KR20210118561A - Dual pod SMIF Open Device - Google Patents

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KR20210118561A
KR20210118561A KR1020200034955A KR20200034955A KR20210118561A KR 20210118561 A KR20210118561 A KR 20210118561A KR 1020200034955 A KR1020200034955 A KR 1020200034955A KR 20200034955 A KR20200034955 A KR 20200034955A KR 20210118561 A KR20210118561 A KR 20210118561A
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Abstract

The present invention is a dual pod standard mechanical interface (SMIF) open apparatus, in which a substrate is transported and handled, to maintain the substrate in a set state. According to the present invention, the dual pod SMIF open apparatus comprises: an apparatus body providing a place where a substrate is handled; a substrate accommodation unit coupled to the upper part of the apparatus body and providing a space in which the substrate is accommodated; a substrate handling unit provided in a part of the apparatus body to handle the substrate accommodated in the substrate accommodation unit; a state inspection unit installed on a part of the apparatus body and provided with a sensor for inspecting the substrate and the substrate handling unit to automatically recognize the substrate; an air flow control unit installed on the lower part of the apparatus body to control flow of air flowing through the apparatus body to suppress particles; and a controller installed in a part of the apparatus body and connected to the substrate accommodation unit, the substrate handling unit, the state inspection unit, and the air flow control unit respectively to control operation of the substrate accommodation unit, the substrate handling unit, the state inspection unit, and the air flow control unit.

Description

이중 포드 SMIF 오픈 장치{Dual pod SMIF Open Device}Dual pod SMIF Open Device}

본 발명은 반도체용 기판 취급 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체용 photomask(또는 Reticle, Mask, EUV(극자외선, Extreme Ultra Violet) mask)를 이중 포드에서 자동 취급하기 위한 이중 포드 SMIF 오픈 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate handling device for semiconductors, and more particularly, to a double pod SMIF open device for automatically handling a semiconductor photomask (or Reticle, Mask, EUV (Extreme Ultra Violet) mask) in a double pod. it's about

일반적인 로더장치는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼(Wafer) 또는 레티클(Reticle) 등의 자재 반송과 관련된 자동화 장비로서, 세계 반도체 협회의 하나인 SEMI(Semiconductor Equipment and Meterials Interials International)에서 권고하는 표준안 중 SMIF(Standard Mechanical Interface)시스템을 구성하는 장비에 포함된다.A general loader device is an automated equipment related to material transport such as wafer or reticle in the semiconductor manufacturing process. Among the standards recommended by SEMI (Semiconductor Equipment and Meterials Interials International), one of the world semiconductor associations, SMIF (Standard) Mechanical Interface) is included in the equipment constituting the system.

SMIF는 국부 청정에 관한 것으로 웨이퍼 제조 공정 중 발생 가능한 공기 중의 미세 오염물질인 파티클(미세먼지 입자)의 차단을 위해 밀폐된 저장 용기인 POD(레티클 저장 용기), 국부적인 공간만을 청정상태로 유지하는 공정장비 간의 인터페이스를 위한 장치에 대해 최소한의 공통규격을 제안하고 있다.SMIF is about local cleanliness. It is a POD (reticle storage container), a closed storage container to block particles (fine dust particles), which are fine pollutants in the air that may occur during the wafer manufacturing process. The minimum common standard is proposed for the device for the interface between process equipment.

SMIF 시스템 중에서 본 발명의 로더장치는 파드에 수납된 웨이퍼, 레티클 등의 반도체 자재를 다음 공정으로 넘겨주는 인터페이스 장치이다.Among the SMIF systems, the loader device of the present invention is an interface device that transfers semiconductor materials such as wafers and reticles housed in a pod to the next process.

그러나, 종래의 SMIF 시스템의 경우, 공정과정에서 작업자 또는 기계적 결속으로 인하여 발생된 파티클이 레티클 또는 웨이퍼 상에 부유됨에 따라 불량이 발생되어 왔다.However, in the case of the conventional SMIF system, defects have been generated as particles generated due to worker or mechanical binding during the process float on the reticle or wafer.

또한, 반도체 기판의 자동 취급을 위해 기판에 적합한 기판 보관 및 취급 Pod를 갖으며 이를 표준화하여 사용한다. 표준화된 Pod에 담긴 반도체 기판을 취급하기 위해 Pod Opener라는 Pod open을 위한 별도의 장치를 구성하고 이를 이용하여 Pod내의 기판을 취급한다.In addition, it has a substrate storage and handling pod suitable for the substrate for automatic handling of semiconductor substrates, and standardizes them for use. In order to handle the semiconductor substrate contained in the standardized Pod, a separate device for Pod Open called Pod Opener is configured and the substrate in the Pod is handled using this.

반도체용 기판이 이물 등으로부터 보호받기 위해 Pod내의 기판을 외부의 환경(공기)과 격리되도록 다양한 방법으로 장치를 구성한다. 또한 SMIF Pod안의 기판을 꺼내기 좋은 상태를 만들기 위해 커버를 Pod 하부 Base에서 분리하여 위로 이동시킬 때 Mask가 제 위치에 있는지 Index(Photo diode와 sensor를 통해 기판의 위치 측정 센서)를 통해 기판의 상태를 검사하고 이상이 있으면 Alarm(경고) 신호를 보내어 장치의 동작이 진행되지 않도록 관리하고 있다.In order to protect the semiconductor substrate from foreign substances, the device is configured in various ways so that the substrate in the pod is isolated from the external environment (air). Also, in order to make a good condition to take out the board inside the SMIF Pod, when the cover is separated from the base of the pod and moved upward, the condition of the board is checked through the Index (photo diode and sensor to measure the location of the board through the sensor) to see if the mask is in place. It is inspected and if there is an error, an Alarm signal is sent to prevent the operation of the device from proceeding.

상기와 같은 종래의 기술은 장치의 내 외부를 분리하며, 내부 기압이 외부보다 크게 하여 청정한 장치 내부의 공기가 외부로 누출될 수 있으나, 외부의 오염된 공기가 유입되지 않도록 되어 있어야 한다.The conventional technique as described above separates the inside and outside of the device, and the internal air pressure is greater than that of the outside, so that the clean air inside the device can leak to the outside, but it must be so that the outside polluted air is not introduced.

장치내부의 공기 흐름을 원활히 하기 위해 FAN 또는 음압의 배기구를 통해 공기 흐름을 강제하고 있다. 그러나, 장치의 Door를 여닫는 상황에서 균형이 깨지고 와류 발생하여 이물이 기판에 떨어지는 현상이 발생한다.In order to facilitate the air flow inside the device, the air flow is forced through the exhaust port of the fan or negative pressure. However, when the door of the device is opened or closed, the balance is broken and a vortex is generated, causing a phenomenon in which foreign substances fall on the substrate.

또한, 기판을 초기에 Pod에 올려놓았을 때 방향이 규정과 다르게 놓였거나 이동 중에 이탈할 경우 사람이 육안 확인하여 검출하는 방법 이외에는 이를 검출할 방법이 없으며, 또한 이를 올바르게 수정할 방법 또한 없는 상태이기에 기판 불량이 발생하고 있다.In addition, when the substrate is initially placed on the Pod, if the direction is different from the regulations or if it deviates during movement, there is no way to detect it other than a method to detect it with the naked eye, and there is also no way to correct it. A defect is occurring.

대한민국 등록특허 제10-1583610호Republic of Korea Patent No. 10-1583610 대한민국 공개특허 제10-2005-0070706호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2005-0070706

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 해결하고자 하는 과제는 서로 다른 Mask 종류나 Mask가 뒤집혀 있거나, Mask가 회전 또는 이탈되어 있는 상태를 검사하고, Mask의 이동에 따른 공압 등의 변화를 검사하여, 올바른 상태로 회복하기 위한 장치로 구성되어 고품질의 기판(블랭크, 마스크, 레티클 등) 공급이 가능하도록 구성된 이중 포드 SMIF 오픈 장치를 제공하는 것이다.Therefore, the present invention has been devised to solve the above problems, and the object of the present invention is to check the state in which different types of masks or masks are inverted, or the mask is rotated or separated, and movement of the mask It is to provide a double pod SMIF open device configured to supply high-quality substrates (blanks, masks, reticles, etc.)

다만, 본 발명에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the technical problems to be achieved in the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned are clearly to those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the description below. can be understood

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 개선하기 위하여 창출된 것으로, 기판이 이송되어 취급되는 듀얼 포드 SMIF 오픈 장치로서, 상기 기판이 취급되는 장소를 제공하는 장치본체; 상기 장치본체의 상부에 결합되며 상기 기판이 수용되는 공간을 제공하는 기판 수용유닛; 상기 장치본체의 일부분에 구비되어 상기 기판 수용유닛에 수용되는 상기 기판을 취급하는 기판 취급유닛; 상기 장치본체의 일부분에 설치되며 상기 기판을 자동으로 인식하기 위해, 상기 기판 및 상기 기판 취급유닛을 검사하는 센서가 구비된 상태 검사 유닛; 상기 장치본체의 하부에 설치되어 상기 장치본체를 내부를 유동하는 공기의 흐름을 제어하여 파티클을 억제하는 공기유동 제어유닛; 및 상기 장치본체의 일부분에 설치되며 상기 기판 수용유닛, 기판 취급유닛, 상태 검사 유닛 및 공기유동 제어유닛에 각각 연결되어상기 기판 수용유닛, 기판 취급유닛, 상태 검사 유닛 및 공기유동 제어유닛의 작동을 제어하는 컨트롤러;를 포함할 수 있다.The present invention was created to improve the problems of the prior art as described above, as a dual pod SMIF open device in which a substrate is transported and handled, the device body providing a place where the substrate is handled; a substrate receiving unit coupled to an upper portion of the apparatus body and providing a space in which the substrate is accommodated; a substrate handling unit provided in a portion of the apparatus body to handle the substrate accommodated in the substrate receiving unit; a state inspection unit installed on a part of the apparatus body and provided with a sensor for inspecting the substrate and the substrate handling unit in order to automatically recognize the substrate; an air flow control unit installed in the lower portion of the device body to control the flow of air flowing through the device body to suppress particles; and installed in a part of the apparatus body and respectively connected to the substrate receiving unit, the substrate handling unit, the condition inspection unit and the air flow control unit to control the operation of the substrate receiving unit, the substrate handling unit, the condition inspection unit and the air flow control unit It may include; a controller to control.

또한, 상기 기판 수용유닛은, 상기 기판이 수용되는 공간을 제공하며 상부는 하우징 커버를 이용하여 개폐되는 하우징; 및 상기 기판이 내장되며 상기 하우징의 내부에 분리 가능하게 수용되고 상부는 박스커버를 이용하여 계폐되는 내부박스;를 포함할 수 있다.In addition, the substrate accommodating unit may include: a housing providing a space in which the substrate is accommodated and having an upper portion opened and closed using a housing cover; and an inner box in which the substrate is embedded and separably accommodated in the housing, the upper portion of which is closed using a box cover.

또한, 상기 기판 취급유닛은, 상기 기판 수용유닛에서 이송된 상기 기판이 놓여지는 공간을 제공하는 이동 스테이지; 상기 이동 스테이지에 연결되어 상기 이동 스테이지를 설정된 위치로 이송시키는 이송부재; 상기 이동 스테이지와 상기 이송부재에 연결되어 상기 이동 스테이지를 승강시키는 승강부재; 및 상기 기판을 잡고 위치를 조정하거나 뒤집는 플립 및 로딩스테이지;를 포함할 수 있다.In addition, the substrate handling unit may include: a moving stage providing a space in which the substrate transferred from the substrate receiving unit is placed; a transfer member connected to the moving stage to transfer the moving stage to a set position; an elevating member connected to the moving stage and the transfer member to elevate the moving stage; and a flip and loading stage that holds the substrate and adjusts its position or turns it over.

또한, 상태 검사 유닛은, 복수의 렌즈와 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서로 이루어지며, EUV Mask 및 EUV mask 이외의 상기 동일 기판의 형상 및 상태를 인지하고 대응할 수 있다.Also, the state inspection unit includes a plurality of lenses, a plurality of image sensors, an optical sensor, and a position sensor, and may recognize and respond to the shape and state of the same substrate other than the EUV mask and the EUV mask.

또한, 상기 공기유동 제어유닛은, 상기 장치본체에 발생하는 파티클의 억제를 위해 적어도 하나의 공기 압력 센서와 배기구가 구비되고, 상기 장치본체의 하부에 배치되어 상부에서 하부로 층류(Laminar flow) 형성을 모니터하고 설정된 공기흐름을 유지하기 위해 하부 배기 팬의 속도를 연동시킬 수 있다.In addition, the air flow control unit is provided with at least one air pressure sensor and an exhaust port for suppressing particles generated in the device body, and is disposed at the lower portion of the device body to form a laminar flow from the top to the bottom can be monitored and the speed of the lower exhaust fan can be interlocked to maintain a set airflow.

또한, 상기 컨트롤러의 제어에 의해 서보 모터의 가동에 따른 가동축의 토크를 모니터링하며 설정된 크기 이하의 토크로 구동함으로써 설정된 크기의 힘에 의한 파손을 방지하도록 상기 기판 수용유닛의 상기 하우징 커버와 박스커버의 락킹을 제어할 수 있다.In addition, monitoring the torque of the movable shaft according to the operation of the servo motor under the control of the controller and driving with a torque less than the set size to prevent damage due to the force of the set size of the housing cover and the box cover of the substrate receiving unit Locking can be controlled.

또한, 상기 이송부재, 승강부재 및 플립 및 로딩스테이지는, 상기 이동 스테이지의 하부에 위치되어 연결기둥을 통해 상기 기판을 구속하도록 제어될 수 있다.In addition, the transfer member, the elevating member, and the flip and loading stages may be controlled to be positioned below the moving stage to restrain the substrate through a connecting column.

또한, 상기 승강부재는, 상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 장치본체에서 상기 기판의 하부 부분에 위치한 원형 베어링을 통해 수직으로 세워지고, 상기 기판의 방향이 회전되어지도록 제어될 수 있다.Also, the lifting member may be vertically erected through a circular bearing positioned at a lower portion of the substrate in the apparatus body under the control of the controller, and the direction of the substrate may be controlled to rotate.

본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러의 제어에 의해 SMIF 오픈 장치의 상태(기판의 회전, 뒤집힘, 이탈, 이물 존재)를 검사할 센서로 이루어진 상태 검사 유닛을 설치하고, 또한, 컨트롤러의 제어에 의해 설정된 상태로 듀얼 포드 기판의 회전, 뒤집힘을 수행할 기판 취급유닛을 일부분에 설치하여 상태 검사 유닛에서 수집된 정보에 따라 동작 수정이 가능하여 기판이 설정된 상태로 유지되도록 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a state inspection unit consisting of a sensor to inspect the state of the SMIF open device (rotation of the substrate, overturning, separation, presence of a foreign object) under the control of the controller is installed, and the control of the controller By installing a substrate handling unit to perform rotation and flipping of the dual pod substrate in a state set by the state, it is possible to modify the operation according to the information collected from the state inspection unit so that the substrate is maintained in the set state.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러의 제어에 의해 SMIF 오픈 장치에서 발생하는 공기 중의 오염원인 파티클의 억제를 위해서 공기유동 제어유닛을 이용하여 공기의 유동을 제어할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, it is possible to control the flow of air using the air flow control unit in order to suppress particles that are pollutants in the air generated in the SMIF opening device under the control of the controller.

다만, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the effects obtainable in the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the following description. will be able

본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어서 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 이중 포드 SMIF 오픈 장치의 개념도이다.
도 2는 상기 기판 수용유닛의 분해 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 이중 포드 SMIF 오픈 장치의 사시도이다.
도 4는 상기 SMIF 오픈 장치의 입면도이다.
도 5는 상기 기판 취급유닛을 나타낸 도면이다.
도 6는 상기 컨트롤러의 제어 블록도이다.
The following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the detailed description of the present invention to be described later, so the present invention is described in such drawings It should not be construed as being limited only to
1 is a conceptual diagram of a dual pod SMIF open device according to an embodiment of the present invention.
2 is an exploded perspective view of the substrate receiving unit.
3 is a perspective view of a dual pod SMIF opening device according to an embodiment of the present invention.
4 is an elevation view of the SMIF open device.
5 is a view showing the substrate handling unit.
6 is a control block diagram of the controller.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시 예에 불과하므로, 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시 예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시 예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 발명에서 제시된 목적 또는 효과는 특정 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다거나 그러한 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 본 발명의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. However, since the description of the present invention is merely an embodiment for structural or functional description, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiment described in the text. That is, since the embodiment may have various changes and may have various forms, it should be understood that the scope of the present invention includes equivalents capable of realizing the technical idea. In addition, since the object or effect presented in the present invention does not mean that a specific embodiment should include all of them or only such effects, it should not be understood that the scope of the present invention is limited thereby.

본 발명에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.The meaning of the terms described in the present invention should be understood as follows.

"제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.Terms such as “first” and “second” are for distinguishing one component from another, and the scope of rights should not be limited by these terms. For example, a first component may be termed a second component, and similarly, a second component may also be termed a first component. When a component is referred to as being “connected” to another component, it may be directly connected to the other component, but it should be understood that other components may exist in between. On the other hand, when it is mentioned that a certain element is "directly connected" to another element, it should be understood that the other element does not exist in the middle. Meanwhile, other expressions describing the relationship between elements, that is, “between” and “immediately between” or “neighboring to” and “directly adjacent to”, etc., should be interpreted similarly.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The singular expression is to be understood as including the plural expression unless the context clearly dictates otherwise, and terms such as "comprises" or "have" refer to the described feature, number, step, action, component, part or these It is intended to indicate that a combination exists, and it should be understood that it does not preclude the possibility of the existence or addition of one or more other features or numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.All terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs, unless otherwise defined. Terms defined in the dictionary should be interpreted as being consistent with the meaning of the context of the related art, and cannot be interpreted as having an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present invention.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 이중 포드 SMIF 오픈 장치의 개념도이고, 도 2는 상기 기판 수용유닛의 분해 사시도이며, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 이중 포드 SMIF 오픈 장치의 사시도이고, 도 4는 상기 SMIF 오픈 장치의 입면도이며, 도 5는 상기 기판 취급유닛을 나타낸 도면이고, 도 6는 상기 컨트롤러의 제어 블록도이다.1 is a conceptual diagram of a dual pod SMIF opening device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of the substrate receiving unit, and FIG. 3 is a perspective view of a dual pod SMIF opening device according to an embodiment of the present invention 4 is an elevation view of the SMIF opening device, FIG. 5 is a view showing the substrate handling unit, and FIG. 6 is a control block diagram of the controller.

도 1내지 도 6에 도시된 바와 같이, 기판이 이송되어 취급되는 듀얼 포드 SMIF 오픈 장치로서, 구체적으로, EUV Dual SMIF(Standard Mechanical Interface, 표준 기계 인터페이스) 포드 내의 기판(Mask)(60)를 취급하기 위해 포드(Pod))의 커버를 여는 자동화 장치(SMIF Opener)에 있어서, 본 발명은 장치본체(100), 기판 수용유닛(110), 기판 취급유닛(120), 상태 검사 유닛(130), 공기유동 제어유닛(140) 및 컨트롤러(150)를 포함할 수 있다.1 to 6, as a dual pod SMIF open device in which a substrate is transferred and handled, specifically, a substrate (Mask) 60 in an EUV Dual SMIF (Standard Mechanical Interface) pod is handled In the automatic device (SMIF Opener) for opening the cover of the pod), the present invention provides a device body 100, a substrate receiving unit 110, a substrate handling unit 120, a condition inspection unit 130, It may include an air flow control unit 140 and a controller 150 .

먼저, 실시예에 따른 SMIF 장치는 마스크 핸들링(Mask handling)용 미니 인바이런먼트(Mini Environment)인 SMIF 로더로서, 반도체 웨이퍼, 래티클, 포토마스크(photo mask), 유리기판 등의 자재를 저장하고 있는 저장용 기(박스, 파드(POD) 또는 카세트)를 자동으로 개폐하거나, 저장용기를 개방한 상태에서 내부의 자재 반송을 포함하는 자재 저장용기 자동 개방장치이다.First, the SMIF device according to the embodiment is a SMIF loader that is a mini environment for mask handling, and stores materials such as semiconductor wafers, reticles, photo masks, and glass substrates. It is an automatic material storage container opening device that automatically opens and closes a storage container (box, pod, or cassette) in a storage container, or transfers materials inside the storage container in an open state.

장치본체(100)는 내부에 기판(60)을 수용하면서 기판(60)이 취급되는 장소를 제공할 수 있다. 구체적으로, 반도체 산업에서 EUV란 반도체를 만드는 데 있어 중요한 과정인 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피(extreme ultraviolet lithography) 기술 또는 이를 활용한 제조공정을 말한다.The device body 100 may provide a place where the substrate 60 is handled while accommodating the substrate 60 therein. Specifically, EUV in the semiconductor industry refers to an extreme ultraviolet lithography technology using a light source of extreme ultraviolet wavelength in a photo process, which is an important process for making a semiconductor, or a manufacturing process using the same.

반도체 칩을 생산할 때 웨이퍼(wafer)라는 실리콘 기반의 원판, 즉 둥근 디스크는 감광물질로 코팅이 되고, 스캐너라고 하는 포토공정 설비로 들어가게 된다. 이 설비 안에서 회로 패턴을 새겨 넣기 위해 레이저 광원을 웨이퍼에 투사하는 노광(photolithography) 작업을 진행하는데, 이렇게 해서 반도체 칩 안에 현미경으로 봐야 보일 정도로 작고 미세한 회로소자 수십억개를 형성하게 된다. EUV 공정은 이러한 노광 단계를 극자외선 파장을 가진 광원을 활용해 진행하는 것을 말한다.When a semiconductor chip is produced, a silicon-based disk called a wafer, that is, a round disk, is coated with a photosensitive material and is put into a photo processing facility called a scanner. In this facility, photolithography, in which a laser light source is projected onto the wafer, is carried out to engrave circuit patterns. In this way, billions of circuit elements small and microscopic enough to be seen under a microscope are formed in the semiconductor chip. The EUV process refers to performing this exposure step using a light source having an extreme ultraviolet wavelength.

기판 수용유닛(110)은 장치본체(100)의 상부에 결합되며 기판(60)이 수용되는 공간을 제공할 수 있다. 구체적으로, 기판 수용유닛(110)은 이중으로 제작되어 열리거나 닫히면 기판이 수용된 포드의 안전한 보관 및 수용이 가능하다.The substrate receiving unit 110 is coupled to the upper portion of the apparatus body 100 and may provide a space in which the substrate 60 is accommodated. Specifically, the substrate accommodating unit 110 is manufactured as a double, and when opened or closed, it is possible to safely store and accommodate the pod in which the substrate is accommodated.

기판 수용유닛(110)은 하우징(112) 및 내부박스(114)를 포함할 수 있다.The substrate receiving unit 110 may include a housing 112 and an inner box 114 .

하우징(112)은 기판(60)이 수용되는 공간을 제공하며 상부는 하우징 커버(30)를 이용하여 개폐될 수 있다.The housing 112 provides a space in which the substrate 60 is accommodated, and the upper part may be opened and closed using the housing cover 30 .

내부박스(114)는 기판(60)이 내장되며 하우징(112)의 내부에 분리 가능하게 수용되고 상부는 박스커버(50)를 이용하여 계폐될 수 있다.The inner box 114 has a built-in substrate 60 and is detachably accommodated inside the housing 112 , and the upper portion may be locked using the box cover 50 .

구체적으로, 본 발명의 SMIF 오픈 장치(10)는 EUV Dual Pod를 Open하기 위해 최대한 기존 SMIF Opener를 대치하는 형태로 설계될 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 도 2는 Dual Pod를 펼쳐 놓은 것으로 기판(60)(마스크)은 내부박스(114) 상에 100um떨어져 있고 Pattern면이 아래를 향하도록 되어 있다.Specifically, the SMIF open device 10 of the present invention may be designed to replace the existing SMIF Opener as much as possible to open the EUV Dual Pod. As shown in Figure 2, Figure 2 is a Dual Pod spread out, the substrate 60 (mask) is 100um away on the inner box 114, the pattern surface is to face down.

따라서, SMIF 오픈 장치(10)는 RSP200의 하우징(112)과 하우징 커버(30)를 분리하고, 박스커버(50)를 분리한 뒤, 내부박스(114)에 있는 Mask Handling부분에서 기판(60)(Mask)을 들어올려 놓으면 Main 장치(SEM)의 End effector가 기판(60)(Mask)을 가져가면 된다.Therefore, the SMIF opening device 10 separates the housing 112 and the housing cover 30 of the RSP200, removes the box cover 50, and then removes the substrate 60 from the mask handling part of the inner box 114. When the (Mask) is lifted, the end effector of the main device (SEM) can take the substrate 60 (Mask).

기판(Mask) Pattern 면이 하부에 있으므로, 본 발명 SMIF 오픈 장치(10)에서는 기판(Mask)을 플립부재(128)를 이용하여 Flip하여 Pattern면이 상부를 보도록 할 수 있다. 플립부재(128)에 의해 기판(60) 방향이 90도 회전되어 있으므로, Main장치에서 다시 90도 회전하여 사용하여야 한다. 즉, EUV Dual Pod에서 Mask를 꺼내 놓은 위치는 기존 ArF Photo mask용 SMIF Pod Opener와 같은 상태임으로 Main 장치에서는 기존과 같은 방법으로 Mask를 가져가면 되는데, 단, Rotation은 필요하다.Since the substrate (Mask) pattern surface is at the bottom, in the SMIF opening apparatus 10 of the present invention, the substrate (Mask) is flipped using the flip member 128 so that the pattern surface is viewed upward. Since the direction of the substrate 60 is rotated by 90 degrees by the flip member 128, it must be rotated again by 90 degrees in the main device. In other words, the position where the mask is taken out from the EUV Dual Pod is in the same state as the existing SMIF Pod Opener for ArF photo mask, so the main device can take the mask in the same way as before, but rotation is required.

기판을 플립부재(128)로 플립(Flip)할 때 +-90도 Flip하면 기판은 바닥면에 대해 수직상태가 되어 기판에 수평한 면에 놓여진 센서(카메라 이미지센서)를 통해 기판의 상태를 이미지로써 볼 수 있어 기판( Photo mask 또는 EUV Mask)의 표면 또는 Backside를 검사할 수 있게 된다.If the board is flipped by +-90 degrees when flipping the board with the flip member 128, the board becomes vertical with respect to the bottom, and the state of the board is imaged through the sensor (camera image sensor) placed on the horizontal surface of the board. It can be seen as a surface or backside of the substrate (photo mask or EUV mask).

기판 취급유닛(120)은 장치본체(100)의 일부분에 구비되어 기판 수용유닛(110)에 수용되는 기판(60)을 취급할 수 있다.The substrate handling unit 120 is provided in a part of the apparatus body 100 to handle the substrate 60 accommodated in the substrate receiving unit 110 .

기판 취급유닛(120)은 이동 스테이지(122), 이송부재(124), 승강부재(126) 및 플립부재(128)를 포함할 수 있다.The substrate handling unit 120 may include a moving stage 122 , a transfer member 124 , a lifting member 126 , and a flip member 128 .

이동 스테이지(122)는 기판 수용유닛(100)에서 이송된 기판(60)이 놓여지는 공간을 제공할 수 있다. 구체적으로, 이동 스테이지(122)는 기판 수용유닛(100)의 듀얼 포드인 하우징(112)과 내부박스(114)에서 이송된 기판(60)이 놓여지는 공간을 제공하고, servo motor 등이 구비되어 컨트롤러(150)의 제어에 정밀한 구동이 가능하다.The moving stage 122 may provide a space in which the substrate 60 transferred from the substrate receiving unit 100 is placed. Specifically, the moving stage 122 provides a space in which the housing 112 which is a dual pod of the substrate receiving unit 100 and the substrate 60 transferred from the inner box 114 is placed, and a servo motor is provided. Precise driving is possible under the control of the controller 150 .

이송부재(124)는 이동 스테이지(122)에 연결되어 이동 스테이지(122)를 설정된 위치로 이송킬 수 있다. 구체적으로, 이송부재(124)는 servo motor 등이 구비되어 컨트롤러(150)의 제어에 정밀한 구동이 가능한데, 보다 구체적으로, 이송부재(124)는 트랜스퍼라고도 하는데, 왕복 운동시키면서 설정된 위치로의 이동이 가능하다. linear Motor와 LM 가이드 또는 Ball Screw와 LM 가이드를 이용하거나, 2개 이상의 모터를 이용하여 복수의 위치를 이동하게 하는 운송 장치이다.The transfer member 124 may be connected to the moving stage 122 to transfer the moving stage 122 to a set position. Specifically, the transfer member 124 is provided with a servo motor, etc., so that precise driving is possible for the control of the controller 150. More specifically, the transfer member 124 is also called a transfer, and movement to a set position while reciprocating is possible. possible. It is a transport device that uses a linear motor and an LM guide, a ball screw and an LM guide, or uses two or more motors to move multiple positions.

승강부재(126)는 이동 스테이지(122)와 이송부재(124)에 연결되어 이동 스테이지(122)를 승강시킬 수 있다. 구체적으로, 승강부재(126)는 servo motor 등이 구비되어 컨트롤러(150)의 제어에 정밀한 구동이 가능하다. 다른 구체적 예로써, 승강부재(126)의 예로는 공기압실린더(pneumatic cylinder), 유압실린더(hydraulic cylinder) 방식이 주로 사용되는데, 구체적으로 공기압실린더란 압축공기실린더라고도 불리며, 압축공기가 갖는 에너지를 기계적인 왕복 직선 운동으로 변환하는 장치이다.The elevating member 126 may be connected to the moving stage 122 and the transfer member 124 to elevate the moving stage 122 . Specifically, the lifting member 126 is provided with a servo motor, etc., so that precise driving is possible for the control of the controller 150 . As another specific example, as an example of the elevating member 126 , a pneumatic cylinder or a hydraulic cylinder method is mainly used. Specifically, the pneumatic cylinder is also called a compressed air cylinder, and the energy of compressed air is converted into a machine. It is a device that converts a linear reciprocating motion.

유압실린더란 유압을 이용하여 큰 출력, 추력의 직선운동을 실현하는 기계이며, 공작기계나 토목, 건설기계에 흔히 쓰인다. 공기압실린더나 유압실린 더는 펌프나 컨트롤벌브 등과 조합되어 사용한다. 상기와 같은 이유로 유압실린더는 각종 산업분야에 쓰이는 크레인 등에 많이 사용되고 있다.A hydraulic cylinder is a machine that realizes linear motion of large output and thrust by using hydraulic pressure, and is commonly used in machine tools, civil engineering and construction machinery. A pneumatic cylinder or hydraulic cylinder is used in combination with a pump or control bulb. For the above reasons, hydraulic cylinders are widely used in cranes used in various industrial fields.

승강부재(126)는 컨트롤러(150)의 제어에 의해 장치본체(100)에서 기판(60)의 하부 부분에 위치한 원형 베어링을 통해 수직으로 세워지고, 기판(60)의 방향이 회전되어지도록 제어될 수 있다.The lifting member 126 is vertically erected through a circular bearing located in the lower portion of the substrate 60 in the device body 100 under the control of the controller 150, and the direction of the substrate 60 is to be controlled to be rotated. can

플립 및 로딩스테이지(128)는 기판(60)을 잡고 위치를 조정하거나 뒤집을 수 있다. 구체적으로, 플립 및 로딩스테이지(128)는는 servo motor 등이 구비되어 컨트롤러(150)의 제어에 정밀한 구동이 가능하다. 보다 구체적으로, 플립 및 로딩스테이지(540)는 Flip과 Load/Unload stage로 사용되는데, 플립 및 로딩스테이지(128)는 다축 구동계가 구비된 일종의 로봇팔의 역할을 하는 장치로서 컨트롤러(150)의 제어에 의해 기판(60)의 일부분을 홀딩하여 위치를 설정된 곳으로 올바르게 조정하거나 기판(60)을 뒤집으면서 정위치나 설정된 방향으로 위치시킬 수 있다.The flip and loading stage 128 can hold the substrate 60 and adjust its position or flip it over. Specifically, the flip and loading stage 128 is provided with a servo motor and the like, so that precise driving is possible under the control of the controller 150 . More specifically, the flip and loading stage 540 is used as a Flip and Load/Unload stage, and the flip and loading stage 128 is a device serving as a kind of robot arm equipped with a multi-axis drive system, and is controlled by the controller 150 . By holding a portion of the substrate 60, the position can be correctly adjusted to a set position, or the substrate 60 can be positioned in a fixed position or in a set direction while turning over.

이송부재(124), 승강부재(126) 및 플립 및 로딩스테이지(128)는 이동 스테이지(122)의 하부에 위치되어 연결기둥(70)을 통해 기판(60)을 구속하도록 제어될 수 있다.The transfer member 124 , the elevating member 126 , and the flip and loading stage 128 may be positioned under the moving stage 122 and controlled to restrain the substrate 60 through the connecting post 70 .

상태 검사 유닛(130)은 장치본체(100)의 일부분에 설치되며 기판(60)을 자동 인식하기 위해, 기판(60) 및 기판 취급유닛(120)을 검사하는 센서가 구비될 수 있다. The state inspection unit 130 is installed on a part of the apparatus main body 100 , and in order to automatically recognize the substrate 60 , a sensor for inspecting the substrate 60 and the substrate handling unit 120 may be provided.

상태 검사 유닛(130)은 복수의 렌즈와 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서로 이루어지며, EUV Mask 및 EUV mask 이외의 동일 기판(60)의 형상 및 상태를 인지하고 대응할 수 있다. 즉, 상태 검사 유닛(130)은 복수의 렌즈와 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서 이루어지는 것을 특징으로 하여, EUV Mask 및 EUV mask, 즉 EUV Mask(기판) 및 EUV mask(기판) 이외의 동일 형상의 다양한 마스크인 기판의 형상 및 상태를 인지하고 대응할 수 있다.The state inspection unit 130 includes a plurality of lenses, a plurality of image sensors, an optical sensor, and a position sensor, and may recognize and respond to the shape and state of the same substrate 60 other than the EUV mask and the EUV mask. That is, the state inspection unit 130 is characterized in that it comprises a plurality of lenses, a plurality of image sensors, an optical sensor, and a position sensor. It is possible to recognize and respond to the shape and state of the substrate, which is a mask of various shapes.

구체적으로, 상태 검사 유닛(130)은 일반 single pod와 Dual Pod를 혼용하여 사용할 수 있고, Camera를 사용하여 image processing를 통해 Mask의 상태와 SMIF 오픈 장치(10)의 상태를 모니터링 할 수 있다. 또한, 기판(60)의 Flip, Drop, Empty와 내부박스(114), 하우징(112) 내에서의 상태 및 구동 축 위치 등을 Photo sensor 등을 통해서 체계적인 관리가 가능하다.Specifically, the state inspection unit 130 may use a general single pod and a dual pod mixedly, and may monitor the state of the mask and the state of the SMIF open device 10 through image processing using a camera. In addition, it is possible to systematically manage the Flip, Drop, Empty of the substrate 60, the state in the inner box 114, the housing 112, and the position of the drive shaft through a photo sensor or the like.

공기유동 제어유닛(140)은 장치본체(100)의 하부에 설치되어 장치본체(100)를 내부를 유동하는 공기의 흐름을 제어하여 파티클을 억제할 수 있다.The air flow control unit 140 may be installed at the lower portion of the device body 100 to control the flow of air flowing through the device body 100 to suppress particles.

공기유동 제어유닛(140)은 장치본체(100)에 발생하는 파티클의 억제를 위해 적어도 하나의 공기 압력 센서와 배기구가 구비되고, 장치본체(100)의 하부에 배치되어 상부에서 하부로 층류(Laminar flow) 형성을 모니터하고 설정된 공기흐름을 유지하기 위해 하부 배기 팬의 속도를 연동시킬 수 있다.The air flow control unit 140 is provided with at least one air pressure sensor and an exhaust port for suppressing particles generated in the device body 100 , and is disposed at the lower portion of the device body 100 to provide a laminar flow from the top to the bottom. flow) formation and interlock the speed of the lower exhaust fan to maintain a set airflow.

구체적으로, 공기유동 제어유닛(140)은, 일 종의 팬으로서 장치본체(100)에 발생하는 공기 중의 오염원인 파티클의 억제를 위해 적어도 3 곳에 공기 압력 센서(미도시)가 구비되고, Air flow를 고려하여 모든 구동계는 Sus 판으로 이중 벽을 이루면서 장비본체의 하부에 배치되어 층류인 Laminar flow가 되도록 할 수 있다. 층류는 유체의 규칙적인 흐름으로, 흐트러지지 않고 일정하게 흐르는 것이다. 난류와 반대되는 개념이다.Specifically, the air flow control unit 140, as a kind of fan, is provided with an air pressure sensor (not shown) in at least three places for suppressing particles that are pollutants in the air generated in the device body 100, and the air flow In consideration of this, all drivelines can be arranged in the lower part of the equipment body to form a double wall with Sus plate so that laminar flow can be achieved. Laminar flow is the regular flow of a fluid, which is a constant flow without disturbance. It is the opposite of turbulence.

또한, 상태 검사 유닛(130)을 통해서 측정된 SMIF 오픈 장치(10) 내외부의 압력차를 설정된 수준으로 유지하도록 일부분에 설치된 팬(미도시)의 속도나 배기구(미도시)의 개폐를 제어할 수 있다.In addition, it is possible to control the speed of the fan (not shown) installed in a part or the opening and closing of the exhaust port (not shown) to maintain the pressure difference inside and outside the SMIF open device 10 measured through the state inspection unit 130 at a set level. have.

컨트롤러(150)는 장치본체(100)의 일부분에 설치되며 기판 수용유닛(110), 기판 취급유닛(120), 상태 검사 유닛(130) 및 공기유동 제어유닛(140)에 각각 연결되어 기판 수용유닛(110), 기판 취급유닛(120), 상태 검사 유닛(130) 및 공기유동 제어유닛(140)의 작동을 제어할 수 있다.The controller 150 is installed on a part of the apparatus body 100 and is connected to the substrate receiving unit 110 , the substrate handling unit 120 , the condition inspection unit 130 , and the air flow control unit 140 , respectively. The operation of the 110 , the substrate handling unit 120 , the state inspection unit 130 , and the air flow control unit 140 may be controlled.

컨트롤러(150)의 제어에 의해 서보 모터의 가동에 따른 가동축의 토크를 모니터링하며 설정된 크기 이하의 토크로 구동함으로써 설정된 크기의 힘에 의한 파손을 방지하도록 기판 수용유닛(110)의 하우징 커버(30)와 박스커버(50)의 락킹을 제어할 수 있다. 구체적으로, 컨트롤러(150)는 하우징 커버(30)와 박스커버(50)의 락킹의 Torque를 관리하여 다양한 종류의 하우징(112)이나 내부박스(114) 사용시 기판이 수용되는 Pod의 영향을 관리할 수 있다.The housing cover 30 of the substrate accommodating unit 110 is monitored by the control of the controller 150 to prevent damage due to the force of the set size by monitoring the torque of the movable shaft according to the operation of the servo motor and driving it with a torque less than the set size. and locking of the box cover 50 can be controlled. Specifically, the controller 150 manages the torque of the locking of the housing cover 30 and the box cover 50 to manage the influence of the Pod in which the substrate is accommodated when various types of housing 112 or inner box 114 are used. can

본 발명의 일실시예에 따른 이중 포드 SMIF 오픈 장치(10)는 주로 유선으로 연동되나, 모바일 단말기 등과 와이파이 통신모듈, 블루트스 통신모듈 및 지그비 통신모듈 중에서 어느 하나로 연동된 컨트롤러(150)를 통해서도 작동이 가능하다.Dual pod SMIF open device 10 according to an embodiment of the present invention is mainly interlocked by wire, but also works through the controller 150 interlocked with any one of a mobile terminal, etc., a Wi-Fi communication module, a Bluetooth communication module, and a Zigbee communication module. This is possible.

즉, 작업자는 SMIF 오픈 장치(10)를 블루투스 통신모듈, 와이파이 통신모듈 및 지그비 통신모듈 중에서 어느 하나인 방식을 채택하여 사용이 가능하나 상기의 방식에만 국한하지 않고 최선의 방식을 선택하여 사용이 가능하다.That is, the operator can use the SMIF open device 10 by adopting any one of a Bluetooth communication module, a Wi-Fi communication module, and a Zigbee communication module, but it is not limited to the above method and can be used by selecting the best method do.

본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러(150)의 제어에 의해 SMIF 오픈 장치(10)의 상태(기판(60)의 회전, 뒤집힘, 이탈, 이물 존재)를 검사할 센서로 이루어진 상태 검사 유닛(130)을 설치하고, 또한, 컨트롤러(150)의 제어에 의해 설정된 상태로 듀얼 포드 기판(60)의 회전, 뒤집힘을 수행할 기판 취급유닛(120)을 일부분에 설치하여 상태 검사 유닛(130)에서 수집된 정보에 따라 동작 수정이 가능하여 기판(60)이 설정된 상태로 유지되도록 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a state inspection unit ( 130), and also, in a state set by the control of the controller 150, a board handling unit 120 to perform rotation and flipping of the dual pod board 60 is installed in a portion of the condition inspection unit 130 It is possible to modify the operation according to the collected information so that the substrate 60 is maintained in a set state.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러(150)의 제어에 의해 SMIF 오픈 장치(10)에서 발생하는 공기 중의 오염원인 파티클의 억제를 위해서 공기유동 제어유닛(140)을 이용하여 공기의 유동을 제어할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the air flow using the air flow control unit 140 in order to suppress particles that are pollutants in the air generated in the SMIF open device 10 under the control of the controller 150 . can be controlled.

상술한 바와 같이 개시된 본 발명의 바람직한 실시예들에 대한 상세한 설명은 당업자가 본 발명을 구현하고 실시할 수 있도록 제공되었다. 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시 예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 본 발명의 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 당업자는 상술한 실시 예들에 기재된 각 구성을 서로 조합하는 방식으로 이용할 수 있다. 따라서, 본 발명은 여기에 나타난 실시형태들에 제한되려는 것이 아니라, 여기서 개시된 원리들 및 신규한 특징들과 일치하는 최광의 범위를 부여하려는 것이다.The detailed description of the preferred embodiments of the present invention disclosed as described above is provided to enable any person skilled in the art to make and practice the present invention. Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and changes can be made to the present invention without departing from the scope of the present invention. For example, a person skilled in the art may use each configuration described in the above-described embodiments in a way that is combined with each other. Accordingly, the present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features disclosed herein.

본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있다. 따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니 되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다. 본 발명은 여기에 나타난 실시형태들에 제한되려는 것이 아니라, 여기서 개시된 원리들 및 신규한 특징들과 일치하는 최적의 범위를 부여하려는 것이다. 또한, 특허청구범위에서 명시적인 인용 관계가 있지 않은 청구항들을 결합하여 실시 예를 구성하거나 출원 후의 보정에 의해 새로운 청구항으로 포함할 수 있다.The present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit and essential characteristics of the present invention. Accordingly, the above detailed description should not be construed as restrictive in all respects but as exemplary. The scope of the present invention should be determined by a reasonable interpretation of the appended claims, and all modifications within the equivalent scope of the present invention are included in the scope of the present invention. The present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the best scope consistent with the principles and novel features disclosed herein. In addition, claims that are not explicitly cited in the claims may be combined to form an embodiment, or may be included as new claims by amendment after filing.

10 : SMIF 오픈 장치
30 : 하우징 커버
50 : 박스커버
60 : 기판
70 : 연결기둥
100 : 장치본체
110 : 기판 수용유닛
112 : 하우징
114 : 내부박스
120 : 기판 취급유닛
122 : 이동 스테이지
124 : 이송부재
126 : 승강부재
128 : 플립 및 로딩스테이지
130 : 상태 검사 유닛
140 : 공기유동 제어유닛
150 : 컨트롤러
10: SMIF open device
30: housing cover
50: box cover
60: substrate
70: connecting column
100: device body
110: substrate receiving unit
112: housing
114: inner box
120: substrate handling unit
122: moving stage
124: transfer member
126: elevating member
128: flip and loading stage
130: condition check unit
140: air flow control unit
150: controller

Claims (8)

기판이 이송되어 취급되는 듀얼 포드 SMIF 오픈 장치로서,
상기 기판이 취급되는 장소를 제공하는 장치본체;
상기 장치본체의 상부에 결합되며 상기 기판이 수용되는 공간을 제공하는 기판 수용유닛;
상기 장치본체의 일부분에 구비되어 상기 기판 수용유닛에 수용되는 상기 기판을 취급하는 기판 취급유닛;
상기 장치본체의 일부분에 설치되며 상기 기판을 자동으로 인식하기 위해, 상기 기판 및 상기 기판 취급유닛을 검사하는 센서가 구비된 상태 검사 유닛;
상기 장치본체의 하부에 설치되어 상기 장치본체를 내부를 유동하는 공기의 흐름을 제어하여 파티클을 억제하는 공기유동 제어유닛; 및
상기 장치본체의 일부분에 설치되며 상기 기판 수용유닛, 기판 취급유닛, 상태 검사 유닛 및 공기유동 제어유닛에 각각 연결되어상기 기판 수용유닛, 기판 취급유닛, 상태 검사 유닛 및 공기유동 제어유닛의 작동을 제어하는 컨트롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
A dual pod SMIF open device in which substrates are transported and handled, comprising:
an apparatus body providing a place where the substrate is handled;
a substrate receiving unit coupled to an upper portion of the apparatus body and providing a space in which the substrate is accommodated;
a substrate handling unit provided in a portion of the apparatus body to handle the substrate accommodated in the substrate receiving unit;
a state inspection unit installed on a part of the apparatus body and provided with a sensor for inspecting the substrate and the substrate handling unit in order to automatically recognize the substrate;
an air flow control unit installed in the lower portion of the device body to control the flow of air flowing through the device body to suppress particles; and
It is installed in a part of the apparatus body and is respectively connected to the substrate receiving unit, the substrate handling unit, the condition inspection unit and the air flow control unit to control the operation of the substrate receiving unit, the substrate handling unit, the condition inspection unit and the air flow control unit A dual pod SMIF open device comprising a controller;
청구항 1에 있어서,
상기 기판 수용유닛은,
상기 기판이 수용되는 공간을 제공하며 상부는 하우징 커버를 이용하여 개폐되는 하우징; 및
상기 기판이 내장되며 상기 하우징의 내부에 분리 가능하게 수용되고 상부는 박스커버를 이용하여 계폐되는 내부박스;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
The method according to claim 1,
The substrate receiving unit,
a housing providing a space in which the substrate is accommodated, the upper portion of which is opened and closed using a housing cover; and
and an inner box in which the substrate is embedded and separably accommodated in the housing, the upper portion of which is closed using a box cover.
청구항 1에 있어서,
상기 기판 취급유닛은,
상기 기판 수용유닛에서 이송된 상기 기판이 놓여지는 공간을 제공하는 이동 스테이지;
상기 이동 스테이지에 연결되어 상기 이동 스테이지를 설정된 위치로 이송시키는 이송부재;
상기 이동 스테이지와 상기 이송부재에 연결되어 상기 이동 스테이지를 승강시키는 승강부재; 및
상기 기판을 잡고 위치를 조정하거나 뒤집는 플립 및 로딩스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
The method according to claim 1,
The substrate handling unit,
a moving stage providing a space in which the substrate transferred from the substrate receiving unit is placed;
a transfer member connected to the moving stage to transfer the moving stage to a set position;
an elevating member connected to the moving stage and the transfer member to elevate the moving stage; and
Dual pod SMIF opening device comprising a; flip and loading stage for holding the substrate and adjusting the position or turning over.
청구항 1에 있어서,
상기 상태 검사 유닛은,
복수의 렌즈와 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서로 이루어지며, EUV Mask 및 EUV mask 이외의 상기 동일 기판의 형상 및 상태를 인지하고 대응하는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
The method according to claim 1,
The state inspection unit,
A dual pod SMIF open device comprising a plurality of lenses, a plurality of image sensors, an optical sensor, and a position sensor, characterized in that it recognizes and responds to the shape and state of the same substrate other than the EUV mask and the EUV mask.
청구항 1에 있어서,
상기 공기유동 제어유닛은,
상기 장치본체에 발생하는 파티클의 억제를 위해 적어도 하나의 공기 압력 센서와 배기구가 구비되고, 상기 장치본체의 하부에 배치되어 상부에서 하부로 층류(Laminar flow) 형성을 모니터하고 설정된 공기흐름을 유지하기 위해 하부 배기 팬의 속도를 연동시키는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
The method according to claim 1,
The air flow control unit,
At least one air pressure sensor and an exhaust port are provided for suppressing particles generated in the device body, and is disposed at the lower part of the device body to monitor the formation of laminar flow from the top to the bottom and to maintain a set air flow Dual pod SMIF opening device, characterized in that it interlocks the speed of the lower exhaust fan to
청구항 2에 있어서,
상기 컨트롤러의 제어에 의해 서보 모터의 가동에 따른 가동축의 토크를 모니터링하며 설정된 크기 이하의 토크로 구동함으로써 설정된 크기의 힘에 의한 파손을 방지하도록 상기 기판 수용유닛의 상기 하우징 커버와 박스커버의 락킹을 제어하는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
3. The method according to claim 2,
By monitoring the torque of the movable shaft according to the operation of the servo motor under the control of the controller and driving with a torque less than the set size, the housing cover and the box cover of the board receiving unit are locked to prevent damage due to the force of the set size. Dual pod SMIF open device, characterized in that the control.
청구항 3에 있어서,
상기 이송부재, 승강부재 및 플립 및 로딩스테이지는,
상기 이동 스테이지의 하부에 위치되어 연결기둥을 통해 상기 기판을 구속하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
4. The method according to claim 3,
The transfer member, the elevating member and the flip and loading stage,
A dual pod SMIF opening device, which is positioned below the moving stage and controlled to restrain the substrate through a connecting post.
청구항 3에 있어서,
상기 승강부재는,
상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 장치본체에서 상기 기판의 하부 부분에 위치한 원형 베어링을 통해 수직으로 세워지고, 상기 기판의 방향이 회전되어지도록 제어되는 것을 특징으로 하는 이중 포드 SMIF 오픈 장치.
4. The method according to claim 3,
The lifting member is
A dual pod SMIF opening device, characterized in that the device body is vertically erected through a circular bearing positioned at a lower portion of the substrate under the control of the controller, and the direction of the substrate is controlled to be rotated.
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