KR20220037826A - 전자파 차폐 필름 및 이의 제조방법 - Google Patents

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김태훈
박상연
차승남
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엘지전자 주식회사
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Abstract

실시예에 따른 전자파 차폐필름은 베이스 기재 및 상기 베이스 기재 상에 배치되는 전자파 차폐층을 포함하고, 상기 전자차 차폐층의 두께는 1㎚ 내지 50㎚이다.

Description

전자파 차폐 필름 및 이의 제조방법{ELECTROMAGNETIC SHIELDING FILM AND METHOD OF FABRICATION THE SAME}
실시예는 전자파 차폐 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
각종 전자기기에서 발생하는 전자파는 전자기기의 성능을 저하시킬 수 있고, 외부로 방출되는 전자파는 전자기기 사용자의 건강에 나쁜 영향을 줄 수 있다.
특히, 전자파에 의해 전자기기의 신호 간섭에 따른 작동 불량 및 특성 저하 등이 발생할 수 있다.
종래에는 전자파 차폐 분말을 형성한 후, 기재 상에 전자파 차폐 분말을 코팅하여 기재 상에 전자파 차폐 필름을 형성하였다.
그러나, 상기 전자파 차폐 분말을 이용하여 코팅층을 형성하는 경우, 고온의 공정이 요구되었고, 전사 공정이 요구되었기 때문에, 공정 효율이 저하되는 문제점이 있었다.
또한, 대면적의 기재 상에는 코팅층을 형성하기 어려운 문제점이 있었다.
따라서, 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 새로운 구조의 전자파 차폐 필름 및 이의 제조방법이 요구된다.
실시예는 향상된 투과율 및 전자파 차폐 효과를 가지는 전자파 차폐 필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
실시예에 따른 전자파 차폐필름은 베이스 기재 및 상기 베이스 기재 상에 배치되는 전자파 차폐층을 포함하고, 상기 전자차 차폐층의 두께는 1㎚ 내지 50㎚이다.
실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 전자파 차폐 특성이 향상될 수 있다.
자세하게, 상기 전자차 차폐 필름은 다층 구조를 가지는 차폐층의 계면에 의해 산란 효과를 유도하여 전자파 차폐 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 전자파 차폐 필름은 차폐층의 표면에 결정립이 작은 황화구리 결정립을 배치하고, 이에 의해 전자파의 산란 효과를 유도하여 전자파 차폐 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 차폐층의 일면에 패턴층을 배치하고 이에 의해 전자파의 산란 효과를 유도하여 전자파 차폐 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 차폐층의 두께를 나노미터 단위의 크기로 배치하여 상기 차폐층에 따른 전자파 차폐 필름의 두께 증가를 방지하고, 광 투과율의 감소를 방지할 수 있다.
도 1은 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 2는 다른 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 3은 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 4 및 도 5 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 6은 실시예에 따른 전자파 차폐 필름 제조방법의 공정 흐름도를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 전자파 차폐 특성을 설명하기 위한 그래프이다.
도 8은 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 전기적 특성을 설명하기 위한 그래프이다.
도 9는 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 전자파 차폐 특성을 설명하기 위한 그래프이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, “A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한개이상)”로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나이상을 포함 할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다.
그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우 뿐만 아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속'되는 경우도 포함할 수 있다.
또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두 개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다.
또한 “상(위) 또는 하(아래)”으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.
이하, 도면들을 참조하여, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름 및 이의 제조방법을 설명한다.
도 1은 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 베이스 기재(100) 및 차폐층(200)을 포함할 수 있다.
상기 베이스 기재(100)는 투명할 수 있다. 예를 들어, 상기 베이스 기재(100)는 광을 투과할 수 있는 투명 기재를 포함할 수 있다.
상기 베이스 기재(100)는 플라스틱 또는 연성의 고분자 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 연성의 고분자 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리카보네이트(Polycabonate, PC), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 수지(acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, ABS), 폴리메틸메타아크릴레이트(Polymethyl Methacrylate, PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylene Naphthalate, PEN), 폴리에테르술폰(Polyether Sulfone, PES), 고리형 올레핀 고분자(Cyclic Olefin Copolymer, COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol, PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide, PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene, PS) 중 어느 하나로 이루어질 수 있으며, 이는 하나의 예시일 뿐 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 베이스 기재(100)는 유연한 특성을 가지는 플렉서블(flexible) 기판일 수 있다.
또한, 상기 베이스 기재(100)는 커브드(curved) 또는 벤디드(bended) 기판일 수 있다. 즉, 상기 베이스 기재(100)를 포함하는 전자파 차폐 필름도 플렉서블, 커브드 또는 벤디드 특성을 가지도록 형성될 수 있다. 이로 인해, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 다양한 디자인으로 변경이 가능할 수 있다.
상기 차폐층(200)은 상기 베이스 기재(100) 상에 배치될 수 있다. 상기 차폐층(200)은 상기 베이스 기재(100)와 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 차폐층(200)은 전자파를 차단하는 층일 수 있다. 즉, 상기 차폐층은 전자파 차폐층(200)일 수 있다.
상기 차폐층(200)은 전자파를 차단할 수 있는 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 차폐층(200)은 광을 투과할 수 있다. 즉, 상기 차폐층(200)은 광투과 물질을 포함할 수 있다.
예를 들어, 상기 차폐층(200)은 70% 내지 99%의 광 투과율을 가질 수 있다.
한편, 상기 차폐층(200)은 일정한 두께로 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 나노미터(㎚) 크기의 두께로 배치될 수 있다.
자세하게, 상기 차폐층(200)은 50㎚ 이하의 두께로 배치될 수 있다. 더 자세하게, 상기 차폐층(200)은 1㎚ 내지 50㎚의 두께로 배치될 수 있다. 더 자세하게, 상기 차폐층(200)은 2㎚ 내지 10㎚의 두께로 배치될 수 있다.
상기 차폐층(200)의 두께가 50㎚을 초과하는 경우, 상기 차폐층(200)에 의해 상기 전자파 차폐 필름의 광 투과율이 저하될 수 있다. 이에 따라, 상기 전자파 차폐 필름이 디스플레이 등에 적용될 때, 광 투과율이 저하되어 사용자의 시인성이 저하될 수 있다.
또한, 상기 차폐층(200)의 두께가 1㎚ 미만으로 하는 것은 공정상 구현하기 어렵고, 차폐층(200)의 두께 감소에 따라 전자파 차폐 특성이 저하될 수 있다.
상기 차폐층(200)은 금속을 포함할 수 있다. 상기 차폐층(200)은 금속 화합물을 포함할 수 있다. 상기 차폐층(200)은 구리 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 차폐층(200)은 구리 및 황을 포함할 수 있다. 죽, 상기 차폐층(200)은 황화구리(CuS)를 포함할 수 있다.
도 2는 다른 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 2를 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 차폐층(200)은 다층 구조를 가질 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 제 1 층(210), 제 2 층(220) 및 제 3 층(230)을 포함할 수 있다.
자세하게, 상기 차폐층(200)은 상기 베이스 기재(100) 상에 배치되는 상기 제 1 층(210), 상기 제 1 층(210) 상에 배치되는 제 2 층(220) 및 상기 제 2 층(220) 상에 배치되는 제 3 층(230)을 포함할 수 있다.
도 2에서는 상기 차폐층(200)이 3층 구조로 형성되는 것을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 차폐층(200)은 4층, 5층 등 3층을 초과하는 다층 구조로 형성될 수 있다.
상기 제 1 층(210), 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)은 서로 동일한 물질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 층(210), 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)은 서로 동일한 조성을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 1 층(210), 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)은 서로 다른 조성비를 가질 수 있다. 즉, 상기 제 1 층(210), 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)은 동일한 조성을 가지면서 다른 조성비를 가질 수 있다.
자세하게, 상기 제 1 층(210), 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)은 구리 및 황을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 1 층(210), 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)은 황화구리 화합물을 포함할 수 있다.
또한, 상기 차폐층(200)은 상기 제 1 층(210)에서 상기 제 3 층(230) 방향으로 연장하면서 황 및 구리의 농도가 변화할 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 상기 제 1 층(210)에서 상기 제 3 층(230) 방향으로 연장하면서 황의 농도가 증가할 수 있다. 또한, 상기 차폐층(200)은 상기 제 1 층(210)에서 상기 제 3 층(230) 방향으로 연장하면서 구리의 농도가 감소할 수 있다.
즉, 상기 제 1 층(210)은 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)보다 구리의 농도가 클 수 있다. 또한, 상기 제 1 층(210)은 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)보다 황의 농도가 작을 수 있다.
또한, 상기 제 2 층(220)은 상기 제 3 층(230)보다 구리의 농도가 클 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(220)은 상기 제 3 층(230)보다 황의 농도가 작을 수 있다.
즉, 상기 제 1 층(210)은 CuaSb를 포함하고, 상기 제 2 층(220)은 CucSd를 포함하고, 상기 제 3 층(230)은 CueSf를 포함할 때 하기의 수식들을 만족할 수 있다.
[수식 1]
a > c > e (a, c, e 는 양수)
[수식 2]
b < d < f (b, d, f 는 양수)
상기 차폐층(200)이 다층 구조를 가짐에 따라, 각 층들에는 계면들이 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 층(210) 및 상기 제 2 층(220)에는 제 1 계면(S1)이 형성되고, 상기 제 2 층(220) 및 상기 제 3 층(230)에는 제 2 계면(S2)이 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 차폐층(200)을 포함하는 전자파 차폐 필름의 차폐 특성을 향상시킬 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 제 1 계면 및 제 2 계면 등의 복수의 계면들을 포함하고, 상기 계면들에 의해 상기 차폐층으로 입사되는 전자파의 산란 효과를 유도함으로써, 상기 전자파 차폐 필름의 전자파 차폐 효과를 향상시킬 수 있다.
도 3은 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 차폐층(200)은 기저층(251) 및 표면층(252)을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 상기 베이스 기재(100)와 접촉하며 배치되는 기저층(251) 및 상기 기저층(251) 상에 배치되는 표면층(252)을 포함할 수 있다.
상기 기저층(251)과 상기 표면층(252)의 두께는 서로 다를 수 있다. 자세하게, 상기 기저층(251)의 두께(T1)는 상기 표면층(252)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 더 자세하게, 상기 표면층(252)의 두께(T2)는 상기 차폐층(200) 전체 두께의 10% 이하의 두께로 형성될 수 있다. 더 자세하게, 상기 표면층(252)의 두께(T2)는 상기 차폐층(200) 전체 두께의 1% 내지 5%의 두께로 형성될 수 있다.
상기 기저층(251)에 포함되는 황화구리 제 1 결정립과 상기 표면층(252)에 포함되는 황화구리 제 2 결정립의 크기는 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 결정립의 입경은 상기 제 1 결정립의 입경보다 작을 수 있다.
이에 따라, 상기 차폐층(200)을 포함하는 전자파 차폐 필름의 차폐 특성을 향상시킬 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 표면층에 배치되는 작은 결정립들에 의해 상기 표면으로 입사되는 전자파의 산란 효과를 유도하여 상기 전자파 차폐 필름의 전자파 차폐 효과를 향상시킬 수 있다.
한편, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 차폐층(200)은 기저층(251) 및 상기 표면층(252)은 도 2와 같이 각각 다층 구조로 형성될 수 있음은 물론이다.
도 4 및 도 5는 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면도를 도시한 도면이다.
도 4를 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 차폐층(200)은 패턴층(P)을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 차폐층(200)은 상기 베이스 기재(100)와 접촉하는 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함할 수 있다.
상기 패턴층(P)은 상기 차폐층(200)의 타면에 형성될 수 있다. 상기 패턴층(P)은 요철 패턴으로 형성될 수 있다. 상기 패턴층(P)은 삼각형, 사각형 등의 다각형 형상 또는 곡면을 가지는 반원, 타원 형상등으로 형성될 수 있다.
상기 패턴층(P)은 상기 차폐층(200)의 타면의 전면에 형성될 수 있다.
또는, 도 5를 참조하면, 상기 패턴층(P)은 상기 차폐층(200)의 타면에 부분적으로 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 차폐층(200)이 디스플레이 등에 적용되는 경우, 상기 차폐층(200)은 광이 투과되는 유효 영역(AA) 및 광이 투과되지 않는 베젤 영역인 비유효 영역(UA)을 포함할 수 있다.
상기 패턴층(P)은 상기 차폐층(200)의 유효 영역에는 배치되지 않고, 상기 비유효 영역에만 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 유효 영역을 통과하는 다른 광의 산란을 방지하여 광 손실을 방지할 수 있고, 휘도 및 휘도 균일성을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 전자파 차폐 특성이 향상될 수 있다.
자세하게, 상기 전자차 차폐 필름은 다층 구조를 가지는 차폐층의 계면에 의해 산란 효과를 유도하여 전자파 차폐 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 전자파 차폐 필름은 차폐층의 표면에 결정립이 작은 황화구리 결정립을 배치하고, 이에 의해 전자파의 산란 효과를 유도하여 전자파 차폐 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 차폐층의 일면에 패턴층을 배치하고 이에 의해 전자파의 산란 효과를 유도하여 전자파 차폐 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 차폐층의 두께를 나노미터 단위의 크기로 배치하여 상기 차폐층에 따른 전자파 차폐 필름의 두께 증가를 방지하고, 광 투과율의 감소를 방지할 수 있다.
이하, 도 6을 참조하여, 실시예에 따른 전자파 차폐필름의 제조방법을 설한다.
도 6을 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐필름 제조방법은 베이스 기재 상에 금속층을 증착하는 단계(ST10) 및 상기 금속층을 황화처리하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 베이스 기재 상에 금속층을 증착하는 단계에서는 상기 베이스 기재의 일면 상에 금속층을 증착할 수 있다. 예를 들어, 전자파 차폐 효과를 구현하기 위해 상기 베이스 기재 상에 구리층을 증착할 수 있다.
상기 구리층은 박막으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 구리층은 나노미터 크기로 형성될 수 있다.
상기 금속층을 황화처리하는 단계에서는 일정한 온도 범위에서 상기 금속층상에 황을 포함하는 기체를 접촉할 수 있다. 예를 들어, 상기 금속층과 상기 황을 포함하는 기체는 25℃ 내지 200℃의 온도에서 접촉할 수 있다.
이에 따라, 상기 금속층과 상기 황을 포함하는 기체는 서로 반응하여 상기 베이스 기재 상에는 황화금속층이 형성될 수 있다. 즉, 상기 금속층이 구리를 포함하는 경우, 상기 베이스 기재 상에는 황화구리층이 형성될 수 있다.
상기 황을 포함하는 기체는 황화수소(H2S), 이산화황(SO2), 메테인싸이올(CH3SH), 디메틸설파이드(DMS) 및 디메틸디설파이드(DMDS) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 실시예가 이에 제한되지는 않는다.
상기 금속층과 상기 황을 포함하는 기체가 반응하여, 상기 베이스 기재 상에는 상기 금속층의 두께와 동일하거나 유사한 두께로 황화구리층이 형성될 수 있다.
실시예에 따른 전자파 차폐필름 제조방법에 의해 제조되는 전자파 차폐필름은 4인치 이상의 대면적 전자파 차폐필름을 구현할 수 있다. 즉, 저온 공정으로 대면적의 전자파 차폐 필름을 구현하 수 있다.
또한, 실시예에 따른 전자파 차폐필름 제조방법에 의해 제조되는 전자파 차폐필름 금속층과 황을 포함하는 기체를 직접 반응시켜 황화구리층을 형성하므로, 베이스 기재 상에 별도의 코팅 또는 전사 공정이 요구되지 않는다. 이에 따라, 전자파 차폐필름의 제조 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
이하, 실시예들 및 비교예들에 따른 전자파 차폐필름을 통하여 본 발명을 좀더 상세하게 설명한다. 이러한 제조예는 본 발명을 좀더 상세하게 설명하기 위하여 예시로 제시한 것에 불과하다. 따라서 본 발명이 이러한 제조예에 한정되는 것은 아니다.
실시예
실리콘(Si) 기판을 준비한다.
이어서, 상기 실리콘 기판(Si) 상에 열 진공 증착기를 이용하여 구리층을 증착하였다. 상기 구리층은 5㎚ 내지 20㎚의 두께로 증착되었다.
이어서, 상기 구리층이 증착된 실리콘 기판은 상온의 Fume Hood에서 황화수소(H2S) 기체에 약 10분동안 노출하여 상기 실리콘 기판 상에 황화구리층을 형성하였다.
또는, 상기 구리층이 증착된 실리콘 기판을 튜브 전기로에서 황화수소(H2S) 기체와 200℃의 온도에서 30분 동안 반응시켜 상기 실리콘 기판 상에 황화구리층을 형성하였다.
상기 실리콘 기판 상에 황화구리층이 형성된 전자파 차폐필름을 제조한 후, 전자파 차폐 특성, 전기적 특성을 측정하였다.
비교예
실리콘(Si) 기판을 준비한다.
이어서, 상기 실리콘 기판(Si) 상에 열 진공 증착기를 이용하여 구리층을 증착하였다. 상기 구리층은 10㎚의 두께로 증착되었다.
상기 실리콘 기판 상에 구리층이 형성된 전자파 차폐필름을 제조한 후, 전자파 차폐 특성, 전기적 특성을 측정하였다.
도 7을 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 비교예에 따른 전자파 차폐 필름보다 전자파 차폐 효과가 우수한 것을 알 수 있다.
즉, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 다층 구조를 포함하는 황화구리층의 계면에 의해 전자파 산란 효과가 유도되어 향상된 전자파 차폐 효과를 가질 수 있다.
도 8을 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 비교예에 따른 전자파 차폐 필름보다 면저항이 높은 것을 알 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 비교예에 따른 전자파 차폐 필름보다 향상된 전기적 특성을 가지는 것을 알 수 있다.
도 9를 참조하면, 실시예에 따른 전자파 차폐 필름은 비교예에 따른 전자파 차폐 필름보다 향상된 전자파 차폐 특성을 가지는 것을 알 수 있다. 이에 따라. 실시예에 따른 전자파 차폐필름은 비교예에 따른 전자파 차폐 필름보다 향상된 차폐 특성을 가지는 것을 알 수 있다.
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (12)

  1. 베이스 기재; 및
    상기 베이스 기재 상에 배치되는 전자파 차폐층을 포함하고,
    상기 전자차 차폐층의 두께는 1㎚ 내지 50㎚인 전자파 차폐필름.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 전자파 차폐층은 황화구리를 포함하는 전자파 차폐필름.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 차폐층은,
    상기 베이스 기재 상의 제 1 층;
    상기 제 1 층 상의 제 2 층; 및
    상기 제 2 층 상의 제 3 층을 포함하고,
    상기 제 1 층, 상기 제 2 층 및 상기 제 3 층은 황화구리를 포함하는 전자파 차폐필름.
  4. 제 3항에 잇어서,
    상기 차폐층은 상기 제 1 층에서 상기 제 3 층방향으로 연장하면서 구리의 농도가 감소하는 전자파 차폐필름.
  5. 제 3항에 잇어서,
    상기 차폐층은 상기 제 1 층에서 상기 제 3 층방향으로 연장하면서 황의 농도가 증가하는 전자파 차폐필름.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 제 1 층 및 상기 제 2 층 사이에는 제 1 계면이 형성되고,
    상기 제 2 층 및 상기 제 3 층 사이에는 제 2 계면이 형성되는 전자파 차폐필름.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 층(210)의 CuaSb를 포함하고,
    상기 제 2 층(220)은 CucSd를 포함하고,
    상기 제 3 층(230)은 CueSf를 포함하고,
    하기의 수식들을 만족하는 전자파 차폐필름.
    [수식 1]
    a > c > e (a, c, e 는 양수)
    [수식 2]
    b < d < f (b, d, f 는 양수)
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 차폐층은,
    상기 베이스 기재 상에 배치되는 기저층; 및
    상기 기저층 상에 배치되는 표면층을 포함하고,
    상기 기저층은 제 1 결정립을 포함하고,
    상기 표면층은 제 2 결정립을 포함하고,
    상기 제 2 결정립의 크기는 상기 제 1 결정립의 크기보다 작은 전자파 차폐필름.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 기저층 및 상기 표면층 중 적어도 하나의 층은 계면을 가지는 다층 구조를 포함하는 전자파 차폐 필름.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 차폐층은 상기 베이스 기재와 접촉하는 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하고,
    상기 타면 상에는 패턴층이 배치되는 전자파 차폐 필름.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 차폐층은 광이 투과되는 유효 영역 및 광이 투과되지 않는 비유효 영역을 포함하고,
    상기 패턴층은 상기 비유효 영역 상에 배치되는 전자파 차폐필름.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 차폐층은 70% 내지 99%의 광투과율을 가지는 전자파 차폐필름.
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