KR20220010933A - 패턴복제 인쇄장치 - Google Patents

패턴복제 인쇄장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20220010933A
KR20220010933A KR1020200089687A KR20200089687A KR20220010933A KR 20220010933 A KR20220010933 A KR 20220010933A KR 1020200089687 A KR1020200089687 A KR 1020200089687A KR 20200089687 A KR20200089687 A KR 20200089687A KR 20220010933 A KR20220010933 A KR 20220010933A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
stage
film
roll
unit
wafer
Prior art date
Application number
KR1020200089687A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102424392B1 (ko
Inventor
채호철
장범권
김진승
박민호
정태원
Original Assignee
주식회사 에스에프에이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에스에프에이 filed Critical 주식회사 에스에프에이
Priority to KR1020200089687A priority Critical patent/KR102424392B1/ko
Publication of KR20220010933A publication Critical patent/KR20220010933A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102424392B1 publication Critical patent/KR102424392B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0015Production of aperture devices, microporous systems or stamps
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

패턴복제 인쇄장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치는, 웨이퍼(Wafer)에 대한 패턴(pattern)을 복제하는 패턴복제 공정과, 패턴을 웨이퍼에 인쇄(Print)하는 인쇄 공정을 진행하는 임프린트 롤(Imprint Roll); 및 제1 및 제2 웨이퍼에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 진행되는 장소를 형성하는 공용 워킹 스테이지(Working Stage)를 구비하되 웨이퍼 중에서 크기가 서로 다른 제1 및 제2 웨이퍼에 공용으로 대응하는 스테이지 유닛을 포함한다.

Description

패턴복제 인쇄장치{Pattern printing apparatus for wafer}
본 발명은, 패턴복제 인쇄장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 컨버터 지그(Converter Jig)를 사용하지 않더라도 크기가 다른 복수의 웨이퍼에 공용으로 대응할 수 있으며, 이로 인해 웨이퍼에 대한 패턴복제 또는 인쇄 공정을 쉽고 효율적으로 진행할 수 있어 인쇄 품질을 높일 수 있는 패턴복제 인쇄장치를에 관한 것이다.
최근, 디스플레이나 반도체 산업을 중심으로 저가의 제품을 구현하기 위해 기존 리소그래피(lithography) 공정을 기반으로 하는 기술을 대체할 수 있는 패턴복제기술, 즉 임프린트(imprint) 인쇄법이 이슈가 되고 있다.
임프린트 인쇄법은 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등과 같은 디스플레이나 반도체 등의 제품 제조에 사용되는 가압성형에 의한 패턴 형성기법이다.
이러한 임프린트 인쇄법을 이용할 경우, 전자 회로, 센서, 태양 전지(solar cell), 플렉서블 디스플레이(flexible display), RFID 등의 다양한 전자 소자들을 쉽게 제작할 수 있다.
그뿐만 아니라 임프린트 인쇄법은 기존의 리소그래피 공정과 비교하여 공정을 간소화시킬 수 있으며, 제품 제조 시간 및 생산 원가를 획기적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 낮은 제조 비용으로도 제품을 대량 생산할 수 있다.
도 1을 참조하여 웨이퍼에 대한 임프린트 공정을 설명한다.
우선, 마스터 웨이퍼(Master Wafer)를 투입한 후(a), 레진을 도포한다(b, Stamp Resin Dispensing). 이어, UV 큐어(Cure)를 진행하면서 임프레스(Impress) 공정을 진행한 다음(c), 디몰딩(Demolding)하면 스탬프(Stamp)가 완료된다(d).
그런 다음, 작업 대상의 웨이퍼(Substrate Wafer)를 투입하여 레진을 도포한다(e). 이어, UV 큐어(Cure)를 진행하면서 임프레스(Impress) 공정을 진행한 다음(f), 디몰딩(Demolding)함으로써 임프린트(Imprint)가 완료될 수 있다(g).
이러한 방식의 임프린트 공정은 여러 타입이 존재하며, 그중의 하나인 롤(roll)을 사용하는 패턴복제 인쇄장치는 롤투롤(roll to roll) 방식의 연속공정으로 진행되는 장점이 있으나 유연한 기판에만 대응할 수 있다. 즉 유리 기판처럼 견고한(Rigid) 기판에 대한 패턴복제 인쇄장치는 플레이트 단위의 스탑-앤드-고(Stop-and-Go) 방식으로 간헐적 공정으로 진행되어야 하므로 기존의 롤투롤 형식의 장비로는 대응할 수 없는 것으로 알려져 있다.
인쇄패턴이 점차 미세화되면서 전술한 도 1처럼 인쇄용 스탬프(Stamp)를 복제하여 인쇄에 사용하려고 하고 있으나, 기존의 필름 루프(Film Loop)를 그대로 사용하는 경우에는 복제된 스탬프를 웨이퍼(Substrate Wafer)와 다시 정렬해야 할뿐더러 공정 진행 시 필름 길이가 변하게 되고 이에 따른 순간적 장력 변화 문제도 적절히 대응해야 하는 문제가 발생한다.
한편, 롤을 사용하는 패턴복제 및 인쇄 시 롤의 자중을 이용한 가압방식이 가압 균일도에 유리한 방식인 것으로 알려져 있다. 다만, 롤을 사용하는 패턴복제 및 인쇄 시 롤과 접촉 길이가 변화하지 않는, 즉 폭이 일정한 필름 기재나 유리처럼 단단한(Rigid) 기재에서는 롤의 자중 가압방식을 쉽게 사용할 수 있지만, 원형 웨이퍼(Wafer)에 자중 가압방식으로 공정을 진행하는 경우 원형 웨이퍼의 지름 방향 구동 시 롤이 접촉하는 접촉 길이 변화에 따른 압력변화가 발생하기 때문에 사용이 어렵다.
이에, 원형 웨이퍼에 롤을 이용한 자중 가압 시 접촉 선 길이의 변화가 없도록 별도의 웨이퍼 지그(Wafer Jig)를 워크 테이블(Work Table)에 장착해서 사용하는 방안을 고려해볼 수 있다. 이때는 웨이퍼 지그는 크기가 큰 제1 웨이퍼에 맞춰 준비한 후, 소형의 제2 웨이퍼를 사용할 때는 별도의 컨버터 지그(Converter Jig)를 웨이퍼 지그에 투입해서 제2 웨이퍼가 컨버터 지그에 로딩되게 할 수 있다.
이러한 방식도 충분히 가능할 수 있으나, 컨버터 지그를 투입하거나 취출하는 과정에서 생산효율이 저하될 우려가 클뿐더러 웨이퍼와의 간섭 등 부수적인 문제가 발생할 수 있으며, 특히 제1 및 제2 웨이퍼의 두께가 다른 경우에는 컨버터 지그를 사용할 수 없는 등 다양한 문제가 발생할 수 있다는 점을 두루 고려해볼 때, 기존에 알려지지 않은 신개념의 패턴복제 인쇄장치에 대한 필요성이 대두된다.
대한민국특허청 출원번호 제10-2010-0128624호
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 컨버터 지그(Converter Jig)를 사용하지 않더라도 크기가 다른 복수의 웨이퍼에 공용으로 대응할 수 있으며, 이로 인해 웨이퍼에 대한 패턴복제 또는 인쇄 공정을 쉽고 효율적으로 진행할 수 있어 인쇄 품질을 높일 수 있는 패턴복제 인쇄장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 웨이퍼(Wafer)에 대한 패턴(pattern)을 복제하는 패턴복제 공정과, 상기 패턴을 상기 웨이퍼에 인쇄(Print)하는 인쇄 공정을 진행하는 임프린트 롤(Imprint Roll); 및 상기 제1 및 제2 웨이퍼에 대한 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정이 진행되는 장소를 형성하는 공용 워킹 스테이지(Working Stage)를 구비하되 상기 웨이퍼 중에서 크기가 서로 다른 제1 및 제2 웨이퍼에 공용으로 대응하는 스테이지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치가 제공될 수 있다.
상기 공용 워킹 스테이지에는 상기 제1 및 제2 웨이퍼가 로딩되는 웨이퍼 로딩부가 형성될 수 있다.
상기 스테이지 유닛은, 상기 웨이퍼 로딩부에 업/다운(up/down) 이동 가능하게 배치되는 아우터 스테이지(Outer Stage); 및 상기 아우터 스테이지의 반경 방향 내측에 배치되되 상기 아우터 스테이지에 대하여 독립적으로 업/다운(up/down) 이동 가능하며, 상기 아우터 스테이지와 함께 상대적으로 크기가 큰 상기 제1 웨이퍼 또는 마스터 웨이퍼(Master Wafer)를 지지하거나 상기 제2 웨이퍼를 단독으로 지지하는 이너 스테이지(Inner Stage)를 포함할 수 있다.
상기 아우터 스테이지와 상기 이너 스테이지에는 상기 제1 및 제2 웨이퍼 중 적어도 어느 하나의 웨이퍼를 흡착하는 복수의 흡착홀이 형성될 수 있다.
상기 아우터 스테이지는 상기 이너 스테이지가 통과하는 스테이지 통과부가 내부에 형성되는 도넛(Doughnut) 모양을 할 수 있다.
상기 스테이지 유닛은, 상기 아우터 스테이지와 연결되고 상기 아우터 스테이지를 독립적으로 업/다운(up/down) 이동시키는 아우터 스테이지 업/다운 이동부를 더 포함할 수 있다.
상기 아우터 스테이지 업/다운 이동부는, 상기 아우터 스테이지의 업/다운(up/down) 이동 방향을 따라 상기 아우터 스테이지의 둘레면에 이격되게 배치되어 상기 아우터 스테이지를 지지하는 복수의 지지바; 상기 아우터 스테이지의 하부 영역에서 상기 복수의 지지바에 연결되는 연결 블록; 및 상기 아우터 스테이지의 업/다운(up/down) 이동을 위한 동력을 제공하는 제1 모터를 구비하되 상기 연결 블록에 연결되며, 상기 연결 블록을 업/다운(up/down) 이동시키는 제1 업/다운 동력부를 포함할 수 있다.
상기 스테이지 유닛은, 상기 이너 스테이지와 연결되고 상기 이너 스테이지를 독립적으로 업/다운(up/down) 이동시키는 이너 스테이지 업/다운 이동부를 더 포함할 수 있다.
상기 이너 스테이지 업/다운 이동부는, 상기 복수의 지지바 사이 영역에 배치되며, 일측에서 상기 이너 스테이지가 탑재되는 스테이지 탑재대; 상기 이너 스테이지의 업/다운(up/down) 이동을 위한 동력을 제공하는 제2 모터를 구비하되 상기 스테이지 탑재대에 연결되며, 상기 스테이지 탑재대을 업/다운(up/down) 이동시키는 제2 업/다운 동력부; 및 상기 스테이지 탑재대를 하부에서 지지하는 탑재대 지지부를 포함할 수 있다.
상기 제1 웨이퍼, 상기 제2 웨이퍼 및 마스터 웨이퍼(Master Wafer)의 사용여부에 기초하여 상기 아우터 스테이지 업/다운 이동부와 상기 이너 스테이지 업/다운 이동부의 동작을 유기적으로 컨트롤하는 컨트롤러를 더 포함할 수 있다.
상기 스테이지 유닛은, 상기 공용 워킹 스테이지의 하부에 배치되는 베이스 플레이트; 및 상기 공용 워킹 스테이지와 상기 베이스 플레이트에 연결되고 상기 공용 워킹 스테이지와 상기 베이스 플레이트를 지지하는 복수의 서포터를 더 포함할 수 있다.
상기 임프린트 롤은 필름(film)을 매개로 회전하면서 상기 웨이퍼에 대한 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정을 진행할 수 있다.
상기 임프린트 롤에 이웃하게 배치되되 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정 시 업/다운(up/down) 구동하면서 상기 필름이 상기 웨이퍼의 표면에 배치되게 하는 업/다운 구동 앵글롤이 한 몸체로 연결되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정 시 상기 임프린트 롤 및 상기 업/다운 구동 앵글롤과 함께 이동하는 롤 이동체를 더 포함할 수 있다.
상기 롤 이동체는, 상기 임프린트 롤 및 상기 업/다운 구동 앵글롤을 일체로 지지하며, 상기 임프린트 롤 및 상기 업/다운 구동 앵글롤과 함께 이동하는 이동 프레임; 동력 없이 회전하되 상기 이동 프레임의 일측에 연결되고 상기 이동 프레임과 함께 이동하면서 상기 필름을 가이드하는 무동력 가이드롤; 및 상기 이동 프레임의 일측에 연결되며, 상기 이동 프레임 상에 배치되는 필름에 장력을 제공하는 피봇롤을 더 포함할 수 있다.
상기 롤 이동체의 주변에서 상기 필름과 연결되며, 상기 롤 이동체의 이동에 따른 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 상기 롤 이동체와 상호작용하면서 상기 필름에 장력을 부여하는 제1 댄서롤을 더 포함할 수 있다.
상기 필름의 라인 중 일측에 배치되며, 상기 필름이 이동하기 위한 동력을 제공하는 필름 구동 유닛; 및 상기 롤 이동체를 사이에 두고 상기 필름 구동 유닛의 반대편에 배치되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정 시 상기 필름 구동 유닛과 함께 동작하면서 상기 필름의 피딩(feeding)을 저지시키는 필름 픽싱 유닛(film fixing unit)을 더 포함할 수 있다.
상기 필름의 일측 단부에 마련되되 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정을 위하여 상기 필름을 공급하는 필름 공급 유닛; 및 상기 필름의 타측 단부에 마련되되 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정이 완료된 필름을 회수하는 필름 회수 유닛을 더 포함할 수 있다.
상기 필름 공급 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정을 위하여 상기 롤 이동체로 공급되는 필름을 가이드해서 보내는 공급측 필름 가이드; 및 상기 필름 회수 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정이 완료된 필름을 가이드해서 상기 필름 회수 유닛으로 보내는 회수측 필름 가이드를 더 포함할 수 있다.
상기 공급측 필름 가이드와 상기 롤 이동체를 연결하는 라인 상에 상기 필름에 대한 장력을 조절하는 제2 댄서롤이 배치될 수 있다.
본 발명에 따르면, 컨버터 지그(Converter Jig)를 사용하지 않더라도 크기가 다른 복수의 웨이퍼에 공용으로 대응할 수 있으며, 이로 인해 웨이퍼에 대한 패턴복제 또는 인쇄 공정을 쉽고 효율적으로 진행할 수 있어 인쇄 품질을 높일 수 있다.
도 1은 통상의 웨이퍼 임프린트 공정에 대한 도면이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치의 구조도로서 패턴복제 공정과 인쇄 공정의 동작을 도시한 도면들이다.
도 4 및 도 5는 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 롤 이동체의 동작을 도시한 도면들이다.
도 6은 스테이지 유닛의 사시도이다.
도 7은 아우터 스테이지와 아우터 스테이지 업/다운 이동부의 사시도이다.
도 8은 이너 스테이지와 이너 스테이지 업/다운 이동부의 사시도이다.
도 9는 도 6의 공용 워킹 스테이지의 확대도이다.
도 10은 도 9의 A-A선에 따른 개략적인 단면 구조도로서 공용 워킹 스테이지 상에 마스터 웨이퍼, 제1 웨이퍼 및 제2 웨이퍼가 로딩된 상태의 도면들이다.
도 11 및 도 12는 임프린트 롤의 작용을 설명하기 위한 도면들이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치의 제어블록도이다.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부도면 및 첨부도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치의 구조도로서 패턴복제 공정과 인쇄 공정의 동작을 도시한 도면들이고, 도 4 및 도 5는 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 롤 이동체의 동작을 도시한 도면들이며, 도 6은 스테이지 유닛의 사시도이고, 도 7은 아우터 스테이지와 아우터 스테이지 업/다운 이동부의 사시도이며, 도 8은 이너 스테이지와 이너 스테이지 업/다운 이동부의 사시도이고, 도 9는 도 6의 공용 워킹 스테이지의 확대도이며, 도 10은 도 9의 A-A선에 따른 개략적인 단면 구조도로서 공용 워킹 스테이지 상에 마스터 웨이퍼, 제1 웨이퍼 및 제2 웨이퍼가 로딩된 상태의 도면들이고, 도 11 및 도 12는 임프린트 롤의 작용을 설명하기 위한 도면들이며, 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치의 제어블록도이다.
이들 도면을 참조하면, 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에 의하면 종전처럼 컨버터 지그(Converter Jig)를 사용하지 않더라도 크기가 다른 복수의 웨이퍼(W1,W2), 즉 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 공용으로 대응할 수 있으며, 이로 인해 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 또는 인쇄 공정을 쉽고 효율적으로 진행할 수 있어 인쇄 품질을 높일 수 있다.
이러한 효과를 제공할 수 있는 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치는 임프린트 롤(132, Imprint Roll)과, 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 진행되는 장소를 형성하는 공용 워킹 스테이지(121, Working Stage, 도 6 참조)를 포함할 수 있다.
임프린트 롤(132)은 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴(pattern)을 복제하는 패턴복제 공정과, 패턴을 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 인쇄(Print)하는 인쇄 공정을 진행한다. 본 실시예에서 임프린트 롤(132)은 도 2 및 도 3과 같은 형태의 롤 이동체(130)에 연결되어 사용될 수 있다. 물론, 도 2 및 도 3과 다른 형태의 시스템에 임프린트 롤(132)이 적용될 수도 있을 것인데, 이러한 사항 모두가 본 발명의 권리범위에 속한다고 하여야 할 것이다.
참고로, 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)는 모두가 원형 형상을 갖는 것으로서, 제1 웨이퍼(W1)가 8인치, 그리고, 제2 웨이퍼(W2)가 4인치의 크기를 가질 수 있다. 하지만, 이의 수치에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다. 즉 8인치, 4인치가 아닌 다른 웨이퍼(Wafer)가 적용될 수도 있을 것인데, 이러한 사항 모두가 본 발명의 권리범위에 속한다고 하여야 할 것이다.
이하, 도 2에서 도 5를 참조하여 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치의 전반 구조를 살펴본 후, 이어서 공용 워킹 스테이지(121)에 대해 자세히 알아보도록 한다.
도 2에서 도 5를 주로 참조하면, 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에 탑재되는 롤 이동체(130)는 필름(film)을 매개로 회전하면서 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행한다. 즉 도 10의 (b)처럼 마스터 웨이퍼(M/W, Master Wafer)로부터 패턴을 복제한 후, 도 10의 (c) 및 (d)처럼 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 복제된 패턴을 인쇄할 수 있다.
이러한 역할을 담당하는 롤 이동체(130)는 필름을 매개로 회전하면서 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행하는 임프린트 롤(132)과, 임프린트 롤(132)에 이웃하게 배치되되 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 업/다운(up/down) 구동하면서 필름이 웨이퍼(W1,W2)의 표면에 배치되게 하는 업/다운 구동 앵글롤(133)을 포함할 수 있다.
임프린트 롤(132) 및 업/다운 구동 앵글롤(133)은 이동 프레임(131)에 한 몸체로 연결될 수 있다. 즉 이동 프레임(131)에 의해 임프린트 롤(132) 및 업/다운 구동 앵글롤(133)이 함께 이동하며, 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행한다.
롤 이동체(130)는 무동력 가이드롤(134)과 피봇롤(135)을 더 포함한다. 무동력 가이드롤(134)은 동력 없이 회전하되 이동 프레임(131)의 일측에 연결되고 이동 프레임(131)과 함께 이동하면서 필름을 가이드하는 역할을 한다. 무동력 가이드롤(134)은 자유 회전 가능한 롤러이다.
피봇롤(135)은 이동 프레임(131)의 일측에 연결되며, 이동 프레임(131) 상에 배치되는 필름에 장력을 제공하는 역할을 한다. 즉 피봇롤(135)이 구동되면 점선처럼 필름을 눌러줌으로써 필름에 장력(텐션)을 가할 수 있다.
롤 이동체(130)의 임프린트 롤(132)에 의한 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 진행되기 위해 롤 이동체(130)의 주변에는 제1 댄서롤(141)이 마련된다.
제1 댄서롤(141)은 롤 이동체(130)의 주변에서 필름과 연결되며, 롤 이동체(130)의 이동에 따른 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 롤 이동체(130)와 상호작용하면서 필름에 장력을 부여하는 역할을 한다. 즉 롤 이동체(130)가 이동하면서 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행할 때, 제1 댄서롤(141)이 위, 아래로 움직임으로써 필름에 장력을 제공한다. 따라서, 고품질 인쇄가 가능해진다.
한편, 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 롤 이동체(130)의 양측에 위치하는 필름은 고정(fix)되어야 하고, 여러 번 인쇄가 완료되면 다시 새로운 필름이 인쇄위치로 공급되어야 한다. 다시 말해, 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행할 때는 롤 이동체(130)의 양측에 위치하는 필름을 고정해야 하며, 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 완료되면 필름을 공정라인으로 공급해야 하는데, 이러한 작업을 위해 필름 구동 유닛(144) 및 필름 픽싱 유닛(145, film fixing unit)이 장치에 탑재된다.
필름 구동 유닛(144)은 필름의 라인 중 일측에 배치되며, 필름이 이동하기 위한 동력을 제공한다. 필름 구동 유닛(144)은 모터에 의한 동력으로 필름을 이동시킨다.
필름 픽싱 유닛(145)은 롤 이동체(130)를 사이에 두고 필름 구동 유닛(144)의 반대편에 배치되며, 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 필름 구동 유닛(144)과 함께 동작하면서 필름의 피딩(feeding)을 저지시키는 역할을 한다.
필름 구동 유닛(144)과 필름 픽싱 유닛(145)은 도 13의 컨트롤러(160)에 의해 컨트롤될 수 있다. 즉 도면에는 표기하지 않았지만, 컨트롤러(160)는 롤 이동체(130)의 양측에서 필름의 피딩이 정지된 상태에서 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 진행될 수 있도록 롤 이동체(130), 필름 구동 유닛(144) 및 필름 픽싱 유닛(145)의 동작을 컨트롤한다. 다시 말해, 앞서 기술한 것처럼 웨이퍼에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행할 때는 롤 이동체(130)의 양측에 위치하는 필름을 고정해야 하며, 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 완료되면 필름을 공정라인으로 공급해야 하는데, 이의 컨트롤을 컨트롤러(160)가 담당한다.
이러한 구성들 외에 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에는 필름 공급 유닛(151)과 필름 회수 유닛(152)이 더 갖춰진다.
필름 공급 유닛(151)은 필름의 일측 단부에 마련되되 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 위하여 필름을 공급하는 역할을 하고, 필름 회수 유닛(152)은 필름의 타측 단부에 마련되되 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 완료된 필름을 회수하는 역할을 한다. 필름 공급 유닛(151)의 일측에는 필름의 공급량을 감지하는 공급량 감지기(147)가 마련될 수 있다.
이때, 공급하는 필름이 라인 상에서 삐뚤어지거나 회수하는 필름이 비뚤어지면 곤란하다. 이를 방지하기 위해, 공급측 필름 가이드(153)와 회수측 필름 가이드(154)가 마련된다.
공급측 필름 가이드(153)는 필름 공급 유닛(151)에 이웃하게 배치되며, 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 위하여 롤 이동체(130)로 공급되는 필름을 가이드해서 보내는 역할을 하고, 회수측 필름 가이드(154)는 필름 회수 유닛(152)에 이웃하게 배치되며, 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 완료된 필름을 가이드해서 필름 회수 유닛(152)으로 보내는 역할을 한다.
그리고, 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에는 공급측 필름 가이드(153)와 롤 이동체(130)를 연결하는 라인 상에 필름에 대한 장력을 조절하는 제2 댄서롤(142)이 배치된다. 제2 댄서롤(142)이 반드시 적용되어야 하는 것은 아니나, 제2 댄서롤(142)이 적용됨으로써 제1 댄서롤(141) 외측의 필름 라인에 대한 장력을 조절하는 데 유리하다.
본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에는 복수의 아이들롤(146)이 배치된다. 복수의 아이들롤(146)은 필름이 공급되고 회수되는 라인 상의 군데군데에 배치되며, 해당 위치에서 무동력 회전하면서 필름을 지지한다.
한편, 스테이지 유닛(120)은 공용 워킹 스테이지(120)를 포함한다. 공용 워킹 스테이지(120)는 웨이퍼(W1,W2)에 패턴(pattern)을 복제 또는 인쇄하는 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 진행되는 장소를 형성한다.
다시 말해, 본 실시예에서 공용 워킹 스테이지(120)는 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정이 진행되는 장소를 형성하는데, 특히 웨이퍼(W1,W2) 중에서 크기가 서로 다른 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 공용으로 대응된다. 이처럼 하나의 공용 워킹 스테이지(120)로 복수 개의 웨이퍼(W1,W2)에 공용으로 대응할 수 있도록 함으로써 장치의 간소화를 구현할 수 있고, 제어의 편의성에 따른 생산성 향상을 도모할 수 있다.
이러한 스테이지 유닛(120)은 공용 워킹 스테이지(121)의 하부에 배치되는 베이스 플레이트(124)와, 공용 워킹 스테이지(121)와 베이스 플레이트(124)에 연결되고 공용 워킹 스테이지(121)와 베이스 플레이트(124)를 지지하는 복수의 서포터(125)를 포함한다. 공용 워킹 스테이지(121)와 베이스 플레이트(124) 사이의 공간에 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)가 간섭 없이 배치될 수 있다.
공용 워킹 스테이지(121)에는 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2), 마스터 웨이퍼(M/W, Master Wafer)가 로딩되는 웨이퍼 로딩부(122)가 형성된다. 그리고, 웨이퍼 로딩부(122)에 아우터 스테이지(127, Outer Stage)와, 이너 스테이지(128, Inner Stage)가 배치된다.
아우터 스테이지(127)는 웨이퍼 로딩부(122)에 업/다운(up/down) 이동 가능하게 배치되는 스테이지다. 그리고, 이너 스테이지(128)는 아우터 스테이지(127)의 반경 방향 내측에 배치되되 아우터 스테이지(127)에 대하여 독립적으로 업/다운(up/down) 이동 가능하며, 아우터 스테이지(127)와 함께 상대적으로 크기가 큰 제1 웨이퍼(W1, 도 10의 c 참조) 또는 마스터 웨이퍼(M/W, Master Wafer, 도 10의 b 참조)를 지지하거나 제2 웨이퍼(W2, 도 10의 d 참조)를 단독으로 지지한다.
이처럼 이너 스테이지(128)가 아우터 스테이지(127) 내에 독립적으로 이동 가능하게 배치되어야 하기 때문에, 아우터 스테이지(127)는 이너 스테이지(128)가 통과하는 스테이지 통과부(127b)가 내부에 형성되는 도넛(Doughnut) 모양을 이룰 수 있다.
아우터 스테이지(127)와 이너 스테이지(128)에는 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2), 마스터 웨이퍼(M/W) 중 적어도 어느 하나의 웨이퍼를 흡착하는 복수의 흡착홀(127a,128a)이 형성된다. 흡착홀(127a,128a)의 크기, 사이즈, 배치구조는 도면과 달라질 수 있다. 따라서, 도면의 형상에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다.
한편, 도 10처럼 마스터 웨이퍼(M/W, 도 10의 b 참조), 제1 웨이퍼(W1, 도 10의 c 참조) 및 제2 웨이퍼(W2, 도 10의 d 참조)의 사용여부에 따라 아우터 스테이지(127)와 이너 스테이지(128)는 공용 워킹 스테이지(121)의 웨이퍼 로딩부(122) 상에서 독립적으로 업/다운(up/down) 이동해야 한다. 이를 위해, 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)가 스테이지 유닛(120)에 탑재된다.
아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)는 아우터 스테이지(127)와 연결되고 아우터 스테이지(127)를 독립적으로 업/다운(up/down) 이동시키는 역할을 한다.
이러한 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)는 아우터 스테이지(127)의 업/다운(up/down) 이동 방향을 따라 아우터 스테이지(127)의 둘레면에 이격되게 배치되어 아우터 스테이지(127)를 지지하는 복수의 지지바(171)와, 아우터 스테이지(127)의 하부 영역에서 복수의 지지바(171)에 연결되는 연결 블록(172)과, 아우터 스테이지(127)의 업/다운(up/down) 이동을 위한 동력을 제공하는 제1 모터(174)를 구비하되 연결 블록(172)에 연결되며, 연결 블록(172)을 업/다운(up/down) 이동시키는 제1 업/다운 동력부(173)를 포함할 수 있다.
제1 업/다운 동력부(173)는 LM 혹은 리니어 가이드를 포함할 수 있으며, 제1 모터(174)의 구동 시 연결 블록(172)과 그에 연결되는 구조물 모두를 업/다운(up/down) 이동시킨다.
이너 스테이지 업/다운 이동부(180)는 이너 스테이지(128)와 연결되고 이너 스테이지(128)를 독립적으로 업/다운(up/down) 이동시키는 역할을 한다.
이너 스테이지 업/다운 이동부(180)는 복수의 지지바(171) 사이 영역에 배치되며, 일측에서 이너 스테이지(128)가 탑재되는 스테이지 탑재대(181)와, 이너 스테이지(128)의 업/다운(up/down) 이동을 위한 동력을 제공하는 제2 모터(183)를 구비하되 스테이지 탑재대(181)에 연결되며, 스테이지 탑재대(181)을 업/다운(up/down) 이동시키는 제2 업/다운 동력부(182)와, 스테이지 탑재대(181)를 하부에서 지지하는 탑재대 지지부(184)를 포함할 수 있다.
제2 업/다운 동력부(182) 역시, LM 혹은 리니어 가이드를 포함할 수 있으며, 제2 모터(183)의 구동 시 스테이지 탑재대(181)와 그에 연결되는 구조물 모두를 업/다운(up/down) 이동시킨다.
한편, 앞서 잠시 언급한 것처럼 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에는 장치의 컨트롤을 위해 컨트롤러(160)가 탑재된다.
컨트롤러(160)는 앞서 설명한 필름 구동 유닛(144) 및 필름 픽싱 유닛(145)의 동작을 컨트롤하는 한편, 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)의 동작을 유기적으로 컨트롤한다. 즉 본 실시예에서 컨트롤러(160)는 제1 웨이퍼(W1, 도 10의 c 참조), 제2 웨이퍼(W2, 도 10의 d 참조) 및 마스터 웨이퍼(M/W, 도 10의 b 참조)의 사용여부에 기초하여 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)의 동작을 유기적으로 컨트롤한다.
이러한 역할을 수행하는 컨트롤러(160)는 중앙처리장치(161, CPU), 메모리(162, MEMORY), 그리고 서포트 회로(163, SUPPORT CIRCUIT)를 포함할 수 있다.
중앙처리장치(161)는 본 실시예에서 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)의 동작을 유기적으로 컨트롤하기 위해서 산업적으로 적용될 수 있는 다양한 컴퓨터 프로세서들 중 하나일 수 있다.
메모리(162, MEMORY)는 중앙처리장치(161)와 연결된다. 메모리(162)는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체로서 로컬 또는 원격지에 설치될 수 있으며, 예를 들면 랜덤 액세스 메모리(RAM), ROM, 플로피 디스크, 하드 디스크 또는 임의의 디지털 저장 형태와 같이 쉽게 이용가능한 적어도 하나 이상의 메모리일 수 있다.
서포트 회로(163, SUPPORT CIRCUIT)는 중앙처리장치(161)와 결합되어 프로세서의 전형적인 동작을 지원한다. 이러한 서포트 회로(163)은 캐시, 파워 서플라이, 클록 회로, 입/출력 회로, 서브시스템 등을 포함할 수 있다.
본 실시예에서 컨트롤러(160)는 제1 웨이퍼(W1, 도 10의 c 참조), 제2 웨이퍼(W2, 도 10의 d 참조) 및 마스터 웨이퍼(M/W, 도 10의 b 참조)의 사용여부에 기초하여 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)의 동작을 유기적으로 컨트롤하는데, 이러한 일련의 컨트롤 프로세스 등은 메모리(162)에 저장될 수 있다. 전형적으로는 소프트웨어 루틴이 메모리(162)에 저장될 수 있다. 소프트웨어 루틴은 또한 다른 중앙처리장치(미도시)에 의해서 저장되거나 실행될 수 있다.
본 발명에 따른 프로세스는 소프트웨어 루틴에 의해 실행되는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 프로세스들 중 적어도 일부는 하드웨어에 의해 수행되는 것도 가능하다. 이처럼, 본 발명의 프로세스들은 컴퓨터 시스템 상에서 수행되는 소프트웨어로 구현되거나 집적 회로와 같은 하드웨어로 구현되거나 소프트웨어와 하드웨어의 조합에 의해서 구현될 수 있다.
이하, 본 실시예의 패턴복제 인쇄장치에 대한 패턴복제 공정과 인쇄 공정에 대해 설명한다.
우선, 도 10의 (a)에서 (b)처럼 마스터 웨이퍼(M/W)가 공용 워킹 스테이지(121)의 웨이퍼 로딩부(122)에 로딩된다.
이때는 아우터 스테이지(127)와 이너 스테이지(128)가 일면을 이루는 상태이며, 마스터 웨이퍼(M/W)가 로딩된 이후, 마스터 웨이퍼(M/W)와 공용 워킹 스테이지(121)의 상면은 일면을 이룬다. 이러한 상태에서 임프린트 롤(132)의 도 4 및 도 5 작용으로 패턴복제 공정이 진행된다.
다음, 도 10의 (c)처럼 제1 웨이퍼(W1)가 공용 워킹 스테이지(121)의 웨이퍼 로딩부(122)에 로딩된다.
제1 웨이퍼(W1)는 마스터 웨이퍼(M/W)와 동일한 크기와 두께를 이룰 수 있다. 제1 웨이퍼(W1)가 로딩되면 마스터 웨이퍼(M/W) 때와 마찬가지로 제1 웨이퍼(W1)와 공용 워킹 스테이지(121)의 상면은 일면을 이룬다. 이러한 상태에서 임프린트 롤(132)의 도 4 및 도 5 작용으로 제1 웨이퍼(W1)에 대한 인쇄 공정이 진행된다.
한편, 전술한 패턴복제 공정과 인쇄 공정에 대해 도 11 및 도 12를 참조해서 좀 더 부연 설명한다.
본 실시예처럼 롤(roll), 즉 임프린트 롤(132)을 사용하는 패턴복제 인쇄 시 임프린트 롤(132)의 자중을 이용한 가압방식이 가압 균일도에 유리한 방식으로 보고되고 있다.
다만, 임프린트 롤(132)의 자중을 이용한 가압방식을 적용할 경우, 예컨대, 사각형처럼 가로/세로 길이가 일정한 유리 기판과 같은 웨이퍼에 대해서는 전술한 방식의 기술적용이 어렵지 않지만, 이러한 기술을 도 11처럼 원형 웨이퍼(Wafer), 즉 마스터 웨이퍼(M/W)와 제1 웨이퍼(W1)에 그냥 단순히 적용하면 임프린트 롤(132)이 마스터 웨이퍼(M/W)와 제1 웨이퍼(W1)를 지나면서 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 각각 진행할 때, 마스터 웨이퍼(M/W)와 제1 웨이퍼(W1)에 대한 임프린트 롤(132)의 접촉 길이(L1~L4, 도 12 참조) 변화에 따른 압력변화가 생길 수 있다.
이를 해결하기 위해 본 실시예에 따른 패턴복제 인쇄장치에 공용 워킹 스테이지(121)를 두고, 공용 워킹 스테이지(121) 내의 단차진 부위인 웨이퍼 로딩부(122)에 마스터 웨이퍼(M/W)와 제1 웨이퍼(W1)가 로딩될 수 있게끔 하는 것이다.
이러한 공용 워킹 스테이지(121)를 적용한 후, 임프린트 롤(132)을 이동시키면서 패턴복제 공정과 인쇄 공정을 진행할 경우, 마스터 웨이퍼(M/W)와 제1 웨이퍼(W1)에 대한 임프린트 롤(132)의 접촉 길이(L, 도 12 참조) 변화가 없어 압력변화가 전혀 생기지 않는다.
따라서, 원형의 마스터 웨이퍼(M/W)와 제1 웨이퍼(W1)가 적용되었음에도 불구하고, 품질 좋은 인쇄패턴을 구현할 수 있다. 제2 웨이퍼(W2)의 경우에도 동일한 효과를 제공할 수 있다.
다음, 도 10의 (d)처럼 제2 웨이퍼(W2)가 공용 워킹 스테이지(121)의 웨이퍼 로딩부(122)에 로딩된다.
이때는 제2 웨이퍼(W2)의 크기가 제1 웨이퍼(W1)보다 작고 그 두께 역시 얇기 때문에 이를 보상하기 위해 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)와 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)가 업(up) 동작한다.
즉 아우터 스테이지 업/다운 이동부(170)에 의해 아우터 스테이지(127)의 상면이 공용 워킹 스테이지(121)의 상면과 일면을 이루도록 하는 한편, 이너 스테이지 업/다운 이동부(180)가 약간 업(up) 동작하여 제2 웨이퍼(W2)가 로딩된 이후에 제2 웨이퍼(W2), 아우터 스테이지(127) 및 공용 워킹 스테이지(121)의 상면은 일면을 이룬다. 이러한 상태에서 임프린트 롤(132)의 도 4 및 도 5 작용으로 제2 웨이퍼(W2)에 대한 인쇄 공정이 진행된다.
이상 설명한 바와 같은 구조로 작용을 하는 본 실시예에 따르면, 종전처럼 컨버터 지그(Converter Jig)를 사용하지 않더라도 크기가 다른 제1 및 제2 웨이퍼(W1,W2)에 공용으로 대응할 수 있으며, 이로 인해 웨이퍼(W1,W2)에 대한 패턴복제 또는 인쇄 공정을 쉽고 효율적으로 진행할 수 있어 인쇄 품질을 높일 수 있다.
이처럼 본 발명은 웨이퍼된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 청구범위에 속한다고 하여야 할 것이다.
110 : 장치 테이블 120 : 스테이지 유닛
121 : 공용 워킹 스테이지 122 : 웨이퍼 로딩부
124 : 베이스 플레이트 125 : 서포터
127 : 아우터 스테이지 127a : 제1 흡착홀
127b : 스테이지 통과부 128 : 이너 스테이지
128a : 제2 흡착홀 130 : 롤 이동체
132 : 임프린트 롤 160 : 컨트롤러
170 : 아우터 스테이지 업/다운 이동부 171 : 지지바
172 : 연결 블록 173 : 제1 업/다운 동력부
180 : 이너 스테이지 업/다운 이동부 181 : 스테이지 탑재대
182 : 제2 업/다운 동력부 184 : 탑재대 지지부

Claims (19)

  1. 웨이퍼(Wafer)에 대한 패턴(pattern)을 복제하는 패턴복제 공정과, 상기 패턴을 상기 웨이퍼에 인쇄(Print)하는 인쇄 공정을 진행하는 임프린트 롤(Imprint Roll); 및
    상기 제1 및 제2 웨이퍼에 대한 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정이 진행되는 장소를 형성하는 공용 워킹 스테이지(Working Stage)를 구비하되 상기 웨이퍼 중에서 크기가 서로 다른 제1 및 제2 웨이퍼에 공용으로 대응하는 스테이지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 공용 워킹 스테이지에는 상기 제1 및 제2 웨이퍼가 로딩되는 웨이퍼 로딩부가 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지 유닛은,
    상기 웨이퍼 로딩부에 업/다운(up/down) 이동 가능하게 배치되는 아우터 스테이지(Outer Stage); 및
    상기 아우터 스테이지의 반경 방향 내측에 배치되되 상기 아우터 스테이지에 대하여 독립적으로 업/다운(up/down) 이동 가능하며, 상기 아우터 스테이지와 함께 상대적으로 크기가 큰 상기 제1 웨이퍼 또는 마스터 웨이퍼(Master Wafer)를 지지하거나 상기 제2 웨이퍼를 단독으로 지지하는 이너 스테이지(Inner Stage)를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 아우터 스테이지와 상기 이너 스테이지에는 상기 제1 및 제2 웨이퍼 중 적어도 어느 하나의 웨이퍼를 흡착하는 복수의 흡착홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 아우터 스테이지는 상기 이너 스테이지가 통과하는 스테이지 통과부가 내부에 형성되는 도넛(Doughnut) 모양을 하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 스테이지 유닛은,
    상기 아우터 스테이지와 연결되고 상기 아우터 스테이지를 독립적으로 업/다운(up/down) 이동시키는 아우터 스테이지 업/다운 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 아우터 스테이지 업/다운 이동부는,
    상기 아우터 스테이지의 업/다운(up/down) 이동 방향을 따라 상기 아우터 스테이지의 둘레면에 이격되게 배치되어 상기 아우터 스테이지를 지지하는 복수의 지지바;
    상기 아우터 스테이지의 하부 영역에서 상기 복수의 지지바에 연결되는 연결 블록; 및
    상기 아우터 스테이지의 업/다운(up/down) 이동을 위한 동력을 제공하는 제1 모터를 구비하되 상기 연결 블록에 연결되며, 상기 연결 블록을 업/다운(up/down) 이동시키는 제1 업/다운 동력부를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 스테이지 유닛은,
    상기 이너 스테이지와 연결되고 상기 이너 스테이지를 독립적으로 업/다운(up/down) 이동시키는 이너 스테이지 업/다운 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 이너 스테이지 업/다운 이동부는,
    상기 복수의 지지바 사이 영역에 배치되며, 일측에서 상기 이너 스테이지가 탑재되는 스테이지 탑재대;
    상기 이너 스테이지의 업/다운(up/down) 이동을 위한 동력을 제공하는 제2 모터를 구비하되 상기 스테이지 탑재대에 연결되며, 상기 스테이지 탑재대을 업/다운(up/down) 이동시키는 제2 업/다운 동력부; 및
    상기 스테이지 탑재대를 하부에서 지지하는 탑재대 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1 웨이퍼, 상기 제2 웨이퍼 및 마스터 웨이퍼(Master Wafer)의 사용여부에 기초하여 상기 아우터 스테이지 업/다운 이동부와 상기 이너 스테이지 업/다운 이동부의 동작을 유기적으로 컨트롤하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지 유닛은,
    상기 공용 워킹 스테이지의 하부에 배치되는 베이스 플레이트; 및
    상기 공용 워킹 스테이지와 상기 베이스 플레이트에 연결되고 상기 공용 워킹 스테이지와 상기 베이스 플레이트를 지지하는 복수의 서포터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 임프린트 롤은 필름(film)을 매개로 회전하면서 상기 웨이퍼에 대한 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 임프린트 롤에 이웃하게 배치되되 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정 시 업/다운(up/down) 구동하면서 상기 필름이 상기 웨이퍼의 표면에 배치되게 하는 업/다운 구동 앵글롤이 한 몸체로 연결되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정 시 상기 임프린트 롤 및 상기 업/다운 구동 앵글롤과 함께 이동하는 롤 이동체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 롤 이동체는,
    상기 임프린트 롤 및 상기 업/다운 구동 앵글롤을 일체로 지지하며, 상기 임프린트 롤 및 상기 업/다운 구동 앵글롤과 함께 이동하는 이동 프레임;
    동력 없이 회전하되 상기 이동 프레임의 일측에 연결되고 상기 이동 프레임과 함께 이동하면서 상기 필름을 가이드하는 무동력 가이드롤; 및
    상기 이동 프레임의 일측에 연결되며, 상기 이동 프레임 상에 배치되는 필름에 장력을 제공하는 피봇롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 롤 이동체의 주변에서 상기 필름과 연결되며, 상기 롤 이동체의 이동에 따른 패턴복제 공정과 인쇄 공정 시 상기 롤 이동체와 상호작용하면서 상기 필름에 장력을 부여하는 제1 댄서롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 필름의 라인 중 일측에 배치되며, 상기 필름이 이동하기 위한 동력을 제공하는 필름 구동 유닛; 및
    상기 롤 이동체를 사이에 두고 상기 필름 구동 유닛의 반대편에 배치되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정 시 상기 필름 구동 유닛과 함께 동작하면서 상기 필름의 피딩(feeding)을 저지시키는 필름 픽싱 유닛(film fixing unit)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  17. 제13항에 있어서,
    상기 필름의 일측 단부에 마련되되 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정을 위하여 상기 필름을 공급하는 필름 공급 유닛; 및
    상기 필름의 타측 단부에 마련되되 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정이 완료된 필름을 회수하는 필름 회수 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 필름 공급 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정을 위하여 상기 롤 이동체로 공급되는 필름을 가이드해서 보내는 공급측 필름 가이드; 및
    상기 필름 회수 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 패턴복제 공정과 상기 인쇄 공정이 완료된 필름을 가이드해서 상기 필름 회수 유닛으로 보내는 회수측 필름 가이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 공급측 필름 가이드와 상기 롤 이동체를 연결하는 라인 상에 상기 필름에 대한 장력을 조절하는 제2 댄서롤이 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴복제 인쇄장치.
KR1020200089687A 2020-07-20 2020-07-20 패턴복제 인쇄장치 KR102424392B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200089687A KR102424392B1 (ko) 2020-07-20 2020-07-20 패턴복제 인쇄장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200089687A KR102424392B1 (ko) 2020-07-20 2020-07-20 패턴복제 인쇄장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220010933A true KR20220010933A (ko) 2022-01-27
KR102424392B1 KR102424392B1 (ko) 2022-07-22

Family

ID=80049618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200089687A KR102424392B1 (ko) 2020-07-20 2020-07-20 패턴복제 인쇄장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102424392B1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100624466B1 (ko) * 2005-04-14 2006-09-19 삼성전자주식회사 반도체 웨이퍼 고정용 진공 척
KR20070097976A (ko) * 2006-03-30 2007-10-05 주식회사 아이피에스 웨이퍼 로딩 장치
KR20100128624A (ko) 2009-05-28 2010-12-08 엘지전자 주식회사 영상기기용 스탠드
KR20150131976A (ko) * 2014-05-16 2015-11-25 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법
KR20180078946A (ko) * 2016-12-30 2018-07-10 주식회사 에스에프에이 패턴 복제장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100624466B1 (ko) * 2005-04-14 2006-09-19 삼성전자주식회사 반도체 웨이퍼 고정용 진공 척
KR20070097976A (ko) * 2006-03-30 2007-10-05 주식회사 아이피에스 웨이퍼 로딩 장치
KR20100128624A (ko) 2009-05-28 2010-12-08 엘지전자 주식회사 영상기기용 스탠드
KR20150131976A (ko) * 2014-05-16 2015-11-25 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법
KR20180078946A (ko) * 2016-12-30 2018-07-10 주식회사 에스에프에이 패턴 복제장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR102424392B1 (ko) 2022-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10464297B2 (en) Method and device for attaching backing film to flexible substrate and roller
KR20140109624A (ko) 대면적 임프린트 장치 및 방법
WO2021082702A1 (zh) 一种转盘式烫印机
JP2008254405A (ja) 印刷方法と印刷装置並びにこれを用いた液晶表示装置
KR102424392B1 (ko) 패턴복제 인쇄장치
KR101479940B1 (ko) 인쇄장치
KR102217741B1 (ko) 패턴 복제 인쇄장치
KR101793472B1 (ko) 패턴 복제장치
KR20170034579A (ko) 프레스형 곡면 글라스 열전사장치
KR101445442B1 (ko) 롤 프린팅 장치 및 이를 이용한 롤 프린팅 방법
KR101479939B1 (ko) 인쇄장치
KR101545500B1 (ko) 인쇄장치
KR101694193B1 (ko) 패드 인쇄장치
KR101877772B1 (ko) 패턴 복제장치
KR20170031673A (ko) 다이 커팅 프레스 머신 및 그에 의한 필름의 커팅 방법
KR102026588B1 (ko) 개별 부품이동장치를 이용한 연속 프레스가공시스템
KR101238628B1 (ko) 회전 가능한 각형 롤 스탬프를 이용한 연속 나노 임프린트 장치
JP4283810B2 (ja) 穿孔装置
KR101417644B1 (ko) 보호시트 보정 다 방향 수치제어 방식의 스텝 타발 장치
KR100488677B1 (ko) 엘시디 백라이트용 필름 인쇄장치
KR20190119011A (ko) 패턴 임프린팅을 위한 장치 및 방법
KR101854248B1 (ko) 패턴 복제장치
KR102132436B1 (ko) 기능성 필름 부착장치
KR101791434B1 (ko) 패턴 복제장치
KR101561216B1 (ko) 인쇄장치

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant