JP6657602B2 - Method for producing cyclic polyolefin film - Google Patents

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Description

本発明は、環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に関する。より詳しくは、製膜時の異物故障を低減し、かつ仕上がりフィルムの異物の含有量やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造する製造方法に関する。 The present invention relates to the production how the cyclic polyolefin film. More specifically, to reduce the foreign matter failure during film, and by reducing the content and haze of foreign matter finished film relates to the production how to produce high transparency of the cyclic polyolefin film.

近年、表示デバイスである液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムや、タッチパネル用基材フィルムやガスバリアー性基材フィルム等の基材フィルムのみならず、ナノインプリント用基板フィルムやフレキシブル電子回路用基板フィルム等の基板フィルムなど、高透明性、高機能性及び軽量化を実現した可撓性を有する樹脂フィルムへの要望は大きい。   In recent years, if only optical films such as a polarizing plate protective film and a retardation film for a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device as a display device, and a base film such as a base film for a touch panel or a gas barrier base film, are provided. In addition, there is a great demand for a flexible resin film having high transparency, high functionality, and light weight, such as a substrate film for a nanoimprint or a flexible electronic circuit.

それに伴って、フィルム性能への要求もますます高くなっているが、中でも高透明性は常に要求品質の上位に位置づけられる。例えば、各種ディスプレイなどにおいて、より高精細化が進み、高透明性を阻害するフィルム中の光散乱性異物や着色異物に対する要求が厳しくなってきている。   Along with this, the demand for film performance is also increasing, and among them, high transparency is always ranked higher than the required quality. For example, in various displays and the like, higher definition has been advanced, and requirements for light-scattering foreign substances and colored foreign substances in a film that hinder high transparency have become strict.

特に光学フィルムの場合には、異物が透明であっても、透過光を異常屈折するような作用を持つ場合、いわゆる輝点異物として光学的な欠点となり品質上の問題となる場合がある。   In particular, in the case of an optical film, even if the foreign matter is transparent, if it has an action of abnormally refracting transmitted light, it may be an optical defect as a so-called bright spot foreign matter, which may cause a quality problem.

高透明性フィルムを得るには、フィルムに含まれる光散乱性異物や着色異物等の含有量を大幅に低減することが要求される。これら異物のフィルムへのコンタミネーションの原因としては、用いる材料の不均一反応による不要成分の生成や、用いる添加剤に起因するものや、製造方法に起因するもの、また製造工程において混入するゴミ等に起因するものなど、原因は多種多様である。   In order to obtain a highly transparent film, it is required to greatly reduce the content of light scattering foreign matter, colored foreign matter, and the like contained in the film. Causes of contamination of the film by such foreign substances include generation of unnecessary components due to a heterogeneous reaction of the materials used, those caused by additives used, those caused by a manufacturing method, and dust mixed in a manufacturing process. There are many different causes, such as those caused by

環状ポリオレフィンフィルムは、高透明性に加えて、吸湿性や透湿性に優れた安定性を有するフィルムとして注目されている。しかしながら、一般的な製造方法である溶融流延法を用いると、環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度が200℃以上の場合は、溶融時の粘度を流延可能な程度まで調整するのに高温で加熱する必要があり、その際高温加熱によって含有異物の凝集等が生じやすく、フィルム製膜中の異物故障が多いことが問題となっている。   BACKGROUND ART Cyclic polyolefin films have been attracting attention as films having high transparency and excellent stability in moisture absorption and moisture permeability. However, when the melt-casting method, which is a general production method, is used, when the glass transition temperature of the cyclic polyolefin-based resin is 200 ° C. or higher, it is necessary to use a high temperature to adjust the viscosity at the time of melting to a degree that can be cast. It is necessary to heat, and at that time, agglomeration or the like of contained foreign matter is likely to occur due to high-temperature heating, and there is a problem that there are many foreign matter failures during film formation.

また、偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムに用いられているセルロースアセテートフィルムは、製膜時のハンドリング適性改良のために、無機微粒子を添加して滑り性を調整しているが、同様な目的で環状ポリオレフィンフィルムでも無機微粒子を加えて溶融流延法で製造するフィルムが知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、この方法では前記高温での加熱溶融時に前記微粒子の偏りや凝集が生じて異物となり、光学フィルムとして重要なヘイズを増加させ、透明性を損なうことが分かった。   In addition, cellulose acetate films used for optical films such as polarizing plate protective films and retardation films are improved in handling aptitude at the time of film formation by adding inorganic fine particles to adjust the slipperiness. For the same purpose, there is known a cyclic polyolefin film produced by melt-casting a method by adding inorganic fine particles (for example, see Patent Document 1). However, it has been found that in this method, when the particles are heated and melted at the high temperature, the fine particles are biased or agglomerated to form foreign matter, which increases haze which is important as an optical film and impairs transparency.

一方、環状ポリオレフィンフィルムを、高温での加熱工程を経ない溶液流延法で製造する製造方法が開示されている(例えば、特許文献2及び特許文献3参照。)。しかしながら、最近の光学フィルムは、広幅、薄膜化の傾向にあるため、異物に対する要求性能がさらに高くなり、異物やヘイズの点でさらに改善が必要である。   On the other hand, a production method for producing a cyclic polyolefin film by a solution casting method without a heating step at a high temperature is disclosed (for example, see Patent Documents 2 and 3). However, recent optical films tend to be wider and thinner, so that the performance required for foreign matter is further increased, and further improvement is required in terms of foreign matter and haze.

特開2004−151573号公報JP-A-2004-151573 特許第4585947号公報Japanese Patent No. 4585947 特開2007−260972号公報JP 2007-260972 A

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、製膜時の異物故障を低減し、かつ仕上がりフィルムの異物の含有量やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造する製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems and circumstances, and the problem to be solved is to reduce foreign matter failure during film formation, and to reduce the content and haze of foreign matter in a finished film, thereby achieving high transparency. it is to provide a manufacturing how to produce sexual cyclic polyolefin film.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製した後濾過し、次いで無端支持体上に流延し、それを乾燥して無端支持体上から剥離し、延伸、乾燥後にロール状物として巻き取る環状ポリオレフィンフィルムの製造方法において、製膜時の異物故障を低減し、かつ仕上がりフィルムの異物の含有量やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムが得られることを見いだした。   The present inventor, in order to solve the above problems, in the process of examining the cause of the above problems, dissolve the cyclic polyolefin resin using an organic solvent, add an additive to prepare a dope, and then filter, Casting on an endless support, drying it and peeling it off from the endless support, stretching, drying, and then winding it as a roll after winding in a method for producing a cyclic polyolefin film, reducing foreign matter failure during film formation, Further, it has been found that a highly transparent cyclic polyolefin film can be obtained by reducing the content of foreign matter and haze in the finished film.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the above object according to the present invention is solved by the following means.

1.環状ポリオレフィンフィルムの製造方法であって、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm以下に調整する工程、
前記ドープ中のトルエンの含有量は0.001〜0.1質量%の範囲内であり、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程、
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。
1. A method for producing a cyclic polyolefin film, at least,
Dissolving a cyclic polyolefin-based resin using an organic solvent, adding an additive to prepare a dope, followed by filtration, and adjusting the content of foreign substances having a major axis of 10 μm or more as a finished film to 5 pieces / 100 cm 2 or less,
The content of toluene in the dope is in the range of 0.001 to 0.1% by mass,
Casting the dope on an endless support,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web, and winding the stretched web as a roll,
A method for producing a cyclic polyolefin film, comprising:

2.環状ポリオレフィンフィルムの製造方法であって、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製する際に、有機溶媒としてさらにトルエンを加え、当該ドープ中の当該トルエンの含有量をトルエン以外の前記有機溶媒や前記添加剤を加えることで、0.001〜0.1質量%の範囲内に調整した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm 以下に調整する工程、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。
2. A method for producing a cyclic polyolefin film, at least,
The cyclic polyolefin resin is dissolved using an organic solvent, in preparing the dope by adding additives, further adding toluene as organic solvent, the organic solvent other than toluene content of the toluene in the dope And by adding the above-mentioned additives, the content is adjusted within the range of 0.001 to 0.1% by mass and then filtered, and the content of foreign substances having a major axis of 10 μm or more as a finished film is adjusted to 5 pieces / 100 cm 2 or less. Process,
Casting the dope on an endless support ,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web; and
Winding the stretched web as a roll,
Method for producing a ring-like polyolefin film you characterized by having a.

3.環状ポリオレフィンフィルムの製造方法であって、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製する際に、添加剤としてさらにセルロースアシレートを加え、当該ドープ中の当該セルロースアシレートの含有量を前記有機溶媒やセルロースアシレート以外の前記添加剤を加えることで、0.0001〜0.1質量%の範囲内に調整した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm 以下に調整する工程、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程、
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。
3. A method for producing a cyclic polyolefin film, at least,
The cyclic polyolefin resin is dissolved using an organic solvent, in preparing the dope by adding additives, further added cellulose acylate as additive pressurizing agent, the organic content of the cellulose acylate in the dope By adding the above-mentioned additives other than the solvent and the cellulose acylate, the content is adjusted within the range of 0.0001 to 0.1% by mass and then filtered. Adjusting to 100 cm 2 or less,
Casting the dope on an endless support,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web; and
Winding the stretched web as a roll,
Method for producing a ring-like polyolefin film you characterized by having a.

4.前記環状ポリオレフィン系樹脂を、2種類以上用いることを特徴とする第1項に記載の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。   4. 2. The method for producing a cyclic polyolefin film according to claim 1, wherein two or more kinds of the cyclic polyolefin-based resin are used.

5.前記添加剤が、含窒素複素環化合物、有機エステル、及びマット剤から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする第1項に記載の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。 5. Before Ki添 pressurizing agent, a nitrogen-containing heterocyclic compounds, organic esters, and method for producing a cyclic polyolefin film according to paragraph 1, wherein the at least one selected from the matting agent.

本発明の上記手段により、製膜時の異物故障を低減し、かつ仕上がりフィルムの異物の含有量やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造する製造方法及び環状ポリオレフィンフィルムを提供することができる。   By the above-described means of the present invention, a manufacturing method for manufacturing a highly transparent cyclic polyolefin film and a cyclic polyolefin film by reducing foreign matter failure during film formation and reducing the foreign matter content and haze of the finished film are reduced. Can be provided.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   Although the mechanism of manifesting or acting the effects of the present invention has not been clarified, it is speculated as follows.

環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に溶液流延法を採用することにより、用いる環状ポリオレフィン系樹脂や添加剤の不均一反応による不要成分を溶媒中に溶解することができ、また当該環状ポリオレフィン系樹脂や添加剤を粘度の低い溶媒中に分散することで、含有される固形物としての異物が分散されやすくなり、当該異物を濾過フィルターで効果的に捕集できる。したがって比較的異物の少ないドープを流延することができるため、製膜時の異物故障を低減し、かつ仕上がりフィルムの異物やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造することを可能にするものと推定される。   By employing the solution casting method for the production method of the cyclic polyolefin film, unnecessary components due to the heterogeneous reaction of the cyclic polyolefin resin and additives used can be dissolved in the solvent, and the cyclic polyolefin resin and the additive can be dissolved. By dispersing the agent in a solvent having a low viscosity, foreign substances as solid substances contained therein are easily dispersed, and the foreign substances can be effectively collected by a filtration filter. Therefore, it is possible to cast a dope having relatively little foreign matter, thereby reducing foreign matter failure during film formation and reducing foreign matter and haze of a finished film to produce a highly transparent cyclic polyolefin film. It is presumed that this is possible.

しかしながら、単純に環状ポリオレフィン系樹脂を溶液製膜するだけでは、長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm以下に調整することは困難であった。 However, it was difficult to adjust the content of foreign substances having a major axis of 10 μm or more to 5 pieces / 100 cm 2 or less simply by forming a solution film of a cyclic polyolefin resin.

その為検討を重ねた結果、ドープに有機溶媒としてトルエンを少量添加することによって、樹脂起因の異物の溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることを見いだした。環状オレフィン系樹脂はトルエンに対して高い溶解性示し、樹脂合成の際に発生した合成不良成分を溶解する為、異物が大幅に減少するものと推定される。   Therefore, as a result of repeated studies, it was found that by adding a small amount of toluene as an organic solvent to the dope, the solubility of resin-derived foreign matter was increased, and the effect of reducing foreign matter failure became remarkable. It is presumed that the cyclic olefin-based resin shows high solubility in toluene and dissolves the synthesis failure component generated during the resin synthesis, so that the amount of foreign substances is greatly reduced.

また、ドープ中にセルロースアシレート系樹脂を微量添加することによって、添加剤起因の異物の溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることを見いだした。環状ポリオレフィン系樹脂に溶解しない添加剤に起因する異物が、極性の高いセルロースアシレート系樹脂に相溶する為、異物が大幅に減少するものと推定される。   It has also been found that by adding a small amount of a cellulose acylate-based resin to the dope, the solubility of foreign substances caused by the additives increases, and the effect of reducing the failure of foreign substances becomes remarkable. It is presumed that foreign matter caused by additives that do not dissolve in the cyclic polyolefin-based resin is compatible with the highly polar cellulose acylate-based resin, so that the foreign matter is significantly reduced.

また、異なる環状ポリオレフィン系樹脂を2種類以上用いることによって、添加剤起因の異物溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることを見いだした。一方の環状オレフィンに溶解しない添加剤に起因する異物が、極性の異なる環状オレフィンに相溶する為、異物が大幅に減少するものと推定される。   It has also been found that the use of two or more different cyclic polyolefin-based resins increases the solubility of foreign substances due to additives and makes the effect of reducing the failure of foreign substances remarkable. It is presumed that the foreign matter caused by the additive that does not dissolve in one of the cyclic olefins is compatible with the cyclic olefin having a different polarity, so that the foreign matter is significantly reduced.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に用いられる製造装置の模式図Schematic diagram of a production apparatus used in the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention 本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法を実施する溶液流延製膜装置の概略図Schematic diagram of a solution casting film forming apparatus for carrying out the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention 本発明に用いられる濾過装置の一例の断面図Sectional view of an example of a filtration device used in the present invention 本実施形態で使用したストレーナーの概略図Schematic diagram of the strainer used in this embodiment 本発明に用いられる分離装置の一例の断面図Sectional view of an example of the separation device used in the present invention 本発明に用いられる乾燥装置の一例の概略図Schematic diagram of an example of a drying device used in the present invention 流延膜と無端支持体との間に介在膜を形成する模式図Schematic diagram of forming an intervening membrane between a casting membrane and an endless support 本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法において使用されるテンター延伸装置の一例を模式的に示す概略平面図FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing an example of a tenter stretching apparatus used in the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention. 同テンター延伸装置の別の例を模式的に示す概略平面図Schematic plan view schematically showing another example of the tenter stretching apparatus 本発明に用いられるテンタクリップの概略図Schematic diagram of a tenter clip used in the present invention 本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に用いられる斜め延伸を説明するための概略図Schematic diagram for explaining the oblique stretching used in the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention. 本発明の一実施形態の延伸装置の概略図Schematic diagram of a stretching device according to an embodiment of the present invention 巻取装置の概略を示す側面図Side view showing the outline of the winding device 巻取装置の概略を示す平面図Plan view showing the outline of the winding device バンドの溶接部とフィルムの溶接部上形成領域との関係を示す説明図 (A)はバンドの溶接部と流延膜との関係を示す平面図 (B)はフィルムの平面図Explanatory drawing showing the relationship between the welded portion of the band and the region formed on the welded portion of the film (A) is a plan view showing the relationship between the welded portion of the band and the casting film (B) is a plan view of the film 乾燥工程から巻取り工程までの説明図Illustration from the drying process to the winding process 送風式除電装置を用いた除電方法を表す説明図Explanatory drawing showing a static elimination method using a blower type static eliminator 環状ポリオレフィンフィルムと包材を示す斜視図Perspective view showing cyclic polyolefin film and packaging material 包装体の実施形態を示す斜視図A perspective view showing an embodiment of a package. 本実施形態の作用の説明図Explanatory drawing of operation of this embodiment 巻き芯へのフィルム先端の取り付け状態を示す斜視図Perspective view showing the state of attachment of the film tip to the winding core 巻き芯へのフィルム先端の取り付け状態を示す平面図Plan view showing the state of attachment of the film tip to the winding core フィルム先端部にフィルムが3回巻かれた状態の断面図Sectional view of the state where the film is wound three times around the film tip 第2実施形態の断面図Sectional view of the second embodiment 第3実施形態の断面図Sectional view of the third embodiment 同実施形態のフィルム巻取り状態の断面図Sectional view of the film winding state of the same embodiment 第4実施形態の断面図Sectional view of the fourth embodiment フィルム先端の傾斜角度を変えた別の実施形態における巻き芯へのフィルム先端の取り付け状態を示す平面図FIG. 7 is a plan view showing a state in which the film tip is attached to a winding core in another embodiment in which the tilt angle of the film tip is changed. フィラメントワインディング法による巻取コアを製造する方法を説明するための概略図Schematic diagram for explaining a method of manufacturing a wound core by a filament winding method シートワインディング法による巻取コアを製造する方法を説明するための概略図Schematic diagram for explaining a method of manufacturing a winding core by a sheet winding method フィルムの両端部にテープを巻き付けて巻き取ったフィルムロールを示す図A diagram showing a film roll in which a tape is wound around both ends of a film and wound up. エンボス加工又はスリット目加工が施されたテープの表面と断面とを示す図The figure which shows the surface and cross section of the tape which performed embossing or slit processing (A)は本発明の環状ポリオレフィンフィルムが有し得るエンボス領域の一例の概略模式図であり、(B)は(A)のフィルムの幅手方向に対する垂直断面透視図であり、(C)は(A)のフィルムにおけるエンボス領域を説明するための概略模式図(A) is a schematic diagram of an example of an embossed region that the cyclic polyolefin film of the present invention may have, (B) is a perspective view perpendicular to the width direction of the film of (A), and (C) is Schematic diagram for explaining an embossed region in the film of (A) (A)は本発明の環状ポリオレフィンフィルムが有し得るエンボス領域の一例の概略模式図であり、(B)は(A)のフィルムの幅手方向に対する垂直断面透視図であり、(C)は(A)のフィルムにおけるエンボス領域を説明するための概略模式図(A) is a schematic diagram of an example of an embossed region that the cyclic polyolefin film of the present invention may have, (B) is a perspective view perpendicular to the width direction of the film of (A), and (C) is Schematic diagram for explaining an embossed region in the film of (A) (A)は本発明の環状ポリオレフィンフィルムが有し得るエンボス領域の一例の概略模式図であり、(B)は(A)のフィルムの幅手方向に対する垂直断面透視図であり、(C)は(A)のフィルムにおけるエンボス領域を説明するための概略模式図(A) is a schematic diagram of an example of an embossed region that the cyclic polyolefin film of the present invention may have, (B) is a perspective view perpendicular to the width direction of the film of (A), and (C) is Schematic diagram for explaining an embossed region in the film of (A) (A)は本発明の環状ポリオレフィンフィルムが有し得るエンボス領域の一例の概略模式図であり、(B)は(A)のフィルムの幅手方向に対する垂直断面透視図であり、(C)は(A)のフィルムにおけるエンボス領域を説明するための概略模式図(A) is a schematic diagram of an example of an embossed region that the cyclic polyolefin film of the present invention may have, (B) is a perspective view perpendicular to the width direction of the film of (A), and (C) is Schematic diagram for explaining an embossed region in the film of (A) フィルム製造ラインの概略図Schematic diagram of film production line 巻取装置の平面図Top view of winding device 巻芯の円周方向に対するフィルムの応力と巻長との関係を示すグラフGraph showing the relationship between the film stress and the winding length in the circumferential direction of the winding core 巻芯の円周方向に対するフィルムの応力の説明図Explanatory drawing of film stress in the circumferential direction of the core ストレート巻きで巻き取ったときの面圧と巻長との関係を示すグラフGraph showing the relationship between surface pressure and winding length when wound by straight winding オシレート巻きで巻き取ったときの面圧と巻長との関係を示すグラフGraph showing the relationship between surface pressure and winding length when wound by oscillating winding 巻取装置の作用を示すフローチャートFlow chart showing the operation of the winding device 無機ガスバリアー層の形成に用いられるプラズマCVD装置の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of a plasma CVD apparatus used for forming an inorganic gas barrier layer 偽造防止媒体Aの作製時のパターン露光を示す図The figure which shows the pattern exposure at the time of manufacture of the forgery prevention medium A. 偽造防止媒体Aに偏光板を介して観察されるパターンの拡大図Enlarged view of the pattern observed on the anti-counterfeiting medium A via the polarizing plate 偽造防止媒体Bの作製時のパターン露光で用いたフォトマスクを示す図The figure which shows the photomask used by pattern exposure at the time of manufacture of the forgery prevention medium B 偽造防止媒体Bの遅相軸のパターンを示す図The figure which shows the pattern of the slow axis of the forgery prevention medium B.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法は、少なくとも、環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm以下に調整する工程、
前記ドープ中のトルエンの含有量は0.001〜0.1質量%の範囲内であり、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程、
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
The method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention comprises, at least, dissolving a cyclic polyolefin-based resin using an organic solvent, adding an additive to prepare a dope, followed by filtration, and containing a foreign substance having a major axis of 10 μm or more as a finished film. Adjusting the amount to 5 pieces / 100 cm 2 or less,
The content of toluene in the dope is in the range of 0.001 to 0.1% by mass,
Casting the dope on an endless support,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web, and winding the stretched web as a roll,
It is characterized by having. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 5 .

前記ドープ中に有機溶媒としてさらにトルエンを加え、当該ドープ中の当該トルエンの含有量をトルエン以外の前記有機溶媒や前記添加剤を加え、0.001〜0.1質量%の範囲内に調整することで、ドープ中の樹脂起因の異物の溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることが明らかとなった。環状オレフィン系樹脂はトルエンに対して高い溶解性示し、樹脂合成の際に発生した合成不良成分を溶解する為、異物が大幅に減少する。その為、仕上がりフィルムの異物やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造することができる。また、トルエン含有量を上記範囲内にすることにより、ドープの溶解時間の短縮効果もある。   Toluene is further added as an organic solvent in the dope, and the content of the toluene in the dope is adjusted to a range of 0.001 to 0.1% by mass by adding the organic solvent and the additive other than toluene. As a result, it has been clarified that the solubility of the foreign matter caused by the resin in the dope increases, and the effect of reducing the failure of the foreign matter becomes remarkable. The cyclic olefin-based resin has high solubility in toluene and dissolves poorly-synthesized components generated during resin synthesis, so that the amount of foreign substances is significantly reduced. Therefore, a highly transparent cyclic polyolefin film can be produced by reducing foreign matter and haze of the finished film. Further, by setting the toluene content within the above range, there is also an effect of shortening the dope dissolution time.

また、前記ドープ中に添加剤としてさらにセルロースアシレートを加え、当該ドープ中の当該セルロースアシレートの含有量を前記有機溶媒やセルロースアシレート以外の前記添加剤を加え、0.0001〜0.1質量%の範囲内に調整することで、ドープの添加剤起因の異物溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることが明らかとなった。環状オレフィンに溶解しない添加剤に起因する異物が、極性の高いセルロースアシレート系樹脂に相溶する為、異物が大幅に減少するものと推定される。また、セルロースシレート系樹脂を上記範囲内にすることにより、ドープの溶解時間の短縮効果もある。   Further, a cellulose acylate is further added as an additive to the dope, and the content of the cellulose acylate in the dope is adjusted to 0.0001 to 0.1 by adding the additive other than the organic solvent and the cellulose acylate. By adjusting the content within the range of mass%, it becomes clear that the solubility of the foreign matter due to the additive of the dope increases and the effect of reducing the failure of the foreign matter becomes remarkable. It is presumed that foreign matter caused by additives that do not dissolve in the cyclic olefin is compatible with the highly polar cellulose acylate-based resin, so that the foreign matter is significantly reduced. Further, by setting the cellulose silate-based resin within the above range, there is also an effect of shortening the dope dissolution time.

さらに、セルロースアシレート系樹脂が入ることで、ハードコート基材との密着性が増し、ハードコートフィルムとしての硬度を上げることができる。   Further, by incorporating the cellulose acylate-based resin, the adhesion to the hard coat base material is increased, and the hardness as the hard coat film can be increased.

前記環状ポリオレフィン系樹脂を2種類以上用いることで、ドープ中の添加剤起因の異物溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることが明らかとなった。一方の環状オレフィンに溶解しない添加剤に起因する異物が、極性の異なる環状オレフィンに相溶する為、異物が大幅に減少する。その為、仕上がりフィルムの異物やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造することができる。   It has been clarified that the use of two or more kinds of the cyclic polyolefin-based resins increases the solubility of foreign substances caused by additives in the dope, and makes the effect of reducing the failure of foreign substances remarkable. Foreign matter caused by an additive that does not dissolve in one of the cyclic olefins is compatible with cyclic olefins having different polarities, so that the foreign matter is significantly reduced. Therefore, a highly transparent cyclic polyolefin film can be produced by reducing foreign matter and haze of the finished film.

また、前記セルロースアシレート以外の添加剤が、含窒素複素環化合物、有機エステル、及びマット剤から選ばれる少なくとも1種であることが、仕上がりフィルムの異物やヘイズを低下することによって、高透明性の環状ポリオレフィンフィルムを製造することができ、好ましい。   In addition, the additive other than the cellulose acylate is at least one selected from a nitrogen-containing heterocyclic compound, an organic ester, and a matting agent. The cyclic polyolefin film of the above can be produced, which is preferable.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法によって製造された環状ポリオレフィンフィルム(以下、本発明の環状ポリオレフィンフィルムという場合がある。)は、表示デバイスである液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムや、タッチパネル用基材フィルムやガスバリアー性基材フィルム等の基材フィルム、及びナノインプリント用基板フィルムやフレキシブル電子回路用基板フィルム等の基板フィルムなどに、好適に具備される。   A cyclic polyolefin film produced by the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention (hereinafter sometimes referred to as the cyclic polyolefin film of the present invention) is a polarizing plate for a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device as a display device. Suitable for optical films such as protective films and retardation films, base films for touch panels and gas barrier base films, and substrate films such as substrate films for nanoimprint and flexible electronic circuits. It is provided in.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and embodiments and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning including the numerical value described before and after it as a lower limit and an upper limit.

≪本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法の概要≫
本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法は、少なくとも、環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm以下に調整する工程、前記ドープ中のトルエンの含有量は0.001〜0.1質量%の範囲内であり、前記ドープを無端支持体上に流延する工程、前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、を有することを特徴とする。
<< Outline of the production method of the cyclic polyolefin film of the present invention >>
The method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention comprises, at least, dissolving a cyclic polyolefin-based resin using an organic solvent, adding an additive to prepare a dope, followed by filtration, and containing a foreign substance having a major axis of 10 μm or more as a finished film. Adjusting the amount to 5/100 cm 2 or less, casting the dope on an endless support , wherein the content of toluene in the dope is in the range of 0.001 to 0.1% by mass , Drying the cast dope and peeling it from the endless support to form a web, drying and stretching the peeled web, and winding the stretched web as a roll. It is characterized by the following.

本発明でいう「異物」とは、光散乱性異物や着色異物をいい、特に光学フィルムの場合には、異物が透明であっても、透過光を異常屈折するような作用を持つ場合、いわゆる輝点異物として光学的な欠点となるものも含まれる。   The term “foreign matter” in the present invention refers to a light-scattering foreign matter or a colored foreign matter, particularly in the case of an optical film, even if the foreign matter is transparent, if it has an action of abnormally refracting transmitted light, so-called The bright spot foreign matter includes an optical defect.

例えば、「異物」には、環状ポリオレフィン系樹脂合成の際に発生した合成不良成分や、添加剤起因の異物等が挙げられる。   For example, the “foreign matter” includes a poor synthesis component generated during the synthesis of the cyclic polyolefin-based resin, a foreign matter caused by an additive, and the like.

また、着色異物の中には、添加剤等の不純物や製造工程で混入するゴミ等以外に、マット剤(微粒子)の凝集物なども含まれる。   In addition, the colored foreign substances include aggregates of matting agents (fine particles), in addition to impurities such as additives and dust mixed in the manufacturing process.

フィルム中で確認される「異物」には、着色異物のように比較的固いものから、光散乱性異物のように比較的柔らかいゲル状の異物まで多種多様である。   The “foreign matter” observed in the film is various from a relatively hard one such as a colored foreign matter to a relatively soft gel-like foreign matter such as a light scattering foreign matter.

前記ゲル状の異物とは下記のような検出法で検出される異物をいう。   The gel-like foreign matter refers to a foreign matter detected by the following detection method.

(ドープにおけるゲル状の異物の検出法)
アルミパンに、細かく粉砕した光学フィルムを10mg入れて、TG/DTA6200(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製)を用いてNフロー下、260℃で60分間加熱した。光学フィルムが入った加熱後のアルミパンごと、10mlのメスフラスコに入れ、これをTHF(テトラヒドロフラン)で10mlとなるまでメスアップする。そして、23℃で24時間保存後に、アルミパン内の光学フィルムの溶解状態を、目視観察し溶け残り(ゲル)として観察されるものである。
(Method for detecting gel-like foreign matter in dope)
10 mg of the finely ground optical film was placed in an aluminum pan, and heated at 260 ° C. for 60 minutes under a N 2 flow using TG / DTA6200 (manufactured by SII NanoTechnology Inc.). The heated aluminum pan containing the optical film is put into a 10 ml volumetric flask, and the volume is increased to 10 ml with THF (tetrahydrofuran). After storage at 23 ° C. for 24 hours, the dissolution state of the optical film in the aluminum pan is visually observed and observed as undissolved (gel).

上記ゲル状の異物が多数あると光散乱の原因となり、全光線透過率の低下(ヘイズの上昇)や輝点欠陥等を招くため、特に光学補償フィルム等における光学フィルムの使用を想定すると、ゲル状の異物は可能な限り低減する必要がある。   The presence of a large number of the gel-like foreign substances causes light scattering, lowers the total light transmittance (increases in haze), causes bright spot defects, and the like. It is necessary to reduce as much foreign matter as possible.

ゲル状の異物の光学フィルム中での個数は、例えば光学フィルムの巻きから100cm分を切り出し、蛍光灯の光をフィルムに当て、表面の凹凸反射を目視で確認し、確認した部分を光学顕微鏡(100倍)で内容を精査し、ゴミ等の外部異物との分離をして、長径(粒子投影像の端部と端部とを結ぶ最も長い直径の長さ)が10μm以上のものをゲル状の異物の個数としてカウントする。 The number of gel-like contaminants in the optical film is determined, for example, by cutting 100 cm 2 minutes from the winding of the optical film, applying light from a fluorescent lamp to the film, visually confirming the uneven reflection on the surface, and examining the confirmed portion with an optical microscope. Scrutinize the contents by (100x) and separate them from external foreign matter such as dust, and gel those whose major diameter (the length of the longest diameter connecting the ends of the particle projection image) is 10 μm or more. It is counted as the number of foreign substances in a shape.

また、本願では着色異物の場合も長径が10μm以上のものを異物としてカウントする。   Further, in the present application, even in the case of colored foreign substances, those having a major axis of 10 μm or more are counted as foreign substances.

前記ゲル状の異物や着色異物は、本発明の高透明性の環状ポリオレフィンフィルムの場合は、5個/100cm以下であることが必要であり、0〜3個/100cmの範囲であることがより好ましいが、皆無であることが最も好ましい。 In the case of the highly transparent cyclic polyolefin film of the present invention, the gel-like foreign matter and the colored foreign matter need to be 5 pieces / 100 cm 2 or less, and 0 to 3 pieces / 100 cm 2. Is more preferable, but it is most preferable that none is present.

本発明者らは、長径が10μm以上の異物が5個/100cm以下である環状ポリオレフィンフィルムを製造する検討を鋭意進める中で、当該異物の少ない環状ポリオレフィン系樹脂や添加剤等の材料を用いることに加えて、環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に溶液流延法を採用することにより、用いる環状ポリオレフィン系樹脂や添加剤の不均一反応による不要成分を溶媒中に溶解することができ、かつ当該環状ポリオレフィン系樹脂や添加剤を粘度の低い溶媒中に分散することで、含有される固形物としての異物が分散されやすくなり、当該異物を濾過フィルターで効果的に捕集できることを見いだした。 The present inventors have been intensively studying the production of a cyclic polyolefin film in which a long particle having a diameter of 10 μm or more is 5 pieces / 100 cm 2 or less, and use a material such as a cyclic polyolefin-based resin or an additive having a small amount of the foreign substance. In addition, by employing the solution casting method for the production method of the cyclic polyolefin film, unnecessary components due to heterogeneous reaction of the cyclic polyolefin resin and additives used can be dissolved in a solvent, and It has been found that by dispersing a polyolefin-based resin or an additive in a solvent having a low viscosity, foreign substances as solid substances contained therein are easily dispersed, and the foreign substances can be effectively collected by a filtration filter.

さらに、ドープ中にトルエンやセルロースアシレートを微量含有させることで、異物を溶解して除去する効果がさらに高まることを見いだした。   Furthermore, it has been found that the effect of dissolving and removing foreign substances is further enhanced by adding a small amount of toluene or cellulose acylate to the dope.

また、用いる環状ポリオレフィン系樹脂として2種類以上の樹脂を併用することも、異物を溶解して除去する効果がより高まることを見いだした。   It has also been found that the use of two or more resins in combination as the cyclic polyolefin-based resin used is more effective in dissolving and removing foreign substances.

したがって、流延前の段階で異物の少ないドープを調製することによって、流延製膜時の異物故障を低減し、仕上がりフィルムの異物(輝点異物等)の含有量やヘイズを効果的に低減できることを見いだし、本発明に至ったものである。   Therefore, by preparing a dope with a small amount of foreign matter at a stage before casting, foreign matter failure during casting film formation is reduced, and the content and haze of foreign matter (such as bright spot foreign matter) in the finished film are effectively reduced. They have found what they can do and have led to the present invention.

≪環状ポリオレフィンフィルムの製造装置及び製造方法≫
最初に本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造に用いることのできる製造装置について説明する。
<< Production apparatus and production method for cyclic polyolefin film >>
First, a production apparatus that can be used for producing the cyclic polyolefin film of the present invention will be described.

環状ポリオレフィンフィルムの製造装置は特に限定されるものではなく、一般的な溶液流延法による製膜装置を用いることができる。   The apparatus for producing the cyclic polyolefin film is not particularly limited, and a film forming apparatus by a general solution casting method can be used.

図1は、本発明に好ましい環状ポリオレフィンの製造方法に用いられる装置の模式図である。   FIG. 1 is a schematic view of an apparatus used for a method for producing a cyclic polyolefin, which is preferable for the present invention.

環状ポリオレフィン系樹脂は、仕込釜41にて適当量の有機溶媒にて溶解され、濾過器44へ送液されて大きな凝集物を除去し、ストックタンク42へ送液する。その後、ストックタンク42より主ドープ溶解釜1へ各種添加液(例えば可塑剤やマット剤や紫外線吸収剤等)を添加して主ドープを調製する。   The cyclic polyolefin-based resin is dissolved in an appropriate amount of an organic solvent in a charging tank 41, sent to a filter 44 to remove large aggregates, and sent to a stock tank 42. After that, various additive liquids (for example, a plasticizer, a matting agent, an ultraviolet absorber, etc.) are added from the stock tank 42 to the main dope dissolving pot 1 to prepare a main dope.

添加剤として、可塑剤やマット剤や紫外線吸収剤等は、添加剤仕込み釜にて溶媒で撹拌、希釈して添加液とした後、仕込釜41へと適宜添加される。   As an additive, a plasticizer, a matting agent, an ultraviolet absorber, and the like are stirred and diluted with a solvent in an additive charging vessel to make an additive liquid, and then appropriately added to the charging vessel 41.

主ドープは、ダイ30より無端支持体31上へ流延され、剥離位置33で剥離されてウェブと形成し、多数のローラーにて搬送された後、テンター装置34にて延伸される。延伸されたウェブはローラー乾燥装置35にて多数の搬送ローラー36により乾燥されながら搬送され、巻取り装置37で巻き取られる。   The main dope is cast from the die 30 onto the endless support 31, separated at a separation position 33 to form a web, conveyed by a number of rollers, and then stretched by a tenter device 34. The stretched web is conveyed while being dried by a number of conveying rollers 36 by a roller drying device 35, and is wound by a winding device 37.

不図示だが、工程中にはフィルム幅を調整するためのスリット装置、フィルム端部に凹凸を付与してフィルムの貼り付き故障を改善するためのエンボス装置を適宜設けることが好ましい。   Although not shown, it is preferable to appropriately provide a slit device for adjusting the film width and an embossing device for imparting irregularities to the film edge to improve the sticking failure of the film during the process.

また、特開2000−301555号公報、特開2000−301558号公報、特開平7−032391号公報、特開平3−193316号公報、特開平5−086212号公報、特開昭62−037113号公報、特開平2−276607号公報、特開昭55−014201号公報、特開平2−111511号公報、及び特開平2−208650号公報等の各公報に記載のセルロースアシレートフィルム製膜技術を本発明に応用できる。   Also, JP-A-2000-301555, JP-A-2000-301558, JP-A-7-032391, JP-A-3-193316, JP-A-5-086212, and JP-A-62-037131 JP-A-2-276607, JP-A-55-014201, JP-A-2-111511, and JP-A-2-208650. Applicable to the invention.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法は、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm以下に調整する工程、
前記ドープ中のトルエンの含有量は0.001〜0.1質量%の範囲内であり、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程、
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程
を有する。
The production method of the cyclic polyolefin film of the present invention is at least
Dissolving a cyclic polyolefin-based resin using an organic solvent, adding an additive to prepare a dope, followed by filtration, and adjusting the content of foreign substances having a major axis of 10 μm or more as a finished film to 5 pieces / 100 cm 2 or less,
The content of toluene in the dope is in the range of 0.001 to 0.1% by mass,
Casting the dope on an endless support,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the exfoliated web; and winding the stretched web as a roll.

各工程について詳細に説明する。以下、「環状ポリオレフィンフィルム」は、単に「フィルム」という場合がある。   Each step will be described in detail. Hereinafter, the “cyclic polyolefin film” may be simply referred to as a “film”.

(1)ドープ調製工程(溶解工程)
環状ポリオレフィン系樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該環状ポリオレフィン系樹脂、場合によって、可塑剤や各種機能発現剤(例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、リターデーション調整剤、剥離促進剤、赤外吸収剤、マット剤など)を撹拌しながら溶解しドープを形成する工程、又は当該環状ポリオレフィン溶液に、前記可塑剤や各種機能発現剤を溶液した溶液を混合して主溶解液であるドープを調製する工程である。
(1) Dope preparation step (dissolution step)
In an organic solvent mainly composed of a good solvent for the cyclic polyolefin-based resin, the cyclic polyolefin-based resin in a dissolving vessel, depending on the case, a plasticizer or various function developing agents (for example, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, A step of forming a dope by dissolving a retardation adjuster, a release accelerator, an infrared absorber, a matting agent, etc.) with stirring, or a solution obtained by dissolving the plasticizer or various function developing agents in the cyclic polyolefin solution. This is a step of preparing a dope as a main solution by mixing.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを調製するのに有用な有機溶媒は、環状ポリオレフィン系樹脂及びその他の化合物を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。   When the cyclic polyolefin film of the present invention is produced by a solution casting method, an organic solvent useful for preparing a dope can be used without limitation as long as it can simultaneously dissolve the cyclic polyolefin-based resin and other compounds. .

例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、例えば主たる溶媒として、ジクロロメタン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用することができ、ジクロロメタン又は酢酸エチルであることが特に好ましい。   For example, a chlorine-based organic solvent is dichloromethane, and a non-chlorine-based organic solvent is methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolan, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, , 2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2 -Methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane and the like. For example, dichloromethane, methyl acetate, ethyl acetate, and acetone can be preferably used as the main solvent, Or particularly preferably ethyl acetate.

ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の範囲の炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属製の無端支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは非塩素系有機溶媒系での環状ポリオレフィン及びその他の化合物の溶解を促進する役割もある。本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製膜においては、得られる環状ポリオレフィンフィルムの平面性を高める点から、アルコール濃度が0.5〜15.0質量%の範囲内にあるドープを用いて製膜する方法を適用することができる。   It is preferable that the dope contains a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in the range of 1 to 40% by mass in addition to the organic solvent. When the proportion of the alcohol in the dope is high, the web gels and the peeling from the metal endless support becomes easy, and when the proportion of the alcohol is small, the cyclic polyolefin and other non-chlorine organic solvent system are used. It also has the role of promoting compound dissolution. In the formation of the cyclic polyolefin film of the present invention, in order to enhance the planarity of the obtained cyclic polyolefin film, a method of forming a film using a dope having an alcohol concentration in the range of 0.5 to 15.0% by mass. Can be applied.

特に、ジクロロメタン、及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、環状ポリオレフィン及びその他の化合物を、計15〜45質量%の範囲で溶解させたドープ組成物であることが好ましい。   Particularly, a dope composition in which a cyclic polyolefin and other compounds are dissolved in a solvent containing dichloromethane and a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in a total range of 15 to 45% by mass. It is preferred that

炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からメタノール及びエタノールが好ましい。   Examples of the linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol and tert-butanol. Of these, methanol and ethanol are preferred because of the stability of the dope, the relatively low boiling point and the good drying property.

本発明では、上記有機溶媒に微量のトルエンを含有させ、前記ドープ中のトルエン含有量を、他の有機溶媒や添加剤を加え、0.001〜0.1質量%の範囲内に調整する。トルエンを含有させることで、ドープ中の樹脂起因の異物の溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になる。環状オレフィン系樹脂はトルエンに対して高い溶解性示し、樹脂合成の際に発生した合成不良成分を溶解する為、異物が大幅に減少するものと推察される。 In the present invention, contain a small amount of toluene to the organic solvent, the content of toluene in the previous SL-doped, the other organic solvents and additives added in the range of 0.001 to 0.1 mass% you adjustment. The inclusion of toluene increases the solubility of the foreign matter caused by the resin in the dope, and the effect of reducing the failure of the foreign matter becomes remarkable. It is presumed that the cyclic olefin-based resin shows high solubility in toluene and dissolves poorly-synthesized components generated at the time of resin synthesis, so that foreign substances are greatly reduced.

前記トルエンは、市販の精製トルエンを用いることができ、純度は99.0%以上のトルエンが好ましい。   As the toluene, commercially available purified toluene can be used, and toluene having a purity of 99.0% or more is preferable.

環状ポリオレフィン系樹脂や可塑剤や機能発現剤の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号公報、特開平9−95557号公報、又は特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。   For dissolving a cyclic polyolefin resin, a plasticizer, or a function developing agent, a method of dissolving at normal pressure, a method of dissolving at a temperature lower than the boiling point of the main solvent, a method of dissolving at a pressure of higher than the boiling point of the main solvent, JP-A-9-95544 Various dissolution methods such as a method performed by a cooling dissolution method described in JP-A-9-95557 or JP-A-9-95538 and a method performed at a high pressure described in JP-A-11-21379 are disclosed. Although it can be used, it is particularly preferable to carry out the method under pressure at a temperature higher than the boiling point of the main solvent.

また、環状ポリオレフィン系樹脂や添加剤は、特開2011−143360号公報図5に示す混合装置を用いることが好ましい。当該混合装置は、液体及び固形物を混合する混合槽に液体を供給するための液体供給管であって、液体が注入される一つ以上の枝管、及び該枝管に連通され、枝管に注入された液体を混合槽に供給する一つの主管を有し、主管軸方向からの投影図において、枝管内の液体移動方向が、主管における枝管との連通位置からの主管半径方向との間で傾斜角を有するように、枝管が配置されている。このような枝管を有する固形物導入管より導入されることが、異物を低減する観点から好ましい。   It is preferable to use a mixing device shown in FIG. 5 of JP-A-2011-143360 for the cyclic polyolefin-based resin and additives. The mixing device is a liquid supply pipe for supplying a liquid to a mixing tank that mixes a liquid and a solid material, the liquid supply pipe being one or more branch pipes into which the liquid is injected, and a branch pipe connected to the branch pipe. In the projection view from the main pipe axial direction, the liquid movement direction in the branch pipe is different from the main pipe radial direction from the communication position with the branch pipe in the main pipe. Branch pipes are arranged so as to have an inclination angle between them. It is preferable from the viewpoint of reducing foreign matter that the solid matter is introduced from a solid matter introduction pipe having such a branch pipe.

具体的には、可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤などの添加剤の溶液はそれぞれ独立して、前記公報図5に示す固形物導入管5より添加され、主溶媒に溶解又は分散されてドープを構成する。   Specifically, solutions of additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, a matting agent, and an antioxidant are independently added from the solid matter introduction pipe 5 shown in FIG. Dispersed to form the dope.

環状ポリオレフィン系樹脂の溶解に用いる加圧容器の種類は、特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、撹拌ができればよい。加圧容器には、その他、圧力計、温度計などの計器類を適宜配設する。加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The type of pressure vessel used for dissolving the cyclic polyolefin-based resin is not particularly limited, as long as it can withstand a predetermined pressure and can be heated and stirred under pressure. In addition, instruments such as a pressure gauge and a thermometer are appropriately provided in the pressurized container. Pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or by increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶媒を添加しての加熱温度は、使用する溶媒の沸点以上で、2種類以上の混合溶媒の場合は、沸点が低い方の溶媒の沸点以上の温度に加温しかつ該溶媒が沸騰しない範囲の温度が好ましい。加熱温度が高すぎると、必要とされる圧力が大きくなり、生産性が悪くなる。好ましい加熱温度の範囲は20〜120℃であり、30〜100℃が、より好ましく、40〜80℃の範囲がさらに好ましい。また圧力は、設定温度で、溶媒が沸騰しないように調整される。   The heating temperature after the addition of the solvent is higher than the boiling point of the solvent to be used, and in the case of a mixed solvent of two or more, the heating temperature is higher than the boiling point of the lower boiling solvent and the solvent does not boil. Is preferred. If the heating temperature is too high, the required pressure will increase and productivity will suffer. A preferred heating temperature range is from 20 to 120C, more preferably from 30 to 100C, even more preferably from 40 to 80C. The pressure is adjusted at the set temperature so that the solvent does not boil.

本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂ドープの調製装置は、該装置が貯蔵槽、熱交換器及び循環路を有し、該貯蔵槽と該熱交換器が該循環路を介して連結していることが好ましい。循環路を介して連結しているとは、貯蔵槽と熱交換器との間に循環路があり、また熱交換器と貯蔵槽との間に循環路があるということである。循環路は熱交換可能になっていていてもよく、循環路が熱交換器を兼ねる場合もある。ドープは貯蔵槽のドープ排出口から熱交換器を経て貯蔵槽に戻ってもよいし、貯蔵槽のドープ排出口以外の口から熱交換器を経て貯蔵槽に戻ってもよい。又は循環路を備えたドープ調製装置を二つ以上つなげてもよい。この場合、二つ目の貯蔵槽では更に溶媒を追加してもよい。循環路は効率的に溶解時間を短縮する機能を有しており、完全溶解の能力も有している。一般に、循環器を設けた溶解容器では、単に循環しているだけで、溶解状態にするには時間がかかり過ぎる。一方、溶液に熱を短時間加える熱交換器では、ドープにゲルが発生しやすく完全溶解するには時間が短過ぎる。   The apparatus for preparing a cyclic polyolefin-based resin dope according to the present invention has a storage tank, a heat exchanger, and a circulation path, and the storage tank and the heat exchanger are connected via the circulation path. Is preferred. The connection via the circulation path means that there is a circulation path between the storage tank and the heat exchanger, and that there is a circulation path between the heat exchanger and the storage tank. The circulation path may be heat-exchangeable, and the circulation path may also serve as a heat exchanger. The dope may return to the storage tank through a heat exchanger from the dope discharge port of the storage tank, or may return to the storage tank through a heat exchanger from a port other than the dope discharge port of the storage tank. Alternatively, two or more dope preparation apparatuses having a circulation path may be connected. In this case, a solvent may be further added in the second storage tank. The circulation path has a function of efficiently shortening the dissolution time, and also has a capability of complete dissolution. In general, in a dissolving vessel provided with a circulator, simply circulating takes too much time to achieve a dissolved state. On the other hand, in a heat exchanger that applies heat to a solution for a short time, a gel is easily generated in the dope, and the time is too short for complete dissolution.

本発明に用いられる貯蔵槽は、ジャケットを該槽の内部又は外部に装備し、下記のようなせん断力を有する撹拌機を有する耐圧容器であることが、ドープをより均一化するのに好ましい。   The storage tank used in the present invention is preferably a pressure-resistant container equipped with a jacket inside or outside the tank and having a stirrer having a shearing force as described below for more uniform dope.

環状ポリオレフィン系樹脂と溶媒とを混合し溶解する過程で、9.8〜9.8×10Nのせん断力をかけて撹拌することが好ましい。上記せん断力の範囲で撹拌することは、粉体凝集物ができる間もなく、またできたとしても粉体凝集物を粉砕して溶解することができる。9.8N未満のせん断力では撹拌力が弱く分散効率が悪く、また、9.8×10Nを超える分散物が細かくなり過ぎ、後の濾過工程で目詰まりが生じ、濾過効率を著しく低下させてしまう。せん断力は駆動モーターMの回転数で制御することができる。 In the process of mixing and dissolving the cyclic polyolefin-based resin and the solvent, it is preferable to stir by applying a shear force of 9.8 to 9.8 × 10 5 N. Stirring within the above-mentioned range of the shearing force allows powder agglomerates to be formed as soon as possible, and even if they are formed, the powder agglomerates can be pulverized and dissolved. If the shearing force is less than 9.8 N, the stirring power is weak and the dispersion efficiency is poor, and the dispersion exceeding 9.8 × 10 5 N becomes too fine, causing clogging in the subsequent filtration step, resulting in a significant decrease in filtration efficiency. Let me do it. The shearing force can be controlled by the rotation speed of the driving motor M.

環状ポリオレフィンの溶解後は、冷却しながら容器から取り出すか、又は容器からポンプ等で抜き出して、熱交換器などで冷却し、得られたポリマーのドープを製膜に供するが、このときの冷却温度は、常温まで冷却してもよい。   After dissolution of the cyclic polyolefin, the polymer is taken out of the vessel with cooling, or withdrawn from the vessel with a pump or the like, cooled with a heat exchanger or the like, and the obtained polymer dope is provided for film formation. May be cooled to room temperature.

ドープ中の環状ポリオレフィンの濃度は、10〜40質量%の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。   The concentration of the cyclic polyolefin in the dope is preferably in the range of 10 to 40% by mass. The compound is added to the dope during or after dissolution to dissolve and disperse, and then filtered with a filter medium, defoamed, and sent to the next step by a liquid sending pump.

(含水率)
また、ドープ調製工程では、製造開始時から定常運転までの立ち上げ時は含水率が2.0〜5.0質量%、定常運転時は含水率が0.1〜2.0質量%となるように調整することが、ドープの安定性やフィルムの透明性の観点から、好ましい。
(Water content)
In addition, in the dope preparation step, the water content is 2.0 to 5.0% by mass during startup from the start of production to the steady operation, and the water content is 0.1 to 2.0% by mass during the steady operation. Such adjustment is preferred from the viewpoint of the stability of the dope and the transparency of the film.

前記立ち上げ時の含水率をドープ全量に対して0.6〜2.0質量%の範囲内にする方法としては、樹脂中の含水率とアルコール中の含水率の合計から、ドープ中の含水率を算出し、不足分は溶媒に混合したのちドープとして調合する方法がある。   As a method of setting the water content at the start-up within the range of 0.6 to 2.0% by mass with respect to the total amount of the dope, the water content in the dope is determined from the sum of the water content in the resin and the water content in the alcohol. There is a method in which the ratio is calculated, and the shortage is mixed with a solvent and then mixed as a dope.

前記立ち上げ時はそのラインスピードが遅いことから、含水率がドープ全量に対して2.0質量%より小さいと、剥離する前にウェブが無端支持体から剥がれやすくなる。フィルムが剥がれてしまうと、再び立ち上げを行わなければならず、生産性が悪化してしまう。また、前記含水率が5.0質量%より大きいと、環状ポリオレフィン系樹脂の溶媒に対する溶解性が悪くなり無端支持体汚れが生じやすくなる。   Since the line speed is low at the time of the start-up, if the water content is less than 2.0% by mass based on the total amount of the dope, the web tends to peel off from the endless support before peeling. If the film is peeled off, it must be started up again, and the productivity will deteriorate. When the water content is more than 5.0% by mass, the solubility of the cyclic polyolefin-based resin in the solvent is deteriorated, and the endless support is easily stained.

また、定常運転時においては、含水率がドープ全量に対して0.6質量%より小さいと、立ち上げ時における場合と同様に、ウェブが無端支持体から剥がれやすくなり、生産性が悪化してしまう。また、前記含水率が2.0質量%より多いと、剥離後に無端支持体に汚れが生じてしまう。   In addition, at the time of steady operation, if the water content is smaller than 0.6% by mass based on the total amount of the dope, the web is easily peeled off from the endless support similarly to the case at the time of start-up, and productivity is deteriorated. I will. On the other hand, if the water content is more than 2.0% by mass, the endless support will be stained after peeling.

前記立ち上げ時から定常運転時においてドープの含水率を0.6〜2.0質量%の範囲内に下げる手段としては、前記所定の環状ポリオレフィン系樹脂、その他の添加剤をインライン添加することで調整すること、樹脂中の含水率とアルコール中の含水率の合計から、ドープ中の含水率を算出し、調整した低含水率のドープを、ラインに流していくことで含水率を徐々に下げること等が挙げられる。   As means for lowering the water content of the dope within the range of 0.6 to 2.0% by mass from the start-up to the time of steady operation, the predetermined cyclic polyolefin-based resin and other additives are added in-line. To adjust, from the sum of the water content in the resin and the water content in the alcohol, calculate the water content in the dope, and gradually lower the water content by flowing the adjusted low water content dope through the line. And the like.

また、環状ポリオレフィン系樹脂溶解工程に微粒子を添加する場合の溶解混合は、主溶媒の沸点以上、同沸点+50℃以下の温度で行うのが、好ましい。このように、環状ポリオレフィン系樹脂溶解工程における微粒子の溶解混合の温度を、主溶媒の沸点+50℃以下の温度に規定することにより、異物発生率を、ドープの溶解混合工程において確実に抑えることができる。   In addition, when the fine particles are added to the cyclic polyolefin-based resin dissolving step, the dissolution mixing is preferably performed at a temperature not lower than the boiling point of the main solvent and not higher than the boiling point + 50 ° C. In this way, by setting the temperature for dissolving and mixing the fine particles in the cyclic polyolefin resin dissolving step at a temperature equal to or lower than the boiling point of the main solvent + 50 ° C., the foreign matter generation rate can be reliably suppressed in the dope dissolving and mixing step. it can.

また、環状ポリオレフィン系樹脂溶解工程における微粒子の溶解混合を、30〜300分の範囲の時間行うのが、好ましい。このように、環状ポリオレフィン系樹脂溶解工程における微粒子の溶解混合の時間を規定することにより、環状ポリオレフィンフィルムにおける微粒子の変動係数(分布)の劣化がなく、また異物故障等生産適性上の観点からも好ましい。   In addition, it is preferable that the dissolving and mixing of the fine particles in the cyclic polyolefin resin dissolving step is performed for a time period in the range of 30 to 300 minutes. As described above, by defining the time for dissolving and mixing the fine particles in the cyclic polyolefin-based resin dissolving step, the variation coefficient (distribution) of the fine particles in the cyclic polyolefin film is not deteriorated, and also from the viewpoint of production suitability such as foreign matter failure. preferable.

さらに、環状ポリオレフィン系樹脂の溶解工程で添加する微粒子を、環状ポリオレフィン系樹脂の溶解釜への添加中か、又は添加後、環状ポリオレフィン系樹脂が溶解釜で完全溶解される前までに添加するのが、好ましい。このように、環状ポリオレフィン系樹脂の溶解工程での微粒子の添加のタイミングを規定することにより、環状ポリオレフィン系樹脂溶液(ドープ)に含有される微粒子の添加起因による異物発生率を、ドープの溶解混合工程において確実に抑えることができて、その後の濾過工程でのフィルターへの負担を大幅に軽減し、異物の発生がなく、生産性にも優れている。   Further, the fine particles to be added in the step of dissolving the cyclic polyolefin-based resin are added during or after the addition of the cyclic polyolefin-based resin to the dissolving vessel and before the cyclic polyolefin-based resin is completely dissolved in the dissolving vessel. Is preferred. In this way, by defining the timing of adding the fine particles in the cyclic polyolefin-based resin dissolving step, the foreign matter generation rate due to the addition of the fine particles contained in the cyclic polyolefin-based resin solution (dope) can be reduced. It can be reliably suppressed in the process, greatly reducing the load on the filter in the subsequent filtration process, free of foreign matter, and excellent in productivity.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法においては微粒子の分散液をあらかじめ調製し、この微粒子分散液を、環状ポリオレフィン系樹脂を主溶媒に溶解させる工程で添加し、添加後、主溶媒の沸点以上の温度で溶解混合することが好ましい。   In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, a dispersion of fine particles is prepared in advance, and the fine particle dispersion is added in a step of dissolving the cyclic polyolefin-based resin in a main solvent. It is preferable to dissolve and mix at a temperature.

微粒子を分散するときに使用する溶媒は、環状ポリオレフィン系樹脂の製膜時に用いられる有機溶媒を用いることができる。特にアルコールが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等の炭素原子数1〜8の等が挙げられる。   As a solvent used for dispersing the fine particles, an organic solvent used for forming a cyclic polyolefin resin film can be used. Alcohols are particularly preferable, and examples thereof include those having 1 to 8 carbon atoms such as methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol and tert-butanol.

微粒子を溶媒と混合して分散するときの微粒子の濃度は、5〜30質量%が好ましく、8〜25質量%がさらに好ましく、10〜15質量%が最も好ましい。微粒子分散液中の微粒子濃度は、高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。   The concentration of the fine particles when the fine particles are mixed with the solvent and dispersed is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 8 to 25% by mass, and most preferably 10 to 15% by mass. The higher the concentration of the fine particles in the fine particle dispersion, the lower the turbidity of the liquid with respect to the added amount, which is preferable because haze and aggregates are improved.

微粒子を溶媒と少量の樹脂とを混合して分散するときの微粒子の濃度は、0.5〜10質量%が好ましく、1〜5質量%がさらに好ましく、1〜3質量%が最も好ましい。樹脂の濃度は、2〜10質量%が好ましく、3〜7質量%がさらに好ましく、4〜6質量%が最も好ましい。この範囲が微粒子の分散性に優れるため好ましい。なお、微粒子の含有量の少ない方が、低粘度で取り扱いやすく、微粒子の含有量の多い方が、添加量が少なく、主ドープへの添加が容易になるため、上記の範囲が好ましい。   When the fine particles are mixed and dispersed with a solvent and a small amount of resin, the concentration of the fine particles is preferably 0.5 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, and most preferably 1 to 3% by mass. The resin concentration is preferably 2 to 10% by mass, more preferably 3 to 7% by mass, and most preferably 4 to 6% by mass. This range is preferable because of excellent dispersibility of the fine particles. The above range is preferable because the smaller the content of the fine particles, the lower the viscosity and the ease of handling, and the larger the content of the fine particles, the smaller the added amount and the easier the addition to the main dope.

微粒子を分散する分散機は、通常の分散機が使用できる。分散機は、大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。微粒子の分散には、メディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。   An ordinary disperser can be used as a disperser for dispersing the fine particles. Dispersers are broadly divided into media dispersers and medialess dispersers. For dispersing the fine particles, a medialess disperser is preferable because the haze is low.

メディア分散機としては、ボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。メディアレス分散機としては、超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては、高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理することにより、例えば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大圧力条件が9.8×10N以上であることが好ましい。さらに好ましくは1.96×10N以上である。またその際、最高到達速度が100m/sec以上に達するもの、伝熱速度が100kcal/hr以上に達するものが好ましい。 Examples of the media dispersing machine include a ball mill, a sand mill, and a dyno mill. Examples of the medialess disperser include an ultrasonic type, a centrifugal type, and a high-pressure type. In the present invention, a high-pressure disperser is preferable. The high-pressure dispersing device is a device that creates a special condition such as a high shear or a high pressure state by allowing a composition in which fine particles and a solvent are mixed to pass through a thin tube at a high speed. By treating with a high-pressure dispersion device, for example, it is preferable that the maximum pressure condition inside the device is 9.8 × 10 2 N or more in a thin tube having a tube diameter of 1 to 2000 μm. More preferably, it is at least 1.96 × 10 3 N. In this case, it is preferable that the maximum arrival speed reaches 100 m / sec or more, and the heat transfer speed reaches 100 kcal / hr or more.

上記のような高圧分散装置には、MicrofluidicsCorporation社製の超高圧ホモジナイザー(商品名マイクロフルイダイザー)又はナノマイザー社製ナノマイザー、又はウルトラタラックスがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモゲナイザー、三和機械株式会社製、品番UHN−01等が挙げられる。   Examples of the high-pressure dispersing device as described above include an ultra-high pressure homogenizer (trade name: Microfluidizer) manufactured by Microfluidics Corporation or a nanomizer manufactured by Nanomizer, or Ultra Turrax. Homogenizer manufactured by Machinery, product number UHN-01 manufactured by Sanwa Machine Co., Ltd., and the like.

環状ポリオレフィンフィルムに含まれる微粒子中の、例えばシリカ(Si)分含量は、絶乾した環状ポリオレフィンフィルムをマイクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析を行うことによって求めることができる。   The content of, for example, silica (Si) in the fine particles contained in the cyclic polyolefin film can be determined by subjecting a completely dried cyclic polyolefin film to pretreatment with a micro digest wet decomposition apparatus (sulfuric acid and nitric acid decomposition) and alkali melting, followed by ICP-AES. (Inductively coupled plasma emission spectrometer).

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法では、環状ポリオレフィン系樹脂の溶解工程で添加する微粒子分散液に、環状ポリオレフィン系樹脂と同じ樹脂が溶解混合されており、微粒子分散液の固形物比率が、溶解工程で溶解する環状ポリオレフィン系樹脂溶液(ドープ)の固形物比率の0.1〜0.5倍であることが好ましい。   In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, the same resin as the cyclic polyolefin resin is dissolved and mixed in the fine particle dispersion added in the step of dissolving the cyclic polyolefin resin. It is preferably 0.1 to 0.5 times the solid matter ratio of the cyclic polyolefin resin solution (dope) dissolved in the step.

このように、微粒子分散液に、微粒子の他に環状ポリオレフィンが含まれていることにより、分散液の粘度が調整され、停滞安定性に優れる点で好ましい。   Thus, it is preferable that the fine particle dispersion contains a cyclic polyolefin in addition to the fine particles since the viscosity of the dispersion is adjusted and the stagnation stability is excellent.

さらに、共流延を行うために、特開2009−072963号公報図2に示すように、ドープ調製を複数種類同時に調製できる装置を用いることも好ましい。当該公報図2においては、原料ドープ11は、送液ポンプP3、P4、P5により、中間層用、支持体面用、エアー面用の三つのドープ流路33、34、35を送液される。そして、中間層用ドープ流路33においては、送液ポンプP6によりストックタンク36に貯留された添加剤液13が添加された後、インラインミキサー39、剪断混合器43により原料ドープ11と添加剤液13とが混合されて中間層用ドープ16が生成される。同様に、支持体面用ドープ流路34においては、原料ドープ11と添加剤液14とがインラインミキサー40、剪断混合器44により混合されて支持体面用ドープ17が生成され、エアー面用ドープ流路35においては、原料ドープ11と添加剤液15とがインラインミキサー41、剪断混合器45により混合されてエアー面用ドープ18が生成される。なお、必要に応じ、支持体面用、エアー面用のドープ流路34、35において、ドープのTAC濃度を調節するための希釈液を添加してもよい。   Further, in order to perform co-casting, it is preferable to use an apparatus capable of simultaneously preparing a plurality of types of dope as shown in FIG. 2 of JP-A-2009-072963. In FIG. 2, three dope channels 33, 34, and 35 for the intermediate layer, the support surface, and the air surface are sent from the raw material dope 11 by the liquid sending pumps P 3, P 4, and P 5. Then, in the intermediate layer dope flow path 33, after the additive liquid 13 stored in the stock tank 36 is added by the liquid sending pump P 6, the raw material dope 11 and the additive liquid are added by the in-line mixer 39 and the shear mixer 43. 13 are mixed with each other to produce an intermediate layer dope 16. Similarly, in the support surface dope flow path 34, the raw material dope 11 and the additive liquid 14 are mixed by the in-line mixer 40 and the shear mixer 44 to generate the support surface dope 17, and the air surface dope flow path In 35, the raw material dope 11 and the additive liquid 15 are mixed by the in-line mixer 41 and the shear mixer 45 to produce the air-surface dope 18. If necessary, a diluent for adjusting the TAC concentration of the dope may be added to the dope channels 34 and 35 for the support surface and the air surface.

以上の方法により、上記公報図2で示すように、例えば環状ポリオレフィン濃度が5〜40質量%の3種類のドープ16、17、18を製造することができる。そして、生成された3種類のドープ16、17、18は、濾過器を通して流延部へ送られる。   By the above method, as shown in FIG. 2 of the above publication, for example, three types of dopes 16, 17, and 18 having a cyclic polyolefin concentration of 5 to 40% by mass can be produced. Then, the three types of dopes 16, 17, and 18 are sent to the casting unit through the filter.

(2)濾過工程
本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法において、異物故障を低減する観点から、ドープの濾過は重要な工程である。
(2) Filtration Step In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, filtration of the dope is an important step from the viewpoint of reducing foreign matter failure.

本発明において、環状ポリオレフィン系樹脂溶液(ドープ)の濾過は、ドープを、前記主たる溶媒の1気圧における沸点以上の温度で濾過することにより、ドープ中のゲル状異物を取り除くことができるため好ましい。好ましい温度範囲は40〜120℃であり、45〜70℃が、より好ましく、45〜60℃の範囲であることがさらに好ましい。   In the present invention, it is preferable to filter the cyclic polyolefin-based resin solution (dope) by filtering the dope at a temperature equal to or higher than the boiling point of the main solvent at 1 atm, so that gel-like foreign matter in the dope can be removed. A preferred temperature range is from 40 to 120 ° C, more preferably from 45 to 70 ° C, even more preferably from 45 to 60 ° C.

濾過器では、ドープを、例えば90%捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の10〜100倍の濾材で、濾過する。   In the filter, the dope is filtered, for example, with a filter medium having a 90% collection particle diameter of 10 to 100 times the average particle diameter of the fine particles.

濾過の方法にはいくつかの手段があるが、環状ポリオレフィンのドープの濾過は、フィルタープレスやディスクフィルターが適しており、特に濾過面積を広くとれる点で、フィルタープレス方式の濾過が、生産性の観点から適している。   There are several methods for the filtration method.For the filtration of the cyclic polyolefin dope, a filter press or a disc filter is suitable.In particular, the filtration by the filter press method is advantageous in that the filtration area can be widened. Suitable from a point of view.

濾過のフローの一例を図2に示す。ここでは、主濾過装置に附属的に異物除去に効果の高い限外濾過装置を付加した濾過装置について説明する。   FIG. 2 shows an example of the flow of filtration. Here, a description will be given of a filtration device in which an ultrafiltration device having a high effect on foreign matter removal is added to the main filtration device.

環状ポリオレフィン系樹脂を溶解した溶液(ドープ)は、溶解釜(図示略)から静置タンク(ストックタンク)103に一旦貯えられる。主濾過装置100に対しては、配管108により接続された限外濾過装置102が併設されており、静置タンク103から主濾過装置100に至るドープ流送管104の途上には、ポンプ105と開閉バルブ113が介在されるとともに、開閉バルブ113の下流側に希釈用溶媒タンク106からの溶媒注入管107が接続されている。主濾過装置100に対して限外濾過装置102を併設させる配管108には、主濾過装置100の出口側に近い開閉バルブ116と主濾過装置100の入口側に近い開閉バルブ117とが介在されている。限外濾過装置102には、分離した溶媒を排出する溶媒排出管118が接続されている。なお、限外濾過装置102において分離した溶媒は、溶媒排出管118から希釈用溶媒タンク106に接続された溶媒再利用返送管119に送られて再利用されるものである。また、主濾過装置100の出口側のドープ流送管104には、配管108の分岐状接続箇所の下流側に開閉バルブ115が介在されている。   The solution (dope) in which the cyclic polyolefin-based resin is dissolved is temporarily stored in a stationary tank (stock tank) 103 from a dissolving tank (not shown). An ultrafiltration device 102 connected to the main filtration device 100 is connected to the main filtration device 100 by a pipe 108. An opening / closing valve 113 is interposed, and a solvent injection pipe 107 from the dilution solvent tank 106 is connected downstream of the opening / closing valve 113. An opening / closing valve 116 near the outlet side of the main filtration device 100 and an opening / closing valve 117 near the entrance side of the main filtration device 100 are interposed in a pipe 108 that connects the ultrafiltration device 102 to the main filtration device 100. I have. The ultrafiltration device 102 is connected to a solvent discharge pipe 118 for discharging the separated solvent. The solvent separated in the ultrafiltration device 102 is sent from the solvent discharge pipe 118 to the solvent reuse return pipe 119 connected to the dilution solvent tank 106, and is reused. An opening / closing valve 115 is interposed in the dope feed pipe 104 on the outlet side of the main filtration device 100 on the downstream side of the branch connection point of the pipe 108.

主濾過装置100内にドープを初期充填させる際には、ドープ流送管104途上の開閉バルブ113を開け、主濾過装置100出口側のドープ流送管104途上の開閉バルブ115を閉じておく。静置タンク103からポンプ105の作動により流送管104内を送られてきた例えば10〜50Pa・sの粘度を有する環状ポリオレフィン系樹脂のドープに対し、溶媒注入管107の開閉バルブ114を開けて、希釈用溶媒タンク106から溶媒を注入し、所定の流延用高粘度を有するドープを溶媒で希釈して、例えば1〜9Pa・sの粘度に低粘度化させ、この低粘度化ドープを主濾過装置100に注入して初期充填することにより、主濾過装置100内の空気及び濾材図示略)内部の気泡を追い出すものである。このように、低粘度化させたドープを主濾過装置100に注入すると、低粘度ドープは濾材に浸透されやすく、濾材の隅々にまで行き渡り、濾材内部の気泡を追い出すことができる。   When the dope is initially charged into the main filtration device 100, the on-off valve 113 on the way of the dope flow pipe 104 is opened, and the on-off valve 115 on the exit side of the dope flow pipe 104 on the exit side of the main filtration apparatus 100 is closed. The opening / closing valve 114 of the solvent injection pipe 107 is opened for the dope of the cyclic polyolefin resin having a viscosity of, for example, 10 to 50 Pa · s sent from the stationary tank 103 to the inside of the flow pipe 104 by the operation of the pump 105. A solvent is injected from the diluting solvent tank 106, and a dope having a predetermined high viscosity for casting is diluted with the solvent to reduce the viscosity to, for example, a viscosity of 1 to 9 Pa · s. The air in the main filtration device 100 and the air bubbles in the filter medium (not shown) are expelled by being injected into the filtration device 100 and initially filled. When the low-viscosity dope is injected into the main filtration device 100 as described above, the low-viscosity dope easily penetrates into the filter medium, spreads to every corner of the filter medium, and can expel bubbles inside the filter medium.

次いで、主濾過装置100より排出した低粘度ドープを、配管108及び開閉バルブ116を経て限外濾過装置102に導入して、限外濾過装置102内の限外濾過膜図示略)により溶媒を分離除去して、ドープを所定の高粘度にまで濃縮し、限外濾過装置102より排出した所定の高粘度のドープを、配管108及び開閉バルブ117を経て主濾過装置100に循環させる。   Next, the low-viscosity dope discharged from the main filtration device 100 is introduced into the ultrafiltration device 102 via the pipe 108 and the opening / closing valve 116, and the solvent is separated by the ultrafiltration membrane in the ultrafiltration device 102 (not shown). The dope is removed, the dope is concentrated to a predetermined high viscosity, and the predetermined high viscosity dope discharged from the ultrafiltration device 102 is circulated to the main filtration device 100 via the pipe 108 and the opening / closing valve 117.

主濾過装置100の充填初期においては、溶媒注入管107の開閉バルブ114を開けておき、希釈用溶媒タンク106から溶媒を連続して注入するのが、好ましい。そして、主濾過装置100内の空気及び濾材(図示略)内部の気泡が完全に追い出された時点で、溶媒注入管107の開閉バルブ114を閉じ、主濾過装置100に導入した充填後の低粘度ドープを限外濾過装置102に1〜数回循環させて、ドープを所定の高粘度にまで次第に濃縮して行く。最終的に、限外濾過装置102より排出した所定の高粘度のドープを主濾過装置100に循環させる。   In the initial stage of the filling of the main filtration device 100, it is preferable that the opening and closing valve 114 of the solvent injection pipe 107 is opened and the solvent is continuously injected from the dilution solvent tank 106. When the air inside the main filtration device 100 and the air bubbles inside the filter medium (not shown) are completely expelled, the opening and closing valve 114 of the solvent injection pipe 107 is closed, and the low viscosity after filling introduced into the main filtration device 100 is obtained. The dope is circulated through the ultrafiltration device 102 once or several times to gradually concentrate the dope to a predetermined high viscosity. Finally, the predetermined high-viscosity dope discharged from the ultrafiltration device 102 is circulated to the main filtration device 100.

その後、主濾過装置100出口側のドープ流送管104途上の開閉バルブ115を開け、限外濾過装置102への配管108の開閉バルブ116を閉じることにより、初期充填が完了して気泡が追い出された濾材を具備する主濾過装置100を使用し、静置タンク103からポンプ105の作動により流送管104内を送られてくる所定の流延用高粘度を有するドープを、該主濾過装置100の通過後、流送管104から流延ダイ110に供給し、該ドープを流送管104から無端支持体111上に流延して、流延製膜を行うものである。   Thereafter, by opening the on-off valve 115 on the way of the dope flow pipe 104 on the outlet side of the main filtration device 100 and closing the on-off valve 116 of the pipe 108 to the ultrafiltration device 102, the initial filling is completed and bubbles are expelled. Using the main filtration device 100 provided with the filter medium, a dope having a predetermined high viscosity for casting, which is sent from the stationary tank 103 through the flow pipe 104 by the operation of the pump 105, is passed through the main filtration device 100. Is supplied to the casting die 110 from the casting tube 104, and the dope is cast from the casting tube 104 onto the endless support 111 to form a casting film.

このような方法によれば、主濾過装置100に新しく濾材を装填後の初期段階において、主濾過装置100内をドープで充填させる際に、主濾過装置100内でドープが充分に満たされないデッドスペースを生じるのを、有効に阻止することができ、従来、このようなデッドスペースに溜まった空気溜まりから、ドープ中に泡が生じるのを防止することができるものである。   According to such a method, when filling the main filtration device 100 with a dope in the initial stage after newly loading the filter medium into the main filtration device 100, the dead space where the dope is not sufficiently filled in the main filtration device 100 is provided. Can be effectively prevented, and bubbles can be prevented from being generated in the dope from the air trapped in such a dead space.

このような製造装置によれば、環状ポリオレフィンフィルムに生じる泡故障による異物の発生率を、ドープの濾過工程において確実に抑えることができて、泡故障による異物数が大幅に減少して、光学特性に優れた環状ポリオレフィンフィルムを製造することができ、しかも生産性にも優れている。   According to such a manufacturing apparatus, the generation rate of foreign matter due to a bubble failure generated in the cyclic polyolefin film can be reliably suppressed in the dope filtration step, and the number of foreign matter due to the bubble failure is greatly reduced, and the optical property is reduced. This makes it possible to produce an excellent cyclic polyolefin film, and is also excellent in productivity.

本発明においては、主濾過装置100の濾材は濾紙であることが好ましい。この濾紙を使用することで、異物の原因となる微粒子などの凝集物だけを除去し、高粘度の主ドープを連続的に濾過できるため、異物故障がなく、原反保存性にも優れ、高速製膜が可能となり、生産性が向上するものである。   In the present invention, the filter medium of the main filtration device 100 is preferably filter paper. By using this filter paper, only aggregates such as fine particles that cause foreign matter can be removed, and high-viscosity main dope can be continuously filtered, so there is no foreign matter failure, excellent raw material preservability, and high speed. Film formation becomes possible, and productivity is improved.

上記において、主濾過装置100の濾材の捕集粒子径とは、JIS Z 8901に準拠して測定されるものであって、90%以上捕集可能な粒子のうち最も小さい粒子径をいうものである。   In the above description, the collected particle size of the filter medium of the main filtration device 100 is measured according to JIS Z 8901, and refers to the smallest particle size among particles capable of collecting 90% or more. is there.

主濾過装置100の濾材の捕集粒子径は、0.5〜5μmであり、1〜4μmが好ましく、2〜3μmが最も好ましい。濾材の捕集粒子径が0.5μm未満では、異物ではない微粒子まで捕捉してしまい、急激に濾圧が上昇するため好ましくなく、捕集粒子径が5μmを越えると、異物の原因となる微粒子の凝集物まで通過してしまうため好ましくない。   The collection particle diameter of the filter medium of the main filtration device 100 is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 4 μm, and most preferably 2 to 3 μm. If the trapping particle size of the filter material is less than 0.5 μm, fine particles that are not foreign matter are trapped, and the filtration pressure rapidly increases, which is not preferable. Undesirably, the aggregates pass through.

また、主濾過装置100の濾材の濾水時間とは、JIS P 3801に準拠して測定されるものであって、ヘルツベルヒ濾過速度試験器を使用し、10cmの濾過面において、20℃、100mlの蒸留水を0.98kPaの圧力により濾過する時間をいうものである。 The drainage time of the filter medium of the main filtration device 100 is measured in accordance with JIS P 3801, and is measured at 20 ° C. and 100 ml on a 10 cm 2 filtration surface using a Hertzberg filtration rate tester. Means the time for filtering distilled water with a pressure of 0.98 kPa.

本発明において、主濾過装置100の濾材の濾水時間は、10〜25sec/100mlであることが好ましく、10〜20sec/100mlがより好ましく、12〜17sec/100mlが最も好ましい。ここで、濾材の濾水時間が10sec/100ml未満で短いと、濾紙等の濾材の強度が弱いため、圧力によって濾紙が目開きし、異物故障が増大する。また濾材の濾水時間が25sec/100mlを超えて長くなると、初期圧力が高く、濾過抵抗が高くなりすぎ、高流量濾過を連続的に行うことができず、またそのために、フィルターライフが短くなるので、好ましくない。   In the present invention, the drainage time of the filter medium of the main filtration device 100 is preferably 10 to 25 sec / 100 ml, more preferably 10 to 20 sec / 100 ml, and most preferably 12 to 17 sec / 100 ml. Here, if the drainage time of the filter medium is shorter than 10 sec / 100 ml, the strength of the filter medium such as filter paper is weak, so that the filter paper is opened by pressure and foreign matter failure increases. If the filtration time of the filter medium is longer than 25 sec / 100 ml, the initial pressure is too high, the filtration resistance is too high, and high-flow filtration cannot be performed continuously, and the filter life is shortened. It is not preferable.

主濾過装置100の濾紙の捕集粒子径や濾水時間は濾紙の繊維の太さ、材質(綿花リンター、木材パルプ、レーヨン、ポリエステル繊維など)などの繊維材の選定、繊維材を叩解機での叩解度合い、填料の添加など、濾紙の製造方法によって、任意に調整できるものである。   The collection particle size and drainage time of the filter paper of the main filtration device 100 are determined by selecting the fiber material such as the thickness of the fiber of the filter paper and the material (cotton linter, wood pulp, rayon, polyester fiber, etc.). Can be arbitrarily adjusted depending on the method of producing the filter paper, such as the degree of beating and addition of filler.

本発明において、主濾過装置100の濾紙は1枚でも効果を発揮するが、濾紙は2〜7枚程度重ね合わせて使用すると、濾過効率が高くなるため更に好ましい。同じ濾紙を組み合わせても構わないし、内側に保留粒子径の小さい濾紙を組み合わせても良い。また、外側に大きなゴミを除去するためのガード濾紙を使用することが好ましい。ガード濾紙は捕集粒子径が20μm以上と大きく、柔らかい綿のような濾紙が濾過圧力に影響せず大きなゴミの除去ができ、また主濾過装置100の液漏れ防止もできるため好ましい。また、1回濾過した主ドープをもう1回濾過する2段濾過も凝集物除去効果が大きく好ましい。   In the present invention, the effect is obtained by using only one filter paper of the main filtration device 100, but it is more preferable to use two to seven filter papers in piles because the filtration efficiency is increased. The same filter paper may be combined, or a filter paper having a small retaining particle diameter may be combined inside. Further, it is preferable to use a guard filter paper for removing large dust on the outside. The guard filter paper is preferably a filter paper such as soft cotton which has a large collecting particle diameter of 20 μm or more, because it can remove large dust without affecting the filtration pressure and can also prevent the main filtration device 100 from leaking. Also, two-stage filtration, in which the main dope that has been filtered once, is filtered again, is preferable because of its large effect of removing aggregates.

主濾過装置100において、泡故障(異物)の少ない環状ポリオレフィンフィルムを得るには、特に、捕集粒子径0.5〜5μmでかつ濾水時間が10〜25sec/100mlの濾紙を用いて濾過することで達成できるが、この場合、濾過圧力を16kg/cm以下で濾過して製膜することが好ましい。より好ましくは、濾過圧力を12kg/cm以下、さらに好ましくは、濾過圧力を10kg/cm以下で濾過することである。なお、濾過圧力は、濾過流量と濾過面積を適宜選択することで、コントロールできる。 In order to obtain a cyclic polyolefin film with less foam failure (foreign matter) in the main filtration device 100, in particular, filtration is performed using a filter paper having a collection particle size of 0.5 to 5 μm and a drainage time of 10 to 25 sec / 100 ml. In this case, it is preferable to form a film by filtering at a filtration pressure of 16 kg / cm 2 or less. More preferably, the filtration is performed at a filtration pressure of 12 kg / cm 2 or less, even more preferably at a filtration pressure of 10 kg / cm 2 or less. The filtration pressure can be controlled by appropriately selecting the filtration flow rate and the filtration area.

本発明において、限外濾過装置102の限外濾過膜は、細孔径1nm〜0.1μmを有する多孔質膜を有するものであるのが、好ましい。例えばテフロン(登録商標)(ミリポア社製など)、及びポリイミド中空糸(日東電工社製)で作製された限外濾過装膜(UF膜)又はナノ粒子膜のような耐有機溶媒性のある膜であれば、マット剤(シリカ粒子)は分離せず、溶媒のみを分離して回収することができるものである。   In the present invention, the ultrafiltration membrane of the ultrafiltration device 102 preferably has a porous membrane having a pore diameter of 1 nm to 0.1 μm. For example, a membrane having organic solvent resistance such as an ultrafiltration membrane (UF membrane) or a nanoparticle membrane made of Teflon (registered trademark) (manufactured by Millipore) and polyimide hollow fiber (manufactured by Nitto Denko Corporation) In this case, the matting agent (silica particles) is not separated, and only the solvent can be separated and recovered.

このような限外濾過膜により、主濾過装置100の初期充填用低粘度化ドープから溶媒を確実に分離除去することができて、ドープを所定の高粘度にまで徐々に濃縮し得、最終的に、限外濾過装置102より排出した所定の高粘度のドープを主濾過装置100に循環させて、その後、初期充填が完了して気泡が追い出された濾材を具備する主濾過装置100を使用して、流延製膜を確実に行うことができるものである。   With such an ultrafiltration membrane, the solvent can be surely separated and removed from the initially-filled low-viscosity dope of the main filtration device 100, and the dope can be gradually concentrated to a predetermined high viscosity. Then, a predetermined high-viscosity dope discharged from the ultrafiltration device 102 is circulated to the main filtration device 100, and thereafter, the main filtration device 100 including a filter medium from which initial filling is completed and bubbles are expelled is used. Thus, the casting film can be reliably formed.

濾過工程に用いられる濾過フィルターは、そのメディア構造からサーフェイスタイプとデプスタイプの二つに大きく分類することができる。サーフェイスタイプは被濾過物の通過するメディアの距離が短く、表面の目開きで除去できる粒子の大きさが決まるタイプをいう。本発明においてはサーフェイスタイプのフィルターは長時間使用すると表面でゲル状凝集物同士が接触し、さらに大きな凝集物に成長し、圧力上昇によってフィルターを通過してしまうため、凝集物を除去できず増加させてしまう懸念がある。   Filtration filters used in the filtration process can be broadly classified into surface type and depth type according to the media structure. The surface type refers to a type in which the distance of the medium through which the material to be filtered passes is short, and the size of the particles that can be removed is determined by the aperture of the surface. In the present invention, when the surface type filter is used for a long time, the gel-like aggregates come into contact with each other on the surface, grow into larger aggregates, and pass through the filter due to a rise in pressure. There is concern that it will.

サーフェイスタイプとしては、例えばアドバンテック東洋(株)製濾紙プリーツカートリッジフィルターTCタイプやふるいに使用されている金属メッシュなどが挙げられる。   Examples of the surface type include a filter paper pleated cartridge filter TC type manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. and a metal mesh used for a sieve.

他方デプスタイプのフィルターは深層濾過又は体積濾過とも言い、メディアの厚さをある程度持たせたものである。このタイプのフィルターはフィルター部分での凝集物同士が接触する可能性が、サーフェイスタイプに比べて低く、大きなゲル状凝集物を生成しにくく、長時間使用しても圧力上昇も少なく、また、ゲル状凝集物を除去することができるため好ましい。   On the other hand, the depth type filter is also called depth filtration or volume filtration, and has a certain thickness of the media. This type of filter has a lower possibility of contact between aggregates in the filter part than the surface type, hardly produces large gel-like aggregates, has a small pressure rise even if used for a long time, It is preferable because the state aggregate can be removed.

デプスタイプとしては、例えばアドバンテック東洋(株)製ワインドカートリッジフィルターTCWタイプ、デプスカートリッジフィルターTCPDタイプや日本精線(株)製ファインポアNFシリーズなどが挙げられる。   Examples of the depth type include a wind cartridge filter TCW type manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd., a depth cartridge filter TCPD type, and a fine pore NF series manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd.

これらインライン添加される添加液は少なくとも孔径の異なった2種類以上のデプスフィルターで濾過されることがサイズの異なった種々の凝集物に対し有効に濾過を行うとができるので好ましく、また、劣化が少なく好ましい。   It is preferable that these additive liquids added in-line are filtered through at least two or more types of depth filters having different pore diameters, because it is possible to effectively perform filtration on various aggregates having different sizes. Less preferred.

これらフィルターは、JIS Z 8901に規定される試験用粉体1の8種の0.5ppm水分散液を濾過したときの5〜10μmの粒子捕集率が20〜60%のフィルターであることが好ましく、添加液はこれらのフィルターで濾過された後、インライン添加されていることが好ましい。粒子捕集率としては30〜50%がさらに好ましい。粒子捕集率が少ない方が凝集を成長させることがない点が好ましく、粒子捕集率が多い方が凝集を除去する点で好ましい。粒子捕集率20〜60%としては、例えばアドバンテック東洋(株)製ワインドカートリッジフィルターTCW−1N、同3N、同5N、同10N、同25N、同50N、プリーツカートリッジフィルターTCPE−10、同30などが挙げられる。粒子捕集率30〜50%としては、例えばアドバンテック東洋(株)製ワインドカートリッジフィルターTCW−3N、同5N、同10N、同25Nなどが挙げられる。また、粒子捕集率20〜60%のフィルターを粒子捕集率の少ないフィルターで濾過した後、粒子捕集率の多いフィルターでさらに濾過することが凝集を成長させることなく、凝集を除去する点で最も好ましい。粒子捕集率は以下のように定義する。   These filters may have a particle collection rate of 5 to 10 μm of 20 to 60% when 8 kinds of 0.5 ppm aqueous dispersions of the test powder 1 specified in JIS Z 8901 are filtered. Preferably, the additive liquid is filtered and filtered and then added in-line. The particle collection rate is more preferably 30 to 50%. It is preferable that the particle collection rate is small in that no aggregation is grown, and that the particle collection rate is large in that the aggregation is removed. As the particle collection rate of 20 to 60%, for example, Wind cartridge filters TCW-1N, 3N, 5N, 10N, 25N, 50N, Pleated cartridge filters TCPE-10, 30 manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. Is mentioned. Examples of the particle collection rate of 30 to 50% include wind cartridge filters TCW-3N, 5N, 10N, and 25N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. Filtering a filter having a particle collection rate of 20 to 60% with a filter having a small particle collection rate, and then filtering the filter with a filter having a high particle collection rate can remove the aggregation without growing the aggregation. Is most preferred. The particle collection rate is defined as follows.

(粒子捕集率)
JIS Z8901に規定される試験用粉体1の8種(使用材料 関東ローム)の0.5ppm水分散液を10リットル/minで濾過し、自動粒子カウンターにて原液及び濾液の粒子数を計測し、5〜10μmの粒子捕集率を求めた。この時使用したフィルターはサイズ250mm×φ60のものを1本用い濾過を行った。濾過回数は1回であった。
粒子捕集率(%)=(原液中の個数−濾液中の個数)/(原液中の個数)×100
本発明の環状ポリオレフィンフィルムを得るには、溶液流延法によってこれを製造する工程で、主ドープにインライン添加される添加液を濾過するフィルターとして、上記に定義されるフィルター用い、その後、インライン添加することが好ましい。
(Particle collection rate)
A 0.5 ppm aqueous dispersion of eight kinds of test powders 1 (material used: Kanto Rohm) specified in JIS Z8901 was filtered at 10 liter / min, and the number of particles in the undiluted solution and the filtrate was counted by an automatic particle counter. The particle collection rate of 5 to 10 μm was determined. At this time, one filter having a size of 250 mm × φ60 was used for filtration. The number of times of filtration was one.
Particle collection rate (%) = (number in stock solution−number in filtrate) / (number in stock solution) × 100
In order to obtain the cyclic polyolefin film of the present invention, in the step of producing the same by the solution casting method, a filter as defined above is used as a filter for filtering an additive liquid to be added in-line to the main dope. Is preferred.

このフィルターにおいてもデプスタイプのフィルターが前記の理由により好ましい。   Also in this filter, a depth type filter is preferable for the above-mentioned reason.

フィルターは濾材構造によってメンブランタイプと糸巻きタイプに分けられる。メンブランタイプは濾材にある一定の大きさと分布を持った穴が多くあいているタイプで、同じ大きさと分布を持った穴があいた濾材を何枚か重ねるとメンブランタイプでサーフェイスタイプのフィルターとなり、外側からコアに向かって濾材の穴の大きさを徐々に小さくした濾材を何枚かある程度の厚さ(10〜20mm)になるように重ねて作るとメンブランタイプでデプスタイプのフィルターができる。   Filters are classified into membrane type and thread-wound type according to the filter material structure. The membrane type is a type in which there are many holes with a certain size and distribution in the filter medium, and if several filter media with holes of the same size and distribution are stacked, it becomes a membrane type surface type filter, A filter of membrane type and depth type can be made by stacking several filter media, each having a gradually reduced hole size from the filter media toward the core, so as to have a certain thickness (10 to 20 mm).

メンブランタイプとしては、例えばアドバンテック東洋(株)製メンブランカートリッジフィルターTCFタイプ、プリーツカートリッジフィルターTCPEタイプなどが挙げられる。   Examples of the membrane type include a membrane cartridge filter TCF type and a pleated cartridge filter TCPE type manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.

糸巻きタイプは濾材に一定の空隙を持ったエンドレスの例えばポリプロピレンの様な長繊維を撚糸せずに使用し、コアに一定の密度で巻きつけたもので、芯となるコアから密度勾配を持たせずに巻きつければ、サーフェイスタイプとなり、濾材の空隙を変化させたり、密度勾配を持たせる等、コア方向に細かくしていけば、デプスタイプのフィルターとなる。糸巻きタイプとしては、例えばアドバンテック東洋(株)製ワインドカートリッジフィルターTCWタイプなどがある(コアとは濾材の糸やメンブランを巻き付ける中空の芯のことである。)。   The thread-wound type uses endless long fibers such as polypropylene with a certain gap in the filter medium without twisting, and is wound around the core at a certain density, and has a density gradient from the core core. If it is wound in the same direction, it becomes a surface type filter, and if it is made finer in the core direction, for example, by changing the gap of the filter medium or having a density gradient, it becomes a depth type filter. Examples of the thread winding type include a wind cartridge filter TCW type manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. (the core is a hollow core around which a thread or a membrane of a filter medium is wound).

インライン添加液に含まれる凝集は2次、3次凝集のゲル状であるため、メンブランタイプの濾材では凝集(物)が抜けやすく、糸巻きタイプの方が凝集(物)の捕捉力に優れていて好ましい。   Since the agglomeration contained in the in-line additive liquid is in the form of a gel of secondary and tertiary agglomeration, it is easy to remove the agglomeration (thing) in the membrane type filter medium, and the thread-wound type has a better ability to catch the agglomeration (thing). preferable.

このタイプのフィルターにおいてもデプスタイプのフィルターが前記の理由により好ましい。   Also in this type of filter, a depth type filter is preferable for the above-mentioned reason.

また、フィルターの、濾材としてはポリプロピレンであることが、耐溶媒性の観点で好ましい。また、フィルターのコア材料としてはポリプロピレン又はステンレス鋼が好ましく、中でもステンレス鋼がより好ましい。ステンレス鋼は長時間使用しても溶媒でコアが膨潤しにくく、締め付け部から凝集物が抜けることがないため好ましく、これらのフィルターを用いて、添加液を濾過した後、主ドープにインライン添加することが好ましい。これらのフィルターによる濾過はある回数を設けた方が凝集物の除去の効果が向上する。しかしながら、多すぎても工数の割に効果が少なくなるので濾過する回数としては3〜10回が好ましい。   It is preferable that the filter material of the filter is polypropylene from the viewpoint of solvent resistance. In addition, polypropylene or stainless steel is preferable as the core material of the filter, and stainless steel is more preferable. Stainless steel is preferable because the core does not easily swell with the solvent even after long use, and the aggregates do not come off from the tightening portion. Using these filters, the additive solution is filtered and then added in-line to the main dope. Is preferred. The filtration effect by these filters is improved a certain number of times to improve the effect of removing aggregates. However, if the amount is too large, the effect is reduced for the number of steps, so the number of times of filtration is preferably 3 to 10 times.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法においては、主ドープに添加液をインラインミキサーで混合する直前に(直前の工程において)、絶対濾過精度30〜60μmの金属製フィルターで濾過することが好ましい。直前とは、工程的にいえば、直前に濾過工程があることであり、フローからいえば、濾過の直後、連続的に、添加液が停滞することなく、例えばストックタンクや送液ポンプ等を介さないでインラインミキサーに送られ主ドープと混合されるということである。それにより液の停滞や、送液ポンプにより新たに凝集物が発生しないことが好ましい。これらのフィルターはインラインミキサーの直前に配設されており、例えばフィルター交換等に伴い経路から発生する大きな凝集物を送液中の添加液から、一度の濾過で、比較的大きな異物を確実にとるためのフィルターで、前記の絶対濾過精度を有する長期にわたり使用が可能な耐溶剤性を有する金属製のフィルターが好ましい。金属としては耐久性の観点からステンレス鋼が好ましい。また、これらのフィルターは前記のデプスタイプのフィルターと異なり、設置後は余り頻繁に交換しないことが好ましく、したがって目詰まりの観点からε=60〜80%の空孔率を有していることが好ましい。   In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, it is preferable that the additive is filtered through a metal filter having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 µm immediately before mixing the additive solution with the main dope by the inline mixer (in the immediately preceding step). Immediately means that there is a filtration step immediately before in terms of the process, and speaking from the flow, immediately after filtration, continuously without the addition liquid stagnation, for example, a stock tank or a liquid sending pump etc. That is, it is sent to the in-line mixer without passing through and mixed with the main dope. Thereby, it is preferable that the liquid does not stagnate or new aggregates are generated by the liquid sending pump. These filters are disposed immediately before the in-line mixer, and reliably remove relatively large foreign matter by a single filtration from the added liquid during feeding, for example, large aggregates generated from the path due to filter replacement or the like. And a metal filter having the above-mentioned absolute filtration accuracy and having solvent resistance that can be used for a long time is preferable. As the metal, stainless steel is preferable from the viewpoint of durability. Also, unlike the above-mentioned depth type filters, it is preferable that the filters are not replaced very frequently after installation, and therefore, from the viewpoint of clogging, they have a porosity of ε = 60 to 80%. preferable.

したがって、最も好ましくは、絶対濾過精度30〜60μmであって、かつ空孔率ε=60〜80%の金属製フィルターで濾過することであり、これにより、長期にわたり、確実に粗大な異物を確実に除くことができ好ましい。絶対濾過精度30〜60μmでかつ空孔率ε=60〜80%の金属製フィルターとしては、例えば、日本精線(株)製ファインポアNFシリーズのNF−10、同NF−12、同NF−13などが挙げられる。   Therefore, it is most preferable to perform filtration with a metal filter having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm and a porosity of ε = 60 to 80%. Is preferred. Examples of metal filters having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm and a porosity of ε = 60 to 80% include, for example, NF-10, NF-12, and NF- of Finepore NF series manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. 13 and the like.

インライン添加される直前に設けられたフィルターは絶対濾過精度30〜60μmの金属フィルターで濾過されることが好ましく、40〜50μmがさらに好ましい。絶対濾過精度が小さい方が凝集を取り除く能力に優れるため好ましく、大きい方が長時間使用しても差圧の上昇が少なく、フィルター交換頻度が少なくでき、生産性に優れる点で好ましい。   The filter provided immediately before in-line addition is preferably filtered with a metal filter having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm, more preferably 40 to 50 μm. A smaller absolute filtration accuracy is preferable because of its excellent ability to remove agglomeration, and a larger absolute filtration accuracy is preferable because even when used for a long time, there is little rise in differential pressure, the frequency of filter replacement can be reduced, and productivity is excellent.

(絶対濾過精度)
絶対濾過精度は以下のように定義される。JIS Z 8901に規定される試験用粉体2のガラスビーズと純水をビーカーに入れ、スターラーで撹拌しながら、吸引濾過を行う。ここにおいて、Aが測定しようとするフィルター試料、Bが原液をそしてCが濾液を表す。原液はスターラーで撹拌されており、Pの低圧真空ポンプにより大気圧から−3.99kPaの圧力に維持されて濾過が行われる。Vは開閉できるバルブを表す。この時の原液と濾液のガラスビーズの個数を顕微鏡で観察し、以下の式で粒子捕集率を求める。粒子捕集率95%の時の粒子径を絶対濾過精度とした。
(Absolute filtration accuracy)
Absolute filtration accuracy is defined as follows. Glass beads of the test powder 2 and pure water specified in JIS Z 8901 are put into a beaker, and suction filtration is performed while stirring with a stirrer. Here, A represents the filter sample to be measured, B represents the stock solution and C represents the filtrate. The undiluted solution is stirred by a stirrer, and the pressure is maintained at a pressure from atmospheric pressure to -3.99 kPa by a low pressure vacuum pump of P to perform filtration. V represents a valve that can be opened and closed. At this time, the number of glass beads in the undiluted solution and the filtrate is observed with a microscope, and the particle collection rate is determined by the following equation. The particle diameter at a particle collection rate of 95% was defined as the absolute filtration accuracy.

粒子捕集率(%)=(原液中の個数−濾液中の個数)/(原液中の個数)×100
(空孔率)
これらのフィルターは空孔率ε=60〜80%であることが好ましく、65〜75%がさらに好ましい。空孔率の大きい方がと圧力損失が小さくなる点で好ましく、空孔率の小さい方が耐圧性に優れるため好ましい。空孔率を求めるには、まずフィルターを表面張力の低い溶媒中に浸漬し、フィルター中の空気を取り除き、溶媒の増加した量からフィルターの空孔量を求め、フィルターの体積で割れば、算出することができる。
Particle collection rate (%) = (number in stock solution−number in filtrate) / (number in stock solution) × 100
(Porosity)
These filters preferably have a porosity ε of 60 to 80%, more preferably 65 to 75%. A larger porosity is preferable in that pressure loss is reduced, and a smaller porosity is preferable because of excellent pressure resistance. To determine the porosity, first immerse the filter in a solvent with a low surface tension, remove air from the filter, calculate the porosity of the filter from the increased amount of solvent, and divide by the volume of the filter. can do.

(濾過装置の洗浄)
次に、使用済みの濾過装置を洗浄する方法について説明する。
(Washing of filtration device)
Next, a method of cleaning a used filtration device will be described.

図3に示すように、濾過装置50には、フィルター70と、モーター71により回転する撹拌棒72とが備えられており、その最上部にはエアー抜き配管76が取り付けられている。この他にも、図の煩雑化を避けるために図示は省略するが、洗浄液用配管や原料ドープ用配管、又は濾過助剤タンクから送られる濾過助剤51の供給用配管が濾過装置50の上部であって、エアー抜き配管76の近傍に設けられている。また、濾過装置50の下部及び側面には、流延ドープ53が排出される第1排出口80とスラリー液52が排出される第2排出口83とが設けられている。各排出口80、83はバルブであって、排出パイプに接続されている。なお、フィルター70は前述の濾材に該当し、不純物を捕捉する他に濾過助剤を堆積させる支持体として作用する。   As shown in FIG. 3, the filtering device 50 is provided with a filter 70 and a stirring rod 72 rotated by a motor 71, and an air vent pipe 76 is attached to the top of the filter. In addition, although not shown in order to avoid complicating the drawing, a pipe for a cleaning liquid, a pipe for a raw material dope, or a pipe for supplying a filter aid 51 sent from a filter aid tank is provided above the filter device 50. And is provided near the air vent pipe 76. Further, a first outlet 80 for discharging the casting dope 53 and a second outlet 83 for discharging the slurry liquid 52 are provided at a lower portion and a side surface of the filtering device 50. Each of the discharge ports 80 and 83 is a valve, and is connected to a discharge pipe. The filter 70 corresponds to the above-mentioned filter medium, and functions as a support for depositing a filter aid in addition to capturing impurities.

濾過開始から一定時間が経過すると、又は濾圧が上昇して一定値に到達すると、フィルター70上の残渣が回収される。回収時には、まず第1排出口80が閉じられて、濾過装置50内に洗浄液用配管を通じて適量の洗浄液65が供給される。濾過装置50内が洗浄液65で浸されると、モーター71により撹拌棒72が回される。これにより、フィルター70上に堆積した残渣54が撹拌され、洗浄液65a中に残渣54が分散したスラリー液となる。スラリー液52は第2排出口83から、図示しない回収ユニットへ排出される。このように残渣54を洗浄液65に分散させてスラリー状で回収すれば、フィルター70上に残渣54を残すことなく効率良く回収することができる他、濾過装置50を開閉することなくフィルター70を洗浄することができるので、外部に溶媒が飛散して作業現場が汚染されることもない。   When a certain period of time has elapsed from the start of filtration, or when the filtration pressure increases and reaches a certain value, the residue on the filter 70 is collected. At the time of recovery, first, the first outlet 80 is closed, and an appropriate amount of the cleaning liquid 65 is supplied into the filtering device 50 through the cleaning liquid pipe. When the inside of the filtration device 50 is immersed in the cleaning liquid 65, the stirring rod 72 is rotated by the motor 71. Accordingly, the residue 54 deposited on the filter 70 is stirred, and becomes a slurry liquid in which the residue 54 is dispersed in the cleaning liquid 65a. The slurry liquid 52 is discharged from the second discharge port 83 to a recovery unit (not shown). By dispersing the residue 54 in the cleaning liquid 65 and collecting the residue in a slurry state, the residue 54 can be efficiently collected without leaving the residue 54 on the filter 70, and the filter 70 can be cleaned without opening and closing the filtration device 50. Therefore, the solvent is not scattered outside and the work site is not contaminated.

また、濾過装置50において原料ドープ55を濾過する場合、若しくは洗浄液65による洗浄を行う場合には、エアー抜き配管76から適宜エアー抜きを行うことが好ましい。この理由として、例えば、濾過装置50を切り替える際、エアーが濾過装置50内に入り込むためである。なお、スラリー液排出部は、上記のように濾過装置50に設けた排出バルブを有する排出パイプと、残渣54を撹拌する撹拌棒72のような撹拌手段とから構成される。ここで、撹拌手段としては撹拌棒に限定されず、例えば、メッシュフィルターを円形状に形成しておき、このメッシュフィルターをモーターにより回転させて遠心力で残渣を分離撹拌する構成であっても良い。   In addition, when the raw material dope 55 is filtered by the filtration device 50 or when the cleaning is performed with the cleaning liquid 65, it is preferable to appropriately release air from the air release pipe 76. The reason for this is, for example, that air enters the filtration device 50 when the filtration device 50 is switched. In addition, the slurry liquid discharge unit includes a discharge pipe having the discharge valve provided in the filtration device 50 as described above, and a stirring means such as a stirring rod 72 for stirring the residue 54. Here, the stirring means is not limited to the stirring rod. For example, a configuration may be used in which a mesh filter is formed in a circular shape, and the mesh filter is rotated by a motor to separate and stir the residue by centrifugal force. .

前述のとおり、図5に示すように、回収されたスラリー液52は、回収タンクを介して分離装置56に送られる。分離装置56では、残渣54を分離する際の濾過体として、図4に示すように、円筒形上の金属製のストレーナー90を使用する。ストレーナー90は、廃液を効率良く分離させる上で、メッシュ数が50以上490以下であるものが好適である。メッシュ数はストレーナー90を構成する金属線の線径等により決定される値であり、1cmあたりの網目の数をいう。また、ストレーナー90は、円筒の直径をD、円筒の長さをLとしたときに、D<Lであるものが好ましい。このようなストレーナー90を使用すれば、濾過面積を十分に確保することができるので、目詰まりを抑えて高い濾過効率を保持することができる。なお、D≧Lの場合には、濾過面積が十分に確保されないため目詰まりも起こりやすい。本発明の濾過面積とは、ストレーナー90のような濾過体においてスラリー液が通過する面積である。 As described above, as shown in FIG. 5, the recovered slurry liquid 52 is sent to the separation device 56 via the recovery tank. In the separation device 56, as shown in FIG. 4, a metal strainer 90 on a cylindrical shape is used as a filter when separating the residue 54. In order to efficiently separate the waste liquid, the strainer 90 preferably has a mesh number of 50 or more and 490 or less. The number of meshes is a value determined by the diameter of a metal wire constituting the strainer 90 and the like, and refers to the number of meshes per 1 cm 2 . The strainer 90 preferably has a relation of D <L, where D is the diameter of the cylinder and L is the length of the cylinder. If such a strainer 90 is used, a sufficient filtration area can be ensured, so that clogging can be suppressed and high filtration efficiency can be maintained. When D ≧ L, clogging is likely to occur because the filtration area is not sufficiently secured. The filtration area of the present invention is an area through which a slurry liquid passes in a filter such as the strainer 90.

本発明で好適なストレーナー90は、スラリー液から残渣を効率良く分離させる上で、その金属線の織り方が平畳織り、綾畳織りが好適である。また、金属線を編み上げた金網には、パンチングメタルを補強材として用いる。ここで、補強材による濾過抵抗の発生を抑える上では、その開口率が30%以上であることが望ましい。   In the strainer 90 suitable for the present invention, in order to efficiently separate the residue from the slurry liquid, the weave of the metal wire is preferably a plain woven weave or a twill woven weave. In addition, a punched metal is used as a reinforcing material for a wire net formed by braiding a metal wire. Here, in order to suppress the generation of filtration resistance due to the reinforcing material, the opening ratio is desirably 30% or more.

図5に示すように、ストレーナー90は、分離装置56の内部において鉛直方向に立てられた状態でタンク91内に設置される。スラリー液52は、分離装置上方から供給され、鉛直下向きに流される。ここで、溶液分はストレーナー90の通液孔を通過し、その一方で、残渣54がストレーナー90の内壁面に捕捉され、堆積する。スラリー液52の流れを略鉛直方向の下向きにすれば、残渣54に含まれている沈降性の高い濾過助剤を効率良く捕捉することができる。なお、分離装置56は、ストレーナー90の外壁面で残渣54が回収できるようにスラリー液52が供給される形態を使用しても良い。   As shown in FIG. 5, the strainer 90 is installed in the tank 91 in a state where the strainer 90 is vertically set inside the separation device 56. The slurry liquid 52 is supplied from above the separation device and flows vertically downward. Here, the solution component passes through the liquid passage hole of the strainer 90, while the residue 54 is captured and deposited on the inner wall surface of the strainer 90. If the flow of the slurry liquid 52 is directed substantially vertically downward, it is possible to efficiently capture the highly sedimentable filter aid contained in the residue 54. The separation device 56 may be configured to supply the slurry liquid 52 so that the residue 54 can be collected on the outer wall surface of the strainer 90.

分離装置56は、その上部にエアー抜き配管97が取り付けられている。エアー抜き配管97は、スラリー液52の供給開始から初期段階で分離装置56内に存在するエアー抜きを行う。このように分離装置56内のエアー抜きを行えば、スラリー液52のエアー溜まりが抑えられ、ストレーナー90の壁面に残渣54による均一な厚さの層を形成することができる。ただし、エアー抜き時間を長くすれば、スラリー液52内の濾過助剤が沈降しやすくなり均一な厚さの層が形成できなくなる。このため、エアー抜きに供する時間は5分以下とすることが好ましい。ここで、初期段階とは、スラリー液を供給し始めてから、5分を経過するまでのことをいい、エアー抜き時間をする時間は初期段階に含まれることになる。   The separation device 56 has an air vent pipe 97 attached to the upper part thereof. The air bleeding pipe 97 bleeds air existing in the separation device 56 at an initial stage from the start of the supply of the slurry liquid 52. When the air in the separation device 56 is vented in this manner, the air accumulation of the slurry liquid 52 is suppressed, and a layer having a uniform thickness due to the residue 54 can be formed on the wall surface of the strainer 90. However, if the air bleeding time is lengthened, the filter aid in the slurry liquid 52 tends to settle, and a layer having a uniform thickness cannot be formed. For this reason, it is preferable that the time for air removal be 5 minutes or less. Here, the initial stage refers to a period from the start of supplying the slurry liquid to the lapse of 5 minutes, and the time for air bleeding is included in the initial stage.

ストレーナー90において分離回収された残渣54の平均厚さは5〜500mmとすることが好ましい。残渣54の厚さは、実際にストレーナー90を回収した上で測定することもできるし、ストレーナー90の濾過面積、供給するスラリー液52の流量、及び供給時間等から予測することも可能である。残渣54の厚さが500mmを超えるとスラリー液52の流量を確保することが難しくなる他、圧力損失が大きくなるため分離装置56に対する耐圧面が懸念される。一方で、残渣54の厚さが5mm未満であると、濾過面積を大きくする必要があるので装置を大型化しなければならない。   The average thickness of the residue 54 separated and collected in the strainer 90 is preferably 5 to 500 mm. The thickness of the residue 54 can be measured after actually collecting the strainer 90, or can be estimated from the filtration area of the strainer 90, the flow rate of the slurry liquid 52 to be supplied, the supply time, and the like. If the thickness of the residue 54 exceeds 500 mm, it becomes difficult to secure the flow rate of the slurry liquid 52 and the pressure loss increases, so that there is a concern about the pressure resistance of the separation device 56. On the other hand, if the thickness of the residue 54 is less than 5 mm, it is necessary to increase the filtration area, so that the size of the apparatus must be increased.

また、分離装置56には内部圧力を測定する圧力計(図示しない)が設置されており、スラリー液52を供給している間、その圧力変化が測定される。ここで、濾過抵抗の変化に応じて、スラリー液52の流量をストレーナー90の総濾過面積当たり10〜1500Lとなるよう調節する。これにより分離時間を長引かせることなく作業を行うことができる。なお、スラリー液52の流量が上記範囲を逸脱すれば、その分大型タンクを用意する必要があるので設備コストの増大を招く他、設置スペースの確保が難しくなる。一方で、流量が10L未満であると作業時間がかかりすぎるため不適である。   Further, a pressure gauge (not shown) for measuring the internal pressure is installed in the separation device 56, and a change in the pressure is measured while the slurry liquid 52 is supplied. Here, the flow rate of the slurry liquid 52 is adjusted to be 10 to 1500 L per the total filtration area of the strainer 90 according to the change in the filtration resistance. Thus, the work can be performed without prolonging the separation time. If the flow rate of the slurry liquid 52 deviates from the above range, it is necessary to prepare a correspondingly large tank, which leads to an increase in equipment cost and makes it difficult to secure an installation space. On the other hand, if the flow rate is less than 10 L, it takes too much work time, which is not suitable.

分離装置56内にスラリー液52を供給してから初期段階で回収される溶液分は、分離装置56の下部に設けられた排出口98から取り出された後、バルブV6を切り替え、ポンプP4により再び分離装置56に供給され、また循環される。分離開始から初期の段階ではストレーナー90による残渣54の捕捉効率が低いため、回収される溶液分は懸濁した状態にある。そして、分離開始から一定時間経過して残渣54による層の厚さが5mm以上になると、懸濁した溶液分の残渣54は効率良く捕捉される。なお、分離が終了した際に得られる濾液は洗浄液タンク65に送られて、濾過装置の洗浄、又はドープ調製用の溶媒として再利用される。   The solution recovered in the initial stage after the supply of the slurry liquid 52 into the separation device 56 is taken out from the outlet 98 provided at the lower part of the separation device 56, and then the valve V6 is switched and the pump P4 is used again. It is supplied to the separation device 56 and circulated. Since the efficiency of capturing the residue 54 by the strainer 90 is low in the initial stage from the start of the separation, the recovered solution is in a suspended state. Then, when a certain time has elapsed from the start of the separation and the thickness of the layer due to the residue 54 becomes 5 mm or more, the residue 54 of the suspended solution is efficiently captured. The filtrate obtained after the completion of the separation is sent to the washing liquid tank 65, and is reused as a solvent for washing the filtration device or preparing the dope.

残渣54を捕捉した使用済みのストレーナー90は分離装置56から外されて乾燥装置80内で乾燥させる。本実施形態では、図6に示すような乾燥装置80を使用する。乾燥装置80には、所定の温度範囲に調節された乾燥風83が供給される供給口80aと、使用済みの乾燥風83を排出する排出口80bとが形成されている。ストレーナー90は、その開口を上にして乾燥装置80内に放置される。供給口80aから乾燥装置80内に乾燥風83が送り込まれる。ここで、乾燥時の温度が5℃以上140℃以下となるように乾燥風83の温度を調節する。これにより、ストレーナー90に付着した残渣中の溶媒成分を蒸発させて乾燥を進めることができる。一方で、乾燥時の温度が140℃を超えると、ストレーナー90に対する熱ダメージが懸念される。その一方で、乾燥時の温度が5℃未満であれば、乾燥時間が長引くため作業性が低下する。なお、乾燥手段は特に制限されず、所定の温度範囲に加熱することができるものであれば良い。例えば、被対象であるストレーナー90に対して蒸気を吹き付け、直接的に熱をかける方法も短時間のうちに効率良く乾燥することができる。   The used strainer 90 that has captured the residue 54 is removed from the separation device 56 and dried in the drying device 80. In the present embodiment, a drying device 80 as shown in FIG. 6 is used. The drying device 80 is provided with a supply port 80a through which the drying air 83 adjusted to a predetermined temperature range is supplied and an outlet 80b through which the used drying air 83 is discharged. The strainer 90 is left in the drying device 80 with its opening facing up. The drying air 83 is sent into the drying device 80 from the supply port 80a. Here, the temperature of the drying air 83 is adjusted so that the drying temperature is 5 ° C. or more and 140 ° C. or less. Thereby, the solvent component in the residue attached to the strainer 90 can be evaporated and drying can be advanced. On the other hand, if the temperature during drying exceeds 140 ° C., there is a concern that the strainer 90 may be damaged by heat. On the other hand, if the temperature at the time of drying is less than 5 ° C., the drying time is prolonged, and the workability is reduced. The drying means is not particularly limited as long as it can be heated to a predetermined temperature range. For example, a method in which steam is sprayed on the strainer 90 as a target to directly apply heat can also be efficiently dried in a short time.

乾燥に供された乾燥風83は、溶媒ガスを含んだ状態である。このため、溶媒ガス回収装置81により乾燥風83は一旦回収されて、ここで溶媒が除去される。この後、溶媒が取り除かれた乾燥風83は、温調装置82で所定の温度に加熱された後、再び乾燥風83として乾燥装置80内に供給される。このように密閉された乾燥装置80内でストレーナー90を乾燥させると、大気中に溶媒ガスを放出させることなく溶媒ガスを回収することができるので、作業現場の汚染を防止し、更には環境負荷を軽減することができる。   The drying air 83 supplied for drying is in a state containing a solvent gas. Therefore, the drying air 83 is once collected by the solvent gas collecting device 81, and the solvent is removed there. Thereafter, the drying air 83 from which the solvent has been removed is heated to a predetermined temperature by the temperature control device 82, and then supplied again as the drying air 83 into the drying device 80. When the strainer 90 is dried in the hermetically-sealed drying device 80, the solvent gas can be recovered without releasing the solvent gas into the atmosphere. Can be reduced.

(3)流延工程
前記ドープを、図1で示すように、送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイ30に送液し、無限に移送する金属製の無端支持体31、例えば、ステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の無端支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
(3) Casting Step As shown in FIG. 1, the dope is fed to a pressurizing die 30 through a liquid feed pump (for example, a pressurized fixed-quantity gear pump) and transferred endlessly. For example, this is a step of casting a dope from a pressure die slit to a casting position on an endless support such as a stainless steel belt or a rotating metal drum.

前記ドープは、流量変動による膜厚偏差の発生を抑制するために、50〜2000L/hrでダイに送液することが好ましい。   The dope is preferably sent to the die at a rate of 50 to 2000 L / hr in order to suppress the occurrence of a film thickness deviation due to a change in flow rate.

(流延)
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属製の無端支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属製の無端支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、又は逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやTダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート系樹脂の流延製膜を行う種々の方法で実施でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明の環状ポリオレフィンフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属製の無端支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト(バンドといってもよい)が用いられる。
(Casting)
As a method of casting the solution, a method in which the prepared dope is uniformly extruded from a pressure die onto a metal endless support, and a dope once cast on the metal endless support is coated with a blade to form a film. There is a method using a doctor blade for adjustment, a method using a reverse roll coater for adjusting with a roll that rotates in the reverse direction, and the like, but a method using a pressure die is preferable. As the pressure die, there are a coat hanger type, a T-die type and the like, and any of them can be preferably used. Further, besides the methods mentioned here, it can be carried out by various methods for casting a cellulose triacetate resin, which are conventionally known, and each condition is set in consideration of a difference in a boiling point of a solvent to be used. Thus, the same effects as those described in the respective publications can be obtained. As the endless running metal endless support used for producing the cyclic polyolefin film of the present invention, a drum whose surface is mirror-finished by chrome plating or a stainless steel belt whose surface is mirror-finished by surface polishing (band and May be used).

金属製の無端支持体は、ドープの流延膜の幅方向両端部と接する前記無端支持体の表面の表面エネルギーが、前記ドープの流延膜の幅方向中央部と接する前記無端支持体の表面の表面エネルギーよりも高くなるように前記無端支持体の表面に活性化処理を施すことが、耳部のばたつきを抑制する観点から好ましい。   The metal endless support has a surface energy of a surface of the endless support contacting both ends in the width direction of the casting film of the dope, and a surface energy of the endless support contacting a center portion in the width direction of the casting film of the dope. It is preferable to perform an activation treatment on the surface of the endless support so as to have a surface energy higher than that of the above from the viewpoint of suppressing the fluttering of the ears.

前記活性化処理は、大気圧プラズマ照射又はエキシマUV照射によって行うことが好ましく、前記活性化処理を施した後の、前記流延膜の幅方向両端部と接する前記無端支持体の表面の表面エネルギーをγseとし、前記流延膜の幅方向中央部と接する前記無端支持体の表面の表面エネルギーをγscとしたとき、その差Δγ(=γse−γsc)が、0.1〜60mN/mの範囲にあることが好ましい。前記ドープの流延膜の幅方向中央部と接する前記無端支持体の表面の表面エネルギーよりも高い表面エネルギーを有する前記無端支持体の表面と接する前記流延膜の幅方向両端部からのそれぞれの幅が、前記流延膜の幅をWrとして、0.05〜0.25Wrの範囲であることが好ましい。   The activation treatment is preferably performed by atmospheric pressure plasma irradiation or excimer UV irradiation, and after the activation treatment, the surface energy of the surface of the endless support in contact with both widthwise ends of the casting film. Is defined as γse, and the surface energy of the surface of the endless support in contact with the center in the width direction of the casting film is defined as γsc, and the difference Δγ (= γse−γsc) is in the range of 0.1 to 60 mN / m. Is preferred. From the both ends of the casting film in contact with the surface of the endless support having a surface energy higher than the surface energy of the surface of the endless support in contact with the center of the casting film in the width direction of the dope. The width is preferably in the range of 0.05 to 0.25 Wr, where Wr is the width of the casting film.

無端支持体の表面エネルギーの測定は、水、ニトロメタン及びヨウ化メチレンとの接触角を測定し、これらの値からヤング・フォークズの式を用いて算出することができる。具体的には、協和界面科学株式会社製の接触角計等を用いて測定することができる。   The surface energy of the endless support can be measured by measuring contact angles with water, nitromethane, and methylene iodide, and calculating from these values using Young Forks equation. Specifically, it can be measured using a contact angle meter or the like manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

また、前記無端支持体上の前記流延膜形成エリアに、水接触角が90°以上の疎水化層が形成されている前記無端支持体を用い、前記疎水化層上に前記流延膜を形成することが好ましい。前記疎水化層は疎水性物質から構成され、前記無端支持体は冷却ドラムから構成され、前記流延膜は冷却ゲル化により自己支持性を有して剥ぎ取られる。また、前記疎水性物質は、PTFE又はPPであることが好ましい。   Further, in the casting film forming area on the endless support, using the endless support having a hydrophobized layer having a water contact angle of 90 ° or more, the casting film is formed on the hydrophobized layer. Preferably, it is formed. The hydrophobic layer is composed of a hydrophobic substance, the endless support is composed of a cooling drum, and the casting film is self-supporting and peeled off by cooling gelation. Preferably, the hydrophobic substance is PTFE or PP.

また、金属製の無端支持体からのフィルムの離型性(剥離性)を向上し、透明性、平面性に優れた環状ポリオレフィンフィルムを製造するために、金属製の無端支持体表面に、鉄(Fe)及び/又はクロム(Cr)の元素を含有するとともに、金属製の無端支持体表面の成分元素組成比が、下記(i)及び/又は(ii)の関係を満たす金属製の無端支持体を用いることが好ましい。   In addition, in order to improve the releasability (peelability) of the film from the metal endless support and to produce a cyclic polyolefin film having excellent transparency and flatness, the surface of the metal endless support is coated with iron. (Fe) and / or chromium (Cr) elements, and the composition ratio of component elements on the surface of the metal endless support satisfying the following relationship (i) and / or (ii): It is preferred to use a body.

(i) (Fe+FeO)/Fe=5〜50
(ii) (CrO+CrO)/Cr=10〜50
これは、非常に平滑な表面状態を維持しつつ、通常の金属表面の酸化物状態よりも酸素結合比率を高めた金属酸化物皮膜層をつくることで、フィルムの連続生産の際にも、金属製の無端支持体からのフィルムの離型性(剥離性)が向上し、非常に滑らかな剥離性が得られ、透明性、平面性に優れた光学特性を有する環状ポリオレフィンフィルムを製造することができる。さらに、金属製の無端支持体の表面の腐食を防止することができて、その腐食模様がフィルムに転写して発現するむらなどの品質の故障が無くなるとともに、腐食で表面が荒れてくると、アンカー効果でウェブの離型性(剥離性)が著しく悪化するのを防止する。
(I) (Fe 2 O 3 + FeO) / Fe = 5 to 50
(Ii) (CrO 2 + CrO 3 ) / Cr = 10 to 50
This is because a metal oxide film layer with a higher oxygen bond ratio than the normal oxide state of the metal surface is created while maintaining a very smooth surface state, so that even during continuous production of films, It is possible to produce a cyclic polyolefin film having improved optical properties such as improved releasability (peelability) of a film from an endless support made of Nissan, excellent smooth releasability, and excellent transparency and flatness. it can. In addition, corrosion of the surface of the metal endless support can be prevented, and the corrosion pattern is transferred to the film, eliminating quality defects such as unevenness, and when the surface becomes rough due to corrosion, This prevents the releasability (peelability) of the web from being significantly deteriorated by the anchor effect.

(i)の(Fe+FeO)/Fe比が、5未満であれば、耐食性は未処理のものと比較して余り変わらず、また、部分的に処理の差が大きく、これが表面の腐食進行でむらになるので、好ましくない。また、(Fe+FeO)/Fe比が、50を超えると、表面に何かが接触して傷をつくってしまったときに、研磨をして平滑な表面に修復する作業が困難になるので、好ましくない。 When the (Fe 2 O 3 + FeO) / Fe ratio of (i) is less than 5, the corrosion resistance is not much different from that of the untreated one, and the difference in the treatment is partially large. It is not preferable because unevenness is caused by the progress of corrosion. On the other hand, if the (Fe 2 O 3 + FeO) / Fe ratio exceeds 50, when something comes into contact with the surface and damages it, it becomes difficult to perform polishing to repair the surface to a smooth surface. Is not preferred.

また、(ii)の(CrO+CrO)/Cr比が、10未満であれば、耐食性は未処理のものと比較して余り変わらず、また、部分的に処理の差が大きく、これが表面の腐食進行でむらになるので、好ましくない。また、(CrO+CrO)/Cr比が、50を超えると、表面に何かが接触して傷をつくってしまったときに、研磨をして平滑な表面に修復する作業が困難になるので、好ましくない。 Further, when the (CrO 2 + CrO 3 ) / Cr ratio of (ii) is less than 10, the corrosion resistance is not much different from that of the untreated one, and the difference in the treatment is partially large. It is not preferable because unevenness is caused by the progress of corrosion. On the other hand, if the (CrO 2 + CrO 3 ) / Cr ratio exceeds 50, when something comes into contact with the surface and damages the surface, it becomes difficult to perform polishing to restore the surface to a smooth surface. It is not preferable.

さらに、製膜速度を高速化してもエアー巻き込み現象の発生を防止し、かつ流延膜と無端支持体との間の密着性を好適に調整し、無端支持体からの流延膜の剥離性を向上するために、無端支持体上にドープを流延するとき、ドープに含まれる有機化合物を少なくとも一つ含む液を無端支持体と流延膜との間に供給して、流延膜と無端支持体との間に介在膜を形成することも好ましい。   Furthermore, even if the film forming speed is increased, the occurrence of the air entrainment phenomenon is prevented, and the adhesion between the casting film and the endless support is appropriately adjusted, and the peelability of the casting film from the endless support is improved. In order to improve the dope, when casting the dope on the endless support, a liquid containing at least one organic compound contained in the dope is supplied between the endless support and the casting film, and the casting film and It is also preferable to form an intervening film between the endless support.

図7に示すように、流延ダイ130の近傍に介在膜形成装置140を設けて、流延ダイ130からリボン状のドープ160の流れである流延ビード161の無端支持体側となる面に介在膜形成液162を供給する。   As shown in FIG. 7, an intervening film forming apparatus 140 is provided near the casting die 130, and is interposed on the surface of the casting bead 161 which is the flow of the ribbon-shaped dope 160 from the casting die 130 on the endless support side. The film forming liquid 162 is supplied.

介在膜形成装置140は、介在膜形成液162を貯留するタンク(図示しない)と、この液の流路140aと供給口140bとを有している。ドープ160の流延時には、供給口140bから適量の介在膜形成液162を流延ビード161の無端支持体面側の全幅域に沿わせるように供給する。これにより、製膜速度を高速化しても、流延ビード161におけるエアー巻き込み現象の発生をより防止することができる。そして、流延ドラム150の上に流延ビード161と介在膜形成液162が到達すると、流延ドラム150の上には介在膜163を介して流延膜170が形成される。このように、流延ドラム150と流延膜170との間に介在膜163が存在すると、エアー巻き込み現象の発生を防止することができる。   The intervening film forming apparatus 140 has a tank (not shown) for storing the intervening film forming liquid 162, a flow path 140a for this liquid, and a supply port 140b. At the time of casting the dope 160, an appropriate amount of the intervening film forming liquid 162 is supplied from the supply port 140 b along the entire width of the casting bead 161 on the endless support surface side. Thereby, even if the film forming speed is increased, the occurrence of the air entrainment phenomenon in the casting bead 161 can be further prevented. Then, when the casting bead 161 and the intervening film forming liquid 162 reach the casting drum 150, the casting film 170 is formed on the casting drum 150 via the interposing film 163. Thus, if the intervening film 163 exists between the casting drum 150 and the casting film 170, the occurrence of the air entrainment phenomenon can be prevented.

介在膜形成液162は、ドープ160に含まれる有機化合物(溶媒)を少なくとも一つ含む液であり、上記の原料溶媒とドープ160に含まれるポリマーに対して相溶性を示さない貧溶媒とを混合して調製することが好ましい。このような介在膜形成液162により流延ドラム150と流延膜170との間に形成される介在膜163は、時間の経過とともに、流延膜170に向かって拡散する。これにより、流延ドラム150と流延膜170との密着性が高くなりすぎることがないので、小さい剥取応力でも容易に流延膜170を流延ドラムから剥ぎ取ることができる。   The intervening film forming liquid 162 is a liquid containing at least one organic compound (solvent) contained in the dope 160, and is a mixture of the above-mentioned raw material solvent and a poor solvent which is not compatible with the polymer contained in the dope 160. It is preferable to prepare it. The intervening film 163 formed between the casting drum 150 and the casting film 170 by such an intervening film forming liquid 162 diffuses toward the casting film 170 over time. Thereby, the adhesion between the casting drum 150 and the casting film 170 does not become too high, so that the casting film 170 can be easily peeled off from the casting drum even with a small peeling stress.

また、良溶媒や貧溶媒に係わらず介在膜形成液162に含まれる溶媒の割合をw(%)とし、介在膜163の膜厚をt(μm)とするとき、wとtとが、t<−0.05w+15を満たすようにすることが好ましい。これにより、流延ドラム150から流延膜170を容易に剥ぎ取ることが可能とするように作用する介在膜163を形成することができる。ただし、介在膜163が厚すぎると、流延膜170と介在膜163との拡散が起こりにくく、流延ドラム150上に介在膜163が残存するおそれがある。このように流延ドラム150の上に介在膜163が残存すると、その後の流延にも悪影響を及ぼし、面状が劣るフィルムしか製造することができないので不適である。   When the ratio of the solvent contained in the intervening film forming liquid 162 is w (%) regardless of whether the solvent is a good solvent or a poor solvent, and the thickness of the intervening film 163 is t (μm), w and t become t It is preferable to satisfy <−0.05w + 15. Thereby, the intervening film 163 which acts so that the casting film 170 can be easily peeled off from the casting drum 150 can be formed. However, if the intervening film 163 is too thick, the diffusion between the casting film 170 and the intervening film 163 is unlikely to occur, and the intervening film 163 may remain on the casting drum 150. If the intervening film 163 remains on the casting drum 150 in this way, it also has an adverse effect on subsequent casting, and it is not suitable because only a film having a poor surface condition can be manufactured.

なお、介在膜形成装置140の設置箇所は、図7に示す形態に限定されるものではない。   The installation location of the intervening film forming apparatus 140 is not limited to the configuration shown in FIG.

フィルムの生産速度を上昇させるために、同伴エアーの巻き込みによる発泡を無くすとともに、減圧チヤンバ吸引風による流延ダイからの流延液膜の振動による膜厚むらを低減したり、滴下されたスケール溶解液の余剰液分の液滴飛散による転写故障がなく、平面性の優れたフィルムを得るために、金属製の無端支持体上にドープを流延し、無端支持体上に流延膜(ウェブ)を形成する際、ウェブが無端支持体上に密着して形成されるように流延上流側から減圧する手段としての下方に開口した減圧チャンバーを備えるとともに、流延ダイよりドープを流下する時、流延ダイのフィルム幅手方向両端部に対応する左右両端部(流延ダイエッジ)に、ヒゲ状皮膜(スケール)が発生するのを防止するために、スケール溶解液を滴下するスケール溶解液滴下手段を備えることが好ましい。主減圧室を有する減圧チャンバーの左右両側壁と後壁の外側に、これらの壁との間に所定間隔をおいてそれぞれ外側壁を設けて、減圧チャンバーの左右両側部と後部の外側に位置しかつ下方に開口した副減圧室を形成しておき、主減圧室の減圧力よりも副減圧室の減圧力を、−30〜−300Paの範囲で大きくすることが好ましい態様である。   In order to increase the film production speed, foaming due to entrainment of air is eliminated, film thickness unevenness due to vibration of the casting liquid film from the casting die due to reduced pressure chamber suction air is reduced, and scale dissolution dropped In order to obtain a film with excellent flatness and no transfer failure due to scattering of liquid droplets of excess liquid, a dope is cast on a metal endless support, and a casting film (web When forming the dope, a downwardly-opening vacuum chamber is provided as a means for reducing the pressure from the upstream side of the casting so that the web is formed in close contact with the endless support. In order to prevent the formation of a mustache-like film (scale) at both left and right ends (casting die edge) corresponding to both ends in the width direction of the casting die, a scale dissolving solution is dropped. Preferably comprises a solution liquid drip means. Outside the left and right side walls and the rear wall of the decompression chamber having the main decompression chamber, outer walls are respectively provided at predetermined intervals between these walls, and located outside the left and right both sides and the rear of the decompression chamber. In a preferred embodiment, a sub-vacuum chamber that opens downward is formed, and the pressure in the sub-vacuum chamber is greater than the pressure in the main vacuum chamber in the range of −30 to −300 Pa.

また、主減圧室を有する減圧チャンバーの左右両側壁及び後壁と、これらに対向する副減圧室の左右両外側壁及び後部外側壁との間の間隙を、10〜300mmとすることが好ましい。   Further, it is preferable that the gap between the left and right side walls and the rear wall of the decompression chamber having the main decompression chamber and the left and right outer walls and the rear outer wall of the sub decompression chamber opposed thereto is 10 to 300 mm.

減圧チヤンバの流延ダイに接する面以外の壁面を二重化して、副減圧室を形成し、減圧チヤンバ外側部の副減圧室の減圧力を、同内側部の主減圧室の減圧力よりも大きくして、強く吸引することにより、流延液膜の吐出方向に対して側面部からの流延液膜への吸引風の流れを遮断し、フィルムの生産速度を上昇させても、同伴エアーの巻き込みによる発泡を無くすことができるとともに、高速製膜に伴うドープ吐出速度の上昇による減圧度アップに対しても、流延液膜の安定性を向上させ、高速製膜領域においても、流延液膜の振動に起因するフィルム搬送方向の膜厚むらを低減することができ、平滑性の良いフィルムを生産することができる。   A wall other than the surface in contact with the casting die of the decompression chamber is doubled to form a sub-decompression chamber, and the decompression force of the sub-decompression chamber outside the decompression chamber is larger than the decompression force of the main decompression chamber inside the decompression chamber. By strongly sucking, the flow of suction air from the side to the casting liquid film in the discharge direction of the casting liquid film is blocked, and even if the production speed of the film is increased, the entrained air In addition to eliminating foaming due to entanglement, the stability of the casting liquid film is improved even when the degree of pressure reduction is increased due to an increase in the dope discharge speed accompanying high-speed film formation. The film thickness unevenness in the film transport direction due to the vibration of the film can be reduced, and a film having good smoothness can be produced.

また、製膜中に流延ダイエッジにおいてスケール溶解液滴下手段からウェブの幅手方向両端部に滴下されたスケール溶解液の余剰液分を、副減圧室の方に吸引回収することができ、これによって滴下されたスケール溶解液の余剰液分の飛散液滴による転写故障がなく、平面性の優れたフィルムが得られるとともに、スケール溶解液の余剰液分の飛散液滴による無端支持体汚れの蓄積がなく、生産効率の高い、しかも品質にも優れていて、高速製膜可能な、薄膜かつ広幅のフィルムを製造することができるという効果を奏する。   In addition, during the film formation, the excess amount of the scale solution dropped from the means for dropping the scale solution at the casting die edge to both ends in the width direction of the web at the casting die edge can be suctioned and collected toward the sub-vacuum chamber. The transfer failure due to the scattered droplets of the surplus liquid of the scale dissolving solution dropped does not cause transfer failure, and a film with excellent flatness can be obtained. Therefore, it is possible to produce a thin film with a high production efficiency, excellent quality, and high-speed film formation, which is thin and wide.

主減圧室を有する減圧チャンバーの左右両側壁及び後壁と、これらに対向する副減圧室の左右両外側壁及び後部外側壁との間の間隙を、10〜300mmとすれば、減圧チヤンバをいわゆる内外二重化し、減圧チヤンバ外側部の所定の間隙を有する副減圧室から、減圧チヤンバ内側部の主減圧室の減圧力よりも大きい減圧力で同伴空気を相対的に強く吸引することにより、流延液膜端部に対する側面部からの吸引風を低減することができて、安定流延を実現し、また流延ダイエッジ(左右両端部)から吹き飛ばされたスケール溶解液の余剰液分を、支持体外部の強い吸引力(減圧力)を有する副減圧室の方に回収することができて、高品質のフィルムを高生産速度で、長期間安定して生産することができるという効果を奏する。   If the gap between the left and right side walls and the rear wall of the decompression chamber having the main decompression chamber and the left and right outer walls and the rear outer wall of the sub decompression chamber opposed thereto is 10 to 300 mm, the decompression chamber is so-called. Internal and external duplexing, the entrained air is relatively strongly sucked from the sub-decompression chamber having a predetermined gap on the outer side of the decompression chamber with a decompression force larger than the decompression force of the main decompression chamber on the inner side of the decompression chamber. Able to reduce the suction air from the side to the edge of the liquid film to achieve stable casting and to remove excess liquid of scale solution blown off from the casting die edge (both right and left ends) The film can be collected in the sub-vacuum chamber having a strong external suction force (decompression force), so that a high-quality film can be stably produced at a high production rate for a long period of time.

また、前記減圧チャンバーの流延ドープ近傍のガス濃度を80%以下にすることが好ましい。   Further, it is preferable that the gas concentration in the vicinity of the casting dope in the decompression chamber is 80% or less.

これは、流延ビード近傍の空気のガス(主に揮発性有機溶媒が気化したもの)濃度が上昇し、ガス成分が所望の濃度に到達すると、液化する場合があり、液化した溶媒が流延ビードに付着して流延膜を不良品とするおそれがある。また、流延ビードの無端支持体接触面(以下、流延ビード背面と称する)側を減圧にしている場合には、流延ビードの形成は安定するが、この場合にはガスの液化が容易に起こりやすくなり、液化溶媒が流延膜に付着したり、減圧チャンバーに付着して減圧の不均一化を招いたりする問題が生じる場合がある。このような場合には製造されるフィルムの面状に不良が生じて光学むらが発生したり、フィルムの幅方向にむら(以下、横段むらと称する)が生じたりする問題があるが、前述のようにガス濃度を80%以下にすることで改善される。   This is because when the concentration of gas (mainly vaporized volatile organic solvent) in the air near the casting bead increases and the gas component reaches a desired concentration, it may liquefy, and the liquefied solvent is cast. There is a possibility that the cast film adheres to the bead and the cast film becomes defective. When the pressure of the casting bead is reduced on the side of the endless support contacting surface (hereinafter referred to as the casting bead back surface), the formation of the casting bead is stable, but in this case, gas liquefaction is easy. This may cause a problem that the liquefied solvent adheres to the casting membrane or adheres to the decompression chamber to cause uneven pressure reduction. In such a case, there is a problem that a defect occurs on the surface of the film to be produced, causing optical unevenness, or unevenness in the width direction of the film (hereinafter, referred to as horizontal unevenness). It is improved by setting the gas concentration to 80% or less as shown in FIG.

すなわち、ガス濃度を80%以下にすることで、ガス成分の液化を防止でき、前記ガス成分が液化して前記流延ビードに付着する故障を引き起こすことを防止できる。前記方法により得られるフィルムは光学むら及び横段むらの発生が抑制されている。   That is, by setting the gas concentration to 80% or less, liquefaction of the gas component can be prevented, and it is possible to prevent the gas component from liquefying and causing a failure to adhere to the casting bead. In the film obtained by the above method, the occurrence of optical unevenness and horizontal unevenness is suppressed.

前記減圧チャンバーの減圧度が大気圧に対して−1500〜−200Paの範囲とすることが好ましい。前記ドープの吐出速度が、7〜40m/分の範囲であることが好ましい。   It is preferable that the pressure reduction degree of the pressure reduction chamber is in a range of -1500 to -200 Pa with respect to the atmospheric pressure. The discharge speed of the dope is preferably in the range of 7 to 40 m / min.

また液化を防止する観点から、溶剤ガスを流延ビード付近に吹き付けることも好ましい。溶剤ガス成分中に含まれる蒸気の割合は、5〜65体積%の範囲であることが好ましく、当該溶媒はジクロロメタンであることが好ましい。また、溶媒は、ジクロロメタンを最も多く含み、ポリマーを溶解又は分散させる化合物と混合した混合物であり、蒸気中に含まれるジクロロメタンガスの割合が80体積%以上であることが好ましい。   From the viewpoint of preventing liquefaction, it is also preferable to spray a solvent gas near the casting bead. The ratio of the vapor contained in the solvent gas component is preferably in the range of 5 to 65% by volume, and the solvent is preferably dichloromethane. Further, the solvent is a mixture containing the largest amount of dichloromethane and mixed with a compound that dissolves or disperses the polymer, and it is preferable that the ratio of dichloromethane gas contained in the vapor is 80% by volume or more.

また、減圧チャンバーとして、複数の減圧室を有する減圧チャンバーを用いることも、流延ビードに同伴風があたることが抑制され、フィルムに厚さむらが生じることを抑制できる観点から、好ましい。   It is also preferable to use a decompression chamber having a plurality of decompression chambers as the decompression chamber, from the viewpoint that it is possible to suppress the entrainment wind from being applied to the casting bead and to suppress the occurrence of uneven thickness in the film.

例えば、前記流延ビードの無端支持体接触面側を減圧する複数の減圧室を有する減圧チャンバーを用い、前記減圧チャンバーと前記無端支持体との隙間を0.05mm以上3mm以下の範囲とし、個々に独立して減圧度を調整することが可能な前記複数の減圧室のうち前記無端支持体の移動方向における上流側の前記減圧室を下流側の前記減圧室よりも低い減圧度にすることが好ましい。前記減圧チャンバーと前記無端支持体との隙間は、より好ましくは0.05〜0.7mmの範囲であり、最も好ましくは0.05〜0.5mmの範囲である。   For example, using a decompression chamber having a plurality of decompression chambers for depressurizing the endless support contact surface side of the casting bead, the gap between the decompression chamber and the endless support is set to a range of 0.05 mm or more and 3 mm or less, In the plurality of decompression chambers capable of independently adjusting the degree of decompression, the decompression chamber on the upstream side in the moving direction of the endless support may have a decompression degree lower than that on the downstream side. preferable. The gap between the decompression chamber and the endless support is more preferably in the range of 0.05 to 0.7 mm, and most preferably in the range of 0.05 to 0.5 mm.

また、前記各減圧室の絶対圧力の最大値をPn(Pa)とした場合に、前記各減圧室の圧力を0.9×Pn(Pa)以上1×Pn(Pa)以下の範囲にすることが好ましく、より好ましくは0.98×Pn(Pa)以上1×Pn(Pa)以下の範囲に調整することが好ましい。前記減圧室の数は、2以上10以下であることが好ましく、前記各減圧室には、排気口が設けられていることが好ましい。   When the maximum value of the absolute pressure of each of the decompression chambers is Pn (Pa), the pressure of each of the decompression chambers is in a range from 0.9 × Pn (Pa) to 1 × Pn (Pa). It is more preferable to adjust the content to a range of 0.98 × Pn (Pa) or more and 1 × Pn (Pa) or less. The number of the decompression chambers is preferably 2 or more and 10 or less, and each of the decompression chambers is preferably provided with an exhaust port.

また、流延ダイの上部に溶剤ガスを吹き付けて、流延ダイの表面を沿わせながら溶剤ガスをスリット出口に送ることが好ましい。   In addition, it is preferable that a solvent gas is blown onto the upper part of the casting die, and the solvent gas is sent to the slit outlet while being along the surface of the casting die.

送風ユニットの下部には、流延ビードの幅方向に長く形成されたスリット状の送風口を有するノズルが備えられていることが好ましい。   It is preferable that a nozzle having a slit-shaped blowing port formed long in the width direction of the casting bead is provided at a lower portion of the blowing unit.

送風ユニットは、流延ダイに対して無端支持体の走行方向の下流であり、かつ無端支持体の上方に設置されている。送風ユニットの下部には、流延ビードの幅方向に長く形成されたスリット状の送風口を有するノズルが備えられており、送風口からスリット出口であり、かつ流延ビードの幅方向全領域に向けてドープの調製に用いた溶媒の蒸気を含む溶剤ガスを送り、スリット出口付近で溶剤ガスを液化させない範囲で高濃度に維持する。本実施形態では、ドープの調製用溶媒としてジクロロメタンを使用したので、ジクロロメタンを気化させた蒸気を含む溶剤ガスをスリット出口付近に送る。   The blower unit is installed downstream of the casting die in the running direction of the endless support and above the endless support. At the lower part of the blowing unit, a nozzle having a slit-shaped blowing port formed long in the width direction of the casting bead is provided, which is a slit outlet from the blowing port, and over the entire area of the casting bead in the width direction. A solvent gas containing the vapor of the solvent used in the preparation of the dope is sent toward the dope, and the concentration is maintained near the exit of the slit so as not to liquefy the solvent gas. In the present embodiment, since dichloromethane is used as a solvent for preparing the dope, a solvent gas containing a vapor obtained by evaporating dichloromethane is sent to the vicinity of the slit outlet.

溶剤ガスは、その中に5〜65体積%の範囲の割合で蒸気を含むものとする。より好ましくは、20〜65体積%の範囲であり、特に好ましくは40〜65体積%の範囲である。このように流延ビード付近の溶剤ガス濃度が高く維持された空気中では、流延ビードの乾燥が防止される。このため、スリット出口付近においてドープが固化して異物となり、付着することが抑制されるので、スジ故障等のない面状に優れるフィルムを製造することができる。   The solvent gas contains steam at a rate in the range of 5 to 65% by volume. More preferably, it is in the range of 20 to 65% by volume, particularly preferably in the range of 40 to 65% by volume. In the air in which the solvent gas concentration near the casting bead is maintained at a high level, drying of the casting bead is prevented. For this reason, the dope solidifies in the vicinity of the slit exit and becomes a foreign substance, and is prevented from adhering. Therefore, it is possible to produce a film excellent in surface state without a streak failure or the like.

溶液流延法では、溶液の流量を精密にコントロールしないと、流下するドープの端部が乱れたり、スリット端部にカワバリ(端部余剰皮膜)が発生する場合があり、製膜速度や膜厚の広い範囲での長期的に安定な状態での適用は、困難であるという問題がある。   In the solution casting method, if the flow rate of the solution is not precisely controlled, the edge of the dope flowing down may be disturbed, or the burrs (excess coating at the edge) may occur at the edge of the slit. There is a problem that it is difficult to apply in a long-term stable state over a wide range.

本発明では、溶液流延法によりフィルムを製造する方法において金属製の無端支持体上にドープを流延ダイによって流延する際に、流延ダイのスリット両端部に溶剤を流下させ、溶剤を流下させる流延ダイ両側のノズルの先端部の内径を4mm以下0.5mm以上とし、かつ流下する溶剤の溶媒和パラメーター(−△HD−BF3)を15[kJ/mol]以上100[kJ/mol]以下とすることが好ましい。   In the present invention, when a dope is cast by a casting die on a metal endless support in a method for producing a film by a solution casting method, a solvent is allowed to flow down to both ends of a slit of the casting die, and the solvent is allowed to flow. The inside diameter of the tip of the nozzle on both sides of the casting die to be flown is set to 4 mm or less and 0.5 mm or more, and the solvation parameter (-ΔHD-BF3) of the flowing solvent is 15 kJ / mol to 100 kJ / mol. ] It is preferable to be the following.

ここで、溶媒和パラメーターは、P.C.Maria, J.F.Gal、J Phys.Chem.、89,1296(1985)、及びP.C.Maria, J.F.Gal、J.de Franceschi、E.Fargin、J.Am.Chem. Soc.,109,483(1987)に記載されたジクロロメタン溶媒中で気体状のBF3とドナー性分子の1:1錯形成における標準モルエンタルピー[kJ/mol](−△HD−BF3)とする。   Here, the solvation parameter is P.S. C. Maria, J.M. F. Gal, J Phys. Chem. , 89, 1296 (1985); C. Maria, J.M. F. Gal, J.M. de Franceschi, E.C. Fargin, J.M. Am. Chem. Soc. The standard molar enthalpy [kJ / mol] (-ΔHD-BF3) for 1: 1 complex formation between gaseous BF3 and a donor molecule in a dichloromethane solvent described in Chem., 109, 483 (1987).

流延ダイ両側のノズル内を流下させる溶剤を、例えば酢酸メチルとすることが好ましい。すなわち、本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法によれば、溶媒和パラメーターの大きい溶剤を使用すると、環状ポリオレフィン系樹脂に対する溶解度は小さくなるものの、カワバリの発生は抑えることができる。この要因は明確ではないが、溶媒和パラメーターの値によって環状ポリオレフィン系樹脂の膨潤、溶解状態が異なるため、このような現象が発生するのではないかと推測することができる。   It is preferable that the solvent flowing down the nozzles on both sides of the casting die is, for example, methyl acetate. That is, according to the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, when a solvent having a large solvation parameter is used, the solubility in the cyclic polyolefin-based resin is reduced, but generation of burrs can be suppressed. Although this factor is not clear, it can be assumed that such a phenomenon occurs because the swelling and dissolution state of the cyclic polyolefin-based resin differ depending on the value of the solvation parameter.

また、本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法において、金属製の無端支持体上に、ドープ又は樹脂溶融液を流延する前に、金属の無端支持体表面を、常圧プラズマ照射又はエキシマ紫外線照射により表面処理することが好ましい。   Further, in the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, before casting a dope or a resin melt on a metal endless support, the surface of the metal endless support is irradiated with normal-pressure plasma or excimer ultraviolet light. The surface treatment is preferably performed.

この場合、常圧プラズマ照射処理又はエキシマ紫外線照射処理の積算時間が、0.1〜3000sec、好ましくは0.5〜500secであることが好ましい。   In this case, the integration time of the normal pressure plasma irradiation treatment or the excimer ultraviolet irradiation treatment is preferably 0.1 to 3000 sec, and more preferably 0.5 to 500 sec.

ここで、常圧プラズマ照射処理又はエキシマ紫外線照射処理の積算時間が、0.1sec未満であれば、十分な表面の改質が行われず、表面の耐食性が上がらないので、好ましくない。また、常圧プラズマ照射処理又はエキシマ紫外線照射処理の積算時間が、3000secを超えると、表面があれて荒れてくるので、好ましくない。   Here, if the integration time of the normal pressure plasma irradiation treatment or the excimer ultraviolet irradiation treatment is less than 0.1 sec, the surface is not sufficiently modified and the corrosion resistance of the surface is not improved, which is not preferable. On the other hand, if the integration time of the normal-pressure plasma irradiation treatment or the excimer ultraviolet irradiation treatment exceeds 3000 sec, the surface is roughened, which is not preferable.

本発明によれば、常圧プラズマ装置、エキシマ紫外線装置よりなる高エネルギー照射装置(A)により高エネルギー表面処理を施し、大気中で自然に形成される表面酸化皮膜よりも金属の無端支持体表面に、上記の酸素結合比率を高めた金属酸化物皮膜層を形成させることが好ましい。   According to the present invention, a high-energy surface treatment is performed by a high-energy irradiator (A) composed of a normal-pressure plasma device and an excimer ultraviolet device, and the surface of the metal endless support is smaller than the surface oxide film naturally formed in the atmosphere Then, it is preferable to form a metal oxide film layer having an increased oxygen bond ratio.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に用いられる加圧ダイは、金属の無端支持体の上方に1基又は2基以上の設置でもよい。好ましくは1基又は2基である。2基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合に分けてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられる環状ポリオレフィン溶液の温度は、−10〜55℃が好ましくより好ましくは25〜50℃である。その場合、工程の全てが同一でもよく、又は工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。   The pressure die used in the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention may be one or more pressure dies installed above a metal endless support. Preferably it is one or two. When two or more dope units are installed, the amount of the dope to be cast may be divided into various ratios for each die, and the dope may be sent to the die at a respective ratio from a plurality of precision metering gear pumps. The temperature of the cyclic polyolefin solution used for casting is preferably from -10 to 55C, more preferably from 25 to 50C. In that case, all of the steps may be the same, or may be different at various points in the steps. If different, the temperature may be a desired temperature immediately before casting.

キャストの幅は1〜4mの範囲、好ましくは1.5〜3mの範囲、さらに好ましくは2〜2.8mの範囲とすることができる。流延工程の金属製の無端支持体の表面温度は−50℃〜溶媒が沸騰して発泡しない温度以下、さらに好ましくは−30〜100℃の範囲に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい無端支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃の範囲が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属製の無端支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属製の無端支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属製の無端支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で無端支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The width of the cast can be in the range of 1-4 m, preferably in the range of 1.5-3 m, more preferably in the range of 2-2.8 m. The surface temperature of the metal endless support in the casting step is set in the range of −50 ° C. to the temperature at which the solvent does not boil and foam, more preferably −30 to 100 ° C. A higher temperature is preferable because the drying speed of the web can be increased. However, if the temperature is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. A preferable endless support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably at 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method to gel the web by cooling and peel the web from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method of controlling the temperature of the metal endless support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot or cold air, and a method of bringing hot water into contact with the back side of the metal endless support. It is preferable to use hot water because heat is transferred more efficiently, and the time until the temperature of the metal endless support becomes constant is short. When using hot air, in consideration of the temperature drop of the web due to the latent heat of evaporation of the solvent, while using hot air above the boiling point of the solvent, air with a higher temperature than the target temperature may be used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to change the temperature of the endless support and the temperature of the drying air during the time from casting to peeling to efficiently perform drying.

流延ダイは、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等があり、製膜速度を上げるために加圧ダイを金属製の無端支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して積層してもよい。   The casting die is preferably a pressure die which can adjust the slit shape of the die portion of the die and can easily make the film thickness uniform. Pressing dies include a coat hanger die and a T-die. In order to increase the film forming speed, two or more pressing dies are provided on a metal endless support, and even if the doping amount is divided and laminated, Good.

溶液流延時にカワバリと呼ばれる端部故障が発生することがあるが、この発生原因はダイ先端の微小な欠陥に起因している。このダイ欠陥は、ダイ製作時や保全時についてしまう微小なキズや打痕、砥石による研削時に発生するスクラッチなどである。   At the time of solution casting, an edge failure called "wafer burr" may occur, but this is caused by a minute defect at the tip of the die. The die defects include minute scratches and dents that occur during die manufacturing and maintenance, and scratches that occur when grinding with a grindstone.

そこで、このダイ先端の微小な欠陥に基づくカワバリ発生を防止する手段を開発するべくさらに検討を進めたところ、流延ダイリップのドープが接液する先端部分をWCコーティング加工する方法により、樹脂を溶媒に溶解した溶液ダイのスロットから流延して環状ポリオレフィンフィルムを製造する方法において、前記ダイの先端の硬さHvを400以上にすると、ダイ製作時、保全時、設置時についてしまう微小なキズ、打痕を抑え流延方向のスジ欠陥が、確認が困難となるまで良化することが判明した。このHvで表される硬度(ビッカース硬さ)は、136°の頂角を有するダイヤモンド角錐を圧子として用い、生じた圧痕の対角線の長さを読み取り、荷重を凹みの表面積で割った値である。   Therefore, further studies were conducted to develop a means for preventing the occurrence of burrs due to minute defects at the tip of the die. In the method of producing a cyclic polyolefin film by casting from a slot of a solution die dissolved in a die, when the hardness Hv at the tip of the die is 400 or more, when the die is manufactured, at the time of maintenance, at the time of installation, minute scratches, It was found that dents were suppressed and the streak defect in the casting direction was improved until it became difficult to confirm. The hardness (Vickers hardness) represented by Hv is a value obtained by using a diamond pyramid having an apex angle of 136 ° as an indenter, reading the length of the diagonal line of the generated indentation, and dividing the load by the surface area of the dent. .

また、樹脂を溶媒に溶解した溶液をダイのスロットから流延して環状ポリオレフィンフィルムを製造する方法において、前記ダイの先端の表面張力を380μN/cm以上にすることにより、カワバリの発生を防ぎ、さらにスジ欠陥が良化することが判明した。表面張力はJIS K6768にのっとり、和光純薬工業(株)製、ぬれ指数標準液、No.32からNo.54を用いて測定した値である。   Further, in a method for producing a cyclic polyolefin film by casting a solution obtained by dissolving a resin in a solvent from a slot of a die, by setting the surface tension at the tip of the die to 380 μN / cm or more, generation of burrs is prevented, Further, it was found that the streak defect was improved. The surface tension was measured according to JIS K6768, and manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., using a wetting index standard solution, 32 to No. 32 This is a value measured using No. 54.

さらに、カワバリの発生を防止するためにはリップ先端部の表面の凹凸及び、スロット面とこのスロット面に交差する先端平端面との角部を断面略円弧形状に形成し湾曲面とし、その湾曲面の曲率半径が小さく、溶媒濡れ性の良いことが必要となることを見いだし、リップ先端部におけるカワバリを防止することができ、スジ欠陥を改良することができた。   Furthermore, in order to prevent the occurrence of burrs, the unevenness of the surface of the lip tip and the corner between the slot face and the flat end face intersecting the slot face are formed into a substantially arc-shaped cross-section to form a curved surface. It has been found that it is necessary that the surface has a small radius of curvature and good solvent wettability, so that it is possible to prevent the burrs at the lip tip and to improve the streak defect.

前記スロットのリップ先端部であって、スロット面とこのスロット面に交差する先端平端面との角部を断面略円弧形状に形成して湾曲面とし、この湾曲面の曲率半径Rを5〜50μmの範囲とすることが好ましい。   The lip tip of the slot, the corner between the slot face and the flat end face that intersects the slot face is formed into a substantially arc-shaped cross section to form a curved surface, and the radius of curvature R of the curved surface is 5 to 50 μm. It is preferable to be within the range.

前記湾曲面と前記スロット面及び前記先端平端面との境界線と、前記湾曲面の曲率中心を結ぶ線との平行度を、前記スロットの長手方向1m当りで、1.5〜15μmの範囲にすることが好ましい。また、前記湾曲面と前記スロット面及び前記先端平端面との境界線と、前記湾曲面の曲率中心を結ぶ線との平行度を、前記スロットの長手方向1mあたりで、前記曲率半径Rの0.3倍以下にすることが好ましい。さらに、前記湾曲面と前記スロット面及び前記先端平端面との境界線と、前記湾曲面の曲率中心を結ぶ線との平行度を、スロットの長手方向1mm当りで、0.5〜5μmの範囲にすることが好ましい。さらには、前記湾曲面と前記スロット面及び前記先端平端面との境界線と、前記湾曲面の曲率中心を結ぶ線との平行度を、スロットの長手方向1mm当りで、前記曲率半径Rの0.1倍以下にすることが好ましい。   The parallelism between a boundary line between the curved surface, the slot surface, and the flat end surface of the tip and a line connecting the center of curvature of the curved surface is set within a range of 1.5 to 15 μm per 1 m in the longitudinal direction of the slot. Is preferred. In addition, the parallelism between a boundary line between the curved surface, the slot surface, and the flat end surface of the tip and a line connecting the center of curvature of the curved surface is set to be equal to 0 of the radius of curvature R per 1 m in the longitudinal direction of the slot. It is preferable to set it to 3 times or less. Further, the parallelism between a boundary line between the curved surface, the slot surface, and the flat end surface of the tip and a line connecting the center of curvature of the curved surface is set in a range of 0.5 to 5 μm per 1 mm in the longitudinal direction of the slot. Is preferable. Furthermore, the parallelism between a boundary line between the curved surface, the slot surface, and the flat end surface of the tip and a line connecting the center of curvature of the curved surface is defined as 0 to 0 of the radius of curvature R per 1 mm in the longitudinal direction of the slot. It is preferable to set it to 1 or less.

前記ダイ先端の表面粗さをRaとしたときに、前記スロットの長手方向及びその長手方向に直交する方向における表面粗さRaを、0.01〜3μmの範囲にすることが好ましい。   When the surface roughness of the die tip is Ra, the surface roughness Ra in the longitudinal direction of the slot and in a direction perpendicular to the longitudinal direction is preferably in the range of 0.01 to 3 μm.

前記ダイから金属製の無端支持体上にドープを流延した後、回転ローラーの表面温度が高いと、流延膜のゲル化促進の効果が十分に得られない。また、剥取部での露点が高いため剥取部で流延膜表面に結露が生じることがあり、この結露した水分が後の工程で乾燥揮発されても、フィルム面上に曇りを生じるという問題がある。   After casting the dope from the die onto a metal endless support, if the surface temperature of the rotating roller is high, the effect of promoting gelation of the casting film cannot be sufficiently obtained. In addition, since the dew point at the peeling part is high, dew condensation may occur on the casting film surface at the peeling part, and even if this condensed moisture is dried and volatilized in a later step, clouding occurs on the film surface. There's a problem.

この問題を改善するのに、本発明に用いられる溶液流延法において、金属製の無端支持体の回転ローラーにおいて、表面温度を−30℃以上6℃以下にした第1の回転ローラーから、第2の回転ローラーへ向かう流延膜を乾燥風により乾燥し、この流延膜を第2の回転ローラーから第1の回転ローラー上に搬送してから露点を0℃以下にした剥離位置で剥ぎ取り、第1の回転ローラーと剥離位置の上流に設けた冷却手段とにより第1の回転ローラーに向かうベルト上の流延膜を冷却し、剥離位置までの冷却区画を前記冷却手段の位置で調整することにより、剥ぎ取る流延膜の温度を6℃未満にすることが好ましい、前記冷却手段としての冷却ローラーを、流延膜が形成されているベルト面とは反対側のベルト面に接触させることにより、第2の回転ローラーから第1の回転ローラーへ向かうベルト上の流延膜を冷却することが好ましい。   In order to solve this problem, in the solution casting method used in the present invention, in the rotating roller of the metal endless support, the first rotating roller having a surface temperature of −30 ° C. or more and 6 ° C. or less is used. The casting film toward the second rotating roller is dried by a drying wind, and the casting film is conveyed from the second rotating roller onto the first rotating roller, and then peeled off at a peeling position where the dew point is 0 ° C. or less. Cooling the casting film on the belt toward the first rotating roller by the first rotating roller and the cooling means provided upstream of the peeling position, and adjusting the cooling section up to the peeling position at the position of the cooling means. It is preferable that the temperature of the casting film to be stripped is set to less than 6 ° C., and the cooling roller as the cooling means is brought into contact with the belt surface opposite to the belt surface on which the casting film is formed. By the second The cast film on the belt toward the rotating roller to the first rotary roller is preferably cooled.

また、前記第1の回転ローラー及び第2の回転ローラーを収容する流延室の内部の温度を調整して、剥離位置の露点を0℃以下にすることが好ましい。その場合、前記流延膜の剥離位置での乾量基準における溶媒含有量を10〜200質量%の範囲とすることが好ましい。すなわち、前記流延膜の剥離位置近傍の露点を0℃以下とするから、結露が防止されて前記流延膜に水分が付着することが抑制される。これにより製造されるフィルムの面上に曇りが生じなくなる。   Further, it is preferable that the dew point at the peeling position is set to 0 ° C. or less by adjusting the temperature inside the casting chamber accommodating the first rotating roller and the second rotating roller. In this case, it is preferable that the solvent content on a dry basis at the peeling position of the casting film is in the range of 10 to 200% by mass. That is, since the dew point near the separation position of the casting film is set to 0 ° C. or less, dew condensation is prevented, and the adhesion of moisture to the casting film is suppressed. This eliminates fogging on the surface of the film produced.

また、金属製の無端支持体表面の両端に粗面化帯を設けることも、剥離しやすい観点から好ましい。当該粗面化帯がともにダイからのドープの流延幅と5〜30mm重なっているようにし、粗面化帯の平均粗さRzが0.5〜2μmの範囲であることが好ましい。   It is also preferable to provide roughened bands at both ends of the surface of the metal endless support from the viewpoint of easy peeling. It is preferable that both the roughened zone and the casting width of the dope from the die overlap by 5 to 30 mm, and the average roughness Rz of the roughened zone is in the range of 0.5 to 2 μm.

一般に全く平滑な面の無端支持体の場合には、ウェブを剥離する際、両端が破れやすく、裂けやすいことなどから破断事故で生産をしばしば中断される。これに対して粗面化帯を設けることによって剥離性がすこぶるよくなり、皮膜の発生もなく、泡の発生もなく、非常に効果的である。幅は多少流延の位置が幅方向にずれてもよいようにドープ膜の内側5〜30mmから外側へ無端支持体の両端までの幅となっている。その粗面化帯の平均粗さRzは0.5μmよりRzが小さい場合には粗面化の効果がなく、接着が強すぎ剥離がし難く、また2μmよりも大きいと逆に粗面化によって接着しやすくなり剥離し難くなる。好ましいRzの範囲は0.8〜1.5μmである。   Generally, in the case of an endless support having a completely smooth surface, when peeling the web, the production is often interrupted due to a breakage accident because the both ends are easily torn and easily torn. On the other hand, by providing a roughened zone, the releasability is greatly improved, and no film is generated and no bubbles are generated, which is very effective. The width is a width from the inner side of the doped membrane to 5 to 30 mm to both ends of the endless support so that the casting position may be slightly shifted in the width direction. When the average roughness Rz of the roughened zone is smaller than 0.5 μm, the effect of the roughening is not obtained when Rz is smaller than 0.5 μm, the adhesion is too strong and the peeling is difficult, and when the Rz is larger than 2 μm, the surface is roughened. Adhesion is easy and peeling is difficult. The preferred range of Rz is 0.8 to 1.5 μm.

近年、製造速度の高速化、フィルムの薄膜化が要求されているが、高速化するためには、無端支持体上の流延膜に送風する熱気の温度を高くせざるを得なくなるため、流延膜の側縁部の温度が上がり、より発泡しやすく、また、薄膜化が進むと無端支持体温度の影響を受けやすくなるため、従来の方法では発泡対策として不十分であるという問題がある。   In recent years, there has been a demand for higher production speeds and thinner films.However, in order to increase the speed, the temperature of hot air blown to the casting film on the endless support must be increased. There is a problem that the conventional method is inadequate as a measure against foaming because the temperature of the side edge portion of the expanded film rises and foaming is more likely to occur, and as the film becomes thinner, it becomes susceptible to the temperature of the endless support. .

そのため、無端支持体上の流延膜をその幅方向で中央エリアと側縁エリアとに仕切るように遮風部材を設けるとともに、前記中央エリアに熱気を送風して、流延膜の幅方向の温度分布を均一化することが好ましい。前記側縁エリアに、前記無端支持体上の流延膜の幅方向内側から外側へ向けて冷気を送風し、流延膜の幅方向の温度分布を均一化するようにしてもよい。   Therefore, while providing a wind shielding member so as to partition the casting film on the endless support into a central area and a side edge area in the width direction, and blowing hot air to the central area, the width direction of the casting film in the width direction. It is preferable to make the temperature distribution uniform. Cold air may be blown to the side edge area from the inside to the outside in the width direction of the casting film on the endless support to make the temperature distribution in the width direction of the casting film uniform.

また、無端支持体上の流延膜の幅方向内側から外側へ向けて冷気を送風し、流延膜の幅方向の温度分布を均一化することも好ましい。   It is also preferable to blow cool air from the inner side to the outer side in the width direction of the casting film on the endless support to make the temperature distribution in the width direction of the casting film uniform.

前記遮風部材は、前記流延膜の側縁から中央部側に20〜100mmの範囲、より好ましくは20〜80mmの範囲で側縁に平行に設けるとよい。また、前記遮風部材と流延膜との隙間を5〜30mmの範囲、より好ましくは5〜15mmの範囲にするとよい。   The wind shielding member may be provided in a range of 20 to 100 mm, more preferably in a range of 20 to 80 mm, from the side edge of the casting film toward the center thereof in parallel with the side edge. Further, the gap between the wind shielding member and the casting film may be set in a range of 5 to 30 mm, more preferably, in a range of 5 to 15 mm.

具体的には、前記冷気送風を送風ダクトにより行い、この送風ダクトの送風口を、前記流延膜の側縁から中央部側に20〜100mmの範囲で側縁に平行に設け、送風口と流延膜との隙間を5〜30mmの範囲にし、前記冷気を流延膜に対して45〜90°の範囲、より好ましくは60〜80°の範囲の交差角度となるように送風するとよい。また、前記冷気は露点が−2℃以下、温度が15〜60℃の範囲であり、前記冷気を風速1〜10m/secの範囲で送風することが好ましい。   Specifically, the cool air blowing is performed by a blowing duct, and a blowing port of the blowing duct is provided in a range of 20 to 100 mm from a side edge of the casting film to a center part side in parallel with a side edge, and a blowing port is provided. The gap with the casting film is set in the range of 5 to 30 mm, and the cold air is preferably blown to the casting film at an intersection angle of 45 to 90 °, more preferably 60 to 80 °. Further, it is preferable that the cool air has a dew point of −2 ° C. or less and a temperature of 15 to 60 ° C., and blows the cool air at a wind speed of 1 to 10 m / sec.

また、無端支持体上に形成された直後の流延膜の表面に、乾燥装置を用いて乾燥する、いわゆる初期乾燥を行うことも好ましい。このように、初期乾燥を行うと、流延膜からの溶媒の蒸発を効果的に促進することができる。   It is also preferable to perform so-called initial drying, in which the surface of the casting film immediately after being formed on the endless support is dried using a drying device. As described above, when the initial drying is performed, the evaporation of the solvent from the casting film can be effectively promoted.

ただし、初期乾燥において、乾燥温度が無端支持体上の流延膜中に含まれる溶媒の沸点を超えると、流延膜の内部では溶媒による発泡が生じる。特に、流延膜の両側端部近傍では、この流延膜に対して無端支持体から熱が伝達しやすいので発泡が生じやすい。このように流延膜の内部に発泡が生じると、流延膜の表面に凹凸が生じたり、その内部に空隙ができてしまう。また、所定の温度に調整した乾燥風を送り出して乾燥を行うと、この乾燥風により、流延膜の表面には斜めむらや膜厚の不均一(厚さむら)が生じてしまう。したがって、このような斜めむらや厚さむら(総称して凹凸むらとする)や、上記のような発泡が流延膜の表面に生じると、流延膜の平面性が著しく低下してしまう。そのため、このような流延膜からは平面性に劣るフィルムしか製造することができない。   However, in the initial drying, when the drying temperature exceeds the boiling point of the solvent contained in the cast film on the endless support, foaming due to the solvent occurs inside the cast film. In particular, in the vicinity of both end portions of the casting film, heat is easily transmitted from the endless support to the casting film, so that foaming is likely to occur. When foaming occurs inside the casting film in this way, irregularities are generated on the surface of the casting film, and voids are formed inside the casting film. In addition, when drying is performed by sending out drying air adjusted to a predetermined temperature, the drying air causes oblique unevenness and uneven film thickness (thickness unevenness) on the surface of the casting film. Therefore, when such oblique unevenness or uneven thickness (generally referred to as unevenness) or foaming as described above occurs on the surface of the casting film, the flatness of the casting film is significantly reduced. Therefore, only a film having poor flatness can be produced from such a casting film.

そこで、金属製の無端支持体と対面するように備えられ、前記金属製の無端支持体の幅方向を長手方向とする第1送風口から、温度(℃)が30〜160℃の範囲内で略一定とされた乾燥風を、静圧(Pa)が50〜200Paの範囲内で略一定となるように調整しながら、形成された直後の流延膜に送り出す第1乾燥工程と、前記第1乾燥工程の後で、前記無端支持体の走行する向きに向くように備えられた第2送風口から、前記流延膜の残留溶媒量に応じて、前記無端支持体の走行する向きに対して略平行の乾燥風を送り出す第2乾燥工程とを含む流延膜乾燥方法を行うことが好ましい。   Therefore, a temperature (° C.) within a range of 30 to 160 ° C. is provided from a first air outlet provided to face a metal endless support and having a longitudinal direction in a width direction of the metal endless support. A first drying step of sending the substantially constant drying air to the casting film immediately after being formed while adjusting the static pressure (Pa) to be substantially constant within a range of 50 to 200 Pa; After one drying step, from the second air outlet provided to face the running direction of the endless support, the direction of travel of the endless support is determined according to the residual solvent amount of the casting film. It is preferable to perform a casting film drying method including a second drying step of sending substantially parallel drying air.

また、前記第1送風口の内部に仕切り部材を設けて、前記無端支持体の走行方向と平行の向きに対して少なくとも三つのエリアに区画することが好ましい。前記第1送風口の区画のうち、前記流延膜の両側端部近傍の上方に位置する区画に風量制御部材を設けて、送り出す乾燥風の風量を前記無端支持体の幅方向で調整することが好ましい。   In addition, it is preferable that a partition member is provided inside the first air outlet to divide the endless support into at least three areas in a direction parallel to a running direction of the endless support. In the section of the first blower port, an airflow control member is provided in a section located above the vicinity of both side ends of the casting film, and the amount of dry air to be sent out is adjusted in the width direction of the endless support. Is preferred.

前記流延膜の残留溶媒量が250質量%までの間は、前記第1乾燥処理を行うことが好ましく、前記第2送風口から、温度(℃)が30〜160℃の範囲内で略一定であって、風速(m/秒)が5〜20m/秒の範囲内で略一定となるように調整した乾燥風を、前記無端支持体の走行方向に対して平行になるように送り出すことが好ましい。   The first drying treatment is preferably performed while the amount of the residual solvent in the casting film is up to 250% by mass, and the temperature (° C.) is substantially constant within a range of 30 to 160 ° C. from the second air outlet. The drying wind adjusted so that the wind speed (m / sec) is substantially constant within the range of 5 to 20 m / sec may be sent out so as to be parallel to the running direction of the endless support. preferable.

流延膜の金属製の無端支持体からの剥離性を向上するのに、剥離時に接触している移動する無端支持体のドープ膜剥離側とは反対の面に特定の温度範囲の冷却体を接触させ、剥離時の残留溶媒量を特定の範囲に制御することで、剥離性が改良し、無端支持体から良好に剥離できる。すなわち、流延膜を剥ぎ取る時の残留溶媒量を100質量%以下に制御し、かつ、前記流延膜を無端支持体から剥ぎ取る領域において、前記無端支持体の流延膜剥離側とは反対の面に表面温度が10℃以下の冷却体を接触させることが好ましい。   To improve the releasability of the casting membrane from the metal endless support, a cooling body with a specific temperature range is placed on the surface of the moving endless support that is in contact at the time of peeling, on the side opposite to the dope film release side. By contacting and controlling the amount of the residual solvent at the time of peeling to a specific range, the peelability is improved and the peeling can be favorably performed from the endless support. That is, the amount of the residual solvent at the time of stripping the casting film is controlled to 100% by mass or less, and in the region where the casting film is stripped from the endless support, It is preferable to bring a cooling body having a surface temperature of 10 ° C. or less into contact with the opposite surface.

前記残留溶媒量を55%以下に制御することが好ましく、前記冷却体の表面温度は−5℃以下であることが好ましい。   The amount of the residual solvent is preferably controlled to 55% or less, and the surface temperature of the cooling body is preferably -5 ° C or less.

前記冷却体は、前記移動する無端支持体を回動させることができるローラーを兼ねていることが好ましい。前記冷却体の表面温度の制御方法としては、例えば、不凍液を用いたブラインチラーで冷却することによりの表面温度を10℃以下(上限値は好ましくは5℃以下、より好ましくは0℃以下、特に好ましくは−5℃以下)とすることができる。前記冷却体の表面温度は、−25〜5℃であることが好ましく、−25〜0℃であることがより好ましく、−20〜0℃であることが特に好ましい。   It is preferable that the cooling body also serves as a roller capable of rotating the moving endless support. As a method of controlling the surface temperature of the cooling body, for example, the surface temperature by cooling with a blinch chiller using antifreeze is 10 ° C or less (the upper limit is preferably 5 ° C or less, more preferably 0 ° C or less, particularly (Preferably −5 ° C. or less). The surface temperature of the cooling body is preferably −25 to 5 ° C., more preferably −25 to 0 ° C., and particularly preferably −20 to 0 ° C.

さらに、金属製の無端支持体全体の温度を−50〜10℃に設定することも好ましく、環状ポリオレフィン系樹脂溶液が前記金属製の無端支持体上に流延されてから剥離されるまでの冷却速度を、(温度差/時間)で表した場合、3〜5(℃/sec)であることが好ましい。   Further, it is also preferable to set the temperature of the entire metal endless support at -50 to 10 ° C, and to cool the cyclic polyolefin-based resin solution from being cast on the metal endless support to being peeled off. When the speed is represented by (temperature difference / time), it is preferably 3 to 5 (° C./sec).

また、その際ドープ中の貧溶媒比率が2〜20質量%の範囲に調整することが剥離性の観点から好ましい。   At that time, it is preferable to adjust the ratio of the poor solvent in the dope to a range of 2 to 20% by mass from the viewpoint of peelability.

流延ダイの上端部に、環状ポリオレフィン系樹脂ドープの供給口を複数箇所設けておき、流延ダイに対して、ドープを複数箇所の供給口から流延ダイのマニホールド内に供給することが好ましい。   At the upper end of the casting die, a plurality of supply ports for the cyclic polyolefin-based resin dope are provided, and the dope is preferably supplied to the casting die from the plurality of supply ports into the manifold of the casting die. .

(積層流延)
共流延等の積層流延を行う際は、流延ダイのリップクリアランスを狭めることで吐出部分のせん断が大きくなり、スティックスリップを引き起こすドープの局所的な高濃度(高粘度)部分が混合され、円形変形発生を抑えることができる。また、多層からなるフィルムを製膜する際には、外層(表面層、エアー面層及び/又は裏面層、無端支持体面層)を形成するドープの粘度を下げることでスティックスリップそのものが弱くなり円形変形が起こらなくなる。さらに、前記リップクリアランスと前記外層形成用ドープ粘度との間に所定の相関がある。
(Laminated casting)
When performing laminating casting such as co-casting, the lip clearance of the casting die is narrowed to increase the shearing of the discharge part, and the locally high concentration (high viscosity) part of the dope causing stick-slip is mixed. In addition, the occurrence of circular deformation can be suppressed. When a multilayer film is formed, the viscosity of the dope that forms the outer layer (the surface layer, the air surface layer and / or the back surface layer, and the endless support surface layer) is reduced, so that the stick-slip itself is weakened and a circular shape is formed. No deformation occurs. Further, there is a predetermined correlation between the lip clearance and the viscosity of the dope for forming the outer layer.

ポリマーと溶媒とを含む複数のドープを流延ダイから共流延し、多層フィルムを製膜する溶液流延法において、前記ドープを流延する際の温度T1(℃)での前記多層フィルムの表面又は裏面を形成するドープ粘度V(Pa・s)と、前記流延ダイのリップクリアランスの平均値C1(mm)との関係が、
V≦−146×C1+219 を満たし、より好ましくは
V≦−135×C1+200 であり、
さらに好ましくは
V≦−118×C1+175 である。
In a solution casting method in which a plurality of dopes containing a polymer and a solvent are co-cast from a casting die to form a multilayer film, the dope of the multilayer film at a temperature T1 (° C.) when the dope is cast. The relationship between the dope viscosity V (Pa · s) forming the front surface or the back surface and the average value C1 (mm) of the lip clearance of the casting die is as follows.
V ≦ −146 × C1 + 219, more preferably V ≦ −135 × C1 + 200,
More preferably, V ≦ −118 × C1 + 175.

前記ドープを流延する際の温度T1(℃)での前記多層フィルムの表面又は裏面を形成するドープ粘度V(Pa・s)を5〜60Pa・sの範囲とすることが好ましく、より好ましくは5〜55Pa・sの範囲であり、最も好ましくは7〜40Pa・sの範囲とすることである。前記リップクリアランスの平均値C1(mm)が、0.9〜1.5mmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.9〜1.2mmの範囲とすることであり、最も好ましくは0.9〜1.1mmの範囲とすることである。前記ドープを流延する際の前記ドープの温度T1(℃)を20〜38℃の範囲とすることが好ましい。   The dope viscosity V (Pa · s) for forming the front or back surface of the multilayer film at a temperature T1 (° C.) at the time of casting the dope is preferably in the range of 5 to 60 Pa · s, more preferably. The range is from 5 to 55 Pa · s, and most preferably from 7 to 40 Pa · s. The average value C1 (mm) of the lip clearance is preferably in the range of 0.9 to 1.5 mm, more preferably in the range of 0.9 to 1.2 mm, and most preferably 0.1 to 1.2 mm. The range is 9 to 1.1 mm. It is preferable that the temperature T1 (° C.) of the dope at the time of casting the dope is in the range of 20 to 38 ° C.

また、基層用ドープ、無端支持体面層用ドープ、エアー面層用ドープ、のうち少なくとも2種類以上は異なる粘度とし、流延膜を構成する基層の厚さt1(μm)と、無端支持体面層の厚さt2(μm)と、エアー面層の厚さt3(μm)との関係を、t2≦t3≦t1とすることが好ましい。さらに、流延膜の厚さに対するt3の割合を、3%以上40%以下とすることが好ましい。   Further, at least two or more of the dope for the base layer, the dope for the endless support surface layer, and the dope for the air surface layer have different viscosities, and the thickness t1 (μm) of the base layer constituting the casting film and the endless support surface layer It is preferable that the relationship between the thickness t2 (μm) and the thickness t3 (μm) of the air surface layer be t2 ≦ t3 ≦ t1. Further, it is preferable that the ratio of t3 to the thickness of the casting film be 3% or more and 40% or less.

基層用ドープの粘度η1(Pa・s)と、無端支持体面層用ドープの粘度η2(Pa・s)と、エアー面層用ドープの粘度η3(Pa・s)との関係を、η3≦η2≦η1とすることが好ましい。   The relationship among the viscosity η1 (Pa · s) of the dope for the base layer, the viscosity η2 (Pa · s) of the dope for the endless support surface layer, and the viscosity η3 (Pa · s) of the dope for the air surface layer is expressed as η3 ≦ η2. It is preferable that ≦ η1.

ポリマーは、重合度が100〜1000の範囲の環状ポリオレフィン系樹脂であることが好ましい。また、η3が、5Pa・s≦η3≦30Pa・sを満たすこと好ましい。   The polymer is preferably a cyclic polyolefin-based resin having a degree of polymerization in the range of 100 to 1,000. Further, η3 preferably satisfies 5 Pa · s ≦ η3 ≦ 30 Pa · s.

エアー面層用ドープの質量Aと、このドープに含まれる有機溶媒の質量Bとは、16≦{(A−B)/A}×100≦21を満たすことが好ましい。   The mass A of the dope for the air surface layer and the mass B of the organic solvent contained in the dope preferably satisfy 16 ≦ {(AB) / A} × 100 ≦ 21.

原料ドープは、添加剤を入れた後にインラインミキサーで撹拌混合することが好ましく、インラインミキサーは、原料ドープが流れる配管の直径方向に伸びるように設けられ、添加剤の投入口となるスリット状の添加口を備えることが好ましい。   The raw material dope is preferably stirred and mixed by an in-line mixer after adding the additive, and the in-line mixer is provided so as to extend in a diameter direction of a pipe through which the raw material dope flows, and has a slit-shaped addition serving as an inlet for the additive. Preferably a mouth is provided.

添加口は、配管の径方向に平行となる長さLが配管の内径の20%以上80%以下であることが好ましい。   The length L of the addition port parallel to the radial direction of the pipe is preferably 20% or more and 80% or less of the inner diameter of the pipe.

スリットの隙間が、0.1mm以上前記配管の内径の1/10mm以下であることが好ましく、添加口からインラインミキサーまでの距離Dを、1mm以上250mm以下とすることが好ましい。さらに、配管内を流れる添加剤の流速V1及び原料ドープの流速V2は、1≦V1/V2≦5を満たすことが好ましい。   The gap between the slits is preferably 0.1 mm or more and 1/10 mm or less of the inner diameter of the pipe, and the distance D from the addition port to the in-line mixer is preferably 1 mm or more and 250 mm or less. Further, the flow velocity V1 of the additive flowing in the pipe and the flow velocity V2 of the raw material dope preferably satisfy 1 ≦ V1 / V2 ≦ 5.

(乾燥)
環状ポリオレフィンフィルムの製造に係る無端支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属製の無端支持体(例えばドラム又はバンド)の表面側、つまり金属製の無端支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム又はバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム又はバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属製の無端支持体の表面温度はドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属製の無端支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より1〜10℃低い温度に設定することが好ましい。なお、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
(Dry)
Drying of the dope on the endless support for the production of the cyclic polyolefin film is generally performed on the surface side of the metal endless support (for example, a drum or a band), that is, the surface of the web on the metal endless support. A method of applying hot air from the back, a method of applying hot air from the back of the drum or band, and contacting a temperature-controlled liquid from the back side opposite to the dope casting surface of the band or drum, and heating the drum or band by heat transfer. Although there is a liquid heat transfer method for controlling the surface temperature, a back liquid heat transfer method is preferable. The surface temperature of the metal endless support before casting may be any number of times as long as it is lower than the boiling point of the solvent used for the dope. However, in order to promote drying and to lose the fluidity on the metal endless support, the temperature should be 1 to 10 ° C. lower than the boiling point of the lowest boiling solvent among the solvents used. It is preferable to set. This is not the case when the casting dope is cooled and peeled off without drying.

(剥離)
金属製の無端支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブはフィルムとして次工程に送られる。
(Peeling)
In this step, the web from which the solvent has been evaporated on the metal endless support is peeled off at the peeling position. The peeled web is sent to the next step as a film.

金属製の無端支持体上の剥離位置における温度は好ましくは10〜40℃の範囲であり、さらに好ましくは10〜30℃の範囲である。   The temperature at the peeling position on the metal endless support is preferably in the range of 10 to 40C, more preferably in the range of 10 to 30C.

なお、剥離する時点での金属製の無端支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属製の無端支持体の長さ等により10〜130質量%の範囲、好ましくは10〜100質量%の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。   The residual solvent amount at the time of peeling of the web on the metal endless support at the time of peeling is in the range of 10 to 130% by mass depending on the strength of drying conditions, the length of the metal endless support, and the like. Preferably, peeling is performed in the range of 10 to 100% by mass. However, when peeling is performed at a time when the amount of the residual solvent is larger, if the web is too soft, flatness at the time of peeling is impaired, and unevenness and vertical stripes due to peel tension occur. Therefore, the amount of residual solvent at the time of peeling is determined based on a balance between economic speed and quality.

ウェブの残留溶媒量は下記式(Z)で定義される。   The residual solvent amount of the web is defined by the following equation (Z).

式(Z)
残留溶媒量(%)=(ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)×100
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
Formula (Z)
Residual solvent amount (%) = (mass before heat treatment of web−mass after heat treatment of web) / (mass after heat treatment of web) × 100
Note that the heat treatment at the time of measuring the amount of the residual solvent means performing heat treatment at 115 ° C. for one hour.

金属製の無端支持体とフィルムとを剥離する際の剥離張力は、通常、50〜245N/mの範囲内であるが、剥離の際にシワが入りやすい場合、190N/m以下の張力で剥離することが好ましい。   The peeling tension at the time of peeling the metal endless support and the film is usually in the range of 50 to 245 N / m. However, when wrinkles are likely to occur at the time of peeling, the peeling is performed at a tension of 190 N / m or less. Is preferred.

本発明においては、当該金属製の無端支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃の範囲内とするのが好ましく、5〜40℃の範囲内がより好ましく、5〜30℃の範囲内とするのが最も好ましい。   In the present invention, the temperature at the peeling position on the metal endless support is preferably in the range of −50 to 40 ° C., more preferably in the range of 5 to 40 ° C., and in the range of 5 to 30 ° C. Most preferably, it is within.

生乾きのフィルムを金属製の無端支持体から剥離するとき、剥離抵抗(剥離荷重)が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、リターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状又は帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フィルムの剥離荷重をフィルム剥離幅1cmあたり2.5N以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは2N/cm以下、さらに好ましくは1.8N以下、特に好ましくは1.5N以下である。剥離荷重2.5N/cm以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶媒組成の選択による方法がある。   When peeling a dry film from a metal endless support, if the peeling resistance (peeling load) is large, the film is stretched irregularly in the film forming direction, causing optically anisotropic unevenness. In particular, when the peeling load is large, portions that are stretched stepwise in the film forming direction and portions that are not stretched alternately occur, and a distribution occurs in retardation. When the liquid crystal display device is loaded, a linear or band-like unevenness becomes visible. In order to prevent such a problem from occurring, it is preferable to set the peeling load of the film to 2.5 N or less per 1 cm of the film peeling width. The peeling load is more preferably 2 N / cm or less, further preferably 1.8 N or less, particularly preferably 1.5 N or less. When the peeling load is 2.5 N / cm or less, unevenness due to peeling is not recognized at all even in a liquid crystal display device in which unevenness is likely to appear, which is particularly preferable. As a method of reducing the peeling load, there are a method of adding a peeling agent as described above and a method of selecting a solvent composition to be used.

剥離荷重の測定は次のようにして行う。製膜装置の金属製の無端支持体と同じ材質・表面粗さの金属板上にドープを滴下し、ドクターブレードを用いて均等な厚さに展延し乾燥する。カッターナイフでフィルムに均等幅の切れ込みを入れ、フィルムの先端を手で剥がしてストレンゲージにつながったクリップで挟み、ストレンゲージを斜め45度方向に引き上げながら、荷重変化を測定する。剥離されたフィルム中の揮発分も測定する。乾燥時間を変えて何回か同じ測定を行い、実際の製膜工程における剥離時残留揮発分と同じ時の剥離荷重を定める。剥離速度が速くなると剥離荷重は大きくなる傾向があり、実際に近い剥離速度で測定することが好ましい。   The peeling load is measured as follows. A dope is dropped on a metal plate having the same material and surface roughness as a metal endless support of a film forming apparatus, spread to a uniform thickness using a doctor blade, and dried. A notch of even width is cut into the film with a cutter knife, the end of the film is peeled off by hand, and the clip is connected to a strain gauge, and the load change is measured while raising the strain gauge obliquely at 45 degrees. The volatile content in the peeled film is also measured. The same measurement is performed several times while changing the drying time, and the peeling load at the same time as the residual volatile matter at the time of peeling in the actual film forming process is determined. As the peeling speed increases, the peeling load tends to increase, and it is preferable to measure at a peeling speed close to actual.

剥離時の好ましい残留揮発分濃度は5〜60質量%である。しかし使用する環状ポリオレフィンにもよるが、残留揮発分濃度30質量%以上ではフィルム強度が乏しく剥離力に負けて切断したり伸びてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、シワ、クニックを生じやすくなる。またリターデーションに分布を生じる原因になる。一方、高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましいという利点もある。したがって更に好ましい剥離時の残留揮発分濃度は10〜55質量%である。剥離剤使用量を少なくしても比較的に剥離抵抗が小さくなる15〜50質量%が特に好ましい。   The preferred concentration of residual volatiles at the time of peeling is 5 to 60% by mass. However, depending on the cyclic polyolefin used, if the residual volatile matter concentration is 30% by mass or more, the film strength is poor, and the film loses its peeling strength and is cut or stretched. In addition, the self-holding force after peeling is poor, and deformation, wrinkles, and knicks are likely to occur. It also causes a distribution in retardation. On the other hand, peeling with a high volatile content has the advantage that the drying speed can be increased and the productivity is improved, which is preferable. Therefore, the more preferable residual volatile matter concentration at the time of peeling is 10 to 55% by mass. Even when the amount of the release agent used is reduced, the release resistance is particularly preferably 15 to 50% by mass at which the release resistance becomes relatively small.

剥取速度は10m/min以上で、かつ2Hz以上での剥取位置の変動量が20mm未満であることが好ましい。前記無端支持体から剥ぎ取った直後の膜を支持する剥取ローラーを用いた場合であって、前記剥離位置と前記剥取ローラーの前記膜の接触位置との距離Lを0.1mm〜100mmの範囲とすることが好ましい。前記無端支持体の温度を10〜40℃の範囲に調整することが好ましい。   The stripping speed is preferably 10 m / min or more, and the amount of change in the stripping position at 2 Hz or more is preferably less than 20 mm. In the case where a peeling roller that supports the film immediately after peeling off from the endless support is used, the distance L between the peeling position and the contact position of the film of the peeling roller is 0.1 mm to 100 mm. It is preferable to set the range. It is preferable to adjust the temperature of the endless support in a range of 10 to 40 ° C.

その際、製膜速度は10〜150m/minの範囲で行うことが好ましい。剥離時の温度は5〜50℃の範囲とすることが好ましい。   At this time, it is preferable that the film formation speed is in the range of 10 to 150 m / min. The temperature at the time of peeling is preferably in the range of 5 to 50 ° C.

また、無端支持体から剥ぎ取り直後のフィルムは、薄い軟膜でありローラー搬送やフィルムの両側の端部(以下、耳端部と称する)を保持搬送するテンター搬送工程では、フィルムを膜厚を薄くするいわゆる薄手化とすると、安定搬送が難しくなる問題が生じる。また、フィルムの耳端部の厚さを厚くし過ぎると、高速製膜ではげ残り等が発生する場合がある。   In addition, the film immediately after being peeled off from the endless support is a thin buffy film, and the film is thinned in a roller transporting or a tenter transporting process in which both ends of the film are held and transported (hereinafter referred to as ear ends). If the sheet is made thinner, a problem arises in that stable conveyance becomes difficult. Further, if the thickness of the ear end of the film is too large, there may be a case where flakes and the like occur in high-speed film formation.

そのため、フィルムを薄手化しても、搬送安定性を確保するため、フィルム耳端部のみ厚さを厚くすることをリップクリアランス調整以外の方法により行うことが好ましく、ダイ本体の流路とは別に、各耳端部厚さ補正用のドープの流路を設け、そこを通過するドープの流量を、ダイリップ先端のクリアランス調整とは別の調整機構により制御し、厚さ補正用ドープを、ダイ両耳端部に供給し、フィルムの両耳端部のみ厚さを独立して制御する方法が好ましい。   Therefore, even if the film is thinned, it is preferable to increase the thickness only at the edge of the film by a method other than the lip clearance adjustment in order to secure transport stability, and separately from the flow path of the die body, A dope flow path for thickness correction of each ear end is provided, and the flow rate of the dope passing therethrough is controlled by an adjustment mechanism different from the clearance adjustment at the tip of the die lip. A preferred method is to feed the film to the edges and to independently control the thickness of only the two ear edges of the film.

具体的に用いることのできる製造装置としては、ドープ用流路を有するダイ本体からドープを無端支持体上に流延するフィルムの製造装置において、前記ドープ用流路とは別に前記ダイに前記フィルム両端部厚さ補正用流路を備え、前記フィルムの両端部の厚さを独立で制御できる。前記補正用流路を通過する補正用ドープの流量を調整する調整機構を備え、前記フィルムの両端部の厚さを独立で制御できる装置であることが好ましい。前記補正用流路が、エアー抜部を有していることが好ましい。前記補正用流路が、前記ダイ本体とは独立して制御可能な保温機構を有していることが好ましく、前記補正用流路出口が、前記ダイ本体の流延幅となる流路からダイリップ先端までの間に設けられていることが好ましい。   As a production apparatus that can be specifically used, in a film production apparatus in which a dope is cast on an endless support from a die body having a dope flow path, the film is separated into the die separately from the dope flow path. It is provided with a flow path for correcting the thickness at both ends, so that the thickness at both ends of the film can be controlled independently. It is preferable that the apparatus is provided with an adjustment mechanism for adjusting the flow rate of the correction dope passing through the correction channel, and is capable of independently controlling the thickness of both ends of the film. It is preferable that the correction channel has an air vent. Preferably, the correction flow path has a heat retaining mechanism that can be controlled independently of the die main body, and the correction flow path outlet has a die lip from a flow path that is the casting width of the die main body. It is preferably provided between the tip.

当該フィルムの製造方法によれば、流延膜の両端部が厚くなり、流延膜全体としても膜の強度が増し、無端支持体から薄手の流延膜を剥ぎ取る際に、剥ぎ取り残りなどの異常の発生を抑制できる。なお、このように流延膜の両端部のみを厚くする方法は、ダイの本体に備えられているドープ用流路とは別に、前記ダイに前記フィルム両端部厚さ補正用流路を設け、前記補正用ドープを、前記補正用流路から供給し、前記フィルムの両端部の厚さを独立で制御するから、従来の設備に少しの改良を施すのみで本発明を実施することが可能となり、コストの低減を図ることができる。また、前記補正用流路を通過する補正用ドープの流量を、ダイリップ先端のクリアランス調整とは別の調整機構を備えたものを用いて制御することで、よりフィルムの厚さの制御を精度良く行うことができる。   According to the method for producing a film, both end portions of the casting film are thickened, the strength of the film as a whole is increased, and when the thin casting film is peeled off from the endless support, such as peeling residue. Can be suppressed from occurring. In addition, the method of thickening only the both ends of the casting film in this way, separately from the dope flow channel provided in the body of the die, providing the die both ends thickness correction flow channel in the die, The correction dope is supplied from the correction channel, and the thickness of both ends of the film is independently controlled, so that the present invention can be implemented with only a slight improvement to conventional equipment. Therefore, cost can be reduced. In addition, by controlling the flow rate of the dope for correction passing through the flow path for correction by using a mechanism having an adjustment mechanism different from the clearance adjustment at the tip of the die lip, the control of the thickness of the film can be more accurately performed. It can be carried out.

(流延工程内の雰囲気)
本発明に係る流延工程では、少なくとも流延工程内の酸素濃度を10vol%未満にすることが好ましく、より好ましくは8vol%未満である。また、流延工程に続く乾燥工程が流延工程と同一のケーシング内に配置されている場合は、乾燥工程内においても酸素濃度を10vol%未満にすることになるが、流延工程と乾燥工程との間の通気性がない場合は、流延工程内のみを酸素濃度が10vol%未満となるようにすればよい。
(Atmosphere in the casting process)
In the casting step according to the present invention, at least the oxygen concentration in the casting step is preferably less than 10 vol%, more preferably less than 8 vol%. Further, when the drying step following the casting step is arranged in the same casing as the casting step, the oxygen concentration will be less than 10 vol% even in the drying step. When there is no air permeability between the two, the oxygen concentration may be reduced to less than 10 vol% only in the casting step.

このように酸素濃度を10vol%未満にすることにより、有機溶剤ガスの爆発等を防止することができるものであり、流延工程内の有機溶剤ガスの濃度が大きい場合に特に有効である。すなわち、有機溶剤ガスの濃度が、その爆発下限界の25%以上となるような場合に特に有効である。   By setting the oxygen concentration to less than 10 vol% as described above, it is possible to prevent explosion of the organic solvent gas and the like, and it is particularly effective when the concentration of the organic solvent gas in the casting step is high. That is, it is particularly effective when the concentration of the organic solvent gas is 25% or more of the lower explosive limit.

流延工程内の酸素濃度を10vol%未満にするには、窒素ガス、炭酸ガス等の不活性ガス又は不活性ガスと空気とを混合したものであって酸素濃度が10vol%未満の混合ガスを供給することにより行うことができる。流延工程内の酸素濃度を酸素濃度計で測定し、この測定値に応じて不活性ガス等の供給量を制御することが好ましい。   In order to reduce the oxygen concentration in the casting process to less than 10 vol%, an inert gas such as nitrogen gas or carbon dioxide or a mixture of an inert gas and air and a mixed gas having an oxygen concentration of less than 10 vol% is used. It can be performed by supplying. It is preferable that the oxygen concentration in the casting step is measured by an oxygen concentration meter, and the supply amount of an inert gas or the like is controlled according to the measured value.

(4)乾燥・延伸工程
(4−1.乾燥工程)
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。
(4) Drying / stretching step (4-1. Drying step)
The drying step can be performed by dividing into a preliminary drying step and a main drying step.

金属製の無端支持体から剥離して得られたウェブを乾燥させるには、ウェブを上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。   In order to dry the web obtained by peeling from the metal endless support, the web may be dried while being conveyed by a number of rollers arranged vertically or may be dried at both ends of the web like a tenter dryer. May be dried while being transported while fixed with clips.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed by hot air, infrared rays, a heating roller, a microwave, or the like, but is preferably performed by hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点以下であって、100℃以上の温度で10〜60分の範囲内の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は100〜200℃の範囲内、更に好ましくは110〜160℃の範囲内で乾燥が行われる。   The drying temperature in the web drying step is preferably lower than the glass transition point of the film, and it is effective to perform heat treatment at a temperature of 100 ° C. or higher for a period of 10 to 60 minutes. The drying is performed at a drying temperature in the range of 100 to 200 ° C, more preferably in the range of 110 to 160 ° C.

(4−2.延伸工程)
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、延伸処理することでフィルム内の分子の配向を制御することができ、平面性を向上したり、強靭性を得たりすることができる。また、所望の値に位相差を調整することができる。
(4-2. Stretching step)
By subjecting the cyclic polyolefin film of the present invention to a stretching treatment, the orientation of the molecules in the film can be controlled, and the flatness can be improved and the toughness can be obtained. Further, the phase difference can be adjusted to a desired value.

延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。   The stretching operation may be performed in multiple stages. When performing biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching may be performed or stepwise may be performed. In this case, stepwise means, for example, that stretching in different stretching directions can be performed sequentially, or that stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any of the stages. Is also possible.

すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である:
・流延方向に延伸→幅手方向に延伸→流延方向に延伸→流延方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→流延方向に延伸→流延方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮する場合も含まれる。
Thus, for example, the following stretching steps are also possible:
・ Stretch in the casting direction → stretch in the width direction → stretch in the casting direction → stretch in the casting direction ・ Stretch in the width direction → stretch in the width direction → stretch in the casting direction → stretch in the casting direction Simultaneous biaxial stretching also includes the case where the film is stretched in one direction and the other is shrunk by relaxing the tension.

延伸開始時の残留溶媒量は2〜10質量%の範囲内であることが好ましい。   The residual solvent amount at the start of stretching is preferably in the range of 2 to 10% by mass.

当該残留溶媒量は、2質量%以上であれば、膜厚偏差が小さくなり、平面性の観点から好ましく、10質量%以内であれば、表面の凹凸が減り、平面性が向上し好ましい。   When the amount of the residual solvent is 2% by mass or more, the film thickness deviation is small, and it is preferable from the viewpoint of flatness. When the amount is 10% by mass or less, unevenness on the surface is reduced, and the flatness is improved.

ウェブを金属製の無端支持体より剥離した後、ウェブ(フィルム)の乾燥工程においては、一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら、乾燥する方式が採られており、最終的に、残留溶媒量が0.5質量%以下となるまで乾燥される。   After the web is peeled off from the metal endless support, the web (film) is dried in a roll drying method (a method in which a large number of rolls arranged vertically are alternately passed through the web and dried) or a tenter method. Is transported while drying, and finally the solvent is dried until the residual solvent amount becomes 0.5% by mass or less.

また、ウェブに含まれる残留溶媒量は目的のリターデーション値を得るために、やや高めの量であってもよく、高リターデーション値を付与するには、15〜100質量%、好ましくは20〜50質量%の範囲で有していてもよい。   Further, the amount of residual solvent contained in the web may be slightly higher in order to obtain a desired retardation value, and in order to impart a high retardation value, 15 to 100% by mass, preferably 20 to 100% by mass. You may have it in the range of 50 mass%.

本発明による環状ポリオレフィンフィルムの製造方法の一つは、フィルムの搬送方向に直行する方向(TD方向)に延伸する延伸工程を具備し、延伸工程より下流側に熱処理工程を備え、熱処理工程内でフィルム温度を、ガラス転移温度(Tg)−50℃以上、Tg+40℃以下の温度とし、さらに熱処理工程のガイドロールのロールスパンを50〜300mmの範囲とし、フィルムの搬送張力を15〜100N/mの範囲として加熱処理を行うものである。ここで、ガラス転移温度(Tg)は、完成したフィルムのガラス転移点温度をいう。   One of the methods for producing a cyclic polyolefin film according to the present invention includes a stretching step in which the film is stretched in a direction (TD direction) perpendicular to the transport direction of the film, and includes a heat treatment step downstream of the stretching step. The film temperature is set to a glass transition temperature (Tg) of −50 ° C. or more and Tg + 40 ° C. or less, the roll span of the guide roll in the heat treatment step is set to a range of 50 to 300 mm, and the transport tension of the film is set to 15 to 100 N / m. Heat treatment is performed as a range. Here, the glass transition temperature (Tg) refers to the glass transition temperature of the completed film.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法によれば、溶液流延法において、延伸工程より下流側の別の工程で、フィルムの幅手方向の収縮を抑制しつつ、フィルムにガラス転移温度(Tg)以上の温度を加えることによって、従来の溶液製膜法で作製されたセルロースエステル系樹脂では達成し得なかったフィルムのMD方向(フィルムの搬送方向)の収縮が促進され、厚さ方向リターデーション(Rt)の低下だけでなく、リターデーション値の幅手方向の均一性を確保することができて、フィルムのヘイズ値の低減をも実現できるものである。   According to the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, in a solution casting method, in another step downstream of the stretching step, while suppressing shrinkage in the width direction of the film, the film has a glass transition temperature (Tg). By applying the above temperature, shrinkage of the film in the MD direction (the direction in which the film is conveyed), which could not be achieved with the cellulose ester resin produced by the conventional solution casting method, is promoted, and the retardation in the thickness direction ( In addition to the reduction in Rt), uniformity of the retardation value in the width direction can be ensured, and the haze value of the film can be reduced.

本発明の製造方法では、フィルム搬送方向への延伸(MD延伸)における延伸倍率は、1〜25%であることが好ましく、3〜20%であることがより好ましい。   In the production method of the present invention, the stretching ratio in the stretching in the film transport direction (MD stretching) is preferably 1 to 25%, more preferably 3 to 20%.

なお、ここでいう「延伸倍率(%)」とは、以下の式により求められるものを意味する。   Here, the “stretching ratio (%)” means a value determined by the following equation.

延伸倍率(%)=100×{(延伸後の長さ)−(延伸前の長さ)}/延伸前の長さ
ウェブをフィルム搬送方向に延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。前記縦方向への延伸は、二つのニップロールを有する装置を用い、入口側のニップロールの回転速度よりも、出口側のニップロールの回転速度を速くすることにより、搬送方向(縦方向)に環状ポリオレフィンフィルムを好ましく延伸することが好ましい。このような延伸を行うことによって、リターデーションの発現性も調整することができる。
Stretching ratio (%) = 100 × {(length after stretching) − (length before stretching)} / length before stretching The method for stretching the web in the film transport direction is not particularly limited. For example, a method in which a circumferential speed difference is applied to a plurality of rolls, and a longitudinal stretching is performed using the circumferential speed difference between the rolls, and both ends of the web are fixed with clips or pins, and the intervals between the clips and pins are widened in the traveling direction. And a method of extending in the vertical and horizontal directions at the same time and extending in both the vertical and horizontal directions. Of course, these methods may be used in combination. In the so-called tenter method, when the clip portion is driven by the linear drive method, smooth stretching can be performed, and the risk of breakage or the like can be reduced, which is preferable. The stretching in the longitudinal direction is performed using a device having two nip rolls, and the rotational speed of the nip roll on the outlet side is made higher than the rotational speed of the nip roll on the inlet side, so that the cyclic polyolefin film is transported (vertically). Is preferably stretched. By performing such a stretching, the expression of retardation can also be adjusted.

本発明のいま一つの環状ポリオレフィンフィルムの製造方法は、同様にフィルムの搬送方向に直行する方向(TD方向)に延伸する延伸工程を具備し、延伸工程より上流側に熱処理工程を備え、熱処理工程内でフィルム温度を、ガラス転移温度(Tg)−50℃以上、Tg+20℃以下の温度とし、さらに熱処理工程のガイドロールのロールスパンを50〜300mmの範囲とし、フィルムの搬送張力を15〜100N/mの範囲として加熱処理を行い、さらにこの熱処理工程より下流側で一旦フィルムをガラス転移温度(Tg)以下の温度まで冷却し、その後、延伸を施すものであることが好ましい。この環状ポリオレフィンフィルムの製造方法によれば、溶液流延製膜法において、延伸工程より上流側のプロセスで、ガラス転移温度(Tg)付近の温度まで昇温させたのち、再度冷却工程を経て、再度、ガラス転移温度(Tg)付近の温度まで昇温しながら延伸することによって、面内リターデーション(Ro)と厚さ方向リターデーション(Rt)の適切な組み合わせを実現することができて、フィルムのヘイズ値の低減をも実現できる。   Another method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention similarly includes a stretching step of stretching in a direction (TD direction) perpendicular to the film transport direction, and includes a heat treatment step upstream of the stretching step. Within this, the film temperature is set to a glass transition temperature (Tg) of −50 ° C. or more and a temperature of Tg + 20 ° C. or less, the roll span of the guide roll in the heat treatment step is set to a range of 50 to 300 mm, and the transfer tension of the film is set to 15 to 100 N /. Preferably, the film is subjected to a heat treatment in the range of m, further cooled downstream to a temperature lower than the glass transition temperature (Tg) once from the heat treatment step, and then stretched. According to this method for producing a cyclic polyolefin film, in the solution casting film forming method, after the temperature is raised to a temperature near the glass transition temperature (Tg) in a process upstream of the stretching step, the cooling step is performed again. By stretching while raising the temperature to a temperature near the glass transition temperature (Tg) again, an appropriate combination of in-plane retardation (Ro) and thickness direction retardation (Rt) can be realized, and the film Can also be reduced.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、例えば、VA型液晶表示装置用の位相差フィルムとして用いる場合には、面内リターデーション(Ro)が45〜65nmの範囲、厚さ方向リターデーション(Rt)が105〜140nmの範囲であり、厚さ方向リターデーション(Rt)と面内リターデーション(Ro)との比:Rt/Roが、1.6〜2.6であることが好ましい。   When the cyclic polyolefin film of the present invention is used, for example, as a retardation film for a VA liquid crystal display device, the in-plane retardation (Ro) is in the range of 45 to 65 nm, and the thickness direction retardation (Rt) is 105. It is preferable that the ratio of the retardation in the thickness direction (Rt) to the in-plane retardation (Ro): Rt / Ro is 1.6 to 2.6.

このような本発明の環状ポリオレフィンフィルムによれば、厚さ方向リターデーション(Rt)の低下だけでなく、リターデーション値の幅手方向の均一性を確保することができるとともに、面内リターデーション(Ro)と厚さ方向リターデーション(Rt)の適切な組み合わせを実現することができ、フィルムのヘイズ値の低減により、ひいては液晶表示パネルの正面コントラストの向上を果たし得るものである。   According to such a cyclic polyolefin film of the present invention, not only the reduction in retardation in the thickness direction (Rt), but also the uniformity of the retardation value in the width direction can be ensured, and the in-plane retardation ( An appropriate combination of Ro) and the retardation in the thickness direction (Rt) can be realized, and the haze value of the film can be reduced, thereby improving the front contrast of the liquid crystal display panel.

位相差フィルムを作製するための延伸工程(テンター工程ともいう)の一例を、図8を用いて説明する。   An example of a stretching step (also referred to as a tenter step) for producing a retardation film will be described with reference to FIG.

図8は、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを製造するにあたって、好ましく使用されるテンター延伸装置201の一例を模式的に示したものである。同図において、テンター延伸装置201は模式的に記載されているが、通常は、無端チェーンよりなる左右一対の回転駆動装置(輪状のチェーン)201a、201bの1列状態に具備された多数のクリップ202a、202bのうち、フィルム(F)の左右両端部を把持して引っ張るチェーン往路側直線移行部のクリップ202a、202bがフィルム(F)の幅手方向に漸次離れるように、左右のチェーン201a、201bの軌道が設置されており、フィルムFの幅手方向の延伸が行われるようになされている。   FIG. 8 schematically shows an example of a tenter stretching apparatus 201 preferably used for producing the cyclic polyolefin film of the present invention. In the figure, the tenter stretching device 201 is schematically illustrated, but usually, a large number of clips provided in a single row of a pair of left and right rotary driving devices (ring-shaped chains) 201a and 201b each formed of an endless chain. Of the chains 202a and 202b, the left and right chains 201a and 202b are arranged so that the clips 202a and 202b of the chain forward straight-line transition portion that grip and pull the left and right ends of the film (F) gradually separate in the width direction of the film (F). A track 201b is provided, and the film F is stretched in the width direction.

図8において、工程Aでは、無端支持体(図示略)から剥離されて搬送されてきたウェブ(フィルム)Fを左右把持手段(クリップ)202a、202bによって把持する工程であり、次の工程Bにおいて、同図に示すような延伸角度でウェブが幅手方向(ウェブの進行方向と直交する方向)に延伸され、工程Cにおいては、延伸が終了し、ウェブを把持したまま搬送する工程で、工程Dは、ウェブを幅手方向に緩和する工程である。   In FIG. 8, a process A is a process of gripping the web (film) F peeled and conveyed from an endless support (not shown) by left and right gripping means (clips) 202a and 202b. The web is stretched in the width direction (direction orthogonal to the direction of travel of the web) at a stretching angle as shown in the figure, and in step C, the stretching is completed, and the web is conveyed while being gripped. D is a step of relaxing the web in the width direction.

無端支持体からウェブを剥離した後から工程B開始前及び/又は工程Cの直後に、ウェブ幅方向の端部を切り落とすスリッターを設けることが好ましい。特に、A工程開始直前にウェブ端部を切り落とすスリッターを設けることが好ましい。幅手方向に同一の延伸を行った際、特に工程B開始前にウェブ端部を切除した場合とウェブ端部を切除しない条件とを比較すると、前者がより光学遅相軸の分布(配向角分布ともいう)を改良する効果が得られる。   It is preferable to provide a slitter for cutting off the end in the web width direction after the web is peeled off from the endless support and before the start of the step B and / or immediately after the step C. In particular, it is preferable to provide a slitter for cutting off the web end just before the start of the step A. When the same stretching is performed in the width direction, especially when comparing the case where the web end is cut off before the start of the process B and the condition where the web end is not cut off, the former shows a more distribution of the optical slow axis (orientation angle). (Also referred to as distribution).

テンター工程において、配向角分布を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。   In the tenter process, it is also preferable to intentionally create sections having different temperatures in order to improve the orientation angle distribution. It is also preferable to provide a neutral zone between different temperature zones so that each zone does not cause interference.

なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することが好ましい。また、二軸延伸を行う場合にも同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。   The stretching operation may be performed in multiple stages, and biaxial stretching is preferably performed in the casting direction and the width direction. When performing biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching may be performed or stepwise may be performed. In this case, stepwise means, for example, that stretching in different stretching directions can be performed sequentially, or that stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any of the stages. Is also possible.

金属製の無端支持体より剥離したウェブを乾燥させながら搬送し、さらにウェブの両端をピン又はクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましく、これによって所定の位相差を付与することができる。この時、幅方向のみに延伸してもよいし、同時二軸延伸することも好ましい。好ましい延伸倍率は1.05〜2倍が好ましく、好ましくは1.15〜1.5倍である。同時二軸延伸の際に縦方向に収縮させてもよく、0.8〜0.99、好ましくは0.9〜0.99となるように収縮させてもよい。好ましくは、横方向延伸及び縦方向の延伸若しくは収縮により面積が1.12〜1.6倍となっていることが好ましく、1.15〜1.5倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。   It is particularly preferable that the web peeled from the metal endless support is conveyed while being dried, and further stretched in the width direction by a tenter method in which both ends of the web are gripped by pins or clips. Can be granted. At this time, the film may be stretched only in the width direction, or simultaneously biaxially stretched. The preferred stretching ratio is preferably 1.05 to 2 times, and more preferably 1.15 to 1.5 times. During the simultaneous biaxial stretching, the film may be contracted in the machine direction, or may be contracted to 0.8 to 0.99, preferably 0.9 to 0.99. Preferably, the area is preferably 1.12 to 1.6 times, and more preferably 1.15 to 1.5 times, due to the horizontal stretching and the vertical stretching or shrinkage. This can be determined by a stretching ratio in the longitudinal direction × a stretching ratio in the lateral direction.

また、本発明における「延伸方向」とは、延伸操作を行う場合の直接的に延伸応力を加える方向という意味で使用する場合が通常であるが、多段階に二軸延伸される場合に、最終的に延伸倍率の大きくなった方(すなわち、通常遅相軸となる方向)の意味で使用されることもある。   Further, the “stretching direction” in the present invention is usually used in the sense of directly applying a stretching stress when performing a stretching operation, but when the biaxial stretching is performed in multiple stages, the final It may be used in the sense that the draw ratio becomes large (that is, the direction that usually becomes the slow axis).

工程Aでの予熱時間は、長時間又はより高温であることが好ましい。幅手方向のフィルム温度均一性とリターデーション制御性の点で、130〜200℃が好ましく、3〜60秒が好ましい。   The preheating time in step A is preferably long or higher. From the viewpoint of the film temperature uniformity in the width direction and the retardation controllability, the temperature is preferably from 130 to 200C, and more preferably from 3 to 60 seconds.

工程Bでのウェブ昇温速度は、配向角分布を良好にするために、0.5〜10℃/秒の範囲が好ましい。   The web heating rate in the step B is preferably in the range of 0.5 to 10 ° C./sec in order to improve the orientation angle distribution.

工程Bでの延伸時間は、短時間である方が好ましい。ただし、ウェブの均一性の観点から、最低限必要な延伸時間の範囲が規定される。具体的には1〜10秒の範囲であることが好ましく、4〜10秒の範囲がより好ましい。   The stretching time in the step B is preferably short. However, from the viewpoint of the uniformity of the web, the minimum range of the stretching time is specified. Specifically, it is preferably in the range of 1 to 10 seconds, more preferably in the range of 4 to 10 seconds.

上記テンター工程において、熱伝達係数は一定でもよいし、変化させてもよい。熱伝達係数としては、41.9〜419×10J/mhrの範囲の熱伝達係数を持つことが好ましい。さらに好ましくは、41.9〜209.5×10J/mhrの範囲であり、41.9〜126×10J/mhrの範囲が最も好ましい。 In the tenter process, the heat transfer coefficient may be constant or may be changed. The heat transfer coefficient preferably has a heat transfer coefficient in the range of 41.9 to 419 × 10 3 J / m 2 hr. More preferably, in the range of 41.9~209.5 × 10 3 J / m 2 hr, and most preferably a range of 41.9~126 × 10 3 J / m 2 hr.

上記工程Bでの幅手方向への延伸速度は、一定で行ってもよいし、変化させてもよい。延伸速度としては、50〜2000%/minが好ましく、さらに好ましくは100〜1000%/min、150〜800%/minが最も好ましい。   The stretching speed in the width direction in the step B may be constant or may be changed. The stretching speed is preferably from 50 to 2000% / min, more preferably from 100 to 1000% / min, and most preferably from 150 to 800% / min.

上記工程Bにおいて最初の10cmにおける応力を制御することは本発明の効果を得る上で好ましく、100〜200N/mmの範囲で制御することが好ましい。   It is preferable to control the stress in the first 10 cm in the step B in order to obtain the effect of the present invention, and it is preferable to control the stress in the range of 100 to 200 N / mm.

テンター工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、ウェブの均一性を高める観点から好ましく、テンター工程での幅手方向の温度分布は、±5℃以内が好ましく、±2℃以内がより好ましく、±1℃以内が最も好ましい。上記温度分布を少なくすることにより、ウェブの幅手での温度分布も小さくなることが期待できる。   In the tenter process, it is preferable that the temperature distribution in the width direction of the atmosphere is small from the viewpoint of improving the uniformity of the web, and the temperature distribution in the width direction in the tenter process is preferably ± 5 ° C or less, and ± 2 ° C or less. Is more preferable, and the temperature is most preferably within ± 1 ° C. By reducing the temperature distribution, it can be expected that the temperature distribution at the width of the web is also reduced.

工程Dにおいて、幅方向に緩和することが好ましい。具体的には、前工程の延伸後の最終的なウェブ幅に対して95〜99.5%の範囲になるようにウェブ幅を調整することが好ましい。   In step D, it is preferable to relax in the width direction. Specifically, it is preferable to adjust the web width so as to be in the range of 95 to 99.5% with respect to the final web width after stretching in the previous step.

また、本発明ではポリマーの配向を精度よく行うために、テンターの左右把持手段によってウェブの把持長(把持開始から把持終了までの距離)を左右で独立に制御できるテンターを用いることも好ましい。   Also, in the present invention, in order to accurately orient the polymer, it is preferable to use a tenter that can independently control the gripping length (the distance from the gripping start to the gripping end) of the web by the tenter's left and right gripping means.

テンター延伸装置でウェブの左右両端を把持している部分の長さを左右独立に制御して、ウェブの把持長を左右で異なるものとする手段としては、具体的には、例えば図9に示すようなものがある。   As a means for controlling the length of the portion holding the left and right ends of the web with the tenter stretching device independently of the left and right to make the grip length of the web different between the left and right, specifically, for example, as shown in FIG. There is something like that.

図9は、位相差フィルムを製造するにあたって、好ましく使用されるテンター延伸装置201の一例を模式的に示したものである。   FIG. 9 schematically shows an example of a tenter stretching apparatus 201 preferably used in producing a retardation film.

同図において、テンター延伸装置201の左右把持手段(クリップ)202a、202bの把持開始位置のクリップスターター203a、203bの設置位置を左右で同じとし、左右クリップクローザー204a、204bの設置位置を左右で変えることにより、フィルムFの左右把持長(Xa)(Xb)を変化させ、これによってテンター延伸装置201内でフィルムFをねじるような力が発生し、テンター延伸装置201以外の搬送による位置ずれを矯正することができ、剥離からテンターまでの搬送距離を長くしてもウェブの蛇行やツレ、シワの発生を効果的に防止することができる。   In the figure, the installation positions of the clip starters 203a, 203b at the grip start positions of the left and right grip means (clips) 202a, 202b of the tenter stretching device 201 are the same for the left and right, and the installation positions of the left and right clip closers 204a, 204b are changed for the left and right. This changes the left and right grip lengths (Xa) and (Xb) of the film F, thereby generating a force that twists the film F in the tenter stretching apparatus 201 and correcting a positional shift due to conveyance other than the tenter stretching apparatus 201. Therefore, even if the transport distance from the peeling to the tenter is increased, the meandering, shearing, and wrinkling of the web can be effectively prevented.

また、本発明ではシワ、ツレ、歪み等をさらに精度よく矯正するために、長尺フィルムの蛇行を防止する装置を付加することが好ましく、特開平6−8663号公報に記載のエッジポジションコントローラー(EPCと称することもある)や、センターポジションコントローラー(CPCと称することもある)等の蛇行修正装置が使用されることが好ましい。これらの装置は、フィルム耳端をエアーサーボセンサーや光センサーにて検知して、その情報に基づいてフィルムの搬送方向を制御し、フィルムの耳端や幅方向の中央が一定の搬送位置となるようにするもので、そのアクチュエーターとして、具体的には1〜2本のガイドロールや駆動付きフラットエキスパンダーロールをライン方向に対して、左右(又は上下)にふることで蛇行修正したり、フィルムの左右に小型の2本1組のピンチロールを設置(フィルムの表と裏に1本ずつ設置されていて、それがフィルムの両側にある)し、これにてフィルムを挟み引っ張り蛇行修正したりしている(クロスガイダー方式)。これらの装置の蛇行修正の原理は、フィルムが走行中に、例えば左に行こうとする時は前者の方式ではロールをフィルムが右に行くように傾ける方法をとり、後者の方法では右側の1組のピンチロールがニップされて、右に引っ張るというものである。これら蛇行防止装置をフィルム剥離点からテンター延伸装置の間に少なくとも1台設置することが好ましい。   In the present invention, it is preferable to add a device for preventing meandering of a long film in order to correct wrinkles, frays, distortions, and the like with higher accuracy, and an edge position controller ( It is preferable to use a meandering correction device such as an EPC) or a center position controller (sometimes referred to as a CPC). These devices detect the edge of the film with an air servo sensor or optical sensor, and control the direction of transport of the film based on the information, and the edge of the film and the center in the width direction become a constant transport position. Specifically, as an actuator for the film, a meandering correction is performed by swaying one or two guide rolls or a flat expander roll with a drive left and right (or up and down) with respect to the line direction. Set a pair of small pinch rolls on the left and right (one on the front and back of the film, one on each side of the film), and use this to pinch the film and correct the meandering (Cross guider method). The principle of the meandering correction of these devices is that, when the film is traveling, for example, when going to the left, the former method takes a method in which the roll is tilted so that the film goes to the right, and the latter method uses the right side. A pair of pinch rolls are nipped and pulled to the right. It is preferable to install at least one of these meandering prevention devices between the film peeling point and the tenter stretching device.

テンター工程で処理した後、さらに後乾燥工程を設けるのが好ましい。   After the treatment in the tenter step, it is preferable to further provide a post-drying step.

この工程でウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web in this step is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwaves, or the like, but is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

(斜め延伸)
斜め延伸は、製膜された長尺フィルムを幅手方向に対して斜めの方向に延伸する工程である。長尺フィルムの製造方法では、フィルムを連続的に製造することにより、所望の任意の長さにフィルムを製造しうる。なお、長尺延伸フィルムの製造方法は、長尺フィルムを製膜した後に一度巻芯に巻き取り、巻回体(原反ともいう)にしてから斜め延伸工程に供給するようにしてもよいし、製膜後のフィルムを巻き取ることなく、製膜工程から連続して斜め延伸工程に供給してもよい。製膜工程と斜め延伸工程を連続して行うことは、延伸後の膜厚や光学値の結果をフィードバックして製膜条件を変更し、所望の長尺延伸フィルムを得ることができるので好ましい。
(Diagonal stretching)
The oblique stretching is a process of stretching the formed long film in a direction oblique to the width direction. In the method for manufacturing a long film, the film can be manufactured to any desired length by continuously manufacturing the film. In addition, the manufacturing method of a long stretched film may be such that a long film is formed, then once wound around a core, wound into a roll (also referred to as a raw material), and then supplied to the oblique stretching step. Alternatively, the film may be supplied to the oblique stretching step continuously from the film forming step without winding the film after the film formation. It is preferable to perform the film-forming step and the oblique stretching step continuously since the results of the film thickness and the optical value after the stretching are fed back to change the film-forming conditions and a desired long stretched film can be obtained.

斜め延伸での長尺延伸フィルムの製造方法では、フィルムの幅手方向に対して0°を超え90°未満の角度に遅相軸を有する長尺延伸フィルムを製造する。ここで、フィルムの幅手方向に対する角度とは、フィルム面内における角度である。フィルム面内の遅相軸は、通常延伸方向又は延伸方向に直角な方向に発現するので、フィルムの延長方向に対して0°を超え90°未満の角度で延伸を行うことにより、このような遅相軸を有する長尺延伸フィルムを製造しうる。   In the method for producing a long stretched film by oblique stretching, a long stretched film having a slow axis at an angle of more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the width direction of the film is produced. Here, the angle with respect to the width direction of the film is an angle in the film plane. Since the slow axis in the plane of the film usually develops in a stretching direction or a direction perpendicular to the stretching direction, such stretching is performed at an angle of more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the extending direction of the film. A long stretched film having a slow axis can be produced.

長尺延伸フィルムの幅手方向と遅相軸とがなす角度、すなわち配向角は、0°を超え90°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができる。   The angle between the width direction of the elongated stretched film and the slow axis, that is, the orientation angle, can be arbitrarily set to a desired angle within a range of more than 0 ° and less than 90 °.

長尺フィルムに斜め方向の配向を付与するために、斜め延伸装置を用いる。本実施形態で用いられる斜め延伸装置は、把持具走行支持具の経路パターンを多様に変化させることにより、フィルムの配向角を自在に設定でき、さらに、フィルムの配向軸をフィルム幅方向に渡って左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。   An oblique stretching device is used to impart oblique orientation to the long film. The oblique stretching device used in the present embodiment can freely set the orientation angle of the film by variously changing the path pattern of the gripper traveling support tool, and further, the orientation axis of the film extends across the width direction of the film. It is preferable that the film stretching apparatus be capable of uniformly orienting the film to the left and right with high precision and control the film thickness and retardation with high precision.

図11は、本実施形態の長尺延伸フィルムの製造方法に用いられる斜め延伸を説明するための模式図である。ただし、これは一例であって本発明はこれに限定されるものではない。   FIG. 11 is a schematic diagram for explaining the oblique stretching used in the method for producing a long stretched film of the present embodiment. However, this is an example, and the present invention is not limited to this.

延伸装置に繰入る際の長尺フィルムの走行方向(延伸前の走行方向)D1は、延伸装置から繰出る際の長尺延伸フィルムの走行方向(延伸後の走行方向)D2と異なっており、繰出角度θiを成している。繰出角度θiは0°を超え90°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができる。   The running direction (running direction before stretching) D1 of the long film when entering the stretching apparatus is different from the running direction (running direction after stretching) D2 of the long stretched film when unwinding from the stretching apparatus, Is a payout angle θi. The dispensing angle θi can be arbitrarily set to a desired angle within a range of more than 0 ° and less than 90 °.

長尺フィルムは斜め延伸装置入口(把持具が長尺フィルムを把持する把持開始点であり、当該把持開始点を結んだ直線を参照符号Aで示す)においてその両端を左右の把持具(一対の把持具対)によって把持され、把持具の走行に伴い走行される。   At the entrance of the oblong stretching device (a gripping start point at which the gripper grips the long film, and a straight line connecting the gripping start points is indicated by reference numeral A), the both ends of the long film are held at the left and right grippers (a pair of grippers). It is gripped by the gripper pair and travels with the travel of the gripper.

把持具対は、斜め延伸装置入口で、長尺フィルムの走行方向(延伸前の走行方向)D1に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具Ci及び把持具Coからなる。左右の把持具Ci及び把持具Coは、それぞれ左右非対称な経路を走行し、延伸終了時の位置(把持具が把持を解放する把持解放点であり、当該把持解放点を結んだ直線を参照符号Bで示す)で把持した長尺延伸フィルムを解放する。   The gripper pair includes left and right grippers Ci and Co at the entrance of the oblique stretching device, which are opposed in a direction substantially perpendicular to the running direction D1 of the long film (running direction before stretching). The left and right gripper Ci and the gripper Co travel respectively on a left-right asymmetrical path and extend to a position at the end of extension (a grip release point at which the gripper releases gripping, and refer to a straight line connecting the gripping release points). (Shown by B) is released.

このとき、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で相対していた左右の把持具Ci及び把持具Coは、それぞれ内側の把持具走行支持具Ri及び外側の把持具走行支持具Roを走行するにつれて、内側の把持具走行支持具Riを走行する把持具Ciは、外側の把持具走行支持具Roを走行する把持具Coに対して進行する位置関係となる。   At this time, the left and right gripper Ci and the gripper Co facing each other at the oblique stretching device entrance (position A in the figure) travel on the inner gripper travel support Ri and the outer gripper travel support Ro, respectively. As a result, the gripper Ci that travels on the inner gripper travel support Ri is in a positional relationship that advances with respect to the gripper Co that travels on the outer gripper travel support Ro.

すなわち、斜め延伸装置入口で長尺フィルムの走行方向D1に対して略垂直な方向に相対していた把持具Ci及び把持具Coが、位置Bにある状態で、該把持具Ci及び把持具Coを結んだ直線が長尺延伸フィルムの走行方向(延伸後の走行方向)D2に対して略垂直な方向に対して角度θLだけ傾斜している。   That is, in a state where the gripper Ci and the gripper Co, which are opposed to the direction substantially perpendicular to the running direction D1 of the long film at the entrance of the oblique stretching device, are at the position B, the gripper Ci and the gripper Co Are inclined by an angle θL with respect to a direction substantially perpendicular to the running direction (running direction after stretching) D2 of the long stretched film.

以上の所作をもって、長尺フィルムがθLの方向に斜め延伸されることとなる。ここで略垂直とは、90±1°の範囲にあることを示す。   With the above operation, the long film is obliquely stretched in the direction of θL. Here, “substantially perpendicular” indicates that the angle is in a range of 90 ± 1 °.

斜め延伸可能な延伸装置は、長尺フィルムを、延伸可能な任意の温度に加熱し、斜め延伸する装置である。この延伸装置は、加熱ゾーン(加熱炉)と、長尺フィルムの両側を把持して走行するための両側で一対となる複数の把持具と、前記把持具の走行を支持するための把持具走行支持具とを備えている。   The stretching apparatus capable of oblique stretching is an apparatus that heats a long film to an arbitrary temperature at which stretching is possible and performs oblique stretching. The stretching apparatus includes a heating zone (heating furnace), a plurality of gripping tools that are paired on both sides for gripping and running both sides of the long film, and gripping tool running for supporting the running of the gripping tool. And a support tool.

延伸装置の入口部(把持開始点)に順次供給される長尺フィルムの両端を、把持具で把持し、加熱炉内に長尺フィルムを導き、延伸装置の出口部(把持解放点)で把持具から長尺延伸フィルムを解放する。把持具から解放された長尺延伸フィルムは巻芯に巻き取られる。把持具を備える把持具走行支持具は無端状の連続軌道を有し、延伸装置の出口部で長尺延伸フィルムの把持を解放した把持具は、把持具走行支持具によって順次把持開始点に戻されるようになっている。   The both ends of the long film sequentially supplied to the entrance (holding start point) of the stretching device are gripped by the gripper, the long film is guided into the heating furnace, and gripped at the outlet of the stretching device (grip release point). Release the long stretched film from the tool. The long stretched film released from the gripper is wound around a core. The gripper running support provided with the gripper has an endless continuous track, and the gripper that has released the gripping of the elongated stretched film at the outlet of the stretching device is sequentially returned to the gripping starting point by the gripper running support. It is supposed to be.

把持具走行支持具は、例えば、ガイドレールやギアによってそれぞれ経路を規制されている無端状のチェーンが把持具を備える形態であってもよいし、無端状のガイドレールが把持具を備える形態であってもよい。すなわち、本発明では、把持具走行支持具は、例えば無端状のチェーンを備えた有端状のガイドレールであってもよく、無端状のチェーンを備えた無端状のガイドレールであってもよく、チェーンを備えない無端状のガイドレールであってもよい。把持具は、把持具走行支持具がチェーンを備えない場合には、把持具走行支持具そのものの経路を走行し、チェーンを備える場合には、当該チェーンを介して把持具走行支持具の経路を走行する。以下、本発明では、一例として、把持具走行支持具の経路を把持具が走行する場合を説明するが、把持具は、把持具が設けられたチェーンを介して把持具走行支持具の経路を走行してもよい。   The gripper running support may be, for example, in a form in which an endless chain whose path is regulated by a guide rail or gear is provided with a gripper, or in a form in which an endless guide rail is provided with a gripper. There may be. That is, in the present invention, the gripper traveling support may be, for example, an endless guide rail provided with an endless chain, or may be an endless guide rail provided with an endless chain. Alternatively, an endless guide rail without a chain may be used. The gripper travels along the path of the gripper travel support itself when the gripper travel support does not include the chain, and travels along the path of the gripper travel support via the chain when the gripper travel support includes the chain. To run. Hereinafter, in the present invention, as an example, a case in which the gripper travels along the path of the gripper travel support will be described.However, the gripper moves the path of the gripper travel support via a chain provided with the gripper. You may run.

それぞれの把持具走行支持具に設けられた把持具の数は特に限定されないが、同数であることが好ましい。   The number of gripping tools provided on each gripping tool travel support tool is not particularly limited, but is preferably the same.

なお、延伸装置の把持具走行支持具は左右で非対称な形状となっており、製造すべき長尺延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、把持具走行支持具の経路のパターンは手動で、又は自動で調整できるようになっている。   Note that the gripper running support of the stretching device has an asymmetric shape on the left and right, and the pattern of the path of the gripper running support is determined according to the orientation angle given to the long stretched film to be manufactured, the stretching ratio, and the like. It can be adjusted manually or automatically.

本実施形態の延伸装置では、各把持具走行支持具の経路を自由に設定し、把持具走行支持具の経路のパターンを任意に変更できることが好ましい。   In the stretching device of the present embodiment, it is preferable that the path of each gripper traveling support can be set freely, and the pattern of the path of the gripper traveling support can be arbitrarily changed.

把持具走行支持具の長さ(全長)としては特に限定されず、通常は10〜100m程度である。また、両側の把持具走行支持具の全長は同じであってもよく、異なっていてもよい。   The length (full length) of the gripper running support is not particularly limited, and is usually about 10 to 100 m. Further, the total length of the gripper running support on both sides may be the same or different.

本発明の実施形態において、延伸装置の把持具の走行速度は適宜選択できるが、中でも15〜150m/分が好ましい。延伸装置の把持具の走行速度が150m/分より高速になると、屈曲部において、フィルムの端部にかかる局所的な応力が大きくなり、フィルムの端部にシワや寄りが発生し、延伸終了後に得られるフィルムの全幅のうち、良品として得られる有効幅が狭くなる傾向がある。   In the embodiment of the present invention, the traveling speed of the gripping device of the stretching device can be appropriately selected, but is preferably 15 to 150 m / min. When the traveling speed of the gripping device of the stretching device is higher than 150 m / min, local stress applied to the edge of the film at the bent portion increases, and wrinkles and shifts occur at the edge of the film. Of the entire width of the obtained film, the effective width obtained as a good product tends to be narrow.

本発明において、把持具対を構成する二つの把持具の走行速度は、同じであってもよく、異なっていてもよい。延伸工程出口で長尺延伸フィルムの左右に走行速度差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生する可能性があるため、把持具対を構成する左右の把持具の速度差は、実質的に等速であることが好ましい。   In the present invention, the traveling speeds of the two gripping tools constituting the gripping tool pair may be the same or different. If there is a difference in running speed between the left and right of the long stretched film at the stretching process outlet, wrinkles at the stretching process outlet may occur, and the speed difference between the left and right gripping tools constituting the gripping tool pair is substantially It is preferably constant in speed.

本発明において、把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って走行することが好ましい。   In the present invention, it is preferable that the gripper travels at a constant distance from the front and rear grippers.

把持具対を構成する把持具の走行速度を等速とする場合において、それぞれの把持具の走行速度の差は、1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.1%以下である。一般的な延伸装置等では、チェーンを駆動するスプロケット(ギア)の歯の周期、駆動モーターの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度むらがあり、しばしば数%のむらを生ずるが、これらは本実施形態で述べる速度差には該当しない。   In the case where the traveling speeds of the gripping tools constituting the gripping tool pair are set to be uniform, the difference between the traveling speeds of the gripping tools is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably. Is 0.1% or less. In a general stretching device or the like, there is a speed unevenness that occurs on the order of seconds or less depending on the tooth period of a sprocket (gear) driving a chain, the frequency of a drive motor, and the like. Does not correspond to the speed difference described in the present embodiment.

本発明で用いられる斜め延伸装置において、特に長尺フィルムの搬送が斜めになる箇所において、把持具の軌跡を規制する把持具走行支持具には、しばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲による把持具同士の干渉、又は局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持具の軌跡が円弧を描くように湾曲していることが望ましい。   In the oblique stretching device used in the present invention, particularly at a position where the conveyance of the long film becomes oblique, a large bending rate is often required for the gripper traveling support which regulates the trajectory of the gripper. In order to avoid interference between the gripping tools due to sharp bending or local stress concentration, it is desirable that the trajectory of the gripping tool bend in an arc at the bent portion.

長尺フィルムは、斜め延伸装置入口(図11の直線Aの位置)において、その両端を左右の把持具(一対の把持具対)によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。斜め延伸装置入口で、長尺フィルムの走行方向D1に対して略垂直な方向に相対している把持具対は、左右非対称な経路を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、熱固定ゾーンを有する加熱炉を通過する。   At the entrance of the oblique stretching device (the position of the straight line A in FIG. 11), the long film is sequentially gripped at both ends by left and right gripping tools (a pair of gripping tools), and travels with the running of the gripping tools. At the entrance of the oblique stretching device, the pair of gripping tools facing in a direction substantially perpendicular to the running direction D1 of the long film travels on an asymmetrical path, and has a preheating zone, a stretching zone, and a heat fixing zone. Pass through the furnace.

予熱ゾーンとは、加熱炉入口において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。   The preheating zone refers to a section at the entrance of the heating furnace in which the gripping tool that grips both ends travels while maintaining a constant interval.

延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、所定の間隔になるまでの区間をさす。本実施形態においては、延伸ゾーン内で斜め方向に延伸することができるが、斜め方向の延伸だけに限らず、延伸ゾーン内で横延伸した後に斜め延伸してもよいし、斜め延伸した後にさらに幅手方向に延伸してもよい。   The stretching zone refers to a section in which the gap between the grippers holding both ends starts to open and reaches a predetermined interval. In the present embodiment, the film can be stretched in an oblique direction in the stretching zone, but is not limited to the stretching in the oblique direction. It may be stretched in the width direction.

熱固定ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、両端の把持具が互いに平行を保ったまま走行する区間をさす。熱固定ゾーンを通過した後に、ゾーン内の温度が長尺フィルムを構成する環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度Tg℃以下に設定される区間(冷却ゾーン)を通過してもよい。このとき、冷却による長尺延伸フィルムの縮みを考慮して、あらかじめ対向する把持具間隔を狭めるような経路パターンとしてもよい。   The heat setting zone refers to a section in which the gripping tools at both ends run parallel to each other during a period in which the distance between the gripping tools after the stretching zone becomes constant again. After passing through the heat setting zone, it may pass through a section (cooling zone) in which the temperature in the zone is set to be equal to or lower than the glass transition temperature Tg ° C. of the cyclic polyolefin resin constituting the long film. At this time, in consideration of the shrinkage of the long stretched film due to cooling, a path pattern that narrows the distance between the opposed grippers in advance may be used.

フィルムの機械物性や光学特性を調整する目的で斜め延伸装置に長尺フィルムを導入する前後の工程において必要に応じて横延伸及び縦延伸を実施してもよい。   For the purpose of adjusting the mechanical physical properties and optical properties of the film, horizontal stretching and longitudinal stretching may be performed as necessary before and after the introduction of the long film into the oblique stretching device.

各ゾーンの温度は、環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg−10〜Tg+30℃の範囲、延伸ゾーンの温度はTg−10〜Tg+30℃の範囲、冷却ゾーンの温度はTg−30〜Tg+10℃の範囲に設定することが好ましい。   The temperature of each zone is the glass transition temperature Tg of the cyclic polyolefin-based resin, the temperature of the preheating zone is in the range of Tg-10 to Tg + 30 ° C, the temperature of the stretching zone is in the range of Tg-10 to Tg + 30 ° C, and the temperature of the cooling zone. Is preferably set in the range of Tg−30 to Tg + 10 ° C.

なお、幅方向の厚さむらの制御のために延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけるには、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差をつけるように調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御するなどの公知の手法を用いることができる。予熱ゾーン、延伸ゾーン及び熱固定ゾーンの長さは適宜選択でき、延伸ゾーンの長さに対して、予熱ゾーンの長さが通常100〜150%の範囲、熱固定ゾーンの長さが通常50〜100%の範囲である。   In addition, a temperature difference may be provided in the width direction in the stretching zone in order to control thickness unevenness in the width direction. In order to provide a temperature difference in the width direction in the stretching zone, there are known methods such as a method of adjusting the opening degree of a nozzle for sending hot air into a constant temperature chamber so as to make a difference in the width direction, and a method of controlling heating by arranging heaters in the width direction. Can be used. The lengths of the preheating zone, the stretching zone and the heat setting zone can be appropriately selected, and the length of the preheating zone is usually in the range of 100 to 150% and the length of the heat fixing zone is usually 50 to 150% of the length of the stretching zone. The range is 100%.

延伸工程における延伸倍率R(W/W0)は、好ましくは1.3〜3.0の範囲、より好ましくは1.3〜2.5の範囲である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さむらが小さくなるので好ましい。また必要に応じて延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差をつけるように延伸温度を設定すると、幅方向の厚さむらをさらに抑制することが可能になる。なお、W0は延伸前の長尺フィルムの幅、Wは延伸後の長尺延伸フィルムの幅をあらわす。   The stretching ratio R (W / W0) in the stretching step is preferably in the range of 1.3 to 3.0, more preferably in the range of 1.3 to 2.5. When the stretching ratio is in this range, the thickness unevenness in the width direction is reduced, which is preferable. When the stretching temperature is set so that the stretching temperature is different in the width direction in the stretching zone as necessary, the thickness unevenness in the width direction can be further suppressed. W0 represents the width of the long film before stretching, and W represents the width of the long stretched film after stretching.

図12を参照しながら、より具体的に本実施形態の製造方法の斜め延伸工程について説明する。図12は、本実施形態の製造方法において使用する延伸装置の概略図である。   The oblique stretching step of the manufacturing method of the present embodiment will be described more specifically with reference to FIG. FIG. 12 is a schematic diagram of a stretching apparatus used in the manufacturing method of the present embodiment.

図12に示されるように、斜め延伸装置401は、長尺フィルムFの両側に、長尺フィルムFを把持する把持具(図示せず)が走行する把持具走行支持具402を有する。把持具走行支持具402は、一部が加熱炉403内を通過するように配置されている。   As shown in FIG. 12, the oblique stretching device 401 has, on both sides of the long film F, a gripper traveling support 402 on which a gripper (not shown) for gripping the long film F travels. The gripper traveling support 402 is arranged so that a part thereof passes through the heating furnace 403.

加熱炉403は、上記のとおり、炉内において複数のゾーンに分けられている。図12では予熱ゾーン、延伸ゾーン404、熱固定ゾーンの三つのゾーンに分けられている場合を例示している。また、把持具走行支持具402は、少なくとも延伸ゾーン404に側壁406を有する。   As described above, the heating furnace 403 is divided into a plurality of zones in the furnace. FIG. 12 illustrates a case where the zone is divided into three zones of a preheating zone, a stretching zone 404, and a heat setting zone. The gripper traveling support 402 has a side wall 406 at least in the extension zone 404.

側壁406は、延伸ゾーン404において、両側の把持具走行支持具402に沿って設けられている。側壁406は、走行する長尺フィルムにより発生する空気の対流を遮り、長尺フィルムFから余分空間への熱の移動を妨げることができる。そのため、長尺フィルムFは、延伸ゾーンにおいて、温度むらがなく、充分かつ均一に熱が付与された状態で延伸される。その結果、得られる長尺フィルムの配向角の幅手方向のばらつきが小さく、品質の安定した長尺延伸フィルムが得られる。   The side wall 406 is provided along the gripper running support 402 on both sides in the stretching zone 404. The side wall 406 can block the convection of air generated by the running long film, and can prevent the transfer of heat from the long film F to the extra space. Therefore, the long film F is stretched in a stretching zone in a state where heat is applied sufficiently and uniformly without temperature unevenness. As a result, a variation in the orientation angle of the obtained long film in the width direction is small, and a long stretched film with stable quality can be obtained.

側壁406の設置方法としては特に限定されず、把持具走行支持具402の近傍に設置するか、把持具走行支持具402に一体的に設けることができる。把持具走行支持具402の近傍に側壁406を設置する場合は、加熱炉403又は把持具走行支持具402の設置面に固着するなどにより、安定に設置することが好ましい。側壁406は、以下に示すように、把持具走行支持具402の移動に追従して移動させるという観点から、把持具走行支持具402と一体的に設けることが好ましい。   The method of installing the side wall 406 is not particularly limited, and the side wall 406 can be installed near the gripper travel support 402 or can be provided integrally with the gripper travel support 402. When the side wall 406 is installed in the vicinity of the gripper traveling support 402, it is preferable to stably install the side wall 406 by fixing it to the heating furnace 403 or the installation surface of the gripper traveling support 402. As shown below, the side wall 406 is preferably provided integrally with the gripper travel support 402 from the viewpoint of moving the gripper travel support 402 following the movement thereof.

斜め延伸装置401の延伸方向を変更する場合において、側壁406は、把持具走行支持具402の移動に追従して移動することが好ましい。   When the stretching direction of the oblique stretching device 401 is changed, it is preferable that the side wall 406 moves following the movement of the gripper running support 402.

すなわち、延伸角度を変更する場合において、変更前後の把持具走行支持具402の形状に合わせて側壁406の形状、位置、向き(以下、これらを合わせて形状等という場合がある)が変化することが好ましい。このように、側壁406が把持具走行支持具402の移動に追従して移動することにより、側壁406の形状は、移動後の把持具走行支持具の経路パターンに合わせて調整される。そのため、延伸角度によらず、得られる長尺延伸フィルムの配向角の幅手方向のばらつきを小さくすることができ、安定した品質の長尺延伸フィルムが得られる長尺延伸フィルムを製造することができる。   In other words, when the stretching angle is changed, the shape, position, and orientation of the side wall 406 (hereinafter, these may be referred to as a shape, etc., together) change according to the shape of the gripper running support 402 before and after the change. Is preferred. As described above, the side wall 406 moves following the movement of the gripper running support 402, so that the shape of the side wall 406 is adjusted according to the path pattern of the gripper running support after the movement. For this reason, regardless of the stretching angle, it is possible to reduce the variation in the orientation angle of the obtained elongated stretched film in the width direction, and to produce a long stretched film from which a stable quality long stretched film can be obtained. it can.

このように側壁406を把持具走行支持具402の移動に追従させる方法としては特に限定されない。例えば、前記図10に示されるようなクリップを用いてもよい。   As described above, the method of causing the side wall 406 to follow the movement of the gripper traveling support 402 is not particularly limited. For example, a clip as shown in FIG. 10 may be used.

このように、側壁406を把持具走行支持具402と一体的に設けて把持具走行支持具402の移動に追従して移動できるように構成することにより、側壁406の形状等は、把持具走行支持具402の形状を変更させると同時に変更される。その結果、長尺フィルムFには、延伸角度によらず、充分かつ均一な熱が付与され続け、その結果、配向角の幅手方向のばらつきが小さい安定した品質の長尺延伸フィルムが得られうる。   As described above, by forming the side wall 406 integrally with the gripper travel support 402 so as to be able to move following the movement of the gripper travel support 402, the shape and the like of the side wall 406 can be changed. The shape is changed at the same time as the shape of the support 402 is changed. As a result, sufficient and uniform heat is continuously applied to the long film F irrespective of the stretching angle, and as a result, a stable quality long stretched film with small variation in the orientation angle in the width direction is obtained. sell.

側壁406を構成する材料としては特に限定されず、樹脂や金属からなる側壁406を採用することができる。また、側壁406は、単一の部材で形成する必要がなく、複数の部材を蝶番等により接続して作製してもよい。   The material forming the side wall 406 is not particularly limited, and the side wall 406 made of resin or metal can be employed. Further, the side wall 406 does not need to be formed by a single member, and may be formed by connecting a plurality of members by a hinge or the like.

また、側壁406の表面は、長尺フィルムFから余分空間への熱の移動を妨げるために、断熱性を有する素材で構成されているか、被覆されていることが好ましい。   In addition, the surface of the side wall 406 is preferably made of a material having heat insulating properties or covered with the material in order to prevent the transfer of heat from the long film F to the extra space.

側壁406の高さとしては、特に限定されず、加熱炉403の内部形状等を考慮して、長尺フィルムFと余分空間との熱の出入りを妨げることができる程度の高さであればよい。特に、側壁406の高さは、延伸角度を変更する場合に把持具走行支持具402の移動に追従して移動できるように、加熱炉403の内部と接触しない程度の高さを有することが好ましい。   The height of the side wall 406 is not particularly limited, and may be any height that can prevent heat from flowing into and out of the long film F and the extra space in consideration of the internal shape and the like of the heating furnace 403. . In particular, it is preferable that the height of the side wall 406 has such a height that the side wall 406 does not come into contact with the inside of the heating furnace 403 so that the side wall 406 can move following the movement of the gripper running support 402 when the extension angle is changed. .

側壁406の厚さとしては、特に限定されず、長尺フィルムFと余分空間との熱の出入りを妨げることができる程度の厚さであればよい。特に、側壁406の厚さは、延伸角度を変更する場合に把持具走行支持具402の移動に追従して側壁406が移動する場合において、側壁406の折り曲げや回動を妨げない程度の厚さであることが好ましい。   The thickness of the side wall 406 is not particularly limited, and may be any thickness that can prevent heat from flowing into and out of the long film F and the extra space. In particular, the thickness of the side wall 406 is such that the bending or rotation of the side wall 406 is not hindered when the side wall 406 moves following the movement of the gripper running support 402 when the extension angle is changed. It is preferred that

本実施形態の製造方法では、図12に示されるように、側壁406は少なくとも延伸ゾーン404を通過する把持具走行支持具402に沿って設けられている。そのため、長尺フィルムFの延伸角度を変更した場合であっても、余分空間の容積や位置の変化とは無関係に、延伸される長尺フィルムFには温度むらがなく充分かつ均一に熱が付与される。その結果、得られる長尺延伸フィルムは、延伸角度によらず、長尺フィルムFの配向角の幅手方向のばらつきが抑制される。   In the manufacturing method of the present embodiment, as shown in FIG. 12, the side wall 406 is provided along at least the gripper traveling support 402 that passes through the extension zone 404. Therefore, even when the stretching angle of the long film F is changed, regardless of the change in the volume or position of the extra space, the long film F to be stretched has sufficient and uniform heat without temperature unevenness. Granted. As a result, in the obtained elongated stretched film, variation in the orientation angle of the elongated film F in the width direction is suppressed regardless of the stretching angle.

なお、図12に示されるように、延伸ゾーン404にのみ側壁406が設けられている場合には、側壁406が設けられていないゾーンにおいて、長尺フィルムFからの熱が余分空間に移動する可能性がある。しかしながら、上記のとおり、長尺フィルムFは、延伸ゾーン前の予熱ゾーンでは予熱されるに過ぎず、延伸ゾーン後の熱固定ゾーンでは収縮しないように熱固定されるに過ぎない。そのため、これらのゾーンにおいて長尺フィルムFに温度むらが生じたとしても、得られる長尺延伸フィルムの配向角の幅手方向のばらつきに与える影響は小さい。その結果、本実施形態の製造方法によれば、少なくとも延伸ゾーンにおいて側壁406を設けているため、得られる長尺延伸フィルムの配向角の幅手方向のばらつきを充分に小さくすることができる。   In addition, as shown in FIG. 12, when the side wall 406 is provided only in the stretching zone 404, in the zone where the side wall 406 is not provided, heat from the long film F can move to an extra space. There is. However, as described above, the long film F is only preheated in the preheating zone before the stretching zone, and is only heat set so as not to shrink in the heat setting zone after the stretching zone. Therefore, even if temperature unevenness occurs in the long film F in these zones, the influence on the variation in the orientation angle of the obtained long stretched film in the width direction is small. As a result, according to the manufacturing method of the present embodiment, since the side wall 406 is provided at least in the stretching zone, it is possible to sufficiently reduce the variation in the orientation angle of the obtained elongated stretched film in the width direction.

また、本実施形態の製造方法の別例として、加熱炉403内に設置された把持具走行支持具402の全体に沿って側壁406を設けることができる。このように、加熱炉403内の全てのゾーンにおいて側壁406を設けることにより、より確実に長尺フィルムFと余分空間との熱の出入りを遮って、加熱炉403内を走行する長尺フィルムFの全体に渡って充分かつ均一に熱を付与することができる。また、延伸角度を変更した場合であっても、余分空間の容積や位置の変化とは無関係に、走行する長尺フィルムFには充分かつ均一な熱が加えられる。その結果、得られる長尺延伸フィルムの温度むらをより確実に抑制することができ、延伸角度によらず、長尺延伸フィルムの配向角の幅手方向のばらつきを小さくすることができる。   Further, as another example of the manufacturing method of the present embodiment, a side wall 406 can be provided along the whole of the gripper running support 402 installed in the heating furnace 403. By providing the side walls 406 in all the zones in the heating furnace 403 as described above, it is possible to more reliably block the heat from flowing into and out of the long film F and the extra space, and run the long film F traveling in the heating furnace 403. The heat can be sufficiently and uniformly applied to the entire surface. Further, even when the stretching angle is changed, sufficient and uniform heat is applied to the running long film F irrespective of changes in the volume and position of the extra space. As a result, the temperature unevenness of the obtained elongated stretched film can be more reliably suppressed, and the variation in the orientation angle of the elongated stretched film in the width direction can be reduced regardless of the stretching angle.

図12では、把持具走行支持具402のうち、長尺フィルムFを把持している把持具が走行する区間(以下、この区間を往路区間という場合がある)のみを示しており、把持具が長尺フィルムFの把持を解放した後に走行する区間(以下、この区間を復路区間という場合がある)は省略している。復路区間の把持具走行支持具402は、加熱炉403内に配置されていてもよく、加熱炉403の外部に設けられていてもよい。   FIG. 12 shows only a section (hereinafter, this section may be referred to as an outward section) in which the gripper holding the long film F travels, of the gripper travel support 402, and the gripper is A section that travels after releasing the grip of the long film F (hereinafter, this section may be referred to as a backward section) is omitted. The gripper traveling support 402 in the backward section may be disposed in the heating furnace 403 or may be provided outside the heating furnace 403.

そして、例えば、復路区間の把持具走行支持具402が、加熱炉403内に設けられており、かつ、往路区間の把持具走行支持具402の近傍に設けられている場合には、側壁406は、往路区間の把持具走行支持具402に設けてもよく、復路区間の把持具走行支持具402に設けてもよく、両区間の把持具走行支持具402に設けてもよい。すなわち、側壁406は、長尺フィルムFから余分空間への熱の移動を遮ることができる位置に配置すればよい。このように、復路区間の把持具走行支持具402が、加熱炉403内に設けられており、かつ、往路区間の把持具走行支持具402の近傍に設けられている場合には、復路区間の把持具走行支持具402に設けることによっても、長尺フィルムFから余分空間への熱の移動を遮るようにすることができる。   And, for example, when the gripper traveling support 402 in the backward section is provided in the heating furnace 403 and is provided near the gripper traveling support 402 in the forward section, the side wall 406 is May be provided on the gripper traveling support 402 in the forward section, may be provided on the gripper traveling support 402 in the backward section, or may be provided on the gripper traveling support 402 in both sections. That is, the side wall 406 may be arranged at a position where heat transfer from the long film F to the extra space can be blocked. As described above, when the gripper traveling support 402 in the backward section is provided in the heating furnace 403 and is provided in the vicinity of the gripper traveling support 402 in the outward section, the gripper traveling support 402 in the backward section is provided. By providing the gripper running support 402, heat transfer from the long film F to the extra space can be blocked.

(湿式延伸)
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、未延伸フィルムに湿式延伸を行うこともできる。このような湿式延伸によって、高分子鎖を配向させた高分子配向フィルムが得られる。
(Wet stretching)
The cyclic polyolefin film of the present invention can be subjected to wet stretching on an unstretched film. By such wet stretching, a polymer oriented film having polymer chains oriented can be obtained.

湿式延伸とは、延伸する直前にフィルムを軟化させる手段として実質的に水を使用した延伸方法の総称であり、この際、水はフィルムの主なポリマー材料にとって実質的な可塑剤の役目をしている。通常樹脂フィルムを可塑化させるためには可塑剤の量によってフィルムが軟化することは良く知られており、本発明に用いられる湿式延伸も基本的にこの考えに基づく。   Wet stretching is a general term for a stretching method using water substantially as a means for softening a film immediately before stretching, wherein water acts as a substantial plasticizer for the main polymer material of the film. ing. It is well known that in order to plasticize a resin film, the film is softened depending on the amount of a plasticizer, and the wet stretching used in the present invention is basically based on this concept.

上述のように本発明のフィルム作製においては、延伸時にフィルムがどの程度水に軟化(可塑化)されているかが重要であり、どの程度フィルム中に水が含まれているか、すなわち含水率を知ることが重要である。   As described above, in the production of the film of the present invention, it is important how much the film is softened (plasticized) in water at the time of stretching, and the amount of water contained in the film, that is, the water content is known. This is very important.

[含水率]
含水率はフィルム中に含まれる水の質量分率(%)であり、実際には水分計の示した水分量(μg)をWとし、秤量したサンプル量をF(mg)とすると、含水率(質量%)=0.1×(W/F)で表される。
[Moisture content]
The water content is the mass fraction (%) of water contained in the film. Actually, when the water content (μg) indicated by the moisture meter is W and the weighed sample amount is F (mg), the water content is (% By mass) = 0.1 × (W / F).

実際に本発明のフィルムの材料にのっとって考えると、本発明の環状ポリオレフィンフィルムのポリマー材料においては、室温で含水率が0.01%程度である。通常、このような環状ポリオレフィンフィルム(原反)に対してガラス転移点(Tg)程度に昇温させることで延伸可能な状態とし、延伸を行う。このようなTg程度、例えば130℃にすると含水率は更に低下し、0.001質量%となる。本発明ではこのような環状ポリオレフィンフィルム(原反)を延伸前に含水させることで、環状ポリオレフィンフィルムの含水率を0.001〜1質量%の範囲、より好ましくは0.001〜0.5質量%の範囲、さらに好ましくは0.005〜0.3質量%の範囲とするものである。   Considering actually the material of the film of the present invention, the polymer material of the cyclic polyolefin film of the present invention has a water content of about 0.01% at room temperature. Usually, such a cyclic polyolefin film (raw material) is stretched by raising its temperature to a glass transition point (Tg) or so, so that it can be stretched. When the temperature is set to about Tg, for example, 130 ° C., the water content further decreases to 0.001% by mass. In the present invention, the water content of the cyclic polyolefin film (raw material) is adjusted to be in the range of 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass before the stretching. %, More preferably 0.005 to 0.3% by mass.

延伸時のフィルムの含水率を0.001〜1質量%の範囲にすることは、環状ポリオレフィンフィルムのガラス転移温度(Tg)を130℃(含水率0.001質量%)から75℃(含水率0.005質量%)へ低下させることになり、通常の延伸温度(130℃)より低い温度で均一な延伸が可能となる。なお、含水率5.5質量%の環状ポリオレフィンフィルムのTgは、銀製密封パン(70μl)中に水を入れ環状ポリオレフィンフィルムを浸漬させて、温度変調型DSC(TAインスツルメント社製DSC2910)を用いて測定したものである。   To adjust the water content of the film at the time of stretching to a range of 0.001 to 1% by mass, the glass transition temperature (Tg) of the cyclic polyolefin film is increased from 130 ° C (water content 0.001% by mass) to 75 ° C (water content). 0.005% by mass), and uniform stretching can be performed at a temperature lower than the normal stretching temperature (130 ° C.). The Tg of the cyclic polyolefin film having a water content of 5.5% by mass was obtained by placing water in a silver sealed pan (70 μl), immersing the cyclic polyolefin film, and using a temperature-modulated DSC (TA Instruments DSC2910). It was measured using

延伸時におけるフィルムの含水率を制御するため、延伸前に該フィルムを水中に浸漬してもよいし、又は恒温高湿にて調湿してもよいし、またこれら二つを併用して用いてもよい。水槽へ浸漬する場合、水の温度は50〜100℃の範囲が好ましく、60〜95℃の範囲が更に好ましく、70〜90℃の範囲が特に好ましい。浸漬時間は5秒〜10分の範囲が好ましく、10秒〜8分の範囲が更に好ましく、20秒〜6分の範囲が特に好ましい。恒温高湿で調湿する場合、温度は50〜150℃の範囲が好ましく、60〜140℃の範囲が更に好ましく、70〜120℃の範囲が特に好ましい。相対湿度は60〜100%の範囲以下が好ましい。   To control the moisture content of the film during stretching, the film may be immersed in water before stretching, or may be conditioned at constant temperature and high humidity, or a combination of these two. You may. When immersed in a water tank, the temperature of water is preferably in the range of 50 to 100 ° C, more preferably in the range of 60 to 95 ° C, and particularly preferably in the range of 70 to 90 ° C. The immersion time is preferably in the range of 5 seconds to 10 minutes, more preferably in the range of 10 seconds to 8 minutes, and particularly preferably in the range of 20 seconds to 6 minutes. When humidity is controlled at a constant temperature and high humidity, the temperature is preferably in the range of 50 to 150 ° C, more preferably in the range of 60 to 140 ° C, and particularly preferably in the range of 70 to 120 ° C. The relative humidity is preferably within a range of 60 to 100%.

これらの浸漬、蒸気曝気に用いる水は実質的に水であれば良い。実質的に水とは60質量%以上が水からなるものを指し、水以外に下記の有機溶媒、可塑剤、界面活性剤等を含んでも良い。好ましい有機溶媒として炭素数が1〜10の水溶性有機溶媒が挙げられる。ただし、より好ましくは90質量%以上が水であり、更に好ましくは95質量%以上が水であり、最も好ましいのは、純水を用いたものである。以下に記述で用いられる水についても実質的に水であればよい。   The water used for these immersion and steam aeration may be substantially water. Substantially water refers to water consisting of 60% by mass or more of water, and may contain the following organic solvents, plasticizers, surfactants, and the like in addition to water. Preferred organic solvents include water-soluble organic solvents having 1 to 10 carbon atoms. However, more preferably 90% by mass or more of water is used, and still more preferably 95% by mass or more of water. Most preferably, pure water is used. The water used in the following description may be substantially water.

延伸時の雰囲気は空気中、水蒸気中、水中のいずれであってもよい。延伸時の雰囲気が空気中とは、温度を制御し湿度は制御していない雰囲気中での延伸を指している。延伸時温度は50〜150℃の範囲であることが好ましく、60〜130℃の範囲であることがさらに好ましく、65〜110℃の範囲であることが特に好ましい。延伸時の雰囲気が水蒸気中とは、恒温高湿であること又は、水蒸気をフィルムにあてることを指している。延伸時温度は50〜150℃の範囲が好ましく、60〜140℃の範囲が更に好ましく、70〜130℃の範囲が特に好ましい。相対湿度は60〜100%の範囲が好ましい。このようにすることで本発明のフィルム、特に環状ポリオレフィン樹脂中の含水率は2.0〜20.0質量%の範囲に保持される。含水率が2.0質量%より小さくなると延伸時において破断伸度は小さく、切れやすくなり、所望のリターデーションに到達しないことがある。   The atmosphere during stretching may be any of air, water vapor, and water. The atmosphere in the air at the time of stretching refers to stretching in an atmosphere in which the temperature is controlled and the humidity is not controlled. The stretching temperature is preferably in the range of 50 to 150 ° C, more preferably in the range of 60 to 130 ° C, and particularly preferably in the range of 65 to 110 ° C. The atmosphere in the water vapor at the time of stretching indicates that the film is at a constant temperature and high humidity or that the water vapor is applied to the film. The stretching temperature is preferably in the range of 50 to 150 ° C, more preferably in the range of 60 to 140 ° C, and particularly preferably in the range of 70 to 130 ° C. The relative humidity is preferably in the range of 60 to 100%. By doing so, the water content in the film of the present invention, particularly in the cyclic polyolefin resin, is maintained in the range of 2.0 to 20.0% by mass. When the water content is less than 2.0% by mass, the elongation at break during stretching is small and the film tends to break, and the desired retardation may not be reached.

延伸時の雰囲気が水中とは、フィルムを水槽へ浸漬させながら延伸することを指している。水の温度は50〜100℃の範囲が好ましく、60〜98℃の範囲が更に好ましく、65〜95℃の範囲が特に好ましい。浸漬時間は0.5秒〜10分の範囲が好ましく、1秒〜8分の範囲が更に好ましく、1秒〜7分の範囲が特に好ましい。   The fact that the atmosphere during stretching is water means that the film is stretched while being immersed in a water tank. The temperature of water is preferably in the range of 50 to 100C, more preferably in the range of 60 to 98C, and particularly preferably in the range of 65 to 95C. The immersion time is preferably in the range of 0.5 seconds to 10 minutes, more preferably in the range of 1 second to 8 minutes, and particularly preferably in the range of 1 second to 7 minutes.

延伸時にフィルムを固定する固定部材間の距離をLとし、その固定部材間と垂直な方向をWとし、延伸時のフィルム形状のアスペクト比をL/Wとすると、アスペクト比は0.1〜10の範囲が好ましく、0.1〜8.0の範囲が更に好ましく、0.1〜6.0の範囲が特に好ましい。なお、ここでいう「延伸時」とは、延伸前のフィルムの縦横比を意味する。   Assuming that the distance between fixing members for fixing the film during stretching is L, the direction perpendicular to the fixing members is W, and the aspect ratio of the film shape during stretching is L / W, the aspect ratio is 0.1 to 10. Is more preferable, the range of 0.1-8.0 is more preferable, and the range of 0.1-6.0 is especially preferable. Here, “at the time of stretching” means the aspect ratio of the film before stretching.

延伸直後の含水率を0.001〜1質量%の範囲に保つことは、フィルムが均一に延伸なされるためには必須である。延伸直前のゾーンでフィルムの含水率を0.001〜1質量%の範囲に制御しているため、含水率が1.0質量%以下だと破断伸度は小さくなり、所望の厚さで正面リターデーションをλ/4領域まで出すことができない。ここで、延伸直後の含水率とは、延伸工程を終えた直後のフィルムの含水率を指している。また、延伸工程を経た後、巻取り部位に至るまでにフィルムに付着している水分を除去してもよい。エアナイフ方式、ブレード方式など公知の方法を用いることができる。   Maintaining the moisture content immediately after stretching in the range of 0.001 to 1% by mass is essential for uniformly stretching the film. Since the water content of the film is controlled in the range of 0.001 to 1% by mass in the zone immediately before stretching, if the water content is 1.0% by mass or less, the elongation at break becomes small, and the front surface is formed at a desired thickness. Retardation cannot be provided up to the λ / 4 region. Here, the moisture content immediately after stretching refers to the moisture content of the film immediately after the stretching step. Further, after the stretching step, moisture adhering to the film up to the winding site may be removed. Known methods such as an air knife method and a blade method can be used.

(5)巻取り工程
本発明に用いられる巻取り装置の一例を図13及び図14示す。
(5) Winding Step An example of the winding device used in the present invention is shown in FIGS.

図13及び図14に示すように、巻取装置519は、巻取ユニット551を備え、さらに張力制御ユニット552を備えることが好ましい。   As shown in FIGS. 13 and 14, the winding device 519 preferably includes a winding unit 551, and further includes a tension control unit 552.

巻取ユニット551は、回転軸555と、巻芯ホルダ556と、ターレット557と、モーター558と、シフト機構561と、コントローラ562、563とを有する。   The winding unit 551 includes a rotation shaft 555, a core holder 556, a turret 557, a motor 558, a shift mechanism 561, and controllers 562 and 563.

回転軸555は、長手方向がB方向になるように配される。回転軸555は、長手方向の一端がターレット557に回転自在に取り付けられて、支持されている。回転軸555にはモーター558が接続し、このモーター558により回転軸555は周方向に回転する。モーター558には、コントローラ562が接続する。コントローラ562は、回転軸555の目的とする回転速度の信号が入力されると、この入力信号に基づいてモーター558を制御する。これにより、回転軸555は目的とする回転速度で回転する。   The rotation shaft 555 is arranged so that the longitudinal direction is the B direction. One end in the longitudinal direction of the rotating shaft 555 is rotatably attached to and supported by the turret 557. A motor 558 is connected to the rotating shaft 555, and the rotating shaft 555 is rotated by the motor 558 in the circumferential direction. The controller 562 is connected to the motor 558. When a signal of a target rotation speed of the rotation shaft 555 is input, the controller 562 controls the motor 558 based on the input signal. As a result, the rotation shaft 555 rotates at the target rotation speed.

回転軸555の外周には、長手方向に延びた一対の凹部が形成されている。フィルム527が巻かれる筒状の巻芯566の内周には、巻芯566の長手方向に延びた一対の凸部が形成されている。巻芯566の凸部が回転軸555の凹部に入ることで係合し、巻芯566は回転軸555にセットされる。これにより、巻芯566は、回転軸555と一体に回転する。   A pair of recesses extending in the longitudinal direction are formed on the outer periphery of the rotating shaft 555. A pair of convex portions extending in the longitudinal direction of the core 566 are formed on the inner periphery of the cylindrical core 566 around which the film 527 is wound. The protrusion of the core 566 is engaged by entering the recess of the rotation shaft 555, and the core 566 is set on the rotation shaft 555. As a result, the core 566 rotates integrally with the rotation shaft 555.

回転軸555の長手方向における両端部には、巻芯566を長手方向での両端から押さえる一対の巻芯ホルダ556が設けられる。巻芯ホルダ556は、回転軸555の長手方向でスライド自在であり、スライドすることで巻芯566をB方向で変位させる。   A pair of core holders 556 for holding the core 566 from both ends in the longitudinal direction are provided at both ends in the longitudinal direction of the rotating shaft 555. The core holder 556 is slidable in the longitudinal direction of the rotation shaft 555, and displaces the core 566 in the B direction by sliding.

巻芯ホルダ556には、シフト機構561が接続し、このシフト機構561は巻芯ホルダ556を回転軸555の長手方向に沿って変位させる。この変位によって、巻芯566はB方向に変位する。   A shift mechanism 561 is connected to the core holder 556, and the shift mechanism 561 displaces the core holder 556 along the longitudinal direction of the rotation shaft 555. Due to this displacement, the core 566 is displaced in the B direction.

シフト機構561には、コントローラ563が接続する。コントローラ563は、回転軸555の長手方向において巻芯ホルダ556を移動すべき向きと、移動の速度と、変位量との各目的値の信号が入力されると、この入力信号に基づいて巻芯ホルダ556を制御する。これにより、巻芯ホルダ556は、回転中の回転軸555上を、目的とするタイミング、速度で、目的とする変位量をもって変位する。   The controller 563 is connected to the shift mechanism 561. The controller 563 receives the signals of the target values such as the direction in which the core holder 556 should be moved in the longitudinal direction of the rotary shaft 555, the speed of movement, and the amount of displacement, based on the input signals. The holder 556 is controlled. As a result, the core holder 556 is displaced on the rotating shaft 555 during rotation at a desired timing and at a desired speed with a desired displacement amount.

張力制御ユニット552は、ガイドローラー571、572と、ダンサローラー573と、シフト機構576と、コントローラ577とを備えることが好ましい。   The tension control unit 552 preferably includes guide rollers 571 and 572, a dancer roller 573, a shift mechanism 576, and a controller 577.

ガイドローラー571、572は、フィルム527を第2スリッター518から巻取ユニット551へのフィルムの搬送路をなすものであり、フィルム527を巻取ユニット551へ案内するようにフィルムを支持する。ガイドローラー571、572は駆動手段を有する駆動ローラーであってもよいし、搬送されているフィルム527に接触することで回転するいわゆるフリーローラーであってもよい。   The guide rollers 571 and 572 serve as a transport path of the film 527 from the second slitter 518 to the winding unit 551, and support the film 527 so as to guide the film 527 to the winding unit 551. The guide rollers 571 and 572 may be drive rollers having a drive unit, or may be so-called free rollers that rotate by contacting the film 527 being conveyed.

ダンサローラー573は、フィルム527の搬送方向に並ぶガイドローラー571とガイドローラー572との間に配される。フィルム527は、ガイドローラー571及びガイドローラー572に接するフィルム面とは反対側のフィルム面がダンサローラー573に接触するように、ダンサローラー573に巻きかけられる。   The dancer roller 573 is disposed between a guide roller 571 and a guide roller 572 that are arranged in the transport direction of the film 527. The film 527 is wound around the dancer roller 573 such that the film surface opposite to the film surface in contact with the guide roller 571 and the guide roller 572 contacts the dancer roller 573.

シフト機構576はダンサローラー573に接続しており、フィルム面と交差する方向に段差ローラー573を変位させる。この変位により、フィルム527の長手方向における張力が変化する。シフト機構576は、ダンサローラー573の変位量の信号が入力されると、この入力信号に基づき、ダンサローラー573を目的とする変位量だけ変位させる。   The shift mechanism 576 is connected to the dancer roller 573, and displaces the step roller 573 in a direction crossing the film surface. This displacement changes the tension in the longitudinal direction of the film 527. When the signal of the displacement amount of the dancer roller 573 is input, the shift mechanism 576 displaces the dancer roller 573 by a target displacement amount based on the input signal.

コントローラ577はシフト機構576に接続しており、フィルム527の長手方向における張力の目的値に対応する信号が入力されると、この入力信号に基づきダンサローラー573の変位量を求めて、求めた変位量の信号をシフト機構576に出力する。   The controller 577 is connected to the shift mechanism 576. When a signal corresponding to the target value of the tension in the longitudinal direction of the film 527 is input, the controller 577 obtains the amount of displacement of the dancer roller 573 based on the input signal, and obtains the obtained displacement. An amount signal is output to shift mechanism 576.

なお、下流側のガイドローラー572には、フィルム527の長手方向における張力を検出する張力センサ(図示無し)を設けることが好ましい。この場合には、コントローラ577とガイドローラー572の張力センサーとに接続する算出部578を設けることがさらに好ましい。算出部578は、張力センサーの検出信号が入力されると、その検出信号に対応する張力と張力の目的値との差を求め、差が0(ゼロ)でない場合に張力の目的値に対応する信号を出力してコントローラ577に送る。   Preferably, a tension sensor (not shown) for detecting the tension in the longitudinal direction of the film 527 is provided on the downstream guide roller 572. In this case, it is more preferable to provide a calculation unit 578 connected to the controller 577 and the tension sensor of the guide roller 572. When the detection signal of the tension sensor is input, calculation unit 578 obtains a difference between the tension corresponding to the detection signal and the target value of the tension, and if the difference is not 0 (zero), corresponds to the target value of the tension. The signal is output and sent to the controller 577.

以上の巻取ユニット551にセットされた巻芯566に、フィルム527の長手方向の先端を巻き付けて、モーター558を駆動する。案内されてきたフィルム527は、モーター558の駆動により、巻き取られる。案内されてくるフィルム527を巻き取る間に、シフト機構561により巻芯ホルダ556をB方向に変位させ、これにより巻芯566をB方向に往復動させる。この往復動により、案内されてくるフィルム527は、溶接部上形成領域527wがB方向にずれたロールを形成しながら巻芯566に巻かれる。なお、フィルム527の溶接部上形成領域527wは、バンド533の溶接部533w上に形成された流延膜539の溶接部上領域に対応する領域である。この溶接部上形成領域527wの詳細については、別の図面を用いて後述する。   The motor 558 is driven by winding the longitudinal end of the film 527 around the winding core 566 set in the winding unit 551 described above. The guided film 527 is wound by driving of the motor 558. While winding the guided film 527, the core holder 556 is displaced in the B direction by the shift mechanism 561, whereby the core 566 is reciprocated in the B direction. By this reciprocating motion, the guided film 527 is wound around the core 566 while forming a roll in which the welding upper formation region 527w is shifted in the B direction. The region 527w on the welded portion of the film 527 is a region corresponding to the region on the welded portion of the casting film 539 formed on the welded portion 533w of the band 533. The details of the above-formed region 527w will be described later with reference to another drawing.

シフト機構561は、巻芯ホルダ556をB方向で一定の振幅で変位させ、巻芯566のB方向における往復動も一定の振幅をもつようになる。これにより、フィルム527の溶接部上形成領域527wが巻芯566の長手方向で一定の振幅でずれながら、フィルム527は巻芯566に巻かれる。得られたフィルムロールは、溶接部上形成領域527wがフィルム527の幅方向で一定の振幅をもってずれながら巻かれたものとなり、溶接部上形成領域527wの重なりに起因する黒い筋が無い。   The shift mechanism 561 displaces the core holder 556 with a constant amplitude in the B direction, so that the reciprocating motion of the core 566 in the B direction also has a constant amplitude. As a result, the film 527 is wound around the core 566 while the region 527w on the welded portion of the film 527 is shifted at a constant amplitude in the longitudinal direction of the core 566. In the obtained film roll, the formed region 527w on the welded portion is wound while being shifted with a constant amplitude in the width direction of the film 527, and there is no black streak caused by the overlap of the formed region 527w on the welded portion.

溶接部上形成領域527wについて、図15を参照しながら説明する。流延膜539は、前述のとおり、バンド533の側部533sの一方から他方にわたる範囲に形成されるので、溶接部533w上にも形成されることになる。溶接部533wは、略一定の幅をもつ。溶接部533wの幅は、極めて精度良くバンド533を製造した場合であっても、10mm程度である。ただし、バンド533の精度によっては、溶接部533wの幅が、長手方向で不均一になっていたり、10mmよりも大きい場合もある。この溶接部533wは、バンド533を製造するにあたり原材料とした側部533s用の幅狭シートと中央部533c用の幅広シートとを溶接する際に、溶接ビードとして形成される領域である。この溶接部533wは、溶接後に研磨等の後処理をしても目視で認めることができる。   The above-formed region 527w will be described with reference to FIG. As described above, since the casting film 539 is formed in a range extending from one side to the other side 533s of the band 533, the casting film 539 is also formed on the welded portion 533w. The welded portion 533w has a substantially constant width. The width of the welded portion 533w is about 10 mm even when the band 533 is manufactured with extremely high precision. However, depending on the accuracy of the band 533, the width of the welded portion 533w may be uneven in the longitudinal direction or larger than 10 mm. The welded portion 533w is a region formed as a weld bead when a narrow sheet for the side portion 533s and a wide sheet for the central portion 533c, which are raw materials for manufacturing the band 533, are welded. The welded portion 533w can be visually recognized even after post-processing such as polishing after welding.

流延膜539のうち、溶接部533w上に形成される領域を、溶接部上領域539wと称する。溶接部533wは、前述のとおり目視で特定することができるので、溶接部上領域539wは、溶接部533w上にある領域として特定される。   In the casting film 539, a region formed on the weld 533w is referred to as a weld upper region 539w. Since the welded portion 533w can be visually identified as described above, the welded portion upper region 539w is specified as a region on the welded portion 533w.

流延膜539は、剥取位置PPで剥ぎ取られてから、搬送され、第1スリッター、第1テンター、第2テンター、第2スリッター等により、各種の処理が施される。これらの処理により、フィルム527にはA方向やB方向へ張力が付与されたり、B方向の側端部の切除が行われる。これにより、剥取位置PPで剥ぎ取られてから巻取装置で巻き取られるまでに、フィルム527は、長手方向に伸びたり、乾燥して幅方向で収縮したり、幅方向で延伸されて拡幅したり、切除により幅が狭くされる。   The casting film 539 is peeled off at the peeling position PP, transported, and subjected to various processes by a first slitter, a first tenter, a second tenter, a second slitter, and the like. Through these processes, tension is applied to the film 527 in the A direction and the B direction, and the side end in the B direction is cut off. Thus, the film 527 elongates in the longitudinal direction, dries and shrinks in the width direction, or is stretched in the width direction and widened after being stripped at the stripping position PP and wound by the winding device. Or narrowed by resection.

このため、流延膜とフィルム527との幅は異なる場合が通常である。さらに、流延膜の幅方向における溶接部上領域539wの位置や幅W539とフィルム527の幅方向における溶接部対応領域527wの位置や幅W527とは互いに異なる場合が通常である。   Therefore, the width of the casting film and the width of the film 527 are usually different. Further, the position and width W539 of the upper region 539w in the width direction of the casting film and the position and width W527 of the corresponding region 527w in the width direction of the film 527 are usually different from each other.

しかし、溶接部対応領域527wをフィルム527の幅方向において振幅をもつように変位させるにしても、巻取時のフィルム527においては溶接部対応領域527wを目視で確認することができない。そこで、巻取時における溶接部対応領域527wは以下の方法で特定するとよい。なお、巻取時におけるフィルム527は、本実施形態においては、巻取位置PWでのフィルム527に対応する。ただし、巻取前の一定時間のフィルム527は、乾燥が十分進んでいることから、寸法の変化が極めて少ない。このため、巻取位置PWよりも上流のフィルムを巻取時のフィルム527としてみなしても構わない。なお、巻取位置PWとは、巻芯566に巻き取られるフィルム527が、既に巻芯566に巻かれたフィルム527の外周面に接触する位置である。   However, even if the welding portion corresponding region 527w is displaced so as to have an amplitude in the width direction of the film 527, the welding portion corresponding region 527w cannot be visually confirmed in the film 527 at the time of winding. Therefore, the welding portion corresponding region 527w at the time of winding may be specified by the following method. Note that, in the present embodiment, the film 527 at the time of winding corresponds to the film 527 at the winding position PW. However, since the drying of the film 527 for a certain period of time before winding is sufficiently advanced, the dimensional change is extremely small. Therefore, a film upstream of the winding position PW may be regarded as the film 527 at the time of winding. The winding position PW is a position at which the film 527 wound around the core 566 contacts the outer peripheral surface of the film 527 wound around the core 566.

まず、剥取位置PPにおける流延膜の溶接部上領域539wにマーキングをする。以降の説明においては、このマークを流延膜マークと称し、図15において符号M539を付す。マーキングは、溶媒に耐性をもつインク等で行えばよい。流延膜マークM539が、巻取位置PWに至ると、この流延膜マークM539がある領域が溶接部対応領域527wとして特定される。特定された溶接部対応領域527wに付されてあるマークを、以降の説明においてはフィルムマークと称し、図15において符号M527を付す。   First, marking is performed on the region 539w above the welded portion of the casting film at the stripping position PP. In the following description, this mark is referred to as a casting film mark, and is denoted by reference numeral M539 in FIG. The marking may be performed with an ink or the like having resistance to a solvent. When the casting film mark M539 reaches the winding position PW, the region where the casting film mark M539 is located is specified as the welding portion corresponding region 527w. The mark attached to the specified welded portion corresponding area 527w is referred to as a film mark in the following description, and is denoted by reference numeral M527 in FIG.

図15においては、フィルムマークM527が流延膜マークM539よりも大きくなる場合を示してあるが、剥ぎ取り以降の工程の条件によって、小さくなる場合や、略同等の大きさになる場合もあるし、幅と長手方向の長さとの割合(以降、単に「幅と長さとの比」と称する)が変化している場合がある。しかし、フィルムマークM527と流延膜マークM539とについて、大きさの関係や、幅と長さとの比の関係を考慮する必要はなく、フィルムマークM527の幅を検出すれば足りる。フィルムマークM527の幅が、溶接部対応領域527wの幅W527である。   FIG. 15 shows a case where the film mark M527 is larger than the casting film mark M539. However, the film mark M527 may be smaller or may have substantially the same size depending on the conditions of the steps after the peeling. In some cases, the ratio between the width and the length in the longitudinal direction (hereinafter, simply referred to as the “width-to-length ratio”) may change. However, regarding the film mark M527 and the casting film mark M539, it is not necessary to consider the relationship between the size and the ratio between the width and the length, and it is sufficient to detect the width of the film mark M527. The width of the film mark M527 is the width W527 of the welding portion corresponding region 527w.

なお、図15においては、説明の便宜上、溶接部533w、溶接部上領域539w、溶接部上形成領域527wの各幅を、バンド533、流延膜539、フィルム527の幅に対して誇張して大きく描いてある。   In FIG. 15, for convenience of description, the widths of the welded portion 533 w, the upper welded region 539 w, and the formed upper welded region 527 w are exaggerated with respect to the widths of the band 533, the casting film 539, and the film 527. It is drawn large.

以上のように、溶接部対応領域527wを特定し、巻取装置519により溶接部対応領域527wがB方向にずれたロールを形成しながらフィルム527を巻芯566に巻くことにより、溶接部533wに起因するフィルムロールにおける黒い筋の発生が防止される。   As described above, the welded portion corresponding region 527w is specified, and the film 527 is wound around the core 566 by the winding device 519 while forming a roll in which the welded portion corresponding region 527w is displaced in the B direction. This prevents black streaks from occurring in the film roll.

さらに、巻芯566のB方向における振幅をもった変位の周期は、走行するバンド533が1周する時間とすることが好ましい。バンド533が1周する時間とは、走行するバンド533の任意の部分が、バンド533の走行路の特定した位置からその特定した位置に戻ってくるまでに要する時間であり、例えば、流延位置PCにあるバンド533の部分が、再び流延位置PCに戻るまでの時間である。この時間は、例えば、バンド533の任意の箇所にマーキングをし、このマークが流延位置PCを通過する時点から次回通過する時点までの時間を測ることで求めることができる。   Further, it is preferable that the cycle of the displacement of the winding core 566 having the amplitude in the B direction is a time during which the traveling band 533 makes one round. The time required for the band 533 to make one round is the time required for an arbitrary portion of the traveling band 533 to return from the specified position on the traveling path of the band 533 to the specified position. This is the time until the band 533 in the PC returns to the casting position PC again. This time can be determined, for example, by marking an arbitrary portion of the band 533 and measuring the time from the time when the mark passes the casting position PC to the time when the mark passes next time.

巻芯566の変位の周期を、走行するバンド533が1周する時間とすることにより、フィルム527の溶接部上形成領域527wの位置が、バンド533の1周する時間で得られる長さを周期として幅方向で振幅する変位量をもったフィルムロールが得られる。これにより、フィルムロールにおける黒い筋の発生が、より確実に防止される。なお、巻芯566の変位の周期は、厳密にバンド533が1周する時間としなくてもよく、1周する時間と略同等にすれば一定の効果が得られる。   By setting the cycle of the displacement of the core 566 to be the time for the traveling band 533 to make one round, the position of the region 527w on the welded portion of the film 527 is determined by the length obtained in the time for the band 533 to make one round. As a result, a film roll having a displacement amount amplitude in the width direction can be obtained. Thereby, generation of black streaks in the film roll is more reliably prevented. Note that the cycle of the displacement of the core 566 does not have to be strictly the time required for the band 533 to make one round, and a certain effect can be obtained if it is substantially equal to the time required for one round.

巻芯566の変位の周期は、巻芯ホルダ556の変位の周期により制御することができる。そこで、巻芯566の変位の周期を設定する場合には、コントローラ563は、バンド533の1周する時間を入力されると、この入力信号に基づいてシフト機構561を制御するものにするとよい。   The cycle of displacement of the core 566 can be controlled by the cycle of displacement of the core holder 556. Therefore, when setting the cycle of the displacement of the core 566, the controller 563 may control the shift mechanism 561 based on the input signal when the time for one rotation of the band 533 is input.

溶接部対応領域527wのB方向における変位の振幅は、溶接部対応領域527wの幅W527に応じて変えてもよい。具体的には、溶接部対応領域527wの幅W527が大きいほど、溶接部対応領域527wのB方向における変位の振幅を大きくする。これは、溶接部533wがバンド533の長手方向に伸びた略直線にある場合には、特に有効である。溶接部533wがバンド533の長手方向に伸びた略直線であるとは、B方向における溶接部533wの振幅が約2mm以内である場合をいう。なお、振幅とは、B方向における変位量の半分に当たる。   The amplitude of the displacement in the B direction of the welded area 527w may be changed according to the width W527 of the welded area 527w. Specifically, as the width W527 of the welded portion corresponding region 527w is larger, the amplitude of the displacement in the B direction of the welded portion corresponding region 527w is increased. This is particularly effective when the welded portion 533w is on a substantially straight line extending in the longitudinal direction of the band 533. The fact that the welded portion 533w is a substantially straight line extending in the longitudinal direction of the band 533 means that the amplitude of the welded portion 533w in the B direction is within about 2 mm. The amplitude corresponds to a half of the displacement in the B direction.

溶接部対応領域527wの幅W527が約10mmで一定の場合には、溶接部対応領域527wのB方向における変位の振幅は約10mmとすれば効果がある。   When the width W527 of the welded area 527w is constant at about 10 mm, it is effective if the displacement amplitude in the direction B of the welded area 527w is about 10 mm.

また、バンド533の長手方向を周期に対応させ、溶接部533wがサインカーブ(SINE CURVE)を描くように蛇行している場合には、溶接部対応領域527wも長
手方向を周期に対応させるとサインカーブを描くように蛇行する。この場合には、溶接部対応領域527wのサインカーブと同期してこれと同位相になる方向にフィルム527をさせると、溶接部対応領域527wのB方向における変位の振幅をより小さく抑えることができて好ましい。
When the longitudinal direction of the band 533 corresponds to the cycle, and the welded portion 533w is meandering so as to draw a sine curve (SINE CURVE), the welded portion corresponding region 527w can be associated with the cycle in the longitudinal direction. Meander like drawing a curve. In this case, when the film 527 is caused to synchronize with the sine curve of the welded area 527w and become in phase with the sine curve, the amplitude of the displacement in the B direction of the welded area 527w can be further reduced. Preferred.

この巻取装置519における巻取対象のフィルムサイズなどは特に限定されないが、例えば全巻取長が2000〜10000mの範囲内であり、幅が500〜2500mmの範囲内のサイズのフィルムであることが好ましい。   The film size or the like to be wound by the winding device 519 is not particularly limited. For example, the film is preferably a film having a total winding length in the range of 2000 to 10000 m and a width in the range of 500 to 2500 mm. .

巻取り工程では除電処理を行うことが好ましい。除電処理について詳細に説明する。   In the winding step, it is preferable to perform a static elimination process. The static elimination process will be described in detail.

図16は、乾燥工程から巻取り工程にかけての本発明の概略図であり、冷却室607から巻取室610までの間に、除電装置(送風式除電器)620、621、622を設ける。また、パスローラー623、624をアースさせ、これらパスローラー623、624にそれぞれ表面電位計625、626を近接させて設ける。   FIG. 16 is a schematic diagram of the present invention from the drying step to the winding step. Between the cooling chamber 607 and the winding chamber 610, static eliminators (blowing type static eliminators) 620, 621, and 622 are provided. Further, the pass rollers 623 and 624 are grounded, and the surface rollers 625 and 626 are provided close to the pass rollers 623 and 624, respectively.

乾燥室605を出たフィルム601は、冷却室607内で除電装置620により室温まで冷却されながら除電される。除電装置620は、発生させたイオンを、送風機によりフィルム601に直接当てて除電する。この除電装置620を乾燥室605内に設置することにより、フィルムの帯電電位を下げることができる。図17は、送風式除電装置620による冷却室607内で行われるフィルム601の除電処理の概略である。図17に示すように、送風式除電装置620は、送風ヘッド620a内に収められているイオン発生器620bによってイオンを発生させ、送風機620cから通風ダクト620eを通して風を送り、スリット620dからイオン風をフィルム601に向けて放出する。なお、乾燥室605を出た時点でのフィルムの帯電電圧を測定するために、パスローラー623をアースし、このパスローラー623と接触しているフィルム601に対して、表面電位計625を用いて表面電位の測定を行うことが好ましい。この場合には、測定した表面電位に基づき所定の帯電電位まで除電されていない場合にはイオン風の発生量を制御して適正な表面電位、例えば−10〜+10Vの範囲内となるようにする。   The film 601 that has exited the drying chamber 605 is neutralized while being cooled to room temperature by the static eliminator 620 in the cooling chamber 607. The static eliminator 620 removes static electricity by directly applying the generated ions to the film 601 using a blower. By installing the static eliminator 620 in the drying chamber 605, the charge potential of the film can be reduced. FIG. 17 is a schematic diagram of the charge elimination processing of the film 601 performed in the cooling chamber 607 by the blower-type charge eliminator 620. As shown in FIG. 17, the blower-type static eliminator 620 generates ions by an ion generator 620b housed in a blower head 620a, sends wind from a blower 620c through a ventilation duct 620e, and removes ion wind from a slit 620d. Release toward the film 601. In order to measure the charging voltage of the film at the time of leaving the drying chamber 605, the pass roller 623 is grounded, and the film 601 that is in contact with the pass roller 623 is measured using a surface voltmeter 625. It is preferable to measure the surface potential. In this case, if the charge has not been removed to a predetermined charging potential based on the measured surface potential, the amount of generated ionic wind is controlled so as to be in an appropriate surface potential, for example, in the range of -10 to +10 V. .

また、冷却室607を出たフィルム601に対して、除電装置621を用いて除電を行う。さらに、ナーリング付与ローラー609を用いて、フィルム601両端部にエンボス加工でナーリングを付与する。除電装置621は、図17ではナーリング付与ローラーの上流側に設けられている例を図示しているが、その位置に限定されるものではない。   Further, static elimination is performed on the film 601 that has exited the cooling chamber 607 by using the static eliminator 621. Further, using a knurling roller 609, knurling is applied to both ends of the film 601 by embossing. FIG. 17 illustrates an example in which the static eliminator 621 is provided on the upstream side of the knurling applying roller, but is not limited to that position.

次に、巻取室610において、パスローラー624をアースし、このパスローラー624と接触しているフィルム601に対して表面電位計を設置し、フィルム601の表面電位を測定する。そして、測定した表面電位に基づきイオン風の発生量を制御して適正な表面電位、例えば−5〜+5Vの範囲内となるようにして、巻取り直前で除電装置622を用いて除電を行いつつ、巻取りローラー611で巻き取る。   Next, in the winding chamber 610, the pass roller 624 is grounded, and a surface voltmeter is installed on the film 601 in contact with the pass roller 624, and the surface potential of the film 601 is measured. Then, based on the measured surface potential, the amount of generated ion wind is controlled so as to be in an appropriate surface potential, for example, in a range of -5 to +5 V, and the charge is removed using the charge removing device 622 immediately before winding. , And is wound by a winding roller 611.

なお、除電装置621〜623はイオン風を吹き付けて除電を行っているが、周知の各種除電装置により除電してもよい。また、表面電位計625、626によって測定された表面電位の値から、コントローラ(図示せず)を用いて各除電装置を制御し、より均一な除電を行うようにしているが、これら表面電位計は省略し、単に各種除電装置で除電を行ってもよい。   Note that the static eliminators 621 to 623 perform ion elimination by blowing ion wind, but may be neutralized by various known static eliminators. Also, based on the values of the surface potentials measured by the surface voltmeters 625 and 626, each static eliminator is controlled using a controller (not shown) to perform more uniform static elimination. May be omitted, and static elimination may be simply performed by various static eliminators.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは巻取りの際に保護フィルムを貼り合わせて積層フィルムとすることも好ましい。   It is also preferable that the cyclic polyolefin film of the present invention be laminated into a laminated film by winding a protective film during winding.

(保護フィルム)
保護フィルムは、環状ポリオレフィンフィルムとの貼り合わせ及び剥離が可能なフィルムである。保護フィルムを環状ポリオレフィンフィルムに貼り合わせることにより、環状ポリオレフィンフィルムの表面が傷付くのを防止したり、ハンドリング性を向上させたりすることができる。
(Protective film)
The protective film is a film that can be attached to and detached from the cyclic polyolefin film. By bonding the protective film to the cyclic polyolefin film, it is possible to prevent the surface of the cyclic polyolefin film from being damaged, and to improve the handling property.

保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムと貼り合わせる面とは反対側の面の算術平均粗さRaは、通常0.2μm以上、好ましくは0.3μm以上、より好ましくは0.5μm以上であり、通常1.4μm以下、好ましくは1.0μm以下、より好ましくは0.8μm以下である。通常、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムに貼り合わせる面は粘着面となっている。このため、通常は、保護フィルムの粘着面ではない面の算術平均粗さRaが、前記の範囲に収まるようにする。   The arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the surface to be bonded to the cyclic polyolefin film is usually 0.2 μm or more, preferably 0.3 μm or more, more preferably 0.5 μm or more. It is 4 μm or less, preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.8 μm or less. Usually, the surface of the protective film to be bonded to the cyclic polyolefin film is an adhesive surface. For this reason, usually, the arithmetic average roughness Ra of the non-adhesive surface of the protective film falls within the above range.

本発明者の検討によれば、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の算術平均粗さRaは、環状ポリオレフィンフィルムロールのシワ及びゲージバンドの発生に対して、大きく関係していると考えられる。複層フィルムを環状ポリオレフィンフィルムロールとして巻回しする際、複層フィルムが巻き重なることにより、複層フィルムの環状ポリオレフィンフィルム側の面と保護フィルム側の面とが接する。この際、複層フィルムの保護フィルム側の面の表面粗さ(即ち、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さ)は、複層フィルム間の空気の巻き込み量及び排出量に、大きく影響を及ぼす。   According to the study of the present inventors, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin film is greatly related to the occurrence of wrinkles and gauge bands of the cyclic polyolefin film roll. Conceivable. When the multilayer film is wound as a cyclic polyolefin film roll, the surface of the multilayer film on the side of the cyclic polyolefin film and the surface of the multilayer film on the protective film are in contact with each other due to the winding of the multilayer film. At this time, the surface roughness of the surface of the multilayer film on the side of the protective film (that is, the surface roughness of the surface of the protective film on the side opposite to the cyclic polyolefin film) is determined by the amount of air entrainment and discharge between the multilayer films. Has a significant effect.

具体的には、複層フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面が粗くなれば、巻回しの時の複層フィルム間の空気の巻き込み量は多くなり、変形してシワが発生しやすくなる。さらに、複層フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さが粗いと、空気の通路が大きくなって、巻き込んだ空気が抜けやすくなる。そうすると、複層フィルム同士の間から空気が抜けることにより空気層の厚さが変化したとき、その厚さの変化に追従して複層フィルムが変形するので、環状ポリオレフィンフィルムロールにシワが発生しやすい。そこで、本実施形態では、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の算術平均粗さRaを前記範囲の上限値以下にすることにより、シワを防止している。   Specifically, if the surface of the multilayer film on the side opposite to the cyclic polyolefin film is roughened, the amount of air entrained between the multilayer films at the time of winding increases, causing deformation and wrinkles. It will be easier. Further, when the surface roughness of the surface of the multilayer film on the side opposite to the cyclic polyolefin film is rough, the air passage becomes large, and the entrapped air is easily released. Then, when the thickness of the air layer changes due to the escape of air from between the multilayer films, the multilayer film deforms following the change in the thickness, and wrinkles are generated on the cyclic polyolefin film roll. Cheap. Therefore, in the present embodiment, wrinkles are prevented by setting the arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin film to be equal to or less than the upper limit of the above range.

一方、複層フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面が平滑になれば、巻取り時の複層フィルムの間の空気の巻き込み量は少なくなり、ゲージバンドが発生しやすい。そこで、本実施形態では、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の算術平均粗さRaを前記範囲の下限値以上にすることにより、ゲージバンドを防止している。   On the other hand, if the surface of the multilayer film on the side opposite to the cyclic polyolefin film becomes smooth, the amount of air entrained between the multilayer films during winding is reduced, and a gauge band is easily generated. Therefore, in the present embodiment, the gauge band is prevented by setting the arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin film to be equal to or greater than the lower limit of the above range.

保護フィルムの組成及び層構成は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。例えば、保護フィルムは、1層のみを備える単層構造のフィルムであってもよく、2層以上の層を備える複層構造のフィルムであってもよい。また、保護フィルムの膜厚は任意であり、通常10μm以上、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上、また、通常80μm以下、好ましくは60μm以下、より好ましくは40μm以下としてもよい。   The composition and layer constitution of the protective film are arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, the protective film may be a film having a single-layer structure including only one layer, or a film having a multilayer structure including two or more layers. Further, the thickness of the protective film is arbitrary, and may be generally 10 μm or more, preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more, and usually 80 μm or less, preferably 60 μm or less, more preferably 40 μm or less.

中でも、保護フィルムは、ポリオレフィン系重合体を含むことが好ましい。保護フィルムが単層構造のフィルムであれば、当該層がポリオレフィン系重合体を含むことが好ましい。また、保護フィルムが複層構造のフィルムであれば、少なくとも一層がポリオレフィン系重合体を含むことが好ましい。ポリオレフィン系重合体を用いることにより、共押出しによる成形が可能となり、生産性に優れる。   Among them, the protective film preferably contains a polyolefin-based polymer. When the protective film has a single-layer structure, the layer preferably contains a polyolefin-based polymer. When the protective film has a multilayer structure, at least one layer preferably contains a polyolefin-based polymer. By using a polyolefin-based polymer, molding by coextrusion becomes possible, and the productivity is excellent.

保護フィルムは、通常は2層以上の層を備える複層構造のフィルムである。保護フィルムの好適な例を挙げると、粘着層及び背面層を備えるフィルム;粘着層、中間層及び背面層をこの順で備えるフィルム;などが挙げられる。この場合、粘着層の表面が、保護フィルムの粘着面を形成する。   The protective film is a film having a multilayer structure usually including two or more layers. Preferable examples of the protective film include a film having an adhesive layer and a back layer; a film having an adhesive layer, an intermediate layer and a back layer in this order; and the like. In this case, the surface of the adhesive layer forms the adhesive surface of the protective film.

以下、保護フィルムの好適な構成要素例について説明する。   Hereinafter, examples of suitable components of the protective film will be described.

(粘着層)
粘着層は保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルム側の表面に位置し、環状ポリオレフィンフィルムに粘着しうる層である。粘着層は粘着剤を含んで形成され、粘着剤による粘着力によって保護フィルムが環状ポリオレフィンフィルムに対して固定されうるようになっている。
(Adhesive layer)
The adhesive layer is located on the surface of the protective film on the side of the cyclic polyolefin film, and is a layer that can adhere to the cyclic polyolefin film. The adhesive layer is formed to include an adhesive, and the protective film can be fixed to the cyclic polyolefin film by the adhesive force of the adhesive.

粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などを挙げることができる。なお、粘着剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the adhesive include a rubber-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a polyvinyl ether-based adhesive, a urethane-based adhesive, and a silicone-based adhesive. One kind of the adhesive may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at an arbitrary ratio.

粘着剤の中でも、一般式A−B−Aも若しくは一般式A−Bで表されるブロック共重合体(ただし、これらの式中、Aはスチレン系重合体ブロックを表し、Bはブタジエン重合体ブロック、イソプレン重合体ブロック、及びこれらを水素添加して得られるオレフィン重合体ブロックからなる群より選ばれる重合体ブロックを表す。)を含有するゴム系粘着剤;アクリル系粘着剤が好ましい。   Among the pressure-sensitive adhesives, a block copolymer represented by the general formula ABA or the general formula AB (where A represents a styrene-based polymer block, and B represents a butadiene polymer) Rubber-based pressure-sensitive adhesive containing a block, an isoprene polymer block, and a polymer block selected from the group consisting of an olefin polymer block obtained by hydrogenating them; an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferable.

前記の一般式A−B−A若しくは一般式A−Bで表されるブロック共重合体において、スチレン系重合体ブロックAは、重量平均分子量が12000以上、100000以下、ガラス転移温度が20℃以上のものが好ましい。また、ブタジエン重合体ブロック、イソプレン重合体ブロック、及びこれらを水素添加して得られるオレフィン重合体ブロックからなる群より選ばれる重合体ブロックBは、重量平均分子量が10000以上、300000以下、ガラス転移温度が−20℃以下のものが好ましい。さらに、上記A成分とB成分の質量比(A成分/B成分)が、好ましくは5/95以上、より好ましくは10/90以上であり、好ましくは50/50以下、より好ましくは30/70以下である。   In the block copolymer represented by the aforementioned general formula ABA or general formula AB, the styrene-based polymer block A has a weight average molecular weight of 12,000 or more and 100,000 or less, and a glass transition temperature of 20 ° C or more. Are preferred. Further, a polymer block B selected from the group consisting of a butadiene polymer block, an isoprene polymer block, and an olefin polymer block obtained by hydrogenating them, has a weight average molecular weight of 10,000 or more and 300,000 or less, and a glass transition temperature. Is preferably -20 ° C or lower. Further, the mass ratio of the component A and the component B (component A / component B) is preferably 5/95 or more, more preferably 10/90 or more, preferably 50/50 or less, more preferably 30/70. It is as follows.

上記一般式A−B−Aで表されるブロック共重合体の例としては、スチレン−エチレン/プロピレン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン/ブチレン−スチレン共重合体、及びそれらの水素添加体を挙げることができ、一般式A−Bで表されるブロック共重合体の例としては、スチレン−エチレン/プロピレン共重合体、スチレン−エチレン/ブチレン共重合体及びそれらの水素添加体を挙げることができる。   Examples of the block copolymer represented by the general formula ABA include styrene-ethylene / propylene-styrene copolymer, styrene-ethylene / butylene-styrene copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the block copolymer represented by the general formula AB include styrene-ethylene / propylene copolymers, styrene-ethylene / butylene copolymers, and hydrogenated products thereof. it can.

アクリル系粘着剤の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート類;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ビニルアセテート、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;等の単独重合体若しくは共重合体などを挙げることができる。なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートのことを意味し、(メタ)アクリルとはアクリル及びメタクリルのことを意味する。   Examples of acrylic adhesives include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and octyl. Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate and stearyl (meth) acrylate; alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate and butoxyethyl (meth) acrylate; cyclohexyl ( (Meth) acrylamides such as (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, vinyl acetate, (meth) acrylamide, and N-methylol (meth) acrylamide; And the like homopolymers or copolymers. In addition, (meth) acrylate means acrylate and methacrylate, and (meth) acryl means acryl and methacryl.

アクリル系粘着剤には、好ましくは官能基を有するアクリル系単量体が共重合されて用いられる。官能基を有するアクリル系単量体の例としては、マレイン酸、フマル酸、(メタ)アクリル酸等の不飽和酸類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート、無水マレイン酸などを挙げることができる。なお、官能基を有するアクリル系単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used by copolymerizing an acrylic monomer having a functional group. Examples of the acrylic monomer having a functional group include unsaturated acids such as maleic acid, fumaric acid, and (meth) acrylic acid; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, -Hydroxyhexyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, glycidyl (meth) acrylate, maleic anhydride, and the like. In addition, as the acrylic monomer having a functional group, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

アクリル系粘着剤には、必要に応じて架橋剤を含ませてもよい。前記の架橋剤は、共重合体に存在する官能基と熱架橋反応し、最終的には三次元網状構造を有する粘着層とするための化合物である。架橋剤を含ませることにより、保護フィルムにおいて粘着層と接する他の層(中間層、背面層等)との密着性、保護フィルムの強靱性、耐溶剤性、耐水性等を向上させることができる。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系化合物、メラミン系化合物、尿素系化合物、エポキシ系化合物、アミノ系化合物、アミド系化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、シランカップリング剤等、また、それらの変性体を適宜使用してもよい。なお、架橋剤は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The acrylic pressure-sensitive adhesive may contain a crosslinking agent as necessary. The cross-linking agent is a compound that undergoes a thermal cross-linking reaction with a functional group present in the copolymer, and finally forms an adhesive layer having a three-dimensional network structure. By including a cross-linking agent, the adhesiveness of the protective film to other layers (intermediate layer, back layer, etc.) in contact with the adhesive layer, the toughness of the protective film, solvent resistance, water resistance, and the like can be improved. . Examples of the crosslinking agent include isocyanate compounds, melamine compounds, urea compounds, epoxy compounds, amino compounds, amide compounds, aziridine compounds, oxazoline compounds, silane coupling agents and the like, and modified products thereof. You may use it suitably. One type of the crosslinking agent may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

粘着層の架橋性及び強靱性等の観点から、架橋剤としては、イソシアネート系化合物及びその変性体を使用することが好ましい。イソシアネート系化合物とは、1分子中にイソシアネート基を2個以上有する化合物であり、芳香族系と脂肪族系の化合物に大別される。芳香族系のイソシアネート系化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、ナフタリンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。また、脂肪族系のイソシアネート系化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。さらに、これらのイソシアネート系化合物の変性体としては、例えば、イソシアネート系化合物のビゥレット体、イソシアヌレート体、トリメチロールプロパンアダクト体等が挙げられる。   From the viewpoint of the crosslinking property and toughness of the pressure-sensitive adhesive layer, it is preferable to use an isocyanate compound and its modified product as the crosslinking agent. The isocyanate compound is a compound having two or more isocyanate groups in one molecule, and is roughly classified into an aromatic compound and an aliphatic compound. Examples of the aromatic isocyanate compound include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, and paraphenylene diisocyanate. Examples of the aliphatic isocyanate compound include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, lysine diisocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate, and xylylene diisocyanate. Furthermore, examples of the modified form of these isocyanate compounds include a biuret form, an isocyanurate form, and a trimethylolpropane adduct form of the isocyanate compound.

架橋剤を使用する場合、架橋反応を促進させるために、例えば、ジブチルスズラウレート等の架橋触媒を、粘着剤に含ませるようにしてもよい。   When a cross-linking agent is used, a cross-linking catalyst such as dibutyltin laurate may be included in the adhesive in order to promote the cross-linking reaction.

粘着層には、必要に応じて、粘着付与性重合体を含ませてもよい。粘着付与性重合体としては、例えば、芳香族炭化水素重合体、脂肪族炭化水素重合体、テルペン重合体、テルペンフェノール重合体、芳香族炭化水素変性テルペン重合体、クロマン・インデン重合体、スチレン系重合体、ロジン系重合体、フェノール系重合体、キシレン重合体等が挙げられ、中でも低密度ポリエチレン等の脂肪族炭化水素重合体が好ましい。ただし、具体的な粘着付与性重合体の種類は、他の重合体との相溶性、樹脂の融点、及び粘着層の粘着力の点から、適宜選択される。また、粘着付与性重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The pressure-sensitive adhesive layer may contain a tackifying polymer, if necessary. Examples of the tackifying polymer include, for example, an aromatic hydrocarbon polymer, an aliphatic hydrocarbon polymer, a terpene polymer, a terpene phenol polymer, an aromatic hydrocarbon-modified terpene polymer, a chroman-indene polymer, and a styrene-based polymer. Examples thereof include a polymer, a rosin-based polymer, a phenol-based polymer, and a xylene polymer, and among them, an aliphatic hydrocarbon polymer such as low-density polyethylene is preferable. However, the type of the specific tackifying polymer is appropriately selected from the viewpoint of compatibility with other polymers, the melting point of the resin, and the adhesive strength of the adhesive layer. In addition, as the tackifying polymer, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

粘着付与性重合体の量としては、例えば前記のブロック共重合体100質量部に対しては、好ましくは5質量部以上であり、好ましくは200質量部以下、より好ましくは100質量部以下である。粘着付与性重合体の量を前記範囲の下限値以上とすることにより環状ポリオレフィンフィルムと貼り合わせた場合に保護フィルムが浮いたり剥がれたりしないようにできる。また、上限値以下とすることにより、保護フィルムの繰り出し張力を抑制して、環状ポリオレフィンフィルムとの貼り合わせの際のシワ及び傷を防止したり、粘着付与性重合体のブリードアウトを防いで粘着層の粘着力を高く維持したりできる。   The amount of the tackifying polymer is, for example, 100 parts by mass of the block copolymer, preferably 5 parts by mass or more, preferably 200 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less. . When the amount of the tackifying polymer is equal to or more than the lower limit of the above range, the protective film can be prevented from floating or peeling when bonded to the cyclic polyolefin film. In addition, by setting the upper limit or less, the feeding tension of the protective film is suppressed, and wrinkles and scratches during bonding with the cyclic polyolefin film are prevented, and bleed out of the tackifying polymer is prevented to prevent adhesion. Or the adhesion of the layer can be kept high.

粘着層には、必要に応じて、例えば軟化剤、老化防止剤、充填剤、着色剤(染料又は顔料など)などの添加剤を含ませてもよい。なお、添加剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The adhesive layer may contain additives such as a softener, an antioxidant, a filler, and a coloring agent (such as a dye or a pigment), if necessary. One type of additive may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

軟化剤としては、例えば、プロセスオイル、液状ゴム、可塑剤などが挙げられる。   Examples of the softener include process oil, liquid rubber, and plasticizer.

充填剤としては、例えば、硫酸バリウム、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、シリカ、及び酸化チタンなどが挙げられる。   Examples of the filler include barium sulfate, talc, calcium carbonate, mica, silica, and titanium oxide.

粘着層の粘着力は、保護フィルムにおいて粘着層と接する他の層(中間層、背面層等)に対して、0.4N/cm以上が好ましく、0.6N/cm以上がより好ましく、6N/cm以下が好ましく、4N/cm以下がより好ましい。粘着力を前記範囲の下限値以上にすることにより、環状ポリオレフィンフィルムに保護フィルムを貼り合わせた際に保護フィルムの浮き及び剥がれを防止できる。また、上限値以下にすることにより、保護フィルムの繰り出し張力を抑制して、環状ポリオレフィンフィルムとの貼り合わせの際のシワ及び傷を防止できる。   The pressure-sensitive adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.4 N / cm or more, more preferably 0.6 N / cm or more, with respect to other layers (intermediate layer, back layer, etc.) in contact with the pressure-sensitive adhesive layer in the protective film. cm or less, and more preferably 4 N / cm or less. By setting the adhesive force to be equal to or more than the lower limit of the above range, floating and peeling of the protective film can be prevented when the protective film is bonded to the cyclic polyolefin film. Further, when the thickness is equal to or less than the upper limit, the feeding tension of the protective film can be suppressed, and wrinkles and scratches at the time of lamination with the cyclic polyolefin film can be prevented.

粘着層の膜厚は、通常1.0μm以上、好ましくは2.0μm以上であり、通常50μm以下、好ましくは30μm以下である。粘着層の膜厚を前記範囲の下限値以上にすることにより、粘着力を高くして、環状ポリオレフィンフィルムに保護フィルムを貼り合わせた際に保護フィルムの浮き及び剥がれを防止できる。また、上限値以下にすることにより、粘着力が過度に高くなることを防止して、保護フィルムの繰り出し張力を抑制できるので、環状ポリオレフィンフィルムとの貼り合わせの際のシワ及び傷を防止できる。また、保護フィルムのコシが強くなりすぎることを防止できるので、保護フィルムのハンドリング性を良好にできる。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually 1.0 μm or more, preferably 2.0 μm or more, and usually 50 μm or less, preferably 30 μm or less. By setting the thickness of the adhesive layer to be equal to or more than the lower limit of the above range, it is possible to increase the adhesive strength and prevent floating and peeling of the protective film when the protective film is bonded to the cyclic polyolefin film. Further, when the content is not more than the upper limit, the adhesive strength can be prevented from being excessively increased, and the feeding tension of the protective film can be suppressed, so that wrinkles and scratches during bonding with the cyclic polyolefin film can be prevented. Further, since the stiffness of the protective film can be prevented from becoming too strong, the handling property of the protective film can be improved.

(背面層)
背面層は、粘着層に対して環状ポリオレフィンフィルムとは反対側に位置し、通常は保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の表面に位置する層である。この背面層は、通常、環状ポリオレフィンフィルムとは粘着しない。背面層を備える保護フィルムにおいては、通常、この背面層の露出面の算術平均粗さRaが、保護フィルムの粘着面とは反対側の面の算術平均粗さRaになる。
(Back layer)
The back layer is a layer located on the side opposite to the cyclic polyolefin film with respect to the adhesive layer, and is usually located on the surface of the protective film on the side opposite to the cyclic polyolefin film. This backing layer usually does not adhere to the cyclic polyolefin film. In a protective film having a back layer, the arithmetic average roughness Ra of the exposed surface of the back layer is usually the arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the adhesive surface.

通常、背面層は樹脂により形成される。背面層を形成する樹脂に含まれる重合体は、単独重合体でもよく、共重合体でもよい。好適な例を挙げると、ポリオレフィン系重合体が挙げられる。   Usually, the back layer is formed of a resin. The polymer contained in the resin forming the back layer may be a homopolymer or a copolymer. Preferable examples include a polyolefin-based polymer.

ポリオレフィン系重合体は、鎖状オレフィンの単独重合体若しくは共重合体、又は、鎖状オレフィンと当該鎖状オレフィンに共重合可能な単量体との共重合体である。その例を挙げると、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−αオレフィン共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−エチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−メチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−n−ブチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。ここで、ポリエチレンとしては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンなどが挙げられる。また、エチレン−プロピレン共重合体としては、例えば、ランダム共重合体、ブロック共重合体などが挙げられる。さらに、α−オレフィンとしては、例えば、ブテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペンテン−1、オクテン−1、ペンテン−1、ヘプテン−1等が挙げられる。   The polyolefin-based polymer is a homopolymer or copolymer of a chain olefin, or a copolymer of a chain olefin and a monomer copolymerizable with the chain olefin. Examples thereof include polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, propylene-α-olefin copolymer, ethylene-α-olefin copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, and ethylene-methyl (meth). A) acrylate copolymer, ethylene-n-butyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer and the like. Here, examples of the polyethylene include low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, and linear low-density polyethylene. Examples of the ethylene-propylene copolymer include a random copolymer and a block copolymer. Further, examples of the α-olefin include butene-1, hexene-1, 4-methylpentene-1, octene-1, pentene-1, heptene-1 and the like.

上述したポリオレフィン系重合体の中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−αオレフィン共重合体からなる群より選ばれる重合体が好ましく、エチレン−プロピレン共重合体及びプロピレン−αオレフィン共重合体(以下、これらをまとめて「プロピレン系共重合体」ということがある。)がより好ましく、エチレン−プロピレン共重合体が特に好ましい。   Among the above-mentioned polyolefin polymers, a polymer selected from the group consisting of polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, and propylene-α olefin copolymer is preferable, and ethylene-propylene copolymer and propylene-α olefin copolymer are preferable. A polymer (hereinafter, these may be collectively referred to as a “propylene-based copolymer”) is more preferable, and an ethylene-propylene copolymer is particularly preferable.

上述した重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、エチレン−プロピレン共重合体等のプロピレン系共重合体と、低密度ポリエチレンとを組み合わせて用いることが好ましい。この際、プロピレン系共重合体60〜90質量%と、低密度ポリエチレン40〜10質量%とを組み合わせることが特に好ましい。エチレン含有量が多くなる程、エチレン−プロピレン共重合体の融点を低下させることができる。このため、共押出の容易さ、及び、低温押出を可能にする観点から、コモノマであるエチレン含有量としては3〜7モル%の範囲が好ましい。なお、背面層に耐熱性を付加したい場合は、エチレン含有量を少なくし、所望の耐熱性を得られるよう適宜選定してもよい。   One of the above-mentioned polymers may be used alone, or two or more may be used in combination at an arbitrary ratio. Among them, it is preferable to use a combination of a propylene-based copolymer such as an ethylene-propylene copolymer and low-density polyethylene. At this time, it is particularly preferable to combine 60 to 90% by mass of the propylene-based copolymer with 40 to 10% by mass of the low-density polyethylene. As the ethylene content increases, the melting point of the ethylene-propylene copolymer can be lowered. For this reason, from the viewpoint of ease of coextrusion and enabling low-temperature extrusion, the ethylene content of the comonomer is preferably in the range of 3 to 7 mol%. When it is desired to add heat resistance to the back layer, the ethylene content may be reduced and the heat resistance may be appropriately selected so as to obtain a desired heat resistance.

プロピレン系共重合体の230℃におけるメルトフローレート(以下、適宜「MFR」ということがある。)は5g/10分〜40g/10分の範囲が好ましい。特に、MFRが20g/10分〜40g/10分の範囲のものは、低温押出が可能であり、低密度ポリエチレンと組み合わせることで背面層の表面を粗面化しやすいことから、より好ましい。   The melt flow rate of the propylene-based copolymer at 230 ° C. (hereinafter, may be appropriately referred to as “MFR”) is preferably in the range of 5 g / 10 min to 40 g / 10 min. In particular, those having an MFR in the range of 20 g / 10 min to 40 g / 10 min are more preferable because low-temperature extrusion is possible and the surface of the back layer is easily roughened by combining with low-density polyethylene.

また、背面層を構成する低密度ポリエチレンは、190℃におけるMFRが0.5g/10分〜5g/10分であることが好ましい。   Further, the low-density polyethylene constituting the back layer preferably has an MFR at 190 ° C. of 0.5 g / 10 min to 5 g / 10 min.

さらに、低密度ポリエチレンは、密度が0.910g/cm〜0.929g/cmであることが好ましい。低密度ポリエチレンの密度をこの範囲の下限値以上にすることで、背面層の表面の表面粗さを適切な範囲に調整しやすい。また、上限値以下にすることで、搬送に用いるロール(例えば、金属ロール、ゴムロール等)との擦過による保護フィルムからの樹脂の脱離を防止して、白粉発生を抑制できる。 Further, the low-density polyethylene preferably has a density of 0.910 g / cm 3 to 0.929 g / cm 3 . When the density of the low-density polyethylene is equal to or more than the lower limit of this range, the surface roughness of the surface of the back layer can be easily adjusted to an appropriate range. In addition, when the amount is not more than the upper limit, detachment of the resin from the protective film due to friction with a roll (for example, a metal roll, a rubber roll, or the like) used for conveyance can be prevented, and generation of white powder can be suppressed.

背面層に含まれる重合体(例えば、プロピレン系共重合体及び低密度ポリエチレン)は、粘着層に含まれる重合体と異なるものであってもよいが、同一の重合体を用いることが好ましい。   The polymer (for example, propylene-based copolymer and low-density polyethylene) contained in the back layer may be different from the polymer contained in the adhesive layer, but it is preferable to use the same polymer.

背面層を形成する樹脂には、本発明の効果を著しく損なわない限り、例えば、タルク、ステアリン酸アミド、ステアリン酸カルシウム等の充填剤、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、帯電防止剤、核剤などの添加剤を含ませてもよい。なお、添加剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   In the resin forming the back layer, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, for example, a filler such as talc, stearamide, calcium stearate, a lubricant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a pigment, an antistatic agent, An additive such as a nucleating agent may be included. One type of additive may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

背面層の厚さは、粘着層の厚さとの比(粘着層/背面層)で、通常1/40以上、好ましくは1/20以上であり、通常1/1以下、好ましくは1/2以下である。これにより、背面層の厚さが粘着層に比較して過度に薄くなることを防止できるので、成膜性を改善して、フィッシュアイを防止することができる。また、背面層の厚さが粘着層に比較して過度に厚くなることを防止できるので、保護フィルムの繰り出し張力を抑制でき、環状ポリオレフィンとの貼り合わせの際のシワ及び傷を防止できる。   The thickness of the back layer is usually 1/40 or more, preferably 1/20 or more, and usually 1/1 or less, preferably 1/2 or less in a ratio to the thickness of the adhesive layer (adhesive layer / back layer). It is. Thereby, the thickness of the back layer can be prevented from becoming excessively thin as compared with the pressure-sensitive adhesive layer, so that the film formability can be improved and fish eyes can be prevented. Further, since the thickness of the back layer can be prevented from becoming excessively thick as compared with the pressure-sensitive adhesive layer, the feeding tension of the protective film can be suppressed, and wrinkles and scratches during bonding with the cyclic polyolefin can be prevented.

(中間層)
粘着層と背面層との間には、必要に応じて中間層を設けてもよい。中間層は通常は樹脂により形成されるが、中でも、ポリオレフィン系重合体を含む樹脂によって形成することが好ましい。
(Intermediate layer)
An intermediate layer may be provided between the adhesive layer and the back layer as needed. The intermediate layer is usually formed of a resin, but is preferably formed of a resin containing a polyolefin-based polymer.

中間層に含まれるポリオレフィン系重合体としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、エチレン−α−オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体(ランダム共重合体及び/又はブロック共重合体)、α−オレフィン−プロピレン共重合体、エチレン−エチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−メチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−n−ブチル(メタ)アクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なお、ポリオレフィン系重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、中間層に含まれるポリオレフィン系重合体は、前記粘着層及び背面層に含まれる重合体とは異なる種類のポリオレフィン系重合体であることが好ましい。   Examples of the polyolefin polymer contained in the intermediate layer include, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, ethylene-α-olefin copolymer, polypropylene, ethylene-propylene copolymer (Random copolymer and / or block copolymer), α-olefin-propylene copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-methyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-n-butyl (Meth) acrylate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer and the like can be mentioned. In addition, a polyolefin-type polymer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types by arbitrary ratios. However, the polyolefin polymer contained in the intermediate layer is preferably a different type of polyolefin polymer than the polymer contained in the adhesive layer and the back layer.

中間層には、必要に応じて、粘着層を形成する材料、及び、背面層を形成する材料を含ませてもよい。通常、共押出成形法で保護フィルムを製造する場合、端部の膜厚が不均一な部分はスリット工程等でスリットされ、除却される。このようにして除去された部分を中間層の原料として用いることで、使用原料の量を低減できる。   The intermediate layer may include a material for forming the adhesive layer and a material for forming the back layer as necessary. Normally, when a protective film is produced by a co-extrusion molding method, a portion having an uneven thickness at an end is slit in a slitting step or the like and removed. By using the part thus removed as a raw material for the intermediate layer, the amount of raw material used can be reduced.

中間層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、例えば、タルク、ステアリン酸アミド、ステアリン酸カルシウム等の充填剤、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、帯電防止剤、造核剤等の添加剤を含ませてもよい。なお、添加剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   In the intermediate layer, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, for example, fillers such as talc, stearamide, calcium stearate, lubricants, antioxidants, ultraviolet absorbers, pigments, antistatic agents, nucleating agents, etc. May be included. One type of additive may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

中間層の膜厚は、通常13〜70μmの範囲である。   The thickness of the intermediate layer is usually in the range of 13 to 70 μm.

(保護フィルムの製造方法)
保護フィルムは、例えば、下記の製造方法(i)〜(iii)により製造してもよい。
(Method of manufacturing protective film)
The protective film may be manufactured, for example, by the following manufacturing methods (i) to (iii).

(i)粘着層の材料及び背面層の材料、並びに必要に応じて中間層の材料を共押し出しする方法。   (I) A method of co-extruding the material of the adhesive layer, the material of the back layer, and, if necessary, the material of the intermediate layer.

(ii)背面層又は中間層を用意し、用意した層に粘着剤を塗布して粘着層を形成する方法。   (Ii) A method of preparing a back layer or an intermediate layer, and applying an adhesive to the prepared layer to form an adhesive layer.

(iii)粘着層及び背面層、並びに必要に応じて中間層を別々に用意し、用意した各層
を貼り合わせて一体化する方法。
(Iii) A method in which an adhesive layer, a back layer, and, if necessary, an intermediate layer are separately prepared, and the prepared layers are laminated and integrated.

例示した製造方法のうち、共押出成形法による製造方法(i)は、粘着層と背面層又は中間層とが強固に密着しており、環状ポリオレフィンフィルムへの糊残りが起こり難い点、製造工程が簡素化されるためにコストが安価である点、などの利点を有し、特に好ましい。ここで「糊残り」とは、保護フィルムの剥離後に環状ポリオレフィンフィルムに粘着剤が残留する現象をいう。製造方法(i)により製造される保護フィルムでは、背面層として、分岐状低密度ポリエチレン、ポリプレピレン等のポリオレフィン重合体が用いられることが多い。一方、粘着層には、通常は、例えば酢酸ビニル、直鎖状低密度ポリエチレン、メタロセン直鎖状低密度ポリエチレンなどが使用される。中でも、糊残り及び経時での密着力の増加などを避ける観点からは、酢酸ビニル系よりも直鎖状低密度ポリエチレン系の粘着剤を使用する場合が多い。   Among the exemplified production methods, the production method (i) based on the co-extrusion molding method is characterized in that the pressure-sensitive adhesive layer and the back layer or the intermediate layer are firmly adhered to each other, and the adhesive residue on the cyclic polyolefin film hardly occurs. This is particularly preferable because it has advantages such as simplification and low cost. Here, “adhesive residue” refers to a phenomenon in which the pressure-sensitive adhesive remains on the cyclic polyolefin film after the protective film is peeled off. In the protective film produced by the production method (i), a polyolefin polymer such as a branched low-density polyethylene or polypropylene is often used as the back layer. On the other hand, for the adhesive layer, usually, for example, vinyl acetate, linear low-density polyethylene, metallocene linear low-density polyethylene and the like are used. Among them, a linear low-density polyethylene-based pressure-sensitive adhesive is often used rather than a vinyl acetate-based pressure-sensitive adhesive from the viewpoint of avoiding adhesive residue and an increase in adhesion over time.

また、塗布法による製造方法(ii)により製造される保護フィルムでは、背面層として、通常、ポリエチレンテレフタレート及びポリオレフィン重合体が用いられることが多く、粘着層にはゴム系粘着剤及びアクリル系粘着剤が用いられることが多い。中でも、保護フィルム中の異物を懸念する場合には背面層にポリオレフィン重合体よりもポリエチレンテレフタレートを使用することが好ましい。また、製造方法(ii)では、クリーンルームで製造を行うと異物の無い高品質の保護フィルムが得られる。   Further, in the protective film produced by the production method (ii) by a coating method, polyethylene terephthalate and a polyolefin polymer are usually used as the back layer in many cases, and a rubber-based adhesive and an acrylic-based adhesive are used for the adhesive layer. Is often used. Above all, when there is concern about foreign matter in the protective film, it is preferable to use polyethylene terephthalate rather than a polyolefin polymer for the back layer. In the production method (ii), when the production is performed in a clean room, a high-quality protective film free of foreign matter can be obtained.

保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面が上述した算術平均粗さRaを有するようにするためには、例えば、背面層の表面を変形させることにより、所定の算術平均粗さRaを有する凹凸を形成してもよい。例えば、凹凸を有する賦型ロールを用いて、共押出成形法において得られた押出直後の保護フィルムを押圧して背面層の表面に凹凸を転写するニップ成形法;保護フィルムを、凹凸を有する離型フィルムで挟圧して離型フィルムの凹凸を転写した後、離型フィルムを剥離する方法;保護フィルムの背面層の表面に微粒子を噴射して保護フィルムの背面層の表面を切削する方法;などが挙げられる。また、背面層の表面を変形させる工程は、背面層と粘着層とを貼り合わせる前でもよく、後でもよい。   In order for the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin film to have the above-mentioned arithmetic average roughness Ra, for example, by deforming the surface of the back layer, it has a predetermined arithmetic average roughness Ra Irregularities may be formed. For example, using a shaping roll having irregularities, a nip molding method in which the protective film immediately after extrusion obtained in the co-extrusion molding method is pressed to transfer irregularities to the surface of the back layer; A method of peeling the release film after transferring the unevenness of the release film by pressing with a mold film; a method of cutting fine particles on the surface of the back layer of the protective film by spraying fine particles on the surface of the back layer of the protective film; Is mentioned. The step of deforming the surface of the back layer may be before or after bonding the back layer and the adhesive layer.

さらに、背面層の組成を調整することで背面層の表面に凹凸を形成してもよい。例えば、背面層に所定の粒径の微粒子を含有させて背面層に凹凸を形成させる方法;背面層を形成する樹脂等の材料の配合比を調整して背面層に凹凸を形成させる方法、などが挙げられる。   Further, irregularities may be formed on the surface of the back layer by adjusting the composition of the back layer. For example, a method in which fine particles having a predetermined particle size are contained in the rear layer to form irregularities in the rear layer; a method in which the mixing ratio of a material such as a resin forming the rear layer is adjusted to form irregularities in the rear layer; Is mentioned.

上述した中でも、凹凸の転写むらのない保護フィルムを広幅で得られる事から、凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ形成法が好ましく、鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールとを用いて保護フィルムを挟圧する方法が特に好ましい。   Among the above, since a protective film having no uneven transfer of unevenness can be obtained in a wide width, a nip forming method using a shaping roll having unevenness is preferable, and a protective film using a mirror roll and a shaping roll having unevenness is preferable. Is particularly preferable.

それぞれの鏡面ロール及び賦型ロールの表面材質は、例えば、金属、ゴム、樹脂などが挙げられる。これらは保護フィルムの背面層の表面に目的とする凹凸形状が転写できるように選ばれる。ただし、賦型ロールの硬さは、鏡面ロールの硬さ以上であることが好ましい。また、例えば、鏡面ロールと同等の表面性を持ち、賦型ロールより軟らかい樹脂フィルムなどを介して保護フィルムを狭圧させてもよい。   The surface material of each of the mirror roll and the forming roll includes, for example, metal, rubber, resin, and the like. These are selected so that the desired uneven shape can be transferred to the surface of the back layer of the protective film. However, the hardness of the shaping roll is preferably equal to or greater than the hardness of the mirror roll. Further, for example, the protective film may have a surface property equivalent to that of a mirror roll, and may be narrowed by a resin film or the like that is softer than a forming roll.

鏡面ロール及び賦型ロールは、それぞれ独立に温度調節ができるものが好ましい。鏡面ロールの温度は、40〜160℃の範囲あることが好ましく、かつ、賦型ロールの温度は、60〜200℃の範囲であることが好ましい。鏡面ロールの温度は、60〜130℃の範囲がさらに好ましく、賦型ロールの温度は、80〜180℃の範囲がさらに好ましい。鏡面ロール又は賦型ロールの温度を前記範囲の下限温度以上にすることにより、凹凸の転写むらを防止できる。また、鏡面ロール又は賦型ロールの温度を前記範囲の上限温度以下にすることにより、保護フィルムが鏡面ロール又は賦型ロールに巻きつくことを防止できる。   It is preferable that the mirror roll and the shaping roll can be independently temperature-controlled. The temperature of the mirror roll is preferably in the range of 40 to 160 ° C, and the temperature of the forming roll is preferably in the range of 60 to 200 ° C. The temperature of the mirror roll is more preferably in the range of 60 to 130 ° C, and the temperature of the shaping roll is more preferably in the range of 80 to 180 ° C. By setting the temperature of the mirror roll or the shaping roll to a temperature equal to or higher than the lower limit of the above range, uneven transfer of unevenness can be prevented. Further, by setting the temperature of the mirror roll or the shaping roll to the upper limit temperature of the above range or less, it is possible to prevent the protective film from winding around the mirror roll or the shaping roll.

ニップ形成法において、保護フィルムの環状ポリオレフィンとは反対側の面の上述した算術平均粗さRaは、挟圧時における保護フィルム、鏡面ロール及び賦型ロールの温度、ロール速度、保護フィルムを挟圧する際の圧力、並びに鏡面ロール及び賦型ロールの表面の材質を、保護フィルムを形成する材料の特性に合わせて、適宜選定することで調整することができる。通常、鏡面ロール及び賦型ロール温度は、背面層を形成する樹脂のガラス転移温度(Tg)に対して、(Tg−60)〜(Tg+20)℃とするのが好ましい。   In the nip forming method, the above-mentioned arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin is such that the temperature, the roll speed, and the temperature of the protective film, the mirror roll and the forming roll at the time of pressing are pressed. The pressure at that time and the material of the surfaces of the mirror roll and the forming roll can be adjusted by appropriately selecting them according to the characteristics of the material forming the protective film. Usually, the temperature of the mirror roll and the forming roll is preferably (Tg-60) to (Tg + 20) ° C. with respect to the glass transition temperature (Tg) of the resin forming the back layer.

保護フィルムの表面には、必要に応じて、表面改質処理を施してもよい。表面改質処理としては、例えば、エネルギー線照射処理及び薬品処理などが挙げられる。   The surface of the protective film may be subjected to a surface modification treatment as necessary. Examples of the surface modification treatment include an energy beam irradiation treatment and a chemical treatment.

また、保護フィルムの表面には、必要に応じ印刷を行ってもよい。   Moreover, you may print on the surface of a protective film as needed.

(貼り合わせ)
環状ポリオレフィンフィルムと保護フィルムとを貼り合わせることにより、複層フィルムを得る。貼り合わせの際には、環状ポリオレフィンフィルム及び保護フィルムのシワ及び弛みをなくすため、環状ポリオレフィンフィルム及び保護フィルムに所定の大きさの張力を与えることが好ましい。また、貼り合わせの際には、例えばニップロール等によって、圧力をかけながら貼り合わせを行うことが好ましい。
(Lamination)
A multilayer film is obtained by laminating a cyclic polyolefin film and a protective film. At the time of lamination, it is preferable to apply a predetermined amount of tension to the cyclic polyolefin film and the protective film in order to eliminate wrinkles and loosening of the cyclic polyolefin film and the protective film. Further, at the time of bonding, it is preferable to perform bonding while applying pressure using, for example, a nip roll or the like.

こうして製造された複層フィルムは、環状ポリオレフィンフィルム及び保護フィルムを備える。また、複層フィルムは、通常、一方の表面において環状ポリオレフィンフィルムが露出し、他方の表面において保護フィルムが露出している。この際、環状ポリオレフィンフィルムと保護フィルムとの間に更に任意の層を備えていてもよい。任意の層は、1層であってもよく、2層以上であってもよい。また、任意の層が2層以上ある場合、これらの層は同じでもよく、異なっていてもよい。   The multilayer film thus produced includes a cyclic polyolefin film and a protective film. Further, in the multilayer film, the cyclic polyolefin film is usually exposed on one surface, and the protective film is exposed on the other surface. At this time, an optional layer may be further provided between the cyclic polyolefin film and the protective film. The optional layer may be a single layer or two or more layers. When there are two or more optional layers, these layers may be the same or different.

複層フィルムの幅は、1500mm以上が好ましく、1800mm以上がより好ましい。一般に、幅が広いフィルムを巻回したフィルムロールはシワ又はゲージバンドが生じやすい。しかし、本実施形態にかかる複層フィルムは、このように広い幅を有しながら、巻回したときに良好な巻き姿を実現することができる。また、複層フィルムの幅の上限は、通常2500mm以下である。   The width of the multilayer film is preferably 1500 mm or more, more preferably 1800 mm or more. Generally, a film roll on which a wide film is wound tends to have wrinkles or gauge bands. However, the multilayer film according to the present embodiment can realize a good winding appearance when wound, while having such a wide width. The upper limit of the width of the multilayer film is usually 2500 mm or less.

(複層フィルムを巻回しする工程)
複層フィルムを得た後で、その複層フィルムをロール状に巻回して、環状ポリオレフィンフィルムロールを得る。通常、複層フィルムを巻回しする工程においては、巻取りロール及び接圧ローラーを備える巻取り装置を用いる。そして、接圧ローラーで押圧して、複層フィルムに面圧を付与しながら、巻取りロールに複層フィルムを巻き取ることにより、環状ポリオレフィンフィルムロールを得る。
(Step of winding a multilayer film)
After obtaining the multilayer film, the multilayer film is wound into a roll to obtain a cyclic polyolefin film roll. Usually, in the step of winding the multilayer film, a winding device including a winding roll and a pressure roller is used. Then, the multilayer film is wound around a winding roll while applying a surface pressure to the multilayer film by pressing with a contact pressure roller to obtain a cyclic polyolefin film roll.

接圧ローラーによって面圧を付与しながら複層フィルムを巻回しすることにより、高速での巻回しにおいて、空気の巻き込み量を抑制しやすい。このため、シワの発生を防止して、良好な巻き姿を有する環状ポリオレフィンフィルムロールを製造できる。   By winding the multilayer film while applying surface pressure by the contact pressure roller, it is easy to suppress the amount of air entrained in high-speed winding. For this reason, generation of wrinkles can be prevented, and a cyclic polyolefin film roll having a good winding appearance can be manufactured.

この際、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の算術平均粗さをRa(μm)としたときに、接圧ローラーの圧力P(N/m)は、下記式(4)を満たすことが好ましい。   At this time, the pressure P (N / m) of the contact pressure roller satisfies the following equation (4), where Ra (μm) is the arithmetic average roughness of the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin film. Is preferred.

50×Ra+75≦P≦23×Ra+160 (4)
上述したように、複層フィルムの巻回しに際して、シワ及びゲージバンドを防止する観点では、巻重なる複層フィルムの間への空気の巻き込み量を抑制及び制御することが好ましい。この際、空気の巻き込み量は、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さによって変化する。そのため、接圧ローラーの圧力Pは、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さに応じて設定することが好ましい。
50 × Ra + 75 ≦ P ≦ 23 × Ra + 160 (4)
As described above, from the viewpoint of preventing wrinkles and gauge bands when winding the multilayer film, it is preferable to suppress and control the amount of air entrained between the overlapping multilayer films. At this time, the amount of entrained air changes depending on the surface roughness of the surface of the protective film opposite to the cyclic polyolefin film. Therefore, the pressure P of the contact pressure roller is preferably set according to the surface roughness of the surface of the protective film opposite to the surface of the cyclic polyolefin film.

保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さが粗ければ粗いほど、巻回し時の空気の巻き込み量は多くなるので、接圧ローラーの圧力Pを強くして、空気の巻き込みを抑制することが好ましい。さらに、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さが粗ければ、巻回し時の空気の巻き込み量が多くなるので、接圧ローラーの圧力Pの変化による空気の巻き込み量の変化も大きくなる。このため、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さが平滑である場合と比較して、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の表面粗さが粗い場合には、接圧ローラーの圧力Pの好適な範囲は狭くなる。そのため、接圧ローラーの圧力Pは、保護フィルムの環状ポリオレフィンフィルムとは反対側の面の算術平均粗さRaの範囲において、上記式(4)のように、前記Raに応じた範囲であることが好ましい。   As the surface roughness of the surface opposite to the cyclic polyolefin film of the protective film becomes coarser, the amount of air entrained during winding increases, so that the pressure P of the contact pressure roller is increased and air entrainment is performed. Is preferably suppressed. Furthermore, if the surface roughness of the surface opposite to the cyclic polyolefin film of the protective film is rough, the amount of air entrained at the time of winding increases, so that the amount of air entrained by the change in the pressure P of the contact pressure roller is reduced. The change is also greater. For this reason, compared with the case where the surface roughness of the surface opposite to the cyclic polyolefin film of the protective film is smooth, when the surface roughness of the surface opposite to the cyclic polyolefin film of the protective film is rough, The preferred range of the pressure P of the contact pressure roller becomes narrow. Therefore, the pressure P of the contact pressure roller is in the range of the arithmetic average roughness Ra on the surface of the protective film on the side opposite to the cyclic polyolefin film, and is in a range corresponding to the Ra as in the above formula (4). Is preferred.

複層フィルムの巻回し速度は、通常5m/分以上、好ましくは10m/分以上であり、通常50m/分以下、好ましくは45m/分以下、より好ましくは40m/分以下である。巻回し速度を前記範囲の下限値以上とすることにより製造効率を高めることができ、上限値以下とすることにより空気の巻き込み量を抑制することができる。   The winding speed of the multilayer film is usually 5 m / min or more, preferably 10 m / min or more, usually 50 m / min or less, preferably 45 m / min or less, more preferably 40 m / min or less. When the winding speed is equal to or higher than the lower limit of the above range, the production efficiency can be increased, and when the winding speed is equal to or lower than the upper limit, the amount of air entrainment can be suppressed.

環状ポリオレフィンフィルムロールの巻回し数に制限は無いが、通常40回以上、好ましくは60回以上であり、通常27000回以下、好ましくは13000回以下である。   The number of windings of the cyclic polyolefin film roll is not limited, but is usually 40 times or more, preferably 60 times or more, and usually 27000 times or less, preferably 13000 times or less.

また、環状ポリオレフィンフィルムロールの外径に制限はないが、通常160mm以上、好ましくは190mm以上であり、通常2300mm以下、好ましくは1200mm以下である。   Although the outer diameter of the cyclic polyolefin film roll is not limited, it is usually 160 mm or more, preferably 190 mm or more, and usually 2300 mm or less, preferably 1200 mm or less.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムロール(ロール状フィルム)の包装方法及び包装体の好ましい実施形態について説明する。   A preferred embodiment of a method for packaging a cyclic polyolefin film roll (roll-shaped film) and a package according to the present invention will be described.

図18は、ロール状フィルムと包材を示す斜視図であり、図19は、ロール状フィルムを包材で包装した包装体を示す斜視図である。   FIG. 18 is a perspective view showing a roll-shaped film and a packaging material, and FIG. 19 is a perspective view showing a package body obtained by packaging the roll-shaped film with the packaging material.

図18に示すように、ロール状フィルム712は、円筒状の巻芯716を有し、この巻芯716に長尺状のフィルム714がロール状に巻き付けられている。巻芯716の幅寸法は、フィルム714の幅寸法よりも大きく形成されており、フィルム714は巻芯716の幅方向の略中央位置に巻き付けられている。したがって、ロール状フィルム712は、巻芯716の両端部がフィルム714から突出した状態になっている。   As shown in FIG. 18, the roll-shaped film 712 has a cylindrical core 716, and a long film 714 is wound around the core 716 in a roll shape. The width dimension of the core 716 is formed to be larger than the width dimension of the film 714, and the film 714 is wound around a substantially central position in the width direction of the core 716. Therefore, both ends of the roll core 716 of the roll-shaped film 712 protrude from the film 714.

フィルム714は、後述するように、その表面に少なくとも一層の光硬化性樹脂層を備えている。   As described later, the film 714 has at least one photocurable resin layer on its surface.

また、フィルム714は、その幅方向の両端部位置にエンボス又はナーリングとも称される微小な凹凸を有し、フィルムをロール状に巻取る際の端面ズレや巻き緩みの防止を目的として、例えば高さ5〜50μmの範囲、又は、フィルム膜厚の0.05〜0.3の範囲で形成される。   Further, the film 714 has minute irregularities also referred to as embossing or knurling at both end positions in the width direction thereof. For the purpose of preventing end face deviation and loosening when winding the film in a roll shape, for example, It is formed in the range of 5 to 50 μm or in the range of 0.05 to 0.3 of the film thickness.

一方、包材718は、円筒状に形成され、その幅寸法は、フィルム714の幅寸法よりも大きく形成される。包材718の内径はロール状フィルム712の外径よりも大きく形成されており、ロール状フィルム712に包材718を被せることができるようになっている。なお、包材718は、矩形のシート状のものを用いてもよく、この場合には、ロール状フィルム712を包材718で包んで円筒状にした後、包材718の縁を粘着テープ等で貼り付けて固定するとよい。   On the other hand, the packaging material 718 is formed in a cylindrical shape, and its width dimension is formed larger than the width dimension of the film 714. The inner diameter of the packaging material 718 is formed to be larger than the outer diameter of the roll-shaped film 712, so that the packaging material 718 can be covered on the roll-shaped film 712. Note that the packaging material 718 may be a rectangular sheet. In this case, after wrapping the roll-shaped film 712 with the packaging material 718 to form a cylindrical shape, the edge of the packaging material 718 is made of an adhesive tape or the like. It is good to stick and fix with.

包材718は、その外面が日射反射率70%以上(JIS−R−3106準拠)のものが使用される。例えば、ポリエチレン(PET)の外面にアルミ蒸着を施した包材718が使用される。なお、包材718は、日射反射率が70%以上のものであればよく、アルミ以外の金属蒸着をしたものや、アルミ箔などの金属箔を用いてもよい。また、包材718の日射反射率は80%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。このような包材718を用いて図19の包装体710を形成することによって、包装体710の内部の温度差を25℃以内、好ましくは20℃以内に抑制することができる。   The packaging material 718 whose outer surface has a solar reflectance of 70% or more (based on JIS-R-3106) is used. For example, a packaging material 718 in which an outer surface of polyethylene (PET) is subjected to aluminum evaporation is used. Note that the packaging material 718 only needs to have a solar reflectance of 70% or more, and may be a metal material other than aluminum that has been vapor-deposited or a metal foil such as an aluminum foil. The solar reflectance of the packaging material 718 is more preferably 80% or more, further preferably 90% or more. By forming the package 710 of FIG. 19 using such a packaging material 718, the temperature difference inside the package 710 can be suppressed within 25 ° C., preferably within 20 ° C.

また、包材718は、40℃90%RH環境下の透湿度が5.4g/m・day以下のものを用いることが好ましい。このような透湿度の包材718を用いることによって、包装体710の内部の湿度変化速度を4%/分以下に抑えることができる。 The packaging material 718 preferably has a moisture permeability of 5.4 g / m 2 · day or less in a 40 ° C. and 90% RH environment. By using the packaging material 718 having such moisture permeability, the rate of humidity change inside the package 710 can be suppressed to 4% / min or less.

上記のごとく構成された包材718は、図19に示すように、ロール状フィルム712に被せられ、その両端部にゴムバンド720が外嵌される。このゴムバンド720によって包材718の両端部が巻芯716の外周面に密着した状態で固定される。これにより、包材718でロール状フィルム712を包んだ包装体710が形成される。なお、包材718の固定方法はゴムバンド720に限定されるものではなく、粘着テープ等で巻芯716に貼り付けることによって固定してもよい。   As shown in FIG. 19, the packaging material 718 configured as described above is covered with a roll-shaped film 712, and rubber bands 720 are externally fitted to both ends thereof. Both ends of the packaging material 718 are fixed to the outer peripheral surface of the core 716 in close contact with the rubber band 720. Thus, a package 710 in which the roll material 712 is wrapped with the packaging material 718 is formed. The method of fixing the packaging material 718 is not limited to the rubber band 720, and may be fixed by attaching the packaging material 718 to the core 716 with an adhesive tape or the like.

次に上記のごとく構成された包装体710の作用について説明する。図20(A)、図20(B)は、従来の包装体(すなわち、日射反射率が70%未満の包材で包装した包装体)におけるロール状フィルム712の故障を説明する模式図である。   Next, the operation of the package 710 configured as described above will be described. FIGS. 20A and 20B are schematic diagrams illustrating a failure of the roll-shaped film 712 in a conventional package (that is, a package packaged with a packaging material having a solar reflectance of less than 70%). .

従来の包装体の場合、包装体に太陽光が当たると、包装体の内部では当たった側と当たらない側とで温度差が発生し、さらに温度差に伴う湿度差が発生する。その結果、両者の間でフィルム714の熱膨張差又は湿度膨張差が生じ、ベコ故障と呼ばれるロール状フィルム712の変形が発生する。ベコ故障とは、図20(B)に示すように、フィルム714の幅方向の端部がローレット(エンボス)714Aによって固巻きされているのに対して、中央部では巻きが緩いために変形する現象であり、巻取り時のテンションを上げるほど発生しやすくなる。このため、従来は、前段の加工装置において巻取りテンションを上げることができず、フィルム714の長尺化や搬送速度の増加に対応することができない。   In the case of a conventional package, when sunlight is applied to the package, a temperature difference occurs between the hit side and the non-hit side in the inside of the package, and a humidity difference accompanying the temperature difference occurs. As a result, a difference in thermal expansion or a difference in humidity expansion of the film 714 occurs between the two, and deformation of the roll-shaped film 712 called “beck failure” occurs. As shown in FIG. 20B, the edge failure occurs because the widthwise end of the film 714 is firmly wound by knurls (embosses) 714A, whereas the center portion is loosely wound. This is more likely to occur as the tension during winding is increased. For this reason, conventionally, it is not possible to increase the winding tension in the preceding processing apparatus, and it is not possible to cope with an increase in the length of the film 714 or an increase in the transport speed.

これに対して、本実施の形態の包装体は、日射反射率70%以上の包材718によって包装されている。したがって、太陽光が包装体710に当たった場合にも、太陽光のほとんどが包材718で反射され、包装体710に吸収させないので、包装体710の内部に温度差、湿度差が生じることを防止できる。これにより、フィルム714が変形してベコ故障を発生することを防止でき、巻取りテンションが高いロール状フィルム714の場合にも包装体710での不具合を防止することができる。よって、本実施の形態によれば、包装前の加工ラインにおいて巻取りテンションを増加させることができるので、フィルム714を長尺化したり、搬送速度を高めたりすることが可能となる。   On the other hand, the package of the present embodiment is packaged with a packaging material 718 having a solar reflectance of 70% or more. Therefore, even when sunlight hits the package 710, most of the sunlight is reflected by the packaging material 718 and is not absorbed by the package 710, so that a temperature difference and a humidity difference occur inside the package 710. Can be prevented. Accordingly, it is possible to prevent the film 714 from being deformed and causing a bellows failure, and to prevent a problem in the package 710 even in the case of the roll-shaped film 714 having a high winding tension. Therefore, according to the present embodiment, the winding tension can be increased in the processing line before packaging, so that the length of the film 714 can be increased and the transport speed can be increased.

また、巻き芯に環状ポリオレフィンフィルムを巻き取る際には、巻き芯に両面テープ、緩衝材等が貼り付けられる。両面テープは、フィルムの先端部を巻き芯に固定するためのものである。   When winding the cyclic polyolefin film around the core, a double-sided tape, a cushioning material, or the like is attached to the core. The double-sided tape is for fixing the leading end of the film to the winding core.

図21に示すように、両面テープ831は、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)製の帯状支持体831aの一方の面(裏面)に巻き芯側の第1粘着層831bが、他方の面(表面)にフィルム側の第2粘着層831cが形成されている。両面テープ831の厚さt02は10〜60μmの範囲であり、好ましくは10〜30μmの範囲で、より好ましくは10〜15μmの範囲である。この両面テープ831として、例えば、日東電工製(型式:5601、5603、5605、5606)が用いられる。なお、図21以降の各断面図において、実際の寸法で表示すると、フィルム815、両面テープ831、緩衝材832などの各部材の判別が困難になるため、各図において、厚さ方向寸法は誇張して表示してある。   As shown in FIG. 21, the double-sided tape 831 has a first adhesive layer 831b on the winding core side on one surface (back surface) of a belt-shaped support body 831a made of, for example, PET (polyethylene terephthalate), and the other surface (front surface). A second adhesive layer 831c on the film side is formed. The thickness t02 of the double-sided tape 831 is in the range of 10 to 60 μm, preferably in the range of 10 to 30 μm, and more preferably in the range of 10 to 15 μm. As the double-sided tape 831, for example, Nitto Denko (model: 5601, 5603, 5605, 5606) is used. In each cross-sectional view of FIG. 21 and subsequent figures, if the actual dimensions are displayed, it becomes difficult to distinguish the members such as the film 815, the double-sided tape 831 and the cushioning material 832, and therefore, in each figure, the dimension in the thickness direction is exaggerated. It is displayed.

両面テープ831の幅W02は25〜150mmの範囲であり、好ましくは40〜90mmの範囲であり、より好ましくは40〜60mmの範囲である。25mm未満であると、貼り付け不良となり、150mmを超えるとテープにシワが発生しやすくなり、共に好ましくない。   The width W02 of the double-sided tape 831 is in the range of 25 to 150 mm, preferably in the range of 40 to 90 mm, and more preferably in the range of 40 to 60 mm. If it is less than 25 mm, the sticking will be defective, and if it exceeds 150 mm, wrinkles are likely to occur on the tape, which are both undesirable.

両面テープ831の各粘着層831b、831cは、支持体831aの全面に形成されている。これら各粘着層831b、831cは、組成及び厚さが同じであるが、異なる組成や異なる厚さとしてもよい。第2粘着層831cの形成面には、図示は省略したが、剥離テープが貼り付けられている。剥離テープは、第1粘着層831bによって巻き芯823に両面テープ831を貼り付けた後に、フィルム815を巻き取る前に剥がされる。   Each of the adhesive layers 831b and 831c of the double-sided tape 831 is formed on the entire surface of the support 831a. These adhesive layers 831b and 831c have the same composition and thickness, but may have different compositions and different thicknesses. Although not shown, a release tape is attached to the surface on which the second adhesive layer 831c is formed. The release tape is peeled off before the film 815 is wound after the double-sided tape 831 is attached to the winding core 823 by the first adhesive layer 831b.

緩衝材832は、例えばポリエステル、不織布などから構成されており、巻き取るフィルム815の厚さよりも薄く形成されている。そして、両面テープ831よりも弾力性を有するものが用いられる。緩衝材832は、それ自体が粘着層を持っていなくてもよく、この場合には両面テープ831を介して巻き芯823に取り付けられる。   The buffer material 832 is made of, for example, polyester, non-woven fabric, or the like, and is formed to be thinner than the thickness of the film 815 to be wound. And what has elasticity rather than the double-sided tape 831 is used. The cushioning material 832 may not have an adhesive layer itself, and in this case, is attached to the winding core 823 via the double-sided tape 831.

図22に示すように、緩衝材832の幅W03は5〜30mmの範囲であり、好ましくは8〜18mmの範囲であり、より好ましくは8〜12mmの範囲である。5mm未満であると、巻芯への貼合わせ不良が発生し、30mmを超えると切り口写りを改善することができず、共に好ましくない。なお、緩衝材832の幅W03を巻き芯円周長に基づき決定する場合には、巻き芯円周長の2%以下であることが好ましい。   As shown in FIG. 22, the width W03 of the cushioning material 832 is in the range of 5 to 30 mm, preferably in the range of 8 to 18 mm, and more preferably in the range of 8 to 12 mm. If it is less than 5 mm, poor bonding to the core occurs, and if it is more than 30 mm, it is not possible to improve the appearance of cut edges, which is not preferable. When the width W03 of the cushioning member 832 is determined based on the circumference of the winding core, the width W03 is preferably 2% or less of the circumference of the winding core.

図22に示すように、緩衝材832の厚さt03は使用する緩衝材の数量によって異なる。例えば、図22〜図25及び後述する図27に示すように、緩衝材832、833が1個の場合は、フィルム815の厚さの10〜90%の範囲で、好ましくは25〜75%の範囲、より好ましくは35〜65%の範囲である。緩衝材832の厚さがフィルム815の厚さの10%未満、又は90%を超えると、切り口写り改善効果が減少する。緩衝材841〜844が複数個の場合は、フィルム先端815aに近い緩衝材841〜844から徐々に厚さを薄くしていけばよい。この場合に、各緩衝材841〜844の厚さの差分はフィルム815の厚さの5%以上30%以下に抑えるのが望ましい。   As shown in FIG. 22, the thickness t03 of the cushioning material 832 varies depending on the number of cushioning materials used. For example, as shown in FIGS. 22 to 25 and FIG. 27 to be described later, when there is one cushioning material 832, 833, the thickness of the film 815 is in the range of 10 to 90%, preferably 25 to 75%. Range, more preferably in the range of 35-65%. When the thickness of the cushioning material 832 is less than 10% or more than 90% of the thickness of the film 815, the effect of improving the cut image is reduced. When there are a plurality of buffer members 841 to 844, the thickness may be gradually reduced from the buffer members 841 to 844 near the film front end 815a. In this case, the difference between the thicknesses of the cushioning members 841 to 844 is desirably suppressed to 5% or more and 30% or less of the thickness of the film 815.

なお、図24に示す第2実施形態のように、緩衝材本体833aの少なくとも一方の面に粘着層833bを有する緩衝材833の場合には、両面テープ831を用いることなく、巻き芯823に直接に貼り付けられる。なお、以下の各実施形態において、同一構成部材には同一符号を付して重複した説明を省略している。   In the case of the cushioning material 833 having the adhesive layer 833b on at least one surface of the cushioning material main body 833a as in the second embodiment shown in FIG. 24, the cushioning material 833 is directly attached to the winding core 823 without using the double-sided tape 831. Pasted in. In the following embodiments, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図25、図26は、第3実施形態を示すもので、厚さの異なる2種類の緩衝材841、842をフィルム815の巻取り方向に並べて配置したものである。フィルム815の先端815aに近い第1緩衝材841、先端815aから遠い第2緩衝材842は共に、厚さt12、t22がポリマーフィルム15の厚さt01以下であり、かつt12>t22である。また、第1緩衝材841、第2緩衝材842の幅W12、W22は巻き芯の円周長の0.5〜6.0%の範囲である。   FIGS. 25 and 26 show the third embodiment, in which two types of cushioning materials 841 and 842 having different thicknesses are arranged in the winding direction of the film 815. Both the first buffer material 841 near the leading end 815a of the film 815 and the second buffer material 842 far from the leading end 815a have thicknesses t12 and t22 which are less than or equal to the thickness t01 of the polymer film 15, and t12> t22. The widths W12 and W22 of the first buffer material 841 and the second buffer material 842 are in the range of 0.5 to 6.0% of the circumference of the winding core.

第3実施形態では、第1緩衝材841と第2緩衝材842との厚さt21、t22を二段階で変えているので、第1実施形態のものに比べて段差跡の曲げ変形を二段階の小さなものにすることができ、第1実施形態の一つの緩衝材832のものに比べて、段差跡の発生長さがより短くなる。   In the third embodiment, since the thicknesses t21 and t22 of the first cushioning material 841 and the second cushioning material 842 are changed in two steps, the bending deformation of the step mark is performed in two steps compared to the first embodiment. , And the length of occurrence of the step trace is shorter than that of the one cushioning material 832 of the first embodiment.

第4実施形態では、図25、図26に示す第3実施形態に代えて、図27に示すように、緩衝材本体843a、844aの少なくとも一方の面に粘着層843b、844bを有する緩衝材843、844を用いている。この場合には、両面テープ831を用いることなく、巻き芯823に直接に緩衝材843、844が貼り付けられる。   In the fourth embodiment, instead of the third embodiment shown in FIGS. 25 and 26, as shown in FIG. 27, a cushioning material 843 having adhesive layers 843b and 844b on at least one surface of cushioning material bodies 843a and 844a. , 844. In this case, the cushioning materials 843 and 844 are directly attached to the winding core 823 without using the double-sided tape 831.

なお、各緩衝材841〜844の厚さt12、t22を変える代わりに各緩衝材841〜844の弾性率(ヤング率)を変えたり、各緩衝材841〜844の厚さと一緒に弾性率(ヤング率)を変えたりして、フィルム先端815aから遠ざかる第2緩衝材842、844の圧縮変形量を、第1緩衝材841、843の圧縮変形量よりも大きくしてもよい。この場合には、二つの緩衝材によって、フィルム先端の影響による段差の発生が抑えられ、切り口写りをより一層抑えることができる。   Note that instead of changing the thicknesses t12 and t22 of the cushioning members 841 to 844, the elastic modulus (Young's modulus) of each cushioning member 841 to 844 is changed, or the elastic modulus (Young's modulus) together with the thickness of each of the cushioning members 841 to 844. For example, the amount of compressive deformation of the second cushioning members 842 and 844 moving away from the film leading end 815a may be made larger than the amount of compressive deformation of the first cushioning members 841 and 843. In this case, with the two cushioning materials, the occurrence of a step due to the influence of the leading end of the film is suppressed, and the cut edge image can be further suppressed.

緩衝材832、833、841〜844の弾性率と厚さとの関係は、巻き取るフィルム815の弾性率に応じて変えることが好ましい。例えば、フィルム815の弾性率をEpとし、緩衝材の弾性率をEbとしたとき、Ep≦Ebのときは、ポリマーフィルムの厚さをtp、緩衝材の厚さをtbとしたときに、(tp/2)<tb<tpとする。また、Ep>Ebのときは、tp<tb<2・tpとする。   It is preferable that the relationship between the elastic modulus and the thickness of the cushioning materials 832, 833, 841 to 844 be changed according to the elastic modulus of the film 815 to be wound. For example, when the elastic modulus of the film 815 is Ep and the elastic modulus of the cushioning material is Eb, when Ep ≦ Eb, the thickness of the polymer film is tp, and the thickness of the cushioning material is tb. tp / 2) <tb <tp. When Ep> Eb, tp <tb <2 · tp.

図21、図22に示すように、フィルム先端815aから緩衝材832までの隙間G01は0.1〜20mmの範囲であり、好ましくは0.1〜10mmの範囲であり、より好ましくは0.1〜8mmの範囲である。0.1mm未満ではフィルム815が緩衝材832に重なりやすくなり、20mmを超えると、フィルム先端815aと緩衝材832の間に段差が生じて、切り口写りの原因となり、ともに好ましくない。   As shown in FIGS. 21 and 22, the gap G01 from the film front end 815a to the cushioning material 832 is in the range of 0.1 to 20 mm, preferably in the range of 0.1 to 10 mm, and more preferably in the range of 0.1 to 10 mm. 88 mm. If the thickness is less than 0.1 mm, the film 815 tends to overlap the cushioning material 832.

図23に示すように、フィルム815が巻き芯823に巻き取られて、フィルム先端815aに次のフィルム815が重なると、緩衝材832が次に巻かれたポリマーフィルム815の段差の影響を緩和する。これにより、フィルム815に極端な曲げが発生することがない。以下、同様にして次のフィルムが巻き取られていくが、いずれも緩衝材832の影響によって極端な曲げ変形が発生することがなく、切り口写りの発生が抑えられる。   As shown in FIG. 23, when the film 815 is wound around the winding core 823 and the next film 815 overlaps the film leading end 815a, the buffer material 832 reduces the influence of the step of the polymer film 815 wound next. . Thus, no extreme bending occurs in the film 815. Thereafter, the next film is wound in the same manner, but in any case, no extreme bending deformation occurs due to the influence of the cushioning material 832, and the occurrence of cut edges is suppressed.

両面テープ831の貼り付けや、フィルム先端部の両面テープ831による接着は、人手によってもよく、又はフィルム切断装置を用いてもよい。人手による場合には、巻取り装置813の直前に図示省略のフィルムリザーバを設ける。このフィルムリザーバにより、フィルム815の切断や巻き芯823への固定に要する時間分のフィルム815を一時的に貯留し、この貯留している間にフィルム815の切断及び巻き芯823への巻き付けを行う。また、自動で行う場合には、フィルム切断装置を用いて、ポリマーフィルム815の切断と巻き芯823への固定とを行う。この場合には、巻き芯823上の両面テープ831の位置を自動検出し、この検出タイミングに基づき、フィルム815を切断し、切断したフィルム先端815aが緩衝材832に対して所定の隙間G01となるように、フィルム先端部を第2粘着層831cに接合する。   The attachment of the double-sided tape 831 and the bonding of the leading end of the film with the double-sided tape 831 may be performed manually or by using a film cutting device. In the case of manual operation, a film reservoir (not shown) is provided immediately before the winding device 813. This film reservoir temporarily stores the film 815 for the time required for cutting the film 815 and fixing the film 815 to the core 823, and cuts the film 815 and winds it around the core 823 during the storage. . In the case of automatic operation, the polymer film 815 is cut and fixed to the core 823 using a film cutting device. In this case, the position of the double-sided tape 831 on the winding core 823 is automatically detected, and based on this detection timing, the film 815 is cut, and the cut film tip 815a becomes a predetermined gap G01 with respect to the cushioning material 832. As described above, the leading end of the film is joined to the second adhesive layer 831c.

なお、両面テープ831や緩衝材832、833、841〜844は、あらかじめ巻き芯823に取り付けるようにしたが、フィルム切断装置側で、フィルム切断ドラムに両面テープ831、緩衝材832、833、841〜844を貼り付けておき、フィルム切断ドラムによるフィルム815の切断時にフィルム815とともに、両面テープ831及び緩衝材832、833、841〜844を巻き芯823に取り付けて、フィルム815を巻き取るようにしてもよい。   Although the double-sided tape 831 and the cushioning materials 832, 833, 841 to 844 are attached to the core 823 in advance, the double-sided tape 831 and the cushioning materials 832, 833, 841 to 841 are attached to the film cutting drum on the film cutting device side. When the film 815 is cut by the film cutting drum, the double-sided tape 831 and the cushioning materials 832, 833, 841 to 844 are attached to the winding core 823, and the film 815 is wound. Good.

図25〜図27に示すように、二つの緩衝材841〜844の弾性率や厚さを変える代わりに、図示は省略したが、一つの緩衝材に対しフィルム先端815aに近い側の第1端縁から遠い側の第2端縁にかけて、厚さを次第に小さくしても良い。この場合にも、緩衝材によって次に巻かれるフィルムに、極端な曲げ変形が発生することがなく、切り口写りの発生が抑えられる。   As shown in FIGS. 25 to 27, instead of changing the elastic modulus and thickness of the two cushioning members 841 to 844, the illustration is omitted, but the first end closer to the film front end 815a is provided for one cushioning member. The thickness may be gradually reduced toward the second edge farther from the edge. Also in this case, the film to be wound next by the cushioning material does not undergo extreme bending deformation, and the occurrence of cut-away image is suppressed.

図28に示すように、フィルム幅方向基準線BL1に対するフィルム先端815aの傾斜角度θ1は、−30°<θ1<30°の範囲が好ましく、より好ましく−20°<θ1<20°の範囲であり、更に好ましくは−10°<θ1<10°の範囲である。傾斜角度θ1が0°に近くなるほど、フィルム先端815aにそれ以降に重なるフィルム面圧の影響による応力を小さくすることができ、これによって切り口写りを抑制することができる。このように、フィルム815の先端815aを所定の傾斜角度θ1で切断する場合には、フィルム先端815aの傾斜角度θ1に合わせて、両面テープ831及び緩衝材832、833、841〜844も同じ傾斜角度θ1で巻き芯823に貼り付ける。   As shown in FIG. 28, the inclination angle θ1 of the film front end 815a with respect to the film width direction reference line BL1 is preferably in a range of −30 ° <θ1 <30 °, and more preferably in a range of −20 ° <θ1 <20 °. And more preferably in the range of −10 ° <θ1 <10 °. The closer the inclination angle θ1 is to 0 °, the smaller the stress due to the influence of the surface pressure of the film that subsequently overlaps the film front end 815a can be, thereby reducing the appearance of cut edges. As described above, when the leading end 815a of the film 815 is cut at a predetermined inclination angle θ1, the double-sided tape 831 and the cushioning materials 832, 833, 841 to 844 are also set to the same inclination angle in accordance with the inclination angle θ1 of the film leading end 815a. Attach to the winding core 823 at θ1.

なお、フィルム815の幅は特に限定されるものではないが、600mm以上であることが好ましく、1100〜2500mmの範囲であることがより好ましい。また、フィルム815の幅が2500mmよりも大きい場合にも効果がある。フィルム815の厚さは、10〜200μmの範囲であることが好ましく、10〜150μmの範囲であることがより好ましく、15〜100μmの範囲であることがさらに好ましい。フィルム815の長さは、2000m以上であることが好ましく、2500〜10000mの範囲であることがより好ましい。また、フィルムロールの巻取り半径は、450mm以上であることが好ましく、650〜920mmの範囲であることがより好ましい。   In addition, the width of the film 815 is not particularly limited, but is preferably 600 mm or more, and more preferably 1100 to 2500 mm. Also, the effect is obtained when the width of the film 815 is larger than 2500 mm. The thickness of the film 815 is preferably in the range of 10 to 200 μm, more preferably in the range of 10 to 150 μm, and still more preferably in the range of 15 to 100 μm. The length of the film 815 is preferably 2000 m or more, and more preferably 2500 to 10000 m. Further, the winding radius of the film roll is preferably 450 mm or more, more preferably 650 to 920 mm.

図22に示すように、巻き芯823の筒心方向における両面テープ831の長さL2は特に限定されるものではないが、フィルム815の幅W01を基準にしてL2=(W01−0)mm〜(W01−10)mmが好ましい。   As shown in FIG. 22, the length L2 of the double-sided tape 831 in the direction of the core of the winding core 823 is not particularly limited, but L2 = (W01-0) mm based on the width W01 of the film 815. (W01-10) mm is preferred.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの巻き取りに用いられる巻取コアは、下記式(1)を満たすことが好ましい。   The winding core used for winding the cyclic polyolefin film of the present invention preferably satisfies the following formula (1).

E > 0.06×Aa/I (1)
(E:巻取コアの弾性率[MPa]、A:巻取コアとフィルムとの合計質量[kg]、a:樹脂フィルムの幅[mm]、I:巻取コアの断面2次モーメント[mm])
上記の構成によれば、フィルムを巻取コアにロール状に巻き取る巻取工程において使用する巻取コアが、巻き取るフィルムの幅や巻長に応じて、たわみを抑制できる弾性率を有するものである。このため、長期間放置しても馬の背変形の発生を抑制できるフィルムロールが得られる。したがって、得られたフィルムロールは、馬の背変形によるフィルム同士の貼着が抑制されたフィルムとして使用することができる。
E> 0.06 × Aa 3 / I (1)
(E: elastic modulus of the winding core [MPa], A: total mass of the winding core and the film [kg], a: width of the resin film [mm], I: secondary moment of area of the winding core [mm] 4 ])
According to the above configuration, the winding core used in the winding step of winding the film into a roll on the winding core has an elastic modulus capable of suppressing bending according to the width and length of the film to be wound. It is. For this reason, a film roll that can suppress the occurrence of horse back deformation even when left for a long time is obtained. Therefore, the obtained film roll can be used as a film in which sticking of films due to horse back deformation is suppressed.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムを用いることによって、膜厚が均一であって、馬の背変形による樹脂フィルム同士の貼着が抑制されたフィルムを繰り出して供給できるフィルムロールが得られる。   By using the cyclic polyolefin film of the present invention, it is possible to obtain a film roll having a uniform film thickness and capable of feeding out and supplying a film in which sticking of resin films due to horse back deformation is suppressed.

本発明者は、巻取コアにフィルムを巻き取ったフィルムロールに馬の背変形が発生するのは、巻き取ったフィルムや巻取コアの荷重により、巻取コアがたわむことによるのではないかと推察した。   The present inventor speculated that the back deformation of the horse in the film roll in which the film was wound on the winding core was caused by the bending of the winding core due to the load of the wound film and the winding core. .

そこで、以下、巻取コアのたわみνについて説明する。   Therefore, the deflection ν of the winding core will be described below.

巻取コアのたわみνは、巻取コアが巻取コアの両端が支持されて保持されるので、一般的に、下記式(2)で表される。   The deflection ν of the take-up core is generally represented by the following equation (2) since the take-up core is held while both ends of the take-up core are supported.

ν = 5ωa/384EI (2)
(ν:巻取コアのたわみ[mm]、ω:巻取コアの単位長さあたりの荷重[N/mm]、a:樹脂フィルムの幅[mm]、E:巻取コアの弾性率[MPa]、I:巻取コアの断面2次モーメント[mm])
上記式(2)中、巻取コアの単位長さあたりの荷重ωは、巻取コアにかかる荷重が分布荷重であるので、一般的に、下記式(3)で表される。
ν = 5ωa 4 / 384EI (2)
(Ν: deflection of winding core [mm], ω: load per unit length of winding core [N / mm], a: width of resin film [mm], E: elastic modulus of winding core [MPa] ], I: second moment of area of winding core [mm 4 ])
In the above formula (2), the load ω per unit length of the winding core is generally represented by the following formula (3) since the load applied to the winding core is a distributed load.

ω = P/a (3)
(ω:巻取コアの単位長さあたりの荷重[N/mm]、P:巻取コアの荷重[N]、a:樹脂フィルムの幅[mm])
したがって、巻取コアのたわみνは、下記式(4)で表される。
ω = P / a (3)
(Ω: Load per unit length of winding core [N / mm], P: Load of winding core [N], a: Width of resin film [mm])
Therefore, the bending ν of the winding core is represented by the following equation (4).

ν = 5Pa/384EI (4)
(ν:巻取コアのたわみ[mm]、P:巻取コアの荷重[N]、a:樹脂フィルムの幅[mm]、E:巻取コアの弾性率[MPa]、I:巻取コアの断面2次モーメント[mm])
次に、本発明者は、樹脂フィルムの幅や巻長等に基づく荷重の違いにより、巻取コアのたわみが異なることに着目した。
ν = 5Pa 3 / 384EI (4)
(Ν: deflection of winding core [mm], P: load of winding core [N], a: width of resin film [mm], E: elastic modulus of winding core [MPa], I: winding core Moment of area [mm 4 ])
Next, the inventor paid attention to the fact that the deflection of the winding core is different due to the difference in load based on the width and the winding length of the resin film.

そこで、まず、ここでの巻取コアの荷重Pは、樹脂フィルムを巻き取った状態では、巻取コアと樹脂フィルムとの合計質量Aに相関される値であるので、荷重Pを合計質量Aに置き換えた。そして、馬の背変形の発生を充分に抑制できる条件を鋭意検討した結果、上記式(1)の関係を見いだした。   Therefore, first, the load P of the winding core is a value correlated to the total mass A of the winding core and the resin film in a state where the resin film is wound. Was replaced with Then, as a result of intensive studies on conditions that can sufficiently suppress the occurrence of horse back deformation, the relationship of the above formula (1) was found.

したがって、上記式(1)の関係を満たすことによって、巻取コアの弾性率が、巻き取る樹脂フィルムの幅や巻長等に応じて、たわみを抑制できる弾性率である。このため、樹脂フィルムをロール状に巻取り、長期間放置しても馬の背変形の発生を抑制できる。   Therefore, by satisfying the relationship of the above expression (1), the elastic modulus of the winding core is an elastic modulus that can suppress the bending according to the width and the winding length of the resin film to be wound. Therefore, even if the resin film is wound into a roll and left for a long period of time, occurrence of back deformation of the horse can be suppressed.

また、本実施形態において、巻取コアの弾性率は、上述したように、巻取コアと樹脂フィルムとの合計質量A、樹脂フィルムの幅a、及び巻取コアの断面2次モーメントIによって規定されるので、巻き取る樹脂フィルムの幅や巻長等に主に依存する。このため、巻取コアの弾性率を、巻き取る樹脂フィルムの幅や巻長等に基づいて、馬の背変形の発生を充分に抑制できるように設定できる。よって、巻取コアの製造コストを必要以上にかけることなく、馬の背変形の発生を充分に抑制できるので、好ましい。なお、巻取コアの断面2次モーメントは、一般的に、下記式(5)で表される値である。断面2次モーメントは、下記式(5)から分かるように、巻取コアの形状に依存する値である。   In the present embodiment, the elastic modulus of the winding core is defined by the total mass A of the winding core and the resin film, the width a of the resin film, and the second moment of area I of the winding core, as described above. Therefore, it mainly depends on the width and length of the resin film to be wound. For this reason, the elastic modulus of the winding core can be set based on the width and length of the resin film to be wound so that the back deformation of the horse can be sufficiently suppressed. Therefore, the occurrence of back deformation of the horse can be sufficiently suppressed without unnecessarily increasing the manufacturing cost of the winding core, which is preferable. The second moment of area of the winding core is generally a value represented by the following equation (5). The second moment of area is a value that depends on the shape of the winding core, as can be seen from the following equation (5).

I = (d2−d1)×π/64 (5)
(d1:巻取コアの内径[mm]、d2:巻取コアの外径[mm])
前記巻取コアは、上記範囲内の弾性率を有するものであればよく、特に材質等に限定されない。例えば、樹脂製であってもよいし、金属製であってもよい。その中でも、樹脂と繊維とを含む繊維強化樹脂(FRP)層を備えてなるものが好ましい。繊維強化樹脂層は、繊維によって強化された樹脂層であるので、含有する繊維の強度や含有率等によって、弾性率を容易に調整することができる。よって、巻取コアの弾性率を上記範囲内に容易に調整することができる。このような繊維強化樹脂層を備えてなる巻取コア11としては、例えば、1層の繊維強化樹脂層のみからなるものであってもよいし、異なる繊維強化樹脂層を2層積層したものであってもよいし、異なる繊維強化樹脂層を3層以上積層したものであってもよい。また、繊維強化樹脂層と、繊維を含まない樹脂層を積層したものであってもよい。
I = (d2 4 -d1 4) × π / 64 (5)
(D1: inner diameter of winding core [mm], d2: outer diameter of winding core [mm])
The winding core has only to have an elastic modulus within the above range, and is not particularly limited to a material or the like. For example, it may be made of resin or metal. Among them, those provided with a fiber reinforced resin (FRP) layer containing a resin and a fiber are preferable. Since the fiber reinforced resin layer is a resin layer reinforced with fibers, the elastic modulus can be easily adjusted depending on the strength and content of the contained fibers. Therefore, the elastic modulus of the winding core can be easily adjusted within the above range. The winding core 11 provided with such a fiber reinforced resin layer may be, for example, one composed of only one fiber reinforced resin layer or one obtained by laminating two different fiber reinforced resin layers. It may be one in which three or more different fiber-reinforced resin layers are laminated. Further, a laminate of a fiber reinforced resin layer and a resin layer containing no fiber may be used.

また、前記巻取コアの形状としては、円筒形状であることが好ましい。前記巻取コアの弾性率が上記範囲内であるならば、内部が空洞である円筒形状の方が、軽量化できるので、好ましい。また、前記巻取コアに回転装置に装着しやすい点からも好ましい。前記巻取コアの形状が円筒形状である場合、前記巻取コアの厚さは、巻取コアの弾性率によっても異なるが、例えば、5〜15mmの範囲であることが好ましい。   Further, the shape of the winding core is preferably a cylindrical shape. When the elastic modulus of the winding core is within the above range, a cylindrical shape having a hollow inside is preferable because the weight can be reduced. It is also preferable from the viewpoint that the winding core can be easily mounted on a rotating device. When the shape of the winding core is cylindrical, the thickness of the winding core varies depending on the elastic modulus of the winding core, but is preferably, for example, in the range of 5 to 15 mm.

次に、上記のような繊維強化樹脂層を備えてなる巻取コアの製造方法について説明する。前記巻取コアを製造する方法は、特に限定されないが、例えば、フィラメントワインディング法やシートワインディング法等によって製造できる。フィラメントワインディング法とは、液状の樹脂を含浸したフィラメント状の繊維を所定の型に巻き付け、樹脂を乾燥又は硬化させた後、脱型して、円筒形状の繊維強化樹脂層を形成させる方法である。また、シートワインディング法とは、液状の樹脂を含浸させたシート状の繊維(プリプレグ)を所定の型に巻き付け、樹脂を乾燥又は硬化させた後、脱型して、円筒形状の繊維強化樹脂層を形成させる方法である。より具体的には、以下のような方法である。   Next, a method for manufacturing a wound core including the above-described fiber-reinforced resin layer will be described. The method for producing the winding core is not particularly limited, but it can be produced by, for example, a filament winding method or a sheet winding method. The filament winding method is a method in which a filamentous fiber impregnated with a liquid resin is wound around a predetermined mold, and the resin is dried or cured, and then demolded to form a cylindrical fiber-reinforced resin layer. . The sheet winding method is a method in which a sheet-like fiber (prepreg) impregnated with a liquid resin is wound around a predetermined mold, and the resin is dried or cured. Is formed. More specifically, the following method is used.

図29は、フィラメントワインディング法による巻取コアを製造する方法を説明するための概略図である。まず、型となるマンドレル931を、フィラメントワインダ932に取り付け、樹脂槽933に、繊維強化樹脂層の原料である樹脂を投入しておく。ここでの樹脂は、樹脂溶液又は硬化前の液状の樹脂である。繊維強化樹脂層の原料である繊維は、マンドレル931をフィラメントワインダ932によって回転させることによって、前記繊維を巻きつけたローラー934から順次供給される。そして、前記繊維は、ガイド935によって、巻き付ける位置を決め、マンドレル931に巻き付ける。その際、前記繊維は、マンドレル931に巻き付けられる前に、樹脂槽933の中を通過して、前記樹脂を含浸させる。そうすることによって、樹脂を含浸した繊維がマンドレルの表面上に巻き付けられる。その後、樹脂を乾燥又は硬化させることによって、マンドレル上に繊維強化樹脂層を形成させる。そして、繊維強化樹脂層からマンドレルを引き抜くことによって、目的の成形体を得る。   FIG. 29 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a wound core by a filament winding method. First, the mandrel 931 serving as a mold is attached to the filament winder 932, and the resin that is the raw material of the fiber reinforced resin layer is charged into the resin tank 933. The resin here is a resin solution or a liquid resin before curing. The fiber which is a raw material of the fiber reinforced resin layer is sequentially supplied from a roller 934 around which the fiber is wound by rotating a mandrel 931 by a filament winder 932. Then, the fiber is wound around a mandrel 931 by determining a winding position by a guide 935. At this time, the fiber passes through a resin tank 933 and is impregnated with the resin before being wound around the mandrel 931. By doing so, the resin-impregnated fibers are wrapped around the surface of the mandrel. Then, a fiber-reinforced resin layer is formed on the mandrel by drying or curing the resin. Then, the target molded body is obtained by pulling out the mandrel from the fiber reinforced resin layer.

図30は、シートワインディング法による巻取コアを製造する方法を説明するための概略図である。まず、型であるマンドレル941を、支持ローラー944、945上に載置する。支持ローラー944、945を回転駆動させることによって、マンドレル941を回転させる。その際、タッチローラ943は、マンドレル941の表面を押圧し、マンドレル941の回転によって、従動回転する。そして、型であるマンドレル941を回転させることによって、図30に示すように、フィルムロール(プリプレグ)942をタッチローラ943でマンドレル941に押し付けながら、マンドレル941上に巻き付ける。その後、樹脂を乾燥又は硬化させることによって、マンドレル上に繊維強化樹脂層を形成させる。そして、繊維強化樹脂層からマンドレルを引き抜くことによって、目的の成形体を得る。   FIG. 30 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a take-up core by a sheet winding method. First, the mandrel 941 as a mold is placed on the support rollers 944 and 945. By rotating the support rollers 944 and 945, the mandrel 941 is rotated. At that time, the touch roller 943 presses the surface of the mandrel 941, and is rotated by the rotation of the mandrel 941. Then, by rotating the mandrel 941 as a mold, as shown in FIG. 30, the film roll (prepreg) 942 is wound around the mandrel 941 while being pressed against the mandrel 941 by the touch roller 943. Then, a fiber-reinforced resin layer is formed on the mandrel by drying or curing the resin. Then, the target molded body is obtained by pulling out the mandrel from the fiber reinforced resin layer.

前記繊維としては、例えば、糸、ロービング、織物、不織布、編物、組物、クロス等のいずれの形態の繊維材料であっても用いることができる。また、その素材としては、繊維強化樹脂に一般的に含有される繊維であれば、特に限定なく使用できる。例えば、ガラス繊維、カーボン繊維、アラミド繊維、及びセラミック繊維等が挙げられる。これらの中でも、高弾性率のものが得られる点から、ガラス繊維及びカーボン繊維が好ましく、カーボン繊維がより好ましい。   As the fiber, any type of fiber material such as a thread, a roving, a woven fabric, a nonwoven fabric, a knitted fabric, a braid, and a cloth can be used. Moreover, as the material, any fiber can be used without particular limitation as long as it is a fiber generally contained in a fiber reinforced resin. For example, glass fiber, carbon fiber, aramid fiber, ceramic fiber and the like can be mentioned. Among these, glass fibers and carbon fibers are preferable, and carbon fibers are more preferable, in that a material having a high elastic modulus can be obtained.

また、前記樹脂としては、繊維強化樹脂に一般的に含有される樹脂であれば、特に限定なく使用できる。例えば、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、及びエポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、不飽和ポリエステル樹脂やエポキシ樹脂等の硬化性樹脂が、熱に対して安定した巻取コアが得られる点から好ましい。   Further, as the resin, any resin that is generally contained in a fiber-reinforced resin can be used without particular limitation. For example, a polyester resin, an unsaturated polyester resin, an epoxy resin and the like can be mentioned. Among these, a curable resin such as an unsaturated polyester resin or an epoxy resin is preferable in that a wound core stable to heat can be obtained.

また、繊維強化層を2層以上積層する場合、例えば、異なる繊維強化樹脂層を2層積層する場合、使用する繊維及び樹脂は、各層毎に異なるものを用いてもよいし、同じものを用いてもよい。また、樹脂を含浸した繊維を2種以上巻き付けてから同時に乾燥又は硬化させることによって、2層以上の繊維強化層を形成させてもよいし、樹脂を含浸した繊維を巻き付けて乾燥又は硬化させた後に、別途樹脂を含浸した繊維を巻き付けて乾燥又は硬化させることによって、2層以上の繊維強化層を形成させてもよい。   When two or more fiber reinforced layers are stacked, for example, when two different fiber reinforced resin layers are stacked, different fibers and resins may be used for each layer, or the same fiber may be used. You may. Alternatively, two or more kinds of fibers impregnated with resin may be wound and then dried or cured at the same time to form two or more fiber-reinforced layers, or the fibers impregnated with resin may be wound and dried or cured. Thereafter, two or more fiber-reinforced layers may be formed by winding and drying or curing fibers separately impregnated with a resin.

巻取コアの弾性率の調整方法は、特に限定されないが、巻取コアの材質を代えることによって、調整が可能である。また、繊維強化層を備えた巻取コアの場合、使用する繊維として、カーボン繊維やアラミド繊維等の高強度繊維を用いたり、巻き付け量を多くしたり、繊維含有率を高めたりすることによって、弾性率を高めることができる。また、樹脂によっても、弾性率を調整することができる。さらに、繊維強化樹脂層の表面に繊維を含まない樹脂層を積層したものの場合、表層の樹脂層の樹脂によっても、弾性率を調整することができる。したがって、繊維強化樹脂層や表層の樹脂層の組成を適宜調整することによって、巻取コアの弾性率を上記弾性率範囲に調整することが可能である。   The method of adjusting the elastic modulus of the winding core is not particularly limited, but can be adjusted by changing the material of the winding core. Further, in the case of a winding core having a fiber reinforced layer, as a fiber to be used, a high-strength fiber such as a carbon fiber or an aramid fiber is used, or the winding amount is increased, or by increasing the fiber content, The elastic modulus can be increased. The elastic modulus can also be adjusted by the resin. Furthermore, in the case where a resin layer containing no fiber is laminated on the surface of the fiber reinforced resin layer, the elastic modulus can be adjusted also by the resin of the surface resin layer. Therefore, by appropriately adjusting the composition of the fiber reinforced resin layer and the surface resin layer, it is possible to adjust the elastic modulus of the winding core within the above elastic modulus range.

(6)スリット工程
本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法において、フィルムの片側端部に設置されるスリット装置が、フィルム片側端部当たり1〜3基である製造装置を採用することが、好ましい。
(6) Slit Step In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, it is preferable to employ a production apparatus in which one to three slit devices are provided at one end of the film per one end of the film.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムを製造する製造装置において、フィルムスリット装置が、円盤状の回転上刃と、ロール状の回転下刃とから構成されているのが、好ましい。   In the manufacturing apparatus for manufacturing a cyclic polyolefin film of the present invention, it is preferable that the film slitting device includes a disk-shaped rotating upper blade and a roll-shaped rotating lower blade.

ここで、スリット装置の円盤状の回転上刃は、直径30〜300mmの範囲、及び切断箇所の厚さ0.3〜3mmの範囲を有するとともに、同回転上刃の材質が、超鋼、超鋼微粒、SKD(合金工具鋼)、又はSKH(高速度工具鋼)のいずれかである。また、上刃のトーイン角を30〜90度の範囲にするのが、好ましい。   Here, the disk-shaped rotary blade of the slit device has a diameter of 30 to 300 mm and a thickness of a cut portion of 0.3 to 3 mm, and the material of the rotary blade is made of super steel, super steel. One of steel fine grains, SKD (alloy tool steel) or SKH (high speed tool steel). Further, it is preferable that the toe-in angle of the upper blade is in the range of 30 to 90 degrees.

ロール状の回転下刃は、ロール径75〜200mmの範囲を有するとともに、同回転下刃のロール材質が、超鋼、超鋼微粒、SKD、SKHのいずれかである。   The roll-shaped rotary lower blade has a roll diameter in the range of 75 to 200 mm, and the roll material of the rotary lower blade is any of super steel, super steel fine particles, SKD, and SKH.

当該製造装置においては、フィルムスリット装置が、円盤状の回転上刃のみによって構成されていても良い。この場合、スリット装置の円盤状の回転上刃が、直径30〜300mmの範囲、及び切断箇所の厚さ0.3〜3mmの範囲を有するとともに、同回転上刃の材質が、超鋼、超鋼微粒、SKD、又はSKHのいずれかである。   In the manufacturing apparatus, the film slitting device may be constituted only by a disk-shaped rotating upper blade. In this case, the disk-shaped rotating upper blade of the slit device has a diameter of 30 to 300 mm and a thickness of a cut portion of 0.3 to 3 mm, and the material of the rotating upper blade is made of super steel, super steel. One of steel fine grains, SKD, and SKH.

本発明において、スリッター周辺の温度を20〜50℃の範囲、湿度を50〜70%RHの範囲にするのが、好ましい。   In the present invention, it is preferable that the temperature around the slitter is in the range of 20 to 50 ° C. and the humidity is in the range of 50 to 70% RH.

また、本発明において、上刃の周辺がボックス(Box)化され、かつ風速0.8〜10m/secの範囲で吸引される吸引装置を設けるのが、好ましい。この場合、端部フィルムの吸引位置が、スリッティングポイントからベース搬送方向下流側とする。   Further, in the present invention, it is preferable to provide a suction device in which the periphery of the upper blade is formed as a box and suction is performed at a wind speed of 0.8 to 10 m / sec. In this case, the suction position of the end film is on the downstream side in the base transport direction from the slitting point.

本発明においては、スリットされた端部フィルム(フィルム断片)を、次期断裁工程へ搬送する機構を設けるのが、好ましく、例えば、スリットされた端部フィルムをニップ及び/又は吸引する機構を設けるのが、好ましい。さらに、スリットされた端部フィルムをニップ及び/又は巻取る機構を設けるのが、好ましい。   In the present invention, it is preferable to provide a mechanism for transporting the slit end film (film fragment) to the next trimming step, for example, to provide a mechanism for nip and / or sucking the slit end film. Is preferred. Further, it is preferable to provide a mechanism for nip and / or winding the slit end film.

ここで、ドロー比すなわちニップ及び/又は巻き取るフィルムの速度をスリットされた端部フィルムの速度で割った値を、0.8〜1.5の範囲にするのが、好ましい。   Here, it is preferable that the value obtained by dividing the draw ratio, that is, the speed of the nip and / or winding film by the speed of the slit end film, is in the range of 0.8 to 1.5.

また、吸引圧を−1000〜−100Paの範囲にするのが、好ましい。そして、ニップ圧を0.1〜17MPaの範囲にするのが、好ましい。   Further, it is preferable that the suction pressure is in a range of −1000 to −100 Pa. And it is preferable to make a nip pressure into the range of 0.1-17 MPa.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造においては、スリットされた端部フィルムの幅を20〜150mmの範囲、厚さを30〜150μmの範囲にする。   In the production of the cyclic polyolefin film of the present invention, the width of the slit end film is in the range of 20 to 150 mm, and the thickness is in the range of 30 to 150 μm.

本発明においては、搬送フィルムを、マスキングベースでカバーした後にスリットする方法もある。   In the present invention, there is also a method in which the transport film is slit after being covered with a masking base.

マスキングベースの素材としては、フィルムを保護することができるものであれば、特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレン(PE)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルムなどが挙げられる。   The material of the masking base is not particularly limited as long as it can protect the film, and examples thereof include a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene (PE) film, and a polypropylene (PP) film.

また、スリットされた端部フィルムの帯電量を、0〜±10kVの範囲にするのが、好ましい。このため、上刃周辺には、除電装置を設けるのが、好ましく、除電装置としては、例えば除電バー、除電ブロワー、除電糸のいずれかを使用する。   Further, it is preferable that the charge amount of the slit end film is in the range of 0 to ± 10 kV. For this reason, it is preferable to provide a static eliminator around the upper blade. As the static eliminator, for example, any one of a static elimination bar, a static elimination blower, and a static elimination thread is used.

スリットされた端部フィルム(フィルム断片)は、エッジクリーナーで処理するのが、好ましい。   The slit end film (film fragment) is preferably treated with an edge cleaner.

また、スリット後の製品フィルムは、その端部をウェブクリーナーで処理し、切り粉を除去するのが、好ましい。   In addition, it is preferable that the end of the product film after slitting is treated with a web cleaner to remove chips.

本発明の製造方法では、形成されたフィルムを加熱部で加熱する加熱工程をとることも好ましい。   In the production method of the present invention, it is also preferable to take a heating step of heating the formed film by a heating unit.

この加熱工程では、最初に、インライン膜厚計でフィルムの膜厚を計測する。これにより、例えば、幅手方向両端が内側に比べて厚く形成された膜厚が計測される。なお、このように幅手方向両端の膜厚が厚くなるのは、樹脂をTダイのスリットから押し出す際に、樹脂に幅手中心方向へ引っ張る力が作用することに起因する、いわゆるネックイン現象によるものである。   In this heating step, first, the film thickness of the film is measured by an in-line film thickness meter. Thereby, for example, the film thickness in which both ends in the width direction are formed thicker than the inside is measured. The reason why the film thickness at both ends in the width direction increases as described above is that a so-called neck-in phenomenon is caused by a force acting on the resin in the width direction when the resin is extruded from the slit of the T-die. It is due to.

そして、膜厚の計測されたフィルムをヒートガンで加熱する。このとき、制御部により、膜厚の計測結果に基づいてフィルムの幅手方向両端から全幅の10%の幅の範囲における平均膜厚tが算出され、この範囲内であって平均膜厚t以下の膜厚となるフィルム部分Hの少なくとも一部を加熱するようヒートガンがセットされることが好ましい。同時に、加熱されるフィルム部分Hの少なくとも一部の温度Tが、80≦T≦Tg+50[℃](Tg:樹脂のガラス転移温度[℃])となるようにヒートガンの出力が調整される。   Then, the film whose thickness has been measured is heated by a heat gun. At this time, the control unit calculates an average film thickness t in a range of 10% of the entire width from both ends in the width direction of the film based on the measurement result of the film thickness. It is preferable that a heat gun is set so as to heat at least a part of the film portion H having a thickness of. At the same time, the output of the heat gun is adjusted so that the temperature T of at least a part of the heated film portion H satisfies 80 ≦ T ≦ Tg + 50 [° C.] (Tg: glass transition temperature of resin [° C.]).

この加熱は、フィルムの両端に生じる応力を熱変形により緩和するためのものである。詳細に説明すると、上述のネックイン現象によって膜厚が厚く形成されたフィルムの両端には、複数のローラーでの搬送時に搬送張力が集中する結果、フィルムを幅手中心方向に引っ張る力(フィルムの幅を狭める力)が作用して応力が生じる。上記の加熱は、この応力を緩和するためのものである。これにより、この応力に起因する長手方向(搬送方向)の縦シワや、目視では確認できない微小な歪の発生を抑制することができる。この効果は、上記の応力発生要因から、未延伸状態のフィルムを長く搬送する工程において、より顕著に作用する。   This heating is for relaxing the stress generated at both ends of the film by thermal deformation. More specifically, the transport tension is concentrated on both ends of the film having a large film thickness formed by the above-described neck-in phenomenon when the film is transported by a plurality of rollers. The force that reduces the width) acts to generate stress. The above-mentioned heating is for relaxing this stress. Accordingly, it is possible to suppress the occurrence of vertical wrinkles in the longitudinal direction (transport direction) and minute distortion that cannot be visually confirmed due to the stress. This effect acts more remarkably in the step of transporting the unstretched film for a long time due to the above-mentioned factors of generating stress.

また、この加熱は、スリット工程以外にも、延伸工程の前に行うことで上記の縦シワや歪の発生を効果的に抑制することができるため好ましい。これは、延伸工程におけるフィルムの長手方向への延伸によって縦シワや歪が強調されるためである。更には、この加熱は、冷却ローラーよる樹脂の冷却固化の直後に行うことが望ましい。   In addition, this heating is preferably performed before the stretching step in addition to the slitting step, because the occurrence of the above-described vertical wrinkles and distortion can be effectively suppressed. This is because longitudinal wrinkles and distortions are emphasized by stretching in the longitudinal direction of the film in the stretching step. Furthermore, this heating is desirably performed immediately after the resin is cooled and solidified by the cooling roller.

また、この加熱によるフィルムの温度Tは、80℃未満であると、フィルムFの熱変形が少なく、応力を緩和する効果が不十分であり、Tg+50℃よりも高いと、フィルムFの加熱箇所が溶融して、フィルムがローラーに付着したり搬送方向に破断したりする恐れがある。したがって、この温度Tを80≦T≦Tg+50[℃]とすることで、加熱箇所の溶融を防止しつつフィルムを十分に熱変形させることができる。ただし、この温度Tは、80≦T≦Tg+30[℃]であるのがより好ましく、100≦T≦Tg+10[℃]であるのが更に好ましい。   Further, if the temperature T of the film by this heating is less than 80 ° C., the thermal deformation of the film F is small, and the effect of relaxing the stress is insufficient. There is a possibility that the film is melted and adheres to the roller or breaks in the transport direction. Therefore, by setting the temperature T to 80 ≦ T ≦ Tg + 50 [° C.], the film can be sufficiently thermally deformed while preventing melting of a heated portion. However, the temperature T is more preferably 80 ≦ T ≦ Tg + 30 [° C.], and even more preferably 100 ≦ T ≦ Tg + 10 [° C.].

次に、加熱されたフィルム部分Hの少なくとも一部を切断して除去する(切断工程)。   Next, at least a part of the heated film portion H is cut and removed (cutting step).

より詳しくは、フィルム部分Hのうちの加熱された部分からフィルムの最端部までを、加熱部のロータリーカッターでフィルムの長手方向に切断することによって除去する。この切断工程でフィルムの両端部を除去することにより、以降の搬送による当該両端部での応力の発生を防止できることから、縦シワや歪の発生をより確実に抑制することができる。なお、この切断工程では、フィルム部分Hのうちの加熱された部分のみを除去してもよいし、フィルム部分H全体を除去してもよい。また、この切断工程を行わなくともよい。   More specifically, the portion from the heated portion of the film portion H to the end of the film is removed by cutting the film in the longitudinal direction of the film with a rotary cutter of the heating portion. By removing both end portions of the film in this cutting step, it is possible to prevent the occurrence of stress at the both end portions due to subsequent conveyance, so that the occurrence of vertical wrinkles and distortion can be suppressed more reliably. In the cutting step, only the heated portion of the film portion H may be removed, or the entire film portion H may be removed. Further, the cutting step may not be performed.

次に、成形され加熱されたフィルムを縦延伸機で長手方向に延伸する(延伸工程)。   Next, the formed and heated film is stretched in the longitudinal direction by a longitudinal stretching machine (stretching step).

この延伸工程では、IRヒーターでフィルムFを加熱しつつ、順番に徐々に周速が早くなるよう駆動された複数のローラーでフィルムを搬送することにより、当該フィルムを長手方向(搬送方向)へ延伸する。このとき、IRヒーターによってフィルムが加熱されるローラー間で最も周速の差が大きくなるように、ローラーが駆動される。   In this stretching step, the film is stretched in the longitudinal direction (the transport direction) by heating the film F with the IR heater and transporting the film by a plurality of rollers driven in such a manner that the peripheral speed is gradually increased in order. I do. At this time, the rollers are driven such that the difference in the peripheral speed between the rollers whose films are heated by the IR heater is the largest.

次に、延伸されたフィルムを、巻取り部のワインダーで巻き取る。   Next, the stretched film is wound up by a winder in a winding section.

以上の製造方法によれば、長手方向へ延伸される前のフィルムに対し、当該フィルムの幅手方向両端から所定の範囲内の少なくとも一部を加熱するので、長手方向の縦シワや歪が延伸によって強調される前に、幅手方向内側よりも強い搬送張力が作用している部分を熱変形させて、縦シワや歪の原因となる応力を効果的に緩和させることができる。   According to the above manufacturing method, the film before being stretched in the longitudinal direction is heated at least partially within a predetermined range from both ends in the width direction of the film, so that longitudinal wrinkles and strain in the longitudinal direction are stretched. Before emphasizing, the part where the transport tension is stronger than the inner side in the width direction is thermally deformed, so that the stress causing vertical wrinkles and distortion can be effectively reduced.

この際、フィルムの幅手方向両端から全幅の10%の幅の範囲内の少なくとも一部だけを加熱するので、フィルム全体が加熱されて搬送張力による不要な延伸や光学特性の変化を生じさせたり、上記範囲外のフィルム内側に縦シワや歪が生じて完成品である環状ポリオレフィンフィルムの有効幅を減らしたりすることがない。   At this time, since at least a part of the film is heated at least partially within a range of 10% of the entire width from both ends in the width direction of the film, the entire film is heated, and unnecessary stretching or change in optical characteristics due to transport tension may occur. In addition, vertical wrinkles and distortion are not generated inside the film outside the above range, and the effective width of the finished cyclic polyolefin film is not reduced.

また、上記範囲の平均膜厚t以下の膜厚となるフィルム部分Hの少なくとも一部だけを加熱するので、つまりは、最も厚く形成されて最も強く搬送張力が作用するフィルムFの最端部は加熱しない。これにより、当該最端部が加熱されてフィルムFが部分的に延伸することによる当該フィルムFの破断を防止することができる。   Further, since only at least a part of the film portion H having a film thickness equal to or less than the average film thickness t in the above range is heated, that is, the outermost portion of the film F which is formed thickest and has the strongest transport tension is applied. Do not heat. Thereby, it is possible to prevent the film F from being broken due to the extreme end being heated and the film F being partially stretched.

また、上記フィルム部分Hの少なくとも一部を80≦T≦Tg+50[℃](Tg:環状ポリオレフィン系樹脂Rのガラス転移温度[℃])を満たす温度Tに加熱するので、加熱箇所の溶融を防止しつつ十分に熱変形させて、縦シワや歪の原因となる応力を確実に緩和させることができる。   Further, since at least a part of the film portion H is heated to a temperature T satisfying 80 ≦ T ≦ Tg + 50 [° C.] (Tg: glass transition temperature [° C.] of the cyclic polyolefin resin R), melting of the heated portion is prevented. In this way, it is possible to sufficiently reduce the stress that causes vertical wrinkles and distortion by performing thermal deformation sufficiently.

以上により、長手方向の縦シワや歪の発生を抑制することができる。   As described above, generation of longitudinal wrinkles and distortion in the longitudinal direction can be suppressed.

また、延伸工程においてフィルムを長手方向(搬送方向)のみに延伸することとしたが、縦延伸機の後流にテンターを設け、当該テンターによりフィルムを幅手方向に延伸することとしてもよい。   In the stretching step, the film is stretched only in the longitudinal direction (transport direction). However, a tenter may be provided downstream of the longitudinal stretching machine, and the tenter may be used to stretch the film in the width direction.

また、インライン膜厚計は、接触式と非接触式とのいずれの形式であってもよいが、ライン中での計測が容易な点から、レーザーやX線を利用した非接触式のものとするのが好ましい。   In addition, the in-line film thickness meter may be either a contact type or a non-contact type. However, a non-contact type using a laser or an X-ray is preferable because of easy measurement in a line. Is preferred.

また、前記ヒートガンは、フィルムを熱風で加熱するものでなくともよく、ヒートローラ等の接触しながら加熱するものや、IRヒーター等の照射により加熱するものであってもよい。   Further, the heat gun does not need to heat the film with hot air, but may heat the film while being in contact with a heat roller or the like, or may heat the film by irradiation with an IR heater or the like.

また、ロータリーカッターは、回転式のものでなくともよく、片刃のカッター等の固定式のものとしてもよい。   Further, the rotary cutter need not be a rotary cutter but may be a fixed cutter such as a single-edged cutter.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法では、スリット工程において、好ましくは、レーザー加工工程(レーザー光を照射してフィルムを加工する工程、以下単にレーザー加工と称する場合もある。)を採用することで、切断部溶融、切断部外観不良などのフィルムへのダメージが少なく、またレーザー強度が多少変動しても、切断部の形状が乱れることがない。また、フィルムの幅方向両端部に凹凸を形成する工程を、従来の凹凸を形成したエンボスローラーで加工する工程の替わりに、レーザー照射により加工する工程とすることもでき、所定の凹凸形状を良好に形成することができる。また、フィルムの膜厚仕様が変わっても、従来のようにフィルム膜厚に対応したエンボスローラーに取り替える必要が無く、過剰なレーザー強度を不要とし凹凸部分の損傷などのフィルムへのダメージが少なく、またレーザー光の強度を調節することにより、容易に適切なエンボス加工を行うことができるので、フィルムの生産性に優れている。また、レーザー光の照射位置を可変として、フィルム幅に応じてエンボス部を所定箇所に形成するのが好ましい。このように、レーザー光の照射位置を可変とすることで、フィルムの幅手方向の端部又は中央部のいずれにも、エンボス部の凹凸を容易に形成することが可能となり、これまでのエンボス加工時に、押圧用のエンボスローラーをバックローラーに接圧させたことにより生じたフィルム表面の微小なシワ・キズ等の故障が皆無となって、フィルムの表面性を飛躍的に向上し得る。   In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, in the slitting step, preferably, a laser processing step (a step of irradiating a laser beam to process the film, sometimes simply referred to as laser processing hereinafter) is employed. There is little damage to the film, such as melting of the cut portion and poor appearance of the cut portion, and the shape of the cut portion is not disturbed even if the laser intensity fluctuates somewhat. In addition, the step of forming irregularities at both ends in the width direction of the film may be a step of processing by laser irradiation instead of the step of processing with a conventional embossed roller having formed irregularities, so that the predetermined irregular shape can be improved. Can be formed. Also, even if the film thickness specification changes, there is no need to replace it with an embossing roller corresponding to the film thickness as in the past, excessive laser intensity is unnecessary, and damage to the film such as damage to uneven parts is small, In addition, by adjusting the intensity of the laser beam, appropriate embossing can be easily performed, so that the film is excellent in productivity. Further, it is preferable that the irradiation position of the laser beam is made variable and the embossed portion is formed at a predetermined position according to the film width. Thus, by making the irradiation position of the laser beam variable, it is possible to easily form the unevenness of the embossed portion at either the end portion or the center portion in the width direction of the film, and it is possible to form the embossed portion so far. At the time of processing, there is no failure such as minute wrinkles or scratches on the film surface caused by pressing the embossing roller for pressing against the back roller, and the surface property of the film can be dramatically improved.

また、レーザー加工工程は、上記のように切断加工やエンボス加工に限定するものではなく、フィルムの製造工程中で行われるレーザー加工であれば良く、例えば、搬送性を上げるためにフィルム端部の表面を粗面化する加工や溝、凹凸を設ける加工などのレーザー加工であっても良い。   Further, the laser processing step is not limited to cutting and embossing as described above, and may be laser processing performed during the film manufacturing process. Laser processing such as processing for roughening the surface or processing for providing grooves and irregularities may be used.

また、本発明において、レーザー加工工程におけるレーザー光が遠赤外線領域の光である場合は、フィルムに含有している化合物は、4〜25μmの波長領域の光を吸収する化合物である。例えば、レーザー光がCOレーザーである場合は、レーザー光の波長が9.3〜10.6μmであるので、この範囲の波長を吸収する化合物が好ましい。 Further, in the present invention, when the laser light in the laser processing step is light in the far infrared region, the compound contained in the film is a compound that absorbs light in the wavelength region of 4 to 25 μm. For example, when the laser light is a CO 2 laser, the wavelength of the laser light is 9.3 to 10.6 μm, and therefore, a compound absorbing a wavelength in this range is preferable.

また、本発明において、レーザー加工工程におけるレーザー光が紫外線領域のUV光である場合は、フィルムに含有、又は、フィルム表面に塗布されている化合物は、0.2〜0.4μmの波長領域の光を吸収する化合物である。例えば、UVレーザーとしては、KrFエキシマレーザー(波長0.248μm)、YAG−FHGレーザー(波長0.266μm)、YAG−THGレーザー(波長0.355μm)などがあり、上記化合物は、それぞれの波長を吸収する化合物が好ましい。   Further, in the present invention, when the laser light in the laser processing step is UV light in the ultraviolet region, the compound contained in the film, or the compound applied to the film surface, the wavelength range of 0.2 to 0.4 μm. It is a compound that absorbs light. For example, as a UV laser, there are a KrF excimer laser (wavelength 0.248 μm), a YAG-FHG laser (wavelength 0.266 μm), a YAG-THG laser (wavelength 0.355 μm), and the like. Absorbing compounds are preferred.

また、本発明において、レーザー加工工程の前に、フィルムの表面のレーザー光を照射する部分に、レーザー光の波長を吸収する化合物を含有させるのが好ましい。   Further, in the present invention, before the laser processing step, it is preferable that a portion of the film surface to be irradiated with the laser beam contains a compound absorbing the wavelength of the laser beam.

含有させる方法としては塗布、噴射などがあるが、それ以外の方法であってもよく、含有させる手段が特に限定されるものではない。   Examples of the method for containing the component include application and spraying, but other methods may be used, and the means for containing the component is not particularly limited.

レーザー照射部分に前記化合物を、例えば塗布することにより、化合物の使用量を少なくすることができるとともに、レーザー照射部分以外のフィルムの領域の物性(色変化や透明性など)に、前記化合物による影響を与えることがない。フィルムの表面に化合物を塗布する方法は、特に限定するものではなく、必要な膜厚の化合物を含む層を形成できれば良く、インクジェット方式やローラー塗布方式などを用いることができる。   By applying the compound to the laser-irradiated portion, for example, the amount of the compound used can be reduced, and the physical properties (color change, transparency, etc.) of the film area other than the laser-irradiated portion are affected by the compound. Never give. The method for applying the compound to the surface of the film is not particularly limited as long as a layer containing the compound having a required thickness can be formed, and an ink jet method, a roller coating method, or the like can be used.

ところで、レーザー光とは、「誘導放出による光の増幅」(Light Amplif
ication by Stimulated Emission of Radiatio
n)という意味で、発振波長によって、上記COレーザー光やUVレーザー光に分類される。
By the way, laser light means “amplification of light by stimulated emission” (Light Amplif).
Iteration by Stimulated Emission of Radiatio
In the meaning of n), the laser light is classified into the CO 2 laser light and the UV laser light according to the oscillation wavelength.

また、本発明では、フィルムの両端部にエンボス又はスリット目加工を施したテープ982を巻き付けて巻き取るようにすることも好ましい。   Further, in the present invention, it is also preferable to wind and wind a tape 982 having an embossed or slitted surface at both ends of the film.

図31(A)は、フィルムの両端部にエンボス又はスリット目加工を施したテープ982を巻き付けて巻き取ったフィルムロール942を正面から見た図である。また、図31(B)は、図31(A)の丸く囲んだ部分Aの断面を拡大して示した図である。   FIG. 31A is a front view of a film roll 942 wound around a tape 982 on which embossed or slitted processing is wound on both ends of the film. FIG. 31 (B) is an enlarged view of a cross section of a portion A surrounded by a circle in FIG. 31 (A).

通常、フィルムが巻取り軸934に巻き取られる際は、基材Boの両端部にエンボス又はスリット目加工を施したテープ982を巻き付けて巻き取っていない。したがって、フィルムに付着した塵埃や巻きズレによりフィルムに傷などのダメージが与えられてしまうという問題があった。   Normally, when the film is wound around the winding shaft 934, the tape 982 having an embossed or slitted surface wound around both ends of the substrate Bo is not wound. Therefore, there is a problem that the film is damaged such as a scratch due to dust or winding deviation attached to the film.

本発明のように、フィルムoの両端部にエンボス又はスリット目加工を施したテープ982を巻き付けて巻き取るようにすることで、塵埃や巻きズレによりフィルムに傷などのダメージが与えられるのを防止することができる。   As in the present invention, by winding and winding the tape 982 embossed or slitted at both ends of the film o, it is possible to prevent the film from being damaged due to dust or misalignment. can do.

図32は、テープ982を拡大して示したものであり、図32(A)は、エンボス加工が施されたテープの表面と、フィルムBoとフィルムBoの間にそのテープ982を挟んだときの断面と、を示したものであり、図32(B)は、スリット目加工が施されたテープの表面と、フィルムBoとフィルムBoの間にそのテープ982を挟んだときの断面と、を示したものである。   FIG. 32 is an enlarged view of the tape 982, and FIG. 32 (A) shows the tape 982 when the tape 982 is sandwiched between the surface of the embossed tape and the film Bo. FIG. 32 (B) shows the surface of the tape subjected to the slit processing and the cross section when the tape 982 is sandwiched between the films Bo. It is a thing.

フィルムBoの両端部に図32のようなエンボス又はスリット目加工を施したテープ982を巻き付けて巻き取ることで、エンボス又はスリット目加工を施したテープ982をエアーが通ることができ、フィルムロール942として巻き取られたフィルムBoの中央部にエアーが入出することができる。したがって、ロールとして巻き取られたフィルムBoの中央部へエアーの出入りができるので、クニック(折れ曲がり、押し跡)やシワが発生するのを防止することができる。   By winding and winding an embossed or slitted tape 982 as shown in FIG. 32 around both ends of the film Bo, air can pass through the embossed or slitted tape 982, and the film roll 942. As a result, air can flow into and out of the central portion of the film Bo wound up. Therefore, air can flow into and out of the center of the film Bo wound up as a roll, so that knicks (bends, push marks) and wrinkles can be prevented.

ここで、テープ982の厚さXは50μm以上であることが好ましく、エンボス又はスリット目加工の深さxがテープの厚さの20〜50%の範囲であることが好ましい。   Here, the thickness X of the tape 982 is preferably 50 μm or more, and the embossing or slitting depth x is preferably in the range of 20 to 50% of the thickness of the tape.

なお、テープの厚さXが50μm未満であると、テープ982のエンボス又はスリット目加工が巻圧で潰されてしまう。そして、エンボス又はスリット目加工の深さxがテープの厚さXの20%未満であると、テープのエンボス又はスリット目加工が巻圧で潰されてしまい、フィルムロール942として巻き取られたフィルムBoの中央部にエアーが入出することができなくなる。また、エンボス又はスリット目加工の深さxがテープの厚さXの50%よりも大きいと、エンボス又はスリット目加工された部分の強度が弱く、巻圧によって加工した形状が潰されてしまう。   If the thickness X of the tape is less than 50 μm, the embossing or slit processing of the tape 982 will be crushed by the winding pressure. When the depth x of the embossing or slitting is less than 20% of the thickness X of the tape, the embossing or slitting of the tape is crushed by the winding pressure, and the film wound as the film roll 942 is formed. Air cannot enter or exit the center of Bo. If the depth x of the embossed or slitted portion is larger than 50% of the thickness X of the tape, the strength of the embossed or slitted portion is weak, and the shape processed by the winding pressure is crushed.

このように、エンボス又はスリット目加工を施したテープ982を巻き付けて巻き取ることで、塵埃などで膜面やフィルムにダメージが与えられることを防止し、且つ、クニックやシワが発生することを防止することができる。   In this manner, by winding and winding the tape 982 having been subjected to embossing or slit processing, it is possible to prevent the film surface and the film from being damaged by dust and the like, and to prevent the occurrence of knicks and wrinkles. can do.

本発明に用いられるフィルムスリット装置は、円盤状の回転上刃と、ロール状の回転下刃とから構成されているのが、好ましい。   It is preferable that the film slitting device used in the present invention includes a disk-shaped rotating upper blade and a roll-shaped rotating lower blade.

ここで、スリット装置の円盤状の回転上刃は、直径30〜300mm、及び切断箇所の厚さ0.3〜3mmを有するとともに、同回転上刃の材質が、超鋼、超鋼微粒、SKD(合金工具鋼)、又はSKH(高速度工具鋼)のいずれかであることが好ましい。また、上刃のトーイン角を30〜90度にするのが好ましい。   Here, the disk-shaped rotary blade of the slit device has a diameter of 30 to 300 mm and a thickness of a cut portion of 0.3 to 3 mm, and the material of the rotary blade is super steel, super steel fine particles, SKD. (Alloy tool steel) or SKH (high-speed tool steel). Further, the toe-in angle of the upper blade is preferably set to 30 to 90 degrees.

ロール状の回転下刃は、ロール径75〜200mmを有するとともに、同回転下刃のロール材質が、超鋼、超鋼微粒、SKD、SKHのいずれかであることが好ましい。   The roll-shaped rotary lower blade preferably has a roll diameter of 75 to 200 mm, and the roll material of the rotary lower blade is preferably any of super steel, super steel fine particles, SKD, and SKH.

本発明に用いられるフィルムスリット装置は、円盤状の回転上刃のみによって構成されていても良い。この場合、スリット装置の円盤状の回転上刃が、直径30〜300mm、及び切断箇所の厚さ0.3〜3mmを有するとともに、同回転上刃の材質が、超鋼、超鋼微粒、SKD、又はSKHのいずれかであることが好ましい。   The film slitting device used in the present invention may be constituted only by a disk-shaped rotating upper blade. In this case, the disk-shaped rotary upper blade of the slit device has a diameter of 30 to 300 mm and a thickness of a cut portion of 0.3 to 3 mm, and the material of the rotary upper blade is super steel, super steel fine particles, SKD. Or SKH.

本発明において、スリッター周辺の温度を20〜50℃、湿度を50〜70%RHにするのが、好ましい。   In the present invention, it is preferable that the temperature around the slitter is 20 to 50 ° C. and the humidity is 50 to 70% RH.

また、本発明において、上刃の周辺がボックス(Box)化され、かつ風速0.8〜10m/secの範囲で吸引される吸引装置を設けるのが、好ましい。この場合、端部フィルムの吸引位置が、スリッティングポイントからベース搬送方向下流側とする。   Further, in the present invention, it is preferable to provide a suction device in which the periphery of the upper blade is formed as a box and suction is performed at a wind speed of 0.8 to 10 m / sec. In this case, the suction position of the end film is on the downstream side in the base transport direction from the slitting point.

本発明においては、スリットされた端部フィルム(フィルム断片)を、次期断裁工程へ搬送する機構を設けるのが、好ましく、例えば、スリットされた端部フィルムをニップ及び/又は吸引する機構を設けるのが、好ましい。   In the present invention, it is preferable to provide a mechanism for transporting the slit end film (film fragment) to the next trimming step, for example, to provide a mechanism for nip and / or sucking the slit end film. Is preferred.

さらに、スリットされた端部フィルムをニップ及び/又は巻取る機構を設けるのが、好ましい。   Further, it is preferable to provide a mechanism for nip and / or winding the slit end film.

ここで、ドロー比すなわちニップ及び/又は巻き取るフィルムの速度をスリットされた端部フィルムの速度で割った値を、0.8〜1.5にするのが、好ましい。   Here, the value obtained by dividing the draw ratio, that is, the speed of the nip and / or the film to be wound, by the speed of the slit end film is preferably 0.8 to 1.5.

また、吸引圧を−1000〜−100Paにするのが、好ましい。そして、ニップ圧を0.1〜17MPaにするのが、好ましい。   Further, it is preferable to set the suction pressure to -1000 to -100 Pa. And it is preferable to make a nip pressure into 0.1-17 MPa.

(7)エンボス加工(ナーリング加工)工程
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、フィルムの幅手方向の両端にエンボス領域を有するものであることが好ましい。エンボスは各エンボス領域において、搬送方向について略平行に凸列を1列以上で有している。凸列とは、凸領域が搬送方向において間欠的又は連続的に形成されたものである。本明細書中、凸領域が搬送方向において間欠的に形成された凸列を間欠的凸列と呼ぶものとし、凸領域が搬送方向において連続的に形成された凸列を連続的凸列と呼ぶものとする。凸列が間欠的凸列である場合、当該凸列を間欠的に構成する個々の凸領域を凸領域ユニットと呼ぶものとする。
(7) Embossing (knurling) step The cyclic polyolefin film of the present invention preferably has embossed regions at both ends in the width direction of the film. The emboss has, in each emboss region, one or more convex rows substantially parallel to the transport direction. The convex rows are formed by forming convex areas intermittently or continuously in the transport direction. In this specification, a convex row in which a convex region is formed intermittently in the transport direction is referred to as an intermittent convex row, and a convex row in which the convex region is formed continuously in the transport direction is referred to as a continuous convex row. Shall be. When the convex array is an intermittent convex array, each individual convex region that intermittently configures the convex array is referred to as a convex region unit.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムが有する幅手方向両端のエンボス領域はそれぞれ独立して、以下に示す(I)又は(II)の要件を満たすものであることが好ましい。すなわち、両端のエンボス領域は共通して(I)の要件を満たしてもよいし、(II)の要件を満たしてもよいし、又は一端のエンボス領域が(I)の要件を満たし、かつ他端のエンボス領域が(II)の要件を満たしてもよい。両端のエンボス領域が共通して(I)の要件を満たすか、又は(II)の要件を満たす場合、両端のエンボス領域は、幅手方向の中央線について対称性を有してもよいし、又は所定の範囲内において互いに異なっていてもよい。両端のエンボス領域は好ましくは、共通して(I)の要件を満たすか、又は(II)の要件を満たし、かつ幅手方向の中央線について対称性を有する。以下、(I)及び(II)の要件について詳しく説明するが、これらの要件についての説明は一端分のエンボス領域を対象とするものである。本明細書中、フィルム面に対して垂直方向から見たとき、エンボス領域が有する凸領域のパターン形状をエンボスパターンということがある。   The embossed regions at both ends in the width direction of the cyclic polyolefin film of the present invention preferably independently satisfy the following requirements (I) or (II). That is, the embossed regions at both ends may satisfy the requirement of (I), may satisfy the requirement of (II), or the embossed region at one end may satisfy the requirement of (I), and The edge embossed area may satisfy the requirement of (II). When the embossed regions at both ends satisfy the requirement of (I) or satisfy the requirement of (II) in common, the embossed regions at both ends may have symmetry about the center line in the width direction, Alternatively, they may be different from each other within a predetermined range. The embossed regions at both ends preferably satisfy the requirement (I) or the requirement (II) in common, and have symmetry about the center line in the width direction. Hereinafter, the requirements of (I) and (II) will be described in detail, but the description of these requirements is directed to the embossed area at one end. In this specification, when viewed from a direction perpendicular to the film surface, a pattern shape of a convex region included in an emboss region may be referred to as an emboss pattern.

(I)エンボス領域が間欠的凸列のみを2列以上で有する場合、巻き込みエアーの抜けを阻害するように、各間欠的凸列の凸領域ユニットの配置を、搬送方向で隣り合う任意の二つの凸領域ユニット間及び幅手方向で隣り合う任意の2列の凸列間について制御する。   (I) When the embossed region has only two or more intermittent convex rows, the arrangement of the protruding area units of each intermittent convex row may be changed to any two adjacent ones in the transport direction so as to prevent the escape of entrained air. The control is performed between two convex area units and between any two adjacent convex rows in the width direction.

要件(I)においてエンボス領域は間欠的凸列を好ましくは2〜7列、より好ましくは3〜5列で有する。具体的には、例えば図33(A)においてフィルムは、幅手方向一端におけるエンボス領域A10において、搬送方向(MD方向)について平行に間欠的凸列A1を3列で有している。凸列がこのように間欠的凸列である場合、当該間欠的凸列を構成する個々の凸領域を凸領域ユニットと呼ぶものとし、図33(A)中、A2で示すものとする。全ての間欠的凸列A1における全ての凸領域ユニットA2は通常、同じ寸法を有し、かつ一定の間隔で搬送方向に繰り返し形成される。   In the requirement (I), the embossed region preferably has intermittent convex rows in 2 to 7 rows, more preferably 3 to 5 rows. More specifically, for example, in FIG. 33A, the film has three intermittent convex rows A1 in the emboss area A10 at one end in the width direction in parallel with the transport direction (MD direction). When the convex array is an intermittent convex array as described above, each of the convex regions constituting the intermittent convex array is referred to as a convex area unit, and is indicated by A2 in FIG. All the convex area units A2 in all the intermittent convex rows A1 usually have the same dimensions and are formed repeatedly at regular intervals in the transport direction.

要件(I)では、まず、凸領域ユニットの配置を、搬送方向で隣り合う任意の二つの凸領域ユニット間において制御する。詳しくは、各間欠的凸列A1において搬送方向で隣り合う任意の二つの凸領域ユニットA2間の搬送方向距離x(mm)(図33(A)参照)を、凸領域ユニットA2の搬送方向長さy(mm)に対して0.4以下、特に0.01〜0.4、好ましくは0.01〜0.25にする。当該割合が大きすぎると、フィルムロールの巻き込みエアーが経時的に有効に保持されないため、フィルム同士の貼り付き、巻き緩み、シワ及び折れを十分に抑制できず、また巻きズレも十分に抑制できない。   In the requirement (I), first, the arrangement of the convex area units is controlled between any two adjacent convex area units in the transport direction. More specifically, the distance x (mm) in the transport direction between any two adjacent convex area units A2 in the transport direction in each intermittent convex row A1 (see FIG. 33A) is the length of the convex area unit A2 in the transport direction. It is set to 0.4 or less, particularly 0.01 to 0.4, preferably 0.01 to 0.25 with respect to the thickness y (mm). If the ratio is too large, the air entangled in the film roll is not effectively retained over time, so that sticking, loosening, wrinkling, and breaking of the films cannot be sufficiently suppressed, and the winding deviation cannot be sufficiently suppressed.

凸領域ユニットA2間の搬送方向距離x(mm)は、上記割合が達成される限り特に制限されず、通常は0.5〜3mmの範囲であり、好ましくは1〜2mmの範囲である。   The distance x (mm) in the transport direction between the convex area units A2 is not particularly limited as long as the above ratio is achieved, and is usually in the range of 0.5 to 3 mm, and preferably in the range of 1 to 2 mm.

凸領域ユニットA2の搬送方向長さy(mm)は、本発明の目的が達成される限り特に制限されず、通常は3〜20mmの範囲であり、好ましくは5〜10mmの範囲である。   The length y (mm) of the convex area unit A2 in the transport direction is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, and is usually in the range of 3 to 20 mm, and preferably in the range of 5 to 10 mm.

要件(I)では、さらに、凸領域ユニットの配置を、幅手方向で隣り合う任意の2列の凸列間において制御する。詳しくは、幅手方向で隣り合う任意の2列の凸列について、一方の凸列における任意の一つの凸領域ユニットが、幅手方向に対する垂直断面透視図上、他方の凸列において搬送方向で隣り合う二つの凸領域ユニットと重なるように配置する。   In the requirement (I), the arrangement of the convex area units is further controlled between any two adjacent convex rows in the width direction. Specifically, for any two adjacent rows in the width direction, any one of the protruding area units in one of the rows is in the transport direction in the other row in the vertical cross-sectional perspective view in the width direction. It arrange | positions so that it may overlap with two adjacent convex area units.

具体的には、図33(B)に示すように、任意の一つの凸領域ユニットA2aは、その搬送方向上流側及び下流側で、隣り合う凸列において搬送方向で隣り合う二つの凸領域ユニットA2b、A2cと重なるように配置される。図33(B)は、図33(A)のフィルムにおいて一つの凸領域ユニットA2aに注目したときに、隣り合う間欠的凸列A1において当該凸領域ユニットA2aと最も近い凸領域ユニットA2c及び2番目に近い凸領域ユニットA2bとの関係を示す幅手方向に対する垂直断面透視図である。そのような垂直断面透視図において、任意の一つの凸領域ユニットが、隣り合う間欠的凸列の一つの凸領域ユニットとしか重ならない場合、フィルムロールの巻き込みエアーが経時的に有効に保持されないため、フィルム同士の貼り付き、巻き緩み、シワ及び折れを十分に抑制できず、また巻きズレも十分に抑制できない。   More specifically, as shown in FIG. 33 (B), any one convex region unit A2a has two convex region units adjacent in the transport direction in adjacent convex rows on the upstream and downstream sides in the transport direction. A2b and A2c are arranged so as to overlap. FIG. 33 (B) shows that, when attention is paid to one convex area unit A2a in the film of FIG. 33 (A), the convex area unit A2c closest to the adjacent convex area unit A2a and the second convex area unit A2c in the adjacent intermittent convex row A1. FIG. 6 is a vertical cross-sectional perspective view in the width direction showing a relationship with a convex region unit A2b close to FIG. In such a vertical cross-sectional perspective view, if any one convex region unit overlaps only one adjacent convex region unit of the intermittent convex row, the air entrained in the film roll is not effectively retained over time. In addition, sticking, loosening, wrinkling and breaking of films cannot be sufficiently suppressed, and winding deviation cannot be sufficiently suppressed.

幅手方向に対する垂直断面透視図において、凸領域ユニットA2aにおける搬送方向上流側の凸領域ユニットA2bとの重なり部分の搬送方向長さZ1(mm)及び搬送方向下流側の凸領域ユニットA2cとの重なり部分の搬送方向長さZ2(mm)のうち小さい方の長さは凸領域ユニットの搬送方向長さy(mm)に対して0.3以上、特に0.3〜0.5である。当該割合が小さすぎると、フィルムロールの巻き込みエアーが経時的に有効に保持されないため、フィルム同士の貼り付き、巻き緩み、シワ及び折れを十分に抑制できず、また巻きズレも十分に抑制できない。   In the perspective view perpendicular to the width direction, the overlapping portion of the convex area unit A2a with the upstream convex area unit A2b in the transport direction and the overlapping length with the transport area length Z1 (mm) and the convex area unit A2c on the downstream side in the transport direction. The smaller one of the lengths Z2 (mm) in the transport direction of the portion is 0.3 or more, particularly 0.3 to 0.5, with respect to the length y (mm) in the transport direction of the convex area unit. If the ratio is too small, the air entangled in the film roll is not effectively retained with time, so that sticking, loosening, wrinkling, and folding of the films cannot be sufficiently suppressed, and winding deviation cannot be sufficiently suppressed.

凸領域ユニットA2aが搬送方向上流側及び下流側でそれぞれ凸領域ユニットA2b、A2cと重なり合う上記関係は、本発明においては任意の凸列における任意の一つの凸領域ユニットと、隣り合う凸列において該凸領域ユニットと最も近い凸領域ユニット及び2番目に近い凸領域ユニットとの間において満たすものである。   In the present invention, the above-described relationship in which the convex region unit A2a overlaps with the convex region units A2b and A2c on the upstream side and the downstream side in the transport direction, respectively, is that any one convex region unit in any convex line and any adjacent convex line The condition is satisfied between the convex region unit, the nearest convex region unit, and the second closest convex region unit.

間欠的凸列A1を構成する凸領域ユニットA2は、凸領域が形成されていない領域から所定の高さで浮き上がっている。例えば、図33(B)において、凸領域ユニットA2(A2a、A2b、A2c)は、凸領域が形成されていない領域の表面A3から所定の高さhで浮き上がっている。高さhは本発明の目的が達成される限り特に制限されず、通常は平均で1.5〜30μmであり、好ましくは2〜20μmの範囲である。   The convex area unit A2 constituting the intermittent convex row A1 is raised at a predetermined height from an area where no convex area is formed. For example, in FIG. 33B, the convex area unit A2 (A2a, A2b, A2c) is floating at a predetermined height h from the surface A3 of the area where no convex area is formed. The height h is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, and is usually from 1.5 to 30 μm on average, and preferably from 2 to 20 μm.

エンボス領域A10において、凸領域の面積率は20〜80%の範囲である。凸領域の面積率が小さすぎると、フィルムロールの巻き込みエアーが有効に保持されないので、巻き緩みや張り付きを抑止する効果が得られない。凸領域の面積率が大きすぎると、フィルムロールの巻き込みエアーが多くなりすぎるため、巻き緩みが悪化する。   In the embossed region A10, the area ratio of the convex region is in the range of 20% to 80%. If the area ratio of the protruding region is too small, the air entrained by the film roll is not effectively held, so that the effect of suppressing loosening and sticking cannot be obtained. If the area ratio of the convex region is too large, the winding air of the film roll becomes too large, and the loosening of the winding becomes worse.

凸領域の面積率は、エンボス領域A10の全体面積に対する凸領域ユニットA2の総面積の割合である。エンボス領域A10とは、フィルムの幅手方向一端における全ての凸領域を含むように、搬送方向に平行な直線で区切られる最小な領域であり、例えば図33(C)において斜線で示される領域である。   The area ratio of the convex region is a ratio of the total area of the convex region unit A2 to the entire area of the emboss region A10. The embossed area A10 is a minimum area divided by a straight line parallel to the transport direction so as to include all the convex areas at one end in the width direction of the film, and is, for example, an area indicated by oblique lines in FIG. is there.

エンボス領域A10とフィルムの端面との距離a(図33(C)参照)、エンボス領域A10の幅手方向長さb(図33(C)参照)、及び幅手方向で隣り合う凸列の間の距離c(図33(C)参照)は、本発明の目的が達成される限り特に制限されない。   The distance a between the embossed area A10 and the end face of the film (see FIG. 33C), the width b of the embossed area A10 in the width direction (see FIG. 33C), and the distance between the convex rows adjacent in the width direction. (See FIG. 33C) is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved.

距離aは通常、10mm以下であり、5mm以下が好ましい。   The distance a is usually 10 mm or less, preferably 5 mm or less.

長さbは通常、5〜30mmの範囲であり、10〜20mmの範囲が好ましい。   The length b is usually in the range of 5 to 30 mm, preferably in the range of 10 to 20 mm.

凸列間距離cは、上記凸領域の面積率が達成される限り特に制限されず、通常、0.1〜5mmの範囲であり、0.5〜2mmの範囲が好ましい。   The distance c between the convex rows is not particularly limited as long as the area ratio of the convex region is achieved, and is usually in the range of 0.1 to 5 mm, preferably in the range of 0.5 to 2 mm.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムにおいて、幅手方向の長さ、搬送方向の長さ、及び幅手方向について中央の非エンボス領域A5における膜厚は特に制限されない。   In the cyclic polyolefin film of the present invention, the length in the width direction, the length in the conveyance direction, and the film thickness in the non-embossed region A5 at the center in the width direction are not particularly limited.

幅手方向の長さは通常は500〜4000mmの範囲であり、好ましくは1000〜3000mmの範囲であり、より好ましくは1300〜3000mmの範囲である。従来では、当該長さが長いほど、巻き込まれたエアーが抜け難い一方で、時間の経過とともにエアーは抜けるため、巻き緩み、シワ及び折れ等の問題が発生しやすいが、本発明においてはそのような長さであっても、それらの問題を有効に抑制できるためである。   The length in the width direction is usually in the range of 500 to 4000 mm, preferably in the range of 1000 to 3000 mm, and more preferably in the range of 1300 to 3000 mm. Conventionally, the longer the length, the more difficult it is for air to get caught, but because the air escapes with the passage of time, loosening, wrinkles, and problems such as breakage are likely to occur. This is because such problems can be effectively suppressed even if the length is long.

搬送方向の長さは通常は500〜10000mの範囲であり、好ましくは2000〜9000mの範囲であり、より好ましくは3000〜8000mの範囲である。従来では、当該長さが長いほど、巻き込まれるエアー量が増大する一方で、時間の経過とともにエアーは抜けるため、巻き緩み、シワ及び折れ等の問題が発生しやすいが、本発明においてはそのような長さであっても、それらの問題を有効に抑制できるためである。   The length in the transport direction is usually in the range of 500 to 10000 m, preferably in the range of 2000 to 9000 m, and more preferably in the range of 3000 to 8000 m. Conventionally, the longer the length, the greater the amount of air to be entrained, while the air escapes with the lapse of time, so that problems such as loose winding, wrinkles, and breakage are likely to occur. This is because such problems can be effectively suppressed even if the length is long.

非エンボス領域A5における膜厚は通常は10〜200μmの範囲であり、好ましくは20〜80μmの範囲である。当該厚さが薄いほど、環状ポリオレフィンフィルムが変形しやすいため、巻き緩み、シワ及び折れ等の問題が発生しやすいが、本発明においてはそのような厚さであっても、それらの問題を有効に抑制できるためである。   The film thickness in the non-embossed region A5 is usually in the range of 10 to 200 μm, preferably in the range of 20 to 80 μm. The thinner the thickness, the more easily the cyclic polyolefin film is deformed, so that problems such as loose winding, wrinkles, and breakage are likely to occur. This is because it can be suppressed.

図34(A)に示すエンボスパターンおいて凸領域ユニットA2は、長方形形状を有しているが、本発明の目的が達成される限り特に制限されず、例えば、菱形形状、W字(M字)形状、六角形状、十字形状等を有していてもよい。   In the emboss pattern shown in FIG. 34A, the convex area unit A2 has a rectangular shape, but is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved. ) Shape, hexagonal shape, cross shape, etc.

凸領域ユニットA2が菱形形状を有する場合のエンボスパターンの具体例を図34(A)〜図34(C)に示す。   FIGS. 34A to 34C show specific examples of the emboss pattern when the convex region unit A2 has a rhombus shape.

図34(A)〜図34(C)はそれぞれ、凸領域ユニットA2が菱形形状を有すること以外、図33(A)〜図33(C)と同様であるため、それらの説明を省略する。図34(A)〜図34(C)における図33(A)〜図33(C)と同じ符号は、凸領域ユニットA2の形状が異なること以外、図33(A)〜図33(C)と同じ意味内容を示すものとする。   FIGS. 34 (A) to 34 (C) are the same as FIGS. 33 (A) to 33 (C), respectively, except that the convex region unit A2 has a rhombic shape, and therefore description thereof is omitted. 33 (A) to 33 (C) in FIGS. 34 (A) to 34 (C) are the same as those in FIGS. 33 (A) to 33 (C) except that the shape of the convex region unit A2 is different. It has the same meaning as.

図34(C)において斜線で示される領域がエンボス領域A10である。   In FIG. 34C, an area shown by oblique lines is an emboss area A10.

(II)エンボス領域が連続的凸列を1列以上で有する場合、エンボス領域はさらに間欠的凸列を有しても、又は有さなくてもよい。すなわち、エンボス領域が有する全ての凸列は1列以上、好ましくは2〜7列の連続的凸例のみからなっていてもよいし、又は1列以上、好ましくは1〜7列の連続的凸列と、1列以上、好ましくは1〜7列の間欠的凸列とからなっていてもよい。前者の場合の具体例として、例えば、図35(A)〜図35(C)に示すエンボスパターンが例示できる。後者の場合の実施形態として、例えば、図35(A)〜図35(C)に示すエンボスパターンが例示できる。   (II) When the embossed region has one or more continuous convex rows, the embossed area may or may not further have intermittent convex rows. That is, all the convex rows of the embossed region may be composed of only one row or more, preferably 2 to 7 continuous convex examples, or 1 or more rows, preferably 1 to 7 continuous convex rows. It may be composed of rows and one or more rows, preferably 1 to 7 intermittent rows. As a specific example of the former case, for example, emboss patterns shown in FIGS. 35A to 35C can be exemplified. As an embodiment in the latter case, for example, emboss patterns shown in FIGS. 35A to 35C can be exemplified.

図35(A)〜図35(C)はそれぞれ、全ての凸列が連続的凸列であること以外、図33(A)〜図33(C)と同様であるため、それらの説明を省略する。図35(A)〜図35(C)における図33(A)〜図33(C)と同じ符号は、凸列が連続的であること以外、図33(A)〜図33(C)と同じ意味内容を示すものとする。   FIGS. 35 (A) to 35 (C) are the same as FIGS. 33 (A) to 33 (C), respectively, except that all the convex rows are continuous convex rows, and therefore description thereof is omitted. I do. 33 (A) to 33 (C) in FIGS. 35 (A) to 35 (C) are the same as those in FIGS. 33 (A) to 33 (C) except that the convex rows are continuous. They have the same meaning.

図36(A)〜図36(C)はそれぞれ、エンボス領域が1列の連続的凸列と1列の間欠的凸列とを有すること以外、図34(A)〜図34(C)と同様であるため、それらの説明を省略する。図36(A)〜図36(C)における図34(A)〜図34(C)と同じ符号は、凸列の数が異なること、及び一つの凸列が連続的凸列であること以外、図34(A)〜図34(C)と同じ意味内容を示すものとする。   FIGS. 36 (A) to 36 (C) are similar to FIGS. 34 (A) to 34 (C) except that the embossed region has one continuous convex row and one intermittent convex row. Since they are the same, their description is omitted. The same reference numerals as in FIGS. 34 (A) to 34 (C) in FIGS. 36 (A) to 36 (C) indicate that the number of convex rows is different and that one convex row is a continuous convex row. 34 (A) to 34 (C).

特に要件(II)においては、要件(I)においてと同様に、エンボス領域A10における凸領域の面積率は20〜80%の範囲であり、好ましくは30〜60%の範囲である。凸領域の面積率が小さすぎると、フィルムロールの巻き込みエアーが有効に保持されないので、巻き緩みや張り付を抑止する効果が得られない。凸領域の面積率が大きすぎると、フィルムロールの巻き込みエアーが多くなりすぎるため、巻き緩みが悪化する。   In particular, in requirement (II), as in requirement (I), the area ratio of the convex region in the embossed region A10 is in the range of 20 to 80%, and preferably in the range of 30 to 60%. If the area ratio of the convex region is too small, the air entrained by the film roll is not effectively held, so that the effect of suppressing loosening and sticking cannot be obtained. If the area ratio of the convex region is too large, the winding air of the film roll becomes too large, and the loosening of the winding becomes worse.

凸領域の面積率は、エンボス領域A10の全体面積に対する凸領域ユニットA2の総面積の割合である。エンボス領域A10は、フィルムの幅手方向一端における全ての凸領域を含むように、搬送方向に平行な直線で区切られる最小な領域であり、例えば図34(C)及び図36(C)において斜線で示される領域である。   The area ratio of the convex region is a ratio of the total area of the convex region unit A2 to the entire area of the emboss region A10. The embossed area A10 is a minimum area divided by a straight line parallel to the transport direction so as to include all the protruded areas at one end in the width direction of the film, and is, for example, a hatched area in FIGS. 34 (C) and 36 (C). This is the area indicated by.

要件(II)において、エンボス領域が有し得る間欠的凸列は、特に制限されず、例えば、要件(I)においてと同様の間欠的凸列であってもよいし、又は当該間欠的凸列以外の間欠的凸列であってもよい。   In the requirement (II), the intermittent convex array that the embossed region may have is not particularly limited, and may be, for example, the same intermittent convex array as in the requirement (I) or the intermittent convex array. Other intermittent convex rows may be used.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、上記した(I)及び(II)の要件において、搬送方向に略平行に形成された間欠的凸列及び/又は連続的凸列以外に、他のエンボスパターンで形成された凸領域やランダム(不規則)に形成された凸領域をエンボス領域に有することを妨げるものではない。   The cyclic polyolefin film of the present invention is formed by other embossed patterns in addition to the intermittent convex rows and / or the continuous convex rows formed substantially parallel to the transport direction in the requirements of the above (I) and (II). It does not prevent the embossed region from having a convex region formed or a randomly (irregularly) formed convex region.

本発明では、エンボス部を形成するナーリング加工は、ナーリング加工の処理温度をT(℃)、ベースフィルムのガラス転移温度をTg(℃)、ベースフィルムがエンボスリングに接している時間をs(秒)としたときに、下記の関係式を満たす条件でナーリング加工を行い、ロール状のフィルムを製造することが好ましい。   In the present invention, in the knurling process for forming the embossed portion, the processing temperature of the knurling process is T (° C.), the glass transition temperature of the base film is Tg (° C.), and the time during which the base film is in contact with the emboss ring is s (seconds). ), It is preferable to perform a knurling process under the conditions satisfying the following relational expression to produce a roll-shaped film.

0.75≦(T−Tg)×s≦1.00
なお、ベースフィルムがエンボスリングに接している時間s(秒)は、フィルムの搬送速度と、ニップ幅、換言すれば押し圧を変えることで、変更することが可能である。なお、ニップ幅や押し圧を変えるには、ゴムロールよりなるバックロール表面のゴムの硬度を調整したり、エンボスリング及びエンボスバックロールの直径を変えることで、行うことができる。
0.75 ≦ (T−Tg) × s ≦ 1.00
The time s (second) during which the base film is in contact with the embossing ring can be changed by changing the film transport speed, the nip width, in other words, the pressing pressure. The nip width and the pressing pressure can be changed by adjusting the hardness of the rubber on the surface of the back roll made of a rubber roll, or by changing the diameter of the emboss ring and the emboss back roll.

上記において、(T−Tg)×sの値が、0.75未満であれば、エンボス高さが十分得られず、巻き取った状態での実効ナールが低くなるため、フィルム同士の貼り付き故障が発生したり、凸状の局所的な変形が発生し、フィルムとしての平面性を満たさなくなるので、好ましくない。   In the above, if the value of (T−Tg) × s is less than 0.75, the embossed height cannot be sufficiently obtained, and the effective knurl in the wound state becomes low. This is not preferable because of the occurrence of unevenness or local deformation in the form of a convex, which does not satisfy the planarity of the film.

また、(T−Tg)×sの値が、1.00を超えると、エンボス高さが出すぎて、結果として巻き取った状態での実効ナールも高くなるため、巻きの中央が馬の背中のような形状に凹み、フィルムとしての平面性が保て無くなるので、好ましくない。またTの値であるナーリング加工時の温度を高くすると(T−Tg)×sの値も大きくなるが、この場合(T−Tg)×sの値が1.00を超える程度までTの温度を高くすると、ヒゲ状故障が発生するため好ましくない。   Further, when the value of (T−Tg) × s exceeds 1.00, the emboss height is too large, and as a result, the effective knurl in the wound state is also high. It is not preferable because it is depressed in such a shape and the flatness of the film cannot be maintained. When the temperature during knurling, which is the value of T, is increased, the value of (T−Tg) × s also increases. In this case, the temperature of T is increased until the value of (T−Tg) × s exceeds 1.00. It is not preferable to increase the value because the whisker-like failure occurs.

また、本発明において、ナーリング加工の際に、エンボス刻印ローラーのフィルム排出側に10〜20℃の冷風を当てるのが、好ましい。ここで、ナーリング加工の際に、エンボス刻印ローラーのフィルム排出側に10〜20℃の冷風を当てるのは、エンボス加工直後にフィルムとリング部を冷却することにより熱で溶けた樹脂部分が冷却固化するため、糸状の異物(ヒゲ状異物)の発生を抑えられ、充分に高いエンボス高さを得ることができるという理由による。   Further, in the present invention, it is preferable that cold air of 10 to 20 ° C. be applied to the film discharge side of the embossing marking roller during the knurling process. Here, when knurling is performed, the cold air of 10 to 20 ° C. is applied to the film discharge side of the embossing engraving roller because the resin portion melted by heat is cooled and solidified by cooling the film and the ring immediately after embossing. Therefore, the generation of thread-like foreign matter (whisker-like foreign matter) can be suppressed, and a sufficiently high emboss height can be obtained.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、ロール状フィルムの下記式で定義される実効ナールが0.5〜7.0μmであるのが、好ましい。   The cyclic polyolefin film of the present invention preferably has an effective knurl defined by the following formula of the roll-shaped film of 0.5 to 7.0 μm.

実効ナール=(エンボス部ロール断面積−コア断面積)/巻き長さ−平均膜厚
上記において、実効ナールが0.5μm以上であれば、フィルム同士の貼り付き故障が発生せず、凸状の局所的な変形の発生を抑制し、フィルムとしての平面性が向上する。また、実効ナールが7.0μm以下であると、巻きの中央が馬の背中のような形状に凹むこともなく、フィルムとしての平面性が向上する。
Effective knurl = (cross-sectional area of roll of embossed section−cross-sectional area of core) / winding length−average film thickness In the above, if the effective knurl is 0.5 μm or more, the sticking failure between the films does not occur and the convex knurl is formed. The occurrence of local deformation is suppressed, and the flatness as a film is improved. When the effective knurl is 7.0 μm or less, the center of the winding does not dent into a shape like a horse back, and the flatness as a film is improved.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、ロール状のフィルムのエンボス部周囲に付着しているヒゲ状異物の個数が、0〜50個/cmであることが好ましく、0〜20個/cmであることがより好ましく、0〜10個/cmであることがさらに好ましい。 In the cyclic polyolefin film of the present invention, the number of mustache-like foreign matters adhering around the embossed portion of the roll-shaped film is preferably 0 to 50 / cm 2 , and is 0 to 20 / cm 2 . More preferably, it is more preferably 0 to 10 particles / cm 2 .

上記において、フィルムのエンボス部周囲に付着しているヒゲ状異物の個数は、少ないほど好ましく、ヒゲ状異物の個数が50個/cmを超えると、偏光板として加工する際のクリーニング装置でも除去しきれなくなり、偏光子とフィルムの間に異物として入り込み液晶表示装置に組み込んだ場合画像欠陥となるので、好ましくない。表面に反射防止処理や防眩処理などの塗布加工を施す場合も同様である。 In the above, the number of whisker-like foreign matter adhering to the embossed portions around the film is preferably as small as possible, and if the number of whisker foreign matter more than 50 / cm 2, is removed in the cleaning device at the time of processing as a polarizing plate It is not preferable because it cannot be removed completely and enters as a foreign substance between the polarizer and the film and is incorporated into a liquid crystal display, resulting in image defects. The same applies to a case where a coating process such as an anti-reflection treatment or an anti-glare treatment is performed on the surface.

ここで、エンボス部の高さh(μm)は、フィルム膜厚Hの0.05〜0.3倍の範囲、幅Wは、フィルム幅Lの0.005〜0.02倍の範囲に設定する。エンボス部は、フィルムの両面に形成してもよい。この場合、エンボス部の高さh1+h2(μm)は、フィルム膜厚Hの0.05〜0.3倍の範囲、幅Wはフィルム幅Lの0.005〜0.02倍の範囲に設定する。例えばフィルム膜厚40μmであるとき、エンボス部の高さh1+h2(μm)は2〜12μmの範囲に設定することが好ましく、エンボス部幅は5〜30mmの範囲に設定することが好ましい。   Here, the height h (μm) of the embossed portion is set in a range of 0.05 to 0.3 times the film thickness H, and the width W is set in a range of 0.005 to 0.02 times the film width L. I do. The embossed portions may be formed on both sides of the film. In this case, the height h1 + h2 (μm) of the embossed portion is set in a range of 0.05 to 0.3 times the film thickness H, and the width W is set in a range of 0.005 to 0.02 times the film width L. . For example, when the film thickness is 40 μm, the height h1 + h2 (μm) of the embossed portion is preferably set in a range of 2 to 12 μm, and the width of the embossed portion is preferably set in a range of 5 to 30 mm.

エンボス部高さの下限については、フィルム間の部分的な密着むらを防ぐために必要な高さから、一方、上限は、これ以上にするとエンボス部が高すぎるため、ロール状巻き製品の形態が馬の背状に多角形状に変形し、故障を誘発するからである。   The lower limit of the height of the embossed portion is based on the height required to prevent partial adhesion unevenness between the films. On the other hand, the upper limit is higher than this, because the embossed portion is too high. This is because it is deformed into a polygonal shape, and causes a failure.

エンボス部の幅については、エンボス部は最終的にロス部分となるため少なくしたいが、例えば50μm以内の薄膜フィルムで、50m/分以上の高速製膜時において、フィルムのすべりを抑えるための最低限必要なエンボス部幅である。   As for the width of the embossed portion, it is desirable to reduce the width of the embossed portion because the embossed portion eventually becomes a loss portion. Necessary emboss width.

ただし、前述のエンボス部の高さともリンクしており、凸状、ピラミッド状、馬の背、多角形状、巻きずれ故障を全てクリアーするエンボス部高さ×エンボス部幅を設定する必要がある。   However, it is also linked to the height of the above-mentioned embossed portion, and it is necessary to set the embossed portion height x embossed portion width that clears all of the convex shape, pyramid shape, horseback, polygonal shape, and winding failure.

エンボス加工を施した後のフィルムは以下の巻取方法で巻取ることが好ましい。   It is preferable that the film after embossing is wound by the following winding method.

巻取方法は、フィルムの側縁が揃うように前記フィルムを巻芯に巻き取るストレート巻き工程と、前記ストレート巻き工程の後に、前記側縁が前記フィルムの幅方向に対して一定範囲で周期的にずれるように、前記フィルムの幅方向に前記フィルム又は前記巻芯を周期的に振動させて前記フィルムを前記巻芯に巻き取るオシレート巻き工程とを有することが好ましい。   The winding method includes a straight winding step of winding the film around a core so that the side edges of the film are aligned, and after the straight winding step, the side edges are periodically formed in a certain range with respect to a width direction of the film. It is preferable to include an oscillating winding step of periodically vibrating the film or the core in the width direction of the film so as to shift the film around the core.

特に、前記フィルムの巻長が、前記フィルムの全巻長に対して10〜30%の範囲内であらかじめ定められる切替時巻長に達したときに、前記ストレート巻き工程から前記オシレート巻き工程に切り替えることが好ましい。   In particular, when the winding length of the film reaches a predetermined switching winding length within a range of 10 to 30% with respect to the total winding length of the film, switching from the straight winding process to the oscillating winding process. Is preferred.

フィルムの巻取装置は、巻芯を回転させて前記巻芯にフィルムを巻き取るフィルム巻取部と、前記フィルムが前記巻芯上で前記フィルムの幅方向に一定範囲内で周期的にずれるオシレート巻きになるように、前記フィルムの巻取りに連動させて前記フィルム又は前記巻芯を前記フィルムの幅方向に振動させるオシレート部と、前記フィルムの巻長があらかじめ定められる切替時巻長に達したときに、前記フィルムの巻取りを前記ストレート巻きから前記オシレート巻きに切り替える切替部とを備えることが好ましい。   The film winding device includes a film winding unit that rotates a winding core and winds the film around the winding core, and an oscillating unit that periodically shifts the film on the winding core within a certain range in a width direction of the film. Oscillating portion that vibrates the film or the core in the width direction of the film in conjunction with the winding of the film so as to be wound, and the winding length of the film reaches a predetermined switching winding length. In some cases, it is preferable to include a switching unit that switches the winding of the film from the straight winding to the oscillating winding.

以下オシレート巻きについて説明する。   Hereinafter, the oscillating winding will be described.

図37に示すように、フィルム製造ラインB10は、フィルム製造装置B11と、巻取装置B12とを備えている。フィルム製造装置B11は、溶液製膜方法によりフィルムB13を製造する。溶液製膜方法では、まず、原料を用いてドープを調製する。そして、調製したドープを無端支持体上に流延して流延膜を形成する。流延膜が自己支持性を有するようになったときに、無端支持体から流延膜を剥離する。剥離された流延膜を熱風等で乾燥することによって、フィルムB13が形成される。形成されたフィルムB13は、ナーリング付与ローラーB15を介して、巻取装置B12に送られる。ナーリング付与ローラーB15は、エンボス加工等により、フィルムB13の幅方向の両側縁部(耳部)に対して微小な凹凸を形成する。なお、ナーリング付与ローラーにより形成される凹凸の高さは0.5〜20μmの範囲であることが好ましい。   As shown in FIG. 37, the film production line B10 includes a film production device B11 and a winding device B12. The film manufacturing apparatus B11 manufactures a film B13 by a solution casting method. In the solution casting method, first, a dope is prepared using raw materials. Then, the prepared dope is cast on an endless support to form a casting film. When the casting film becomes self-supporting, the casting film is peeled from the endless support. The film B13 is formed by drying the peeled casting film with hot air or the like. The formed film B13 is sent to a winding device B12 via a knurling roller B15. The knurling roller B15 forms minute irregularities on both side edges (ears) in the width direction of the film B13 by embossing or the like. The height of the unevenness formed by the knurling roller is preferably in the range of 0.5 to 20 μm.

図37及び図38に示すように、巻取装置B12は、巻取軸B19、巻芯ホルダB20、巻芯B21、ターレットB22、ガイドローラーB23、B24、ダンサローラーB25、エンコーダB27、オシレート部B29、巻取モーターB30、コントローラB31、及びダンサ部B32を備えている。この巻取装置B12における巻取対象のフィルムサイズなどは特に限定されないが、例えば全巻取長が2000〜10000mの範囲であり、幅が500〜2500mmの範囲のサイズのフィルムであることが好ましい。   As shown in FIGS. 37 and 38, the winding device B12 includes a winding shaft B19, a core holder B20, a core B21, a turret B22, guide rollers B23, B24, a dancer roller B25, an encoder B27, an oscillating portion B29, It includes a winding motor B30, a controller B31, and a dancer section B32. The film size or the like to be wound by the winding device B12 is not particularly limited. For example, the film is preferably a film having a total winding length in a range of 2000 to 10000 m and a width in a range of 500 to 2500 mm.

図38に示すように、巻取軸B19はターレットB22に片持ち支持機構で取り付けられている。片持ち支持機構とは、巻取軸B19の一端のみを支持する機構である。巻取軸B19には、巻芯B21が取り付けられている。巻芯B21は、巻取軸B19の巻芯ホルダB20により両端部が挟持される。巻芯ホルダB20は巻取軸B19の軸方向(Y方向)でスライド自在にかつ巻取軸B19に回転不能に取り付けられている。巻取軸B19の一端には巻取モーターB30が連結されており、巻取軸B19を回転するように構成されている。この回転により、巻芯B21も回転し、フィルムB13を巻芯B21に巻き取ることができる。このフィルムB13の巻取りにより、フィルムB13がロール状に巻き付けられたフィルムロールB38が得られる。   As shown in FIG. 38, the winding shaft B19 is attached to the turret B22 by a cantilever support mechanism. The cantilever support mechanism is a mechanism that supports only one end of the winding shaft B19. A winding core B21 is attached to the winding shaft B19. Both ends of the core B21 are held by the core holder B20 of the winding shaft B19. The core holder B20 is slidably mounted in the axial direction (Y direction) of the winding shaft B19 and is non-rotatably attached to the winding shaft B19. A winding motor B30 is connected to one end of the winding shaft B19, and is configured to rotate the winding shaft B19. With this rotation, the core B21 also rotates, and the film B13 can be wound around the core B21. By winding the film B13, a film roll B38 in which the film B13 is wound in a roll shape is obtained.

ターレットB22には、巻取軸B19の取付端部にシフト機構B28が取り付けられている。このシフト機構B28は巻芯ホルダB20を巻取軸B19上で軸方向に往復運動させる。このシフト機構B28、巻取軸B19、巻芯ホルダB20により、オシレート部B29が構成されている。このオシレート部B29を作動させて、シフト機構B28により巻芯ホルダB20を巻取軸B19上でY方向に往復運動させることにより、フィルムB13が積層するごとに側縁B13aの位置が振幅Woの範囲内でずれながら、フィルムB13が巻き取られるオシレート巻きを可能にする。オシレート部B29を作動させない場合には、フィルムB13の両側縁が揃った状態になるストレート巻きが可能になる。このストレート巻き及びオシレート巻きの切り替えはコントローラB31により行われる。   The turret B22 has a shift mechanism B28 attached to the attachment end of the winding shaft B19. The shift mechanism B28 reciprocates the core holder B20 in the axial direction on the winding shaft B19. The shift mechanism B28, the winding shaft B19, and the core holder B20 constitute an oscillating portion B29. By operating the oscillating portion B29, the core holder B20 is reciprocated in the Y direction on the winding shaft B19 by the shift mechanism B28, so that the position of the side edge B13a is in the range of the amplitude Wo every time the film B13 is laminated. Oscillating winding in which the film B13 is wound while being shifted within. When the oscillating portion B29 is not operated, straight winding in which both side edges of the film B13 are aligned can be performed. The switching between the straight winding and the oscillating winding is performed by the controller B31.

ここで、オシレート巻きにおいて、その振り幅であるオシレート幅Woは任意に設定することができ、振幅Woは10〜30mmの範囲内であることが好ましく、前記範囲内であれば、振幅Woは一定値で固定する他、徐々に増加させたり、減少させたり、増加後に減少させたりしてもよい。   Here, in the oscillating winding, the oscillating width Wo, which is the swing width, can be set arbitrarily, and the amplitude Wo is preferably in the range of 10 to 30 mm. In addition to fixing the value, the value may be gradually increased, decreased, or decreased after the increase.

ガイドローラーB23、B24及びダンサローラーB25は、フィルム製造装置B11からのフィルムB13を搬送方向(X方向)に案内する。また、ダンサローラーB25はシフト機構B26によりフィルムB13を上下方向(Z方向)に移動させることにより、フィルムB13の巻取張力を調整する。このシフト機構B26及びダンサローラーB25によりダンサ部B32が構成される。エンコーダB27は、ガイドローラーB24が一定の回転角度で回転するごとに、エンコーダパルス信号をコントローラB31に送信する。なお、ガイドローラーB24にはフィルムB13の巻取張力を測定する張力センサを設けてもよい。   The guide rollers B23 and B24 and the dancer roller B25 guide the film B13 from the film manufacturing apparatus B11 in the transport direction (X direction). The dancer roller B25 adjusts the winding tension of the film B13 by moving the film B13 in the vertical direction (Z direction) by the shift mechanism B26. The shift mechanism B26 and the dancer roller B25 constitute a dancer section B32. The encoder B27 transmits an encoder pulse signal to the controller B31 every time the guide roller B24 rotates at a fixed rotation angle. The guide roller B24 may be provided with a tension sensor for measuring the winding tension of the film B13.

コントローラB31は、オシレート部B29、巻取モーターB30、及びダンサ部B32の駆動を制御する。コントローラB31は、巻取情報入力部B39、LUTメモリB40、切替時巻長特定部B41、巻長測定部B42、及び切り替え判定部B43を備えている。巻取情報入力部B39には、フィルムB13の全巻取長、厚さ、幅、巻芯B21の外径、巻取張力などの巻取情報が入力される。   The controller B31 controls driving of the oscillating unit B29, the winding motor B30, and the dancer unit B32. The controller B31 includes a winding information input unit B39, an LUT memory B40, a switching winding length specifying unit B41, a winding length measuring unit B42, and a switching determination unit B43. The winding information input section B39 receives winding information such as the total winding length, thickness, and width of the film B13, the outer diameter of the winding core B21, and the winding tension.

LUTメモリB40には、巻取情報ごとに、ストレート巻きからオシレート巻きに切り替えるときのフィルムB13の巻長(切替時巻長)が記憶されている。切替時巻長は、好ましくはフィルムB13の全巻長に対して10〜30%の範囲であらかじめ設定されており、より好ましくはフィルムB13の全長に対して15〜25%の範囲であらかじめ設定されている。   The LUT memory B40 stores, for each winding information, the winding length (switching winding length) of the film B13 when switching from straight winding to oscillating winding. The winding length at the time of switching is preferably set in advance in the range of 10 to 30% with respect to the total winding length of the film B13, and is more preferably set in the range of 15 to 25% with respect to the entire length of the film B13. I have.

切替時巻長が上記範囲に設定されているのは以下の理由からである。図39に示すように、グラフB50は巻芯B21の円周方向でフィルムB13に発生する応力と巻長との関係を表したものである。フィルムB13の円周方向の応力は、巻芯B21の回転トルクとダンサ部B32による張力とに基づいて求められる。巻芯B21の回転トルクがダンサ部B32による張力よりも大きくなったときにフィルムB13の円周方向の応力は正となり、巻芯B21の回転トルクがダンサ部B32による張力よりも小さくなったときに負となる。なお、図40に示すように、フィルムB13が巻芯B21に巻き取られているフィルムロールB38において、点P1から周方向の外側に向かって力がかかるときに、フィルムB13の点P1における円周方向の応力が正であるという。また、点P2に向かって周方向で力がかかるときに、フィルムB13の点P2における円周方向の応力が負であるという。   The winding length at the time of switching is set in the above range for the following reason. As shown in FIG. 39, a graph B50 shows the relationship between the stress generated in the film B13 in the circumferential direction of the core B21 and the winding length. The circumferential stress of the film B13 is obtained based on the rotational torque of the core B21 and the tension of the dancer portion B32. When the rotational torque of the core B21 becomes larger than the tension by the dancer portion B32, the circumferential stress of the film B13 becomes positive, and when the rotational torque of the core B21 becomes smaller than the tension by the dancer portion B32. Becomes negative. As shown in FIG. 40, in the film roll B38 in which the film B13 is wound around the core B21, when a force is applied outward from the point P1 in the circumferential direction, the circumference of the film B13 at the point P1 is increased. The stress in the direction is said to be positive. When a force is applied in the circumferential direction toward the point P2, the circumferential stress at the point P2 of the film B13 is negative.

図39のグラフB50は、フィルムB13の巻取り始めの張力と巻取り終わりの張力などに基づいて、周知の応力計算式からあらかじめ求められる。フィルムB13の円周方向の応力の分布パターンは、各フィルムの厚さ、幅、巻取り長さ、巻芯の外径などのパラメーターや巻取り張力パターンの変化状況に応じて、各種値や負の領域などが変化するが、これまでのフィルム巻取結果からおおむね図39と略同じ分布パターンであることが分かっている。   The graph B50 in FIG. 39 is obtained in advance from a well-known stress calculation formula based on the tension at the start of winding and the tension at the end of winding of the film B13. The distribution pattern of the stress in the circumferential direction of the film B13 is determined by various values and negative values according to the parameters such as the thickness, width, winding length, and outer diameter of the winding core of each film and the changing state of the winding tension pattern. Are changed, but it is known from the result of film winding up to now that the distribution pattern is almost the same as that of FIG.

グラフB50が示すように、フィルムB13の円周方向の応力は、フィルムロールB38において巻芯B21側の巻長が小さい部分では正(+)となっている。図39では、巻長が0であるところから応力が減少して負(−)に変わる巻長に、符号L1を付す。このように巻取り始めでは、巻長が長くなるにつれて、円周方向の応力は急激に減少する。そして、円周方向の応力は、さらに減少して負(−)の領域に入る。なお、図39では、巻取完了に対応する巻長には、符号LEを付す。そして、負(−)の領域で、円周方向の応力は、最小値Sminを示す。図39では、円周方向の応力が最小値Sminを示した巻長に、符号Lminを付す。巻長がLminを超える部分では、円周方向の応力は、巻長が長くなるに従い次第に増加し、正(+)の領域に入る。円周方向の応力が最小値Sminを示した後に増加して正に変わる巻長に、符号L2を付す。ここで、フィルムB13の円周方向の応力が負の領域にある場合には、巻芯B21の回転トルクがダンサ部B32による張力よりも大きくなってフィルムB13が巻き緩んでしまうため、フィルムB13の表面の圧力(面圧)は低下してしまう。図41のグラフB51は、ストレート巻きで巻取りを行ったときのフィルムB13の両側端部における面圧の変化を示しており、図42のグラフB52は、オシレート巻きで巻取りを行ったときのフィルムB13の左側端部における面圧の変化を示しており、グラフB53は右側端部における面圧の変化を示している。これらグラフB51〜B53が示すように、フィルムB13の巻取り始めでは、ストレート巻きで巻き取ったときの面圧の低下は、オシレート巻きで巻き取ったときの面圧の低下よりも比較的小さい。なお、フィルムB13の左側端部とは、X方向に向かって左側の端部であり、右側端部とはX方向に向かって右側の端部である。   As shown by the graph B50, the circumferential stress of the film B13 is positive (+) at the portion where the winding length on the core B21 side is small in the film roll B38. In FIG. 39, the reference numeral L1 is assigned to the winding length at which the stress decreases from the point where the winding length is 0 and changes to negative (-). Thus, at the beginning of winding, the circumferential stress decreases sharply as the winding length increases. Then, the stress in the circumferential direction further decreases and enters a negative (-) region. In FIG. 39, a reference sign LE is given to a winding length corresponding to completion of winding. In the negative (-) region, the stress in the circumferential direction indicates the minimum value Smin. In FIG. 39, a reference sign Lmin is given to a winding length in which the circumferential stress indicates the minimum value Smin. In the portion where the winding length exceeds Lmin, the circumferential stress gradually increases as the winding length increases, and enters a positive (+) region. A winding length that increases after the circumferential stress exhibits the minimum value Smin and changes to a positive value is denoted by a symbol L2. Here, when the stress in the circumferential direction of the film B13 is in the negative region, the rotation torque of the core B21 becomes larger than the tension of the dancer portion B32, and the film B13 is loosened. The surface pressure (surface pressure) decreases. A graph B51 in FIG. 41 shows a change in surface pressure at both end portions of the film B13 when the film is wound by straight winding, and a graph B52 in FIG. 42 shows a result when the film is wound by oscillating winding. The change in the surface pressure at the left end of the film B13 is shown, and the graph B53 shows the change in the surface pressure at the right end. As shown by the graphs B51 to B53, at the beginning of the winding of the film B13, the decrease in the surface pressure when the film is wound by the straight winding is relatively smaller than the decrease in the surface pressure when the film is wound by the oscillating winding. Note that the left end of the film B13 is the left end in the X direction, and the right end is the right end in the X direction.

フィルムB13の巻取り始めにおける面圧の低下は巻取り後のフィルムロールB38に巻き緩みや巻きズレなどを生じさせる原因となる。そこで、上記のようにフィルムB13の巻取り始めにおいて面圧が低下する間、即ち、フィルムB13の円周方向の応力が負の領域にある間はストレート巻きを行い、その後、巻長が全巻長に対して10〜30%の範囲になったときに、オシレート巻きに切り替える。これにより、フィルムB13の巻取り始めにおいて、ストレート巻きで巻き取ることによって面圧の低下が抑えられるとともに、フィルムB13の円周方向の応力が負の領域を抜け出したときにオシレート巻きで巻き取ることによって、面圧をフィルムB13の幅方向に対して左右方向に分散し、耳伸びの発生を軽減することができる。ストレート巻きからオシレート巻きに切り替えるタイミングとしてあらかじめ求める切替時巻長は、本実施形態のように、グラフB50のような円周方向の応力と巻長との関係に基づき求めておくとよい。このようにして求めた切替時巻長にフィルムB13の巻長が達したときに、コントローラB31は、ストレート巻きからオシレート巻きに切り替える。ストレート巻きからオシレート巻きに切り替えるタイミングは、巻長が全巻長に対して15〜25%の範囲になったときがより好ましい。   The decrease in the surface pressure at the start of winding the film B13 causes loosening or misalignment of the wound film roll B38. Therefore, as described above, while the surface pressure is reduced at the start of winding the film B13, that is, while the stress in the circumferential direction of the film B13 is in the negative region, the straight winding is performed, and then the winding length becomes the entire winding length. Is switched to the oscillating winding when the range becomes 10% to 30%. Thereby, at the beginning of winding of the film B13, the reduction in surface pressure can be suppressed by winding the film B13 straight, and when the circumferential stress of the film B13 escapes from the negative region, the film is wound by oscillating winding. Thereby, the surface pressure is dispersed in the left-right direction with respect to the width direction of the film B13, and the occurrence of ear extension can be reduced. The switching winding length previously determined as the timing of switching from the straight winding to the oscillating winding may be obtained based on the relationship between the circumferential stress and the winding length as shown in the graph B50 as in the present embodiment. When the winding length of the film B13 reaches the switching winding length thus obtained, the controller B31 switches from straight winding to oscillating winding. The timing for switching from the straight winding to the oscillating winding is more preferable when the winding length is in the range of 15 to 25% of the total winding length.

なお、巻長が全巻長に対して10%以上のときにストレート巻きからオシレート巻きに切り替えたときには、10%未満のときに切り替える場合と比べてフィルムB13の巻取り始めにおいて面圧が急激に低下することをより確実に防止する。このため、フィルムロールB38に巻き緩みや巻きズレが発生してしまうことを、より確実に防ぐことができる。また、巻長が全巻長に対して30%を超えてから切り替えたときには、フィルムB13の円周方向の応力が負の領域を抜け出した後もストレート巻きで巻き取ることになるため、30%以下のときに切り替える場合と比べてフィルムロールB38に耳伸びが発生しやすい。そこで、巻長が全巻長に対して30%以下のときにストレート巻きからオシレート巻きに切り替えることにより、30%を超えてから切り替える場合よりも、耳伸びの発生をより確実に防止することができる。   Note that when switching from straight winding to oscillating winding when the winding length is 10% or more of the total winding length, the surface pressure sharply decreases at the beginning of winding the film B13 as compared with the case where switching is performed when the winding length is less than 10%. More reliably. For this reason, it is possible to more reliably prevent the film roll B38 from becoming loose or displaced. Further, when switching is performed after the winding length exceeds 30% of the total winding length, the film B13 is wound up by a straight winding even after the circumferential stress of the film B13 escapes from the negative region. In this case, the ear is more likely to be generated in the film roll B38 than in the case where the switching is performed at the time. Therefore, by switching from straight winding to oscillating winding when the winding length is 30% or less of the total winding length, the occurrence of ear extension can be more reliably prevented than when switching is performed after exceeding 30%. .

切替時巻長特定部B41は、LUTメモリB40に記憶された巻取情報と、巻取情報入力部B39に入力された巻取情報とを照合して、入力された巻取情報に対応する切替時巻長を特定する。巻長測定部B42は、エンコーダB27からのエンコーダパルス信号に基づき、巻芯B21に巻き取ったフィルムB13の巻長を測定する。   The switching-time winding length specifying unit B41 collates the winding information stored in the LUT memory B40 with the winding information input to the winding information input unit B39, and performs switching corresponding to the input winding information. Specify the time volume. The winding length measuring unit B42 measures the winding length of the film B13 wound around the core B21 based on the encoder pulse signal from the encoder B27.

切り替え判定部B43は、巻長測定部B42で測定した巻長が、切替時巻長特定部B41で特定された切替時巻長を超えたか否かを判定する。巻長が切替時巻長を超えたと判定した場合には、オシレート部B29にオシレート巻き開始信号が送信される。オシレート部B29は、オシレート巻き開始信号を受信すると、フィルムの側縁B13aが揃うようにフィルムB13を巻き取っていくストレート巻きから、側縁B13aの位置を振幅Woの範囲内でずらしながらフィルムB13を巻き取っていくオシレート巻きにフィルムB13の巻取りを変更する。   The switching determination unit B43 determines whether or not the winding length measured by the winding length measurement unit B42 exceeds the switching winding length specified by the switching winding length specification unit B41. When it is determined that the winding length has exceeded the switching winding length, an oscillating winding start signal is transmitted to the oscillating unit B29. When the oscillating unit B29 receives the oscillating winding start signal, the oscillating unit B29 shifts the position of the side edge B13a within the range of the amplitude Wo from the straight winding in which the film B13 is wound so that the side edge B13a of the film is aligned. The winding of the film B13 is changed to the oscillating winding to be wound.

次に、巻取装置の作用について、図43に示すフローチャートを参照しながら説明する。まず、巻取対象となるフィルムB13の巻取情報を巻取情報入力部B39に入力する。切替時巻長特定部B41は、巻取情報入力部B39に入力された巻取情報とLUTメモリB40に記憶された巻取情報とを照合することにより、入力された巻取情報に対応する切替時巻長を特定する。   Next, the operation of the winding device will be described with reference to the flowchart shown in FIG. First, the winding information of the film B13 to be wound is input to the winding information input section B39. The switching-time winding length specifying unit B41 compares the winding information input to the winding information input unit B39 with the winding information stored in the LUT memory B40, and performs switching corresponding to the input winding information. Specify the time volume.

そして、フィルムB13の巻取りがストレート巻きで開始される。巻取りの際には、ガイドローラーB24が一定の回転角度で回転するごとに、エンコーダB27からエンコーダパルス信号が一定時間毎にコントローラB31に送信される。このエンコーダパルス信号に基づいて、巻長測定部B42でフィルムB13の巻長が測定される。   Then, winding of the film B13 is started by straight winding. At the time of winding, every time the guide roller B24 rotates at a fixed rotation angle, an encoder pulse signal is transmitted from the encoder B27 to the controller B31 at fixed time intervals. Based on the encoder pulse signal, the winding length of the film B13 is measured by the winding length measuring unit B42.

巻長測定部B42で測定された巻長が切替時巻長を超えたか否かが、切り替え判定部B43により順次判定される。巻長が切替時巻長を超えたと判定されたときには、コントローラB31からオシレート部B29にオシレート巻き開始信号が送信される。オシレート巻き開始信号を受信したオシレート部B29は、巻芯B21を軸方向(Y方向)に沿って一定の振幅Woで振動させる。これにより、フィルムB13の巻取りが、ストレート巻きからオシレート巻きに変更される。   The switching determination unit B43 sequentially determines whether the winding length measured by the winding length measurement unit B42 exceeds the switching-time winding length. When it is determined that the winding length has exceeded the switching winding length, an oscillating winding start signal is transmitted from the controller B31 to the oscillating unit B29. The oscillating unit B29 that has received the oscillating winding start signal vibrates the winding core B21 with a constant amplitude Wo along the axial direction (Y direction). Thereby, the winding of the film B13 is changed from the straight winding to the oscillating winding.

フィルムB13の巻取りが完了すると、フィルムロールB38が巻取軸B19から取り外される。フィルムロールB38はトラックなどの輸送手段により各種工場に搬送される。その際、フィルムロールB38の巻芯内側はストレート巻きになっているため、巻き緩みが無く、搬送時の振動等があってもフィルムロールB38に巻ズレが生じることはない。また、加えて、フィルムロールB38の巻芯外側がオシレート巻きとなっていることから、耳伸びの発生が抑えられている。   When the winding of the film B13 is completed, the film roll B38 is removed from the winding shaft B19. The film roll B38 is transported to various factories by transport means such as a truck. At this time, since the inside of the core of the film roll B38 is formed into a straight winding, there is no loosening of the winding, and the winding of the film roll B38 does not shift even if there is a vibration or the like at the time of conveyance. In addition, since the outside of the core of the film roll B38 is oscillated, occurrence of ear extension is suppressed.

なお、上記実施形態では、巻芯B21をフィルムB13の幅方向に振動させることによりフィルムB13を巻き取っている。しかし、オシレート巻きの方法はこの方法に限定されず、周知の方法を用いればよい。例えば、巻芯B21は動かさずに、フィルムB13自体をその幅方向に振動させてもよい。   In the above embodiment, the film B13 is wound by vibrating the core B21 in the width direction of the film B13. However, the method of oscillating winding is not limited to this method, and a known method may be used. For example, the film B13 itself may be vibrated in the width direction without moving the core B21.

(8)返材回収(トリミング工程)
返材回収とは、前記(6)のスリット工程でフィルムを搬送しながらフィルムの幅手方向の端部を切断した箇所を回収する工程である。例えば、延伸工程でテンターにより把持されたためにその痕跡が残った端部を除去する。端部の切断・回収は通常、フィルム幅手方向の両端部において行われる。回収された返材は、溶解工程に適量持ち込まれ、溶媒に溶解されて、ドープ調製に供される。
(8) Return material collection (trimming process)
The returned material recovery is a process of recovering a portion of the film at the end in the width direction while transporting the film in the slit process (6). For example, the end portion where the trace is left due to being held by the tenter in the stretching step is removed. The cutting and collecting of the ends are usually performed at both ends in the width direction of the film. An appropriate amount of the recovered material is brought into a dissolving step, dissolved in a solvent, and provided for dope preparation.

トリミング工程は、フィルム幅手方向の端部を切断する端部切断段階及び切断された端部を回収する端部回収段階を有する。   The trimming process includes an end cutting step of cutting the end in the width direction of the film and an end collecting step of collecting the cut end.

端部切断段階では、フィルムを搬送方向Tに搬送しながら、固定されたカッター等の切断手段により、フィルム端部を切断し、フィルム本体を巻取り工程等の次工程に提供する。   In the edge cutting step, the film edge is cut by a fixed cutting means such as a cutter while the film is transported in the transport direction T, and the film body is provided to the next step such as a winding step.

切断される端部の幅手方向長さ(幅)xは特に制限されず、そのようなxは具体的には、例えば、30〜300mmの範囲、特に50〜130mmの範囲であることが好ましい。   The length (width) x in the width direction of the cut end is not particularly limited, and such x is specifically, for example, preferably in a range of 30 to 300 mm, particularly preferably in a range of 50 to 130 mm. .

端部回収段階では、切断されたフィルム端部を吸い込み口より回収する。吸い込み口は通常、筒形状、特に円筒形状を有しており、吸引装置により吸い込み方向に吸引を行っている。吸引速度は本発明の目的が達成される限り特に制限されない。   In the end collecting step, the cut end of the film is collected from the suction port. The suction port usually has a cylindrical shape, especially a cylindrical shape, and suction is performed in a suction direction by a suction device. The suction speed is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved.

本段階では、切断されたフィルム端部を吸い込み口より回収するに際し、フィルム搬送方向の上流側と下流側とから吸い込み口の開口部に向けて、搬送風を供給し、フィルム端部bの搬送・回収を補助する。上流側からの搬送風の供給速度V1及び下流側からの搬送風の供給速度V2は、それぞれ独立して、フィルム搬送速度に対して100〜6000%の範囲、好ましくは500〜5500%の範囲であり、それらの比率V1/V2は1未満、特に0.1〜0.9の範囲、好ましくは0.3〜0.9の範囲である。これによって、切断された端部のバタツキや蛇行を抑制し、端部の切断・回収を十分に円滑に行うことができる。   At this stage, when the cut film end is collected from the suction port, the conveying air is supplied from the upstream side and the downstream side in the film conveyance direction toward the opening of the suction port to convey the film end b.・ Assist collection. The supply speed V1 of the transport wind from the upstream side and the supply speed V2 of the transport wind from the downstream side are each independently within a range of 100 to 6000%, preferably 500 to 5500% with respect to the film transport speed. And their ratio V1 / V2 is less than 1, especially in the range from 0.1 to 0.9, preferably in the range from 0.3 to 0.9. As a result, flapping and meandering of the cut end can be suppressed, and the cut and collection of the end can be performed sufficiently smoothly.

上流側からの搬送風の温度T1及び下流側からの搬送風の温度T2は特に制限されるものではなく、通常はそれぞれ独立して、雰囲気温度より0〜50℃の範囲だけ高い温度である。温度T1及びT2をそれぞれ独立して雰囲気温度より0〜50℃の範囲、特に0〜45℃の範囲だけ高く設定することにより、フィルム端部80bにおける支持体面側と反支持体面側との収縮差を低減できる。その結果、端部の蛇行をより一層有効に抑制できるため、吸い込み口及び当該吸い込み口に連結された配管内での端部詰まりをより一層十分に抑制できる。雰囲気温度とは、本工程を行う周囲雰囲気の温度であり、前記端部切断段階におけるフィルムの支持体面における幅手方向で中央部の温度を用いるものとし、非接触温度計によって測定できる。   The temperature T1 of the carrier air from the upstream side and the temperature T2 of the carrier air from the downstream side are not particularly limited, and are usually independently independently higher than the ambient temperature by a range of 0 to 50 ° C. By setting the temperatures T1 and T2 independently to be higher than the ambient temperature by a range of 0 to 50 ° C., particularly by a range of 0 to 45 ° C., the shrinkage difference between the support surface side and the non-support surface side at the film edge 80b is reduced. Can be reduced. As a result, meandering of the end portion can be more effectively suppressed, so that end clogging in the suction port and the pipe connected to the suction port can be more sufficiently suppressed. The ambient temperature is the temperature of the ambient atmosphere in which this step is performed, and the temperature at the center in the width direction on the surface of the support of the film in the edge cutting step is used, and can be measured by a non-contact thermometer.

搬送風の温度T1は通常、30〜170℃の範囲であり、特に30〜150℃の範囲が好ましい。   The temperature T1 of the conveying air is usually in the range of 30 to 170C, and particularly preferably in the range of 30 to 150C.

搬送風の温度T2は通常、30〜170℃の範囲であり、特に30〜150℃の範囲が好ましい。   The temperature T2 of the conveying air is usually in the range of 30 to 170C, and particularly preferably in the range of 30 to 150C.

雰囲気温度は通常、30〜120℃の範囲であり、特に30〜100℃の範囲が好ましい。   The ambient temperature is usually in the range of 30 to 120C, and particularly preferably in the range of 30 to 100C.

上流側からの搬送風は上流側供給装置から供給され、下流側からの搬送風は下流側供給装置から供給される。搬送風が加熱される場合は、加熱手段の具体例として、例えば、温風ヒーター、温調ロール、IR(赤外線)ヒーター等によって行われる。   The transport wind from the upstream side is supplied from the upstream supply device, and the transport wind from the downstream side is supplied from the downstream supply device. When the transport air is heated, the heating is performed by, for example, a hot air heater, a temperature control roll, an IR (infrared) heater, or the like as specific examples of the heating unit.

上流側供給装置の供給口と吸い込み口の開口部との距離L1及び下流側供給装置の供給口と吸い込み口の開口部との距離L2は、切断された端部のバタツキや蛇行をより一層十分に抑制する観点から、それぞれ独立して20〜200mmの範囲、特に30〜180mmの範囲であることが好ましい。   The distance L1 between the supply port of the upstream supply device and the opening of the suction port and the distance L2 between the supply port of the downstream supply device and the opening of the suction port are more sufficient to prevent flapping and meandering of the cut end. From the viewpoint of suppressing the temperature, it is preferable that the width is independently 20 to 200 mm, particularly 30 to 180 mm.

上流側からの搬送風の供給方向と吸い込み方向(吸い込み口内におけるフィルム端部の搬送方向)とのなす角度θ1及び下流側からの搬送風の供給方向と吸い込み方向とのなす角度は、本発明の目的が達成される限り特に制限されず、切断された端部のバタツキや蛇行をより一層十分に抑制する観点から、それぞれ独立して10〜90°の範囲、特に30〜85°の範囲であることが好ましい。   The angle θ1 formed between the supply direction of the conveying air from the upstream side and the suction direction (the conveying direction of the film end in the suction port) and the angle formed between the supply direction of the conveying air from the downstream side and the suction direction are defined by the present invention. It is not particularly limited as long as the object is achieved, and from the viewpoint of more sufficiently suppressing flapping and meandering of the cut end, each is independently in the range of 10 to 90 °, particularly in the range of 30 to 85 °. Is preferred.

上流側供給装置及び下流側供給装置は通常、供給口が円形状を有するものが使用される。   As the upstream supply device and the downstream supply device, those having a circular supply port are usually used.

本工程、特に端部切断段階に供されるフィルムの残留溶媒量は、0〜50質量%の範囲、特に0〜20質量%の範囲であることが好ましい。これによって、フィルム端部の切断を容易に達成しながらも、フィルム端部における支持体面側と反支持体面側との収縮差をより有効に低減できるためである。   The amount of residual solvent in the film subjected to this step, particularly the edge cutting step, is preferably in the range of 0 to 50% by mass, particularly preferably in the range of 0 to 20% by mass. This is because the difference in shrinkage between the support surface side and the non-support surface side at the film end can be more effectively reduced while easily cutting the film end.

≪環状ポリオレフィンフィルムを構成する材料≫
以下、本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法に用いられる材料について詳細に説明する。
≫Materials constituting cyclic polyolefin film≫
Hereinafter, the materials used in the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention will be described in detail.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法は、環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープすることを特徴とする。本発明に用いることのできる材料は、以下に限定されるものではなく、公知の材料をその構成要素として適宜用いることができる。   The method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention is characterized in that a cyclic polyolefin-based resin is dissolved using an organic solvent, and an additive is added for doping. Materials that can be used in the present invention are not limited to the following, and known materials can be appropriately used as constituent elements.

(1)環状ポリオレフィン系樹脂
本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂としては、次のような(共)重合体が挙げられる。
(1) Cyclic polyolefin-based resin Examples of the cyclic polyolefin-based resin according to the present invention include the following (co) polymers.

Figure 0006657602
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は極性基(すなわち、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基)で置換された炭化水素基である。ただし、R〜Rは、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。RとRとで、又はRとRとで、アルキリデン基を形成していてもよい。nとmは、n+m=1、n=0.2〜1、m=0〜0.8の関係にある。〕
[1]上記一般式(I)で表される特定単量体の開環重合体。
Figure 0006657602
[Wherein, R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen atom, a hydroxy group, an ester group, an alkoxy group, a cyano group, an amide group, an imide group, a silyl group, or a polar group ( That is, it is a hydrocarbon group substituted with a halogen atom, a hydroxy group, an ester group, an alkoxy group, a cyano group, an amide group, an imide group, or a silyl group). However, two or more of R 1 to R 4 may be bonded to each other to form an unsaturated bond, a monocyclic or polycyclic ring, and the monocyclic or polycyclic ring has a double bond. Or an aromatic ring may be formed. R 1 and R 2 or R 3 and R 4 may form an alkylidene group. n and m have a relationship of n + m = 1, n = 0.2 to 1, and m = 0 to 0.8. ]
[1] A ring-opened polymer of the specific monomer represented by the general formula (I).

[2]上記一般式(I)で表される特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体。   [2] A ring-opening copolymer of the specific monomer represented by the general formula (I) and a copolymerizable monomer.

[3]上記[1]又は[2]の開環(共)重合体の水素添加(共)重合体。   [3] A hydrogenated (co) polymer of the ring-opened (co) polymer of the above [1] or [2].

[4]上記[1]又は[2]の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体。   [4] A (co) polymer obtained by cyclizing the ring-opened (co) polymer of the above [1] or [2] by Friedel-Crafts reaction and then hydrogenating it.

[5]上記一般式(I)で表される特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体。   [5] A saturated copolymer of the specific monomer represented by the general formula (I) and an unsaturated double bond-containing compound.

[6]上記一般式(I)で表される特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体及びシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型(共)重合体及びその水素添加(共)重合体。   [6] Addition type (co) of at least one monomer selected from the specific monomer represented by the general formula (I), the vinyl-based cyclic hydrocarbon-based monomer, and the cyclopentadiene-based monomer Polymers and their hydrogenated (co) polymers.

[7]上記一般式(I)で表される特定単量体とアクリレートとの交互共重合体。   [7] An alternating copolymer of the specific monomer represented by the general formula (I) and an acrylate.

(特定単量体)
上記特定単量体の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
トリシクロ[4.3.0.12,5]−8−デセン、
トリシクロ[4.4.0.12,5]−3−ウンデセン、
テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]−4−ペンタデセン、
5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−シアノビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
5−エチリデンビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
5−フェニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フェニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
5−フルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−ペンタフルオロエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリス(フルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラキス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロ−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロ−5−ペンタフルオロエチル−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5−ヘプタフルオロ−iso−プロピル−6−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−クロロ−5,6,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジクロロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−トリフルオロメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−ジフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラキス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロ−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメトキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロ−8−ペンタフルオロエチル−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8−ヘプタフルオロiso−プロピル−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−クロロ−8,9,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジクロロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン
などを挙げることができる。
(Specific monomer)
Specific examples of the specific monomer include the following compounds, but the present invention is not limited to these specific examples.
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
Tricyclo [4.3.0.12,5] -8-decene,
Tricyclo [4.4.0.12,5] -3-undecene,
Tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene,
Pentacyclo [6.5.1.13, 6.02, 7.09, 13] -4-pentadecene;
5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-cyanobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
5-ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-phenyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
5-fluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-pentafluoroethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-tris (fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrakis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluoro-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoro-5-pentafluoroethyl-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5-heptafluoro-iso-propyl-6-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-chloro-5,6,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-dichloro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-trifluoromethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-heptafluoropropoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-fluorotetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-difluoromethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-pentafluoroethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,8-difluorotetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene,
8,9-difluorotetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene,
8,8-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,8,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene,
8,8,9-tris (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,8,9,9-tetrafluorotetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,8,9,9-tetrakis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,8-difluoro-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,9-difluoro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethoxytetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-pentafluoropropoxytetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-fluoro-8-pentafluoroethyl-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,9-difluoro-8-heptafluoroiso-propyl-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-chloro-8,9,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8,9-dichloro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene;
8-methyl-8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] -3-dodecene and the like can be mentioned.

これらは、1種単独で、又は2種以上を併用することができる。   These can be used alone or in combination of two or more.

特定単量体のうち好ましいのは、上記一般式(I)中、R及びRが水素原子又は炭素数1〜10、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基であり、R及びRが水素原子又は一価の有機基であって、R及びRの少なくとも一つは水素原子及び炭化水素基以外の極性を有する極性基を示し、mは0〜3の整数、pは0〜3の整数であり、より好ましくはm+p=0〜4、さらに好ましくは0〜2、特に好ましくはm=1、p=0であるものである。m=1、p=0である特定単量体は、得られる環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。 Preferred among the specific monomers are those in which R 1 and R 3 are a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 2 in the above general formula (I). R 2 and R 4 are a hydrogen atom or a monovalent organic group, and at least one of R 2 and R 4 is a polar group having a polarity other than a hydrogen atom and a hydrocarbon group; And p is an integer of 0 to 3, more preferably m + p = 0 to 4, still more preferably 0 to 2, particularly preferably m = 1 and p = 0. The specific monomer having m = 1 and p = 0 is preferable in that the resulting cyclic polyolefin-based resin has a high glass transition temperature and excellent mechanical strength.

上記特定単量体の極性基としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する2価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基が好ましい。   Examples of the polar group of the specific monomer include a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, and a cyano group.These polar groups include a linking group such as a methylene group. And may be bonded via In addition, a hydrocarbon group to which a divalent organic group having a polarity such as a carbonyl group, an ether group, a silyl ether group, a thioether group, and an imino group is bonded as a linking group is also exemplified as the polar group. Among these, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group or an alloxycarbonyl group is preferable, and an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is particularly preferable.

さらに、R及びRの少なくとも一つが式−(CH)nCOORで表される極性基である単量体は、得られる環状ポリオレフィン系樹脂が高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式において、Rは炭素原子数1〜12、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。また、nは、通常、0〜5であるが、nの値が小さいものほど、得られる環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにnが0である特定単量体はその合成が容易である点で好ましい。 Further, a monomer in which at least one of R 2 and R 4 is a polar group represented by the formula — (CH 2 ) n COOR is obtained from a cyclic polyolefin resin having a high glass transition temperature, a low hygroscopicity, and various materials. It is preferable in that it has excellent adhesion. In the above formula relating to the specific polar group, R is a hydrocarbon group having 1 to 12, more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 2 carbon atoms, preferably an alkyl group. In addition, n is usually 0 to 5. However, a smaller value of n is preferable because the glass transition temperature of the obtained cyclic polyolefin-based resin is higher. Further, the specific monomer in which n is 0 is preferable. It is preferable in that the synthesis is easy.

また、上記一般式(I)において、R又はRがアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基、さらに好ましくは1〜2のアルキル基、特にメチル基であることが好ましく、特に、このアルキル基が上記の式−(CH)nCOORで表される特定の極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合されていることが、得られる環状ポリオレフィン系樹脂の吸湿性を低くできる点で好ましい。 In the above general formula (I), R 1 or R 3 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably a methyl group. preferably, in particular, the alkyl group is the above formula - that is coupled to the (CH 2) the same carbon atom and the carbon atom to which specific polar group is bonded, represented by nCOOR is, of the resulting cyclic polyolefin resin This is preferable in that the hygroscopicity can be reduced.

(共重合性単量体)
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。
(Copolymerizable monomer)
Specific examples of the copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and dicyclopentadiene.

シクロオレフィンの炭素数としては、4〜20が好ましく、さらに好ましいのは5〜12である。これらは、1種単独で、又は2種以上を併用することができる。   The carbon number of the cycloolefin is preferably from 4 to 20, and more preferably from 5 to 12. These can be used alone or in combination of two or more.

特定単量体/共重合性単量体の好ましい使用範囲は、質量比で100/0〜50/50の範囲であり、さらに好ましくは100/0〜60/40の範囲である。   The preferred use range of the specific monomer / copolymerizable monomer is in the range of 100/0 to 50/50 by mass ratio, and more preferably in the range of 100/0 to 60/40.

(開環重合触媒)
本発明において、(i)特定単量体の開環重合体、及び(ii)特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体を得るための開環重合反応は、メタセシス触媒の存在下に行われる。
(Ring-opening polymerization catalyst)
In the present invention, the ring-opening polymerization reaction for obtaining (i) a ring-opening polymer of a specific monomer and (ii) a ring-opening copolymer of a specific monomer and a copolymerizable monomer is performed by metathesis. It is performed in the presence of a catalyst.

このメタセシス触媒は、(a)W、Mo及びReの化合物から選ばれた少なくとも1種と、(b)デミングの周期律表IA族元素(例えばLi、Na、Kなど)、IIA族元素(例えば、Mg、Caなど)、IIB族元素(例えば、Zn、Cd、Hgなど)、IIIA族元
素(例えば、B、Alなど)、IVA族元素(例えば、Si、Sn、Pbなど)、又はIVB族元素(例えば、Ti、Zrなど)の化合物であって、少なくとも一つの該元素−炭素結合又は該元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも1種との組合せからなる触媒である。また、この場合に触媒の活性を高めるために、後述の(c)添加剤が添加されたものであってもよい。
The metathesis catalyst includes (a) at least one selected from compounds of W, Mo, and Re; (b) a group IA element (eg, Li, Na, K, etc.) of the Deming periodic table; and a group IIA element (eg, Li, Na, K). , Mg, Ca, etc.), Group IIB elements (eg, Zn, Cd, Hg, etc.), Group IIIA elements (eg, B, Al, etc.), Group IVA elements (eg, Si, Sn, Pb, etc.), or Group IVB A catalyst which is a compound of an element (for example, Ti, Zr or the like) and which is a combination with at least one selected from those having at least one of the element-carbon bond or the element-hydrogen bond. In this case, in order to enhance the activity of the catalyst, an additive (c) described below may be added.

(a)成分として適当なW、Mo又はReの化合物の代表例としては、WCl、MoCl、ReOClなどの特開平1−132626号公報第8頁左下欄第6行〜第8頁右上欄第17行に記載の化合物を挙げることができる。 Representative examples of W, Mo or Re compounds suitable as the component (a) include, for example, WCl 6 , MoCl 6 , ReOCl 3 and the like, JP-A-1-132626, page 8, lower left column, line 6 to page 8, upper right. The compounds described in column, line 17 can be mentioned.

(b)成分の具体例としては、n−CLi、(CAl、(CAlCl、(C1.5AlCl1.5、(C)AlCl、メチルアルモキサン、LiHなど特開平1−132626号公報第8頁右上欄第18行〜第8頁右下欄第3行に記載の化合物を挙げることができる。 Specific examples of the component (b) include nC 4 H 9 Li, (C 2 H 5 ) 3 Al, (C 2 H 5 ) 2 AlCl, (C 2 H 5 ) 1.5 AlCl 1.5 , (C 2 H 5 ) AlCl 2 , methylalumoxane, LiH, etc., compounds described in JP-A-1-132626, page 8, upper right column, line 18 to page 8, lower right column, line 3 can be exemplified.

添加剤である(c)成分の代表例としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができるが、さらに特開平1−132626号公報第8頁右下欄第16行〜第9頁左上欄第17行に示される化合物を使用することができる。   As typical examples of the component (c), which is an additive, alcohols, aldehydes, ketones, amines and the like can be suitably used, and furthermore, JP-A-1-132626, p. The compounds shown in line 16 to page 9, upper left column, line 17 can be used.

メタセシス触媒の使用量としては、上記(a)成分と特定単量体とのモル比で「(a)成分:特定単量体」が、通常、1:500〜1:50000となる範囲、好ましくは1:1000〜1:10000となる範囲とされる。   The amount of the metathesis catalyst used is such that the molar ratio of the component (a) to the specific monomer is such that the “component (a): specific monomer” is usually from 1: 500 to 1: 50000, preferably. Is in the range of 1: 1000 to 1: 10000.

(a)成分と(b)成分との割合は、金属原子比で(a):(b)が1:1〜1:50、好ましくは1:2〜1:30の範囲とされる。   The ratio of the component (a) to the component (b) is such that (a) :( b) is in the range of 1: 1 to 1:50, preferably 1: 2 to 1:30 in terms of metal atom ratio.

(a)成分と(c)成分との割合は、モル比で(c):(a)が0.005:1〜15:1、好ましくは0.05:1〜7:1の範囲とされる。   The molar ratio of component (a) to component (c) is such that (c) :( a) is in the range of 0.005: 1 to 15: 1, preferably 0.05: 1 to 7: 1. You.

(重合反応用溶媒)
開環重合反応において用いられる溶媒(分子量調節剤溶液を構成する溶媒、特定単量体及び/又はメタセシス触媒の溶媒)としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素、クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどの、ハロゲン化アルカン、ハロゲン化アリールなどの化合物、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタンなどの飽和カルボン酸エステル類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類などを挙げることができ、これらは単独で又は混合して用いることができる。これらのうち、芳香族炭化水素が好ましい。
(Polymerization reaction solvent)
Examples of the solvent used in the ring-opening polymerization reaction (the solvent constituting the molecular weight modifier solution, the solvent for the specific monomer and / or the metathesis catalyst) include alkanes such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane, and decane; Cyclohexanes such as cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, decalin, norbornane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, chlorobutane, bromohexane, methylene chloride, dichloroethane, hexamethylene dibromide, chlorobenzene, Compounds such as halogenated alkanes and aryl halides such as chloroform and tetrachloroethylene; saturated carboxylic acids such as ethyl acetate, n-butyl acetate, iso-butyl acetate, methyl propionate and dimethoxyethane Ester ethers, dibutyl ether, tetrahydrofuran, and the like can be illustrated ethers such as dimethoxyethane, they can be used alone or in combination. Of these, aromatic hydrocarbons are preferred.

溶媒の使用量としては、「溶媒:特定単量体(質量比)」が、通常、1:1〜10:1となる量とされ、好ましくは1:1〜5:1となる量とされる。   The amount of the solvent used is such that "solvent: specific monomer (mass ratio)" is usually 1: 1 to 10: 1, preferably 1: 1 to 5: 1. You.

(分子量調節剤)
得られる開環(共)重合体の分子量の調節は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節する。
(Molecular weight regulator)
The molecular weight of the obtained ring-opened (co) polymer can be controlled by the polymerization temperature, the type of catalyst, and the type of solvent. In the present invention, the molecular weight is controlled by coexisting a molecular weight modifier in the reaction system. I do.

ここに、好適な分子量調節剤としては、例えばエチレン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンなどのα−オレフィン類及びスチレンを挙げることができ、これらのうち、1−ブテン、1−ヘキセンが特に好ましい。   Here, suitable molecular weight regulators include, for example, α-olefins such as ethylene, propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and the like. Styrene can be mentioned, among which 1-butene and 1-hexene are particularly preferred.

これらの分子量調節剤は、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   These molecular weight regulators can be used alone or in combination of two or more.

分子量調節剤の使用量としては、開環重合反応に供される特定単量体1モルに対して0.005〜0.6モル、好ましくは0.02〜0.5モルとされる。   The amount of the molecular weight modifier used is 0.005 to 0.6 mol, preferably 0.02 to 0.5 mol, per 1 mol of the specific monomer subjected to the ring-opening polymerization reaction.

(ii)開環共重合体を得るには、開環重合工程において、特定単量体と共重合性単量体とを開環共重合させてもよいが、さらに、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結合を二つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に特定単量体を開環重合させてもよい。   (Ii) In order to obtain a ring-opening copolymer, in the ring-opening polymerization step, a specific monomer and a copolymerizable monomer may be subjected to ring-opening copolymerization, and furthermore, polybutadiene, polyisoprene, etc. In the presence of unsaturated hydrocarbon polymers containing two or more carbon-carbon double bonds in the main chain of conjugated diene compounds, styrene-butadiene copolymers, ethylene-non-conjugated diene copolymers, polynorbornene, etc. The specific monomer may be subjected to ring-opening polymerization.

以上のようにして得られる開環(共)重合体は、そのままでも用いられるが、これをさらに水素添加して得られた(iii)水素添加(共)重合体は、耐衝撃性の大きい樹脂の原
料として有用である。
The ring-opened (co) polymer obtained as described above can be used as it is, but (iii) a hydrogenated (co) polymer obtained by further hydrogenating the polymer has a high impact resistance. Useful as a raw material for

(水素添加触媒)
水素添加反応は、通常の方法、すなわち開環重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜300気圧、好ましくは3〜200気圧の水素ガスを0〜200℃、好ましくは20〜180℃で作用させることによって行われる。
(Hydrogenation catalyst)
The hydrogenation reaction is carried out in a usual manner, that is, a hydrogenation catalyst is added to a solution of the ring-opening polymer, and hydrogen gas at normal pressure to 300 atm, preferably 3 to 200 atm is added to the solution at 0 to 200 ° C, preferably 20 to 200 atm. It is performed by operating at ~ 180 ° C.

水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒及び均一系触媒が挙げられる。   As the hydrogenation catalyst, those used in ordinary hydrogenation reactions of olefinic compounds can be used. The hydrogenation catalyst includes a heterogeneous catalyst and a homogeneous catalyst.

不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は、粉末でも粒状でもよい。   Examples of the heterogeneous catalyst include a solid catalyst in which a noble metal catalyst substance such as palladium, platinum, nickel, rhodium and ruthenium is supported on a carrier such as carbon, silica, alumina and titania. Examples of homogeneous catalysts include nickel / triethylaluminum naphthenate, nickel acetylacetonate / triethylaluminum, cobalt octenoate / n-butyllithium, titanocene dichloride / diethylaluminum monochloride, rhodium acetate, and chlorotris (triphenylphosphine) rhodium. , Dichlorotris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydrocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium and the like. The form of the catalyst may be powder or granular.

これらの水素添加触媒は、開環(共)重合体:水素添加触媒(質量比)が、1:1×10−6〜1:2となる割合で使用される。 These hydrogenation catalysts are used at a ratio of a ring-opening (co) polymer: hydrogenation catalyst (mass ratio) of 1: 1 × 10 −6 to 1: 2.

このように、水素添加することにより得られる水素添加(共)重合体は、優れた熱安定性を有するものとなり、成形加工時や製品としての使用時の加熱によっても、その特性が劣化することはない。ここに、水素添加率は、通常、50%以上、好ましく70%以上、さらに好ましくは90%以上である。   As described above, the hydrogenated (co) polymer obtained by hydrogenation has excellent thermal stability, and its properties are degraded by heating during molding and use as a product. There is no. Here, the hydrogenation rate is usually 50% or more, preferably 70% or more, and more preferably 90% or more.

また、水素添加(共)重合体の水素添加率は、500MHz、H−NMRで測定した値が50%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは98%以上、最も好ましくは99%以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを波長板として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができる。 In addition, the hydrogenation rate of the hydrogenated (co) polymer is at least 50%, preferably at least 90%, more preferably at least 98%, most preferably at least 99%, as measured by 1 H-NMR at 500 MHz. is there. The higher the hydrogenation rate, the more excellent the stability to heat and light becomes, and when the cyclic polyolefin film of the present invention is used as a wave plate, long-term stable characteristics can be obtained.

なお、本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂として使用される水素添加(共)重合体は、該水素添加(共)重合体中に含まれるゲル含有量が5質量%以下であることが好ましく、さらに1質量%以下であることが特に好ましい。   The hydrogenated (co) polymer used as the cyclic polyolefin-based resin according to the present invention preferably has a gel content of 5% by mass or less contained in the hydrogenated (co) polymer. It is particularly preferred that the content be 1% by mass or less.

また、本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂として、(iv)上記(i)又は(ii)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体も使用できる。   Further, as the cyclic polyolefin resin according to the present invention, (iv) the ring-opened (co) polymer of the above (i) or (ii) is cyclized by a Friedel-Crafts reaction and then hydrogenated (co) polymer. Can also be used.

(フリーデルクラフト反応による環化)
(i)又は(ii)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化する方法は特に限定されるものではないが、特開昭50−154399号公報に記載の酸性化合物を用いた公知の方法が採用できる。酸性化合物としては、具体的には、AlCl、BF、FeCl、Al、HCl、CHClCOOH、ゼオライト、活性白土などのルイス酸、ブレンステッド酸が用いられる。
(Cyclization by Friedel Craft reaction)
The method for cyclizing the ring-opened (co) polymer of (i) or (ii) by the Friedel-Crafts reaction is not particularly limited, but the acidic compound described in JP-A-50-154399 is used. The known method can be adopted. As the acidic compound, specifically, a Lewis acid such as AlCl 3 , BF 3 , FeCl 3 , Al 2 O 3 , HCl, CH 3 ClCOOH, zeolite, or activated clay, or a Bronsted acid is used.

環化された開環(共)重合体は、(i)又は(ii)の開環(共)重合体と同様に水素添加できる。   The cyclized ring-opened (co) polymer can be hydrogenated similarly to the ring-opened (co) polymer of (i) or (ii).

さらに、本発明の環状ポリオレフィン系樹脂として、(v)上記特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体も使用できる。   Further, as the cyclic polyolefin-based resin of the present invention, (v) a saturated copolymer of the above specific monomer and an unsaturated double bond-containing compound can also be used.

<不飽和二重結合含有化合物>
不飽和二重結合含有化合物としては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなど、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のオレフィン系化合物を挙げることができる。
<Unsaturated double bond-containing compound>
Examples of the unsaturated double bond-containing compound include olefin compounds having preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, such as ethylene, propylene and butene.

特定単量体/不飽和二重結合含有化合物の好ましい使用範囲は、質量比で90/10〜40/60であり、さらに好ましくは85/15〜50/50である。   The preferred use range of the specific monomer / unsaturated double bond-containing compound is 90/10 to 40/60 by mass ratio, and more preferably 85/15 to 50/50.

本発明において、(v)特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体を得るには、通常の付加重合法を使用できる。   In the present invention, in order to obtain (v) a saturated copolymer of a specific monomer and an unsaturated double bond-containing compound, a usual addition polymerization method can be used.

(付加重合触媒)
上記(v)飽和共重合体を合成するための触媒としては、チタン化合物、ジルコニウム化合物及びバナジウム化合物から選ばれた少なくとも1種と、助触媒としての有機アルミニウム化合物とが用いられる。
(Addition polymerization catalyst)
As the catalyst for synthesizing the saturated copolymer (v), at least one selected from a titanium compound, a zirconium compound and a vanadium compound, and an organoaluminum compound as a promoter are used.

ここで、チタン化合物としては、四塩化チタン、三塩化チタンなどを、またジルコニウム化合物としてはビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドなどを挙げることができる。   Here, as the titanium compound, titanium tetrachloride, titanium trichloride and the like can be mentioned, and as the zirconium compound, bis (cyclopentadienyl) zirconium chloride and bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride can be mentioned.

さらに、バナジウム化合物としては、
一般式 VO(OR)aXb、又はV(OR)cXd
〔ただし、Rは炭化水素基、Xはハロゲン原子であって、0≦a≦3、0≦b≦3、2≦(a+b)≦3、0≦c≦4、0≦d≦4、3≦(c+d)≦4である。〕
で表されるバナジウム化合物、又はこれらの電子供与付加物が用いられる。
Further, as the vanadium compound,
General formula VO (OR) aXb or V (OR) cXd
[Where R is a hydrocarbon group, X is a halogen atom, and 0 ≦ a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 3, 2 ≦ (a + b) ≦ 3, 0 ≦ c ≦ 4, 0 ≦ d ≦ 4, 3 .Ltoreq. (C + d) .ltoreq.4. ]
Or an electron-donating adduct thereof.

上記電子供与体としては、アルコール、フェノール類、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、有機酸又は無機酸のエステル、エーテル、酸アミド、酸無水物、アルコキシシランなどの含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアナートなどの含窒素電子供与体などが挙げられる。   Examples of the electron donor include alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, esters of organic or inorganic acids, ethers, acid amides, acid anhydrides, oxygen-containing electron donors such as alkoxysilanes, ammonia, amines, Examples include nitrogen-containing electron donors such as nitriles and isocyanates.

さらに、助触媒としての有機アルミニウム化合物としては、少なくとも一つのアルミニウム−炭素結合又はアルミニウム−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも1種が用いられる。   Further, as the organoaluminum compound as the co-catalyst, at least one selected from compounds having at least one aluminum-carbon bond or aluminum-hydrogen bond is used.

上記において、例えばバナジウム化合物を用いる場合におけるバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物の比率は、バナジウム原子に対するアルミニウム原子の比(Al/V)が2以上であり、好ましくは2〜50、特に好ましくは3〜20の範囲である。   In the above, for example, when a vanadium compound is used, the ratio of the vanadium compound to the organoaluminum compound is such that the ratio of aluminum atoms to vanadium atoms (Al / V) is 2 or more, preferably 2 to 50, particularly preferably 3 to 20. Range.

付加重合に使用される重合反応用溶媒は、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。また、得られる(v)飽和共重合体の分子量の調節は、通常、水素を用いて行われる。   As the solvent for the polymerization reaction used for the addition polymerization, the same solvent as that used for the ring-opening polymerization reaction can be used. Adjustment of the molecular weight of the obtained (v) saturated copolymer is usually performed using hydrogen.

さらに、本発明の環状ポリオレフィン系樹脂として、(vi)上記特定単量体、及びビニル系環状炭化水素系単量体又はシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型共重合体及びその水素添加共重合体も使用できる。   Further, as the cyclic polyolefin-based resin of the present invention, (vi) an addition type of the above-mentioned specific monomer and one or more monomers selected from vinyl-based cyclic hydrocarbon-based monomers and cyclopentadiene-based monomers Copolymers and their hydrogenated copolymers can also be used.

(ビニル系環状炭化水素系単量体)
ビニル系環状炭化水素系単量体としては、例えば、4−ビニルシクロペンテン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロペンテンなどのビニルシクロペンテン系単量体、4−ビニルシクロペンタン、4−イソプロペニルシクロペンタンなどのビニルシクロペンタン系単量体などのビニル化5員環炭化水素系単量体、4−ビニルシクロヘキセン、4−イソプロペニルシクロヘキセン、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセン、2−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン系単量体、4−ビニルシクロヘキサン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン系単量体、スチレン、α−メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、4−フェニルスチレン、p−メトキシスチレンなどのスチレン系単量体、d−テルペン、1−テルペン、ジテルペン、d−リモネン、1−リモネン、ジペンテンなどのテルペン系単量体、4−ビニルシクロヘプテン、4−イソプロペニルシクロヘプテンなどのビニルシクロヘプテン系単量体、4−ビニルシクロヘプタン、4−イソプロペニルシクロヘプタンなどのビニルシクロヘプタン系単量体などが挙げられる。好ましくは、スチレン、α−メチルスチレンである。これらは、1種単独で、又は2種以上を併用することができる。
(Vinyl cyclic hydrocarbon monomer)
Examples of the vinyl cyclic hydrocarbon monomer include, for example, vinyl cyclopentene monomers such as 4-vinylcyclopentene and 2-methyl-4-isopropenylcyclopentene, 4-vinylcyclopentane, 4-isopropenylcyclopentane, and the like. 5-membered ring hydrocarbon-based monomer such as vinylcyclopentane-based monomer, 4-vinylcyclohexene, 4-isopropenylcyclohexene, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene, 2-methyl-4-vinyl Vinylcyclohexene monomers such as cyclohexene and 2-methyl-4-isopropenylcyclohexene; vinylcyclohexane monomers such as 4-vinylcyclohexane and 2-methyl-4-isopropenylcyclohexane; styrene; α-methylstyrene; 2-methylstyrene, 3- Styrene monomers such as styrene, 4-methylstyrene, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 4-phenylstyrene, p-methoxystyrene, d-terpene, 1-terpene, diterpene, d-limonene, 1- Terpene monomers such as limonene and dipentene; vinylcycloheptene monomers such as 4-vinylcycloheptene and 4-isopropenylcycloheptene; 4-vinylcycloheptane and 4-isopropenylcycloheptane; And vinylcycloheptane-based monomers. Preferred are styrene and α-methylstyrene. These can be used alone or in combination of two or more.

(シクロペンタジエン系単量体)
本発明に用いられる(vi)付加型共重合体の単量体に使用されるシクロペンタジエン系単量体としては、例えばシクロペンタジエン、1−メチルシクロペンタジエン、2−メチルシクロペンタジエン、2−エチルシクロペンタジエン、5−メチルシクロペンタジエン、5,5−メチルシクロペンタジエンなどが挙げられる。好ましくはシクロペンタジエンである。これらは、1種単独で、又は2種以上を併用することができる。
(Cyclopentadiene monomer)
Examples of the cyclopentadiene monomer used for the monomer of the (vi) addition copolymer used in the present invention include cyclopentadiene, 1-methylcyclopentadiene, 2-methylcyclopentadiene, and 2-ethylcyclopentadiene. Examples include pentadiene, 5-methylcyclopentadiene, and 5,5-methylcyclopentadiene. Preferred is cyclopentadiene. These can be used alone or in combination of two or more.

上記特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体及びシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型(共)重合体は、上記(v)特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体と同様の付加重合法で得ることができる。   The addition type (co) polymer of at least one kind of monomer selected from the above-mentioned specific monomer, vinyl-based cyclic hydrocarbon-based monomer and cyclopentadiene-based monomer is the above-mentioned (v) specific monomer And an unsaturated double bond-containing compound.

また、上記付加型(共)重合体の水素添加(共)重合体は、上記(iii)開環(共)重合体の水素添加(共)重合体と同様の水添法で得ることができる。   Further, the hydrogenated (co) polymer of the addition type (co) polymer can be obtained by the same hydrogenation method as the hydrogenated (co) polymer of the (iii) ring-opening (co) polymer. .

さらに、本発明の環状ポリオレフィン系樹脂として、(vii)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体も使用できる。   Further, as the cyclic polyolefin-based resin of the present invention, (vii) an alternating copolymer of the above-mentioned specific monomer and acrylate can also be used.

(アクリレート)
本発明に用いられる(vii)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体の製造に用いられるアクリレートとしては、例えば、メチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどの炭素原子数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状アルキルアクリレート、グリシジルアクリレート、2−テトラヒドロフルフリルアクリレートなどの炭素原子数2〜20の複素環基含有アクリレート、ベンジルアクリレートなどの炭素原子数6〜20の芳香族環基含有アクリレート、イソボロニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレートなどの炭素数7〜30の多環構造を有するアクリレートが挙げられる。
(Acrylate)
(Vii) Examples of the acrylate used in the production of the alternating copolymer of the specific monomer and the acrylate used in the present invention include, for example, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate and the like having 1 to 20 carbon atoms. Linear, branched or cyclic alkyl acrylates, glycidyl acrylates, acrylates having 2 to 20 carbon atoms such as 2-tetrahydrofurfuryl acrylate, and aromatic rings having 6 to 20 carbon atoms such as benzyl acrylate An acrylate having a polycyclic structure having 7 to 30 carbon atoms, such as a group-containing acrylate, isobornyl acrylate, and dicyclopentanyl acrylate, may be used.

本発明において、(vii)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るためには、ルイス酸存在下、上記特定単量体とアクリレートとの合計を100モルとしたとき、通常、上記特定単量体が30〜70モル、アクリレートが70〜30モルの割合で、好ましくは上記特定単量体が40〜60モル、アクリレートが60〜40モル割合で、特に好ましくは上記特定単量体が45〜55モル、アクリレートが55〜45モルの割合でラジカル重合する。   In the present invention, (vii) in order to obtain an alternating copolymer of the specific monomer and acrylate, in the presence of a Lewis acid, when the total of the specific monomer and acrylate is 100 mol, usually, The specific monomer is 30 to 70 mol, the acrylate is 70 to 30 mol, preferably the specific monomer is 40 to 60 mol, and the acrylate is 60 to 40 mol, particularly preferably the specific monomer. Radical polymerization is carried out at a ratio of 45 to 55 mol of the body and 55 to 45 mol of the acrylate.

(vii)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るために使用するルイス酸の量は、アクリレート100モルに対して0.001〜1モルとなる量とされる。また、公知のフリーラジカルを発生する有機過酸化物又はアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができ、重合反応温度は、通常、−20〜80℃、好ましくは5〜60℃である。また、重合反応用溶媒には、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。   (Vii) The amount of the Lewis acid used to obtain the alternating copolymer of the specific monomer and the acrylate is 0.001 to 1 mol based on 100 mol of the acrylate. In addition, a known organic peroxide or an azobis-based radical polymerization initiator that generates a free radical can be used, and the polymerization reaction temperature is usually −20 to 80 ° C., preferably 5 to 60 ° C. As the solvent for the polymerization reaction, the same solvent as that used in the ring-opening polymerization reaction can be used.

なお、本発明でいう「交互共重合体」とは、上記特定単量体に由来する構造単位が隣接しない、すなわち、上記特定単量体に由来する構造単位の隣は必ずアクリレートに由来する構造単位である構造を有する共重合体のことを意味しており、アクリレート由来の構造単位どうしが隣接して存在する構造を否定するものではない。   In the present invention, the term "alternate copolymer" means that the structural unit derived from the specific monomer is not adjacent, that is, the structural unit derived from the specific monomer is always adjacent to the acrylate. It means a copolymer having a structure as a unit, and does not deny a structure in which acrylate-derived structural units are adjacent to each other.

本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕inhで0.2〜5dl/g、さらに好ましくは0.3〜3dl/g、特に好ましくは0.4〜1.5dl/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は8000〜100000、さらに好ましくは10000〜80000、特に好ましくは12000〜50000であり、重量平均分子量(Mw)は20000〜300000、さらに好ましくは30000〜250000、特に好ましくは40000〜200000の範囲のものが好適である。   The preferred molecular weight of the cyclic polyolefin resin according to the present invention is 0.2 to 5 dl / g, more preferably 0.3 to 3 dl / g, particularly preferably 0.4 to 1.5 dl / g in intrinsic viscosity [η] inh. g, and the number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is 8,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, particularly preferably 12,000 to 50,000, and the weight average molecular weight (Mw). ) Is preferably in the range of 20,000 to 300,000, more preferably 30,000 to 250,000, particularly preferably 40,000 to 200,000.

固有粘度〔η〕inh、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、環状ポリオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明の環状ポリオレフィンフィルムとしての成形加工性が良好となる。   Intrinsic viscosity [η] inh, the number average molecular weight and the weight average molecular weight are in the above range, the heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of the cyclic polyolefin resin and the cyclic polyolefin film of the present invention. Good moldability is obtained.

本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)としては、通常、110℃以上、好ましくは110〜350℃、さらに好ましくは120〜250℃、特に好ましくは120〜220℃である。Tgが110℃未満の場合は、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工により変形するので好ましくない。一方、Tgが350℃を超えると、成形加工が困難になり、また成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性が高くなる。   The glass transition temperature (Tg) of the cyclic polyolefin resin according to the present invention is usually 110 ° C. or higher, preferably 110 to 350 ° C., more preferably 120 to 250 ° C., and particularly preferably 120 to 220 ° C. When Tg is lower than 110 ° C., it is not preferable because it is deformed by use under high temperature conditions or by secondary processing such as coating and printing. On the other hand, when Tg exceeds 350 ° C., molding becomes difficult, and the possibility of deterioration of the resin due to heat during molding increases.

環状ポリオレフィン系樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平9−221577号公報、特開平10−287732号公報に記載されている、特定の炭化水素系樹脂、又は公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子などを配合しても良い。   As long as the effects of the present invention are not impaired, a specific hydrocarbon-based resin described in, for example, JP-A-9-221577 and JP-A-10-287732, or a known heat-sensitive resin may be used as the cyclic polyolefin-based resin. A plastic resin, a thermoplastic elastomer, a rubbery polymer, organic fine particles, inorganic fine particles, and the like may be blended.

本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂は、粒径0.5μm以上の異物粒子が3×10個/g以下、好ましくは1×10個/g以下、より好ましくは0.5×10個/g以下であることが好ましい。環状ポリオレフィン系樹脂中の粒径0.5μm以上の異物粒子を低減したものが、例えば、特開平3−57615号公報に開示されているが、重合体中の粒径0.5μm以上の異物粒子数は少なくとも6×10個/g程度であり、超音波洗浄等での異物粒子の発生を無くすには不十分である。 In the cyclic polyolefin-based resin according to the present invention, foreign particles having a particle diameter of 0.5 μm or more are 3 × 10 4 particles / g or less, preferably 1 × 10 4 particles / g or less, more preferably 0.5 × 10 4 particles. / G or less. One in which the amount of foreign particles having a particle size of 0.5 μm or more in the cyclic polyolefin resin is reduced is disclosed in, for example, JP-A-3-57615. The number is at least about 6 × 10 4 / g, which is insufficient to eliminate the generation of foreign particles in ultrasonic cleaning or the like.

環状ポリオレフィン系樹脂中の異物の含有量は、光散乱式微粒子検出器を用いて測定できる。異物の形状は、通常、粒状であるが、それに限定されない。異物の内容も、外部から混入した不純物のほか、触媒残渣、ゲル化物、副反応物など、環状ポリオレフィン系樹脂に相溶化しないものの全てを含む。そして、光散乱式微粒子検出器を用いて測定される粒径0.5μm以上のものを異物とする。粒径0.5μm以上の異物の含有量が少ない環状ポリオレフィン系樹脂の製造方法は、格別な制限はないが、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂を溶解させた溶液を、(1)口径が0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下の機械的フィルターで少なくとも2回濾過する方法、(2)電荷的捕捉機能を有する濾過フィルターで濾過する方法などを挙げることができる。これらの方法の中でも、(2)の電荷的捕捉機能を有する濾過フィルターを用いる方法が、微細異物の除去能が高く、目開きによる機械的フィルターによる濾過では通過する微細異物が取り除けられ、濾過後の再凝集による異物の再生成などが防止されるので好適である。   The content of foreign matter in the cyclic polyolefin-based resin can be measured using a light scattering type fine particle detector. The shape of the foreign matter is usually granular, but is not limited thereto. The contents of the foreign matter include not only impurities mixed from the outside, but also all of those which are not compatible with the cyclic polyolefin resin, such as a catalyst residue, a gelled product, and a by-product. Particles having a particle diameter of 0.5 μm or more measured using a light scattering type fine particle detector are regarded as foreign substances. The method for producing a cyclic polyolefin-based resin having a small content of foreign substances having a particle diameter of 0.5 μm or more is not particularly limited. For example, a solution in which a cyclic polyolefin-based resin is dissolved is prepared by: Hereinafter, a method of filtering at least twice with a mechanical filter preferably having a size of 0.3 μm or less, and (2) a method of filtering with a filter having a charge trapping function can be exemplified. Among these methods, the method of (2) using a filtration filter having a charge trapping function has a high ability to remove fine foreign substances, and the filtration by a mechanical filter with openings can remove fine foreign substances that pass through. This is preferable because the generation of foreign matter due to the re-aggregation of the particles is prevented.

環状ポリオレフィン系樹脂を溶解した溶液としては、通常、環状オレフィン系モノマー又は環状オレフィン系モノマーと共重合可能なビニル化合物とを(共)重合した後の重合体含有溶液、又は、水素添加反応した後の反応溶液がそのまま用いられる。濾過の際の重合体含有溶液の濃度は、通常1〜40質量%の範囲、好ましくは5〜35質量%の範囲、より好ましくは10〜30質量%の範囲である。重合体含有溶液の濃度が過度に低いと大量の溶媒を処理する必要があり、逆に、過度に溶液濃度が高いと濾過性が低下する。重合反応後又は水素添加反応後の溶液濃度は、通常、10〜25質量%程度であるので、濃縮や希釈をすることなく濾過すればよい。   The solution in which the cyclic polyolefin resin is dissolved is usually a polymer-containing solution obtained by (co) polymerizing a cyclic olefin monomer or a vinyl compound copolymerizable with the cyclic olefin monomer, or after a hydrogenation reaction. Is used as it is. The concentration of the polymer-containing solution at the time of filtration is usually in the range of 1 to 40% by mass, preferably in the range of 5 to 35% by mass, and more preferably in the range of 10 to 30% by mass. If the concentration of the polymer-containing solution is too low, it is necessary to treat a large amount of the solvent. Conversely, if the concentration of the solution is too high, the filterability decreases. The concentration of the solution after the polymerization reaction or after the hydrogenation reaction is usually about 10 to 25% by mass, so that the filtration may be performed without concentration or dilution.

電荷的捕捉機能を有するフィルターは、電気的に荷電異物を捕捉除去するもので、通常は、濾材に電荷を付与したものが用いられる。一般的にはゼータ電位を制御したゼータ電位濾過フィルターが用いられる。ゼータ電位濾過フィルターとしては、一般的には、例えば、特表平4−504379号公報などに記載されているセルロース繊維/シリカ/陽電荷変性剤(ポリアミンエピクロロヒドリン樹脂、脂肪族ポリアミンなど)のような、濾材に陽電荷変性剤を付与したフィルターなどが用いられる。   A filter having a charge trapping function is a filter that electrically traps and removes a charged foreign substance, and usually uses a filter medium to which a charge is applied. Generally, a zeta potential filtration filter in which the zeta potential is controlled is used. As the zeta potential filtration filter, generally, for example, cellulose fiber / silica / positive charge modifier (polyamine epichlorohydrin resin, aliphatic polyamine, etc.) described in JP-T-4-504379 A filter in which a positive charge modifying agent is added to a filter medium such as described above is used.

その他の濾材としては、例えば、ポリプロピレン製、ポリエチレン製、PTFE製などの繊維製又はメンブランフィルター、セルロース製の繊維製フィルター、ガラス繊維製フィルター、珪藻土などの無機物製フィルター、金属繊維製フィルターなどが挙げられる。その他の陽電荷変性剤としては、例えば、メラミンホルムアルデヒド陽イオンコロイド、無機陽イオンコロイドシリカ、などが挙げられる。市場では、陽電荷変性濾過フィルターが、キュノ社によって商標「ゼータプラス」で販売されている。電荷的捕捉機能を有する濾過フィルターでの濾過は、処理能力が必ずしも高くないので、通常は、機械的濾過フィルターと組み合わせて行われる。組み合わせる順番は、格別制限はないが、通常、機械的濾過フィルター、次いで電荷的捕捉機能フィルターの順で使用される。   Other filter media include, for example, a fiber or membrane filter such as polypropylene, polyethylene, and PTFE, a cellulose fiber filter, a glass fiber filter, an inorganic filter such as diatomaceous earth, and a metal fiber filter. Can be Examples of other positive charge modifiers include melamine formaldehyde cationic colloid, inorganic cationic colloid silica, and the like. On the market, a positive charge denaturing filter is sold by Cuno under the trademark "Zetaplus". Filtration with a filtration filter having a charge trapping function is not always high, so that it is usually performed in combination with a mechanical filtration filter. The order of combination is not particularly limited, but is usually a mechanical filtration filter, and then a charge trapping filter.

機械的濾過フィルターとしては、溶媒によって悪影響を受けないものであれば特に限定はされず、例えば、ポリプロピレン製、ポリエチレン製、PTFE製などの繊維製又はメンブランフィルター、セルロース製の繊維製フィルター、ガラス繊維製フィルター、珪藻土などの無機物製フィルター、金属繊維製フィルターなどが挙げられる。機械的濾過フィルターの口径は、格別制限はないが、通常10μm以下、好ましくは5μm以下、より好ましくは1μm以下である。これらの機械的濾過フィルターは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The mechanical filtration filter is not particularly limited as long as it is not adversely affected by the solvent. For example, a fiber or membrane filter made of polypropylene, polyethylene, PTFE, etc., a cellulose fiber filter, a glass fiber Filters, inorganic filters such as diatomaceous earth, and metal fiber filters. The diameter of the mechanical filtration filter is not particularly limited, but is usually 10 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less. These mechanical filtration filters can be used alone or in combination of two or more.

電荷的捕捉機能を有するフィルターを用いない場合には、機械的濾過フィルターの口径が0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下のものを用いて2回以上濾過操作を繰り返すことで達成される。濾過後の濾液は、外部環境から異物が混入しないように密閉系で、減圧下に加熱して揮発成分の除去を行い、例えば、クリーンルーム内等のクリーン度の高い環境下、クリーン度をクラス1000以下、好ましくはクラス100以下に厳重に管理した環境で冷却・ペレット化することができる。   When a filter having a charge trapping function is not used, this can be achieved by repeating the filtration operation twice or more using a mechanical filtration filter having a diameter of 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less. The filtrate after filtration is heated under reduced pressure to remove volatile components in a closed system so that foreign substances do not enter from the external environment. For example, in a clean environment such as in a clean room, the cleanness is rated at class 1000. In the following, cooling and pelletizing can be performed in an environment strictly controlled, preferably to class 100 or less.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、異なる環状ポリオレフィン系樹脂を2種類以上用いることが、添加剤起因の異物溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になることから好ましい。一方の環状オレフィンに溶解しない添加剤に起因する異物が、極性の異なる環状オレフィンに相溶する為、異物が大幅に減少するものと推定される。   In the cyclic polyolefin film of the present invention, it is preferable to use two or more kinds of different cyclic polyolefin-based resins, because the solubility of foreign substances caused by additives increases and the effect of reducing foreign substance failure becomes remarkable. It is presumed that the foreign matter caused by the additive that does not dissolve in one of the cyclic olefins is compatible with the cyclic olefin having a different polarity, so that the foreign matter is significantly reduced.

2種類用いる場合は、主たる環状ポリオレフィン系樹脂(A)に対し、従たる環状ポリオレフィン系樹脂(B)の混合比率は、質量比率で95:5〜50:50の範囲内であることが好ましい。3種類以上を混合する場合は、その混合比率は効果によって適宜選択することができる。   When two types are used, the mixing ratio of the secondary cyclic polyolefin resin (B) to the primary cyclic polyolefin resin (A) is preferably in the range of 95: 5 to 50:50 by mass. When three or more types are mixed, the mixing ratio can be appropriately selected depending on the effect.

以上説明した環状ポリオレフィン系樹脂は、市販品を好ましく用いることができ、市販品の例としては、JSR(株)からアートン(Arton)G、アートンF、アートンR、及びアートンRXという商品名で発売されており、また日本ゼオン(株)からゼオノア(Zeonor)ZF14、ZF16、ゼオネックス(Zeonex)250又はゼオネックス280という商品名で市販されており、これらを使用することができる。   As the cyclic polyolefin-based resin described above, commercially available products can be preferably used. Examples of the commercially available products are commercially available from JSR Corporation under the trade names Arton G, Arton F, Arton R, and Arton RX. Zeonor ZF14, ZF16, Zeonex 250 or Zeonex 280 are commercially available from Zeon Corporation, and these can be used.

(2)セルロースアシレート
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、ドープ中にセルロースアシレート系樹脂を微量添加することによって、添加剤起因の異物溶解性が増し、異物故障低減の効果が顕著になる。環状ポリオレフィン系樹脂に溶解しない添加剤に起因する異物が、極性の高いセルロースアシレート系樹脂に相溶する為、異物が大幅に減少するものと推定される。
(2) Cellulose Acylate In the cyclic polyolefin film of the present invention, by adding a very small amount of a cellulose acylate-based resin into the dope, the solubility of foreign substances caused by additives is increased, and the effect of reducing foreign substance failure becomes remarkable. It is presumed that foreign matter caused by additives that do not dissolve in the cyclic polyolefin-based resin is compatible with the highly polar cellulose acylate-based resin, so that the foreign matter is significantly reduced.

また、フィルムの表面に機能層を塗布する際の塗布性が向上し、ハジキや塗布むらを低減する観点から、少量のセルロースアシレートを併用することが好ましい。さらに、セルロースアシレート樹脂が入ることで、ハードコート基材との密着性が増し、ハードコートフィルムとしての硬度を上げることができる。   In addition, it is preferable to use a small amount of cellulose acylate in combination with the viewpoint of improving coatability when coating the functional layer on the surface of the film and reducing repelling and uneven coating. Further, by incorporating the cellulose acylate resin, the adhesion to the hard coat substrate is increased, and the hardness as the hard coat film can be increased.

特に好適なセルロースアシレートとしては、アシル基の置換度が2.50〜2.98の範囲のものが挙げられ、アシル基がアセチル基、プロピオニル基及びブチリル基から選ばれる少なくとも一つのものである。具体的にはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート等を挙げることができ、本発明においては、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート及びセルロースアセテートブチレートが好ましい。アセチル基の置換度が1.40以上であることが好ましい。セルロースアシレートの原料となるセルロースは特に限定はなく、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを用いることができる。これらを混合して使用してもよい。綿花リンターから合成されたセルロースアシレートの比率が60質量%以上であることが好ましく、85質量%以上がさらに好ましく、100質量%であることが最も好ましい。セルロースアシレートの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平10−45804号公報に記載の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法は、ASTM−D817−96により測定することができる。セルロースアシレートの数平均分子量は、偏光板用保護フィルムとして好ましい機械的強度を得るためには、70000〜300000の範囲内が好ましく、更に80000〜200000の範囲内が好ましい。   Particularly preferred cellulose acylates include those having a substitution degree of an acyl group in the range of 2.50 to 2.98, and the acyl group is at least one selected from an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group. . Specifically, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, and the like, and in the present invention, cellulose triacetate, cellulose Acetate propionate and cellulose acetate butyrate are preferred. The degree of substitution of the acetyl group is preferably 1.40 or more. There is no particular limitation on cellulose used as a raw material of cellulose acylate, and cotton linter, wood pulp, kenaf and the like can be used. These may be mixed and used. The ratio of cellulose acylate synthesized from cotton linter is preferably 60% by mass or more, more preferably 85% by mass or more, and most preferably 100% by mass. The method for synthesizing cellulose acylate is not particularly limited. For example, it can be synthesized by the method described in JP-A-10-45804. The method for measuring the degree of substitution of the acyl group can be measured by ASTM-D817-96. The number average molecular weight of the cellulose acylate is preferably in the range of 70,000 to 300,000, and more preferably in the range of 80,000 to 200,000 in order to obtain a preferable mechanical strength as a protective film for a polarizing plate.

(3)有機増粘剤
本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法では、特開2005−314636号公報記載の下記有機増粘剤を、流延性を向上し横段やむらの発生を改良する観点から、添加することが好ましい。
(3) Organic thickener In the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention, the following organic thickener described in JP-A-2005-314636 is used in view of improving castability and improving the occurrence of horizontal steps and unevenness. Is preferably added.

本発明のように有機溶媒を用いた流延法は生産性の観点からは非常に有利である反面、流延直後の溶媒乾燥を一定に保つことが容易でなく、面状むらが生じやすい。ここで言う面状むらとは、流延後のレベリング不良に起因するスジや、溶媒乾燥速度差に起因する乾燥むら、乾燥風で引き起こされる厚さむらである風むらのことである。   Although the casting method using an organic solvent as in the present invention is very advantageous from the viewpoint of productivity, it is not easy to keep the solvent dry immediately after casting, and surface irregularities are likely to occur. The term "planar unevenness" as used herein refers to streaks caused by poor leveling after casting, unevenness in drying caused by a difference in solvent drying speed, and unevenness in thickness caused by drying air.

均一な膜を形成しつつ、むらを防止するための一手段として、塗布液の粘度を高めて流動防止する方法が考えられる。ドープの粘度を上昇させるためにはポリマー等の増粘剤を添加することが知られているが、単にドープの粘度を高めることは、レベリング性を悪化させ、流延時にスジが発生することにつながる。乾燥時のむら発生も、流延時のスジ発生も防止する手段として、チキソトロピーをもつ添加剤(以下チキソ剤)を加えることにより、ドープにチキソトロピーを付与する方法が好ましい。   As a means for preventing unevenness while forming a uniform film, a method of preventing flow by increasing the viscosity of a coating solution is considered. It is known to add a thickener such as a polymer in order to increase the viscosity of the dope, but simply increasing the viscosity of the dope deteriorates the leveling property and causes streaks during casting. Connect. As a means for preventing the occurrence of unevenness during drying and the occurrence of streaks during casting, a method of adding a thixotropic additive (hereinafter referred to as a thixotropic agent) to impart thixotropic to the dope is preferable.

そのため、
[1]下記条件(a)を満たす、下記一般式(1)で表される化合物からなる有機溶剤系増粘剤を用いることが、好ましい、
一般式(1)
(R)t−Z−(B)s
式中、Rは、炭素数4以上の少なくとも8個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Zは(t+s)価の連結基を表し、Bは置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。tは1〜6までの整数であり、sは1〜6までの整数である。
for that reason,
[1] It is preferable to use an organic solvent-based thickener comprising a compound represented by the following general formula (1), which satisfies the following condition (a):
General formula (1)
(R) t-Z- (B) s
In the formula, R represents an alkyl group substituted by at least 8 fluorine atoms having 4 or more carbon atoms, Z represents a (t + s) -valent linking group, and B represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group. Or a heterocyclic group. t is an integer from 1 to 6, and s is an integer from 1 to 6.

式中、Rは、炭素数4以上の少なくとも8個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Rは少なくとも8個のフッ素原子で置換されていればよく、直鎖状、分岐状及び環状のいずれの構造であってもよい。また、フッ素原子以外の置換基でさらに置換されていてもよいし、フッ素原子のみで置換されていてもよい。Rのフッ素原子以外の置換基としては、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、フッ素以外のハロゲン原子、ヒドロキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基等が挙げられる。   In the formula, R represents an alkyl group substituted with at least 8 fluorine atoms having 4 or more carbon atoms, and R may be substituted with at least 8 fluorine atoms, and may be linear, branched, or cyclic. Any structure may be used. Further, it may be further substituted with a substituent other than a fluorine atom, or may be substituted with only a fluorine atom. Examples of the substituent other than a fluorine atom for R include an alkenyl group, an aryl group, an alkoxyl group, a halogen atom other than fluorine, a hydroxy group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, and a carbamoyl group. .

Zは(t+s)価の連結基を表し、RとBを結びつけるものであれば特に制限はない。tは1から6までの整数であり、sは1から6までの整数であるが、好ましくは、tは2から4までの整数であり、より好ましくは、tは2又は3であり、最も好ましくは、tは2である。また、好ましくは、sは1から4までの整数であり、より好ましくは、sは1から3までの整数である。   Z represents a (t + s) -valent linking group, and is not particularly limited as long as it links R and B. t is an integer from 1 to 6, and s is an integer from 1 to 6, but preferably t is an integer from 2 to 4, more preferably t is 2 or 3, Preferably, t is 2. Preferably, s is an integer from 1 to 4, and more preferably, s is an integer from 1 to 3.

Zとしては、アミノ酸誘導体が好ましく用いられる。アミノ酸誘導体におけるアミノ酸の不斉炭素は光学活性であってもラセミ体であってもかまわない。光学活性体が好ましく用いられる。   As Z, an amino acid derivative is preferably used. The asymmetric carbon of the amino acid in the amino acid derivative may be optically active or racemic. Optically active substances are preferably used.

Bは置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。   B represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group.

《条件(a)》
0.01〜5000s−1の範囲内のいずれかのせん断速度において、溶媒の粘度η0に対する、該溶媒に一般式(1)で表される化合物を5質量%以下の濃度で含有させた液の粘度η1の相対粘度η1/η0が2以上である領域を有する。ここで用いることができる溶媒としては、所望の効果が得られれば特に限定されないが、好ましくは、トルエン、ヘキサン、イソプロパノール、エタノール、メタノール、クロロホルム、メチルエチルケトン、2−メチルペンタノン、及びシクロヘキサノンである。より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、2−メチルペンタノン、シクロヘキサノンであり、最も好ましくはメチルエチルケトン、2−メチルペンタノン、シクロヘキサノンである。
<< Condition (a) >>
At any shear rate within the range of 0.01 to 5000 s −1 , the solution containing the compound represented by the general formula (1) at a concentration of 5% by mass or less with respect to the viscosity η0 of the solvent with respect to the viscosity η0 of the solvent. There is a region where the relative viscosity η1 / η0 of the viscosity η1 is 2 or more. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as a desired effect can be obtained, but is preferably toluene, hexane, isopropanol, ethanol, methanol, chloroform, methyl ethyl ketone, 2-methylpentanone, or cyclohexanone. More preferred are toluene, methyl ethyl ketone, 2-methylpentanone and cyclohexanone, and most preferred are methyl ethyl ketone, 2-methylpentanone and cyclohexanone.

[2]下記条件(b)を満たす、前記一般式(1)で表される化合物からなる有機溶媒系チキソトロピー付与剤であることが、好ましい。   [2] An organic solvent-based thixotropic agent comprising the compound represented by the general formula (1) and satisfying the following condition (b) is preferable.

《条件(b)》
溶媒に一般式(1)で表される化合物を5質量%以下の濃度で含有させた液において、0.01〜5000s−1の範囲内のいずれかのせん断速度x1における粘度η(x1)の、x2x1≧10であるせん断速度x2における粘度η(x2)に対する値η(x1)/η(x2)が1.5以上である。
<< Condition (b) >>
In a solution in which the compound represented by the general formula (1) is contained in the solvent at a concentration of 5% by mass or less, the viscosity η ( x1 ) at any shear rate x1 in the range of 0.01 to 5000 s −1 . The value η ( x1 ) / η ( x2 ) for the viscosity η ( x2 ) at the shear rate x2 where x2 / x1 ≧ 10 is 1.5 or more.

[3]前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(2)で表されることを特徴とする[1]又は[2]項記載の有機溶媒系増粘剤又はチキソトロピー付与剤であることが好ましい。   [3] The compound represented by the general formula (1) is represented by the following general formula (2), [1] or [2], wherein the organic solvent-based thickener or thixotropic agent is used. It is preferred that

Figure 0006657602
Figure 0006657602

式中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表すが、R及びRの少なくとも一つは少なくとも8個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、T、T及びLはそれぞれ独立に2価の連結基又は単結合を表し、kは0又は1である。Bは置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。 In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, but at least one of R 1 and R 2 represents an alkyl group substituted with at least 8 or more fluorine atoms. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, T 1 , T 2 and L 1 each independently represent a divalent linking group or a single bond, and k is 0 or 1. . B represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group.

[4]前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(3)で表されることを特徴とする[1]〜[3]のいずれか一項に記載の有機溶媒系増粘剤又はチキソトロピー付与剤であることが、好ましい。   [4] The organic solvent-based thickener according to any one of [1] to [3], wherein the compound represented by the general formula (1) is represented by the following general formula (3). It is preferably an agent or a thixotropic agent.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

式中、R及びRはそれぞれ独立に炭素数4以上の少なくとも8個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Bは置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。T及びTはそれぞれ独立に−O−、−S−又は−NR23−を表す。R23は水素原子又は置換基を表し、Lは2価の連結基又は単結合を表し、kは0又は1である。 In the formula, R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group substituted by at least 8 fluorine atoms having 4 or more carbon atoms. B represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group. T 3 and T 4 are each independently -O -, - S- or -NR 23 - represents a. R 23 represents a hydrogen atom or a substituent, L 1 represents a divalent linking group or a single bond, and k is 0 or 1.

[5]前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(4)で表されることを特徴とする[1]〜[4]のいずれか一項に記載の有機溶媒系増粘剤又はチキソトロピー付与剤であることが好ましい。   [5] The organic solvent-based thickening according to any one of [1] to [4], wherein the compound represented by the general formula (1) is represented by the following general formula (4). It is preferably an agent or a thixotropic agent.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

式中、A及びAはそれぞれ独立にフッ素原子又は水素原子を表す。n11及びn21はそれぞれ独立に0〜6の整数を、n12及びn22はそれぞれ独立に3〜12の整数を表す。T及びTはそれぞれ独立に−O−、−S−又は−NR23−を表す。R23は水素原子又は置換基を表し、Lは2価の連結基又は単結合を表す。Bは置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、kは0又は1である。 In the formula, A 1 and A 2 each independently represent a fluorine atom or a hydrogen atom. The integer n 11 and n 21 each independently Less than six, n 12 and n 22 each independently represents a 3-12 integer. T 3 and T 4 are each independently -O -, - S- or -NR 23 - represents a. R 23 represents a hydrogen atom or a substituent, and L 1 represents a divalent linking group or a single bond. B represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, and k is 0 or 1.

一般式(1)〜(4)で表される化合物の具体例は、特開2005−314636号公報段落〔0083〕〜〔0089〕に記載の化合物の中から選択することが好ましく、ドープ中の上記含フッ素化合物の含有量には特に制限はないが、通常ドープ中に0.01〜10質量%(ドープ全体の質量に対する質量%)、好ましくは0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜2.5質量%含有させることができる。また、上記含フッ素化合物は1種類のみ含有させても、複数種類含有させても良い。   Specific examples of the compounds represented by the general formulas (1) to (4) are preferably selected from the compounds described in paragraphs [0083] to [0089] of JP-A-2005-314636. The content of the fluorine-containing compound is not particularly limited, but is usually 0.01 to 10% by mass (% by mass based on the total mass of the dope) in the dope, preferably 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0 to 5% by mass. 0.01 to 2.5% by mass. Further, the fluorine-containing compound may contain only one kind or a plurality of kinds.

(4)マット剤
(微粒子)
本発明に用いられる微粒子は、通常、フィルムの添加物として用いられるもので、フィルム面のすべり性の悪さを改良するためには、フィルム表面に凹凸を付与することが有効であり、有機、無機物質の微粒子を含有させて、フィルム表面の粗さを増加させ、いわゆるマット化することで、接着性を減少させるために用いられるものである。
(4) Matting agent (fine particles)
The fine particles used in the present invention are usually used as an additive of the film, and in order to improve the poor slipperiness of the film surface, it is effective to impart unevenness to the film surface, and it is effective to use an organic or inorganic material. It is used to reduce the adhesiveness by adding fine particles of a substance to increase the roughness of the film surface and to form a so-called mat.

しかしながら、粗い表面にするほどヘイズアップを生じ、透明性は低下するためにその平均粒径や含有量は限定される。本発明に使用する微粒子は、平均粒径1〜1000nmの範囲であり、好ましくは1〜100nmの範囲、より好ましくは3〜50nmの範囲である。   However, as the surface becomes rougher, the haze increases and the transparency decreases, so that the average particle size and content are limited. The fine particles used in the present invention have an average particle size of 1 to 1000 nm, preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 50 nm.

また、上記微粒子を各種フィルムに添加して用いる場合のフィルムにおける含有量は、フィルム100質量%に対して、球形、不定形微粒子を問わず、0.03〜1質量%の範囲であり、好ましくは0.03〜0.60質量%の範囲であり、より好ましくは0.03〜0.5質量%の範囲である。   When the fine particles are added to various films and used, the content in the film is in the range of 0.03 to 1% by mass irrespective of spherical or irregular fine particles with respect to 100% by mass of the film. Is in the range of 0.03 to 0.60% by mass, more preferably in the range of 0.03 to 0.5% by mass.

本発明における微粒子を含有した環状ポリオレフィンフィルムの好ましいヘイズの範囲は2.0%以下であり、1.2%以下が更に好ましく、0.5%以下が特に好ましい。微粒子を添加した環状ポリオレフィンフィルムの好ましい静摩擦係数は1.5以下であり、1.0以下が特に好ましい。静摩擦係数が1.5以下であれば、環状ポリオレフィンフィルムは製膜及び加工における巻取り時に、ツレや巻きシワを生じず、従ってツレや巻きシワにより巻き姿が損なわれたり、ツレやシワによって不均一な張力が環状ポリオレフィンフィルムにかかったりすることがなく、フィルム面に意図しない不均一な光学特性が発現するといった問題が生じない。   The haze range of the cyclic polyolefin film containing fine particles in the present invention is preferably 2.0% or less, more preferably 1.2% or less, and particularly preferably 0.5% or less. The preferred static friction coefficient of the cyclic polyolefin film to which the fine particles are added is 1.5 or less, and particularly preferably 1.0 or less. When the coefficient of static friction is 1.5 or less, the cyclic polyolefin film does not generate crevices or wrinkles during winding in film formation and processing, and therefore, the wound appearance is impaired by the crevices or wrinkles, or is unfavorable due to crevices or wrinkles. There is no problem that uniform tension is applied to the cyclic polyolefin film, and unintended non-uniform optical characteristics are generated on the film surface.

静摩擦係数は同一素材同士で測定されるものであり、具体的には実施例に記載の方法に従って測定される。   The coefficient of static friction is measured between the same materials, and specifically, is measured according to the method described in Examples.

使用される微粒子としては通常フィルムに用いられるものであれば特に制限はなく、またこれらの微粒子は2種以上混ぜて用いることもできる。上記微粒子としては、無機化合物や高分子化合物が挙げられる。無機化合物としては、例えば、硫酸バリウム、マンガンコロイド、二酸化チタン、硫酸ストロンチウムバリウム、二酸化ケイ素、などの無機物の微粉末があるが、さらに例えば湿式法やケイ酸のゲル化より得られる合成シリカ等の二酸化ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生成する二酸化チタン(ルチル型やアナタース型)等が挙げられる。また、粒径の比較的大きい、例えば20μm以上の無機物から粉砕した後、分級(振動濾過、風力分級など)することによっても得られる。無機微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点、フィルムのヘイズを低下できる点で好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されているものがおおいが、このようなものはフィルムの表面ヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどを挙げることができる。   The fine particles to be used are not particularly limited as long as they are usually used for a film, and two or more of these fine particles can be used as a mixture. Examples of the fine particles include inorganic compounds and polymer compounds. As the inorganic compound, for example, barium sulfate, manganese colloid, titanium dioxide, strontium barium sulfate, silicon dioxide, and the like, there are fine powders of inorganic substances, such as synthetic silica obtained by a wet method or gelation of silicic acid, etc. Titanium dioxide (rutile type or anatase type) generated by silicon dioxide or titanium slag and sulfuric acid, and the like. Further, it can also be obtained by pulverizing an inorganic substance having a relatively large particle size, for example, 20 μm or more, and then performing classification (vibration filtration, air classification, etc.). As the inorganic fine particles, those containing silicon are preferable in that turbidity is reduced and haze of the film can be reduced. Fine particles such as silicon dioxide are often subjected to a surface treatment with an organic substance, but such particles are preferable because the surface haze of the film can be reduced. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes, silazanes, siloxanes, and the like.

また、高分子化合物としてはポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、デンプン等があり、またそれらの粉砕分級物もあげられる。又は又懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法又は分散法等により球型にした高分子化合物、又は無機化合物を用いることができる。   Examples of the polymer compound include polytetrafluoroethylene, cellulose acetate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polypropyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyethylene carbonate, starch, and the like, and pulverized and classified products thereof. Alternatively, a polymer compound synthesized by a suspension polymerization method, a polymer compound formed into a spherical shape by a spray drying method, a dispersion method, or the like, or an inorganic compound can be used.

また以下に述べるような単量体化合物の1種又は2種以上の重合体である高分子化合物を種々の手段によって粒子としたものであってもよい。高分子化合物の単量体化合物について具体的に示すと、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル類が挙げられエステル残基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、2−クロロエチル、シアノエチル、2−アセトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ベンジル、シクロヘキシル、フルフリル、フェニル、2−ヒドロキシエチル、2−エトキシエチル、グリシジル、ω−メトキシポリエチレングリコール(付加モル数9)などが挙げられる。   Further, a polymer compound which is one or more polymers of the monomer compounds described below may be formed into particles by various means. Specific examples of the monomer compound of the high molecular compound include acrylic acid ester, methacrylic acid ester, itaconic acid diester, crotonic acid ester, maleic acid diester, and phthalic acid diesters. Ethyl, propyl, isopropyl, butyl, hexyl, 2-ethylhexyl, 2-chloroethyl, cyanoethyl, 2-acetoxyethyl, dimethylaminoethyl, benzyl, cyclohexyl, furfuryl, phenyl, 2-hydroxyethyl, 2-ethoxyethyl, glycidyl, ω -Methoxy polyethylene glycol (number of added moles: 9);

ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなどが挙げられる。またオレフィン類の例としては、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン等を挙げることができる。   Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, and the like. No. Examples of olefins include dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, and 2,3-dimethylbutadiene.

スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。   Examples of styrenes include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, chloromethylstyrene, methoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, trifluoromethylstyrene, and vinyl. Benzoic acid methyl ester and the like can be mentioned.

アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミドなど;メタクリルアミド類、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、など;アリル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、ラウリン酸アリル、安息香酸アリルなど;ビニルエーテル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなど;ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなど;ビニル異節環化合物、例えば、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなど;不飽和ニトリル類、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど;多官能性モノマー、例えば、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリレートなど。   Examples of acrylamides include acrylamide, methylacrylamide, ethylacrylamide, propylacrylamide, butylacrylamide, tert-butylacrylamide, phenylacrylamide, dimethylacrylamide and the like; methacrylamides, for example, methacrylamide, methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, propyl methacryl Amides, tert-butyl methacrylamide, etc .; allyl compounds such as allyl acetate, allyl caproate, allyl laurate, allyl benzoate, etc .; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, dimethyl Aminoethyl vinyl ether and the like; vinyl ketones such as methyl vinyl Tones, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone and the like; vinyl heterocyclic compounds such as vinyl pyridine, N-vinyl imidazole, N-vinyl oxazolidone, N-vinyl triazole, N-vinyl pyrrolidone and the like; unsaturated nitriles such as , Acrylonitrile, methacrylonitrile and the like; polyfunctional monomers such as divinylbenzene, methylenebisacrylamide, ethylene glycol dimethacrylate and the like.

更に、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル(例えば、イタコン酸モノエチル、など);マレイン酸モノアルキル(例えば、マレイン酸モノメチルなど;スチレンスルホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸(例えば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸など);メタクリロイルオキシアルキルスルホン酸(例えば、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸など);アクリルアミドアルキルスルホン酸(例えば、2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸など);メタクリルアミドアルキルスルホン酸(例えば、2−メタクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸など);アクリロイルオキシアルキルホスフェート(例えば、アクリロイルオキシエチルホスフェートなど);が挙げられる。これらの酸はアルカリ金属(例えば、Na、Kなど)又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。さらにその他のモノマー化合物としては、米国特許第3459790号、同第3438708号、同第3554987号、同第4215195号、同第4247673号、特開昭57−205735号公報明細書等に記載されている架橋性モノマーを用いることができ好ましい。このような架橋性モノマーの例としては、具体的にはN−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、N−(2−(2−アセトアセトキシエトキシ)エチル)アクリルアミド等を挙げることができる。   Further, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, monoalkyl itaconate (eg, monoethyl itaconate, etc.); monoalkyl maleate (eg, monomethyl maleate, etc .; styrene sulfonic acid, vinylbenzyl sulfonic acid, vinyl) Sulfonic acid, acryloyloxyalkylsulfonic acid (eg, acryloyloxymethylsulfonic acid); methacryloyloxyalkylsulfonic acid (eg, methacryloyloxyethylsulfonic acid); acrylamidoalkylsulfonic acid (eg, 2-acrylamido-2-methylethane) Methacrylamidoalkylsulfonic acid (such as 2-methacrylamido-2-methylethanesulfonic acid); acryloyloxyalkyl phosphate (such as sulfonic acid); These acids may be salts of alkali metals (eg, Na, K, etc.) or ammonium ions.Other monomeric compounds include US Pat. No. 3,459,790. And Nos. 3,438,708, 3,554,987, 4,215,195, 4,247,673, and JP-A-57-205735, and the like. Specific examples of the crosslinkable monomer include N- (2-acetoacetoxyethyl) acrylamide and N- (2- (2-acetoacetoxyethoxy) ethyl) acrylamide.

これらの単量体化合物は単独で重合した重合体の粒子にして用いてもよいし、複数の単量体を組み合わせて重合した共重合体の粒子にして用いてもよい。これらのモノマー化合物のうち、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレン類、オレフィン類が好ましく用いられる。また、本発明には特開昭62−14647号公報、同62−17744号公報、同62−17743号公報に記載されているようなフッ素原子又はシリコン原子を有する粒子を用いてもよい。   These monomer compounds may be used as polymer particles polymerized alone or as copolymer particles obtained by polymerizing a plurality of monomers. Among these monomer compounds, acrylic esters, methacrylic esters, vinyl esters, styrenes, and olefins are preferably used. In the present invention, particles having a fluorine atom or a silicon atom as described in JP-A Nos. 62-14647, 62-17744, and 62-17743 may be used.

これらの中で好ましく用いられる粒子組成としてポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸=95/5(モル比)、ポリ(スチレン/スチレンスルホン酸=95/5(モル比)、ポリアクリロニトリル、ポリ(メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸=50/40/10)、シリカなどを挙げることができる。   Among these, the particle compositions preferably used are polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, polyethyl acrylate, poly (methyl methacrylate / methacrylic acid = 95/5 (molar ratio), and poly (styrene / styrene sulfonic acid = 95/5 ( Mole ratio), polyacrylonitrile, poly (methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid = 50/40/10), silica, and the like.

また、本発明に用いられる微粒子としては特開昭64−77052号公報、ヨーロッパ特許307855号に記載の反応性(特にゼラチン)基を有する粒子を使用することもできる。さらには、アルカリ性、又は酸性で溶解するような基を多量含有させることもできる。微粒子は、無機化合物若しくは高分子化合物を含有してなり、その平均一次粒径が10−3〜10μmの範囲であるのが好ましい。平均一次粒径は10−3〜10μmの範囲であるのがより好ましく、0.005〜5μmの範囲であるのがさらに好ましく、0.01〜3μmの範囲であるのが特に好ましい。また、前記微粒子は、二酸化ケイ素微粒子であるのが好ましい。 Further, as the fine particles used in the present invention, particles having a reactive (especially gelatin) group described in JP-A-64-77052 and EP-A-307855 can be used. Further, a large amount of a group which is soluble in an alkaline or acidic state can be contained. The fine particles contain an inorganic compound or a high molecular compound, and preferably have an average primary particle size in the range of 10 −3 to 10 μm. The average primary particle size is more preferably in the range of 10 −3 to 10 μm, further preferably in the range of 0.005 to 5 μm, and particularly preferably in the range of 0.01 to 3 μm. Further, the fine particles are preferably silicon dioxide fine particles.

(微粒子分散液に使用する有機溶媒)
微粒子分散液の調製において用いられる有機溶媒は、微粒子が分散し、分散液を調製できる範囲において、使用できる有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる有機溶媒は、例えばジクロロメタン、クロロホルムの如き塩素系溶媒、炭素原子数が3〜12の鎖状炭化水素、環状炭化水素、芳香族炭化水素、エステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。炭素原子数が3〜12の鎖状炭化水素類の例としては、ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなどが挙げられる。炭素原子数が3〜12の環状炭化水素類としてはシクロペンタン、シクロヘキサン、デカリン及びその誘導体が挙げられる。炭素原子数が3〜12の芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。炭素原子数が3〜12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が3〜12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が3〜12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが挙げられる。2種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノール及び2−ブトキシエタノールが挙げられる。本発明の微粒子分散液の調製方法において用いられる有機溶媒は、1種類の有機溶媒を単独で用いてもよく、2種類以上の有機溶媒を任意の割合で混合して用いてもよい。
(Organic solvent used for fine particle dispersion)
The organic solvent used in the preparation of the fine particle dispersion is not particularly limited as long as the fine particles are dispersed and the dispersion can be prepared. The organic solvent used in the present invention is, for example, a chlorinated solvent such as dichloromethane or chloroform, a solvent selected from chain hydrocarbons having 3 to 12 carbon atoms, cyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, esters, ketones and ethers. Is preferred. Esters, ketones, and ethers may have a cyclic structure. Examples of chain hydrocarbons having 3 to 12 carbon atoms include hexane, octane, isooctane, decane, and the like. Examples of the cyclic hydrocarbon having 3 to 12 carbon atoms include cyclopentane, cyclohexane, decalin and derivatives thereof. Examples of the aromatic hydrocarbon having 3 to 12 carbon atoms include benzene, toluene, and xylene. Examples of the esters having 3 to 12 carbon atoms include ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and pentyl acetate. Examples of ketones having 3 to 12 carbon atoms include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone and methylcyclohexanone. Examples of the ethers having 3 to 12 carbon atoms include diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolan, tetrahydrofuran, anisole and phenetole. Examples of the organic solvent having two or more types of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol, and 2-butoxyethanol. As the organic solvent used in the method for preparing a fine particle dispersion of the present invention, one kind of organic solvent may be used alone, or two or more kinds of organic solvents may be mixed and used at an arbitrary ratio.

上記微粒子を分散する際に、上記の有機溶媒の量が少ないと十分な分散ができず、凝集体を発生し、異物故障の原因となる。逆に、有機溶媒の量が多い時には、微粒子の分散性には優れるものの、大量の分散液を調液することとなり、製造におけるハンドリングの面で好ましくない。したがって上記有機溶媒の使用量は、上記微粒子100質量部に対して1000〜100000質量部の範囲とするのが好ましく、1500〜40000質量部の範囲とするのが更に好ましく、2000〜20000質量部の範囲とするのが特に好ましい。   When dispersing the fine particles, if the amount of the organic solvent is small, sufficient dispersion cannot be performed, an aggregate is generated, and a foreign substance failure is caused. Conversely, when the amount of the organic solvent is large, the dispersion of the fine particles is excellent, but a large amount of the dispersion is prepared, which is not preferable in terms of handling in production. Therefore, the amount of the organic solvent used is preferably in the range of 1000 to 100,000 parts by mass, more preferably in the range of 1500 to 40000 parts by mass, and more preferably in the range of 2000 to 20,000 parts by mass, based on 100 parts by mass of the fine particles. It is particularly preferable to set the range.

(分散剤)
次に本発明に用いる分散剤について記述する。微粒子分散液とドープをインラインで混合させる場合、粘度の低い分散液を使用すると、粘度の高いドープに粘度の違いから力負けして添加しにくく、混合が上手くいかない。この問題は、分散剤を分散液に溶解させ、粘度を僅かにあげることで解決される。このため分散剤としては通常樹脂が用いられる。混合だけを考えれば、ドープと分散液の粘度は等しいことが好ましいが、微粒子分散液としての分散能や取扱の簡便性を考慮すると、微粒子分散液の粘度は0.7mPa・s以上であることが好ましく、1mPa・s以上であることがさらに好ましい。また、粘度を上げるため分散剤の重量平均分子量を大きくしすぎると、分散剤の溶解性不良や濾過性の悪化を引き起こす。このためドープに力負けしない、溶解性と濾過性に優れた分散液を調製するためには、分散剤の重量平均分子量は10000〜500000の範囲が好ましく、10000〜300000の範囲がより好ましく、30000〜200000の範囲が更に好ましい。
(Dispersant)
Next, the dispersant used in the present invention will be described. When a fine particle dispersion and a dope are mixed in-line, if a dispersion having a low viscosity is used, it is difficult to add a dope having a high viscosity due to a difference in viscosity due to a difference in viscosity, and mixing is not successful. This problem is solved by dissolving the dispersant in the dispersion and slightly increasing the viscosity. Therefore, a resin is usually used as the dispersant. It is preferable that the viscosity of the dope and the dispersion is equal when only mixing is considered, but the viscosity of the fine particle dispersion is 0.7 mPa · s or more in consideration of the dispersibility as a fine particle dispersion and the simplicity of handling. Is preferably, and more preferably 1 mPa · s or more. On the other hand, if the weight average molecular weight of the dispersant is too large to increase the viscosity, poor solubility of the dispersant and poor filterability are caused. For this reason, the weight average molecular weight of the dispersant is preferably in the range of 10,000 to 500,000, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, and more preferably in the range of 30,000 to 30,000 in order to prepare a dispersion having excellent solubility and filterability that does not lose strength to the dope. A range of 200,000 is more preferred.

分散剤として環状ポリオレフィン系樹脂を用い、さらに該分散剤の存在下で微粒子を分散させることが好ましい。これはドープを調製する際に、微粒子分散液とドープとの相溶性が向上し、流延ドープとした際の分散微粒子の安定性も向上し、凝集物のないドープを形成できる観点からも好ましい。   It is preferable to use a cyclic polyolefin-based resin as a dispersant, and to further disperse the fine particles in the presence of the dispersant. This is preferable from the viewpoint of improving the compatibility between the fine particle dispersion and the dope when preparing the dope, improving the stability of the dispersed fine particles when the dope is cast, and forming a dope without agglomerates. .

(5)含窒素複素環化合物
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、位相差性等の光学性能を制御するのに、以下の含窒素複素環化合物を含有することが好ましい。含窒素複素環化合物は、分子量が100〜800の範囲内である含窒素複素環化合物であり、中でも下記一般式(A1)で表される構造の化合物であることが好ましい。下記一般式(A1)で表される構造を有する化合物は環状ポリオレフィン系樹脂とともに用いることにより、例えば、偏光板を液晶表示装置に用いたとき、環境の湿度変動による位相差の変動の発生を抑え、コントラスト低下や色むらの発生を抑制することができる。さらに、位相差上昇剤としても機能することができる。
(5) Nitrogen-containing heterocyclic compound The cyclic polyolefin film of the present invention preferably contains the following nitrogen-containing heterocyclic compound in order to control optical performance such as retardation. The nitrogen-containing heterocyclic compound is a nitrogen-containing heterocyclic compound having a molecular weight in the range of 100 to 800, and is particularly preferably a compound having a structure represented by the following general formula (A1). By using a compound having a structure represented by the following general formula (A1) together with a cyclic polyolefin-based resin, for example, when a polarizing plate is used in a liquid crystal display device, the occurrence of phase difference fluctuation due to environmental humidity fluctuation is suppressed. In addition, it is possible to suppress a reduction in contrast and uneven color. Further, it can function as a phase difference increasing agent.

分子量は250〜450の範囲内であることが、湿度変動による位相差の変動抑制効果と、飛散物発生の観点から好ましい範囲である。   It is a preferable range that the molecular weight is in the range of 250 to 450 from the viewpoints of the effect of suppressing the fluctuation of the phase difference due to the fluctuation of the humidity and the generation of flying objects.

(一般式(A1)で表される構造を有する化合物)

Figure 0006657602
(Compound having a structure represented by the general formula (A1))
Figure 0006657602

上記一般式(A1)において、A、A及びBは、それぞれ独立に、アルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、2−エチヘキシル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基等)、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。この中で、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が好ましく、特に、5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環であることが好ましい。 In the general formula (A1), A 1 , A 2 and B each independently represent an alkyl group (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl group, 2- A cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4-n-dodecylcyclohexyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring. Among these, an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring is preferable, and a 5- or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring is particularly preferable.

5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環の構造に制限はないが、例えば、ベンゼン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、イソオキサジアゾール環、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イソチアジアゾール環等が挙げられる。   The structure of the 5-membered or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring is not limited, and examples thereof include a benzene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a 1,2,3-triazole ring, , 4-triazole ring, tetrazole ring, furan ring, oxazole ring, isoxazole ring, oxadiazole ring, isoxadiazole ring, thiophene ring, thiazole ring, isothiazole ring, thiadiazole ring, isothiadiazole ring and the like. .

、A及びBで表される5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は、置換基を有していてもよく、当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、アルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基等)、アルケニル基(ビニル基、アリル基等)、シクロアルケニル基(2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル基等)、アルキニル基(エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素環基(フェニル基、p−トリル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(2−ピロール基、2−フリル基、2−チエニル基、ピロール基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、2−ベンゾチアゾリル基、ピラゾリノン基、ピリジル基、ピリジノン基、2−ピリミジニル基、トリアジン基、ピラゾール基、1,2,3−トリアゾール基、1,2,4−トリアゾール基、オキサゾール基、イソオキサゾール基、1,2,4−オキサジアゾール基、1,3,4−オキサジアゾール基、チアゾール基、イソチアゾール基、1,2,4−チオジアゾール基、1,3,4−チアジアゾール基等)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等)、アシルオキシ基(ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等)、アミノ基(アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、N−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等)、アシルアミノ基(ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基(メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスルホニルアミノ基等)、メルカプト基、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基等)、スルファモイル基(N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N′−フェニルカルバモイル)スルファモイル基等)、スルホ基、アシル基(アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等)、カルバモイル基(カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル基、N−(メチルスルホニル)カルバモイル基等)等の各基が挙げられる。 The 5- or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring represented by A 1 , A 2 and B may have a substituent. As the substituent, for example, a halogen atom ( Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc., alkyl group (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), cycloalkyl Group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4-n-dodecylcyclohexyl group, etc.), alkenyl group (vinyl group, allyl group, etc.), cycloalkenyl group (2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl group, etc.) ), Alkynyl group (ethynyl group, propargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon ring group (phenyl group, p-tolyl group, naphthyl group, etc.), aromatic heterocyclic group (2 Pyrrole, 2-furyl, 2-thienyl, pyrrole, imidazolyl, oxazolyl, thiazolyl, benzimidazolyl, benzoxazolyl, 2-benzothiazolyl, pyrazolinone, pyridyl, pyridinone, 2- Pyrimidinyl group, triazine group, pyrazole group, 1,2,3-triazole group, 1,2,4-triazole group, oxazole group, isoxazole group, 1,2,4-oxadiazole group, 1,3,4 -Oxadiazole, thiazole, isothiazole, 1,2,4-thiodiazole, 1,3,4-thiadiazole, etc.), cyano, hydroxy, nitro, carboxy, alkoxy (methoxy) Ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, n-octyloxy group, 2-meth Xyethoxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group, 3-nitrophenoxy group, 2-tetradecanoylaminophenoxy group, etc.), acyloxy group (formyloxy group, Acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, p-methoxyphenylcarbonyloxy group, etc., amino group (amino group, methylamino group, dimethylamino group, anilino group, N-methyl-anilino group, diphenyl) Amino), acylamino (formylamino, acetylamino, pivaloylamino, lauroylamino, benzoylamino, etc.), alkyl and arylsulfonylamino (methylsulfonylamino, butylsulfonylamino, phenyl) Sulfonylamino group, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, p-methylphenylsulfonylamino group, etc., mercapto group, alkylthio group (methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group, etc.), arylthio group (phenylthio group) , P-chlorophenylthio group, m-methoxyphenylthio group, etc.), sulfamoyl group (N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N -Acetylsulfamoyl group, N-benzoylsulfamoyl group, N- (N'-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group, etc.), sulfo group, acyl group (acetyl group, pivaloylbenzoyl group, etc.), carbamoyl group (carbamoyl group) Group, N-methylcarbamoyl group, N, N-di Chi-carbamoyl, N, N-di -n- octylcarbamoyl group, and each group such as N- (methylsulfonyl) carbamoyl group).

前記一般式(A1)において、A、A及びBは、ベンゼン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、1,2,3−トリアゾール環又は1,2,4−トリアゾール環を表すことが、光学特性の変動効果に優れ、かつ耐久性に優れた環状ポリオレフィンフィルムが得られるために好ましい。 In the general formula (A1), A 1 , A 2 and B may represent a benzene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a 1,2,3-triazole ring or a 1,2,4-triazole ring. This is preferable because a cyclic polyolefin film having excellent optical property fluctuation effects and excellent durability can be obtained.

前記一般式(A1)において、T及びTは、それぞれ独立に、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、1,2,3−トリアゾール環又は1,2,4−トリアゾール環を表すことが好ましい。これらの中で、ピラゾール環、トリアゾール環又はイミダゾール環であることが、湿度変動に対する位相差の変動抑制効果に特に優れ、かつ耐久性に優れた樹脂組成物が得られるために好ましく、ピラゾール環であることが特に好ましい。T及びTで表されるピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環又は1,2,4−トリアゾール環、イミダゾール環は、互変異性体であってもよい。ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、1,2,3−トリアゾール環又は1,2,4−トリアゾール環の具体的な構造を下記に示す。 In the formula (A1), T 1 and T 2 each preferably independently represent a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a 1,2,3-triazole ring, or a 1,2,4-triazole ring. . Among these, a pyrazole ring, a triazole ring or an imidazole ring are particularly excellent in the effect of suppressing the fluctuation of the phase difference with respect to humidity fluctuation, and are preferable because a resin composition having excellent durability is obtained. It is particularly preferred that there is. The pyrazole ring, 1,2,3-triazole ring or 1,2,4-triazole ring or imidazole ring represented by T 1 and T 2 may be a tautomer. Specific structures of a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a 1,2,3-triazole ring or a 1,2,4-triazole ring are shown below.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

式中、※は一般式(A1)におけるL、L、L又はLとの結合位置を表す。Rは水素原子又は非芳香族置換基を表す。Rで表される非芳香族置換基としては、前記一般式(A1)におけるAが有してもよい置換基のうちの非芳香族置換基と同様の基を挙げることができる。Rで表される置換基が芳香族基を有する置換基の場合、AとT又はBとTがねじれやすくなり、A、B及びTが環状ポリオレフィンとの相互作用を形成できなくなるため、光学的特性の変動を抑制することが難しい。光学的特性の変動抑制効果を高めるためには、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のアシル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。 In the formula, * represents a bonding position to L 1 , L 2 , L 3 or L 4 in the general formula (A1). R 5 represents a hydrogen atom or a non-aromatic substituent. Examples of the non-aromatic substituent represented by R 5 include the same groups as the non-aromatic substituent among the substituents that A 1 may have in the general formula (A1). When the substituent represented by R 5 is a substituent having an aromatic group, A 1 and T 1 or B and T 1 are easily twisted, and A 1 , B and T 1 form an interaction with the cyclic polyolefin. This makes it difficult to suppress variations in optical characteristics. In order to enhance the effect of suppressing fluctuations in optical characteristics, R 5 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom. .

前記一般式(A1)において、T及びTは置換基を有してもよく、当該置換基としては、前記一般式(A1)におけるA及びAが有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。 In the general formula (A1), T 1 and T 2 may have a substituent. Examples of the substituent include a substituent which A 1 and A 2 in the general formula (A1) may have. Similar groups can be mentioned.

前記一般式(A1)において、L、L、L及びLは、それぞれ独立に、単結合又は、2価の連結基を表し、2個以下の原子を介して、5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が連結されている。2個以下の原子を介してとは、連結基を構成する原子のうち連結される置換基間に存在する最小の原子数を表す。連結原子数2個以下の2価の連結基としては、特に制限はないが、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、O、(C=O)、NR、S、(O=S=O)からなる群より選ばれる2価の連結基であるか、それらを2個組み合わせた連結基を表す。Rは、水素原子又は置換基を表す。Rで表される置換基の例には、アルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基等)、芳香族炭化水素環基(フェニル基、p−トリル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、2−ピリジル基等)、シアノ基等が含まれる。L、L、L及びLで表される2価の連結基は置換基を有してもよく、置換基としては特に制限はないが、例えば、前記一般式(A1)におけるA及びAが有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。 In the general formula (A1), L 1 , L 2 , L 3, and L 4 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and are 5-membered or 6-membered via 2 or less atoms. Membered aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles are connected. The term “via two or less atoms” means the minimum number of atoms existing between the connected substituents among the atoms constituting the connecting group. The divalent linking group having 2 or less linking atoms is not particularly limited, but includes an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, O, (C = O), NR, S, and (O = S = O). A divalent linking group selected from the group consisting of: or a combination of two divalent linking groups. R represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R include an alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, an n-octyl group, a 2-ethylhexyl group), a cycloalkyl group ( Cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4-n-dodecylcyclohexyl group, etc.), aromatic hydrocarbon ring group (phenyl group, p-tolyl group, naphthyl group, etc.), aromatic heterocyclic group (2-furyl group, 2-thienyl) Group, 2-pyrimidinyl group, 2-benzothiazolyl group, 2-pyridyl group and the like), cyano group and the like. The divalent linking group represented by L 1 , L 2 , L 3 and L 4 may have a substituent, and the substituent is not particularly limited. For example, A in the general formula (A1) The same groups as the substituents that 1 and A 2 may have can be mentioned.

前記一般式(A1)において、L、L、L及びLは、前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物の平面性が高くなることで、水を吸着する樹脂との相互作用が強くなり、光学的特性の変動が抑制されるため、単結合又は、O、(C=O)−O、O−(C=O)、(C=O)−NR又はNR−(C=O)であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。 In the general formula (A1), L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent a resin having a structure represented by the general formula (A1) having high planarity, and thus a resin that adsorbs water. Interaction and the fluctuation of optical properties are suppressed, so that a single bond or O, (C = O) -O, O- (C = O), (C = O) -NR or NR- (C = O) is preferable, and a single bond is more preferable.

前記一般式(A1)において、nは0〜5の整数を表す。nが2以上の整数を表すとき、前記一般式(A1)における複数のA、T、L、Lは同じであってもよく、異なっていてもよい。nが大きい程、前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物と水を吸着する樹脂との相互作用が強くなることで光学的特性の変動抑制効果が優れ、nが小さいほど、水を吸着する樹脂との相溶性が優れる。このため、nは1〜3の整数であることが好ましく、1〜2の整数であることがより好ましい。 In the general formula (A1), n represents an integer of 0 to 5. When n represents an integer of 2 or more, a plurality of A 2 , T 2 , L 3 , and L 4 in the general formula (A1) may be the same or different. The larger the value of n, the stronger the interaction between the compound having the structure represented by the general formula (A1) and the resin that adsorbs water, and the better the effect of suppressing fluctuations in optical characteristics. Excellent compatibility with resin that adsorbs water. For this reason, n is preferably an integer of 1 to 3, and more preferably an integer of 1 to 2.

〈一般式(A2)で表される構造を有する化合物〉
一般式(A1)で表される構造を有する化合物は、一般式(A2)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
<Compound having a structure represented by General Formula (A2)>
The compound having a structure represented by the general formula (A1) is preferably a compound having a structure represented by the general formula (A2).

Figure 0006657602
Figure 0006657602

(式中、A、A、T、T、L、L、L及びLは、それぞれ前記一般式(A1)におけるA、A、T、T、L、L、L及びLと同義である。A及びTは、それぞれ一般式(A1)におけるA及びTと同様の基を表す。L及びLは、前記一般式(A1)におけるLと同様の基を表す。mは0〜4の整数を表す。)
mが小さい方がセルロースアシレートとの相溶性に優れるため、mは0〜2の整数であることが好ましく、0〜1の整数であることがより好ましい。
(In the formula, A 1 , A 2 , T 1 , T 2 , L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are respectively A 1 , A 2 , T 1 , T 2 , L 2 in the general formula (A1). 1, L 2, L 3 and .A 3 and T 3 L 4 as synonymous, the .L 5 and L 6 represent the same group as a 1 and T 1, respectively, in the general formula (A1), the general .m representing the same groups as L 1 in formula (A1) represents an integer of 0 to 4.)
m is preferably an integer of 0 to 2, and more preferably an integer of 0 to 1, since the smaller the value of m, the better the compatibility with cellulose acylate.

<一般式(A1.1)で表される構造を有する化合物>
一般式(A1)で表される構造を有する化合物は、下記一般式(A1.1)で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
<Compound having a structure represented by General Formula (A1.1)>
The compound having a structure represented by the general formula (A1) is preferably a triazole compound having a structure represented by the following general formula (A1.1).

Figure 0006657602
Figure 0006657602

(式中、A、B、L及びLは、上記一般式(A1)におけるA、B、L及びLと同様の基を表す。kは、1〜4の整数を表す。Tは、1,2,4−トリアゾール環を表す。)
さらに、上記一般式(A1.1)で表される構造を有するトリアゾール化合物は、下記一般式(A1.2)で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
(Wherein, A 1, B, L 1 and L 2, .k representing the A 1, B, the same group as L 1 and L 2 in formula (A1) represents an integer of 1 to 4 .T 1 represents a 1,2,4-triazole ring.)
Further, the triazole compound having a structure represented by the general formula (A1.1) is preferably a triazole compound having a structure represented by the following general formula (A1.2).

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(式中、Zは、下記一般式(A1.2a)の構造を表す。qは、2〜3の整数を表す。少なくとも二つのZは、ベンゼン環に置換された少なくとも一つのZに対してオルト位又はメタ位に結合する。)。   (In the formula, Z represents a structure of the following general formula (A1.2a). Q represents an integer of 2 to 3. At least two Zs represent at least one Z substituted with a benzene ring. Bonds to the ortho or meta position.)

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(式中、R10は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。pは1〜5の整数を表す。*はベンゼン環との結合位置を表す。Tは1,2,4−トリアゾール環を表す。)
前記一般式(A1)、(A2)、(A1.1)又は(A1.2)で表される構造を有する化合物は、水和物、溶媒和物若しくは塩を形成してもよい。なお、本発明において、水和物は有機溶媒を含んでいてもよく、また溶媒和物は水を含んでいてもよい。即ち、「水和物」及び「溶媒和物」には、水と有機溶媒のいずれも含む混合溶媒和物が含まれる。塩としては、無機又は有機酸で形成された酸付加塩が含まれる。無機酸の例として、ハロゲン化水素酸(塩酸、臭化水素酸など)、硫酸、リン酸などが含まれ、またこれらに限定されない。また、有機酸の例には、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸、アルキルスルホン酸(メタンスルホン酸など)、アリルスルホン酸(ベンゼンスルホン酸、4−トルエンスルホン酸、1,5−ナフタレンジスルホン酸など)などが挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくは、塩酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩である。
(In the formula, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group. P represents an integer of 1 to 5. * represents a bonding position with a benzene ring. T 1 is a 1,2,4-triazole ring. Represents.)
The compound having a structure represented by the general formula (A1), (A2), (A1.1) or (A1.2) may form a hydrate, a solvate or a salt. In the present invention, the hydrate may contain an organic solvent, and the solvate may contain water. That is, "hydrate" and "solvate" include mixed solvates containing both water and organic solvents. Salts include acid addition salts formed with inorganic or organic acids. Examples of inorganic acids include, but are not limited to, hydrohalic acids (such as hydrochloric acid, hydrobromic acid), sulfuric acid, phosphoric acid, and the like. Examples of the organic acid include acetic acid, trifluoroacetic acid, propionic acid, butyric acid, oxalic acid, citric acid, benzoic acid, alkylsulfonic acid (such as methanesulfonic acid), and allylsulfonic acid (benzenesulfonic acid, 4-toluene). Sulfonic acid, 1,5-naphthalenedisulfonic acid, etc.), and the like, but is not limited thereto. Of these, hydrochloride, acetate, propionate and butyrate are preferred.

塩の例としては、親化合物に存在する酸性部分が、金属イオン(例えばアルカリ金属塩、例えばナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム又はマグネシウム塩、アンモニウム塩アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアルミニウムイオンなど)により置換されるか、又は有機塩基(エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ピペリジン、など)と調整されたときに形成される塩が挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくはナトリウム塩、カリウム塩である。   Examples of salts include those in which the acidic moiety present in the parent compound is a metal ion (eg, an alkali metal salt, such as a sodium or potassium salt, an alkaline earth metal salt, such as a calcium or magnesium salt, an ammonium salt, an alkali metal ion, an alkaline earth metal salt). And salts formed when adjusted with an organic base (ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, morpholine, piperidine, etc.) by a metal ion or an aluminum ion, and the like. Not limited. Of these, sodium salts and potassium salts are preferred.

溶媒和物が含む溶媒の例には、一般的な有機溶媒のいずれも含まれる。具体的には、アルコール(例、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、t−ブタノール)、エステル(例、酢酸エチル)、炭化水素(例、トルエン、ヘキサン、ヘプタン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン)、ニトリル(例、アセトニトリル)、ケトン(アセトン)などが挙げられる。好ましくは、アルコール(例、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、t−ブタノール)の溶媒和物である。これらの溶媒は、前記化合物の合成時に用いられる反応溶媒であっても、合成後の晶析精製の際に用いられる溶媒であってもよく、又はこれらの混合であってもよい。   Examples of the solvent contained in the solvate include any of common organic solvents. Specifically, alcohols (eg, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, t-butanol), esters (eg, ethyl acetate), hydrocarbons (eg, toluene, hexane) , Heptane), ether (eg, tetrahydrofuran), nitrile (eg, acetonitrile), ketone (acetone), and the like. Preferably, it is a solvate of alcohol (eg, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, t-butanol). These solvents may be reaction solvents used in the synthesis of the compound, solvents used in crystallization purification after synthesis, or a mixture thereof.

また、2種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む形(例えば、水とアルコール(例えば、メタノール、エタノール、t−ブタノールなど)など)であってもよい。   Further, two or more kinds of solvents may be simultaneously contained, or a form containing water and a solvent (for example, water and an alcohol (for example, methanol, ethanol, t-butanol, etc.)) may be used.

なお、前記一般式(A1)、(A2)、(A1.1)又は(A1.2)で表される構造を有する化合物を、水や溶媒、塩を含まない形態で添加しても、本発明における樹脂組成物又は環状ポリオレフィンフィルム中において、水和物、溶媒和物又は塩を形成してもよい。   In addition, even if the compound having the structure represented by the general formula (A1), (A2), (A1.1) or (A1.2) is added in a form not containing water, a solvent, or a salt, Hydrates, solvates or salts may be formed in the resin composition or cyclic polyolefin film of the invention.

前記一般式(A1)、(A2)、(A1.1)又は(A1.2)で表される構造を有する化合物の分子量は特に制限はないが、小さいほど樹脂との相溶性に優れ、大きいほど環境湿度の変化に対する光学値の変動抑制効果が高いため、150〜2000であることが好ましく、200〜1500であることがより好ましく、300〜1000であることがより好ましい。   The molecular weight of the compound having the structure represented by the general formula (A1), (A2), (A1.1) or (A1.2) is not particularly limited, but the smaller the compound, the better the compatibility with the resin and the larger. Since the effect of suppressing the fluctuation of the optical value with respect to the change in the environmental humidity is higher, the value is preferably from 150 to 2,000, more preferably from 200 to 1500, and even more preferably from 300 to 1,000.

また、本発明に係る含窒素複素環化合物は、下記一般式(A3)で表される構造を有する化合物であることがより好ましい。   Further, the nitrogen-containing heterocyclic compound according to the present invention is more preferably a compound having a structure represented by the following general formula (A3).

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(式中Aはピラゾール環を表し、Ar及びArはそれぞれ芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、置換基を有してもよい。Rは水素原子、アルキル基、アシル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、又はアリールオキシカルボニル基を表し、qは1〜2の整数を表し、n及びmは1〜3の整数を表す。)
Ar及びArで表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は、それぞれ一般式(A1)で挙げた5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環であることが好ましい。また、Ar及びArの置換基としては、前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物で示したのと同様な置換基が挙げられる。
(Wherein A represents a pyrazole ring, Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring, and may have a substituent. R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group. , A sulfonyl group, an alkyloxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group, q represents an integer of 1-2, and n and m represent an integer of 1-3.)
The aromatic hydrocarbon ring or the aromatic heterocyclic ring represented by Ar 1 and Ar 2 may be the 5- or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or the aromatic heterocyclic ring described in formula (A1), respectively. preferable. Examples of the substituent for Ar 1 and Ar 2 include the same substituents as those described for the compound having the structure represented by the general formula (A1).

の具体例としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、アルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等)、アシル基(アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)等が挙げられる。 Specific examples of R 1 include a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), an alkyl group (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl) Group, 2-ethylhexyl group, etc.), acyl group (acetyl group, pivaloylbenzoyl group, etc.), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, etc.), alkyloxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group), And an aryloxycarbonyl group (for example, a phenoxycarbonyl group and the like).

qは1〜2の整数を表し、n及びmは1〜3の整数を表す。   q represents an integer of 1-2, and n and m represent an integer of 1-3.

以下に、本発明に用いられる5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有する化合物の具体例を例示する。中でも前記一般式(A1)、(A2)、(A1.1)、(A1.2)で表される構造を有する化合物、又は一般式(A3)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。本発明で用いることができる前記5員若しくは6員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有する化合物は、以下の具体例によって何ら限定されることはない。なお、前述のように、以下の具体例は互変異性体であってもよく、水和物、溶媒和物又は塩を形成していてもよい。   Hereinafter, specific examples of the compound having a 5- or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring used in the present invention will be described. Among them, a compound having a structure represented by the general formula (A1), (A2), (A1.1), (A1.2) or a compound having a structure represented by the general formula (A3). preferable. The compound having a 5- or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring that can be used in the present invention is not limited at all by the following specific examples. As described above, the following specific examples may be tautomers and may form hydrates, solvates or salts.

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次に、前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物の合成方法について説明する。   Next, a method for synthesizing a compound having a structure represented by the general formula (A1) will be described.

前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物は、公知の方法で合成することができる。前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物において、1,2,4−トリアゾール環を有する化合物は、いかなる原料を用いても構わないが、ニトリル誘導体又はイミノエーテル誘導体と、ヒドラジド誘導体を反応させる方法が好ましい。反応に用いる溶媒としては、原料と反応しないと溶媒であれば、いかなる溶媒でも構わないが、エステル系(例えば、酢酸エチル、酢酸メチル等)、アミド系(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)、エーテル系(エチレングリコールジメチルエーテル等)、アルコール系(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等)、芳香族炭化水素系(例えば、トルエン、キシレン等)、水を挙げられることができる。使用する溶媒として、好ましくは、アルコール系溶媒である。また、これらの溶媒は、混合して用いても良い。   The compound having the structure represented by the general formula (A1) can be synthesized by a known method. In the compound having a structure represented by the general formula (A1), a compound having a 1,2,4-triazole ring may be any material, and may be a nitrile derivative or an imino ether derivative and a hydrazide derivative. A reaction method is preferred. As the solvent used in the reaction, any solvent may be used as long as it does not react with the raw materials, but an ester type (eg, ethyl acetate, methyl acetate, etc.), an amide type (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), an ether type (Eg, ethylene glycol dimethyl ether), alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, 2-butanol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, etc.), and aromatic hydrocarbons (eg, toluene, xylene, etc.) ), Water. The solvent used is preferably an alcohol solvent. These solvents may be used as a mixture.

溶媒の使用量は、特に制限はないが、使用するヒドラジド誘導体の質量に対して、0.5〜30倍量の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは、1.0〜25倍量であり、特に好ましくは、3.0〜20倍量の範囲内である。   The amount of the solvent to be used is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.5 to 30 times, more preferably 1.0 to 25 times the mass of the hydrazide derivative used. Yes, particularly preferably within the range of 3.0 to 20 times the amount.

ニトリル誘導体とヒドラジド誘導体を反応させる場合、触媒を使用しなくても構わないが、反応を加速させるために触媒を使用する方が好ましい。使用する触媒としては、酸を用いても良く、塩基を用いても良い。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等が挙げられ、好ましくは塩酸である。酸は、水に希釈して添加しても良く、ガスを系中に吹き込む方法で添加しても良い。塩基としては、無機塩基(炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等)及び有機塩基(ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウムエチラート、ナトリウムブチラート、カリウムブチラート、ジイソプロピルエチルアミン、N,N′−ジメチルアミノピリジン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、N−メチルモルホリン、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、ピリジン等)のいずれを用いて良く、無機塩基としては、炭酸カリウムが好ましく、有機塩基としては、ナトリウムエチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムブチラートが好ましい。無機塩基は、粉体のまま添加しても良く、溶媒に分散させた状態で添加しても良い。また、有機塩基は、溶媒に溶解した状態(例えば、ナトリウムメチラートの28%メタノール溶液等)で添加しても良い。   When reacting the nitrile derivative with the hydrazide derivative, a catalyst may not be used, but it is preferable to use a catalyst to accelerate the reaction. As the catalyst to be used, an acid or a base may be used. Examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid and the like, preferably hydrochloric acid. The acid may be diluted with water and added, or may be added by blowing gas into the system. Examples of the base include inorganic bases (potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, etc.) and organic bases (sodium methylate, sodium ethylate, potassium methylate, potassium ethylate, Sodium butyrate, potassium butyrate, diisopropylethylamine, N, N'-dimethylaminopyridine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, N-methylmorpholine, imidazole, N-methylimidazole, pyridine and the like) Any of these may be used. As the inorganic base, potassium carbonate is preferable, and as the organic base, sodium ethylate, sodium ethylate, and sodium butyrate are preferable. The inorganic base may be added as it is as a powder, or may be added in a state of being dispersed in a solvent. The organic base may be added in a state of being dissolved in a solvent (for example, a 28% methanol solution of sodium methylate).

触媒の使用量は、反応が進行する量であれば特に制限はないが、形成されるトリアゾール環に対して1.0〜5.0倍モルの範囲内が好ましく、更に1.05〜3.0倍モルの範囲内が好ましい。   The amount of the catalyst used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is preferably in the range of 1.0 to 5.0 moles, more preferably 1.05 to 3.0 times, based on the formed triazole ring. It is preferably in the range of 0 moles.

イミノエーテル誘導体とヒドラジド誘導体を反応させる場合は、触媒を用いる必要がなく、溶媒中で加熱することにより目的物を得ることができる。   When reacting the imino ether derivative with the hydrazide derivative, it is not necessary to use a catalyst, and the desired product can be obtained by heating in a solvent.

反応に用いる原料、溶媒及び触媒の添加方法は、特に制限がなく、触媒を最後に添加しても良く、溶媒を最後に添加しても良い。また、ニトリル誘導体を溶媒に分散若しくは溶解させ、触媒を添加した後、ヒドラジド誘導体を添加する方法も好ましい。   There are no particular restrictions on the method of adding the starting materials, solvent and catalyst used in the reaction, and the catalyst may be added last, or the solvent may be added last. It is also preferable to disperse or dissolve the nitrile derivative in a solvent, add a catalyst, and then add a hydrazide derivative.

反応中の溶液温度は、反応が進行する温度であればいかなる温度でも構わないが、好ましくは、0〜150℃の範囲内であり、更に好ましくは、20〜140℃の範囲内である。また、生成する水を除去しながら、反応を行っても良い。   The temperature of the solution during the reaction may be any temperature as long as the reaction proceeds, but is preferably in the range of 0 to 150 ° C, and more preferably in the range of 20 to 140 ° C. The reaction may be performed while removing generated water.

反応溶液の処理方法は、いかなる手段を用いても良いが、塩基を触媒として用いた場合は、反応溶液に酸を加えて中和する方法が好ましい。中和に用いる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸又は酢酸等が挙げられるが、特に好ましくは酢酸である。中和に使用する酸の量は、反応溶液のpHが4〜9になる範囲であれば特に制限はないが、使用する塩基に対して、0.1〜3倍モルが好ましく、特に好ましくは、0.2〜1.5倍モルの範囲内である。   Although any method may be used for the treatment of the reaction solution, when a base is used as a catalyst, it is preferable to neutralize the reaction solution by adding an acid. Examples of the acid used for neutralization include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and acetic acid, and acetic acid is particularly preferred. The amount of the acid used for the neutralization is not particularly limited as long as the pH of the reaction solution is in the range of 4 to 9, but is preferably 0.1 to 3 times, particularly preferably 1 to 3 times the mol of the base used. , 0.2-1.5 moles.

反応溶液の処理方法として、適当な有機溶媒を用いて抽出する場合、抽出後に有機溶媒を水で洗浄した後、濃縮する方法が好ましい。ここでいう適当な有機溶媒とは、酢酸エチル、トルエン、ジクロロメタン、エーテル等非水溶性の溶媒、又は、前記非水溶性の溶媒とテトラヒドロフラン又はアルコール系溶媒との混合溶媒のことであり、好ましくは酢酸エチルである。   As a method for treating the reaction solution, when extracting with a suitable organic solvent, a method of washing the organic solvent with water after extraction, and then concentrating the solution is preferable. The appropriate organic solvent referred to herein is a water-insoluble solvent such as ethyl acetate, toluene, dichloromethane, or ether, or a mixed solvent of the water-insoluble solvent and tetrahydrofuran or an alcohol solvent, preferably Ethyl acetate.

一般式(A1)で表される構造を有する化合物を晶析させる場合、特に制限はないが、中和した反応溶液に水を追加して晶析させる方法、若しくは、一般式(A1)で表される構造を有する化合物が溶解した水溶液を中和して晶析させる方法が好ましい。   When the compound having the structure represented by the general formula (A1) is crystallized, there is no particular limitation, but a method of crystallizing by adding water to the neutralized reaction solution or a method represented by the general formula (A1) It is preferable to neutralize and crystallize an aqueous solution in which a compound having the structure to be dissolved is dissolved.

例えば、例示化合物1は以下のスキームによって合成することができる。   For example, Exemplified Compound 1 can be synthesized according to the following scheme.

(例示化合物1の合成)

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(Synthesis of Exemplified Compound 1)
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n−ブタノール350mlにベンゾニトリル77.3g(75.0mmol)、ベンゾイルヒドラジン34.0g(25.0mmol)、炭酸カリウム107.0g(77.4mmol)を加え、窒素雰囲気下、120℃で24時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、析出物を濾過後、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物にイソプロパノール20mlを加え、析出物を濾取した。濾取した析出物をメタノール80mlに溶解し、純水300mlを加え、溶液のpHが7になるまで酢酸を滴下した。析出した結晶を濾取後、純水で洗浄し、50℃で送風乾燥することにより、例示化合物1を38.6g得た。収率は、ベンゾイルヒドラジン基準で70%であった。   77.3 g (75.0 mmol) of benzonitrile, 34.0 g (25.0 mmol) of benzoylhydrazine, and 107.0 g (77.4 mmol) of potassium carbonate were added to 350 ml of n-butanol, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. did. The reaction solution was cooled to room temperature, the precipitate was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. 20 ml of isopropanol was added to the concentrate, and the precipitate was collected by filtration. The precipitate collected by filtration was dissolved in 80 ml of methanol, 300 ml of pure water was added, and acetic acid was added dropwise until the pH of the solution reached 7. The precipitated crystals were collected by filtration, washed with pure water, and dried by blowing at 50 ° C. to obtain 38.6 g of Exemplified Compound 1. The yield was 70% based on benzoylhydrazine.

得られた例示化合物1のH−NMRスペクトルは以下のとおりである。 The 1 H-NMR spectrum of the obtained Exemplified Compound 1 is as follows.

H−NMR(400MHz、溶媒:重DMSO、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm):7.56〜7.48(6H、m)、7.62〜7.61(4H、m)
(例示化合物6の合成)
例示化合物6は以下のスキームによって合成することができる。
1 H-NMR (400 MHz, solvent: heavy DMSO, standard: tetramethylsilane) δ (ppm): 7.56 to 7.48 (6H, m), 7.62 to 7.61 (4H, m)
(Synthesis of Exemplified Compound 6)
Exemplary compound 6 can be synthesized according to the following scheme.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

n−ブタノール40mlに1,3−ジシアノベンゼン2.5g(19.5mmol)、ベンゾイルヒドラジン7.9g(58.5mmol)、炭酸カリウム9.0g(68.3mmol)を加え、窒素雰囲気下、120℃で24時間撹拌した。反応液を冷却後、純水40mlを加え、室温で3時間撹拌した後、析出した固体を濾別し、純水で洗浄した。得られた固体に水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン)で精製し、例示化合物6を5.5g得た。収率は、1,3−ジシアノベンゼン基準で77%であった。   2.5 g (19.5 mmol) of 1,3-dicyanobenzene, 7.9 g (58.5 mmol) of benzoylhydrazine and 9.0 g (68.3 mmol) of potassium carbonate were added to 40 ml of n-butanol, and the mixture was heated at 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. For 24 hours. After cooling the reaction solution, 40 ml of pure water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The precipitated solid was separated by filtration and washed with pure water. Water and ethyl acetate were added to the obtained solid to carry out liquid separation, and the organic layer was washed with pure water. The organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude crystals were purified by silica gel chromatography (ethyl acetate / heptane) to obtain 5.5 g of Exemplified Compound 6. The yield was 77% based on 1,3-dicyanobenzene.

得られた例示化合物6のH−NMRスペクトルは以下のとおりである。 The 1 H-NMR spectrum of the obtained Exemplified Compound 6 is as follows.

H−NMR(400MHz、溶媒:重DMSO、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm):8.83(1H、s)、8.16〜8.11(6H、m)、7.67〜7.54(7H、m)
(例示化合物176の合成)
例示化合物176は以下のスキームによって合成することができる。
1 H-NMR (400 MHz, solvent: heavy DMSO, standard: tetramethylsilane) δ (ppm): 8.83 (1H, s), 8.16 to 8.11 (6H, m), 7.67 to 7 .54 (7H, m)
(Synthesis of Exemplified Compound 176)
Exemplary compound 176 can be synthesized according to the following scheme.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

脱水テトラヒドロフラン520mlにアセトフェノン80g(0.67mol)、イソフタル酸ジメチル52g(0.27mol)を加え、窒素雰囲気下、氷水冷で撹拌しながら、ナトリウムアミド52.3g(1.34mol)を少しずつ滴下した。氷水冷下で3時間撹拌した後、水冷下で12時間撹拌した。反応液に濃硫酸を加えて中和した後、純水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶にメタノールを加えて懸濁洗浄することにより、中間体Aを55.2g得た。   80 g (0.67 mol) of acetophenone and 52 g (0.27 mol) of dimethyl isophthalate were added to 520 ml of dehydrated tetrahydrofuran, and 52.3 g (1.34 mol) of sodium amide was gradually added dropwise with stirring under ice-water cooling under a nitrogen atmosphere. . After stirring for 3 hours under ice-water cooling, the mixture was stirred for 12 hours under water cooling. After the reaction solution was neutralized by adding concentrated sulfuric acid, pure water and ethyl acetate were added thereto to carry out liquid separation, and the organic layer was washed with pure water. The organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Methanol was added to the obtained crude crystals, followed by suspension washing to obtain 55.2 g of Intermediate A.

テトラヒドロフラン300ml、エタノール200mlに中間体A55g(0.15mol)を加え、室温で撹拌しながら、ヒドラジン1水和物18.6g(0.37mol)を少しずつ滴下した。滴下終了後、12時間加熱還流した。反応液に純水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン)で精製することによって、例示化合物176を27g得た。   55 g (0.15 mol) of the intermediate A was added to 300 ml of tetrahydrofuran and 200 ml of ethanol, and 18.6 g (0.37 mol) of hydrazine monohydrate was added dropwise little by little while stirring at room temperature. After the dropwise addition, the mixture was heated under reflux for 12 hours. Pure water and ethyl acetate were added to the reaction solution to carry out liquid separation, and the organic layer was washed with pure water. The organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude crystals were purified by silica gel chromatography (ethyl acetate / heptane) to obtain 27 g of Exemplified Compound 176.

得られた例示化合物176のH−NMRスペクトルは以下のとおりである。なお、互変異性体の存在により、ケミカルシフトが複雑化するのを避けるために、測定溶媒にトリフルオロ酢酸を数滴加えて測定を行った。 The 1 H-NMR spectrum of the obtained exemplary compound 176 is as follows. In addition, in order to avoid complicating the chemical shift due to the presence of the tautomer, the measurement was performed by adding a few drops of trifluoroacetic acid to the measurement solvent.

H−NMR(400MHz、溶媒:重DMSO、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm):8.34(1H、s)、7.87〜7.81(6H、m)、7.55〜7.51(1H、m)、7.48〜7.44(4H、m)、7.36〜7.33(2H、m)、7.29(1H、s)
その他の化合物についても同様の方法によって合成が可能である。
1 H-NMR (400 MHz, solvent: heavy DMSO, standard: tetramethylsilane) δ (ppm): 8.34 (1H, s), 7.87 to 7.81 (6H, m), 7.55 to 7 .51 (1H, m), 7.48 to 7.44 (4H, m), 7.36 to 7.33 (2H, m), 7.29 (1H, s)
Other compounds can be synthesized by the same method.

〈一般式(A1)で表される構造を有する化合物の使用方法について〉
本発明に用いられる前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物は、適宜量を調整して環状ポリオレフィンフィルムに含有することができるが、添加量としては環状ポリオレフィンフィルム中に、0.1〜10質量%含むことが好ましく、特に、0.5〜5質量%含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の環状ポリオレフィンフィルムの機械強度を損なうことなく、環境湿度の変化に依存した位相差の変動を低減することができる。
<How to Use Compound Having Structure Represented by General Formula (A1)>
The compound having a structure represented by the general formula (A1) used in the present invention can be contained in the cyclic polyolefin film in an appropriate amount by adjusting the amount thereof. It is preferably contained in an amount of 1 to 10% by mass, particularly preferably 0.5 to 5% by mass. Within this range, the fluctuation of the phase difference depending on the change of the environmental humidity can be reduced without impairing the mechanical strength of the cyclic polyolefin film of the present invention.

また、前記一般式(A1)で表される構造を有する化合物の添加方法としては、環状ポリオレフィンフィルムを形成する樹脂に粉体で添加しても良く、溶媒に溶解した後、環状ポリオレフィンフィルムを形成する樹脂に添加しても良い。   As a method of adding the compound having the structure represented by the general formula (A1), the compound may be added as a powder to the resin forming the cyclic polyolefin film, and after dissolving in a solvent, forming the cyclic polyolefin film. May be added to the resin.

(6)有機エステル
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、可塑剤として以下の有機エステルを用いることが、成型性や寸法安定性の観点から好ましい。
(6) Organic Ester The following organic esters are preferably used as the plasticizer in the cyclic polyolefin film of the present invention from the viewpoint of moldability and dimensional stability.

有機エステルは、融点が−60〜120℃の範囲内である化合物であることが好ましく、かつ示差熱・熱重量測定による1%質量減少温度Td1が100〜350℃の範囲内である有機エステルであることが好ましい。有機エステルとしては、特に限定されるものではないが、当該有機エステルが、糖エステル、重縮合エステル、及び多価アルコールエステルから選択される少なくとも1種であることが好ましく、前記重縮合エステルは、構造中に窒素原子を含まないエステルであることが好ましい。   The organic ester is preferably a compound having a melting point in the range of −60 to 120 ° C. and having a 1% mass reduction temperature Td1 in the range of 100 to 350 ° C. by differential thermogravimetry. Preferably, there is. The organic ester is not particularly limited, but the organic ester is preferably at least one selected from sugar esters, polycondensed esters, and polyhydric alcohol esters. It is preferable that the ester does not contain a nitrogen atom in the structure.

(有機エステルの融点の測定)
融点の測定は、セイコーインスツル製示差熱・熱重量同時測定装置、EXSTAR6220TG/DTAを用いて測定した。アルミパンに試料化合物を10mg入れて、10℃/minで30〜350℃、350〜30℃に温度を変化させたときの吸熱・発熱ピークから融点を求めた。融点が0℃以下の化合物を測定するときは5℃/minで−50〜30℃、30〜−50℃までの温度の吸熱・発熱ピークから融点を求めた。
(Measurement of melting point of organic ester)
The melting point was measured using a differential thermal / thermogravimetric simultaneous measurement apparatus manufactured by Seiko Instruments, EXSTAR6220TG / DTA. The melting point was determined from the endothermic and exothermic peaks when 10 mg of the sample compound was placed in an aluminum pan and the temperature was changed to 30 to 350 ° C and 350 to 30 ° C at 10 ° C / min. When a compound having a melting point of 0 ° C. or lower was measured, the melting point was determined at 5 ° C./min from endothermic and exothermic peaks at −50 to 30 ° C. and 30 to −50 ° C.

本発明に用いられる有機エステルは、本発明の効果を呈するのに、融点が−60〜120℃の範囲内であることが必要であり、好ましくは、−45〜90℃の範囲内である。   In order to exhibit the effects of the present invention, the organic ester used in the present invention needs to have a melting point within the range of -60 to 120C, and preferably within the range of -45 to 90C.

有機エステルの融点が−60〜120℃の範囲内であると、製造ライン中で飛散し、かつ冷却された後液状化しやすいため、本発明の効果発現の観点からこの範囲内であることが好ましい。   When the melting point of the organic ester is in the range of −60 to 120 ° C., it is scattered in the production line and easily liquefied after being cooled. .

(有機エステルの1%質量減少温度の測定)
有機エステルの1%質量減少温度Td1の測定は、例えば、セイコーインスツル製示差熱・熱重量同時測定装置、EXSTAR6200TG/DTAによって、アルミパンに試料化合物を10mg入れて、50℃/minで100℃まで昇温した後、40分間そのまま加熱し、その後、10℃/minで400℃まで昇温しながら質量変動をモニターし、質量が1質量%減少したときの温度を、1%質量減少温度とする。なお、測定は乾燥空気(露点−30℃)下で測定する。
(Measurement of 1% mass loss temperature of organic ester)
The measurement of the 1% mass reduction temperature Td1 of the organic ester is performed by, for example, putting 10 mg of the sample compound in an aluminum pan using an EXSTAR6200TG / DTA simultaneous thermal / thermogravimetric measuring device manufactured by Seiko Instruments Inc. at 100 ° C. at 50 ° C./min. After heating to 40 ° C, the mass was monitored while the temperature was raised to 400 ° C at a rate of 10 ° C / min. I do. In addition, the measurement is performed under dry air (dew point −30 ° C.).

本発明に用いられる有機エステルは、本発明の効果を呈するのに、1%質量減少温度が、100〜300℃の範囲内であることが好ましく、より好ましくは200〜270℃の範囲内である。   In order to exhibit the effects of the present invention, the organic ester used in the present invention preferably has a 1% mass reduction temperature in the range of 100 to 300 ° C, more preferably in the range of 200 to 270 ° C. .

有機エステルの1%質量減少温度が100℃以上であると、飛散、冷却後液状化したときの粘度が適度であり、含窒素複素環化合物の飛散物の嵩高さを小さくすることができ、1%質量減少温度が350℃以下であると、当該含窒素複素環化合物の飛散物の嵩高さを小さくするのに必要な量が飛散して、十分な効果を得ることができる。   When the 1% mass reduction temperature of the organic ester is 100 ° C. or more, the viscosity when liquefied after scattering and cooling is appropriate, and the bulk of the scattered matter of the nitrogen-containing heterocyclic compound can be reduced. When the% mass reduction temperature is 350 ° C. or lower, an amount necessary for reducing the bulkiness of the scattered matter of the nitrogen-containing heterocyclic compound is scattered, and a sufficient effect can be obtained.

以下、本発明に好ましく用いられる有機エステルとして、糖エステル、重縮合エステル、及び多価アルコールエステルについて説明する。   Hereinafter, sugar esters, polycondensation esters, and polyhydric alcohol esters will be described as organic esters preferably used in the present invention.

本発明では以下の好ましい有機エステルの中から、上記融点及び1%質量減少温度Td1が本発明の範囲内である化合物を、適宜選択して用いることができる。   In the present invention, a compound having the above melting point and 1% mass reduction temperature Td1 within the range of the present invention can be appropriately selected and used from the following preferable organic esters.

(6−1)糖エステル
本発明に用いられる糖エステルとしては、ピラノース環又はフラノース環の少なくとも1種を1個以上12個以下有しその構造のOH基の全て若しくは一部をエステル化した糖エステルであることが好ましい。
(6-1) Sugar Ester As the sugar ester used in the present invention, a sugar having at least one but not more than 12 pyranose rings or furanose rings and having all or a part of the OH groups of the structure esterified is provided. It is preferably an ester.

本発明に用いられる糖エステルとは、フラノース環又はピラノース環の少なくともいずれかを含む化合物であり、単糖であっても、糖構造が2〜12個連結した多糖であってもよい。そして、糖エステルは、糖構造が有するOH基の少なくとも一つがエステル化された化合物が好ましい。本発明に係る糖エステルにおいては、平均エステル置換度が、4.0〜8.0の範囲内であることが好ましく、5.0〜7.5の範囲内であることがより好ましい。   The sugar ester used in the present invention is a compound containing at least one of a furanose ring and a pyranose ring, and may be a monosaccharide or a polysaccharide in which 2 to 12 sugar structures are linked. The sugar ester is preferably a compound in which at least one of the OH groups of the sugar structure is esterified. In the sugar ester according to the present invention, the average degree of ester substitution is preferably in the range of 4.0 to 8.0, more preferably in the range of 5.0 to 7.5.

本発明に用いられる糖エステルとしては、特に制限はないが、下記一般式(B)で表される糖エステルを挙げることができる。   The sugar ester used in the present invention is not particularly limited, and includes a sugar ester represented by the following general formula (B).

一般式(B)
(HO)−G−(O−C(=O)−R
上記一般式(B)において、Gは、単糖類又は二糖類の残基を表し、Rは、脂肪族基又は芳香族基を表し、mは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合しているヒドロキシ基の数の合計であり、nは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合している−(O−C(=O)−R)基の数の合計であり、3≦m+n≦8であり、n≠0である。
General formula (B)
(HO) m -G- (OC (= O) -R 2 ) n
In the general formula (B), G represents a monosaccharide or disaccharide residue, R 2 represents an aliphatic group or an aromatic group, and m represents a direct bond to the monosaccharide or disaccharide residue. to have a total number of hydroxy groups, n is bonded directly to the residue of the monosaccharide or disaccharide - (O-C (= O ) -R 2) is the sum of the number of groups, 3 ≦ m + n ≦ 8, and n ≠ 0.

一般式(B)で表される構造を有する糖エステルは、ヒドロキシ基の数(m)、−(O−C(=O)−R)基の数(n)が固定された単一種の化合物として単離することは困難であり、式中のm、nの異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られている。したがって、ヒドロキシ基の数(m)、−(O−C(=O)−R)基の数(n)が各々変化した混合物としての性能が重要であり、本発明の環状ポリオレフィンフィルムの場合、平均エステル置換度が、5.0〜7.5の範囲内である糖エステルが好ましい。 The sugar ester having the structure represented by the general formula (B) is a single type of sugar in which the number (m) of hydroxy groups and the number (n) of-(OC (= O) -R 2 ) groups are fixed. It is difficult to isolate as a compound, and it is known that a compound in which several types of components having different m and n in the formula are mixed is obtained. Therefore, the performance as a mixture in which the number (m) of hydroxy groups and the number (n) of — (OC (= O) —R 2 ) groups are changed is important. In the case of the cyclic polyolefin film of the present invention, And a sugar ester having an average ester substitution degree in the range of 5.0 to 7.5.

上記一般式(B)において、Gは単糖類又は二糖類の残基を表す。単糖類の具体例としては、例えばアロース、アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソースなどが挙げられる。   In the above general formula (B), G represents a monosaccharide or disaccharide residue. Specific examples of the monosaccharide include allose, altrose, glucose, mannose, gulose, idose, galactose, talose, ribose, arabinose, xylose, and lyxose.

以下に、一般式(B)で表される糖エステルの単糖類残基を有する化合物の具体例を示すが、本発明はこれら例示する化合物に限定されるものではない。   Hereinafter, specific examples of the compound having a monosaccharide residue of a sugar ester represented by the general formula (B) are shown, but the present invention is not limited to these exemplified compounds.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

また、二糖類残基の具体例としては、例えば、トレハロース、スクロース、マルトース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、イソトレハロース等が挙げられる。   Further, specific examples of the disaccharide residue include, for example, trehalose, sucrose, maltose, cellobiose, gentiobiose, lactose, isotrehalose, and the like.

以下に、一般式(B)で表される糖エステルの二糖類残基を有する化合物の具体例を示すが、本発明はこれら例示する化合物に限定されるものではない。   Hereinafter, specific examples of the compound having a disaccharide residue of a sugar ester represented by the general formula (B) are shown, but the present invention is not limited to these exemplified compounds.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

一般式(B)において、Rは、脂肪族基又は芳香族基を表す。ここで、脂肪族基及び芳香族基は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい。 In the general formula (B), R 2 represents an aliphatic group or an aromatic group. Here, the aliphatic group and the aromatic group may each independently have a substituent.

また、一般式(B)において、mは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合しているヒドロキシ基の数の合計であり、nは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合している−(O−C(=O)−R)基の数の合計である。そして、3≦m+n≦8であることが必要であり、4≦m+n≦8であることが好ましい。また、n≠0である。なお、nが2以上である場合、−(O−C(=O)−R)基は互いに同じでもよいし異なっていてもよい。 Further, in the general formula (B), m is the total number of hydroxy groups directly bonded to the monosaccharide or disaccharide residue, and n is directly bonded to the monosaccharide or disaccharide residue. The total number of-(OC (= O) -R 2 ) groups. It is necessary that 3 ≦ m + n ≦ 8, and it is preferable that 4 ≦ m + n ≦ 8. Also, n ≠ 0. Incidentally, when n is 2 or more, - (O-C (= O) -R 2) groups may be different or may be equal to each other.

の定義における脂肪族基は、直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数1〜25のものが好ましく、1〜20のものがより好ましく、2〜15のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、シクロプロピル、n−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、アミル、iso−アミル、tert−アミル、n−ヘキシル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビシクロオクチル、アダマンチル、n−デシル、tert−オクチル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ジデシル等の各基が挙げられる。 The aliphatic group in the definition of R 2 may be linear, branched, or cyclic, preferably has 1 to 25 carbon atoms, more preferably has 1 to 20 carbon atoms, and has 2 carbon atoms. To 15 are particularly preferred. Specific examples of the aliphatic group include, for example, methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, cyclopropyl, n-butyl, iso-butyl, tert-butyl, amyl, iso-amyl, tert-amyl, n- Examples include hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, bicyclooctyl, adamantyl, n-decyl, tert-octyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, and didecyl.

また、Rの定義における芳香族基は、芳香族炭化水素基でもよいし、芳香族複素環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が6〜24のものが好ましく、6〜12のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニル等の各環が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環が特に好ましい。芳香族複素環基としては、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも一つを含む環が好ましい。複素環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン等の各環が挙げられる。芳香族複素環基としては、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環が特に好ましい。 Further, the aromatic group in the definition of R 2 may be an aromatic hydrocarbon group may be an aromatic heterocyclic group, more preferably an aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 24 carbon atoms, and more preferably has 6 to 12 carbon atoms. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include, for example, rings such as benzene, naphthalene, anthracene, biphenyl, and terphenyl. As the aromatic hydrocarbon group, a benzene ring, a naphthalene ring and a biphenyl ring are particularly preferred. As the aromatic heterocyclic group, a ring containing at least one of an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom is preferable. Specific examples of the heterocycle, for example, furan, pyrrole, thiophene, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiazoline, thiadiazole, oxazoline, oxazole, oxadiazole, quinoline, Each ring includes isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzotriazole, tetrazaindene and the like. As the aromatic heterocyclic group, a pyridine ring, a triazine ring and a quinoline ring are particularly preferred.

次に、一般式(B)で表される糖エステルの好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの例示する化合物に限定されるものではない。下記例示化合物はいずれも融点及び1%質量減少温度Td1が、本発明の範囲内である。   Next, preferred examples of the sugar ester represented by the general formula (B) are shown below, but the present invention is not limited to these exemplified compounds. The following exemplified compounds all have a melting point and a 1% mass loss temperature Td1 within the scope of the present invention.

糖エステルは一つの分子中に二つ以上の異なった置換基を含有していても良く、芳香族置換基と脂肪族置換基を1分子内に含有、異なる二つ以上の芳香族置換基を1分子内に含有、異なる二つ以上の脂肪族置換基を1分子内に含有することができる。   The sugar ester may contain two or more different substituents in one molecule, contain an aromatic substituent and an aliphatic substituent in one molecule, and contain two or more different aromatic substituents. Two or more different aliphatic substituents contained in one molecule may be contained in one molecule.

また、2種類以上の糖エステルを混合して含有することも好ましい。芳香族置換基を含有する糖エステルと、脂肪族置換基を含有する糖エステルを同時に含有することも好ましい。   It is also preferable that two or more sugar esters are mixed and contained. It is also preferable to simultaneously contain a sugar ester containing an aromatic substituent and a sugar ester containing an aliphatic substituent.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

Figure 0006657602
Figure 0006657602

〈合成例:一般式(B)で表される糖エステルの合成例〉
以下に、本発明に好適に用いることのできる糖エステルの合成の一例を示す。
<Synthesis example: Synthesis example of sugar ester represented by general formula (B)>
Hereinafter, an example of the synthesis of a sugar ester that can be suitably used in the present invention will be described.

Figure 0006657602
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撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖を34.2g(0.1モル)、無水安息香酸を180.8g(0.8モル)、ピリジンを379.7g(4.8モル)、それぞれ仕込み、撹拌下で窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、70℃で5時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を4×10Pa以下に減圧し、60℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を1.3×10Pa以下に減圧し、120℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエンを1L、0.5質量%の炭酸ナトリウム水溶液を300g添加し、50℃で30分間撹拌した後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水を100g添加し、常温で30分間水洗した後、トルエン層を分取し、減圧下(4×10Pa以下)、60℃でトルエンを留去させ、化合物A−1、A−2、A−3、A−4及びA−5の混合物を得た。得られた混合物をHPLC及びLC−MASSで解析したところ、A−1が7質量%、A−2が58質量%、A−3が23質量%、A−4が9質量%、A−5が3質量%で、糖エステルの平均エステル置換度が、6.57であった。なお、得られた混合物の一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度100%のA−1、A−2、A−3、A−4及びA−5を得た。 34.2 g (0.1 mol) of sucrose, 180.8 g (0.8 mol) of benzoic anhydride, and pyridine were placed in a four-headed kolben equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer and a nitrogen gas inlet tube. Was charged, and the temperature was raised while bubbling nitrogen gas from a nitrogen gas inlet tube with stirring to carry out an esterification reaction at 70 ° C. for 5 hours. Next, the pressure inside the Kolben was reduced to 4 × 10 2 Pa or less, and excess pyridine was distilled off at 60 ° C. Then, the pressure inside the Kolben was reduced to 1.3 × 10 Pa or less, and the temperature was raised to 120 ° C. to obtain anhydrous benzoic acid. Most of the acid and benzoic acid formed were distilled off. Then, 1 L of toluene and 300 g of a 0.5% by mass aqueous solution of sodium carbonate were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 30 minutes, and then allowed to stand to separate a toluene layer. Finally, 100 g of water was added to the separated toluene layer, and the mixture was washed with water at room temperature for 30 minutes. Then, the toluene layer was separated, and toluene was distilled off at 60 ° C. under reduced pressure (4 × 10 2 Pa or less). A mixture of compounds A-1, A-2, A-3, A-4 and A-5 was obtained. When the obtained mixture was analyzed by HPLC and LC-MASS, A-1 was 7% by mass, A-2 was 58% by mass, A-3 was 23% by mass, A-4 was 9% by mass, A-5. Was 3% by mass, and the average ester substitution degree of the sugar ester was 6.57. A part of the obtained mixture was purified by silica gel column chromatography to obtain 100% pure A-1, A-2, A-3, A-4 and A-5, respectively.

当該糖エステルの添加量は、環状ポリオレフィン系樹脂に対して0.1〜20質量%の範囲で添加することが好ましく、1〜15質量%の範囲で添加することがより好ましい。   The amount of the sugar ester is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass, more preferably in the range of 1 to 15% by mass, based on the cyclic polyolefin resin.

(6−2)重縮合エステル
本発明の環状ポリオレフィンフィルムにおいては、有機エステルとして、下記一般式(C)で表される構造を有する重縮合エステルを用いることが、温湿度変化に対する寸法安定性の観点から好ましい。
(6-2) Polycondensed ester In the cyclic polyolefin film of the present invention, it is preferable to use a polycondensed ester having a structure represented by the following general formula (C) as an organic ester, because of its dimensional stability against temperature and humidity changes. Preferred from a viewpoint.

当該重縮合エステルはその可塑的な効果から、本発明の環状ポリオレフィンフィルムにおいては、1〜30質量%の範囲で含有することが好ましく、5〜20質量%の範囲で含有することがより好ましい。   The polycondensed ester is preferably contained in the cyclic polyolefin film of the present invention in the range of 1 to 30% by mass, and more preferably in the range of 5 to 20% by mass, due to its plastic effect.

一般式(C)
−(G−A)−G−B
上記一般式(C)において、B及びBは、それぞれ独立に脂肪族又は芳香族モノカルボン酸残基、若しくはヒドロキシ基を表す。Gは、炭素数2〜12のアルキレングリコール残基、炭素数6〜12のアリールグリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基を表す。Aは、炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。
General formula (C)
B 3 - (G 2 -A) n -G 2 -B 4
In the formula (C), B 3 and B 4 each independently represent an aliphatic or aromatic monocarboxylic acid residue or a hydroxy group. G 2 is an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue or a carbon number of 6 to 12 carbon atoms represents an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12. A represents an alkylenedicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryldicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms. n represents an integer of 1 or more.

本発明において、重縮合エステルは、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含む重縮合エステルであり、Aは重縮合エステル中のカルボン酸残基を表し、Gはアルコール残基を表す。 In the present invention, the polycondensation ester is a polycondensed ester having a repeating unit obtained by reacting a dicarboxylic acid and a diol, A represents a carboxylic acid residue in the polycondensed ester, G 2 is an alcohol residue Represent.

重縮合エステルを構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、1種類であっても、2種類以上の混合物であってもよい。特に芳香族、脂肪族を混合させることが好ましい。   The dicarboxylic acid constituting the polycondensed ester is an aromatic dicarboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid or an alicyclic dicarboxylic acid, and is preferably an aromatic dicarboxylic acid. The dicarboxylic acid may be one type or a mixture of two or more types. In particular, it is preferable to mix aromatics and aliphatics.

重縮合エステルを構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数1〜4のジオールである。ジオールは、1種類であっても、2種類以上の混合物であってもよい。   The diol constituting the polycondensed ester is an aromatic diol, an aliphatic diol or an alicyclic diol, preferably an aliphatic diol, and more preferably a diol having 1 to 4 carbon atoms. The diol may be one kind or a mixture of two or more kinds.

中でも、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数1〜8のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数1〜8のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。   Among them, a dicarboxylic acid containing at least an aromatic dicarboxylic acid and a repeating unit obtained by reacting a diol having 1 to 8 carbon atoms are preferable, and a dicarboxylic acid containing an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic dicarboxylic acid is preferably used. And a repeating unit obtained by reacting a diol having 1 to 8 carbon atoms.

重縮合エステルの分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよい。   Both ends of the polycondensed ester molecule may or may not be sealed.

一般式(C)のAを構成するアルキレンジカルボン酸の具体例としては、1,2−エタンジカルボン酸(コハク酸)、1,3−プロパンジカルボン酸(グルタル酸)、1,4−ブタンジカルボン酸(アジピン酸)、1,5−ペンタンジカルボン酸(ピメリン酸)、1,8−オクタンジカルボン酸(セバシン酸)などから誘導される2価の基が含まれる。Aを構成するアルケニレンジカルボン酸の具体例としては、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。Aを構成するアリールジカルボン酸の具体例としては、1,2−ベンゼンジカルボン酸(フタル酸)、1,3−ベンゼンジカルボン酸、1,4−ベンゼンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられる。   Specific examples of the alkylenedicarboxylic acid constituting A in the general formula (C) include 1,2-ethanedicarboxylic acid (succinic acid), 1,3-propanedicarboxylic acid (glutaric acid), and 1,4-butanedicarboxylic acid. (Adipic acid), 1,5-pentanedicarboxylic acid (pimelic acid), and a divalent group derived from 1,8-octanedicarboxylic acid (sebacic acid). Specific examples of the alkenylene dicarboxylic acid constituting A include maleic acid and fumaric acid. Specific examples of the aryldicarboxylic acid constituting A include 1,2-benzenedicarboxylic acid (phthalic acid), 1,3-benzenedicarboxylic acid, 1,4-benzenedicarboxylic acid, and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid. No.

Aは、1種類であっても、2種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Aは、炭素原子数4〜12のアルキレンジカルボン酸と炭素原子数8〜12のアリールジカルボン酸との組み合わせが好ましい。   A may be a single type or a combination of two or more types. Among them, A is preferably a combination of an alkylenedicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms and an aryldicarboxylic acid having 8 to 12 carbon atoms.

一般式(C)中のGは、炭素原子数2〜12のアルキレングリコールから誘導される2価の基、炭素原子数6〜12のアリールグリコールから誘導される2価の基、又は炭素原子数4〜12のオキシアルキレングリコールから誘導される2価の基を表す。 G 2 in the general formula (C) represents a divalent group derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms, a divalent group derived from an aryl glycol having 6 to 12 carbon atoms, or a carbon atom. It represents a divalent group derived from oxyalkylene glycol of the formulas 4 to 12.

における炭素原子数2〜12のアルキレングリコールから誘導される2価の基の例には、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、及び1,12−オクタデカンジオール等から誘導される2価の基が含まれる。 Examples of the divalent group derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms in G 2, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1 , 3-Butanediol, 1,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (Neopentyl glycol), 2,2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-diene) Methylol heptane), 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanedio , 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol and the like. Divalent groups.

における炭素原子数6〜12のアリールグリコールから誘導される2価の基の例には、1,2−ジヒドロキシベンゼン(カテコール)、1,3−ジヒドロキシベンゼン(レゾルシノール)、1,4−ジヒドロキシベンゼン(ヒドロキノン)などから誘導される2価の基が含まれる。Gにおける炭素原子数が4〜12のオキシアルキレングリコールから誘導される2価の基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどから誘導される2価の基が含まれる。 Examples of the divalent group derived from an aryl glycol having 6 to 12 carbon atoms in G 2, 1,2-dihydroxybenzene (catechol), 1,3-dihydroxybenzene (resorcinol), 1,4-dihydroxy Includes divalent groups derived from benzene (hydroquinone) and the like. Examples of the divalent group derived from oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms in G are derived from diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like. Includes divalent groups.

は、1種類であっても、2種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Gは、炭素原子数2〜12のアルキレングリコールから誘導される2価の基が好ましく、2〜5がさらに好ましく、2〜4が最も好ましい。 G 2 is, 1 be a kind, two or more kinds may be combined. Among them, G 2 is preferably a divalent group derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 5, 2 to 4 is most preferred.

一般式(C)におけるB及びBは、各々芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される1価の基、若しくはヒドロキシ基である。 B 3 and B 4 in the general formula (C) are each a monovalent group derived from an aromatic ring-containing monocarboxylic acid or an aliphatic monocarboxylic acid, or a hydroxy group.

芳香環含有モノカルボン酸から誘導される1価の基における芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される1価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、3−フェニルプロピオン酸などから誘導される1価の基が含まれる。中でも安息香酸、パラトルイル酸が好ましい。   The aromatic ring-containing monocarboxylic acid in the monovalent group derived from the aromatic ring-containing monocarboxylic acid is a carboxylic acid containing an aromatic ring in the molecule, and is not limited to the one in which the aromatic ring is directly bonded to the carboxy group, Also included are those in which an aromatic ring is bonded to a carboxy group via an alkylene group or the like. Examples of the monovalent group derived from an aromatic ring-containing monocarboxylic acid include benzoic acid, para-tert-butylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, paratoluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, and normal propylbenzoic acid And monovalent groups derived from aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid, phenylacetic acid, 3-phenylpropionic acid and the like. Above all, benzoic acid and paratoluic acid are preferred.

脂肪族モノカルボン酸から誘導される1価の基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される1価の基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素原子数が1〜3であるアルキルモノカルボン酸から誘導される1価の基が好ましく、アセチル基(酢酸から誘導される1価の基)がより好ましい。   Examples of monovalent groups derived from aliphatic monocarboxylic acids include monovalent groups derived from acetic acid, propionic acid, butanoic acid, caprylic acid, caproic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, stearic acid, oleic acid, and the like. Groups are included. Among them, a monovalent group derived from an alkyl monocarboxylic acid having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl portion is preferable, and an acetyl group (a monovalent group derived from acetic acid) is more preferable.

本発明に用いられる重縮合エステルの重量平均分子量は、500〜3000の範囲であることが好ましく、600〜2000の範囲であることがより好ましい。重量平均分子量は前記ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定することができる。   The weight average molecular weight of the polycondensed ester used in the present invention is preferably in the range of 500 to 3,000, and more preferably in the range of 600 to 2,000. The weight average molecular weight can be measured by the aforementioned gel permeation chromatography (GPC).

以下、一般式(C)で表される構造を有する重縮合エステルの具体例を示すが、これに限定されるものではない。下記例示化合物はいずれも融点及び1%質量減少温度Td1が、本発明の範囲内である。   Hereinafter, specific examples of the polycondensed ester having a structure represented by the general formula (C) are shown, but the invention is not limited thereto. The following exemplified compounds all have a melting point and a 1% mass loss temperature Td1 within the scope of the present invention.

Figure 0006657602
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以下、上記説明した重縮合エステルの具体的な合成例について記載する。   Hereinafter, specific synthesis examples of the above-described polycondensed ester will be described.

〈重縮合エステルP1〉
エチレングリコール180g、無水フタル酸278g、アジピン酸91g、安息香酸610g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応のエチレングリコールを減圧留去することにより、重縮合エステルP1を得た。酸価0.20、数平均分子量450であった。
<Polycondensed ester P1>
180 g of ethylene glycol, 278 g of phthalic anhydride, 91 g of adipic acid, 610 g of benzoic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were charged into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube. The temperature is gradually increased while stirring in a nitrogen stream until the temperature reaches 230 ° C. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After the reaction was completed, unreacted ethylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain a polycondensed ester P1. The acid value was 0.20 and the number average molecular weight was 450.

〈重縮合エステルP2〉
1,2−プロピレングリコール251g、無水フタル酸103g、アジピン酸244g、安息香酸610g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、下記重縮合エステルP2を得た。酸価0.10、数平均分子量450であった。
<Polycondensed ester P2>
251 g of 1,2-propylene glycol, 103 g of phthalic anhydride, 244 g of adipic acid, 610 g of benzoic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were prepared. The flask is charged, and the temperature is gradually increased while stirring in a nitrogen stream until the temperature reaches 230 ° C. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After the reaction was completed, unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain the following polycondensed ester P2. The acid value was 0.10 and the number average molecular weight was 450.

Figure 0006657602
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〈重縮合エステルP3〉
1,4−ブタンジオール330g、無水フタル酸244g、アジピン酸103g、安息香酸610g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応の1,4−ブタンジオールを減圧留去することにより、重縮合エステルP3を得た。酸価0.50、数平均分子量2000であった。
<Polycondensed ester P3>
330 g of 1,4-butanediol, 244 g of phthalic anhydride, 103 g of adipic acid, 610 g of benzoic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were placed in a 2 L four-necked port equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling pipe. The flask is charged, and the temperature is gradually increased while stirring in a nitrogen stream until the temperature reaches 230 ° C. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After completion of the reaction, unreacted 1,4-butanediol was distilled off at 200 ° C. under reduced pressure to obtain a polycondensed ester P3. The acid value was 0.50 and the number average molecular weight was 2,000.

〈重縮合エステルP4〉
1,2−プロピレングリコール251g、テレフタル酸354g、安息香酸610g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、重縮合エステルP4を得た。酸価0.10、数平均分子量400であった。
<Polycondensed ester P4>
251 g of 1,2-propylene glycol, 354 g of terephthalic acid, 610 g of benzoic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were charged into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a slow cooling tube. The temperature is gradually raised with stirring until the temperature reaches 230 ° C in an air current. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After completion of the reaction, unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain a polycondensed ester P4. The acid value was 0.10 and the number average molecular weight was 400.

〈重縮合エステルP5〉
1,2−プロピレングリコール251g、テレフタル酸354g、p−トロイル酸680g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、下記重縮合エステルP5を得た。酸価0.30、数平均分子量400であった。
<Polycondensed ester P5>
251 g of 1,2-propylene glycol, 354 g of terephthalic acid, 680 g of p-toroic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were charged into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube for cooling. The temperature is gradually increased while stirring in a nitrogen stream until the temperature reaches 230 ° C. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After completion of the reaction, unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain the following polycondensed ester P5. The acid value was 0.30 and the number average molecular weight was 400.

Figure 0006657602
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〈重縮合エステルP6〉
180gの1,2−プロピレングリコール、292gのアジピン酸、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中200℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、重縮合エステルP6を得た。酸価0.10、数平均分子量400であった。
<Polycondensed ester P6>
180 g of 1,2-propylene glycol, 292 g of adipic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were charged into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a slow cooling tube, and were charged in a nitrogen stream. The temperature is gradually raised with stirring until the temperature reaches 200 ° C. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After completion of the reaction, unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain a polycondensed ester P6. The acid value was 0.10 and the number average molecular weight was 400.

〈重縮合エステルP7〉
180gの1,2−プロピレングリコール、無水フタル酸244g、アジピン酸103g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中200℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、重縮合エステルP7を得た。酸価0.10、数平均分子量320であった。
<Polycondensed ester P7>
180 g of 1,2-propylene glycol, 244 g of phthalic anhydride, 103 g of adipic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst are charged into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a slow cooling tube. The temperature is gradually increased while stirring in a nitrogen stream until the temperature reaches 200 ° C. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After completion of the reaction, unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain a polycondensed ester P7. The acid value was 0.10 and the number average molecular weight was 320.

〈重縮合エステルP8〉
エチレングリコール251g、無水フタル酸244g、コハク酸120g、酢酸150g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中200℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後200℃で未反応のエチレングリコールを減圧留去することにより、重縮合エステルP8を得た。酸価0.50、数平均分子量1200であった。
<Polycondensed ester P8>
251 g of ethylene glycol, 244 g of phthalic anhydride, 120 g of succinic acid, 150 g of acetic acid, and 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst were charged into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a slow cooling tube. The temperature is gradually increased with stirring until the temperature reaches 200 ° C in an air stream. A dehydration condensation reaction was performed while observing the degree of polymerization. After the reaction was completed, unreacted ethylene glycol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. to obtain a polycondensed ester P8. The acid value was 0.50 and the number average molecular weight was 1200.

〈重縮合エステルP9〉
上記重縮合エステルP2と同様の製造方法で、反応条件を変化させて、酸価0.10、数平均分子量315の重縮合エステルP9を得た。
<Polycondensed ester P9>
The polycondensed ester P9 having an acid value of 0.10 and a number average molecular weight of 315 was obtained by the same production method as that for the polycondensed ester P2, but changing the reaction conditions.

(6−3)多価アルコールエステル
本発明の環状ポリオレフィンフィルムにおいては、多価アルコールエステルを含有することも好ましい。
(6-3) Polyhydric alcohol ester The cyclic polyolefin film of the present invention preferably contains a polyhydric alcohol ester.

多価アルコールエステルは2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる化合物であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester is a compound comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferred are aliphatic polyhydric alcohol esters having 2 to 20 valences.

本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式(D)で表される。   The polyhydric alcohol preferably used in the present invention is represented by the following general formula (D).

一般式(D)
11−(OH)
ただし、R11はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。
General formula (D)
R 11 - (OH) n
Here, R 11 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and an OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxy group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of preferred polyhydric alcohols include, for example, the following, but the present invention is not limited thereto.

アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。   Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane Examples thereof include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol.

特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Particularly, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   The monocarboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, and known aliphatic monocarboxylic acids, alicyclic monocarboxylic acids, aromatic monocarboxylic acids, and the like can be used. It is preferable to use an alicyclic monocarboxylic acid or an aromatic monocarboxylic acid from the viewpoint of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。   Preferred examples of the monocarboxylic acid include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースアセテートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a linear or side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1 to 20, and particularly preferably 1 to 10. It is preferable to include acetic acid because compatibility with cellulose acetate is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachiic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotinic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melisic acid, and raccelic acid, undecylenic acid, and olein And unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。   Preferred examples of alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基又はエトキシ基などのアルコキシ基を1〜3個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferable aromatic monocarboxylic acids include benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, in which 1 to 3 alkoxy groups such as an alkyl group, a methoxy group or an ethoxy group are introduced into a benzene ring, biphenylcarboxylic acid, Aromatic monocarboxylic acids having two or more benzene rings, such as naphthalenecarboxylic acid and tetralincarboxylic acid, and derivatives thereof can be given. Particularly, benzoic acid is preferred.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500の範囲であることが好ましく、350〜750の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースアシレートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 1500, and more preferably in the range of 350 to 750. A larger molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose acylate.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one type or a mixture of two or more types. Further, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or some of them may be left as OH groups.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。下記例示化合物はいずれも融点及び1%質量減少温度Td1が、本発明の範囲内である。   Hereinafter, specific compounds of the polyhydric alcohol ester will be exemplified. The following exemplified compounds all have a melting point and a 1% mass loss temperature Td1 within the scope of the present invention.

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本発明に用いられる多価アルコールエステルは、環状ポリオレフィンフィルムに対して0.5〜5質量%の範囲で含有することが好ましく、1〜3質量%の範囲で含有することがより好ましく、1〜2質量%の範囲で含有することが特に好ましい。   The polyhydric alcohol ester used in the present invention is preferably contained in the range of 0.5 to 5% by mass relative to the cyclic polyolefin film, more preferably in the range of 1 to 3% by mass, and more preferably 1 to 3% by mass. It is particularly preferred that the content be in the range of 2% by mass.

本発明に用いられる多価アルコールエステルは、従来公知の一般的な合成方法に従って合成することができる。   The polyhydric alcohol ester used in the present invention can be synthesized according to a conventionally known general synthesis method.

(7)その他の可塑剤
(7−1)アクリル樹脂
下記一般式(E)で表され、平均分子量(Mw)が1000〜30000の範囲内であるアクリル樹脂化合物は、本発明に係る環状ポリオレフィン系樹脂との相溶性が高く、耐熱性を向上する観点から、用いることが好ましい。
(7) Other plasticizers (7-1) Acrylic resin The acrylic resin compound represented by the following general formula (E) and having an average molecular weight (Mw) in the range of 1,000 to 30,000 is a cyclic polyolefin-based compound according to the present invention. It is preferably used from the viewpoint of high compatibility with the resin and improvement in heat resistance.

一般式(E)
−[CH−C(−R)(−CO)]−[CH−C(−R)(−CO−OH)−]
(式中、R、R、はH又はCH、R、RはCH又はC又はC、m、nは繰り返し単位を表す)
本発明に用いられる一般式(E)で表される化合物は重量平均分子量が1000〜30000の範囲内であるから、オリゴマーから低分子量ポリマーの間にあると考えられるものである。
General formula (E)
- [CH 2 -C (-R 1 ) (- CO 2 R 2)] m - [CH 2 -C (-R 3) (- CO 2 R 4 -OH) -] n
(Wherein, R 1 , R 3 are H or CH 3 , R 2 , R 4 are CH 2 or C 2 H 4 or C 3 H 6 , m and n each represent a repeating unit)
Since the compound represented by formula (E) used in the present invention has a weight average molecular weight in the range of 1,000 to 30,000, it is considered that the compound is between an oligomer and a low molecular weight polymer.

一般式(E)で表される化合物は、下記エチレン性不飽和モノマーXaの一種、及び下記エチレン性不飽和モノマーXbの一種とを共重合して得られたポリマーであることが好ましい。   The compound represented by formula (E) is preferably a polymer obtained by copolymerizing one of the following ethylenically unsaturated monomers Xa and one of the following ethylenically unsaturated monomers Xb.

−(Xa)−(Xb)− (m、nは繰り返し単位を表す)
一般式(E)で表される化合物を構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
-(Xa) m- (Xb) n- (m and n represent a repeating unit)
The monomers as monomer units constituting the compound represented by formula (E) are listed below, but are not limited thereto.

エチレン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル(i−、n−)であることが好ましい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer Xa include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate ( n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-ethoxyethyl), etc., or the above acrylate is a methacrylate Can be mentioned. Among them, preferred are methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate (i-, n-).

エチレン性不飽和モノマーXbは、アクリル酸又はメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)及びメタクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)である。   The ethylenically unsaturated monomer Xb is preferably an acrylic acid or a methacrylic acid ester, for example, acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4 -Hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), or those obtained by replacing these acrylic acids with methacrylic acid, preferably acrylic acid (2-hydroxyethyl) and methacrylic acid (2-hydroxyethyl). ), Acrylic acid (2-hydroxypropyl) and acrylic acid (3-hydroxypropyl).

Xa、Xbのモル組成比m:nは99:1〜65:35の範囲が好ましく、更に好ましくは95:5〜75:25の範囲である。   The molar composition ratio m: n of Xa and Xb is preferably in the range of 99: 1 to 65:35, and more preferably in the range of 95: 5 to 75:25.

Xaのモル組成比が多いと環状ポリオレフィン系樹脂との相溶性が良化するが、フィルムの耐熱性が低下する。Xbのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなる。また、Xbのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りXa、Xbのモル組成比を決めることが好ましい。   When the molar composition ratio of Xa is large, the compatibility with the cyclic polyolefin resin is improved, but the heat resistance of the film is reduced. If the molar composition ratio of Xb is large, the above compatibility becomes poor. If the molar composition ratio of Xb exceeds the above range, haze tends to occur during film formation, and it is preferable to optimize these and determine the molar composition ratio of Xa and Xb.

一般式(E)で表される化合物の重量平均分子量は1000〜30000範囲内であり、より好ましくは8000〜25000である。   The weight average molecular weight of the compound represented by formula (E) is in the range of 1,000 to 30,000, and more preferably 8,000 to 25,000.

重量平均分子量を1000以上30000以下とすることにより、蒸発や揮発することなく樹脂との相溶性がより向上し好ましい。   When the weight average molecular weight is 1,000 or more and 30,000 or less, compatibility with the resin is further improved without evaporation or volatilization, which is preferable.

重量平均分子量の測定方法は下記方法によることができる。   The weight average molecular weight can be measured by the following method.

(重量平均分子量測定方法)
重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。測定条件は以下のとおりである。
(Weight average molecular weight measurement method)
The weight average molecular weight Mw was measured using gel permeation chromatography. The measurement conditions are as follows.

溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000((株)日立製作所製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=500〜1000000迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko KK)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (GL Science)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation) Mw = 500 to 1,000,000 A calibration curve with 13 samples was used. Thirteen samples are used at approximately equal intervals.

一般式(E)で表される化合物を合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号公報又は同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級のヒドロキシ基とを有する化合物、又は、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、いずれも本発明において好ましく用いられるが、特に、分子中にチオール基と2級のヒドロキシ基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。   In order to synthesize the compound represented by the general formula (E), it is difficult to control the molecular weight by ordinary polymerization, and it is desirable to use a method that can make the molecular weight as uniform as possible by a method that does not increase the molecular weight too much. Examples of such a polymerization method include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide or t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than ordinary polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. Using a chain transfer agent such as benzene or carbon tetrachloride, a method using a polymerization terminator such as benzoquinone or dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further JP-A-2000-128911 or JP-A-2000-344823. And a method of performing bulk polymerization using a compound having one thiol group and a secondary hydroxy group as described in (1), or a polymerization catalyst using the compound and an organometallic compound in combination. In particular, a compound having a thiol group and a secondary hydroxy group in the molecule is used as a chain transfer agent. The polymerization method of use is preferred.

この場合、一般式(E)で表される化合物の末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因するヒドロキシ基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、一般式(E)で表される化合物と脂環式構造を有する重合体樹脂との相溶性を調整することができる。   In this case, the terminal of the compound represented by the general formula (E) has a hydroxy group and a thioether derived from the polymerization catalyst and the chain transfer agent. The compatibility between the compound represented by formula (E) and the polymer resin having an alicyclic structure can be adjusted by the terminal residue.

また、重合温度は通常室温から130℃、好ましくは50〜100℃で行われるが、この温度又は重合反応時間を調整することで分子量のコントロールが可能である。   The polymerization temperature is usually from room temperature to 130 ° C., preferably from 50 to 100 ° C. The molecular weight can be controlled by adjusting the temperature or the polymerization reaction time.

また、一般式(E)で表される化合物のヒドロキシ基価は30〜150[mgKOH/g]であることが好ましい。   The hydroxy value of the compound represented by formula (E) is preferably 30 to 150 [mgKOH / g].

(ヒドロキシ基価の測定方法)
この測定は、JIS K 0070(1992)に準ずる。このヒドロキシ基価は、試料1gをアセチル化させたとき、ヒドロキシ基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのmg数と定義される。具体的には試料Xg(約1g)をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬(無水酢酸20mlにピリジンを加えて400mlにしたもの)20mlを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、95〜100℃のグリセリン浴にて加熱する。
(Method for measuring hydroxy value)
This measurement conforms to JIS K 0070 (1992). The hydroxy value is defined as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize acetic acid bound to the hydroxy group when 1 g of a sample is acetylated. Specifically, a sample Xg (about 1 g) is precisely weighed in a flask, and 20 ml of an acetylating reagent (20 ml of acetic anhydride to which 400 ml of pyridine has been added) is accurately added. Attach an air condenser to the mouth of the flask, and heat in a glycerin bath at 95 to 100 ° C.

1時間30分後、冷却し、空気冷却管から精製水1mlを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。   After 1 hour and 30 minutes, the mixture was cooled, and 1 ml of purified water was added from an air condenser to decompose acetic anhydride into acetic acid. Next, titration is performed with a 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution using a potentiometric titrator, and the inflection point of the obtained titration curve is defined as the end point. Further, as a blank test, titration is performed without any sample, and the inflection point of the titration curve is determined.

ヒドロキシ基価は、次の式によって算出する。   The hydroxy value is calculated by the following equation.

ヒドロキシ基価={(B−C)×f×28.05/X}+D
(式中、Bは空試験に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、Cは滴定に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、fは0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Dは酸価、また、28.05は水酸化カリウムの1mol量56.11の1/2を表す)
一般式(E)で表される化合物は、環状ポリオレフィン系樹脂中に0.1〜30質量%含有させることが必要であり、好ましくは1〜25質量%、より好ましくは3〜20質量%、特に好ましくは5〜15質量%である。
Hydroxy group value = {(BC) × f × 28.05 / X} + D
(Where B is the amount of the 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for the blank test (ml), and C is the amount of the 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for the titration (ml). , F is a factor of a 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution, D is an acid value, and 28.05 is 1 / of 56.11 of 1 mol of potassium hydroxide.)
The compound represented by the general formula (E) needs to be contained in the cyclic polyolefin-based resin in an amount of 0.1 to 30% by mass, preferably 1 to 25% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, Particularly preferably, it is 5 to 15% by mass.

(7−2)リン酸エステル
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、リン酸エステルを用いることができる。リン酸エステルとしては、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等が挙げることができる。
(7-2) Phosphate ester A phosphate ester can be used for the cyclic polyolefin film of the present invention. Examples of the phosphate ester include a triaryl phosphate ester, a diaryl phosphate ester, a monoaryl phosphate ester, an arylphosphonic acid compound, an aryl phosphine oxide compound, a condensed aryl phosphate ester, a halogenated alkyl phosphate ester, and a halogen-containing condensed phosphoric acid. Esters, halogen-containing condensed phosphonic esters, halogen-containing phosphites and the like can be mentioned.

具体的なリン酸エステルとしては、トリフェニルホスフェート、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス(β−クロロエチル)ホスフェート、トリス(ジクロロプロピル)ホスフェート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート等が挙げられる。   Specific examples of the phosphoric acid ester include triphenyl phosphate, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenylphosphonic acid, tris (β-chloroethyl) phosphate, and tris (dichlorophosphate). Propyl) phosphate, tris (tribromoneopentyl) phosphate and the like.

(7−3)グリコール酸のエステル類
また、本発明においては、多価アルコールエステル類の1種として、グリコール酸のエステル類(グリコレート化合物)を用いることができる。
(7-3) Glycolic Acid Esters In the present invention, glycolic acid esters (glycolate compounds) can be used as one kind of polyhydric alcohol esters.

本発明に適用可能なグリコレート化合物としては、特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。   The glycolate compound applicable to the present invention is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used.

アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。   Examples of the alkylphthalylalkyl glycolates include, for example, methylphthalylmethyl glycolate, ethylphthalylethyl glycolate, propylphthalylpropyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate, octylphthalyloctyl glycolate, and methylphthalyl Ethyl glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl Glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate and the like, preferably ethyl phthalyl ethyl glycolate.

(8)紫外線吸収剤
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、紫外線吸収剤を含有することが耐光性を向上する観点から好ましい。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐光性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が、2〜30%の範囲であることが好ましく、より好ましくは4〜20%の範囲、更に好ましくは5〜10%の範囲である。
(8) Ultraviolet absorber The cyclic polyolefin film of the present invention preferably contains an ultraviolet absorber from the viewpoint of improving light resistance. The ultraviolet absorber is intended to improve the light resistance by absorbing ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less. In particular, the transmittance at a wavelength of 370 nm is preferably in the range of 2 to 30%, more preferably 4 to 30%. -20%, more preferably 5-10%.

本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、含窒素複素環化合物であるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。   The ultraviolet absorber preferably used in the present invention is a benzotriazole-based ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber or a triazine-based ultraviolet absorber which is a nitrogen-containing heterocyclic compound, and particularly preferably a benzotriazole-based ultraviolet absorber and benzophenone. It is a system ultraviolet absorber.

例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328、チヌビン928等のチヌビン類があり、これらはいずれもBASFジャパン(株)製の市販品であり好ましく使用できる。この中ではハロゲンフリーのものが好ましい。   For example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and branched Chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc., and tinuvin 109, tinuvin 171, tinuvin 234, tinuvin 326, tinuvin 327, tinuvin 328, There are tinuvins such as tinuvin 928, all of which are commercially available products of BASF Japan Ltd. and can be preferably used. Of these, halogen-free ones are preferred.

このほか、1,3,5−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。   In addition, discotic compounds such as compounds having a 1,3,5-triazine ring are also preferably used as an ultraviolet absorber.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、紫外線吸収剤を2種以上含有することが好ましい。   The cyclic polyolefin film of the present invention preferably contains two or more ultraviolet absorbers.

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平6−148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤は、ハロゲン基を有していないことが好ましい。   As the ultraviolet absorber, a polymer ultraviolet absorber can also be preferably used, and particularly, a polymer type ultraviolet absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used. Further, it is preferable that the ultraviolet absorber does not have a halogen group.

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。   Addition method of ultraviolet absorber, methanol, ethanol, alcohol such as butanol or methylene chloride, methyl acetate, acetone, organic solvent such as dioxolane or a mixed solvent thereof, or added to the dope, Alternatively, it may be directly added to the dope composition.

無機粉体のように有機溶媒に溶解しないものは、有機溶媒とセルロースアシレート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   Those that do not dissolve in an organic solvent such as inorganic powders are dispersed in an organic solvent and cellulose acylate using a dissolver or a sand mill, and then added to the dope.

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、環状ポリオレフィンフィルムの乾燥膜厚が15〜50μmの場合は、環状ポリオレフィンフィルムに対して0.5〜10質量%の範囲が好ましく、0.6〜4質量%の範囲が更に好ましい。   The amount of the ultraviolet absorber used is not uniform depending on the type of the ultraviolet absorber, the use conditions, and the like. However, when the dry film thickness of the cyclic polyolefin film is 15 to 50 μm, the amount is 0.5 to 10 with respect to the cyclic polyolefin film. The range of mass% is preferable, and the range of 0.6 to 4% by mass is more preferable.

(9)酸化防止剤
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に電子デバイスなどが置かれた場合には、環状ポリオレフィンフィルムの劣化が起こる場合がある。
(9) Antioxidant The antioxidant is also called a deterioration inhibitor. When an electronic device or the like is placed in a state of high humidity and high temperature, the cyclic polyolefin film may deteriorate.

酸化防止剤は、例えば、環状ポリオレフィンフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により環状ポリオレフィンフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、本発明の環状ポリオレフィンフィルム中に含有させるのが好ましい。   The antioxidant has, for example, a role of delaying or preventing the cyclic polyolefin film from being decomposed by the residual amount of the solvent in the cyclic polyolefin film, such as halogen or a phosphoric acid-based plasticizer, or the like. It is preferable to include it in the cyclic polyolefin film.

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート等を挙げることができる。   As such an antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used. For example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di- -T-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3 -(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)- 1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octa Sil-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide) 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy) Benzyl) -isocyanurate and the like.

特に、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。   Particularly, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. Further, for example, a hydrazine-based metal deactivator such as N, N'-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine or tris (2,4-di- A phosphorus-based processing stabilizer such as (t-butylphenyl) phosphite may be used in combination.

これらの化合物の添加量は、環状ポリオレフィンフィルムに対して質量割合で1ppm〜1.0%の範囲が好ましく、10〜1000ppmの範囲が更に好ましい。   The amount of these compounds to be added is preferably in the range of 1 ppm to 1.0% by mass relative to the cyclic polyolefin film, and more preferably in the range of 10 to 1000 ppm.

(10)位相差制御剤
液晶表示装置等の画像表示装置の表示品質の向上のため、環状ポリオレフィンフィルム中に位相差制御剤を添加するか、配向膜を形成して液晶層を設け、偏光板保護フィルムと液晶層由来の位相差を複合化することにより、環状ポリオレフィンフィルムに光学補償能を付与することができる。
(10) Phase difference controlling agent In order to improve the display quality of an image display device such as a liquid crystal display device, a phase difference controlling agent is added to a cyclic polyolefin film or an alignment film is formed to provide a liquid crystal layer, and a polarizing plate is provided. By compounding the phase difference derived from the protective film and the liquid crystal layer, the cyclic polyolefin film can be provided with optical compensation ability.

位相差制御剤としては、欧州特許911656A2号明細書に記載されているような、2以上の芳香族環を有する芳香族化合物、特開2006−2025号公報に記載の棒状化合物等が挙げられる。また、2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。この芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む芳香族性ヘテロ環であることが好ましい。芳香族性ヘテロ環は、一般に不飽和ヘテロ環である。なかでも、特開2006−2026号公報に記載の1,3,5−トリアジン環が好ましい。   Examples of the retardation controlling agent include an aromatic compound having two or more aromatic rings as described in European Patent No. 911656A2, and a rod-shaped compound described in JP-A-2006-2025. Further, two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound is preferably an aromatic hetero ring including an aromatic hetero ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring. Aromatic heterocycles are generally unsaturated heterocycles. Among them, a 1,3,5-triazine ring described in JP-A-2006-2026 is preferable.

なお、一般式(A1)で表される構造を有する化合物は、位相差制御剤としても機能する。このため、一般式(A1)で表される構造を有する化合物は、一つの化合物で位相差制御と湿度変動に対する光学値変動抑制の両方の機能を付与することができる。   Note that the compound having the structure represented by the general formula (A1) also functions as a phase difference controlling agent. Therefore, the compound having the structure represented by the general formula (A1) can provide both functions of controlling the phase difference and suppressing the optical value fluctuation with respect to the humidity fluctuation with one compound.

これらの位相差制御剤の添加量は、環状ポリオレフィン系樹脂100質量%に対して、0.5〜20質量%の範囲内であることが好ましく、1〜10質量%の範囲内であることがより好ましい。   The addition amount of these retardation control agents is preferably in the range of 0.5 to 20% by mass, and more preferably in the range of 1 to 10% by mass, based on 100% by mass of the cyclic polyolefin resin. More preferred.

(11)剥離促進剤
環状ポリオレフィンフィルムの剥離抵抗を小さくする添加剤としては界面活性剤に効果の顕著なものが多く、好ましい剥離剤としてはリン酸エステル系の界面活性剤、カルボン酸又はカルボン酸塩系の界面活性剤、スルホン酸又はスルホン酸塩系の界面活性剤、硫酸エステル系の界面活性剤が効果的である。また上記界面活性剤の炭化水素鎖に結合している水素原子の一部をフッ素原子に置換したフッ素系界面活性剤も有効である。以下に剥離剤を例示する。
RZ−1 C17O−P(=O)−(OH)
RZ−2 C1225O−P(=O)−(OK)
RZ−3 C1225OCHCHO−P(=O)−(OK)
RZ−4 C1531(OCHCHO−P(=O)−(OK)
RZ−5 {C1225O(CHCHO)−P(=O)−OH
RZ−6 {C1835(OCHCHO}−P(=O)−ONH
RZ−7 (t−C−C−OCHCHO−P(=O)−(OK)RZ−8 (iso−C19−C−O−(CHCHO)−P(=O)−(OK)(OH)
RZ−9 C1225SONa
RZ−10 C1225OSONa
RZ−11 C1733COOH
RZ−12 C1733COOH・N(CHCHOH)
RZ−13 iso−C17−C−O−(CHCHO)−(CHSONa
RZ−14 (iso−C19−C−O−(CHCHO)−(CHSONa
RZ−15 トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
RZ−16 トリ−t−ブチルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
RZ−17 C1733CON(CH)CHCHSONa
RZ−18 C1225−CSO・NH
剥離促進剤の添加量は環状ポリオレフィン系樹脂に対して0.05〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%が更に好ましく、0.1〜0.5質量%が最も好ましい。
(11) Peeling Accelerators Many additives that reduce the peeling resistance of the cyclic polyolefin film have a remarkable effect on surfactants, and preferred releasing agents are phosphate ester surfactants, carboxylic acids or carboxylic acids. Salt-based surfactants, sulfonic acid or sulfonate-based surfactants, and sulfate-based surfactants are effective. Further, a fluorine-based surfactant in which a part of the hydrogen atoms bonded to the hydrocarbon chain of the surfactant is replaced with a fluorine atom is also effective. The release agent is exemplified below.
RZ-1 C 8 H 17 O -P (= O) - (OH) 2
RZ-2 C 12 H 25 O -P (= O) - (OK) 2
RZ-3 C 12 H 25 OCH 2 CH 2 O-P (= O) - (OK) 2
RZ-4 C 15 H 31 ( OCH 2 CH 2) 5 O-P (= O) - (OK) 2
RZ-5 {C 12 H 25 O (CH 2 CH 2 O) 5} 2 -P (= O) -OH
RZ-6 {C 18 H 35 (OCH 2 CH 2) 8 O} 2 -P (= O) -ONH 4
RZ-7 (t-C 4 H 9) 3 -C 6 H 2 -OCH 2 CH 2 O-P (= O) - (OK) 2 RZ-8 (iso-C 9 H 19 -C 6 H 4 - O- (CH 2 CH 2 O) 5 -P (= O) - (OK) (OH)
RZ-9 C 12 H 25 SO 3 Na
RZ-10 C 12 H 25 OSO 3 Na
RZ-11 C 17 H 33 COOH
RZ-12 C 17 H 33 COOH · N (CH 2 CH 2 OH) 3
RZ-13 iso-C 8 H 17 -C 6 H 4 -O- (CH 2 CH 2 O) 3 - (CH 2) 2 SO 3 Na
RZ-14 (iso-C 9 H 19) 2 -C 6 H 3 -O- (CH 2 CH 2 O) 3 - (CH 2) 4 SO 3 Na
RZ-15 triisopropyl naphthalenesulfonic acid sodium RZ-16 tri -t- butyl naphthalene sulfonate sodium RZ-17 C 17 H 33 CON (CH 3) CH 2 CH 2 SO 3 Na
RZ-18 C 12 H 25 -C 6 H 4 SO 3 · NH 4
The addition amount of the release accelerator is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and most preferably 0.1 to 0.5% by mass, based on the cyclic polyolefin resin.

(12)ゴム粒子
環状ポリオレフィンフィルムの柔軟性を向上させてハンドリング性を高めるため、環状ポリオレフィン系樹脂にはゴム弾性体粒子を配合することが好ましい。ゴム弾性体粒子は、ゴム弾性体を含有する粒子であり、ゴム弾性体のみからなる粒子であってもよいし、ゴム弾性体の層を有する多層構造の粒子であってもよい。ゴム弾性体としては、例えば、オレフィン系弾性重合体、ジエン系弾性重合体、スチレン−ジエン系弾性共重合体、アクリル系弾性重合体が挙げられる。中でも、環状ポリオレフィンフィルムの表面硬度や耐光性、透明性の点からは、アクリル系弾性重合体が好ましい。
(12) Rubber Particles In order to improve the flexibility of the cyclic polyolefin film and enhance the handleability, it is preferable to blend rubber elastic particles with the cyclic polyolefin-based resin. The rubber elastic body particles are particles containing a rubber elastic body, and may be particles composed of only the rubber elastic body or particles having a multilayer structure having a layer of the rubber elastic body. Examples of the rubber elastic body include an olefin elastic polymer, a diene elastic polymer, a styrene-diene elastic copolymer, and an acrylic elastic polymer. Above all, an acrylic elastic polymer is preferable from the viewpoint of the surface hardness, light resistance and transparency of the cyclic polyolefin film.

アクリル系弾性重合体は、アクリル酸アルキルを主体とする重合体であるのが好ましく、アクリル酸アルキルの単独重合体であってもよいし、アクリル酸アルキル50質量%以上とアクリル酸アルキル以外の単量体50質量%以下との共重合体であってもよい。アクリル酸アルキルとしては、通常、そのアルキル基の炭素数が4〜8のものが用いられる。また、アクリル酸アルキル以外の単量体の例としては、メタクリル酸メチルやメタクリル酸エチルのようなメタクリル酸アルキル、スチレンやアルキルスチレンのようなスチレン系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリルのような不飽和ニトリル等の単官能単量体や、(メタ)アクリル酸アリルや(メタ)アクリル酸メタリルのような不飽和カルボン酸のアルケニルエステル、マレイン酸ジアリルのような二塩基酸のジアルケニルエステル、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレートのようなグリコール類の不飽和カルボン酸ジエステル等の多官能単量体が挙げられる。   The acrylic elastic polymer is preferably a polymer mainly composed of alkyl acrylate, and may be a homopolymer of alkyl acrylate, or may be 50% by mass or more of alkyl acrylate and a monomer other than alkyl acrylate. It may be a copolymer with 50% by mass or less of a monomer. As the alkyl acrylate, those having 4 to 8 carbon atoms in the alkyl group are usually used. Examples of monomers other than alkyl acrylates include alkyl methacrylates such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, styrene-based monomers such as styrene and alkyl styrene, and acrylonitrile and methacrylonitrile. Monofunctional monomers such as unsaturated nitriles; alkenyl esters of unsaturated carboxylic acids such as allyl (meth) acrylate and methallyl (meth) acrylate; dialkenyl esters of dibasic acids such as diallyl maleate; Examples include polyfunctional monomers such as unsaturated carboxylic acid diesters of glycols such as alkylene glycol di (meth) acrylate.

アクリル系弾性重合体を含有するゴム弾性体粒子は、アクリル系弾性重合体の層を有する多層構造の粒子であることが好ましく、アクリル系弾性重合体の外側にメタクリル酸アルキルを主体とする重合体の層を有する2層構造のものであってもよいし、更にアクリル系弾性重合体の内側にメタクリル酸アルキルを主体とする重合体の層を有する3層構造のものであってもよい。なお、アクリル系弾性重合体の外側又は内側に形成される層を構成するメタクリル酸アルキルを主体とする重合体の単量体組成の例は、先にアクリル樹脂の例として挙げたメタクリル酸アルキルを主体とする重合体の単量体組成の例と同様である。このような多層構造のアクリル系ゴム弾性体粒子は、例えば特公昭55−27576号公報に記載の方法により、製造することができる。   The rubber elastic particles containing the acrylic elastic polymer are preferably particles having a multilayer structure having a layer of the acrylic elastic polymer, and a polymer mainly composed of alkyl methacrylate on the outside of the acrylic elastic polymer. Or a three-layer structure having a polymer layer mainly composed of alkyl methacrylate inside an acrylic elastic polymer. In addition, examples of the monomer composition of the polymer mainly composed of alkyl methacrylate constituting the layer formed on the outside or inside of the acrylic elastic polymer include the alkyl methacrylate described above as an example of the acrylic resin. This is the same as the example of the monomer composition of the main polymer. The acrylic rubber elastic particles having such a multilayer structure can be produced, for example, by the method described in JP-B-55-27576.

ゴム弾性体粒子としては、その中に含まれるゴム弾性体の数平均粒径が10〜300nmのものを使用することができる。これにより、接着剤を用いて環状ポリオレフィンフィルムを偏光フィルムに積層したときに、環状ポリオレフィンフィルムを接着剤層から剥がれ難くすることができる。このゴム弾性体の数平均粒径は、好ましくは50nm以上、250nm以下である。   As the rubber elastic body particles, those having a number average particle diameter of 10 to 300 nm of the rubber elastic body contained therein can be used. Thereby, when the cyclic polyolefin film is laminated on the polarizing film using the adhesive, the cyclic polyolefin film can be made hard to peel off from the adhesive layer. The number average particle size of the rubber elastic body is preferably 50 nm or more and 250 nm or less.

環状ポリオレフィンフィルムは、環状ポリオレフィン系樹脂の柔軟性の観点から、曲げ弾性率(JIS K7171)が1500MPa以下であるのが好ましい。この曲げ弾性率は、より好ましくは1300MPa以下であり、更に好ましくは1200MPa以下である。この曲げ弾性率は、環状ポリオレフィンフィルム中のゴム弾性体粒子の種類や量などによって変動し、例えば、ゴム弾性体粒子の含有量が多いほど、一般に曲げ弾性率は小さくなる。   The cyclic polyolefin film preferably has a flexural modulus (JIS K7171) of 1500 MPa or less from the viewpoint of the flexibility of the cyclic polyolefin-based resin. This flexural modulus is more preferably 1300 MPa or less, and still more preferably 1200 MPa or less. The flexural modulus varies depending on the type and amount of the rubber elastic particles in the cyclic polyolefin film, and, for example, as the content of the rubber elastic particles increases, the flexural modulus generally decreases.

また、ゴム弾性体粒子として、上記3層構造のアクリル系弾性重合体粒子を用いるよりも、上記2層構造のアクリル系弾性重合体粒子を用いる方が、一般に曲げ弾性率は小さくなり、更に単層構造のアクリル系弾性重合体粒子を用いる方が、一般に曲げ弾性率は小さくなる。また、ゴム弾性体粒子中、ゴム弾性体の平均粒径が小さいほど、又はゴム弾性体の量が多いほど、一般に曲げ弾性率は小さくなる。そこで、アクリル樹脂やゴム弾性体粒子の種類や量を上記所定の範囲で調整して、曲げ弾性率が1500MPa以下になるようにすることが好ましい。   In addition, the use of the acrylic elastomeric polymer particles having the two-layer structure generally results in a smaller bending elastic modulus and the simpler elastic rubber particles than the use of the acrylic elastic polymer particles having the three-layer structure as the rubber elastic particles. The use of the acrylic elastic polymer particles having a layer structure generally results in a lower flexural modulus. In addition, as the average particle size of the rubber elastic body in the rubber elastic body particles is smaller or the amount of the rubber elastic body is larger, the bending elastic modulus generally becomes smaller. Therefore, it is preferable to adjust the type and amount of the acrylic resin and rubber elastic particles within the above-described predetermined range so that the flexural modulus becomes 1500 MPa or less.

また、環状ポリオレフィンフィルムを多層構成とする場合、ゴム弾性体粒子や上記配合剤の各層の含有量を互いに異ならせてもよい。例えば、紫外線吸収剤及び/又は赤外線吸収剤を含有する層と、この層を挟んで紫外線吸収剤及び/又は赤外線吸収剤を含有しない層とが積層されていてもよい。また、環状ポリオレフィン系樹脂組成物の層の紫外線吸収剤の含有量が、ゴム弾性体粒子を含有しない環状ポリオレフィン系樹脂又はその組成物の層の紫外線吸収剤の含有量よりも、高くなるようにしてもよく、具体的には、前者を好ましくは0.5〜10質量%、より好ましくは1〜5質量%とし、後者を好ましくは0〜1質量%、より好ましくは0〜0.5質量%としてもよく、これにより、偏光板の色調を悪化させることなく、紫外線を効率的に遮断することができ、長期使用時の偏光度の低下を防ぐことができる。   When the cyclic polyolefin film has a multilayer structure, the content of each layer of the rubber elastic material particles and the compounding agent may be different from each other. For example, a layer containing an ultraviolet absorber and / or an infrared absorber and a layer containing no ultraviolet absorber and / or an infrared absorber may be laminated with this layer interposed therebetween. Further, the content of the ultraviolet absorbent in the layer of the cyclic polyolefin-based resin composition is higher than the content of the ultraviolet absorbent in the layer of the cyclic polyolefin-based resin containing no rubber elastic particles or the composition thereof. Specifically, the former is preferably 0.5 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, and the latter is preferably 0 to 1% by mass, more preferably 0 to 0.5% by mass. %, Whereby ultraviolet rays can be efficiently blocked without deteriorating the color tone of the polarizing plate, and a decrease in the degree of polarization during long-term use can be prevented.

≪環状ポリオレフィンフィルムの物性≫
(1)環状ポリオレフィンフィルムの厚さ
本発明の出来上がり(乾燥後)の環状ポリオレフィンフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常5〜500μmの範囲であり、10〜150μmの範囲が好ましく、液晶表示装置用には20〜110μmであることが好ましく、最近の薄型化を考慮すると20〜60μmの範囲であることが、特に好ましい。
物 Physical properties of cyclic polyolefin film≫
(1) Thickness of Cyclic Polyolefin Film The thickness of the completed (after drying) cyclic polyolefin film of the present invention varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 5 to 500 μm, preferably in the range of 10 to 150 μm. The thickness is preferably 20 to 110 μm for a display device, and particularly preferably 20 to 60 μm in consideration of recent thinning.

フィルム厚さの調製は、所望の厚さ及び本発明に厚さ分布になるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られた環状ポリオレフィンフィルムの幅は0.5〜4mの範囲が好ましく、より好ましくは0.6〜3mの範囲、さらに好ましくは0.8〜2.5mである。長さは1ロールあたり100〜10000mの範囲で巻き取るのが好ましく、より好ましくは500〜9000mの範囲であり、さらに好ましくは1000〜8000mの範囲である。   The thickness of the film is adjusted so that the desired thickness and the thickness distribution according to the present invention are obtained, the solid content concentration in the dope, the slit gap of the die cap, the extrusion pressure from the die, the metal support speed, and the like. Can be adjusted. The width of the cyclic polyolefin film obtained as described above is preferably in the range of 0.5 to 4 m, more preferably in the range of 0.6 to 3 m, and still more preferably 0.8 to 2.5 m. The length is preferably wound in the range of 100 to 10,000 m per roll, more preferably in the range of 500 to 9000 m, and still more preferably in the range of 1000 to 8000 m.

(2)環状ポリオレフィンフィルムの光学特性
本発明の環状ポリオレフィンフィルムの好ましい光学特性は、フィルムの用途により異なる。偏光板保護フィルム用途の場合は、面内リターデーション(Ro)は10nm以下が好ましく、5nm以下が更に好ましい。厚さ方向リターデーション(Rt)も50nm以下が好ましく、35nm以下が更に好ましく、10nm以下が特に好ましい。
(2) Optical Properties of Cyclic Polyolefin Film Preferred optical properties of the cyclic polyolefin film of the present invention vary depending on the use of the film. In the case of a polarizing plate protective film, the in-plane retardation (Ro) is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less. The thickness direction retardation (Rt) is also preferably 50 nm or less, more preferably 35 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less.

環状ポリオレフィンフィルムを光学補償フィルム(位相差フィルム)として使用する場合は、位相差フィルムの種類によってRoやRtの範囲は異なり、多様なニーズがあるが、0nm≦Ro≦100nm、40nm≦Rt≦400nmであることが好ましい。TNモードなら0nm≦Ro≦20nm、40nm≦Rt≦80nm、VAモードなら20nm≦Ro≦80nm、80nm≦Rt≦400nmがより好ましく、特にVAモードで好ましい範囲は、30nm≦Ro≦75nm、120nm≦Rt≦250nmであり、一枚の位相差膜で補償する場合は、50nm≦Ro≦75nm、180nm≦Rt≦250nm、2枚の位相差膜で補償する場合は、30nm≦Ro≦60nm、80nm≦Rt≦140nmであることがVAモードの補償膜の場合、黒表示時のカラーシフト、コントラストの視野角依存性の点でよりし好ましい態様である。   When a cyclic polyolefin film is used as an optical compensation film (retardation film), the range of Ro or Rt varies depending on the type of the retardation film, and there are various needs, but 0 nm ≦ Ro ≦ 100 nm, 40 nm ≦ Rt ≦ 400 nm. It is preferred that For the TN mode, 0 nm ≦ Ro ≦ 20 nm, 40 nm ≦ Rt ≦ 80 nm, and for the VA mode, 20 nm ≦ Ro ≦ 80 nm, 80 nm ≦ Rt ≦ 400 nm are more preferable, and particularly preferable ranges for the VA mode are 30 nm ≦ Ro ≦ 75 nm, 120 nm ≦ Rt. ≦ 250 nm, 50 nm ≦ Ro ≦ 75 nm, 180 nm ≦ Rt ≦ 250 nm when compensating with one retardation film, 30 nm ≦ Ro ≦ 60 nm, 80 nm ≦ Rt when compensating with two retardation films In the case of a VA-mode compensation film, a value of ≤140 nm is more preferable in terms of the color shift during black display and the viewing angle dependence of contrast.

本発明の環状ポリオレフィンフィルムは使用するポリマー構造、添加剤の種類及び添加量、延伸倍率、剥離時の残留揮発分などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。例えば剥離時の残留溶媒量を40〜85質量%内で調節することにより厚さ方向のリターデーションRtを180〜300nmに幅広く制御することも可能である。一般に剥離時の残留溶媒量が多いほど、Rtは小さくなり、剥離時の残留溶媒量が少ないほどRtは大きくなる。例えば金属製の無端支持体上での乾燥時間を短くし、剥離時残留溶媒量を多くすることで、面配向を緩和させてRtを低くすることが自在にでき、工程条件を調節することにより様々な用途に応じた様々なリターデーションを発現することが可能である。   The optical properties of the cyclic polyolefin film of the present invention can be realized by appropriately adjusting the process conditions such as the polymer structure to be used, the type and amount of additives, the stretching ratio, and the residual volatile matter at the time of peeling. For example, by adjusting the amount of the residual solvent at the time of peeling within the range of 40 to 85% by mass, the retardation Rt in the thickness direction can be widely controlled to 180 to 300 nm. In general, the larger the amount of the residual solvent at the time of peeling, the smaller the Rt, and the smaller the amount of the residual solvent at the time of peeling, the larger the Rt. For example, by shortening the drying time on a metal endless support and increasing the amount of residual solvent at the time of peeling, the plane orientation can be relaxed and Rt can be lowered freely, and by adjusting the process conditions, It is possible to exhibit various retardations according to various uses.

(リターデーション、Ro、Rt)
本明細書において、Ro、Rtは各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。RoはKOBRA 21ADH(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Rtは前記Ro、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して+40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したリターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したリターデーション値の計三つの方向で測定したリターデーション値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHはnx、ny、nzを算出し下記式(i)及び(ii)に基づいてリターデーションを計算する。
(Retardation, Ro, Rt)
In the present specification, Ro and Rt respectively represent an in-plane retardation and a retardation in a thickness direction at a wavelength λ. Ro is measured using KOBRA 21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments) by irradiating light having a wavelength of λ nm in the normal direction of the film. Rt was measured by injecting light having a wavelength of λ nm from a direction inclined by + 40 ° with respect to the normal direction of the film using the above-mentioned Ro and the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH) as an inclined axis (rotation axis). A retardation value and a retardation value measured by injecting light having a wavelength of λ nm from a direction inclined by −40 ° with respect to the normal direction of the film with the in-plane slow axis as an inclined axis (rotation axis) are measured. KOBRA 21ADH is calculated based on the retardation value measured in the direction. Here, as the assumed value of the average refractive index, a value from a catalog of various optical films and a polymer handbook (John Wiley & Sons, Inc.) can be used. If the value of the average refractive index is not known, it can be measured with an Abbe refractometer. By inputting the assumed value of the average refractive index and the film thickness, KOBRA 21ADH calculates nx, ny, and nz, and calculates retardation based on the following equations (i) and (ii).

式(i):Ro=(n−n)×d(nm)
式(ii):Rt={(n+n)/2−n}×d(nm)
(式中、Roはフィルム内の面内リターデーション値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向のリターデーション値を表す。また、dは光学フィルムの厚さ(nm)を表し、nはフィルムの面内の最大の屈折率を表し、遅相軸方向の屈折率ともいう。nはフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率を表し、nは厚さ方向におけるフィルムの屈折率を表す。いずれも波長590nmにおける測定値である。)
(3)全光線透過率及びヘイズ
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、高透明性であることが特徴であるが、23℃・55%RHの環境下で調湿後測定される全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。全光線透過率は、JIS7573「プラスチック−全光線透過率及び全光線反射率の求め方」に従って測定することができる。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d (nm)
Formula (ii): Rt = {( n x + n y) / 2-n z} × d (nm)
(Wherein, Ro represents a plane retardation value of the film, Rt represents the retardation value in the thickness direction of the film. Further, d represents the thickness of the optical film (nm), n x is represents the maximum refractive index in the plane of the film, also referred to as a slow axis direction of the refractive index .n y represents a refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane, n z is the film in the thickness direction , Which are measured values at a wavelength of 590 nm.)
(3) Total Light Transmittance and Haze The cyclic polyolefin film of the present invention is characterized by having high transparency, but has a total light transmittance measured after humidity control in an environment of 23 ° C. and 55% RH. It is at least 80%, preferably at least 85%, more preferably at least 90%, particularly preferably at least 95%. The total light transmittance can be measured in accordance with JIS 7573 “Plastics—How to determine total light transmittance and total light reflectance”.

また、本発明の環状ポリオレフィンフィルムのヘイズは1%未満であることが好ましく、0.5%未満であることがより好ましい。ヘイズを1%未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。測定は、試料フィルムを23℃・55%RHの環境で5時間以上調湿した後、ヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)で行う。   Further, the haze of the cyclic polyolefin film of the present invention is preferably less than 1%, more preferably less than 0.5%. By setting the haze to less than 1%, there is an advantage that the transparency of the film becomes higher and the film can be more easily used as a film for optical use. The measurement is performed using a haze meter (1001DP type, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) after adjusting the humidity of the sample film in an environment of 23 ° C. and 55% RH for 5 hours or more.

(4)平衡含水率
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、25℃、相対湿度60%における平衡含水率が3%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましい。平衡含水率を3%以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。
(4) Equilibrium Water Content The cyclic polyolefin film of the present invention preferably has an equilibrium water content at 25 ° C. and a relative humidity of 60% of 3% or less, more preferably 1% or less. By setting the equilibrium water content to 3% or less, it is easy to cope with a change in humidity, and the optical characteristics and dimensions are more unlikely to change.

平衡含水率は、試料フィルムを23℃、相対湿度20%に調湿された部屋に4時間以上放置した後、23℃80%RHに調湿された部屋に24時間放置し、サンプルを微量水分計(例えば三菱化学(株)製、CA−20型)を用いて、温度150℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシャー法により定量する。   The equilibrium water content was determined by leaving the sample film in a room conditioned at 23 ° C. and 20% relative humidity for 4 hours or more, and then left in a room conditioned at 23 ° C. and 80% RH for 24 hours. The water is dried and vaporized at a temperature of 150 ° C. using a meter (for example, Model CA-20 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and then quantified by the Karl Fischer method.

≪環状ポリオレフィンフィルムの用途≫
本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、表示デバイスである液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学フィルム、タッチパネル用基材フィルムやガスバリアー性基材フィルム等の基材フィルム、及びナノインプリント用基板フィルムやフレキシブル電子回路用基板フィルム等の基板フィルムなどに好適に用いることができる。
≫Applications of cyclic polyolefin film≫
The cyclic polyolefin film of the present invention is a display device such as an optical film such as a polarizing plate protective film or a retardation film for a liquid crystal display or an organic electroluminescence display, a base film for a touch panel or a gas barrier base film. It can be suitably used for a substrate film, a substrate film for a nanoimprint, a substrate film for a flexible electronic circuit, and the like.

以下、代表的な用途である、偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及びガスバリアー性フィルムについて説明する。   Hereinafter, a description will be given of a polarizing plate protective film, a polarizing plate, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, and a gas barrier film, which are typical applications.

(1)偏光板保護フィルム及び偏光板
偏光板は、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを偏光板保護フィルムとして、適宜表面処理を行い、水糊又は活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて、少なくとも偏光子の一方の面に貼合されていることが好ましい。前記偏光子の前記環状ポリオレフィンが貼合されている面とは反対側の面に、同様に本発明の環状ポリオレフィンフィルムを貼合することができる。
(1) Polarizing Plate Protective Film and Polarizing Plate The polarizing plate is subjected to surface treatment as appropriate using the cyclic polyolefin film of the present invention as a polarizing plate protective film, and at least a polarizer using a water paste or an active energy ray-curable adhesive. It is preferable to be stuck on one side of. The cyclic polyolefin film of the present invention can be similarly bonded to a surface of the polarizer opposite to the surface to which the cyclic polyolefin is bonded.

また、反対側の面に液晶セルの光学補償機能有するセルロースアシレートフィルムが、水糊又は活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて偏光子と貼合されていることも好ましい。本発明の環状ポリオレフィンフィルムによって当該セルロースアシレートフィルムの温湿度に対する位相差の変動をより小さくでき、環境変動に安定な、視認性に優れた偏光板を提供する観点から、好ましい。   Further, it is also preferable that a cellulose acylate film having an optical compensation function of the liquid crystal cell is bonded to the polarizer on the opposite surface using a water paste or an active energy ray-curable adhesive. The cyclic polyolefin film of the present invention is preferable from the viewpoint of making it possible to further reduce the fluctuation of the phase difference with respect to the temperature and humidity of the cellulose acylate film and to provide a polarizing plate which is stable against environmental changes and has excellent visibility.

偏光板が視認側の偏光板として用いられる場合は、偏光板の視認側のフィルムは、ハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、又は防汚層等を設けることが好ましい。 〔偏光子〕
偏光板の主たる構成要素である偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
When the polarizing plate is used as a polarizing plate on the viewing side, the film on the viewing side of the polarizing plate is preferably provided with a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, an antifouling layer, or the like. (Polarizer)
A polarizer, which is a main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction, and a typical polarizer currently known is a polyvinyl alcohol-based polarizing film. Polyvinyl alcohol-based polarizing films include those obtained by dyeing a polyvinyl alcohol-based film with iodine and those obtained by dyeing a dichroic dye.

偏光子としては、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行った偏光子が用いられ得る。偏光子の膜厚は2〜30μmが好ましく、特に2〜15μmであることが好ましい。   As the polarizer, a polarizer obtained by forming a film of an aqueous solution of polyvinyl alcohol and uniaxially stretching and dyeing the film, or dyeing the film and then uniaxially stretching the film, and then preferably performing a durability treatment with a boron compound can be used. The thickness of the polarizer is preferably from 2 to 30 μm, and particularly preferably from 2 to 15 μm.

また、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、ケン化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。中でも、熱水切断温度が66〜73℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能及び耐久性能に優れている上に、色むらが少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。   Further, the content of an ethylene unit described in JP-A-2003-248123, JP-A-2003-342322, and the like is 1 to 4 mol%, the degree of polymerization is 2000 to 4000, and the degree of saponification is 99.0 to 99.99 mol%. Of ethylene-modified polyvinyl alcohol is also preferably used. Among them, an ethylene-modified polyvinyl alcohol film having a hot water cutting temperature of 66 to 73 ° C is preferably used. A polarizer using this ethylene-modified polyvinyl alcohol film is excellent in polarization performance and durability performance, and has little color unevenness, and is particularly preferably used for a large-sized liquid crystal display device.

〈積層フィルム型の偏光子〉
また、偏光板は薄膜とすることが好ましく、偏光子の厚さは2〜15μmの範囲内であることが、偏光板の強度と薄膜化を両立する観点から特に好ましい。
<Laminated film type polarizer>
Further, the polarizing plate is preferably a thin film, and the thickness of the polarizer is particularly preferably in the range of 2 to 15 μm, from the viewpoint of achieving both the strength of the polarizing plate and thinning.

このような薄膜の偏光子としては、特開2011−100161号公報、特許第4691205号公報、特許4751481号公報、特許第4804589号公報に記載の方法で、積層フィルム型の偏光子を作製することが好ましい。   As such a thin-film polarizer, a laminated film-type polarizer is produced by a method described in JP-A-2011-100161, JP-A-46991205, JP-A-4751581, and JP-A-4804589. Is preferred.

一例として、以下の工程によって製造される薄膜の積層フィルム型の偏光子(偏光性積層フィルム)を用いることが、偏光板の全体の厚さを薄くして軽量化できる観点から好ましい。   As an example, it is preferable to use a thin film laminated film type polarizer (polarizing laminated film) manufactured by the following steps from the viewpoint of reducing the overall thickness of the polarizing plate and reducing its weight.

(偏光性積層フィルムの製造方法)
本発明に用いられる偏光性積層フィルムの製造方法は下記工程を含む。
(a)熱可塑性樹脂にゴム成分が分散されてなる基材フィルムの一方の面にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る積層工程、
(b)積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る延伸工程、
(c)延伸フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色して、染色フィルムを得る染色工程、
(d)染色フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を、架橋剤を含む溶液に浸漬して偏光子層を形成し、架橋フィルムを得る架橋工程、及び
(e)架橋フィルムを乾燥する乾燥工程
以下、各工程を説明すると、
(a)積層工程
本工程では、熱可塑性樹脂にゴム成分が分散(ブレンド分散)されてなるフィルムを基材フィルムとして、その一方の面にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得ることが好ましい。
(Manufacturing method of polarizing laminated film)
The method for producing a polarizing laminated film used in the present invention includes the following steps.
(A) a laminating step of forming a polyvinyl alcohol-based resin layer on one surface of a base film in which a rubber component is dispersed in a thermoplastic resin to obtain a laminated film;
(B) a stretching step of uniaxially stretching the laminated film to obtain a stretched film,
(C) a dyeing step of dyeing the polyvinyl alcohol-based resin layer of the stretched film with a dichroic dye to obtain a dyed film;
(D) a polyvinyl alcohol-based resin layer of the dyed film is immersed in a solution containing a crosslinking agent to form a polarizer layer, and a crosslinking step of obtaining a crosslinked film; and (e) a drying step of drying the crosslinked film. To explain the process,
(A) Lamination Step In this step, a film in which a rubber component is dispersed (blended and dispersed) in a thermoplastic resin is used as a base film, and a polyvinyl alcohol-based resin layer is formed on one surface of the base film to obtain a laminated film. Is preferred.

(基材フィルム)
基材フィルムのベースとなる熱可塑性樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性などに優れる熱可塑性樹脂であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂の具体例を挙げれば、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂;環状ポリオレフィン系樹脂;(メタ)アクリル系樹脂;ポリエステル系樹脂;セルロースアシレート系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリビニルアルコール系樹脂;酢酸ビニル系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;及びこれらの混合物又は共重合物などが挙げられる。
(Base film)
The thermoplastic resin serving as the base of the base film is preferably a thermoplastic resin having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, stretchability and the like. Specific examples of such a thermoplastic resin include, for example, a chain polyolefin resin; a cyclic polyolefin resin; a (meth) acrylic resin; a polyester resin; a cellulose acylate resin; a polycarbonate resin; Resins; vinyl acetate resins; polyarylate resins; polystyrene resins; polyether sulfone resins; polysulfone resins; polyamide resins; polyimide resins; and mixtures or copolymers thereof.

熱可塑性樹脂に分散されるゴム成分はゴム弾性を有する樹脂成分であり、通常、ゴム粒子として熱可塑性樹脂中に均一に分散される。ゴム成分を混合分散させることにより、基材フィルム、ひいては延伸フィルムの引裂き強さを向上させることができる。ゴム成分は、ゴム弾性を有する樹脂である限り特に制限されないが、熱可塑性樹脂との相溶性の観点から、用いる熱可塑性樹脂と同種又は類似の樹脂から構成されることが好ましい。   The rubber component dispersed in the thermoplastic resin is a resin component having rubber elasticity, and is usually uniformly dispersed as rubber particles in the thermoplastic resin. By mixing and dispersing the rubber component, the tear strength of the base film, and thus the stretched film, can be improved. The rubber component is not particularly limited as long as it is a resin having rubber elasticity. However, from the viewpoint of compatibility with the thermoplastic resin, the rubber component is preferably composed of a resin of the same type or similar to the thermoplastic resin used.

例えば、熱可塑性樹脂が鎖状ポリオレフィン系樹脂である場合、ゴム成分は、エチレン及びα−オレフィンから選択される2種以上のモノマーの共重合体であることができる。この場合において、当該共重合体を構成する各モノマーの含有量(重合比率)は、90質量%未満であることが好ましく、80質量%未満であることがより好ましい。   For example, when the thermoplastic resin is a linear polyolefin-based resin, the rubber component can be a copolymer of two or more monomers selected from ethylene and α-olefin. In this case, the content (polymerization ratio) of each monomer constituting the copolymer is preferably less than 90% by mass, and more preferably less than 80% by mass.

熱可塑性樹脂が(メタ)アクリル系樹脂である場合、相溶性の観点から、ゴム成分としてゴム弾性を有するアクリル系重合体を含有することが好ましい。アクリル系重合体は、アクリル酸アルキルを主体とする重合体であるのがよく、アクリル酸アルキルの単独重合体であってもよいし、アクリル酸アルキル50質量%以上と他のモノマー50質量%以下との共重合体であってもよい。   When the thermoplastic resin is a (meth) acrylic resin, it is preferable to contain, as a rubber component, an acrylic polymer having rubber elasticity from the viewpoint of compatibility. The acrylic polymer is preferably a polymer mainly composed of an alkyl acrylate, and may be a homopolymer of an alkyl acrylate, or 50% by mass or more of an alkyl acrylate and 50% by mass or less of another monomer. And a copolymer of

ゴム成分の配合量は、好ましくは熱可塑性樹脂の5〜50質量%であり、より好ましくは10〜45質量%である。ゴム成分の配合量が少なすぎると、十分な引裂き強さ向上効果が得られにくい傾向にあり、ゴム成分の配合量が多すぎると、基材フィルムの取扱い性が低下する傾向にある。   The compounding amount of the rubber component is preferably 5 to 50% by mass of the thermoplastic resin, more preferably 10 to 45% by mass. If the amount of the rubber component is too small, a sufficient effect of improving the tear strength tends to be hardly obtained, and if the amount of the rubber component is too large, the handleability of the base film tends to decrease.

ゴム成分の熱可塑性樹脂への分散方法は特に限定されず、例えば別々に作製した熱可塑性樹脂とゴム成分(ゴム粒子)をプラストミル等で混練して分散させる方法や、熱可塑性樹脂調製時に同じ反応容器内でゴム成分も調製してゴム成分が分散された熱可塑性樹脂を得るリアクターブレンド法などを挙げることができる。リアクターブレンド法は、ゴム成分の分散程度を向上させる上で有利である。   The method of dispersing the rubber component in the thermoplastic resin is not particularly limited. For example, a method in which a separately prepared thermoplastic resin and a rubber component (rubber particles) are kneaded and dispersed by a plast mill or the like, or the same reaction is performed during the preparation of the thermoplastic resin. A reactor blending method in which a rubber component is also prepared in a container to obtain a thermoplastic resin in which the rubber component is dispersed can be used. The reactor blending method is advantageous in improving the degree of dispersion of the rubber component.

(ポリビニルアルコール系樹脂層)
ポリビニルアルコール系樹脂層を形成するポリビニルアルコール系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール樹脂及びその誘導体が挙げられる。ポリビニルアルコール樹脂の誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタールなどの他、ポリビニルアルコール樹脂をエチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸のアルキルエステル、アクリルアミドなどで変性したものが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール樹脂を用いるのが好ましい。
(Polyvinyl alcohol resin layer)
Examples of the polyvinyl alcohol-based resin forming the polyvinyl alcohol-based resin layer include polyvinyl alcohol resins and derivatives thereof. Derivatives of polyvinyl alcohol resins include polyvinyl formal, polyvinyl acetal, etc., and polyvinyl alcohol resins such as olefins such as ethylene and propylene, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid, and alkyl esters of unsaturated carboxylic acids. And those modified with acrylamide and the like. Among these, it is preferable to use a polyvinyl alcohol resin.

ポリビニルアルコール系樹脂は、完全ケン化品であることが好ましい。ケン化度の範囲は、好ましくは80.0〜100.0モル%の範囲であり、より好ましくは90.0〜99.5モル%の範囲であり、さらに好ましくは94.0〜99.0モル%の範囲である。   The polyvinyl alcohol-based resin is preferably a completely saponified product. The range of the degree of saponification is preferably in the range of 80.0 to 100.0 mol%, more preferably in the range of 90.0 to 99.5 mol%, and still more preferably 94.0 to 99.0. Mol% range.

上述のポリビニルアルコール系樹脂には、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤等の添加剤が添加されてもよい。可塑剤としては、ポリオール及びその縮合物などを用いることができ、例えばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコールなどが例示される。添加剤の配合量は特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂の20質量%以下とするのが好適である。   If necessary, additives such as a plasticizer and a surfactant may be added to the polyvinyl alcohol-based resin described above. As the plasticizer, polyols and condensates thereof can be used, and examples thereof include glycerin, diglycerin, triglycerin, ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol. The amount of the additive is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or less of the polyvinyl alcohol-based resin.

ポリビニルアルコール系樹脂溶液を基材フィルムに塗工する方法としては、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などの公知の方法から適宜選択できる。乾燥温度は、例えば50〜200℃の範囲であり、好ましくは60〜150℃の範囲である。乾燥時間は、例えば2〜20分の範囲である。   Examples of the method of applying a polyvinyl alcohol-based resin solution to a base film include a wire bar coating method, a reverse coating method, a roll coating method such as a gravure coating method, a spin coating method, a screen coating method, a fountain coating method, a dipping method, and a spray method. And other known methods. The drying temperature is, for example, in the range of 50 to 200C, and preferably in the range of 60 to 150C. The drying time is, for example, in the range of 2 to 20 minutes.

積層フィルムにおけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さは、3μm以上50μm以下が好ましく、5μm以上45μm以下がより好ましい。3μm以下であると延伸後に薄くなりすぎて染色性が著しく悪化してしまい、50μmを超えると、得られる偏光性積層フィルムが厚くなる。   The thickness of the polyvinyl alcohol-based resin layer in the laminated film is preferably 3 μm or more and 50 μm or less, more preferably 5 μm or more and 45 μm or less. If it is less than 3 μm, it will be too thin after stretching and the dyeing properties will be remarkably deteriorated. If it exceeds 50 μm, the obtained polarizing laminate film will be thick.

本発明に用いる偏光子としてのポリビニルアルコール系樹脂層の厚さは、薄膜化と偏光子としての強度、柔軟性の観点から、下記延伸処理後の膜厚として2〜15μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the polyvinyl alcohol-based resin layer as a polarizer used in the present invention, from the viewpoint of thinning and strength as a polarizer, flexibility, from the viewpoint of the following thickness after stretching treatment is in the range of 2 to 15 μm. Is preferred.

(b)延伸工程
本工程は、基材フィルム及びポリビニルアルコール系樹脂層を備える積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程である。積層フィルムの延伸倍率は、所望する偏光特性に応じて適宜選択することができるが、好ましくは積層フィルムの元長に対して5〜17倍の範囲内であり、より好ましくは5〜8倍の範囲内である。
(B) Stretching Step This step is a step of uniaxially stretching a laminated film including a base film and a polyvinyl alcohol-based resin layer to obtain a stretched film. The stretching ratio of the laminated film can be appropriately selected according to the desired polarization characteristics, but is preferably in the range of 5 to 17 times, more preferably 5 to 8 times with respect to the original length of the laminated film. Within range.

延伸は、積層フィルムの長手方向(フィルム搬送方向)に延伸を行う縦延伸であることが好ましい。縦延伸方式としては、ローラー間延伸方法、圧縮延伸方法、テンターを用いた延伸方法などが挙げられる。なお、一軸延伸は、縦延伸処理に限定されることはなく、斜め延伸等であってもよい。   The stretching is preferably longitudinal stretching in which stretching is performed in the longitudinal direction (film transport direction) of the laminated film. Examples of the longitudinal stretching method include an inter-roller stretching method, a compression stretching method, and a stretching method using a tenter. In addition, the uniaxial stretching is not limited to the longitudinal stretching process, and may be oblique stretching or the like.

(c)染色工程
本工程は、延伸フィルムのポリビニルアルコール樹脂層を、二色性色素で染色して染色フィルムを得る工程である。二色性色素としては、例えば、ヨウ素や有機染料などが挙げられる。有機染料としては、例えば、レッドBR、レッドLR、レッドR、ピンクLB、ルビンBL、ボルドーGS、スカイブルーLG、レモンイエロー、ブルーBR、ブルー2R、ネイビーRY、グリーンLG、バイオレットLB、バイオレットB、ブラックH、ブラックB、ブラックGSP、イエロー3G、イエローR、オレンジLR、オレンジ3R、スカーレットGL、スカーレットKGL、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットBK、スプラブルーG、スプラブルーGL、スプラオレンジGL、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジS、ファーストブラックなどが使用できる。これらの二色性物質は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(C) Dyeing Step This step is a step of dyeing the polyvinyl alcohol resin layer of the stretched film with a dichroic dye to obtain a dyed film. Examples of the dichroic dye include iodine and organic dyes. Examples of the organic dye include Red BR, Red LR, Red R, Pink LB, Rubin BL, Bordeaux GS, Sky Blue LG, Lemon Yellow, Blue BR, Blue 2R, Navy RY, Green LG, Violet LB, Violet B, Black H, Black B, Black GSP, Yellow 3G, Yellow R, Orange LR, Orange 3R, Scarlet GL, Scarlet KGL, Congo Red, Brilliant Violet BK, Supra Blue G, Supra Blue GL, Supra Orange GL, Direct Sky Blue, Direct First Orange S, First Black, etc. can be used. These dichroic substances may be used alone or in combination of two or more.

二色性色素としてヨウ素を使用する場合、染色効率をより一層向上できることから、さらにヨウ化物を、ヨウ素を含有する染色溶液に添加することが好ましい。このヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化スズ、ヨウ化チタンなどが挙げられる。   When iodine is used as the dichroic dye, it is preferable to further add an iodide to the iodine-containing dyeing solution since the dyeing efficiency can be further improved. Examples of the iodide include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, and tin iodide. Titanium and the like can be mentioned.

(d)架橋工程
本工程は、二色性色素で染色させて得られた染色フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層に対して架橋処理を行い、ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光子層とする架橋フィルムを得る工程である。架橋工程は、例えば架橋剤を含む溶液(架橋溶液)中に染色フィルムを浸漬することにより行うことができる。架橋剤としては、従来公知の物質を使用することができる。例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物や、グリオキザール、グルタルアルデヒドなどが挙げられる。これらは1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(D) Cross-linking step In this step, a cross-linking treatment is performed on the polyvinyl alcohol-based resin layer of the dyed film obtained by dyeing with a dichroic dye, and the cross-linked film having the polyvinyl alcohol-based resin layer as a polarizer layer is obtained. This is the step of obtaining. The crosslinking step can be performed, for example, by immersing the dyed film in a solution containing a crosslinking agent (crosslinking solution). As the cross-linking agent, a conventionally known substance can be used. For example, boron compounds such as boric acid and borax, glyoxal, glutaraldehyde and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

(e)乾燥工程
得られた架橋フィルムは、通常、洗浄を行った後、乾燥される。これにより偏光性積層フィルムが得られる。洗浄は、イオン交換水、蒸留水などの純水に架橋フィルムを浸漬することにより行うことができる。水洗浄温度は、通常3〜50℃の範囲、好ましくは4〜20℃の範囲である。浸漬時間は、通常2〜300秒間の範囲、好ましくは5〜240秒間である。洗浄は、ヨウ化物溶液による洗浄処理と水洗浄処理とを組み合わせてもよく、適宜にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、プロパノール等の液体アルコールを配合した溶液を用いることもできる。
(E) Drying step The obtained crosslinked film is usually dried after washing. Thereby, a polarizing laminated film is obtained. Washing can be performed by immersing the crosslinked film in pure water such as ion-exchanged water or distilled water. The water washing temperature is usually in the range of 3 to 50 ° C, preferably in the range of 4 to 20 ° C. The immersion time is usually in the range of 2 to 300 seconds, preferably 5 to 240 seconds. For washing, a washing treatment with an iodide solution and a water washing treatment may be combined, and a solution in which a liquid alcohol such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, or propanol is appropriately blended may be used.

乾燥方法としては、任意の適切な方法(例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)を採用しうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常20〜95℃の範囲であり、乾燥時間は、通常1〜15分間程度である。   As a drying method, any appropriate method (for example, natural drying, blast drying, and heat drying) can be adopted. For example, the drying temperature in the case of heat drying is usually in the range of 20 to 95 ° C., and the drying time is usually about 1 to 15 minutes.

偏光性積層フィルムは、二色性色素が吸着配向されたポリビニルアルコール系樹脂層からなる偏光子層を備えるものであり、これ自体偏光板として用いることができる。本発明の好ましい実施態様としては、上記工程によって偏光性積層フィルムを形成した後、当該偏光性積層フィルムの前記ポリビニルアルコール層を基材フィルムから剥離することによって、当該ポリビニルアルコール層を偏光子として用いることである。この方法によれば、偏光子層の厚さを15μm以下にすることが可能であるため、薄型の偏光子を得ることができる。また、本発明に用いられる偏光子は、偏光性能及び耐久性にも優れる。   The polarizing laminated film includes a polarizer layer composed of a polyvinyl alcohol-based resin layer on which a dichroic dye is adsorbed and oriented, and can be used as a polarizing plate itself. As a preferred embodiment of the present invention, after forming the polarizing laminate film by the above process, by peeling the polyvinyl alcohol layer of the polarizing laminate film from the base film, the polyvinyl alcohol layer is used as a polarizer. That is. According to this method, the thickness of the polarizer layer can be reduced to 15 μm or less, so that a thin polarizer can be obtained. Further, the polarizer used in the present invention has excellent polarization performance and durability.

〔偏光板の作製〕
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の環状ポリオレフィンフィルムの偏光子側を表面処理し、下記活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子と貼合することが好ましい。また、環状ポリオレフィンフィルムを貼合した面とは反対側の面に、セルロースアシレートフィルムを用いる場合は、当該セルロースアシレートフィルムをアルカリケン化処理し、偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液(水糊)を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。
(Preparation of polarizing plate)
The polarizing plate can be manufactured by a general method. It is preferable that the polarizer side of the cyclic polyolefin film of the present invention is subjected to a surface treatment, and is bonded to a polarizer produced by dipping and stretching in an iodine solution using the following active energy ray-curable adhesive. When a cellulose acylate film is used on the surface opposite to the surface on which the cyclic polyolefin film is bonded, the cellulose acylate film is subjected to alkali saponification treatment, and at least one surface of the polarizer is completely saponified. It is preferable to bond together using a modified polyvinyl alcohol aqueous solution (water paste). Another polarizing plate protective film can be bonded to the other surface.

例えば、市販のセルロースアシレートフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC6UA、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC8UX−RHA、KC8UXW−RHA−C、KC8UXW−RHA−NC、KC4UXW−RHA−NC、以上コニカミノルタ(株)製)が好ましく用いられる。   For example, commercially available cellulose acylate films (e.g., Konica Minolta Tac KC8UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC6UY, KC6UA, KC4UY, KC4UE, KC8UE, KC8U-HUCH, HXA-X, H-X, H-A, H-A, H-C, H-A, H-A, H-A, H-A, H-A, H-A, H-C KC8UXW-RHA-NC and KC4UXW-RHA-NC (all manufactured by Konica Minolta Inc.) are preferably used.

[活性エネルギー線硬化性接着剤]
また、偏光板においては、本発明の環状ポリオレフィンフィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤により貼合されていることが好ましい。
[Active energy ray-curable adhesive]
Further, in the polarizing plate, it is preferable that the cyclic polyolefin film of the present invention and the polarizer are bonded with an active energy ray-curable adhesive.

活性エネルギー線硬化性接着剤は、下記紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。   As the active energy ray-curable adhesive, the following ultraviolet-curable adhesive is preferably used.

本発明においては、環状ポリオレフィンフィルムと偏光子との貼合に紫外線硬化型接着剤を適用することにより、薄膜でも強度が高く、平面性に優れた偏光板を得ることができる。   In the present invention, by applying an ultraviolet curable adhesive to the bonding between the cyclic polyolefin film and the polarizer, a polarizing plate having high strength and excellent flatness can be obtained even in a thin film.

〈紫外線硬化型接着剤の組成〉
偏光板用の紫外線硬化型接着剤組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。
<Composition of UV-curable adhesive>
As an ultraviolet-curable adhesive composition for a polarizing plate, a photo-radical polymerization type composition using photo-radical polymerization, a photo-cation polymerization type composition using photo-cation polymerization, and a combination of photo-radical polymerization and photo-cation polymerization Hybrid compositions are known.

光ラジカル重合型組成物としては、特開2008−009329号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物)等が知られている。特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が含まれる。(メタ)アクリロイル基を有する化合物の例には、N置換(メタ)アクリルアミド系化合物、(メタ)アクリレート系化合物などが含まれる。(メタ)アクリルアミドは、アクリアミド又はメタクリアミドを意味する。   As the photoradical polymerization type composition, a specific ratio of a radical polymerizable compound containing a polar group such as a hydroxy group or a carboxy group and a radical polymerizable compound not containing a polar group described in JP-A-2008-09329 are included. Compositions) are known. In particular, the radical polymerizable compound is preferably a compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond. Preferred examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of undergoing radical polymerization include a compound having a (meth) acryloyl group. Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include an N-substituted (meth) acrylamide compound, a (meth) acrylate compound, and the like. (Meth) acrylamide means acrylamide or methacrylamide.

また、光カチオン重合型組成物としては、特開2011−028234号公報に開示されているような、(α)カチオン重合性化合物、(β)光カチオン重合開始剤、(γ)380nmより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び(δ)ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する紫外線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の紫外線硬化型接着剤が用いられてもよい。   Further, as the cationic photopolymerizable composition, (α) cationic polymerizable compound, (β) cationic photopolymerization initiator, and (γ) wavelength longer than 380 nm as disclosed in JP-A-2011-028234. UV-curable adhesive compositions containing each component of a photosensitizer exhibiting a maximum absorption of the above-mentioned light and (δ) a naphthalene-based photosensitizer. However, other UV-curable adhesives may be used.

(i)前処理工程
前処理工程は、環状ポリオレフィンフィルムの偏光子との接着面に易接着処理を行う工程である。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
(I) Pretreatment Step The pretreatment step is a step of performing an easy adhesion treatment on the surface of the cyclic polyolefin film to be adhered to the polarizer. Examples of the easy adhesion treatment include a corona treatment and a plasma treatment.

(紫外線硬化型接着剤の塗布工程)
紫外線硬化型接着剤の塗布工程としては、偏光子と環状ポリオレフィンフィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記紫外線硬化型接着剤を塗布する。偏光子又は環状ポリオレフィンフィルムの表面に直接、紫外線硬化型接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特段の限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と環状ポリオレフィンフィルムの間に、紫外線硬化型接着剤を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
(Application process of UV curable adhesive)
In the step of applying the UV-curable adhesive, the UV-curable adhesive is applied to at least one of the bonding surfaces of the polarizer and the cyclic polyolefin film. When an ultraviolet-curable adhesive is directly applied to the surface of a polarizer or a cyclic polyolefin film, the application method is not particularly limited. For example, various wet coating methods such as a doctor blade, a wire bar, a die coater, a comma coater, and a gravure coater can be used. Further, a method in which an ultraviolet-curable adhesive is cast between the polarizer and the cyclic polyolefin film, and then pressure is applied with a roller or the like to uniformly spread the adhesive is used.

(ii)貼合工程
上記の方法により紫外線硬化型接着剤を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に紫外線硬化型接着剤を塗布した場合、そこに環状ポリオレフィンフィルムが重ね合わされる。また、はじめに環状ポリオレフィンフィルムの表面に紫外線硬化型接着剤を塗布する方式の場合には、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と環状ポリオレフィンフィルムの間に紫外線硬化型接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と環状ポリオレフィンフィルムとが重ね合わされる。そして、通常は、この状態で両面の環状ポリオレフィンフィルム側から加圧ローラー等で挟んで加圧することになる。加圧ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置される加圧ローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
(Ii) Laminating Step After the application of the ultraviolet-curable adhesive by the above-mentioned method, it is processed in the laminating step. In this bonding step, for example, when an ultraviolet curable adhesive is applied to the surface of the polarizer in the previous application step, the cyclic polyolefin film is superposed thereon. In the case of applying a UV curable adhesive to the surface of the cyclic polyolefin film first, a polarizer is superposed thereon. When an ultraviolet curable adhesive is cast between the polarizer and the cyclic polyolefin film, the polarizer and the cyclic polyolefin film are superposed in this state. Usually, in this state, pressure is applied between both sides of the cyclic polyolefin film by a pressure roller or the like. As the material of the pressure roller, metal, rubber, or the like can be used. The pressure rollers arranged on both sides may be made of the same material or different materials.

(iii)硬化工程
硬化工程では、未硬化の紫外線硬化型接着剤に紫外線を照射して、カチオン重合性化合物(例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物)やラジカル重合性化合物(例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等)を含む紫外線硬化型接着剤層を硬化させ、紫外線硬化型接着剤を介して重ね合わせた偏光子と環状ポリオレフィンフィルムを接着させる。偏光子の片面に環状ポリオレフィンフィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は環状ポリオレフィンフィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に環状ポリオレフィンフィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ紫外線硬化型接着剤を介して環状ポリオレフィンフィルムを重ね合わせた状態で、紫外線を照射し、両面の紫外線硬化型接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
(Iii) Curing Step In the curing step, an uncured ultraviolet-curable adhesive is irradiated with ultraviolet rays to irradiate a cationically polymerizable compound (for example, an epoxy compound or an oxetane compound) or a radically polymerizable compound (for example, an acrylate compound or acrylamide). An ultraviolet-curable adhesive layer containing an organic compound and the like is cured, and the polarizer and the cyclic polyolefin film are bonded to each other via the ultraviolet-curable adhesive. When laminating a cyclic polyolefin film on one side of a polarizer, the active energy ray may be irradiated from either the polarizer side or the cyclic polyolefin film side. In addition, when laminating the cyclic polyolefin film on both sides of the polarizer, irradiate ultraviolet rays in a state where the cyclic polyolefin film is laminated on both sides of the polarizer via an ultraviolet-curable adhesive, respectively, and the ultraviolet curable It is advantageous to cure the adhesive simultaneously.

紫外線の照射条件は、本発明に適用する紫外線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で50〜1500mJ/cmの範囲であることが好ましく、100〜500mJ/cmの範囲であるのがさらに好ましい。 As the irradiation condition of the ultraviolet ray, any appropriate condition can be adopted as long as it can cure the ultraviolet curable adhesive applied to the present invention. Preferably the dose of ultraviolet rays in the range of 50~1500mJ / cm 2 in accumulated light quantity, and even more preferably in the range of 100 to 500 mJ / cm 2.

偏光板の製造工程を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは1〜500m/minの範囲、より好ましくは5〜300m/minの範囲、さらに好ましくは10〜100m/minの範囲である。ライン速度が1m/min以上であれば、生産性を確保することができ、又は環状ポリオレフィンフィルムへのダメージを抑制することができ、耐久性に優れた偏光板を作製することができる。また、ライン速度が500m/min以下であれば、紫外線硬化型接着剤の硬化が十分となり、目的とする硬度を備え、接着性に優れた紫外線硬化型接着剤層を形成することができる。   When the manufacturing process of the polarizing plate is performed in a continuous line, the line speed depends on the curing time of the adhesive, but is preferably in the range of 1 to 500 m / min, more preferably in the range of 5 to 300 m / min, and still more preferably in the range of 10 to 300 m / min. The range is 100 m / min. When the line speed is 1 m / min or more, productivity can be ensured, or damage to the cyclic polyolefin film can be suppressed, and a polarizing plate having excellent durability can be manufactured. When the line speed is 500 m / min or less, the curing of the ultraviolet-curable adhesive is sufficient, and the ultraviolet-curable adhesive layer having the desired hardness and excellent adhesiveness can be formed.

〔機能性層〕
本発明の環状ポリオレフィンフィルムには、機能性層として、反射防止層、光散乱層、ハードコート層、及び帯電防止層等を設けることができる。
(Functional layer)
In the cyclic polyolefin film of the present invention, an antireflection layer, a light scattering layer, a hard coat layer, an antistatic layer and the like can be provided as functional layers.

〈反射防止層〉
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護膜には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。環状ポリオレフィンフィルム上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層、又は環状ポリオレフィンフィルム上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。
<Anti-reflective layer>
It is preferable to provide a functional film such as an anti-reflection layer on the transparent protective film disposed on the opposite side of the polarizing plate from the liquid crystal cell. An antireflection layer in which at least a light scattering layer and a low refractive index layer are laminated in this order on a cyclic polyolefin film, or a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order on a cyclic polyolefin film. An antireflection layer is preferably used.

(光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層)
光散乱層にはマット粒子が分散しているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は1.50〜2.00の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は1.35〜1.49の範囲にあることが好ましい。光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていてもよく、1層でもよいし、複数層、例えば2層〜4層で構成されていてもよい。
(Anti-reflection layer provided with a light scattering layer and a low refractive index layer)
It is preferable that the mat particles are dispersed in the light scattering layer, and the refractive index of the material other than the mat particles of the light scattering layer is preferably in the range of 1.50 to 2.00. Is preferably in the range of 1.35 to 1.49. The light scattering layer may have both the antiglare property and the hard coat property, may be a single layer, or may be composed of a plurality of layers, for example, two to four layers.

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さRaが0.08〜0.40μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下、平均山谷距離Smが1〜100μm、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が0.5μm以下、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下、傾斜角0〜5度の面が10%以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。   The antireflection layer has, as its surface unevenness, a center line average roughness Ra of 0.08 to 0.40 μm, a 10-point average roughness Rz of 10 times or less of Ra, an average peak-to-valley distance Sm of 1 to 100 μm, Designed so that the standard deviation of the height of the convex portion from the part is 0.5 μm or less, the standard deviation of the average peak-to-valley distance Sm with respect to the center line is 20 μm or less, and the surface with a tilt angle of 0 to 5 degrees is 10% or more. By doing so, sufficient anti-glare properties and a uniform matte feeling visually are achieved, which is preferable.

また、C光源下での反射光の色味がa値−2〜2、b値−3〜3、380〜780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の比0.5〜0.99であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またC光源下での透過光のb値が0〜3とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。 Further, the ratio of the minimum value to the maximum value of the reflectance in the range of a * value −2 to 2, b * value −3 to 3, and 380 to 780 nm when the color of the reflected light under the C light source is 0.5 is 0.5. When it is 0.99, the color of the reflected light becomes neutral, which is preferable. Further, when the b * value of the transmitted light under the C light source is 0 to 3, the yellow color of white display when applied to a display device is reduced, which is preferable.

また、面光源上と反射防止フィルムの間に120×40μmの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が20以下であると、高精細パネルに本発明の環状ポリオレフィンフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。   Further, when a standard deviation of the luminance distribution when the luminance distribution is measured on the film by inserting a grid of 120 × 40 μm between the surface light source and the antireflection film is 20 or less, the present invention is applied to a high definition panel. It is preferable because glare when a cyclic polyolefin film is applied is reduced.

反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率2.5%以下、透過率90%以上、60度光沢度70%以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は1%以下がより好ましく、0.5%以下であることが最も好ましい。ヘイズ20〜50%、内部ヘイズ/全ヘイズ値(比)が0.3〜1、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が15%以内、くし幅0.5mmにおける透過像鮮明度20〜50%、垂直透過光/垂直から2度傾斜方向の透過率比が1.5〜5.0とすることで、高精細LCDパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。   The anti-reflection layer can suppress the reflection of external light and improve the visibility by setting the optical characteristics of the anti-reflection layer to 2.5% or less for specular reflectivity, 90% or more for transmittance, and 70% or less for 60 degree glossiness. Therefore, it is preferable. In particular, the specular reflectance is more preferably 1% or less, most preferably 0.5% or less. Haze 20 to 50%, internal haze / total haze value (ratio) 0.3 to 1, reduction in haze value after formation of low refractive index layer from haze value up to light scattering layer within 15%, comb width 0 By setting the transmitted image clarity at 0.5 mm to 20 to 50% and the transmittance ratio of vertical transmitted light / transmittance in a direction inclined at 2 degrees from vertical to 1.5 to 5.0, glare on a high-definition LCD panel can be prevented, and characters can be prevented. The reduction of blurs such as is achieved, which is preferable.

(低屈折率層)
反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.49の範囲が好ましく、より好ましくは1.30〜1.44の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
(Low refractive index layer)
The refractive index of the low refractive index layer of the antireflection film is preferably in the range of 1.20 to 1.49, and more preferably in the range of 1.30 to 1.44. Further, it is preferable that the low refractive index layer satisfies the following formula from the viewpoint of lowering the reflectance.

(m/4)×0.7<n1d1<(m/4)×1.3
式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。
(M / 4) × 0.7 <n1d1 <(m / 4) × 1.3
In the formula, m is a positive odd number, n1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d1 is the thickness (nm) of the low refractive index layer. Λ is a wavelength and is a value in a range of 500 to 550 nm.

低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。   The material for forming the low refractive index layer will be described below.

低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数0.03〜0.20、水に対する接触角90〜120°、純水の滑落角が70°以下の熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれやすくなり好ましく、500gf以下が好ましく、300gf以下がより好ましく、100gf以下が最も好ましい。   The low refractive index layer preferably contains a fluorine-containing polymer as a low refractive index binder. As the fluoropolymer, a fluoropolymer which is crosslinked by heat or ionizing radiation having a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.20, a contact angle to water of 90 to 120 °, and a sliding angle of pure water of 70 ° or less is preferable. When the antireflection film is mounted on an image display device, the lower the peeling force with a commercially available adhesive tape, the easier it is to peel off after attaching a seal or memo, preferably 500 gf or less, more preferably 300 gf or less, and more preferably 100 gf or less. Most preferred.

また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。   Also, the higher the surface hardness measured by the microhardness tester, the less likely it is to be scratched, preferably 0.3 GPa or more, more preferably 0.5 GPa or more.

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン)の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing polymer used for the low refractive index layer include hydrolysis and dehydration condensates of perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane). And a fluorine-containing copolymer containing a fluorine-containing monomer unit and a structural unit for imparting crosslinking reactivity as a constituent component.

含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。   Specific examples of the fluorinated monomer include, for example, fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), Partially or completely fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), and fully or partially fluorinated vinyl ethers. , Preferably perfluoroolefins, and particularly preferably hexafluoropropylene from the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability and the like.

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシ基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。   Structural units for imparting crosslinking reactivity include structural units obtained by polymerization of a monomer having a self-crosslinkable functional group in the molecule, such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether, carboxy group, hydroxy group, and amino group , A monomer having a sulfo group or the like (eg, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc.) Structural units, or structural units in which a cross-linking reactive group such as a (meth) acryloyl group is introduced into these structural units by a polymer reaction (for example, they can be introduced by a method such as making acrylic acid chloride act on a hydroxy group) But It is below.

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ケイ皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。上記のポリマーに対しては特開平10−25388号及び特開平10−147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。   In addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer unit and the constituent unit for imparting crosslinking reactivity, a monomer containing no fluorine atom can be appropriately copolymerized from the viewpoint of solubility in a solvent, transparency of a film, and the like. There is no particular limitation on the monomer units that can be used in combination, and for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylates (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2) -Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tert-butylacrylamide, N Cyclohexyl acrylamide), methacrylamides, and acrylonitrile derivatives. As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the above polymer.

(光散乱層)
光散乱層は、一般に表面散乱及び/又は内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。したがって、一般にハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生及び脆性の悪化の抑制の観点から、1〜10μmの範囲が好ましく、1.2〜6μmの範囲がより好ましい。
(Light scattering layer)
The light-scattering layer is generally formed for the purpose of contributing to the film light diffusibility due to surface scattering and / or internal scattering and hard coating properties for improving the scratch resistance of the film. Therefore, it is generally formed to include a binder for imparting a hard coat property, mat particles for imparting a light diffusing property, and an inorganic filler for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength as necessary. Is done. The thickness of the light-scattering layer is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably 1.2 to 6 μm, from the viewpoint of imparting a hard coat property and suppressing the occurrence of curl and deterioration of brittleness.

散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むものを選択することもできる。   The binder of the scattering layer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain. Further, the binder polymer preferably has a crosslinked structure. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain, a polymer of an ethylenically unsaturated monomer is preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable. In order to make the binder polymer have a high refractive index, an aromatic ring or a monomer containing at least one atom selected from a halogen atom other than fluorine, a sulfur atom, a phosphorus atom, and a nitrogen atom in the structure of the monomer is used. You can also choose.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、上記のエチレンオキシド変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。   Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di ( (Meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropanetri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-c Roxanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), the above-mentioned modified ethylene oxide, vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4 -Divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of the above monomers may be used in combination.

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4′−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。   Specific examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenylsulfide, 4-methacryloxyphenyl-4'-methoxyphenylthioether, and the like. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。   Polymerization of these monomers having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoradical initiator or a thermal radical initiator.

したがって、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。   Therefore, a coating liquid containing a monomer having an ethylenically unsaturated group, a photoradical initiator or a thermal radical initiator, mat particles and an inorganic filler is prepared, and the coating liquid is applied on a transparent support, and then ionized radiation or heat is applied. To form an anti-reflection film by the polymerization reaction. Known photo-radical initiators and the like can be used.

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤又は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。   The polymer having a polyether as a main chain is preferably a ring-opened polymer of a polyfunctional epoxy compound. Ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.

したがって、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤又は熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。   Therefore, a coating solution containing a polyfunctional epoxy compound, a photoacid generator or a thermal acid generator, a mat particle and an inorganic filler is prepared, and the coating solution is applied on a transparent support and then polymerized by ionizing radiation or heat. By curing, an anti-reflection film can be formed.

2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに又はそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。   Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinkable functional group is introduced into the polymer using a monomer having a crosslinkable functional group, and the reaction of the crosslinkable functional group A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.

架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシ基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。   Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxy group, a methylol group, and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not show a reaction immediately but may show a reactivity as a result of decomposition.

これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。   These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after application.

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が1〜10μmの範囲、好ましくは1.5〜7.0μmの範囲のマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子が含有されることが好ましい。   In the light scattering layer, for the purpose of imparting anti-glare properties, mat particles having a size larger than the filler particles and having an average particle size in the range of 1 to 10 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, for example, particles of an inorganic compound or Preferably, resin particles are contained.

上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状又は不定形のいずれも使用できる。 Specific examples of the mat particles include particles of inorganic compounds such as silica particles and TiO 2 particles; and resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles. No. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acryl particles, crosslinked acrylstyrene particles, and silica particles are preferred. The shape of the mat particles can be either spherical or irregular.

また、粒子径の異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。   Further, two or more kinds of mat particles having different particle diameters may be used in combination. It is possible to provide anti-glare properties with matte particles having a larger particle diameter, and to impart another optical property with matte particles having a smaller particle diameter.

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の微粒子を得ることができる。   Further, the particle size distribution of the above matte particles is most preferably monodisperse, and the closer the particle diameters of the respective particles are to the same, the better. For example, when particles having a particle size larger than 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the ratio of the coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1%. Or less, more preferably 0.01% or less. Mat particles having such a particle size distribution are obtained by classification after a usual synthesis reaction, and fine particles having a more preferable distribution can be obtained by increasing the number of times of classification and increasing the degree thereof.

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは10〜1000mg/mの範囲、より好ましくは100〜700mg/mの範囲となるように光散乱層に含有される。マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。 The above-mentioned mat particles are contained in the light-scattering layer such that the amount of the mat particles in the formed light-scattering layer is preferably in the range of 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably in the range of 100 to 700 mg / m 2 . The particle size distribution of the mat particles is measured by the Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution.

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、スズ、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。   In order to increase the refractive index of the light-scattering layer, in addition to the above matte particles, an oxide of at least one metal selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony is used. In addition, it is preferable that an inorganic filler having an average particle diameter of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less is contained.

また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。   Conversely, in order to increase the refractive index difference from the matting particles, it is also preferable to use silicon oxide in the light scattering layer using the high refractive index matting particles in order to keep the refractive index of the layer low. The preferred particle size is the same as the above-mentioned inorganic filler.

光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、TiO、ZrO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITOとSiO等が挙げられる。TiO及びZrOが高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の10〜90%の範囲であることが好ましく、より好ましくは20〜80%の範囲であり、特に好ましくは30〜75%の範囲である。なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。 Specific examples of the inorganic filler used for the light scattering layer include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and SiO 2 and the like. TiO 2 and ZrO 2 are particularly preferred in terms of increasing the refractive index. The surface of the inorganic filler is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treating agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used. The addition amount of these inorganic fillers is preferably in the range of 10 to 90% of the total mass of the light scattering layer, more preferably in the range of 20 to 80%, and particularly preferably in the range of 30 to 75%. is there. Note that such a filler does not scatter because the particle diameter is sufficiently smaller than the wavelength of light, and a dispersion in which the filler is dispersed in a binder polymer behaves as an optically uniform substance.

光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、1.48〜2.00の範囲であることが好ましく、より好ましくは1.50〜1.80の範囲である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、あらかじめ実験的に容易に知ることができる。   The bulk refractive index of the mixture of the binder and the inorganic filler in the light scattering layer is preferably in the range of 1.48 to 2.00, and more preferably in the range of 1.50 to 1.80. In order to set the refractive index in the above range, the types and the proportions of the binder and the inorganic filler may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.

光散乱層は、特に塗布むら、乾燥むら、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系のいずれかの界面活性剤、又はその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、反射防止フィルムの塗布むら、乾燥むら、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。   The light-scattering layer is coated with a fluorine-based or silicone-based surfactant or both to form an antiglare layer in order to secure surface uniformity such as uneven coating, uneven drying, and point defects. Preferably, it is contained in the composition. In particular, a fluorine-based surfactant is preferably used because the effect of improving surface defects such as uneven application of the antireflection film, uneven drying, and point defects appears with a smaller addition amount. The purpose is to increase productivity by giving high-speed coating suitability while improving surface uniformity.

〈中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層〉
フィルム上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層(最外層)の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計されることが好ましい。高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率。また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい(例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等参照)。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
<Anti-reflection layer in which a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order>
An antireflection film having at least a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer (outermost layer) on a film is designed to have a refractive index satisfying the following relationship. Is preferred. Refractive index of high refractive index layer> refractive index of medium refractive index layer> refractive index of transparent support> refractive index of low refractive index layer. Further, a hard coat layer may be provided between the transparent support and the middle refractive index layer. Further, it may be composed of a medium refractive index hard coat layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer (for example, JP-A-8-122504, JP-A-8-110401, JP-A-10-300902, JP-A-2002-243906, JP-A-2000-111706 and the like). Further, each layer may be provided with another function, for example, an antifouling low refractive index layer and an antistatic high refractive index layer (eg, JP-A-10-206603, JP-A-2002-2002). -243906 and the like).

反射防止膜のヘイズは、5%以下あることが好ましく、3%以下がさらに好ましい。また膜の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The haze of the antireflection film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. The strength of the film is preferably H or more in a pencil hardness test according to JIS K5400, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more.

(高屈折率層及び中屈折率層)
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成ることが好ましい。
(High refractive index layer and medium refractive index layer)
The layer having a high refractive index of the antireflection film is preferably composed of a curable film containing at least an inorganic compound ultrafine particle having a high refractive index having an average particle diameter of 100 nm or less and a matrix binder.

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物等が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。   Examples of the inorganic compound fine particles having a high refractive index include inorganic compounds having a refractive index of 1.65 or more, and preferably those having a refractive index of 1.9 or more. For example, oxides such as Ti, Zn, Sb, Sn, Zr, Ce, Ta, La, and In, and composite oxides containing these metal atoms can be given.

このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること(例えば、シランカップリング剤等:特開平11−295503号公報、同11−153703号公報、特開2000−9908、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001−310432号公報等)、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること(:特開2001−166104、同2001−310432号公報等)、特定の分散剤併用(例、特開平11−153703号公報、米国特許第6210858号明細書等)等を挙げることができる。   In order to obtain such ultrafine particles, the surface of the particles must be treated with a surface treating agent (for example, silane coupling agents and the like: JP-A-11-295503, JP-A-11-153703, JP-A-2000-9908). , An anionic compound or an organic metal coupling agent: JP-A-2001-310432, etc.) and a core-shell structure having high-refractive-index particles as cores (: JP-A-2001-166104, JP-A-2001-310432, etc.) ) And specific dispersants (for example, JP-A-11-153703, U.S. Pat. No. 6,210,858) and the like.

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。   As a material for forming the matrix, conventionally known thermoplastic resins, curable resin films and the like can be mentioned.

更に、ラジカル重合性及び/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個有する多官能性化合物含有組成物と、加水分解性基を有する有機金属化合物及びその部分縮合体を含有する組成物とから選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000−47004号公報、同2001−315242号公報、同2001−31871号公報、同2001−296401号公報等に記載の組成物が挙げられる。   Furthermore, a polyfunctional compound-containing composition having at least two radically polymerizable and / or cationically polymerizable groups, and a composition containing an organometallic compound having a hydrolyzable group and a partial condensate thereof At least one composition chosen is preferred. For example, the compositions described in JP-A-2000-47004, JP-A-2001-315242, JP-A-2001-31871, JP-A-2001-296401 and the like can be mentioned.

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001−293818号公報等に記載されている。   Further, a curable film obtained from a colloidal metal oxide obtained from a hydrolytic condensate of a metal alkoxide and a metal alkoxide composition is also preferable. For example, it is described in JP-A-2001-293818.

高屈折率層の屈折率は、−般に1.70〜2.20の範囲である。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmの範囲であることが好ましく、10nm〜1μmの範囲であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.70の範囲であることが好ましい。また、厚さは5nm〜10μmの範囲であることが好ましく、10nm〜1μmの範囲であることがさらに好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is generally in the range of 1.70 to 2.20. The thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 5 nm to 10 μm, more preferably in the range of 10 nm to 1 μm. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably in the range of 1.50 to 1.70. Further, the thickness is preferably in the range of 5 nm to 10 μm, and more preferably in the range of 10 nm to 1 μm.

(低屈折率層)
前記構成においては、低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は1.20〜1.55の範囲であることが好ましく、より好ましくは1.30〜1.50の範囲である。
(Low refractive index layer)
In the above configuration, the low refractive index layer is formed by sequentially laminating the high refractive index layer. The low refractive index layer preferably has a refractive index in the range of 1.20 to 1.55, and more preferably 1.30 to 1.50.

耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。   It is preferable to construct as an outermost layer having scratch resistance and stain resistance. As a means for greatly improving the scratch resistance, it is effective to impart slipperiness to the surface, and a conventionally known means of a thin film layer formed by introducing silicone or fluorine can be applied.

含フッ素化合物の屈折率は1.35〜1.50の範囲であることが好ましい。より好ましくは1.36〜1.47の範囲である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を35〜80質量%の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。例えば、特開平9−222503号公報明細書段落番号[0018]〜[0026]、同11−38202号公報明細書段落番号[0019]〜[0030]、特開2001−40284号公報明細書段落番号[0027]〜[0028]、特開2000−284102号公報等に記載の化合物が挙げられる。   The refractive index of the fluorine-containing compound is preferably in the range of 1.35 to 1.50. More preferably, it is in the range of 1.36 to 1.47. Further, the fluorine-containing compound is preferably a compound containing a fluorine atom in the range of 35 to 80% by mass and having a crosslinkable or polymerizable functional group. For example, paragraph numbers [0018] to [0026] of JP-A-9-222503, paragraph numbers [0019] to [0030] of JP-A-11-38202, and paragraph numbers of JP-A-2001-40284. [0027] to [0028] and compounds described in JP-A-2000-284102 and the like.

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン(例、サイラプレーン(チッソ(株)製等)、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン(特開平11−258403号公報等)等が挙げられる。   The silicone compound is a compound having a polysiloxane structure, and preferably contains a curable functional group or a polymerizable functional group in a polymer chain and has a crosslinked structure in the film. Examples thereof include reactive silicones (eg, Silaplane (manufactured by Chisso Corporation) and polysiloxanes containing silanol groups at both ends (JP-A-11-258403).

架橋又は重合性基を有する含フッ素及び/又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。   The crosslinking or polymerization reaction of the fluorine-containing and / or siloxane polymer having a crosslinking or polymerizable group is carried out simultaneously with or after the application of a coating composition for forming an outermost layer containing a polymerization initiator, a sensitizer and the like. It is preferable to carry out by light irradiation or heating.

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。   Further, a sol-gel cured film that cures an organometallic compound such as a silane coupling agent and a specific fluorinated hydrocarbon group-containing silane coupling agent by a condensation reaction in the presence of a catalyst is also preferable.

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物(特開昭58−142958号公報、同58−147483号公報、同58−147484号公報、特開平9−157582号公報、同11−106704号公報記載等記載の化合物)、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物(特開2000−117902号公報、同2001−48590号公報、同2002−53804号公報記載の化合物等)等が挙げられる。   For example, a polyfluoroalkyl group-containing silane compound or a partially hydrolyzed condensate thereof (JP-A-58-142958, JP-A-58-147483, JP-A-58-147484, JP-A-9-157584, and JP-A-11-157584) -106704), silyl compounds containing a fluorine-containing long chain poly (perfluoroalkyl ether) group (JP-A-2000-117902, JP-A-2001-48590, JP-A-2002-2002). No. 53804) and the like.

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤(例えば、二酸化ケイ素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム)等の一次粒子平均径が1〜150nmの低屈折率無機化合物、特開平11−3820号公報の段落番号[0020]〜[0038]に記載の有機微粒子等)、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。   The low refractive index layer has a primary particle average diameter of 1 to 150 nm such as a filler (for example, silicon dioxide (silica), or fluorine-containing particles (magnesium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride)) as an additive other than the above. Low refractive index inorganic compounds, organic fine particles described in paragraphs [0020] to [0038] of JP-A-11-3820, a silane coupling agent, a slipping agent, a surfactant and the like.

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。低屈折率層の膜厚は、30〜200nmの範囲であることが好ましく、50〜150nmの範囲であることがさらに好ましく、60〜120nmの範囲であることが最も好ましい。   When the low-refractive-index layer is located below the outermost layer, the low-refractive-index layer may be formed by a vapor phase method (a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method, or the like). The coating method is preferable because it can be manufactured at low cost. The thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 30 to 200 nm, more preferably in the range of 50 to 150 nm, and most preferably in the range of 60 to 120 nm.

〈反射防止層の他の層〉
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
<Other layers of antireflection layer>
Further, a hard coat layer, a forward scattering layer, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止層を設けた透明保護膜に物理強度を付与するために、通常透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光及び/又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is usually provided on the surface of the transparent support in order to impart physical strength to the transparent protective film provided with the antireflection layer. In particular, it is preferably provided between the transparent support and the high refractive index layer. The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction of a light and / or heat curable compound or a polymerization reaction. The curable functional group is preferably a photopolymerizable functional group, and the hydrolyzable functional group-containing organometallic compound is preferably an organic alkoxysilyl compound.

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、国際公開第00/46617号等記載のものが挙げられる。   Specific examples of these compounds include those similar to those exemplified for the high refractive index layer. Specific examples of the constituent composition of the hard coat layer include those described in JP-A-2002-144913, JP-A-2000-9908, and WO 00/46617.

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。   The high refractive index layer can also serve as a hard coat layer. In such a case, it is preferable that fine particles are finely dispersed by using the method described for the high refractive index layer, and the fine particles are contained in the hard coat layer.

ハードコート層は、平均粒径0.2〜10μmの範囲の粒子を含有させて防眩機能(アンチグレア機能)を付与した防眩層(後述)を兼ねることもできる。   The hard coat layer may also serve as an anti-glare layer (described later) provided with an anti-glare function (anti-glare function) by containing particles having an average particle diameter in the range of 0.2 to 10 μm.

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2〜10μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5〜7μmの範囲である。   The thickness of the hard coat layer can be appropriately designed depending on the application. The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.2 to 10 μm, more preferably in the range of 0.5 to 7 μm.

ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であるこ
とが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少な
いほど好ましい。
The strength of the hard coat layer is preferably at least H, more preferably at least 2H, most preferably at least 3H in a pencil hardness test according to JIS K5400. In a Taber test according to JIS K5400, it is preferable that the amount of wear of the test piece before and after the test is small.

(帯電防止層)
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が10−8Ω・cm−3以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により10−8Ω・cm−3の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物のうち着色していないものを導電性層素材として用いるとフィルム全体の着色が抑えられ好ましい。着色のない金属酸化物を形成する金属としてZn、Ti、Al、In、Si、Mg、Ba、Mo、W、又はVをあげることができ、これを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ZnO、TiO、SnO、Al、In、SiO、MgO、BaO、MoO、V等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO、及びSnOが好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加物、SnOに対してはSb、Nb、ハロゲン元素等の添加、またTiOに対してはNb、TA等の添加が効果的である。更にまた、特公昭59−6235号公報に記載のごとく、他の結晶性金属粒子又は繊維状物(例えば酸化チタン)に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。なお、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で10−8Ω・cm−3以下の導電性を確保するためには、該導電層がおおむね10−10Ω/□以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは10−8Ω/□である。
(Antistatic layer)
When an antistatic layer is provided, it is preferable to impart conductivity with a volume resistivity of 10 −8 Ω · cm −3 or less. A volume resistivity of 10 −8 Ω · cm −3 can be provided by using a hygroscopic substance, a water-soluble inorganic salt, a certain surfactant, a cationic polymer, an anionic polymer, colloidal silica, or the like. There is a problem that dependency is large and sufficient conductivity cannot be ensured at low humidity. Therefore, a metal oxide is preferable as the conductive layer material. It is preferable to use an uncolored metal oxide as the conductive layer material because the coloring of the entire film is suppressed. As a metal forming a metal oxide without coloring, Zn, Ti, Al, In, Si, Mg, Ba, Mo, W, or V can be given, and a metal oxide containing this as a main component can be used. preferable. Specific examples include ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5 and the like, or a composite oxide thereof. Particularly, ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferable. Examples of containing heteroatoms include additives such as Al and In for ZnO, addition of Sb, Nb, and halogen element for SnO 2 , and addition of Nb and TA for TiO 2 . The addition is effective. Further, as described in JP-B-59-6235, a material in which the above-mentioned metal oxide is adhered to other crystalline metal particles or fibrous materials (for example, titanium oxide) may be used. The volume resistance value and the surface resistance value are different physical properties and cannot be simply compared. However, in order to secure a conductivity of 10 −8 Ω · cm −3 or less in terms of the volume resistance, it is necessary to use the conductive property. It is sufficient that the layer has a surface resistance of about 10 −10 Ω / □ or less, and more preferably 10 −8 Ω / □.

(2)液晶表示装置
上記本発明の環状ポリオレフィンフィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。
(2) Liquid crystal display device By using a polarizing plate to which the cyclic polyolefin film of the present invention is bonded for a liquid crystal display device, various liquid crystal display devices excellent in visibility can be manufactured.

前記偏光板は、STN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPS、OCBなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはVA(MVA、PVA)型液晶表示装置である。   The polarizing plate can be used for liquid crystal display devices of various driving systems such as STN, TN, OCB, HAN, VA (MVA, PVA), IPS, and OCB. Preferably, it is a VA (MVA, PVA) type liquid crystal display device.

液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の2枚の偏光板が用いられるが、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを具備した偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。特に本発明の環状ポリオレフィンフィルムを具備した偏光板は外部環境に直接触れる視認側の偏光板として用いることが好ましく、その際は、セルロースアシレートフィルム等の位相差フィルムを液晶セル側に配置することが好ましい。   In a liquid crystal display device, two polarizing plates, a polarizing plate on the viewing side and a polarizing plate on the backlight side, are usually used. However, a polarizing plate having the cyclic polyolefin film of the present invention may be used as both polarizing plates. Preferably, it is also preferably used as a polarizing plate on one side. In particular, the polarizing plate provided with the cyclic polyolefin film of the present invention is preferably used as a polarizing plate on the viewing side that directly touches the external environment, in which case, a retardation film such as a cellulose acylate film is disposed on the liquid crystal cell side. Is preferred.

また、バックライト側の偏光板は本発明の環状ポリオレフィンフィルムを具備しない偏光板を用いることもでき、その場合は偏光子の両面を、例えば市販のセルロースアシレートフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC2UA、KC4UA、KC6UA、KC2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上コニカミノルタ(株)製、フジタックT40UZ、フジタックT60UZ、フジタックT80UZ、フジタックTD80UL、フジタックTD60UL、フジタックTD40UL、フジタックR02、フジタックR06、以上富士フイルム(株)製等)を貼合した偏光板が好ましく用いられる。   Further, as the polarizing plate on the backlight side, a polarizing plate not provided with the cyclic polyolefin film of the present invention can be used. In this case, both surfaces of the polarizer can be used, for example, a commercially available cellulose acylate film (for example, Konica Minolta Tac KC8UX, KC5UX, KC4UX, KC8UCR3, KC4SR, KC4BR, KC4CR, KC4DR, KC4FR, KC4KR, KC8UY, KC6UY, KC4UY, KC4UE, KC8UE, KC8U-HA, KC2UK, AUCK, AUCK, AUCK, AA FUJITAC T40UZ, FUJITAC T60UZ, FUJITAC T80UZ, FUJITAC TD80UL, FUJITAC TD60UL, FUJITAC TD40UL, FUJITAC R02, FUJITAC Click R06, or produced by Fujifilm Corp., etc.) bonded combined polarizing plate is preferably used.

また、バックライト側の偏光板として、偏光子の液晶セル側に本発明の環状ポリオレフィンフィルムを用い、反対側の面に上記市販のセルロースアシレートフィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、又はポリカーボネートフィルムを貼合した偏光板も好ましく用いることができる。   Further, as the polarizing plate on the backlight side, the cyclic polyolefin film of the present invention is used on the liquid crystal cell side of the polarizer, and the above-mentioned commercially available cellulose acylate film, polyester film, acrylic film, or polycarbonate film is pasted on the opposite surface. A combined polarizing plate can also be preferably used.

前記偏光板を用いることで、特に画面が30型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示むら、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。   By using the polarizing plate, it is possible to obtain a liquid crystal display device having excellent visibility such as uneven display and front contrast even in a large-screen liquid crystal display device having a screen of 30 inches or more.

(3)有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び素子
本発明の環状ポリオレフィンフィルムを具備した偏光板は、液晶表示装置以外にも有機エレクトロルミネッセンス表示装置にも好ましく用いることができる。例えば、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを前述した搬送方向に対して斜方45°方向に延伸して、搬送方向に吸収軸を有する偏光子と、ロールtoロールで貼合することによって円偏光板を作製し、当該円偏光板を有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いると、視認性の高い表示装置を得ることができる。
(3) Organic Electroluminescent Display Device and Element The polarizing plate provided with the cyclic polyolefin film of the present invention can be preferably used for an organic electroluminescent display device as well as a liquid crystal display device. For example, by stretching the cyclic polyolefin film of the present invention in the oblique direction at an angle of 45 ° with respect to the transport direction described above, a polarizer having an absorption axis in the transport direction, and laminating with a roll-to-roll to form a circularly polarizing plate. When manufactured and the circularly polarizing plate is used for an organic electroluminescence display device, a display device with high visibility can be obtained.

また、本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、有機エレクトロルミネッセンス素子のフレキシブル基板として用いることも好ましく、その場合は後述するガスバリアー性フィルムとして適用することが好ましい。   Further, the cyclic polyolefin film of the present invention is preferably used as a flexible substrate of an organic electroluminescence device, and in that case, it is preferable to apply the film as a gas barrier film described later.

有機EL素子の具体的な層構成、部材及び製造方法等については、特開2011−238355号公報、特開2013−077585号公報、特開2013−187090号公報、特開2013−229202号公報、特開2013−232320号公報、特開2014−026853号公報のそれぞれに詳述されており参照できる。   Regarding the specific layer structure, members, manufacturing method, and the like of the organic EL element, JP-A-2011-238355, JP-A-2013-077585, JP-A-2013-187090, JP-A-2013-229202, The details are described in JP-A-2013-232320 and JP-A-2014-026853, and can be referred to.

(4)ガスバリアー性フィルム
本発明の環状ポリオレフィンフィルムの表面に、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜を形成して、ガスバリアー性フィルムとして用いることが好ましい。
(4) Gas barrier film It is preferable to form an inorganic or organic film or a hybrid film of both on the surface of the cyclic polyolefin film of the present invention and use it as a gas barrier film.

ガスバリアー性は、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%)が0.01g/(m・24h)以下のガスバリアー層を有するフィルムであることが好ましく、更には、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、1×10−3ml/(m・24h・atm)以下、水蒸気透過度が、1×10−5g/(m・24h)以下の高ガスバリアー性を有するフィルムであることが好ましい。 The gas barrier property was determined by a method according to JIS K 7129-1992, and the water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C., relative humidity (90 ± 2)%) was 0.01 g / (m 2 · 24 h). It is preferable that the film has the following gas barrier layer. Further, the oxygen permeability measured by a method according to JIS K 7126-1987 is 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · atm). hereinafter, the water vapor permeability is preferably a film having a 1 × 10 -5 g / (m 2 · 24h) or less of the high gas barrier properties.

本発明に適用可能なガスバリアー層の形成方法としては、特に限定されないが、例えば、スパッタリング法(例えば、マグネトロンカソードスパッタリング、平板マグネトロンスパッタリング、2極AC平板マグネトロンスパッタリング、2極AC回転マグネトロンスパッタリングなど)、蒸着法(例えば、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、イオンビーム蒸着、プラズマ支援蒸着など)、熱CVD法、触媒化学気相成長法(Cat−CVD)、容量結合プラズマCVD法(CCP−CVD)、光CVD法、プラズマCVD法(PE−CVD)、エピタキシャル成長法、原子層成長法、反応性スパッタ法等の化学蒸着法等が挙げられる。   The method for forming the gas barrier layer applicable to the present invention is not particularly limited. For example, a sputtering method (for example, magnetron cathode sputtering, flat-plate magnetron sputtering, two-pole AC flat-plate magnetron sputtering, two-pole AC rotary magnetron sputtering, etc.) , Evaporation method (for example, resistance heating evaporation, electron beam evaporation, ion beam evaporation, plasma-assisted evaporation, etc.), thermal CVD method, catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD), capacitively coupled plasma CVD (CCP-CVD) Chemical vapor deposition such as photo-CVD, plasma CVD (PE-CVD), epitaxial growth, atomic layer growth, and reactive sputtering.

また、無機ガスバリアー層は、有機ポリマーを含む有機層を含んでいてもよい。すなわち、無機ガスバリアー層は、無機材料を含む無機層と有機層との積層体であってもよい。   Further, the inorganic gas barrier layer may include an organic layer containing an organic polymer. That is, the inorganic gas barrier layer may be a laminate of an inorganic layer containing an inorganic material and an organic layer.

有機層は、例えば、有機モノマー又は有機オリゴマーを樹脂基板に塗布し、層を形成し、続いて、例えば、電子ビーム装置、UV光源、放電装置、又はその他の好適な装置を使用して重合及び必要に応じて架橋することにより形成することができる。また、例えば、フラッシュ蒸発及び放射線架橋可能な有機モノマー又は有機オリゴマーを蒸着した後、有機モノマー又は有機オリゴマーからポリマーを形成することによっても形成することができる。コーティング効率は、樹脂基板を冷却することにより改善され得る。   The organic layer is formed, for example, by applying an organic monomer or oligomer to a resin substrate to form a layer, followed by polymerization and polymerization using, for example, an electron beam device, a UV light source, a discharge device, or other suitable device. It can be formed by crosslinking if necessary. It can also be formed, for example, by depositing an organic monomer or organic oligomer capable of flash evaporation and radiation crosslinking, and then forming a polymer from the organic monomer or organic oligomer. Coating efficiency can be improved by cooling the resin substrate.

有機モノマー又は有機オリゴマーの塗布方法としては、例えば、ロールコーティング(例えば、グラビアロールコーティング)、スプレーコーティング(例えば、静電スプレーコーティング)等が挙げられる。また、無機層と有機層との積層体の例としては、例えば、国際公開第2012/003198号、国際公開第2011/013341号に記載の積層体などが挙げられる。   Examples of the method for applying the organic monomer or organic oligomer include roll coating (for example, gravure roll coating) and spray coating (for example, electrostatic spray coating). Examples of the laminate of the inorganic layer and the organic layer include, for example, the laminate described in WO2012 / 003198 and WO2011 / 013341.

無機層と有機層との積層体である場合、各層の厚さは同じでもよいし、異なっていてもよい。無機層の層厚は、好ましくは3〜1000nmの範囲内、より好ましくは10〜300nmの範囲内である。有機層の層厚は、好ましくは100nm〜100μmの範囲内、より好ましくは1〜50μmの範囲内である。   In the case of a laminate of an inorganic layer and an organic layer, the thickness of each layer may be the same or different. The thickness of the inorganic layer is preferably in the range of 3 to 1000 nm, more preferably in the range of 10 to 300 nm. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 100 nm to 100 μm, more preferably in the range of 1 to 50 μm.

さらに、ポリシラザン、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)などの無機前駆体を含む塗布液を支持体上にウェットコーティングした後、真空紫外光の照射などにより改質処理を行い、無機ガスバリアー層を形成する方法や、樹脂基板への金属めっき、金属箔と樹脂基板とを接着させる等のフィルム金属化技術などによっても、無機ガスバリアー層は形成される。   Furthermore, after a coating solution containing an inorganic precursor such as polysilazane or tetraethyl orthosilicate (TEOS) is wet-coated on a support, a modification process is performed by irradiation with vacuum ultraviolet light or the like to form an inorganic gas barrier layer. The inorganic gas barrier layer is also formed by metal plating on a resin substrate, film metallization technology such as bonding a metal foil to a resin substrate, or the like.

無機層と有機層との積層体である場合、各層の厚さは同じでもよいし、異なっていてもよい。無機層の層厚は、好ましくは3〜1000nmの範囲内、より好ましくは10〜300nmの範囲内である。有機層の層厚は、好ましくは100nm〜100μmの範囲内、より好ましくは1〜50μmの範囲内である。   In the case of a laminate of an inorganic layer and an organic layer, the thickness of each layer may be the same or different. The thickness of the inorganic layer is preferably in the range of 3 to 1000 nm, more preferably in the range of 10 to 300 nm. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 100 nm to 100 μm, more preferably in the range of 1 to 50 μm.

さらに、ポリシラザン、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)などの無機前駆体を含む塗布液を支持体上にウェットコーティングした後、真空紫外光の照射などにより改質処理を行い、無機ガスバリアー層を形成する方法や、樹脂基板への金属めっき、金属箔と樹脂基板とを接着させる等のフィルム金属化技術などによっても、無機ガスバリアー層は形成される。   Furthermore, after a coating solution containing an inorganic precursor such as polysilazane or tetraethyl orthosilicate (TEOS) is wet-coated on a support, a modification process is performed by irradiation with vacuum ultraviolet light or the like to form an inorganic gas barrier layer. The inorganic gas barrier layer is also formed by metal plating on a resin substrate, film metallization technology such as bonding a metal foil to a resin substrate, or the like.

以下、プラズマCVD法を用いて形成される無機ガスバリアー層について、その一例を説明する。   Hereinafter, an example of an inorganic gas barrier layer formed using a plasma CVD method will be described.

無機ガスバリアー層は、生産性の観点から、ロールtoロール方式で本発明の環状ポリオレフィンフィルムの表面上に形成することが好ましい。また、このようなプラズマCVD法により無機ガスバリアー層を製造する際に用いることが可能な装置としては、特に制限されないが、少なくとも一対の成膜ローラーと、プラズマ電源とを備え、かつ一対の成膜ローラー間において放電することが可能な構成となっている装置であることが好ましく、例えば、図44に示す製造装置を用いた場合には、プラズマCVD法を利用しながらロールtoロール方式で製造することも可能となる。   From the viewpoint of productivity, the inorganic gas barrier layer is preferably formed on the surface of the cyclic polyolefin film of the present invention by a roll-to-roll method. Further, an apparatus that can be used when the inorganic gas barrier layer is manufactured by such a plasma CVD method is not particularly limited, but includes at least a pair of film forming rollers, a plasma power supply, and a pair of components. It is preferable that the apparatus be configured to be capable of discharging between the film rollers. For example, when a manufacturing apparatus shown in FIG. 44 is used, the apparatus is manufactured by a roll-to-roll method while utilizing a plasma CVD method. It is also possible to do.

以下、図44を参照しながら、プラズマCVD法による無機ガスバリアー層の形成方法について、より詳細に説明する。なお、図44は、無機ガスバリアー層を製造するために好適に利用することが可能な製造装置の一例を示す模式図である。   Hereinafter, a method for forming an inorganic gas barrier layer by a plasma CVD method will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 44 is a schematic diagram showing an example of a production apparatus that can be suitably used for producing an inorganic gas barrier layer.

図44に示す製造装置C31は、送出しローラーC32と、搬送ローラーC33、C34、C35及びC36と、成膜ローラーC39及びC40と、ガス供給管C41と、プラズマ発生用電源C42と、成膜ローラーC39及びC40の内部に設置された磁場発生装置C43及びC44と、巻取りローラーC45とを備えている。   44 includes a delivery roller C32, transport rollers C33, C34, C35, and C36, film forming rollers C39 and C40, a gas supply pipe C41, a power supply C42 for plasma generation, and a film forming roller. Magnetic field generators C43 and C44 installed inside C39 and C40, and a winding roller C45 are provided.

また、このような製造装置C31においては、少なくとも成膜ローラーC39及びC40と、ガス供給管C41と、プラズマ発生用電源C42と、磁場発生装置C43及びC44とが図示を省略した真空チャンバー内に配置されている。   In such a manufacturing apparatus C31, at least the film forming rollers C39 and C40, the gas supply pipe C41, the power supply C42 for plasma generation, and the magnetic field generators C43 and C44 are arranged in a vacuum chamber not shown. Have been.

さらに、このような製造装置C31において、真空チャンバーは図示を省略した真空ポンプに接続されており、かかる真空ポンプにより真空チャンバー内の圧力を適宜調整することが可能となっている。   Further, in such a manufacturing apparatus C31, the vacuum chamber is connected to a vacuum pump (not shown), and the pressure in the vacuum chamber can be appropriately adjusted by the vacuum pump.

このような製造装置C31においては、一対の成膜ローラー(成膜ローラーC39及びC40)を一対の対向電極として機能させることが可能となるように、各成膜ローラーがそれぞれプラズマ発生用電源C42に接続されている。そのため、このような製造装置C31においては、プラズマ発生用電源C42により電力を供給することにより、成膜ローラーC39と成膜ローラーC40との間の空間に放電することが可能であり、これにより成膜ローラーC39と成膜ローラーC40との間の空間にプラズマを発生させることができる。   In such a manufacturing apparatus C31, each of the film forming rollers is connected to the plasma generation power source C42 so that the pair of film forming rollers (film forming rollers C39 and C40) can function as a pair of counter electrodes. It is connected. Therefore, in such a manufacturing apparatus C31, it is possible to discharge to the space between the film forming roller C39 and the film forming roller C40 by supplying electric power from the power source C42 for plasma generation. Plasma can be generated in the space between the film roller C39 and the film formation roller C40.

なお、このように、成膜ローラーC39と成膜ローラーC40とを電極としても利用する場合には、電極としても利用可能なようにその材質や設計を適宜変更すればよい。   When the film forming roller C39 and the film forming roller C40 are also used as electrodes as described above, their materials and designs may be appropriately changed so that they can be used as electrodes.

また、このような製造装置C31においては、一対の成膜ローラー(成膜ローラーC39及びC40)は、その中心軸が同一平面上において略平行となるようにして配置することが好ましい。このようにして、一対の成膜ローラー(成膜ローラーC39及びC40)を配置することにより、成膜レートを倍にできる。   Further, in such a manufacturing apparatus C31, it is preferable that the pair of film forming rollers (film forming rollers C39 and C40) be arranged such that their central axes are substantially parallel on the same plane. By arranging a pair of film forming rollers (film forming rollers C39 and C40) in this manner, the film forming rate can be doubled.

そして、このような製造装置C31によれば、CVD法により樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層C4(乾式ガスバリアー層)を形成することが可能であり、成膜ローラーC39上において樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層成分を堆積させつつ、更に成膜ローラーC40上においても樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層成分を堆積させることもできるため、樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層C4を効率よく形成することができる。   According to such a manufacturing apparatus C31, the inorganic gas barrier layer C4 (dry gas barrier layer) can be formed on the surface of the resin substrate C2 by the CVD method, and the resin substrate is formed on the film forming roller C39. Since the inorganic gas barrier layer component can be deposited on the surface of the resin substrate C2 also on the film forming roller C40 while depositing the inorganic gas barrier layer component on the surface of C2, the inorganic gas barrier layer component can be deposited on the surface of the resin substrate C2. The inorganic gas barrier layer C4 can be efficiently formed.

成膜ローラーC39及びC40の内部には、成膜ローラーが回転しても回転しないようにして固定された磁場発生装置C43及びC44がそれぞれ設けられている。   Inside the film forming rollers C39 and C40, magnetic field generators C43 and C44, which are fixed so as not to rotate even when the film forming roller rotates, are provided, respectively.

成膜ローラーC39及びC40にそれぞれ設けられた磁場発生装置C43及びC44は、一方の成膜ローラーC39に設けられた磁場発生装置C43と他方の成膜ローラーC40に設けられた磁場発生装置C44との間で磁力線がまたがらず、それぞれの磁場発生装置C43及びC44がほぼ閉じた磁気回路を形成するように磁極を配置することが好ましい。このような磁場発生装置C43及びC44を設けることにより、各成膜ローラーC39及びC40の対向側表面付近に磁力線が膨らんだ磁場の形成を促進することができ、その膨出部にプラズマが収束されやすくなるため、成膜効率を向上させることができる点で優れている。   The magnetic field generators C43 and C44 provided on the film forming rollers C39 and C40 respectively include a magnetic field generator C43 provided on one film forming roller C39 and a magnetic field generator C44 provided on the other film forming roller C40. It is preferable to arrange the magnetic poles so that the magnetic field lines do not extend between them and the respective magnetic field generators C43 and C44 form a substantially closed magnetic circuit. By providing such magnetic field generators C43 and C44, it is possible to promote the formation of a magnetic field in which the lines of magnetic force swell near the opposing surfaces of the film forming rollers C39 and C40, and the plasma is converged on the swelling portion. This is advantageous in that film formation efficiency can be improved.

また、成膜ローラーC39及びC40にそれぞれ設けられた磁場発生装置C43及びC44は、それぞれローラー軸方向に長いレーストラック状の磁極を備え、一方の磁場発生装置C43と他方の磁場発生装置C44とは向かい合う磁極が同一極性となるように磁極を配置することが好ましい。このような磁場発生装置C43及びC44を設けることにより、それぞれの磁場発生装置C43及びC44について、磁力線が対向するローラー側の磁場発生装置にまたがることなく、ローラー軸の長さ方向に沿って対向空間(放電領域)に面したローラー表面付近にレーストラック状の磁場を容易に形成することができ、その磁場にプラズマを収束させることができため、ローラー幅方向に沿って巻き掛けられた幅広の樹脂基板C2を用いて効率的に蒸着膜である無機ガスバリアー層C4を形成することができる点で優れている。   Further, the magnetic field generators C43 and C44 provided on the film forming rollers C39 and C40 respectively have racetrack-shaped magnetic poles that are long in the roller axis direction, and one magnetic field generator C43 and the other magnetic field generator C44 are different from each other. It is preferable to arrange the magnetic poles so that the magnetic poles facing each other have the same polarity. By providing such magnetic field generators C43 and C44, the respective magnetic field generators C43 and C44 do not straddle the magnetic field generator on the roller side where the lines of magnetic force are opposed to each other. A racetrack-shaped magnetic field can be easily formed near the roller surface facing the (discharge area), and the plasma can be focused on the magnetic field, so a wide resin wound along the roller width direction This is excellent in that the inorganic gas barrier layer C4, which is a deposition film, can be efficiently formed using the substrate C2.

成膜ローラーC39及びC40としては適宜公知のローラーを用いることができる。このような成膜ローラーC39及びC40としては、より効率よく薄膜を形成することができるという観点から、直径が同一のものを使うことが好ましい。   Known rollers can be appropriately used as the film forming rollers C39 and C40. As such film forming rollers C39 and C40, those having the same diameter are preferably used from the viewpoint that a thin film can be formed more efficiently.

また、このような成膜ローラーC39及びC40の直径としては、放電条件、チャンバーのスペース等の観点から、直径が300〜1000mmφの範囲内、特に300〜700mmφの範囲内であることが好ましい。成膜ローラーの直径が300mmφ以上であれば、プラズマ放電空間が小さくなることがないため生産性の劣化もなく、短時間でプラズマ放電の全熱量が樹脂基板C2にかかることを回避できることから、樹脂基板C2へのダメージを軽減でき好ましい。一方、成膜ローラーの直径が1000mmφ以下であれば、プラズマ放電空間の均一性等も含めて装置設計上、実用性を保持することができるため好ましい。   Further, the diameter of such film forming rollers C39 and C40 is preferably in the range of 300 to 1000 mmφ, particularly preferably in the range of 300 to 700 mmφ from the viewpoint of discharge conditions, chamber space, and the like. When the diameter of the film-forming roller is 300 mmφ or more, the plasma discharge space does not become small and the productivity does not deteriorate, and the total heat of the plasma discharge can be prevented from being applied to the resin substrate C2 in a short time. This is preferable because damage to the substrate C2 can be reduced. On the other hand, if the diameter of the film-forming roller is 1000 mmφ or less, it is preferable because practicality can be maintained in the apparatus design including the uniformity of the plasma discharge space.

このような製造装置C31においては、樹脂基板C2の表面がそれぞれ対向するように、一対の成膜ローラー(成膜ローラーC39及びC40)上に、樹脂基板C2が配置されている。このようにして樹脂基板C2を配置することにより、成膜ローラーC39と成膜ローラーC40との間の対向空間に放電を行ってプラズマを発生させる際に、一対の成膜ローラー間に存在する樹脂基板C2のそれぞれの表面を同時に成膜することが可能となる。   In such a manufacturing apparatus C31, the resin substrate C2 is disposed on a pair of film forming rollers (film forming rollers C39 and C40) such that the surfaces of the resin substrate C2 face each other. By arranging the resin substrate C2 in this way, the resin existing between the pair of film-forming rollers is generated when the plasma is generated by discharging the space between the film-forming rollers C39 and C40. The respective surfaces of the substrate C2 can be simultaneously formed.

すなわち、このような製造装置C31によれば、プラズマCVD法により、成膜ローラーC39上にて樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層成分を堆積させ、更に成膜ローラーC40上にて無機ガスバリアー層成分を堆積させることができるため、樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層C4を効率よく形成することが可能となる。   That is, according to the manufacturing apparatus C31, the inorganic gas barrier layer component is deposited on the surface of the resin substrate C2 on the film forming roller C39 by the plasma CVD method, and the inorganic gas barrier layer is further formed on the film forming roller C40. Since the barrier layer component can be deposited, the inorganic gas barrier layer C4 can be efficiently formed on the surface of the resin substrate C2.

このような製造装置C31に用いる送出しローラーC32及び搬送ローラーC33〜C36としては、適宜公知のローラーを用いることができる。また、巻取りローラーC45としても、樹脂基板C2上に無機ガスバリアー層C4を形成した封止基板C1を巻き取ることが可能なものであればよく、特に制限されず、適宜公知のローラーを用いることができる。   As the delivery roller C32 and the transport rollers C33 to C36 used in the manufacturing apparatus C31, known rollers can be used as appropriate. The winding roller C45 may be any roller capable of winding the sealing substrate C1 having the inorganic gas barrier layer C4 formed on the resin substrate C2, and is not particularly limited. be able to.

また、ガス供給管C41及び真空ポンプ(図示略)としては、原料ガス等を所定の速度で供給又は排出することが可能なものを適宜用いることができる。   Further, as the gas supply pipe C41 and the vacuum pump (not shown), those capable of supplying or discharging a source gas or the like at a predetermined speed can be appropriately used.

また、ガス供給手段であるガス供給管C41は、成膜ローラーC39と成膜ローラーC40との間の対向空間(放電領域;成膜ゾーン)の一方に設けることが好ましく、真空排気手段である真空ポンプは、対向空間の他方に設けることが好ましい。このようにガス供給手段であるガス供給管C41と、真空排気手段である真空ポンプを配置することにより、成膜ローラーC39と成膜ローラーC40との間の対向空間に効率よく成膜ガスを供給することができ、成膜効率を向上させることができる点で優れている。   Further, the gas supply pipe C41 serving as a gas supply means is preferably provided in one of the opposing spaces (discharge area; film formation zone) between the film formation roller C39 and the film formation roller C40. The pump is preferably provided in the other of the opposed spaces. By arranging the gas supply pipe C41 as the gas supply means and the vacuum pump as the vacuum evacuation means in this manner, the film formation gas is efficiently supplied to the space between the film formation roller C39 and the film formation roller C40. This is excellent in that the film formation efficiency can be improved.

さらに、プラズマ発生用電源C42としては、適宜公知のプラズマ発生装置の電源を用いることができる。このようなプラズマ発生用電源C42は、これに接続された成膜ローラーC39と成膜ローラーC40とに電力を供給して、これらを放電のための対向電極として利用することを可能とする。このようなプラズマ発生用電源C42としては、より効率よくプラズマCVDを実施することが可能となることから、一対の成膜ローラーの極性を交互に反転させることが可能なもの(交流電源など)を利用することが好ましい。   Further, as the plasma generation power source C42, a power source of a known plasma generation device can be appropriately used. Such a plasma generation power supply C42 supplies electric power to the film-forming roller C39 and the film-forming roller C40 connected thereto, thereby enabling these to be used as a counter electrode for discharging. As such a plasma generation power supply C42, a power supply (such as an AC power supply) capable of alternately reversing the polarities of a pair of film forming rollers can be used because plasma CVD can be performed more efficiently. It is preferable to use it.

また、このようなプラズマ発生用電源C42としては、より効率よくプラズマCVDを実施することが可能となることから、印加電力を100W〜10kWの範囲内とすることができ、かつ交流の周波数を50Hz〜500kHzとすることが可能なものであることがより好ましい。   In addition, since such a plasma generation power source C42 can perform plasma CVD more efficiently, the applied power can be in the range of 100 W to 10 kW, and the AC frequency is 50 Hz. More preferably, the frequency can be set to 500 kHz.

また、磁場発生装置C43及びC44としては適宜公知の磁場発生装置を用いることができる。さらに、樹脂基板C2としては、本発明で用いられる樹脂基板の他に、無機ガスバリアー層C4をあらかじめ形成させたものを用いることができる。このように、樹脂基板C2として無機ガスバリアー層C4をあらかじめ形成させたものを用いることにより、無機ガスバリアー層C4の層厚を厚くすることも可能である。   Further, as the magnetic field generators C43 and C44, known magnetic field generators can be appropriately used. Further, as the resin substrate C2, in addition to the resin substrate used in the present invention, a substrate on which an inorganic gas barrier layer C4 is formed in advance can be used. As described above, by using the resin substrate C2 on which the inorganic gas barrier layer C4 is formed in advance, it is possible to increase the thickness of the inorganic gas barrier layer C4.

このような図44に示す製造装置C31を用いて、例えば、原料ガスの種類、プラズマ発生装置の電極ドラムの電力、真空チャンバー内の圧力、成膜ローラーC39及びC40の直径、及び樹脂基板C2の搬送速度を適宜調整することにより、無機ガスバリアー層C4を製造することができる。   By using such a manufacturing apparatus C31 shown in FIG. 44, for example, the type of the raw material gas, the power of the electrode drum of the plasma generator, the pressure in the vacuum chamber, the diameter of the film forming rollers C39 and C40, and the The inorganic gas barrier layer C4 can be manufactured by appropriately adjusting the transport speed.

すなわち、図44に示す製造装置C31を用いて、成膜ガス(原料ガス等)を真空チャンバー内に供給しつつ、一対の成膜ローラーC39及びC40間に放電を発生させることにより、成膜ガス(原料ガス等)がプラズマによって分解され、成膜ローラーC39上の樹脂基板C2の表面上及び成膜ローラーC40上の樹脂基板C2の表面上に、無機ガスバリアー層C4がプラズマCVD法により形成される。この際、成膜ローラーC39及びC40のローラー軸の長さ方向に沿って対向空間(放電領域)に面したローラー表面付近にレーストラック状の磁場が形成され、磁場にプラズマを収束させる。なお、このような成膜に際しては、樹脂基板C2が送出しローラーC32や成膜ローラーC39等により搬送されることにより、ロールtoロール方式の連続的な成膜プロセスを可能とし、樹脂基板C2の表面上に無機ガスバリアー層C4が形成される。   That is, using the manufacturing apparatus C31 shown in FIG. 44, a discharge is generated between the pair of film-forming rollers C39 and C40 while supplying a film-forming gas (raw material gas or the like) into the vacuum chamber. (Source gas and the like) are decomposed by the plasma, and an inorganic gas barrier layer C4 is formed by a plasma CVD method on the surface of the resin substrate C2 on the film forming roller C39 and on the surface of the resin substrate C2 on the film forming roller C40. You. At this time, a racetrack-shaped magnetic field is formed near the roller surface facing the opposing space (discharge region) along the length direction of the roller shafts of the film forming rollers C39 and C40, and the plasma converges to the magnetic field. In such a film formation, the resin substrate C2 is transported by the delivery roller C32, the film formation roller C39, and the like, thereby enabling a continuous film formation process of a roll-to-roll method. An inorganic gas barrier layer C4 is formed on the surface.

ガス供給管C41から対向空間に供給される成膜ガス(原料ガス等)としては、原料ガス、反応ガス、キャリアガス、放電ガスを単独又は2種以上混合して用いることができる。無機ガスバリアー層C4の形成に用いる成膜ガス中の原料ガスとしては、形成する無機ガスバリアー層C4の材質に応じて適宜選択して使用することができる。   As the film formation gas (source gas or the like) supplied from the gas supply pipe C41 to the opposed space, a source gas, a reaction gas, a carrier gas, and a discharge gas can be used alone or in combination of two or more. The source gas in the film forming gas used for forming the inorganic gas barrier layer C4 can be appropriately selected and used according to the material of the formed inorganic gas barrier layer C4.

このような原料ガスとしては、例えば、ケイ素を含有する有機ケイ素化合物や炭素を含有する有機化合物ガスを用いることができる。このような有機ケイ素化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、ヘキサメチルジシラン(HMDS)、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。これらの有機ケイ素化合物の中でも、化合物の取り扱い性及び得られる無機ガスバリアー層C4のガスバリアー性等の特性の観点から、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンが好ましい。これらの有機ケイ素化合物は、単独でも又は2種以上を組み合わせても使用することができる。また、炭素を含有する有機化合物ガスとしては、例えば、メタン、エタン、エチレン、アセチレンを例示することができる。これら有機ケイ素化合物ガスや有機化合物ガスは、無機ガスバリアー層C4の種類に応じて適切な原料ガスが選択される。   As such a source gas, for example, an organic silicon compound containing silicon or an organic compound gas containing carbon can be used. Examples of such organosilicon compounds include hexamethyldisiloxane (HMDSO), hexamethyldisilane (HMDS), 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, and hexamethyldisilane , Methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane (TMOS), tetraethoxysilane (TEOS), phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxy Examples include silane and octamethylcyclotetrasiloxane. Among these organosilicon compounds, hexamethyldisiloxane and 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane are preferred from the viewpoint of properties such as handleability of the compound and gas barrier properties of the obtained inorganic gas barrier layer C4. . These organosilicon compounds can be used alone or in combination of two or more. Examples of the organic compound gas containing carbon include methane, ethane, ethylene, and acetylene. As the organic silicon compound gas or the organic compound gas, a suitable source gas is selected according to the type of the inorganic gas barrier layer C4.

また、成膜ガスとしては、原料ガスの他に反応ガスを用いてもよい。このような反応ガスとしては、原料ガスと反応して酸化物、窒化物等の無機化合物となるガスを適宜選択して使用することができる。酸化物を形成するための反応ガスとしては、例えば、酸素、オゾンを用いることができる。また、窒化物を形成するための反応ガスとしては、例えば、窒素、アンモニアを用いることができる。これらの反応ガスは、単独でも又は2種以上を組み合わせても使用することができ、例えば、酸窒化物を形成する場合には、酸化物を形成するための反応ガスと窒化物を形成するための反応ガスとを組み合わせて使用することができる。   In addition, a reactive gas may be used as a deposition gas in addition to a source gas. As such a reaction gas, a gas which becomes an inorganic compound such as an oxide or a nitride by reacting with a source gas can be appropriately selected and used. As a reaction gas for forming an oxide, for example, oxygen or ozone can be used. As a reaction gas for forming a nitride, for example, nitrogen or ammonia can be used. These reaction gases can be used alone or in combination of two or more. For example, when an oxynitride is formed, a reaction gas for forming an oxide and a nitride are used for forming a nitride. Can be used in combination.

成膜ガスとしては、原料ガスを真空チャンバー内に供給するために、必要に応じて、キャリアガスを用いてもよい。さらに、成膜ガスとしては、プラズマ放電を発生させるために、必要に応じて、放電用ガスを用いてもよい。このようなキャリアガス及び放電用ガスとしては、適宜公知のものを使用することができ、例えば、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン等の希ガスや水素を用いることができる。   As the film forming gas, a carrier gas may be used as needed to supply the source gas into the vacuum chamber. Further, as a film forming gas, a discharge gas may be used as necessary to generate plasma discharge. As such a carrier gas and a discharge gas, known gases can be used as appropriate, and for example, a rare gas such as helium, argon, neon, or xenon, or hydrogen can be used.

このような成膜ガスが原料ガスと反応ガスとを含有する場合には、原料ガスと反応ガスとの比率としては、原料ガスと反応ガスとを完全に反応させるために理論上必要となる反応ガスの量の比率よりも、反応ガスの比率を過剰にしすぎないことが好ましい。反応ガスの比率を過剰にしすぎないことで、形成される無機ガスバリアー層C4によって、優れたガスバリアー性や耐屈曲性を得ることができる点で優れている。また、成膜ガスが有機ケイ素化合物と酸素とを含有するものである場合には、成膜ガス中の有機ケイ素化合物の全量を完全酸化するのに必要な理論酸素量以下であることが好ましい。   When such a film forming gas contains a source gas and a reaction gas, the ratio between the source gas and the reaction gas is a reaction ratio theoretically necessary for completely reacting the source gas and the reaction gas. It is preferable that the ratio of the reaction gas is not excessively higher than the ratio of the gas amounts. When the ratio of the reaction gas is not excessively large, the formed inorganic gas barrier layer C4 is excellent in that excellent gas barrier properties and bending resistance can be obtained. When the film-forming gas contains an organic silicon compound and oxygen, the amount is preferably not more than the theoretical amount of oxygen necessary to completely oxidize the whole amount of the organic silicon compound in the film-forming gas.

以下、上記図44の装置を用いた無機ガスバリアー層C4の製造において、成膜ガスとして、原料ガスとしてのヘキサメチルジシロキサン(有機ケイ素化合物、HMDSO、(CHSiO)と、反応ガスとしての酸素(O)を含有するものとを用い、ケイ素−酸素系の薄膜を製造する場合を例に挙げて、成膜ガス中の原料ガスと反応ガスとの好適な比率等について、より詳細に説明する。 Hereinafter, in the production of the inorganic gas barrier layer C4 using the apparatus shown in FIG. 44, hexamethyldisiloxane (organosilicon compound, HMDSO, (CH 3 ) 6 Si 2 O) as a raw material gas as a film forming gas; A preferred example of the case where a silicon-oxygen based thin film is manufactured using a material containing oxygen (O 2 ) as a reaction gas will be described. This will be described in more detail.

原料ガスとしてのヘキサメチルジシロキサン(HMDSO、(CHSiO)と、反応ガスとしての酸素(O)と、を含有する成膜ガスをプラズマCVDにより反応させてケイ素−酸素系の薄膜を作製する場合、その成膜ガスにより下記反応式(1)で表されるような反応が起こり、二酸化ケイ素が生成する。 A film-forming gas containing hexamethyldisiloxane (HMDSO, (CH 3 ) 6 Si 2 O) as a raw material gas and oxygen (O 2 ) as a reaction gas is reacted by plasma CVD to form a silicon-oxygen-based gas. When a thin film is prepared, a reaction represented by the following reaction formula (1) occurs by the film forming gas, and silicon dioxide is generated.

反応式(1)
(CHSiO+12O→6CO+9HO+2SiO
このような反応においては、ヘキサメチルジシロキサン1モルを完全酸化するのに必要な酸素量は12モルである。そのため、成膜ガス中に、ヘキサメチルジシロキサン1モルに対して酸素を12モル以上含有させて完全に反応させた場合には、均一な二酸化ケイ素膜が形成されてしまう。
Reaction formula (1)
(CH 3) 6 Si 2 O + 12O 2 → 6CO 2 + 9H 2 O + 2SiO 2
In such a reaction, the amount of oxygen required to completely oxidize 1 mole of hexamethyldisiloxane is 12 moles. Therefore, when oxygen is contained in the film forming gas in an amount of 12 mol or more with respect to 1 mol of hexamethyldisiloxane and completely reacted, a uniform silicon dioxide film is formed.

そのため、本発明において、無機ガスバリアー層を形成する際には、上記反応式(1)の反応が完全に進行してしまわないように、ヘキサメチルジシロキサン1モルに対して酸素量を化学量論比の12モルより少なくすることが好ましい。   For this reason, in the present invention, when forming the inorganic gas barrier layer, the oxygen content is determined based on the stoichiometric amount with respect to 1 mol of hexamethyldisiloxane so that the reaction of the above reaction formula (1) does not proceed completely. It is preferred that the ratio be less than 12 moles.

なお、実際のプラズマCVDチャンバー内の反応では、原料のヘキサメチルジシロキサンと反応ガスの酸素とは、ガス供給部から成膜領域へ供給されて成膜されるので、反応ガスの酸素のモル量(流量)が原料のヘキサメチルジシロキサンのモル量(流量)の12倍のモル量(流量)であったとしても、現実には完全に反応を進行させることはできず、酸素の含有量を化学量論比に比して大過剰に供給して初めて反応が完結すると考えられる(例えば、CVDにより完全酸化させて酸化ケイ素を得るために、酸素のモル量(流量)を原料のヘキサメチルジシロキサンのモル量(流量)の20倍以上程度とする場合もある。)。   In the actual reaction in the plasma CVD chamber, the raw material hexamethyldisiloxane and the oxygen of the reaction gas are supplied from the gas supply unit to the film formation region to form a film. Even if the (flow rate) is 12 times the molar quantity (flow rate) of the raw material hexamethyldisiloxane, the reaction cannot actually proceed completely, and the oxygen content is reduced. It is considered that the reaction is completed only when a large excess is supplied as compared with the stoichiometric ratio (for example, in order to completely oxidize by CVD and obtain silicon oxide, the molar amount (flow rate) of oxygen is changed to hexamethyldiamine as a raw material. The molar amount (flow rate) of siloxane may be about 20 times or more.)

そのため、原料のヘキサメチルジシロキサンのモル量(流量)に対する酸素のモル量(流量)は、化学量論比である12倍量以下(より好ましくは、10倍以下)の量であることが好ましい。このような比でヘキサメチルジシロキサン及び酸素を含有させることにより、完全に酸化されなかったヘキサメチルジシロキサン中の炭素原子や水素原子が無機ガスバリアー層中に取り込まれ、得られる封止基板において優れたガスバリアー性及び耐屈曲性を発揮させることが可能となる。   Therefore, the molar amount (flow rate) of oxygen with respect to the molar amount (flow rate) of hexamethyldisiloxane as a raw material is preferably 12 times or less (more preferably 10 times or less), which is the stoichiometric ratio. . By including hexamethyldisiloxane and oxygen at such a ratio, carbon atoms and hydrogen atoms in hexamethyldisiloxane that have not been completely oxidized are taken into the inorganic gas barrier layer, and the resulting sealing substrate It is possible to exhibit excellent gas barrier properties and bending resistance.

なお、有機EL素子や太陽電池などのような透明性を必要とするデバイス用のフレキシブル基板への利用の観点から、成膜ガス中のヘキサメチルジシロキサンのモル量(流量)に対する酸素のモル量(流量)の下限は、ヘキサメチルジシロキサンのモル量(流量)の0.1倍より多い量とすることが好ましく、0.5倍より多い量とすることがより好ましい。   In addition, from the viewpoint of application to a flexible substrate for a device requiring transparency such as an organic EL element or a solar cell, the molar amount of oxygen relative to the molar amount (flow rate) of hexamethyldisiloxane in the film forming gas. The lower limit of (flow rate) is preferably larger than 0.1 times the molar amount (flow rate) of hexamethyldisiloxane, and more preferably larger than 0.5 times.

また、真空チャンバー内の圧力(真空度)は、原料ガスの種類等に応じて適宜調整することができるが、0.5〜50Paの範囲内とすることが好ましい。   Further, the pressure (degree of vacuum) in the vacuum chamber can be appropriately adjusted depending on the type of the source gas and the like, but is preferably in the range of 0.5 to 50 Pa.

また、このようなプラズマCVD法において、成膜ローラーC39と成膜ローラーC40との間に放電するために、プラズマ発生用電源C42に接続された電極ドラム(成膜ローラーC39及びC40に設置されている。)に印加する電力は、原料ガスの種類や真空チャンバー内の圧力等に応じて適宜調整することができるものであり一概にいえるものでないが、0.1〜10kWの範囲内とすることが好ましい。このような印加電力が0.1kW以上であれば、パーティクルの発生を十分に抑制することができ、他方、10kW以下であれば、成膜時に発生する熱量を抑えることができ、成膜時の樹脂基板表面の温度が上昇するのを抑制できる。そのため、樹脂基板が熱負けすることなく、成膜時にシワが発生することを防止できる点で優れている。   Further, in such a plasma CVD method, in order to discharge between the film forming roller C39 and the film forming roller C40, an electrode drum (installed on the film forming rollers C39 and C40) connected to the plasma generating power source C42. ) Can be appropriately adjusted according to the type of the source gas, the pressure in the vacuum chamber, and the like, and cannot be said unconditionally, but should be in the range of 0.1 to 10 kW. Is preferred. When the applied power is 0.1 kW or more, the generation of particles can be sufficiently suppressed. On the other hand, when the applied power is 10 kW or less, the amount of heat generated at the time of film formation can be suppressed. An increase in the temperature of the resin substrate surface can be suppressed. Therefore, the resin substrate is excellent in that wrinkles can be prevented from being generated during film formation without losing heat.

樹脂基板C2の搬送速度(ライン速度)は、原料ガスの種類や真空チャンバー内の圧力等に応じて適宜調整することができるが、0.25〜100m/minの範囲内とすることが好ましく、0.5〜20m/minの範囲内とすることがより好ましい。ライン速度が0.25m/min以上であれば、樹脂基板に熱に起因するシワの発生を効果的に抑制することができる。他方、100m/min以下であれば、生産性を損なうことなく、無機ガスバリアー層として十分な層厚を確保することができる点で優れている。   The transfer speed (line speed) of the resin substrate C2 can be appropriately adjusted according to the type of the source gas, the pressure in the vacuum chamber, and the like, but is preferably in the range of 0.25 to 100 m / min. More preferably, it is within the range of 0.5 to 20 m / min. When the line speed is 0.25 m / min or more, generation of wrinkles due to heat on the resin substrate can be effectively suppressed. On the other hand, when it is 100 m / min or less, it is excellent in that a sufficient layer thickness as an inorganic gas barrier layer can be secured without impairing productivity.

上記したように、本実施形態のより好ましい態様としては、本発明に用いられる無機ガスバリアー層を、図44に示す対向ローラー電極を有するプラズマCVD装置(ロールtoロール方式)を用いたプラズマCVD法によって成膜することである。これは、対向ローラー電極を有するプラズマCVD装置(ロールtoロール方式)を用いて量産する場合に、可撓性(屈曲性)に優れ、機械的強度、特にロールtoロールでの搬送時の耐久性と、ガスバリアー性能とが両立する無機ガスバリアー層を効率よく製造することができるためである。このような製造装置は、太陽電池や電子部品などに使用される温度変化に対する耐久性が求められる封止基板を、安価でかつ容易に量産することができる点でも優れている。   As described above, as a more preferable aspect of the present embodiment, the inorganic gas barrier layer used in the present invention is formed by a plasma CVD method using a plasma CVD apparatus (roll-to-roll method) having a counter roller electrode shown in FIG. Is to form a film. This is because when mass-produced using a plasma CVD apparatus having a counter roller electrode (roll-to-roll method), it has excellent flexibility (flexibility) and mechanical strength, particularly durability when transported by roll-to-roll. This is because it is possible to efficiently produce an inorganic gas barrier layer that is compatible with gas barrier performance. Such a manufacturing apparatus is also excellent in that it can easily and inexpensively mass-produce sealing substrates used for solar cells, electronic components, and the like, which are required to have durability against temperature changes.

次に、ポリシラザンを含む層を改質処理して形成される無機ガスバリアー層について、詳細に説明する。   Next, the inorganic gas barrier layer formed by modifying the layer containing polysilazane will be described in detail.

本発明に用いられる無機ガスバリアー層の形成に用いられるポリシラザンとは、ケイ素−窒素結合を有するポリマーであり、Si−N、Si−H、N−H等の結合を有するSiO、Si、及び両方の中間固溶体SiO等のセラミック前駆体無機ポリマーであり、好ましくは下記一般式(P)で表される構造を有している。 The polysilazane used for forming the inorganic gas barrier layer used in the present invention is a polymer having a silicon-nitrogen bond, and SiO 2 , Si 3 N having a bond such as Si—N, Si—H, and NH. 4 and both intermediate solid solutions are ceramic precursor inorganic polymers such as SiO x N y , and preferably have a structure represented by the following general formula (P).

一般式(P)
−〔−Si(R)(R)−N(R)−〕
一般式(P)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表す。R、R及びRは、互いに同じであっても異なるものであってもよい。
General formula (P)
- [- Si (R 1) (R 2) -N (R 3) - ] n -
In the general formula (P), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkylsilyl group, an alkylamino group, or an alkoxy group. R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different from each other.

また、上記一般式(P)において、nは、整数であり、一般式(P)で表される構造を有するポリシラザンが150〜150000g/モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。   In the general formula (P), n is an integer, and is preferably determined so that the polysilazane having the structure represented by the general formula (P) has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.

本発明では、得られる無機ガスバリアー層の膜としての緻密性の観点からは、R、R及びRの全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザン(PHPS)が特に好ましい。 In the present invention, from the viewpoint of the denseness of the obtained inorganic gas barrier layer as a film, perhydropolysilazane (PHPS) in which all of R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms is particularly preferred.

パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と6及び8員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は、数平均分子量(Mn)で約600〜2000程度(ポリスチレン換算)であり、液体又は固体の物質であり、分子量により異なる。   It is presumed that perhydropolysilazane has a linear structure and a ring structure centered on a 6- and 8-membered ring. Its molecular weight is a number average molecular weight (Mn) of about 600 to 2,000 (in terms of polystyrene), is a liquid or solid substance, and differs depending on the molecular weight.

ポリシラザンは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン層形成用塗布液として使用することができる。ポリシラザン溶液の市販品としては、AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のNN120−10、NN120−20、NAX120−20、NN110、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NL120−20、NL150A、NP110、NP140、SP140等が挙げられる。   Polysilazane is commercially available in the form of a solution dissolved in an organic solvent, and a commercially available product can be used as it is as a coating solution for forming a polysilazane layer. Examples of commercially available polysilazane solutions include NN120-10, NN120-20, NAX120-20, NN110, NN310, NN320, NL110A, NL120A, NL120-20, NL150A, NP110, NP140, SP140 and the like manufactured by AZ Electronic Materials Co., Ltd. Is mentioned.

ポリシラザンを含有する塗布液(以下、単にポリシラザン含有塗布液とも称する。)を調製するための溶媒としては、ポリシラザンを溶解できるものであれば特に制限されないが、ポリシラザンと容易に反応してしまう水及び反応性基(例えば、ヒドロキシ基、又はアミン基等)を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機溶媒が好ましく、非プロトン性の有機溶媒がより好ましい。   The solvent for preparing a coating solution containing polysilazane (hereinafter, also simply referred to as a coating solution containing polysilazane) is not particularly limited as long as it can dissolve polysilazane, and water and water which easily react with polysilazane are used. An organic solvent that does not contain a reactive group (for example, a hydroxy group or an amine group) and is inert to polysilazane is preferable, and an aprotic organic solvent is more preferable.

具体的には、ポリシラザン含有塗布液を調製するための溶媒としては、非プロトン性溶媒、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類(例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル(ジグライム類))などを挙げることができる。上記溶媒は、ポリシラザンの溶解度や溶媒の蒸発速度等の目的にあわせて選択され、単独で使用されても又は2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。   Specifically, as the solvent for preparing the polysilazane-containing coating solution, aprotic solvents, for example, pentane, hexane, cyclohexane, toluene, xylene, solvesso, aliphatic hydrocarbons such as turbene, alicyclic hydrocarbons , Hydrocarbon solvents such as aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and trichloroethane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and aliphatics such as dibutyl ether, dioxane and tetrahydrofuran Ethers such as ethers and alicyclic ethers (eg, tetrahydrofuran, dibutyl ether, mono- and polyalkylene glycol dialkyl ethers (diglymes)) and the like can be mentioned. The solvent is selected depending on the purpose such as the solubility of polysilazane and the evaporation rate of the solvent, and may be used alone or in the form of a mixture of two or more.

ポリシラザン含有塗布液におけるポリシラザンの濃度は、特に制限されず、目的とする無機ガスバリアー層の層厚や塗布液のポットライフによっても異なるが、好ましくは0.1〜30質量%の範囲内、より好ましくは0.5〜20質量%の範囲内、更に好ましくは1〜15質量%の範囲内である。   The concentration of polysilazane in the polysilazane-containing coating solution is not particularly limited, and varies depending on the intended thickness of the inorganic gas barrier layer and the pot life of the coating solution, but is preferably in the range of 0.1 to 30% by mass. Preferably it is in the range of 0.5 to 20% by mass, more preferably in the range of 1 to 15% by mass.

ポリシラザン含有塗布液は、酸化窒化ケイ素への変性を促進するために、ポリシラザンとともに触媒を含有することが好ましい。本発明に適用可能な触媒としては、塩基性触媒が好ましく、特に、N,N−ジエチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、3−モルホリノプロピルアミン、N,N,N′,N′−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N,N′,N′−テトラメチル−1,6−ジアミノヘキサン等のアミン触媒、Ptアセチルアセトナート等のPt化合物、プロピオン酸Pd等のPd化合物、Rhアセチルアセトナート等のRh化合物等の金属触媒、N−複素環式化合物が挙げられる。これらのうち、アミン触媒を用いることが好ましい。この際添加する触媒の濃度としては、ポリシラザンを基準としたとき、好ましくは0.1〜10質量%の範囲内、より好ましくは0.2〜5質量%に範囲内、更に好ましくは0.5〜2質量%の範囲内である。触媒添加量をこの範囲内とすることで、反応の急激な進行よる過剰なシラノール形成、及び膜密度の低下、膜欠陥の増大などを避けることができる。   The polysilazane-containing coating liquid preferably contains a catalyst together with polysilazane in order to promote the modification to silicon oxynitride. As the catalyst applicable to the present invention, a basic catalyst is preferable, and particularly, N, N-diethylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, triethanolamine, triethylamine, 3-morpholinopropylamine, N, N, Amine catalysts such as N ', N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane, N, N, N', N'-tetramethyl-1,6-diaminohexane; Pt compounds such as Pt acetylacetonate; propion Pd compounds such as acid Pd; metal catalysts such as Rh compounds such as Rh acetylacetonate; and N-heterocyclic compounds. Among them, it is preferable to use an amine catalyst. At this time, the concentration of the catalyst to be added is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.2 to 5% by mass, and further preferably 0.5% by mass, based on polysilazane. 22% by mass. By setting the catalyst addition amount within this range, excessive silanol formation due to rapid progress of the reaction, a decrease in film density, an increase in film defects, and the like can be avoided.

ポリシラザン含有塗布液には、必要に応じて、下記に挙げる添加剤を用いることができる。例えば、セルロースエーテル類、セルロースエステル類(例えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセトブチレート等)、天然樹脂(例えば、ゴム、ロジン樹脂等)、合成樹脂(例えば、重合樹脂等)、縮合樹脂(例えば、アミノプラスト、特に尿素樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル若しくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネート若しくはブロック化ポリイソシアネート、ポリシロキサン等)である。   In the polysilazane-containing coating solution, the following additives can be used as needed. For example, cellulose ethers, cellulose esters (eg, ethyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose acetobutyrate, etc.), natural resins (eg, rubber, rosin resin, etc.), synthetic resins (eg, polymerized resins, etc.), condensation Resins (eg, aminoplasts, especially urea resins, melamine formaldehyde resins, alkyd resins, acrylic resins, polyesters or modified polyesters, epoxides, polyisocyanates or blocked polyisocyanates, polysiloxanes, etc.).

ポリシラザン含有塗布液を塗布する方法としては、従来公知の適切な湿式塗布方法が採用される。具体例としては、スピンコート法、ダイコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。   As a method for applying the polysilazane-containing coating solution, a conventionally known appropriate wet coating method is adopted. Specific examples include a spin coating method, a die coating method, a roll coating method, a flow coating method, an ink jet method, a spray coating method, a printing method, a dip coating method, a casting film forming method, a bar coating method, and a gravure printing method. Can be

塗布厚さは、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、塗布厚さは、乾燥後の厚さが10nm〜10μm程度であることが好ましく、15nm〜1μmの範囲内であることがより好ましく、20〜500nmの範囲内であることが更に好ましい。ポリシラザン層の層厚が10nm以上であれば十分なガスバリアー性を得ることができ、10μm以下であれば、ポリシラザン層形成時に安定した塗布性を得ることができ、かつ高い光線透過性を実現できる。     The coating thickness can be set appropriately according to the purpose. For example, the coating thickness after drying is preferably about 10 nm to 10 μm, more preferably in the range of 15 nm to 1 μm, and still more preferably in the range of 20 to 500 nm. If the layer thickness of the polysilazane layer is 10 nm or more, sufficient gas barrier properties can be obtained, and if it is 10 μm or less, stable coating properties can be obtained when forming the polysilazane layer, and high light transmittance can be realized. .

改質処理とは、ポリシラザン化合物の一部又は全部が、酸化ケイ素又は酸化窒化ケイ素へ転化する反応をいう。   The reforming treatment refers to a reaction in which part or all of a polysilazane compound is converted into silicon oxide or silicon oxynitride.

これによって、無機ガスバリアー層が全体としてガスバリアー性(水蒸気透過度が1×10−3g/(m・day)以下)を発現するに貢献できるレベルの無機薄膜を形成することができる。 This makes it possible to form an inorganic thin film at a level that allows the inorganic gas barrier layer to contribute to exhibiting gas barrier properties (water vapor permeability of 1 × 10 −3 g / (m 2 · day) or less) as a whole.

具体的には、加熱処理、プラズマ処理、活性エネルギー線照射処理等が挙げられる。中でも、低温で改質可能であり基材種の選択の自由度が高いという観点から、活性エネルギー線照射による処理が好ましい。   Specifically, a heat treatment, a plasma treatment, an active energy ray irradiation treatment, or the like can be given. Above all, treatment by irradiation with active energy rays is preferable from the viewpoint that the modification can be performed at a low temperature and the degree of freedom in selecting the type of the base material is high.

(加熱処理)
加熱処理の方法としては、例えば、ヒートブロック等の発熱体に基板を接触させ熱伝導により塗膜を加熱する方法、抵抗線等による外部ヒーターにより塗膜が載置される環境を加熱する方法、IRヒーターといった赤外領域の光を用いた方法等が挙げられるが、これらに限定されない。加熱処理を行う場合、塗膜の平滑性を維持できる方法を適宜選択すればよい。
(Heat treatment)
Examples of the heat treatment method include, for example, a method in which a substrate is brought into contact with a heating element such as a heat block to heat a coating film by heat conduction, a method in which an environment in which a coating film is placed by an external heater using a resistance wire or the like, Examples thereof include a method using light in an infrared region such as an IR heater, but are not limited thereto. In the case of performing the heat treatment, a method capable of maintaining the smoothness of the coating film may be appropriately selected.

塗膜を加熱する温度としては、40〜250℃の範囲内が好ましく、60〜150℃の範囲内がより好ましい。加熱時間としては、10秒〜100時間の範囲内が好ましく、30秒〜5分の範囲内が好ましい。   The temperature for heating the coating film is preferably in the range of 40 to 250 ° C, more preferably in the range of 60 to 150 ° C. The heating time is preferably in the range of 10 seconds to 100 hours, and more preferably in the range of 30 seconds to 5 minutes.

(プラズマ処理)
本発明において、改質処理として用いることのできるプラズマ処理は、公知の方法を用いることができるが、好ましくは大気圧プラズマ処理等を挙げることができる。大気圧近傍でのプラズマCVD処理を行う大気圧プラズマCVD法は、真空下のプラズマCVD法に比べ、減圧する必要がなく生産性が高いだけでなく、プラズマ密度が高密度であるために成膜速度が速く、更には通常のCVD法の条件に比較して、大気圧下という高圧力条件では、ガスの平均自由工程が非常に短いため、極めて均質の膜が得られる。
(Plasma treatment)
In the present invention, as a plasma treatment that can be used as the reforming treatment, a known method can be used, and preferably, an atmospheric pressure plasma treatment or the like can be used. Atmospheric-pressure plasma CVD, in which plasma CVD is performed near atmospheric pressure, does not require pressure reduction and has high productivity compared with plasma CVD under vacuum. Under a high pressure condition, that is, under the atmospheric pressure, as compared with the condition of the ordinary CVD method, the average free path of the gas is very short, so that a very uniform film can be obtained.

大気圧プラズマ処理の場合は、放電ガスとしては窒素ガス又は長周期型周期表の第18族原子、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が用いられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。   In the case of the atmospheric pressure plasma treatment, as the discharge gas, nitrogen gas or an atom belonging to Group 18 of the long-periodic table, specifically, helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, or the like is used. Of these, nitrogen, helium, and argon are preferably used, and nitrogen is particularly preferred because of its low cost.

(活性エネルギー線照射処理)
活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等が使用可能であるが、電子線又は紫外線が好ましく、紫外線がより好ましい。紫外線(紫外光と同義)によって生成されるオゾンや活性酸素原子は高い酸化能力を有しており、低温で高い緻密性と絶縁性とを有するガスバリアー層を形成することが可能である。
(Active energy ray irradiation treatment)
As the active energy ray, for example, an infrared ray, a visible ray, an ultraviolet ray, an X-ray, an electron beam, an α-ray, a β-ray, a γ-ray, or the like can be used, but an electron beam or an ultraviolet ray is preferable, and an ultraviolet ray is more preferable. Ozone and active oxygen atoms generated by ultraviolet rays (synonymous with ultraviolet light) have high oxidizing ability and can form a gas barrier layer having high density and insulating properties at a low temperature.

紫外線照射処理においては、通常使用されているいずれの紫外線発生装置を使用することも可能である。   In the ultraviolet irradiation treatment, any commonly used ultraviolet ray generator can be used.

本発明に用いられる無機ガスバリアー層の製造方法において、水分が取り除かれたポリシラザン化合物を含む塗膜は、紫外光照射による処理で改質される。紫外線によって生成されるオゾンや活性酸素原子は高い酸化能力を有しており、低温で高い緻密性と絶縁性を有する酸化ケイ素膜又は酸化窒化ケイ素膜を形成することが可能である。   In the method for producing an inorganic gas barrier layer used in the present invention, a coating film containing a polysilazane compound from which moisture has been removed is modified by irradiation with ultraviolet light. Ozone and active oxygen atoms generated by ultraviolet rays have high oxidizing ability and can form a silicon oxide film or a silicon oxynitride film having high density and insulating properties at a low temperature.

この紫外光照射により、セラミックス化に寄与するOとHOや、紫外線吸収剤、ポリシラザン自身が励起、活性化される。そして、励起したポリシラザンのセラミックス化が促進され、得られるセラミックス膜が緻密になる。紫外光照射は、塗膜形成後であればいずれの時点で実施しても有効である。 By this ultraviolet light irradiation, O 2 and H 2 O contributing to the formation of ceramics, an ultraviolet absorber, and polysilazane itself are excited and activated. Then, the formation of the excited polysilazane into a ceramic is promoted, and the resulting ceramic film becomes dense. Irradiation with ultraviolet light is effective even if it is performed at any time after the formation of the coating film.

本発明での真空紫外光照射処理には、常用されているいずれの紫外線発生装置を使用することが可能である。なお、本発明でいう紫外光とは、一般には、真空紫外光とよばれる10〜200nmの波長を有する電磁波を含む紫外光をいう。   For the vacuum ultraviolet light irradiation treatment in the present invention, any commonly used ultraviolet ray generator can be used. In addition, the ultraviolet light referred to in the present invention generally refers to ultraviolet light including electromagnetic waves having a wavelength of 10 to 200 nm, which is called vacuum ultraviolet light.

真空紫外光の照射は、照射される改質前のポリシラザン化合物を含む層を担持している樹脂基板がダメージを受けない範囲内で、照射強度や照射時間を設定することが好ましい。   It is preferable to set the irradiation intensity and the irradiation time of the vacuum ultraviolet light within a range where the resin substrate carrying the layer containing the polysilazane compound before the modification is not damaged.

例えば、2kW(80W/cm×25cm)のランプを用い、基材表面の強度が20〜300mW/cmの範囲内、好ましくは50〜200mW/cmの範囲内になるように基材−紫外線照射ランプ間の距離を設定し、0.1秒〜10分間の照射を行うことができる。 For example, using a lamp of 2 kW (80 W / cm × 25 cm), the substrate-ultraviolet light is applied so that the intensity of the substrate surface is in the range of 20 to 300 mW / cm 2 , preferably in the range of 50 to 200 mW / cm 2. By setting the distance between the irradiation lamps, irradiation can be performed for 0.1 second to 10 minutes.

一般に、紫外線照射処理時の支持体の温度が150℃以上になると、樹脂フィルム等の場合には、支持体が変形したりその強度が劣化したりするなど、支持体の特性が損なわれることになる。しかしながら、環状ポリオレフィン等の耐熱性の高いフィルムなどの場合には、より高温での改質処理が可能である。したがって、この紫外線照射時の支持体の温度としては、一般的な上限はなく、樹脂基板の種類によって当業者が適宜設定することができる。また、紫外線照射雰囲気に特に制限はなく、空気中で実施すればよい。   In general, when the temperature of the support during the ultraviolet irradiation treatment is 150 ° C. or higher, in the case of a resin film or the like, the characteristics of the support are impaired, such as the support being deformed or its strength being deteriorated. Become. However, in the case of a film having a high heat resistance such as a cyclic polyolefin, a modification treatment at a higher temperature is possible. Therefore, there is no general upper limit for the temperature of the support at the time of the ultraviolet irradiation, and a person skilled in the art can appropriately set the temperature depending on the type of the resin substrate. There is no particular limitation on the atmosphere in which the ultraviolet light is irradiated, and the irradiation may be performed in the air.

このような紫外線の発生手段としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、エキシマランプ、UV光レーザー等が挙げられるが、特に限定されない。また、発生させた紫外線を改質前のポリシラザン層に照射する際には、効率向上と均一な照射を達成する観点から、発生源からの紫外線を反射板で反射させてから改質前のポリシラザン層に照射することが望ましい。   Examples of means for generating such ultraviolet rays include, but are not particularly limited to, metal halide lamps, high-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, xenon arc lamps, carbon arc lamps, excimer lamps, and UV light lasers. In addition, when irradiating the generated polysilazane layer to the polysilazane layer before the modification, from the viewpoint of improving efficiency and achieving uniform irradiation, the polysilazane before the modification is reflected from the reflector from the ultraviolet ray from the source. It is desirable to irradiate the layer.

紫外線照射は、バッチ処理にも連続処理にも適合可能であり、使用する樹脂基板の形状によって適宜選定することができる。ポリシラザン化合物を含む塗布層を有する樹脂基板が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら上記のような紫外線発生源を具備した乾燥ゾーンで連続的に紫外線を照射することによりセラミックス化することができる。紫外線照射に要する時間は、使用する樹脂基板やポリシラザン化合物を含む塗布層の組成、濃度にもよるが、一般に0.1秒〜10分間であり、好ましくは0.5秒〜3分間である。   UV irradiation can be applied to both batch processing and continuous processing, and can be appropriately selected depending on the shape of the resin substrate used. When the resin substrate having the coating layer containing the polysilazane compound is in the form of a long film, the substrate is formed by continuously irradiating ultraviolet rays in a drying zone provided with an ultraviolet ray source as described above while transporting the resin substrate. can do. The time required for ultraviolet irradiation depends on the composition and concentration of the resin substrate and the coating layer containing the polysilazane compound, but is generally 0.1 second to 10 minutes, preferably 0.5 second to 3 minutes.

(真空紫外線照射処理:エキシマ照射処理)
本発明において、最も好ましい改質処理方法は、真空紫外線照射による処理(エキシマ照射処理)である。
(Vacuum ultraviolet irradiation treatment: excimer irradiation treatment)
In the present invention, the most preferred modification treatment method is treatment by vacuum ultraviolet irradiation (excimer irradiation treatment).

真空紫外光(VUV)照射時に、これら酸素以外のガスとしては乾燥不活性ガスを用いることが好ましく、特にコストの観点から乾燥窒素ガスを用いることが好ましい。酸素濃度の調整は照射庫内へ導入する酸素ガス、不活性ガスの流量を計測し、流量比を変えることで調整可能である。   When irradiating with vacuum ultraviolet light (VUV), it is preferable to use a dry inert gas as a gas other than oxygen, and it is particularly preferable to use a dry nitrogen gas from the viewpoint of cost. The oxygen concentration can be adjusted by measuring the flow rates of the oxygen gas and the inert gas introduced into the irradiation chamber, and changing the flow rate ratio.

具体的に、本発明における改質前のポリシラザン化合物を含む層の改質処理方法は、真空紫外光照射による処理である。真空紫外光照射による処理は、ポリシラザン化合物内の原子間結合力より大きい100〜200nmの光エネルギーを用い、好ましくは100〜180nmの波長の光のエネルギーを用い、原子の結合を光量子プロセスと呼ばれる光子のみの作用により、直接切断しながら活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、比較的低温で酸化ケイ素膜の形成を行う方法である。これに必要な真空紫外光源としては、希ガスエキシマランプが好ましく用いられる。   Specifically, the method for modifying the layer containing the polysilazane compound before the modification in the present invention is treatment by irradiation with vacuum ultraviolet light. The treatment by irradiation with vacuum ultraviolet light uses light energy of 100 to 200 nm, which is larger than the interatomic bonding force in the polysilazane compound, and preferably uses light energy of a wavelength of 100 to 180 nm. In this method, a silicon oxide film is formed at a relatively low temperature by promoting an oxidation reaction with active oxygen or ozone while directly cutting by only the action. A rare gas excimer lamp is preferably used as a vacuum ultraviolet light source required for this.

なお、Xe、Kr、Ar、Ne等の希ガスの原子は化学的に結合して分子を作らないため、不活性ガスと呼ばれる。しかし、放電等によりエネルギーを得た希ガスの原子(励起原子)は他の原子と結合して分子を作ることができる。希ガスがキセノンの場合には、
e+Xe→e+Xe
Xe+Xe+Xe→Xe +Xe
Xe →Xe+Xe+hν(172nm)
となり、励起されたエキシマ分子であるXe が基底状態に遷移するときに172nmのエキシマ光(真空紫外光)を発光する。
In addition, since rare gas atoms such as Xe, Kr, Ar, and Ne do not chemically bond to form molecules, they are called inert gas. However, atoms of a rare gas (excited atoms) whose energy has been obtained by discharge or the like can combine with other atoms to form a molecule. When the rare gas is xenon,
e + Xe → e + Xe *
Xe * + Xe + Xe → Xe 2 * + Xe
Xe 2 * → Xe + Xe + hν (172 nm)
When the excited excimer molecule Xe 2 * transitions to the ground state, it emits 172 nm excimer light (vacuum ultraviolet light).

エキシマランプの特徴としては、放射が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されないので効率が高いことが挙げられる。また、余分な光が放射されないので、対象物の温度を低く保つことができる。さらには、始動・再始動に時間を要さないので、瞬時の点灯点滅が可能である。   A feature of the excimer lamp is that the radiation is concentrated at one wavelength and almost no light other than necessary light is emitted, so that the efficiency is high. Also, since no extra light is emitted, the temperature of the object can be kept low. Furthermore, since no time is required for starting and restarting, instantaneous lighting and blinking is possible.

真空紫外線照射工程において、ポリシラザン化合物を含む塗膜が受ける塗膜面での真空紫外線の照度は1mW/cm〜10W/cmの範囲内であること好ましく、30〜200mW/cmの範囲内であることがより好ましく、50〜160mW/cmの範囲内であること更に好ましい。1mW/cm以上であれば、十分な改質効率が得られうる。また、10W/cm以下であれば、塗膜のアブレーションが生じにくく、樹脂基板にダメージを与えにくい。 In vacuum ultraviolet irradiation step, preferably the illumination of the vacuum ultraviolet rays in the coated surface to receive the coating film containing a polysilazane compound is in the range of 1mW / cm 2 ~10W / cm 2 , in the range of 30~200mW / cm 2 Is more preferable, and more preferably within a range of 50 to 160 mW / cm 2 . If it is 1 mW / cm 2 or more, sufficient reforming efficiency can be obtained. If it is 10 W / cm 2 or less, abrasion of the coating film is less likely to occur, and the resin substrate is less likely to be damaged.

ポリシラザン化合物を含む層における真空紫外線の照射エネルギー量は、10〜10000mJ/cmの範囲内が好ましく、100〜8000mJ/cmの範囲内であることがより好ましく、200〜6000mJ/cmであることが更に好ましく、500〜5000mJ/cmの範囲内であることが特に好ましい。10mJ/cm以上であれば十分な改質効率が得られ、10000mJ/cm以下であればクラックや樹脂基板の熱変形が生じにくい。 Irradiation energy amount of the VUV in the layer containing a polysilazane compound is preferably in the range of 10 to 10000 mJ / cm 2, more preferably in the range of 100~8000mJ / cm 2, it is 200~6000mJ / cm 2 More preferably, it is particularly preferably in the range of 500 to 5000 mJ / cm 2 . If 10 mJ / cm 2 or more sufficient reforming efficiency is obtained, 10000 mJ / cm 2 or less value, if cracks and the resin substrate thermal deformation hardly occurs in.

また、真空紫外光(VUV)を照射する際の、酸素濃度は300〜10000体積ppm(1体積%)の範囲内とすることが好ましく、更に好ましくは、500〜5000体積ppmである。このような酸素濃度の範囲内に調整することにより、酸素過多の無機ガスバリアー層の生成を防止してガスバリアー性の劣化を防止することができる。   Further, when irradiating vacuum ultraviolet light (VUV), the oxygen concentration is preferably in the range of 300 to 10000 vol ppm (1 vol%), more preferably 500 to 5000 vol ppm. By adjusting the oxygen concentration within such a range, it is possible to prevent the formation of an inorganic gas barrier layer containing an excessive amount of oxygen and to prevent the gas barrier property from deteriorating.

エキシマ発光を得るには、誘電体バリア放電を用いる方法が知られている。誘電体バリア放電とは、両電極間に誘電体(エキシマランプの場合は透明石英)を介してガス空間を配し、電極に数10kHzの高周波高電圧を印加することによりガス空間に生じる雷に似た非常に細いmicro dischargeと呼ばれる放電である。   In order to obtain excimer light emission, a method using a dielectric barrier discharge is known. Dielectric barrier discharge is a technique in which a gas space is arranged between both electrodes via a dielectric (in the case of an excimer lamp, transparent quartz), and a high-frequency high voltage of several tens of kHz is applied to the electrodes to prevent lightning generated in the gas space. It is a discharge similar to a very fine micro discharge.

また、効率よくエキシマ発光を得る方法としては、誘電体バリア放電以外には無電極電界放電も知られている。無電極電界放電とは、容量性結合による放電であり、別名RF放電とも呼ばれる。ランプと電極及びその配置は、基本的には誘電体バリア放電と同じでよいが、両極間に印加される高周波は数MHzで点灯される。無電極電界放電はこのように空間的に、また時間的に一様な放電が得られる。   As a method for efficiently obtaining excimer light emission, an electrodeless electric field discharge is also known in addition to the dielectric barrier discharge. The electrodeless electric field discharge is a discharge due to capacitive coupling, and is also called an RF discharge. The lamp, the electrodes and the arrangement thereof may be basically the same as the dielectric barrier discharge, but the high frequency applied between the two electrodes is turned on at several MHz. In the electrodeless electric field discharge, a spatially and temporally uniform discharge can be obtained.

そして、Xeエキシマランプは、波長の短い172nmの紫外線を単一波長で放射することから発光効率に優れている。この光は、酸素の吸収係数が大きいため、微量な酸素でラジカルな酸素原子種やオゾンを高濃度で発生することができる。また、有機物の結合を解離させる波長の短い172nmの光のエネルギーは能力が高いことが知られている。この活性酸素やオゾンと紫外線放射が持つ高いエネルギーによって、短時間でポリシラザン化合物を含む塗布層の改質を実現できる。したがって、波長185nm、254nmの発する低圧水銀ランプやプラズマ洗浄と比べて高スループットに伴うプロセス時間の短縮や設備面積の縮小、熱によるダメージを受けやすい有機材料やプラスチック基板、樹脂フィルム等への照射を可能としている。   The Xe excimer lamp emits ultraviolet light having a short wavelength of 172 nm at a single wavelength and thus has excellent luminous efficiency. Since this light has a large oxygen absorption coefficient, a very small amount of oxygen can generate radical oxygen atom species and ozone at a high concentration. Further, it is known that the energy of light having a short wavelength of 172 nm to dissociate the bond of an organic substance has a high ability. Due to the high energy of the active oxygen, ozone and ultraviolet radiation, the coating layer containing the polysilazane compound can be modified in a short time. Therefore, compared to low-pressure mercury lamps emitting at wavelengths of 185 nm and 254 nm and plasma cleaning, the process time and equipment area required for high throughput are reduced, and irradiation of organic materials, plastic substrates, resin films, etc., which are easily damaged by heat, is performed. It is possible.

また、エキシマランプは光の発生効率が高いため、低い電力の投入で点灯させることが可能である。また、光による温度上昇の要因となる波長の長い光は発せず、紫外線領域で単一波長のエネルギーを照射するため、照射対象物の表面温度の上昇が抑えられる特徴を有する。このため、熱の影響を受けやすいとされるポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムを基材とする封止基板への照射に適している。   In addition, since the excimer lamp has a high light generation efficiency, it can be turned on by inputting low power. In addition, since long-wavelength light that causes a temperature rise due to light is not emitted and energy of a single wavelength is irradiated in the ultraviolet region, the surface temperature of the irradiation target is suppressed from rising. Therefore, it is suitable for irradiating a sealing substrate made of a resin film such as polyethylene terephthalate which is considered to be easily affected by heat.

上記の塗布によって形成される層は、ポリシラザン化合物を含む塗膜に真空紫外線を照射する工程において、ポリシラザンの少なくとも一部が改質されることで、層全体としてSiOの組成で示される酸化窒化ケイ素を含むケイ素含有膜が形成される。 The layer formed by the above-described coating is formed by modifying at least a part of the polysilazane in the step of irradiating the coating film containing the polysilazane compound with vacuum ultraviolet rays, so that the layer as a whole has a composition of SiO x N y C z . A silicon-containing film containing the indicated silicon oxynitride is formed.

なお、膜組成は、XPS(X−ray Photoelectron Spectroscopy)表面分析装置を用いて、原子組成比を測定することで測定できる。また、シリコン含有膜を切断して切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することでも測定することができる。   The film composition can be measured by measuring the atomic composition ratio using an XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) surface analyzer. Alternatively, the silicon-containing film can be cut to measure the cut surface by measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer.

また、膜密度は、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、シリコン含有膜の膜密度は、1.5〜2.6g/cmの範囲内にあることが好ましい。この範囲内であれば、膜の緻密さが向上しガスバリアー性の劣化や、高温高湿条件下での膜の劣化を防止することができる。 Further, the film density can be set appropriately according to the purpose. For example, the film density of the silicon-containing film is preferably in the range of 1.5 to 2.6 g / cm 3 . Within this range, the denseness of the film is improved, and the deterioration of the gas barrier property and the deterioration of the film under high temperature and high humidity conditions can be prevented.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” or “%” is used, but “parts by mass” or “% by mass” is used unless otherwise specified.

実施例1
<環状ポリオレフィンフィルム101の作製>
特許4585947公報の記載を参照して、以下の環状ポリオレフィンフィルムを作製した。
Example 1
<Preparation of cyclic polyolefin film 101>
With reference to the description in Japanese Patent No. 4585947, the following cyclic polyolefin film was produced.

〈環状ポリオレフィン重合体P−1の合成〉
精製トルエン100質量部とノルボルネンカルボン酸メチルエステル100質量部を反応釜に投入した。次いでトルエン中に溶解したエチルヘキサノエート−Ni25mmol%(対モノマー質量)、トリ(ペンタフルオロフェニル)ボロン0.225mol%(対モノマー質量)及びトルエンに溶解したトリエチルアルミニウム0.25mol%(対モノマー質量)を反応釜に投入した。室温で撹拌しながら18時間反応させた。反応終了後過剰のエタノール中に反応混合物を投入し、重合物沈殿を生成させた。沈殿を精製し得られた重合体(P−1)を真空乾燥で65℃24時間乾燥した。
<Synthesis of cyclic polyolefin polymer P-1>
100 parts by mass of purified toluene and 100 parts by mass of norbornene carboxylic acid methyl ester were charged into a reactor. Next, 25 mmol% of ethylhexanoate-Ni dissolved in toluene (based on the weight of the monomer), 0.225 mol% of tri (pentafluorophenyl) boron (based on the weight of the monomer), and 0.25 mol% of triethylaluminum dissolved in toluene (based on the weight of the monomer) ) Was charged into the reactor. The reaction was carried out for 18 hours while stirring at room temperature. After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into excess ethanol to form a polymer precipitate. The polymer (P-1) obtained by purifying the precipitate was dried under vacuum at 65 ° C. for 24 hours.

〈ドープD−1の作製〉
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解した後、平均孔径34μmのろ紙及び平均孔径10μmの焼結金属フィルターで濾過してドープを調製した。
<Preparation of dope D-1>
The following composition was put into a mixing tank, stirred to dissolve each component, and then filtered through a filter paper having an average pore diameter of 34 μm and a sintered metal filter having an average pore diameter of 10 μm to prepare a dope.

環状ポリオレフィン重合体P−1 150質量部
ジクロロメタン 380質量部
メタノール 70質量部
次に上記方法で作製した環状ポリオレフィン溶液(ドープ)を含む下記組成物を分散機に投入し、微粒子分散液(M−1)を調製した。
Cyclic polyolefin polymer P-1 150 parts by mass Dichloromethane 380 parts by mass Methanol 70 parts by mass Next, the following composition containing the cyclic polyolefin solution (dope) prepared by the above method was charged into a disperser, and a fine particle dispersion (M-1) was added. ) Was prepared.

微粒子(アエロジルR812:日本アエロジル社製、
一次平均粒子径:7nm、見掛け比重50g/L) 4質量部
ジクロロメタン 76質量部
メタノール 10質量部
環状ポリオレフィン溶液(ドープD−1) 10質量部
上記環状ポリオレフィン溶液(ドープD−1)を100質量部、微粒子分散液(M−1)を0.75質量部を混合し、製膜用ドープを調製した。ドープを製膜ラインで流延し、ドープが自己支持性を持つまで金属支持体上で乾燥した後にウェブとしてはぎ取って、テンターに導入した。
Fine particles (Aerosil R812: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
(Primary average particle diameter: 7 nm, apparent specific gravity 50 g / L) 4 parts by mass Dichloromethane 76 parts by mass Methanol 10 parts by mass 10 parts by mass of cyclic polyolefin solution (dope D-1) 10 parts by mass 100 parts by mass of the above cyclic polyolefin solution (dope D-1) Then, 0.75 parts by mass of the fine particle dispersion liquid (M-1) was mixed to prepare a dope for film formation. The dope was cast on a film forming line, dried on a metal support until the dope was self-supporting, stripped off as a web, and introduced into a tenter.

テンターへの導入時のウェブの残留溶媒は5〜15質量%であった。テンターで延伸率は0%、テンター内温度は140℃として幅方向にフィルムを延伸させずに搬送させた。テンター離脱直後から100N/mのテンションでロール搬送を行い、さらに140℃で乾燥してフィルムを、巻き取り長4000mで巻き取り、環状ポリオレフィンフィルム101を作製した。この時のフィルムの乾燥厚さは40μmであった。   The residual solvent of the web at the time of introduction into the tenter was 5 to 15% by mass. The film was conveyed without stretching in the width direction at a stretching ratio of 0% and a temperature in the tenter of 140 ° C. in the tenter. Immediately after the tenter was released, the film was roll-transported at a tension of 100 N / m and dried at 140 ° C., and the film was wound up with a winding length of 4000 m to produce a cyclic polyolefin film 101. The dry thickness of the film at this time was 40 μm.

<環状ポリオレフィンフィルム102の作製>
〈微粒子添加液1〉
微粒子(アエロジルR812:日本アエロジル社製、
一次平均粒子径:7nm、見掛け比重50g/L) 4質量部
ジクロロメタン 48質量部
エタノール 48質量部
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
<Preparation of cyclic polyolefin film 102>
<Fine particle addition liquid 1>
Fine particles (Aerosil R812: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
(Primary average particle diameter: 7 nm, apparent specific gravity 50 g / L) 4 parts by mass Dichloromethane 48 parts by mass Ethanol 48 parts by mass The above components were stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with Manton-Gaulin.

さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。   Further, dispersion was performed with an attritor so that the particle size of the secondary particles became a predetermined size. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle-added liquid 1.

次いで、下記組成の主ドープ1を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドを400kg/minの流量とエタノールを20kg/minの流量で添加した。溶媒の添加開始から3分後に、前記加圧溶解タンクに、JSR(株)製ARTON G7810を200kg/min撹拌しながら投入した。さらに、溶媒投入開始後15分後に、微粒子添加液1を投入して、これを80℃に加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。加熱温度は室温から5℃/minの昇温し、30分間で溶解した後、3℃/minで降温した。   Next, a main dope 1 having the following composition was prepared. First, methylene chloride was added to the pressure dissolution tank at a flow rate of 400 kg / min and ethanol at a flow rate of 20 kg / min. Three minutes after the start of the addition of the solvent, ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation was charged into the pressure dissolution tank with stirring at 200 kg / min. Further, 15 minutes after the start of the introduction of the solvent, the fine particle addition liquid 1 was introduced, heated to 80 ° C., and completely dissolved while stirring. The heating temperature was increased from room temperature by 5 ° C./min, dissolved for 30 minutes, and then decreased by 3 ° C./min.

ドープ粘度は10000CPであり、含水率は0.50%であった。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244(濾過精度0.005mm)を使用して濾過流量300L/m・h、濾圧1.0×10Paにて濾過し、主ドープ1を調製した。 The dope viscosity was 10,000 CP, and the water content was 0.50%. Azumi filter paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. Using 244 (filtration accuracy 0.005 mm) at a filtration flow rate of 300 L / m 2 · h and a filtration pressure of 1.0 × 10 6 Pa, main dope 1 was prepared.

〈主ドープ1の組成〉
JSR(株)製ARTON G7810 100質量部
ジクロロメタン 200質量部
エタノール 10質量部
微粒子添加液1 3質量部
精製トルエン 0.004質量部
以上を密閉されている主溶解釜1に投入し、撹拌しながら溶解してドープを調製した。
<Composition of main dope 1>
100 parts by mass of ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation 200 parts by mass of dichloromethane 200 parts by mass of ethanol 10 parts by mass of fine particle additive liquid 3 parts by mass Purified toluene 0.004 part by mass The above is charged into a sealed main dissolving vessel 1 and dissolved with stirring. Thus, a dope was prepared.

調製したドープを、ステンレス製無端支持体(ベルト)上で、流量1000L/hrで流延(キャスト)した。その際、流延端部のジクロロメタンを滴下しながら流延を行った。   The prepared dope was cast on a stainless steel endless support (belt) at a flow rate of 1000 L / hr. At that time, casting was performed while dropping dichloromethane at the casting end.

乾燥温度40℃にて、流延したウェブ中の残留溶媒量が30質量%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレス製無端支持体上から剥離した。剥離したウェブを乾燥しながら残留溶媒量を5質量%に調整し、160℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に20%延伸した。延伸速度は200%/minで行った。   The solvent was evaporated at a drying temperature of 40 ° C. until the amount of the residual solvent in the cast web became 30% by mass, and then peeled off from the stainless steel endless support at a peeling tension of 130 N / m. The amount of the residual solvent was adjusted to 5% by mass while drying the peeled web, and stretched 20% in the width direction using a tenter while applying heat at 160 ° C. The stretching speed was 200% / min.

次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで、温度140℃で20分間搬送させながら乾燥を終了させた。搬送張力は100N/mとした。   Next, drying was completed while transporting the drying zone with a large number of rollers at a temperature of 140 ° C. for 20 minutes. The transport tension was 100 N / m.

乾燥したフィルムの両端部を100mmずつ回転歯を有するスリット装置でスリットし、下記条件でエンボス加工を行い、得られたフィルムをタッチロール用いて25℃・60%RHの環境下でコアに巻取った。巻き取り張力は、初期張力10kg/m、最終巻張力8kg/mとした。   Both ends of the dried film are slit by a slit device having rotating teeth by 100 mm, embossed under the following conditions, and the obtained film is wound around a core using a touch roll at 25 ° C. and 60% RH. Was. The winding tension was 10 kg / m of initial tension and 8 kg / m of final winding tension.

(エンボス加工条件)
加工温度:250℃
加工圧力:0.5MPa
加工幅 :10mm(フィルム両端部)
加工高さ:5μm
エンボス対向ロール:金属製
以上のようにして、フィルム幅1.5m、乾燥膜厚40μm、巻き取り長4000mの環状ポリオレフィンフィルム102を得た。
(Embossing conditions)
Processing temperature: 250 ° C
Processing pressure: 0.5MPa
Processing width: 10mm (both ends of film)
Working height: 5μm
Emboss opposed roll: made of metal As described above, a cyclic polyolefin film 102 having a film width of 1.5 m, a dry film thickness of 40 μm, and a winding length of 4000 m was obtained.

<環状ポリオレフィンフィルム103の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトルエンを0.1質量部添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム103を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 103>
A cyclic polyolefin film 103 was produced in the same manner as in the production of the cyclic polyolefin film 102 except that 0.1 part by mass of toluene was added to the main dope 1 to prepare a dope.

<環状ポリオレフィンフィルム104の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトルエンを0.3質量部添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム104を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 104>
In the production of the cyclic polyolefin film 102, a cyclic polyolefin film 104 was produced in the same manner except that 0.3 parts by mass of toluene was added to the main dope 1 to prepare a dope.

<環状ポリオレフィンフィルム105の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトルエンを0.003質量部添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム105を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 105>
A cyclic polyolefin film 105 was produced in the same manner as in the production of the cyclic polyolefin film 102 except that 0.003 parts by mass of toluene was added to the main dope 1 to prepare a dope.

<環状ポリオレフィンフィルム106の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトルエンを0.35質量部添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム106を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 106>
A cyclic polyolefin film 106 was produced in the same manner as in the production of the cyclic polyolefin film 102 except that 0.35 parts by mass of toluene was added to the main dope 1 to prepare a dope.

<環状ポリオレフィンフィルム107の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトリアセチルセルロース(TAC:アセチル基置換度2.85、重量平均分子量25万)を0.0004質量部、及びTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム107を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 107>
In the production of the cyclic polyolefin film 102, 0.0004 parts by mass of triacetyl cellulose (TAC: degree of acetyl group substitution 2.85, weight average molecular weight 250,000) was added to the main dope 1, and Ti928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 2 A cyclic polyolefin film 107 was produced in the same manner except that a dope was prepared by adding parts by mass.

<環状ポリオレフィンフィルム108の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトリアセチルセルロース(TAC:アセチル基置換度2.85、重量平均分子量25万)を0.04質量部、及びTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム108を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 108>
In the preparation of the cyclic polyolefin film 102, 0.04 parts by mass of triacetyl cellulose (TAC: degree of acetyl group substitution 2.85, weight average molecular weight 250,000) was added to the main dope 1 and Ti928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 2 A cyclic polyolefin film 108 was produced in the same manner except that a dope was prepared by adding parts by mass.

<環状ポリオレフィンフィルム109の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトリアセチルセルロース(TAC:アセチル基置換度2.85、重量平均分子量25万)を0.3質量部、及びTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム109を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 109>
In the production of the cyclic polyolefin film 102, 0.3 parts by mass of triacetyl cellulose (TAC: degree of acetyl group substitution 2.85, weight average molecular weight 250,000) was added to the main dope 1 and Ti928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 2 A cyclic polyolefin film 109 was produced in the same manner except that a dope was prepared by adding parts by mass.

<環状ポリオレフィンフィルム110の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトリアセチルセルロース(TAC:アセチル基置換度2.85、重量平均分子量25万)を0.35質量部、及びTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム110を作製した。
<Production of cyclic polyolefin film 110>
In the preparation of the cyclic polyolefin film 102, 0.35 parts by mass of triacetyl cellulose (TAC: degree of acetyl group substitution 2.85, weight average molecular weight 250,000) was added to the main dope 1 and Ti928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 2 A cyclic polyolefin film 110 was produced in the same manner except that a dope was prepared by adding parts by mass.

<環状ポリオレフィンフィルム111の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1にトリアセチルセルロース(TAC:アセチル基置換度2.85、重量平均分子量25万)を0.00003質量部、及びTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を添加してドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム111を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 111>
In the production of the cyclic polyolefin film 102, 0.00003 parts by mass of triacetyl cellulose (TAC: degree of acetyl group substitution 2.85, weight average molecular weight 250,000) was added to the main dope 1 and Ti928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 2 A cyclic polyolefin film 111 was produced in the same manner except that a dope was prepared by adding parts by mass.

<環状ポリオレフィンフィルム112の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1のJSR(株)製ARTON G7810 100質量部の代わりに、JSR(株)製ARTON G7810とJSR(株)製ARTON R5000をそれぞれ50質量部ずつ使用し、さらにTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を加えてドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム112を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 112>
In the production of the cyclic polyolefin film 102, 50 parts by mass of ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation and 50 parts by mass of ARTON R5000 manufactured by JSR Corporation were used instead of 100 parts by mass of ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation of the main dope 1. Further, a cyclic polyolefin film 112 was produced in the same manner except that dope was prepared by adding 2 parts by mass of Ti928 (manufactured by BASF Japan K.K.).

<環状ポリオレフィンフィルム113の作製>
環状ポリオレフィンフィルム102の作製において、主ドープ1のJSR(株)製ARTON G7810 100質量部の代わりに、JSR(株)製ARTON G7810
40質量部、JSR(株)製ARTON R5000 30質量部、JSR(株)製ARTON RX4500 30質量部づづ使用し、さらにTi928(BASFジャパン(株)製)2質量部を加えてドープを調製した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム113を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 113>
In producing the cyclic polyolefin film 102, instead of 100 parts by mass of ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation of the main dope 1, ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation was used.
40 parts by mass, 30 parts by mass of ARTON R5000 manufactured by JSR Corporation, 30 parts by mass of ARTON RX4500 manufactured by JSR Corporation, and 2 parts by mass of Ti928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) were added to prepare a dope. Produced a cyclic polyolefin film 113 in the same manner.

<環状ポリオレフィンフィルム114の作製>
環状ポリオレフィンフィルム112の作製において、重縮合エステルP7を5質量部加えてドープを調製し、膜厚を30μmに調整した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム114を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 114>
A cyclic polyolefin film 114 was produced in the same manner as in the production of the cyclic polyolefin film 112 except that 5 parts by mass of the polycondensed ester P7 was added to prepare a dope, and the film thickness was adjusted to 30 μm.

<環状ポリオレフィンフィルム115の作製>
環状ポリオレフィンフィルム113の作製において、JSR(株)製ARTON G7810 40質量部、同社製ARTON R5000 30質量部、同社製ARTON RX4500 30質量部の代わりに、同社製ARTON G7810 50質量部と、同社製ARTON RX4500 50質量部を使用し、さらに糖エステル;BzSc(ベンジルサッカロース:化92に記載の化合物a1〜a4の混合物)平均エステル置換度=5.5 7質量部を加えてドープを調製し、膜厚を20μmに調整した以外は同様にして、環状ポリオレフィンフィルム115を作製した。
<Preparation of cyclic polyolefin film 115>
In the production of the cyclic polyolefin film 113, instead of 40 parts by mass of ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation, 30 parts by mass of ARTON R5000 manufactured by the company, and 30 parts by mass of ARTON RX4500 manufactured by the company, 50 parts by mass of ARTON G7810 manufactured by the company and ARTON manufactured by the company are used. Using 50 parts by mass of RX4500 and adding a sugar ester; BzSc (benzyl saccharose: a mixture of compounds a1 to a4 described in Chemical formula 92), the average degree of ester substitution = 5.57 parts by mass to prepare a dope, Was adjusted to 20 μm to produce a cyclic polyolefin film 115 in the same manner.

<ハードコートフィルムの作製>
上記作製した環状ポリオレフィンフィルム107〜111の表面に下記手順によってハードコート層を塗設した。
<Preparation of hard coat film>
A hard coat layer was applied on the surfaces of the cyclic polyolefin films 107 to 111 prepared above by the following procedure.

上記作製した環状ポリオレフィンフィルム107のA面(流延ベルトに接していない面)上に、下記のハードコート層組成物1を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、押し出しコーターを用いて塗布し、恒率乾燥区間温度50℃、減率乾燥区間温度50℃で乾燥の後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cmで、照射量を0.2J/cmとして塗布層を硬化させ、ドライ膜厚2.5μmのハードコート層を形成した。同様にして、環状ポリオレフィンフィルム108〜111にもハードコート層を形成した。 On the surface A (the surface not in contact with the casting belt) of the above-prepared cyclic polyolefin film 107, a material obtained by filtering the following hard coat layer composition 1 with a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm was used using an extrusion coater. After drying at a constant rate drying section temperature of 50 ° C. and a declining rate drying section temperature of 50 ° C., the irradiation section is performed using an ultraviolet lamp while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. The coating layer was cured at an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 0.2 J / cm 2 to form a hard coat layer having a dry film thickness of 2.5 μm. Similarly, a hard coat layer was formed on the cyclic polyolefin films 108 to 111.

(ハードコート層組成物1)
ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート
(NKエステルA−TMM−3L、新中村化学工業(株)製) 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(A−TMPT、新中村化学工業(株)製) 30質量部
(光重合開始剤)
イルガキュア184(BASFジャパン(株)製) 6質量部
(添加剤)
オプツールDAC(フッ素系化合物、ダイキン工業株式会社製) 2質量部
(溶媒)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20質量部
酢酸メチル 30質量部
メチルエチルケトン 70質量部
<偏光板の作製>
〔偏光子1の作製〕
厚さ70μmのポリビニルアルコールフィルムを、35℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g及び水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム3g、ホウ酸7.5g及び水100gからなる45℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度55℃、延伸倍率5倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ15μmの偏光子1を得た。
(Hard coat layer composition 1)
Pentaerythritol tri / tetraacrylate (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 70 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts by mass ( Photopolymerization initiator)
Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan K.K.) 6 parts by mass (additive)
Optool DAC (fluorine compound, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) 2 parts by mass (solvent)
20 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether 30 parts by mass of methyl acetate 70 parts by mass of methyl ethyl ketone <Preparation of polarizing plate>
[Preparation of Polarizer 1]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 70 μm was swollen with water at 35 ° C. The obtained film was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and further immersed in a 45 ° C. aqueous solution composed of 3 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. . The obtained film was uniaxially stretched under the conditions of a stretching temperature of 55 ° C. and a stretching ratio of 5 times. The uniaxially stretched film was washed with water and dried to obtain a polarizer 1 having a thickness of 15 μm.

〔紫外線硬化型接着剤液1の調製〕
下記の各成分を混合した後、脱泡して、紫外線硬化型接着剤液1を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、50%プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
[Preparation of UV-curable adhesive liquid 1]
After mixing the following components, the mixture was defoamed to prepare an ultraviolet-curable adhesive liquid 1. The triarylsulfonium hexafluorophosphate was blended as a 50% propylene carbonate solution, and the solid content of the triarylsulfonium hexafluorophosphate is shown below.

3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート 45質量部
エポリードGT−301(ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂) 40質量部
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル 15質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 2.3質量部
9,10−ジブトキシアントラセン 0.1質量部
1,4−ジエトキシナフタレン 2.0質量部
〔位相差フィルム1の作製〕
(微粒子分散希釈液の調製)
10質量部のアエロジルR812(日本アエロジル社製、一次平均粒子径:7nm、見掛け比重50g/L)と、90質量部のエタノールとをディゾルバーで30分間撹拌混合した後、高圧分散機であるマントンゴーリンを用いて分散させて、微粒子分散液を調製した。
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate 45 parts by mass Eporide GT-301 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical) 40 parts by mass 1,4-butanediol diglycidyl ether 15 parts by mass Triarylsulfonium hexafluorophosphate 2.3 parts by mass 9,10-dibutoxyanthracene 0.1 part by mass 1,4-diethoxynaphthalene 2.0 parts by mass [Preparation of retardation film 1]
(Preparation of fine particle dispersion diluent)
10 parts by mass of Aerosil R812 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., primary average particle diameter: 7 nm, apparent specific gravity 50 g / L) and 90 parts by mass of ethanol were mixed by stirring with a dissolver for 30 minutes, and then a high-pressure disperser, Menton-Gaulin. To prepare a fine particle dispersion.

得られた微粒子分散液に、88質量部のジクロロメタンを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間撹拌混合して、希釈した。得られた溶液をアドバンテック東洋社製ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1Nで濾過して、微粒子分散希釈液を得た。   88 parts by mass of dichloromethane was added to the obtained fine particle dispersion while stirring, and the mixture was diluted by stirring and mixing with a dissolver for 30 minutes. The obtained solution was filtered through a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to obtain a fine particle dispersion diluent.

(インライン添加液の調製)
100質量部のジクロロメタンに、36質量部の前記作製した微粒子分散希釈液を撹拌しながら加えて30分間さらに撹拌した後、6質量部のジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.35、Mn=90000、Mw=152000、Mw/Mn=1.7)を撹拌しながら加えて60分間さらに撹拌した。得られた溶液を、日本精線(株)製ファインメットNFで濾過して、インライン添加液を得た。濾材は、公称濾過精度20μmのものを用いた。
(Preparation of in-line additive solution)
To 100 parts by mass of dichloromethane, 36 parts by mass of the prepared fine particle dispersion and diluent were added with stirring, and further stirred for 30 minutes. Then, 6 parts by mass of diacetyl cellulose (acetyl substitution degree 2.35, Mn = 90000, (Mw = 152000, Mw / Mn = 1.7) was added with stirring, and the mixture was further stirred for 60 minutes. The obtained solution was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to obtain an in-line additive liquid. The filter medium used had a nominal filtration accuracy of 20 μm.

(主ドープの調製)
下記成分を密閉容器に投入し、加熱及び撹拌しながら完全に溶解させた。得られた溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24で濾過して、主ドープを得た。
(Preparation of main dope)
The following components were charged into a closed container and completely dissolved while heating and stirring. Azumi Filter Paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. Filtration at 24 gave the main dope.

〈主ドープの組成〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度:2.35、Mn=90000、Mw=152000、Mw/Mn=1.7) 81質量部
多価アルコールエステル(一般式(D)で表される化合物):例示化合物2−10
2質量部
糖エステル;BzSc(ベンジルサッカロース:化92に記載の化合物a1〜a4の混合物)、平均エステル置換度=5.5 7質量部
重縮合エステル:一般式(C)で表される重縮合エステル:P8 5質量部
リターデーション調整剤:一般式(A1)で表される化合物 化12に記載の例示化合物6 3質量部
ジクロロメタン 430質量部
メタノール 11質量部
100質量部の主ドープと、2.5質量部のインライン添加液とを、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分に混合して、ドープを得た。
<Composition of main dope>
81 parts by mass of diacetyl cellulose (degree of acetyl group substitution: 2.35, Mn = 90000, Mw = 152000, Mw / Mn = 1.7) Polyhydric alcohol ester (compound represented by formula (D)): Exemplified compound 2-10
2 parts by mass sugar ester; BzSc (benzyl saccharose: mixture of compounds a1 to a4 described in Chemical formula 92), average degree of ester substitution = 5.5 7 parts by mass Polycondensation ester: polycondensation represented by general formula (C) Ester: P8 5 parts by mass Retardation regulator: compound represented by general formula (A1) Exemplary compound 6 described in Chemical formula 12 3 parts by mass Dichloromethane 430 parts by mass Methanol 11 parts by mass Main dope of 100 parts by mass; 5 parts by mass of the in-line additive liquid was sufficiently mixed with an in-line mixer (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer, SWJ) to obtain a dope.

(製膜工程)
得られたドープを、ベルト流延装置を用いてステンレスバンド支持体上に、ドープの液温度35℃、幅1.5mの条件で、最終膜厚が40μmとなる条件で均一に流延させた。ステンレスバンド支持体上で、得られたドープ膜中の有機溶媒を、残留溶媒量が100質量%になるまで蒸発させてウェブを形成した後、ステンレスバンド支持体からウェブを剥離した。得られたウェブを、110℃でさらに10分予備乾燥させた後、ウェブをテンターで、160℃の条件でTD方向の元幅に対して1.2倍に延伸した。延伸開始時のウェブの残留溶媒量は2.0質量%であった。テンターで延伸後、130℃で5分間緩和を行った後、多数の搬送ローラーを通して、130℃の温度、及び20m/分の搬送速度でウェブを搬送させた。
(Film forming process)
The obtained dope was uniformly cast on a stainless steel band support using a belt casting apparatus under the conditions of a dope liquid temperature of 35 ° C., a width of 1.5 m, and a final film thickness of 40 μm. . The organic solvent in the obtained dope film was evaporated on the stainless band support until the residual solvent amount became 100% by mass to form a web, and then the web was peeled from the stainless band support. After the obtained web was further preliminarily dried at 110 ° C. for 10 minutes, the web was stretched with a tenter at 160 ° C. to 1.2 times the original width in the TD direction. The residual solvent amount of the web at the start of stretching was 2.0% by mass. After stretching with a tenter, relaxation was performed at 130 ° C. for 5 minutes, and then the web was transported through a number of transport rollers at a temperature of 130 ° C. and a transport speed of 20 m / min.

得られたフィルムを、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm高さ5μmのナーリング加工を施し、初期張力220N/m、終張力110N/mで内径15.24cmコアに巻き取り、長さ4000m、膜厚40μmの長尺のジアセチルセルロースを含有する位相差フィルム1を得た。   The obtained film is slit into a 1.5 m width, knurling is performed on both ends of the film with a width of 10 mm and a height of 5 μm, and the film is wound around a core with an inner diameter of 15.24 cm at an initial tension of 220 N / m and a final tension of 110 N / m. A retardation film 1 having a length of 4000 m and a length of 40 μm and containing long diacetyl cellulose was obtained.

<偏光板101の作製>
下記の方法に従って、偏光板101を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 101>
The polarizing plate 101 was manufactured according to the following method.

まず、位相差フィルムとして上記作製した位相差フィルム1使用し、その表面にコロナ放電処理を施した。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度2.0kW、ライン速度18m/分とした。次いで、フィルム位相差フィルム1のコロナ放電処理面に、上記調製した紫外線硬化型接着剤液1を、硬化後の膜厚が約3μmとなるようにバーコーターで塗工して紫外線硬化型接着剤層を形成した。得られた紫外線硬化型接着剤層に、上記作製した偏光子(厚さ15μm)側を貼合した。   First, the retardation film 1 prepared above was used as a retardation film, and the surface thereof was subjected to a corona discharge treatment. The conditions for the corona discharge treatment were a corona output intensity of 2.0 kW and a line speed of 18 m / min. Next, the above prepared ultraviolet curable adhesive liquid 1 is applied to the corona discharge treated surface of the film retardation film 1 with a bar coater so that the film thickness after curing becomes about 3 μm, and the ultraviolet curable adhesive is applied. A layer was formed. The polarizer (thickness: 15 μm) side prepared above was bonded to the obtained ultraviolet-curable adhesive layer.

次いで、上記作製した環状ポリオレフィンフィルム101を用い、コロナ放電処理を施した。コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度2.0kW、速度18m/分とした。   Next, a corona discharge treatment was performed using the cyclic polyolefin film 101 produced above. The conditions of the corona discharge treatment were a corona output intensity of 2.0 kW and a speed of 18 m / min.

次いで、環状ポリオレフィンフィルム101のコロナ放電処理面に、上記調製した紫外線硬化型接着剤液1を、硬化後の膜厚が約3μmとなるようにバーコーターで塗工して紫外線硬化型接着剤層を形成した。   Next, the ultraviolet curable adhesive liquid 1 prepared above is applied to the corona discharge treated surface of the cyclic polyolefin film 101 with a bar coater so that the cured film thickness is about 3 μm, and the ultraviolet curable adhesive layer is formed. Was formed.

この紫外線硬化型接着剤層に、位相差フィルム1の片面に貼合された偏光子を貼合して、環状ポリオレフィンフィルム101/紫外線硬化型接着剤層/偏光子/紫外線硬化型接着剤層/位相差フィルム1が積層された積層体を得た。その際に、環状ポリオレフィンフィルム101及び位相差フィルム1の遅相軸と偏光子の吸収軸が互いに直交になるように貼合した。   A polarizer bonded to one side of the retardation film 1 is bonded to this ultraviolet-curable adhesive layer, and a cyclic polyolefin film 101 / ultraviolet-curable adhesive layer / polarizer / ultraviolet-curable adhesive layer / A laminate in which the retardation film 1 was laminated was obtained. At that time, lamination was performed so that the slow axes of the cyclic polyolefin film 101 and the retardation film 1 and the absorption axis of the polarizer were orthogonal to each other.

この積層体の両面側から、ベルトコンベヤー付き紫外線照射装置(ランプは、フュージョンUVシステムズ社製のDバルブを使用)を用いて、積算光量が750mJ/cmとなるように紫外線を照射し、それぞれの紫外線硬化型接着剤層を硬化させ、総膜厚が95μmの偏光板101を作製した。 Ultraviolet rays were irradiated from both sides of this laminate using an ultraviolet irradiation device with a belt conveyor (the lamp used was a D bulb manufactured by Fusion UV Systems) so that the integrated light amount became 750 mJ / cm 2. Was cured to produce a polarizing plate 101 having a total thickness of 95 μm.

<偏光板102〜115の作製>
偏光板101の作製と同様にして、環状ポリオレフィンフィルム102〜115を用いて、偏光板102〜115を作製した。
<Preparation of Polarizing Plates 102 to 115>
Polarizing plates 102 to 115 were produced using cyclic polyolefin films 102 to 115 in the same manner as the production of polarizing plate 101.

<液晶表示装置の作製>
市販のVA型液晶表示装置(SONY製40型ディスプレイKLV−40J3000)を用い、液晶セルの視認側に貼合されていた偏光板を剥離し、上記作製した偏光板101〜115を、液晶セル側の面に位相差フィルム1が配置されるように貼合して液晶表示装置101〜115を作製した。その際作製した偏光板の吸収軸が、あらかじめ貼合されていた偏光板の吸収軸と同一方向となるように貼り合わせて液晶表示装置を作製した。
<Production of liquid crystal display device>
Using a commercially available VA type liquid crystal display device (SONY 40 type display KLV-40J3000), the polarizing plate bonded to the viewing side of the liquid crystal cell was peeled off, and the polarizing plates 101 to 115 produced above were placed on the liquid crystal cell side. The liquid crystal display devices 101 to 115 were produced by laminating such that the retardation film 1 was disposed on the surface of. At this time, a liquid crystal display device was manufactured by laminating the polarizing plates manufactured so that the absorption axis of the polarizing plate was in the same direction as the absorption axis of the polarizing plate bonded in advance.

≪評価≫
(1)環状ポリオレフィンフィルムの評価
(輝点異物)
下記方法にて環状ポリオレフィンフィルムの輝点異物の個数を測定した。
≪Evaluation≫
(1) Evaluation of cyclic polyolefin film (bright spot foreign matter)
The number of bright spot foreign matters in the cyclic polyolefin film was measured by the following method.

(フィルムの輝点異物の測定法)
二枚の偏光板を直交状態(クロスニコル)に配置して透過光を遮断し、二枚の偏光板の間に作製したフィルム試料を置く。偏光板はガラス製保護板のものを使用した。片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡(50倍)で100cm当たりの長径10μm以上の輝点異物の数をカウントした。輝点異物の数は少ないほど良好な特性である。
(Method of measuring bright spot foreign matter on film)
Two polarizing plates are arranged in an orthogonal state (crossed Nicols) to block transmitted light, and the prepared film sample is placed between the two polarizing plates. The polarizing plate used was a glass protective plate. Light was irradiated from one side, and the number of bright spot foreign substances having a major axis of 10 μm or more per 100 cm 2 was counted by an optical microscope (50 times) from the opposite side. The smaller the number of bright spot foreign substances, the better the characteristics.

(ヘイズ)
作製した環状ポリオレフィンフィルムのヘイズを、試料フィルムを23℃・55%RHの環境で5時間以上調湿した後、ヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)で測定した。ヘイズは0.5〜1.0%未満であることが好ましく、0.5%未満であることがより好ましい。
(Haze)
The haze of the prepared cyclic polyolefin film was measured with a haze meter (Model 1001DP, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) after adjusting the humidity of the sample film in an environment of 23 ° C. and 55% RH for 5 hours or more. The haze is preferably less than 0.5 to less than 1.0%, more preferably less than 0.5%.

(摩擦係数)
前記フィルム製膜過程の延伸処理工程前において、残留溶媒が5〜30質量%の時にフィルム試料を採取し、JIS K7125(1999):(プラスチック−フィルム及びシート摩擦係数試験方法)によって、フィルム表面の静止摩擦係数を測定した。
(Coefficient of friction)
Before the stretching step in the film forming process, a film sample is taken when the residual solvent is 5 to 30% by mass, and the film surface is measured according to JIS K7125 (1999): (Plastic-film and sheet friction coefficient test method). The coefficient of static friction was measured.

(2)ハードコート層の評価
ハードコート層の表面について、鉛筆硬度を測定した。
(2) Evaluation of Hard Coat Layer The pencil hardness of the surface of the hard coat layer was measured.

詳しくはJIS−S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、500gのおもりを用いて各硬度の鉛筆で所定の表面を5回繰り返し引っ掻き、傷が1本できるまでの硬度を測定した。鉛筆硬度は、2H以上であることが好ましく、3H以上であることがより好ましい。   Specifically, using a test pencil specified by JIS-S6006, in accordance with a pencil hardness evaluation method specified by JIS-K5400, a predetermined surface is repeatedly scratched five times with a pencil of each hardness using a weight of 500 g, and a scratch is generated. The hardness until the book was formed was measured. The pencil hardness is preferably 2H or more, more preferably 3H or more.

(3)偏光板及び液晶表示装置の評価
(点状欠陥の評価)
上記作製した偏光板を液晶表示装置に組み込み、黒表示にしたときの点状又は面状で現れる明暗を目視で観察し、下記基準でランク付けした。
(3) Evaluation of polarizing plate and liquid crystal display device (Evaluation of point defects)
The polarizing plate produced above was incorporated into a liquid crystal display device, and the light and dark appearing as dots or planes when displaying black was visually observed and ranked according to the following criteria.

◎ :光の抜けはなく全体に均一な暗視野
○ :部分的にごく僅かに明暗が認められる
△ :全体的に僅かに明暗が認められるが、実用上問題のないレベルである
× :全体に明暗が認められる
なお、△以上であれば、実用に供することができる。
◎: Dark field uniform throughout without any light leakage. 明: Very slightly dark and light is partially observed.: Slightly dark and light is recognized as a whole, but there is no practical problem. Brightness and darkness are recognized. If the value is Δ or more, it can be put to practical use.

得られた評価結果を表1に示す。   Table 1 shows the obtained evaluation results.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

本発明の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法によって製造された環状ポリオレフィンフィルム102〜104は、比較例の環状ポリオレフィンフィルム101、105に対して、異物個数、ヘイズ、液晶表示装置の点状欠陥に優れていることが分かった。   The cyclic polyolefin films 102 to 104 produced by the method for producing a cyclic polyolefin film of the present invention are superior to the cyclic polyolefin films 101 and 105 of the comparative examples in the number of foreign matters, haze, and point defects of the liquid crystal display device. I understood that.

トルエン0.35質量部である106は、溶媒揮発がやや遅く、乾燥工程がやや長時間にわたった。   As for 106, which is 0.35 parts by mass of toluene, the solvent volatilization was somewhat slow, and the drying step was slightly long.

また、セルローストリアセテート(TAC)を0.0004〜0.3質量部添加した環状ポリオレフィンフィルム107〜109は、比較例の環状ポリオレフィンフィルム110、111に比較して、異物個数、ヘイズ、液晶表示装置の点状欠陥に優れているのに加えて、ハードコート塗布後の硬度にも優れていた。   Moreover, the cyclic polyolefin films 107 to 109 to which 0.0004 to 0.3 parts by mass of cellulose triacetate (TAC) were added, compared with the cyclic polyolefin films 110 and 111 of the comparative examples, the number of foreign substances, haze, and In addition to being excellent in point defects, the hardness after application of the hard coat was also excellent.

環状ポリオレフィン系樹脂を2種以上使用した環状ポリオレフィンフィルム112〜115は異物の抑制効果が高く、ヘイズ、点状欠陥にも優れていた。   The cyclic polyolefin films 112 to 115 using two or more kinds of cyclic polyolefin-based resins had a high effect of suppressing foreign substances and were excellent in haze and point defects.

実施例2
実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を、ガスバリアー性フィルムの基材フィルム(支持体)として用いた。
Example 2
The cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention produced in Example 1 were used as base films (supports) of gas barrier films.

<ガスバリアー性フィルム201の作製>
(支持体)
樹脂フィルム支持体として、実施例1で作製した環状ポリオレフィンフィルム102を用いた。
<Preparation of gas barrier film 201>
(Support)
The cyclic polyolefin film 102 produced in Example 1 was used as a resin film support.

ガスバリアー性フィルムの作製は、上記支持体を20m/分の速度で搬送しながら、以下の形成方法により、片面にブリードアウト防止層、反対面に平滑層を形成した後、粘着性保護フィルムを貼合した、ロール状のガスバリアー性フィルムを得た。   The gas barrier film is produced by forming the anti-bleed layer on one side and the smooth layer on the other side by the following forming method while conveying the support at a speed of 20 m / min. A laminated gas barrier film having a roll shape was obtained.

(ブリードアウト防止層の形成)
上記支持体の片面に、JSR株式会社製 UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材 OPSTAR Z7535を塗布、乾燥後の膜厚が4μmになるようにワイヤーバーで塗布した後、80℃、3分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプを使用して500mJ/cmで硬化し、ブリードアウト防止層を形成した。
(Formation of bleed-out prevention layer)
On one surface of the support, a UV-curable organic / inorganic hybrid hard coat material OPSTAR Z7535 manufactured by JSR Corporation is applied, and is applied with a wire bar so that the film thickness after drying is 4 μm. After drying, the composition was cured at 500 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in an air atmosphere to form a bleed-out preventing layer.

(平滑層の形成)
続けて上記支持体の反対面に、JSR株式会社製 UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材 OPSTAR Z7501を塗布、乾燥後の膜厚が4μmになるようにワイヤーバーで塗布した後、80℃、3分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプを使用して500mJ/cmで硬化し、平滑層を形成した。
(Formation of smooth layer)
Subsequently, on the opposite surface of the support, a UV-curable organic / inorganic hybrid hard coat material OPSTAR Z7501 manufactured by JSR Corporation was applied, and then applied with a wire bar so that the film thickness after drying was 4 μm. After drying for 3 minutes, it was cured at 500 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in an air atmosphere to form a smooth layer.

この時の最大断面高さRt(p)は18nmであった。最大断面高さRt(p)は、AFM(原子間力顕微鏡)で、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が30μmの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する平均の粗さである。   At this time, the maximum sectional height Rt (p) was 18 nm. The maximum cross-sectional height Rt (p) is calculated from the cross-sectional curve of the irregularities continuously measured with a detector having a stylus having a very small tip radius with an AFM (atomic force microscope). This is the average roughness related to the amplitude of fine irregularities measured many times in a section where the measurement direction is 30 μm.

(ガスバリアー層の作製)
次に、上記平滑層及びブリードアウト防止層を設けたフィルムの平滑層の上に、下記ポリシラザン塗布液調製し、次いで、脱水ジブチルエーテルによる希釈することにより濃度調整して、23℃50%RH環境下で塗布した後、80℃、1分(工程中の雰囲気を露点温度10℃に調製)乾燥し、乾燥後の膜厚が150nmのポリシラザン層を作製した。
(Preparation of gas barrier layer)
Next, the following polysilazane coating solution is prepared on the smooth layer of the film provided with the above-mentioned smooth layer and bleed-out preventing layer, and then the concentration is adjusted by diluting with dehydrated dibutyl ether to obtain a 23 ° C., 50% RH environment. After application under the above conditions, the film was dried at 80 ° C. for 1 minute (the atmosphere in the process was adjusted to a dew point of 10 ° C.) to form a polysilazane layer having a thickness of 150 nm after drying.

(ポリシラザン塗布液)
アクアミカ NN120−20(パーヒドロポリシラザン、AZエレクトロニックマテ
リアルズ(株)製、20質量%ジブチルエーテル溶液)
(改質処理A)
前記塗布試料を下記の条件で改質処理を行い、ガスバリアー層1層目を形成した。改質処理時の露点温度は−8℃で実施した。
(Polysilazane coating solution)
Aquamica NN120-20 (Perhydropolysilazane, AZ Electronic Materials Co., Ltd., 20% by mass dibutyl ether solution)
(Reforming treatment A)
The coating sample was modified under the following conditions to form a first gas barrier layer. The dew point temperature during the reforming treatment was -8 ° C.

(改質処理装置)
株式会社 エム・ディ・コム製エキシマ照射装置MODEL:MECL−M−1−20
0、波長172nm、ランプ封入ガス Xe稼動ステージ上に固定した試料を以下の条件
で改質処理を行った。
(Reforming equipment)
Excimer irradiator MODEL manufactured by M.D.COM Co., Ltd .: MECL-M-1-20
0, a wavelength of 172 nm, and a sample fixed on a Xe operating stage with a lamp-filled gas was subjected to a reforming treatment under the following conditions.

(改質処理条件)
エキシマ光強度 120mW/cm(172nm)
試料と光源の距離 3mm
ステージ加熱温度 25℃
照射装置内の酸素濃度 1000ppm(0.1%)
実エキシマ照射時間 5秒
さらにその上に前記ポリシラザン化合物塗布液を脱水ジブチルエーテルによる希釈することにより濃度調整して、23℃50%RH環境下で塗布した後、80℃、1分(工程中の雰囲気を露点温度10℃に調製)乾燥し、乾燥後の膜厚が90nmになるようにポリシラザン層を作製した。
(Reforming conditions)
Excimer light intensity 120 mW / cm 2 (172 nm)
Distance between sample and light source 3mm
Stage heating temperature 25 ℃
Oxygen concentration in the irradiation device 1000ppm (0.1%)
Actual excimer irradiation time 5 seconds Further, the concentration of the polysilazane compound coating solution was adjusted by diluting the solution with dehydrated dibutyl ether, and then applied at 23 ° C. and 50% RH environment. The atmosphere was adjusted to a dew point of 10 ° C.) and dried to form a polysilazane layer such that the film thickness after drying was 90 nm.

(改質処理B)
前記塗布2層目を塗布した試料を500mJ/cmの積算光量とステージ加熱温度(VUV照射時の基板温度)25℃で改質処理を行い、ガスバリアー層2層目を形成した。改質処理時の露点温度は−8℃で実施しガスバリアー性フィルム201を得た。
(Reforming treatment B)
The sample coated with the second coating layer was subjected to a modification treatment at an integrated light amount of 500 mJ / cm 2 and a stage heating temperature (substrate temperature at the time of VUV irradiation) of 25 ° C. to form a second gas barrier layer. The dew point temperature at the time of the modification treatment was −8 ° C. to obtain a gas barrier film 201.

(改質処理装置)
改質処理Aと同一。
(Reforming equipment)
Same as reforming treatment A.

(改質処理条件)
エキシマ光強度 120mW/cm(172nm)
試料と光源の距離 3mm
照射装置内の酸素濃度 1000ppm(0.1%)
ステージ移動速度 10mm/秒の早さで試料を往復搬送
<ガスバリアー性フィルム202〜209の作製》
ガスバリアー性フィルム201の作製において、支持体を環状ポリオレフィンフィルム103、104、106〜109、112及び113に変えた以外は同様にして、それぞれガスバリアー性フィルム202〜209を作製した。
(Reforming conditions)
Excimer light intensity 120 mW / cm 2 (172 nm)
Distance between sample and light source 3mm
Oxygen concentration in the irradiation device 1000ppm (0.1%)
Reciprocating transfer of sample at a stage moving speed of 10 mm / sec <Preparation of gas barrier films 202 to 209>
Gas barrier films 202 to 209 were produced in the same manner except that the support was changed to the cyclic polyolefin films 103, 104, 106 to 109, 112, and 113 in the production of the gas barrier film 201.

≪ガスバリアー性フィルムの評価≫
(水蒸気透過率の測定)
〈水蒸気透過率の測定装置〉
蒸着装置:日本電子(株)製真空蒸着装置JEE−400
恒温恒湿度オーブン:Yamato Humidic ChamberIG47M
(原材料)
水分と反応して腐食する金属:カルシウム(粒状)
水蒸気不透過性の金属:アルミニウム(φ3〜5mm、粒状)
(水蒸気バリアー性評価用セルの作製)
真空蒸着装置(日本電子製真空蒸着装置 JEE−400)を用い、透明導電膜を付ける前のガスバリアー性フィルム201〜209の各々蒸着させたい部分(12mm×12mmを9か所)以外をマスクし、金属カルシウムを蒸着させた。
≫Evaluation of gas barrier film≫
(Measurement of water vapor transmission rate)
<Water vapor transmission rate measurement device>
Evaporator: Vacuum evaporator JEE-400 manufactured by JEOL Ltd.
Constant temperature and humidity oven: Yamato Humic Chamber IG47M
(raw materials)
Metal that corrodes by reacting with moisture: calcium (granular)
Water vapor impermeable metal: Aluminum (φ3-5mm, granular)
(Preparation of cell for evaluating water vapor barrier property)
Using a vacuum deposition device (JEOL vacuum deposition device JEE-400), mask portions other than the portions to be deposited (9 locations of 12 mm × 12 mm) of the gas barrier films 201 to 209 before attaching the transparent conductive film. , Metal calcium was deposited.

その後、真空状態のままマスクを取り去り、シート片側全面にアルミニウムをもう一つの金属蒸着源から蒸着させた。アルミニウム封止後、真空状態を解除し、速やかに乾燥窒素ガス雰囲気下で、厚さ0.2mmの石英ガラスに封止用紫外線硬化樹脂(ナガセケムテックス製)を介してアルミニウム封止側と対面させ、紫外線を照射することで、評価用セルを作製した。   Thereafter, the mask was removed in a vacuum state, and aluminum was evaporated from another metal evaporation source on one entire surface of the sheet. After sealing with aluminum, the vacuum is released, and immediately, in a dry nitrogen gas atmosphere, face the aluminum sealing side with a 0.2 mm-thick quartz glass via a UV curable resin for sealing (manufactured by Nagase ChemteX). Then, the cell for evaluation was produced by irradiating with ultraviolet rays.

得られた両面を封止した試料を60℃、90%RHの高温高湿下で保存し、特開2005−283561号公報記載の方法に基づき、金属カルシウムの腐食量からセル内に透過した水分量を計算した。   The obtained sample in which both sides were sealed was stored under high temperature and high humidity of 60 ° C. and 90% RH, and based on the method described in JP-A-2005-283561, the moisture permeated into the cell based on the corrosion amount of metallic calcium. The amount was calculated.

(ランク評価)
5:1×10−4g/m/day未満
4:1×10−4g/m/day以上、1×10−3g/m/day未満
3:1×10−3g/m/day以上、1×10−2g/m/day未満
2:1×10−2g/m/day以上、1×10−1g/m/day未満
1:1×10−1g/m/day以上
ランク評価において、実用的な範囲は、ランク3以上である。
(Rank evaluation)
5: less than 1 × 10 −4 g / m 2 / day 4: 1 × 10 −4 g / m 2 / day or more and less than 1 × 10 −3 g / m 2 / day 3: 1 × 10 −3 g / day m 2 / day or more and less than 1 × 10 −2 g / m 2 / day 2: 1 × 10 −2 g / m 2 / day or more and less than 1 × 10 −1 g / m 2 / day 1: 1 × 10 -1 g / m 2 / day or more In the rank evaluation, a practical range is rank 3 or more.

(ガスバリアー性フィルムの耐熱性試験)
作製直後のガスバリアー性フィルム201〜209をそれぞれ、85℃環境で7日間保存後に上記と同様にして水蒸気透過率を測定して、熱による劣化(耐久性)を評価した。
(Heat resistance test of gas barrier film)
The gas barrier films 201 to 209 immediately after the preparation were each stored for 7 days in an environment of 85 ° C., and thereafter the water vapor transmission rate was measured in the same manner as described above to evaluate deterioration (durability) due to heat.

(ガスバリアー性フィルムの耐久性試験)
作製直後のガスバリアー性フィルム201〜209をそれぞれ、半径10mmの曲率になるように、180度の角度で100回屈曲を繰り返した後の、ガスバリアー性の劣化(耐久性)を、上記と同様に水蒸気透過率で評価した。
(Durability test of gas barrier film)
Deterioration (durability) of the gas barrier properties after repeating bending the gas barrier films 201 to 209 immediately after production at an angle of 180 degrees 100 times so that each has a curvature of a radius of 10 mm, as described above. Was evaluated by water vapor transmission rate.

以上の評価を行ったところ、本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、全ての評価項目についてランク3以上を示し、優れたガスバリアー性フィルムの支持体であることを確認した。   As a result of the above evaluations, the cyclic polyolefin film of the present invention showed a rank of 3 or more for all evaluation items, and was confirmed to be an excellent support for a gas barrier film.

実施例3
実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113をタッチパネル用の基材フィルム(支持体)として用いた。
Example 3
The cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention produced in Example 1 were used as a base film (support) for a touch panel.

(透明基板の準備)
上記環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113の両面に、下記ハードコート層塗布液をダイコーターにより塗布し、ハードコート層となる塗膜を形成した。その塗膜を70℃で乾燥後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い、照射部の照度が300mW/cm、照射量を0.3J/cmとして塗膜を硬化させ、さらに加熱処理ゾーンにおいて、130℃で5分間加熱処理し、透明基板301〜309を作製した。なお、硬化後のハードコート層の膜厚は各々5μmであった。
(Preparation of transparent substrate)
The following coating liquid for a hard coat layer was applied to both surfaces of the cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112 and 113 by a die coater to form a coating film to be a hard coat layer. The coating film was dried at 70 ° C., and while being purged with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0% by volume or less, using an ultraviolet lamp, the illuminance of the irradiated portion was 300 mW / cm 2 , and the irradiation amount was 0.1%. The coating film was cured at 3 J / cm 2 , and further subjected to heat treatment at 130 ° C. for 5 minutes in a heat treatment zone to produce transparent substrates 301 to 309. The cured hard coat layers each had a thickness of 5 μm.

(ハードコート層塗布液の調製)
下記の各構成材料を混合、撹拌、溶解して、ハードコート層塗布液を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution)
The following constituent materials were mixed, stirred, and dissolved to prepare a hard coat layer coating solution.

・ハードコート層塗布液
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 30質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 60質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 50質量部
イルガキュア184(BASFジャパン(株)製) 5質量部
イルガキュア907(BASFジャパン(株)製) 5質量部
ZX−212(フッ素−シロキサングラフトポリマー、ティーアンドケイ東華社製)
5質量部
シーホスターKEP−50(粉体のシリカ粒子、平均粒径0.47〜0.61μm、日本触媒株式会社製) 24.3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20質量部
酢酸メチル 40質量部
メチルエチルケトン 60質量部
(導電性フィルム301の作製)
透明基板301の片面上に、下記化合物1を用いて中間層(膜厚25nm)を蒸着法によって形成し、これに続けて銀(Ag)からなる電極層(膜厚8nm)を蒸着法によって形成した。さらに続けて、酸化チタン(TiO)からなる表面保護層(膜厚30nm)を蒸着法によって形成した。これにより、中間層と透明導電層、表面保護層との3層構造の透明電極を有する導電性フィルム301を作製した。
Hard coating layer coating solution Pentaerythritol tetraacrylate 30 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate 60 parts by mass Dipentaerythritol pentaacrylate 50 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan) 5 parts by mass Irgacure 907 (BASF Japan Ltd.) 5 parts by mass ZX-212 (fluorine-siloxane graft polymer, manufactured by T & K Toka)
5 parts by mass Sea Hostar KEP-50 (powder silica particles, average particle size 0.47 to 0.61 μm, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 24.3 parts by mass propylene glycol monomethyl ether 20 parts by mass Methyl acetate 40 parts by mass methyl ethyl ketone 60 Parts by mass (production of conductive film 301)
On one surface of the transparent substrate 301, an intermediate layer (thickness: 25 nm) is formed by evaporation using the following compound 1, and subsequently, an electrode layer (8 nm in thickness) made of silver (Ag) is formed by evaporation. did. Subsequently, a surface protective layer (thickness: 30 nm) made of titanium oxide (TiO 2 ) was formed by an evaporation method. Thus, a conductive film 301 having a transparent electrode having a three-layer structure of an intermediate layer, a transparent conductive layer, and a surface protective layer was produced.

Figure 0006657602
Figure 0006657602

この際、まず透明基板301を市販の真空蒸着装置の基材ホルダーに固定した。また、上記化合物1をタンタル製抵抗加熱ボートに入れた。これらの基板ホルダーと加熱ボートとを真空蒸着装置の第1真空槽に取り付けた。また、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀(Ag)を入れ、第2真空槽内に取り付けた。さらに、タンタル製抵抗加熱ボートに酸化チタン(TiO)を入れ、第3真空槽内に取り付けた。 At this time, first, the transparent substrate 301 was fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum evaporation apparatus. Compound 1 was placed in a tantalum resistance heating boat. These substrate holders and the heating boat were attached to a first vacuum tank of a vacuum evaporation apparatus. In addition, silver (Ag) was put in a tungsten resistance heating boat, and was mounted in a second vacuum chamber. Further, titanium oxide (TiO 2 ) was put in a tantalum resistance heating boat, and was mounted in a third vacuum chamber.

次に、第1真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、各化合物の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒で透明基板301上に膜厚25nmの中間層13を設けた。 Next, after reducing the pressure in the first vacuum chamber to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing each compound was energized and heated, and was placed on the transparent substrate 301 at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / sec. An intermediate layer 13 having a thickness of 25 nm was provided.

次に、中間層まで成膜した透明基板301を真空のまま第2真空槽に移し、第2真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒で膜厚8nmの銀からなる透明導電層を形成した。 Next, the transparent substrate 301 on which the film was formed up to the intermediate layer was transferred to a second vacuum chamber while keeping the vacuum, and the pressure in the second vacuum chamber was reduced to 4 × 10 −4 Pa. did. Thus, a transparent conductive layer made of silver having a thickness of 8 nm was formed at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / sec.

次に中間層、電極層を製膜した透明基板301を真空のまま第3真空槽に移し、第3真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、酸化チタン(TiO)の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒で膜厚30nmの酸化チタン(TiO)からなる表面保護層を形成した。 Next, the transparent substrate 301 on which the intermediate layer and the electrode layer were formed was transferred to a third vacuum chamber while keeping the vacuum, and the pressure in the third vacuum chamber was reduced to 4 × 10 −4 Pa, and then titanium oxide (TiO 2 ) was charged. The heating boat was energized and heated. Thus, a surface protective layer made of titanium oxide (TiO 2 ) having a thickness of 30 nm was formed at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / sec.

以上の工程により、中間層とこの上部の透明導電層、及び、表面保護層との積層構造からなる導電性フィルム301を得た。   Through the above steps, a conductive film 301 having a laminated structure of an intermediate layer, a transparent conductive layer on the intermediate layer, and a surface protective layer was obtained.

なお蒸着膜厚は、J.A.Woollam Co.Inc.製のVB−250型VASEエリプソメータで測定した。   The thickness of the deposited film is described in J. A. Woollam Co. Inc. Was measured using a VB-250 type VASE ellipsometer manufactured by Toshiba Corporation.

(導電性フィルム302〜309の作製)
導電性フィルム301と同様にして、環状ポリオレフィンフィルム103、104、106〜109、112及び113をそれぞれ用いて、導電性フィルム302〜309を作製した。
(Production of conductive films 302 to 309)
Similarly to the conductive film 301, the conductive films 302 to 309 were produced using the cyclic polyolefin films 103, 104, 106 to 109, 112, and 113, respectively.

≪各試料の評価≫
作製した導電性フィルム301〜309について、耐屈曲性、干渉むら、湿熱耐久後の表比抵抗劣化を測定した。
≫Evaluation of each sample≫
Regarding the produced conductive films 301 to 309, the bending resistance, the interference unevenness, and the deterioration of the table specific resistance after wet heat durability were measured.

(耐屈曲性)
作製した導電性フィルムを、JIS K 5400に規定の方法に準じて耐屈曲性を評価した。耐屈曲性評価にあたり、導電性フィルム試料の巻き付けには直径10mmのステンレス棒を用いた。
(Bending resistance)
The bending resistance of the produced conductive film was evaluated according to the method specified in JIS K5400. In the evaluation of the bending resistance, a stainless steel rod having a diameter of 10 mm was used for winding the conductive film sample.

電極層の状態について、下記のようにランク評価を行った。   The rank of the electrode layer was evaluated as described below.

◎ : 何らの変化もなかった
○ : 僅かに変形したが、実用上問題ない
△ : 電極層に微細なクラックが発生した
× : 電極層に割れが発生した
(色むら)
iPad(登録商標)(Apple社製 9.7インチIPS液晶のタブレット型コンピューター)のタッチパネルを外し、作製した導電性フィルムを25μmの両面接着テープ(リンテック社製 基材レステープ MO−3005C)を介し、導電層がディスプレイ面に向くように貼り合わせた。ディスプレイに白色を表示し、斜め45°より偏光サングラスを通してディスプレイ表面を観察した。
◎: No change was observed.: Slightly deformed, but no problem occurred in practical use. :: Fine cracks occurred in the electrode layer. X: Cracks occurred in the electrode layer (uneven color).
The touch panel of the iPad (registered trademark) (a 9.7-inch IPS liquid crystal tablet computer manufactured by Apple Inc.) is removed, and the produced conductive film is put through a 25-μm double-sided adhesive tape (baseless tape MO-300C manufactured by Lintec). Then, they were bonded so that the conductive layer faced the display surface. White was displayed on the display, and the display surface was observed through polarized sunglasses at an angle of 45 °.

試験の結果、下記のようにランク評価を行った。   As a result of the test, rank evaluation was performed as follows.

◎ : 色むらは全く観察されなかった
○ : 僅かに色むらが見られたが、実用上問題ない
△ : 色むらが見られた
× : 非常に濃い虹状の色むらが観察された
(湿熱耐久による表面抵抗劣化)
表面抵抗率を測定したサンプルを、温度60℃、相対湿度90%RHの環境下で300時間放置した後、任意の10点の表面比抵抗値を測定し、平均値をサンプルの湿熱耐久後の表面抵抗率とした。
: No color unevenness was observed at all ○: Slight color unevenness was observed, but there was no practical problem △: Color unevenness was observed ×: Very deep rainbow-like color unevenness was observed (moist heat) Surface resistance deterioration due to durability)
After leaving the sample for which the surface resistivity was measured in an environment of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH for 300 hours, arbitrary 10 points of the surface resistivity were measured, and the average value was measured after the wet heat endurance of the sample. The surface resistivity was used.

試験の結果、下記のようにランク評価を行った。   As a result of the test, rank evaluation was performed as follows.

[表面抵抗劣化]=[(湿熱耐久後の表面抵抗率)−(湿熱耐久前の表面抵抗率)]/ [湿熱耐久前の表面抵抗率]としたとき、
◎ : 表面抵抗劣化が、±10%未満である
○ : 表面抵抗劣化が、±10%以上、±20%未満である
△ : 表面抵抗劣化が、±20%以上、±30%未満である
× : 表面抵抗劣化が、±30%である
以上の評価を行ったところ、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを用いたものは、いずれの評価も○以上であり、タッチパネル用の優れた導電性フィルムの支持体であることを確認した。中でも、セルロースアシレートを微量含有した環状ポリオレフィンフィルム107〜109を用いた導電性フィルムは、表面観察の結果、種々な試験後でも傷が付きにくいタッチパネル用のフィルムであることが分かった。
[Surface resistance degradation] = [(Surface resistivity after wet heat durability)-(Surface resistivity before wet heat durability)] / [Surface resistivity before wet heat durability]
◎: Surface resistance deterioration is less than ± 10% ○: Surface resistance deterioration is ± 10% or more and less than ± 20% △: Surface resistance deterioration is ± 20% or more and less than ± 30% × : The surface resistance deterioration is ± 30%. When the above evaluations were performed, those using the cyclic polyolefin film of the present invention were evaluated as ○ or more in all cases, and excellent support of a conductive film for a touch panel was obtained. I confirmed my body. Among them, a conductive film using the cyclic polyolefin films 107 to 109 containing a trace amount of cellulose acylate was found to be a film for a touch panel which is hardly damaged even after various tests as a result of surface observation.

実施例4
実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を、それぞれフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス素子用の基板フィルム(支持体)として用いた。
Example 4
The cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention produced in Example 1 were used as substrate films (supports) for flexible organic electroluminescence devices, respectively.

上記フィルムに、クリアハードコート層(両面)、防湿膜(両面)、透明導電膜(片面)の順にそれぞれの薄膜を形成した透明導電性フィルム401〜409を作製した。   Transparent conductive films 401 to 409 were prepared by forming a thin film on the film in the order of a clear hard coat layer (both surfaces), a moisture-proof film (both surfaces), and a transparent conductive film (one surface).

〈クリアハードコート層の作製〉
環状ポリオレフィンフィルム102上に下記ハードコート層塗布組成物が3μmの膜厚となるように押出しコーターでコーティングし、次いで80℃に設定された乾燥部で1分間乾燥した後、120mW/cmで紫外線照射することにより形成した。
<Preparation of clear hard coat layer>
The following coating composition for a hard coat layer is coated on a cyclic polyolefin film 102 by an extrusion coater so as to have a thickness of 3 μm, then dried in a drying unit set at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet light at 120 mW / cm 2 . It was formed by irradiation.

(クリアハードコート層塗布組成物)
ジペンタエリスリトールヘキサアタリレート単量体 60質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアタリレート2量体 20質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアタリレート3量体以上の成分 20質量部
ジメトキシベンゾフエノン 4質量部
酢酸エチル 50質量部
メチノレエチルケトン 50質量部
イソプロピルアルコール 50質量部
〈防湿膜の作製〉
プラズマ放電装置としては、電極が平行平板型のものを用い、この電極間に上記基板フィルムを載置し、かつ、混合ガスを導入して薄膜形成を行った。
なお、電極は、以下の物を用いた。200mm×200mm×2mmのステンレス板に高密度、高密着性のアルミナ溶射膜を被覆し、その後、テトラメトキシシランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射により硬化させ封孔処理を行い、更にこのようにして被覆した誘電体表面を研磨し、平滑にして、表面粗さRaが5μmとなるように加工した。このように電極を作製し、アース(接地)した。一方、印加電極としては、中空の角型の純チタンパイプに対し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆したものを複数作製し、対向する電極群とした。
(Clear hard coat layer coating composition)
Dipentaerythritol hexaatalylate dimer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaatalylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaatalylate trimer or higher component 20 parts by mass Dimethoxybenzophenone 4 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Part Methinole ethyl ketone 50 parts by weight Isopropyl alcohol 50 parts by weight <Preparation of moisture-proof film>
As the plasma discharge device, a parallel plate type electrode was used, the substrate film was placed between the electrodes, and a mixed gas was introduced to form a thin film.
The following electrodes were used. A 200 mm × 200 mm × 2 mm stainless steel plate is coated with a high-density, high-adhesion alumina sprayed film, and then a solution obtained by diluting tetramethoxysilane with ethyl acetate is applied and dried, and then cured by ultraviolet irradiation to perform a sealing treatment. Further, the surface of the dielectric material thus coated was polished and smoothed, and processed so that the surface roughness Ra became 5 μm. An electrode was prepared in this way and grounded (grounded). On the other hand, as an application electrode, a plurality of hollow square pure titanium pipes each coated with the same dielectric material under the same conditions as described above were produced to form an opposing electrode group.

また、プラズマ発生に用いる使用電源は日本電子(株)製高周波電源JRF−10000にて周波数13.56MHzの電圧で、かつ5W/cmの電力を供給し、電極間に以下の組成の混合ガスを流した。 The power source used for plasma generation is a high frequency power source JRF-10000 manufactured by JEOL Ltd., supplying a voltage of 13.56 MHz and a power of 5 W / cm 2 , and a mixed gas having the following composition between the electrodes. Shed.

不活性ガス :アルゴン 99.3体積%
反応性ガス1:水素 0.5体積%
反応性ガス2:テトラエトキシシラン 0.3体積%
クリアハードコート層が設けられた環状ポリオレフィンフィルム101のクリアハードコート層上に、上記反応ガス、反応条件により大気圧プラズマ処理を行い、防湿膜としてそれぞれ18nmの膜厚の酸化ケイ素膜を作製した。
Inert gas: 99.3% by volume of argon
Reactive gas 1: 0.5% by volume of hydrogen
Reactive gas 2: 0.3% by volume of tetraethoxysilane
Atmospheric pressure plasma treatment was performed on the clear hard coat layer of the cyclic polyolefin film 101 provided with the clear hard coat layer under the above-mentioned reaction gas and reaction conditions to produce a silicon oxide film having a thickness of 18 nm as a moisture-proof film.

〈透明導電膜の作製〉
供給電力を12W/cmに変更した以外は、防湿膜の形成と同様の大気圧ブラズマ条件で、混合ガスは下記の組成に変更したものを流し透明導電膜を作製した。
<Preparation of transparent conductive film>
Except that the supply power was changed to 12 W / cm 2 , the mixture gas was changed to the following composition under the same atmospheric pressure plasma conditions as the formation of the moisture-proof film, and a transparent conductive film was produced.

不活性ガス :ヘリウム 98.69体積%
反応性ガス1:水素 0.05体積%
反応性ガス2:インジウムアセチルアセトナート 1.2体積%
反応性ガス3:ジブチルスズジアセテート 0.05体積%
反応性ガス4:テトラエトキシシラン 0.01体積%
クリアハードコート層、酸化ケイ素層が設けられた環状ポリオレフィンフィルム101の酸化ケイ素層上に、上記反応ガス、反応条件により大気圧プラズマ処理を行い、透明導電膜としてスズドープ酸化インジウム膜(ITO膜)を作製し(厚さ110nm)、透明導電性フィルム401とした。
Inert gas: 98.69% by volume of helium
Reactive gas 1: 0.05% by volume of hydrogen
Reactive gas 2: indium acetylacetonate 1.2% by volume
Reactive gas 3: 0.05% by volume of dibutyltin diacetate
Reactive gas 4: 0.01% by volume of tetraethoxysilane
Atmospheric pressure plasma treatment is performed on the silicon oxide layer of the cyclic polyolefin film 101 provided with the clear hard coat layer and the silicon oxide layer according to the above reaction gas and reaction conditions to form a tin-doped indium oxide film (ITO film) as a transparent conductive film. The transparent conductive film 401 was manufactured (thickness: 110 nm).

<透明導電性フィルム402〜409>
透明導電性フィルム401と同様にして、環状ポリオレフィンフィルムフィルム103、104、106〜109、112及び113を用いて透明導電性フィルム402〜409を作製した。
<Transparent conductive films 402 to 409>
In the same manner as the transparent conductive film 401, the transparent conductive films 402 to 409 were produced using the cyclic polyolefin film films 103, 104, 106 to 109, 112, and 113.

このようにして得られた透明導電性フィルム401〜409に対し、下記の評価を行った。   The following evaluations were performed on the transparent conductive films 401 to 409 thus obtained.

≪評価≫
(透過率)
東京電色製TURBIDITY METER T2600DAで測定した。
≪Evaluation≫
(Transmissivity)
The measurement was performed using TURBIDITY METER T2600DA manufactured by Tokyo Denshoku.

(透湿度評価)
透湿度はJIS Z−0208に記載の条件(40℃、90%RH)で測定した。
(Evaluation of moisture permeability)
The moisture permeability was measured under the conditions described in JIS Z-0208 (40 ° C., 90% RH).

また、1時間180℃で加熱後、1時間室温で放冷するという一連の冷熟サイクルを10回行った後での測定も行った。   The measurement was also performed after a series of 10 cooling cycles of heating at 180 ° C. for 1 hour and then cooling at room temperature for 1 hour.

(比抵抗)
JIS R−1637に従い、四端子法により求めた。なお、測定には三菱化学製ロレスター環状ポリオレフィンフィルムGP、MCP−T600を用いた。
(Specific resistance)
It was determined by a four-terminal method according to JIS R-1637. In addition, Mitsubishi Chemical Lorester cyclic polyolefin film GP and MCP-T600 were used for the measurement.

以上の評価を行ったところ、本発明の環状ポリオレフィンフィルムは優れた導電性フィルムの支持体であることを確認した。   As a result of the above evaluations, it was confirmed that the cyclic polyolefin film of the present invention was an excellent conductive film support.

〈有機EL素子の作製方法〉
透明導電性フィルム1として前記透明導電性フィルムを用い、この上に透明導電膜(陽電極)をパターニングした。その後、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄し、次いで煮沸エタノール中から引き上げ乾燥した。次いで、透明導電膜表面を超音波洗浄した後、真空蒸着装置でN,N−ジフェニル−m−トリル−4,4′−ジアミン−1,1′−ビフェニル(TPD)を蒸着速度0.2nm/secで55nmの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
<Method of manufacturing organic EL element>
The transparent conductive film was used as the transparent conductive film 1, and a transparent conductive film (positive electrode) was patterned thereon. Thereafter, the substrate was subjected to ultrasonic cleaning using a neutral detergent, acetone and ethanol, and then pulled out from boiling ethanol and dried. Next, after the surface of the transparent conductive film was subjected to ultrasonic cleaning, N, N-diphenyl-m-tolyl-4,4'-diamine-1,1'-biphenyl (TPD) was deposited in a vacuum deposition apparatus at a deposition rate of 0.2 nm /. Vapor deposition was performed to a thickness of 55 nm in seconds to form a hole injection transport layer.

さらに、Alq:トリス(8−キノリノラト)アルミニウムを蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに蒸着して、電子注入輸送発光層とした。次いで、スパッタ装置でDCスパッタ法にて Al・Su合金(Su:10at%)をターゲットとして陰電極
を200nmの厚さに製膜した。この時のスパッタガスにはArを用い、ガス圧3.5Pa、ターゲットと基板間距離(Ts)9.0cmとした。また、投入電力は1.2W/cmとした。
Further, Alq 3 : tris (8-quinolinolato) aluminum was vapor-deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm / sec to a thickness of 50 nm to form an electron-injection-transport luminescent layer. Next, a negative electrode was formed to a thickness of 200 nm by a DC sputtering method using a sputtering apparatus and using an Al.Su alloy (Su: 10 at%) as a target. At this time, Ar was used as the sputtering gas, the gas pressure was 3.5 Pa, and the distance between the target and the substrate (Ts) was 9.0 cm. The input power was 1.2 W / cm 2 .

最後に、SiOを200nmの厚さにスパッタして保護層として、有機EL発光素子を得た。この有機EL発光素子は、それぞれ2本ずつの平行ストライプ状陰電極と、8本の平行ストライプ状用電極を互いに直交させ、2×2mm縦横の素子単体(画素)を互いに2mmの間隔で配置し、16画素の素子としたものである。 Finally, SiO 2 was sputtered to a thickness of 200 nm to obtain an organic EL device as a protective layer. In this organic EL device, two parallel stripe-shaped negative electrodes and eight parallel stripe-shaped electrodes are orthogonal to each other, and 2 × 2 mm vertical and horizontal element units (pixels) are arranged at an interval of 2 mm from each other. , 16 pixels.

このようにして得られた有機EL素子を9Vで駆動させたところ、本発明の環状ポリオレフィンフィルムを用いた透明導電性フィルム401〜409は、350cd/m以上の輝度が得られた。 When the organic EL device thus obtained was driven at 9 V, the transparent conductive films 401 to 409 using the cyclic polyolefin film of the present invention had a luminance of 350 cd / m 2 or more.

本発明によれば、ガラス転移温度が高く、また線膨張率の低い有機ELディスプレイ用、又はタッチパネル用等、優れたディスプレイ基板用透明フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an excellent transparent film for a display substrate such as an organic EL display having a high glass transition temperature and a low linear expansion coefficient, or a touch panel.

実施例5
実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を、ナノインプリント用の基材フィルム(支持体)として用いた。
Example 5
The cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention produced in Example 1 were used as base films (supports) for nanoimprinting.

(レーザー干渉露光によるモールドの作製)
石英ガラス基板(厚さ1.2mm、70mm角)にレジストをスピンコートで塗布する。レジスト材料としては、露光部分のレジストを除去するポジ型レジストを用いる。
(Mold production by laser interference exposure)
A resist is applied by spin coating on a quartz glass substrate (1.2 mm thick, 70 mm square). As the resist material, a positive resist that removes the resist in the exposed portion is used.

液浸露光光学系を用いて、レジストに微細なパターンを描画する。液浸露光光学系は、紫外線レーザー(波長266nm)を使用して、石英ガラス基板の法線方向に対する傾き15度で二つの光束を照射してレジストに第1の干渉縞を形成し、第1の露光を行う。レーザー光源としては「コヒーレント社製MBD266」が用いられる。次に、石英ガラス基板を90度回転させ、第1の干渉縞に直交する第2の干渉縞を形成して、第2の露光を行う。第1の露光と第2の露光で、干渉縞の明るい部分が交差した部分のみが残るように現像を行う。以上のプロセスで、石英ガラス基板上に、ピッチ300nm、深さ150nmのホールが規則正しく並んだレジストが形成された。ドライエッチングで石英ガラスに描画サイズ50mm角の微細なホール構造(ピッチ300nm、深さ150nm)を形成した。   Using a liquid immersion exposure optical system, a fine pattern is drawn on the resist. The immersion exposure optical system uses an ultraviolet laser (wavelength: 266 nm) to irradiate two light beams at an inclination of 15 degrees with respect to the normal direction of the quartz glass substrate to form first interference fringes on the resist. Is exposed. As a laser light source, "MBD266 made by Coherent" is used. Next, the quartz glass substrate is rotated 90 degrees to form a second interference fringe orthogonal to the first interference fringe, and a second exposure is performed. In the first exposure and the second exposure, development is performed so that only a portion where bright portions of interference fringes intersect remains. Through the above process, a resist was formed on the quartz glass substrate in which holes having a pitch of 300 nm and a depth of 150 nm were regularly arranged. A fine hole structure (pitch: 300 nm, depth: 150 nm) with a drawing size of 50 mm square was formed in quartz glass by dry etching.

(石英ガラス基板の離型処理)
塩素系フッ素樹脂含有シランカップリング剤であるトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリクロロシラン[CF−(CF−CH−CHSiCl]で石英ガラス製のモールドを表面処理し、微細な形状表面へフッ素樹脂の化学吸着膜を生成した。
(Release treatment of quartz glass substrate)
Chlorine tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl trichlorosilane is a fluorine resin-containing silane coupling agent [CF 3 - (CF 2) 5 -CH 2 -CH 2 SiCl 3] In the quartz glass The mold was surface-treated to form a fluororesin chemisorption film on the surface of the fine shape.

(液状組成物の準備)
樹脂として、ポリメチルメタクリレート(PMMA)を準備し、トルエンに溶解して液状組成物を作製した。樹脂と溶媒の質量比率を1/20(5%)とした。
(Preparation of liquid composition)
Polymethyl methacrylate (PMMA) was prepared as a resin, and dissolved in toluene to prepare a liquid composition. The mass ratio between the resin and the solvent was 1/20 (5%).

(液状組成物の塗布)
液晶組成物をワイヤーバーにより、80μmのウェット膜厚で石英ガラス基板上に塗布した。
(Application of liquid composition)
The liquid crystal composition was applied on a quartz glass substrate with a wet thickness of 80 μm using a wire bar.

(フィルムの貼合)
液状組成物を塗布後5秒以内に、環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を、塗布した液状組成物にそれぞれ密着させて貼合した。
(Lamination of film)
Within 5 seconds after the application of the liquid composition, the cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112 and 113 were adhered to the applied liquid composition, respectively.

(乾燥)
液状組成物が塗布された石英ガラス基板と環状ポリオレフィンフィルムとが貼合された状態で室温で55秒乾燥させた。
(Dry)
The laminate was dried at room temperature for 55 seconds with the quartz glass substrate coated with the liquid composition and the cyclic polyolefin film bonded together.

(離型)
乾燥後、フィルムを離型したところ、フィルム上にピッチ300nm、高さ150nmのピラー形状が転写された。表面を走査型顕微鏡で観察したところ、該ピッチ、高さとも優れた均一性を有していた。
(Release)
After drying, when the film was released, a pillar shape having a pitch of 300 nm and a height of 150 nm was transferred onto the film. Observation of the surface with a scanning microscope revealed that the pitch and height had excellent uniformity.

以上から、実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113は、ナノインプリント用の基材フィルム(支持体)として用いることに優れている。   As described above, the cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention prepared in Example 1 are excellent for use as a base film (support) for nanoimprint.

実施例6
実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を、フレキシブル電子回路用の基材フィルム(支持体)として用いた。
Example 6
The cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention produced in Example 1 were used as base films (supports) for flexible electronic circuits.

(アンカー層付基板1の作製)
〈エチレン性の不飽和基を有する重合性化合物1の合成〉
下記の手順に従って、重合性基としてエチレン性の不飽和基を有する重合性化合物1を合成した。
(Production of substrate 1 with anchor layer)
<Synthesis of polymerizable compound 1 having an ethylenically unsaturated group>
According to the following procedure, polymerizable compound 1 having an ethylenically unsaturated group as a polymerizable group was synthesized.

500mlの三つ口フラスコに、エチレングリコールジアセテートを20ml、ヒドロキシエチルアクリレートを7.43g、シアノエチルアクリレートを32.08g添加し、80℃に昇温した後、その中に、油溶性アゾ重合開始剤としてV−601(ジメチル−2,2′−アゾビス(2−メチルイソプロピオネート))の0.737g及びエチレングリコールジアセテートの20mlの混合液を4時間かけて滴下し、滴下終了後、更に3時間反応させた。   20 ml of ethylene glycol diacetate, 7.43 g of hydroxyethyl acrylate, 32.08 g of cyanoethyl acrylate were added to a 500 ml three-necked flask, and the temperature was raised to 80 ° C., and the oil-soluble azo polymerization initiator was added therein. A mixture of 0.737 g of V-601 (dimethyl-2,2'-azobis (2-methylisopropionate)) and 20 ml of ethylene glycol diacetate was added dropwise over 4 hours. Allowed to react for hours.

上記反応溶液に、ジ−tert−ブチルハイドロキノンを0.32g、ネオスタンU−600(オクチル酸ビスマス、日東化成製)を1.04g、光硬化性樹脂添加剤としてカレンズAOI(アクロキシエチルイソシアネート、昭和電工(株)製)を21.87g、及びエチレングリコールジアセテートを22g添加し、55℃で6時間反応を行った。その後、反応液にメタノールを4.1g加え、さらに1.5時間反応を行った。反応終了後、水で再沈を行い、固形物を取り出し、相互作用性基としてニトリル基を有する重合性化合物1を得た。   0.32 g of di-tert-butylhydroquinone, 1.04 g of Neostan U-600 (bismuth octylate, manufactured by Nitto Kasei), and Karenz AOI (acroxyethyl isocyanate, Showa) as a photocurable resin additive were added to the reaction solution. 21.87 g and 22 g of ethylene glycol diacetate were added and reacted at 55 ° C. for 6 hours. Thereafter, 4.1 g of methanol was added to the reaction solution, and the reaction was further performed for 1.5 hours. After completion of the reaction, reprecipitation was carried out with water, and a solid substance was taken out to obtain a polymerizable compound 1 having a nitrile group as an interactive group.

重合性化合物1は、重合性基(エチレン性の不飽和基)を含有する繰り返し単位:ニトリル基を含有する繰り返し単位=22:78(モル比)であった。また、分子量はポリスチレン換算で、Mw=8.2万(Mw/Mn=3.4)であった。   Polymerizable compound 1 was a repeating unit containing a polymerizable group (ethylenically unsaturated group): a repeating unit containing a nitrile group = 22: 78 (molar ratio). The molecular weight was Mw = 820,000 (Mw / Mn = 3.4) in terms of polystyrene.

〈アンカー層塗布液1の調製〉
上記調製した重合性化合物1を10質量部と、アセトニトリルを90質量部混合して撹拌し、固形分が10質量%のアンカー層塗布液1を調製した。
<Preparation of anchor layer coating liquid 1>
10 parts by mass of the polymerizable compound 1 prepared above and 90 parts by mass of acetonitrile were mixed and stirred to prepare an anchor layer coating solution 1 having a solid content of 10% by mass.

〈アンカー層1の形成〉
基板として実施例1で作製した環状ポリオレフィンフィルム102を用い、その表面を酸素プラズマ処理した後、アンカー層塗布液1を、乾燥後の膜厚が1.0μmとなるように、スピンコート塗布方式で塗布し、80℃で30分間乾燥した。
<Formation of anchor layer 1>
After using the cyclic polyolefin film 102 prepared in Example 1 as a substrate and subjecting its surface to oxygen plasma treatment, the anchor layer coating liquid 1 was spin-coated so that the film thickness after drying would be 1.0 μm. Coated and dried at 80 ° C. for 30 minutes.

〈アンカー層1の硬化処理〉
次いで、三永電機製のUV照射ランプ(型番:UVF−502S、ランプ:UXM−501MD)を用い、1.5mW/cmの照射パワー(ウシオ電機製紫外線積算光量計UIT150−受光センサーUVD−S254で照射パワーを測定)、積算光量が500mJ/cmの条件で紫外線照射を行って、アンカー層1を硬化させた。この硬化条件を、条件Aと称す。
<Curing treatment of anchor layer 1>
Subsequently, using a UV irradiation lamp (model number: UVF-502S, lamp: UXM-501MD) manufactured by Sanaga Electric Co., Ltd., irradiation power of 1.5 mW / cm 2 (Ultraviolet integrated light meter UIT150 manufactured by Ushio Inc.) — Light receiving sensor UVD-S254 And the irradiation power was measured under the condition that the integrated light amount was 500 mJ / cm 2 , and the anchor layer 1 was cured. This curing condition is referred to as condition A.

上記条件Aで硬化したアンカー層1を単離し、アセトン液中で、25℃で12時間の抽出処理を行った後、処理前のアンカー層の質量をW1(g)、アセトン抽出後のアンカー層の質量をW2(g)としたとき、下式によりゲル分率を求めた。測定の結果、アンカー層1のゲル分率は93%であった。   After the anchor layer 1 cured under the above condition A was isolated and subjected to an extraction treatment in an acetone solution at 25 ° C. for 12 hours, the mass of the anchor layer before the treatment was changed to W1 (g), and the anchor layer after the acetone extraction was extracted. When the mass of was determined to be W2 (g), the gel fraction was determined by the following equation. As a result of the measurement, the gel fraction of the anchor layer 1 was 93%.

ゲル分率(%)=(W2/W1)×100
《金属パターンの作製》
〔金属パターン1の作製〕
上記作製したアンカー層付基板1を用いて、下記の金属パターンの形成工程に従って、金属パターン1を作製した。
Gel fraction (%) = (W2 / W1) × 100
<< Making of metal pattern >>
[Production of Metal Pattern 1]
Using the substrate 1 with the anchor layer manufactured as described above, a metal pattern 1 was manufactured according to the following metal pattern forming process.

(金属パターンの形成工程)
1:触媒インクの付与工程
2:乾燥工程
3:表面処理工程
4:活性化工程
5:無電解めっき工程
6:電気めっき工程
(1:触媒インクの付与工程)
〈触媒インク1の調製〉
下記の各添加剤を混合して、触媒インク1を調製した。
(Metal pattern forming process)
1: Step of applying catalyst ink 2: Drying step 3: Surface treatment step 4: Activation step 5: Electroless plating step 6: Electroplating step (1: Step of applying catalyst ink)
<Preparation of catalyst ink 1>
The following additives were mixed to prepare Catalyst Ink 1.

無電解めっきの触媒前駆体:酢酸パラジウム 0.05質量%
2酢酸エチレン 79.95質量%
t−ブチルアルコール 20質量%
〈触媒インク1の付与〉
上記調製した触媒インク1を、インクジェット記録ヘッドを用いて、前記形成したアンカー層付基板1のアンカー層上に、75μm、100μm、150μm、200μmの各ライン&スペースのパターン描画を行って、試料1を作製した。
Catalyst precursor for electroless plating: palladium acetate 0.05% by mass
79.95% by mass of ethylene diacetate
t-butyl alcohol 20% by mass
<Application of catalyst ink 1>
The catalyst ink 1 prepared above was subjected to pattern drawing of lines and spaces of 75 μm, 100 μm, 150 μm, and 200 μm on the anchor layer of the substrate 1 with the anchor layer formed using an ink jet recording head. Was prepared.

使用したインクジェット記録ヘッドは、ピエゾ方式で4plサイズのインク液滴を吐出することが可能なコニカミノルタ社製の512Sヘッドを用いた。   The used inkjet recording head used was a 512S head manufactured by Konica Minolta, which can eject ink droplets of 4 pl size in a piezo method.

(2:乾燥工程)
上記触媒インク1を付与した後、50℃の温風を、触媒インク付与面へ10分間吹き付けて、乾燥した。
(2: drying process)
After the application of the catalyst ink 1, warm air at 50 ° C. was blown onto the surface to which the catalyst ink was applied for 10 minutes to dry the surface.

(3:表面処理工程)
乾燥を行った上記試料1に対し、下記の方法に従って、表面処理方法を施した。
(3: Surface treatment step)
The dried sample 1 was subjected to a surface treatment method according to the following method.

〈表面処理方法〉
ノニオン性界面活性剤含有のメッキコンディショナー(商品名:PC−321、メルタック社製)の10質量%溶液に、上記試料1を60℃で、5分間浸漬させて、表面処理を施した。
<Surface treatment method>
The sample 1 was immersed in a 10% by mass solution of a nonionic surfactant-containing plating conditioner (trade name: PC-321, manufactured by Meltac Inc.) at 60 ° C. for 5 minutes to perform a surface treatment.

上記表面処理を施した試料1と、未処理の試料の水に対する接触角を測定した結果、表面処理により接触角が20%以上低下していることを確認した。   As a result of measuring the contact angles of the surface-treated sample 1 and the untreated sample with water, it was confirmed that the contact angle was reduced by 20% or more due to the surface treatment.

(4:活性化工程)
次いで、表面処理を施した試料1に対し、下記の活性化液に35℃で10分間浸漬して、活性化処理を施した。
(4: Activation step)
Next, the surface-treated sample 1 was immersed in the following activating solution at 35 ° C. for 10 minutes to perform an activating treatment.

〈活性化液〉
反射光又は反対側の面から出射する透過光のいずれかを撮影して測定する。
<Activation liquid>
Either reflected light or transmitted light emitted from the opposite surface is photographed and measured.

アルカップMRD2−A(上村工業社製) 18ml
アルカップMRD2−C(上村工業社製) 60ml
純水で1000mlに仕上げた。
Alcup MRD2-A (Uemura Kogyo) 18ml
Alcup MRD2-C (made by Uemura Industries) 60ml
The volume was adjusted to 1000 ml with pure water.

(5:無電解めっき工程)
下記の無電解銅めっき溶液を、水酸化ナトリウムで、pHを13.0に調整した後、50℃の温度で、5:活性化処理を施した試料1に無電解めっき処理を行い、約0.2μmの膜厚の銅メッキ層を形成した。
(5: Electroless plating process)
After adjusting the pH of the following electroless copper plating solution to 13.0 with sodium hydroxide, the sample 1 subjected to the activation treatment at a temperature of 50 ° C. A copper plating layer having a thickness of 0.2 μm was formed.

〈無電解銅めっき溶液〉
メルプレートCU−5100A(メルテックス社製) 60ml
メルプレートCU−5100B(メルテックス社製) 55ml
メルプレートCU−5100C(メルテックス社製) 20ml
メルプレートCU−5100M(メルテックス社製) 40ml
純水で1000mlに仕上げた。
<Electroless copper plating solution>
Melplate CU-5100A (Meltex) 60ml
Melplate CU-5100B (Meltex) 55ml
Melplate CU-5100C (Meltex) 20ml
Melplate CU-5100M (Meltex) 40ml
The volume was adjusted to 1000 ml with pure water.

上記無電解銅めっき溶液は、銅濃度として2.5質量%、ホルマリン濃度が1質量%、エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)濃度が2.5質量%である。   The electroless copper plating solution has a copper concentration of 2.5% by mass, a formalin concentration of 1% by mass, and an ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) concentration of 2.5% by mass.

(6:電気めっき工程)
上記無電解めっき処理を施した試料1を電気めっき浴に浸漬し、陽極として銅板を用い、電流密度1.5A/dmで電気めっきを行い、約15μmの銅膜を形成して、金属パターン1を作製した。
(6: electroplating process)
The sample 1 subjected to the electroless plating was immersed in an electroplating bath, and electroplated at a current density of 1.5 A / dm 2 using a copper plate as an anode to form a copper film of about 15 μm. 1 was produced.

〈電気めっき浴の調製〉
硫酸銅五水塩 60g
硫酸 190g
塩素イオン 50mg
カッパーグリームPCM(メルテックス社製) 5ml
純水で1000mlに仕上げた。
<Preparation of electroplating bath>
Copper sulfate pentahydrate 60g
190g of sulfuric acid
Chloride ion 50mg
Copper Gream PCM (Meltex) 5ml
The volume was adjusted to 1000 ml with pure water.

以上の工程と同様にして、環状ポリオレフィンフィルム103、104、106〜109、112及び113を、フレキシブル電子回路用の基材フィルム(支持体)として用いた。   In the same manner as in the above steps, the cyclic polyolefin films 103, 104, 106 to 109, 112, and 113 were used as base films (supports) for flexible electronic circuits.

《金属パターンの評価》
上記作製した各金属パターンについて、下記の各評価を行った。
《Evaluation of metal pattern》
The following evaluations were performed for each of the prepared metal patterns.

〔めっき品質の評価〕
各金属パターンの無電解めっき工程まで処理を行った試料の描画した75μm、100μm、150μm、200μmのライン&スペースパターンについて目視観察し、下記の基準に従って画像品質の評価を行った。
[Evaluation of plating quality]
The drawn 75 μm, 100 μm, 150 μm, and 200 μm line and space patterns of the samples processed up to the electroless plating step of each metal pattern were visually observed, and the image quality was evaluated according to the following criteria.

○:無電解めっき終了後のライン&スペースパターンでは、印字部外への異常析出が無く、めっきの光沢低下やクラック等も見られず良好な品質である
△:無電解めっき終了後のライン&スペースパターンでは、印字部外への異常析出が僅かに発生するが、めっきの光沢低下やクラック等は認められない
×:無電解めっき終了後のライン&スペースパターンでは、印字部外への異常析出、めっきの光沢低下、クラックの発生のいずれか一つが発生している
実用上△以上が許容内である。
:: The line and space pattern after the completion of the electroless plating has no abnormal deposition outside the printed portion, and has good quality without any decrease in plating gloss or cracks. In the space pattern, abnormal deposition outside the printed area slightly occurs, but no decrease in plating gloss or cracks are observed. ×: Abnormal deposition outside the printed area in the line & space pattern after electroless plating is completed. In this case, any one of reduction in the gloss of the plating and generation of cracks has occurred.

〔高温・高湿環境下での耐久性(密着耐性)の評価〕
上記作製した各金属パターンを、80℃、90%RHの高温・高湿環境下で7日間保存した後、直ちに、240℃、260℃のホットプレート上で加熱処理を行い、基板と銅めっきパターン間の密着性(ブリスターの発生の有無)を目視観察し、下記の基準に従って、耐久性(密着耐性)の評価を行った。
[Evaluation of durability (adhesion resistance) under high temperature and high humidity environment]
After storing each of the prepared metal patterns in a high-temperature and high-humidity environment of 80 ° C. and 90% RH for 7 days, immediately heat-treat them on a hot plate at 240 ° C. and 260 ° C. to obtain a substrate and a copper plating pattern. The adhesion between the layers (the presence or absence of blisters) was visually observed, and the durability (adhesion resistance) was evaluated according to the following criteria.

○:ホットプレート上で260℃に加熱しても、基板と銅めっきパターン間でのブリスターの発生は認められない
△:ホットプレート上で240℃に加熱しても、基板と銅めっきパターン間でのブリスターの発生は認められないが、260℃の加熱では、ややブリスターの発生が認められる ×:ホットプレート上で240℃に加熱すると、明らかに基板と銅めっきパターン間でのブリスターの発生は認められる
上記評価を行ったところ、本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を用いて金属パターンを作製した試料は、いずれも△〜○の評価であり、優れたフレキシブル電子回路用の基材フィルム(支持体)であることが分かった。
:: No blistering was observed between the substrate and the copper plating pattern even when heated to 260 ° C. on the hot plate. Δ: Between the substrate and the copper plating pattern even when heated to 240 ° C. on the hot plate. No blistering was observed, but some blistering was observed when heated at 260 ° C. ×: When heated to 240 ° C on a hot plate, blistering was clearly observed between the substrate and the copper plating pattern. As a result of performing the above evaluation, all of the samples in which the metal patterns were prepared using the cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention were evaluated as Δ to 、, and excellent flexible electronic devices were obtained. It was found to be a substrate film (support) for circuits.

実施例7
実施例1で作製した本発明の環状ポリオレフィンフィルム102〜104、106〜109、112及び113を偽造防止用媒体の基材フィルム(支持体)として用いた。
Example 7
The cyclic polyolefin films 102 to 104, 106 to 109, 112, and 113 of the present invention produced in Example 1 were used as a base film (support) of a medium for preventing forgery.

(配向層用塗布液AL−1の調製)
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、配向層用塗布液AL−1として用いた。
(Preparation of coating liquid AL-1 for alignment layer)
The following composition was prepared and filtered with a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, and used as a coating liquid for alignment layer AL-1.

〈配向層用塗布液組成〉
ポリビニルアルコール(PVA205、クラレ(株)製) 3.21質量%
ポリビニルピロリドン(Luvitec K30、BASFジャパン(株)製)
1.48質量%
蒸留水 52.10質量%
メタノール 43.21質量%
(配向層用塗布液AL−2の調製)
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、配向層用塗布液AL−2として用いた。
<Coating liquid composition for alignment layer>
Polyvinyl alcohol (PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 3.21% by mass
Polyvinylpyrrolidone (Luvitec K30, manufactured by BASF Japan Ltd.)
1.48 mass%
Distilled water 52.10% by mass
43.21% by mass of methanol
(Preparation of alignment layer coating liquid AL-2)
The following composition was prepared and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, and used as a coating liquid for alignment layer AL-2.

〈配向層用塗布液AL−2組成〉
液晶配向剤(AL−1−1) 1.0質量%
テトラヒドロフラン 99.0質量%

Figure 0006657602
<Coating liquid AL-2 composition for alignment layer>
Liquid crystal aligning agent (AL-1-1) 1.0% by mass
99.0% by mass of tetrahydrofuran
Figure 0006657602

(光学異方性層用塗布液LC−1の調製)
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、光学異方性層用塗布液LC−1として用いた。
(Preparation of coating liquid LC-1 for optically anisotropic layer)
After preparing the following composition, the composition was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, and used as a coating liquid LC-1 for an optically anisotropic layer.

LC−1−1は二つの反応性基を有する液晶化合物であり、二つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。   LC-1-1 is a liquid crystal compound having two reactive groups. One of the two reactive groups is an acryl group which is a radical reactive group, and the other is an oxetane group which is a cationic reactive group. is there.

〈光学異方性層用塗布液組成〉
重合性液晶化合物(LC−1−1) 32.88質量%
水平配向剤(LC−1−2) 0.05質量%
カチオン系光重合開始剤
(CPI100−P、サンアプロ株式会社製) 0.66質量%
重合制御剤
(IRGANOX1076、BASFジャパン(株)製)
0.07質量%
メチルエチルケトン 46.34質量%
シクロヘキサノン 20.00質量%

Figure 0006657602
<Coating liquid composition for optically anisotropic layer>
32.88% by mass of polymerizable liquid crystal compound (LC-1-1)
Horizontal alignment agent (LC-1-2) 0.05% by mass
Cationic photopolymerization initiator (CPI100-P, manufactured by San Apro Corporation) 0.66% by mass
Polymerization control agent (IRGANOX1076, manufactured by BASF Japan Ltd.)
0.07% by mass
46.34% by mass of methyl ethyl ketone
Cyclohexanone 20.00% by mass
Figure 0006657602

(光学異方性層用塗布液LC−2の調製)
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、光学異方性層用塗布液LC−1として用いた。
(Preparation of coating liquid LC-2 for optically anisotropic layer)
After preparing the following composition, the composition was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, and used as a coating liquid LC-1 for an optically anisotropic layer.

〈光学異方性層用塗布液LC−1組成〉
ジアクリレート液晶化合物
(Paliocolor LC242(商品名、BASFジャパン(株)製))
31.53質量%
光重合開始剤
(IRGACURE907(商品名、BASFジャパン(株)製))
0.99質量%
アルキルチオキサントン
(カヤキュアDETX−S(商品名、日本化薬(株)製)) 0.33質量%
フッ素系界面活性剤
(メガファックF−176PF(商品名、DIC(株)製))
0.15質量%
メチルエチルケトン 67.00質量%
(添加剤層OC−1の調製)
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、転写接着層用塗布液OC−1として用いた。ラジカル光重合開始剤RPI−1としては2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)1,3,4−オキサジアゾールを用いた。下記組成はその溶液としての使用量である。
<Coating liquid LC-1 composition for optically anisotropic layer>
Diacrylate liquid crystal compound (Paliocolor LC242 (trade name, manufactured by BASF Japan Ltd.))
31.53% by mass
Photopolymerization initiator (IRGACURE907 (trade name, manufactured by BASF Japan Ltd.))
0.99 mass%
Alkylthioxanthone (Kayacure DETX-S (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) 0.33% by mass
Fluorosurfactant (MegaFac F-176PF (trade name, manufactured by DIC Corporation))
0.15% by mass
67.00% by mass of methyl ethyl ketone
(Preparation of Additive Layer OC-1)
After the following composition was prepared, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, and used as a transfer adhesive layer coating liquid OC-1. As the radical photopolymerization initiator RPI-1, 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) 1,3,4-oxadiazole was used. The following composition is the amount used as the solution.

〈添加剤層用塗布液組成〉
バインダー(MH−101−5、藤倉化成(株)製) 7.63質量%
ラジカル光重合開始剤(RPI−1) 0.49質量%
界面活性剤 0.03質量%
(メガファックF−176PF、DIC(株)製)
メチルエチルケトン 91.85質量%
(複屈折パターン作製材料P−1の作製)
環状ポリオレフィンフィルム102の上にアルミニウムを60nm蒸着し、反射層付き支持体を作製した。そのアルミニウムを蒸着した面上にワイヤーバーを用いて配向層用塗布液AL−1を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は0.5μmであった。配向層をラビング処理した後、ワイヤーバーを用いて光学異方性層用塗布液LC−1を塗布、膜面温度90℃で2分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ4.5μmの光学異方性層を形成した。この際用いた紫外線の照度はUV−A領域(波長320〜400nmの積算)において500mW/cm、照射量はUV−A領域において500mJ/cmであった。光学異方性層のリターデーションは400nmであり、20℃で固体のポリマーであった。最後に、光学異方性層の上に添加剤層用塗布液OC−1を塗布、乾燥して0.8μmの添加剤層を形成し、実施例1の複屈折パターン作製材料P−1を作製した。
<Coating liquid composition for additive layer>
Binder (MH-101-5, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) 7.63% by mass
0.49% by mass of radical photopolymerization initiator (RPI-1)
Surfactant 0.03% by mass
(Mega Fuck F-176PF, manufactured by DIC Corporation)
91.85% by mass of methyl ethyl ketone
(Production of birefringence pattern production material P-1)
Aluminum was vapor-deposited on the cyclic polyolefin film 102 to a thickness of 60 nm to produce a support having a reflective layer. The coating liquid for alignment layer AL-1 was applied to the aluminum-deposited surface using a wire bar and dried. The dry film thickness was 0.5 μm. After rubbing the alignment layer, the coating liquid LC-1 for an optically anisotropic layer was applied using a wire bar, dried at a film surface temperature of 90 ° C. for 2 minutes to obtain a liquid crystal phase, and then 160 W under air. UV irradiation was performed using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) to fix the orientation state, thereby forming an optically anisotropic layer having a thickness of 4.5 μm. The illuminance of the ultraviolet rays used at this time was 500 mW / cm 2 in the UV-A region (integration of wavelengths from 320 to 400 nm), and the irradiation amount was 500 mJ / cm 2 in the UV-A region. The retardation of the optically anisotropic layer was 400 nm and was a polymer solid at 20 ° C. Finally, a coating liquid OC-1 for an additive layer is applied on the optically anisotropic layer and dried to form an additive layer having a thickness of 0.8 μm, and the birefringence pattern builder P-1 of Example 1 is obtained. Produced.

(偽造防止媒体A:リターデーションのパターニングされた複屈折パターン)
P−1をレーザー走査露光によるデジタル露光機(INPREX IP−3600H、富士フイルム(株)製)にて図45に示すように、0mJ/cm、8mJ/cm、25mJ/cmの露光量を用いてロールtoロールでパターン露光した。図中、無地で示した領域の露光量が0mJ/cm、横線で示した領域の露光量が8mJ/cm、縦線で示した領域の露光量が25mJ/cmとなるように露光した。その後、遠赤外線ヒーター連続炉を用い、ロールtoロールにて、膜面温度が210℃となるように20分間加熱して、複屈折パターンを有する物品P−2を作製した。物品P−2の上に偏光板(HLC−5618、サンリッツ(株)製)をかざしたところ、所定の方向でかざしたときに、物品P−2に施した複屈折パターンを確認することができた。物品P−2の上に偏光板を介して観察されるパターンの拡大図を図46に示す。図中、地のアルミ箔が銀色を呈するのに対し、格子部は紺色ないし水色、斜線部は黄色ないし橙色を呈する二色のパターンが観察される。
(Anti-counterfeit medium A: birefringent pattern patterned by retardation)
Digital exposure machine P-1 by laser scanning exposure, as shown in FIG. 45 at (INPREX IP-3600H, produced by Fujifilm Corp.), 0mJ / cm 2, 8mJ / cm 2, the exposure amount of 25 mJ / cm 2 Was used to perform pattern exposure with a roll-to-roll. In the figure, the exposure amount is 0 mJ / cm 2 of the area indicated by solid color, exposure so that the exposure amount of the region indicated exposure region illustrated by horizontal lines 8 mJ / cm 2, a vertical line is 25 mJ / cm 2 did. Thereafter, the article P-2 having a birefringence pattern was manufactured by using a far-infrared heater continuous furnace and heating by roll-to-roll so that the film surface temperature was 210 ° C. for 20 minutes. When a polarizing plate (HLC-5618, manufactured by Sanlitz Co., Ltd.) was held over the article P-2, the birefringence pattern applied to the article P-2 was confirmed when the polarizing plate was held in a predetermined direction. Was. FIG. 46 is an enlarged view of a pattern observed through the polarizing plate on the article P-2. In the figure, a two-color pattern is observed, in which the aluminum foil in the ground has a silver color, while the lattice portion has a dark blue or light blue color, and the hatched portions have a yellow or orange color.

(偽造防止媒体B::光軸のパターニングされた複屈折パターン)
環状ポリオレフィンフィルム102の上にアルミニウムを60nm蒸着した。次いで、アルミニウムの上に、ワイヤーバーを用いて配向層用塗布液AL−2を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は0.1μmであった。
(Anti-counterfeit medium B :: Birefringent pattern with patterned optical axis)
Aluminum was vapor-deposited on the cyclic polyolefin film 102 to a thickness of 60 nm. Next, the coating liquid for alignment layer AL-2 was applied on aluminum using a wire bar and dried. The dry film thickness was 0.1 μm.

得られた有機膜の上に図47に示すフォトマスクAを配置し、紫外線照射器(HOYA
CANDEO OPTRONICS社製、商品名:EXECURE3000)より出射される紫外光より出射される光を、直線偏光板を介して、支持体に対して垂直の方向から100mW/cm(365nm)の強度で1秒間照射した。このとき、直線偏光板の吸収軸の方位角がフォトマスクの長辺に対して0°となるように偏光板を配置した。
A photomask A shown in FIG. 47 is arranged on the obtained organic film, and an ultraviolet irradiator (HOYA) is used.
Light emitted from ultraviolet light emitted from CANDEO OPTRONICS (trade name: EXECURE3000) is passed through a linear polarizing plate at an intensity of 100 mW / cm 2 (365 nm) from a direction perpendicular to the support. Irradiated for seconds. At this time, the polarizing plate was arranged such that the azimuth of the absorption axis of the linear polarizing plate was 0 ° with respect to the long side of the photomask.

続いて、フォトマスクを図47に示すB、C、Dと順に変更し、直線偏光板の吸収軸がそれぞれフォトマスクの長辺に対して45°、90°、135°となるように偏光板を配置した上で、同様に紫外線を照射した。   Subsequently, the photomask was changed in order of B, C, and D shown in FIG. 47, and the polarizers were set such that the absorption axes of the linear polarizers were 45 °, 90 °, and 135 ° with respect to the long side of the photomask, respectively. , And similarly irradiated with ultraviolet rays.

次いで、ワイヤーバーを用いて、光学異方性層用塗布液LC−2を塗布、膜面温度105℃で2分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて160mW/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて照度400mW/cm、照射量400mJ/cmの紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ0.9μmの光学異方性層を形成することで、図48の平面図に示すパターンの、偽造防止媒体Bを作製した。 Next, the coating liquid LC-2 for an optically anisotropic layer was applied using a wire bar, dried at a film surface temperature of 105 ° C. for 2 minutes to obtain a liquid crystal phase, and then air-cooled at 160 mW / cm 2 under air. A metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) is used to irradiate ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 to fix the orientation state thereof, and to form an optically anisotropic layer having a thickness of 0.9 μm. The forgery prevention medium B having the pattern shown in the plan view of FIG. 48 was produced.

図48に示すように、偽造防止媒体Bの文字A12、文字B13、文字C14、背景15の遅相軸はそれぞれ、長辺に対して0°、45°、90°、135°であった。また、これらの領域のリターデーションはいずれも135nm(λ/4)であった。   As shown in FIG. 48, the slow axes of the characters A12, B13, C14, and the background 15 of the forgery prevention medium B were 0 °, 45 °, 90 °, and 135 ° with respect to the long side, respectively. The retardation in each of these regions was 135 nm (λ / 4).

(製造例1)
偽造防止媒体Aを、表面改質装置MEIR−5−600(MDエキシマー社製)にて処理した。その後、UV161墨、紅、藍、黄(T&K社製)を用いて文字、及び、図柄を凸版印刷した。その後、サンカットPLシン7LK(リンテック(株)製、正面リターデーション=5nm、膜厚50μm)を用い、ドライラミネーションを行い、製造例1の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 1)
The forgery prevention medium A was treated with a surface modification device MEIR-5-600 (manufactured by MD Eximer). Thereafter, letters and designs were letterpress printed using UV161 black, red, indigo and yellow (manufactured by T & K). Thereafter, dry lamination was performed using Suncut PL Syn 7LK (manufactured by Lintec Co., Ltd., front retardation = 5 nm, film thickness 50 μm) to produce a forgery prevention medium of Production Example 1.

(製造例2)
偽造防止媒体Aを偽造防止媒体Bとする以外は、製造例1と同様に、製造例2の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 2)
A forgery prevention medium of Production Example 2 was produced in the same manner as in Production Example 1, except that the forgery prevention medium A was changed to the forgery prevention medium B.

(製造例3)
ラミネートフィルムとして、表面をサンドブラスト処理したサンカットPLシン7LK(リンテック(株)製、正面リターデーション=5nm、膜厚50μm)を用いる以外は、製造例1と同様に、製造例3の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 3)
A forgery prevention medium of Production Example 3 in the same manner as in Production Example 1, except that Sancut PL Shin 7LK (Lintec Co., Ltd., front retardation = 5 nm, film thickness 50 μm) whose surface was sandblasted was used as a laminate film. Was prepared.

(製造例4)
製造例1の偽造防止媒体の上に、LUXEL JET UV250GT(富士フイルム(株)製)を用い、KIインクにより、バリアブル情報を印字した。このようにして、製造例4の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 4)
Using LUXEL JET UV250GT (manufactured by FUJIFILM Corporation), variable information was printed on the forgery prevention medium of Production Example 1 with KI ink. Thus, the forgery prevention medium of Production Example 4 was produced.

(製造例5)
偽造防止媒体Aを、表面改質装置MEIR−5−600(MDエキシマー社製)にて処理した。その後、LUXEL JET UV250GT(富士フイルム(株)製)を用い、KIインクにより印刷を行った。その後、サンカットPLシン7LK(リンテック(株)製、正面リターデーション=5nm、膜厚50μm)を用い、ドライラミネーションを行い、製造例5の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 5)
The forgery prevention medium A was treated with a surface modification device MEIR-5-600 (manufactured by MD Eximer). Thereafter, printing was performed with KI ink using LUXEL JET UV250GT (manufactured by FUJIFILM Corporation). Thereafter, dry lamination was performed using Suncut PL Syn 7LK (manufactured by Lintec Co., Ltd., front retardation = 5 nm, film thickness 50 μm) to produce a forgery prevention medium of Production Example 5.

(製造例6)
偽造防止媒体Aを、表面改質装置MEIR−5−600(MDエキシマー社製)にて処理した。その後、UVフレキソ500墨、紅、藍、黄(T&K社製)を用いて文字、及び、図柄を凸版印刷した。その後、サンカットPLシン7LK(リンテック(株)製、正面リターデーション=5nm、膜厚50μm)を用い、ドライラミネーションを行い、製造例6の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 6)
The forgery prevention medium A was treated with a surface modification device MEIR-5-600 (manufactured by MD Eximer). Thereafter, letters and designs were letterpress printed using UV Flexo 500 ink, red, indigo, and yellow (manufactured by T & K). Thereafter, dry lamination was performed using Suncut PL Syn 7LK (manufactured by Lintec Co., Ltd., front retardation = 5 nm, film thickness 50 μm) to produce a forgery prevention medium of Production Example 6.

(製造例7)
偽造防止媒体Aを、表面改質装置MEIR−5−600(MDエキシマー社製)にて処理した。その後、文字、及び、図柄をスクリーン印刷した。その後、サンカットPLシン7LK(リンテック(株)製、正面リターデーション=5nm、膜厚50μm)を用い、ドライラミネーションを行い、製造例6の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 7)
The forgery prevention medium A was treated with a surface modification device MEIR-5-600 (manufactured by MD Eximer). Thereafter, the characters and the designs were screen printed. Thereafter, dry lamination was performed using Suncut PL Syn 7LK (manufactured by Lintec Co., Ltd., front retardation = 5 nm, film thickness 50 μm) to produce a forgery prevention medium of Production Example 6.

(製造例8)
ラミネートフィルムとして、KES25Nマット PLシン 7LK(リンテック(株)製、正面リターデーション=33nm、膜厚25μm)を用いる以外は、製造例1と同様に、製造例8の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 8)
A forgery prevention medium of Production Example 8 was produced in the same manner as in Production Example 1, except that KES25N Matt PL Syn 7LK (manufactured by Lintec Corporation, front retardation = 33 nm, film thickness 25 μm) was used as a laminate film.

(製造例9)
ラミネートフィルムとして、トリアセチルセルロース(商品名:TDP、富士フイルム(株)製、正面リターデーション=1nm、膜厚60μm)に、粘着剤(商品名:Z2−25、パナック(株)製)を張り合わせたものを用いる以外は、製造例1と同様に、製造例9の偽造防止媒体を作製した。
(Production Example 9)
As a laminated film, an adhesive (trade name: Z2-25, Panac Co., Ltd.) is laminated to triacetyl cellulose (trade name: TDP, manufactured by FUJIFILM Corporation, front retardation = 1 nm, film thickness: 60 μm). A forgery prevention medium of Production Example 9 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the anti-counterfeit medium was used.

同様にして、環状ポリオレフィンフィルム103、104、106〜109、112及び113を偽造防止用媒体の基材フィルム(支持体)として用いた。   Similarly, the cyclic polyolefin films 103, 104, 106 to 109, 112, and 113 were used as a base film (support) of a medium for preventing forgery.

製造例1〜9の偽造防止媒体は、いずれも、潜像視認性に優れ、かつ、テープ密着試験や耐擦過性試験によって印刷が剥がれず、耐久性に優れていた。したがって、本発明の環状ポリオレフィンフィルムは、偽造防止用媒体の基材フィルム(支持体)として好ましく用いることができることが分かった。   Each of the anti-counterfeit media of Production Examples 1 to 9 was excellent in the latent image visibility, and the print was not peeled off by the tape adhesion test or the abrasion resistance test, and the durability was excellent. Therefore, it was found that the cyclic polyolefin film of the present invention can be preferably used as a base film (support) of a medium for preventing forgery.

1 溶解釜
3、6、12、15 濾過器
4、13 ストックタンク
5、14 送液ポンプ
8、16 導管
10 紫外線吸収剤仕込釜
20 合流管
21 混合機
30 ダイ
31 無端支持体
32 ウェブ
33 剥離位置
34 テンター装置
35 ローラー乾燥装置
36 搬送ローラー
37 巻取り装置
41 仕込釜
42 ストックタンク
43 ポンプ
44 濾過器
100 主濾過装置
102 限外濾過装置
103 静置タンク(ストックタンク)
104 ドープ流送管(流送管)
105 ポンプ
106 希釈用溶媒タンク
107 溶媒注入管
108 配管
110 流延ダイ
111 無端支持体
112 剥離ロール
113 開閉バルブ
114 開閉バルブ
115 開閉バルブ
116 開閉バルブ
117 開閉バルブ
118 溶媒排出管
119 溶媒再利用返送管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dissolution pot 3, 6, 12, 15 Filter 4, 13 Stock tank 5, 14 Liquid feed pump 8, 16 Conduit 10 Ultraviolet absorbent charging pot 20 Confluence pipe 21 Mixer 30 Die 31 Endless support 32 Web 33 Peeling position 34 Tenter device 35 Roller drying device 36 Conveyance roller 37 Winding device 41 Charging tank 42 Stock tank 43 Pump 44 Filtration device 100 Main filtration device 102 Ultrafiltration device 103 Stationary tank (stock tank)
104 Dope flow pipe (flow pipe)
105 Pump 106 Diluent solvent tank 107 Solvent injection pipe 108 Pipe 110 Casting die 111 Endless support 112 Peeling roll 113 Open / close valve 114 Open / close valve 115 Open / close valve 116 Open / close valve 117 Open / close valve 118 Solvent discharge pipe 119 Solvent reuse return pipe

Claims (5)

環状ポリオレフィンフィルムの製造方法であって、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm以下に調整する工程、
前記ドープ中のトルエンの含有量は0.001〜0.1質量%の範囲内であり、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程、
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。
A method for producing a cyclic polyolefin film, at least,
Dissolving a cyclic polyolefin-based resin using an organic solvent, adding an additive to prepare a dope, followed by filtration, and adjusting the content of foreign substances having a major axis of 10 μm or more as a finished film to 5 pieces / 100 cm 2 or less,
The content of toluene in the dope is in the range of 0.001 to 0.1% by mass,
Casting the dope on an endless support,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web, and winding the stretched web as a roll,
A method for producing a cyclic polyolefin film, comprising:
環状ポリオレフィンフィルムの製造方法であって、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製する際に、有機溶媒としてさらにトルエンを加え、当該ドープ中の当該トルエンの含有量をトルエン以外の前記有機溶媒や前記添加剤を加えることで、0.001〜0.1質量%の範囲内に調整した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm 以下に調整する工程、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。
A method for producing a cyclic polyolefin film, at least,
The cyclic polyolefin resin is dissolved using an organic solvent, in preparing the dope by adding additives, further adding toluene as organic solvent, the organic solvent other than toluene content of the toluene in the dope And by adding the above-mentioned additives, the content is adjusted within the range of 0.001 to 0.1% by mass and then filtered, and the content of foreign substances having a major axis of 10 μm or more as a finished film is adjusted to 5 pieces / 100 cm 2 or less. Process,
Casting the dope on an endless support ,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web; and
Winding the stretched web as a roll,
Method for producing a ring-like polyolefin film you characterized by having a.
環状ポリオレフィンフィルムの製造方法であって、少なくとも、
環状ポリオレフィン系樹脂を有機溶媒を用いて溶解し、添加剤を加えてドープを調製する際に、添加剤としてさらにセルロースアシレートを加え、当該ドープ中の当該セルロースアシレートの含有量を前記有機溶媒やセルロースアシレート以外の前記添加剤を加えることで、0.0001〜0.1質量%の範囲内に調整した後濾過し、仕上がりフィルムとして長径が10μm以上の異物の含有量を5個/100cm 以下に調整する工程、
前記ドープを無端支持体上に流延する工程、
前記流延したドープを乾燥して無端支持体上から剥離してウェブを形成する工程、
前記剥離したウェブを乾燥及び延伸する工程、及び
前記延伸したウェブをロール状物として巻き取る工程、
を有することを特徴とする環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。
A method for producing a cyclic polyolefin film, at least,
When the cyclic polyolefin-based resin is dissolved using an organic solvent and an additive is added to prepare a dope, a cellulose acylate is further added as an additive, and the content of the cellulose acylate in the dope is adjusted to the organic solvent. By adding the above-mentioned additives other than cellulose acylate or cellulose acylate, the content is adjusted to be in the range of 0.0001 to 0.1% by mass and then filtered. Adjusting to 2 or less,
Casting the dope on an endless support,
Drying the cast dope and peeling off from the endless support to form a web,
Drying and stretching the peeled web; and
Winding the stretched web as a roll,
Method for producing a ring-like polyolefin film you characterized by having a.
前記環状ポリオレフィン系樹脂を、2種類以上用いることを特徴とする請求項1に記載の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。   The method for producing a cyclic polyolefin film according to claim 1, wherein two or more kinds of the cyclic polyolefin-based resin are used. 記添加剤が、含窒素複素環化合物、有機エステル、及びマット剤から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の環状ポリオレフィンフィルムの製造方法。 Before Ki添 pressurizing agent, a nitrogen-containing heterocyclic compounds, organic esters, and method for producing a cyclic polyolefin film according to claim 1, characterized in that at least one selected from the matting agent.
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