KR20240042916A - System and method for inspecting reticle pods with cleaning function - Google Patents

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김지범
최재욱
최돈진
박정진
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Abstract

본 발명은 사 준비 스테이션으로부터 검사 스테이션으로 운반되는 이너 포드(Inner pod)의 이물질을 제거할 수 있는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법을 개시한다. 본 발명의 레티클 포드의 검사 시스템은 로딩 스테이션, 이송 장치, 검사 준비 스테이션, 클린 룸과 클리닝 장치로 구성되어 있다. 로딩 스테이션에는 레티클이 장착되어 있는 이너 포드와, 이너 포드가 수납되어 있는 아우터 포드를 갖는 듀얼 레티클 포드가 로딩된다. 이송 장치는 듀얼 레티클 포드를 운반함과 아울러 이너 포드와 아우터 포드를 분리할 수 있도록 로딩 스테이션에 이웃한다. 검사 준비 스테이션에서는 듀얼 레티클 포드의 검사를 준비한다. 검사 스테이션에서는 검사 준비 스테이션으로부터 운반되어 오는 이너 포드를 검사한다. 클린 룸은 검사 준비 스테이션과 검사 스테이션을 구획하도록 설치되어 있으며, 이너 포드를 운반할 수 있도록 검사 준비 스테이션과 검사 스테이션을 연결하는 게이트를 갖는다. 클리닝 장치는 이너 포드가 게이트를 통과할 때 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 탈락시킬 수 있도록 클리닝 가스를 분사하는 에어 나이프와, 클리닝 가스의 분사에 의해 이너 포드로부터 탈락되는 이물질을 집진하는 집진기를 포함한다. 본 발명에 의하면, 검사 준비 스테이션으로부터 검사 스테이션으로 운반되는 이너 포드의 이물질을 클리닝 가스의 분사와 집진에 의하여 깨끗하고 효율적으로 제거할 수 있으므로, 검사 스테이션에서 검사되는 이너 포드 및 레티클의 검사 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 이너 포드의 이물질을 클리닝 가스의 분사와 집진을 병행하는 간단한 구조 및 공정에 의해 제거하여 생산성을 향상시키고, 생산비를 절감할 수 있다.The present invention discloses a reticle pod inspection system and method having a cleaning function capable of removing foreign substances from an inner pod transported from a reticle preparation station to an inspection station. The reticle pod inspection system of the present invention consists of a loading station, a transfer device, an inspection preparation station, a clean room, and a cleaning device. A dual reticle pod having an inner pod equipped with a reticle and an outer pod in which the inner pod is stored is loaded at the loading station. The transfer device is adjacent to the loading station to transport the dual reticle pods and separate the inner and outer pods. The inspection preparation station prepares the dual reticle pod for inspection. At the inspection station, the inner pod transported from the inspection preparation station is inspected. The clean room is installed to partition the inspection preparation station and the inspection station, and has a gate connecting the inspection preparation station and the inspection station so that the inner pod can be transported. The cleaning device includes an air knife that sprays cleaning gas to remove foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate, and a dust collector that collects foreign substances that fall off the inner pod by spraying the cleaning gas. do. According to the present invention, foreign substances in the inner pod transported from the inspection preparation station to the inspection station can be removed cleanly and efficiently by spraying and collecting cleaning gas, thereby improving the inspection reliability of the inner pod and reticle inspected at the inspection station. You can do it. In addition, foreign substances in the inner pod can be removed through a simple structure and process that combines cleaning gas injection and dust collection to improve productivity and reduce production costs.

Description

클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD FOR INSPECTING RETICLE PODS WITH CLEANING FUNCTION}Inspection system and method for reticle pods with cleaning function {SYSTEM AND METHOD FOR INSPECTING RETICLE PODS WITH CLEANING FUNCTION}

본 발명은 레티클 포드(Reticle pod)의 검사 시스템 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 검사 준비 스테이션으로부터 검사 스테이션으로 운반되는 이너 포드(Inner pod)의 이물질을 깨끗하고 효율적으로 제거할 수 있는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a reticle pod inspection system and method, and more specifically, to a cleaning function that can cleanly and efficiently remove foreign substances from the inner pod transported from the inspection preparation station to the inspection station. It relates to an inspection system and method for a reticle pod having a.

포토리소그래피(Photolithography)는 반도체 장치(Semiconductor device), 액정 표시 장치(Liquid crystal display) 등의 제조에서 중요한 역할을 한다. 포토리소그래피는 포토레지스트(Photoresist)가 도포되어 있는 웨이퍼(Wafer)를 빛에 노출시켜 패턴(Pattern)을 형성하는 공정을 포함한다. 레티클(Reticle) 또는 마스크(Mask)가 웨이퍼의 패터닝(Patterning)에 사용되고 있다. 먼지나 유기물과 같은 미세입자가 레티클에 부착되는 경우, 미세입자로 인하여 빛이 흡수되거나 반사되어 성능을 저하시키거나 불량을 발생시키게 된다. Photolithography plays an important role in the manufacturing of semiconductor devices, liquid crystal displays, etc. Photolithography involves the process of forming a pattern by exposing a wafer coated with photoresist to light. A reticle or mask is used for patterning wafers. When fine particles such as dust or organic matter attach to the reticle, light is absorbed or reflected by the fine particles, degrading performance or causing defects.

반도체 제조 공정에서 레티클을 청결하게 보관 및 이송하기 위하여 레티클 포드(Reticle pod)가 사용되고 있다. 최근 크기가 작고 집적도가 높은 반도체 칩(Semiconductor chip)에 대한 개발이 진행되어 포토리소그래피에서 극자외선 광원(Extreme ultraviolet(EUV) light source)이 사용되고 있다. 극자외선 광원이 포토리소그래피에 사용되면서 반도체 제조 공정 전체에서 미세입자에 대한 관리가 더욱 중요해지고 있다. 또한, 반도체 제조 공정에서 레티클을 보관 및 이송하기 위한 레티클 포드에 대한 관리가 더욱 엄격해지고 있다. 극자외선 리소그래피 공정에서 레티클 포드에 대한 오염을 방지하기 위하여 듀얼 레티클 포드(Dual reticle pod)가 사용되고 있다. Reticle pods are used to cleanly store and transport reticles in the semiconductor manufacturing process. Recently, the development of semiconductor chips that are small in size and highly integrated has progressed, and extreme ultraviolet (EUV) light sources are being used in photolithography. As extreme ultraviolet light sources are used in photolithography, management of fine particles is becoming more important throughout the semiconductor manufacturing process. Additionally, management of reticle pods for storing and transporting reticles in the semiconductor manufacturing process is becoming more stringent. A dual reticle pod is used to prevent contamination of the reticle pod in the extreme ultraviolet lithography process.

이러한 듀얼 레티클 포드에 관한 기술은 한국 공개특허 제10-2021-0045920호 '레티클 유지 시스템', 한국 공개특허 제10-2022-0012768호 '가이딩 부품이 있는 레티클 포드', 등록특허 제10-2127783호 'EUV 레티클 포드', 미국 특허출원공개 US 2021/0366751 A1호 '레티클 유지 시스템(Reticle retaining system)' ' 등 많은 특허문헌에서 쉽게 찾아볼 수 있다. 이 특허문헌들의 듀얼 레티클 포드는 레티클을 장착하기 위한 이너 포드(Inner pod)와, 이너 포드를 수납하기 위한 아우터 포드(Outer pod)를 구비한다. 이너 포드는 노광기(Exposure machine)의 레티클 스테이션까지 레티클이 오염되지 않게 이송하는 데 적합한 구조를 가지고 있다. 이너 포드는 베이스 플레이트(Base plate)와 커버(Cover)로 구성되어 있다. 베이스 플레이트는 레티클을 지지하기 위한 4개의 지지 요소(Support element)와, 지지 요소들 각각에 이웃하게 배치되어 있는 8개의 가이드 핀(Guide pin)을 가지고 있다. 커버는 베이스 플레이트에 놓이는 레티클을 수용하기 위한 공간을 가지고 있다. 아우터 포드는 반도체 장치를 제조하기 위한 다양한 스테이션(Station)들과 사이트(Site)들 사이에서 레티클을 이송하는 데 적합한 표준 기계 인터페이스(Standard mechanical interface, SMIF)를 가지고 있다. Technologies related to this dual reticle pod include Korean Patent Publication No. 10-2021-0045920 ‘Reticle Maintenance System’, Korean Patent Publication No. 10-2022-0012768 ‘Reticle Pod with Guiding Parts’, and Registered Patent No. 10-2127783. It can be easily found in many patent documents, such as 'EUV Reticle Pod' and US Patent Application Publication US 2021/0366751 A1 'Reticle retaining system'. The dual reticle pod of these patent documents includes an inner pod for mounting a reticle and an outer pod for storing the inner pod. The inner pod has a structure suitable for transporting the reticle to the reticle station of the exposure machine without contamination. The inner pod consists of a base plate and a cover. The base plate has four support elements to support the reticle, and eight guide pins arranged adjacent to each of the support elements. The cover has space to accommodate the reticle placed on the base plate. The outer pod has a standard mechanical interface (SMIF) suitable for transferring reticles between various stations and sites for manufacturing semiconductor devices.

한국 공개특허공보 제10-2021-0143412호 '레티클 포드의 세정 방법 및 세정 시스템'은 듀얼 레티클 포드의 이물질을 검사하고 세정한다. 이 특허 문헌은 듀얼 레티클 포드에서 이너 포드를 분리하는 공정과, 이너 포드의 베이스 플레이트 표면을 검사하는 공정과, 베이스 플레이트의 표면에 이물질이 검출되면 검출 위치에 대하여 국소 플라스마 세정(Topical plasma cleaning)을 하는 공정과, 습식 세정을 하는 공정을 포함한다. 위 특허문헌들에 개시되어 있는 내용은 본 명세서에 참고로 포함된다. Korean Patent Publication No. 10-2021-0143412 ‘Reticle Pod Cleaning Method and Cleaning System’ inspects and cleans foreign substances in the dual reticle pod. This patent document includes a process of separating the inner pod from the dual reticle pod, a process of inspecting the base plate surface of the inner pod, and, when foreign substances are detected on the surface of the base plate, local plasma cleaning at the detection location. It includes a process of doing and a process of wet cleaning. The contents disclosed in the above patent documents are incorporated herein by reference.

상기한 바와 같은 레티클 포드의 세정 방법 및 시스템은 국소 플라스마 세정과 습식 세정을 병행하여 베이스 플레이트의 표면에 오염되어 있는 이물질을 제거하기 때문에 클리닝 공정이 복잡하고 번거로운 문제점이 있다. 또한, 국소 플라스마 세정과 습식 세정을 위한 장비의 설치 및 유지비가 많이 소요되어 생산비를 상승시키는 문제점이 있다. 특히, 습식 세정은 레티클 포드의 건조가 요구되어 공정이 복잡하고 시간이 많이 소요될 뿐만 아니라, 세정 후 발생되는 오염수를 정화하여 배출해야 하는 문제가 있다.The reticle pod cleaning method and system described above has the problem that the cleaning process is complicated and cumbersome because it removes foreign substances contaminating the surface of the base plate by using local plasma cleaning and wet cleaning in parallel. In addition, there is a problem in that the installation and maintenance costs of equipment for local plasma cleaning and wet cleaning are high, which increases production costs. In particular, wet cleaning not only requires drying of the reticle pod, making the process complicated and time-consuming, but also has the problem of having to purify and discharge contaminated water generated after cleaning.

본 발명은 상기와 같은 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법의 여러 가지 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 검사 준비 스테이션으로부터 검사 스테이션으로 운반되는 이너 포드의 이물질을 클리닝 가스(Cleaning gas)의 분사와 집진에 의하여 깨끗하고 효율적으로 제거할 수 있는 새로운 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법을 제공하는 데 있다. The present invention is to solve various problems of the reticle pod inspection system and method as described above. The purpose of the present invention is to spray cleaning gas to remove foreign substances from the inner pod transported from the inspection preparation station to the inspection station. The purpose is to provide a reticle pod inspection system and method with a new cleaning function that can be removed cleanly and efficiently by dust collection.

본 발명의 다른 목적은 이너 포드의 이물질을 간단한 구조 및 공정에 의해 제거하여 생산성을 향상시키고, 생산비를 절감할 수 있는 새로운 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법을 제공하는 데 있다. Another object of the present invention is to provide a reticle pod inspection system and method with a new cleaning function that can improve productivity and reduce production costs by removing foreign substances in the inner pod through a simple structure and process.

본 발명의 일 측면에 따르면, 레티클 포드의 검사 시스템이 제공된다. 본 발명에 따른 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템은, 레티클이 장착되어 있는 이너 포드와, 이너 포드가 수납되어 있는 아우터 포드를 갖는 듀얼 레티클 포드를 로딩하기 위한 로딩 스테이션과; 듀얼 레티클 포드를 운반함과 아울러 이너 포드와 아우터 포드를 분리할 수 있도록 로딩 스테이션에 이웃하는 이송 장치와; 듀얼 레티클 포드의 검사를 준비하기 위한 검사 준비 스테이션과; 검사 준비 스테이션으로부터 운반되어 오는 이너 포드를 검사하기 위한 검사 스테이션과; 검사 준비 스테이션과 검사 스테이션을 구획하도록 설치되어 있으며, 이너 포드를 운반할 수 있도록 검사 준비 스테이션과 검사 스테이션을 연결하는 게이트를 갖는 클린 룸과; 이너 포드가 게이트를 통과할 때 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 제거하는 클리닝 수단을 포함한다. According to one aspect of the present invention, a system for inspecting a reticle pod is provided. A reticle pod inspection system with a cleaning function according to the present invention includes a loading station for loading a dual reticle pod having an inner pod on which a reticle is mounted and an outer pod on which the inner pod is housed; a transfer device adjacent to the loading station to transport the dual reticle pod and separate the inner pod and the outer pod; an inspection preparation station to prepare the dual reticle pod for inspection; an inspection station for inspecting the inner pod transported from the inspection preparation station; a clean room installed to partition the test preparation station and the test station, and having a gate connecting the test preparation station and the test station to transport the inner pod; It includes a cleaning means for removing foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate.

또한, 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템에 있어서, 클리닝 수단은 이너 포드가 게이트를 통과할 때 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 탈락시킬 수 있도록 클리닝 가스를 분사하는 에어 나이프와; 클리닝 가스의 분사에 의해 이너 포드로부터 탈락되는 이물질을 집진하는 집진기를 포함한다. In addition, in the reticle pod inspection system according to the present invention, the cleaning means includes an air knife that sprays cleaning gas to remove foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate; It includes a dust collector that collects foreign substances that fall off from the inner pod by spraying cleaning gas.

본 발명의 다른 측면에 따른 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 방법은, 레티클이 장착되어 있는 이너 포드와, 이너 포드가 수납되어 있는 아우터 포드를 갖는 듀얼 레티클 포드를 로딩 스테이션에 준비하는 단계와; 듀얼 레티클 포드를 이송 장치에 의해 검사 준비 스테이션으로 운반하는 단계와; 검사 준비 스테이션으로부터 게이트를 갖는 크린 룸에 의해 구획되어 있는 검사 스테이션으로 이너 포드를 분리하여 운반하는 단계와; 이너 포드가 게이트를 통과할 때 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 제거할 수 있도록 에어 나이프에 의해 클리닝 가스를 분사하는 단계와; 클리닝 가스의 분사에 의해 이너 포드로부터 탈락되는 이물질을 집진기에 의해 집진하는 단계를 포함한다. A method for inspecting a reticle pod with a cleaning function according to another aspect of the present invention includes preparing a dual reticle pod having an inner pod on which a reticle is mounted and an outer pod in which the inner pod is housed at a loading station; transporting the dual reticle pod to an inspection preparation station by a transport device; separating and transporting the inner pod from the inspection preparation station to the inspection station partitioned by a clean room with a gate; spraying cleaning gas using an air knife to remove foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate; It includes the step of collecting foreign substances that fall off from the inner pod by spraying cleaning gas using a dust collector.

본 발명에 따른 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법은, 검사 준비 스테이션으로부터 검사 스테이션으로 운반되는 이너 포드의 이물질을 클리닝 가스의 분사와 집진에 의하여 깨끗하고 효율적으로 제거할 수 있으므로, 검사 스테이션에서 검사되는 이너 포드 및 레티클의 검사 신뢰성을 향상시킬 수 있는 유용한 효과가 있다. 또한, 이너 포드의 이물질을 클리닝 가스의 분사와 집진을 병행하는 간단한 구조 및 공정에 의해 제거하여 생산성을 향상시키고, 생산비를 절감할 수 있는 유용한 효과가 있다. The inspection system and method for a reticle pod with a cleaning function according to the present invention can cleanly and efficiently remove foreign substances from the inner pod transported from the inspection preparation station to the inspection station by spraying and collecting cleaning gas, so that the inspection station There is a useful effect that can improve the inspection reliability of the inner pod and reticle inspected. In addition, there is a useful effect of improving productivity and reducing production costs by removing foreign substances in the inner pod through a simple structure and process that combines spraying of cleaning gas and dust collection.

도 1은 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템에 의해 검사하기 위한 레트클 포드의 일례를 분리하여 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템에서 트랜스퍼 로봇과 검사 준비 장치를 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템에서 검사 장치를 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템에서 클리닝 장치를 나타낸 사시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템에서 클리닝 장치를 나타낸 측면도이다.1 is a plan view schematically showing a reticle pod inspection system according to the present invention.
Figure 2 is a perspective view showing an example of a reticle pod for inspection by the reticle pod inspection system according to the present invention.
Figure 3 is a perspective view showing a transfer robot and an inspection preparation device in the reticle pod inspection system according to the present invention.
Figure 4 is a perspective view showing an inspection device in the reticle pod inspection system according to the present invention.
Figure 5 is a perspective view showing a cleaning device in the reticle pod inspection system according to the present invention.
Figure 6 is a side view showing a cleaning device in the reticle pod inspection system according to the present invention.

본 발명의 그 밖의 목적, 특정한 장점들과 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 분명해질 것이다. 본 발명을 설명하는 데 있어서 도면에 도시되어 있는 구성 요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의를 위해 과장되거나 단순화되어 나타날 수 있다. 또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 이러한 용어들은 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.Other objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. In explaining the present invention, the size or shape of components shown in the drawings may be exaggerated or simplified for clarity and convenience of explanation. Additionally, terms specifically defined in consideration of the configuration and operation of the present invention may vary depending on the intention or custom of the user or operator. These terms should be interpreted as meanings and concepts consistent with the technical idea of the present invention based on the content throughout this specification.

이하, 본 발명에 따른 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법에 대한 바람직한 실시예들을 첨부된 도면들에 의거하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the inspection system and method for a reticle pod with a cleaning function according to the present invention will be described in detail based on the attached drawings.

먼저, 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템(100)은 듀얼 레티클 포드(10)의 정확하고 효율적인 검사를 위하여 구획되어 있는 복수의 스테이션(Station)을 구비한다. 스테이션들 각각은 듀얼 레티클 포드(10)의 로딩(Loading)을 위한 로딩 스테이션(Loading station: S1), 듀얼 레티클 포드(10)의 보관을 위한 스톡 스테이션(Stock station: S2), 듀얼 레티클 포드(10)의 운반을 위한 트랜스퍼 스테이션(Transfer station: S3), 듀얼 레티클 포드(10)의 검사를 준비하기 위한 검사 준비 스테이션(Inspection preparation station: S4)과 듀얼 레티클 포드(10)의 검사를 실시하기 위한 검사 스테이션(Inspection station: S5)으로 구성될 수 있다. 몇몇 실시예에 있어서, 스테이션들은 듀얼 레티클 포드(10)의 정확하고 효율적인 검사를 위해 필요에 따라 증감될 수 있다. First, referring to FIG. 1, the reticle pod inspection system 100 with a cleaning function according to the present invention includes a plurality of stations divided for accurate and efficient inspection of the dual reticle pod 10. . Each of the stations includes a loading station (S1) for loading the dual reticle pod (10), a stock station (Stock station: S2) for storage of the dual reticle pod (10), and a dual reticle pod (10). ), a transfer station (S3) for transporting the dual reticle pod (10), an inspection preparation station (S4) for preparing the inspection of the dual reticle pod (10), and an inspection for performing the inspection of the dual reticle pod (10). It may be composed of a station (Inspection station: S5). In some embodiments, stations can be increased or decreased as needed for accurate and efficient inspection of the dual reticle pod 10.

도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 듀얼 레티클 포드(10)는 레티클(2)을 장착하기 위한 이너 포드(20)와, 이너 포드(20)를 수납하기 위한 아우터 포드(30)를 구비한다. 이너 포드(20)는 레티클(2)을 지지하기 위한 베이스 플레이트(22)와, 레티클(2)을 덮도록 베이스 플레이트(22)에 결합되는 커버(24)로 구성되어 있다. 이너 포드(20)의 수납을 위한 아우터 포드(30)는 이너 포드(20)의 베이스 플레이트(22)를 지지하는 베이스 플레이트(32)와 이너 포드(20)를 덮는 커버(34)로 구성되어 있다. As shown in FIG. 2, the dual reticle pod 10 includes an inner pod 20 for mounting the reticle 2 and an outer pod 30 for storing the inner pod 20. The inner pod 20 is composed of a base plate 22 to support the reticle 2, and a cover 24 coupled to the base plate 22 to cover the reticle 2. The outer pod 30 for storing the inner pod 20 is composed of a base plate 32 that supports the base plate 22 of the inner pod 20 and a cover 34 that covers the inner pod 20. .

도 1을 다시 참조하면, 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템(100)은 로드 스테이지(Load stage: 200), 스토커(Stocker: 300), 이송 장치로 트랜스퍼 로봇(Transfer robot: 400), 검사 준비 장치(500)와 검사 장치(600)를 구비한다. 로드 스테이지(200)는 듀얼 레티클 포드(10)의 로딩을 위하여 로딩 스테이션(S1)에 배치되어 있다. 듀얼 레티클 포드(10)는 반도체 생산 시스템의 오버헤드 호이스트 트랜스포트(Overhead hoist transport, OHT)로부터 로드 스테이지(200)에 로딩된다. 스토커(300)는 듀얼 레티클 포드(10)의 보관을 위하여 스택 스테이션(S2)에 배치되어 있다. Referring again to FIG. 1, the reticle pod inspection system 100 according to the present invention includes a load stage (200), a stocker (300), a transfer robot (400) as a transfer device, and preparation for inspection. It is provided with a device 500 and an inspection device 600. The load stage 200 is placed at the loading station S1 for loading the dual reticle pod 10. The dual reticle pod 10 is loaded onto the load stage 200 from an overhead hoist transport (OHT) of a semiconductor production system. The stocker 300 is placed in the stack station S2 to store the dual reticle pod 10.

도 1과 도 3을 참조하면, 트랜스퍼 로봇(Transfer robot: 400)은 레티클 포드(10)의 운반을 위하여 트랜스퍼 스테이션(S3)에 배치되어 있다. 트랜스퍼 로봇(400)은 말단 장치(End effector: 402), 예를 들면 한 쌍의 그리퍼(Gripper)에 의해 이너 포드(20)를 붙잡아 검사 준비 스테이션(S4)으로 운반한다. Referring to FIGS. 1 and 3, a transfer robot (400) is placed at the transfer station (S3) to transport the reticle pod (10). The transfer robot 400 grabs the inner pod 20 by an end effector (402), for example, a pair of grippers, and transports it to the inspection preparation station (S4).

검사 준비 장치(500)는 레티클 포드(10)의 검사를 준비하기 위하여 검사 준비 스테이션(S4)에 배치되어 있다. 검사 준비 장치(500)는 프레임(Frame: 502)에 회전할 수 있도록 장착되어 있는 로터리 테이블(Rotary table: 504)과, 로터리 테이블(504)에 둘레 방향을 따라 등 간격으로 배치되어 있는 네 개의 스테이지(Stage: 506-1~506-4)를 구비한다. 스테이지(506-1~506-4)들 중 하나의 스테이지는 마스터 레티클이 장착될 수 있도록 구성되어 있는 마스터 레티클 스테이지(506-4)이다. 마스터 레티클 스테이지(506-4)를 제외한 나머지 스테이지(506-1~506-3)들은 이너 포드(20)의 베이스플레이트(22) 또는 커버(24)가 장착될 수 있도록 구성되어 있다.The inspection preparation device 500 is disposed at the inspection preparation station S4 to prepare the reticle pod 10 for inspection. The test preparation device 500 includes a rotary table 504 mounted on a frame 502 so that it can rotate, and four stages arranged at equal intervals along the circumference of the rotary table 504. (Stage: 506-1~506-4) is provided. One of the stages 506-1 to 506-4 is the master reticle stage 506-4, which is configured to be equipped with a master reticle. Except for the master reticle stage 506-4, the remaining stages 506-1 to 506-3 are configured so that the base plate 22 or cover 24 of the inner pod 20 can be mounted.

트랜스퍼 로봇(400)은 이너 포드(20)를 예를 들면, 스테이지(506-1)로 운반하고, 이너 포드(20)의 커버(24)를 열어서 이웃하는 스테이지(506-2)로 옮기거나 이웃하는 스테이지(506-2)로부터 커버(24)를 옮겨서 닫을 수 있도록 구성되어 있다. 트랜스퍼 로봇(400)은 마스터 레티클 스테이지(506-4)로부터 레티클(40)을 붙잡아 베이스 플레이트(22)에 장착하거나 베이스 플레이트(22)에 장착되어 있는 레티클(40)을 붙잡아 마스터 레티클 스테이지(506-4)로 옮길 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 트랜스퍼 로봇(400)은 베이스 플레이트(22)나 커버(24)를 붙잡아 뒤집을 수 있도록 구성되어 있다. 몇몇 실시예에 있어서, 이송 장치는 레티클 포드(10)의 운반 및 취급을 위한 핸들러(Handler)로 구성될 수 있다.The transfer robot 400 transports the inner pod 20 to, for example, the stage 506-1, opens the cover 24 of the inner pod 20, and moves it to the neighboring stage 506-2. It is configured so that the cover 24 can be moved and closed from the stage 506-2. The transfer robot 400 catches the reticle 40 from the master reticle stage 506-4 and mounts it on the base plate 22, or catches the reticle 40 mounted on the base plate 22 and holds the reticle 40 mounted on the master reticle stage 506-4. It is configured so that it can be moved to 4). Additionally, the transfer robot 400 is configured to grab and flip the base plate 22 or the cover 24. In some embodiments, the transfer device may be configured as a handler for transporting and handling the reticle pod 10.

로터리 테이블(504)은 트랜스퍼 로봇(400)의 공정에 따른 동작에 따라 회전하여 트랜스퍼 로봇(400)의 작업 영역에 대응하는 스테이지(506-1~506-4)들 각각을 위치시킬 수 있도록 구성되어 있다. 즉, 검사 준비 장치(600)는 로터리 테이블(504)의 회전을 제어하여 트랜스퍼 로봇(400)의 작업 동작, 예를 들면, 커버(24)를 열거나 닫는 동작, 베이스 플레이트(22)나 커버(24)를 뒤집는 동작, 베이스 플레이트(22)나 커버(24)를 검사 장치(600)로 운반하는 동작과 레티클(40)을 베이스 플레이트(22)에 탈착하는 동작에 필요한 스테이지(506-1~506-4)들 각각을 트랜스퍼 로봇(400)의 작업 영역에 위치시킬 수 있도록 구성되어 있다. The rotary table 504 is configured to rotate according to the operation of the transfer robot 400 to position each of the stages 506-1 to 506-4 corresponding to the work area of the transfer robot 400. there is. That is, the inspection preparation device 600 controls the rotation of the rotary table 504 to perform the work operation of the transfer robot 400, for example, opening or closing the cover 24, the base plate 22 or the cover ( Stages 506-1 to 506 required for the operation of turning over 24, transporting the base plate 22 or cover 24 to the inspection device 600, and attaching and detaching the reticle 40 to the base plate 22. -4) are configured so that each can be located in the work area of the transfer robot 400.

검사 장치(600)는 베이스(Base: 602), 갠트리(Gantry: 604), 검사 스테이지(Inspection stage: 606)와 척(Chuck: 608)으로 구성되어 있다. 갠트리(604)는 베이스(602)의 위쪽에 고정되도록 장착되어 있다. 검사 스테이지(606)는 베이스(602)에 대하여 제1 방향(X축 방향)과, 제1 방향에 대하여 직교하는 제2 방향(Y축 방향)을 따라 이동할 수 있도록 장착되어 있다. The inspection device 600 consists of a base (602), a gantry (604), an inspection stage (606), and a chuck (608). The gantry 604 is mounted to be fixed to the upper part of the base 602. The inspection stage 606 is mounted to move relative to the base 602 along a first direction (X-axis direction) and a second direction (Y-axis direction) perpendicular to the first direction.

정렬용 광학 카메라(610)와 프로브(Probe: 612) 각각이 갠트리(604)의 한쪽에 장착되어 있다. 정렬용 광학 카메라(610)는 척(608)에 척킹(Chucking)되어 있는 베이스 플레이트(22)를 촬영하여 위치를 확인하고, 베이스 플레이트(22)를 미리 설정되어 있는 기준 위치로 정렬되도록 한다. 에어리어 스캔 카메라(Area scan camera: 614)와 라인 스캔 카메라(Line scan camera: 616) 각각이 갠트리(604)의 다른 쪽에 장착되어 있다. An optical camera 610 and a probe 612 for alignment are each mounted on one side of the gantry 604. The optical camera 610 for alignment confirms the position by photographing the base plate 22 chucking on the chuck 608 and aligns the base plate 22 to a preset reference position. An area scan camera (614) and a line scan camera (616) are each mounted on the other side of the gantry (604).

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템(100)은 이물질의 오염을 방지하기 위하여 스테이션(S1~S5)들 각각을 구획하도록 설치되어 있는 클린 룸(Clean room: 700)을 구비한다. 클린 룸(20)의 게이트(Gate: 702-1~702-4)들 각각은 스테이션(S1~S5)들 각각의 경계 사이에 설치되어 있다. 게이트(702-5)는 레티클 포드(10)의 투입을 위하여 로딩 스테이션(S1)의 한쪽에 설치되어 있다. 도어(Door: 704) 또는 셔터(Shutter)가 게이트(702-1~702-5)들 각각을 여닫을 수 있도록 게이트(702-1~702-5)들 각각에 장착되어 있다. 도어(704)는 트랜스퍼 로봇(400)의 동작과 연동하여 게이트(702-1~702-5)들 여닫을 수 있도록 구성되어 있다. Referring to FIG. 1, the reticle pod inspection system 100 according to the present invention is equipped with a clean room (Clean room: 700) installed to partition each of the stations (S1 to S5) to prevent contamination by foreign substances. do. Each of the gates (Gates: 702-1 to 702-4) of the clean room 20 is installed between the boundaries of each of the stations (S1 to S5). The gate 702-5 is installed on one side of the loading station S1 for inserting the reticle pod 10. A door (Door: 704) or shutter (Shutter) is mounted on each of the gates (702-1 to 702-5) to open and close each gate (702-1 to 702-5). The door 704 is configured to open and close the gates 702-1 to 702-5 in conjunction with the operation of the transfer robot 400.

도 1, 도 5와 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템(100)은 검사 준비 스테이션(S4)로부터 검사 스테이션(S5)으로 이너 포드(20)의 운반 시 게이트(704)를 통과하는 이너 포드(20)에 클리닝 가스(Cleaning gas)를 분사하는 클리닝 장치(800)를 구비한다. 클리닝 장치(800)는 게이트(702-4)의 위쪽에 장착되어 있는 에어 나이프(Air knife: 810)와, 에어 나이프(810)와 이웃하도록 장착되어 있는 집진기(820)로 구성되어 있다. Referring to FIGS. 1, 5, and 6, the reticle pod inspection system 100 according to the present invention uses a gate 704 when transporting the inner pod 20 from the inspection preparation station S4 to the inspection station S5. It is provided with a cleaning device 800 that sprays cleaning gas into the inner pod 20 passing through. The cleaning device 800 consists of an air knife (810) mounted above the gate 702-4 and a dust collector (820) mounted adjacent to the air knife (810).

에어 나이프(810)는 브래킷(Bracket: 830)에 의해 게이트(702-4)의 위쪽에 폭 방향을 따라 장착되어 있으며, 게이트(702-4)를 통과하는 이너 포드(20)에 클리닝 가스, 예를 들면 질소 가스(N2 gas)를 분사하여 이너 포드(20)에 오염되어 있는 이물질을 제거한다. 집진기(820)는 에어 나이프(810)와 이웃하도록 브래킷(830)에 장착되어 있으며, 질소 가스의 분사에 의해 이너 포드(20)로부터 탈락되는 이물질을 흡입하여 집진한다. The air knife 810 is mounted along the width direction above the gate 702-4 by a bracket 830, and injects cleaning gas, e.g., into the inner pod 20 passing through the gate 702-4. For example, nitrogen gas (N 2 gas) is sprayed to remove foreign substances contaminated with the inner pod 20. The dust collector 820 is mounted on the bracket 830 adjacent to the air knife 810, and collects dust by sucking in foreign substances that fall out of the inner pod 20 by spraying nitrogen gas.

클리닝 장치(800)는 트랜스퍼 로봇(400)의 작동에 의해 게이트(702-4)에 접근되는 이너 포드(20)를 감지하는 한 쌍의 센서(Sensor: 840)를 더 구비한다. 센서(840)는 발광 소자(842)와 수광 소자(844)를 갖는 포토커플러(Photo coupler), 근접 센서(Proximity sensor) 등으로 구성되어 있다. The cleaning device 800 further includes a pair of sensors 840 that detect the inner pod 20 approaching the gate 702-4 by the operation of the transfer robot 400. The sensor 840 is composed of a photo coupler having a light-emitting element 842 and a light-receiving element 844, a proximity sensor, etc.

본 발명에 따른 레티클 포드의 검사 시스템(100)은 클리닝 장치(800)의 작동을 제어하는 컨트롤러(Controller: 850)를 구비한다. 컨트롤러(850)는 비례-적분-미분 컨트롤러(Proportional-Integral-Differential controller)로 구성될 수 있다. 컨트롤러(850)는 센서(840)로부터 입력되는 신호에 따라 에어 나이프(810)와 집진기(820)의 작동을 제어한다.The reticle pod inspection system 100 according to the present invention includes a controller 850 that controls the operation of the cleaning device 800. The controller 850 may be configured as a proportional-integral-differential controller. The controller 850 controls the operation of the air knife 810 and the dust collector 820 according to the signal input from the sensor 840.

지금부터는, 이와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템 및 방법에 대한 작용을 설명한다. From now on, the operation of the inspection system and method of a reticle pod with a cleaning function according to the present invention having such a configuration will be described.

도 1을 참조하면, 듀얼 레티클 포드(10)가 반도체 생산 시스템의 OHT로부터 로드 스테이지(200)에 로딩된다. 트랜스퍼 로봇(400)은 말단 장치(402)에 의해 로드 스테이지(200)에 놓여 있는 이너 포드(20)를 붙잡아 검사 준비 스테이션(S4)으로 운반한다. 게이트(702-1~702-4)들 각각의 도어(704)는 컨트롤러(850)의 제어에 의해 여닫히게 된다.Referring to FIG. 1, a dual reticle pod 10 is loaded onto a load stage 200 from an OHT of a semiconductor production system. The transfer robot 400 catches the inner pod 20 placed on the load stage 200 by the end effector 402 and transports it to the inspection preparation station (S4). The door 704 of each of the gates 702-1 to 702-4 is opened and closed under the control of the controller 850.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 트랜스퍼 로봇(400)은 말단 장치(402)에 의해 이너 포드(20)를 붙잡아 검사 준비 스테이션(S4)으로부터 게이트(702-4)를 통하여 검사 스테이션(S5)로 운반한다. 이때, 센서(840)는 이너 포드(20)를 감지하여 컨트롤러(850)에 입력한다. 컨트롤러(850)는 센서(840)로부터 입력되는 신호를 처리하여 게이트(702-4)를 통과하는 이너 포드(20)에 대하여 에어 나이프(810)를 작동시킨다. 에어 나이프(810)는 N2 가스를 분사하여 이너 포드(20)에 오염되어 있는 미세입자 등의 이물질을 탈락시켜 제거한다.1 to 4, the transfer robot 400 holds the inner pod 20 by the end effector 402 and transfers it from the test preparation station S4 to the test station S5 through the gate 702-4. transport At this time, the sensor 840 detects the inner pod 20 and inputs it to the controller 850. The controller 850 processes the signal input from the sensor 840 and operates the air knife 810 with respect to the inner pod 20 passing through the gate 702-4. The air knife 810 sprays N 2 gas to remove foreign substances such as fine particles contaminated with the inner pod 20.

도 1, 도 5와 도 6을 참조하면, 컨트롤러(850)는 에어 나이프(810)의 제어와 병행하여 집진기(820)를 작동시킨다. 집진기(820)는 N2 가스의 분사에 의해 이너 포드(20)로부터 탈락하는 이물질을 집진하여 제거한다. 따라서 이너 포드(20)로부터 탈락하는 이물질에 의한 2차 오염을 효율적으로 방지할 수 있다. 이와 같이 이너 포드(20)의 이물질을 에어 나이프(810)와 집진기(820)의 작동에 의해 깨끗하게 제거하여 반도체 제조 공정에서 레티클을 청결하게 관리할 수 있다. Referring to FIGS. 1, 5, and 6, the controller 850 operates the dust collector 820 in parallel with the control of the air knife 810. The dust collector 820 collects and removes foreign substances falling off the inner pod 20 by spraying N 2 gas. Therefore, secondary contamination caused by foreign substances falling from the inner pod 20 can be effectively prevented. In this way, foreign substances in the inner pod 20 are cleanly removed by the operation of the air knife 810 and the dust collector 820, so that the reticle can be kept clean during the semiconductor manufacturing process.

도 3과 도 4를 참조하면, 이너 포드(20)가 검사 스테이션(S5)으로 운반되어 척(608)에 의해 스테이지 유닛(606)에 척킹되면, 트랜스퍼 로봇(400)은 베이스 플레이트(22)로부터 커버(24)나 레티클(40)을 분리하여 다른 스테이지(506-1~506-4)들 중 하나로 옮겨 검사를 실행할 수 있도록 한다. Referring to Figures 3 and 4, when the inner pod 20 is transported to the inspection station (S5) and chucked on the stage unit 606 by the chuck 608, the transfer robot 400 is moved from the base plate 22. The cover 24 or reticle 40 can be removed and moved to one of the other stages 506-1 to 506-4 to perform inspection.

정렬용 광학 카메라(610)는 척(608)에 척킹되어 있는 베이스 플레이트(22)를 촬영하여 위치를 확인하고, 베이스 플레이트(22)를 미리 설정되어 있는 기준 위치로 정렬되도록 한다. 프로브(612)는 3차원 측정기로 구성될 수 있다. 프로브(612)는 척(608)에 척킹되어 있는 베이스 플레이트(22)의 높이를 측정하거나 베이스 플레이트(22)에 장착되어 있는 레티클(40)의 높이를 측정한다. 또한, 프로브(612)는 베이스 플레이트(22)를 지지하기 위한 척(608)의 지지면의 높이를 측정할 수 있다. 프로브(612)의 높이는 상대적인 값으로 프로브(612)의 기준 위치로부터 측정하거나 스테이지 유닛(606)의 기준면으로부터 측정할 수 있다. 라인 스캔 카메라(616)의 스캔 촬영은 스테이지 유닛(606)을 라인 스캔 카메라(616)에 대해 전후좌우로 이동시키거나 척(608)을 회전시키면서 수행할 수 있다. The optical camera 610 for alignment confirms the position by photographing the base plate 22 churned on the chuck 608 and aligns the base plate 22 to a preset reference position. The probe 612 may be configured as a three-dimensional measuring device. The probe 612 measures the height of the base plate 22 churned on the chuck 608 or the height of the reticle 40 mounted on the base plate 22. Additionally, the probe 612 can measure the height of the support surface of the chuck 608 for supporting the base plate 22. The height of the probe 612 is a relative value and can be measured from the reference position of the probe 612 or from the reference surface of the stage unit 606. Scanning by the line scan camera 616 can be performed by moving the stage unit 606 back and forth or left and right with respect to the line scan camera 616 or by rotating the chuck 608.

이상에서 설명된 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한 것에 불과하고, 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상과 특허청구범위 내에서 이 분야의 당업자에 의하여 다양한 변경, 변형 또는 치환이 가능할 것이며, 그와 같은 실시예들은 본 발명의 범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.The embodiments described above merely describe preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the described embodiments, and is within the scope of the technical idea and claims of the present invention. Various changes, modifications or substitutions may be possible, and such embodiments should be understood as falling within the scope of the present invention.

10: 듀얼 레티클 포드 20: 이너 포드
30: 아우터 포드 40: 레티클
100: 레티클 포드의 검사 시스템 200: 로드 스테이지
300: 스토커 400: 트랜스퍼 로봇
500: 검사 준비 장치 600: 검사 장치
700: 클린 룸 702-1~702-4: 게이트
800: 클리닝 장치 810: 에어 나이프
820: 집진기 840: 센서
850: 컨트롤러 10: Dual reticle pod 20: Inner pod
30: Outer Pod 40: Reticle
100: Inspection system of reticle pod 200: Load stage
300: Stalker 400: Transfer Robot
500: Inspection preparation device 600: Inspection device
700: Clean room 702-1~702-4: Gate
800: Cleaning device 810: Air knife
820: dust collector 840: sensor
850: Controller

Claims (7)

레티클이 장착되어 있는 이너 포드와, 상기 이너 포드가 수납되어 있는 아우터 포드를 갖는 듀얼 레티클 포드를 로딩하기 위한 로딩 스테이션과;
상기 듀얼 레티클 포드를 운반함과 아울러 상기 이너 포드와 상기 아우터 포드를 분리할 수 있도록 상기 로딩 스테이션에 이웃하는 이송 장치와;
상기 듀얼 레티클 포드의 검사를 준비하기 위한 검사 준비 스테이션과;
상기 검사 준비 스테이션으로부터 운반되어 오는 상기 이너 포드를 검사하기 위한 검사 스테이션과;
상기 검사 준비 스테이션과 상기 검사 스테이션을 구획하도록 설치되어 있으며, 상기 이너 포드를 운반할 수 있도록 상기 검사 준비 스테이션과 상기 검사 스테이션을 연결하는 게이트를 갖는 클린 룸과;
상기 이너 포드가 상기 게이트를 통과할 때 상기 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 제거하는 클리닝 수단을 포함하는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템.a loading station for loading a dual reticle pod having an inner pod on which a reticle is mounted and an outer pod in which the inner pod is stored;
a transfer device adjacent to the loading station to transport the dual reticle pod and separate the inner pod and the outer pod;
an inspection preparation station for preparing inspection of the dual reticle pod;
an inspection station for inspecting the inner pod transported from the inspection preparation station;
a clean room installed to partition the test preparation station and the test station, and having a gate connecting the test preparation station and the test station to transport the inner pod;
A reticle pod inspection system having a cleaning function, including a cleaning means for removing foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate. 제1항에 있어서,
상기 클리닝 수단은,
상기 이너 포드가 상기 게이트를 통과할 때 상기 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 탈락시킬 수 있도록 클리닝 가스를 분사하는 에어 나이프와;
상기 클리닝 가스의 분사에 의해 상기 이너 포드로부터 탈락되는 상기 이물질을 집진하는 집진기를 포함하는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템.According to paragraph 1,
The cleaning means is,
an air knife that sprays cleaning gas to remove foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate;
An inspection system for a reticle pod with a cleaning function, including a dust collector that collects foreign substances that fall off the inner pod by spraying the cleaning gas. 제2항에 있어서,
상기 에어 나이프는 상기 게이트의 위쪽에 이웃하도록 장착되어 있는 브래킷에 장착되어 있고, 상기 집진기는 상기 에어 나이프와 이웃하도록 상기 브래킷에 장착되어 있는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템. According to paragraph 2,
The air knife is mounted on a bracket adjacent to the top of the gate, and the dust collector is mounted on the bracket adjacent to the air knife. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이송 장치의 운반에 의해 상기 검사 준비 스테이션으로부터 상기 게이트에 접근하는 상기 이너 포드를 감지하는 센서와;
상기 센서로부터 입력되는 신호에 따라 상기 에어 나이프와 상기 집진기의 작동을 제어하는 컨트롤러를 더 구비하는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템. According to any one of claims 1 to 3,
a sensor that detects the inner pod approaching the gate from the test preparation station by being transported by the transfer device;
An inspection system for a reticle pod with a cleaning function, further comprising a controller that controls the operation of the air knife and the dust collector according to a signal input from the sensor. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검사 준비 스테이션은 상기 이송 장치에 의해 이너 포드를 상기 아우터 포드로부터 분리할 수 있도록 구성되어 있는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 시스템. According to any one of claims 1 to 3,
An inspection system for a reticle pod with a cleaning function, wherein the inspection preparation station is configured to separate the inner pod from the outer pod by the transfer device. 레티클이 장착되어 있는 이너 포드와, 상기 이너 포드가 수납되어 있는 아우터 포드를 갖는 듀얼 레티클 포드를 로딩 스테이션에 준비하는 단계와;
상기 듀얼 레티클 포드를 이송 장치에 의해 검사 준비 스테이션으로 운반하는 단계와;
상기 검사 준비 스테이션으로부터 게이트를 갖는 크린 룸에 의해 구획되어 있는 검사 스테이션으로 상기 이너 포드를 분리하여 운반하는 단계와;
상기 이너 포드가 상기 게이트를 통과할 때 상기 이너 포드에 오염되어 있는 이물질을 제거할 수 있도록 에어 나이프에 의해 클리닝 가스를 분사하는 단계와;
상기 클리닝 가스의 분사에 의해 상기 이너 포드로부터 탈락되는 상기 이물질을 집진기에 의해 집진하는 단계를 포함하는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 방법. preparing a dual reticle pod having an inner pod on which a reticle is mounted and an outer pod in which the inner pod is stored in a loading station;
transporting the dual reticle pod to an inspection preparation station by a transfer device;
separating and transporting the inner pod from the test preparation station to a test station partitioned by a clean room having a gate;
spraying cleaning gas using an air knife to remove foreign substances contaminated with the inner pod when the inner pod passes through the gate;
A method of inspecting a reticle pod having a cleaning function, including the step of collecting the foreign matter that falls off the inner pod by spraying the cleaning gas using a dust collector. 제6항에 있어서,
상기 검사 준비 스테이션으로부터 상기 게이트에 접근하는 상기 이너 포드를 센서에 의해 감지하는 단계와;
상기 센서로부터 입력되는 신호에 따라 상기 에어 나이프와 상기 집진기의 작동을 컨트롤러에 의해 제어하는 단계를 더 구비하는 클리닝 기능을 갖는 레티클 포드의 검사 방법. According to clause 6,
detecting the inner pod approaching the gate from the inspection preparation station using a sensor;
A method of inspecting a reticle pod having a cleaning function, further comprising controlling operations of the air knife and the dust collector by a controller according to a signal input from the sensor.
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