JP2022525860A - ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル及び水溶性ｕｖａフィルターを含む効果的な日焼け止め組成物 - Google Patents
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル及び水溶性ｕｖａフィルターを含む効果的な日焼け止め組成物 Download PDFInfo
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Abstract
本発明は、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)及び少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。さらに本発明は、布の汚染を低減するため、及び日焼け止め又はデイリーケア組成物の洗浄性を促進するための前記組成物の使用に関する。【選択図】なし
Description
本発明は、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)及び少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。さらに本発明は、布の汚染を低減するため、及び日焼け止め又はデイリーケア組成物の洗浄性を促進するための前記組成物の使用に関する。
UV放射はヒトの皮膚に有害な作用を引き起こす。皮膚の日焼けの急性作用の他、UV放射はまた、皮膚がんのリスクを増加させることが公知である。さらに、UV-A及びUV-B光への長時間曝露は、皮膚での光毒性及び光アレルギー性反応を引き起こすことがあり、皮膚の老化を加速させ得る。
ヒトの皮膚をUV放射から保護するために、UV-Aフィルター、UV-Bフィルター及び広域フィルターを含む種々の紫外線防御UVフィルター(UV吸収剤とも呼ばれる)が存在する。これらのフィルターは日焼け止め又は化粧品組成物に添加される。UVフィルターは、有機又は無機、粒子状又は非粒子状化合物のいずれであってもよく、そのすべてがUV光範囲において高い吸収効果を有する。一般に、UV光は、UV-A放射及びUV-B放射に分けることができる。吸収最大の位置に応じて、UVフィルターは、UV-Aフィルター及びUV-Bフィルターに分けることができる。UVフィルターがUV-A光及びUV-B光の両方を吸収する場合、広域吸収剤と呼ばれる。
2006年以来、すべての日焼け止め又は化粧品組成物は、表示されるサンプロテクションファクター(SPF)の少なくとも3分の1であるUV-A防御因子を有するべきであることがEU欧州委員会によって推奨されており、ここでのサンプロテクションファクターは、主にUV-B防御を指す。
しかしながら、日焼け止め又は化粧品組成物に使用される従来技術で公知のUVフィルターは、一定の欠点を有する。特に、特定のUVフィルターの欠点が言及され、それらは日焼け止め又は化粧品組成物における使用が承認されているにも関わらず、健康及び環境への懸念に起因してしばしば議論の対象となる。議論対象のUVフィルターは、例えば、オクトクリレン、オキシベンゾン、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル又はメトキシケイ皮酸エチルヘキシルである。したがって、紫外線防御に効果的であるが、議論対象のUVフィルターを含まない日用の日焼け止め又は化粧品組成物への必要性が存在する。
さらに、日焼け止め又は化粧品組成物は、布又は布地に付着し、布の汚染を引き起こすことがある。特定のUVフィルターは水への溶解度が低いことを考慮すると、生じた染みは、布の洗浄の間に除去するのが困難である。
したがって、UV-A防御を低下させることなく布の汚染を低減する及び/又は布地からの日焼け止め組成物の洗浄性を促進することが望ましい。
EP2837407A2は、トリアジン誘導体から選択される1種以上のUVフィルター、二酸化チタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン及び/又はジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含み、オクトクリレンを含まない香気安定な化粧品組成物であって、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、ホモメンチルサリチレート及びメトキシケイ皮酸エチルヘキシルを含まない、組成物を開示している。
EP3093008A1は、オクトクリレンを含まず、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、並びにサリチル酸エチルヘキシル及びホモサレートから選択される1種以上のサリチレートを含む日焼け止め組成物に関する。
EP3093007A1は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、エチルヘキシルトリアゾン、並びにサリチル酸エチルヘキシル及びホモサレートから選択される1種以上のサリチレートのUVフィルターの組合せを含む化粧品組成物であって、さらにオキシベンゾン、オクトクリレン及び4-メチルベンジリデンカンファーを含まなくてもよい、組成物を開示している。
EP3093006は、アルコールを含有し、オクトクリレンを含まない日焼け止め組成物に関する。化粧品組成物は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、エチルヘキシルトリアゾン及びビス-エチルヘキシルフェノールメトキシフェニルトリアジンのUVフィルターの組合せを含み、組成物は、1種以上のアルコールを含む。
EP3195853A1は、オクトクリレンを含まない日焼け止め組成物であって、化粧品組成物が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジエチルブタミドトリアゾン及びエチルヘキシルトリアゾンのUVフィルター組合せを含む、日焼け止め組成物を開示している。
EP3351236A1は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ブチルメトキシジベンゾイルメタン及びポリグリセロール脂肪酸エステルのUVフィルター組合せを含む化粧品組成物であって、4-メチルベンジリデンカンファー、オキシベンゾン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、p-メトキシケイヒ酸イソアミル及びオクトクリレンを含まない、化粧品組成物に関する。
US2003/0161793A1は、p-メチルベンジリデンカンファーを含まないが、少なくとも1種のUV遮蔽ジベンゾイルメタン化合物及び構造式(I)の少なくとも1種のUV遮蔽アミノ置換2-ヒドロキシベンゾフェノン化合物を含有する局所適用可能な化粧用/皮膚科用日焼け止め組成物を開示している。
DE60022411T2は、少なくとも1種の特定のビス-レゾルシニルトリアジン誘導体及び分子当たり少なくとも2つのベンゾアゾリル基を含む少なくとも1種のUVフィルターを含む、局所適用のための化粧品組成物を開示している。
EP3354253A2は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを化粧品組成物に組み込むことによって布の汚染を低減する方法を記載している。
したがって、本発明の目的は、効果的な日焼け止め又はデイリーケア組成物を提供することである。本発明の別の目的は、消費者の需要を完全に満たす効果的な日焼け止め又はデイリーケア組成物を提供することである。これに関連して、本発明の別の目的は、議論対象のUVフィルターを含まない日焼け止め又はデイリーケア組成物を提供することである。本発明の別の目的は、布の汚染を低減し、布地の洗浄性を促進するための、日焼け止め又はデイリーケア組成物における使用に好適な組成物を提供することである。
驚くべきことに、これらの目的の少なくとも1つが、本発明による日焼け止め又はデイリーケア組成物によって実現され得ることが見出された。
特に、本出願の発明者らは、本発明による日焼け止め又はデイリーケア組成物が、議論対象の特定のUVフィルター、すなわちオクトクリレンを含まないにも関わらず、効果的なUV-A及びUV-B防御をもたらすことを見出した。さらに驚くべきことに、本出願の発明者らは、本発明による日焼け止め又はデイリーケア組成物が、布の汚染を低減し、布地からの日焼け止め又はデイリーケア組成物の洗浄性を促進するために使用できることを見出した。
したがって、一実施形態によると、本発明は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
前記組成物の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、パラベンを含まない。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物中の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターは、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム及びその組合せからなる群から選択される。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物中の少なくとも1種のさらなるUVAフィルターは、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイ皮酸エチルヘキシル)を含まない。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、フェノキシエタノールを含まない。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、組成物の総重量に対して0.1重量%～10重量%の量、好ましくは0.3重量%～5重量%の量、より好ましくは0.5重量%～3重量%の量の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む。
前記組成物のより好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
組成物は、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
組成物は、パラベンを含まない。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
組成物は、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
組成物は、パラベンを含まない。
前記組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない。
第2の実施形態では、本発明は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムから選択される少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)、エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)及び2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイヒ酸エチルヘキシル)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムから選択される少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)、エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)及び2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイヒ酸エチルヘキシル)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
前記第2の実施形態の前記組成物の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物はパラベンを含まない。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物は、トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、少なくとも1種のさらなるUVAフィルターは、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される。
前記第2の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物は、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物はフェノキシエタノールを含まない。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物は、組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物は、組成物の総重量に対して1重量%～8重量%の量、好ましくは1重量%～7重量%の量、より好ましくは1重量%～6重量%の量の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物は、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない。
前記第2の実施形態の前記組成物の別の好ましい実施形態では、組成物は少なくとも1種の香料を含む。
別の態様では、本発明は、布の汚染を低減するための日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用であって、組成物が、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、使用に関する。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、使用に関する。
第3の態様では、本発明は、布地からの洗浄性を促進するための日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用であって、組成物が、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、使用に関する。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、使用に関する。
前記使用の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、パラベンを含まない。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物中の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターは、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム及びその組合せからなる群から選択される。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む。
前記使用のより好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物中の少なくとも1種のさらなるUVAフィルターは、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイ皮酸エチルヘキシル)を含まない。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、フェノキシエタノールを含まない。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、組成物の総重量に対して0.1重量%～10重量%の量、好ましくは0.3重量%～5重量%の量、さらにより好ましくは0.5重量%～3重量%の量の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む。
前記使用のより好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
組成物は、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
組成物は、パラベンを含まない。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
組成物は、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
組成物は、パラベンを含まない。
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない。
本発明の好ましい実施形態を詳細に記載する前に、本発明を理解するために重要な定義を示す。
本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用される場合、単数形「1つの(a)」及び「1つの(an)」はまた、文脈により別途明らかに述べられない限り、それぞれの複数を含む。本発明の文脈において、「約」及び「およそ」という用語は、当業者が問題の特徴の技術的効果がなお保証されると理解する精度の間隔を記述する。この用語は、典型的には、示される数値から±20%、好ましくは±15%、より好ましくは±10%、さらにより好ましくは±5%の偏差を示す。「含む」という用語は限定ではないことが理解される。本発明の目的のために、「からなる」という用語は、「を含む」という用語の好ましい実施形態であると考えられる。本明細書の以下である群が少なくともある特定数の実施形態を含むと定義される場合、これはまた、好ましくはこれらの実施形態のみからなる群を包含することを意味する。
さらに、本明細書及び特許請求の範囲における「第1の」、「第2の」、「第3の」又は「(i)」、「(ii)」、「(iii)」、「(iv)」等の用語は、類似の要素を区別するために使用され、必ずしも順番又は時系列を記載するために使用されるとは限らない。そのように使用される用語は適切な状況下で交換可能であること、及び本明細書で記載される本発明の実施形態は、本明細書に記載又は例示されるものではない他の順序で操作することが可能であることが理解される。
本明細書で使用される場合、本発明の組成物が集合名で組み合わせられてもよい特定の化合物又は化合物の群を含まないという文脈における「含まない(free of)」という用語は、組成物が、組成物の総重量に対して0.8重量%を超える量の前記化合物又は化合物の群を含まないことを意味する。さらに、本発明による組成物は0.5重量%を超える量の前記化合物又は化合物の群を含まないことが好ましく、好ましくは、組成物は前記化合物又は化合物の群をまったく含まない。同じ定義が、「含まない(does not comprise)」に当てはまる。
「日焼け止め組成物」という用語は、UV放射の特定の部分を反射及び/又は吸収する任意の局所用製品を指す。したがって、「日焼け止め組成物」という用語は、日焼け止め組成物だけでなく、UV防御をもたらす任意の化粧品組成物も含むことが理解される。「局所用製品」という用語は、皮膚に適用される製品を指し、例えば、スプレー、ローション、クリーム、オイル又はゲルを指し得る。日焼け止め組成物は、1種以上の活性剤、例えば、有機又は無機UVフィルター、及び他の成分又は添加剤、例えば、乳化剤、軟化剤、粘度調整剤、安定剤、保存剤又は芳香剤を含んでもよい。
「デイリーケア組成物」という用語は、UV放射の特定の部分を反射又は吸収し、ヒト身体、例えば、顔、体又は毛髪用の毎日のケア製品として使用される任意の局所用製品を指す。デイリーケア組成物は、1種以上の活性剤、例えば、有機又は無機UVフィルター、及び他の成分又は添加剤、例えば、乳化剤、軟化剤、粘度調整剤、安定剤、保存剤又は芳香剤を含んでもよい。
本明細書で使用される場合、「サンプロテクションファクター(SPF)」という用語は、皮膚が日焼け止め組成物によって主にUV-B放射からどの程度良好に保護されるかを示す。特に、この指数は、未処置の皮膚と比較して保護された皮膚が、どれくらい長く、日焼けすることなく太陽に曝露され得るかを示す。例えば、SPFが15の日焼け止め組成物が、日なたで通常10分後に日焼けする人の皮膚に均一に適用された場合、この日焼け止めにより、当業者は日なたに15倍長く留まることが可能になる。言い換えると、SPF15は、日焼け止めが1平方センチメートル当たり2ミリグラム(mg/cm2)の投薬量で均一な厚さで適用されると仮定すると、皮膚に達する日焼けさせるUV放射が1/15になることを意味する。
「UVフィルター」という用語は、本明細書で使用される場合、太陽光によって引き起こされるUV放射を吸収又は反射できる有機又は無機化合物を指す。UVフィルターは、UV-A、UV-B又は広域フィルターとしてのそのUV防御曲線に基づいて分類できる。本出願の文脈において、広域フィルターはUV-A防御ももたらすため、UV-Aフィルターとして列挙されることがある。言い換えると、好ましいUV-Aフィルターは広域フィルターも含む。
さらに、UVフィルターは、その溶解度挙動に従って、例えば、水溶性UVフィルター、油溶性UVフィルター又は粒子状UVフィルターに分類できる。
水溶性UVフィルターは、少なくとも2重量%、好ましくは少なくとも3重量%、より好ましくは少なくとも5重量%の水への溶解度を有する。
粒子状UVフィルターは、有機粒子状UVフィルター及び無機粒子状UVフィルターにさらに分けることができる。有機粒子状UVフィルターは有機化合物に基づく一方、無機粒子状UVフィルターは無機化合物、例えば二酸化チタンに基づく。日焼け止め組成物中の粒子状UVフィルターは、日焼け止め組成物、すなわちその中に含有される水及び化粧用油へのその溶解度が0.01重量%未満、好ましくは0.05重量%未満であるため、粒子状形態で存在する。好ましくは、粒子状UVフィルターは、2000nm未満、好ましくは1000nm未満の光散乱によって決定される粒径DN50を有し、DN50は、集団の半分がその値未満であり、集団の半分がその値を超える粒径値、すなわち、粒径体積分布のメジアン値を指す。
ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)は、354nmにおいて吸収最大を有する油溶性UV-Aフィルターである。ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは、皮膚の長期間保護のための優れた光安定性を有し、UV-A I及びUV-A II放射に対して効果的なシールドをもたらす。これは、BASFによって商品名Uvinul(登録商標)A Plusで販売されている。
エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)は、302nmにおいて吸収最大を有する油溶性有機UV-Bフィルターである。これはUV防御のバランスを取るための広範囲UV-B吸光度をもたらし、光不安定なUVフィルターのための効果的な安定剤であることが公知である。オクトクリレンは、BASFによって商品名Uvinul(登録商標)N 539 Tで販売されている。
2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)は、UV-A光及びUV-B光を吸収し、したがって、いわゆる広域UVフィルターである。オキシベンゾンは、1%～6%の量で日焼け止め組成物又はデイリーケア組成物に適用され得る。さらに、これは、商品名Eusolex 4360、Escalol 567及びNeo-Helipan BBで販売されている。
2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイ皮酸エチルヘキシル)は、310nmにおいて吸収最大を有する無臭かつ無色のUV-Bフィルターである。これは他の結晶UVフィルターの良溶媒である。メトキシケイ皮酸エチルヘキシルは、BASFによって商品名Uvinul(登録商標)MC 80で販売されている。
「パラベン」という用語は、化粧用及び医薬組成物に使用される保存剤の類を指す。それらは殺菌及び殺真菌特性に起因して、一般に使用される。パラベンの化学構造は、パラヒドロキシベンゾエート又はパラヒドロキシ安息香酸のエステル、例えば、メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、ブチルパラベン又はヘプチルパラベンに基づく。
「広域」防御(広範囲スペクトル又は広範囲防御とも呼ばれる)の定義は、「臨界波長」に基づく。広域有効範囲のために、UV-B及びUV-A防御が提供されなくてはならない。US要件によると、広範囲スペクトル防御を達成するためには、少なくとも370nmの臨界波長が必要である。さらに、すべての日焼け止め又は化粧品組成物は、表示されるサンプロテクションファクター(SPF)の少なくとも3分の1のUVA防御指数を有するべきであり、例えば、日焼け止め組成物が30のSPFを有する場合、UVA防御指数は少なくとも10でなくてはならないことが欧州委員会によって推奨されている。
「布の汚染」という用語は、本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物、特に良好なUV-A防御をもたらすものにより布地に黄色の染みが残るという観察を指す。日焼け止め組成物は多くの場合、ヒトの皮膚への適用の間又はその後に布地と接触して、布地で染みが観察されることになるため、これは望ましくない。布の汚染は、以下に詳細に概説される通り、L*a*bによって測定できる。
「洗浄性」という用語は、本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物によって引き起こされる布地の染みが、ある特定の回数の洗浄サイクル後にどの程度布地から除去され得るかを記載する。洗浄性を評価するために、布の汚染は、1回以上の洗浄サイクルの前及び後に測定される。洗浄サイクルは市販の液体洗浄ゲルを用いて30℃～50℃の温度で実施される。典型的には、1～3回の洗浄サイクルの後の布の汚染に関する差が決定される。
本出願による日焼け止め又はデイリーケア組成物及び前記組成物の使用に関する好ましい実施形態が、本明細書の以下で記載される。本発明の好ましい実施形態は、単独でも又は互いに組み合わせても好ましいことが理解される。
上で示される通り、本発明は一実施形態において、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
第2の実施形態では、本発明は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムから選択される少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)、エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)及び2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイヒ酸エチルヘキシル)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムから選択される少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)、エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)及び2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイヒ酸エチルヘキシル)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物に関する。
本発明に関連して、特に上で定義される通りの第1及び第2の実施形態に関連して、日焼け止め組成物に関する以下の選好が適切である。
本発明の一実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない。
本発明の別の実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、パラベンを含まない。
本発明のなお別の実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイ皮酸エチルヘキシル)を含まない。
本発明のなお別の実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、フェノキシエタノールを含まない。
本発明のなお別の好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない。
本発明のなお別の実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、任意選択で、エトキシル化乳化剤を含まないことがある。これに関連して、エマルジェントとしても公知の「乳化剤」という用語は、典型的には、その速度論的安定性を増加させることによってエマルジョンを安定化させる化合物を指すことが理解される。基本的に、それらは、極性又は親水性部分及び非極性又は疎水性部分からなる。
任意選択で日焼け止め又はデイリーケア組成物から除外され得る可能な乳化剤は、PEG-100ステアレート、ステアレス由来の乳化剤又はセテアレス由来の乳化剤である。
上記の実施形態に関連して、含まない(free of)ことは、組成物が上で定義される化合物又は物質を含まない(does not comprise)ことを意味することが理解される。特に、組成物は、組成物の総重量に対してそれぞれ0.8重量%を超える量の上で定義される化合物又は物質を含まないことが理解される。さらに、組成物は、それぞれ0.5重量%を超える量の上で定義される化合物又は物質を含まないことが理解される。
本発明の好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、上で定義される通りの化合物又は物質の各々をまったく含まない。
上記の実施形態に関連して、本発明による上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、上で定義される通りの物質又は以下で定義される通りの組合せを含まないことが理解される。
したがって、本発明の好ましい一実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
- パラベン、及び
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル
を含まない。
- パラベン、及び
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル
を含まない。
本発明の別の好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
- パラベン、及び
- フェノキシエタノール
を含まない。
- パラベン、及び
- フェノキシエタノール
を含まない。
本発明のなお別の好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、及び
- フェノキシエタノール
を含まない。
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、及び
- フェノキシエタノール
を含まない。
本発明のなお別の好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
- パラベン、
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、及び
- フェノキシエタノール
を含まない。
- パラベン、
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、及び
- フェノキシエタノール
を含まない。
本発明のなお別の好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
- パラベン、
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、
- フェノキシエタノール、及び
- サリチル酸エチルヘキシル及びホモサレート
を含まない。
- パラベン、
- メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、
- フェノキシエタノール、及び
- サリチル酸エチルヘキシル及びホモサレート
を含まない。
上記の好ましい実施形態に関連して、含まない(free of)ことは、組成物が上で定義される物質又はその組合せを含まない(does not comprise)ことを意味することが理解される。特に、組成物は、組成物の総重量に対して0.8重量%を超える全量の上で定義される物質又はその組合せを含まないことが理解される。さらに、組成物は、0.5重量%を超える全量の上で定義される物質又はその組合せを含まないことが理解される。
本発明の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、上で定義される物質又はその組合せをまったく含まない。
さらに、上記の好ましい実施形態に関連して、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、オキシベンゾン及びオクトクリレンに加えて、上で定義される通りの物質又は上で定義される通りのその組合せを含まないことが理解される。
本発明の特に好ましい実施形態では、上で定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物は、オキシベンゾン及びオクトクリレンに加えてメトキシケイ皮酸エチルヘキシルを含まない。
本発明に関連して、特に本発明の第1及び第2の実施形態に関連して、UVフィルターに関する以下の選好が本発明の上に列挙される実施形態との関連で適切である。
本発明の一実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む。この文脈において、少なくとも1種の水溶性UVAフィルターは、1～3種の水溶性UVAフィルターを意味する。さらに、水溶性UVAフィルターという用語は、少なくとも2重量%の水への溶解度を有し、UVA範囲で吸収する任意のUVフィルターを意味することが理解される。
本発明の好ましい実施形態では、少なくとも1種の水溶性UVAフィルターは、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム及びその組合せからなる群から選択される。
本発明の特に好ましい実施形態では、少なくとも1種の水溶性UVAフィルターはフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである。
本発明の別の実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む。この文脈において、少なくとも1種のさらなるUVAフィルターは、1～3種のさらなるUVAフィルター、好ましくは1又は2種のさらなるUVAフィルターを意味する。さらに、UVAフィルターという用語は、UVA範囲で吸収する任意のUVフィルターを意味することが理解される。広域フィルターはUVA及びUVB照射を吸収及び/又は反射するため、これは、広域フィルターもまたUVAフィルターという表現に包含されることを意味する。
より好ましい実施形態では、少なくとも1種のさらなるUVAフィルターは、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される。
この文脈において、少なくとも1種のさらなるUVAフィルターは、上で定義される通りの水溶性UVAフィルターではないUVAフィルターを指す。
本発明の別の実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む。この文脈において、少なくとも1種のUVBフィルターは、1～3種のUVBフィルターを意味する。さらに、UVBフィルターという用語は、UVB範囲で吸収する任意のUVフィルターを意味することが理解される。広域フィルターはUVA及びUVB照射を吸収及び/又は反射するため、これは、広域フィルターもまたUVBフィルターという表現に包含されることを意味する。
好ましい実施形態では、少なくとも1種のさらなるUVBフィルターは、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される。
水溶性UVAフィルターの好適な量は、組成物の総重量に対して0.1重量%～10重量%の範囲、好ましくは0.3重量%～5重量%の範囲、さらにより好ましくは0.5重量%～3重量%の範囲である。
本発明の好ましい実施形態では、水溶性UVAフィルターの好適な量は、組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の範囲である。
本発明のより好ましい実施形態では、水溶性UVAフィルターの好適な量は、組成物の総重量に対して1重量%～8重量%の範囲、好ましくは1重量%～7重量%の量、より好ましくは1重量%～6重量%の量である。
水溶性UVAフィルターではないさらなるUVAフィルターの好適な量は、組成物の総重量に対して0.5重量%～5重量%の範囲である。
さらなるUVBフィルターの好適な量は、組成物の総重量に対して0.5重量%～5重量%の範囲である。
上記の実施形態に関連して、上で定義される通りの少なくとも1種の水溶性UVAフィルターが、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)に加えて日焼け止め又はデイリーケア組成物中に存在することが理解される。さらに、日焼け止め組成物は、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)及び少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含み、任意選択で、少なくとも1種のさらなるUVAフィルター及び少なくとも1種のUVBフィルターを含んでもよいことが理解される。
本発明の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む。
本発明の特に好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
組成物は、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
組成物は、パラベンを含まない。
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
組成物は、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
組成物は、パラベンを含まない。
[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)は、320～400nmの範囲のUVA照射を吸収する水溶性有機UVAフィルターである。
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムは、320～400nmの範囲のUVA照射を吸収する水溶性有機UVAフィルターである。
上記の好ましい及び特に好ましい実施形態に関連して、驚くべきことに、水溶性UVAフィルターであるテレフタリリデンジカンファースルホン酸は、UV光による照射時に不安定であることが見出された。さらに、驚くべきことに、本発明による日焼け止め又はデイリーケア組成物中の水溶性UVフィルターであるテレフタリリデンジカンファースルホン酸は、UVフィルターであるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの存在下で安定化され得ることが見出された。
上記の実施形態に関連して、日焼け止め又はデイリーケア組成物の総重量は、上で定義される通りの組成物を指し、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の添加剤を含み得ることが理解される。
一実施形態では、少なくとも1種の添加剤は、乳化剤、軟化剤、粘度調整剤(増粘剤)、感触改良剤、アジュバント、保存剤及びその組合せからなる群から選択される。
好ましい乳化剤としては、
- グルコース誘導体、例えば、セテアリルグルコシド、アラキジルグルコシド、ラウリルグルコシド、ジステアリン酸ポリグリセリル-3メチルグルコース、セスキステアリン酸メチルグルコース;
- スクロース誘導体、例えば、ポリステアリン酸スクロース、パルミチン酸スクロース;
- ソルビトール誘導体;
- 脂肪酸のグリセリド、例えば、ステアリン酸グリセリル、オレイン酸グリセリル;
- グルタミン酸誘導体、例えば、ステアロイルグルタミン酸ナトリウム;
- スルホコハク酸誘導体、例えば、スルホコハク酸セテアリル二ナトリウム;
- リン酸誘導体、例えば、セチルリン酸カリウム;
- ポリグリセリルの脂肪酸エステル、例えば、ポリグリセリル-3-ジイソステアレート、ポリグリセリル-2-ジポリヒドロキシステアレート;
- オキシアルケニル化有機変性シリコーン/ポリシロキサン/ポリアルキル/ポリエーテルコポリマー及び誘導体
が挙げられる。
- グルコース誘導体、例えば、セテアリルグルコシド、アラキジルグルコシド、ラウリルグルコシド、ジステアリン酸ポリグリセリル-3メチルグルコース、セスキステアリン酸メチルグルコース;
- スクロース誘導体、例えば、ポリステアリン酸スクロース、パルミチン酸スクロース;
- ソルビトール誘導体;
- 脂肪酸のグリセリド、例えば、ステアリン酸グリセリル、オレイン酸グリセリル;
- グルタミン酸誘導体、例えば、ステアロイルグルタミン酸ナトリウム;
- スルホコハク酸誘導体、例えば、スルホコハク酸セテアリル二ナトリウム;
- リン酸誘導体、例えば、セチルリン酸カリウム;
- ポリグリセリルの脂肪酸エステル、例えば、ポリグリセリル-3-ジイソステアレート、ポリグリセリル-2-ジポリヒドロキシステアレート;
- オキシアルケニル化有機変性シリコーン/ポリシロキサン/ポリアルキル/ポリエーテルコポリマー及び誘導体
が挙げられる。
好ましい軟化剤としては、
- 直鎖又は分枝脂肪酸と直鎖又は分枝脂肪アルコールとのエステル、例えば、カプリル酸プロピルヘプチル、ココカプリレート、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸エチルヘキシル;
- 芳香族カルボン酸と直鎖又は分枝脂肪アルコールとのエステル、例えば、C12～C15アルキルベンゾエート、安息香酸ベンゾエート、安息香酸フェネチル;
- 直鎖又は分枝アルコールとのジ及びトリカルボン酸エステル、例えば、アジピン酸ジブチル、炭酸ジカプリリル、セバシン酸ジイソプロピル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル;
- ヒドロキシカルボン酸と直鎖又は分枝脂肪アルコールとのエステル;
- 直鎖又は分枝脂肪酸と多価アルコールとのエステル、例えば、ジカプリル酸/ジカプリン酸ブチレングリコール;
- C6～C18脂肪酸に基づくモノ、ジ、トリグリセリド、例えば、カプリル酸/カプリン酸トリグリセリド、ココグリセリド;
- ゲルベアルコール、例えばオクチルドデシノール;
- 炭化水素、例えば、水添ポリイソブテン、鉱油、スクアレン、イソヘキサデカン;
- エステル、例えばジカプリリルエーテル;
- シリコーン誘導体(有機変性ポリシロキサン)、例えば、ジメチルポリシロキサン、環式シリコーン
が挙げられる。
- 直鎖又は分枝脂肪酸と直鎖又は分枝脂肪アルコールとのエステル、例えば、カプリル酸プロピルヘプチル、ココカプリレート、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸エチルヘキシル;
- 芳香族カルボン酸と直鎖又は分枝脂肪アルコールとのエステル、例えば、C12～C15アルキルベンゾエート、安息香酸ベンゾエート、安息香酸フェネチル;
- 直鎖又は分枝アルコールとのジ及びトリカルボン酸エステル、例えば、アジピン酸ジブチル、炭酸ジカプリリル、セバシン酸ジイソプロピル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル;
- ヒドロキシカルボン酸と直鎖又は分枝脂肪アルコールとのエステル;
- 直鎖又は分枝脂肪酸と多価アルコールとのエステル、例えば、ジカプリル酸/ジカプリン酸ブチレングリコール;
- C6～C18脂肪酸に基づくモノ、ジ、トリグリセリド、例えば、カプリル酸/カプリン酸トリグリセリド、ココグリセリド;
- ゲルベアルコール、例えばオクチルドデシノール;
- 炭化水素、例えば、水添ポリイソブテン、鉱油、スクアレン、イソヘキサデカン;
- エステル、例えばジカプリリルエーテル;
- シリコーン誘導体(有機変性ポリシロキサン)、例えば、ジメチルポリシロキサン、環式シリコーン
が挙げられる。
好ましい増粘剤としては、
- 脂肪アルコール、例えば、セチルアルコール、セテアリルアルコール、ステアリルアルコール;
- 脂肪酸、例えば、ステアリン酸;
- 脂肪酸エステル、例えば、ステアリン酸ミリスチル;
- ワックス、例えば、ビーズワックス、カルナウバワックス、マイクロクリスタリンワックス、セレシン、オゾケライト;
- 多糖又は誘導体、例えば、キサンタンガム、グアーガム、アガーガム、アルギネート、ジェランガム、カラゲナン;
- 網目状アクリル酸又はポリアクリルアミドのポリアクリレート又はホモポリマー例えば、カルボマー、アクリレートコポリマー、アクリレート/C10～C30アルキルアクリレートクロスポリマー、アクリレート/ベヘネス-25メタクリレートコポリマー;
- シリケート誘導体、例えば、ケイ酸マグネシウム;
- セルロース誘導体、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース
が挙げられる。
- 脂肪アルコール、例えば、セチルアルコール、セテアリルアルコール、ステアリルアルコール;
- 脂肪酸、例えば、ステアリン酸;
- 脂肪酸エステル、例えば、ステアリン酸ミリスチル;
- ワックス、例えば、ビーズワックス、カルナウバワックス、マイクロクリスタリンワックス、セレシン、オゾケライト;
- 多糖又は誘導体、例えば、キサンタンガム、グアーガム、アガーガム、アルギネート、ジェランガム、カラゲナン;
- 網目状アクリル酸又はポリアクリルアミドのポリアクリレート又はホモポリマー例えば、カルボマー、アクリレートコポリマー、アクリレート/C10～C30アルキルアクリレートクロスポリマー、アクリレート/ベヘネス-25メタクリレートコポリマー;
- シリケート誘導体、例えば、ケイ酸マグネシウム;
- セルロース誘導体、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース
が挙げられる。
好ましい感触改良剤としては、
- ポリアミド誘導体、例えば、ナイロン-12;
- ポリメチルメタクリレート;
- シリカ;
- マイカ;
- ポリメチルシルセスキオキサン;
- ポチエチレン;
- デンプン誘導体、例えば、オクテニルコハク酸デンプンアルミニウム;
- ジメチコン誘導体;
- 窒化ホウ素;
- HDI/トリメチロールヘキシルラクトンクロスポリマー
が挙げられる。
- ポリアミド誘導体、例えば、ナイロン-12;
- ポリメチルメタクリレート;
- シリカ;
- マイカ;
- ポリメチルシルセスキオキサン;
- ポチエチレン;
- デンプン誘導体、例えば、オクテニルコハク酸デンプンアルミニウム;
- ジメチコン誘導体;
- 窒化ホウ素;
- HDI/トリメチロールヘキシルラクトンクロスポリマー
が挙げられる。
好ましいアジュバントとしては、
- トコフェロール誘導体;
- レチノール誘導体;
- アスコルビン酸誘導体;
- ビサボロール;
- アラントイン;
- ペンテノール;
- キレート剤(EDTA、EDDS、EGTA、フィチン酸、ピロクトンオラミン);
- エチルヘキシルグリセリン;
- カプリリルグリコール;
- ヒドロキシアセトフェノン;
- カプリルヒドロキサム酸;
- プロペラント、例えば、プロパン、ブタン、イソブテン、ジメチルエーテル;
- スチレン/PVP又はスチレンアクリルアミドコポリマー;
- 虫除けスプレー、例えば、ブチルアセチルアミノプロピオネート
が挙げられる。
- トコフェロール誘導体;
- レチノール誘導体;
- アスコルビン酸誘導体;
- ビサボロール;
- アラントイン;
- ペンテノール;
- キレート剤(EDTA、EDDS、EGTA、フィチン酸、ピロクトンオラミン);
- エチルヘキシルグリセリン;
- カプリリルグリコール;
- ヒドロキシアセトフェノン;
- カプリルヒドロキサム酸;
- プロペラント、例えば、プロパン、ブタン、イソブテン、ジメチルエーテル;
- スチレン/PVP又はスチレンアクリルアミドコポリマー;
- 虫除けスプレー、例えば、ブチルアセチルアミノプロピオネート
が挙げられる。
好ましい保存剤としては、
- ベンジルアルコール;
- ジンゲロン
が挙げられる。
- ベンジルアルコール;
- ジンゲロン
が挙げられる。
本発明の好ましい実施形態では、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、少なくとも1種の香料を含む。
好ましい香料は、リモネン、シトラル、リナロール、アルファ-イソメチルイオノン、ゲラニオール、シトロネロール、2-イソブチル-4-ヒドロキシ-4-メチルテトラヒドロピラン、2-tert-ペンチルシクロヘキシルアセテート、3-メチル-5-フェニル-1-ペンタノール、7-アセチル-1,1,3,4,4,6-ヘキサメチルテトラリン、アジピン酸ジエステル、アルファ-アミルシンナムアルデヒド、アルファ-メチルイオノン、アミルCブチルフェニルメチルプロピオナルシンナマル、サリチル酸アミル、アミルシンナミルアルコール、アニスアルコール、ベンゾイン、ベンジルアルコール、安息香酸ベンジル、ケイ皮酸ベンジル、サリチル酸ベンジル、ベルガモット油、ビターオレンジ油、ブチルフェニルメチルプロピオナール、カルダモン油、セドロール、シンナマル、シンナミルアルコール、メチルクロトン酸シトロネリル、レモン油、クマリン、コハク酸ジエチル、エチルリナロール、オイゲノール、エベルニアフルフラセア(evernia furfuracea)抽出物、ツノマタゴケ(evernia prunastri)抽出物、ファルネソール、ユソウボク木油、ヘキシルシンナマル、サリチル酸ヘキシル、ヒドロキシシトロネラール、ラベンダー油、レモン油、酢酸リナリル、マンダリン油、メンチルPCA、メチルへプテノン、ナツメグ油、ローズマリー油、スイートオレンジ油、テルピネオール、トンカマメ油、トリエチルシトレート、バニリン及びその組合せからなる群から選択される。
日焼け止め又はデイリーケア組成物中に存在する少なくとも1種の香料に関連して、驚くべきことに、組成物が香料と組み合わせてUVフィルターを含む場合、酸化的分解が低減されることが見出された。特に、驚くべきことに、少なくとも1種の香料の存在下、UVフィルターDHHBは酸化的分解を低減することが見出された。
上記の好ましい実施形態に関連して、日焼け止め又はデイリーケア組成物が2種以上の添加剤を含む場合、上で定義される通りの添加剤の組合せもまた本発明の一部であることが理解される。
上記の好ましい及び特に好ましい実施形態に関連して、日焼け止め又はデイリーケア組成物は、その最終製剤において、多種多様な提示形態で存在してもよく、これには、
- W/O、O/W、O/W/O、W/O/W又はPITエマルジョン及びすべての種類のマイクロエマルジョンとしての液体配合物;
- ゲル;
- オイル、クリーム、ミルク又はローション;
- 粉末、ラッカー、錠剤又は化粧;
- スティック;
- スプレー(プロペラントガスによるスプレー若しくはポンプ式スプレー)又はエアロゾル;
- 泡;
- ペースト
が含まれることが理解される。
- W/O、O/W、O/W/O、W/O/W又はPITエマルジョン及びすべての種類のマイクロエマルジョンとしての液体配合物;
- ゲル;
- オイル、クリーム、ミルク又はローション;
- 粉末、ラッカー、錠剤又は化粧;
- スティック;
- スプレー(プロペラントガスによるスプレー若しくはポンプ式スプレー)又はエアロゾル;
- 泡;
- ペースト
が含まれることが理解される。
上で示される通り、本発明は別の態様において、日焼け止め又はデイリーケア組成物の布の汚染を低減するための、上で定義される通り、特に第1及び第2の実施形態において定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用に関する。
日焼け止め組成物によって引き起こされる布の汚染は、好ましくは、いわゆるL*a*b方法によって測定される。この方法により、2つの試料間の色差を、数値に基づいて特定することができる。この方法の利点は、色を測定するのに使用されるデバイスに依存しないことである。代わりに、色差は、異なる色についての数値に基づいて決定できる。本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物の布の汚染を決定するために、布地上の日焼け止め組成物の染み及び布地単独の間の色差が決定される。したがって、様々な日焼け止め組成物及びその布の汚染特性は、布地上のその染みの色を布地単独の色と比較することによって測定できる。色差が小さいほど、少ない布の汚染が観察される。同様に、1回以上の洗浄サイクル後の布地上の日焼け止め組成物の染み及び布地単独の間の色差を決定して、洗浄後の布の汚染の低減可能性、すなわち洗浄性を決定できる。色差は絶対色座標で示され、デルタΔと呼ばれ得る。最初に、2つの試料の色が測定される。次いで、得られた比色分析値であるCIE L*a*b座標を使用して差が計算できる。国際照明委員会(CIE)によって定義されるL*a*b色空間は、反対色説にならってモデリングされた。この理論は、2色が同時に赤色及び緑色、又は同時に黄色及び青色ではあり得ないことを述べる。以下の式を使用して、2つの試料間の全色差が決定される。
ΔE* = [ΔL*2 + Δa*2 + Δb*2]1/2
ΔE* = [ΔL*2 + Δa*2 + Δb*2]1/2
この点について、L*は明度を示し、a*は赤/緑座標であり、b*は黄/青座標である。L*(ΔL*)、a*(Δa*)及びb*(Δb*)についてのデルタ値は、正又は負であり得る。ΔE*で示される全差は常に正である。
ΔL*(L*試料1 - L*試料2) = 明度及び暗度の差(+はより明るく、-はより暗い)。
Δa*(a*試料1 - a*試料2) = 赤及び緑の差(+は赤寄り、-は緑寄り)。
Δb*(b*試料1 - b*試料2) = 黄及び緑の差(+は黄寄り、-は緑寄り)。
ΔE*=総色差。
ΔL*(L*試料1 - L*試料2) = 明度及び暗度の差(+はより明るく、-はより暗い)。
Δa*(a*試料1 - a*試料2) = 赤及び緑の差(+は赤寄り、-は緑寄り)。
Δb*(b*試料1 - b*試料2) = 黄及び緑の差(+は黄寄り、-は緑寄り)。
ΔE*=総色差。
本発明による布の汚染を決定するために、布地上の染みの色を布地単独の色と比較する。好ましくは、白色布地が使用される。染みが黄色のみである場合、ΔE*≒Δb*であり、日焼け止め組成物の染みの可視性はΔb*で表される。日焼け止め組成物の染みの色は典型的には黄色であるため、本発明の目的のためにΔE*はΔb*と同一であると考えられる。
別の態様では、本発明は、布地からの日焼け止め又はデイリーケア組成物の洗浄性を促進するための、上で定義される通り、特に第1及び第2の実施形態において定義される通りの日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用に関する。
本明細書で使用される場合、洗浄性は、布地上の日焼け止め組成物の染みが洗浄によって除去され得る程度を指す。日焼け止め組成物の染みの洗浄性、すなわち除去性は、1回以上の洗浄サイクルの前及び後の、上記のL*a*b*法による染みの色差を決定することによって決定できる。
本発明は、以下の実施例によってさらに例示される。
例
日焼け止め組成物の製造方法
各被験日焼け止め組成物について、以下の表1に示される通りの部Aの成分及び部Bの成分を合わせ、それぞれ80℃に加熱し、ここで、撹拌しながら部Aを部Bに添加し、さらに均質化させた。存在する場合は相Cをultra turraxデバイスで予備混合し、相A及びBに添加した。続いて、日焼け止め組成物を撹拌しながら室温に冷却し、各組成物のpHを7.00超に調節した。
日焼け止め組成物の製造方法
各被験日焼け止め組成物について、以下の表1に示される通りの部Aの成分及び部Bの成分を合わせ、それぞれ80℃に加熱し、ここで、撹拌しながら部Aを部Bに添加し、さらに均質化させた。存在する場合は相Cをultra turraxデバイスで予備混合し、相A及びBに添加した。続いて、日焼け止め組成物を撹拌しながら室温に冷却し、各組成物のpHを7.00超に調節した。
以下の表で言及されるすべての量は、組成物の総重量に対するそれぞれの量を重量%で指す。
日焼け止め組成物
比較組成物についてのSPF計算値は12である。
組成物1についてのSPF計算値は17である。
日焼け止め組成物
各被験日焼け止め組成物について、以下の表2に示される通りの部Aの成分及び部Bの成分を合わせ、それぞれ80℃に加熱し、ここで、撹拌しながら部Aを部Bに添加し、さらに均質化させた。存在する場合は相Cをultra turraxデバイスで予備混合し、相A及びBに添加した。続いて、日焼け止め組成物を室温に冷却し、次いで、撹拌しながら部Dを添加し、最後に、存在する場合は部Eを、撹拌しながら添加し、各組成物のpHを7.00超に調節した。
各被験日焼け止め組成物について、以下の表2に示される通りの部Aの成分及び部Bの成分を合わせ、それぞれ80℃に加熱し、ここで、撹拌しながら部Aを部Bに添加し、さらに均質化させた。存在する場合は相Cをultra turraxデバイスで予備混合し、相A及びBに添加した。続いて、日焼け止め組成物を室温に冷却し、次いで、撹拌しながら部Dを添加し、最後に、存在する場合は部Eを、撹拌しながら添加し、各組成物のpHを7.00超に調節した。
布の汚染の測定
UVフィルター組成物の布の汚染は、上で定義される通りのL*a*bによって測定した。測定は、以下の機器:反射式分光光度計(Remission Spectrometer)Datacolor SF 400(光源D65、オブザーバー10°)を使用して分光光度計により実施した。
UVフィルター組成物の布の汚染は、上で定義される通りのL*a*bによって測定した。測定は、以下の機器:反射式分光光度計(Remission Spectrometer)Datacolor SF 400(光源D65、オブザーバー10°)を使用して分光光度計により実施した。
白色布地へのUVフィルター組成物の染みの色と白色布地単独の色の間の差を、ΔE*=Δb*であるという仮定に従って決定して、布の汚染を決定した。色差が小さいほど、布の汚染が少ない。
さらに、1又は3回の洗浄サイクル後の白色布地へのUVフィルター組成物の染みの色と白色布地単独の色の間の差を、ΔE*=Δb*であるという仮定に従って決定して、洗浄性を決定した。洗浄前に得られた値と比較した色差が小さいほど、布の汚染はより低減されており、すなわち、布地からの日焼け止め組成物の洗浄性がより良好である。
UVフィルター組成物を適用して白色布地に染みを作るために、UVフィルター組成物を、希釈混合物の総重量に対して10重量%の濃度で水又はエタノールに希釈した。300mg(15mg/cm2)の希釈混合物を白色布地に適用して(WG170±10、洗浄後WG190±10の白色度に調節する)、染みを得る。
洗浄性を決定するために、1又は3回の洗浄サイクルを、40℃の温度及びHenkelから得たPersil Universal Gel(染みに3g)を20分間使用して洗浄機で実施した。各布地を別々に洗浄した。
比較組成物1及び組成物1についての結果を表3及び図1に示す。
比較組成物2、3及び組成物2、3の結果を表4に示す。
上記の結果から分かる通り、油溶性UVAフィルターのみを含有する比較組成物2は、強力な布の汚染を示す。BMBDMの代わりにDPDTを含有する組成物2は、大幅な布の汚染の低減を示す。DPDTの代わりに水分散UVフィルターとしてTinosorb S Lite Aquaを含有する比較組成物3は、水相中に存在するこのUVAフィルターが、布の汚染の低減に適切ではないことを示す。DHHB及びBMBDM及びDPDTのいずれも含有する組成物3は、布の汚染の低減を示す。
さらなるステップにおいて、以下のフィルターの組合せを試験して、水相中に存在するすべてのUVフィルターが布の汚染の低減に寄与するのに好適であるとは限らないことを示した。表5は、エマルジョンに組み込まれた水及び油相中に存在する種々のUVフィルターの試験系列及び布の汚染の低減におけるそれらの性能を示す。
試験エマルジョンは、以下の通り調製する:部A及びBを、撹拌しながら80℃に加熱する。撹拌しながら部AをBに添加し、均質化させる。存在する場合は、ultra turraxデバイスで予備混合した相Cを添加する。これを室温に冷却する。存在する場合は相Dを添加する。pHが7超であることを確認する。
布の汚染試験から得られた結果を表6に示す。
試験エマルジョン1は、布の汚染を生じる油溶性UVAフィルターを含有し、これは、消費者に評価されない。これとは反対に、試験エマルジョン2は、UVA水溶性フィルターのみを含有し、布の汚染は示さないが、必要とされるよりも低いUVA防御を示す(UVA-PF測定値は、期待される5.7ではなく3.7に等しかった(表5)。本発明のUVフィルターの組合せであるDHHB及びDPDT(油溶性及び水溶性)は、UVA性能を維持するのと同時に、試験エマルジョン3において布の汚染の低減をもたらす。試験エマルジョン4では、DPDTを、水分散UVAフィルターであるTinosorb S Lite Aquaで置き換える。布の汚染及び洗浄性に対する正の効果は存在しない。
TDSAの光安定性に対する回収率測定
日焼け止め組成物の製造方法
各被験日焼け止め組成物について、以下の表7に示される通りの部Aの成分及び部Bの成分を合わせ、それぞれ80℃に加熱し、ここで、撹拌しながら部Aを部Bに添加し、さらに均質化させた。存在する場合は、相Cをultra turraxデバイスで予備混合し、相A及びBに添加した。続いて、日焼け止め組成物を撹拌しながら室温に冷却し、各組成物のpHを7.00超に調節した。
日焼け止め組成物の製造方法
各被験日焼け止め組成物について、以下の表7に示される通りの部Aの成分及び部Bの成分を合わせ、それぞれ80℃に加熱し、ここで、撹拌しながら部Aを部Bに添加し、さらに均質化させた。存在する場合は、相Cをultra turraxデバイスで予備混合し、相A及びBに添加した。続いて、日焼け止め組成物を撹拌しながら室温に冷却し、各組成物のpHを7.00超に調節した。
日焼け止め組成物
上で定義される通りの日焼け止め組成物を、粗面化石英プレートに適用する(2μl/cm2)。Atlas CPSデバイスを使用して異なる持続時間でプレートに照射する(MED=最小紅斑線量):
- 0時間(0MED、照射なし)
- 2時間(10MED)、
- 10時間(50MED)。
- 0時間(0MED、照射なし)
- 2時間(10MED)、
- 10時間(50MED)。
合計で、各照射条件について4つのプレートを調製する。照射後、各プレートをテトラヒドロフランですすぐ。すすぎ液を、HPLCを介してさらに分析してTDSAの回収率を決定する。
特に好ましい実施形態では、本発明は、以下のさらなる項目に関する。
1. (i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物。
2. パラベンを含まない、項目1に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
3. 少なくとも1種の水溶性UVAフィルターが、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム及びその組合せからなる群から選択される、項目1又は2に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
4. トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む、項目1～3のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
5. 少なくとも1種のさらなるUVAフィルターが、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される、項目4に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
6. 4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む、項目1～5のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
7. 2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイ皮酸エチルヘキシル)を含まない、項目1～6のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
8. フェノキシエタノールを含まない、項目1～7のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
9. 組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む、項目1～8のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
10. 組成物の総重量に対して0.1重量%～10重量%の量、好ましくは0.3重量%～5重量%の量、より好ましくは0.5重量%～3重量%の量の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む、項目1～9のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
11. (i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
パラベンを含まない、項目1～10のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
12. (RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない、項目1～11のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
13. 布の汚染を低減するための、項目1～12のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用。
14. 布地からの洗浄性を促進するための、項目1～12のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用。
1. (i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物。
2. パラベンを含まない、項目1に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
3. 少なくとも1種の水溶性UVAフィルターが、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム及びその組合せからなる群から選択される、項目1又は2に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
4. トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む、項目1～3のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
5. 少なくとも1種のさらなるUVAフィルターが、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される、項目4に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
6. 4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む、項目1～5のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
7. 2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイ皮酸エチルヘキシル)を含まない、項目1～6のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
8. フェノキシエタノールを含まない、項目1～7のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
9. 組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む、項目1～8のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
10. 組成物の総重量に対して0.1重量%～10重量%の量、好ましくは0.3重量%～5重量%の量、より好ましくは0.5重量%～3重量%の量の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む、項目1～9のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
11. (i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジカンファースルホン酸)及び/又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムである少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、
2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まず、
パラベンを含まない、項目1～10のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
12. (RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない、項目1～11のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
13. 布の汚染を低減するための、項目1～12のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用。
14. 布地からの洗浄性を促進するための、項目1～12のいずれか1つに記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用。
Claims (12)
- (i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウムから選択される少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)、エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)及び2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)アクリレート(INCIメトキシケイヒ酸エチルヘキシル)を含まない、日焼け止め又はデイリーケア組成物。 - パラベンを含まない、請求項1に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のさらなるUVAフィルターを含む、請求項1又は2に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- 少なくとも1種のさらなるUVAフィルターが、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(2-エチルヘキシルオキシメチル)-4-メチル-フェノール及びその組合せからなる群から選択される、請求項3に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- 4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、マロネート誘導体、例えば、ベンザルマロン酸ジエチルジメチコン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン及びその組合せからなる群から選択される少なくとも1種のUVBフィルターをさらに含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- フェノキシエタノールを含まない、請求項1から5のいずれか一項に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- 組成物の総重量に対して1重量%～10重量%の量のヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル)を含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- 組成物の総重量に対して1重量%～8重量%の量、好ましくは1重量%～7重量%の量、より好ましくは1重量%～6重量%の量の少なくとも1種の水溶性UVAフィルターを含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- (RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIサリチル酸エチルヘキシル)及び3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)を含まない、請求項1から8のいずれか一項に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- 少なくとも1種の香料を含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の日焼け止め又はデイリーケア組成物。
- 布の汚染を低減するための日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用であって、組成物が、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、使用。 - 布地からの洗浄性を促進するための日焼け止め又はデイリーケア組成物の使用であって、組成物が、
(i)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル);及び
(ii)少なくとも1種の水溶性UVAフィルター
を含み、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(INCIオキシベンゾン)及びエチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニル-アクリレート(INCIオクトクリレン)を含まない、使用。
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