KR20220143602A - 용기 가공 기계로의 플레이트 로딩 및 언로딩 시스템 - Google Patents

Abstract

용기를 가공하기 위한 기계 내의 처리 시스템은, 폐쇄 경로를 따라 순환하는 복수의 지지 플레이트(1)를 포함하고, 각 지지 플레이트(1)는 하나 이상의 하우징을 포함하고 각 하우징(18)은 용기(5)를 보유 가능하며, 제1 축방향을 따라 수평 위치로 지지 플레이트를 순환시키는 제1 부분(TC1) 및 반대측인 제2 축방향(X1B)을 따라 지지 플레이트를 이동시키도록 구성된 제2 이동부(3)를 갖는 리턴부(TC2)를 포함하고, 지지 플레이트는 제2 부분에서 수직 리턴 방향을 따라 순환하고, 상기 처리 시스템은 선택적으로 지지 플레이트를 제2 부분으로부터 고정 팰릿에 언로딩하거나 또는 고정 팰릿으로부터 제2 부분 내로 로딩하는 고정 팰릿(9)을 포함한다.

Description

용기 가공 기계로의 플레이트 로딩 및 언로딩 시스템 {System for loading and unloading plates into and out of a machine processing containers}

본 발명은 식품을 위한 용기 가공 기계 내의 처리 시스템에 관한 것이다. 이 기계는 생산 장비 또는 라인으로 지칭될 수 있다.

이 기계 (또는 "장비" 또는 "라인")는 예를 들어 하나 이상의 식품들 담는 냄비나 병, 식물이나 식재료를 담는 용기를 채우는 데에 사용될 수 있고, 이러한 용기를 밀봉하고, 선택적으로 마킹, 라벨링, 사전 소독 또는 다른 작업을 하는 데에 사용될 수 있다.

이러한 기계/장비는 기계 내에서 수행되는 작업들 동안 용기를 지지하도록 예를 들어 플레이트와 같은 지지체를 사용한다.

이러한 지지체는 가공된 용기가 지지체로부터 언로드된 후 다시 비어 있는 상태로 리턴하도록 폐쇄된 루프를 통해 이동한다.

이러한 유형의 지지 플레이트는 또한 비-식품을 담는 용기를 가공하는 기계 또는 설비에 사용될수 있으며, 본 발명 또한 이에 적용될 수 있다.

이러한 유형의 설비는 캠페인에서 작동하며, 각 캠페인에서는 동일한 지지 플레이트를 사용하여 일련의 상호 균일한 제품을 생산할 수 있다. 이는 각 생산 캠페인 사이에 설비를 재구성하고 향후 캠페인에 대해 다른 유형의 지지 플레이트로 변경해야 한다. 수요자가 보다 적시에 운영할 수 있고 최종 수요자는 더 작은 배치를 요구하기 때문에, 생산의 사이즈가 감소하는 경향이 있다. 따라서 설비에서 지지 플레이트를 교체하는 데 필요한 시간이 결정적인 요소가 되고 있다.

따라서 종료된 생산 캠페인에 필요한 지지 플레이트를 언로딩하고, 다가오는 생산 캠페인에 필요한 다른 지지 플레이트를 다시 로딩하는 데 필요한 시간을 단축할 필요성이 있다.

이를 위해 식품을 보유하도록 안내되는 용기를 가공하기 위한 기계 내의 처리 시스템은:

- 폐쇄 경로 내에서 순환하는 복수의 지지 플레이트로서, 각 지지 플레이트는 하나 이상의 하우징을 포함하고, 각 하우징은 용기를 보유할 수 있으며,

- 작업부에 해당하는 제1 부분으로서, 지지 플레이트를 수평 위치에서 제1 축방향(X1A)을 따라 순환시키고, 제1 축방향을 따라 지지 플레이트를 이동시키기 위한 제1 이동부를 갖고,

- 리턴부에 해당하는 제2 부분으로서, 제1 축방향의 반대측인 제2 축방향(X1B)에서 지지 플레이트를 이동시키도록 구성된 제2 이동부를 가지며,

지지 플레이트는 리턴 방향으로 제2 부분에서 순환하고, 상기 리턴 방향은 수직이거나 수직으로부터 30° 이하의 각을 갖도록 기울어지고,

상기 처리 시스템은:

- 처리 시스템의 제1 단부에 배치되고, 정상 작동(normal operation) 시 제1 부분에서 이들을 결합하도록 수평 위치로 지지 플레이트를 피봇하도록 구성된 제1 회전 스테이션,

- 처리 시스템의 제2 단부에 배치되고, 정상 작동 시 제2 부분에서 이들을 결합하도록 리턴 방향으로 지지 플레이트를 피봇하도록 구성된 제2 회전 스테이션; 을 포함하며,

처리 시스템은 복수의 지지 플레이트를 유지하기 위한 적어도 하나의 팰릿을 포함하며, 이는 바람직하게는 기계의 정상 작동에 필요한 모든 지지 플레이트를 유지하도록 구성되며, 상기 고정 팰릿은 선택적으로 지지 플레이트를 고정 팰릿 상에서 제2 이동부로부터 언로딩하거나, 고정 팰릿으로부터 제2 이동부 내로 로딩하도록 제1 또는 제2 회전 스테이션(PR1, PR2) 및 제2 이동부와 협력한다.

이를 통하여, 기계의 재구성이 매우 빠르고 모든 지지 플레이트를 언로드할 수 있으며, 필요한 경우 처리 시스템의 다른 부분의 제거 없이 자동 모드에서 새로운 세트의 지지 플레이트를 매우 빠르게 다시 로드할 수 있다.

언로딩 및 재 로딩은 지지 플레이트가 리턴 방향, 즉 수직 또는 거의 수직 위치에서 이루어진다. 언로딩 후, 플레이트가 있는 팰릿은 다른 처리가 필요 없이 직접 세척기 내로 들어갈 수 있다. 유사하게, 세척기를 나올 때 그리고 가능할 수 있는 보관 이후에, 팰릿은 지지 플레이트와 함께 플레이트을 처리하지 않고도 기계의 후속 재 로딩을 위해 공급될 수 있다.

첫 번째 가능성에 따르면, 시작될 구성에 대한 모든 플레이트를 로드하기 위해 이전 구성의 모든 플레이트를 언로드하는 것이 가능하다. 반면 두 번째 가능성에 따르면, 플레이트 배치의 점진적인 교환, 즉 "이전" 플레이트를 내리고 "새로운" 플레이트로 교체하고, 모든 플레이트가 교체될 때까지 계속할 수 있다.

제2 이동부는 지지판을 로딩 및 언로딩하는 순서에 대해 특정한 방식으로 사용될 수 있다. 로딩을 위해 특정 모드에서 제2 이동부가 사용되며, 처리 시스템의 일부를 제거하지 않고 전체 로딩 작업이 수행된다.

본 발명의 다양한 실시예에서, 개별적으로 또는 조합하여 구성되는 다음의 특징들을 사용하는 것이 또한 가능할 수 있다.

일 양태에 따르면, 제1 회전 스테이션은 제1 회전 베이스를 포함하고, 상기 회전 베이스는 리턴 방향으로 제2 부분에 도달하는 지지 플레이트를 수용하기에 적합한 제1 위치와, 제1 부분의 입구에서 수평 위치에 지지 플레이트를 놓기 적합한 제2 위치 사이에서 이동 가능하다.

정상 작동 중에, 제1 회전 베이스는 지지 플레이트를 제1 부분에 결합시키기 위해 지지 플레이트를 수평 위치로 피벗시킨다.

일 양태에 따르면, 고정 팰릿은 제1 회전 스테이션과 협력한다. 언로딩은 리턴 회로의 다운스트림 끝, 즉 제2 부분의 끝에서 발생한다. 팰릿은 제1 회전 베이스 아래에 위치한다. 로딩도 이 위치에서 발생하지만 지지 플레이트는 정상 작동 중에 사용되는 방향과 반대 방향인 역방향으로 제2 부분에 삽입된다.

즉 일 양태에 따르면, 지지 플레이트를 제2 부분으로부터 고정 팰릿 상으로 언로딩하기 위한 구성에서, 제1 회전 베이스는 각각의 지지 플레이트가 리턴 방향으로 제1 회전 스테이션에 진입할 수 있도록 제2 위치에 유지되고, 상기 제1 회전 베이스는 그런 다음 지지 플레이트를 고정 팰릿의 공간에 삽입한다.

일 양태에 따르면, 고정 팰릿으로부터 제2 부분으로 지지 플레이트를 로딩하기 위한 구성에서, 제1 회전 베이스는 제2 위치에 유지되고 제2 이동부는 각각을 제거하기 위해 정상 작동과 반대 방향으로 작동한다. 고정 팰릿의 공간에서 지지 플레이트를 들어올리고 리턴 방향으로 각 지지 플레이트를 제2 부분으로 이동시킨다. 따라서, 기계에 지지 플레이트를 재 로딩하는 자동 작동을 수행하기 위해 제2 이동부의 특정 작동 방식을 프로그래밍하기만 하면 된다.

일 양태에 따르면, 고정 팰릿은 서로 이격되어 있는 평행한 복수의 공간을 포함하며, 팰릿 자체의 내부 또는 외부에 위치하는 오프셋 메커니즘이 제공되어, 제2 부분으로부터 또는 제2 부분 내로 지지 플레이트를 각각 언로딩하거나 로딩하기 위하여 제2 부분에서 지지 플레이트의 이동 경로에 따라 정렬된 공간을 위치시킨다.

새로운 지지 플레이트를 받기 위하여, 팰릿은 가로축 Y를 따라 오프셋되며, 즉 X에 수평하게 수직한다.

일 양태에 따르면, 지지 플레이트는 고정 팰릿 상에서 수직 위치로 유지되고 수직 위치에서 공간을 갖도록 유지되며, 추가적으로 지지 플레이트 사이의 상호 접촉이 일어나지 않는다. 이는 지지 플레이트의 세척 및 오염 제거에 유리하다. 이는 또한 고정 팰릿의 이동 중 접촉에 의한 지지 플레이트의 기계적 손상을 방지한다.

일 양태에 따르면, 고정 팰릿 상에 배치될 때 지지 플레이트는 10mm와 50mm 사이의 미리 결정된 거리만큼 이격된다.

일 양태에 따르면, 고정 팰릿 상에 배치될 때, 지지 플레이트는, 판의 일반적인 두께를 나타내는 EPP에 따라, 1.5 EPP와 2.5 EPP 사이의 플레이트간 오프셋(P9)으로 미리 결정된 거리만큼 이격된다. 따라서 적당한 크기의 팰릿에 약 20개 이상의 플레이트를 보관할 수 있다.

지지 플레이트가 평면 밖으로 돌출되지 않으면 거리(P9)가 1.2 EPP로 줄어들 수 있으므로 공간 손실 없이 고정 팰릿에 매우 많은 수의 플레이트를 보관할 수 있다.

다른 양태에 따르면, 각각의 지지 플레이트는 회전 플레이트를 포함할 수 있다. 따라서 거꾸로 세척/소독 작업으로 병을 처리한 다음 뒤집어서 채우고 캡을 씌울 수 있다. 고정 팰릿은 일체형 지지 플레이트와 회전판과 함께 제공된 지지 플레이트를 모두 고정할 수 있다.

일 양태에 따르면, 특정 조건 하에서 제1 회전 베이스를 향한 지지 플레이트의 전방 이동을 정지시키기 위한 정지 요소가 제공된다. 정상 작동 모드에서 정지 요소는 제1 회전 베이스가 제1 위치에 있지 않은 경우, 지지 플레이트가 제1 회전 베이스에 도달하는 것을 방지한다. 특정 언로딩 모드에서, 정지 요소는 지지 플레이트를 고정할 수 있는 고정 팰릿의 공간이 없는 경우, 지지 플레이트의 도착을 방지한다. 또한, 언로딩 모드에서 제1 회전 베이스는 제2 위치에 유지된다.

다시 말해서, 정지 요소는 정상 작동 또는 특정 언로딩 모드에서 지지 플레이트가 제1 회전 베이스를 향해 이동할 수 있도록 활성화되거나 선택적으로 후퇴될 수 있다. 따라서 정상 작동 시 제1 회전 스테이션에서 회전 베이스는 정지 요소를 리트랙트시키기 위해 수직 부분(제1 위치)에 있을 것이 예상된다. 대조적으로, 플레이트 언로딩 모드에서, 팰릿을 로드하기 위하여 제2 부분(TC2)의 단부에 도달한 플레이트를 통과시킬 수 있도록 정지 요소가 리트랙션되는 조건으로, 고정 팰릿 상에 정렬되고 비어 있는 공간 형성이 가능하다. 정지 요소는 선택적으로 리트랙트 가능한 정지 장치일 수 있다.

일 양태에 따르면, 처리 시스템은 회전 스테이션(PR1)에서 회전 베이스의 임시 위치를 기다리는 리턴 수직 플레이트를 위한 정지부가 형성되도록 구성된다. 따라서 리턴 플레이트를 위한 수집 구역이 형성되고, 초과 플레이트는 이 위치에 저장되기를 기다리고 있다.

일 양태에 따르면, 제2 회전 스테이션은 제2 회전 베이스를 포함한다. 제2 회전 베이스는 지지 플레이트를 제2 부분에 맞물리기 위해 리턴 방향으로 지지 플레이트를 회전시킨다.

일 양태에 따르면, 제2 이동부는 체인 컨베이어 또는 무단 벨트 컨베이어의 형태이다. 이러한 유형의 솔루션은 견고하고 매우 안정이다. 대안적으로, 제2 이동부로서 전동 롤러를 제공하는 것이 가능하다.

일 양태에 따르면, 벨트는 플레이트에 마찰될 수 있거나, 변형에 따라 벨트는 두 세트의 톱니(벨트를 구동하기 위한 내부에 한 세트의 톱니 및 구동을 위한 외부에 한 세트의 톱니)를 가질 수 있다.

일 양태에 따르면, 벨트는 지지 플레이트의 하부면에 마찰하는 벨트의 작업 스트랜드에 의해 지지 플레이트를 이동시킨다. 대안적으로, 체인에 고정된 슈(shoe)는 플레이트를 구동하기 위해 수직 위치에서 지지 플레이트의 하면에 접촉된다.

일 양태에 따르면, 고정 팰릿은 플레이트를 수직 위치에 유지하기 위한 슬롯을 갖는 홀딩 직립부를 포함한다. 따라서 팰릿이 Y를 따라 오프셋되거나 지게차로 이동할 때 플레이트가 수직 위치에 단단히 유지된다.

일 양태에 따르면, 지지 플레이트를 로딩하기 위한 구성에서, 제2 이동부가 정상 작동과 반대 방향으로 작동할 뿐만 아니라 제2 회전 베이스도 부분적으로 지지 플레이트를 제1 작동부로 내로 이동시킬 수 있으며, 또한 제1 이동부도 정상 작동 모드와 반대 방식으로 작동할 수 있다. 이는 제2 부분 전체 및 제1 부분의 일부를 차지하는 다수의 지지 플레이트를 로딩하는 것을 가능하게 한다. 즉, 플레이트를 하류에서 상류로 밀어서 제2 부분의 전체 및 제1 부분의 일부를 채운다.

일 양태에 따르면, 시스템은 정상 작동에서 제1 부분의 플레이트의 수가 제2 부분의 플레이트의 수의 2배 이상이 되도록 구성된다. 이러한 방식으로 총 플레이트 수가 최소화된다. 대부분의 플레이트는 작업 부분에 사용되며 극소수의 판은 리턴 부분에 있다. 대조적으로, 선행 기술로부터 알려진 다수의 시스템에서 리턴 경로 상의 플레이트의 수는 외부 작업 부분의 플레이트의 수와 동일하다.

일 양태에 따르면, 시스템은 제2 부분(TC2)의 평균 속도가 제1 부분(TC1)의 평균 속도보다 실질적으로 더 크거나 훨씬 더 크도록 되어 있다. 이러한 특성으로 인해 리턴 부분의 플레이트 수가 최소화될 수 있다.

일 양태에 따르면, 플레이트는 8개의 하우징, 또는 4개 또는 6개 또는 임의의 다른 값을 갖는다. 본 발명은 플레이트에 제공된 하우징의 수에 관계없이 작동한다.

일 양태에 따르면, 플레이트는 250mm와 880mm 사이, 바람직하게는 360mm와 520mm 사이, 보다 바람직하게는 400mm와 480mm 사이의 길이방향 길이(PX)를 갖는다.

일 양태에 따르면, 플레이트는 2mm 내지 4mm의 두께 EPP를 갖는다.

R+ 한 측면에 따르면, 플레이트 배치를 점진적으로 교환하기 위한 구성, 즉 "이전" 플레이트를 언로드하고 그 자리에 "새로운" 플레이트를 장착하는 구성에서 (모든 플레이트가 교체될 때까지 계속), 매니퓰레이터가 제2 부분의 공간에 대해 플레이트를 당기거나 밀기 위해 제공될 수 있으며, 이 매니퓰레이터는 팰릿의 공간을 오프셋하기 위한 위에서 언급한 메커니즘과 함께 제어된다.

본 발명은 또한 전술한 바와 같은 처리 시스템을 포함하는 식품용 냄비 또는 병을 가공하기 위한 기계에 관한 것이다.

따라서 프로세스 모듈은 플레이트 지지대에 의해 손상되지 않고 위와 아래를 통과할 수 있다.

본 명세서에 포함되어 있음.

본 발명의 목적 및 이점은 비제한적인 예로서 주어진 본 발명의 실시 양태의 다음 설명을 통하여 명백해질 것이다. 본 발명은 또한 다음과 같은 첨부된 도면을 통하여 잘 이해될 것이다:
- 도 1은 본 발명에 따른 플레이트 시스템을 포함하는 기계 또는 설비의 단면도를 도시한다.
- 도 2는 도 1의 기계의 사시도를 도시한다.
- 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 시스템의 사시도를 도시한다.
- 도 4는 시스템의 제1 단부에 배치된 제1 회전 스테이션의 영역의 사시도를 도시한다.
- 도 5는 시스템의 제2 단부에 배치된 제2 회전 스테이션의 영역의 사시도를 도시한다.
- 도 6은 작업부에 해당하는 제1 부분의 처리 시스템을 통한 단면을 도시한다.
- 도 7은 도 6과 유사하며, 제1 이동부를 도시한다.
- 도 8은 리턴부에 해당하는 제2 부분의 처리 시스템을 통한 단면을 도시한다.
- 도 9는 보조 지지 가이드가 있는 처리 시스템의 단면을 도시한다.
- 도 10은 기계의 정면도를 도시한다.
- 도 11은 플레이트를 평면도(A), 측면도(B) 및 정면도(C)로 도시한다.
- 도 12는 플레이트 변형의 정면도를 도시한다.
- 도 13은 도 9와 유사하며, 길이방향 축에서 일 변형에 따른 처리 시스템을 통한 단면을 보다 상세히 도시한다.
- 도 14는 도 9와 유사하며, 길이방향 축에서 다른 변형에 따른 처리 시스템을 통한 단면을 보다 상세히 도시한다.
- 도 15 및 16은 벨트 컨베이어 및 그 구동을 도시하며, 제2 부분을 따라 플레이트를 구동하는 기능을 갖는다.
- 도 17은 도 1과 유사하며, 기계에 대한 처리 시스템의 일반적인 배열의 변형을 도시한다.
- 도 18은 플레이트의 사시도를 도시하고, 지지 플레이트 및 플레이트 내의 하우징 내의 용기의 지지에 관한 제2 실시예를 도시한다.
- 도 19는 지지 플레이트를 로딩 및 언로딩하기 위한 고정 팰릿이 있는 처리 시스템의 투시도를 도시한다.
- 도 20은 단일 지지 플레이트가 있는 지게차의 고정 팰릿의 사시도를 도시한다.
- 도 21은 고정 팰릿을 통한 개략적인 단면을 도시한다.
- 도 22는 지지 플레이트를 언로딩하는 동작을 도시한다.
- 도 23은 지지 플레이트를 로딩하는 동작을 도시한다.
- 도 24는 도 21과 유사하고, 제2 실시예에 따른 고정 팰릿을 통한 개략적인 단면도를 도시한다.
- 도 25는 플레이트를 점진적으로 교체하는 동작을 예시한다.
다양한 도면에 있어 동일한 참조 번호는 동일하거나 유사한 구성 요소를 나타내며, 설명의 명확성을 위해 특정 구성 요소는 의도적으로 도면에서 축척으로 표시되지 않을 수 있다.

기본 특징 및 배치

도 1 및 도 2는 식품용 기계 가공 용기를 나타낸다. 이는 유제품, 시럽, 모든 종류의 음료 용기일수 있고, 페이스트나 분말 제품일 수 있으며, 본 발명은 사실상 모든 식품에 적용된다.

특히 이러한 기계에 사용되는 처리 시스템에 주목한다. 그러나 아래에 설명된 처리 시스템은 식품류가 아니더라도 모든 생산 라인에 적용할 수 있다.

식품류로 돌아와, 이러한 기계/설비/라인은 용기, 예를 들어 하나 이상의 식품을 담는 냄비 또는 병, 유제품이나 식재료를 채우는 용기에 사용될 수 있으며, 이러한 용기를 밀봉하는 데 사용될 수 있다. 선택적으로 마킹, 라벨링 또는 사전 소독 작업이 제공될 수도 있으며, 다른 작업도 배제되지 않는다. 도 1 및 도 2는 기계의 축 방향으로 병치되고 각각 도면번호 71, 72, 7i로 참조되는 처리 모듈을 도시한다. 다른 처리 모듈 또는 프로세스 모듈은 집합적으로 도면번호 7을 포함한다.

지지 플레이트 또는 간단히 플레이트라고도 하는 지지대는, 기계에서 수행되는 작업 중에 용기를 지지하는 데 사용된다.

일반적으로 도면번호 1을 포함하는 이러한 지지대는 기계에서 루프, 즉 폐쇄된 경로를 통해 이동하며, 가공된 용기는 용기에서 언로드된 후 비어 있는 상태로 반환된다.

일반적인 구성에 따르면, 처리 시스템은 작업부에 해당하는 제1 부분(TC1)을 포함한다. 또한, 처리 시스템은 빠른 리턴부에 해당하는 제2 부분(TC2)을 포함한다.

여기서 제1 부분(TC1)과 제2 부분(TC2)의 조합은 후술하는 회전 스테이션과 함께 폐쇄 경로, 즉 정상 작동 시 루프 경로를 공동으로 형성한다.

하나의 위치에서 각 지지 플레이트(1)에는 빈 용기가 적재되고 다른 하류 위치에서는 채워진 용기가 지지 플레이트(1)로부터 제거된다.

각각의 지지 플레이트(1)는 하나 이상의 하우징(18)을 포함하고, 각각의 하우징(18)은 용기를 보유할 수 있다.

첫 번째 가능성에 따르면, 용기는 상부에서 유지되며, 이 경우 용기의 상부 에지(58)는 중력의 영향 하에 하우징의 에지에 지지된다. 하우징은 오리피스 형태일 수 있다. 이러한 첫 번째 가능성에 따르면, 용기는 일반적으로 본체보다 넓은 칼라(58)를 갖는 냄비(5)이다.

다른 가능성에 따르면, 용기는 측면 방향 삽입에 의해 수용될 수 있으며, 용기의 목 부분은 입구 및 협착부를 갖는 하우징에 수용된다. 용기의 목 부분이 좁아진 부분을 통과한 후, 용기는 목 부분의 크기에 해당하는 크기의 구멍에 고정된 상태로 유지된다. 이러한 가능성에 따르면 용기는 일반적으로 넥 부분이 있는 병이다.

하우징의 수는 4개 또는 8개일 수 있다. 그러나 2에서 16까지의 하우징이 있을 수 있다. 일반적인 배치에 따르면, 처리 시스템은 제1 단부(E1) 및 제2 단부(E2)를 포함한다.

도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 시스템의 일반적인 배치에 따르면, 제1 단부(E1)에 배치되고 지지 플레이트를 제1 부분(TC1)에 맞물리기 위해 지지 플레이트를 수평 위치로 피벗시키도록 구성된 제1 회전 스테이션(PR1)이 제공된다. 또한, 제2 단부(E2)에 배열되고 지지 플레이트를 제2 부분(TC2)에 결합시키기 위해 지지 플레이트를 리턴 방향으로 피벗시키도록 구성된 제2 회전 스테이션(PR2)이 제공된다.

작업 세로 축(즉, 기계의)은 X로 표시된다. X1으로 표시된 처리 시스템의 기준 세로 축이 정의된다. 기계의 가로축은 Y로 표시되고 로컬 세로축은 Z로 표시된다.

전체 처리 시스템은 참조 번호 6 (도 1, 2 및 17에 일반적으로만 표시됨)으로 표시된 일반 지지 프레임에 의해 지원된다.

두 가지 구성이 가능하다. 도 1 및 도 2에서, 축(X1)은 기계의 외부에 위치하는데, 이는 제1 부분(TC1)의 플레이트(1)가 축(X1)과 공정 모듈(7) 사이에 위치한다는 것을 의미한다. 도 17에서는 반대의 경우이며, 따라서 축(X1)은 기계 내부에 위치하며, 이는 축(X1)이 TC1의 플레이트(1)와 프로세스 모듈(7) 사이에 위치한다는 것을 의미한다.

지지 플레이트 및 순환

도 3 내지 도 9 및 도 11A, 11B, 11C, 12에서 알 수 있는 바와 같이, 각각의 지지 플레이트(1)는 일반적으로 직사각형 전체 형상을 갖는 기준 평면(PR)에서 연장된다. 각 지지 플레이트는 기계의 Y 방향에 평행한 2개의 짧은 면(각각 도 13 및 14 참조)을 포함한다. 각각의 지지 플레이트는 기계의 길이 방향 X에 평행한 두 개의 긴 측면, 즉 안내 및 구동 에지를 형성하는 제1 긴 측면(11) 및 자유 모서리를 형성하는 다른 긴 측면(12)을 갖는다. PX로 표시된 세로 길이는 이 경우 400mm에서 480mm 사이이다. 그러나, 보다 일반적으로 길이(PX)는 250mm와 880mm 사이, 또는 360mm와 520mm 사이일 수 있다.

LW로 표시된 판의 너비는 이 경우 250mm에서 350mm 사이이다. 그러나, 보다 일반적으로 폭(LW)은 200mm와 500mm 사이일 수 있다.

각 지지 플레이트는 한 조각으로 만들어진다. 각 지지 플레이트는 평평하다. 판 EPP의 두께는 전형적으로 1 내지 3 mm일 수 있다. 일반적으로 시작점은 일정한 두께의 플랭크이며 그 안에 노치와 홈이 만들어진다. 이에 대해서는 아래에서 설명한다. 일 예에 따르면, 두께(EPP)는 8mm일 수 있다. 다른 예에 따르면, 두께(EPP)는 6mm와 8mm 사이일 수 있다.

각각의 지지 플레이트(1)는 상부면(1A) 및 하부면(1B)을 포함한다.

각각의 지지 플레이트(1)는 스테인리스 스틸 또는 식품 적합성의 금속 합금으로 제조될 수 있다. 또한, 폴리프로필렌 또는 폴리카보네이트와 같이 식품에 적합한 경질 플라스틱 유형의 재료도 적합할 수 있다.

제1 부분(TC1)에서 지지 플레이트는 제1 축 방향(X1A)으로 수평 위치에서 순환한다. 다양한 예시에서 플레이트는 첫 번째 부분에서 서로 인접하다. 그러나, 이들은 서로 약간 이격되어 있을 수 있다.

리턴부(TC2)에서, 지지 플레이트는 제1 축 방향과 반대인 제2 축 방향(X1B)으로 전방으로 이동한다. 이 제2 부분(TC2)에서, 지지 플레이트는 수평 위치와 다른 위치 또는 방향으로 순환한다. 이 위치에 대해 "리턴 방향"이라는 용어가 사용된다. 상기 리턴 방향은 도시된 예에서 수직이다. 도시되지 않은 변형에서, 리턴 방향은 수직으로부터 30°보다 작은 각도로, 즉 수직 위치로부터 멀지 않을 수 있다.

제1 긴 측면(11)은 안내 및 구동 에지를 형성한다. 안내 및 구동 기능은 제1 긴 측면 부근에 있다. 제1 긴 측면에 대응하는 에지는 후술하는 바와 같이 가이드 및 회전 베이스를 안내 및 수용하기 위한 하나 이상의 홈(들)에 수용된다.

반대쪽 에지(12)은 안내만 되지만 구동되지는 않는다. 따라서 구동은 상대적으로 간단하고 처리 시스템의 세로축(X1) 부근에 위치한다.

다른 특징에 따르면, 반대쪽 긴 측면(12)은 보조 가이드(44)에 의해 지지될 수 있다. 이 보조 가이드는 연속적이거나 불연속적일 수 있고, 도 9에 도시된 바와 같이 이 보조 가이드(44)는 전술한 프로세스 모듈(7i) 중 하나에 고정된 암(70)에 의해 지지될 수 있다. 이 보조 가이드(44)는 바람직하게는 제거 가능하다.

도 11 및 도 12를 참조하면, 지지 플레이트에 구비된 하우징은 가공될 냄비의 형상에 따라 원형 또는 사각형일 수 있음을 알 수 있다.

각각의 지지 플레이트는 제1 이동부의 핑거를 수용하기 위한 적어도 하나의 노치(16)를 포함한다. 노치(들)(16)는 바람직하게는 플레이트의 두께를 통과함을 주목한다. 이는 청소하기 쉽고 오염 물질이 막힌 구멍에 갇히는 것을 방지한다.

예시된 예에서 각 지지 플레이트는 두 개의 노치를 포함한다.

또한 하나의 옵션에 따르면, 평면 밖으로 돌출부를 형성하는 돌출부(15)가 제공되며, 이는 특히 플레이트를 수직 방향으로 유지하는 역할을 한다.

하나의 구성에 따르면, 돌출부보다는 19로 표시된 길이 방향 홈이 플레이트를 유지하는 데 사용되며, 플레이트 안내 수단에 제공된 길이 방향 리브(28, 29)는 상기 홈에 수용된다.

도시되지 않은 변형예에서, 플레이트의 전방 이동을 위한 노치(16)의 위치와 유지 및 안내를 위한 길이방향 홈(19)의 위치가 일치할 수 있다.

또한, 10으로 참조되는 보조 노치가 제공될 수 있으며, 이는 수직 위치에 특히 유용하며 후술한다.

플레이트의 전체 모양이 직사각형이 아니라 정사각형일 수도 있다.

또한, 짧은 변은 반드시 직선일 필요는 없고 볼록하거나 오목한 단차를 포함할 수 있다.

구동부

제1 부분에는 지지 플레이트를 제1 축 방향(X1A)을 따라 이동시키기 위한 제1 부재(2)가 제공된다. 예시된 구성에서 제1 부재는 스테핑 타입이다. 그러나, 본 발명의 범위 내에서 임의의 다른 이동 메커니즘이 고려될 수 있다.

제1 이동부(2)는 도시된 예에서 일반적으로 축 방향을 따라 연장되고 축(X1)을 중심으로 회전하도록 장착되는 이송 바(21)를 포함한다.

제1 이동부(2)의 이송 바(21)는 축(X1)으로부터 거리를 두고 플레이트의 노치(16)에 수용되도록 구성된 핑거(26)를 포함하고, 핑거(26)는 맞물리지 않을 때 핑거는 적재되지 않는다.

도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 제1 이동부(2)의 이송 바(21)는 2개의 자유도, 즉 X1에 대한 회전 및 축 방향을 따른 전방 이동으로 작동한다. 회전은 노치(16) 내에서 그리고 노치(16)로부터 핑거(26)의 결합 및 분리를 허용한다.

병진 운동의 축방향 이동은 하나 이상의 플레이트를 제1 부분에서 미리 결정된 거리만큼 앞으로 이동시키는 것을 가능하게 한다. 도 10에 도시된 예에서, 미리 결정된 거리는 플레이트의 축방향 길이, 즉 피치(PX)와 일치한다. 다른 가능성에 따르면, 예를 들어 플레이트당 두 개의 노치가 있는 경우, 이송 바의 각 이동에 대한 전진 이동 거리는 PX/2일 수 있다. 다른 가능성에 따르면, 예를 들어 플레이트당 4개의 노치가 있는 경우, 이송 바의 각 이동에 대한 전진 이동 거리는 PX/4일 수 있다.

병진 운동의 축 방향 이동은 무한 나사(endless screw) 및 캡티브 너트(captive nut) 메커니즘, 또는랙-피니언(rack-pinion) 메커니즘 또는 롱 스트로크(long stroke) 전기 실린더를 통해 실현된다. 일반적으로 알려진 축 방향 변환 메커니즘을 사용하는 것도 가능하다.

이송 바 자체에 고정되거나 고정될 수 있는 22로 표시된 축 샤프트가 제공된다. 이는 또한 M2로 표시된 모터 또는 차축 근처에 배치된 기어 모터를 포함한다. 출력 피니언은 길이 방향(X1)을 따라 이송 바(21)를 이동시키기 위해 랙 또는 나선형 치형부와 맞물리며, 가능한 구성에 따라 차축 샤프트(22)가 회전하거나 회전하지 않는다.

핑거의 맞물림 및 풀림 동작이 관련된 경우, 이송 바에는 이송 바의 본체에 단단히 연결된 25 참조된 후면 레버가 장착되어 있다. 또한, 후방 레버(25)는 슬라이딩 연결부(27)에 수용된다. 후방 레버(25)는 슬라이드(27)에서 X1을 따라 길이방향으로 미끄러질 수 있다. 이 경우, 도 13에 도시된 바와 같이, 싱글-작동 컨트롤 실린더가 M1으로 도시되며, 리턴 스프링이 45로 제공된다. 리턴 스프링의 효과는 컨트롤 핑거(26)의 분리된 위치로 축(X1)을 중심으로 이송 바를 기울이는 반면, 실린더(M1)의 작동은 반대 방향으로 이송 바를 기울이고 노치(16)에 컨트롤 핑거를 맞물리게 한다.

도 14는 더블-작동 실린더의 경우를 도시한다. 이 경우, 실린더는 컨트롤 핑거를 해제하도록 한 방향으로 명령되고, 플레이트를 전방으로 이동시키도록 컨트롤 핑거(26)와 결합하도록 반대 방향으로 명령된다.

따라서, 제1 이동부(2)는 "이송 셔틀"로 지칭될 수 있다. 적어도 하나의 플레이트가 미리 결정된 거리만큼 앞으로 이동하게 하기 위한 임의의 다른 솔루션이 또한 구상될 수 있다.

핑거(26)의 수와 관련하여, 제1 작업 부분에서 지지 플레이트를 위한 공간이 있는 만큼 많은 핑거가 제공될 수 있고, 이러한 조건에서 이송 셔틀은 작업 부분(TC1)에 위치한 모든 플레이트와 동시에 맞물린다. 따라서, 이송 바(21) 및 축 샤프트(22)는 가능하면 단부를 제외하고 처리 시스템의 전체 길이를 따라 이동한다. 따라서, 플레이트는 서로를 밀지 않고 반드시 인접하지 않아도 된다. 이는 또한 몇 개의 플레이트만으로도 테스트된 기계를 작동하는 것을 가능하게 한다.

다른 변형에서, 이송 셔틀은 제1 부분의 시작 부분에 위치한 제1 플레이트에만 맞물리고, 플레이트들은 제1 부분의 끝 부분까지 서로를 밀어낸다. 따라서 축 샤프트와 이송 바는 훨씬 더 짧으며, 이는 플레이트 PX의 길이에 해당하거나 약간 더 큰 크기의 차수일 수 있다.

대안적으로, 이송 셔틀은 도 14 및 도 15에 예시된 바와 같이, 아래에서 작동할 수 있으며, 이 경우는 아래에 예시되어 있다. 이송 바(21)가 작업 부분에서 플레이트의 상부면(1A) 아래에 위치할 때, PW로 참조된 작업 평면 위에 위치된 영역은 손상 또는 오염 위험 요소가 없다.

실린더(M1)가 위쪽으로 밀면 컨트롤 바가 약 X1로 기울어지고, 컨트롤 핑거(26)가 노치(16)에서 분리된다. 대조적으로 M1이 아래쪽으로 밀릴 때 컨트롤 바는 X1과 컨트롤 핑거(26)에 대해 반대 방향으로 기울어져 노치(16)에 맞물린다.

처리 시스템은 제2 부분(TC2)에서 지지 플레이트를 제2 축 방향(X1B)으로 이동시키도록 구성된 제2 이동부(3)를 포함한다. 제2 이동부는 바람직하게는 연속 타입이다.

도 9, 도 15 및 도 16에서 알 수 있는 바와 같이, 제2 이동부는 참조번호 34로 표시된 무단 벨트를 포함한다. 이 벨트는 2개의 벨트 풀리에 의해 안내 및 구동되며, 그 중 하나는 모터(M3)에 의해 구동되는 구동 풀리(32)이고, 다른 하나는 벨트의 다른 쪽 단부에 있는 팔로워 풀리(33)이다. 벨트는 제2 단부(E2)로부터 제1 단부(E1)로 플레이트를 구동하기 위해 리턴 방향 위치, 즉 수직 위치에서 플레이트의 하부면(1B)에 대해 이동된다.

벨트는 플레이트에 문지르거나, 변형에 따라 벨트에 두 세트의 톱니가 있을 수 있다. 후자의 경우, 한 세트의 톱니가 내부에 제공되어 구동 풀리를 통해 벨트를 구동하고 외부에 한 세트의 톱니가 리턴부(TC2)에서 벨트를 통해 지지 플레이트를 구동하기 위해 제공된다.

제2 이동부는 벨트 대신, 단부에 있는 두 개의 스프로킷에 루프에 장착된 관절 링크 체인으로 형성될 수 있다. 첫 번째 스프라켓은 구동 스프라켓이고 다른 하나는 체인의 충분한 장력을 영구적으로 유지하기 위해 스프링에 의해 탄성적으로 리턴되는 지지대에 장착된다. 루프 체인의 특정 링크 외부에 고정된 슈(shoe)가 수직 위치에서 플레이트를 지지하고 플레이트를 구동하기 위해 제공될 수 있다.

보다 구체적으로, 작업 스트랜드(34a)는 제2 부분에 위치된 플레이트와 접촉하여 배열되는 반면, 리턴 스트랜드(34b)는 플레이트로부터 거리를 두고 있고 적재되지 않은 상태를 위한 역할을 한다. 벨트의 작업 스트랜드는 앞으로 이동하는 속도가 비교적 빠르다. 실제로는 적어도 반대 방향으로 이송 바의 전진 이동 속도와 동일하다. 예를 들어, 벨트(34)의 전방 이동 속도는 초당 500mm 이상일 수 있다.

제2 부분에서 플레이트의 구동은 예시된 것과 다를 수도 있으며, 예를 들어 펄스, 중력에 의한 리턴 또는 다른 수단이 참여할 수 있으며, 이러한 리턴에서는 플레이트에 대한 작업 동작이 없다.

도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 회전 스테이션(PR1)은 제1 단부(E1) 측에 제1 회전 베이스(41)를 포함한다. 제1 회전 베이스는 지지 플레이트를 제1 부분(TC1)에 결합시키기 위해 지지 플레이트를 수평 위치로 피벗시킨다. 제1 회전 베이스는 X1과 일치하거나 X1에 근접한 축을 중심으로 회전하도록 장착된 요소의 형태일 수 있으며, 이 요소는 2개의 이동 끝 센서 또는 이동 종료 센서가 있는 스테핑 모터일 수 있다.

따라서, 제1 회전 베이스(41)는 리턴 방향으로 제2 부분에 도달하는 지지 플레이트를 수용하기에 적합한 제1 위치와 제1 부분의 입구에서 수평 위치에 지지 플레이트를 배치하기에 적합한 제2 위치 사이에서 이동 가능하다.

철회 가능한 정지부(49)가 제공될 수 있으며, 이는 리턴 수직 플레이트의 입구를 이 회전 베이스의 수직 수용 위치에 의존하는 회전 베이스(41)로 만든다. 철회 가능한 정지부(49)는 소형 액추에이터(M4)에 의해 선택적으로 제어될 수 있다. 변형에서, 철회 가능한 정지부는 회전 베이스(41)의 회전 이외의 특정 제어를 요구하지 않고 회전 베이스(41)의 측면에 통합된 형태일 수 있다.

제2 단부(E2)의 측면에서, 제2 회전 스테이션(PR2)은 제2 회전 베이스(42)를 포함한다. 제2 회전 베이스는 지지 플레이트를 제2 부분(TC2)에 결합시키기 위해 리턴 방향으로 지지 플레이트를 피벗시킨다.

제2 회전 베이스는 X1과 일치하거나 X1에 근접한 축을 중심으로 회전하도록 장착된 요소의 형태일 수 있으며, 이 요소는 2개의 이동 끝 센서 또는 이동 종료 센서가 있는 스테핑 모터일 수 있다. 경로가 자유로우면 제2 회전 베이스는 플레이트를 수직 위치로 회전시키고 즉시 제2 리턴 부분(TC2)에 삽입한다.

각각의 회전 베이스는 종방향 에지, 즉 안내 및 구동 에지를 형성하는 긴 측면(11)을 수용하기 위한 홈을 포함한다.

제1 회전 베이스와 제2 회전 베이스는 모두 플레이트 고정 수단을 포함한다. 플레이트가 평면(15) 밖으로 돌출부를 포함하는 경우, 회전 베이스는 평면 돌출부를 수용하기 위한 슬라이드를 형성하는 하우징을 포함한다 (도 11 참조).

변형예에서, 각각의 지지 플레이트(1)는 안내 홈(19)을 갖는다. 회전 베이스는 플레이트에 형성된 홈(19)의 내부를 지지하는 돌출 리브(29)를 포함한다. (도 13 및 14, 하단 부분 참조).

또한, 제1 축 방향(X1A)을 따라 연속적으로 배치된 고정된 메인 안내 지지대(40)가 제1 및 제2 회전 베이스(41, 42) 사이에 제공된다. 따라서 지지대는 제1 단부(E1)에서 제2 단부(E2)까지 플레이트에 대해 연속적이다.

메인 안내 지지대는 플레이트의 길이방향 가이드를 허용하는 리브(28)를 포함하고, 리브(28)는 홈(19)에 수용된다.

도 13에 도시된 바와 같이, 메인 가이드 지지대는 X1을 따라 일반적으로 일정한 단면을 갖는 프로파일 요소의 형태이다. 다시 말해, 메인 가이드 지지대(40)는 가이드 레일을 형성한다. 이 레일/프로파일 요소는 제1 부분(TC1)을 통과하는 수평 위치에서 플레이트를 안내하는 것을 가능하게 하고, 또한 플레이트가 리턴하는 제2 부분(TC2)에서 수직 위치에서 플레이트를 안내하는 것을 가능하게 한다.

이러한 지지 플레이트를 갖는 시스템은 또한 본 발명이 적용될 수 있는 비식품용 용기를 가공하는 기계 또는 설비에 사용될 수 있다.

작동

제1 작업부에서 플레이트는 상술한 제1 이동부(2)에 의해 한 스테이션에서 다른 스테이션으로 순차적으로 이동된다. 플레이트는 도 15 및 도 16에서 1H로 참조된 수평 위치에 있다. 기계의 구성에 따라 고정된 스테이션에서 이송 바의 외부 이동 사이의 시간 동안 다양한 작업이 수행된다. 도 15에 도시된 매우 단순화된 예에 따르면, 77로 참조된 계량 노즐이 플레이트의 위치 중 하나의 위치에 제공된다.

작동부(TC1)의 끝단에서, 제2 회전 베이스(42)는 기준 세로축(X1)을 중심으로 각도 θ일반적인 경우 90°)를 통해 각 지지판(1)을 회전시킨다. 그 후, 각 플레이트는 실질적으로 이 방향을 유지하면서 리턴 부분을 따라 이동한다. 플레이트는 도 15 및 도 16에서 1V로 참조된 수직 위치에 있다. 플레이트는 전술한 제2 이동부(3)에 의해 제2 부분(TC2)을 따라 이동된다.

그 후, 제1 회전 베이스(41)는 길이 방향 축(X1)을 중심으로 반대 방향의 각도 -θ즉 제2 회전 베이스에 의해 가해지는 각도와 반대 방향으로 회전하면서 지지 플레이트를 회전시킨다.

루프의 전체 작동과 관련하여 도 16에서 볼 수 있듯이 제1 부분(TC1)은 플레이트로 완전히 채워진 반면, 제2 부분(TC2)은 몇 개의 플레이트로만 구성된다.

따라서, 제1 부분의 플레이트의 수는 기계의 구성에 따라 약 10개 내지 약 30개일 수 있다. 대조적으로, 리턴부(TC2)에는 1 내지 4개의 플레이트만이 있다.

플레이트의 제2 실시예에 따르면, 도 18은 칼라가 없는 용기가 특정한 경우에 가공되는 변형을 예시한다. 이 경우, 용기는 플레이트 위에 직접 놓이지 않고 플레이트 아래의 거리에 배치된 슈(79) 위에 놓인다. 이 거리는 가공될 용기(5)의 높이에 해당한다. 이 슈는 4개의 작은 기둥(78)에 의해 플레이트에 연결된다.

위에서 언급한 슈와 유사하게, 바닥 지지대에 용기(5)를 안착시키기 위한 다른 솔루션도 적합할 수 있다.

이하에서 특별히 설명되지 않은 것은 도 1 내지 17과 관련한 처리 시스템에 대하여 상술한 설명과 동일하거나 유사한 것으로 간주될 것이다.

도 18에 예시된 변형에 따르면, 플레이트는 두 부분, 즉 하우징(18)이 있는 1'로 표시된 플레이트와 안내 및 구동 기능을 위한 기술 프로파일 요소(17)로 만들어진다. 안내 및 구동을 위한 기술 프로파일 요소(17)는 안내 홈(190)을 가지며, 그 기능은 전술한 홈(19)과 동일하다.

이 경우, 안내 및 구동을 위한 기술 프로파일 요소(17)는 긴 측면의 플레이트의 에지 면에 배열된 2개의 노치(160)를 갖는다. 기술 프로파일 요소(17)는 플레이트(PX)의 길이방향 치수와 동일한 길이(PX)를 갖는다. 플레이트(1')는 천공된 구멍이 뚫린 블랭크에서 얻어져 제작이 용이하다.

기술 프로파일 요소(17)는 플레이트 아래에 고정된다. 즉 플레이트(1')의 하부면(1B)에 고정된다. 플레이트의 상부면(1A)으로부터는 아무것도 돌출되지 않는다. 기술 프로파일 요소(17)는 플라스틱을 성형함으로써 얻어진다.

플레이트의 로딩 및 언로딩

설비는 지지 플레이트를 싣고 내리기 위한 시스템으로 구성된다. 특히, 기계의 루프 경로에 존재하는 지지 플레이트를 도면에서 일반적으로 9로 참조된 지지 플레이트용 고정 팰릿의 방향으로 내리는 것이 가능하도록 제공된다.

예시된 예에서 이 고정 팰릿은 제1 회전 스테이션의 위치까지 이동된다. 도시된 예에서는 제1 회전 베이스(41) 아래에 설치된다. 고정 팰릿(9)은 처리 시스템의 제2 부분(TC2)으로부터 차례로 지지 플레이트를 수용한다.

고정 팰릿은 복수의 공간(94)을 포함한다. 예시된 예에서, 이들 공간 각각은 기계의 길이방향 축(X)에 평행한 홈의 형태이며, 이러한 공간은 "슬롯"으로도 지칭된다. 여러 공간이 가로축 Y를 따라 이격되어 서로 평행하고 나란히 배치된다. 홈 사이의 가로 오프셋 (즉, 인접한 두 홈의 중심 간 간격)은 거리 P9로 나타낸다 (도 21 및 도 24 참조).

거리(P9)는 10mm와 50mm 사이일 수 있다.

거리(P9)는 1.5 EPP와 2.5 EPP 사이일 수 있으며, EPP는 플레이트의 전체 두께를 나타낸다.

홈의 바닥에서, 각각의 지지 플레이트의 자유 에지(12)에 형성된 노치(10)에 상보적인 형상이 제공될 수 있다. 이들 상보적인 형상은 길이방향(X)으로 팰릿 상의 플레이트의 인덱싱을 허용한다. 이러한 측면 노치(10)는 또한 처리 스테이션에서 인덱싱 목적을 위해 사용될 수 있다.

또한 도 21에 도시된 바와 같이 플레이트를 수직 위치에 유지하기 위한 슬롯이 있는 고정 지지대(92)가 제공된다. 고정 지지대는 또한 X를 따라 팰릿의 지지 플레이트 바닥에서 삽입 운동을 위한 정지부를 형성한다.

도시된 예에서, 고정 팰릿(9)은 16과 32 사이의 공간의 수를 포함한다. 물론, 공간의 수는 이러한 값보다 작거나 클 수 있다.

팰릿이 슬라이딩할 수 있는 프레임(90)이 제공되며, 프레임은 로딩 또는 언로딩 작업 동안 고정된 위치에 배열된다. 슬라이딩 시스템(96)은 프레임에 대해 팰릿을 슬라이딩하는 것을 가능하게 한다.

또한, 지게차 형(100)의 장비 품목은 작업 시 팰릿을 지지하거나 작업 후 팰릿을 회수하기 위해 제공된다 (이 경우 팰릿을 지지하는 프레임(90)을 내려 놓고 처리 시스템의 일반 프레임(6)에 인덱싱될 수 있다).

지지 플레이트를 언로딩하는 과정은 도 22 및 도 23에 의해 설명된다. 지지 플레이트가 제2 부분(TC2)의 말단, 즉 처리 시스템의 제1 말단 부근에 도달할 때마다, 지지 플레이트는 수평 위치로 피봇되지 않고, 똑바로 전진하여 이동하고 고정 팰릿(9) 내 공간(94)을 차지한다.

이 플레이트가 정지 위치에 있을 때 (예를 들어, 직립부(92)에 대항하여), 팰릿은 수직 위치에서 플레이트의 도착을 마주하는 빈 공간을 정렬하기 위해 가로 방향(Y)을 따라 거리(P9)만큼 오프셋된다. 그런 다음 다른 플레이트가 도착하여 사용 가능한 공간에 삽입된다. 이 과정에서, 제1 회전 베이스(41)는 수평 위치, 즉 제2 위치에 유지된다. 따라서 수직 위치에 도달하는 플레이트를 유지하기 위해 제공되는 회전 베이스의 상호 보완적인 형상은 여기서 어떠한 영향도 미치지 않는다. 따라서 플레이트는 이 위치에서 홈(19)에 끼워지도록 제공되는 리브(29)가 없기 때문에 (회전 베이스가 정상 작동에서와 같이 수직 위치가 아니라 수평 위치에 있기 때문에), 가이드 형상에서 자유롭다.

언로딩을 기다리고 있는 플레이트가 쌓여 있는 경우, 개폐식 정지부(49)는 팰릿이 첫 번째 대기 플레이트를 마주하는 빈 공간을 정렬하기 위해 Y를 따라 오프셋되는 동안 판을 대기 상태로 유지하는 것을 가능하게 한다.

도 20, 21 및 23은 처리 시스템에 지지 플레이트를 로딩하는 과정을 보여준다. 지지 플레이트는 처음에 제2 부분의 끝에 위치한, 제2 부분(TC2)의 단부에 위치된 고정 팰릿의 공간(94)에 열로 배열된다. 제1 회전 베이스(41)는 제2 위치, 즉 수평 위치에 유지된다.

벨트 컨베이어, 즉 제2 이동부(3)는 벨트 컨베이어에 인접한 위치에 위치한 제1 플레이트를 위로 이동시키기 위해, 상시 반대 방향으로 작동되어 리브(29)가 이 위치에서 홈(19)에 끼워지는 메인 가이드(40)와 맞물린다. 따라서 슬라이딩 가이드는 제2 부분(TC2)을 따라 결합되었으며, 정상 모드와 유일한 차이점은 플레이트가 반대 방향으로 이동한다는 점이다.

플레이트가 팰릿의 공간을 완전히 떠나면 벨트의 움직임이 중지되고, 팰릿은 거리(P9)만큼 오프셋되어 새로운 지지 플레이트가 벨트(34)와 접촉하게 된다. 그런 다음 프로세스가 반복된다. 즉, 벨트는 정상 방향과 반대 방향으로 구동되어, 이 플레이트를 역방향(wrong way)으로 제2 부분으로 이동시키고 이 과정에서 미리 도입된 플레이트를 더 뒤로 밀어낸다.

제2 부분 전체를 제2 단부(E2)까지 위로 이동시키도록 벨트에 의해 구동되는 지지 플레이트를 법선 방향과 반대 방향으로 개별적으로 삽입하는 공정은 동일한 방식으로 계속된다.

도면에 도시되지 않은 변형에 따르면, 고정 팰릿은 제2 회전 스테이션(PR2), 즉 제2 회전 베이스(42) 아래에 설치될 수 있다. 제2 이동부(3) 및 제2 회전 베이스의 프로그래밍 로직에 의해, 모든 지지 플레이트는 처리 시스템의 제2 단부에서 고정 팰릿으로 언로드할 수도 있고 새로운 세트의 지지 플레이트도 이 위치에서 다시 로드할 수 있다.

도 24를 참조하면, 판의 평면으로부터 오프셋된 용기 지지대의 경우(예: 슈(79) 등), 플레이트(1)를 내리는 동안 X를 따라 병진 운동을 허용하도록 팰릿에 더 큰 공간(P9)이 제공될 수 있다.

도면에 도시되지 않은 다른 변형에 따르면, 지지 플레이트를 서로 부분적으로 중첩하는 것이 팰릿에 제공될 수 있다. 그러면 위에서 언급한 Y를 따라 오프셋하기 위한 메커니즘이나 추가 액추에이터를 사용하여 Y를 따라 제어 이동이 필요할 수 있다.

모든 "이전" 플레이트를 언로딩하는 작업에 이어, 모든 "새로운" 플레이트를 언로딩하는 작업이 도 22 및 도 23과 관련하여 설명되었다.

도 25는 플레이트 배치의 점진적인 교환으로 이루어진 두 번째 가능성의 평면도를 예시한다. 이 경우 "이전" 플레이트가 언로드되고, "새로운" 플레이트가 그 자리에 설치된다. 이러한 1회의 동작(언로딩 + 재 로딩)이 플레이트의 개수만큼 반복된다. 모든 플레이트가 교체되면 이전 플레이트가 장착된 팰릿을 멀리 이동시킬 수 있다.

실제로, 교체 작업을 시작하기 위해, 팰릿을 제2 부분의 두 단부 중 하나로 가져와, 위치 지정/정렬 시스템은 단순하게 구현 가능하다. 매니퓰레이트(97)가 제공될 수 있다.

매니퓰레이터(97)는 제2 부분(TC2)의 공간에 대해 플레이트를 당기거나 밀기 위하여, 로드의 단부에 그리퍼가 장착된 실린더일 수 있다. 매니퓰레이터는 위에서 언급한 바와 같이 팰릿 상의 공간(Y)를 따라 오프셋하는 오프셋 메커니즘(93)과 함께 구동된다.

도 25를 참조하면, 플레이트(95)는 언로딩에 가까운 위치에 있고, 매니퓰레이터(97)는 앞으로 이동한 다음 이를 잡고 팰릿의 빈 공간으로 잡아당기며, 이 플레이트는 이미 언로드된 플레이트 배치(98)에 함께 한다.

다음으로, 오프셋 기구(93)는 팰릿을 지지하는 프레임에 대해 Y를 따라 (도면에서 위쪽으로) 팔레트를 오프셋 한다. 그런 다음 제2 부분의 가이드를 향하는 새로운 플레이트 중 하나 (로드할 플레이트 배치(99))가 있다. 매니퓰레이터(97)는 거기에 위치한 플레이트를 팰릿 상의 공간으로부터 제2 부분의 가이드로 밀어낸다. 그 다음, 처리 시스템은 플레이트를 이동하고 기존 플레이트를 언로딩할 준비가 된 위치로 가져온다. 따라서 모든 플레이트가 교체될 때까지 작업이 반복된다.

Claims (12)

1. 식품을 보유하도록 구성된 용기를 가공하기 위한 기계 내의 처리 시스템에 있어서,
   상기 처리 시스템은:
   - 폐쇄 경로를 순환하는 복수의 지지 플레이트(1);
   - 제1 축방향을 따라 지지 플레이트를 이동시킬 수 있는 제1 이동부(2)를 갖고, 상기 지지 플레이트를 수평 위치에서 제1 축방향(X1A)을 따라 순환시키는, 작업부에 해당하는 제1 부분(TC1); 및
   - 제1 축방향과 반대측인 제2 축방향(X1B)을 따라 지지 플레이트를 이동시키도록 구성된 제2 이동부(3)를 갖는, 리턴부에 해당하는 제2 부분(TC2); 을 포함하고,
   각 지지 플레이트(1)는 하나 이상의 하우징을 포함하고, 각 하우징(18)은 용기(5)를 보유할 수 있으며,
   지지 플레이트는 제2 부분에서 리턴 방향을 따라 순환하고, 상기 리턴 방향은 수직이거나, 수직으로부터 30도 이하의 각도로 기울어지며,
   상기 처리 시스템은:
   - 처리 시스템의 제1 단부(E1)에 배치되고, 정상 작동에서, 제1 부분(TC1)에서 지지 플레이트들을 결합시키기 위하여 지지 플레이트들을 수평 위치 내로 피봇시키도록 구성된 제1 회전 스테이션(PR1); 및
   - 처리 시스템의 제2 단부(E2)에 배치되고, 정상 작동에서, 제2 부분(TC2)에서 지지 플레이트들을 결합시키기 위하여 지지 플레이트들을 리턴 방향 내로 피봇시키도록 구성된 제2 회전 스테이션; 을 포함하고,
   상기 처리 시스템은 기계의 정상 작동을 위해 요구되는 지지 플레이트들의 바람직하게는 전부를 고정하도록 구성된, 복수의 지지 플레이트를 고정하기 위한 적어도 하나의 고정 팰릿(9)을 포함하고, 상기 고정 팰릿은 선택적으로 지지 플레이트를 제2 부분으로부터 고정 팰릿에 언로딩 또는 고정 팰릿으로부터 제2 부분 내로 로딩하도록, 제1 또는 제2 회전 스테이션(PR1, PR2) 및 제2 이동부(3)와 협력하는, 처리 시스템.
2. 제 1 항에 있어서,
   제1 회전 스테이션(PR1)은 제1 회전 베이스(41)를 포함하고, 상기 회전 베이스는 리턴 방향으로 제2 위치에 도착하는 지지 플레이트를 수용할 수 있는 제1 위치 및 제1 부분의 입구에서 수평 위치로 지지 플레이트를 놓을 수 있는 제2위치 사이를 이동할 수 있는, 처리 시스템.
3. 제 2 항에 있어서,
   고정 팰릿(9)은 제1 회전 스테이션(PR1)과 협력하는, 처리 시스템.
4. 제 3 항에 있어서,
   지지 플레이트를 제2 부분으로부터 고정 팰릿 상에 언로딩하는 구성에 있어서, 제1 회전 베이스(41)는 각 지지 플레이트(1)가 리턴 방향을 갖고 제1 회전 스테이션에 진입하도록 제2 위치에 남아 있고, 그 다음 상기 지지 플레이트는 고정 팰릿(9) 상의 공간 안으로 삽입되는, 처리 시스템.
5. 제 3 항에 있어서,
   지지 플레이트를 고정 팰릿으로부터 제2 부분에 로딩하는 구성에 있어서, 제1 회전 베이스(41)는 제2 위치에 남아 있고, 제2 이동부는 정상 작동에 반대 방향으로 작동하여, 각 지지 플레이트(1)를 고정 팰릿(9) 상의 공간으로부터 제거하고 각 지지 플레이트가 리턴 방향을 갖고 제2 부분으로 이동하도록 하는, 처리 시스템.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   고정 팰릿은 서로 이격되고 평행한 복수의 공간(94)을 포함하고, 고정 팰릿 내부 또는 외부에 위치되는 오프셋 메커니즘이 제공되어, 공간(94)이 제2 부분 내 지지 플레이트의 이동에 정렬되도록 위치시켜, 지지 플레이트를 제2 부분으로부터 언로딩 또는 제2 부분 내로 로딩시키는, 처리 시스템.
7. 제 6 항에 있어서,
   지지 플레이트(1)는 고정 팰릿(9) 상에서 수직 위치에 고정되고, 수직 위치 내 공간 내에 유지되며, 지지 플레이트들 사이의 상호 접촉이 일어나지 않는, 처리 시스템.
8. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   지지 플레이트가 제1 회전 베이스(41)를 향하여 전진 이동을 선택적으로 가능하게 하거나 멈추게 하는 정지 요소(49)가 제공되며,
   정지 요소는 제1 회전 베이스가 제1 위치에 있지 않은 경우, 지지 플레이트가 제1 회전 베이스에 도착하는 것을 방지하고,
   언로딩 모드에서, 정지 요소는 지지 플레이트를 고정할 수 있는 고정 팰릿 내 공간이 없는 경우, 지지 플레이트의 도착을 방지하는, 처리 시스템.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
   제2 회전 스테이션(PR2)은 제2 회전 베이스(42)를 포함하는, 처리 시스템.
10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제2 이동부(3)는 무한 벨트 컨베이어(34)의 형태인, 처리 시스템.
11. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    고정 팰릿은 플레이트를 수직 위치에 유지하기 위한 슬롯이 있는 고정 직립부(92)를 포함하는, 처리 시스템.
12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 처리 시스템을 포함하는, 식품용 냄비 또는 병을 가공하는 기계.

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