KR20220104543A - 양면 회로 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

양면 회로 패널의 제조방법은, 기판, 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 기판의 상면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 제1 회로의 단부에 대응하여 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 기판의 저면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로, 및 제2 회로에 대응하여 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 제공하는 단계, 상부 전극들과 하부 전극들을 연결하는 노출 슬릿이 형성된 마스크를 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 형성하는 단계, 마스크가 형성된 기판의 외면에 금속막을 형성하는 단계, 및 마스크를 제거하여 상부 전극들과 하부 전극들을 잇는 금속 연결 패턴을 기판에 형성하는 단계를 포함하며, 상기 금속막은 상부 전극들 및 하부 전극들과 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며, 마스크를 제거함으로써 금속막 중 노출 슬릿에 형성된 부분과 마스크 상에 형성된 부분 사이에 찢어짐이 발생할 수 있다.

Description

양면 회로 패널 및 그 제조방법 {DOUBLE-SIDE CIRCUIT PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 특정 목적으로 위해 조립되는 단위 기판으로서 양면에 회로가 형성되는 양면 회로 패널 및 그 패널을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
마이크로 미세 소자를 이용한 디스플레이는 기존의 미세 소자의 1/10 수준인 100㎛ 이하의 크기를 갖는 초소형 미세 소자를 기판에 실장한 디스플레이를 의미한다. 참고로, 기존의 LCD는 백색의 미세 소자를 백라이트 광원으로 이용하고, 화소는 LCD 액정의 제어와 컬러필터를 이용하여 구현하는 것이라면, 마이크로 미세 소자 디스플레이는 초소형 미세 소자가 직접 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 화소로서 독립 구동하여 자체 발광하는 것이라 할 수 있다.
'자체 발광'이라는 측면에서 마이크로 미세 소자 디스플레이는 미세 소자 디스플레이와 비슷하다고 할 수 있으나, 미세 소자 칩 자체를 화소로 활용할 수 있기 때문에 플렉서블(flexible)이나 롤러블(rollable) 디스플레이를 구현하는데 적합할 수 있고, 색 재현성이나 전력 소모량, 응답속도 측면에서 장점을 갖고 있다.
미세 소자는 일반적으로 사파이어 기판에 제작되며, 실리콘(Silicon) 기판에서도 제작되기도 하며, TV나 전광판과 같이 대형 미세 소자 디스플레이를 제조하기 위해서는 일반적으로 다수 개의 마이크로 미세 소자가 실장된 양면 회로 패널 또는 디스플레이 모듈을 제조한 다음, 이들 양면 회로 패널을 조립해서 대형 디스플레이를 구현할 수가 있다.
한국공개특허 제10-2018-0053864호는 마이크로 미세 소자 디스플레이 화소 조립체 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, TFT 백 플레인 없이 일반 기판에서 동작하는 마이크로 미세 소자 디스플레이를 개시한다.
한국공개특허 제10-2019-0003198호는 "발광 표시 장치"에 관한 것으로서, 기판의 상하면을 연결하는 배선전극을 형성하는 내용이 포함되어 있다. 하지만, 상기 배선전극은 인쇄 방식으로 형성되기 때문에, 배선전극을 위한 도전성 잉크는 순수 금속으로만 형성되기 어려우며, 프린팅을 위한 각종 첨가제를 포함해야 하기 때문에 이들 첨가제로 인해 일반 금속 전극에 비해 접촉 저항이나 기타 저항이 증가할 수밖에 없다. 이러한 단점은 배선의 저항이 매우 높다는 것 외에도 배선을 아주 미세한 폭으로 형성할 수 없다는 단점도 포함됨을 의미한다.
또한, 발광 표시 장치에서 상하면을 연결하는 배선전극을 인쇄로 형성하기 위해서 기판의 측면을 경사부 또는 곡률부를 형성하도록 하고 있다. 특히, 해당 내용에서도 언급하고 있듯이, 측면 모서리 부분을 뾰족하게 형성하하는 경우에는 배선전극을 형성할 수 없기 때문에 측면 모서리 부분을 경사지거나 곡면 형태를 가짐으로써 형성할 수 있다는 내용을 인정하고 있다.
본 발명은 다수의 미소 소자를 실장하는 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판의 상면에 장착된 미세 소자와 저면에 배치된 구동회로를 전기적으로 연결하기 위한 양면 회로 패널 및 그 제조방법을 제공한다.
본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 양면 회로 패널의 제조방법은, 기판, 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 기판의 상면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 제1 회로의 단부에 대응하여 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 기판의 저면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로, 및 제2 회로에 대응하여 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 제공하는 단계; 상부 전극들과 하부 전극들을 연결하는 노출 슬릿이 형성된 마스크를 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 형성하는 단계; 마스크가 형성된 기판의 외면에 금속막을 형성하는 단계; 및 마스크를 제거하여 상부 전극들과 하부 전극들을 잇는 금속 연결 패턴을 기판에 형성하는 단계;를 포함하며, 금속막은 상부 전극들 및 하부 전극들과 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며, 마스크를 제거함으로써 금속막 중 노출 슬릿에 형성된 부분은 배선을 형성하고, 마스크 상에 형성된 부분은 제거될 수 있다.
본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 양면 회로 패널의 제조방법은, 기판, 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 기판의 상면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 제1 회로의 단부에 대응하여 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 기판의 저면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로, 및 제2 회로에 대응하여 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 제공하는 단계; 기판의 외면에 금속막을 형성하는 단계; 상부 전극들과 하부 전극들을 연결하는 금속 연결 패턴을 형성하기 위해 금속 연결 패턴의 주변을 제거하기 위한 노출 슬릿이 형성된 마스크를 금속막이 형성된 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 형성하는 단계; 및 마스크를 이용하여 금속 연결 패턴을 기판에 형성하는 단계; 를 포함하며, 금속막은 상부 전극들 및 하부 전극들과 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성할 수 있다.
마스크를 형성하는 단계는, 노출 슬릿에 대응하도록 감광성 필름을 파지티브 또는 네가티브로 노광하고, 감광성 필름으로부터 노출 슬릿에 대응하는 부분을 제거하여 노출 슬릿을 형성하고, 노출 슬릿이 형성된 감광성 필름을 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착할 수 있다.
마스크를 형성하는 단계는, 감광성 필름을 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착하고, 노출 슬릿에 대응하도록 감광성 필름을 파지티브 또는 네가티브로 노광하고, 감광성 필름으로부터 노출 슬릿에 대응하는 부분을 제거하여 노출 슬릿을 형성할 수도 있다.
마스크를 형성하는 단계는, 필름에 레이저 가공이나 금형 타발을 통하여 노출 슬릿을 형성한 마스크 필름을 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착할 수 있다.
금속막은 스퍼터링, 화학 기상 증착, 펄스 레이저 증착 (PLD; Pulsed Laser Deposition), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열 증착(Thermal evaporation), MOMBE(Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy), 전해 도금 또는 무전해 도금에 의해서 형성될 수 있다.
금속 연결 패턴에 대응하여 기판의 상면, 측면 및 저면을 동시에 덮는 보호막을 형성하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
금속막을 형성하는 단계 이전에, 기판 중 금속 연결 패턴을 형성하기 위한 마스크에 대응하는 영역 이외의 영역을 커버하는 제2 마스크를 추가로 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 위에서 금속막을 형성하는 방법 중 스퍼터링 등의 방법은 저기압의 상태에서 기판에 전면적으로 금속막을 형성할 수 있기 때문에 다수의 미세 소자, 스위칭 회로, 구동회로부 등을 보호하기 위해 제2 마스크가 더 형성될 수 있다.
하지만, 스퍼터링이 아닌 선택적으로 금속막을 형성할 수 있는 방법을 이용하는 경우, 예를 들어 잉크젯 인쇄나 스탬핑 등을 이용하여 노출 슬릿 사이로 금속 연결 패턴을 형성하는 경우에는 반드시 제2 마스크를 형성해야 하는 것은 아니다.
하지만, 제2 마스크를 형성한다면, 제2 마스크는 금속 연결 패턴을 형성하기 위한 마스크를 형성하기 전, 형성하는 것과 동시에 또는 형성한 이후에 형성될 수 있다.
금속 연결 패턴을 형성하기 위한 마스크는 DFR(Dry Film Photoresist) 필름과 같이 감광성 필름을 이용하여 형성될 수 있다. 감광성 필름을 이용하는 경우, 마스크를 형성하는 단계는 패터닝 및 필름 부착의 순서에 따라 다음과 같이 구분될 수 있다.
감광성 필름은 약 5~100㎛의 두께를 가지는 것을 이용할 수 있으며, 감광성 필름을 제거하여 금속 연결 패턴을 형성한 후에, 기판의 상면, 측면 및 저면을 동시에 덮는 보호 필름을 더 부착할 수도 있다.
높은 순도의 금속 연결 패턴을 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 형성함으로써 낮은 저항을 가질 수 있고, 신호의 노이즈를 최소로 줄일 수 있으며, 미세한 패턴 형성의 기초가 될 수 있다
본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 양면 회로 패널은 기판, 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 기판의 상면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 제1 회로의 단부에 대응하여 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 기판의 저면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로 및 제2 회로에 대응하여 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 포함할 수 있으며, 기판의 측면을 경유하여 상부 전극들과 하부 전극들을 잇는 복수의 금속 연결 패턴을 포함하며, 각각의 금속 연결 패턴은 상부 전극들 각각에 대응하는 제1 단부 및 하부 전극들 각각에 대응하는 제2 단부를 포함하되, 제1 단부는 상부 전극의 상면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮으며, 제2 단부는 하부 전극의 저면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮을 수 있다.
본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 양면 회로 패널은 기판, 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 기판의 상면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 제1 회로의 단부에 대응하여 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 기판의 저면에 형성되어 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로 및 제2 회로에 대응하여 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 포함하며, 기판의 측면을 경유하여 상부 전극들과 하부 전극들을 잇는 복수의 금속 연결 패턴을 포함할 수 있고, 금속 연결 패턴은 순도 80% 이상의 금속 성분을 포함할 수 있다.
본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 양면 회로 패널은 기판, 회로 제어를 위해 기판의 상면에 형성된 제1 회로, 제1 회로의 단부에 대응하여 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 회로 제어를 위해 기판의 저면에 형성된 제2 회로 및 제2 회로에 대응하여 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 포함하며, 기판의 측면을 경유하여 상부 전극들과 하부 전극들을 잇는 복수의 금속 연결 패턴을 포함할 수 있으며, 각각의 금속 연결 패턴은 상부 전극들 각각에 대응하는 제1 단부 및 하부 전극들 각각에 대응하는 제2 단부를 포함하되, 제1 단부는 상부 전극의 상면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮으며, 제2 단부는 하부 전극의 저면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮을 수 있다.
금속 연결 패턴의 제1 단부 및 상부 전극 사이 및 제2 단부 및 하부 전극 사이에 접착층이 존재하지 않은 것을 특징으로 할 수 있다.
금속 연결 패턴은 스퍼터링, 화학 기상 증착, 펄스 레이저 증착 (PLD; Pulsed Laser Deposition), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열 증착(Thermal evaporation), MOMBE(Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy), 전해 도금 또는 무전해 도금에 의해서 형성될 수 있다.
본 발명의 양면 회로 패널은 수 천만개의 미세 소자를 실장하는 기술의 문제점을 해결할 수 있으며, 기판의 상면에 장착된 미세 소자와 저면에 배치된 구동회로부를 금속 연결 패턴이 우회하여 연결하되, 이들이 기판에 상당히 양호한 두께로 밀착되어 형성되고, 작업의 정밀도를 향상시킬 수 있으며, 후막 형성도 가능하여 상대적으로 면저항이 매우 낮아 안정적인 전기적 연결을 형성할 수 있다.
양면 회로 패널에서 상부 전극들과 하부 전극들은 금속 연결 패턴을 통해서 전기적으로 연결되되, 금속 연결 패턴이 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하여 기판의 외면에 거의 돌출되지 않고 밀착될 수 있다. 따라서, 패널의 상하를 전기적으로 연결하기 위해서 기판에 직접 홀을 형성할 필요가 없으며, 금속 연결 패턴이 다수 형성될 수 있는 것은 물론 양호한 두께로 밀착하여 기판 상에 직접 형성되기 때문에 양면 회로 패널 간에 상호 밀착시켜도 들뜨는 틈새를 없앨 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 소자를 이용한 디스플레이 및 그 조립에 이용되는 양면 회로 패널을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 양면 회로 패널의 단면을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 양면 회로 패널을 제조를 위해 사용되는 제1 마스크를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 및 도 5는 제1 마스크를 이용하여 본 발명의 일 실시예에 따른 양면 회로 패널을 제조하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 소자를 이용한 디스플레이 및 그 조립에 이용되는 양면 회로 패널을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 도 1의 양면 회로 패널의 단면을 설명하기 위한 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 양면 회로 패널을 제조를 위해 사용되는 제1 마스크를 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 및 도 5는 제1 마스크를 이용하여 본 발명의 일 실시예에 따른 양면 회로 패널을 제조하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 양면 회로 패널(100)은 디스플레이(10)의 단위 패널로서 적용될 수 있다. 일반적으로 UHD 또는 4K 급 디스플레이는 약 2400 만개의 LED를 실장할 수 있다. 하지만, 2400만개의 LED를 하나의 기판에 실장한다는 것은 무리가 있으며, 이들을 양면 회로 패널로 모듈을 나누고, 양면 회로 패널(100)을 하나씩 조립하여 하나의 디스플레이를 만드는 방법을 사용할 수 있다.
일 예로, 100 인치의 UHD 디스플레이를 제작한다고 했을 때, 미세 발광 소자가 실장된 10cm * 10cm 크기의 양면 회로 패널을 약 260 여개를 이용하여 조립할 수 있다. 또한, 각 양면 회로 패널(100)에는 약 93,000 여개의 미세 소자가 장착되어야 할 수 있다.
도 2를 참조하면, 디스플레이(10)를 위한 양면 회로 패널(100)은 기판(110), 기판(110)의 상면에 형성된 다수의 미세 소자(120), 기판(110)의 상면에 형성되어 미세 소자(120)를 제어하는 스위칭 회로(130), 스위칭 회로(130)의 단부에 대응하여 기판(110)의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들(140), 기판(110)의 저면에 형성된 구동회로부(150), 구동회로부(150)에 대응하여 기판(110)의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들(160), 기판(110)의 일측에 밀착하도록 접착되어 상부 전극들(140)과 하부 전극들(160)을 전기적으로 연결하는 금속 연결 패턴(170)을 포함할 수 있다.
기판(110)은 유리 기판으로서 TFT가 형성된 스위칭 회로(130)와 함께 형성될 수 있으며, 기판(110) 상에 아몰퍼스 실리콘, 폴리 실리콘, IGZO 등을 이용하여 회로를 형성할 수가 있다. 이러한 스위칭 회로(130)에 미세 소자(120)는 솔더링 등의 공법을 통해 전기적으로 장착될 수가 있다.
또한, 기판(110)에 형성되는 상부 전극들(140) 또는 하부 전극들(160)은 실버 페이스트, 이황화 몰리브덴(MoS2), 메탈 메쉬 또는 실버 나노 와이어를 이용하여 형성될 수 있으며, OMO(Oxide-Metal-Oxide) 등의 소재를 이용하여서도 형성될 수가 있다.
기판(110)의 저면으로는 구동회로부(150)가 제공될 수 있다. 구동회로부(150)는 패널에 장착된 미세 소자(120)를 제어하기 위한 것으로서, 디스플레이의 중앙처리부로부터 영상신호를 전달받아, 해당 양면 회로 패널(100)에 장착된 미세 소자(120)에 전달할 수가 있다.
양면 회로 패널(100)에서 상부 전극들(140)과 하부 전극들(160)은 금속 연결 패턴(170)에 의해서 전기적으로 일대일로 연결되되, 금속 연결 패턴(170)은 기판(110)의 일측에서 상면, 측면 및 저면을 경유하여 기판(110)의 외면에 직접 형성되어 아주 얇은 두께로 밀착된 상태를 유지할 수 있다. 따라서, 패널의 상하를 전기적으로 연결하기 위해서 비아홀을 형성할 필요가 없으며, 금속 연결 패턴(170)이 기판(110)에 바로 형성되어 최대한 밀착하여 접착되기 때문에 양면 회로 패널(100) 간에 상호 밀착시켜도 들뜨는 틈새를 없애거나 최소로 줄일 수가 있다.
또한, 금속 연결 패턴(170)은 후술하는 바와 같이 증착, 스퍼터링 등의 방법을 통해서 직접 형성되기 때문에 접착층이 전극과 연결 패턴 사이에 존재하지 않고, 접착층에 의한 면저항으로 전기적 연결이 불안할 염려도 없다.
그리고 금속 연결 패턴(170)은 상부 전극들(140) 각각에 대응하는 제1 단부들(172) 및 하부 전극들(160) 각각에 대응하는 제2 단부들(174)을 포함하고, 금속 연결 패턴(170)은 이들을 형성하기 위한 제1 마스크(210)에 의해서 기판(110)에 직접 형성될 수 있다.
도 3을 참조하면, 기판(110)에 금속 연결 패턴(170)을 형성하기 위한 제1 마스크(210)는 금속 연결 패턴(170)에 대응하는 노출 슬릿(212)을 포함할 수 있다.
제1 마스크(210)는 DFR(Dry Film Photoresist) 필름과 같이 감광성 필름을 이용하여 형성될 수 있다. 감광성 필름은 노광에 의한 선택적으로 노출 슬릿에 대응하는 패턴을 형성할 수 있고, 노광된 부분과 노광되지 않은 부분을 이용하여 선택적으로 노출 슬릿에 대응하는 패턴을 제거하여 제1 마스크(210)를 형성할 수 있다.
제1 마스크(210)는 기판(110)의 일측면에 대응하는 길이로 형성될 수 있으며, 상부 전극들(140)과 하부 전극들(160)을 일대일로 연결할 수 있도록 미세하게 설계된 노출 슬릿(212)을 포함할 수 있다. 본 실시예에서 노출 슬릿(212)은 제1 마스크(210)를 기판(110)에 부착하기 이전에 미리 형성될 수 있지만, 감광성 필름을 먼저 기판에 부착한 후 노광 공정을 통해 노출 슬릿에 대응하는 부분을 제거하는 것도 가능하다.
제1 마스크(210)를 형성하기 위해 먼저 감광성 필름을 제공한다. 감광성 필름으로 DFR 필름이 이용될 수 있으며, 약 5~100㎛의 두께를 갖는 필름을 이용할 수 있다. 그 다음 노출 슬릿에 대응하도록 감광성 필름을 파지티브 또는 네가티브로 노광하고, 감광성 필름으로부터 노출 슬릿(212)에 대응하는 부분을 제거하여 노출 슬릿(212)을 형성함으로써 제1 마스크(210)에 대응하는 필름을 형성할 수 있다.
도 4 및 도 5를 보면, 노출 슬릿(212)이 형성된 제1 마스크(210)를 제공하며(a), 제1 마스크(210)를 기판(110)의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착한다(b). 이때 노출 슬릿(212)이 상부 전극들(140) 및 하부 전극들(160)에 대응하도록 얼라인먼트를 수행할 수 있으며, 제1 마스크(210)로 상부 전극들(140) 및 하부 전극들(160), 그리고 이들 전극들을 연결하는 기판(110)의 일부가 노출될 수 있다.
제1 마스크(210)는 기판(110)의 일측에서 대략 ㄷ-자 형상으로 부착된 상태를 유지할 수 있으며(c), 이를 위해서 필름 라미네이팅을 위한 종래 또는 대체 가능한 기술이 사용될 수 있다.
그리고 제1 마스크(210)로 마스킹하지 못한 나머지 부분을 제2 마스크(220)로 마스킹할 수 있다. 이는 전술한 다수의 미세 소자(120), 스위칭 회로(130), 구동회로부(150) 등을 보호하기 위한 것으로 전체적으로 필름을 라미네이팅하거나 마스킹 잉크로 전면을 도포하여 형성할 수 있다.
제1 마스크(210) 및 제2 마스크(220)가 형성된 상황에서, 기판(110)은 도금 등의 과정을 거칠 수 있다. 그 결과, 기판(110)의 외면으로 금속막(172)이 형성될 수 있다(e). 이 외에도 금속막을 형성하기 위한 스퍼터링, 화학 기상 증착, 펄스 레이저 증착 (PLD; Pulsed Laser Deposition), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열 증착(Thermal evaporation), MOMBE(Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy), 전해 도금 또는 무전해 도금 등이 이용될 수 있다.
금속막이 형성된 상태에서 아세톤 등의 약품을 이용하여 제1 마스크(210) 및 제2 마스크(220) 등을 제거하거나 벗겨낼 수 있다(f). 제1 마스크(210) 및 제2 마스크(220)가 제거된 이후로, 금속막의 일부가 기판(110)에 잔류하여 금속 연결 패턴(170)을 형성할 수 있으며, 금속 연결 패턴(170)은 상부 전극들(140)과 하부 전극들(160)을 전기적으로 연결하는 양질의 와이어 패턴으로서 기능을 할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 금속 연결 패턴(170)을 형성하는 과정에서 전극들과 금속 연결 패턴(170) 사이에 접착층이 잔류하지 않기 때문에 낮은 저항을 유지할 수 있으며, 깨끗하면서도 견고한 전기적 연결을 형성할 수 있다.
도시되지는 않았지만, 금속 연결 패턴(170)을 형성한 이후로, 보호 필름을 추가로 부착하여 금속 연결 패턴(170)을 보호할 수도 있다. 보호 필름은 폴리우레탄과 같이 탄성을 가진 소재를 이용할 수 있으며 라미네이팅, 도포 등 다양한 방법으로 형성될 수 있다. 보호 필름은 탄성에 의해서 필름과 기판 사이로 기포가 생기는 것을 방지할 수 있으며, 금속 연결 패턴(170)이 외부 충격 등에 의해 손상되거나 단선되는 것을 방지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100 : 양면 회로 패널
110 : 기판 120 : 미세 소자
130 : 스위칭 회로 140 : 상부 전극
150 : 구동 회로부 160 : 하부 전극
170 : 금속 연결 패턴 210 : 제1 마스크
212 : 노출 슬릿 220 : 제2 마스크

Claims (13)

  1. 양면 회로 패널의 제조방법에 있어서,
    기판, 상기 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 상기 기판의 상면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 상기 제1 회로의 단부에 대응하여 상기 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 상기 기판의 저면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로, 및 상기 제2 회로에 대응하여 상기 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 제공하는 단계;
    상기 상부 전극들과 상기 하부 전극들을 연결하는 노출 슬릿이 형성된 마스크를 상기 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 형성하는 단계;
    상기 마스크가 형성된 상기 기판의 외면에 금속막을 형성하는 단계; 및
    상기 마스크를 제거하여 상기 상부 전극들과 상기 하부 전극들을 잇는 금속 연결 패턴을 상기 기판에 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 금속막은 상기 상부 전극들 및 상기 하부 전극들과 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며,
    상기 마스크를 제거함으로써 상기 금속막 중 상기 노출 슬릿에 형성된 부분은 배선을 형성하고, 상기 마스크 상에 형성된 부분은 제거되는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  2. 양면 회로 패널의 제조방법에 있어서,
    기판, 상기 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 상기 기판의 상면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 상기 제1 회로의 단부에 대응하여 상기 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 상기 기판의 저면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로, 및 상기 제2 회로에 대응하여 상기 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 제공하는 단계;
    상기 기판의 외면에 금속막을 형성하는 단계;
    상기 상부 전극들과 상기 하부 전극들을 연결하는 금속 연결 패턴을 형성하기 위해 상기 금속 연결 패턴의 주변을 제거하기 위한 노출 슬릿이 형성된 마스크를 상기 금속막이 형성된 상기 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 형성하는 단계; 및
    상기 마스크를 이용하여 상기 금속 연결 패턴을 상기 기판에 형성하는 단계; 를 포함하며,
    상기 금속막은 상기 상부 전극들 및 상기 하부 전극들과 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 마스크를 형성하는 단계는, 상기 노출 슬릿에 대응하도록 감광성 필름을 파지티브 또는 네가티브로 노광하고, 상기 감광성 필름으로부터 상기 노출 슬릿에 대응하는 부분을 제거하여 상기 노출 슬릿을 형성하고, 상기 노출 슬릿이 형성된 상기 감광성 필름을 상기 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 마스크를 형성하는 단계는, 감광성 필름을 상기 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착하고, 상기 노출 슬릿에 대응하도록 상기 감광성 필름을 파지티브 또는 네가티브로 노광하고, 상기 감광성 필름으로부터 상기 노출 슬릿에 대응하는 부분을 제거하여 상기 노출 슬릿을 형성하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 마스크를 형성하는 단계는, 필름에 레이저 가공이나 금형 타발을 통하여 상기 노출 슬릿을 형성한 마스크 필름을 상기 기판의 상면, 측면 및 저면을 경유하도록 부착하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 금속막은 스퍼터링, 화학 기상 증착, 펄스 레이저 증착 (PLD; Pulsed Laser Deposition), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열 증착(Thermal evaporation), MOMBE(Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy), 전해 도금 또는 무전해 도금에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 금속 연결 패턴에 대응하여 상기 기판의 상면, 측면 및 저면을 동시에 덮는 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널의 제조방법.
  8. 기판, 상기 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 상기 기판의 상면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 상기 제1 회로의 단부에 대응하여 상기 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 상기 기판의 저면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로 및 상기 제2 회로에 대응하여 상기 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 포함하는 양면 회로 패널에 있어서,
    상기 기판의 측면을 경유하여 상기 상부 전극들과 상기 하부 전극들을 잇는 복수의 금속 연결 패턴을 포함하며,
    각각의 상기 금속 연결 패턴은 상기 상부 전극들 각각에 대응하는 제1 단부 및 상기 하부 전극들 각각에 대응하는 제2 단부를 포함하되, 상기 제1 단부는 상기 상부 전극의 상면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮으며, 상기 제2 단부는 상기 하부 전극의 저면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널.
  9. 기판, 상기 기판의 상면에 형성된 다수의 미세 소자, 상기 기판의 상면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제1 회로, 상기 제1 회로의 단부에 대응하여 상기 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 상기 기판의 저면에 형성되어 상기 미세 소자를 제어하기 위한 제2 회로 및 상기 제2 회로에 대응하여 상기 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 포함하는 양면 회로 패널에 있어서,
    상기 기판의 측면을 경유하여 상기 상부 전극들과 상기 하부 전극들을 잇는 복수의 금속 연결 패턴을 포함하며,
    상기 금속 연결 패턴은 순도 80% 이상의 금속 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널.
  10. 기판, 회로 제어를 위해 상기 기판의 상면에 형성된 제1 회로, 상기 제1 회로의 단부에 대응하여 상기 기판의 상면 일측에 형성된 다수의 상부 전극들, 회로 제어를 위해 상기 기판의 저면에 형성된 제2 회로 및 상기 제2 회로에 대응하여 상기 기판의 저면 일측에 형성된 다수의 하부 전극들을 포함하는 양면 회로 패널에 있어서,
    상기 기판의 측면을 경유하여 상기 상부 전극들과 상기 하부 전극들을 잇는 복수의 금속 연결 패턴을 포함하며,
    각각의 상기 금속 연결 패턴은 상기 상부 전극들 각각에 대응하는 제1 단부 및 상기 하부 전극들 각각에 대응하는 제2 단부를 포함하되, 상기 제1 단부는 상기 상부 전극의 상면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮으며, 상기 제2 단부는 상기 하부 전극의 저면을 금속과 금속의 면접으로 전기적 연결을 형성하며 덮는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금속 연결 패턴의 상기 제1 단부 및 상기 상부 전극 사이 및 상기 제2 단부 및 상기 하부 전극 사이에 접착층이 존재하지 않은 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널.
  12. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금속 연결 패턴은 스퍼터링, 화학 기상 증착, 펄스 레이저 증착 (PLD; Pulsed Laser Deposition), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열 증착(Thermal evaporation), MOMBE(Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy), 전해 도금 또는 무전해 도금에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널.
  13. 제8항 또는 제10항에 있어서,
    상기 금속 연결 패턴은 순도 80% 이상의 금속 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 회로 패널.
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