KR20210066800A - Curable polysilsesquioxane compound, curable composition, cured product, and method of using curable composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물로서, 29Si-NMR 에 관한 특정한 요건을 만족시키고, 질량 평균 분자량 (Mw) 이 특정한 범위인 것을 특징으로 하는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 이 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물, 이 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이다. 본 발명의 경화성 조성물은, 경화성이 우수하고, 또한 굴절률이 낮은 것이다. 식 (a-1) 중, R1 은, 조성식 : CmH(2m-n+1)Fn 으로 나타내는 플루오로알킬기를 나타낸다. m 은 1 ∼ 10 의 정수, n 은 2 이상, (2m + 1) 이하의 정수를 나타낸다. D 는, R1 과 Si 를 결합하는 연결기 (단, 알킬렌기를 제외한다) 또는 단결합을 나타낸다. R1-D-SiO3/2(a-1)The present invention is a curable polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (a-1), satisfying specific requirements for 29 Si-NMR and having a mass average molecular weight (Mw) in a specific range A curable polysilsesquioxane compound comprising: a curable polysilsesquioxane compound, a curable composition containing the curable polysilsesquioxane compound, a cured product obtained by curing the curable composition, and an adhesive for an optical device fixing material or an optical device fixing material How to use it as a sealing material. The curable composition of this invention is excellent in sclerosis|hardenability, and a thing with a low refractive index. In formula (a-1), R 1 represents a fluoroalkyl group represented by the composition formula: C m H (2m-n+1) F n . m represents the integer of 1-10, n represents the integer of 2 or more and (2m+1) or less. D represents a linking group (however, except for an alkylene group) or a single bond which bonds R 1 and Si. R 1 -D-SiO 3/2 (a-1)

Description

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 경화성 조성물, 경화물, 및 경화성 조성물의 사용 방법Curable polysilsesquioxane compound, curable composition, cured product, and method of using curable composition

본 발명은 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 상기 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는, 경화성이 우수하고, 또한 굴절률이 낮은 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는, 접착 강도가 높은 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재 (封止材) 로서 사용하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a curable polysilsesquioxane compound, a curable composition containing the curable polysilsesquioxane compound having excellent curability and a low refractive index, a cured product having high adhesive strength formed by curing the curable composition, and a method of using the curable composition as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material.

종래, 경화성 조성물은 용도에 따라 여러 가지 개량이 이루어지고, 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 산업상 널리 이용되어 오고 있다.Conventionally, various improvements are made according to the use of a curable composition, and it has been widely used industrially as a raw material of an optical component or a molded object, an adhesive agent, a coating agent, etc.

또, 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제나 광 소자 고정재용 봉지재 등의 광 소자 고정재용 조성물로서도 주목을 받고 있다.Moreover, a curable composition attracts attention also as a composition for optical element fixing materials, such as an adhesive for optical element fixing materials and a sealing material for optical element fixing materials.

광 소자에는, 반도체 레이저 (LD) 등의 각종 레이저나 발광 다이오드 (LED) 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등이 있다.The optical element includes various lasers such as a semiconductor laser (LD), a light emitting element such as a light emitting diode (LED), a light receiving element, a composite optical element, an optical integrated circuit, and the like.

최근에 있어서는, 발광의 피크 파장이 보다 단파장인 청색광이나 백색광의 광 소자가 개발되어 널리 사용되고 있다. 이와 같은 발광의 피크 파장이 짧은 발광 소자의 고휘도화가 비약적으로 진행되고, 이에 수반하여, 광 소자의 발열량이 더욱 커져가는 경향이 있다.In recent years, optical elements of blue light or white light whose peak wavelength of light emission has a shorter wavelength have been developed and are widely used. The high luminance of the light emitting device having such a short peak wavelength of light emission progresses rapidly, and the amount of heat generated by the optical device tends to increase with this.

그런데, 최근에 있어서의 광 소자의 고휘도화에 수반하여, 광 소자 고정재용 조성물의 경화물이, 보다 높은 에너지의 광이나 광 소자로부터 발생하는 보다 고온의 열에 장시간 노출되어, 접착력이 저하된다는 문제가 생겼다.However, with the recent increase in luminance of optical devices, the cured product of the optical device fixing material composition is exposed to high energy light or high temperature heat generated from the optical device for a long period of time, resulting in a decrease in adhesive strength. occurred

이 문제를 해결하기 위하여, 특허문헌 1 ∼ 3 에는, 폴리실세스퀴옥산 화합물을 주성분으로 하는 광 소자 고정재용 조성물이 제안되어 있다.In order to solve this problem, the composition for optical element fixing materials which has a polysilsesquioxane compound as a main component is proposed by patent documents 1-3.

그러나, 특허문헌 1 ∼ 3 에 기재된 조성물의 경화물이어도, 충분한 접착력을 유지하면서, 내열성을 얻는 것은 곤란한 경우가 있었다.However, even if it was the hardened|cured material of the composition of patent documents 1-3, it may be difficult to acquire heat resistance, maintaining sufficient adhesive force.

또, 경화성 조성물을 사용하여 광 소자 등을 고정시키는 경우, 목적에 맞는 굴절률을 갖는 경화물을 형성하는 것이 중요해지는 경우가 많다. 특히, 종래의 경화성 조성물이나 그 경화물은 굴절률이 높은 것이 많았기 때문에, 굴절률이 보다 낮은 경화성 조성물이 요구되고 있었다.Moreover, when fixing an optical element etc. using a curable composition, it becomes important to form the hardened|cured material which has the refractive index suitable for the objective in many cases. In particular, since the conventional curable composition and its hardened|cured material have many things with a high refractive index, the curable composition with a lower refractive index was calculated|required.

특허문헌 4 에는, 굴절률이 낮은 경화물을 제공하는 경화성 조성물로서, 플루오로알킬기를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물이 기재되어 있다.Patent Document 4 describes a curable composition containing a curable polysilsesquioxane compound having a fluoroalkyl group as a curable composition that provides a cured product having a low refractive index.

그러나, 특허문헌 4 의 실시예에서 나타내는 바와 같이, 플루오로알킬기를 갖는 반복 단위의 비율이 높은 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물을 사용한 경우, 접착 강도가 높은 경화물을 얻는 것은 곤란하였다. 이와 같이, 특허문헌 4 에 기재된 경화성 조성물의 경화물은, 높은 접착 강도와 낮은 굴절률 사이에 트레이드 오프의 관계가 있었다. 이 때문에, 특허문헌 4 에 기재된 경화성 조성물을 사용한 경우, 높은 접착 강도와 낮은 굴절률의 양방의 특성을 갖는 경화물을 얻는 것은 곤란하였다.However, as shown in the Example of Patent Document 4, when a curable composition containing a curable polysilsesquioxane compound having a high proportion of repeating units having a fluoroalkyl group is used, it is difficult to obtain a cured product having high adhesive strength. did. Thus, in the hardened|cured material of the curable composition of patent document 4, there existed a trade-off relationship between high adhesive strength and low refractive index. For this reason, when the curable composition of patent document 4 was used, it was difficult to obtain the hardened|cured material which has the characteristic of both high adhesive strength and low refractive index.

또, 경화성 조성물에 필러 등을 첨가함으로써, 작업성 등이 개선되는 것이 알려져 있다.Moreover, it is known that workability|operativity etc. are improved by adding a filler etc. to a curable composition.

그러나, 일반적으로, 필러 등을 함유하는 경화성 조성물이나 그 경화물은 굴절률이 높아지는 경향이 있기 때문에, 필러 등을 첨가해도, 굴절률이 낮은 경화성 조성물이 절망 (切望) 되고 있었다.However, in general, since the refractive index of a curable composition containing a filler etc. and its hardened|cured material tends to become high, even if it added a filler etc., the curable composition with a low refractive index was desperate.

일본 공개특허공보 2004-359933호Japanese Patent Laid-Open No. 2004-359933 일본 공개특허공보 2005-263869호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-263869 일본 공개특허공보 2006-328231호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-328231 WO2017/110948호 (US2018/0355111 A1)WO2017/110948 (US2018/0355111 A1)

본 발명은 상기한 종래 기술의 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 경화성이 우수하고, 또한 굴절률이 낮은 경화성 조성물, 이 경화성 조성물의 성분으로서 유용한 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 상기 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는, 접착 강도가 높은 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the circumstances of the prior art described above, a curable composition having excellent curability and a low refractive index, a curable polysilsesquioxane compound useful as a component of the curable composition, a curable composition obtained by curing the curable composition, It aims at providing the hardened|cured material with high adhesive strength, and the method of using the said curable composition as an adhesive agent for optical element fixing materials or a sealing material for optical element fixing materials.

본 발명에 있어서, 「경화성 조성물」 이란, 가열 등의 소정의 조건을 만족시킴으로써, 경화물로 변화하는 조성물을 말한다.In the present invention, the "curable composition" refers to a composition that changes into a cured product by satisfying predetermined conditions such as heating.

본 발명에 있어서, 「경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물」 이란, 가열 등의 소정의 조건을 만족시킴으로써, 단독으로 경화물로 변화하는 폴리실세스퀴옥산 화합물, 또는 상기 경화성 조성물에 있어서 경화성 성분으로서 기능하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 말한다.In the present invention, the "curable polysilsesquioxane compound" refers to a polysilsesquioxane compound that changes independently into a cured product by satisfying predetermined conditions such as heating, or functions as a curable component in the curable composition polysilsesquioxane compound.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여, 플루오로알킬기를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물에 대해 예의 검토를 거듭하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, the present inventors repeated earnest examination about the curable polysilsesquioxane compound which has a fluoroalkyl group.

그 결과,As a result,

(1) 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물에 플루오로알킬기를 도입함으로써 경화물의 접착 강도가 저하된다는 문제는, 특정한 반복 단위를 갖고, 또한 분자 구조에 관한 요건 (후술하는 요건 1) 과, 분자량에 관한 요건 (후술하는 요건 2) 을 함께 만족시키는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (이하, 「경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A)」 라고 하는 경우가 있다.) 을 사용함으로써 해결할 수 있는 것, 및(1) The problem that the adhesive strength of the cured product is lowered by introducing a fluoroalkyl group into the curable polysilsesquioxane compound has a specific repeating unit, and a requirement regarding molecular structure (requirement 1 to be described later) and molecular weight What can be solved by using a curable polysilsesquioxane compound (hereinafter sometimes referred to as "curable polysilsesquioxane compound (A)") that both satisfy the requirements (requirement 2 to be described later), and

(2) 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 함유하는 경화성 조성물은, 경화성이 우수하다는 특성을 갖기 때문에, 과도하게 가열하는 일 없이 경화 반응을 실시할 수 있다는 이점도 갖는 것,(2) Since the curable composition containing the curable polysilsesquioxane compound (A) has excellent curability, it also has an advantage that it can be cured without excessive heating;

을 알아내었다.found out

또한, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 와 254 ℃ 이상의 비점을 갖는 용매를 함유하는 경화성 조성물은, 도포 후에 장시간 방치되어도 점도 변화가 작기 때문에, 도포 직후와 동일한 작업성을 갖는 것을 알아내었다.Moreover, since the curable composition containing a curable polysilsesquioxane compound (A) and the solvent which has a boiling point of 254 degreeC or more has a small change in viscosity even if it is left to stand for a long time after application|coating, it discovered that it has the same workability as immediately after application|coating.

본 발명은 이러한 지견에 기초하여 완성된 것이다.The present invention has been completed based on these findings.

이렇게 하여 본 발명에 의하면, 하기 [1] ∼ [5] 의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, [6] ∼ [9] 의 경화성 조성물, [10], [11] 의 경화물, 및 [12], [13] 의 경화성 조성물의 사용 방법이 제공된다.In this way, according to the present invention, the curable polysilsesquioxane compound of the following [1] to [5], the curable composition of [6] to [9], the cured product of [10] and [11], and [12] , a method of using the curable composition of [13] is provided.

[1] 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물로서, 하기 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 것을 특징으로 하는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.[1] A curable polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (a-1), wherein the following requirements 1 and 2 are satisfied.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

[R1 은, 조성식 : CmH(2m-n+1)Fn 으로 나타내는 플루오로알킬기를 나타낸다. m 은 1 ∼ 10 의 정수 (整數), n 은 2 이상, (2m + 1) 이하의 정수를 나타낸다. D 는, R1 과 Si 를 결합하는 연결기 (단, 알킬렌기를 제외한다) 또는 단결합을 나타낸다.][R 1 represents a fluoroalkyl group represented by the composition formula: C m H (2m-n+1) F n . m represents the integer of 1-10, n represents the integer of 2 or more and (2m+1) or less. D represents a linking group for bonding R 1 and Si (however, except for an alkylene group) or a single bond.]

[요건 1][Requirement 1]

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 29Si-NMR 을 측정했을 때, -62 ppm 이상 -52 ppm 미만의 영역 [영역 (2)] 에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, -52 ppm 이상 -45 ppm 미만의 영역 [영역 (1)] 과 -73 ppm 이상 -62 ppm 미만의 영역 [영역 (3)] 중 적어도 일방의 영역에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, 또한 하기 식으로 유도되는 Z2 가 20 ∼ 40 % 이다. When 29 Si-NMR of the curable polysilsesquioxane compound is measured, one or two or more peaks are observed in the region [region (2)] of -62 ppm or more and less than -52 ppm, -52 ppm or more -45 ppm 1 or 2 or more peaks are observed in at least one of the region of less than [region (1)] and the region of -73 ppm or more and less than -62 ppm [region (3)], and Z2 derived by the following formula is 20 to 40%.

Figure pct00002
Figure pct00002

P1 : 영역 (1) 에 있어서의 적분값P1: integral value in region (1)

P2 : 영역 (2) 에 있어서의 적분값P2: integral value in region (2)

P3 : 영역 (3) 에 있어서의 적분값P3: integral value in region (3)

[요건 2][Requirement 2]

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 질량 평균 분자량 (Mw) 이 4,000 ∼ 11,000 이다.The mass average molecular weights (Mw) of sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound are 4,000-11,000.

[2] 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 비율이, 전체 반복 단위에 대하여 25 ㏖% 이상인, [1] 에 기재된 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.[2] The curable polysilsesquioxane compound according to [1], wherein the proportion of the repeating unit represented by the formula (a-1) is 25 mol% or more with respect to all the repeating units.

[3] 추가로, 하기 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위를 갖는, [1] 또는 [2] 에 기재된 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.[3] The curable polysilsesquioxane compound according to [1] or [2], further having a repeating unit represented by the following formula (a-2).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00003
Figure pct00003

[R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는 치환기를 갖거나, 혹은 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.][R 2 is an alkyl group has a carbon number of 1 to 10 non-substituted, or substituted or non-substituted, or represents a group of a carbon number of 6 to 12 aryl group.]

[4] 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위의 비율이, 전체 반복 단위에 대하여 0 ㏖% 초과, 75 ㏖% 이하인, [3] 에 기재된 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.[4] The curable polysilsesquioxane compound according to [3], wherein the proportion of the repeating unit represented by the formula (a-2) is more than 0 mol% and 75 mol% or less with respect to all repeating units.

[5] 29Si-NMR 을 측정했을 때, 영역 (3) 에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, 또한 하기 식으로 유도되는 Z3 이 60 ∼ 80 % 인, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.[5] Any one of [1] to [4], wherein 1 or 2 or more peaks are observed in the region (3) when 29 Si-NMR is measured, and Z3 derived by the following formula is 60 to 80% The curable polysilsesquioxane compound described in.

Figure pct00004
Figure pct00004

[6] 하기 (A) 성분, 및 254 ℃ 이상의 비점을 갖는 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.[6] A curable composition comprising the following component (A) and a solvent having a boiling point of 254°C or higher.

(A) 성분 : [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물(A) component: curable polysilsesquioxane compound according to any one of [1] to [5]

[7] 추가로, 하기 (B) 성분을 함유하는, [6] 에 기재된 경화성 조성물.[7] The curable composition according to [6], further comprising the following component (B).

(B) 성분 : 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제(B) component: a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule

[8] 추가로, 하기 (C) 성분을 함유하는, [6] 또는 [7] 에 기재된 경화성 조성물.[8] The curable composition according to [6] or [7], further comprising the following component (C).

(C) 성분 : 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제(C) component: a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule

[9] 추가로, 하기 (D) 성분을 함유하는, [6] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[9] The curable composition according to any one of [6] to [8], further comprising the following component (D).

(D) 성분 : 평균 일차 입자경이 5 ∼ 40 ㎚ 인 미립자(D) component: fine particles having an average primary particle diameter of 5 to 40 nm

[10] 상기 [6] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[10] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [6] to [9].

[11] 광 소자 고정재인 [10] 에 기재된 경화물.[11] The cured product according to [10], which is an optical element fixing material.

[12] 상기 [6] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.[12] A method in which the curable composition according to any one of [6] to [9] is used as an adhesive for an optical element fixing material.

[13] 상기 [6] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법.[13] A method in which the curable composition according to any one of [6] to [9] is used as a sealing material for an optical element fixing material.

본 발명에 의하면, 경화성이 우수하고, 또한 굴절률이 낮은 경화성 조성물, 이 경화성 조성물의 성분으로서 유용한 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 상기 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는, 접착 강도가 높은 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이 제공된다.According to the present invention, a curable composition having excellent curability and a low refractive index, a curable polysilsesquioxane compound useful as a component of the curable composition, a cured product having high adhesive strength obtained by curing the curable composition, and the curable composition A method of using the composition as an adhesive for an optical element fixing material or an encapsulant for an optical element fixing material is provided.

이하, 본 발명을, 1) 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 2) 경화성 조성물, 3) 경화물, 및 4) 경화성 조성물의 사용 방법으로 항목 분류하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by classifying the items into 1) a curable polysilsesquioxane compound, 2) a curable composition, 3) a cured product, and 4) a method of using the curable composition.

1) 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물1) Curable polysilsesquioxane compound

본 발명의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 [경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A)] 은, 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물로서, 상기 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 것을 특징으로 한다.The curable polysilsesquioxane compound of the present invention [curable polysilsesquioxane compound (A)] is a curable polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (a-1), It is characterized in that the requirement 2 is satisfied.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00005
Figure pct00005

[R1 은, 조성식 : CmH(2m-n+1)Fn 으로 나타내는 플루오로알킬기를 나타낸다. m 은 1 ∼ 10 의 정수, n 은 2 이상, (2m + 1) 이하의 정수를 나타낸다. D 는, R1 과 Si 를 결합하는 연결기 (단, 알킬렌기를 제외한다) 또는 단결합을 나타낸다.][R 1 represents a fluoroalkyl group represented by the composition formula: C m H (2m-n+1) F n . m represents the integer of 1-10, n represents the integer of 2 or more and (2m+1) or less. D represents a linking group for bonding R 1 and Si (however, except for an alkylene group) or a single bond.]

식 (a-1) 중, R1 은, 조성식 : CmH(2m-n+1)Fn 으로 나타내는 플루오로알킬기를 나타낸다. m 은 1 ∼ 10 의 정수, n 은 2 이상, (2m + 1) 이하의 정수를 나타낸다. m 은, 바람직하게는 1 ∼ 5 의 정수, 보다 바람직하게는 1 ∼ 3 의 정수이다.In formula (a-1), R 1 represents a fluoroalkyl group represented by the composition formula: C m H (2m-n+1) F n . m represents the integer of 1-10, n represents the integer of 2 or more and (2m+1) or less. m becomes like this. Preferably it is an integer of 1-5, More preferably, it is an integer of 1-3.

R1 을 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 사용함으로써, 굴절률이 낮은 경화성 조성물을 얻을 수 있다.A curable composition with a low refractive index can be obtained by using the curable polysilsesquioxane compound which has R<1>.

조성식 : CmH(2m-n+1)Fn 으로 나타내는 플루오로알킬기로는, CF3, CF3CF2, CF3(CF2)2, CF3(CF2)3, CF3(CF2)4, CF3(CF2)5, CF3(CF2)6, CF3(CF2)7, CF3(CF2)8, CF3(CF2)9 등의 퍼플루오로알킬기 ; CF3CH2CH2, CF3(CF2)3CH2CH2, CF3(CF2)5CH2CH2, CF3(CF2)7CH2CH2 등의 하이드로플루오로알킬기 ; 를 들 수 있다.Compositional formula: C m H (2m-n+1) As the fluoroalkyl group represented by F n , CF 3 , CF 3 CF 2 , CF 3 (CF 2 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) a perfluoroalkyl group such as 4 , CF 3 (CF 2 ) 5 , CF 3 (CF 2 ) 6 , CF 3 (CF 2 ) 7 , CF 3 (CF 2 ) 8 , CF 3 (CF 2 ) 9 ; a hydrofluoroalkyl group such as CF 3 CH 2 CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 ; can be heard

식 (a-1) 중, D 는, R1 과 Si 를 결합하는 연결기 (단, 알킬렌기를 제외한다) 또는 단결합을 나타낸다.In formula (a-1), D represents the coupling group (however, the alkylene group is excluded) or a single bond which couple|bonds R<1> and Si.

D 의 연결기로는, 1,4-페닐렌기, 1,3-페닐렌기, 1,2-페닐렌기, 1,5-나프틸렌기 등의 탄소수가 6 ∼ 20 인 아릴렌기를 들 수 있다.Examples of the linking group for D include arylene groups having 6 to 20 carbon atoms, such as a 1,4-phenylene group, a 1,3-phenylene group, a 1,2-phenylene group, and a 1,5-naphthylene group.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 1 종의 (R1-D) 를 갖는 것 (단독 중합체) 이어도 되고, 2 종 이상의 (R1-D) 를 갖는 것 (공중합체) 이어도 된다.The curable polysilsesquioxane compound (A) may be one having one type of (R 1 -D) (homopolymer), or may be one having two or more types of (R 1 -D) (copolymer).

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 가 공중합체인 경우, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 교호 공중합체 등 중 어느 것이어도 되지만, 제조 용이성 등의 관점에서는, 랜덤 공중합체가 바람직하다.When the curable polysilsesquioxane compound (A) is a copolymer, the curable polysilsesquioxane compound (A) may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, an alternating copolymer, and the like. From the viewpoint of ease and the like, a random copolymer is preferable.

또, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 구조는, 래더형 구조, 더블 데커형 구조, 바구니형 구조, 부분 개열 바구니형 구조, 환상형 (環狀型) 구조, 랜덤형 구조 중 어느 구조이어도 된다.Moreover, the structure of a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) is any structure among a ladder structure, a double decker type|mold structure, a cage structure, a partial cleavage cage structure, a cyclic structure, and a random structure. may be

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 에 포함되는 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 비율은, 전체 반복 단위에 대하여 바람직하게는 25 ㏖% 이상, 보다 바람직하게는 25 ∼ 90 ㏖%, 더욱 바람직하게는 25 ∼ 85 ㏖% 이다.Preferably the ratio of the repeating unit represented by Formula (a-1) contained in curable polysilsesquioxane compound (A) is 25 mol% or more with respect to all the repeating units, More preferably, 25-90 mol%, More preferably, it is 25-85 mol%.

식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 비율이, 전체 반복 단위에 대하여 25 ㏖% 이상인 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 굴절률이 보다 낮은 경화성 조성물을 얻을 수 있다.When the ratio of the repeating unit represented by Formula (a-1) uses the curable polysilsesquioxane compound (A) which is 25 mol% or more with respect to all the repeating units, the curable composition with a lower refractive index can be obtained.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 추가로, 하기 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 것 (공중합체) 이어도 된다.The curable polysilsesquioxane compound (A) may further have a repeating unit represented by the following formula (a-2) (copolymer).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (a-2) 중, R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는 치환기를 갖거나, 혹은 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.In formula (a-2), R<2> has an unsubstituted C1-C10 alkyl group or a substituent, or represents an unsubstituted C6-C12 aryl group.

R2 의 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있다.Examples of the unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pene tyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. are mentioned.

R2 의 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로는, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기 등을 들 수 있다.As an unsubstituted C6-C12 aryl group of R<2> , a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, etc. are mentioned.

R2 의 치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기 등의 알킬기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 를 들 수 있다.Examples of the substituent of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent for R 2 include a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, alkyl groups such as n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and isooctyl group; Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; can be heard

이들 중에서도, R2 로는, 접착 강도가 보다 높고, 내열성이 보다 우수한 경화물을 얻기 쉬운 점에서, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 바람직하고, 무치환의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기가 보다 바람직하고, 무치환의 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기가 특히 바람직하다.Among these, as R 2 , an unsubstituted C1-C10 alkyl group is preferable, and an unsubstituted C1-C6 alkyl group is more preferable at the point which adhesive strength is higher and it is easy to obtain the hardened|cured material excellent in heat resistance. and an unsubstituted C1-C3 alkyl group is especially preferable.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 가 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 것인 경우, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 1 종의 R2 를 갖는 것이어도 되고, 2 종 이상의 R2 를 갖는 것이어도 된다.When the curable polysilsesquioxane compound (A) has a repeating unit represented by the formula (a-2), the curable polysilsesquioxane compound (A) may have one type of R 2 , What has 2 or more types of R<2> may be sufficient.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 가 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 것인 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위에 대하여 바람직하게는 0 ㏖% 초과, 75 ㏖% 이하, 보다 바람직하게는 10 ∼ 75 ㏖%, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 75 ㏖% 이다.When the curable polysilsesquioxane compound (A) has a repeating unit represented by the formula (a-2), the ratio is preferably more than 0 mol% and 75 mol% or less with respect to all repeating units, more Preferably it is 10-75 mol%, More preferably, it is 15-75 mol%.

식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위의 비율이 상기 범위 내의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 접착 강도가 보다 높고, 내열성이 보다 우수한 경화물을 얻기 쉬워진다.When the ratio of the repeating unit represented by Formula (a-2) uses the curable polysilsesquioxane compound (A) within the said range, adhesive strength becomes higher and it becomes easy to obtain the hardened|cured material excellent in heat resistance.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중의 식 (a-1) 이나 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위의 비율은, 예를 들어, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 29Si-NMR 을 측정함으로써 구할 수 있다.The ratio of the repeating unit represented by Formula (a-1) or Formula (a-2) in a curable polysilsesquioxane compound (A) is 29 Si- of a curable polysilsesquioxane compound (A), for example. It can obtain|require by measuring NMR.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 아세톤 등의 케톤계 용매 ; 벤젠 등의 방향족 탄화수소계 용매 ; 디메틸술폭사이드 등의 함황계 용매 ; 테트라하이드로푸란 등의 에테르계 용매 ; 아세트산에틸 등의 에스테르계 용매 ; 클로로포름 등의 함할로겐계 용매 ; 및 이들의 2 종 이상으로 이루어지는 혼합 용매 ; 등의 각종 유기 용매에 가용이기 때문에, 이들 용매를 사용하여, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 용액 상태에서의 29Si-NMR 을 측정할 수 있다.The curable polysilsesquioxane compound (A) is a ketone solvent such as acetone; aromatic hydrocarbon-based solvents such as benzene; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide; ether solvents such as tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; halogen-containing solvents such as chloroform; and a mixed solvent composed of two or more thereof; Since it is soluble in various organic solvents, such as, 29 Si-NMR in the solution state of a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) can be measured using these solvents.

식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위나, 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위는, 하기 식 (a-3) 으로 나타내는 것이다.The repeating unit represented by the formula (a-1) and the repeating unit represented by the formula (a-2) are represented by the following formula (a-3).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00007
Figure pct00007

[G 는, (R1-D) 또는 R2 를 나타낸다. R1, D, R2 는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다. O1/2 란, 산소 원자가 이웃하는 반복 단위와 공유되어 있는 것을 나타낸다.][G represents (R 1 -D) or R 2 . R 1 , D and R 2 each have the same meaning as described above. O 1/2 indicates that an oxygen atom is shared with an adjacent repeating unit.]

식 (a-3) 으로 나타내는 바와 같이, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 일반적으로 T 사이트로 총칭되는, 규소 원자에 산소 원자가 3 개 결합하고, 그 이외의 기 (G 로 나타내는 기) 가 1 개 결합하여 이루어지는 부분 구조를 갖는다.As represented by the formula (a-3), in the curable polysilsesquioxane compound (A), three oxygen atoms are bonded to a silicon atom generally referred to as a T site, and other groups (groups represented by G) ) has a partial structure formed by bonding one.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 에 포함되는 T 사이트로는, 하기 식 (a-4) ∼ (a-6) 으로 나타내는 것을 들 수 있다.Examples of the T site contained in the curable polysilsesquioxane compound (A) include those represented by the following formulas (a-4) to (a-6).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00008
Figure pct00008

식 (a-4), (a-5) 및 (a-6) 중, G 는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R3 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다. R3 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등을 들 수 있다. 복수의 R3 끼리는, 모두 동일해도 되고 상이해도 된다. 또, 상기 식 (a-4) ∼ (a-6) 중, * 에는, 규소 원자가 결합하고 있다.In formulas (a-4), (a-5) and (a-6), G has the same meaning as above. R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. As a C1-C10 alkyl group of R<3> , a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, etc. are mentioned. A plurality of R 3 s may all be the same or different. Moreover, the silicon atom is couple|bonded with * in said Formula (a-4) - (a-6).

식 (a-4) 및 식 (a-5) 로 나타내는 T 사이트는, 중축합 반응에 기여할 수 있는 기 (R3-O) 를 포함한다. 따라서, 이들 T 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물은 반응성이 우수하다. 또, 이와 같은 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 조성물은 경화성이 우수하다.The T site represented by the formulas (a-4) and (a-5) contains a group (R 3 -O) capable of contributing to the polycondensation reaction. Therefore, the polysilsesquioxane compound containing many of these T sites is excellent in reactivity. Moreover, the composition containing such a polysilsesquioxane compound is excellent in sclerosis|hardenability.

한편, 식 (a-5) 및 식 (a-6) 으로 나타내는 T 사이트는, 2 이상의 규소 원자 (이웃하는 T 사이트 중의 규소 원자) 와 결합하고 있다. 따라서, 이들 T 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 큰 분자량을 갖는 경향이 있다.On the other hand, the T sites represented by the formulas (a-5) and (a-6) are bonded to two or more silicon atoms (silicon atoms in the adjacent T sites). Therefore, the polysilsesquioxane compound containing many of these T sites tends to have a large molecular weight.

따라서, 식 (a-5) 로 나타내는 T 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 비교적 큰 분자량을 갖고, 또한 충분한 반응성을 갖는다.Therefore, the polysilsesquioxane compound containing many T sites represented by Formula (a-5) has a comparatively large molecular weight, and has sufficient reactivity.

본 발명은 이 지견에 기초하여 이루어진 것이다.The present invention has been made based on this knowledge.

즉, 본 발명의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 이하의 요건 1 을 만족시키는 것이다.That is, the sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) of this invention satisfy|fills the following requirements 1.

[요건 1][Requirement 1]

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 29Si-NMR 을 측정했을 때, -62 ppm 이상 -52 ppm 미만의 영역 [영역 (2)] 에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, -52 ppm 이상 -45 ppm 미만의 영역 [영역 (1)] 과 -73 ppm 이상 -62 ppm 미만의 영역 [영역 (3)] 중 적어도 일방의 영역에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, 또한 하기 식으로 유도되는 Z2 가 20 ∼ 40 % 이다. When 29 Si-NMR of the curable polysilsesquioxane compound is measured, one or two or more peaks are observed in the region [region (2)] of -62 ppm or more and less than -52 ppm, -52 ppm or more -45 ppm 1 or 2 or more peaks are observed in at least one of the region of less than [region (1)] and the region of -73 ppm or more and less than -62 ppm [region (3)], and Z2 derived by the following formula is 20 to 40%.

또한, 「영역 (1) 에 관측되는 피크」 란, 피크 톱이, 영역 (1) 의 범위에 있는 것을 말한다. 「영역 (2) 에 관측되는 피크」, 「영역 (3) 에 관측되는 피크」 에 대해서도 동일하다.In addition, "a peak observed in the area|region (1)" means that a peak top exists in the range of the area|region (1). The same applies to "a peak observed in the region (2)" and "a peak observed in the region (3)".

Figure pct00009
Figure pct00009

P1 : 영역 (1) 에 있어서의 적분값P1: integral value in region (1)

P2 : 영역 (2) 에 있어서의 적분값P2: integral value in region (2)

P3 : 영역 (3) 에 있어서의 적분값P3: integral value in region (3)

본 명세서에 있어서, 「영역 (1) 에 있어서의 적분값」, 「영역 (2) 에 있어서의 적분값」, 「영역 (3) 에 있어서의 적분값」 이란, 각각, -52 ppm ∼ -45 ppm, -62 ppm ∼ -52 ppm, -73 ppm ∼ -62 ppm 을 적분 범위로서 계산하여 얻어진 값을 말한다.In the present specification, "integral value in region (1)", "integral value in region (2)", and "integral value in region 3" are -52 ppm to -45 ppm, respectively. The values obtained by calculating ppm, -62 ppm to -52 ppm, and -73 ppm to -62 ppm as the integral range are referred to.

영역 (1), 영역 (2), 영역 (3) 에 관측되는 피크는, 각각, 식 (a-4), 식 (a-5), 식 (a-6) 으로 나타내는 T 사이트 중의 규소 원자에서 유래하는 것이다.The peaks observed in the region (1), region (2), and region (3) are, respectively, from silicon atoms in the T sites represented by formulas (a-4), (a-5), and (a-6). it comes from

따라서, 요건 1 을 만족시키는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 식 (a-5) 로 나타내는 T 사이트를, T 사이트 전체에 대하여 20 ∼ 40 % 포함하는 것이다.Therefore, the sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound which satisfy|fills the requirement 1 contains 20 to 40% of T sites represented by Formula (a-5) with respect to the whole T site.

이 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 상기와 같이, 비교적 큰 분자량을 갖고, 또한, 충분한 반응성을 갖는 것이고, 경화성 조성물의 경화성 성분으로서 유용하다.As mentioned above, this curable polysilsesquioxane compound has a comparatively large molecular weight, and has sufficient reactivity, and is useful as a sclerosing|hardenable component of a curable composition.

요건 1 중, Z2 의 값은, 바람직하게는 24 ∼ 36 %, 보다 바람직하게는 27 ∼ 32 % 이다. Z2 가 지나치게 작으면 반응성이 충분하지 않고, Z2 가 지나치게 크면 저장 안정성이 저하된다.Among the requirements 1, the value of Z2 is preferably 24 to 36%, more preferably 27 to 32%. When Z2 is too small, the reactivity is not enough, and when Z2 is too large, the storage stability will fall.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 29Si-NMR 을 측정했을 때, 영역 (3) 에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, 또한, 하기 식으로 유도되는 Z3 이 60 ∼ 80 % 인 것이 바람직하다.As for the curable polysilsesquioxane compound (A), when 29 Si-NMR is measured, one or two or more peaks are observed in the region (3), and Z3 derived by the following formula is 60 to 80% desirable.

Figure pct00010
Figure pct00010

Z3 이 60 ∼ 80 % 인 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 식 (a-6) 으로 나타내는 T 사이트를, T 사이트 전체에 대하여 60 ∼ 80 % 포함하는 것이다.The sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) whose Z3 is 60 to 80% contains 60 to 80% of T sites represented by Formula (a-6) with respect to the whole T site.

Z3 의 값이 60 ∼ 80 % 인 범위 내의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 분자량과 반응성의 밸런스가 보다 우수한 것이다.The curable polysilsesquioxane compound (A) in the range whose value of Z3 is 60 to 80 % is more excellent in molecular weight and reactivity balance.

이 효과를 보다 얻기 쉬운 점에서, Z3 의 값은, 64 ∼ 76 % 가 보다 바람직하고, 68 ∼ 73 % 가 더욱 바람직하다.From the point where this effect is more easily acquired, 64 to 76 % is more preferable, and, as for the value of Z3, 68 to 73 % is still more preferable.

Z2 나 Z3 의 값은, 예를 들어, 실시예에 기재된 조건으로 29Si-NMR 을 측정하여, P1 ∼ P3 을 얻고, 상기 식에 따라 산출할 수 있다.The values of Z2 and Z3 can be calculated, for example, by measuring 29 Si-NMR under the conditions described in Examples to obtain P1 to P3, and according to the above formula.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 상기 요건 2 를 만족시키는 것이다.The curable polysilsesquioxane compound (A) satisfies the above requirement 2 .

즉, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 4,000 ∼ 11,000 이고, 바람직하게는 4,000 ∼ 8,000, 보다 바람직하게는 6,000 ∼ 7,000 이다.That is, the mass average molecular weights (Mw) of a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) are 4,000-11,000, Preferably it is 4,000-8,000, More preferably, it is 6,000-7,000.

상기와 같이, 요건 1 을 만족시키는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 비교적 큰 분자량을 갖는 경향이 있다. 요건 2 는, 그 분자량의 범위를 명확하게 하는 것이다.As described above, the curable polysilsesquioxane compound satisfying the requirement 1 tends to have a relatively large molecular weight. Requirement 2 is to clarify the range of the molecular weight.

질량 평균 분자량 (Mw) 이 상기 범위 내에 있는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 경화성 성분으로서 사용함으로써, 접착 강도가 높고, 내열성이 우수한 경화물을 제공하는 경화성 조성물을 얻을 수 있다.By using the curable polysilsesquioxane compound (A) having a mass average molecular weight (Mw) within the above range as a curable component, a curable composition providing a cured product having high adhesive strength and excellent heat resistance can be obtained.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는, 특별히 제한되지 않지만, 통상 1.0 ∼ 10.0, 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 의 범위이다. 분자량 분포 (Mw/Mn) 가 상기 범위 내에 있는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 경화성 성분으로서 사용함으로써, 접착성 및 내열성이 보다 우수한 경화물을 제공하는 경화성 조성물을 얻을 수 있다.Although the molecular weight distribution (Mw/Mn) in particular of a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) is not restrict|limited, Usually, it is 1.0-10.0, Preferably it is the range of 1.1-6.0. By using the curable polysilsesquioxane compound (A) having a molecular weight distribution (Mw/Mn) within the above range as the curable component, it is possible to obtain a curable composition that provides a cured product having more excellent adhesion and heat resistance.

질량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn) 은, 예를 들어, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산값으로서 구할 수 있다.A mass average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) can be calculated|required as a standard polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran (THF) as a solvent, for example.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 예를 들어, 하기 식 (a-7) 로 나타내는 화합물 (이하, 「실란 화합물 (1)」 이라고 하는 경우가 있다.), 또는 실란 화합물 (1) 및 하기 식 (a-8) 로 나타내는 화합물 (이하, 「실란 화합물 (2)」 라고 하는 경우가 있다.) 을, 중축합 촉매의 존재하에 중축합시킴으로써 제조할 수 있다.The curable polysilsesquioxane compound (A) is, for example, a compound represented by the following formula (a-7) (hereinafter, sometimes referred to as “silane compound (1)”), or a silane compound (1) and a compound represented by the following formula (a-8) (hereinafter sometimes referred to as “silane compound (2)”) can be produced by polycondensing in the presence of a polycondensation catalyst.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (a-7), (a-8) 중, R1, R2, D 는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R4, R5 는, 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, X1, X2 는, 각각 독립적으로 할로겐 원자를 나타내고, p, q 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 복수의 R4, R5, 및 복수의 X1, X2 는, 각각, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In formulas (a-7) and (a-8), R 1 , R 2 , and D have the same meanings as above. R 4 , R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X 1 , X 2 each independently represents a halogen atom, and p and q each independently represent an integer of 0 to 3; A plurality of R 4 , R 5 , and a plurality of X 1 , X 2 may each be the same as or different from each other.

R4, R5 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, R2 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 4 and R 5 include the same groups as those shown for the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 2 .

X1, X2 의 할로겐 원자로는, 염소 원자, 및 브롬 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom for X 1 and X 2 include a chlorine atom and a bromine atom.

Figure pct00012
Figure pct00012

Figure pct00013
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Figure pct00014
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Figure pct00015
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실란 화합물 (1) 은 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A silane compound (1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 실란 화합물 (1) 로는, 플루오로알킬트리알콕시실란 화합물류에 포함되는 것이 바람직하다.Among these, as a silane compound (1), what is contained in the fluoroalkyl trialkoxysilane compounds is preferable.

실란 화합물 (2) 로는, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리프로폭시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, n-프로필트리프로폭시실란, n-프로필트리부톡시실란, n-부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-펜틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, 이소옥틸트리에톡시실란 등의 알킬트리알콕시실란 화합물류 ;Examples of the silane compound (2) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, and n-propyltriethane. Toxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, alkyltrialkoxysilane compounds such as isooctyltriethoxysilane;

메틸클로로디메톡시실란, 메틸클로로디에톡시실란, 메틸디클로로메톡시실란, 메틸브로모디메톡시실란, 에틸클로로디메톡시실란, 에틸클로로디에톡시실란, 에틸디클로로메톡시실란, 에틸브로모디메톡시실란, n-프로필클로로디메톡시실란, n-프로필디클로로메톡시실란, n-부틸클로로디메톡시실란, n-부틸디클로로메톡시실란 등의 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ;Methylchlorodimethoxysilane, methylchlorodiethoxysilane, methyldichloromethoxysilane, methylbromodimethoxysilane, ethylchlorodimethoxysilane, ethylchlorodiethoxysilane, ethyldichloromethoxysilane, ethylbromodimethoxysilane, alkylhalogenoalkoxysilane compounds such as n-propylchlorodimethoxysilane, n-propyldichloromethoxysilane, n-butylchlorodimethoxysilane and n-butyldichloromethoxysilane;

메틸트리클로로실란, 메틸트리브로모실란, 에틸트리트리클로로실란, 에틸트리브로모실란, n-프로필트리클로로실란, n-프로필트리브로모실란, n-부틸트리클로로실란, 이소부틸트리클로로실란, n-펜틸트리클로로실란, n-헥실트리클로로실란, 이소옥틸트리클로로실란 등의 알킬트리할로게노실란 화합물류 ; 등을 들 수 있다.Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, ethyltritrichlorosilane, ethyltribromosilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-butyltrichlorosilane, isobutyltrichlorosilane, n- Alkyl trihalogenosilane compounds, such as pentyl trichlorosilane, n-hexyl trichlorosilane, and isooctyl trichlorosilane; and the like.

실란 화합물 (2) 는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A silane compound (2) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 실란 화합물 (2) 로는, 알킬트리알콕시실란 화합물류에 포함되는 것이 바람직하다.Among these, as a silane compound (2), what is contained in alkyl trialkoxysilane compounds is preferable.

상기 실란 화합물을 중축합시키는 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지된 방법을 이용할 수 있다. 단, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 제조에 있어서는 이하에 나타내는 문제가 있기 때문에, 반응 조건을 특별히 검토할 필요가 있다.The method of polycondensing the said silane compound is not specifically limited, A well-known method can be used. However, in manufacture of a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A), since there exists a problem shown below, it is necessary to examine reaction conditions in particular.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 제조할 때의 문제의 하나는, 상기 특허문헌 4 에 나타나 있다. 즉, 상기 특허문헌 4 의 표 1 을 보면, 플루오로알킬기를 갖는 실란 화합물의 사용 비율이 증가함에 따라, 얻어지는 중합체는 저분자량화되는 경향이 있는 것을 알 수 있다.One of the problems at the time of manufacturing a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) is shown in the said patent document 4. That is, referring to Table 1 of Patent Document 4, it can be seen that as the usage ratio of the silane compound having a fluoroalkyl group increases, the resulting polymer tends to have a lower molecular weight.

이와 같이, 실란 화합물 (1) 의 반응성과 실란 화합물 (2) 의 반응성은 크게 상이하기 때문에, 실란 화합물 (2) 의 중축합 반응에 관한 종래의 지견을 그대로 이용하여, 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 얻는 것은 곤란하다.As described above, since the reactivity of the silane compound (1) and the reactivity of the silane compound (2) are significantly different, the requirements 1 and 2 are satisfied using the conventional knowledge regarding the polycondensation reaction of the silane compound (2) as it is. It is difficult to obtain a curable polysilsesquioxane compound.

특허문헌 4 의 실시예에 있어서는, 실제로, 플루오로알킬기를 갖는 실란 화합물을 사용하여 중축합 반응을 실시하여, 중합체를 제조하고 있다. 그러나, 상기와 같이, 이 문헌에 기재된 제조 방법에 있어서는, 반응에 사용한 실란 화합물의 혼합 비율이 반응에 크게 영향을 미치기 때문에, 중합체의 분자량을 제어할 수 없다.In the Example of patent document 4, the polycondensation reaction is actually performed using the silane compound which has a fluoroalkyl group, and the polymer is manufactured. However, as described above, in the production method described in this document, since the mixing ratio of the silane compound used for the reaction greatly affects the reaction, the molecular weight of the polymer cannot be controlled.

또, 후술하는 바와 같이, 특허문헌 4 의 실시예에 기재된 반응 조건을 사용함으로써, 반응성이 떨어지는 실란 화합물 (플루오로알킬기를 갖는 실란 화합물) 을 단량체로서 사용할 수 있지만, 이 반응 조건을 사용해도, 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 얻는 것은 곤란하다 (비교예 1 ∼ 3).In addition, as described later, by using the reaction conditions described in the Examples of Patent Document 4, a silane compound with poor reactivity (a silane compound having a fluoroalkyl group) can be used as a monomer, but even if this reaction condition is used, the requirements It is difficult to obtain the curable polysilsesquioxane compound which satisfy|fills 1 and requirement 2 (Comparative Examples 1-3).

본 발명자들은, 실란 화합물 (1) 을 사용하는 중축합 반응에 대해 검토한 결과, 비교적 온화한 조건으로, 시간을 들여 중축합 반응을 실시함으로써, 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 얻을 수 있는 것을 알 수 있었다.As a result of the present inventors examining the polycondensation reaction using a silane compound (1), curable polysilsesquioxane which satisfies the requirement 1 and the requirement 2 by performing polycondensation reaction over time on comparatively mild conditions. It was found that the compound could be obtained.

구체적으로는, 용매 중, 또는 무용매로, 적당량의 산 촉매를 사용하여, 소정 온도에서 실란 화합물의 중축합 반응을 실시하여 제조 중간체를 포함하는 반응액을 얻은 후, 염기를 첨가하여 반응액을 중화시키고, 또한 중축합 반응을 실시함으로써, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 제조할 수 있다.Specifically, in a solvent or without a solvent, using an appropriate amount of an acid catalyst, polycondensation reaction of a silane compound is performed at a predetermined temperature to obtain a reaction solution containing a production intermediate, and then a base is added to prepare the reaction solution. A sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) can be manufactured by making it neutralize and also performing a polycondensation reaction.

용매로는, 물 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올 등의 알코올류 ; 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a solvent, Water; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol and t-butyl alcohol; and the like. These solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

용매를 사용하는 경우, 그 사용량은, 실란 화합물의 총 ㏖ 량 1 ㏖ 당, 통상 0.001 ∼ 10.000 리터, 바람직하게는 0.010 ∼ 0.9 리터이다.When using a solvent, the usage-amount is 0.001-10.000 liters normally, Preferably it is 0.010-0.9 liters per 1 mol of total moles of a silane compound.

산 촉매로는, 인산, 염산, 붕산, 황산, 질산 등의 무기산 ; 시트르산, 아세트산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 등의 유기산 ; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 인산, 염산, 붕산, 황산, 시트르산, 아세트산, 및 메탄술폰산에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다.Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, and nitric acid; organic acids such as citric acid, acetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid; and the like. Among these, at least one selected from phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, citric acid, acetic acid, and methanesulfonic acid is preferable.

산 촉매의 사용량은, 실란 화합물의 총 ㏖ 량에 대하여, 통상 0.01 ∼ 2.00 ㏖%, 바람직하게는 0.05 ∼ 1.00 ㏖%, 보다 바람직하게는 0.10 ∼ 0.30 의 범위이다.The usage-amount of an acid catalyst is 0.01-2.00 mol% normally with respect to the total mol of a silane compound, Preferably it is 0.05-1.00 mol%, More preferably, it is the range of 0.10-0.30.

산 촉매 존재하에서의 반응의 반응 온도는, 통상 20 ∼ 90 ℃, 바람직하게는 25 ∼ 80 ℃ 이다.The reaction temperature of the reaction in the presence of an acid catalyst is usually 20 to 90°C, preferably 25 to 80°C.

산 촉매 존재하에서의 반응의 반응 시간은, 통상 1 ∼ 48 시간, 바람직하게는 3 ∼ 24 시간이다.The reaction time of the reaction in the presence of an acid catalyst is usually from 1 to 48 hours, preferably from 3 to 24 hours.

산 촉매 존재하의 반응에 의해 얻어지는 제조 중간체의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 통상 800 ∼ 5,000, 바람직하게는 1,200 ∼ 4,000 이다.The mass average molecular weight (Mw) of the manufacturing intermediate obtained by reaction in acid catalyst presence is 800-5,000 normally, Preferably it is 1,200-4,000.

반응액을 중화시킬 때에 사용하는 염기로는, 암모니아수 ; 트리메틸아민, 트리에틸아민, 피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센, 아닐린, 피콜린, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 이미다졸 등의 유기 염기 ; 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄 등의 유기염 수산화물 ; 나트륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 나트륨t-부톡사이드, 칼륨t-부톡사이드 등의 금속 알콕사이드 ; 수소화나트륨, 수소화칼슘 등의 금속 수소화물 ; 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 금속 수산화물 ; 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등의 금속 탄산수소염 ; 등을 들 수 있다.As a base used when neutralizing a reaction liquid, Ammonia water; Trimethylamine, triethylamine, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, aniline, picoline, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane, imidazole, etc. organic base; organic salt hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide; metal hydrides such as sodium hydride and calcium hydride; metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide; metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, and magnesium carbonate; metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like.

반응액의 중화에 사용하는 염기의 양은, 실란 화합물의 총 ㏖ 량에 대하여, 통상 0.01 ∼ 2.00 ㏖%, 바람직하게는 0.05 ∼ 1.00 ㏖%, 보다 바람직하게는 0.10 ∼ 0.70 의 범위이다.The amount of the base used for neutralization of the reaction solution is usually in the range of 0.01 to 2.00 mol%, preferably 0.05 to 1.00 mol%, and more preferably 0.10 to 0.70, based on the total mol of the silane compound.

또 반응액의 중화에 사용하는 염기의 양 (㏖) 은, 1 공정 전에서 사용한 산 촉매의 양 (㏖) 의 0.5 ∼ 5.0 배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.8 ∼ 3.0 배, 보다 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 2.0 배이다.Moreover, the amount (mol) of the base used for neutralization of the reaction solution is preferably 0.5 to 5.0 times the amount (mol) of the acid catalyst used before step 1, more preferably 0.8 to 3.0 times, still more preferably 1.0 to 2.0 times.

중화 후의 반응액의 pH 는, 통상 6.0 ∼ 8.0, 바람직하게는 6.2 ∼ 7.0 이고, 보다 바람직하게는 6.4 ∼ 6.9 이다.The pH of the reaction solution after neutralization is usually 6.0 to 8.0, preferably 6.2 to 7.0, and more preferably 6.4 to 6.9.

중화 후의 반응의 반응 온도는, 통상 40 ∼ 90 ℃, 바람직하게는 50 ∼ 80 ℃ 이다.The reaction temperature of reaction after neutralization is 40-90 degreeC normally, Preferably it is 50-80 degreeC.

중화 후의 반응의 반응 시간은, 통상 20 ∼ 200 분간, 바람직하게는 30 ∼ 150 분간이다.The reaction time of reaction after neutralization is 20 to 200 minutes normally, Preferably it is 30 to 150 minutes.

상기의 제조 방법에서는, 산 촉매 존재하에서의 반응에 있어서는, 가수분해를 주된 목적으로 하고, 중화 후의 반응에 있어서는, 탈수 축합을 주된 목적으로 하고 있다.In the above production method, in the reaction in the presence of an acid catalyst, hydrolysis is the main purpose, and in the reaction after neutralization, dehydration condensation is the main purpose.

이와 같이 하여 실란 화합물의 중축합 반응을 실시함으로써, 목적으로 하는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 효율적으로 제조할 수 있다.In this way, by performing polycondensation reaction of a silane compound, the target curable polysilsesquioxane compound (A) can be manufactured efficiently.

반응 종료 후에는, 공지된 정제 처리를 실시하여, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 단리할 수 있다.After completion of the reaction, a known purification treatment can be performed to isolate the curable polysilsesquioxane compound (A).

본 발명의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 플루오로알킬기를 갖는 반복 단위를 갖는 것으로서, 충분한 반응성을 갖고, 또한 비교적 큰 분자량을 갖는 것이다.The curable polysilsesquioxane compound of the present invention has a repeating unit having a fluoroalkyl group, has sufficient reactivity, and has a relatively large molecular weight.

이와 같은 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 경화성이 우수하고, 또한 굴절률이 낮은 경화성 조성물의 경화성 성분으로서 유용하다.Such a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound is excellent in sclerosis|hardenability and is useful as a sclerosing|hardenable component of a curable composition with a low refractive index.

2) 경화성 조성물2) curable composition

본 발명의 경화성 조성물은, 하기 (A) 성분, 및 254 ℃ 이상의 비점을 갖는 용매 (이하, 「용매 (S1)」 로 기재하는 경우가 있다.) 를 함유하는 것을 특징으로 한다.The curable composition of the present invention is characterized by containing the following component (A) and a solvent having a boiling point of 254°C or higher (hereinafter, may be referred to as “solvent (S1)”).

(A) 성분 : 본 발명의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A))(A) component: curable polysilsesquioxane compound (curable polysilsesquioxane compound (A)) of the present invention

본 발명의 경화성 조성물에 있어서, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Curable composition of this invention WHEREIN: A sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물 중의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 함유량은, 경화성 조성물의 고형분 전체를 기준으로 하여, 통상 40 ∼ 80 질량%, 바람직하게는 50 ∼ 70 질량% 이다.Content of the curable polysilsesquioxane compound (A) in the curable composition of this invention is 40-80 mass % normally on the basis of the whole solid content of a curable composition, Preferably it is 50-70 mass %.

용매 (S1) 의 비점은, 254 ℃ 이상이고, 254 ∼ 300 ℃ 가 바람직하다.The boiling point of a solvent (S1) is 254 degreeC or more, and 254-300 degreeC is preferable.

여기서, 비점은, 1013 h㎩ 에 있어서의 비점을 말한다 (본 명세서에 있어서 동일.)Here, the boiling point means the boiling point in 1013 hPa (the same in this specification.)

용매 (S1) 로는, 비점이 254 ℃ 이상이고, 또한 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 용해 가능한 것이면 특별히 제한되지 않는다.As a solvent (S1), if a boiling point is 254 degreeC or more and can melt|dissolve a curable polysilsesquioxane compound (A), it will not restrict|limit in particular.

이와 같은 용매 (S1) 은, 휘발 속도가 비교적 느리다. 따라서, 용매 (S1) 을 함유하는 경화성 조성물은, 도포 후에 장시간 방치되어도 점도 변화가 작기 때문에, 도포 직후와 동일하게 광 소자 등을 양호하게 마운트하는 것이 가능해진다.Such a solvent (S1) has a relatively slow volatilization rate. Therefore, since the curable composition containing the solvent (S1) has a small change in viscosity even if it is left to stand for a long time after application, it becomes possible to favorably mount an optical element or the like in the same manner as immediately after application.

용매 (S1) 로는, 구체적으로는, 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (비점 274 ℃), 1,6-헥산디올디아크릴레이트 (비점 260 ℃), 디에틸렌글리콜디부틸에테르 (비점 256 ℃), 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르 (비점 261 ℃), 폴리에틸렌글리콜디메틸에테르 (비점 264 ∼ 294 ℃), 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르 (비점 275 ℃), 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르 (비점 290 ∼ 310 ℃) 등을 들 수 있다.Specifically, as the solvent (S1), tripropylene glycol-n-butyl ether (boiling point 274°C), 1,6-hexanediol diacrylate (boiling point 260°C), diethylene glycol dibutyl ether (boiling point 256°C) , triethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 261 ° C.), polyethylene glycol dimethyl ether (boiling point 264 to 294 ° C.), tetraethylene glycol dimethyl ether (boiling point 275 ° C.), polyethylene glycol monomethyl ether (boiling point 290 to 310 ° C.), etc. can be heard

이들 중에서도, 용매 (S1) 로는, 본 발명의 효과를 보다 얻기 쉽다는 관점에서, 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르, 1,6-헥산디올디아크릴레이트가 바람직하다.Among these, as the solvent (S1), tripropylene glycol-n-butyl ether and 1,6-hexanediol diacrylate are preferable from the viewpoint that the effect of the present invention can be obtained more easily.

용매 (S1) 은 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A solvent (S1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물은, 용매 (S1) 이외의 용매를 함유해도 된다.The curable composition of this invention may contain solvents other than a solvent (S1).

용매 (S1) 이외의 용매로는, 비점이 200 ℃ 이상 254 ℃ 미만인 용매 (이하, 「용매 (S2)」 로 기재하는 경우가 있다.) 가 바람직하다.As the solvent other than the solvent (S1), a solvent having a boiling point of 200°C or higher and lower than 254°C (hereinafter, may be referred to as “solvent (S2)”) is preferable.

용매 (S2) 로는, 비점이 200 ℃ 이상 254 ℃ 미만이고, 또한, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 용해 가능한 것이면 특별히 제한되지 않는다.As a solvent (S2), if a boiling point is 200 degreeC or more and less than 254 degreeC, and can melt|dissolve a curable polysilsesquioxane compound (A), it will not restrict|limit in particular.

용매 (S1) 과 용매 (S2) 를 병용함으로써, 경화성 조성물의 경화성이 향상된다.By using a solvent (S1) and a solvent (S2) together, sclerosis|hardenability of a curable composition improves.

용매 (S2) 의 구체예로는, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (비점 247 ℃), 디프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (비점 229 ℃), 벤질알코올 (비점 204.9 ℃), 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 (비점 209 ℃), 디에틸렌글리콜부틸메틸에테르 (비점 212 ℃), 디프로필렌글리콜-n-프로필에테르 (비점 212 ℃), 트리프로필렌글리콜디메틸에테르 (비점 215 ℃), 트리에틸렌글리콜디메틸에테르 (비점 216 ℃), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 (비점 217.4 ℃), 디에틸렌글리콜-n-부틸에테르 (비점 230 ℃), 에틸렌글리콜모노페닐에테르 (비점 245 ℃), 트리프로필렌글리콜메틸에테르 (비점 242 ℃), 프로필렌글리콜페닐에테르 (비점 243 ℃), 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르 (비점 249 ℃) 등을 들 수 있다.Specific examples of the solvent (S2) include diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 247° C.), dipropylene glycol-n-butyl ether (boiling point 229° C.), benzyl alcohol (boiling point 204.9° C.), and dipropylene glycol methyl ether. Acetate (boiling point 209 ° C.), diethylene glycol butylmethyl ether (boiling point 212 ° C.), dipropylene glycol-n-propyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether ( Boiling point 216 ° C), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point 217.4 ° C.), diethylene glycol-n-butyl ether (boiling point 230 ° C.), ethylene glycol monophenyl ether (boiling point 245 ° C.), tripropylene glycol methyl ether (boiling point) 242 deg. C), propylene glycol phenyl ether (boiling point 243 deg. C), triethylene glycol monomethyl ether (boiling point 249 deg. C), and the like.

이들 중에서도, 용매 (S2) 로는, 그 효과를 얻기 쉬운 점에서, 글리콜계 용매가 바람직하고, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜-n-부틸에테르가 바람직하고, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다.Among these, as a solvent (S2), since the effect is easy to acquire, a glycol-type solvent is preferable, diethylene glycol monobutyl ether acetate and dipropylene glycol-n-butyl ether are preferable, and diethylene glycol monobutyl ether. Acetate is more preferable.

용매 (S1) 과 용매 (S2) 를 병용하는 경우, 구체적으로는, 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (용매 (S1)) 와 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (용매 (S2)) 의 조합, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 (용매 (S1)) 와, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (용매 (S2)) 의 조합, 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (용매 (S1)) 와 디프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (용매 (S2)) 의 조합, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 (용매 (S1)) 와 디프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (유기 용매 (S2)) 의 조합이 바람직하다.When the solvent (S1) and the solvent (S2) are used together, specifically, a combination of tripropylene glycol-n-butyl ether (solvent (S1)) and diethylene glycol monobutyl ether acetate (solvent (S2)), 1 Combination of ,6-hexanediol diacrylate (solvent (S1)) and diethylene glycol monobutyl ether acetate (solvent (S2)), tripropylene glycol-n-butyl ether (solvent (S1)) and dipropylene glycol A combination of -n-butyl ether (solvent (S2)) and a combination of 1,6-hexanediol diacrylate (solvent (S1)) and dipropylene glycol-n-butyl ether (organic solvent (S2)) are preferred. .

본 발명의 경화성 조성물은, 고형분 농도가, 바람직하게는 50 ∼ 95 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 85 질량% 가 되는 양의 용매를 함유한다. 고형분 농도가 이 범위 내임으로써, 용매 (S1) 이나 용매 (S2) 의 효과가 충분히 발휘된다.The curable composition of the present invention contains a solvent having a solid content concentration of preferably 50 to 95 mass%, more preferably 60 to 85 mass%. When solid content concentration is in this range, the effect of a solvent (S1) and a solvent (S2) is fully exhibited.

본 발명의 경화성 조성물에 포함되는 용매 (S1) 과 용매 (S2) 의 합계량은, 전체 용매에 대하여, 통상 50 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 90 ∼ 100 질량% 이다.The total amount of solvent (S1) and solvent (S2) contained in the curable composition of this invention is 50-100 mass % normally with respect to all solvents, Preferably it is 70-100 mass %, More preferably, 90-100 mass % to be.

본 발명의 경화성 조성물에 포함되는 용매 (S1) 의 함유량은, 용매 (S1) 과 용매 (S2) 의 합계량에 대하여, 통상 20 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 30 ∼ 85 질량%, 보다 바람직하게는 50 ∼ 80 질량% 이다.Content of the solvent (S1) contained in the curable composition of this invention is 20-100 mass % normally with respect to the total amount of solvent (S1) and solvent (S2), Preferably it is 30-85 mass %, More preferably It is 50-80 mass %.

용매 (S1) 이나 용매 (S2) 를 이와 같은 비율로 함유하는 경화성 조성물은, 접착성, 및 젖음 확산성 (후술하는 액적의 확산에 관한 특성) 이 적당히 밸런스된 것이 된다.The curable composition containing the solvent (S1) and the solvent (S2) in such a ratio is suitably balanced in adhesiveness and wet diffusivity (characteristics regarding the diffusion of a droplet mentioned later).

본 발명의 경화성 조성물은, (B) 성분으로서, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제 (이하, 「실란 커플링제 (B)」 로 기재하는 경우가 있다.) 를 함유해도 된다.The curable composition of this invention may contain the silane coupling agent (Hereinafter, it may describe as "silane coupling agent (B)") which has a nitrogen atom in a molecule|numerator as (B) component.

실란 커플링제 (B) 를 함유하는 경화성 조성물은, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수하고, 또한 접착성, 내박리성, 및 내열성이 보다 우수한 경화물을 제공한다.The curable composition containing a silane coupling agent (B) provides the hardened|cured material excellent in the workability|operativity in an application|coating process, and more excellent in adhesiveness, peeling resistance, and heat resistance.

여기서, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수하다는 것은, 도포 공정에 있어서, 경화성 조성물을 토출관으로부터 토출하고, 이어서 토출관을 끌어올릴 때, 실 끌림량이 적거나, 또는 바로 중단되는 것을 말한다. 이 성질을 갖는 경화성 조성물을 사용함으로써, 수지 비산이나 액적의 확산에 의한 주위의 오염을 방지할 수 있다.Here, excellent workability in the coating step means that the amount of thread drag is small or immediately interrupted when the curable composition is discharged from the discharge pipe and then the discharge pipe is pulled up in the coating step. By using the curable composition having this property, it is possible to prevent contamination of the surroundings due to scattering of resin or diffusion of droplets.

실란 커플링제 (B) 로는, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제이면 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 하기 식 (b-1) 로 나타내는 트리알콕시실란 화합물, 식 (b-2) 로 나타내는 디알콕시알킬실란 화합물 또는 디알콕시아릴실란 화합물 등을 들 수 있다.As a silane coupling agent (B), if it is a silane coupling agent which has a nitrogen atom in a molecule|numerator, there will be no restriction|limiting in particular. For example, the trialkoxysilane compound represented by a following formula (b-1), the dialkoxy alkylsilane compound represented by a formula (b-2), a dialkoxy arylsilane compound, etc. are mentioned.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00016
Figure pct00016

상기 식 중, Ra 는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타낸다. 복수의 Ra 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula, R a represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a t-butoxy group. A plurality of R a may be the same or different.

Rb 는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 ; 또는 페닐기, 4-클로로페닐기, 4-메틸페닐기, 1-나프틸기 등의 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 아릴기 ; 를 나타낸다.R b is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group and t-butyl group; or an aryl group having a substituent such as a phenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 4-methylphenyl group, and a 1-naphthyl group, or having no substituent; indicates

Rc 는, 질소 원자를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기를 나타낸다. 또, Rc 는, 추가로 다른 규소 원자를 포함하는 기와 결합하고 있어도 된다.R c represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms and having a nitrogen atom. Moreover, R c may further couple|bond with the group containing another silicon atom.

Rc 의 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기의 구체예로는, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필기, 3-아미노프로필기, N-(1,3-디메틸-부틸리덴)아미노프로필기, 3-우레이도프로필기, N-페닐-아미노프로필기 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms for R c include N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyl group, 3-aminopropyl group, N-(1,3-dimethyl-butylidene) aminopropyl group, 3-ureidopropyl group, N-phenyl-aminopropyl group, etc. are mentioned.

상기 식 (b-1) 또는 (b-2) 로 나타내는 화합물 중, Rc 가, 다른 규소 원자를 포함하는 기와 결합한 유기기인 경우의 화합물로는, 이소시아누레이트 골격을 개재하여 다른 규소 원자와 결합하여 이소시아누레이트계 실란 커플링제를 구성하는 것이나, 우레아 골격을 개재하여 다른 규소 원자와 결합하여 우레아계 실란 커플링제를 구성하는 것을 들 수 있다.Among the compounds represented by the formula (b-1) or (b-2), the compound in the case where R c is an organic group bonded to a group containing another silicon atom is a compound represented by an isocyanurate skeleton with another silicon atom Examples thereof include bonding to form an isocyanurate-based silane coupling agent, and bonding to other silicon atoms via a urea skeleton to form a urea-based silane coupling agent.

이들 중에서도, 실란 커플링제 (B) 로는, 접착 강도가 보다 높은 경화물을 얻기 쉬운 점에서, 이소시아누레이트계 실란 커플링제, 및 우레아계 실란 커플링제가 바람직하고, 또한 분자 내에, 규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent (B), an isocyanurate-based silane coupling agent and a urea-based silane coupling agent are preferable from the viewpoint of easily obtaining a cured product having higher adhesive strength, and furthermore, in the molecule, It is preferable to have 4 or more alkoxy groups which couple|bonded.

규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는이란, 동일한 규소 원자에 결합한 알콕시기와, 상이한 규소 원자에 결합한 알콕시기의 총합계수가 4 이상이라는 의미이다.Having 4 or more alkoxy groups bonded to silicon atoms means that the sum total of the alkoxy groups bonded to the same silicon atom and alkoxy groups bonded to different silicon atoms is 4 or more.

규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 이소시아누레이트계 실란 커플링제로는, 하기 식 (b-3) 으로 나타내는 화합물을, 규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 우레아계 실란 커플링제로는, 하기 식 (b-4) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an isocyanurate-based silane coupling agent having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom, a compound represented by the following formula (b-3) is a urea-based silane coupling agent having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom, The compound represented by Formula (b-4) is mentioned.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 중, Ra 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다. t1 ∼ t5 는 각각 독립적으로, 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 6 의 정수인 것이 바람직하고, 3 인 것이 특히 바람직하다.In formula, R a represents the same meaning as the above. Each of t1 to t5 independently represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, particularly preferably 3, respectively.

식 (b-3) 으로 나타내는 화합물의 구체예로는, 1,3,5-N-트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리i-프로폭시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리부톡시실릴프로필)이소시아누레이트 등의 1,3,5-N-트리스[(트리(탄소수 1 ∼ 6)알콕시)실릴(탄소수 1 ∼ 10)알킬]이소시아누레이트 ;Specific examples of the compound represented by the formula (b-3) include 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- Triethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-trii-propoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-tribu 1,3,5-N-tris[(tri(C1-6)alkoxy)silyl(C1-10)alkyl]isocyanurate, such as oxysilylpropyl)isocyanurate;

1,3,5-N-트리스(3-디메톡시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시i-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시페닐실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시i-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시페닐실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디i-프로폭시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디i-프로폭시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디i-프로폭시i-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디i-프로폭시n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디i-프로폭시페닐실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시i-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시페닐실릴프로필)이소시아누레이트 등의 1,3,5-N-트리스[(디(탄소수 1 ∼ 6)알콕시)실릴(탄소수 1 ∼ 10)알킬]이소시아누레이트 ; 등을 들 수 있다.1,3,5-N-tris(3-dimethoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dimethoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3, 5-N-tris(3-dimethoxyi-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dimethoxyn-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3, 5-N-tris(3-dimethoxyphenylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diethoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N- Tris(3-diethoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diethoxyi-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris( 3-diethoxyn-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diethoxyphenylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- Dii-propoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dii-propoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris( 3-dii-propoxyi-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dii-propoxyn-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3, 5-N-tris(3-dii-propoxyphenylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dibutoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5 -N-tris(3-dibutoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dibutoxyi-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N 1,3,5-N-, such as tris(3-dibutoxyn-propylsilylpropyl)isocyanurate and 1,3,5-N-tris(3-dibutoxyphenylsilylpropyl)isocyanurate tris[(di(C1 to C6)alkoxy)silyl(C1 to C10)alkyl]isocyanurate; and the like.

식 (b-4) 로 나타내는 화합물의 구체예로는, N,N'-비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리프로폭시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리부톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(2-트리메톡시실릴에틸)우레아 등의 N,N'-비스[(트리(탄소수 1 ∼ 6)알콕시실릴)(탄소수 1 ∼ 10)알킬]우레아 ;Specific examples of the compound represented by the formula (b-4) include N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea, N ,N'-bis(3-tripropoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-tributoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(2-trimethoxysilylethyl)urea, etc. N,N'-bis[(tri(C1-C6) alkoxysilyl)(C1-C10)alkyl]urea;

N,N'-비스(3-디메톡시메틸실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-디메톡시에틸실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-디에톡시메틸실릴프로필)우레아 등의 N,N'-비스[(디(탄소수 1 ∼ 6)알콕시(탄소수 1 ∼ 6)알킬실릴(탄소수 1 ∼ 10)알킬)우레아 ;N,N'-bis(3-dimethoxymethylsilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-dimethoxyethylsilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-diethoxymethylsilylpropyl)urea N,N'-bis[(di(C1-C6)alkoxy(C1-C6)alkylsilyl(C1-C10)alkyl)urea, such as;

N,N'-비스(3-디메톡시페닐실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-디에톡시페닐실릴프로필)우레아 등의 N,N'-비스[(디(탄소수 1 ∼ 6)알콕시(탄소수 6 ∼ 20)아릴실릴(탄소수 1 ∼ 10)알킬)우레아 ; 등을 들 수 있다.N,N'-bis[(di(C1-6), such as N,N'-bis(3-dimethoxyphenylsilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-diethoxyphenylsilylpropyl)urea, etc. Alkoxy (C6-C20) arylsilyl (C1-C10) alkyl) urea; and the like.

실란 커플링제 (B) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A silane coupling agent (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 실란 커플링제 (B) 로는, 1,3,5-N-트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트 (이하, 「이소시아누레이트 화합물」 이라고 한다.), N,N'-비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아 (이하, 「우레아 화합물」 이라고 한다.), 및 상기 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물의 조합을 사용하는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent (B), 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-triethoxysilyl) Propyl) isocyanurate (hereinafter referred to as "isocyanurate compound"), N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-triethoxy It is preferable to use silylpropyl)urea (hereinafter referred to as "urea compound"), and a combination of the isocyanurate compound and the urea compound.

상기 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물을 조합하여 사용하는 경우, 양자의 사용 비율은, (이소시아누레이트 화합물) 과 (우레아 화합물) 의 질량비로, 100 : 1 ∼ 100 : 200 인 것이 바람직하고, 100 : 10 ∼ 100 : 110 이 보다 바람직하다. 이와 같은 비율로, 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물을 조합하여 사용함으로써, 접착 강도가 보다 높고, 내열성이 보다 우수한 경화물을 제공하는 경화성 조성물을 얻을 수 있다.When the isocyanurate compound and the urea compound are used in combination, the ratio of both is preferably 100:1 to 100:200 by mass ratio of (isocyanurate compound) to (urea compound), 100:10 - 100:110 are more preferable. By using a combination of an isocyanurate compound and a urea compound in such a ratio, it is possible to obtain a curable composition that provides a cured product having higher adhesive strength and better heat resistance.

본 발명의 경화성 조성물이 실란 커플링제 (B) [(B) 성분] 를 함유하는 경우, (B) 성분의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, 상기 (A) 성분과 (B) 성분의 질량비 [(A) 성분 : (B) 성분] 로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 90, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 60, 보다 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 50, 더욱 바람직하게는 100 : 3 ∼ 100 : 40, 특히 바람직하게는 100 : 5 ∼ 100 : 30 이 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains the silane coupling agent (B) [component (B)], the content of the component (B) is not particularly limited, but the amount is the mass ratio of the component (A) and the component (B). [Component (A): component (B)], preferably 100:0.1 to 100:90, more preferably 100:0.3 to 100:60, more preferably 100:1 to 100:50, still more preferably Preferably, the amount is 100:3 to 100:40, particularly preferably 100:5 to 100:30.

이와 같은 비율로 (A) 성분 및 (B) 성분을 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 접착 강도가 보다 높고, 내열성이 보다 우수한 것이 된다.The cured product of the curable composition containing the component (A) and the component (B) in such a ratio has higher adhesive strength and more excellent heat resistance.

본 발명의 경화성 조성물은, (C) 성분으로서, 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제 (이하, 「실란 커플링제 (C)」 로 기재하는 경우가 있다.) 를 함유해도 된다.The curable composition of this invention may contain the silane coupling agent (Hereinafter, it may describe as "silane coupling agent (C)") which has an acid-anhydride structure in a molecule|numerator as (C)component.

실란 커플링제 (C) 를 함유하는 경화성 조성물은, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수하고, 또한 접착 강도가 보다 높고, 내박리성 및 내열성이 보다 우수한 경화물을 제공한다.The curable composition containing a silane coupling agent (C) provides the hardened|cured material which is excellent in workability|operativity in an application|coating process, adhesive strength is higher, and is more excellent in peeling resistance and heat resistance.

실란 커플링제 (C) 로는, 2-(트리메톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리에톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산, 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산 등의 트리(탄소수 1 ∼ 6)알콕시실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;As the silane coupling agent (C), 2-(trimethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 2-(triethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, 3-(triethoxy tri(C1-C6) alkoxysilyl(C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as silyl) propyl succinic anhydride;

2-(디메톡시메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의 디(탄소수 1 ∼ 6)알콕시메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;di(C1-C6) alkoxymethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dimethoxymethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(메톡시디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의 (탄소수 1 ∼ 6)알콕시디메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ; (C1-C6) alkoxy dimethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(methoxydimethylsilyl) ethyl succinic anhydride;

2-(트리클로로실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리브로모실릴)에틸 무수 숙신산 등의 트리할로게노실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;trihalogenosilyl (C2-8)alkyl succinic anhydride, such as 2-(trichlorosilyl)ethyl succinic anhydride and 2-(tribromosilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(디클로로메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의 디할로게노메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;dihalogenomethylsilyl (C2-8)alkyl succinic anhydride, such as 2-(dichloromethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(클로로디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의 할로게노디메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ; 등을 들 수 있다.halogenodimethylsilyl (C2-8)alkyl succinic anhydride, such as 2-(chlorodimethylsilyl)ethyl succinic anhydride; and the like.

실란 커플링제 (C) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A silane coupling agent (C) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 실란 커플링제 (C) 로는, 트리(탄소수 1 ∼ 6)알콕시실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산이 바람직하고, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산 또는 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산이 특히 바람직하다.Among these, as a silane coupling agent (C), tri(C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride is preferable, 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, or 3-(trie Particular preference is given to oxysilyl)propyl succinic anhydride.

본 발명의 경화성 조성물이 실란 커플링제 (C) [(C) 성분] 를 함유하는 경우, (C) 성분의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, 상기 (A) 성분과 (C) 성분의 질량비 [(A) 성분 : (C) 성분] 로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 30, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 20, 보다 바람직하게는 100 : 0.5 ∼ 100 : 15, 더욱 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 10 이 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains the silane coupling agent (C) [component (C)], the content of the component (C) is not particularly limited, but the amount is the mass ratio of the component (A) and the component (C). [Component (A): component (C)], preferably 100:0.1 to 100:30, more preferably 100:0.3 to 100:20, more preferably 100:0.5 to 100:15, still more preferably Usually, the amount is 100: 1 to 100: 10.

이와 같은 비율로 (C) 성분을 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 접착 강도가 보다 높은 것이 된다.The hardened|cured material of the curable composition containing (C)component in such a ratio becomes a thing with higher adhesive strength.

본 발명의 경화성 조성물은, (D) 성분으로서, 평균 일차 입자경이 5 ∼ 40 ㎚ 인 미립자 (이하, 「미립자 (D)」 로 기재하는 경우가 있다.) 를 함유해도 된다.The curable composition of the present invention may contain, as component (D), fine particles having an average primary particle diameter of 5 to 40 nm (hereinafter, may be referred to as “fine particles (D)”).

미립자 (D) 를 함유하는 경화성 조성물은, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수하다.The curable composition containing microparticles|fine-particles (D) is excellent in the workability|operativity in an application|coating process.

이 효과를 보다 얻기 쉬운 점에서, 미립자 (D) 의 평균 일차 입자경은, 바람직하게는 5 ∼ 30 ㎚, 보다 바람직하게는 5 ∼ 20 ㎚ 이다.Since this effect is more easily acquired, the average primary particle diameter of microparticles|fine-particles (D) becomes like this. Preferably it is 5-30 nm, More preferably, it is 5-20 nm.

미립자 (D) 의 평균 일차 입자경은, 투과형 전자 현미경을 사용하여 미립자의 형상을 관찰함으로써 구할 수 있다.The average primary particle diameter of microparticles|fine-particles (D) can be calculated|required by observing the shape of microparticles|fine-particles using a transmission electron microscope.

미립자 (D) 의 비표면적은, 바람직하게는 10 ∼ 500 ㎡/g, 보다 바람직하게는 20 ∼ 300 ㎡/g 이다. 비표면적이 상기 범위 내임으로써, 도포 공정에 있어서의 작업성이 보다 우수한 경화성 조성물을 얻기 쉬워진다.The specific surface area of the microparticles|fine-particles (D) becomes like this. Preferably it is 10-500 m<2>/g, More preferably, it is 20-300 m<2>/g. When a specific surface area is in the said range, it becomes easy to obtain the more excellent curable composition in the workability|operativity in a coating process.

비표면적은 BET 다점법에 의해 구할 수 있다.The specific surface area can be calculated|required by the BET multipoint method.

미립자 (D) 의 형상은, 구상, 사슬상, 침상, 판상, 편상, 봉상, 섬유상 등 중 어느 것이어도 되지만, 구상인 것이 바람직하다. 여기서, 구상이란, 진구상 외에, 회전 타원체, 계란형, 콘페이토상, 고치상 등 구체에 근사할 수 있는 다면체 형상을 포함하는 대략 구상을 의미한다.The shape of the fine particles (D) may be any of a spherical shape, a chain shape, a needle shape, a plate shape, a flaky shape, a rod shape, and a fibrous shape, but is preferably a spherical shape. Here, the spherical shape means a substantially spherical shape including a polyhedral shape that can be approximated to a sphere, such as a spheroid, an oval, a confetti, and a cocoon, in addition to a true spherical shape.

미립자 (D) 의 구성 성분으로는, 특별히 제한은 없고, 금속 ; 금속 산화물 ; 광물 ; 탄산칼슘, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 황산칼슘, 황산바륨 등의 금속 황산염 ; 수산화알루미늄 등의 금속 수산화물 ; 규산알루미늄, 규산칼슘, 규산마그네슘 등의 금속 규산염 ; 실리카 등의 무기 성분 ; 실리콘 ; 아크릴계 중합체 등의 유기 성분 ; 등을 들 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as a structural component of microparticles|fine-particles (D), A metal; metal oxides; Mineral ; metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; metal hydroxides such as aluminum hydroxide; Metal silicates, such as an aluminum silicate, a calcium silicate, and a magnesium silicate; inorganic components such as silica; silicon ; organic components such as acrylic polymers; and the like.

또, 사용하는 미립자 (D) 는 표면이 수식된 것이어도 된다.In addition, the microparticles|fine-particles (D) to be used may be the thing by which the surface was modified.

금속이란, 주기표에 있어서의, 1 족 (H 를 제외한다), 2 ∼ 11 족, 12 족 (Hg 를 제외한다), 13 족 (B 를 제외한다), 14 족 (C 및 Si 를 제외한다), 15 족 (N, P, As 및 Sb 를 제외한다), 또는 16 족 (O, S, Se, Te 및 Po 를 제외한다) 에 속하는 원소를 말한다.The metal means, in the periodic table, Group 1 (excluding H), Groups 2 to 11, Group 12 (excluding Hg), Group 13 (excluding B), Group 14 (excluding C and Si) ), group 15 (excluding N, P, As and Sb), or group 16 (excluding O, S, Se, Te and Po).

금속 산화물로는, 예를 들어, 산화티탄, 알루미나, 베마이트, 산화크롬, 산화니켈, 산화구리, 산화티탄, 산화지르코늄, 산화인듐, 산화아연, 및 이들의 복합 산화물 등을 들 수 있다. 금속 산화물의 미립자에는, 이들 금속 산화물로 이루어지는 졸 입자도 포함된다.Examples of the metal oxide include titanium oxide, alumina, boehmite, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, titanium oxide, zirconium oxide, indium oxide, zinc oxide, and complex oxides thereof. The microparticles|fine-particles of a metal oxide also contain the sol particle which consists of these metal oxides.

광물로는, 스멕타이트, 벤토나이트 등을 들 수 있다.As a mineral, smectite, bentonite, etc. are mentioned.

스멕타이트로는, 예를 들어, 몬모릴로나이트, 바이델라이트, 헥토라이트, 사포나이트, 스티븐사이트, 논트로나이트, 소코나이트 등을 들 수 있다.Examples of smectite include montmorillonite, weidellite, hectorite, saponite, stevensite, nontronite, and soconite.

실리카로는, 건식 실리카, 습식 실리카, 표면 수식 실리카 (표면이 수식된 실리카) 등을 들 수 있다.Examples of the silica include fumed silica, wet silica, and surface-modified silica (surface-modified silica).

미립자 (D) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Microparticles|fine-particles (D) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 투명성이 우수한 경화물을 얻기 쉬운 점에서, 미립자 (D) 로는, 실리카, 금속 산화물, 광물이 바람직하고, 실리카가 보다 바람직하다.Among these, since it is easy to obtain the hardened|cured material excellent in transparency, as microparticles|fine-particles (D), a silica, a metal oxide, and a mineral are preferable and silica is more preferable.

실리카 중에서도, 도포 공정에 있어서의 작업성이 보다 우수한 경화성 조성물을 얻기 쉬운 점에서, 표면 수식 실리카가 바람직하고, 소수성의 표면 수식 실리카가 보다 바람직하다.Among silica, surface-modified silica is preferable, and hydrophobic surface-modified silica is more preferable from the viewpoint of easy to obtain a curable composition having more excellent workability in the coating step.

소수성의 표면 수식 실리카로는, 표면에, 트리메틸실릴기 등의 트리 탄소수 1 ∼ 20 의 트리알킬실릴기 ; 디메틸실릴기 등의 디 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬실릴기 ; 옥틸실릴기 등의 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬실릴기 ; 를 결합시킨 실리카 ; 실리콘 오일로 표면을 처리한 실리카 ; 등을 들 수 있다.Examples of the hydrophobic surface-modified silica include a trialkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms on the surface, such as a trimethylsilyl group; an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a dimethylsilyl group; C1-C20 alkylsilyl groups, such as an octylsilyl group; Silica bound to; Silica surface-treated with silicone oil; and the like.

소수성의 표면 수식 실리카는, 예를 들어, 실리카 입자에, 트리 탄소수 1 ∼ 20 의 트리알킬실릴기, 디 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬실릴기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬실릴기 등을 갖는 실란 커플링제를 사용하여 표면 수식함으로써, 혹은, 실리카 입자를 실리콘 오일로 처리함으로써 얻을 수 있다. 또, 표면 수식 실리카로서 시판되고 있는 것을 그대로 사용할 수도 있다.The hydrophobic surface-modified silica is, for example, a silane coupling agent having a trialkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms in the silica particles. It can be obtained by surface modification using , or by treating silica particles with silicone oil. Moreover, what is marketed as a surface-modified silica can also be used as it is.

본 발명의 경화성 조성물이 미립자 (D) [(D) 성분] 를 함유하는 경우, (D) 성분의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, 상기 (A) 성분과 (D) 성분의 질량비 [(A) 성분 : (D) 성분] 로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 90, 보다 바람직하게는 100 : 0.2 ∼ 100 : 60, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 50, 보다 바람직하게는 100 : 0.5 ∼ 100 : 40, 보다 바람직하게는 100 : 0.8 ∼ 100 : 30 이 되는 양이다. (D) 성분을 상기 범위에서 사용함으로써, (D) 성분을 첨가하는 효과를 보다 발현할 수 있다.When the curable composition of the present invention contains fine particles (D) [component (D)], the content of the component (D) is not particularly limited, but the amount is the mass ratio of the component (A) to the component (D) [( A) component: (D) component], Preferably it is 100:0.1-100:90, More preferably, 100:0.2-100:60, More preferably, 100:0.3-100:50, More preferably, 100:0.5 - 100:40, More preferably, it is an amount used as 100:0.8 - 100:30. (D) By using component in the said range, the effect of adding (D)component can be expressed more.

본 발명의 경화성 조성물은, (E) 성분으로서, 평균 일차 입자경이 0.04 ㎛ 초과, 8 ㎛ 이하의 미립자 (이하, 「미립자 (E)」 로 기재하는 경우가 있다.) 를 함유해도 된다.The curable composition of the present invention may contain, as component (E), fine particles having an average primary particle size of more than 0.04 µm and 8 µm or less (hereinafter, referred to as “fine particles (E)”).

미립자 (E) 를 함유하는 경화성 조성물을 사용함으로써, 내박리성이 우수한 경화물을 형성할 수 있다.By using the curable composition containing microparticles|fine-particles (E), the hardened|cured material excellent in peeling resistance can be formed.

이 효과를 보다 얻기 쉬운 점에서, 미립자 (E) 의 평균 일차 입자경은, 바람직하게는 0.06 ∼ 7 ㎛, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 6 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 4 ㎛ 이다.Since this effect is more easily acquired, the average primary particle diameter of microparticles|fine-particles (E) becomes like this. Preferably it is 0.06-7 micrometers, More preferably, it is 0.3-6 micrometers, More preferably, it is 0.5-4 micrometers.

미립자 (E) 의 평균 일차 입자경은, 레이저 회절·산란식 입도 분포 측정 장치 (예를 들어, 주식회사 호리바 제작소 제조, 제품명 「LA-920」) 등을 사용하여, 레이저 산란법에 의한 입도 분포의 측정을 실시함으로써 구할 수 있다.The average primary particle diameter of the fine particles (E) is measured by a laser scattering method using a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer (for example, manufactured by Horiba Corporation, product name “LA-920”) or the like. It can be obtained by performing

미립자 (E) 의 형상은, 구상, 사슬상, 침상, 판상, 편상, 봉상, 섬유상 등 중 어느 것이어도 되지만, 구상인 것이 바람직하다. 여기서, 구상이란, 진구상 외에, 회전 타원체, 계란형, 콘페이토상, 고치상 등 구체에 근사할 수 있는 다면체 형상을 포함하는 대략 구상을 의미한다.The shape of the fine particles (E) may be any of a spherical shape, a chain shape, a needle shape, a plate shape, a flaky shape, a rod shape, and a fibrous shape, but is preferably a spherical shape. Here, the spherical shape means a substantially spherical shape including a polyhedral shape that can be approximated to a sphere, such as a spheroid, an oval, a confetti, and a cocoon, in addition to a true spherical shape.

미립자 (E) 의 구성 성분으로는, 미립자 (D) 의 구성 성분으로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.As a structural component of microparticles|fine-particles (E), the thing similar to what was illustrated as a structural component of microparticles|fine-particles (D) is mentioned.

미립자 (E) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Microparticles|fine-particles (E) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 상기 효과를 얻기 쉬운 점에서, 미립자 (E) 로는, 실리콘으로 표면이 피복된 금속 산화물, 실리카 및 실리콘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 미립자가 바람직하고, 실리카, 실리콘이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of ease of obtaining the above effects, the fine particles (E) are preferably at least one type of fine particles selected from the group consisting of metal oxides, silica and silicon whose surface is coated with silicon, more preferably silica and silicon. Do.

본 발명의 경화성 조성물이 미립자 (E) [(E) 성분] 를 함유하는 경우, (E) 성분의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, (A) 성분과 (E) 성분의 질량비 [(A) 성분 : (E) 성분] 로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 40, 보다 바람직하게는 100 : 0.2 ∼ 100 : 30, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 20, 보다 바람직하게는 100 : 0.5 ∼ 100 : 15, 더욱 바람직하게는 100 : 0.8 ∼ 100 : 12 가 되는 양이다. (E) 성분을 상기 범위에서 사용함으로써, (E) 성분을 첨가하는 효과를 보다 발현할 수 있다.When the curable composition of the present invention contains fine particles (E) [component (E)], the content of the component (E) is not particularly limited, but the amount is the mass ratio of the component (A) to the component (E) [(A) ) component: (E) component], Preferably it is 100:0.1-100:40, More preferably, 100:0.2-100:30, More preferably, 100:0.3-100:20, More preferably, 100 : 0.5-100:15, More preferably, it is an amount used as 100:0.8 - 100:12. (E) By using component in the said range, the effect of adding (E) component can be expressed more.

본 발명의 경화성 조성물은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 상기 (A) ∼ (E) 성분 이외의 다른 성분 ((F) 성분) 을 함유해도 된다.The curable composition of this invention may contain other components ((F) component) other than the said (A)-(E) component in the range which does not impair the objective of this invention.

(F) 성분으로는, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제 등을 들 수 있다.(F) As a component, antioxidant, a ultraviolet absorber, an optical stabilizer, etc. are mentioned.

산화 방지제는, 가열시의 산화 열화를 방지하기 위해서 첨가된다. 산화 방지제로는, 인계 산화 방지제, 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다.An antioxidant is added in order to prevent oxidative deterioration at the time of heating. As antioxidant, a phosphorus antioxidant, a phenol-type antioxidant, a sulfur-type antioxidant, etc. are mentioned.

인계 산화 방지제로는, 포스파이트류, 옥사포스파페난트렌옥사이드류 등을 들 수 있다. 페놀계 산화 방지제로는, 모노페놀류, 비스페놀류, 고분자형 페놀류 등을 들 수 있다. 황계 산화 방지제로는, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트 등을 들 수 있다.Phosphites, oxaphosphaphenanthrene oxides, etc. are mentioned as phosphorus antioxidant. Monophenols, bisphenols, polymer type phenols, etc. are mentioned as a phenolic antioxidant. As the sulfur-based antioxidant, dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, etc. can be heard

이들 산화 방지제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 산화 방지제의 사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상 10 질량% 이하이다.These antioxidants can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. The usage-amount of antioxidant is 10 mass % or less normally with respect to (A) component.

자외선 흡수제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시킬 목적으로 첨가된다.A ultraviolet absorber is added in order to improve the light resistance of the hardened|cured material obtained.

자외선 흡수제로는, 살리실산류, 벤조페논류, 벤조트리아졸류, 힌더드아민류 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acids, benzophenones, benzotriazoles, and hindered amines.

자외선 흡수제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A ultraviolet absorber can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

자외선 흡수제의 사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상 10 질량% 이하이다.The usage-amount of a ultraviolet absorber is 10 mass % or less normally with respect to (A) component.

광 안정제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시킬 목적으로 첨가된다.An optical stabilizer is added in order to improve the light resistance of the hardened|cured material obtained.

광 안정제로는, 예를 들어, 폴리[{6-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}] 등의 힌더드아민류 등을 들 수 있다.As the light stabilizer, for example, poly[{6-(1,1,3,3,-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl}{(2,2) and hindered amines such as 6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}]. can

이들 광 안정제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These light stabilizers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

(F) 성분의 총사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상 20 질량% 이하이다.(F) The total usage amount of component is 20 mass % or less normally with respect to (A) component.

본 발명의 경화성 조성물은, 예를 들어, 상기 (A) 성분과 용매 (S1), 및 원하는 바에 따라 이들 이외의 성분을 소정 비율로 혼합하고, 탈포함으로써 조제할 수 있다.The curable composition of the present invention can be prepared by, for example, mixing the component (A) with the solvent (S1), and components other than these in a predetermined ratio as desired, followed by defoaming.

혼합 방법, 탈포 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지된 방법을 이용할 수 있다.A mixing method and a defoaming method are not specifically limited, A well-known method can be used.

본 발명의 경화성 조성물은, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 함유한다. 따라서, 본 발명의 경화성 조성물은 경화성이 우수하고, 또한 굴절률이 낮다. 또, 본 발명의 경화성 조성물은, 접착 강도가 높은 경화물의 형성 재료로서 유용하다.The curable composition of this invention contains a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A). Therefore, the curable composition of this invention is excellent in sclerosis|hardenability and has a low refractive index. Moreover, the curable composition of this invention is useful as a forming material of hardened|cured material with high adhesive strength.

본 발명의 경화성 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 굴절률 (nD) 은, 통상 1.380 ∼ 1.434, 바람직하게는 1.380 ∼ 1.430, 보다 바람직하게는 1.380 ∼ 1.428, 더욱 바람직하게는 1.380 ∼ 1.425 이다.Refractive index (nD) at 25 degreeC of curable composition of this invention is 1.380-1.434 normally, Preferably it is 1.380-1.430, More preferably, it is 1.380-1.428, More preferably, it is 1.380-1.425.

경화성 조성물의 굴절률 (nD) 은, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The refractive index (nD) of a curable composition can be measured by the method as described in an Example.

또한 본 발명의 경화성 조성물은, 용매 (S1) 을 함유한다. 따라서, 본 발명의 경화성 조성물은, 도포 후에 장시간 방치된 후이어도, 도포 직후와 동일하게 광 소자의 마운트 등의 작업을 할 수 있다.Moreover, the curable composition of this invention contains a solvent (S1). Therefore, even after the curable composition of the present invention is left to stand for a long time after application, an operation such as mounting of an optical element can be performed in the same manner as immediately after application.

예를 들어, 본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, 도포 후, 통상 20 분 이상, 바람직하게는 30 분 이상, 보다 바람직하게는 60 분 이상 경과 후에 있어서도, 도포 직후와 동일한 작업을 실시할 수 있다.For example, in the curable composition of the present invention, after application, usually 20 minutes or more, preferably 30 minutes or more, and more preferably 60 minutes or more, the same operation as immediately after application can be performed.

3) 경화물3) cured product

본 발명의 경화물은, 본 발명의 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 것이다.The cured product of the present invention is obtained by curing the curable composition of the present invention.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시키는 방법으로는 가열 경화를 들 수 있다. 경화시킬 때의 가열 온도는, 통상 100 ∼ 200 ℃ 이고, 가열 시간은, 통상 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Heat curing is mentioned as a method of hardening the curable composition of this invention. The heating temperature at the time of hardening is 100-200 degreeC normally, and the heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably it is 30 minutes - 10 hours.

본 발명의 경화물은, 접착 강도가 높고, 내열성이 우수한 것이다. The hardened|cured material of this invention has high adhesive strength and is excellent in heat resistance.

본 발명의 경화물이 이들 특성을 갖는 것은, 예를 들어, 다음과 같이 하여 확인할 수 있다. 즉, 실리콘 칩의 미러면에, 본 발명의 경화성 조성물을 소정량 도포하고, 도포면을 피착체 상에 올리고, 압착하고, 가열 처리하여 경화시킨다. 이것을, 미리 소정 온도 (예를 들어, 23 ℃, 100 ℃) 로 가열한 본드 테스터의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 50 ㎛ 의 높이의 위치에서, 접착면에 대해 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여, 시험편과 피착체의 접착력을 측정한다.It can be confirmed that the hardened|cured material of this invention has these characteristics as follows, for example. That is, a predetermined amount of the curable composition of the present invention is applied to a mirror surface of a silicon chip, the coated surface is placed on an adherend, pressed, and cured by heat treatment. This is left on the measurement stage of the bond tester heated in advance to a predetermined temperature (eg, 23° C., 100° C.) for 30 seconds, and at a height of 50 μm from the adherend, in the horizontal direction (shearing) with respect to the adhesive surface. direction) to measure the adhesive force between the test piece and the adherend.

본 발명의 경화물의 접착력은, 23 ℃ 에 있어서 60 N/4 ㎟ 이상인 것이 바람직하고, 80 N/4 ㎟ 이상인 것이 보다 바람직하고, 100 N/4 ㎟ 이상인 것이 특히 바람직하다. 또 경화물의 접착력은, 100 ℃ 에 있어서 30 N/4 ㎟ 이상인 것이 바람직하고, 40 N/4 ㎟ 이상인 것이 보다 바람직하고, 50 N/4 ㎟ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 60 N/4 ㎟ 이상인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that it is 60 N/4 mm<2> or more in 23 degreeC, as for the adhesive force of the hardened|cured material of this invention, it is more preferable that it is 80 N/4 mm<2> or more, It is especially preferable that it is 100 N/4 mm<2> or more. Moreover, it is preferable that the adhesive force of hardened|cured material is 30 N/4 mm<2> or more in 100 degreeC, It is more preferable that it is 40 N/4 mm<2> or more, It is still more preferable that it is 50 N/4 mm<2> or more, It is especially 60 N/4 mm<2> or more desirable.

본 명세서에 있어서, 「4 ㎟」 란, 2 ㎜ × 2 ㎜ (1 변이 2 ㎜ 인 정방형) 를 의미한다.In this specification, "4 mm2" means 2 mm x 2 mm (square with one side of 2 mm).

상기 특성을 가지므로, 본 발명의 경화물은, 광 소자 고정재로서 바람직하게 사용된다.Since it has the said characteristic, the hardened|cured material of this invention is used suitably as an optical element fixing material.

4) 경화성 조성물의 사용 방법4) How to use the curable composition

본 발명의 방법은, 본 발명의 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이다.The method of the present invention is a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material.

광 소자로는, LED, LD 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등을 들 수 있다.Examples of the optical element include light-emitting elements such as LED and LD, light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits.

<광 소자 고정재용 접착제><Adhesive for Optical Device Fixing Material>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법으로는, 접착의 대상으로 하는 재료 (광 소자와 그 기판 등) 의 일방 또는 양방의 접착면에 그 조성물을 도포하고, 압착한 후, 가열 경화시켜, 접착의 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착시키는 방법을 들 수 있다. 본 발명의 경화성 조성물의 도포량은, 특별히 한정되지 않고, 경화시킴으로써, 접착의 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착할 수 있는 양이면 된다. 통상, 경화성 조성물의 도막의 두께가 0.5 ∼ 5 ㎛, 바람직하게는 1 ∼ 3 ㎛ 가 되는 양이다.As a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical device fixing material, the composition is applied to one or both bonding surfaces of a material to be bonded (optical device and its substrate, etc.), and after compression, A method of making it heat-hardened and making the materials used as the bonding object adhere|attach firmly is mentioned. The application amount of the curable composition of the present invention is not particularly limited, and by curing it, the amount of materials to be adhered can be firmly adhered to each other. Usually, the thickness of the coating film of a curable composition is 0.5-5 micrometers, Preferably it is an amount used as 1-3 micrometers.

광 소자를 접착하기 위한 기판 재료로는, 소다라임 유리, 내열성 경질 유리 등의 유리류 ; 세라믹스 ; 사파이어 ; 철, 구리, 알루미늄, 금, 은, 백금, 크롬, 티탄 및 이들 금속의 합금, 스테인리스 (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309 등) 등의 금속류 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸펜텐, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 노르보르넨계 수지, 시클로올레핀 수지, 유리 에폭시 수지 등의 합성 수지 ; 등을 들 수 있다.Examples of the substrate material for bonding the optical element include glasses such as soda-lime glass and heat-resistant hard glass; ceramics; Sapphire ; metals such as iron, copper, aluminum, gold, silver, platinum, chromium, titanium, alloys of these metals, and stainless steel (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309, etc.); Polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyphenylenesulfide, polyetherimide , synthetic resins such as polyimide, polyamide, acrylic resin, norbornene-based resin, cycloolefin resin, and free epoxy resin; and the like.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 경화성 조성물 등에 따라 다르기도 하지만, 통상, 100 ∼ 200 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although the heating temperature at the time of heat-hardening changes with the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. Heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably they are 30 minutes - 10 hours.

<광 소자 고정재용 봉지재><Encapsulant for optical element fixing material>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 봉지재로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as a sealing material for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법으로는, 예를 들어, 그 조성물을 원하는 형상으로 성형하여, 광 소자를 내포한 성형체를 얻은 후, 이것을 가열 경화시킴으로써, 광 소자 봉지체를 제조하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of using the curable composition of the present invention as an encapsulant for an optical element fixing material, for example, the composition is molded into a desired shape to obtain a molded article encapsulating an optical element, and then heat-cured to cure the optical element rod. The method of manufacturing a body member, etc. are mentioned.

본 발명의 경화성 조성물을 원하는 형상으로 성형하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 통상적인 트랜스퍼 성형법이나, 주형법 등의 공지된 몰드법을 채용할 수 있다.It does not specifically limit as a method of shape|molding the curable composition of this invention into a desired shape, A well-known molding method, such as a normal transfer molding method and a casting method, is employable.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 경화성 조성물 등에 따라 다르기도 하지만, 통상, 100 ∼ 200 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although the heating temperature at the time of heat-hardening changes with the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. Heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably they are 30 minutes - 10 hours.

얻어지는 광 소자 봉지체는, 본 발명의 경화성 조성물을 사용하고 있으므로, 내열성이 우수하고, 또한 접착 강도가 높다.Since the optical element sealing body obtained uses the curable composition of this invention, it is excellent in heat resistance and has high adhesive strength.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. However, the present invention is not limited to the following examples at all.

각 예 중의 부 및 % 는, 특별히 언급하지 않는 한, 질량 기준이다.Unless otherwise noted, parts and % in each example are based on mass.

(실시예 1)(Example 1)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란 17.0 g (77.7 m㏖), 및 메틸트리에톡시실란 32.33 g (181.3 m㏖) 을 주입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 14.0 g 에 35 % 염산 0.0675 g (HCl 의 양이 0.65 m㏖, 실란 화합물의 합계량에 대하여, 0.25 ㏖%) 을 용해시켜 얻어진 수용액을 첨가하고, 전용 (全容) 을 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온시키고 20 시간 교반하였다.After injecting 17.0 g (77.7 mmol) of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and 32.33 g (181.3 mmol) of methyltriethoxysilane into a 300 ml eggplant-type flask, this is stirred While adding an aqueous solution obtained by dissolving 0.0675 g of 35% hydrochloric acid (the amount of HCl is 0.65 mmol, 0.25 mol% with respect to the total amount of the silane compound) in 14.0 g of distilled water, the solution is added, and the whole is mixed at 30°C for 2 hours Then, the temperature was raised to 70 °C and stirred for 20 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 거기에, 28 % 암모니아수 0.0394 g (NH3 의 양이 0.65 m㏖) 과 아세트산프로필 46.1 g 의 혼합 용액을 첨가하여 반응액의 pH 를 6.9 로 하고, 그대로 70 ℃ 에서 60 분간 교반하였다.While continuing stirring the contents, a mixed solution of 0.0394 g of 28% aqueous ammonia ( the amount of NH 3 is 0.65 mmol) and 46.1 g of propyl acetate is added thereto, the pH of the reaction solution is set to 6.9, and the pH of the reaction solution is set to 60 at 70°C as it is. stirred for minutes.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 거기에, 아세트산프로필 50 g 및 물 100 g 을 첨가하여 분액 처리를 실시하여, 반응 생성물을 포함하는 유기층을 얻었다. 이 유기층에 황산마그네슘을 첨가하여 건조 처리를 실시하였다. 황산마그네슘을 여과 분리 제거한 후, 유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 이어서, 얻어진 농축물을 진공 건조시킴으로써, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (1) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, 50 g of propyl acetate and 100 g of water were added there, liquid separation processing was performed, and the organic layer containing a reaction product was obtained. Magnesium sulfate was added to this organic layer, and the drying process was performed. Curable polysilsesquioxane compound (1) was obtained by concentrating the organic layer with an evaporator, then vacuum-drying the obtained concentrate after filtration separation removal of magnesium sulfate.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (1) 100 부에, 평균 일차 입자경이 7 ㎚ 인 실리카 필러 20 부, 평균 일차 입자경이 0.8 ㎛ 인 실리콘 필러 10 부를 첨가하였다. 또한, 용제로서 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 : 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 = 40 : 60 (질량비) 의 혼합 용제를 30 부 첨가한 후, 전용을 교반하였다.To 100 parts of the curable polysilsesquioxane compound (1), 20 parts of a silica filler having an average primary particle diameter of 7 nm and 10 parts of a silicone filler having an average primary particle diameter of 0.8 µm were added. Moreover, after adding 30 parts of mixed solvents of diethylene glycol monobutyl ether acetate:tripropylene glycol-n-butyl ether =40:60 (mass ratio) as a solvent, the exclusive use was stirred.

3 개 롤 밀에 의한 분산 처리를 실시한 후, 1,3,5-N-트리스[3-(트리메톡시실릴)프로필]이소시아누레이트 30 부, 3-(트리메톡시실릴)프로필숙신산 무수물 3 부, 또한, 용제로서 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 : 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 = 40 : 60 (질량비) 의 혼합 용제를 첨가하고, 전용을 충분히 혼합, 탈포함으로써, 고형분 농도 82 % 의 경화성 조성물 (1) 을 얻었다.After dispersing with a three roll mill, 30 parts of 1,3,5-N-tris[3-(trimethoxysilyl)propyl]isocyanurate, 3-(trimethoxysilyl)propylsuccinic anhydride 3 parts, further, as a solvent, a mixed solvent of diethylene glycol monobutyl ether acetate: tripropylene glycol-n-butyl ether = 40: 60 (mass ratio) is added, and the mixture is thoroughly mixed and defoamed to obtain a solid content concentration of 82%. of the curable composition (1) was obtained.

(실시예 2)(Example 2)

28 % 암모니아수와 아세트산프로필의 혼합 용액을 첨가한 후의 교반 시간을, 120 분간으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일하게 하여 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (2), 및 경화성 조성물 (2) 를 얻었다.Curable polysilsesquioxane compound (2) and curable composition (2) in the same manner as in Example 1 except that the stirring time after adding a mixed solution of 28% aqueous ammonia and propyl acetate was changed to 120 minutes. got

(실시예 3)(Example 3)

28 % 암모니아수와 아세트산프로필의 혼합 용액을 첨가한 후의 교반 시간을, 90 분간으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일하게 하여 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (3), 및 경화성 조성물 (3) 을 얻었다.Curable polysilsesquioxane compound (3) and curable composition (3) in the same manner as in Example 1 except that the stirring time after adding a mixed solution of 28% aqueous ammonia and propyl acetate was changed to 90 minutes. got

(실시예 4)(Example 4)

28 % 암모니아수와 아세트산프로필의 혼합 용액을 첨가한 후의 교반 시간을, 50 분간으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일하게 하여 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (4), 및 경화성 조성물 (4) 를 얻었다.Curable polysilsesquioxane compound (4) and curable composition (4) in the same manner as in Example 1 except that the stirring time after adding a mixed solution of 28% aqueous ammonia and propyl acetate was changed to 50 minutes. got

(실시예 5)(Example 5)

28 % 암모니아수와 아세트산프로필의 혼합 용액을 첨가한 후의 교반 시간을, 40 분간으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일하게 하여 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (5), 및 경화성 조성물 (5) 를 얻었다.Curable polysilsesquioxane compound (5) and curable composition (5) in the same manner as in Example 1 except that the stirring time after adding a mixed solution of 28% aqueous ammonia and propyl acetate was changed to 40 minutes. got

(비교예 1)(Comparative Example 1)

WO2017/110948호의 실시예 8 의 방법에 따라, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (6) 을 얻었다.According to the method of Example 8 of WO2017/110948, a curable polysilsesquioxane compound (6) was obtained.

이어서, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (6) 100 부에, 평균 일차 입자경이 7 ㎚ 인 실리카 필러 20 부, 평균 일차 입자경이 0.8 ㎛ 인 실리콘 필러 10 부를 첨가하였다. 또한, 용제로서 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트를 30 부 첨가한 후, 전용을 교반하였다.Next, 20 parts of silica fillers having an average primary particle diameter of 7 nm and 10 parts of silicone fillers having an average primary particle diameter of 0.8 µm were added to 100 parts of the curable polysilsesquioxane compound (6). Moreover, after adding 30 parts of diethylene glycol monobutyl ether acetate as a solvent, the exclusive use was stirred.

3 개 롤 밀에 의한 분산 처리를 실시한 후, 1,3,5-N-트리스[3-(트리메톡시실릴)프로필]이소시아누레이트 10 부, 3-(트리메톡시실릴)프로필숙신산 무수물 3 부, 또한 E 형 점도계를 사용하여 25 ℃, 200 s-1 의 조건으로 측정했을 때의 점도가 4.5 ㎩·s 가 되도록, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트를 첨가하고, 전용을 충분히 혼합, 탈포함으로써, 경화성 조성물 (6) 을 얻었다.After dispersing treatment with a three-roll mill, 10 parts of 1,3,5-N-tris[3-(trimethoxysilyl)propyl]isocyanurate, 3-(trimethoxysilyl)propylsuccinic anhydride 3 parts, diethylene glycol monobutyl ether acetate is added so that the viscosity when measured under the conditions of 25 ° C. and 200 s -1 using an E-type viscometer is 4.5 Pa.s, and then thoroughly mix and desorb the product By inclusion, the curable composition (6) was obtained.

또한, WO2017/110948호의 단락 (0115) 에는, 염산의 사용량으로서 「실란 화합물의 합계량에 대하여 0.25 ㏖%」 로 기재되어 있지만, 주입량으로부터 계산하면, 정확하게는 「실란 화합물의 합계량에 대하여 약 1.6 ㏖%」 이다. 이하의 비교예 2, 3 에 있어서도 동일하다.Further, in paragraph (0115) of WO2017/110948, the amount of hydrochloric acid to be used is described as "0.25 mol% with respect to the total amount of the silane compound", but when calculated from the injection amount, it is precisely "about 1.6 mol% with respect to the total amount of the silane compound" " to be. It is the same also in the following comparative examples 2 and 3.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

WO2017/110948호의 실시예 9 의 방법에 따라, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (7) 을 얻었다.According to the method of Example 9 of WO2017/110948, a curable polysilsesquioxane compound (7) was obtained.

이어서, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 경화성 조성물 (7) 을 얻었다.Next, the curable composition (7) was obtained by the method similar to the comparative example 1.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

WO2017/110948호의 실시예 10 의 방법에 따라, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (8) 을 얻었다.According to the method of Example 10 of WO2017/110948, a curable polysilsesquioxane compound (8) was obtained.

이어서, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 경화성 조성물 (8) 을 얻었다.Next, the curable composition (8) was obtained by the method similar to the comparative example 1.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 메틸트리에톡시실란 71.37 g (400 m㏖) 을 주입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 21.6 g 에 35 % 염산 0.1 g (실란 화합물의 합계량에 대하여, 0.25 ㏖%) 을 용해시킨 수용액을 첨가하고, 전용을 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온시키고 5 시간 교반하였다.After injecting 71.37 g (400 mmol) of methyltriethoxysilane into a 300 mL eggplant flask, and stirring this, 0.1 g of 35% hydrochloric acid to 21.6 g of distilled water (0.25 mol% with respect to the total amount of the silane compound) An aqueous solution in which was dissolved was added, and the mixture was heated at 30°C for 2 hours, then at 70°C, and stirred for 5 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 거기에, 아세트산프로필 140 g 과, 28 % 암모니아수 0.12 g (실란 화합물의 합계량에 대하여 NH3 이 0.5 ㏖%) 을 첨가하고, 70 ℃ 에서 3 시간 교반하였다.Continuing stirring of the contents, 140 g of propyl acetate and 0.12 g of 28% aqueous ammonia (NH 3 is 0.5 mol% with respect to the total amount of the silane compound) were added thereto, and the mixture was stirred at 70°C for 3 hours.

반응액을 실온까지 냉각시킨 후, 정제수를 사용하여, 수층의 pH 가 7 이 될 때까지 유기층을 세정하였다.After cooling the reaction solution to room temperature, purified water was used to wash the organic layer until the pH of the aqueous layer became 7.

유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 농축물을 진공 건조시킴으로써, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (9) 를 얻었다.Curable polysilsesquioxane compound (9) was obtained by concentrating an organic layer with an evaporator and vacuum-drying a concentrate.

이어서, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 경화성 조성물 (9) 를 얻었다.Next, the curable composition (9) was obtained by the method similar to Example 1.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

28 % 암모니아수와 아세트산프로필의 혼합 용액을 첨가한 후의 교반 시간을, 240 분간으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일하게 하여 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (10), 및 경화성 조성물 (10) 을 얻었다.A curable polysilsesquioxane compound (10) and a curable composition (10) were carried out in the same manner as in Example 1 except that the stirring time after adding a mixed solution of 28% aqueous ammonia and propyl acetate was changed to 240 minutes. got

실시예, 및 비교예에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (1) ∼ (10), 및 경화성 조성물 (1) ∼ (10) 을 사용하여, 각각 이하의 측정, 시험을 실시하였다. 결과를 제 1 표에 나타낸다.The following measurements and tests were performed using the curable polysilsesquioxane compounds (1)-(10) obtained by the Example and the comparative example, and curable composition (1)-(10), respectively. The results are shown in Table 1.

[질량 평균 분자량 측정][Measurement of mass average molecular weight]

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 이하의 장치 및 조건으로 측정하였다.The mass average molecular weight (Mw) of the curable polysilsesquioxane compound was measured with the following apparatus and conditions.

장치명 : HLC-8220GPC, 토소 주식회사 제조Device name: HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, 및 TSKgel2000HXL 을 순차 연결한 것Column: sequentially connected TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, and TSKgel2000HXL

용매 : 테트라하이드로푸란Solvent: tetrahydrofuran

표준 물질 : 폴리스티렌Standard material: polystyrene

주입량 : 20 ㎕Injection volume: 20 μl

측정 온도 : 40 ℃Measuring temperature: 40℃

유속 : 0.6 ㎖/분Flow rate: 0.6 ml/min

검출기 : 시차 굴절계Detector: Differential Refractometer

[29Si-NMR 측정][ 29 Si-NMR measurement]

장치 : 브루커·바이오스핀사 제조 AV-500Apparatus: AV-500 manufactured by Bruker Biospin

29Si-NMR 공명 주파수 : 99.352 ㎒ 29 Si-NMR resonance frequency: 99.352 MHz

프로브 : 5 ㎜φ 용액 프로브Probe: 5 mmφ solution probe

측정 온도 : 실온 (25 ℃)Measurement temperature: room temperature (25℃)

시료 회전수 : 20 ㎑Sample rotation speed: 20 kHz

측정법 : 인버스 게이트 디커플링법Measurement method: Inverse gate decoupling method

29Si 플립각 : 90˚ 29 Si flip angle: 90˚

29Si 90˚펄스폭 : 8.0 ㎲ 29 Si 90˚ Pulse width: 8.0 ㎲

반복 시간 : 5 sRepetition time: 5 s

적산 횟수 : 9200 회Integration count: 9200 times

관측폭 : 30 ㎑Observation width: 30 ㎑

<29Si-NMR 시료 제조 방법>< 29 Si-NMR sample preparation method>

완화 시간 단축을 위해, 완화 시약으로서 Fe(acac)3 을 첨가하여 측정하였다.To shorten the relaxation time, Fe(acac) 3 was added as a relaxation reagent.

폴리실세스퀴옥산 농도 : 15 %Polysilsesquioxane concentration: 15%

Fe(acac)3 농도 : 0.6 %Fe(acac) 3 concentration: 0.6%

측정 용매 : 아세톤Measuring solvent: acetone

내부 표준 : TMSInternal standard: TMS

<파형 처리 해석><Waveform processing analysis>

푸리에 변환 후의 스펙트럼의 각 피크에 대해, 피크 톱의 위치에 의해 케미컬 시프트를 구하고, 적분을 실시하였다.For each peak of the spectrum after Fourier transform, a chemical shift was calculated|required by the position of a peak top, and integration was performed.

[굴절률 측정][Refractive Index Measurement]

경화성 조성물을 수평면 상에 토출하고, 펜 굴절계 (ATAGO 사 제조, PEN-RI) 의 측정면을, 25 ℃ 에서 압착시킴으로써 굴절률 (nD) 을 측정하였다.The curable composition was discharged on a horizontal surface, and the refractive index (nD) was measured by pressing the measuring surface of a pen refractometer (manufactured by ATAGO, PEN-RI) at 25°C.

[경화성 평가][Curability evaluation]

레오미터 (Anton Paar 사 제조, MCR302) 로, 20 ㎜ 의 패러렐 플레이트를 사용하여, 시험 개시 온도 80 ℃, 승온 속도 5 ℃/분, 전단 변형 1 %, 주파수 1 ㎐ 로 전단 응력을 측정하였다. 전단 응력이 2000 ㎩ 가 되는 온도를 경화 온도로 하였다.With a rheometer (manufactured by Anton Paar, MCR302), a 20 mm parallel plate was used to measure the shear stress at a test start temperature of 80°C, a temperature increase rate of 5°C/min, a shear strain of 1%, and a frequency of 1 Hz. The temperature at which a shear stress was set to 2000 Pa was made into hardening temperature.

[점도 평가][Viscosity evaluation]

레오미터 (Anton Paar 사 제조, MCR301) 로, 반경 50 ㎜, 콘 각도 0.5˚의 콘 플레이트를 사용하여, 25 ℃ 에서, 전단 속도가 2 s-1 과, 전단 속도가 200 s-1 인 점도를 각각 측정하였다. 얻어진 측정값으로부터 틱소 지수 (전단 속도가 2 s-1 인 점도/전단 속도가 200 s-1 인 점도) 를 구하였다.Using a rheometer (manufactured by Anton Paar, MCR301), using a cone plate with a radius of 50 mm and a cone angle of 0.5°, at 25° C., a shear rate of 2 s −1 and a shear rate of 200 s −1 were measured. Each was measured. A thixotropic index (viscosity at a shear rate of 2 s −1 / viscosity at a shear rate of 200 s −1 ) was determined from the obtained measured values.

[접착 강도 측정][Measurement of adhesion strength]

한 변이 2 ㎜ 인 정방형 (면적이 4 ㎟) 의 실리콘 칩의 미러면에, 경화성 조성물을, 각각, 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은 도금 구리판) 상에 올리고 압착하였다. 그 후, 170 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하여 경화시켜 시험편이 부착된 피착체를 얻었다. 이 시험편이 부착된 피착체를, 미리 소정 온도 (23 ℃, 100 ℃) 로 가열한 본드 테스터 (데이지사 제조, 시리즈 4000) 의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 100 ㎛ 의 높이의 위치에서, 스피드 200 ㎛/s 로 접착면에 대해 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여, 23 ℃ 및 100 ℃ 에 있어서의 시험편과 피착체의 접착 강도 (N/4 ㎟) 를 측정하였다.The curable composition was applied to the mirror surface of a square (area 4 mm 2 ) silicon chip having a side of 2 mm, each having a thickness of about 2 µm, and the coated surface was placed on an adherend (silver-plated copper plate) and pressed. . Then, it heat-processed at 170 degreeC for 2 hours, and it hardened|cured, and obtained the to-be-adhered body with a test piece. The adherend to which this test piece was attached was left for 30 seconds on a measurement stage of a bond tester (manufactured by Daisy, series 4000) heated in advance to a predetermined temperature (23°C, 100°C), At the position, stress was applied in the horizontal direction (shear direction) to the adhesive surface at a speed of 200 µm/s, and the adhesive strength (N/4 mm 2 ) of the test piece and the adherend at 23° C. and 100° C. was measured.

[내크랙성 평가][Evaluation of Crack Resistance]

한 변이 0.5 ㎜ 인 정방형 (면적이 0.25 ㎟) 의 유리 칩의 미러면에, 경화성 조성물을 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은 도금 구리판) 상에 올리고 압착하였다. 그 후, 170 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하여 경화시켜, 시험편이 부착된 피착체를 얻었다. 디지털 현미경 (VHX-1000, 키엔스 제조) 을 사용하여 유리 칩에서 비어져 나와 있는 수지부 (필릿부) 를 관찰하고, 크랙을 갖는 샘플의 수를 세어, 크랙 발생률이 0 % 이상 25 % 미만을 「A」, 25 % 이상 50 % 미만을 「B」, 50 % 이상 100 % 를 「C」 로 평가하였다.The curable composition was applied to the mirror surface of a square (area 0.25 mm 2 ) glass chip having a side of 0.5 mm so that the thickness was about 2 µm, and the coated surface was placed on an adherend (silver-plated copper plate) and pressed. Then, it heat-processed and hardened at 170 degreeC for 2 hours, and the to-be-adhered body with a test piece was obtained. Using a digital microscope (VHX-1000, manufactured by Keyence), the resin part (fillet part) protruding from the glass chip is observed, the number of samples having cracks is counted, and the crack occurrence rate is 0% or more and less than 25%. A", 25% or more and less than 50% were evaluated as "B", and 50% or more and 100% were evaluated as "C".

[내박리성 평가][Evaluation of peel resistance]

LED 리드 프레임 (에노모토사 제조, 5050 D/G PKG LEADFRAME) 에, 경화성 조성물을 0.4 ㎜φ 정도 도포한 후에, 한 변이 0.5 ㎜ 인 정방형 (면적이 0.25 ㎟) 의 사파이어 칩을 압착하였다. 그 후, 170 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하여 경화시킨 후, 봉지재 (신에츠 화학 공업사 제조, LPS-3419) 를 컵 내에 흘려넣고, 120 ℃ 에서 1 시간, 또한 150 ℃ 에서 1 시간 가열하여 시험편을 얻었다.About 0.4 mmφ of the curable composition was applied to an LED lead frame (manufactured by Enomoto Co., Ltd., 5050 D/G PKG LEADFRAME), and then a square sapphire chip with a side of 0.5 mm (area 0.25 mm 2 ) was pressed. Then, after heat-processing and hardening at 170 degreeC for 2 hours, the sealing material (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make, LPS-3419) was poured into a cup, and it heated at 120 degreeC for 1 hour, and 150 degreeC for 1 hour, and obtained the test piece. .

이 시험편을 85 ℃, 85 %RH 의 환경에 168 시간 노출시킨 후, 프리히트 160 ℃ 에서, 최고 온도가 260 ℃ 가 되는 가열 시간 1 분간의 IR 리플로 (리플로로 : 사가미 이공사 제조, 제품명 「WL-15-20DNX 형」) 로 처리를 실시하였다. 그 후, 열사이클 시험기로, -40 ℃ 및 +100 ℃ 에서 각 30 분 방치하는 시험을 1 사이클로 하여, 500 사이클 실시하였다. 그 후, 봉지재를 제거하는 조작을 실시하고, 그 때 소자가 함께 박리되는지의 여부를 조사하였다. 이 시험을, 각 경화성 조성물에 대해 각각 100 회 실시하였다.After exposing this test piece to an environment of 85°C and 85% RH for 168 hours, preheat 160°C and IR reflow for 1 minute with a maximum temperature of 260°C (reflow furnace: manufactured by Sagami Engineering Co., Ltd., Product name "WL-15-20DNX type")). Thereafter, with a thermal cycle tester, a test left at -40°C and +100°C for 30 minutes each was set as 1 cycle, and 500 cycles were performed. Then, the operation which removes the sealing material was performed, and it was investigated whether the element peeled together at that time. This test was performed 100 times for each curable composition, respectively.

소자가 함께 박리된 횟수를 세어, 박리 발생률이 25 % 이하이면 「A」, 25 % 보다 크고 50 % 이하이면 「B」, 50 % 보다 크면 「C」 로 평가하였다.The number of times the elements peeled together was counted, and if the peeling incidence rate was 25% or less, it was evaluated as "A", if it was larger than 25% and 50% or less, "B" was evaluated, and if it was larger than 50%, it was evaluated as "C".

Figure pct00018
Figure pct00018

제 1 표로부터 이하를 알 수 있다.From Table 1, the following can be seen.

실시예 1 ∼ 5 에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (1) ∼ (5) 는, 29Si-NMR 측정의 결과, Z2 의 값이 20 ∼ 40 % 의 범위 내에 있는 것을 알 수 있었다. 또, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (1) ∼ (5) 의 질량 평균 분자량은, 모두 4000 ∼ 11000 의 범위 내에 있다.As for the curable polysilsesquioxane compounds (1)-(5) obtained in Examples 1-5, as a result of 29 Si-NMR measurement, it turned out that the value of Z2 exists in 20 to 40% of range. Moreover, all of the mass average molecular weights of sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compounds (1)-(5) exist in the range of 4000-11000.

이들 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물 (1) ∼ (5) 는, 굴절률 (nD) 이 낮고, 비교적 낮은 온도에서 충분히 경화된다.Curable compositions (1)-(5) containing these sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compounds have a low refractive index (nD), and are fully hardened|cured at comparatively low temperature.

또, 경화성 조성물 (1) ∼ (5) 의 경화물은 접착 강도가 높다.Moreover, the hardened|cured material of curable composition (1)-(5) has high adhesive strength.

한편, 비교예 1 ∼ 3 은, 각각, 특허문헌 4 의 실시예 8 ∼ 10 의 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 [경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (6) ∼ (8)] 을 사용한 것이다.On the other hand, Comparative Examples 1-3 use the curable polysilsesquioxane compounds [curable polysilsesquioxane compounds (6)-(8)] of Examples 8-10 of patent document 4, respectively.

특허문헌 4 의 실시예에 있어서는, 플루오로알킬기를 갖는 실란 화합물의 반응성의 낮음을 보충하기 위해서, 산 촉매의 양을 많이 사용하고 있다. 그러나, 이 방법에서는, Z2 값이 작은 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물밖에 얻을 수 없었다. 또, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란의 주입량이 증가함에 따라, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 질량 평균 분자량이 저하되어 있다.In the Example of Patent Document 4, in order to compensate for the low reactivity of the silane compound having a fluoroalkyl group, a large amount of the acid catalyst is used. However, by this method, only the sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound with a small Z2 value could be obtained. Moreover, as the injection amount of 3,3,3-trifluoropropyl trimethoxysilane increases, the mass average molecular weight of curable polysilsesquioxane compound is falling.

이러한 것이 원인으로, 비교예 1 ∼ 3 의 경화성 조성물 (6) ∼ (8) 은, 경화성이나, 경화물의 접착 강도에 있어서, 실시예 1 ∼ 5 의 경화성 조성물 (1) ∼ (5) 보다 떨어져 있다.This is the cause, and the curable compositions (6)-(8) of Comparative Examples 1-3 are inferior to the curable compositions (1)-(5) of Examples 1-5 in sclerosis|hardenability and the adhesive strength of hardened|cured material. .

비교예 4 에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (9) 는, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란 유래의 반복 단위를 갖지 않는다. 이 때문에, 경화성 조성물 (9) 의 굴절률 (nD) 은 큰 값으로 되어 있다.The curable polysilsesquioxane compound (9) obtained in Comparative Example 4 does not have a repeating unit derived from 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane. For this reason, the refractive index (nD) of the curable composition 9 is a large value.

또, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (9) 는, Z2 값이 작기 때문에, 경화성 조성물 (9) 의 경화성은 충분하지 않다.Moreover, since the curable polysilsesquioxane compound (9) has a small Z2 value, sclerosis|hardenability of the curable composition (9) is not enough.

비교예 5 에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (10) 은, 분자량이 지나치게 큰 것이다. 이 결과, 경화성 조성물 (10) 은, 경화성이나, 경화물의 접착 강도에 있어서, 실시예 1 ∼ 5 의 경화성 조성물 (1) ∼ (5) 보다 떨어져 있다.The curable polysilsesquioxane compound (10) obtained in Comparative Example 5 has an excessively large molecular weight. As a result, curable composition 10 is inferior to curable composition (1)-(5) of Examples 1-5 in sclerosis|hardenability and adhesive strength of hardened|cured material.

Claims (13)

하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물로서, 하기 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 것을 특징으로 하는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.
Figure pct00019

[R1 은, 조성식 : CmH(2m-n+1)Fn 으로 나타내는 플루오로알킬기를 나타낸다. m 은 1 ∼ 10 의 정수, n 은 2 이상, (2m + 1) 이하의 정수를 나타낸다. D 는, R1 과 Si 를 결합하는 연결기 (단, 알킬렌기를 제외한다) 또는 단결합을 나타낸다.]
[요건 1]
경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 29Si-NMR 을 측정했을 때, -62 ppm 이상 -52 ppm 미만의 영역 [영역 (2)] 에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, -52 ppm 이상 -45 ppm 미만의 영역 [영역 (1)] 과 -73 ppm 이상 -62 ppm 미만의 영역 [영역 (3)] 중 적어도 일방의 영역에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, 또한 하기 식으로 유도되는 Z2 가 20 ∼ 40 % 이다.
Figure pct00020

P1 : 영역 (1) 에 있어서의 적분값
P2 : 영역 (2) 에 있어서의 적분값
P3 : 영역 (3) 에 있어서의 적분값
[요건 2]
경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 질량 평균 분자량 (Mw) 이 4,000 ∼ 11,000 이다.
A curable polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (a-1), wherein the following requirements 1 and 2 are satisfied.
Figure pct00019

[R 1 represents a fluoroalkyl group represented by the composition formula: C m H (2m-n+1) F n . m represents the integer of 1-10, n represents the integer of 2 or more and (2m+1) or less. D represents a linking group for bonding R 1 and Si (however, except for an alkylene group) or a single bond.]
[Requirement 1]
When 29 Si-NMR of the curable polysilsesquioxane compound is measured, one or two or more peaks are observed in the region [region (2)] of -62 ppm or more and less than -52 ppm, -52 ppm or more -45 ppm 1 or 2 or more peaks are observed in at least one of the region of less than [region (1)] and the region of -73 ppm or more and less than -62 ppm [region (3)], and Z2 derived by the following formula is 20 to 40%.
Figure pct00020

P1: integral value in region (1)
P2: integral value in region (2)
P3: integral value in region (3)
[Requirement 2]
The mass average molecular weights (Mw) of sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound are 4,000-11,000.
제 1 항에 있어서,
식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 비율이, 전체 반복 단위에 대하여 25 ㏖% 이상인, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.
The method of claim 1,
The curable polysilsesquioxane compound whose ratio of the repeating unit represented by Formula (a-1) is 25 mol% or more with respect to all the repeating units.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
추가로, 하기 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위를 갖는, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.
Figure pct00021

[R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는 치환기를 갖거나, 혹은 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]
3. The method according to claim 1 or 2,
Furthermore, the curable polysilsesquioxane compound which has a repeating unit represented by following formula (a-2).
Figure pct00021

[R 2 is an alkyl group has a carbon number of 1 to 10 non-substituted, or substituted or non-substituted, or represents a group of a carbon number of 6 to 12 aryl group.]
제 3 항에 있어서,
식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위의 비율이, 전체 반복 단위에 대하여 0 ㏖% 초과, 75 ㏖% 이하인, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.
4. The method of claim 3,
The curable polysilsesquioxane compound whose ratio of the repeating unit represented by Formula (a-2) is more than 0 mol% and 75 mol% or less with respect to all repeating units.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
29Si-NMR 을 측정했을 때, 영역 (3) 에 1 또는 2 이상의 피크가 관측되고, 또한, 하기 식으로 유도되는 Z3 이 60 ∼ 80 % 인, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물.
Figure pct00022
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
When 29 Si-NMR is measured, 1 or 2 or more peaks are observed in the area|region (3), The curable polysilsesquioxane compound whose Z3 derived|guided|derived by the following formula is 60 to 80%.
Figure pct00022
하기 (A) 성분, 및 254 ℃ 이상의 비점을 갖는 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
(A) 성분 : 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물
The curable composition characterized by containing the following (A) component and the solvent which has a boiling point of 254 degreeC or more.
(A) Component: The curable polysilsesquioxane compound in any one of Claims 1-5
제 6 항에 있어서,
추가로, 하기 (B) 성분을 함유하는, 경화성 조성물.
(B) 성분 : 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제
7. The method of claim 6,
Furthermore, the curable composition containing the following (B) component.
(B) component: a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
추가로, 하기 (C) 성분을 함유하는, 경화성 조성물.
(C) 성분 : 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제
8. The method according to claim 6 or 7,
Furthermore, the curable composition containing the following (C)component.
(C) component: a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule
제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 하기 (D) 성분을 함유하는, 경화성 조성물.
(D) 성분 : 평균 일차 입자경이 5 ∼ 40 ㎚ 인 미립자
9. The method according to any one of claims 6 to 8,
Furthermore, the curable composition containing the following (D) component.
(D) component: fine particles having an average primary particle diameter of 5 to 40 nm
제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.Hardened|cured material obtained by hardening|curing the curable composition in any one of Claims 6-9. 제 10 항에 있어서,
광 소자 고정재인 경화물.
11. The method of claim 10,
A cured product that is an optical device fixing material.
제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition in any one of Claims 6-9 as an adhesive agent for optical element fixing materials. 제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition in any one of Claims 6-9 as a sealing material for optical element fixing materials.
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