KR20210052527A - Solder paste application method and mask - Google Patents

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KR20210052527A
KR20210052527A KR1020217009697A KR20217009697A KR20210052527A KR 20210052527 A KR20210052527 A KR 20210052527A KR 1020217009697 A KR1020217009697 A KR 1020217009697A KR 20217009697 A KR20217009697 A KR 20217009697A KR 20210052527 A KR20210052527 A KR 20210052527A
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겐타 이노우에
아이 아사미
가즈요리 다카기
다츠야 스기우라
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센주긴조쿠고교 가부시키가이샤
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Abstract

도포 대상물(B)로의 솔더 페이스트의 도포 방법은, 도포 대상물(B)에서의 접합 영역(P) 내에 비도포 영역(N)을 형성하도록, 상기 접합 영역(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역(T)에 솔더 페이스트를 도포하는 공정을 구비하고, 상기 도포 영역(T)은, 상기 접합 영역(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격을 두고 배치된 복수의 주변 영역(A1)을 가진다.The method of applying the solder paste to the object to be applied (B) is an application region in which at least a part is located in the joint region (P) so as to form an uncoated region (N) in the joint region (P) of the object (B). (T) is provided with a step of applying a solder paste, wherein the application region (T) is a plurality of peripheral regions (A1) arranged at intervals in the circumferential direction around the center (O) of the bonding region (P) Have.

Description

솔더 페이스트의 도포 방법 및 마스크Solder paste application method and mask

본 발명은, 솔더 페이스트의 도포 방법 및 마스크에 관한 것이다. The present invention relates to a method and a mask for applying a solder paste.

본 출원은, 2018년 9월 5일에 일본에 출원된 특원 제2018-166395호에 근거하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2018-166395 for which it applied to Japan on September 5, 2018, and uses the content here.

 종래, LGA(Land Grid Array)나 BGA(Ball Grid Array) 등의 전자 부품을, 프린트 기판 등의 표면에 실장하는 표면 실장(SMT:Surface Mount Technology)에는, 솔더 페이스트가 넓게 이용되어 있다. 솔더 페이스트는, 플럭스에 땜납 분말을 혼합하여 제작되어 있다. 표면 실장에서는, 먼저 프린트 기판의 패드(전극)가 마련되어 있는 면에, 솔더 페이스트를 도포한다. 이 때, 솔더 페이스트는 상기 패드에 도포되고, 그 도포 범위는 패드의 영역과 동등하다. 다음으로, 프린트 기판의 패드와 전자 부품의 랜드(전극)가 서로 대향하도록, 프린트 기판의 표면에 전자 부품을 재치(載置, 올려 놓음)한다. 이 때, 솔더 페이스트는 프린트 기판과 전자 부품의 양 전극 사이에 위치하고 있다. 마지막으로, 전자 부품이 재치된 프린트 기판을 리플로우(reflow) 로(爐)에서 가열(리플로우)하고, 솔더 페이스트의 땜납 분말을 용융시켜 서로 결합시키고, 다시 고화(固化)시킴으로써 양 전극 사이를 전기적으로 접속하여, 표면 실장이 완료된다. 적절한 전기적 접속을 확보하기 위해서, 양 전극 사이를 접속하는 땜납의 저항값은 소정의 값이하인 것이 필요하다. 또, 표면 실장 후의 프린트 기판에 충격 등이 가해졌을 경우에도, 파손되지 않고 적절한 전기적 접속을 유지하기 위해, 땜납은 소정의 강도를 가지는 것이 요구된다.Conventionally, a solder paste is widely used for surface mounting (SMT: Surface Mount Technology) in which electronic components such as LGA (Land grid array) and BGA (Ball grid grid array) are mounted on the surface of a printed circuit board or the like. The solder paste is produced by mixing solder powder with the flux. In surface mounting, first, a solder paste is applied to the surface of the printed circuit board on which the pads (electrodes) are provided. At this time, the solder paste is applied to the pad, and the application range is equal to that of the pad. Next, the electronic component is placed on the surface of the printed circuit board so that the pad of the printed circuit board and the land (electrode) of the electronic component face each other. At this time, the solder paste is located between the printed circuit board and both electrodes of the electronic component. Finally, the printed circuit board on which the electronic components are placed is heated (reflowed) in a reflow furnace, and the solder powder of the solder paste is melted and bonded to each other. By connecting electrically, the surface mounting is completed. In order to ensure an appropriate electrical connection, it is necessary that the resistance value of the solder connecting the two electrodes is equal to or less than a predetermined value. Further, even when an impact or the like is applied to the printed circuit board after surface mounting, the solder is required to have a predetermined strength in order to maintain an appropriate electrical connection without being damaged.

솔더 페이스트를 프린트 기판의 표면에 도포하기 위해서, 예를 들면, 특허 문헌 1에 나타나는 마스크를 이용한 스크린 인쇄가 이용되고 있다.In order to apply a solder paste to the surface of a printed circuit board, for example, screen printing using a mask shown in Patent Document 1 is used.

특허 문헌 1 : 일본 공개특허 제2001-77521호 공보Patent Document 1: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2001-77521

리플로우 공정 후의 양 전극 사이를 접속하는 땜납에는, 이른바 보이드가 포함되는 경우가 있다. 보이드는, 땜납 내에 형성된 공극으로서, 이 공극 내에는 플럭스의 수지 성분이나, 플럭스의 용제 등이 기화하여 이루어지는 가스가 충전되어 있다. 보이드가 형성되면 양 전극 사이의 전기 저항이 상승하여, 적절한 전기적 접속을 확보할 수 없게 될 가능성이 있다. 또, 보이드는 땜납의 강도를 저하시키는 원인이 되어, 충격 등이 가해졌을 경우에 양 전극 사이의 전기적 접속을 유지할 수 없게 될 가능성이 있다. 또한 비교적 작은 보이드는 이러한 문제를 일으키지 않는 경우가 있고, 상기와 같은 문제를 일으키는 보이드는 비교적 큰 보이드이기 때문에, 표면 실장의 분야에서, 발생하는 보이드의 크기를 억제하는 것이 요구되고 있다.A so-called void may be contained in the solder connecting the two electrodes after the reflow process. The voids are voids formed in the solder, and the voids are filled with a gas formed by vaporization of a resin component of the flux, a solvent of the flux, or the like. When a void is formed, the electrical resistance between both electrodes increases, and there is a possibility that proper electrical connection cannot be secured. In addition, voids cause a decrease in the strength of the solder, and there is a possibility that the electrical connection between the two electrodes cannot be maintained when an impact or the like is applied. Further, relatively small voids sometimes do not cause such problems, and since the voids causing the above problems are relatively large voids, in the field of surface mounting, it is required to suppress the size of the generated voids.

본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 표면 실장에서 땜납 내에 보이드가 형성되었을 경우에도, 그 보이드의 크기를 억제할 수 있는 솔더 페이스트의 도포 방법 및 마스크를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a solder paste coating method and a mask capable of suppressing the size of the void even when voids are formed in the solder during surface mounting.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해서, 이하의 수단을 채용한다.In order to solve the said subject, this invention employs the following means.

본 발명의 제1 태양은, 도포 대상물로의 솔더 페이스트의 도포 방법으로서, 도포 대상물에서의 접합 영역 내에 비도포 영역을 형성하도록, 상기 접합 영역 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역에 솔더 페이스트를 도포하는 공정을 구비하고, 상기 도포 영역은, 상기 접합 영역의 중심 주위의 둘레 방향으로 간격을 두고 배치된 복수의 주변 영역을 가진다.A first aspect of the present invention is a method of applying a solder paste to an object to be applied, wherein a solder paste is applied to an application region in which at least a part is located in the joint region so as to form an uncoated region within the joint region of the object to be applied. A step is provided, and the application region has a plurality of peripheral regions arranged at intervals in the circumferential direction around the center of the bonding region.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 상기 접합 영역의 중심을 사이에 두고 서로 대향하여 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions may be disposed to face each other with the center of the bonding region interposed therebetween.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 상기 복수의 주변 영역의 대향 방향과 교차하는 방향으로 연장되어 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions may be disposed to extend in a direction crossing the opposite direction of the plurality of peripheral regions.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역 사이의 틈새는, 상기 접합 영역의 최대 지름의 30%이상 70%이하라도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the gap between the plurality of peripheral regions may be 30% or more and 70% or less of the maximum diameter of the bonding region.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역 사이의 틈새는, 상기 복수의 주변 영역의 대향 방향에서의 각 주변 영역의 폭의 85.7%이상 200%이하라도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the gap between the plurality of peripheral regions may be 85.7% or more and 200% or less of the width of each peripheral region in the opposite direction of the plurality of peripheral regions.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역의 수가, 2 내지 6이라도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the number of the plurality of peripheral regions may be 2 to 6.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 상기 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions may be arranged at equal intervals in the circumferential direction.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 상기 둘레 방향의 길이가 다른 제1 영역 및 제2 영역을 가지고, 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역은, 상기 둘레 방향으로 교호로 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions have a first region and a second region having different lengths in the circumferential direction, and the first region and the second region alternate in the circumferential direction. It is okay to be placed as.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 둘레 방향으로 서로 이웃하는 상기 복수의 주변 영역의 대향변은, 서로 평행하게 있어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, opposite sides of the plurality of peripheral regions adjacent to each other in the circumferential direction may be parallel to each other.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 도포 영역은, 상기 복수의 주변 영역의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역을 더 가져도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the application region may further have a central region located radially inside the plurality of peripheral regions.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 중앙 영역과 각 주변 영역과의 대향변은, 서로 평행하게 있어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the opposite sides of the central region and each peripheral region may be parallel to each other.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 중앙 영역의 면적은, 각 주변 영역의 면적의 44.4%이상 278%이하라도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the area of the central region may be 44.4% or more and 278% or less of the area of each peripheral region.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 일부에서 서로 접하게 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions may be partially disposed to be in contact with each other.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 각 주변 영역의 상기 둘레 방향의 폭이, 상기 접합 영역의 중심으로부터 지름 방향 외측으로 향함에 따라 점차 확대하고 있어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the width of each peripheral region in the circumferential direction may gradually increase as it goes radially outward from the center of the bonding region.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 접합 영역의 중심으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 개구하는, 상기 복수의 주변 영역의 사이의 틈새의, 상기 접합 영역의 전체 둘레에 대한 비율이, 11.5%이상이라도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, even if the ratio of the gap between the plurality of peripheral regions opened radially outward from the center of the joint region to the total circumference of the joint region is 11.5% or more. Okay.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 상기 접합 영역의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions may be disposed so as to overlap the outer edge of the bonding region.

본 발명의 상기 제1 태양에 있어서, 상기 복수의 주변 영역은, 상기 접합 영역 내에 배치되어도 괜찮다.In the first aspect of the present invention, the plurality of peripheral regions may be disposed in the bonding region.

본 발명의 제2 태양은, 도포 대상물로의 솔더 페이스트의 도포 방법으로서, 도포 대상물에서의 접합 영역 내에 비도포 영역을 형성하도록, 상기 접합 영역 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역에 솔더 페이스트를 도포하는 공정을 구비하고, 상기 도포 영역은, 상기 접합 영역의 중심을 포함하고 또한 일방향으로 연장되어 배치된 연재(延在) 영역을 가진다.A second aspect of the present invention is a method of applying a solder paste to an object to be applied, wherein a solder paste is applied to an application region in which at least a part is located in the joint region so as to form a non-coated region within the joint region of the object to be applied. A step is provided, and the application region includes a center of the bonding region and has an extended region disposed extending in one direction.

본 발명의 상기 제2 태양에 있어서, 상기 연재 영역은, 상기 접합 영역의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어도 괜찮다.In the second aspect of the present invention, the extended region may be disposed so as to overlap the outer edge of the bonding region.

본 발명의 상기 제2 태양에 있어서, 상기 연재 영역은, 상기 접합 영역 내에 배치되어도 괜찮다.In the second aspect of the present invention, the extending region may be disposed within the bonding region.

본 발명의 상기 제2 태양에 있어서, 상기 도포 영역은, 상기 연재 영역의 긴 길이 방향에 교차하는 방향에서 상기 연재 영역을 사이에 두고 배치된 복수의 측방(側方) 영역을 더 가져도 괜찮다.In the second aspect of the present invention, the application region may further include a plurality of lateral regions disposed across the extending region in a direction intersecting the longitudinal direction of the extending region.

본 발명의 상기 제2 태양에 있어서, 상기 연재 영역과 각 측방 영역과의 대향변은, 서로 평행하게 있어도 괜찮다.In the second aspect of the present invention, the opposite sides of the extending region and each lateral region may be parallel to each other.

본 발명의 상기 제2 태양에 있어서, 상기 복수의 측방 영역은, 상기 접합 영역의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어도 괜찮다.In the second aspect of the present invention, the plurality of side regions may be disposed so as to overlap the outer edge of the bonding region.

본 발명의 상기 제2 태양에 있어서, 상기 복수의 측방 영역은, 상기 접합 영역 내에 배치되어도 괜찮다.In the second aspect of the present invention, the plurality of side regions may be disposed in the bonding region.

본 발명의 제3 태양는, 상기 제1 또는 제2 태양의 솔더 페이스트의 도포 방법에 이용되는 마스크로서, 상기 도포 영역에 상당하는 위치에 개구가 형성되어 있다.A third aspect of the present invention is a mask used in the method of applying a solder paste according to the first or second aspect, and an opening is formed at a position corresponding to the application region.

본 발명의 상기 태양에 의하면, 표면 실장에서 땜납 내에 보이드가 형성되었을 경우라도, 그 보이드의 크기를 억제할 수 있다. 이 때문에, 기판 등의 도포 대상물과 전자 부품의 양 전극 사이의 적절한 전기적 접속을 확보할 수 있고, 또한, 양 전극 사이를 접속하는 땜납의 강도 저하를 방지할 수 있으므로, 충격에 강한 표면 실장 후 기판 등을 제공할 수 있다.According to the above aspect of the present invention, even when a void is formed in the solder in surface mounting, the size of the void can be suppressed. For this reason, it is possible to secure an appropriate electrical connection between the object to be coated such as a substrate and both electrodes of the electronic component, and to prevent a decrease in the strength of the solder connecting the two electrodes. Therefore, the substrate after surface mounting is resistant to impact. Etc. can be provided.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 땜납 인쇄 장치를 나타내는 개략도이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 도포 대상물인 기판의 평면도이다.
도 2b는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 스크린 인쇄에 이용되는 마스크의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 솔더 페이스트의 도포 방법의 각 공정을 나타내는 개략도이다.
도 4는 표면 실장에서의, 솔더 페이스트의 도포 공정 이후의 공정을 나타내는 개략도이다.
도 5는 실시예 1에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 6은 실시예 2에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 7은 실시예 3에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 8은 실시예 4에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 9는 실시예 5에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 10은 실시예 6에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 11은 실시예 7에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 12는 실시예 8에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 13은 실시예 9에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 14는 실시예 10에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 15는 실시예 11에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 16은 실시예 12에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 17은 실시예 13에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 18은 실시예 14에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 19는 실시예 15에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 20은 실시예 16에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 21은 실시예 17에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 22는 실시예 18에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 23은 실시예 19에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 24는 실시예 20에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 25는 실시예 21에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 26은 실시예 22에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 27은 실시예 23에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 28은 실시예 24에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 29는 실시예 25에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
도 30은 실시예 26에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 나타내는 평면도이다.
1 is a schematic diagram showing a solder printing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2A is a plan view of a substrate as an object to be applied according to an embodiment of the present invention.
2B is a plan view of a mask used for screen printing according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram showing each step of a method of applying a solder paste according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic diagram showing a step after a solder paste application step in surface mounting.
5 is a plan view showing a solder paste application area in Example 1. FIG.
6 is a plan view showing a solder paste application area in Example 2. FIG.
7 is a plan view showing a solder paste application area in Example 3. FIG.
8 is a plan view showing a solder paste application area in Example 4. FIG.
9 is a plan view showing a solder paste application area in Example 5. FIG.
10 is a plan view showing a solder paste application area in Example 6. FIG.
11 is a plan view showing a solder paste application area in Example 7. FIG.
12 is a plan view showing a solder paste application area in Example 8. FIG.
13 is a plan view showing a solder paste application area in Example 9. FIG.
14 is a plan view showing a solder paste application area in Example 10;
15 is a plan view showing a solder paste application area in Example 11. FIG.
16 is a plan view showing a solder paste application area in Example 12;
17 is a plan view showing a solder paste application area in Example 13. FIG.
18 is a plan view showing a solder paste application area in Example 14;
19 is a plan view showing a solder paste application area in Example 15;
20 is a plan view showing a solder paste application area in Example 16;
21 is a plan view showing a solder paste application area in Example 17;
22 is a plan view showing a solder paste application area in Example 18;
23 is a plan view showing a solder paste application area in Example 19;
24 is a plan view showing a solder paste application area in Example 20;
25 is a plan view showing a solder paste application area in Example 21;
26 is a plan view showing a solder paste application area in Example 22;
27 is a plan view showing a solder paste application region in Example 23;
28 is a plan view showing a solder paste application region in Example 24;
29 is a plan view showing a solder paste application area in Example 25;
30 is a plan view showing a solder paste application area in Example 26;

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 땜납 인쇄 장치 및 솔더 페이스트의 도포 방법을 설명한다.Hereinafter, a solder printing apparatus and a method of applying a solder paste according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 실시 형태의 땜납 인쇄 장치(1)는, 마스크(M)를 이용하는 스크린 인쇄 장치이다. 도 1에 나타내는 것과 같이, 땜납 인쇄 장치(1)는, 솔더 페이스트(S)의 도포 대상물인 기판(B)을 지지하는 기판 지지부(2)와, 기판 지지부(2)의 연직 상방(上方)에 배치되는 인쇄부(3)와, 기판 지지부(2) 및 인쇄부(3)를 수용하는 하우징(4)을 구비하고 있다. 마스크(M)는, 하우징(4) 등에 고정된 마스크 지지부(도시하지 않음)에 의해서 하우징(4) 내의 소정의 위치에 유지되어 있다.The solder printing apparatus 1 of the present embodiment is a screen printing apparatus using a mask M. As shown in FIG. 1, the solder printing apparatus 1 is positioned vertically above the substrate support 2 and the substrate B as the object to which the solder paste S is applied. It is provided with a printing unit 3 to be arranged, a substrate support 2 and a housing 4 accommodating the printing unit 3. The mask M is held at a predetermined position in the housing 4 by a mask support portion (not shown) fixed to the housing 4 or the like.

기판 지지부(2)는, 기판(B)의 실장면이 연직 상방을 향하도록 연직 하방으로부터 지지하는 스테이지(21)와, 스테이지(21)를 수평 방향 및 연직 방향으로 이동시킬 수 있음과 아울러 연직 방향으로 연장되는 축 둘레로 회전시킬 수 있는 스테이지 이동부(22)를 구비하고 있다. 스테이지(21)에는, 기판(B)을 유지하기 위한 클램프 부재(23)가 마련되어 있다. 또, 땜납 인쇄 장치(1)에는, 기판 지지부(2)와 하우징(4)의 외부와의 사이에 기판(B)을 반입 및 반출하는 기판 반송부(도시하지 않음)가 마련되어 있다.The substrate support 2 can move the stage 21 and the stage 21 supported from vertically downward so that the mounting surface of the substrate B faces vertically upward, while being able to move the stage 21 in a horizontal direction and a vertical direction. It is provided with a stage moving part 22 that can be rotated around an axis extending in a direction. The stage 21 is provided with a clamp member 23 for holding the substrate B. Further, the solder printing apparatus 1 is provided with a substrate transfer unit (not shown) for carrying in and out of the substrate B between the substrate support 2 and the outside of the housing 4.

인쇄부(3)는, 솔더 페이스트(S)를 마스크(M)의 표면(상면)에서 이동시키기 위한 스퀴지(31, squeegee)와, 스퀴지(31)를 승강시킬 수 있는 연직 이동 장치(32)와, 연직 이동 장치(32)를 수평 이동시킬 수 있는 수평 이동 장치(33)를 구비하고 있다. 스퀴지(31)는, 마스크(M)의 표면에 접촉하면서 수평 방향의 +X방향으로 이동함으로써, 마스크(M) 상에 공급된 솔더 페이스트(S)를 눌러 퍼지게 위한 부재이다. 스퀴지(31)는, 연직 이동 장치(32)에 연결되어 있다. 스퀴지(31)는, 금속, 수지, 고무 등의 단일의 소재로 구성된 판부재라도 괜찮고, 금속판 등에서의 마스크(M)와 접촉하는 부위가 수지나 고무에 의해서 피복된 판부재라도 괜찮다. 스퀴지(31)는, +X방향과는 반대의 -X방향을 향함에 따라 연직 하방으로 향하도록 경사져 배치되어 있다. 이 스퀴지(31)의 경사 각도는 수동 또는 자동으로 조정 가능해도 괜찮다.The printing unit 3 includes a squeegee 31 for moving the solder paste S from the surface (upper surface) of the mask M, a vertical moving device 32 capable of lifting the squeegee 31, and , A horizontal movement device 33 capable of horizontally moving the vertical movement device 32 is provided. The squeegee 31 is a member for pressing and spreading the solder paste S supplied on the mask M by moving in the +X direction in the horizontal direction while contacting the surface of the mask M. The squeegee 31 is connected to the vertical movement device 32. The squeegee 31 may be a plate member made of a single material such as metal, resin, rubber, or the like, or may be a plate member in which a portion of a metal plate or the like in contact with the mask M is covered with resin or rubber. The squeegee 31 is disposed so as to be inclined vertically downward toward the -X direction opposite to the +X direction. The inclination angle of this squeegee 31 may be manually or automatically adjustable.

연직 이동 장치(32)는, 수평 이동 장치(33)에 지지되어 있고, 예를 들면 볼 나사를 포함하여 구성되어 있다. 연직 이동 장치(32)는, 스퀴지(31)의 하단을 마스크(M)의 표면에 소정의 힘으로 압압(押壓)시킬 수 있다. 수평 이동 장치(33)는 하우징(4)에 고정되어 있고, 연직 이동 장치(32)를 수평 방향으로 가이드하는 직동(直動) 가이드(34)와, 직동 가이드(34)와 평행하게 마련된 볼 나사(도시하지 않음)를 회전시키는 모터(35)를 구비하고 있다. 수평 이동 장치(33)는, 모터(35)의 구동에 의해서, 상기 볼 나사에 너트 부재를 매개로 하여 연결된 연직 이동 장치(32)를 수평 방향으로 이동시킬 수 있다. 또, 수평 이동 장치(33)는, 연직 이동 장치(32)에 의해서 스퀴지(31)가 마스크(M)를 하방으로 향하여 압압하고 있는 상태에서, 연직 이동 장치(32)를 수평 방향으로 이동시킴으로써, 스퀴지(31)가 마스크(M)를 압압하면서 수평 방향으로 이동시킬 수 있다. 또, 땜납 인쇄 장치(1)에는, 마스크(M) 상에 솔더 페이스트(S)를 공급하는 디스펜서(도시하지 않음)가 마련되어 있다.The vertical movement device 32 is supported by the horizontal movement device 33, and is comprised including a ball screw, for example. The vertical movement device 32 can press the lower end of the squeegee 31 against the surface of the mask M with a predetermined force. The horizontal movement device 33 is fixed to the housing 4, a linear guide 34 for guiding the vertical movement device 32 in the horizontal direction, and a ball screw provided parallel to the linear guide 34 A motor 35 for rotating (not shown) is provided. The horizontal moving device 33 can move the vertical moving device 32 connected to the ball screw via a nut member in the horizontal direction by driving the motor 35. Further, the horizontal movement device 33 moves the vertical movement device 32 in the horizontal direction while the squeegee 31 presses the mask M downward by the vertical movement device 32, The squeegee 31 may be moved in the horizontal direction while pressing the mask M. In addition, the solder printing apparatus 1 is provided with a dispenser (not shown) for supplying the solder paste S onto the mask M.

하우징(4)은, 상기 마스크 지지부나 인쇄부(3)를 지지하기에 충분한 강성을 구비하고 있다. 하우징(4)은, 그 내부를 기밀 가능한 구조로 해도 괜찮다. 또, 솔더 페이스트(S)의 도포를 감압 분위기하에서 행하는 경우는, 하우징(4)에 진공 펌프 등의 배기 장치 및 대기 개방 밸브가 마련되어 있어도 괜찮다.The housing 4 has sufficient rigidity to support the mask support portion or the printing portion 3. The housing 4 may have a structure in which the interior can be airtight. In addition, when applying the solder paste S in a reduced pressure atmosphere, an exhaust device such as a vacuum pump and an air release valve may be provided in the housing 4.

도 2a는 기판(B)의 평면도이며, 도 2b는 마스크(M)의 평면도이다. 또한 본 실시 형태에서 「평면도」란, 기판(B)의 실장면 및 마스크(M)의 상면에 수직인 방향에서 본 도면을 말한다.2A is a plan view of the substrate B, and FIG. 2B is a plan view of the mask M. In the present embodiment, the "plan view" refers to a view viewed from a direction perpendicular to the mounting surface of the substrate B and the upper surface of the mask M.

도 2a에 나타내는 것과 같이, 본 실시 형태에서 솔더 페이스트(S)가 도포되는 기판(B)은, 경질의 판 모양 기재(基材)로 이루어지는 프린트 기판으로서, 적어도 일방의 판면에 복수의 패드(P)(전극, 접합 영역)가 배치되어 있다. 이 일방의 판면이, 후술하는 전자 부품(E)이 실장되는 실장면이다. 패드(P)의 재질로서는, 동, 금, 은 등을 들 수 있다. 기판(B)의 실장면 중, 복수의 패드(P) 이외의 영역에는, 용융된 땜납을 튕기는 성질을 가지는 솔더 레지스트가 도포되어 있다.As shown in Fig. 2A, the substrate B to which the solder paste S is applied in the present embodiment is a printed substrate made of a rigid plate-like substrate, and a plurality of pads P are formed on at least one plate surface. ) (Electrodes, junction regions) are arranged. This one plate surface is a mounting surface on which an electronic component E, which will be described later, is mounted. As a material of the pad P, copper, gold, silver, etc. are mentioned. A solder resist having a property of repelling molten solder is applied to regions other than the plurality of pads P of the mounting surface of the substrate B.

도 2b에 나타내는 것과 같이, 본 실시 형태에서 이용되는 마스크(M)는, 스테인리스 등의 금속판으로 이루어지고, 두께 방향으로 관통하는 복수의 개구(H)를 가지고 있다. 마스크(M)의 두께는 예를 들면 30㎛ 내지 200㎛이지만, 기판(B) 상에 어느 정도의 두께의 솔더 페이스트(S)를 도포하는지에 따라 적절히 변경해도 괜찮다. 종래의 스크린 인쇄의 마스크에서는, 기판의 패드에 대향하는 위치에, 해당 패드와 동등의 영역에서 개구가 형성되어 있지만, 본 실시 형태의 개구(H)는, 기판(B)의 패드(P)와는 다른 평면시 형상을 가지고 있다. 즉 본 실시 형태의 마스크(M)에는, 기판(B)에서의 패드(P) 내에 비도포 영역을 형성하도록, 패드(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역에 솔더 페이스트(S)를 도포하기 위한 개구(H)가 형성되어 있다. 환언하면, 해당 도포 영역에 상당하는 위치에 동등의 형상으로 개구(H)가 형성되어 있다. 본 실시 형태의 마스크(M)에서의 개구(H)의 형상, 즉 기판(B)에 도포되는 솔더 페이스트(S)의 도포 영역의 형상은, 후술하는 실시예 1~26에서 상세하게 설명한다. 도 2b에 나타내는 마스크(M)에서는, 1개의 패드(P)에 대해서 2개의 직사각형 모양의 개구(H)가 형성되어 있고, 이들 개구(H)는 패드(P)의 중심을 사이에 두고 서로 대향하여 배치되어 있다.As shown in Fig. 2B, the mask M used in the present embodiment is made of a metal plate such as stainless steel, and has a plurality of openings H penetrating in the thickness direction. The thickness of the mask M is, for example, 30 µm to 200 µm, but it may be appropriately changed depending on how much of the solder paste S is applied on the substrate B. In a conventional screen printing mask, an opening is formed in a region equal to that of the pad at a position opposite to the pad of the substrate, but the opening H of the present embodiment is different from the pad P of the substrate B. It has a different plan view shape. That is, to the mask M of the present embodiment, a solder paste S is applied to the coated area in which at least a part is located in the pad P so as to form an uncoated area in the pad P of the substrate B. An opening (H) is formed for it. In other words, the opening H is formed in an equivalent shape at a position corresponding to the application region. The shape of the opening H in the mask M of the present embodiment, that is, the shape of a region where the solder paste S applied to the substrate B is applied, will be described in detail in Examples 1 to 26 described later. In the mask M shown in FIG. 2B, two rectangular openings H are formed for one pad P, and these openings H are opposed to each other with the center of the pad P interposed therebetween. It is arranged facing.

본 실시 형태에서 사용되는 솔더 페이스트(S)에는 특별히 제한은 없고, 도포 분위기, 온도, 마스크(M)의 개구 크기 및 형상 등 사용의 태양에 따라 적절하게 선택해도 괜찮다. 앞서 설명한 것과 같이, 솔더 페이스트는 플럭스에 땜납 분말을 혼합하여 제작된다. 땜납 분말에는, 동, 주석, 은, 및 그들 합금 등이 이용되고, 땜납 분말의 형상은 구형 및 부정형 중 어느 것이라도 괜찮다. 플럭스는, 예를 들면, 로진 등의 수지, 점도 등을 조정하기 위한 용제, 전극의 표면을 청정화하는 활성제, 그리고 점도, 점착성 및 틱소트로피(Thixotropie)성 등을 조정하는 틱소트로피제를 포함하고, 이들 함유량은 사용의 태양에 따라 적절히 조정해도 괜찮다.The solder paste S used in this embodiment is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the mode of use, such as the application atmosphere, temperature, and the opening size and shape of the mask M. As described above, the solder paste is produced by mixing the solder powder with the flux. As the solder powder, copper, tin, silver, and alloys thereof are used, and the shape of the solder powder may be either spherical or irregular. The flux includes, for example, a resin such as rosin, a solvent for adjusting viscosity, etc., an activator for cleaning the surface of the electrode, and a thixotropic agent for adjusting viscosity, adhesion and thixotropie properties, etc., These contents may be appropriately adjusted according to the mode of use.

이어서, 도 3을 참조하여 본 실시 형태의 땜납 인쇄 장치(1)를 이용한 솔더 페이스트(S)의 도포 방법을 설명한다. 또한 도 3에서는, 스퀴지(31) 이외의 땜납 인쇄 장치(1)의 구성을 생략하고 있다.Next, a method of applying the solder paste S using the solder printing apparatus 1 of the present embodiment will be described with reference to FIG. 3. In FIG. 3, the configuration of the solder printing apparatus 1 other than the squeegee 31 is omitted.

상기 기판 반송부에 의해서 스테이지(21) 상에 기판(B)이 재치되고, 클램프 부재(23)에 의해서 기판(B)이 스테이지(21)에 유지된다. 이어서 스테이지 이동부(22)의 동작에 의해서, 고정된 마스크(M)에 대한 기판(B)의 수평 위치 및 연직 방향으로 연장되는 축 둘레의 회전 위치가 조정되고, 그 후 스테이지 이동부(22)가 도 3의 (a)에 나타내는 상태로부터 스테이지(21)를 상승시켜, 도 3의 (b)에 나타내는 것과 같이 마스크(M)의 하면에 기판(B)의 상면(실장면)을 밀착시킨다. 이 때, 스테이지 이동부(22)에 의한 기판(B)의 수평 위치 및 회전 위치의 조정은 완료되어 있으므로, 기판(B)의 패드(P)에 대해서 마스크(M)의 개구(H)는 적절한 위치에 배치되어 있다. 즉, 기판(B)의 패드(P)가 마련된 면과 마스크(M)가 접했을 때에, 마스크(M) 중, 기판(B)에 솔더 페이스트(S)가 도포되는 영역(도포 영역)과 상당(대향)하는 위치에, 개구(H)가 형성되어 있다.The substrate B is mounted on the stage 21 by the substrate transfer unit, and the substrate B is held on the stage 21 by the clamp member 23. Subsequently, by the operation of the stage moving part 22, the horizontal position of the substrate B with respect to the fixed mask M and the rotational position around the axis extending in the vertical direction are adjusted, and then the stage moving part 22 The stage 21 is raised from the state shown in Fig. 3(a), and the upper surface (mounting surface) of the substrate B is brought into close contact with the lower surface of the mask M as shown in Fig. 3(b). At this time, since the adjustment of the horizontal position and rotation position of the substrate B by the stage moving part 22 is completed, the opening H of the mask M is appropriate for the pad P of the substrate B. It is placed in a location. That is, when the surface on which the pad P of the substrate B is provided and the mask M are in contact, it corresponds to the area (coated area) of the mask M where the solder paste S is applied to the substrate B. The opening H is formed at the (opposite) position.

이어서, 도 3의 (c)에 나타내는 것과 같이, 상기 디스펜서에 의해서 솔더 페이스트(S)가, 스퀴지(31)의 진행처인 마스크(M) 상, 즉 스퀴지(31)의 +X측으로 공급된다. 또, 연직 이동 장치(32)의 구동에 의해서 스퀴지(31)는 하강하고, 마스크(M)를 소정의 힘으로 하방으로 향하여 압압한다. 이 상태에서 수평 이동 장치(33)가 연직 이동 장치(32)를 +X방향으로 이동시킴으로써, 스퀴지(31)는 마스크(M)를 압압한 채로 +X방향으로 이동한다. 솔더 페이스트(S)는 스퀴지(31)의 진행처의 위치에 공급되어 있기 때문에, 스퀴지(31)의 이동에 수반하여 +X방향으로 이동한다. 또, 스퀴지(31)는 앞서 설명한 것과 같이 경사져 있기 때문에, 그 이동에 수반하여 솔더 페이스트(S)에는 연직 하방으로 향하는 힘이 가해진다. 이 때문에, 도 3의 (d)에 나타내는 것과 같이, 솔더 페이스트(S)는 마스크(M)의 개구(H)에 집어 넣어져 충전되고, 기판(B)의 상면(실장면)에 접촉한다. 또, 스퀴지(31)는 마스크(M)를 하방으로 압압하면서 +X방향으로 이동하기 때문에, 개구(H) 이외의 마스크(M) 상면으로부터 솔더 페이스트(S)를 긁어내면서 이동할 수 있고, 따라서 솔더 페이스트(S)를 개구(H)에만 공급할 수 있다. 수평 이동 장치(33)에 의한 스퀴지(31)의 수평 이동이 완료되면, 도 3의 (e)에 나타내는 것과 같이, 마스크(M)의 복수의 개구(H)에 대한 솔더 페이스트(S)의 충전이 완료된다.Subsequently, as shown in Fig. 3C, the solder paste S is supplied by the dispenser onto the mask M, which is the destination of the squeegee 31, that is, to the +X side of the squeegee 31. Further, the squeegee 31 descends by the drive of the vertical movement device 32 and presses the mask M downward with a predetermined force. In this state, the horizontal movement device 33 moves the vertical movement device 32 in the +X direction, so that the squeegee 31 moves in the +X direction while pressing the mask M. Since the solder paste S is supplied to the position where the squeegee 31 travels, it moves in the +X direction as the squeegee 31 moves. Further, since the squeegee 31 is inclined as described above, a force directed vertically downward is applied to the solder paste S along with its movement. For this reason, as shown in FIG. 3(d), the solder paste S is inserted into the opening H of the mask M, filled, and contacts the upper surface (mounting surface) of the substrate B. In addition, since the squeegee 31 moves in the +X direction while pressing the mask M downward, it can move while scraping the solder paste S from the upper surface of the mask M other than the opening H, and thus the solder paste (S) can be supplied only to the opening (H). When the horizontal movement of the squeegee 31 by the horizontal movement device 33 is completed, the solder paste S is filled in the plurality of openings H of the mask M as shown in FIG. 3 (e). This is done.

이어서, 도 3의 (f)에 나타내는 것과 같이, 스테이지 이동부(22)가 스테이지(21)를 하강시킴으로써, 기판(B)은 마스크(M)의 하면으로부터 하방으로 이간(離間)된다. 이 때, 개구(H)에 충전되어 있었던 솔더 페이스트(S)는 기판(B)의 상면에 부착하고 있기 때문에, 이 솔더 페이스트(S)도 마스크(M)로부터 이간되고, 따라서 마스크(M)의 개구(H)에 따른 패턴으로 솔더 페이스트(S)가 기판(B)의 실장면에 인쇄된다. 마스크(M)의 개구(H)는 도 2b에 나타내는 것과 같은 형상을 가지고 있기 때문에, 본 실시 형태의 솔더 페이스트의 도포 방법은, 기판(B)에서의 패드(P) 내에 비도포 영역을 형성하도록, 패드(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역에 솔더 페이스트(S)를 도포하는 공정을 구비하고 있다. 기판(B)이 마스크(M)의 하면으로부터 이간되고, 솔더 페이스트(S)가 기판(B)에 인쇄됨으로써, 본 실시 형태의 솔더 페이스트의 도포 공정이 완료된다. 솔더 페이스트(S)가 도포된 기판(B)은, 상기 기판 반송부에 의해서 납땜 인쇄 장치(1)로부터 반출된다.Subsequently, as shown in FIG. 3(f), the stage moving part 22 lowers the stage 21, so that the substrate B is spaced downward from the lower surface of the mask M. At this time, since the solder paste S filled in the opening H is attached to the upper surface of the substrate B, this solder paste S is also separated from the mask M, and thus the mask M Solder paste (S) is printed on the mounting surface of the substrate (B) in a pattern along the opening (H). Since the opening H of the mask M has a shape as shown in Fig. 2B, the method of applying the solder paste of the present embodiment is to form an uncoated region in the pad P of the substrate B. , A step of applying a solder paste S to an application region in which at least a part of the pad P is located. The substrate B is separated from the lower surface of the mask M, and the solder paste S is printed on the substrate B, thereby completing the process of applying the solder paste of the present embodiment. The board|substrate B to which the solder paste S was applied is carried out from the soldering printing apparatus 1 by the said board|substrate conveyance part.

이어서, 표면 실장에서의, 본 실시 형태의 솔더 페이스트의 도포 공정 이후의 공정을, 도 4를 참조하여 설명한다.Next, a process after the application process of the solder paste of the present embodiment in surface mounting will be described with reference to FIG. 4.

먼저, 도 4의 (a)에 나타내는 것과 같이, 솔더 페이스트(S)가 도포된 기판(B)의 실장면에 전자 부품(E)을 재치한다. 전자 부품(E)은, LGA나 BGA라도 괜찮다. 이 전자 부품(E)의 저면(기판(B)에 대향하는 면)에는, 기판(B)의 복수의 패드(P)에 대응하도록, 복수의 랜드(L)(전극)가 마련되어 있다. 도 4의 (a)에 나타내는 공정에서는, 기판(B)의 패드(P)와 전자 부품(E)의 랜드(L)가 서로 대향하도록 전자 부품(E)을 기판(B) 상에 재치한다. 이 때, 기판(B)의 패드(P)와 전자 부품(E)의 랜드(L)와의 사이에 솔더 페이스트(S)가 위치하고 있다.First, as shown in Fig. 4A, the electronic component E is mounted on the mounting surface of the substrate B to which the solder paste S has been applied. The electronic component (E) may be LGA or BGA. A plurality of lands L (electrodes) are provided on the bottom surface (a surface facing the substrate B) of the electronic component E so as to correspond to the plurality of pads P of the substrate B. In the process shown in FIG. 4A, the electronic component E is mounted on the substrate B so that the pad P of the substrate B and the land L of the electronic component E face each other. At this time, the solder paste S is located between the pad P of the substrate B and the land L of the electronic component E.

이어서, 도 4의 (b)에 나타내는 것과 같이, 전자 부품(E)이 재치된 기판(B)을 리플로우 로(도시하지 않음)에서 가열하고, 솔더 페이스트(S) 내의 땜납 분말을 용융시켜 서로 결합시키고, 용융된 땜납은 기판(B)과 전자 부품(E)의 양 전극에 접촉한다. 이 때, 솔더 페이스트(S)에 포함되는 플럭스의 작용에 의해, 패드(P)에 대한 용융 땜납의 젖음성은 향상되고, 또, 기판(B)의 패드(P) 이외의 표면에는 용융 땜납을 튕기는 솔더 레지스트가 도포되어 있으므로, 용융 땜납은 패드(P)의 지름 방향 내측으로 향하여 유동한다. 즉, 본 실시 형태와 같이 2개의 영역에 솔더 페이스트(S)가 도포되어 있는 경우라도, 2개의 영역에 포함되는 땜납 리플로우 공정에서 일체가 된다. 그 후 용융된 땜납을 냉각하여 고화시키는 것에 의해서, 기판(B)과 전자 부품(E)의 양 전극 사이를 땜납(S1)에 의해 전기적으로 접속한다. 이상에 의해, 전자 부품(E)의 기판(B)에 대한 표면 실장이 완료된다.Subsequently, as shown in Fig. 4B, the substrate B on which the electronic component E is placed is heated in a reflow furnace (not shown), and the solder powder in the solder paste S is melted to form a Bonded, and the molten solder contacts both electrodes of the substrate (B) and the electronic component (E). At this time, by the action of the flux contained in the solder paste (S), the wettability of the molten solder to the pad (P) is improved, and the molten solder is repelled to surfaces other than the pad (P) of the substrate (B). Since the solder resist is applied, the molten solder flows toward the inside of the pad P in the radial direction. That is, even when the solder paste S is applied to two regions as in the present embodiment, they are integrated in the solder reflow process included in the two regions. Thereafter, the molten solder is cooled and solidified to electrically connect the substrate B and both electrodes of the electronic component E by the solder S1. In this way, surface mounting of the electronic component E to the substrate B is completed.

다음으로, 도면을 참조하여, 본 실시 형태의 솔더 페이스트의 도포 방법에서의 복수의 구체적인 실시예를 설명한다. 또, 이들 실시예와 비교하기 위해서, 종래의 도포 방법에 상당하는 비교예에 대해서도 검토했다.Next, with reference to the drawings, a plurality of specific examples in the method of applying the solder paste of the present embodiment will be described. In addition, in order to compare with these examples, comparative examples corresponding to conventional coating methods were also examined.

이하의 실시예 1~26에서는, 기판(B)의 실장면의 평면도를 나타내는 도 5~30을 이용하여 솔더 페이스트의 도포 영역을 설명하고 있고, 각 평면도는, 접합 영역인 기판(B)의 하나의 패드(P)를 확대한 도면으로 되어 있다. 각 실시예에서, 패드(P)의 평면시 형상은, 직경 1.0mm의 원형으로 했다. 이하의 설명에서는, 패드(P)의 중심을 통과하고 기판(B)의 실장면에 직교하는 축에 교차하는 방향을 지름 방향 이라고 하고, 해당 축 둘레 방향을 둘레 방향이라고 한다. 또, 편의상, 각 도면의 지면(紙面) 상하 방향을 간단하게 「상하 방향」, 지면 좌우 방향을 간단하게 「좌우 방향」이라고 칭하는 경우가 있다.In Examples 1 to 26 below, a solder paste application region is described using FIGS. 5 to 30 showing a plan view of the mounting surface of the substrate B, and each plan view is one of the substrate B as a bonding region. It is an enlarged view of the pad P of. In each example, the planar shape of the pad P was made into a circular shape with a diameter of 1.0 mm. In the following description, the direction passing through the center of the pad P and crossing the axis orthogonal to the mounting surface of the substrate B is referred to as the radial direction, and the circumferential direction of the axis is referred to as the circumferential direction. In addition, for convenience, the vertical direction of the paper in each drawing may be simply referred to as "the vertical direction", and the horizontal direction of the paper may be simply referred to as "the left and right direction".

이들 실시예와 비교예에서, 이하에 설명하는 틈새 비율 GR, 도포 면적율 AR, 및 최대 보이드 면적율 VR을 확인했다.In these Examples and Comparative Examples, the clearance ratio GR, the application area ratio AR, and the maximum void area ratio VR described below were confirmed.

틈새 비율 GR은, 패드(P)의 중심으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 개구 하는, 후술하는 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새의, 패드(P)의 전체 둘레에 대한 비율을 말한다. 환언하면, 패드(P)의 중심으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 연장되고 또한 주변 영역(A1) 모두 그 사이에 포함되지 않는 2개의 직선을 그릴 수 있는 경우에, 이들 2개의 직선 사이의 각도의 360°에 대한 비율을 틈새 비율 GR로 하고 있다. 그 사이에 주변 영역(A1)이 포함되지 않는 2개의 직선을 복수 쌍 그릴 수 있는 경우는, 각 쌍의 2개의 직선 사이 각도의 합계의, 360°에 대한 비율을 틈새 비율 GR로 한다. 또한 틈새 비율 GR의 산출에 있어서, 후술하는 중앙 영역(A2)의 존재는 고려하지 않는다.The clearance ratio GR refers to the ratio of the clearance between the plurality of peripheral regions A1 to be described later to the entire circumference of the pad P, which is opened from the center of the pad P toward the outer side in the radial direction. In other words, if it is possible to draw two straight lines extending radially outward from the center of the pad P and not included in both the peripheral area A1, 360° of the angle between these two straight lines The ratio to is taken as the gap ratio GR. In the case where a plurality of pairs of two straight lines in which the peripheral region A1 is not included can be drawn in the meantime, the ratio of the sum of the angles between the two straight lines of each pair to 360° is taken as the clearance ratio GR. In addition, in the calculation of the clearance ratio GR, the existence of the center region A2 to be described later is not considered.

도포 면적율 AR은, 1개의 패드(P)에 대해서 도포되는 솔더 페이스트의 전(全) 도포 영역의, 해당 패드(P)의 면적에 대한 비율을 말한다. 또한 원주율 π는 3.14로 했다.The application area ratio AR refers to the ratio of the entire coating area of the solder paste applied to one pad P to the area of the pad P. In addition, the circumferential ratio π was set to 3.14.

최대 보이드 면적율 VR을 확인함에 있어서, 실시예마다 36개의 패드(P)를 늘어놓은 테스트용의 기판을 2개 준비하고, 같은 수의 랜드를 가지는 전자 부품과의 땜납 접속을 각각 행하여, 실시예마다 합계 72개의 패드(P)의 땜납 접속 샘플을 얻었다. 이 땜납 접속에는, 도 3 및 도 4에 나타내는 표면 실장의 방법을 이용했다. 1개의 패드(P)의 면적에 대한, 발생한 보이드의 면적(평면시에서의 면적)의 비율(이하, 보이드 면적율이라고 함)을, 72개의 패드(P) 각각에 대해서 산출하고, 그들 중 최대의 보이드 면적율을, 각 실시예의 「최대 보이드 면적율」이라고 했다. 전자 부품의 랜드의 평면시 형상은, 패드(P)와 동등하게 했다.In confirming the maximum void area ratio VR, two test boards were prepared in which 36 pads P were arranged for each example, and solder connections were made to electronic components having the same number of lands, respectively, for each example. A total of 72 solder connection samples of the pads P were obtained. For this solder connection, the method of surface mounting shown in Figs. 3 and 4 was used. The ratio of the area of the voids (area in plan view) to the area of one pad (P) (hereinafter referred to as the void area ratio) was calculated for each of the 72 pads (P), and the largest The void area ratio was referred to as the "maximum void area ratio" in each example. The planar shape of the land of the electronic component was made equal to that of the pad P.

(비교예)(Comparative example)

비교예는, 직경 1.0mm의 패드(P)에 대해서, 해당 패드(P)와 동일한 영역에서 솔더 페이스트를 도포하는 종래의 구성으로 했다. 이 비교예는, 후에 나타내는 표 1에서 「Ref」로 나타내어져 있다. 이 비교예에서, 복수의 주변 영역은 존재하지 않기 때문에 틈새 비율 GR은 산출할 수 없고, 도포 면적율 AR은 100%이다. 또, 최대 보이드 면적율 VR은, 43.5%였다.In the comparative example, a solder paste was applied to the pad P having a diameter of 1.0 mm in the same area as that of the pad P. This comparative example is represented by "Ref" in Table 1 shown later. In this comparative example, since a plurality of peripheral regions do not exist, the clearance ratio GR cannot be calculated, and the applied area ratio AR is 100%. Moreover, the maximum void area ratio VR was 43.5%.

(실시예 1)(Example 1)

실시예 1에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 5를 참조하여 설명한다.An area where the solder paste is applied in Example 1 will be described with reference to FIG. 5.

실시예 1에서는, 기판(B)에서의 패드(P) 내에 비도포 영역(N)을 형성하도록, 패드(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역(T)에 솔더 페이스트가 도포되어 있다. 도 5에서, 솔더 페이스트가 도포되어 있는 영역에 망점(網點)을 부여하고 있다(다른 도 6~30에서도 마찬가지임). 도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(2개)의 주변 영역(A1)을 가진다. 각 주변 영역(A1)은 일방향으로 연장된 직사각형 모양이며, 긴 길이 방향의 길이는 0.7mm, 해당 긴 길이 방향과 직교하는 짧은 길이 방향의 폭은 0.35mm이다.In the first embodiment, a solder paste is applied to the application region T in which at least a part is located in the pad P so as to form the uncoated region N in the pad P of the substrate B. In Fig. 5, a halftone dot is applied to the region to which the solder paste is applied (the same applies to other Figs. 6 to 30). The application region T has a plurality (two) of peripheral regions A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P. Each peripheral area A1 has a rectangular shape extending in one direction, the length in the long longitudinal direction is 0.7 mm, and the width in the short longitudinal direction orthogonal to the long longitudinal direction is 0.35 mm.

복수의 주변 영역(A1)은, 패드(P)의 중심(O)을 사이에 두고 서로 대향하여 배치되어 있다.The plurality of peripheral regions A1 are disposed to face each other with the center O of the pad P interposed therebetween.

복수의 주변 영역(A1)은, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 대향 방향(도 5의 지면 상하 방향)과 직교하는 방향으로 연장되어 배치되어 있다. 즉, 각 주변 영역(A1)은, 지면 좌우 방향으로 연장되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 상기 대향 방향과 교차하는 방향으로 연장되어 배치되어도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged to extend in a direction orthogonal to the opposite direction of the plurality of peripheral regions A1 (the vertical direction of the paper in FIG. 5 ). That is, each peripheral region A1 extends in the horizontal direction of the paper. Further, a plurality of peripheral regions A1 may be disposed to extend in a direction crossing the opposite direction.

복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새(상기 대향 방향의 틈새)의 크기는, 0.7mm이다. 이 때문에, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)의 70%이며, 상기 대향 방향에서의 각 주변 영역(A1)의 폭의 200%이다.The size of the gap (the gap in the opposite direction) between the plurality of peripheral regions A1 is 0.7 mm. For this reason, the gap between the plurality of peripheral regions A1 is 70% of the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P and 200% of the width of each peripheral region A1 in the opposite direction.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

복수의 주변 영역(A1)의 대향변(a, b)은, 서로 평행하고 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides a and b of the plurality of peripheral regions A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

복수의 주변 영역(A1)은, 패드(P)의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있다. 즉, 각 주변 영역(A1)의 일부는, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 모두 패드(P) 내에 배치되는 구성이라도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are disposed to overlap the outer edge of the pad P. That is, a part of each peripheral region A1 is located outside of the pad P in the radial direction. Further, a configuration in which all of the plurality of peripheral regions A1 are disposed in the pad P may be used.

본 실시예의 도포 영역(T)을, 중심(O)을 통과하고 상하 방향 및 좌우 방향으로 연장되는 2개의 직선으로 4개로 구획했을 경우, 예를 들면 중심(O)으로부터 지면 우측으로 연장되는 직선(L1)과 중심(O)으로부터 지면 상측으로 연장되는 직선(L2)과의 사이의 구획은 다른 3개의 구획과 동일 또는 거울상이기 때문에, 직선(L1, L2) 사이가 이루는 90°에 대한 각도 θG의 비율을, 본 실시예의 틈새 비율 GR로 했다. 또, 각도 θG는, 직선(L1)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 상측의 주변 영역(A1)의 우측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L3)과의 사이의 각도이다. 직선(L1, L3) 사이에 주변 영역(A1)은 배치되어 있지 않다. 따라서, 본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.35/0.35)/90°)=50%이다.When the application area T of this embodiment is divided into 4 by two straight lines that pass through the center O and extend in the vertical and horizontal directions, for example, a straight line extending from the center O to the right side of the paper ( Since the division between L1) and the straight line (L2) extending upward from the center (O) is the same or mirror image as the other three divisions, the angle θ G to the 90° between the straight lines (L1, L2) The ratio of was taken as the clearance ratio GR in this example. In addition, the angle θ G is the angle between the straight line L1 and the straight line L3 extending radially outward from the center O and in contact with the lower right vertex of the peripheral area A1 on the upper side of the paper. . The peripheral area A1 is not arranged between the straight lines L1 and L3. Therefore, the clearance ratio GR in this embodiment is (arctan(0.35/0.35)/90°)=50%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.7×0.35×2)/(0.52×π)=62.4%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.7×0.35×2)/(0.5 2 ×π)=62.4%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 2.3%였다.The maximum void area ratio in this example was 2.3%.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 2에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 6을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 2에서, 상기 실시예 1과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 2 will be described with reference to FIG. 6. In the second embodiment, only configurations different from those of the first embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새(상기 대향 방향의 틈새)의 크기는, 0.3mm이다. 이 때문에, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)의 30%이며, 상기 대향 방향에서의 각 주변 영역(A1)의 폭의 85.7%이다.The size of the gap (the gap in the opposite direction) between the plurality of peripheral regions A1 is 0.3 mm. For this reason, the gap between the plurality of peripheral regions A1 is 30% of the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P, and is 85.7% of the width of each peripheral region A1 in the opposite direction.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.15/0.35)/90°)=25.8%이다.The clearance ratio GR in this example is (arctan(0.15/0.35)/90°) = 25.8%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 13.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 13.8%.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 3에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 7을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 3에서, 상기 실시예 1과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 3 will be described with reference to FIG. 7. In the third embodiment, only configurations different from those of the first embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새(상기 대향 방향의 틈새)의 크기는, 0.4mm이다. 이 때문에, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)의 40%이며, 상기 대향 방향에서의 각 주변 영역(A1)의 폭의 114%이다.The size of the gap (the gap in the opposite direction) between the plurality of peripheral regions A1 is 0.4 mm. For this reason, the gap between the plurality of peripheral regions A1 is 40% of the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P, and is 114% of the width of each peripheral region A1 in the opposite direction.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.2/0.35)/90°)=33%이다.The clearance ratio GR in this example is (arctan(0.2/0.35)/90°)=33%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 11.7%였다.The maximum void area ratio in this example was 11.7%.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 4에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 8을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 4에서, 상기 실시예 1과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application area in Example 4 will be described with reference to FIG. 8. In the fourth embodiment, only configurations different from those of the first embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새(상기 대향 방향의 틈새)의 크기는, 0.5mm이다. 이 때문에, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)의 50%이며, 상기 대향 방향에서의 각 주변 영역(A1)의 폭의 143%이다.The size of the gap (the gap in the opposite direction) between the plurality of peripheral regions A1 is 0.5 mm. For this reason, the gap between the plurality of peripheral regions A1 is 50% of the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P, and is 143% of the width of each peripheral region A1 in the opposite direction.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.25/0.35)/90°)=39.5%이다.The clearance ratio GR in this example is (arctan(0.25/0.35)/90°) = 39.5%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 7.0%였다.The maximum void area ratio in this example was 7.0%.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 5에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 9를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 5에서, 상기 실시예 1과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 5 will be described with reference to FIG. 9. In the fifth embodiment, only configurations different from those of the first embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새(상기 대향 방향의 틈새)의 크기는, 0.6mm이다. 이 때문에, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)의 60%이며, 상기 대향 방향에서의 각 주변 영역(A1)의 폭의 171%이다.The size of the gap (the gap in the opposite direction) between the plurality of peripheral regions A1 is 0.6 mm. For this reason, the gap between the plurality of peripheral regions A1 is 60% of the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P, and is 171% of the width of each peripheral region A1 in the opposite direction.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.3/0.35)/90°)=45.1%이다.The clearance ratio GR in this example is (arctan(0.3/0.35)/90°)=45.1%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 4.2%였다.The maximum void area ratio in this example was 4.2%.

(실시예 1~5의 검토)(Review of Examples 1 to 5)

실시예 1~5의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 실시예 1~5 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 1 to 5 all became lower than that of the comparative example. For this reason, in all of Examples 1-5, it turns out that the size of the created void was able to be suppressed.

보이드의 크기를 억제할 수 있었던 원인을 이하에 검토한다. 리플로우 공정에서 용융된 땜납 분말이 서로 결합할 때, 용융 전의 땜납 분말 사이에 위치하고 있었던 플럭스의 수지 성분 등은 용융 땜납의 결합에 의해서 외부로 향하여 밀려 나온다. 그러나, 솔더 페이스트의 도포 영역이 크면, 상기 수지 성분이 땜납으로부터 배출되기 전 땜납이 식어서 고화되어 버리고, 이 때문에 수지 성분이 땜납 내에 남아 있었던 경우(즉, 보이드)가 고려된다. 한편, 실시예 1~5에서는, 각 주변 영역(A1)의 폭은 0.35mm이며, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)보다도 큰폭으로 작다. 이 때문에, 플럭스의 수지 성분 등이 주변 영역(A1)의 짧은 길이 방향으로 이동했을 경우에는 비교적 조기에 용융 땜납으로부터 배출되기 때문에, 각 주변 영역(A1)에서, 비교예보다도 보이드의 크기가 억제된다고 생각된다.The cause of suppressing the size of the void is examined below. When the molten solder powders are bonded to each other in the reflow process, the resin component of the flux located between the solder powders before melting is pushed outward by bonding of the molten solder. However, when the application area of the solder paste is large, the solder cools and solidifies before the resin component is discharged from the solder, and for this reason, a case where the resin component remains in the solder (i.e., void) is considered. On the other hand, in Examples 1 to 5, the width of each peripheral region A1 is 0.35 mm, and is significantly smaller than the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P. For this reason, when the resin component of the flux moves in the short length direction of the peripheral region A1, it is discharged from the molten solder relatively early, so that in each peripheral region A1, the size of the void is suppressed compared to the comparative example. I think.

또, 도 4에 나타낸 것과 같이, 2개의 영역에 도포된 솔더 페이스트 내의 땜납 분말도 리플로우 공정에서 일체화된다. 즉, 2개의 주변 영역(A1)에서 용융된 땜납 분말은, 패드(P)의 중심(O)을 향하여 유동하고, 패드(P)의 중앙 부근에서 서로 접한다. 지름 방향 내측으로 향하는 용융 땜납의 유동은 유지되므로, 2개의 영역으로부터 유동한 용융 땜납의 접속 개소는, 지름 방향 외측으로 향하여 확대된다. 이 접속 개소가 지름 방향 외측으로 향하여 확대되기 때문에, 플럭스의 수지 성분 등을 지름 방향 외측으로 향하게 하는 힘이 생기고, 이 힘에 의해도 수지 성분을 땜납의 외측으로 향하여 배출할 수 있다고 생각된다.Further, as shown in Fig. 4, the solder powder in the solder paste applied to the two regions is also integrated in the reflow process. That is, the solder powder melted in the two peripheral regions A1 flows toward the center O of the pad P, and contacts each other near the center of the pad P. Since the flow of the molten solder flowing inward in the radial direction is maintained, the connection point of the molten solder flowing from the two regions expands toward the outside in the radial direction. Since this connection point is expanded toward the outer side in the radial direction, a force is generated to direct the resin component or the like of the flux toward the outer side in the radial direction, and it is considered that the resin component can also be discharged toward the outside of the solder by this force.

실시예 1~5에서, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 패드(P)의 최대 지름(1.0mm)의 30%이상 70%이하였다.In Examples 1 to 5, the gap between the plurality of peripheral regions A1 was 30% or more and 70% or less of the maximum diameter (1.0 mm) of the pad P.

또, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새는, 복수의 주변 영역(A1)의 대향 방향에서의 각 주변 영역(A1)의 폭의 85.7%이상 200%이하였다.Further, the gap between the plurality of peripheral regions A1 was 85.7% or more and 200% or less of the width of each peripheral region A1 in the opposite direction of the plurality of peripheral regions A1.

(실시예 1~5의 변형예)(Modification of Examples 1 to 5)

실시예 1~5에는 이하의 변형예를 생각할 수 있다.For Examples 1-5, the following modified examples can be considered.

각 주변 영역(A1)은 평면시 직사각형 모양이지만, 평면시에서 타원 모양 또는 긴 원 모양이라도 괜찮다. 복수의 주변 영역(A1)의 대향변(a, b)은 직선 모양으로 형성되어 있지만, 이들 대향변이 지름 방향 내측으로 향하여 팽출(膨出)하는 형상라도 괜찮고, 또, 지름 방향 외측으로 향하여 움푹 패인 형상라도 괜찮다. 마찬가지로 주변 영역(A1)의 지름 방향 외측의 변이 지름 방향 내측으로 움푹 패여 있거나, 지름 방향 외측으로 팽출하거나 하여 있어도 괜찮다.Each peripheral area A1 has a rectangular shape in plan view, but may be an ellipse shape or a long circle shape in plan view. The opposite sides (a, b) of the plurality of peripheral regions (A1) are formed in a linear shape, but a shape in which these opposite sides swell toward the inner side in the radial direction may be sufficient. Any shape is fine. Similarly, the outer side in the radial direction of the peripheral region A1 may be recessed inward in the radial direction or bulge outward in the radial direction.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 6에 있어서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 10을 참조하여 설명한다.An area where the solder paste is applied in the sixth embodiment will be described with reference to FIG. 10.

실시예 6에서는, 기판(B)에서의 패드(P) 내에 비도포 영역(N)을 형성하도록, 패드(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역(T)에 솔더 페이스트가 도포되어 있다. 도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(6개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 한 변의 길이가 0.3mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 10에 도시되어 있다.In the sixth embodiment, a solder paste is applied to the coated region T in which at least a part is located in the pad P so as to form the uncoated region N in the pad P of the substrate B. The coating area T is a plurality of (six) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 has a square shape with a side length of 0.3 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 10.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 대략 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at substantially equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

둘레 방향으로 서로 이웃하는 복수의 주변 영역(A1)의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.Opposite sides a and b of the plurality of peripheral regions A1 adjacent to each other in the circumferential direction are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

중앙 영역(A2)과 각 주변 영역(A1)과의 대향변(c, d)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(c, d)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides c and d between the central region A2 and each peripheral region A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (c, d) may be non-parallel to each other.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적과 동일(100%)이다.The area of the central area A2 is equal to the area of each peripheral area A1 (100%).

복수의 주변 영역(A1)은, 패드(P)의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있다. 즉, 각 주변 영역(A1)의 일부는, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 모두 패드(P) 내에 배치되는 구성이라도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged to overlap the outer edge of the pad P. That is, a part of each peripheral region A1 is located outside of the pad P in the radial direction. Further, a configuration in which all of the plurality of peripheral regions A1 are disposed in the pad P may be used.

본 실시예의 도포 영역(T)을, 중심(O)을 통과하고 상하 방향 및 좌우 방향으로 연장되는 2개의 직선으로 4개로 구획했을 경우, 예를 들면 중심(O)으로부터 지면 우측으로 연장되는 직선(L1)과 중심(O)으로부터 지면 상측으로 연장되는 직선(L2)과의 사이의 구획은 다른 3개의 구획과 동일 또는 거울상이기 때문에, 직선(L1, L2) 사이가 이루는 90°에 대한 각도 θG1과 각도 θG2와의 합의 비율을, 본 실시예의 틈새 비율 GR로 했다. 각도 θG1은, 직선(L1)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우측 상부의 주변 영역(A1)의 우측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L3)과의 사이의 각도로서, arctan(0.1/0.65)로 나타내어진다. 각도 θG2는, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우축 상부의 주변 영역(A1)의 좌측 상부의 꼭지점에 접하는 직선(L4)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 상측의 주변 영역(A1)의 우측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L5)과의 사이의 각도로서, (arctan(0.35/0.15)-arctan(0.4/0.35))로 나타내어진다. 따라서, 본 실시예의 틈새 비율 GR은, (θG1+θG2)/90°=29.7%이다.When the application area T of this embodiment is divided into 4 by two straight lines that pass through the center O and extend in the vertical and horizontal directions, for example, a straight line extending from the center O to the right side of the paper ( Since the division between L1) and the straight line (L2) extending upward from the center (O) is the same or mirror image as the other three divisions, the angle to the 90° between the straight lines (L1, L2) θ G1 The ratio of the sum and the angle θ G2 was taken as the clearance ratio GR in this example. The angle θ G1 is an angle between the straight line L1 and the straight line L3 extending radially outward from the center O and in contact with the vertex of the lower right of the peripheral area A1 at the upper right of the paper, It is represented by arctan(0.1/0.65). The angle θ G2 is a straight line L4 extending radially outward from the center O and in contact with the vertex of the upper left of the peripheral area A1 above the right-axis of the paper, and extending radially outward from the center O, In addition, as the angle between the straight line L5 in contact with the vertex of the lower right of the peripheral area A1 on the upper side of the paper, it is represented by (arctan(0.35/0.15)-arctan(0.4/0.35)). Therefore, the clearance ratio GR in this embodiment is (θ G1G2 )/90° = 29.7%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×7)/(0.52×π)=80.3%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 x 7)/(0.5 2 x pi) = 80.3%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 4.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 4.8%.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 7에 있어서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 11을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 7에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application region in Example 7 will be described with reference to FIG. 11. In the seventh embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

중앙 영역(A2)은 한 변의 길이가 0.4mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 11에 도시되어 있다.The central area A2 has a square shape with a side length of 0.4 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 11.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 178%(=0.42/0.32)이다.The area of the central region A2 is 178% (=0.4 2 /0.3 2 ) of the area of each peripheral region A1.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 6과 동일하게, 29.7%이다.The clearance ratio GR of the present embodiment is 29.7%, similar to that of the sixth embodiment.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×6+0.42)/(0.52×π)=89.2%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 x 6 +0.4 2 )/(0.5 2 x pi)=89.2%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 3.9%였다.The maximum void area ratio in this example was 3.9%.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 8에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 12를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 8에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 8 will be described with reference to FIG. 12. In the eighth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

중앙 영역(A2)은 한 변의 길이가 0.5mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 12에 도시되어 있다.The central area A2 has a square shape with a side length of 0.5 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 12.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 278%(=0.52/0.32)이다.The area of the central region A2 is 278% (=0.5 2 /0.3 2 ) of the area of each peripheral region A1.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 6과 동일하게, 29.7%이다.The clearance ratio GR of the present embodiment is 29.7%, similar to that of the sixth embodiment.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×6+0.52)/(0.52×π)=100.6%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 x 6 + 0.5 2 )/(0.5 2 x pi) = 100.6%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 13.9%였다.The maximum void area ratio in this example was 13.9%.

(실시예 9)(Example 9)

실시예 9에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 13을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 9에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application region in Example 9 will be described with reference to FIG. 13. In the ninth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

중앙 영역(A2)은 한 변의 길이가 0.2mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 13에 도시되어 있다.The central area A2 has a square shape with a side length of 0.2 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 13.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 44.4%(=0.22/0.32)이다.The area of the central area A2 is 44.4% (=0.2 2 /0.3 2 ) of the area of each peripheral area A1.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 6과 동일하게, 29.7%이다.The clearance ratio GR of the present embodiment is 29.7%, similar to that of the sixth embodiment.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×6+0.22)/(0.52×π)=73.9%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 x 6 + 0.2 2 )/(0.5 2 x pi) = 73.9%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 12.3%였다.The maximum void area ratio in this example was 12.3%.

(실시예 10)(Example 10)

실시예 10에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 14를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 10에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 10 will be described with reference to FIG. 14. In the tenth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(2개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 한 변의 길이가 0.3mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 14에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (two) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 has a square shape with a side length of 0.3 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 14.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

중앙 영역(A2)과 각 주변 영역(A1)과의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides a and b between the central region A2 and each peripheral region A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

본 실시예의 도포 영역(T)을, 중심(O)을 통과하고 상하 방향 및 좌우 방향으로 연장되는 2개의 직선으로 4개로 구획했을 경우, 예를 들면 중심(O)으로부터 지면 우측으로 연장되는 직선(L1)과 중심(O)으로부터 지면 상측으로 연장되는 직선(L2)과의 사이의 구획은 다른 3개의 구획과 동일 또는 거울상이기 때문에, 직선(L1, L2) 사이가 이루는 90°에 대한 각도 θG의 비율을, 본 실시예의 틈새 비율 GR로 했다. 각도 θG는, 직선(L1)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 상측의 주변 영역(A1)의 우측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L3)과의 사이의 각도이다. 직선(L1, L3) 사이에 주변 영역(A1)은 배치되어 있지 않다. 따라서, 본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.35/0.15)/90°)=74.2%이다.When the application area T of this embodiment is divided into 4 by two straight lines that pass through the center O and extend in the vertical and horizontal directions, for example, a straight line extending from the center O to the right side of the paper ( Since the division between L1) and the straight line (L2) extending upward from the center (O) is the same or mirror image as the other three divisions, the angle θ G to the 90° between the straight lines (L1, L2) The ratio of was taken as the clearance ratio GR in this example. The angle θ G is an angle between the straight line L1 and the straight line L3 extending radially outward from the center O and in contact with the lower right vertex of the peripheral region A1 on the upper side of the paper. The peripheral area A1 is not arranged between the straight lines L1 and L3. Therefore, the clearance ratio GR in this example is (arctan(0.35/0.15)/90°)=74.2%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×3)/(0.52×π)=34.4%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 × 3)/(0.5 2 × π) = 34.4%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 3.1%였다.The maximum void area ratio in this example was 3.1%.

(실시예 11)(Example 11)

실시예 11에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 15를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 11에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 11 will be described with reference to FIG. 15. In the eleventh embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(3개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 15에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (three) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 15.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 대략 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at substantially equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

중앙 영역(A2)과 각 주변 영역(A1)과의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides a and b between the central region A2 and each peripheral region A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

본 실시예의 도포 영역(T)을, 중심(O)을 통과하고 상하 방향으로 연장되는 직선으로 2개로 구획했을 경우, 해당 직선의 우측의 구획은 좌측의 구획의 거울상이기 때문에, 중심(O)으로부터 상측으로 연장되는 직선(L1) 및 중심(O)으로부터 하측으로 연장되는 직선(L2)의 사이가 이루는 180°에 대한 각도 θG1, θG2 및 θG3의 합의 비율을, 본 실시예의 틈새 비율 GR로 했다. 각도 θG1는, 중심(O)으로부터 지면 우측으로 연장되는 직선(L3)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 상측의 주변 영역(A1)의 우측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L4)과의 사이의 각도로서, arctan(0.35/0.15)로 나타내어진다. 각도 θG2는, 직선(L2)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우측 하부의 주변 영역(A1)의 좌측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L5)과의 사이의 각도로서, (90°-arctan(0.45/0.35))로 나타내어진다. 각도 θG3는, 직선(L3)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우측 하부의 주변 영역(A1)의 우측 상부의 꼭지점에 접하는 직선(L6)과의 사이의 각도로서, arctan(0.15/0.65))로 나타내어진다. 따라서, 본 실시예의 틈새 비율 GR은, (θG1+θG2+θG3)/90°=65.4%이다.When the application area T of this embodiment is divided into two straight lines extending in the vertical direction after passing through the center O, since the right division of the line is a mirror image of the left division, from the center O The ratio of the sum of the angles θ G1 , θ G2 and θ G3 to 180° between the straight line L1 extending upward and the straight line L2 extending downward from the center O is the clearance ratio GR in this embodiment. I did it. The angle θ G1 is a straight line L3 extending from the center O to the right side of the paper, and a straight line extending radially outward from the center O and in contact with the lower right vertex of the peripheral area A1 on the upper side of the paper ( It is the angle between L4) and it is expressed as arctan(0.35/0.15). The angle θ G2 is an angle between a straight line L2 and a straight line L5 extending radially outward from the center O and in contact with the vertex of the lower left of the peripheral area A1 at the lower right of the paper, (90°-arctan(0.45/0.35)). The angle θ G3 is an angle between the straight line L3 and the straight line L6 extending radially outward from the center O and in contact with the vertex of the upper right of the peripheral area A1 at the lower right of the paper, arctan(0.15/0.65)). Therefore, the clearance ratio GR in this example is (θ G1G2G3 )/90°=65.4%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×4)/(0.52×π)=45.9%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 × 4)/(0.5 2 × π) = 45.9%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 4.0%였다.The maximum void area ratio in this example was 4.0%.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 12에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 16을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 12에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application area in Example 12 will be described with reference to FIG. 16. In the twelfth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(4개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 한 변의 길이가 0.3mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 16에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (4) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 has a square shape with a side length of 0.3 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 16.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

중앙 영역(A2)과 각 주변 영역(A1)과의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides a and b between the central region A2 and each peripheral region A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

본 실시예의 도포 영역(T)을, 중심(O)을 통과하고 상하 방향 및 좌우 방향으로 연장되는 2개의 직선으로 4개로 구획했을 경우, 예를 들면 중심(O)으로부터 지면 우측으로 연장되는 직선(L1)과 중심(O)으로부터 지면 상측으로 연장되는 직선(L2)과의 사이의 구획은 다른 3개의 구획과 동일 또는 거울상이기 때문에, 직선(L1, L2) 사이가 이루는 90°에 대한 각도 θG의 비율을, 본 실시예의 틈새 비율 GR로 했다. 각도 θG는, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우측의 주변 영역(A1)의 좌측 상부의 꼭지점에 접하는 직선(L3)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 상측의 주변 영역(A1)의 우측 하부의 꼭지점에 접하는 직선(L4)과의 사이의 각도이다. 직선(L3, L4) 사이에는 주변 영역(A1)은 배치되어 있지 않다. 따라서, 본 실시예의 틈새 비율 GR은, (arctan(0.35/0.15)-arctan(0.15/0.35))=48.4%이다.When the application area T of this embodiment is divided into 4 by two straight lines that pass through the center O and extend in the vertical and horizontal directions, for example, a straight line extending from the center O to the right side of the paper ( Since the division between L1) and the straight line (L2) extending upward from the center (O) is the same or mirror image as the other three divisions, the angle θ G to the 90° between the straight lines (L1, L2) The ratio of was taken as the clearance ratio GR in this example. The angle θ G is a straight line L3 extending radially outward from the center O and in contact with the upper left vertex of the peripheral area A1 on the right side of the paper, and extending radially outward from the center O, and It is the angle between the straight line L4 in contact with the vertex of the lower right of the peripheral area A1 on the upper side of the paper. The peripheral area A1 is not arranged between the straight lines L3 and L4. Therefore, the clearance ratio GR in this embodiment is (arctan(0.35/0.15)-arctan(0.15/0.35))=48.4%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×5)/(0.52×π)=57.1%이다.The application area ratio AR of this example is (0.3 2 × 5)/(0.5 2 × π) = 571%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 2.6%였다.The maximum void area ratio in this example was 2.6%.

(실시예 13)(Example 13)

실시예 13에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 17을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 13에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 13 will be described with reference to FIG. 17. In the thirteenth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(4개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 또, 복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향의 길이가 다른 제1 영역(A11) 및 제2 영역(A12)을 가지고, 제1 영역(A11) 및 제2 영역(A12)은, 둘레 방향으로 교호로 배치되어 있다. 제1 영역(A11) 및 제2 영역(A12)는, 2개씩 마련되어 있다. 제1 영역(A11)은, 일방향으로 연장되는 직사각형 모양이며, 긴 길이 방향의 길이가 0.6mm, 해당 긴 길이 방향에 직교하는 짧은 길이 방향의 폭이 0.3mm이다. 제2 영역(A12) 및 중앙 영역(A2)은, 모두 한 변의 길이가 0.3mm인 정사각형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 제1 영역(A11) 및 복수의 제2 영역(A12) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 17에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (4) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Further, the plurality of peripheral regions A1 has a first region A11 and a second region A12 having different lengths in the circumferential direction, and the first region A11 and the second region A12 are in the circumferential direction. They are arranged alternately. The 1st area|region A11 and the 2nd area|region A12 are provided each two. The first region A11 has a rectangular shape extending in one direction, the length in the long longitudinal direction is 0.6 mm, and the width in the short longitudinal direction orthogonal to the long longitudinal direction is 0.3 mm. Both the second area A12 and the center area A2 have a square shape with a side length of 0.3 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of first areas A11, the plurality of second areas A12, and the center area A2 is shown in FIG. 17.

중앙 영역(A2)과 각 주변 영역(A1)과의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides a and b between the central region A2 and each peripheral region A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 12와 마찬가지로 산출되고, (arctan(0.35/0.15)-arctan(0.3/0.35))=29.1%이다.The clearance ratio GR in this example is calculated in the same manner as in Example 12, and is (arctan(0.35/0.15)-arctan(0.3/0.35))=29.1%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.6×0.3×2+0.32×3)/(0.52×π)=34.6%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.6×0.3×2+0.3 2 ×3)/(0.5 2 ×π)=34.6%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 1.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 1.8%.

(실시예 14)(Example 14)

실시예 14에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 18을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 14에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 14 will be described with reference to FIG. 18. In the fourteenth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(6개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 한 변의 길이가 0.3mm인 정사각형 모양이다. 다만, 주변 영역(A1) 중, 패드(P)의 외측 가장자리보다도 지름 방향 외측의 부분은 제외되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 18에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (six) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 has a square shape with a side length of 0.3 mm. However, in the peripheral area A1, a portion outside the outer edge of the pad P in the radial direction is excluded. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 18.

둘레 방향으로 서로 이웃하는 복수의 주변 영역(A1)의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.Opposite sides a and b of the plurality of peripheral regions A1 adjacent to each other in the circumferential direction are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

중앙 영역(A2)과 각 주변 영역(A1)과의 대향변(c, d)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(c, d)가, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides c and d between the central region A2 and each peripheral region A1 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (c, d) may be non-parallel to each other.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 6과 마찬가지의 방법으로 산출했는데, 각도 θG1은, arcsin(0.05/0.5)로 나타내어지기 때문에, 틈새 비율 GR은, (θG1+θG2)/90°=11.5%이다.The clearance ratio GR in this example was calculated in the same manner as in Example 6, but since the angle θ G1 is represented by arcsin (0.05/0.5), the clearance ratio GR is (θ G1G2 )/90° =11.5%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, 약 43%이다.The application area ratio AR of this example is about 43%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 13.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 13.8%.

(실시예 6~14의 검토)(Examination of Examples 6 to 14)

실시예 6~14의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 실시예 6~14 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 6 to 14 all became lower than that of the comparative example. For this reason, it turns out that in all of Examples 6-14, the size of the void|occur|produced void was able to be suppressed.

보이드의 크기를 억제할 수 있었던 원인을 이하에 검토한다. 먼저, 주변 영역(A1)이나 중앙 영역(A2)이 비교예의 도포 영역보다도 작기 때문에, 플럭스의 수지 성분 등이 조기에 용융 땜납 내로부터 배출되기 쉬운 것은, 실시예 1~5와 마찬가지라고 생각된다.The cause of suppressing the size of the void is examined below. First, since the peripheral region A1 and the central region A2 are smaller than the application region of the comparative example, it is considered that the resin component of the flux is easily discharged from the molten solder early, as in Examples 1 to 5.

또, 실시예 6~14에서는 모두 중앙 영역(A2)을 가지고 있는데, 중앙 영역(A2)에 도포된 솔더 페이스트 내의 땜납 분말은, 용융 후 지름 방향 외측으로 향하여 유동한다. 또한 패드(P)의 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 개구하는, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새의, 패드(P)의 전체 둘레에 대한 비율을 틈새 비율 GR로서 산출하고, 실시예 6~14 모든 실시예에서 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 간격(G)을 매개로 하여 개구되어 있는 것을 알았다. 이 때문에, 중앙 영역(A2)으로부터의 용융 땜납은 간격(G)을 통해서 적절히 지름 방향 외측에 유동할 수 있고, 이것에 의해 플럭스의 수지 성분 등을 지름 방향 외측으로 향하게 하여 배출할 수 있다고 생각된다.Further, in Examples 6 to 14, all of them have a central region A2, but the solder powder in the solder paste applied to the central region A2 flows outward in the radial direction after melting. In addition, the ratio of the gap between the plurality of peripheral areas A1, which opens from the center O of the pad P toward the outer side in the radial direction, to the total circumference of the pad P, is calculated as the gap ratio GR. Examples 6-14 In all examples, it was found that the openings were opened from the center O toward the outer side in the radial direction through the gap G. For this reason, it is thought that the molten solder from the central region A2 can appropriately flow outward in the radial direction through the gap G, and thereby, the resin component of the flux can be discharged to the outside in the radial direction. .

실시예 6~14에서, 중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 44.4%이상 278%이하였다.In Examples 6-14, the area of the central region A2 was 44.4% or more and 278% or less of the area of each peripheral region A1.

(실시예 15)(Example 15)

실시예 15에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 19를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 15에서, 상기 실시예 12와 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 15 will be described with reference to FIG. 19. In the fifteenth embodiment, only configurations different from those of the twelfth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

실시예 15는, 실시예 12로부터 중앙 영역(A2)을 제외한 구성을 가지고 있다.The fifteenth embodiment has a configuration excluding the center region A2 from the twelfth embodiment.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 실시예 12와 동일하고, 48.4%이다.The clearance ratio GR in this example is the same as in Example 12, and is 48.4%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.32×4)/(0.52×π)=45.7%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.3 2 x 4)/(0.5 2 x pi) = 45.7%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 13.4%였다.The maximum void area ratio in this example was 13.4%.

(실시예 16)(Example 16)

실시예 16에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 20을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 16에서, 상기 실시예 13과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application region in Example 16 will be described with reference to FIG. 20. In the sixteenth embodiment, only configurations different from those of the thirteenth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

실시예 16은, 실시예 13으로부터 중앙 영역(A2)을 제외한 구성을 가지고 있다.The sixteenth embodiment has a configuration excluding the center area A2 from the thirteenth embodiment.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 실시예 13과 동일하고, 29.1%이다.The clearance ratio GR in this example is the same as in Example 13, and is 29.1%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.6×0.3×2+0.32×2)/(0.52×π)=23.2%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.6×0.3×2+0.3 2 ×2)/(0.5 2 ×π)=23.2%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 13.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 13.8%.

(실시예 15, 16의 검토)(Review of Examples 15 and 16)

실시예 15, 16의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 실시예 15, 16 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 15 and 16 all became lower than that of the comparative example. For this reason, it turns out that in both Examples 15 and 16, the size of the created voids was able to be suppressed.

보이드의 크기를 억제할 수 있었던 원인을 이하에 검토하면, 주변 영역(A1)이나 중앙 영역(A2)이 비교예의 도포 영역보다도 작기 때문에, 플럭스의 수지 성분 등이 조기에 용융 땜납 내로부터 배출되기 쉬운 것은, 실시예 1~5와 마찬가지라고 생각된다.If the cause of the suppression of the size of the void is examined below, since the peripheral area (A1) and the center area (A2) are smaller than the application area of the comparative example, the resin component of the flux is easily discharged from the molten solder early. The thing is thought to be the same as in Examples 1-5.

(실시예 17)(Example 17)

실시예 17에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 21을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 17에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 17 will be described with reference to FIG. 21. In the seventeenth embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(6개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 직경이 0.3mm인 원형 모양이다. 각 주변 영역(A1)의 중심은, 패드(P)의 외측 둘레 가장자리 상에 위치하고 있다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 21에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (six) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 have a circular shape with a diameter of 0.3 mm. The center of each peripheral region A1 is located on the outer peripheral edge of the pad P. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 21.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적과 동일(100%)이다.The area of the central area A2 is equal to the area of each peripheral area A1 (100%).

복수의 주변 영역(A1)은, 패드(P)의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있다. 즉, 각 주변 영역(A1)의 일부는, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 모두 패드(P) 내에 배치되는 구성이라도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged to overlap the outer edge of the pad P. That is, a part of each peripheral region A1 is located outside of the pad P in the radial direction. Further, a configuration in which all of the plurality of peripheral regions A1 are disposed in the pad P may be used.

본 실시예의 틈새 비율 GR을 산출한다. 각도 θC는, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우측 상부의 주변 영역(A1)의 중심을 통과하는 직선(L1)과, 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 연장되고 또한 지면 우측 상부의 주변 영역(A1)에 접하는 직선(L2)과의 사이의 각도로서, arcsin(0.15/0.5)로 나타내어진다. 직선(L1, L2)의 사이에는, 주변 영역(A1)이 위치하고 있다. 이 때문에, 본 실시예의 틈새 비율 GR은, (180°-6×θC)/180°=41.8%이다.The clearance ratio GR in this example is calculated. The angle θ C is a straight line (L1) extending radially outward from the center (O) and passing through the center of the peripheral area (A1) on the upper right side of the paper, and extending radially outward from the center (O), and It is an angle between the straight line L2 in contact with the upper right peripheral area A1, and is represented by arcsin (0.15/0.5). A peripheral area A1 is located between the straight lines L1 and L2. For this reason, the clearance ratio GR in this example is (180°-6×θ C )/180°=41.8%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.152×π×7)/(0.52×π)=63%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.15 2 x pi x 7)/(0.5 2 x pi) = 63%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 10.9%였다.The maximum void area ratio in this example was 10.9%.

(실시예 18)(Example 18)

실시예 18에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 22를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 18에서, 상기 실시예 17과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 18 will be described with reference to FIG. 22. In the eighteenth embodiment, only the configuration different from that of the seventeenth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

중앙 영역(A2)은 직경이 0.4mm인 원형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 22에 도시되어 있다.The central area A2 has a circular shape with a diameter of 0.4 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 22.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 178%이다.The area of the center area A2 is 178% of the area of each peripheral area A1.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 실시예 17과 동일하게, 41.8%이다.The clearance ratio GR in this example is 41.8% as in Example 17.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.152×π×6+0.22×π)/(0.52×π)=43.1%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.15 2 x pi x 6 +0.2 2 x pi)/(0.5 2 x pi)=43.1%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 4.6%였다.The maximum void area ratio in this example was 4.6%.

(실시예 19)(Example 19)

실시예 19에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 23을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 19에서, 상기 실시예 17과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application region in Example 19 will be described with reference to FIG. 23. In the 19th embodiment, only configurations different from those of the 17th embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

중앙 영역(A2)은 직경이 0.5mm인 원형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 23에 도시되어 있다.The central area A2 has a circular shape with a diameter of 0.5 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 23.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 278%이다.The area of the center area A2 is 278% of the area of each peripheral area A1.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 실시예 17과 동일하게, 41.8%이다.The clearance ratio GR in this example is 41.8% as in Example 17.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.152×π×6+0.252×π)/(0.52×π)=48.7%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.15 2 x pi x 6 +0.25 2 x pi)/(0.5 2 x pi)=48.7%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 12.4%였다.The maximum void area ratio in this example was 12.4%.

(실시예 20)(Example 20)

실시예 20에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 24를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 20에서, 상기 실시예 17과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 20 will be described with reference to FIG. 24. In the twentieth embodiment, only configurations different from those of the seventeenth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

중앙 영역(A2)은 직경이 0.2mm인 원형 모양이다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 24에 도시되어 있다.The central area A2 has a circular shape with a diameter of 0.2 mm. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 24.

중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 44.4%이다.The area of the center area A2 is 44.4% of the area of each peripheral area A1.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 실시예 17과 동일하게, 41.8%이다.The clearance ratio GR in this example is 41.8% as in Example 17.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.152×π×6+0.12×π)/(0.52×π)=35.7%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.15 2 x pi x 6 + 0.1 2 x pi)/(0.5 2 x pi) = 35.7%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 17.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 17.8%.

(실시예 21)(Example 21)

실시예 21에 있어서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 25를 참조하여 설명한다. 또한 실시예 21에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area where the solder paste is applied in Example 21 will be described with reference to FIG. 25. In the twenty-first embodiment, only configurations different from those of the sixth embodiment are described below, and descriptions of other configurations are omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(2개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 직경이 0.3mm인 원형 모양이다. 각 주변 영역(A1)의 중심은, 패드(P)의 바깥 둘레 상에 위치하고 있다. 중앙 영역(A2)은, 그 중심이 패드(P)의 중심(O)과 평면시에서 일치하도록 배치되어 있다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 25에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (two) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 have a circular shape with a diameter of 0.3 mm. The center of each peripheral area A1 is located on the outer periphery of the pad P. The center region A2 is arranged so that its center coincides with the center O of the pad P in plan view. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 25.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 17을 참조하면, (180°-2×θC)/180°=80.6%이다.The clearance ratio GR in this example is (180°-2×θ C )/180°=80.6%, referring to Example 17.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.152×π×3)/(0.52×π)=27%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.15 2 x pi x 3)/(0.5 2 x pi) = 27%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 3.8%였다.The maximum void area ratio in this example was 3.8%.

(실시예 22)(Example 22)

실시예 22에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 26을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 22에서, 상기 실시예 6과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.An area to which the solder paste is applied in Example 22 will be described with reference to FIG. 26. In the twenty-second embodiment, only the configuration different from that of the sixth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(4개)의 주변 영역(A1)과, 해당 복수의 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역(A2)을 가진다. 각 주변 영역(A1)과 중앙 영역(A2)은 모두 직경이 0.3mm인 원형 모양이다. 복수의 주변 영역(A1) 및 중앙 영역(A2)의 서로의 위치 관계는, 도 26에 도시되어 있다.The coating area T is a plurality of (4) peripheral areas A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P, and the plurality of peripheral areas A1 It has a central area (A2) located inside the radial direction. Each of the peripheral area A1 and the central area A2 have a circular shape with a diameter of 0.3 mm. The positional relationship between the plurality of peripheral regions A1 and the central region A2 is shown in FIG. 26.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 상기 실시예 17을 참조하면, (180°-4×θC)/180°=61.2%이다.The clearance ratio GR of this example is (180°-4×θ C )/180°=61.2%, referring to Example 17.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (0.152×π×5)/(0.52×π)=45%이다.The coating area ratio AR of this example is (0.15 2 x pi x 5)/(0.5 2 x pi) = 45%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 4.9%였다.The maximum void area ratio in this example was 4.9%.

(실시예 17~22의 검토)(Review of Examples 17 to 22)

실시예 17~22의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 실시예 17~22 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 17 to 22 all became lower than that of the comparative example. For this reason, it is understood that in all of Examples 17 to 22, the size of the generated voids could be suppressed.

보이드의 크기를 억제할 수 있었던 원인을 이하에 검토한다. 먼저, 주변 영역(A1)이나 중앙 영역(A2)이 비교예의 도포 영역보다도 작기 때문에, 플럭스의 수지 성분 등이 조기에 용융 땜납 내로부터 배출되기 쉬운 것은, 실시예 1~5와 마찬가지라고 생각된다.The cause of suppressing the size of the void is examined below. First, since the peripheral region A1 and the central region A2 are smaller than the application region of the comparative example, it is considered that the resin component of the flux is easily discharged from the molten solder early, as in Examples 1 to 5.

또, 실시예 17~22에서는 모두 중앙 영역(A2)을 가지고 있는데, 중앙 영역(A2)에 도포된 솔더 페이스트 내의 땜납 분말은, 용융 후 지름 방향 외측으로 향하여 유동한다. 또한 패드(P)의 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 개구 하는, 복수의 주변 영역(A1) 사이의 틈새의, 패드(P)의 전체 둘레에 대한 비율을 틈새 비율 GR로서 산출하고, 실시예 17~22 모든 실시예에서 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 간격(G)을 매개로 하여 개구되어 있는 것을 알 수 있었다. 이 때문에, 중앙 영역(A2)으로부터의 용융 땜납은 간격(G)을 통하여 적절하게 지름 방향 외측으로 유동할 수 있고, 이것에 의해 플럭스의 수지 성분 등을 지름 방향 외측으로 향하게 하여 배출할 수 있다고 생각된다.Further, in Examples 17 to 22, all have the central region A2, but the solder powder in the solder paste applied to the central region A2 flows outward in the radial direction after melting. In addition, the ratio of the gap between the plurality of peripheral areas A1, which opens from the center O of the pad P toward the outer side in the radial direction, to the total circumference of the pad P, is calculated as the gap ratio GR. Examples 17 to 22 In all examples, it was found that the openings were opened from the center (O) toward the outer side in the radial direction through the gap (G). For this reason, it is thought that the molten solder from the central region (A2) can appropriately flow outward in the radial direction through the gap (G), and thereby, the resin component of the flux can be directed outward in the radial direction and discharged. do.

실시예 17~22에서, 중앙 영역(A2)의 면적은, 각 주변 영역(A1)의 면적의 44.4%이상 278%이하였다.In Examples 17 to 22, the area of the central region A2 was 44.4% or more and 278% or less of the area of each peripheral region A1.

(실시예 23)(Example 23)

실시예 23에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 27을 참조하여 설명한다.An area where the solder paste is applied in Example 23 will be described with reference to FIG. 27.

실시예 23에서는, 기판(B)에서의 패드(P) 내에 비도포 영역(N)을 형성하도록, 패드(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역(T)에 솔더 페이스트가 도포되어 있다. 도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O) 주위의 둘레 방향으로 간격(G)을 두고 배치된 복수(2개)의 주변 영역(A1)을 가진다. 2개의 주변 영역(A1)은, 지름 방향 내측의 일부에서 서로 접하게 배치되어 있다. 본 실시예에서는, 2개의 주변 영역(A1)의 접촉 개소는 평면시에서 중심(O)과 동일한 위치에 배치되어 있다. 각 주변 영역(A1)의 형상은, 중심(O)에 꼭지점이 위치하고, 꼭지각이 90°인 직각 이등변 삼각형이다. 각 주변 영역(A1)의 저변(상기 꼭지점에 대향하는 변)의 길이는 1.0mm이다. 또, 2개의 주변 영역(A1)의 저변 사이의 거리도 1.0mm이다. 각 주변 영역(A1)의 둘레 방향의 폭이, 패드(P)의 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 향함에 따라 점차 확대되고 있다.In the 23rd embodiment, solder paste is applied to the coating area T in which at least a part is located in the pad P so as to form the uncoated area N in the pad P of the substrate B. The application region T has a plurality (two) of peripheral regions A1 arranged at intervals G in the circumferential direction around the center O of the pad P. The two peripheral regions A1 are arranged to be in contact with each other at a part of the inner side in the radial direction. In this embodiment, the contact points of the two peripheral regions A1 are arranged at the same position as the center O in plan view. The shape of each peripheral area A1 is a right-angled isosceles triangle with a vertex positioned at the center O and a vertex angle of 90°. The length of the bottom side (the side opposite to the vertex) of each peripheral area A1 is 1.0 mm. Further, the distance between the bases of the two peripheral regions A1 is also 1.0 mm. The width of each peripheral region A1 in the circumferential direction gradually expands from the center O of the pad P toward the outer side in the radial direction.

복수의 주변 영역(A1)은, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 둘레 방향으로 등간격으로 배치되지 않아도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction. In addition, it is not necessary that the plurality of peripheral regions A1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction.

복수의 주변 영역(A1)은, 패드(P)의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있다. 즉, 각 주변 영역(A1)의 일부는, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 또한 복수의 주변 영역(A1)이, 모두 패드(P) 내에 배치되는 구성이라도 괜찮다.The plurality of peripheral regions A1 are arranged to overlap the outer edge of the pad P. That is, a part of each peripheral region A1 is located outside of the pad P in the radial direction. Further, a configuration in which all of the plurality of peripheral regions A1 are disposed in the pad P may be used.

본 실시예의 틈새 비율 GR은, 50%이다.The clearance ratio GR in this example is 50%.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (1.02/2)/(0.52×π)=63.7%이다.The coating area ratio AR of this example is (1.0 2 /2)/(0.5 2 ×π) = 63.7%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 12.5%였다.The maximum void area ratio in this example was 12.5%.

(실시예 24)(Example 24)

실시예 24에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 28을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 24에서, 상기 실시예 23과 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application region in Example 24 will be described with reference to FIG. 28. In the 24th embodiment, only configurations different from those of the 23rd embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

각 주변 영역(A1)의 저변의 길이는 1.3mm이다. 또, 2개의 주변 영역(A1)의 저변 사이의 거리도 1.3mm이다.The length of the base of each peripheral area A1 is 1.3 mm. Further, the distance between the bases of the two peripheral regions A1 is also 1.3 mm.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (1.32/2)/(0.52×π)=107.6%이다.The coating area ratio AR of this example is (1.3 2 /2)/(0.5 2 ×π) = 107.6%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 14.6%였다.The maximum void area ratio in this example was 14.6%.

(실시예 23, 24의 검토)(Review of Examples 23 and 24)

실시예 23, 24의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 실시예 23, 24 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 23 and 24 all became lower than that of the comparative example. For this reason, it turns out that in both Examples 23 and 24, the size of the created void was able to be suppressed.

보이드의 크기를 억제할 수 있었던 원인을 이하에 검토한다. 먼저, 주변 영역(A1)이 비교예의 도포 영역보다도 작기 때문에, 플럭스의 수지 성분 등이 조기에 용융 땜납 내로부터 배출되기 쉬운 것은, 실시예 1~5와 마찬가지라고 생각된다.The cause of suppressing the size of the void is examined below. First, since the peripheral region A1 is smaller than the application region of the comparative example, it is considered that the resin component of the flux is easily discharged from the molten solder early, as in Examples 1 to 5.

또, 실시예 23, 24는 중앙 영역을 가지고 있지 않지만, 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측 부분은 패드(P)의 중앙부에 이르고 있다. 이 때문에, 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측 부분에 도포된 솔더 페이스트 내의 땜납 분말은, 용융 후 지름 방향 외측으로 향하여 지면 좌우 방향으로 유동하는 경우가 있다. 또한 틈새 비율 GR로서 산출한 것에 의해서, 실시예 23, 24 모든 실시예에서 중심(O)으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 간격(G)을 매개로 하여 개구되어 있는 것을 알 수 있었다. 이 때문에, 주변 영역(A1)의 지름 방향 내측 부분으로부터의 용융 땜납은 간격(G)을 통해서 적절하게 지름 방향 외측으로 유동할 수 있고, 이것에 의해 플럭스의 수지 성분 등을 지름 방향 외측으로 향하게 하여 배출할 수 있다고 생각된다.In addition, although Examples 23 and 24 do not have a central region, the inner portion of the peripheral region A1 in the radial direction reaches the central portion of the pad P. For this reason, the solder powder in the solder paste applied to the inner portion in the radial direction of the peripheral region A1 may flow outward in the radial direction after melting and flow in the left-right direction of the paper. Further, by calculating as the clearance ratio GR, it was found that in all of Examples 23 and 24, the openings were opened from the center O to the radially outward direction through the gap G. For this reason, the molten solder from the radially inner portion of the peripheral region A1 can appropriately flow outward in the radial direction through the gap G, thereby directing the resin component of the flux to the radially outward direction. I think it can be discharged.

(실시예 23, 24의 변형예)(Modification of Examples 23 and 24)

실시예 23, 24에는 이하의 변형예를 생각할 수 있다.For Examples 23 and 24, the following modifications can be considered.

이들 실시예에서는 2개의 주변 영역(A1)이 마련되어 있는데, 주변 영역(A1)의 수는 3개 이상이라도 괜찮다. 이 경우, 각 주변 영역(A1)의 둘레 방향의 폭이 지름 방향 외측으로 향함에 따라 확대되는 비율을 작게 해도 괜찮다. 또, 2개의 주변 영역(A1)의 접촉 개소가 평면시에서 패드(P)의 중심(O)과 다른 위치에 배치되어도 괜찮다.In these embodiments, two peripheral regions A1 are provided, but the number of peripheral regions A1 may be three or more. In this case, as the width in the circumferential direction of each peripheral region A1 goes outward in the radial direction, the ratio of expansion may be decreased. Further, the contact points of the two peripheral regions A1 may be disposed at a position different from the center O of the pad P in plan view.

(실시예 25)(Example 25)

실시예 25에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 29를 참조하여 설명한다.An area where the solder paste is applied in Example 25 will be described with reference to FIG. 29.

실시예 25에서는, 기판(B)에서의 패드(P) 내에 비도포 영역(N)을 형성하도록, 패드(P) 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역(T)에 솔더 페이스트가 도포되어 있다. 도포 영역(T)은, 패드(P)의 중심(O)을 포함하고 또한 일방향(본 실시예에서는 지면 좌우 방향)으로 연장되어 배치된 연재(延在) 영역(A3)을 가진다. 연재 영역(A3)의 평면시 형상은 직사각형으로서, 긴 길이 방향의 길이가 1.3mm, 짧은 길이 방향의 폭이 0.3mm이다.In the twenty-fifth embodiment, solder paste is applied to the coated region T in which at least a part is located in the pad P so as to form the uncoated region N in the pad P of the substrate B. The coating area T includes the center O of the pad P and has a continuous area A3 arranged to extend in one direction (in this embodiment, the left-right direction of the paper). The planar shape of the extended region A3 is a rectangle, the length in the long longitudinal direction is 1.3 mm, and the width in the short longitudinal direction is 0.3 mm.

연재 영역(A3)은, 패드(P)의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있다. 즉, 연재 영역(A3)의 일부는, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 본 실시예에서는, 연재 영역(A3)의 긴 길이 방향 양 단부 모두가, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 또한 연재 영역(A3)이 모두 패드(P) 내에 배치되는 구성이라도 괜찮고, 연재 영역(A3)의 긴 길이 방향의 일단부만이 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치해도 괜찮다.The extended region A3 is disposed so as to overlap the outer edge of the pad P. In other words, a part of the extended region A3 is located outside the pad P in the radial direction. In this embodiment, both ends of the extended region A3 in the longitudinal direction are located outside the pad P in the radial direction. Further, a configuration in which all the extended regions A3 are arranged in the pad P may be sufficient, and only one end of the extended region A3 in the long longitudinal direction may be located outside the radial direction of the pad P.

본 실시예에서는, 연재 영역(A3)이 패드(P)의 지름 방향 외측까지 이르고 있기 때문에, 틈새 비율 GR은 산출 불가능하다.In this embodiment, since the extended region A3 extends to the outer side in the radial direction of the pad P, the clearance ratio GR cannot be calculated.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (1.3×0.3)/(0.52×π)=49.7%이다.The coating area ratio AR of this example is (1.3×0.3)/(0.5 2 ×π)=49.7%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 17.5%였다.The maximum void area ratio in this example was 17.5%.

(실시예 26)(Example 26)

실시예 26에서의 솔더 페이스트의 도포 영역을 도 30을 참조하여 설명한다. 또한 실시예 26에서, 상기 실시예 25와 다른 구성만을 이하에 설명하고, 그 이외의 구성의 설명은 생략한다.A solder paste application region in Example 26 will be described with reference to FIG. 30. In the twenty-sixth embodiment, only configurations different from those of the twenty-fifth embodiment will be described below, and descriptions of other configurations will be omitted.

도포 영역(T)은, 연재 영역(A3)의 긴 길이 방향에 교차하는 방향에서 연재 영역(A3)을 사이에 두고 배치된 복수(2개)의 측방 영역(A4)을 더 가진다. 각 측방 영역(A4)의 평면시 형상은, 한 변의 길이가 0.3mm인 정사각형으로서, 그 한 변은 지면 상하 방향으로 연장되어 있다. 복수의 측방 영역(A4) 및 연재 영역(A3)의 서로의 위치 관계는, 도 30에 도시되어 있다.The application region T further has a plurality of (two) lateral regions A4 disposed with the extending region A3 interposed therebetween in a direction intersecting the lengthwise direction of the extending region A3. The planar shape of each lateral region A4 is a square with one side of 0.3 mm in length, and one side thereof extends in the vertical direction of the paper. The positional relationship between the plurality of lateral regions A4 and extended regions A3 is shown in FIG. 30.

연재 영역(A3)과 각 측방 영역(A4)과의 대향변(a, b)은, 서로 평행하게 있다. 또한 대향변(a, b)이, 서로 비평행이라도 괜찮다.The opposite sides a and b of the extended region A3 and each side region A4 are parallel to each other. In addition, the opposite sides (a, b) may be non-parallel to each other.

복수의 측방 영역(A4)은, 패드(P)의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있다. 즉, 각 측방 영역(A4)의 일부는, 패드(P)의 지름 방향 외측에 위치하고 있다. 또한 복수의 측방 영역(A4)이, 모두 패드(P) 내에 배치되는 구성이라도 괜찮다.The plurality of lateral regions A4 are disposed to overlap the outer edge of the pad P. That is, a part of each lateral region A4 is located outside of the pad P in the radial direction. Further, a configuration in which all of the plurality of lateral regions A4 are disposed in the pad P may be used.

본 실시예의 도포 면적율 AR은, (1.3×0.3+0.32×2)/(0.52×π)=72.6%이다.The coating area ratio AR of this example is (1.3×0.3+0.3 2 ×2)/(0.5 2 ×π)=72.6%.

본 실시예의 최대 보이드 면적율은, 15.0%였다.The maximum void area ratio in this example was 15.0%.

(실시예 25, 26의 검토)(Review of Examples 25 and 26)

실시예 25, 26의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 실시예 25, 26 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 25 and 26 all became lower than that of the comparative example. For this reason, it turns out that in both Examples 25 and 26, the size of the created void was able to be suppressed.

보이드의 크기를 억제할 수 있었던 원인을 이하에 검토하면, 연재 영역(A3)이나 측방 영역(A4)이 비교예의 도포 영역보다도 작기 때문에, 플럭스의 수지 성분 등이 조기에 용융 땜납 내로부터 배출되기 쉬운 것은, 실시예 1~5와 마찬가지라고 생각된다.If the cause of the suppression of the size of the void is examined below, since the extended region A3 and the lateral region A4 are smaller than the application region of the comparative example, the resin component of the flux is easily discharged from the molten solder early. The thing is thought to be the same as in Examples 1-5.

(실시예 25, 26의 변형예)(Modification of Examples 25 and 26)

실시예 25, 26에는 이하의 변형예를 생각할 수 있다.For Examples 25 and 26, the following modified examples can be considered.

예를 들면, 복수의 측방 영역(A4)의 수를 3개 이상으로 해도 괜찮다.For example, the number of the plurality of side regions A4 may be three or more.

앞서 설명한 실시예 1~26의, 틈새 비율 GR, 도포 면적율 AR, 및 최대 보이드 면적율 VR를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the clearance ratio GR, the application area ratio AR, and the maximum void area ratio VR of Examples 1 to 26 described above.

(표 1)(Table 1)

Figure pct00001
Figure pct00001

실시예 1~26의 최대 보이드 면적율 VR은, 모두 비교예보다 낮게 되었다. 이 때문에, 전체 실시예 모두에서, 생긴 보이드의 크기를 억제할 수 있었던 것을 알 수 있다. 따라서, 기판 등의 도포 대상물과 전자 부품의 양 전극 사이의 적절한 전기적 접속을 확보할 수 있고, 또, 양 전극 사이를 접속하는 땜납의 강도 저하를 방지할 수 있으므로, 충격에 강한 표면 실장 후 기판 등을 제공할 수 있다.The maximum void area ratio VR of Examples 1 to 26 all became lower than that of the comparative example. For this reason, it is understood that in all of the examples, the size of the generated voids was suppressed. Therefore, it is possible to secure an appropriate electrical connection between the object to be coated such as a substrate and both electrodes of the electronic component, and also prevent a decrease in the strength of the solder connecting the two electrodes. Can provide.

이상, 본 발명의 일 실시 형태를 설명했는데, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 구성의 부가, 생략, 치환, 및 그 외의 변경이 가능하다.In the above, although one embodiment of the present invention has been described, the present invention is not limited to the above embodiment. Addition, omission, substitution, and other changes of configurations are possible without departing from the spirit of the present invention.

예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 도포 대상물인 기판(B)에서의 패드(P)의 평면시 형상은 원형이지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면 직사각형이나 다각형상이라도 괜찮다.For example, in the above-described embodiment, the planar shape of the pad P on the substrate B as the object to be applied is circular, but the shape is not limited thereto, and may be, for example, a rectangular or polygonal shape.

상기 실시 형태에서는, 도포 대상물로서 경질의 판 모양 기재로 이루어지는 프린트 기판이 이용되어 있지만, 솔더 페이스트의 도포 대상물로서 플렉서블 기판을 이용해도 괜찮다. 또, 하나의 전자 부품에 다른 전자 부품을 직접 접속할 때에, 상기 하나의 전자 부품을 도포 대상물로 하여 그 전극면에 솔더 페이스트를 도포해도 괜찮다. 도포 대상물은, 솔더 페이스트를 도포할 수 있다면, 어떠한 부재라도 괜찮다.In the above embodiment, a printed substrate made of a rigid plate-like substrate is used as the object to be applied, but a flexible substrate may be used as the object to be applied to the solder paste. In addition, when directly connecting another electronic component to one electronic component, a solder paste may be applied to the electrode surface using the one electronic component as an object to be coated. The object to be applied may be any member as long as a solder paste can be applied.

상기 실시 형태에서는, 솔더 페이스트를 도포 대상물에 도포할 때에 마스크(M)를 이용한 스크린 인쇄가 이용되어 있지만, 기판 상에서 이동 가능한 토출 노즐을 가지는 디스펜서를 이용하여, 상기 실시예 1~26에 나타내는 것과 같은 도포 영역에, 솔더 페이스트를 마스크 등을 이용하지 않고 직접 도포하는 방법이라도 괜찮다.In the above embodiment, screen printing using the mask M is used when applying the solder paste to the object to be applied, but using a dispenser having a discharge nozzle movable on the substrate, the same as those shown in Examples 1 to 26 above. A method of directly applying the solder paste to the application region without using a mask or the like may be used.

또, 본 발명은 이하의 태양을 포함해도 괜찮다.In addition, the present invention may include the following aspects.

본 발명의 제4 태양은, 도포 대상물에 솔더 페이스트를 도포하기 위한 마스크로서, 도포 대상물에서의 접합 영역 내에 비도포 영역을 형성하도록 상기 접합 영역 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역과 상당하는 위치에 개구가 형성되고, 상기 개구는, 상기 접합 영역의 중심 주위의 둘레 방향으로 간격을 두고 배치된 복수의 주변 개구를 가진다.A fourth aspect of the present invention is a mask for applying a solder paste to an object to be applied, and is opened at a position corresponding to an application region in which at least a part is located in the joint region so as to form a non-coated region within the joint region of the object Is formed, and the opening has a plurality of peripheral openings arranged at intervals in the circumferential direction around the center of the bonding region.

본 발명의 제5 태양는, 도포 대상물에 솔더 페이스트를 도포하기 위한 마스크로서, 도포 대상물에서의 접합 영역 내에 비도포 영역을 형성하도록 상기 접합 영역 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역과 상당하는 위치에 개구가 형성되고, 상기 개구는, 상기 접합 영역의 중심을 포함하고 또한 일방향으로 연장되어 배치된 연재 개구를 가진다.A fifth aspect of the present invention is a mask for applying a solder paste to an object to be applied, wherein an opening is provided at a position corresponding to an application region in which at least a part is located in the joint region so as to form an uncoated region within the joint region of the object It is formed, and the opening includes a center of the bonding region and has an extended opening arranged to extend in one direction.

(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

본 발명은, 프린트 기판 등 도포 대상물로의 솔더 페이스트의 도포 방법, 및 해당 도포에 이용되는 마스크에 적용 가능하고, 표면 실장에서 땜납 내에 보이드가 형성되었을 경우에도, 그 보이드의 크기를 억제할 수 있다.The present invention can be applied to a method of applying a solder paste to an object to be applied such as a printed circuit board, and a mask used for the application, and even when a void is formed in the solder in surface mounting, the size of the void can be suppressed. .

A1 : 주변 영역 A11 : 제1 영역
A12 : 제2 영역 A2 : 중앙 영역
A3 : 연재 영역 A4 : 측방 영역
B : 기판(도포 대상물) N : 비도포 영역
O : 중심 P: 패드(접합 영역)
S : 솔더 페이스트 T : 도포 영역
A1: peripheral area A11: first area
A12: second area A2: center area
A3: Serial area A4: Lateral area
B: Substrate (object to be applied) N: Non-coated area
O: Center P: Pad (joint area)
S: Solder paste T: Application area

Claims (25)

도포 대상물로의 솔더 페이스트의 도포 방법으로서,
도포 대상물에서의 접합 영역 내에 비도포 영역을 형성하도록, 상기 접합 영역 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역에 솔더 페이스트를 도포하는 공정을 구비하고,
상기 도포 영역은, 상기 접합 영역의 중심 주위의 둘레 방향으로 간격을 두고 배치된 복수의 주변 영역을 가지는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
As a method of applying a solder paste to an object to be applied,
A step of applying a solder paste to a coating area in which at least a part is located in the bonding area so as to form an uncoated area in the bonding area of the object to be applied,
The coating area includes a plurality of peripheral areas arranged at intervals in a circumferential direction around a center of the bonding area.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 상기 접합 영역의 중심을 사이에 두고 서로 대향하여 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 1,
The plurality of peripheral regions are disposed to face each other with the center of the bonding region interposed therebetween.
청구항 2에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 상기 복수의 주변 영역의 대향 방향과 교차하는 방향으로 연장되어 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 2,
The plurality of peripheral regions are disposed to extend in a direction crossing the opposite direction of the plurality of peripheral regions.
청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
상기 복수의 주변 영역 사이의 틈새는, 상기 접합 영역의 최대 지름의 30%이상 70%이하인, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 2 or 3,
The gap between the plurality of peripheral regions is 30% or more and 70% or less of the maximum diameter of the bonding region.
청구항 2 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 주변 영역 사이의 틈새는, 상기 복수의 주변 영역의 대향 방향에서의 각 주변 영역의 폭의 85.7%이상 200%이하인, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 2 to 4,
The gap between the plurality of peripheral regions is 85.7% or more and 200% or less of a width of each peripheral region in a direction opposite to the plurality of peripheral regions.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 주변 영역의 수가, 2 내지 6인, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 1,
The number of the plurality of peripheral regions is 2 to 6, the method of applying a solder paste.
청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 상기 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 1 or 6,
The plurality of peripheral regions are arranged at equal intervals in the circumferential direction.
청구항 1, 청구항 6, 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 상기 둘레 방향의 길이가 다른 제1 영역 및 제2 영역을 가지고,
상기 제1 영역 및 및 상기 제2 영역은, 상기 둘레 방향으로 교호로 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 1, 6, 7,
The plurality of peripheral regions have a first region and a second region having different lengths in the circumferential direction,
The first region and the second region are alternately arranged in the circumferential direction.
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 둘레 방향으로 서로 이웃하는 상기 복수의 주변 영역의 대향변은, 서로 평행하게 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The method of applying a solder paste, wherein opposite sides of the plurality of peripheral regions adjacent to each other in the circumferential direction are parallel to each other.
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 도포 영역은, 상기 복수의 주변 영역의 지름 방향 내측에 위치하는 중앙 영역을 더 가지는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 1 to 9,
The coating region further has a central region positioned radially inside the plurality of peripheral regions.
청구항 10에 있어서,
상기 중앙 영역과 각 주변 영역과의 대향변은, 서로 평행하게 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 10,
The method of applying a solder paste, wherein opposite sides of the central region and each of the peripheral regions are parallel to each other.
청구항 10 또는 청구항 11에 있어서,
상기 중앙 영역의 면적은, 각 주변 영역의 면적의 44.4%이상 278%이하인, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 10 or 11,
The area of the central area is 44.4% or more and 278% or less of the area of each peripheral area.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 일부에서 서로 접하게 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to claim 1,
A method of applying a solder paste, wherein the plurality of peripheral regions are partially disposed in contact with each other.
청구항 13에 있어서,
각 주변 영역의 상기 둘레 방향의 폭이, 상기 접합 영역의 중심으로부터 지름 방향 외측으로 향함에 따라 점차 확대되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 13,
A method of applying a solder paste, wherein a width of each peripheral region in the circumferential direction gradually expands from the center of the bonding region toward the outer side in the radial direction.
청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 접합 영역의 중심으로부터 지름 방향 외측으로 향하여 개구하는, 상기 복수의 주변 영역의 사이의 틈새의, 상기 접합 영역의 전체 둘레에 대한 비율이, 11.5%이상인, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 1 to 14,
A method of applying a solder paste, wherein a ratio of a gap between the plurality of peripheral regions opened from the center of the joint region toward the outer side in the radial direction relative to the entire circumference of the joint region is 11.5% or more.
청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 상기 접합 영역의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 1 to 15,
The plurality of peripheral regions are disposed to overlap the outer edge of the bonding region.
청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 주변 영역은, 상기 접합 영역 내에 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 1 to 15,
The plurality of peripheral regions are disposed in the bonding region.
도포 대상물로의 솔더 페이스트의 도포 방법으로서,
도포 대상물에서의 접합 영역 내에 비도포 영역을 형성하도록, 상기 접합 영역 내에 적어도 일부가 위치하는 도포 영역에 솔더 페이스트를 도포하는 공정을 구비하고,
상기 도포 영역은, 상기 접합 영역의 중심을 포함하고 또한 일방향으로 연장되어 배치된 연재(延在) 영역을 가지는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
As a method of applying a solder paste to an object to be applied,
A step of applying a solder paste to a coating area in which at least a part is located in the bonding area so as to form an uncoated area in the bonding area of the object to be applied,
The coating area includes a center of the bonding area and has an extended area disposed extending in one direction.
청구항 18에 있어서,
상기 연재 영역은, 상기 접합 영역의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 18,
The solder paste application method, wherein the extended region is disposed to overlap the outer edge of the bonding region.
청구항 18에 있어서,
상기 연재 영역은, 상기 접합 영역 내에 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 18,
The solder paste application method, wherein the extended region is disposed in the bonding region.
청구항 18 내지 청구항 20 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 도포 영역은, 상기 연재 영역의 긴 길이 방향에 교차하는 방향에서 상기 연재 영역을 사이에 두고 배치된 복수의 측방 영역을 더 가지는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method according to any one of claims 18 to 20,
The coating region further has a plurality of lateral regions disposed with the extended region interposed therebetween in a direction intersecting the lengthwise direction of the extended region.
청구항 21에 있어서,
상기 연재 영역과 각 측방 영역과의 대향변은, 서로 평행하게 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 21,
The method of applying a solder paste, wherein opposite sides of the extended region and each side region are parallel to each other.
청구항 21 또는 청구항 22에 있어서,
상기 복수의 측방 영역은, 상기 접합 영역의 외측 가장자리와 겹치게 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 21 or 22,
A method of applying a solder paste, wherein the plurality of side regions are disposed to overlap the outer edge of the bonding region.
청구항 21 또는 청구항 22에 있어서,
상기 복수의 측방 영역은, 상기 접합 영역 내에 배치되어 있는, 솔더 페이스트의 도포 방법.
The method of claim 21 or 22,
The plurality of lateral regions are disposed in the bonding region, a method of applying a solder paste.
청구항 1 내지 청구항 24 중 어느 하나의 항에 기재된 솔더 페이스트의 도포 방법에 이용되는 마스크로서,
상기 도포 영역에 상당하는 위치에 개구가 형성된 마스크.
As a mask used in the method of applying the solder paste according to any one of claims 1 to 24,
A mask having an opening formed at a position corresponding to the application area.
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