KR20220127818A - Manufacturing method of retardation film - Google Patents
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Abstract
위상차 필름을 제조하는 방법은, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함한다. 상기 수지 필름과 상기 용제의 접촉은, 상기 수지 필름을 상기 용제에 침지함으로써 행하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 수지 필름은, 고유 복굴절값이 플러스인 수지로 이루어지는 양태인 것이 바람직하다.The method of manufacturing retardation film includes the process of extending|stretching by making a resin film contact a solvent. It is preferable to perform contact of the said resin film and the said solvent by immersing the said resin film in the said solvent. Moreover, it is preferable that the said resin film is an aspect which consists of resin whose intrinsic birefringence value is positive.
Description
본 발명은, 위상차 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a retardation film.
종래부터, 위상차 필름의 제조 기술이 제안되어 있다(예를 들어 특허문헌 1 ~ 2를 참조).Conventionally, the manufacturing technique of retardation film is proposed (for example, refer patent documents 1-2).
위상차 필름은, 면내 방향 및 두께 방향 중 적어도 일방에 리타데이션을 갖는다. 이러한 위상차 필름을 얻는 방법으로는, 수지제의 필름을, 상기 수지의 유리 전이 온도 Tg 이상으로 가열하여 연신하는 방법이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1을 참조). 그러나, 이러한 방법을 채용하는 경우, 수지제의 필름을 가열하기 위한 장치 또는 설비가 필요하여, 제조 설비가 대형화된다는 문제가 있었다. 또한, 소비 에너지가 크다는 문제도 있었다.The retardation film has retardation in at least one of an in-plane direction and a thickness direction. As a method of obtaining such retardation film, the method of heating and extending|stretching a resin film to the glass transition temperature Tg or more of the said resin is known (for example, refer patent document 1). However, when such a method is employed, there is a problem in that an apparatus or equipment for heating the resin film is required, and the manufacturing equipment becomes large. Moreover, there also existed a problem that the energy consumption was large.
본 발명은, 제조 설비를 간소화 가능한 위상차 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of this invention is to provide the manufacturing method of the retardation film which can simplify manufacturing equipment.
본 발명자는, 상기의 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 본 발명자는, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신함으로써, 수지 필름을 가열하지 않아도, 면내 방향 및 두께 방향 중 적어도 일방에 리타데이션을 발현시킬 수 있고, 그 결과, 상기 과제를 해결할 수 있다는 지견을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor earnestly examined in order to solve the said subject. As a result, the inventor of the present invention, by stretching the resin film in contact with the solvent, even without heating the resin film, retardation can be expressed in at least one of the in-plane direction and the thickness direction, and as a result, the above problems can be solved. The knowledge was found and the present invention was completed.
즉, 본 발명은, 하기의 것을 포함한다.That is, the present invention includes the following.
[1] 위상차 필름을 제조하는 방법으로서,[1] A method for producing a retardation film, comprising:
수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함하는, 위상차 필름의 제조 방법.The manufacturing method of retardation film including the process of extending|stretching a resin film by making it contact with a solvent.
[2] 상기 수지 필름과 상기 용제의 접촉을, 상기 수지 필름을 상기 용제에 침지함으로써 행하는, [1]에 기재된 위상차 필름의 제조 방법.[2] The method for producing the retardation film according to [1], wherein the resin film and the solvent are brought into contact by immersing the resin film in the solvent.
[3] 상기 수지 필름은, 고유 복굴절값이 플러스인 수지로 이루어지는, [1] 또는 [2]에 기재된 위상차 필름의 제조 방법.[3] The method for producing the retardation film according to [1] or [2], wherein the resin film is made of a resin having a positive intrinsic birefringence value.
[4] 상기 수지 필름은, 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는, [1] ~ [3] 중 어느 한 항에 기재된 위상차 필름의 제조 방법.[4] The method for producing the retardation film according to any one of [1] to [3], wherein the resin film is made of a resin containing a polymer having crystallinity.
[5] 상기 결정성을 갖는 중합체가, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물인, [4]에 기재된 위상차 필름의 제조 방법.[5] The method for producing a retardation film according to [4], wherein the polymer having crystallinity is a hydride of a ring-opened polymer of dicyclopentadiene.
[6] 상기 용제가, 탄화수소계의 용제인, [1] ~ [5] 중 어느 한 항에 기재된 위상차 필름의 제조 방법.[6] The method for producing the retardation film according to any one of [1] to [5], wherein the solvent is a hydrocarbon solvent.
[7] 상기 연신하는 공정을, 상기 수지 필름을 가열하지 않고 행하는, [1] ~ [6] 중 어느 한 항에 기재된 위상차 필름의 제조 방법.[7] The method for producing the retardation film according to any one of [1] to [6], wherein the stretching step is performed without heating the resin film.
본 발명에 의하면, 제조 설비를 간소화 가능한 위상차 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the retardation film which can simplify manufacturing equipment can be provided.
도 1은 실시형태 1의 위상차 필름의 제조 방법의 공정 1에 있어서 사용할 수 있는 장치를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 2는 비교예 1의 위상차 필름의 제조 방법에 있어서 사용할 수 있는 롤 연신기를 모식적으로 나타내는 평면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a side view which shows typically the apparatus which can be used in the process 1 of the manufacturing method of the retardation film of Embodiment 1. FIG.
FIG. 2 is a plan view schematically showing a roll stretching machine that can be used in a method for producing a retardation film of Comparative Example 1. FIG.
이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing embodiments and examples. However, this invention is not limited to embodiment and illustration shown below, In the range which does not deviate from the Claim of this invention and its equivalent range, it can change arbitrarily and can implement it.
이하의 설명에 있어서, 필름의 면내 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, 「Re = (nx - ny) × d」로 나타내어지는 값이다. 또한, 필름의 면내 방향의 복굴절은, 별도로 언급하지 않는 한, 「(nx - ny)」로 나타내어지는 값이고, 따라서 「Re/d」로 나타내어진다. 또한, 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 별도로 언급하지 않는 한, 「Rth = [{(nx + ny)/2} - nz] × d」로 나타내어지는 값이다. 또한, 필름의 두께 방향의 복굴절은, 별도로 언급하지 않는 한, 「[{(nx + ny)/2} - nz]」로 나타내어지는 값이고, 따라서 「Rth/d」로 나타내어진다. 또한, 필름의 NZ 계수는, 별도로 언급하지 않는 한, 「(nx - nz)/(nx - ny)」로 나타내어지는 값이고, 따라서 「0.5 + Rth/Re」로 나타내어진다. nx는, 필름의 두께 방향과 수직한 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 필름의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는, 필름의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 필름의 두께를 나타낸다. 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590nm이다.In the following description, the in-plane retardation Re of the film is a value represented by "Re = (nx - ny) x d" unless otherwise specified. In addition, the birefringence of the in-plane direction of a film is a value represented by "(nx - ny)", and therefore it is represented by "Re/d" unless otherwise stated. In addition, the retardation Rth of the thickness direction of a film is a value represented by "Rth = [{(nx + ny)/2} - nz] x d" unless otherwise indicated. In addition, the birefringence|double_refraction of the thickness direction of a film is a value represented by "[{(nx + ny)/2} - nz]" unless otherwise stated, and therefore it is represented by "Rth/d". In addition, unless otherwise indicated, the NZ coefficient of a film is a value represented by "(nx - nz)/(nx - ny)", and therefore it is represented by "0.5 + Rth/Re". nx represents the refractive index of the direction which gives the largest refractive index as a direction (in-plane direction) perpendicular|vertical to the thickness direction of a film. ny represents the refractive index of the direction orthogonal to the direction of nx as the said in-plane direction of a film. nz represents the refractive index of the thickness direction of a film. d represents the thickness of the film. The measurement wavelength is 590 nm, unless otherwise stated.
이하의 설명에 있어서, 고유 복굴절이 플러스인 재료란, 별도로 언급하지 않는 한, 연신 방향의 굴절률이 그것과 수직한 방향의 굴절률보다 커지는 재료를 의미한다. 또한, 고유 복굴절이 마이너스인 재료란, 별도로 언급하지 않는 한, 연신 방향의 굴절률이 그것과 수직한 방향의 굴절률보다 작아지는 재료를 의미한다. 고유 복굴절의 값은 유전율 분포로부터 계산할 수 있다.In the following description, a material having positive intrinsic birefringence means a material in which the refractive index in the stretching direction becomes larger than the refractive index in the direction perpendicular thereto, unless otherwise specified. In addition, unless otherwise stated, the material with a negative intrinsic birefringence means a material whose refractive index in an extending|stretching direction becomes smaller than the refractive index in a direction perpendicular to it. The value of intrinsic birefringence can be calculated from the dielectric constant distribution.
이하의 설명에 있어서, 장척의 필름의 경사 방향이란, 별도로 언급하지 않는 한, 그 필름의 면내 방향으로서, 그 필름의 폭 방향과 평행도 아니고 수직도 아닌 방향을 나타낸다.In the following description, the inclination direction of a long film is an in-plane direction of the film, unless otherwise stated, and represents a direction which is neither parallel nor perpendicular to the width direction of the film.
이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 길이의 상한에 특별한 제한은 없으나, 통상, 폭에 대하여 10만배 이하이다.In the following description, a "long" film refers to a film having a length of 5 times or more with respect to the width, and preferably has a length of 10 times or more, and specifically, the extent to which it is wound in a roll and stored or transported. A film with a length of Although there is no particular limitation on the upper limit of the length, it is usually 100,000 times or less with respect to the width.
이하의 설명에 있어서, 장척의 필름의 길이 방향은, 통상은 제조 라인에 있어서의 필름 반송 방향과 평행하다. 또한, MD 방향(mashine direction)은, 제조 라인에 있어서의 필름의 반송 방향으로, 통상은 장척의 필름의 길이 방향과 평행하다. 또한, TD 방향(transverse direction)은, 필름면과 평행한 방향으로서, 상기 MD 방향과 수직한 방향이고, 통상은 장척의 필름의 폭 방향과 평행하다.In the following description, the longitudinal direction of a long film is usually parallel to the film conveyance direction in a production line. In addition, MD direction (mashine direction) is the conveyance direction of the film in a production line, and is usually parallel to the longitudinal direction of a long film. In addition, a TD direction (transverse direction) is a direction parallel to a film plane, it is a direction perpendicular|vertical to the said MD direction, and is usually parallel to the width direction of a long film.
이하의 설명에 있어서, 요소의 방향이 「평행」, 「수직」, 및 「직교」란, 별도로 언급하지 않는 한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내, 예를 들어 ±5°의 범위 내에서의 오차를 포함하고 있어도 된다.In the following description, the directions of elements are "parallel", "vertical", and "orthogonal", unless otherwise specified, within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, within a range of ±5° may contain an error in
[본 발명의 위상차 필름의 제조 방법의 개요][Outline of the manufacturing method of the retardation film of the present invention]
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함한다.The manufacturing method of the retardation film of this invention includes the process of extending|stretching a resin film by making it contact with a solvent.
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법에서는, 위상차 필름의 재료가 되는 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함하고, 당해 공정을 포함함으로써, 수지 필름을 가열하지 않아도, 리타데이션을 발현시킬 수 있다. 그 결과, 본 발명에 의하면, 수지 필름을 가열하는 장치는 불필요하므로, 제조 설비를 간소화 가능한 위상차 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.In the method for producing the retardation film of the present invention, the resin film, which is a material of the retardation film, includes a step of extending it by contacting it with a solvent, and by including the step, retardation can be expressed without heating the resin film. . As a result, according to this invention, since the apparatus which heats a resin film is unnecessary, the manufacturing method of the retardation film which can simplify manufacturing equipment can be provided.
[실시형태 1][Embodiment 1]
이하, 본 발명의 실시형태 1에 따른 위상차 필름의 제조 방법을, 도 1을 참조하면서 구체적으로 설명한다. 도 1은, 실시형태 1의 위상차 필름의 제조 방법에 있어서 사용할 수 있는 장치를 모식적으로 나타내는 측면도이다.Hereinafter, the manufacturing method of the retardation film which concerns on Embodiment 1 of this invention is demonstrated concretely, referring FIG. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a side view which shows typically the apparatus which can be used in the manufacturing method of the retardation film of Embodiment 1. FIG.
[본 실시형태의 위상차 필름의 제조 방법의 개요][Outline of the manufacturing method of the retardation film of this embodiment]
본 실시형태에 있어서는, 장척의 수지 필름을 준비하고, 당해 수지 필름에 마스킹 필름을 첩합하면서 롤에 권취함으로써, 수지 필름의 롤(111)을 얻는다. 다음으로, 도 1에 나타내는 바와 같이, 수지 필름의 롤(111)로부터 권출한 필름(11)으로부터 마스킹 필름(12)을 박리하고, 장척의 수지 필름(15)을 A1로 나타내는 방향으로 반송한다. 마스킹 필름(12)은, 필름(11)을 두께 방향으로부터 끼우는 위치에 배치된 닙 롤(101A, 101B)로 가압하면서 롤(112)에 권취된다.In this embodiment, the
다음으로, 수지 필름(15)을, 용제로 채워진 욕조(102)에 통과시켜 접촉시키면서, 수지 필름(15)을 연신한다. 본 실시형태에서는, 필름 반송 방향에 있어서의 상류측에 배치되는 닙 롤(101A, 101B)과, 필름 반송 방향에 있어서의 하류측에 배치되는 닙 롤(104A, 104B)의 원주속도차에 의해, 수지 필름(15)을 필름 반송 방향으로 연신한다. 수지 필름(15)을 용제와 접촉시키면서 연신함으로써, 수지 필름을 가열하지 않아도, 필름의 면내 방향 및 두께 방향 중 적어도 일방에 리타데이션을 발현시킬 수 있다. 따라서, 이와 같이 하여 얻어진 연신 필름(10)은, 그대로 위상차 필름으로서 사용할 수 있다.Next, while passing the
이와 같이 하여 얻어진 연신 필름(10)은, 롤(113)로부터 권출한 마스킹 필름(13)을 첩합하면서 권취된다. 이에 의해, 연신 필름의 롤(110)이 얻어진다. 연신 필름(10)과 마스킹 필름(13)의 첩합은, 필름을 두께 방향으로부터 끼우는 위치에 배치된 닙 롤(104A, 104B)로 가압하면서 행한다.The stretched
본 실시형태의 위상차 필름의 제조 방법은, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함한다. 이하의 설명에 있어서는, 당해 공정을 「공정 1」이라고 부르는 경우가 있다.The manufacturing method of the retardation film of this embodiment includes the process of extending|stretching by making a resin film contact a solvent. In the following description, the said process may be called "process 1".
[공정 1][Process 1]
공정 1은, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정이다. 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신함으로써, 수지 필름에 있어서, 리타데이션이 발현할 수 있다. 이러한 효과가 얻어지는 메커니즘은 이하와 같이 추측된다. 단, 본 발명의 기술적 범위는, 하기의 메커니즘에 의해 제한되는 것은 아니다.Process 1 is a process of extending|stretching a resin film by making it contact with a solvent. By making a resin film contact a solvent and extending|stretching, retardation can express in a resin film. The mechanism by which such an effect is acquired is estimated as follows. However, the technical scope of the present invention is not limited by the following mechanism.
수지 필름을 용제와 접촉시키면, 그 용제가 수지 필름 중에 침입한다. 침입한 용제의 작용에 의해, 필름 중의 중합체의 분자에 마이크로브라운 운동이 일어나, 필름 중의 중합체의 분자가 배향된다. 여기서, 수지 필름의 표면적은, 주표면인 표면 및 이면이 크다. 따라서, 용제의 침입 속도는, 상기의 표면 또는 이면을 지난 두께 방향으로의 침입 속도가 빠르다. 그러면, 상기의 중합체의 분자의 배향은, 당해 중합체의 분자가 두께 방향으로 배향되도록 진행될 수 있다.When the resin film is brought into contact with a solvent, the solvent will penetrate into the resin film. By the action of the penetrating solvent, micro-Brownian motion occurs in the polymer molecules in the film, and the polymer molecules in the film are oriented. Here, as for the surface area of a resin film, the front and back surface which are main surfaces are large. Therefore, as for the penetration rate of a solvent, the penetration rate to the thickness direction which passed the said surface or back surface is fast. Then, the orientation of the molecules of the polymer may proceed such that the molecules of the polymer are oriented in the thickness direction.
그리고, 분자가 두께 방향으로 배향된 상태의 수지 필름을 연신하면, 당해 필름 중의 분자의 연신 방향으로의 배향이 진행되어, 배향의 정도가 커진다. 이와 같이 분자의 배향의 정도가 커지면, 필름의 복굴절이 변화하고, 나아가서는 리타데이션이 커진다.And when the resin film in the state which the molecule|numerator was oriented in the thickness direction is extended|stretched, the orientation to the extending|stretching direction of the molecule|numerator in the said film will advance and the grade of orientation will become large. Thus, when the degree of orientation of a molecule|numerator becomes large, the birefringence of a film changes, and retardation becomes large by extension.
공정 1은 도 1에 나타내는 장치(100)에 의해 행할 수 있다. 장치(100)는, 필름 반송 방향에 있어서의 상류측에 배치되는 상류측 닙 롤(101A 및 101B), 필름 반송 방향에 있어서의 하류측에 배치되는 하류측 닙 롤(104A 및 104B), 그리고, 수지 필름(15)과 용제를 접촉시키는 욕조(102)를 구비한다.Step 1 can be performed by the
공정 1은, 수지 필름을 용제에 접촉시키는 공정 1A와, 수지 필름을 연신하는 공정 1B를 포함한다. 본 실시형태는, 공정 1B를 행하는 동안에 공정 1A를 행하는 양태이다. 즉, 수지 필름의 경로 중, 연신에 의해 수지 필름에 장력이 부하되고 있는 구역 내에서, 수지 필름을 용제에 접촉시키고 있다. 그러나, 본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 이에 한정되지 않는다. 본 발명의 제조 방법은, 공정 1B의 일부가 공정 1A와 겹쳐져 있는 양태, 예를 들어, 수지 필름을 용제에 접촉시키는 공정 1A의 도중부터, 수지 필름을 연신하는 공정 1B를 개시하는 양태를 포함한다. 또한, 본 발명의 제조 방법은, 수지 필름을 용제와 접촉시키는 공정 1A를 행한 후, 수지 필름에 용제가 부착 및/또는 함침된 상태에서, 수지 필름을 연신하는 공정 1B를 행하는 양태도 포함한다.Process 1 includes process 1A of making a resin film contact a solvent, and process 1B of extending|stretching a resin film. This embodiment is an aspect which performs process 1A while performing process 1B. That is, the resin film is brought into contact with the solvent in the area|region in which tension|tensile_strength is being applied to the resin film by extending|stretching among the path|route of a resin film. However, the manufacturing method of the retardation film of this invention is not limited to this. The manufacturing method of the present invention includes an aspect in which a part of step 1B overlaps with step 1A, for example, an aspect of starting step 1B of stretching the resin film from the middle of step 1A of bringing the resin film into contact with a solvent. . Moreover, the manufacturing method of this invention also includes the aspect which performs process 1A of contacting a resin film with a solvent, and then performs process 1B of extending|stretching a resin film in the state which the solvent adhered and/or impregnated to the resin film.
[공정 1A][Process 1A]
공정 1A는, 수지 필름을 용제에 접촉시키는 공정이다.Process 1A is a process of making a resin film contact a solvent.
수지 필름과 용제의 접촉 방법으로는, 예를 들어, 수지 필름에 용제를 스프레이하는 스프레이법; 수지 필름에 용제를 도포하는 도포법; 수지 필름을 용제에 침지하는 침지법; 등을 들 수 있다. 이들 방법 중, 수지 필름의 두께가 큰 경우에도, 두께 방향의 리타데이션을 발현시키기 쉽다는 관점, 및 연속적인 접촉을 용이하게 행할 수 있다는 관점에서, 침지법이 바람직하다. 도 1에 있어서는, 침지법을 나타내고 있다.As a contact method of a resin film and a solvent, the spray method of spraying a solvent on a resin film, for example; a coating method in which a solvent is applied to a resin film; immersion method in which a resin film is immersed in a solvent; and the like. Among these methods, even when the thickness of the resin film is large, the immersion method is preferable from the viewpoint of being easy to express the retardation in the thickness direction, and from the viewpoint that continuous contact can be easily performed. In FIG. 1, the immersion method is shown.
[수지 필름][Resin Film]
수지 필름은, 위상차 필름을 제조하는 재료가 되는 필름으로, 수지에 의해 구성될 수 있다. 수지 필름을 구성하는 수지는 중합체를 포함한다.A resin film is a film used as a material for manufacturing a retardation film, and may be comprised by resin. The resin constituting the resin film contains a polymer.
수지 필름을 구성하는 수지는, 고유 복굴절값이 플러스인 수지인 것이 바람직하다. 고유 복굴절값이 플러스인 수지란, 별도로 언급하지 않는 한, 연신 방향의 굴절률이 그것과 수직한 방향의 굴절률보다 커지는 수지를 의미한다. 고유 복굴절의 값은 유전율 분포로부터 계산할 수 있다.It is preferable that resin which comprises a resin film is resin whose intrinsic birefringence value is positive. A resin having a positive intrinsic birefringence value means a resin in which the refractive index in the stretching direction becomes larger than the refractive index in the direction perpendicular thereto, unless otherwise specified. The value of intrinsic birefringence can be calculated from the dielectric constant distribution.
또한, 수지 필름을 구성하는 수지로는, 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지가 바람직하다. 「결정성을 갖는 중합체」란, 융점 Tm을 갖는(즉, 시차 주사 열량계(DSC)로 융점을 관측할 수 있는) 중합체를 나타낸다. 이하의 설명에 있어서, 결정성을 갖는 중합체를 「결정성 중합체」라고 하는 경우가 있다. 또한, 결정성 중합체를 포함하는 수지를 「결정성 수지」라고 하는 경우가 있다. 이 결정성 수지는, 바람직하게는 열가소성 수지이다.Moreover, as resin which comprises a resin film, resin containing the polymer which has crystallinity is preferable. The "polymer having crystallinity" refers to a polymer having a melting point Tm (that is, the melting point can be observed with a differential scanning calorimeter (DSC)). In the following description, a polymer having crystallinity is sometimes referred to as a "crystalline polymer." In addition, resin containing a crystalline polymer may be called "crystalline resin." The crystalline resin is preferably a thermoplastic resin.
본 발명에 있어서, 바람직하게는, 수지 필름은 고유 복굴절값이 플러스인 수지로 이루어지는 필름이고, 보다 바람직하게는 당해 수지가 결정성 중합체를 포함하는 수지이다.In the present invention, preferably, the resin film is a film made of a resin having a positive intrinsic birefringence value, and more preferably, the resin is a resin containing a crystalline polymer.
[결정성 중합체][Crystalline Polymer]
결정성 중합체는, 지환식 구조를 함유하는 것이 바람직하다. 지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체를 사용함으로써, 얻어지는 위상차 필름의 기계 특성, 내열성, 투명성, 저흡습성, 치수 안정성, 및 경량성을 양호하게 할 수 있다. 지환식 구조를 함유하는 중합체란, 분자 내에 지환식 구조를 함유하는 중합체를 나타낸다. 이러한 지환식 구조를 함유하는 중합체는, 예를 들어, 고리형 올레핀을 단량체로서 사용한 중합 반응에 의해 얻어질 수 있는 중합체 또는 그 수소화물일 수 있다.It is preferable that a crystalline polymer contains an alicyclic structure. By using the crystalline polymer containing an alicyclic structure, the mechanical properties, heat resistance, transparency, low moisture absorption, dimensional stability, and lightness of the retardation film obtained can be made favorable. The polymer containing an alicyclic structure shows the polymer containing an alicyclic structure in a molecule|numerator. The polymer containing such an alicyclic structure may be, for example, a polymer obtainable by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer or a hydride thereof.
지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조 및 시클로알켄 구조를 들 수 있다. 이들 중에서도, 열 안정성 등의 특성이 우수한 위상차 필름이 얻어지기 쉬운 점에서, 시클로알칸 구조가 바람직하다. 1개의 지환식 구조에 포함되는 탄소 원자의 수는, 바람직하게는 4개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상이고, 바람직하게는 30개 이하, 보다 바람직하게는 20개 이하, 특히 바람직하게는 15개 이하이다. 1개의 지환식 구조에 포함되는 탄소 원자의 수가 상기 범위 내에 있음으로써, 기계적 강도, 내열성, 및 성형성이 고도로 밸런스된다.As an alicyclic structure, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are mentioned, for example. Among these, a cycloalkane structure is preferable at the point which retardation film excellent in characteristics, such as thermal stability, is easy to be obtained. The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably 15 less than dogs When the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is within the above range, mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.
지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체에 있어서, 모든 구조 단위에 대한 지환식 구조를 함유하는 구조 단위의 비율은, 바람직하게는 30 중량% 이상, 보다 바람직하게는 50 중량% 이상, 특히 바람직하게는 70 중량% 이상이다. 지환식 구조를 함유하는 구조 단위의 비율을 상기와 같이 많게 함으로써, 내열성을 높일 수 있다. 모든 구조 단위에 대한 지환식 구조를 함유하는 구조 단위의 비율은, 100 중량% 이하로 할 수 있다. 또한, 지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체에 있어서, 지환식 구조를 함유하는 구조 단위 이외의 잔부는, 특별한 한정은 없고, 사용 목적에 따라 적당히 선택할 수 있다.In the crystalline polymer containing an alicyclic structure, the ratio of the structural units containing an alicyclic structure to all the structural units is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more. Heat resistance can be improved by increasing the ratio of the structural unit containing an alicyclic structure as mentioned above. The ratio of the structural unit containing an alicyclic structure with respect to all the structural units can be 100 weight% or less. In addition, in the crystalline polymer containing an alicyclic structure, the remainder other than the structural unit containing an alicyclic structure is not specifically limited, According to the purpose of use, it can select suitably.
지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체로는, 예를 들어, 하기의 중합체(α) ~ 중합체(δ)를 들 수 있다. 이들 중에서도, 내열성이 우수한 위상차 필름이 얻어지기 쉬운 점에서, 중합체(β)가 바람직하다.Examples of the crystalline polymer containing an alicyclic structure include the following polymers (α) to (δ). Among these, the polymer (β) is preferable from the viewpoint of easily obtaining a retardation film excellent in heat resistance.
중합체(α): 고리형 올레핀 단량체의 개환 중합체로서, 결정성을 갖는 것.Polymer (?): A ring-opened polymer of a cyclic olefin monomer, which has crystallinity.
중합체(β): 중합체(α)의 수소화물로서, 결정성을 갖는 것.Polymer (β): A hydride of the polymer (α), which has crystallinity.
중합체(γ): 고리형 올레핀 단량체의 부가 중합체로서, 결정성을 갖는 것.Polymer (γ): An addition polymer of a cyclic olefin monomer, which has crystallinity.
중합체(δ): 중합체(γ)의 수소화물로서, 결정성을 갖는 것.Polymer (δ): A hydride of the polymer (γ), which has crystallinity.
구체적으로는, 지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체로는, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체로서 결정성을 갖는 것, 및 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물로서 결정성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물로서 결정성을 갖는 것이 특히 바람직하다. 여기서, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체란, 전체 구조 단위에 대한 디시클로펜타디엔 유래의 구조 단위의 비율이, 통상 50 중량% 이상, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 100 중량%의 중합체를 말한다.More specifically, as the crystalline polymer containing an alicyclic structure, those having crystallinity as a ring-opened polymer of dicyclopentadiene and those having crystallinity as a hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene are more preferable. . Among them, those having crystallinity as a hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene are particularly preferable. Here, with the ring-opened polymer of dicyclopentadiene, the ratio of the structural units derived from dicyclopentadiene to the total structural units is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more. , more preferably 100% by weight of the polymer.
디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물은, 라세모·다이애드의 비율이 높은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물에 있어서의 반복 단위의 라세모·다이애드의 비율은, 바람직하게는 51% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 특히 바람직하게는 85% 이상이다. 라세모·다이애드의 비율이 높은 것은, 신디오택틱 입체 규칙성이 높은 것을 나타낸다. 따라서, 라세모·다이애드의 비율이 높을수록, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물의 융점이 높은 경향이 있다.It is preferable that the hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene has a high ratio of racemo-dyad. Specifically, the ratio of racemo-dyad of the repeating unit in the hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene is preferably 51% or more, more preferably 70% or more, particularly preferably 85% or more. More than that. A high ratio of racemo-dyad indicates that the syndiotactic stereoregularity is high. Therefore, the higher the ratio of racemo-dyad, the higher the melting point of the hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene tends to be.
라세모·다이애드의 비율은, 후술하는 실시예에 기재된 13C-NMR 스펙트럼 분석에 기초하여 결정할 수 있다.The ratio of racemo-dyad can be determined based on 13 C-NMR spectrum analysis described in Examples to be described later.
상기 중합체(α) ~ 중합체(δ)로는, 국제 공개 제2018/062067호에 개시되어 있는 제조 방법에 의해 얻어지는 중합체를 사용할 수 있다.As the polymer (α) to the polymer (δ), a polymer obtained by the manufacturing method disclosed in International Publication No. 2018/062067 can be used.
결정성 중합체의 융점 Tm은, 바람직하게는 200℃ 이상, 보다 바람직하게는 230℃ 이상이고, 바람직하게는 290℃ 이하이다. 이러한 융점 Tm을 갖는 결정성 중합체를 사용함으로써, 성형성과 내열성의 밸런스가 더욱 우수한 위상차 필름을 얻을 수 있다.The melting point Tm of the crystalline polymer is preferably 200°C or higher, more preferably 230°C or higher, and preferably 290°C or lower. By using the crystalline polymer having such a melting point Tm, it is possible to obtain a retardation film having a further excellent balance between moldability and heat resistance.
통상, 결정성 중합체는, 유리 전이 온도 Tg를 갖는다. 결정성 중합체의 구체적인 유리 전이 온도 Tg는, 특별히 한정되지 않지만, 통상은 80℃ 이상, 통상 170℃ 이하이다. 결정성 중합체의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 85℃ 이상, 보다 바람직하게는 90℃ 이상이고, 바람직하게는 150℃ 이하, 보다 바람직하게는 130℃ 이하이다.Usually, a crystalline polymer has glass transition temperature Tg. Although the specific glass transition temperature Tg of a crystalline polymer is not specifically limited, Usually, it is 80 degreeC or more, and is 170 degrees C or less normally. The glass transition temperature of the crystalline polymer is preferably 85°C or higher, more preferably 90°C or higher, preferably 150°C or lower, and more preferably 130°C or lower.
중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 융점 Tm은, 이하의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 중합체를, 가열에 의해 융해시키고, 융해된 중합체를 드라이아이스로 급랭한다. 계속해서, 이 중합체를 시험체로서 사용하고, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여, 10℃/분의 승온 속도(승온 모드)로, 중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 융점 Tm을 측정할 수 있다.The glass transition temperature Tg and melting|fusing point Tm of a polymer can be measured with the following method. First, the polymer is melted by heating, and the melted polymer is quenched with dry ice. Subsequently, using this polymer as a test body, the glass transition temperature Tg and melting point Tm of the polymer can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a temperature increase rate (temperature increase mode) of 10°C/min.
결정성 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 1,000 이상, 보다 바람직하게는 2,000 이상이고, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 500,000 이하이다. 이러한 중량 평균 분자량을 갖는 결정성 중합체는, 성형 가공성과 내열성의 밸런스가 우수하다.The weight average molecular weight (Mw) of the crystalline polymer is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less. The crystalline polymer having such a weight average molecular weight is excellent in the balance between moldability and heat resistance.
결정성 중합체의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 바람직하게는 1.0 이상, 보다 바람직하게는 1.5 이상이고, 바람직하게는 4.0 이하, 보다 바람직하게는 3.5 이하이다. 여기서, Mn은 수평균 분자량을 나타낸다. 이러한 분자량 분포를 갖는 결정성 중합체는, 성형 가공성이 우수하다.The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the crystalline polymer is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, preferably 4.0 or less, and more preferably 3.5 or less. Here, Mn represents a number average molecular weight. A crystalline polymer having such a molecular weight distribution is excellent in molding processability.
중합체의 중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)는, 테트라하이드로푸란을 전개 용제로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)에 의해, 폴리스티렌 환산값으로서 측정할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer can be measured as polystyrene conversion values by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent.
결정성 중합체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.A crystalline polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
결정성 수지에 있어서의 결정성 중합체의 비율은, 바람직하게는 50 중량% 이상, 보다 바람직하게는 70 중량% 이상, 특히 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 결정성 중합체의 비율이 상기 범위의 하한값 이상인 경우, 위상차 필름의 복굴절의 발현성 및 내열성을 높일 수 있다. 결정성 중합체의 비율의 상한은, 100 중량% 이하일 수 있다.The proportion of the crystalline polymer in the crystalline resin is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. When the ratio of the crystalline polymer is equal to or more than the lower limit of the above range, the birefringence and heat resistance of the retardation film can be improved. The upper limit of the proportion of the crystalline polymer may be 100% by weight or less.
결정성 수지는, 결정성 중합체에 더하여, 임의의 성분을 포함할 수 있다. 임의의 성분으로는, 예를 들어, 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등의 산화 방지제; 힌더드아민계 광 안정제 등의 광 안정제; 석유계 왁스, 피셔 트로프슈 왁스, 폴리알킬렌 왁스 등의 왁스; 소르비톨계 화합물, 유기 인산의 금속염, 유기 카르복실산의 금속염, 카올린 및 탤크 등의 핵제; 디아미노스틸벤 유도체, 쿠마린 유도체, 아졸계 유도체(예를 들어, 벤조옥사졸 유도체, 벤조트리아졸 유도체, 벤조이미다졸 유도체, 및 벤조티아졸 유도체), 카르바졸 유도체, 피리딘 유도체, 나프탈산 유도체, 및 이미다졸론 유도체 등의 형광 증백제; 벤조페논계 자외선 흡수제, 살리실산계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 등의 자외선 흡수제; 탤크, 실리카, 탄산칼슘, 유리 섬유 등의 무기 충전재; 착색제; 난연제; 난연 조제; 대전 방지제; 가소제; 근적외선 흡수제; 활제; 필러; 및, 연질 중합체 등의, 결정성 중합체 이외의 임의의 중합체; 등을 들 수 있다. 임의의 성분은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.The crystalline resin may contain an optional component in addition to the crystalline polymer. As arbitrary components, For example, antioxidants, such as a phenolic antioxidant, a phosphorus antioxidant, and a sulfur-type antioxidant; light stabilizers such as hindered amine light stabilizers; waxes such as petroleum wax, Fischer-Tropsch wax, and polyalkylene wax; Nucleating agents, such as a sorbitol type compound, the metal salt of organic phosphoric acid, the metal salt of an organic carboxylic acid, kaolin, and a talc; diaminostilbene derivatives, coumarin derivatives, azole derivatives (eg, benzoxazole derivatives, benzotriazole derivatives, benzoimidazole derivatives, and benzothiazole derivatives), carbazole derivatives, pyridine derivatives, naphthalic acid derivatives, and optical brighteners such as imidazolone derivatives; UV absorbers, such as a benzophenone type|system|group ultraviolet absorber, a salicylic acid type|system|group ultraviolet absorber, and a benzotriazole type|system|group ultraviolet absorber; inorganic fillers such as talc, silica, calcium carbonate and glass fiber; coloring agent; flame retardant; flame retardant preparations; antistatic agent; plasticizer; near infrared absorbers; lubricant; filler; and optional polymers other than crystalline polymers, such as soft polymers; and the like. Arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
수지 필름에 포함되는 수지가 결정성 수지인 경우, 공정 1을 행하기 전의 수지 필름에 포함되는 결정성 중합체의 결정화도는, 작은 것이 바람직하다. 구체적인 결정화도는, 바람직하게는 10% 미만, 보다 바람직하게는 5% 미만, 특히 바람직하게는 3% 미만이다. 용제와 접촉시키기 전의 수지 필름에 포함되는 결정성 중합체의 결정화도가 낮으면, 용제와의 접촉에 의해 많은 결정성 중합체의 분자를 두께 방향으로 배향시킬 수 있으므로, 넓은 범위에서의 리타데이션의 조정이 가능해진다.When resin contained in a resin film is a crystalline resin, it is preferable that the crystallinity degree of the crystalline polymer contained in the resin film before performing process 1 is small. The specific crystallinity is preferably less than 10%, more preferably less than 5%, particularly preferably less than 3%. When the degree of crystallinity of the crystalline polymer contained in the resin film before contact with the solvent is low, many molecules of the crystalline polymer can be oriented in the thickness direction by contact with the solvent, so retardation can be adjusted in a wide range. becomes
공정 1을 행하기 전의 수지 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re는, 바람직하게는 20nm 이하, 보다 바람직하게는 10nm 이하이고, 특히 바람직하게는 0이다. 수지 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 바람직하게는 20nm 이하, 보다 바람직하게는 10nm 이하이고, 특히 바람직하게는 0이다. 공정 1을 행하기 전의 수지 필름의 Re 및 Rth가, 각각 상기 범위임으로써, 공정 1을 행한 후의 수지 필름에 있어서, 리타데이션 조정하기 쉬워진다.Retardation Re of the in-plane direction of the resin film before performing process 1 becomes like this. Preferably it is 20 nm or less, More preferably, it is 10 nm or less, Especially preferably, it is 0. Retardation Rth of the thickness direction of a resin film becomes like this. Preferably it is 20 nm or less, More preferably, it is 10 nm or less, Especially preferably, it is 0. When Re and Rth of the resin film before performing the process 1 are the said ranges, respectively, the resin film after performing the process 1 WHEREIN: It becomes easy to adjust retardation.
용제와 접촉시키기 전의 수지 필름은, 용제의 함유량이 작은 것이 바람직하고, 용제를 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다. 수지 필름의 중량 100%에 대한 당해 수지 필름에 포함되는 용제의 비율(용제 함유율)은, 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.5% 이하, 특히 바람직하게는 0.1% 이하이고, 이상적으로는 0.0%이다. 용제와 접촉시키기 전의 수지 필름에 포함되는 용제의 양이 적음으로써, 용제와의 접촉에 의해 많은 중합체의 분자를 두께 방향으로 배향시킬 수 있으므로, 넓은 범위에서의 리타데이션의 조정이 가능해진다. 수지 필름의 용제 함유율은, 밀도에 의해 측정할 수 있다.It is preferable that content of a solvent is small, and, as for the resin film before making it contact with a solvent, it is more preferable that it does not contain a solvent. The ratio (solvent content) of the solvent contained in the resin film to 100% by weight of the resin film is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.1% or less, and ideally 0.0%. When there is little quantity of the solvent contained in the resin film before making it contact with a solvent, since the molecule|numerator of many polymers can be orientated in the thickness direction by contact with a solvent, adjustment of retardation in a wide range becomes possible. The solvent content of a resin film can be measured by a density.
수지 필름의 두께는, 제조하고자 하는 위상차 필름의 두께에 따라 설정하는 것이 바람직하다. 통상, 용제와 접촉시킴으로써, 필름의 두께는 커진다. 한편, 연신을 행함으로써, 필름의 두께는 작아진다. 따라서, 용제와의 접촉 및 연신을 행하는 공정 1에 있어서의 두께의 변화를 고려하여, 수지 필름의 두께를 설정해도 된다.The thickness of the resin film is preferably set according to the thickness of the retardation film to be manufactured. Usually, the thickness of a film becomes large by making it contact with a solvent. On the other hand, by extending|stretching, the thickness of a film becomes small. Therefore, you may set the thickness of a resin film in consideration of the change of the thickness in the process 1 which performs contact with a solvent and extending|stretching.
수지 필름으로는 장척의 수지 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 롤·투·롤법에 의한 위상차 필름의 연속적인 제조가 가능해지므로, 위상차 필름의 생산성을 효과적으로 높일 수 있다.It is preferable to use a long resin film as a resin film. Since continuous manufacture of the retardation film by the roll-to-roll method is attained by this, productivity of retardation film can be raised effectively.
수지 필름을 제조하는 방법에 제한은 없다. 용제를 포함하지 않는 수지 필름이 얻어지는 점에서, 사출 성형법, 압출 성형법, 프레스 성형법, 인플레이션 성형법, 블로우 성형법, 캘린더 성형법, 주형 성형법, 압축 성형법 등의 수지 성형법이 바람직하다. 이들 중에서도, 두께의 제어가 용이한 점에서, 압출 성형법이 바람직하다.There is no restriction|limiting in the method of manufacturing a resin film. From the viewpoint of obtaining a resin film containing no solvent, a resin molding method such as an injection molding method, an extrusion molding method, a press molding method, an inflation molding method, a blow molding method, a calender molding method, a mold molding method, or a compression molding method is preferable. Among these, the extrusion molding method is preferable at the point which control of thickness is easy.
예를 들어, 결정성 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 수지 필름을, 압출 성형법에 의해 제조하는 경우, 그 제조 조건은, 바람직하게는 하기와 같다. 실린더 온도(용융 수지 온도)는, 바람직하게는 Tm 이상, 보다 바람직하게는 「Tm + 20℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tm + 100℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tm + 50℃」 이하이다. 또한, 필름상으로 압출된 용융 수지가 최초로 접촉하는 냉각체는 특별히 한정되지 않지만, 통상은 캐스트 롤을 사용한다. 이 캐스트 롤 온도는, 바람직하게는 「Tg - 50℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg + 70℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg + 40℃」 이하이다. 또한, 냉각 롤 온도는, 바람직하게는 「Tg - 70℃」 이상, 보다 바람직하게는 「Tg - 50℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg + 60℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg + 30℃」 이하이다. 이러한 조건으로 수지 필름을 제조하는 경우, 두께 1μm ~ 1mm의 원단 필름을 용이하게 제조할 수 있다. 여기서, 「Tm」은, 결정성 중합체의 융점을 나타내고, 「Tg」는 결정성 중합체의 유리 전이 온도를 나타낸다.For example, when manufacturing the resin film which consists of resin containing a crystalline polymer by the extrusion method, the manufacturing conditions become like this. Preferably, it is as follows. The cylinder temperature (molten resin temperature) is preferably Tm or more, more preferably “Tm+20°C” or more, preferably “Tm+100°C” or less, more preferably “Tm+50°C” or less. to be. In addition, although the cooling body with which the molten resin extruded in the film shape first contacts is not specifically limited, Usually, a cast roll is used. This cast roll temperature becomes like this. Preferably it is "Tg-50 degreeC" or more, Preferably it is "Tg+70 degreeC" or less, More preferably, it is "Tg+40 degreeC" or less. In addition, the cooling roll temperature is preferably "Tg - 70 ° C.” or higher, more preferably “Tg-50 ° C.” or higher, preferably "Tg + 60 ° C." or less, more preferably "Tg + 30 ° C." ℃" or less. In the case of manufacturing a resin film under these conditions, a raw film having a thickness of 1 μm to 1 mm can be easily manufactured. Here, "Tm" represents the melting point of the crystalline polymer, and "Tg" represents the glass transition temperature of the crystalline polymer.
본 실시형태에서는, 장척의 수지 필름에 마스킹 필름을 첩합하면서 롤에 권취함으로써, 필름 롤로 한 것을 공정 1에 제공한다. 마스킹 필름으로는, 기지의 것(예를 들어, 트레데가사 제조의 FF1025, 「FF1035」; 썬 에이 카켄사 제조의 「SAT116T」, 「SAT2038T-JSL」, 및 「SAT4538T-JSL」; 후지모리 공업사 제조의 「NBO-0424」, 「TFB-K001」, 「TFB-K0421」, 및 「TFB-K202」; 히타치 화성사 제조의 「DT-2200-25」 및 「K-6040」; 테라오카 제작소사 제조의 「6010#75」, 「6010#100」, 「6011#75」, 및 「6093#75」)을 사용할 수 있다.In this embodiment, what was made into a film roll is provided to the process 1 by winding up on a roll, bonding a masking film together to a long resin film. As the masking film, known ones (for example, FF1025 and "FF1035" manufactured by Tredega Corporation; "SAT116T", "SAT2038T-JSL", and "SAT4538T-JSL" manufactured by Sun A. Kaken Corporation; Fujimori Kogyo Co., Ltd. "NBO-0424", "TFB-K001", "TFB-K0421", and "TFB-K202" of Hitachi Chemical Corporation "DT-2200-25" and "K-6040"; manufactured by Teraoka Seisakusho of "6010#75", "6010#100", "6011#75", and "6093#75") can be used.
[용제][solvent]
공정 1A에 있어서, 수지 필름에 접촉시키는 용제로는, 수지 필름에 포함되는 중합체를 용해시키지 않고 당해 수지 필름 중에 침입할 수 있는 용제를 사용할 수 있다. 이러한 용제로는, 예를 들어, 톨루엔, 리모넨, 데칼린 등의 탄화수소 용제; 이황화탄소;를 들 수 있다. 수지 필름이 결정성 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 경우, 결정성 중합체를 용해시키지 않고 수지 필름 중에 침입할 수 있다는 관점에서, 용제로는, 탄화수소계의 용제가 바람직하다. 용제는, 1종류여도 되고, 2종류 이상이어도 된다.In process 1A, as a solvent made to contact a resin film, the solvent which can penetrate into the said resin film without dissolving the polymer contained in a resin film can be used. As such a solvent, For example, hydrocarbon solvents, such as toluene, limonene, and decalin; carbon disulfide; When the resin film is made of a resin containing a crystalline polymer, the solvent is preferably a hydrocarbon solvent from the viewpoint of being able to penetrate into the resin film without dissolving the crystalline polymer. The number of solvents may be one, and two or more types may be sufficient as them.
수지 필름에 접촉시키는 용제의 온도는, 용제가 액체 상태를 유지할 수 있는 범위에서 임의이며, 따라서, 용제의 융점 이상 끓는점 이하의 범위로 설정할 수 있다. 본원에서는 특히, 용제의 온도를 실온(예를 들어 15℃ 이상 40℃ 미만, 보다 바람직하게는 18℃ 이상 35℃ 미만, 더욱 바람직하게는 23℃ 이상 30℃ 미만)으로 한 경우, 또는 실온에 가까운 온도 범위로 조절한 경우라도, 양호한 연신을 행할 수 있다. 용제를 가온하는 경우 필요에 따라 실온보다 높은 온도로 조온할 수 있다. 단 그 경우에도, 일반적인 연신 장치에 있어서 연신시에 반송되는 필름 주위의 온도를 오븐으로 가온하는 경우와 비교하면, 보다 간소한 설비로 양호한 연신을 행할 수 있다.The temperature of the solvent made to contact the resin film is arbitrary within the range in which the solvent can maintain a liquid state, Therefore, it can set in the range more than melting|fusing point of a solvent and below the boiling point. In particular, in this application, when the temperature of the solvent is set to room temperature (for example, 15°C or more and less than 40°C, more preferably 18°C or more and less than 35°C, still more preferably 23°C or more and less than 30°C), or close to room temperature Even when adjusting to a temperature range, favorable extending|stretching can be performed. When the solvent is heated, the temperature may be adjusted to a temperature higher than room temperature, if necessary. However, also in that case, compared with the case where the temperature around the film conveyed at the time of extending|stretching is heated by oven in a general extending|stretching apparatus, better extending|stretching can be performed with simpler equipment.
수지 필름과 용제를 접촉시키는 시간은, 특별히 지정은 없으나, 바람직하게는 1초 이상, 보다 바람직하게는 3초 이상, 특히 바람직하게는 5초 이상이고, 바람직하게는 180초 이하, 보다 바람직하게는 120초 이하, 특히 바람직하게는 60초 이하이다. 접촉 시간이 상기 범위의 하한값 이상임으로써, 수지 필름에 포함되는 분자를 효과적으로 배향시킬 수 있다. 한편, 접촉 시간을 길게 해도 분자의 배향의 정도는 크게 변하지 않는 경향이 있다. 따라서, 접촉 시간이 상기 범위의 상한값 이하임으로써, 위상차 필름의 품질을 손상시키지 않고 생산성을 높일 수 있다.Although there is no designation in particular for the time for making the resin film and a solvent contact, Preferably it is 1 second or more, More preferably, it is 3 second or more, Especially preferably, it is 5 second or more, Preferably it is 180 second or less, More preferably, 120 seconds or less, particularly preferably 60 seconds or less. When a contact time is more than the lower limit of the said range, the molecule|numerator contained in a resin film can be orientated effectively. On the other hand, even if the contact time is lengthened, the degree of molecular orientation tends not to change significantly. Therefore, when the contact time is equal to or less than the upper limit of the above range, productivity can be increased without impairing the quality of the retardation film.
[공정 1B][Process 1B]
공정 1B는, 수지 필름을 연신하는 공정이다.Process 1B is a process of extending|stretching a resin film.
본 실시형태의 제조 방법에 있어서, 수지 필름의 연신은, 복수 세트의 롤의 원주속도차에 의해 종연신을 행하는 연신기를 사용하여 행한다. 상류측의 닙 롤(101A, 101B) 및 하류측의 닙 롤(104A, 104B)은, 도시하지 않은 구동 수단에 의해 회전 구동되어, 반송 방향(A1)으로 수지 필름(15)을 반송할 수 있게 되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 상류측의 닙 롤(101A, 101B)의 원주속도보다, 하류측의 닙 롤(104A, 104B)의 원주속도 쪽이 빠르게 설정되어 있다. 이 때문에, 상류측 닙 롤(101A, 101B)과 하류측 닙 롤(104A, 104B) 사이에는 원주속도차가 있고, 이 원주속도차에 의해 수지 필름(15)이 반송 방향(진행 방향)으로 연속적으로 연신될 수 있게 되어 있다. 또한, 상기의 원주속도차를 조정함으로써, 수지 필름(15)의 연신 배율을 조정할 수 있게 되어 있다.In the manufacturing method of this embodiment, extending|stretching of a resin film is performed using the extending|stretching machine which longitudinally stretches with the circumferential speed difference of several sets of rolls. The upstream nip rolls 101A and 101B and the downstream nip rolls 104A and 104B are rotationally driven by a drive means (not shown) so that the
본 실시형태의 제조 방법에서는, 수지 필름을 용제와 접촉시켜 연신하므로, 낮은 연신 배율로 연신을 행하여도, 리타데이션을 용이하게 발현시키는 것이 가능하다. 공정 1에 있어서의 수지 필름의 연신 배율은, 바람직하게는 1.05 이상, 보다 바람직하게는 1.1 이상이며, 바람직하게는 5.00 이하이고, 보다 바람직하게는 3.00 이하이다. 연신 배율이, 상기 범위의 하한값 이상임으로써, 수지 필름에 있어서, 리타데이션을 유효하게 발현시킬 수 있다. 연신 배율이 상기 범위의 상한값 이하임으로써, 본 발명에 의해 얻어지는 위상차 필름의 품질을 손상시키지 않고 생산성을 높일 수 있다.In the manufacturing method of this embodiment, since a resin film is made to contact a solvent and it extends|stretches, even if it extends|stretches at a low draw ratio, it is possible to make retardation express easily. The draw ratio of the resin film in process 1 becomes like this. Preferably it is 1.05 or more, More preferably, it is 1.1 or more, Preferably it is 5.00 or less, More preferably, it is 3.00 or less. When a draw ratio is more than the lower limit of the said range, in a resin film, retardation can be made to express effectively. When a draw ratio is below the upper limit of the said range, productivity can be raised, without impairing the quality of the retardation film obtained by this invention.
본 실시형태의 제조 방법에 의하면, 연신할 때에 수지 필름을 가열하지 않아도, 리타데이션을 발현시킬 수 있으므로, 연신할 때의 수지 필름의 가열은 필요하지는 않지만, 연신할 때에 수지 필름의 가열을 행하여도 된다. 이 경우, 연신 전의 수지 필름에 예열 처리를 행하여도 된다. 연신할 때에 수지 필름을 가열하는 경우, 연신 온도는, 바람직하게는 Tg℃ 이상, 보다 바람직하게는 Tg + 2℃ 이상, 특히 바람직하게는 Tg + 5℃ 이상이고, 바람직하게는 Tg + 40℃ 이하, 보다 바람직하게는 Tg + 35℃ 이하, 특히 바람직하게는 Tg + 30℃ 이하이다. 여기서, Tg란, 수지 필름(15)에 포함되는 중합체의 유리 전이 온도를 말한다.According to the manufacturing method of this embodiment, even if it does not heat the resin film at the time of extending|stretching, since retardation can be made expression, heating of the resin film at the time of extending|stretching is not necessary, but even if it heats a resin film at the time of extending|stretching, do. In this case, you may preheat-process to the resin film before extending|stretching. When the resin film is heated during stretching, the stretching temperature is preferably Tg°C or higher, more preferably Tg+2°C or higher, particularly preferably Tg+5°C or higher, and preferably Tg+40°C or lower. , more preferably Tg+35°C or lower, particularly preferably Tg+30°C or lower. Here, Tg means the glass transition temperature of the polymer contained in the
공정 1을 행한 후에 얻어지는 연신 필름(10)은, 그대로 위상차 필름으로서 사용할 수 있으나, 추가적인 공정(예를 들어, 추가적인 연신 공정 등)을 행하여 얻어지는 필름을 위상차 필름으로 해도 된다.Although the stretched
[본 실시형태의 효과][Effect of this embodiment]
본 실시형태의 위상차 필름의 제조 방법에 있어서는, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신함으로써, 수지 필름을 가열하지 않아도, 면내 방향 및 두께 방향 중 적어도 일방에 리타데이션을 발현시킬 수 있다. 그 결과, 본 실시형태에 의하면, 수지 필름을 가열하기 위한 오븐 등의 가열 장치가 불필요하므로, 위상차 필름의 제조 설비를 간소화할 수 있다. 또한, 본 실시형태에 의하면, 수지 필름과 용제의 접촉 및 수지 필름의 연신을 동시에 행하므로, 위상차 필름의 생산 효율을 높일 수 있다.In the manufacturing method of the retardation film of this embodiment, even if it does not heat a resin film by making a resin film contact a solvent and extending|stretching, retardation can be made to express in at least one of an in-plane direction and a thickness direction. As a result, according to this embodiment, since heating apparatuses, such as an oven for heating a resin film, are unnecessary, the manufacturing equipment of retardation film can be simplified. Moreover, according to this embodiment, since the contact of a resin film and a solvent and extending|stretching of a resin film are performed simultaneously, the productive efficiency of retardation film can be improved.
[임의 공정][Random process]
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 이하에 설명하는 임의의 공정을 포함하고 있어도 된다.The manufacturing method of the retardation film of this invention may include the arbitrary process demonstrated below.
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 수지 필름과 용제를 접촉시킨 후의 수지 필름으로부터, 용제를 제거하는 공정을 포함할 수 있다. 수지 필름으로부터 용제를 제거하는 방법으로는, 예를 들어, 건조, 닦아내기 등을 들 수 있다.The manufacturing method of the retardation film of this invention can include the process of removing a solvent from the resin film after making a resin film and a solvent contact. As a method of removing a solvent from a resin film, drying, wiping, etc. are mentioned, for example.
용제와 접촉시킨 후의 수지 필름으로부터, 건조에 의해 용제를 제거하는 경우, 그 방법에는 제한은 없고, 예를 들어, 오븐 등의 가열 장치를 사용하여 행할 수 있다. 구체적으로는, 용제와 접촉시킨 후의 수지 필름을, 가열 장치 내에 소정 시간 반송시킴으로써, 용제를 제거할 수 있다. 용제를 제거하기 위한 가열은, 일반적인 연신 장치에 있어서 연신시에 가열을 행하는 경우의 가열과는 달리, 비교적 낮은 온도에서 행할 수 있어, 엄밀한 온도 제어를 수반하지 않고 행할 수 있고, 또한 비교적 단시간에 완수할 수 있다. 또한, 용제의 종류를 적절하게 선택함으로써, 특별히 가열의 조작을 행하지 않고 단순히 실온에서 반송함으로써 건조를 달성하는 것도 가능하다.When removing a solvent by drying from the resin film after making it contact with a solvent, there is no restriction|limiting in the method, For example, it can carry out using heating apparatuses, such as an oven. The solvent can be removed by conveying the resin film after making it specifically, contact with a solvent in a heating apparatus for predetermined time. Unlike the heating in the case of heating at the time of extending|stretching in a general drawing apparatus, the heating for removing a solvent can be performed at a comparatively low temperature, can be performed without strict temperature control, and can be completed in a comparatively short time. can do. In addition, by appropriately selecting the kind of solvent, it is also possible to achieve drying by simply conveying at room temperature without special heating operation.
건조에 의해 용제의 제거를 행할 때에는, 필름에 장력이 가해진 상태에서 행하여도 된다. 이러한 상태에서 건조를 행함으로써, 용제와 접촉시킨 후의 필름의 광학 특성의 균일성을 효과적으로 높일 수 있으므로 바람직하다. 수지 필름에 가해지는 장력의 크기, 장력의 방향은, 수지 필름의 재질 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한 수지 필름에 장력을 가하는 경우, 예를 들어, 적절한 유지구에 의해 수지 필름을 유지하고, 이 유지구에 의해 수지 필름을 잡아당겨 장력을 가해도 된다. 유지구는, 수지 필름의 변의 전체 길이를 연속적으로 유지할 수 있는 것이어도 되고, 간격을 두고 간헐적으로 유지할 수 있는 것이어도 된다. 예를 들어, 소정의 간격으로 배열된 유지구에 의해 수지 필름의 변을 간헐적으로 유지해도 된다.When removing a solvent by drying, you may carry out in the state in which tension|tensile_strength was added to the film. By drying in such a state, since the uniformity of the optical characteristic of the film after making it contact with a solvent can be improved effectively, it is preferable. The magnitude of the tension applied to the resin film and the direction of the tension can be set in consideration of the material of the resin film and the like. Moreover, when applying tension|tensile_strength to a resin film, for example, you may hold|maintain a resin film with an appropriate holding|maintenance tool, and may apply tension|tensile_strength by pulling a resin film with this holding|maintenance tool. The holding tool may be able to hold|maintain the full length of the side of a resin film continuously, and the thing which can hold|maintain intermittently at intervals may be sufficient as it. For example, you may hold|maintain the edge of a resin film intermittently by the holding tool arranged at predetermined intervals.
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 공정 1을 행한 후에 얻어지는 필름을 더욱 연신하는 공정을 포함할 수 있다. 당해 공정에 있어서의 연신 방향, 연신 장치 및 연신 배율 등의 연신 조건은, 특별히 한정되지 않고, 목적물인 위상차 필름의 용도 등을 고려하여 설정할 수 있다.The manufacturing method of the retardation film of this invention can include the process of further extending|stretching the film obtained after performing the process 1. Stretching conditions, such as the extending|stretching direction in the said process, an extending|stretching apparatus, and a draw ratio, are not specifically limited, The use of the retardation film which is a target object, etc. can be considered and set.
또한, 장척의 위상차 필름을 제조하는 경우, 본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 장척의 위상차 필름을 원하는 형상으로 잘라내는 공정을 포함할 수 있다.Moreover, when manufacturing a long retardation film, the manufacturing method of the retardation film of this invention may include the process of cutting out a long retardation film into a desired shape.
[위상차 필름][retardation film]
다음으로, 본 발명의 위상차 필름의 제조 방법에 의해 얻어지는 위상차 필름에 대하여 설명한다.Next, the retardation film obtained by the manufacturing method of the retardation film of this invention is demonstrated.
[위상차 필름의 리타데이션][Retardation of retardation film]
위상차 필름의 면내 리타데이션 Re의 값은, 그 용도에 따라 설정할 수 있다. 위상차 필름의 면내 리타데이션 Re의 값은, 바람직하게는 10nm 이상, 보다 바람직하게는 30nm 이상이고, 바람직하게는 1000nm 이하, 보다 바람직하게는 800nm 이하이다.The value of in-plane retardation Re of retardation film can be set according to the use. The value of in-plane retardation Re of retardation film becomes like this. Preferably it is 10 nm or more, More preferably, it is 30 nm or more, Preferably it is 1000 nm or less, More preferably, it is 800 nm or less.
위상차 필름의 구체적인 면내 리타데이션 Re의 값은, 예를 들어, 바람직하게는 100nm 이상, 보다 바람직하게는 110nm 이상, 특히 바람직하게는 120nm 이상일 수 있고, 또한, 바람직하게는 180nm 이하, 보다 바람직하게 170nm 이하, 특히 바람직하게는 160nm 이하일 수 있다. 이 경우, 위상차 필름은, 1/4 파장판으로서 기능할 수 있다.The specific in-plane retardation Re value of the retardation film is, for example, preferably 100 nm or more, more preferably 110 nm or more, particularly preferably 120 nm or more, and preferably 180 nm or less, more preferably 170 nm or more. or less, particularly preferably 160 nm or less. In this case, the retardation film can function as a quarter wave plate.
또한, 위상차 필름의 구체적인 면내 리타데이션 Re의 값은, 예를 들어, 바람직하게는 230nm 이상, 보다 바람직하게는 250nm 이상, 특히 바람직하게는 255nm 이상일 수 있고, 또한, 바람직하게는 320nm 이하, 보다 바람직하게는 300nm 이하, 특히 바람직하게는 295nm 이하일 수 있다. 이 경우, 위상차 필름은, 1/2 파장판으로서 기능할 수 있다.In addition, the specific in-plane retardation Re value of the retardation film is, for example, preferably 230 nm or more, more preferably 250 nm or more, particularly preferably 255 nm or more, and more preferably 320 nm or less, more preferably Preferably, it may be 300 nm or less, particularly preferably 295 nm or less. In this case, the retardation film can function as a 1/2 wave plate.
위상차 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth의 값은, 위상차 필름의 용도에 따라 설정할 수 있다. 위상차 필름의 구체적인 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 바람직하게는 -500nm 이상, 보다 바람직하게는 -400nm 이상이고, 바람직하게는 300nm 이하, 보다 바람직하게는 150nm 이하이다.The value of retardation Rth in the thickness direction of retardation film can be set according to the use of retardation film. The retardation Rth of the specific thickness direction of retardation film becomes like this. Preferably it is -500 nm or more, More preferably, it is -400 nm or more, Preferably it is 300 nm or less, More preferably, it is 150 nm or less.
[위상차 필름의 NZ 계수][NZ coefficient of retardation film]
위상차 필름의 NZ 계수는, 바람직하게는 -10 이상, 보다 바람직하게는 -8 이상이고, 바람직하게는 10 이하, 보다 바람직하게는 8 이하이다. NZ 계수의 범위가 상기 범위 내인 위상차 필름은, 표시 장치에 설치한 경우에, 그 표시 장치의 시야각, 콘트라스트, 화질 등의 표시 품질의 개선이 가능하다. 위상차 필름의 NZ 계수는, 위상차 필름의 용도에 따라 임의로 설정할 수 있다.NZ coefficient of retardation film becomes like this. Preferably it is -10 or more, More preferably, it is -8 or more, Preferably it is 10 or less, More preferably, it is 8 or less. When the retardation film having the range of the NZ coefficient in the above range is installed in a display device, the display quality of the display device, such as viewing angle, contrast, and image quality, can be improved. The NZ coefficient of retardation film can be arbitrarily set according to the use of retardation film.
위상차 필름의 NZ 계수는, 그 필름의 면내 리타데이션 Re 및 두께 방향의 리타데이션 Rth로부터 계산에 의해 구할 수 있다. 필름의 면내 리타데이션 Re 및 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 위상차계(예를 들어, AXOMETRICS사 제조 「AxoScan OPMF-1」)를 사용하여 측정할 수 있다.The NZ coefficient of retardation film can be calculated|required by calculation from in-plane retardation Re of the film, and retardation Rth of thickness direction. In-plane retardation Re of a film and retardation Rth of thickness direction can be measured using retardation meter (For example, "AxoScan OPMF-1" by AXOMETRICS).
[위상차 필름의 복굴절][Birefringence of retardation film]
위상차 필름은, 통상, 면내 방향 및 두께 방향 중 적어도 일방의 방향에 큰 복굴절을 갖는다. 구체적으로는, 위상차 필름은, 통상 1.0 × 10-3 이상의 면내 방향의 복굴절 Re/d, 및 1.0 × 10-3 이상의 두께 방향의 복굴절의 절대값 |Rth/d|의 적어도 일방을 갖는다.The retardation film usually has large birefringence in at least one of the in-plane direction and the thickness direction. Specifically, the retardation film has at least one of a birefringence Re/d in the in-plane direction of usually 1.0 × 10 -3 or more, and an absolute value |Rth/d| of the birefringence in the thickness direction of 1.0 × 10 -3 or more.
상세하게는, 위상차 필름의 면내 방향의 복굴절 Re/d는, 통상 1.0 × 10-3 이상, 바람직하게는 3.0 × 10-3 이상, 특히 바람직하게는 5.0 × 10-3 이상이다. 상한에 제한은 없고, 예를 들어, 2.0 × 10-2 이하, 1.5 × 10-2 이하, 또는 1.0 × 10-2 이하일 수 있다. 단, 위상차 필름의 두께 방향의 복굴절의 절대값 |Rth/d|이 1.0 × 10-3 이상인 경우에는, 위상차 필름의 면내 방향의 복굴절 Re/d는 상기 범위 밖에 있을 수 있다.Specifically, the birefringence Re/d of the retardation film in the in-plane direction is usually 1.0 × 10 -3 or more, preferably 3.0 × 10 -3 or more, and particularly preferably 5.0 × 10 -3 or more. The upper limit is not limited, and may be, for example, 2.0 × 10 -2 or less, 1.5 × 10 -2 or less, or 1.0 × 10 -2 or less. However, when the absolute value |Rth/d| of the birefringence in the thickness direction of the retardation film is 1.0 × 10 -3 or more, the birefringence Re/d in the in-plane direction of the retardation film may be outside the above range.
또한, 위상차 필름의 두께 방향의 복굴절의 절대값 |Rth/d|은, 통상 1.0 × 10-3 이상, 바람직하게는 3.0 × 10-3 이상, 특히 바람직하게는 5.0 × 10-3 이상이다. 상한에 제한은 없고, 예를 들어, 2.0 × 10-2 이하, 1.5 × 10-2 이하, 또는 1.0 × 10-2 이하일 수 있다. 단, 위상차 필름의 면내 방향의 복굴절 Re/d가 1.0 × 10-3 이상인 경우에는, 위상차 필름의 두께 방향의 복굴절의 절대값 |Rth/d|은 상기 범위 밖에 있을 수 있다.In addition, the absolute value |Rth/d| of birefringence in the thickness direction of retardation film is 1.0 x 10 -3 or more normally, Preferably it is 3.0 x 10 -3 or more, Especially preferably, it is 5.0 x 10 -3 or more. The upper limit is not limited, and may be, for example, 2.0 × 10 -2 or less, 1.5 × 10 -2 or less, or 1.0 × 10 -2 or less. However, when the birefringence Re/d in the in-plane direction of the retardation film is 1.0 × 10 -3 or more, the absolute value of the birefringence in the thickness direction of the retardation film |Rth/d| may be outside the above range.
[위상차 필름의 다른 특성][Other properties of retardation film]
위상차 필름의 헤이즈는, 통상 1.0% 미만, 바람직하게는 0.8% 미만, 보다 바람직하게는 0.5% 미만이고, 이상적으로는 0.0%이다. 이와 같이 헤이즈가 작은 위상차 필름은, 표시 장치에 설치한 경우에, 그 표시 장치에 표시되는 화상의 선명성을 높일 수 있다. 필름의 헤이즈는, 헤이즈미터(예를 들어, 닛폰 덴쇼쿠 공업사 제조 「NDH5000」)를 사용하여 측정할 수 있다.The haze of retardation film is less than 1.0 % normally, Preferably it is less than 0.8 %, More preferably, it is less than 0.5 %, Ideally, it is 0.0 %. Thus, when the retardation film with a small haze is provided in a display apparatus, it can improve the clarity of the image displayed on the display apparatus. The haze of the film can be measured using a haze meter (for example, "NDH5000" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
위상차 필름은, 광학 필름이므로, 높은 투명성을 갖는 것이 바람직하다. 위상차 필름의 구체적인 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 88% 이상이다. 위상차 필름의 전체 광선 투과율은, 자외·가시 분광계를 사용하여, 파장 400nm ~ 700nm의 범위에서 측정할 수 있다.Since retardation film is an optical film, it is preferable to have high transparency. The specific total light transmittance of the retardation film is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 88% or more. The total light transmittance of the retardation film can be measured in a wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet/visible spectrometer.
위상차 필름의 두께 d는, 위상차 필름의 용도에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 위상차 필름의 구체적인 두께 d는, 바람직하게는 5μm 이상, 보다 바람직하게는 10μm 이상, 특히 바람직하게는 15μm 이상이며, 바람직하게는 200μm 이하, 보다 바람직하게는 100μm 이하이고, 특히 바람직하게는 50μm 이하이다. 위상차 필름의 두께 d가 상기 범위의 하한값 이상인 경우, 핸들링성을 양호하게 하거나, 강도를 높게 하거나 할 수 있다. 또한, 위상차 필름의 두께 d가 상한값 이하인 경우, 장척의 위상차 필름의 권취가 용이하다.The thickness d of retardation film can be set suitably according to the use of retardation film. The specific thickness d of the retardation film is preferably 5 µm or more, more preferably 10 µm or more, particularly preferably 15 µm or more, preferably 200 µm or less, more preferably 100 µm or less, and particularly preferably 50 µm or less. . When the thickness d of retardation film is more than the lower limit of the said range, handling property can be made favorable or intensity|strength can be made high. Moreover, when the thickness d of retardation film is below an upper limit, winding-up of a long retardation film is easy.
결정성 중합체를 포함하는 수지 필름을 사용하여 제조된 위상차 필름에 있어서, 결정성 중합체의 결정화도는, 특별한 제한은 없으나, 통상은, 어느 정도 이상 높다. 구체적인 결정화도의 범위는, 바람직하게는 10% 이상, 보다 바람직하게는 15% 이상, 특히 바람직하게는 30% 이상이다.In the retardation film produced using the resin film containing the crystalline polymer, the degree of crystallinity of the crystalline polymer is not particularly limited, but is usually high to a certain extent or more. The specific crystallinity range is preferably 10% or more, more preferably 15% or more, and particularly preferably 30% or more.
결정성 중합체의 결정화도는, X선 회절법에 의해 측정할 수 있다.The degree of crystallinity of the crystalline polymer can be measured by X-ray diffraction.
[위상차 필름에 포함되는 용제][Solvent contained in retardation film]
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법은, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함하므로, 당해 제조 방법에 의해 제조되는 위상차 필름은, 용제를 포함할 수 있다.Since the manufacturing method of the retardation film of this invention includes the process of extending|stretching by making a resin film contact a solvent, the retardation film manufactured by the said manufacturing method may contain a solvent.
용제와 접촉시킬 때에, 수지 필름 중에 흡수된 용제의 전부 또는 일부는, 필름을 구성하는 수지에 포함되는 중합체의 내부에 파고 들어갈 수 있다. 따라서, 용제의 끓는점 이상에서 건조를 행하였다고 해도, 용이하게는 용제를 완전히 제거하는 것은 어렵다. 따라서, 용제와 접촉시키는 공정을 포함하는 제조 방법으로 제조한 위상차 필름은, 용제를 포함할 수 있다.When brought into contact with the solvent, all or part of the solvent absorbed in the resin film may penetrate into the polymer contained in the resin constituting the film. Therefore, even if drying is performed above the boiling point of the solvent, it is difficult to completely remove the solvent easily. Therefore, the retardation film manufactured by the manufacturing method including the process of making it contact with a solvent may contain a solvent.
위상차 필름의 중량 100%에 대한 당해 위상차 필름에 포함되는 용제의 비율(용제 함유율)은, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 0.1 중량% 이하이고, 0 중량% 초과일 수 있다.The ratio of the solvent contained in the retardation film to 100% by weight of the retardation film (solvent content) is preferably 10 wt% or less, more preferably 5 wt% or less, particularly preferably 0.1 wt% or less, may be greater than 0% by weight.
[위상차 필름의 용도][Use of retardation film]
본 발명의 제조 방법으로 제조한 위상차 필름은, 수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신함으로써, 면내 방향 및 두께 방향 중 적어도 일방에 리타데이션이 발현하고 있다. 따라서, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 위상차 필름은, 그 리타데이션값에 따라, 1/2 파장판 또는 1/4 파장판 등으로서 사용할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 위상차 필름을, 1/2 파장판 및 1/4 파장판 중의 어느 일방 또는 양방으로서 사용한 원 편광판은, 표시 장치에 사용할 수 있다.As for the retardation film manufactured by the manufacturing method of this invention, retardation is expressing in at least one of an in-plane direction and thickness direction by making a resin film contact a solvent and extending|stretching. Therefore, the retardation film obtained by the manufacturing method of this invention can be used as a half-wave plate, a quarter-wave plate, etc. according to the retardation value. The circularly polarizing plate which used the retardation film manufactured by the manufacturing method of this invention as either one or both of a 1/2 wave plate and a 1/4 wave plate can be used for a display apparatus.
실시예Example
이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, this invention is not limited to the Example shown below, In the range which does not deviate from the Claim of this invention and its equivalent range, it can change arbitrarily and implement it.
이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한, 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에서 행하였다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 리타데이션 및 복굴절의 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590nm였다.In the following description, "%" and "part" indicating the quantity are based on weight, unless otherwise specified. In addition, the operation demonstrated below was performed under conditions of normal temperature and normal pressure, unless otherwise indicated. In addition, in the following description, the measurement wavelength of retardation and birefringence was 590 nm, unless otherwise indicated.
[평가 방법][Assessment Methods]
(중합체의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn의 측정 방법)(Method for Measuring Weight Average Molecular Weight Mw and Number Average Molecular Weight Mn of Polymer)
중합체의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC) 시스템(토소사 제조 「HLC-8320」)을 사용하여, 폴리스티렌 환산값으로서 측정하였다. 측정시, 칼럼으로는 H 타입 칼럼(토소사 제조)을 사용하고, 용제로는 테트라하이드로푸란을 사용하였다. 또한, 측정시의 온도는, 40℃였다.The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of the polymer were measured as polystyrene conversion values using a gel permeation chromatography (GPC) system ("HLC-8320" manufactured by Tosoh Corporation). In the measurement, an H-type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column, and tetrahydrofuran was used as the solvent. In addition, the temperature at the time of measurement was 40 degreeC.
(중합체의 수소화율의 측정 방법)(Method for measuring hydrogenation rate of polymer)
중합체의 수소화율은, 오르토디클로로벤젠-d4를 용제로 하여, 145℃에서, 1H-NMR 측정에 의해 측정하였다.The hydrogenation rate of the polymer was measured by 1 H-NMR measurement at 145°C using orthodichlorobenzene-d 4 as a solvent.
(유리 전이 온도 Tg 및 융점 Tm의 측정 방법)(Method for measuring glass transition temperature Tg and melting point Tm)
중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 융점 Tm의 측정은, 이하와 같이 하여 행하였다. 먼저, 중합체를, 가열에 의해 융해시키고, 융해된 중합체를 드라이아이스로 급랭하였다. 계속해서, 이 중합체를 시험체로서 사용하고, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여, 10℃/분의 승온 속도(승온 모드)로, 중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 융점 Tm을 측정하였다.The measurement of the glass transition temperature Tg and melting|fusing point Tm of a polymer was performed as follows. First, the polymer was melted by heating, and the melted polymer was quenched with dry ice. Then, using this polymer as a test body, using a differential scanning calorimeter (DSC), the glass transition temperature Tg and melting|fusing point Tm of the polymer were measured at the temperature increase rate (temperature increase mode) of 10 degreeC/min.
(중합체의 라세모·다이애드의 비율의 측정 방법)(Method for measuring the ratio of racemo-dyad of the polymer)
중합체의 라세모·다이애드의 비율의 측정은 이하와 같이 하여 행하였다. 오르토디클로로벤젠-d4를 용제로 하여, 200℃에서, inverse-gated decoupling법을 적용하여, 중합체의 13C-NMR 측정을 행하였다. 이 13C-NMR 측정의 결과에 있어서, 오르토디클로로벤젠-d4의 127.5 ppm의 피크를 기준 시프트로 하여, 메소·다이애드 유래의 43.35 ppm의 시그널과, 라세모·다이애드 유래의 43.43 ppm의 시그널을 동정하였다. 이들 시그널의 강도비에 기초하여, 중합체의 라세모·다이애드의 비율을 구하였다.The measurement of the ratio of racemo-dyad of the polymer was performed as follows. Using orthodichlorobenzene-d 4 as a solvent, at 200° C., an inverse-gated decoupling method was applied, and 13 C-NMR measurement of the polymer was performed. In the result of this 13 C-NMR measurement, with the 127.5 ppm peak of orthodichlorobenzene-d 4 as the reference shift, the 43.35 ppm signal derived from meso dyad and 43.43 ppm of the racemo dyad-derived peak The signal was identified. Based on the intensity ratio of these signals, the ratio of racemo-dyad of the polymer was calculated.
(필름의 두께의 측정 방법)(Method for measuring the thickness of the film)
필름의 두께는, 접촉식 두께계(MITUTOYO사 제조 Code No.543-390)를 사용하여 측정하였다.The thickness of the film was measured using a contact thickness meter (Code No. 543-390 manufactured by MITUTOYO).
(리타데이션 및 NZ 계수의 측정 방법)(Measurement method of retardation and NZ coefficient)
필름의 면내 리타데이션 Re, 두께 방향의 리타데이션 Rth, 및 NZ 계수는, AXOMETRICS사 제조, Axo Scan OPMF-1에 의해 측정하였다. 이 때, 측정은, 파장 590nm에서 행하였다. 또한, 얻어진 면내 리타데이션 Re 및 두께 방향의 리타데이션 Rth로부터 NZ 계수를 산출하였다.The in-plane retardation Re of the film, the retardation Rth of the thickness direction, and the NZ coefficient were measured by the AXOMETRICS make, Axo Scan OPMF-1. At this time, the measurement was performed at the wavelength of 590 nm. Moreover, the NZ coefficient was computed from the obtained in-plane retardation Re and retardation Rth of thickness direction.
[제조예 1. 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물을 포함하는 결정성 수지의 제조][Preparation Example 1. Preparation of crystalline resin containing hydride of a ring-opened polymer of dicyclopentadiene]
금속제의 내압 반응기를, 충분히 건조한 후, 질소 치환하였다. 이 금속제 내압 반응기에, 시클로헥산 154.5 부, 디시클로펜타디엔(엔도체 함유율 99% 이상)의 농도 70% 시클로헥산 용액 42.8 부(디시클로펜타디엔의 양으로서 30 부), 및 1-헥센 1.9 부를 첨가하고, 53℃로 가온하였다.The metal pressure-resistant reactor was thoroughly dried, and then replaced with nitrogen. In this metal pressure-resistant reactor, 154.5 parts of cyclohexane, 42.8 parts of a 70% cyclohexane solution (30 parts as the amount of dicyclopentadiene), and 1.9 parts of 1-hexene of dicyclopentadiene (concentration of 99% or more of endodiene) added and warmed to 53°C.
테트라클로로텅스텐페닐이미드(테트라하이드로푸란) 착물(錯體) 0.014 부를 0.70 부의 톨루엔에 용해시켜, 용액을 조제하였다. 이 용액에, 농도 19%의 디에틸알루미늄에톡시드/n-헥산 용액 0.061 부를 첨가해 10분간 교반하여, 촉매 용액을 조제하였다. 이 촉매 용액을 내압 반응기에 첨가하여, 개환 중합 반응을 개시하였다. 그 후, 53℃를 유지하면서 4시간 반응시켜, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 용액을 얻었다. 얻어진 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수평균 분자량(Mn) 및 중량 평균 분자량(Mw)은, 각각 8,750 및 28,100이고, 이들로부터 구해지는 분자량 분포(Mw/Mn)는 3.21이었다.0.014 parts of tetrachlorotungstenphenylimide (tetrahydrofuran) complex were dissolved in 0.70 parts of toluene, and the solution was prepared. To this solution, 0.061 parts of a 19% diethylaluminum ethoxide/n-hexane solution was added and stirred for 10 minutes to prepare a catalyst solution. This catalyst solution was added to a pressure-resistant reactor, and a ring-opening polymerization reaction was started. Then, it was made to react for 4 hours, maintaining 53 degreeC, and the solution of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene was obtained. The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the obtained ring-opened polymer of dicyclopentadiene were 8,750 and 28,100, respectively, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) calculated|required from these was 3.21.
얻어진 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 용액 200 부에, 정지제로서 1,2-에탄디올 0.037 부를 첨가하여, 60℃로 가온하고, 1시간 교반하여 중합 반응을 정지시켰다. 여기에, 하이드로탈사이트형 화합물(쿄와 화학 공업사 제조 「쿄와드(등록상표) 2000」)을 1 부 첨가하여, 60℃로 가온하고, 1시간 교반하였다. 그 후, 여과 조제(쇼와 화학 공업사 제조 「라디올라이트(등록상표) #1500」)를 0.4 부 첨가하고, PP 플리츠 카트리지 필터(ADVANTEC 토요사 제조 「TCP-HX」)를 사용하여 흡착제와 용액을 여과 분리하였다.0.037 parts of 1,2-ethanediol as a terminator was added to 200 parts of the obtained solution of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene, and it heated to 60 degreeC, and stirred for 1 hour to stop the polymerization reaction. One part of a hydrotalcite-type compound (“Kyowad (registered trademark) 2000” manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was added thereto, and the mixture was heated to 60° C. and stirred for 1 hour. Thereafter, 0.4 parts of a filter aid (“Radiolite (registered trademark) #1500” manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and a PP pleated cartridge filter (“TCP-HX” manufactured by ADVANTEC Toyo) was added to the adsorbent and solution was separated by filtration.
여과 후의 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 용액 200 부(중합체량 30 부)에, 시클로헥산 100 부를 첨가하고, 클로로하이드라이드카르보닐트리스(트리페닐포스핀)루테늄 0.0043 부를 첨가하여, 수소압 6 MPa, 180℃에서 4시간 수소화 반응을 행하였다. 이에 의해, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물을 포함하는 반응액이 얻어졌다. 이 반응액은, 수소화물이 석출되어 슬러리 용액이 되어 있었다.To 200 parts of a solution of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene after filtration (30 parts of polymer weight), 100 parts of cyclohexane is added, 0.0043 parts of chlorohydridecarbonyltris(triphenylphosphine)ruthenium is added, and hydrogen pressure is 6 MPa , the hydrogenation reaction was performed at 180°C for 4 hours. Thereby, the reaction liquid containing the hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene was obtained. In this reaction liquid, hydride precipitated and became a slurry solution.
상기의 반응액에 포함되는 수소화물과 용액을, 원심 분리기를 사용하여 분리하고, 60℃에서 24시간 감압 건조하여, 결정성을 갖는 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물 28.5 부를 얻었다. 이 수소화물의 수소화율은 99% 이상, 유리 전이 온도 Tg는 93℃, 융점(Tm)은 262℃, 라세모·다이애드의 비율은 89%였다.The hydride and the solution contained in the reaction solution were separated using a centrifugal separator and dried under reduced pressure at 60°C for 24 hours to obtain 28.5 parts of a hydride of a ring-opened polymer of dicyclopentadiene having crystallinity. The hydrogenation rate of this hydride was 99% or more, the glass transition temperature Tg was 93°C, the melting point (Tm) was 262°C, and the ratio of racemo-dyad was 89%.
얻어진 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물 100 부에, 산화 방지제(테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄; BASF 저팬사 제조 「이르가녹스(등록상표) 1010」) 1.1 부를 혼합 후, 내경 3mmΦ의 다이 구멍을 4개 구비한 2축 압출기(제품명 「TEM-37B」, 토시바 기계사 제조)에 투입하였다. 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물 및 산화 방지제의 혼합물을, 열 용융 압출 성형에 의해 스트랜드상으로 성형한 후, 스트랜드 커터로 세단하여, 펠릿 형상의 결정성 수지를 얻었다. 이 결정성 수지는 고유 복굴절값이 플러스인 수지이다.To 100 parts of the hydride of the obtained ring-opened polymer of dicyclopentadiene, an antioxidant (tetrakis[methylene-3-(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate]methane After mixing 1.1 parts of "Irganox (registered trademark) 1010" manufactured by BASF Japan), it was put into a twin-screw extruder (product name "TEM-37B", manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd.) having four die holes having an inner diameter of 3 mm . . The mixture of the hydride of the ring-opened polymer of dicyclopentadiene and the antioxidant was shape|molded into strand shape by hot melt extrusion molding, and then it was shredded with a strand cutter, and pellet-shaped crystalline resin was obtained. This crystalline resin is a resin with a positive intrinsic birefringence value.
2축 압출기의 운전 조건을, 이하에 기재한다.The operating conditions of the twin screw extruder are described below.
·배럴 설정 온도 = 270 ~ 280℃Barrel set temperature = 270 ~ 280℃
·다이 설정 온도 = 250℃・Die setting temperature = 250℃
·스크루 회전수 = 145 rpm·Screw rotation speed = 145 rpm
[실시예 1][Example 1]
(1-1) 수지 필름의 제조(1-1) Preparation of resin film
제조예 1에서 제조한 펠릿 형상의 결정성 수지를, T 다이를 구비하는 열 용융 압출 필름 성형기를 사용하여 성형하고, 약 600mm 폭의 수지 필름을, 소정의 속도로 롤에 권취하는 방법으로, 수지 필름의 롤을 얻었다. 본 예에서는, 라인 속도를 조정하여, 수지 필름의 두께가 50μm가 되도록 성형을 행하였다. 또한, 롤에 권취할 때에는, 마스킹 필름(트레데가사 제조 「FF1025」)으로 보호하면서 권취하였다. 수지 필름에 대하여, Re, Rth, 및 NZ 계수를 측정한 결과, Re는 1.7nm, Rth는 1.9nm, NZ 계수는 1.6이었다.The pellet-shaped crystalline resin prepared in Production Example 1 is molded using a hot melt extrusion film molding machine equipped with a T die, and a resin film having a width of about 600 mm is wound on a roll at a predetermined speed, the resin A roll of film was obtained. In this example, the line speed was adjusted and it shape|molded so that the thickness of a resin film might be set to 50 micrometers. In addition, when winding up on a roll, it wound up, protecting with a masking film ("FF1025" by a Tredegas company). About the resin film, as a result of measuring Re, Rth, and NZ coefficient, Re was 1.7 nm, Rth was 1.9 nm, and NZ coefficient was 1.6.
필름 성형기의 운전 조건을, 이하에 기재한다.The operating conditions of the film forming machine are described below.
·배럴 온도 설정 = 280℃ ~ 300℃Barrel temperature setting = 280℃ ~ 300℃
·다이 온도 = 270℃・Die temperature = 270℃
·캐스트 롤 온도 = 80℃・Cast roll temperature = 80℃
(1-2) 공정 1(1-2) Process 1
도 1에 나타내는 장치를 사용하여, 이하의 방법에 의해, 공정 1을 행하였다. (1-1)에서 얻은 수지 필름의 롤(111)로부터, 필름(11)을 인출하고, 연속적으로 마스킹 필름(12)을 박리하여 수지 필름(15)을 반송하였다. 이 수지 필름(15)을, 용제와 접촉시켜 연신을 행하였다(공정 1). 구체적으로는, 수지 필름(15)을 용제로서의 톨루엔으로 채워진 욕조(102)에 통과시킴으로써, 수지 필름(15)을 톨루엔에 침지하였다. 수지 필름이 용제 중을 반송되는 시간(용제 접촉 시간)은 5초였다. 이 때의 실온은 25℃이고, 따라서 욕조(102) 중의 톨루엔의 온도도 25℃였다. 수지 필름(15)의 연신은, 상류측의 닙 롤(101A, 101B)의 원주속도 Ps1과, 하류측의 닙 롤(104A, 104B)의 원주속도 Ps2의 차를 만듦으로써 행하였다. 구체적으로는 2세트의 닙 롤의 원주속도비(Ps2/Ps1)를 1.1로 함으로써, 필름을 반송 방향으로 연신 배율 1.1배로 연신하였다. 공정 1을 행한 후에 얻어지는 연신 필름(10)을, 새로운 마스킹 필름(트레데가사 제조 「FF1025」)으로 보호하면서 권취하여, 연신 필름의 롤(110)을 얻었다. 연신 필름에 대하여, Re, Rth, NZ 계수, 및 두께를 측정한 결과, Re는 56nm, Rth는 -324nm, NZ 계수는 -5.29, 두께는 57μm였다.Process 1 was performed by the following method using the apparatus shown in FIG. The
[실시예 2][Example 2]
실시예 1의 (1-2)에 있어서, 2세트의 닙 롤의 원주속도비(Ps2/Ps1)를 1.2로 함으로써, 필름을 반송 방향으로 연신 배율 1.2배로 연신한 것 이외에는, 실시예 1의 (1-2)와 동일한 조작을 행하여, 연신 필름의 롤을 얻었다. 연신 필름에 대하여, Re, Rth, NZ 계수, 및 두께를 측정한 결과, Re는 265nm, Rth는 -295nm, NZ 계수는 -0.61, 두께는 56μm였다.(1-2) of Example 1, except that the circumferential speed ratio (Ps2/Ps1) of the two sets of nip rolls was 1.2, and the film was stretched at a draw ratio of 1.2 times in the conveying direction. The same operation as 1-2) was performed, and the roll of a stretched film was obtained. As a result of measuring Re, Rth, NZ coefficient, and thickness about the stretched film, Re 265 nm and Rth were -295 nm, NZ coefficient was -0.61, and thickness was 56 micrometers.
[실시예 3][Example 3]
실시예 1의 (1-2)에 있어서, 2세트의 닙 롤의 원주속도비(Ps2/Ps1)를 1.5로 함으로써, 필름을 반송 방향으로 연신 배율 1.5배로 연신한 것 이외에는, 실시예 1의 (1-2)와 동일한 조작을 행하여, 연신 필름의 롤을 얻었다. 연신 필름에 대하여, Re, Rth, NZ 계수, 및 두께를 측정한 결과, Re는 650nm, Rth는 65nm, NZ 계수는 0.6, 두께는 47μm였다.(1-2) of Example 1, except that the circumferential speed ratio (Ps2/Ps1) of the two sets of nip rolls was 1.5, and the film was stretched at a draw ratio of 1.5 times in the conveying direction. The same operation as 1-2) was performed, and the roll of a stretched film was obtained. As a result of measuring Re, Rth, NZ coefficient, and thickness about the stretched film, Re was 650 nm, Rth was 65 nm, NZ coefficient was 0.6, and thickness was 47 micrometers.
[실시예 4][Example 4]
(4-1) 수지 필름의 제조(4-1) Preparation of resin film
실시예 1의 (1-1)에 있어서, 라인 속도를 조정하여, 수지 필름의 두께가 21μm가 되도록 성형을 행한 것 이외에는, 실시예 1의 (1-1)과 동일한 조작을 행하여 수지 필름의 롤을 얻었다.In (1-1) of Example 1, the same operation as (1-1) of Example 1 was performed, except that the line speed was adjusted and the resin film was molded so that the thickness of the resin film was 21 µm. got
(4-2) 공정 1(4-2) Process 1
실시예 1의 (1-2)에 있어서, (1-1)에서 얻은 수지 필름의 롤 대신에, (4-1)에서 얻은 수지 필름의 롤을 사용한 것, 및 2세트의 닙 롤의 원주속도비(Ps2/Ps1)를 1.5로 함으로써, 필름을 반송 방향으로 연신 배율 1.5배로 연신한 것 이외에는, 실시예 1의 (1-2)와 동일한 조작을 행하여, 연신 필름의 롤을 얻었다. 연신 필름에 대하여, Re, Rth, NZ 계수, 및 두께를 측정한 결과, Re는 275nm, Rth는 30nm, NZ 계수는 0.61, 두께는 20μm였다.In (1-2) of Example 1, instead of the roll of the resin film obtained in (1-1), the roll of the resin film obtained in (4-1) was used, and the circumferential speed of two sets of nip rolls By setting the ratio (Ps2/Ps1) to 1.5, the same operation as in Example 1 (1-2) was performed except that the film was stretched at a draw ratio of 1.5 in the conveyance direction to obtain a roll of a stretched film. As a result of measuring Re, Rth, NZ coefficient, and thickness about a stretched film, Re was 275 nm and Rth was 30 nm, NZ coefficient was 0.61, and thickness was 20 micrometers.
[실시예 5][Example 5]
실시예 1의 (1-2)에 있어서, 수지 필름과 용제의 접촉을, 용제로 채워진 욕조에 수지 필름을 통과시키는 방법 대신에, 하기 도포법에 의해 행한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 연신 필름의 롤을 얻었다. 연신 필름에 대하여, Re, Rth, NZ 계수, 및 두께를 측정한 결과, Re는 62nm, Rth는 -62nm, NZ 계수는 -0.5, 두께는 51μm였다.In Example 1 (1-2), the same operation as in Example 1 was performed except that the contact between the resin film and the solvent was carried out by the following application method instead of the method of passing the resin film through a bath filled with a solvent. , a roll of stretched film was obtained. As a result of measuring Re, Rth, NZ coefficient, and thickness about the stretched film, Re 62 nm and Rth were -62 nm, NZ coefficient was -0.5, and thickness was 51 micrometers.
(도포법)(Applying method)
욕조(102) 대신에 도포 장치(리버스 그라비아 방식)를 사용하고, 당해 도포 장치에 의해, 수지 필름의 일방의 면에 톨루엔을 도포하였다. 용제의 도포량은 30 g/m2(도포 직후의 도포량)로 하였다.A coating device (reverse gravure system) was used instead of the
[비교예 1][Comparative Example 1]
실시예 1의 (1-1)에서 얻어진 필름의 롤로부터 필름을 인출하고, 당해 필름으로부터 마스킹 필름을 박리하여 수지 필름을 반송하였다. 당해 수지 필름을, 110℃로 가온된 오븐 내를, 당해 오븐 내에서 약 1분간 가온되도록 통과시킴으로써, 연신 온도 110℃에서 자유 종1축 연신을 실시하였다. 이 자유 종1축 연신은, 도 2에 나타내는 롤 연신기를 사용하여 하기의 방법에 의해 행하였다.The film was taken out from the roll of the film obtained in (1-1) of Example 1, the masking film was peeled from the said film, and the resin film was conveyed. Free longitudinal uniaxial stretching was performed at the extending|stretching temperature of 110 degreeC by passing this resin film through the inside of the oven heated to 110 degreeC so that it might be heated in the said oven for about 1 minute. This free longitudinal uniaxial stretching was performed by the following method using the roll stretching machine shown in FIG.
도 2에 나타내는 롤 연신기(1)에 대하여 설명한다. 롤 연신기(1)는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 필름 롤(2)로부터 권출되는 필름(3)을, 그 길이 방향으로 연신하기 위한 장치이다. 롤 연신기(1)는, 반송 방향의 상류로부터 순서대로, 필름(3)을 길이 방향으로 반송할 수 있는 닙 롤로서 상류측 롤(6A) 및 하류측 롤(6B)을 구비한다. 여기서, 하류측 롤(6B)의 원주속도 PsB는 상류측 롤(6A)의 원주속도 PsA보다 빠르게 설정되어 있다.The roll stretching machine 1 shown in FIG. 2 is demonstrated. The roll stretching machine 1 is an apparatus for extending|stretching the film 3 unwound from the
상기의 롤 연신기(1)를 사용한 수지 필름(도 2에 있어서의 필름(3)에 대응)의 연신은, 이하와 같이 하여 행하였다.Extending|stretching of the resin film (corresponding to the film 3 in FIG. 2) using the said roll stretching machine 1 was performed as follows.
필름 롤(2)로부터 필름(3)을 권출하고, 그 필름(3)을 롤 연신기(1)에 연속적으로 공급하였다. 롤 연신기(1)는, 필름(3)을, 상류측 롤(6A) 및 하류측 롤(6B)의 순서로 반송하였다. 이 때, 상류측 롤(6A)의 원주속도 PsA에 대한 하류측 롤(6B)의 원주속도 PsB의 비(PsB/PsA)를 1.5로 함으로써, 필름(3)을, 연신 배율 1.5배로, 필름 반송 방향(즉 세로 방향)으로 연신하였다. 연신 후의 필름의 폭 방향의 양단을, 도시하지 않은 트리밍 장치에 의해 트리밍하여, 장척의 연신 필름(4)을 얻었다. 이 연신 필름을, 새로운 마스킹 필름(트레데가사 제조 「FF1025」)으로 보호하면서 권취하여, 연신 필름의 롤(5)을 얻었다. 얻어진 연신 필름에 대하여, Re, Rth, NZ 계수, 및 두께를 측정한 결과, Re는 75nm, Rth는 38nm, NZ 계수는 1.01, 두께는 40μm였다.The film 3 was unwound from the
실시예 및 비교예에서 사용한 수지 필름을 구성하는 수지, 및 수지 필름의 두께, 용제와의 접촉의 조건(용제의 종류, 접촉 방법, 접촉 시간), 연신 배율 및 연신 필름의 물성값(Re, Rth, NZ 계수, 두께)을 표 1에 나타낸다. 비교예에 대해서는, 수지 필름의 연신시의 가열 조건(오븐 온도)을 표 1에 나타낸다. 표 1에 있어서, 「결정성 COP」란, 결정성의 지환식 구조 함유 중합체를 의미한다. 표 1에 있어서, 「침지」란, 수지 필름과 용제의 접촉을, 수지 필름을 용제에 침지하는 방법에 의해 행한 것을 의미하고, 「도포」란, 수지 필름과 용제의 접촉을, 수지 필름에 용제를 도포하는 방법에 의해 행한 것을 의미한다. 표 1에 있어서, 「연신 필름」이란, 연신 후의 수지 필름을 의미한다.The resin constituting the resin film used in Examples and Comparative Examples, and the thickness of the resin film, conditions of contact with the solvent (type of solvent, contact method, contact time), draw ratio, and physical property values of the stretched film (Re, Rth, NZ coefficient and thickness) are shown in Table 1. About the comparative example, the heating conditions (oven temperature) at the time of extending|stretching of a resin film are shown in Table 1. In Table 1, "crystalline COP" means a crystalline alicyclic structure-containing polymer. In Table 1, "immersion" means that the contact of the resin film and the solvent was performed by the method of immersing the resin film in the solvent, and "application" means the contact of the resin film and the solvent to the resin film with a solvent. It means that it was carried out by the method of applying In Table 1, a "stretched film" means the resin film after extending|stretching.
표 1에 나타내는 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예의 방법에 의하면, 연신시에 수지 필름의 가열을 행하고 있지 않음에도 불구하고, 리타데이션을 갖는 필름을 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다. 즉, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 수지 필름의 가열을 행하지 않아도 리타데이션을 발현할 수 있으므로, 수지 필름의 가열 장치가 불필요하여, 제조 설비를 간소화할 수 있다.As is clear from the result shown in Table 1, according to the method of an Example, although the resin film is not heated at the time of extending|stretching, it turns out that the film which has retardation can be obtained. That is, according to the manufacturing method of this invention, even if it does not heat a resin film, since retardation can be expressed, the heating apparatus of a resin film is unnecessary, and manufacturing equipment can be simplified.
[다른 실시형태][Other embodiment]
(1) 상기 실시형태 및 실시예에서는, 수지 필름을, 반송 방향의 상류측과 하류측의 닙 롤의 원주속도차에 의해 필름 반송 방향으로 자유 종1축 연신하는 예를 나타내었으나, 수지 필름의 연신 방법(장치, 연신 방향 등)은 이에 한정되지 않는다. 수지 필름의 연신 방향은 경사 방향이어도 되고, 필름 폭 방향이어도 된다. 또한, 연신 방향은 이방향 이상이어도 되고, 이 경우, 이방향 이상의 연신은, 동시에 행하여도 되고, 순차적으로 행하여도 된다.(1) In the above embodiments and examples, an example in which the resin film is freely longitudinally uniaxially stretched in the film conveying direction by the circumferential speed difference between the nip rolls on the upstream side and the downstream side of the conveying direction is shown. The stretching method (apparatus, stretching direction, etc.) is not limited thereto. An oblique direction may be sufficient as the extending|stretching direction of a resin film, and the film width direction may be sufficient as it. In addition, two or more directions may be sufficient as an extending|stretching direction, and in this case, the extending|stretching more than two directions may be performed simultaneously and may be performed sequentially.
1…롤 연신기
2…수지 필름의 롤
3…수지 필름
4…연신 필름
5…연신 필름의 롤
6A…상류측 롤
6B…하류측 롤
10…연신 필름
11…필름(수지 필름에 마스킹 필름을 첩합한 필름)
12, 13…마스킹 필름
15…수지 필름
100…장치
101A, 101B…상류측의 닙 롤
102…욕조
104A, 104B…하류측의 닙 롤
110…연신 필름의 롤
111…수지 필름의 롤
112, 113…마스킹 필름의 롤One… roll stretching machine
2… roll of resin film
3… resin film
4… stretched film
5… roll of stretched film
6A… upstream roll
6B… downstream roll
10… stretched film
11… Film (the film which pasted the masking film together to the resin film)
12, 13… masking film
15… resin film
100… Device
101A, 101B... Upstream nip roll
102… tub
104A, 104B... Downstream nip roll
110… roll of stretched film
111… roll of resin film
112, 113… roll of masking film
Claims (7)
수지 필름을 용제에 접촉시켜 연신하는 공정을 포함하는, 위상차 필름의 제조 방법.A method for producing a retardation film, comprising:
The manufacturing method of retardation film including the process of extending|stretching a resin film by making it contact with a solvent.
상기 수지 필름과 상기 용제의 접촉을, 상기 수지 필름을 상기 용제에 침지함으로써 행하는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 1,
The manufacturing method of the retardation film which performs contact of the said resin film and the said solvent by immersing the said resin film in the said solvent.
상기 수지 필름은, 고유 복굴절값이 플러스인 수지로 이루어지는, 위상차 필름의 제조 방법.3. The method of claim 1 or 2,
The method for producing a retardation film, wherein the resin film is made of a resin having a positive intrinsic birefringence value.
상기 수지 필름은, 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는, 위상차 필름의 제조 방법.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The said resin film consists of resin containing the polymer which has crystallinity, The manufacturing method of retardation film.
상기 결정성을 갖는 중합체가, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물인, 위상차 필름의 제조 방법.5. The method of claim 4,
The method for producing a retardation film, wherein the polymer having crystallinity is a hydride of a ring-opened polymer of dicyclopentadiene.
상기 용제가, 탄화수소계의 용제인, 위상차 필름의 제조 방법.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The method for producing a retardation film, wherein the solvent is a hydrocarbon solvent.
상기 연신하는 공정을, 상기 수지 필름을 가열하지 않고 행하는, 위상차 필름의 제조 방법.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The manufacturing method of retardation film which performs the said extending|stretching process without heating the said resin film.
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