KR20220029525A - 연속 흐름 공정을 포함하는 밀리논 유도체의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본원은 연속 흐름 공정을 포함하는 밀리논 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
Description
본원은 연속 흐름 공정을 포함하는 밀리논 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
밀리논(milrinone)은 포스포디에스테라제 (PDE; phosphodiesterase) 억제제로서 철분 펌핑 조력과 심장 박출량 개선 등 급성 비대상성 심부전의 치료에 단기적으로 심장 이식 수술을 기다리는 환자에게는 장기적으로 사용되고 있는 약물이다. 포스포디에스테라제 억제제는 수축력을 강화시켜 심박출량을 증가시키며, 혈관 평활근을 직접 이완시킴으로써 말초혈관 저항과 심장으로 돌아오는 혈액 양을 감소시킨다. 밀리논을 포함하는 근육수축제들을 이용하면, 입원 기간 및 재입원 비율을 감소시킬수 있어 병원 비용을 감소시킬 수 있다. 하지만, 현재 밀리논 조성물 및 투여 방법은 심각한 합병증, 심각한 부정맥, 또는 저혈압 사건을 유발할 수 있는 문제점이 있다.
밀리논은 정맥 주사로 투여되며 빠르게 분포하고 간 대사를 거쳐 콩팥으로 배설된다. 하기는 밀리논의 구조를 나타낸 것이다:
이전에 보고된 "Synthesis of Amido-N-imidazolium Salts and their Applications as Ligands in Suzuki-Miyaura Reactions: Coupling of Heteroaromatic Halides and the Synthesis of Milrinone and Irbesartan, Manian Rajesh Kumar,a Kyungho Park,a and Sunwoo Leea, Adv. Synth. Catal. 2010, 352, 3255-3266" 및 "Process for preparation of highly purified Milrinone, Faming Zhuanli Shenqing, 103965101, 06 Aug 2014"에는 가혹한 조건을 통한 밀리논 합성법이 개시되어 있으며, 현재는 비교적 온화한 합성 조건을 통한 밀리논 유도체의 제조 방법이 요구되고 있다.
본원은 연속 흐름 공정을 포함하는 밀리논 유도체의 제조방법을 제공하고자 한다.
그러나, 본원이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본원의 제 1 측면은, (a) 하기 화학식 1로서 표시되는 화합물 및 유기리튬 시약을 제 1 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 1 중간 생성물을 수득하는 것; 및 (b) 상기 제 1 중간 생성물 및 TsCN을 제 2 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 2 중간 생성물을 수득하는 것을 포함하는, 연속 흐름 공정; 및 상기 제 2 중간 생성물을 R2-B(OH)2와 위치선택적 스즈키-미아우라 커플링 반응시킴으로써 하기 화학식 2로서 표시되는 밀리논 유도체를 수득하는 것을 포함하는, 밀리논 유도체의 제조방법을 제공한다:
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 화학식 1 및 상기 화학식 2에서,
R1은 수소; 또는 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기이고,
R2는 할로젠기, 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C3-10 헤테로아릴기이며,
상기 C6-10 아릴기 또는 C3-10 헤테로아릴기가 치환되는 경우, 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기, 선형 또는 분지형의 C1-6 알콕시기, 및 C3-10 시클로알킬기 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환되는 것이고,
상기 C3-10 헤테로아릴기는 하나 이상의 N, O 또는 S를 헤테로 원소로서 포함하는 것임.
본원의 구현예들에 따른 연속 흐름 공정을 포함하는 밀리논 유도체의 합성 방법은 종래의 밀리논 합성법에 비하여 온화한 조건을 통하여 밀리논을 합성할 수 있는 특징이 있다.
본원의 구현예들에 따른 연속 흐름 공정을 포함하는 밀리논 유도체의 합성 방법은 사용되는 유기리튬 시약의 당량을 최적화함으로써 위치선택적 리튬화 반응의 생성물의 수득률이 증가하고, 이에 최종 생성물인 밀리논 유도체의 수득률이 증가하는 특징이 있다.
도 1은, 본원의 일 실시예에 있어서, 밀리논 유도체의 합성 절차를 나타낸 것이다.
도 2는, 본원의 일 실시예에 있어서, 밀리논 유도체의 합성 절차를 나타낸 것이다.
도 3은, 본원의 일 실시예에 있어서, 밀리논 유도체 합성의 위치 선택적 리튬화 반응의 절차를 나타낸 것이다.
도 2는, 본원의 일 실시예에 있어서, 밀리논 유도체의 합성 절차를 나타낸 것이다.
도 3은, 본원의 일 실시예에 있어서, 밀리논 유도체 합성의 위치 선택적 리튬화 반응의 절차를 나타낸 것이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원의 구현예 및 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예 및 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본원의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다.
본원 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 “~ 하는 단계” 또는 “~의 단계”는 “~를 위한 단계”를 의미하지 않는다.
본원 명세서 전체에서, 마쿠시 형식의 표현에 포함된 "이들의 조합(들)"의 용어는 마쿠시 형식의 표현에 기재된 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 혼합 또는 조합을 의미하는 것으로서, 상기 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 의미한다.
본원 명세서 전체에서, "A 및/또는 B"의 기재는, "A 또는 B, 또는 A 및 B"를 의미한다.
본원 명세서 전체에서, 용어 "알킬" 또는 "알킬기"는, 1 내지 12 개의 탄소 원자, 1 내지 10 개의 탄소 원자, 1 내지 8 개의 탄소 원자, 또는 1 내지 5 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 이들의 모든 가능한 이성질체를 포함한다. 예를 들어, 상기 알킬 또는 알킬기는 메틸기(Me), 에틸기(Et), n-프로필기(nPr), iso-프로필기(iPr), n-부틸기(nBu), iso-부틸기(iBu), tert-부틸기(tert-Bu, tBu), sec-부틸기(sec-Bu, secBu), n-펜틸기(nPe), iso-펜틸기(isoPe), sec-펜틸기(secPe), tert-펜틸기(tPe), neo-펜틸기(neoPe), 3-펜틸기, n-헥실기, iso-헥실기, 헵틸기, 4,4-디메틸펜틸기, 옥틸기, 2,2,4-트리메틸펜틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 및 이들의 이성질체들 등을 들 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
이하, 본원의 구현예를 상세히 설명하였으나, 본원이 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 제 1 측면은, (a) 하기 화학식 1로서 표시되는 화합물 및 유기리튬 시약을 제 1 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 1 중간 생성물을 수득하는 것; 및 (b) 상기 제 1 중간 생성물 및 TsCN을 제 2 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 2 중간 생성물을 수득하는 것을 포함하는, 연속 흐름 공정; 및 (c) 상기 제 2 중간 생성물을 R2-B(OH)2와 위치선택적 스즈키-미아우라 커플링 반응시킴으로써 하기 화학식 2로서 표시되는 밀리논 유도체를 수득하는 것을 포함하는, 밀리논 유도체의 제조방법을 제공한다:
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 화학식 1 및 상기 화학식 2에서,
R1은 수소; 또는 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기이고,
R2는 할로젠기, 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C3-10 헤테로아릴기이며,
상기 C6-10 아릴기 또는 C3-10 헤테로아릴기가 치환되는 경우, 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기, 선형 또는 분지형의 C1-6 알콕시기, 및 C3-10 시클로알킬기 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환되는 것이고,
상기 C3-10 헤테로아릴기는 하나 이상의 N, O 또는 S를 헤테로 원소로서 포함하는 것임.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 R2는 할로젠기, 피리디닐기, 티오페닐기, , , , 및 중에서 선택되는 것이며, 상기 Ra 및 Rb는, 각각 독립적으로, 선형 또는 분지형의 C1-3 알킬기, 또는 할로젠기 중에서 선택되는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 Ra 및 Rb는, 각각 독립적으로, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, iso-펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, neo-펜틸기, 또는 3-펜틸기 중에서 선택되는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 R2는 할로젠기, 벤젠기, 2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 3,5-다이메틸페닐기, 2,4-다이메틸페닐기, 2-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 또는 4-메톡시페닐기 중에서 선택되는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 R2는 피리디닐기, 톨루엔기, 자일렌기, 아니솔기, 및 티오페닐기 중에서 선택되는 것일 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 유기리튬 시약은 메틸리튬, n-부틸리튬, sec-부틸리튬, t-부틸리튬, n-헥실리튬, 2-에틸헥실리튬, 아이소프로필마그네슘·리튬클로라이드, 또는 n-옥틸리튬 중에서 선택되는 하나 이상일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 유기리튬 시약은 약 0.5 당량 내지 약 5 당량인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 유기리튬 시약은 약 0.5 당량 내지 약 5 당량, 약 0.5 당량 내지 약 4 당량, 약 0.5 당량 내지 약 3 당량, 약 0.5 당량 내지 약 2 당량, 약 0.5 당량 내지 약 1.15 당량, 약 0.5 당량 내지 약 1.05 당량, 약 0.5 당량 내지 약 1.03 당량, 약 0.5 당량 내지 약 1.02 당량, 약 1 당량 내지 약 5 당량, 약 1 당량 내지 약 4 당량, 약 1 당량 내지 약 3 당량, 약 1 당량 내지 약 2 당량, 약 1 당량 내지 약 1.15 당량, 약 1 당량 내지 약 1.05 당량, 약 1 당량 내지 약 1.03 당량, 약 1 당량 내지 약 1.02 당량, 약 1.01 당량 내지 약 5 당량, 약 1.01 당량 내지 약 4 당량, 약 1.01 당량 내지 약 3 당량, 약 1.01 당량 내지 약 2 당량, 약 1.01 당량 내지 약 1.15 당량, 약 1.01 당량 내지 약 1.05 당량, 약 1.01 당량 내지 약 1.03 당량, 또는 약 1.01 당량 내지 약 1.02 당량인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)는 Pd-함유 촉매 존재 하에서 수행되는 것일 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 Pd-함유 촉매는 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐 (Pd(PPh3)4), 팔라듐 아세테이트 (Pd(OAc)2), (2-디사이틀로헥실포스피노-2′,4′,6′-트리이소프로필-1,1′-바이페닐)[2-(2′-아미노-1,1′-바이페닐)]팔라듐(II) 메탄설포네이트 ((2-Dicyclohexylphosphino-2′,4′,6′-triisopropyl-1,1′-biphenyl)[2-(2′-amino-1,1′-biphenyl)]palladium(II) methanesulfonate, XPhos Pd G3), 및 2-디사이클로헬실포스피노 -2′,6′-디메톡시바이페닐 (2-Dicyclohexylphosphino-2′,6′-dimethoxybiphenyl, SPhos) 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)는 염기 화합물 존재 하에서 수행되는 것일 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 염기 화합물은 Na2CO3, K2CO3, KOtBu, Cs2CO3, K3PO4, NaOH 및 NEt3(트리에틸아민) 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)는 알코올, 톨루엔, 및 물 중에서 선택되는 하나 이상의 용매 존재 하에서 수행되는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)는 물:톨루엔 = 1: 약 10 내지 약 20의 혼합 용매, 또는 선형 또는 분지형의 C1-6 알코올 중에서 선택되는 용매 존재 하에서 수행되는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 예를 들어, 상기 물:톨루엔의 혼합 비율은 물:톨루엔 = 1: 약 10 내지 약 20, 1: 약 11 내지 약 20, 1: 약 12 내지 약 20, 1: 약 13 내지 약 20, 1: 약 14 내지 약 20, 1: 약 10 내지 약 18, 1: 약 11 내지 약 18, 1: 약 12 내지 약 18, 1: 약 13 내지 약 18, 1: 약 14 내지 약 18, 1: 약 10 내지 약 16, 1: 약 11 내지 약 16, 1: 약 12 내지 약 16, 1: 약 13 내지 약 16, 또는 1: 약 14 내지 약 16인 것일 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 화학식 1로서 표시되는 화합물의 주입 유속은 약 7 mL/분 내지 약 9 mL/분이고, 상기 유기리튬 시약의 주입 유속은 약 1 mL/분 내지 약 3 mL/분이고, 상기 TsCN의 주입 유속은 약 0.5 mL/분 내지 약 1.5 mL/분인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 화학식 1로서 표시되는 화합물의 주입 유속은 약 8 mL/분이고, 상기 유기리튬 시약의 주입 유속은 약 2 mL/분이고, 상기 TsCN의 주입 유속은 약 1 mL/분인 것이 가장 바람직하다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (a)의 반응 시간은 약 1 초 내지 약 3 초이고, 상기 (b)의 반응 시간은 약 7 초 내지 약 9 초인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (a)의 반응 시간은 약 2 초이고, 상기 (b)의 반응 시간은 약 8 초인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (a)의 반응 시간은 약 2.35 초이고, 상기 (b)의 반응 시간은 약 8.56 초인 것이 가장 바람직하다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (a) 및 (b)의 반응 온도는, 각각 독립적으로, 약 -80℃ 내지 약 0℃인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (a) 및 (b)의 반응 온도는, 각각 독립적으로, 약 -80℃ 내지 약 0℃, 약 -70℃ 내지 약 0℃, 약 -60℃ 내지 약 0℃, 약 -50℃ 내지 약 0℃, 약 -45℃ 내지 약 0℃, 약 -80℃ 내지 약 -10℃, 약 -70℃ 내지 약 -10℃, 약 -60℃ 내지 약 -10℃, 약 -50℃ 내지 약 -10℃, 약 -45℃ 내지 약 -10℃, 약 -80℃ 내지 약 -20℃, 약 -70℃ 내지 약 -20℃, 약 -60℃ 내지 약 -20℃, 약 -50℃ 내지 약 -20℃, 약 -45℃ 내지 약 -20℃, 약 -80℃ 내지 약 -30℃, 약 -70℃ 내지 약 -30℃, 약 -60℃ 내지 약 -30℃, 약 -50℃ 내지 약 -30℃, 약 -45℃ 내지 약 -30℃, 약 -80℃ 내지 약 -35℃, 약 -70℃ 내지 약 -35℃, 약 -60℃ 내지 약 -35℃, 약 -50℃ 내지 약 -35℃, 또는 약 -45℃ 내지 약 -35℃인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (a) 및 (b)의 반응 온도는, 각각 독립적으로, 약 -40℃인 것이 가장 바람직하다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)의 반응 온도는 약 30℃ 내지 약 120℃인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)의 반응 온도는 약 30℃ 내지 약 120℃, 약 30℃ 내지 약 110℃, 약 30℃ 내지 약 100℃, 약 30℃ 내지 약 90℃, 약 40℃ 내지 약 120℃, 약 40℃ 내지 약 110℃, 약 40℃ 내지 약 100℃, 약 40℃ 내지 약 90℃, 약 50℃ 내지 약 120℃, 약 50℃ 내지 약 110℃, 약 50℃ 내지 약 100℃, 또는 약 50℃ 내지 약 90℃인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)의 반응 시간은 약 10 분 내지 약 8 시간인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)의 반응 시간은 30 분 내지 6 시간인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)의 반응 시간은 약 10 분 내지 약 8 시간, 약 30 분 내지 약 8 시간, 약 10 분 내지 약 7 시간, 약 30 분 내지 약 7 시간, 약 10 분 내지 약 6 시간, 또는 약 30 분 내지 약 6 시간인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 (c)는 염기 처리하는 것을 추가 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 염기 처리는 NaOH, KOH, Ca(OH)2, 및 Ba(OH)2 중에서 선택되는 화합물에 의해 수행되는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 제 1 플로우 튜브 반응기 및 상기 제 2 플로우 튜브 반응기의 내경은, 각각 독립적으로, 약 900 ㎛ 내지 약 1,100 ㎛인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 제 1 플로우 튜브 반응기 및 상기 제 2 플로우 튜브 반응기의 내경은, 각각 독립적으로, 약 900 ㎛ 내지 약 1,100 ㎛, 약 900 ㎛ 내지 약 1,050 ㎛, 약 950 ㎛ 내지 약 1,100 ㎛, 또는 약 950 ㎛ 내지 약 1,050 ㎛인 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 제 1 플로우 튜브 반응기 및 상기 제 2 플로우 튜브 반응기의 내경은, 각각 독립적으로, 약 1,000 ㎛인 것이 가장 바람직하다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 연속 흐름 공정을 통하여 수득한 중간 생성물의 수득률은 약 90% 이상인 것일 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 밀리논 유도체의 수득률은 약 65% 이상인 것일 수 있다. 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 밀리논 유도체의 수득률은 약 65% 이상, 약 70% 이상, 약 75% 이상, 약 80% 이상, 또는 약 85% 이상인 것일 수 있다.
이하, 본원에 대하여 실시예를 이용하여 좀더 구체적으로 설명하지만, 하기 실시예는 본원의 이해를 돕기 위하여 예시하는 것일 뿐, 본원의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
실시예 1. 밀리논 유도체 합성법(Milrinone synthesis method) 1 (도 1)
합성은 3 단계로 진행하였다. 토실레이트(tosylate, OTs) 보호기가 산소 위치에 도입된 시작 물질을 연속흐름공정을 통하여 3-탄소에 효과적으로 리튬화 (lithiation)한 후, 연이어 시안화 (cyanation)하였다. 이 후, 일괄화학을 통한 스즈키-미아우라 커플링 반응 및 탈보호기 반응을 진행하여 밀리논을 합성하였다.
① 연속흐름 공정 단계
도 1에 나타난 바와 같이, T 자형 마이크로 믹서 (M 1 및 M 2), 플로우 튜브 반응기 (R 1 및 R 2), 및 튜브 (P 1, P 2, 및 P 3)를 조립하여 플로우 반응 시스템을 완성하였다 (M 1 및 M 2: 내경(Ψ) = 250 μm; R 1: Ψ = 1000 μm, 길이(L) = 100 cm; R 2: Ψ = 1000 μm, L = 50 cm; P 1, P 2, 및 P 3: Ψ = 1000 μm, L=50 cm).
3,5-다이브로모-6-메틸피리딘-2-일 4-메틸벤젠설포네이트(3,5-dibromo-6-methylpyridin-2-yl 4-methylbenzenesulfonate)를 2-메틸테트라하이드로퓨란(2-Methyltetrahydrofuran, 2-MeTHF) 용매에 0.1 M의 농도로 용해시킨 후 P 1을 통하여 8 mL/분의 유속으로 주입하고, n-부틸리튬(n-butyllithium)을 헥세인 용매에 0.404 M (1.01 당량)의 농도로 용해시킨 후 P 2를 통하여 2 mL/분의 유속으로 주입하였다. 톨루엔설포닐 시아나이드(toluenesulfonyl cyanide, TsCN)는 다이클로로메테인 (dichloromethane, DCM) 용매에 0.96 M의 농도로 용해시킨 후 P 3를 통하여 1 mL/분의 유속으로 주입하였다. 상기 R 1 및 R 2의 플로우 반응은 -40℃에서 수행하였다. 그 후, 상기 R 2를 통과한, 플로우 반응이 진행된 용액을 NH4Cl (aq) 용액이 담긴 바이알에 30 초간 모아 반응을 ??칭(quenching) 한 후, 에틸아세테이트로 추출(extraction)을 진행하였다. 추출된 유기층을 소듐설페이트로 건조시키고 필터하여 낮은 압력으로 용매를 농축시켰다. 그 후, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (헥산:에틸아세테이트 = 5:1)로 여과하여 중간 생성물인 5-브로모-3-시아노-6-메틸피리딘-2-일 4-메틸벤젠설포네이트 (5-bromo-3-cyano-6-methylpyridin-2-yl 4-methylbenzenesulfonate)를 90%의 수득률로 수득하였다.
② 배치(batch) 공정 단계
상기 중간 생성물인 5-브로모-3-시아노-6-메틸피리딘-2-일 4-메틸벤젠설포네이트에 4-피리디닐보론산(4- pyridinylboronic acid) 1.2 당량, Pd(OAc)2 4 몰%, 디사이클로헥실(2′,6′-디메톡시[1,1′-바이페닐]-2-일)포스판 (dicyclohexyl(2′,6′-dimethoxy[1,1′-biphenyl]-2-yl)phosphane, SPhos) 5 몰%, 및 K3PO4 1.4 당량을 첨가하고, n-부탄올 용매에 0.13 M의 농도로 용해시킨 후, 85℃에서 3 시간 동안 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후 온도를 낮추고, 메탄올로 셀라이트 필터한 후, 용매를 제거하고 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 (DCM/메탄올 = 20:1)로 여과하여, 밀리논을 65%의 수득률로 수득하였다.
실시예 2. 밀리논 유도체 합성법(Milrinone synthesis method) 2 (도 2)
상기 밀리논 합성법 1과 동일한 플로우 반응 시스템을 사용하였다. 3,5-다이브로모피리딘-2-일 4-메틸벤젠설포네이트(3,5-dibromopyridin-2-yl 4-methylbenzenesulfonate)를 2-MeTHF 용매에 0.1 M의 농도로 용해시킨 후 P 1을 통하여 8 mL/분의 유속으로 주입하고, n-부틸리튬(n-butyllithium)을 헥세인 용매에 0.404 M (1.01 당량)의 농도로 용해시킨 후 P 2를 통하여 2 mL/분의 유속으로 주입하였다. TsCN를 DCM 용매에 0.96 M의 농도로 용해시킨 후 P 3를 통하여 1 mL/분의 유속으로 주입하였다.
상기 R 1 및 R 2의 플로우 반응은 -40℃에서 수행하였다. 그 후, 상기 R 2를 통과한, 플로우 반응이 진행된 용액을 NH4Cl (aq) 용액이 담긴 바이알에 30 초간 모아 반응을 ??칭(quenching) 한 후, 에틸아세테이트로 추출(extraction)을 진행하였다. 추출된 유기층을 소듐설페이트로 건조시키고 필터하여 낮은 압력으로 용매를 농축시켰다. 그 후, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (헥산:에틸아세테이트 = 5:1)로 여과하여 중간 생성물인 5-브로모-3-시아노피리딘-2-일 4-메틸벤젠설포네이트(5-bromo-3-cyanopyridin-2-yl 4-methylbenzenesulfonate)를 90%의 수득률로 수득하였다.
② 배치(batch) 공정 단계
상기 중간 생성물 5-브로모-3-시아노피리딘-2-일 4-메틸벤젠설포네이트에 각각의 보론산 화합물(4-메틸페닐 보론산, 3,5-다이메틸페닐 보론산, 또는 3-메톡시페닐 보론산) 1.2 당량, Pd(OAc)2 4 몰%, Ad2BnP 5 몰%, 및 K2PO3 2.2 당량을 첨가하고, 톨루엔:물 용매에 0.15 M의 농도로 용해시킨 후, 50℃에서 30 분 동안 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후 낮은 압력으로 용매를 제거한 후 실리카겔로 여과하였다. 이후, THF/메탄올 용매에서 0.03 M의 농도로 용해시킨 후, 1 N NaOH 10 당량을 첨가하여 50℃에서 1 시간 동안 반응을 진행시킨 후, 온도를 낮추었다. 그 후, 산-염기 작업(acid-base work up)을 진행하여 조생성물을 수득한 후, 헥세인 용매로 세척하여 밀리논 유도체인 하기 화합물 1내지 3을, 각각, 85%의 수득률로 수득하였다:
[화합물 1]
[화합물 2]
[화합물 3]
실시예 3. 유기리튬 시약 당량 별 리튬화 생성물
상기 실시예 1 및 실시예 2의 밀리논 유도체의 합성 단계에서, 위치 선택적 리튬화 반응 생성물의 수득률을 최대화하는 유기리튬 시약의 당량 범위를 조사하였다. 도 3 및 하기 표 1을 참조하여 설명하면, n-BuLi 시약의 당량이 1.01 당량 내지 1.15 당량일 때, 높은 수득률의 생성물이 수득되는 것을 확인하였다.
엔트리a | n-BuLi (당량) | 유속 X/Y (mL/분) | 잔류 시간 (초) | 수율 (%) |
1 | 1.15 | 8/2 | 2.35 | 47% (8%b) |
2 | 1.15 | 6/1.5 | 3.14 | 35% (7%b) |
3 | 1.15 | 4/1 | 4.71 | 29% (5%b) |
4 | 1.05 | 8/2 | 2.35 | 73% (7%b) |
5 | 1.03 | 8/2 | 2.35 | 82% (3%b) |
6c | 1.02 | 8/2 | 2.35 | 87% (6%b) |
7c | 1.01 | 8/2 | 2.35 | 96%d |
(상기 표 1에서, a는 내부 표준, 디클로로메탄에 근거한 1H NMR에 의해 결정되는 것이고, b는 이양성자화된 부산물이고, c는 MeOH를 사용하여 인라인 양성자화된 것이고, d는 분리된 생성물임.)
전술한 본원의 설명은 예시를 위한 것이며, 본원이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본원의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수도 있다.
본원의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위, 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
Claims (15)
- (a) 하기 화학식 1로서 표시되는 화합물 및 유기리튬 시약을 제 1 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 1 중간 생성물을 수득하는 것; 및
(b) 상기 제 1 중간 생성물 및 TsCN을 제 2 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 2 중간 생성물을 수득하는 것
을 포함하는, 연속 흐름 공정; 및
(c) 상기 제 2 중간 생성물을 R2-B(OH)2와 위치선택적 스즈키-미아우라 커플링 반응시킴으로써 하기 화학식 2로서 표시되는 밀리논 유도체를 수득하는 것
을 포함하는, 밀리논 유도체의 제조방법:
[화학식 1]
;
[화학식 2]
;
상기 화학식 1 및 상기 화학식 2에서,
R1은 수소; 또는 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기이고,
R2는 할로젠기, 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C3-10 헤테로아릴기이며,
상기 C6-10 아릴기 또는 C3-10 헤테로아릴기가 치환되는 경우, 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기, 선형 또는 분지형의 C1-6 알콕시기, 및 C3-10 시클로알킬기 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환되는 것이고,
상기 C3-10 헤테로아릴기는 하나 이상의 N, O 또는 S를 헤테로 원소로서 포함하는 것임.
- 제 1 항에 있어서,
상기 유기리튬 시약은 메틸리튬, n-부틸리튬, sec-부틸리튬, t-부틸리튬, n-헥실리튬, 2-에틸헥실리튬, 아이소프로필마그네슘·리튬클로라이드, 또는 n-옥틸리튬 중에서 선택되는 하나 이상인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 유기리튬 시약은 0.5 당량 내지 5 당량인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (c)는 Pd-함유 촉매 존재 하에서 수행되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (c)는 염기 화합물 존재 하에서 수행되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서,
상기 염기 화합물은 Na2CO3, K2CO3, KOtBu, Cs2CO3, K3PO4, NaOH 및 NEt3 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (c)는 알코올, 톨루엔, 및 물 중에서 선택되는 하나 이상의 용매 존재 하에서 수행되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 화학식 1로서 표시되는 화합물의 주입 유속은 7 mL/분 내지 9 mL/분이고, 상기 유기리튬 시약의 주입 유속은 1 mL/분 내지 3 mL/분이고, 상기 TsCN의 주입 유속은 0.5 mL/분 내지 1.5 mL/분인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (a)의 반응 시간은 1 초 내지 3 초이고, 상기 (b)의 반응 시간은 7 초 내지 9 초인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (a) 및 (b)의 반응 온도는, 각각 독립적으로, -80℃ 내지 0℃인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (c)의 반응 온도는 30℃ 내지 120℃인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (c)의 반응 시간은 10 분 내지 8 시간인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 플로우 튜브 반응기 및 상기 제 2 플로우 튜브 반응기의 내경은, 각각 독립적으로, 900 ㎛ 내지 1100 ㎛인 것인,
밀리논 유도체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,
상기 (c)는 염기 처리하는 것을 추가 포함하는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024014637A1 (ko) * | 2022-07-12 | 2024-01-18 | 이화여자대학교 산학협력단 | 연속 흐름 공정을 포함하는 페람파넬 유도체의 제조 방법 |
Cited By (2)
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WO2024014637A1 (ko) * | 2022-07-12 | 2024-01-18 | 이화여자대학교 산학협력단 | 연속 흐름 공정을 포함하는 페람파넬 유도체의 제조 방법 |
KR20240008565A (ko) | 2022-07-12 | 2024-01-19 | 이화여자대학교 산학협력단 | 연속 흐름 공정을 포함하는 페람파넬 유도체의 제조 방법 |
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