KR20220146834A - 금속박막 제조장치 - Google Patents
금속박막 제조장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220146834A KR20220146834A KR1020210053583A KR20210053583A KR20220146834A KR 20220146834 A KR20220146834 A KR 20220146834A KR 1020210053583 A KR1020210053583 A KR 1020210053583A KR 20210053583 A KR20210053583 A KR 20210053583A KR 20220146834 A KR20220146834 A KR 20220146834A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- titanium
- thin film
- electrolyte
- metal thin
- plate
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 113
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 113
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 title description 10
- 239000011888 foil Substances 0.000 title description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 126
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 120
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 120
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 100
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 60
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 10
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 titanium hydride Chemical compound 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000005493 welding type Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0685—Spraying of electrolyte
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
본 명세서는 티타늄 판이 일 방향으로 연결되는 티타늄 회전판, 상기 티타늄 판과 대응되는 복수의 전해셀 및 상기 티타늄 판과 상기 복수의 전해셀을 전기적으로 연결하는 전극부를 포함하며, 상기 복수의 전해셀은, 상기 티타늄 판과 대면하여 위치한 양극재, 상기 양극재와 상기 티타늄 회전판 사이에 충진되는 전해액, 상기 전해액을 공급하는 전해액 공급노즐이 포함되어, 상기 복수의 전해셀은 상기 티타늄 판과 전해주조(electroforming) 하여 금속박막을 제조하는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치에 관한 것이다.
Description
본 발명은 끊김없는 판 링(Endless plate ring) 구조의 티타늄 음극 판과 복수의 전해셀을 포함하는 수직구조 형태의 금속박막 제조장치에 관한 것이다.
전자기기산업이 발전함에 따라, 각종 회로도체 및 이차전지에서 음극 집전체 등으로 사용하는 금속 박막의 수요가 증가하고 있다. 그 중 동박은 가격에 비해 전기적 특성이 우수하다는 장점이 있어서 이차 전지의 집전체 또는 인쇄 회로 기판(PCB)의 주요 소재로 각광받고 있다.
통상적으로 상기 동박은 표면에 티타늄이 코팅된 드럼(Drum)과 양극으로 작용하는 불용성 양극재를 전해액에 담구고, 상기 드럼과 양극재에 전류를 통전한 상태에서 드럼을 일 방향으로 회전하여 전해동박을 석출하는 전해주조(electroforming) 방식으로 제조할 수 있다.
실제로, 대한민국 공개특허 제10-2019-0052895호에서는 후처리 공정이 제거된 전해동박 제조 장치를 개시하고 있으며, 대한민국 공개특허 제10-2015-0031388호에서는 불용성 전극을 포함하는 전해동박 장치를 개시하고 있다.
하지만 상술된 문헌들에 제시된 방법은 하나의 드럼에 하나의 전해액만을 제공하여 전해석출층을 다양화 하기에는 어려움이 있었다. 또한, 전해석출층을 다층으로 제작하기 위해서는 둘 이상의 드럼이 요구되어 생산 구조 특성상 실용화가 어려울 뿐 아니라 생산비가 증가하는 단점이 있다.
이러한 이유로, 단층 또는 다층의 금속 박막을 손쉽게 제작 가능하며, 둘 이상의 전해석출층이 포함된 박막을 제조할 수 있는 금속 박막 제조장치가 요구되고 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 티타늄 판과 복수의 전해셀을 포함하여, 단층 또는 다층의 금속박막을 용이하게 제조하는 끊김없는 판 링(Endless plate ring)구조의 금속박막 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예는 복수의 티타늄 판이 일 방향으로 연결되는 티타늄 회전판, 상기 복수의 티타늄 판과 대응되는 복수의 전해셀 및 상기 복수의 티타늄 판과 상기 복수의 전해셀을 전기적으로 연결하는 전극부를 포함하며, 상기 복수의 전해셀은, 상기 티타늄 판과 대면하여 위치한 양극재 및
상기 각각의 전해셀에 전해액을 공급하는 전해액 공급노즐이 포함되어, 상기 복수의 전해셀은 상기 복수의 티타늄 판과 전해주조(electroforming) 하여 금속박막을 제조하는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 전해액 공급노즐은 상기 티타늄 판 일 면에 전해액을 분사할 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 양극재는 용해성을 가지며, 금속 볼(Soluble metal ball) 형태로 제공될 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 티타늄 회전판은 고리 형상으로 형성될 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 하나 이상의 전해액을 저장하는 전해액 저장부를 더 포함하며 상기 복수의 전해셀은 기 저장된 전해액 중 선택된 어느 하나의 전해액이 공급될 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 복수의 전해셀 중 선택되는 어느 하나 이상의 전해셀에 제1 전해액이 공급되며, 다른 하나 이상의 전해셀에 제1 전해액과 다른 제2 전해액이 공급될 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 티타늄 회전판의 내측면 및 외측면에 형성되며, 상기 티타늄 회전판을 일 방향으로 회전시키는 복수의 전도롤이 포함될 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 티타늄 회전판과 상기 복수의 전도롤 사이에 절연 코팅층이 형성된 보강층이 삽입될 수 있다.
상기 일 실시예에 있어서, 상기 복수의 티타늄 판은 서로 용접 연결되며, 상기 용접 후 500 내지 700℃에서 10 내지 100분 동안 열처리될 수 있다.
본 발명에 따른 금속박막 제조장치는 복수의 티타늄 판을 끊김없는 판 링(Endless plate ring)구조로 연결하고 전해셀을 포함하여, 각 전해셀 당 전해액의 종류, 농도, 전류밀도 등 공정 조건을 독립적으로 조절할 수 있다. 이를 통해, 단층 또는 다층의 금속박막을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 양극재를 용해성 금속 볼(Soluble metal ball)또는 용해성 금속 조각(Soluble metal plate)으로 제공함으로써, 제조 과정에서 산소가스가 발생하여 금속 박막의 품질이 감소하는 것을 방지할 수 있으며, 동시에 전해전압을 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 금속박막 제조장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 티타늄 회전판을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전해셀을 설명하기 위한 평면도이다.
도 3b는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전해셀을 설명하기 위한 정면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 금속박막 제조장치의 평면도이다.
이하 본 발명에 따른 금속박막 제조장치에 대하여 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있으며, 이하 제시되는 도면들은 본 발명의 사상을 명확히 하기 위해 과장되어 도시될 수 있다. 이 때, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.
본 발명의 일 특징은 하나의 티타늄 판이 일 방향으로 연결되어 하나의 음극 회전판을 구성하며, 상기 음극 회전판에 복수의 전해셀이 전해주조하여 금속박막을 제조하는 금속박막 제조장치에 관한 것이다.
본 발명에서 티타늄 회전판은 복수의 티타늄 판을 일 방향으로 용접 연결하고, 상기 연결된 티타늄 판의 양 끝을 고리(Ring) 형상으로 용접한 회전판을 의미한다. 즉, 상기 티타늄 회전판은 복수의 티타늄 판을 용접하여 끊김없는 판 링(Endless plate ring)형태로 제공될 수 있다.
본 발명에서 전해셀은 상기 티타늄 회전판의 원호부에 위치하며, 끊임없는 판 링 형상으로 제공되는 상기 티타늄 회전판과 전해주조(electroforming) 하여 금속박막을 제조할 수 있다.
구체적으로, 상기 전해셀은 상기 티타늄 판과 대면하여 위치한 양극재, 상기 양극재와 상기 티타늄 판 사이에 충전되는 전해액 및 상기 전해액을 공급하는 전해액 공급노즐이 포함되어, 상기 티타늄 판이 음극, 상기 양극재가 양극으로 대전되어 상기 전해액에 용해된 금속을 상기 티타늄 판에 전착시켜 금속박막을 제조할 수 있다.
본 발명에서 금속박막은 전기 도금 방식 제조되는 박막, 더 바람직하게는 전해주조(electroforming) 방식으로 제조되는 금속 박막을 의미할 수 있으며, 더욱 더 바람직하게는 전해주조 방식으로 제조되는 전해 동박일 수 있다. 이하, 본 명세서에서 금속박막은 전해동박인 것을 예시로 설명하나 이에 한정되는 것이 아니며, 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co) 및 이를 포함하는 합금으로 제공되는 박막을 의미할 수 있다.
즉, 본 발명의 실시 예에 따른 금속박막 제조장치는 복수의 티타늄 판을 고리 형상으로 용접한 티타늄 회전판과, 상기 티타늄 회전판과 전해주조 하는 복수의 전해셀을 포함하여 금속박막의 단면 구조를 다양화 할 수 있으며, 금속박막에 전해석출층을 포함하여, 다층의 금속박막을 제공할 수 있다.
기존의 금속박막 제조장치는 음극으로 대전된 드럼(drum)을 전해액에 담근 후 상기 드럼을 일 방향으로 회전하여 전해동박을 제조하였다. 구체적으로 상기 드럼의 외피를 티타늄(Ti)으로 제공하고, 상기 티타늄(Ti) 드럼과 양극 판을 전해액에 담군 후 음극 전극과 양극 판에 전기를 인가한 상태로 드럼을 회전시켜, 음극 회전 드럼의 표면에서 구리를 석출하는 방식으로 전해동박을 제조하였다.
상술한 방법은 드럼의 회전 속도를 일정하게 유지하는 것 만으로 균일하고 안정적인 금속박을 대량으로 제조할 수 있다는 장점이 있으나, 다양한 전기적 특성을 가진 금속 박막을 제조하기 어렵다는 단점이 있다. 또한, 제조된 전해동박에 전해석출층을 추가하기 위해서는 또 다른 드럼이 요구된다는 단점이 있다. 이는 금속박막의 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 하는데 많은 어려움이 있다.
하지만, 본 발명의 실시 예에 따른 금속박막 제조장치는 복수의 티타늄 판을 끊김없는 판 링(Endless plate ring)형태로 연결한 Ti 회전판 및, 상기 Ti 회전판에 대응하는 복수의 전해셀을 포함할 수 있으며, 상기 Ti 회전판을 음극, 상기 복수의 전해셀을 양극으로 통전하여 금속박막을 제조할 수 있다.
또한, 상기 복수의 전해셀에서 전해액의 농도, 전류밀도 등 공정 조건을 독립적으로 제공하여 금속박막의 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 할 수 있다.
예를 들어, 각각의 전해셀에 서로 다른 전해액을 투입하여 둘 이상의 금속을 포함하는 다층의 금속박막을 제조할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제1 실시 예에 따른 금속박막 제조장치에 대해 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 금속박막 제조장치의 평면도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 티타늄 회전판을 설명하기 위한 도면이고, 도 3a는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전해셀을 설명하기 위한 평면도이고, 도 3b는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전해셀을 설명하기 위한 정면도이다.
도 1 내지 3을 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 금속박막 제조장치(1000)는 티타늄 회전판(100), 복수의 전해셀(300), 권취 롤(500) 및 전극부(미도시)가 포함될 수 있다.
상기 티타늄 회전판(100)은 복수의 티타늄(Ti) 판(110)이 고리 형상, 더 바람직하게는 끊김없는 판 링(Endless plate ring)형태로 제공될 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 티타늄 회전판(100)은 전극부를 통해 음극으로 통전될 수 있으며, 더 바람직하게는 양극으로 통전되는 양극재(310) 및 전해액과 전해주조(electroforming) 하여 금속박막(Foil, 도 1에서 T)을 제조할 수 있다.
도 2를 참조하면, 상기 티타늄 회전판(100)은 복수의 티타늄 판(110)이 용접을 통해 서로 연결될 수 있으며, 더 바람직하게는 티그(Tig) 용접을 통해 연결될 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 티타늄 판(110)은 0.1 내지 2m의 폭과 5 내지 50m 길이 및 1 내지 30㎜의 두께를 갖는 플레이트(Plate) 형태로 제공될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 제조환경에 따라 얼마든지 변경 가능할 수 있음은 물론이다.
또한, 티타늄 회전판(100)의 외측면은 금속박막(T)이 형성될 수 있으며, 상기 티타늄 회전판(100)의 내측면 및 외측면 중 어느 하나 이상의 면에 복수의 전도롤(130)이 형성될 수 있다.
상기 전도롤(130)은 상기 티타늄 회전판(100)을 대전시키는 역할을 수행할 수 있으며, 상기 티타늄 회전판(100)을 일 방향으로 회전시키는 구동롤의 역할 또한 수행할 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 전도롤(130)은 상기 티타늄 회전판(100)의 내측면 및 외측면 중 어느 하나 이상의 면에 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 전도롤(130)은 도 1과 같이 상기 티타늄 회전판(100)의 양측면에 형성될 수 있다. 또는 상기 티타늄 회전판(100)의 내측면과 외측면 중 선택되는 어느 하나의 면에만 형성될 수 있다. 이하 본 명세서에서는 상기 전도롤(130)이 상기 티타늄 회전판(100)의 내측면 및 외측면 모두 형성된 상태인 것을 예를 들어 설명하나 이에 한정되지 않으며, 내측면과 외측면 중 어느 하나의 면에 형성될 수 있음은 자명하다. (발명의 권리범위를 넓히기 위해 전도롤이 양쪽에 형성될 수 있고, 어느 한쪽에도 형성될 수 있다고 수정하였습니다.)
실시 예에 따르면, 상기 티타늄 판(110)은 용접 조립 후 열처리를 수행할 수 있다. 이를 통해, 상기 티타늄 판(110)이 서로 강하게 결합할 수 있으며, 결합하는 과정에서 형성된 응력을 제거 하여 박막이 제조 과정에서 변형되거나 박리가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
이 때, 상기 열처리는 500 내지 700℃에서 10 내지 100분 동안 수행되는 것이 바람직한데, 상기 열처리가 500℃ 미만 또는 10분 미만으로 수행되면, 상기 티타늄 판(110)과 상기 고정대(130) 사이 응력이 남아있어서 상기 금속박막이 제조되는 과정에서 변형, 박리가 발생될 수 있다.
반대로 상기 열처리가 700℃ 또는 100분을 초과하여 수행되면, 생산성이 감소할 수 있으며, 열변형이 발생될 수 있다.
이러한 이유로 상기 열처리는 500 내지 700℃에서 10 내지 100분 동안 수행될 수 있으며, 더 바람직하게는 600 내지 650℃에서 30 내지 50분 동안 수행될 수 있다.
도 2의 (b)를 참조하면, 용접으로 연결된 상기 티타늄 판(110)과 상기 복수의 전도롤(130) 사이에 보강층(150)이 삽입될 수 있다.
상기 보강층(150)은 상기 티타늄 판(110)의 강도를 보강할 수 있으며, 상기 티타늄 판(110)의 내측면에 형성될 수 있다. 이를 통해 상기 보강층(150)은 상기 금속박막(T)이 상기 티타늄 판(110)의 내측면에 형성되는 것을 방지할 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 보강층(150)은 폴리머 등 절연성이 있는 비금속으로 제공될 수 있으며, 또는 외부에 절연 코팅이 형성된 금속으로 제공될 수 있다.
상기 복수의 전해셀(300)은 상기 티타늄 회전판(100)의 외각에 위치할 수 있으며, 상기 복수의 티타늄 판에 전해액을 공급할 수 있다.
도 3a 내지 도 3b를 참조하면, 상기 전해셀(300)은 양극재(310) 및 전해액 공급노즐(330)을 포함할 수 있으며, 더 바람직하게는 소정의 케이스(370) 내부에 양극재(310) 및 전해액 공급노즐(330)을 포함할 수 있다. 이를 통해, 상기 전해셀(300)은 상기 전해액 공급노즐을 통해 상기 전해셀(300) 내부로 전해액을 공급할 수 있다.
상기 양극재(310)는 상기 티타늄 판(110) 대면하여 위치할 수 있으며, 더 바람직하게는 상기 티타늄 회전판(110)의 외측면과 소정 거리 이격되어 용접 연결된 상기 티타늄 판(110)과 마주보는 방향에 형성될 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 양극재(310)는 루테늄(Ru), 이리늄(Ir), 탄탈륨(Ta)등을 코팅한 불용성 전극으로 제공될 수 있으며, 또는 전해액에 일부 또는 전부가 용해될 수 있는 용해성을 가진 금속 볼(Metal ball) 또는 미량의 크기를 가진 금속 조각(Metal plate)로 제공될 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 양극재(310)가 상기 용해성 금속 볼(Soluble metal ball)또는 용해성 금속 조각(Soluble metal plate)의 형태로 제공되는 경우, 상기 금속 볼 또는 금속 조각이 구리 볼(Copper ball) 또는 구리 조각(Copper plate)로 제공할 수 있다.
일반적으로 기존의 금속박막 제조장치는 전해액에 용해되지 않는 불용성 양극재를 사용하며, 상기 양극재를 음극의 역할을 수행하는 대형 드럼과 함께 전해액에 침지한 상태에서 전류를 가해 박막을 제조하게 된다.
하지만 상술한 방법은 전해과정 중 양극에서 과량의 산소(O2)가, 음극에서 소량의 수소(H2)가 발생할 수 있다.
상기 양극에서 발생한 과량의 산소(O2)는 전착되는 금속표면에 부착되어 표면결함을 유발할 수 있으며, 금속박막의 일부를 산화시켜 전기적 특성을 약화할 수 있다.
또한, 상기 음극에서 발생한 소량의 수소(H2) 중 일부는 음극으로 작용하는 티타늄에 일부가 흡수확산될 수 있다. 이는 기존의 드럼(Drum)형 방식에서는 음극에서 발생한 수소(H2)가 외부로 빠져나가는 경로가 길고 좁기 때문에 모두 방출되기는 어렵기 때문이다. 상기 수소가 티타늄에 흡수확산되면, 티타늄 하이드라이드(TiH2)가 형성될 수 있다. 상기 티타늄 하이드라이드(TiH2)는 순수한 티타늄 금속에 비해 경도가 낮아 쉽게 탈착될 수 있다. 이는 음극 드럼(Drum)의 수명을 감소시키며, 금속박막의 표면에 불량을 야기할 수 있다.
이를 방지하기 위해 본 발명은 상기 양극재(310)를 상기 전해액에 용해 가능한 구리(Cu)로 제공할 수 있으며, 더 바람직하게 금속 볼(Soluble metal ball)또는 용해성 금속 조각(Soluble metal plate) 형태로 제공하여 상기 전해액과 접하는 표면적을 최대로 증가시킬 수 있다. 즉, 본 발명은 상기 양극재(310)를 상기 전해액에 용해시켜 산소(O2)가 양극재 표면에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 양극재(310)는 상기 전해주조가 진행될수록 상기 전해액에 용해됨에 따라, 사용자는 상기 양극재(310)의 잔류량을 육안으로 확인하여 상기 양극재(310)를 교체할 수 있으며, 상기 양극재(310)의 잔류량에 따라 유속량 및 유속방향을 적절하게 제어할 수 있다. 이를 통해, 상기 양극재(310)의 교체주기를 확인하고, 공정조건을 최적화 하기 용이하는 장점이 있다.
또한, 상기 양극재(310)는 통상적인 불용성 양극재에 비해 동일한 이온화 과정에서 요구되는 전압이 상대적으로 작기 때문에, 적은 전압으로도 동일한 효과를 수행할 수 있다. 이러한 특징으로 본 발명의 실시 예에 따른 양극재(310)는 통상적인 불용성 양극재에 비해 전력비를 감소시킬 수 있다.
이에 한정되지 않으며, 동일한 효과를 구현할 수 있는 다른 형태로 변환할 수 있음은 자명하다.
상기 전해액 공급노즐(330)은 전해액을 전해셀 내부로 공급하는 역할을 수행하며, 더욱 바람직하게는 상기 양극재(310) 일 면을 관통하여 상기 양극재(310)와 상기 티타늄 판(110) 사이에 전해액을 공급할 수 있다.
이 때, 상기 전해액은 전해주조(electroforming)법에서 통용되는 일반적인 전해액일 수 있으며, 더 바람직하게는 황산구리(CuSO4)로 제공될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
도 3b를 참조하면, 상기 전해액 공급노즐(330)은 상기 양극재(310)의 후면부에 위치하며, 상기 양극재(310)를 관통하는 관통구멍(335)이 형성될 수 있다. 상기 관통구멍(335)을 통해 상기 전해액을 상기 양극재(310)와 상기 티타늄 판(110) 사이에 전해액을 지속적으로 공급할 수 있다. 이를 통해 상기 양극재(310)와 상기 티타늄 판(110)은 항상 상기 전해액에 충진된 상태를 유지할 수 있다.
상기 케이스(370)는 상기 양극재(310) 및 상기 전해액 공급노즐(330)을 덮어 외부로 노출되지 않도록 보호할 수 있으며, 상기 전해액이 상기 전해셀 내부에 충진되도록 밀봉할 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 전해셀(300)은 상기 전해액 공급노즐(330)에서 공급된 전해액을 회수하는 전해액 회수장치를 더 포함할 수 있다. 상기 전해액 회수장치는 각각의 전해셀(300)로 공급되는 전해액 및 상기 상기 티타늄 판(110)과 상기 케이스(370) 사이의 틈으로 노출되는 전해액을 회수할 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 전해셀(300)은 상기 전해액 회수장치에서 회수된 전해액을 다시 전해액 공급노즐(330)로 재공급하는 전해액 순환장치(미도시)를 더 포함할 수 있다. 이를 통해 상기 전해셀(330)은 상기 케이스(370) 내부로 공급되는 전해액을 지속적으로 순환시켜 상기 양극재(310)와 상기 티타늄 판(110)이 항상 상기 전해액으로 충진된 상태를 유지시킬 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 금속박막 제조장치(1000)는 하나 이상의 종류의 전해액을 분리 저장하는 전해액 저장부를 더 포함할 수 있으며, 상기 전해액 저장부에 기 저장된 전해액 중 선택된 어느 하나의 전해액을 상기 전해액(330) 공급노즐을 통해 어느 하나 이상의 전해셀 내부로 공급할 수 있다.
예를 들어, 상기 복수의 전해셀(300)이 제1 전해셀 및 제2 전해셀을 포함하는 경우, 상기 금속박막 제조장치(1000)는 제1 전해셀에 제1 전해액을 공급할 수 있으며, 제2 전해셀에 제2 전해액을 공급할 수 있다. 이 때, 상기 제1 전해액과 제2 전해액은 동일한 종류의 전해액일 수 있으나, 다른 종류의 전해액일 수 있다. 또는 상기 제1 전해액과 제2 전해액은 동일한 종류의 전해액이나, 농도가 다른 전해액일 수 있으며, 종류 및 농도가 동일하나 다른 첨가물질이 첨가된 전해액일 수 있다.
이를 통해, 상기 금속박막 제조장치(1000)는 하나의 장치로 금속박막의 단면구성을 단층 또는 다층으로 제공할 수 있으며, 상기 금속 박막이 다층 구조를 가질 때 각 층을 동일한 또는 서로 다른 금속으로 제공할 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 상기 권취 롤(500)은 상기 티타늄 회전판(100)으로부터 연속적으로 배출되는 금속박막(T)이 감겨질 수 있다. 구체적으로 본 발명의 실시 예에 따른 금속박막 제조장치(1000)는 상기 티타늄 회전판(100)에서 금속박막(T)을 박리(peeling off)하여 상기 권취 롤(500)에 감아 보관할 수 있다.
도면에는 개시되지 않았으나, 상기 티타늄 회전판(100)과 상기 권취 롤(500) 사이에는 복수의 회전 롤(미도시)이 포함되어 상기 금속박막(T)의 장력을 조절할 수 있다.
또한, 실시 예에 따르면, 상기 티타늄 회전판(100)과 상기 권취 롤(500) 사이에는 상기 금속박막의 이물질을 제거하는 세척부(미도시)가 포함될 수 있다. 이를 통해, 상기 금속박막의 석출면에 이물질을 제거하고, 표면을 고르게 관리할 수 있다.
마지막으로, 상기 전극부(미도시)는 상기 티타늄 회전판(100)에 전류를 공급하여, 상기 티타늄 회전판(100)을 음극으로 대전시킬 수 있다. 아울러, 상기 양극재(310)에는 별도의 부스 바(bus bar)를 연결하여 상기 양극재(310)을 양극으로 대전시킬 수 있다. 이를 통해, 전해액 내 금속을 전착(electrodeposited)되어 연속적인 금속박막(T)을 제조할 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 전극부는 상기 티타늄 회전판(100) 중 용접 연결된 티타늄 판(110)에 직접 전류를 공급하여 음극으로 대전시킬 수 있으며, 또는 상기 티타늄 판(110) 후면에 형성된 복수의 전도롤(130)에 전류를 공급하여 상기 티타늄 회전판(100)을 음극으로 대전시킬 수 있다.
실시 예에 따르면, 상기 전극부는 상기 양극재에 양극 전류량을 조절함으로써, 복수의 전해셀(300)의 전류밀도를 독립적으로 제어할 수 있다.
예를 들어, 상기 복수의 전해셀(300)이 제1 전해셀(300a) 및 제2 전해셀(300b)을 포함하는 경우, 상기 제1 전해셀(300a)에 포함된 양극재(310a) 및 상기 제2 전해셀(300b)에 포함된 양극제(310b)에 동일한 전류를 주입하여 제1 전해셀(300a)와 제2 전해셀(300b)이 동일한 전류밀도를 갖도록 조절할 수 있다.
또는, 상기 제1 전해셀(300a)에 포함된 양극재(310a)에는 제1 전류를 주입하고, 제2 전해셀(300b)에 포함된 양극제(310b)에는 제1 전류와 다른 제2 전류를 주입하여 제1 전해셀(300a)와 제2 전해셀(300b)가 서로 다른 전류밀도를 갖도록 조절할 수 있다.
즉, 상기 금속박막 제조장치(1000)는 상기 전해셀(300)에 따라 동등 또는 다른 전류밀도를 제공하여 상기 금속박막의 두께, 전기전도성 등 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 할 수 있다.
이상 본 발명의 제1 실시 예에 따른 금속박막 제조장치를 설명하였다. 이하 도 4를 통해 본 발명의 제2 실시 예에 따른 금속박막 제조장치를 설명한다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 금속박막 제조장치의 평면도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 금속박막 제조장치는 제1 실시 예와는 다르게 상기 티타늄 회전판(100)은 보강층(150)을 더 포함할 수 있다.
상기 보강층(150)은 상기 복수의 티타늄 판(110)의 내측면에 형성될 수 있으며, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 티타늄 판(110)의 강도를 보강할 수 있다. 상기 보강층(150)에 대한 구체적인 설명은 서두에 기재하였기에 생략하도록 한다.
도면에는 개시되지 않았으나, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 금속박막 제조장치는 상기 보강층(150)을 일 방향으로 회전시키는 모터를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2 실시 예에 따른 전극부(미도시)는 용접 연결된 상기 티타늄 판(110)에 직접 전류를 공급하여 상기 티타늄 회전판(100)을 음극으로 대전시킬 수 있다.
이상 설명한 본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 금속박막 제조장치(1000)는 티타늄 판(110)이 일 방향으로 연결되는 티타늄 회전판(100), 상기 티타늄 판과 대응되며, 상기 티타늄 판과 전해주조(electroforming) 하여 금속박막을 제조하는 복수의 전해셀(300)이 포함될 수 있다.
아울러, 각각의 전해셀(300)의 전해액의 종류, 농도, 전류밀도 등 공정 조건을 독립조절하여 제공하여 금속박막의 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 할 수 있다. 이를 통해 단층 또는 다층의 금속박막을 제조할 수 있으며, 금속박막의 각 부위에 따른 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 할 수 있다.
이상 설명한 본 발명의 실시 예에 따른 금속박막 제조장치(실시예)와 통상적인 티타늄 음극 드럼(Drum)형 금속박막 제조장치(비교예)의 차이점을 하기 표 1에 정리하였다.
| 비교예(Drum 형) | 실시예(무한궤도 형) | |
| 음극의 형태 | 티타늄이 코팅된 드럼형 음극 | 복수의 티타늄 판이 용접 연결된 고리형 음극 |
| 양극의 종류 | 납(Pb) 등을 포함하는 불용성 산화 전극 및 루테늄(Ru), 이리늄(Ir), 탄탈륨(Ta) 등을 포함하는 불용성 전극 | 루테늄(Ru), 이리늄(Ir), 탄탈륨(Ta) 등을 포함하는 불용성 전극 또는 구리 등 용해성 금속 볼(Metal ball) |
| 양극의 용해성 | 불용성만 가능 | 불용성 / 용해성 모두 가능 |
| 전해조 | 1개 | 복수의 전해셀 포함 |
| 전해액 | 단일 종류의 전해액만 가능 | 다양한 종류의 전해액 공급 가능 |
| 전압 | 평균 6 내지 10 V | 평균 2 내지 3V |
| 전해석출층 | 단일층 | 단일 / 다층 모두 가능 |
| 이종의 전해석출층 | 불가능 | 가능 |
| 전해셀 구조 | 수평방향 | 수직형 방향 |
| 설비 유지 보수 및 관리의 용이성 | 유지 보수 및 관리가 불편하고 많은 시간이 소요됨 | 유지 보수 및 관리가 용이하고 신속한 대응 가능 |
통상적인 티타늄 음극 드럼(Drum)형 금속박막 제조장치(비교예)는 원재료로 동전선 스크랩(Scrap)을 사용한다. 구체적으로 폐 피복동전선을 기계를 사용하여 적정 크기로 자르고, 이 후 압축공기를 불어넣어 표면이 산화된 동전선 스크랩을 준비한다.
상기 표면이 산화된 동전선 스크랩을 대형 용해조 탱크에 잠입한 후 황산용액으로 용해하여 전해액을 제조한다. 구체적으로 동전선 스크랩 약 100 g 당 lL의 황산용액으로 용해하여 결과적으로 황산 100 내지 200g/L, 동이온 50 내지 100glL가 혼합된 전해액을 준비한다. 이 때, 상기 전해액은 유기질 및 무기질 불순물이 존재하기 때문에 활성탄(Active carbon) 필터를 사용하여 불순물을 제거하는 과정이 요구된다.
상술한 방법으로 제조된 전해액은 음극으로 작용하는 티타늄이 코팅된 드럼과 양극으로 작용하는 불용성 양극재 사이로 공급되고, 상기 드럼과 양극재에 전류를 통전한 상태에서 드럼을 일 방향으로 회전하여 금속박막을 석출할 수 있다.
구체적으로 불용성 양극재에서 발생한 산소 이온(O-)이 산소(O2)가스로 변화하면서 생성된 전자를 티타늄 음극 드럼에 전달하여 전해액중에 구리(Cu2+) 이온이 반응하여 전해동박이 형성된다.
하지만 상술한 과정은 하나의 드럼에 단일 종류의 전해액만 공급 가능하기 때문에 단일 종류의 금속 박막만을 얻을 수 있으며, 하나의 장치로 둘 이상의 금속을 포함하는 이종의 전해석출층을 형성하는 것이 매우 어렵다.
아울러, 상기 티타늄 음극 드럼(Drum)형 금속박막 제조장치는 금속 박막의 두께를 제어하는 방법으로는 음극 드럼의 회전 속도라는 하나의 변수만을 통해 조절해야 한다. 이는 금속 박막의 경도, 인장강도 및 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 시키기 어려운 이유가 된다.
하지만 본 발명의 실시 예에 따른 금속박막 제조장치는 복수의 전해셀을 통해 전해액을 공급할 수 있으며, 각 전해셀 당 전해액의 종류, 농도, 전류밀도 등 공정 조건을 독립적으로 조절하여 금속박막의 전기적, 물리적 특성 및 기계적 특성을 다양화 할 수 있다. 아울러 복수의 전해셀로 인하여 단층 또는 다층의 금속박막을 제조하기 용이하다는 장점을 가진다.
예를 들어, 제1 전해셀에 구리가 포함된 전해액을 주입할 수 있다. 이 상태에서, 음극과 양극 사이에 10 내지 90 A/dm2 의 전류밀도를 형성하도록 전류를 주입하여 전해동박을 석출할 수 있다.
이후, 제2 전해셀에서는 제1 전해셀과 동일한 전해액을 주입하되, 전류밀도를 다르게 형성하여 전해동박의 두께를 조절할 수 있다. 또는 제2 전해셀에 구리가 아닌 다른 금속이 포함된 전해액을 주입하여 이종의 전해석출층을 형성할 수 있다.
이상 본 명세서에서는 제1 전해셀과 제2 전해셀에서의 석출 조건만을 설명하였으나, 이에 한정된 것이 아니며, 제3 제4 또는 그 이상의 전해셀에서 각각 독립적으로 석출층을 형성할 수 있음은 자명하다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
1000: 금속박막 제조장치
100: 티타늄 회전판
110: 티타늄 판
130: 전도롤
300: 복수의 전해셀
310: 양극재
330: 전해액 공급노즐
500: 권취롤
Claims (9)
- 복수의 티타늄 판이 용접 연결되는 티타늄 회전판;상기 티타늄 회전판의 외각에 위치하며, 상기 티타늄 판에 전해액을 공급하는 복수의 전해셀; 및상기 각각의 티타늄 판과 상기 복수의 전해셀을 전기적으로 연결하는 전극부;를 포함하며, 상기 복수의 전해셀은, 상기 전해셀 내부에 위치하며, 상기 티타늄 판과 대면하여 위치한 양극재; 및상기 티타늄 판과 상기 양극재 사이에 전해액을 공급하는 전해액 공급노즐;이 포함되어, 상기 복수의 전해셀은 상기 티타늄 판과 전해주조(electroforming) 하여 금속박막을 제조하는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 전해액 공급노즐은 상기 티타늄 판 일 면에 전해액을 분사하는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 양극재는 용해성을 가지며, 금속 볼(Soluble metal ball) 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 1 항에 있어서,하나 이상의 전해액을 저장하는 전해액 저장부를 더 포함하며상기 복수의 전해셀은 기 저장된 전해액 중 선택된 어느 하나의 전해액이 공급되는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 복수의 전해셀 중 선택되는 어느 하나 이상의 전해셀에 제1 전해액이 공급되며, 다른 하나 이상의 전해셀에 제1 전해액과 다른 제2 전해액이 공급되는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 전극부는 상기 티타늄 판 중 어느 하나 이상의 티타늄 판에 제1 전류를 공급하며, 다른 하나 이상의 티타늄 판에 제1 전류와 동일 또는 상이한 제2 전류를 공급하는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 복수의 전해셀 사이에 삽입되며, 상기 티타늄 회전판을 일 방향으로 회전시키는 복수의 전도롤이 포함되는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 전도롤은 상기 금속박막의 표면을 세척하는 세척부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 티타늄 판 사이에 삽입되며, 상기 티타늄 판의 양 단을 고정하는 고정대가 포함되는 것을 특징으로 하는, 금속박막 제조장치.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210053583A KR102515268B1 (ko) | 2021-04-26 | 2021-04-26 | 금속박막 제조장치 |
| PCT/KR2022/004560 WO2022231143A1 (ko) | 2021-04-26 | 2022-03-31 | 금속박막 제조장치 |
| CN202280031118.3A CN117203374A (zh) | 2021-04-26 | 2022-03-31 | 金属薄膜制造装置 |
| TW111115221A TW202242200A (zh) | 2021-04-26 | 2022-04-21 | 金屬薄膜製造裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210053583A KR102515268B1 (ko) | 2021-04-26 | 2021-04-26 | 금속박막 제조장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220146834A true KR20220146834A (ko) | 2022-11-02 |
| KR102515268B1 KR102515268B1 (ko) | 2023-03-29 |
Family
ID=83846983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210053583A KR102515268B1 (ko) | 2021-04-26 | 2021-04-26 | 금속박막 제조장치 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102515268B1 (ko) |
| CN (1) | CN117203374A (ko) |
| TW (1) | TW202242200A (ko) |
| WO (1) | WO2022231143A1 (ko) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4076597A (en) * | 1976-12-06 | 1978-02-28 | Gould Inc. | Method of forming iron foil at high current densities |
| JP2000109993A (ja) * | 1998-08-03 | 2000-04-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 金属箔、金属箔片の製造装置および製造方法 |
| KR101325359B1 (ko) * | 2011-11-15 | 2013-11-08 | 주식회사 포스코 | 고속 금속박 제조방법 및 장치 |
| KR20150031388A (ko) | 2013-09-13 | 2015-03-24 | (주) 테크윈 | 불용성 전극 및 이를 구비하는 전해동박장치 |
| KR20190052895A (ko) | 2017-11-09 | 2019-05-17 | 주식회사 엘지화학 | 전해 동박 제조 장치 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001085015A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-30 | Sumitomo Metal Steel Products Inc | アルカリ蓄電池負極用多孔ニッケル箔およびその製造方法 |
| JP6970603B2 (ja) * | 2017-12-08 | 2021-11-24 | 日鉄工材株式会社 | 金属箔製造装置，電極板及び金属箔の製造方法 |
| KR102260510B1 (ko) * | 2019-05-16 | 2021-06-03 | 이문찬 | 전해증착용 음극드럼과 그의 제조방법 |
-
2021
- 2021-04-26 KR KR1020210053583A patent/KR102515268B1/ko active IP Right Grant
-
2022
- 2022-03-31 WO PCT/KR2022/004560 patent/WO2022231143A1/ko active Application Filing
- 2022-03-31 CN CN202280031118.3A patent/CN117203374A/zh active Pending
- 2022-04-21 TW TW111115221A patent/TW202242200A/zh unknown
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4076597A (en) * | 1976-12-06 | 1978-02-28 | Gould Inc. | Method of forming iron foil at high current densities |
| JP2000109993A (ja) * | 1998-08-03 | 2000-04-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 金属箔、金属箔片の製造装置および製造方法 |
| KR101325359B1 (ko) * | 2011-11-15 | 2013-11-08 | 주식회사 포스코 | 고속 금속박 제조방법 및 장치 |
| KR20150031388A (ko) | 2013-09-13 | 2015-03-24 | (주) 테크윈 | 불용성 전극 및 이를 구비하는 전해동박장치 |
| KR20190052895A (ko) | 2017-11-09 | 2019-05-17 | 주식회사 엘지화학 | 전해 동박 제조 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2022231143A1 (ko) | 2022-11-03 |
| KR102515268B1 (ko) | 2023-03-29 |
| TW202242200A (zh) | 2022-11-01 |
| CN117203374A (zh) | 2023-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5049221A (en) | Process for producing a copper-clad laminate | |
| US4790902A (en) | Method of producing conductor circuit boards | |
| KR100371524B1 (ko) | 동박의표면조화처리방법 | |
| JP2012057191A (ja) | 長尺導電性基板の電気めっき方法およびこの方法を用いた銅被覆長尺導電性基板の製造方法並びにロール・ツー・ロールタイプの電気めっき装置 | |
| KR20160077463A (ko) | 철-니켈 합금 전해액 및 이를 이용한 철-니켈 합금 제조방법 | |
| KR101569185B1 (ko) | 불용성 전극 및 이를 구비하는 전해동박장치 | |
| US20040108211A1 (en) | Surface treatment for a wrought copper foil for use on a flexible printed circuit board (FPCB) | |
| JP4034095B2 (ja) | 電気銅めっき方法及び電気銅めっき用含リン銅アノード | |
| CN113913903B (zh) | 一种电镀装置和电镀方法 | |
| KR102515268B1 (ko) | 금속박막 제조장치 | |
| JP3352081B2 (ja) | プリント基板の銅めっき装置 | |
| KR20020042730A (ko) | 상호 절연된 판 및 막 재료 피스의 도전성 표면을 전해처리하는 방법 및 장치와 그 방법의 이용 | |
| CN102257187A (zh) | 电镀用铜材和电镀用铜材的制造方法及镀铜材的制造方法 | |
| WO2015008564A1 (ja) | 電解金属箔の連続製造方法及び電解金属箔連続製造装置 | |
| JP3698408B2 (ja) | カソード電極材及びそのカソード電極材を用いた電解銅箔製造用の回転陰極ドラム | |
| US6270648B1 (en) | Process and apparatus for the manufacture of high peel-strength copper foil useful in the manufacture of printed circuit boards, and laminates made with such foil | |
| KR102333203B1 (ko) | 금속 박판 제조장치 | |
| JP2015155563A (ja) | 連続電解めっき装置および方法、並びに、金属化樹脂フィルムおよびその製造方法 | |
| JP4465084B2 (ja) | 銅箔の製造方法及び製造装置 | |
| JP3416620B2 (ja) | 電解銅箔製造装置及び電解銅箔製造方法 | |
| KR102515271B1 (ko) | 다층 금속박막 및 이의 제조방법 | |
| KR101271836B1 (ko) | 오엘이디용의 카본나노튜브층 및 수지층이 구비된 철과 크롬의 합금기판 제조방법 | |
| JP2002004078A (ja) | 電解銅箔の製造方法 | |
| TWI842004B (zh) | 半導體用銅箔的製造方法以及利用所述製造方法製造的半導體用銅箔 | |
| KR101630980B1 (ko) | 금속박판 제조장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right |