KR20220013675A - The method for manufacturing the printed circuit board - Google Patents

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KR20220013675A KR1020200092909A KR20200092909A KR20220013675A KR 20220013675 A KR20220013675 A KR 20220013675A KR 1020200092909 A KR1020200092909 A KR 1020200092909A KR 20200092909 A KR20200092909 A KR 20200092909A KR 20220013675 A KR20220013675 A KR 20220013675A
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Abstract

A printed circuit board of an embodiment of the present invention comprises: an insulating substrate which includes a plurality of insulating layers and has a cavity formed in at least one insulating layer of the plurality of insulating layers; a first electronic device which is disposed in the cavity of the insulating substrate; and a plating layer which is disposed on a side surface of the insulating substrate. The side surface of the insulating substrate includes: a first portion on which the plating layer is disposed; and a second portion which excludes the first portion on which the plating layer is not disposed. A distance between the first electronic device and the first portion is shorter than a distance between the first electronic device and the second portion.

Description

인쇄회로기판 및 이의 제조 방법{THE METHOD FOR MANUFACTURING THE PRINTED CIRCUIT BOARD}Printed circuit board and manufacturing method thereof

실시 예는 인쇄회로기판에 관한 것으로, 특히 전자소자 내장형 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The embodiment relates to a printed circuit board, and more particularly, to an electronic device embedded printed circuit board and a method of manufacturing the same.

인쇄회로 기판 (PCB; Printed Circuit Board)은 전기 절연성 기판에 구리와 같은 전도성 재료로 회로 라인 인쇄회로기판(line pattern)을 인쇄 형성시킨 것으로, 전자 부품을 탑재하기 직전의 기판을 말한다. 즉 여러 종류의 많은 전자 부품을 평판 위에 밀집 탑재시키기 위해, 각 부품의 장착 위치를 확정하고, 부품을 연결하는 회로라인을 평판 표면에 인쇄하여 고정시킨 회로 기판을 뜻한다.A printed circuit board (PCB) is a printed circuit board (line pattern) formed by printing a circuit line with a conductive material such as copper on an electrically insulating board, and refers to a board immediately before mounting electronic components. In other words, it refers to a circuit board in which the mounting position of each component is determined and circuit lines connecting the components are printed and fixed on the surface of the flat panel in order to densely mount many types of electronic components on a flat plate.

또한, 최근 전기, 전자산업 분야에 있어서, 각종 제품 및 부품의 소형화, 간략화, 고성능화 경향이 두드러지게 나타나고 있는데, 이러한 요구를 만족하기 위해서는 각종 전기, 전자 부품의 물성치를 변화시키지 않으면서 회로 기판상에 정밀하게 장착시키는 방법이 절대적으로 요구되고 있다.In addition, recent trends in the miniaturization, simplification, and high performance of various products and components in the field of electrical and electronic industries have been remarkably shown. A method of accurately mounting is absolutely required.

인쇄회로기판의 기판 재질로는 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리에테르아미드 필름 등이 주로 사용되는 바, 이는 이들 필름의 열적, 전기적, 기계적 특성이 매우 우수하기 때문이다.As the substrate material of the printed circuit board, polyamide, polyester, polyetheramide films, etc. are mainly used because these films have very excellent thermal, electrical and mechanical properties.

이러한 기재에 접착제를 도포하고, 구리나 알루미늄 등의 금속막을 접착시킨 다음, 스크린(screen)인쇄 또는 드라이필름 포토레지스터(dry film photoresister)를 사용하여 회로를 그리고, 도전성 금속막을 에칭한 후, 절연 및 회로 보호를 위하여 커버레이 필름을 입힘으로서 인쇄회로기판을 제작하게 된다.An adhesive is applied to such a substrate, a metal film such as copper or aluminum is adhered, a circuit is drawn using screen printing or dry film photoresist, and a conductive metal film is etched, followed by insulation and A printed circuit board is manufactured by applying a coverlay film to protect the circuit.

이러한 인쇄회로기판상에 콘덴서, 저항 등을 경박 단소화 시킨 적층 세라믹 칩 콘덴서(MLCC), 칩 저항기(Chip Register), 칩 탄탈 콘덴서 등과 같이 자동화 설비에 의해 표면실장이 가능한 SMD(Surface Mounting Devices)부품과 수삽(lead) 부품이 장착되게 된다.SMD (Surface Mounting Devices) parts that can be surface mounted by automated equipment such as multilayer ceramic chip capacitors (MLCC), chip registers, chip tantalum capacitors, etc., in which capacitors and resistors are light and thin on such a printed circuit board. and lead parts will be installed.

한편, 종래의 인쇄회로기판에 포함된 부품들은 전자파를 발생시키게 되고, 이러한 전자파는 인체에 해로울 뿐만 아니라, 인쇄회로기판 내에 배치된 다른 구성들의 동작 신뢰성에 문제를 야기시킨다.On the other hand, components included in the conventional printed circuit board generate electromagnetic waves, which are not only harmful to the human body, but also cause problems in the operational reliability of other components disposed in the printed circuit board.

이에 따라, 최근에는 인쇄회로기판의 외측에 구리나 니켈과 같은 금속을 코팅하여 전자파 차단층을 형성하는 기술을 제공하고 있다. 여기에서, 전자파 차단층은 1.5㎛ 정도의 두께를 가지고, 인쇄회로기판의 외측면을 둘러싸며 형성될 수 있다. 이때, 종래에는 상기와 같은 전자파 차단층을 스퍼터링과 같은 코팅 방법을 사용하여 형성하고 있다.Accordingly, in recent years, a technology for forming an electromagnetic wave shielding layer by coating a metal such as copper or nickel on the outside of a printed circuit board has been provided. Here, the electromagnetic wave blocking layer may have a thickness of about 1.5 μm and be formed to surround the outer surface of the printed circuit board. In this case, conventionally, the electromagnetic wave blocking layer as described above is formed using a coating method such as sputtering.

그러나, 상기와 같은 스퍼터링을 이용한 전자파 차단층 형성 공법은 증착 속도가 매우 느리고, 이에 따른 증착 시간이 많이 소요되는 문제가 있다. However, the method for forming the electromagnetic wave shielding layer using sputtering as described above has a problem in that the deposition rate is very slow, and thus the deposition time is long.

이에 따라, 보다 효율적인 전자파 차단층을 형성할 수 있는 공법이 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, there is a need for a method capable of forming a more efficient electromagnetic wave blocking layer.

실시 예에서는 도금 방식을 적용하여 전자파 차단을 위한 도금층을 형성하도록 한 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.The embodiment provides a printed circuit board and a method of manufacturing the same to form a plating layer for shielding electromagnetic waves by applying a plating method.

또한, 실시 예에서는 도금층을 이용하여 인쇄회로기판 내에 실장된 전자소자로부터 발생한 열을 효율적으로 방출할 수 있는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In addition, the embodiment provides a printed circuit board capable of efficiently dissipating heat generated from an electronic device mounted in the printed circuit board using a plating layer, and a method of manufacturing the same.

또한, 실시 예에서는 도금층 상에 표면 처리층을 추가로 형성하여, 인쇄회로기판의 사용 환경에서 발생할 수 있는 도금층의 산화 현상을 방지할 수 있는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In addition, in the embodiment, a printed circuit board capable of preventing oxidation of the plating layer that may occur in an environment in which the printed circuit board is used by additionally forming a surface treatment layer on the plating layer, and a method for manufacturing the same.

제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical tasks to be achieved in the proposed embodiment are not limited to the technical tasks mentioned above, and other technical tasks not mentioned are clear to those of ordinary skill in the art to which the proposed embodiment belongs from the description below. can be understood clearly.

실시 예의 인쇄회로기판은 복수의 절연층을 포함하고, 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층에 캐비티가 형성된 절연 기판; 상기 절연 기판의 상기 캐비티 내에 배치된 제1 전자 소자; 및 상기 절연 기판의 측면에 배치되는 도금층을 포함하고, 상기 절연 기판의 측면은, 상기 도금층이 배치되는 제1 부분과, 상기 도금층이 배치되지 않는 상기 제1 부분을 제외한 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 전자 소자와 상기 제1 부분 사이의 거리는, 상기 제1 전자 소자와 상기 제2 부분 사이의 거리보다 가깝다.The printed circuit board of the embodiment includes: an insulating substrate including a plurality of insulating layers, a cavity formed in at least one insulating layer of the plurality of insulating layers; a first electronic device disposed in the cavity of the insulating substrate; and a plating layer disposed on a side surface of the insulating substrate, wherein the side surface of the insulating substrate comprises a first portion on which the plating layer is disposed, and a second portion excluding the first portion on which the plating layer is not disposed, A distance between the first electronic device and the first portion is shorter than a distance between the first electronic device and the second portion.

또한, 상기 도금층은, 상기 절연 기판의 상기 측면의 제1 부분과, 상기 절연 기판의 상면에 배치되는 제1 도금층; 및 상기 제1 도금층 상에 배치되는 제2 도금층을 포함한다.The plating layer may include a first portion of the side surface of the insulating substrate and a first plating layer disposed on the upper surface of the insulating substrate; and a second plating layer disposed on the first plating layer.

또한, 상기 제1 도금층은, 상기 절연 기판의 측면의 상기 제1 부분에 형성되는 제1 영역과, 상기 절연 기판의 상면에 형성되는 제2 영역을 포함하고, 상기 제2 도금층은, 상기 제1 도금층의 상기 제1 영역 상에 배치된다.In addition, the first plating layer includes a first region formed on the first portion of a side surface of the insulating substrate and a second region formed on an upper surface of the insulating substrate, wherein the second plating layer includes the first region It is disposed on the first region of the plating layer.

또한, 상기 제1 도금층의 상기 제2 영역 상에 배치되는 마킹층을 포함한다.In addition, a marking layer disposed on the second region of the first plating layer is included.

또한, 상기 절연 기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함하고, 상기 절연 기판의 측면의 제2 부분은, 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역이다.In addition, the side surface of the insulating substrate includes a plurality of corner regions, and the second portion of the side surface of the insulating substrate is a corner region having the longest distance from the electronic device among the plurality of corner regions.

또한, 상기 절연 기판은, 상기 복수의 절연층 증 최상층 절연층 상에 배치되는 제2 전자 소자; 및 상기 최상층 절연층 상에 배치되고, 상기 제2 전자 소자를 몰딩하는 몰딩층을 포함하며, 상기 도금층은, 상기 복수의 절연층 및 상기 몰딩층의 측면의 제1 부분에 배치된다.In addition, the insulating substrate, a second electronic device disposed on the uppermost insulating layer of the plurality of insulating layers; and a molding layer disposed on the uppermost insulating layer and molding the second electronic device, wherein the plating layer is disposed on the plurality of insulating layers and a first portion of side surfaces of the molding layer.

한편, 인쇄회로기판의 제조 방법은 복수의 절연층을 포함하고 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층에 형성된 캐비티에 제1 전자 소자가 매립된 절연 기판을 제조하고, 상기 절연 기판을 관통하는 슬롯을 형성하고, 상기 슬롯 내에 도금을 진행하여 도금층을 형성하는 것을 포함하고, 상기 슬롯은, 상기 절연 기판 상에 개루프 형상을 가지며 적어도 하나의 브리지 영역을 포함하고, 상기 절연 기판의 측면은, 상기 슬롯이 형성되고, 상기 도금층이 배치되는 제1 부분과, 상기 브리지 영역에 대응되고, 상기 도금층이 배치되지 않는 상기 제1 부분을 제외한 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 전자 소자와 상기 제1 부분 사이의 거리는, 상기 제1 전자 소자와 상기 제2 부분 사이의 거리보다 가까우며, 상기 도금층은, 상기 절연 기판의 상기 측면의 제1 부분과, 상기 절연 기판의 상면에 배치되는 제1 도금층; 및 상기 제1 도금층 상에 배치되는 제2 도금층을 포함한다.On the other hand, the method of manufacturing a printed circuit board includes manufacturing an insulating substrate including a plurality of insulating layers, in which a first electronic device is embedded in a cavity formed in at least one insulating layer of the plurality of insulating layers, and passing through the insulating substrate. forming a slot and performing plating in the slot to form a plating layer, wherein the slot has an open loop shape on the insulating substrate and includes at least one bridge region, the side surface of the insulating substrate, a first portion in which the slot is formed and the plating layer is disposed; and a second portion corresponding to the bridge region and excluding the first portion in which the plating layer is not disposed, wherein the first electronic device and the first electronic device are provided. The distance between the first portions is closer than the distance between the first electronic device and the second portion, and the plating layer may include a first portion of the side surface of the insulating substrate and a first plating layer disposed on the upper surface of the insulating substrate; and a second plating layer disposed on the first plating layer.

또한, 상기 절연 기판을 제조하는 것은, 판넬 베이스로 절연 기판에 대응하는 유닛을 복수 개 제조하고, 상기 복수 개의 유닛의 각각에 상기 슬롯을 형성하는 것을 포함하고, 상기 브리지 영역은, 상기 판넬 베이스에서, 상기 복수의 유닛이 각각 분리되지 않도록 한다.In addition, manufacturing the insulating substrate includes manufacturing a plurality of units corresponding to the insulating substrate as a panel base, and forming the slot in each of the plurality of units, wherein the bridge region is formed from the panel base. , so that the plurality of units are not separated from each other.

또한, 상기 제1 도금층은, 상기 절연 기판의 측면의 상기 제1 부분에 형성되는 제1 영역과, 상기 절연 기판의 상면에 형성되는 제2 영역을 포함하고, 상기 제2 도금층은, 상기 제1 도금층의 상기 제1 영역 상에 배치되며, 상기 제1 도금층의 상기 제2 영역 상에 배치되는 마킹층을 형성하는 것을 포함한다.In addition, the first plating layer includes a first region formed on the first portion of a side surface of the insulating substrate and a second region formed on an upper surface of the insulating substrate, wherein the second plating layer includes the first region and forming a marking layer disposed on the first area of the plating layer and disposed on the second area of the first plating layer.

또한, 상기 절연 기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함하고, 상기 절연 기판의 측면의 제2 부분은, 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역이다.In addition, the side surface of the insulating substrate includes a plurality of corner regions, and the second portion of the side surface of the insulating substrate is a corner region having the longest distance from the electronic device among the plurality of corner regions.

실시 예에서는 상기 절연 기판의 외측에 형성되는 전자파 차폐층을 도금을 이용하여 형성하도록 하며, 이에 따라 형성되는 제1 도금층에 대한 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 절연 기판의 외측에 형성되는 제1 도금층(210)을 도금 공정을 통해 형성함으로써, 제1 도금층을 형성하기 위해 소요되는 시간을 단축할 수 있고, 이에 따른 제조 단가를 절감할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 전자파 차폐를 위한 차폐층을 도금으로 형성함에 따라 이에 의해 형성되는 제1 도금층(210)의 두께 제어가 용이하다.In an embodiment, the electromagnetic wave shielding layer formed on the outer side of the insulating substrate is formed using plating, thereby improving the reliability of the formed first plating layer. In addition, in the embodiment, by forming the first plating layer 210 formed on the outside of the insulating substrate through a plating process, it is possible to shorten the time required to form the first plating layer, thereby reducing the manufacturing cost. can In addition, in the embodiment, as the shielding layer for shielding electromagnetic waves is formed by plating, it is easy to control the thickness of the first plating layer 210 formed thereby.

또한, 실시 예에서는 절연 기판의 복수의 모서리 영역 중 어느 하나의 모서리 영역에 도금층이 형성되지 않는 브리지 영역을 형성한다. 즉, 인쇄회로기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함한다. 그리고, 상기 슬롯은 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 절연 기판 내에 매립된 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역을 제외한 나머지 영역에 형성될 수 있다. 이에 따르면, 실시 예에서는 상기와 같은 브리지 영역을 최소화할 수 있으며, 이에 따른 전자파 차폐 성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 브리지 영역은 상기 모서리 영역 중 전자 소자와 거리가 가장 먼 영역에 형성됨에 따라, 상기 브리지 영역에 의해 발생하는 전자파 차폐 성능 저하 및 방열 성능 저하 문제를 최소화할 수 있다.In addition, in the embodiment, a bridge region in which a plating layer is not formed is formed in any one of the plurality of edge regions of the insulating substrate. That is, the side surface of the printed circuit board includes a plurality of corner regions. In addition, the slot may be formed in a region other than a corner region having the longest distance from an electronic device buried in the insulating substrate among the plurality of corner regions. According to this, in the embodiment, it is possible to minimize the bridge area as described above, and accordingly, the electromagnetic wave shielding performance can be improved. In addition, since the bridge region is formed in a region furthest from an electronic device among the corner regions, it is possible to minimize the problems of electromagnetic wave shielding performance degradation and heat dissipation performance degradation caused by the bridge region.

도 1은 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 인쇄회로기판의 일부 구성을 제거한 평면도이다.
도 3 내지 도 21은 도 1의 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 도면이다.
도 22는 다른 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.
1 is a view showing a printed circuit board according to an embodiment.
FIG. 2 is a plan view in which a part of the printed circuit board of FIG. 1 is removed.
3 to 21 are views for explaining the manufacturing method of the printed circuit board of FIG. 1 in order of process.
22 is a view showing a printed circuit board according to another embodiment.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시 예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다.However, the technical spirit of the present invention is not limited to some of the described embodiments, but may be implemented in various different forms, and within the scope of the technical spirit of the present invention, one or more of the components may be selected between the embodiments. It can be used by combining or substituted with .

또한, 본 발명의 실시 예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.In addition, terms (including technical and scientific terms) used in the embodiments of the present invention may be generally understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, unless specifically defined and described. It may be interpreted as a meaning, and generally used terms such as terms defined in advance may be interpreted in consideration of the contextual meaning of the related art. In addition, the terms used in the embodiments of the present invention are for describing the embodiments and are not intended to limit the present invention.

본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, "A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한 개 이상)"로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나 이상을 포함 할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다.In this specification, the singular form may also include the plural form unless otherwise specified in the phrase, and when it is described as "at least one (or one or more) of A and (and) B, C", it is combined with A, B, C It can contain one or more of all possible combinations. In addition, in describing the components of the embodiment of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used.

이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다. 그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우 뿐만아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속'되는 경우도 포함할 수 있다.These terms are only for distinguishing the component from other components, and are not limited to the essence, order, or order of the component by the term. And, when it is described that a component is 'connected', 'coupled' or 'connected' to another component, the component is not only directly connected, coupled or connected to the other component, but also with the component It may also include a case of 'connected', 'coupled' or 'connected' due to another element between the other elements.

또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다. 또한, "상(위) 또는 하(아래)"으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In addition, when it is described as being formed or disposed on "above (above) or under (below)" of each component, top (above) or under (below) is one as well as when two components are in direct contact with each other. Also includes a case in which another component as described above is formed or disposed between two components. In addition, when expressed as "upper (upper) or lower (lower)", the meaning of not only an upper direction but also a lower direction based on one component may be included.

도 1은 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a printed circuit board according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 인쇄회로기판은 제1 절연부, 제2 절연부 및 제3 절연부를 포함할 수 있다. 제1 절연부는 중앙 절연층을 포함할 수 있고, 제2 절연부는 제1 절연부 위에 배치되는 상부 절연층을 포함할 수 있으며, 제3 절연부는 제1 절연부 아래에 배치되는 하부 절연층을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , a printed circuit board may include a first insulating part, a second insulating part, and a third insulating part. The first insulating part may include a central insulating layer, the second insulating part may include an upper insulating layer disposed over the first insulating part, and the third insulating part may include a lower insulating layer disposed below the first insulating part. can do.

또한, 실시 예에서, 중앙 절연층을 구성하는 제1 절연부는 단일 층으로 구성될 수 있고, 이와 다르게 복수의 층으로 구성될 수도 있다. 또한, 이와 마찬가지로, 제1 절연부의 상부에 배치된 제2 절연부 및 제1 절연부의 하부에 배치된 제2 절연부도 단일층으로 구성될 수 있고, 이와 다르게 복수의 층으로 구성될 수 있을 것이다.In addition, in an embodiment, the first insulating part constituting the central insulating layer may be composed of a single layer, or alternatively, may be composed of a plurality of layers. Also, similarly, the second insulating part disposed above the first insulating part and the second insulating part disposed below the first insulating part may also be configured as a single layer, or alternatively, may be configured as a plurality of layers.

제1 절연부는 전자 소자(300a, 300b)가 내부에 매립되는 절연층을 포함한다. 이를 위해, 제1 절연부는 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 포함할 수 있다. 그리고, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)에는 전자소자(300)가 배치되는 캐비티(C)가 형성될 수 있다. 이때, 제1 절연부는 코어 절연부라고도 할 수 있으며, 이에 따라 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 코어 절연층이라 할 수 있다. 다만, 실시 예는 이에 한정되지 않으며, 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 코어리스 절연층일 수도 있을 것이다. 또한, 전자 소자(300a, 300b)가 매립된 제1 절연층부가 제1 절연층(110)과 제2 절연층(125) 내에 배치되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않으며, 제1 절연부는 단일층으로 구성될 수 있을 것이다.The first insulating part includes an insulating layer in which the electronic devices 300a and 300b are buried. To this end, the first insulating part may include a first insulating layer 110 and a second insulating layer 125 . In addition, a cavity C in which the electronic device 300 is disposed may be formed in the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 . In this case, the first insulating part may be referred to as a core insulating part, and accordingly, the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 may be referred to as a core insulating layer. However, the embodiment is not limited thereto, and the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 may be a coreless insulating layer. In addition, although it is illustrated that the first insulating layer part in which the electronic devices 300a and 300b are buried is disposed in the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 , the present invention is not limited thereto, and the first insulating part has a single layer. may be composed of

제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 배선을 변경할 수 있는 전기 회로가 편성되어 있는 기판으로, 표면에 적어도 하나의 회로 패턴을 형성할 수 있는 절연 재료로 만들어진 프린트, 배선판, 절연 기판을 모두 포함할 수 있다. The first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 are substrates on which electric circuits capable of changing wiring are formed, and printed, wiring boards, and printed circuit boards made of an insulating material capable of forming at least one circuit pattern on the surface; All insulating substrates may be included.

제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.The first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 may include glass or plastic. In detail, the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 may include chemically strengthened/semi-tempered glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or polyimide (PI). ), polyethylene terephthalate (PET), propylene glycol (PPG), reinforced or soft plastic such as polycarbonate (PC), or may include sapphire.

이때, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)의 표면에는 복수의 회로 패턴이 배치될 수 있다.In this case, a plurality of circuit patterns may be disposed on the surfaces of the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 .

제1 절연층(110)의 하부에는 제1 회로 패턴(105)이 매립될 수 있다. 제1 절연층(110)의 상면 위에는 제2 회로 패턴(120)이 배치될 수 있다. 또한, 제2 절연층(125)의 상면 위에는 제3 회로 패턴(135)이 배치될 수 있다. 이때, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 하나의 절연층으로 보았을 때, 하부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 내에 매립되어 배치되고, 상부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 상에 돌출되어 배치된다. 즉, 실시 예에서는 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립될 수 있도록 한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치되는 절연층(추후 설명, 150)의 두께를 상기 제1 회로 패턴(105)의 두께만큼 줄일 수 있도록 한다.즉, 절연층은 기본적으로 회로 패턴을 덮으면서 배치되기 때문에 상기 회로 패턴의 두께가 기본 옵셋 두께로 결정된다. 반면, 실시 예에서는 상기 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110) 하부에 매립 배치됨에 따라, 추후 상기 제1 절연층(110) 아래에 적층될 절연층의 두께를 종래 대비 12~18㎛ 정도 감소시킬 수 있다.A first circuit pattern 105 may be buried under the first insulating layer 110 . A second circuit pattern 120 may be disposed on the upper surface of the first insulating layer 110 . In addition, a third circuit pattern 135 may be disposed on the upper surface of the second insulating layer 125 . At this time, when the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 are viewed as one insulating layer, the lower circuit pattern is buried in the insulating layer, and the upper circuit pattern is the insulating layer. It protrudes and is placed on the top. That is, in the embodiment, the first circuit pattern 105 may be buried under the first insulating layer 110 . Accordingly, in the embodiment, the thickness of the insulating layer (to be described later, 150) disposed under the first insulating layer 110 can be reduced by the thickness of the first circuit pattern 105. That is, the insulating layer is Since the circuit pattern is basically disposed while covering the circuit pattern, the thickness of the circuit pattern is determined as the basic offset thickness. On the other hand, in the embodiment, as the first circuit pattern 105 is buried under the first insulating layer 110 , the thickness of the insulating layer to be subsequently laminated under the first insulating layer 110 is 12 compared to the conventional one. It can be reduced by ~18㎛.

또한, 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 전기적 신호를 전달하는 배선으로, 전기 전도성이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu) 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질로 형성될 수 있다. 또한 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 본딩력이 우수한 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu), 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질을 포함하는 페이스트 또는 솔더 페이스트로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 전기전도성이 높으면서 가격이 비교적 저렴한 구리(Cu)로 형성될 수 있다. In addition, the first circuit pattern 105 , the second circuit pattern 120 , and the third circuit pattern 135 are wirings that transmit electrical signals, and may be formed of a metal material having high electrical conductivity. To this end, the first circuit pattern 105, the second circuit pattern 120, and the third circuit pattern 135 are gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin ( Sn), copper (Cu), and zinc (Zn) may be formed of at least one metal material. In addition, the first circuit pattern 105 , the second circuit pattern 120 , and the third circuit pattern 135 have excellent bonding strength of gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), and tin. It may be formed of a paste or solder paste including at least one metal material selected from (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn). Preferably, the first circuit pattern 105 , the second circuit pattern 120 , and the third circuit pattern 135 may be formed of copper (Cu), which has high electrical conductivity and is relatively inexpensive.

제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 통상적인 인쇄회로기판의 제조 공정인 어디티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 및 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 가능하며 여기에서는 상세한 설명은 생략한다. The first circuit pattern 105 , the second circuit pattern 120 , and the third circuit pattern 135 may include an additive process, a subtractive process, and a conventional printed circuit board manufacturing process. Modified Semi Additive Process (MSAP) and Semi Additive Process (SAP) methods can be used, and detailed descriptions are omitted here.

제1 절연층(110) 내에는 제1 비아(115)가 형성된다. 그리고, 제2 절연층(125) 내에는 제2 비아(130)가 형성된다. 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 서로 다른 층에 배치된 회로 패턴을 상호 전기적으로 연결한다. 제1 비아(115)는 제1 회로 패턴(105)과 제2 회로 패턴(120)을 전기적으로 연결할 수 있다. 또한, 제2 비아(130)는 제2 회로 패턴(120)과 제3 회로 패턴(135)을 전기적으로 연결할 수 있다.A first via 115 is formed in the first insulating layer 110 . In addition, a second via 130 is formed in the second insulating layer 125 . The first via 115 and the second via 130 electrically connect circuit patterns disposed on different layers to each other. The first via 115 may electrically connect the first circuit pattern 105 and the second circuit pattern 120 . Also, the second via 130 may electrically connect the second circuit pattern 120 and the third circuit pattern 135 .

제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125) 중 어느 하나의 절연층만을 관통할 수 있으며, 이와 다르게 상기 복수의 절연층 중 적어도 2개의 절연층을 공통으로 관통하며 형성될 수도 있다. 이에 따라, 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 서로 다른 절연층의 표면에 배치되어 있는 회로 패턴을 상호 전기적으로 연결한다.The first via 115 and the second via 130 may penetrate only one insulating layer of the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 , and differently, at least one of the plurality of insulating layers. It may be formed while passing through the two insulating layers in common. Accordingly, the first via 115 and the second via 130 electrically connect circuit patterns disposed on surfaces of different insulating layers to each other.

제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125) 중 적어도 하나의 절연층을 관통하는 관통 홀(도시하지 않음) 내부를 전도성 물질로 충진하여 형성할 수 있다.The first via 115 and the second via 130 are formed of a conductive material inside a through hole (not shown) penetrating at least one of the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 . It can be formed by filling.

상기 관통 홀은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 CO2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층을 개방할 수 있다.The through hole may be formed by any one of machining methods, including mechanical, laser, and chemical machining. When the through hole is formed by machining, methods such as milling, drilling, and routing can be used, and when formed by laser processing, UV or CO 2 laser method is used. In the case of being formed by chemical processing, at least one insulating layer among the plurality of insulating layers may be opened by using a chemical containing aminosilane, ketones, or the like.

한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있고, 다른 방법으로는 절단하기 어려운 복합 재료도 가공할 수 있다. On the other hand, the processing by the laser is a cutting method that takes a desired shape by concentrating optical energy on the surface to melt and evaporate a part of the material. Complex formation by a computer program can be easily processed. Even difficult composite materials can be machined.

또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다.In addition, the processing by the laser can have a cutting diameter of at least 0.005 mm, and has a wide advantage in a range of possible thicknesses.

상기 레이저 가공 드릴로, YAG(Yttrium Aluminum Garnet)레이저나 CO2 레이저나 자외선(UV) 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. YAG 레이저는 동박층 및 절연층 모두를 가공할 수 있는 레이저이고, CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이다.As the laser processing drill, it is preferable to use a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, a CO 2 laser, or an ultraviolet (UV) laser. The YAG laser is a laser that can process both the copper foil layer and the insulating layer, and the CO 2 laser is a laser that can process only the insulating layer.

상기 관통 홀이 형성되면, 상기 관통 홀 내부를 전도성 물질로 충진하여 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)를 형성할 수 있다. 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)를 형성하는 금속 물질은 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 전도성 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.When the through hole is formed, the first via 115 and the second via 130 may be formed by filling the inside of the through hole with a conductive material. The metal material forming the first via 115 and the second via 130 is selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd). The conductive material filling may be any one of electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing, or any one of them. Combination methods may be used.

제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)에 공통으로 형성된 캐비티(C)에는 전자소자(300a, 300b)가 내장될 수 있다. 즉, 캐비티(C) 내에는 상호 일정 간격 이격되며 제1 전자 소자(300a) 및 제2 전자 소자(300b)가 내장될 수 있다. 이때, 도면 상에는, 캐비티(C) 내에 2개의 제1 전자 소자(300a) 및 제2 전자 소자(300b)가 내장되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 캐비티(C) 내에 내장되는 전자 소자의 수는 도 1 대비, 감소할 수 있고, 이와 다르게 증가할 수도 있을 것이다.Electronic devices 300a and 300b may be embedded in the cavity C formed in common in the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 . That is, the first electronic device 300a and the second electronic device 300b may be embedded within the cavity C at a predetermined distance from each other. At this time, although it is illustrated that the two first electronic elements 300a and the second electronic elements 300b are built in the cavity C in the drawing, the present invention is not limited thereto. For example, the number of electronic devices embedded in the cavity C may decrease or increase differently compared to FIG. 1 .

상기 전자소자(300a, 300b)는 칩과 같은 전자 부품일 수 있으며, 이는 능동 소자와 수동 소자로 구분될 수 있다. 그리고, 상기 능동 소자는 비선형 부분을 적극적으로 이용한 소자이고, 수동 소자는 선형 및 비선형 특성이 모두 존재하여도 비선형 특성은 이용하지 않는 소자를 의미한다. 그리고, 상기 수동 소자에는 트랜지스터, IC 반도체 칩 등이 포함될 수 있으며, 상기 수동 소자에는 콘덴서, 저항 및 인덕터 등을 포함할 수 있다. 상기 수동 소자는 능동 소자인 반도체 칩의 신호 처리 속도를 높이거나, 필터링 기능 등을 수행하기 위해, 통상의 인쇄회로기판에 실장된다.The electronic devices 300a and 300b may be electronic components such as chips, which may be divided into active devices and passive devices. In addition, the active element is an element that actively uses a non-linear portion, and the passive element refers to an element that does not use the non-linear characteristic even though both linear and non-linear characteristics exist. In addition, the passive element may include a transistor, an IC semiconductor chip, and the like, and the passive element may include a capacitor, a resistor, an inductor, and the like. The passive element is mounted on a general printed circuit board to increase a signal processing speed of a semiconductor chip, which is an active element, or to perform a filtering function.

상기 전자소자(300a, 300b)는 인쇄회로기판이 적용되는 어플리케이션에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들어, 스마트폰에 적용되는 낸드 플래쉬(nand flash) 메모리 제품에 적용될 경우, 전자소자(300a, 300b)는 제어소자 부품일 수 있다.The electronic devices 300a and 300b may vary depending on the application to which the printed circuit board is applied. For example, when applied to a NAND flash memory product applied to a smart phone, the electronic devices 300a and 300b) may be a control element component.

전자소자(300a, 300b)의 하면에는 각각 단자(310a, 310b)가 형성될 수 있다. 이때, 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 절연층(110)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 회로 패턴(105)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 한편, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 바람직하게, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 배치될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께와 동일할 수 있으며, 신뢰성 향상을 위해 상기 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 큰 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 10㎛ 정도 큰 두께를 가질 수 있다. 따라서, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 위치할 수 있다. 또한, 캐비티(C)의 폭은 전자소자(300a, 300b)의 안정적인 배치를 위해, 전자소자(300a, 300b)가 가지는 총 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다.Terminals 310a and 310b may be formed on lower surfaces of the electronic devices 300a and 300b, respectively. In this case, the lower surfaces of the terminals 310a and 310b may be disposed on the same plane as the lower surface of the first insulating layer 110 . A lower surface of the terminals 310a and 310b may be disposed on the same plane as a lower surface of the first circuit pattern 105 . Meanwhile, top surfaces of the electronic devices 300a and 300b may be disposed on the same plane as the top surface of the second insulating layer 125 . Preferably, upper surfaces of the electronic devices 300a and 300b may be disposed lower than the upper surfaces of the second insulating layer 125 . That is, the cavity C may be the same as the thickness of the electronic devices 300a and 300b, and may have a thickness greater than the thickness of the electronic devices 300a and 300b to improve reliability. Preferably, the cavity C may have a thickness greater than the thickness of the electronic devices 300a and 300b by about 10 μm. Accordingly, upper surfaces of the electronic devices 300a and 300b may be positioned lower than the upper surfaces of the second insulating layer 125 . In addition, the width of the cavity C may be greater than the total width of the electronic devices 300a and 300b for stable arrangement of the electronic devices 300a and 300b.

여기에서, 상기 제1 절연부는 종래의 일반적인 임베디드 기판에서의 구조와 비교하여, 제1 회로 패턴(105)이 제1 절연층(110)의 하면으로 돌출된 구조가 아닌, 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립된 구조를 가지도록 한다. 이는, 일반적인 인쇄회로기판의 제조 공정이 아닌 실시 예에서의 차별화된 제조 공정에 의해 달성될 수 있다. 이에 대해서는 하기에서 더욱 상세히 설명하기로 한다.Here, the first insulating part is not a structure in which the first circuit pattern 105 protrudes to the lower surface of the first insulating layer 110, but the first insulating layer ( 110) to have a buried structure in the lower part. This may be achieved by a differentiated manufacturing process in the embodiment rather than a general printed circuit board manufacturing process. This will be described in more detail below.

실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 전자소자가 배치되는 캐비티가 형성된 제1 절연부를 포함한다. 그리고, 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치되도록 한다. 이에 따르면, 상기 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치됨에 따라 종래 대비 회로 패턴의 두께만큼 인쇄회로기판의 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 절연부는 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그를 사용하기 때문에 얇은 기판 제작시에 발생하는 패널 깨짐이나 휨 발생을 최소화할 수 있다.According to an embodiment, the printed circuit board includes a first insulating part in which a cavity in which an electronic device is disposed is formed. Then, the circuit pattern or the pad is buried in the first insulating portion to be disposed. Accordingly, as the circuit pattern or pad is buried in the first insulating part and disposed, the thickness of the printed circuit board can be reduced by the thickness of the circuit pattern compared to the related art, and design freedom can be improved. In addition, since the first insulating part uses a prepreg including glass fiber, it is possible to minimize the occurrence of panel cracking or warping that occurs when a thin substrate is manufactured.

제1 절연부 상에는 제2 절연부가 배치되고, 제1 절연부 아래에는 제3 절연부가 배치될 수 있다. 이때, 일 실시 예에서의 제2 절연부는 단일 절연층으로 구성될 수 있고, 제3 절연부는 복수 개의 절연층으로 구성될 수 있다. A second insulating part may be disposed on the first insulating part, and a third insulating part may be disposed below the first insulating part. In this case, in an embodiment, the second insulating part may be composed of a single insulating layer, and the third insulating part may be composed of a plurality of insulating layers.

이때, 제2 절연부를 구성하는 절연층과, 제3 절연부를 구성하는 일부 절연층, 그리고 제1 절연부를 구성하는 절연층은 모두 다른 절연물질로 구성될 수 있다. 즉, 상기와 같이 제1 절연부의 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 유리 섬유를 포함하는 프리프레그로 형성될 수 있다.In this case, the insulating layer constituting the second insulating part, the partial insulating layer constituting the third insulating part, and the insulating layer constituting the first insulating part may all be made of different insulating materials. That is, as described above, the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 of the first insulating part may be formed of a prepreg including glass fibers.

이와 다르게, 제2 절연부를 구성하는 제3 절연층(140)은 RCC(Resin Coated Cu)로 구성될 수 있다. 이때, 제3 절연층(140)은 제2 절연층(125) 상에 배치되면서, 상기 제2 절연층(125) 및 제1 절연층(110)에 형성된 캐비티(C) 내에도 배치된다. 즉, 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 채우면서, 상기 제2 절연층(125) 상에 일정 두께를 가지고 배치될 수 있다. Alternatively, the third insulating layer 140 constituting the second insulating part may be made of resin coated Cu (RCC). In this case, the third insulating layer 140 is disposed on the second insulating layer 125 and also in the cavity C formed in the second insulating layer 125 and the first insulating layer 110 . That is, the third insulating layer 140 may be disposed on the second insulating layer 125 to have a predetermined thickness while filling the cavity (C).

여기에서, 상기 제3 절연층(140)이 상기 캐비티(C)를 채우면서, 상기 제2 절연층(125)에 배치된다는 의미는, 상기 제1 절연부를 중심으로, 하부에 배치된 제3 절연부보다 상기 제2 절연부가 먼저 적층되었음을 의미한다. Here, the meaning that the third insulating layer 140 is disposed on the second insulating layer 125 while filling the cavity C means that the third insulating layer is disposed below the first insulating part as the center. It means that the second insulating part is laminated before the part.

다시 말해서, 상기 캐비티(C) 내의 절연물질의 적층은, 상기 제2 절연부가 위치한 방향에서 이루어졌음을 의미한다.In other words, the stacking of the insulating material in the cavity C means that the second insulating part is positioned in a direction.

제3 절연층(140)의 상면에는 제4 회로 패턴(145)이 배치될 수 있다. 또한, 제3 절연층(140)에는 상기 제3 절연층(140)을 관통하면서 제3 비아가 배치될 수 있다. 제3 비아는 제2 절연층(125) 상에 배치된 제3 회로 패턴(135)과 상기 제3 절연층(140) 상에 배치된 제4 회로 패턴(145)을 전기적으로 연결할 수 있다.A fourth circuit pattern 145 may be disposed on the upper surface of the third insulating layer 140 . Also, a third via may be disposed on the third insulating layer 140 while passing through the third insulating layer 140 . The third via may electrically connect the third circuit pattern 135 disposed on the second insulating layer 125 and the fourth circuit pattern 145 disposed on the third insulating layer 140 .

또한, 상기 제3 절연층(140) 상에는 제1 외부 절연층(170)이 배치될 수 있다. In addition, a first external insulating layer 170 may be disposed on the third insulating layer 140 .

한편, 제1 절연부 아래에는 제3 절연부가 배치된다. 제3 절연부는 제2 절연부와는 다르게 복수의 절연층 구조를 가진다. 이에 따라, 실시 예에서는 전자소자(300a, 300b)가 배치되는 제1 절연부를 중심으로 대칭 구조를 가질 수 있고, 이와 다르게 비대칭 구조를 가질 수도 있다.Meanwhile, a third insulating part is disposed under the first insulating part. The third insulating part has a structure of a plurality of insulating layers differently from the second insulating part. Accordingly, in the embodiment, the electronic device 300a, 300b may have a symmetrical structure with respect to the first insulating portion disposed thereon, or may have an asymmetrical structure differently.

제3 절연부는 제1 절연층(110) 아래에 배치된 제4 절연층(150)과, 제4 절연층(150) 아래에 배치된 제2 외부 절연층(170)을 포함할 수 있다. The third insulating part may include a fourth insulating layer 150 disposed under the first insulating layer 110 and a second external insulating layer 170 disposed under the fourth insulating layer 150 .

이때, 상기 제4 절연층(150) 및 제2 외부 절연층(170)은 서로 동일한 절연물질로 형성될 수 있고, 이와 다르게 서로 다른 절연 물질로 형성될 수 있다.In this case, the fourth insulating layer 150 and the second external insulating layer 170 may be formed of the same insulating material, or may be formed of different insulating materials.

바람직하게, 제4 절연층(150)은 상기 제2 외부 절연층(170)과는 다른 절연물질로 형성될 수 있다. Preferably, the fourth insulating layer 150 may be formed of an insulating material different from that of the second external insulating layer 170 .

제2 외부 절연층(170)은 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)가 동일한 절연 물질로 형성될 수 있다. The second external insulating layer 170 may be formed of the same insulating material as the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 .

상기 제2 외부 절연층(170)은 유리 섬유 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제2 외부 절연층(170)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.The second outer insulating layer 170 may include glass fiber or plastic. In detail, the second external insulating layer 170 includes chemically strengthened/semi-tempered glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or includes polyimide (PI), polyethylene terephthalate (polyethylene), etc. Reinforced or soft plastic such as terephthalate, PET), propylene glycol (PPG), polycarbonate (PC), or the like, or sapphire may be included.

그리고, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 레진으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 프리프레그로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 ABF(Aginomoto Build-up Film) 또는 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric)로 형성될 수 있다.In addition, the fourth insulating layer 150 may be formed of a film-type resin. Preferably, the fourth insulating layer 150 may be formed of a film-type prepreg. Preferably, the fourth insulating layer 150 may be formed of Aginomoto Build-up Film (ABF) or Photo Imagable Dielectric (PID), which is a photosensitive insulating material.

제4 절연층(150)은 일정 두께를 가지고 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치된다. 이때, 제1 절연층(110)에는 하면을 통해 돌출된 회로 패턴이 존재하지 않는다. 즉, 제1 회로 패턴(105)은 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립되어 형성된다. 따라서, 상기 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성할 수 있다. 즉, 일반적인 절연층은 회로 패턴을 덮으면서 안정적인 층간 절연을 위해 배치되며, 이를 위해 회로 패턴의 두께를 기준으로 최종 두께가 결정될 수 있다. 예를 들어, 제3 절연층(140)의 경우, 상기 제2 절연층(125) 상에 배치된 제3 회로 패턴(135)의 두께를 고려하여 두께가 결정되어야 한다. 즉, 제3 회로 패턴(135)의 두께가 12㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 20㎛일 수 있다. 또한, 제3 절연층(140)의 두께가 10㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 15㎛일 수 있다. 반면, 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성될 수 있으며, 이에 따라 10㎛ 정도의 얇은 두께로도 형성이 가능하다.The fourth insulating layer 150 has a predetermined thickness and is disposed under the first insulating layer 110 . In this case, the circuit pattern protruding through the lower surface does not exist in the first insulating layer 110 . That is, the first circuit pattern 105 is formed to be buried under the first insulating layer 110 . Accordingly, the fourth insulating layer 150 may be formed without considering the thickness of the circuit pattern. That is, the general insulating layer is disposed for stable interlayer insulation while covering the circuit pattern, and for this, the final thickness may be determined based on the thickness of the circuit pattern. For example, in the case of the third insulating layer 140 , the thickness should be determined in consideration of the thickness of the third circuit pattern 135 disposed on the second insulating layer 125 . That is, when the thickness of the third circuit pattern 135 is 12 μm, the thickness of the third insulating layer 140 may be 20 μm. Also, when the thickness of the third insulating layer 140 is 10 μm, the thickness of the third insulating layer 140 may be 15 μm. On the other hand, the fourth insulating layer 150 may be formed without considering the thickness of the circuit pattern, and accordingly, it may be formed even with a thin thickness of about 10 μm.

즉, 제4 절연층(150)의 두께는 제1 절연층(110), 제2 절연층(125), 제3 절연층(140), 제1 외부 절연층(170), 제2 외부 절연층(170)이 가지는 각각이 두께보다 작다.That is, the thickness of the fourth insulating layer 150 is the first insulating layer 110 , the second insulating layer 125 , the third insulating layer 140 , the first external insulating layer 170 , and the second external insulating layer. Each of the branches of 170 is smaller than the thickness.

제4 절연층(150)의 하면에는 제5 회로 패턴(160)이 배치될 수 있다. 또한, 제4 절연층(150) 내에는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 포함할 수 있다. A fifth circuit pattern 160 may be disposed on a lower surface of the fourth insulating layer 150 . In addition, a fourth via 155a and a fifth via 155b may be included in the fourth insulating layer 150 .

이때, 제4 절연층(150)의 하면에 형성된 제5 회로 패턴(160)은 다른 회로 패턴과는 다른 선폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 작은 선폭을 가질 수 있다. 또한, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 피치가 작을 수 있다. 이는, 상기 제5 절연층(165)이 가지는 물성에 의해 달성될 수 있다. In this case, the fifth circuit pattern 160 formed on the lower surface of the fourth insulating layer 150 may have a line width different from that of other circuit patterns. Preferably, the fifth circuit pattern 160 may have a line width smaller than that of circuit patterns disposed on other layers. Also, the fifth circuit pattern 160 may have a smaller pitch than circuit patterns disposed on other layers. This may be achieved by the physical properties of the fifth insulating layer 165 .

한편, 제4 절연층(150)에는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)가 형성된다. 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결되는 비아이고, 제5 절연층(165)는 제1 회로 패턴(105)과 연결되는 비아이다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 수직 방향으로 전자소자(300a, 300b)와 오버랩될 수 있고, 제5 비아(155b)는 수직 방향으로 전자소자(300)와 오버랩되지 않을 수 있다. 그리고, 제4비아(155a) 및 제5 비아(155b)는 서로 다른 폭을 가질 수 있다. 즉, 제4 절연층(150)에 형성되는 비아의 폭은 다른 층에 형성되는 비아보다 작게 형성될 수 있다. 이때, 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 스몰 비아로 형성하는 경우, 다른 층에 배치된 비아와의 정렬에 문제가 발생할 수 있다. 이와 다르게 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 다른 층에 배치되는 비아와 동일 폭으로 형성하는 경우, 상기 전자소자(300)의 단자(310a, 310b)와 연결되는 비아에서의 신뢰성이 떨어질 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 동일 층 내에 배치되는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 각각의 기능에 따라 서로 다른 폭으로 형성하도록 한다. 즉, 제5 비아(155b)는 다른 층의 비아들과 연결됨에 따라, 상기 다른 층의 비아들과 동일한 폭을 가지도록 할 수 있다. 이에 따라, 제5 비아(155b)는 최소 폭이 40㎛을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 비아(155b)는 40㎛ 내지 100㎛ 사이의 폭을 가질 수 있다.Meanwhile, a fourth via 155a and a fifth via 155b are formed in the fourth insulating layer 150 . The fourth via 155a is a via directly connected to the terminals 310a and 310b of the electronic devices 300a and 300b , and the fifth insulating layer 165 is a via connected to the first circuit pattern 105 . Preferably, the fourth via 155a may overlap the electronic devices 300a and 300b in the vertical direction, and the fifth via 155b may not overlap the electronic device 300 in the vertical direction. In addition, the fourth via 155a and the fifth via 155b may have different widths. That is, the width of the via formed in the fourth insulating layer 150 may be smaller than that of the via formed in other layers. In this case, when all vias disposed in the fourth insulating layer 150 are formed as small vias, a problem may occur in alignment with vias disposed in other layers. On the other hand, when all the vias disposed on the fourth insulating layer 150 are formed to have the same width as the vias disposed on other layers, reliability of the vias connected to the terminals 310a and 310b of the electronic device 300 . This can fall. Accordingly, in the embodiment, the fourth via 155a and the fifth via 155b disposed in the same layer are formed to have different widths according to their respective functions. That is, as the fifth via 155b is connected to the vias of another layer, the fifth via 155b may have the same width as the vias of the other layer. Accordingly, the fifth via 155b may have a minimum width of 40 μm. Preferably, the fifth via 155b may have a width between 40 μm and 100 μm.

한편, 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결됨에 따라 스몰 비아로 형성되도록 한다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 제5 비아(155b)보다 작은 폭을 가지도록 한다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 10㎛ 내지 35㎛의 폭을 가질 수 있다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 20㎛ 내지 25㎛의 폭을 가질 수 있다. Meanwhile, as the fourth via 155a is directly connected to the terminals 310a and 310b of the electronic devices 300a and 300b, it is formed as a small via. Preferably, the fourth via 155a has a smaller width than the fifth via 155b. For example, the fourth via 155a may have a width of 10 μm to 35 μm. For example, the fourth via 155a may have a width of 20 μm to 25 μm.

한편, 제3 절연부를 구성하는 제2 외부 절연층(170) 상에는 보호층(190)이 배치될 수 있다. Meanwhile, a protective layer 190 may be disposed on the second external insulating layer 170 constituting the third insulating part.

보호층(190)은 SR(Solder Resist), 산화물 및 Au 중 어느 하나 이상을 이용하여, 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다.The protective layer 190 may be formed of at least one layer using any one or more of Solder Resist (SR), oxide, and Au.

상기 보호층(190)은 제2 외부 절연층(170)의 하면을 보호하면서, 상기 제2 외부 절연층(170)의 하면에 배치된 회로 패턴을 노출하는 개구부를 가질 수 있다. 그리고, 상기 개구부에는 솔더 볼 등과 같은 접착 부재(미도시)가 배치될 수 있으며, 이에 따라 패키지 형태로 전자 제품(예를 들어, 휴대용 단말기)에 부착될 수 있다. The protective layer 190 may have an opening exposing the circuit pattern disposed on the lower surface of the second external insulating layer 170 while protecting the lower surface of the second external insulating layer 170 . In addition, an adhesive member (not shown) such as a solder ball may be disposed in the opening, and thus may be attached to an electronic product (eg, a portable terminal) in the form of a package.

한편, 실시 예에서의 제2 절연부를 구성하는 제1 외부 절연층(170) 상에는 보호층이 배치되지 않을 수 있다. 다만, 실시 예에서의 제1 외부 절연층(170) 상에는 전자파 차폐를 위한 차폐층이 배치될 수 있다. Meanwhile, a protective layer may not be disposed on the first external insulating layer 170 constituting the second insulating part in the embodiment. However, a shielding layer for electromagnetic wave shielding may be disposed on the first external insulating layer 170 in the embodiment.

실시 예에서의 차폐층은 도금층과 코팅층을 포함할 수 있다. 인쇄층은, 솔더 레지스트 코팅층일 수 있다. In an embodiment, the shielding layer may include a plating layer and a coating layer. The printed layer may be a solder resist coating layer.

이하에서는 상기와 같은 제1 절연부, 제2 절연부 및 제3 절연부으로 구성된 전체 절연층 적층 구조를 하나의 절연 기판이라고 하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the entire insulating layer stacked structure including the first insulating part, the second insulating part, and the third insulating part as described above will be described as one insulating substrate.

즉, 실시 예에서의 절연 기판은, 복수의 절연층의 적층 구조로 이루어지며, 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층에는 캐비티가 형성되고, 상기 형성된 캐비티 내에는 전자 소자(300a,300b)가 배치될 수 있다.That is, the insulating substrate in the embodiment has a stacked structure of a plurality of insulating layers, a cavity is formed in at least one insulating layer of the plurality of insulating layers, and the electronic devices 300a and 300b are formed in the cavity. can be placed.

그리고, 실시 예에서서의 인쇄회로기판은 절연 기판의 상면 및 외측면에 배치되는 도금층을 포함한다.And, the printed circuit board in the embodiment includes a plating layer disposed on the upper surface and the outer surface of the insulating substrate.

구체적으로, 인쇄회로기판은 절연 기판의 상면 및 외측면에 배치되는 제1 도금층(210)을 포함한다. 상기 제1 도금층(210)은 구리를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 상기 제1 도금층(210)은 상기 절연 기판의 상면 및 외측면에 대해, 전해 도금 또는 무전해 도금을 진행하여 형성된 도금층일 수 있다. 제1 도금층(210)은 1㎛ 내지 12㎛ 사이의 범위의 두께를 가지고, 상기 절연 기판의 측면 및 상면에 각각 배치될 수 있다. 따라서, 상기 절연 기판을 구성하는 모든 절연층의 외측면에는 상기 제1 도금층(210)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 절연기판을 구성하는 절연층 중 최상측에 배치된 절연층(도1에서의 제1 외부 절연층(170))의 상면에도 상기 제1 도금층(210)이 배치될 수 있다.Specifically, the printed circuit board includes the first plating layer 210 disposed on the upper surface and the outer surface of the insulating substrate. The first plating layer 210 may include copper, but is not limited thereto. The first plating layer 210 may be a plating layer formed by performing electrolytic plating or electroless plating on the upper and outer surfaces of the insulating substrate. The first plating layer 210 may have a thickness in the range of 1 μm to 12 μm, and may be respectively disposed on the side surface and the top surface of the insulating substrate. Accordingly, the first plating layer 210 may be formed on outer surfaces of all insulating layers constituting the insulating substrate. In addition, the first plating layer 210 may also be disposed on the upper surface of the uppermost insulating layer (the first external insulating layer 170 in FIG. 1 ) among the insulating layers constituting the insulating substrate.

상기 제1 도금층(210)은 상기 절연 기판 내에 배치된 전자 소자(300a,300b)로부터 발생되는 전자파를 차폐하는 차폐층일 수 있다. The first plating layer 210 may be a shielding layer that shields electromagnetic waves generated from the electronic devices 300a and 300b disposed in the insulating substrate.

실시 예에서는 상기 절연 기판의 외측에 형성되는 전자파 차폐층을 도금을 이용하여 형성하도록 하며, 이에 따라 형성되는 제1 도금층(210)에 대한 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 절연 기판의 외측에 형성되는 제1 도금층(210)을 도금 공정을 통해 형성함으로써, 제1 도금층(210)을 형성하기 위해 소요되는 시간을 단축할 수 있고, 이에 따른 제조 단가를 절감할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 전자파 차폐를 위한 차폐층을 도금으로 형성함에 따라 이에 의해 형성되는 제1 도금층(210)의 두께 제어가 용이하다.In an embodiment, the electromagnetic wave shielding layer formed on the outer side of the insulating substrate is formed using plating, and thus, reliability of the formed first plating layer 210 can be improved. In addition, in the embodiment, by forming the first plating layer 210 formed on the outside of the insulating substrate through a plating process, the time required to form the first plating layer 210 can be shortened, and thus the manufacturing cost can save In addition, in the embodiment, as the shielding layer for shielding electromagnetic waves is formed by plating, it is easy to control the thickness of the first plating layer 210 formed thereby.

한편, 실시 예에서는 상기 제1 도금층(210) 상에 배치되는 제2 도금층(220)을 포함한다. 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210)의 산화 등과 같은 신뢰성 문제를 방지하기 위한 표면 처리층일 수 있다. 상기 제2 도금층(220)은 단일층으로 형성될 수 있고, 이와 다르게 복수의 층으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 제2 도금층(220)은 2층 이상의 층 구조를 가질 수 있다.Meanwhile, in the embodiment, a second plating layer 220 disposed on the first plating layer 210 is included. The second plating layer 220 may be a surface treatment layer for preventing reliability problems such as oxidation of the first plating layer 210 . The second plating layer 220 may be formed as a single layer, or alternatively, may be formed as a plurality of layers. Preferably, the second plating layer 220 may have a layer structure of two or more layers.

일 실시 예로, 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210) 상에 배치되고 니켈(Ni)을 포함하는 제2-1 도금층과, 상기 제2-1 도금층 상에 배치되고 금을 포함하는 제2-2 도금층을 포함할 수 있다.In an embodiment, the second plating layer 220 is disposed on the first plating layer 210 and includes a 2-1 plating layer including nickel (Ni), and disposed on the 2-1 plating layer and including gold and a second 2-2 plating layer.

다른 실시 예로, 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210) 상에 배치되고 니켈(Ni)을 포함하는 제2-1 도금층과, 상기 제2-1 도금층 상에 배치되고 팔라듐(Pd)을 포함하는 제2-2 도금층을 포함할 수 있다.In another embodiment, the second plating layer 220 is disposed on the first plating layer 210 and includes a 2-1 plating layer including nickel (Ni), and palladium (Pd) disposed on the 2-1 plating layer. ) may include a 2-2 second plating layer containing.

또 다른 실시 예로, 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210) 상에 배치되고 니켈(Ni)을 포함하는 제2-1 도금층과, 상기 제2-1 도금층 상에 배치되고 팔라듐(Pd)을 포함하는 제2-2 도금층과, 상기 제2-2 도금층 상에 배치되고 금(Au)을 포함하는 제2-3 도금층을 포함할 수 있다.In another embodiment, the second plating layer 220 is disposed on the first plating layer 210 and includes a 2-1 plating layer including nickel (Ni), and palladium ( It may include a 2-2 plating layer including Pd) and a 2-3 plating layer disposed on the 2-2 plating layer and including gold (Au).

상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210)과 동일하게 전해 도금 또는 무전해 도금 공법을 통해 형성할 수 있다. The second plating layer 220 may be formed through an electrolytic plating or an electroless plating method in the same manner as the first plating layer 210 .

상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210)의 표면 중 일부에만 형성될 수 있다.The second plating layer 220 may be formed on only a portion of the surface of the first plating layer 210 .

예를 들어, 상기 제1 도금층(210)은 상기 절연 기판의 측면에 배치되는 제1 영역과, 상기 절연 기판의 상면에 배치되는 제2 영역을 포함할 수 있다.For example, the first plating layer 210 may include a first region disposed on a side surface of the insulating substrate and a second region disposed on an upper surface of the insulating substrate.

그리고, 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210)의 제1 영역 상에 형성될 수 있다. In addition, the second plating layer 220 may be formed on the first region of the first plating layer 210 .

한편, 실시 예의 인쇄회로기판은 마킹층(230)을 더 포함할 수 있다. 상기 마킹층(230)은 상기 제1 도금층(210) 상에 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 마킹층(230)은 상기 제1 도금층(210)의 제2 영역 상에 형성될 수 있다. 상기 마킹층(230)은 인쇄회로기판에 대응하는 복수의 유닛을 상호 구분하기 위한 마킹층일 수 있다. 상기 마킹층(230)은 솔더 레지스트를 포함할 수 있다.Meanwhile, the printed circuit board of the embodiment may further include a marking layer 230 . The marking layer 230 may be formed on the first plating layer 210 . Preferably, the marking layer 230 may be formed on the second region of the first plating layer 210 . The marking layer 230 may be a marking layer for mutually distinguishing a plurality of units corresponding to the printed circuit board. The marking layer 230 may include solder resist.

즉, 실시 예에서는, 인쇄회로기판을 제조할 때, 하나의 인쇄회로기판만을 제조하는 것이 아니라, 복수 개의 유닛이 포함된 판넬 베이스로 제조를 진행한다. 그리고, 상기 마킹층(230)은 상기 판넬 베이스에서, 각각의 유닛을 구분하기 위해 솔더 레지스트 잉크로 형성한 마킹층일 수 있다.That is, in the embodiment, when manufacturing a printed circuit board, not only one printed circuit board is manufactured, but a panel base including a plurality of units is manufactured. In addition, the marking layer 230 may be a marking layer formed of solder resist ink to distinguish each unit in the panel base.

다시 말해서, 실시 예에서의 인쇄회로기판은, 복수의 절연층의 적층 구조를 가지고, 내부에 전자 소자(300a,300b)가 내장된 절연 기판을 포함한다.In other words, the printed circuit board according to the embodiment includes an insulating substrate having a stacked structure of a plurality of insulating layers and having electronic devices 300a and 300b built therein.

그리고, 실시 예에서의 인쇄회로기판은 상기 절연 기판의 외면, 바람직하게 외측면 및 상면에 제1 도금층(210)이 형성된다. 상기 제1 도금층(210)은 상기 절연기판의 외측면 및 상면에 대해 도금을 진행하여 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1 도금층(210)은 상기 절연기판의 측면에 형성되는 제1 영역과, 상기 절연 기판의 상면에 형성되는 제2 영역을 포함할 수 있다.And, in the printed circuit board in the embodiment, the first plating layer 210 is formed on the outer surface, preferably the outer surface and the upper surface of the insulating substrate. The first plating layer 210 may be formed by plating the outer and upper surfaces of the insulating substrate. That is, the first plating layer 210 may include a first region formed on the side surface of the insulating substrate and a second region formed on the upper surface of the insulating substrate.

또한, 실시 예에서의 인쇄회로기판은 상기 제1 도금층(210)의 제1 영역 상에 배치되는 제2 도금층(220)을 포함할 수 있다. 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210)의 산화 등을 방지하기 위한 표면처리층일 수 있다. 상기 제2 도금층(220)은 니켈/금, 니켈/팔라듐, 및 니켈/팔라듐/금 중 어느 하나의 층 구조를 가지고 형성될 수 있다.In addition, the printed circuit board according to the embodiment may include the second plating layer 220 disposed on the first region of the first plating layer 210 . The second plating layer 220 may be a surface treatment layer for preventing oxidation of the first plating layer 210 . The second plating layer 220 may be formed to have a layer structure of any one of nickel/gold, nickel/palladium, and nickel/palladium/gold.

또한, 실시 예의 인쇄회로기판은 상기 제1 도금층(210)의 제2 영역 상에 배치되는 마킹층(230)을 포함할 수 있다. 상기 마킹층(230)은 판넬 베이스에서 복수의 유닛을 구분하기 위한 마킹층일 수 있으며, 일 예로 솔더 레지스트 잉크로 형성될 수 있다.In addition, the printed circuit board of the embodiment may include a marking layer 230 disposed on the second region of the first plating layer 210 . The marking layer 230 may be a marking layer for distinguishing a plurality of units from the panel base, and may be formed of, for example, solder resist ink.

도 2는 도 1의 인쇄회로기판의 일부 구성을 제거한 평면도이다.FIG. 2 is a plan view in which a part of the printed circuit board of FIG. 1 is removed.

도 2를 참조하면, 인쇄회로기판은 절연기판의 측면에 배치된 제1 도금층(210)을 포함한다. 상기 제1 도금층(210)은 절연 기판의 측면의 전체 영역에 배치되고 않고, 일부 영역을 노출하는 노출 부분을 포함한다.Referring to FIG. 2 , the printed circuit board includes a first plating layer 210 disposed on a side surface of the insulating substrate. The first plating layer 210 is not disposed on the entire area of the side surface of the insulating substrate, but includes an exposed portion exposing a partial area.

상기 노출 부분은, 판넬 베이스 단위로 각각의 유닛에 상기 제1 도금층(210)을 형성하는 과정에서, 상기 판넬 베이스로부터 상기 유닛이 분리되지 않도록 하는 브리지 영역(B)일 수 있다. 즉, 실시 예에서는 생산성을 높이기 위해, 판넬 베이스 단위로 복수의 유닛에 대해, 동시에 도금 공정을 진행하여 제1 도금층(210)을 형성하도록 한다.The exposed portion may be a bridge region B that prevents the unit from being separated from the panel base in the process of forming the first plating layer 210 on each unit on a panel base basis. That is, in the embodiment, in order to increase productivity, the first plating layer 210 is formed by simultaneously performing a plating process for a plurality of units on a panel base basis.

이때, 상기 브리지 영역(B)이 존재하지 않는 경우, 상기 판넬 베이스에서 각각의 유닛이 서로 분리될 것이며, 이에 따라 각각의 유닛에 대해 제1 도금층(210)을 형성하는 공정을 별개로 진행해야 하며, 이에 따른 제조 공정에 어려움이 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 브리지 영역(B)을 토대로 판넬 베이스 단위에서 각각의 유닛이 서로 분리되지 않도록 하고, 이에 따라 상기 판넬 베이스에 포함된 모든 유닛에 대해 제1 도금층(210)의 형성 공정을 동시에 진행할 수 있도록 한다.At this time, if the bridge region B does not exist, each unit will be separated from each other in the panel base, and accordingly, the process of forming the first plating layer 210 for each unit must be performed separately. , there is a difficulty in the manufacturing process accordingly. Accordingly, in the embodiment, each unit is not separated from each other in the panel base unit based on the bridge region B, and accordingly, the forming process of the first plating layer 210 is performed for all units included in the panel base. allow them to proceed simultaneously.

한편, 상기 제1 도금층(210)은 전자파 차폐를 위한 차폐층일 수 있다. 나아가, 상기 제1 도금층(210)은 상기 전자 소자(300a,300b)에서 발생한 열을 외부로 방출하는 방열층으로도 이용될 수 있다.Meanwhile, the first plating layer 210 may be a shielding layer for shielding electromagnetic waves. Furthermore, the first plating layer 210 may be used as a heat dissipation layer that radiates heat generated in the electronic devices 300a and 300b to the outside.

그리고, 상기 제1 도금층(210)은 상기 절연 기판에 내장된 전자 소자(300a,300b)와 거리가 가까울수록 이에 따른 차폐 성능이나 방열 성능이 향상될 수 있다. In addition, the closer the distance of the first plating layer 210 to the electronic devices 300a and 300b embedded in the insulating substrate, the better the shielding performance or heat dissipation performance.

이에 따라, 실시 예에서는 상기 브리지 영역(B)을 결정함에 있어, 상기 절연 기판의 측면 중 상기 절연 기판 내에 배치된 전자 소자(300a,300b)와의 거리가 가장 먼 영역을 브리지 영역(B)으로 결정하도록 한다. 예를 들어, 상기 절연 기판 내에는 전자 소자(300a,300b)가 배치된다. 이때, 상기 전자 소자(300a,300b)는 절연 기판의 중심 영역에 정확히 배치되지 않고, 특정 방향으로 치우쳐 배치될 수 있다. Accordingly, in the embodiment, when determining the bridge region B, a region of the side surface of the insulating substrate that is the farthest from the electronic devices 300a and 300b disposed in the insulating substrate is determined as the bridge region B. do it For example, the electronic devices 300a and 300b are disposed in the insulating substrate. In this case, the electronic devices 300a and 300b may not be precisely disposed in the central region of the insulating substrate, but may be disposed to be biased in a specific direction.

예를 들어, 도 2에서, 절연 기판 내에는 3개의 전자 소자(300)가 배치된 구조를 가질 수 있다. 즉, 절연 기판 내에는 3개의 전자 소자(300)가 배치된 소자 배치 영역(320)을 포함한다.For example, in FIG. 2 , it may have a structure in which three electronic devices 300 are disposed in an insulating substrate. That is, the device arrangement region 320 in which the three electronic devices 300 are disposed is included in the insulating substrate.

이때, 상기 소자 배치 영역(320)은 상기 절연 기판 내에서, 상기 우상측, 좌하측, 우하측에 각각 치우쳐 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 절연 기판의 측면 중 상기 좌상측에 대응하는 측면 영역은 다른 측면 영역 대비 상기 소자 배치 영역(320)과 가장 멀리 이격될 수 있다.In this case, the device arrangement region 320 may be formed to be biased toward the upper right, lower left, and lower right sides of the insulating substrate, respectively. Accordingly, a side area corresponding to the upper left side of the side surfaces of the insulating substrate may be farthest apart from the device arrangement area 320 compared to other side areas.

이에 따라, 실시 예에서는 상기 절연 기판의 측면 중 상기 소자 배치 영역(320)과 가장 멀리 이격된 좌상측에 대응하는 측면 영역을 브리지 영역(B)으로 결정하고, 그에 따라 상기 결정된 브리지 영역(B)에서는 제1 도금층(210)이 형성되지 않도록 할 수 있다.Accordingly, in the embodiment, a side area corresponding to the upper left side farthest from the device arrangement area 320 among the side surfaces of the insulating substrate is determined as the bridge area B, and accordingly the determined bridge area B) In this case, the first plating layer 210 may not be formed.

이때, 실시 예에서는 상기 브리지 영역(B)을 결정함에 있어, 상기 절연 기판의 측면 중 모서리 영역 중 어느 하나의 영역을 브리지 영역(B)으로 형성하도록 한다. 즉, 도금 공정 상의 특성 상, 상기 모서리 영역에서는 도금 공정이 원활이 이루어지지 않을 수 있다. 또한, 상기 모서리 영역에 제1 도금층(210)을 형성하는 것이, 이를 제외한 다른 측면 영역에 제1 도금층(210)을 형성하는 것보다 많은 시간이 소요될 수 있다. At this time, in the embodiment, when determining the bridge region B, any one of the corner regions among the side surfaces of the insulating substrate is formed as the bridge region B. That is, due to characteristics of the plating process, the plating process may not be smoothly performed in the corner region. In addition, it may take more time to form the first plating layer 210 in the corner region than to form the first plating layer 210 in the other side regions.

다시 말해서, 절연 기판의 측면 영역은 4개의 모서리 영역을 포함할 수 있다. 상기 모서리 영역은 서로 다른 측면이 서로 만나는 영역일 수 있다. 예를 들어, 절연 기판은 평면이 사각 형상을 가지며, 이에 따라 4개의 측면을 포함할 수 있다. 그리고, 상기 절연 기판의 측면 영역은 4개의 측면이 각각 서로 만나는 4개의 모서리 영역을 포함할 수 있다. In other words, the side area of the insulating substrate may include four corner areas. The corner area may be an area where different side surfaces meet each other. For example, the insulating substrate may have a quadrangular planar shape, and thus may include four side surfaces. In addition, the side area of the insulating substrate may include four corner areas where the four side surfaces meet each other.

이때, 도 2를 참조하면, 상기 4개의 모서리 영역 중 좌하측에 배치된 모서리 영역은 소자 배치 영역(320)과 제1 거리(L1)만큼 이격될 수 있다. 또한, 상기 4개의 모서리 영역 중 우하측에 배치된 모서리 영역은 소자 배치 영역(320)과 제2 거리(L2)만큼 이격될 수 있다. 또한, 상기 4개의 모서리 영역 중 우상측에 배치된 모서리 영역은 소자 배치 영역(320)과 제3 거리(L3)만큼 이격될 수 있다. 또한, 상기 4개의 모서리 영역 중 좌상측에 배치된 모서리 영역은 소자 배치 영역(320)과 제4 거리 만큼 이격될 수 있다. 예를 들어, 좌측층에 배치된 모서리 영역은 소자 배치 영역(320)의 일부분과 제4-1 거리(L4-1)만큼 이격될 수 있고, 소자 배치 영역(320)의 다른 일부분과 제4-2 거리(L4-2)만큼 이격될 수 있다. 이때, 상기 제4-1 거리(L4-1) 및 제4-2 거리(L4-2) 각각은 상기 제1 거리(L1), 제2 거리(L2) 제3 거리(L3)보다 클 수 있다. 따라서, 실시 예에서는 도 2와 같은 구조에서, 다른 모서리 영역보다 소자 배치 영역(320)과 가장 멀리 이격된 좌상측의 모서리 영역을 브리지 영역(B)으로 결정하도록 한다. 이에 따라, 실시 예에서는 브리지 영역(B)을 형성함에 있어 발생하는 전자파 차폐 성능 저하 문제를 해결할 수 있으며, 나아가 방열 성능도 향상시킬 수 있다.In this case, referring to FIG. 2 , a corner region disposed on the lower left side of the four corner regions may be spaced apart from the device arrangement region 320 by a first distance L1 . Also, among the four corner areas, the lower right corner area may be spaced apart from the device arrangement area 320 by a second distance L2 . In addition, among the four corner regions, an upper right corner region may be spaced apart from the device arrangement region 320 by a third distance L3 . Also, among the four corner areas, the upper left corner area may be spaced apart from the device arrangement area 320 by a fourth distance. For example, the corner region disposed on the left layer may be spaced apart from a portion of the device arrangement region 320 by a 4-1 th distance L4-1, and may be spaced apart from another portion of the device arrangement region 320 by a fourth-th portion. It may be spaced apart by 2 distances (L4-2). In this case, each of the 4-1 th distance L4-1 and the 4-2 th distance L4-2 may be greater than the first distance L1, the second distance L2, and the third distance L3. . Accordingly, in the embodiment, in the structure shown in FIG. 2 , the upper-left corner region farthest from the device arrangement region 320 is determined as the bridge region B in the structure shown in FIG. 2 . Accordingly, in the embodiment, it is possible to solve the problem of deterioration of electromagnetic wave shielding performance occurring in forming the bridge region B, and furthermore, it is possible to improve the heat dissipation performance.

한편, 실시 예에서는 제1 도금층(210)이 절연 기판의 측면에서는 브리지 영역(B)에 대응하는 적어도 일부분에서 배치되지 않는 특징을 가진다. 다만, 절연 기판의 상면에 배치되는 제1 도금층(210)은 상기 절연 기판의 상면의 전체 영역에 걸쳐 형성될 수 있다.Meanwhile, in the embodiment, the first plating layer 210 is not disposed in at least a portion corresponding to the bridge region B on the side surface of the insulating substrate. However, the first plating layer 210 disposed on the upper surface of the insulating substrate may be formed over the entire area of the upper surface of the insulating substrate.

이하에서는 도 1에 도시된 인쇄회로기판의 제조 공정에 대해 설명하기로 한다. 실시 예에서의 인쇄회로기판의 제조 방법은 제1 회로 패턴이 제1 절연층(110) 내에 매립 배치되도록 하는 구조를 가지기 위한 제1 공정과, 전자소자(300a, 300b)를 제1 절연부 내에 배치하는 제2 공정과, 제1 절연부를 중심으로 상하에 각각 제2 및 3 절연부를 적층하는 제3 공정과, 도금층을 형성하는 제4 공정을 포함할 수 있다.Hereinafter, a manufacturing process of the printed circuit board shown in FIG. 1 will be described. The method of manufacturing a printed circuit board in the embodiment includes a first process for having a structure such that a first circuit pattern is buried in the first insulating layer 110, and the electronic devices 300a and 300b in the first insulating part. It may include a second process of arranging, a third process of stacking the second and third insulating parts on top and bottom of the first insulating part, respectively, and a fourth process of forming a plating layer.

도 3 내지 도 21은 도 1의 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 도면이다.3 to 21 are views for explaining the manufacturing method of the printed circuit board of FIG. 1 in order of process.

도 3을 참조하면, 우선적으로 제1 절연부를 제조하기 위한 캐리어 보드(CB)를 준비한다. 캐리어 보드(CB)은 인쇄회로기판의 제조에 기초가 되는 기판일 수 있다. 캐리어 보드(CB)는 지지 기판(10)을 중심으로 양면에 금속층(20)이 형성된 구조를 가질 수 있다. Referring to FIG. 3 , first, a carrier board CB for manufacturing the first insulating part is prepared. The carrier board CB may be a substrate that is a basis for manufacturing a printed circuit board. The carrier board CB may have a structure in which the metal layers 20 are formed on both surfaces around the support substrate 10 .

캐리어 보드(CB)는 일반적인 지지 기판으로서, CCL(Copper Claded Laminate)를 이용할 수 있다.The carrier board CB is a general support substrate and may use a copper clad laminate (CCL).

한편, 캐리어 보드(CB)의 금속층(20)의 표면에는 추후 제1 절연부와의 분리를 용이하게 하기 위한 표면 처리가 진행될 수 있다. Meanwhile, a surface treatment may be performed on the surface of the metal layer 20 of the carrier board CB to facilitate separation from the first insulating part later.

다음으로, 도 4를 참조하면, 캐리어 보드(CB) 상에 제1 회로 패턴(105)을 형성한다. 제1 회로 패턴(105)은 상기 캐리어 보드(CB)의 양면에 각각 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 4 , a first circuit pattern 105 is formed on the carrier board CB. The first circuit patterns 105 may be respectively formed on both surfaces of the carrier board CB.

제1 회로 패턴(105)은 상기 금속층(20)을 시드층으로 상기 금속층(20) 상에 금속 물질을 도금하여 형성할 수 있다. 이와 다르게, 제1 회로 패턴(105)은 상기 금속층(20) 상에 도금층(도시하지 않음)을 형성하고, 상기 형성된 도금층을 식각하여 형성할 수도 있을 것이다.The first circuit pattern 105 may be formed by plating a metal material on the metal layer 20 using the metal layer 20 as a seed layer. Alternatively, the first circuit pattern 105 may be formed by forming a plating layer (not shown) on the metal layer 20 and etching the formed plating layer.

상기 제1 회로 패턴(105)은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu) 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질로 형성될 수 있다. 또한 제1 회로 패턴(105)은 본딩력이 우수한 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu), 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질을 포함하는 페이스트 또는 솔더 페이스트로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제1 회로 패턴(105)은 전기전도성이 높으면서 가격이 비교적 저렴한 구리(Cu)로 형성될 수 있다. The first circuit pattern 105 may include at least one metal selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn). It may be formed of a material. In addition, the first circuit pattern 105 is selected from among gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn) having excellent bonding strength. It may be formed of a paste including at least one metal material or a solder paste. Preferably, the first circuit pattern 105 may be formed of copper (Cu), which has high electrical conductivity and is relatively inexpensive.

다음으로, 도 5를 참조하면, 상기 제1 회로 패턴(105)이 형성된 금속층(20) 상에 제1 절연층(110)을 형성한다. 이때, 제1 절연층(110) 상에는 동박층이 존재할 수 있다. Next, referring to FIG. 5 , a first insulating layer 110 is formed on the metal layer 20 on which the first circuit pattern 105 is formed. In this case, a copper foil layer may be present on the first insulating layer 110 .

상기 제1 절연층(110)은 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그로 형성될 수 있다.The first insulating layer 110 may be formed of a prepreg including glass fiber.

바람직하게, 제1 절연층(110)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.Preferably, the first insulating layer 110 may include glass or plastic. In detail, the first insulating layer 110 may include chemically strengthened/semi-tempered glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, polyimide (PI), or polyethylene terephthalate. , PET), propylene glycol (PPG), reinforced or soft plastic such as polycarbonate (PC), or may include sapphire.

그리고, 제1 절연층(110) 내에 제1 비아(115)를 형성할 수 있다. In addition, a first via 115 may be formed in the first insulating layer 110 .

상기 제1 비아(115)는 제1 절연층(110)을 관통하는 관통 홀(도시하지 않음) 내부를 전도성 물질로 충진하여 형성할 수 있다. 상기 관통 홀은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 CO2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층을 개방할 수 있다.The first via 115 may be formed by filling an inside of a through hole (not shown) penetrating the first insulating layer 110 with a conductive material. The through hole may be formed by any one of machining methods, including mechanical, laser, and chemical machining. When the through hole is formed by machining, methods such as milling, drilling, and routing can be used, and when formed by laser processing, UV or CO 2 laser method is used. In the case of being formed by chemical processing, at least one insulating layer among the plurality of insulating layers may be opened by using a chemical containing aminosilane, ketones, or the like.

한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있고, 다른 방법으로는 절단하기 어려운 복합 재료도 가공할 수 있다. On the other hand, the processing by the laser is a cutting method that takes a desired shape by concentrating optical energy on the surface to melt and evaporate a part of the material. Complex formation by a computer program can be easily processed. Even difficult composite materials can be machined.

또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다.In addition, the processing by the laser can have a cutting diameter of at least 0.005 mm, and has a wide advantage in a range of possible thicknesses.

상기 레이저 가공 드릴로, YAG(Yttrium Aluminum Garnet)레이저나 CO2 레이저나 자외선(UV) 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. YAG 레이저는 동박층 및 절연층 모두를 가공할 수 있는 레이저이고, CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이다.As the laser processing drill, it is preferable to use a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, a CO 2 laser, or an ultraviolet (UV) laser. The YAG laser is a laser that can process both the copper foil layer and the insulating layer, and the CO 2 laser is a laser that can process only the insulating layer.

상기 관통 홀이 형성되면, 상기 관통 홀 내부를 전도성 물질로 충진하여 제1 비아(115)를 형성할 수 있다. 제1 비아(115)를 형성하는 금속 물질은 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 전도성 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.When the through hole is formed, the first via 115 may be formed by filling the inside of the through hole with a conductive material. The metal material forming the first via 115 may be any one material selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd). In addition, the conductive material filling may use any one or a combination of electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, evaporation, inkjetting and dispensing. .

다음으로, 상기 제1 비아(115)가 형성되면, 상기 제1 절연층(110)의 상면에 제2 회로 패턴(120)을 형성할 수 있다. Next, when the first via 115 is formed, a second circuit pattern 120 may be formed on the upper surface of the first insulating layer 110 .

이때, 상기 제1 절연층(110), 제1 비아(115) 및 제2 회로 패턴(120)의 형성 공정은 상기 캐리어 보드(CB)의 양면에서 동시에 진행될 수 있다.In this case, the process of forming the first insulating layer 110 , the first via 115 , and the second circuit pattern 120 may be simultaneously performed on both surfaces of the carrier board CB.

다음으로, 도 6을 참조하면, 상기 제1 절연층(110) 상에 제2 절연층(125)을 적층한다. 그리고, 제2 절연층(125) 내에 제2 비아(120)를 형성한다. 또한, 제2 절연층(125)의 상면에 제3 회로 패턴(135)을 형성한다. 이때, 상기 제2 절연층(125)은 상기 제1 절연층(110)과 동일한 유리 섬유를 포함한 프리프레그로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 6 , a second insulating layer 125 is stacked on the first insulating layer 110 . Then, a second via 120 is formed in the second insulating layer 125 . In addition, a third circuit pattern 135 is formed on the upper surface of the second insulating layer 125 . In this case, the second insulating layer 125 may be formed of a prepreg including the same glass fiber as the first insulating layer 110 .

이때, 상기 제2 절연층(125), 제2 비아(120) 및 제3 회로 패턴(135)의 형성 공정은 상기 캐리어 보드(CB)의 양면에서 동시에 진행될 수 있다.In this case, the process of forming the second insulating layer 125 , the second via 120 , and the third circuit pattern 135 may be simultaneously performed on both surfaces of the carrier board CB.

다음으로, 도 7을 참조하면, 상기 캐리어 보드(CB)로부터 상부 및 하부에 각각 형성된 제1 절연부를 분리하는 공정을 진행할 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 한번의 공정으로 복수의 제1 절연부를 동시에 제조할 수 있다. 또한, 실시 예에 따르면, 제1 절연층(110)의 하부에는 제1 회로 패턴(105)이 매립될 수 있다. 제1 절연층(110)의 상면 위에는 제2 회로 패턴(120)이 배치될 수 있다. 또한, 제2 절연층(125)의 상면 위에는 제3 회로 패턴(135)이 배치될 수 있다. 이때, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 하나의 절연층으로 보았을 때, 하부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 내에 매립되어 배치되고, 상부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 상에 돌출되어 배치된다. 즉, 종래에는 상기 상부 및 하부에 배치되는 회로 패턴이 모두 절연층의 상면 및 하면으로부터 돌출되어 형성되었다. 이에 반하여, 실시 예에서는 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립될 수 있도록 한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치되는 제4 절연층(150)의 두께를 상기 제1 회로 패턴(105)의 두께만큼 줄일 수 있도록 한다. 즉, 절연층은 기본적으로 회로 패턴을 덮으면서 배치되기 때문에 상기 회로 패턴의 두께가 기본 옵셋 두께로 결정된다. 반면, 실시 예에서는 상기 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110) 하부에 매립 배치됨에 따라, 추후 상기 제1 절연층(110) 아래에 적층될 절연층의 두께를 종래 대비 12~18㎛ 정도 감소시킬 수 있다.Next, referring to FIG. 7 , a process of separating the first insulating parts respectively formed on the upper part and the lower part from the carrier board CB may be performed. Accordingly, in the embodiment, the plurality of first insulating parts may be simultaneously manufactured in one process. Also, according to an embodiment, the first circuit pattern 105 may be buried under the first insulating layer 110 . A second circuit pattern 120 may be disposed on the upper surface of the first insulating layer 110 . In addition, a third circuit pattern 135 may be disposed on the upper surface of the second insulating layer 125 . At this time, when the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 are viewed as one insulating layer, the lower circuit pattern is buried in the insulating layer, and the upper circuit pattern is the insulating layer. It protrudes and is placed on the top. That is, in the related art, both the circuit patterns disposed on the upper and lower portions protrude from the upper and lower surfaces of the insulating layer. On the contrary, in the embodiment, the first circuit pattern 105 may be buried under the first insulating layer 110 . Accordingly, in the embodiment, the thickness of the fourth insulating layer 150 disposed under the first insulating layer 110 can be reduced by the thickness of the first circuit pattern 105 . That is, since the insulating layer is basically disposed while covering the circuit pattern, the thickness of the circuit pattern is determined as the basic offset thickness. On the other hand, in the embodiment, as the first circuit pattern 105 is buried under the first insulating layer 110 , the thickness of the insulating layer to be subsequently laminated under the first insulating layer 110 is 12 compared to the conventional one. It can be reduced by ~18㎛.

상기 제1 절연부가 제조되면, 상기 제1 절연부에 캐비티(C)를 형성할 수 있다. 상기 캐비티(C)는 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 공통으로 관통하여 형성될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)는 전자소자(300)의 두께와 동일할 수 있으며, 신뢰성 향상을 위해 상기 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 큰 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 10㎛ 정도 큰 두께를 가질 수 있다. 따라서, 전자소자(300)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 위치할 수 있다. 또한, 캐비티(C)의 폭은 전자소자(300)의 안정적인 배치를 위해, 전자소자(300a, 300b)가 가지는 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다. 상기 캐비티(C)는 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 CO2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 개방할 수 있다.When the first insulating part is manufactured, a cavity C may be formed in the first insulating part. The cavity C may be formed to pass through the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 in common. That is, the cavity C may be the same as the thickness of the electronic device 300 , and may have a thickness greater than the thickness of the electronic devices 300a and 300b to improve reliability. Preferably, the cavity C may have a thickness greater than the thickness of the electronic devices 300a and 300b by about 10 μm. Accordingly, the upper surface of the electronic device 300 may be positioned lower than the upper surface of the second insulating layer 125 . In addition, the width of the cavity C may be greater than the width of the electronic devices 300a and 300b for stable arrangement of the electronic device 300 . The cavity C may be formed by any one of machining methods, including mechanical, laser, and chemical processing. When the through hole is formed by machining, methods such as milling, drilling, and routing can be used, and when formed by laser processing, UV or CO 2 laser method is used. In the case of being formed by chemical processing, the first insulating layer 110 and the second insulating layer 125 may be opened by using a chemical containing aminosilane, ketones, or the like.

다음으로, 도 8을 참조하면, 상기 제1 절연층(110)의 하면에 필름층(A)을 형성한다. 상기 필름층(A)은 상기 제1 절연층(110)의 하면에 부착되며, 그에 따라 상기 캐비티(C)의 하부를 덮으며 배치될 수 있다. 상기 필름층(A)은 상기 캐비티(C) 내에 전자소자(300)를 배치 및 고정시키기 위해, 상기 캐비티(C)의 일면을 덮으며 배치될 수 있다. 상기 필름층(A)은 폴리이미드 필름을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.Next, referring to FIG. 8 , a film layer A is formed on the lower surface of the first insulating layer 110 . The film layer (A) is attached to the lower surface of the first insulating layer 110, and thus may be disposed to cover the lower portion of the cavity (C). The film layer (A) may be disposed to cover one surface of the cavity (C) in order to place and fix the electronic device 300 in the cavity (C). The film layer (A) may use a polyimide film, but is not limited thereto.

바람직하게, 상기 필름층(A)은 상기 캐비티(C)의 상부 및 하부 중 상대적으로 큰 폭을 가지는 부분에 부착될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)의 상부는 제1 폭(W1)을 가지고, 캐비티(C)의 하부는 상기 제1 폭(W1)보다 큰 제2 폭(W2)을 가지며, 이에 따라 상기 필름층(A)은 상기 큰 폭을 가지는 캐비티(C)의 하부를 폐쇄하며 상기 제1 절연층(110)의 하면에 부착될 수 있다.Preferably, the film layer (A) may be attached to a portion having a relatively large width among the upper and lower portions of the cavity (C). That is, the upper portion of the cavity (C) has a first width (W1), the lower portion of the cavity (C) has a second width (W2) greater than the first width (W1), thus the film layer ( A) closes the lower portion of the cavity C having a large width and may be attached to the lower surface of the first insulating layer 110 .

다음으로 도 9를 참조하면, 상기 캐비티(C)의 일면을 통해 노출된 상기 필름층(A) 상에 전자소자(300a, 300b)를 부착한다. 상기 전자소자(300a, 300b)는 칩과 같은 전자 부품일 수 있으며, 이는 능동 소자와 수동 소자로 구분될 수 있다.Next, referring to FIG. 9 , electronic devices 300a and 300b are attached on the film layer A exposed through one surface of the cavity C. As shown in FIG. The electronic devices 300a and 300b may be electronic components such as chips, which may be divided into active devices and passive devices.

상기 전자소자(300a, 300b)는 인쇄회로기판이 적용되는 어플리케이션에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들어, 스마트폰에 적용되는 낸드 플래쉬(nand flash) 메모리 제품에 적용될 경우, 전자소자(300a, 300b)는 제어소자 부품일 수 있다.The electronic devices 300a and 300b may vary depending on the application to which the printed circuit board is applied. For example, when applied to a NAND flash memory product applied to a smart phone, the electronic devices 300a and 300b) may be a control element component.

전자소자(300a, 300b)의 하면에는 단자(310a, 310b)가 형성될 수 있다. 이때, 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 절연층(110)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 회로 패턴(105)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 한편, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 바람직하게, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 배치될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께와 동일할 수 있으며, 신뢰성 향상을 위해 상기 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 큰 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 10㎛ 정도 큰 두께를 가질 수 있다. 따라서, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 위치할 수 있다. 또한, 캐비티(C)의 폭은 전자소자(300a, 300b)의 안정적인 배치를 위해, 전자소자(300a, 300b)가 가지는 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다.Terminals 310a and 310b may be formed on lower surfaces of the electronic devices 300a and 300b. In this case, the lower surfaces of the terminals 310a and 310b may be disposed on the same plane as the lower surface of the first insulating layer 110 . A lower surface of the terminals 310a and 310b may be disposed on the same plane as a lower surface of the first circuit pattern 105 . Meanwhile, top surfaces of the electronic devices 300a and 300b may be disposed on the same plane as the top surface of the second insulating layer 125 . Preferably, upper surfaces of the electronic devices 300a and 300b may be disposed lower than the upper surfaces of the second insulating layer 125 . That is, the cavity C may be the same as the thickness of the electronic devices 300a and 300b, and may have a thickness greater than the thickness of the electronic devices 300a and 300b to improve reliability. Preferably, the cavity C may have a thickness greater than the thickness of the electronic devices 300a and 300b by about 10 μm. Accordingly, upper surfaces of the electronic devices 300a and 300b may be positioned lower than the upper surfaces of the second insulating layer 125 . In addition, the width of the cavity C may be greater than the width of the electronic devices 300a and 300b for stable arrangement of the electronic devices 300a and 300b.

다만, 실시 예는 이에 한정되지 않으며, 상기 전자 소자(300a, 300b)는 단자(310a, 310b)가 위로 향하도록 상기 필름층(A) 상에 부착될 수 있다. 여기에서, 중요한 것은 본 실시 예에서의 필름층(A)은 상대적으로 큰 폭을 가지는 캐비티(C)의 일면을 폐쇄하며 배치된다는 것이고, 상대적으로 작은 폭을 가지는 캐비티(C)의 타면 상에 상기 캐비티(C)를 채우는 절연물질을 적층한다는 것이다.However, the embodiment is not limited thereto, and the electronic devices 300a and 300b may be attached on the film layer A so that the terminals 310a and 310b face upward. Here, the important thing is that the film layer (A) in this embodiment is disposed while closing one surface of the cavity (C) having a relatively large width, and on the other surface of the cavity (C) having a relatively small width. The insulating material filling the cavity (C) is laminated.

다음으로, 도 10 참조하면, 상기 제1 절연부 상에 제2 절연부를 형성한다. 즉, 상기 전자소자(300a, 300b)의 배치 공정이 완료되면, 상기 제2 절연층(125) 위에 제3 절연층(140)을 형성한다. 상기 제3 절연층(140)은 RCC(Resin Coated Cu)로 구성될 수 있다. 이때, 제3 절연층(140)은 제2 절연층(125) 상에 배치되면서, 상기 제2 절연층(125) 및 제1 절연층(110)에 형성된 캐비티(C) 내에도 배치된다. 즉, 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 채우면서, 상기 제2 절연층(125) 상에 일정 두께를 가지고 배치될 수 있다. Next, referring to FIG. 10 , a second insulating part is formed on the first insulating part. That is, when the disposition process of the electronic devices 300a and 300b is completed, the third insulating layer 140 is formed on the second insulating layer 125 . The third insulating layer 140 may be made of resin coated Cu (RCC). In this case, the third insulating layer 140 is disposed on the second insulating layer 125 and also in the cavity C formed in the second insulating layer 125 and the first insulating layer 110 . That is, the third insulating layer 140 may be disposed on the second insulating layer 125 to have a predetermined thickness while filling the cavity (C).

즉, 상기와 같이 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 안정적으로 채우면서, 균일한 두께를 가지고 상기 제2 절연층(125) 상에 배치되어야 한다. 이때, 상기 캐비티(C)의 면적에 따라 상기 제3 절연층(140)의 상면에 일정 굴곡이 형성될 수 있다. 이는, 캐비티(C)가 존재하는 영역과 그 이외의 영역에서의 제3 절연층(140)의 두께가 서로 다르기 때문이다. 이에 따라 실시 예에서는 상기 제3 절연층(140)을 상기와 같은 RCC 타입으로 형성하여, 상기와 같은 문제를 해결하면서, 신뢰성 있는 기판을 제조할 수 있도록 한다.That is, as described above, the third insulating layer 140 should be disposed on the second insulating layer 125 while stably filling the cavity C and having a uniform thickness. In this case, a predetermined curve may be formed on the upper surface of the third insulating layer 140 according to the area of the cavity C. As shown in FIG. This is because the thickness of the third insulating layer 140 in the region where the cavity C exists is different from that in the region other than that. Accordingly, in the embodiment, the third insulating layer 140 is formed in the RCC type as described above to solve the above problems and to manufacture a reliable substrate.

그리고, 상기 제3 절연층(140) 상에는 구리로 코팅된 코팅층(141)이 형성될 수 있다. 상기 코팅층(141)은 추후 제4 회로 패턴(145)을 형성하기 위한 금속층일 수 있다.In addition, a coating layer 141 coated with copper may be formed on the third insulating layer 140 . The coating layer 141 may be a metal layer for forming the fourth circuit pattern 145 later.

다음으로, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 제3 절연층(140)의 형성이 완료되면, 상기 제2 절연층(125) 아래에 부착된 필름층(A)을 제거한다.Next, as shown in FIG. 11 , when the formation of the third insulating layer 140 is completed, the film layer A attached under the second insulating layer 125 is removed.

다음으로, 도 12를 참조하면, 상기 제1 절연층(110) 아래에 제4 절연층(150)을 형성한다. 이때, 상기 제4 절연층(150)은 제1 절연층(110), 제2 절연층(125) 및 제3 절연층(140)과는 다른 절연물질로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 레진으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 프리프레그로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 ABF(Aginomoto Build-up Film) 또는 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric)로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 12 , a fourth insulating layer 150 is formed under the first insulating layer 110 . In this case, the fourth insulating layer 150 may be formed of an insulating material different from that of the first insulating layer 110 , the second insulating layer 125 , and the third insulating layer 140 . Preferably, the fourth insulating layer 150 may be formed of a film-type resin. Preferably, the fourth insulating layer 150 may be formed of a film-type prepreg. Preferably, the fourth insulating layer 150 may be formed of Aginomoto Build-up Film (ABF) or Photo Imagable Dielectric (PID), which is a photosensitive insulating material.

제4 절연층(150)은 일정 두께를 가지고 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치된다. 이때, 제1 절연층(110)에는 하면을 통해 돌출된 회로 패턴이 존재하지 않는다. 즉, 제1 회로 패턴(105)은 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립되어 형성된다. 따라서, 상기 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성할 수 있다. 즉, 일반적인 절연층은 회로 패턴을 덮으면서 안정적인 층간 절연을 위해 배치되며, 이를 위해 회로 패턴의 두께를 기준으로 최종 두께가 결정될 수 있다. 예를 들어, 제3 절연층(140)의 경우, 상기 제2 절연층(125) 상에 배치된 제3 회로 패턴(135)의 두께를 고려하여 두께가 결정되어야 한다. 즉, 제3 회로 패턴(135)의 두께가 12㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 20㎛일 수 있다. 또한, 제3 절연층(140)의 두께가 10㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 15㎛일 수 있다. 반면, 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성될 수 있으며, 이에 따라 10㎛ 정도의 얇은 두께로도 형성이 가능하다.The fourth insulating layer 150 has a predetermined thickness and is disposed under the first insulating layer 110 . In this case, the circuit pattern protruding through the lower surface does not exist in the first insulating layer 110 . That is, the first circuit pattern 105 is formed to be buried under the first insulating layer 110 . Accordingly, the fourth insulating layer 150 may be formed without considering the thickness of the circuit pattern. That is, the general insulating layer is disposed for stable interlayer insulation while covering the circuit pattern, and for this, the final thickness may be determined based on the thickness of the circuit pattern. For example, in the case of the third insulating layer 140 , the thickness should be determined in consideration of the thickness of the third circuit pattern 135 disposed on the second insulating layer 125 . That is, when the thickness of the third circuit pattern 135 is 12 μm, the thickness of the third insulating layer 140 may be 20 μm. Also, when the thickness of the third insulating layer 140 is 10 μm, the thickness of the third insulating layer 140 may be 15 μm. On the other hand, the fourth insulating layer 150 may be formed without considering the thickness of the circuit pattern, and accordingly, it may be formed even with a thin thickness of about 10 μm.

즉, 제4 절연층(150)의 두께는 제1 절연층(110), 제2 절연층(125), 제3 절연층(140)의 각각의 두께보다 작을 수 있다.That is, the thickness of the fourth insulating layer 150 may be smaller than the respective thicknesses of the first insulating layer 110 , the second insulating layer 125 , and the third insulating layer 140 .

다음으로, 제4 절연층(150)의 하면에 제5 회로 패턴(160)을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제4 절연층(150) 내에 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 각각 형성할 수 있다.Next, the fifth circuit pattern 160 may be formed on the lower surface of the fourth insulating layer 150 . Also, a fourth via 155a and a fifth via 155b may be formed in the fourth insulating layer 150 , respectively.

이때, 제4 절연층(150)의 하면에 형성된 제5 회로 패턴(160)은 다른 회로 패턴과는 다른 선폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 작은 선폭을 가질 수 있다. 또한, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 피치가 작을 수 있다. 이는, 상기 제5 절연층(165)이 가지는 물성에 의해 달성될 수 있다. In this case, the fifth circuit pattern 160 formed on the lower surface of the fourth insulating layer 150 may have a line width different from that of other circuit patterns. Preferably, the fifth circuit pattern 160 may have a line width smaller than that of circuit patterns disposed on other layers. Also, the fifth circuit pattern 160 may have a smaller pitch than circuit patterns disposed on other layers. This may be achieved by the physical properties of the fifth insulating layer 165 .

한편, 제4 절연층(150)에는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)가 형성된다. 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결되는 비아이고, 제5 비아(155b)는 제1 회로 패턴(105)과 연결되는 비아이다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 수직 방향으로 전자소자(300a, 300b)와 오버랩될 수 있고, 제5 비아(155b)는 수직 방향으로 전자소자(300a, 300b)와 오버랩되지 않을 수 있다. 그리고, 제4비아(155a) 및 제5 비아(155b)는 서로 다른 폭을 가질 수 있다. 즉, 제4 절연층(150)에 형성되는 비아의 폭은 다른 층에 형성되는 비아보다 작게 형성될 수 있다. 이때, 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 스몰 비아로 형성하는 경우, 다른 층에 배치된 비아와의 정렬에 문제가 발생할 수 있다. 이와 다르게 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 다른 층에 배치되는 비아와 동일 폭으로 형성하는 경우, 상기 전자소자(300)의 단자(310)와 연결되는 비아에서의 신뢰성이 떨어질 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 동일 층 내에 배치되는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 각각의 기능에 따라 서로 다른 폭으로 형성하도록 한다. 즉, 제5 비아(155b)는 다른 층의 비아들과 연결됨에 따라, 상기 다른 층의 비아들과 동일한 폭을 가지도록 할 수 있다. 일 예로, 제5 비아(155b)는 최소 폭이 40㎛을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 비아(155b)는 40㎛ 내지 100㎛ 사이의 폭을 가질 수 있다.Meanwhile, a fourth via 155a and a fifth via 155b are formed in the fourth insulating layer 150 . The fourth via 155a is a via directly connected to the terminals 310a and 310b of the electronic devices 300a and 300b , and the fifth via 155b is a via connected to the first circuit pattern 105 . Preferably, the fourth via 155a may overlap the electronic devices 300a and 300b in the vertical direction, and the fifth via 155b may not overlap the electronic devices 300a and 300b in the vertical direction. In addition, the fourth via 155a and the fifth via 155b may have different widths. That is, the width of the via formed in the fourth insulating layer 150 may be smaller than that of the via formed in other layers. In this case, when all vias disposed in the fourth insulating layer 150 are formed as small vias, a problem may occur in alignment with vias disposed in other layers. On the other hand, when all the vias disposed on the fourth insulating layer 150 are formed to have the same width as the vias disposed on other layers, the reliability of the vias connected to the terminals 310 of the electronic device 300 is deteriorated. can Accordingly, in the embodiment, the fourth via 155a and the fifth via 155b disposed in the same layer are formed to have different widths according to their respective functions. That is, as the fifth via 155b is connected to the vias of another layer, the fifth via 155b may have the same width as the vias of the other layer. For example, the fifth via 155b may have a minimum width of 40 μm. Preferably, the fifth via 155b may have a width between 40 μm and 100 μm.

한편, 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결됨에 따라 스몰 비아로 형성되도록 한다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 제5 비아(155b)보다 작은 폭을 가지도록 한다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 10㎛ 내지 35㎛의 폭을 가질 수 있다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 20㎛ 내지 25㎛의 폭을 가질 수 있다. Meanwhile, as the fourth via 155a is directly connected to the terminals 310a and 310b of the electronic devices 300a and 300b, it is formed as a small via. Preferably, the fourth via 155a has a smaller width than the fifth via 155b. For example, the fourth via 155a may have a width of 10 μm to 35 μm. For example, the fourth via 155a may have a width of 20 μm to 25 μm.

다음으로, 도 13을 참조하면, 상기 제3 절연층(140)의 위 및 제4 절연층(150) 아래에 각각 제1 및 제2 외부 절연층(170)을 적층한다. 이때, 상기 제1 및 제2 외부 절연층(170)의 표면에는 금속층(171)이 형성될 수 있다. Next, referring to FIG. 13 , first and second external insulating layers 170 are stacked above the third insulating layer 140 and below the fourth insulating layer 150 , respectively. In this case, a metal layer 171 may be formed on the surfaces of the first and second external insulating layers 170 .

다음으로, 도 14를 참조하면, 상기 제1 및 제2 외부 절연층(170) 제6 비아(180)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 상기 금속층(171)을 이용하여 상기 제2 외부 절연층(170)의 표면에 외부 회로 패턴(175)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다.Next, referring to FIG. 14 , a process of forming the first and second external insulating layers 170 and the sixth via 180 may be performed. In addition, a process of forming the external circuit pattern 175 on the surface of the second external insulating layer 170 may be performed using the metal layer 171 .

다음으로, 도 15를 참조하면, 제2 외부 절연층(170) 상에 보호층(190)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. Next, referring to FIG. 15 , a process of forming the protective layer 190 on the second external insulating layer 170 may be performed.

보호층(220)은 SR(Solder Resist), 산화물 및 Au 중 어느 하나 이상을 이용하여, 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다.The protective layer 220 may be formed of at least one layer using any one or more of Solder Resist (SR), oxide, and Au.

이때, 도 16에 도시된 바와 같이, 인쇄회로기판은 판넬 베이스 단위로 제조될 수 있다. 예를 들어, 판넬 베이스(100A)에는 복수의 인쇄회로기판에 각각 대응하는 복수의 유닛(100-1, 100-2)을 포함하며, 각각의 유닛 내에는 전자 소자(300)가 내장될 수 있다.At this time, as shown in FIG. 16 , the printed circuit board may be manufactured in units of a panel base. For example, the panel base 100A includes a plurality of units 100-1 and 100-2 respectively corresponding to a plurality of printed circuit boards, and the electronic device 300 may be embedded in each unit. .

다음으로, 도 17에 도시된 바와 같이, 각각의 유닛 단위로 슬롯을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 이때, 상기 슬롯은 유닛 단위의 인쇄회로기판의 측면을 폐루프 형태로 둘러싸지 않고, 개루프 형태로 둘러싸며 형성될 수 있다. 다시 말해서, 상기 슬롯은 상기 인쇄회로기판의 측면의 전체 영역에 형성되는 것이 아니라 일부 영역에 대해서만 형성될 수 있다. 이때, 도 17에서는 슬롯이 4개의 단위 슬롯(S1, S2, S3, S4)을 포함하고, 상기 단위 슬롯(S1, S2, S3, S4) 사이 영역에는 브리지 영역에 형성될 수 있다. 이때, 상기와 같은 4개의 단위 슬롯을 형성하는 경우, 각각의 인쇄회로기판의 측면 중 4개의 모서리 영역에 브리지 영역이 형성될 수 있다. 그러나, 이와 같은 구조로 브리지 영역이 형성되는 경우, 제1 도금층이 형성되지 않은 영역이 증가하게 되고, 이에 따른 전자파 차폐 성능에 문제가 발생할 수 있다.Next, as shown in FIG. 17 , a process of forming a slot in units of each unit may be performed. In this case, the slot may be formed to surround the side of the printed circuit board of the unit unit in an open loop shape, not in a closed loop shape. In other words, the slot may not be formed over the entire area of the side surface of the printed circuit board, but may be formed with respect to only a partial area. In this case, in FIG. 17 , the slot may include four unit slots S1 , S2 , S3 , and S4 , and a bridge region may be formed in a region between the unit slots S1 , S2 , S3 , and S4 . In this case, when the four unit slots are formed as described above, a bridge area may be formed in four corner areas among the side surfaces of each printed circuit board. However, when the bridge region is formed in such a structure, the region in which the first plating layer is not formed increases, and accordingly, a problem in electromagnetic wave shielding performance may occur.

도 18에 도시된 바와 같이, 실시 예에서는 복수의 모서리 영역 중 어느 하나의 모서리 영역에만 상기와 같은 브리지 영역을 형성한다.As shown in FIG. 18 , in the embodiment, the bridge area as described above is formed only in one corner area among the plurality of corner areas.

즉, 인쇄회로기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함한다. 그리고, 상기 슬롯은 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 절연 기판 내에 매립된 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역을 제외한 나머지 영역에 형성될 수 있다.That is, the side surface of the printed circuit board includes a plurality of corner regions. In addition, the slot may be formed in a region other than a corner region having the longest distance from an electronic device buried in the insulating substrate among the plurality of corner regions.

이에 따르면, 실시 예에서는 상기와 같은 브리지 영역을 최소화할 수 있으며, 이에 따른 전자파 차폐 성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 브리지 영역은 상기 모서리 영역 중 전자 소자와 거리가 가장 먼 영역에 형성됨에 따라, 상기 브리지 영역에 의해 발생하는 전자파 차폐 성능 저하 및 방열 성능 저하 문제를 최소화할 수 있다.According to this, in the embodiment, it is possible to minimize the bridge area as described above, and accordingly, the electromagnetic wave shielding performance can be improved. In addition, since the bridge region is formed in a region furthest from an electronic device among the corner regions, it is possible to minimize the problems of electromagnetic wave shielding performance degradation and heat dissipation performance degradation caused by the bridge region.

다음으로, 도 19에 도시된 바와 같이, 상기의 도 18에 형성된 바와 같은 슬롯 내에 제1 도금층(210)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 도금층(210)은 상기 인쇄회로기판을 구성하는 절연 기판의 측면에 전체적으로 형성되지 않고, 브리지 영역에 대응하는 일 영역에서는 형성되지 않을 수 있다.Next, as shown in FIG. 19 , a process of forming the first plating layer 210 in the slot as formed in FIG. 18 may be performed. Accordingly, the first plating layer 210 may not be formed entirely on the side surface of the insulating substrate constituting the printed circuit board, and may not be formed in one region corresponding to the bridge region.

다음으로, 도 20에 도시된 바와 같이 상기 형성된 제1 도금층(210) 상에 제2 도금층(220)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 상기 제2 도금층(220)은 상기 제1 도금층(210) 상에 전체적으로 형성되지 않고, 일부 영역에 대해서만 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1 도금층(210)은 절연 기판의 상면 영역과, 브리지 영역을 제외한 측면 영역에 각각 형성된다. 그리고, 상기 제2 도금층(220)은 상기 절연 기판의 측면 영역에만 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 20 , a process of forming the second plating layer 220 on the formed first plating layer 210 may be performed. The second plating layer 220 may not be formed entirely on the first plating layer 210 , but may be formed only in a partial region. That is, the first plating layer 210 is formed on the upper surface area of the insulating substrate and the side area except for the bridge area, respectively. In addition, the second plating layer 220 may be formed only on a side area of the insulating substrate.

다음으로, 도 21에 도시된 바와 같이, 상기 절연 기판의 상면 영역에 형성된 상기 제1 도금층(210) 상에 마킹층(230)을 형성할 수 있다.Next, as shown in FIG. 21 , a marking layer 230 may be formed on the first plating layer 210 formed on the upper surface of the insulating substrate.

도 22는 다른 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.22 is a view showing a printed circuit board according to another embodiment.

이때, 실시 예에서는 부품 내장형 제품, 임베디드 액티브 디바아스 SIP 모듈, 액티브 다이 FO-PLP, 액티브 다이 및 패시브 FO-PLP, PAN OUT PANEL LEVEL 등의 모든 제품에 상기와 같은 제1 도금층, 제2 도금층 및 코팅층을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. At this time, in the embodiment, the first plating layer, the second plating layer and A process of forming a coating layer may be performed.

도 22는 도 1의 제품 대비, 상부에 전자소자가 추가로 배치되고, 이를 몰딩하는 몰딩층이 추가로 배치된 구조를 가진다.22 has a structure in which an electronic device is additionally disposed on an upper portion and a molding layer for molding the electronic device is additionally disposed compared to the product of FIG. 1 .

즉, 도 22는, 도 1에 도시된 절연 기판에 대응하는 절연 기판(100)과, 상기 절연 기판 상에 실장된 전자 소자(400a, 400b), 상기 절연 기판(100) 상에 배치되고, 상기 전자 소자(400a, 400b)를 몰딩하는 몰딩층(410)을 포함할 수 있다.That is, FIG. 22 shows an insulating substrate 100 corresponding to the insulating substrate shown in FIG. 1 , electronic devices 400a and 400b mounted on the insulating substrate, and disposed on the insulating substrate 100 , A molding layer 410 for molding the electronic devices 400a and 400b may be included.

그리고, 다른 실시 예에 따르면, 제1 도금층(510), 제2 도금층(520) 및 마킹층(530)은 절연 기판의 측면과, 몰딩층(410)의 측면, 그리고 몰딩층(410)의 상면에 배치되는 구조를 가질 수 있다.And, according to another embodiment, the first plating layer 510 , the second plating layer 520 , and the marking layer 530 are the side surface of the insulating substrate, the side surface of the molding layer 410 , and the upper surface of the molding layer 410 . It may have a structure disposed in

즉, 도 1에서는 인쇄회로기판이 절연기판만을 포함하는 구조였고, 이에 따라 도금층들이 상기 절연 기판의 상면에 형성되었다.That is, in FIG. 1 , the printed circuit board had a structure including only the insulating substrate, and accordingly, plating layers were formed on the upper surface of the insulating substrate.

이와 다르게, 도 22에서는, 절연 기판 상에 몰딩층이 추가로 배치되고, 이에 따라 제1 도금층(510)은 상기 몰딩층의 측면 및 이의 상면에 배치되는 구조를 가질 수 있다.Alternatively, in FIG. 22 , a molding layer is additionally disposed on the insulating substrate, and accordingly, the first plating layer 510 may have a structure disposed on the side surface of the molding layer and an upper surface thereof.

실시 예에서는 상기 절연 기판의 외측에 형성되는 전자파 차폐층을 도금을 이용하여 형성하도록 하며, 이에 따라 형성되는 제1 도금층에 대한 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 절연 기판의 외측에 형성되는 제1 도금층(210)을 도금 공정을 통해 형성함으로써, 제1 도금층을 형성하기 위해 소요되는 시간을 단축할 수 있고, 이에 따른 제조 단가를 절감할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 전자파 차폐를 위한 차폐층을 도금으로 형성함에 따라 이에 의해 형성되는 제1 도금층(210)의 두께 제어가 용이하다.In an embodiment, the electromagnetic wave shielding layer formed on the outer side of the insulating substrate is formed using plating, thereby improving the reliability of the formed first plating layer. In addition, in the embodiment, by forming the first plating layer 210 formed on the outside of the insulating substrate through a plating process, it is possible to shorten the time required to form the first plating layer, thereby reducing the manufacturing cost. can In addition, in the embodiment, as the shielding layer for shielding electromagnetic waves is formed by plating, it is easy to control the thickness of the first plating layer 210 formed thereby.

또한, 실시 예에서는 절연 기판의 복수의 모서리 영역 중 어느 하나의 모서리 영역에 도금층이 형성되지 않는 브리지 영역을 형성한다. 즉, 인쇄회로기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함한다. 그리고, 상기 슬롯은 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 절연 기판 내에 매립된 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역을 제외한 나머지 영역에 형성될 수 있다. 이에 따르면, 실시 예에서는 상기와 같은 브리지 영역을 최소화할 수 있으며, 이에 따른 전자파 차폐 성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 브리지 영역은 상기 모서리 영역 중 전자 소자와 거리가 가장 먼 영역에 형성됨에 따라, 상기 브리지 영역에 의해 발생하는 전자파 차폐 성능 저하 및 방열 성능 저하 문제를 최소화할 수 있다.In addition, in the embodiment, a bridge region in which a plating layer is not formed is formed in any one of the plurality of edge regions of the insulating substrate. That is, the side surface of the printed circuit board includes a plurality of corner regions. In addition, the slot may be formed in a region other than a corner region having the longest distance from an electronic device buried in the insulating substrate among the plurality of corner regions. According to this, in the embodiment, it is possible to minimize the bridge area as described above, and accordingly, the electromagnetic wave shielding performance can be improved. In addition, since the bridge region is formed in a region furthest from an electronic device among the corner regions, it is possible to minimize the problems of electromagnetic wave shielding performance degradation and heat dissipation performance degradation caused by the bridge region.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, etc. described in the above embodiments are included in at least one embodiment, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, features, structures, effects, etc. illustrated in each embodiment can be combined or modified for other embodiments by those of ordinary skill in the art to which the embodiments belong. Accordingly, the contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the embodiments.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In the above, the embodiment has been mainly described, but this is only an example and does not limit the embodiment, and those of ordinary skill in the art to which the embodiment belongs are provided with several examples not illustrated above in the range that does not deviate from the essential characteristics of the embodiment. It can be seen that variations and applications of branches are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be implemented by modification. And differences related to such modifications and applications should be construed as being included in the scope of the embodiments set forth in the appended claims.

Claims (10)

복수의 절연층을 포함하고, 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층에 캐비티가 형성된 절연 기판;
상기 절연 기판의 상기 캐비티 내에 배치된 제1 전자 소자; 및
상기 절연 기판의 측면에 배치되는 도금층을 포함하고,
상기 절연 기판의 측면은,
상기 도금층이 배치되는 제1 부분과,
상기 도금층이 배치되지 않는 상기 제1 부분을 제외한 제2 부분을 포함하고,
상기 제1 전자 소자와 상기 제1 부분 사이의 거리는,
상기 제1 전자 소자와 상기 제2 부분 사이의 거리보다 가까운,
인쇄회로기판.
an insulating substrate including a plurality of insulating layers, wherein a cavity is formed in at least one insulating layer among the plurality of insulating layers;
a first electronic device disposed in the cavity of the insulating substrate; and
A plating layer disposed on a side surface of the insulating substrate,
The side surface of the insulating substrate,
a first portion on which the plating layer is disposed;
and a second portion excluding the first portion where the plating layer is not disposed,
a distance between the first electronic device and the first portion;
closer than the distance between the first electronic device and the second portion;
printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 도금층은,
상기 절연 기판의 상기 측면의 제1 부분과, 상기 절연 기판의 상면에 배치되는 제1 도금층; 및
상기 제1 도금층 상에 배치되는 제2 도금층을 포함하는,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
The plating layer is
a first portion of the side surface of the insulating substrate and a first plating layer disposed on an upper surface of the insulating substrate; and
comprising a second plating layer disposed on the first plating layer;
printed circuit board.
제2항에 있어서,
상기 제1 도금층은,
상기 절연 기판의 측면의 상기 제1 부분에 형성되는 제1 영역과,
상기 절연 기판의 상면에 형성되는 제2 영역을 포함하고,
상기 제2 도금층은, 상기 제1 도금층의 상기 제1 영역 상에 배치되는,
인쇄회로기판.
3. The method of claim 2,
The first plating layer,
a first region formed in the first portion of a side surface of the insulating substrate;
a second region formed on the upper surface of the insulating substrate;
The second plating layer is disposed on the first region of the first plating layer,
printed circuit board.
제3항에 있어서,
상기 제1 도금층의 상기 제2 영역 상에 배치되는 마킹층을 포함하는,
인쇄회로기판.
4. The method of claim 3,
including a marking layer disposed on the second region of the first plating layer;
printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 절연 기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함하고,
상기 절연 기판의 측면의 제2 부분은, 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역인,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
The side surface of the insulating substrate includes a plurality of corner regions,
The second portion of the side surface of the insulating substrate is a corner region that is the farthest from the electronic device among the plurality of corner regions,
printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 절연 기판은,
상기 복수의 절연층 증 최상층 절연층 상에 배치되는 제2 전자 소자; 및
상기 최상층 절연층 상에 배치되고, 상기 제2 전자 소자를 몰딩하는 몰딩층을 포함하며,
상기 도금층은,
상기 복수의 절연층 및 상기 몰딩층의 측면의 제1 부분에 배치되는,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
The insulating substrate is
a second electronic device disposed on the uppermost insulating layer of the plurality of insulating layers; and
a molding layer disposed on the uppermost insulating layer and molding the second electronic device;
The plating layer is
disposed on a first portion of a side surface of the plurality of insulating layers and the molding layer,
printed circuit board.
복수의 절연층을 포함하고 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층에 형성된 캐비티에 제1 전자 소자가 매립된 절연 기판을 제조하고,
상기 절연 기판을 관통하는 슬롯을 형성하고,
상기 슬롯 내에 도금을 진행하여 도금층을 형성하는 것을 포함하고,
상기 슬롯은,
상기 절연 기판 상에 개루프 형상을 가지며 적어도 하나의 브리지 영역을 포함하고,
상기 절연 기판의 측면은,
상기 슬롯이 형성된 영역에 대응되고, 상기 도금층이 배치되는 제1 부분과,
상기 브리지 영역에 대응되고, 상기 도금층이 배치되지 않는 상기 제1 부분을 제외한 제2 부분을 포함하고,
상기 제1 전자 소자와 상기 제1 부분 사이의 거리는,
상기 제1 전자 소자와 상기 제2 부분 사이의 거리보다 가까우며,
상기 도금층은,
상기 절연 기판의 상기 측면의 제1 부분과, 상기 절연 기판의 상면에 배치되는 제1 도금층; 및
상기 제1 도금층 상에 배치되는 제2 도금층을 포함하는,
인쇄회로기판의 제조 방법.
manufacturing an insulating substrate including a plurality of insulating layers in which a first electronic device is embedded in a cavity formed in at least one insulating layer among the plurality of insulating layers;
forming a slot passing through the insulating substrate;
Including forming a plating layer by performing plating in the slot,
The slot is
and at least one bridge region having an open loop shape on the insulating substrate;
The side surface of the insulating substrate,
a first portion corresponding to the region in which the slot is formed and on which the plating layer is disposed;
and a second portion corresponding to the bridge region except for the first portion on which the plating layer is not disposed;
a distance between the first electronic device and the first portion;
closer than the distance between the first electronic device and the second portion,
The plating layer is
a first portion of the side surface of the insulating substrate and a first plating layer disposed on an upper surface of the insulating substrate; and
comprising a second plating layer disposed on the first plating layer;
A method for manufacturing a printed circuit board.
제7항에 있어서,
상기 절연 기판을 제조하는 것은,
판넬 베이스로 절연 기판에 대응하는 유닛을 복수 개 제조하고,
상기 복수 개의 유닛의 각각에 상기 슬롯을 형성하는 것을 포함하고,
상기 브리지 영역은,
상기 판넬 베이스에서, 상기 복수의 유닛이 각각 분리되지 않도록 하는,
인쇄회로기판의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
To manufacture the insulating substrate,
A plurality of units corresponding to the insulating substrate are manufactured as a panel base,
Including forming the slot in each of the plurality of units,
The bridge area is
In the panel base, to prevent the plurality of units from being separated from each other,
A method for manufacturing a printed circuit board.
제7항에 있어서,
상기 제1 도금층은,
상기 절연 기판의 측면의 상기 제1 부분에 형성되는 제1 영역과,
상기 절연 기판의 상면에 형성되는 제2 영역을 포함하고,
상기 제2 도금층은, 상기 제1 도금층의 상기 제1 영역 상에 배치되며,
상기 제1 도금층의 상기 제2 영역 상에 배치되는 마킹층을 형성하는 것을 포함하는,
인쇄회로기판의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
The first plating layer,
a first region formed in the first portion of a side surface of the insulating substrate;
a second region formed on the upper surface of the insulating substrate;
The second plating layer is disposed on the first region of the first plating layer,
Comprising forming a marking layer disposed on the second region of the first plating layer,
A method for manufacturing a printed circuit board.
제7항에 있어서,
상기 절연 기판의 측면은 복수의 모서리 영역을 포함하고,
상기 절연 기판의 측면의 제2 부분은, 상기 복수의 모서리 영역 중 상기 전자 소자와의 거리가 가장 먼 모서리 영역인,
인쇄회로기판의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
The side surface of the insulating substrate includes a plurality of corner regions,
The second portion of the side surface of the insulating substrate is a corner region that is the farthest from the electronic device among the plurality of corner regions,
A method for manufacturing a printed circuit board.
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