KR20220058031A - Epoxy adhesive composition having excellent fluidity and die attach film including the same - Google Patents

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Abstract

Disclosed in the present specification is an epoxy adhesive composition and a die attach film including the same. The epoxy adhesive composition includes a thermoplastic resin, an epoxy resin, an inorganic filler, and an epoxy hardener. According to the present invention, the epoxy adhesive composition satisfies processability such as sawing and picking-up, and reliability required for semiconductor packaging.

Description

유동성이 우수한 에폭시 접착제 조성물 및 이를 포함하는 다이 어태치 필름 {EPOXY ADHESIVE COMPOSITION HAVING EXCELLENT FLUIDITY AND DIE ATTACH FILM INCLUDING THE SAME}EPOXY ADHESIVE COMPOSITION HAVING EXCELLENT FLUIDITY AND DIE ATTACH FILM INCLUDING THE SAME}

본 명세서는 유동성이 우수한 에폭시 접착제 조성물 및 이를 포함하는 다이 어태치 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 등에 사용할 수 있는 에폭시 접착제 조성물 및 이를 포함하는 다이 어태치 필름에 관한 것이다.The present specification relates to an epoxy adhesive composition having excellent fluidity and a die attach film including the same, and more particularly, to an epoxy adhesive composition that can be used for semiconductors and the like, and a die attach film including the same.

최근 전자부품과 모바일 기기 등의 급속한 소형화, 고밀도화 및 초고속화에 따라 반도체 기술들 또한 더욱더 집적화 및 박막화가 이루어지고 있다. 특히 반도체의 용량이 커지면서 협소한 공간에서 반도체 칩 평면에만 셀을 집적시키는 기존의 방식이 물리적 한계에 다다르면서 현재는 반도체 칩 평면에 셀을 쌓아 올려 집적도를 높이는 스택(stack)공법이 사용된다. 이렇게 반도체 칩을 적층함으로써 반도체의 고용량을 실현하며 이를 하나의 패키지로 구동함으로써 구동 속도를 증진시킬 수 있다. 반도체 패키지 분에서는 이를 Stacked Chip Scale Package (SCSP)라고 표현한다.In recent years, with the rapid miniaturization, high density, and ultra-high speed of electronic components and mobile devices, semiconductor technologies are also becoming more integrated and thinner. In particular, as the capacity of semiconductors increases, the conventional method of accumulating cells only on the semiconductor chip plane in a narrow space has reached its physical limit. By stacking the semiconductor chips in this way, a high capacity of the semiconductor is realized, and driving speed can be increased by driving the semiconductor chips as a single package. In the semiconductor package section, this is expressed as Stacked Chip Scale Package (SCSP).

SCSP의 제조공정에서 칩의 적층에 사용되는 접착제는 핵심재료 중의 하나이다. 과거 칩 부착에는 에폭시 페이스트가 널리 쓰였으나 기술의 발전에 따라 다이어태치 필름(Die attach film, DAF)이 주로 사용된다. SCSP에 사용되는 DAF는 칩과 칩 혹은 칩과 기판을 부착하는 종류로 크게 분류될 수 있고 기공의 발생 없이 부착하는 것이 중요한 과제 중의 하나이다. The adhesive used for chip lamination in the SCSP manufacturing process is one of the key materials. In the past, epoxy paste was widely used for attaching chips, but with the development of technology, a die attach film (DAF) is mainly used. DAF used in SCSP can be broadly classified into a type of attaching a chip to a chip or a chip to a substrate, and attaching it without generating pores is one of the important tasks.

또한 칩의 본딩 와이어를 채우는 특수한 형태의 DAF인 FOW(film-over-wire)는 와이어 사이를 채울 수 있는 매우 높은 수준의 유동성과 높은 접착 특성을 요구함에 따라 이러한 요구 특성을 포함하는 소재의 개발은 필수적이다. In addition, as film-over-wire (FOW), a special type of DAF that fills the bonding wire of the chip, requires a very high level of fluidity and high adhesive properties to fill between the wires, the development of a material that includes these required characteristics is difficult. It is essential.

KR 10-2013-0033561 A (2013.04.04)KR 10-2013-0033561 A (2013.04.04)

본 발명의 일 측면에서, 반도체 패키징시 요구되는 높은 접착력과 쏘잉(Sawing) 및 픽업(pick-up) 등의 가공성 및 신뢰성을 만족하는 에폭시계 접착제 및 이를 포함하는 다이 어태치 필름을 제공하고자 한다. In one aspect of the present invention, it is an object of the present invention to provide an epoxy-based adhesive that satisfies the high adhesive strength required for semiconductor packaging, processability and reliability such as sawing and pick-up, and a die attach film including the same.

본 명세서의 예시적인 구현예들에서는, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 무기 충진제 및 에폭시 경화제를 포함하고, 상기 에폭시 수지는, 2관능성 비스페놀계 에폭시 수지; 2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지; 및 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지;를 포함하는 것인, 에폭시 접착제 조성물을 제공한다.In exemplary embodiments of the present specification, it includes a thermoplastic resin, an epoxy resin, an inorganic filler, and an epoxy curing agent, wherein the epoxy resin is a bifunctional bisphenol-based epoxy resin; bifunctional cresol novolac-based epoxy resins; And a trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin; it provides an epoxy adhesive composition comprising a.

본 명세서의 또다른 예시적인 구현예들에서는, 기재; 및 전술한 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 접착층;을 포함하는 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film)을 제공한다.In still other exemplary embodiments of the present specification, a substrate; And it provides a die attach film (DAF; Die Attach Film) comprising a; and an adhesive layer comprising the above-mentioned epoxy adhesive composition.

본 명세서의 에폭시 접착제 조성물은 유동성이 우수하면서도, 반도체 패키징시 요구되는 높은 접착력과 쏘잉(Sawing) 및 픽업(pick-up) 등의 가공성 및 신뢰성을 만족할 수 있다. The epoxy adhesive composition of the present specification may satisfy high adhesion, sawing and pick-up, and processability and reliability required for semiconductor packaging while having excellent fluidity.

본 명세서에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

이하, 본 발명의 예시적인 구현예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail.

본 명세서의 예시적인 구현예들에서는, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 무기 충진제 및 에폭시 경화제를 포함하고, 상기 에폭시 수지는, 2관능성 비스페놀계 에폭시 수지; 2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지; 및 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지;를 포함하는 것인, 에폭시 접착제 조성물을 제공한다.In exemplary embodiments of the present specification, it includes a thermoplastic resin, an epoxy resin, an inorganic filler, and an epoxy curing agent, wherein the epoxy resin is a bifunctional bisphenol-based epoxy resin; bifunctional cresol novolac-based epoxy resins; And a trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin; it provides an epoxy adhesive composition comprising a.

본 발명의 일 구현예에서, 2관능성 에폭시 수지들은 일반적인 에폭시 수지의 기본 물성을 구현하며, 3관능성 또는 4관능성 에폭시 수지는 에폭시 수지의 기본 물성을 더욱 강화하기 위해 선택된 것이다. In one embodiment of the present invention, the bifunctional epoxy resin implements the basic physical properties of a general epoxy resin, and the trifunctional or tetrafunctional epoxy resin is selected to further strengthen the basic physical properties of the epoxy resin.

구체적으로, 2관능성 비스페놀계 에폭시 수지는 -OH기가 존재함에 따라 에폭시 수지의 접착 및 유동 물성에 영향을 주고, 2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지는 반복구조에 -OH가 존재하지 않아 접착 물성에 상대적으로 불리하지만, 벤젠기를 포함하고 있어 내열성 측면에서 유리하며, 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지는 내열성이 좋으며 에폭시 수지 내에 가교밀도를 상승시켜 내열 안정성 및 기계적 물성 향상에 영향을 준다. Specifically, the presence of -OH groups in the bifunctional bisphenol-based epoxy resin affects the adhesion and flow properties of the epoxy resin, and in the bifunctional cresol novolac-based epoxy resin, -OH does not exist in the repeating structure, so adhesion properties Although it is relatively unfavorable to the benzene group, it is advantageous in terms of heat resistance, and trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resins have good heat resistance and increase the crosslinking density in the epoxy resin, which affects heat resistance stability and improvement of mechanical properties. .

다만 3관능성 또는 4관능성의 다관능성 에폭시 수지는 경화제와 반응이 빠르기 때문에 에폭시 수지 조성물에 있어 적정량을 구성하는 것이 바람직하다.However, since the trifunctional or tetrafunctional polyfunctional epoxy resin reacts quickly with the curing agent, it is preferable to configure an appropriate amount in the epoxy resin composition.

또한, 에폭시 선정 시, 유동기능을 강화하고, 접착특성의 감소를 억제하기 위해서는 당량이 낮은 낮은 에폭시를 선정하는 것이 적합하다. 바람직하게 당량은 50~250 g/eq 수준이 적합하다. 이에 해당하는 에폭시는 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지이며, 다양한 다관능성 나프탈렌계 에폭시 수지를 혼합하여 사용할 수도 있다. In addition, when selecting an epoxy, it is suitable to select a low epoxy with a low equivalent in order to strengthen the flow function and suppress a decrease in adhesive properties. Preferably, the equivalent weight is 50 to 250 g/eq. Epoxy corresponding to this is a trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin, and various polyfunctional naphthalene-based epoxy resins may be mixed and used.

예시적인 구현예에서, 상기 2관능성 비스페놀계 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 및 수첨 비스페놀 F형 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the bifunctional bisphenol-based epoxy resin is a bisphenol A-type epoxy compound, a bisphenol F-type epoxy compound, a bisphenol S-type epoxy compound, a hydrogenated bisphenol A-type epoxy compound, and a hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound. It may include one or more selected from.

예시적인 구현예에서, 2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지는 O-크레졸 노블락 또는 p-/m-크레졸 노블락을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the bifunctional cresol novolac-based epoxy resin may include O-cresol novolac or p-/m-cresol novolac.

예시적인 구현예에서, 상기 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지는 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민 및 트리글리시딜-p-아미노페놀 로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin is composed of N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine and triglycidyl-p-aminophenol. It may include one or more selected from the group.

예시적인 구현예에서, 상기 에폭시 수지는 상기 에폭시 수지 전체 중량을 기준으로, 2관능성 비스페놀계 에폭시 수지 20 내지 40 중량부; 2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지 20 내지 40 중량부; 및 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지 20 내지 40 중량부;를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the epoxy resin may include, based on the total weight of the epoxy resin, 20 to 40 parts by weight of a bifunctional bisphenol-based epoxy resin; 20 to 40 parts by weight of a bifunctional cresol novolak-based epoxy resin; and 20 to 40 parts by weight of a trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin.

예시적인 구현예에서, 상기 열가소성 수지는 폴리이미드, 폴리에테르 이미드, 폴리에스테르 이미드, 폴리아미드, 폴리에테르 술폰, 폴리에테르 케톤, 폴리올레핀, 폴리염화비닐, 페녹시, 반응성 부타디엔 아크릴로 니트릴 공중합 고무 및 (메타)아크릴레이트계 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the thermoplastic resin is polyimide, polyether imide, polyester imide, polyamide, polyether sulfone, polyether ketone, polyolefin, polyvinyl chloride, phenoxy, reactive butadiene acrylonitrile copolymer rubber And (meth) may include at least one selected from the group consisting of acrylate-based resins.

상기 무기충진제는 CTE(Coefficient of Thermal Expansion)값을 저하시키기 위함이다. The inorganic filler is intended to lower a CTE (Coefficient of Thermal Expansion) value.

예시적인 구현예에서, 상기 무기충진제는 실리카, 알루미나, 산화마그네슘, 규산마그네슘, 산화티탄, 질화 붕소, 지르코니아, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 및 수산화 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the inorganic filler may include at least one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, magnesium silicate, titanium oxide, boron nitride, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate, and aluminum hydroxide. .

예시적인 구현예에서, 상기 에폭시 경화제는 아민계 경화제, 페놀계 경화제 및 이소시아네이트계 경화제, 및 활성 에스테르 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the epoxy curing agent may include at least one selected from the group consisting of an amine-based curing agent, a phenol-based curing agent and an isocyanate-based curing agent, and an active ester curing agent.

에폭시 경화제는 수지를 경화시키는 역할을 수행하는 것으로, 경화 반응 시 내열성 및 접착 특성이 개선되는 효과를 유발할 수 있다. 주로 아민계가 통상적으로 사용되나, 반응성에 따라 페놀계 경화제나 이소시아네이트계 경화제, 활성 에스테르 경화제 등을 사용할 수 있다. 첨가량은 에폭시 수지의 당량에 활성수소량을 계산해서 첨가할 수 있다. The epoxy curing agent serves to cure the resin, and may cause an effect of improving heat resistance and adhesive properties during a curing reaction. An amine-based curing agent is usually used, but depending on the reactivity, a phenol-based curing agent, an isocyanate-based curing agent, or an active ester curing agent may be used. The amount to be added can be added by calculating the amount of active hydrogen to the equivalent of the epoxy resin.

필요에 따라서, 에폭시 수지와 에폭시 수지용 경화제의 반응을 촉진하는 경화 촉매가 선택적으로 사용될 수 있다.If necessary, a curing catalyst for accelerating the reaction of the epoxy resin and the curing agent for the epoxy resin may be optionally used.

예시적인 구현예에서, 에폭시 접착제 조성물은 경화 촉매를 더 포함할 수 있고, 상기 경화 촉매는 이미다졸계 촉매, 포스핀계 촉매, 및 보론계 촉매로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, the epoxy adhesive composition may further include a curing catalyst, and the curing catalyst may include at least one selected from the group consisting of an imidazole-based catalyst, a phosphine-based catalyst, and a boron-based catalyst.

예시적인 구현예에서, 상기 에폭시 접착제 조성물은 필요에 따라, 탈수제, 가소제, 내후제, 산화 방지제, 열 안정제, 윤활제, 대전 방지제, 표백제, 착색제, 전도제, 이형제, 표면 처리제, 점도 조절제, 인계 난연제, 난연 필러, 실리카 필러, 불소 필러 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the epoxy adhesive composition may optionally contain a dehydrating agent, a plasticizer, a weathering agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a lubricant, an antistatic agent, a bleach, a colorant, a conductive agent, a release agent, a surface treatment agent, a viscosity modifier, a phosphorus-based flame retardant , and may further include additives such as flame-retardant fillers, silica fillers, and fluorine fillers.

예시적인 구현예에서, 상기 에폭시 접착제 조성물 전체 중량을 기준으로, 열가소성 수지 10 내지 30 중량부; 에폭시 수지 10 내지 40 중량부; 무기 충진제 30 내지 50 중량부; 및 에폭시 경화제 0.05 내지 5 중량부;를 포함할 수 있다. In an exemplary embodiment, based on the total weight of the epoxy adhesive composition, 10 to 30 parts by weight of a thermoplastic resin; 10 to 40 parts by weight of an epoxy resin; 30 to 50 parts by weight of an inorganic filler; and 0.05 to 5 parts by weight of an epoxy curing agent.

상기 에폭시 수지의 중량부가 10 중량부 미만의 경우 가교 밀도 및 접착제 응집력이 약해져, 밀착력이 저하되고 내열성이 저하될 수 있고, 40 중량부 초과일 경우 유동성이 낮아질 수 있다. When the weight part of the epoxy resin is less than 10 parts by weight, crosslinking density and adhesive cohesive force are weakened, adhesion may be lowered and heat resistance may be lowered, and if it is more than 40 parts by weight, fluidity may be lowered.

상기 열가소성 수지의 함량이 너무 작으면 상기 수지 조성물의 경화후 모듈러스가 급격히 상승하여 기판과 웨이퍼간의 응력 완화 효과를 기대하기 어렵다. 또한, 상기 열가소성 수지의 함량이 너무 높으면 유동성이 낮아져 경화 과정 중에 보이드 제거가 어려워져 제품의 신뢰성이 저하될 수 있다. When the content of the thermoplastic resin is too small, it is difficult to expect a stress relaxation effect between the substrate and the wafer because the modulus is rapidly increased after curing of the resin composition. In addition, if the content of the thermoplastic resin is too high, fluidity may be lowered, making it difficult to remove voids during the curing process, thereby reducing product reliability.

무기충진제 30 중량부 미만의 경우 CTE 값이 높아지며, 50 중량부 초과시 유동성이 저하되는 문제점이 있으며, 또한 분산성 및 점도 문제로 인해 작업성이 좋지 않을 수 있다. In the case of less than 30 parts by weight of the inorganic filler, the CTE value increases, and when it exceeds 50 parts by weight, there is a problem in that fluidity is lowered, and also workability may be poor due to dispersibility and viscosity problems.

예시적인 구현예에서, 상기 에폭시 접착제 조성물은 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film)용일 수 있다. In an exemplary embodiment, the epoxy adhesive composition may be for a die attach film (DAF).

본 명세서의 또다른 예시적인 구현예들에서는, 기재; 및 전술한 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 접착층;을 포함하는 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film)을 제공한다. In still other exemplary embodiments of the present specification, a substrate; And it provides a die attach film (DAF; Die Attach Film) comprising a; and an adhesive layer comprising the above-mentioned epoxy adhesive composition.

예시적인 구현예에서, 상기 기재의 두께는 20 내지 75 μm 이고, 상기 접착층의 두께는 5 내지 70 μm 일 수 있다. In an exemplary embodiment, the thickness of the substrate may be 20 to 75 μm, and the thickness of the adhesive layer may be 5 to 70 μm.

예시적인 구현예에서, 상기 다이 어태치 필름은 반도체용일 수 있다. In an exemplary embodiment, the die attach film may be for a semiconductor.

이하, 본 발명의 예시적인 구현예들에 따른 구체적인 실시예를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니며 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예들이 구현될 수 있고, 단지 하기 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 함과 동시에 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 실시를 용이하게 하고자 하는 것임이 이해될 것이다.Hereinafter, specific embodiments according to exemplary embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the present invention is not limited to the following examples, and various types of embodiments can be embodied within the scope of the appended claims. It will be understood that the intention is to facilitate practice of the invention to those skilled in the art.

실시예Example

하기 표 1과 같은 조성으로 에폭시 접착제 조성물을 제조하였다. An epoxy adhesive composition was prepared with the composition shown in Table 1 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예1Comparative Example 1 에폭시 수지1Epoxy Resin 1 YD-011YD-011 12.512.5 12.512.5 12.512.5 12.512.5 에폭시 수지2Epoxy Resin 2 YDCN500-1PYDCN500-1P 13.013.0 13.013.0 13.113.1 26.226.2 에폭시 수지3Epoxy resin 3 jer 630jer 630 -- 12.112.1 5.75.7 -- erisys ga-240erisys ga-240 11.011.0 -- 6.46.4 -- 열가소성 수지thermoplastic resin KG-800KG-800 21.421.4 21.421.4 21.421.4 21.421.4 무기 충진제inorganic filler SC-2050MBSC-2050MB 39.739.7 39.739.7 39.739.7 39.739.7 경화 촉진제hardening accelerator DICYDICY 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 경화촉매curing catalyst 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1

YD-011 : 비스페놀 A 에폭시 수지(diglycidyl ether of bisphenol A),YD-011: bisphenol A epoxy resin (diglycidyl ether of bisphenol A),

YDCN500-1P : 크레졸 노볼락 에폭시 수지 (O-cresol novolac epoxy resin)YDCN500-1P : O-cresol novolac epoxy resin

JER 630 : 트리글리시딜-p-아미노페놀 (3관능기 에폭시)JER 630: triglycidyl-p-aminophenol (trifunctional epoxy)

erisys ga-240 : N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민 (4관능기 에폭시)erisys ga-240: N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine (tetrafunctional epoxy)

KG-8000 : 열가소성 수지 KG-8000 : Thermoplastic

SC-2050MB : 실리카 무기충진제SC-2050MB : Silica inorganic filler

경화제 : 디시안디아미드 (Dicyandiamide)Hardener: Dicyandiamide

경화촉매 : 이미다졸(Imidazole)계Curing catalyst: Imidazole type

구체적으로, 혼합 에폭시 수지로 에폭시 수지 1인 비스페놀A 에폭시(YD-011), 에폭시 수지 2인 크레졸 노볼락 에폭시(YDCN500-1P), 에폭시 수지 3인 다관능기를 포함하는 에폭시(multi-functional epoxy)를 혼합하여 준비하였다.Specifically, as the mixed epoxy resin, the epoxy resin 1 is bisphenol A epoxy (YD-011), the epoxy resin 2 is cresol novolac epoxy (YDCN500-1P), and the epoxy resin 3 is an epoxy (multi-functional epoxy) containing a multifunctional group was prepared by mixing.

상기 혼합 에폭시 수지에 열가소성 수지인 에폭시기를 포함하는 아크릴 에스터 수지(kG-8000), 무기충진제(SC-2050MB), 경화제(Dicyandiamide) 및 경화촉매(Imidazole계)를 혼합하여 상기 표 1과 같이 에폭시 접착제 조성물을 제조하였다. An epoxy adhesive as shown in Table 1 by mixing an acrylic ester resin (kG-8000), an inorganic filler (SC-2050MB), a curing agent (Dicyandiamide) and a curing catalyst (Imidazole-based) containing an epoxy group as a thermoplastic resin in the mixed epoxy resin A composition was prepared.

이렇게 준비된 조성물을 이형 처리한 폴리에스테르 필름 상에 도포한 후, 130℃에서 3분 동안 열풍 건조기 내에서 용제를 건조 및 제거하여 두께가 60 μm 인 B-Stage 특성의 다이 어태치 필름용 접착필름을 제조하였다.After applying the prepared composition on the release-treated polyester film, the solvent was dried and removed in a hot air dryer at 130° C. for 3 minutes to form an adhesive film for a B-Stage characteristic die attach film having a thickness of 60 μm. prepared.

실험예Experimental example

(1) Die Shear Strength 측정(1) Measurement of Die Shear Strength

상기 실시예에서 얻어진 접착필름을 고무롤 라미기를 이용하여 UV다이싱 필름과 합지를 하였다. 이 필름을 직경 8인치, 두께 50μm의 웨이퍼에 70℃로 마운팅(Mounting)하였다. 상기 시편을 Disco사의 DFD-651를 이용하여 5mm x 5mm Chip 사이즈로 웨이퍼 다이싱(Wafer dicing)을 하였다. 해당 시편을 400mJ로 UV Curing 후 Shinkawa사의 SPA-210를 이용하여 접착필름 부착된 Chip을 제작하였다. 10mm x 10mm 크기의 웨이퍼 미러를 130℃의 핫플레이트에 위치시킨 이후 제작된 시편을 2kgf 압력으로 2초간 압착하여 180℃건조 오븐에서 2시간동안 경화하였다. 이렇게 제작된 시편을 85℃및 85% 상대습도 조건의 항온항습기에 24시간 방치 전후를 시편을 만들었다. 그리고 다이 쉐어 테스터 DAGE 4000을 이용하여 웨이퍼 칩을 50μm/s의 속도로 밀면서 힘을 측정하였고 그 결과를 표 2에 기재하였다.The adhesive film obtained in the above example was laminated with a UV dicing film using a rubber roll laminating machine. This film was mounted on a wafer having a diameter of 8 inches and a thickness of 50 μm at 70°C. The specimen was wafer diced to a chip size of 5 mm x 5 mm using DFD-651 of Disco. After UV curing the specimen at 400mJ, a chip with an adhesive film was manufactured using Shinkawa's SPA-210. After placing a wafer mirror of 10 mm x 10 mm size on a hot plate at 130 °C, the prepared specimen was compressed for 2 seconds at a pressure of 2 kgf and cured in a drying oven at 180 °C for 2 hours. Specimens were prepared before and after leaving the thus-prepared specimens in a thermo-hygrostat under conditions of 85° C. and 85% relative humidity for 24 hours. And the force was measured while pushing the wafer chip at a speed of 50 μm/s using a die share tester DAGE 4000, and the results are shown in Table 2.

(2) Viscosity 측정(2) Viscosity measurement

상기 실시예에서 얻어진 접착필름을 고무롤 라미기를 이용하여 600μm 두께가 될 때까지 적층하였다. 이 필름을 8mm 원형시편을 제조한 후에 TA사의 ARES-G2를 이용하여 점도를 측정하고, 그 결과를 표 2에 기재하였다.The adhesive film obtained in the above example was laminated using a rubber roll laminator until it became 600 μm thick. After preparing an 8 mm circular specimen for this film, the viscosity was measured using ARES-G2 manufactured by TA, and the results are shown in Table 2.

(3) Water Absorption 측정(3) Water Absorption Measurement

상기 실시예에서 얻어진 접착필름을 고무롤 라미기를 이용하여 1000μm 두께가 될 때까지 적층하였다. 이 필름을 50mm x 50mm 크기로 절단하여 시편을 제작한다. 상기 시편을 180℃건조 오븐에서 2시간동안 경화한 후 무게(A)를 측정하였다. 또한, 상기 시편을 85℃및 85% 상대습도 조건의 항온항습기에 24시간 방치 후 무게(B)를 측정하여 하기 계산식을 이용하여 흡습율을 측정하고 그 결과를 표 2에 기재하였다. The adhesive film obtained in the above example was laminated using a rubber roll laminating machine until it became 1000 μm thick. A specimen is prepared by cutting this film into a size of 50 mm x 50 mm. After curing the specimen in a drying oven at 180° C. for 2 hours, the weight (A) was measured. In addition, the specimen was left in a thermo-hygrostat under conditions of 85° C. and 85% relative humidity for 24 hours, and then the weight (B) was measured, and the moisture absorption was measured using the following formula, and the results are shown in Table 2.

계산식: Water Absorption(%) = ((B-A)/A)*100Calculation formula: Water Absorption(%) = ((B-A)/A)*100

(4)Sawing성(4)Sawing Castle

상기 실시예에서 얻어진 접착필름을 고무롤 라미기를 이용하여 UV다이싱 필름과 합지를 하였다. 이 필름을 직경 8인치, 두께 50μm의 웨이퍼에 70℃로 마운팅(Mounting)하여 시편을 제작하였다. 제작된 시편을 Disco사의 DFD-651를 이용하여 5mm x 5mm Chip 사이즈로 웨이퍼 다이싱(Wafer dicing)을 진행하였고 그 결과를 표 2에 기재하였다. 이때, Sawing성 평가 기준은 다음과 같다.The adhesive film obtained in the above example was laminated with a UV dicing film using a rubber roll laminating machine. This film was mounted on a wafer having a diameter of 8 inches and a thickness of 50 μm at 70° C. to prepare a specimen. The prepared specimen was subjected to wafer dicing to a chip size of 5 mm x 5 mm using Disco's DFD-651, and the results are shown in Table 2. At this time, the sawing performance evaluation criteria are as follows.

○ : Flying 및 수침으로 인한 Chip 외관불량이 전체 웨이퍼 면적의 0% 이하 ○ : Chip appearance defect due to flying and water immersion is less than 0% of the total wafer area

△ : Flying 및 수침으로 인한 Chip 외관불량이 전체 웨이퍼 면적의 5% 이하△: Chip appearance defects due to flying and water immersion less than 5% of the total wafer area

X : Flying 및 수침으로 인한 Chip 외관불량이 전체 웨이퍼 면적의 5% 초과X: Chip appearance defects due to flying and water immersion exceed 5% of the total wafer area

(5) 픽업성(5) Pick-up

상기 실시예에서 얻어진 접착필름을 고무롤 라미기를 이용하여 UV다이싱 필름과 합지를 하였다. 이 필름을 직경 8인치, 두께 50μm의 웨이퍼에 70℃로 마운팅(Mounting)하여 시편을 제작하였다. 상기 시편을 Disco사의 DFD-651를 이용하여 5mm x 5mm Chip 사이즈로 웨이퍼 다이싱(Wafer dicing)을 하였다. 제작된 시편을 400mJ로 UV Curing 후 Shinkawa사의 SPA-210를 이용하여 픽업을 진행하였고 그 결과를 표 2에 기재하였다.The adhesive film obtained in the above example was laminated with a UV dicing film using a rubber roll laminator. This film was mounted on a wafer having a diameter of 8 inches and a thickness of 50 μm at 70° C. to prepare a specimen. The specimen was wafer diced to a chip size of 5 mm x 5 mm using DFD-651 of Disco. After UV curing the produced specimen at 400mJ, pickup was performed using Shinkawa's SPA-210, and the results are shown in Table 2.

이때 픽업성 평가 기준은 다음과 같다.At this time, the pick-up evaluation criteria are as follows.

○ : 픽업 성공율 100%○: Pickup success rate 100%

△ : 픽업 성공율 90% ~ 100% △ : Pickup success rate 90% ~ 100%

X : 픽업 성공율 90% 미만X: Pickup success rate less than 90%

(6) 기판메움성(6) Substrate fillability

상기 실시예에서 얻어진 접착필름을 10mm×10mm 사이즈로 절단한 후 커버글라스에 70℃로 라미네이션 하였다. 이 시편을 Shinkawa사의 SPA-210를 이용하여 인쇄배선회로기판(PCB)상에 130℃, 10kgf 압력으로 1초간 압착하여 시편을 제작하였다. 이후 제작된 시편을 현미경을 이용하여 기판메움성을 평가하였고 그 결과를 하기 표 2에 기재하였다.The adhesive film obtained in the above example was cut to a size of 10 mm × 10 mm, and then laminated on a cover glass at 70°C. This specimen was compressed for 1 second at 130°C and 10 kgf pressure on a printed wiring circuit board (PCB) using Shinkawa's SPA-210 to prepare a specimen. Thereafter, the prepared specimen was evaluated for substrate fillability using a microscope, and the results are shown in Table 2 below.

이때, 기판메움성 평가 기준은 다음과 같다.In this case, the evaluation criteria of the substrate fillability are as follows.

○ : 기판메움성 70%이상○: 70% or more of substrate fillability

△ : 기판메움성 30 ~ 70%△: 30 to 70% of substrate fillability

X : 기판메움성 30% 이하 X: Substrate fillability 30% or less

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예comparative example Die ShearDie Shear 85/85*0hr85/85*0hr 199199 187187 194194 178178 StrengthStrength 85/85*24hr85/85*24hr 9696 8686 9090 7676 ViscosityViscosity Pa.s (@130)Pa.s (@130) 18601860 19431943 19101910 21052105 Water AbsorptionWater Absorption %% 0.380.38 0.440.44 0.420.42 0.510.51 Sawing성Sawing Castle 픽업성pick-up 기판메움성Substrate fillability

상기 표 2를 참조하면, 비교예 1 과 같이 2관능성 에폭시 조성물만 사용한 경우, 실시예와 비교하였을 때 기계적 물성 및 가공성이 저하는 되는 것을 확인할 수 있었다. Referring to Table 2, when only the bifunctional epoxy composition was used as in Comparative Example 1, it was confirmed that the mechanical properties and workability were lowered as compared with Examples.

또한, 실시예인 다관능성 에폭시 조성물의 경우, 실시예 1과 같이 4관능성 에폭시를 단독으로 사용하였을 때 가장 기계적 물성 및 가공성이 우수함을 확인할 수 있었다. In addition, in the case of the multifunctional epoxy composition as an Example, it was confirmed that the most excellent mechanical properties and processability when using the tetrafunctional epoxy alone as in Example 1.

Claims (14)

열가소성 수지, 에폭시 수지, 무기 충진제 및 에폭시 경화제를 포함하고,
상기 에폭시 수지는,
2관능성 비스페놀계 에폭시 수지;
2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지; 및
3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지;를 포함하는 것인, 에폭시 접착제 조성물.
a thermoplastic resin, an epoxy resin, an inorganic filler, and an epoxy curing agent;
The epoxy resin is
bifunctional bisphenol-based epoxy resin;
bifunctional cresol novolac-based epoxy resins; and
A trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin; containing, the epoxy adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 2관능성 비스페놀계 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 및 수첨 비스페놀 F형 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The bifunctional bisphenol-based epoxy resin is at least one selected from the group consisting of a bisphenol A-type epoxy compound, a bisphenol F-type epoxy compound, a bisphenol S-type epoxy compound, a hydrogenated bisphenol A-type epoxy compound, and a hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound. comprising, an epoxy adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 O-크레졸 노블락 또는 p-/m-크레졸 노블락을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
An epoxy adhesive composition comprising the bifunctional cresol novolak-based epoxy O-cresol novolak or p-/m-cresol novolak.
제1항에 있어서,
상기 3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지는 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 및 트리글리시딜-p-아미노페놀로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin is one selected from the group consisting of N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, and triglycidyl-p-aminophenol An epoxy adhesive composition comprising the above.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지는 상기 에폭시 수지 전체 중량을 기준으로,
2관능성 비스페놀계 에폭시 수지 20 내지 40 중량부;
2관능성 크레졸 노볼락계 에폭시 수지 20 내지 40 중량부; 및
3관능성 또는 4관능성 나프탈렌계 에폭시 수지 20 내지 40 중량부;를 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin is based on the total weight of the epoxy resin,
20 to 40 parts by weight of a bifunctional bisphenol-based epoxy resin;
20 to 40 parts by weight of a bifunctional cresol novolak-based epoxy resin; and
20 to 40 parts by weight of a trifunctional or tetrafunctional naphthalene-based epoxy resin; Containing, an epoxy adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 열가소성 수지는 폴리이미드, 폴리에테르 이미드, 폴리에스테르 이미드, 폴리아미드, 폴리에테르 술폰, 폴리에테르 케톤, 폴리올레핀, 폴리염화비닐, 페녹시, 반응성 부타디엔 아크릴로 니트릴 공중합 고무 및 (메타)아크릴레이트계 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The thermoplastic resin is polyimide, polyether imide, polyester imide, polyamide, polyether sulfone, polyether ketone, polyolefin, polyvinyl chloride, phenoxy, reactive butadiene acrylonitrile copolymer rubber and (meth)acrylate. An epoxy adhesive composition comprising at least one selected from the group consisting of a resin-based resin.
제1항에 있어서,
상기 무기충진제는 실리카, 알루미나, 산화마그네슘, 규산마그네슘, 산화티탄, 질화 붕소, 지르코니아, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 및 수산화 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The inorganic filler comprises at least one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, magnesium silicate, titanium oxide, boron nitride, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate, and aluminum hydroxide, epoxy adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 경화제는 아민계 경화제, 페놀계 경화제 및 이소시아네이트계 경화제, 및 활성 에스테르 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy curing agent comprises at least one selected from the group consisting of an amine-based curing agent, a phenol-based curing agent and an isocyanate-based curing agent, and an active ester curing agent, an epoxy adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 접착제 조성물은 경화 촉매를 더 포함하고,
상기 경화 촉매는 이미다졸계 촉매, 포스핀계 촉매, 및 보론계 촉매로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy adhesive composition further comprises a curing catalyst,
The curing catalyst comprises at least one selected from the group consisting of an imidazole-based catalyst, a phosphine-based catalyst, and a boron-based catalyst, the epoxy adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 접착제 조성물 전체 중량을 기준으로,
열가소성 수지 10 내지 30 중량부;
에폭시 수지 10 내지 40 중량부;
무기 충진제 30 내지 50 중량부; 및
에폭시 경화제 0.05 내지 5 중량부;를 포함하는, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
Based on the total weight of the epoxy adhesive composition,
10 to 30 parts by weight of a thermoplastic resin;
10 to 40 parts by weight of an epoxy resin;
30 to 50 parts by weight of an inorganic filler; and
An epoxy adhesive composition comprising; 0.05 to 5 parts by weight of an epoxy curing agent.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 접착제 조성물은 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film)용인, 에폭시 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy adhesive composition is for a die attach film (DAF; Die Attach Film), the epoxy adhesive composition.
기재; 및
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 접착층;을 포함하는 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film).
write; and
12. A die attach film comprising a; an adhesive layer comprising the epoxy adhesive composition according to any one of claims 1 to 11 (DAF; Die Attach Film).
제12항에 있어서,
상기 기재의 두께는 20 내지 75 μm 이고,
상기 접착층의 두께는 5 내지 70 μm인, 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film).
13. The method of claim 12,
The thickness of the substrate is 20 to 75 μm,
The thickness of the adhesive layer is 5 to 70 μm, a die attach film (DAF; Die Attach Film).
제12항에 있어서,
상기 다이 어태치 필름은 반도체용인, 다이 어태치 필름(DAF; Die Attach Film).
13. The method of claim 12,
The die attach film is for semiconductors, die attach film (DAF; Die Attach Film).
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