KR20220137767A - 광학 지연 시스템 - Google Patents

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KR20220137767A
KR20220137767A KR1020227032694A KR20227032694A KR20220137767A KR 20220137767 A KR20220137767 A KR 20220137767A KR 1020227032694 A KR1020227032694 A KR 1020227032694A KR 20227032694 A KR20227032694 A KR 20227032694A KR 20220137767 A KR20220137767 A KR 20220137767A
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브라이언 리 스탬퍼
다니엘 진 스미스
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가부시키가이샤 니콘
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Abstract

광학 시스템은 제 1 광학 시스템, 제 2 광학 시스템, 및 제 3 광학 시스템을 포함한다. 제 1 광학 시스템은 입력 빔을 제 1 광 및 제 2 광으로 분할한다. 제 2 광학 시스템은 제 1 광을 반사하는 오목 반사 표면을 포함한다. 제 3 광학 시스템은 제 2 광학 시스템으로부터 반사된 제 1 광 및 제 1 광학 시스템으로부터의 제 2 광 중 적어도 하나를 제 3 광학 시스템의 출력 광 경로로 지향시킨다.

Description

광학 지연 시스템
리소그래피용 조명 시스템의 경우, 타겟 표면을 조명하기 위해 복잡하지 않거나 복잡한 조명 패턴이 필요할 수도 있다. 그러나, 복잡하지 않거나 복잡한 조명 패턴은 특히 간섭성 소스를 사용하여 패턴을 생성할 때 조명 패턴의 서로 다른 부분들 사이의 간섭으로 인해 발생하는 스펙클 노이즈(speckle noise)를 겪는다. 이 노이즈는 리소그래피 프로세스의 품질을 저하시키고 오류를 생성할 수 있다.
본 발명의 다양한 실시형태들은 다음의 상세한 설명 및 첨부하는 도면들에 개시된다.
도 1은 광학 지연 시스템을 갖는 조명 시스템을 사용하는 리소그래피를 위한 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다.
도 2a는 광학 지연 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다.
도 2b는 광학 지연 시스템에 대한 타겟 평면에서의 출력 패턴의 실시형태를 도시하는 도면이다.
도 3 은 지연 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다.
도 4 는 광학 지연 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다.
도 5a는 조명을 위한 시스템의 예시적인 실시형태를 도시하는 도면이다.
도 5b 는 조명을 위한 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다.
도 5c 은 조명을 위한 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다.
도 5d 는 조명을 위한 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다.
도 6 은 폴디드 솔리드 옵틱을 사용하는 시간 지연 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다.
도 7 은 지연 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다.
본 발명은 프로세스; 장치; 시스템; 물질의 조성; 컴퓨터 판독 가능 저장 매체에 구현된 컴퓨터 프로그램 제품; 및/또는 프로세서에 연결된 메모리 상에 저장되거나 그에 의해 제공되는 명령들을 실행하도록 구성된 프로세서와 같은 프로세서로서를 포함하여 다수의 방식들로 구현될 수 있다. 본 명세서에서, 이러한 구현들, 또는 본 발명이 취할 수 있는 임의의 다른 형태는 기법들로 지칭될 수도 있다.
일반적으로, 개시된 공정의 단계의 순서는 본 발명의 범위 내에서 변경될 수 있다. 특별한 언급이 없는 한, 작업을 수행하도록 구성되는 것으로서 기술되는 프로세서나 메모리와 같은 컴포넌트는 주어진 시간에 작업을 수행하도록 일시적으로 구성되는 범용 컴포넌트 또는 작업을 수행하도록 제조된 특수 컴포넌트로 구현될 수도 있다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, '프로세서'라는 용어는 컴퓨터 프로그램 명령과 같은 데이터를 처리하도록 구성된 하나 이상의 디바이스, 회로, 및/또는 프로세싱 코어를 지칭한다.
본 발명의 하나 이상의 실시형태에 대한 상세한 설명이 본 발명의 원리를 예시하는 첨부 도면과 함께 아래에 제공된다. 본 발명은 이러한 실시형태와 관련하여 설명되지만, 본 발명은 임의의 실시형태에 제한되지 않는다. 본 발명의 범위는 오직 청구항들에 의해서만 제한되며, 본 발명은 다수의 대안들, 변경들, 수정들 및 등가물들이 포함된다. 다수의 특정 세부사항들은 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해 이하 설명에서 기술된다. 이들 세부사항들은 예시의 목적으로 제공되며, 본 발명은 이들 특정 세부사항들의 일부 또는 전부 없이 첨구항들에 따라 실시될 수도 있다. 명확함을 목적으로, 본 발명에 관련된 기술 분야들에서 공지된 기술 자료는 본 발명을 불필요하게 불분명하게 하지 않도록 상세히 설명되지 않았다.
광학 지연 시스템이 개시된다.
일부 실시형태에서, 광학 지연 시스템은 빔 분할기, 중간 광학부, 및 빔 결합기를 포함한다. 빔 분할기는 입력 빔을 제 1 광과 제 2 광으로 분할하고 제 1 광과 제 2 광을 서로 다른 방향으로 향하게 한다. 중간 광학부는 제1 광을 굴절시키는 굴절면 및 굴절면으로부터 제1 광을 반사하는 오목 미러를 포함한다. 빔 결합기는 오목 미러로부터의 제1 광 및 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키고, 여기서 오목 미러로부터 빔 결합기로의 제1 광은 굴절 표면을 통과한다.
일부 실시형태에서, 광학 지연 시스템은 빔 분할기, 중간 광학부, 및 빔 결합기를 포함한다. 빔 분할기는 입력 빔을 제 1 광과 제 2 광으로 분할하고 제 1 광과 제 2 광을 서로 다른 방향으로 향하게 한다. 빔 분할기는 제1 광과 제2 광을 동일한 방향으로 향하게 할 수 있다. 중간 광학부는 빔 분할기로부터의 제1 광을 반사하고 오목한 형상을 갖는 제1 반사 표면, 및 제1 반사 표면으로부터의 제1 빔을 반사하고 제1 빔을 제1 반사 표면으로 지향시키는 제2 반사 표면을 포함한다. 빔 결합기는 제2 반사 표면으로부터의 제1 광 및 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키고, 여기서 제2 반사 표면으로부터 빔 결합기로의 제1 광은 제1 굴절 표면을 통과한다. 빔 분할기는 제1 광과 제2 광을 상이한 방향으로 향하게 할 수 있다.
일부 실시형태에서, 광학 또는 시간 지연 시스템은 시간 지연 시스템에 의해 출력된 빔렛 (beamlet) 세트의 각 빔렛 사이의 시간적 간섭성을 감소시키기 위해 빔렛 세트의 각 빔렛이 다수의 암들의 상이한 순열을 횡단하도록 횡단되는 다수의 암을 포함한다. 일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 다수의 시간 지연 암들 중의 암에 있는 광 경로가 접혀 지는 다수의 시간 지연 암들을 포함한다. 다양한 실시형태에서, 암의 광 경로는 실질적으로 유리(예를 들어, 약 1.5의 굴절률)이거나 공기 굴절률보다 높은 임의의 다른 적절한 것 내에 있다. 일부 실시형태에서, 아암의 광 경로는 실질적으로 공기 중에 있다. 일부 실시형태에서, 광 경로는 N번 접혀진다. 다양한 실시양태에서, N은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 또는 그 이상, 또는 임의의 다른 적절한 값이다.
일부 실시형태에서, 광학 시스템은 입력 빔을 제1 광 및 제2 광으로 분할하는 제1 광학 시스템; 제1 광을 반사하는 오목 반사 표면을 포함하는 제2 광학 시스템; 및 제 2 광학 시스템로부터 반사된 제 1 광 및 제 1 광학 시스템로부터의 제 2 광 중 적어도 하나를 제 3 광학 시스템의 출력 광 경로로 지향시키는 제 3 광학 시스템를 포함한다.
일부 실시형태에서, 제2 광학 시스템은 제1 광학 시스템과 오목 미러 사이에 배열되는 굴절 부재를 포함한다. 일부 실시형태에서, 굴절 부재는 오목 미러과 제3 광학 시스템 사이에 배열된다. 일부 실시형태에서, 굴절 부재는 실질적으로 오목 반사 표면 상에 위치된 후방 초점을 갖는다. 일부 실시형태에서, 제2 광학 시스템은 오목 반사 표면으로부터의 제1 광을 반사하는 반사 표면을 포함하고, 오목 반사 표면은 제2 광학 시스템의 반사 표면으로부터의 제1 광을 반사한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 오목 반사 표면과 반사 표면 사이에 배열된 굴절 부재를 더 포함한다.
일부 실시형태에서, 오목 반사 표면 및 반사 표면은 굴절 부재 상에 형성된다. 일부 실시형태들에서, 반사 표면은 오목 형상을 갖는다. 일부 실시형태들에서, 반사 표면은 볼록 형상을 갖는다. 일부 실시형태에서, 오목 반사 표면은 제1 광학 시스템과 제3 광학 시스템 사이에서 제2 광의 빔 경로를 향한다. 일부 실시형태에서, 제3 광학 시스템으로부터의 제1 광 및 제3 광학 시스템으로부터의 제2 광은 상이한 위치를 통과한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 제3 광학 시스템으로부터의 제1 광을 반사하는 오목 반사 표면을 포함하는 제4 광학 시스템을 더 포함한다. 일부 실시형태에서, 제2 광학 시스템의 광축과 제4 광학 시스템의 광축은 서로로부터 편심된다. 일부 실시형태에서, 제3 광학 시스템은 제2 광학 시스템으로부터의 제1 광을 제3 광 및 제4 광으로 분할한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 제3 광학 시스템의 출력 경로에 배열된 제5 광학 시스템을 더 포함한다.
일부 실시형태에서, 광학 시스템은 시간 지연 시스템 및 제1 빔렛 어레이 및 제2 빔렛 어레이를 포함한다. 시간 지연 시스템은 간섭성 입력 조명 소스로부터 감소된 스페클을 갖는 빔렛 세트를 생성한다. 제1 빔렛 어레이 및 제2 빔렛 어레이는 타겟 평면에서 조명 패턴을 달성하기 위해 빔렛 세트를 조종하고 성형한다. 다양한 실시형태에서, 제1 빔렛 어레이 또는 제2 빔렛 어레이는 반사 표면, 굴절 표면, 회절 요소, 홀로그램, 및/또는 메타표면, 또는 임의의 다른 적절한 요소 중 하나 이상을 포함한다. 일부 실시형태에서, 조명 패턴은 빔렛의 어레이를 포함한다. 다양한 실시양태에서, 어레이는 정사각형 어레이, 직사각형 어레이, 환형의 전체 형상을 갖는 어레이, 쌍극자의 전체 형상을 갖는 어레이, 또는 사중극자의 전체 형상을 갖는 어레이, 또는 기타 적절한 지오메트리 중 하나를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 시간 지연 시스템에 의해 출력된 빔렛 (beamlet) 세트의 각 빔렛 사이의 시간적 간섭성을 감소시키기 위해 빔렛 세트의 각 빔렛이 다수의 암들의 상이한 순열을 횡단하도록 횡단되는 다수의 암을 포함한다. 일부 실시형태에서, 간섭성 입력 조명 소스는 펄스 레이저를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 타겟 평면에 레티클을 배치하도록 구성된다. 일부 실시형태에서, 시스템은 웨이퍼 상에 레티클의 이미지를 투영하도록 구성된다.
일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 입력 빔을 제1 광 및 제2 광으로 분할하고 제1 광 및 제2 광을 상이한 방향으로 지향시키는 빔 분할기; 제1 광을 굴절시키는 굴절면과, 굴절면으로부터의 제1광을 반사시키는 오목 미러를 포함하는 중간 광학부; 및 오목 미러로부터의 제1 광과 상기 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기를 포함하고, 오목 미러로부터 빔 결합기로 향하는 제1 광은 굴절면을 통과한다.
일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 입력 빔을 제1 광 및 제2 광으로 분할하고 제1 광 및 제2 광을 상이한 방향으로 지향시키는 빔 분할기; 빔 분할기로부터의 제1 광을 반사하고 오목한 형상을 갖는 제1 반사 표면, 및 제1 반사 표면으로부터의 제1 빔을 반사하고 제1 빔을 제1 반사 표면으로 지향시키는 제2 반사 표면을 포함하는 중간 광학부 ; 및 제2 반사 표면으로부터의 제1 광 및 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기를 포함하고, 제2 반사 표면으로부터 빔 결합기로의 제1 광은 제1 반사 표면을 통과한다.
일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 상이한 크기의 빔 스플리터 및 암 광학계의 세트를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 시간 지연 시스템에 의해 출력되는 빔렛 세트를 성형하기 위한 근거리장 빔 성형기를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 시간 지연 시스템에 의해 출력된 빔렛 세트를 성형하기 위한 원거리장 빔 성형기를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 다수의 시간 지연 암들 중의 암에 있는 광 경로가 접혀 지는 다수의 시간 지연 암들을 포함한다. 일부 실시형태에서, 아암의 광 경로는 실질적으로 유리 중에 있다. 일부 실시형태에서, 아암의 광 경로는 실질적으로 공기 중에 있다. 일부 실시형태에서, 광 경로는 N번 접혀진다.
일부 실시형태에서, 광학 시스템은 입력 빔을 제1 광 및 제2 광으로 분할하고 제1 광 및 제2 광을 상이한 방향으로 지향시키는 빔 분할기; 제1 광을 굴절시키는 굴절면과, 굴절면으로부터의 제1광을 반사시키는 오목 미러를 포함하는 중간 광학부; 및 오목 미러로부터의 제1 광과 상기 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기를 포함하고, 오목 미러로부터 빔 결합기로 향하는 제1 광은 굴절면을 통과한다. 일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 상이한 크기의 빔 스플리터 및 암 광학계의 세트를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 시간 지연 시스템에 의해 출력되는 빔렛 세트를 성형하기 위한 근거리장 빔 성형기를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시스템은 시간 지연 시스템에 의해 출력된 빔렛 세트를 성형하기 위한 원거리장 빔 성형기를 포함한다. 일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템은 다수의 시간 지연 암들 중의 암에 있는 광 경로가 접혀 지는 다수의 시간 지연 암들을 포함한다. 일부 실시형태에서, 아암의 광 경로는 실질적으로 유리 중에 있다. 일부 실시형태에서, 아암의 광 경로는 실질적으로 공기 중에 있다. 일부 실시형태에서, 광 경로는 N번 접혀진다.
일부 실시형태에서, 광학 시스템은 입력 빔을 제1 광 및 제2 광으로 분할하고 제1 광 및 제2 광을 상이한 방향으로 지향시키는 빔 분할기; 제1 광을 굴절시키는 굴절면과, 굴절면으로부터의 제1광을 반사시키는 오목 미러를 포함하는 중간 광학부; 및 오목 미러로부터의 제1 광과 상기 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기를 포함하고, 오목 미러로부터 빔 결합기로 향하는 제1 광은 굴절면을 통과한다. 일부 실시 형태에서, 중간 광학부는 광축을 포함하고, 중간 광학부에 진입하는 제1 광은 광축으로부터 편심된다. 일부 실시형태에서, 빔 분할기에서의 빔 분할 지점과 빔 조합기의 빔 조합 표면 상의 제2 광의 빔 통과 지점 사이의 중간점은 중간 광학부의 광축으로부터 편심된다. 일부 실시형태에서, 시스템은 빔 결합기로부터의 제1 광 및 제2 광을 굴절시키는 굴절 표면 및 굴절 표면으로부터의 제1 광 및 제2 광을 반사하는 오목 미러를 포함하는 제2 중간 광학부를 더 포함한다. 일부 실시 형태에서, 중간 광학부의 굴절 표면과 중간 광학부의 오목 미러 사이의 제1 간격은 제2 중간 광학부의 굴절 표면과 제2 중간 광학부의 오목 미러 사이의 제2 간격보다 작다.
일부 실시형태에서, 광학 시스템은 입력 빔을 제1 광 및 제2 광으로 분할하고 제1 광 및 제2 광을 상이한 방향으로 지향시키는 빔 분할기; 빔 분할기로부터의 제1 광을 반사하고 오목한 형상을 갖는 제1 반사 표면, 및 제1 반사 표면으로부터의 제1 빔을 반사하고 제1 빔을 제1 반사 표면으로 지향시키는 제2 반사 표면을 포함하는 중간 광학부 ; 및 제2 반사 표면으로부터의 제1 광 및 제2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기를 포함하고, 제2 반사 표면으로부터 빔 결합기로의 제1 광은 제1 반사 표면을 통과한다.
다양한 실시형태에서, 광학 시스템 요소가 각각 제공된다. 다양한 실시형태에서, 광학 시스템 요소들은 그들의 기능 (예를 들어, 광학 시간 지연을 제공하는 것) 을 가능하게 하도록 각각 배치된다.
도 1은 광학 지연 시스템을 갖는 조명 시스템을 사용하는 리소그래피를 위한 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다. 도시된 예에서, 시스템은 펄스원(100), 조명 시스템(102), 타겟 평면(104), 투영 렌즈(106), 및 웨이퍼(108)를 포함한다.
펄스원(100)(예를 들어, 펄스 레이저 소스)는 투영 렌즈(106)를 사용하여 웨이퍼(108) 상에 타겟의 이미지 (예를 들어, 리소그래피를 수행하기 위해 웨이퍼 상에 타겟 평면에서의 레티클의 이미지) 를 투영하기 위해 타겟 평면 (104) 내의 타겟을 조명하기 위해 사용되는 광을 생성한다.
펄스원(100)에 의해 생성된 광은 조명 시스템(102)을 사용하여 처리되어 다수의 빔들 사이의 간섭성을 감소시킴으로써 낮은 정도의 스페클을 갖는 다중 빔을 생성한다.
조명 시스템(102)은 매우 간섭성 펄스 빔을 제공하는 레이저 소스인 펄스원(100)와 함께 작동하도록 설계된다. 간섭성 펄스 빔은 거의 단일 모드이고 매우 좁은 대역폭을 가지며 거의 변형 제한적이다 - 펄스 길이가 물리학이 허용하는 한 거의 짧거나 간섭성 길이가 펄스 길이와 거의 같다는 것을 의미한다.
조명 시스템의 광학 지연 시스템은 빔을 2N 개의 복사본들로 분할하고, 축 방향 거리 (또는 시간) 로 분리되도록 각 복사본을 오프셋한다. 일부 실시형태들에 있어서, 그 시간은 간섭성 길이 (또는 시간) 보다 더 길다. 일부 실시형태에서, 지연은 전체 펄스 트레인 길이가 너무 길지 않도록 스페클에서 부분 감소를 얻기 위해 간섭성 길이보다 약간 더 짧다. 긴 펄스 열의 문제는 스캐닝 시스템에서 이미지가 번지는 결과를 초래한다는 것이다. 광학적 또는 시간 지연 시스템은 또한 빔 성형 광학계에 의해 조명 동공의 원하는 위치에 재배치될 수 있도록 각 빔을 횡으로(예를 들어, 전파 방향에 수직으로) 변위시킨다. 빔 성형 광학계는 두 가지 작업을 수행한다: 1) 공간적으로 분리된 빔들을 취하여 조명 동공의 원하는 위치로 그것들을 안내하고 2) 타겟 평면(104)에서 원하는 방사조도 분포를 제공하도록 각 빔의 모양을 형성한다. 원하는 동공 분포는 리소그래피 프로세스를 개선하기 위해 선택된 포인트들의 세트이다. 포인트들은 원반이나 고리 안에 균등하게 간격을 두고 두 개의 작은 원반(쌍극자)으로 함께 모인 링으로 배치되거나 다른 모든 것이 가능하다. 원하는 방사조도 분포는 일반적으로 일부 직사각형 영역에서 균일하지만 원칙적으로는 임의의 것이 될 수 있다. 광학 지연 시스템은 펄스 또는 비펄스(연속) 빔을 제공하는 광원과 결합될 수 있다.
다이슨 (Dyson) 유형 릴레이를 갖는 광학 지연 시스템
평행하지만 위치가 규칙적으로 이격된 (펄스원의 시간적 간섭성을 줄이기 위한) 2N 개의 시간 지연 빔들을 제공하는 문제는 하나의 렌즈와 하나의 미러로 구성된 다이슨 유형 시스템을 사용하여 N+1 개의 빔 스플리터들 간에 빔을 릴레이함으로써 해결된다. 서로 다른 암들로부터의 지연된 빔들은 서로 다른 조합으로 결합되어 타겟 표면에서 시간적으로 덜 간섭하는 빔들의 세트를 생성한다. 지연된 빔들은 또한 타겟 표면에서 패턴을 생성하기 위해 서로 다른 조합으로 각각 공간적으로 변위된다.
시스템은 각 빔의 절반을 N 개의 지연 암들 아래로 보내는 50% 빔 스플리터들의 어레이로 시작한다. 일부 실시형태에서, 빔 스플리터는 50% 투과 및 반사를 갖지 않는다. 이 경우, 빔 전력을 균등화하기 위해 몇 가지 조치를 취해야 한다. 하나의 접근 방식은
다이슨 미러의 반사 코팅을 수정하거나 다이슨의 어딘가(빔 스플리터와 렌즈 사이, 또는 렌즈와 미러 사이)에 감쇠 필터를 배치하는 것이다. 본 개시에서, 지연 암은 하나의 렌즈와 (렌즈의 후면 초점 평면에 배치된) 하나의 미러를 포함하며, 여기에는 소위 다이슨 릴레이를 포함하며 아래에 설명되어 있다. 릴레이에 들어가는 빔 축에 대한 다이슨 릴레이의 광축의 위치는 그것의 출력에서의 위치를 결정하므로 출력 빔(들)의 변위를 생성하도록 그 위치가 선택된다. 스폿들의 최종 배열이 원하는 임의의 모양이 될 수 있도록, 이러한 변위는 페이지의 평면 외부에서 생성될 수 있다 - 아래 도시된 것처럼 직사각형 배열이 필요할 가능성이 크다. 일부 실시형태에서, 다이슨 릴레이는 인-미러 (in-mirror) 릴레이로 지칭된다.
도 2a는 광학 지연 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다. 일부 실시형태에서, 도 2a의 광학 지연 시스템은 조명 시스템(예를 들어, 도 1의 조명 시스템(102))의 광학 지연 시스템을 구현하는데 사용된다. 도시된 예에서, 광학 지연 시스템은 레이저 소스(예를 들어, 펄스 레이저 소스)로부터 입력 빔(200)을 수신한다. 입력 빔(200)은 빔 스플리터(202)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제1 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제1 투과 광선). 제1 반사 광선은 (예를 들어, 입사 광선이 입사 광선과 평행하지만 반대 방향으로 나가도록 하는 다이슨 렌즈 구성에서) 렌즈(204)에 의해 곡면 반사기(206) 상으로 포커싱되고 다시 반사되고 (예를 들어, 제1 역반사 광선) 렌즈(204)에 의해 입사 제1 반사 광선에 평행하게 만들어진다(예를 들어, 제1 퇴출 광선). 일부 실시형태에서, 제1 반사 광선 및 제1 역반사 광선은 약간의 각도를 형성한다. 다양한 실시형태에서, 렌즈(204), 렌즈(210), 및/또는 렌즈(216)는 양의 광학 배율을 갖는다. 다양한 실시형태에서, 곡면 반사기(206), 곡면 반사기(218), 및/또는 곡면 반사기(222)는 오목 형상의 반사 표면을 갖는다. 일부 실시형태에서, 렌즈(204) 및 곡면 반사기(206)는 공통 광축을 따라 배열된다. 일부 실시형태에서, 공통 광축은 빔 스플리터(202)의 빔 분할 표면의 가상 능선으로부터 편심된다. 제1 투과 광선은 곡면 반사기(206)에 포커싱되지 않을 수 있으며, 즉, 렌즈(204)에 의해 곡면 반사기(206)에 형성되는 광 스폿이 넓은 면적을 갖도록 퍼질 수 있다.
제1 퇴출 광선은 빔 스플리터(208)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제2 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제2 투과 광선). 제 1 투과 광선은 또한 빔 스플리터(208)로 투과되고, 제 1 퇴출 광선에 직교하여 빔 스플리터(208)로 들어가고, 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제 2 투과 광선에 평행하게 전파되고 제 2 투과 광선과 유사하게 이동함) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제 2 반사 광선에 평행하게 전파하고 제 2 반사 광선과 유사하게 이동함).
제2 투과 광선은 (예를 들어, 입사 광선이 입사 광선과 평행하지만 반대 방향으로 나가도록 하는 다이슨 렌즈 구성에서) 렌즈(210)에 의해 곡면 반사기(222) 상으로 포커싱되고 다시 반사되고 (예를 들어, 제2 역반사 광선) 렌즈(210)에 의해 입사 제1 퇴출 광선에 평행하게 만들어진다(예를 들어, 제2 퇴출 광선). 제2 투과 광선은 곡면 반사기(212)에 포커싱되지 않을 수 있으며, 즉, 렌즈(210)에 의해 곡면 반사기(212)에 형성되는 광 스폿이 넓은 면적을 갖도록 퍼질 수 있다.
제2 퇴출 광선은 빔 스플리터(214)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제3 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제3 투과 광선). 제 2 반사 광선은 또한 빔 스플리터(214)로 투과되고, 제 2 퇴출 광선에 직교하여 빔 스플리터(214)로 들어가고, 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제 3 투과 광선에 평행하게 전파되고 제 3 투과 광선과 유사하게 이동함) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제 3 반사 광선에 평행하게 전파하고 제 3 반사 광선과 유사하게 이동함).
제3 투과 광선은 (예를 들어, 입사 광선이 입사 광선과 평행하지만 반대 방향으로 나가도록 하는 다이슨 렌즈 구성에서) 렌즈(216)에 의해 곡면 반사기(218) 상으로 포커싱되고 다시 반사되고 (예를 들어, 제3 역반사 광선) 렌즈(216)에 의해 입사 제1 퇴출 광선에 평행하게 만들어진다(예를 들어, 제3 퇴출 광선). 제3 투과 광선은 곡면 반사기(218)에 포커싱되지 않을 수 있으며, 즉, 렌즈(216)에 의해 곡면 반사기(218)에 형성되는 광 스폿이 넓은 면적을 갖도록 퍼질 수 있다.
제3 퇴출 광선은 빔 스플리터(219)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제4 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제4 투과 광선). 제 3 반사 광선은 또한 빔 스플리터(219)로 투과되고, 제 3 퇴출 광선에 직교하여 빔 스플리터(219)로 들어가고, 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제 4 투과 광선에 평행하게 전파되고 제 4 투과 광선과 유사하게 이동함) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제 4 반사 광선에 평행하게 전파하고 제 4 반사 광선과 유사하게 이동함).
제4 투과 광선은 초기 입력 빔(200)에 평행한 최종 퇴출 빔들을 생성하기 위해 편광 빔 스플리터(222)에 의해 반사되는 반대 편광된 반대 전파 평행 빔들을 생성하는 편광 릴레이(220)에 들어간다. 또한, 제4 반사 빔은 편광 빔 스플리터(222)를 통해 투과되어 초기 입력 빔(200)과 평행한 최종 퇴출 빔들이 된다.
일부 실시형태에서, 편광 릴레이(220)(다른 다이슨일 수도 있음)는 스폿들의 수를 배가시키지만, 그것들을 직교 편광으로 생성한다 (일반적으로 선형, 원형 또는 타원형일 수 있지만 s- 및 p-편광이기 쉬우며, 이는 이것이 반파장판과 마지막 빔 스플리터로서의 PBS 를 사용하여 쉽게 구현될 수 있기 때문이다).
도 2b는 광학 지연 시스템에 대한 타겟 평면에서의 출력 패턴의 실시형태를 도시하는 도면이다. 일부 실시형태에서, 도 2b의 출력 패턴은 도 2a의 광학 지연 시스템을 사용하여 생성된다.
도 3 은 지연 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다. 일부 실시형태에서, 도 3 의 광학 지연 시스템은 조명 시스템(예를 들어, 도 1의 조명 시스템(102))의 광학 지연 시스템을 구현하는데 사용된다. 도시된 예에서, 이 시스템에는 5개의 지연 경로가 있으며 마지막 하나는 s-편광 및 p-편광을 분리하는 데 사용된다. 이것은 시스템의 출력에 도달하는 상이한 각도들을 갖는 25=32 개의 비교적 비간섭성 펄스들을 야기한다. 상이한 각도들을 생성하기 위해, 각 암의 미러들 중 하나가 기울어지고 그 결과가 조명 시스템의 동공에서 관찰된다. 지연 시스템은 평행하지만 위치가 분리된 빔을 생성한다. 이 접근 방식은: 1) 측면 분리를 갖는 평행 빔을 생성하고; 2) 더 적은 수의 광학계를 사용하며(예를 들어, 제조 비용이 저렴하고 효율성이 높음); 각 채널의 미러가 약간 기울어져 정렬하기가 더 쉽다.
입력 빔(360)은 그것의 원래의 경로 상에서 출력 빔(370)까지 통과한다. 입력 빔(360)의 일부는 또한 빔 스플리터(300)를 사용하여 하나 이상의 지연 경로를 따라 반사된다. 예를 들어, 입력 빔(360)의 일부는 미러(304) 및 미러(306)을 향해 반사된다. 일부 실시형태에서, 광학 요소(302) 및 광학 요소(304)는 빔이 입력 빔(360)의 원래 경로로 복귀할 때 빔을 조절하기 위해 사용된다.
복귀 빔은 입력 빔(360)의 원래 경로를 따라 빔 스플리터(310)에 의해 반사될 뿐만 아니라 입력 빔(360)의 원래 경로로 다시 복귀하기 전에 미러(312) 및 미러(314)를 향해 제2 지연 암을 따라 투과된다. 일부 실시형태에서, 광학 요소(316) 및 광학 요소(318)는 빔이 입력 빔(360)의 원래 경로로 복귀할 때 빔을 조절하기 위해 사용된다.
복귀 빔은 입력 빔(360)의 원래 경로를 따라 빔 스플리터(320)에 의해 반사될 뿐만 아니라 입력 빔(360)의 원래 경로로 다시 복귀하기 전에 미러(322) 및 미러(324)를 향해 제3 지연 암을 따라 전송된다.
복귀 빔은 입력 빔(360)의 원래 경로를 따라 빔 스플리터(330)에 의해 반사될 뿐만 아니라 입력 빔(360)의 원래 경로로 다시 복귀하기 전에 미러(332) 및 미러(334)를 향해 제4 지연 암을 따라 투과된다.
복귀 빔은 입력 빔(360)의 원래 경로를 따라 빔 스플리터(340)에 의해 반사될 뿐만 아니라 입력 빔(360)의 원래 경로로 다시 복귀하기 전에 미러(342) 및 미러(344)를 향해 제5 지연 암을 따라 투과된다. 미러(344) 이후에, 빔은 빔 스플리터(350)에 의해 입력 빔(360)의 원래 경로로 결합되기 전에 빔의 편광을 변경하기 위해 1/2 파장 판을 통과한다.
이 실시형태의 주요 기술적 영향은 개선된 스페클 감소 및 비용 감소(예를 들어, 광학계의 단순화로 인해)이다. 이러한 영향은 지연 시스템의 경쟁 우위와 수익성을 증가시킨다.
점점 더 큰 빔 스플리터들을 갖는 다이슨 딜레이 시스템
짧은 경로 지연에 대한 수차를 줄이기 위해 필요한 다이슨 릴레이의 복잡성 증가 문제는 짧은 경로에 대해 작은 빔 스플리터를 사용하고 더 긴 경로에 대해 더 큰 빔 스플리터를 사용하여 해결된다. 본질적인 문제는 다이슨이 길이에 비해 빔 변위가 크면 수차가 커진다는 점이다. 더 작은 빔 스플리터를 사용하면 필드 크기가 줄어들고 렌즈가 더 간단해진다. 빔 스플리터의 크기, 및 결과적으로 시야각, 및 가능한 경우 다이슨 릴레이의 크기가 도 4 와 같이 처음부터 끝까지 증가하는 것을 제외하고, 시스템은 기본적으로 도 2a 와 같이 작동한다. 일부 실시형태에서, 다이슨 릴레이를 갖는 시간 지연 시스템은 상이한 크기의 빔 스플리터 및 암 광학계의 세트를 포함한다(예를 들어, 더 작은 크기의 빔 스플리터에서 더 긴 크기의 빔 스플리터로 진행).
도 4 는 광학 지연 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다. 일부 실시형태에서, 도 4 의 광학 지연 시스템은 조명 시스템(예를 들어, 도 1의 조명 시스템(102))의 광학 지연 시스템을 구현하는데 사용된다. 도시된 예에서, 광학 지연 시스템은 레이저 소스(예를 들어, 펄스 레이저 소스)로부터 입력 빔(400)을 수신한다. 입력 빔(400)은 빔 스플리터(402)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제1 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제1 투과 광선). 제1 반사 광선은 (예를 들어, 입사 광선이 입사 광선과 평행하지만 반대 방향으로 나가도록 하는 다이슨 렌즈 구성에서) 렌즈(404)에 의해 곡면 반사기(406) 상으로 포커싱되고 다시 반사되고 (예를 들어, 제1 역반사 광선) 렌즈(404)에 의해 입사 제1 반사 광선에 평행하게 만들어진다(예를 들어, 제1 퇴출 광선).
제1 퇴출 광선은 빔 스플리터(408)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제2 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제2 투과 광선). 제 1 투과 광선은 또한 빔 스플리터(408)로 투과되고, 제 1 퇴출 광선에 직교하여 빔 스플리터(408)로 들어가고, 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제 2 투과 광선에 평행하게 전파되고 제 2 투과 광선과 유사하게 이동함) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제 2 반사 광선에 평행하게 전파하고 제 2 반사 광선과 유사하게 이동함).
제2 투과 광선은 (예를 들어, 입사 광선이 입사 광선과 평행하지만 반대 방향으로 나가도록 하는 다이슨 렌즈 구성에서) 렌즈(410)에 의해 곡면 반사기(412) 상으로 포커싱되고 다시 반사되고 (예를 들어, 제2 역반사 광선) 렌즈(410)에 의해 입사 제1 퇴출 광선에 평행하게 만들어진다(예를 들어, 제2 퇴출 광선).
제2 퇴출 광선은 빔 스플리터(414)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제3 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제3 투과 광선). 제 2 반사 광선은 또한 빔 스플리터(414)로 투과되고, 제 2 퇴출 광선에 직교하여 빔 스플리터(414)로 들어가고, 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제 3 투과 광선에 평행하게 전파되고 제 3 투과 광선과 유사하게 이동함) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제 3 반사 광선에 평행하게 전파하고 제 3 반사 광선과 유사하게 이동함).
제3 투과 광선은 (예를 들어, 입사 광선이 입사 광선과 평행하지만 반대 방향으로 나가도록 하는 다이슨 렌즈 구성에서) 렌즈(416)에 의해 곡면 반사기(418) 상으로 포커싱되고 다시 반사되고 (예를 들어, 제3 역반사 광선) 렌즈(416)에 의해 입사 제1 퇴출 광선에 평행하게 만들어진다(예를 들어, 제3 퇴출 광선).
제3 퇴출 광선은 빔 스플리터(419)에 의해 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제4 반사 광선) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제4 투과 광선). 제 3 반사 광선은 또한 빔 스플리터(419)로 투과되고, 제 3 퇴출 광선에 직교하여 빔 스플리터(419)로 들어가고, 부분적으로 반사되고(예를 들어, 제 4 투과 광선에 평행하게 전파되고 제 4 투과 광선과 유사하게 이동함) 부분적으로 투과된다(예를 들어, 제 4 반사 광선에 평행하게 전파하고 제 4 반사 광선과 유사하게 이동함).
제4 투과 광선은 초기 입력 빔(400)에 평행한 최종 퇴출 빔들을 생성하기 위해 편광 빔 스플리터(422)에 의해 반사되는 반대 편광된 반대 전파 평행 빔들을 생성하는 편광 릴레이(420)에 들어간다. 또한, 제4 반사 빔은 편광 빔 스플리터(422)를 통해 투과되어 초기 입력 빔(400)과 평행한 최종 퇴출 빔들이 된다.
일부 실시형태에서, 편광 릴레이(420)(다른 다이슨일 수도 있음)는 스폿들의 수를 배가시키지만, 그것들을 직교 편광으로 생성한다 (일반적으로 선형, 원형 또는 타원형일 수 있지만 s- 및 p-편광이기 쉬우며, 이는 이것이 반파장판과 마지막 빔 스플리터로서의 PBS 를 사용하여 쉽게 구현될 수 있기 때문이다).
다이슨 릴레이의 복잡성(예를 들어, 요소 및 비구면의 수)은 (길이에 비해) 증가된 시야각에 따라 증가해야 하므로, 본 실시형태는 시야각을 감소시킬 수 있으므로 제1 다이슨의 복잡성을 감소시킬 수 있다. 경로를 따라 더 멀리 위치한 더 긴 다이슨은 더 긴 렌즈 시스템에 의해 더 잘 수용되는 증가하는 스팟 어레이를 수용하기 위해 더 큰 빔 스플리터를 가진다.
우리의 선행 기술의 장점에 더하여, 이 실시형태는 더 짧은 다이슨 시스템을 단순화함으로써 광학계의 비용을 더욱 감소시킨다.
시스템의 주요 기술적 영향은 (광학계 및 정렬 절차의 단순화에 의한) 개선된 스페클 감소 및 비용 감소이다. 이러한 영향은 시스템의 경쟁 우위와 수익성을 증가시킨다.
공간적으로 분산된 시간 지연 빔에 의한 스페클 감소
도 5a는 조명을 위한 시스템의 예시적인 실시형태를 도시하는 도면이다. 도시된 예에서, 시간 지연 시스템을 사용하여 부분적 간섭성 투영에서 균일한 평균 조명을 유지하면서 스펙클을 최소화하는 문제는 시간 지연 시스템 (500) (TDS) 을 떠나는 빔을 성형하고 조명 동공의 개별 위치에 빔을 분배하여 공간적 간섭성뿐아니라 시간적 간섭성을 최소화함으로써 해결된다.
시스템에서 사용되는 접근 방식은 요소(502)(예를 들어, 회절 광학 요소 또는 확산기)를 사용하여 광 (컬렉터(504)에 의해 수집된 후) 을 제1 플라이 아이 어레이(FE1(506))로 회절/지향시켜 제 2 플라이 아이 어레이(FE2(508))의 요소에 있는 요소(502)의 이미지를 형성한다. 제 2 플라이 아이는 그후 제 1 요소의 이미지를 콘덴서(510)로 투영하고, 이것은 그후 레티클 블라인드(RB)(512)에서 제 1 플라이 아이 어레이(FE1(506)) 요소의 중첩 이미지를 생성하고, 이것은 그후 또 다른 광학계 세트에 의해 공간 광 변조기로 릴레이된다. RB 512는 공간 광 변조기와 결합되어 있으므로 이 설명에서 나머지 광학계는 필요하지 않다. 회절 광학 요소 또는 확산기는 US 특허 제 5,850,300 호에 개시되어 있으며, 그 내용은 본원에 참조로 포함된다. 공간 광 변조기는 US 특허 제 10,120,283 호에 개시되어 있으며, 그 개시내용은 본원에서 참조로 포함된다. 광간 광 변조기는 레티클 블라인드 평면에 결합된다. 그것은 레티클 블라인드 대신 사용할 수 있다. 일부 실시형태에서, 공간 광 변조기에 레티클 블라인드의 이미지를 릴레이하는 렌즈가 있을 수 있다.
여기에서 다루어지는 문제는 요소(502)가 시간 지연 시스템(500)을 떠나는 입력 빔의 모든 부분으로 동공의 모든 지점을 조명하기 때문에 이 시스템에서 FE2의 필드가 FE2 요소들 사이에 상관된다는 것이다.
일부 실시형태에서, 시간 지연 시스템(500)은 도 2a 의 광학 지연 시스템을 포함한다.
시간 지연 시스템(500)의 경우 출력 빔은 모두 평행하지만 각 경로는
각각의 미러+렌즈 릴레이들의 배치를 통해 고유한 위치를 갖는 빔을 생성한다. 이들 빔 각각은 공간적 간섭성이 최소화되도록 조명 동공의 원하는 위치로 지향된다.
도 5b 는 조명을 위한 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다. 도시된 예에서, 공간적으로 다중화된 시간 지연 시스템(520)은 근거리장 빔 성형기(522)를 향해 지향되는 다중 출력 빔을 생성하기 위해 입력 빔을 처리한다. 위에 묘사된 실시형태에 대한 핵심 포인트 중 하나는 빔렛 스티어링 옵틱(524), 빔렛 스티어링 옵틱(526)(제1 플라이 어레이 FE1), 빔렛 스티어링 옵틱(528)(제2 플라이 어레이 FE2), 및 콘덴서(530)의 존재이다. 이러한 컴포넌트는 각 빔렛을 동공의 원하는 위치로 조종한다. 도면은 균일하게 분포된 빔 세트를 보여주지만 빔 조종은 원칙적으로 쌍극자, 사중극자 또는 고리와 같은 임의의 배열로 빔을 배치할 수 있다.
해결되어야 하는 주요 문제 중 하나는 레티클 블라인드(532)(RB)에서 균일한 분포를 생성하면서 낮은 공간 간섭성을 달성하는 방법이다. 일부 실시형태에서, 이것은 각각의 상이하게 시간 지연된 빔을 동공의 개별 위치에 배치함으로써 해결된다. 일부 실시형태에서, 시스템은 먼저 공간적으로 다중화된 시간 지연 시스템(520)을 떠나는 원형 가우시안 빔을 비구면 빔렛 성형 광학계(예를 들어, 근거리장 빔 변환기)를 사용하여 정사각형 톱-햇 (top-hat) 빔(예를 들어, 평평한 방사조도 분포)으로 변환하고, 그후 단일 FE1 요소를 완전하고 균일하게 조명한다. FE1 요소는 성형 광학계로부터의 출력으로서 빔렛에 각각 대응하는 렌즈렛의 어레이를 포함한다. 완전히 조명된 FE1 요소를 사용하면 RB 조명도 균일할 것이다.
도 5c 은 조명을 위한 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다. 도시된 예에서, 공간적으로 다중화된 시간 지연 시스템(540)은 원거리장 빔 성형기(542)를 향해 지향되는 다중 출력 빔을 생성하기 위해 입력 빔을 처리한다. 위에 묘사된 실시형태에 대한 핵심 포인트 중 하나는 빔렛 스티어링 옵틱(544), 빔렛 스티어링 옵틱(546)(제1 플라이 어레이 FE1), 빔렛 스티어링 옵틱(548)(제2 플라이 어레이 FE2), 및 콘덴서(550)의 존재이다. 이러한 컴포넌트는 각 빔렛을 동공의 원하는 위치로 조종한다. 도면은 균일하게 분포된 빔 세트를 보여주지만 빔 조종은 원칙적으로 쌍극자, 사중극자 또는 고리와 같은 임의의 배열로 빔을 배치할 수 있다.
해결되어야 하는 주요 문제 중 하나는 레티클 블라인드(552)(RB)에서 균일한 분포를 생성하면서 낮은 공간 간섭성을 달성하는 방법이다.
이 실시형태는 레티클 블라인드에서 균일한 조명을 제공하는 능력을 유지하면서 더 낮은 공간 간섭성을 통해 감소된 스페클을 제공한다.
도 5d 는 조명을 위한 시스템의 실시형태를 도시하는 도면이다. 도시된 예에서, 시스템은 도 5b 및 도 5c 에서 취한 접근 방식을 단순화하고 개선한 것이다. 각 빔(또는 빔렛)에 대해 2개의 빔 성형 요소(요소(564) 및 요소(566))가 존재한다. 어레이(요소(564) 및 요소(566))는 빔렛 스티어링 및 성형에 사용되며, 조합하여 시간 지연 시스템 (TDS) (560) 를 떠나는 빔을 레티클 블라인드(RB)(572)의 원하는 위치로 재배열한다. 이를 달성하기 위해, 제 1 어레이(요소 564)는 각 빔에 편향을 부여하고, 빔을 수신하도록 배치된 제 2 어레이의 요소(요소 566)는 편향을 제거한다(또는 빔을 콘덴싱 광학계(플라이스 아이(568) 및 콘덴서(570)로 재지향시킨다). 요소(564) 및 요소(566)의 편향은 선형 위상 성분을 포함하는 굴절 표면을 홀로그램 또는 메타표면으로 기울이거나 기울어진 반사 표면을 사용함으로써 달성될 수 있다.
어레이의 제 2 역할은 빔 성형이다. 이것은 별도의 요소가 빔을 성형하는 데 사용된 도 5b 및 도 5c 에서 취한 접근 방식과 다르다. 이 경우, 제 1 어레이의 각 요소(요소 564)는 원하는 모양을 갖는 (또는 원하는 모양에 가까운) 빔을 제 2 어레이(요소 566)에서 생성하기 위해 (그것의 반사 또는 굴절 표면에서, 또는 홀로그램 또는 메타표면의 페이즈에서) 만곡된다. 제 1 어레이(요소 564)의 성형 효과는 투과 진폭뿐아니라 위상을 공간적으로 변경함으로써 도움을 받을 수 있으며, 이것은 공간적으로 투과 또는 반사율을 변경하거나(박막 코팅으로 조정됨) 홀로그램 또는 메타표면의 회절 효율을 변경함으로써 달성될 수 있다. 더욱이, 투과 변동은 제 1 요소 가까이에 배치된 별도의 요소로 달성될 수 있다. 제2 어레이 요소(요소 566)는 빔을 재지향시키는 것 외에도, 위상(표면 형상 또는 홀로그램/메타표면 위상)을 재성형하고/하거나 진폭을 재성형함으로써 빔 형상을 개선하도록 만들어 질 수 있다.
또한, 콘덴서 렌즈(콘덴서 570)가 RB 572의 타겟 평면에서 빔을 오버레이할 수 있도록 하는 위치로 제 1 어레이 요소 (요소 564) 를 이미지화하는 또 다른 어레이 (플라이 아이(568)) 가 있다.
일부 실시형태에서, 제1 어레이(요소(564))의 빔 성형은 다음 방정식으로 설명되는 "이중 쌍곡선" 표면으로 달성된다:
Figure pct00001
여기서 ex 와 cy 는 두 개의 주요 곡률이고 kx 와 ky 는 주요 원뿔 상수이다. 시스템은 사각 빔에 최적화되어 cx=cy 및 kx=ky 이며, cx=19.1/mm 및 kx=-31980 값을 사용하여 도 5e 에서 파장 = 760nm 및 가우스 빔 반경 0.5mm(축은 mm 단위) 의 빔 형상을 획득한다.
제2 어레이(요소(566))에 도달하는 각 빔의 시뮬레이션된 위상은 (시뮬레이션에 의해) 도 5f에 도시되어 있다. 제 2 어레이 요소(요소 566)의 역할은 방사조도(위)와 아래 위상을 평평하게 하는 것이다. 시스템은 두 어레이(요소 564 및 요소 566)에 대해 회절 요소를 사용하며 제 1 요소(요소 564)에서는 투과 변동이 없고 제 2 요소(요소 566)에서는 위상 및 진폭 평탄화가 이루어진다.
다양한 실시형태에서, 빔 조종은 정사각형, 직사각형, 쌍극자, 사중극자, 또는 고리의 전체 형상을 갖는 것과 같은 임의의 원하는 배열로 빔을 배치한다.
도 6 은 폴디드 솔리드 옵틱을 사용하는 시간 지연 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다. 도 2a 와 도 3 에서 각각의 지연 암은 점점 더 길어진다. 예를 들어, 도 2a 에서 각 다이슨 릴레이의 길이는 각 지연 길이의 약 절반이다. 예를 들어 가장 짧은 지연 길이가 20mm이고 8개의 지연 암이 있는 경우, 가장 짧은 암 길이는 10mm이고 가장 긴 암 길이는 10mm*28 = 5.12m 이다. 이것은 다소 길다. 시스템은 앞뒤로 쉽게 접힐 수 있지만 도 6의 구성은 제조 및 정렬하기가 더 쉬운 방법을 제공한다.
도시된 예에서, 빔(604)은 빔 스플리터(602)에 진입하고 빔(604) 및 빔(608)으로 분할된다. 솔리드 카타디옵트릭 렌즈(606)는 빔(604)을 접고 시간 지연 시스템(TDS)의 다음 빔 스플리터(예를 들어, 빔 스플리터(612))로 빔(604) 을 릴레이하기 위해 사용된다. 솔리드 카타디옵트릭 렌즈(606)는 투과 영역 및 반사 영역을 갖는 제1 표면을 포함한다. 투과 영역은 빔을 광학계로 굴절시키며, 여기서 빔은 5회 반사를 한 후 공액 위치(예를 들어, 퇴출 빔(610))를 향해 다시 굴절한다. 시간 지연 시스템의 다음 빔 스플리터(빔 스플리터(612))는 2개의 입력 빔(예를 들어, 빔(608) 및 빔(610))을 가지며, 이들은 분할되어 솔리드 카타디옵트릭 렌즈(622)와 다음 빔 스플리터(예를 들어, 빔 스플리터(624))로 보내진다. 빔(608)은 솔리드 카타디옵트릭 렌즈(622)를 향하는 빔(614)과 빔 스플리터(624)를 향하는 빔(616)으로 분할된다. 빔(610)은 솔리드 카타디옵트릭 렌즈(622)를 향하는 빔(620)과 빔 스플리터(624)를 향하는 빔(618)으로 분할된다.
이 접근법에서 두 개의 추가 폴딩은 지연 암이 다이슨의 1/3 길이임을 의미한다. 경로가 유리(일반적으로 약 1.5의 굴절률을 가짐)에 있다는 사실은 1.5의 또 다른 팩터를 제공한다. 그 결과 도 2a 의 시간 지연 회로에 비해 총 길이가 4.5배 감소했다.
다른 실시형태는 다음을 포함한다:
Figure pct00002
단일 표면에서의 서로 다른 굴절 및 반사가 서로 다른 곡률을 만나는 불연속 또는 비구면 표면
Figure pct00003
난시를 교정하는 자유형 표면
Figure pct00004
TDS의 정렬/조정에 유용할 수 있는 독립적으로 기울일 수 있는 미러에서 빔이 반사되도록 하는 제 2 표면의 투과 영역
Figure pct00005
훨씬 더 많은 접힘 - 시야각을 희생시키면서 반사 수를 늘릴 수 있다. 이러한 경우, 총 길이 감소는 (m+l)*1.5/2이며, 여기서 m은 반사 횟수이다.
평면 미러로 경로를 단순히 접는 보다 통상적인 접근에 비해 이 실시형태의 이점은 모놀리식 설계가 훨씬 적은 수의 부품과 비교적 쉬운 정렬을 필요로 한다는 점이다.
전반적으로, 개별 요소가 더 비쌀 수 있지만, 특히 많은 수 (n>5) 의 지연 암들이 필요한 경우 훨씬 더 비용 효과적인 TDS 를 초래해야 한다.
도 7 은 지연 시스템의 일 실시형태를 도시한 도면이다. 일부 실시형태에서, 도 7의 지연 요소는 도 2a 또는 도 4의 광학 지연 시스템의 암을 구현하는 데 사용된다. 도시된 예에서 시간 지연 시스템 크기 문제는 접힌 세그멘팅된 광학계를 사용하여 해결된다. 지연 암의 광학 경로에서 렌즈(704)의 중심 재료를 제거함으로써 지연 암에 접힘이 추가된다. 빔(700)은 빔 스플리터(702)를 사용하여 암으로 반사된다. 빔 스플리터(702, 710)를 통해 직접 전파하는 지연 암(미도시)으로 가지 않는 추가 빔 경로가 있다. 그후 빔은 렌즈(704)에 의해 굴절되고 미러(706)에 의해 미러(708)로 반사된다. 빔은 미러(708)를 사용하여 미러(706)로 다시 반사된다. 다시 빔은 렌즈(704)에 의해 다시 굴절되기 전에 미러(706)에 의해 미러(708)로 반사되고 다시 미러(706)로 반사된다. 빔은 빔 스플리터(710)를 사용하여 원래 빔에 다시 결합함으로써 지연 암을 빠져 나온다. 미러 (706) 는 이제 단 한 번이 아니라 빔의 3 회의 반사들을 갖는다. 추가 미러(미러 708)는 추가 접힘을 제공하여 광학 경로의 물리적 공간을 더욱 줄인다. 이러한 설계로 렌즈(704)의 두 표면과 각 미러(미러(706) 및 미러(708))의 표면은 독립적인 설계 제약이 될 수 있다. 일부 실시형태에서, 미러(706)은 오목 미러를 포함한다. 일부 실시형태에서, 미러(708)은 볼록 미러를 포함한다. 일부 실시형태에서, 미러(706) 및 미러(708)는 공통 광축을 따라 배열된다.
일부 실시형태에서, 공통 광축은 빔 스플리터(702) 및 빔 스플리터(710)의 빔 스플리터 표면의 가상 능선으로부터 편심된다. 도 7 의 실시형태에서, 렌즈 (704) 는 선택적이다. 일부 실시형태에서, 지연 요소는 미러(706) 및 미러(708)를 사용하여 구성된다.
일부 실시형태에서, 전파가 평면에 있기 때문에, 렌즈는 완전한 환형 대신에 렌즈 세그먼트들로 대체될 수 있다. 대형 미러(미러 706)는 사용 가능한 자유 파라미터들수의 수를 증가시키는 세그먼트들로 분할될 수도 있다. 정렬은 점점 더 어려워지며 대부분의 시스템에서 피해야 한다.
일부 실시형태에서, 추가 렌즈/미러 세트가 중첩되어 시스템을 더욱 컴팩트하게 만들 수 있지만, 제조 및 정렬의 어려움과 복잡성을 증가시킬 수도 있다.
추가 실시형태는 다음을 포함할 수 있다: 1) 맨긴 미러; 및 2) 자유형 표면.
전술된 실시형태들은 이해의 명확함을 목적으로 일부 상세에서 설명되었지만, 본 발명은 제공된 상세들에 제한되지 않는다. 본 발명을 구현하는 다수의 대안적인 방식들이 존재한다. 개시된 실시형태들은 예시적인 것이고, 제한적인 것은 아니다.

Claims (38)

  1. 광학 시스템으로서,
    입력 빔을 제 1 광 및 제 2 광으로 분할하는 제 1 광학 시스템;
    상기 제 1 광을 반사하는 오목 반사 표면을 포함하는 제 2 광학 시스템; 및
    상기 제 2 광학 시스템으로부터 반사된 상기 제 1 광 및 상기 제 1 광학 시스템으로부터의 상기 제 2 광 중 적어도 하나를 제 3 광학 시스템의 출력 광 경로로 지향시키는 상기 제 3 광학 시스템을 포함하는, 광학 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 광학 시스템은 상기 제 1 광학 시스템과 오목 미러 사이에 배열되는 굴절 부재를 포함하는, 광학 시스템.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 굴절 부재는 상기 오목 미러와 상기 제 3 광학 시스템 사이에 배열되는, 광학 시스템.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 굴절 부재는 실질적으로 상기 오목 반사 표면 상에 위치된 후방 초점을 갖는, 광학 시스템.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 광학 시스템은 상기 오목 반사 표면으로부터의 상기 제 1 광을 반사하는 반사 표면을 포함하고, 상기 오목 반사 표면은 상기 제 2 광학 시스템의 반사 표면으로부터의 상기 제 1 광을 반사하는, 광학 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 오목 반사 표면과 상기 반사 표면 사이에 배치된 굴절 부재를 더 포함하는, 광학 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 오목 반사 표면 및 상기 반사 표면은 상기 굴절 부재 상에 형성되는, 광학 시스템.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반사 표면은 오목 형상을 갖는, 광학 시스템.
  9. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 반사 표면은 볼록 형상을 갖는, 광학 시스템.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 오목 반사 표면은 상기 제 1 광학 시스템과 상기 제 3 광학 시스템 사이에서 상기 제 2 광의 빔 경로를 향하는, 광학 시스템.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 3 광학 시스템으로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 3 광학 시스템으로부터의 상기 제 2 광은 상이한 위치들을 통과하는, 광학 시스템.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 3 광학 시스템으로부터의 상기 제 1 광을 반사하는 오목 반사 표면을 포함하는 제 4 광학 시스템을 더 포함하는, 광학 시스템.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 광학 시스템의 광축과 상기 제 4 광학 시스템의 광축은 서로로부터 편심되는, 광학 시스템.
  14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
    상기 제 3 광학 시스템은 상기 제 2 광학 시스템으로부터의 상기 제 1 광을 제 3 광 및 제 4 광으로 분할하는, 광학 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 3 광학 시스템의 출력 경로에 배열된 제 5 광학 시스템을 더 포함하는, 광학 시스템.
  16. 광학 시스템으로서,
    시간 지연 시스템으로서, 상기 시간 지연 시스템은 간섭성 입력 조명 소스로부터 감소된 스페클을 갖는 빔렛들의 세트를 생성하는, 상기 시간 지연 시스템;
    제 1 빔렛 어레이 및 제 2 빔렛 어레이로서, 상기 제 1 빔렛 어레이 및 상기 제 2 빔렛 어레이는 타겟 평면에서 조명 패턴을 달성하기 위해 상기 빔렛들의 세트를 조종하고 성형하는, 상기 제 1 빔렛 어레이 및 상기 제 2 빔렛 어레이를 포함하는, 광학 시스템.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 빔렛 어레이 또는 상기 제 2 빔렛 어레이는 반사 표면, 굴절 표면, 회절 요소, 홀로그램, 및/또는 메타표면 중 하나 이상을 포함하는, 광학 시스템.
  18. 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,
    상기 조명 패턴은 빔렛들의 어레이를 포함하는, 광학 시스템.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 어레이는 정사각형 어레이, 직사각형 어레이, 환형의 전체 형상을 갖는 어레이, 쌍극자의 전체 형상을 갖는 어레이, 또는 사중극자의 전체 형상을 갖는 어레이 중 하나를 포함하는, 광학 시스템.
  20. 제 16 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템은 상기 시간 지연 시스템에 의해 출력된 상기 빔렛들의 세트의 각 빔렛 사이의 시간적 간섭성을 감소시키기 위해 상기 빔렛들의 세트의 각 빔렛이 다수의 암들의 상이한 순열을 횡단하도록 횡단되는 상기 다수의 암들을 포함하는, 광학 시스템.
  21. 제 16 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 간섭성 입력 조명 소스는 펄스 레이저를 포함하는, 광학 시스템.
  22. 제 16 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시스템은 상기 타겟 평면에 레티클을 배치하도록 구성되는, 광학 시스템.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 시스템은 웨이퍼 상에 레티클의 이미지를 투영하도록 구성되는, 광학 시스템.
  24. 제 16 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템은,
    입력 빔을 제 1 광과 제 2 광으로 분할하고 상기 제 1 광과 상기 제 2 광을 서로 다른 방향으로 지향시키는 빔 분할기;
    상기 제 1 광을 굴절시키는 굴절 표면 및 상기 굴절 표면으로부터의 상기 제 1 광을 반사하는 오목 미러를 포함하는 중간 광학부; 및
    상기 오목 미러로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기로서, 상기 오목 미러로부터 상기 빔 결합기로의 상기 제 1 광은 상기 굴절 표면을 통과하는, 상기 빔 결합기를 포함하는, 광학 시스템.
  25. 제 16 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템은,
    입력 빔을 제 1 광과 제 2 광으로 분할하고 상기 제 1 광과 상기 제 2 광을 서로 다른 방향으로 지향시키는 빔 분할기;
    상기 빔 분할기로부터의 상기 제 1 광을 반사하고 오목한 형상을 갖는 제 1 반사 표면, 및 상기 제 1 반사 표면으로부터의 상기 제 1 빔을 반사하고 상기 제 1 빔을 상기 제 1 반사 표면으로 지향시키는 제 2 반사 표면을 포함하는 중간 광학부; 및
    상기 제 2 반사 표면으로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기로서, 상기 제 2 반사 표면으로부터 상기 빔 결합기로의 상기 제 1 광은 상기 제 1 굴절 표면을 통과하는, 상기 빔 결합기를 포함하는, 광학 시스템.
  26. 제 16 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템은 상이한 크기의 빔스플리터들 및 암 광학계의 세트를 포함하는, 광학 시스템.
  27. 제 16 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템에 의해 출력되는 상기 빔렛들의 세트를 성형하기 위한 근거리장 빔 성형기를 더 포함하는, 광학 시스템.
  28. 제 16 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템에 의해 출력되는 상기 빔렛들의 세트를 성형하기 위한 원거리장 빔 성형기를 더 포함하는, 광학 시스템.
  29. 제 16 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시간 지연 시스템은 다수의 시간 지연 암들을 포함하고, 상기 다수의 시간 지연 암들 중의 암에서의 광 경로는 접혀 지는, 광학 시스템.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 암에서의 상기 광 경로는 실질적으로 유리 내에 있는, 광학 시스템.
  31. 제 29 항 또는 제 30 항에 있어서,
    상기 암에서의 상기 광 경로는 실질적으로 공기 중에 있는, 광학 시스템.
  32. 제 29 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 경로는 N 번 접혀지는, 광학 시스템.
  33. 광학 시스템으로서,
    입력 빔을 제 1 광과 제 2 광으로 분할하고 상기 제 1 광과 상기 제 2 광을 서로 다른 방향으로 지향시키는 빔 분할기;
    상기 제 1 광을 굴절시키는 굴절 표면 및 상기 굴절 표면으로부터의 상기 제 1 광을 반사하는 오목 미러를 포함하는 중간 광학부; 및
    상기 오목 미러로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기로서, 상기 오목 미러로부터 상기 빔 결합기로의 상기 제 1 광은 상기 굴절 표면을 통과하는, 상기 빔 결합기를 포함하는, 광학 시스템.
  34. 제 33 항에 있어서,
    상기 중간 광학부는 광축을 포함하고, 상기 중간 광학부에 진입하는 상기 제 1 광은 상기 광축으로부터 편심되는, 광학 시스템.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 빔 분할기에서의 빔 분할 지점과 상기 빔 결합기의 빔 결합 표면 상의 상기 제 2 광의 빔 통과 지점 사이의 중간점은 상기 중간 광학부의 상기 광축으로부터 편심되는, 광학 시스템.
  36. 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,
    상기 빔 결합기로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 2 광을 굴절시키는 굴절 표면 및 상기 굴절 표면으로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 2 광을 반사하는 오목 미러를 포함하는 제 2 중간 광학부를 더 포함하는, 광학 시스템.
  37. 제 36 항에 있어서,
    상기 중간 광학부의 상기 굴절 표면과 상기 중간 광학부의 상기 오목 미러 사이의 제 1 간격은 상기 제 2 중간 광학부의 상기 굴절 표면과 상기 제 2 중간 광학부의 상기 오목 미러 사이의 제 2 간격보다 작은, 광학 시스템.
  38. 광학 시스템으로서,
    입력 빔을 제 1 광과 제 2 광으로 분할하고 상기 제 1 광과 상기 제 2 광을 서로 다른 방향으로 지향시키는 빔 분할기;
    상기 빔 분할기로부터의 상기 제 1 광을 반사하고 오목한 형상을 갖는 제 1 반사 표면, 및 상기 제 1 반사 표면으로부터의 상기 제 1 빔을 반사하고 상기 제 1 빔을 상기 제 1 반사 표면으로 지향시키는 제 2 반사 표면을 포함하는 중간 광학부; 및
    상기 제 2 반사 표면으로부터의 상기 제 1 광 및 상기 제 2 광을 동일한 방향으로 지향시키는 빔 결합기로서, 상기 제 2 반사 표면으로부터 상기 빔 결합기로의 상기 제 1 광은 상기 제 1 굴절 표면을 통과하는, 상기 빔 결합기를 포함하는, 광학 시스템.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5850300A (en) 1994-02-28 1998-12-15 Digital Optics Corporation Diffractive beam homogenizer having free-form fringes
US6731374B1 (en) * 2002-12-02 2004-05-04 Asml Holding N.V. Beam-splitter optics design that maintains an unflipped (unmirrored) image for a catadioptric lithographic system
DE102004026518A1 (de) * 2004-05-21 2005-12-15 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie
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