KR20150099072A - A printed circuit board and a method of manufacturing the same - Google Patents

A printed circuit board and a method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
KR20150099072A
KR20150099072A KR1020140020573A KR20140020573A KR20150099072A KR 20150099072 A KR20150099072 A KR 20150099072A KR 1020140020573 A KR1020140020573 A KR 1020140020573A KR 20140020573 A KR20140020573 A KR 20140020573A KR 20150099072 A KR20150099072 A KR 20150099072A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
insulating layer
circuit board
printed circuit
reference pad
pad
Prior art date
Application number
KR1020140020573A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102163289B1 (en
Inventor
박충식
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020140020573A priority Critical patent/KR102163289B1/en
Priority to US14/621,998 priority patent/US9801275B2/en
Priority to TW104104972A priority patent/TWI683603B/en
Priority to CN201510085004.9A priority patent/CN104853518B/en
Priority to EP15155421.9A priority patent/EP2911485B1/en
Publication of KR20150099072A publication Critical patent/KR20150099072A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102163289B1 publication Critical patent/KR102163289B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

A printed circuit board according to an embodiment includes: a first insulating layer which has a reference pad formed on one of an upper side and a lower side and has an internal via; an upper insulating layer which is formed on the first insulating layer and has an internal via; and a lower insulating layer which is formed under the first insulating layer and has an internal via. The via of the first insulating layer, the via of the upper insulating layer, or the via of the first insulating layer and the via of the lower insulating layer are integrated.

Description

인쇄회로기판 및 이의 제조 방법{A PRINTED CIRCUIT BOARD AND A METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a printed circuit board (PCB)

본 발명은 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same.

인쇄회로기판(PCB; Printed Circuit Board)은 전기 절연성 기판에 구리와 같은 전도성 재료로 회로 패턴을 인쇄하여 형성한 것으로, 전자부품을 탑재하기 직전의 기판(Board)을 말한다. 즉, 여러 종류의 전자 소자를 평판 위에 밀집 탑재하기 위해, 각 부품의 장착 위치를 확정하고, 부품을 연결하는 회로 패턴을 평판 표면에 인쇄하여 고정한 회로 기판을 의미한다.A printed circuit board (PCB) is a board formed by printing a circuit pattern on an electrically insulating substrate with a conductive material such as copper, and is a board immediately before mounting electronic components. In other words, a circuit board on which a mounting position of each component is determined, and a circuit pattern connecting the components are printed on the surface of the flat plate and fixed is fixed in order to densely mount various kinds of electronic devices on a flat plate.

또한, 최근 들어 전자산업의 발달에 따라 전자 부품의 고기능화, 소형화, 가격 경쟁력 및 단 납기의 요구가 급증하고 있다. 이러한 추세에 대응하고자 인쇄회로기판업체에서는 세미 에디티브 방식(SAP: Semi Additive Process)을 적용하여 인쇄회로기판의 박형화 및 고밀도화 추세에 대응하고 있다.Recently, with the development of the electronic industry, demands for high-performance, miniaturization, price competitiveness and short delivery time of electronic components are rapidly increasing. To cope with this trend, printed circuit board companies are responding to the trend of thinning and increasing density of printed circuit boards by applying semi-additive process (SAP: Semi Additive Process).

한편, 상기와 같은 인쇄회로기판은 층간 도통을 위한 도전성 비아가 형성된다. 또한, 최근에는 인쇄회로기판의 방열 성능 등을 고려하여, 일반 비아보다 사이즈가 큰 라지 비아가 개발되고 있다.On the other hand, the printed circuit board as described above is formed with conductive vias for interlayer connection. In recent years, a large-size via is larger than a normal via in consideration of the heat radiation performance of a printed circuit board and the like.

도 1은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a conventional printed circuit board.

도 1을 참조하면, 인쇄회로기판은 제 1 절연층(1), 제 2 절연층(2), 제 3 절연층(3), 제 4 절연층(4), 제 5 절연층(5), 제 6 절연층(6), 제 1 비아(7), 제 1 패드(8), 제 2 패드(9), 제 2 비아(10), 제 3 패드(11), 제 3 비아(12), 제 4 패드(13), 제 4 비아(14), 제 5 패드(15), 제 5 비아(16), 제 6 패드(17), 제 6 비아(18) 및 제 7 패드(19)를 포함한다.1, a printed circuit board includes a first insulating layer 1, a second insulating layer 2, a third insulating layer 3, a fourth insulating layer 4, a fifth insulating layer 5, The first via 8, the second pad 9, the second via 10, the third pad 11, the third via 12, and the third insulating layer 6, the first via 7, the first pad 8, The fourth pad 13, the fourth via 14, the fifth pad 15, the fifth via 16, the sixth pad 17, the sixth via 18, and the seventh pad 19 do.

상기와 같은 인쇄회로기판은 중앙에 코어 기판이 존재하지 않는 Coreless 기판이다.The printed circuit board is a coreless substrate without a core substrate at the center.

상기 제 1 내지 6 절연층(1, 2, 3, 4, 5, 6)은 모두 동일한 재질로 형성된다. 즉, 상기 제 1 내지 6 절연층(1, 2, 3, 4, 5, 6)은 수지만으로 형성되는 절연시트일 수 있다.The first to sixth insulating layers 1, 2, 3, 4, 5, and 6 are all formed of the same material. That is, the first to sixth insulating layers 1, 2, 3, 4, 5, and 6 may be an insulating sheet formed only of resin.

제 1 비아(7), 제 2 비아(10), 제 3 비아(12), 제 4 비아(14), 제 5 비아(16) 및 제 6 비아(18)는 상기 제 1 내지 6 절연층(1, 2, 3, 4, 5, 6)의 내부에 각각 형성된다.The first via 7, the second via 10, the third via 12, the fourth via 14, the fifth via 16, and the sixth via 18 are formed in the first through sixth insulating layers 1, 2, 3, 4, 5, and 6, respectively.

그리고, 상기 제 1 패드(8), 제 2 패드(9), 제 3 패드(11), 제 4 패드(13), 제 5 패드(15), 제 6 패드(17) 및 제 7 패드(19)는 상기 제 1 내지 6 절연층(1, 2, 3, 4, 5, 6)의 표면에 각각 형성되어, 상기 제 1 내지 6 절연층(1, 2, 3, 4, 5, 6)의 표면으로 확장되어 있다.The first pad 8, the second pad 9, the third pad 11, the fourth pad 13, the fifth pad 15, the sixth pad 17 and the seventh pad 19 Are formed on the surfaces of the first to sixth insulating layers 1, 2, 3, 4, 5 and 6 so as to form the first to sixth insulating layers 1, 2, 3, 4, 5, It is extended to the surface.

상기 제 1 패드(8), 제 2 패드(9), 제 3 패드(11), 제 4 패드(13), 제 5 패드(15), 제 6 패드(17) 및 제 7 패드(19)는 상기 제 1 비아(7), 제 2 비아(10), 제 3 비아(12), 제 4 비아(14), 제 5 비아(16) 및 제 6 비아(18)를 상호 연결한다.The first pad 8, the second pad 9, the third pad 11, the fourth pad 13, the fifth pad 15, the sixth pad 17 and the seventh pad 19 And connects the first via 7, the second via 10, the third via 12, the fourth via 14, the fifth via 16 and the sixth via 18 with each other.

이하, 상기와 같은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a printed circuit board according to the related art will be described.

도 2 내지 4는 도 1에 도시된 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정순으로 설명하기 위한 단면도이다.FIGS. 2 to 4 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a conventional technique shown in FIG.

먼저, 도 2를 참조하면 제 1 절연층(1)을 준비하고, 그에 따라 상기 준비된 제 1 절연층(1)에 비아 홀(도시하지 않음)을 형성한 후, 상기 형성된 비아 홀 내부를 전도성 페이스트로 충진하거나, 금속 물질을 도금하여 제 1 비아(7)를 형성한다.First, referring to FIG. 2, a first insulating layer 1 is prepared, a via hole (not shown) is formed in the prepared first insulating layer 1, and then a conductive paste Or the first via 7 is formed by plating a metal material.

그리고, 상기 제 1 절연층(1)의 상면에 상기 제 1 비아(7)의 상면과 연결되는 제 1 패드(8)를 형성하고, 상기 제 1 절연층(1)의 하면에 상기 제 1 비아(7)의 하면과 연결되는 제 2 패드(9)를 형성한다.A first pad 8 connected to the upper surface of the first via 7 is formed on the upper surface of the first insulating layer 1 and a second pad 8 is formed on the lower surface of the first insulating layer 1, And a second pad 9 connected to the bottom surface of the first substrate 7 is formed.

다음으로, 도 3을 참조하면 상기 제 1 절연층(1) 위에 제 2 절연층(2)을 형성하고, 상기 제 1 절연층(1) 아래에 제 5 절연층(5)을 형성한다.Next, referring to FIG. 3, a second insulating layer 2 is formed on the first insulating layer 1, and a fifth insulating layer 5 is formed on the first insulating layer 1.

그리고, 상기 형성된 제 2 절연층(2)에 상기 제 1 비아(7)와 같은 방법으로 제 2 비아(10)를 형성한다. 그리고, 상기 제 2 절연층(2)의 상면에 상기 제 2 비아(10)의 상면과 연결되는 제 3 패드(11)를 형성한다.The second vias 10 are formed in the second insulating layer 2 in the same manner as the first vias 7. A third pad 11 connected to the upper surface of the second via 10 is formed on the upper surface of the second insulating layer 2.

또한, 상기 형성된 제 5 절연층(5)에 제 5 비아(16)를 형성하고, 상기 형성된 제 5 비아(16)의 하면과 연결되는 제 6 패드(17)를 상기 제 5 절연층(5)의 하면에 형성한다.A fifth pad 16 is formed on the fifth insulating layer 5 and a sixth pad 17 connected to the lower surface of the fifth pad 16 is formed on the fifth insulating layer 5, As shown in FIG.

다음으로, 도 4를 참조하면 상기와 같은 방법으로 제 3 절연층(3), 제 4 절연층(4) 및 제 6 절연층(6)을 각각 형성한다.Next, referring to FIG. 4, a third insulating layer 3, a fourth insulating layer 4, and a sixth insulating layer 6 are formed in the same manner as described above.

그리고, 상기 제 3 절연층(3)에 제 3 비아(12)를 형성하고, 상기 제 3 절연층(3)의 상면에 상기 제 3 비아(12)의 상면과 연결되는 제 4 패드(13)를 형성한다.A third pad 12 is formed on the third insulating layer 3 and a fourth pad 13 connected to the upper surface of the third via 12 is formed on the upper surface of the third insulating layer 3, .

또한, 상기 제 3 절연층(3) 위에 제 4 절연층(4)을 형성하고, 상기 형성된 제 4 절연층(4)에 제 4 비아(14)를 형성하고, 상기 형성된 제 4 절연층(4) 위에 제 5 패드(15)를 형성한다.A fourth insulating layer 4 is formed on the third insulating layer 3 and a fourth vias 14 is formed on the fourth insulating layer 4. The fourth insulating layer 4 The fifth pad 15 is formed.

그리고, 상기 제 5 절연층(5) 아래에 제 6 절연층(6)을 형성하고, 상기 형성된 제 6 절연층(6)에 제 6 비아(6)를 형성하고, 상기 제 6 절연층(6) 하면에 제 7 패드(19)를 형성한다.A sixth insulating layer 6 is formed under the fifth insulating layer 5, a sixth via 6 is formed in the sixth insulating layer 6, and the sixth insulating layer 6 The seventh pad 19 is formed.

그러나, 상기와 같은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판은 각 절연층마다 비아의 연결을 위한 패드가 형성되어 있으며, 이는 인쇄회로기판의 디자인을 제약하는 요인으로 작용한다.However, the printed circuit board according to the related art has a pad for connection of vias for each insulating layer, which restricts the design of the printed circuit board.

또한, 상기와 같은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판은, 각 절연층마다 레이저 공정 및 비아 도금 공정을 진행해야 하며, 이에 따른 리드 타임(Lead Time)이 증가하는 문제점이 있다. In addition, in the above-described conventional printed circuit board, a laser process and a via plating process must be performed for each insulating layer, leading to an increase in lead time.

실시 예에서는 새로운 구조의 인쇄회로기판을 제공한다.Embodiments provide a printed circuit board of a new structure.

실시 예에서는 새로운 구조의 비아를 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.Embodiments provide printed circuit boards comprising vias of new construction.

제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that the technical objectives to be achieved by the embodiments are not limited to the technical matters mentioned above and that other technical subjects not mentioned are apparent to those skilled in the art to which the embodiments proposed from the following description belong, It can be understood.

실시 예에 따른 인쇄회로기판은 상면 및 하면 중 어느 한 면에 기준 패드가 형성되며, 내부에 비아가 형성된 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층 위에 형성되며, 내부에 비아가 형성된 상부 절연층; 및 상기 제 1 절연층 아래에 형성되며, 내부에 비아가 형성된 하부 절연층을 포함하며, 상기 제 1 절연층에 형성된 비아와 상기 상부 절연층에 형성된 비아, 또는 상기 제 1 절연층에 형성된 비아와 상기 하부 절연층에 형성된 비아는 일체로 형성된다.A printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first insulation layer having a reference pad formed on one of an upper surface and a lower surface and having a via formed therein; An upper insulating layer formed on the first insulating layer and having a via formed therein; And a lower insulating layer formed under the first insulating layer and having a via formed therein, the via formed in the first insulating layer, the via formed in the upper insulating layer, or the via formed in the first insulating layer, The vias formed in the lower insulating layer are integrally formed.

또한, 상기 기준 패드는, 상기 제 1 절연층의 상면에 형성되며, 상기 상면에 형성된 기준 패드를 중심으로 하부에 형성된 상기 제 1 절연층의 비아와, 상기 하부 절연층의 비아는 서로 일체로 형성된다.In addition, the reference pad may be formed on the upper surface of the first insulating layer, and the vias of the first insulating layer and the vias of the lower insulating layer formed below the reference pad formed on the upper surface may be integrally formed do.

또한, 상기 제 1 절연층에 형성된 비아의 하면과, 상기 하부 절연층에 형성된 비아의 상면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉한다.The lower surface of the via formed in the first insulating layer and the upper surface of the via formed in the lower insulating layer are in direct contact with each other with the same width.

또한, 상기 기준 패드는, 상기 제 1 절연층의 하면에 형성되며, 상기 하면에 형성된 기준 패드를 중심으로 상부에 형성된 상기 제 1 절연층의 비아와, 상기 상부 절연층의 비아는 서로 일체로 형성된다.The reference pad may be formed on the lower surface of the first insulating layer, and the vias of the first insulating layer and the vias of the upper insulating layer formed on the upper surface of the reference pad formed on the lower surface may be integrally formed do.

또한, 상기 제 1 절연층에 형성된 비아의 상면과, 상기 상부 절연층에 형성된 비아의 하면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉한다.The upper surface of the via formed in the first insulating layer and the lower surface of the via formed in the upper insulating layer are in direct contact with each other with the same width.

또한, 상기 상부 절연층은 상기 제 1 절연층 위에 형성된 제 2 절연층과, 상기 제 2 절연층 위에 형성된 제 3 절연층을 포함하며, 상기 제 2 절연층에 형성되는 비아와, 제 3 절연층에 형성되는 비아는, 서로 일체로 형성된다.The upper insulating layer may include a second insulating layer formed on the first insulating layer, and a third insulating layer formed on the second insulating layer. The via formed in the second insulating layer, Are formed integrally with each other.

또한, 상기 하부 절연층은 상기 제 1 절연층 아래에 형성된 제 2 절연층과,The lower insulating layer may include a second insulating layer formed under the first insulating layer,

상기 제 2 절연층 아래에 형성된 제 3 절연층을 포함하며,And a third insulating layer formed below the second insulating layer,

상기 제 2 절연층에 형성되는 비아와, 제 3 절연층에 형성되는 비아는, 서로 일체로 형성된다.The via formed in the second insulating layer and the via formed in the third insulating layer are formed integrally with each other.

또한, 상기 제 2 절연층 및 제 3 절연층에 형성된 비아는, 상기 제 1 절연층에 형성된 비아와 함께 일체로 형성된다.The vias formed in the second insulating layer and the third insulating layer are integrally formed with the vias formed in the first insulating layer.

또한, 상기 상부 절연층 및 하부 절연층은 각각 복수 개의 층으로 구성되며, 상기 기준 패드를 중심으로 상부에 위치한 복수의 절연층들의 비아는 서로 일체로 형성되고, 상기 기준 패드를 중심으로 하부에 위치한 복수의 절연층들의 비아는 서로 일체로 형성된다.The upper insulating layer and the lower insulating layer are each formed of a plurality of layers. Vias of the plurality of insulating layers located at the upper portion with respect to the reference pad are integrally formed with each other. The vias of the plurality of insulating layers are formed integrally with each other.

또한, 상기 상부에 위치한 복수의 절연층들의 비아 및 상기 하부에 위치한 복수의 절연층들의 비아 중 적어도 하나는, 상기 기준 패드의 접촉하는 일면에서 타면으로 갈수록 폭이 점차 증가하는 형상을 갖는다.In addition, at least one of the vias of the plurality of insulating layers located at the upper portion and the vias of the plurality of insulating layers located at the lower portion has a shape gradually increasing in width from one surface contacting the reference pad to the other surface.

한편, 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법은 제 1 절연층의 일면에 기준 패드를 형성하는 단계; 상기 형성된 제 1 절연층의 상부에 상부 절연층을 형성하는 단계; 상기 형성된 제 1 절연층의 하부에 하부 절연층을 형성하는 단계; 상기 제 1 절연층에 형성된 기준 패드를 중심으로, 상부에 위치한 모든 절연층을 동시에 개방하여 상기 기준 패드의 상면을 노출하는 제 1 비아 홀을 형성하는 단계; 상기 제 1 절연층에 형성된 기준 패드를 중심으로 하부에 위치한 모든 절연층을 동시에 개방하여 상기 기준 패드의 하면을 노출하는 제 2 비아 홀을 형성하는 단계; 상기 제 1 비아 홀에 도전성 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 비아 홀을 매립하는 제 1 비아를 형성하는 단계; 및 상기 제 2 비아 홀에 도전성 페이스트를 충진하여, 상기 제 2 비아 홀을 매립하는 제 2 비아를 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, including: forming a reference pad on one surface of a first insulating layer; Forming an upper insulating layer on the first insulating layer; Forming a lower insulating layer on a lower portion of the first insulating layer; Forming a first via hole exposing an upper surface of the reference pad by simultaneously opening all the insulating layers located on the upper side of the reference pad formed on the first insulating layer; Forming a second via hole exposing a bottom surface of the reference pad by simultaneously opening all insulating layers located below the reference pad formed on the first insulating layer; Filling the first via hole with a conductive paste to form a first via filling the first via hole; And filling the second via hole with a conductive paste to form a second via filling the second via hole.

또한, 상기 기준 패드는, 상기 제 1 절연층의 상면에 형성되고, 상기 제 2 비아 홀은, 상기 제 1 절연층과 상기 하부 절연층을 동시에 개방하여 형성되며, 상기 제 2 비아는, 상기 제 1 절연층과 상기 하부 절연층을 동시에 개방하여 형성한 제 2 비아 홀을 매립한다.The reference pad is formed on the upper surface of the first insulating layer and the second via hole is formed by simultaneously opening the first insulating layer and the lower insulating layer, A second via hole formed by simultaneously opening the first insulating layer and the lower insulating layer is buried.

또한, 상기 제 1 절연층에 형성되는 상기 제 2 비아의 하면과, 상기 하부 절연층에 형성되는 제 2 비아의 상면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉한다.The lower surface of the second via formed in the first insulating layer and the upper surface of the second via formed in the lower insulating layer are in direct contact with each other with the same width.

또한, 상기 기준 패드는, 상기 제 1 절연층의 하면에 형성되고, 상기 제 1 비아 홀은, 상기 제 1 절연층과 상기 상부 절연층을 동시에 개방하여 형성되며, 상기 제 1 비아는, 상기 제 1 절연층과 상기 상부 절연층을 동시에 개방하여 형성한 제 1 비아 홀을 매립한다.The reference pad may be formed on a lower surface of the first insulating layer and the first via hole may be formed by simultaneously opening the first insulating layer and the upper insulating layer, The first via hole formed by simultaneously opening the first insulating layer and the upper insulating layer is buried.

또한, 상기 제 1 절연층에 형성되는 상기 제 1 비아의 상면과, 상기 하부 절연층에 형성되는 제 1 비아의 하면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉한다.The upper surface of the first via formed in the first insulating layer and the lower surface of the first via formed in the lower insulating layer are in direct contact with each other with the same width.

또한, 상기 제 1 비아 및 제 2 비아 중 적어도 하나는, 상기 기준 패드와 접촉하는 일면으로부터 타면으로 갈수록 폭이 확장되는 형상을 갖는다.In addition, at least one of the first via and the second via has a shape extending from one surface contacting with the reference pad to the other surface.

또한, 상기 상부 절연층은 복수 개의 층으로 구성되며, 상기 복수 개의 층으로 구성된 상부 절연층 내에는 일체의 상기 제 1 비아가 공통 형성된다.In addition, the upper insulating layer is formed of a plurality of layers, and the first vias are integrally formed in the upper insulating layer composed of the plurality of layers.

또한, 상기 하부 절연층은 복수 개의 층으로 구성되며, 상기 복수 개의 층으로 구성된 하부 절연층 내에는 일체의 상기 제 2 비아가 공통 형성된다.Further, the lower insulating layer is composed of a plurality of layers, and the second vias are integrally formed in the lower insulating layer composed of the plurality of layers.

본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 기준 패드 이외에 추가의 패드 형성이 불필요함으로써, 인쇄회로기판의 디자인 자유도를 증가시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since it is unnecessary to form an additional pad in addition to the reference pad, the degree of design freedom of the printed circuit board can be increased.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 복수의 층을 한번에 개방하는 비아 홀을 형성하고, 그에 따라 상기 형성된 비아 홀을 매립하는 비아를 형성함으로써, 인쇄회로기판의 제조를 위한 리드 타임 및 공정 원가를 절감할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, by forming via-holes for opening a plurality of layers at one time and forming vias for embedding the via-holes thus formed, lead time and process cost for manufacturing a printed circuit board Can be saved.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면 복수의 층에 형성되는 비아가 동시에 일체로 형성되기 때문에, 복수의 층에 각각 형성되는 비아의 정렬성을 개선할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, since the vias formed in the plurality of layers are integrally formed at the same time, the alignment property of the vias formed in each of the plurality of layers can be improved.

도 1은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도이다.
도 2 내지 4는 도 1에 도시된 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정순으로 설명하기 위한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 보여주는 단면도이다.
도 6 내지 10은 도 5에 도시된 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 단면도이다.
도 11은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 보여주는 단면도이다.
도 12 내지 14는 도 11에 도시된 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 단면도이다.
도 15는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 보여주는 단면도이다.
도 16 내지 18은 도 15에 도시된 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a conventional printed circuit board.
FIGS. 2 to 4 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a conventional technique shown in FIG.
5 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.
FIGS. 6 to 10 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention shown in FIG.
11 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.
12 to 14 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention shown in FIG. 11 in the order of steps.
15 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.
16 to 18 are sectional views for explaining the manufacturing method of the printed circuit board according to the third embodiment of the present invention shown in FIG.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.In order to clearly illustrate the present invention in the drawings, thicknesses are enlarged in order to clearly illustrate various layers and regions, and parts not related to the description are omitted, and like parts are denoted by similar reference numerals throughout the specification .

층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.Whenever a portion of a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" another portion, it includes not only the case where it is "directly on" another portion, but also the case where there is another portion in between. Conversely, when a part is "directly over" another part, it means that there is no other part in the middle.

도 5는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 보여주는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 인쇄회로기판(100)은 제 1 절연층(110), 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130), 제 4 절연층(140), 제 5 절연층(150), 제6 절연층(160), 기준 패드(115), 제 1 비아(170), 제 2 비아(180), 제 1 외층 패드(190) 및 제 2 외층 패드(195)를 포함한다.5, the printed circuit board 100 includes a first insulating layer 110, a second insulating layer 120, a third insulating layer 130, a fourth insulating layer 140, a fifth insulating layer The first via layer 150, the sixth insulating layer 160, the reference pad 115, the first via 170, the second via 180, the first outer layer pad 190, and the second outer layer pad 195.

제 1 절연층(110), 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130), 제 4 절연층(140), 제 5 절연층(150) 및 제6 절연층(160)은 절연 플레이트를 형성할 수 있으며, 열경화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 유리 섬유 함침 기판일 수 있으며, 고분자 수지를 포함하는 경우, FR-4, BT(Bismaleimide Triazine), ABF(Ajinomoto Build up Film) 등의 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 폴리이미드계 수지를 포함할 수도 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.The first insulating layer 110, the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, the fourth insulating layer 140, the fifth insulating layer 150, Inorganic composite substrate or a glass fiber impregnated substrate. When a polymer resin is included, it may be a thermosetting or thermoplastic polymer substrate, a ceramic substrate, a bismaleimide triazine (BT), an ABF And Ajinomoto Build up Film. Alternatively, the epoxy resin may include a polyimide resin, but is not limited thereto.

제 1 절연층(110), 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130), 제 4 절연층(140), 제 5 절연층(150) 및 제6 절연층(160)은 서로 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 수지만으로 형성되는 절연시트이다.The first insulating layer 110, the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, the fourth insulating layer 140, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160 are the same And is preferably an insulating sheet formed of only a resin.

제 1 절연층(110)은 기준 절연층일 수 있다. 상기 기준 절연층은, 상기와 같은 제 1 절연층(110), 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130), 제 4 절연층(140), 제 5 절연층(150) 및 제6 절연층(160)의 적층 구조에서 제일 먼저 형성되는 절연층을 의미한다.The first insulating layer 110 may be a reference insulating layer. The reference insulating layer includes a first insulating layer 110, a second insulating layer 120, a third insulating layer 130, a fourth insulating layer 140, a fifth insulating layer 150, 6 < / RTI > insulating layer.

상기 기준 절연층(110) 중 어느 하나의 면에는 기준 패드(115)가 형성된다.A reference pad 115 is formed on one of the reference insulating layers 110.

상기 기준 패드(115)는 통상적인 인쇄회로기판의 제조 공정인 어디티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 및 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 가능하며 여기에서는 상세한 설명은 생략한다.The reference pad 115 may be formed by a conventional process such as an additive process, a subtractive process, a modified semi- additive process (MSAP), and a semi- additive process (SAP) And detailed description is omitted here.

상기 기준 패드(115)는 구리를 포함하는 금속으로 형성된다.The reference pad 115 is formed of a metal including copper.

상기 제 1 절연층(110) 위에는 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)이 순차로 적층된다.A second insulating layer 120, a third insulating layer 130, and a fourth insulating layer 140 are sequentially stacked on the first insulating layer 110.

그리고, 제 1 절연층(110) 아래에는 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)이 순차로 적층된다.A fifth insulating layer 150 and a sixth insulating layer 160 are sequentially stacked under the first insulating layer 110.

그리고, 상기 기준 패드(115)를 중심으로 상부에 형성되는 절연층에는 제 1 비아 홀(175)이 형성되고, 상기 기준 패드(115)를 중심으로 하부에 형성되는 절연층에는 제 2 비아 홀(185)이 형성된다.A first via hole 175 is formed in the insulating layer formed on the upper portion of the reference pad 115. A second via hole 175 is formed in the insulating layer formed on the lower surface of the reference pad 115, 185 are formed.

상기 제 1 비아 홀(175)은 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에 각각 형성된다.The first via hole 175 is formed in the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140, respectively.

이때, 상기 제 1 비아 홀(175)은 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)을 동시에 개방하는 것에 의해 형성된다.At this time, the first via hole 175 is formed by simultaneously opening the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140.

이에 따라, 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)이 가지는 상기 제 1 비아 홀(175)의 폭은 상부에 형성된 절연층의 비아 홀 폭과, 하부에 형성된 절연층의 비아 홀 폭에 상응한다.Accordingly, the width of the first via hole 175 of the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140 is greater than the width of the via hole of the insulating layer Hole width of the insulating layer formed in the lower portion.

다시 말해서, 제 2 절연층(120)에 형성되는 비아 홀의 상부 폭은 상기 제 3 절연층(130)에 형성되는 비아 홀의 하부 폭과 동일하다.In other words, the top width of the via hole formed in the second insulating layer 120 is the same as the bottom width of the via hole formed in the third insulating layer 130.

또한, 상기 제 3 절연층(130)에 형성된 비아 홀의 상부 폭은 상기 제 4 절연층(140)에 형성되는 비아 홀의 하부 폭과 동일하다.In addition, an upper width of the via hole formed in the third insulating layer 130 is equal to a width of a lower portion of the via hole formed in the fourth insulating layer 140.

그리고, 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에는 제 1 비아(170)가 형성된다. 다시 말해서, 상기 제 1 비아 홀(175)은 금속 물질에 의해 매립되어, 그에 따라 상기 제 1 비아(170)가 형성된다.A first via 170 is formed in the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140. In other words, the first via hole 175 is filled with a metal material, so that the first via 170 is formed.

이때, 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에 형성되는 제 1 비아(170)는 동시에 형성된다.At this time, the first vias 170 formed in the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140 are simultaneously formed.

즉, 상기 제 1 비아(170)는 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에 형성되는데, 이때, 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에 형성되는 비아는 서로 일체로 형성된다.That is, the first vias 170 are formed in the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140. At this time, the second insulating layer 120, The vias formed in the third insulating layer 130 and the fourth insulating layer 140 are formed integrally with each other.

또한, 상기 제 2 절연층(120) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 하면은 상기 기준 패드(115)의 상면과 직접 접촉하고, 상기 제 2 절연층(120) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 상면은 상기 제 3 절연층(130) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 하면과 직접 접촉한다.The lower surface of the first via 170 formed in the second insulation layer 120 is in direct contact with the upper surface of the reference pad 115 and the first via 170 formed in the second insulation layer 120 170 are in direct contact with the lower surface of the first via 170 formed in the third insulating layer 130.

그리고, 상기 제 2 절연층(120) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 상면 폭은 상기 제 3 절연층(130) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 하면 폭과 동일하다.The upper surface of the first via 170 formed in the second insulating layer 120 is the same as the lower surface of the first via 170 formed in the third insulating layer 130.

상기 제 3 절연층(130) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 상면은 상기 제 4 절연층(140) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 하면과 직접 접촉한다.The upper surface of the first via 170 formed in the third insulating layer 130 is in direct contact with the lower surface of the first via 170 formed in the fourth insulating layer 140.

그리고, 상기 제 3 절연층(130) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 상면 폭은 상기 제 4 절연층(140) 내에 형성되는 제 1 비아(170)의 하면 폭과 동일하다.The top surface of the first via 170 formed in the third insulating layer 130 is equal to the bottom width of the first via 170 formed in the fourth insulating layer 140.

또한, 상기 제 4 절연층(140)의 상면에는 상기 제 1 비아(170)의 상면과 접촉하는 제 1 외층 패드(190)가 형성된다.A first outer layer pad 190 is formed on the upper surface of the fourth insulating layer 140 to contact the upper surface of the first via 170.

즉, 본 발명의 실시 예에 따라 상기 복수의 절연층의 적층 구조에서 내부에 형성된 패드는 상기 설명한 기준 패드(115) 이외에는 존재하지 않다. 또한, 최 외층에 형성된 절연층의 노출 표면에는 상기 설명한 바와 같은 외층 패드가 형성된다.That is, according to the embodiment of the present invention, the pads formed in the laminated structure of the plurality of insulating layers do not exist except for the reference pad 115 described above. Further, an outer layer pad as described above is formed on the exposed surface of the insulating layer formed on the outermost layer.

상기 제 2 비아 홀(185)은 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 형성된다.The second via hole 185 is formed in the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160.

다시 말해서, 상기 기준 패드(115)를 중심으로 하부에 형성되는 절연층은 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)이며, 이에 따라 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 상기 제 2 비아 홀(185)이 형성된다.In other words, the insulating layer formed on the lower side with respect to the reference pad 115 is a first insulating layer 110, a fifth insulating layer 150, and a sixth insulating layer 160, The second via hole 185 is formed in the layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160.

이때, 상기 제 2 비아 홀(185)은 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)을 동시에 개방하는 것에 의해 형성된다.The second via hole 185 is formed by simultaneously opening the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160.

이에 따라, 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)이 가지는 상기 제 2 비아 홀(185)의 폭은 상부에 형성된 절연층의 비아 홀 폭과, 하부에 형성된 절연층의 비아 홀 폭에 상응한다.Hence, the width of the second via hole 185 of the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160 is determined by the width of the via hole of the insulating layer Hole width of the insulating layer formed in the lower portion.

다시 말해서, 제 1 절연층(110)에 형성되는 비아 홀의 하부 폭은 상기 제 5 절연층(150)에 형성되는 비아 홀의 상부 폭과 동일하다.In other words, the bottom width of the via hole formed in the first insulating layer 110 is equal to the top width of the via hole formed in the fifth insulating layer 150.

또한, 상기 제 5 절연층(150)에 형성된 비아 홀의 하부 폭은 상기 제 6 절연층(160)에 형성되는 비아 홀의 상부 폭과 동일하다.The lower width of the via hole formed in the fifth insulating layer 150 is the same as the upper width of the via hole formed in the sixth insulating layer 160.

그리고, 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에는 제 2 비아(180)가 형성된다. 다시 말해서, 상기 제 2 비아 홀(185)은 금속 물질에 의해 매립되어, 그에 따라 상기 제 2 비아(180)가 형성된다.A second via 180 is formed in the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160. In other words, the second via hole 185 is filled with a metal material, so that the second via 180 is formed.

이때, 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 형성되는 제 2 비아(180)는 동시에 형성된다.At this time, the second vias 180 formed in the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160 are simultaneously formed.

즉, 상기 제 2 비아(180)는 상기 제12 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 형성되는데, 이때, 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 형성되는 비아는 서로 일체로 형성된다.That is, the second vias 180 are formed in the twelfth insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160. At this time, the first insulating layer 110, The vias formed in the fifth insulating layer 150 and the sixth insulating layer 160 are formed integrally with each other.

또한, 상기 제 1 절연층(130) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 상면은 상기 기준 패드(115)의 하면과 직접 접촉하고, 상기 제 5 절연층(150) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 상면은 상기 제 1 절연층(110) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 하면과 직접 접촉한다.The upper surface of the second vias 180 formed in the first insulating layer 130 is in direct contact with the lower surface of the reference pad 115 and the second vias 180 formed in the fifth insulating layer 150 180 are in direct contact with the lower surface of the second via 180 formed in the first insulating layer 110.

그리고, 상기 제 5 절연층(120) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 상면 폭은 상기 제 1 절연층(110) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 하면 폭과 동일하다.The upper surface of the second via 180 formed in the fifth insulating layer 120 is equal to the lower surface of the second via 180 formed in the first insulating layer 110.

상기 제 6 절연층(160) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 상면은 상기 제 5 절연층(150) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 하면과 직접 접촉한다.The upper surface of the second via 180 formed in the sixth insulating layer 160 is in direct contact with the lower surface of the second via 180 formed in the fifth insulating layer 150.

그리고, 상기 제 6 절연층(160) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 상면 폭은 상기 제 5 절연층(150) 내에 형성되는 제 2 비아(180)의 하면 폭과 동일하다.The upper surface of the second via 180 formed in the sixth insulating layer 160 is equal to the lower surface of the second via 180 formed in the fifth insulating layer 150.

또한, 상기 제 6 절연층(160)의 하면에는 상기 제 2 비아(170)의 하면과 접촉하는 제 2 외층 패드(195)가 형성된다.A second outer layer pad 195 is formed on the lower surface of the sixth insulating layer 160 to contact the lower surface of the second via 170.

한편, 상기 제 1 비아(170)는 상기 기준 패드(115)와 접촉하는 일면에서 타면으로 갈수록 폭이 점차 증가하는 형상을 갖는다. 즉, 상기 제 1 비아(170)는 상면 폭이 하면 폭보다 큰 사다리꼴 형상을 갖는다.Meanwhile, the first vias 170 have a shape gradually increasing in width from one surface contacting the reference pad 115 to the other surface. That is, the first vias 170 have a trapezoidal shape whose upper surface width is larger than the lower surface width.

상기 제 2 비아(180)는 상기 기준 패드(115)와 접촉하는 일면에서 타면으로 갈수록 폭이 점차 증가하는 형상을 갖는다. 즉, 상기 제 2 비아(170)는 하면 폭이 하상 폭보다 큰 사다리꼴 형상을 갖는다. The second via 180 has a shape gradually increasing in width from one surface contacting the reference pad 115 to the other surface. That is, the second vias 170 have a trapezoidal shape in which the bottom width is larger than the bottom width.

또한, 전체적인 구조에서, 상기 제2 비아(180)는 상기 제 1 비아(170)보다 큰 폭을 가지며 형성된다.Also, in the overall structure, the second vias 180 are formed to have a larger width than the first vias 170. [

또한, 상기 제 1 비아(170) 및 제 2 비아(180)는 Cu, Ag, Sn, Au, Ni 및 Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Ecaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 형성할 수 있다.The first via 170 and the second via 180 may be any one selected from among Cu, Ag, Sn, Au, Ni, and Pd and may be formed by electroless plating, electrolytic plating, screen printing Printing, printing, sputtering, evaporation, inkjetting, or dispensing, or a combination thereof.

본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 기준 패드 이외에 추가의 패드 형성이 불필요함으로써, 인쇄회로기판의 디자인 자유도를 증가시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since it is unnecessary to form an additional pad in addition to the reference pad, the degree of design freedom of the printed circuit board can be increased.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 복수의 층을 한번에 개방하는 비아 홀을 형성하고, 그에 따라 상기 형성된 비아 홀을 매립하는 비아를 형성함으로써, 인쇄회로기판의 제조를 위한 리드 타임 및 공정 원가를 절감할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, by forming via-holes for opening a plurality of layers at one time and forming vias for embedding the via-holes thus formed, lead time and process cost for manufacturing a printed circuit board Can be saved.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면 복수의 층에 형성되는 비아가 동시에 일체로 형성되기 때문에, 복수의 층에 각각 형성되는 비아의 정렬성을 개선할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, since the vias formed in the plurality of layers are integrally formed at the same time, the alignment property of the vias formed in each of the plurality of layers can be improved.

도 6 내지 10은 도 5에 도시된 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 단면도이다.FIGS. 6 to 10 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention shown in FIG.

먼저, 도 6을 참조하면 인쇄회로기판의 중심이 되는 제 1 절연층(110)을 준비하고, 상기 준비된 제1 절연층(110)의 상면에 기준 패드(115)를 형성한다.First, referring to FIG. 6, a first insulating layer 110 is prepared as a center of a printed circuit board, and a reference pad 115 is formed on an upper surface of the prepared first insulating layer 110.

다음으로, 도 7을 참조하면, 상기 제 1 절연층(110)의 상면에 복수의 절연층을 순차적으로 적층하고, 또한 상기 제 1 절연층(110)의 하면에 복수의 절연층을 순차적으로 적층한다.7, a plurality of insulating layers are sequentially stacked on the upper surface of the first insulating layer 110, and a plurality of insulating layers are sequentially stacked on the lower surface of the first insulating layer 110 do.

다시 말해서, 상기 기준 패드(115)가 형성되면, 상기 제 1 절연층(110) 위에 제 2 절연층(120)을 적층한다. 그리고, 상기 제 2 절연층(120)이 적층되면, 상기 제 2 절연층(120) 위에 제 3 절연층(130)을 적층한다. 또한, 상기 제 3 절연층(130)이 적층되면, 상기 제 3 절연층(130) 위에 제 4 절연층(140)을 적층한다.In other words, when the reference pad 115 is formed, a second insulating layer 120 is formed on the first insulating layer 110. When the second insulating layer 120 is stacked, a third insulating layer 130 is stacked on the second insulating layer 120. When the third insulating layer 130 is stacked, a fourth insulating layer 140 is stacked on the third insulating layer 130.

또한, 상기 제 1 절연층(110) 아래에 제 5 절연층(150)을 적층한다. 또한, 상기 제 5 절연층이 적층되면, 상기 제 5 절연층(150) 아래에 제 6 절연층(160)을 적층한다.A fifth insulating layer 150 is formed under the first insulating layer 110. In addition, when the fifth insulating layer is stacked, a sixth insulating layer 160 is stacked below the fifth insulating layer 150.

다음으로, 도 8을 참조하면 상기 기준 패드(115)를 중심으로 상부에 형성된 복수의 절연층을 동시에 개방하여 제 1 비아 홀(175)을 형성한다.Next, referring to FIG. 8, a plurality of insulating layers formed on the upper portion of the reference pad 115 are simultaneously opened to form a first via hole 175.

즉, 상기 기준 패드(115)를 중심으로 상부에 형성된 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)을 동시에 개방하여 상기 형성된 기준 패드(115)의 상면을 노출시킨다.That is, the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140 formed on the upper portion of the reference pad 115 are simultaneously opened to form the upper surface Lt; / RTI >

상기 제 1 비아 홀(175)은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다.The first via hole 175 may be formed by any one of mechanical, laser, and chemical processing.

상기 제 1 비아 홀(175)이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 Co2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)을 동시에 개방할 수 있다.When the first via hole 175 is formed by machining, a method such as milling, drill, and routing may be used. In the case where the first via hole 175 is formed by laser processing, UV or Co2 The second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140 may be formed using chemical agents including aminosilane, ketones, and the like. Can be opened at the same time.

한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있다. On the other hand, the processing by laser is a cutting method in which a part of a material is melted and evaporated by concentrating optical energy on the surface to take a desired shape, and complicated formation by a computer program can be easily processed.

또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다.In addition, the processing by the laser can have a cutting diameter of at least 0.005 mm, and has a wide range of thickness that can be processed.

상기 레이저 가공 드릴로, CO2 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이며, 이에 따라 상기 기준 패드(115)가 스토퍼 역할을 하여, 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)만을 동시 개봉할 수 있으며, 이에 따라 상기 기준 패드(115)의 상면을 외부로 노출시킬 수 있다.As the laser processing drill, it is preferable to use a CO2 laser. The reference pad 115 serves as a stopper and the second insulating layer 120, the third insulating layer 130, and the fourth insulating layer 140 Can be opened at the same time, thereby exposing the upper surface of the reference pad 115 to the outside.

또한, 상기 기준 패드(115)를 중심으로 하부에 형성된 복수의 절연층을 동시에 개방하여 제 2 비아 홀(185)을 형성한다.The second via hole 185 is formed by simultaneously opening a plurality of insulating layers formed at the lower portion around the reference pad 115.

즉, 상기 기준 패드(115)를 중심으로 하부에 형성된 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)을 동시에 개방하여 상기 형성된 기준 패드(115)의 하면을 노출시킨다.That is, the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160 formed at the lower portion of the reference pad 115 are simultaneously opened to form the lower surface of the reference pad 115 Lt; / RTI >

상기 제 2 비아 홀(175)은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다.The second via hole 175 may be formed by any one of mechanical, laser, and chemical processing.

상기 제 2 비아 홀(175)이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 Co2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)을 동시에 개방할 수 있다.When the second via hole 175 is formed by machining, a method such as milling, drilling, and routing may be used. In the case where the second via hole 175 is formed by laser machining, UV or Co2 The first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150, and the sixth insulating layer 160 may be formed using chemical agents including aminosilane, ketones, and the like. Can be opened at the same time.

다음으로, 도 9를 참조하면, 상기 제 1 및 2 비아 홀(175, 185)이 형성되면, 제 4 절연층(140)의 상면과 제 6 절연층(160)의 하면에 외부 회로 패턴(도시하지 않음)을 형성한다. 이때, 상기 제 4 절연층(140)의 상면에는 상기 제 1 비아 홀(175)을 노출하는 제 1 외층 패드(190)가 형성되고, 상기 제 6 절연층(160)의 하면에는 상기 제 2 비아 홀(185)을 노출하는 제 2 외층 패드(195)가 형성된다.Referring to FIG. 9, when the first and second via holes 175 and 185 are formed, an upper surface of the fourth insulating layer 140 and an upper surface of the sixth insulating layer 160 (Not shown). A first outer layer pad 190 is formed on an upper surface of the fourth insulating layer 140 to expose the first via hole 175. A lower surface of the sixth insulating layer 160 may have a second via hole The second outer layer pad 195 exposing the hole 185 is formed.

다음으로, 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 비아 홀(175) 내부에 금속 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 비아 홀(175)을 매립하는 제 1 비아(170)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 10, a first via 170 filling the first via hole 175 is formed by filling metal paste into the first via hole 175.

상기 제 1 비아(170)는 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에 걸쳐 형성되는데, 이때 상기 제 2 절연층(120), 제 3 절연층(130) 및 제 4 절연층(140)에 걸쳐 형성되는 제 1 비아(170)는 일체로 형성된다.The first via 170 is formed over the second insulating layer 120, the third insulating layer 130 and the fourth insulating layer 140. The second insulating layer 120, The first via 170 formed over the first insulating layer 130 and the fourth insulating layer 140 is integrally formed.

또한, 상기 제 2 비아 홀(185) 내부에 금속 페이스트를 충진하여, 상기 제 2 비아 홀(185)을 매립하는 제 2 비아(180)를 형성한다.The second via hole 185 is filled with a metal paste to form a second via 180 filling the second via hole 185.

상기 제 2 비아(180)는 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 걸쳐 형성되는데, 이때 상기 제 1 절연층(110), 제 5 절연층(150) 및 제 6 절연층(160)에 걸쳐 형성되는 제 2 비아(180)는 일체로 형성된다.The second via 180 is formed over the first insulating layer 110, the fifth insulating layer 150 and the sixth insulating layer 160. The first insulating layer 110, The second via 180 formed over the first insulating layer 150 and the sixth insulating layer 160 is integrally formed.

도 11은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 보여주는 단면도이다.11 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 인쇄회로기판(200)은 제 1 절연층(210), 제 2 절연층(220), 제 3 절연층(230), 제 4 절연층(240), 제 5 절연층(250), 제6 절연층(260), 기준 패드(215), 제 1 비아(270), 제 2 비아(280), 제 1 외층 패드(290) 및 제 2 외층 패드(295)를 포함한다.11, the printed circuit board 200 includes a first insulating layer 210, a second insulating layer 220, a third insulating layer 230, a fourth insulating layer 240, 250, a sixth insulating layer 260, a reference pad 215, a first via 270, a second via 280, a first outer layer pad 290 and a second outer layer pad 295.

상기와 같은, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판은 전반적으로 상기 제 1 실시 예에 따른 인쇄회로기판과 동일하며, 기준 패드(215)가 형성된 위치가 상이하다.The printed circuit board according to the second embodiment of the present invention is generally the same as the printed circuit board according to the first embodiment, and the positions where the reference pads 215 are formed are different.

또한, 상기 제 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 상기 기준 패드(215)의 위치에 따라, 제 1 비아(270) 및 제 2 비아(280)의 형상이 상기 제 1 실시 예에 따른 인쇄회로기판에 개시된 제 1 비아(170) 및 제 2 비아(180)의 형상과 상이하다.The shapes of the first via 270 and the second via 280 according to the position of the reference pad 215 of the printed circuit board according to the second embodiment are the same as those of the printed circuit board according to the first embodiment. The first via 170 and the second via 180 disclosed in FIG.

즉, 상기 인쇄회로기판(200)은 제 1 절연층(210)의 하면에 기준 패드(215)가 형성된다.That is, the printed circuit board 200 has the reference pad 215 formed on the lower surface of the first insulating layer 210.

그리고, 상기 제 1 절연층(210)의 상부에는 제 2 절연층(220), 제 3 절연층(230), 제 4 절연층(240) 및 제 5 절연층(250)이 순차적으로 적층된다.A second insulating layer 220, a third insulating layer 230, a fourth insulating layer 240, and a fifth insulating layer 250 are sequentially stacked on the first insulating layer 210.

또한, 상기 제 1 절연층(210)의 하부에는 제 6 절연층(260)만이 형성된다.In addition, only the sixth insulating layer 260 is formed under the first insulating layer 210.

이에 따라, 상기 제 1 비아(270)는 상기 제 1 절연층(210), 제 2 절연층(220), 제 3 절연층(230), 제 4 절연층(240) 및 제 5 절연층(250)에 걸쳐 일체로 형성된다.The first insulating layer 210, the second insulating layer 220, the third insulating layer 230, the fourth insulating layer 240, and the fifth insulating layer 250 As shown in Fig.

또한, 상기 제 2 비아(280)는 상기 제 6 절연층(260)에만 형성된다.In addition, the second via 280 is formed only in the sixth insulating layer 260.

도 12 내지 14는 도 11에 도시된 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 단면도이다.12 to 14 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention shown in FIG. 11 in the order of steps.

먼저, 도 12를 참조하면 인쇄회로기판의 중심이 되는 제 1 절연층(210)을 준비하고, 상기 준비된 제 1 절연층(210)의 하면에 기준 패드(215)를 형성한다.12, a first insulating layer 210 serving as a center of a printed circuit board is prepared, and a reference pad 215 is formed on a lower surface of the prepared first insulating layer 210. Referring to FIG.

다음으로, 도 13을 참조하면, 상기 제 1 절연층(210)의 상면에 복수의 절연층을 순차적으로 적층하고, 또한 상기 제 1 절연층(210)의 하면에 하나의 절연층을 적층한다.Next, referring to FIG. 13, a plurality of insulating layers are sequentially stacked on the upper surface of the first insulating layer 210, and one insulating layer is stacked on the lower surface of the first insulating layer 210.

다시 말해서, 상기 기준 패드(215)가 형성되면, 상기 제 1 절연층(210) 위에 제 2 절연층(220)을 적층한다. 그리고, 상기 제 2 절연층(220)이 적층되면, 상기 제 2 절연층(220) 위에 제 3 절연층(230)을 적층한다. 또한, 상기 제 3 절연층(230)이 적층되면, 상기 제 3 절연층(230) 위에 제 4 절연층(240)을 적층한다. 또한, 상기 제 4 절연층(240)이 적층되면, 상기 제 4 절연층(240) 위에 제 5 절연층(250)을 적층한다.In other words, when the reference pad 215 is formed, a second insulating layer 220 is formed on the first insulating layer 210. When the second insulating layer 220 is stacked, a third insulating layer 230 is stacked on the second insulating layer 220. When the third insulating layer 230 is stacked, a fourth insulating layer 240 is stacked on the third insulating layer 230. When the fourth insulating layer 240 is stacked, a fifth insulating layer 250 is formed on the fourth insulating layer 240.

또한, 상기 제 1 절연층(210) 아래에 제 6 절연층(260)을 적층한다.Also, a sixth insulating layer 260 is formed under the first insulating layer 210.

그리고, 상기 기준 패드(215)를 중심으로 상부에 형성된 복수의 절연층을 동시에 개방하여 제 1 비아 홀(275)을 형성한다.A plurality of insulating layers formed on the upper portion of the reference pad 215 are simultaneously opened to form a first via hole 275.

즉, 상기 기준 패드(215)를 중심으로 상부에 형성된 제 1 절연층(210), 제 2 절연층(220), 제 3 절연층(230), 제 4 절연층(240) 및 제 5 절연층(250)을 동시에 개방하여 상기 형성된 기준 패드(215)의 상면을 노출시킨다.That is, the first insulating layer 210, the second insulating layer 220, the third insulating layer 230, the fourth insulating layer 240, and the fifth insulating layer 210 formed on the upper portion of the reference pad 215, (250) are simultaneously opened to expose the upper surface of the formed reference pad (215).

또한, 상기 기준 패드(215)를 중심으로 하부에 형성된 제 6 절연층(260)을 개방하여 상기 형성된 기준 패드(215)의 하면을 노출하는 제 2 비아 홀(275)을 형성한다.A second via hole 275 exposing the lower surface of the reference pad 215 is formed by opening a sixth insulating layer 260 formed below the reference pad 215.

다음으로, 도 14를 참조하면, 상기 제 1 및 2 비아 홀(275, 285)이 형성되면, 상기 제 1 비아 홀(275) 내부에 금속 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 비아 홀(275)을 매립하는 제 1 비아(270)를 형성한다. 이때, 상기 제 1 비아(270)의 상단은 상기 제 5 절연층(250)의 표면으로 확장되는 제 1 외층 패드(290)가 형성된다.Referring to FIG. 14, when the first and second via holes 275 and 285 are formed, the first via hole 275 is filled with a metal paste to form the first via hole 275 Thereby forming a first via 270 to be buried. At this time, a first outer layer pad 290 extending to the surface of the fifth insulating layer 250 is formed at an upper end of the first via 270.

또한, 상기 제 2 비아 홀(285) 내부에 금속 페이스트를 충진하여, 상기 제 2 비아 홀(285)을 매립하는 제 2 비아(280)를 형성한다.The second via hole 285 is filled with a metal paste to form a second via 280 filling the second via hole 285.

도 15는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 보여주는 단면도이다.15 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.

도 15를 참조하면, 인쇄회로기판(300)은 제 1 절연층(310), 제 2 절연층(320), 제 3 절연층(330), 제 4 절연층(340), 제 5 절연층(350), 제6 절연층(360), 기준 패드(315), 제 1 비아(370), 제 2 비아(380), 제 1 외층 패드(390) 및 제 2 외층 패드(395)를 포함한다.15, the printed circuit board 300 includes a first insulating layer 310, a second insulating layer 320, a third insulating layer 330, a fourth insulating layer 340, a fifth insulating layer A first via layer 350 and a second insulating layer 360. The second insulating layer 360 includes a reference pad 315, a first via 370, a second via 380, a first outer layer pad 390 and a second outer layer pad 395.

상기와 같은, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 인쇄회로기판은 전반적으로 상기 제 1 및 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판과 동일하며, 다만 상기 기준 패드(315)가 형성된 위치가 상이하다.The printed circuit board according to the third embodiment of the present invention is generally the same as the printed circuit board according to the first and second embodiments, except that the reference pad 315 is formed at a different position.

또한, 상기 제 3 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 상기 기준 패드(315)의 위치에 따라, 제 1 비아(370) 및 제 2 비아(380)의 형상이 상기 제 1 및 2 실시 예에 따른 인쇄회로기판에 개시된 제 1 비아 및 제 2 비아의 형상과 상이하다.The shapes of the first via 370 and the second via 380 may be different from those of the first and second embodiments according to the position of the reference pad 315 of the printed circuit board according to the third embodiment. Is different from the shape of the first via and the second via disclosed in the circuit board.

즉, 상기 인쇄회로기판(300)은 제 1 절연층(310)의 상면에 기준 패드(315)가 형성된다.That is, the printed circuit board 300 has the reference pad 315 formed on the upper surface of the first insulating layer 310.

그리고, 상기 제 1 절연층(310)의 상부에는 제 2 절연층(320)만이 형성된다.In addition, only the second insulating layer 320 is formed on the first insulating layer 310.

그리고, 상기 제 1 절연층(310)의 하부에는 제 3 절연층(330), 제 4 절연층(340), 제 5 절연층(350) 및 제 6 절연층(360)이 형성된다.A third insulating layer 330, a fourth insulating layer 340, a fifth insulating layer 350, and a sixth insulating layer 360 are formed under the first insulating layer 310.

이에 따라, 상기 제 1 비아(370)는 상기 제 2 절연층(320)에만 형성되며, 상기 제 2 비아(380)는 상기 제 1 절연층(310), 제 3 절연층(330), 제 4 절연층(340), 제 5 절연층(350) 및 제 6 절연층(360)에 걸쳐 일체로 형성된다.Accordingly, the first via 370 is formed only in the second insulating layer 320, and the second via 380 is formed in the first insulating layer 310, the third insulating layer 330, The insulating layer 340, the fifth insulating layer 350, and the sixth insulating layer 360.

도 16 내지 18은 도 15에 도시된 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 단면도이다.16 to 18 are sectional views for explaining the manufacturing method of the printed circuit board according to the third embodiment of the present invention shown in FIG.

먼저, 도 16을 참조하면 인쇄회로기판의 중심이 되는 제 1 절연층(310)을 준비하고, 상기 준비된 제1 절연층(310)의 상면에 기준 패드(315)를 형성한다.Referring to FIG. 16, a first insulating layer 310 serving as a center of a printed circuit board is prepared, and a reference pad 315 is formed on an upper surface of the prepared first insulating layer 310.

다음으로, 도 17을 참조하면, 상기 제 1 절연층(310)의 상면에 하나의 절연층을 적층하고, 또한 상기 제 1 절연층(310)의 하면에 복수의 절연층을 순차적으로 적층한다.17, one insulating layer is stacked on the upper surface of the first insulating layer 310, and a plurality of insulating layers are sequentially stacked on the lower surface of the first insulating layer 310. Next, as shown in FIG.

다시 말해서, 상기 기준 패드(315)가 형성되면, 상기 제 1 절연층(310) 위에 제 2 절연층(320)을 적층한다. In other words, when the reference pad 315 is formed, a second insulating layer 320 is formed on the first insulating layer 310.

또한, 상기 제 1 절연층(310) 아래에 제 3 절연층(330)을 적층한다. 또한, 상기 제 3 절연층(330)이 적층되면, 상기 제 3 절연층(330) 아래에 제 4 절연층(340)을 적층한다. 또한, 상기 제 4 절연층(340)이 적층되면, 상기 제 4 절연층(340) 아래에 제 5 절연층(350)을 적층한다. 또한, 상기 제 5 절연층(350)이 적층되면, 상기 제 5 절연층(350) 아래에 제 6 절연층(360)을 적층한다.Also, a third insulating layer 330 is formed under the first insulating layer 310. When the third insulating layer 330 is stacked, a fourth insulating layer 340 is stacked under the third insulating layer 330. When the fourth insulating layer 340 is stacked, a fifth insulating layer 350 is stacked under the fourth insulating layer 340. When the fifth insulating layer 350 is stacked, a sixth insulating layer 360 is stacked under the fifth insulating layer 350.

그리고, 상기 기준 패드(315)를 중심으로 상부에 형성된 제 2 절연층(320)을 개방하여 제 1 비아 홀(375)을 형성한다.Then, the second insulating layer 320 formed on the upper portion of the reference pad 315 is opened to form a first via hole 375.

그리고, 상기 기준 패드(315)를 중심으로 하부에 형성된 제 1 절연층(310), 제 3 절연층(330), 제 4 절연층(340), 제 5 절연층(350) 및 제 6 절연층(360)을 동시에 개방하여 상기 형성된 기준 패드(315)의 하면을 노출시킨다.The first insulating layer 310, the third insulating layer 330, the fourth insulating layer 340, the fifth insulating layer 350, and the sixth insulating layer 350 formed below the reference pad 315, (360) are simultaneously opened to expose the lower surface of the formed reference pad (315).

다음으로, 도 18을 참조하면, 상기 제 1 및 2 비아 홀(375, 385)이 형성되면, 상기 제 1 비아 홀(375) 내부에 금속 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 비아 홀(375)을 매립하는 제 1 비아(370)를 형성한다. 이때, 상기 제 1 비아(370)의 상단은 상기 제 2 절연층(320)의 표면으로 확장되는 제 1 외층 패드(390)가 형성된다.18, when the first and second via holes 375 and 385 are formed, a metal paste is filled in the first via hole 375, and the first via hole 375 is filled with a metal paste, Thereby forming a first via 370 to be buried. At this time, a first outer layer pad 390 extending to the surface of the second insulating layer 320 is formed at an upper end of the first via 370.

또한, 상기 제 2 비아 홀(385) 내부에 금속 페이스트를 충진하여, 상기 제 2 비아 홀(385)을 매립하는 제 2 비아(380)를 형성한다.A second via 380 filling the second via hole 385 is formed by filling a metal paste in the second via hole 385.

본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 기준 패드 이외에 추가의 패드 형성이 불필요함으로써, 인쇄회로기판의 디자인 자유도를 증가시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since it is unnecessary to form an additional pad in addition to the reference pad, the degree of design freedom of the printed circuit board can be increased.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 복수의 층을 한번에 개방하는 비아 홀을 형성하고, 그에 따라 상기 형성된 비아 홀을 매립하는 비아를 형성함으로써, 인쇄회로기판의 제조를 위한 리드 타임 및 공정 원가를 절감할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, by forming via-holes for opening a plurality of layers at one time and forming vias for embedding the via-holes thus formed, lead time and process cost for manufacturing a printed circuit board Can be saved.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면 복수의 층에 형성되는 비아가 동시에 일체로 형성되기 때문에, 복수의 층에 각각 형성되는 비아의 정렬성을 개선할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, since the vias formed in the plurality of layers are integrally formed at the same time, the alignment property of the vias formed in each of the plurality of layers can be improved.

이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

100, 200, 300: 인쇄회로기판
110, 210 310: 제 1 절연층
120, 220 320: 제 2 절연층
130, 230 330: 제 3 절연층
140, 240 340: 제 4 절연층
150, 250 350: 제 5 절연층
160, 260 360: 제 6 절연층
170, 270 370: 제 1 비아
180, 280 380: 제 2 비아
190, 290, 390: 제 1 외층 패드
195, 295, 395: 제 2 외층 패드
100, 200, 300: printed circuit board
110, 210 310: first insulating layer
120, 220 320: second insulating layer
130, 230 330: third insulating layer
140, 240 340: fourth insulating layer
150, 250 350: fifth insulating layer
160, 260 360: Sixth insulating layer
170, 270 370: 1st vias
180, 280 380: Second Via
190, 290, 390: first outer layer pad
195, 295, 395: second outer layer pad

Claims (18)

상면 및 하면 중 어느 한 면에 기준 패드가 형성되며, 내부에 비아가 형성된 제 1 절연층;
상기 제 1 절연층 위에 형성되며, 내부에 비아가 형성된 상부 절연층; 및
상기 제 1 절연층 아래에 형성되며, 내부에 비아가 형성된 하부 절연층을 포함하며,
상기 제 1 절연층에 형성된 비아와 상기 상부 절연층에 형성된 비아, 또는 상기 제 1 절연층에 형성된 비아와 상기 하부 절연층에 형성된 비아는 일체로 형성되는
인쇄회로기판.
A first insulating layer having a reference pad formed on one surface of the upper surface and the lower surface and having a via formed therein;
An upper insulating layer formed on the first insulating layer and having a via formed therein; And
And a lower insulating layer formed under the first insulating layer and having a via formed therein,
The via formed in the first insulating layer, the via formed in the upper insulating layer, or the via formed in the first insulating layer and the via formed in the lower insulating layer are integrally formed
Printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 기준 패드는,
상기 제 1 절연층의 상면에 형성되며,
상기 상면에 형성된 기준 패드를 중심으로 하부에 형성된 상기 제 1 절연층의 비아와, 상기 하부 절연층의 비아는 서로 일체로 형성된
인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
The reference pad includes:
A second insulating layer formed on the first insulating layer,
The vias of the first insulating layer and the vias of the lower insulating layer formed below the reference pad formed on the upper surface are formed integrally with each other
Printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 절연층에 형성된 비아의 하면과, 상기 하부 절연층에 형성된 비아의 상면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉하는
인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
The lower surface of the via formed in the first insulating layer and the upper surface of the via formed in the lower insulating layer are in direct contact with each other
Printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 기준 패드는,
상기 제 1 절연층의 하면에 형성되며,
상기 하면에 형성된 기준 패드를 중심으로 상부에 형성된 상기 제 1 절연층의 비아와, 상기 상부 절연층의 비아는 서로 일체로 형성된
인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
The reference pad includes:
A second insulation layer formed on the lower surface of the first insulation layer,
The vias of the first insulating layer and the vias of the upper insulating layer formed on the upper portion of the reference pad formed on the lower surface are integrally formed
Printed circuit board.
제 4항에 있어서,
상기 제 1 절연층에 형성된 비아의 상면과, 상기 상부 절연층에 형성된 비아의 하면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉하는
인쇄회로기판.
5. The method of claim 4,
The upper surface of the via formed in the first insulating layer and the lower surface of the via formed in the upper insulating layer are in direct contact with each other,
Printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 상부 절연층은
상기 제 1 절연층 위에 형성된 제 2 절연층과,
상기 제 2 절연층 위에 형성된 제 3 절연층을 포함하며,
상기 제 2 절연층에 형성되는 비아와, 제 3 절연층에 형성되는 비아는,
서로 일체로 형성되는
인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
The upper insulating layer
A second insulating layer formed on the first insulating layer,
And a third insulating layer formed on the second insulating layer,
The via formed in the second insulating layer, and the via formed in the third insulating layer,
Formed integrally with each other
Printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 하부 절연층은
상기 제 1 절연층 아래에 형성된 제 2 절연층과,
상기 제 2 절연층 아래에 형성된 제 3 절연층을 포함하며,
상기 제 2 절연층에 형성되는 비아와, 제 3 절연층에 형성되는 비아는,
서로 일체로 형성되는
인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
The lower insulating layer
A second insulating layer formed under the first insulating layer,
And a third insulating layer formed below the second insulating layer,
The via formed in the second insulating layer, and the via formed in the third insulating layer,
Formed integrally with each other
Printed circuit board.
제 6항 및 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 절연층 및 제 3 절연층에 형성된 비아는,
상기 제 1 절연층에 형성된 비아와 함께 일체로 형성되는
인쇄회로기판.
7. A method according to any one of claims 6 and 7,
The via formed in the second insulating layer and the third insulating layer,
And a second insulating layer formed integrally with the via formed in the first insulating layer
Printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 상부 절연층 및 하부 절연층은 각각 복수 개의 층으로 구성되며,
상기 기준 패드를 중심으로 상부에 위치한 복수의 절연층들의 비아는 서로 일체로 형성되고,
상기 기준 패드를 중심으로 하부에 위치한 복수의 절연층들의 비아는 서로 일체로 형성되는
인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the upper insulating layer and the lower insulating layer each comprise a plurality of layers,
The vias of the plurality of insulating layers located at the upper portion with respect to the reference pad are integrally formed with each other,
The vias of the plurality of insulating layers located at the lower portion around the reference pad are formed integrally with each other
Printed circuit board.
제 9항에 있어서,
상기 상부에 위치한 복수의 절연층들의 비아 및 상기 하부에 위치한 복수의 절연층들의 비아 중 적어도 하나는,
상기 기준 패드의 접촉하는 일면에서 타면으로 갈수록 폭이 점차 증가하는 형상을 갖는
인쇄회로기판.
10. The method of claim 9,
At least one of the vias of the plurality of insulating layers located at the upper portion and the vias of the plurality of insulating layers located at the lower portion,
The width of the reference pad gradually increases from one surface contacting the reference pad toward the other surface
Printed circuit board.
제 1 절연층의 일면에 기준 패드를 형성하는 단계;
상기 형성된 제 1 절연층의 상부에 상부 절연층을 형성하는 단계;
상기 형성된 제 1 절연층의 하부에 하부 절연층을 형성하는 단계;
상기 제 1 절연층에 형성된 기준 패드를 중심으로, 상부에 위치한 모든 절연층을 동시에 개방하여 상기 기준 패드의 상면을 노출하는 제 1 비아 홀을 형성하는 단계;
상기 제 1 절연층에 형성된 기준 패드를 중심으로 하부에 위치한 모든 절연층을 동시에 개방하여 상기 기준 패드의 하면을 노출하는 제 2 비아 홀을 형성하는 단계;
상기 제 1 비아 홀에 도전성 페이스트를 충진하여, 상기 제 1 비아 홀을 매립하는 제 1 비아를 형성하는 단계; 및
상기 제 2 비아 홀에 도전성 페이스트를 충진하여, 상기 제 2 비아 홀을 매립하는 제 2 비아를 형성하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
Forming a reference pad on one surface of the first insulating layer;
Forming an upper insulating layer on the first insulating layer;
Forming a lower insulating layer on a lower portion of the first insulating layer;
Forming a first via hole exposing an upper surface of the reference pad by simultaneously opening all the insulating layers located on the upper side of the reference pad formed on the first insulating layer;
Forming a second via hole exposing a bottom surface of the reference pad by simultaneously opening all insulating layers located below the reference pad formed on the first insulating layer;
Filling the first via hole with a conductive paste to form a first via filling the first via hole; And
Filling the second via hole with a conductive paste to form a second via filling the second via hole;
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 11항에 있어서,
상기 기준 패드는,
상기 제 1 절연층의 상면에 형성되고,
상기 제 2 비아 홀은,
상기 제 1 절연층과 상기 하부 절연층을 동시에 개방하여 형성되며,
상기 제 2 비아는,
상기 제 1 절연층과 상기 하부 절연층을 동시에 개방하여 형성한 제 2 비아 홀을 매립하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The reference pad includes:
A second insulating layer formed on the upper surface of the first insulating layer,
And the second via-
The first insulating layer and the lower insulating layer are simultaneously opened,
Wherein the second via comprises:
And a second via hole formed by simultaneously opening the first insulating layer and the lower insulating layer
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 12항에 있어서,
상기 제 1 절연층에 형성되는 상기 제 2 비아의 하면과, 상기 하부 절연층에 형성되는 제 2 비아의 상면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
The lower surface of the second via formed in the first insulating layer and the upper surface of the second via formed in the lower insulating layer are in direct contact with each other
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 11항에 있어서,
상기 기준 패드는,
상기 제 1 절연층의 하면에 형성되고,
상기 제 1 비아 홀은,
상기 제 1 절연층과 상기 상부 절연층을 동시에 개방하여 형성되며,
상기 제 1 비아는,
상기 제 1 절연층과 상기 상부 절연층을 동시에 개방하여 형성한 제 1 비아 홀을 매립하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The reference pad includes:
A second insulating layer formed on the lower surface of the first insulating layer,
Wherein the first via-
The first insulating layer and the upper insulating layer are simultaneously opened,
Wherein the first via comprises:
A first via hole formed by simultaneously opening the first insulating layer and the upper insulating layer
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 14항에 있어서,
상기 제 1 절연층에 형성되는 상기 제 1 비아의 상면과, 상기 하부 절연층에 형성되는 제 1 비아의 하면은 서로 동일한 폭을 가지면서 직접 접촉하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
15. The method of claim 14,
The upper surface of the first via formed in the first insulating layer and the lower surface of the first via formed in the lower insulating layer are in direct contact with each other
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 14항 및 15항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 비아 및 제 2 비아 중 적어도 하나는,
상기 기준 패드와 접촉하는 일면으로부터 타면으로 갈수록 폭이 확장되는 형상을 갖는
인쇄회로기판의 제조 방법.
15. A method according to any one of claims 14 and 15,
At least one of the first via and the second via,
And has a shape in which a width is extended from one surface contacting the reference pad toward the other surface
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 11항에 있어서,
상기 상부 절연층은 복수 개의 층으로 구성되며,
상기 복수 개의 층으로 구성된 상부 절연층 내에는 일체의 상기 제 1 비아가 공통 형성되는
인쇄회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the upper insulating layer is composed of a plurality of layers,
And the first via is integrally formed in the upper insulating layer composed of the plurality of layers
A method of manufacturing a printed circuit board.
제 11항에 있어서,
상기 하부 절연층은 복수 개의 층으로 구성되며,
상기 복수 개의 층으로 구성된 하부 절연층 내에는 일체의 상기 제 2 비아가 공통 형성되는
인쇄회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the lower insulating layer is composed of a plurality of layers,
And the second via is integrally formed in the lower insulating layer composed of the plurality of layers
A method of manufacturing a printed circuit board.
KR1020140020573A 2014-02-17 2014-02-21 A printed circuit board and a method of manufacturing the same KR102163289B1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140020573A KR102163289B1 (en) 2014-02-21 2014-02-21 A printed circuit board and a method of manufacturing the same
US14/621,998 US9801275B2 (en) 2014-02-17 2015-02-13 Printed circuit board and method of manufacturing the same
TW104104972A TWI683603B (en) 2014-02-17 2015-02-13 Printed circuit board and method of manufacturing the same
CN201510085004.9A CN104853518B (en) 2014-02-17 2015-02-16 Printed circuit board and manufacturing methods
EP15155421.9A EP2911485B1 (en) 2014-02-17 2015-02-17 Printed circuit board and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140020573A KR102163289B1 (en) 2014-02-21 2014-02-21 A printed circuit board and a method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150099072A true KR20150099072A (en) 2015-08-31
KR102163289B1 KR102163289B1 (en) 2020-10-08

Family

ID=54060311

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140020573A KR102163289B1 (en) 2014-02-17 2014-02-21 A printed circuit board and a method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102163289B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11979985B2 (en) * 2018-12-10 2024-05-07 Lg Innotek Co., Ltd. Printed circuit board

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130110448A (en) * 2012-03-29 2013-10-10 삼성전기주식회사 Method of manufacturing a multi-layer printed circuit board and a multi-layer printed circuit board manufactured by the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130110448A (en) * 2012-03-29 2013-10-10 삼성전기주식회사 Method of manufacturing a multi-layer printed circuit board and a multi-layer printed circuit board manufactured by the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11979985B2 (en) * 2018-12-10 2024-05-07 Lg Innotek Co., Ltd. Printed circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
KR102163289B1 (en) 2020-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106165554B (en) Printed circuit board, package substrate and manufacturing method thereof
JP7074409B2 (en) Built-in element type printed circuit board
KR102163039B1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same, and electronic component module
KR20160002069A (en) Pcb, package substrate and a manufacturing method thereof
KR101241544B1 (en) The printed circuit board and the method for manufacturing the same
JP2010135721A (en) Printed circuit board comprising metal bump and method of manufacturing the same
JP2009088469A (en) Printed circuit board and manufacturing method of same
KR102186148B1 (en) Embedded board and method of manufacturing the same
KR102473416B1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
US10219374B2 (en) Printed wiring board
US20160353572A1 (en) Printed circuit board, semiconductor package and method of manufacturing the same
US9801275B2 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
KR20150065029A (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof and semiconductor package
KR102163289B1 (en) A printed circuit board and a method of manufacturing the same
KR101219929B1 (en) The printed circuit board and the method for manufacturing the same
KR20210030733A (en) The method for manufacturing the printed circuit board
KR101211712B1 (en) PCB and Fabricaring method of the same
KR20130046716A (en) The printed circuit board and the method for manufacturing the same
KR102502866B1 (en) Printed circuit board and package substrate comprising same
KR20150092655A (en) Printed circuit board and method for fabricating the same
KR20150130886A (en) The method for manufacturing the printed circuit board
KR101926729B1 (en) The printed circuit board
KR20150103974A (en) Printed circuit board and method for manufacturing the same
TWI461134B (en) Supporting substrate and fabrication thereof
KR101189330B1 (en) The printed circuit board and the method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right