KR20210088647A - 수분-경화성 1액형 조성물 및 그 조성물을 사용하여 접합, 캐스팅 및 코팅하는 방법 - Google Patents
수분-경화성 1액형 조성물 및 그 조성물을 사용하여 접합, 캐스팅 및 코팅하는 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210088647A KR20210088647A KR1020217017213A KR20217017213A KR20210088647A KR 20210088647 A KR20210088647 A KR 20210088647A KR 1020217017213 A KR1020217017213 A KR 1020217017213A KR 20217017213 A KR20217017213 A KR 20217017213A KR 20210088647 A KR20210088647 A KR 20210088647A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- weight
- composition
- moisture
- proportion
- part composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 182
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 238000005266 casting Methods 0.000 title claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 74
- -1 alkoxy silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 66
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 23
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 12
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 9
- 150000002373 hemiacetals Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 44
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 13
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 9
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 5
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 3
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 claims description 3
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 claims description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims 1
- PCGDBWLKAYKBTN-UHFFFAOYSA-N 1,2-dithiole Chemical compound C1SSC=C1 PCGDBWLKAYKBTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IVJFXSLMUSQZMC-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithiole Chemical compound C1SC=CS1 IVJFXSLMUSQZMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 16
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 12
- 238000013008 moisture curing Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 9
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical group 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 3
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940035437 1,3-propanediol Drugs 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FTZILAQGHINQQR-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentanal Chemical compound CCCC(C)C=O FTZILAQGHINQQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N Acetoin Chemical compound CC(O)C(C)=O ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003109 Karl Fischer titration Methods 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- DFYRUELUNQRZTB-UHFFFAOYSA-N apocynin Chemical compound COC1=CC(C(C)=O)=CC=C1O DFYRUELUNQRZTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEHNMFOYXAPHSD-UHFFFAOYSA-N citronellal Chemical compound O=CCC(C)CCC=C(C)C NEHNMFOYXAPHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTWBUQJHJGUZCY-UHFFFAOYSA-N cuminaldehyde Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 WTWBUQJHJGUZCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAJNGDIORYACQU-UHFFFAOYSA-N decan-2-one Chemical compound CCCCCCCCC(C)=O ZAJNGDIORYACQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSMVZQYAVGTKIV-UHFFFAOYSA-N decanal Chemical compound CCCCCCCCCC=O KSMVZQYAVGTKIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N hexanal Chemical compound CCCCCC=O JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N octanal Chemical compound CCCCCCCC=O NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3-dione Chemical compound CCC(=O)C(C)=O TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N piperonal Chemical compound O=CC1=CC=C2OCOC2=C1 SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N propane-1-thiol Chemical compound CCCS SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJRCEJOSASVSRA-UHFFFAOYSA-N propane-2-thiol Chemical compound CC(C)S KJRCEJOSASVSRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 2
- SGAWOGXMMPSZPB-UHFFFAOYSA-N safranal Chemical compound CC1=C(C=O)C(C)(C)CC=C1 SGAWOGXMMPSZPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJUFSDZVCOTFON-UHFFFAOYSA-N veratraldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1OC WJUFSDZVCOTFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHRUHBBTQZKMEX-YFVJMOTDSA-N (2-trans,6-trans)-farnesal Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CC\C(C)=C\C=O YHRUHBBTQZKMEX-YFVJMOTDSA-N 0.000 description 1
- 239000001414 (2E)-2-(phenylmethylidene)octanal Substances 0.000 description 1
- YURDCJXYOLERLO-LCYFTJDESA-N (2E)-5-methyl-2-phenylhex-2-enal Chemical compound CC(C)C\C=C(\C=O)C1=CC=CC=C1 YURDCJXYOLERLO-LCYFTJDESA-N 0.000 description 1
- YHRUHBBTQZKMEX-UHFFFAOYSA-N (2E,6E)-3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecatrien-1-al Natural products CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)=CC=O YHRUHBBTQZKMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMTBGVBNTHTBEC-UHFFFAOYSA-N (3,3,5-trimethylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound CC1CC(OC(=O)C=C)CC(C)(C)C1 ZMTBGVBNTHTBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCLLJCFJFOBGDE-UHFFFAOYSA-N (5-bromo-2-chlorophenyl)methanamine Chemical compound NCC1=CC(Br)=CC=C1Cl PCLLJCFJFOBGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001211 (E)-4-phenylbut-3-en-2-one Substances 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamaldehyde Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 1
- DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 1,1-ethanedithiol Chemical compound CC(S)S DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZXIZRZFGJZWBF-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethyl-2-(2,4,6-trimethylphenoxy)benzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1OC1=C(C)C=C(C)C=C1C OZXIZRZFGJZWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJJYHTVHBVXEEQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropanal Chemical compound CC(C)(C)C=O FJJYHTVHBVXEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIFVCPMLQXKEEU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(C=O)=C1C UIFVCPMLQXKEEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RROZRFLLVCBVQB-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-1,5-bis(4-propan-2-ylphenyl)pentan-3-one Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1CC(C)(O)C(=O)C(C)(O)CC1=CC=C(C(C)C)C=C1 RROZRFLLVCBVQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-9,9-dimethylfluorene Chemical compound C1=C(Br)C=C2C(C)(C)C3=CC=C(Br)C=C3C2=C1 ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZQKPWSBFZARZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylphenoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 VAZQKPWSBFZARZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanal Chemical compound CCCCC(CC)C=O LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004808 2-ethylhexylester Substances 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZIRCHXYMBFNFD-HNQUOIGGSA-N 3-(2-Furanyl)-2-propenal Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CO1 VZIRCHXYMBFNFD-HNQUOIGGSA-N 0.000 description 1
- CLUWOWRTHNNBBU-UHFFFAOYSA-N 3-methylthiopropanal Chemical compound CSCCC=O CLUWOWRTHNNBBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyacetophenone Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1 NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YURDCJXYOLERLO-UHFFFAOYSA-N 5-Methyl-2-phenyl-2-hexenal Natural products CC(C)CC=C(C=O)C1=CC=CC=C1 YURDCJXYOLERLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010585 Ammi visnaga Nutrition 0.000 description 1
- 244000153158 Ammi visnaga Species 0.000 description 1
- 241001247482 Amsonia Species 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- MKEWYGIHZQYQAH-UHFFFAOYSA-N C1=CC(NCC)(NCC)CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC(NCC)(NCC)CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MKEWYGIHZQYQAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical group [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 1
- WTEVQBCEXWBHNA-UHFFFAOYSA-N Citral Natural products CC(C)=CCCC(C)=CC=O WTEVQBCEXWBHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YHRUHBBTQZKMEX-FBXUGWQNSA-N E,E-Farnesal Natural products CC(C)=CCC\C(C)=C/CC\C(C)=C/C=O YHRUHBBTQZKMEX-FBXUGWQNSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N Padimate A Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRADHMIOFJQKEZ-UHFFFAOYSA-N Tri-2-ethylhexyl trimellitate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC(CC)CCCC)C(C(=O)OCC(CC)CCCC)=C1 KRADHMIOFJQKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(methyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)COC(=O)C(C)=C YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007171 acid catalysis Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- GUUHFMWKWLOQMM-NTCAYCPXSA-N alpha-hexylcinnamaldehyde Chemical compound CCCCCC\C(C=O)=C/C1=CC=CC=C1 GUUHFMWKWLOQMM-NTCAYCPXSA-N 0.000 description 1
- 229940072717 alpha-hexylcinnamaldehyde Drugs 0.000 description 1
- GUUHFMWKWLOQMM-UHFFFAOYSA-N alpha-n-hexylcinnamic aldehyde Natural products CCCCCCC(C=O)=CC1=CC=CC=C1 GUUHFMWKWLOQMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229930008407 benzylideneacetone Natural products 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFSAXUULYPJSKH-UHFFFAOYSA-N butyrophenone Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=CC=C1 FFSAXUULYPJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 1
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000014633 carbohydrates Nutrition 0.000 description 1
- BUZRUIZTMOKRPB-UHFFFAOYSA-N carboxycarbamic acid Chemical group OC(=O)NC(O)=O BUZRUIZTMOKRPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 description 1
- 229940043350 citral Drugs 0.000 description 1
- 229930003633 citronellal Natural products 0.000 description 1
- 235000000983 citronellal Nutrition 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003974 emollient agent Substances 0.000 description 1
- FXHGMKSSBGDXIY-UHFFFAOYSA-N enanthic aldehyde Natural products CCCCCCC=O FXHGMKSSBGDXIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXKDHZPBPQKTD-UHFFFAOYSA-N ethyl n-(carbamoylamino)carbamate Chemical group CCOC(=O)NNC(N)=O CTXKDHZPBPQKTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- WTEVQBCEXWBHNA-JXMROGBWSA-N geranial Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\C=O WTEVQBCEXWBHNA-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPFVBOQKRVRMJB-UHFFFAOYSA-N hydroxycitronellal Chemical compound O=CCC(C)CCCC(C)(C)O WPFVBOQKRVRMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFAZHVHNLUBROE-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl propionaldehyde Natural products CCC(=O)CO GFAZHVHNLUBROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930002839 ionone Natural products 0.000 description 1
- 150000002499 ionone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N iron;(z)-4-oxoniumylidenepent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- 238000005907 ketalization reaction Methods 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000010128 melt processing Methods 0.000 description 1
- SHOJXDKTYKFBRD-UHFFFAOYSA-N mesityl oxide Natural products CC(C)=CC(C)=O SHOJXDKTYKFBRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- SWCBJPFUUHBWJP-UHFFFAOYSA-N methyl(silylmethoxy)carbamic acid Chemical compound [SiH3]CON(C(O)=O)C SWCBJPFUUHBWJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQIHUSFQDQCINN-UHFFFAOYSA-N methyl(trimethoxysilylmethoxy)carbamic acid Chemical compound CN(C(=O)O)OC[Si](OC)(OC)OC AQIHUSFQDQCINN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[4-hydroxy-3,5-di(propan-2-yl)phenyl]propanoate Chemical compound OC1=C(C=C(C=C1C(C)C)CCC(=O)OCCCCCCCC)C(C)C MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081310 piperonal Drugs 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 235000017509 safranal Nutrition 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 235000013599 spices Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003555 thioacetals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- XOALFFJGWSCQEO-UHFFFAOYSA-N tridecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C XOALFFJGWSCQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound C[Si](C)(C)OS(=O)(=O)C(F)(F)F FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J183/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J183/04—Polysiloxanes
- C09J183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J183/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
- C08G75/04—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof
- C08G75/045—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof from mercapto compounds and unsaturated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/18—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/05—Alcohols; Metal alcoholates
- C08K5/053—Polyhydroxylic alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/09—Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
- C08K5/5397—Phosphine oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
- C09J7/32—Water-activated adhesive, e.g. for gummed paper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2170/00—Compositions for adhesives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2190/00—Compositions for sealing or packing joints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/416—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components use of irradiation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
조사에 의해 활성화되고 수분에 의해 경화될 수 있는 조성물은 알콕시 실란의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 수분-경화성 화합물 (A), 화학 방사선에 노출되었을 때 산을 방출하는, 하나 이상의 산 발생제 (B), 알데히드, 케톤, 헤미아세탈 및 헤미케탈의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 카르보닐 화합물 및/또는 카르보닐 유도체 (C)를 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 조성물은 알코올 및/또는 티올 (D), 수분-경화성 촉매 (E), 방사선-경화성 화합물 (F), 라디칼 중합성 광개시제 (G), 및 추가의 첨가제 (H)를 추가적으로 포함할 수 있다. 산 발생제를 활성화시킨 후 조성물은 외부 수분의 유입 없이 심지어 두께가 두꺼운 층에서도 경화된다.
또한, 상기 조성물을 사용하여 기판의 본딩, 몰딩, 실링 및 코팅을 위한 방법이 개시된다.
또한, 상기 조성물을 사용하여 기판의 본딩, 몰딩, 실링 및 코팅을 위한 방법이 개시된다.
Description
본 발명은 조사에 의해 활성화될 때 수분에 의해 경화될 수 있는 1액형 조성물, 및 기판의 본딩, 몰딩, 실링 및 코팅을 위한 그의 용도에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 조성물을 사용하여 기판을 접합, 코팅, 몰딩 또는 캐스팅하기 위한 방법에 관한 것이다.
화학 방사선(actinic radiation) 및 수분에 의해 가교될 수 있는 1액형 조성물은 EP 2 545 133 B1호에 공지되어 있다. 실란계 수분-경화성 화합물 외에도, 그것들은 라디칼 방사선-경화성 화합물을 추가적으로 포함하며, 특히 전기 광학 부품의 충전에 적합하다.
조사 또는 열에 의해 수분 경화가 유도될 수 있는 실란계 수분-경화성 1액형 조성물은 예를 들어 DE 10 2016 111 590 A1호에 공지되어 있다. 실란계 조성물은 광잠재성(photolatent) 및/또는 열잠재성(heat-latent) 산 발생제를 함유한다. 산 발생제의 활성화 후, 추가 수분의 유입 없이 조성물은 적어도 24시간의 기간 동안 액체 상태로 유지된다. 사용하는 동안, 빠른 초기 강도에도 불구하고, 수분의 유입이 확산 제어 방식으로 발생하기 때문에, 특히 두께가 더 두꺼운 층(higher layer thicknesses)에서 완전한 경화까지 조성물에 더 많은 시간이 요구된다.
US 3 979 344 A호 및 EP 1 591 464 A1호는 디부틸주석 라우레이트(DBTL) 또는 아미노실란과 같은 금속-함유 촉매에 의한 실란 가교의 촉매 작용을 개시하였다. 이러한 화합물은 실란 가교를 촉매하지만, 가교 반응에 대한 수분 함량은 여전히 제한 요소이다. 특히 수분의 유입을 추가로 방해하는 두께가 두꺼운 층 또는 부품 형상의 경우, 실란-함유 조성물의 경화가 완료될 때까지 몇 일에서 몇 주가 걸릴 수 있다. 더욱이, 생태학적 관점에서 금속-함유 주석계 촉매의 사용은 문제가 있다.
수 도네이션 시스템(water donation system)과 함께 수분-가교 중합체 시스템을 제공하는 하나의 접근법은 DE 10 2011 002 440 A1호에 공지되어 있다. 여기에서, 물은 고온에서 1차 아민과 시클릭 카복실산 무수물의 반응으로부터 방출된다. 그러나, 본 개시는 조성물이 100℃를 훨씬 초과하는 온도에서 열가소성 처리되는 것을 제공하였다.
EP 2 170 986 B1호는 폐환 탈수 반응에 의한 수분-가교성 폴리올레핀을 위하여 물을 방출하는 방법을 개시하였다. 물 도네이터로서, 예를 들어, 폐환 조건 하에서 물을 방출하는 아미노산 또는 디카복실산이 사용된다. 이 접근법의 단점은 금속-함유 촉매의 사용이 절대적으로 필수라는 것이다.
WO 2009 058 545 A2호는 제거 반응에 의해 비시날 디올(vicinal diols)로부터 물을 인-시츄(in-situ)에서 생성하기 위한 방법 및 조성물을 개시하였다. 선택적으로, 조성물은 물의 방출을 추가적으로 촉매화하기 위해 산을 함유한다. 다시, 상승된 온도 및 조성물의 용융 가공이 제공된다.
설명된 모든 접근 방식의 단점은 물 방출에 대한 신호로서 열이 필요하다는 것이다. 온도가 너무 높아서 조성물과의 단기간의 접촉 후에도 심지어 민감한 부품이 손상될 수 있다. 설명된 대부분의 수분 방출 방법은 사출 성형 조건 하에서 경화성 조성물의 가공을 필요로 한다. 또한, 생태학적 관점에서 볼 때, 많은 양의 에너지가 필요하다는 단점이 있다.
발명의 요약
본 발명의 목적은 종래 기술로부터 알려진 조성물의 단점들을 피하고, 방사선 활성화될 때 수분에 의해 경화될 수 있고, 경화될 때 물을 방출하여, 이에 따라 심지어 두께가 두꺼운 층에서도 단시간 내에 확실하게 경화되는 수분-경화성 화합물에 기반한 저장-안정성(storage-stable) 1액형 조성물(one-pack compositions)을 제공하는 것이다. 조성물의 경화 속도는 수분의 외부 유입과 거의 무관하다.
바람직하게는, 물의 방출은 과도한 열의 투입 없이 온화한 조건 하에서 발생해야한다.
본 발명에 따르면, 이 목적들은 청구항 1에 따른 수분-경화성 1액형 조성물에 의해 달성된다.
본 발명에 따른 조성물의 유리한 실시 형태는 종속항에 제시되어 있으며, 이것은 선택적으로 서로 조합될 수 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 기판(substrates)의 본딩(bonding), 캐스팅(casting), 몰딩(molding), 실링(sealing) 및 코팅(coating)을 위한 접착제 또는 실란트(sealant)로서의 본 발명에 따른 조성물의 용도이다.
또한, 본 발명은 본 발명에 따른 조성물을 사용하여 기판을 본딩, 캐스팅, 몰딩, 실링 및 코팅하는 방법에 관한 것이다. 특히, 상기 조성물은 유동 장치(flow apparatus)에서 조사에 의해 활성화될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은, 알콕시 실란의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 수분-경화성(moisture-curable) 화합물 (A), 화학 방사선(actinic radiation)에 노출되었을 때 산을 방출하는, 하나 이상의 산 발생제 (B), 및 알데히드, 케톤, 헤미아세탈 및/또는 헤미케탈의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 카르보닐 화합물 또는 카르보닐 유도체 (C)를 포함한다.
또한, 본 발명에 따른 조성물은 알코올 및/또는 티올 (D), 수분-경화성 촉매 (E), 방사선-경화성 화합물 (F), 라디칼 중합성 광개시제 (G), 및 추가의 첨가제 (H)를 추가적으로 포함할 수 있다.
바람직한 실시 형태의 설명
본 발명은 한정적인 의미로 이해되어서는 안되는 바람직한 실시 형태를 사용하여 예시적인 방식으로 이하에서 상세하게 설명된다.
본 발명에 따르면, "1액형(one-pack)" 또는 "1액형 조성물(one-pack composition)"은 언급된 성분들이 조성물 중에 함께 존재하는 것을 의미한다.
본 발명에 따르면, "액체"는 23℃에서 점도 측정에 의해 결정된 손실 탄성률(loss modulus) G"가 각각의 조성물의 저장 탄성률(storage modulus) G' 보다 크다는 것을 의미한다.
조성물은 7일 동안 실온에서 저장하는 동안, 각 조성물의 점도가 100% 미만, 바람직하게는 50% 미만 만큼 변하는 경우, 조성물은 가공가능한(processable) 것으로 간주된다.
부정 관사 "a" 또는 "an"이 사용되는 경우, 이것은 명시적으로 배제되지 않으면 복수 형태 "하나 이상"을 또한 포함한다.
"적어도 2작용성"은 분자 당 언급된 개개의 작용기 각각의 2 이상의 유닛(units)이 포함됨을 의미한다.
아래에 제시된 모든 중량 비율은 달리 명시되지 않은 경우 성분 (A) 내지 (H)로 구성된 조성물의 총 중량과 관련이 있다.
본 발명에 따른 조성물은 실온에서 액체이고 외부 수분의 유입의 필요 없이 방사선에 의해 활성화될 때 수분에 의해 경화될 수 있다. 조성물은 수분 경화에 충분한 양의 물이 조성물 자체에서 방출되도록 화학 방사선 조사에 의해 활성화될 수있다. 물의 방출은 조사가 가능한 영역에서만 발생한다.
제1의 바람직한 실시 형태에서, 조성물은 적어도 2작용성 알콕시실란 화합물 (A1)을 기재로 하는 하나 이상의 수분-경화성 화합물 (A)을 함유한다. 그 외에도, 상기 조성물은 하나 이상의 광잠재성 산 (B), 알데히드, 케톤, 헤미아세탈 및/또는 헤미케탈의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 카르보닐 화합물 또는 카르보닐 유도체 (C), 선택적으로 하나 이상의 알코올 및/또는 티올 (D)을 포함한다. 제1의 바람직한 실시 형태의 조성물은 예컨대 아미노실란, 주석 화합물 또는 유기산과 같은 알콕시 실란의 수분 경화에 일반적으로 사용되는 촉매를 더 이상 함유하지 않는다.
제2의 바람직한 실시 형태에서, 조성물은 제1의 실시 형태의 성분과는 별도로 알콕시 실란의 수분 경화를 위한 적어도 하나 이상의 촉매 (E)를 추가로 함유한다. 따라서, 조성물은 화학 방사선을 조사할 수는 없지만 외부 수분에 의해 접근할 수 있는 영역에서도 심지어 확실하게 경화될 수 있다.
제3의 바람직한 실시 형태에서, 조성물은 제1 및/또는 제2 실시 형태의 성분과는 별도로, (메트)아크릴레이트를 기재로 하는 하나 이상의 라디칼 경화성 화합물 (F) 및 라디칼 광개시제 (G)를 추가로 함유한다.
명명된 모든 실시 형태에서, 조성물은 수분-경화성 조성물 분야의 당업자에게 공지된 추가의 첨가제 (H)를 추가로 함유할 수 있다.
이하에서, 본 발명에 따른 조성물의 성분을 상세하게 설명한다. 각각의 성분들은 본 발명의 의미에서 임의의 기술적으로 적절한 방식으로 동일하거나 상이한 그룹 내에서 서로 조합될 수 있다.
성분 (A): 수분-경화성 화합물
(A1): 2작용성 알콕시 실란 화합물
성분 (A)의 수분-경화성 화합물은 하나 이상의 적어도 2작용성 알콕시 실란 화합물 (A1)을 포함한다.
2 이상의 알콕시실란기 (A1)를 갖는 적어도 2작용성 알콕시 실란 화합물은 바람직하게는 하기 일반식 (I)에 해당한다:
화학식 (I)
식 중, R1은 적어도 2가의 유기 잔기이고,
각각의 R2는, 독립적으로, 수소, 적절한 경우 할로겐-치환 및/또는 1 내지 3개의 헤테로원자에 의해 중단될(interrupted) 수 있는, 선형, 분기형, 시클릭, 포화, 불포화 및 방향족 탄화수소로 구성되는 군으로부터 선택되는 1가의 잔기이고,
각각의 R3은, 독립적으로, 적절한 경우 할로겐-치환 또는 1 내지 3개의 헤테로원자에 의해 중단될 수 있는, 선형, 분기형, 시클릭, 포화, 불포화 및 방향족 탄화수소의 군으로부터 선택되는 1가의 잔기이고,
각각의 R4는, 독립적으로, 수소, 선택적으로 할로겐-치환 또는 1 내지 3개의 헤테로원자에 의해 중단될 수 있는, 선형, 분기형, 시클릭, 포화, 불포화 및 방향족 탄화수소로 구성되는 군으로부터 선택되는 1가의 잔기이고,
X는 헤테로원자, 특히 산소, 질소 또는 황에 의해 -CR2 2-SiR3 n(OR4)(3-n) 기에 결합된 헤테로원자-함유 2가 또는 3가의 잔기이고,
m은 적어도 2, 바람직하게는 2 내지 9, 더욱 바람직하게는 2 내지 4이며;
n은 0 내지 2이다.
일반식 (I)의 화합물은 (알콕시) 실란기가 예컨대 산소, 황 또는 질소와 같은 헤테로원자에 대한 α-위치에 포함되는 것을 특징으로 하는 소위 α-(알콕시) 실란 화합물이다. 알콕시 실란기는 치환 또는 비치환된 메틸렌기에 의해 헤테로원자로부터 분리된다.
바람직한 실시 형태에 따르면, R1은 (i) 적절한 경우, 1 내지 3개의 헤테로원자에 의해 중단될 수 있는, 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분기형, 포화 또는 불포화 알킬 잔기, (ii) 적절한 경우, 1 내지 3개의 헤테로원자에 의해 중단될 수 있는, 3 내지 9개의 C 원자를 갖는 포화 또는 불포화 시클로알킬 잔기, (iii) 5 내지 10개의 C 원자를 갖는 방향족 잔기, 또는 (iv) 폴리올레핀, 폴리에테르, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리우레아, 폴리부타디엔, 수소화된 폴리부타디엔, 폴리실록산 또는 폴리아크릴레이트로 구성되는 군으로부터 선택되는 잔기이며, 여기서 각각의 R1은 비치환될 수 있거나 추가의 치환기를 가질 수 있다.
더 바람직하게는, R1은 상기 기재된 기 (iv)의 중합체성 잔기, 바람직하게는 화학식(I)에 따른 말단 알콕시 실란기이다.
특히 바람직하게는, 잔기 R1은 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리아미드 또는 폴리우레아를 기재로 하는 폴리머 백본 또는 코폴리머 백본이고, 더 바람직하게는 폴리우레탄 또는 폴리에테르 잔기이다.
헤테로원자-함유 잔기 X는 바람직하게는 헤테로원자-함유 2가의 잔기이며, 예컨대 -O-, -S-, -N(R)-, -C(O)-O-, -O-C(O)-O-, -O-C(O)-O-N(R)-, -N(R)-C(O)-O-, -S(O)-, -S(O)2-, -S(O)-O-, -S(O)2-O-, -O-S(O)2-O-, -C(O)-N(R)-, -S(O)2-N(R)-, -S(O)2-N[C(O)R]-, -O-S(O)2-N(R)-, -N(R)-S(O)2-O-, -P(O)(OR)-O-, -O-P(O)(OR)-, -O-P(O)(OR)-O-, -P(O)(OR)-N(R)-, -N(R)-P(O)(OR)-, -O-P(O)(OR)-N(R)-, -N(R)-P(O)(OR)-O-, -N[C(O)R]-, -N=C(R)-O-, -C(R)=N-O-, -C(O)-N[C(O)R]-, -N[S(O)2R']-, -C(O)-N[S(O)2R']- 또는 -N[P(O)R''2]- 이고, 식 중 R은 수소 또는 적절한 경우 치환될 수 있는 C1-C20 알킬 또는 C6-C20 아릴 잔기이며, R'은 적절한 경우 치환될 수 있는 C1-C20 알킬 또는 C6-C20 아릴 잔기이며, R"은 적절한 경우 치환될 수 있는 C1-C20 알킬, C6-C20 아릴, C1-C20 알콕시 또는 C6-C20 아릴옥시 잔기이다.
일반식 (I)에서, X는 산소 또는 질소 원자 또는 카르복시, 카르바메이트, 카보네이트, 우레이도, 우레탄 또는 술포네이트 결합인 것이 특히 바람직하다.
R2는 바람직하게는 수소이다. R3은 바람직하게는 C1-C6 알킬이고, 특히 메틸, 에틸 또는 페닐이다.
일반식 (I)에서, 잔기 R4는 바람직하게는 메틸 또는 에틸기이다. 바람직하게는, n은 0 또는 1이다. 또한, 2개의 R4 잔기가 가교되어 고리(cycle)를 형성할 수 있다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 잔기 R2는 수소이고, R3 및 R4는 메틸기이며 n은 1이다.
바람직하게는, 적어도 2작용성 α-알콕시실란 화합물은 2,000 내지 50,000g/mol, 특히 바람직하게는 약 10,000 내지 20,000g/mol의 평균 분자량을 갖는다.
α-알콕시 실란-말단 화합물의 제조는 예를 들면 WO 03/014226 A1호에 상세하게 기재되어 있다. 또한, 폴리에테르 또는 폴리우레탄을 기재로 하는 바람직한 α-실란의 대부분은 Wacker Chemie AG로부터 상업적으로 입수 가능하다. 이들은 상품명 GENIOSIL STP-E로 시판 중이다. 예로는 STP-E10, STP-E30 타입이다.
또 다른 실시 형태에서, 성분 (A1)은 2 이상의 α-알콕시 실란기를 갖는 화학식(I)의 실란 화합물과 함께, 또는 그 대신에 일반식 (II)의 하나 이상의 적어도 2작용성 알콕시 실란 화합물을 포함할 수도 있다:
화학식 (II)
식 중 R1, R2, R3 및 R4는 상기 화학식 (I)에 대해 언급된 의미를 가지며;
X는 헤테로원자, 특히 산소, 질소, 또는 황을 통해 -(CR2 2)y-SiR3 n(OR4)(3-n)기에 결합된 헤테로원자-함유 2가 또는 3가의 잔기이고;
n은 0 내지 2이고,
q는 적어도 2, 바람직하게는 2 내지 9, 더욱 바람직하게는 2 내지 4이고;
y는 2 내지 6의 수를 의미한다.
일반식 (II)의 바람직한 화합물에서 y는 3이다. 이들 화합물은 잔기 X의 헤테로원자가 선택적으로 치환된 프로필렌 단위에 의해 알콕시실란기의 규소 원자로부터 분리되는, 소위 γ-알콕시실란이다.
γ-알콕시실란의 제조는, 예를 들면, US 5 364 955 A호 및 그 문헌에서 참조하는 문헌에 상세히 기술되어 있다. 2 이상의 알콕시실란-함유 말단기를 갖는 일반식 (II)의 γ-알콕시실란은 Wacker Chemie AG로부터 상업적으로 입수 가능하다. 이러한 γ-실란 말단 폴리에테르는 Geniosil STP-E15 및 STP-E35라는 명칭 하에 입수 가능하다.
성분 (A1)은 일반식 (I) 및/또는 (II)의 하나 이상의 화합물로 구성될 수 있다.
성분 (A2): 1작용성 실란 화합물
성분 (A1) 이외에도, 본 발명에 따른 조성물은 단지 하나의 알콕시실란기를 갖는 하나 이상의 1작용성 실란 화합물 (A2) 및/또는 이의 유도체를 추가적으로 포함할 수 있다. 특히, 성분 (A2)는 알콕시실란기의 부분 가수 분해 또는 2가 알코올과의 알콕시실란기의 반응에 의해 수득가능한 1작용성 실란 화합물의 부분적으로 축합되거나 가교된, 특히 주기적으로(cyclically) 가교된 유도체를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 성분 (A2)는 일반식 (III)의 화합물을 포함한다:
화학식 (III)
식 중 R3 및 R4는 상기 화학식 (I)에 대해 언급된 의미를 가지며;
R5는, 독립적으로, 선택적으로 헤테로원자로 치환되거나 또는 헤테로원자에 의해 중단될 수 있고 R3과는 상이한, 선형, 분기형, 시클릭, 포화, 불포화 및 방향족 탄화수소의 군으로부터 선택되는 1가의 유기 잔기이고;
R6은 화학식 (III)에 따른 추가의 잔기가 연결될 수 있는 Si 잔기이고,
o는 0 내지 3의 정수이고,
p는 1 내지 3의 정수이고,
s는 0 내지 3의 정수이고,
r은 0 내지 2의 정수이고,
o + p + r + s의 합은 4이다.
바람직하게는, o는 0 또는 1이고, p는 2 또는 3이고, s는 1이고, r은 0 또는 1이다.
화학식 (III)의 부분적으로 축합되거나 가교된 실란 화합물도 또한 포함된다.
성분 (A2)의 1작용성 실란 화합물은 본 발명에 따른 조성물을 제조 및 저장하는 동안 수분 침투로부터 보호하고, 또한 조성물의 경화 동안 접착력 형성에 기여한다.
고전적인 알콕시비닐실란 외에도, 다양한 1작용성, 바람직하게는 단량체성, α- 또는 γ-알콕시실란이 성분 (A2)로서 사용될 수 있다.
α-실란의 군으로부터의 바람직한 예로는 (메타크릴옥시메틸)메틸디메톡시실란, 메타크릴옥시메틸트리메톡시실란, N-트리메톡시실릴메틸-O-메틸카바메이트 및 N-디메톡시(메틸)실릴메틸-O-메틸카바메이트를 포함한다.
상업적으로 입수 가능한 1작용성 α-알콕시실란의 예로는 Wacker Chemie AG의 제품이다. 해당하는 메타크릴레이트- 또는 카바메이트-작용기화된 α-알콕시실란은 GENIOSIL XL 32, XL 33, XL 63 또는 XL 65라는 명칭 하에 입수 가능하다.
부분적으로 축합된 1작용성 실란은 또한 수분 제거제로서 사용될 수 있다. 이 목적을 위해, 예컨대 Geniosil XL10 (VTMO)과 같은 1작용성 실란은 한정된 양의 물과 반응한다. 이러한 제품은 예를 들어 Evonik Industries AG의 Dynasilan 6490이라는 명칭으로 시판 중이다.
선택적으로 2작용성 알코올로 주기적으로 가교된 알콕시실란 또한 성분 (A2)로서 사용될 수 있다. 이러한 제품은 Momentive의 Silquest Y-15866이라는 상표명으로 시판 중이다.
또한, 수분 제거제 및 접착 촉진제로서 다작용성을 가질 수 있는 성분 (A2)로서 실란의 사용이 바람직하다.
일반식 (III)에 따른 몇몇 상이한 실란 및 이들의 부분적으로 축합되거나 가교된 유도체의 조합도 또한 본 발명에 따른다.
그러나, 수분의 존재 하에 가교결합 촉매로서 작용하여 이에 따라 조성물의 경화를 촉매하는 실란의 사용은 바람직하지 않다. 특히, 예를 들면, EP 1 421 129 A호에 기재된 아미노실란이 이러한 군에 속한다. 예로는 γ-아미노프로필트리메톡시실란 또는 N-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란이 있다. 따라서, 본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 아미노 실란이 없다.
화합물 (A1) 및 (A2) 외에도, 경화성 알콕시 실란기 및/또는 경화성 아세틸 기(A3)를 갖는 폴리(오가노)실록산도 수분-경화성 성분 (A)에 또한 사용될 수 있다. 이들은 화학 구조의 관점에서 추가로 제한되지 않으며, 예를 들어 시클릭 폴리실록산, 선형 폴리실록산, 가교 및 분기형 폴리실록산을 포함한다.
본 발명에 따른 조성물에서, 성분 (A)는, 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 5 내지 99.5 중량%, 더 바람직하게는 10 내지 99 중량%, 그리고 특히 바람직하게는 20 내지 98 중량%의 범위로 존재한다.
성분 (B): 산 발생제
성분 (A)의 수분-경화성 화합물 이외에, 본 발명에 따른 조성물은 또한 하나 이상의 산 발생제 (B)를 추가적으로 함유한다. 바람직하게는, 상기 산 발생제는 화학 방사선에 노출되는 경우 강산을 방출할 수 있는 화합물을 포함한다. 이하에서는 이러한 화합물을 광잠재성 산이라고 한다. 방출된 산은 조성물에 포함된 수분 경화성 기의 가수 분해 및 가교를 촉매한다. 그 외에도, 방출된 산은 또한 제제에 함유되고/거나 성분 (A)의 수분 경화성 화합물로부터의 가수 분해에 의해 방출된 알코올 또는 티올과 성분 (C)와의 반응에 의해 아세탈/케탈, 티오아세탈 및/또는 티오케탈의 형성을 촉매한다. 성분 (C)를 반응시켜 아세탈 또는 케탈을 형성하면, 성분 (A)의 수분-경화에 사용할 수 있는 물이 차례로 조성물에 방출된다. 이것은 단시간 내에 또한 두께가 두꺼운 층의 경화가 가능하다는 것을 의미한다. 수분 방출은 조사가 가능한 영역에서만 발생한다.
적합한 광잠재성 산은, 예를 들면 양이온으로 중합가능한 계로부터 공지되었다. 따라서, WO 2003/072567 A1호 또는 WO 2003/008404 A1호에 기재된 방향족 아릴 술포늄염 또는 WO 1998/002493 A1호 또는 US 6 306 555 A호에 기재된 바와 같은 아릴 요오도늄 염을 사용할 수 있다.
또한, 광잠재성 산으로서 적합한 오늄 염은 『J.V. Crivello 및 K. Dietliker의 "Photoinitiators for Free Radical, Cationic & Anionic Photopolymerisation", volume III of "Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints", 2nd edition, J. Wiley and Sons/SITA Technology (London), 1998』에 의해 기재되어 있다.
술포늄 또는 요오도늄염의 상이한 음이온의 예로는 HSO4 -, PF6 -, SbF6 -, AsF6 -, Cl-, Br-, I-, ClO4 -, PO4 -, SO3CF3 -, 토실레이트, 보레이트 음이온, 예컨대 BF4 - 및 B(C6F5)4 -이다.
EP 3 184 569 A1호 또는 WO 2017 035551 A1호에 개시된 바와 같이 알루미네이트 음이온을 기재로 하는 광잠재성 산도 또한 적합하다.
광잠재성 산으로서 상업적으로 입수 가능한 트리아릴 술포늄계 광 개시제는 Chitech의 Chivacure 1176, BASF의 Irgacure PAG 290 또는 Dow Chemical Co.의 UVI-6976 및 UVI-6974의 상표명으로 시판 중이다.
광잠재성 산으로서 상업적으로 입수 가능한 디아릴 요오도늄계 광개시제는 예를 들어 Deuteron의 UV1242 또는 UV2257 및 Bluestar의 Bluesil 2074의 상표명으로 시판 중이다.
요오도늄 및 술포늄 이온을 기재로 하는 광잠재성 산 이외에, 비-이온성 광잠재성 산이 본 발명에 따른 조성물에 또한 사용될 수 있다. 옥심 에스테르 및 옥심 술폰산 에스테르를 기재로 하는 이러한 화합물은 WO 2013/083505 A1호 및 EP 1 124 832 A1호에 기재되어 있다. 옥심 술폰산 에스테르를 기재로 하는 상업적으로 입수 가능한 비-이온성 광잠재성 산은 예를 들어, BASF의 Irgacure PAG 103, Irgacure PAG 121, Irgacure PAG 203 및 CGI 1907의 상표명으로 입수 가능하다.
또한, 성분 (B)로서, 트리클로로메틸 트리아진 화합물 또는 벤조인 에스테르가 비-이온성 광잠재성 산으로서 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서 산 발생제로서 사용되는 광잠재성 산이 바람직하게는 200 내지 480 nm의 파장, 특히 바람직하게는 320 내지 480 nm의 파장의 화학방사선에 의해 활성화될 수 있다. 필요한 경우, 광잠재성 산은 적절한 증감제(sensitizing agent)와 조합될 수 있다.
본 발명에서는 성분 (B)로서 기재된 비-이온성 광잠재성 산의 사용이 특히 바람직하다.
상기 목록은 제한하기 보다는 산 발생제 (B)에 대한 예시로서 고려되어야 한다.
매우 낮은 농도의 성분 (B)조차도 물이 방출되는 동안 조성물의 활성화를 달성한 다음 완전한 경화를 달성하기에 충분하다는 것이 입증되었다. 해당 산 발생제의 높은 비용을 고려하면, 이것은 또 다른 장점이다. 또한, 심지어 소량의 방출된 산도 성분 (A)의 가교를 통해 수분-경화를 촉매하기에 충분하다. 따라서 수분-경화를 위한 추가의 촉매가 절대적으로 필요한 것은 아니지만 선택적으로 사용할 수도 있다.
본 발명에 따른 수분-경화성 조성물에서, 산 발생제 (B)는, 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 0.0001 내지 5 중량%의 비율로 존재하지만, 특히 바람직하게는 적어도 0.001 중량%의 비율, 그리고/또는 바람직하게는 최대 3 중량%, 더 바람직하게는 최대 1 중량% 또는 최대 0.5 중량%, 그리고 특히 바람직하게는 최대 0.3 중량%의 비율로 존재한다.
특히 낮은 농도의 산 발생제 (B)의 사용은 바람직하게는 특히 비이온성 광개시제가 사용될 때 가능하다.
본 발명에 따른 조성물에서 하나 이상의 광 잠재성 산 발생제를 사용하는 것도 또한 가능하다.
성분 (C): 카르보닐 화합물
성분 (A) 및 성분 (B) 이외에, 본 발명에 따른 조성물은 성분 (C)로서 알데히드, 케톤, 헤미아세탈 및/또는 헤미케탈의 군으로부터 선택된 하나 이상의 카르보닐 화합물 또는 카르보닐 유도체를 추가로 함유한다. 이것들은 알코올 및/또는 티올의 존재 하에 산 촉매 작용을 통해 물을 방출할 수 있다.
바람직한 실시 형태에 따르면, 성분 (C)는 알데히드 및 케톤기로부터 하나 이상의 카르보닐 화합물을 포함한다. 본 발명에 따른 알데히드 및 케톤은 그의 화학 구조 및 작용기 측면에서 더 이상 제한되지 않는다. 하나 이상의 카르보닐기를 보유하는 지방족, 지환족, 방향족 알데히드 또는 케톤이 사용될 수 있다.
적합한 알데히드의 예는 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 부틸알데히드, 발레르알데히드, 카프론알데히드, 에난트알데히드, 카프릴알데히드, 데칸알(decanal), 2-에틸헥사날, 2-메틸펜타날, 3-포르밀피난, 글리옥살, 글루타르알데히드, 피브알데히드, 아크롤레인, 푸르푸랄, 벤즈알데히드, 아니스알데히드, 신남알데히드, 시트랄, 시트로넬랄, 커민알데히드, 디메틸 벤즈알데히드, 베라트르알데히드(veratraldehyde), 파르네살(farnesal), 3-(2-푸릴)아크롤레인, α-헥실 신남알데히드, 히드록시 시트로넬랄, 메티오날(methional), 5-메틸-2-페닐-2-헥세날, 피페로날(piperonal), 살리실알데히드 및 사프라날(safranal), 및 이들의 조합을 포함한다.
적합한 케톤의 예로는 아세톤, 디에틸 케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-옥타논, 아세트아니솔(acetanisole), 아세토인(acetoin), 아세토페논, 아세토바 닐론, 벤조페논, 벤질리덴 아세톤, 2-부타논, 부티로페논, 캄퍼(camphor), 2-데카논, 에틸 아세토아세테이트, 에틸 피루베이트, 이오논(ionone), 이소포론(isophorone), 메시틸 옥사이드 및 2,3-펜탄디온, 및 이들의 조합을 포함한다.
언급된 카르보닐 화합물은 종종 향신료 및 향료 산업에서 사용되는 화합물이다. 따라서 높은 가용성과 종종 낮은 독성 특성이 특징이다. 또한, 그들은 쾌적한 후각적 특성(pleasant olfactory properties)을 갖는다.
성분 (C)에서의 알데히드의 사용은 아세탈 형성 중에서 케톤보다 더 높은 반응성을 나타내고, 본 발명에 따른 조성물 중에서 물을 더 빨리 방출하기 때문에 특히 바람직하다. 따라서, 알데히드를 사용하면 본 발명에 따른 조성물의 경화에 필요한 시간을 실질적으로 줄일 수 있다. 특히, 조사 후 24시간 이내, 특히 최대 6 시간 이내에 조사된 영역에서 완전히 경화되는 수분-경화성 조성물이 제공될 수 있다.
알데히드 및 케톤 외에도, 알코올 및/또는 티올 (헤미아세탈 또는 헤미케탈)과의 부분 반응 생성물 형태의 그 유도체도 또한 성분 (C)로 사용할 수 있다.
성분 (C)의 적합한 헤미아세탈 및/또는 헤미케탈의 예는 탄수화물, 특히 당이다.
여러 카르보닐 화합물 (C)을 서로 또는 헤미아세탈 및/또는 헤미케탈과 조합하는 것 역시 본 발명에 따른다.
본 발명에 따른 조성물 중에서 조성물로부터 가스를 배출할 수 있는 저분자량 성분의 비율을 감소시키기 위해, 고분자량 카르보닐 화합물의 사용도 또한 고려될 수 있다. 예를 들어, 반응성 알데히드 및/또는 케톤기를 보유하는 중합체가 사용될 수 있다.
실란 작용기와 적합한 카르보닐기 양자 모두를 갖는 하이브리드 화합물은 또한 실란 네트워크에 통합될 수 있기 때문에 본 발명에 따른 조성물로부터 성분 (C)의 가스방출을 감소시키기 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서, 성분 (C)는, 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 0.1 내지 20 중량%, 더 바람직하게는 0.3 내지 15 중량% 그리고 특히 바람직하게는 0.5 내지 10 중량%의 범위로 존재한다.
성분 (D): 알코올 및/또는 티올
성분 (A) 내지 성분 (C) 이외에, 본 발명에 따른 조성물은 선택적으로 알코올 및/또는 티올을 함유할 수 있다. 성분 (D)의 존재는 물의 방출을 가속화하여 이에 따라 활성화 후 조성물의 경화에 필요한 시간을 추가적으로 감소시킨다.
본 발명에 따른 조성물에 사용할 수 있는 알코올 또는 티올은 그의 화학 구조적인 관점에서 추가로 제한되지 않으며; 지방족, 지환족 또는 방향족일 수 있다.
2작용성 지방족 단쇄 알코올 및/또는 티올의 사용이 특히 바람직하다. 시클릭 아세탈을 형성할 수 있는 1,2- 및 1,3-치환된 디-알코올의 사용이 특히 바람직하다. 특히 바람직한 것은 1 내지 12개의 C-원자를 갖는 지방족 알코올이다.
적절한 알코올 및 티올의 예는 하기 화합물을 포함한다: 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 에틸렌 글리콜, 1,3 프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2-에틸헥산올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 1-옥탄올, 글리세롤, 1,2-에틸렌 글리콜, 1-프로판티올, 2-프로판티올, 티오페놀, 에탄티올, 옥탄티올, 도데칸티올, 메르캅토에탄올 및 에탄디티올.
고분자량 알코올 및/또는 티올 또한 본 발명에 따른다. 예를 들어, 폴리카보네이트, 폴리에스테르 또는 바람직하게는 폴리에테르 기반 알코올이 사용될 수 있다. 이들은 상표명 Synalox 또는 Acclaim(Dow Chemical 또는 Covestro)으로 시판된다. 동시에, 이러한 고분자량 알코올은 제제에서 가소제로 작용할 수 있다.
여러 티올 및/또는 알코올의 조합도 또한 본 발명에 따른다.
실란 작용기와 성분 (D)로서 적합한 알코올 및/또는 티올기를 양자 모두 갖는 하이브리드 화합물은 또한 본 발명에 따른 조성물로부터 저분자량 화합물의 가스 방출을 감소시키기 위해 사용될 수 있다. 하이브리드 화합물은 실란 작용기로 인해 실란 네트워크에 쉽게 통합될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서, 성분 (D)는, 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 0 내지 50 중량%, 더 바람직하게는 0 내지 30 중량% 그리고 특히 바람직하게는 0 내지 20 중량% 또는 0.1 내지 20 중량%의 범위로 존재한다.
성분 (E): 촉매
제2 바람직한 실시 형태에서, 본 발명에 따른 조성물은 실란 가교(silane crosslinking)를 위한 하나 이상의 촉매를 성분 (E)로서 추가적으로 포함한다.
촉매로서, 예를 들어 납, 철, 티타늄, 아연, 주석, 비스무트, 코발트, 지르코늄, 바나듐 및 니켈 기반의 유기금속 화합물이 사용될 수 있다. 특히, 디부틸주석 라우레이트, 디부틸주석 디아세테이트, 디부틸주석 옥사이드, 테트라부틸 티타네이트, 철 아세틸 아세토네이트, 코발트 나프테네이트(cobalt naphthenate) 및 납 디옥테이트(lead dioctate)와 같은 화합물이 적합하다.
또한 촉매로서 카르복실산, 인산, 붕산 및 설폰산과 같은 산 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 트리메틸실릴트리플루오로메탄 설폰산 또는 트리메틸실릴 클로라이드와 같은 루이스 산도 또한 사용될 수 있다. (메트)아크릴산, 말레산, 아세트산, 톨루엔 설폰산, 트리플루오로메탄 설폰산 및 이타콘산이 특히 적합하다.
또한, 각각의 산기를 갖는 중합성 화합물은 촉매 (E)로서 적합하다.
산 촉매 (E)의 산도는 조사 후 산 발생제 (B)로부터 형성되는 산의 산도보다 적어도 3 pK s 단위가 약한 것이 바람직하다.
예를 들어, 아민 기반의 염기성 촉매는 광잠재성 산 (B)으로부터 방출된 산을 제거하여 이에 의해 물의 방출을 방해할 수 있기 때문에 덜 바람직하다.
상기의 목록은 최종적인 것이 아니라 예시적인 것으로 간주되어야 한다. 여러 촉매를 사용하는 것도 본 발명에 따른다.
본 발명에 따른 조성물의 제2 실시 형태에서, 성분 (E)는, 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 0.01 내지 20 중량%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%로 사용된다.
성분 (F): 방사선-경화성 화합물
제3의 바람직한 실시 형태에서, 본 발명에 따른 조성물은 하나 이상의 방사선-경화성 화합물 (F)를 추가적으로 포함하며, 이것은 그의 화학적 기본 구조(예를 들어, 방향족, 지방족, 지환족)의 관점에서 추가로 제한되지 않는다. 바람직하게는, 방사선-경화성 화합물 (F)는 하나 이상의 (메트)아크릴레이트를 포함한다.
본원 그리고 이하에서, 용어 "(메트)아크릴레이트" 및 동의어는 아크릴산 및 메타크릴산 양자 모두의 유도체 및 이들의 혼합물을 의미한다.
적합한 방사선-경화성 화합물 (F)는 예를 들어, 이소보르닐 아크릴레이트, 스테아릴 아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴 아크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸시클로헥사놀 아크릴레이트, 베헤닐 아크릴레이트, 2-메톡시에틸 아크릴레이트 및 기타 모노- 또는 폴리-알콕실화된 알킬 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 트리데실 아크릴레이트, 이소스테아릴 아크릴레이트, 2-(o-페닐페녹시)에틸 아크릴레이트, 아크릴로일모르폴린, N,N-디메틸 아크릴아미드, 4-부탄디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,10-데칸디올 디아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리부타디엔 디아크릴레이트, 시클로헥산디메탄올 디아크릴레이트, 디우레탄 아크릴레이트의 단량체성, 올리고머성 또는 중합체성 디올 및 폴리올, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 (TMPTA) 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 (DPHA) 및 이들의 조합을 포함한다. 다-분지형 또는 덴드리머릭 알코올(dendrimeric alcohols)로부터 유래된 보다 높은 작용기를 갖는 아크릴레이트가 또한 유리하게 사용될 수 있다.
유사체 메타크릴레이트(analogous methacrylates)도 또한 본 발명에 따른 것이다.
성분 (F)로서, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리카보네이트 디올 및/또는 (수소화된) 폴리부타디엔 디올 기반의 우레탄 아크릴레이트와 같은 더 높은 분자량을 갖는 방사선-경화성 화합물을 또한 사용할 수 있다.
유리산기를 갖는 (메트)아크릴레이트는 본 발명에 따른 조성물 중에서 방사선-경화성 성분 (F)로 작용할 수 있고 산 촉매 (E)로서 실란 가교를 촉매할 수 있다.
여러 방사선-경화성 화합물의 조합이 또한 본 발명에 따른다.
본 발명에 따른 조성물의 제3 실시 형태에서, 방사선-경화성 화합물 (F)는, 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 3 내지 80 중량%의 비율, 특히 바람직하게는 5 내지 50 중량%의 비율로 존재한다.
성분 (G): 라디칼 광개시제
방사선-경화성 화합물 (F) 이외에, 본 발명에 따른 제3 실시 형태의 조성물은 라디칼 중합을 활성화하기 위한 광개시제 (G)를 추가적으로 포함한다. 라디칼 광개시제로서, 통상적으로 상업적으로 입수 가능한 화합물, 예컨대 α-히드록시케톤, 벤조페논, α,α'-디에톡시아세토페논, 4,4-디에틸아미노벤조페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 4-이소프로필페닐-2-히드록시-2-프로필케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 이소아밀-p-디메틸아미노벤조에이트, 메틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 벤조인, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 이소부틸에테르, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2-이소프로필티오크산톤, 디벤조스베론, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥사이드 및 비스아실포스핀 옥사이드가 사용될 수 있고, 여기서 명명된 광개시제는 단독으로 또는 명명된 2종 이상의 화합물의 조합으로 사용될 수 있다.
UV 광개시제로서, 예를 들면, IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 1179, IRGACURE 2959, IRGACURE 745, IRGACURE 651, IRGACURE 369, IRGACURE 907, IRGACURE 1300, IRGACURE 819, IRGACURE 819DW, IRGACURE 2022, IRGACURE 2100, IRGACURE 784, IRGACURE 250, IRGACURE TPO, IRGACURE TPO-L 타입의 BASF SE로부터의 IRGACURETM 타입을 사용할 수 있다. 또한, 예를 들면 DAROCUR MBF, DAROCUR 1173, DAROCUR TPO 및 DAROCUR 4265 타입의 BASF SE사로부터의 DAROCUR™ 타입을 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물 중에 성분 (G)로서 사용되는 라디칼 광개시제는 바람직하게는 200 내지 600 nm, 특히 바람직하게는 320 내지 480 nm 범위의 파장의 화학 방사선에 의해 활성화될 수 있다. 필요한 경우, 적절한 증감제와 조합할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 제3 실시 형태에서, 광개시제 (G)는 바람직하게는 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 0.01 내지 5 중량%의 비율로 존재한다.
성분 (H): 첨가제
기재된 조성물은 첨가제 (H)로서 선택적 성분을 또한 함유할 수 있다. 첨가제 (H)는 바람직하게는 충전제, 착색제, 안료, 안티-에이징제(anti-ageing agents), 형광제, 안정제, 촉진제, 감광제, 접착 촉진제, 수분 제거제(moisture scavengers), 가교제, 유동 개선제(flow improvers), 습윤제, 요변성제(thixotropic agents), 희석제, 연화제(flexibilizers), 중합성 증점제(polymeric thickeners), 난연제, 부식 억제제, 가소제 및 점착 부여제(tackifiers)의 군으로부터 선택된다.
첨가제의 상기 목록은 제한하기 보다는 예시로서 고려되어야 한다.
본 발명에 따른 조성물에서, 첨가제 성분 (H)는 바람직하게는 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 0 내지 70 중량%의 비율로 존재한다.
본 발명에 따른 조성물의 제제
본 발명에 따른 1액형 조성물은 바람직하게는 각각의 성분 (A) 내지 성분 (H)의 총 중량을 기준으로,
(A) 10 내지 99 중량% 비율의, 하나 이상의 수분-경화성 화합물로서, 여기서 수분-경화성 화합물은 하나 이상의 2작용성 알콕시 실란 (A1) 및 선택적으로 1작용성 알콕시 실란 (A2)을 포함하는, 하나 이상의 수분-경화성 화합물;
(B) 0.0001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 1 중량% 비율의, 하나 이상의 산 발생제;
(C) 0.3 내지 15 중량% 비율의, 하나 이상의 카르보닐 화합물 및/또는 카르보닐 유도체;
(D) 0 내지 30 중량% 또는 바람직하게는 0.1 내지 20 중량% 비율의, 알코올 및/또는 티올의 군으로부터의 하나 이상의 화합물;
(E) 0 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 비율의, 실란 가교를 위한 하나 이상의 촉매로서, 더 바람직하게는 산 촉매의 형태인, 실란 가교를 위한 하나 이상의 촉매;
(F) 0 내지 50 중량%, 바람직하게는 5 내지 50 중량% 비율의, 하나 이상의 방사선-경화성 화합물;
(G) 0 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량% 비율의, 하나 이상의 라디칼 광개시제; 및
(H) 0 내지 70 중량% 비율의, 하나 이상의 첨가제 (H)로서, 바람직하게는 충전제, 착색제, 안료, 감광제, 안티-에이징제, 형광제, 안정제, 수분 제거제, 촉진제, 접착 촉진제, 가교제, 유동 개선제, 습윤제, 요변성제, 희석제, 연화제, 중합성 증점제, 난연제, 부식 억제제, 가소제 및 점착 부여제, 단독 또는 이들 서로의 조합의 군으로부터 선택되는, 하나 이상의 첨가제;
를 갖는다.
제1의 바람직한 실시 형태에서 본 발명에 따른 1액형 조성물의 제제는 각각의 성분 (A) 내지 성분 (H)의 총 중량을 기준으로, 하기의 성분들:
(A) 10 내지 99 중량% 비율의, 수분-경화성 화합물로서, 여기서 수분-경화성 화합물은 하나 이상의 2작용성 알콕시 실란 (A1) 및 선택적으로 1작용성 알콕시 실란 (A2)을 포함하는, 수분-경화성 화합물;
(B) 0.0001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 1 중량% 비율의, 하나 이상의 산 발생제 (B);
(C) 0.3 내지 15 중량% 비율의, 하나 이상의 카르보닐 화합물 (C);
(D) 0 내지 30 중량% 또는 바람직하게는 0.1 내지 20 중량% 비율의, 하나 이상의 알코올 (D); 및
(H) 0 내지 70 중량% 비율의, 하나 이상의 첨가제;
를 포함한다.
바람직하게는, 제1 실시 형태의 본 발명에 따른 조성물은 실란 가교를 위한 촉매 (E)가 없고, 방사선-경화성 화합물 (F) 또는 라디칼 광개시제 (G)를 함유하지 않는다. 따라서, 조성물은 바람직하게는 성분 (A), 성분 (B), 성분 (C) 및 선택적으로 성분 (D) 및 성분 (H) 중 적어도 하나로 구성된다.
제2의 바람직한 실시 형태에서 본 발명에 따른 1액형 조성물의 제제는 각각의 성분 (A) 내지 성분 (H)의 총 중량을 기준으로, 하기의 성분들:
(A) 10 내지 99 중량% 비율의, 수분-경화성 화합물 (A)로서, 여기서 수분-경화성 화합물은 하나 이상의 2작용성 알콕시 실란 (A1) 및 선택적으로 1작용성 알콕시 실란 (A2)을 포함하는, 수분-경화성 화합물 (A);
(B) 0.0001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 1 중량% 비율의, 하나 이상의 산 발생제 (B);
(C) 0.3 내지 15 중량% 비율의, 하나 이상의 카르보닐 화합물 (C);
(D) 0 내지 30 중량% 또는 바람직하게는 0.1 내지 20 중량% 비율의, 하나 이상의 알코올 (D); 및
(E) 0.01 내지 20 중량% 비율의, 하나 이상의 촉매 (E)로서, 바람직하게는 산 촉매인, 하나 이상의 촉매 (E); 및
(H) 0 내지 70 중량% 비율의, 하나 이상의 첨가제;
를 포함한다.
제3의 바람직한 실시 형태에서 본 발명에 따른 1액형 조성물의 제제는 각각의 성분 (A) 내지 성분 (H)의 총 중량을 기준으로, 하기의 성분들:
(A) 10 내지 90 중량% 비율의, 수분-경화성 화합물 (A)로서, 여기서 수분-경화성 화합물은 하나 이상의 2작용성 알콕시 실란 (A1) 및 선택적으로 1작용성 알콕시 실란 (A2)을 포함하는, 수분-경화성 화합물 (A);
(B) 0.0001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 1 중량% 비율의, 하나 이상의 산 발생제 (B);
(C) 0.3 내지 15 중량% 비율의, 하나 이상의 카르보닐 화합물 (C);
(D) 0 내지 20 중량% 또는 바람직하게는 0.1 내지 20 중량% 비율의, 하나 이상의 알코올 (D); 및
(E) 0 내지 20 중량% 비율의, 실란 가교를 위한 하나 이상의 촉매 (E)로서, 바람직하게는 산 촉매인, 실란 가교를 위한 하나 이상의 촉매 (E);
(F) 5 내지 50 중량%의, (메트)아크릴레이트를 기재로 하는 하나 이상의 방사선-경화성 화합물 (F);
(G) 0.01 내지 5 중량% 비율의, 라디칼 중합을 위한 하나 이상의 광개시제 (G); 및
(H) 0 내지 70 중량% 비율의, 하나 이상의 첨가제;
를 포함한다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 각각의 실시 형태에 대해 상기에 나열된 성분들로 구성된다.
놀랍게도, 본 발명에 따른 조성물은 추가적인 알코올 및/또는 티올 (D) 없이도 두께가 두꺼운 층에서도 이미 빠른 수분-경화를 나타내는 것으로 보여주었다. 성분 (A)의 알콕시 실란기의 방사선-유도 가수분해는 알콕시기로부터 각각의 알코올을 방출하며, 이것은 후속적으로 카르보닐 화합물 (C)의 아세탈화 또는 케탈화에 이용 가능하다.
본 발명에 따른 조성물의 수분-경화는 알코올 및/또는 티올을 별도의 성분 (D)로서 첨가함으로써 추가적으로 가속화될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 용도
본 발명에 따른 조성물은 화학 방사선에 의해 활성화되고 수분에 의해 경화 될 수 있다. 종래 기술과 달리, 본 발명에 따른 조성물의 경화는 주변의 수분 및 적용된 층 두께와 거의 무관하다. 종래 기술과는 반대로, 상기 조성물은 추가적인 열의 유입 없이 조사에 의해 물이 효율적으로 방출될 수 있다는 특징이 있다. 물론, 가교 반응은 선택적인 열 유입에 의해 더욱 가속화될 수 있다.
조사에 의한 성분 (B)로부터의 산의 방출은 조성물 중에서 수분 방출과 수분-경화성 알콕시 실란기의 가교 양자 모두를 유도한다.
조사 후, 상기 조성물은 실온에서 7일 이내에 경화되고; 외부 수분의 유입이 없더라도 바람직하게는 24시간 이내, 특히 바람직하게는 6시간 이내에 경화된다.
경화 속도는 주로 수분-경화성 성분 (A)의 모든 실란-결합 알콕시기와 성분 (C) 중의 카르보닐 화합물의 당량(equivalents)에 따라 달라진다. 본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 성분 (A)의 실란-결합 알콕시기의 당량 당, 0.01 내지 3 당량의 카르보닐기, 바람직하게는 0.05 내지 2 당량의 카르보닐기, 특히 바람직하게는 0.1 내지 1 당량의 카르보닐기가 성분 (C) 중에 존재하도록 제제화된다.
바람직하게는, 조성물은 기판 상에 적용 직전 또는 적용한 후에 활성화된다.
적용 직전에 조성물의 활성화는 유동 활성화 장치에서 조성물의 조사에 의해 수행될 수 있다. 조사에 의한 조성물의 유동 활성화에 적합한 도징 장치(dosing devices)는 DE 3 702 999 A호 및 DE 10 2007 017 842 A1호에 설명되어 있다.
도징 장치에서 활성화 후 조성물의 체류 시간(dwelling time)이 활성화된 조성물의 오픈 타임(open time)을 초과하지 않는 것이 필수적이다.
바람직한 실시 형태에 따르면, 본 발명에 따른 조성물을 사용하여 기판을 본딩, 몰딩, 실링 및 코팅하는 방법은 하기 단계들을 포함한다:
a) 제1 기판 상에 조성물을 도징하는(dosing) 단계;
b) 산 발생제로부터 산을 방출하기에 충분히 긴 시간 동안 적절한 파장의 화학 방사선을 조사하여 조성물을 활성화시키는 단계;
c) 선택적으로 기판 복합체(substrate composite)를 형성하는 동안 오픈 타임 내에 활성화된 조성물에 제2 기판을 공급하는 단계; 및
d) 기판 상에 또는 기판 복합체에서 조성물의 제1 강도가 달성될 때까지, 대기 시간(waiting time)을 유지하는 단계.
기재된 방법은 또한 유동 활성화 장치 또는 방사선 투과성 저장 용기에서 수행될 수 있다. 이러한 경우, 단계 b)는 단계 a) 이전에 수행된다. 상기 장치 또는 저장 용기에 조사된 조성물을 너무 오랫동안 방치하지 않는 것이 중요한데, 그렇지 않으면 상기 장치에 수분이 유입되지 않아도 심지어 조성물이 경화될 수 있다.
하나 이상의 방사선 투과성인 2개 이상의 접합 파트너(join partners)의 경우, 활성화 단계 b)는 단계 c) 이후에도 또한 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 임의의 기판의 본딩, 몰딩, 실링 및 코팅을 위한 접착제 또는 실란트(sealant)로서 특히 적합하다.
사용된 측정 방법 및 정의
조사 (Irradiation)
조사를 위해, 460 nm 파장의 DELO Industrie Klebstoffe GmbH & Co. KGaA사의 DELOLUX 20 LED 램프가 사용되었다. 조성물은 200 ± 20 mW/cm2의 강도로 조사되었다. 카트리지는 각각 60초 동안 양면에서 조사되었다.
경화
"가교" 또는 "경화"는 겔화점 이상의 중합, 축합 또는 부가 반응으로 정의된다. 겔화점은 저장 탄성률 G '가 손실 탄성률 G "와 동일한 지점이다. 경화(고체 vs. 액체)를 평가하기 위해, 카트리지에서 활성화된 조성물을 짜내고(squeezed out) 플라스틱 스파출라로 햅틱 테스트를 실시하였다. 조성물을 더 이상 짜낼 수 없는 경우, 이쑤시개를 사용하여 카트리지 팁을 통해 조성물의 반죽질기(consistency)를 테스트하였다.
실온
실온은 23 ± 2℃로 정의된다.
점도
조성물의 점도는 측정 갭(measuring gap)이 200 μm인 표준화된 PP20 측정 콘을 갖는 Anton Paar사의 Physica MCR302 레오미터를 사용하여 23℃에서 측정하였으며, 10/초의 전단 속도로 측정하였다. 저장 안정성을 평가하기 위해, 점도 측정은 빛과 수분을 제외하고 실온에서 조성물을 7일 동안 저장한 후 실온에서 반복하였다. 시작 값과 비교하여 10% 미만의 점도 변화는 우수함(excellent)(++), 25% 미만의 점도 변화는 매우 양호(very good)(+), 50% 미만의 점도 변화는 양호(good)(o), 100% 미만의 점도 변화는 충분(sufficient)(-), 100% 초과의 점도 변화는 불충분(insufficient)(--)으로 평가하였다.
카트리지
PPG Industries사의 방사선 투과성 5 ml SEMCO 카트리지가 카트리지로서 사용되었다.
수분 방출의 검출 및 정도
수분 방출 정도는 DIN 53715에 따라 측정되었다. 이 목적을 위해, 벤즈알데히드 15 중량부, 메탄올 36.2 중량부, 광잠재성 산 0.1 중량부 (Irgacure PAG 103) 및 톨루엔 48.7 중량부로 구성된 테스트 시스템을 제조하였는데, 500 nm 미만의 광을 차단하였고, 성분들을 서로 혼합하였다. 이 시스템에는 수분 경화성 화합물이 없다. 투명한 황색 용액은 우선 사전 조사없이 Karl-Fischer 분석을 실시하였다. 그 다음 샘플에 400 nm 파장 (DELOLUX 80 조사 램프)과 1000 mW/cm²의 강도의 빛을 4분간 교반하면서 조사하였다. 그 직후 및 2시간 후의 양자 모두에서 조사된 샘플에 대해 추가의 Karl-Fischer 분석을 수행하였다. 조사 전 수분 함량은 0.11 중량%이었으며; 조사 직후 1.46 중량%이었고, 2시간 후에는 1.54 중량%이었다.
이것은 광잠재성 산, 카르보닐 화합물 및 알코올을 포함하는 시스템 중에서 조사에 의해 상당한 양의 물이 생성될 수 있음을 분명히 하였다.
제조예
하기의 성분들을 사용하여 하기의 실시예에 따라 1액형 조성물을 제조하였다:
성분 (A): 수분-경화성 화합물
(A1): 2작용성 실란 화합물
(A1-1) Geniosil STP-E 10 (Wacker Chemie AG사로부터 입수 가능함)
(A1-2) Geniosil STP-E 15 (Wacker Chemie AG사로부터 입수 가능함)
(A2): 1작용성 실란 화합물
(A2-1) Geniosil XL 33 (Wacker Chemie AG사로부터 입수 가능함)
(A2-2) Dynasylan VTMO (Evonik Industries AG사로부터 입수 가능함)
(AS-3) Geniosil XL 63 (Wacker Chemie AG사로부터 입수 가능함)
성분 (B): 산 발생제
(B1) Irgacure PAG 121 (BASF SE사로부터 입수 가능함)
성분 (C): 카르보닐 화합물
(C1) 벤즈알데히드 (Sigma Aldrich사로부터 입수 가능함)
(C2) 아세톤 (Sigma Aldrich사로부터 입수 가능함)
성분 (D): 알코올, 티올
(D1) 메탄올 (Sigma Aldrich사로부터 입수 가능함)
(D2) 1,3-프로판디올 (Sigma Aldrich사로부터 입수 가능함)
성분 (E): 촉매
(E1) 아크릴산 (Sigma Aldrich사로부터 입수 가능함)
성분 (F): 방사선-경화성 화합물
(F1) 이소보르닐 아크릴레이트 (IBOA; Sartomer사로부터 입수 가능함)
성분 (G): 라디칼 광개시제
(G1) Speedcure TPO-L (Lambson사로부터 입수 가능함)
성분 (H): 첨가제
(H1) 가소제: OXSOFT TOTM (Oxea사로부터 입수 가능함)
(H2) 안정제: Irganox 1135 (BASF SE사로부터 입수 가능함)
본 발명에 따른 조성물을 제조하기 위하여, 500 nm 미만 파장의 빛을 차단하면서 성분 (A)를 제공하였고, 산 발생제 (B)를 첨가하여 50℃에서 15분 동안 용해시켰다. 마지막으로, 각각의 다른 성분들을 추가하였고 디졸버(dissolver)에 편입시켰다. 유사한 방식으로 비교예를 제조하였다.
본 발명에 따른 조성물 및 비교예의 조성을 하기 표에 나타내었다. 비율은 성분 (A) 내지 성분 (H)로 이루어진 조성물의 총 중량을 기준으로, 중량 백분율로 표시되었다.
본 발명에 따른 조성물의 제제
1은 DE 10 2016 111 590 A1를 참조
표 1에서, 본 발명에 따른 실시예 3 내지 실시예 9는 성분 (C)로서 알데히드를 함유한다. 조사 후, 이들 제제는 또한 외부 수분 유입이 배제되는 동안 최대 7일 이내에 경화되는 반면, 비교예 1 및 비교예 2는 외부 수분의 유입 없이 심지어 7일 후에도 액체 상태를 유지한다. 경화 속도는 첨가된 알데히드의 양에 의해 제어될 수 있다. 실시예 10 내지 실시예 12에 나타낸 바와 같이, 케톤은 또한 경화를 허용하는 반면 외부 수분 유입은 배제된다. α-실란 폴리머 외에도 수분 경화성 화합물로 γ-실란 폴리머만을 포함하는 조성물을 사용할 수 있다(실시예 13 참조).
표 2는 성분 (D)로서 알코올 첨가에 의한 경화의 촉진을 나타내었다. 본 발명에 따른 실시예 15 및 실시예 16의 1작용성 알코올은 본 발명에 따른 실시예 7과는 대조적으로 약간의 가속을 나타내지만, 시클릭 아세탈을 형성할 수 있는 2작용성 알코올 (D2)에 의한 가속 효과는 실시예 17 내지 실시예 20에서 명확하게 볼 수있다. 카르보닐 화합물 (C)의 부재 하에 알코올을 첨가하는 것은 수분 경화의 촉진을 나타내지 않는다(비교예 14).
놀랍게도, 저장 안정성을 과도하게 저하시키지 않으면서 실시예 21에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 조성물에서 성분 (E)로서 비-잠재성 산을 사용하는 것도 가능하다(표 3 참조). 다시, 조사에 의해 조성물을 활성화시킨 후 1시간 이내에 경화를 달성할 수 있으며 외부 수분의 유입은 배제된다. 그러나, 이 조성물은 조사 없이, 그러나 외부 수분이 유입한 후에도 또한 경화된다.
실시예 22의 조성물은 방사선-경화성 화합물 (F) 및 광개시제 (G)를 추가로 함유한다. 방사선-경화성 화합물 (F)의 비율은 조사 직후 조성물이 여전히 액체 상태이고, 다음 30분 이내에 경화되도록 선택되는 반면, 성분 (C)로서 카르보닐 화합물을 포함하지 않는 비교예 23의 조성물은 이러한 조건 하에서 액체 상태로 유지된다. 물론, 당업자는 조성물이 라디칼 공정에 의해 직접 경화될 수 있고, 최종 강도가 달성될 때 까지 이미 겔화된 재료 중에서의 수분 경화를 진행하도록 방사선-경화성 화합물 (F)의 비율을 또한 선택할 수 있음을 인식한다.
Claims (14)
- 알콕시 실란의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 수분-경화성(moisture-curable) 화합물 (A);
화학 방사선(actinic radiation)에 노출되었을 때 산을 방출하는, 하나 이상의 산 발생제 (B); 및
알데히드, 케톤, 헤미아세탈 또는 헤미케탈의 군으로부터 선택된, 하나 이상의 카르보닐 화합물 및/또는 카르보닐 유도체 (C);
를 포함하는, 화학 방사선 조사에 의해 활성화될 수 있는 수분-경화성 1액형 조성물(one-pack composition). - 청구항 1에 있어서, 1액형 조성물은 조사에 의해 조성물을 활성화시킨 후 외부 수분(external moisture)의 유입(ingress) 없이 경화되는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 성분 (A)의 알콕시 실란이 적어도 2작용성(bifunctional) 알콕시 실란, 바람직하게는 2작용성 α-알콕시 실란을 포함하는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 1액형 조성물이 실란 가교(silane crosslinking)를 위한 하나 이상의 촉매 (E), 바람직하게는 산 촉매를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 1액형 조성물이 하나 이상의 방사선-경화성 화합물 (F) 및 하나 이상의 라디칼 광개시제 (G)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 1액형 조성물이 알코올 및/또는 티올 (D), 바람직하게는 지방족 알코올 및/또는 지방족 티올, 더 바람직하게는 디알코올 및/또는 디티올, 특히 바람직하게는 1,2-디알코올, 1,3-디알코올, 1,2-디티올 또는 1,3-디티올, 및 이들의 혼합물의 군으로부터 하나 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물은 각각의 성분 (A) 내지 성분 (H)의 총 중량을 기준으로,
(A) 10 내지 99 중량% 비율의, 하나 이상의 수분-경화성 화합물로서, 여기서 수분-경화성 화합물은 하나 이상의 2작용성 알콕시 실란 (A1) 및 선택적으로 1작용성 알콕시 실란 (A2)을 포함하는, 하나 이상의 수분-경화성 화합물;
(B) 0.0001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 1 중량% 비율의, 하나 이상의 산 발생제;
(C) 0.3 내지 15 중량% 비율의, 하나 이상의 카르보닐 화합물 및/또는 카르보닐 유도체;
(D) 0 내지 30 중량% 또는 바람직하게는 0.1 내지 20 중량% 비율의, 알코올 및/또는 티올의 군으로부터의 하나 이상의 화합물;
(E) 0 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 비율의, 실란 가교를 위한 하나 이상의 촉매로서, 더 바람직하게는 산 촉매의 형태인, 실란 가교를 위한 하나 이상의 촉매;
(F) 0 내지 50 중량%, 바람직하게는 5 내지 50 중량% 비율의, 하나 이상의 방사선-경화성 화합물;
(G) 0 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량% 비율의, 하나 이상의 라디칼 광개시제; 및
(H) 0 내지 70 중량% 비율의, 하나 이상의 첨가제 (H)로서, 바람직하게는 충전제, 착색제, 안료, 감광제(photosensitizers), 안티-에이징제(anti-ageing agents), 형광제, 안정제, 수분 제거제(moisture scavengers), 촉진제, 접착 촉진제, 가교제, 유동 개선제(flow improvers), 습윤제, 요변성제(thixotropic agents), 희석제, 연화제(flexibilizers), 중합성 증점제(polymeric thickeners), 난연제, 부식 억제제, 가소제 및 점착 부여제(tackifiers), 단독 또는 이들 서로의 조합의 군으로부터 선택되는, 하나 이상의 첨가제;
를 포함하는, 1액형 조성물. - 청구항 7에 있어서, 상기 조성물이 성분 (A), 성분 (B), 성분 (C) 및 선택적으로 성분 (D) 및 성분 (H) 중 하나 이상으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 7에 있어서, 상기 1액형 조성물이 5 내지 50 중량% 비율의 하나 이상의 방사선-경화성 화합물 (F) 및 0.01 내지 5 중량% 비율의 라디칼 광개시제 (G)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서, 조사에 의해 활성화된 후, 조성물이 7일 미만, 바람직하게는 24시간 이내 그리고 특히 바람직하게는 최대(at most) 6시간 이내에 경화되는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서, 실온에서 7일 저장 후에 1액형 조성물의 점도가 100% 미만 만큼 변하는 것을 특징으로 하는, 1액형 조성물.
- 기판(substrates)의 본딩(bonding), 캐스팅(casting), 몰딩(molding), 실링(sealing) 및 코팅(coating)을 위한 접착제 또는 실란트(sealant)로서의 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 1액형 조성물의 용도.
- 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 1액형 조성물을 사용하여 기판을 본딩, 몰딩, 실링 및 코팅하는 방법으로서, 하기 단계들:
a) 제1 기판 상에 1액형 조성물을 도징하는(dosing) 단계;
b) 산 발생제 (B)로부터 산을 방출하기에 충분히 긴 시간 동안 적절한 파장의 화학 방사선을 조사하여 조성물을 활성화시키는 단계;
c) 선택적으로 기판 복합체(substrate composite)를 형성하는 동안 오픈 타임(open time) 내에 활성화된 1액형 조성물에 제2 기판을 공급하는 단계; 및
d) 기판 상에 또는 기판 복합체에서 조성물의 제1 강도가 달성될 때까지, 대기 시간(waiting time)을 유지하는 단계;
을 포함하는, 방법. - 청구항 13에 있어서, 1액형 조성물의 활성화가 유동 장치(flow apparatus)에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018127854.3 | 2018-11-08 | ||
DE102018127854.3A DE102018127854A1 (de) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | Feuchtigkeitshärtbare Einkomponentenmasse und Verfahren zum Fügen, Vergießen und Beschichten unter Verwendung der Masse |
PCT/EP2019/079472 WO2020094453A1 (de) | 2018-11-08 | 2019-10-29 | FEUCHTIGKEITSHÄRTBARE EINKOMPONENTENMASSE UND VERFAHREN ZUM FÜGEN, VERGIEßEN UND BESCHICHTEN UNTER VERWENDUNG DER MASSE |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210088647A true KR20210088647A (ko) | 2021-07-14 |
Family
ID=68424877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217017213A KR20210088647A (ko) | 2018-11-08 | 2019-10-29 | 수분-경화성 1액형 조성물 및 그 조성물을 사용하여 접합, 캐스팅 및 코팅하는 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11970638B2 (ko) |
EP (1) | EP3877480A1 (ko) |
KR (1) | KR20210088647A (ko) |
CN (1) | CN112969767B (ko) |
DE (1) | DE102018127854A1 (ko) |
WO (1) | WO2020094453A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112795347A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-05-14 | 广州回天新材料有限公司 | 一种可紫外光和湿气固化胶粘剂及其制备方法 |
JPWO2023058602A1 (ko) * | 2021-10-04 | 2023-04-13 | ||
DE102021006273B4 (de) | 2021-12-21 | 2024-06-13 | Lohmann Gmbh & Co. Kg | Indikatormischung |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3979344A (en) | 1974-11-19 | 1976-09-07 | Inmont Corporation | Vulcanizable silicon terminated polyurethane polymer composition having improved cure speed |
DE3702999C2 (de) | 1987-02-02 | 2003-03-06 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Verarbeitung von UV-härtbaren Reaktionsharzmassen und deren Anwendung |
DE4237468A1 (de) | 1992-11-06 | 1994-05-11 | Bayer Ag | Alkoxysilan- und Aminogruppen aufweisende Verbindungen |
TW460509B (en) | 1996-07-12 | 2001-10-21 | Ciba Sc Holding Ag | Curing process for cationically photocurable formulations |
EP1124832B1 (en) | 1998-10-29 | 2002-11-20 | Ciba SC Holding AG | Oxime derivatives and the use thereof as latent acids |
SG98433A1 (en) | 1999-12-21 | 2003-09-19 | Ciba Sc Holding Ag | Iodonium salts as latent acid donors |
US7230121B2 (en) | 2001-07-19 | 2007-06-12 | Lamberti Spa | Sulfoniun salts, methods for their preparation and use thereof as photoinitiators for radiation curable systems |
DE10139132A1 (de) | 2001-08-09 | 2003-02-27 | Consortium Elektrochem Ind | Alkoxyvernetzende einkomponentige feuchtigkeitshärtende Massen |
US7153923B2 (en) | 2001-08-28 | 2006-12-26 | Consortium Fur Elektrochemische Industrie Gmbh | Rapid-cure, one-component mixtures, which contain alkoxysilane-terminated polymers |
GB0204467D0 (en) | 2002-02-26 | 2002-04-10 | Coates Brothers Plc | Novel fused ring compounds, and their use as cationic photoinitiators |
ATE422525T1 (de) * | 2003-05-20 | 2009-02-15 | Dsm Ip Assets Bv | Verfahren zur herstellung von nanostrukturierten oberflächenbeschichtungen, deren beschichtungen und gegenständen enthaltend die beschichtung |
US7060750B2 (en) | 2004-04-28 | 2006-06-13 | Bayer Materialscience Llc | Moisture-curable, polyether urethanes and their use in sealant, adhesive and coating compositions |
US20070219285A1 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-20 | 3M Innovative Properties Company | Uv b-stageable, moisture curable composition useful for rapid electronic device assembly |
EP2122638B1 (en) * | 2006-12-19 | 2012-11-07 | Dow Global Technologies LLC | Improved composites and methods for conductive transparent substrates |
DE102007017842B4 (de) | 2007-04-16 | 2008-12-18 | Continental Automotive Gmbh | Vorrichtung zum Aktivieren einer polymerisierbaren Masse |
MX2010000556A (es) | 2007-07-13 | 2010-03-15 | Dow Global Technologies Inc | Metodo in-situ para generar a traves de reacciones de deshidratacion de cierre de anillo de compuestos organicos, agua para reticulacion por humedad de poliolefinas. |
US8460770B2 (en) | 2007-11-01 | 2013-06-11 | Dow Global Technologies Llc | In situ moisture generation and use of polyfunctional alcohols for crosslinking of silane-functionalized resins |
CN102245154B (zh) * | 2008-10-15 | 2014-09-03 | 3M创新有限公司 | 具有荧光颜料的牙科用组合物 |
DE102010010598A1 (de) | 2010-03-08 | 2011-09-08 | Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa | Dual härtende Masse und deren Verwendung |
JP6035017B2 (ja) | 2010-10-04 | 2016-11-30 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 下層組成物および下層を像形成する方法 |
DE102011002440A1 (de) | 2011-01-04 | 2012-07-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Vernetzung feuchtevernetzbarer Polymere mit einem Wasserspendersystem |
CN103998427A (zh) | 2011-12-07 | 2014-08-20 | 巴斯夫欧洲公司 | 肟酯光敏引发剂 |
US9315695B2 (en) * | 2014-06-26 | 2016-04-19 | Dymax Corporation | Actinic radiation and moisture dual curable composition |
AT517640A2 (de) | 2015-09-02 | 2017-03-15 | Technische Universität Wien | Verfahren zur Frontalpolymerisation |
DE102015222028A1 (de) * | 2015-11-09 | 2017-05-11 | Tesa Se | Kationisch polymerisierbare Polyacrylate enthaltend Alkoxysilangruppen und deren Verwendung |
EP3184569B1 (de) | 2015-12-23 | 2018-09-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Härtungsinitiatoren für die kationische polymerisation |
DE102016111590A1 (de) | 2016-06-24 | 2017-12-28 | Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa | Einkomponentenmasse auf Basis von Alkoxysilanen und Verfahren zum Fügen oder Vergießen von Bauteilen unter Verwendung der Masse |
WO2018119067A1 (en) * | 2016-12-20 | 2018-06-28 | Basf Se | Photopolymer ceramic dispersion |
US20230331890A1 (en) * | 2021-05-25 | 2023-10-19 | Mighty Buildings, Inc. | Composition and production method for 3d printing construction material |
-
2018
- 2018-11-08 DE DE102018127854.3A patent/DE102018127854A1/de active Pending
-
2019
- 2019-10-29 EP EP19797231.8A patent/EP3877480A1/de active Pending
- 2019-10-29 WO PCT/EP2019/079472 patent/WO2020094453A1/de unknown
- 2019-10-29 US US17/278,991 patent/US11970638B2/en active Active
- 2019-10-29 KR KR1020217017213A patent/KR20210088647A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-10-29 CN CN201980073557.9A patent/CN112969767B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11970638B2 (en) | 2024-04-30 |
WO2020094453A1 (de) | 2020-05-14 |
EP3877480A1 (de) | 2021-09-15 |
DE102018127854A1 (de) | 2020-05-14 |
CN112969767A (zh) | 2021-06-15 |
US20220033697A1 (en) | 2022-02-03 |
CN112969767B (zh) | 2023-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11970638B2 (en) | Moisture-curable one-pack composition and method for joining, casting and coating using the composition | |
KR101225908B1 (ko) | 양이온성 및/또는 라디칼 경로에 의해 조사되는 경우 중합 및/또는 가교결합할 수 있는 조성물 | |
CN109312192B (zh) | 基于烷氧基硅烷的单件组合物和使用该组合物接合或包封组件的方法 | |
JP2016527346A (ja) | シリル基を含み、向上した貯蔵安定性を有する硬化性組成物 | |
KR102672356B1 (ko) | 경화성 조성물, 경화성 조성물의 제조 방법, 경화물, 경화성 조성물의 사용 방법, 및 광 디바이스 | |
RU2675555C2 (ru) | Новые системы связывающих агентов | |
WO2007022217A1 (en) | Mercaptan-hardened epoxy polymer compositions and processes for making and using same | |
CN107531612B (zh) | 用于uv可固化的压敏粘合剂中的聚合物光引发剂或可聚合的光引发剂 | |
KR101102311B1 (ko) | 광경화성 코팅 조성물, 그 제조방법 및 이를 이용한 금속 표면의 코팅방법 | |
DK3201261T3 (en) | PROCEDURE FOR Curing HARDWARE COMPOSITIONS | |
CN113088240B (zh) | 一种反应型聚氨酯热熔胶及其制备方法 | |
CN103045080A (zh) | 缩合反应固化类型的有机硅剥离涂料组合物 | |
JP2022530543A (ja) | コーティングのための硬化性ポリ(ポリフェニレンエーテル)オリゴマー組成物 | |
KR102576756B1 (ko) | 아릴 화합물 및 그 제조 방법 | |
US3640923A (en) | Polyenes cured with polythiols with iron compounds and oxime ester as accelerators | |
TWI596160B (zh) | 硬化性樹脂組成物 | |
CA2578032A1 (en) | Radiation-sensitive composition | |
CN112552483B (zh) | 一种自感光环氧甲基丙烯酸酯树脂及其合成方法 | |
CN113227213B (zh) | 催化组合物和具有延长的适用期的基于硫醇烯的组合物 | |
US3616041A (en) | Process for adhering two substrates with a liquid curable composition | |
JPS6158085B2 (ko) | ||
KR101986298B1 (ko) | 유무기 하이브리드 복합체 조성물 및 이의 제조방법 | |
CN118696078A (zh) | 用于密封剂的sh-封端的聚二硫代缩醛 | |
KR20240145029A (ko) | 실란트에 사용하기 위한 sh-종결된 폴리디티오아세탈 | |
CN118696100A (zh) | 化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal |