KR20210059549A - 성막장치 - Google Patents

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KR20210059549A
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타다시 세키타니
류지 기무라
타츠야 신카이
슌스케 오카베
šœ스케 오카베
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캐논 톡키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 성막장치는, 용기와, 상기 용기의 외부에 설치되며, 상기 용기의 적어도 일부를 지지하는 용기 지지체와, 상기 용기 내에 설치되어, 기판을 보유지지하는 기판 홀더와, 상기 용기 내에 설치되어, 마스크를 지지하는 마스크 홀더와, 상기 기판 홀더를 구동하는 기판 홀더 구동 기구와, 상기 마스크 홀더를 구동하는 마스크 홀더 구동 기구와, 상기 용기 지지체와 상기 기판 홀더 구동 기구와의 사이와 상기 용기 지지체와 상기 마스크 홀더 구동 기구와의 사이 중 적어도 한쪽에 설치된 진동 전달 억제 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

성막장치{FILM FORMING APPARATUS}
본 발명은 소정의 성막재료를 마스크를 통해 기판에 증착시키기 위한 성막장치에 관한 것이다.
유기EL 표시 장치(유기EL 디스플레이)는, 스마트폰, 텔레비전, 자동차용 디스플레이, VR HMD(Virtual Reality Head Mount Display) 등으로 그 응용 분야가 확대되고 있으며, 특히 VR HMD에 이용되는 디스플레이는, 사용자의 어지러움을 저감하는 것 등을 위해서 화소 패턴을 고정밀로 형성하는 것이 요구된다. 즉, 추가적인 고해상도화가 요구되고 있다.
이러한 유기EL 표시 장치의 제조에 있어서는, 유기EL 표시 장치를 구성하는 유기 발광 소자(유기EL 소자; OLED)를 형성할 때에, 성막 장치의 성막원으로부터 방출된 성막 재료를, 화소 패턴이 형성된 마스크를 매개하여, 기판에 성막하는 것으로, 유기물층이나 금속층을 형성한다.
이러한 성막장치에 있어서는, 성막 정밀도를 높이기 위해, 성막 공정 전에 기판과 마스크의 상대 위치를 측정하고, 상대 위치가 어긋나 있는 경우에는 기판 및/또는 마스크를 상대적으로 이동시켜 위치를 조정(얼라인먼트)하는 공정이 행해진다.
이를 위해, 종래의 성막장치는, 기판 지지 유닛 및/또는 마스크대에 연결되어 기판 지지 유닛 및/또는 마스크 지지대를 구동하는 얼라인먼트 스테이지 기구를 포함한다.
종래, 얼라인먼트 스테이지 기구를 포함하는 성막장치로서, 특허문헌 1에 예시되어 있는 것과 같은 것이 알려져 있다. 특허문헌 1에서는 얼라인먼트 스테이지 기구를 재치하는 지지판과 성막실의 상판을 분리하는 구조를 취하고 있다. 이를 통해 성막실의 변형이나 성막실에 전해지는 진동을 줄여서, 기판과 마스크의 위치 어긋남을 억제할 수 있다.
일본공개특허 제2012-33468호
그러나, 특허문헌 1에 개시되어 있는 성막장치에서는, 기판 또는 마스크의 얼라인먼트 스테이지 기구를 구동했을 때, 그 구동시의 진동이 어느 한쪽의 지지체에 전해져, 얼라인먼트 정밀도가 악화된다. 또한, 고정밀도 얼라인먼트를 할 때 얼라인먼트 스테이지 기구의 제어 가능한 주파수 대역을 올릴 필요가 있지만, 구동시의 진동이 외란이 되어서, 제어 성능이 저하되고, 결과적으로 얼라인먼트 정밀도가 저하된다.
본 발명은, 상기 종래기술이 갖는 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 얼라인먼트 정밀도가 저하되는 것을 억제할 수 있는 성막장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 양태에 따른 성막장치는, 용기와, 상기 용기의 외부에 설치되며, 상기 용기의 적어도 일부를 지지하는 용기 지지체와, 상기 용기 내에 설치되어, 기판을 보유지지하는 기판 홀더와, 상기 용기 내에 설치되어, 마스크를 지지하는 마스크 홀더와, 상기 기판 홀더를 구동하는 기판 홀더 구동 기구와, 상기 마스크 홀더를 구동하는 마스크 홀더 구동 기구와, 상기 용기 지지체와 상기 기판 홀더 구동 기구와의 사이와 상기 용기 지지체와 상기 마스크 홀더 구동 기구와의 사이 중 적어도 한쪽에 설치된 진동 전달 억제 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 얼라인먼트 정밀도가 저하하는 것을 억제할 수 있게 된다.
도 1은 전자 디바이스의 제조 장치의 일부의 구성을 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 진동전달억제 구성을 보여주는 모식도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 진동전달억제 구성을 보여주는 모식도이다.
본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태를 도면에 기초하여 이하에 설명한다. 이하의 실시형태 및 실시예는 본 발명의 바람직한 구성을 예시적으로 나타내는 것으로서, 본 발명의 범위는 이들 구성에 한정되지 않는다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 흐름, 제조조건, 크기, 재질, 형상 등은, 특히 한정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 이것으로 한정하려는 취지인 것은 아니다.
본 발명은 기판의 표면에 각종 재료를 퇴적시켜 성막하는 장치에 적용할 수 있으며, 진공 증착에 의해 원하는 패턴의 박막(재료층)을 형성하는 장치에 적합하게 적용할 수 있다.
기판의 재료로는 반도체(예를 들어, 실리콘), 유리, 고분자 재료의 필름, 금속 등 임의의 재료를 선택할 수 있으며, 기판은, 예를 들어, 실리콘 웨이퍼 또는 유리 기판 상에 폴리이미드 등의 필름이 적층된 기판 일 수 있다. 또한, 성막 재료로 유기 재료, 금속 재료(금속, 금속 산화물 등) 등의 임의의 재료를 선택할 수 있다.
또한 본 발명은 가열 증발에 의한 진공 증착 장치 이외에도 스퍼터 장치나 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치를 포함하는 성막 장치에도 적용할 수 있다. 본 발명의 기술은 구체적으로는 반도체 장치, 자기 장치, 전자 부품 등의 각종 전자 장치와 광학 부품 등의 제조 장치에 적용 가능하다. 전자 장치의 구체적인 예는 발광 소자 및 광전 변환 소자, 터치 패널 등을 들 수 있다.
본 발명은 특히, OLED 등 유기 발광 소자 및 유기 박막 태양 전지 등의 유기 광전 변환 소자의 제조 장치에 바람직하게 적용 가능하다. 또한, 본 발명에 있어서의 전자 디바이스는 발광 소자를 구비한 표시 장치(예를 들면, 유기 EL 표시 장치)와 조명 장치(예를 들면, 유기 EL 조명 장치), 광전 변환 소자를 갖춘 센서 (예를 들면, 유기 CMOS 이미지 센서)를 포함하는 것이다.
<전자 디바이스 제조 장치>
도 1은 전자 디바이스의 제조 장치의 일부의 구성을 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 1의 제조 장치는, 예를 들면 VR HMD 용의 유기 EL 표시장치의 표시 패널의 제조에 이용된다. VR HMD 용의 표시 패널의 경우, 예를 들면, 소정의 크기(예를 들어, 300mm)의 실리콘 웨이퍼에 유기 EL 소자의 형성을 위한 성막을 행한 후, 소자 형성 영역 사이의 영역(스크라이브 영역)을 따라 해당 실리콘 웨이퍼를 잘라 내어 복수의 작은 사이즈의 패널로 제작한다.
본 실시형태에 따른 전자 디바이스 제조 장치는, 일반적으로 복수의 클러스터 장치(1)와, 클러스터 장치(1) 사이를 연결하는 중계장치를 포함한다.
클러스터 장치(1)는, 기판(W)에 대한 처리(예컨대, 성막)를 행하는 성막장치(11)와, 사용 전후의 마스크를 수납하는 마스크 스톡 장치(12)와, 그 중앙에 배치되는 반송실(13)을 구비한다. 반송실(13)은 도 1에 도시한 바와 같이, 성막장치(11) 및 마스크 스톡 장치(12) 각각과 접속된다.
반송실(13) 내에는, 기판(W) 또는 마스크를 반송하는 반송 로봇(14)이 배치된다. 반송 로봇(14)은, 예를 들면, 다관절 아암에, 기판(W) 또는 마스크를 보유지지하는 로봇 핸드가 장착된 구조를 갖는 로봇일 수 있다.
성막장치(11)에서는, 성막원으로부터 방출된 성막재료가 마스크를 통해 기판(W)상에 성막된다. 반송 로봇(14)과의 기판(W)/마스크의 주고받음, 기판(W)과 마스크의 상대적 위치의 조정(얼라인먼트), 마스크상으로의 기판(W)의 고정, 성막 등의 일련의 성막 프로세스는, 성막장치(11)에 의해 행해진다.
유기 EL 표시장치를 제조하기 위한 제조 장치에서 성막장치(11)는, 성막되는 재료의 종류에 따라 유기막 성막장치와 금속성막 성막장치로 나눌 수 있으며, 유기막 성막장치는 유기물 성막재료를 증착 또는 스퍼터링에 의해 기판(W)에 성막하며, 금속성막 성막장치는 금속성 성막재료를 증착 또는 스퍼터링에 의해 기판(W)에 성막한다.
유기 EL 표시장치를 제조하기 위한 제조장치에서, 어떤 성막장치를 어느 위치에 배치할지는 제조되는 유기 EL 소자의 적층구조에 따라 달라질 수 있으며, 유기 EL 소자의 적층구조에 따라 이를 성막하기 위한 복수의 성막장치가 배치된다.
유기 EL 소자의 경우, 통상적으로, 애노드가 형성된 기판(W)상에, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층, 캐소드가 이 순서대로 적층된 구조를 가지는데, 이러한 층을 순차적으로 성막할 수 있도록 기판의 흐름방향을 따라 적절한 성막장치가 배치된다.
예컨대, 도 1에서 성막장치(11a)는, 정공주입층(HIL) 및/또는 정공수송층(HTL)을 성막하고, 성막장치(11b, 11f)는 청색 발광층을, 성막장치(11c)는 적색 발광층을, 성막장치(11d, 11e)는 녹색 발광층을, 성막장치(11g)는 전자수송층(ETL) 및/또는 전자주입층(EIL)을, 성막장치(11h)는 캐소드 금속막을 성막하도록 배치된다. 도 1에 도시한 실시예에서는, 소재의 특성상, 청색 발광층과 녹색 발광층의 성막 속도가 적색 발광층의 성막속도보다 느리기 때문에, 처리 속도의 균형을 맞추기 위해 청색 발광층과 녹색 발광층 각각을 2개의 성막장치에서 성막하도록 하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 배치구조를 가져도 된다.
마스크 스톡 장치(12)에는 성막장치(11)에서의 성막 공정에 사용될 새로운 마스크 및 사용이 끝난 마스크가 복수 개의 카세트에 나뉘어져 수납된다. 반송 로봇(14)은, 사용이 끝난 마스크를 성막장치(11)로부터 마스크 스톡 장치(12)의 카세트로 반송하며, 마스크 스톡 장치(12)의 다른 카세트에 수납된 새로운 마스크를 성막장치(11)로 반송한다.
복수의 클러스터 장치(1) 사이를 연결하는 중계장치는, 클러스터 장치(1) 사이에서 기판(W)을 반송하는 패스실(15)을 포함한다.
반송실(13)의 반송 로봇(14)은 상류측의 패스실(15)로부터 기판(W)을 받아서, 해당 클러스터 장치(1)내의 성막장치(11)중 하나(예컨대, 성막장치(11a))로 반송한다. 또한, 반송 로봇(14)은 해당 클러스터 장치(1)에서의 성막처리가 완료된 기판(W)을 복수의 성막장치(11) 중 하나(예컨대, 성막장치(11e))로부터 받아서, 하류측에 연결된 패스실(15)로 반송한다.
중계장치는, 패스실(15) 이외에, 상하류측의 클러스터 장치(1)에서의 기판(W)의 처리속도의 차이를 흡수하기 위한 버퍼실(도시하지 않음) 및 기판(W)의 방향을 바꾸기 위한 선회실(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 예컨대, 버퍼실은 복수의 기판(W)을 일시적으로 수납하는 기판 적재부를 포함하며, 선회실은 기판(W)을 180도 회전시키기 위한 기판 회전기구(예컨대, 회전 스테이지 또는 반송 로봇)을 포함한다. 이를 통해, 상류측 클러스터 장치와 하류측 클러스터 장치에서 기판(W)의 방향이 동일하게 되어 기판 처리가 용이해진다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 패스실(15)은 복수의 기판(W)을 일시적으로 수납하기 위한 기판 적재부(미도시)나 기판 회전기구를 포함하여도 된다. 즉, 패스실(15)이 버퍼실이나 선회실의 기능을 겸하여도 된다.
클러스터 장치(1)를 구성하는 성막장치(11), 마스크 스톡 장치(12), 반송실(13) 등은 유기발광 소자의 제조과정에서, 고진공 상태로 유지된다. 중계장치의 패스실(15)은, 통상 저진공 상태로 유지되나, 필요에 따라 고진공 상태로 유지될 수도 있다.
유기 EL 소자를 구성하는 복수의 층의 성막이 완료된 기판(W)은 유기 EL 소자를 봉지하기 위한 봉지장치(미도시)나 기판을 정해진 패널 크기로 절단하기 위한 절단 장치(미도시) 등으로 반송된다.
본 실시예에서는, 도 1을 참조하여, 전자 디바이스 제조 장치의 구성에 대해서 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 종류의 장치나 챔버를 가질 수도 있으며, 이들 장치나 챔버간의 배치가 달라질 수도 있다.
예컨대, 본 발명의 일 실시형태에 따른 전자 디바이스 제조장치는, 도 1에 도시한 클러스터 타입이 아닌, 인라인 타입이어도 된다. 즉, 기판(W)과 마스크를 캐리어에 탑재하여, 일렬로 나열된 복수의 성막장치내를 반송시키면서 성막을 행하는 구성을 가질 수도 있다. 또한, 클러스터 타입과 인라인 타입을 조합한 타입의 구조를 가질 수도 있다. 예컨대, 유기층의 성막까지는 클러스터 타입의 제조장치에서 행하고, 전극층(캐소드층)의 성막공정부터, 봉지공정 및 절단공정 등은 인라인 타입의 제조장치에서 행할 수도 있다.
이하, 성막장치(11)의 구체적인 구성에 대하여 설명한다.
<성막장치>
도 2는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막장치(11)의 구성을 나타내는 모식도이다. 이하의 설명에 있어서는, 연직 방향을 Z 방향으로 하고 수평면을 XY평면으로 하는 XYZ 직교 좌표계를 사용한다. 또한, X축 주위의 회전각을 θX, Y축 주위의 회전각을 θY, Z 축 주위의 회전각을 θZ 로 표시한다.
도 2는, 성막재료를 가열함으로써 증발 또는 승화시켜 마스크(M)를 통해 기판(W)에 성막하는 성막장치(11)의 일례를 도시하는 단면도이다.
성막장치(11)는, 진공 분위기 또는 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기로 유지되는 진공용기(21)와, 진공용기(21)내에 설치되어 기판(W)을 보유지지하는 기판 홀더(24)와, 진공용기(21)내에 설치되어 기판 홀더(24)를 적어도 X방향, Y방향 및 θZ 방향으로 구동하기 위한 기판 홀더 구동 기구(22)와, 진공용기(21)내에 설치되어 마스크(M)를 지지하는 마스크 홀더(23)와, 마스크 홀더(23)를 적어도 X방향, Y방향 및 θZ 방향으로 구동하기 위한 마스크 홀더 구동 기구(28)와, 진공용기(21) 내에 설치되어, 성막재료를 수납하고 성막시에 성막재료를 입자화하여 방출하는 성막원(25)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 성막장치(11)는, 자기력에 의해 마스크(M)를 기판(W)측으로 밀착시키기 위한 자력인가수단(26)을 더 포함할 수 있다. 자력인가수단(26)은, 기판(W)의 온도 상승을 억제하기 위한 냉각수단(예컨대, 냉각판)을 겸하여도 된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 성막장치(11)의 진공용기(21)는, 기판 홀더 구동 기구(22)가 배치되는 제1 진공용기부(211)와 성막원(25)이 배치되는 제2 진공용기부(212)를 포함하며, 예컨대, 제2 진공용기부(212)에 접속된 진공펌프(P)에 의해 진공용기(21)　전체의 내부공간이 고진공 상태로 유지된다.
또한, 적어도 제1 진공용기부(211)와 제2 진공용기부(212) 사이에는 신축가능부재(213)가 설치된다. 신축가능부재(213)는 제2 진공용기부(212)에 연결되는 진공펌프로부터의 진동이나, 성막장치(11)가 설치된 마루 또는 플로어로부터의 진동(바닥 진동)이 제2 진공용기부(212)를 통해 제1 진공용기부(211)로 전달되는 것을 저감한다. 신축가능부재(213)는, 예컨대, 벨로우즈일 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 제1 진공용기부(211)와 제2 진공용기부(212) 사이에서 진동의 전달을 저감할 수 있는 한 다른 부재를 사용하여도 된다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 성막장치(11)는, 진공용기(21)의 적어도 일부(예컨대, 도 2에 도시한 성막장치(11)에서는 제1 진공용기부(211))를 지지하는 진공용기 지지체(217)를 더 포함한다.
기판홀더(24)는, 반송실(13)의 반송로봇(14)이 반송하여 온 피성막체로서의 기판(W)을 보유지지하는 수단으로서, 후술하는 기판 홀더 구동 기구(22)의 가동대인 미동 스테이지 플레이트부(222)에 설치된다.
기판홀더(24)는 기판 클램핑 수단 또는 기판 흡착 수단일 수 있다. 기판홀더(24)로서의 기판 흡착 수단은, 예컨대, 유전체/절연체(예컨대, 세라믹재질) 매트릭스내에 금속전극 등의 전기회로가 매설된 구조를 갖는 정전척이나 점착식 흡착 수단일 수 있다.
기판홀더(24)으로서의 정전척은, 전극과 흡착면 사이에 상대적으로 저항이 높은 유전체가 개재되어 전극과 피흡착체간의 쿨롱력에 의해 흡착이 이루어지는 쿨롱력 타입의 정전척이어도 되고, 전극과 흡착면 사이에 상대적으로 저항이 낮은 유전체가 개재되어 유전체의 흡착면과 피흡착체간에 발생하는 존슨 라벡력에 의해 흡착이 이루어지는 존슨-라벡력 타입의 정전척이어도 되며, 불균일 전계에 의해 피흡착체를 흡착하는 그래디언트력 타입의 정전척이어도 된다.
피흡착체가 도체나 반도체(실리콘 웨이퍼)인 경우에는 쿨롱력 타입의 정전척 또는 존슨-라벡력 타입의 정전척을 사용하는 것이 바람직하며, 피흡착체가 유리와 같은 절연체인 경우에는 그래디언트력 타입의 정전척을 사용하는 것이 바람직하다.
정전척은 하나의 플레이트로 형성되어도 되고, 복수의 서브플레이트를 가지도록 형성되어도 된다. 또한, 하나의 플레이트로 형성되는 경우에도 그 내부에 복수의 전기회로를 가지며, 하나의 플레이트내에서 위치에 따라 정전인력이 다르도록 제어할 수도 있다.
기판 홀더 구동 기구(22)는, 자기 부상 리니어 모터에 의해 기판 홀더(24)를 구동하여 기판(W)의 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 스테이지 기구로서, 적어도 X방향, Y방향, 및 θZ 방향, 바람직하게는, X방향, Y방향, Z방향, θX 방향, θY 방향, θZ 방향의 6개의 방향에 있어서의 기판홀더(24)의 위치를 조정한다.
기판 홀더 구동 기구(22)는, 고정대로 기능하는 스테이지 기준 플레이트부(221)와, 가동대로 기능하는 미동 스테이지 플레이트부(222)와, 미동 스테이지 플레이트부(222)를 스테이지 기준 플레이트부(221)에 대해 자기 부상 및 이동시키기 위한 자기 부상 유닛(223)을 포함한다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 성막장치(11)의 기판 홀더 구동 기구(22)는, 도 2에 도시한 바와 같이, 진공용기 지지체(217)로부터 연장하는 기판 홀더 구동 기구 지지체(215)에 설치된다. 기판 홀더 구동 기구 지지체(215)와 제1 진공용기부(211) 사이에 신축가능부재(213)를 설치하여도 된다. 이를 통해, 기판 홀더 구동 기구 지지체(215)를 통해 기판 홀더 구동 기구(22)에 외부 진동이 전달되는 것을 더욱 저감할 수 있다.
이와 같이, 기판 홀더 구동 기구(22)로서, 기판(W)과 물리적으로 접촉하지 않는 자기 부상식 구동 기구를 사용함으로써, 바닥 진동이나 진공 펌프(P)로부터의 진동, 도어 밸브 진동, 반송 로봇(14)으로부터의 진동이, 기판(W)으로 전해지는 것을 억제할 수 있다.
마스크 홀더(23)는, 반송로봇(14)에 의해 진공용기(21)내로 반입된 마스크(M)를 지지하는 수단이다. 진공용기(21)내로 반입된 마스크(M)는 적어도 얼라인먼트 시 및 성막 시에 마스크 홀더(23)에 재치된다. 마스크 홀더(23)는 후술하는 마스크 홀더 구동 기구(28)에 연결되도록 설치된다.
마스크 홀더(23)에는, 기판홀더(24)에 보유지지된 기판(W)의 위치를 측정하기 위한 위치 검지 기구(231)가 설치될 수 있다. 위치 검지 기구(231)는, 기판(W), 기판홀더(24), 또는 미동 스테이지 플레이트부(222)의 위치를 측정할 수 있는 것인 한, 그 종류에 특별한 제한이 없다.
예를 들어, 위치 검지 기구(231)는, 레이저 간섭계와 반사경을 포함하는 레이저 간섭 길이 측정기이어도 좋고, 또는 정전 용량 센서, 비접촉 변위계, 광학식 스케일이어도 좋다.
마스크(M)는, 기판(W) 상에 형성될 박막 패턴에 대응하는 개구 패턴을 가진다. 마스크(M)의 개구 패턴은 성막재료의 입자를 통과시키지 않는 차단 패턴에 의해 정의된다. 마스크(M)의 재료로는, 인바 재나 실리콘 또는 구리, 니켈, 스테인리스 등의 금속 재료가 사용될 수 있다.
예컨대, VR HMD용 유기 EL 표시 패널을 제조하는데 사용되는 마스크(M)는, 유기 EL 소자의 발광층의 RGB 화소 패턴에 대응하는 미세한 개구패턴이 형성된 금속제 마스크인 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask)와, 유기 EL 소자의 공통층(정공주입층, 정공수송층, 전자수송층, 전자주입층 등)을 형성하는데 사용되는 오픈 마스크(open mask)를 포함한다.
마스크 홀더 구동 기구(28)는, 마스크 홀더(23)의 위치를 조정하기 위한 구동 기구로서, 마스크 홀더(23)를 수평방향(XYθZ 방향)으로 이동 가능한 조동 스테이지 기구(28a)와, 조동 스테이지 기구(28a)를 연직방향, 즉, Z방향으로 승강시킬 수 있는 조동 Z 승강 기구(28b)를 포함한다. 조동 스테이지 기구(28a)는 기판(W) 및 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크를 후술하는 얼라인먼트 카메라의 시야 내에 들어오도록 이동시킬 수 있으며, 조동 Z 승강 기구(28b)는 기판(W)과 마스크(M) 간의 연직방향에 있어서의 간격을 용이하게 조정할 수 있다.
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 조동 스테이지 기구(28a)와 조동 Z 승강 기구(28b)는, 서보 모터 및 볼나사(미도시) 등에 의해 기계적으로 구동된다.
본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 마스크 홀더 구동 기구(28)는, 진동 전달 억제 부재(29)를 개재하여 진공용기 지지체(217) 상에 설치된다.
진동 전달 억제 부재(29)는, 마스크 홀더 구동 기구(28)와 진공용기 지지체(217) 사이에서의 진동의 전달을 억제한다. 보다 구체적으로, 진동 전달 억제 부재(29)는, 바닥 진동이나 진공용기(21)로부터 전달되는 진공 펌프(P)의 진동, 진공용기(21)의 도어 밸브의 진동, 기판이나 마스크를 반송하는 반송 로봇(14)으로부터 전달되는 진동이, 마스크 홀더 구동 기구(28)를 통해 마스크 홀더(23)에 전해지는 것을 억제할 수 있다.
또한, 기판 홀더 구동 기구(22)가 구동할 때의 반력이 기판 홀더 구동 기구 지지체(215), 진공용기 지지체(217)를 통해 마스크 홀더(23)나 마스크 홀더(23)상에 설치된 위치 검지 기구(231)에 전달되는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 기판 홀더 구동 기구(22)의 제어에 있어서의 주파수특성상의 외란이 될 수 있는 기판 홀더 구동 기구 지지체(215) 등의 공진 진동의 여기를 억제함으로써, 보다 고주파까지 안정적으로 제어할 수 있게 되며, 결과적으로, 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있다.
이러한 진동 전달 억제 부재(29)는, 액티브 제진 장치나 제진 고무 등과 같은 패시브 제진 장치이어도 좋다. 진동 전달 억제 부재(29)가 액티브 제진 장치인 경우, 진동의 유형이나 크기, 방향 등에 상관없이 효과적으로 진동의 전달을 억제하는 것이 가능하다.
성막원(25)은 기판(W)에 성막될 성막 재료가 수납되는 도가니(미도시), 도가니를 가열하기 위한 히터(미도시), 성막원(25)으로부터의 증발 레이트가 일정해질 때까지 성막재료가 기판(W)으로 비산하는 것을 막는 셔터(미도시) 등을 포함한다. 성막원(25)에는 입자화된 성막 재료가 방출되는 하나 이상의 방출 구멍이 형성되어 있으며, 이러한 방출구멍이 지향하는 측에 마스크(M)와 기판(W)이 성막면을 방출 구멍을 향하도록 하여 배치된다.
성막원(25)은 점형(point) 성막원이나 선형(linear) 성막원 등, 용도에 따라 다양한 구성을 가질 수 있다.
성막원(25)은, 서로 다른 성막재료를 수납하는 복수의 도가니를 포함하여도 된다. 이러한 구성에 있어서는, 진공용기(21)를 대기개방 하지 않고도 성막재료를 변경할 수 있도록, 서로 다른 성막재료를 수납하는 복수의 도가니를 성막위치로 이동가능하게 설치하여도 된다.
자력인가수단(26)은, 성막공정시에 자기력에 의해 마스크(M)를 기판(W)측으로 끌어당겨 밀착시키기 위한 수단으로써, 연직방향으로 승강가능하게 설치된다. 예컨대, 자력인가수단(26)은 전자석 및/또는 영구자석으로 구성된다.
도 2에 도시하지 않았으나, 성막장치(11)는 기판에 증착된 막두께를 측정하기 위한 막두께 모니터(미도시) 및 막두께 산출 유닛(미도시)를 포함하여도 된다.
진공용기(21)의 상부 외측(대기측)에는, 자력인가수단(26)을 승강시키기 위한 자력인가수단 승강 기구(261)가 설치된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 성막장치(11)는, 진공용기(21)의 상부 외측(대기측)에 설치되어, 기판(W) 및 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위한 얼라인먼트용 카메라 유닛(27)을 더 포함한다.
본 실시예에 있어서, 얼라인먼트용 카메라 유닛(27)은, 기판(W)과 마스크(M)의 상대적 위치를 대략적으로 조정하는데 사용되는 러프 얼라인먼트용 카메라와, 기판(W)과 마스크(M)의 상대적 위치를 고정밀도로 조정하는데 사용되는 파인 얼라인먼트용 카메라를 포함할 수 있다. 러프 얼라인먼트용 카메라는 상대적으로 시야각이 넓고 저해상도이며, 파인 얼라인먼트용 카메라는 상대적으로 시야각은 좁지만 고해상도를 가지는 카메라이다.
러프 얼라인먼트용 카메라와 파인 얼라인먼트용 카메라는 기판(W) 및 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크에 대응하는 위치에 설치된다. 예컨대, 파인 얼라인먼트용 카메라는 4개의 카메라가 직사각형의 4개의 코너부를 이루도록 설치되고, 러프 얼라인먼트용 카메라는 해당 직사각형의 대향하는 두 변의 중앙에 설치된다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 기판(W) 및 마스크(M)의 얼라인먼트 마크의 위치에 따라 다른 배치를 가져도 된다.
도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 성막장치(11)의 얼라인먼트용 카메라 유닛(27)은, 진공용기(21)의 상부 대기측으로부터 진공용기(21)에 설치된 진공대응통(214)을 통해 얼라인먼트 마크를 촬영한다. 이와 같이 얼라인먼트용 카메라는 진공대응통을 통해 진공용기(21) 안쪽으로 들어오도록 설치됨으로써, 기판 홀더 구동 기구(22)의 개재로 인해 기판(W)과 마스크(M)가 기판 홀더 구동 기구 지지체(215)로부터 상대적으로 멀리 떨어져 지지되더라도, 기판(W)과 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크에 초점을 맞출 수 있다. 진공대응통의 하단의 위치는 얼라인먼트용 카메라의 초점 심도와 기판(W)/마스크(M)가 기판 홀더 구동 기구 지지체(215)로부터 떨어진 거리에 따라 적절히 정할 수 있다.
도 2에 도시하지는 않았으나, 성막공정 동안 밀폐되는 진공용기(21) 내부는 어두우므로, 진공용기(21) 안쪽으로 들어와 있는 얼라인먼트용 카메라에 의해 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위해, 하방으로부터 얼라인먼트 마크를 비추는 조명광원을 설치하여도 된다.
성막장치(11)는 제어부(미도시)를 구비한다. 제어부는 기판(W) /마스크(M)의 반송 및 얼라인먼트의 제어, 성막의 제어 등의 기능을 갖는다. 제어부는 또한 정전척에의 전압의 인가를 제어하는 기능을 가질 수 있다.　제어부는 얼라인먼트 제어시에, 특히, 위치 검지 기구(231)에서 검지된 위치에 기초하여 피드백 제어를 행한다.
제어부는, 예를 들면, 프로세서, 메모리, 스토리지, I/O 등을 갖는 컴퓨터에 의해 구성할 수 있다. 이 경우, 제어부의 기능은 메모리 또는 스토리지에 기억된 프로그램을 프로세서가 실행함으로써 실현된다. 컴퓨터로서는 범용의 퍼스널 컴퓨터를 사용하여도 되고, 임베디드형의 컴퓨터 또는 PLC(programmable　logic　controller)를 사용하여도 좋다. 또는, 제어부의 기능의 일부 또는 전부를 ASIC나 FPGA와 같은 회로로 구성하여도 좋다. 또한, 성막장치별로 제어부가 설치되어도 되고, 하나의 제어부가 복수의 성막장치를 제어하는 것으로 구성하여도 된다.
<진동전달억제기구>
이하, 도 3 및 도 4를 참조하여, 본 발명의 실시 형태에 따른 성막장치(11)에 있어서의 진동전달억제 기구에 대하여 상세하게 설명한다. 다만, 도 3 및 도 4에서는, 진동전달억제 기구를 보다 명확하게 보이기 위하여, 성막장치(11)의 구성이 간략화되어 도시되어 있다. 도 3 및 도 4에서는, 도 2의 성막장치(11)를 구성하는 일부 구성 요소들, 예컨대 자력인가수단(26), 자력인가수단 승강 기구(261), 진공대응통(214), 신축가능부재(213), 기판홀더(24, 도 3의 경우만 생략), 얼라인먼트용 카메라 유닛(27, 도 4의 경우만 생략) 등에 대한 도시는 생략하고, 또한 진공용기(21), 기판 홀더 구동 기구(22), 마스크 홀더 구동 기구(28) 등에 대한 도시는 간략화하였다. 따라서 도 3 및 도 4에서 생략되거나 또는 간략화하여 도시된 성막장치의 구성 요소와 관련하여 여기에서 설명되지 않은 사항은, 도 2를 참조하여 전술한 내용들이 동일하게 적용될 수 있다.
제1 실시형태
도 3은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 성막장치(311)에 있어서의 진동전달억제 기구를 도시하는 모식도이다.
도 3을 참조하면, 성막 장치(311)는, 내부가 예컨대, 진공 분위기로 유지되는 진공용기(321)를 갖는다. 진공용기(321)의 적어도 일부는, 그 외부에 설치되어 있는 진공용기 지지체(317)에 의하여 지지된다.
진공용기(321) 내에는, 기판(W)을 보유지지하는 기판 홀더(미도시)와 마스크(M)를 지지하는 마스크 홀더(323)가 설치되어 있다. 기판 홀더는, 기판(W)을 흡착하여 보유지지하는 정전척일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 마스크 홀더(323)는, 마스크 홀더 구동 기구(328)로부터 연장하는 마스크 홀더 지지체(316)에 의해, 진공용기(321)내에 지지된다.
기판 홀더 구동 기구(322)는 기판 홀더를 구동하기 위한 기구로서, 진공용기 지지체(317)로부터 연장하는 기판 홀더 구동 기구 지지체(315)에 의해 진공용기(321)내에 지지된다. 본 실시 형태에 의하면, 기판 홀더 구동 기구(322)는, 자기 부상 리니어 모터에 의해 비접촉식으로 기판 홀더를 이동시켜 기판(W)의 위치를 조정하기 위한 자기 부상식 구동 기구로서, 적어도 X 방향, Y 방향 및 θZ 방향, 바람직하게는 X 방향, Y 방향, Z 방향, θX 방향, θY 방향, θZ 방향의 6개의 방향에서 기판(W)의 위치를 조정할 수 있다.
마스크 홀더 구동 기구(328)는, 마스크 홀더(323)를 이동시켜 마스크(M)의 위치를 조정하기 위한 기계식 구동 기구이다. 마스크 홀더 구동 기구(328)는, 적어도 X방향, Y방향, Z 방향 및 θZ 방향, 바람직하게는, X방향, Y방향, Z방향, θX 방향, θY 방향, θZ 방향의 6개의 방향에 있어서의 마스크(M)의 위치를 조정할 수 있다. 마스크 홀더 구동 기구(328)는, 진공용기(321)의 외부에 설치되며, 서보 모터, 구름식(rolling) 리니어 가이드 및 볼 스크류 등에 의해　구성된다.
이러한 마스크 홀더 구동 기구(328)는, 진동 전달 억제 부재(329)를 개재하여, 진공용기 지지체(317) 상에 설치되어 있다. 즉, 진동 전달 억제 부재(329)가, 마스크 홀더 구동 기구(328)와 진공용기 지지체(317) 사이에 설치되어 있다. 도3에 도시하지 않았지만, 기판 홀더 구동 기구 지지체(315)와 진공용기 지지체(317) 사이에도 진동 전달 억제 부재가 추가로 설치되어도 된다.
그리고 본 실시형태에 따른 성막장치(311)는, 마스크 홀더(323)에 설치되어, 기판 홀더에 보유지지된 기판(W)의 위치를 측정하기 위한 위치 검지 기구(331)를 더 포함할 수 있다. 예컨대, 위치 검지 기구(331)는, 레이저 간섭 길이 측정 기구, 정전 용량 센서, 비접촉 변위계, 또는 광학식 스케일을 선택할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 성막장치(311)는, 기판 홀더 구동 기구 지지체(315)를 매개하여 진공용기(321)의 상부 외측에 설치되며, 기판(W) 및 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬상하기 위한 얼라인먼트용 카메라 유닛(327)을 더 포함할 수 있다.
본 실시형태에 의하면, 기판 홀더 구동 기구(322)는, 기판(W) 또는 기판 홀더와 접촉하지 않고 기판(W)의 위치를 조정하는 자기 부상식 구동 기구로 구성된다. 그리고 마스크(M)의 위치를 조정하는 기계식 구동 기구인 마스크 홀더 구동 기구(328)는, 진동 전달 억제 부재(329)를 개재하여, 진공용기 지지체(317) 상에 설치되어 있다.
이러한 구성에 의하면, 바닥 진동이나 진공 용기(321)에서 전해지는 진공 펌프의 진동, 도어 밸브의 진동, 기판(W)이나 마스크(M)를 반송하는 반송 로봇(14)로부터 전해지는 진동이, 마스크 홀더 구동 기구(328)로 전해지는 것을 억제할 수 있다.
또한, 자기 부상식 구동 기구인 기판 홀더 구동 기구(322)를 구동했을 때의 반력이, 기판 홀더 구동 기구 지지체(315)를 통해 진공용기 지지체(317)로 전달되더라도, 진동 전달 억제 부재(329)에 의해 마스크 홀더(323)나 마스크 홀더(323)상의 위치 검지 기구(331)에 전달되는 것을, 억제할 수 있다. 이에 의해, 기판 홀더 구동 기구(322)의 제어에 있어서 주파수 특성상, 제어의 외란으로 될 수 있는 기판 홀더 구동 기구 지지체(315)나 마스크 홀더 지지체(316) 등의 공진 진동의 여기를 억제할 수 있기 때문에, 더 높은 주파수까지 안정하게 제어할 수 있게 되어, 결과적으로 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있다.
제2 실시형태
도 4는, 본 발명의 제2 실시형태에 따른 성막장치(411)의 진동 전달 억제 기구를 도시하는 모식도이다.
도 4에 도시된 성막장치(411)는, 기판 홀더 구동 기구(422)가 진공용기(421)의 외부에 설치되는 기계식 구동 기구이고, 마스크 홀더 구동 기구(428)가 진공용기(421)내에 설치되는 자기 부상식 구동 기구라는 점 및 진동 전달 억제 부재(429)가 진공용기 지지체(417)과 기판 홀더 구동 기구(422) 사이에 설치된다는 점에서, 제1 실시형태에 따른 성막장치(311)와 차이가 있다. 이하, 도 3에 도시된 성막장치(311)의 진동 전달 억제 기구와의 차이점을 중심으로, 본 실시형태에 따른 성막장치의 진동 전달 억제 기구에 대하여 설명한다.
도 4를 참조하면, 성막장치(411)는, 내부가 예컨대, 진공분위기로 유지되는 진공용기(421)를 갖는다. 진공용기(421)의 적어도 일부는, 그 외부에 설치되어 있는 진공용기 지지체(417)에 의하여 지지된다.
진공용기(421) 내에는, 기판(W)을 보유지지하는 기판 홀더(424)와 마스크(M)를 보유지지하는 마스크 홀더(미도시)가 설치되어 있다. 기판 홀더(424)는, 기판(W)을 흡착하여 보유지지하는 정전척이거나 또는 클램프 기구일 수 있다. 마스크 홀더는 마스크(M)를 흡착하여 보유지지하는 정전척일 수 있다.
마스크 홀더 구동 기구(428)는, 마스크 홀더(미도시)를 이동시켜 마스크(M)의 위치를 조정하기 위한 구동기구로서, 진공용기 지지체(417)로부터 연장하는 마스크 홀더 구동 기구 지지체(423)에 의해 진공용기(421)내에 지지된다. 본 실시 형태에 의하면, 마스크 홀더 구동 기구(428)는, 자기 부상 리니어 모터에 의해 비접촉식으로 마스크 홀더를 이동시켜 마스크(M)의 위치를 조정하기 위한 자기 부상식 구동 기구로서, 적어도 X 방향, Y 방향 및 θZ 방향, 바람직하게는 X 방향, Y 방향, Z 방향, θX 방향, θY 방향, θZ 방향의 6개의 방향으로 마스크(M)의 위치를 조정할 수 있다.
기판 홀더 구동 기구(422)는, 기판 홀더(424)를 이동시켜 기판(W)의 위치를 조정하기 위한 기계식 구동 기구로서, 적어도 X방향, Y방향, Z 방향 및 θZ 방향, 바람직하게는, X방향, Y방향, Z방향, θX 방향, θY 방향, θZ 방향의 6개의 방향에 있어서의 기판(W)의 위치를 조정할 수 있도록 구성된다. 기판 홀더 구동 기구(422)는, 진공용기(421)의 외부에 설치되며, 서보 모터, 구름식(rolling) 리니어 가이드 및 볼 스크류 등에 의해　구성된다.
기판 홀더 구동 기구(422)는, 진공용기 지지체(417)로부터 연장하여 설치된 기판 홀더 구동 기구 지지체(415)에 의하여 지지된다. 본 실시형태에서, 기판 홀더 구동 기구 지지체(415)는, 진공용기(421)의 상부 외측에 배치되어 기판 홀더 구동 기구(422)가 설치되어 있는 상부 기판 홀더 구동 기구 지지체(제1 지지부재, 415a)와, 진공용기 지지체(417)로부터 연장되어 상부 기판 홀더 구동 기구 지지체(415a)를 지지하는 수직 기판 홀더 구동 기구 지지체 (제2 지지부재, 415b)를 포함한다. 진동 전달을 억제하기 위해, 진공용기(421)와 상부 기판 홀더 구동 기구 지지체(415a)는, 도시하지 않은 신축 가능 부재를 통해 연결되어 있을 수 있다.
그리고 본 실시형태에 따른 성막장치(411)에서, 진공용기 지지체(417)과 기판 홀더 구동 기구(422) 사이에, 특히, 상부 기판 홀더 구동 기구 지지체(415a)와 수직 기판 홀더 구동 기구 지지체(415b) 사이에는, 기판 홀더 구동 기구(422)측으로의 진동 전달을 억제하기 위한 진동 전달 억제 부재(429)가 설치되어 있다. 진동 전달 억제 부재(429)를 진공용기 지지체(417)과 기판 홀더 구동 기구(422) 사이에서 기판 홀더 구동 기구(422)에 근접하게 설치할 수록, 기판 홀더 구동 기구(422)로 전달되는 진동을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 위치에 진동 전달 억제 부재(429)가 설치되어도 된다. 예컨대, 수직 기판 홀더 구동 기구 지지체(415b)와 진공용기 지지체(417) 사이에 진동 전달 억제 부재가 설치되어도 되며, 상부 기판 홀더 구동 기구 지지체(415a)와 수직 기판 홀더 구동 기구 지지체(415b) 사이 및 수직 기판 홀더 구동 기구 지지체(415b)와 진공용기 지지체(417) 사이 모두에 진동 전달 억제 부재가 설치되어도 된다.
본 실시형태에 따른 성막장치(411)는, 기판 홀더(424)에 설치되어, 마스크 홀더에 보유지지된 마스크(M)의 위치를 측정하기 위한 위치 검지 기구(431)를 더 포함할 수 있다. 위치 검지 기구(431)는, 예컨대, 레이저 간섭 길이 측정 기구, 정전 용량 센서, 비접촉 변위계, 또는 광학식 스케일을 선택할 수 있다.
도4에 도시하지 않았지만, 본 실시형태에 따른 성막장치(411)에 있어서, 기판(W) 및 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위한 얼라인먼트용 카메라 유닛이 마스크 홀더 구동기구 지지체(423)에 설치될 수 있다.
본 실시형태에 의하면, 기판(W)의 위치를 조정하는 기계식 구동 기구인 기판 홀더 구동 기구(422)와 진공용기 지지체(417)와의 사이에는, 진동 전달 억제 부재(429)가 설치되어 있다. 그리고 마스크 홀더 구동 기구(428)는, 마스크(M) 또는 마스크 홀더와 접촉하지 않고 마스크(M)의 위치를 조정하는 자기 부상식 구동 기구로 구성된다.
이에 의하면, 바닥 진동이나 진공 용기(421)로부터 전해지는 진공 펌프의 진동, 도어 밸브의 진동, 기판(W)이나 마스크(M)를 반송하는 반송 로봇(14)로부터 전달되는 진동이, 기판 홀더 구동 기구(422)에 전해지는 것을 억제할 수 있다.
또한, 자기 부상식 구동 기구인 마스크 홀더 구동 기구(428)를 구동했을 때의 반력이, 마스크 홀더 구동 기구 지지체(423)를 통해 진공용기 지지체(417)로 전달되더라도, 진동 전달 억제 부재(429)에 의해 진동이 기판 홀더(424)나 기판 홀더(424)에 설치된 위치 검지 기구(431)에 전달되는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 마스크 홀더 구동 기구(428)의 제어에 있어서 주파수 특성상 제어의 외란으로 될 수 있는, 기판 홀더 구동 기구 지지체(415)와 마스크 홀더 구동 기구 지지체(423)의 공진 진동의 여기를 억제할 수 있기 때문에, 더 높은 주파수까지 안정하게 제어할 수 있게 되어, 결과적으로 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있다.
11, 311, 411: 성막장치
21, 321, 421: 진공용기
22, 322, 422: 기판 홀더 구동 기구
23, 323: 마스크 홀더
423: 마스크 홀더 구동 기구 지지체
24, 424: 기판 홀더
25, 325, 425: 성막원
26: 자력인가수단
27, 327: 얼라인먼트용 카메라 유닛
28, 328, 428: 마스크 홀더 구동 기구
29, 329, 429: 진동 전달 억제 부재
215, 315, 415: 기판 홀더 구동 기구 지지체
217, 317, 417: 진공용기 지지체

Claims (12)

  1. 용기와,
    상기 용기의 외부에 설치되며, 상기 용기의 적어도 일부를 지지하는 용기 지지체와,
    상기 용기 내에 설치되어, 기판을 보유지지하는 기판 홀더와,
    상기 용기 내에 설치되어, 마스크를 지지하는 마스크 홀더와,
    상기 기판 홀더를 구동하는 기판 홀더 구동 기구와,
    상기 마스크 홀더를 구동하는 마스크 홀더 구동 기구와,
    상기 용기 지지체와 상기 기판 홀더 구동 기구와의 사이와 상기 용기 지지체와 상기 마스크 홀더 구동 기구와의 사이 중 적어도 한쪽에 설치된 진동 전달 억제 부재를,
    포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판 홀더 구동 기구는, 상기 용기내에 설치되고,
    상기 마스크 홀더 구동기구는, 상기 용기의 외부에 설치되며,
    상기 진동 전달 억제 부재는, 상기 용기 지지체와 상기 마스크 홀더 구동 기구 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 마스크 홀더에 설치되며, 상기 기판 홀더에 보유지지된 기판의 위치를 측정하기 위한 위치 검지 기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 용기 지지체로부터 연장하여, 상기 기판 홀더 구동 기구를 지지하도록 구성되는 기판 홀더 구동 기구 지지체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 기판 홀더 구동 기구 지지체에 설치되며, 상기 기판 홀더에 보유지지된 기판과 상기 마스크 홀더에 보유지지된 마스크간의 상대적 위치 어긋남을 측정하기 위한 얼라인먼트 카메라 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 기판 홀더 구동 기구는, 자기 부상식 구동 기구이며,
    상기 마스크 홀더 구동 기구는 기계식 구동 기구인 것을 특징으로 하는 성막장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 기판 홀더 구동 기구는, 상기 용기의 외부에 설치되고,
    상기 마스크 홀더 구동 기구는, 상기 용기의 내부에 설치되며,
    상기 진동 전달 억제 부재는, 상기 용기 지지체와 상기 기판 홀더 구동 기구 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 기판 홀더에 설치되어, 상기 마스크 홀더에 보유지지된 마스크의 위치를 측정하기 위한 위치 검지 기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 용기 지지체로부터 연장하여, 상기 기판 홀더 구동 기구를 지지하도록 구성된 기판 홀더 구동 기구 지지체와,
    상기 용기 지지체로부터 연장하여, 상기 마스크 홀더 구동 기구를 지지하도록 구성된 마스크 홀더 구동 기구 지지체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 기판 홀더 구동 기구 지지체는, 상기 기판 홀더 구동 기구가 설치되는 제1 지지부재와, 상기 용기 지지체로부터 연장되어 상기 제1 지지부재를 지지하도록 구성된 제2 지지부재를 포함하고,
    상기 진동 전달 억제 부재는, 상기 제1 지지 부재와 상기 제2 지지 부재 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  11. 제8항에 있어서, 상기 마스크 홀더 구동 기구 지지체에 설치되며, 상기 기판 홀더에 보유지지된 기판과 상기 마스크 홀더에 보유지지된 마스크간의 상대적 위치 어긋남을 측정하기 위한 얼라인먼트 카메라 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 진동 전달 억제 부재는, 액티브 제진 장치인 것을 특징으로 하는 성막장치.

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