JP7061944B2 - Varnish and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、電子・電気部品において、高耐熱性が要求される積層板、プリント配線基板、接着剤、封止剤、塗料および成形品等として用いられる、メチルエチルケトン等の低沸点溶剤への溶解性が良い樹脂組成物およびその製造方法に関する。 The present invention is soluble in low boiling point solvents such as methyl ethyl ketone used as laminates, printed wiring boards, adhesives, encapsulants, paints, molded products, etc. that require high heat resistance in electronic and electrical parts. The present invention relates to a good resin composition and a method for producing the same.

従来、電子材料分野における耐熱樹脂として、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂が用いられている。これら熱硬化性樹脂は、その用途ならび特性によって使い分けられている。この中でも特にポリイミド樹脂は、耐熱性及び耐湿熱性(吸湿後の耐熱性)に優れていることから、高い耐熱性を要する用途に広く使用されている。また、エポキシ樹脂や芳香族ジアミン等の他の樹脂とポリイミド樹脂との組み合わせによって性能が改良された変性ポリイミド樹脂も使用されている。 Conventionally, thermosetting resins such as epoxy resin, polyimide resin, unsaturated polyester resin, and phenol resin have been used as heat-resistant resins in the field of electronic materials. These thermosetting resins are used properly according to their uses and characteristics. Among these, polyimide resin is widely used in applications requiring high heat resistance because it is excellent in heat resistance and moisture heat resistance (heat resistance after moisture absorption). Further, a modified polyimide resin whose performance has been improved by combining a polyimide resin with another resin such as an epoxy resin or an aromatic diamine is also used.

近年、半導体基板分野では、基板上へ半導体チップを直接実装する実装方法が普及してきている。このため、半導体に使用される材料には、実装工程における高温処理等に耐えられる高い耐熱性が要求される。エポキシ樹脂は半導体材料として汎用的に使用されており、耐熱性向上の要求に対応するための検討がなされ、耐熱性に優れた樹脂が提案されている。 In recent years, in the field of semiconductor substrates, a mounting method in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate has become widespread. Therefore, the materials used for semiconductors are required to have high heat resistance that can withstand high temperature treatment in the mounting process. Epoxy resins are widely used as semiconductor materials, and studies have been made to meet the demand for improved heat resistance, and resins with excellent heat resistance have been proposed.

例えば、高耐熱性が要求される半導体基板用として、マレイミドと特定のフェノール樹脂、特定のエポキシ樹脂、特定の化合物とを反応させた変性ポリイミド樹脂組成物が提案されている(特許文献1および2)。しかし、これら変性ポリイミド樹脂組成物は、汎用的な低沸点溶剤(低沸点有機溶剤)への溶解性が悪く、また、溶剤に溶解したワニスの安定性が悪く、保存中に樹脂成分が析出する問題がある。
低沸点溶剤であるメチルエチルケトンに可溶な樹脂組成物として、ポリマレイミド化合物、フェノール樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂および他のエポキシ樹脂を溶融させた変性ポリイミド樹脂組成物が提案されている(特許文献3)。
For example, modified polyimide resin compositions obtained by reacting maleimide with a specific phenol resin, a specific epoxy resin, and a specific compound have been proposed for semiconductor substrates that require high heat resistance (Patent Documents 1 and 2). ). However, these modified polyimide resin compositions have poor solubility in a general-purpose low boiling point solvent (low boiling point organic solvent), and the stability of the varnish dissolved in the solvent is poor, so that the resin component precipitates during storage. There's a problem.
As a resin composition soluble in methyl ethyl ketone, which is a low boiling point solvent, a modified polyimide resin composition obtained by melting a polymaleimide compound, a phenol resin, a bisphenol A type epoxy resin and another epoxy resin has been proposed (Patent Document 3). ).

特開2004-315705号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-315705 特開2003- 73459号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-73459 特開2017-101152号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-101152

特許文献3に記載の変性ポリイミド樹脂組成物は、メチルエチルケトンへの溶解性が溶融温度に大きく影響される。このため、メチルエチルケトンへの溶解性が良好な変性ポリイミド樹脂組成物を得るためには、溶融時の温度制御を厳密に制御する必要があり、生産性が悪いという問題があった。更に、メチルエチルケトンへの溶解性を向上させる為に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を必須成分として用いることから、樹脂組成物の硬化物の耐熱性が低下する問題も含まれていた。
そこで、本発明は、樹脂組成物の低沸点溶剤への溶解性に対する溶融温度の影響が小さく、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を含有することなく、広い溶融温度の範囲において溶解性が良好な、生産性に優れる高耐熱性の樹脂組成物の提供を目的としている。
In the modified polyimide resin composition described in Patent Document 3, the solubility in methyl ethyl ketone is greatly affected by the melting temperature. Therefore, in order to obtain a modified polyimide resin composition having good solubility in methyl ethyl ketone, it is necessary to strictly control the temperature control at the time of melting, which causes a problem of poor productivity. Further, since the bisphenol A type epoxy resin is used as an essential component in order to improve the solubility in methyl ethyl ketone, there is also a problem that the heat resistance of the cured product of the resin composition is lowered.
Therefore, in the present invention, the influence of the melting temperature on the solubility of the resin composition in a low boiling point solvent is small, the solubility is good in a wide melting temperature range without containing the bisphenol A type epoxy resin, and the productivity is good. It is an object of the present invention to provide a highly heat-resistant resin composition having excellent properties.

[1]式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物と、

Figure 0007061944000001
(前記式(1)において、n1は0以上10以下の整数であり、X1はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキレン基、下記式(2)で表される基、「-SO2-」で表される基、「-CO-」で表される基、酸素原子または単結合であり、R1はそれぞれ独立に炭素数1以上6以下の炭化水素基であり、aはそれぞれ独立に0以上4以下の整数であり、bはそれぞれ独立に0以上3以下の整数である。)
Figure 0007061944000002
(前記式(2)において、Yは芳香環を有する炭素数6以上30以下の炭化水素基であり、n2は1~3の整数である。)
(B)フェノール樹脂とを含む樹脂混合物を溶融して得られた樹脂組成物を、沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたワニスであって、前記樹脂混合物に含まれる前記式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物の繰り返し単位の数n1の平均値が0.01以上5以下であるワニス。 [1] The (A) polymaleimide compound represented by the formula (1) and
Figure 0007061944000001
(In the above formula (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, and X 1 is an alkylene group having 1 or more and 10 or less carbon atoms independently, a group represented by the following formula (2), "-SO". A group represented by " 2- ", a group represented by "-CO-", an oxygen atom or a single bond, R 1 is an independently hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and a is each. Independently, it is an integer of 0 or more and 4 or less, and b is an integer of 0 or more and 3 or less independently.)
Figure 0007061944000002
(In the above formula (2), Y is a hydrocarbon group having an aromatic ring and having 6 or more carbon atoms and 30 or less carbon atoms, and n 2 is an integer of 1 to 3).
(B) A varnish in which a resin composition obtained by melting a resin mixture containing a phenol resin is dissolved in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower and a dielectric constant of 10 to 30 and contained in the resin mixture. A varnish in which the average value of the number n 1 of the repeating units of the (A) polymaleimide compound represented by the above formula (1) is 0.01 or more and 5 or less.

[2]前記(B)フェノール樹脂が、分子中に少なくとも二つ以上のOH基および少なくとも一つのナフタレン骨格を有する化合物を含有する[1]に記載のワニス
[3]前記樹脂混合物が、さらに(C)エポキシ樹脂を含んでいる[1]に記載のワニス
[4]前記(C)エポキシ樹脂が、分子中に二つ以上のグリシジル基を有する[3]に記載のワニス
[5]前記樹脂混合物100質量部中における、式(3)により表されるビスフェノールA型エポキシ樹脂の含有量が0~10質量部である[4]に記載のワニス

Figure 0007061944000003
(前記式(3)中、mは0~10の整数を表す。) [2] The varnish according to [1], wherein the (B) phenolic resin contains a compound having at least two or more OH groups and at least one naphthalene skeleton in the molecule.
[3] The varnish according to [1 ], wherein the resin mixture further contains (C) an epoxy resin.
[4] The varnish according to [3], wherein the (C) epoxy resin has two or more glycidyl groups in the molecule.
[5] The varnish according to [4], wherein the content of the bisphenol A type epoxy resin represented by the formula (3) in 100 parts by mass of the resin mixture is 0 to 10 parts by mass.
Figure 0007061944000003
(In the above equation (3), m represents an integer of 0 to 10.)

[6]式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物と、

Figure 0007061944000004
(前記式(1)において、n1は0以上10以下の整数であり、X1が「-CH2-」で表される基であり、 1 はそれぞれ独立に炭素数1以上6以下の炭化水素基であり、a=0、b=0である。)
(B)フェノール樹脂と、(C)分子中に二つ以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂と、からなり、前記樹脂混合物に含まれる前記式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物の繰り返し単位の数n1の平均値が0.01以上5以下である樹脂混合物を溶融して得られた樹脂組成物を、沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたワニスであって、前記樹脂混合物中における前記(B)フェノール樹脂の含有量が、前記(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、5~100質量部であり、前記樹脂混合物中における前記(C)エポキシ樹脂の含有量が、前記(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、10~300質量部であるワニス。 [6] The (A) polymaleimide compound represented by the formula (1) and
Figure 0007061944000004
(In the above equation (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, X 1 is a group represented by "-CH 2- ", and R 1 independently has 1 or more and 6 or less carbon atoms. It is a hydrocarbon group, and a = 0 and b = 0.)
The polymaleimide compound (A) represented by the formula (1) contained in the resin mixture, which comprises (B) a phenol resin and (C) an epoxy resin having two or more glycidyl groups in the molecule. A resin composition obtained by melting a resin mixture having an average value of 0.01 or more and 5 or less of the number n 1 of repeating units was dissolved in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or less and a dielectric constant of 10 to 30. In the varnish, the content of the (B) phenol resin in the resin mixture is 5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound, and the above () in the resin mixture. C) A varnish having an epoxy resin content of 10 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound.

[7]プリント配線基板用である[1]に記載のワニス[7] The varnish according to [1 ] for a printed wiring board.

[1]に記載のワニスを含有する接着剤、封止剤および塗料。
[1]に記載のワニスを用いて製造された積層板およびプリント配線基板。
[1]に記載のワニスを硬化させてなる成形品。
The adhesive, sealant and paint containing the varnish according to [1 ] .
A laminated board and a printed wiring board manufactured by using the varnish according to [1 ] .
A molded product obtained by curing the varnish according to [1 ] .

[1]に記載の樹脂混合物を溶融混合し、溶融して得られた樹脂組成物を沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたワニスの製造方法 A method for producing a varnish in which the resin mixture according to [1 ] is melt-mixed and the resin composition obtained by melting is dissolved in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower and a dielectric constant of 10 to 30 .

式(1)により表される繰り返し単位の数n1の平均値が0.01以上5以下である(A)ポリマレイミド化合物と、(B)フェノール樹脂とを含む樹脂混合物を用いることにより、溶融温度によらず低沸点溶剤への溶解性の良い樹脂組成物となる。したがって、溶融混合において許容される溶融温度の範囲が広く生産性の良好な、低沸点溶剤への溶解性が良い樹脂組成物を提供することができる。 Melting by using a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound and (B) a phenol resin having an average value of 0.01 or more and 5 or less of the number n 1 of the repeating units represented by the formula (1). It is a resin composition having good solubility in a low boiling point solvent regardless of the temperature. Therefore, it is possible to provide a resin composition having a wide range of melting temperatures allowed in melt mixing, good productivity, and good solubility in a low boiling point solvent.

(樹脂組成物)
本発明の樹脂組成物は、式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物と(B)フェノール樹脂とを含む樹脂混合物を溶融して得られた樹脂組成物であって、前記樹脂混合物に含まれる前記式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物の繰り返し単位の数nの平均値が0.01以上5以下である。

Figure 0007061944000005

(前記式(1)において、nは0以上10以下の整数であり、Xはそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキレン基、下記式(2)で表される基、「-SO-」で表される基、「-CO-」で表される基、酸素原子または単結合であり、Rはそれぞれ独立に炭素数1以上6以下の炭化水素基であり、aはそれぞれ独立に0以上4以下の整数であり、bはそれぞれ独立に0以上3以下の整数である。)
Figure 0007061944000006

(前記式(2)において、Yは芳香環を有する炭素数6以上30以下の炭化水素基であり、nは1~3の整数である。)
本発明において、(A)ポリマレイミド化合物と(B)フェノール樹脂とを溶融混合する以前のものを「樹脂混合物」といい、溶融混合した後のものを「樹脂組成物」という。 (Resin composition)
The resin composition of the present invention is a resin composition obtained by melting a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound represented by the formula (1) and (B) a phenol resin, and is the resin mixture. The average value of the number n 1 of the repeating units of the (A) polymaleimide compound represented by the above formula (1) contained in the above is 0.01 or more and 5 or less.
Figure 0007061944000005

(In the above formula (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, and X 1 is an alkylene group having 1 or more and 10 or less carbon atoms independently, a group represented by the following formula (2), "-SO". A group represented by " 2- ", a group represented by "-CO-", an oxygen atom or a single bond, R 1 is an independently hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms and 6 or less carbon atoms, and a is each. Independently, it is an integer of 0 or more and 4 or less, and b is an integer of 0 or more and 3 or less independently.)
Figure 0007061944000006

(In the above formula (2), Y is a hydrocarbon group having an aromatic ring and having 6 or more carbon atoms and 30 or less carbon atoms, and n 2 is an integer of 1 to 3).
In the present invention, the compound before the melt-mixing of the (A) polymaleimide compound and the (B) phenol resin is referred to as a "resin mixture", and the one after the melt-mixing is referred to as a "resin composition".

(A)ポリマレイミド化合物
樹脂混合物は、式(1)においてカッコで囲まれた繰り返し単位(構造部位)を有するポリマレイミド化合物を、繰り返し単位の数nの平均値が0.01以上5以下となる割合で含有している。すなわち、樹脂混合物に含有される式(1)で表されるポリマレイミド化合物は、nの平均値が0.01以上5以下のポリマレイミド化合物である。このため、樹脂混合物を溶融する溶融温度によらず、低沸点溶剤への溶解性が良好な樹脂組成物となる。本発明において、「nの平均値が0.01以上5以下のポリマレイミド化合物」とは、一種または二種以上からなるポリマレイミド化合物を意味する。
(A) Polymaleimide compound The resin mixture is a polymaleimide compound having a repeating unit (structural site) enclosed in parentheses in the formula (1), and the average value of the number n 1 of the repeating units is 0.01 or more and 5 or less. It is contained in a certain proportion. That is, the polymaleimide compound represented by the formula (1) contained in the resin mixture is a polymaleimide compound having an average value of n 1 of 0.01 or more and 5 or less. Therefore, the resin composition has good solubility in a low boiling point solvent regardless of the melting temperature at which the resin mixture is melted. In the present invention, "a polymaleimide compound having an average value of n 1 of 0.01 or more and 5 or less" means a polymaleimide compound composed of one or more kinds.

樹脂混合物100質量部中における式(1)で表されるポリマレイミド化合物の含有量は、20~80質量部が好ましく、25~75質量部がより好ましい。なお、本発明において、数値範囲「A~B」は「A以上B以下」を意義する。 The content of the polymaleimide compound represented by the formula (1) in 100 parts by mass of the resin mixture is preferably 20 to 80 parts by mass, more preferably 25 to 75 parts by mass. In the present invention, the numerical range "A to B" means "A or more and B or less".

式(1)で表されるポリマレイミド化合物は、繰り返し単位の数nの平均値が0.01以上5以下の範囲内となるよう、一種の化合物または二種以上の化合物の混合物として用いられる。 The polymaleimide compound represented by the formula (1) is used as one kind of compound or a mixture of two or more kinds of compounds so that the average value of the number n 1 of the repeating units is in the range of 0.01 or more and 5 or less. ..

式(1)で示されるポリマレイミド化合物は、Xが-CH-であり、aが0であり、bが0であるポリマレイミド化合物が好ましい。このような市販のポリマレイミド化合物としては、たとえば、BMI-2000、BMI-2300(製品名、大和化成工業(株)製、フェニレンマレイミド)が挙げられる。 The polymaleimide compound represented by the formula (1) is preferably a polymaleimide compound in which X 1 is −CH 2- , a is 0, and b is 0. Examples of such commercially available polymaleimide compounds include BMI-2000 and BMI-2300 (product name, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., phenylenemaleimide).

(B)フェノール樹脂
本発明で用いられるフェノール樹脂(B)としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、ビフェニルアラルキル型ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂等の多価フェノール化合物が挙げられる。特に、分子中に少なくとも二つ以上のOH基および少なくとも一つのナフタレン骨格を有する化合物が好ましく、その例として、下記一般式(4)で表されるフェノール化合物からなるものを挙げることができる。
(B) Phenol resin The phenol resin (B) used in the present invention includes phenol novolac resin, cresol novolak resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, and naphthol-cresol. Shrinked novolak resin, dicyclopentadienephenol addition type resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, biphenyl modified phenol resin, biphenyl aralkyl type phenol resin, biphenyl modified naphthol resin, biphenyl aralkyl type naphthol resin, aminotriazine modified phenol resin, etc. Polyhydric phenol compound of. In particular, a compound having at least two or more OH groups and at least one naphthalene skeleton in the molecule is preferable, and examples thereof include those composed of a phenol compound represented by the following general formula (4).

Figure 0007061944000007

(式中、Ar、Arは、それぞれ下記一般式(5)で示されるフェニレン基または下記一般式(6)で示されるナフタレン基であり、Arが複数ある場合、それぞれが同一であっても異なっていてもよい。Xは直接結合、炭素数1~4のアルキレン、芳香環を含む炭素数8~15のアルキレン、O、SまたはSOのいずれかを示す。oは0以上の整数である。但しoが0の場合は、Arは少なくとも1個のヒドロキシ基(水酸基)を有するものであり、Ar、ArおよびXのいずれか一つはナフタレン基である。)
アルキレン基としてはメチレン等が挙げられ、芳香環を含む炭素数8~15のアルキレンとしてはフェニレン、ナフタレン、ビフェニレン構造を含むもの等が挙げられる。
Figure 0007061944000007

(In the formula, Ar 1 and Ar 2 are phenylene groups represented by the following general formula (5) or naphthalene groups represented by the following general formula (6), respectively, and when there are a plurality of Ar 2 , they are the same. X 2 indicates a direct bond, an alkylene having 1 to 4 carbon atoms, an alkylene having 8 to 15 carbon atoms including an aromatic ring, O, S or SO 2 , and o is 0 or more. However, when o is 0, Ar 1 has at least one hydroxy group (hydroxyl group), and any one of Ar 1 , Ar 2 and X 2 is a naphthalene group. )
Examples of the alkylene group include methylene and the like, and examples of the alkylene having 8 to 15 carbon atoms containing an aromatic ring include those containing a phenylene, naphthalene and biphenylene structures.

Figure 0007061944000008
Figure 0007061944000009

(式(5)および(6)において、Rは、それぞれ独立に炭化水素基または水酸基であり、cは、それぞれ独立に0~3の整数である。)
Figure 0007061944000008
Figure 0007061944000009

(In formulas (5) and (6), R 2 is an independently hydrocarbon group or a hydroxyl group, and c is an independently integer of 0 to 3.)

式(5)におけるアルキレン基としてはメチレン等が挙げられ、芳香環を含む炭素数8~15のアルキレンとしてはフェニレン、ナフタレン、ビフェニレン構造を含むもの等が挙げられる。 Examples of the alkylene group in the formula (5) include methylene and the like, and examples of the alkylene having 8 to 15 carbon atoms including an aromatic ring include those containing a phenylene, naphthalene and biphenylene structures.

このようなフェノール樹脂としては、1-ナフトール、2-ナフトール、1,4ジヒドロキシナフタレン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、1,3-ジヒドロキシナフタレンなどのヒドロキシナフタレン類、これらのヒドロキシナフタレン類とフェノール、クレゾール、レゾルシノール等のフェノール類との混合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、グリオキザール、アルカンジアール等のアルデヒド類との反応生成物であるノボラック樹脂、及び上記ヒドロキシナフタレン類とアラルキルアルコール誘導体またはアラルキルハライド誘導体との反応性生物であるアラルキル樹脂等が挙げられる。また上記のアラルキルアルコール誘導体としては、p-キシリレングリコール、p-キシリレングリコールジメチルエーテル類等が、アラルキルハイドライド誘導体としてはp-キシリレンジクロライド等が好ましい。 Examples of such phenolic resins include hydroxynaphthalene such as 1-naphthol, 2-naphthol, 1,4 dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, and 1,3-dihydroxynaphthalene. Novolak resin, which is a reaction product of hydroxynaphthalene and phenols such as phenol, cresol and resorcinol, and aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, glioxal and alkandial, and the above hydroxynaphthalene. Examples thereof include aralkyl resin, which is a reactive organism between the class and the aralkyl alcohol derivative or the aralkyl halide derivative. The above-mentioned aralkyl alcohol derivative is preferably p-xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether and the like, and the aralkyl hydride derivative is preferably p-xylylene chloride chloride and the like.

これら化合物の中では1-ナフトール、2-ナフトールおよびそのアラルキル樹脂が特に好ましい。これら化合物は一種または二種以上組み合わせて用いることができる。樹脂混合物中の(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対する(B)フェノール樹脂の含有量は、5~100質量部が好ましく、10~60質量部がより好ましい。 Among these compounds, 1-naphthol, 2-naphthol and an aralkyl resin thereof are particularly preferable. These compounds may be used alone or in combination of two or more. The content of the (B) phenol resin with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound in the resin mixture is preferably 5 to 100 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass.

(C)エポキシ樹脂
本発明の樹脂組成物は、樹脂混合物中にエポキシ樹脂をさらに含有していても良い。樹脂混合物100質量部中のエポキシ樹脂の含有量は、10~80質量部が好ましく、20~70質量部がより好ましい。また、樹脂混合物中におけるエポキシ樹脂の含有量は、(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、10~300質量部が好ましく、20~280質量部がより好ましく、30~250質量部がさらに好ましい。
(C) Epoxy resin The resin composition of the present invention may further contain an epoxy resin in the resin mixture. The content of the epoxy resin in 100 parts by mass of the resin mixture is preferably 10 to 80 parts by mass, more preferably 20 to 70 parts by mass. The content of the epoxy resin in the resin mixture is preferably 10 to 300 parts by mass, more preferably 20 to 280 parts by mass, and further preferably 30 to 250 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound. preferable.

エポキシ樹脂は、エポキシ基を有する化合物であればよいが、樹脂組成物の硬化物の耐熱性を良好にする観点から、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフタレン環を含むエポキシ樹脂、式(7)により表されるエポキシ基を三つ有する化合物等が好ましい。式(7)により表される市販のエポキシ樹脂としては、VG3101L(製品名、(株)プリンテック製、高耐熱3官能エポキシ樹脂)が挙げられる。

Figure 0007061944000010
The epoxy resin may be a compound having an epoxy group, but from the viewpoint of improving the heat resistance of the cured product of the resin composition, it is represented by a biphenyl aralkyl type epoxy resin, an epoxy resin containing a naphthalene ring, and the formula (7). A compound having three epoxy groups to be used is preferable. Examples of the commercially available epoxy resin represented by the formula (7) include VG3101L (product name, manufactured by Printec Co., Ltd., highly heat-resistant trifunctional epoxy resin).
Figure 0007061944000010

上記以外のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニロール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらエポキシ樹脂は、一種または二種以上組み合わせて用いることができる。 Epoxy resins other than the above include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, and bisphenol F novolak type epoxy resin. , Triphenylol type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin and the like. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

下記の式(3)で示されるビスフェノールA型エポキシ樹脂には、メチルエチルケトン等の低沸点溶剤に対する樹脂組成物の溶解性を向上させる効果がある。しかし、樹脂混合物中におけるビスフェノールA型エポキシ樹脂の含有量が多くなると、樹脂組成物の硬化物の耐熱性が低下する傾向にある。本実施形態の樹脂組成物は、式(1)における繰り返し単位の数nの平均値が0.01以上5以下である(A)ポリマレイミド化合物を用いることにより、メチルエチルケトンへの溶解性が良好になる。このため、樹脂混合物中におけるビスフェノールA型エポキシ樹脂の含有量を低くすることができる。したがって、例えば、樹脂混合物100質量部中のビスフェノールA型エポキシ樹脂の含有量が0~10質量部であっても、メチルエチルケトンへの溶解性の良好な樹脂組成物が得られる。

Figure 0007061944000011
The bisphenol A type epoxy resin represented by the following formula (3) has an effect of improving the solubility of the resin composition in a low boiling point solvent such as methyl ethyl ketone. However, when the content of the bisphenol A type epoxy resin in the resin mixture increases, the heat resistance of the cured product of the resin composition tends to decrease. The resin composition of the present embodiment has good solubility in methyl ethyl ketone by using the (A) polymaleimide compound having an average value of 0.01 or more and 5 or less of the number n 1 of the repeating units in the formula (1). become. Therefore, the content of the bisphenol A type epoxy resin in the resin mixture can be reduced. Therefore, for example, even if the content of the bisphenol A type epoxy resin in 100 parts by mass of the resin mixture is 0 to 10 parts by mass, a resin composition having good solubility in methyl ethyl ketone can be obtained.
Figure 0007061944000011

樹脂組成物の硬化物の耐熱性を良好にする観点から、樹脂混合物はビスフェノールA型エポキシ樹脂を含有しないことが好ましい。ここで、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を含有しないとは、実質的に含有しないことすなわち樹脂混合物の性質に影響を及ぼす量のビスフェノールA型エポキシ樹脂を含有しないことをいう。 From the viewpoint of improving the heat resistance of the cured product of the resin composition, it is preferable that the resin mixture does not contain the bisphenol A type epoxy resin. Here, the term "not containing bisphenol A type epoxy resin" means that it is not substantially contained, that is, it does not contain an amount of bisphenol A type epoxy resin that affects the properties of the resin mixture.

本発明の樹脂組成物は、(A)ポリマレイミド化合物と、(B)フェノール樹脂と、(C)分子中に二つ以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂と、からなる樹脂混合物を溶融して得られた樹脂組成物として実施することができる。この場合、樹脂混合物中における(B)フェノール樹脂の含有量は、(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、5~100質量部であり、10~70質量部が好ましく、25~45質量部がより好ましい。樹脂混合物中における前記エポキシ樹脂の含有量は、(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、10~300質量部であり、20~280質量部が好ましく、30~250質量部がより好ましい。 The resin composition of the present invention is obtained by melting a resin mixture composed of (A) a polymaleimide compound, (B) a phenol resin, and (C) an epoxy resin having two or more glycidyl groups in the molecule. It can be carried out as a obtained resin composition. In this case, the content of the (B) phenol resin in the resin mixture is 5 to 100 parts by mass, preferably 10 to 70 parts by mass, and 25 to 45 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound. Part is more preferable. The content of the epoxy resin in the resin mixture is 10 to 300 parts by mass, preferably 20 to 280 parts by mass, and more preferably 30 to 250 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound.

本発明に係る樹脂組成物および溶融混合前の樹脂混合物は、上記(A)(B)および(C)以外の成分を含有しても良い。 The resin composition according to the present invention and the resin mixture before melt mixing may contain components other than the above (A), (B) and (C).

本発明の樹脂組成物を用いて、硬化させて成形品とする基材を得るため、有機または無機の充填剤を用いることができる。充填剤の例として、シリカ、珪藻土、アルミナ、塩化亜鉛、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化スズ、酸化アンチモン、フェライト類などの酸化物;水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウムなどの水酸化物;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、ドーソナイト、ハイドロタルサイトなどの炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バリウム、石膏繊維などの硫酸塩;ケイ酸カルシウム(ウォラストナイト、ゾノトライト)、タルク、クレー、マイカ、モンモリロナイト、ベントナイト、活性白土、セピオライト、イモゴライト、セリサイト、ガラス繊維、ガラスビーズ、シリカ系バルンなどのケイ酸塩;窒化アルミ、窒化ホウ素、窒化珪素などの窒化物;カーボンブラック、グラファイト、炭素繊維、炭素バルン、木炭粉末などの炭素類;その他各種金属粉、チタン酸カリウム、チタン酸ジルコン酸鉛、アルミボレート、硫化モリブデン、炭化珪素、ステンレス繊維、ホウ酸亜鉛、各種磁性粉、スラグ繊維、セラミック粉などを挙げることができる。 Using the resin composition of the present invention, an organic or inorganic filler can be used in order to obtain a base material which is cured to be a molded product. Examples of fillers are oxides such as silica, diatomaceous earth, alumina, zinc chloride, titanium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, iron oxide, tin oxide, antimony oxide, ferrites; calcium hydroxide, magnesium hydroxide, hydroxide. Hydroxides such as aluminum and basic magnesium carbonate; carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, barium carbonate, dosonite and hydrotalcite; sulfates such as calcium sulfate, barium sulfate and gypsum fiber; calcium silicate (Wollastonite, zonotrite), talc, clay, mica, montmorillonite, bentonite, active white clay, sepiolite, imogolite, sericite, glass fiber, glass beads, silica balun and other silicates; aluminum nitride, boron nitride, nitride Nitrides such as silicon; carbons such as carbon black, graphite, carbon fiber, carbon balun, charcoal powder; other various metal powders, potassium titanate, lead zirconate titanate, aluminum borate, molybdenum sulfide, silicon carbide, stainless steel fiber , Zinc borate, various magnetic powders, slag fibers, ceramic powders and the like.

充填剤の形状としては球形または燐片が好ましく、これらを単独で用いても二種以上を併用してもよい。また必要に応じて分子中に二個以上の異なる反応基(一つは無機材料と化学反応する反応基で、もう一つは有機材料と化学反応する反応基)をもつシランカップリング剤を併用することもできる。 The shape of the filler is preferably spherical or phosphorus pieces, and these may be used alone or in combination of two or more. Also, if necessary, a silane coupling agent having two or more different reactive groups in the molecule (one is a reactive group that chemically reacts with an inorganic material and the other is a reactive group that chemically reacts with an organic material) is used in combination. You can also do it.

有機または無機の充填剤を用いる場合、その含有量は、樹脂組成物100質量部に対して5.0~250質量部が好ましい。 When an organic or inorganic filler is used, the content thereof is preferably 5.0 to 250 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

(D)硬化促進剤
本発明に係る樹脂組成物を用いる際に、硬化促進剤を添加使用してもよい。硬化促進剤を添加する時期としては、樹脂組成物が溶剤に溶解したワニスとして用いる際、プリプレグ化の際、または基材、積層板を製造する際などが挙げられる。
(D) Curing Accelerator When using the resin composition according to the present invention, a curing accelerator may be added and used. Examples of the timing for adding the curing accelerator include when the resin composition is used as a varnish dissolved in a solvent, when it is made into a prepreg, or when a base material or a laminated board is manufactured.

硬化促進剤としては、例えば、ジクミルペルオキシド、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタイミダゾール等のイミダゾール類;トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N-メチルモルホリン等のアミン類;トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩類;1,8-ジアザービシクロ(5,4,0)ウンデセン-7及びその誘導体;ナフテン酸鉛、ステアリン酸鉛、ナフテン酸亜鉛、オレイン酸錫、ナフテン酸マンガン、テフテン酸コバルト、オクチル酸コバルト等の有機金属塩等が挙げられる。これらの硬化促進剤は単独で用いても二種以上を併用してもよく、また必要に応じて有機過酸化物やアゾ化合物等を併用することもできる。 Examples of the curing accelerator include imidazoles such as dicumylperoxide, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-heptymidazole; triethanolamine, triethylenediamine, and the like. Amines such as N-methylmorpholin; organic phosphines such as triphenylphosphine and tritrylphosphine; tetraphenylboron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and triethylammonium tetraphenylborate; 1,8-diazabicyclo (5) , 4,0) Undecene-7 and its derivatives; examples thereof include organic metal salts such as lead naphthenate, lead stearate, zinc naphthenate, tin oleate, manganese naphthenate, cobalt tefateate, and cobalt octylate. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more, and if necessary, an organic peroxide, an azo compound or the like may be used in combination.

これら硬化促進剤の含有量は、ワニスまたはプリプレグの所望するゲル化時間が得られるように配合するのが望ましいが、一般に樹脂組成物に含有される樹脂成分の合計100質量部に対し、0.01~5.00質量部の範囲で用いられる。 The content of these curing accelerators is preferably blended so as to obtain the desired gelation time of the varnish or prepreg, but generally, it is 0. It is used in the range of 01 to 5.00 parts by mass.

(溶融混合工程)
樹脂組成物は、上述した式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物と(B)フェノール樹脂とを含有する樹脂混合物を加熱して、溶融状態で混合する溶融混合工程によって製造される。溶融混合工程には、通常の混合手段を用いることができる。混合手段としては、ニーダー、二軸混練機などが好ましい。溶融混合時の温度は樹脂混合物が溶融する温度以上400℃以下とすればよいが、130℃以上230℃以下がより好ましく、150℃以上210℃以下がさらに好ましい。なお、上述したとおり、式(1)における繰り返し単位の数nの平均値が0.01以上5以下である(A)ポリマレイミド化合物を用いているから、溶融混合工程における広い溶融温度範囲において、低沸点溶剤に対する溶解性の良好な樹脂組成物が得られる。溶融混合工程は通常0.1~10分間程度行われる。
(Melting and mixing process)
The resin composition is produced by a melt-mixing step in which a resin mixture containing (A) a polymaleimide compound and (B) a phenol resin represented by the above-mentioned formula (1) is heated and mixed in a melted state. .. Ordinary mixing means can be used in the melt mixing step. As the mixing means, a kneader, a twin-screw kneader, or the like is preferable. The temperature at the time of melting and mixing may be the temperature at which the resin mixture melts or more and 400 ° C. or lower, but more preferably 130 ° C. or higher and 230 ° C. or lower, and further preferably 150 ° C. or higher and 210 ° C. or lower. As described above, since the polymaleimide compound (A) having an average value of 0.01 or more and 5 or less of the number n 1 of the repeating units in the formula (1) is used, it can be used in a wide melting temperature range in the melting and mixing step. , A resin composition having good solubility in a low boiling point solvent can be obtained. The melting and mixing step is usually carried out for about 0.1 to 10 minutes.

溶融混合工程の後、自然冷却もしくは強制冷却によって冷却して本発明の樹脂組成物を得る。
冷却方法としては公知の方法から適宜選択して行うことができる。例えば、5~100℃の環境下で自然冷却する方法や、-20~80℃の冷媒を用いて強制冷却する方法を採用することができる。また、溶融混合後恒温装置内で30~300℃の環境下に置いてから冷却する方法を採用してもよい。
After the melt-mixing step, the resin composition of the present invention is obtained by cooling by natural cooling or forced cooling.
The cooling method can be appropriately selected from known methods. For example, a method of natural cooling in an environment of 5 to 100 ° C. or a method of forced cooling using a refrigerant of −20 to 80 ° C. can be adopted. Further, a method of cooling after melting and mixing and placing the product in an environment of 30 to 300 ° C. in a constant temperature device may be adopted.

冷却後、得られた樹脂組成物を、粉砕してドライ状態(乾燥)で保存し、固体状の樹脂組成物として後の工程に使用することができる。 After cooling, the obtained resin composition can be pulverized and stored in a dry state (dry), and used as a solid resin composition in a later step.

溶融混合工程において、樹脂混合物に含まれる(A)ポリマレイミド化合物の少なくとも一部が、(B)フェノール樹脂および/または(C)エポキシ樹脂と反応することにより変性して、低沸点溶剤に対する溶解性が良好な樹脂組成物を得ることができる。 In the melt-mixing step, at least a part of the (A) polymaleimide compound contained in the resin mixture is modified by reacting with (B) a phenol resin and / or (C) an epoxy resin, and is soluble in a low boiling solvent. Can obtain a good resin composition.

樹脂組成物には、必要に応じて難燃剤を添加することができる。難燃剤としてはブロム化エポキシ樹脂のようなブロム化合物および縮合燐酸エステルのようなリン化合物等の有機難燃剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、スズ化合物およびアンチモン化合物等の無機難燃剤などが挙げられる。これらの難燃剤は単独で用いても二種以上を併用しても良い。 A flame retardant can be added to the resin composition if necessary. Examples of the flame retardant include organic flame retardants such as brom compounds such as brominated epoxy resins and phosphorus compounds such as condensed phosphoric acid esters, and inorganic flame retardants such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, tin compounds and antimony compounds. .. These flame retardants may be used alone or in combination of two or more.

難燃剤の含有量は、樹脂組成物の耐熱性、耐湿熱性を損なわずに十分な難燃性(例えばUL94規格におけるV-0条件合格)を持つために必要な量であることが望ましい。有機難燃剤の場合、一般的には、樹脂組成物中における有機難燃剤を含めた樹脂成分の合計100質量部に対して1~20質量部の範囲で、無機難燃剤の場合、樹脂成分の合計100質量部に対して10~300質量部の範囲で用いられることが好ましい。 The content of the flame retardant is preferably an amount necessary to have sufficient flame retardancy (for example, passing the V-0 condition in the UL94 standard) without impairing the heat resistance and moisture heat resistance of the resin composition. In the case of an organic flame retardant, it is generally in the range of 1 to 20 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the resin component including the organic flame retardant in the resin composition, and in the case of an inorganic flame retardant, the resin component. It is preferably used in the range of 10 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total.

本発明に係る樹脂組成物を用いるにあたって、用途に応じて他の添加剤を加えることができる。他の添加剤の例としては、各種シリコーンオイル、熱可塑性樹脂、NBRなどの合成ゴム類、レベリング剤が挙げられる。他の添加剤は、樹脂組成物中における他の添加剤と樹脂成分との合計100質量部中の上記他添加剤の含有量が0.0001~5質量部となる配合量の範囲で用いられることが好ましい。 In using the resin composition according to the present invention, other additives can be added depending on the intended use. Examples of other additives include various silicone oils, thermoplastic resins, synthetic rubbers such as NBR, and leveling agents. The other additives are used in a blending amount range in which the content of the other additives in the total 100 parts by mass of the other additives and the resin component in the resin composition is 0.0001 to 5 parts by mass. Is preferable.

(ワニス)
本発明に係る樹脂組成物のワニスは、上述した製造方法によって得られた樹脂組成物を、沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたものである。
沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノールなどのアルコール系溶剤などが挙げられる。操作性などを考慮すると、例示した溶剤のうちケトン系溶剤が好ましく用いられる。これらの溶剤は単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。また、上に例示したもの以外の溶剤を含有していてもよい。
(varnish)
The varnish of the resin composition according to the present invention is obtained by dissolving the resin composition obtained by the above-mentioned production method in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower and a dielectric constant of 10 to 30.
Examples of the solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower and a dielectric constant of 10 to 30 include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, ethanol, 1-propanol and 2-propanol. Examples thereof include alcohol solvents such as 1-butanol. In consideration of operability and the like, a ketone solvent is preferably used among the exemplified solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Further, it may contain a solvent other than those exemplified above.

ワニス100質量部中の樹脂組成物の含有量は、通常40~80質量部であり、好ましくは50~70質量部である。ワニスは、樹脂組成物を溶剤中に溶解させて得ることができる。加熱下で溶解させる場合、特段長時間を要するものではない。溶剤の沸点にもよるが、溶解させる際の一般的な条件は、温度が50~200℃程度であり、時間が0.1~24時間程度である。 The content of the resin composition in 100 parts by mass of the varnish is usually 40 to 80 parts by mass, preferably 50 to 70 parts by mass. The varnish can be obtained by dissolving the resin composition in a solvent. When it is melted under heating, it does not take a particularly long time. Although it depends on the boiling point of the solvent, the general conditions for dissolution are a temperature of about 50 to 200 ° C. and a time of about 0.1 to 24 hours.

プリプレグは、上記ワニスを基材に塗布または含浸し、次いで乾燥して溶剤を除去することにより製造することができる。
基材としてはガラス不織布、ガラスクロス、炭素繊維布、有機繊維布、紙などの従来プリプレグに用いられる公知の基材を使用することができる。
The prepreg can be produced by applying or impregnating the varnish on a substrate and then drying to remove the solvent.
As the base material, known base materials used for conventional prepregs such as glass non-woven fabric, glass cloth, carbon fiber cloth, organic fiber cloth, and paper can be used.

上記ワニスを上記基材に塗布または含浸した後、乾燥工程を経てプリプレグを製造するが、塗布方法、含浸方法、乾燥方法は特に限定するものではなく、従来公知の方法を採用することができる。乾燥条件については、使用する溶剤の沸点により適宜決められるが、あまり高温は好ましくない。プリプレグ中に残存する溶剤の量が3質量%以下となるように乾燥させることが望ましい。 After applying or impregnating the varnish on the substrate, a prepreg is produced through a drying step, but the coating method, impregnation method, and drying method are not particularly limited, and conventionally known methods can be adopted. The drying conditions are appropriately determined by the boiling point of the solvent used, but a high temperature is not preferable. It is desirable to dry the prepreg so that the amount of the solvent remaining in the prepreg is 3% by mass or less.

本発明の樹脂組成物はプリント配線基板用に好適であり、また樹脂組成物を硬化させてなる成形品として本発明を実施することができる。成形品としては、樹脂組成物のみを硬化させてなる硬化物や、他の原料と複合した複合材、積層体等が挙げられる。 The resin composition of the present invention is suitable for a printed wiring board, and the present invention can be carried out as a molded product obtained by curing the resin composition. Examples of the molded product include a cured product obtained by curing only the resin composition, a composite material composited with other raw materials, a laminate, and the like.

複合材および積層体は、プリプレグ1枚を熱プレスなどで加圧下に加熱し硬化させるか、プリプレグ複数枚を積層して加圧下に加熱して一体化させることによって得ることができる。複合材を製造する時の加熱加圧条件は特に限定されるものではないが、加熱温度が100~300℃、好ましくは150~250℃であり、圧力が10~100kg/cmであり、加熱加圧時間が10~300分程度である。 The composite material and the laminated body can be obtained by heating and curing one prepreg under pressure with a hot press or the like, or by laminating a plurality of prepregs and heating under pressure to integrate them. The heating and pressurizing conditions for producing the composite material are not particularly limited, but the heating temperature is 100 to 300 ° C., preferably 150 to 250 ° C., the pressure is 10 to 100 kg / cm 2 , and the heating is performed. The pressurization time is about 10 to 300 minutes.

積層材の片面または両面に、金属箔または金属板を積層一体化させて多層プリント配線板用などに使用可能な積層体とすることができる。このような積層体は、1枚のプリプレグの片面もしくは両面に金属箔もしくは金属板を積層し熱プレスするか、または複数枚積層されたプリプレグの最外層となる片面または両面に金属箔または金属板を積層し熱プレスすることにより、プリプレグを加熱硬化させ一体化させることにより製造することができる。 A metal foil or a metal plate can be laminated and integrated on one side or both sides of the laminated material to form a laminated body that can be used for a multilayer printed wiring board or the like. Such a laminate may be obtained by laminating a metal foil or a metal plate on one or both sides of a single prepreg and heat-pressing it, or by hot-pressing the metal foil or a metal plate on one or both sides of the outermost layer of a plurality of laminated prepregs. Can be manufactured by laminating and hot pressing to heat-cure and integrate the prepreg.

金属箔または金属板としては、銅、アルミニウム、鉄、ステンレス等が使用できる。例えば、金属箔として銅を用いた積層板が銅張積層板(Copper Clad Laminate、CCL)である。加熱硬化させる際の条件は、複合材を製造する際の条件と同様の条件が好ましい。また、内層コア材を用いて多層プリント配線板用積層板としてもよい。 As the metal foil or metal plate, copper, aluminum, iron, stainless steel or the like can be used. For example, a laminated plate using copper as a metal foil is a copper-clad laminated plate (CPL). The conditions for heat curing are preferably the same as the conditions for producing the composite material. Further, the inner layer core material may be used as a laminated board for a multilayer printed wiring board.

本発明は、上述した樹脂組成物を含有する接着剤、封止剤および塗料として実施することもできる。 The present invention can also be carried out as an adhesive, a sealant and a paint containing the above-mentioned resin composition.

以下、実施例を示して本発明を説明するが、これらの実施例により本発明が限定されるものではない。実施例および比較例において用いた試験方法および原料は以下のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The test methods and raw materials used in the examples and comparative examples are as follows.

1.試験方法
(1)溶剤溶解性
測定試料(樹脂組成物)60質量部とメチルエチルケトン(溶剤)40質量部とを室温条件下で混合し、超音波振動を加えて1時間溶解させた後における溶解状態を、以下の基準を用いて目視により評価した。
〇:室温で透明の液体
×:室温で混濁状態の液体または半液体状態
1. 1. Test method (1) Solvent solubility 60 parts by mass of the measurement sample (resin composition) and 40 parts by mass of methyl ethyl ketone (solvent) are mixed under room temperature conditions, and dissolved by applying ultrasonic vibration for 1 hour. Was visually evaluated using the following criteria.
〇: Clear liquid at room temperature ×: Liquid or semi-liquid state turbid at room temperature

(2)ゲルタイム
ゲルタイム測定機SG-70にて測定した。
(2) Gel time The measurement was performed with a gel time measuring machine SG-70.

(3)ガラス転移点(Tg)
樹脂組成物を硬化させた樹脂硬化物を所定の大きさにカット(切り出)して、ガラス転移点測定のサンプルとした。以下の条件にてサンプルのガラス転移温度(℃)を測定した。
測定機器 :リガク社製 Thermo plus TMA8310
サンプル寸法 :幅(縦)5mm×長さ(横)5mm×高さ4mm
雰囲気 :N
測定温度 :30~350℃
昇温速度 :10℃/min.
測定モ-ド :圧縮
(3) Glass transition point (Tg)
The cured resin composition obtained by curing the resin composition was cut (cut out) to a predetermined size and used as a sample for measuring the glass transition point. The glass transition temperature (° C) of the sample was measured under the following conditions.
Measuring equipment: Thermo plus TMA8310 manufactured by Rigaku Co., Ltd.
Sample dimensions: width (length) 5 mm x length (width) 5 mm x height 4 mm
Atmosphere: N 2
Measurement temperature: 30-350 ° C
Temperature rise rate: 10 ° C / min.
Measurement mode: compression

(4)熱重量変化
JIS K7120に準じて、30℃から毎分10℃の速度で昇温し、質量が1%減となる温度(Td(1%))および5%減となる温度(Td(5%))を測定した。
(5)溶液安定性
樹脂組成物をメチルエチルケトンに溶解して得られた溶液を室温において放置し、所定時間経過した後(24時間経過後および7日間経過後)の溶解状態を以下の基準を用いて目視により評価した。
〇:透明の液体
△:濁りがある液体
×:液体に沈殿または不溶解物が認められる
(4) Thermogravimetric change According to JIS K7120, the temperature is raised from 30 ° C. to 10 ° C. per minute, and the mass is reduced by 1% (Td (1%)) and 5% (Td). (5%)) was measured.
(5) Solution stability The solution obtained by dissolving the resin composition in methyl ethyl ketone was left at room temperature, and the dissolved state after a predetermined time (after 24 hours and after 7 days) was determined using the following criteria. It was evaluated visually.
〇: Clear liquid △: Turbid liquid ×: Precipitation or insoluble matter is found in the liquid

2.原料
(A)ポリマレイミド化合物
・BMI-1000(製品名、大和化成工業(株)製、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド)
・BMI-2300(製品名、大和化成工業(株)製、ポリフェニルメタンポリマレイミド):式(1)で示される化合物のnの平均値が0.01以上5以下であり、Xが-CH-で表される基であり、aが0であり、bが0であるポリマレイミド化合物。
2. 2. Raw material (A) Polymaleimide compound, BMI-1000 (product name, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., 4,4'-diphenylmethanebismaleimide)
BMI-2300 (product name, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., polyphenylmethane polymaleimide): The average value of n 1 of the compound represented by the formula (1) is 0.01 or more and 5 or less, and X 1 is A polymaleimide compound represented by -CH 2- , in which a is 0 and b is 0.

(B)フェノール樹脂
・SN485(製品名、新日鉄住金化学社製、フェニレン骨格含有ナフトールアラルキル型フェノール樹脂)
(C)エポキシ樹脂
・JER1001(製品名、三菱化学(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂)
・VG3101L(製品名、(株)プリンテック製、高耐熱3官能エポキシ樹脂)
・NC3000H(製品名、日本化薬(株)製、ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂)
(D)ベンゾオキサジン化合物
・BZO:(P-d型)ベンゾオキサジン(四国化成(株)製)
(B) Phenol resin SN485 (Product name, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., naphthol aralkyl type phenol resin containing phenylene skeleton)
(C) Epoxy resin JER1001 (Product name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin)
VG3101L (Product name, manufactured by Printec Co., Ltd., high heat resistant trifunctional epoxy resin)
・ NC3000H (Product name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., biphenyl aralkyl epoxy resin)
(D) Benzoxazine compound-BZO: (Pd type) benzoxazine (manufactured by Shikoku Chemicals Corporation)

(実施例1-6、比較例1)
表1~3に示す組成の原料を、ホットプレート上において、表1~表3に示す温度(150℃~210℃)で90秒間溶融混合して樹脂組成物を製造した。各樹脂組成物の溶剤溶解性および溶液安定性を測定した結果を表1~表3に示す。なお、表1~表3では各成分の含有量を質量部で示した。
(Example 1-6, Comparative Example 1)
The raw materials having the compositions shown in Tables 1 to 3 were melt-mixed on a hot plate at the temperatures shown in Tables 1 to 3 (150 ° C. to 210 ° C.) for 90 seconds to produce a resin composition. The results of measuring the solvent solubility and solution stability of each resin composition are shown in Tables 1 to 3. In Tables 1 to 3, the content of each component is shown by mass.

Figure 0007061944000012
Figure 0007061944000012

Figure 0007061944000013
Figure 0007061944000013

Figure 0007061944000014
Figure 0007061944000014

表1~表3に示す結果から、以下のことが分った。
比較例1から4のように、ポリマレイミド化合物として、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(BMI-1000)とフェノール樹脂(SN485)に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(JER1001)およびベンソオキサジン化合物(BZO)を加えた樹脂混合物を190℃で溶融混合することにより、溶剤溶解性および溶液安定性の良好な樹脂組成物が得られる。しかし、当該樹脂混合物を溶融混合する際の溶融温度が150℃および170℃では、常温でメチルエチルケトンに溶解する樹脂組成物が得られない。また、溶融温度が210℃ではメチルエチルケトンへの溶解性が低くなるとともに、溶液安定性も悪くなる。溶融温度210℃の場合に溶解性および溶液安定性が悪化したことは、溶融混合時に反応が進みすぎたためと考えられる。
From the results shown in Tables 1 to 3, the following was found.
As shown in Comparative Examples 1 to 4, as the polymaleimide compound, 4,4'-diphenylmethane bismaleimide (BMI-1000), a phenol resin (SN485), a bisphenol A type epoxy resin (JER1001), and a benzoxazine compound (BZO) ) Is melt-mixed at 190 ° C. to obtain a resin composition having good solvent solubility and solution stability. However, when the melting temperatures at the time of melting and mixing the resin mixture are 150 ° C. and 170 ° C., a resin composition that dissolves in methyl ethyl ketone at room temperature cannot be obtained. Further, when the melting temperature is 210 ° C., the solubility in methyl ethyl ketone becomes low and the solution stability also deteriorates. It is probable that the deterioration of solubility and solution stability at the melting temperature of 210 ° C. was due to the excessive progress of the reaction during melting and mixing.

すなわち、(A)ポリマレイミド化合物として、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(BMI-1000)を用いると、樹脂組成物の溶剤溶解性および溶液安定性が溶融温度により大きな影響を受ける。このため、室温においてメチルエチルケトンに溶解する樹脂組成物を得るためには、溶融温度を190℃前後に維持する必要がある。このように、樹脂組成物の製造において許容される溶融温度の範囲が狭く厳密な温度管理を要することは、製造効率や生産コストの観点から好ましくない。 That is, when 4,4'-diphenylmethanebismaleimide (BMI-1000) is used as the (A) polymaleimide compound, the solvent solubility and solution stability of the resin composition are greatly affected by the melting temperature. Therefore, in order to obtain a resin composition that dissolves in methyl ethyl ketone at room temperature, it is necessary to maintain the melting temperature at around 190 ° C. As described above, it is not preferable from the viewpoint of production efficiency and production cost that the range of the melting temperature allowed in the production of the resin composition is narrow and strict temperature control is required.

対して、式(1)中の繰り返し単位の数nの平均値が0.01~5であるポリマレイミド化合物を含む実施例1~17の樹脂組成物は、樹脂混合物を150℃以上210℃以下で溶融することにより、溶剤溶解性および溶液安定性がいずれも良好になる。本発明の樹脂組成物は、常温でメチルエチルケトンに溶解する樹脂組成物を得るために許容される溶融温度の範囲が広い。したがって、樹脂混合物の溶融混合工程の溶融温度を厳密に管理する必要がなく、製造効率や生産コストの観点から好ましい。このため、メチルエチルケトンへの溶解性および溶液安定性が良好な樹脂組成物を容易かつ安定的に製造することができる。さらに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(JER1001)を用いることなく、常温でメチルエチルケトンに溶解する樹脂組成物を得ることができた。 On the other hand, in the resin compositions of Examples 1 to 17 containing the polymaleimide compound in which the average value of the number n 1 of the repeating units in the formula (1) is 0.01 to 5, the resin mixture is 150 ° C. or higher and 210 ° C. By melting in the following, both solvent solubility and solution stability are improved. The resin composition of the present invention has a wide range of melting temperatures allowed to obtain a resin composition that dissolves in methyl ethyl ketone at room temperature. Therefore, it is not necessary to strictly control the melting temperature in the melting and mixing step of the resin mixture, which is preferable from the viewpoint of manufacturing efficiency and production cost. Therefore, a resin composition having good solubility in methyl ethyl ketone and solution stability can be easily and stably produced. Furthermore, it was possible to obtain a resin composition that dissolves in methyl ethyl ketone at room temperature without using a bisphenol A type epoxy resin (JER1001).

実施例7および9の樹脂組成物を硬化温度230℃で4時間加熱して硬化させて樹脂硬化物を作製した。各樹脂硬化物について、ゲルタイム(GT)、ガラス転移温度(Tg)および熱重量変化温度(Td(1%)、Td(5%))を測定した結果を表4に示す。 The resin compositions of Examples 7 and 9 were heated at a curing temperature of 230 ° C. for 4 hours and cured to prepare a cured resin. Table 4 shows the results of measuring the gel time (GT), the glass transition temperature (Tg), and the thermogravimetric change temperature (Td (1%), Td (5%)) for each cured resin product.

Figure 0007061944000015
Figure 0007061944000015

表4に示す結果から、実施例7および9の樹脂組成物により、ガラス転移温度(Tg)および熱重量変化温度(Td)が高く、耐熱性の良好な樹脂硬化物が得られることが分かる。 From the results shown in Table 4, it can be seen that the resin compositions of Examples 7 and 9 have a high glass transition temperature (Tg) and a thermogravimetric change temperature (Td), and a cured resin product having good heat resistance can be obtained.

本発明は、低沸点溶剤への溶解性および保存安定性に優れた樹脂組成物であり、当該樹脂組成物は、耐熱性の良好な接着剤、封止剤、塗料、成形品、積層体およびプリント基板の原料として利用できる。 The present invention is a resin composition having excellent solubility in a low boiling point solvent and storage stability, and the resin composition can be used as an adhesive, a sealant, a paint, a molded product, a laminate and a laminate having good heat resistance. It can be used as a raw material for printed circuit boards.

Claims (14)

式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物と、
Figure 0007061944000016
(前記式(1)において、n1は0以上10以下の整数であり、X1はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキレン基、下記式(2)で表される基、「-SO2-」で表される基、「-CO-」で表される基、酸素原子または単結合であり、R1はそれぞれ独立に炭素数1以上6以下の炭化水素基であり、aはそれぞれ独立に0以上4以下の整数であり、bはそれぞれ独立に0以上3以下の整数である。)
Figure 0007061944000017
(前記式(2)において、Yは芳香環を有する炭素数6以上30以下の炭化水素基であり、n2は1~3の整数である。)
(B)フェノール樹脂とを含む樹脂混合物を溶融して得られた樹脂組成物を、沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたワニスであって、
前記樹脂混合物に含まれる前記式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物の繰り返し単位の数n1の平均値が0.01以上5以下であるワニス。
The (A) polymaleimide compound represented by the formula (1) and
Figure 0007061944000016
(In the above formula (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, and X 1 is an alkylene group having 1 or more and 10 or less carbon atoms independently, a group represented by the following formula (2), "-SO". A group represented by " 2- ", a group represented by "-CO-", an oxygen atom or a single bond, R 1 is an independently hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and a is each. Independently, it is an integer of 0 or more and 4 or less, and b is an integer of 0 or more and 3 or less independently.)
Figure 0007061944000017
(In the above formula (2), Y is a hydrocarbon group having an aromatic ring and having 6 or more carbon atoms and 30 or less carbon atoms, and n 2 is an integer of 1 to 3).
(B) A varnish obtained by dissolving a resin composition obtained by melting a resin mixture containing a phenol resin in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower and a dielectric constant of 10 to 30 .
A varnish in which the average value of the number n 1 of the repeating units of the (A) polymaleimide compound represented by the formula (1) contained in the resin mixture is 0.01 or more and 5 or less.
前記(B)フェノール樹脂が、分子中に少なくとも二つ以上のOH基および少なくとも一つのナフタレン骨格を有する化合物を含有する請求項1に記載のワニスThe varnish according to claim 1 , wherein the phenol resin (B) contains a compound having at least two or more OH groups and at least one naphthalene skeleton in the molecule. 前記樹脂混合物が、さらに(C)エポキシ樹脂を含んでいる、請求項1に記載のワニスThe varnish according to claim 1 , wherein the resin mixture further contains (C) an epoxy resin. 前記(C)エポキシ樹脂が、分子中に二つ以上のグリシジル基を有する、請求項3に記載のワニスThe varnish according to claim 3, wherein the epoxy resin (C) has two or more glycidyl groups in the molecule. 前記樹脂混合物100質量部における、式(3)により表されるビスフェノールA型エポキシ樹脂の含有量が0~10質量部である、請求項4に記載のワニス
Figure 0007061944000018
(前記式(3)中、mは0~10の整数を表す。)
The varnish according to claim 4, wherein the content of the bisphenol A type epoxy resin represented by the formula (3) in 100 parts by mass of the resin mixture is 0 to 10 parts by mass.
Figure 0007061944000018
(In the above equation (3), m represents an integer of 0 to 10.)
式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物と、
Figure 0007061944000019
(前記式(1)において、n1は0以上10以下の整数であり、X1が「-CH2-」で表される基であり、 1 はそれぞれ独立に炭素数1以上6以下の炭化水素基であり、a=0、b=0である。)
(B)フェノール樹脂と、
(C)分子中に二つ以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂と、からなり、前記樹脂混合物に含まれる前記式(1)により表される(A)ポリマレイミド化合物の繰り返し単位の数n1の平均値が0.01以上5以下である樹脂混合物を溶融して得られた樹脂組成物を、沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたワニスであって
前記樹脂混合物中における前記(B)フェノール樹脂の含有量が、前記(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、5~100質量部であり、
前記樹脂混合物中における前記(C)エポキシ樹脂の含有量が、前記(A)ポリマレイミド化合物100質量部に対して、10~300質量部であるワニス
The (A) polymaleimide compound represented by the formula (1) and
Figure 0007061944000019
(In the above equation (1), n 1 is an integer of 0 or more and 10 or less, X 1 is a group represented by "-CH 2- ", and R 1 independently has 1 or more and 6 or less carbon atoms. It is a hydrocarbon group, and a = 0 and b = 0.)
(B) Phenolic resin and
(C) The number of repeating units n 1 of the (A) polymaleimide compound represented by the above formula (1), which comprises an epoxy resin having two or more glycidyl groups in the molecule and contained in the resin mixture. A varnish obtained by dissolving a resin composition obtained by melting a resin mixture having an average value of 0.01 or more and 5 or less in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or less and a dielectric constant of 10 to 30 .
The content of the (B) phenol resin in the resin mixture is 5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound.
A varnish in which the content of the (C) epoxy resin in the resin mixture is 10 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polymaleimide compound.
プリント配線基板用である請求項1に記載のワニスThe varnish according to claim 1 , which is for a printed wiring board. 請求項1に記載のワニスを含有する接着剤。 The adhesive containing the varnish according to claim 1 . 請求項1に記載のワニスを含有する封止剤。 The varnish -containing sealant according to claim 1 . 請求項1に記載のワニスを含有する塗料。 The paint containing the varnish according to claim 1 . 請求項1に記載のワニスを用いて製造された積層板。 A laminated board manufactured by using the varnish according to claim 1 . 請求項1に記載のワニスを用いて製造されたプリント配線基板。 A printed wiring board manufactured by using the varnish according to claim 1 . 請求項1に記載のワニスを硬化させてなる成形品。 A molded product obtained by curing the varnish according to claim 1 . 請求項1に記載の樹脂混合物を溶融混合し、溶融して得られた樹脂組成物を沸点が120℃以下かつ誘電率が10~30の溶剤に溶解させたワニスの製造方法。 A method for producing a varnish in which the resin mixture according to claim 1 is melt-mixed and the resin composition obtained by melting is dissolved in a solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower and a dielectric constant of 10 to 30 .
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