m²였다.

상기 시험되는 퍼퓸을 함유하는 제형 중에서의 UV-유도된 자유 라디칼의 백분율이 표 1에 제공된다.

표 1. 각 퍼퓸의 존재 하에서의 UV-유도된 자유 라디칼의 백분율

실시예 2: 퍼퓸에 의해 유도되는 피지 산화를 감소시키는데 있어서의 UV 필터 시스템의 영향

피지의 스쿠알렌은 산화에 매우 민감하다. 과산화된 형태의 스쿠알렌 부산물은 세포 및 조직 생리학에 영향을 미친다. 이러한 지질 산화성 분해에서, 자유 라디칼은 지질로부터 전자를 취한다. 지질 과산화는 천연 부산물로서 반응성 알데히드 예컨대 말론디알데히드 (MDA)를 형성하고, 이는 산화성 손상을 평가하기 위한 지질 과산화의 마커로서 사용될 수 있다.

이러한 원리를 토대로, 피지 지질 산화를 평가하기 위한 하기의 시험관내 방법이 개발되었다.

시험되는 제형을 하기와 같이 제조하였다.

각각의 시험되는 선스크린 조성물에 대해 하기 표 2.1, 2.2, 2.3 및 2.4에 제공된 바와 같은 파트 A의 성분들 뿐만 아니라 파트 B의 성분들을 조합하고, 각각 80℃로 가열하며, 여기서 파트 A를 교반 하에 파트 B에 첨가하고, 추가로 균질화시켰다. 그 다음에, 조성물을 교반 하에 실온으로 냉각시켰다. 존재하는 경우에, 파트 C, D, 및 E를 교반 하에 첨가하고, 필요에 따라 각각의 조성물의 pH를 NaOH (30%)를 사용하여 5.5 - 7.00으로 조정하였다.

표 1로부터의 나머지 퍼퓸을 표 2.1에 따라 제형에 혼입하였다.

표 2.1 UV 필터가 함유되지 않은 제형

표 2.2 BMDBM이 함유된 제형

표 2.3 UV 필터가 함유되지 않은 제형

표 2.4 DHHB가 함유된 제형

표 2.5 DHHB가 함유된 제형

표 2.6 DHHB가 함유된 제형

시험되는 제형을 2 mg/cm²의 양으로 페트리 디쉬 내의 인공 피지 필름 상에 도포하였다. 피지 필름은 1 g의 인공 피지를 100 mL의 헵탄에 첨가하여 피지 용액을 수득함으로써 사전에 제조되었다. 1 mL의 상기 피지 용액을 페트리 디쉬 (직경 6 cm) 상에 침착시키고, 완전한 용매 증발까지 질소 챔버에 두었다. 제형 필름이 질소 챔버에서 건조되도록 하였고, 이어서 2 h 동안 1.25mW/cm²의 UVA를 조사하였다.

페트리 디쉬에 헵탄을 첨가하고, 초음파 조를 사용하여 피지 필름을 용해시킴으로써 피지를 수집하였다. 마지막으로, 피지로부터의 산화 생성물에 상응하는 MDA 수준을 TBARS (티오바르비투르산 반응성 물질) 방법을 사용하여 결정하였다. 샘플 중의 MDA는 티오바르비투르산 (TBA)과 반응하여 MDA-TBA 부가물을 생성하였다. MDA-TBA 부가물을 532 nm에서 비색분석법에 의해 정량화하였다.

이와 관련하여, 0.3 mL의 피지 샘플 용액, 0.2 mL의 8 w% SDS 용액, 1.5 mL의 20 v% 아세트산, 1.5 mL의 TBA 용액, 및 0.5 mL의 D.I. 수를 터브에 첨가하고, 이어서 혼합물을 60분 동안 95℃에서 가열하고, 15분 동안 빙조에서 실온으로 냉각시키고, 5분 동안 3000 rpm으로 원심분리하였다. 반응 용액의 흡광도를 UV 분광광도계에 의해 532 nm에서 측정하여 TBA-MDA 부가물의 존재를 검출하였다.

표 3. 시험된 제형의 MDA-수준 검출치; # - 시험 시리즈 1; * - 시험 시리즈 2; n.d. - 결정되지 않음

표 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 제형이 DHHB를 포함할 때, 가장 낮은 MDA 수준이 달성된다.

Claims (15)

1. 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 항노화 관리 조성물에서의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트의 용도.
2. 제1항에 있어서, 산화성 분해를 감소시키기 위한 용도.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 지질 과산화를 감소시키기 위한 용도.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 부틸 메톡시디벤조일메탄 및/또는 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 추가로 포함하는 것인 용도.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1종의 퍼퓸이 리모넨, 시트랄, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 게라니올, 시트로넬롤, 2-이소부틸-4-히드록시-4-메틸테트라히드로피란, 2-tert.-펜틸시클로헥실아세테이트, 3-메틸-5-페닐-1-펜탄올, 7-아세틸-1,1,3,4,4,6-헥사메틸테트랄린, 아디핀 산 디에스테르, 알파-아밀신남알데히드, 알파-메틸이오논, 아밀 C 부틸페닐메틸프로피온알신남알, 아밀살리실레이트, 아밀신나밀알콜, 아니스알콜, 벤조인, 벤질 알콜, 벤질 벤조에이트, 벤질신나메이트, 벤질 살리실레이트, 베르가모트 오일, 오렌지 오일, 비터 오렌지 오일, 부틸페닐메틸프로피온알, 카르다몸 오일, 세드롤, 신남알데히드, 신나밀알콜, 시트로넬릴메틸크로토네이트, 레몬 오일, 쿠마린, 디에틸숙시네이트, 에틸리나로올, 유게놀, 에베르니아 푸르푸라세아(evernia furfuracea) 추출물, 에베르니아 프루나스트리(evernia prunastri) 추출물, 파르네솔, 유창목 오일, 헥실 신남알, 헥실살리실레이트, 히드록시시트로넬랄, 라벤더 오일, 레몬 오일, 리날아세테이트, 만다린 오일, 멘틸 PCA, 메틸헵테논, 넛멕 오일, 로즈마리 오일, 스위트 오렌지 오일, 테르피네올, 통카 빈 오일, 트리에틸시트레이트, 바닐린, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 적어도 1종의 퍼퓸이 게라니올, 리나로올, 히드록시시트로넬랄, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 리모넨, 시트로넬롤, 벤질 벤조에이트, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 유게놀, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 적어도 1종의 퍼퓸이 게라니올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 유게놀, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 용도.
6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1종의 퍼퓸이 게라니올, 리나로올, 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 벤질 알콜, 베르가모트 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 적어도 1종의 퍼퓸이 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 시트로넬롤, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 오렌지 오일, 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 보다 바람직하게는 적어도 1종의 퍼퓸이 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 쿠마린, 벤질 살리실레이트, 헥실 신남알데히드, 바닐린, 신남알데히드, 비터 오렌지 오일, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 적어도 1종의 퍼퓸이 알파 이소메틸 이오논, 시트랄, 헥실 신남알데히드, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 용도.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 헥실 신남알데히드, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 임의적으로 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함하는 것인 용도.
8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 적어도 1종의 퍼퓸, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트, 부틸 메톡시디벤조일메탄, 및 임의적으로 적어도 1종의 추가적인 UV 필터를 포함하는 것인 용도.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 하기를 포함하는 것인 용도:
   항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.00001 내지 1 wt.-%, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;
   항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;
   임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄; 및
   임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10 wt.-%, 바람직하게는 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 하기를 포함하는 것인 용도:
    항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.001 내지 0.5 wt.-%의 양의 적어도 1종의 퍼퓸;
    항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트;
    항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 4 wt.-%의 양의 부틸 메톡시디벤조일메탄;
    임의적으로, 항노화 관리 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 8 wt.-%의 양의 적어도 1종의 추가적인 UV 필터.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 피부과용으로 허용되는 유화제, 증점제, 및/또는 피부연화제를 추가로 포함하는 것인 용도.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 항노화 관리 조성물이 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜을 함유하지 않고/거나 에틸헥실 메톡시신나메이트 및 옥토크릴렌을 함유하지 않는 것인 용도.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, UV 방사선에 의해 촉발되는 지질 과산화를 감소시키기 위한 용도.
14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, UV 방사선에 의해 촉발되는 알데히드 형성을 감소시키기 위한, 바람직하게는 말론디알데히드의 형성을 감소시키기 위한 용도.
15. 퍼퓸에 의해 유발되는 피부병 및/또는 알레르기 반응을 방지하는 방법에 사용하기 위한, 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 적어도 1종의 퍼퓸을 포함하는 바디-관리 조성물.