KR20210081500A - A cup for receiving chemical liquid and a substrate cleaning apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a chemical liquid receiving cup and a substrate cleaning device including the same to reduce internal contamination by fumes. According to the present invention, the substrate cleaning device comprises: a chuck for supporting a substrate; a nozzle for spraying a treatment liquid onto the substrate; a cup-shaped body including a chemical liquid receiving cup in which a nozzle stands by, wherein the chemical liquid receiving cup has an open upper end and a discharge path, through which the treatment liquid is discharged, at a lower end; and a blocking film installed inside the body to block fumes come from the discharge path.

Description

약액받이컵 및 이를 포함하는 기판세정장치{A CUP FOR RECEIVING CHEMICAL LIQUID AND A SUBSTRATE CLEANING APPARATUS HAVING THE SAME}Chemical receiving cup and substrate cleaning device including same {A CUP FOR RECEIVING CHEMICAL LIQUID AND A SUBSTRATE CLEANING APPARATUS HAVING THE SAME}

본 발명은 약액받이컵 및 이를 포함하는 기판세정장치에 관한 것으로서, 보다 공정불량을 저감할 수 있는 약액받이컵 및 이를 포함하는 기판세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical receiving cup and a substrate cleaning apparatus including the same, and to a chemical receiving cup capable of further reducing process defects and a substrate cleaning apparatus including the same.

반도체 장치 또는 디스플레이 장치를 제조할 때에는, 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 박막증착, 세정 등 다양한 공정이 실시된다.When manufacturing a semiconductor device or a display device, various processes such as photography, etching, ashing, ion implantation, thin film deposition, and cleaning are performed.

일부공정에서 기판 세정을 위한 기판세정장치는 일반적으로 기판을 지지하는 지지 유닛과, 기판 상부에 처리액을 분사하는 노즐과, 노즐이 대기하는 약액받이컵을 포함한다. A substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate in some processes generally includes a support unit for supporting a substrate, a nozzle for spraying a processing liquid on the substrate, and a chemical receiving cup in which the nozzle waits.

약액받이컵은 노즐 대기시 노즐이 위치하는 위치이며, 대기 시의 노즐로부터 분사되는 처리액을 수용하고, 이를 배출한다. 한편, 약액받이컵 내부에 수용되는 처리액으로부터 발생되는 흄(fume)이 약액받이컵 내부 또는 대기하는 노즐을 오염시킬 수 있다. 그리고 오염된 약액받이컵은 대기하는 노즐을 오염시킬 수 있다. 노즐이 오염되는 경우, 기판 상에 처리액 토출 시 기판에 공정불량을 발생시킬 수 있다.The chemical receiving cup is a position at which the nozzle is positioned when the nozzle is in standby, and receives the treatment liquid sprayed from the nozzle in standby and discharges it. On the other hand, fumes generated from the treatment liquid accommodated in the chemical receiving cup may contaminate the inside of the chemical receiving cup or a nozzle in standby. In addition, the contaminated chemical receiving cup may contaminate the waiting nozzle. If the nozzle is contaminated, a process defect may occur on the substrate when the processing liquid is discharged onto the substrate.

본 발명은 약액받이컵의 내부 오염을 저감할 수 있는 약액받이컵 및 이를 포함하는 기판처리장치를 제공함에 그 목적이 있다. An object of the present invention is to provide a chemical receiving cup capable of reducing internal contamination of the chemical receiving cup and a substrate processing apparatus including the same.

본 발명의 실시예에 따른 기판세정장치의 노즐이 대기하는 약액받이컵, 상단은 개방되고, 하단에 처리액이 배출되는 배출로가 구비되는 컵 형상의 몸체; 및 상기 몸체 내부에 구비되어 상기 배출로에서 올라오는 흄을 차단하는 차단막을 포함한다. A chemical receiving cup in which the nozzle of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention waits, an upper end is open, and a cup-shaped body having a discharge path through which the treatment liquid is discharged at the lower end; and a blocking film provided inside the body to block the fumes rising from the discharge path.

또한 실시예에 있어서, 상기 차단막은 중심부와, 상기 중심부에서 하향 경사진 형태로 연장되는 가장자리부를 포함하고, 상기 가장자리부에는 상기 처리액이 배출되는 배출홀이 구비된다. Also in an embodiment, the blocking film includes a central portion and an edge portion extending downwardly from the central portion, and the edge portion is provided with a discharge hole through which the treatment liquid is discharged.

또한 실시예에 있어서, 상기 몸체의 일측에 세정액이 공급되는 공급홀이 구비되고, 상기 몸체내부에 구비되어 상기 공급홀로부터 공급되는 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분배하는 세정액 분배부를 포함한다.In addition, in an embodiment, a supply hole through which the cleaning liquid is supplied is provided on one side of the body, and a cleaning liquid distribution part is provided inside the body to distribute the cleaning liquid supplied from the supply hole to the inner front surface of the body.

또한 실시예에 있어서, 상기 세정액 분배부는 상기 몸체 내부 형상에 대응되는 원통형상으로 구비되어 상기 몸체의 상단에 삽입되어 고정되고, 상기 세정액 분배부는, 상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 구비되어, 상기 세정액 분배홀로부터 공급되는 세정액을 상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 분배하는 세정액 분배유로와, 상기 세정액 분배유로의 각 지점으로부터 분기되어 형성되며, 상기 세정액 분배유로 내의 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분사하는 복수의 세정액 분사유로를 포함한다.In addition, in an embodiment, the cleaning liquid distribution part is provided in a cylindrical shape corresponding to the inner shape of the body and is inserted and fixed to the upper end of the body, and the cleaning liquid distribution part is provided along the outer circumference of the cleaning liquid distribution part, the cleaning liquid a cleaning liquid distribution passage for distributing the cleaning liquid supplied from the distribution hole along the outer periphery of the cleaning liquid distribution unit, and a plurality of branches formed by branching from each point of the cleaning liquid distribution passage, and spraying the cleaning liquid in the cleaning liquid distribution passage toward the inner front surface of the body of the cleaning liquid injection passage.

또한 실시예에 있어서, 상기 복수의 세정액 분사유로는 나사산 형태로 경사지게 구비된다.In addition, in an embodiment, the plurality of cleaning liquid injection passages are provided inclined in the form of a screw thread.

본 발명의 실시예에 따른 기판세정장치는, 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 기판 상에 처리액을 분사하는 노즐; 상기 노즐이 대기하는 약액받이컵을 포함하고, 상기 약액받이컵은, 상단은 개방되고, 하단에 처리액이 배출되는 배출로가 구비되는 컵 형상의 몸체; 및 상기 몸체 내부에 구비되어 상기 배출로에서 올라오는 흄을 차단하는 차단막을 포함한다.A substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a support unit for supporting a substrate; a nozzle for spraying the treatment liquid onto the substrate; a cup-shaped body having an open upper end and a discharge path through which the treatment liquid is discharged at the lower end, including a chemical receiving cup in which the nozzle waits; and a blocking film provided inside the body to block the fumes rising from the discharge path.

또한 실시예에 있어서, 상기 차단막은 중심부와, 상기 중심부에서 하향 경사진 형태로 연장되는 가장자리부를 포함하고, 상기 가장자리부에는 상기 처리액이 배출되는 배출홀이 구비된다.In addition, in an embodiment, the blocking film includes a central portion and an edge portion extending downwardly from the central portion, and the edge portion is provided with a discharge hole through which the treatment liquid is discharged.

또한 실시예에 있어서, 상기 몸체의 일측에 세정액이 공급되는 공급홀이 구비되고, 상기 몸체내부에 구비되어 상기 공급홀로부터 공급되는 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분배하는 세정액 분배부를 포함한다.In addition, in an embodiment, a supply hole through which the cleaning liquid is supplied is provided on one side of the body, and a cleaning liquid distribution part is provided inside the body to distribute the cleaning liquid supplied from the supply hole to the inner front surface of the body.

또한 실시예에 있어서, 상기 세정액 분배부는 상기 몸체 내부 형상에 대응되는 원통형상으로 구비되어 상기 몸체의 상단에 삽입되어 고정되고, 상기 세정액 분배부는, 상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 구비되어, 상기 세정액 분배홀로부터 공급되는 세정액을 상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 분배하는 세정액 분배유로와, 상기 세정액 분배유로의 각 지점으로부터 분기되어 형성되며, 상기 세정액 분배유로 내의 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분사하는 복수의 세정액 분사유로를 포함한다.In addition, in an embodiment, the cleaning liquid distribution part is provided in a cylindrical shape corresponding to the inner shape of the body and is inserted and fixed to the upper end of the body, and the cleaning liquid distribution part is provided along the outer circumference of the cleaning liquid distribution part, the cleaning liquid a cleaning liquid distribution passage for distributing the cleaning liquid supplied from the distribution hole along the outer periphery of the cleaning liquid distribution unit, and a plurality of branches formed by branching from each point of the cleaning liquid distribution passage, and spraying the cleaning liquid in the cleaning liquid distribution passage toward the inner front surface of the body of the cleaning liquid injection passage.

또한 실시예에 있어서, 상기 복수의 세정액 분사유로는 나사산 형태로 경사지게 구비된다.In addition, in an embodiment, the plurality of cleaning liquid injection passages are provided inclined in the form of a screw thread.

본 발명에 따르면, 약액받이컵의 몸체 내부에 차단막을 구비함으로써, 차단막이 배출로를 통해 올라오는 흄이 차단된다. 따라서 흄에 의한 약액받이컵의 몸체 내부벽면 오염이 저감된다. 약액받이컵의 몸체 내부 벽면 오염이 저감됨에 따라 노즐 오염 및 그에 따른 공정불량도 저감될 수 있다. According to the present invention, by providing a blocking film inside the body of the chemical receiving cup, the blocking film is blocked from rising through the discharge path. Therefore, the contamination of the inner wall surface of the body of the chemical receiving cup by the fumes is reduced. As the contamination of the inner wall surface of the body of the chemical receiving cup is reduced, the contamination of the nozzle and the resulting process defects may be reduced.

본 발명에 따르면, 약액받이컵의 몸체 내에 세정액을 분배 및 분사하는 세정액 분배부가 구비됨으로서, 몸체의 내측 전면이 세정액에 의한 클리닝될 수 있다. 약액받이컵 몸체의 내측 전면이 세정액에 의한 세정됨으로서, 약액받이컵 몸체 내부에 형성될 수 있는 흄이 제거되고, 흄에 의한 노즐의 오염이 저감될 수 있다. According to the present invention, since the cleaning liquid distribution part for dispensing and spraying the cleaning liquid is provided in the body of the chemical receiving cup, the inner front surface of the body can be cleaned by the cleaning liquid. As the inner front surface of the chemical receiving cup body is cleaned by the cleaning liquid, fumes that may be formed in the chemical receiving cup body are removed, and contamination of the nozzle by the fumes can be reduced.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판세정장치를 설명하기 위한 개략적 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판세정장치를 설명하기 위한 개략적 평면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 대기포트를 설명하기 위한 단면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 세정액 분배부를 설명하기 위한 사시도이다.1 is a schematic cross-sectional view for explaining a substrate cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic plan view for explaining the substrate cleaning apparatus shown in FIG. 1 .
3 is a cross-sectional view for explaining the standby port shown in FIG.
4 is a perspective view for explaining the cleaning solution distribution unit shown in FIG. 3 .

이하 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판세정장치를 설명하기 위한 개략적 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 기판세정장치를 설명하기 위한 개략적 평면도이다.1 is a schematic cross-sectional view for explaining a substrate cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view for explaining the substrate cleaning apparatus shown in FIG. 1 .

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판세정장치(800)는 용기(850), 지지 유닛(820), 승강 유닛(880), 처리액 공급 유닛(890), 그리고 대기 포트(900)을 포함한다. 1 and 2 , a substrate cleaning apparatus 800 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a container 850 , a support unit 820 , a lifting unit 880 , a processing liquid supply unit 890 , and an atmosphere. port 900 .

지지 유닛(820)은 로딩된 기판을 지지한다. 지지 유닛(820)은 기판을 음압으로 흡착하고 회전시킬 수 있는 스핀척일 수 있다.The support unit 820 supports the loaded substrate. The support unit 820 may be a spin chuck capable of adsorbing and rotating the substrate under negative pressure.

용기(850)는 내부에 처리공간을 제공한다. 용기(850)는 상부가 개방된 통 형상을 가지도록 제공된다, 용기(850)는 회수통(860) 및 안내벽(870)을 포함한다. 회수통(860)은 지지 유닛(820)을 감싸는 환형의 링 형상을 가지도록 제공된다. 회수통(860)은 제1 경사벽(862), 수직벽(864), 그리고 바닥벽(866)을 포함한다. 제1 경사벽(862)은 지지 유닛(820)을 둘러싸도록 제공된다. 제1 경사벽(862)은 지지 유닛(820)으로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사지게 제공된다. 수직벽(864)은 제1 경사벽(862)의 하단으로부터 아래 방향으로 연장된다. 수직벽(864)은 지면과 수직한 길이방향을 가질 수 있다. 바닥벽(866)은 수직벽(864)의 하단으로부터 수직한 방향으로 연장된다. 바닥벽(866)은 지지 유닛(820)의 중심축을 향하는 방향을 수평하게 제공된다. 바닥벽(866)에는 회수 라인(868)이 연결된다. 회수 라인(868)은 회수통(860)에 유입된 처리액을 외부로 배출한다. 배출된 처리액은 예를 들어, 처리액 재생 시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다. 회수 라인(868)은 바닥벽(866)에서 안내벽(870)과 수직벽(864) 사이에 위치될 수 있다.The vessel 850 provides a processing space therein. The container 850 is provided to have a cylindrical shape with an open top. The container 850 includes a recovery container 860 and a guide wall 870 . The recovery container 860 is provided to have an annular ring shape surrounding the support unit 820 . The recovery vessel 860 includes a first inclined wall 862 , a vertical wall 864 , and a bottom wall 866 . The first inclined wall 862 is provided to surround the support unit 820 . The first inclined wall 862 is provided to be inclined downward in a direction away from the support unit 820 . The vertical wall 864 extends downward from the lower end of the first inclined wall 862 . The vertical wall 864 may have a longitudinal direction perpendicular to the ground. The bottom wall 866 extends in a vertical direction from the lower end of the vertical wall 864 . The bottom wall 866 is provided horizontally in a direction toward the central axis of the support unit 820 . A return line 868 is connected to the bottom wall 866 . The recovery line 868 discharges the treatment liquid flowing into the recovery tank 860 to the outside. The discharged treatment liquid may be reused, for example, through a treatment liquid regeneration system (not shown). The return line 868 may be located between the guide wall 870 and the vertical wall 864 at the bottom wall 866 .

안내벽(870)은 제1 경사벽(862)과 바닥벽(866) 사이에 위치된다. 안내벽(870)은 회수통(860)의 내측에서 지지 유닛(820)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 안내벽(870)은 제2 경사벽(872) 및 사이벽(874)을 포함한다. 제2 경사벽(872)은 지지 유닛(820)을 감싸도록 제공된다. 제2 경사벽(872)은 지지 유닛(820)으로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사지게 제공된다. 제2 경사벽(872)과 제1 경사벽(862)의 사이공간은 처리액이 회수되는 회수공간(865)으로 제공된다. 제2 경사벽(872)의 상단은 제1 경사벽(862)의 상단과 상하방향으로 일치되게 제공될 수 있다. 사이벽(874)은 제2 경사벽(872)과 바닥벽(866)을 연결한다. 사이벽(874)은 제2 경사벽(872)의 상단으로부터 아래방향으로 연장된다.The guide wall 870 is positioned between the first inclined wall 862 and the bottom wall 866 . The guide wall 870 is provided in the shape of an annular ring surrounding the support unit 820 from the inside of the recovery container 860 . The guide wall 870 includes a second inclined wall 872 and an intervening wall 874 . The second inclined wall 872 is provided to surround the support unit 820 . The second inclined wall 872 is provided to be inclined downward in a direction away from the support unit 820 . A space between the second inclined wall 872 and the first inclined wall 862 is provided as a recovery space 865 in which the treatment liquid is recovered. The upper end of the second inclined wall 872 may be provided to coincide with the upper end of the first inclined wall 862 in the vertical direction. The interlayer wall 874 connects the second inclined wall 872 and the bottom wall 866 . The intervening wall 874 extends downward from the upper end of the second inclined wall 872 .

승강 유닛(880)은 용기(850)을 상하방향으로 승강 이동시킨다. 승강 유닛(880)은 용기(850)과 지지 유닛(820) 간의 상대 높이를 조절한다. 승강 유닛(880)은 브라켓(882), 이동축(884), 그리고 구동기(886)를 포함한다. 브라켓(882)은 제1 경사벽(862)의 외측면에 고정설치된다. 브라켓(882)에는 구동기(886)에 의해 상하방향으로 이동 가능한 이동축(884)이 고정 결합된다.The lifting unit 880 moves the container 850 up and down in the vertical direction. The lifting unit 880 adjusts the relative height between the container 850 and the support unit 820 . The lifting unit 880 includes a bracket 882 , a moving shaft 884 , and a driver 886 . The bracket 882 is fixedly installed on the outer surface of the first inclined wall 862 . A moving shaft 884 movable in the vertical direction by a driver 886 is fixedly coupled to the bracket 882 .

처리액 공급 유닛(890)은 지지 유닛(820)에 로딩된 웨이퍼(W)에 처리액을 공급한다. 처리액 공급 유닛(890)은 이동 부재(895), 아암(893), 그리고　노즐(894)을 포함한다. 아암(893)의 끝단에는　노즐(894)이 결합된다. 이동 부재(895)는 용기(850)의 일측에 위치될 수 있다. 예를 들어, 아암(893)은 그 길이방향이 제2 방향을 향하는 바 형상이고, 이동 부재(895)는 아암(893)을 상기 제2 방향과 다른 제1방향으로 직선 이동시킬 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 이동 부재(895)의 이동에 따라 아암(893)에 결합된　노즐(894)은 함께 이동된다. 이동 부재(895)에 의해　노즐(894)은 공정 위치 및 대기 위치로 이동된다. 여기서 공정 위치는　노즐(894)이 용기(850)와 대향되는 위치이고, 대기 위치는　노즐(894)이 대기 포트(900)에 대기되는 위치이다. 예컨대, 이동 부재(895)는 가이드 레일 형상으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 선택적으로 이동 부재(895)는 아암(893) 및　노즐(894)을 스윙 이동시키는 지지축으로 제공될 수 있다. 또한, 이동 부재(895)는 아암(893) 및　노즐(894)을 상하로 이동시킬 수 있다. 또한 처리액은 세정액일 수 있다. The processing liquid supply unit 890 supplies the processing liquid to the wafer W loaded on the support unit 820 . The processing liquid supply unit 890 includes a moving member 895 , an arm 893 , and a nozzle 894 . A nozzle 894 is coupled to the end of the arm 893 . The moving member 895 may be located on one side of the container 850 . For example, the arm 893 has a bar shape whose longitudinal direction faces the second direction, and the moving member 895 may linearly move the arm 893 in a first direction different from the second direction, but this not limited As the moving member 895 moves, the nozzle 894 coupled to the arm 893 is moved together. By the moving member 895, the nozzle 894 is moved to the process position and the standby position. Here, the process position is a position where the nozzle 894 faces the vessel 850 , and the standby position is a position where the nozzle 894 is standby at the standby port 900 . For example, although the moving member 895 is illustrated in the shape of a guide rail, the present invention is not limited thereto. Optionally, the moving member 895 may be provided as a support shaft for swinging the arm 893 and the nozzle 894 . In addition, the moving member 895 can move the arm 893 and the nozzle 894 up and down. In addition, the treatment liquid may be a cleaning liquid.

대기 포트(900)는 용기(850)의 타측에 위치될 수 있다. 일 예에 의하면, 용기(850) 및 대기 포트(900)는 순차적으로 배열될 수 있다. 대기 포트(900)는 웨이퍼(W) 상에 처리액을 공급하는　노즐(894)의 일부를 수용하며, 노즐(894)로부터 분사되는 처리액을 배출한다.The standby port 900 may be located on the other side of the container 850 . According to an example, the vessel 850 and the standby port 900 may be sequentially arranged. The standby port 900 receives a portion of the nozzle 894 that supplies the processing liquid onto the wafer W, and discharges the processing liquid sprayed from the nozzle 894 .

기판세정장치(800)를 이용하여 웨이퍼(W)를 처리하는 과정을 설명한다. 지지 유닛(820)에 웨이퍼(W)가 놓이면,　노즐(894)은 공정위치로 이동된다. 웨이퍼(W)는 지지 유닛(820)에 의해 회전되고,　노즐(894)은 예를 들어, 웨이퍼의 중앙영역에 처리액을 공급한다. 처리액은 웨이퍼(W)의 원심력에 의해 그 중앙영역에서 가장자리영역으로 확산된다. 이후 노즐(894)은 대기위치(즉, 대기 포트(900))로 이동된다. 노즐(894)는 공정처리가 다시 시작되기 전까지 대기 포트(900)에서 대기한다.A process of processing the wafer W using the substrate cleaning apparatus 800 will be described. When the wafer W is placed on the support unit 820 , the nozzle 894 is moved to the process position. The wafer W is rotated by the support unit 820 , and the nozzle 894 supplies a processing liquid to, for example, a central region of the wafer. The processing liquid is diffused from the center area to the edge area by the centrifugal force of the wafer W. Thereafter, the nozzle 894 is moved to the standby position (ie, the standby port 900). Nozzle 894 waits at standby port 900 until processing is resumed.

이하 도 3 및 도 4를 참조하여, 대기 포트(900)를 설명하도록 한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 3 and 4 , the standby port 900 will be described.

도 3은 도 2에 도시된 대기포트를 설명하기 위한 단면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 세정액 분배부를 설명하기 위한 사시도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the standby port shown in FIG. 2 , and FIG. 4 is a perspective view for explaining the cleaning solution distribution unit shown in FIG. 3 .

우선 도 3을 참조하면, 대기 포트(900)는　약액받이컵(910),　세정액 공급 부재(970), 세정액 회수 부재(980)를 포함한다. First, referring to FIG. 3 , the standby port 900 includes a chemical solution receiving cup 910 , a cleaning solution supply member 970 , and a cleaning solution recovery member 980 .

약액받이컵(910)은 기판세정장치의 노즐(894)이 대기하는 곳으로서, 노즐(894)이 대기할 수 있도록 컵 형상의 몸체(911)와, 몸체 내부에 구비되는 차단막(920)과, 몸체(911)의 일측에 구비되어 몸체(911) 내부에 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급홀(930)과, 세정액 공급홀(930)로부터 공급되는 세정액을 몸체 내측 전면으로 분배하는 세정액 분배부(940)를 포함한다. The chemical receiving cup 910 is a place where the nozzle 894 of the substrate cleaning device waits, and a cup-shaped body 911 so that the nozzle 894 can wait, a blocking film 920 provided inside the body, A cleaning liquid supply hole 930 provided on one side of the body 911 for supplying cleaning liquid to the inside of the body 911, and a cleaning liquid distribution unit 940 for distributing the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply hole 930 to the inside front of the body ) is included.

약액받이컵(910)의 몸체(911)는 상단(912)이 개방되고, 하단(913)에는 처리액이 배출되는 배출로(914)가 구비된다. 노즐 대기 시, 노즐(894)은 몸체(911)의 개방된 상단에 위치한다. 이때 노즐(894)의 일부가 몸체(911)의 개방된 상단(912)을 통해 몸체(911) 내부로 삽입될 수 있다. 노즐(894)은 공정처리 전에 약액받이컵(910)의 몸체(911) 내부에 처리액을 일부 분사할 수 있다. 약액받이컵(910)의 몸체 내부에 분사된 처리액은 배출로(914)를 통해 배출되며, 배출되는 처리액은 처리액 회수부재(980)로 회수된다. The body 911 of the chemical receiving cup 910 has an upper end 912 open, and a lower end 913 is provided with a discharge path 914 through which the treatment liquid is discharged. When the nozzle is waiting, the nozzle 894 is located at the open top of the body 911 . At this time, a part of the nozzle 894 may be inserted into the body 911 through the open top 912 of the body 911 . The nozzle 894 may inject a portion of the treatment liquid into the body 911 of the chemical receiving cup 910 before the process treatment. The treatment liquid injected into the body of the chemical receiving cup 910 is discharged through the discharge path 914 , and the discharged treatment liquid is recovered by the treatment liquid recovery member 980 .

차단막(920)은 몸체 내부에 구비되어 배출로(914)에서 올라오는 흄을 차단한다. The blocking film 920 is provided inside the body to block the fumes rising from the discharge path 914 .

구체적으로 차단막(920)은 몸체 내부에 구비되되, 몸체 내부에서 배출로(914)의 상부에 구비된다. 차단막(920)은 처리액 및 세정액을 통과시키고, 배출로(914)로에서 올라오는 기체형태의 흄을 차단한다. Specifically, the blocking film 920 is provided inside the body, and is provided at the top of the discharge path 914 in the body. The blocking film 920 allows the treatment liquid and the cleaning liquid to pass through, and blocks gaseous fumes rising from the discharge passage 914 .

차단막(920)은 중심부(921)과, 중심부(921)보다 낮은 높이로 형성되는 가장자리부(922)로 구성될 수 있다. 가장자리부(922)는 중심부(921)로부터 연장되어 하향 경사진 형태로 구비될 수도 있다. 이때 가장자리부(922)에는 처리액이 배출되는 복수의 배출홀(923)이 구비될 수 있다. The blocking layer 920 may include a central portion 921 and an edge portion 922 formed at a height lower than the central portion 921 . The edge portion 922 may extend from the central portion 921 and may be provided in a downwardly inclined shape. In this case, the edge portion 922 may be provided with a plurality of discharge holes 923 through which the treatment liquid is discharged.

처리액은 중심부(921)로 낙하되며, 중심부(921)에서 낮은 높이에 위치하는 가장자리부(922)로 이동된 후 세정액과 함께 배출로(914)로 배출된다. The treatment liquid falls to the center 921 , moves from the center 921 to the edge portion 922 positioned at a low height, and then is discharged to the discharge path 914 together with the cleaning liquid.

도면에는 도시되지 않았지만, 차단막(920)은 중심부(921) 및 가장자리부(922) 전면에 배출홀이 형성된 메쉬형태로 구비될 수도 있다.Although not shown in the drawings, the blocking film 920 may be provided in the form of a mesh in which discharge holes are formed on the entire surface of the central portion 921 and the edge portion 922 .

본 발명에 따르면, 몸체(911) 내부에 차단막(920)을 구비함으로써, 차단막(920)이 배출로(914)를 통해 올라오는 흄이 차단되어 흄에 의한 약액받이컵(910)의 몸체(911) 내부 벽면 오염이 저감된다. 약액받이컵(910)의 몸체(911) 내부 벽면 오염이 저감됨에 따라 노즐 오염 및 그에 따른 공정불량도 저감될 수 있다. According to the present invention, by providing the blocking film 920 inside the body 911, the fume rising through the blocking film 920 through the discharge path 914 is blocked, so that the body 911 of the chemical receiving cup 910 caused by the fume. ) the internal wall contamination is reduced. As the contamination of the inner wall surface of the body 911 of the medicament receiving cup 910 is reduced, nozzle contamination and process defects may also be reduced.

세정액 공급홀(930)은 몸체(911)의 일측에 구비된다. 세정액 공급부재(970)로부터 공급되는 세정액이 세정액 공급홀(930)을 통해 공급된다. 세정액은 처리액 및 흄을 세정할 수 있는 유체로서, 예를 들어 순수(DI water)일 수 있다. 세정액은 몸체(911) 내부 벽면에 잔존하는 처리액을 제거한다.The cleaning solution supply hole 930 is provided on one side of the body 911 . The cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply member 970 is supplied through the cleaning liquid supply hole 930 . The cleaning liquid is a fluid capable of cleaning the treatment liquid and fumes, and may be, for example, pure water (DI water). The cleaning liquid removes the treatment liquid remaining on the inner wall surface of the body 911 .

세정액 분배부(940)는 세정액 공급홀(930)을 통해 공급되는 세정액을 몸체(911) 내측 전면으로 분배하여 분사하는 기능을 수행한다.The cleaning liquid distribution unit 940 distributes and sprays the cleaning liquid supplied through the cleaning liquid supply hole 930 to the inner front surface of the body 911 .

도 4를 참조하면, 세정액 분배부(940)는 몸체(911) 내부 형상에 대응되는 원통형상으로 구비되어 몸체(911)의 개방된 상단에 삽입되어 고정된다. Referring to FIG. 4 , the cleaning solution distribution unit 940 is provided in a cylindrical shape corresponding to the inner shape of the body 911 and is inserted and fixed to the open top of the body 911 .

세정액 분배부(940)는 외측둘레를 따라 구비되어 세정액 공급홀(930)로부터 공급되는 세정액을 세정액 분배부(940)의 외측둘레를 따라 분배하는 세정액 분배유로(941)와, 세정액 분배유로(941)의 각 지점으로부터 분기 형성되어 세정액 분배유로(941) 내의 세정액을 몸체(911) 내측 전면으로 토출하는 복수의 세정액 분사유로(942)를 포함한다.The cleaning liquid distribution unit 940 is provided along the outer periphery of the cleaning liquid distribution passage 941 for distributing the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply hole 930 along the outer circumference of the cleaning liquid distribution unit 940 , and the cleaning liquid distribution passage 941 . ) is branched from each point and includes a plurality of cleaning liquid injection passages 942 for discharging the cleaning liquid in the cleaning liquid distribution passage 941 to the inner front surface of the body 911 .

세정액 분배유로(941)는 세정액 공급홀(930)과 연통되도록, 세정액 공급홀과 대응되는 위치에 형성된다. 세정액 분배유로(941)는 세정액 분배부(940)의 외측둘레를 따라 홈 형태로 형성되고, 세정액 분배부(940)가 몸체(911)에 고정되었을 때 비로서 관 형태가 된다. The cleaning liquid distribution passage 941 is formed at a position corresponding to the cleaning liquid supply hole to communicate with the cleaning liquid supply hole 930 . The cleaning liquid distribution passage 941 is formed in a groove shape along the outer periphery of the cleaning liquid distribution part 940 , and becomes a tubular shape when the cleaning liquid distribution part 940 is fixed to the body 911 .

세정액 공급홀(930)을 통해 공급되는 세정액은 세정액 분배유로(941)를 따라 몸체(911)의 내측 둘레를 흐르게 된다.The cleaning liquid supplied through the cleaning liquid supply hole 930 flows around the inner circumference of the body 911 along the cleaning liquid distribution passage 941 .

세정액 분배유로(941)를 따라 몸체(911)의 내측 둘레를 흐르는 세정액은 세정액 분배유로(941)의 각 지점에서 분기되어 형성되는 복수의 세정액 분사유로(942)를 통해 내측 전면에 분사된다. The cleaning liquid flowing along the inner circumference of the body 911 along the cleaning liquid distribution passage 941 is sprayed on the inner front surface through a plurality of cleaning liquid spray passages 942 that are branched at each point of the cleaning liquid distribution passage 941 .

세정액 분배부(940)가 존재하지 않는 경우, 세정액이 공급되는 공급홀(930)이 형성된 몸체(911)의 내측 일면 또는 내측 타면만 흄의 클리닝이 가능하다. 본 발명에 따르면, 약액받이컵(910)의 몸체(911) 내에 세정액을 분배 및 분사하는 세정액 분배부(940)가 구비됨으로서, 몸체(911)의 내측 전면이 세정액에 의한 클리닝될 수 있다. 몸체(911)의 내측 전면이 세정액에 의한 세정됨으로서, 몸체(911) 내부에 형성될 수 있는 흄이 제거되고, 흄에 의한 노즐의 오염이 저감될 수 있다. When the cleaning solution distribution unit 940 does not exist, cleaning of the fume is possible only on the inner surface or the other inner surface of the body 911 in which the supply hole 930 to which the cleaning liquid is supplied is formed. According to the present invention, since the cleaning liquid distribution unit 940 for distributing and spraying the cleaning liquid is provided in the body 911 of the chemical receiving cup 910 , the inner front surface of the body 911 can be cleaned by the cleaning liquid. As the inner front surface of the body 911 is cleaned by the cleaning liquid, fumes that may be formed in the body 911 are removed, and contamination of the nozzles by the fumes can be reduced.

특히 복수의 세정액 분배유로(941)는 나사산 형태로 경사지게 구비될 수 있다. 나사산 형태로 경사지게 형성되는 복수의 세정액 분배유로(941)는 세정액 분배부(940)가 몸체(911)에 고정되었을 때 비로서 관 형태가 된다. 이 경우, 세정액은 복수의 나사산 형태로 경사지게 구비되는 세정액 분배유로(941)에 의해 몸체(911) 내부 전면에 중력 방향이 아닌 경사진 방향으로 분사된다. 이에 따라 세정액은 몸체(911)의 내부 전면에 더욱 효과적으로 분사될 수 있다. In particular, the plurality of cleaning liquid distribution passages 941 may be inclined in the form of a screw thread. The plurality of cleaning liquid distribution passages 941 inclined in the form of a thread have a tubular shape when the cleaning liquid distribution unit 940 is fixed to the body 911 . In this case, the cleaning liquid is sprayed on the entire inner surface of the body 911 by the cleaning liquid distribution passage 941 inclined in the form of a plurality of threads in an inclined direction, not in the direction of gravity. Accordingly, the cleaning liquid may be more effectively sprayed onto the inner front surface of the body 911 .

한편 도면에는 도시되지 않았지만, 세정액 분배유로(941)는 중력방향으로 형성될 수도 있다. 세정액 분배유로(941)가 중력방향으로 형성되는 경우, 경사진 형태로 세정액 분배유로가 형성되는 경우에 비해 세정액 분배유로(941)가 더 많은 개수로 더 촘촘히 형성될 수 있다.Meanwhile, although not shown in the drawings, the cleaning liquid distribution passage 941 may be formed in the direction of gravity. When the cleaning liquid distribution passages 941 are formed in the gravity direction, the number of cleaning liquid distribution passages 941 may be more densely formed compared to the case in which the cleaning liquid distribution passages are formed in an inclined shape.

한편 세정액 분배부(940)는 몸체(911)와 일체로 형성될 수도 있다. 이 경우 몸체(911)의 내측벽면에는 세정액 공급홀과 연통되는 세정액 분배유로(941)와 세정액 분배유로(941)의 각 지점으로부터 분기 형성되는 세정액 분사유로(942)가 형성된다. Meanwhile, the cleaning solution distribution unit 940 may be formed integrally with the body 911 . In this case, a cleaning liquid distribution passage 941 communicating with the cleaning liquid supply hole and a cleaning liquid injection passage 942 branched from each point of the cleaning liquid distribution passage 941 are formed on the inner wall surface of the body 911 .

이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described with reference to the above and the accompanying drawings, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can practice the present invention in other specific forms without changing its technical spirit or essential features. You will understand that there is Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive.

800: 기판 처리 장치 820: 지지 유닛
850: 용기 880: 승강 유닛
890: 처리액 공급 유닛 894: 노즐
900: 대기 포트 910: 약액받이컵
911: 몸체 914: 배출로
920: 차단막 921: 중심부
922: 가장자리부 923: 배출홀
930: 세정액 공급홀 940: 세정액 분배부
941: 세정액 분배유로 942: 세정액 분사유로
970: 세정액 공급부재 980: 세정액 회수부재800: substrate processing apparatus 820: support unit
850: vessel 880: elevating unit
890: treatment liquid supply unit 894: nozzle
900: standby port 910: medicine receiving cup
911: body 914: exhaust passage
920: blocking film 921: central
922: edge portion 923: discharge hole
930: cleaning solution supply hole 940: cleaning solution distribution unit
941: cleaning liquid distribution passage 942: cleaning liquid injection passage
970: cleaning solution supply member 980: cleaning solution recovery member

Claims (10)

기판세정장치의 노즐이 대기하는 약액받이컵에 있어서,
상단은 개방되고, 하단에 처리액이 배출되는 배출로가 구비되는 컵 형상의 몸체; 및
상기 몸체 내부에 구비되어 상기 배출로에서 올라오는 흄을 차단하는 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액받이컵.In the chemical receiving cup where the nozzle of the substrate cleaning device waits,
a cup-shaped body having an open upper end and a discharge path through which the treatment liquid is discharged; and
and a blocking film provided inside the body to block the fumes rising from the discharge path. 제1항에 있어서,
상기 차단막은 중심부와, 상기 중심부에서 하향 경사진 형태로 연장되는 가장자리부를 포함하고,
상기 가장자리부에는 상기 처리액이 배출되는 배출홀이 구비되는 것을 특징으로 하는 약액받이컵.According to claim 1,
The blocking film includes a central portion and an edge portion extending downwardly from the central portion,
The chemical solution receiving cup, characterized in that the edge portion is provided with a discharge hole through which the treatment liquid is discharged. 제1항에 있어서,
상기 몸체의 일측에 세정액이 공급되는 공급홀이 구비되고,
상기 몸체 내부에 구비되어 상기 공급홀로부터 공급되는 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분배하는 세정액 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액받이컵.According to claim 1,
A supply hole through which the cleaning liquid is supplied is provided on one side of the body,
and a cleaning liquid distribution part provided inside the body and distributing the cleaning liquid supplied from the supply hole to the inner front surface of the body. 제3항에 있어서,
상기 세정액 분배부는 상기 몸체 내부 형상에 대응되는 원통형상으로 구비되어 상기 몸체의 상단에 삽입되어 고정되고,
상기 세정액 분배부는,
상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 구비되어, 상기 세정액 분배홀로부터 공급되는 세정액을 상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 분배하는 세정액 분배유로와,
상기 세정액 분배유로의 각 지점으로부터 분기되어 형성되며, 상기 세정액 분배유로 내의 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분사하는 복수의 세정액 분사유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액받이컵.4. The method of claim 3,
The cleaning solution distribution unit is provided in a cylindrical shape corresponding to the inner shape of the body and is inserted and fixed at the upper end of the body,
The cleaning solution distribution unit,
a cleaning liquid distribution passage provided along the outer periphery of the cleaning liquid distribution part and distributing the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid distribution hole along the outer periphery of the cleaning liquid distribution part;
and a plurality of cleaning liquid injection passages branched from each point of the cleaning liquid distribution passage and spraying the cleaning liquid in the cleaning liquid distribution passage toward the inner front surface of the body. 제4항에 있어서,
상기 복수의 세정액 분사유로는 나사산 형태로 경사지게 구비되는 것을 특징으로 하는 약액받이컵.5. The method of claim 4,
The chemical liquid receiving cup, characterized in that the plurality of cleaning liquid injection passages are inclined in the form of a screw thread. 기판을 지지하는 지지 유닛;
상기 기판 상에 처리액을 분사하는 노즐;
상기 노즐이 대기하는 약액받이컵을 포함하고,
상기 약액받이컵은,
상단은 개방되고, 하단에 처리액이 배출되는 배출로가 구비되는 컵 형상의 몸체; 및
상기 몸체 내부에 구비되어 상기 배출로에서 올라오는 흄을 차단하는 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.a support unit for supporting the substrate;
a nozzle for spraying the treatment liquid onto the substrate;
and a chemical receiving cup in which the nozzle waits,
The medicament receiving cup,
a cup-shaped body having an open upper end and a discharge path through which the treatment liquid is discharged; and
and a blocking film provided inside the body to block the fumes rising from the discharge path. 제6항에 있어서,
상기 차단막은 중심부와, 상기 중심부에서 하향 경사진 형태로 연장되는 가장자리부를 포함하고,
상기 가장자리부에는 상기 처리액이 배출되는 배출홀이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.7. The method of claim 6,
The blocking film includes a central portion and an edge portion extending downwardly from the central portion,
A substrate cleaning apparatus, characterized in that the edge portion is provided with a discharge hole through which the processing liquid is discharged. 제6항에 있어서,
상기 몸체의 일측에 세정액이 공급되는 공급홀이 구비되고,
상기 몸체 내부에 구비되어 상기 공급홀로부터 공급되는 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분배하는 세정액 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.7. The method of claim 6,
A supply hole through which the cleaning liquid is supplied is provided on one side of the body,
and a cleaning liquid distribution unit provided inside the body and distributing the cleaning liquid supplied from the supply hole to the inner front surface of the body. 제8항에 있어서,
상기 세정액 분배부는 상기 몸체 내부 형상에 대응되는 원통형상으로 구비되어 상기 몸체의 상단에 삽입되어 고정되고,
상기 세정액 분배부는,
상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 구비되어, 상기 세정액 분배홀로부터 공급되는 세정액을 상기 세정액 분배부의 외측둘레를 따라 분배하는 세정액 분배유로와,
상기 세정액 분배유로의 각 지점으로부터 분기되어 형성되며, 상기 세정액 분배유로 내의 세정액을 상기 몸체 내측 전면으로 분사하는 복수의 세정액 분사유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.9. The method of claim 8,
The cleaning solution distribution unit is provided in a cylindrical shape corresponding to the inner shape of the body and is inserted and fixed at the upper end of the body,
The cleaning solution distribution unit,
a cleaning liquid distribution passage provided along the outer periphery of the cleaning liquid distribution part and distributing the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid distribution hole along the outer periphery of the cleaning liquid distribution part;
and a plurality of cleaning liquid injection passages branched from each point of the cleaning liquid distribution passage and spraying the cleaning liquid in the cleaning liquid distribution passage toward the inner front surface of the body. 제9항에 있어서,
상기 복수의 세정액 분사유로는 나사산 형태로 경사지게 구비되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.10. The method of claim 9,
The substrate cleaning apparatus, characterized in that the plurality of cleaning liquid injection passages are inclined in the form of a screw thread.
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