KR20210111316A - Resin composition, varnish, laminated board and printed circuit board - Google Patents

Resin composition, varnish, laminated board and printed circuit board Download PDF

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Abstract

(A) 폴리말레이미드 화합물, (B) 벤조옥사진, (C) 에폭시 수지, 및 (D) 쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 용융하여 얻어진 수지 조성물로서, 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물의 함량이 40 내지 70질량부인 수지 조성물이며, 고내열성 및 저유전특성(낮은 비유전율, 낮은 유전정접)을 구비한, 적층판, 인쇄회로기판, 접착제, 봉지제, 도료 및 성형품 등의 전자/전기 부품으로서 사용할 수 있다.A resin composition obtained by melting a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound, (B) benzoxazine, (C) an epoxy resin, and (D) a coumarone resin, 100 parts by mass of a resin component of the resin mixture Among them, (A) is a resin composition in which the content of the polymaleimide compound is 40 to 70 parts by mass, and having high heat resistance and low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), laminated board, printed circuit board, adhesive, encapsulant , can be used as electronic/electrical parts such as paints and molded articles.

Description

수지 조성물 및 그 제조방법Resin composition and its manufacturing method

본 발명은 전기·전자 부품에서, 고내열성 및 저유전특성(저비유전율, 저유전정접)을 구비한, 적층판, 인쇄회로기판, 접착제, 봉지제, 도료 및 성형품 등으로서 사용되는 수지 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition used as a laminate, a printed circuit board, an adhesive, an encapsulant, a paint, a molded article, etc., having high heat resistance and low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in electrical and electronic parts, and its manufacture it's about how

종래, 전자재료분야에서 내열성 수지로서, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 페놀 수지 등의 열경화성 수지가 사용되고 있다. 이들 열경화성 수지는 그 용도 및 특성에 따라 구분 사용되고 있다. 그 중에서도 특히 폴리이미드 수지는 내열성 및 내습열성(흡습 후의 내열성)이 우수하였기 때문에, 높은 내열성을 요하는 용도로 널리 사용되고 있다. 또한, 에폭시 수지나 방향족 디아민 등의 다른 수지와 폴리이미드 수지와의 조합에 의해 성능이 개량된 변성 폴리이미드 수지도 사용되고 있다.Conventionally, thermosetting resins such as epoxy resins, polyimide resins, unsaturated polyester resins, and phenol resins have been used as heat-resistant resins in the field of electronic materials. These thermosetting resins are used separately according to their use and characteristics. In particular, polyimide resins are widely used for applications requiring high heat resistance because they are excellent in heat resistance and heat resistance (heat resistance after moisture absorption). In addition, a modified polyimide resin whose performance is improved by combining another resin such as an epoxy resin or an aromatic diamine with a polyimide resin is also used.

근래, 반도체 기판 분야에서는, 기판 상으로 반도체 칩을 직접 실장하는 실장 방법이 보급되고 있다. 이에, 반도체에 사용되는 재료에는 실장 공정에서의 고온 처리 등에 견딜 수 있는 높은 내열성이 요구된다. 에폭시 수지는 반도체 재료로서 범용적으로 사용되고 있으며, 내열성 향상의 요구에 대응하기 위한 검토가 이루어져, 내열성이 우수한 수지가 제안되고 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에는 폴리말레이미드 화합물, 페놀 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 다른 에폭시 수지를 용융시킨 변성 폴리이미드 수지 조성물이 기재되어 있다.In recent years, in the field of semiconductor substrates, a mounting method of directly mounting a semiconductor chip on a substrate has become popular. Accordingly, materials used for semiconductors are required to have high heat resistance capable of withstanding high-temperature treatment in a mounting process and the like. Epoxy resins are widely used as semiconductor materials, and studies have been made to respond to the demand for improvement in heat resistance, and resins excellent in heat resistance have been proposed. For example, Patent Document 1 describes a modified polyimide resin composition in which a polymaleimide compound, a phenol resin, a bisphenol A epoxy resin, and another epoxy resin are melted.

특허문헌 1 : 일본 특허공개 2017-101152호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2017-101152

특허문헌 1에 기재된 변성 폴리이미드 수지 조성물은, 고내열성이라는 특징을 갖추고 있지만, 용도에 따라서는 저유전특성이 충분하지 않을 경우가 있었다. 이에, 본 발명은 고내열성 및 저유전특성을 갖춘 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.Although the modified polyimide resin composition described in Patent Document 1 has a characteristic of high heat resistance, the low dielectric properties may not be sufficient depending on the application. Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin composition having high heat resistance and low dielectric properties.

[1] (A) 폴리말레이미드 화합물, (B) 벤조옥사진, (C) 에폭시 수지, 및 (D) 쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 용융하여 얻어진 수지 조성물로서, 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물의 함량이 40 내지 70질량부인, 수지 조성물.[1] A resin composition obtained by melting a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound, (B) benzoxazine, (C) an epoxy resin, and (D) a coumarone resin, the resin component of the resin mixture The content of the (A) polymaleimide compound in 100 parts by mass is 40 to 70 parts by mass, the resin composition.

[2] 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (D) 쿠마론 수지의 함량이 1 내지 5질량부인, [1]에 기재된 수지 조성물.[2] The resin composition according to [1], wherein the content of the (D) coumarone resin in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 1 to 5 parts by mass.

[3] 상기 (D) 쿠마론 수지는 연화점이 100℃ 이하이고 중량평균분자량이 850 이하인, [2]에 기재된 수지 조성물.[3] The resin composition according to [2], wherein the (D) coumarone resin has a softening point of 100° C. or less and a weight average molecular weight of 850 or less.

[4] 상기 수지 혼합물은 추가로 (E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르를 함유하고 있으며, 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르의 함량이 3 내지 7질량부인, [2] 또는 [3]에 기재된 수지 조성물.[4] The resin mixture further contains (E) bisphenol A cyanate ester, and the content of (E) bisphenol A cyanate ester in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 3 to 7 mass Mrs., the resin composition according to [2] or [3].

[5] 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물이 식 (1)로 표시되는, [1]에 기재된 수지 조성물.[5] The resin composition according to [1], wherein the (A) polymaleimide compound is represented by the formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(상기 식 (1)에 있어서, n1은 0 이상 10 이하의 정수이고, X1은 각각 독립적으로 탄소수 1 이상 10 이하의 알킬렌기, 하기 식 (2)로 표시되는 기, '- SO2'로 표시되는 기, '-CO-'로 표시되는 기, 산소 원자 또는 단일 결합이며, R1은 각각 독립적으로 탄소수 1 이상 6 이하의 탄화수소기이고, a는 각각 독립적으로 0 이상 4 이하의 정수이며, b는 각각 독립적으로 0 이상 3 이하의 정수이고, 반복 단위의 수(n1)의 평균값이 0.01 이상 5 이하이다.)(In the formula (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, and X 1 is each independently an alkylene group having 1 or more and 10 or less, a group represented by the following formula (2), '-SO 2 ' a group represented by , a group represented by '-CO-', an oxygen atom or a single bond, R 1 is each independently a hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a is each independently an integer of 0 or more and 4 or less, , b are each independently an integer of 0 or more and 3 or less, and the average value of the number of repeating units (n 1 ) is 0.01 or more and 5 or less.)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(상기 식 (2)에 있어서, Y는 방향족 고리를 갖는 탄소수 6 이상 30 이하의 탄화수소기이며, n2는 1 내지 3의 정수이다.)(In the formula (2), Y is a hydrocarbon group having 6 or more and 30 or less carbon atoms having an aromatic ring, and n 2 is an integer of 1 to 3.)

[6] 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (B) 벤조옥사진 함량이 10 내지 30질량부인, [1]에 기재된 수지 조성물.[6] The resin composition according to [1], wherein the (B) benzoxazine content is 10 to 30 parts by mass in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture.

[7] 상기 (C) 에폭시 수지는 α-나프톨형 에폭시 수지를 함유하고 있으며, 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 α-나프톨형 에폭시 수지의 함량이 10 내지 30질량부인, [1]에 기재된 수지 조성물.[7] The (C) epoxy resin contains an α-naphthol type epoxy resin, and the content of the α-naphthol type epoxy resin in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 10 to 30 parts by mass, [1] The resin composition described in.

[8] 상기 수지 혼합물 중에 함유되는 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물 100질량부 중, 용융 혼합 공정 후의 수지 조성물 중에 나머지 말레이미드 화합물로서 잔존하는 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물이 30 내지 60질량부가 되도록, 각 성분을 용해하여 얻어진, [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[8] Among 100 parts by mass of the polymaleimide compound (A) contained in the resin mixture, 30 to 60 parts by mass of the polymaleimide compound (A) remaining as the remaining maleimide compound in the resin composition after the melt mixing step The resin composition according to any one of [1] to [7], obtained by dissolving each component as much as possible.

[9] 인쇄회로기판용인, [1] 내지 [8] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[9] The resin composition according to any one of [1] to [8], which is for a printed circuit board.

[10] [1] 내지 [8] 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을, 비점이 120℃ 이하이고 또한 비유전율이 10 내지 30인 용제에 용해시킨 바니시.[10] A varnish obtained by dissolving the resin composition according to any one of [1] to [8] in a solvent having a boiling point of 120° C. or less and a relative permittivity of 10 to 30.

[11] [1] 내지 [8] 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 적층판.[11] A laminate produced by using the resin composition according to any one of [1] to [8].

[12] [1] 내지 [8] 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 인쇄회로기판.[12] A printed circuit board manufactured using the resin composition according to any one of [1] to [8].

[13] [1] 내지 [8] 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 성형품.[13] A molded article obtained by curing the resin composition according to any one of [1] to [8].

[14] [1] 내지 [8] 중 어느 한 항의 상기 수지 혼합물을 용융 혼합하는 용융 혼합 공정을 구비하는 수지 조성물의 제조방법.[14] A method for producing a resin composition comprising a melt-mixing step of melt-mixing the resin mixture according to any one of [1] to [8].

(A) 폴리말레이미드 화합물, (B) 벤조옥사진, (C) 에폭시 수지, 및 (D) 쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 용융함으로써, 고내열성 및 저유전특성(저비유전율, 저유전정접)를 갖춘 경화물이 되는 수지 조성물을 제공할 수 있다.By melting a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound, (B) benzoxazine, (C) an epoxy resin, and (D) a coumarone resin, high heat resistance and low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) ) can be provided as a cured product having a resin composition.

(수지 조성물)(resin composition)

본 발명의 수지 조성물은, (A) 폴리말레이미드 화합물, (B) 벤조옥사진, (C) 에폭시 수지, 및 (D) 쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 용융하여 얻어진 수지 조성물로서, 상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에에서 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물의 함량이 40 내지 70질량부이다. 이하, (A) 내지 (D)의 각 성분 및 함유하여도 좋은 다른 성분에 대해 설명한다. 본 발명에서는, 각 성분을 용융 혼합하기 이전의 것을 "수지 혼합물"이라고 하고, 용융 혼합한 후에 냉각한 것을 "수지 조성물"이라고 한다.The resin composition of the present invention is a resin composition obtained by melting a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound, (B) benzoxazine, (C) an epoxy resin, and (D) a coumarone resin, the resin The content of the polymaleimide compound (A) is 40 to 70 parts by mass in 100 parts by mass of the resin component of the mixture. Hereinafter, each component of (A)-(D) and other components which may be contained are demonstrated. In this invention, the thing before melt-mixing each component is called "resin mixture", and what cooled after melt-mixing is called "resin composition".

(A) 폴리말레이미드 화합물(A) polymaleimide compound

폴리말레이미드 화합물은 말레이미드기를 2개 이상 갖는 화합물이다. 경화물의 고내열성 및 저유전특성의 관점에서, 방향족 고리에 말레이미드기가 결합되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 폴리말레이미드 화합물로서, 과제를 해결하기 위한 수단의 항에 나타낸 식 (1)로 표시되는 것을 들 수 있다.A polymaleimide compound is a compound which has two or more maleimide groups. From the viewpoint of high heat resistance and low dielectric properties of the cured product, it is preferable that a maleimide group is bonded to the aromatic ring. As such a polymaleimide compound, what is represented by Formula (1) shown in the term of the means for solving a subject is mentioned.

수지 조성물의 저비점용매에 대한 용해성을 양호하게 하는 관점에서, 폴리말레이미드 화합물은 식 (1)에서 반복 단위의 수(n1)의 평균값이 0.01 이상 5 이하인 것이 바람직하다. 즉, 수지 혼합물은 식 (1)에서 괄호로 둘러싸인 반복 단위(구조부위)를 갖는 폴리말레이미드 화합물을, 반복 단위의 수(n1)의 평균값이 0.01 이상 5 이하가 되는 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 이로써, 저비점 용매에 대한 용해성이 양호한 수지 조성물이 얻어지는 용융 온도의 범위를 넓게 할 수 있다. 본 발명에서, "n1의 평균값이 0.01 이상 5 이하인 폴리말레이미드 화합물"이란, 1종의 화합물 또는 2종 이상의 화합물의 혼합물로 이루어진 폴리말레이미드 화합물을 의미한다.From the viewpoint of improving the solubility of the resin composition in the low boiling point solvent, the polymaleimide compound preferably has an average value of the number of repeating units (n 1 ) in the formula (1) of 0.01 or more and 5 or less. That is, the resin mixture contains a polymaleimide compound having a repeating unit (structural moiety) enclosed in parentheses in Formula (1) in a ratio such that the average value of the number of repeating units (n 1 ) is 0.01 or more and 5 or less. desirable. Thereby, the range of melting temperature from which the resin composition with favorable solubility with respect to a low boiling point solvent can be obtained can be widened. In the present invention, "a polymaleimide compound having an average value of n 1 of 0.01 or more and 5 or less" means a polymaleimide compound composed of one compound or a mixture of two or more compounds.

식 (1)에서 반복 단위의 수(n1)의 평균값이 0.01 이상 5 이하인 (A) 폴리말레이미드 화합물을 사용함으로써, 저비점 용매인 메틸에틸케톤에 대한 용해성이 양호한 수지 조성물이 된다. 이에, 저비점 용매에 대한 수지 조성물의 용해성을 향상시키는 작용이 있는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 사용하지 않고, 메틸에틸케톤에 대한 용해성이 양호한 수지 조성물이 얻어진다. By using the polymaleimide compound (A) having an average value of the number (n 1 ) of repeating units in the formula (1) of 0.01 or more and 5 or less, a resin composition with good solubility in methyl ethyl ketone as a low boiling point solvent. Accordingly, a resin composition having good solubility in methyl ethyl ketone is obtained without using a bisphenol A epoxy resin having an effect of improving the solubility of the resin composition in a low-boiling solvent.

수지 혼합물의 수지 성분 중의 비스페놀 A형 에폭시 수지의 함량을 억제함으로써, 수지 조성물의 경화물의 내열성이 향상된다. 수지 조성물의 경화물의 내열성을 양호하게 하는 관점에서, 수지 혼합물은 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하지 않은다란, 실질적으로 함유하지 않는 것, 즉 수지 혼합물의 성질에 영향을 미치는 양의 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하지 않는 것을 말한다.By suppressing the content of the bisphenol A epoxy resin in the resin component of the resin mixture, the heat resistance of the cured product of the resin composition is improved. It is preferable that a resin mixture does not contain a bisphenol A epoxy resin from a viewpoint of making the heat resistance of the hardened|cured material of a resin composition favorable. Here, "not containing a bisphenol A epoxy resin" means not containing substantially, ie, not containing the bisphenol A epoxy resin of the quantity which affects the property of a resin mixture.

수지 혼합물은 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에 폴리말레이미드 화합물을 40 내지 70질량부로 높은 비율로 함유하고 있기 때문에, 내열성이 양호한 경화물을 형성할 수 있는 수지 조성물이 된다. 고내열성과 저유전특성을 양립하는 관점에서, 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 폴리말레이미드 화합물의 함량은 50 내지 70질량부가 보다 바람직하고, 55 내지 65질량부가 더욱 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 수치 범위 'A 내지 B'는 'A 이상 B 이하'를 의미한다.Since the resin mixture contains the polymaleimide compound in a high ratio of 40 to 70 parts by mass in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture, a resin composition capable of forming a cured product having good heat resistance. From the viewpoint of achieving both high heat resistance and low dielectric properties, the content of the polymaleimide compound in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is more preferably 50 to 70 parts by mass, and still more preferably 55 to 65 parts by mass. In addition, in the present invention, the numerical range 'A to B' means 'A or more and B or less'.

식 (1)로 표시되는 폴리말레이미드 화합물은, X1가 -CH2-이고, a가 0이며, b가 0인 폴리말레이미드 화합물이 바람직하다. 이러한 시판의 폴리말레이미드 화합물로서는 예를 들어, BMI-2000, BMI-2300(제품명, 야마토화성공업(주)제, 페닐렌말레이미드)을 들 수 있다.As for the polymaleimide compound represented by Formula (1), the polymaleimide compound whose X 1 is -CH 2 -, a is 0, and b is 0 is preferable. As such a commercially available polymaleimide compound, BMI-2000 and BMI-2300 (product name, Yamato Chemical Industry Co., Ltd. product, phenylene maleimide) are mentioned, for example.

(B) 벤조옥사진 화합물(B) benzoxazine compounds

벤조옥사진 화합물은 분자 중에 적어도 하나 이상의 벤조옥사진 고리를 가지는 것이면 되는데, 하기 일반식 (3) 또는 (4)로 표시되는 디히드로벤조옥사진 화합물이 바람직하고, 그 중에서도 하기 일반식 (4)로 표시되는 p-d형 디하이드로벤조옥사진이 보다 바람직하다.The benzoxazine compound may be one having at least one benzoxazine ring in the molecule, and a dihydrobenzoxazine compound represented by the following general formula (3) or (4) is preferable, and among them, the following general formula (4) The pd-type dihydrobenzoxazine represented by is more preferable.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 (3) 및 식 (4)에 있어서, R2, R3은 수소 원자, 탄소수 1 내지 3의 치환 또는 무치환의 탄화수소기를 나타낸다.)(In Formulas (3) and (4), R 2 , R 3 represents a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.)

이들 디하이드로벤조옥사진 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These dihydrobenzoxazine compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 벤조옥사진 화합물의 함량은 경화물의 고내열성 및 저유전특성, 그리고 수지 조성물의 저비점 용매에 대한 용해성 및 용해된 상태의 안정성의 관점에서, 10 내지 30질량부가 바람직하고, 12 내지 25질량부가 보다 바람직하며, 15 내지 22질량부가 더욱 바람직하다. 또한, 저비점용매에 대한 용해도 및 용해된 상태의 안정성의 관점에서, 벤조옥사진 화합물의 함량은 (A) 폴리말레이미드 화합물 100질량부에 대하여 15질량부 이상이 보다 바람직하고, 20질량부 이상이 더욱 바람직하다. 내열성이 양호한 경화물을 얻는 관점에서, 벤조옥사진 화합물의 함량은 (A) 폴리말레이미드 화합물 100질량부에 대하여 50질량부 이하가 보다 바람직하고, 40질량부 이하가 더욱 바람직하다.The content of the benzoxazine compound in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is preferably 10 to 30 parts by mass from the viewpoint of high heat resistance and low dielectric properties of the cured product, and solubility of the resin composition in a low boiling point solvent and stability of the dissolved state. and 12-25 mass parts is more preferable, and 15-22 mass parts is still more preferable. In addition, from the viewpoint of solubility in a low-boiling solvent and stability in a dissolved state, the content of the benzoxazine compound is more preferably 15 parts by mass or more, and more preferably 20 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the polymaleimide compound (A). more preferably. From the viewpoint of obtaining a cured product having good heat resistance, the content of the benzoxazine compound is more preferably 50 parts by mass or less, and still more preferably 40 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound.

(C) 에폭시 수지(C) Epoxy resin

에폭시 수지는 에폭시기를 갖는 화합물이면 되는데, 수지 조성물의 경화물의 내열성과 저유전특성을 양립하는 관점에서, 비페닐아랄킬형 에폭시 수지, 나프탈렌 고리를 포함하는 에폭시 수지, 식 (5)로 표시되는 에폭시기를 3개 갖는 화합물 등이 바람직하다. 나프탈렌 고리를 포함하는 에폭시 수지로서는, α-나프톨형 에폭시 수지가 바람직하다. 시판의 나프탈렌 고리를 포함하는 에폭시 수지로서는 각 나프탈렌 고리가 에폭시기를 2개 갖는 ESN-475V(제품명, 신닛테츠스미킹화학(주)제, α-나프톨형 에폭시 수지)를 들 수 있다. 또한, 식 (5)로 표시되는 시판의 에폭시 수지로서는 VG3101L(제품명, (주)프린테크제, 고내열 3관능 에폭시 수지)을 들 수 있다.The epoxy resin may be a compound having an epoxy group, but from the viewpoint of achieving both heat resistance and low dielectric properties of the cured product of the resin composition, a biphenyl aralkyl type epoxy resin, an epoxy resin containing a naphthalene ring, and an epoxy group represented by Formula (5) A compound having three is preferable. As an epoxy resin containing a naphthalene ring, (alpha)-naphthol type epoxy resin is preferable. As a commercially available epoxy resin containing a naphthalene ring, ESN-475V (product name, Shin-Nippon Chemical Co., Ltd. product, (alpha)-naphthol type epoxy resin) in which each naphthalene ring has two epoxy groups is mentioned. Moreover, as a commercially available epoxy resin represented by Formula (5), VG3101L (a product name, the product made by PRINTEC Co., Ltd., high heat-resistant trifunctional epoxy resin) is mentioned.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 이외의 에폭시 수지로서는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 E형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 F 노볼락형 에폭시 수지, 트리페닐롤형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들 에폭시 수지는 1종 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the epoxy resin other than the above include bisphenol A epoxy resin, bisphenol E epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A novolak epoxy resin, bisphenol F novolac A type|mold epoxy resin, a triphenylol type|mold epoxy resin, a dicyclopentadiene type|mold epoxy resin, etc. are mentioned. These epoxy resins can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

수지 혼합물의 수지 성분 100질량부에서의 에폭시 수지의 함량은 경화물의 고내열성 및 저유전특성의 관점에서, 10 내지 30질량부가 바람직하고, 12 내지 25질량부가 보다 바람직하며, 15 내지 22질량부가 더욱 바람직하다.The content of the epoxy resin in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is preferably 10 to 30 parts by mass, more preferably 12 to 25 parts by mass, further 15 to 22 parts by mass from the viewpoint of high heat resistance and low dielectric properties of the cured product. desirable.

(D) 쿠마론 수지(D) coumarone resin

쿠마론 수지는 쿠마론, 인덴 및 스티렌을 주성분으로 하는 공중합 수지이다. 시판품으로서는 G-90, V-120, L-5, L-20, H-100(모두 제품명, 닛토화학(주)제) 등을 들 수 있다. 저유전특성을 갖춘 경화물을 구현하는 수지 조성물로 하는 관점에서, 연화점이 100℃ 이하이고 중량평균분자량이 850 이하인 쿠마론 수지가 바람직하다.The coumarone resin is a copolymer resin containing coumarone, indene and styrene as main components. As a commercial item, G-90, V-120, L-5, L-20, H-100 (all are product names, Nitto Chemical Co., Ltd. product) etc. are mentioned. From the viewpoint of forming a resin composition realizing a cured product having low dielectric properties, a coumarone resin having a softening point of 100° C. or less and a weight average molecular weight of 850 or less is preferable.

수지 혼합물의 수지 성분 100질량부에서의 쿠마론 수지의 함량은 경화물의 고내열성 및 저유전특성의 관점에서 0.1 내지 5질량부가 바람직하고, 0.5 내지 4질량부가 보다 바람직하며, 1 내지 3질량부가 더욱 바람직하다.The content of the coumarone resin in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 4 parts by mass, and further 1-3 parts by mass from the viewpoint of high heat resistance and low dielectric properties of the cured product. desirable.

(E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르(E) bisphenol A cyanate ester

비스페놀 A형 시아네이트 에스테르는, 트리아진 고리를 형성하여 경화하는 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르이다. 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르와 (D) 쿠마론 수지를 병용함으로써, 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물의 비유전율 및 유전정접을 더욱 낮출 수 있다. 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르에는 모노머와 (호모)폴리머(고분자)가 있는데, 저유전특성이 우수한 경화물을 얻는 관점에서, 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르의 모노머가 바람직하다.Bisphenol A cyanate ester is a bisphenol A cyanate ester which forms and hardens|cures a triazine ring. By using the bisphenol A cyanate ester and (D) coumarone resin together, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product obtained by curing the resin composition can be further lowered. The bisphenol A cyanate ester includes a monomer and a (homo)polymer (polymer). From the viewpoint of obtaining a cured product having excellent low dielectric properties, a monomer of the bisphenol A cyanate ester is preferable.

수지 혼합물의 수지 성분 100질량부에서의 (E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르의 함량은 경화물의 고내열성 및 저유전특성의 관점에서, 1 내지 10질량부가 바람직하고, 3 내지 8질량부가 보다 바람직하며, 4 내지 6질량부가 더욱 바람직하다.The content of (E) bisphenol A cyanate ester in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 8 parts by mass, from the viewpoint of high heat resistance and low dielectric properties of the cured product, , more preferably 4 to 6 parts by mass.

(F) 경화촉진제(F) curing accelerator

본 발명에 따른 수지 조성물을 사용할 때에, 경화촉진제를 첨가 사용할 수도 있다. 경화촉진제를 첨가하는 시기로서는, 수지 조성물을 용제에 용해한 바니시로 했을 때, 프리프레그화할 때, 또는 기재, 적층판을 제조할 때 등을 들 수 있다.When using the resin composition according to the present invention, a curing accelerator may be added. As time to add a hardening accelerator, when a resin composition is made into the varnish which melt|dissolved in the solvent, the time of prepreg formation, the time of manufacturing a base material, a laminated board, etc. are mentioned.

경화촉진제로서는, 예를 들어 디쿠밀퍼옥사이드, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-헵타이미다졸 등의 이미다졸류; 트리에탄올아민, 트리에틸렌디아민, N-메틸모르폴린 등의 아민류; 트리페닐포스핀, 트리톨릴포스핀 등의 유기 포스핀류; 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 트리에틸암모늄테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐붕소염류; 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7 및 그 유도체; 나프텐산납, 스테아린산납, 나프텐산아연, 올레인산주석, 나프텐산망간, 테프텐산코발트, 옥틸산코발트 등의 유기 금속염 등을 들 수 있다. 이들 경화촉진제는 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있으며, 또한 필요에 따라 유기 과산화물이나 아조 화합물 등을 병용할 수도 있다.Examples of the curing accelerator include imida such as dicumyl peroxide, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-heptimidazole. zole; amines such as triethanolamine, triethylenediamine, and N-methylmorpholine; organic phosphines such as triphenylphosphine and tritolylphosphine; tetraphenyl boron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and triethylammonium tetraphenylborate; 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7 and its derivatives; and organic metal salts such as lead naphthenate, lead stearate, zinc naphthenate, tin oleate, manganese naphthenate, cobalt tefthenate, and cobalt octylate. These hardening accelerators may be used individually or in combination of 2 or more types, and an organic peroxide, an azo compound, etc. can also be used together as needed.

이들 경화촉진제의 함량은 바니시 또는 프리프레그에서, 원하는 겔화 시간이 얻어지는 범위로 배합하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 수지 조성물에 함유되는 수지 성분의 총 100질량부에 대하여 0.01 내지 5질량부의 범위로 사용된다.The content of these curing accelerators is preferably blended in a varnish or prepreg within a range in which a desired gelation time is obtained. Generally, it is used in the range of 0.01-5 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of resin components contained in a resin composition.

본 발명에 따른 수지 조성물 및 용융 혼합 전의 수지 혼합물은 상기 (A) (B) (C) (D) (E) 및 (F) 이외의 성분을 함유할 수도 있다. 예를 들어, 본 발명의 수지 조성물을 경화시켜 성형품으로 하는 기재를 얻기 위하여, 유기 또는 무기 충전제를 사용할 수 있다. 충전제의 예로서, 실리카, 규조토, 알루미나, 염화아연, 산화티타늄, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화철, 산화주석, 산화안티몬, 페라이트류 등의 산화물; 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 염기성 탄산마그네슘 등의 수산화물; 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산아연, 탄산바륨, 도소나이트, 하이드로탈사이트 등의 탄산염; 황산칼슘, 황산바륨, 석고섬유 등의 황산염; 규산칼슘(월라스토나이트, 조노토라이트), 탈크, 클레이, 운모, 몬모릴로나이트, 벤토나이트, 활성 백토, 세피올라이트, 이모골라이트, 세리사이트, 유리 섬유, 유리 비드, 실리카계 벌룬 등의 규산염; 질화알루미늄, 질화붕소, 질화규소 등의 질화물; 카본 블랙, 그라파이트, 탄소 섬유, 탄소 벌룬, 목탄 분말 등의 탄소류; 기타 각종 금속 분말, 티탄산칼륨, 티탄산지르콘산납, 알루미늄보레이트, 황화몰리브덴, 탄화규소, 스테인리스 섬유, 붕산아연, 각종 자성 분말, 슬래그 섬유, 세라믹 분말 등을 들 수 있다.The resin composition according to the present invention and the resin mixture before melt mixing may contain components other than the above (A) (B) (C) (D) (E) and (F). For example, in order to obtain the base material used as a molded article by hardening the resin composition of this invention, an organic or inorganic filler can be used. Examples of the filler include oxides such as silica, diatomaceous earth, alumina, zinc chloride, titanium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, iron oxide, tin oxide, antimony oxide, and ferrites; hydroxides such as calcium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, and basic magnesium carbonate; carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, barium carbonate, dosonite, and hydrotalcite; sulfates such as calcium sulfate, barium sulfate, and gypsum fibers; silicates such as calcium silicate (wollastonite, zonotorite), talc, clay, mica, montmorillonite, bentonite, activated clay, sepiolite, imogolite, sericite, glass fiber, glass beads, and silica-based balloons; nitrides such as aluminum nitride, boron nitride, and silicon nitride; carbons such as carbon black, graphite, carbon fiber, carbon balloon, and charcoal powder; and various other metal powders, potassium titanate, lead zirconate titanate, aluminum borate, molybdenum sulfide, silicon carbide, stainless fiber, zinc borate, various magnetic powders, slag fiber, ceramic powder, and the like.

충전제의 형상으로서는 구형 또는 인편상(鱗片狀)이 바람직하며, 이들을 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 분자 중에 2개 이상의 서로 다른 반응기(하나는 무기재료와 화학반응하는 반응기이고, 다른 하나는 유기 재료와 화학반응하는 반응기)를 갖는 실란 커플링제를 병용할 수도 있다.As a shape of a filler, a spherical shape or a scale shape is preferable, and these may be used independently or 2 or more types may be used together. In addition, if necessary, a silane coupling agent having two or more different reactive groups in the molecule (one reactive with an inorganic material and the other reactive with an organic material) may be used in combination.

유기 또는 무기의 충전제를 사용할 경우, 그 함량은 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부에 대하여 5.0 내지 250질량부가 바람직하다.When an organic or inorganic filler is used, the content is preferably 5.0 to 250 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture.

수지 조성물은 필요에 따라 난연제를 첨가할 수 있다. 난연제로서는 브롬화 에폭시 수지와 같은 브롬 화합물 및 축합 인산 에스테르와 같은 인 화합물 등의 유기 난연제, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 주석 화합물 및 안티몬 화합물 등의 무기 난연제 등을 들 수 있다. 이들 난연제는 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.A flame retardant may be added to the resin composition as needed. Examples of the flame retardant include organic flame retardants such as bromine compounds such as brominated epoxy resins and phosphorus compounds such as condensed phosphoric acid esters, and inorganic flame retardants such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, tin compounds and antimony compounds. These flame retardants may be used independently or may use 2 or more types together.

또한, 난연제의 함량은 수지 조성물을 경화한 경화물의 내열성, 내습열성을 손상시키지 않고 충분한 난연성(예를 들면 UL94 규격에서의 V-0 조건 합격)을 갖기 위해 필요한 양인 것이 바람직하다. 유기 난연제의 경우는 일반적으로는 수지 조성물 중의 유기 난연제를 포함한 수지 성분의 총 100질량부에 대하여 1 내지 20질량부의 범위로, 무기 난연제의 경우는 수지 성분 총 100질량부에 대하여 10 내지 300질량부의 범위로 사용되는 것이 바람직하다.In addition, the content of the flame retardant is preferably an amount necessary to have sufficient flame retardancy (for example, passing the V-0 condition in the UL94 standard) without impairing the heat resistance and heat-and-moisture resistance of the cured product obtained by curing the resin composition. In the case of an organic flame retardant, generally in the range of 1-20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of resin components including an organic flame retardant in a resin composition, in the case of an inorganic flame retardant, 10-300 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of resin components. It is preferable to use a range.

본 발명에 따른 수지 조성물을 사용함에 있어, 용도에 따라 다른 첨가제를 추가할 수 있다. 다른 첨가제의 예로는 각종 실리콘 오일, 열가소성 수지, NBR 등의 합성 고무류, 레벨링제를 들 수 있다. 다른 첨가제는 수지 조성물 중에서의 다른 첨가제와 수지 성분의 합계 100질량부 중 상기 다른 첨가제의 함량이 0.0001 내지 5질량부가 되는 배합량의 범위로 사용되는 것이 바람직하다.In using the resin composition according to the present invention, other additives may be added according to the use. Examples of other additives include various silicone oils, thermoplastic resins, synthetic rubbers such as NBR, and leveling agents. It is preferable that the other additive is used in the range of the compounding quantity in which the content of the said other additive will be 0.0001-5 mass parts in a total of 100 mass parts of the other additive in a resin composition, and a resin component.

(용융 혼합 공정)(melt mixing process)

본 발명의 수지 조성물은 (A) 폴리말레이미드 화합물, (B) 벤조옥사진, (C) 에폭시 수지, 및 (D) 쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 가열하여, 용융 상태로 혼합하는 용융 혼합 공정에 의해 제조된다. 용융 혼합 공정에는 통상의 혼합수단을 사용할 수 있다. 혼합수단으로서는 니더, 2축 혼련기 등이 바람직하다. 용융 혼합시의 온도는 수지 혼합물이 용융되는 온도 이상 400℃ 이하로 하면 되는데, 130℃ 내지 230℃가 보다 바람직하고, 150℃ 내지 210℃가 더욱 바람직하다. 용융 혼합 공정은 통상 0.1 내지 10분 정도 이루어진다. 상술한 바와 같이, 용융 혼합 공정에서의 넓은 용융 온도 범위에서, 저비점 용매에 대한 용해성이 양호한 수지 조성물을 얻기 위해서는 식 (1)에서 반복단위의 수(n1)의 평균값이 0.01 이상 5 이하인 (A) 폴리말레이미드 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. The resin composition of the present invention is melt-mixed by heating a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound, (B) benzoxazine, (C) an epoxy resin, and (D) a coumarone resin and mixing it in a molten state. manufactured by the process. A conventional mixing means may be used for the melt mixing process. As a mixing means, a kneader, a twin-screw kneader, etc. are preferable. What is necessary is just to set the temperature at the time of melt mixing to 400 degreeC or more above the temperature at which the resin mixture melts, 130 degreeC - 230 degreeC are more preferable, and 150 degreeC - 210 degreeC are still more preferable. The melt mixing process is usually performed for about 0.1 to 10 minutes. As described above, in order to obtain a resin composition having good solubility in a low boiling point solvent in a wide melting temperature range in the melt mixing process, the average value of the number of repeating units (n 1 ) in Formula (1) is 0.01 or more and 5 or less (A ), it is preferable to use a polymaleimide compound.

용융 혼합 공정 후, 자연 냉각 또는 강제 냉각에 의해 냉각하여 본 발명의 수지 조성물을 얻는다.After the melt mixing step, natural cooling or forced cooling is performed to obtain the resin composition of the present invention.

냉각 방법으로서는 공지의 방법에서 적절히 선택하여 수행할 수 있다. 예를 들어, 5 내지 100℃의 환경하에서 자연냉각하는 방법이나, -20 내지 80℃의 냉매를 사용하여 강제냉각하는 방법을 채택할 수 있다. 또한, 용융 혼합 후 항온장치 내에서 30 내지 300℃의 환경 하에 두었다가 냉각하는 방법을 채택할 수도 있다.As a cooling method, it can select suitably from a well-known method and can carry out. For example, a method of natural cooling in an environment of 5 to 100° C. or a method of forced cooling using a refrigerant of -20 to 80° C. may be adopted. In addition, a method of cooling after being placed under an environment of 30 to 300° C. in a thermostat after melt mixing may be adopted.

냉각 후, 얻어진 수지 조성물을, 분쇄하여 드라이 상태(건조)로 저장하고, 고체상의 수지 조성물로서 후공정에 사용할 수 있다.After cooling, the obtained resin composition can be pulverized, stored in a dry state (dry), and used as a solid resin composition in a subsequent step.

용융 혼합 공정에서, 수지 혼합물에 포함되는 (A) 폴리말레이미드 화합물 중 적어도 일부가 수지 혼합물 중의 다른 성분과 반응함으로써 변성한다. 이로써, 높은 내열성, 저유전특성 및 저비점 용매에 대한 용해성이 양호한 수지조성물을 조제할 수 있다.In the melt mixing step, at least a part of the (A) polymaleimide compound contained in the resin mixture reacts with other components in the resin mixture to thereby modify. Thereby, it is possible to prepare a resin composition having high heat resistance, low dielectric properties and good solubility in a low boiling point solvent.

저비점 용매에 대한 용해성을 양호하게 하는 관점에서, 용융 혼합 공정에 의해 제조된 수지 조성물 중에 잔존하는 폴리말레이미드 화합물(적절히, '나머지 말레이미드 화합물'이라고도 한다.)은 수지 성분 100질량부 중에 42질량부 이하가 바람직하고, 40질량부 이하가 보다 바람직하다.From the viewpoint of improving the solubility in the low-boiling solvent, the polymaleimide compound remaining in the resin composition produced by the melt-mixing step (appropriately, also referred to as 'remaining maleimide compound') is 42 parts by mass per 100 parts by mass of the resin component. A part or less is preferable, and 40 mass parts or less are more preferable.

용융 혼합 공정 후의 변성한 수지 조성물의 저비점 용매에 대한 용해성을 양호하게 하는 관점에서, 용융 혼합 공정 전의 수지 혼합물 중의 폴리말레이미드 화합물 100질량부 중, 용융 혼합 공정 후의 수지조성물 중에 나머지 말레이미드 화합물로서 잔존하는 폴리말레이미드 화합물이 30 내지 60질량부인 것이 바람직하고, 40 내지 50질량부인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of improving the solubility of the modified resin composition in the low boiling point solvent after the melt mixing step, out of 100 parts by mass of the polymaleimide compound in the resin mixture before the melt mixing step, remaining as the remaining maleimide compound in the resin composition after the melt mixing step It is preferable that it is 30-60 mass parts, and, as for the polymaleimide compound to make, it is more preferable that it is 40-50 mass parts.

(바니시)(varnish)

본 발명에 따른 수지 조성물의 바니시(Varnish)는 상술한 제조방법에 의해 얻어진 수지 조성물을, 비점이 120℃ 이하이고 비유전율이 10 내지 30인 용제에 용해시킨 것이다.The varnish of the resin composition according to the present invention is obtained by dissolving the resin composition obtained by the above-described manufacturing method in a solvent having a boiling point of 120° C. or less and a relative permittivity of 10 to 30.

비점이 120℃ 이하이고 비유전율이 10 내지 30인 용제로는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르계 용제, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올 등의 알코올계 용제 등을 들 수 있다. 조작성 등을 고려하면, 예시한 용제 중 케톤계 용제가 바람직하게 사용된다. 이들 용제는 단독으로 사용할 수도 있으며, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 또, 위에 예시한 것 이외의 용제를 함유하고 있을 수도 있다.Examples of solvents having a boiling point of 120° C. or less and a relative permittivity of 10 to 30 include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, ethanol, 1-propanol, 2 - Alcoholic solvents, such as a propanol and 1-butanol, etc. are mentioned. In consideration of operability and the like, ketone-based solvents are preferably used among the exemplified solvents. These solvents may be used independently and may mix and use 2 or more types. Moreover, you may contain solvents other than what was illustrated above.

바니시 100질량부 중의 수지 조성물의 함량은 통상적으로 40 내지 80질량부이고, 바람직하게는 50 내지 70질량부이다. 바니시는 수지 조성물을 상온(실온) 또는 가열 하에서 용제 중에 용해시켜 얻을 수 있다. 가열 하에서 용해시키는 경우, 용제의 비점에 따라 다르지만, 용해시킬 때의 일반적인 조건은, 온도가 50 내지 200℃ 정도이며, 시간이 0.1 내지 24시간 정도이다.Content of the resin composition in 100 mass parts of varnishes is 40-80 mass parts normally, Preferably it is 50-70 mass parts. The varnish can be obtained by dissolving the resin composition in a solvent at room temperature (room temperature) or under heating. In the case of dissolving under heating, although it varies depending on the boiling point of the solvent, the general conditions for dissolving are about 50 to 200° C., and about 0.1 to 24 hours of time.

프리프레그는 상기 바니시를 기재에 도포 또는 함침하고, 이어 건조하여 용매를 제거함으로써 제조할 수 있다.The prepreg may be prepared by applying or impregnating the varnish on a substrate, followed by drying to remove the solvent.

기재로서는 유리 부직포, 유리 섬유, 탄소 섬유포, 유기 섬유포, 종이 등의 기존 프리프레그에 사용되는 공지의 기재를 사용할 수 있다.As the base material, a known base material used for conventional prepregs such as glass nonwoven fabric, glass fiber, carbon fiber fabric, organic fiber fabric, and paper can be used.

상기 바니시를 상기 기재에 도포 또는 함침한 후, 건조 공정을 거쳐 프리프레그를 제조하는데, 도포 방법, 함침 방법, 건조 방법은 특별히 한정하는 것이 아니며, 종래 공지의 방법을 채택할 수 있다. 건조 조건에 대해서는, 사용하는 용제의 비점에 따라 적절히 결정되는데, 너무 높은 온도는 바람직하지 않다. 프리프레그 100질량% 중에 잔존하는 용제의 양이 3질량% 이하가 되도록 건조시키는 것이 바람직하다.After the varnish is applied or impregnated on the substrate, a prepreg is manufactured through a drying process, but the application method, the impregnation method, and the drying method are not particularly limited, and a conventionally known method may be adopted. About drying conditions, although it determines suitably with the boiling point of the solvent to be used, too high temperature is unpreferable. It is preferable to dry so that the quantity of the solvent which remains in 100 mass % of prepreg may become 3 mass % or less.

프리프레그를 조제할 때, 바니시에 상술한 수지 조성물 이외의 수지를 첨가할 수도 있다. 해당 수지로서는 폴리페닐렌에테르 수지 등을 들 수 있다. 프리프레그를 경화시킨 경화물의 고내열성, 저비유전율 및 저유전정접을 부여하는 관점에서, 폴리페닐렌에테르 수지가 바람직하다. 비슷한 관점에서, 프리프레그를 조제할 때에 사용하는 폴리페닐렌에테르 수지의 첨가량은 본 발명의 수지 조성물의 수지 성분 100질량부에 대하여, 10 내지 100질량부가 바람직하고, 10 내지 50질량부가 보다 바람직하며, 20 내지 40질량부가 더욱 바람직하다. 시판의 폴리페닐렌에테르 수지로서는, SA90, SA120, SA9000(제품명, 모두 SABIC 재팬 합동회사제) 등을 들 수 있다.When preparing a prepreg, you may add resin other than the resin composition mentioned above to a varnish. Polyphenylene ether resin etc. are mentioned as this resin. From the viewpoint of imparting high heat resistance, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent to the cured product obtained by curing the prepreg, polyphenylene ether resin is preferable. From a similar viewpoint, the addition amount of the polyphenylene ether resin used when preparing the prepreg is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin component of the resin composition of the present invention. , more preferably 20 to 40 parts by mass. As a commercially available polyphenylene ether resin, SA90, SA120, SA9000 (a product name, all are made by SABIC Japan Corporation), etc. are mentioned.

본 발명의 수지 조성물은 인쇄회로기판용으로 적합하며, 또한 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 성형품으로서 본 발명을 실시할 수 있다. 성형품으로서는 수지 조성물만을 경화시켜 이루어지는 경화물이나, 다른 원료와 복합한 복합재, 적층체 등을 들 수 있다.The resin composition of the present invention is suitable for a printed circuit board, and the present invention can be practiced as a molded article obtained by curing the resin composition. As a molded article, the hardened|cured material formed by hardening only the resin composition, the composite material composited with other raw materials, a laminated body, etc. are mentioned.

복합재 및 적층체는 프리프레그 1장을 열 프레스 등으로 가압 하에 가열하여 경화시키거나, 프리프레그 복수장을 적층하여 가압 하에 가열하여 일체화시킴으로써 얻을 수 있다. 복합재를 제조할 때의 가열가압조건은 특별히 한정되는 것은 아닌데, 가열온도가 100 내지 300℃, 바람직하게는 150 내지 250℃이며, 압력이 10 내지 100kg/cm2 이고, 가열가압시간이 10 내지 300분 정도이다.A composite material and a laminate can be obtained by heating and curing one prepreg under pressure using a hot press or the like, or by laminating a plurality of prepregs and heating them under pressure to integrate them. Heating and pressing conditions when manufacturing the composite material are not particularly limited, the heating temperature is 100 to 300 ℃, preferably 150 to 250 ℃, the pressure is 10 to 100kg / cm 2 , the heating and pressing time is 10 to 300 about a minute

적층재의 단면 또는 양면에, 금속박 또는 금속판을 적층 일체화시켜 다층 인쇄회로기판용 등에 사용가능한 적층체로 할 수 있다. 이러한 적층체는 1장의 프리프레그의 단면 또는 양면에 금속박 또는 금속판을 적층하여 열프레스하거나, 복수장 적층된 프리프레그의 최외층이 되는 단면 또는 양면에 금속박 또는 금속판을 적층하여 열프레스함으로써, 프리프레그를 가열경화시켜 일체화시킴으로써 제조할 수 있다.Metal foils or metal plates are laminated and integrated on one side or both sides of the laminate to obtain a laminate that can be used for multilayer printed circuit boards and the like. Such a laminate is obtained by laminating a metal foil or a metal plate on one side or both sides of one prepreg and hot pressing, or by laminating and hot pressing a metal foil or metal plate on one side or both sides to become the outermost layer of a plurality of laminated prepregs. It can be manufactured by heat-hardening and integrating.

금속박 또는 금속판으로서는 구리, 알루미늄, 철, 스테인리스 등을 사용할 수 있다. 예를 들면, 금속박으로서 구리를 사용한 적층판이 동박적층판(Copper Clad Laminate, CCL)이다. 가열경화시킬 때의 조건은 복합재를 제조할 때의 조건과 동일한 조건이 바람직하다. 또한, 내층 코어재를 사용하여 다층 인쇄회로기판용 적층판으로 할 수도 있다.Copper, aluminum, iron, stainless steel, etc. can be used as metal foil or a metal plate. For example, a laminate using copper as a metal foil is a copper clad laminate (CCL). The conditions for heat curing are preferably the same as those for manufacturing the composite material. Moreover, it can also be set as the laminated board for multilayer printed circuit boards using an inner-layer core material.

본 발명은 상술한 수지 조성물을 함유하는 접착제, 봉지제 및 도료로서 실시할 수도 있다.The present invention can also be practiced as an adhesive, encapsulant and paint containing the above-mentioned resin composition.

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 설명하는데, 이들 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다. 실시예 및 비교예에서 사용한 시험방법 및 원료는 이하와 같다.Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated, this invention is not limited by these Examples. The test methods and raw materials used in Examples and Comparative Examples are as follows.

1. 시험방법1. Test method

[용제용해성][Solvent Solubility]

시료(수지 조성물) 60질량부 및 메틸에틸케톤(용제) 40질량부를 실온 조건 하에서 혼합하여, 소정 시간, 초음파 진동을 가한 후의 용해상태를 이하의 기준을 이용하여 육안으로 평가하였다.60 parts by mass of the sample (resin composition) and 40 parts by mass of methyl ethyl ketone (solvent) were mixed under room temperature conditions, and the dissolved state after applying ultrasonic vibration for a predetermined time was visually evaluated using the following criteria.

○ : 1시간 이내에 투명한 액체가 된다(실온)○: becomes a transparent liquid within 1 hour (room temperature)

△ : 5시간 이내에 투명한 액체가 된다(실온)△: becomes a transparent liquid within 5 hours (room temperature)

× : 5시간 경과 후에도 혼탁상태의 액체 또는 반액체 상태(실온)×: turbid liquid or semi-liquid state even after 5 hours (room temperature)

[유리 전이점(Tg)][Glass Transition Point (Tg)]

[열팽창계수: CTE(ppm/℃)〕[Coefficient of Thermal Expansion: CTE (ppm/℃)]

수지 조성물을 경화시킨 경화물을 소정의 크기로 컷팅하여(잘라내어), 유리 전이점 측정의 샘플로 하였다. 이하의 조건으로, TMA(Thermomechanical Analysis, 열기계분석)법을 사용하여, 샘플의 유리 전이점(온도, ℃) 및 열팽창계수(CTE)를 측정하였다.The cured product obtained by curing the resin composition was cut (cut out) to a predetermined size, and used as a sample for measuring the glass transition point. Under the following conditions, the glass transition point (temperature, °C) and coefficient of thermal expansion (CTE) of the sample were measured using a TMA (Thermomechanical Analysis) method.

측정기기 : 리가크사제 Thermo plus TMA8310Measuring device: Thermo plus TMA8310 manufactured by Rigaku

샘플 크기 : 폭(세로) 5mm × 길이(가로) 5mm × 높이 4mmSample size: width (length) 5mm × length (width) 5mm × height 4mm

분위기 : N 2 Atmosphere: N 2

측정온도 : 30 내지 350℃ Measuring temperature: 30 to 350℃

승온속도 : 10℃/min. Temperature increase rate: 10℃/min.

측정 모드 : 압축Measuring Mode: Compression

[열중량 변화][Thermogravimetric change]

JIS K7120에 준하여, 경화물을 30℃에서 매분 10℃의 속도로 승온하여,질량이 1% 감소가 되는 온도(Td(1%)) 및 5% 감소가 되는 온도(Td(5%))를 측정하였다.In accordance with JIS K7120, the temperature at which the cured product is heated at a rate of 10°C per minute from 30°C, the temperature at which the mass decreases by 1% (Td(1%)) and the temperature at which the mass decreases by 5% (Td(5%)) measured.

[비유전율(Dk), 유전정접(Df)][Specific permittivity (Dk), dielectric loss tangent (Df)]

공동공진기법에 의해, 1GHz 조건에서 측정하였다.It was measured at 1 GHz condition by the cavity resonance technique.

2. 원료2. Raw material

(A) 폴리말레이미드 화합물(A) polymaleimide compound

· BMI-2300(제품명, 야마토화성공업(주)제, 폴리페닐메탄폴리말레이미드)· BMI-2300 (product name, Yamato Chemical Industry Co., Ltd., polyphenylmethane polymaleimide)

· BMI-4000(제품명, 야마토화성공업(주)제, 비스페놀 A 디페닐에테르비스말레이미드)· BMI-4000 (product name, manufactured by Yamato Chemical Industry Co., Ltd., bisphenol A diphenyl ether bismaleimide)

(B) 벤조옥사진 화합물(B) benzoxazine compounds

· BZO : (P-d형) 벤조옥사진(시코쿠화성(주)제)· BZO: (P-d type) benzoxazine (manufactured by Shikoku Chemical Co., Ltd.)

(C) 에폭시 수지(C) Epoxy resin

· VG3101L(제품명, (주)프린테크제, 고내열 3관능 에폭시 수지)· VG3101L (product name, made by PRINTEC Co., Ltd., high heat-resistant trifunctional epoxy resin)

· ESN-475V(제품명, 신닛테츠스미킹화학(주)제, 하기의 식 (6)으로 표시되는 α-나프톨아랄킬형 에폭시 수지)ESN-475V (product name, manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., α-naphthol aralkyl type epoxy resin represented by the following formula (6))

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(D) 쿠마론 수지(D) coumarone resin

· G-90(제품명, 닛토화학(주)제, 상온에서 고체, 연화점 90℃, 중량평균분자량 770)G-90 (product name, manufactured by Nitto Chemical Co., Ltd., solid at room temperature, softening point 90℃, weight average molecular weight 770)

· H-100(제품명, 닛토화학(주)제, 상온에서 고체, 연화점 100℃, 중량평균분자량 710)· H-100 (product name, manufactured by Nitto Chemical Co., Ltd., solid at room temperature, softening point 100°C, weight average molecular weight 710)

· L-5(제품명, 닛토화학(주)제, 상온에서 액체, 중량평균분자량 160)· L-5 (product name, manufactured by Nitto Chemical Co., Ltd., liquid at room temperature, weight average molecular weight 160)

(E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르(E) bisphenol A cyanate ester

· 모노머 : 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르의 모노머(제품명 : 트리아진, 미쓰비시가스화학(주)제, CAS No.1156-51-0, 2,2-비스(4-시아나토페닐)프로판)· Monomer: bisphenol A-type cyanate ester monomer (product name: triazine, manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals Co., Ltd., CAS No.1156-51-0, 2,2-bis(4-cyanatophenyl)propane)

· 폴리머 : 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르의 (호모)폴리머(제품명 : TA1500, 미쓰비시가스화학(주)제, CAS No.1156-51-0, 25722-6Polymer: (homo)polymer of bisphenol A cyanate ester (product name: TA1500, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., CAS No.1156-51-0, 25722-6

6-1, 2,2-비스(4-시아나토페닐)프로판의 단독 중합체)6-1, 2,2-bis(4-cyanatophenyl)propane homopolymer)

(다른 성분) (other ingredients)

· SA120 : (제품명, SABIC 이노베이티브플라스틱사제, 폴리페닐렌에테르)SA120: (product name, manufactured by SABIC Innovative Plastics, polyphenylene ether)

(실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 4) (Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 4)

2축 혼합(혼련)기를 이용하여, 표 1에 나타내는 비율(질량부)의 수지 혼합물을 용융 혼합(용융 혼련)하여 수지 조성물을 조제하였다. 용융 혼합 공정의 조건은 배럴 온도 270℃, 수지 조성물 온도 185 내지 195℃(2축 혼혼합기의 수지 조성물의 출구에서의 온도)로 하였다. 본 실시예에서 사용한 2축 혼합기에서는, 상기 조건에 따라, 수지 혼합물 중에 함유되는 (A) 비스말레이미드 100질량부 중의 30 내지 60질량부를 중합시키지 않고 수지 조성물 중에 잔존시키고, 메틸에틸케톤에 대한 용해성이 높은 수지 조성물을 조제할 수 있었다.Using a twin-screw mixer (kneading), the resin mixture of the ratio (parts by mass) shown in Table 1 was melt-mixed (melt-kneaded) to prepare a resin composition. The conditions of the melt mixing step were a barrel temperature of 270°C and a resin composition temperature of 185 to 195°C (temperature at the outlet of the resin composition of the twin screw mixer). In the twin screw mixer used in this example, 30 to 60 parts by mass per 100 parts by mass of (A) bismaleimide contained in the resin mixture were left in the resin composition without polymerization under the above conditions, and the solubility in methyl ethyl ketone This high resin composition was able to be prepared.

상기와 같이 하여 조제한 수지 혼 조성물 45질량부와 용매 55질량부를 상온 조건 하에서 혼합하여, 수지 조성물의 바니시를 조제하였다.45 parts by mass of the resin blend composition prepared as described above and 55 parts by mass of the solvent were mixed under normal temperature conditions to prepare a varnish of the resin composition.

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 2는 바니시 중의 수지 조성물(수지성분) 100질량부에 대하여 50질량부의 비율로 폴리페닐렌에테르(SA120)를 첨가한 것을, 유리섬유 2116에 1층으로 함침시켜(1Ply) 프리프레그를 조제하였다. 비교예 3 내지 4은 바니시에 폴리페닐렌에테르를 첨가하지 않고, 그대로 유리섬유 2116에 1층으로 함침시켜 프리프레그를 조제하였다. 각 실시예 및 비교예의 프리프레그를, 프레스 조건; 180℃ × 30kg/cm2 × 1시간, 본 경화조건; 230℃ × 2시간의 조건으로 경화시킨 각 경화물에 대하여, 유리 전이점(Tg), 비유전율(Dk) 및 유전정접(Df)을 측정한 결과를 표 1에 나타낸다.In Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 2, polyphenylene ether (SA120) was added in a ratio of 50 parts by mass to 100 parts by mass of the resin composition (resin component) in the varnish, and glass fiber 2116 was impregnated in one layer. A prepreg was prepared by doing (1 Ply). In Comparative Examples 3 to 4, a prepreg was prepared by impregnating glass fiber 2116 as it is in one layer without adding polyphenylene ether to the varnish. The prepreg of each Example and the comparative example was pressed condition; 180℃ × 30kg/cm 2 × 1 hour, main curing conditions; Table 1 shows the results of measuring the glass transition point (Tg), dielectric constant (Dk), and dielectric loss tangent (Df) for each cured product cured under the conditions of 230°C × 2 hours.

Figure pct00007
Figure pct00007

표 1의 결과로부터, 다음과 같은 사항을 말할 수 있다.From the results in Table 1, the following can be said.

쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 용융하여 조제한 수지 조성물을 사용한 프리프레그에 의해, 높은 내열성(Tg)과 낮은 비유전율(Dk) 및 낮은 유전정접(Df)을 구비한 경화물이 얻어졌다.A cured product having high heat resistance (Tg), low dielectric constant (Dk) and low dielectric loss tangent (Df) was obtained by a prepreg using a resin composition prepared by melting a resin mixture containing a coumarone resin.

쿠마론 수지는 상온에서 액체인 것보다 상온에서 비즈 형태(고체)인 것이, 또한 중량평균분자량 800 이하인 것이, 낮은 비유전율(Dk) 및 낮은 유전정접(Df)을 구비한 경화물을 얻기 위해 유효하였다.Coumarone resin is effective in obtaining a cured product having a low dielectric constant (Dk) and a low dielectric loss tangent (Df) that is in the form of beads (solid) at room temperature rather than liquid at room temperature, and has a weight average molecular weight of 800 or less. did.

경화물의 비유전율(Dk) 및 유전정접(Df)을 더 낮추기 위해서는 쿠마론 수지와 (E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르를 병용하는 것이 유효하였다.In order to further lower the dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) of the cured product, it was effective to use coumarone resin and (E) bisphenol A cyanate ester together.

(E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르는, 폴리머보다 모노머쪽이 경화물의 유전정접을 낮추기 위해 유효하였다.(E) In the case of bisphenol A cyanate ester, the monomer was more effective than the polymer in order to lower the dielectric loss tangent of the cured product.

표 2, 표 3에 나타내는 비율(질량부)의 수지 혼합물을 2축 혼련기를 이용하여 용융 혼합하여 수지 조성물을 조제하였다. 수지 조성물을 230℃ 조건에서 4시간 경화시켜 제작한 경화물을 평가한 결과를 표 2, 표 3에 나타낸다. 수지 조성물의 조제 조건은 표 1과 동일하게 하였다.The resin mixture of the ratio (mass part) shown in Table 2, Table 3 was melt-mixed using the twin screw kneader, and the resin composition was prepared. Tables 2 and 3 show the results of evaluating the cured product prepared by curing the resin composition at 230°C for 4 hours. The conditions for preparing the resin composition were the same as in Table 1.

Figure pct00008
Figure pct00008

표 2에 나타낸 바와 같이, (D) 쿠마론 수지를 배합함으로써, 경화물의 높은 내열성을 유지한 채, 비유전율 및 유전정접을 낮게 할 수 있었다.As shown in Table 2, by blending the (D) coumarone resin, the dielectric constant and dielectric loss tangent could be made low while maintaining high heat resistance of the cured product.

Figure pct00009
Figure pct00009

표 3의 결과로부터, 다음의 것을 말할 수 있다.From the results of Table 3, the following can be said.

식 (1)로 표시되는 화합물의 n1의 평균값이 0.01 이상 5 이하이며, X1이 -CH2-로 표시되는 기이며, a가 0이고, b가 0인 폴리말레이미드 화합물 BMI-2300을 사용함으로써, 메틸에틸케톤에 대한 용해성이 양호한 수지 조성물이 되었다. The average value of n 1 of the compound represented by Formula (1) is 0.01 or more and 5 or less, X 1 is a group represented by -CH 2 -, a is 0, and b is 0 polymaleimide compound BMI-2300 By using it, it became the resin composition with favorable solubility with respect to methyl ethyl ketone.

연화점 85 내지 105℃, 중량평균분자량 700 내지 800의 쿠마론 수지를 사용함으로써, 수지 조성물의 수지 성분 100질량부 중에 1 내지 3질량부 정도가 적은 배합량으로, 높은 내열성(Tg)과 낮은 유전율(Dk) 및 낮은 유전정접(Df)을 구비한 경화물이 얻어졌다.By using a coumarone resin having a softening point of 85 to 105° C. and a weight average molecular weight of 700 to 800, about 1 to 3 parts by mass per 100 parts by mass of the resin component of the resin composition is a small compounding amount, and high heat resistance (Tg) and low dielectric constant (Dk) ) and a cured product having a low dielectric loss tangent (Df) was obtained.

본 발명은 고내열성, 높은 내열성 및 저유전특성(낮은 비유전율, 낮은 유전정접)을 갖춘 경화물이 되는 수지 조성물이며, 해당 수지 조성물은 내열성 및 저유전특성이 우수한 접착제, 봉지제, 도료, 성형품, 적층체 및 인쇄회로기판의 원료로서 이용될 수 있다.The present invention is a resin composition that becomes a cured product having high heat resistance, high heat resistance and low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), and the resin composition is an adhesive, encapsulant, paint, and molded article having excellent heat resistance and low dielectric properties , can be used as a raw material for laminates and printed circuit boards.

Claims (14)

(A) 폴리말레이미드 화합물, (B) 벤조옥사진, (C) 에폭시 수지, 및 (D) 쿠마론 수지를 함유하는 수지 혼합물을 용융하여 얻어진 수지 조성물로서,
상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물의 함량이 40 내지 70질량부인, 수지 조성물.
A resin composition obtained by melting a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound, (B) benzoxazine, (C) an epoxy resin, and (D) a coumarone resin,
The content of the polymaleimide compound (A) in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 40 to 70 parts by mass, the resin composition.
제1항에 있어서,
상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (D) 쿠마론 수지의 함량이 1 내지 5질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
The content of the (D) coumarone resin in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 1 to 5 parts by mass, the resin composition.
제2항에 있어서,
상기 (D) 쿠마론 수지는 연화점이 100℃ 이하이고, 중량평균분자량이 850 이하인, 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
The (D) coumarone resin has a softening point of 100° C. or less, and a weight average molecular weight of 850 or less, a resin composition.
제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 수지 혼합물은 추가로 (E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르를 함유하고 있으며,
상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 (E) 비스페놀 A형 시아네이트 에스테르의 함량이 3 내지 7질량부인, 수지 조성물.
4. The method of claim 2 or 3,
The resin mixture further contains (E) bisphenol A cyanate ester,
The content of the (E) bisphenol A cyanate ester in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 3 to 7 parts by mass, the resin composition.
제1항에 있어서,
상기 (A) 폴리말레이미드 화합물이 식 (1)로 표시되는, 수지 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00010

(상기 식 (1)에 있어서, n1은 0 이상 10 이하의 정수이고, X1은 각각 독립적으로 탄소수 1 이상 10 이하의 알킬렌기, 하기 식 (2)로 표시되는 기, '- SO2'로 표시되는 기, '-CO-'로 표시되는 기, 산소 원자 또는 단일 결합이며, R1은 각각 독립적으로 탄소수 1 이상 6 이하의 탄화수소기이고, a는 각각 독립적으로 0 이상 4 이하의 정수이며, b는 각각 독립적으로 0 이상 3 이하의 정수이고, 반복 단위의 수(n1)의 평균값이 0.01 이상 5 이하이다.)
[화학식 2]
Figure pct00011

(상기 식 (2)에 있어서, Y는 방향족 고리를 갖는 탄소수 6 이상 30 이하의 탄화수소기이며, n2는 1 내지 3의 정수이다.)
According to claim 1,
The resin composition in which the said (A) polymaleimide compound is represented by Formula (1).
[Formula 1]
Figure pct00010

(In the formula (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, and X 1 is each independently an alkylene group having 1 or more and 10 or less, a group represented by the following formula (2), '-SO 2 ' a group represented by , a group represented by '-CO-', an oxygen atom or a single bond, R 1 is each independently a hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a is each independently an integer of 0 or more and 4 or less, , b are each independently an integer of 0 or more and 3 or less, and the average value of the number of repeating units (n 1 ) is 0.01 or more and 5 or less.)
[Formula 2]
Figure pct00011

(In the formula (2), Y is a hydrocarbon group having 6 or more and 30 or less carbon atoms having an aromatic ring, and n 2 is an integer of 1 to 3.)
제1항에 있어서,
상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부에서 상기 (B) 벤조옥사진 함량이 10 내지 30질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
The (B) benzoxazine content in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 10 to 30 parts by mass, the resin composition.
제1항에 있어서,
상기 (C) 에폭시 수지가 α-나프톨형 에폭시 수지를 함유하고 있으며,
상기 수지 혼합물의 수지 성분 100질량부 중에서 상기 α-나프톨형 에폭시 수지의 함량이 10 내지 30질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
The (C) epoxy resin contains α-naphthol type epoxy resin,
The content of the α-naphthol type epoxy resin in 100 parts by mass of the resin component of the resin mixture is 10 to 30 parts by mass, the resin composition.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 혼합물 중에 함유되는 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물 100질량부 중, 용융 혼합 공정 후의 수지 조성물 중에 나머지 말레이미드 화합물로서 잔존하는 상기 (A) 폴리말레이미드 화합물이 30 내지 60질량부가 되도록, 각 성분을 용해하여 얻어진 수지 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Among 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound contained in the resin mixture, 30 to 60 parts by mass of the (A) polymaleimide compound remaining as the remaining maleimide compound in the resin composition after the melt mixing step, each A resin composition obtained by dissolving a component.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
인쇄회로기판용인 수지 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
A resin composition for a printed circuit board.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을, 비점이 120℃ 이하이고 또한 유전율이 10 내지 30인 용제에 용해시킨 바니시.A varnish obtained by dissolving the resin composition according to any one of claims 1 to 8 in a solvent having a boiling point of 120°C or less and a dielectric constant of 10 to 30. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 적층판.A laminate manufactured by using the resin composition according to any one of claims 1 to 8. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 인쇄회로기판.A printed circuit board manufactured using the resin composition of any one of claims 1 to 8. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 상기 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 성형품.A molded article formed by curing the resin composition according to any one of claims 1 to 8. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 상기 수지 혼합물을 용융 혼합하는 용융 혼합 공정을 구비하는 수지 조성물의 제조방법.The manufacturing method of the resin composition provided with the melt-mixing process of melt-mixing the said resin mixture in any one of Claims 1-8.
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