KR20220129174A

KR20220129174A - 사출 성형 장치 및 시스템

Info

Publication number: KR20220129174A
Application number: KR1020210033710A
Authority: KR
Inventors: 김선우; 최철현; 김기혁; 맹원준; 이민석
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2021-03-16
Filing date: 2021-03-16
Publication date: 2022-09-23
Also published as: WO2022196935A1

Abstract

본 발명의 다양한 실시예들은 사출 성형 장치 및 시스템으로서, 제 1 금형, 상기 제 1 금형을 지지하는 제 1 금형 플레이트, 상기 제 1 금형과 형합되는 제 2 금형, 상기 제 1 금형 및 상기 제 2 금형 사이에 형성되며, 용융 수지가 주입되는 성형 캐비티, 상기 제 1 금형 플레이트의 내부에 배치된 에어 공급 관로에 에어를 공급할 수 있도록 개방되는 밸브, 상기 에어 공급 관로에 공급된 에어를 통해 스프링이 확장되면서 상부 방향으로 이동되는 피스톤, 상기 피스톤의 이동에 따라 상부 방향으로 부분적으로 이동되는 벤트 코어, 상기 벤트 코어의 이동에 따라, 상기 벤트 코어 및 상기 제 1 금형 사이에 형성된 제 1 갭, 상기 제 1 갭, 상기 제 1 금형 및 상기 제 1 금형 플레이트에 적어도 일부가 배치된 가스 배출 관로를 통해 상기 성형 캐비티 내의 가스를 흡입 및 배출하는 가스 흡입기, 및 상기 밸브 및 상기 가스 흡입기와 작동으로 연결된 프로세서를 포함하고, 제 1 금형 및 제 2 금형 사이의 성형 캐비티에 존재하는 가스를 제거함으로써, 사출 제품의 불량 및 품질 저하를 방지할 수 있다. 다른 다양한 실시예가 가능하다.

Description

사출 성형 장치 및 시스템{APPARATUS AND SYSTEM FOR MOLDING INJECTION}

본 발명의 다양한 실시예들은, 캐비티에 존재하는 가스를 배출할 수 있는 사출 성형 장치 및 시스템에 관한 것이다.

사출 성형은 열경화성 수지 또는 열 가소성 수지와 같은 플라스틱 레진을 금형 내에 주입하여 다양한 형태의 사출물을 제조할 수 있다.

사출 성형 장치는 금형 내에 형성된 성형 캐비티 내부에 플라스틱 레진(예: 용융 수지)을 사출하고, 금형의 캐비티에 대응하는 형태의 사출 제품을 제조할 수 있다.

사출 성형 장치는 다양한 사출 제품을 반복적으로 성형하여 대량으로 생산할 수 있다. 사출 금형의 구조는 사출기 사양이나 사출 제품의 형상 및 재질과 같은 조건에 따라 결정될 수 있다.

사출 성형은 상부 금형과 하부 금형이 상호 형합되어 성형하고자 하는 제품의 형상과 동일한 캐비티가 형성되도록 하고, 상기 캐비티에 용융 수지를 고압으로 주입하여 사출 제품을 성형할 수 있다.

상기 사출 성형을 이용하여 제품 제조 시, 상부 금형 및 하부 금형 사이의 캐비티에 주입된 용융 수지 내에 가스가 존재하면, 사출품의 외관에 불량이 발생되거나 품질이 저하될 수 있다.

본 발명의 다양한 실시예들은, 성형 캐비티 내에 존재하는 가스를 제거할 수 있는 사출 성형 장치 및 시스템을 제공할 수 있다.

본 개시에서 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치는, 제 1 금형, 상기 제 1 금형을 지지하는 제 1 금형 플레이트, 상기 제 1 금형과 형합되는 제 2 금형, 상기 제 1 금형 및 상기 제 2 금형 사이에 형성되며, 용융 수지가 주입되는 성형 캐비티, 상기 제 1 금형 플레이트의 내부에 배치된 에어 공급 관로에 에어를 공급할 수 있도록 개방되는 밸브, 상기 에어 공급 관로에 공급된 에어를 통해 스프링이 확장되면서 상부 방향으로 이동되는 피스톤, 상기 피스톤의 이동에 따라 상부 방향으로 부분적으로 이동되는 벤트 코어, 상기 벤트 코어의 이동에 따라, 상기 벤트 코어 및 상기 제 1 금형 사이에 형성된 제 1 갭, 상기 제 1 갭, 상기 제 1 금형 및 상기 제 1 금형 플레이트에 적어도 일부가 배치된 가스 배출 관로를 통해 상기 성형 캐비티 내의 가스를 흡입 및 배출하는 가스 흡입기, 및 상기 밸브 및 상기 가스 흡입기와 작동으로 연결된 프로세서를 포함할 수 있다.

본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 시스템은, 제 1 금형 및 제 2 금형을 닫는 형폐 신호를 입력하고, 상기 형폐 신호에 따라 프로세서가 밸브를 개방하고, 상기 개방된 밸브를 통해 에어 공급 관로에 에어를 공급하고, 상기 공급된 에어를 통해 스프링이 확장되면서 피스톤이 상부 방향으로 이동되고, 상기 피스톤의 이동에 따라 벤트 코어가 상부 방향으로 부분적으로 이동되고, 상기 벤트 코어의 이동에 따라 상기 벤트 코어 및 상기 제 1 금형 사이에 제 1 갭이 형성되고, 사출 신호에 따라 상기 프로세서가 가스 흡입기를 작동시키고, 상기 제 1 갭 및 상기 제 1 갭과 연결된 가스 배출 관로를 통해 상기 제 1 금형 및 상기 제 2 금형 사이에 형성된 성형 캐비티 내의 가스를 흡입 및 배출하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 다양한 실시예들에 따르면, 제 1 금형(예: 하부 금형) 및 제 2 금형(예: 상부 금형) 사이의 성형 캐비티에 존재하는 가스를 제거함으로써, 사출 제품의 불량 및 품질 저하를 방지할 수 있다.

이 외에, 본 문서를 통해 직접적 또는 간접적으로 파악되는 다양한 효과들이 제공될 수 있다.

도면의 설명과 관련하여, 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일 또는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치를 개략적으로 나타내는 사시도이다.
도 2a는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치의 형폐 시의 공정을 나타내는 도면이다.
도 2b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 도 2a의 A 영역을 나타내는 확대도이다.
도 3a는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치의 사출 시의 일부 공정을 나타내는 도면이다.
도 3b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 도 3a의 B 영역을 나타내는 확대도이다.

본 문서의 다양한 실시예들 및 이에 사용된 용어들은 본 문서에 기재된 기술적 특징들을 특정한 실시예들로 한정하려는 것이 아니며, 해당 실시예의 다양한 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

도면의 설명과 관련하여, 유사한 또는 관련된 구성요소에 대해서는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다. 아이템에 대응하는 명사의 단수 형은 관련된 문맥상 명백하게 다르게 지시하지 않는 한, 상기 아이템 한 개 또는 복수 개를 포함할 수 있다.

본 문서에서, "A 또는 B", "A 및 B 중 적어도 하나", "A 또는 B 중 적어도 하나", "A, B 또는 C", "A, B 및 C 중 적어도 하나", 및 "A, B, 또는 C 중 적어도 하나"와 같은 문구들 각각은 그 문구들 중 해당하는 문구에 함께 나열된 항목들 중 어느 하나, 또는 그들의 모든 가능한 조합을 포함할 수 있다. "제 1", "제 2", 또는 "첫째" 또는 "둘째"와 같은 용어들은 단순히 해당 구성요소를 다른 해당 구성요소와 구분하기 위해 사용될 수 있으며, 해당 구성요소들을 다른 측면(예: 중요성 또는 순서)에서 한정하지 않는다.

도 1은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치를 개략적으로 나타내는 사시도이다. 도 2a는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치의 형폐 시의 공정을 나타내는 도면이다. 도 2b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 도 2a의 A 영역을 나타내는 확대도이다. 도 3a는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치의 사출 시의 일부 공정을 나타내는 도면이다. 도 3b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 도 3a의 B 영역을 나타내는 확대도이다.

도 1 내지 도 3b를 참조하면, 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치(100)는, 제 1 금형(110), 제 2 금형(120), 밸브(130) 가스 흡입기(140) 및 제 1 금형 플레이트(150)를 포함할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 사출 성형 장치(100)는 제 1 금형(110)(예: 하부 금형) 및 제 2 금형(120)(예: 상부 금형) 사이에 형성된 성형 캐비티(255)에 용융 수지를 주입하고, 예를 들어, 휴대폰 케이스와 같은 사출품을 제조할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형(110)은 제 1 금형 플레이트(150)와 결합될 수 있다. 제 1 금형(110)은 제 1 금형 플레이트(150)에 의해 지지될 수 있다. 제 1 금형(110)은 하부 금형을 포함할 수 있다. 제 1 금형(110)은 제 2 금형(120)과 형합될 수 있다. 형합된 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(120) 사이에는 사출을 위한 용융 수지(260)가 주입되는 성형 캐비티(255)가 형성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형(110)은 피스톤(230), 스프링(235), 벤트 코어(240) 및/또는 적어도 하나의 가스 배출 관로(270)(예: 제 3 관로(272) 및 제 4 관로(274)의 일부)를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 가스 배출 관로(270)는 제 3 관로(272), 제 4 관로(274) 및/또는 제 5 관로(276)를 포함할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 피스톤(230)은, 밸브(130)가 개방되고, 에어 공급 관로(220)룰 통해 에어가 공급되면, 스프링(235)의 확장에 따라 상부 방향(예: z축 방향)로 이동될 수 있다. 피스톤(230)이 상부 방향으로 이동됨에 따라, 벤트 코어(240)는 상부 방향(예: z축 방향)으로 부분적으로 이동될 수 있다. 벤트 코어(240)가 상부 방향으로 이동됨에 따라, 벤트 코어(240) 및 제 1 금형(110)의 사이에는 제 1 갭(G1)이 형성될 수 있다. 제 1 갭(G1)은 벤트 코어(240) 및 제 1 금형(110)의 사이에 약 0.1mm ~ 1mm 정도의 사이즈로 형성될 수 있다. 가스 흡입기(140)가 작동되면, 제 1 갭(G1)을 통해 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(220) 사이에 형성된 성형 캐비티(255) 내에 존재하는 가스(265)가 사출 성형 장치(100)의 외부로 배출될 수 있다. 예를 들면, 가스 흡입기(140)의 작동에 따라, 제 1 갭(G1)을 통해 흡입된 가스(265)는, 가스 배출 관로(270)를 통해 사출 성형 장치(100)의 외부로 배출될 수 있다. 가스(265)는 용융 수지(260)를 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(220) 사이에 형성된 성형 캐비티(255) 내에 주입하는 과정에서 용융 수지(260)의 일부가 증발하면서 형성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 성형 캐비티(255)에 용융 수지(260)가 주입되고, 주입된 용융 수지(260)가 벤트 코어(240)의 상부의 적어도 일부에 배치되면, 프로세서(210)의 제어에 따라 밸브(130)가 폐쇄(close)되고, 에어 공급 관로(220)에 에어 공급이 중단될 수 있다. 이 경우, 스프링(235)이 수축됨에 따라 피스톤(230)이 하부 방향(예: -z축 방향)으로 이동하고, 벤트 코어(240)는 하부 방향(예: -z축 방향)으로 적어도 일부가 이동될 수 있다. 이 경우, 상기 제 1 갭(G1)은 약 0.01mm ~ 0.02mm로 축소된 제 2 갭(G2)을 형성할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 벤트 코어(240)의 주변에는 용융 수지(260)가 벤트 코어(240)에 도달하는 것을 검출하는 센서 모듈(미도시)이 배치될 수도 있다. 센서 모듈은 용융 수지(260)가 벤트 코어(240)에 도달되는 검출 신호를 프로세서(210)에 전달할 수 있다. 센서 모듈은, 예를 들어, 압력 센서, 온도 센서 또는 레이저 센서를 포함할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 제 2 금형(120)은 상부 금형을 포함할 수 있다. 제 2 금형(120)은 제 1 금형(110)과 형합될 수 있다. 제 2 금형(120)은 제 1 금형(110)과 형합되고, 형합된 제 2 금형(120) 및 제 1 금형(110) 사이에는 용융 수지(260)가 주입되는 성형 캐비티(255)가 형성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형(110) 및 제 1 금형 플레이트(150) 사이의 접점에는 적어도 하나의 제 1 탄성 링(273), 및/또는 적어도 하나의 제 3 탄성 링(280)이 배치될 수 있다. 피스톤(230)에는 적어도 하나의 제 2 탄성 링(239)이 배치될 수 있다. 적어도 하나의 제 1 탄성 링(273), 적어도 하나의 제 2 탄성 링(239) 및/또는 적어도 하나의 제 3 탄성 링(280)은, 예를 들어, O링을 포함할 수 있다. 적어도 하나의 제 1 탄성 링(273), 적어도 하나의 제 2 탄성 링(239) 및/또는 적어도 하나의 제 3 탄성 링(280)은 제 1 금형(110) 및 제 1 금형 플레이트(150) 사이에서 에어 또는 가스가 배출되는 것을 막아줄 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 적어도 하나의 제 1 탄성 링(273)은 제 2 관로(225)의 상단 및 피스톤(230)의 하단에 인접하여 배치될 수 있다. 적어도 하나의 제 2 탄성 링(239)은 피스톤(230)의 하부에 배치될 수 있다. 적어도 하나의 제 3 탄성 링(280)은 제 1 금형(110) 및 제 1 금형 플레이트(150)가 결합되는 제 4 관로(274)에 인접하여 배치될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형 플레이트(150)는 제 1 금형(110)과 결합될 수 있다. 제 1 금형 플레이트(150)는 제 1 금형(110)을 지지할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형 플레이트(150)는 에어 공급 관로(220) 및/또는 적어도 하나의 가스 배출 관로(270)(예: 제 4 관로(274)의 일부 및 제 5 관로(276))를 포함할 수 있다. 에어 공급 관로(220)는 제 1 관로(215) 및/또는 제 2 관로(225)를 포함할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 밸브(130)는 솔레노이드 밸브를 포함할 수 있다. 밸브(130)는 제 1 금형 플레이트(150)에 배치된 에어 공급 관로(220) 중 제 1 관로(215)와 결합될 수 있다. 밸브(130)는 에어를 공급하는 에어 콤프레셔(미도시)와 연결될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 밸브(130)는 프로세서(210)와 작동적으로 연결될 수 있다. 밸브(130)는 프로세서(210)의 제어에 따라 개방(open) 또는 폐쇄(close)되거나, 개폐량이 조절될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 사출 성형 장치(100)는 사용자의 조작(예: 터치 디스플레이)에 따라 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(120)을 폐쇄(close)하는 신호를 수신하면, 프로세서(210)의 제어에 따라, 밸브(130)가 개방되고, 제 1 관로(215)에 에어(예: 압축 공기)가 공급될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(120)을 폐쇄(close)하는 신호는 사출 성형 장치(100)의 사용자가, 예를 들어, 터치 디스플레이(미도시)의 조작에 따라 제공될 수 있다. 터치 디스플레이는 표시 기능 및 입력 기능을 제공할 수 있다. 터치 디스플레이는 사출 성형 장치(100)의 조작 메뉴와 관련된 정보를 표시할 수 있다. 터치 디스플레이는 사출 성형 장치(100)를 조작할 수 있는 입력 신호를 수신할 수 있다. 터치 디스플레이는 입력 신호를 수신하고, 수신된 신호를 프로세서(210)에 전달할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 사출 성형 장치(100)는 프로세서(210)를 포함할 수 있다. 프로세서(100)는 밸브(130) 및 가스 흡입기(140)와 작동적으로 연결될 수 있다. 프로세서(100)는 밸브(130) 및 가스 흡입기(140)를 제어할 수 있다. 프로세서(110)는 밸브(130)를 개방 또는 폐쇄할 수 있다. 프로세서(110)는 가스 흡입기(140)의 가스 흡입량 및/또는 가스 배출량을 조절할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 프로세서(210)는 사출 성형 장치(100)의 전반적인 동작 및 내부 구성요소들 간의 신호 흐름을 제어하고, 데이터를 처리하는 기능을 수행할 수 있다. 프로세서(210)는, 예를 들어, 중앙 처리 장치(central processing unit; CPU)를 포함할 수 있다. 프로세서(150)는 싱글 코어 프로세서(single core processor) 또는 멀티 코어 프로세서(multi-core processor)로 형성될 수 있으며, 다수의 프로세서로 구성될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 가스 흡입기(140)는 진공 발생기 또는 진공 펌프를 포함할 수 있다. 가스 흡입기(140)는 제 1 금형 플레이트(150)에 배치된 가스 배출 관로(270) 중 제 5 관로(276)와 결합될 수 있다. 가스 흡입기(140)는 가스 흡입 후 배출하는 배출구(미도시)를 포함할 수 있다.

이하, 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 장치(100)를 이용하여, 성형 캐비티(255) 내에 존재하는 가스(265)를 배출하는 시스템이 도 2a 내지 도 3a를 참조하여 설명될 것이다.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 다양한 실시예에 따른 사출 성형 시스템은, 사출 성형 장치(100)의 사용자가, 예를 들어, 터치 디스플레이를 이용하여 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(120)을 닫는 형폐 신호를 입력할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 형폐 신호는 프로세서(210)에 전달될 수 있다. 프로세서(210)는 상기 형폐 신호에 따라, 밸브(130)를 개방할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 밸브(130)가 개방되면, 제 1 관로(215)를 통해 일측 방향(예: -x축 방향)으로 에어(예: 압축 공기)가 공급될 수 있다. 제 1 관로(215)에 공급된 에어는, 제 2 관로(225)를 통해 상부 방향(예: z축 방향)으로 공급될 수 있다. 제 1 관로(215) 및 제 2 관로(225)는 에어 공급 관로(220)를 형성할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 제 2 관로(225)를 통해 공급된 공기는 피스톤(230)을 작동시켜, 피스톤(230)을 상부 방향(예: z축 방향)으로 이동시킬 수 있다. 피스톤(230)이 스프링(235)의 확장에 따라 상부 방향으로 이동되면, 벤트 코어(240)는 부분적으로 상부 방향(예: z축 방향)으로 이동될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 벤트 코어(240)는 부분적으로 상부 방향(예: z축 방향)으로 이동됨에 따라, 벤트 코어(240) 및 제 1 금형(110)의 사이에는 약 0.1mm ~ 1mm의 사이즈를 갖는 제 1 갭(G1)이 형성될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 사출 성형 장치(100)의 사용자는, 예를 들어, 터치 디스플레이를 이용하여 사출 신호를 입력할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 사출 신호는 프로세서(210)에 전달될 수 있다. 프로세서(210)는 상기 사출 신호에 따라, 가스 흡입기(140)를 작동시킬 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 가스 흡입기(140)가 작동되면, 제 1 갭(G1)을 통해 성형 캐비티(255)에 존재하는 가스(265)가 흡입될 수 있다. 흡입된 가스(265)는 가스 배출 관로(270)를 통해 가스 흡입기(140)로 약 0.1초 내지 15초의 시간 동안 전달 및 배출되고, 사출 성형 장치(100)의 외부로 배출될 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 갭(G1)을 통해 흡입된 가스(265)는 제 3 관로(272)를 통해 일측 방향(예: -y축 방향)으로 이동될 수 있다. 제 3 관로(272)를 통해 이동된 가스(265)는 제 4 관로(274)를 통해 하부 방향(예: -z축 방향)으로 이동될 수 있다. 제 4 관로(274)를 통해 이동된 가스(265)는 제 5 관로(276)를 통해 일측 방향(예: x축 방향)으로 이동되고, 가습 흡입기(140)에 흡입될 수 있다. 제 3 관로(272), 제 4 관로(274) 및 제 5 관로(276)는 가스 배출 관로(270)를 형성할 수 있다.

도 3a 및 도 3b를 참조하면, 사출 동작 중, 성형 캐비티(255)에 용융 수지(260)가 주입되고, 주입된 용융 수지(260)가 벤트 코어(240)의 상부의 적어도 일부에 배치될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 벤트 코어(240)의 상부의 적어도 일부에 용융 수지(260)가 배치되면, 프로세서(210)는 밸브(130)를 폐쇄할 수 있다. 밸브(130)가 폐쇄됨에 따라 에어 공급 관로(220)에는 에어 공급이 중단될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 에어 공급 관로(220)에 에어 공급이 중단되면, 스프링(235)이 수축됨에 따라 피스톤(230)이 하부 방향(예: -z축 방향)으로 이동되고, 벤트 코어(240)가 부분적으로 하부 방향(예: -z축 방향)으로 이동될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 벤트 코어(240)가 부분적으로 하부 방향(예: -z축 방향)으로 이동됨에 따라, 벤트 코어(240) 및 제 1 금형(110)의 사이에는 상기 제 1 갭(G)보다 사이즈가 축소된 약 0.01mm ~ 0.02mm의 제 2 갭(G2)이 형성될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 상기 가스 흡입기(140)는 상기 제 2 갭(G2)을 통해 성형 캐비티(255)에 존재하는 가스(265)를 흡입하고, 가스 배출 관로(270)를 통한 가스 배출을 유지할 수 있다.

본 발명의 다양한 실시예들에 따른 사출 성형 장치(100)는 제 1 금형(110) 및 제 2 금형(120) 사이의 성형 캐비티(255) 내에 존재하는 가스(265)를 사출 과정 중 지속적으로 제거함으로써, 사출 제품의 불량 및 품질 저하를 방지할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 에어 공급 관로는 상기 밸브의 개방에 따라, 에어를 일측 방향으로 공급하는 제 1 관로, 및 상기 제 1 관로와 연결되고, 상기 제 1 관로를 통해 공급되는 에어를 상기 피스톤에 공급하는 제 2 관로를 포함할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 1 갭은 0.1mm ~ 1mm의 사이즈로 형성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 가스 배출 관로는, 상기 제 1 갭을 통해 흡입된 가스가 일측 방향으로 이동되는 제 3 관로, 상기 제 3 관로를 통해 이동된 가스가 하부 방향으로 이동되는 제 4 관로, 및 상기 제 4 관로를 통해 이동된 가스가 일측 방향으로 이동되는 제 5 관로를 포함할 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 3 관로 및 상기 제 4 관로의 일부는 상기 제 1 금형 내에 배치되고, 상기 제 4 관로의 일부 및 상기 제 5 관로는 상기 제 1 금형 플레이트 내에 배치될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 성형 캐비티에 주입된 용융 수지가 상기 벤트 코어의 상부의 적어도 일부에 배치되면, 상기 프로세서는, 상기 밸브를 폐쇄하고, 상기 에어 공급 관로에 에어 공급을 중단하도록 설정될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 에어 공급 관로에 에어 공급이 중단되면, 상기 스프링이 수축됨에 따라 상기 피스톤이 하부 방향으로 이동되고, 상기 벤트 코어가 부분적으로 하부 방향으로 이동되며, 상기 제 1 갭은 사이즈가 축소된 제 2 갭을 형성하도록 구성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 2 갭은 0.01mm ~ 0.02mm의 사이즈로 형성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 가스 흡입기는 상기 제 2 갭을 통해 상기 성형 캐비티에 존재하는 가스 흡입을 유지하도록 구성될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 1 금형 및 상기 제 1 금형 플레이트 사이의 접점에는 적어도 하나의 제 1 탄성 링 및/또는 적어도 하나의 제 3 탄성 링이 배치되고, 상기 피스톤에는 적어도 하나의 제 2 탄성 링이 배치될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 제 3 관로 및 상기 제 4 관로의 일부는 상기 제 1 금형 내에 배치되고, 상기 제 4 관로의 일부 및 상기 제 5 관로는 제 1 금형 플레이트 내에 배치될 수 있다.

다양한 실시예에 따르면, 상기 가스 흡입기가 작동되면, 상기 성형 캐비티 내에 존재하는 가스가 0.1초 내지 15초의 시간 동안 상기 제 1 갭을 통해 상기 가스 흡입기로 배출되도록 구성될 수 있다.

이상에서는 본 발명의 다양한 실시예에 따라 본 발명을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 변경 및 변형한 것도 본 발명에 속함은 당연하다.

100: 사출 성형 장치 110: 제 1 금형
120: 제 2 금형 130: 밸브
140: 가스 흡입기 150: 제 1 금형 플레이트
210: 프로세서 220: 에어 공급 관로
230: 피스톤 240: 벤트 코어
255: 성형 캐비티 260: 용융 수지
265: 가스 270: 가스 배출 관로

Claims

사출 성형 장치에 있어서,
제 1 금형;
상기 제 1 금형을 지지하는 제 1 금형 플레이트;
상기 제 1 금형과 형합되는 제 2 금형;
상기 제 1 금형 및 상기 제 2 금형 사이에 형성되며, 용융 수지가 주입되는 성형 캐비티;
상기 제 1 금형 플레이트의 내부에 배치된 에어 공급 관로에 에어를 공급할 수 있도록 개방되는 밸브;
상기 에어 공급 관로에 공급된 에어를 통해 스프링이 확장되면서 상부 방향으로 이동되는 피스톤;
상기 피스톤의 이동에 따라 상부 방향으로 부분적으로 이동되는 벤트 코어;
상기 벤트 코어의 이동에 따라, 상기 벤트 코어 및 상기 제 1 금형 사이에 형성된 제 1 갭;
상기 제 1 갭, 상기 제 1 금형 및 상기 제 1 금형 플레이트에 적어도 일부가 배치된 가스 배출 관로를 통해 상기 성형 캐비티 내의 가스를 흡입 및 배출하는 가스 흡입기; 및
상기 밸브 및 상기 가스 흡입기와 작동으로 연결된 프로세서를 포함하는 사출 성형 장치.
제 1항에 있어서,
상기 에어 공급 관로는 상기 밸브의 개방에 따라, 에어를 일측 방향으로 공급하는 제 1 관로; 및
상기 제 1 관로와 연결되고, 상기 제 1 관로를 통해 공급되는 에어를 상기 피스톤에 공급하는 제 2 관로를 포함하는 사출 성형 장치.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 갭은 0.1mm ~ 1mm의 사이즈로 형성된 사출 성형 장치.
제 1항에 있어서,
상기 가스 배출 관로는,
상기 제 1 갭을 통해 흡입된 가스가 일측 방향으로 이동되는 제 3 관로;
상기 제 3 관로를 통해 이동된 가스가 하부 방향으로 이동되는 제 4 관로; 및
상기 제 4 관로를 통해 이동된 가스가 일측 방향으로 이동되는 제 5 관로를 포함하는 사출 성형 장치.
제 4항에 있어서,
상기 제 3 관로 및 상기 제 4 관로의 일부는 상기 제 1 금형 내에 배치되고,
상기 제 4 관로의 일부 및 상기 제 5 관로는 상기 제 1 금형 플레이트 내에 배치된 사출 성형 장치.
제 1항에 있어서,
상기 성형 캐비티에 주입된 용융 수지가 상기 벤트 코어의 상부의 적어도 일부에 배치되면, 상기 프로세서는, 상기 밸브를 폐쇄하고, 상기 에어 공급 관로에 에어 공급을 중단하도록 설정된 사출 성형 장치.
제 6항에 있어서,
상기 에어 공급 관로에 에어 공급이 중단되면, 상기 스프링이 수축됨에 따라 상기 피스톤이 하부 방향으로 이동되고, 상기 벤트 코어가 부분적으로 하부 방향으로 이동되며, 상기 제 1 갭은 사이즈가 축소된 제 2 갭을 형성하도록 구성된 사출 성형 장치.
제 7항에 있어서,
상기 제 2 갭은 0.01mm ~ 0.02mm의 사이즈로 형성된 사출 성형 장치.
제 7항에 있어서,
상기 가스 흡입기는 상기 제 2 갭을 통해 상기 성형 캐비티에 존재하는 가스 흡입을 유지하도록 구성된 사출 성형 장치.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 금형 및 상기 제 1 금형 플레이트 사이의 접점에는 적어도 하나의 제 1 탄성 링 및/또는 적어도 하나의 제 3 탄성 링이 배치되고,
상기 피스톤에는 적어도 하나의 제 2 탄성 링이 배치된 사출 성형 장치.
사출 성형 시스템에 있어서,
제 1 금형 및 제 2 금형을 닫는 형폐 신호를 입력하고,
상기 형폐 신호에 따라 프로세서가 밸브를 개방하고,
상기 개방된 밸브를 통해 에어 공급 관로에 에어를 공급하고,
상기 공급된 에어를 통해 스프링이 확장되면서 피스톤이 상부 방향으로 이동되고,
상기 피스톤의 이동에 따라 벤트 코어가 상부 방향으로 부분적으로 이동되고,
상기 벤트 코어의 이동에 따라 상기 벤트 코어 및 상기 제 1 금형 사이에 제 1 갭이 형성되고,
사출 신호에 따라 상기 프로세서가 가스 흡입기를 작동시키고,
상기 제 1 갭 및 상기 제 1 갭과 연결된 가스 배출 관로를 통해 상기 제 1 금형 및 상기 제 2 금형 사이에 형성된 성형 캐비티 내의 가스를 흡입 및 배출하도록 구성된 사출 성형 시스템.
제 11항에 있어서,
상기 에어 공급 관로는 상기 밸브의 개방에 따라, 에어를 일측 방향으로 공급하는 제 1 관로; 및
상기 제 1 관로와 연결되고, 상기 제 1 관로를 통해 공급되는 에어를 상기 피스톤에 공급하는 제 2 관로를 포함하는 사출 성형 시스템.
제 11항에 있어서,
상기 제 1 갭은 0.1mm ~ 1mm의 사이즈로 형성된 사출 성형 시스템.
제 11항에 있어서,
상기 가스 배출 관로는,
상기 제 1 갭을 통해 흡입된 가스가 일측 방향으로 이동되는 제 3 관로;
상기 제 3 관로를 통해 이동된 가스가 하부 방향으로 이동되는 제 4 관로; 및
상기 제 4 관로를 통해 이동된 가스가 일측 방향으로 이동되는 제 5 관로를 포함하는 사출 성형 시스템.
제 14항에 있어서,
상기 제 3 관로 및 상기 제 4 관로의 일부는 상기 제 1 금형 내에 배치되고,
상기 제 4 관로의 일부 및 상기 제 5 관로는 제 1 금형 플레이트 내에 배치된 사출 성형 시스템.
제 11항에 있어서,
상기 성형 캐비티에 주입된 용융 수지가 상기 벤트 코어의 상부의 적어도 일부에 배치되면, 상기 프로세서는, 상기 밸브를 폐쇄하고, 상기 에어 공급 관로에 에어 공급을 중단하도록 설정된 사출 성형 시스템.
제 16항에 있어서,
상기 에어 공급 관로에 에어 공급이 중단되면, 상기 스프링이 수축됨에 따라 상기 피스톤이 하부 방향으로 이동되고, 상기 벤트 코어가 부분적으로 하부 방향으로 이동되며, 상기 제 1 갭은 사이즈가 축소된 제 2 갭을 형성하도록 구성된 사출 성형 시스템.
제 17항에 있어서,
상기 제 2 갭은 0.01mm ~ 0.02mm의 사이즈로 형성된 사출 성형 시스템.
제 17항에 있어서,
상기 가스 흡입기는 상기 제 2 갭을 통해 상기 성형 캐비티에 존재하는 가스 흡입을 유지하도록 구성된 사출 성형 시스템.
제 11항에 있어서,
상기 가스 흡입기가 작동되면, 상기 성형 캐비티 내에 존재하는 가스가 0.1초 내지 15초의 시간 동안 상기 제 1 갭을 통해 상기 가스 흡입기로 배출되도록 구성된 가스 성형 시스템.