KR20220145003A - 은 이온을 포함하는 cha형 제올라이트 흡착제 및 그의 제조방법 - Google Patents
은 이온을 포함하는 cha형 제올라이트 흡착제 및 그의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 실시예 1에 따른 제올라이트의 주사현미경(Scanning Electron Microscope) 분석 결과이다.
도 3a 및 3b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 질소 기체에 대한 흡착량을 평가한 결과이다.
도 4a 및 4b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 산소 기체에 대한 흡착량을 평가한 결과이다.
도 5a 및 5b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 25 ℃에서 시간에 따른 질소 기체의 흡착량을 측정한 흡착속도 결과이다.
도 6a 및 6b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 25 ℃에서 시간에 따른 산소 기체의 흡착량을 측정한 흡착속도 결과이다.
도 7a 및 7b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 질소/산소 재생능 결과이다.
도 8a 및 8b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 25 ℃에서 압력에 따른 이산화탄소 흡착량을 측정한 흡착등온선 결과이다.
도 9a 및 9b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 25 ℃에서 질소/산소를 포함하는 혼합기체에 대한 파괴곡선이다.
도 10a 및 10b는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 제올라이트의 25 ℃에서 질소/산소/이산화탄소를 포함하는 혼합기체에 대한 파괴곡선이다.
| 2θ | D | 100 ХI/IO |
| 9.5 | 9.29 | 31.28 |
| 12.9 | 6.86 | 11.05 |
| 17.8 | 4.98 | 62.7 |
| 20.7 | 4.30 | 100 |
| 22.5 | 3.96 | 6.76 |
| 23.1 | 3.85 | 97.61 |
| 25.0 | 3.56 | 52.03 |
| 26.0 | 3.43 | 13.95 |
| 27.7 | 3.22 | 18.63 |
| 28.2 | 3.16 | 28.31 |
| 28.8 | 3.10 | 4.74 |
| 30.7 | 2.91 | 93.65 |
| 31.2 | 2.87 | 67.84 |
| 31.7 | 2.82 | 5.84 |
| 33.6 | 2.67 | 13.98 |
| 34.6 | 2.59 | 22.28 |
| 35.0 | 2.56 | 7.71 |
| 36.1 | 2.49 | 23.89 |
| 39.3 | 2.29 | 3.03 |
| 42.9 | 2.11 | 2.7 |
| 43.6 | 2.08 | 11.8 |
| 47.2 | 1.93 | 3.69 |
| 49.0 | 1.86 | 7.59 |
| 온도 | 0.8 bar에서 N2 흡착량 (mmol g-1) | |
| 실시예 1 (Ag-CHA-6.0) | 비교예 1 (Li-X) | |
| -15 ℃ | 1.19 | 1.63 |
| 5 ℃ | 1.13 | 1.30 |
| 25 ℃ | 0.86 | 0.90 |
| 45 ℃ | 0.68 | 0.71 |
| 65℃ | 0.33 | 0.51 |
| 온도 | 0.2 bar의 O2 흡착량 (mmol g-1) | |
| 실시예 1 (Ag-CHA-6.0) | 비교예 1 (Li-X) | |
| -15 ℃ | 0.40 | 0.23 |
| 5 ℃ | 0.38 | 0.10 |
| 25 ℃ | 0.09 | 0.07 |
| 45 ℃ | 0.06 | 0.05 |
| 65℃ | 0.02 | 0.04 |
| 온도 | N2/O2 선택도 | |
| 실시예 1 (Ag-CHA-6.0) | 비교예 1 (Li-X) | |
| -15 ℃ | 0.74 | 1.73 |
| 5 ℃ | 0.74 | 3.43 |
| 25 ℃ | 2.44 | 3.21 |
| 45 ℃ | 2.88 | 3.35 |
| 65℃ | 4.50 | 3.27 |
Claims (20)
- 제올라이트를 포함하는 흡착제이고,
상기 제올라이트가 은 이온(Ag+)을 포함하고, CHA형 골격구조를 갖고, 알루미늄(Al)에 대한 실리콘(Si)의 몰비(Si/Al)가 3 이상인 것인 흡착제. - 제1항에 있어서,
상기 제올라이트가 1가 금속 이온 및 2가 금속 이온 중 선택된 1종 이상의 금속 이온을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제1항에 있어서,
상기 제올라이트가 아래 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 흡착제:
[화학식 1]
(Ag2O)j(MxO)k(Al2O3)m(SiO2)n
M은 1가 금속 이온 또는 2가 금속 이온 중 선택된 1종 이상을 포함하고,
j는 0<j≤10이고,
x는 1 또는 2이고,
k는 0≤k≤10이고,
m은 1이고,
n은 3≤n≤100이다. - 제3항에 있어서,
상기 화학식 1에서,
j가 0.1≤j≤10이고, k는 0≤k≤5인 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제4항에 있어서,
상기 화학식 1에서,
j가 0.1≤j≤10이고, k는 0≤k≤1인 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제4항에 있어서,
상기 화학식 1에서,
j가 0.5≤j≤5이고, k가 0인 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제2항에 있어서,
상기 금속 이온이 상기 알루미늄(Al)의 이온 전하량을 보상하기 위한 카운터 이온인 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제7항에 있어서,
상기 은 이온이 상기 카운터 이온의 일부 또는 전부와 교환된 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제1항에 있어서,
상기 제올라이트가 하기 표 1에 나타난 XRD 패턴에 따른 골격을 포함하는 것을 특징으로 하는 흡수제.
표 1에서, θ, d, I는 각각 브래그(Bragg)각, 격자간격, 그리고 X-선 회절 피크의 강도를 의미한다. 이 분말 X-선 회절 패턴을 포함하여 본 발명에서 보고되는 모든 분말 X-선 회절 데이터는 표준 X-선 회절 방법을 이용하여 측정하였으며, 방사원으로는 구리 Kα선과 40 kV, 30 mA에서 작동하는 X-선 튜브를 사용하였다. 수평으로 압축된 분말시료로부터 분당 5도(2θ)의 속도로 측정하였으며, 관찰된 X-선 회절 피크의 2θ 값과 피크 높이로부터 d 와 I 를 계산하였으며, 여기서, 100I/Io는 W(약함:0~20), M(중간:20~40), S(강함:40~60), VS(매우 강함:60~100)로 구분된다. - 제2항에 있어서,
상기 금속 이온이 구리 이온 (Cu+), 리튬 이온 (Li+), 나트륨 이온 (Na+), 칼륨 이온 (K+), 루비듐 이온 (Rb+), 세슘 이온 (Cs+), 프랑슘 이온 (Fr+), 베릴륨 이온 (Be2+), 마그네슘 이온 (Mg2+), 칼슘 이온 (Ca2+), 스트론튬 이온 (Sr2+), 바륨 이온 (Ba2+) 및 라듐 이온 (Ra2+)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제1항에 있어서,
상기 몰비(Si/Al)가 3 내지 16인 것을 특징으로 하는 흡착제. - 제11항에 있어서,
상기 몰비(Si/Al)가 5 내지 7인 것을 특징으로 하는 흡착제. - (a) 구조유도 유기물, 1가 금속 이온 또는 2가 금속 이온을 포함하는 금속염, 알루미나 전구체, 및 실리카 전구체를 포함하는 혼합 수용액을 제조하는 단계;
(b) 상기 혼합 수용액을 140 내지 180 ℃의 온도에서 5 내지 14일 동안 반응시키고 열처리하여 아래 화학식 1'로 표시되는 제1 구조체를 제조하는 단계;
(c) 상기 제1 구조체와 암모늄염을 반응시켜 상기 1가 금속 이온 또는 2가 금속 이온의 일부가 암모늄 이온(NH4 +)으로 교환된 아래 화학식 1"로 표시되는 제2 구조체를 제조하는 단계; 및
(d) 상기 제2 구조체의 암모늄 이온(NH4 +)을 은 이온과 교환시켜 아래 화학식 1로 표시되는 제올라이트를 제조하는 단계;를
포함하는 흡착제의 제조방법:
[화학식 1']
(MXO)h(Al2O3)m(SiO2)n
[화학식 1"]
((NH4 +)2O)i(MXO)k(Al2O3)m(SiO2)n
[화학식 1]
(Ag2O)j(MXO)k(Al2O3)m(SiO2)n
상기 화학식 1', 화학식 1" 또는 화학식 1에서,
h는 0<h≤10이고
i는 0<i≤10이고,
M은 1가 금속 이온 또는 2가 금속 이온 중 선택된 1종 이상을 포함하고,
j는 0<j≤10이고,
x는 1 또는 2이고,
k는 0≤k≤10이고,
m은 1이고,
n은 3≤n≤100이다. - 제13항에 있어서,
상기 혼합 수용액이
상기 알루미나 전구체 1 몰에 대하여
상기 구조유도 유기물 5.0 내지 20 몰;
상기 금속염 1.0 내지 10 몰; 및
상기 실리카 전구체 10 내지 50 몰;의 비율로 포함하는 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법. - 제13항에 있어서,
상기 단계 (b)에서,
상기 열처리가 500 내지 700 ℃의 온도에서 5 내지 15시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법. - 제13항에 있어서,
상기 구조유도 유기물이 N,N,N-트리메틸-1-아다만틸암모늄 하이드록사이드 (N,N,N-trimethyl-1-adamantylammonium hydroxide)을 포함하고,
상기 금속염이 수산화나트륨(NaOH), 염화나트륨(NaCl) 및 탄산나트륨(NaCO3)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하고,
상기 알루미나 전구체가 수산화알루미늄(Al(OH)3), 금속 Al(Al metal)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하고,
상기 실리카 전구체가 흄드실리카(fumed silica), 나노규산(colloidal silica)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법. - 제13항에 있어서,
상기 암모늄염이 질산암모늄(NH4NO3), 염화암모늄(NH4Cl) 및 탄산암모늄(NH4CO3)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법. - 질소를 포함하는 혼합가스를 제1항에 따른 흡착제에 접촉시켜, 상기 질소를 상기 흡착제에 선택적으로 흡착시키는 단계를 포함하는 질소의 선택적 분리방법.
- 제18항에 있어서,
상기 혼합가스가 이산화탄소, 산소 및 물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 질소의 선택적 분리방법. - 제18항에 있어서,
상기 혼합가스가 공기(air)를 포함하는 것을 특징으로 하는 질소의 선택적 분리방법.
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