KR20220074817A - Curable compositions, cured products and methods of using the curable compositions - Google Patents

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KR20220074817A
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마나부 미야와키
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Abstract

본 발명은 하기 (A) 성분 및 (C) 성분을 함유하는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물 및 상기 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이다. 본 발명의 경화성 조성물은, 굴절률이 높고, 광학 분야에 있어서 바람직하게 이용된다.
(A) 성분 : 하기 식 (a-1)

Figure pct00019

〔R1 은, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 또는 치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.〕로 나타내는 반복 단위 (반복 단위 (1) ) 를 갖고, 하기 식 (a-2)
Figure pct00020

〔R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다.〕로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (2)〕를 갖거나 또는 갖지 않는 폴리실세스퀴옥산 화합물이며, 분자 구조에 관한 특정한 요건을 만족시키는 것을 특징으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물
(C) 성분 : 실란 커플링제The present invention is a curable composition containing the following components (A) and (C), a cured product obtained by curing the curable composition, and a method of using the curable composition as an adhesive for an optical device fixing material or a sealing material for an optical device fixing material . The curable composition of the present invention has a high refractive index and is preferably used in the optical field.
(A) Component: the following formula (a-1)
Figure pct00019

[R 1 represents an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent.] has a repeating unit (repeating unit (1)) represented by the following formula (a-2 )
Figure pct00020

Polysilces having or not having a repeating unit [repeating unit (2)] represented by [R 2 represents an unsubstituted C1-C10 alkyl group or a substituted C1-C10 alkyl group.] Polysilsesquioxane compound, characterized in that it is a quioxane compound and satisfies specific requirements regarding molecular structure
(C) component: silane coupling agent

Description

경화성 조성물, 경화물 및 경화성 조성물의 사용 방법Curable compositions, cured products and methods of using the curable compositions

본 발명은 굴절률이 높고, 광학 분야에 있어서 바람직하게 사용되는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a curable composition having a high refractive index and preferably used in the optical field, a cured product obtained by curing the curable composition, and a method of using the curable composition as an adhesive for an optical element fixing material or an optical element fixing material sealing material is about

종래, 경화성 조성물은 용도에 따라 다양한 개량이 이루어져, 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 산업상 널리 이용되고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, various improvements have been made according to the use of curable compositions, and they are widely used in industry as raw materials for optical parts and molded articles, adhesives, coatings, and the like.

또, 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제나 광 소자 고정재용 봉지재 등의 광 소자 고정재용 조성물로서도 주목을 받고 있다.Moreover, a curable composition attracts attention also as a composition for optical element fixing materials, such as an adhesive agent for optical element fixing materials, and a sealing material for optical element fixing materials.

광 소자에는, 반도체 레이저 (LD) 등의 각종 레이저나 발광 다이오드 (LED) 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등이 있다.Examples of the optical element include various lasers such as semiconductor lasers (LD), light-emitting elements such as light-emitting diodes (LEDs), light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits.

최근에 있어서는, 발광의 피크 파장이 보다 단파장인 청색광이나 백색광의 광 소자가 개발되어 널리 사용되어 오고 있다. 이와 같은 발광의 피크 파장이 짧은 발광 소자의 고휘도화가 비약적으로 진행되고, 이에 수반하여 광 소자의 발열량이 더욱 커져 가는 경향이 있다.In recent years, optical elements of blue light or white light whose peak wavelength of light emission has a shorter wavelength have been developed and widely used. The high luminance of the light emitting device having such a short peak wavelength of light emission progresses rapidly, and the amount of heat generated by the optical device tends to increase with this.

그런데, 최근에 있어서의 광 소자의 고휘도화에 수반하여, 광 소자 고정재용 조성물의 경화물이, 보다 높은 에너지의 광이나 광 소자로부터 발생하는 것보다 고온의 열에 장시간 노출되어, 접착력이 저하된다는 문제가 발생하였다.However, with the recent increase in luminance of optical devices, the cured product of the composition for optical device fixing materials is exposed to high-energy light or heat higher than that generated from optical devices for a long period of time, resulting in a decrease in adhesive strength. has occurred.

이 문제를 해결하기 위해, 특허문헌 1 ∼ 3 에는, 폴리실세스퀴옥산 화합물을 주성분으로 하는 광 소자 고정재용 조성물이 제안되어 있다.In order to solve this problem, the composition for optical element fixing materials which has a polysilsesquioxane compound as a main component is proposed by patent documents 1-3.

그런데, 경화성 조성물을 사용하여 광 소자 등을 고정하는 경우, 광 취출 효율을 높이기 위해서, 주위의 부재의 굴절률에 맞추어, 적절한 굴절률의 경화성 조성물이 선택되는 경우가 있다.By the way, when fixing an optical element etc. using a curable composition, in order to improve light extraction efficiency, according to the refractive index of the surrounding member, the curable composition of an appropriate refractive index may be selected.

예를 들어, 봉지제와 고정재의 계면에서의 반사를 억제하고, 광 취출 효율을 높이기 위해서는, 봉지제의 굴절률과 고정재의 굴절률의 차가 작은 것이 바람직하다.For example, in order to suppress reflection at the interface between the sealing material and the fixing material and to increase the light extraction efficiency, it is preferable that the difference between the refractive index of the sealing material and the refractive index of the fixing material is small.

따라서, 비교적 높은 굴절률을 갖는 봉지재를 사용하는 경우, 동일하게 높은 굴절률을 갖는 경화성 조성물을 사용하여 고정재를 형성하는 것이 필요해진다.Therefore, when using the sealing material which has a comparatively high refractive index, it becomes necessary to form a fixing material using the curable composition which has a similarly high refractive index.

일본 공개특허공보 2004-359933호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-359933 일본 공개특허공보 2005-263869호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-263869 일본 공개특허공보 2006-328231호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-328231

본 발명은, 상기한 종래 기술의 실정을 감안하여 이루어진 것이며, 굴절률이 높고, 광학 분야에 있어서 바람직하게 사용되는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the circumstances of the prior art described above, and comprises a curable composition having a high refractive index and preferably used in the optical field, a cured product obtained by curing the curable composition, and the curable composition as an optical device. An object of the present invention is to provide a method for use as an adhesive for fixing or an encapsulant for fixing an optical device.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해, 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물에 대하여 예의 검토를 거듭하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, the present inventors repeated earnest examination about the curable composition containing a polysilsesquioxane compound.

그 결과,As a result,

(i) 폴리실세스퀴옥산 화합물로서, 아릴기를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 사용함으로써 굴절률이 높은 경화성 조성물이 얻어지는 것,(i) a curable composition having a high refractive index is obtained by using a polysilsesquioxane compound containing many aryl groups as the polysilsesquioxane compound;

(ii) 아릴기를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물의 경화물에는, 크랙이 발생할 우려가 있는 것,(ii) the cured product of the curable composition containing a polysilsesquioxane compound containing a large number of aryl groups may cause cracks;

(iii) 아릴기를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 접착성이 떨어지는 경향이 있는 것,(iii) a cured product of a curable composition containing a polysilsesquioxane compound containing many aryl groups tends to have poor adhesion;

(iv) 아릴기를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물에 특정한 분자 구조를 도입하는 것, 및 경화성 조성물 중에 실란 커플링제를 첨가하는 것에 의해, 상기 (ii) 및 (iii) 의 문제를 해결할 수 있는 것,(iv) introducing a specific molecular structure into the polysilsesquioxane compound containing many aryl groups, and adding a silane coupling agent to the curable composition, which can solve the problems of (ii) and (iii) thing,

을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.To find out, it came to complete the present invention.

이렇게 하여 본 발명에 의하면, 하기 〔1〕 ∼ 〔7〕 의 경화성 조성물, 〔8〕, 〔9〕 의 경화물, 및 〔10〕, 〔11〕 의 경화성 조성물의 사용 방법이 제공된다.In this way, according to the present invention, the following [1] to [7] curable composition, the cured product of [8] and [9], and the method of using the curable composition of [10] and [11] are provided.

〔1〕 하기 (A) 성분 및 (C) 성분을 함유하는 경화성 조성물.[1] A curable composition comprising the following component (A) and component (C).

(A) 성분 : 하기 식 (a-1)(A) Component: the following formula (a-1)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

〔R1 은, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.〕[R 1 represents an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent.]

로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (1)〕를 갖고, 하기 식 (a-2) has a repeating unit [repeating unit (1)] represented by the following formula (a-2)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

〔R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다.〕[ R2 represents an unsubstituted C1-C10 alkyl group or a C1-C10 alkyl group having a substituent.]

로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (2)〕를 갖거나 또는 갖지 않는 폴리실세스퀴옥산 화합물이며, 하기 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 것을 특징으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물A polysilsesquioxane compound having or not having a repeating unit [repeating unit (2)] represented by

〔요건 1〕[Requirement 1]

반복 단위 (1) 과 반복 단위 (2) 의 합계량에 대하여, 반복 단위 (1) 의 양이 80 ∼ 100 mol% 이다.The amount of the repeating unit (1) is 80 to 100 mol% with respect to the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2).

〔요건 2〕[Requirement 2]

하기 식 (a-3) 으로 나타내는 T 사이트 (T1 사이트), 하기 식 (a-4) 로 나타내는 T 사이트 (T2 사이트) 및 하기 식 (a-5) 로 나타내는 T 사이트 (T3 사이트) 의 합계량에 대하여, 상기 T2 사이트의 양이 30 ∼ 70 mol% 이다.To the total amount of the T site (T1 site) represented by the following formula (a-3), the T site (T2 site) represented by the following formula (a-4), and the T site (T3 site) represented by the following formula (a-5) In contrast, the amount of the T2 site is 30 to 70 mol%.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

〔G 는, R1 또는 R2 로 나타내는 기를 나타낸다. R3 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다. * 에는, 규소 원자가 결합하고 있다.〕[G represents a group represented by R 1 or R 2 . R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. A silicon atom is bonded to *.]

(C) 성분 : 실란 커플링제(C) component: silane coupling agent

〔2〕 (A) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 이 500 ∼ 3,000 인 〔1〕에 기재된 경화성 조성물.[2] The curable composition according to [1], wherein the component (A) has a mass average molecular weight (Mw) of 500 to 3,000.

〔3〕 (A) 성분 중의 반복 단위 (1) 과 반복 단위 (2) 의 합계량이 (A) 성분의 전체 반복 단위 중 90 ∼ 100 mol% 인, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 경화성 조성물.[3] The curable composition according to [1] or [2], wherein the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2) in the component (A) is 90 to 100 mol% based on the total repeating units of the component (A).

〔4〕 (C) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 70 질량부인, 〔1〕 ∼ 〔3〕 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[4] The curable composition according to any one of [1] to [3], wherein the content of the component (C) is 0.1 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

〔5〕 (A) 성분과 (C) 성분의 합계량이 경화성 조성물의 고형분 중 50 ∼ 100 질량% 인 〔1〕 ∼ 〔4〕 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[5] The curable composition according to any one of [1] to [4], wherein the total amount of the component (A) and the component (C) is 50 to 100 mass% of the solid content of the curable composition.

〔6〕 추가로 희석제를 함유하고, 고형분 농도가, 60 질량% 이상, 100 질량% 미만인, 〔1〕 ∼ 〔5〕 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[6] The curable composition according to any one of [1] to [5], further comprising a diluent and having a solid content concentration of 60 mass% or more and less than 100 mass%.

〔7〕 25 ℃ 에 있어서의 굴절률 (nD) 이, 1.500 ∼ 1.600 인, 〔1〕 ∼ 〔6〕 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[7] The curable composition according to any one of [1] to [6], wherein the refractive index (nD) at 25°C is 1.500 to 1.600.

〔8〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[8] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [7].

〔9〕광 소자 고정재인,〔8〕에 기재된 경화물.[9] The cured product according to [8], which is an optical element fixing material.

〔10〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.[10] A method in which the curable composition according to any one of [1] to [7] is used as an adhesive for an optical element fixing material.

〔11〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법.[11] A method in which the curable composition according to any one of [1] to [7] is used as a sealing material for an optical element fixing material.

본 발명에 따르면, 굴절률이 높고, 또한 광학 분야에 있어서 바람직하게 사용되는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 및 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이 제공된다.According to the present invention, a curable composition having a high refractive index and preferably used in the optical field, a cured product obtained by curing the curable composition, and the curable composition are used as an adhesive for an optical element fixing material or an optical element fixing material sealing material. How to use is provided.

이하, 본 발명을, 1) 경화성 조성물, 2) 경화물 및 3) 경화성 조성물의 사용 방법으로 분류하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by classifying it into 1) a curable composition, 2) a cured product, and 3) a method of using the curable composition.

1) 경화성 조성물1) curable composition

본 발명의 경화성 조성물은 하기 (A) 성분 및 (C) 성분을 함유한다.The curable composition of the present invention contains the following component (A) and component (C).

(A) 성분 : 상기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖고, 상기 식 (a-2) 로 나타내는 반복 단위를 갖거나 또는 갖지 않는 폴리실세스퀴옥산 화합물로서, 상기 요건 1 및 요건 2 를 만족하는 것을 특징으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 〔이하,「폴리실세스퀴옥산 화합물 (A)」라고 기재하는 경우가 있다.〕Component (A): A polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the formula (a-1) and having or not having a repeating unit represented by the formula (a-2), the requirements 1 and 2 above A polysilsesquioxane compound that satisfies

(C) 성분 : 실란 커플링제(C) component: silane coupling agent

〔(A) 성분〕[(A) component]

본 발명의 경화성 조성물을 구성하는 (A) 성분은, 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (1)〕를 갖는 폴리실세스퀴옥산 화합물이며, 상기 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 것을 특징으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물이다.Component (A) constituting the curable composition of the present invention is a polysilsesquioxane compound having a repeating unit [repeating unit (1)] represented by the following formula (a-1), and satisfies the above requirements 1 and 2 It is a polysilsesquioxane compound, characterized in that

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

〔R1 은, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.〕[R 1 represents an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent.]

반복 단위 (1) 은 R1 을 갖기 때문에, 반복 단위 (1) 을 갖는 폴리실세스퀴옥산 화합물은 높은 굴절률을 갖는다. 이 때문에, 본 발명의 경화성 조성물은 굴절률이 높은 것이 된다.Since the repeating unit (1) has R 1 , the polysilsesquioxane compound having the repeating unit (1) has a high refractive index. For this reason, the curable composition of this invention becomes a thing with a high refractive index.

R1 의「무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」로서는, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기 등을 들 수 있다.As "unsubstituted C6-C12 aryl group" of R< 1 >, a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, etc. are mentioned.

R1 의「무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 탄소수는 6 이 바람직하다.As for carbon number of "an unsubstituted C6-C12 aryl group" of R< 1 >, 6 is preferable.

R1 의「치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 탄소수는 6 이 바람직하다. 또한, 이 탄소수는 치환기를 제외한 부분 (아릴기의 부분) 의 탄소수를 의미하는 것이다. 따라서, R1 이「치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」인 경우, R1 의 탄소수는 12 를 초과하는 경우도 있을 수 있다.As for carbon number of "C6-C12 aryl group which has a substituent" of R< 1 >, 6 is preferable. In addition, this carbon number means the carbon number of the part (part of an aryl group) excluding a substituent. Accordingly, when R 1 is “an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent”, the number of carbon atoms in R 1 may exceed 12 in some cases.

R1 의「치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 아릴기로서는,「무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the aryl group of the “substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms” for R 1 include the same groups as those described as “unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms”.

R1 의「치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 치환기의 원자수 (단, 수소 원자의 수를 제외함) 는 통상 1 ∼ 30, 바람직하게는 1 ∼ 20 이다.The number of substituents (however, excluding the number of hydrogen atoms) of the "C6-C12 aryl group having a substituent" of R 1 is usually 1 to 30, preferably 1 to 20.

R1 의,「치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기 등의 알킬기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 를 들 수 있다.As a substituent of the "C6-C12 aryl group having a substituent" of R 1 , a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t- Alkyl groups, such as a butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and isooctyl group; Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; can be heard

이들 중에서도, 굴절률이 높은 경화성 조성물을 효율적으로 조제할 수 있는 점에서, R1 로서는, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.Among these, as R< 1 >, a C6-C12 aryl group is preferable and a phenyl group is more preferable at the point which can prepare efficiently a curable composition with a high refractive index.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 1 종의 R1 을 갖는 것 (단독 중합체) 이어도 되고, 2 종 이상의 R1 을 갖는 것 (공중합체) 이어도 된다.What has 1 type of R< 1 > (homopolymer) may be sufficient as a polysilsesquioxane compound (A), and what has 2 or more types of R< 1 > (copolymer) may be sufficient as it.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 이 공중합체인 경우, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 교호 공중합체 등의 어느 것이어도 되지만, 제조 용이성 등의 관점에서는, 랜덤 공중합체가 바람직하다.When the polysilsesquioxane compound (A) is a copolymer, the polysilsesquioxane compound (A) may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, an alternating copolymer, etc. From the viewpoint of , a random copolymer is preferable.

또한, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 구조는, 래더형 구조, 더블 데커형 구조, 바구니형 구조, 부분 개열 바구니형 구조, 고리형 구조, 랜덤형 구조 중 어느 구조여도 된다.In addition, the structure of a polysilsesquioxane compound (A) may be any structure among a ladder structure, a double decker type|mold structure, a cage structure, a partially cleaved cage structure, a cyclic structure, and a random structure.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 또한, 하기 식 (a-2) 으로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (2)〕를 갖는 것 (공중합체) 이어도 된다.The polysilsesquioxane compound (A) may further have a repeating unit [repeating unit (2)] represented by the following formula (a-2) (copolymer).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

〔R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다.〕[ R2 represents an unsubstituted C1-C10 alkyl group or a C1-C10 alkyl group having a substituent.]

일반적으로, 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 반복 단위 (2) 를 가짐으로써, 고분자량화함과 함께, 분자 사슬의 유연성이 향상된다. 이 때문에, 경화성 조성물이, 반복 단위 (2) 를 갖는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유함으로써, 그 경화물에 크랙이 발생하기 어려워진다고 생각된다.Generally, when a polysilsesquioxane compound has a repeating unit (2), while making it high molecular weight, the softness|flexibility of a molecular chain improves. For this reason, when a curable composition contains the polysilsesquioxane compound which has a repeating unit (2), it is thought that it becomes difficult to generate|occur|produce a crack in the hardened|cured material.

단, 후술하는 바와 같이, 본 발명은 반복 단위 (2) 의 함유 비율이 높지 않은 폴리실세스퀴옥산 화합물을 사용하는 것이며, 반복 단위 (2) 에 기인하는 이 효과를 거의 이용할 수 없을 것으로 예상된다.However, as will be described later, in the present invention, a polysilsesquioxane compound having a low content of the repeating unit (2) is used, and it is expected that this effect due to the repeating unit (2) will hardly be utilized. .

R2 의「무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 탄소수는, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 3 이 보다 바람직하다.1-6 are preferable and, as for carbon number of "unsubstituted C1-C10 alkyl group" of R< 2 >, 1-3 are more preferable.

R2 의,「무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있다.As the "unsubstituted C1-C10 alkyl group" of R 2 , a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n -pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. are mentioned.

R2 의「치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 탄소수는, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 3 이 보다 바람직하다. 또한, 이 탄소수는 치환기를 제외한 부분 (알킬기의 부분) 의 탄소수를 의미하는 것이다. 따라서, R2 가「치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」인 경우, R2 의 탄소수는 10 을 초과하는 경우도 있을 수 있다.1-6 are preferable and, as for carbon number of "C1-C10 alkyl group which has a substituent" of R< 2 >, 1-3 are more preferable. In addition, this carbon number means the carbon number of the part (part of an alkyl group) excluding a substituent. Accordingly, when R 2 is “an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent”, the number of carbon atoms in R 2 may exceed 10 in some cases.

R2 의「치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 알킬기로서는,「무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group of the “alkyl group having 1 to 10 substituents” of R 2 include the same ones as those described as “unsubstituted alkyl group of 1 to 10 carbons”.

「치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 치환기의 원자수 (단 수소 원자의 수를 제외함) 는 통상 1 ∼ 30, 바람직하게는 1 ∼ 20 이다.The number of atoms (however, excluding the number of hydrogen atoms) of the substituent in the "alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent" is usually 1 to 30, preferably 1 to 20.

「치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 치환기로는, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 시아노기 ; 등을 들 수 있다.As a substituent of "a C1-C10 alkyl group which has a substituent", Halogen atoms, such as a chlorine atom and a bromine atom; cyano group; and the like.

이들 중에서도, R2 로는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 바람직하고, 무치환의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기가 보다 바람직하고, 무치환의 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기가 더욱 바람직하다.Among these, as R 2 , an unsubstituted C1-C10 alkyl group is preferable, an unsubstituted C1-C6 alkyl group is more preferable, and an unsubstituted C1-C3 alkyl group is still more preferable.

R2 가, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기인 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 분자량을 효율적으로 제어할 수 있다.By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R< 2 > is an unsubstituted C1-C10 alkyl group, the molecular weight of a polysilsesquioxane compound (A) is controllable efficiently.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 이 반복 단위 (2) 를 갖는 것인 경우, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 1 종의 R2 를 갖는 것이어도, 2 종 이상의 R2 를 갖는 것이어도 된다.When the polysilsesquioxane compound (A) has a repeating unit (2), the polysilsesquioxane compound (A) may have one type of R 2 or two or more types of R 2 . okay

반복 단위 (1) 이나 반복 단위 (2) 는 하기 식 (a-6) 으로 나타내는 것이다.The repeating unit (1) and the repeating unit (2) are represented by the following formula (a-6).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

〔G 는, R1 또는 R2 로 나타내는 기를 나타낸다. R1, R2 는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다. O1/2 란, 산소 원자가 인접한 반복 단위와 공유되어 있는 것을 나타낸다.〕[G represents a group represented by R 1 or R 2 . R 1 and R 2 each have the same meaning as above. O 1/2 indicates that an oxygen atom is shared with an adjacent repeating unit.]

식 (a-6) 으로 나타내는 바와 같이, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 일반적으로 T 사이트라고 총칭되는, 규소 원자에 산소 원자가 3 개 결합하고, 그 이외의 기 (G 로 나타내는 기) 가 1 개 결합하여 이루어지는 부분 구조를 갖는다.As represented by the formula (a-6), the polysilsesquioxane compound (A) has three oxygen atoms bonded to a silicon atom generally referred to as a T site, and other groups (group represented by G) has a partial structure formed by combining one

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 에 포함되는 T 사이트로서는, 하기 식 (a-3) 으로 나타내는 T 사이트 (T1 사이트), 하기 식 (a-4) 으로 나타내는 T 사이트 (T2 사이트), 하기 식 (a-5) 으로 나타내는 T 사이트 (T3 사이트) 를 들 수 있다.As the T site contained in the polysilsesquioxane compound (A), the T site (T1 site) represented by the following formula (a-3), the T site (T2 site) represented by the following formula (a-4), the following formula The T site (T3 site) represented by (a-5) is mentioned.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (a-3), (a-4) 및 (a-5) 중, G 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R3 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다. R3 의「탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등을 들 수 있다. 복수의 R3 끼리는 모두 동일해도 되고 상이해도 된다. 또한, 상기 식 (a-3) ∼ (a-5) 중, * 에는, 규소 원자가 결합하고 있다.In formulas (a-3), (a-4) and (a-5), G has the same meaning as above. R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. As "a C1-C10 alkyl group" of R< 3 >, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, etc. are mentioned. A plurality of R 3 s may all be the same or different. In addition, the silicon atom is couple|bonded with * in said Formula (a-3) - (a-5).

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 합성할 때, 반응 개시 직후에는, 생성물에는 T1 사이트나 T2 사이트가 많이 포함되지만, 반응이 진행됨과 함께 이들 사이트의 양이 감소하여, 서서히 T3 사이트의 양이 증가한다.When synthesizing the polysilsesquioxane compound (A), immediately after the start of the reaction, the product contains many T1 sites and T2 sites, but the amount of these sites decreases as the reaction proceeds, and the amount of T3 sites gradually decreases increases

따라서, T1 사이트나 T2 사이트의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물은 비교적 저분자의 화합물인 것에 비해, T3 사이트의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물은 비교적 고분자의 화합물이며, 분자 사슬의 운동은 제한된다.Therefore, a polysilsesquioxane compound having a high T1 site or T2 site content is a relatively low molecular compound, whereas a polysilsesquioxane compound having a high T3 site content is a relatively high molecular weight compound, Movement is limited.

또, 잔존하는 반응성기 (-OR3) 의 수로부터 나타나는 바와 같이, T1 사이트나 T2 사이트의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물은 충분한 반응성을 갖고 있는 것에 비해, T3 사이트의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물은 반응성이 떨어지는 경향이 있다.Moreover, as shown from the number of remaining reactive groups (-OR 3 ), the polysilsesquioxane compound having a high content of T1 sites or T2 sites has a high content of T3 sites compared to those having sufficient reactivity. Polysilsesquioxane compounds tend to have poor reactivity.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 상기 요건 1 을 만족시키는 것이다.The polysilsesquioxane compound (A) satisfies the above requirement 1.

즉, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 반복 단위 (1) 와 반복 단위 (2) 의 합계량에 대하여, 반복 단위 (1) 의 양이 80 ∼ 100 mol% 인 것이다.That is, in the polysilsesquioxane compound (A), the amount of the repeating unit (1) is 80 to 100 mol% based on the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2).

본 발명의 경화성 조성물은, 요건 1 을 만족하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하기 때문에, 굴절률이 높은 것이 된다.Since the curable composition of this invention contains the polysilsesquioxane compound which satisfy|fills the requirement 1, it becomes a thing with a high refractive index.

보다 높은 굴절률의 경화성 조성물이 얻어지는 점에서, 반복 단위 (1) 의 양은, 반복 단위 (1) 과 반복 단위 (2) 의 합계량에 대하여, 92 ∼ 100 mol% 가 바람직하고, 98 ∼ 100 mol% 가 보다 바람직하며, 100 mol% 가 특히 바람직하다.From the viewpoint of obtaining a curable composition having a higher refractive index, the amount of the repeating unit (1) is preferably 92 to 100 mol%, and 98 to 100 mol% with respect to the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2). more preferably, 100 mol% is particularly preferable.

요건 1 을 만족하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 반복 단위 (2) 를 거의 포함하지 않거나, 또는 전혀 포함하지 않는 것이다. 따라서, 요건 1 을 만족하는 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 반복 단위 (2) 에 기인하는 특성을 거의 갖지 않는다고 생각된다.The polysilsesquioxane compound (A) which satisfies the requirement 1 contains little or no repeating unit (2). Therefore, it is thought that the polysilsesquioxane compound which satisfy|fills the requirement 1 hardly has the characteristic resulting from the repeating unit (2).

즉, 경화성 조성물이, 요건 1 을 만족하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유함으로써, 그 경화물에 크랙이 발생하거나, 경화물의 접착성이 떨어지거나 할 우려가 있다.That is, when a curable composition contains the polysilsesquioxane compound which satisfy|fills the requirement 1, there exists a possibility that the hardened|cured material may crack or the adhesiveness of hardened|cured material may deteriorate.

후술하는 바와 같이, 본 발명은 요건 2 를 만족하는 것, 및 (C) 성분을 이용함으로써, 이들 문제를 해결하는 것이다.As will be described later, the present invention solves these problems by satisfying the requirement 2 and using the component (C).

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중의, 반복 단위 (1) 나 반복 단위 (2) 의 비율은, 예를 들면 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 29Si-NMR 을 측정함으로써 구할 수 있다.The ratio of the repeating unit (1) and the repeating unit (2) in a polysilsesquioxane compound (A) can be calculated|required by measuring 29 Si-NMR of a polysilsesquioxane compound (A), for example.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 아세톤 등의 케톤계 용매 ; 벤젠 등의 방향족 탄화수소계 용매 ; 디메틸술폭시드 등의 함황계 용매 ; 테트라하이드로푸란 등의 에테르계 용매 ; 아세트산에틸 등의 에스테르계 용매 ; 클로로포름 등의 함할로겐계 용매 ; 및 이들의 2 종 이상으로 이루어지는 혼합 용매 ; 등의 각종 유기 용매에 가용이다. 이 때문에, 이들 용매를 사용하여, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 용액 상태에서의 29Si-NMR 을 측정할 수 있다.The polysilsesquioxane compound (A) is a ketone solvent such as acetone; aromatic hydrocarbon-based solvents such as benzene; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide; Ether solvents, such as tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; halogen-containing solvents such as chloroform; and a mixed solvent composed of two or more thereof; It is soluble in various organic solvents, such as For this reason, 29 Si-NMR in the solution state of a polysilsesquioxane compound (A) can be measured using these solvents.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 상기 요건 2 를 만족시키는 것이다.The polysilsesquioxane compound (A) satisfies the requirement 2 above.

즉, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, T1 사이트, T2 사이트, 및 T3 사이트의 합계량에 대하여, 상기 T2 사이트의 양이, 30 ∼ 70 mol% 인 것이며, T2 사이트를 비교적 많이 포함한다.That is, in the polysilsesquioxane compound (A), the amount of the T2 site is 30 to 70 mol% with respect to the total amount of the T1 site, the T2 site, and the T3 site, and contains a relatively large amount of the T2 site.

본 발명의 경화성 조성물은, 상기 요건 1 을 만족하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 것이며, 반복 단위 (2) 에 기인하는 효과를 거의 이용할 수 없다.The curable composition of this invention contains the polysilsesquioxane compound which satisfy|fills the said requirement 1, The effect resulting from the repeating unit (2) can hardly be utilized.

그러나, 요건 1 을 만족시키는 폴리실세스퀴옥산 화합물이 요건 2 를 만족시킴으로써, 본 발명의 경화성 조성물의 경화물은 크랙이 발생하기 어려운 것이 된다.However, when the polysilsesquioxane compound which satisfies the requirement 1 satisfies the requirement 2, the hardened|cured material of the curable composition of this invention becomes a thing hard to generate|occur|produce a crack.

즉, 상기 요건 1 을 만족시키고, 또한, T1 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물은, 경화할 때에, 가수분해 반응이나 축합 반응이 과도하게 일어나, 경화 수축에 의해, 그 경화물 중에 크랙이 발생하기 쉬워진다.That is, when the curable composition that satisfies the above requirement 1 and contains a polysilsesquioxane compound containing a large amount of T1 sites is cured, a hydrolysis reaction or a condensation reaction occurs excessively, and due to curing shrinkage, It becomes easy to generate|occur|produce a crack in the hardened|cured material.

또한, 상기 요건 1 을 만족시키고, 또한 T3 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 비교적 고분자의 화합물이며, 운동성이 떨어지는 것이기 때문에, 그러한 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 잔류 응력이 발생하기 쉽고, 크랙이 발생하기 쉬워진다.In addition, since the polysilsesquioxane compound that satisfies the above requirement 1 and contains a large amount of T3 sites is a relatively high molecular compound and has poor mobility, the curable composition containing such a polysilsesquioxane compound The cargo tends to generate residual stress and is prone to cracking.

한편, T2 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물은, 가수분해 반응이나 축합 반응을 과도하게 일으키지 않고 경화할 수 있는 것이기 때문에, 그 경화물 중에 크랙이 발생하기 어렵다.On the other hand, since the curable composition containing the polysilsesquioxane compound containing many T2 sites is a thing which can be hardened|cured without raising|generating a hydrolysis reaction or a condensation reaction excessively, it is hard to generate|occur|produce a crack in the hardened|cured material.

또한, T2 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물은, 그다지 분자량이 높지 않고 적당한 운동성을 갖는 것이기 때문에, T2 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 잔류 응력이 발생하기 어려워, 크랙이 발생하기 어렵다.In addition, since the polysilsesquioxane compound containing many T2 sites does not have a very high molecular weight and has moderate mobility, the hardened|cured material of the curable composition containing the polysilsesquioxane compound containing many T2 sites, Residual stress is hard to generate|occur|produce and it is hard to generate|occur|produce a crack.

또한, T2 사이트를 많이 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 사용함으로써 경화성 조성물의 경화물의 접착성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, there exists a tendency for the adhesiveness of the hardened|cured material of a curable composition to improve by using the polysilsesquioxane compound containing many T2 sites.

상기 효과가 얻어지기 쉽기 때문에, T1 사이트, T2 사이트 및 T3 사이트의 합계량에 대한 T2 사이트의 양은 30 ∼ 70 mol% 이며, 바람직하게는 35 ∼ 66 mol%, 보다 바람직하게는 40 ∼ 62 mol% 이며, 보다 더욱 바람직하게는 45 ∼ 58 mol% 이다.Since the above effect is easily obtained, the amount of T2 sites relative to the total amount of T1 sites, T2 sites and T3 sites is 30 to 70 mol%, preferably 35 to 66 mol%, more preferably 40 to 62 mol%, , more preferably 45 to 58 mol%.

또한, T1 사이트, T2 사이트 및 T3 사이트의 합계량에 대한 T1 사이트의 양은, 바람직하게는 0 ∼ 40 mol%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 30 mol% 이며, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 20 mol% 이며, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 10 mol% 이다.In addition, the amount of T1 sites relative to the total amount of T1 sites, T2 sites and T3 sites is preferably 0 to 40 mol%, more preferably 0 to 30 mol%, still more preferably 0 to 20 mol%, , more preferably 0 to 10 mol%.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 이 T1 사이트를 적절하게 포함함으로써, 경화성이 보다 우수한 경화성 조성물을 얻을 수 있다.When a polysilsesquioxane compound (A) contains a T1 site suitably, the curable composition excellent in sclerosis|hardenability can be obtained.

또한, T1 사이트, T2 사이트 및 T3 사이트의 합계량에 대한 T3 사이트의 양은, 바람직하게는 10 ∼ 80 mol%, 보다 바람직하게는 20 ∼ 70 mol% 이며, 보다 더욱 바람직하게는 30 ∼ 50 mol% 이다.The amount of T3 sites relative to the total amount of T1 sites, T2 sites and T3 sites is preferably 10 to 80 mol%, more preferably 20 to 70 mol%, and still more preferably 30 to 50 mol%. .

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 이 T3 사이트를 적절하게 포함함으로써, 경화할 때의 축합 반응에 의해 발생하는 부생성물의 발생을 억제할 수 있다.When the polysilsesquioxane compound (A) contains the T3 site appropriately, generation of a by-product generated by a condensation reaction during curing can be suppressed.

T1 사이트, T2 사이트 및 T3 사이트의 함유 비율은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 용액 상태에서의 29Si-NMR 을 측정함으로써 구할 수 있다.The content rate of T1 site, T2 site, and T3 site can be calculated|required by measuring 29 Si-NMR in the solution state of a polysilsesquioxane compound (A).

예를 들면, 측정 용매로서 아세톤을 사용하고, 내부 표준으로서 TMS (테트라메틸실란) 를 사용한 경우, 식 (a-3) ∼ (a-6) 에 있어서, G 가 페닐기의 T 사이트 중의 규소 원자에서 유래하는 시그널은, T1 사이트에서 -65 ∼ -58 ppm, T2 사이트에서 -74 ∼ -65 ppm, T3 사이트에서 -82 ∼ -75 ppm 에서 관측되고, 식 (a-3) ∼ (a-6) 에 있어서, G 가 메틸기의 T 사이트 중의 규소 원자에서 유래하는 시그널은, T1 사이트에서 -50 ∼ -46 ppm, T2 사이트에서 -61 ∼ -52 ppm, T3 사이트에서 -70 ∼ -61 ppm 에서 관측된다.For example, when acetone is used as the measurement solvent and TMS (tetramethylsilane) is used as the internal standard, in formulas (a-3) to (a-6), G is at the silicon atom in the T site of the phenyl group The derived signal is observed at -65 to -58 ppm at the T1 site, -74 to -65 ppm at the T2 site, and -82 to -75 ppm at the T3 site, and formulas (a-3) to (a-6) In , the signal derived from the silicon atom in the T site of the methyl group of G is observed at -50 to -46 ppm at the T1 site, -61 to -52 ppm at the T2 site, and -70 to -61 ppm at the T3 site. .

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 500 ∼ 3,000, 보다 바람직하게는 550 ∼ 2,650, 더욱 바람직하게는 600 ∼ 2,300 이며, 보다 더욱 바람직하게는 650 ∼ 2,000 이다. 질량 평균 분자량 (Mw) 이 상기 범위 내에 있는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 사용함으로써, 경화 후에 크랙이 발생하기 어려운 경화성 조성물이 얻어지기 쉬워진다.The mass average molecular weight (Mw) of the polysilsesquioxane compound (A) is preferably 500 to 3,000, more preferably 550 to 2,650, still more preferably 600 to 2,300, still more preferably 650 to 2,000 to be. When a mass average molecular weight (Mw) uses the polysilsesquioxane compound (A) in the said range, it becomes easy to obtain the curable composition which a crack does not generate|occur|produce easily after hardening.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1.0 ∼ 10.0, 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 이며, 보다 바람직하게는 1.1 ∼ 4.0 이다. 분자량 분포 (Mw/Mn) 가 상기 범위 내에 있는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 사용함으로써, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 경화물을 부여하는 경화성 조성물이 얻어지기 쉬워진다.Although the molecular weight distribution (Mw/Mn) of a polysilsesquioxane compound (A) is not specifically limited, Usually, it is 1.0-10.0, Preferably it is 1.1-6.0, More preferably, it is 1.1-4.0. By using the polysilsesquioxane compound (A) whose molecular weight distribution (Mw/Mn) exists in the said range, it becomes easy to obtain the curable composition which provides the hardened|cured material excellent in heat resistance and adhesiveness.

질량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn) 은, 예를 들어, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산치로서 구할 수 있다.A mass average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) can be calculated|required as a standard polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran (THF) as a solvent, for example.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중의 반복 단위 (1) 와 반복 단위 (2) 의 합계량은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 전체 반복 단위 중, 바람직하게는 90 ∼ 100 mol%, 보다 바람직하게는 95 ∼ 100 mol%, 더욱 바람직하게는 98 ∼ 100 mol% 이다.The total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2) in the polysilsesquioxane compound (A) is preferably from 90 to 100 mol% in all the repeating units of the polysilsesquioxane compound (A), more Preferably it is 95-100 mol%, More preferably, it is 98-100 mol%.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 25 ℃ 에서의 굴절률 (nD) 은, 바람직하게는 1.500 ∼ 1.600 이며, 보다 바람직하게는 1.505 ∼ 1.590 이며, 보다 더욱 바람직하게는 1.510 ∼ 1.580 이다.The refractive index (nD) at 25°C of the polysilsesquioxane compound (A) is preferably 1.500 to 1.600, more preferably 1.505 to 1.590, still more preferably 1.510 to 1.580.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 25 ℃ 에서의 굴절률 (nD) 이, 1.500 ∼ 1.600 의 범위 내임으로써, 굴절률이 높은 경화성 조성물이나 경화물이 얻어지기 쉬워진다.When the refractive index (nD) in 25 degreeC of a polysilsesquioxane compound (A) exists in the range of 1.500-1.600, a curable composition and hardened|cured material with a high refractive index become easy to be obtained.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 굴절률 (nD) 은, 아베 굴절계를 사용하여 측정할 수 있다.The refractive index (nD) of the polysilsesquioxane compound (A) can be measured using an Abbe refractometer.

본 발명에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In this invention, a polysilsesquioxane compound (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 합성 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 하기 식 (a-7) 로 나타내는 실란 화합물 (1) 의 적어도 1 종을 중축합시킴으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 합성할 수 있다.The synthesis method of a polysilsesquioxane compound (A) is not specifically limited. For example, a polysilsesquioxane compound (A) is compoundable by polycondensing at least 1 type of the silane compound (1) represented by a following formula (a-7).

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

(식 중, R1 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R4 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 복수의 R4 및 복수의 X1 은 각각 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (Wherein, R 1 has the same meaning as above. R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p represents an integer of 0 to 3. A plurality of R 4 and a plurality of of X 1 may be the same as or different from each other.)

또, 식 (a-7) 로 나타내는 실란 화합물 (1) 의 적어도 1 종과, 하기 식 (a-8) 로 나타내는 실란 화합물 (2) 의 적어도 1 종을 중축합시킴으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 합성할 수 있다.Moreover, polysilsesquioxane compound by polycondensing at least 1 type of silane compound (1) represented by Formula (a-7), and at least 1 type of silane compound (2) represented by following formula (a-8) (A) can be synthesized.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 중, R2 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R5 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, X2 는 할로겐 원자를 나타내고, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 복수의 R5 및 복수의 X2 는 각각 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)(Wherein, R 2 has the same meaning as above. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X 2 represents a halogen atom, and q represents an integer of 0 to 3. A plurality of R 5 and a plurality of X 2 of each may be the same as or different from each other.)

R4, R5 의「탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로서는, R3 의「탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the “alkyl group having 1 to 10 carbon atoms” for R 4 and R 5 include the same ones as those shown for the “alkyl group having 1 to 10 carbon atoms” for R 3 .

X1, X2 의 할로겐 원자로는, 염소 원자 및 브롬 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom for X 1 and X 2 include a chlorine atom and a bromine atom.

실란 화합물 (1) 의 구체예로서는,As a specific example of a silane compound (1),

페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 무치환의 아릴트리알콕시실란 화합물류 ;unsubstituted aryltrialkoxysilane compounds such as phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane;

페닐클로로디메톡시실란, 페닐클로로디에톡시실란, 페닐디클로로메톡시실란, 페닐디클로로에톡시실란 등의 무치환의 아릴할로게노알콕시실란 화합물류 ;unsubstituted arylhalogenoalkoxysilane compounds such as phenylchlorodimethoxysilane, phenylchlorodiethoxysilane, phenyldichloromethoxysilane and phenyldichloroethoxysilane;

페닐트리클로로실란 등의 무치환의 아릴트리할로게노실란 화합물류 ;unsubstituted aryltrihalogenosilane compounds such as phenyltrichlorosilane;

4-메틸페닐트리메톡시실란, 4-메톡시페닐트리메톡시실란, 4-클로로페닐트리메톡시실란, 4-메틸페닐트리에톡시실란, 4-메톡시페닐트리에톡시실란, 4-클로로페닐트리에톡시실란 등의 치환기를 갖는 아릴트리알콕시실란 화합물류 ;4-methylphenyltrimethoxysilane, 4-methoxyphenyltrimethoxysilane, 4-chlorophenyltrimethoxysilane, 4-methylphenyltriethoxysilane, 4-methoxyphenyltriethoxysilane, 4-chlorophenyltri aryltrialkoxysilane compounds having a substituent such as ethoxysilane;

4-메틸페닐클로로디메톡시실란, 4-메톡시페닐클로로디메톡시실란, 4-클로로페닐클로로디메톡시실란, 4-메틸페닐디클로로메톡시실란, 4-메톡시페닐디클로로메톡시실란, 4-클로로페닐디클로로메톡시실란 등의 치환기를 갖는 아릴할로게노알콕시실란 화합물류 ;4-Methylphenylchlorodimethoxysilane, 4-methoxyphenylchlorodimethoxysilane, 4-chlorophenylchlorodimethoxysilane, 4-methylphenyldichloromethoxysilane, 4-methoxyphenyldichloromethoxysilane, 4-chlorophenyldichloro arylhalogenoalkoxysilane compounds having a substituent such as methoxysilane;

4-메틸페닐트리클로로실란, 4-메톡시페닐트리클로로실란, 4-클로로페닐트리클로로실란 등의 치환기를 갖는 아릴트리할로게노실란 화합물류 ; 등을 들 수 있다.aryltrihalogenosilane compounds having a substituent such as 4-methylphenyltrichlorosilane, 4-methoxyphenyltrichlorosilane and 4-chlorophenyltrichlorosilane; and the like.

이들 실란 화합물 (1) 은, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.These silane compounds (1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

실란 화합물 (2) 의 구체예로서는,As a specific example of a silane compound (2),

메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리프로폭시실란 등의 무치환의 알킬트리알콕시실란 화합물류 ;unsubstituted alkyltrialkoxysilane compounds such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and ethyltripropoxysilane;

메틸클로로디메톡시실란, 메틸클로로디에톡시실란, 메틸디클로로메톡시실란, 메틸브로모디메톡시실란, 에틸클로로디메톡시실란, 에틸클로로디에톡시실란, 에틸디클로로메톡시실란, 에틸브로모디메톡시실란 등의 무치환의 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ;Methylchlorodimethoxysilane, methylchlorodiethoxysilane, methyldichloromethoxysilane, methylbromodimethoxysilane, ethylchlorodimethoxysilane, ethylchlorodiethoxysilane, ethyldichloromethoxysilane, ethylbromodimethoxysilane, etc. of unsubstituted alkylhalogenoalkoxysilane compounds;

메틸트리클로로실란, 메틸트리브로모실란, 에틸트리클로로실란, 에틸트리브로모실란 등의 무치환의 알킬트리할로게노실란 화합물류 ;unsubstituted alkyltrihalogenosilane compounds such as methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, ethyltrichlorosilane and ethyltribromosilane;

2-시아노에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리에톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란 등의 치환기를 갖는 알킬트리알콕시실란 화합물류 ;alkyltrialkoxysilane compounds having a substituent such as 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane and 3-chloropropyltriethoxysilane;

2-시아노에틸클로로디메톡시실란, 3-클로로프로필클로로디메톡시실란, 2-시아노에틸클로로디에톡시실란, 3-클로로프로필클로로디에톡시실란, 2-시아노에틸디클로로메톡시실란, 3-클로로프로필디클로로메톡시실란, 2-시아노에틸디클로로에톡시실란, 3-클로로프로필디클로로에톡시실란 등의 치환기를 갖는 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ;2-Cyanoethylchlorodimethoxysilane, 3-chloropropylchlorodimethoxysilane, 2-cyanoethylchlorodiethoxysilane, 3-chloropropylchlorodiethoxysilane, 2-cyanoethyldichloromethoxysilane, 3- alkylhalogenoalkoxysilane compounds having a substituent such as chloropropyldichloromethoxysilane, 2-cyanoethyldichloroethoxysilane and 3-chloropropyldichloroethoxysilane;

2-시아노에틸트리클로로실란, 3-클로로프로필트리클로로실란 등의 치환기를 갖는 알킬트리할로게노실란 화합물류 ; 등을 들 수 있다.alkyltrihalogenosilane compounds having a substituent such as 2-cyanoethyltrichlorosilane and 3-chloropropyltrichlorosilane; and the like.

이들 실란 화합물 (2) 은, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.These silane compounds (2) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

상기 실란 화합물을 중축합시키는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 용매 중, 또는 무용매로, 실란 화합물에, 소정량의 중축합 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하는 방법을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, (a) 실란 화합물에 소정량의 산 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하는 방법, (b) 실란 화합물에 소정량의 염기 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하는 방법, (c) 실란 화합물에 소정량의 산 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반한 후, 과잉량의 염기 촉매를 첨가하여 반응계를 염기성으로 하고, 소정 온도에서 교반하는 방법 등을 들 수 있다.The method of polycondensing the said silane compound is not specifically limited. For example, in a solvent or without a solvent, the method of adding a predetermined amount of a polycondensation catalyst to a silane compound, and stirring at predetermined temperature is mentioned. More specifically, (a) a method of adding a predetermined amount of an acid catalyst to the silane compound and stirring at a predetermined temperature; (b) a method of adding a predetermined amount of a base catalyst to the silane compound and stirring at a predetermined temperature; ( c) a method of adding a predetermined amount of an acid catalyst to the silane compound, stirring at a predetermined temperature, adding an excess amount of a base catalyst to make the reaction system basic, and stirring at a predetermined temperature; and the like.

이들 중에서도, 목적으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 효율적으로 얻을 수 있는 점에서, (a) 의 방법이 바람직하다.Among these, the method of (a) is preferable at the point which can obtain the target polysilsesquioxane compound (A) efficiently.

사용하는 중축합 촉매는, 산 촉매 및 염기 촉매 중 어느 것이어도 된다. 또한, 2 이상의 중축합 촉매를 조합하여 사용해도 되지만, 적어도 산 촉매를 사용하는 것이 바람직하다.Any of an acid catalyst and a base catalyst may be sufficient as the polycondensation catalyst to be used. Moreover, although you may use combining two or more polycondensation catalysts, it is preferable to use an acid catalyst at least.

산 촉매로서는, 인산, 염산, 붕산, 황산, 질산 등의 무기산 ; 시트르산, 아세트산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 등의 유기산 ; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 인산, 염산, 붕산, 황산, 시트르산, 아세트산 및 메탄술폰산에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다.Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, and nitric acid; organic acids such as citric acid, acetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid; and the like. Among these, at least one selected from phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, citric acid, acetic acid and methanesulfonic acid is preferable.

염기 촉매로는, 암모니아수 ; 트리메틸아민, 트리에틸아민, 리튬디이소프로필아미드, 리튬비스(트리메틸실릴)아미드, 피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센, 아닐린, 피콜린, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 이미다졸 등의 유기 염기 ; 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄 등의 유기염 수산화물 ; 나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 나트륨 t-부톡시드, 칼륨 t-부톡시드 등의 금속 알콕시드 ; 수소화나트륨, 수소화칼슘 등의 금속 수소화물 ; 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 금속 수산화물 ; 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등의 금속 탄산수소염 ; 등을 들 수 있다.As a base catalyst, Ammonia water; Trimethylamine, triethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bis(trimethylsilyl)amide, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, aniline, picoline, 1,4- organic bases such as diazabicyclo[2.2.2]octane and imidazole; organic salt hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide; metal hydrides such as sodium hydride and calcium hydride; metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide; metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, and magnesium carbonate; metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like.

중축합 촉매의 사용량은, 실란 화합물의 총 mol 량에 대하여, 통상 0.05 ∼ 10 mol%, 바람직하게는 0.1 ∼ 5 mol% 의 범위이다.The amount of the polycondensation catalyst used is usually in the range of 0.05 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the total mol of the silane compound.

중축합시에 용매를 사용하는 경우, 사용하는 용매는 실란 화합물의 종류 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 물 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올 등의 알코올류 ; 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.When using a solvent at the time of polycondensation, the solvent to be used can be suitably selected according to the kind etc. of a silane compound. For example, water; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol and t-butyl alcohol; and the like. These solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

용매의 사용량은 실란 화합물의 총 몰량 1 몰당 0.1 리터 이상 10 리터 이하, 바람직하게는 0.1 리터 이상 2 리터 이하이다.The amount of the solvent to be used is 0.1 liters or more and 10 liters or less, preferably 0.1 liters or more and 2 liters or less, per mole of the total molar amount of the silane compound.

실란 화합물을 중축합시킬 때의 온도는, 통상적으로 0 ℃ 부터 사용하는 용매의 비점까지의 온도 범위, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 100 ℃ 의 범위이다. 반응 온도가 지나치게 낮으면 중축합 반응의 진행이 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 반응 온도가 지나치게 높아지면 겔화 억제가 곤란해진다. 반응은, 통상적으로 30 분 내지 30 시간으로 완결한다.The temperature at the time of polycondensing a silane compound is the temperature range from 0 degreeC to the boiling point of the solvent used normally, Preferably it is the range of 20 degreeC - 100 degreeC. When the reaction temperature is too low, the progress of the polycondensation reaction may become insufficient. On the other hand, when the reaction temperature becomes too high, suppression of gelation becomes difficult. The reaction is usually completed in 30 minutes to 30 hours.

식 (a-7) 로 나타내는 화합물을 대량으로 사용하여 반응을 행하는 경우, 분자량이 큰 중합체는 얻어지기 어렵다. 그리고, 장시간 반응을 행해도, T2 사이트를 남긴 채, 분자량을 증가시키는 것은 곤란하다.When the reaction is performed using a large amount of the compound represented by the formula (a-7), it is difficult to obtain a polymer having a large molecular weight. And even if the reaction is performed for a long time, it is difficult to increase the molecular weight while leaving the T2 site.

또한, 본 발명의 효과를 얻기 위해서는, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 분자량은 너무 크지 않은 편이 바람직하다.Moreover, in order to acquire the effect of this invention, the one where the molecular weight of a polysilsesquioxane compound (A) is not too large is preferable.

따라서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 합성하기 위해서는, 상기와 같이, 실란 화합물에, 소정량의 산 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하여, 비교적 단시간에 반응을 끝내는 것이 바람직하다.Therefore, in order to synthesize|combine a polysilsesquioxane compound (A), as mentioned above, it is preferable to add a predetermined amount of an acid catalyst to a silane compound, to stir at predetermined temperature, and to finish reaction in a comparatively short time.

상기 방법에 의해, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 합성할 때, 실란 화합물 (1) 의 OR4 또는 X1 이나, 실란 화합물 (2) 의 OR5 또는 X2 중, 탈알코올 등이 일어나지 않은 부분은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중에 잔존한다. 이 때문에, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중에, 상기 식 (a-5) 으로 나타내는 반복 단위 이외에, 상기 식 (a-3), 식 (a-4) 으로 나타내는 반복 단위가 포함되는 경우가 있다.By the above method, when synthesizing the polysilsesquioxane compound (A), no alcohol or the like occurs among OR 4 or X 1 of the silane compound (1) or OR 5 or X 2 of the silane compound (2). The part which does not remain|survives in a polysilsesquioxane compound (A). For this reason, in the polysilsesquioxane compound (A), the case where the repeating unit represented by said formula (a-3) and formula (a-4) other than the repeating unit represented by said formula (a-5) is contained have.

〔(C) 성분〕[(C) component]

본 발명의 경화성 조성물을 구성하는 (C) 성분은 실란 커플링제이다.The component (C) constituting the curable composition of the present invention is a silane coupling agent.

본 발명의 경화성 조성물은, 상기 요건 1 을 만족하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 것이며, 반복 단위 (2) 에 기인하는 효과를 거의 이용할 수 없다.The curable composition of this invention contains the polysilsesquioxane compound which satisfy|fills the said requirement 1, The effect resulting from the repeating unit (2) can hardly be utilized.

그러나, 본 발명의 경화성 조성물은, 요건 1 을 만족시키는 폴리실세스퀴옥산 화합물과 함께 (C) 성분을 함유하는 것이기 때문에, 본 발명의 경화성 조성물의 경화물은, 상온 시나 고온 시에 있어서의 접착성이 우수한 것이 된다.However, since the curable composition of the present invention contains component (C) together with the polysilsesquioxane compound satisfying the requirement 1, the cured product of the curable composition of the present invention has adhesion at room temperature or high temperature. will be of excellent quality.

실란 커플링제란, 규소 원자와, 관능기와, 상기 규소 원자에 결합한 가수분해성기를 갖는 실란 화합물을 말한다.A silane coupling agent means the silane compound which has a silicon atom, a functional group, and the hydrolysable group couple|bonded with the said silicon atom.

관능기란, 다른 화합물 (주로 유기물) 과 반응성을 갖는 기를 말하고, 예를 들어, 아미노기, 치환 아미노기, 이소시아네이트기, 우레이도기, 이소시아누레이트 골격을 갖는 기 등의 질소 원자를 갖는 기 ; 산 무수물기 (산 무수물 구조를 갖는 기) ; 비닐기 ; 알릴기 ; 에폭시기 ; (메트)아크릴기 ; 메르캅토기 ; 등을 들 수 있다.The functional group refers to a group having reactivity with another compound (mainly an organic substance), for example, an amino group, a substituted amino group, an isocyanate group, a ureido group, a group having a nitrogen atom such as a group having an isocyanurate skeleton; acid anhydride group (group having an acid anhydride structure); vinyl group; allyl group; epoxy group; (meth)acryl group; mercapto group; and the like.

본 발명에 있어서, 실란 커플링제는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.In this invention, a silane coupling agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

실란 커플링제의 함유량은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 70 질량부이며, 보다 바람직하게는 1 ∼ 60 질량부, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 55 질량부이며, 보다 더욱 바람직하게는 10 ∼ 50 질량부이며, 특히 바람직하게는 15 ∼ 45 질량부이다.To [ content of a silane coupling agent / 100 mass parts of polysilsesquioxane compound (A) ], Preferably it is 0.1-70 mass parts, More preferably, it is 1-60 mass parts, More preferably, it is 5-55 mass parts. part, More preferably, it is 10-50 mass parts, Especially preferably, it is 15-45 mass parts.

실란 커플링제의 함유량이 상기 범위 내인 경화성 조성물을 사용함으로써, 상온 시나 고온 시에 있어서의 접착성이 보다 우수한 경화물을 형성할 수 있다.By using the curable composition in which content of a silane coupling agent exists in the said range, the hardened|cured material more excellent in the adhesiveness at the time of normal temperature or high temperature can be formed.

실란 커플링제로서는, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제나, 분자 내에 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제가 바람직하고, 분자 내에 이소시아누레이트 구조를 갖는 실란 커플링제나, 분자 내에 숙신산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제가 더욱 바람직하다.As the silane coupling agent, a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule or a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule is preferable, a silane coupling agent having an isocyanurate structure in the molecule, or a succinic anhydride structure in the molecule The silane coupling agent which has is more preferable.

분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제로는, 예를 들어, 하기 식 (c-1) 로 나타내는 트리알콕시실란 화합물, 식 (c-2) 로 나타내는 디알콕시알킬실란 화합물 또는 디알콕시아릴실란 화합물 등을 들 수 있다.As a silane coupling agent which has a nitrogen atom in a molecule|numerator, for example, a trialkoxysilane compound represented by the following formula (c-1), a dialkoxyalkylsilane compound represented by a formula (c-2), a dialkoxyarylsilane compound, etc. can be heard

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

상기 식 중, Ra 는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타낸다. 복수의 Ra 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula, R a represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a t-butoxy group. A plurality of R a may be the same or different.

Rb 는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 ; 또는, 페닐기, 4-클로로페닐기, 4-메틸페닐기, 1-나프틸기 등의, 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 아릴기 ; 를 나타낸다.R b is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group and t-butyl group; Or an aryl group which has a substituent, such as a phenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-methylphenyl group, and 1-naphthyl group, or does not have a substituent; indicates

Rc 는, 질소 원자를 갖는, 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기를 나타낸다. 또한, Rc 는, 추가로 다른 규소 원자를 포함하는 기와 결합하고 있어도 된다.R c represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms and having a nitrogen atom. In addition, R c may further couple|bond with the group containing another silicon atom.

Rc 의 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기의 구체예로는, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필기, 3-아미노프로필기, N-(1,3-디메틸-부틸리덴)아미노프로필기, 3-우레이도프로필기, N-페닐-아미노프로필기 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms for R c include N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyl group, 3-aminopropyl group, N-(1,3-dimethyl-butylidene) aminopropyl group, 3-ureidopropyl group, N-phenyl-aminopropyl group, etc. are mentioned.

상기 식 (c-1) 또는 (c-2) 로 나타내는 화합물 중, Rc 가, 다른 규소 원자를 포함하는 기와 결합한 유기기인 경우의 화합물로는, 이소시아누레이트 골격을 개재하여 다른 규소 원자와 결합하여 이소시아누레이트계 실란 커플링제를 구성하는 것이나, 우레아 골격을 개재하여 다른 규소 원자와 결합하여 우레아계 실란 커플링제를 구성하는 것을 들 수 있다.Among the compounds represented by the formula (c-1) or (c-2), as the compound in the case where R c is an organic group bonded to a group containing another silicon atom, a compound with another silicon atom via an isocyanurate skeleton Examples thereof include bonding to form an isocyanurate-based silane coupling agent, and bonding to other silicon atoms via a urea skeleton to form a urea-based silane coupling agent.

이들 중에서도, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제로는, 접착성이 보다 우수한 경화물이 얻어지기 쉬운 점에서, 이소시아누레이트계 실란 커플링제, 및 우레아계 실란 커플링제가 바람직하고, 또한, 분자 내에, 규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, an isocyanurate-based silane coupling agent and a urea-based silane coupling agent are preferable from the viewpoint of easily obtaining a cured product having more excellent adhesiveness, It is preferable to have 4 or more alkoxy groups couple|bonded with the silicon atom in a molecule|numerator.

규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는다는 것은, 동일한 규소 원자에 결합한 알콕시기와, 상이한 규소 원자에 결합한 알콕시기의 총합계수가 4 이상이라는 의미이다.To have 4 or more of the alkoxy groups couple|bonded with the silicon atom means that the total coefficient of the alkoxy group couple|bonded with the same silicon atom and the alkoxy group couple|bonded with the different silicon atoms is 4 or more.

규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 이소시아누레이트계 실란 커플링제로서는, 하기 식 (c-3) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 우레아계 실란 커플링제로는, 하기 식 (c-4) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an isocyanurate-type silane coupling agent which has 4 or more alkoxy groups couple|bonded with the silicon atom, the compound represented by a following formula (c-3) is mentioned. As a urea-type silane coupling agent which has 4 or more alkoxy groups couple|bonded with the silicon atom, the compound represented by a following formula (c-4) is mentioned.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

식 중, Ra 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다. t1 ∼ t5 는 각각 독립적으로, 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 6 의 정수인 것이 바람직하고, 3 인 것이 특히 바람직하다.In the formula, R a has the same meaning as above. Each of t1 to t5 independently represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, particularly preferably 3, respectively.

이들 중에서도, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제로는, 1,3,5-N-트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트 (이하,「이소시아누레이트 화합물」 이라고 한다.), N,N'-비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아 (이하,「우레아 화합물」 이라고 한다.), 및, 상기 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물의 조합을 사용하는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- Triethoxysilylpropyl)isocyanurate (hereinafter referred to as "isocyanurate compound"), N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3 -triethoxysilylpropyl)urea (hereinafter referred to as "urea compound"), and a combination of the isocyanurate compound and the urea compound are preferably used.

본 발명의 경화성 조성물이 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, 상기 (A) 성분과 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제의 질량비〔(A) 성분 :분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제〕로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 65, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 60, 보다 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 50, 더욱 바람직하게는 100 : 3 ∼ 100 : 40, 특히 바람직하게는 100 : 5 ∼ 100 : 35 가 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, the content is not particularly limited, but the amount is determined by the mass ratio of the component (A) and the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule [( A) component: a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule], preferably 100:0.1 to 100:65, more preferably 100:0.3 to 100:60, more preferably 100:1 to 100:50 , more preferably 100:3 to 100:40, particularly preferably 100:5 to 100:35.

이러한 비율로 (A) 성분 및 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 것이 된다.The cured product of the curable composition containing the component (A) and the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule in such a proportion is more excellent in heat resistance and adhesiveness.

분자 내에 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제는, 하나의 분자 중에, 산무수물 구조를 갖는 기와, 가수분해성기의 양자를 겸비하는 유기 규소 화합물이다. 구체적으로는 하기 식 (c-5) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.The silane coupling agent having an acid anhydride structure in a molecule is an organosilicon compound having both a group having an acid anhydride structure and a hydrolyzable group in one molecule. Specifically, a compound represented by the following formula (c-5) is exemplified.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 중, Q 는 산 무수물 구조를 갖는 기를 나타내고, Rd 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 페닐기를 나타내고, Re 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내고, i, k 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고, j 는 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, i + j + k = 4 이다. j 가 2 일 때, Rd 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. k 가 2 또는 3 일 때, 복수의 Re 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. i 가 2 또는 3 일 때, 복수의 Q 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula, Q represents a group having an acid anhydride structure, R d represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group having or not having a substituent, and R e is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or A halogen atom is represented, i and k represent the integer of 1-3, j represents the integer of 0-2, and i+j+k=4. When j is 2, R d may be the same or different. When k is 2 or 3, a plurality of Res may be the same or different. When i is 2 or 3, a plurality of Qs may be the same or different.

Q 로는, 하기 식As Q, the following formula

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

(식 중, h 는 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.) 로 나타내는 기 등을 들 수 있고, (Q1) 로 나타내는 기가 특히 바람직하다.(in formula, h represents the integer of 0-10.) group etc. are mentioned, The group represented by (Q1) is especially preferable.

분자 내에 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제로는, 2-(트리메톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리에톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산, 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산 등의, 트리 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ;Examples of the silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule include 2-(trimethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 2-(triethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, 3 tri(C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as -(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride;

2-(디메톡시메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 디 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ;di(C1-C6) alkoxymethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dimethoxymethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(메톡시디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시디메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ;(C1-C6) alkoxy dimethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(methoxydimethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(트리클로로실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리브로모실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 트리할로게노실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ;trihalogenosilyl (C2-8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(trichlorosilyl)ethyl succinic anhydride and 2-(tribromosilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(디클로로메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 디할로게노메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ;dihalogenomethylsilyl (C2-8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dichloromethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(클로로디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의 할로게노디메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; 등을 들 수 있다.halogenodimethylsilyl (C2-8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(chlorodimethylsilyl)ethyl succinic anhydride; and the like.

이들 중에서도, 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제로는, 트리 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산이 바람직하고, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산 또는 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산이 특히 바람직하다.Among these, as a silane coupling agent which has an acid anhydride structure in a molecule|numerator, tri (C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride is preferable, 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, or Particular preference is given to 3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride.

본 발명의 경화성 조성물이 분자 내에 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, 상기 (A) 성분과 분자 내에 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제의 질량비 〔(A) 성분 : 분자 내에 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제〕로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 30, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 20, 보다 바람직하게는 100 : 0.5 ∼ 100 : 15, 더욱 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 10 이 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule, the content is not particularly limited, but the amount is the mass ratio of the component (A) and the silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule [Component (A): Silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule], preferably 100:0.1 to 100:30, more preferably 100:0.3 to 100:20, more preferably 100:0.5 to It is 100:15, More preferably, it is an amount used as 100:1 - 100:10.

이러한 비율로 (A) 성분 및 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 접착성이 보다 우수한 것이 된다.The hardened|cured material of the curable composition containing (A) component and the silane coupling agent which has an acid-anhydride structure in a molecule|numerator in such a ratio becomes more excellent in adhesiveness.

〔경화성 조성물〕[Curable composition]

본 발명의 경화성 조성물은 (A) 성분과 (C) 성분의 합계량이 경화성 조성물의 고형분 중 50 ∼ 100 질량% 인 것이 바람직하고, 70 ∼ 100 질량% 인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the total amount of (A) component and (C)component is 50-100 mass % in solid content of curable composition, and, as for the curable composition of this invention, it is more preferable that it is 70-100 mass %.

본 발명에 있어서,「고형분」이란, 경화성 조성물 중의 용매 이외의 성분을 말한다.In this invention, "solid content" means components other than the solvent in a curable composition.

본 발명의 경화성 조성물은, (B) 성분으로서, 평균 1 차 입자경이, 5 ㎚ 이상, 40 ㎚ 이하인 미립자 (이하,「미립자 (B)」라고 기재하는 경우가 있다.) 를 함유해도 된다.The curable composition of the present invention may contain, as component (B), fine particles having an average primary particle size of 5 nm or more and 40 nm or less (hereinafter referred to as “fine particles (B)”).

미립자 (B) 를 함유하는 경화성 조성물은, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수하다.The curable composition containing the microparticles|fine-particles (B) is excellent in workability|operativity in an application|coating process.

이 효과가 보다 얻어지기 쉽기 때문에, 미립자 (B) 의 평균 1 차 입자경은, 바람직하게는 5 ∼ 30 ㎚, 보다 바람직하게는 5 ∼ 20 ㎚ 이다.Since this effect is more easily acquired, the average primary particle diameter of microparticles|fine-particles (B) becomes like this. Preferably it is 5-30 nm, More preferably, it is 5-20 nm.

미립자 (B) 의 평균 1 차 입자경은, 투과형 전자현미경을 이용하여 미립자의 형상을 관찰함으로써 구해진다.The average primary particle diameter of the microparticles|fine-particles (B) is calculated|required by observing the shape of microparticles|fine-particles using a transmission electron microscope.

미립자 (B) 의 재질로서는, 금속 ; 금속 산화물 ; 광물 ; 탄산칼슘, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 황산칼슘, 황산바륨 등의 금속 황산염 ; 수산화알루미늄 등의 금속 수산화물 ; 규산알루미늄, 규산칼슘, 규산마그네슘 등의 금속 규산염 ; 실리카 등의 무기 성분 ; 실리콘 ; 아크릴계 중합체 등의 유기 성분 ; 등을 들 수 있다.As a material of microparticles|fine-particles (B), a metal; metal oxides; Mineral ; metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; metal hydroxides such as aluminum hydroxide; Metal silicates, such as an aluminum silicate, a calcium silicate, and a magnesium silicate; inorganic components such as silica; silicon ; Organic components, such as an acrylic polymer; and the like.

또, 사용하는 미립자 (B) 는 표면이 수식된 것이어도 된다.In addition, the microparticles|fine-particles (B) to be used may be the thing by which the surface was modified.

미립자 (B) 는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The microparticles|fine-particles (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물이 미립자 (B)〔(B) 성분〕를 함유하는 경우, (B) 성분의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은 상기 (A) 성분과 (B) 성분의 질량비 〔(A) 성분 : (B) 성분〕로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 90, 보다 바람직하게는 100 : 0.2 ∼ 100 : 60, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 50, 보다 바람직하게는 100 : 0.5 ∼ 100 : 40, 보다 바람직하게는 100 : 0.8 ∼ 100 : 30 이 되는 양이다. (B) 성분을 상기 범위에서 사용함으로써, (B) 성분을 첨가하는 효과를 보다 발현할 수 있다.When the curable composition of the present invention contains fine particles (B) [component (B)], the content of the component (B) is not particularly limited, but the amount is determined by the mass ratio of the component (A) to the component (B) [(A) ) component: (B) component], Preferably it is 100:0.1-100:90, More preferably, 100:0.2-100:60, More preferably, 100:0.3-100:50, More preferably, 100 : 0.5-100:40, More preferably, it is an amount used as 100:0.8-100:30. (B) By using component in the said range, the effect of adding (B) component can be expressed more.

본 발명의 경화성 조성물은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 그 밖의 성분을 함유해도 된다.The curable composition of this invention may contain other components in the range which does not impair the objective of this invention.

그 밖의 성분으로는, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제 등을 들 수 있다.As another component, antioxidant, a ultraviolet absorber, a light stabilizer, etc. are mentioned.

산화 방지제는, 가열시의 산화 열화를 방지하기 위해서 첨가된다. 산화 방지제로는, 인계 산화 방지제, 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다.An antioxidant is added in order to prevent oxidative deterioration at the time of heating. As antioxidant, phosphorus antioxidant, phenolic antioxidant, sulfur-type antioxidant, etc. are mentioned.

인계 산화 방지제로는, 포스파이트류, 옥사포스파페난트렌옥사이드류 등을 들 수 있다. 페놀계 산화 방지제로는, 모노페놀류, 비스페놀류, 고분자형 페놀류 등을 들 수 있다. 황계 산화 방지제로는, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트 등을 들 수 있다.Phosphite, oxaphosphaphenanthrene oxide, etc. are mentioned as phosphorus antioxidant. Monophenols, bisphenols, polymer type phenols etc. are mentioned as a phenolic antioxidant. Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, etc. can be heard

이들 산화 방지제는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 산화 방지제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, (A) 성분에 대하여 통상 10 질량% 이하이다.These antioxidants can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Although content of antioxidant is not specifically limited, Usually, it is 10 mass % or less with respect to (A) component.

자외선 흡수제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시키는 목적으로 첨가된다.A ultraviolet absorber is added for the purpose of improving the light resistance of the hardened|cured material obtained.

자외선 흡수제로는, 살리실산류, 벤조페논류, 벤조트리아졸류, 힌더드아민류 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acids, benzophenones, benzotriazoles, and hindered amines.

자외선 흡수제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 자외선 흡수제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, (A) 성분에 대하여 통상 10 질량% 이하이다.A ultraviolet absorber can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Although content in particular of a ultraviolet absorber is not specifically limited, It is 10 mass % or less normally with respect to (A) component.

광 안정제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시키는 목적으로 첨가된다.A light stabilizer is added for the purpose of improving the light resistance of the hardened|cured material obtained.

광 안정제로는, 예를 들어, 폴리[{6-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}헥사메틸렌{ (2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}] 등의 힌더드아민류 등을 들 수 있다.As the light stabilizer, for example, poly[{6-(1,1,3,3,-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl}{(2,2) and hindered amines such as ,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}]. can

이들 광 안정제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광 안정제의 함유량은, (A) 성분에 대하여, 통상적으로, 20 질량% 이하이다.These light stabilizers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Content of an optical stabilizer is 20 mass % or less normally with respect to (A) component.

본 발명의 경화성 조성물은, 희석제를 함유해도 된다. 희석제는, 본 발명의 경화성 조성물의 성분을 용해 또는 분산할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 희석제는 1 종류여도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.The curable composition of this invention may contain a diluent. A diluent will not be specifically limited if it can melt|dissolve or disperse|distribute the component of the curable composition of this invention. One type may be sufficient as a diluent, and two or more types may be used together.

본 발명의 경화성 조성물이 희석제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 고형분 농도가, 바람직하게는 60 질량% 이상, 100 질량% 미만, 보다 바람직하게는 65 ∼ 98 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 70 ∼ 95 질량% 가 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains a diluent, the content thereof has a solid content concentration of preferably 60 mass% or more and less than 100 mass%, more preferably 65 to 98 mass%, still more preferably 70 to The amount is 95% by mass.

본 발명에 사용하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 은, 비교적 분자량이 작은 경우가 많다. 그러한 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 함유하는 경화성 조성물에 있어서는, 희석제를 대량으로 함유하지 않아도 (즉, 고형분 농도가 높아도), 양호한 도포성을 갖는다.The polysilsesquioxane compound (A) used for this invention has comparatively small molecular weight in many cases. In the curable composition containing such a polysilsesquioxane compound (A), even if it does not contain a diluent in large quantities (that is, even if solid content concentration is high), it has favorable applicability|paintability.

고형분 농도가 높은 경화성 조성물을 사용하는 경우, 도막의 건조 조건이나, 경화 조건을 엄밀하게 관리하지 않아도, 경화물에는 용매가 거의 포함되지 않기 때문에, 일정한 특성을 갖는 경화물을 안정적으로 형성할 수 있다.When a curable composition with a high solid content concentration is used, even if the drying conditions or curing conditions of the coating film are not strictly controlled, the cured product contains almost no solvent, so a cured product having certain characteristics can be stably formed. .

본 발명의 경화성 조성물은 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 을 함유하기 때문에, 굴절률이 높다.Since the curable composition of this invention contains a polysilsesquioxane compound (A), refractive index is high.

본 발명의 경화성 조성물의, 25 ℃ 에 있어서의 굴절률 (nD) 은, 통상 1.500 이상이고, 바람직하게는 1.500 ∼ 1.600, 보다 바람직하게는 1.505 ∼ 1.590 이고, 보다 더욱 바람직하게는 1.510 ∼ 1.580 이다.The curable composition of the present invention has a refractive index (nD) at 25°C of usually 1.500 or more, preferably 1.500 to 1.600, more preferably 1.505 to 1.590, still more preferably 1.510 to 1.580.

경화성 조성물의 굴절률 (nD) 은, 실시예에 기재된 방법을 이용하여 측정할 수 있다.The refractive index (nD) of a curable composition can be measured using the method as described in an Example.

본 발명의 경화성 조성물은, 예를 들어 상기 (A) 성분과 (C) 성분 및 원하는 바에 따라 이들 이외의 성분을 소정 비율로 혼합하고, 탈포함으로써 조제할 수 있다.The curable composition of this invention can be prepared, for example by mixing the said (A) component and (C) component, and components other than these in predetermined ratios as needed, and defoaming.

혼합 방법, 탈포 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지된 방법을 이용할 수 있다.A mixing method and a defoaming method are not specifically limited, A well-known method can be used.

2) 경화물2) cured product

본 발명의 경화물은, 본 발명의 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 것이다.The cured product of the present invention is obtained by curing the curable composition of the present invention.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시키는 방법으로서는 가열 경화를 들 수 있다. 경화시킬 때의 가열 온도는 통상 100 ∼ 200 ℃ 이며, 가열 시간은 통상 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Heat curing is mentioned as a method of hardening the curable composition of this invention. The heating temperature at the time of hardening is 100-200 degreeC normally, and the heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably it is 30 minutes - 10 hours.

본 발명의 경화물은 내열성 및 접착성이 우수한 것이다.The cured product of the present invention is excellent in heat resistance and adhesiveness.

본 발명의 경화물이 이들 특성을 갖는 것은, 예를 들어 다음과 같이 하여 확인할 수 있다. 즉, 실리콘 칩의 미러면에, 본 발명의 경화성 조성물을 소정량 도포하고, 도포면을 피착체 위에 얹고, 압착하고, 가열 처리하여 경화시킨다. 이것을, 미리 소정 온도 (예를 들어, 23 ℃, 100°C) 로 가열한 본드 테스터의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 50 ㎛ 의 높이의 위치로부터, 접착면에 대하여 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여, 시험편과 피착체의 접착력을 측정한다.It can be confirmed that the hardened|cured material of this invention has these characteristics as follows, for example. That is, a predetermined amount of the curable composition of the present invention is applied to a mirror surface of a silicon chip, the coated surface is placed on an adherend, pressed, and cured by heat treatment. This is left on the measurement stage of the bond tester heated in advance to a predetermined temperature (eg, 23 ° C., 100 ° C) for 30 seconds, and from a position 50 µm high from the adherend, in a horizontal direction ( shear direction), and the adhesive force between the test piece and the adherend is measured.

본 발명의 경화물의 접착력은 23 ℃ 에서 100 N/4 ㎟ 이상인 것이 바람직하고, 120 N/4 ㎟ 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 100 N/4 mm<2> or more at 23 degreeC, and, as for the adhesive force of the hardened|cured material of this invention, it is more preferable that it is 120 N/4 mm<2> or more.

본 발명의 경화물의 접착력은 100 ℃ 에서 40 N/4 ㎟ 이상인 것이 바람직하고, 45 N/4 ㎟ 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 40 N/4 mm<2> or more at 100 degreeC, and, as for the adhesive force of the hardened|cured material of this invention, it is more preferable that it is 45 N/4 mm<2> or more.

본 명세서에 있어서,「4 ㎟」란,「2 ㎜ square」, 즉, 2 ㎜ × 2 ㎜ (1 변이 2 ㎜ 인 정방형) 를 의미한다.In this specification, "4 mm2" means "2 mm square", ie, 2 mm x 2 mm (a square with a side of 2 mm).

본 발명의 경화물은 굴절률이 높고, 또한 우수한 접착성을 갖는다. 따라서, 본 발명의 경화물은, 굴절률이 높은 접착제층 등으로서 바람직하게 사용된다.The cured product of the present invention has a high refractive index and excellent adhesiveness. Therefore, the hardened|cured material of this invention is used suitably as an adhesive bond layer etc. with high refractive index.

본 발명의 경화물의 25 ℃ 에서의 굴절률 (nD) 은 통상 1.500 이상이고, 바람직하게는 1.500 ∼ 1.600, 보다 바람직하게는 1.505 ∼ 1.590 이며, 보다 더욱 바람직하게는 1.510 ∼ 1.580 이다.The cured product of the present invention has a refractive index (nD) at 25°C of usually 1.500 or more, preferably 1.500 to 1.600, more preferably 1.505 to 1.590, still more preferably 1.510 to 1.580.

경화물의 굴절률 (nD) 은, 아베 굴절계를 사용하여 측정할 수 있다.The refractive index (nD) of hardened|cured material can be measured using an Abbe refractometer.

상기 특성을 갖는 점에서, 본 발명의 경화물은, 광 소자 고정재로서 바람직하게 사용된다.Since it has the said characteristic, the hardened|cured material of this invention is used suitably as an optical element fixing material.

3) 경화성 조성물의 사용 방법3) How to use the curable composition

본 발명의 방법은, 본 발명의 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이다.The method of the present invention is a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material.

광 소자로는, LED, LD 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등을 들 수 있다.Examples of the optical element include light-emitting elements such as LED and LD, light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits.

〈광 소자 고정재용 접착제〉<Adhesive for Optical Device Fixing Material>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법으로는, 접착 대상으로 하는 재료 (광 소자와 그 기판 등) 의 일방 또는 양방의 접착면에 그 조성물을 소정량 도포하고, 압착한 후, 가열 경화시켜, 접착 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착시키는 방법을 들 수 있다. 본 발명의 경화성 조성물의 도포량은, 특별히 한정되지 않고, 경화시킴으로써, 접착 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착할 수 있는 양이면 된다. 통상, 경화성 조성물의 도막의 두께가 0.5 ∼ 5 ㎛, 바람직하게는 1 ∼ 3 ㎛ 가 되는 양이다.As a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical device fixing material, a predetermined amount of the composition is applied to the bonding surfaces of one or both of the materials to be bonded (optical device and its substrate, etc.), followed by compression. , a method in which the materials to be adhered are firmly adhered to each other by heating and curing. The amount of application of the curable composition of the present invention is not particularly limited, and by curing, the amount of materials to be adhered may be firmly adhered to each other. Usually, the thickness of the coating film of a curable composition is 0.5-5 micrometers, Preferably it is an amount used as 1-3 micrometers.

광 소자를 접착하기 위한 기판 재료로는, 소다 라임 유리, 내열성 경질 유리 등의 유리류 ; 세라믹스 ; 사파이어 ; 철, 구리, 알루미늄, 금, 은, 백금, 크롬, 티탄 및 이들 금속의 합금, 스테인리스 (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309 등) 등의 금속류 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸펜텐, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 노르보르넨계 수지, 시클로올레핀 수지, 유리 에폭시 수지 등의 합성 수지 ; 등을 들 수 있다.Examples of the substrate material for bonding the optical element include glasses such as soda lime glass and heat-resistant hard glass; ceramics; Sapphire ; metals such as iron, copper, aluminum, gold, silver, platinum, chromium, titanium, alloys of these metals, and stainless steel (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309, etc.); Polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyphenylenesulfide, polyetherimide , synthetic resins such as polyimide, polyamide, acrylic resin, norbornene-based resin, cycloolefin resin, and free epoxy resin; and the like.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 경화성 조성물 등에 따라 다르기도 하지만, 통상 100 ∼ 200 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although the heating temperature at the time of heat-hardening changes with the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. Heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably they are 30 minutes - 10 hours.

〈광 소자 고정재용 봉지재〉<Encapsulant for optical element fixing material>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 봉지재로서 적합하게 이용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as a sealing material for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법으로는, 예를 들어, 그 조성물을 원하는 형상으로 성형하여, 광 소자를 내포한 성형체를 얻은 후, 이것을 가열 경화시킴으로써 광 소자 봉지체를 제조하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of using the curable composition of the present invention as an encapsulant for an optical element fixing material, for example, the composition is molded into a desired shape to obtain a molded article encapsulating an optical element, and then heat-cured to cure the optical element encapsulant. and a method of manufacturing it.

본 발명의 경화성 조성물을 원하는 형상으로 성형하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 통상적인 트랜스퍼 성형법이나, 주형법 등의 공지된 몰드법을 채용할 수 있다.It does not specifically limit as a method of shape|molding the curable composition of this invention into a desired shape, A well-known molding method, such as a normal transfer molding method and a casting method, is employable.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 경화성 조성물 등에 따라 다르기도 하지만, 통상적으로 100 ∼ 200 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although the heating temperature at the time of heat-hardening changes with the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. Heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably they are 30 minutes - 10 hours.

얻어지는 광 소자 봉지체는, 본 발명의 경화성 조성물을 사용하고 있으므로, 내열성 및 접착성이 우수하다.Since the curable composition of this invention is used for the optical element sealing body obtained, it is excellent in heat resistance and adhesiveness.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. However, the present invention is not limited to the following examples at all.

(평균 분자량 측정)(Measurement of average molecular weight)

폴리실세스퀴옥산 화합물의 질량 평균 분자량 (Mw) 및 수 평균 분자량 (Mn) 은 표준 폴리스티렌 환산값으로 하고, 이하의 장치 및 조건에서 측정했다.The mass average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the polysilsesquioxane compound were set as standard polystyrene conversion values, and were measured on the following apparatus and conditions.

장치명 : HLC-8220GPC, 토소 주식회사 제조Device name: HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, 및, TSKgel2000HXL 을 순차적으로 연결한 것Column: sequentially connected TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, and TSKgel2000HXL

용매 : 테트라하이드로푸란Solvent: tetrahydrofuran

주입량 : 20 μlInjection volume: 20 μl

측정 온도 : 40 ℃Measuring temperature: 40℃

유속 : 0.6 ml/분Flow rate: 0.6 ml/min

검출기 : 시차 굴절계Detector: Differential Refractometer

(29Si-NMR 측정)( 29 Si-NMR measurement)

폴리실세스퀴옥산 화합물의 반복 단위와 그 양을 조사하기 위해, 이하의 조건에서 29Si-NMR 측정을 행하였다.In order to investigate the repeating unit of a polysilsesquioxane compound and its quantity, 29 Si-NMR measurement was performed under the following conditions.

장치 : 브루커 ·바이오스핀사 제조 AV-500Apparatus: AV-500 manufactured by Bruker Biospin

29Si-NMR 공명 주파수 : 99.352 MHz 29 Si-NMR resonance frequency: 99.352 MHz

프로브 : 5 ㎜φ 용액 프로브Probe: 5 mmφ solution probe

측정 온도 : 실온 (25 ℃) Measurement temperature: room temperature (25℃)

시료 회전수 : 20 kHzSample rotation rate: 20 kHz

측정법 : 인버스 게이트 디커플링법Measurement method: Inverse gate decoupling method

29Si 플립각 : 90° 29 Si flip angle: 90°

29Si 90° 펄스폭 : 8.0 μs 29 Si 90° pulse width: 8.0 μs

반복 시간 : 5 sRepetition time: 5 s

적산 횟수 : 9200 회Integration count: 9200 times

측정폭 : 30 kHzMeasuring width: 30 kHz

(29Si-NMR 시료 제작 방법)( 29 Si-NMR sample preparation method)

완화 시간 단축을 위해, 완화 시약으로서 Fe(acac)3 를 첨가하여 측정하였다.To shorten the relaxation time, it was measured by adding Fe(acac) 3 as a relaxation reagent.

폴리실세스퀴옥산 화합물 농도 : 15 질량%Polysilsesquioxane compound concentration: 15% by mass

Fe(acac)3 농도 : 0.6 질량%Fe(acac) 3 concentration: 0.6 mass %

측정 용매 : 아세톤Measuring solvent: acetone

내부 표준 : TMSInternal standard: TMS

(파형 처리 해석)(Waveform processing analysis)

푸리에 변환 후의 스펙트럼의 각 피크에 대하여, 피크 톱의 위치에 의해 케미컬 시프트를 구하고, 이하의 범위에서 각 피크의 적분을 행하였다. 얻어진 값을 기초로, T1 사이트, T2 사이트, T3 사이트의 비율을 산출하였다.For each peak of the spectrum after Fourier transform, a chemical shift was calculated|required by the position of a peak top, and each peak was integrated in the following range. Based on the obtained value, the ratio of the T1 site, the T2 site, and the T3 site was calculated.

페닐기를 갖는 T 사이트 (T1 : -65 ∼ -58 ppm, T2 : -74 ∼ -65 ppm, T3 : -82 ∼ -75 ppm) T site having a phenyl group (T1: -65 to -58 ppm, T2: -74 to -65 ppm, T3: -82 to -75 ppm)

메틸기를 갖는 T 사이트 (T1 : -50 ∼ -46 ppm, T2 : -61 ∼ -52 ppm, T3 : -70 ∼ -61 ppm) T site having a methyl group (T1: -50 to -46 ppm, T2: -61 to -52 ppm, T3: -70 to -61 ppm)

(굴절률)(refractive index)

다파장 아베 굴절계 (주식회사 아타고 제조, DR-M2) 를 사용하여, 25 ℃ 에서, 폴리실세스퀴옥산 화합물의 굴절률 (nD) 을 측정하였다.The refractive index (nD) of the polysilsesquioxane compound was measured at 25 degreeC using the multi-wavelength Abbe refractometer (made by Atago Corporation, DR-M2).

(제조예 1)(Production Example 1)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 28.91 g (145.8 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 7.874 g 에 35 질량% 염산 0.0376 g (페닐트리메톡시실란에 대하여 HCl 이 0.25 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온하여 5 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 28.91 g (145.8 mmol) of phenyltrimethoxysilane was put, and then, while stirring, 0.0376 g of 35 mass% hydrochloric acid in 7.874 g of distilled water (with respect to phenyltrimethoxysilane, 0.25 mol of HCl) %) was added, the whole was heated up at 30 degreeC for 2 hours, then at 70 degreeC, and it stirred for 5 hours.

반응액을 실온까지 방냉한 후, 거기에, 아세트산프로필 50 g 및 물 100 g 을 첨가하여 분액 처리를 실시하여, 반응 생성물을 포함하는 유기층을 얻었다. 이 유기층에 황산마그네슘을 첨가하여 건조 처리를 실시하였다. 황산마그네슘을 여과 분리 제거한 후, 유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 이어서, 얻어진 농축물을 진공 건조시킴으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 을 얻었다.After allowing the reaction liquid to cool to room temperature, 50 g of propyl acetate and 100 g of water were added thereto to perform a liquid separation treatment, and an organic layer containing a reaction product was obtained. Magnesium sulfate was added to this organic layer, and the drying process was performed. The polysilsesquioxane compound (A1) was obtained by concentrating the organic layer with an evaporator, then vacuum-drying the obtained concentrate after filtration separation removal of magnesium sulfate.

(제조예 2)(Production Example 2)

제조예 1 에 있어서, 페닐트리메톡시실란에 염산을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 70 ℃ 로 승온하여 5 시간 교반하는 공정을 실시하지 않은 것 이외에는, 제조예 1 과 동일하게 하여 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2) 를 얻었다.In Production Example 1, hydrochloric acid was added to phenyltrimethoxysilane, and the whole was stirred at 30°C for 2 hours. Then, except not having performed the process of heating up at 70 degreeC and stirring for 5 hours, it carried out similarly to manufacture example 1, and obtained the polysilsesquioxane compound (A2).

(제조예 3)(Production Example 3)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 28.77 g (145.1 mmol) 및 메틸트리에톡시실란 0.2675 g (1.5 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 8.24 g 에 35 질량% 염산 0.477 g (실란 화합물 전량에 대해서 HCl 이 3 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 28.77 g (145.1 mmol) of phenyltrimethoxysilane and 0.2675 g (1.5 mmol) of methyltriethoxysilane were put, and then, while stirring, 0.477 g of 35 mass% hydrochloric acid in 8.24 g of distilled water An aqueous solution in which (HCl is 3 mol% based on the total amount of the silane compound) was added, and the whole was heated at 30°C for 2 hours, then at 80°C, and stirred for 20 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 제조예 1 과 동일하게 분액, 건조 처리 등을 실시함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, the polysilsesquioxane compound (A3) was obtained by performing liquid separation, a drying process, etc. similarly to manufacture example 1.

(제조예 4)(Production Example 4)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 28.10 g (141.7 mmol) 및 메틸트리에톡시실란 1.337 g (7.5 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 8.05 g 에 35 질량% 염산 0.466 g (실란 화합물 전량에 대해서 Hcl 이 3 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 28.10 g (141.7 mmol) of phenyltrimethoxysilane and 1.337 g (7.5 mmol) of methyltriethoxysilane were put, and then, while stirring, 0.466 g of 35 mass% hydrochloric acid in 8.05 g of distilled water An aqueous solution in which (Hcl is 3 mol% with respect to the total amount of the silane compound) was added, and the whole was heated at 30°C for 2 hours, then at 80°C, and stirred for 20 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 제조예 1 과 동일하게 분액, 건조 처리 등을 실시함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, the polysilsesquioxane compound (A3) was obtained by performing liquid separation, a drying process, etc. similarly to manufacture example 1.

(제조예 5)(Preparation Example 5)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 13.62 g (68.7 mmol) 및 메틸트리에톡시실란 1.36 g (6.3 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 4.12 g 에 35 질량% 염산 0.02 g (실란 화합물 전량에 대해서 HCl 이 0.25 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 13.62 g (68.7 mmol) of phenyltrimethoxysilane and 1.36 g (6.3 mmol) of methyltriethoxysilane were put, and then, while stirring, 0.02 g of 35 mass% hydrochloric acid in 4.12 g of distilled water An aqueous solution in which (HCl is 0.25 mol% relative to the total amount of the silane compound) was added, and the whole was heated at 30°C for 2 hours, then at 80°C, and stirred for 20 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 제조예 1 과 동일하게 분액, 건조 처리 등을 실시함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A5) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, the polysilsesquioxane compound (A5) was obtained by performing liquid separation, a drying process, etc. similarly to manufacture example 1.

(비교 제조예 1)(Comparative Preparation Example 1)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 14.455 g (72.9 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 3.937 g 에 35 질량% 염산 0.0188 g (페닐트리메톡시실란에 대하여 HCl 이 0.25 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온하여 22 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 14.455 g (72.9 mmol) of phenyltrimethoxysilane was put, and then, while stirring, 0.0188 g of 35 mass % hydrochloric acid in 3.937 g of distilled water (with respect to phenyltrimethoxysilane, 0.25 mol of HCl) %) was added, the whole was heated up at 30 degreeC for 2 hours, then 70 degreeC, and it stirred for 22 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 거기에, 아세트산프로필 15 g 과, 28 질량% 암모니아수 0.0109 g (페닐트리에톡시실란에 대하여 0.25 mol%) 을 첨가하고, 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.While stirring of the contents was continued, 15 g of propyl acetate and 0.0109 g of 28 mass% aqueous ammonia (0.25 mol% relative to phenyltriethoxysilane) were added thereto, the temperature was raised to 80°C, and the mixture was stirred for 20 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 제조예 1 과 동일하게 분액, 건조 처리 등을 실시함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A6) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, the polysilsesquioxane compound (A6) was obtained by performing liquid separation, a drying process, etc. similarly to manufacture example 1.

(참고 제조예 1)(Reference Preparation Example 1)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 9.34 g (47.1 mmol) 및 메틸트리에톡시실란 8.40 g (47.1 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 5.09 g 에 35 질량% 염산 0.025 g (실란 화합물 전량에 대해서 HCl 이 0.25 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 9.34 g (47.1 mmol) of phenyltrimethoxysilane and 8.40 g (47.1 mmol) of methyltriethoxysilane were put, and then, while stirring, 0.025 g of 35 mass% hydrochloric acid in 5.09 g of distilled water An aqueous solution in which (HCl is 0.25 mol% relative to the total amount of the silane compound) was added, and the whole was heated at 30°C for 2 hours, then at 80°C, and stirred for 20 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 제조예 1 과 동일하게 분액, 건조 처리 등을 실시함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A7) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, the polysilsesquioxane compound (A7) was obtained by performing liquid separation, a drying process, etc. similarly to manufacture example 1.

(참고 제조예 2)(Reference Preparation Example 2)

300 ml 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 12.55 g (63.3 mmol) 및 메틸트리에톡시실란 4.83 g (27.1 mmol) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 4.88g 에 35 질량% 염산 0.024 g (실란 화합물 전체량에 대하여 HCl 이 0.25 mol%) 을 용해한 수용액을 첨가하고, 전체를 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.In a 300 ml eggplant-type flask, 12.55 g (63.3 mmol) of phenyltrimethoxysilane and 4.83 g (27.1 mmol) of methyltriethoxysilane were put, and then, while stirring, 0.024 g of 35 mass% hydrochloric acid in 4.88 g of distilled water An aqueous solution in which (HCl is 0.25 mol% based on the total amount of the silane compound) was added, and the whole was heated at 30°C for 2 hours, then at 80°C, and stirred for 20 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 거기에, 아세트산프로필 17 g 과, 28 질량% 암모니아수 0.149 g (페닐트리에톡시실란에 대하여 2.5 mol%) 을 첨가하고, 80 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반했다.While stirring the contents, 17 g of propyl acetate and 0.149 g of 28 mass% aqueous ammonia (2.5 mol% relative to phenyltriethoxysilane) were added thereto, and the temperature was raised to 80°C and stirred for 20 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 제조예 1 과 동일하게 분액, 건조 처리 등을 실시함으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A8) 을 얻었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, the polysilsesquioxane compound (A8) was obtained by performing liquid separation, a drying process, etc. similarly to manufacture example 1.

얻어진 폴리실세스퀴옥산 화합물 (PSQ) 의 상세를 표 1 에 나타낸다.Table 1 shows the details of the obtained polysilsesquioxane compound (PSQ).

Figure pct00014
Figure pct00014

실시예, 비교예 및 참고예에서 사용한 화합물을 이하에 나타낸다.The compounds used in Examples, Comparative Examples and Reference Examples are shown below.

(실란 커플링제)(Silane coupling agent)

실란 커플링제 (C1) : 1,3,5-N-트리스〔3-(트리메톡시실릴)프로필〕이소시아누레이트Silane coupling agent (C1): 1,3,5-N-tris[3-(trimethoxysilyl)propyl]isocyanurate

실란 커플링제 (C2) : 3-(트리메톡시실릴)프로필숙신산 무수물Silane coupling agent (C2): 3- (trimethoxysilyl) propyl succinic anhydride

(필러)(filler)

실리카 미립자 : (니폰아에로질 주식회사 제조, 제품명「AEROSIL RX300」, 평균 1 차 입자경 : 7 ㎚, 비표면적 : 210 ㎡/g) Silica fine particles: (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., product name “AEROSIL RX300”, average primary particle diameter: 7 nm, specific surface area: 210 m 2 /g)

(실시예 1)(Example 1)

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 100 질량부에 실리카 미립자 5 질량부를 첨하고, 추가로 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 : 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 = 40 : 60 (질량비) 의 혼합 용제를 첨가하여, 전체를 교반하였다. 3 본 롤밀에 의한 분산 처리 후, 실란 커플링제 (C1) 30 질량부, 실란 커플링제 (C2) 3 질량부를 첨가하고, 전체를 충분히 혼합, 탈포함으로써, 고형분 농도가 80 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.5 parts by mass of silica fine particles are added to 100 parts by mass of the polysilsesquioxane compound (A1), and a mixed solvent of diethylene glycol monobutyl ether acetate: tripropylene glycol-n-butyl ether = 40: 60 (mass ratio) is added was added, and the whole was stirred. 3 After dispersion treatment by this roll mill, 30 parts by mass of a silane coupling agent (C1) and 3 parts by mass of a silane coupling agent (C2) are added, and the whole is sufficiently mixed and defoamed to obtain a curable composition having a solid content concentration of 80% by mass. got it

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1 에 있어서, 실리카 미립자의 함유량을 20 질량부로 변경하고, 추가로 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도가 80 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, except that the content of the silica fine particles was changed to 20 parts by mass and the amount of the mixed solvent was further changed, in the same manner as in Example 1, a curable composition having a solid content concentration of 80% by mass was obtained.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2) 을 사용한 것과, 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 고형분 농도가 90 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, except that the polysilsesquioxane compound (A2) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1) and the mixed solvent amount was changed, it carried out similarly to Example 1, and solid content concentration was 90 A curable composition which is mass % was obtained.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 3 에 있어서, 실리카 미립자의 함유량을 0 질량부로 변경하고, 추가로 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 3 과 동일하게 하여, 고형분 농도가 90 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 3, except that the content of the silica fine particles was changed to 0 parts by mass and the amount of the mixed solvent was further changed, in the same manner as in Example 3, a curable composition having a solid content concentration of 90% by mass was obtained.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 을 사용한 것과, 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 고형분 농도가 82 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, it carried out similarly to Example 1, except that the polysilsesquioxane compound (A3) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1), and having changed the amount of mixed solvents, and the solid content concentration was 82 A curable composition which is mass % was obtained.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A4) 을 사용한 것과, 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 고형분 농도가 82 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, it carried out similarly to Example 1, except that the polysilsesquioxane compound (A4) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1), and having changed the mixing solvent amount, and the solid content concentration was 82 A curable composition which is mass % was obtained.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A5) 을 사용한 것과, 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 고형분 농도가 80 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, except that the polysilsesquioxane compound (A5) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1) and the mixed solvent amount was changed, it carried out similarly to Example 1, and solid content concentration was 80 A curable composition which is mass % was obtained.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A6) 을 사용한 것과, 실리카 미립자의 함유량을 20 질량부로 변경하고, 또한 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 고형분 농도가 80 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.Except that in Example 1, the polysilsesquioxane compound (A6) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1), the content of the silica fine particles was changed to 20 parts by mass, and the mixed solvent amount was changed. , A curable composition having a solid content concentration of 80% by mass was obtained in the same manner as in Example 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 5 에 있어서, 실란커플링제 (C1) 와 실란커플링제 (C2) 를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 5 와 동일하게 하여, 고형분 농도가 90 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 5, except that the silane coupling agent (C1) and the silane coupling agent (C2) were not used, it carried out similarly to Example 5, and obtained the curable composition whose solid content concentration is 90 mass %.

(참고예 1)(Reference Example 1)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A7) 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 고형분 농도가 80 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, except that the polysilsesquioxane compound (A7) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1), it was carried out similarly to Example 1, and the curable composition whose solid content concentration is 80 mass % was obtained.

(참고예 2)(Reference Example 2)

실시예 1 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 대신에 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A8) 을 사용하고, 실리카 미립자의 함유량을 20 질량부로 변경하고, 또한 혼합 용제량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도가 80 질량% 인 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, the polysilsesquioxane compound (A8) was used instead of the polysilsesquioxane compound (A1), the content of the silica fine particles was changed to 20 parts by mass, and the amount of the mixed solvent was changed except that , It carried out similarly to Example 1, and obtained the curable composition whose solid content concentration is 80 mass %.

실시예, 비교예 및 참고예에서 얻은 경화성 조성물을 사용하여, 각각 이하의 측정, 시험을 행하였다.The following measurements and tests were performed using the curable compositions obtained in Examples, Comparative Examples, and Reference Examples, respectively.

〔굴절률 측정〕[Refractive Index Measurement]

다파장 아베 굴절계 (주식회사 아타고 제조, DR-M2) 를 사용하여, 25 ℃ 에서, 경화성 조성물의 굴절률 (nD) 을 측정하였다.The refractive index (nD) of the curable composition was measured at 25 degreeC using the multi-wavelength Abbe refractometer (The Atago Corporation make, DR-M2).

〔내크랙성 평가〕[Evaluation of Crack Resistance]

한 변의 길이가 0.5 ㎜ 인 정방형의 유리 칩의 미러면에, 실시예 및 비교예에서 얻은 경화성 조성물을, 각각, 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은 도금 동판) 위에 얹어 압착했다. 그 후, 170 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하고 경화시켜 시험편 부착 피착체를 얻었다. 또한, 경화성 조성물 1 종에 대하여, 20 개의 시험편 부착 피착체를 제작하였다. 주사형 전자 현미경 (키엔스사 제조, VE-9800S) 을 사용하여 유리 칩으로부터 비어져 나와 있는 수지부 (필렛부) 를 관찰하고, 크랙을 갖는 샘플의 수를 세어, 크랙 발생률이 0 % 이상 25 % 미만을「A」, 25 % 이상 50 % 미만을「B」, 50 % 이상 100 % 이하를「C」라고 평가하였다.On the mirror surface of a square glass chip having a side length of 0.5 mm, the curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples were applied to a thickness of about 2 µm, respectively, and the coated surface was placed on an adherend (silver-plated copper plate). pressed Then, it heat-processed and hardened at 170 degreeC for 2 hours, and the to-be-adhered body with a test piece was obtained. Moreover, 20 pieces of to-be-adhered bodies with a test piece were produced with respect to 1 type of curable composition. The resin portion (fillet portion) protruding from the glass chip was observed using a scanning electron microscope (manufactured by Keyence Corporation, VE-9800S), the number of samples having cracks was counted, and the crack occurrence rate was 0% or more and 25% Less than "A", 25% or more and less than 50% were evaluated as "B", and 50% or more and 100% or less were evaluated as "C".

〔접착 강도 평가〕[Adhesive strength evaluation]

한 변의 길이가 2 ㎜ 인 정방형 (면적이 4㎟) 의 실리콘 칩의 미러면에, 실시예 및 비교예에서 얻은 경화성 조성물을, 각각, 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은 도금 동판) 위에 얹고 압착했다. 그 후, 170 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하고 경화시켜 시험편 부착 피착체를 얻었다. 이 시험편 부착 피착체를 미리 소정 온도 (23 ℃, 100 ℃) 로 가열한 본드 테스터 (데이지사 제조, 시리즈 4000) 의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 50 ㎛ 의 높이의 위치로부터 스피드 200 ㎛/s 로 접착면에 대하여 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여 23 ℃ 및 100 ℃ 에서의 시험편과 피착체의 접착력 (N/4 ㎟) 을 측정하였다.The curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples were respectively applied to the mirror surface of a square (area 4 mm2) silicon chip having a side length of 2 mm to a thickness of about 2 µm, and the coated surface was applied to the adherend ( It was placed on a silver-plated copper plate) and was crimped. Then, it heat-processed and hardened at 170 degreeC for 2 hours, and the to-be-adhered body with a test piece was obtained. This adherend with a test piece was left for 30 seconds on the measurement stage of a bond tester (manufactured by Daisy, series 4000) heated in advance to a predetermined temperature (23° C., 100° C.), and the speed from a position 50 μm high from the adherend. Stress was applied in the horizontal direction (shear direction) with respect to the adhesive surface at 200 µm/s, and the adhesive force (N/4 mm 2 ) between the test piece and the adherend at 23°C and 100°C was measured.

측정 결과, 평가 결과를 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows the measurement results and evaluation results.

Figure pct00015
Figure pct00015

상기 실시예, 비교예 및 참고예로부터 이하의 것을 알 수 있다.The following can be seen from the said Example, a comparative example, and a reference example.

실시예 1 ∼ 7 의 경화성 조성물은, 반복 단위 (1) 의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하기 때문에, 굴절률이 높다.Since the curable composition of Examples 1-7 contains the polysilsesquioxane compound with a high content rate of a repeating unit (1), refractive index is high.

마찬가지로, 비교예 1 의 경화성 조성물도 역시, 반복 단위 (1) 의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하기 때문에, 굴절률이 높다.Similarly, since the curable composition of the comparative example 1 also contains the polysilsesquioxane compound with a high content rate of the repeating unit (1), the refractive index is high.

그러나, 비교예 1 에서 사용한 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A6) 은, T2 사이트의 비율이 높지 않기 때문에, 비교예 1 의 경화성 조성물의 경화물은 내크랙성이 열등하였다.However, since the polysilsesquioxane compound (A6) used in Comparative Example 1 did not have a high ratio of T2 sites, the hardened|cured material of the curable composition of Comparative Example 1 was inferior in crack resistance.

또한, 실시예 1 ∼ 7 의 경화성 조성물은, 실란 커플링제를 함유하기 때문에, 반복 단위 (1) 의 함유 비율이 높은 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 것이어도, 그 경화물은 충분한 접착 강도를 갖고 있다.Moreover, since the curable composition of Examples 1-7 contains a silane coupling agent, even if it contains a polysilsesquioxane compound with a high content rate of a repeating unit (1), the hardened|cured material has sufficient adhesive strength. have it

한편, 비교예 2 에서 얻어진 경화성 조성물은, 실란 커플링제를 함유하지 않는 것이기 때문에, 그 경화물은 충분한 접착 강도를 갖고 있지 않다.On the other hand, since the curable composition obtained by the comparative example 2 does not contain a silane coupling agent, the hardened|cured material does not have sufficient adhesive strength.

또한, 참고예 1 과 참고예 2 의 결과를 비교하면, 반복 단위 (1) 의 비율이 낮으면, 경화성 조성물의 굴절률이 낮아지는 것을 알 수 있지만, 실시예 1 ∼ 7, 참고예 1 의 결과에 의하면, 반복 단위 (1) 과 반복 단위 (2) 의 합계량에 대하여, 반복 단위 (1) 의 양이 80 ∼ 100 mol% 의 범위에서는, 충분히 높은 굴절률을 갖는다고 생각된다.In addition, when the results of Reference Example 1 and Reference Example 2 are compared, it can be seen that when the ratio of the repeating unit (1) is low, the refractive index of the curable composition is lowered, but in the results of Examples 1 to 7 and Reference Example 1, According to this, it is considered that the refractive index is sufficiently high in the range of 80 to 100 mol% of the repeating unit (1) relative to the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2).

Claims (11)

하기 (A) 성분 및 (C) 성분을 함유하는 경화성 조성물.
(A) 성분 : 하기 식 (a-1)
Figure pct00016

〔R1 은, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.〕
로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (1)〕를 갖고, 하기 식 (a-2)
Figure pct00017

〔R2 는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다.〕
로 나타내는 반복 단위〔반복 단위 (2)〕를 갖거나 또는 갖지 않는 폴리실세스퀴옥산 화합물이며, 하기 요건 1 및 요건 2 를 만족시키는 것을 특징으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물
〔요건 1〕
반복 단위 (1) 과 반복 단위 (2) 의 합계량에 대하여, 반복 단위 (1) 의 양이 80 ∼ 100 mol% 이다.
〔요건 2〕
하기 식 (a-3) 으로 나타내는 T 사이트 (T1 사이트), 하기 식 (a-4) 로 나타내는 T 사이트 (T2 사이트) 및 하기 식 (a-5) 로 나타내는 T 사이트 (T3 사이트) 의 합계량에 대하여, 상기 T2 사이트의 양이 30 ∼ 70 mol% 이다.
Figure pct00018

〔G 는, R1 또는 R2 로 나타내는 기를 나타낸다. R3 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다. * 에는, 규소 원자가 결합하고 있다.〕
(C) 성분 : 실란 커플링제
The curable composition containing the following (A) component and (C) component.
(A) Component: the following formula (a-1)
Figure pct00016

[R 1 represents an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent.]
has a repeating unit [repeating unit (1)] represented by the following formula (a-2)
Figure pct00017

[ R2 represents an unsubstituted C1-C10 alkyl group or a C1-C10 alkyl group having a substituent.]
A polysilsesquioxane compound having or not having a repeating unit [repeating unit (2)] represented by
[Requirement 1]
The amount of the repeating unit (1) is 80 to 100 mol% with respect to the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2).
[Requirement 2]
To the total amount of the T site (T1 site) represented by the following formula (a-3), the T site (T2 site) represented by the following formula (a-4), and the T site (T3 site) represented by the following formula (a-5) In contrast, the amount of the T2 site is 30 to 70 mol%.
Figure pct00018

[G represents a group represented by R 1 or R 2 . R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. A silicon atom is bonded to *.]
(C) Component: Silane Coupling Agent
제 1 항에 있어서,
(A) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 이 500 ∼ 3,000 인 경화성 조성물.
The method of claim 1,
(A) The curable composition whose mass average molecular weights (Mw) of a component are 500-3,000.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(A) 성분 중의 반복 단위 (1) 과 반복 단위 (2) 의 합계량이 (A) 성분의 전체 반복 단위 중 90 ∼ 100 mol% 인 경화성 조성물.
3. The method of claim 1 or 2,
A curable composition in which the total amount of the repeating unit (1) and the repeating unit (2) in component (A) is 90 to 100 mol% based on the total amount of repeating units in component (A).
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(C) 성분의 함유량이 (A) 성분 100 질량부에 대하여 0.1 ∼ 70 질량부인 경화성 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(C) Curable composition whose content of component is 0.1-70 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분과 (C) 성분의 합계량이 경화성 조성물의 고형분 중 50 ∼ 100 질량% 인 경화성 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The curable composition whose total amount of (A) component and (C) component is 50-100 mass % in solid content of a curable composition.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 희석제를 함유하고, 고형분 농도가 60 질량% 이상 100 질량% 미만인 경화성 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
A curable composition further comprising a diluent and having a solid content concentration of 60% by mass or more and less than 100% by mass.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
25 ℃ 에서의 굴절률 (nD) 이 1.500 ∼ 1.600 인 경화성 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The curable composition whose refractive index (nD) in 25 degreeC is 1.500-1.600.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.Hardened|cured material obtained by hardening|curing the curable composition in any one of Claims 1-7. 제 8 항에 있어서,
광 소자 고정재인 경화물.
9. The method of claim 8,
A cured product that is an optical device fixing material.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition in any one of Claims 1-7 as an adhesive agent for optical element fixing materials. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition in any one of Claims 1-7 as a sealing material for optical element fixing materials.
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