KR20220015338A - 유체 장비 - Google Patents

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KR20220015338A
KR20220015338A KR1020210098023A KR20210098023A KR20220015338A KR 20220015338 A KR20220015338 A KR 20220015338A KR 1020210098023 A KR1020210098023 A KR 1020210098023A KR 20210098023 A KR20210098023 A KR 20210098023A KR 20220015338 A KR20220015338 A KR 20220015338A
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KR1020210098023A
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마르틴 마이흘
한네스 비르틀
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페스토 에스이 운트 코. 카게
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Abstract

유체(6)를 수용하기 위해 형성되는 유체 챔버(5)를 포함하는 유체 장비(1)가 제안되는데, 유체 챔버는 장비 하우징(3) 및 굽힘 탄성적 멤브레인 요소(4)에 의해 공동으로 제한된다. 멤브레인 요소(4)는 주변 가장자리 영역(17)을 이용하여 장비 하우징(3)에 고정되고, 주변 가장자리 영역(17)에 의해 에워싸이는 멤브레인 요소(4)의 멤브레인 작동부(27)는 유체 챔버(5)의 용적을 변화시키기 위해 압전 액추에이터(7)에 의하여 리프팅 운동(28)을 수행하면서 편향 가능하다. 멤브레인 요소(4)는, 이러한 멤브레인 요소가 압전 액추에이터(7)의 전극 배열체(34)의 전기 전도성 전극(35)을 직접적으로 형성함에 따라 압전 액추에이터(7)의 기능적 구성요소이다.

Description

유체 장비{FLUID EQUIPMENT}
본 발명은 유체를 수용하기 위해 형성되는 유체 챔버를 포함하는 유체 장비에 관한 것으로, 유체 챔버는 장비 하우징, 및 주 연장 평면에서 평면적 연장부를 포함하는 굽힘 탄성적 멤브레인 요소에 의해 공동으로 제한되고, 멤브레인 요소는 이러한 멤브레인 요소의 주변 가장자리 영역에서 장비 하우징에 고정되고, 이러한 주변 가장자리 영역에 의해 에워싸이는 멤브레인 요소의 멤브레인 작동부는 유체 챔버의 용적을 변화시키기 위해 유체 장비의 압전 액추에이터에 의해 리프팅 운동을 하면서 주 연장 평면에 대해 횡으로 배향된 작동 방향으로 탄성적으로 편향 가능하고, 압전 액추에이터는 전극 배열체를 포함하며, 이러한 전극 배열체에는 멤브레인 작동부의 리프팅 운동을 야기하는 제어 전압이 가변적 세기로 인가될 수 있다.
JP-H03-12917 A로부터 공지되어 있는 이러한 종류의 유체 장비는 반도체 제조 시 사용되고 출력 개구부에서 바람직하지 않은 적하를 방지하기 위해 유체 채널 내에 위치한 유체를 역흡입하는 방법을 제공한다. 역흡입 효과는 전술한 유체 채널과 연결되는 유체 장비의 유체 챔버 내에 생성 가능한 저압에 의해 야기될 수 있다. 유체 챔버는 장비 하우징 및 가장자리 측에서 장비 하우징에 고정된 멤브레인 요소에 의해 공동으로 제한된다. 저압은, 유체 챔버를 제한하는 멤브레인 요소의 멤브레인 작동부가 압전 액추에이터를 이용하여 편향됨에 따라 유체 챔버의 용적이 변화함으로써 생성될 수 있다. 압전 액추에이터는 스택 변환기(stack translator)로 형성되고 굽힘 탄성적 멤브레인 요소 상에 고정된다. 압전 액추에이터는 멤브레인 요소와 무관하게 복수의 전극을 포함하고, 이러한 전극들에 제어 전압이 인가될 수 있으며, 제어 전압은 역압전 효과에 따라 압전 액추에이터의 변형을 야기하고, 이때 멤브레인 요소의 멤브레인 작동부는 이에 상응하여 변형된다.
DE 198 10 657 A1으로부터 공지된 역흡입 밸브에서 유체의 역흡입을 야기하는 저압은 변형 가능한 멤브레인을 이용하여 생성 가능하고, 이러한 멤브레인에 피스톤이 접하며, 피스톤은 스프링에 의해 프리텐션되고 피스톤의 운동은 추가적 멤브레인의 제어된 유체 영향에 의해 제어 가능하다.
EP 0 504 465 A1은 전기적으로 제어 가능한 밸브를 위한 전기 유체 트랜스듀서를 개시하고, 이러한 전기 유체 트랜스듀서에는 압전 구동 장치가 장착되며, 이러한 압전 구동 장치는 디스크 트랜스레이터로 형성된다.
본 발명의 기초를 이루는 과제는 유체 장비의 유체 챔버의 용적을 간단하고 정확하게 변경할 수 있는 조처들을 취하는 것이다.
전술한 과제를 해결하기 위해, 서두에 언급한 특징들을 포함하는 유체 장비는, 멤브레인 요소가 전극 배열체의 전기 전도성 전극을 직접적으로 형성하면서 이러한 멤브레인 요소가 압전 액추에이터의 기능적 구성부품인 것으로 특징지어진다.
본 발명에 따른 유체 장비에서 유체 챔버의 용적은 압전 액추에이터를 이용하여 변경될 수 있는데, 압전 액추에이터는 전극 배열체의 전극과 함께 직접적으로 그 자체가 유체 챔버의 이동 가능한 제한벽부를 형성한다. 압전 액추에이터는 전극 배열체를 포함하고, 전극 배열체에 가변적 세기의 제어 전압이 인가될 수 있으며, 이러한 제어 전압으로부터 역압전 효과에 따라 압전 액추에이터의 가역적 형태 변화가 일어난다. 직접적으로 멤브레인 요소로서 유체 챔버를 제한하기 위해 사용되는 전극은 멤브레인 작동부의 영역에서 형태 변화에 관여하고, 이는 주 연장 평면에 대해 횡으로 멤브레인 요소를 대표하는 전극이 리프팅 운동하는 중에 변화하는 것이다. 제어 전압에 의해 야기된 편향의 정도에 따라 유체 챔버의 용적은 다소간의 정도로 변화하고, 용적 확대는 예컨대 유체 챔버에 저압을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 멤브레인 요소로서 압전 액추에이터의 기능과 무관한 독립적 소자가 사용되지 않고 직접적으로 압전 액추에이터의 전극 자체가 사용되므로, 유체 장비는 매우 비용 효과적이며 콤팩트하게 구현될 수 있다. 또한, 소기의 유체 챔버 용적을 설정하는 것은 압전 액추에이터 및 이와 관련하여 별도인 멤브레인 요소를 조합하는 경우보다 더 정확하게 가능하다. 압전 액추에이터는 상이한 용적들의 규정값에 대하여 상이한 리프팅 위치들을 설정하기 위해 매우 간단하게 비례적으로 제어 가능하다. 낮은 에너지 레벨로 구동이 가능하여, 직접적 제어에도 불구하고 관련된 고유 가열이 발생하지 않는다. 또한, 압전 컨셉에 의해, 필요에 따라 멤브레인 작동부의 편향 시 위치 제어가 가능해짐으로써, 반복 정확성을 갖는 설정이 가능하다.
본 발명의 유리한 발전예들은 종속항들로부터 추론된다.
압전 액추에이터의 전극을 형성하는 멤브레인 요소는 적합한 방식으로 전기 전도성 금속으로 구성된다. 스테인리스 강 멤브레인의 사용은 매우 적합한 것으로 간주된다.
멤브레인 요소는 작동 방향에서 서로 멀어지는 2개의 멤브레인면을 포함한다. 압전 액추에이터는 전극 배열체 외에 압전 특성을 제공하는 적어도 하나의 압전 요소를 포함하고, 이러한 압전 요소는 멤브레인 요소의 2개의 멤브레인면 중 하나의 멤브레인면에 고정된다. 압전 요소는 특히 압전 특성을 제공하는 압전 세라믹으로 구성된다. 추가 전극은 작동 방향에서 멤브레인 요소로부터 멀어지는 압전 요소의 측에 위치하여, 이러한 압전 요소는 2개의 전극 사이에 배치되고, 이러한 전극들에는 압전 액추에이터의 작동을 위해 필요한 제어 전압이 인가될 수 있다.
압전 요소는 임의 방식으로 멤브레인 요소에 고정될 수 있고, 물론 매우 대면적 접착 연결이 권장된다.
멤브레인 요소로 기능하는 전극에 대향되는 추가 전극은 적합한 방식으로 압전 요소의 전기 전도성 코팅으로 구성되고, 예컨대 구리층으로 구성된다. 원칙적으로, 이러한 추가 전극은 물론 독립적 전극 요소일 수 있는데, 이는 멤브레인 요소를 형성하는 전극에도 해당하는 바와 같다.
원칙적으로, 압전 요소는 멤브레인 요소의, 작동 방향으로 배향된 2개의 멤브레인면 중 하나의 멤브레인면 또는 다른 하나의 멤브레인면에 부착될 수 있다. 그러나 유체 챔버 내에 위치한 매질과의 접촉을 방지하기 위해, 압전 요소는 유체 챔버로부터 멀어지는 멤브레인 요소의 멤브레인면에 부착되는 것이 유리하다.
압전 요소는 바람직하게는 원형 외부 윤곽을 포함하고, 특히 면 중심에서 멤브레인 요소의 2개의 멤브레인면 중 하나의 멤브레인면에 배치된다.
멤브레인 요소는 이러한 멤브레인 요소의 주변 가장자리 영역에서 적합한 방식으로 마찬가지로 원형 외부 윤곽을 포함한다. 바람직하게는, 압전 요소는 멤브레인 요소보다 작은 직경을 포함한다.
원칙적으로, 압전 액추에이터는 스택 변환기로 설계될 수 있고, 이러한 스택 변환기는 포개어 적층되는 복수의 압전 요소를 포함하며, 압전 요소들은 전극 배열체의 2개 전극 사이에 각각 배치된다. 물론, 압전 액추에이터가 디스크 트랜스레이터인 디자인이 매우 유리하고 비용 효과적이며 유효한 것으로 간주되는데, 이러한 디스크 트랜스레이터는 특히 단일의 디스크형 압전 요소만을 포함하고, 이러한 압전 요소는 전극 배열체의 2개의 압전 비활성 전극 사이에 배치되고, 이러한 2개의 전극 중 하나의 전극은 멤브레인 요소를 형성한다.
따라서 디스크 트랜스레이터로서의 디자인은 매우 효과적인데, 이러한 변환기의 작동은 전체 시스템의 구형 절곡을 야기하고, 이러한 구형 절곡에 의하여 유체 챔버의 용적 변화가 매우 정확하게 설정될 수 있다. 압전 요소에 배정된 전극에 제어 전압이 인가되는 것은 전기장 방향, 즉 본원에서 작동 방향에서 압전 재료의 팽창을 야기하고, 이로 인하여 디스크형 압전 요소가 한편으로 두꺼워지고 다른 한편으로 이와 동시에 외부 직경이 감소된다. 이는, 압전 요소를 위한 지지 요소로서 기능하는 압전 비활성 전극과 연관하여, 압전 요소 및 전극 배열체로 구성된 전체 시스템의 전술한 구형 편향을 야기한다.
멤브레인 요소는 적합한 방식으로 가스 불투과성으로 형성된다. 또한 멤브레인 요소가 이러한 멤브레인 요소의 가장자리 영역에서 빙 둘러 액밀 방식으로 장비 하우징과 연결되면, 유체 챔버와 반대되는 압전 액추에이터의 측면에 위치한 유체 장비의 영역이 매우 신뢰할만하게 액밀 방식으로 차폐될 수 있다. 이 위치에서 예컨대 하우징 챔버가 제공될 수 있고, 이러한 하우징 챔버는 멤브레인 요소 상에 안착하는 압전 액추에이터의 추가 컴포넌트들, 즉 특히 압전 요소 및 추가 전극을 수용한다. 이후 매질 분리가 수행되고, 이로부터 압전 요소 및 경우에 따라 존재하는 전기 라인들이 유체 챔버 내에 위치하거나 유동하는 유체와 접촉하지 않는다는 이점이 얻어진다.
멤브레인 요소는 이러한 멤브레인 요소의 가장자리 영역에서 장비 하우징 내에 예컨대 클램핑되거나 접착될 수 있다. 필요 시, 추가적 밀봉 설비가 제공될 수 있다.
바람직하게는, 유체 장비는 유체 장비의 구동 시 전극 배열체에 전기적으로 연결되는 전자 제어 설비를 제공하고, 전자 제어 설비에 의하여 압전 액추에이터를 위한 소기의 제어 전압이 제공되며, 전자 제어 설비는 필요에 따라 전극 배열체와 관련하여 전하 유입 및 전하 배출을 야기하기 위해 형성된다. 전자 제어 설비는 예컨대 고전압 스테이지를 포함한다. 제어 설비를 이용하여, 인가되는 제어 전압의 세기에 따라, 멤브레인 작동부의 리프팅 운동 및 소정의 리프팅 위치에서 멤브레인 작동부의 위치 결정이 수행될 수 있고, 설정된 리프팅 위치는 유체 챔버의 특정 용적에 각각 부합한다.
유체 챔버의 용적을 매우 정확하고 반복구현 가능하게 설정할 수 있기 위해, 유체 장비는 멤브레인 작동부의 리프팅 운동 시 변화하는, 압전 액추에이터와 장비 하우징 사이의 간격을 측정하기 위해 형성되는 간격 측정 설비를 구비하는 것이 유리하다. 적합한 방식으로, 압전 액추에이터는 동시에 전극으로 기능하는 멤브레인 요소만을 통하여 장비 하우징에 계류되므로, 멤브레인 작동부의 리프팅 운동 시 전체 압전 액추에이터는 이에 상응하여 장비 하우징에 대해 상대적인 리프팅 운동을 수행함으로써, 임의적 위치에서 간격 측정이 가능하다.
간격 측정 설비는 멤브레인 작동부의 리프팅 운동 시 편향이 최대가 되는 위치에서 간격이 측정되도록 형성될 때 매우 유리하다. 이는 디스크 트랜스레이터에서 디스크형 압전 요소의 중심 영역이다.
간격 측정을 위해 상이한 측정 원리들이 고려되며, 이러한 원리들을 실행하기 위해 간격 측정 설비가 형성된다. 예컨대 전극 배열체와 장비 하우징 사이에 용량적 측정이 가능하다. 또한, 간격 측정은 예컨대 유도적으로 평판 코일을 이용할 수 있거나, 광학적으로 반사광 배리어를 이용할 수 있거나, 광학적으로 삼각측량법을 이용할 수 있거나 자기적으로 홀센서를 이용할 수 있다. 이는 물론 유리한 예시들에 불과하며 한정적인 것으로 이해될 수 없다.
전자 제어 설비는 멤브레인 작동부의 리프팅 위치를 제어 설정하기 위해 형성되는 것이 매우 효과적인데, 이러한 제어는 간격 측정 설비에 의해 산출되는 간격 측정값들에 기반하여 수행된다. 간격 제어에 의해, 간접적으로 유체 챔버 용적의 용적 제어가 수행되는데, 압전 액추에이터가 반복 구현 가능한 변형 거동을 포함하여, 멤브레인 작동부의 개별 리프팅 위치들과 유체 챔버의 일시적 용적 간에 서로 명확한 배정이 존재하기 때문이다.
유체 장비는, 필요 시 유체 챔버의 용적을 설정하는 것에 관련된 임의 상황에 사용될 수 있다. 예컨대 이후의 도징 절차를 위해 관련된 유체 용적을 규정하기 위해 용적 설정이 수행될 수 있다.
유체 장비의 매우 유리한 용도는 유체 흡입 장비로 사용되는 것인데, 압전 액추에이터를 이용하여 야기되는 유체 챔버의 용적 확대에 의해 저압이 발생될 수 있고, 이러한 저압에 의해 유체 챔버와 연결된 제1 유체 채널내에 위치한 유체는 유체 챔버 안으로 흡인될 수 있다. 이를 통해 예컨대 도징 절차들에서 액체의 추후 적하가 방지될 수 있다.
도징 절차들은 다수의 분야들에서 통상적이며, 예컨대 의학 기술에서 또는 산업적 적용에서 그리고 예컨대 도체판 제조 시 도체판 위에 포토레지스트를 도징할 때 통상적이다.
매우 적합한 유체 장비는 유체 챔버와 연통하는 2개의 유체 채널을 포함하고, 제1 유체 채널은 출력 채널이고, 이러한 출력 채널을 통과하여 유체 챔버 내에 위치한 유체가 유체 챔버로부터 배출될 수 있는 반면, 제2 유체 채널은 입력 채널이고, 이러한 입력 채널을 통과하여 유체는 유체 챔버안으로 유입될 수 있다. 제2 유체 채널에 배정되는 차단 유닛은 유체의 통과를 가능하게 하거나 방해하기 위해 제2 유체 채널을 선택적으로 해제할 수 있거나 차단할 수 있다. 이러한 차단 유닛은 예컨대, 유체 장비가 도징 장치 또는 도징 장치의 구성요소로서 사용될 때 도징 밸브를 나타낸다. 도징 절차를 종료한 후에 액상 유체의 추후 적하를 방지하기 위해, 압전 액추에이터는 도징 중에 유체 챔버의 유체 용적이 감소된 구동 상태에 유지된다. 도징 절차의 정지 후, 유체 용적은 이에 상응하는 압전 액추에이터의 제어에 의해 확대됨으로써, 소기의 유체량이 출력 채널로부터 유체 챔버안으로 역흡입된다.
이하, 본 발명은 첨부 도면을 참조로 더 상세하게 설명된다. 도면은 다음과 같다:
도 1은 설정 및 감소된 유체 챔버 용적을 포함하는 제1 구동 단계에서 본 발명에 따른 유체 장비의 바람직한 형성예를 개략적인 부분 단면도로 도시한다.
도 2는 도 1의 제1 구동 단계보다 크게 설정된 유체 챔버 용적을 포함하는 제2 구동 단계에서 유체 장비를 도시한다.
도 3은 도 2의 화살표 III에 따른 관찰 방향으로 유체 챔버를 포함하는 유체 장비의 장비 유닛에 관한 평면도이다.
도면으로부터 종합적으로 참조번호 1로 표시되는 유체 장비를 알 수 있으며, 이러한 유체 장비는 바람직한 적용예에서 유체 흡입 장비(1a)로 도시되어 있으며 유리한 통합의 범위 내에서 액상 매질을 위한 도징 장치(2) 내에 통합되어 있다.
유체 장비(1)는 장비 하우징(3)을 포함하고, 굽힘 탄성적 멤브레인 요소(4)를 더 제공하며, 이러한 멤브레인 요소는 장비 하우징(3)과 조합되어, 챔버(5)가 공동으로 제한되고, 챔버는 유체 장비(1)의 구동 시 유체(6)를 수용하므로 보다 양호한 구분을 위해 유체 챔버(5)로 지칭된다.
멤브레인 요소(4)는 압전 액추에이터(7)로 지칭되는 유체 장비(1)의 압전 액추에이터의 구성 요소이다. 압전 액추에이터(7)는 멤브레인 요소(4)를 통하여 장비 하우징(3)에서 장비 하우징에 대해 이동 가능하게 계류된다.
압전 액추에이터(7)의 작동을 위해, 유체 장비(1)는 적합한 방식으로 개략적으로만 암시된 전자 제어 설비(8)를 포함한다.
장비 하우징(3) 및 압전 액추에이터(7)가 유체 장비(1)의 장비 유닛(12)으로 통합되는 것은 반드시 그래야 하는 것은 아니나 매우 유리하긴 하며, 이는 도시된 실시예에 해당한다.
장비 하우징(3)은 고축(13)을 포함하고, 유체 장비(1)는 물론 고축(13)의 임의 정렬을 이용하여 구동 가능하다.
장비 하우징(3)은 적합한 방식으로 하우징 내부 공간(14)을 둘러싼다. 하우징 내부 공간(14) 내에 멤브레인 요소(4)가 위치하고, 멤브레인 요소는 평면적으로 주 연장 평면(15)으로 연장되고, 주 연장 평면은 바람직하게는 고축(13)에 대해 횡으로 특히 직각으로 정렬되어 있다.
멤브레인 요소(4)는 면중심 영역(16) 및 이러한 면중심 영역(16) 둘레에 빙 둘러 연장되는 주변 가장자리 영역(17)을 포함한다. 주변 가장자리 영역(17)의 형상에 의해 멤브레인 요소(4)의 외부 윤곽(18)이 정의되고, 이러한 외부 윤곽은 바람직하게는 원형이다. 따라서, 종합적으로, 멤브레인 요소(4)는 적합한 방식으로 원형 디스크의 형상을 포함한다.
멤브레인 요소(4)는 주변 가장자리 영역(17)에서 장비 하우징(3)에 고정된다. 예시적으로, 멤브레인 요소(4)의 주변 가장자리 영역(17)은 장비 하우징(3)과 접착되고, 물론 다른 연결 방식도 가능하다. 이는 적합한 방식으로 면중심 영역(16) 둘레에 빙 둘러 연속적으로 연장되는 연결을 가리키는데, 이러한 연결은 바람직하게는 액밀 방식으로 형성된다. 멤브레인 요소(4)는 이러한 멤브레인 요소측에서 마찬가지로 액밀 방식이므로, 유체 챔버(5)는 주변에 대해 액밀 방식으로 봉인된다.
바람직하게는, 장비 하우징(3)은 고축(13)에 대해 직각인 평면에서 연장되는 바닥벽(22) 및 환형(ring shaped) 측벽(23)을 포함하고, 환형 측벽은 바닥벽(22)으로부터 시작하여 바닥벽의 외부 가장자리 영역으로부터 높이 방향으로 표시되는 고축(13)의 정렬로 돌출한다. 반경 내부 둘레에서 환형 측벽(23)은 단차지게 형성됨으로써, 중앙의 고축(13)에 대해 동축인 환형 숄더(24)가 얻어지고, 이러한 숄더 상에 멤브레인 요소(4)는 주변 가장자리 영역(17)을 이용하여 안착한다. 유체 챔버(5)는 바닥벽(22), 환형 측벽(23) 및 멤브레인 요소(4)에 의해 공동으로 제한된다.
유체 챔버(5)는 하우징 내부 공간(14)이 멤브레인 요소(4)에 의해 분할되는 2개의 부분 공간 중 하나의 부분 공간을 가리킨다. 이하에서 보다 양호한 구분을 위해 제어 챔버(25)로 지칭되는 제2 부분 공간은 높이 방향(13)에서 유체 챔버(5)에 반대되는 멤브레인 요소(4)의 측면에 위치한다. 제어 챔버(25)는 측면에서 환형 숄더(24)보다 돌출하는 환형 측벽(23)의 벽부분에 의해 제한되며, 높이 방향(13)에서 멤브레인 요소(4)에 대향되는 상측에서 장비 하우징의 천정벽(26)에 의해 제한되고, 이러한 천정벽은 바람직하게는 하우징 리드를 가리킨다.
멤브레인 요소(4)는 주 팽창 평면(15)에 대해 직각으로 굽힘 탄성적으로 변형 가능하거나 편향 가능하다. 더 정확히 말하자면, 주변 가장자리 영역(17)에 의해 에워싸이며 보다 양호한 구분을 위해 멤브레인 작동부(27)로 지칭할 멤브레인 부분은 주 연장 평면(15)에 대해 직각인 방향으로, 즉 높이 방향(13)으로 가역적으로 휘어질 수 있거나 편향될 수 있다.
멤브레인 요소(4)는 바람직하게는 스프링 탄성적 특성을 포함한다. 특히 호일 방식으로 얇다. 예컨대 금속으로 구성되고 바람직하게는 스테인리스강으로 구성된다.
도 2에서 멤브레인 작동부(27)는 편향되지 않은 기본 위치를 가리키는 구동 위치에서 도시되어 있다. 여기서 멤브레인 요소(4)는 그 전체가 주 연장 평면(15)으로 연장되어 있다. 바람직하게는 멤브레인 요소(4)는 멤브레인 작동부(27)의 비편향 위치에서 기계적 프리텐션을 받지 않는다.
도 1로부터 기본 위치와 관련하여 높이 방향(13)에서 편향된 멤브레인 작동부(27)의 구동 위치를 알 수 있다. 멤브레인 작동부(27)는 주변 가장자리 영역(17)을 관통하는 가상의 주 연장 평면(15)에 대해 적어도 부분적으로 이격되어 있으며, 높이차는 면중심 영역(16)에서 최대이며 이 위치로부터 시작하여 주변 가장자리 영역(17)으로 가면서 동심으로 점차 감소한다.
편향된 구동 위치에서, 멤브레인 작동부(27)는 특히 구형으로 만곡된다.
멤브레인 작동부(27)는 상이하게 편향된 구동 위치들을 점유할 수 있고, 이러한 구동 위치들은 주 연장 평면(15)과 관련하여 제공되는 높이차로 서로 구분된다.
멤브레인 작동부(27)의 기본 위치와 상이하게 편향된 구동 위치 사이에 편향 운동 또는 굽힘 운동은 리프팅 운동(28)으로 지칭되며 도면에서 이중 화살표로 도시되어 있다. 리프팅 운동(28)은 점쇄선 선분으로 표시되는 작동 방향(32)을 따르고, 이러한 작동 방향은 예시적으로 장비 하우징(3)의 높이 방향(13)과 일치한다. 리프팅 운동(28)의 범위 내에서 달성 가능한 멤브레인 작동부(27)의 위치들은 이하에서 멤브레인 작동부(27)의 리프팅 위치들로도 지칭된다.
유체 챔버(5)의 용적은 멤브레인 작동부(28)의 일시적 리프팅 위치에 따라 좌우된다. 멤브레인 작동부(27)가 바닥벽(22)을 향한 방향으로 더 편향될수록, 유체 챔버 용적은 감소한다.
도 1 및 도 2에 도시된 유체 장비(1)의 구동 상태들은 도 2에서 유체 챔버의 최대 용적을 정의하고 도 1에서 최소 용적을 정의한다.
멤브레인 작동부(27)의 리프팅 운동(28)은 압전 액추에이터(7)에 의해 야기될 수 있다. 압전 액추에이터(7)에 의해 멤브레인 작동부(27)의 상이한 리프팅 위치들이 단계적으로 또는 바람직하게는 단계 없이 설정될 수 있다. 각각의 설정된 리프팅 위치는 원하는 기간만큼 유지될 수 있다.
압전 액추에이터(7)는 압전 특성을 제공하며 특히 압전 세라믹으로 구성되는 적어도 하나의 압전 요소(33)를 포함하고 이러한 적어도 하나의 압전 요소(33)를 측면에서 둘러싸며 복수의 전기 전도성 전극(35, 36)으로 구성되는 전극 배열체(34)를 더 포함한다. 압전 액추에이터(7)의 특이성은, 전극들(35) 중 하나의 전극이 이에 상응하는 전극 특성을 제공하는 멤브레인 요소(4)에 의해 직접적으로 형성된다는 것이다.
멤브레인 요소(4)가 예시적으로 금속으로 구성되면, 전극으로서의 기능을 위해 필요한 대면적 전기 전도성이 즉각적으로 얻어진다.
보다 양호한 구분을 위해, 이하에서 멤브레인 요소(4)로도 동시에 기능하는 전극(35)은 멤브레인 전극(35)으로 지칭한다.
멤브레인 전극(35)은 압전 비활성이다. 이러한 멤브레인 전극은 압전 요소(33)를 위한 지지 기판으로 기능한다. 바람직하면서 실시예에 부합하게, 압전 액추에이터(7)는 단일의 압전 요소(33)만을 포함한다. 이러한 압전 요소(33)는 멤브레인 전극(35)과 추가 전극(36) 사이에 위치한다. 이에 상응하여 전극 배열체(34)는 바람직한 도시된 실시예에서 2개의 전극(35, 36), 즉 멤브레인 전극(35) 및 추가 전극(36)으로만 구성된다.
압전 요소(33)는 평면적인 연장부를 포함하고 플레이트형 또는 디스크형으로 형성된다. 도시된 실시예에 상응하게, 압전 요소(33)를 위해 원형의 외부 윤곽(37)을 가지는 디스크 형상이 바람직하다.
디스크형 압전 요소(33)는 면중심에 그리고 특히 멤브레인 전극(35)을 형성하는 멤브레인 요소(4)의 멤브레인 작동부(27)에 동축으로 부착된다.
멤브레인 요소(4)는 유체 챔버(5)를 향해 있는 제1 멤브레인면(38) 및 이와 관련하여 반대방향으로 멀어지는 제2 멤브레인면(39)을 포함하고, 이러한 제2 멤브레인면은 도시된 실시예에서 제어 챔버(25)를 향해 있다. 압전 요소(33)는 바람직하게는 제2 멤브레인면(39)에 부착된다. 이를 통해, 매질 분리가 발생하고, 압전 요소(33)는 유체 챔버(5) 내에 위치한 유체(6)와 접촉하지 않는다.
유체(6)는 가스형 또는 액상의 점조도(consistency)를 가질 수 있다. 유체 장비(1)의 바람직한 사용 시 유체(6)는 액체를 가리킨다.
압전 요소(33)는 멤브레인 요소(4)와 함께 적합한 방식으로 접착된다. 접착면은 적합한 방식으로 멤브레인 요소(4)를 향해 있는 압전 요소(33)의 전체 하부 기본면(42) 이상으로 연장된다. 적합한 방식으로, 압전 요소(33)와 멤브레인 요소(4) 사이에 전면적인 고정적 연결이 제공된다.
추가 전극(36)은 적합한 방식으로 전기 전도성 코팅으로 구성되고, 이러한 전기 전도성 코팅은 멤브레인 요소(4)에 반대되는 압전 요소(33)의 상부 기본면(43) 상에 적용되고, 이러한 코팅은 바람직하게는 금속화물(metallization)로 적용된다.
추가 전극(36)은 대안적으로 멤브레인 전극(35)과 유사하게 개별적이며 자기 지지되는(self-supported) 부분으로 형성될 수 있고, 이러한 부분은 예컨대 접착에 의해 압전 요소(33)에 고정된다.
바람직하게는, 압전 액추에이터(7)는 예시된 실시예에 상응하여 디스크 트랜스레이터로 형성된다. 따라서 원형 외부 윤곽(37)을 제공하는 디스크형 압전 요소(33)는 압전 액추에이터(7)의 전기 작동 시 가변적 곡률로 구형으로 변형된다. 멤브레인 작동부(27)는 리프팅 운동(27)을 수행하면서 이러한 변형에 관여한다. 이는 유체 챔버(5) 내에 균일한 용적 변화와 결부되고, 유체 챔버는 둘레측에서 환형 측벽(23)의 적절한 형상에 의해 바람직하게는 마찬가지로 원형으로 윤곽이 형성된다.
주 연장 평면(15)에서 측정되는 압전 요소(33)의 외부 직경은 바람직하게는 멤브레인 요소(4)의 외부 직경보다 작다.
주 연장 평면(15)에서 측정되는 압전 요소(33)의 외부 직경은 적합한 방식으로 유체 챔버(5)의 직경보다 작게 멤브레인 요소(4)에 직접적으로 연결됨으로써, 압전 요소(33)의 반경 외부 둘레(37)와 유체 챔버(5)의 반경 내부 둘레(44) 사이에 멤브레인 요소(4)의 링디스크형 멤브레인부(45)가 제공된다. 이러한 멤브레인부에는 반경 외측에서 동축으로 고정을 위해 사용되는 주변 가장자리 영역(17)이 연결된다.
예시적으로, 주변 가장자리 영역(17)은 이동 가능하지 않게 장비 하우징(3)에 고정된다. 이는 전술한 접착 연결에 의해 또는 예컨대 클램핑 연결에 의해 수행될 수 있다. 대안적 고정은 주변 가장자리 영역(17)을, 이러한 주변 가장자리 영역이 장비 하우징(3)과 관련하여 적어도 근소한 상대 운동을 수행할 수 있는 방식으로 유지하는 것이다.
전극 배열체(34)는 개략적으로만 암시된 전기 도체들(46)을 통하여 전자 제어 설비(8)에 연결된다. 예시적으로, 2개의 전극(35, 36) 각각은 고유의 전기 도체(46)를 통하여 전자 제어 설비(8)에 연결된다. 바람직하게는, 전기 도체들(46)에는 장비 하우징(3)에 배치된 전기 연결 설비(47)가 배정되고, 이러한 전기 연결 설비에 의해 전자 제어 설비(8)의 분리 가능한 연결이 이루어진다.
전자 제어 설비(8)는, 전기 도체들(46)을 통해 전극 배열체(34)에 인가될 수 있는 전기적 제어 전압을 가변적 세기로 제공하기 위해 형성된다. 제어 설비(8)는 전극들(35, 36)과 관련하여 가변적 제어를 위해 필요한 전하 유입 및 전하 배출을 가능하게 하기 위해 적합한 설비를 포함한다.
도 2는 제어 전압이 0과 같아서 압전 액추에이터(7)가 비편향된 기본 위치를 점유하는 구동 상태를 예시한다. 반면, 도 1은 제어 전압이 0보다 커서 압전 액추에이터(7)가 유체 챔버(5)의 용적을 감소시키며 구형으로 변형되는 구동 상태를 도시한다. 상이한 구동 상태들 사이에 압전 액추에이터(7)의 형상 변화는 직접적으로 멤브레인 작동부(27)의 리프팅 운동(28)을 유발한다.
리프팅 운동(28) 시, 높이 방향(13)에서 측정 가능하며 작동 간격(48)으로 지칭되는, 멤브레인 요소(4)를 통하여 장비 하우징에 이동 가능하게 계류된 압전 액추에이터(7)와 장비 하우징(3) 사이의 간격이 변화한다. 바람직하게는, 유체 장비(1)는 간격 측정 설비(49)를 구비하고, 이러한 간격 측정 설비는 전술한 작동 간격(48)을 측정하기 위해 제공된다. 이러한 방식으로, 유체 장비(1)의 구동 시, 멤브레인 작동부(27)의 리프팅 운동(28) 시 변화하는 작동 간격(48)을 알 수 있다. 작동 간격(48)은 유체 챔버(5)의 용적과 직접적으로 관련되므로, 측정된 작동 간격(48)으로 유체 챔버(5)의 일시적 용적을 정확하게 추론할 수 있다. 또한, 목적한 바에 따른 간격 설정에 의하여 적용 경우를 위해 바람직한 유체 챔버(5)의 용적이 설정될 수 있다.
도시된 실시예에서, 간격 측정 설비(49)에 의해 산출되는 간격 측정값들은 전자 제어 설비(8)에 공급되고, 이러한 전자 제어 설비는 현재값들로서의 간격 측정값들에 기반하여 제어되는 멤브레인 작동부(27)의 리프팅 위치 설정 및 이로 인하여 간접적으로 유체 챔버(5)의 용적 설정을 수행할 수 있다. 간격 측정 설비(49)는 전기 도체 배열체(52)를 통하여 전자 제어 설비(8)에 연결된다. 이는 바람직하게는 분리 가능한 연결을 가리키는데, 이러한 연결은 개략적으로만 암시된 전기 연결 설비(53)에 의해 가능하게 되고, 이러한 전기 연결 설비는 적합한 방식으로 장비 하우징(3)에 배치된다.
간격 측정 설비(49)는 적합한 방식으로 선택적인 장비 유닛(12) 내에 통합된다.
제어 조처들을 수행하기 위해, 전자 제어 설비(8)는 내부 제어 유닛(54)을 포함한다.
전자 제어 설비(8)는 입력 수단(55)을 더 구비하고, 이러한 입력 수단을 통하여 설정될 작동 간격(48) 또는 설정될 유체 챔버(5)의 용적에 대한 적어도 하나의 기준값이 입력 가능하고, 이러한 기준값은 제어 유닛(54)에서 작동 간격(48)에 대한 산출된 현재값들과 비교됨으로써, 비교 결과에 따라 전기 도체들(46)을 통하여 제어 전압이 전극 배열체(34)에 출력되며, 이러한 제어 전압에 의해 압전 액추에이터(7)가 변형되어, 작동 간격(48) 및 이로 인하여 유체 챔버(5)의 용적이 소기의 기준값으로 설정된다.
따라서 예시적 유체 장비(1)에서는, 멤브레인 작동부(27)를 간격 제어하며 변형시키고 이에 상응하여 유체 챔버(5)로부터 정의되는 용적의 용적 제어를 간접적으로 수행하는 유리한 가능성이 존재한다.
간격 측정 설비(49)에 의한 간격 측정 시, 예시적으로 용량적 측정 원리가 사용된다. 이때 압전 액추에이터(7)의 추가 전극(36) 및 높이 방향(13)에서 이러한 추가 전극(36)에 대향하며 장비 하우징(3)에 배치되는 측정 전극(56) 사이에서 간격에 따라 설정되는 용량이 측정된다. 측정 전극(56)은 바람직하게는 멤브레인 요소(4)의 면중심 영역(16)에 대향하여 배치되며, 즉 멤브레인 작동부(27)의 리프팅 운동 시 장비 하우징(3) 및 압전 액추에이터(7)와 관련한 간격 변화가 최대인 영역에 배치된다.
간격 측정을 위해 다른 측정 원리들도 사용될 수 있다. 예컨대 유도적으로 평판 코일을 이용하거나, 광학적으로 반사광 배리어를 이용하거나, 광학적으로 삼각측량법을 이용하거나 또는 자기적으로 홀센서를 이용한다.
유체 흡입 장비(1a)로서의 예시적 형성예에서, 제1 유체 채널(57) 및 제2 유체 채널(58)은 유체 챔버(5)와 연결되고, 이러한 유체 채널들 중에 예시적으로 제1 유체 채널(57)은 출력 채널을 형성하고, 제2 유체 채널(58)은 입력 채널을 형성한다.
제1 유체 채널(57)은 출력 개구부(61)로 안내되고, 이러한 출력 개구부에서 소기의 유체량이 화살표(62)를 따라 출력 가능하다. 유체 흡입 장비(1a)의 사용 시, 유체 챔버(5) 및 제1 유체 채널(57)은 일반적으로 완전하게 유체로 충진된다.
제2 유채 채널(58)은 유체 소스(63)로 안내되고, 이러한 유체 소스는 예컨대 유체 저장부, 예컨대 액체 용기를 가리킨다.
제2 유체 채널(58)의 경로 내에 바람직하게는 이송 펌프(64)가 연결되고, 이송 펌프는 유체 소스(63)에 의해 제공되는 유체를 제2 유체 채널(58)를 통과하여 유체 챔버(5) 안으로 공급할 수 있다.
바람직하게는, 제2 유체 채널(58)의 경로 내에서 유체 챔버(5)와 이송 펌프(64) 사이의 채널부 내에 차단 유닛(65)이 배치되고, 차단 유닛은 예시적으로 차단 밸브를 가리키는데, 차단 밸브는 특히 2/2 웨이 밸브 기능을 제공한다. 차단 유닛(65)은 적합한 방식으로 전기 제어 라인(66)을 통하여 전자 제어 설비(8)에 연결되고 필요 시 이러한 전자 제어 설비에 의해 작동될 수 있다. 예시적으로, 차단 유닛(65)은 도 1로부터 알 수 있는 열림 위치로 또는 도 2로부터 알 수 있는 차단 위치로 선택적으로 접속될 수 있다. 열림 위치에서는 제2 유체 채널(58)을 통과하는 유체 통과가 가능한 반면, 차단 위치에서 제2 유체 채널(58)은 유체가 유체 챔버(5) 안으로 유입되는 것을 방지하기 위해 차단된다.
유체 흡입 장비(1a)의 바람직한 구동 방식에서, 차단 유닛(65)은 도 1로부터 알 수 있는 제1 구동 단계에서 열림 위치로 접속되고, 이때 구동 중인 이송 펌프(64)는 유체 소스(63)로부터 제2 유체 채널(58), 유체 챔버(5) 및 제1 유체 채널(57)을 통과하여 출력 개구부(61)로 유체를 이송한다. 출력 개구부(61)에서 유체는 화살표(62)를 따라 규정에 맞는 용도를 위해 배출된다.
유체 이송 및 유체 출력은, 차단 유닛(65)이 제어 설비(8)를 통하여 차단 위치로 전환되어 유체 흡입 장비(1a)가 도 2에 따른 제2 구동 단계에 도달할 때까지 수행된다. 이때 유체 유동 및 유체 출력은 출력 개구부(61)에서 정지된다.
차단 유닛(65)의 열림 위치와 차단 위치 사이에서 선택되는 시간 간격에 의해 출력 개구부(61)에서 도징된 유체 출력이 수행될 수 있음을 알 수 있다. 이와 연관하여, 유체 흡입 장비(1a)는 도시된 실시예에 상응하여 유리하게는 도징 장치(2)로 사용될 수 있거나 도징 장치(2) 내에서 사용될 수 있다.
설명된 도징 적용예에서, 유체 챔버(5)의 용적의 변화 가능성은 도 2에 따른 제2 구동 단계에서 출력 개구부(61)에서 유체가 추후에 바람직하지 않게 적하되어 나오는 것을 방지하기 위해 사용될 수 있다. 이를 위해 차단 유닛(65)이 차단 위치로 전환된 후 이에 상응하는 압전 액추에이터(7)의 작동에 의해 유체 챔버(5)의 용적이 확대될 수 있어서, 유체 챔버(5) 내에 저압이 생성되고, 이러한 저압의 결과로 제1 유체 채널(57) 내에 위치한 유체(6)는 유체 챔버(5) 안으로 역흡입된다. 이를 통해 제1 유체 채널(57) 내에 위치한 유체 컬럼은 후퇴되고, 이러한 유체 컬럼과 출력 개구부(61) 사이에는 공기로 충진되는 간극(67)이 형성되며, 이러한 간극이 유체 배출을 방지한다.
예시적 유체 흡입 장비(1a)는 특히, 압전 액추에이터(7)가 도 5에 따른 제1 구동 단계 중에 제어 전압의 인가에 의해 활성화됨으로써 멤브레인 작동부(27)가 유체 챔버(5)를 향한 방향으로 편향되고 유체 챔버(5)가 감소된 챔버 용적으로 설정되게 하기 위해 사용될 수 있다. 소기의 저압을 생성하기 위해, 도 2에 따른 제2 구동 단계에서 압전 액추에이터(7)를 위한 제어 전압이 감소되어, 멤브레인 작동부(27)는 도 2에 따른 비편향된 기본 위치의 방향으로 약간 추가로 이동되거나 이러한 비편향된 기본 위치로 완전하게 회귀함으로써, 유체 챔버(5)의 용적 확대와 결부되며, 이는 저압을 야기하고 전술한 유체 역흡입 효과를 가져온다.
전자 제어 설비(8)를 이용하여, 유체 챔버(5)의 소기의 용적 또는 소기의 용적 변화는 매우 정확하게 설정될 수 있고, 규정될 수 있다. 이러한 방식으로, 어떤 유체량이 역흡입될지가 정확하게 규정 가능하다.
유체 흡입 장비(1a)는 예컨대 도징 장치(2)와 연관하여 사용 가능하고, 이러한 도징 장치는 도체판 제조 시 필요한 포토레지스트를 도포하기 위해 사용된다. 다른 가능한 적용예는 예컨대 실험실 응용에서 마이크로타이터 플레이트(microtiter plate)의 캐비티 내에 액체를 도징 출력하는 것이다.

Claims (15)

  1. 유체를 수용하기 위해 형성되는 유체 챔버(5)를 포함하는 유체 장비로서,
    상기 유체 챔버는 장비 하우징(3) 및 주 연장 평면(15)에서 평면 연장부를 포함하는 굽힘 탄성적 멤브레인 요소(4)에 의해 공동으로 제한되고, 상기 멤브레인 요소(4)는 상기 멤브레인 요소의 주변 가장자리 영역(17)에서 상기 장비 하우징(3)에 고정되고, 상기 주변 가장자리 영역(17)에 의해 에워싸이는 상기 멤브레인 요소(4)의 멤브레인 작동부(27)는 상기 유체 챔버(5)의 용적을 변화시키기 위해 상기 유체 장비(1)의 압전 액추에이터(7)에 의하여 리프팅 운동(28)을 수행하면서 상기 주 연장 평면(15)에 대해 횡으로 배향되는 작동 방향(32)에서 탄성적으로 편향 가능하고, 상기 압전 액추에이터(7)는 전극 배열체(34)를 포함하고, 상기 전극 배열체에는 상기 멤브레인 작동부(27)의 상기 리프팅 운동(28)을 야기하는 제어 전압이 가변적 세기로 인가될 수 있고,
    상기 멤브레인 요소는 상기 전극 배열체(34)의 전기 전도성 전극(35)을 직접적으로 형성함으로써, 상기 멤브레인 요소(4)는 상기 압전 액추에이터(7)의 기능적 구성요소인 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 멤브레인 요소(4)는 전기 전도성 금속으로 구성되고, 적합한 방식으로 스테인리스강으로 구성되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 멤브레인 요소(4)는 상기 작동 방향(32)에서 서로 멀어지는 2개의 멤브레인면(38, 39)을 포함하고, 상기 압전 액추에이터(7)는 상기 2개의 멤브레인면(38, 39) 중 하나의 멤브레인면에 고정되어 압전 특성을 제공하는 압전 요소(33)를 포함하고, 상기 작동 방향(32)에서 상기 멤브레인 요소(4)로부터 멀어지는 상기 압전 요소의 측에는 평면적 팽창을 제공하는 상기 전극 배열체(34)의 추가 전극(36)이 배치되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 압전 요소(33)는 상기 멤브레인 요소(4)와 접착되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 추가 전극(36)은 상기 압전 요소(7)의 전기 전도성 코팅으로 구성되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  6. 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 압전 요소(33)는 상기 유체 챔버(5)로부터 멀어지는 상기 멤브레인 요소(4)의 상기 멤브레인면(39)에 부착되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  7. 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 압전 요소(33)는 원형 외부 윤곽을 포함하고 적합한 방식으로 면중심에서 상기 멤브레인 요소(4)에 배치되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 멤브레인 요소(4)는 상기 멤브레인 요소의 주변 가장자리 영역(17)에서 원형 외부 윤곽을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 압전 액추에이터(7)는 디스크 트랜스레이터(translator)인 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 멤브레인 요소(4)는 상기 멤브레인 요소의 주변 가장자리 영역(17)에서 빙 둘러 액밀 방식으로 상기 장비 하우징(3)과 연결되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 장비는 상기 전극 배열체(34)에 전기적으로 연결 가능하거나 연결되는 전자 제어 설비(8)를 제공하고, 상기 전자 제어 설비에 의하여 적절한 세기의 제어 전압의 규정값을 이용하여 상기 장비 하우징(3)과 관련하여 점유되는 상기 멤브레인 작동부(27)의 적어도 하나의 리프팅 위치가 설정 가능한 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 장비는 상기 멤브레인 작동부(27)의 상기 리프팅 운동(28) 시 상기 압전 액추에이터(7)와 상기 장비 하우징(3) 사이에서 변화하는 작동 간격(48)을 측정하기 위해 형성되는 간격 측정 설비(49)를 구비하는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  13. 제 11 항과 연관하여 제 12 항에 있어서,
    상기 전자 제어 설비(8)는 상기 멤브레인 작동부(27)의 상기 리프팅 위치를상기 간격 측정 설비(49)의 간격 측정값들에 기반하여 제어하며 설정하기 위해 형성되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 장비(1)는 유체 흡입 장비(1a)이고, 상기 유체 흡입 장비에서 상기 압전 액추에이터(7)를 이용하여 야기되는 상기 유체 챔버(5)의 용적 확대에 의하여 저압이 발생할 수 있으며, 이러한 저압에 의해 상기 유체 챔버(5)와 연결된 제1 유체 채널(57) 내에 위치한 유체(6)는 상기 유체 챔버(5) 안으로 흡인되는 것을 특징으로 하는 유체 장비.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 유체 챔버(5)에는 부가적으로 제2 유체 채널(58)이 연결되고, 유체(6)는 상기 제2 유체 채널(58)을 통과하여 상기 유체 챔버(5) 안으로 유입될 수 있고 상기 제1 유체 채널(57)을 통과하여 상기 유체 챔버(5)로부터 배출될 수 있으며, 상기 제2 유체 채널(58)에는 차단 유닛(65)이 배정되고, 상기 차단 유닛에 의하여 상기 제2 유체 채널(58)은 상기 유체 챔버(5) 안으로 유체(6)의 유입을 방지하기 위해 차단될 수 있으며, 차단된 상기 제2 유체 채널(58)에서 상기 유체 챔버(5)로부터 상기 제1 유체 채널 안으로 유입된 유체(57)는 상기 저압의 발생에 의해 상기 유체 챔버(5) 안으로 역흡입 가능한 것을 특징으로 하는 유체 장비.
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